JP2004286484A - Substrate positioning apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば大型の液晶ディスプレイ(LCD)に用いられるガラス基板やカラーフィルタなどの大型基板を基準位置に位置決めする基板位置決め装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
大型の液晶ディスプレイに用いられるガラス基板は、例えば傷、汚れ、塵埃、欠けなどの欠陥部の検査が行われる。この検査は、検査者の目視により欠陥部を検出し、この検出した欠陥部を顕微鏡により拡大して行う。従って、ガラス基板は、基準位置に位置決めし、欠陥部の座標を正確に認識することが必要である。
【0003】
又、ガラス基板は、例えば搬送ロボット等の搬送装置によりカセットから取り出されてステージ上に載置され、このステージ上でフォトグラフィ処理によりパターンを形成したり、各種フォトリソグラフィ処理工程においてガラス基板上の欠陥が検査される。従って、ガラス基板は、搬送ロボット等によりステージ上に載置されたときにその位置にバラツキが生じ、基準位置からずれる。このため、ガラス基板を基準位置に位置決めすることが必要である。
【0004】
従来の基板位置決め装置としては、矩形状のガラス基板の2辺を基準位置に規制する3本の基準ピンにガラス基板を押し付けピンにより押し付けて位置決めすることが行なわれていた。しかし、ガラス基板が大型化すると、ステージとガラス基板との間の摩擦抵抗が大きくなり、押付ピンで押し付けることが困難になってきている。
【0005】
この問題を解決する基板位置決め技術としては、例えば特許文献1がある。この特許文献1は、3つの光学的なエッジセンサをそれぞれ位置決めされるべき基準位置に配置し、ガラス基板をXYθステージの駆動によって各エッジセンサに向って移動させ、これらエッジセンサによりガラス基板の端面(縁)が検出されたときのXYθステージの移動量からガラス基板を位置決めする回転角とX方向、Y方向の補正量を得る。
【0006】
【特許文献1】
特開平9−90308号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ガラス基板の縁を検出するのに光学的なエッジセンサを用いているので、ガラス基板の端面の位置を正確に検出できないことがある。
【0008】
すなわち、光学的なエッジセンサは、反射式と透過式との2方式がある。反射式のエッジセンサは、光をガラス基板の端面に向って出力し、ガラス基板端面からの反射光からガラス基板の端面の位置を検出する。透過式のエッジセンサは、ガラス基板を挟んで投光器と受光器とを対向配置し、投光器から出力された光を受光器で受光してガラス基板の端面の位置を検出する。
【0009】
このため、反射式のエッジセンサの場合、例えばガラス基板に撓みや微小な欠けなどが存在すると、ガラス基板端面からの反射光が散乱する。このため、エッジセンサに入射する光量が少なくなる。又、ガラス基板の種類によっては反射率の低いガラス基板がある。このガラス基板では、ガラス基板端面からの反射光の光量が少なくなる。このような理由から反射式のエッジセンサでは、ガラス基板の端面を正確に検出できない。
【0010】
透過式のエッジセンサの場合、ガラス基板の光透過率が低ければ、投光器から出力された光のガラス基板による遮光と遮光されないところとの境界が明瞭に検出される。この結果、ガラス基板の端面位置が正確に検出される。しかし、ガラス基板の光透過率が高くなると、上記境界を明瞭に捉えることが難しくなる。このため、ガラス基板の端面位置が正確に検出できない。
【0011】
そこで本発明は、LCDガラス基板などの大型基板にストレスを与えずに正確に位置決めできる基板位置決め装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ステージ上に載置された矩形状の基板を基準位置に位置決めする基板位置決め装置において、基板の同一辺の端面に接触したことを検出する変位可能な各接触端部を有する2つの接触式センサと、各接触端部の変位により各接触端部がそれぞれ基板に接触したときの接触端部の変位量に基づいて基板を基準位置に移動するための回転方向の補正量を求め、この補正量に従ってステージを回転制御する位置決め制御手段とを具備した基板位置決め装置である。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の第1の実施の形態について図面を参照して説明する。
【0014】
図1及び図2は基板位置決め装置の構成図であって、図1は正面図、図2は側面図である。XYθステージ1は、XYステージ2とθステージ3とガラス基板4を載置する基板載置ステージ5とを有する。XYステージ2は、X方向とY方向とに移動可能である。θステージ3は、XYステージ2上においてθ方向に回転可能で、その上に基板載置ステージ5が設けられている。
【0015】
基板載置ステージ5の右側面側及び上側面側には、それぞれ2つの接触式センサ7、8及び接触式センサ11が設けられている。これら接触式センサ7、8、11は、それぞれガラス基板4の2辺に対応する基準位置(設計基板位置)Qからのずれ量を検出するために予め設定された各位置に固定設置されている。すなわち、これら接触式センサ7、8、11は、それぞれ支持体9によって基板載置ステージ5上に載置されるガラス基板4の高さ位置と同一高さ位置に設けられている。
【0016】
又、これら接触式センサ7、8は、それぞれ各中心ライン7a、8aがX方向に平行(基準位置QのY基準辺に対して垂直)で、かつこれら中心ライン7a、8aがY方向に予め設定された間隔Lをおいて設けられている。接触式センサ11は、中心ライン11aがY方向に平行(基準位置QのX基準辺に対して垂直)に設けられている。
【0017】
これら接触式センサ7、8、11は、例えば空圧式アクチュエータであって、それぞれ直線方向に伸縮(変位)可能な各ロッド7b、8b、11bと、これらロッド7b、8bの先端部にそれぞれ設けられた各基板押当ピン7c、8c、11cとを有する。これら基板押当ピン7c、8c、11cは、それぞれガラス基板4と接触する面側がガラス基板4と点接触可能な曲面状に形成されている。これら基板押当ピン7c、8cの形状は、例えば球状、半球状、円柱状、半円筒状に形成することが可能であり、ガラス基板4の端面に正確に接触させるたるには、円柱状又は半円柱状のものが好ましい。又、これら基板押当ピン7c、8c、11cは、ガラス基板4の端面に接触しとき、ガラス基板4の端面に損傷を与えず、変形しない樹脂により形成することが望ましい。
【0018】
これら接触式センサ7、8、11は、各ロッド7b、8b、11bを最も縮めたときの各基板押当ピン7c、8c、11cの先端位置が基準位置QのY基準辺、X基準辺から所定の距離Lだけ離れた初期位置にするように設けられている。
【0019】
なお、これら接触式センサ7、8、11は、各基板押当ピン7c、8c、11cがガラス基板4の端面に接触すると、自動的に各ロッド7b、8b、11bの各伸ばし動作を停止する。例えば、各接触式センサ7、8、11に供給する空気圧をデジタルセンサで検出し、空気圧が変化した時に各ロッド7b、8bの各伸ばし動作を停止する。
【0020】
位置決め制御装置10は、各接触式センサ7、8、11の各ロッド7a、8a、11aを伸ばし動作させ、これら接触式センサ7、8、11の各ロッド7a、8a、11aをガラス基板4の端面に接触したときの各ロッド7a、8a、11aの各移動量(変位量)を求め、これら移動量に基づいてガラス基板4を基準位置Qに位置決めするためのXYθステージ1の回転方向とXY方向の補正量を求め、この補正量に従ってXYθステージ1をフィートバック制御する。
【0021】
この位置決め制御装置10は、各接触式センサ7、8をそれぞれ伸ばし動作させたとき、これら接触式センサ7、8の基板押当ピン7c、8cのガラス基板4の端面への接触を検出すると、このときに各接触式センサ7、8の各伸ばし動作を停止する。このとき位置決め制御装置10は、各接触式センサ7、8から各ロッド7b、8bの移動量信号を入力し、これら移動量信号と各接触式センサ7、8の間隔Lとに基づいてXYθステージ1の補正回転量θfを求める。
【0022】
例えば、図3に示すように一方の接触式センサ7のロッド7bの伸ばし移動量がX1で、他方の接触式センサ8のロッド8bの伸ばし移動量がX2であれば、位置決め制御装置10は、これら伸ばし移動量X1、X2と、各接触式センサ7、8の間隔Lとに基づき次式を演算し、XYθステージ1の補正回転量θf、
θf=tan−1((X2−X1)/L) (1)
を算出する。この補正回転量θfは、XYθステージ1のxy座標系にガラス基板4のx’y’座標系を一致させるための回転ずれ量を補正する値である。
【0023】
位置決め制御装置10は、XYθステージ1の補正回転量θfに従ってXYθステージ1のθステージ3を回転制御するフィートバック信号をXYθステージ1に送出する。
【0024】
この結果、XYθステージ1は、θステージ3を補正回転量θfだけ回転させる。これにより、ガラス基板4のx’y’座標系は、図4に示すように基準位置のxy座標系と平行になる。
【0025】
次に、位置決め制御装置10は、各接触式センサ8、11をそれぞれ伸ばし動作させ、これら接触式センサ11、8の基板押し当てピン11c、8cがガラス基板11の端面に接触したことを検出すると、これら接触センサ11、8の各ロッド11b、8bの各伸ばし動作を停止する。このとき、位置決め制御装置10は、各接触式センサ8、11から各ロッド11b、8bの移動量信号を入力し、各移動量Y1、X3に基づいてガラス基板4を基準位置Qに位置決めする互いに垂直な各方向に対する各補正移動量Y1−L1=B、X3−L1=Aを算出し、XYθステージ1のXYステージ2をXY方向に移動制御するフィートバック信号をXYθステージ1に送出する。この結果、XYθステージ1は、XYステージ2を各補正移動量B、Aだけ移動する。これにより、ガラス基板4のX’、Y’座標系は、図1に示すように基準位置のX、Y座標系に一致する。なお、各接触式センサ11、8をガラス基板11に接触するのに限らず、各接触式センサ11、7をガラス基板11に接触させてもよい。
【0026】
次に、上記の如く構成された装置の動作について説明する。
【0027】
先ず、2つの接触式センサ7、8は、各ロッド7b、8bを伸ばして各基板押当ピン7c、8cがガラス基板4の同一辺の端面に接触すると、各ロッド7b、8bの伸びを停止する。
【0028】
位置決め制御装置10は、各基板押当ピン7c、8cがガラス基板4の端面に接触したときの各ロッド7b、8bの初期位置からの伸ばし移動量X1、X2を求め、これら伸ばし移動量X1、X2に基づいて補正回転量θfを求め、この補正回転量θfに従ってXYθステージ1のθステージ3を回転動作させる。
【0029】
この結果、ガラス基板4のx’y’座標系は、回転ずれが補正されてXYθステージ1のxy座標系に対して平行になる。この後、位置決め制御装置10は、各接触式センサ7、8、11を初期位置に復帰させてから各接触式センサ11、8の各ロッド11b、8bを各初期位置からY方向、X方向に伸ばす。これら接触式センサ11、8は、各ロッド11b、8bを伸ばして各基板押当ピン11c、8cがガラス基板4の各端面に接触すると、各ロッド11b、8bの伸びを停止する。
【0030】
このとき位置決め制御装置10は、図4に示すように各接触式センサ11、8の各ロッド11b、8bの初期位置からの各伸ばし移動量Y1、X3を求める。そして、位置決め制御装置10は、各接触センサ11、8の各ロッド11b、8bの各移動量Y1、X3と初期位置から基準位置までの距離L1との差からガラス基板4を基準位置Qに位置決めするXY方向に対する各補正移動量A、Bを算出し、XYθステージ1のXYステージ2をXY方向に移動制御するフィートバック信号をXYθステージ1に送出する。
【0031】
この結果、XYθステージ1は、XYステージ2を各移動量A、BだけXY方向に移動させる。これにより、ガラス基板4のx’y’座標系は、基準位置Qのxy座標系に一致し、ガラス基板4は、基準位置Qに位置決めされる。
【0032】
このように上記第1の実施の形態においては、例えば、大型の液晶ディスプレイに用いられるガラス基板4の検査工程において、例えば搬送ロボット等の搬送装置によりガラス基板4をXYθステージ1上に載置したとき、ガラス基板4は、基準位置Qに対してθ方向とXY方向との両方にずれが生じる。このような場合でも、ガラス基板4のθ方向の回転ずれの補正を行った後に、XY方向のずれを補正することにより、ガラス基板4を基準位置Qに精度高く位置決めできる。
【0033】
各接触式センサ7、8、11は、各基板押当ピン7c、8c、11cをガラス基板4の端面に接触させるだけなので、ガラス基板4に加わる力は小さい。従って、ガラス基板4を押したりするなどして、ガラス基板4に影響を与えることはない。
【0034】
各接触式センサ7、8、11を用いて直接ガラス基板4の端面位置を検出するので、ガラス基板4の端面位置を正確に検出でき、かつガラス基板4の端面位置の検出の再現性も高く、検出のばらつきが生じることも少ない。これにより、各接触式センサ7、8、11の各ロッド7b、8b、11bの伸ばし移動量X1、X2、Y1に基づいてガラス基板4は、基準位置Qに精度高く位置決めできる。
【0035】
又、各接触式センサ7、8、11は、ガラス基板4の端面に直接接触するので、ガラス基板4の端面に例えば撓みや微小な欠けなどが存在したり、又、ガラス基板4の反射率や光透過率などが異なるなどのガラス基板4の種類が異なっても、これらに関係なくガラス基板4の端面位置を正確に検出できる。
【0036】
次に、本発明の第2の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、図4と同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略する。
【0037】
図5は基板位置決め装置の構成図である。2つの接触式センサ7、8は、Y方向に沿って固定設置され、1つの接触式センサ11は、X方向に沿って固定設置されている。これら接触式センサ7、8、11は、各ロッド7b、8b、11bの各先端部に各L字アーム7d、8d、11dが連結されている。これらL字アーム7d、8d、11dは、それぞれ各ロッド7b、8b、11bに対して支点7e、8e、11eを介して回転可能に設けられている。又、これらL字アーム7d、8d、11dは、それぞれ位置が固定された各支点7f、8f、11fを中心に回転可能に設けられている。そして、これらL字アーム7d、8d、11dの各先端部には、それぞれ球状の各基板押当ピン7g、8g、11gが設けられている。なお、これら基板押当ピン7g、8g、11gは、円筒状又は半円筒状でもよい。
【0038】
従って、これら接触式センサ7、8、11は、各ロッド7b、8b、11bを伸縮させると、各L字アーム7d、8d、11dが支点7e、8e、11eを中心にして回転し、各基板押当ピン7g、8g、11gをガラス基板4の端面に接触させる。
【0039】
又、これら接触式センサ7、8、11は、スケール付であって、各ロッド7b、8b、11bを伸縮して各基板押当ピン7g、8g、11gを常に一定の圧力でガラス基板4の端面に接触させ、かつこのときの各ロッド7b、8b、11bの各伸ばし移動量に応じた各スケール信号をリアルタイムで出力する。
【0040】
位置決め制御装置10は、各接触式センサ7、8の各基板押当ピン7g、8gをガラス基板4の端面に接触させたときの各ロッド7a、8aの各伸ばし移動量に基づいてXYθステージ1の補正回転量を求め、この補正回転量に従ってXYθステージ1をフィートバック制御する。
【0041】
又、位置決め制御装置10は、各接触式センサ11、8の各基板押当ピン11g、8gをガラス基板11に接触させたときに、これら接触センサ11、8の各ロッド11b、8bの各伸ばし移動量に基づいてXY方向の各補正移動量を算出し、XYθステージ1のXYステージ2をXY方向に移動制御する。
【0042】
このような構成であれば、リアルタイムでズラス基板4の基準位置Qに対するずれ量に応じた各接触式センサ7、8、11での各ロッド7b、8b、11bの各伸ばし移動量を検出でき、これらに基づいてガラス基板4のθ方向の回転ずれの補正を行い、この後にXY方向のずれを補正し、ガラス基板4を基準位置Qに精度高く位置決めできる。
【0043】
又、各接触式センサ7、8、11は、各ロッド7b、8b、11bの伸縮方向をガラス基板4の各端面に沿って設けるので、これら接触式センサ7、8、11を設けるスペースを小さくでき、装置のコンパクト化が図れる。
【0044】
なお、本発明は、上記第1及び第2の実施の形態に限定されるものでなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。
【0045】
さらに、上記実施形態には、種々の段階の発明が含まれており、開示されている複数の構成要件における適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出できる。例えば、実施形態に示されている全構成要件から幾つかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題が解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出できる。
【0046】
各接触式センサ7、8、11は、例えば空気アクチュエータを用いたが、これに限らず、例えばシリンダ、又はパルスモータの駆動により各ロッド7b、8b、11bの伸縮動作させるものでもよい。
【0047】
又、これら接触式センサ7、8、11は、3つに限らず、複数の接触式センサ、例えば接触式センサ11に対してさらに接触式センサを並設してもよい。
【0048】
3つの接触式センサ7、8、11を固定設置した場合、これら接触式センサ7、8、11の各ロッド7b、8b、11bを同時に伸ばしてガラス基板4の各端面に接触させ、このときの各ロッド7b、8b、11bの伸ばし移動量からガラス基板4の回転ずれ量及びXY方向の移動ずれ量を求め、これらずれ量をなくすようにXYθステージ1を動作させてガラス基板4を基準位置Qに位置決めすることも可能である。
【0049】
又、基板載置ステージ5が四辺形でかつガラス基板4のサイズよりも大きい場合、図6に示すように例えば接触式センサ8の基板押当ピン8cがガラス基板4の端面に接触するできるように基板載置ステージ5に切欠き部12を形成する。この切欠き部12の大きさは、ガラス基板4を搬送ロボット等により基板載置ステージ5上に載置するとき、大幅にずれることはないので、予め予測されるずれ量でずれたガラス基板4の端面に基板押当ピン8cが接触可能なサイズに形成すればよい。
【0050】
各接触式センサ7、8、11の各先端部には、図7に示すように例えばT字形状となる基板押当ピン8cを設けてもよい。この基板押当ピン8cを用いれば、XYθステージ1自体の高さ位置が変化したり、ガラス基板4の載置位置が上下方向(Z方向)に変化しても、基板押当ピン8cをガラス基板4の端面に必ず接触できる。
【0051】
又、各接触式センサ7、8、11は、それぞれ各ロッド7b、8b、11bを最も縮めたときの各基板押当ピン7c、8c、11cの先端位置が基準位置になる必要はなく、例えば各ロッド7b、8b、11bをそれぞれ任意の長さだけ縮めたときの各基板押当ピン7c、8c、11cの先端位置を基準位置にしてもよい。
【0052】
【発明の効果】
以上詳記したように本発明によれば、ガラス基板を正確に基準位置に位置決めできる基板位置決め装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる基板位置決め装置の第1の実施の形態を示す上面構成図。
【図2】本発明に係わる基板位置決め装置の第1の実施の形態を示す側面構成図。
【図3】本発明に係わる基板位置決め装置の第1の実施の形態における位置決め作用を示す模式図。
【図4】本発明に係わる基板位置決め装置の第1の実施の形態を示す構成図。
【図5】本発明に係わる基板位置決め装置の第2の実施の形態を示す構成図。
【図6】本発明に係わる基板位置決め装置におけるθステージの変形例を示す図。
【図7】本発明に係わる基板位置決め装置における基板押当ピンの変形例を示す図。
【符号の説明】
1:XYθステージ、2:XYステージ、3:θステージ、4:ガラス基板、5:基板載置ステージ、7,8,11:接触式センサ、7b,8b,11b:ロッド、7c,8c,11c:基板押当ピン、9:支持体、10:位置決め制御装置、11d:L字アーム、11e,11f:支点、11g:基板押当ピン、12:切欠き部。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate positioning device that positions a large substrate such as a glass substrate or a color filter used for a large liquid crystal display (LCD) at a reference position.
[0002]
[Prior art]
A glass substrate used for a large-sized liquid crystal display is inspected for defects such as scratches, dirt, dust, and chips. In this inspection, a defective portion is visually detected by an inspector, and the detected defective portion is enlarged by a microscope. Therefore, it is necessary to position the glass substrate at the reference position and accurately recognize the coordinates of the defective portion.
[0003]
Further, the glass substrate is taken out of the cassette by a transfer device such as a transfer robot and placed on a stage, and a pattern is formed on the stage by a photographic process on this stage. Defects are inspected. Therefore, when the glass substrate is placed on the stage by the transfer robot or the like, the position thereof varies, and the glass substrate deviates from the reference position. Therefore, it is necessary to position the glass substrate at the reference position.
[0004]
As a conventional substrate positioning device, positioning is performed by pressing a glass substrate against three reference pins that regulate two sides of a rectangular glass substrate to reference positions by pressing pins. However, as the size of the glass substrate increases, the frictional resistance between the stage and the glass substrate increases, which makes it difficult to press with a pressing pin.
[0005]
As a substrate positioning technique for solving this problem, there is, for example,
[0006]
[Patent Document 1]
JP-A-9-90308
[Problems to be solved by the invention]
However, since an optical edge sensor is used to detect the edge of the glass substrate, the position of the end surface of the glass substrate may not be accurately detected.
[0008]
That is, there are two types of optical edge sensors, a reflection type and a transmission type. The reflection type edge sensor outputs light toward the end face of the glass substrate, and detects the position of the end face of the glass substrate from the reflected light from the end face of the glass substrate. In a transmission type edge sensor, a light emitter and a light receiver are arranged opposite to each other with a glass substrate interposed therebetween, and the light output from the light emitter is received by the light receiver to detect the position of the end face of the glass substrate.
[0009]
For this reason, in the case of the reflection type edge sensor, for example, if the glass substrate is bent or has a minute chip, the reflected light from the end surface of the glass substrate is scattered. Therefore, the amount of light incident on the edge sensor decreases. Further, there is a glass substrate having a low reflectance depending on the type of the glass substrate. In this glass substrate, the amount of reflected light from the end surface of the glass substrate is reduced. For these reasons, the reflection type edge sensor cannot accurately detect the end face of the glass substrate.
[0010]
In the case of a transmission type edge sensor, if the light transmittance of the glass substrate is low, the boundary between the light output from the light projector and the place where the light is not shielded by the glass substrate is clearly detected. As a result, the end face position of the glass substrate is accurately detected. However, as the light transmittance of the glass substrate increases, it becomes difficult to clearly grasp the boundary. For this reason, the end face position of the glass substrate cannot be accurately detected.
[0011]
Therefore, an object of the present invention is to provide a substrate positioning device capable of accurately positioning a large substrate such as an LCD glass substrate without applying stress.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
The present invention relates to a substrate positioning device for positioning a rectangular substrate placed on a stage at a reference position, wherein two displaceable contact ends for detecting contact with an end surface of the same side of the substrate are provided. A contact type sensor and a displacement of each contact end are used to determine a rotational direction correction amount for moving the board to the reference position based on a displacement of the contact end when each contact end contacts the board, This is a substrate positioning device including positioning control means for controlling the rotation of the stage according to the correction amount.
[0013]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0014]
1 and 2 are configuration diagrams of a substrate positioning device. FIG. 1 is a front view, and FIG. 2 is a side view. The
[0015]
Two
[0016]
In the
[0017]
These
[0018]
These
[0019]
The
[0020]
The positioning control device 10 extends and operates the rods 7a, 8a, and 11a of the
[0021]
The positioning control device 10 detects the contact of the
[0022]
For example, in one
θ f = tan -1 ((X 2 -X 1) / L) (1)
Is calculated. The correction amount of rotation theta f is a value for correcting the rotational displacement amount for matching the x'y 'coordinate system of the
[0023]
Positioning control apparatus 10 transmits the feet back signal which controls the rotation of the
[0024]
As a result, XY.theta.
[0025]
Next, the positioning control device 10 extends and operates each of the
[0026]
Next, the operation of the device configured as described above will be described.
[0027]
First, the two contact-
[0028]
The positioning control device 10 obtains the extension movement amounts X 1 and X 2 of the
[0029]
As a result, the x′y ′ coordinate system of the
[0030]
At this time, as shown in FIG. 4, the positioning control device 10 obtains the extension movement amounts Y 1 and X 3 of the
[0031]
As a result, the
[0032]
As described above, in the first embodiment, for example, in the inspection process of the
[0033]
Since each of the
[0034]
Since the end surface position of the
[0035]
In addition, since each of the
[0036]
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The same parts as those in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
[0037]
FIG. 5 is a configuration diagram of the substrate positioning device. The two
[0038]
Therefore, when these
[0039]
Further, these
[0040]
The positioning control device 10 controls the
[0041]
Also, when the
[0042]
With such a configuration, it is possible to detect the extending movement amount of each
[0043]
In addition, since the
[0044]
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described first and second embodiments, and can be variously modified in an implementation stage without departing from the gist of the invention.
[0045]
Furthermore, the above-described embodiment includes various stages of the invention, and various inventions can be extracted by appropriately combining a plurality of disclosed constituent elements. For example, even if some components are deleted from all the components shown in the embodiment, the problem described in the column of the problem to be solved by the invention can be solved, and the problem described in the column of the effect of the invention can be solved. In the case where the effect is obtained, a configuration from which this configuration requirement is deleted can be extracted as an invention.
[0046]
Each of the
[0047]
The number of the
[0048]
When the three
[0049]
When the
[0050]
As shown in FIG. 7, for example, a T-shaped substrate
[0051]
Further, the
[0052]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the present invention, it is possible to provide a substrate positioning device capable of accurately positioning a glass substrate at a reference position.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a top view showing a first embodiment of a substrate positioning apparatus according to the present invention.
FIG. 2 is a side view showing a first embodiment of the substrate positioning apparatus according to the present invention.
FIG. 3 is a schematic diagram showing a positioning operation of the substrate positioning device according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a configuration diagram showing a first embodiment of a substrate positioning device according to the present invention.
FIG. 5 is a configuration diagram showing a second embodiment of the substrate positioning apparatus according to the present invention.
FIG. 6 is a diagram showing a modification of the θ stage in the substrate positioning device according to the present invention.
FIG. 7 is a diagram showing a modification of the substrate pressing pin in the substrate positioning device according to the present invention.
[Explanation of symbols]
1: XYθ stage, 2: XY stage, 3: θ stage, 4: glass substrate, 5: substrate mounting stage, 7, 8, 11: contact sensor, 7b, 8b, 11b: rod, 7c, 8c, 11c : Substrate pressing pin, 9: support, 10: positioning control device, 11d: L-shaped arm, 11e, 11f: fulcrum, 11g: substrate pressing pin, 12: notch.
Claims (5)
前記基板の同一辺の端面に接触したことを検出する変位可能な各接触端部を有する2つの接触式センサと、
前記各接触端部の変位により前記各接触端部がそれぞれ前記基板に接触したときの前記接触端部の変位量に基づいて前記基板を前記基準位置に移動するための回転方向の補正量を求め、この補正量に従って前記ステージを回転制御する位置決め制御手段と、
を具備したことを特徴とする基板位置決め装置。In a substrate positioning device that positions a rectangular substrate placed on a stage at a reference position,
Two contact-type sensors each having a displaceable contact end for detecting contact with an end surface of the same side of the substrate;
A correction amount in a rotation direction for moving the substrate to the reference position is obtained based on a displacement amount of the contact end when each of the contact ends contacts the substrate by the displacement of the contact end. Positioning control means for controlling the rotation of the stage according to the correction amount;
A substrate positioning device, comprising:
前記基板における同一辺の端面に接触する前記各接触端部を有する2つの前記接触式センサと、前記同一辺の端面に対して垂直方向の他端面に接触する前記接触端部を有する1つの前記接触式センサとを有し、
前記位置決め制御手段は、前記2つの接触式センサにおける各接触端部が前記基板の同一辺の端面に接触したときの前記各接触端部の各変位量に基づいて前記基板を前記基準位置に位置決めするための回転方向の補正量を算出し、かつ前記同一辺の端面と前記垂直方向の他端面に対応する各1つの前記接触式センサにおけ各接触端部が前記基板の前記同一辺の端面と前記垂直方向の前記他端面に接触したときの各変位量に基づいて前記基板を前記基準位置に位置決めするための互いに垂直な各方向の補正量を算出し、これら補正量に従って前記ステージを前記回転方向及び前記互いに垂直な各方向に位置決め動作することを特徴とする基板位置決め装置。In a substrate positioning device that positions the rectangular substrate mounted on the stage at a reference position,
The two contact-type sensors having the respective contact ends contacting the end surface of the same side of the substrate, and the one having the contact end contacting the other end surface in the direction perpendicular to the end surface of the same side. Having a contact type sensor,
The positioning control means positions the substrate at the reference position based on each displacement amount of each contact end when each contact end of the two contact-type sensors contacts an end surface of the same side of the substrate. To calculate the amount of correction in the rotation direction, and each contact end of each one of the contact type sensors corresponding to the end face of the same side and the other end face in the vertical direction is an end face of the same side of the substrate. And calculating a correction amount in each direction perpendicular to each other for positioning the substrate at the reference position based on each displacement amount when the stage comes into contact with the other end surface in the vertical direction, and moving the stage in accordance with these correction amounts. A substrate positioning device that performs a positioning operation in a rotation direction and each of the directions perpendicular to each other.
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JP2010262271A (en) * | 2009-04-08 | 2010-11-18 | Shibaura Mechatronics Corp | Device for attaching substrate and method for attaching substrate |
WO2015087897A1 (en) * | 2013-12-13 | 2015-06-18 | Ntn株式会社 | Substrate treatment device and method |
JP2020504328A (en) * | 2016-12-23 | 2020-02-06 | ライカ マイクロシステムズ シーエムエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングLeica Microsystems CMS GmbH | Holder for glass slide, microscope and method for controlling microscope |
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2003
- 2003-03-19 JP JP2003076201A patent/JP2004286484A/en active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010262271A (en) * | 2009-04-08 | 2010-11-18 | Shibaura Mechatronics Corp | Device for attaching substrate and method for attaching substrate |
WO2015087897A1 (en) * | 2013-12-13 | 2015-06-18 | Ntn株式会社 | Substrate treatment device and method |
JP2020504328A (en) * | 2016-12-23 | 2020-02-06 | ライカ マイクロシステムズ シーエムエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングLeica Microsystems CMS GmbH | Holder for glass slide, microscope and method for controlling microscope |
JP7203734B2 (en) | 2016-12-23 | 2023-01-13 | ライカ マイクロシステムズ シーエムエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Holder for glass slides, microscope and method for controlling microscope |
US11686932B2 (en) | 2016-12-23 | 2023-06-27 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Holder for a microscope slide, microscope and method for controlling a microscope |
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