JP2004309421A - Pressure variable controller and pressure variable control method - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、圧力計の指示値を校正する技術分野で利用される圧力可変制御装置及びこの圧力可変制御装置を用いた圧力可変制御方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
ビル等の建築物に対する大きな災害要因の一つに台風等の強風がある。特に、高層ビル等の建築物の耐風安全性を確保するためには、強風時の風荷重を正確に評価する必要がある。そのため、風圧力(風荷重)を計測する風圧計(圧力計、風圧センサ)をビル等の構造物の壁面に取り付けて風洞実験を行い、構造物が受ける風圧や周辺に対するビル風による影響を予測したりすることもしばしば行われている。このように、構造物等の物体に働く風荷重を風圧計(風圧センサ)で正確に計測するためには、この風圧計(風圧センサ)の指示値を正確に校正することが必要である。
【0003】
ところで、圧力計の校正がされていた従来技術に関しては、可変流量バルブや離隔バルブを開閉することにより、処理ガスを導入し、処理室内部の圧力を一定にしたときの圧力計の指示値を標準圧力計の指示値に対して校正する半導体の製造装置が開示されている(例えば特許文献1参照)。
【0004】
【特許文献1】
特開2002−280362号公報(第1頁、第1図)
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来技術では、圧力計を校正するために調整したい圧力範囲、例えば、特に大気圧(ゼロ圧力値)近傍の圧力範囲では、自由に圧力を制御(コントロール)することが難しいため、大気圧近傍において圧力計の指示値を正確に校正することができない。また、所望の圧力範囲において圧力計の指示値を正確に校正するために、できるだけ広い圧力範囲において圧力を自由にコントロールすることが求められる。
【0006】
本発明は、上記に鑑み、広範な可変範囲を有し、微妙に圧力を変化させることができ、どのような圧力範囲においても一度の操作で容易かつ正確に圧力の制御が行え、ひいては、圧力計の指示値を正確に校正することができる圧力可変制御装置及びこの圧力可変制御装置を用いた圧力可変制御方法を実現することを課題とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するために、ガス入力源からガスが供給されるガス入力部と、前記ガス入力部から供給されるガスを排出する第1のガス出力部と、前記ガス入力部から供給されるガスを排出する第2のガス出力部と、前記ガス入力部から前記第1のガス出力部へ排出する第1のガス流量を連続的に変化させる第1のガス圧可変絞り弁と、前記ガス入力部から前記第2のガス出力部へ排出する第2のガス流量を、前記第1のガス圧可変絞り弁と連動して連続的に変化させる第2のガス圧可変絞り弁と、を具備し、前記第1及び第2のガス圧可変絞り弁により、前記第1のガス流量と前記第2のガス流量とを変化させることにより、前記第1のガス出力部における圧力と前記第2のガス出力部における圧力との間に圧力差を生じさせると共に、該圧力差を制御することを特徴とする圧力可変制御装置を提供する。
【0008】
また本発明は、第1スリット及び第2スリットが設けられた、中心軸上に回転可能なロータと、前記中心軸を同じにして、第1ガス孔及び第2ガス孔が共に設けられた第1ステータ及び第2ステータと、を備え、前記ロータは前記第1ステータと第2ステータとで双方向から挟み込むように載置されて、前記第1ステータの前記第1ガス孔及び前記第2ガス孔が設けられている一方の面と、前記第2ステータの前記第1ガス孔及び前記第2ガス孔が設けられている一方の面とが、それぞれ前記ロータの前記第1スリット及び前記第2スリットが設けられている面と摺接しており、前記第1ステータの前記第1ガス孔は、ガス入力源からガスが供給されるガス入力部と連通しており、前記第1ステータの前記第2ガス孔は、前記ガス入力部から供給されるガスを排出する第2のガス出力部と連通しており、前記第2ステータの前記第1ガス孔及び前記第2ガス孔は、前記ガス入力部から供給されるガスを排出する第1のガス出力部と連通しており、前記ロータの回転に従って、前記第1ステータ及び前記第2ステータの前記第1ガス孔が前記ロータの前記第1スリットと連通しつつ、該第1スリットと連通する該第1ガス孔の断面積を連続的に変化させると共に、前記第1ステータ及び前記第2ステータの前記第2ガス孔が前記ロータの前記第2スリットと連通する該第2ガス孔の断面積を、前記第1ガス孔の断面積と連動して連続的に変化させ、前記第1のガス出力部へ排出される第1のガス流量と前記第2のガス出力部へ排出される第2のガス流量とを変化させることにより、前記第1のガス出力部における圧力と前記第2のガス出力部における圧力との間に圧力差を生じさせると共に、該圧力差を制御することを特徴とする圧力可変制御装置を提供する。
【0009】
前記第1スリット及び前記第2スリットはそれぞれ、一端から他端に行くにつれて徐々に幅が狭くなるスリットであることが好ましい。
【0010】
前記第1ガス孔の大きさは、前記第2ガス孔の大きさよりも小さいことが好ましい。
【0011】
前記ロータを回転させていない初期状態において、前記第1ガス孔は、前記第1スリットと連通しておらず、前記第2ガス孔は、前記第2スリットと部分的に連通していることが好ましい。
【0012】
また本発明は、ガス入力源よりガスが供給されるガス入力部から、第1のガス出力部へ排出する第1のガス流量を、連続的に変化させると共に、前記ガス入力部から第2のガス出力部へ排出する第2のガス流量を、前記第1のガス流量と連動して連続的に変化させ、前記第1のガス流量と前記第2のガス流量とを変化させることにより、前記第1のガス出力部における圧力と前記第2のガス出力部における圧力との間に圧力差を生じさせると共に、該圧力差を制御することを特徴とする圧力可変制御方法を提供する。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明に係る圧力可変制御装置及び圧力可変制御方法の実施の形態を実施例に基づいて図面を参照して説明する。まず、本発明の原理について説明する。
【0014】
図1は、本発明の圧力可変制御装置9を含む原理的な模式図であり、この圧力可変制御装置9を用いて本発明の圧力可変制御方法により、圧力計の指示値を校正する原理について説明する。本発明の圧力可変制御装置9は、ガス入力部1と、第1のガス出力部3と、第2のガス出力部2と、第1のガス圧可変絞り弁4と、第2のガス圧可変絞り弁5と、を具備する。
【0015】
ガス入力部1には、ガス入力源Aから例えば空気や窒素等のガスが供給される。ガス入力源Aは、その内部で圧力が一定に保たれており、一定のガス流量を供給する圧力レギュレーターである。
【0016】
第1のガス出力部3は、ガス入力部1から圧力可変制御装置9内に供給されるガスを排出する。第1のガス出力部3には、指示値を校正すべき圧力計(差圧計)Bが繋がれる。また、第2のガス出力部2も、ガス入力部1から圧力可変制御装置9内に供給されるガスを排出する。第2のガス出力部2は、例えば大気中に開放されている。
【0017】
ガス入力部1と第1のガス出力部3との間には、第1のガス圧可変絞り弁4が設けられている。ガス入力部1から供給されたガスは、第1のガス圧可変絞り弁4を介して第1のガス流量となって圧力可変制御装置9内に流入し、第1のガス出力部3へ排出される。第1のガス出力部3へ排出されるガス流量により、第1のガス出力部3において圧力が発生する。この発生圧力を本明細書では校正圧力値と呼ぶ。
【0018】
ガス入力部1と第2のガス出力部2との間には、上述した第1のガス圧可変絞り弁4に加えて第2のガス圧可変絞り弁5が、さらに設けられている。ガス入力部1から供給されるガスは、第1のガス圧可変絞り弁4及び第2のガス圧可変絞り弁5を介して、第2のガス出力部2へ排出される。
【0019】
第2のガス出力部2は、先に述べたように、例えば大気中に開放されており、第2のガス出力部における圧力はほぼ大気圧に等しい。圧力計Bの指示値を校正するに際し、第2のガス出力部2における圧力が、後述する校正圧力値との差圧を計測する圧力の基準となるため、本明細書では第2のガス出力部2における圧力をリファレンス圧力値と呼ぶ。ここでは、リファレンス圧力値は大気圧である。
【0020】
なお、第1のガス出力部3において校正圧力値として計測される圧力は、図1に示す圧力可変制御装置9におけるガスの流通点6における圧力と同じである。
【0021】
第1のガス出力部3と第2のガス出力部2との間には、第1のガス出力部3における校正圧力値と第2のガス出力部2におけるリファレンス圧力値との差の圧力、つまり差圧を正確に測定するために、精密圧力計8が接続されている。
【0022】
圧力可変制御装置9を作動させていない初期状態において、第1のガス圧可変絞り弁4は閉じられており、第2のガス圧可変絞り弁5は開かれている。したがって、この初期状態において第1のガス出力部3にはガス圧可変絞り弁4を介してガス入力部1からのガスが排出されて来ておらず、第1のガス出力部3における圧力、つまり、校正圧力値は、第2のガス出力部2における圧力、つまり、リファレンス圧力値と同じ大気圧である。
【0023】
圧力可変制御装置9を作動させることにより、ガス入力部1から第1のガス圧可変絞り弁4を介して圧力可変制御装置9内に流入した第1のガス流量は、さらに、第2のガス圧絞り弁5を介することにより第2のガス流量として、第2のガス出力部2から排出される。これにより、第1のガス出力部3において排出されるガスの流量、即ち、第1のガス出力部3における発生圧力が調整される。つまり、第1のガス流量と第2のガス流量とをそれぞれ変化させることにより、第1のガス出力部3における発生圧力を制御して、この発生圧力(校正圧力値)と、第2のガス出力部2における圧力(リファレンス圧力値)との間に圧力差を生じさせる。
【0024】
第1のガス圧可変絞り弁4及び第2のガス圧可変絞り弁5を制御することにより、上記圧力差を生じさせて制御しながら、精密圧力計8により、リファレンス圧力値と校正圧力値との差圧を正確に計測しつつ、計測されたこの差圧を元にして、第2のガス出力部2に繋げられた圧力計(差圧計)Bの指示値を校正することができる。
【0025】
上記のような原理に基づいて圧力計Bの指示値を校正するにあたり、特にゼロ近傍の圧力範囲において圧力計Bの指示値を正確に校正するためには、第1のガス圧可変絞り弁4及び第2のガス圧可変絞り弁5を自由に制御(調整、コントロール)することが重要である。
【0026】
そこで、本発明では、第1のガス圧絞り弁4により、ガス入力部1から第1のガス出力部3へ排出する(向かう)ガスの流量(第1のガス流量)、言い換えれば第1のガス圧絞り弁4が排出するガスの流量を連続的に変化させる。このとき、第1のガス圧絞り弁4と第2のガス圧絞り弁5とが連動している(連動している状態を波線7で示す)。つまり、第2のガス圧絞り弁5は、第2のガス出力部2へ排出するガスの流量(第2のガス流量)を、第1のガス圧絞り弁4と連動して連続的に変化させる。
【0027】
具体的には、第1のガス圧絞り弁4が排出する第1のガス流量を連続的に増加させていく。これと共に、第2のガス圧絞り弁5は、第1のガス圧絞り弁4と連動して、排出する第2のガス流量を連続的に絞っていく(減少させていく)。すると、流通点6における圧力(つまり、第1のガス出力部3における発生圧力)が連続的に徐々に高圧に変化していく。このようにして、第1のガス出力部3における発生圧力、つまり校正圧力値と第2のガス出力部2における圧力、つまりリファレンス圧力値との間に圧力差を生じさせる。そして、この圧力差を第1のガス圧絞り弁4及び第2のガス圧絞り弁5により自由に制御することにより、この圧力差を自在に変化させるのである。
【0028】
(実施例)
本発明に係る圧力可変制御装置の構造について、以下の実施例に基づきさらに詳しく説明する。図2は、本発明の実施例に係る圧力可変制御装置10の模式的な側断面図であり、図3は、圧力可変制御装置10の部分的な基本構造を示す分解斜視図である。また、図4(a)は、ロータ12の模式的な上から見た平面図であり、図4(b)及び(c)は、ぞれぞれ圧力可変制御装置10の上から見た模式的な平面図、及び下から見た模式的な平面図である。
【0029】
圧力可変制御装置10は、中心軸11上に回転可能な円柱形状のロータ12と、共に中心軸11を同じにする円柱形状の第1ステータ13及び第2ステータ14と、を含んで構成される(備える)。これらのロータ12、第1ステータ13、及び、第2ステータ14は、ベース18内に収納されている。ベース18は、支柱17を介して地面16に設置されており、筐体の役割を有する。
【0030】
ロータ12は、第1ステータ13と第2ステータ14とで双方向から(本実施例では上下方向から)挟み込むように載置されている。そして、ロータ12、第1ステータ13、及び、第2ステータ14の中心軸11上にそれぞれ形成された、中心軸孔12e、13e、14eに軸心11aが嵌合されて、ベース18にナット11b、11cで固定されている。
【0031】
円柱形状のロータ12の高さh2は例えば5mmであり、ステンレスで形成される。ロータ12には第1スリット24及び第2スリット25が設けられている。第1スリット24及び第2スリット25はそれぞれ、図3に示されるように曲玉形状に類似した断面を有しており、略半円形状の一端24a、25aから他端24b、25bに行くにつれて幅が徐々に狭くなるスリットである。第1スリット24の大きさ(幅)は第2スリット25の大きさ(幅)よりも小さく形成されている。
【0032】
一方、第1ステータ13には第1ガス孔13a及び第2ガス孔13bが設けられており、同様に、第2ステータ14には第1ガス孔14a及び第2ガス孔14bが設けられている。第1ガス孔13a、14a及び第2ガス孔13b、14bの断面形状は例えば円形であり、第1ガス孔13a、14aの大きさ(断面の大きさ)は、第2ガス孔13b、14bの大きさ(断面の大きさ)よりも小さく形成されている。
【0033】
これは、以下の理由による。後述するように、第1ガス孔13a,14aには、ガス入力源Aから一定の圧力に保たれた高圧のガスが流入してくるため、ガスが排出される第2ガス孔13b、14bよりも通過率がよい一方、ガスが排出される第2ガス孔13b、14bでは、ガスの粘性を考慮して、第1ガス孔13a,14aの大きさを第2ガス孔13b、14bの大きさよりも小さく形成しているのである。
【0034】
なお、本実施例では第1ステータ13と第2ステータ14とは同一形状の円柱状に形成されており、その高さh1は例えば8mmであり、カーボングラファイトで形成される。
【0035】
第1ステータ13の第1ガス孔13a及び第2ガス孔13bが設けられている一方の面(第一面)13cと、第2ステータ14の第1ガス孔14a及び第2ガス孔14bが設けられている一方の面(第二面)14cとはそれぞれ、ロータ12の第1スリット24及び第2スリット25が設けられている面12d、12cと摺接している。
【0036】
上述したように、ロータ12と第1ステータ13及び第2ステータ14とは、図2に示すように、ベース18内に納められており、第1ステータ13の下面13d及び第2ステータ14の上面14dは、ベース18の内壁面18c、18dとそれぞれ接している。
【0037】
第1ステータ13の第1ガス孔13aは、ガス入力源Aから空気や窒素等のガスが供給されるガス入力部21と連通している。具体的には、第1ステータ13の第1ガス孔13aはベース18中を貫通して設けられるガス孔18aと連通しており、このガス孔18aの入り口がガス入力部21となっている。ガス入力部21が位置するベース18の下面18gには入力栓(ポート)21aが設けられている。
【0038】
第1ステータ13の第2ガス孔13bは、ガス入力部21から圧力可変制御装置10内へ流入したガスを排出する第2のガス出力部22と連通している。第2のガス出力部22は、例えば大気中に開放されている。この第2のガス圧力部22における圧力がリファレンス圧力値となり、本実施例の場合、リファレンス圧力値は大気圧に等しい。具体的には、第1ステータ13の第2ガス孔13bは、ベース18中を貫通して設けられるガス孔18bと連通しており、このガス孔18bの出口が第2のガス出力部22となっている。なお、第2のガス出力部22が位置するベース18の下面18gには出力栓(ポート)22aが設けられている。
【0039】
上述したようなベース18の下面18g方向、つまり、圧力可変制御装置10を下から見た模式図を図4(c)に示す。なお、図4(c)では、第1ステータ13、入力栓21aとガス入力源Aとを連通させる管31、及び、出力栓22aから開放先の大気中へ連通させる管32が、それぞれ点線で示されている。
【0040】
第2ステータ14の第1ガス孔14a及び第2ガス孔14bは、ガス入力部21から圧力可変制御装置10内へ供給されたガスを排出する第1のガス出力部23と連通している。この排出されたガスが第1のガス出力部23における発生圧力、つまり、校正圧力値となる。具体的には、第2ステータ14の第1ガス孔14a及び第2ガス孔14bは、ベース18中を貫通して設けられるガス孔18eと連通しており、このガス孔18eの出口が第1のガス出力部23となっている。第1のガス出力部23が位置するベース18の上面18fには出力栓(ポート)23aが設けられている。
【0041】
上述したようなベース18の上面18f方向から見た模式図、つまり、圧力可変制御装置10を上から見た模式図を図4(b)に示す。なお、図4(b)では、第2ステータ14、第1ガス孔14a及び第2ガス孔14bが合流して連通するガス孔18e、並びに、指示値を校正すべき圧力計Bに繋がれる連通管(管)33が出力栓23aから延びており、波線で示されている。
【0042】
一方、図3及び図4(a)に示されるように、ロータ12の側周部12g全体には歯車12fが設けられている。(なお、図4(a)では、歯車12fの一部のみを図示し、残りの歯車12fは二点鎖線で省略して図示している。)この歯車12fとかみ合うようにロータ12の側周部12eに接してウオーム15が設けられている。ウオーム15を回転させることにより、ロータ12の面12c、12dが第1ステータ13の第一面13c及び第2ステータ14の第二面14cとそれぞれ摺接しつつ、矢印gで示す方向(反時計回り)にロータ12が回転することができる。
【0043】
本発明の実施例に係る圧力可変制御装置10では、圧力可変制御装置10を作動させていない、即ち、ロータ12を回転させていない初期状態において、第1ガス孔13a、14aは第1スリット24と連通していない。一方で、第2ガス孔13b、14bは、第2スリット25と部分的に連通している。この状態をイメージしやすくするため図4(a)を参照しつつ、さらに説明する。
【0044】
図4(a)には、初期状態におけるロータ12を上から模式的に見た平面図が示されている。この図4(a)に示すように、ロータ12の面12cと摺接している、第2ステータ14の第1ガス孔14aの断面34a及び第2ガス孔14bの断面34bが、点線の円で示されている。第1ガス孔14aの断面34aは、第1スリット24の他端24b付近に位置し、ロータ12の面12cと接しているが、第1スリット24と交わっておらず、すなわち、第1ガス孔14aは第1スリット24と連通していない。同様に、第1ステータ13の第1ガス孔13aも、初期状態においては、第1スリット24と連通していない。なお、第1ガス孔13a、14aが、第2スリット25と連通していないことはいうまでもない。
【0045】
第1ガス孔13a,14aが第1スリット24と連通していないのは以下の理由による。第1ガス孔13a、14aには、ガス入力源Aから一定の圧力に保たれた高圧のガスが流入してくるので、初期状態においてはこれらの第1ガス孔13a,14aを第1スリット24と連通させずに閉じた状態にしておくためである。これにより、高圧ガスがいきなり圧力可変制御装置10内に流入してくる危険を防止することができる。
【0046】
一方、第2ガス孔14bの断面34bの一部は、ロータ12の面12cと接しており、かつ、第2スリット25の一端25aと交わっている。すなわち、第2ガス孔14bは第2スリット25と部分的に連通している。同様に、第1ステータ13の第2ガス孔13bも、初期状態において、第2スリット25と部分的に連通している。
【0047】
これは、以下の理由による。圧力計Bの指示値の校正を行うに当たり、初期状態においては、第2ガス孔13b、14bを第2スリット25と部分的に連通させることにより、第1のガス出力部23と第2のガス出力部22との間の圧力差をゼロにしておくためである。
【0048】
本発明の特徴では、上記の初期状態からロータ12が回転するに従って、第1ステータ13及び第2ステータ14の第1ガス孔13a、14aがロータ12の第1スリット24と連通する、つまり、上述した第1ガス孔13a、14aの断面が第1スリット24と交わる断面積(第1の断面積)が連続的に徐々に変化する。さらに、この第1の断面積の変化と共に、第1ステータ13及び第2ステータ14の第2ガス孔13b、14bがロータ12の第2スリット25と連通する、つまり、第2ガス孔13b、14bの断面が第2スリット25と交わる断面積(第2の断面積)が、第1の断面積と連動して連続的に徐々に変化する。
【0049】
さらに具体的に説明すると、図4(a)に示されるロータ12が回転していない初期状態からロータ12を矢印gで示す方向に回転させると、第1ガス孔14aの断面34aは、ロータ12の面12cと摺接しつつ、第1スリット24の他端24bから徐々に幅広になっていく第1スリット24と摺動し、上記第1の断面積は連続的に徐々に増加していく。なお、第1ガス孔13aについても第1ガス孔14aと同様に作用する。このため、第1ガス孔14a、13aが第1スリット24と連通してガス入力部21から流入(供給)されて第1のガス出力部23へ排出されるガス流量(第1のガス流量)が連続的に徐々に増加し、第1のガス出力部23におけるガスの発生圧力、つまり校正圧力値が連続的に高くなっていく。
【0050】
それと同時に、第2スリット25の半円状の一端25aと部分的に交わっていた(連通していた)第2ガス孔14bの断面34bは、徐々に幅が狭くなっていく第2スリット25と摺動し、上記第2の断面積は、上記第1の断面積と連動して連続的に徐々に減少していく。なお、第2ガス孔13bについても第2ガス孔14bと同様に作用する。このため、第2ガス孔14b、13bが第2スリット25と連通し、上記第1のガス流量が流入しているガス孔18eから第2のガス出力部22へ排出されるガス流量(第2のガス流量)が連続的に徐々に減少しつつ、第2のガス出力部22から大気中へ開放される。
【0051】
圧力可変制御装置10内に流入して第1のガス出力部23から排出される第1のガス流量が徐々に増加していく一方で、第2のガス出力部22から排出される第2のガス流量が徐々に減少していくので、第1のガス出力部23における発生圧力が徐々に生じていく。つまり校正圧力値と、第2のガス出力部22における圧力、つまりリファレンス圧力値との間に、圧力差が生じる。
【0052】
上記のようにして、第1のガス流量と第2のガス流量とを変化させることにより、第1のガス出力部23におけるガスの発生圧力(校正圧力値)と第2のガス出力部22におけるガスの圧力(リファレンス圧力値)との間に圧力差を生じさせると共に、ロータ12の回転を調整することにより、この圧力差を制御することができる。
【0053】
このように、第1ステータ13の第1ガス孔13a及び第2ステータ14の第1ガス孔14a、並びにロータ12の第1スリット24は、本発明の原理で説明した第1のガス圧可変絞り弁4(図1参照)の役割を有する。そして、第1ステータ13の第2ガス孔13b及び第2ステータ14の第2ガス孔14b、並びにロータ12の第2スリット25は、本発明の原理で説明した第2のガス圧可変絞り弁5(図1参照)の役割を有する。
【0054】
本実施例の圧力可変制御装置10により、第1のガス流量を増加させていくのと同時に、第2のガス流量を減少させていくので、圧力の可変範囲を従来に比べて広げることができる。すなわち、従来の、圧力を発生させる第1のガス圧力可変絞り弁及び第2のガス圧可変絞り弁は、それぞれ独立して別々に制御(半固定状態で制御)されていたため、これに対応して圧力の可変範囲も限られていた。このような従来の場合と比べて、本実施例の圧力可変制御装置10では圧力変動の調整できる範囲(圧力の可変範囲)を大幅に広げることができる。
【0055】
また、ロータ12を回転させるという一度の操作で、発生する圧力の制御を行うことができると共に、連続的に圧力を変化させることにより、微妙な圧力の制御を実現することができ、容易に圧力の制御(コントロール)を行うことができる。
【0056】
以上により、大気圧近傍等の、従来、圧力調整が不能とされていた圧力範囲の圧力制御もスムーズに行うことができる。
【0057】
なお、上述した本発明の原理や本実施例では、第2のガス出力部2、22を大気中に開放し、第2のガス出力部2、22におけるリファレンス圧力値は大気圧に等しいこととしている。しかし、リファレンス圧力値は大気圧には必ずしも限られず、大気圧よりも高い、又は低い圧力をリファレンス圧力値とすることもできる。
【0058】
また、本発明の原理や実施例では、ガス入力源Aからガス入力部1、21にガスを流入させる場合について説明した。しかし、「ガス入力源からガス入力部へガスが供給される」という本明細書中の文言の意味には、ガス入力源から所定の圧力のガスをガス入力部へ流入させる場合のみならず、ガス入力源として真空ポンプ等を用いてガス入力部からガスを吸引していく(マイナスのガスを供給する)場合も含まれる。真空ポンプ等によりガスを吸引していく場合には、第1のガス出力部における校正圧力値として、絶対圧(真空状態を基準としたときの圧力)が計測される。
【0059】
(作用)
次に、図2から図4を参照しつつ本実施例の作用について説明する。ロータ12を回転させていない初期状態では、第1ガス孔13a、14aは第1スリット24と連通していない閉じられた状態であり、第1のガス出力部23における圧力と第2のガス出力部22における圧力との圧力差はゼロである(ゼロに近い)。この初期状態から、ウオーム15を例えば手動により回転させてロータ12を矢印gで示す方向(反時計回り)に回転させていく。すると、ロータ12の面12d及び第1ステータ13の面13c、並びに、ロータ12の面12d及び第2ステータ13の面14cがぞれぞれ摺動する。そして、上述した第1の断面積が徐々に増加して、第1ステータ13及び第2ステータ14の第1ガス孔13a、14aとロータ12の第1スリット24とが連通する割合が増加していく。つまり、ガス入力源Aからガス入力部21を介して第1のガス出力部23へ排出される第1のガス流量は連続的に増加していく。
【0060】
これと同時に、上述した第2の断面積は徐々に減少して、第1ステータ13及び第2ステータ14の第2ガス孔13b、14bとロータ12の第2スリット25とが連通する割合が減少していく。つまり、ガス入力部21からガス孔18eを介して第2のガス出力部22へ排出される第2のガス流量が連続的に減少していく。第2のガス出力部22は大気中に開放されており、第2のガス出力部における圧力は、常にほぼ大気圧に等しい。
【0061】
したがって、ガス入力部21から流入する第1のガス流量と第2のガス出力部22へ排出される第2のガス流量との差により、圧力差が生じ、第1のガス出力部23における圧力(発生圧力)が高くなっていく。第1のガス流量が最大となると共に第2のガス流量が最小となるとき、第1のガス出力部23における圧力が最も高くなる。
【0062】
上記のようにしてロータ12を回転させることにより、第1のガス出力部23における発生圧力、つまり校正圧力値と、第2のガス出力部22における圧力、つまりリファレンス圧力値との間で生じる圧力差が制御される。
【0063】
(適用例)
上述した本実施例の圧力可変制御装置9、10の適用例を図5に示す。図5には、圧力可変制御装置9、10を用いて圧力計の指示値の校正を行う様子が示されている。風洞実験や屋外での構造物に働く風圧力を計測する場合等において、複数の圧力計(風圧計、風圧センサ、差圧計)51を地面55上に建っている構造物53に取り付ける。具体的には、複数の圧力計51は、その各々全てがパイプ(管)52を介してビル等の構造物53の壁面52aに設けられた穴53bに取り付けられている。複数の圧力計51は、例えば矢印kで示される方向の風荷重により構造物53が受ける風圧力(風荷重)を計測するものである。
【0064】
圧力計51の各々は、切換装置54を介して圧力可変制御装置9、10の第1のガス出力部3、23と繋がれている。切換装置54により、複数の圧力計51のうち、今、指示値を校正したい圧力計Bと第1のガス出力部3、23とが連通するようにパイプ(管)54aが切り替えられる。なお、図5では、複数の圧力計51、パイプ(管)52、及び切換装置54のパイプ54aそれぞれの一部のみが図示され、他の圧力計やパイプの図示を省略し、又は、…で表している。
【0065】
一方、第2のガス出力部2、22から延びる管32の先端32aは、本適用例では、風荷重を受ける風圧の下56に開放されている。したがって、この場合の第2のガス出力部2、22におけるリファレンス圧力は、大気圧よりも高い所定の圧力となる。
【0066】
圧力計Bで風圧力を計測する一方で、圧力計Bの指示値を校正したい場合、切換装置4により圧力計Bと圧力可変制御装置9、10とを連通させる。その後、圧力可変制御装置9、10の第1のガス圧可変絞り弁4及び第2のガス圧可変絞り弁5(圧力可変制御装置10のロータ12、第1ステータ13、及び第2ステータ14(図2参照))により、圧力を制御する。このように、圧力可変制御装置9、10により圧力制御を行いつつ、精密圧力計8で計測される、第2のガス出力部2、22と第1のガス出力部3、23との間の差圧に合わせて、第1のガス出力部3,23と連通している圧力計Bの指示値を校正する。
【0067】
切換装置54により圧力計Bから指示値を校正したい他の圧力計に切り替え、複数の圧力計51について、すべて同様に指示値の校正を行う。
【0068】
なお、すでに述べた発明の原理や本適用例では、圧力計Bの指示値の校正に際し、精密圧力計8により、校正圧力値とリファレンス圧力値との間の圧力差である差圧を計測したが、差圧以外に、校正圧力値として絶対圧や、ゲージ圧(大気圧を基準としたときの圧力)を計測することもできる。
【0069】
以上、本発明に係る圧力可変制御装置及び圧力可変制御方法の実施形態を実施例に基づいて説明したが、本発明は特にこのような実施例に限定されることなく、特許請求の範囲記載の技術的事項の範囲内でいろいろな実施例があることはいうまでもない。
【0070】
【発明の効果】
以上の構成から成る本発明によると、広範な可変範囲において微妙に圧力を変化させることができ、どのような圧力範囲においても、一度の操作で容易かつ正確に圧力のコントロールが行え、ひいては、圧力計の指示値を正確に校正することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の圧力可変制御装置を含む原理的な模式図である。
【図2】本発明の実施例に係る圧力可変制御装置の模式的な側断面図である。
【図3】本実施例の圧力可変制御装置の部分的な基本構造を示す分解斜視図である。
【図4】図4(a)は、ロータの模式的な上から見た平面図であり、図4(b)は圧力可変制御装置の上から見た模式的な平面図、図4(c)は圧力可変制御装置の下から見た模式的な平面図である。
【図5】本実施例の圧力可変制御装置の適用例を示す模式図である。
【符号の説明】
1、21 ガス入力部
2、22 第2のガス出力部
3、23 第1のガス出力部
4 第1のガス圧可変絞り弁
5 第2のガス圧可変絞り弁
6 流通点
10 圧力可変制御装置
11 中心軸
11a 軸心
11b、11c ナット
12 ロータ
12c、12d、13c、14c 面
12e、13e,14e 中心軸孔
12f 歯車
12g 側周部
13 第1ステータ
13a、14a 第1ガス孔
13b、14b 第2ガス孔
13d 下面
13c 第一面
14 第2ステータ
14c 第二面
14d、18f 上面
15 ウオーム
16 地面
17 支柱
18 ベース
18a、18b、18e ガス孔
18c、18d 内壁面
21a 入力栓(ポート)
22a、23a 出力栓(ポート)
24 第1スリット
24a、25a 一端
24b、25b 他端
25 第2スリット
31、32、33、52、54a 管
32a 先端
34a、34b 断面
51 複数の圧力計(差圧計)
52a 壁面
53 構造物
54 切換装置
55 地面
56 風圧の下[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a variable pressure control device used in a technical field for calibrating an indicated value of a pressure gauge and a variable pressure control method using the variable pressure control device.
[0002]
[Prior art]
One of the major disaster factors for buildings such as buildings is a strong wind such as a typhoon. In particular, in order to ensure the wind resistance of buildings such as high-rise buildings, it is necessary to accurately evaluate the wind load during strong winds. For this reason, wind tunnel tests were conducted with wind pressure gauges (pressure gauges and wind pressure sensors) that measure wind pressure (wind load) mounted on the walls of buildings and other structures to predict the wind pressure on the structures and the effect of the building wind on the surroundings. Is also often done. As described above, in order to accurately measure the wind load acting on an object such as a structure with a wind pressure gauge (wind pressure sensor), it is necessary to accurately calibrate the indicated value of the wind pressure gauge (wind pressure sensor).
[0003]
By the way, with respect to the prior art in which the pressure gauge was calibrated, a process gas was introduced by opening and closing a variable flow rate valve and a separation valve, and the indicated value of the pressure gauge when the pressure inside the processing chamber was constant was obtained. 2. Description of the Related Art A semiconductor manufacturing apparatus for calibrating an indicated value of a standard pressure gauge is disclosed (for example, see Patent Document 1).
[0004]
[Patent Document 1]
JP 2002-280362 A (
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the related art, it is difficult to freely control the pressure in a pressure range to be adjusted for calibrating the pressure gauge, for example, particularly in a pressure range near the atmospheric pressure (zero pressure value). In the vicinity, the reading of the pressure gauge cannot be calibrated accurately. Further, in order to accurately calibrate the indicated value of the pressure gauge in a desired pressure range, it is required to freely control the pressure in a pressure range as wide as possible.
[0006]
In view of the above, the present invention has a wide variable range, can change the pressure delicately, can easily and accurately control the pressure with a single operation in any pressure range, and further, It is an object of the present invention to realize a variable pressure control device capable of accurately calibrating an indicated value of a meter and a variable pressure control method using the variable pressure control device.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, the present invention provides a gas input unit to which gas is supplied from a gas input source, a first gas output unit to discharge gas supplied from the gas input unit, A second gas output section for discharging the supplied gas, a first gas pressure variable throttle valve for continuously changing a first gas flow rate discharged from the gas input section to the first gas output section, A second gas pressure variable throttle valve that continuously changes a second gas flow discharged from the gas input unit to the second gas output unit in conjunction with the first gas pressure variable throttle valve; By changing the first gas flow rate and the second gas flow rate by the first and second gas pressure variable throttle valves, the pressure at the first gas output section and the pressure at the first gas output section are changed. When a pressure difference is generated between the second gas output portion and the pressure at the second gas output portion, To provide a variable pressure control apparatus characterized by controlling the pressure difference.
[0008]
The present invention also provides a rotor provided with a first slit and a second slit and rotatable on a central axis, and a rotor having the same central axis and having both a first gas hole and a second gas hole. A first stator and a second stator, wherein the rotor is mounted so as to be sandwiched between the first stator and the second stator in both directions, and the first gas hole and the second gas of the first stator are provided. The one surface provided with the holes and the one surface provided with the first gas holes and the second gas holes of the second stator respectively correspond to the first slit and the second gas holes of the rotor. The first gas hole of the first stator is in slidable contact with a surface provided with a slit, and the first gas hole of the first stator communicates with a gas input unit to which gas is supplied from a gas input source. 2 gas holes from the gas input section The first gas hole and the second gas hole of the second stator communicate with a second gas output unit that discharges the supplied gas, and the second gas output unit discharges a gas that is supplied from the gas input unit. And the first gas holes of the first stator and the second stator communicate with the first slit of the rotor while the first slit is in communication with the first slit of the rotor in accordance with the rotation of the rotor. The cross-sectional area of the communicating first gas hole is continuously changed, and the second gas hole of the first stator and the second stator communicates with the second slit of the rotor. The cross-sectional area is continuously changed in conjunction with the cross-sectional area of the first gas hole, and the first gas flow discharged to the first gas output and the second gas output are discharged to the second gas output. By changing the second gas flow rate, Together creating a pressure difference between the pressure in the pressure and the second gas output unit in the first gas output portion, to provide a pressure variable control apparatus characterized by controlling the pressure difference.
[0009]
It is preferable that each of the first slit and the second slit is a slit whose width gradually decreases from one end to the other end.
[0010]
Preferably, the size of the first gas hole is smaller than the size of the second gas hole.
[0011]
In an initial state in which the rotor is not rotated, the first gas hole is not in communication with the first slit, and the second gas hole is in partial communication with the second slit. preferable.
[0012]
In addition, the present invention continuously changes the first gas flow rate discharged from the gas input portion to which the gas is supplied from the gas input source to the first gas output portion, and performs the second gas flow from the gas input portion. By continuously changing a second gas flow rate discharged to a gas output unit in conjunction with the first gas flow rate, and changing the first gas flow rate and the second gas flow rate, There is provided a variable pressure control method, wherein a pressure difference is generated between a pressure at a first gas output section and a pressure at the second gas output section, and the pressure difference is controlled.
[0013]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Embodiments of a variable pressure control device and a variable pressure control method according to the present invention will be described based on examples with reference to the drawings. First, the principle of the present invention will be described.
[0014]
FIG. 1 is a schematic diagram showing the principle including the variable
[0015]
The
[0016]
The first
[0017]
A first gas pressure variable throttle valve 4 is provided between the
[0018]
Between the
[0019]
As described above, the second
[0020]
The pressure measured as the calibration pressure value in the first
[0021]
Between the first
[0022]
In an initial state in which the variable
[0023]
By operating the variable
[0024]
By controlling the first gas pressure variable throttle valve 4 and the second gas pressure variable throttle valve 5 to generate and control the pressure difference, the precision pressure gauge 8 controls the reference pressure value and the calibration pressure value. Can be calibrated based on the measured differential pressure while the pressure gauge (differential pressure gauge) B connected to the second
[0025]
In calibrating the indicated value of the pressure gauge B based on the principle described above, in order to accurately calibrate the indicated value of the pressure gauge B particularly in a pressure range near zero, the first gas pressure variable throttle valve 4 is required. It is important to freely control (adjust and control) the second gas pressure variable throttle valve 5.
[0026]
Therefore, in the present invention, the first gas pressure restrictor valve 4 causes the flow rate (first gas flow rate) of the gas discharged (going) from the
[0027]
Specifically, the first gas flow rate discharged from the first gas pressure throttle valve 4 is continuously increased. At the same time, the second gas pressure throttle valve 5 continuously reduces (decreases) the flow rate of the second gas to be discharged in conjunction with the first gas pressure throttle valve 4. Then, the pressure at the circulation point 6 (that is, the pressure generated at the first gas output unit 3) continuously and gradually changes to a high pressure. In this way, a pressure difference is generated between the generated pressure at the first
[0028]
(Example)
The structure of the variable pressure control device according to the present invention will be described in more detail based on the following embodiments. FIG. 2 is a schematic side sectional view of the variable
[0029]
The variable
[0030]
The
[0031]
The height h2 of the
[0032]
On the other hand, the
[0033]
This is for the following reason. As described later, since a high-pressure gas maintained at a constant pressure flows from the gas input source A into the
[0034]
In the present embodiment, the
[0035]
One surface (first surface) 13c of the
[0036]
As described above, the
[0037]
The
[0038]
The
[0039]
FIG. 4C is a schematic view of the
[0040]
The
[0041]
FIG. 4B is a schematic view of the base 18 as viewed from the
[0042]
On the other hand, as shown in FIGS. 3 and 4A, a
[0043]
In the variable
[0044]
FIG. 4A is a plan view schematically showing the
[0045]
The reason why the
[0046]
On the other hand, a part of the
[0047]
This is for the following reason. In calibrating the indicated value of the pressure gauge B, in the initial state, the
[0048]
According to a feature of the present invention, as the
[0049]
More specifically, when the
[0050]
At the same time, the
[0051]
The first gas flow that flows into the variable
[0052]
By changing the first gas flow rate and the second gas flow rate as described above, the gas generation pressure (calibration pressure value) at the first
[0053]
As described above, the
[0054]
Since the first gas flow rate is increased and the second gas flow rate is decreased at the same time by the variable
[0055]
Further, the generated pressure can be controlled by a single operation of rotating the
[0056]
As described above, it is possible to smoothly perform pressure control in a pressure range such as the vicinity of the atmospheric pressure where the pressure adjustment has been conventionally impossible.
[0057]
In the above-described principle of the present invention and the present embodiment, the second
[0058]
Further, in the principle and the embodiment of the present invention, the case where the gas flows from the gas input source A to the
[0059]
(Action)
Next, the operation of the present embodiment will be described with reference to FIGS. In an initial state in which the
[0060]
At the same time, the above-mentioned second cross-sectional area gradually decreases, and the ratio of the communication between the
[0061]
Therefore, a pressure difference occurs due to a difference between the first gas flow rate flowing from the
[0062]
By rotating the
[0063]
(Application example)
FIG. 5 shows an application example of the above-described variable
[0064]
Each of the pressure gauges 51 is connected to the first
[0065]
On the other hand, the
[0066]
When it is desired to calibrate the indicated value of the pressure gauge B while measuring the wind pressure with the pressure gauge B, the pressure gauge B and the variable
[0067]
The pressure gauge B is switched to another pressure gauge whose calibration value is desired to be calibrated by the switching
[0068]
In the principle of the invention described above and in this application example, the differential pressure, which is the pressure difference between the calibration pressure value and the reference pressure value, was measured by the precision pressure gauge 8 when calibrating the indicated value of the pressure gauge B. However, in addition to the differential pressure, it is also possible to measure an absolute pressure or a gauge pressure (a pressure based on the atmospheric pressure) as a calibration pressure value.
[0069]
As described above, the embodiments of the variable pressure control device and the variable pressure control method according to the present invention have been described based on the examples. However, the present invention is not particularly limited to such examples, and the present invention is not limited thereto. It goes without saying that there are various embodiments within the scope of technical matters.
[0070]
【The invention's effect】
According to the present invention having the above configuration, the pressure can be finely changed in a wide variable range, and the pressure can be easily and accurately controlled by a single operation in any pressure range. The meter reading can be calibrated accurately.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic diagram showing the principle of a variable pressure control device according to the present invention.
FIG. 2 is a schematic side sectional view of the variable pressure control device according to the embodiment of the present invention.
FIG. 3 is an exploded perspective view showing a partial basic structure of the variable pressure control device of the present embodiment.
FIG. 4A is a schematic plan view of a rotor viewed from above, FIG. 4B is a schematic plan view of a variable pressure control device viewed from above, and FIG. 2) is a schematic plan view seen from below the variable pressure control device.
FIG. 5 is a schematic diagram showing an application example of the variable pressure control device of the present embodiment.
[Explanation of symbols]
1,21 Gas input unit
2, 22 Second gas output unit
3, 23 First gas output unit
4 First variable gas pressure throttle valve
5. Second gas pressure variable throttle valve
6 distribution points
10 Variable pressure control device
11 center axis
11a shaft center
11b, 11c Nut
12 rotor
12c, 12d, 13c, 14c surface
12e, 13e, 14e Central shaft hole
12f gear
12g side circumference
13 1st stator
13a, 14a First gas hole
13b, 14b 2nd gas hole
13d bottom surface
13c Front
14 Second stator
14c second side
14d, 18f top surface
15 worms
16 ground
17 props
18 Base
18a, 18b, 18e Gas hole
18c, 18d inner wall surface
21a Input plug (port)
22a, 23a Output plug (port)
24 1st slit
24a, 25a One end
24b, 25b The other end
25 Second slit
31, 32, 33, 52, 54a tube
32a tip
34a, 34b cross section
51 Multiple pressure gauges (differential pressure gauges)
52a wall
53 structures
54 Switching device
55 ground
56 under wind pressure
Claims (6)
前記ガス入力部から供給されるガスを排出する第1のガス出力部と、
前記ガス入力部から供給されるガスを排出する第2のガス出力部と、
前記ガス入力部から前記第1のガス出力部へ排出する第1のガス流量を連続的に変化させる第1のガス圧可変絞り弁と、
前記ガス入力部から前記第2のガス出力部へ排出する第2のガス流量を、前記第1のガス圧可変絞り弁と連動して連続的に変化させる第2のガス圧可変絞り弁と、を具備し、
前記第1及び第2のガス圧可変絞り弁により、前記第1のガス流量と前記第2のガス流量とを変化させることにより、前記第1のガス出力部における圧力と前記第2のガス出力部における圧力との間に圧力差を生じさせると共に、該圧力差を制御することを特徴とする圧力可変制御装置。A gas input section to which gas is supplied from a gas input source;
A first gas output unit for discharging gas supplied from the gas input unit;
A second gas output unit for discharging gas supplied from the gas input unit;
A first gas pressure variable throttle valve for continuously changing a first gas flow rate discharged from the gas input unit to the first gas output unit;
A second gas pressure variable throttle valve that continuously changes a second gas flow discharged from the gas input unit to the second gas output unit in conjunction with the first gas pressure variable throttle valve; With
By changing the first gas flow rate and the second gas flow rate by the first and second gas pressure variable throttle valves, the pressure in the first gas output section and the second gas output A pressure difference between the pressure and the pressure in the section, and controlling the pressure difference.
前記中心軸を同じにして、第1ガス孔及び第2ガス孔が共に設けられた第1ステータ及び第2ステータと、を備え、
前記ロータは前記第1ステータと第2ステータとで双方向から挟み込むように載置されて、前記第1ステータの前記第1ガス孔及び前記第2ガス孔が設けられている一方の面と、前記第2ステータの前記第1ガス孔及び前記第2ガス孔が設けられている一方の面とが、それぞれ前記ロータの前記第1スリット及び前記第2スリットが設けられている面と摺接しており、
前記第1ステータの前記第1ガス孔は、ガス入力源からガスが供給されるガス入力部と連通しており、前記第1ステータの前記第2ガス孔は、前記ガス入力部から供給されるガスを排出する第2のガス出力部と連通しており、前記第2ステータの前記第1ガス孔及び前記第2ガス孔は、前記ガス入力部から供給されるガスを排出する第1のガス出力部と連通しており、
前記ロータの回転に従って、前記第1ステータ及び前記第2ステータの前記第1ガス孔が前記ロータの前記第1スリットと連通しつつ、該第1スリットと連通する該第1ガス孔の断面積を連続的に変化させると共に、前記第1ステータ及び前記第2ステータの前記第2ガス孔が前記ロータの前記第2スリットと連通する該第2ガス孔の断面積を、前記第1ガス孔の断面積と連動して連続的に変化させ、
前記第1のガス出力部へ排出される第1のガス流量と前記第2のガス出力部へ排出される第2のガス流量とを変化させることにより、前記第1のガス出力部における圧力と前記第2のガス出力部における圧力との間に圧力差を生じさせると共に、該圧力差を制御することを特徴とする圧力可変制御装置。A rotor provided with a first slit and a second slit and rotatable on a central axis;
A first stator and a second stator having the same central axis and having both a first gas hole and a second gas hole;
The rotor is mounted so as to be sandwiched between the first stator and the second stator in both directions, and one surface of the first stator where the first gas hole and the second gas hole are provided; One surface of the second stator where the first gas hole and the second gas hole are provided is in sliding contact with the surface of the rotor where the first slit and the second slit are provided, respectively. Yes,
The first gas hole of the first stator is in communication with a gas input unit to which gas is supplied from a gas input source, and the second gas hole of the first stator is supplied from the gas input unit. The first gas hole and the second gas hole of the second stator are in communication with a second gas output portion that discharges gas, and the first gas hole and the second gas hole of the second stator discharge gas that is supplied from the gas input portion. It communicates with the output unit,
According to the rotation of the rotor, the first gas holes of the first stator and the second stator communicate with the first slit of the rotor, and the cross-sectional area of the first gas hole communicating with the first slit is changed. While changing continuously, the cross-sectional area of the second gas hole in which the second gas hole of the first stator and the second stator communicates with the second slit of the rotor is changed. It changes continuously in conjunction with the area,
By changing the first gas flow rate discharged to the first gas output section and the second gas flow rate discharged to the second gas output section, the pressure at the first gas output section is changed. A pressure difference between the pressure at the second gas output portion and the pressure at the second gas output portion, and the pressure difference is controlled.
前記第1のガス流量と前記第2のガス流量とを変化させることにより、前記第1のガス出力部における圧力と前記第2のガス出力部における圧力との間に圧力差を生じさせると共に、該圧力差を制御することを特徴とする圧力可変制御方法。A first gas flow rate discharged from a gas input section to which a gas is supplied from a gas input source to a first gas output section is continuously changed, and the first gas flow rate is discharged from the gas input section to a second gas output section. The second gas flow rate to be continuously changed in conjunction with the first gas flow rate,
By changing the first gas flow rate and the second gas flow rate, a pressure difference is generated between the pressure at the first gas output section and the pressure at the second gas output section, A variable pressure control method comprising controlling the pressure difference.
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- 2003-04-10 JP JP2003106429A patent/JP2004309421A/en active Pending
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KR100980236B1 (en) * | 2007-03-16 | 2010-09-09 | 가부시끼가이샤 도시바 | Gas Supply Unit |
CN103091037A (en) * | 2011-10-27 | 2013-05-08 | 上海宝钢设备检修有限公司 | On-line verifying device of pneumatic wide-range pressure transmitter |
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