JP2004341844A - エッジ抽出装置、エッジ抽出プログラム及びエッジ抽出方法 - Google Patents

エッジ抽出装置、エッジ抽出プログラム及びエッジ抽出方法 Download PDF

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嘉之 坂口
Masashi Tanaka
昌司 田中
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Abstract

【課題】所定の物体を含む画像からこの物体の輪郭を高精度に抽出する。
【解決手段】注目画素Aの近傍のエッジの方向を推定する方向推定部103と、方向推定部が推定が推定した方向のエッジ強度を評価するエッジ強度評価フィルタを選択するフィルタ選択部106と、フィルタ選択部が選択したエッジフィルタを用いて、注目画素Aに畳込処理を施す畳込処理部107と、注目画素Aを含む所定の領域をエッジ強調領域EAとして設定する領域設定部104と、エッジ強調領域EAに対し、エッジ先鋭化処理を施すエッジ先鋭化部105とを備える。
【選択図】 図2

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像中に含まれる物体のエッジを抽出する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、画像処理の分野では、物体の輪郭を抽出する手法として、エッジ強度評価フィルタを用いるものが知られている。エッジ強度評価フィルタには、縦、横、斜め等、所定の方向のエッジを抽出する複数種類のエッジ強度評価フィルタが存在する。例えば、縦方向のエッジ強度評価フィルタを用いて畳込処理を行えば、主に縦方向のエッジが抽出され、横方向のエッジ強度評価フィルタを用いて畳込処理を行えば、主に横方向のエッジが抽出される。そして、従来のエッジ抽出処理においては、エッジの抽出対象となる物体の形状から、その形状に適した種類のエッジ強度評価フィルタを予め選択しておき(例えば、主に横方向のエッジから構成される形状に対しては横方向のエッジ強度評価フィルタを予め選択しておく)、選択した1種類のエッジ強度評価フィルタのみを用いた畳込処理が行われていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような従来の手法では、エッジの形状が複雑である物体に対しては、エッジ強度評価フィルタが抽出するエッジの方向と物体の輪郭の方向とが一致しない領域が多く存在してしまい、エッジを正確に抽出することができないという問題があった。
【0004】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、より正確にエッジを抽出することができるエッジ抽出装置、エッジ抽出プログラム及びエッジ抽出方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るエッジ抽出装置は、所定の物体を含む画像に対して、エッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施すことにより、前記画像から前記物体のエッジを抽出するエッジ抽出装置であって、前記物体を含む画像を取得する画像取得手段と、前記画像取得手段が取得した画像から注目画素を特定する特定手段と、前記特定手段が過去に特定した注目画素と現在特定している注目画素との位置関係に基づいて、現在特定している注目画素の周辺に位置するエッジの方向を推定する方向推定手段と、前記特定手段が現在特定している注目画素に対して、前記方向推定手段が推定した方向のエッジを抽出するエッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施す畳込手段とを備えることを特徴とする。
【0006】
この構成によれば、現在特定されている注目画素と過去に特定された注目画素との位置関係から、現在の注目画素近傍のエッジの方向が推定され、推定された方向のエッジの強度を評価するためのエッジ強度評価フィルタを用いて現在の注目画素にフィルタ処理が施されるため、注目画素の周辺に位置するエッジの方向に適したエッジ強度評価フィルタが適宜選択されて、エッジの抽出処理が行われることとなる。その結果、物体のエッジをより正確に抽出することができる。
【0007】
また、前記特定手段が現在特定している注目画素の周辺の領域をエッジ強調領域として設定する領域設定手段と、前記領域設定手段が設定したエッジ強調領域に対し、輝度がなだらかに変化する領域を減少する処理を施すことにより、前記方向推定手段が推定した方向と同一方向のエッジを先鋭化するエッジ先鋭化手段とをさらに備えることが好ましい。
【0008】
この構成によれば、注目画素近傍の領域において、エッジ強調領域が設定され、この領域内の画像に対して、現在選定されているエッジ強度評価フィルタが抽出するエッジの方向と同一方向のエッジを先鋭化する処理が施されるため、この領域内のエッジがより大きく抽出され、エッジの抽出精度をさらに高めることができる。
【0009】
また、前記エッジ強調領域は、複数の領域からなり、前記エッジ先鋭化手段が処理したエッジ強調領域内において、最もエッジ強度が大きい画素を最大エッジ画素として抽出する画素抽出手段を更に備え、前記特定手段は、前記画素抽出手段が抽出した画素が、前記複数の領域のうちのいずれの領域に属するかによって、次の注目画素の位置を決定することが好ましい。
【0010】
この構成によれば、不連続エッジが存在する場合であっても、エッジが存在すると推定される画素が注目画素として特定され、特定された注目画素にフィルタ処理が施されるため、不連続エッジが補間されることとなる。
【0011】
また、前記特定手段は、前記最大エッジ画素のエッジ強度が所定の値よりも小さい場合、現在設定されている注目画素をエッジの端部として特定することが好ましい。
【0012】
注目画素がエッジの端部に位置する場合、エッジ強調領域内にエッジが存在する割合が低くなるため、この領域内における最大エッジ画素のエッジ強度は、エッジが存在する割合が高いエッジ強調領域内における最大エッジ画素のエッジ強度に比べて小さくなる。したがって、最大エッジ画素の強度に基づいて、エッジの端部を特定することができる。
【0013】
また、前記物体は人体の眼であり、前記エッジは、前記眼の輪郭であり、前記端部は、目頭であることが好ましい。この構成によれば、複雑な形状を有する眼の輪郭を正確に抽出することができるとともに、正確に抽出された眼の輪郭を基に目頭を特定しているため、目頭の位置を正確に特定することができる。
【0014】
また、前記画像取得手段は、動画像を取得するカメラであることが好ましい。この構成によれば、動画像中に含まれる物体のエッジを高精度に抽出することができる。
【0015】
本発明に係るエッジ抽出装置は、所定の物体を含む画像から前記物体のエッジを抽出するエッジ抽出装置であって、前記物体を含む画像を取得する画像取得手段と、前記画像取得手段が取得した画像から注目画素を特定する特定手段と、前記特定手段が過去に特定した注目画素と現在特定している注目画素との位置関係に基づいて、現在特定している注目画素の周辺に位置するエッジの方向を推定する方向推定手段と、前記特定手段が現在特定している注目画素の周辺の領域をエッジ強調領域として設定する領域設定手段と、前記領域設定手段が設定したエッジ強調領域に対し、輝度がなだらかに変化する領域を減少する処理を施すことにより前記方向推定手段が推定した方向と同一方向のエッジを先鋭化するエッジ先鋭化手段とを備えることを特徴とする。
【0016】
この構成によれば、注目画素近傍の領域において、エッジ強調領域が設定され、この領域内に含まれるエッジの方向が推定され、推定された方向のエッジが先鋭化されることによりエッジが抽出される。
【0017】
本発明に係るエッジ抽出プログラムは、所定の物体を含む画像に対して、エッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施すことにより、前記画像から前記物体のエッジを抽出するエッジ抽出プログラムであって、前記物体を含む画像を取得する画像取得手段、前記画像取得手段が取得した画像から注目画素を特定する特定手段、前記特定手段が過去に特定した注目画素と現在特定している注目画素との位置関係に基づいて、現在特定している注目画素の周辺に位置するエッジの方向を推定する方向推定手段、前記決定手段が現在特定している注目画素に対して、前記方向推定手段が推定した方向のエッジを抽出するするエッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施す畳込手段としてコンピュータを機能させることを特徴とする。
【0018】
また、本発明に係るエッジ抽出方法は、所定の物体を含む画像に対して、エッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施すことにより、前記画像から前記物体のエッジを抽出するエッジ抽出方法であって、コンピュータが、前記所定の物体を含む画像から注目画素を特定するステップと、コンピュータが、前記特定手段によって過去に特定された注目画素と現在特定されている注目画素との位置関係に基づいて、現在特定されている注目画素近傍に位置するエッジの方向を推定するステップと、コンピュータが、前記決定手段によって現在特定されている注目画素に対して、前記方向推定手段が推定した方向のエッジを抽出するエッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施すステップとを備えることを特徴とする。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態による輪郭抽出装置について図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の一実施の形態による輪郭抽出装置のハードウェア構成を示すブロック図である。なお、以下の説明では、動画像から人間の眼の上側の輪郭及び目頭を抽出する処理を例に挙げて説明する。
【0020】
図1に示す輪郭抽出装置は、通常のコンピュータ等から構成され、入力装置1、ROM(リードオンリメモリ)2、CPU(中央演算処理装置)3、RAM(ランダムアクセスメモリ)4、外部記憶装置5、表示装置6及び記録媒体駆動装置7を備える。各ブロックは内部のバスに接続され、このバスを介して種々のデータ等が入出力され、CPU3の制御の下、種々の処理が実行される。
【0021】
入力装置1は、キーボード、マウス等から構成され、操作者が種々のデータ及び操作指令等を入力するために使用される。
【0022】
ROM2には、BIOS(Basic Input/Output System)等のシステムプログラム等が記憶される。外部記憶装置5は、ハードディスクドライブ等から構成され、所定のOS(Operating System)及び後述する輪郭抽出プログラム等が記憶する。RAM4は、CPU3の作業領域等として用いられる。
【0023】
記録媒体駆動装置7は、CD−ROMドライブ、フロッピィーディスクドライブ等から構成される。なお、輪郭抽出プログラムを、CD−ROM、フロッピィーディスク等のコンピュータ読み取り可能な記録媒体8に記録し、記録媒体駆動装置7により記録媒体8から輪郭抽出プログラムを読み出して外部記憶装置5にインストールして実行するようにしてもよい。また、図1に示す輪郭抽出装置が通信装置等を備え、輪郭抽出プログラムが所定のネットワークを介して図1に示す輪郭抽出装置に接続された他のコンピュータ等に記憶されている場合、当該コンピュータからネットワークを介して輪郭抽出プログラムをダウンロードして実行するようにしてもよい。
【0024】
カメラ10は、入出力インターフェイス(I/F)9を介してバスラインに接続され、CCDエリアセンサにより、人間の顔を含む画像(顔画像)を所定のフレームレートで取得する。
【0025】
表示装置6は、液晶表示装置、CRT(陰極線管)等から構成され、CPU3の制御の基、カメラ10が撮影した人間の顔画像を表示する。
【0026】
図2は、本輪郭抽出装置の機能を説明するためのブロック図を示している。図2に示すように、本輪郭抽出装置は、プログラム実行部100及び記憶部200を備えている。プログラム実行部100は、CPU3が輪郭抽出プログラムを実行することにより実現され、瞳中心特定部101、輪郭頂点特定部102、方向推定部103、領域設定部104、エッジ先鋭化部105、フィルタ選択部106、畳込処理部107、最大画素抽出部108、注目画素特定部109及び画像合成部110を備えている。記憶部200は、CPU3が輪郭抽出プログラムを実行することにより実現され、画像メモリ201、フィルタ記憶部202及び位置記憶部203を備えている。
【0027】
瞳中心特定部101は、先に本出願人が出願した特願2002−182690号に記載されている技術を用いて、瞳の中心位置(瞳中心部)を特定する。この技術は、過去のフレームにおいて瞳抽出フィルタを用いて特定された瞳中心から、テーラー展開を用いて現フレームの瞳の中心部を特定するものである。
【0028】
輪郭頂点特定部102は、瞳中心特定部101が特定した瞳中心部から、瞳中心部の上側に位置する探索終点までの直線上の領域に対して、横エッジフィルタを用いた畳込処理を施し、横エッジ強度が最も大きい画素を眼の上側の輪郭線の頂点(輪郭頂点)として特定する。
【0029】
方向推定部103は、注目画素特定部109が、過去に特定した注目画素の位置と現在特定している注目画素の位置とを結ぶベクトル(移動ベクトル)の水平方向に対する傾きθを算出し、算出した傾きθを現在特定している注目画素の周辺に位置するエッジの方向として推定する。
【0030】
領域設定部104は、注目画素特定部109が現在特定している注目画素を含む所定行所定列の領域を、エッジ先鋭化部105が後述するエッジ先鋭化処理を施すための領域であるエッジ強調領域として設定する。
【0031】
エッジ先鋭化部105は、フィルタ選択部106が横エッジ強度評価フィルタを選択している場合は、エッジ強調領域に対し所定の演算を施すことにより、横方向のエッジを先鋭化する処理を行い、フィルタ選択部106が斜エッジ強度評価フィルタを選択している場合は、エッジ強調領域に対し所定の演算を施すことにより、当フィルタが抽出する斜め方向のエッジを先鋭化する処理を行い、フィルタ選択部106が縦エッジ強度評価フィルタを選択している場合は、エッジ強調領域に対し所定の演算を施すことにより、縦方向のエッジを先鋭化する処理を行う(エッジ先鋭化処理)。なお、所定の演算については、図10に示すフローチャートで説明する。
【0032】
フィルタ選択部106は、方向推定部103が算出した傾きθを閾値θ1、θ2と比較し、フィルタ記憶部202に記憶されている複数のエッジ強度評価フィルタの中から、現在の注目画素に適用するエッジ強度評価フィルタを選択する。
【0033】
畳込処理部107は、注目画素特定部109が現在特定している注目画素に対し、フィルタ選択部106によって選択された縦、横及び斜めのうちのいずれか1つのエッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施す。
【0034】
注目画素特定部109は、最大エッジ画素が、エッジ強調領域において予め設定された3つの領域(横方向領域、斜め方向領域、縦方向領域)のうちのいずれの領域に属するかによって、次に特定する注目画素を特定する。
【0035】
本輪郭測定装置は、輪郭頂点を特定し、特定した輪郭頂点から眼の輪郭線上に注目画素をずらしながら、最終的に目頭を抽出するものであるため、注目画素特定部109は、左眼の輪郭を抽出している場合は、現在特定している注目画素に対し、左側、左斜め下側及び下側に隣接する画素のうちのいずれか1つの画素を次の注目画素として特定し、右眼の輪郭を抽出している場合は、現在特定している注目画素に対し、右側、右斜め下側及び下側に隣接する画素のうちのいずれか1つの画素を次の注目画素として特定する。
【0036】
詳細には、右眼の輪郭を抽出している場合であり、かつ、最大エッジ画素が横方向領域に位置する場合、現在特定している注目画素に対し、右側に隣接する画素を次の注目画素として特定し、左眼の輪郭を抽出している場合であり、かつ、最大エッジ画素が横方向領域に位置する場合、現在特定している注目画素に対し、左側に隣接する画素を次の注目画素として特定する。また、右眼の輪郭を抽出している場合であり、かつ、最大エッジ画素が斜め方向領域に属する場合、現在特定している注目画素に対し、右斜め下側に隣接する画素を次の注目画素として特定し、左眼の輪郭を抽出している場合であり、かつ、最大エッジ画素が斜め方向領域に属する場合、現在特定している注目画素に対し、左斜め下側に隣接する画素を次の注目画素として特定する。さらに、最大エッジ画素が縦方向領域に属する場合、現在特定している注目画素に対し、下側に隣接する画素を次の注目画素として特定する。
【0037】
なお、隣接する画素を次の注目画素として特定する代わりに、所定画素離間した画素を次の注目画素として特定してもよい。この場合、一定の間隔毎に注目画素を特定してもよいし、最大エッジ画素が属する領域に応じて、間隔を変えて次の注目画素を特定してもよい。
【0038】
さらに、注目画素特定部109は、最大画素抽出部108が抽出した最大エッジ画素のエッジ強度を所定の閾値と比較し、この閾値よりも小さい場合、その画素を目頭の位置として抽出する。
【0039】
画像合成部110は、抽出された眼の輪郭及び目頭を示す太線を顔画像上に合成し表示装置6に表示させる。
【0040】
画像メモリ201は、RAM4から構成され、カメラ10が撮影した顔画像を記憶する。フィルタ記憶部202は、RAM4から構成され、縦方向のエッジを抽出する縦エッジ強度評価フィルタと、斜め方向のエッジを抽出する斜めエッジ強度評価フィルタと、横方向のエッジを抽出する横エッジ強度評価フィルタとを記憶している。
【0041】
位置記憶部203は、RAM4から構成され、瞳中心特定部101が特定した瞳中心の座標、輪郭頂点特定部102が特定した輪郭頂点の座標、最大画素抽出部108が抽出した最大エッジ画素の座標を記憶する。さらに、位置記憶部203は、注目画素特定部109が現在特定している画素の座標及び過去に特定した画素の座標を記憶する。
【0042】
次に、本輪郭抽出装置が1枚のフレーム画像に対して行う処理を説明する。図3は、本輪郭抽出装置が1枚のフレーム画像に対して行う処理のメインルーチンを示したフローチャートである。また、図4は、図3に示すフローチャートを説明するための図である。まず、ステップS1において、瞳中心特定部101は、顔画像に対して、特願2002−182690号に記載されている技術を用いて瞳の中心位置を特定する。この場合、図4に示すように、顔画像から瞳中心CEが特定される。
【0043】
ステップS2において、輪郭頂点特定部102は、顔画像に対し、瞳中心CEから探索終点EPまで横エッジ強度評価フィルタ(図7参照)を用いた畳込処理を施すことにより、輪郭頂点UPを特定する。
【0044】
ステップS3において、GC≧N1の場合(ステップS3でNO)、すなわち、注目画素カウンタGCがN1に達している場合、注目画素特定部109は、注目画素カウンタGCに0を代入し、注目画素カウンタGCを初期化する(ステップS4)。
【0045】
ステップS5において、方向推定部103は、現在特定されている注目画素Aの近傍に位置するエッジの方向を推定する処理を実行する(方向推定処理)。
【0046】
ステップS6において、領域設定部104は、エッジ強調領域を設定し、エッジ先鋭化部105は、設定されたエッジ強調領域に対し、ステップS5で推定されたエッジの方向と同一方向のエッジを先鋭化する処理を実行する。
【0047】
ステップS7において、フィルタ選択部106は、ステップS5で推定された方向のエッジを抽出するためのエッジ評価フィルタを選択する。
【0048】
図5は、ステップS7で選択されるエッジ強度評価フィルタを示した図であり、(a)は横エッジ強度評価フィルタを示し、(b)は斜めエッジ強度評価フィルタを示し、(c)は縦エッジ強度評価フィルタを示している。(a)に示すように横エッジ強度評価フィルタは、1行目に「1,1,1」、2行目に「0,0,0」、3行目に「−1,−1,−1」の値を有する3行3列の行列であり、2行2列目が注目画素Aに対応する。(b)に示すように斜めエッジ強度評価フィルタは、1行目に「1,1,0」、2行目に「1,0,−1」、3行目に「0,−1,−1」の値を有する3行3列の行列であり、2行2列目が注目画素Aに対応する。(c)に示すように縦エッジ強度評価フィルタは、1行目に「1,0,−1」、2行目に「1,0,−1」、3行目に「1,0,−1」の値が設定された3行3列の行列であり、2行2列目が注目画素Aに対応する。
【0049】
ステップS8において、畳込処理部107は、ステップS7で選択されたエッジ評価フィルタを用いて注目画素Aに対して畳込処理を施す。ここで、図4に示すように、眼の輪郭ELは、輪郭頂点UPから目頭HPに向かうにつれて、水平方向に対する傾きが大きくなっているため、畳込処理部107は、注目画素Aが▲1▼に示す領域に存在する場合は、横エッジ強度評価フィルタを用い、注目画素Aが▲2▼に示す領域に存在する場合は、斜めエッジ強度評価フィルタを用い、注目画素Aが▲3▼に示す領域に存在する場合は、縦エッジ強度評価フィルタを用いて畳込処理を施すこととなる。
【0050】
一方、ステップS3において、GC<N1の場合(ステップS3でYES)、方向推定部103は、ステップS5と同様にして方向推定処理を実行する(ステップS9)。ステップS10において、領域設定部104は、ステップS6と同様にしてエッジ強調領域を設定し、エッジ先鋭化部105は、ステップS6と同様にしてエッジ先鋭化処理を実行する。ステップS11において、畳込処理部107は、注目画素Aに対し、直前の注目画素Aに適用したエッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施す。
【0051】
ステップS4〜S8及びステップS9〜S11の処理を繰り返し実行していくことにより、図4に示すように、輪郭頂点UPから目頭HPに向けて輪郭ELが抽出されていく。
【0052】
ここで、ステップS4〜S8の処理は、N1回毎に実行され、それ以外は、ステップS9〜S11が実行されている。これによりエッジ強度評価フィルタの選択処理は、N1回毎に実行されることとなり、処理の高速化が図られている。なお、本実施形態ではN1=5が設定されている。
【0053】
ステップS14において、最大画素抽出部108は、ステップS6においてエッジ先鋭化処理が施されたエッジ強調領域から最大エッジ画素を抽出し、注目画素特定部109は、抽出した最大エッジ画素が目頭HPに該当するかを判定するとともに、抽出した最大エッジ画素が目頭HPに該当しない場合、次の注目画素Aを特定する処理を実行する。
【0054】
注目画素特定部109が目頭HPを抽出していない場合(ステップS15でNO)、注目画素特定部109は、注目画素カウンタGCに1加算し、注目画素カウンタGCを更新する(ステップS13)。そして、新たな注目画素Aに対してステップS4又はステップS9以降の処理が施されていく。
【0055】
一方、注目画素特定部109が目頭HPを抽出した場合(ステップS15でYES)、画像合成部110は、抽出した目頭HP及び輪郭ELを顔画像に重畳合成し、表示装置6に表示させ(ステップS16)、処理を終了する。
【0056】
本輪郭抽出装置は、上記処理を各フレーム画像に対して施すことにより、顔の動画像から輪郭及び目頭を動的に抽出していく。
【0057】
次に輪郭頂点の探索処理について説明する。図6は、図3に示すステップS2のサブルーチンを示したフローチャートである。まず、ステップS21において、輪郭頂点特定部102は、瞳中心CEを注目画素Bとして特定する。注目画素Bは、注目画素特定部109が特定する注目画素Aと区別するためにBの符号を付している。ステップS22において、輪郭頂点特定部102は、エッジ強度が最も大きい画素の座標及びエッジ強度を記憶するための変数Zを初期化する。
【0058】
ステップS23において、輪郭頂点特定部102は、ステップS21において特定された注目画素Bに対し、横エッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施し、エッジ強度を算出する。図7は、輪郭頂点特定部102が用いる横エッジ強度評価フィルタを示している。図7に示す横エッジ強度評価フィルタは、1行目に「1,1,1」、2行目に「0,0,0」、3及び4行目に「−1,−1,−1」が設定された4行3列の行列であり、2行2列目が注目画素Bに対応する。
【0059】
ステップS24において、輪郭頂点特定部102は、現在特定している注目画素Bのエッジ強度と、前回畳込処理を施した注目画素Bのエッジ強度とを比較し、現在特定している注目画素Bのエッジ強度が大きい場合(ステップS24でYES)、現在の注目画素Bのエッジ強度及び座標を変数Zに格納し、変数Zを更新する(ステップS25)。
【0060】
一方、ステップS24において、現在特定している注目画素Bのエッジ強度が、前回畳込処理を施した注目画素Bのエッジ強度よりも小さい場合(ステップS24でNO)、ステップS26に進む。ステップS26において、輪郭頂点特定部102は、注目画素Bが探索終点EPに到達したか否かを判断し、探索終点EPに到達していない場合(ステップS26でNO)、注目画素Bを探索終点EP側に移動させ(ステップS28)、新たな注目画素Bを特定し、特定した注目画素Bに対し、横エッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施す(ステップS23)。ここで、探索終点EPは、瞳中心CEに対して上側に位置する点であり、本実施形態では、瞳中心CE及び探索終点EP間の距離は、20ピクセルが設定されている。新たな注目画素Bは、瞳中心CE及び探索終点EPとを結ぶ線分LX上の全ての点を注目画素Bとしてもよいし、一定の画素間隔で注目画素Bを特定してもよい。
【0061】
一方、ステップS27において、注目画素Bが探索終点EPに到達している場合、輪郭頂点特定部102は、変数Zに記憶されている画素を輪郭頂点UPとして特定する。
【0062】
次に、エッジの方向を推定する処理について説明する。図8は、図3に示すステップS5及びS9のサブルーチンを示したフローチャートである。まず、ステップS41において、方向推定部103は、移動ベクトルMVの水平方向に対する角度θを算出する。図9は、ステップS41の処理を説明するための図である。図9において、1つのマス目は1画素を示し、PP(XP,YP)はN1回前に特定した注目画素Aを示し、NP(XN,YN)は現在特定している注目画素Aを示している。破線LYは水平方向を示している。そして、方向推定部103は、移動ベクトルMVと破線LYとの角度θを、例えば式(1)に示す演算を行うことにより算出する。
θ=tan−1(|YP−YN|/|XP−XN|)・・・式(1)
ステップS42において、方向推定部103は、角度θを閾値θ1,θ2と比較し、θ<θ1の場合、注目画素A近傍のエッジの方向は横方向であると推定し(ステップS43)、θ1<θ<θ2の場合、注目画素A近傍のエッジの方向は斜め方向であると推定し(ステップS44)、θ>θ2の場合、注目画素A近傍のエッジの方向は縦方向であると推定する(ステップS45)。なお、本実施形態では、θ1=22.5°、θ2=67.5°を採用している。
【0063】
次に、エッジ先鋭化処理の詳細について説明する。図10は、図3に示すステップS6及びS10のサブルーチンを示したフローチャートである。また、図11(a)はエッジ強調領域EAを説明するための図であり、(b)はエッジ先鋭化処理を説明するための図である。(a)、(b)とも、1つのマス目は1画素を示している。まず、ステップS51において、領域設定部104は、注目画素Aを含む6行6列の領域をエッジ強調領域EAとして設定する。
【0064】
詳細には、左眼の処理を行う場合、領域設定部104は、注目画素Aを右上の頂点とする4行4列の領域をアイライン探索領域EBとして設定し、設定したアイライン探索領域EBを含む6行6列の領域をエッジ強調領域EAとして設定する。なお、アイライン探索領域EBは、次の注目画素Aを特定するために用いられる領域である。
【0065】
また、右眼の処理を行う場合、領域設定部104は、注目画素Aを左上の頂点とする4行4列の領域をアイライン探索領域EBとして設定し、設定したアイライン探索領域EBを含む6行6列の領域をエッジ強調領域EAとして設定する。
【0066】
図11は、左眼に対する処理を示しているため、注目画素Aを右上の頂点とする4行4列の領域がアイライン探索領域EBとして設定されている。したがって、エッジ強調領域EAは、注目画素Aに対し、左斜め下側の領域に設定されている。
【0067】
また、図11は、左眼に対する処理を示しているため、新たに特定される注目画素AはP1〜P3のうちのいずれか1つである(隣接画素を新たな注目画素とする場合)。また、図5に示すようにP1〜P3に適用されるエッジ強度評価フィルタは、3行3列である。したがって、P1又はP3を注目画素Aとして特定した場合、注目画素Aに対し、それぞれ上側の1行の一部又は右側の1行の一部の画素の輝度も畳込処理の演算に用いられる。そこで、領域設定部104は、アイライン探索領域EBよりも1周り大きい6行6列の領域をエッジ強調領域EAとして設定している。
【0068】
ステップS52において、領域設定部104は、エッジ強調領域EAを構成するラインのうち、何番目のラインを処理しているかをカウントするためのラインカウンタLに0を代入し、ラインカウンタLを初期化する。
【0069】
ステップS53において、領域設定部104は、ラインカウンタLを定数N2と比較し、L<N2の場合、すなわち、ラインカウンタLがN2に達していない場合(ステップS53でNO)、ステップS54に進む。なお、本実施形態では、エッジ強調領域EAのサイズは6行6列であるため、N2=6が設定されている。
【0070】
ステップS54において、エッジ先鋭化部105は、エッジ強調領域EAから1ライン分の画素を取り出し、取り出した画素の輝度を配列Borgに代入する。ここで、エッジ先鋭化部105は、フィルタ選択部106が横エッジ強度評価フィルタを選択している場合は、縦方向の1ラインに含まれる6個の画素に加えて、上側3個、下側3個の画素の輝度を配列Borg[0]〜Borg[11]に格納する。例えば、図11(b)に示すように、ラインL1に対してエッジ先鋭化処理を施す場合、エッジ強調領域EAの外側の画素P11がBorg[0]、P16がBorg[11]に格納されるように、ラインL1及びその上側3個の画素P11〜P13、下側3個の画素P14〜P16の輝度を配列Borgに順番に格納する。
【0071】
また、エッジ先鋭化部105は、フィルタ選択部106が縦エッジ強度評価フィルタを選択している場合、横方向の1ラインに含まれる6個の画素に加えて、左側3個、右側3個の画素の輝度を配列Borgに格納する。例えば、図11(b)に示すように、ラインL2に対してエッジ先鋭化処理を施す場合、エッジ強調領域EAの外側の画素P21がBorg[0]、P26がBorg[11]に格納されるように、ラインL2に含まれる6個の画素に加えて、左側3個の画素P21〜P23、右側3個の画素P24〜P26の輝度を配列Borg[0]〜Borg[11]に順番に格納する。
【0072】
さらに、エッジ先鋭化部105は、フィルタ選択部106が斜めエッジ強度評価フィルタを選択している場合、斜めエッジ強度評価フィルタが抽出するエッジ方向V3と直交するラインL3に含まれる4個の画素に加えて、エッジ強調領域EAの外側であって、ラインL3と同一方向の上側に隣接する3個の画素P31〜P33、下側に隣接する3個の画素P34〜P36の輝度を、Borg[0]〜Borg[9]に順番に格納する。
【0073】
ステップS55において、エッジ先鋭化部105は、エッジ強調領域EAから取り出した1ラインに含まれる画素の位置を示す変数iに3を代入し、変数iを初期化する。
【0074】
ステップS56において、エッジ先鋭化部105は、ステップS54で取り出した行列Borgに対して式(2)及び式(3)で示す演算を施す。
A1=|Borg[i−1]−Borg[i―3]|・・・式(2)
A2=|Borg[i+1]−Borg[i+3]|・・・式(3)
ステップS57において、エッジ先鋭化部105は、A1−A2の演算を行い、注目画素に対する周辺画素の輝度の均一度を評価し、A1<A2の場合、ステップS58に進み、式(4)に示す演算を行う。一方、A1>A2の場合、ステップS59に進み、式(5)に示す演算を行う。
Bnew[i]=(Borg[i]+Borg[i−1])/2・・・式(4)
Bnew[i]=(Borg[i]+Borg[i+1])/2・・・式(5)
Borgはエッジ先鋭化処理前の輝度を示し、Bnewはエッジ先鋭化処理後の輝度を示す。エッジ先鋭化部105は、式(4)又は式(5)に示す演算を、エッジ強調領域EAから取り出した1ラインの先頭の画素から最終の画素までの各画素に対して順番に実行する。
【0075】
図12は、エッジ先鋭化処理の効果を説明するための図であり、(a)はエッジ先鋭化処理前の各画素の輝度を示し、(b)はエッジ先鋭化処理後の各画素の輝度を示している。(a)、(b)とも、縦軸は輝度を示し、横軸は画素を示している。
【0076】
k番目の画素が注目画素C(上記注目画素A,Bと区別するためCの符号を付している)として特定されている場合、エッジ先鋭化部105は、k−1及びk−3番目の画素の輝度の差分の絶対値と、k+1及び画素k+3番目の画素の輝度の差分の絶対値とを比較し、差分の絶対値が小さい側(図12(a)の例では右側)に隣接する画素(図12(a)の例では、k+1)と注目画素Cとの輝度の平均値を算出し、算出した平均値を注目画素Cの輝度とする。そして、エッジ先鋭化部105は、このような処理を各画素に対して順番に施していく。これにより、注目画素Cは、より均一な方向の画素と輝度が平均される。その結果、図12(b)に示すように、注目画素Cは周辺に存在するより輝度が均一な領域へと統合され、各画素の輝度は2値的に分布することとなり(輝度がなだらかに変化する領域が減少し)、エッジが先鋭化されることとなる。これにより、畳込処理の前にエッジを先鋭化する処理を行っているため、エッジ強度評価フィルタは、より正確にエッジを抽出することが可能となる。
【0077】
ステップS60において、エッジ先鋭化部105は、変数iを定数N3と比較し、i<N3の場合(ステップS60でNO)、変数iに1を加算し(ステップS61)、ステップS56に戻る。これにより、隣接する画素に対して、式(1)〜(4)の処理が施されることとなる。一方、ステップS60において、i≧N3の場合(ステップS60でYES)、すなわち、エッジ強調領域EAから取り出した1ライン分に対するエッジ先鋭化処理が終了した場合、エッジ先鋭化部105は、エッジ強調領域EAの対応する画素をBnewで更新する(ステップS62)。なお、本実施形態では、エッジ強調領域は6行6列であるため、N3=3+6(=9)が設定されている。
【0078】
ステップS63において、エッジ先鋭化部105は、ラインカウンタLに1を加算してラインカウンタLを更新し、ステップS53に戻る。そして、L<N2の場合(ステップS53でNO)、すなわち、エッジ強調領域EAの全てのラインに対するエッジ先鋭化処理が終了していない場合、エッジ強調領域EAから次の1ラインを取り出し、配列Borgに格納する(ステップS54)。ここで、エッジ先鋭化部105は、図11(b)に示すV1方向のエッジを先鋭化する場合は、ラインL1をV1方向にずらしていく。また、V2方向のエッジを先鋭化する場合は、ラインL2をV2方向にずらしていく。また、V3方向のエッジを先鋭化する場合は、ラインL3をV3方向にずらしていく。なお、V3方向のエッジ先鋭化処理を行う場合、ラインL3は、その位置に応じて、含まれる画素数が異なるため、その位置に応じて定数N3の値を変化させる。例えば、ラインL3が図11(b)に示す位置に位置する場合、N3=4+3(=7)が設定され、ラインL3が図11(b)に示す位置に対して右斜め上側に位置する場合は、N3=5+3(=8)が設定される。
【0079】
次に、注目画素Aの特定処理の詳細について説明する。図13は、図3に示すステップS14のサブルーチンを示したフローチャートである。まず、ステップS1401において、最大画素抽出部108は、アイライン探索領域EB内において、エッジ強度が最大の画素(最大エッジ画素)のエッジ強度及び位置を格納するための変数MAXに0を格納し、変数MAXを初期化する。ステップS1402において、最大画素抽出部108は、MAXのエッジ強度と注目画素D(アイライン探索領域EB内で特定される注目画素であり、注目画素A〜Cと異なる)のエッジ強度とを比較することにより注目画素Dのエッジ強度を評価し、MAX<注目画素Dのエッジ強度の場合(ステップS1402でYES)、MAXに注目画素Dのエッジ強度及び位置を格納し、MAXを更新する(ステップS1403)。
【0080】
一方、ステップS1402において、最大画素抽出部108は、MAX≧注目画素Dのエッジ強度の場合(ステップS1402でNO)、ステップS1404に進み、アイライン探索領域EBの全ての画素に対するエッジ強度の評価が終了しているか否かを判断し、全ての画素に対するエッジ強度の評価が終了していない場合(ステップS1404でNO)、アイライン探索領域EBから、次の注目画素Dを特定し(ステップS1405)、特定した注目画素Dに対して、エッジ強度の評価を行う(ステップS1402)。一方、ステップS1404において、アイライン探索領域EBの全ての画素に対する評価が終了している場合(ステップS1404でYES)、ステップS1406に進む。このとき、MAXに格納されている画素が、アイライン探索領域EB内の最大エッジ画素となる。
【0081】
ステップS1406において、注目画素特定部109は、最大エッジ画素のエッジ強度を目頭HPを特定するための閾値Tと比較し、MAX≧Tの場合(ステップS1406においてNO)、最大エッジ画素がアイライン探索領域EBのいずれの領域に属するかを判断する。図14は、注目画素Aの特定処理を説明するための図であり、EBはアイライン探索領域を示し、図11に示すアイライン探索領域EBと対応している。図14に示すように、アイライン探索領域EBは、注目画素Aに対し、左斜め下側に隣接する画素から構成される斜め方向領域EB1と、斜め方向領域EB1に対して上側に位置する横方向領域EB2と、斜め方向領域EB1に対して下側に位置する縦方向領域EB3との3つの領域から構成される。
【0082】
ステップS1407において、注目画素特定部109は、最大エッジ画素が、アイライン探索領域EB内の3つの領域のうちいずれの領域に属するかを判断し、最大エッジ画素が、横方向領域EB2に存在する場合、注目画素Aに対し、横方向に隣接する画素P1を次の注目画素Aとして特定する(ステップS1408)。また、最大エッジ画素が、斜め方向領域EB1に存在する場合、注目画素Aに対し、右斜め下側に隣接する画素P2を次の注目画素Aとして特定する(ステップS1409)。さらに、最大エッジ画素が、縦方向領域EB3に存在する場合、注目画素Aに対し、下側に隣接する画素P3を注目画素Aとして特定する(ステップS1410)。
【0083】
図15は、不連続エッジを示した図である。黒い画素は、エッジを構成する画素を示す。YP1及びYP2はエッジが途切れた箇所に位置する画素であるため、この場合、VP1及びVP2がエッジの途切れた箇所に位置する画素として推定することができる。注目画素AがYP1である場合、注目画素特定部109は、アイライン探索領域EBを探索することにより、YP2を最大エッジ画素として抽出する。そして、YP2は横方向領域EB2に存在するため(図略)、VP1を次の注目画素Aとして特定する。したがって、不連続エッジが存在する場合であっても、エッジが存在すると推定される画素が注目画素Aとして特定され、特定された注目画素Aにエッジ強度評価フィルタによる畳込処理が施される結果、その画素が輪郭を構成する画素として補間されることとなる。そのため、眼の輪郭線を途切れなく抽出することができる。
【0084】
なお、上記説明では、アイライン探索領域EBを4行4列としたが、本発明は、これに限定されず、4行4列よりも大きいサイズに設定してもよい。より大きな不連続エッジが存在する場合であっても、この不連続エッジを補間することが可能となる。
【0085】
一方、ステップS1406において、最大エッジ画素のエッジ強度が閾値Tよりも小さい場合(ステップS1406でYES)、注目画素特定部109は、その最大エッジ画素を目頭HPとして特定する(ステップS1411)。注目画素Aが目頭HPに位置する場合、アイライン探索領域EBの最大エッジ画素のエッジ強度は、その領域に眼の輪郭が存在しないため、同領域に眼の輪郭が存在する場合と比べて著しく小さくなる。そこで、注目画素特定部109は、エッジ強度が閾値Tよりも小さな最大エッジ画素を目頭HPとして特定している。
【0086】
以上説明したように、本エッジ抽出装置によれば、水平方向に対する移動ベクトルMVの角度θの大きさに応じて、注目画素A近傍に位置するエッジの方向を推定し、推定した方向のエッジを抽出する強度評価フィルタを用いて畳込処理を行うため、眼の輪郭EL及び目頭HPを正確に抽出することができる。
【0087】
また、注目画素Aの近傍にエッジ強調領域EAを設定し、この領域にエッジ先鋭化処理を施すため、エッジ先鋭化処理後のエッジ強調領域EAに対し、エッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施すと、エッジ強度が大きく表れることとなり、眼の輪郭をより正確に抽出することができる。
【0088】
さらに、アイライン探索領域EBから最大エッジ画素を抽出することにより、次の注目画素Aを特定しているため、不連続エッジが存在する場合であっても、正確に眼の輪郭を抽出することができる。
【0089】
なお、本発明は以下の態様を採ることができる。
【0090】
(1)上記実施形態では、眼の輪郭を抽出する場合を例に挙げて説明したが、これに限定されず、他の物体の輪郭を抽出してもよい。
【0091】
(2)上記実施形態では、動画像に対する処理を示したが、これに限定されず、静止画像に対する輪郭の抽出処理に適用してもよい。
【0092】
(3)上記実施形態では、エッジ強度評価フィルタとして、図6及び図11に示すものを採用したが、これに限定されず、同じ機能を有するものであれば、他のエッジ強度評価フィルタを採用してもよい。
【0093】
(4)上記実施形態では、水平方向に対する移動ベクトルMVの角度θを、3段階に分けて、各段階に対応するエッジ強度評価フィルタを選択する態様を示したが、これに限定されず、4段階以上に分け、各段階に適したエッジ強度評価フィルタを選択してもよい。これにより、エッジの抽出精度を高めることができる。また、2段階に分けてもよい。これにより、処理の高速化を図ることができる。
【0094】
(5)上記実施形態では、エッジ評価フィルタにより畳込処理を行っているが、これに限定されず、畳込処理を省略してもよい。この場合、エッジ先鋭化処理により、エッジが抽出される。
【0095】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、エッジ強度評価フィルタを輪郭の方向に応じて適宜変更しながら、輪郭を抽出していくため、輪郭をより正確に抽出することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態による輪郭抽出装置のハードウェア構成を示すブロック図である。
【図2】本輪郭抽出装置の機能を説明するためのブロック図である。
【図3】本輪郭抽出装置が1枚のフレーム画像に対して行う処理のメインルーチンを示したフローチャートである。
【図4】図3に示すフローチャートを説明するための図である。
【図5】ステップS43〜S45で選択されるエッジ強度評価フィルタを示した図であり、(a)は横エッジ強度評価フィルタを示し、(b)は斜めエッジ強度評価フィルタを示し、(c)は縦エッジ強度評価フィルタを示している。
【図6】図3に示すステップS2のサブルーチンを示したフローチャートである。
【図7】輪郭頂点特定部が用いる横エッジ強度評価フィルタを示した図である。
【図8】図3に示すステップS5及びS9のサブルーチンを示したフローチャートである。
【図9】ステップS41の処理を説明するための図である。
【図10】図3に示すステップS6及びS10に示すエッジ先鋭化処理のサブルーチンを示したフローチャートである。
【図11】(a)はエッジ強調領域を説明するための図であり、(b)はエッジ先鋭化処理を説明するための図である。
【図12】エッジ先鋭化処理の効果を説明するための図であり、(a)はエッジ先鋭化処理前の各画素の輝度を示し、(b)はエッジ先鋭化処理後の各画素の輝度を示している。
【図13】図3に示すステップS14のサブルーチンを示したフローチャートである。
【図14】注目画素Aの特定処理を説明するための図である。
【図15】不連続エッジを示した図である。
【符号の説明】
100 プログラム実行部
101 瞳中心特定部
102 輪郭頂点特定部
103 方向推定部
104 領域設定部
105 エッジ先鋭化部
106 フィルタ選択部
107 畳込処理部
108 最大画素抽出部
109 注目画素特定部
110 画像合成部
200 記憶部
201 画像メモリ
202 フィルタ記憶部
203 位置記憶部

Claims (9)

  1. 所定の物体を含む画像に対して、エッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施すことにより、前記画像から前記物体のエッジを抽出するエッジ抽出装置であって、
    前記物体を含む画像を取得する画像取得手段と、
    前記画像取得手段が取得した画像から注目画素を特定する特定手段と、
    前記特定手段が過去に特定した注目画素と現在特定している注目画素との位置関係に基づいて、現在特定している注目画素の周辺に位置するエッジの方向を推定する方向推定手段と、
    前記特定手段が現在特定している注目画素に対して、前記方向推定手段が推定した方向のエッジを抽出するエッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施す畳込手段とを備えることを特徴とするエッジ抽出装置。
  2. 前記特定手段が現在特定している注目画素の周辺の領域をエッジ強調領域として設定する領域設定手段と、
    前記領域設定手段が設定したエッジ強調領域に対し、輝度がなだらかに変化する領域を減少する処理を施すことにより、前記方向推定手段が推定した方向と同一方向のエッジを先鋭化させるエッジ先鋭化手段とをさらに備えることを特徴とする請求項1記載のエッジ抽出装置。
  3. 前記エッジ強調領域は、複数の領域からなり、
    前記エッジ先鋭化手段によって処理されたエッジ強調領域内において、最もエッジ強度が大きい画素を最大エッジ画素として抽出する画素抽出手段を更に備え、
    前記特定手段は、前記最大エッジ画素が、前記複数の領域のうちのいずれの領域に属するかによって、次に特定する注目画素の位置を決定することを特徴とする請求項2記載のエッジ抽出装置。
  4. 前記特定手段は、前記最大エッジ画素のエッジ強度が所定の値よりも小さい場合、現在特定している注目画素をエッジの端部とすることを特徴とする請求項3記載のエッジ抽出装置。
  5. 前記物体は人体の眼であり、
    前記エッジは、前記眼の輪郭であり、
    前記端部は、目頭であることを特徴とする請求項4記載のエッジ抽出装置。
  6. 前記画像取得手段は、動画像を取得するカメラであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のエッジ抽出装置。
  7. 所定の物体を含む画像から前記物体のエッジを抽出するエッジ抽出装置であって、
    前記物体を含む画像を取得する画像取得手段と、
    前記画像取得手段が取得した画像から注目画素を特定する特定手段と、
    前記特定手段が過去に特定した注目画素と現在特定している注目画素との位置関係に基づいて、現在特定している注目画素の周辺に位置するエッジの方向を推定する方向推定手段と、
    前記特定手段が現在特定している注目画素の周辺の領域をエッジ強調領域として設定する領域設定手段と、
    前記領域設定手段が設定したエッジ強調領域に対し、輝度がなだらかに変化する領域を減少させる処理を施すことにより、前記方向推定手段が推定した方向と同一方向のエッジを先鋭化させるエッジ先鋭化手段とを備えることを特徴とするエッジ抽出装置。
  8. 所定の物体を含む画像に対して、エッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施すことにより、前記画像から前記物体のエッジを抽出するエッジ抽出プログラムであって、
    前記物体を含む画像を取得する画像取得手段、
    前記画像取得手段が取得した画像から注目画素を特定する特定手段、
    前記特定手段が過去に特定した注目画素と現在特定している注目画素との位置関係に基づいて、現在特定している注目画素の周辺に位置するエッジの方向を推定する方向推定手段、
    前記決定手段が現在特定している注目画素に対して、前記方向推定手段が推定した方向のエッジを抽出するエッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施す畳込手段としてコンピュータを機能させることを特徴とするエッジ抽出プログラム。
  9. 所定の物体を含む画像に対して、エッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施すことにより、前記画像から前記物体のエッジを抽出するエッジ抽出方法であって、
    コンピュータが、前記所定の物体を含む画像から注目画素を特定するステップと、
    コンピュータが、前記特定手段によって過去に特定された注目画素と現在特定されている注目画素との位置関係に基づいて、現在特定されている注目画素近傍に位置するエッジの方向を推定するステップと、
    コンピュータが、前記決定手段によって現在特定されている注目画素に対して、前記方向推定手段が推定した方向のエッジを抽出するエッジ強度評価フィルタを用いた畳込処理を施すステップとを備えることを特徴とするエッジ抽出方法。
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