JP2004361267A - Liquid dispenser, and method of preventing generation of gas bubble - Google Patents

Liquid dispenser, and method of preventing generation of gas bubble Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a means capable of reducing bubble generation in a liquid dispenser to realize stable and precise dispensing by simple constitution. <P>SOLUTION: This means (dispenser) is provided with a cylinder 25 for supplying helium gas into a system fluid in a tank 5, a liquid contact space for contacting with a liquid level of the system fluid in the tank 5, a relief valve 31 communicable with or blockable from an outside air, and a central valve 14 capable of communicating or blocking the tank 5 with /from a pipe line 4. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、検体や薬液などの試料を分注する液体分注装置と、この液体分注装置に用いられるシステム流体の気泡発生防止方法とに関する。
【0002】
【従来の技術】
血液分析機や遺伝子検査、創薬検査などの検査装置において、ランニングコスト削減やスループット向上のために、これらの装置に搭載される液体分注装置の最小吐出量を微量化することが検討されている。最小吐出量を微量化した液体分注装置の一例として、1ナノリットル未満の液滴を吐出可能な液体分注装置が下記特許文献1に開示されている。
【0003】
この従来の液体分注装置の一例を図4及び図5に示す。図4に示すように、この液体分注装置は、ガラス毛細管に取り付けられた圧電変換器を使用するマイクロディスペンサ61と、移送と移送との間にマイクロディスペンサ61を洗浄する容積式ポンプ62と、システム流体の圧力を測定し且つ対応する電気信号を発する圧力センサ63とを備えて構成されている。
【0004】
マイクロディスペンサ61は、図5に示すように、ガラス毛細管64に結合された圧電セラミクス管65からなっている。吐出の際には、アナログ電圧パルスの印加により圧電セラミクス管65を収縮させる。すると、これに伴うガラス毛細管64の変形により、移送流体の中を進んでマイクロディスペンサ61のノズル68に到達する圧力波が形成され、ノズル68先端の開口部より移送流体の一つの液滴が射出される。この従来技術においては、例えば5ピコリットルの液滴の吐出が可能とされている。
【0005】
試料の種類を変えて連続的な分注を行うには、次の試料を吸引する前にノズル68を洗浄することが必要である。そこで、上記従来技術では、容積式ポンプ62によりシステム流体を圧送し、ノズル68の先端から、残留した試料と共に排出することで洗浄を行っている。
【0006】
同特許文献1に開示されている他の実施形態を図6に示す。この実施形態では、複数のマイクロディスペンサ61にシステム流体を供給したり、試料を吸引させたりするために、電気制御ポンプ71による加減圧が可能なシステム流体貯蔵器70を、各マイクロディスペンサ61に接続する構成を採用している。そして、システム流体貯蔵器70を加圧することによりシステム流体を各マイクロディスペンサ61に圧送し、また、システム流体貯蔵器70を減圧することにより試料を各マイクロディスペンサ61に吸引させるようになっている。
【0007】
【特許文献1】
特開平10−114394号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記従来技術にみられるようなシステム流体の吸引と吐出による高精度な液体分注を安定して行うには、試料の吸引量および吐出圧力を安定させることが必要である。
試料を毎回吸引する際の吸引量と、吸引後に毎回吐出する際の吐出圧力との再現性に関しては、システム流体で満たされた流路内に不規則に存在する気泡がこれを阻害することがわかっている。すなわち、気泡の持つ圧縮性が、本来非圧縮性として構成される流路内における円滑な圧力制御および圧力維持を損なうため、吸引量や吐出圧力が変動して吐出量を変動させる。また、液滴として吐出する際には単独の液滴を形成できずに分割や飛散を生じたり、液滴の飛行速度が変動したりするため、適切な分注位置への分注も困難になる。
【0009】
しかしながら、上記従来技術では、前記システム流体貯蔵器70に供給されたシステム流体の気泡発生を継続的に抑える構成が備えられていない。すなわち、システム流体が温度変化や移送時の流路断面積の増加および攪拌による減圧に曝された場合に、システム流体貯蔵器70および各マクロディスペンサ61に向かう配管内で気泡発生を生じやすくなっている。
十分に脱気処理したシステム流体を使用することも考えられるが、これをシステム流体貯蔵器70内に保持する間に液面から空気の溶存が進むため、脱気の効果が時間経過と共に失われてしまうことになる。
【0010】
なお、自動分析装置における気泡発生を継続的に抑える手段を備えた例としては、特公平4−34700号公報に示される自動分析装置用脱気装置があり、これを図7及び図8に示す。この従来技術では、図7に示される装置の分注系を洗浄する洗浄水の流路80上に、図8に示す加熱・減圧・気液分離による脱気系を備え、分岐管81および弁82の制御により、洗浄水の供給を遮断する際にも循環路83で脱気処理を継続して行い、常に脱気レベルの高い流体を供給する構成となっている。
しかしながら、気泡発生を継続的に抑制できるとはいえ、このような脱気処理機構をシステム流体の供給手段に付加すると、装置構成が大掛かりになる上に運用が煩雑になって簡便性に欠け、ランニングコストも大きくなるという別の問題を招来することになる。
【0011】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、液体分注装置における気泡発生を低減させることによって安定かつ高精度な分注を簡易な構成で実現することができる手段の提供を目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
すなわち、請求項1に記載の液体分注装置は、試料を吸引及び吐出するノズルと、該ノズルに供給するシステム流体を貯留するタンクと、これらノズル及びタンク間を接続して前記システム流体を流す流路とを備えた液体分注装置において、前記タンク内の前記システム流体内に置換ガスを供給する第1の置換気体供給手段と、前記タンク内の前記システム流体の液面に接する接液空間と外気とを連通又は遮断可能な第1の弁体と、前記タンク及び前記流路間を連通又は遮断可能な第2の弁体とを備えることを特徴とする。
【0013】
上記請求項1に記載の液体分注装置によれば、第1の置換気体供給手段からの置換ガスをタンク内のシステム流体中に噴射することで、溶存空気および接液空間が置換ガスに置換される。その後、第1の弁体及び第2の弁体を遮断させた状態でタンク内に置換ガスを供給することで、タンク内を置換ガスの圧力により加圧保持する。これにより、システム流体は置換ガスの溶解で飽和、すなわち溶存空気が排除された状態に維持される。
システム流体を供給するタイミングでは、第2の弁体を開くことで、タンク内を加圧保持している一定圧によりシステム流体が流路に圧送される。この時のシステム流体に温度変化、流路断面積の増加や攪拌による減圧が生じても、タンク内および流路内のシステム流体は溶存空気が排除されている上に、前記加圧保持のための圧によって正圧に加圧されているため、気泡発生が抑制される。また、この抑制効果は、接液空間に外気が混入することがないため変動しない。
以上により、流路内に気泡を生じさせることなくノズルの分注動作を行えるので、吸引量および吐出圧力が安定し、その結果、高精度な吸引吐出が可能となる。なお、気泡を排除する手段としては、置換ガス供給手段及び第1の弁体及び第2の弁体だけであり、しかも、これらが流路への送液手段も兼ねてポンプが不要となるため、低コストかつ運用方法も極めて簡便なものとなっている。
【0014】
請求項2に記載の液体分注装置は、請求項1に記載の液体分注装置において、前記接液空間に置換ガスを直接供給するタンク加圧手段を備えることを特徴とする。
上記請求項2に記載の液体分注装置によれば、接液空間内の空気及びシステム流体内の溶存空気を前記第1の置換ガス供給手段により置換した後、この接液空間にタンク加圧手段からの置換ガスを直接供給して加圧することで、短時間にタンク内の加圧作業を済ませることができるようになる。
【0015】
請求項3に記載の液体分注装置は、請求項1または請求項2に記載の液体分注装置において、前記システム流体よりも表面張力の小さい置換流体を貯留するとともに前記流路に対して前記置換流体を供給可能に接続されたサブタンクと、該サブタンク内の前記置換流体内に置換ガスを供給する第2の置換気体供給手段と、前記サブタンク内の前記置換流体の液面に接する接液空間と外気とを連通又は遮断可能な第3の弁体と、前記サブタンク及び前記流路間を連通又は遮断可能な第4の弁体とを備えることを特徴とする。
【0016】
上記請求項3に記載の液体分注装置によれば、第2の置換気体供給手段からの置換ガスをサブタンク内の置換流体中に噴射することで、置換流体中の溶存空気および接液空間中の空気が置換ガスに置換される。その後、第3の弁体及び第4の弁体を遮断させた状態でサブタンク内に置換ガスを供給することで、サブタンク内を置換ガスの圧力により加圧保持する。これにより、置換流体は置換ガスの溶解で飽和、すなわち溶存空気が排除された状態に維持される。
液体分注装置の長期停止やメンテナンス作業のために流路内のシステム流体を排出した場合や、稼動上止むを得ず流路内に気泡が発生あるいは混入した場合、システム流体と同様の方法で置換流体を流路に圧送することにより、ノズルに至る全流路内の空気層や気泡が容易に置換流体に置換され、ノズル先端まで移送されて排出される。そして流路が完全に置換流体で満たされた状態でシステム流体の圧送へと移行することにより、容易に気泡発生を抑制してシステム流体を供給できる状態に移ることができる。
【0017】
請求項4に記載の液体分注装置は、請求項3に記載の液体分注装置において、前記サブタンク内の接液空間に置換ガスを直接供給するサブタンク加圧手段を備えることを特徴とする。
上記請求項4に記載の液体分注装置によれば、接液空間内の空気及び置換流体内の溶存空気を前記第2の置換ガス供給手段により置換した後、この接液空間にタンク加圧手段からの置換ガスを直接供給して加圧することで、短時間にサブタンク内の加圧作業を済ませることができるようになる。
【0018】
請求項5に記載の液体分注装置は、請求項1〜請求項4の何れか1項に記載の液体分注装置において、前記置換ガスがヘリウムガスであることを特徴とする。
上記請求項5に記載の液体分注装置によれば、システム流体内または置換流体内の溶存空気の置換を確実に行うことができる。
【0019】
請求項6に記載の液体分注装置の気泡発生防止方法は、試料を吸引及び吐出するノズルと、該ノズルに供給する流体を貯留する貯留容器と、これらノズル及び貯留容器間を接続して前記流体を流す流路とを備えた液体分注装置で、前記流体内に気泡が生じるのを防止する方法であり、前記貯留容器内の前記流体の液面に接する接液空間を外気に連通させた状態で、前記流体内に置換ガスを供給する置換工程と、該置換工程後における前記貯留容器内の接液空間を外気から遮断し、この貯留容器内を置換ガスで所定圧に加圧保持する加圧工程とを有することを特徴とする。
【0020】
上記請求項6に記載の液体分注装置の気泡発生防止方法によれば、置換工程では、置換ガスを貯留容器内の流体中に供給することで、流体中の溶存空気および接液空間中の空気が置換ガスに置換される。続く加圧工程では、貯留容器内に置換ガスを供給することで、貯留容器内を置換ガスにより加圧保持する。これにより、流体は置換ガスの溶解で飽和、すなわち溶存空気が排除された状態に維持される。
流体を供給するタイミングでは、貯留容器内を加圧保持している一定圧により流体が流路に圧送される。この時の流体に温度変化、流路断面積の増加や攪拌による減圧が生じても、貯留容器内および流路内の流体は溶存空気が排除されている上に、前記加圧保持のための圧によって正圧に加圧されているため、気泡発生が抑制される。また、この抑制効果は、接液空間に外気が混入することがないため変動しない。
【0021】
請求項7に記載の液体分注装置の気泡発生防止方法は、請求項6に記載の液体分注装置の気泡発生防止方法において、前記置換ガスとして、ヘリウムガスを用いることを特徴とする。
上記請求項7に記載の液体分注装置の気泡発生防止方法によれば、流体内の溶存空気の置換を確実に行うことができる。
【0022】
【発明の実施の形態】
本発明の液体分注装置及びその気泡発生防止の各実施形態を、図面を参照しながら以下に説明するが、本発明がこれらのみに限定解釈されるものでないことは勿論である。
【0023】
(第1実施形態)
まず、図1及び図2を参照しながら、本発明の第1実施形態についての説明を行う。なお、図1は本実施形態における液体分注装置の概略構成を示し、図2は同液体分注装置の分注ヘッド部の詳細構造を示している。
図1に示すように、本実施形態の液体分注装置は、ノズル1を含むヘッド2を単独もしくは複数保持出来るシリンジ3が、図示しない可動搬送部材により支持されている。
【0024】
シリンジ3は、可撓性を有してかつ容積変化の小さい管路4によってタンク5の底部に設けられた取水口6に接続されている。また、このシリンジ3は、精密ボールねじ7およびパルスモータ8からなる電動アクチュエータ9の可動部10に連結されたピストン11と組み合わせされ、シール部材12を介したピストン11の移動により体積変化を生じるシリンジピストンポンプ13を構成している。電動アクチュエータ9の分解能は、ピストン11の移動精度を確保できるよう、例えば0.0001mm/plsの高分解能に設定されている。
【0025】
管路4の途中には集中バルブ14が設けられており、ヘッド2を複数備える場合には、集中バルブ14を経た後の管路4を各ヘッド2に接続するように分岐し、これら分岐された管路4のそれぞれに個別バルブ15を設ける。そして、これら個別バルブ15は、図示しない制御部により開閉駆動されるようになっている。
【0026】
タンク5は、内部に液体を保持して加圧可能な構成を有し、本体部16と蓋17との間には、Oリング18による耐圧を備えたシール機構が施された上で、クランプ金具19によって両者が圧接固定されている。
蓋17は、加圧口20,噴射口21,および大気開放口22を備えている。そして、加圧口20および噴射口21には、分岐配管23a,23bに二股分岐する配管23及び圧力調整器24を介してヘリウムガス供給用のボンベ25が接続されている。分岐配管23a,23bには、これら2つの流路の何れか一方の流路を選択できるように、弁26がそれぞれ設けられている。
【0027】
噴射口21側に接続された分岐配管23aの経路上には、絞り弁27と流量計28と逆止弁29が接続されている。なお、絞り弁27及び流量計28を設ける代わりに、一体式の絞り弁付流量計を設けるようにしても良い。
また、噴射口21には、分岐配管23aに連通するとともにタンク5内の底部に向かって延在する延長配管23cが接続されており、その末端に、タンク5内の底部付近に噴射ガスを微細な気泡にして噴射させるためのバブラー30が接続されている。
【0028】
大気開放口22には、手動で大気圧への開放が可能なリリーフ弁31が接続されており、タンク5内が所定の圧力以上に加圧された場合には内圧をリークさせ、タンク5の破損等を防げるようになっている。
なお、管路4および配管23の各接続部には、耐圧性を有するシールが施されている。また、各部材の接液部には、腐食および発塵が極めて小さい材質、すなわち金属部はステンレス、樹脂部はフッ素樹脂を使用している。
【0029】
図2に示すように、ヘッド2は、ノズル1と、このノズル1を吐出方向に駆動するためにその軸方向(吐出方向と一致)に伸縮変形可能な圧電素子40とを備えて構成されている。圧電素子40の軸方向の一方の端部は、シリンジ3に形成されているヘッド取付け穴41(図1参照)に嵌合可能な固定端継ぎ手42に固着され、また他方の端部は、自由端継ぎ手43に固着されている。また、ノズル1は、その軸方向の一部において、外周に流路継手44が固着されている。
【0030】
そして、ヘッド2は、自由端継ぎ手43と流路継ぎ手44を結合した状態で各構成部材が同軸をなすように組立てられている。ヘッド取付け穴41と固定端継ぎ手42との間の嵌合部分は、抜け止めネジ45によって着脱自在に固定されている。固定端継ぎ手42の端面には、所定の内径および深さの凹部46が形成されており、ここに、ノズル1の外周に嵌め込まれた1本もしくは複数本のOリング47が嵌まることより、シリンジ3からノズル1にかけてシールされた流路を確保できるようになっている。
【0031】
ノズル1は、先端側のテーパ部48と、このテーパ部48に連続するストレート部49とからなり、テーパ部50の先端に形成された開口50を通して外気に連通している。ストレート部49の概略寸法は、例えば、内径0.5mm〜3mm、外径1.5mm〜6mm、長さ12mm〜60mmである。また、テーパ部48は、例えば、内側5°〜20°、外側25°〜45°に形成されている。また、開口50は、例えば20μm〜100μmの開口径を有してかつ、テーパ部48の内部流路に通じる50μm〜120μmの長さ寸法を有する開口ストレート部51を備えている。
【0032】
圧電素子40とノズル1との間の継ぎ手および結合部は剛体として形成されているので、ノズル1は圧電素子40の変形により図2の上下方向に変位可能である。圧電素子40には、図示しない駆動回路からのリード線またはフレキシブル基板により、所望波形の電圧を印加できるようになっている。また、ヘッド2が帯電して開口50付近に空気中の塵が付着するのを防ぐために、必要に応じてヘッド2にイオン化エアーを吹きかけて静電気を除去するブロワーが備えられている。
【0033】
以上説明のように、本実施形態の液体分注装置は、試料を吸引及び吐出するノズル1と、このノズル1に供給するシステム流体を貯留するタンク5と、これらノズル1及びタンク5間を接続してシステム流体を流す管路(流路)4とを備え、タンク5内のシステム流体内にヘリウムガス(置換ガス)を供給するボンベ25(第1の置換気体供給手段)と、タンク5内のシステム流体の液面に接する接液空間と外気とを連通又は遮断可能なリリーフ弁(第1の弁体)31と、タンク5及び管路4間を連通又は遮断可能な集中バルブ(第2の弁体)14とを備える構成を採用している。
さらに、本実施形態の液体分注装置は、ボンベ25が、前記接液空間にヘリウムガスを直接供給してタンク5内を加圧するタンク加圧手段を兼ねている。なお、システム流体内にヘリウムガスを供給する用途と、タンク5内の接液空間にヘリウムガスを供給する用途とのそれぞれ専用にボンベ25を備えるものとしても良いが、本実施形態のように共用してバルブの操作により用途を切り替える構成の方が、より簡易なシステム構成とすることが可能となり、好ましい。
【0034】
上記構成を有する本実施形態の液体分注装置では、そのシステム流体内に気泡が発生するのを防止する方法を、タンク(貯留容器)5内のシステム流体の液面に接する接液空間を外気に連通させた状態で、システム流体内にヘリウムガス(置換ガス)を供給する置換工程と、この置換工程後におけるタンク5内の接液空間を外気から遮断し、このタンク5内をヘリウムガスで所定圧に加圧保持する加圧工程とを有する気泡発生防止方法により行うものとしている。
【0035】
すなわち、ノズル1を効果的に洗浄できる清浄なシステム流体として超純水を準備し、これをタンク5内に貯留する。蓋17を閉じてクランプ金具19により固定することでタンク5内を密閉する。そして、噴射口21に連通する分岐配管23aを、その弁26を開くことで開通させる一方、加圧口20に連通する分岐配管23bを、その弁26を閉じることで遮断する。さらに、リリーフ弁31を開くことでタンク5内を大気解放状態にする。
【0036】
その後、ヘリウムガスを高圧に封入してあるボンベ25からヘリウムガスを圧力調整器24により減圧させ、絞り弁27を開きながら供給開始することで、延長配管23cの末端に取り付けられたバブラー30から、ヘリウムガスが多数の気泡となってシステム流体内に噴射されていく。このヘリウムガスは、システム流体内に溶存することで、予め溶存していた空気を接液空間へと追い出す。さらに、システム流体内から接液空間内に放出されたヘリウムガスは、この接液空間内の空気をもリリーフ弁31からタンク5外へと押し出して放出させる。
この時、ヘリウムガスの気泡がタンク5内に十分に拡散するよう、例えば、タンク5が容量3Lの場合には、ヘリウムガスの供給流量を30ml/min〜200ml/min、圧力調整器の2次圧を0.1MPa〜0.3MPaとすると良い。
【0037】
このようにして所定時間の噴射を行うことにより、タンク5内のシステム流体中の溶存空気および接液空間がヘリウムガスに置換される。十分な置換がなされた後、噴射口21への流路を、分岐配管23aに備えられている弁26を閉じることで遮断するとともに、加圧口20への流路を、分岐配管23bに備えられている弁26を開くことで開通させる。これにより、分岐配管23bを通ってヘリウムガスがタンク5内の接液空間に直接供給される。
【0038】
そして、圧力調整器24によりヘリウムガスの供給圧力をシステム流体の圧送に必要な圧力、例えば0.05Mpa〜0.2Mpaの2次圧に調整し、リリーフ弁31を遮断してタンク5内をヘリウムガスにより加圧保持する。
なお、リリーフ弁31を閉じた状態でバブラー30からのみヘリウムガスを供給することでもタンク5内を加圧することはできるが、本実施形態のように、接液空間内にヘリウムガスを直接供給した方が、より短時間にタンク5内の加圧作業を行えるので、より好ましいと言える。
【0039】
タンク5内をヘリウムガスで加圧した時点で、システム流体はヘリウムガスの溶解で飽和、すなわち溶存空気が排除された状態となっており、また接液空間にはヘリウムガスのみが充填され続けるため、システム流体への溶存気体は一定量のヘリウムガスのみに維持される。
【0040】
システム流体をノズル1に向けて供給するタイミングでは、管路4上の集中バルブ14および各個別バルブ15を図示しない制御部で開放させる。すると、常にタンク5内の液面下に位置する取水口6から管路4に向かって、タンク5内の保持圧力による一定圧でシステム流体が圧送される。
この時、システム流体が流れる流路を形成する各部材からの影響による温度変化、流路断面積の増加、攪拌による減圧などが生じても、システム流体内の溶存空気は既に排除されている上に流路全体が正圧に加圧されているため、気泡発生が抑制される。
また、開放されている管路4上の集中バルブ14および各個別バルブ15を遮断するのみでシステム流体の供給が停止され、タンク5内では溶存空気の排除が継続される。
【0041】
続いて、ノズル1の洗浄動作及びその後の吐出動作について説明する。
まず、ノズル1の洗浄にあたっては、システム流体を洗浄水として上記方法で所定量供給し、ノズル1内部の残留試料や汚染物質等を開口50からシステム流体と共に排出する。
この時のノズル1内には、溶存空気をヘリウムガスで置換されたシステム流体が、タンク5から管路4を介してノズル1の先端まで充填されており、システム流体の接液部において空気が存在するのは、システム流体供給停止時の開口50のみという極めて微小な面積となっている。したがって、気泡抑制効果はノズル1内のシステム流体でも持続し続けることとなる。
【0042】
ノズル1の内部洗浄にあわせ、ノズル1を図示しない洗浄槽に浸漬しての超音波洗浄等を行うことにより、ノズル1の先端外周面の洗浄も行われる。この際、外周の洗浄に洗剤もしくは薬品を使用する場合もある。
洗浄終了時にはシリンジピストンポンプ13においてピストン11をシリンジ3内の最も奥深くに挿入した状態でシステム流体の供給を停止することで、ノズル1の先端までシステム流体を充填させる。この後、ノズル1を空気中に保持し、シリンジピストンポンプ13においてピストン11を抜く方向に低速で所定量移動させることにより、開口50から空気を吸引させる。
この時、各個別バルブ15からノズル1の先端までの流路内は負圧となるが、この流路を満たすシステム流体中の気泡発生は抑えられている。また、ピストン11の移動量および速度が緩やかとなるように精密に制御することで、流路中にシステム流体層及び空気層間の界面を形成し、最後に所定時間だけ静止して両層の圧力を安定させる。
【0043】
ノズル1の先端内を所定量の空気で満たした後、図示しない試料中にノズル1の先端を浸漬し、シリンジピストンポンプ13において更にピストン11を抜く方向に低速で所定量移動させることにより、開口50から試料を吸引する。ここでも同様に、各個別バルブ15からノズル1先端までの流路は負圧となるが、この流路を満たすシステム流体中の気泡の発生は抑えられている。また、ピストン11の移動量および速度が緩やかになるように精密に制御することにより、試料層及び空気層間の界面を形成し、最後に所定時間だけ静止して両層の圧力を安定させる。
【0044】
この結果、試料がノズル1内にスムーズに吸引され、最後に両層の界面が停止する位置、すなわち、試料の吸引量がこの動作の反復において極めて安定する。実際に、本願発明の発明者が試験確認を行ったところ、システム流体での気泡抑制を行わない場合における吸引量の変動が最大2%以上あったものが、上記気泡発生防止方法を用いることにより0.2%以内の変動に抑制されることが確認されている。
【0045】
以上説明のようにノズル1内に一定量の試料を吸引保持した後、図示しない反応容器上の所定の位置に試料を液滴の吐出により分配する。
この時の吐出動作は、圧電素子40に所定波形の駆動電圧を印加し、この駆動電圧に応じた変形量で、圧電素子40をその軸方向に伸縮変形させる。これにより、ノズル1が図2の紙面上方向に瞬時に変位する。
【0046】
この時、ノズル1内の試料に慣性力が作用して現在位置に止まろうとする。すると、ノズル1側から試料を相対的に見た場合、試料が、ノズル1の開口50に向かうように瞬間移動する。この試料の移動により、テーパ部48内における試料の圧力が上昇し、開口50における表面張力を打ち破って試料の一部が液滴として外部へ吐出される。
吐出される液体の量の範囲は、例えば0.01nl〜0.3μLで、テーパ部48のテーパ角度、開口50の口径、駆動電圧波形および試料の吸引量等によって決まり、これらは安定して良好な吐出品質を確保するように最適化されている。
【0047】
なお、本吐出方法は、試料の吸引量および吐出時の圧力が十分に安定するので、吸引吐出の反復による液滴の大きさ、速度および品質が良好かつ安定したものとすることができる。これに対し、システム流体の気泡抑制を行わない従来の液体分注装置による吐出では、単独の液滴を形成できずに分割や飛散を生じたり、液滴の飛行速度が変動することが実際に確認されている。
以上のように所定の吐出作業を終了した後、別の試料を分配するべく、前述の洗浄動作から吸引動作、そして吐出動作を反復して行う。以後、試料の種類に応じて必要なサイクル分を反復し、所望の分配を終了する。
【0048】
以上説明の本実施形態の液体分注装置によれば、システム流体の溶存空気をヘリウムガスに置換するとともにこれを常時一定圧で圧送することにより、タンク5からノズル1に向かう流路内での気泡発生が抑制される。これに伴い、試料吸引量および吐出圧力は安定し、その結果、吐出される液滴の量および品質が安定する。したがって、試料の高精度な吸引吐出を安定して行うことが可能となる。
【0049】
また、システム流体の供給機構に関しては、集中バルブ14及び各個別バルブ15の開閉以外の制御を必要とせず、送液の動力もヘリウムガスのボンベ圧のみで長期間連続稼動が可能であり、チュービングポンプのような脈動がなく、常に一定流量を保証できる上に、送液中は吸引による負圧を形成することがないことも気泡発生の抑制に寄与している。
さらに、マグネットギヤポンプに見られるような摺動部がないため、発塵防止等の保守が不要でありながら清浄性を長期間維持することも可能としている。よって、ポンプを使用する場合よりも簡便な構成および運用方法、低いランニングコストで安定的な送液機構を装置に付加することが可能となっている。
【0050】
なお、ヘッド2としては、ノズル1をその吐出方向に往復移動させ、試料に作用する慣性力を用いて吐出させる構成のものに限らず、円筒形状の圧電セラミクスを径方向に収縮させ、ノズル1内の容積を変化させることによって試料を吐出させる構成も勿論採用可能である。
また、試料に液滴を形成させるものだけでなく、ノズル1内の圧力を高めることにより連続に吐出させる構成も採用可能である。さらには、ノズル1は開口50が最も小径となるものだけでなく、小径の部分が軸方向に長さを有するニードル状のものを採用しても良い。
【0051】
(第2実施形態)
続いて、本発明の液体分注装置及びその気泡発生防止方法の第2実施形態を、図3を参照しながら説明する。なお、本実施形態の説明においては、上記第1実施形態との相違点を中心に説明し、その他については上記第1実施形態と同様であるとしてその説明を省略する。
【0052】
図3に示すように、配管23および管路4をそれぞれ二股分岐し、その間に、タンク5およびその付属部品と同様の構成でサブタンク52とその付属部品を並列に接続している。二股分岐した管路4のうち、タンク5側に接続されるものには出口弁53を、サブタンク52側に接続された方にはサブ出口弁54を設けている。そして、これら二股分岐した管路4が1本にまとまっている個所に、集中バルブ55が設けられている。
【0053】
以上説明のように、本実施形態の液体分注装置では、システム流体よりも表面張力の小さい薬液(置換流体)を貯留するとともに管路(流路)4に対して薬液を供給可能に接続されたサブタンク52と、このサブタンク52内の薬液内にヘリウムガスを供給するボンベ(第2の置換気体供給手段)52と、サブタンク52内の薬液の液面に接する接液空間と外気とを連通又は遮断可能なリリーフ弁(第3の弁体)31と、サブタンク52及び管路4間を連通又は遮断可能なサブ出口弁(第4の弁体)54とを備える構成を採用した。
【0054】
さらに、本実施形態の液体分注装置は、ボンベ25が、サブタンク52内の接液空間にヘリウムガスを直接供給してサブタンク52内を加圧するサブタンク加圧手段を兼ねている。なお、システム流体内にヘリウムガスを供給する用途と、サブタンク52内の接液空間にヘリウムガスを供給する用途とのそれぞれ専用にボンベ25を備えるものとしても良いが、本実施形態のように共用してバルブの操作により用途を切り替える構成の方が、より簡易なシステム構成とすることが可能となり、好ましい。
【0055】
以上説明の構成を有する本実施形態の液体分注装置では、ヘリウムガスの置換により溶存空気が排除された薬液を加圧保持できるようになっている。
すなわち、予め、出口弁53およびサブ出口弁54を遮断した状態としておく。そして、システム流体として超純水をタンク5に貯留する一方、サブタンク52内にはシステム流体よりも表面張力の小さい清浄な薬液、例えばイソプロピルアルコールやメチルアルコール等を貯留する。
そして、タンク5内のシステム流体と同様に、ボンベ25からのヘリウムガスをサブタンク52内の薬液中にバブラー30により噴射供給する。これにより、薬液中の溶存空気および接液空間中の空気をヘリウムガスに置換した後、そのままヘリウムガスでサブタンク52内も加圧保持する。
【0056】
このように、本実施形態の液体分注装置では、その薬液内に気泡が発生するのを防止する方法を、タンク(貯留容器)52内の薬液の液面に接する接液空間を外気に連通させた状態で、薬液内にヘリウムガス(置換ガス)を供給する置換工程と、この置換工程後におけるタンク52内の接液空間を外気から遮断し、このタンク52内をヘリウムガスで所定圧に加圧保持する加圧工程とを有する気泡発生防止方法により行うものとしている。
【0057】
このサブタンク52内の薬液は、液体分注装置を長期停止させたりメンテナンス作業のために流路内のシステム流体を排出した場合など、稼動上止むを得ず流路内に気泡が発生あるいは混入した場合に、この気泡を除去するために用いられるものである。
すなわち、まず出口弁53を閉じた状態でサブ出口弁54を開放するとともに、管路4上の集中バルブ55を開放することにより、サブタンク52内の薬液が一定圧で圧送される。このとき、薬液内の溶存空気は排除されている上に流路全体が正圧に加圧されているため、薬液の気泡発生は抑制される。
【0058】
ここで、表面張力の小さい薬液(アルコール類など)が圧送されることにより、サブタンク52から管路4を介してノズル1に至る全流路内の空気層や気泡が、薬液に容易に置換される。
上記全流路が完全に薬液で満たされた状態で、次にサブ出口弁54を遮断してから出口弁53を開放し、同様にタンク5に貯留されているシステム流体をノズル1に向けて圧送する。ここで、急激に流路内の薬液がシステム流体に置換されること、あるいは両液体が混合することで不具合が予想される場合(例えば、水との急激な混合によるアルコールの気化で気泡が発生する場合)には、サブ出口弁54の遮断および出口弁53の開度を徐々に変化させ、影響を緩和させながら置換することが好ましい。
タンク5から管路4を介してノズル1に至るまでの流路が完全にシステム流体に置換された以降の工程は、上記第1実施形態で説明した各工程と同様である。
【0059】
以上説明の本実施形態の液体分注装置によれば、上記第1実施形態と同様の効果が得られる上に、この液体分注装置の長期停止やメンテナンス作業のために流路内のシステム流体を排出した場合や、稼動上止むを得ず流路内に気泡が発生あるいは混入した場合においても、流路内の空気層もしくは気泡の除去を容易に行うことが可能となる。
また、従来では薬液で満たされた流路をシステム流体に置換することは、新たな気泡の混入を招く可能性があり、困難もしくは作業が煩雑であったが、本実施形態では、出口弁53,サブ出口弁54等の弁開度の調整のみで実施でき、薬液からシステム流体への置換作業を容易に行うことが可能となる。
【0060】
【発明の効果】
本発明の請求項1に記載の液体分注装置は、システム流体内に置換ガスを供給する第1の置換気体供給手段と、接液空間と外気とを連通又は遮断可能な第1の弁体と、タンク及び流路間を連通又は遮断可能な第2の弁体とを備える構成を採用した。この構成によれば、流路内に気泡を生じさせることなくノズルの分注動作を行えるので、吸引量および吐出圧力が安定し、その結果、高精度な吸引吐出が可能となる。しかも、気泡を排除する手段としては、第1の置換ガス供給手段及び第1の弁体及び第2の弁体だけであり、なおかつ、これらが流路にシステム流体を送る送液手段も兼ねてポンプが不要であるため、簡易な構成であり、運用方法も極めて簡便なものとなっている。
【0061】
また、請求項2に記載の液体分注装置は、前記接液空間に置換ガスを直接供給するタンク加圧手段を備える構成を採用した。この構成によれば、タンク内の加圧を短時間で行うことが可能となる。
【0062】
また、請求項3に記載の液体分注装置は、置換流体を貯留するサブタンクと、置換流体内に置換ガスを供給する第2の置換気体供給手段と、接液空間と外気とを連通又は遮断可能な第3の弁体と、サブタンク及び流路間を連通又は遮断可能な第4の弁体とを備える構成を採用した。この構成によれば、ノズルに至る全流路内の空気層や気泡を、溶存空気が排除された置換流体に容易に置換することができるので、気泡発生を抑制しながらもシステム流体を供給できる状態に容易に移行することが可能となる。
しかも、置換流体から気泡を排除する手段としては、第2の置換ガス供給手段及び第3の弁体及び第4の弁体だけであり、なおかつ、これらが流路に置換流体を送る送液手段も兼ねてポンプが不要であるため、簡易な構成であり、運用方法も極めて簡便なものとなっている。
【0063】
また、請求項4に記載の液体分注装置は、前記サブタンク内の接液空間に置換ガスを直接供給するサブタンク加圧手段を備える構成を採用した。この構成によれば、サブタンク内の加圧を短時間で行うことが可能となる。
【0064】
また、請求項5に記載の液体分注装置は、置換ガスとしてヘリウムガスを用いる構成を採用した。この構成によれば、システム流体内または置換流体内の溶存空気の置換を確実に行うことが可能となる。
【0065】
本発明の請求項6に記載の液体分注装置の気泡発生防止方法は、接液空間を外気に連通させた状態で流体内に置換ガスを供給する置換工程と、接液空間を外気から遮断し、この貯留容器内を置換ガスで所定圧に加圧保持する加圧工程とを有する方法を採用した。この方法によれば、流路内に気泡を生じさせることなくノズルの分注動作を行えるように気泡発生を防止することができるので、吸引量および吐出圧力が安定し、その結果、高精度な吸引吐出が可能となる。しかも、気泡を排除する手段としては、置換ガスを供給する手段及び各種弁体だけであり、なおかつ、これらが流路に流体を送る送液手段も兼ねてポンプが不要であるため、簡易な構成であり、運用方法も極めて簡便なものとなっている。
【0066】
また、請求項7に記載の液体分注装置の気泡発生防止は、置換ガスとしてヘリウムガスを用いる方法を採用した。この方法によれば、流体内の溶存空気の置換を確実に行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の液体分注装置の第1実施形態を示す図であって、全体構成を示す説明図である。
【図2】同液体分注装置の要部を示す縦断面図である。
【図3】本発明の液体分注装置の第2実施形態を示す図であって、全体構成を示す説明図である。
【図4】従来の液体分注装置の一例を示す図であって、全体構成を示す説明図である。
【図5】同液体分注装置の要部を示す拡大図である。
【図6】従来の他の液体分注装置を示す図であって、全体構成を示す説明図である。
【図7】従来の気泡発生防止手段を示す図である。
【図8】従来の気泡発生防止手段を示す図である。
【符号の説明】
1・・・ノズル
4・・・管路(流路)
5・・・タンク(タンク,貯留容器)
14・・・集中バルブ(第2の弁体)
25・・・ボンベ(第1の置換気体供給手段,タンク加圧手段,第2の置換気体供給手段,サブタンク加圧手段)
31・・・リリーフ弁(第1の弁体,第3の弁体)
52・・・サブタンク(サブタンク,貯留容器)
54・・・サブ出口弁(第4の弁体)
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a liquid dispensing device for dispensing a sample such as a specimen or a drug solution, and a method for preventing generation of bubbles in a system fluid used in the liquid dispensing device.
[0002]
[Prior art]
For testing devices such as blood analyzers, genetic tests, and drug discovery tests, it has been studied to reduce the minimum discharge volume of the liquid dispensing device mounted on these devices to reduce running costs and improve throughput. I have. As an example of a liquid dispensing device in which the minimum discharge amount is reduced, a liquid dispensing device capable of discharging droplets of less than 1 nanoliter is disclosed in Patent Document 1 below.
[0003]
One example of this conventional liquid dispensing apparatus is shown in FIGS. As shown in FIG. 4, the liquid dispensing device includes a microdispenser 61 using a piezoelectric transducer attached to a glass capillary, a positive displacement pump 62 for cleaning the microdispenser 61 between transfers, A pressure sensor 63 that measures the pressure of the system fluid and emits a corresponding electrical signal.
[0004]
The micro dispenser 61 is composed of a piezoelectric ceramic tube 65 connected to a glass capillary tube 64, as shown in FIG. At the time of ejection, the piezoelectric ceramic tube 65 is contracted by applying an analog voltage pulse. Then, due to the deformation of the glass capillary tube 64 accompanying this, a pressure wave that travels in the transfer fluid and reaches the nozzle 68 of the microdispenser 61 is formed, and one droplet of the transfer fluid is ejected from the opening at the tip of the nozzle 68. Is done. In this conventional technique, it is possible to discharge a droplet of, for example, 5 picoliters.
[0005]
In order to perform continuous dispensing by changing the type of sample, it is necessary to wash the nozzle 68 before sucking the next sample. Therefore, in the above-described conventional technique, cleaning is performed by pumping the system fluid by the positive displacement pump 62 and discharging the system fluid from the tip of the nozzle 68 together with the remaining sample.
[0006]
Another embodiment disclosed in Patent Document 1 is shown in FIG. In this embodiment, in order to supply a system fluid to a plurality of microdispensers 61 or to suck a sample, a system fluid reservoir 70 capable of increasing and decreasing pressure by an electric control pump 71 is connected to each microdispenser 61. The configuration is adopted. Then, the system fluid is pressure-fed to each micro-dispenser 61 by pressurizing the system fluid reservoir 70, and the sample is sucked to each micro-dispenser 61 by depressurizing the system fluid reservoir 70.
[0007]
[Patent Document 1]
JP-A-10-114394
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, in order to stably perform high-precision liquid dispensing by suction and discharge of the system fluid as in the above-described related art, it is necessary to stabilize the suction amount and discharge pressure of the sample.
Regarding the reproducibility of the suction volume at each time of aspirating the sample and the discharge pressure at each discharge after the aspiration, irregular air bubbles in the flow path filled with the system fluid may inhibit this. know. That is, since the compressibility of the air bubbles impairs smooth pressure control and pressure maintenance in the flow path which is originally incompressible, the suction amount and the discharge pressure fluctuate, and the discharge amount fluctuates. In addition, when ejected as droplets, a single droplet cannot be formed, causing division or scattering, or the flying speed of the droplet may fluctuate, making it difficult to dispense to an appropriate dispensing position. Become.
[0009]
However, the above-described conventional technology does not include a configuration for continuously suppressing the generation of bubbles in the system fluid supplied to the system fluid storage 70. That is, when the system fluid is exposed to a temperature change, an increase in the flow path cross-sectional area at the time of transfer, and a reduced pressure due to agitation, bubbles are likely to be generated in the system fluid reservoir 70 and the piping toward each macro dispenser 61. I have.
Although it is conceivable to use a system fluid which has been sufficiently degassed, the air is dissolved from the liquid surface while the system fluid is retained in the system fluid reservoir 70, so that the degassing effect is lost over time. Will be.
[0010]
As an example of the automatic analyzer provided with means for continuously suppressing the generation of bubbles, there is a deaerator for an automatic analyzer disclosed in Japanese Patent Publication No. 4-34700, which is shown in FIG. 7 and FIG. . In this prior art, a deaeration system by heating, decompression, and gas-liquid separation shown in FIG. 8 is provided on a flow path 80 of cleaning water for cleaning a dispensing system of the apparatus shown in FIG. By the control of 82, the deaeration process is continuously performed in the circulation path 83 even when the supply of the cleaning water is shut off, and a fluid having a high deaeration level is always supplied.
However, although the generation of bubbles can be suppressed continuously, if such a deaeration treatment mechanism is added to the supply means of the system fluid, the device configuration becomes large and the operation becomes complicated and lacks simplicity. Another problem is that the running cost increases.
[0011]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide means capable of realizing stable and highly accurate dispensing with a simple configuration by reducing the generation of bubbles in a liquid dispensing apparatus. .
[0012]
[Means for Solving the Problems]
The present invention employs the following means in order to solve the above problems.
That is, in the liquid dispensing apparatus according to the first aspect, a nozzle for sucking and discharging a sample, a tank for storing a system fluid to be supplied to the nozzle, and connecting the nozzle and the tank to flow the system fluid A liquid dispensing apparatus having a flow path, a first replacement gas supply means for supplying a replacement gas into the system fluid in the tank, and a liquid contacting space in contact with a liquid level of the system fluid in the tank A first valve body capable of communicating or shutting off with the outside air, and a second valve body capable of communicating or shutting off between the tank and the flow path.
[0013]
According to the liquid dispensing device of the first aspect, the replacement air from the first replacement gas supply means is injected into the system fluid in the tank, so that the dissolved air and the liquid contact space are replaced with the replacement gas. Is done. Thereafter, the replacement gas is supplied into the tank with the first valve body and the second valve body shut off, so that the inside of the tank is pressurized and held by the pressure of the replacement gas. This keeps the system fluid saturated with the dissolution of the replacement gas, ie, with the dissolved air removed.
At the timing of supplying the system fluid, by opening the second valve body, the system fluid is pressure-fed to the flow path by a constant pressure that pressurizes and holds the inside of the tank. Even if the temperature of the system fluid changes at this time, even if the pressure decreases due to an increase in the cross-sectional area of the flow path or the agitation, the system fluid in the tank and the flow path is free of the dissolved air, and is also required to maintain the pressure. Since the pressure is increased to a positive pressure by this pressure, the generation of bubbles is suppressed. In addition, this suppression effect does not fluctuate because no outside air enters the liquid contact space.
As described above, since the dispensing operation of the nozzle can be performed without generating bubbles in the flow path, the suction amount and the discharge pressure are stabilized, and as a result, highly accurate suction and discharge can be performed. The only means for eliminating bubbles are the replacement gas supply means, the first valve body and the second valve body, and these also serve as a means for sending liquid to the flow path, so that a pump is not required. In addition, the cost is low and the operation method is very simple.
[0014]
A liquid dispensing apparatus according to a second aspect is the liquid dispensing apparatus according to the first aspect, further comprising a tank pressurizing unit that directly supplies a replacement gas to the liquid contact space.
According to the liquid dispensing apparatus of the second aspect, after the air in the liquid contact space and the dissolved air in the system fluid are replaced by the first replacement gas supply means, the tank pressurizes the liquid contact space. By directly supplying and pressurizing the replacement gas from the means, the pressurizing operation in the tank can be completed in a short time.
[0015]
The liquid dispensing device according to claim 3 is the liquid dispensing device according to claim 1 or 2, wherein the replacement fluid having a surface tension smaller than that of the system fluid is stored and the fluid is dispensed with respect to the flow path. A sub-tank connected to be capable of supplying a replacement fluid, a second replacement gas supply unit for supplying a replacement gas into the replacement fluid in the sub-tank, and a liquid contact space in contact with a liquid surface of the replacement fluid in the sub-tank A third valve body capable of communicating or shutting off with the outside air, and a fourth valve body capable of communicating or shutting off between the sub-tank and the flow path.
[0016]
According to the liquid dispensing device according to the third aspect, the replacement gas from the second replacement gas supply means is injected into the replacement fluid in the sub-tank, so that the dissolved air in the replacement fluid and the liquid-contact space are removed. Is replaced by the replacement gas. Thereafter, by supplying the replacement gas into the sub-tank with the third valve body and the fourth valve body being shut off, the inside of the sub-tank is pressurized and held by the pressure of the replacement gas. As a result, the displacement fluid is maintained saturated with the dissolution of the displacement gas, that is, a state in which the dissolved air is excluded.
If the system fluid in the flow path is discharged due to long-term stoppage of the liquid dispensing device or maintenance work, or if air bubbles are generated or mixed in the flow path due to unavoidable operation, use the same method as for the system fluid. By pumping the replacement fluid into the flow path, the air layer and air bubbles in the entire flow path up to the nozzle are easily replaced by the replacement fluid, transferred to the nozzle tip, and discharged. Then, by shifting to pressure feeding of the system fluid in a state where the flow path is completely filled with the replacement fluid, it is possible to easily shift to a state where the generation of bubbles can be suppressed and the system fluid can be supplied.
[0017]
A liquid dispensing apparatus according to a fourth aspect is the liquid dispensing apparatus according to the third aspect, further comprising a sub-tank pressurizing unit that directly supplies a replacement gas to a liquid contact space in the sub-tank.
According to the liquid dispensing apparatus of the fourth aspect, after the air in the liquid contact space and the dissolved air in the replacement fluid are replaced by the second replacement gas supply means, the tank pressurization is performed on the liquid contact space. By directly supplying and pressurizing the replacement gas from the means, the pressurizing operation in the sub-tank can be completed in a short time.
[0018]
A liquid dispensing device according to a fifth aspect is the liquid dispensing device according to any one of the first to fourth aspects, wherein the replacement gas is helium gas.
According to the liquid dispensing device of the fifth aspect, the replacement of the dissolved air in the system fluid or the replacement fluid can be reliably performed.
[0019]
The bubble generation preventing method of the liquid dispensing device according to claim 6, wherein the nozzle for sucking and discharging the sample, a storage container for storing a fluid to be supplied to the nozzle, and connecting the nozzle and the storage container to each other, In a liquid dispensing device having a flow path for flowing a fluid, a method for preventing bubbles from being generated in the fluid, wherein a liquid contacting space in contact with a liquid surface of the fluid in the storage container is communicated with outside air. In a state in which the replacement gas is supplied into the fluid in a state of being closed, and a liquid contact space in the storage container after the replacement step is shut off from outside air, and the inside of the storage container is pressurized and maintained at a predetermined pressure with the replacement gas. Pressurizing step.
[0020]
According to the bubble generation preventing method of the liquid dispensing device according to the sixth aspect, in the replacement step, the replacement gas is supplied into the fluid in the storage container, so that the dissolved air in the fluid and the liquid in the liquid contact space are removed. Air is replaced by a replacement gas. In the subsequent pressurizing step, the inside of the storage container is pressurized and maintained by the replacement gas by supplying the replacement gas into the storage container. This keeps the fluid saturated with the dissolution of the replacement gas, ie, with the dissolved air removed.
At the timing of supplying the fluid, the fluid is pressure-fed to the flow path by a constant pressure that pressurizes and holds the inside of the storage container. At this time, even if the fluid undergoes a temperature change, an increase in the cross-sectional area of the flow path or a decrease in pressure due to agitation, the fluid in the storage container and the flow path is free of dissolved air, and the pressure for maintaining the pressure is maintained. Since the pressure is applied to the positive pressure, the generation of bubbles is suppressed. In addition, this suppression effect does not fluctuate because no outside air enters the liquid contact space.
[0021]
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided the liquid dispensing apparatus according to the sixth aspect, wherein a helium gas is used as the replacement gas.
According to the method for preventing bubbles from occurring in the liquid dispensing device according to the seventh aspect, it is possible to reliably displace the dissolved air in the fluid.
[0022]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Embodiments of the liquid dispensing apparatus of the present invention and the embodiments thereof for preventing generation of bubbles will be described below with reference to the drawings. However, it is needless to say that the present invention is not limited to these embodiments.
[0023]
(1st Embodiment)
First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 shows a schematic configuration of a liquid dispensing apparatus according to the present embodiment, and FIG. 2 shows a detailed structure of a dispensing head of the liquid dispensing apparatus.
As shown in FIG. 1, in the liquid dispensing apparatus of the present embodiment, a syringe 3 capable of holding one or a plurality of heads 2 including a nozzle 1 is supported by a movable transfer member (not shown).
[0024]
The syringe 3 is connected to a water intake 6 provided at the bottom of the tank 5 by a flexible conduit 4 having a small volume change. The syringe 3 is combined with a piston 11 connected to a movable part 10 of an electric actuator 9 including a precision ball screw 7 and a pulse motor 8, and the syringe 3 that changes its volume by moving the piston 11 through a seal member 12. The piston pump 13 is constituted. The resolution of the electric actuator 9 is set to a high resolution of, for example, 0.0001 mm / pls so as to secure the movement accuracy of the piston 11.
[0025]
A centralized valve 14 is provided in the middle of the pipe 4, and when a plurality of heads 2 are provided, the pipe 4 after passing through the centralized valve 14 is branched so as to be connected to each head 2, and these branches are provided. An individual valve 15 is provided in each of the pipelines 4. These individual valves 15 are opened and closed by a control unit (not shown).
[0026]
The tank 5 has a configuration in which a liquid can be held therein and pressurized. A sealing mechanism having a pressure resistance by an O-ring 18 is provided between the main body 16 and the lid 17, and then the tank 5 is clamped. Both are pressed and fixed by the metal fitting 19.
The lid 17 has a pressurizing port 20, an injection port 21, and an air opening port 22. A helium gas supply cylinder 25 is connected to the pressurizing port 20 and the injection port 21 via a pipe 23 branching into two branches into branch pipes 23a and 23b and a pressure regulator 24. A valve 26 is provided in each of the branch pipes 23a and 23b so that either one of these two flow paths can be selected.
[0027]
A throttle valve 27, a flow meter 28, and a check valve 29 are connected on the branch pipe 23a connected to the injection port 21 side. Instead of providing the throttle valve 27 and the flow meter 28, an integrated flow meter with a throttle valve may be provided.
In addition, an extension pipe 23c communicating with the branch pipe 23a and extending toward the bottom in the tank 5 is connected to the injection port 21. A bubbler 30 is connected to make the bubble into a bubble.
[0028]
A relief valve 31 that can be manually opened to the atmospheric pressure is connected to the atmosphere opening port 22. When the inside of the tank 5 is pressurized to a predetermined pressure or more, the internal pressure is leaked, and the tank 5 is opened. Damage and the like can be prevented.
Note that seals having pressure resistance are applied to the connection portions of the pipeline 4 and the piping 23. Further, the liquid contact portion of each member is made of a material that is extremely low in corrosion and dust generation, that is, the metal portion is made of stainless steel, and the resin portion is made of fluororesin.
[0029]
As shown in FIG. 2, the head 2 includes a nozzle 1 and a piezoelectric element 40 that can expand and contract in the axial direction (coincides with the discharge direction) to drive the nozzle 1 in the discharge direction. I have. One end of the piezoelectric element 40 in the axial direction is fixed to a fixed end joint 42 that can be fitted into a head mounting hole 41 (see FIG. 1) formed in the syringe 3, and the other end is free. It is fixed to the end joint 43. In the nozzle 1, a flow passage joint 44 is fixed to the outer periphery at a part in the axial direction.
[0030]
The head 2 is assembled such that the constituent members are coaxial with the free end joint 43 and the flow passage joint 44 connected to each other. A fitting portion between the head mounting hole 41 and the fixed end joint 42 is detachably fixed by a retaining screw 45. A concave portion 46 having a predetermined inner diameter and depth is formed on the end face of the fixed end joint 42, and one or a plurality of O-rings 47 fitted on the outer periphery of the nozzle 1 are fitted therein. A sealed flow path from the syringe 3 to the nozzle 1 can be secured.
[0031]
The nozzle 1 includes a tapered portion 48 on the distal end side and a straight portion 49 continuous with the tapered portion 48, and communicates with the outside air through an opening 50 formed at the distal end of the tapered portion 50. The approximate dimensions of the straight portion 49 are, for example, an inner diameter of 0.5 mm to 3 mm, an outer diameter of 1.5 mm to 6 mm, and a length of 12 mm to 60 mm. The tapered portion 48 is formed, for example, at an inner side of 5 ° to 20 ° and an outer side of 25 ° to 45 °. The opening 50 includes an opening straight portion 51 having an opening diameter of, for example, 20 μm to 100 μm and a length of 50 μm to 120 μm communicating with the internal flow path of the tapered portion 48.
[0032]
Since the joint and the joint between the piezoelectric element 40 and the nozzle 1 are formed as a rigid body, the nozzle 1 can be displaced in the vertical direction in FIG. A voltage of a desired waveform can be applied to the piezoelectric element 40 by a lead wire from a drive circuit (not shown) or a flexible substrate. Further, in order to prevent the head 2 from being charged and dust in the air from adhering to the vicinity of the opening 50, a blower that blows ionized air to the head 2 as needed to remove static electricity is provided.
[0033]
As described above, the liquid dispensing apparatus according to the present embodiment connects the nozzle 1 that sucks and discharges the sample, the tank 5 that stores the system fluid supplied to the nozzle 1, and the connection between the nozzle 1 and the tank 5. A cylinder (a first replacement gas supply unit) 25 for supplying helium gas (replacement gas) into the system fluid in the tank 5; A relief valve (first valve body) 31 capable of communicating or shutting off a liquid contact space in contact with the liquid level of the system fluid and the outside air, and a centralized valve (second valve) capable of communicating or shutting off between the tank 5 and the pipeline 4 And a valve body 14).
Further, in the liquid dispensing apparatus of the present embodiment, the cylinder 25 also serves as a tank pressurizing unit that directly supplies helium gas to the liquid contact space and pressurizes the tank 5. The cylinder 25 may be provided exclusively for the purpose of supplying the helium gas into the system fluid and for the purpose of supplying the helium gas to the liquid-contacting space in the tank 5. The configuration in which the application is switched by operating the valve is more preferable because the system configuration can be simplified.
[0034]
In the liquid dispensing apparatus of the present embodiment having the above-described configuration, a method of preventing bubbles from being generated in the system fluid is described by using a liquid contacting space in contact with the liquid level of the system fluid in the tank (reservoir) 5. A helium gas (replacement gas) is supplied into the system fluid in a state where the helium gas is communicated with the system fluid, and a liquid contact space in the tank 5 after the replacement step is shut off from the outside air. And a pressurizing step of pressurizing and holding at a predetermined pressure.
[0035]
That is, ultrapure water is prepared as a clean system fluid capable of effectively cleaning the nozzle 1 and stored in the tank 5. The inside of the tank 5 is sealed by closing the lid 17 and fixing it with the clamp 19. Then, the branch pipe 23 a communicating with the injection port 21 is opened by opening the valve 26, and the branch pipe 23 b communicating with the pressurizing port 20 is closed by closing the valve 26. Further, the inside of the tank 5 is opened to the atmosphere by opening the relief valve 31.
[0036]
Thereafter, the pressure of the helium gas is reduced by the pressure regulator 24 from the cylinder 25 in which the helium gas is sealed at a high pressure, and the supply is started while the throttle valve 27 is opened, so that the bubbler 30 attached to the end of the extension pipe 23c, Helium gas is injected into the system fluid as many bubbles. The helium gas dissolves in the system fluid to expel previously dissolved air into the liquid contact space. Further, the helium gas released from the system fluid into the liquid contact space also pushes the air in the liquid contact space out of the relief valve 31 to the outside of the tank 5 to be discharged.
At this time, in order to sufficiently diffuse the helium gas bubbles into the tank 5, for example, when the tank 5 has a capacity of 3 L, the supply flow rate of the helium gas is 30 ml / min to 200 ml / min. The pressure is preferably between 0.1 MPa and 0.3 MPa.
[0037]
By performing the injection for a predetermined time in this manner, the dissolved air and the liquid contact space in the system fluid in the tank 5 are replaced with helium gas. After sufficient replacement, the flow path to the injection port 21 is shut off by closing the valve 26 provided in the branch pipe 23a, and the flow path to the pressurization port 20 is provided in the branch pipe 23b. The valve 26 is opened by opening it. Thereby, the helium gas is directly supplied to the liquid contact space in the tank 5 through the branch pipe 23b.
[0038]
Then, the supply pressure of the helium gas is adjusted by the pressure regulator 24 to a pressure required for pumping the system fluid, for example, a secondary pressure of 0.05 Mpa to 0.2 Mpa. Pressurized by gas.
The tank 5 can be pressurized by supplying the helium gas only from the bubbler 30 with the relief valve 31 closed, but the helium gas is directly supplied into the liquid contact space as in the present embodiment. It is more preferable to perform the pressurizing operation in the tank 5 in a shorter time.
[0039]
At the time when the inside of the tank 5 is pressurized with the helium gas, the system fluid is saturated by the dissolution of the helium gas, that is, the dissolved air is eliminated, and the liquid contact space is continuously filled with only the helium gas. However, the dissolved gas in the system fluid is maintained only at a certain amount of helium gas.
[0040]
At the timing of supplying the system fluid toward the nozzle 1, the central valve 14 and the individual valves 15 on the pipe 4 are opened by a control unit (not shown). Then, the system fluid is constantly pumped toward the pipeline 4 from the water intake 6 located below the liquid level in the tank 5 at a constant pressure due to the holding pressure in the tank 5.
At this time, even if a temperature change due to the influence of each member forming the flow path through which the system fluid flows, an increase in the cross-sectional area of the flow path, a decompression due to agitation, etc., the dissolved air in the system fluid has already been eliminated. Since the entire flow path is pressurized to a positive pressure, the generation of bubbles is suppressed.
Further, the supply of the system fluid is stopped only by shutting off the centralized valve 14 and each individual valve 15 on the open pipeline 4 and the elimination of the dissolved air in the tank 5 is continued.
[0041]
Subsequently, the cleaning operation of the nozzle 1 and the subsequent discharging operation will be described.
First, when cleaning the nozzle 1, a predetermined amount of the system fluid is supplied as the cleaning water by the above-described method, and the residual sample and contaminants inside the nozzle 1 are discharged from the opening 50 together with the system fluid.
At this time, the nozzle 1 is filled with a system fluid in which the dissolved air has been replaced with helium gas from the tank 5 to the tip of the nozzle 1 via the pipe 4. An extremely small area exists only at the opening 50 when the supply of the system fluid is stopped. Therefore, the bubble suppression effect continues even in the system fluid in the nozzle 1.
[0042]
When the nozzle 1 is immersed in a cleaning tank (not shown) to perform ultrasonic cleaning or the like in accordance with the internal cleaning of the nozzle 1, the outer peripheral surface of the tip of the nozzle 1 is also cleaned. At this time, a detergent or a chemical may be used for cleaning the outer periphery.
At the end of the cleaning, the supply of the system fluid is stopped in a state where the piston 11 is inserted deepest into the syringe 3 in the syringe piston pump 13, so that the tip of the nozzle 1 is filled with the system fluid. Thereafter, the nozzle 1 is held in the air, and the syringe piston pump 13 is moved by a predetermined amount at a low speed in a direction in which the piston 11 is pulled out, so that the air is sucked from the opening 50.
At this time, the inside of the flow path from each individual valve 15 to the tip of the nozzle 1 has a negative pressure, but the generation of bubbles in the system fluid filling this flow path is suppressed. Further, by precisely controlling the movement amount and the speed of the piston 11 so as to be gentle, an interface between the system fluid layer and the air layer is formed in the flow path, and finally, the system is stopped for a predetermined time and the pressure of both layers is reduced. Stabilize.
[0043]
After filling the inside of the tip of the nozzle 1 with a predetermined amount of air, the tip of the nozzle 1 is immersed in a sample (not shown), and the syringe piston pump 13 is further moved at a low speed by a predetermined amount in a direction in which the piston 11 is pulled out. Aspirate sample from 50. Similarly, the flow path from each individual valve 15 to the tip of the nozzle 1 has a negative pressure, but the generation of bubbles in the system fluid that fills this flow path is suppressed. Further, by precisely controlling the movement amount and the speed of the piston 11 to be gentle, an interface between the sample layer and the air layer is formed, and finally, the pressure of both layers is stabilized by stopping for a predetermined time.
[0044]
As a result, the sample is smoothly sucked into the nozzle 1, and finally the position where the interface between the two layers stops, that is, the amount of sample sucked becomes extremely stable in the repetition of this operation. In fact, when the inventor of the present invention performed a test confirmation, it was found that the fluctuation of the suction amount when the suppression of bubbles in the system fluid was not performed was at most 2% or more. It has been confirmed that the fluctuation is suppressed to within 0.2%.
[0045]
As described above, after a predetermined amount of the sample is sucked and held in the nozzle 1, the sample is distributed to a predetermined position on a reaction vessel (not shown) by discharging droplets.
In the ejection operation at this time, a driving voltage having a predetermined waveform is applied to the piezoelectric element 40, and the piezoelectric element 40 is expanded and contracted in the axial direction by a deformation amount corresponding to the driving voltage. As a result, the nozzle 1 is instantaneously displaced upward in the plane of FIG.
[0046]
At this time, an inertial force acts on the sample in the nozzle 1 to try to stop at the current position. Then, when the sample is relatively viewed from the nozzle 1 side, the sample instantaneously moves toward the opening 50 of the nozzle 1. Due to the movement of the sample, the pressure of the sample in the tapered portion 48 rises, and the surface tension in the opening 50 is broken, and a part of the sample is discharged to the outside as a droplet.
The range of the amount of liquid to be ejected is, for example, 0.01 nl to 0.3 μL, and is determined by the taper angle of the tapered portion 48, the diameter of the opening 50, the drive voltage waveform, the amount of sample suction, and the like. It has been optimized to ensure excellent discharge quality.
[0047]
In this discharge method, since the amount of suction of the sample and the pressure at the time of discharge are sufficiently stable, the size, speed, and quality of the droplet by repeated suction and discharge can be made good and stable. In contrast, with a conventional liquid dispensing device that does not suppress air bubbles in the system fluid, it is not possible to form a single droplet and split or scatter, or the flying speed of the droplet actually fluctuates. Has been confirmed.
After the predetermined discharge operation is completed as described above, the above-described cleaning operation, suction operation, and discharge operation are repeatedly performed to distribute another sample. Thereafter, the necessary number of cycles are repeated according to the type of the sample, and the desired distribution is completed.
[0048]
According to the liquid dispensing apparatus of the present embodiment described above, the dissolved air of the system fluid is replaced with the helium gas, and the helium gas is constantly pumped at a constant pressure, so that the helium gas is continuously pumped from the tank 5 to the nozzle 1. Bubble generation is suppressed. Accordingly, the sample suction amount and the ejection pressure are stabilized, and as a result, the amount and quality of the ejected droplets are stabilized. Therefore, it is possible to stably perform highly accurate suction and discharge of the sample.
[0049]
The system fluid supply mechanism does not require any control other than the opening and closing of the centralized valve 14 and each individual valve 15, and the power for the liquid supply can be continuously operated for a long period only by the helium gas cylinder pressure. There is no pulsation unlike a pump, a constant flow rate can always be guaranteed, and the fact that a negative pressure is not created by suction during liquid feeding also contributes to suppression of bubble generation.
Furthermore, since there is no sliding portion as seen in the magnet gear pump, it is possible to maintain cleanliness for a long period of time without maintenance such as dust generation. Therefore, it is possible to add a more simple configuration and operation method than a case where a pump is used, and a stable liquid sending mechanism at a low running cost to the apparatus.
[0050]
The head 2 is not limited to a configuration in which the nozzle 1 is reciprocated in the discharge direction and discharges using an inertial force acting on the sample. Of course, a configuration in which the sample is discharged by changing the internal volume can also be adopted.
In addition to a structure in which droplets are formed on the sample, a structure in which the sample is continuously discharged by increasing the pressure in the nozzle 1 can be employed. Further, as the nozzle 1, not only the nozzle having the smallest diameter of the opening 50 but also a needle-shaped nozzle having a small diameter portion having a length in the axial direction may be adopted.
[0051]
(2nd Embodiment)
Next, a second embodiment of the liquid dispensing apparatus of the present invention and its bubble generation preventing method will be described with reference to FIG. In the description of the present embodiment, differences from the above-described first embodiment will be mainly described, and the other portions will be the same as in the above-described first embodiment, and description thereof will be omitted.
[0052]
As shown in FIG. 3, the pipe 23 and the pipeline 4 are each branched into two branches, and between them, the sub-tank 52 and its accessories are connected in parallel with the same configuration as the tank 5 and its accessories. Out of the two branched branches 4, the outlet valve 53 is provided for the one connected to the tank 5 side, and the sub outlet valve 54 is provided for the one connected to the sub tank 52 side. A centralized valve 55 is provided at a location where the forked bifurcated conduits 4 are united.
[0053]
As described above, in the liquid dispensing apparatus of the present embodiment, the liquid medicine having a lower surface tension than the system fluid (replacement fluid) is stored, and the liquid medicine is connected to the pipe (flow path) 4 so that the liquid medicine can be supplied. The sub tank 52, a cylinder (second replacement gas supply means) 52 for supplying helium gas into the chemical in the sub tank 52, and a liquid contact space in contact with the liquid surface of the chemical in the sub tank 52 and the outside air. A configuration including a relief valve (third valve body) 31 that can be shut off and a sub-outlet valve (fourth valve body) 54 that can communicate or shut off between the sub tank 52 and the pipeline 4 is adopted.
[0054]
Further, in the liquid dispensing apparatus of the present embodiment, the cylinder 25 also serves as a sub-tank pressurizing unit that directly supplies helium gas to the liquid contact space in the sub-tank 52 and pressurizes the sub-tank 52. The cylinder 25 may be provided exclusively for supplying the helium gas into the system fluid and for supplying the helium gas to the liquid-contacting space in the sub-tank 52. The configuration in which the application is switched by operating the valve is more preferable because the system configuration can be simplified.
[0055]
In the liquid dispensing apparatus of the present embodiment having the configuration described above, the chemical solution from which the dissolved air has been removed by the replacement of the helium gas can be held under pressure.
That is, the outlet valve 53 and the sub outlet valve 54 are shut off in advance. Then, while ultrapure water is stored in the tank 5 as a system fluid, a clean chemical solution having a smaller surface tension than the system fluid, for example, isopropyl alcohol or methyl alcohol, is stored in the sub tank 52.
Then, similarly to the system fluid in the tank 5, helium gas from the cylinder 25 is injected and supplied into the chemical solution in the sub tank 52 by the bubbler 30. Thus, after the dissolved air in the chemical solution and the air in the liquid contact space are replaced with helium gas, the helium gas also holds the sub tank 52 under pressure.
[0056]
As described above, in the liquid dispensing apparatus according to the present embodiment, a method for preventing bubbles from being generated in the liquid medicine is performed by communicating the liquid contact space in contact with the liquid surface of the liquid medicine in the tank (storage container) 52 with the outside air. In this state, a replacement step of supplying helium gas (replacement gas) into the chemical solution, and a liquid contact space in the tank 52 after the replacement step is shut off from the outside air, and the inside of the tank 52 is maintained at a predetermined pressure with helium gas. The method is carried out by a method for preventing the generation of bubbles, which comprises a pressure step of holding under pressure.
[0057]
When the liquid dispensing device is stopped for a long period of time or the system fluid in the flow path is discharged for maintenance work, air bubbles are generated or mixed in the flow path in the sub tank 52 due to the operation. In some cases, it is used to remove the bubbles.
That is, first, the sub-outlet valve 54 is opened with the outlet valve 53 closed, and the central valve 55 on the pipeline 4 is opened, whereby the chemical in the sub-tank 52 is pumped at a constant pressure. At this time, since the dissolved air in the chemical is eliminated and the entire flow path is pressurized to a positive pressure, the generation of bubbles in the chemical is suppressed.
[0058]
Here, a chemical solution (alcohol or the like) having a small surface tension is pressure-fed, whereby air layers and air bubbles in the entire flow path from the sub tank 52 to the nozzle 1 via the pipe 4 are easily replaced with the chemical solution. You.
In a state where all the flow paths are completely filled with the chemical, the sub-outlet valve 54 is then shut off and the outlet valve 53 is opened, and the system fluid stored in the tank 5 is similarly directed to the nozzle 1. Pump. Here, when a problem is expected due to the sudden replacement of the chemical liquid in the flow path with the system fluid or the mixing of both liquids (for example, bubbles are generated due to alcohol vaporization due to rapid mixing with water). In such a case, it is preferable that the sub-outlet valve 54 is shut off and the opening degree of the outlet valve 53 is gradually changed so that the replacement is performed while reducing the influence.
The steps after the flow path from the tank 5 to the nozzle 1 via the pipe 4 is completely replaced with the system fluid are the same as the steps described in the first embodiment.
[0059]
According to the liquid dispensing apparatus of the present embodiment described above, the same effects as those of the first embodiment can be obtained, and in addition to the long-term stoppage of the liquid dispensing apparatus and the maintenance of the system fluid in the flow path, When air is discharged, or when air bubbles are generated or mixed in the flow channel due to unavoidable operation, the air layer or air bubbles in the flow channel can be easily removed.
Further, in the related art, replacing the flow path filled with the chemical liquid with the system fluid may cause the introduction of new air bubbles, which is difficult or complicated, but in the present embodiment, the outlet valve 53 is used. , The sub-outlet valve 54 and the like can be implemented only by adjusting the valve opening degree, and the replacement work from the chemical solution to the system fluid can be easily performed.
[0060]
【The invention's effect】
The liquid dispensing apparatus according to claim 1 of the present invention is a first valve body capable of communicating or shutting off a first contact gas supply means for supplying a substitute gas into a system fluid, and a liquid contact space and outside air. And a second valve element capable of communicating or shutting off between the tank and the flow path. According to this configuration, since the dispensing operation of the nozzle can be performed without generating bubbles in the flow path, the suction amount and the discharge pressure are stabilized, and as a result, highly accurate suction and discharge can be performed. In addition, the means for eliminating air bubbles is only the first replacement gas supply means, the first valve body and the second valve body, and these also serve as the liquid sending means for sending the system fluid to the flow path. Since no pump is required, the configuration is simple, and the operation method is extremely simple.
[0061]
Further, the liquid dispensing apparatus according to claim 2 employs a configuration including a tank pressurizing means for directly supplying a replacement gas to the liquid contact space. According to this configuration, it is possible to pressurize the tank in a short time.
[0062]
In the liquid dispensing apparatus according to the third aspect, a sub-tank for storing a replacement fluid, second replacement gas supply means for supplying a replacement gas into the replacement fluid, and communication or shutoff between the liquid contact space and the outside air. A configuration including a possible third valve body and a fourth valve body capable of communicating or shutting off between the sub tank and the flow path is employed. According to this configuration, the air layer and the air bubbles in the entire flow path to the nozzle can be easily replaced with the replacement fluid from which the dissolved air has been removed, so that the system fluid can be supplied while suppressing the generation of the bubbles. It is possible to easily transition to the state.
Moreover, the only means for eliminating bubbles from the replacement fluid are the second replacement gas supply means, the third valve body, and the fourth valve body, and these are the liquid sending means for sending the replacement fluid to the flow path. Also, since a pump is not required, the configuration is simple, and the operation method is extremely simple.
[0063]
Further, the liquid dispensing device according to claim 4 employs a configuration including a sub-tank pressurizing unit that directly supplies a replacement gas to a liquid contact space in the sub-tank. According to this configuration, it is possible to pressurize the inside of the sub tank in a short time.
[0064]
Further, the liquid dispensing device according to claim 5 employs a configuration using helium gas as the replacement gas. According to this configuration, it is possible to reliably perform the replacement of the dissolved air in the system fluid or the replacement fluid.
[0065]
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method for preventing generation of bubbles in a liquid dispensing apparatus, wherein a replacement step of supplying a replacement gas into a fluid while the liquid contact space is communicated with the outside air, and the liquid contact space is isolated from the outside air. Then, a pressure step of pressurizing and holding the inside of the storage container at a predetermined pressure with the replacement gas is employed. According to this method, the generation of bubbles can be prevented so that the nozzle can be dispensed without generating bubbles in the flow path, so that the suction amount and the discharge pressure are stabilized, and as a result, high precision Suction and discharge become possible. Moreover, the only means for eliminating the bubbles are the means for supplying the replacement gas and the various valve elements, and since these also serve as the liquid sending means for sending the fluid to the flow path, there is no need for a pump. The operation method is also extremely simple.
[0066]
Further, in the liquid dispensing apparatus according to the seventh aspect, a method using helium gas as a replacement gas is employed to prevent the generation of bubbles. According to this method, it is possible to reliably perform the replacement of the dissolved air in the fluid.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of a liquid dispensing apparatus of the present invention, and is an explanatory diagram showing an overall configuration.
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing a main part of the liquid dispensing apparatus.
FIG. 3 is a view showing a second embodiment of the liquid dispensing apparatus of the present invention, and is an explanatory view showing the entire configuration.
FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a conventional liquid dispensing apparatus, and is an explanatory diagram illustrating an overall configuration.
FIG. 5 is an enlarged view showing a main part of the liquid dispensing apparatus.
FIG. 6 is a view showing another conventional liquid dispensing apparatus, and is an explanatory view showing the entire configuration.
FIG. 7 is a view showing a conventional bubble generation preventing means.
FIG. 8 is a view showing a conventional bubble generation preventing means.
[Explanation of symbols]
1 ... Nozzle
4 ... Pipe (flow path)
5 ・ ・ ・ Tank (tank, storage container)
14: Centralized valve (second valve element)
25 ... cylinder (first replacement gas supply means, tank pressurization means, second replacement gas supply means, sub-tank pressurization means)
31.. Relief valve (first valve body, third valve body)
52 ... Sub tank (sub tank, storage container)
54 ... Sub outlet valve (fourth valve element)

Claims (7)

試料を吸引及び吐出するノズルと、該ノズルに供給するシステム流体を貯留するタンクと、これらノズル及びタンク間を接続して前記システム流体を流す流路とを備えた液体分注装置において、
前記タンク内の前記システム流体内に置換ガスを供給する第1の置換気体供給手段と、前記タンク内の前記システム流体の液面に接する接液空間と外気とを連通又は遮断可能な第1の弁体と、前記タンク及び前記流路間を連通又は遮断可能な第2の弁体とを備える
ことを特徴とする液体分注装置。
A nozzle for sucking and discharging a sample, a tank for storing a system fluid to be supplied to the nozzle, and a liquid dispensing apparatus including a flow path for connecting the nozzle and the tank and flowing the system fluid,
A first replacement gas supply unit configured to supply a replacement gas into the system fluid in the tank, and a first fluid that can communicate with or shut off external air from a liquid contact space in contact with a liquid surface of the system fluid in the tank. A liquid dispensing device comprising: a valve element; and a second valve element capable of communicating or blocking between the tank and the flow path.
請求項1に記載の液体分注装置において、
前記接液空間に置換ガスを直接供給するタンク加圧手段を備えることを特徴とする液体分注装置。
The liquid dispensing device according to claim 1,
A liquid dispensing apparatus comprising a tank pressurizing means for directly supplying a replacement gas to the liquid contact space.
請求項1または請求項2に記載の液体分注装置において、
前記システム流体よりも表面張力の小さい置換流体を貯留するとともに前記流路に対して前記置換流体を供給可能に接続されたサブタンクと、該サブタンク内の前記置換流体内に置換ガスを供給する第2の置換気体供給手段と、前記サブタンク内の前記置換流体の液面に接する接液空間と外気とを連通又は遮断可能な第3の弁体と、前記サブタンク及び前記流路間を連通又は遮断可能な第4の弁体とを備える
ことを特徴とする液体分注装置。
The liquid dispensing device according to claim 1 or 2,
A sub-tank that stores a replacement fluid having a smaller surface tension than the system fluid and is connected to the flow path so as to be able to supply the replacement fluid; and a second tank that supplies a replacement gas into the replacement fluid in the sub-tank. Replacement gas supply means, a third valve body capable of communicating or shutting off the outside air with a liquid contact space in contact with the liquid level of the replacement fluid in the sub tank, and communication or shut off between the sub tank and the flow path A liquid dispensing device, comprising: a fourth valve element.
請求項3に記載の液体分注装置において、
前記サブタンク内の接液空間に置換ガスを直接供給するサブタンク加圧手段を備えることを特徴とする液体分注装置。
The liquid dispensing device according to claim 3,
A liquid dispensing apparatus comprising a sub-tank pressurizing means for directly supplying a replacement gas to a liquid contact space in the sub-tank.
請求項1〜請求項4の何れか1項に記載の液体分注装置において、
前記置換ガスがヘリウムガスであることを特徴とする液体分注装置。
In the liquid dispensing device according to any one of claims 1 to 4,
The liquid dispensing device, wherein the replacement gas is helium gas.
試料を吸引及び吐出するノズルと、該ノズルに供給する流体を貯留する貯留容器と、これらノズル及び貯留容器間を接続して前記流体を流す流路とを備えた液体分注装置で、前記流体内に気泡が生じるのを防止する方法であり、
前記貯留容器内の前記流体の液面に接する接液空間を外気に連通させた状態で、前記流体内に置換ガスを供給する置換工程と、
該置換工程後における前記貯留容器内の接液空間を外気から遮断し、この貯留容器内を置換ガスで所定圧に加圧保持する加圧工程と
を有することを特徴とする液体分注装置の気泡発生防止方法。
A liquid dispensing apparatus including a nozzle for sucking and discharging a sample, a storage container for storing a fluid to be supplied to the nozzle, and a flow path for connecting the nozzle and the storage container and flowing the fluid, It is a method to prevent bubbles from occurring inside,
A replacement step of supplying a replacement gas into the fluid in a state where the liquid contact space in contact with the liquid surface of the fluid in the storage container is communicated with the outside air;
And a pressurizing step of shutting off a liquid contact space in the storage container from outside air after the replacement step, and pressurizing and holding the inside of the storage container at a predetermined pressure with a replacement gas. A method to prevent air bubbles.
請求項6に記載の液体分注装置の気泡発生防止方法において、
前記置換ガスとして、ヘリウムガスを用いることを特徴とする液体分注装置の気泡発生防止方法。
A method for preventing bubbles from occurring in the liquid dispensing device according to claim 6,
A method for preventing generation of bubbles in a liquid dispensing device, wherein helium gas is used as the replacement gas.
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