JP2004526987A - ツイステッドネマティック微小偏光子およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
この開示は、ツイストネマティック(TN)液晶に基づく微小偏光子(μPol・登録商標)の開発および製造に関する発明を概説する。
【背景技術】
【0002】
Reveo社は以前に、交互の直交偏光線を有するパターン化された偏光子を偏光ガラスと一緒に使用したmicropol(μPol)パネルを使用した3Dディスプレイ技術を発明し、開発し、商品化した。この技術では、ポリビニルアルコール(PVA)λ/2リターダがμPolアレイを作成するための基礎であった。このμPolの基本は、PVAによって誘発されるπ移相に依存する。図1に概略的に示すように、μPolは、交互に間隔をおいて配置されるπ移相子を持つ線および持たない線から構成されるように作成される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
そのようなμPolの利点は以下を含む。
・単純な処理
・低コスト
・高いスループット
しかし、PVAをベースとするμPolは次のようなそれ自体の短所を有する。
・移相機構による劣ったスペクトル特性
・比較的厚い膜厚
・比較的低い空間分解能
・線幅制御の難しさ
・低い熱および湿度抵抗
【0004】
本発明は、本質的に上述の問題点を全て除去した高品質のμPolを製造する代替方法を記載する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明は、第1および第2面を有する第1プレートを提供し、かつ第1および第2面を有する第2プレートを提供することを含む、微小偏光子を作成するための方法である。次いで、2枚のプレートの第1面の各々にポリイミドを塗布し、続いて第1プレートの第1面に塗布されたポリイミドを予め定められた方向に沿ってこすり、かつ第2プレートの第1面に塗布されたポリイミドを前記予め定められた方向に対して予め定められた角度を有する方向に沿ってこする。アラインメントプロセスは、第1プレートの第1面と第2プレートの第1面を相互に向き合わせて、第1プレートおよび第2プレートを整列させ、それによってそれらの間に空間を形成することを含む。最後に、空間内に液晶が充填され、それによってセルまたは膜が形成される。
【発明を実施するための最良の形態】
【0006】
TN液晶の原理
ツイステッドネマティック(TN)セルがMauguin条件を満たすとき、直線偏光入射光は、液晶分子により回転すると考えることができる。90゜TNセルの場合、Mauguin条件は2Δnd>>λであり、ここでそれぞれdはセルの厚さ、λは入射光の波長、Δnは複屈折である。図2に示すように、TN膜は直線入射光の偏光軸を90゜回転させる。
【0007】
90゜TNセルでは、液晶分子は、最上層が一方向に整列する一方、底層が直交方向に整列するように配向される。TNセルによる光学回転は、λ/2リターダの波長依存性よりずっと低い波長依存性を示す。言い替えると、TNセルの帯域幅は、図3に示す通り、リターダのそれよりずっと幅広い。図3は、PVA膜およびTNセルの波長の関数としての透過率を示しており、透過率の測定は、平行なリニアの対の間にPVA膜およびTNセルを挿入することによって行われた。TNセルの厚さは10μmであり、重合可能な液晶CM428を使用し、UV光によって硬化する。
Polaroid社の市販リターダの37.5μに比べて、TN膜は比較的薄く、一般的に5μの範囲内にすることができる。このような薄層は高分解能のμPolを作成するのに最適である。一般的に、表示システムに使用される液晶材料は、優れた熱および湿度抵抗を持つ。さらに、TNセルが重合可能な(UV硬化可能な)液晶で作成すると、それはガラス基板から剥離することができ、他の面に転写することができる。
【0008】
TNμPolはPVAμPolの利点を持ち、PVAμPolの欠点を克服する。TNμPolの利点を以下に列記する。
・広い帯域における優れたスペクトル特性
・薄い膜厚。大きい複屈折液晶材料を選択することにより、TNμPol膜は非常に薄くすることができ、広帯域特性を示すことができる。
・高い空間分解能
・小さい転移領域
・線幅の制御が容易
・優れた熱および湿度抵抗
・単純な処理、低コスト、および高スループット
【0009】
TN液晶をベースとするμPol
TN膜をパターン化して、光学回転能力を持つ線と持たない線を交互に間隔配置すると、図4に示すように新しいμPolが作成される。
【0010】
図4の能動ストライプでは、液晶分子がねじれているので、それらは入射光の偏光角を回転させる。しかし、受動ストライプでは、分子はイソトロピック相でもホモジニアスまたはホメオトロピック相のいずれでもねじれていないので、それらは偏光を回転させることができない。
【0011】
TN−μPol処理
TNを処理してμPolにする方法は幾つかある。4つの予備方法が提案された。それは次の通りである。
・2段階UV曝露
・Eフィールド(電界)アラインメント
・マルチラビング
・光誘発アラインメント
【0012】
以下では、上述した4つの処理法に関する基本的な詳細を記載する。
【0013】
2段階UV曝露法
この方法は、2段階UV曝露手順を用いて、それぞれねじれ状態およびイソトロピック状態のネマティック線から成るμPolを作成する。該方法は次のステップを含む。
・2枚のガラスプレートにポリイミドを塗布する。
・ポリイミドコーティングをこする。
・1枚のプレートのポリイミドラビング方向が相互に直交するように、2枚のプレートでセルを作る。
・TNセル(膜)ができるように、軽量キラル濃度の重合可能なネマティック液晶を充填する。
・TNセルに、交互に間隔配置された不透明なストライプおよび透明なストライプを有するマスクをかける。
・UV光を用いて、透明な領域の下のネマティック液晶を重合させて永久ねじれテクスチャにする。
・マスクを外す。
・不透明なマスクストライプで覆われたこれらの非重合ネマティックがイソトロピック相への転移を経験し、結果的に液晶分子の非ねじれが得られるように、セルをネマティック−イソトロピック転移温度より高温に加熱する。重合ネマティックのツイストテクスチャは変化しない。
・最後に、前に硬化していないネマティックを再重合させてイソトロピック相にする。
【0014】
結果的に得られるμPolは、図5に示す特徴を有する。この方法は、重合可能なネマティック液晶を使用してのみ実現することができる。
【0015】
Eフィールド(電界)アラインメント法
この方法では、予めパターン化されたITO電極に電界をかけて、それぞれツイストおよびホメオトロピック構造のネマティック線を含むμPolを形成する。詳細な手順は以下を含む。
・フォトリソグラフィ法を用いて、ITOを持つストライプと持たないストライプとを交互に間隔をおいて配置するように1枚のITOガラスプレートをパターン化する。
・このパターン化されたITOガラスおよび別のパターン化されていないITOガラスプレートにポリイミドを塗布する。
・ポリイミドを適切な方向にこする。
・相互に直交するラビング方向を持つ2枚のガラスプレートでTNセルを作成する。
・ネマティック液晶を充填する。
・ストライプITO電極下の垂直方向に整列したネマティック液晶に電界をかける。ITOを持たないストライプの下のネマティック液晶はTNテクスチャのままである。
【0016】
この方法で作成されたμPolの最終テクスチャを図6に示す。
【0017】
マルチラビング法
1つのストライプ下の液晶がツイストテクスチャ状に整列する一方、隣接するストライプ下のネマティックがホモジニアステクスチャ状に整列するように、直交するラビング方向を持つパターン化されたポリイミドストライプが形成される。フォトリソグラフィプロセスを台無しにしない、適切なポリイミドを使用しなければならない。この方法は次のステップで概説される。
・1つのガラス基板にポリイミド(Brewer Scientific社のSE7311または他の適切なポリイミド)を塗布する。
・ポリイミドコーティングを一方向にこする。
・こすったポリイミドの上にフォトレジスト(Microposit社のS1815または他の適切なフォトレジスト)を塗布する。
・交互に間隔配置されたストライプを持つようにフォトレジストをフォトリソグラフィでパターン化する。
・フォトレジストストライプによって被覆されないままのポリイミドを、最初のラビング方向に対して直交方向に再びこする。
・アセトン浴で洗浄することによってフォトレジストを全て除去する。
・パターン化されたガラスプレートおよび別の一方向にこすったポリイミドガラスプレートでセルを形成する。
・セルにネマティック液晶を充填して、交互にTNテクスチャとホモジニアステクスチャのストライプを持つμPolを形成する。
・重合可能な液晶を充填する場合は、TNセルを適切なUV光で硬化する。結果的に得られるμPolは、図7に示すテクスチャを有する。
【0018】
光誘発アラインメント法
最近、感光性配向膜を使用してLCセルを整列させる可能性が非常に注目されるようになった。その非接触性およびパターン化し易いという特性のため、この方法は、ラビングによる高分子膜に優る利点が幾つかある。ポリ4メトキシ桂皮酸ビニル(PVMC)、ポリ桂皮酸ビニル(PVC)、一部のポリイミド、染色ポリイミド、およびアゾベンゼンポリマなど、幾つかの物質が、直線偏光UV光に曝露した後、液晶分子を整列させる能力を持つことが発見された。液晶分子は、UV光の偏光方向に直交する方向に整列する。光誘発アラインメント法によってTN−μPolを実現する方法は幾つかあり、それを以下で詳述する。
【0019】
A.直線偏光UV光の2段階曝露
上に示した光誘発アラインメント物質の多くは、それらを異なる偏光方向の直線偏光UV光に2回曝露させると、液晶分子を2回目の曝露方向に直交する方向に整列させる特性を持つ。したがって、この特性は、TN−μPolを作成する非常に簡単な方法を提供する。詳細なステップを以下に掲げる。
・2枚のガラスプレートに適切な光誘発アライメント材を塗布し、その後ベーキングする。
・両方のプレートを直線偏光UV光に曝露させる。
・プレート上にマスクを載せ、プレートの一方を、最初の偏光方向に直交する偏光方向の直線偏光UV光に再び曝露させる。
・セルを作成し、ネマティック液晶を充填する。
【0020】
液晶が2回目の曝露に対応して適切に整列できない材料の場合、異なる手順に従うことができる。
・適切な光誘発アライメント材を2枚のガラスプレートベークに塗布する。
・1枚のプレートを直線偏光UV光に曝露させる。
・別のプレートを、プレートにマスクを載せて、直線偏光UV光に曝露させ、マスクを精確に半周期移動し、次いで、再び(最初の偏光方向に直交する方向の)直線偏光UV光を曝露させる。
・セルを作成し、ネマティック液晶を充填する。
【0021】
B.ラビングおよび直線偏光UV光の曝露
この方法では、ラビングプロセスと光誘発アライメント法を組み合わせてTN−μPolを作成する。詳細は次の通りである。
・2枚のガラスプレートに適切な光誘発アライメント材を塗布し、続いて熱硬化および機械的ラビングを行う。
・ガラス基板の1つにマスクを通してラビング方向と平行に偏光した光を照射することによってそれをパターン化する。
・そのようなパターン化されたガラスプレートおよび別の一様にラビングされたポリイミドプレートにより、セルを作成する。
・ツイストネマティック材を充填してμPolを形成する。
【0022】
C.バルクアライメント
この方法では、少量のフォトレジストPVMCまたはアゾ染料をネマティック液晶内に直接混合する。直線偏光した光を照射すると、ネマティック分子は偏光方向に対して直交方向に整列する。詳細のステップは次の通りである。
・2枚のガラスプレートにポリイミドを塗布し、続いてベーキングおよびラビングを行う。
・ラビングしたポリイミドガラスプレートで液晶セルを作成する。
・ネマティックを充填する。
・ラビング方向に直交する方向に偏光した直線光をセルにマスクを通して照射して、μPolを形成する。
上記のμPolの最終テクスチャは、図7に示すものと同じである。表Iは、上述した4つの方法でそれぞれ作成されたTNをベースとする全てのμPolの特徴を要約する。
【0023】
(表1)4つの方法で処理されたμPolの概要
【0024】
TN−μPolのピクチャ
交差偏光顕微鏡で観察された2枚のTN−μPolの写真を以下に示す。図8は、2段階UV曝露法によって作成された260μmの線幅を持つTN−μPolである。白い部分はTNテクスチャを示し、暗い部分はネマティックのイソトロピック相を表す。図9は、マルチラビング法によって作成された60μmの線幅を持つ別のTN−μPolである。同様に、白い部分はTNテクスチャを示すが、暗い部分はホモジニアスアラインメントを示す。
【0025】
受動直線偏光子を基板として使用する
TN−micropolはまた、下の図に示すように、パターン化されたTN液晶セルの1つの基板として受動線形偏光子を使用して作成することもできる。潜在的に、主要な開示で上述したTN−micropolを作成するための4つの方法の各々に、この方法を使用することができる。結果的に得られるTNセルは可撓性の層状膜であり、LCDディスプレイの製造時にそれに施用することができる。そのようなTN−micropol構造の作成プロセスは、上述した4つの方法のどれを選択するかによって異なる。図10は、この作成方法を示す。
【0026】
製造に重合可能なTN液晶を使用すると、TN−micropolの剥離可能バージョンもこの構造を用いて実現することができる。
【0027】
この方法の利点は、大きいシート状またはロール状のTN−micropolを作成し、LCディスプレイの製造時にそれに接着することができることである。この構造は通常の検光子(ディスプレイの出力で使用される偏光子)に取って替わるであろう。通常のLCディスプレイで行われるように、このmicropol構造の非複屈折基板にグレア防止手段を使用して、グレアを低減することができる。
【0028】
TN−micropolをLCD上に直接作成する
前述の方法の代替法は、ディスプレイ自体を1つの基板として使用し、非複屈折層を第2基板として使用して、TN−micropolをLCディスプレイ上に直接作成するものである。前述の方法の場合と同様に、作成方法(2段階UV曝露法、Eフィールドアライメント法、マルチラビング方向法、および光誘発アライメント法)の各々を使用して、ディスプレイ上に直接TN−micropolを作成することができる。この方法の利点は、LCディスプレイ製造プロセスにおける追加ステップとして、micropolをディスプレイ上に正確に作成できることである。図11はこの作成方法を示す。
【0029】
TN−micropolの種類
TN−micropolを作成するために使用されるプロセスに加えて、本発明に含まれるTN−micropolには以下をはじめとする幾つかの種類がある。
・2基板型: この場合、micropolは2枚のガラス基板および非重合可能なLC材を使用する。利点は、低コストのLCを使用できることである。
*バリエーション1:両方のガラス基板は同一厚さである。
*バリエーション2:ディスプレイに最も近いガラス基板を薄くして、視差効果を低減することによって観察角を増大する。
・単基板型: 1つの基板を省くことができるように、重合可能なLC材を使用する。基板を省くと、TN材とディスプレイの能動素子との間の距離を低減することにより、観察角が増加する。
・電気的に切替え可能な型: Eフィールド製造プロセスを使用すると、2Dと3Dの間を切り替えるようにmicropolを構成することができる。電界が加えられないときは、micropol全体が単一LCセルとして作動し、ディスプレイからの光を全て90゜回転させる。電界が加えられると、パターン化されたITO電極間のLC材がホメオトロピック相になり、したがって偏光角は回転しない。使用者は、電界を制御するスイッチを起動することによって、2Dモードと3Dモードの間の切替えを行うことができる。
【0030】
Eフィールドプロセスのバリエーション
Eフィールドプロセスの1つのバリエーションは重合可能な液晶を使用して、micropolを次の通り作成する。
・前述したステップを実行してセルを作成する。
・セルに重合可能なLC材を充填する。
・電界をかけて、ITO電極間のLC材をホメオトロピック相にする。
・強力なUV放射を用いて、重合可能なLC材を硬化させる。
・電界を解除する。
・事後処理および掃除を行う。
この方法は、単基板型TN−micropolを作成するために使用することができる。
【0031】
45度TN−micropol
既存の出願は、交互の線が0゜または90゜のいずれかだけ偏光角を回転する、0゜−90゜TN−micropolに関係する。上述した全ての方法を用いて、交互の線が−45゜または+45゜のいずれかだけ偏光角を回転する、別の型のmicropolを作成することができる。代表図を図 に示す。垂直方向に偏光した光はmicropolの後ろから入り、列によって−45゜または+45゜に回転する。
【0032】
最後に、micropol線は垂直または水平方向のいずれかに配向できることに留意する必要がある。水平方向の線を使用する場合、micropolは、ディスプレイの水平方向の線にぴったり並ぶように配置される。垂直方向の線を使用する場合、micropolは、ディスプレイの垂直列上にぴったり並ぶように配置される。さらに、micropolの線のピッチも、ディスプレイの赤、緑、および青の画素の垂直列と一致するように設計することができる。最後に、TNmicropolは、チェス盤状のパターンに設計することができる。これらのバリエーションを図12ないし15に示す。
【0033】
以下の参考文献はこの開示および出願に関係するものであり、参照によってここに組み込む。Sadeg Farisに発行された米国特許第5537144号および第5844717号。SID 91 Digest, p.840におけるS.M. Farisによる論文。World Scientificによって出版された「Liquid Crystals Applications and Uses」(1990, p232)と題するB.Bahadurの論文。Clearendon Press Oxfordによって出版された「The Physics of Liquid Crystals」(1993)と題するP.G.DE Gennesの書籍。Mol. Mat., Vol 3, p.161, 1993におけるT.Y. MarusiiおよびY.A.Reznikovの論文。Nature, Vol. 381, p.212, 1996におけるM. Schadt, H. SeiberleおよびA. Schusterの論文。Appl. Phys. Lett. 64(22), p.2946, 1994におけるS.C.JainおよびH.S. Kitzerrowの論文。Nature, Vol 351, p.49, 1991におけるW.M. Gibbons, P.J. Shannon, S.T. SunおよびB.J. Swetlinの論文。Liquid Crystals, Vol.20, No.6, P.825, 1996におけるG.P. Bryan−BrownおよびI.C. Sageの論文。American Chemical Society, Vol.8, p.1014, 1992におけるK. Aokiの論文。Jpn. J. Appl. Phys., Vol.34, p.L764, 1995におけるM. Schadt, H. Seiberle, A. SchusterおよびS.M. Kellyの論文。
【0034】
本発明について、好適な実施形態に関連して説明したが、本発明の範囲から逸脱することなく、様々な変化を施すことができ、その要素を等価物に取って替えることができることを当業者は理解されるであろう。加えて、本発明の本質的な範囲から逸脱することなく、特定の状況または材料を本発明の教示に適合させるために、多くの変形を施すことができる。したがって、本発明は、本発明に対して企図される最良の態様として開示した特定の実施形態に限定されず、本発明は請求の範囲内に該当する全ての実施形態を含むつもりである。
【0035】
本願は、2001年1月12日に出願した暫定出願第60/261,135号に関連し、それを参照によってここに組み込む。
【図面の簡単な説明】
【0036】
【図1】μPol技術に基づくPVAリターダの略図である。
【図2】TN液晶セルによる光学回転を示す略図である。
【図3】波長に対するPVA膜およびTNセルの透過率を示すグラフである。
【図4】TNをベースとするμPolの略図である。
【図5】UVマスク法で作成されたTNをベースとするμPolの略図である。
【図6】Eフィールドアラインメント法で作成されたTNをベースとするμPolの略図である。
【図7】マルチラビング法で作成されたTNをベースとするμPolの略図である。
【図8】2段階UV曝露法で作成された260μmの線幅を持つTN−μPolの写真である。
【図9】マルチラビング法で作成された60μmの線幅を持つTN−μPolの写真である。
【図10】1つの基板として可撓性直線偏光シートを、もう1つの基板として非複屈折シートを使用して作成されたTN−μPolの略図である。
【図11】LCディスプレイ上に直接作成されたTN−μPolの略図である。
【図12】45度micropolの略図である。
【図13】水平方向に整列したTN−micropolの略図である。
【図14】垂直ディスプレイ画素列またはサブ画素列用の垂直方向に整列したTN−micropolを示す略図である。
【図15】垂直方向および水平方向に整列したチェス盤状TN−micropolを示す略図である。
Claims (61)
- 第1および第2面を有する第1プレートを提供するステップと、
第1および第2面を有する第2プレートを提供するステップと、
前記2枚のプレートの前記第1面の各々にポリイミドを塗布するステップと、
前記第1プレートの前記第1面に塗布された前記ポリイミドを予め定められた方向に沿ってこするステップと、
前記第2プレートの前記第1面に塗布された前記ポリイミドを、前記予め定められた方向に対して予め定められた角度を有する方向に沿ってこするステップと、
前記第1プレートの前記第1面および前記第2プレートの前記第1面を相互に向き合わせて前記第1プレートおよび前記第2プレートを整列させ、それによってそれらの間に空間を形成するステップと、
前記空間内に液晶を充填し、それによってセルまたは膜を形成するステップと
を含む、微小偏光子を作成するための方法。 - 前記セルまたは膜を覆う透明なストライプおよび不透明なストライプを交互に有するマスクを使用し、それによってそこを通して固化エネルギを選択的に加えるステップと、
前記液晶の幾つかの部分を部分的に固化するステップと
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記マスクを除去するステップと、
前記セルまたは膜を温度設定点まで加熱し、それによって前記不透明なストライプによって覆われた未固化液晶を異なる相に転移させるステップと
をさらに含む、請求項2に記載の方法。 - 未硬化ネマティックを再固化してイソトロピック相にするステップと
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記第1プレートの前記第1面と前記第2プレートの前記第1面との間の材料を実質的に固化するステップと、
前記第1プレートを取り外すステップと、
前記第2プレートを取り外すステップと
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記固化ステップが紫外光を当てるステップを含む、請求項2に記載の方法。
- 前記空間が前記第1プレートの前記第1面と前記第2プレートの前記第1面との間に実質的な等距離を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記液晶がネマティック液晶を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ネマティック液晶が一種の重合可能なネマティック液晶を含む、請求項8に記載の方法。
- 前記予め定められた角度が約90度である、請求項1に記載の方法。
- 前記予め定められた角度が約45度である、請求項1に記載の方法。
- 前記2枚のプレートが偏平ガラスプレートを含む、請求項1に記載の方法。
- 第1および第2面を有する第1プレートであって、前記第1面に予め定められたストライプ幅のITOの交互ストライプコーティングを有する第1プレートを提供するステップと、
第1および第2面を有する第2プレートであって、前記第1面にITOのコーティングを有する第2プレートを提供するステップと、
前記2枚のプレートの前記第1面の各々にポリイミドを塗布するステップと、
前記第1プレートの前記第1面に塗布された前記ポリイミドを予め定められた方向に沿ってこするステップと、
前記第2プレートの前記第1面に塗布された前記ポリイミドを、前記予め定められた方向に対して予め定められた角度を有する方向に沿ってこするステップと、
前記第1プレートの前記第1面および前記第2プレートの前記第1面を相互に向き合わせて前記第1プレートおよび前記第2プレートを整列させ、それによってそれらの間に空間を形成するステップと、
前記空間内に液晶を充填し、それによってセルまたは膜を形成するステップと
を含む、微小偏光子を作成するための方法。 - 前記セルまたは膜を覆う透明なストライプおよび不透明なストライプを交互に有するマスクを使用し、それによってそこを通して固化エネルギを選択的に加えるステップと、
前記液晶の幾つかの部分を部分的に固化するステップと
をさらに含む、請求項13に記載の方法。 - 前記マスクを除去するステップと、
前記セルまたは膜を温度設定点まで加熱し、それによって前記不透明なストライプによって覆われた未固化液晶を異なる相に転移させるステップと
をさらに含む、請求項14に記載の方法。 - 未硬化ネマティックを再固化してイソトロピック相にするステップと
をさらに含む、請求項14に記載の方法。 - 前記第1プレートの前記第1面と前記第2プレートの前記第1面との間の材料を実質的に固化するステップと、
前記第1プレートを取り外すステップと、
前記第2プレートを取り外すステップと
をさらに含む、請求項13に記載の方法。 - 前記固化ステップが紫外光を当てるステップを含む、請求項13に記載の方法。
- 前記空間が前記第1プレートの前記第1面と前記第2プレートの前記第1面との間に実質的な等距離を有する、請求項13に記載の方法。
- 前記液晶がネマティック液晶を含む、請求項13に記載の方法。
- 前記ネマティック液晶が一種の重合可能なネマティック液晶を含む、請求項20に記載の方法。
- 前記予め定められた角度が約90度である、請求項13に記載の方法。
- 前記2枚のプレートが偏平ガラスプレートを含む、請求項13に記載の方法。
- 第1および第2面を有する第1プレートを提供するステップと、
前記第1プレートの前記第1面にポリイミドを塗布するステップと、
前記第1プレートの前記第1面に塗布された前記ポリイミドを予め定められた方向に沿ってこするステップと、
前記ポリイミドの上にフォトレジストを塗布するステップと、
前記フォトレジストを予め定められた交互に間隔をおいて配置されたストライプにパターン化するステップと、
前記第1プレートの前記第1面に塗布された前記ポリイミドを、前記予め定められた方向に対して予め定められた角度を有する方向に沿って再びこするステップと、
前記フォトレジストを洗い落とすステップと
を含む、微小偏光子を作成するための方法。 - 第1および第2面を有する第2プレートを提供するステップと、
前記第1プレートの前記第1面にポリイミドを塗布するステップと、
前記第1プレートの前記第1面に塗布された前記ポリイミドを予め定められた方向に沿ってこするステップと、
前記第1プレートの前記第1面および前記第2プレートの前記第1面を相互に向き合わせて前記第1プレートおよび前記第2プレートを整列させ、それによってそれらの間に空間を形成するステップと、
前記空間内に液晶を充填し、それによってセルまたは膜を形成するステップと
をさらに含む、請求項24に記載の方法。 - 前記液晶を固化するステップをさらに含む、請求項24に記載の方法。
- 前記第1プレートの前記第1面と前記第2プレートの前記第1面との間の材料を実質的に固化するステップと、
前記第1プレートを取り外すステップと、
前記第2プレートを取り外すステップと
をさらに含む、請求項25に記載の方法。 - 前記固化ステップが紫外光を当てるステップを含む、請求項26に記載の方法。
- 未硬化ネマティックを再固化してイソトロピック相にするステップと
をさらに含む、請求項24に記載の方法。 - 前記固化ステップが紫外光を当てるステップを含む、請求項29に記載の方法。
- 前記空間が前記第1プレートの前記第1面と前記第2プレートの前記第1面との間に実質的な等距離を有する、請求項25に記載の方法。
- 前記液晶がネマティック液晶を含む、請求項24に記載の方法。
- 前記ネマティック液晶が一種の重合可能なネマティック液晶を含む、請求項32に記載の方法。
- 前記予め定められた角度が約90度である、請求項25に記載の方法。
- 前記2枚のプレートが偏平ガラスプレートを含む、請求項25に記載の方法。
- 第1および第2面を有する第1プレートを提供するステップと、
第1および第2面を有する第2プレートを提供するステップと、
前記2枚のプレートの前記第1面の各々に塗布可能な材料を塗布するステップと、
両方のプレートを第1直線偏光紫外光に曝露するステップと、
前記第1プレートを部分的に覆うステップと、
前記第1プレートを第2偏光紫外光に再曝露するステップと、
前記第1プレートの前記第1面および前記第2プレートの前記第1面を相互に向き合わせて前記第1プレートおよび前記第2プレートを整列させ、それによってそれらの間に空間を形成するステップと、
前記空間内に液晶を充填し、それによってセルまたは膜を形成するステップと
を含む、微小偏光子を作成するための方法。 - 前記第2偏光紫外光が、前記第1直線偏光紫外光の偏光方向に対して実質的に直交する偏光方向を有する、請求項36に記載の方法。
- 前記塗布可能な材料がポリ4メトキシ桂皮酸ビニル(PVMC)、ポリ桂皮酸ビニル(PVC)、ポリイミド、染色ポリイミド、およびアゾベンゼンポリマから構成される、請求項36に記載の方法。
- 前記空間が前記第1プレートの前記第1面と前記第2プレートの前記第1面との間に実質的な等距離を有する、請求項36に記載の方法。
- 前記液晶がネマティック液晶を含む、請求項36に記載の方法。
- 前記ネマティック液晶が一種の重合可能なネマティック液晶を含む、請求項40に記載の方法。
- 前記液晶が少量のフォトレジストPVMCまたはアゾ染料と混合される、請求項36に記載の方法。
- 第1および第2面を有する第1プレートを提供するステップと、
第1および第2面を有する第2プレートを提供するステップと、
前記2枚のプレートの前記第1面の各々に塗布可能な材料を塗布するステップと、
前記第1プレートを第1直線偏光紫外光に曝露するステップと、
前記第2プレート上にマスクを配置するステップと、
前記第2プレートを前記第1直線偏光紫外光に曝露するステップと、
前記第1プレートを部分的に覆うステップと、
前記マスクを予め定められた距離だけ平行移動するステップと
前記第1プレートを第2偏光紫外光に再曝露するステップと、
前記第1プレートの前記第1面および前記第2プレートの前記第1面を相互に向き合わせて前記第1プレートおよび前記第2プレートを整列させ、それによってそれらの間に空間を形成するステップと、
前記空間内に液晶を充填し、それによってセルまたは膜を形成するステップと
を含む、微小偏光子を作成するための方法。 - 前記第2偏光紫外光が、前記第1直線偏光紫外光の偏光方向に対して実質的に直交する偏光方向を有する、請求項43に記載の方法。
- 前記塗布可能な材料がポリ4メトキシ桂皮酸ビニル(PVMC)、ポリ桂皮酸ビニル(PVC)、ポリイミド、染色ポリイミド、およびアゾベンゼンポリマから構成される、請求項43に記載の方法。
- 前記空間が前記第1プレートの前記第1面と前記第2プレートの前記第1面との間に実質的な等距離を有する、請求項43に記載の方法。
- 前記液晶がネマティック液晶を含む、請求項43に記載の方法。
- 前記ネマティック液晶が一種の重合可能なネマティック液晶を含む、請求項47に記載の方法。
- 前記2枚のプレートが偏平ガラスプレートを含む、請求項43に記載の方法。
- 前記液晶が少量のフォトレジストPVMCまたはアゾ染料と混合される、請求項43に記載の方法。
- 入射光を受けるための入力面と、
処理後の光を放出するための出力面と、
請求項1ないし11に実質的に記載された方法によって製造された液晶ディスプレイ装置を含む方法によって製造されたツイストネマティック液晶に基づく微小偏光子と
を含む液晶ディスプレイ装置。 - 第1および第2面を有する第1プレートと、
第1および第2面を有する第2プレートと、
前記2枚のプレートの前記第1面の各々に塗布された材料と、
前記第1プレートの前記第1面および前記第2プレートの前記第1面を相互に向き合わせた前記第1プレートと前記第2プレートとの間の空間と、
前記空間を充填し、それによってセルまたは膜を形成する液晶と
を備えたツイステッドネマチック微小偏光子。 - 前記塗布材がポリ4メトキシ桂皮酸ビニル(PVMC)、ポリ桂皮酸ビニル(PVC)、ポリイミド、染色ポリイミド、およびアゾベンゼンポリマから構成される、請求項52に記載の装置。
- 前記空間が前記第1プレートの前記第1面と前記第2プレートの前記第1面との間に実質的な等距離を有する、請求項52に記載の装置。
- 前記液晶がネマティック液晶を含む、請求項52に記載の装置。
- 前記ネマティック液晶が一種の重合可能なネマティック液晶を含む、請求項52に記載の装置。
- 前記2枚のプレートが偏平ガラスプレートを含む、請求項52に記載の装置。
- 前記液晶が少量のフォトレジストPVMCまたはアゾ染料と混合される、請求項52に記載の装置。
- 前記TN−micropolが水平方向に配向される、請求項52に記載の装置。
- 前記TN−micropolが垂直方向に配向される、請求項52に記載の装置。
- 前記TN−micropolがチェス盤状パターンに垂直方向および水平方向に配向される、請求項52に記載の装置。
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