JP2004286821A - Device and method for bonding substrate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately bond substrates to form a large screen together in manufacture of a liquid crystal display panel and so on. <P>SOLUTION: In bonding upper and lower substrates 11, 12, placed opposite to each other and held between upper and lower stages 31, 32, together, for the purpose of preventing lowering of quality of the bonding caused by protrusions and recessions on surfaces of the respective stages 31, 32, for example the lower substrate 12 is held via an elastic member 4. When positioning is carried out in a state in which the upper substrate 11 is in contact with an adhesive 1a, it sometimes occurs that the elastic member 4 is deformed. If the bonding is carried out in a state in which the elastic member 4 is deformed, restoring force of the deformed elastic member 4 acts in a subsequent hardening step and positional accuracy between both bonded substrates 11, 12 is deteriorated. Therefore the bonding device is constructed so as to dissolve the deformation of the elastic member 4 prior to the hardening of the adhesive 1a. As a result, action of the restoring force of the elastic member 4 is avoided or suppressed and excellent bonding accuracy between the upper and lower substrates 11, 12 is obtained. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、2枚の基板を重ね合わせて貼り合わせる基板の貼合わせ装置及び貼合わせ方法の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶表示パネルは、ガラス製の2枚の基板が、液晶部材を挟んで貼り合わされて製造されるが、その基板の貼り合わせのために、いずれか一方の基板の対向面に、予め接着剤(例えば、シール剤)が塗布される。
【0003】
高精細な液晶表示画面を形成するためには、矩形状の2枚の基板を高精度に貼り合わせる必要があり、そのため、各基板のアライメント(位置決め用)マークの撮像パターンに基づく位置合わせを、2枚の基板をできるだけ接近させて行うことが望まれる。そこで、例えば真空槽内において、いわゆるプリアライメントにより位置決めされ、対向配置された2枚の基板は、一方の基板に塗布された接着剤に他方の基板面が接触するまで近づけられ、一方の基板面が他方の基板面に塗布された接着剤に接触した状態で、アライメントマークに基づく、高精度な位置合わせ操作が行われる。
【0004】
図11は、従来の基板の貼合わせ装置の要部正面図である。図12は、図11において、上下両基板を重ね合わせ、各基板にそれぞれ形成されたアライメントマークに基づく高精度な位置合わせ操作を行うべく、下基板に塗布された接着剤に上基板を接触させた状態を示す要部拡大断面図である。
【0005】
図11に示したように、貼り合わされる上基板11と下基板12は、上蓋21及び下蓋22からなる真空槽2内に対向配置され、上基板11は上ステージ(上定盤)31の下面に保持され、下基板12は下ステージ(下定盤)32上に載置されて保持されている。
【0006】
両基板11,12間に均一な間隔(ギャップ)が形成され、良好に貼り合わされるためには、各基板11,12は、いずれも波打つことなく良好な平坦性を有し、不均一な間隔(ギャップむら)が形成されない状態で接着剤1aが押圧されることが要求される。
【0007】
ところが、ガラス製の基板11,12自体は、厚さが薄く柔軟性があり、全体が変形しやすい性質を有している。また、剛性の大きなステージ31,32も、機械的な加工により、広い面積に渡って平坦性を得るのは容易ではない。
【0008】
従って、ステージ31,32により貼り合わされた両基板11,12間には、ギャップむらが発生することがある。
【0009】
そこで、図11に示した基板の貼合わせ装置では、下ステージ32上で下基板12を複数個の弾性部材4を介して吸着保持し、その弾性部材4が、各上下ステージ31,32表面の凹凸を吸収緩和し、接着剤1a全体が上下基板11,12間で均一に押圧されるように構成されている。
【0010】
図11の正面図では、下ステージ32上において、矩形状の下基板12を吸着保持する弾性部材4の数は、基板中央部を吸着保持する1個と、基板の四隅部でそれぞれ吸着保持する4個との合計5個であることを示している。
【0011】
なお、図11では、複数(5)個の弾性部材4を下ステージ31上に載置固定しているが、一枚のシート状の弾性部材を介して基板を保持した例が知られている(特許文献1参照。)。
【0012】
そこで、図11に示した基板の貼合わせ装置では、真空槽2内の下ステージ32自体は、下蓋22の外側下方に配置されたX−Y−θ移動機構5の作動軸5aに連結され、吸着保持された上下両基板11,12間の相対位置が水平方向に調整できるように構成されている。
【0013】
真空槽2内で加圧板の機能を備えた上ステージ31は、上蓋21上に載置されたプレス機構6に連結され、図示矢印Z(上下)方向に移動可能に構成されている。
【0014】
図11に示した基板の貼合わせ装置では、接着剤1aを介して両基板11,12を高精度に貼り合わせるのに、真空槽2内で対向配置された両基板11,12にプリアライメントによりおおよその位置合わせを行った後、上ステージ31を降下させ、図12に拡大して示したように、上基板11の下面が下基板12上の接着剤1aに接触し、上下両基板11、12が間隔Hの狭いギャップで対向した状態で、改めてアライメントマークに基づく高精度な位置合わせ操作が行われる。
【0015】
すなわち、図12に示したように、狭い間隔Hで両基板11,12が対向した状態での上下両基板11、12間のアライメント、すなわち位置合わせ操作では、図11に示したように、下方のCCDカメラ等の撮像機器33,33が、下蓋22の透光窓22a及び下ステージ32の貫通孔32aを介して、各基板11,12のアライメントマーク11a,12aを撮影して取り込み、その撮影パターンは制御器7に供給される。
【0016】
アライメントマーク11a,12aの撮影パターンの供給を受けた制御器7は、パターン認識手法により、図12に示したように、水平面内での両基板11,12間の位置ずれ量Δdを検出し、その位置ずれ量Δdが小さくなり、予め設定された許容範囲内に納まる方向に、好ましくはその位置ずれ量が零となるように、X−Y−θ移動機構5を駆動制御する。その結果、例えば、図13に示したように、位置ずれ量Δdがほとんど零となるように、ミクロン単位あるいはサブミクロン単位での位置合わせが行われる。
【0017】
この制御器7によるX−Y−θ移動機構5の駆動操作で、弾性部材4を介して下ステージに吸着保持された下基板12は、上基板11との間の接着剤1aの粘性に起因する抵抗に抗して移動する。そのとき、X−Y−θ移動機構5は、接着剤1aによる移動方向の抵抗に抗して下基板12を移動させようとするので、両基板11,12の位置合わせ操作が終了した時点では、図13に示したように、下基板12と下ステージ32の間にあって下ステージ32に比べて剛性の小さい弾性部材4には水平方向に距離Δkの変形量が生じる。
【0018】
弾性部材4が距離Δkだけ変形し、位置合わされた後の上下両基板11,12は、制御器7による図13の矢印Zで示す方向(下方向)への上ステージ31の押し下げ操作により、予め設定された時間の間加圧され、接着剤1aを押しつぶすので、図14に示したように、上下両基板11,12間は間隔h(h<H)にまで狭められる。
【0019】
その後、両基板11,12は、上下両ステージ31,32から解放され、真空槽2内が大気圧に戻されることにより、貼り合わせが完了する。なお、貼り合わせ完了後の両基板11,12は、接着剤1aの硬化工程に搬送され、接着剤1aは硬化される。
【0020】
なお、上下両基板11,12間の位置合わせ操作は、説明上、一方向(X方向)に行われるとして説明したが、実際には、水平面で、X−Y−θ方向への位置合わせ補正が行われる。
【0021】
また、図12に示したように、上基板11が接着剤1aに接触し、上下両基板11,12が間隔Hで対向した状態では、上基板11の下面は、接着剤1aの他に、表示面に滴下された液晶部材1bや不図示のスペーサ等にも接触していることがあり、弾性部材4は、接着剤1aのみならず、液晶部材1bや不図示のスペーサと上基板11との接触による移動方向の抵抗を受けて変形することもある。
【0022】
【特許文献1】
特開平11−264985号公報(第4頁)
【0023】
【発明が解決しようとする課題】
上記説明のように、従来の基板の貼合わせ装置及び貼合わせ方法では、制御器7は、両基板11,12面に付されたアライメントマーク11a,12aの撮像パターンに基づき、その撮像パターンが予め設定された許容範囲内で一致するようにX−Y−θ移動機構5を駆動制御し、その後、接着剤1aをさらに押圧して上下両基板11,12の貼り合わせが行われる。
【0024】
その貼り合わせの際の位置合わせ操作(アライメント)では、上下両基板11,12間に均一な押圧力を形成すべく設けられた弾性部材4は、図13及び図14に示したように、水平方向に距離Δk変形してしまう。
【0025】
しかしながら、貼合わせ作業が完了し、基板11,12の吸着保持が解除されるまでには時間を要するので、その間、距離Δk変形した弾性部材4による復元力は、吸着保持した下基板12を、図14に矢印Xで示した方向へ移動させようとする力として作用する。
【0026】
従って、上基板11との間で一旦位置合わせが行われた下基板12は、基板11,12の吸着保持が解除されるまでの間に作用する弾性部材4の復元力により、図14に矢印Xで示した方向にずれてしまい、図15に示したように弾性部材4の水平方向への変形量も、距離Δkから距離Δn(Δn<Δk)へと小さくなり、せっかく位置合わせした両基板11,12間は、水平方向に(X方向)距離Δmだけ位置ずれを引き起こしてしまうという現象が生ずる。その結果、両基板11,12間の位置合わせ精度は、当初のミクロン単位あるいはサブミクロン単位の許容範囲からはみ出す恐れがあった。
【0027】
そこで本発明は、基板の貼り合わせを、適切かつ高品質に行うことができる基板の貼合わせ装置及び基板の貼合わせ方法を提供することを目的とする。
【0028】
【課題を解決するための手段】
第1の発明は、上ステージに保持された上基板と、この上基板に対向配置されて下ステージ上に保持された下基板とを、接着剤を介して貼合わせる基板の貼合わせ装置において、前記上ステージと上基板との間、または前記下ステージと下基板との間の少なくとも一方に介在させた弾性部材と、この弾性部材の水平方向の変形量を検出する検出手段と、この検出手段により検出された前記変形量に基づき、上ステージと下ステージとを相対的に移動させる駆動制御手段とを具備することを特徴とする。
【0029】
この第1の発明によれば、弾性部材の水平方向の変形量を検出する検出手段を有し、駆動制御手段が、その検出手段により検出された変形量に基づき、上ステージと下ステージとを相対的に移動させ得るので、弾性部材の復元力による作用、すなわち上下基板が位置合わせが行われる前の状態に戻ろうとする作用を低減ないしは回避させることができ、上下基板は位置ずれが小さい状態で、高精度に貼り合わされる。
【0030】
第2の発明は、上ステージに保持された上基板と、この上基板に対向配置されて下ステージ上に保持された下基板とを、接着剤を介して貼合わせる基板の貼合わせ装置において、前記上ステージと上基板との間、または前記下ステージと下基板との間の少なくとも一方に介在させた弾性部材と、この弾性部材を挟んだ上ステージと上基板との間、または下基板と下ステージとの間の水平方向の位置ずれ量を検出する検出手段と、この検出手段により検出された前記位置ずれ量に基づき、上ステージと下ステージとを相対的に移動させる駆動制御手段とを具備することを特徴とする。
【0031】
この第2の発明によれば、弾性部材を挟んだ上ステージと上基板との間、または同じく弾性部材を挟んだ下基板と下ステージとの間の水平方向の位置ずれ量を検出する検出手段を有し、駆動制御手段が、その検出手段により検出された位置ずれ量に基づき、上ステージと下ステージとを相対的に移動させるので、上下基板の位置合わせ操作に際して、変形した弾性部材による位置合わせ精度の低下を回避ないしは抑制することができる。従って、弾性部材の復元力による作用、すなわち上下基板が位置合わせが行われる前の状態に戻ろうとする作用は低減ないしは回避され、上下基板は位置ずれが小さく、高精度に貼り合わされる。
【0032】
第3の発明は、上ステージとこの上ステージに保持された上基板との間、または下ステージとこの下ステージに保持された下基板との間の少なくとも一方に弾性部材を介在させ、前記上基板と前記下基板とを、接着剤等の介在物を介して接触させた状態で位置合わせ操作を行い、接着剤を介して貼合わせる基板の貼合わせ方法において、前記上基板と前記下基板とを前記介在物を介して重ね合わせる第1の工程と、この第1の工程の後に、前記上ステージと前記下ステージとの間の相対位置を制御し、前記上基板と前記下基板との間の位置合わせ操作を行なう第2の工程と、この第2の工程の後に、前記弾性部材の水平方向の変形量を検出する第3の工程と、この第3の工程の後に、前記弾性部材の変形量が少なくなる方向に前記上ステージと前記下ステージとを相対的に移動させる第4の工程とからなることを特徴とする。
【0033】
この第3の発明によれば、第3の工程において弾性部材の水平方向の変形量を検出し、第4の工程では、その弾性部材の変形量が少なくなる方向に上ステージと下ステージとを相対移動させるので、第1の発明と同様に、弾性部材の復元力が作用して、貼り合わされる上下両基板間の位置合わせ精度が低下するのを抑制ないしは回避することができる。
【0034】
第4の発明は、上ステージとこの上ステージに保持された上基板との間、または下ステージとこの下ステージに保持された下基板との間の少なくとも一方に弾性部材を介在させ、前記上基板と前記下基板とを、接着剤等の介在物を介して接触させた状態で位置合わせ操作を行い、接着剤を介して貼合わせる基板の貼合わせ方法において、前記上基板と前記下基板とを前記介在物を介して重ね合わせる第1の工程と、この第1の工程の後に、前記上ステージと前記下ステージとの間の相対位置を制御し、前記上基板と前記下基板との間の位置合わせ操作を行なう第2の工程と、この第2の工程の後に、前記上基板と前記下基板のうち前記弾性部材を介して保持された基板とこの基板を保持するステージとの間における前記弾性部材の変形に基づく水平方向の位置ずれ量を求める第3の工程と、この第3の工程の後に、前記水平方向の位置ずれ量が少なくなる方向に前記上ステージと前記下ステージとを相対的に移動させる第4の工程とからなることを特徴とする。
【0035】
このように第4の発明は、第3の工程で求めた、弾性部材を挟んだ上ステージと上基板との間、あるいは下ステージと下基板との間の位置ずれ量に基づき、上ステージと下ステージとを相対的に移動させる(第4の工程)ので、弾性部材の復元力が作用して、貼り合わされる上下両基板間の位置合わせ精度が低下するのを抑制ないしは回避することができる。
【0036】
また、第5の発明は、上ステージとこの上ステージに保持された上基板との間、または下ステージとこの下ステージに保持された下基板との間の少なくとも一方に弾性部材を介在させ、前記上基板と前記下基板とを、接着剤等の介在物を介して接触させた状態で位置合わせ操作を行い、接着剤を介して貼合わせる基板の貼合わせ方法において、前記上基板と前記下基板とを前記介在物を介して重ね合わせる第1の工程と、この第1の工程の後に、前記上ステージと前記下ステージとの間の相対位置を制御し、前記上基板と前記下基板との間の位置合わせ操作を行なう第2の工程と、この第2の工程の後に、前記上ステージによる前記上基板の保持、または前記下ステージによる下基板の保持の少なくともいずれか一方を解除させる第3の工程と、この第3の工程の後に、前記上基板と前記下基板とを貼り合わせる第4の工程とからなることを特徴とする。
【0037】
このように、第5の発明によれば、上基板と下基板とを貼り合わせる第4の工程に先立ち、第3の工程において、上ステージによる上基板の保持、または下ステージによる下基板の保持の少なくともいずれか一方を解除して解放するので、位置合わせ操作の際に変形した弾性部材の復元力の作用を低減ないしは回避することができ、上下基板は精度良く貼合わされる。
【0038】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による基板の貼合わせ装置及び基板の貼合わせ方法の一実施の形態を図1ないし図10を参照して詳細に説明する。なお、図11ないし図15に示した従来の基板の貼合わせ装置及び基板の貼合わせ方法と同一構成には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【0039】
すなわち、図1は、本発明による基板の貼合わせ装置の第1の実施の形態を示した正面図である。
【0040】
第1の実施の形態の基板の貼合わせ装置は、図1に示すように、上蓋21及び下蓋22からなる真空槽2内において、上基板11及び下基板12は、対向配置された上ステージ31、及び下ステージ32にそれぞれ吸着保持されている。
【0041】
上基板11は上ステージ31に直接吸着保持されているが、上下両ステージ31,32表面の凹凸を吸収し、凹凸に起因した接着剤1aにおける接着不良を回避すべく、複数(5)個の弾性部材4を介して、下基板12は下ステージ32上に吸着保持されている。
【0042】
複数(5)個の弾性部材4はいずれも、図2にその拡大斜視図を示したように、全体が偏平な四角形状をなし、下ステージ32からつらなって開口した吸引チャック用の排気孔4aが、弾性部材4上に載置される下基板12を吸着するように構成されている。そして、下基板12の中央部を吸着保持する弾性部材4には、図2に示したようには、既知の歪み計8が内蔵されていて、弾性部材4自体が機械的外力を受けて水平方向に変形したとき、可撓性を有する歪み計8は、その弾性部材4の水平方向の変化量を検出し、その検出データを、図1に示すように、制御器7に供給するように接続されている。
【0043】
図3は、図2に示した弾性部材4をA−A線から矢印方向に切断し、内蔵された歪み計8を上方から見て示した平面図である。
【0044】
この実施の形態の歪み計8には、例えば特開平6−397350号公報に開示されたセンサを適用することができる。すなわち、歪み計8は、上下(Z軸)方向に感圧抵抗体を挟んで対をなした4つの電極体81,82,83,84が、90度間隔で配置され、水平方向のX軸回り及びY軸回りに受けた弾性部材4の変形に伴う機械的モーメントを電圧値に変換して出力し、制御器7に供給する。
【0045】
なお、弾性部材4を搭載した下ステージ32は、従来と同様に、X−Y−θ移動機構5に固定され、水平面内で移動して上下基板11,12間の相対位置を調整し得るように構成されている。
【0046】
なお、この第1の実施の形態では、下基板11の中央部の弾性部材4に、歪み計8を内蔵させたが、この中央部を含む四隅部に設けた弾性部材4全てに、あるいはこれら複数個の弾性部材4のうち、選択された任意の弾性部材4に、歪み計8を内蔵させることもできる。
【0047】
そこで、対向する基板11,12の位置合わせ操作では、例えばプリアライメント後に、まず制御器7がプレス機構6を制御して上ステージ21を下降させ、図4に拡大して示したように、上下基板11,12が間隔Hの狭いギャップで対向し、上基板11が下基板12面上の接着剤1aに少し接触した状態なるように操作される。
【0048】
図4に示した状態において、従来と同様に、下方に設置された撮像機器33,33が、各基板11,12のアライメント(位置決め用)マーク11a,12aを撮影し、その撮影パターンを制御器7に供給する。
【0049】
撮影パターンの供給を受けた制御器7は、パターン認識により、両基板11,12間の位置ずれ量Δdを検出し、その位置ずれ量Δdが予め設定された許容範囲内、好ましくはその位置ずれ量Δdが零近くにまで小さくなり、精度良く貼り合わせが行なわれるように、適宜、X−Y−θ移動機構5を駆動制御する。
【0050】
このとき、X−Y−θ移動機構5は、図5に示すように、接着剤1a及び液晶部材1b等と上基板11との間の接触抵抗に抗して下基板12を移動させるので、下基板12と下ステージ32との間の弾性部材4は、水平方向に距離Δkだけ変形し、この距離Δkの変形量は、内蔵された歪み計8により検出され、その検出信号は制御器7に供給される。
【0051】
なおこのとき、下基板12と弾性部材4との間にすべりがないとすれば、制御器7は、その検出信号に基づいて、下ステージ32と下基板12との間の、図4に示す状態と図5に示す状態との間のずれ量を求めることができる。
【0052】
次に、制御器7は、プレス機構6を駆動制御し、上ステージ31を図5に矢印Zで示す方向(下方)に押し下げることで、予め設定された時間の間、上下両基板11,12を加圧するので、上下両基板11,12の間隔はさらに狭められる。
【0053】
この制御器7による上ステージ31の押し下げ操作前に、制御器7は前述の歪み計8からの変形量(距離Δk)の検出信号に基づき、X−Y−θ移動機構5を駆動し、弾性部材4の変形量(距離Δk)が小さくなる方向に下ステージ32を移動制御する。
【0054】
これにより、図7に示すように、弾性部材4のX−Y−θ面における変形は解消される。
【0055】
つまり、この第1の実施の形態によれば、位置合わせ調整(アライメント)に基づく弾性部材4の変形に起因した復元力は解消ないしは大幅に減少するので、上下両基板11,12は、位置合わせ調整が完了し、上述の上ステージ31の押し下げ操作が行われ、上下両基板11,12が上下両ステージ31,32から解放されるまでの間に、弾性部材4の復元力によって位置ずれすることなく、高精度に位置合わせされた状態を維持して貼り合わされる。
【0056】
なお、図1に示したこの第1の実施の形態では、矩形状の下ステージ32上面に5個の弾性部材4を搭載し、そのうち中央部の1個にのみ歪み計8を内蔵させるように構成しているが、例えば5個全ての弾性部材4に歪み計8を内蔵させたときは、制御器7において、これら複数個の歪み計8で検出された各変形量のたとえば平均値あるいは中央値を算出し、その平均値ないしは中央値に基づいて、(図5あるいは図6に示した)水平方向の位置ずれ量(距離Δk)が小さくなる方向に移動制御するようにしても良い。
【0057】
また、水平方向(X−Y−θ方向)での位置合わせ操作は、X−Y(直交)方向での位置合わせ操作と、θ(旋回)方向での位置合わせ操作とに分解することができる。
【0058】
X−Y方向での位置合わせでは、いずれの弾性部材4においても、同じ方向(X−Y方向)への変形量として検出し得るから、制御器7は、上記のように、平均値や中央値の算出という簡単な演算によりX−Y−θ移動機構5に対する操作量を求めることができる。
【0059】
一方、θ方向での位置合わせでは、基板の回転中心である基板中心部において検出される弾性部材4のX,Y方向への変形量は極めて小さいので、例えば、基板12の四隅部にも、歪み計8を内蔵した弾性部材4を設け、四隅部に設けられた各歪み計8におけるX−Y方向での変形量の検出値から、下ステージ32と下基板12との間のθ方向のずれ量を幾何学的に求めて、各四隅部における弾性部材4の変形量が小さくなる方向の操作量を求めることができる。
【0060】
上記第1の実施の形態では、位置合わせ操作による弾性部材4の変形量を歪み計8で検出するように構成したが、弾性部材4の変形量とは、図4に示された下基板12と下ステージ32との間の位置関係と、図5に示された下基板12と下ステージ32との間の位置関係との差にほかならない。
【0061】
すなわち、弾性部材4の歪み解消とは、下基板12と下ステージ32との間の位置関係を図5の状態から図4の状態に戻すことを意味する。
【0062】
そこで、弾性部材4に歪み計8を設けることなく、弾性部材4を上下で挟んだ下基板12と下ステージ32との間の、位置合わせ前の状態に対する(弾性部材4が変形した結果生じた)位置合わせ後の位置ずれ量を検出し、その検出値の値が零となる方向に下ステージ32の位置を駆動制御しても同様に目的を達成することができる。
【0063】
そこで、この弾性部材4を挟んだ下基板12と下ステージ32との間の位置ずれ量の検出方法は、撮像機器33,33で撮像された下基板12のアライメントマーク12aが、図4に示した(位置合わせ前)状態で撮影されたX−Y座標軸上での位置と、図5あるいは図6に示したように、(位置合わせによる)弾性部材4変形後のX−Y座標軸上での位置との間のずれ量を制御器7が算出し、その算出量に基づきX−Y−θ移動機構5を補正制御するようにしても良い。
【0064】
さらにまた、この実施の形態では、弾性部材4の変形を解消させるために、下ステージ32側を移動させたが、上ステージ31にX−Y−θ移動機構を組み込み、上ステージ31側を移動させて下基板12側を移動させても良い。
【0065】
あるいはまた、X−Y−θ移動機構を、上下両ステージ31,32双方に連結して組み込み、弾性部材4に対するずれ量の補正操作を互いに分担して行うように構成することもできる。また、このとき、弾性部材4は、上下いずれか一方、あるいは双方のステージ31,32に取りつけ、貼り合わせ操作時におけるこれら弾性部材4の変形量を零に戻すように操作しても良い。
【0066】
次に、図1に示した第1の実施の形態の基板の貼合わせ装置を使用した2枚の基板の貼り合わせ手順(工程)を、図8に示したフローチャートを参照して以下説明する。なお、上下両基板11,12は、真空槽2内に供給されて上下両ステージ31,32に吸着保持され、真空槽2内はすでに真空状態に減圧されているものとする。
【0067】
まず、第1の工程は、上下基板11,12を接着剤1aを介して重ね合わせる(ステップ8A)。
【0068】
第2の工程では、上下基板11,12間の位置ずれ量が小さくなる方向に位置合わせ操作を行う(ステップ8B)。
【0069】
次に、第3の工程では、両基板11,12の位置合わせ操作で生じた、弾性部材4の変形量を検出する(ステップ8C)。
【0070】
次に、第4の工程では、弾性部材の変形量が零となる方向に、下ステージ12を移動調整する(ステップ8D)。
【0071】
その後、第5の工程として、予め設定された時間だけ、上下基板11,12をさらに押圧する(ステップ8E)。
【0072】
さらに、第6の工程では、上下両基板11,12が上下両ステージ31,32から解放され、真空槽2内が大気圧に戻される(ステップ8F)。
【0073】
真空槽2内が大気圧に戻された後、上ステージ31を上昇させ、貼り合わされた基板11,12は真空槽2内から不図示の搬送ロボットにより取り出され、例えば接着剤1aの硬化工程等の次工程へと搬送される。
【0074】
なお、上記手順の説明の中で、下ステージ12を移動調整(ステップ8D)の後に、接着剤1aをさらに押圧し、上下基板を貼り合わせを行う(ステップ8E)旨説明したが、要するにこの第1の実施の形態における基板の貼合わせ方法は、位置合わせ操作の際に変形した弾性部材4の復元力が、位置合わせされた基板11,12間に作用するのを防ぐことができれば良いので、少なくとも上ステージ31による上基板11の吸着保持、または下ステージ32による下基板12の吸着保持のいずれかが解除されるまでの間に行えば良く、ステップ8Eの間にステップ8Dを実行しても同様に目的を達成できる。もっとも、弾性部材4変形の解消操作は、できるだけ早く実施した方が復元力によるずれ防止効果が高まるので、上記のようにステップ8B→ステップ8C→ステップ8Dの手順で行うのが好ましい。
【0075】
また、上下両基板11,12の位置合わせ操作の際に、上基板11と接触した接着剤1aはもとより、粘性を有する液晶部材1bやスペーサが上基板11と接触しているとすれば、弾性部材4は、接着剤1aや液晶部材1b等と上基板11との間の接触抵抗に加えて、接着剤1aはもとより液晶部材1bやスペーサが等の有する固有の粘性に抗して変形する。
【0076】
換言すれば、上下両基板11,12の位置合わせ操作では、弾性部材4のみならず、接着剤1aや液晶部材1b等も粘性を有して変形する。
【0077】
従って、制御器7がX−Y−θ移動機構5を操作し、弾性部材4自体の変形量Δkを零に復帰させ、見かけ上、上下両基板11,12間の位置ずれ量がない状態となっているように見えても、位置合わせ操作の際に変形した接着剤1aや液晶部材1b等の、粘性に起因した反作用が作用し、上下両基板11,12間に新たな位置ずれを生じさせることも考えられる。
【0078】
この現象を回避させるために、制御器7は、接着剤1a等の反作用を見越して、弾性部材4の変化量Δk解消のための移動操作量に、例えば係数σ(0<σ<1)を乗算する等の制限を設けるようにしても良い。係数σは、例えば、弾性部材4の変形量Δkを補正した後に、接着剤1a等の反作用によって生じる上下両基板11,12間の位置ずれ量を実験によって求めた結果に基づいて決定することができる。
【0079】
あるいはまた、制御器7によるX−Y−θ移動機構5を駆動制御した位置合わせ操作の際に、予め、その接着剤1aや液晶部材等の反作用(復元力)により予測される位置ずれ量分、すなわち戻り量分だけ加味した位置合わせ操作、例えば戻り分量を加算した位置合わせ操作を行うことによって、最終的に、ミクロン単位あるいはサブミクロン単位で許容された範囲の位置ずれ量で貼合わせが完了するように調整制御することができる。
【0080】
次に、上記第1の実施の形態では、制御器7は、下ステージ32(あるいは上ステージ31)を移動調整して弾性部材4の変形を解消させる旨説明したが、下基板12と下ステージ32との間(あるいは上基板11と上ステージ31との間)の連結、すなわち基板11,12の少なくともいずれか一方に対する吸着保持を一時的に解消させても、結果的に弾性部材4等における変形の拘束状態は解放されるので、同様に目的を達成することができる。
【0081】
図9は、位置合わせ操作時における弾性部材4等の変形による反作用を解消するために、一時的に基板保持を解消させる本発明の第2の実施の形態の基板の貼合わせ方法の手順(工程)を示したものである。なお、この方法を採用した基板の貼合わせ装置と、図1に示した基板の貼合わせ装置とは、弾性部材4内には必ずしも歪み計8を必要としない点において相違するのみであり、他の構成は同一であるので、図1の構成をも参照して説明する。なお、上下両基板11,12は、真空槽2内に供給されて上下両ステージ31,32に吸着保持され、真空槽2内はすでに真空状態に減圧されているものとする。
【0082】
すなわち、まず、第1の工程では、上下基板11,12を接着剤1aを介して重なり合わせる(ステップ9A)。
【0083】
第2の工程では、上下基板11,12間の位置ずれ量が小さくなるように位置合わせ操作を行う(ステップ9B)。
【0084】
次に、第3の工程で、両基板11,12のうち少なくともいずれか一方の基板に対し、ステージからの吸着保持を解除させる(ステップ9C)。
【0085】
次に、第4の工程において、吸着保持を解除した基板を再びステージが吸着保持し、予め設定された時間だけ、上下基板間11,12をさらに押圧する(ステップ9D)。このように、吸着保持が解除された基板を再び吸着保持することで、両基板11,12が押圧されたときに、この押圧により両基板11,12間に位置ずれが生じるのを防止できる。
【0086】
さらに、第5の工程では、上下両基板11,12が上下両ステージ31,32から解放され、真空槽2内が大気圧に戻される(ステップ9E)。真空槽2内が大気圧に戻された後、上ステージ31を上昇させ、貼り合わされた基板11,12は真空槽2内から不図示の搬送ロボットにより取り出され、例えば、接着剤1aの硬化工程等の次工程へと搬送される。
【0087】
上記のように、第3の工程(ステップ9C)の実行に際し、制御器7は、位置合わせ後の両基板11,12に対し、ステージ(少なくともステージ31またはステージ32のいずれか一方)の吸着等の保持を解除するように、例えば各吸着孔につらなる排気ポンプの制御、あるいは静電チャックの一時的解放制御等を行う。それにより、両ステージ31,32間の拘束のうち少なくとも一方での弾性部材4に対する拘束は解除されるので、位置合わせ操作に伴う弾性部材4の変形は解除され、弾性部材4の復元力に起因した両基板11,12間の位置合わせ精度の劣化を回避することができる。
【0088】
なお、この第2の実施の形態において、吸着等の解除後は、切り離された上ステージ31と上基板11との間の摩擦抵抗は、下基板12とこれを載置した弾性部材4との間の摩擦抵抗より小さいので、上ステージ31側で基板11の保持を解除した方が、弾性部材4等の復元作用がより円滑に行われる。
【0089】
また、上記説明では、上ステージ31は上基板11を押さえつけた状態で、基板11,12の保持を解放させたが、その解放操作をより確かなものとするために、単に吸着等解除にとどまらず、例えばプレス機構6を瞬時的にわずか上昇させ、上ステージ31の上基板11に対する押圧力をより小さく、あるいは押圧力が零となるように操作しても良い。
【0090】
上記第1及び第2の実施の形態における制御器7は、アライメントマークの撮影パターンに基づき、貼り合わせ操作時における位置合わせ操作を行い(ステップ8B、及びステップ9B)、その後、位置合わせ操作で変形した弾性部材4の変形を解消させ、変形した弾性部材4の復元力が、両基板の貼合わせ精度を劣化させないように制御を行うものである。
【0091】
すなわち、制御器7は、撮影パターンによる基板11,12間の位置ずれデータに基づき、下基板12を上基板11に位置合わせるべく、X−Y−θ移動機構5を駆動制御するが、X−Y−θ移動機構5は弾性体である弾性部材4を介して下基板12を移動調整するので、前述のように弾性部材4が変形し、位置合わせ操作にはやや時間を要する。
【0092】
そこで、基板11,12間の位置ずれ量と弾性部材4の変形量との関連を、予め実験等により求めておくことによって、制御器7は、弾性部材4の変形を加味したX−Y−θ移動機構5の制御を行い、円滑かつ迅速に位置合わせ操作を行うことができる。
【0093】
すなわち、本発明による基板の貼合わせ装置及び貼合わせ方法の第3の実施の形態では、上記第1及び第2の実施の形態とは相違し、制御器7は、アライメントマークの撮影パターンに基づき検出された最初の位置ずれ量に、その位置ずれ量の補正の際の弾性部材4の変形量を、予め求めたデータから読み出して加算し、X−Y−θ移動機構5を駆動制御する。
【0094】
すなわち、制御器7は、貼合わせ時の両基板11,12間の位置ずれ量と、その位置ずれ量を補正した結果、変形する弾性部材4の変形量との対応データを予め実験等に求め、内蔵されたROM等に記憶しておく
そこで、この第3の実施の形態による基板の貼合わせ方法の手順(工程)を図10に示したフローチャートを参照して説明する。なお、上下両基板11,12は、真空槽2内に供給されて上下両ステージ31,32に吸着保持され、真空槽2内はすでに真空状態に減圧されているものとする。
【0095】
まず、第1の工程では、上下基板11,12を接着剤1aを介して重なり合わせる(ステップ10A)。
【0096】
第2の工程では、上下基板11,12間の位置ずれ量を検出する(ステップ10B)。
【0097】
第3の工程では、検出された位置ずれ量から、その位置ずれ量を設定された許容範囲内に収めるべく、下基板12を移動させたときに、変形する弾性部材4の変形量を、予め実験等で求めてROM等に記憶されたデータから読み出す(ステップ10C)。
【0098】
第4の工程において、制御器7は、第2の工程で検出した位置ずれ量に、第3の工程で求めた弾性部材4の変形量を加味した下ステージ32に対する移動補正量(例えば、上記第2の工程で検出した位置ずれ量に上記第3の工程で求めた弾性部材4の変形量を加算した補正量)を算出する(ステップ10D)。
【0099】
第5の工程において、制御器7は、X−Y−θ移動機構5を制御し、第4の工程で算出した移動補正量分だけ下ステージ32を駆動する(ステップ10E)。
【0100】
次に、第6の工程において、制御器7は、上下基板11,12間の位置ずれ量が予め設定された許容範囲内に収まったか否か、撮像機器33,33によるアライメクトマーク11a,12aの撮像パターンに基づき判定する(ステップ10F)。
【0101】
第7の工程では、上記第6の工程において、上下基板11,12間の位置ずれ量が予め設定された許容範囲内に収まった(YES)と判定されたとき、制御器7は、第3の工程で求めた弾性部材4の変形量に基づいて、弾性部材4の変形量が零となる方向に下ステージ32を移動させる(ステップ10G)、続いて第8の工程において、制御器7は、接着剤1aをさらに押圧し、予め設定された時間の間、両基板11,12を押圧すべく、プレス機構6を制御する(ステップ10H)。
【0102】
最後に、第9の工程で、上下両基板11,12が上下両ステージ31,32から解放され、真空槽2内が大気圧に戻される(ステップ10I)。
【0103】
真空槽2内が大気圧に戻された後、上ステージ31を上昇させ、貼り合わされた基板11,12は、真空槽2内から不図示の搬送ロボットらより取り出され、例えば、接着剤1aの硬化工程等の次工程へ搬送される。
【0104】
上記第6の工程において、上下基板11,12間の位置ずれ量が予め設定された許容範囲内に収まっていない(NO)と判定されたとき、第2の工程(ステップ10B)に戻り、制御器7は、上下基板11,12間の位置ずれ量の検出操作を再度実行し、以後上記説明の手順を繰り返す。
【0105】
このように、この第3の実施の形態では、上下両基板11,12間の位置合わせ操作において、弾性部材4の変形量を加味して下ステージ32を移動させるので、位置合わせ操作の高速化を図ることができる。
【0106】
なお上記説明において、弾性部材4が変形して位置合わせが行われた後の、弾性部材4における変形の解消操作は、上記第1の実施の形態及び第2の実施の形態で説明した方法を採用することができる。
【0107】
従って、この第3の実施の形態によれば、円滑かつ効率的な位置合わせ操作を経て、この位置合わせ後の上下両基板11,12間の各位置精度の劣化を回避ないしは抑制することができる。
【0108】
なお、上記説明の各実施の形態では、矩形状の基板11,12に対して、中央部に1個、及び四隅部に各1個の合計5個、弾性部材4が配置されるように説明したが、これらの個数は基板サイズに応じて、適宜増減させて配置させることができる。また、その配置位置も、全ての弾性部材4が大小いずれの基板にも対応できても良く、また基板サイズに応じて、採用される弾性部材4を適宜選択し得るように構成することもできる。
【0109】
また、上記説明では、弾性部材4は、基板11,12の中央部と四隅に設ける旨説明したが、多面取りの場合は、各表示面毎にその中央部と四隅にそれぞれ配置させても良い。
【0110】
さらにまた、上記各実施の形態の説明では、上下基板11,12間の位置合わせに際し、上基板11側を降下移動させるように説明したが、下基板12側を上昇移動させるように構成しても良く、さらにX−Y−θ移動テーブルも、下ステージ32側ではなく、上ステージ31側に設けても、あるいは双方に構成設置して、X−Y−θ方向への移動操作を分担して行うようにしても良い。この場合、撮像機器33もそれらの機構に合わせて適宜構成配置できることは言うまでもない。
【0111】
また、歪み計8を内蔵させた弾性部材4は、下ステージに限らず、上ステージあるいは上下双方のステージに取付けるようにしても良い。
【0112】
また、上基板11と下基板12との間での、位置合わせ後における接着剤1aに対する押圧操作を、プレス機構6によることなく、真空槽2内昇圧による上下基板11,12における内外圧差を利用して行うこともできる。
【0113】
また、上基板11が下基板12に塗布された接着剤1aに接触した状態で位置合わせが行われる例で説明したが、上基板11あるいは下基板12には、接着剤1a以外にも液晶部材1b等の他の介在物が塗布されているので、上下両基板11,12の位置合わせを、液晶部材1bのみに接触させて行う場合、あるいは接着剤1aと液晶部材1bの双方に接触させて行う場合が考えられる。
【0114】
このような場合でも、上下両基板11,12の位置合わせの際、下基板12と下ステージ32との間の弾性部材4は、液晶部材1b、あるいは液晶部材1bと接着剤1a双方の粘性に起因する移動方向の抵抗を受けることから、上述した実施の形態を適用できる。
【0115】
また、上下両基板11,12を予め設定された時間だけ上ステージ31で加圧した後、上下両ステージ31,32による上下両基板11,12の吸着保持を解除し、その後、真空槽2内を大気圧に戻す例で説明したが、これに限らず、真空槽2内を大気圧に戻した後、あるいは大気圧に戻す過程で、上下両ステージ31,32による上下両基板11,12の吸着保持を解除するようにしても良い。
【0116】
また、上下両ステージ31,32による上下両基板11,12の吸着保持の解除は、同時に行ってもあるいは異なるタイミングで行っても良い。
【0117】
また、弾性部材4の弾性係数が等方性でない場合、縦弾性係数が横弾性係数より小さくなるように配置すると良い。このようにすることで、弾性部材4を上下両基板11,12の貼り合わせには柔軟に、位置合わせ操作時における上下両基板11,12の位置合わせ方向には頑強となるように構成することができるので、上下ステージ31,32間の凹凸を良好に吸収しつつ、位置合わせ操作時の変形を極力小さくすることができる。
【0118】
さらにまた、真空槽2内のステージ32には、上下基板11,12の受け渡し機能も併せ具備させることができる。すなわち、図示しないが、エアシリンダ等の駆動源にて駆動されて上下動するリフトピンが、弾性部材4を避けるように、下ステージ32の面に向けて多数配置され、そのリフトピンが上下動することで、下基板12の下ステージ32に対する受け渡しを効率的に行うことができる。
【0119】
上記説明による本発明の基板の貼合わせ装置及び基板の貼合わせ方法によれば、均一で高品質な貼合わせのための弾性部材が、位置合わせ操作で変形し、その復元力が、貼合わせ精度を劣化させるのを回避させることができるものであり、液晶基板等の製造工程に採用して優れた効果を得ることができる。
【0120】
【発明の効果】
以上説明のように、本発明によれば、大型のガラス製の基板でも、高精度な貼り合わせを、効率的に行うことができるものであり、液晶表示パネルの製造等に適用し、実用上優れた効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による基板の貼合わせ装置の第1の実施の形態を示した要部正面図である。
【図2】図1に示した装置の弾性部材の拡大斜視図である。
【図3】図2に示した装置のA−A線から矢印方向に切断させたときの平面図である。
【図4】図1に示す第1の実施の形態の要部拡大正面図である。
【図5】図4に示した状態から基板の位置合わせを行った状態を示す要部拡大正面図である。
【図6】図5に示した状態から、上基板11が接着剤1aを押圧した状態を示す要部拡大正面図である。
【図7】図6に示した弾性部材4の変形量が零となるようにした状態を示す要部拡大正面図である。
【図8】図1に示した第1の実施の形態における基板の貼合わせ方法を示すフローチャートである。
【図9】本発明による第2の実施の形態における基板の貼合わせ方法を示すフローチャートである。
【図10】本発明による第3の実施の形態における基板の貼合わせ方法を示すフローチャートである。
【図11】従来の基板の貼合わせ装置を示した要部正面図である。
【図12】図11示した装置の要部拡大正面図である。
【図13】図12に示した状態から基板を位置合わせた状態を示す要部拡大正面図である。
【図14】図13に示した状態で、上基板11が接着剤1aを押圧した状態を示す要部拡大正面図である。
【図15】図14に示した状態で、弾性部材4に復元力が作用した状態を示す要部拡大正面図である。
【符号の説明】
11 上基板
12 下基板
1a 接着剤(介在物)
1b 液晶部材(介在物)
2 真空槽
21,22 上下蓋(真空槽)
31 上ステージ
32 下ステージ
33 撮像機器
4 弾性部材
5 X−Y−θ移動機構
6 プレス機構
7 制御器
8 歪み計
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an improvement in a substrate bonding apparatus and a bonding method for bonding two substrates to each other.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art A liquid crystal display panel is manufactured by bonding two substrates made of glass with a liquid crystal member interposed therebetween. For bonding the substrates, an adhesive ( For example, a sealing agent) is applied.
[0003]
In order to form a high-definition liquid crystal display screen, it is necessary to bond two rectangular substrates with high accuracy. Therefore, alignment based on an imaging pattern of an alignment (positioning) mark of each substrate is required. It is desired that the two substrates be brought as close as possible. Thus, for example, in a vacuum chamber, the two substrates positioned and opposed by so-called pre-alignment are brought close to each other until the other substrate surface comes into contact with the adhesive applied to one substrate, Is in contact with the adhesive applied to the other substrate surface, a highly accurate alignment operation based on the alignment mark is performed.
[0004]
FIG. 11 is a front view of a main part of a conventional substrate bonding apparatus. FIG. 12 shows a state in which the upper and lower substrates in FIG. 11 are overlapped, and the upper substrate is brought into contact with the adhesive applied to the lower substrate in order to perform a highly accurate alignment operation based on the alignment marks formed on each substrate. It is a principal part expanded sectional view which shows the state which folded.
[0005]
As shown in FIG. 11, the upper substrate 11 and the lower substrate 12 to be attached are opposed to each other in a vacuum chamber 2 including an upper lid 21 and a lower lid 22, and the upper substrate 11 is placed on an upper stage (upper platen) 31. The lower substrate 12 is held on the lower surface, and is placed and held on a lower stage (lower surface plate) 32.
[0006]
In order for a uniform gap (gap) to be formed between the two substrates 11 and 12 and to bond them well, each of the substrates 11 and 12 has good flatness without waving, and has an uneven gap. It is required that the adhesive 1a be pressed in a state where (gap unevenness) is not formed.
[0007]
However, the glass substrates 11 and 12 themselves are thin and flexible, and have the property of being easily deformed as a whole. Also, it is not easy to obtain flatness over a large area of the stages 31, 32 having high rigidity by mechanical processing.
[0008]
Accordingly, gap unevenness may occur between the two substrates 11 and 12 bonded by the stages 31 and 32.
[0009]
Therefore, in the substrate bonding apparatus shown in FIG. 11, the lower substrate 12 is suction-held on the lower stage 32 via the plurality of elastic members 4, and the elastic members 4 are provided on the surfaces of the upper and lower stages 31, 32. Irregularities are absorbed and alleviated, so that the entire adhesive 1a is uniformly pressed between the upper and lower substrates 11 and 12.
[0010]
In the front view of FIG. 11, on the lower stage 32, the number of the elastic members 4 for sucking and holding the rectangular lower substrate 12 is one for sucking and holding the central part of the substrate and the other for sucking and holding the four corners of the substrate. This indicates that the number is four and four in total.
[0011]
In FIG. 11, a plurality (5) of the elastic members 4 are mounted and fixed on the lower stage 31, but an example in which the substrate is held via one sheet-like elastic member is known. (See Patent Document 1).
[0012]
Therefore, in the substrate bonding apparatus shown in FIG. 11, the lower stage 32 itself in the vacuum chamber 2 is connected to the operating shaft 5a of the XY-θ moving mechanism 5 disposed outside and below the lower lid 22. The relative position between the upper and lower substrates 11 and 12 held by suction can be adjusted in the horizontal direction.
[0013]
The upper stage 31 having the function of a pressure plate in the vacuum chamber 2 is connected to the press mechanism 6 mounted on the upper lid 21 and is configured to be movable in the direction of the arrow Z (up and down) in the figure.
[0014]
In the substrate bonding apparatus shown in FIG. 11, in order to bond the two substrates 11 and 12 with high accuracy via the adhesive 1a, the substrates 11 and 12 which are opposed to each other in the vacuum chamber 2 are pre-aligned. After the rough alignment, the upper stage 31 is lowered, and the lower surface of the upper substrate 11 contacts the adhesive 1a on the lower substrate 12, as shown in an enlarged view in FIG. In a state in which the gaps 12 face each other with a narrow gap H, a highly accurate alignment operation based on the alignment mark is performed again.
[0015]
That is, as shown in FIG. 12, in the alignment between the upper and lower substrates 11, 12 in a state where the substrates 11, 12 face each other at a narrow interval H, that is, in the alignment operation, as shown in FIG. Imaging devices 33, 33, such as CCD cameras, capture and capture the alignment marks 11a, 12a of the substrates 11, 12 through the light transmitting window 22a of the lower lid 22 and the through hole 32a of the lower stage 32. The photographing pattern is supplied to the controller 7.
[0016]
The controller 7 having received the supply of the photographing pattern of the alignment marks 11a and 12a detects the amount of displacement Δd between the substrates 11 and 12 in the horizontal plane by a pattern recognition method as shown in FIG. The XY-θ moving mechanism 5 is drive-controlled in such a manner that the displacement amount Δd becomes smaller and falls within a preset allowable range, preferably such that the displacement amount becomes zero. As a result, for example, as shown in FIG. 13, the alignment is performed in units of microns or submicrons so that the positional deviation amount Δd becomes almost zero.
[0017]
When the controller 7 drives the XY-θ moving mechanism 5, the lower substrate 12 sucked and held on the lower stage via the elastic member 4 is caused by the viscosity of the adhesive 1a between the lower substrate 12 and the upper substrate 11. Move against the resistance you do. At that time, since the XY-θ moving mechanism 5 attempts to move the lower substrate 12 against the resistance in the moving direction due to the adhesive 1a, at the time when the positioning operation of the substrates 11 and 12 is completed, As shown in FIG. 13, the elastic member 4 located between the lower substrate 12 and the lower stage 32 and having a lower rigidity than the lower stage 32 has a horizontal deformation amount of a distance Δk.
[0018]
After the elastic member 4 is deformed by the distance Δk and the upper and lower substrates 11 and 12 are aligned, the controller 7 pushes down the upper stage 31 in the direction (downward) indicated by the arrow Z in FIG. Since the pressure is applied for the set time and the adhesive 1a is crushed, the distance between the upper and lower substrates 11 and 12 is reduced to a distance h (h <H) as shown in FIG.
[0019]
Thereafter, the substrates 11 and 12 are released from the upper and lower stages 31 and 32, and the inside of the vacuum chamber 2 is returned to the atmospheric pressure, whereby the bonding is completed. The two substrates 11 and 12 after the bonding are completed are conveyed to a step of curing the adhesive 1a, and the adhesive 1a is cured.
[0020]
Although the positioning operation between the upper and lower substrates 11 and 12 has been described as being performed in one direction (X direction), the positioning correction in the XY-θ direction is actually performed on a horizontal plane. Is performed.
[0021]
As shown in FIG. 12, when the upper substrate 11 is in contact with the adhesive 1a and the upper and lower substrates 11, 12 are opposed to each other at an interval H, the lower surface of the upper substrate 11 is not limited to the adhesive 1a. The elastic member 4 may be in contact with the liquid crystal member 1b dropped on the display surface or a spacer (not shown). It may be deformed due to resistance in the movement direction due to contact with the object.
[0022]
[Patent Document 1]
JP-A No. 11-264895 (page 4)
[0023]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, in the conventional substrate bonding apparatus and bonding method, the controller 7 sets the imaging pattern in advance based on the imaging patterns of the alignment marks 11a and 12a provided on the surfaces of both substrates 11 and 12. The drive of the XY-θ moving mechanism 5 is controlled so as to coincide within the set allowable range, and thereafter, the adhesive 1a is further pressed to bond the upper and lower substrates 11 and 12 together.
[0024]
In the positioning operation (alignment) at the time of the bonding, the elastic member 4 provided to form a uniform pressing force between the upper and lower substrates 11 and 12 is horizontal as shown in FIGS. The distance Δk is deformed in the direction.
[0025]
However, it takes time until the bonding operation is completed and the suction holding of the substrates 11 and 12 is released. During this time, the restoring force of the elastic member 4 deformed by the distance Δk causes the lower substrate 12 sucked and held to move. It acts as a force to move in the direction indicated by arrow X in FIG.
[0026]
Therefore, the lower substrate 12 that has been once aligned with the upper substrate 11 has an arrow shown in FIG. 14 due to the restoring force of the elastic member 4 acting until the suction holding of the substrates 11 and 12 is released. X, the amount of deformation of the elastic member 4 in the horizontal direction also decreases from the distance Δk to the distance Δn (Δn <Δk), as shown in FIG. Between 11 and 12, there occurs a phenomenon that a positional shift is caused in the horizontal direction (X direction) by a distance Δm. As a result, the positioning accuracy between the two substrates 11 and 12 may be out of the allowable range of the initial micron unit or submicron unit.
[0027]
Therefore, an object of the present invention is to provide a substrate bonding apparatus and a substrate bonding method that can perform appropriate and high-quality substrate bonding.
[0028]
[Means for Solving the Problems]
A first invention provides a substrate bonding apparatus for bonding an upper substrate held on an upper stage and a lower substrate disposed on the lower substrate and opposed to the upper substrate via an adhesive, An elastic member interposed between at least one of the upper stage and the upper substrate, or at least one of the lower stage and the lower substrate; a detecting unit for detecting a horizontal deformation amount of the elastic member; And a drive control unit for relatively moving the upper stage and the lower stage based on the amount of deformation detected by the control unit.
[0029]
According to the first aspect of the invention, there is provided detecting means for detecting the amount of deformation of the elastic member in the horizontal direction, and the drive control means controls the upper stage and the lower stage based on the amount of deformation detected by the detecting means. Since it can be relatively moved, the action by the restoring force of the elastic member, that is, the action of returning the upper and lower substrates to the state before the alignment is performed can be reduced or avoided, and the upper and lower substrates are in a state where the displacement is small. Then, it is bonded with high precision.
[0030]
A second invention is a substrate bonding apparatus for bonding an upper substrate held on an upper stage and a lower substrate disposed on the lower substrate and opposed to the upper substrate via an adhesive, An elastic member interposed between at least one of the upper stage and the upper substrate, or at least one of the lower stage and the lower substrate, and between the upper stage and the upper substrate sandwiching the elastic member, or a lower substrate Detecting means for detecting a horizontal displacement amount between the lower stage and a drive control means for relatively moving the upper stage and the lower stage based on the displacement amount detected by the detecting means; It is characterized by having.
[0031]
According to the second aspect, a detecting means for detecting a horizontal displacement amount between the upper stage and the upper substrate sandwiching the elastic member, or between the lower substrate and the lower stage also sandwiching the elastic member. And the drive control means relatively moves the upper stage and the lower stage based on the amount of displacement detected by the detection means. A decrease in alignment accuracy can be avoided or suppressed. Therefore, the action of the elastic member due to the restoring force, that is, the action of returning the upper and lower substrates to a state before the alignment is performed is reduced or avoided, and the upper and lower substrates are bonded with high accuracy with a small displacement.
[0032]
According to a third aspect, an elastic member is interposed between at least one of an upper stage and an upper substrate held by the upper stage or between a lower stage and a lower substrate held by the lower stage, The substrate and the lower substrate are subjected to a positioning operation in a state where they are in contact with each other via an intermediary such as an adhesive, and in a method of bonding a substrate to be bonded via an adhesive, the upper substrate and the lower substrate A first step of superposing through the intervening object, and after the first step, controlling a relative position between the upper stage and the lower stage, and between the upper substrate and the lower substrate A second step of performing the positioning operation of the elastic member, a third step of detecting a horizontal deformation amount of the elastic member after the second step, and a step of detecting the amount of deformation of the elastic member after the third step. The upper stage in the direction in which the amount of deformation decreases Characterized in that comprising a fourth step for relatively moving said lower stage.
[0033]
According to the third aspect, in the third step, the amount of deformation of the elastic member in the horizontal direction is detected, and in the fourth step, the upper stage and the lower stage are moved in a direction in which the amount of deformation of the elastic member decreases. Since the relative movement is performed, similarly to the first invention, it is possible to suppress or avoid a reduction in the positioning accuracy between the upper and lower substrates to be bonded due to the action of the restoring force of the elastic member.
[0034]
In a fourth aspect, an elastic member is interposed between at least one of an upper stage and an upper substrate held by the upper stage, or at least one of a lower stage and a lower substrate held by the lower stage, The substrate and the lower substrate are subjected to a positioning operation in a state where they are in contact with each other via an intermediary such as an adhesive, and in a method of bonding a substrate to be bonded via an adhesive, the upper substrate and the lower substrate A first step of superposing through the intervening object, and after the first step, controlling a relative position between the upper stage and the lower stage, and between the upper substrate and the lower substrate A second step of performing the positioning operation of the above, after the second step, between the upper substrate and the lower substrate between the substrate held via the elastic member and the stage holding the substrate Based on the deformation of the elastic member A third step of obtaining a horizontal positional shift amount, and after the third step, a fourth step of relatively moving the upper stage and the lower stage in a direction in which the horizontal positional shift amount decreases. And the step of:
[0035]
As described above, the fourth aspect of the present invention is based on the amount of misalignment between the upper stage and the upper substrate, or between the lower stage and the lower substrate, sandwiching the elastic member, determined in the third step. Since the lower stage is relatively moved (fourth step), it is possible to suppress or avoid a reduction in the positioning accuracy between the upper and lower substrates to be bonded due to the action of the restoring force of the elastic member. .
[0036]
In a fifth aspect, an elastic member is interposed between at least one of the upper stage and the upper substrate held by the upper stage, or between the lower stage and the lower substrate held by the lower stage, The upper substrate and the lower substrate are subjected to a positioning operation in a state where they are brought into contact with each other through an intervening substance such as an adhesive, and in a method of bonding a substrate to be bonded through an adhesive, the upper substrate and the lower substrate are bonded together. A first step of superimposing the substrate with the interposition of the inclusion, and after the first step, controlling a relative position between the upper stage and the lower stage, the upper substrate and the lower substrate And a second step of releasing at least one of the holding of the upper substrate by the upper stage and the holding of the lower substrate by the lower stage after the second step of performing the positioning operation during the second step. Step 3 After the third step, characterized by comprising a fourth step of bonding said lower substrate and the upper substrate.
[0037]
As described above, according to the fifth aspect, prior to the fourth step of bonding the upper substrate and the lower substrate, in the third step, the holding of the upper substrate by the upper stage or the holding of the lower substrate by the lower stage Is released by releasing at least one of them, so that the effect of the restoring force of the elastic member deformed at the time of the positioning operation can be reduced or avoided, and the upper and lower substrates are accurately bonded.
[0038]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of a substrate bonding apparatus and a substrate bonding method according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS. The same components as those of the conventional substrate bonding apparatus and the conventional substrate bonding method shown in FIGS. 11 to 15 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
[0039]
That is, FIG. 1 is a front view showing a first embodiment of the substrate bonding apparatus according to the present invention.
[0040]
As shown in FIG. 1, in the substrate bonding apparatus according to the first embodiment, an upper stage 11 and a lower substrate 12 are opposed to each other in a vacuum chamber 2 including an upper lid 21 and a lower lid 22. 31 and the lower stage 32 respectively.
[0041]
Although the upper substrate 11 is directly held by suction on the upper stage 31, a plurality (5) of the upper and lower stages 31 and 32 are used in order to absorb irregularities on the surfaces of the upper and lower stages 31 and 32 and to prevent poor bonding of the adhesive 1a due to the irregularities. The lower substrate 12 is suction-held on the lower stage 32 via the elastic member 4.
[0042]
As shown in an enlarged perspective view of FIG. 2, all of the plurality (5) of the elastic members 4 have a flat rectangular shape, and are exhausted from the lower stage 32 for the suction chuck. 4 a is configured to adsorb the lower substrate 12 placed on the elastic member 4. As shown in FIG. 2, a known strain gauge 8 is built in the elastic member 4 that sucks and holds the central portion of the lower substrate 12, and the elastic member 4 itself receives horizontal mechanical force when receiving a mechanical external force. When deformed in the direction, the flexible strain gauge 8 detects the amount of change in the horizontal direction of the elastic member 4 and supplies the detected data to the controller 7 as shown in FIG. It is connected.
[0043]
FIG. 3 is a plan view of the elastic member 4 shown in FIG. 2 cut along line AA in the direction of the arrow, and showing the built-in strain gauge 8 as viewed from above.
[0044]
The sensor disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-397350 can be applied to the strain gauge 8 of this embodiment. That is, in the strain gauge 8, four electrode bodies 81, 82, 83, and 84, which form a pair with a pressure-sensitive resistor sandwiched therebetween in the vertical (Z-axis) direction, are arranged at intervals of 90 degrees, and the X-axis in the horizontal direction is arranged. The mechanical moment accompanying the deformation of the elastic member 4 received around the periphery and around the Y axis is converted into a voltage value and output, and supplied to the controller 7.
[0045]
The lower stage 32 on which the elastic member 4 is mounted is fixed to the XY-θ moving mechanism 5 and moves in a horizontal plane to adjust the relative position between the upper and lower substrates 11 and 12 as in the related art. Is configured.
[0046]
In the first embodiment, the strain gauge 8 is built in the elastic member 4 at the center of the lower substrate 11, but all or four of the elastic members 4 provided at the four corners including the center are provided. Among the plurality of elastic members 4, the strain gauge 8 can be built in any selected elastic member 4.
[0047]
Therefore, in the positioning operation of the opposing substrates 11 and 12, for example, after pre-alignment, first, the controller 7 controls the press mechanism 6 to lower the upper stage 21 and, as shown in an enlarged manner in FIG. The operation is performed so that the substrates 11 and 12 are opposed to each other with a narrow gap H, and the upper substrate 11 is slightly in contact with the adhesive 1 a on the lower substrate 12.
[0048]
In the state shown in FIG. 4, similarly to the conventional case, imaging devices 33, 33 installed below photograph alignment (positioning) marks 11 a, 12 a of the substrates 11, 12, and control the photographing pattern by a controller. 7
[0049]
The controller 7 which has received the supply of the photographing pattern detects the positional deviation amount Δd between the substrates 11 and 12 by pattern recognition, and the positional deviation amount Δd falls within a preset allowable range, preferably the positional deviation amount. The drive of the XY-θ moving mechanism 5 is appropriately controlled so that the amount Δd becomes close to zero and bonding is performed with high accuracy.
[0050]
At this time, the XY-θ moving mechanism 5 moves the lower substrate 12 against the contact resistance between the adhesive 1a, the liquid crystal member 1b, etc. and the upper substrate 11, as shown in FIG. The elastic member 4 between the lower substrate 12 and the lower stage 32 is deformed in the horizontal direction by a distance Δk, and the amount of deformation of the distance Δk is detected by a built-in strain gauge 8. Supplied to
[0051]
At this time, assuming that there is no slip between the lower substrate 12 and the elastic member 4, the controller 7 detects the slip between the lower stage 32 and the lower substrate 12 based on the detection signal as shown in FIG. The amount of deviation between the state and the state shown in FIG. 5 can be obtained.
[0052]
Next, the controller 7 controls the drive of the press mechanism 6 and pushes down the upper stage 31 in the direction (downward) indicated by the arrow Z in FIG. 5 so that the upper and lower substrates 11 and 12 are kept for a preset time. , The distance between the upper and lower substrates 11 and 12 is further reduced.
[0053]
Before the controller 7 pushes down the upper stage 31, the controller 7 drives the XY-θ moving mechanism 5 based on the detection signal of the deformation amount (distance Δk) from the strain gauge 8, and The lower stage 32 is controlled to move in a direction in which the deformation amount (distance Δk) of the member 4 decreases.
[0054]
Thereby, as shown in FIG. 7, the deformation of the elastic member 4 on the XY-θ plane is eliminated.
[0055]
That is, according to the first embodiment, the restoring force caused by the deformation of the elastic member 4 based on the alignment adjustment (alignment) is eliminated or greatly reduced, so that the upper and lower substrates 11, 12 are aligned. The position is shifted by the restoring force of the elastic member 4 between the time when the adjustment is completed and the above-described lower operation of the upper stage 31 is performed and the upper and lower substrates 11 and 12 are released from the upper and lower stages 31 and 32. Instead, they are bonded together while maintaining a state of high-accuracy alignment.
[0056]
In the first embodiment shown in FIG. 1, the five elastic members 4 are mounted on the upper surface of the rectangular lower stage 32, and the strain gauge 8 is built in only one of the central portions. For example, when the strain gauges 8 are built in all the five elastic members 4, the controller 7 controls the deformation amounts detected by the plurality of strain gauges 8, for example, an average value or a center value. The value may be calculated and, based on the average value or the median value, the movement may be controlled in the direction in which the amount of positional deviation (distance Δk) in the horizontal direction (shown in FIG. 5 or FIG. 6) becomes smaller.
[0057]
The positioning operation in the horizontal direction (XY-θ direction) can be divided into a positioning operation in the XY (perpendicular) direction and a positioning operation in the θ (turning) direction. .
[0058]
In the alignment in the XY directions, any of the elastic members 4 can be detected as the amount of deformation in the same direction (XY directions). The amount of operation on the XY-θ moving mechanism 5 can be obtained by a simple operation of calculating a value.
[0059]
On the other hand, in the alignment in the θ direction, the amount of deformation in the X and Y directions of the elastic member 4 detected at the center of the substrate, which is the center of rotation of the substrate, is extremely small. An elastic member 4 having a built-in strain gauge 8 is provided, and the detected value of the amount of deformation in each of the strain gauges 8 provided at the four corners in the X and Y directions is used to determine the angle between the lower stage 32 and the lower substrate 12 in the θ direction. The amount of displacement is geometrically determined, and the amount of operation in the direction in which the amount of deformation of the elastic member 4 at each of the four corners is reduced can be determined.
[0060]
In the first embodiment, the amount of deformation of the elastic member 4 due to the positioning operation is configured to be detected by the strain gauge 8, but the amount of deformation of the elastic member 4 corresponds to the lower substrate 12 shown in FIG. The difference is the difference between the positional relationship between the lower substrate 32 and the lower stage 32 shown in FIG.
[0061]
That is, eliminating the distortion of the elastic member 4 means returning the positional relationship between the lower substrate 12 and the lower stage 32 from the state of FIG. 5 to the state of FIG.
[0062]
Therefore, without providing the strain gauge 8 on the elastic member 4, the state before the alignment between the lower substrate 12 and the lower stage 32 sandwiching the elastic member 4 in the vertical direction (result of deformation of the elastic member 4 is caused. Also, the purpose can be similarly achieved by detecting the amount of displacement after the alignment and controlling the position of the lower stage 32 in a direction in which the detected value becomes zero.
[0063]
Therefore, in the method of detecting the amount of displacement between the lower substrate 12 and the lower stage 32 with the elastic member 4 interposed therebetween, the alignment marks 12a of the lower substrate 12 captured by the imaging devices 33, 33 are shown in FIG. The position on the XY coordinate axis photographed in the state (before alignment) and the XY coordinate axis after deformation of the elastic member 4 (by alignment) as shown in FIG. 5 or FIG. The controller 7 may calculate the amount of deviation from the position, and perform correction control of the XY-θ moving mechanism 5 based on the calculated amount.
[0064]
Furthermore, in this embodiment, the lower stage 32 is moved in order to eliminate the deformation of the elastic member 4, but an XY-θ moving mechanism is incorporated in the upper stage 31 to move the upper stage 31. Then, the lower substrate 12 may be moved.
[0065]
Alternatively, the XY-θ moving mechanism may be connected to both the upper and lower stages 31 and 32 and incorporated so that the operation of correcting the amount of displacement with respect to the elastic member 4 may be shared and performed. At this time, the elastic member 4 may be attached to one or both of the upper and lower stages 31 and 32, and may be operated so that the amount of deformation of the elastic member 4 during the bonding operation is returned to zero.
[0066]
Next, a procedure (step) of bonding two substrates using the substrate bonding apparatus of the first embodiment shown in FIG. 1 will be described below with reference to a flowchart shown in FIG. Note that the upper and lower substrates 11 and 12 are supplied into the vacuum chamber 2 and are sucked and held by the upper and lower stages 31 and 32, and the inside of the vacuum chamber 2 has been reduced to a vacuum state.
[0067]
First, in the first step, the upper and lower substrates 11 and 12 are overlapped via the adhesive 1a (step 8A).
[0068]
In the second step, a positioning operation is performed in a direction in which the amount of displacement between the upper and lower substrates 11 and 12 is reduced (step 8B).
[0069]
Next, in a third step, the amount of deformation of the elastic member 4 caused by the positioning operation of the two substrates 11 and 12 is detected (Step 8C).
[0070]
Next, in a fourth step, the lower stage 12 is moved and adjusted in a direction in which the amount of deformation of the elastic member becomes zero (Step 8D).
[0071]
Thereafter, as a fifth step, the upper and lower substrates 11 and 12 are further pressed for a preset time (step 8E).
[0072]
Further, in the sixth step, the upper and lower substrates 11, 12 are released from the upper and lower stages 31, 32, and the inside of the vacuum chamber 2 is returned to the atmospheric pressure (step 8F).
[0073]
After the inside of the vacuum chamber 2 is returned to the atmospheric pressure, the upper stage 31 is raised, and the bonded substrates 11 and 12 are taken out of the vacuum chamber 2 by a transfer robot (not shown). To the next step.
[0074]
In the above description of the procedure, after the lower stage 12 is moved and adjusted (Step 8D), the adhesive 1a is further pressed to bond the upper and lower substrates (Step 8E). The method for bonding the substrates according to the first embodiment is only required to prevent the restoring force of the elastic member 4 deformed during the positioning operation from acting between the aligned substrates 11 and 12. It may be performed at least until either the suction holding of the upper substrate 11 by the upper stage 31 or the suction holding of the lower substrate 12 by the lower stage 32 is released, and even if Step 8D is executed during Step 8E. The purpose can be achieved as well. However, the operation of eliminating the deformation of the elastic member 4 is preferably performed in the order of Step 8B → Step 8C → Step 8D as described above, since the effect of preventing the displacement due to the restoring force increases when the operation is performed as soon as possible.
[0075]
When the upper and lower substrates 11 and 12 are aligned, not only the adhesive 1a in contact with the upper substrate 11 but also the viscous liquid crystal member 1b and the spacer are in contact with the upper substrate 11. The member 4 is deformed in addition to the contact resistance between the adhesive 1a, the liquid crystal member 1b, and the like and the upper substrate 11, and resists the inherent viscosity of the liquid crystal member 1b, the spacer, etc. as well as the adhesive 1a.
[0076]
In other words, in the positioning operation of the upper and lower substrates 11 and 12, not only the elastic member 4 but also the adhesive 1a and the liquid crystal member 1b are deformed with viscosity.
[0077]
Accordingly, the controller 7 operates the XY-θ moving mechanism 5 to return the deformation amount Δk of the elastic member 4 itself to zero, so that there is no apparent displacement between the upper and lower substrates 11 and 12. Even if it looks like it is, a reaction due to the viscosity of the adhesive 1a or the liquid crystal member 1b deformed during the alignment operation acts, and a new displacement occurs between the upper and lower substrates 11 and 12. It is also conceivable to let them.
[0078]
In order to avoid this phenomenon, the controller 7 sets, for example, a coefficient σ (0 <σ <1) in the moving operation amount for eliminating the change amount Δk of the elastic member 4 in anticipation of the reaction of the adhesive 1a or the like. A restriction such as multiplication may be provided. The coefficient σ can be determined, for example, based on the result of experimentally determining the amount of displacement between the upper and lower substrates 11, 12 caused by the reaction of the adhesive 1a or the like after correcting the deformation amount Δk of the elastic member 4. it can.
[0079]
Alternatively, when the controller 7 drives the XY-θ moving mechanism 5 to perform the positioning operation, the position deviation amount predicted in advance by the reaction (restoring force) of the adhesive 1a, the liquid crystal member, or the like. In other words, by performing a positioning operation taking into account the return amount, for example, by performing a positioning operation in which the return amount is added, the bonding is finally completed with a positional deviation amount within a permissible range in micron units or sub-micron units. Adjustment control can be performed.
[0080]
Next, in the first embodiment described above, the controller 7 moves and adjusts the lower stage 32 (or the upper stage 31) to eliminate the deformation of the elastic member 4, but the lower substrate 12 and the lower stage 32 (or between the upper substrate 11 and the upper stage 31), that is, even if the suction holding to at least one of the substrates 11 and 12 is temporarily canceled, the elastic member 4 Since the restrained state of the deformation is released, the object can be similarly achieved.
[0081]
FIG. 9 shows a procedure (step) of a substrate bonding method according to the second embodiment of the present invention for temporarily canceling substrate holding in order to eliminate a reaction due to deformation of the elastic member 4 or the like at the time of an alignment operation. ). Note that the substrate bonding apparatus employing this method is different from the substrate bonding apparatus shown in FIG. 1 only in that the strain gauge 8 is not necessarily required in the elastic member 4. Since the configuration is the same, a description will be given also with reference to the configuration of FIG. Note that the upper and lower substrates 11 and 12 are supplied into the vacuum chamber 2 and are sucked and held by the upper and lower stages 31 and 32, and the inside of the vacuum chamber 2 has been reduced to a vacuum state.
[0082]
That is, first, in the first step, the upper and lower substrates 11 and 12 are overlapped via the adhesive 1a (step 9A).
[0083]
In the second step, a positioning operation is performed so that the amount of displacement between the upper and lower substrates 11 and 12 is reduced (step 9B).
[0084]
Next, in a third step, at least one of the substrates 11 and 12 is released from the stage by suction (step 9C).
[0085]
Next, in the fourth step, the stage that has released the suction holding is sucked and held again by the stage, and the upper and lower substrates 11, 12 are further pressed for a preset time (step 9D). In this manner, by holding the released substrate by suction again, when the substrates 11 and 12 are pressed, it is possible to prevent the displacement between the substrates 11 and 12 due to the pressing.
[0086]
Further, in the fifth step, the upper and lower substrates 11, 12 are released from the upper and lower stages 31, 32, and the inside of the vacuum chamber 2 is returned to the atmospheric pressure (step 9E). After the inside of the vacuum chamber 2 is returned to the atmospheric pressure, the upper stage 31 is raised, and the bonded substrates 11 and 12 are taken out of the vacuum chamber 2 by a transfer robot (not shown). And so on.
[0087]
As described above, at the time of performing the third step (step 9C), the controller 7 causes the stage (at least one of the stage 31 and the stage 32) to be attracted to the two substrates 11 and 12 after the alignment. For example, control of an exhaust pump connected to each suction hole or temporary release control of the electrostatic chuck is performed so as to release the holding. As a result, at least one of the constraints between the two stages 31 and 32 is released from the constraint on the elastic member 4, so that the deformation of the elastic member 4 due to the positioning operation is released, and the elastic member 4 is caused by the restoring force. Thus, it is possible to avoid the deterioration of the positioning accuracy between the two substrates 11 and 12.
[0088]
In the second embodiment, after releasing the suction or the like, the frictional resistance between the separated upper stage 31 and the upper substrate 11 is determined by the lower substrate 12 and the elastic member 4 on which the lower substrate 12 is placed. Since the frictional resistance between the elastic members 4 and the like is smaller, the restoring action of the elastic member 4 and the like is performed more smoothly when the holding of the substrate 11 is released on the upper stage 31 side.
[0089]
In the above description, the upper stage 31 releases the holding of the substrates 11 and 12 in a state where the upper substrate 11 is pressed down. However, in order to make the releasing operation more reliable, the upper stage 31 is not limited to simply releasing the suction or the like. Instead, for example, the press mechanism 6 may be momentarily raised slightly to operate the upper stage 31 such that the pressing force on the upper substrate 11 is smaller or the pressing force becomes zero.
[0090]
The controller 7 in the first and second embodiments performs a positioning operation at the time of the bonding operation based on the photographing pattern of the alignment mark (Steps 8B and 9B), and then deforms by the positioning operation. The control is performed so that the deformed elastic member 4 is eliminated and the restoring force of the deformed elastic member 4 does not deteriorate the bonding accuracy of the two substrates.
[0091]
That is, the controller 7 controls the driving of the XY-θ moving mechanism 5 to align the lower substrate 12 with the upper substrate 11 based on the displacement data between the substrates 11 and 12 based on the photographing pattern. Since the Y-θ moving mechanism 5 moves and adjusts the lower substrate 12 via the elastic member 4 which is an elastic body, the elastic member 4 is deformed as described above, and the alignment operation requires a little time.
[0092]
The controller 7 determines the relationship between the amount of displacement between the substrates 11 and 12 and the amount of deformation of the elastic member 4 in advance by experiments or the like, so that the controller 7 can take into account the deformation of the elastic member 4. By controlling the θ moving mechanism 5, the positioning operation can be performed smoothly and quickly.
[0093]
That is, in the third embodiment of the substrate laminating apparatus and the laminating method according to the present invention, the controller 7 is different from the first and second embodiments in that the controller 7 is based on the photographing pattern of the alignment mark. The amount of deformation of the elastic member 4 at the time of correcting the amount of displacement detected is read out from data obtained in advance and added to the detected amount of displacement, and the XY-θ moving mechanism 5 is drive-controlled.
[0094]
That is, the controller 7 obtains, in an experiment or the like, data corresponding to the amount of displacement between the substrates 11 and 12 at the time of bonding and the amount of deformation of the deformable elastic member 4 as a result of correcting the amount of displacement. , Stored in the built-in ROM, etc.
Therefore, a procedure (step) of the method for bonding substrates according to the third embodiment will be described with reference to a flowchart shown in FIG. Note that the upper and lower substrates 11 and 12 are supplied into the vacuum chamber 2 and are sucked and held by the upper and lower stages 31 and 32, and the inside of the vacuum chamber 2 has been reduced to a vacuum state.
[0095]
First, in the first step, the upper and lower substrates 11, 12 are overlapped via the adhesive 1a (step 10A).
[0096]
In the second step, the amount of displacement between the upper and lower substrates 11, 12 is detected (step 10B).
[0097]
In the third step, the amount of deformation of the elastic member 4 that is deformed when the lower substrate 12 is moved is determined in advance based on the detected amount of displacement so that the amount of displacement is within a set allowable range. The data is read out from data stored in a ROM or the like obtained by an experiment or the like (step 10C).
[0098]
In the fourth step, the controller 7 adjusts the movement correction amount for the lower stage 32 in consideration of the displacement amount detected in the second step and the deformation amount of the elastic member 4 obtained in the third step (for example, A correction amount (a correction amount obtained by adding the deformation amount of the elastic member 4 obtained in the third step to the positional deviation amount detected in the second step) is calculated (step 10D).
[0099]
In the fifth step, the controller 7 controls the XY-θ moving mechanism 5 to drive the lower stage 32 by the movement correction amount calculated in the fourth step (Step 10E).
[0100]
Next, in a sixth step, the controller 7 determines whether or not the amount of displacement between the upper and lower substrates 11 and 12 is within a preset allowable range by using the alignment marks 11a and 12a by the imaging devices 33 and 33. (Step 10F).
[0101]
In the seventh step, when it is determined in the sixth step that the positional displacement amount between the upper and lower substrates 11 and 12 falls within a preset allowable range (YES), the controller 7 sets the third position to the third position. Based on the amount of deformation of the elastic member 4 obtained in the step, the lower stage 32 is moved in a direction in which the amount of deformation of the elastic member 4 becomes zero (step 10G). Subsequently, in the eighth step, the controller 7 Then, the adhesive 1a is further pressed, and the press mechanism 6 is controlled so as to press both substrates 11 and 12 for a preset time (step 10H).
[0102]
Finally, in a ninth step, the upper and lower substrates 11, 12 are released from the upper and lower stages 31, 32, and the inside of the vacuum chamber 2 is returned to the atmospheric pressure (step 10I).
[0103]
After the inside of the vacuum chamber 2 is returned to the atmospheric pressure, the upper stage 31 is raised, and the bonded substrates 11 and 12 are taken out of the vacuum chamber 2 by a transfer robot (not shown). It is transported to the next process such as a curing process.
[0104]
In the sixth step, when it is determined that the amount of displacement between the upper and lower substrates 11 and 12 is not within the preset allowable range (NO), the process returns to the second step (step 10B) and control is performed. The device 7 performs the operation of detecting the amount of displacement between the upper and lower substrates 11 and 12 again, and thereafter repeats the above-described procedure.
[0105]
As described above, in the third embodiment, in the positioning operation between the upper and lower substrates 11 and 12, the lower stage 32 is moved in consideration of the amount of deformation of the elastic member 4, so that the positioning operation is speeded up. Can be achieved.
[0106]
In the above description, the operation of eliminating the deformation in the elastic member 4 after the elastic member 4 is deformed and the alignment is performed is the same as the method described in the first embodiment and the second embodiment. Can be adopted.
[0107]
Therefore, according to the third embodiment, it is possible to avoid or suppress the deterioration of the positional accuracy between the upper and lower substrates 11 and 12 after the alignment through a smooth and efficient alignment operation. .
[0108]
In each of the above-described embodiments, a total of five elastic members 4, one in the center and one in each of the four corners, are arranged on the rectangular substrates 11 and 12, respectively. However, these numbers can be appropriately increased or decreased according to the substrate size. Also, the arrangement position may be such that all the elastic members 4 can correspond to either large or small substrates, and the elastic members 4 to be employed can be appropriately selected according to the substrate size. .
[0109]
In the above description, the elastic members 4 are provided at the center and the four corners of the substrates 11 and 12. However, in the case of multiple display, the elastic members 4 may be provided at the center and the four corners for each display surface. .
[0110]
Furthermore, in the description of each of the above-described embodiments, the upper substrate 11 is moved downward while the upper substrate 11 and the lower substrate 12 are aligned, but the lower substrate 12 is moved upward. Further, the XY-θ moving table may be provided on the upper stage 31 side instead of the lower stage 32 side, or may be configured and installed on both sides to share the moving operation in the XY-θ direction. May be performed. In this case, it goes without saying that the imaging device 33 can also be appropriately configured and arranged in accordance with those mechanisms.
[0111]
Further, the elastic member 4 having the built-in strain gauge 8 may be attached not only to the lower stage but also to the upper stage or both upper and lower stages.
[0112]
Also, the pressing operation on the adhesive 1a between the upper substrate 11 and the lower substrate 12 after the alignment is performed by using the pressure difference between the upper and lower substrates 11 and 12 due to the pressure increase in the vacuum chamber 2 without using the press mechanism 6. You can also do it.
[0113]
In addition, although an example has been described in which the alignment is performed in a state where the upper substrate 11 is in contact with the adhesive 1a applied to the lower substrate 12, the upper substrate 11 or the lower substrate 12 has a liquid crystal member other than the adhesive 1a. Since other inclusions such as 1b are applied, the upper and lower substrates 11 and 12 are aligned by contacting only the liquid crystal member 1b or by contacting both the adhesive 1a and the liquid crystal member 1b. It is possible to do it.
[0114]
Even in such a case, when the upper and lower substrates 11 and 12 are aligned, the elastic member 4 between the lower substrate 12 and the lower stage 32 is exposed to the viscosity of the liquid crystal member 1b or both of the liquid crystal member 1b and the adhesive 1a. The above-described embodiment can be applied because the resistance in the moving direction is caused.
[0115]
After the upper and lower substrates 11 and 12 are pressed by the upper stage 31 for a preset time, the suction holding of the upper and lower substrates 11 and 12 by the upper and lower stages 31 and 32 is released. However, the present invention is not limited to this. After the inside of the vacuum chamber 2 is returned to the atmospheric pressure, or in the process of returning to the atmospheric pressure, the upper and lower substrates 31 and 32 are moved by the upper and lower stages 31 and 32. The suction holding may be released.
[0116]
The release of the suction holding of the upper and lower substrates 11 and 12 by the upper and lower stages 31 and 32 may be performed simultaneously or at different timings.
[0117]
When the elastic modulus of the elastic member 4 is not isotropic, the elastic members 4 are preferably arranged so that the longitudinal elastic modulus is smaller than the transverse elastic modulus. In this way, the elastic member 4 is configured to be flexible in bonding the upper and lower substrates 11 and 12 and to be robust in the alignment direction of the upper and lower substrates 11 and 12 during the alignment operation. Therefore, the deformation at the time of the positioning operation can be minimized while properly absorbing the unevenness between the upper and lower stages 31, 32.
[0118]
Further, the stage 32 in the vacuum chamber 2 can also have a function of transferring the upper and lower substrates 11 and 12. That is, although not shown, a large number of lift pins which are driven by a drive source such as an air cylinder and move up and down are arranged toward the surface of the lower stage 32 so as to avoid the elastic member 4, and the lift pins move up and down. Thus, the transfer of the lower substrate 12 to the lower stage 32 can be performed efficiently.
[0119]
According to the substrate bonding apparatus and the substrate bonding method of the present invention described above, the elastic member for uniform and high-quality bonding is deformed by the positioning operation, and the restoring force is reduced by the bonding accuracy. Can be prevented from deteriorating, and excellent effects can be obtained by adopting it in a manufacturing process of a liquid crystal substrate or the like.
[0120]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, high-precision bonding can be efficiently performed even on a large-sized glass substrate. Excellent effects can be obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a front view of a main part showing a first embodiment of a substrate bonding apparatus according to the present invention.
FIG. 2 is an enlarged perspective view of an elastic member of the device shown in FIG.
FIG. 3 is a plan view of the device shown in FIG. 2 taken along line AA in an arrow direction.
FIG. 4 is an enlarged front view of a main part of the first embodiment shown in FIG. 1;
FIG. 5 is an enlarged front view of a main part showing a state where the substrate is aligned from the state shown in FIG. 4;
6 is an enlarged front view of a main part showing a state where the upper substrate 11 has pressed the adhesive 1a from the state shown in FIG. 5;
7 is an essential part enlarged front view showing a state where the amount of deformation of the elastic member 4 shown in FIG. 6 is set to zero.
FIG. 8 is a flowchart showing a method for bonding substrates in the first embodiment shown in FIG. 1;
FIG. 9 is a flowchart illustrating a method of bonding substrates according to the second embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a flowchart illustrating a method of bonding substrates according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 11 is a main part front view showing a conventional substrate bonding apparatus.
FIG. 12 is an enlarged front view of a main part of the device shown in FIG. 11;
13 is an essential part enlarged front view showing a state where the substrate is aligned from the state shown in FIG. 12;
14 is an essential part enlarged front view showing a state where the upper substrate 11 has pressed the adhesive 1a in the state shown in FIG. 13;
15 is an essential part enlarged front view showing a state where a restoring force is applied to the elastic member 4 in the state shown in FIG.
[Explanation of symbols]
11 Upper substrate
12 Lower substrate
1a Adhesive (inclusion)
1b Liquid crystal member (inclusion)
2 vacuum chamber
21,22 Upper and lower lids (vacuum tank)
31 Upper Stage
32 Lower Stage
33 Imaging equipment
4 elastic members
5 XY-θ moving mechanism
6 Press mechanism
7 Controller
8 strain gauge

Claims (9)

上ステージに保持された上基板と、この上基板に対向配置されて下ステージ上に保持された下基板とを、接着剤を介して貼合わせる基板の貼合わせ装置において、
前記上ステージと上基板との間、または前記下ステージと下基板との間の少なくとも一方に介在させた弾性部材と、
この弾性部材の水平方向の変形量を検出する検出手段と、
この検出手段により検出された前記変形量に基づき、上ステージと下ステージとを相対的に移動させる駆動制御手段と
を具備することを特徴とする基板の貼合わせ装置。
An upper substrate held on the upper stage, and a lower substrate held on the lower stage disposed opposite to the upper substrate, in a substrate bonding apparatus for bonding via an adhesive,
An elastic member interposed between at least one of the upper stage and the upper substrate or between the lower stage and the lower substrate,
Detecting means for detecting a horizontal deformation amount of the elastic member;
A substrate bonding apparatus comprising: a drive control unit that relatively moves an upper stage and a lower stage based on the amount of deformation detected by the detection unit.
上ステージに保持された上基板と、この上基板に対向配置されて下ステージ上に保持された下基板とを、接着剤を介して貼合わせる基板の貼合わせ装置において、
前記上ステージと上基板との間、または前記下ステージと下基板との間の少なくとも一方に介在させた弾性部材と、
この弾性部材を挟んだ上ステージと上基板との間、または下基板と下ステージとの間の水平方向の位置ずれ量を検出する検出手段と、
この検出手段により検出された前記位置ずれ量に基づき、上ステージと下ステージとを相対的に移動させる駆動制御手段と
を具備することを特徴とする基板の貼合わせ装置。
An upper substrate held on the upper stage, and a lower substrate held on the lower stage disposed opposite to the upper substrate, in a substrate bonding apparatus for bonding via an adhesive,
An elastic member interposed between at least one of the upper stage and the upper substrate or between the lower stage and the lower substrate,
Detection means for detecting the amount of horizontal displacement between the upper stage and the upper substrate, or between the lower substrate and the lower stage, sandwiching the elastic member;
A substrate bonding apparatus comprising: a drive control unit that relatively moves an upper stage and a lower stage based on the displacement amount detected by the detection unit.
前記検出手段は、前記弾性部材の変形量を測定する歪み計で構成したことを特徴とする請求項2に記載の基板の貼合わせ装置。3. The substrate bonding apparatus according to claim 2, wherein the detection unit is configured by a strain gauge that measures an amount of deformation of the elastic member. 前記駆動制御手段は、前記位置ずれ量に基づく前記上ステージと下ステージとの間の相対的な移動量を制限するように構成されたことを特徴とする請求項2または請求項3に記載の基板の貼合わせ装置。4. The drive control unit according to claim 2, wherein the drive control unit is configured to limit a relative movement amount between the upper stage and the lower stage based on the displacement amount. Substrate bonding device. 上ステージとこの上ステージに保持された上基板との間、または下ステージとこの下ステージに保持された下基板との間の少なくとも一方に弾性部材を介在させ、前記上基板と前記下基板とを、接着剤等の介在物を介して接触させた状態で位置合わせ操作を行い、接着剤を介して貼合わせる基板の貼合わせ方法において、
前記上基板と前記下基板とを前記介在物を介して重ね合わせる第1の工程と、
この第1の工程の後に、前記上ステージと前記下ステージとの間の相対位置を制御し、前記上基板と前記下基板との間の位置合わせ操作を行なう第2の工程と、
この第2の工程の後に、前記弾性部材の水平方向の変形量を検出する第3の工程と、
この第3の工程の後に、前記弾性部材の変形量が少なくなる方向に前記上ステージと前記下ステージとを相対的に移動させる第4の工程と
からなることを特徴とする基板の貼合わせ方法。
An elastic member is interposed between at least one of the upper stage and the upper substrate held by the upper stage, or at least one of the lower stage and the lower substrate held by the lower stage, and the upper substrate and the lower substrate In the method of bonding a substrate to be bonded through an adhesive, performing a positioning operation in a state of being contacted via an intermediary such as an adhesive,
A first step of superimposing the upper substrate and the lower substrate with the intervening object interposed therebetween;
After the first step, a second step of controlling a relative position between the upper stage and the lower stage and performing a positioning operation between the upper substrate and the lower substrate;
A third step of detecting a horizontal deformation amount of the elastic member after the second step;
A fourth step of relatively moving the upper stage and the lower stage in a direction in which the amount of deformation of the elastic member is reduced after the third step. .
上ステージとこの上ステージに保持された上基板との間、または下ステージとこの下ステージに保持された下基板との間の少なくとも一方に弾性部材を介在させ、前記上基板と前記下基板とを、接着剤等の介在物を介して接触させた状態で位置合わせ操作を行い、接着剤を介して貼合わせる基板の貼合わせ方法において、
前記上基板と前記下基板とを前記介在物を介して重ね合わせる第1の工程と、
この第1の工程の後に、前記上ステージと前記下ステージとの間の相対位置を制御し、前記上基板と前記下基板との間の位置合わせ操作を行なう第2の工程と、
この第2の工程の後に、前記上基板と前記下基板のうち前記弾性部材を介して保持された基板とこの基板を保持するステージとの間における前記弾性部材の変形に基づく水平方向の位置ずれ量を求める第3の工程と、
この第3の工程の後に、前記水平方向の位置ずれ量が少なくなる方向に前記上ステージと前記下ステージとを相対的に移動させる第4の工程と
からなることを特徴とする基板の貼合わせ方法。
An elastic member is interposed between at least one of the upper stage and the upper substrate held by the upper stage, or at least one of the lower stage and the lower substrate held by the lower stage, and the upper substrate and the lower substrate In the method of bonding a substrate to be bonded through an adhesive, performing a positioning operation in a state of being contacted via an intermediary such as an adhesive,
A first step of superimposing the upper substrate and the lower substrate with the intervening object interposed therebetween;
After the first step, a second step of controlling a relative position between the upper stage and the lower stage and performing a positioning operation between the upper substrate and the lower substrate;
After the second step, a horizontal displacement between the upper substrate and the lower substrate, which is held via the elastic member and the stage holding the substrate, is caused by a deformation of the elastic member. A third step of determining the quantity;
A fourth step of relatively moving the upper stage and the lower stage in a direction in which the amount of displacement in the horizontal direction is reduced after the third step. Method.
前記第3の工程は、歪み計によって計測された前記弾性部材の変形量に基づいて位置ずれ量を算出することを特徴とする請求項6に記載の基板の貼合わせ方法。7. The method according to claim 6, wherein the third step calculates a displacement amount based on a deformation amount of the elastic member measured by a strain gauge. 前記第4の工程は、制限を加えて、前記上ステージと前記下ステージとを相対的に移動させることを特徴とする請求項6または請求項7に記載の基板の貼合わせ方法。8. The method according to claim 6, wherein the fourth step relatively moves the upper stage and the lower stage with a restriction. 9. 上ステージとこの上ステージに保持された上基板との間、または下ステージとこの下ステージに保持された下基板との間の少なくとも一方に弾性部材を介在させ、前記上基板と前記下基板とを、接着剤等の介在物を介して接触させた状態で位置合わせ操作を行い、接着剤を介して貼合わせる基板の貼合わせ方法において、
前記上基板と前記下基板とを前記介在物を介して重ね合わせる第1の工程と、
この第1の工程の後に、前記上ステージと前記下ステージとの間の相対位置を制御し、前記上基板と前記下基板との間の位置合わせ操作を行なう第2の工程と、
この第2の工程の後に、前記上ステージによる前記上基板の保持、または前記下ステージによる下基板の保持の少なくともいずれか一方を解除させる第3の工程と、
この第3の工程の後に、前記上基板と前記下基板とを貼り合わせる第4の工程と
からなることを特徴とする基板の貼合わせ方法。
An elastic member is interposed between at least one of the upper stage and the upper substrate held by the upper stage, or at least one of the lower stage and the lower substrate held by the lower stage, and the upper substrate and the lower substrate In the method of bonding a substrate to be bonded through an adhesive, performing a positioning operation in a state of being contacted via an intermediary such as an adhesive,
A first step of superimposing the upper substrate and the lower substrate with the intervening object interposed therebetween;
After the first step, a second step of controlling a relative position between the upper stage and the lower stage and performing a positioning operation between the upper substrate and the lower substrate;
After the second step, a third step of releasing at least one of holding the upper substrate by the upper stage or holding the lower substrate by the lower stage;
And a fourth step of bonding the upper substrate and the lower substrate after the third step.
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