JP2004302459A - 光モジュール - Google Patents

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康 藤村
Manabu Shiozaki
学 塩▲崎▼
Yoshihisa Shinya
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Abstract

【課題】光ファイバと半導体受光素子との光結合のトレランスを大きくできる構造の光モジュールを提供する。
【解決手段】光モジュール1において、搭載部材3は、第1および第2の領域3a、3bを有する。第1および第2の領域3a、3bは、所定の軸Axに沿って配列されている。光ファイバは、搭載部材3の第1の領域3aに搭載されている。半導体受光素子7は、搭載部材3の第2の領域3bに搭載されており、モノリシックレンズ7aを有する。この光モジュール1では、半導体受光素子7はモノリシックレンズ7aを介して光ファイバ5に光学的に結合されている。半導体受光素子5の厚みTは、モノリシックレンズ7aの位置において250マイクロメートル以下である。
【選択図】 図1

Description

本発明は、光モジュールに関する。
従来の光受信モジュールには、以下の2つのタイプが考えられる。その1つタイプは、導波路型の半導体受光素子を用いる光受信モジュールであり、他方のタイプは、面受光型の半導体受光素子を用いる光受信モジュールである。
前者のタイプでは、光ファイバ、および導波路型半導体受光素子が一直線上に配置される。このタイプでは、その性能が光ファイバと導波路型受光素子との調芯に敏感であり、このため、この両者の位置決めを高精度で行う必要がある。後者のタイプでは、光ファイバの端面は、面受光型半導体受光素子の受光面と光学的に結合される。この形態では、面受光型半導体受光素子の光検出面は、光ファイバの一端からの光を受ける。この受光素子は、他の電子素子とボンディングワイヤを介して接続できるように、該他の電子素子と同じ搭載面上に配置されている。その結果、光信号が進む方向と、電気信号が進む方向と一致していない。
特許文献1には、光モジュールが記載されている。光通信モジュールは、パッシブアライメントにより光学的な調芯できる構造を有する。
特開2002−64212号公報
特許文献1に記載された光モジュールでは、光ファイバ搭載基板に光ファイバ及び半導体受光素子が搭載されている。高い伝送レートの光信号を受ける光モジュールを開発するために、半導体受光素子の受光領域を小さくする必要がある。しかしながら、半導体受光素子の受光領域が小さくなると、光ファイバと半導体受光素子とをより高精度に調芯することが求められる。アクティブアライメント技術を用いて、レンズホルダ、フェルール、フェルールホルダといった部品を組み立てて光通信モジュールを作製する場合、例えば、上記の部品の線膨張係数、YAG溶接のパワーについて技術的な検討を必要とする。一方、パッシブアライメント技術を用いて光通信モジュールを作製する場合、光ファイバの調芯を行わなくても光結合が得られるように、実装精度を高めるか、十分な結合トレランスを確保するか、どちらかが必要となる。しかし、実装精度を高めるためには高精度で高価な設備を必要とし、現実的に難しい。故に、パッシブアライメント構造の光モジュールにおいては、光ファイバと半導体受光素子との光結合のトレランスを大きくすることが求められる。
そこで、本発明の目的は、光ファイバと半導体受光素子との光結合のトレランスを大きくできる構造の光モジュールを提供することとしている。
本発明の一側面によれば、光モジュールは、(a)所定の軸に沿って配列された第1および第2の領域を有する搭載部材と、(b)搭載部材の第1の領域に搭載された光ファイバと、(c)搭載部材の第2の領域に搭載されておりモノリシックレンズを有する半導体受光素子とを備え、半導体受光素子はモノリシックレンズを介して光ファイバに光学的に結合されており、半導体受光素子の厚みは、モノリシックレンズの位置において250マイクロメートル以下である。
この光モジュールでは、モノリシックレンズの位置において半導体受光素子の厚みが250マイクロメートル以下であるので、受光領域とモノリシックレンズとの距離を小さくすることにより光ファイバと半導体受光素子との光結合のトレランスを大きくできる。
本発明の光モジュールでは、モノリシックレンズの曲率の半径は、50マイクロメートル以上150マイクロメートル以下であるようにしてもよい。レンズ曲率を小さくすることにより、光ファイバからの光が、モノリシックレンズに近づけて配置された受光領域に入射する。
本発明の光モジュールでは、半導体受光素子の受光領域の面積は、177平方マイクロメートル以下であるようにしてもよい。受光領域の面積をより小さくすれば、半導体接合に起因するキャパシタンスを小さくできる。故に、光モジュールはより高い伝送レートの光信号に応答することができる。
本発明の光モジュールでは、光ファイバの一端は、実質的なコリメート光を出射するように設けられているようにしてもよい。光ファイバからの光の広がりが小さいと、光ファイバと半導体受光素子と間の光結合のトレランスを大きくできる。
本発明の光モジュールでは、光ファイバは、一端を含む第1の部分と第2の部分とを有しており、第1の部分はTECファイバから構成されるようにしてもよい。また、本発明の光モジュールでは、光ファイバは、一端を含む第1の部分と第2の部分とを有しており、第1の部分はGIファイバから構成されるようにしてもよい。光ファイバの一端部のTECファイバ及びGIファイバから出射される光は、シングルモードファイバから出射される光の広がりよりも小さくなる。
本発明の光モジュールでは、半導体受光素子は、アノード電極及びカソード電極、アノードパッド及びカソードパッド、並びにアノード電極及びカソード電極をアノードパッド及びカソードパッドにそれぞれ接続するコプラナラインを有するようにしてもよい。光モジュールの半導体受光素子は、より高い伝送レートの光信号に応答する光電流を伝達できる。
本発明の光モジュールでは、光ファイバの一端と半導体受光素子のモノリシックレンズが透明な樹脂で覆われているようにしてもよい。また、本発明の光モジュールでは、光ファイバの一端が斜めカットされているようにしてもよい。
本発明の上記の目的および他の目的、特徴、並びに利点は、添付図面を参照して進められる本発明の好適な実施の形態の以下の詳細な記述から、より容易に明らかになる。
以上説明したように、本発明によれば、光ファイバと半導体受光素子との光結合のトレランスを大きくできる構造の光モジュールが提供される。
本発明の知見は、例示として示された添付図面を参照して以下の詳細な記述を考慮することによって容易に理解できる。引き続いて、添付図面を参照しながら、本発明の光モジュールに係る実施の形態を説明する。可能な場合には、同一の部分には同一の符号を付する。
図1は、本実施の形態に係る光モジュールを示す図面である。光モジュール1は、搭載部材3と、光ファイバ5と、半導体受光素子7とを備える。光ファイバ5は、例えばシングルモード光ファイバであることができる。搭載部材3は、第1および第2の領域3a、3b並びに突き当て面3cを有する。第1および第2の領域3a、3bは、所定の軸Axに沿って配列されている。突き当て面3cは、第1の領域3aと第2の領域3bとの間に設けられており、所定の軸Axに交差する方向に伸びる基準面に沿って伸びる。光ファイバ5は、搭載部材3の第1の領域3aに搭載されている。半導体受光素子7は、搭載部材3の第2の領域3bに搭載されており、モノリシックレンズ7aを有する。この光モジュール1では、半導体受光素子7はモノリシックレンズ7aを介して光ファイバ5に光学的に結合されている。半導体受光素子5の厚みTは、モノリシックレンズ7aの位置において250マイクロメートル以下である。
この光モジュール1では、半導体受光素子7の受光領域7bとモノリシックレンズ7aとの距離を短くすることにより光ファイバ5と半導体受光素子7との光結合のトレランスを大きくできる。
半導体受光素子といった半導体素子を得るためには、製造プロセスを半導体ウエハに適用することにより半導体ウエハ上に素子アレイが作製される。この後に、半導体ウエハの素子アレイを切り分けて個々の半導体チップを作製する。半導体チップは、半導体素子を含んでいる。半導体ウエハの厚みを薄くすると、半導体ウエハが破損しやすくなる。半導体ウエハの破損を防ぐために、製造過程においては、半導体ウエハの厚さは300〜600マイクロメートル程度である。故に、半導体チップの厚みを薄くすることは、光モジュールの作製においても、半導体受光素子を注意深く取り扱うことが必要である。これ故に、半導体チップの厚みを薄くすることは、光モジュールにとって有利なことではない。
発明者は、パッシブアライメント構造の光モジュールの関して、半導体受光素子7の受光領域7bとモノリシックレンズ7aとの距離を短くすることにより光ファイバと半導体受光素子との光結合のトレランスを大きくできることを発見している。該距離の短縮は、半導体受光素子5の厚みTを小さくすることにより実現される。
本実施の形態の光モジュール1によれば、半導体受光素子7の受光領域7bの面積を177平方マイクロメートル程度に小さくできる。この受光領域の面積は、例えば、直径15マイクロメートル程度の円領域に対応する。この受光領域の面積によれば、毎秒40ギガビット程度の伝送レートの光信号に応答する光モジュールが可能になる。
図2(A)及び図2(B)は、図1に示された搭載部材を示す図面である。搭載部材3は、所定に軸Axに沿って第1及び第2の領域3a、3bを備える。第1及び第2の領域3a、3bは、搭載部材3の主面3dに設けられている。第1の領域3aには、所定の軸Axに沿って光ファイバ支持溝11が形成されている。光ファイバ支持溝11は、光ファイバ5の側面を支持するための2つの光ファイバ支持面11a、11bを備える。光ファイバ支持溝11は、所定の軸と交差する方向に関する光ファイバの位置を規定する。
第1の領域3aは、また、所定の軸に沿って伸びる光ファイバ導入溝13を有する。光ファイバ導入溝13は、搭載部材3の一辺から光ファイバ支持溝11に向けて伸びる。光ファイバ導入溝13は、2つの側面13a、13bを備えており、光ファイバ支持溝11よりも深い。
第2の領域3bには、受光素子実装部15が設けられている。受光素子実装部15は、所定の軸Axと交差する方向に伸びる反射面17と、反射面17から光ファイバ支持溝11の方向に伸びる光導入路19とを有する。光導入路19は、例えば、光ファイバ支持溝11に配置された光ファイバ5の一端5aから反射面17への光路を提供するための溝である。受光素子実装部15には、また、所定の軸と交差する方向に伸びる溝21が設けられている。溝21は、所定の軸と交差する方向に伸びており、主面3dに対して傾斜する側面21aを備える。この側面21aを反射面17として利用すると、反射面17の幅が光導入路19の幅より広くなる。
また、第2の領域3bには、半導体受光素子7の搭載位置を規定するための位置決めマーク23が設けられている。マーク23は、光ファイバ支持溝11、反射面17、および光導入路19と同一の製造工程で形成されることができる。
第1の領域3aと第2の領域3bとの間には、所定の軸と交差する方向に伸びる位置決め溝25を有する。位置決め溝25は、所定の軸に交差する方向に伸びる突き当て面3cを有する。搭載部材3を用いると、半導体受光素子7の搭載位置は、マーク23により規定される。光ファイバ5の位置は、光ファイバ支持溝11及び突き当て面3cにより規定される。光ファイバ5を覆うように覆い部材(図4の参照番号58)を搭載部材3上に配置すると、光ファイバ5が搭載部材3に固定される。
好適な実施例では、搭載部材3は、例えばシリコン製の基板から形成される。この基板では、エッチングによって、光ファイバ支持溝11、光ファイバ導入溝13、反射面17、光導入路19および位置決めマーク23を一括して形成できる。また、光ファイバ支持溝11および光ファイバ導入溝13は、V形溝または台形溝である。
本実施の形態の光モジュール1では、光ファイバ5の一端5aと半導体受光素子7のモノリシックレンズ7aは、光ファイバを伝播する光が透過可能な(透明な)樹脂で覆われているようにしてもよい。また、本実施の形態の光モジュール1では、光ファイバ5の一端が斜めカットされているようにしてもよい。
図3(A)及び図3(B)は、図1に示された半導体受光素子を示す図面である。図3(A)を参照すると、メサ型フォトダイオードといった半導体受光素子7が示されている。この構造によれば、低寄生容量の受光素子が実現される。半導体受光素子7は、Feドープ半絶縁性InP基板といった半絶縁性半導体基板31を備える。半導体受光素子7は、また、メサ半導体部7cを備える。メサ半導体部7cは、p++型InGaAs半導体層35、p+型InGaAs半導体層といったアノード半導体領域37、i型InGaAs半導体層といった光吸収層39、およびn+型InGaAs半導体層といったカソード半導体層41を備える。半導体層35、37、39、41は基板31の主面31a上に順に配置されている。メサ半導体部7cは、軸A1によって規定される位置に配置されている。n+型InGaAs半導体層41上には、カソード電極43aが設けられる。p++型InGaAs半導体層35上には、アノード電極45aが設けられる。基板31の主面31aの反対の面31bには、中心軸(光軸)A2を持つモノリシックレンズ7aが形成されている。モノリシックレンズ7aの周囲を囲むようにメタライズ層47が設けられている。モノリシックレンズ7aは、曲率半径Rを有している。中心軸A2は、軸A1の軸外(off-axis)にある。軸A1と軸A2との間隔は、シンボルDaで表される。
典型的な例では、メサ半導体部は、ほぼ円形の受光領域を有しており、この受光領域の直径は、図3(A)において、シンボル「dia」により表されている。
図3(B)を参照すると、半導体受光素子7は、カソード電極43a及びアノード電極45a、カソードパッド43b及びアノードパッド45b、並びにカソード電極43a及びアノード電極45aをカソードパッド43b及びアノードパッド45bにそれぞれ接続するコプラナライン47を有する。光モジュール1の半導体受光素子7は、より高い伝送レートの光信号に応答する光電流を伝達することができる。
光モジュール1では、半導体受光素子7の受光領域7bの面積は、177平方マイクロメートル以下であるようにしてもよい。これは、受光径15マイクロメートルの受光領域の面積である。受光領域の面積をより小さくすれば、光モジュールはより高い伝送レートの光信号に応答することができる。本実施の形態の光モジュール1によれば、小さい受光領域と光ファイバとの位置合わせのトレランスを拡大できる。モノリシックレンズの屈折率は、2以上5以下であるようにしてもよい。
図4、図5(A)及び図5(B)は、図1、図2(A)、図2(B)、図3(A)及び図3(B)に示された光モジュールを示す図面である。光モジュール1は、ハウジング52、光学素子アセンブリ54及び電子素子アセンブリ56を備える。
パッケージ52は、所定の軸Aopの方向に伸びる第1及び第2の壁部52a、52bと、所定の軸Aopに交差する方向に伸びる第3及び第4の壁部52c、52dとを有する。パッケージ52としては、バタフライ型パッケージが例示される。第1〜第3の壁部52a、52b、52dには、それぞれ複数の端子52eが設けられている。第3の壁部52cには、光ファイバを受け入れるための光ファイバ導入孔52fが設けられている。光ファイバ導入壁52cの外側には、導入孔52fの位置に合わせて、ガイド部52gが所定の軸Aopの方向に突出している。光ファイバ5は、パッケージのキャビティ内において軸Aopに沿って伸びている。パッケージ52は、配線基板52hを備える。配線基板52hは、端子52eが設けられている壁部52a、52b、52cに沿って設けられている。パッケージ52の底部52iには、光学素子アセンブリ54および電子素子アセンブリ56が軸Aopに沿って配置されている。
光学素子アセンブリ54は、光ファイバ搭載部材3と、半導体受光素子7とを備える。搭載部材3の主面上には、半導体受光素子7が配置されている。搭載部材3の主面の高さは、光学素子アセンブリ54がパッケージ52に配置されたときに、光ファイバ挿入軸Aopの高さと位置合わせされている。この位置合わせにより、光ファイバ5の高さは、光ファイバ搭載部材3の主面の高さとほぼ一致する。光ファイバ5が、搭載部材3上において位置決めされた後に、覆い部材58により固定される。
電子素子アセンブリ56は、搭載部材62および信号増幅素子64を含む。信号増幅素子64は、搭載部材62上に配置されている。信号増幅素子64は、半導体受光素子7と電気的に接続されている。電子素子アセンブリ56は、抵抗およびコンデンサといった電子素子66を搭載部材62上に備えることができる。搭載部材62は、光ファイバ搭載部材3と側壁52a、52bの各々との間に配置される一対の腕部62a、62bと、一対の腕部62a、62bを結合するように設けられた接続部62cを備える。また、搭載部材62は、端子52eが設けられている側壁52a、52b、52dに沿って配置される。搭載部材62は、接続部62c上に信号増幅素子64が配置される。
図6は、光モジュール1の変形例を示す図面である。図6を参照すると、光モジュール1aが示されている。光モジュール1aは、光学素子アセンブリ54と、パッケージ53とを含む。パッケージ53は、パッケージ52と同様に、いくつかの壁部53a〜53dと、ガイド部53gと、複数の端子53eとを備える。パッケージ53の底部53iには、光学素子アセンブリ54が配置されている。光モジュール1aは、V型コネクタといったコネクタ68を備える。コネクタ68は、パッケージ53の一壁部、例えば壁部53dに設けられている。光学素子アセンブリ54の半導体受光素子7からの電気信号は、コネクタ68に提供される。
図7(A)〜図7(E)は、図1に示された光ファイバ5及び半導体受光素子7を示す図面である。半導体受光素子8は、半導体受光素子7を線分Lに関してミラー反転した位置に描かれている。線分Lは、搭載部材3の反射面17の位置に描かれている。図7(B)〜図7(E)では、半導体受光素子7の替わりに半導体受光素子8を用いて、光ファイバと半導体受光素子との光学的な結合を説明する。
図7(B)〜図7(E)において、半導体受光素子PDは光ファイバOPからの光を受けている。図7(B)の光学系OS1では、厚さT1の半導体受光素子PDが光ファイバOPから距離Wの位置に配置されている。半導体受光素子PDの中心軸は光ファイバOPの光軸に合わされている。図7(C)の光学系OS2では、厚さT1の半導体受光素子PDが光ファイバOPから距離Wの位置に配置されている。半導体受光素子PDの中心軸は光ファイバOPの光軸と距離DVだけ位置ずれしている。中心軸と光軸がずれている場合でも、ある範囲までは、光軸が補正され受光部に光は入射する。
図7(D)の光学系OS3では、厚さT2(厚さT1より大きい)の半導体受光素子PDが光ファイバOPから距離Wの位置に配置されている。半導体受光素子PDの中心軸は光ファイバOPの光軸に合わされている。図7(E)の光学系OS4では、厚さT2の半導体受光素子PDが光ファイバOPから距離Wの位置に配置されている。半導体受光素子PDの中心軸は光ファイバOPの光軸と距離DVだけ位置ずれしている。OS3では、OS1に比べてT2がT1より大きい。中心軸と光軸とがずれていない場合では、OS1とOS3とで結合効率に変わりはない。しかし、中心軸と光軸とがずれている場合、OS4では光路長が長いため、光軸と受光部がずれ結合効率が落ちてしまう。
つまり、既に記載しているように、パッシブアライメント構造の光モジュールの関して、半導体受光素子7の受光部7bとモノリシックレンズ7aとの距離を短くすることにより光ファイバと半導体受光素子との光結合のトレランスを大きくできる。
図8は、光ファイバと半導体受光素子との位置合わせのトレランスの実験結果を示す図面である。横軸はモノリシックレンズの曲率半径を示しており、縦軸は結合効率が90パーセント以上であるトレランスを示している。シンボル「◇」は、シングルモードファイバと半導体受光素子PD1(厚さ150マイクロメートル)との特性を示す。シンボル「◆」は、TECファイバと半導体受光素子PD1(厚さ150マイクロメートル)との特性を示す。シンボル「○」は、シングルモードファイバと半導体受光素子PD2(厚さ200マイクロメートル)との特性を示す。半導体受光素子PD1及びPD2の受光領域の直径は10マイクロメートルである。半導体受光素子PD2の厚さは、半導体受光素子PD1の厚さより大きい。図8は、以下のことを示している:
(1)半導体受光素子PD1のトレランスは、半導体受光素子PD2のトレランスより大きい。
(2)TECファイバと半導体受光素子PD1との位置合わせのトレランスは、シングルモードファイバと半導体受光素子PD1との位置合わせのトレランスより大きい。
この実験によれば、モノリシックレンズの曲率半径の好適な範囲は、70マイクロメートル以上110マイクロメートル以下である。レンズ曲率を小さくすることにより、光ファイバからの光が、モノリシックレンズに近づけられた受光領域に入射する。また、この実験に加えて他の実験結果によれば、モノリシックレンズの曲率の半径は、50マイクロメートル以上150マイクロメートル以下であるようにしてもよい。また、50マイクロメートルを超えると150マイクロメートル未満では焦点距離が短くなり過ぎであり、より長い光路長を必要とし、結果として実装トレランスが小さくなってしまう。
図9(B)及び図9(C)に示される光学系では、半導体受光素子PDが光ファイバOPに対して距離DVだけ位置ずれしている。図9(B)に示される光学系OS5では、光ファイバOPからの出斜光は、角度S1の範囲に広がる。図9(C)に示される光学系OS6では、光ファイバOPからの出斜光は、角度S2(角度S1より大きい)の範囲に広がる。光ファイバOPからの出斜光の広がりが小さいとき、光ファイバOPと半導体受光素子PDと間の光結合のトレランスを大きくできる。
図9(D)は、光モジュールのパッケージ内に位置する光ファイバの部分を示している。光ファイバ4は、その光軸に沿って設けられた第1及び第2の部分4a、4bを有する。第1の部分4aは、光ファイバの一端4cを含む。好適な実施例では、第1の部分4aはTECファイバであり、第2の部分4bはシングルモードファイバである。また、第1の部分4aはGIファイバであり、第2の部分4bはシングルモードファイバである。光ファイバの一端部のTECファイバ及びGIファイバから出射される光の広がりは、シングルモードファイバから出射される光の広がりより小さく。光ファイバ4の第1の部分4aのコア径は、光ファイバ4の第2の部分4bのコア径より大きい。
図10は、更なる実験に用いられた光学系のモデルを示す図面である。光ファイバOP及び半導体受光素子PDは、搭載部材MM上に配置されている。軸Axに沿って、光ファイバOPは設けられている。搭載部材MM上には、光ファイバOP及び半導体受光素子PDを覆うように透明樹脂体TRが設けられている。搭載部材MMの光導入路4は、この樹脂体TRで満たされている。
光ファイバOP
コア径:9マイクロメートル
開口数(NA):0.1
半導体受光素子PD
厚さT:150マイクロメートル
曲率半径R:75〜100マイクロメートル
レンズ径DL:110マイクロメートル
屈折率:3.4
受光径:10〜15マイクロメートル
搭載部材MM
樹脂体TRの屈折率:1.43
ミラー角度:54.74度
dist1:250マイクロメートル
dist2:60マイクロメートル。
図11(A)〜図11(F)は、シングルモード光ファイバと半導体受光素子との位置合わせのトレランスを示す図面である。横軸はX軸に関する位置ずれを示しており、縦軸は光結合効率を示す。図11(A)〜図11(F)は、それぞれ、曲率半径R=75、80、85、90、95、100マイクロメートルにおけるトレランスを示す。図11(A)〜図11(F)において、シンボル「dia10」は受光径10マイクロメートルの光学的特性を示し、シンボル「dia15」は受光径15マイクロメートルの光学的特性を示し、シンボル「lens」はレンズの位置における特性を示す。図12(A)〜図12(C)は、それぞれ、曲率半径R=75、80、85マイクロメートルにおける輝度分布を示す図面である。図13(A)〜図13(C)は、それぞれ、曲率半径R=90、95、100マイクロメートルにおける輝度分布を示す図面である。図12(A)〜図12(C)及び図13(A)〜図13(C)において、内側の円は10マイクロメートルの受光領域を示しており、外側の円は15マイクロメートルの受光領域を示している。図12(D)及び図13(D)は、図12(A)〜図12(C)及び図13(A)〜図13(C)のための座標系を示す。図12(A)〜図12(C)及び図13(A)〜図13(C)において、最左列はX軸方向に−30マイクロメートルの位置ずれの輝度分布を示し、中央列はX軸方向に位置ずれなしの輝度分布を示し、最右列はX軸方向に+30マイクロメートルの位置ずれの輝度分布を示す。
これらの図面に示された実験結果によれば、本実施の形態の光モジュールは、レンズ曲率半径80〜90マイクロメートルの範囲で広いトレランスを有し好適な光結合が示される。この実施例では、レンズ曲率を80〜90マイクロメートルの範囲内に管理することで、特殊な実装方法を用いずともパッシブアライメントによる光結合を得ることができることを示している。
図14(A)〜図14(F)は、TEC光ファイバと半導体受光素子との位置合わせのトレランスを示す図面である。図14(A)〜図14(F)は、それぞれ、曲率半径R=75、80、85、90、95、100マイクロメートルにおけるトレランスを示す。図15(A)〜図15(C)は、それぞれ、曲率半径R=75、80、85マイクロメートルにおける輝度分布を示す図面である。図16(A)〜図16(C)は、それぞれ、曲率半径R=90、95、100マイクロメートルにおける輝度分布を示す図面である。図15(D)及び図16(D)は、図15(A)〜図15(C)及び図16(A)〜図16(C)のための座標系を示す。図15(A)〜図15(C)及び図16(A)〜図16(C)において、最左列はX軸方向に−30マイクロメートルの位置ずれの輝度分布を示し、中央列はX軸方向に位置ずれなしの輝度分布を示し、最右列はX軸方向に+30マイクロメートルの位置ずれの輝度分布を示す。これらの実験では、レンズ径DLが104マイクロメートルである点を除いて、他のパラメータは図10に示されたモデルにおける対応値と同じである。
これらの図面に示された実験結果によれば、本実施の形態の光モジュールは、レンズ曲率半径80〜100マイクロメートルの範囲で好適な光結合が示される。また、TEC光ファイバと半導体受光素子との位置合わせのトレランスは、シングルモード光ファイバと半導体受光素子との位置合わせのトレランスに比較して優れている。本実施例では、図11に比べて、レンズ曲率半径の範囲が広くトレランスもより広いことから、組立方法を簡略化できる。
好適な実施の形態において本発明の原理を図示し説明してきたが、本発明は、そのような原理から逸脱することなく配置および詳細において変更され得ることは、当業者によって認識される。本発明は、本実施の形態に開示された特定の構成に限定されるものではない。一例によれば、搭載部材は、所定の軸Axに交差する方向に伸びる基準面に沿って伸びる突き当て面を有していても良く、この突き当て面は、搭載部材の第1の領域と第2の領域との間に設けられており、光ファイバは突き当て面に突き当たられている。したがって、特許請求の範囲およびその精神の範囲から来る全ての変形および変更に権利を請求する。
図1は、本実施の形態に係る光モジュールを示す図面である。 図2(A)及び図2(B)は、図1に示された搭載部材を示す図面である。 図3(A)及び図3(B)は、図1に示された半導体受光素子を示す図面である。 図4は、図1に示された光モジュールを示す図面である。 図5(A)及び図5(B)は、図1に示された光モジュールを示す図面である。 図6は、光モジュールの変形例を示す図面である。 図7(A)〜図7(E)は、光ファイバ及び半導体受光素子の光学的な結合を示す図面である。 図8は、光ファイバと半導体受光素子との位置合わせのトレランスの実験結果を示す図面である。 図9(A)〜図9(D)は光モジュールの光ファイバの変形例を示す図面である。 図10は、更なる実験に用いられた光学系のモデルを示す図面である。 図11(A)〜図11(F)は、シングルモード光ファイバと半導体受光素子との位置合わせのトレランスを示す図面である。 図12(A)〜図12(C)は、それぞれ、曲率半径R=75、80、85マイクロメートルにおける輝度分布を示す図面である。図12(D)は、図12(A)〜図12(C)のための座標系を示す図面である。 図13(A)〜図13(C)は、それぞれ、曲率半径R=90、95、100マイクロメートルにおける輝度分布を示す図面である。図13(D)は、図13(A)〜図13(C)のための座標系を示す図面である。 図14(A)〜図14(F)は、シングルモード光ファイバと半導体受光素子との位置合わせのトレランスを示す図面である。 図15(A)〜図15(C)は、それぞれ、曲率半径R=75、80、85マイクロメートルにおける輝度分布を示す図面である。図15(D)は、図15(A)〜図15(C)のための座標系を示す図面である。 図16(A)〜図16(C)は、それぞれ、曲率半径R=90、95、100マイクロメートルにおける輝度分布を示す図面である。図16(D)は、図16(A)〜図16(C)のための座標系を示す図面である。
符号の説明
1…光モジュール、3…搭載部材、3a、3b…第1および第2の領域、3c…突き当て面、3d…搭載部材の主面、4…光ファイバ、4a、4b…第1及び第2の部分、4c…光ファイバの一端、5…光ファイバ、7…半導体受光素子、7a…モノリシックレンズ、7b…受光部、7c…メサ半導体部、11…光ファイバ支持溝、13…光ファイバ導入溝、15…受光素子実装部、17…反射面、19…光導入路、21…溝、23…位置決めマーク、25…位置決め溝、31…半絶縁性半導体基板、43a…カソード電極、43b…カソードパッド、45a…アノード電極、45b…アノードパッド、47…コプラナライン、52…ハウジング、54…光学素子アセンブリ、56…電子素子アセンブリ、62…搭載部材、64…信号増幅素子

Claims (9)

  1. 所定の軸に沿って配列された第1および第2の領域を有する搭載部材と、
    前記搭載部材の前記第1の領域に搭載された光ファイバと、
    前記搭載部材の前記第2の領域に搭載されておりモノリシックレンズを有する半導体受光素子と
    を備え、
    前記半導体受光素子は前記モノリシックレンズを介して前記光ファイバに光学的に結合されており、
    前記半導体受光素子の厚みは、前記モノリシックレンズの位置において250マイクロメートル以下である、光モジュール。
  2. 前記モノリシックレンズの曲率の半径は、50マイクロメートル以上150マイクロメートル以下である、請求項1に記載の光モジュール。
  3. 前記半導体受光素子の受光領域の面積は、177平方マイクロメートル以下である、請求項1または請求項2に記載の光モジュール。
  4. 前記光ファイバの前記一端は、コリメート光を出射するように設けられている、請求項1〜請求項3のいずれかに記載の光モジュール。
  5. 前記光ファイバは、前記一端を含む第1の部分と、第2の部分とを有しており、前記第1の部分はTECファイバから構成される、請求項1〜請求項3のいずれかに記載の光モジュール。
  6. 前記光ファイバは、前記一端を含む第1の部分と、第2の部分とを有しており、前記第1の部分はGIファイバから構成される、請求項1〜請求項3のいずれかに記載の光モジュール。
  7. 前記半導体受光素子は、アノード電極及びカソード電極、アノードパッド及びカソードパッド、並びに前記アノード電極及び前記カソード電極を前記アノードパッド及び前記カソードパッドにそれぞれ接続するコプラナラインを有する、請求項1〜請求項6のいずれかに記載の光モジュール。
  8. 前記光ファイバの前記一端と前記半導体受光素子の前記モノリシックレンズが透明な樹脂で覆われている、請求項1〜6のいずれかに記載の光モジュール。
  9. 前記光ファイバの一端が斜めカットされている、請求項1〜6のいずれかに記載の光モジュール。
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