JP2004356166A - レーザパルス出力安定化方法並びにこれを用いた固体レーザ装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】固体レーザ装置において、レーザを出力するパルス間隔が変化するなどレーザロッド部の過渡的な熱変化を伴った使用を行った場合、レーザロッド部の熱変化による熱レンズ効果により、レーザ光の偏光状態や拡がり角が変化する。このため、レーザ光の漏れ光の量やパワー分布が変化し、レーザ出力と出力モニタ値の関係がずれ、結果的にレーザ出力にばらつきが生ずる。
【解決手段】レーザ出力安定のため、レーザロッドの温度を測定し、レーザロッドの温度変化をレーザの励起光源出力制御信号にリアルタイムでフィードバックすることにより、レーザ出力を安定させる。
【選択図】 図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザパルスの出力安定化方法並びにこれを用いた固体レーザ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、YAGレーザ装置のレーザ出力を安定させる方法としては、出力したレーザ光の漏れ光を取り出し、これをフォトサンサーなどのモニタで検知し、その信号をレーザ媒質の温度制御手段やレーザの励起光源出力制御信号にフィードバックする方法がある。
しかし、この方法は、漏れ光のモニタリング精度がレーザ出力やレーザ作用点の強度とに強い比例関係にある場合や、レーザ発振器を連続発振(CWや連続パルス)で定常的に動作させて用いる場合には有効である。しかしながら溶接や切断、穴あけ等のレーザ加工装置のように、レーザパルスを出力する間隔が変化するなどYAGロッド部の過渡的な熱変化を伴った使用を行った場合、YAGロッド部の熱変化による熱レンズ効果により、レーザ光の偏光状態や拡がり角が変化する。このため、レーザ光の漏れ光の量やパワー分布が変化し、レーザ出力とモニタ値の関係がずれ、結果的にレーザ出力にばらつきが生じてしまう。
また、この漏れ光のモニタには光軸上を戻ってくる加工部からの反射光の一部の影響を受けるため、加工部の状態の変化で、反射光量が変わった場合にもずれが生じ、レーザ出力がばらついてしまう。
【0003】
固体レーザ媒質を保持する保持手段の温度を測定し、レーザ発振出力をモニタして2つの測定結果に応じて固体レーザ媒質を電子冷却する手段にフィードバックする端面LD励起の固体レーザ装置の技術は開示されている(例えば特許文献1)。
【0004】
【特許文献1】
実開平2−108357号(第1頁、図1)
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、その目的とするところは、レーザロッドの過渡的な温度変化に対して常にレーザ出力が再現するように励起ランプ出力を補正し、毎パルスごとに安定した出力が得られる固体レーザ装置並びにレーザ出力安定化方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明のレーザパルス出力安定化方法は、パルスレーザ光を出力する光励起固体レーザ装置の出力安定化方法であって、レーザロッドの温度を検知し、出力レーザパルスの波高値が所要の一定値となるように、光励起パルスの波高値を制御することを特徴とする。
また、本発明のレーザパルス出力安定化方法は、パルスレーザ光を出力する光励起固体レーザ装置の出力安定化方法であって、レーザロッドの温度を検知し、予め取得してあるレーザロッドの温度と出力レーザパルスの波高値が所要の一定値となるための光励起パルス駆動条件とを関連づけたデータに基づいて、光励起パルスの波高値を制御することを特徴とする。
レーザパルス間隔は、不等間隔である。
レーザパルス間隔は、レーザロッドのもつ熱時定数より短い。
レーザパルス間隔は、複数の間隔が存在し、レーザロッドのもつ熱時定数より短い間隔を含む。
光励起固体レーザ装置は、ランプ励起固体レーザ装置である。
光励起固体レーザ装置は、半導体レーザ励起固体レーザ装置である。
レーザロッドの媒質は、YAG結晶を基体とする。
【0007】
また、本発明の固体レーザ装置は、パルスレーザ光を出力する光励起の固体レーザ装置の出力安定化方法であって、レーザロッドの温度を検知する手段と、出力レーザパルスの波高値が所要の一定値となるように、光励起パルスの波高値を制御する手段を備えることを特徴とする。
また、本発明の固体レーザ装置は、パルスレーザ光を出力する光励起固体レーザ装置の出力安定化方法であって、レーザロッドの温度を検知手段と、予め取得してあるレーザロッドの温度と出力レーザパルスの波高値が所要の一定値となるための光励起パルス駆動条件とを関連づけたデータを有するメモリと、に温度検知手段から出力する温度情報とメモリから出力するデータに基づいて、光励起パルスの波高値を制御する手段を備えることを特徴とする。
レーザパルス間隔は、不等間隔である。
レーザパルス間隔は、レーザロッドのもつ熱時定数より短い。
レーザパルス間隔は、複数の間隔が存在し、レーザロッドのもつ熱時定数より短い間隔を含む。
光励起固体レーザ装置は、ランプ励起固体レーザ装置である。
光励起固体レーザ装置は、半導体レーザ励起固体レーザ装置である。
レーザロッドの媒質は、YAG結晶を基体とする。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
本発明のランプ励起のYAGレーザ装置の一実施形態を図1に示す。図1は、励起ランプ5の出力によってYAGロッド1を光励起するランプ励起YAGレーザ装置であり、レーザ発振器のYAGロッド1の温度を測定する温度サンサー2、測定した温度のゲイン調整を行うアンプ3、温度のフィードバック信号をリアルタイムにレーザ電源部6に対して励起ランプ出力制御信号に補正をかける機能を持った制御部4を設けている。そして、励起光を透過しYAGロッド1を同軸状に囲む透明な通水管7を設け、その中をロッドの温度上昇を防止するための冷却水を通し、かつ冷却水の温度を一定に保つ冷却水温度制御装置8を備える。しかし、この冷却水温度制御の時定数は長く、発明が解決しようとする課題で述べた励起光パルスによるYAGロッドの過渡的な温度変化を吸収する能力はない。
【0009】
図2は、パルス励起によるYAGロッド温度とレーザパルス出力の過渡的な変化を模式的に説明する図である。図2(C)に示すように励起ランプを時間的に不等間隔にパルス駆動してYAGロッドを励起した時のロッドの温度変化を図2(B)に、ロッド温度の変化に伴うレーザ出力の変化を図2(A)に示す。
図2(B)に示すように、光による励起が行われていない時にはYAGロッドの温度は、冷却水の温度制御装置によって一定の温度に保たれる。励起ランプによってパルス励起されレーザパルスが出力すると、YAGロッドは励起光の吸収やレーザ光の吸収によって、ロッドの持つ熱時定数による時間変化で温度が上がり、パルスオフによって同じ時定数で温度低下する。この時定数は、レーザロッドの熱的な条件、すなわちロッド媒質自体の熱容量と熱抵抗並びにロッドと冷却水との間の放熱抵抗等によって定まる。
パルス間隔がYAGロッドの熱時定数よりも長ければ、同じ波高値の励起光パルスに対して同一のレーザパルス出力が得られるのに対して、励起光パルス間隔が短くなると、2発目の励起パルスによるレーザパルス出力は、1発目のレーザパルス出力によるYAGロッド内に熱が残留し温度が低下し切らないため、1発目とは異なるレーザパルス出力となる。
本発明の工夫は、レーザロッドの温度とレーザパルス出力との強い相関に着目して、n発目以前の励起によってn発目励起時に残存している熱による温度上昇を検知し、予め記憶してあるテーブルに基づいてn発目の励起パルスの波高値を制御して、常に一定のレーザパルス波高値を得ようとするものである。
【0010】
このようなフィードバック制御を行うために、本発明の第1の実施例の制御部4は、図3に示すような構成となっている。制御部4は、温度サンサー2が検知したYAGロッド温度と、本YAGレーザ装置を使用するレーザ加工装置の加工条件によって予め設定するレーザパルス波高値、パルス幅及びパルス間隔を入力する入力部43と、予め設定されたレーザパルス波高値、パルス幅及びパルス間隔と励起ランプを駆動する条件を関連づけたテーブルを有するメモリ42と、メモリ42と入力部43を制御するCPU41を備える。
CPU41は、温度サンサー2が検知したYAGロッド温度をメモリ42に出力し、メモリ42のテーブルから出力された励起ランプ駆動条件をレーザ電源部6に出力する。
YAGロッド温度と、加工点におけるレーザパルス波高値を所要の一定値にするための励起ランプを駆動する条件との関係は、予めレーザ加工の条件出しを行う際に取得しておく。
【0011】
これによって、n発目以前の励起によってn発目励起時にYAGロッドに残存している熱による温度上昇を検知し、予め記憶してあるテーブルに基づいてn発目の励起パルスの波高値を制御して、常に一定のレーザパルス出力波高値を得ることが可能となる。
【0012】
レーザ加工の目的によっては、パルス間隔を予め設定できない場合もあり得る。すなわち加工対象物の加工点への移動時間が不等間隔となるような場合、レーザパルス出力のタイミングは、制御部4の外部からのタイミング信号に従うことがある。
このような条件下でのフィードバック制御を行うために、本発明の第2の実施例の制御部4は、図4に示すような構成となっている。レーザパルス出力のタイミングは、制御部4の外部から与えられる。制御部4は、温度サンサー2が検知したYAGロッド温度と、本YAGレーザ装置を使用するレーザ加工装置の加工条件によって予め設定するレーザパルス波高値、パルス幅を入力する入力部43と、予め設定されたレーザパルス波高値、パルス幅と励起ランプを駆動する条件を関連づけたテーブルを有するメモリ42と、メモリ42と入力部43を制御するCPU41を備える。
レーザパルス出力のタイミングが、制御部4の外部から与えられると、CPU41は、温度サンサー2が検知したYAGロッド温度をメモリ42に出力し、メモリ42のテーブルから出力された励起ランプ駆動条件をレーザ電源部6に出力する。
【0013】
本実施例では、まず、レーザパルス波高値及びパルス幅の出力条件を入力部43から入力する。温度フィードバック無しに、レーザを1回出力させて、YAGロッドの温度変化のデータとレーザ加工点におけるレーザパルス波高値を所要の一定値にするための励起ランプ駆動条件を取得し、メモリ42のテーブルに記憶する。
次のレーザパルス出力のタイミング信号が入力した時、温度センサー2からの信号を受け、CPU41は、YAGロッド温度と予め設定されたレーザパルス波高値、パルス幅と励起ランプを駆動する条件を関連づけたテーブルを参照し、励起ランプ出力制御信号をリアルタイムで補正する。
【0014】
これによって、n発目以前の励起によってn発目励起時に残存している温度上昇を検知し、予め記憶してあるテーブルに基づいてn発目の励起パルスの波高値を制御して、常に一定のレーザパルス波高値を得ることが可能となる。
【0015】
なお、上記の実施形態の説明では、YAGレーザはランプ励起の場合を述べたが、励起光源がLDであり、励起方法がレーザロッドに対して側面励起や端面励起の場合であっても、YAGロッドの温度変化をLD出力制御信号にフィードバックすることで、同様の効果が得られる。
また、レーザ媒質はYAG結晶に限られるものではないことは言うまでもない。
【0016】
【発明の効果】
レーザ出力は、一定の制御信号入力の場合、レーザ出力時に発生する熱により、熱レンズ効果が発生して変動する。そして、一度レーザ出力を行うと発生した熱が蓄積され、その後、熱が冷めるまでは、同一のレーザ出力は得られない。本発明では、YAGロッドの過渡的な温度変化に対してレーザ出力が再現するように励起ランプ出力を補正するため、毎回安定したレーザ出力が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の固体レーザ装置の構成を示す図である。
【図2】パルス励起によるレーザロッド温度とレーザパルス出力の過渡的な変化を模式的に説明する図である。
【図3】本発明の固体レーザ装置が備える制御部の第1の実施例の構成を示す図である。
【図4】本発明の固体レーザ装置が備える制御部の第2の実施例の構成を示す図である。
【符号の説明】
1 YAGロッド
2 温度センサー
3 アンプ
4 制御部
5 励起ランプ
6 レーザ電源部
7 通水管
8 冷却水温度制御装置
41 CPU
42 メモリ
43 入力部

Claims (16)

  1. パルスレーザ光を出力する光励起固体レーザ装置の出力安定化方法であって、
    レーザロッドの温度を検知し、
    出力レーザパルスの波高値が所要の一定値となるように、前記光励起パルスの波高値を制御する、
    ことを特徴とするレーザパルス出力安定化方法。
  2. パルスレーザ光を出力する光励起固体レーザ装置の出力安定化方法であって、
    レーザロッドの温度を検知し、
    予め取得してある前記レーザロッドの温度と出力レーザパルスの波高値が所要の一定値となるための前記光励起パルス駆動条件とを関連づけたデータに基づいて、前記光励起パルスの波高値を制御する、
    ことを特徴とするレーザパルス出力安定化方法。
  3. 前記レーザパルス間隔は、不等間隔である、
    ことを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載のレーザパルス出力安定化方法。
  4. 前記レーザパルス間隔は、
    前記レーザロッドのもつ熱時定数より短い、
    ことを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載のレーザパルス出力安定化方法。
  5. 前記レーザパルス間隔は、
    複数の間隔が存在し、前記レーザロッドのもつ熱時定数より短い間隔を含む、
    ことを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載のレーザパルス出力安定化方法。
  6. 前記光励起固体レーザ装置は、
    ランプ励起固体レーザ装置である、
    ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のレーザパルス出力安定化方法。
  7. 前記光励起固体レーザ装置は、
    半導体レーザ励起固体レーザ装置である、
    ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のレーザパルス出力安定化方法。
  8. 前記レーザロッドの媒質は、
    YAG結晶を基体とする、
    ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載のレーザパルス出力安定化方法。
  9. パルスレーザ光を出力する光励起の固体レーザ装置の出力安定化方法であって、
    レーザロッドの温度を検知する手段と、
    出力レーザパルスの波高値が所要の一定値となるように、前記光励起パルスの波高値を制御する手段、
    を備えることを特徴とする固体レーザ装置。
  10. パルスレーザ光を出力する光励起固体レーザ装置の出力安定化方法であって、
    レーザロッドの温度を検知手段と、
    予め取得してある前記レーザロッドの温度と出力レーザパルスの波高値が所要の一定値となるための前記光励起パルス駆動条件とを関連づけたデータを有するメモリと、
    に温度検知手段から出力する温度情報と前記メモリから出力する前記データに基づいて、前記光励起パルスの波高値を制御する手段、
    を備えることを特徴とする固体レーザ装置。
  11. 前記レーザパルス間隔は、不等間隔である、
    ことを特徴とする請求項9または10のいずれかに記載の固体レーザ装置。
  12. 前記レーザパルス間隔は、
    前記レーザロッドのもつ熱時定数より短い、
    ことを特徴とする請求項9または10のいずれかに記載の固体レーザ装置。
  13. 前記レーザパルス間隔は、
    複数の間隔が存在し、前記レーザロッドのもつ熱時定数より短い間隔を含む、
    ことを特徴とする請求項9または10のいずれかに記載の固体レーザ装置。
  14. 前記光励起固体レーザ装置は、
    ランプ励起固体レーザ装置である、
    ことを特徴とする請求項9乃至13のいずれかに記載の固体レーザ装置。
  15. 前記光励起固体レーザ装置は、
    半導体レーザ励起固体レーザ装置である、
    ことを特徴とする請求項9乃至13のいずれかに記載の固体レーザ装置。
  16. 前記レーザロッドの媒質は、
    YAG結晶を基体とする、
    ことを特徴とする請求項9乃至15のいずれかに記載の固体レーザ装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011049376A (ja) * 2009-08-27 2011-03-10 Mitsubishi Electric Corp レーザ加工機システム
JP2014225542A (ja) * 2013-05-16 2014-12-04 株式会社島津製作所 固体パルスレーザ装置
JP2017103490A (ja) * 2017-03-06 2017-06-08 株式会社島津製作所 固体パルスレーザ装置
US11532920B2 (en) 2017-12-18 2022-12-20 Gigaphoton Inc. Laser apparatus, EUV light generating system, and electronic device manufacturing method

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