JP2004272051A - Heat developable photosensitive material - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat developable photosensitive material having high sensitivity and excellent in raw stock preservability and image storage stability. <P>SOLUTION: The heat developable photosensitive material contains at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on one surface of a support, wherein (1) an average silver iodide content of the photosensitive silver halide is 5-100 mol% and (2) at least one selected from the group of compounds represented by formula (1a): R-Y<SB>1</SB>-(L<SB>1</SB>)<SB>n1</SB>-CX<SB>1</SB>X<SB>2</SB>X<SB>3</SB>, formula (1b): R-Y<SB>2</SB>-L<SB>2</SB>-CX<SB>1</SB>X<SB>2</SB>X<SB>3</SB>, and formula (1c): R-Y<SB>3</SB>-(L<SB>3</SB>)<SB>n2</SB>-CX<SB>1</SB>X<SB>2</SB>X<SB>3</SB>is contained. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【００３２】
【化２】

【００３３】
【化３】

【００３４】
【化４】

【００３５】
【化５】

【００３６】
【化６】

【００３７】
【化７】

【００３８】
【化８】

【００３９】
本発明の一般式（１ａ），（１ｂ），又は（１ｃ）で表される化合物は、画像形成層に添加されることが好ましく、画像形成層塗布液調製時に添加することがより好ましい。画像形成層塗布液調製時に添加する場合、その工程中のいかなる場合に添加することも可能であり、その例を挙げると、ハロゲン化銀の粒子形成工程、脱塩工程の開始前、脱塩工程、化学熟成の開始前、化学熟成の工程、完成乳剤調製前の工程などを挙げることができる。またこれらの工程中の複数回にわけて添加することもできる。また画像形成層に使用するのが好ましいが、画像形成層とともに隣接する表面保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。
好ましい添加量は、上述した添加法や添加する化合物種に大きく依存するが、一般には非感光性有機銀塩１モル当たり、１×１０^−４〜０．８モル、好ましくは１×１０^−３〜０．１モルさらに好ましくは５×１０^−３〜０．０５モルである。
【００４０】
本発明の化合物は、水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒またはこれらの混合溶媒に溶解して添加することができる。この際、酸または塩基によってｐＨを適当に調整してもよく、また界面活性剤を共存させてもよい。さらに乳化分散物として高沸点有機溶媒に溶解させて添加することもできる。また、固体分散物として添加することもできる。
【００４１】
２．一般式（Ｈ）で表される化合物
本発明では、上記一般式（１ａ），（１ｂ），（１ｃ）の化合物とともに、下記一般式（Ｈ）で表される化合物を併用してもよい。併用する比率｛（１ａ）＋（１ｂ）＋（１ｃ）｝／（Ｈ）は、質量比で５０／５０〜１００／０が好ましく、より好ましくは７０／３０〜１００／０である。
【００４２】
一般式（Ｈ）
Ｑ−（Ｙ）ｎ−Ｃ（Ｚ_１）（Ｚ_２）Ｘ
一般式（Ｈ）において、Ｑはアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、Ｙは２価の連結基を表し、ｎは０または１を表し、Ｚ_１およびＺ_２はハロゲン原子を表し、Ｘは水素原子または電子求引性基を表す。
【００４３】
Ｑは好ましくはハメットの置換基定数σｐが正の値をとる電子求引性基で置換されたフェニル基を表す。ハメットの置換基定数に関しては、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９７３，Ｖｏｌ．１６，Ｎｏ．１１，１２０７−１２１６等を参考にすることができる。
【００４４】
このような電子求引性基としては、例えばハロゲン原子（フッ素原子（σｐ値：０．０６）、塩素原子（σｐ値：０．２３）、臭素原子（σｐ値：０．２３）、ヨウ素原子（σｐ値：０．１８））、トリハロメチル基（トリブロモメチル（σｐ値：０．２９）、トリクロロメチル（σｐ値：０．３３）、トリフルオロメチル（σｐ値：０．５４））、シアノ基（σｐ値：０．６６）、ニトロ基（σｐ値：０．７８）、脂肪族・アリールもしくは複素環スルホニル基（例えば、メタンスルホニル（σｐ値：０．７２））、脂肪族・アリールもしくは複素環アシル基（例えば、アセチル（σｐ値：０．５０）、ベンゾイル（σｐ値：０．４３））、アルキニル基（例えば、Ｃ≡ＣＨ（σｐ値：０．２３））、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル（σｐ値：０．４５）、フェノキシカルボニル（σｐ値：０．４４））、カルバモイル基（σｐ値：０．３６）、スルファモイル基（σｐ値：０．５７）、スルホキシド基、ヘテロ環基、ホスホリル基等があげられる。
σｐ値としては好ましくは０．２〜２．０の範囲で、より好ましくは０．４から１．０の範囲である。
【００４５】
電子求引性基として好ましいのは、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルホスホリル基、カルボキシル基、アルキルまたはアリールカルボニル基、およびアリールスルホニル基であり、特に好ましくはカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルホスホリル基であり、カルバモイル基が最も好ましい。
【００４６】
Ｘは、好ましくは電子求引性基であり、より好ましくはハロゲン原子、脂肪族・アリールもしくは複素環スルホニル基、脂肪族・アリールもしくは複素環アシル基、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基であり、特に好ましくはハロゲン原子である。
ハロゲン原子の中でも、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくは臭素原子である。
【００４７】
Ｙは好ましくは−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ−または−ＳＯ_２−を表し、より好ましくは−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ_２−であり、特に好ましくは−ＳＯ_２−である。ｎは、０または１を表し、好ましくは１である。
【００４８】
以下に本発明の一般式（Ｈ）の化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４９】
【化９】

【００５０】
【化１０】

【００５１】
３．感光性ハロゲン化銀
１）ハロゲン組成
本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀は、ヨウ化銀含有率が５モル％以上、１００モル％以下と高い組成のものであることが重要である。残りは特に制限はなく、塩化銀、臭化銀またはチオシアン酸銀や燐酸銀などの有機銀塩から選ぶことができるが、特に臭化銀、塩化銀であることが好ましい。この様なヨウ化銀含有率が高い組成のハロゲン化銀を用いることによって、現像処理後の画像保存性、特に光照射によるカブリの増加が著しく小さい好ましい熱現像感光材料が設計できる。
【００５２】
ヨウ化銀含有率は、４０モル％以上１００モル％以下であるとより好ましく、８０モル％以上１００モル％以下がさらに好ましく、９０モル％以上１００モル％以下であることが特に好ましく、処理後の光照射に対する画像保存性の観点では極めて好ましい。
【００５３】
粒子内におけるハロゲン組成の分布は均一であってもよく、ハロゲン組成がステップ状に変化したものでもよく、或いは連続的に変化したものでもよい。また、コア／シェル構造を有するハロゲン化銀粒子も好ましく用いることができる。構造として好ましいものは２〜５重構造であり、より好ましくは２〜４重構造のコア／シェル粒子を用いることができる。コア部のヨウ化銀含有率が高いコア高ヨウ化銀構造、またはシェル部のヨウ化銀含有率が高いシェル高ヨウ化銀構造も好ましく用いることができる。また、粒子の表面にエピタキシャル部分とした塩化銀や臭化銀を局在させる技術も好ましく用いることができる。
【００５４】
２）粒子サイズ
本発明に用いる高ヨウ化銀のハロゲン化銀については、粒子サイズは特に重要である。ハロゲン化銀のサイズが大きいと、必要な最高濃度を達成するために必要なハロゲン化銀の塗布量が増加する。本発明者は、本発明で好ましく用いられるヨウ化銀含有率の高い組成のハロゲン化銀は、その塗布量が多いと現像が著しく抑制され低感化するとともに現像の時間に対する濃度安定性が悪化し好ましくなく、そのため一定以上の粒子サイズでは所定の現像時間で最高濃度が得られないことを見出した。一方、その添加量を制限すればヨウ化銀ながら十分な現像性を有することを発見した。
【００５５】
この様に高ヨウ化銀を用いた場合、十分な最高光学濃度を達成するためには、ハロゲン化銀粒子のサイズは従来の臭化銀や低ヨウド含量のヨウ臭化銀に比べて十分に小さいことが必要である。好ましいハロゲン化銀の粒子サイズは５ｎｍ以上７０ｎｍ以下であり、さらに５ｎｍ以上５５ｎｍ以下であることが好ましい。特に好ましくは１０ｎｍ以上４５ｎｍ以下である。ここでいう粒子サイズとは、電子顕微鏡により観察した投影面積と同面積の円像に換算したときの直径の平均をいう。
【００５６】
３）塗布量
この様なハロゲン化銀粒子の塗布量は、後述する非感光性有機銀塩の銀１モルに対して０．５モル％以上１５モル％以下、好ましくは０．５モル％以上１２モル％以下、１０モル％以下であることがさらに好ましい。１モル％以上９モル％以下であることがより好ましく、特に好ましくは１モル％以上７モル％以下である。本発明者の見出したヨウ化銀含有率の高い組成のハロゲン化銀による著しい現像抑制を押さえるためには、この添加量の選択は極めて重要である。
【００５７】
４）粒子形成方法
感光性ハロゲン化銀の形成方法は当業界ではよく知られており、例えば、リサーチディスクロージャー１９７８年６月の第１７０２９号、および米国特許第３，７００，４５８号に記載されている方法を用いることができるが、具体的にはゼラチンあるいは他のポリマー溶液中に銀供給化合物及びハロゲン供給化合物を添加することにより感光性ハロゲン化銀を調製し、その後で有機銀塩と混合する方法を用いる。また、特開平１１−１１９３７４号公報の段落番号０２１７〜０２２４に記載されている方法、特開平１１−３５２６２７号、特願２０００−４２３３６号記載の方法も好ましい。
【００５８】
５）粒子形状
本発明におけるハロゲン化銀粒子の形状としては、立方体、八面体、十二面体、十四面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特に十二面体、十四面体が好ましい。ここでいう十二面体粒子とは、（００１）、｛１（−１）０｝、｛１０１｝面を有する粒子で、十四面体粒子とは、（００１）、｛１００｝、｛１０１｝面を有する粒子である。ここで｛１００｝は、（１００）面と等価な面指数を持つ結晶面群を表す。
本発明の沃化銀は任意のβ相およびγ相含有率を取ることができる。上記のβ相とは六方晶系のウルツァイト構造を有する高沃化銀構造を指し、γ相とは立方晶系のジンクブレンド構造を有する高沃化銀構造を指す。
ここでいう平均γ相比率とは、Ｃ．Ｒ．Ｂｅｒｒｙ（ベリー）により提案された手法を用いて決定されるものである。この手法は、粉末Ｘ線回折法での沃化銀β相（１００）、（１０１）、（００２）とγ相（１１１）によるピーク比を元にして決定するもので、詳細については例えば、Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ， Ｖｏｌｕｍｅ１６１，Ｎｕｍｂｅｒ３， Ｐａｇｅ８４８−８５１，１９６７年を参考にすることができる。
沃化銀の平板粒子の形成方法に関しては、特開昭５９−１１９３５０、特開昭５９−１１９３４４に記載の方法が好ましく用いられる。１２面体、１４面体、８面体に関しては、特願２００２−０８１０２０、同２００２−８７９５５、同２００２−９１７５６を参考にして調製することができる。
本発明のヨウ化銀含有率の高い組成のハロゲン化銀は複雑な形態を取り得るが、好ましい形態は例えば、Ｒ．Ｌ．ＪＥＮＫＩＮＳ ｅｔａｌ． Ｊ ｏｆ Ｐｈｏｔ． Ｓｃｉ． Ｖｏｌ．２８ （１９８０）のｐ１６４−Ｆｉｇ１に示されているような接合粒子が挙げられる。同Ｆｉｇ．１に示されているような平板状粒子も好ましく用いられる。ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。感光性ハロゲン化銀粒子の外表面の面指数（ミラー指数）については特に制限はないが、分光増感色素が吸着した場合の分光増感効率が高い［１００］面の占める割合が高いことが好ましい。その割合としては５０％以上が好ましく、６５％以上がより好ましく、８０％以上が更に好ましい。ミラー指数［１００］面の比率は増感色素の吸着における［１１１］面と［１００］面との吸着依存性を利用したＴ．Ｔａｎｉ；Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｃｉ．，２９、１６５（１９８５年）に記載の方法により求めることができる。
【００５９】
６）重金属
本発明の感光性ハロゲン化銀粒子は、周期律表（第１〜１８族までを示す）の第８族〜第１０族の金属または金属錯体を含有することができる。周期律表の第８族〜第１０族の金属または金属錯体の中心金属として好ましくは、ロジウム、ルテニウム、イリジウムである。これら金属錯体は１種類でもよいし、同種金属及び異種金属の錯体を２種以上併用してもよい。好ましい含有率は銀１モルに対し１×１０^−９モルから１×１０^−３モルの範囲が好ましい。これらの重金属や金属錯体及びそれらの添加法については特開平７−２２５４４９号、特開平１１−６５０２１号段落番号００１８〜００２４、特開平１１−１１９３７４号段落番号０２２７〜０２４０に記載されている。
【００６０】
本発明においては、六シアノ金属錯体を粒子最表面に存在させたハロゲン化銀粒子が好ましい。六シアノ金属錯体としては、［Ｆｅ（ＣＮ）_６］^４−、［Ｆｅ（ＣＮ）_６］^３−、［Ｒｕ（ＣＮ）_６］^４−、［Ｏｓ（ＣＮ）_６］^４−、［Ｃｏ（ＣＮ）_６］^３−、［Ｒｈ（ＣＮ）_６］^３−、［Ｉｒ（ＣＮ）_６］^３−、［Ｃｒ（ＣＮ）_６］^３−、［Ｒｅ（ＣＮ）_６］^３−などが挙げられる。本発明においては六シアノＦｅ錯体が好ましい。
【００６１】
六シアノ金属錯体は、水溶液中でイオンの形で存在するので対陽イオンは重要ではないが、水と混和しやすく、ハロゲン化銀乳剤の沈澱操作に適合しているナトリウムイオン、カリウムイオン、ルビジウムイオン、セシウムイオンおよびリチウムイオン等のアルカリ金属イオン、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン（例えばテトラメチルアンモニウムイオン、テトラエチルアンモニウムイオン、テトラプロピルアンモニウムイオン、テトラ（ｎ−ブチル）アンモニウムイオン）を用いることが好ましい。
【００６２】
六シアノ金属錯体は、水の他に水と混和しうる適当な有機溶媒（例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類等）との混合溶媒やゼラチンと混和して添加することができる。
【００６３】
六シアノ金属錯体の添加量は、銀１モル当たり１×１０^−５モル以上１×１０^−２モル以下が好ましく、より好ましくは１×１０^−４モル以上１×１０^−３モル以下である。
【００６４】
六シアノ金属錯体をハロゲン化銀粒子最表面に存在させるには、六シアノ金属錯体を、粒子形成に使用する硝酸銀水溶液を添加終了した後、硫黄増感、セレン増感およびテルル増感のカルコゲン増感や金増感等の貴金属増感を行う化学増感工程の前までの仕込工程終了前、水洗工程中、分散工程中、または化学増感工程前に直接添加する。ハロゲン化銀微粒子を成長させないためには、粒子形成後速やかに六シアノ金属錯体を添加することが好ましく、仕込工程終了前に添加することが好ましい。
【００６５】
尚、六シアノ金属錯体の添加は、粒子形成をするために添加する硝酸銀の総量の９６質量％を添加した後から開始してもよく、９８質量％添加した後から開始するのがより好ましく、９９質量％添加した後が特に好ましい。
これら六シアノ金属錯体を粒子形成の完了する直前の硝酸銀水溶液を添加した後に添加すると、ハロゲン化銀粒子最表面に吸着することができ、そのほとんどが粒子表面の銀イオンと難溶性の塩を形成する。この六シアノ鉄（ＩＩ）の銀塩は、ＡｇＩよりも難溶性の塩であるため、微粒子による再溶解を防ぐことができ、粒子サイズが小さいハロゲン化銀微粒子を製造することが可能となった。
【００６６】
さらに本発明に用いられるハロゲン化銀粒子に含有することのできる金属原子（例えば［Ｆｅ（ＣＮ）_６］^４−）、ハロゲン化銀乳剤の脱塩法や化学増感法については特開平１１−８４５７４号段落番号００４６〜００５０、特開平１１−６５０２１号段落番号００２５〜００３１、特開平１１−１１９３７４号段落番号０２４２〜０２５０に記載されている。
【００６７】
７）ゼラチン
本発明に用いる感光性ハロゲン化銀乳剤に含有されるゼラチンとしては、種々のゼラチンが使用することができる。感光性ハロゲン化銀乳剤の有機銀塩含有塗布液中での分散状態を良好に維持するために、分子量は、５００〜６０，０００の低分子量ゼラチンを使用することが好ましい。これらの低分子量ゼラチンは粒子形成時あるいは脱塩処理後の分散時に使用してもよいが、脱塩処理後の分散時に使用することが好ましい。
【００６８】
８）化学増感
本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀は、未化学増感でもよいが、カルコゲン増感法、金増感法、還元増感法の少なくとも１つの方法で化学増感されるのが好ましい。カルコゲン増感法としては、硫黄増感法、セレン増感法およびテルル増感法が挙げられる。
【００６９】
硫黄増感においては、不安定硫黄化合物を用い、Ｐ．Ｇｒａｆｋｉｄｅｓ著、Ｃｈｉｍｉｅ ｅｔ Ｐｈｙｓｉｑｕｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｑｕｅ（Ｐａｕｌ Ｍｏｍｔｅｌ社刊、１９８７年、第５版）、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ誌３０７巻３０７１０５号などに記載されている不安定硫黄化合物を用いる事が出来る。
具体的には、チオ硫酸塩（例えばハイポ）、チオ尿素類（例えば、ジフェニルチオ尿素、トリエチルチオ尿素、ＮーエチルーＮ´ー（４ーメチルー２ーチアゾリル）チオ尿素、カルボキシメチルトリメチルチオ尿素）、チオアミド類（例えば、チオアセトアミド）、ローダニン類（例えば、ジエチルローダニン、５ーベンジリデン−Ｎ−エチルローダニン）、フォスフィンスルフィド類（例えば、トリメチルフォスフィンスルフィド）、チオヒダントイン類、４ーオキソーオキサゾリジンー２ーチオン類、ジスルフィド類またはポリスルフィド類（例えば、ジモルフォリンジスルフィド、シスチン、レンチオニン）、ポリチオン酸塩、元素状硫黄などの公知の硫黄化合物および活性ゼラチンなども用いることができる。特にチオ硫酸塩、チオ尿素類とローダニン類が好ましい。
【００７０】
セレン増感においては、不安定セレン化合物を用い、特公昭４３ー１３４８９号、同４４ー１５７４８号、特開平４ー２５８３２号、同４ー１０９３４０号、同４ー２７１３４１号、同５ー４０３２４号、同５ー１１３８５号、特願平４ー２０２４１５号、同４ー３３０４９５号、同４ー３３３０３０号、同５ー４２０３号、同５ー４２０４号、同５ー１０６９７７号、同５ー２３６５３８号、同５ー２４１６４２号、同５ー２８６９１６号などに記載されているセレン化合物を用いる事が出来る。
【００７１】
具体的には、コロイド状金属セレン、セレノ尿素類（例えば、Ｎ，Ｎージメチルセレノ尿素、トリフルオルメチルカルボニルートリメチルセレノ尿素、アセチルートリメチルセレノ尿素）、セレノアミド類（例えば、セレノアミド，Ｎ，Ｎージエチルフェニルセレノアミド）、フォスフィンセレニド類（例えば、トリフェニルフォスフィンセレニド、ペンタフルオロフェニルートリフェニルフォスフィンセレニド）、セレノフォスフェート類（例えば、トリーｐ−トリルセレノフォスフェート、トリ−ｎ−ブチルセレノフォスフェート）、セレノケトン類（例えば、セレノベンゾフェノン）、イソセレノシアネート類、セレノカルボン酸類、セレノエステル類、ジアシルセレニド類などを用いればよい。またさらに、特公昭４６ー４５５３号、同５２ー３４４９２号などに記載の非不安定セレン化合物、例えば亜セレン酸、セレノシアン酸塩、セレナゾール類、セレニド類なども用いる事が出来る。特に、フォスフィンセレニド類、セレノ尿素類とセレノシアン酸塩が好ましい。
【００７２】
テルル増感においては、不安定テルル化合物を用い、特開平４ー２２４５９５号、同４ー２７１３４１号、同４ー３３３０４３号、同５ー３０３１５７号、同６−２７５７３号、同６−１７５２５８号、同６−１８０４７８号、同６−２０８１８６号、同６−２０８１８４号、同６−３１７８６７号、同７−１４０５７９号、同７−３０１８７９号、同７−３０１８８０号などに記載されている不安定テルル化合物を用いる事が出来る。
【００７３】
具体的には、フォスフィンテルリド類（例えば、ブチルージイソプロピルフォスフィンテルリド、トリブチルフォスフィンテルリド、トリブトキシフォスフィンテルリド、エトキシージフェニルフォスフィンテルリド）、ジアシル（ジ）テルリド類（例えば、ビス（ジフェニルカルバモイル）ジテルリド、ビス（Ｎ−フェニルーＮ−メチルカルバモイル）ジテルリド、ビス（Ｎ−フェニルーＮーメチルカルバモイル）テルリド、ビス（Ｎ−フェニルーＮーベンジルカルバモイル）テルリド、ビス（エトキシカルボニル）テルリド）、テルロ尿素類（例えば、Ｎ，Ｎ´ージメチルエチレンテルロ尿素、Ｎ，Ｎ´ージフェニルエチレンテルロ尿素）テルロアミド類、テルロエステル類などを用いれば良い。特に、ジアシル（ジ）テルリド類とフォスフィンテルリド類が好ましく、特に特開平１１−６５０２１号段落番号００３０に記載の文献に記載の化合物、特開平５−３１３２８４号中の一般式（ＩＩ），（ＩＩＩ），（ＩＶ）で示される化合物がより好ましい。
【００７４】
特に本発明のカルコゲン増感においてはセレン増感とテルル増感が好ましく、特にテルル増感が好ましい。
【００７５】
金増感においては、Ｐ．Ｇｒａｆｋｉｄｅｓ著、Ｃｈｉｍｉｅ ｅｔ Ｐｈｙｓｉｑｕｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｑｕｅ（Ｐａｕｌ Ｍｏｍｔｅｌ社刊、１９８７年、第５版）、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ誌３０７巻３０７１０５号に記載されている金増感剤を用いることができる。具体的には、塩化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオーリチオシアネート、硫化金、金セレニドなどでありこれらにくわえて、米国特許第２６４２３６１号、同５０４９４８４号、同５０４９４８５号、同５１６９７５１号、同５２５２４５５号、ベルギー特許第６９１８５７などに記載の金化合物も用いることが出来る。またＰ．Ｇｒａｆｋｉｄｅｓ著、Ｃｈｉｍｉｅ ｅｔ Ｐｈｙｓｉｑｕｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｑｕｅ（Ｐａｕｌ Ｍｏｍｔｅｌ社刊、１９８７年、第５版）、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ誌３０７巻３０７１０５号に記載されている金以外の、白金、パラジュウム、イリジュウムなどの貴金属塩を用いる事も出来る。
【００７６】
金増感は単独で用いることもできるが、前記のカルコゲン増感と組み合わせて用いることが好ましい。具体的には金硫黄増感、金セレン増感、金テルル増感、金硫黄セレン増感、金硫黄テルル増感、金セレンテルル増感、金硫黄セレンテルル増感である。
【００７７】
本発明においては、化学増感は粒子形成後で塗布前であればいかなる時期でも可能であり、脱塩後、（１）分光増感前、（２）分光増感と同時、（３）分光増感後、（４）塗布直前等があり得る。
【００７８】
本発明で用いられるカルコゲン増感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等によって変わるが、ハロゲン化銀１モル当たり１０^−８〜１０^−１モル、好ましくは１０^−７〜１０^−２モル程度を用いる。
同様に、本発明で用いられる金増感剤の添加量は種々の条件により異なるが、目安としてはハロゲン化銀１モル当たり１０^−７モル〜１０^−２モル、より好ましくは１０^−６モル〜５×１０^−３モルである。この乳剤を化学増感する環境条件としてはいかなる条件でも選択可能ではあるが、ｐＡｇとしては８以下、好ましくは７．０以下より６．５以下、とくに６．０以下、およびｐＡｇが１．５以上、好ましくは２．０以上、特に好ましくは２．５以上の条件であり、ｐＨとしては３〜１０、好ましくは４〜９、温度としては２０〜９５℃、好ましくは２５〜８０℃程度である。
【００７９】
本発明においてカルコゲン増感や金増感に加えて、さらに還元増感も併用することができる。とくにカルコゲン増感と併用するのが好ましい。
還元増感法の具体的な化合物としてはアスコルビン酸、二酸化チオ尿素、ジメチルアミンボランが好ましく、その他に塩化第一スズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることが好ましい。還元増感剤の添加は、結晶成長から塗布直前の調製工程までの感光乳剤製造工程のどの過程でもよい。また、乳剤のｐＨを８以上またはｐＡｇを４以下に保持して熟成することにより還元増感することも好ましく、粒子形成中に銀イオンのシングルアディション部分を導入することにより還元増感することも好ましい。
還元増感剤の添加量としては、同様に種々の条件により異なるが、目安としてはハロゲン化銀１モル当たり１０^−７モル〜１０^−１モル、より好ましくは１０^−６モル〜５×１０^−２モルである。
【００８０】
本発明で用いるハロゲン化銀乳剤には、欧州特許公開第２９３，９１７号公報に示される方法により、チオスルフォン酸化合物を添加してもよい。
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、金増感、カルコゲン増感、の少なくとも１つの方法で化学増感されていることが高感度の熱現像感光材料を設計する点から好ましい。
【００８１】
９）増感色素
本発明に適用できる増感色素としてはハロゲン化銀粒子に吸着した際、所望の波長領域でハロゲン化銀粒子を分光増感できるもので、露光光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利に選択することができる。本発明の熱現像感光材料は特に６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下、または３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下に分光感度ピークを持つように分光増感されていることが好ましい。増感色素及び添加法については、特開平１１−６５０２１号の段落番号０１０３〜０１０９、特開平１０−１８６５７２号一般式（ＩＩ）で表される化合物、特開平１１−１１９３７４号の一般式（Ｉ）で表される色素及び段落番号０１０６、米国特許第５，５１０，２３６号、同第３，８７１，８８７号実施例５に記載の色素、特開平２−９６１３１号、特開昭５９−４８７５３号に開示されている色素、欧州特許公開第０８０３７６４Ａ１号の第１９ページ第３８行〜第２０ページ第３５行、特願２０００−８６８６５号、特願２０００−１０２５６０号、特願２０００−２０５３９９号等に記載されている。これらの増感色素は単独で用いてもよく、２種以上組合せて用いてもよい。
【００８２】
本発明における増感色素の添加量は、感度やカブリの性能に合わせて所望の量にすることができるが、感光性層のハロゲン化銀１モル当たり１０^−６〜１モルが好ましく、さらに好ましくは１０^−４〜１０^−１モルである。
【００８３】
本発明は分光増感効率を向上させるため、強色増感剤を用いることができる。本発明に用いる強色増感剤としては、欧州特許公開第５８７，３３８号、米国特許第３，８７７，９４３号、同第４，８７３，１８４号、特開平５−３４１４３２号、同１１−１０９５４７号、同１０−１１１５４３号等に記載の化合物が挙げられる。
【００８４】
１０）ハロゲン化銀の併用
本発明に用いられる熱現像感光材料中の感光性ハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上（例えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの）併用してもよい。感度の異なる感光性ハロゲン化銀を複数種用いることで階調を調節することができる。これらに関する技術としては特開昭５７−１１９３４１号、同５３−１０６１２５号、同４７−３９２９号、同４８−５５７３０号、同４６−５１８７号、同５０−７３６２７号、同５７−１５０８４１号などが挙げられる。感度差としてはそれぞれの乳剤で０．２ｌｏｇＥ以上の差を持たせることが好ましい。
【００８５】
１１）ハロゲン化銀と有機銀塩の混合
本発明の感光性ハロゲン化銀の粒子は、非感光性有機銀塩の存在しないところで形成され、化学増感されることが特に好ましい。有機銀塩に対してハロゲン化剤を添加することによってハロゲン化銀を形成する方法では十分な感度が達成できない場合があるからである。
ハロゲン化銀と有機銀塩を混合する方法としては、別々に調製した感光性ハロゲン化銀と有機銀塩を高速撹拌機やボールミル、サンドミル、コロイドミル、振動ミル、ホモジナイザー等で混合する方法や、あるいは有機銀塩の調製中のいずれかのタイミングで調製終了した感光性ハロゲン化銀を混合して有機銀塩を調製する方法等があげられる。いずれの方法でも本発明の効果を好ましく得ることができる。
【００８６】
１２）ハロゲン化銀の塗布液への混合
本発明のハロゲン化銀の画像形成層塗布液中への好ましい添加時期は、塗布する１８０分前から直前、好ましくは６０分前から１０秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やＮ．Ｈａｒｎｂｙ、Ｍ．Ｆ．Ｅｄｗａｒｄｓ、Ａ．Ｗ．Ｎｉｅｎｏｗ著、高橋幸司訳”液体混合技術”（日刊工業新聞社刊、１９８９年）の第８章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。
【００８７】
１３）塗布液の調製
本発明の画像形成層塗布液の調製温度は３０℃以上６５℃以下がよく、さらに好ましい温度は３５℃以上６０℃未満、より好ましい温度は３５℃以上５５℃以下である。また、ポリマーラテックス添加直後の画像形成層塗布液の温度が３０℃以上６５℃以下で維持されることが好ましい。
【００８８】
４．還元剤
本発明の熱現像感光材料は、有機銀塩のための還元剤を含む。該還元剤は、銀イオンを金属銀に還元できる任意の物質（好ましくは有機物）でよい。該還元剤の例は、特開平１１―６５０２１号、段落番号００４３〜００４５や、欧州特許０８０３７６４号、ｐ．７、３４行〜ｐ．１８、１２行に記載されている。
【００８９】
本発明に用いられる好ましい還元剤は、フェノール性水酸基のオルト位に置換基を有するいわゆるヒンダードフェノール系還元剤、あるいはビスフェノール系還元剤である。特に次の一般式（Ｒ）で表される化合物が好ましい。
【００９０】
一般式（Ｒ）
【化１１】

【００９１】
一般式（Ｒ）においては、Ｒ^１１およびＲ^１１’は各々独立に炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｒ^１２およびＲ^１２’は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な置換基を表す。Ｌは−Ｓ−基または−ＣＨＲ^１３−基を表す。Ｒ^１３は水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｘ^１およびＸ^１’は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。
【００９２】
各置換基について詳細に説明する。
１）Ｒ^１１およびＲ^１１’
Ｒ^１１およびＲ^１１’は各々独立に置換または無置換の炭素数１〜２０のアルキル基であり、アルキル基の置換基は特に限定されることはないが、好ましくは、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等があげられる。
【００９３】
２）Ｒ^１２およびＲ^１２’、Ｘ^１およびＸ^１’
Ｒ^１２およびＲ^１２’は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。
Ｘ^１およびＸ^１’は、各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。それぞれベンゼン環に置換可能な基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルアミノ基があげられる。
【００９４】
３）Ｌ
Ｌは−Ｓ−基または−ＣＨＲ^１３−基を表す。Ｒ^１３は水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、アルキル基は置換基を有していてもよい。
Ｒ^１３の無置換のアルキル基の具体例はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ウンデシル基、イソプロピル基、１−エチルペンチル基、２，４，４−トリメチルペンチル基などがあげられる。
【００９５】
アルキル基の置換基の例はＲ^１１の置換基と同様で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基などがあげられる。
【００９６】
４）好ましい置換基
Ｒ^１１およびＲ^１１’として好ましくは炭素数３〜１５の２級または３級のアルキル基であり、具体的にはイソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、ｔ−オクチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−メチルシクロプロピル基などがあげられる。Ｒ^１１およびＲ^１１’としてより好ましくは炭素数４〜１２の３級アルキル基で、その中でもｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、１−メチルシクロヘキシル基が更に好ましく、ｔ−ブチル基が最も好ましい。
【００９７】
Ｒ^１２およびＲ^１２’として好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基などがあげられる。より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基である。
【００９８】
Ｘ^１およびＸ^１’は、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基で、より好ましくは水素原子である。
【００９９】
Ｌは好ましくは−ＣＨＲ^１３−基である。
【０１００】
Ｒ^１３として好ましくは水素原子または炭素数１〜１５のアルキル基であり、アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、２，４，４−トリメチルペンチル基が好ましい。Ｒ^１３として特に好ましいのは水素原子、メチル基、プロピル基またはイソプロピル基である。
【０１０１】
Ｒ^１３が水素原子である場合、Ｒ^１２およびＲ^１２’は好ましくは炭素数２〜５のアルキル基であり、エチル基、プロピル基がより好ましく、エチル基が最も好ましい。
【０１０２】
Ｒ^１３が炭素数１〜８の１級または２級のアルキル基である場合、Ｒ^１２およびＲ^１２’はメチル基が好ましい。Ｒ^１３の炭素数１〜８の１級または２級のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基がより好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基が更に好ましい。
【０１０３】
Ｒ^１１、Ｒ^１１’およびＲ^１２、Ｒ^１２’とがいずれもメチル基である場合、Ｒ^１３は２級のアルキル基であることが好ましい。この場合、Ｒ^１３の２級アルキル基としてはイソプロピル基、イソブチル基、１−エチルペンチル基が好ましく、イソプロピル基がより好ましい。
【０１０４】
上記還元剤は、Ｒ^１１、Ｒ^１１’およびＲ^１２およびＲ^１２’、およびＲ^１３の組合せにより、種々の熱現像性能が異なる。２種以上の還元剤を種々の混合比率で併用することによってこれらの熱現像性能を調整することができるので、目的によっては還元剤を２種類以上組み合わせて使用することが好ましい。
【０１０５】
以下に本発明の一般式（Ｒ）で表される化合物をはじめとして、本発明に用いることのできる還元剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１０６】
【化１２】

【０１０７】
【化１３】

【０１０８】
【化１４】

【０１０９】
特に（Ｒ−１）〜（Ｒ−２０）に示すような化合物であることが好ましい。
【０１１０】
本発明において還元剤の添加量は０．０１〜５．０ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．１〜３．０ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、画像形成層を有する面の銀１モルに対しては５〜５０モル％含まれることが好ましく、１０〜４０モル％で含まれることがさらに好ましい。
【０１１１】
本発明の還元剤は、有機銀塩、および感光性ハロゲン化銀を含む画像形成層、およびその隣接層に添加することができるが、画像形成層に含有させることがより好ましい。
【０１１２】
本発明の還元剤は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてもよい。
【０１１３】
よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。
【０１１４】
また、固体微粒子分散法としては、還元剤を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作成する方法が挙げられる。好ましくは、サンドミルを使った分散方法である。尚、その際に保護コロイド（例えば、ポリビニルアルコール）、界面活性剤（例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム（３つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物）などのアニオン性界面活性剤）を用いてもよい。水分散物には防腐剤（例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩）を含有させることができる。
【０１１５】
特に好ましいのは、還元剤の固体粒子分散法であり、平均粒子サイズ０．０１μｍ〜１０μｍ、好ましくは０．０５μｍ〜５μｍ、より好ましくは０．１μｍ〜１μｍの微粒子して添加するのが好ましい。本願においては他の固体分散物もこの範囲の粒子サイズに分散して用いるのが好ましい。
【０１１６】
５．１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物
本発明における熱現像感光材料は、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物を含有することが好ましい。該化合物は、単独、あるいは前記の種々の化学増感剤と併用して用いられ、ハロゲン化銀の感度増加をもたらすことができる。
【０１１７】
本発明の熱現像感光材料に含有される１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物とは以下のタイプ１〜５から選ばれる化合物である。
【０１１８】
（タイプ１）
１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに２電子以上の電子を放出し得る化合物。
（タイプ２）
１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらにもう１電子を放出し得る化合物で、かつ同じ分子内にハロゲン化銀への吸着性基を２つ以上有する化合物。
（タイプ３）
１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合形成過程を経た後に、さらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
（タイプ４）
１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く分子内の環開裂反応を経た後に、さらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
（タイプ５）
Ｘ−Ｙで表される化合物においてＸは還元性基を、Ｙは脱離基を表し、Ｘで表される還元性基が１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続くＸ−Ｙ結合の開裂反応を伴ってＹを脱離してＸラジカルを生成し、そこからさらにもう１電子を放出し得る化合物。
【０１１９】
上記タイプ１およびタイプ３〜５の化合物のうち好ましいものは、「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」であるか、または「分子内に、分光増感色素の部分構造を有する化合物」である。より好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」である。タイプ１〜４の化合物はより好ましくは「２つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物」である。
【０１２０】
タイプ１〜５の化合物について詳細に説明する。
タイプ１の化合物において「結合開裂反応」とは具体的に炭素−炭素、炭素−ケイ素、炭素−水素、炭素−ホウ素、炭素−スズ、炭素−ゲルマニウムの各元素間の結合の開裂を意味し、炭素−水素結合の開裂がさらにこれらに付随してもよい。タイプ１の化合物は１電子酸化されて１電子酸化体となった後に、初めて結合開裂反応を伴って、さらに２電子以上（好ましくは３電子以上）の電子を放出し得る化合物である。
【０１２１】
タイプ１の化合物のうち好ましい化合物は一般式（Ａ）、一般式（Ｂ）、一般式（１）、一般式（２）または一般式（３）で表される。
【０１２２】
一般式（Ａ）
【化１５】

【０１２３】
一般式（Ｂ）
【化１６】

【０１２４】
一般式（Ａ）においてＲＥＤ_１１は１電子酸化され得る還元性基を表し、Ｌ_１１は脱離基を表す。Ｒ_１１２は水素原子または置換基を表す。Ｒ_１１１は炭素原子（Ｃ）およびＲＥＤ_１１と共に、５員もしくは６員の芳香族環（芳香族ヘテロ環を含む）のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体、もしくはオクタヒドロ体に相当する環状構造を形成し得る非金属原子団を表す。
【０１２５】
一般式（Ｂ）においてＲＥＤ_１２は１電子酸化され得る還元性基を表し、Ｌ_１２は脱離基を表す。Ｒ_１２１およびＲ_１２２は、それぞれ水素原子または置換基を表す。ＥＤ_１２は電子供与性基を表す。一般式（Ｂ）においてＲ_１２１とＲＥＤ_１２、Ｒ_１２１とＲ_１２２、またはＥＤ_１２とＲＥＤ_１２とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【０１２６】
これら一般式（Ａ）または一般式（Ｂ）で表される化合物は、ＲＥＤ_１１またはＲＥＤ_１２で表される還元性基が１電子酸化された後、自発的にＬ_１１またはＬ_１２を結合開裂反応により離脱することで、これに伴いさらに電子を２つ以上、好ましくは３つ以上放出し得る化合物である。
【０１２７】
一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）
【化１７】

【０１２８】
一般式（１）においてＺ_１は窒素原子およびベンゼン環の２つの炭素原子と共に６員環を形成し得る原子団を表し、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_Ｎ１はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｘ_１はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、ｍ_１は０〜３の整数を表し、Ｌ_１は脱離基を表す。一般式（２）においてＥＤ_２１は電子供与性基を表し、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_Ｎ２１、Ｒ_１３、Ｒ_１４はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｘ_２１はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、ｍ_２１は０〜３の整数を表し、Ｌ_２１は脱離基を表す。Ｒ_Ｎ２１、Ｒ_１３、Ｒ_１４、Ｘ_２１およびＥＤ_２１は、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。一般式（３）においてＲ_３２、Ｒ_３３、Ｒ_３１、Ｒ_Ｎ３１、Ｒ_ａ、Ｒ_ｂはそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｌ_３１は脱離基を表す。但しＲ_Ｎ３１がアリール基以外の基を表す時、Ｒ_ａおよびＲ_ｂは互いに結合して芳香族環を形成する。
【０１２９】
これら化合物は１電子酸化された後、自発的にＬ_１、Ｌ_２１、またはＬ_３１を結合開裂反応により離脱することで、これに伴いさらに電子を２つ以上、好ましくは３つ以上放出し得る化合物である。
【０１３０】
以下、先ず一般式（Ａ）で表される化合物について詳しく説明する。
一般式（Ａ）においてＲＥＤ_１１で表される１電子酸化され得る還元性基は、後述するＲ_１１１と結合して特定の環形成をし得る基であり、具体的には次の１価基から環形成をするのに適切な箇所の水素原子１個を除いた２価基が挙げられる。例えば、アルキルアミノ基、アリールアミノ基（アニリノ基、ナフチルアミノ基等）、ヘテロ環アミノ基（ベンズチアゾリルアミノ基、ピロリルアミノ基等）、アルキルチオ基、アリールチオ基（フェニルチオ基等）、ヘテロ環チオ基、アルコキシ基、アリールオキシ基（フェノキシ基等）、ヘテロ環オキシ基、アリール基（フェニル基、ナフチル基、アントラニル基等）、芳香族または非芳香族のヘテロ環基（５員〜７員の、単環もしくは縮合環の、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、セレン原子のうち少なくとも１つのヘテロ原子を含むヘテロ環で、その具体例としては、例えばテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロキナゾリン環、インドリン環、インドール環、インダゾール環、カルバゾール環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、ベンゾチアゾリン環、ピロール環、イミダゾール環、チアゾリン環、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、メチレンジオキシフェニル環等が挙げられる）である（以後、便宜上ＲＥＤ_１１は１価基名として記述する）。ＲＥＤ_１１は置換基を有していてもよい。
【０１３１】
本発明において置換基とは、特に説明がない限り、以下の基から選ばれる置換基を意味する。ハロゲン原子、アルキル基（アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基（置換する位置は問わない）、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基（例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基）、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、スルホニルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基（エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む）、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、（アルキル、アリール、またはヘテロ環）アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、（アルキルもしくはアリール）スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、（アルキル、アリール、またはヘテロ環）チオ基、（アルキルまたはアリール）スルホニル基、（アルキルまたはアリール）スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基またはその塩、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、等が挙げられる。これら置換基は、これら置換基でさらに置換されていてもよい。
【０１３２】
ＲＥＤ_１１として好ましくは、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリール基、芳香族または非芳香族のヘテロ環基であり、さらに好ましくはアリールアミノ基（特にアニリノ基）、アリール基（特にフェニル基）である。これらが置換基を有する時、置換基として好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基である。
但しＲＥＤ_１１がアリール基を表す時、アリール基は少なくとも１つの「電子供与性基」を有していることが好ましい。ここに「電子供与性基」とは、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、活性メチン基、窒素原子を環内に少なくとも１つ含む５員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基（例えばインドリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、チアゾリル基、ベンズチアゾリル基、インダゾリル基など）、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基（ピロリジニル基、インドリニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリノ基などで環状のアミノ基とも呼べる基）である。ここで活性メチン基とは２つの「電子求引性基」で置換されたメチン基を意味し、ここに「電子求引性基」とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボンイミドイル基を意味する。ここで２つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。
【０１３３】
一般式（Ａ）においてＬ_１１は、具体的にはカルボキシ基もしくはその塩、シリル基、水素原子、トリアリールホウ素アニオン、トリアルキルスタニル基、トリアルキルゲルミル基、または−ＣＲ_Ｃ１Ｒ_Ｃ２Ｒ_Ｃ３基を表す。ここにシリル基とは具体的にトリアルキルシリル基、アリールジアルキルシリル基、トリアリールシリル基などを表し、任意の置換基を有していてもよい。
【０１３４】
Ｌ_１１がカルボキシ基の塩を表すとき、塩を形成するカウンターイオンとしてはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、重金属イオン、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられ、好ましくはアルカリ金属イオンまたはアンモニウムイオンであり、アルカリ金属イオン（特にＬｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋イオン）が最も好ましい。
【０１３５】
Ｌ_１１が−ＣＲ_Ｃ１Ｒ_Ｃ２Ｒ_Ｃ３基を表す時、ここにＲ_Ｃ１、Ｒ_Ｃ２、Ｒ_Ｃ３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基を表し、これらが互いに結合して環状構造を形成していてもよく、さらに任意の置換基を有していてもよい。但し、Ｒ_Ｃ１、Ｒ_Ｃ２、Ｒ_Ｃ３のうち１つが水素原子もしくはアルキル基を表す時、残る２つが水素原子もしくはアルキル基を表すことはない。Ｒ_Ｃ１、Ｒ_Ｃ２、Ｒ_Ｃ３として好ましくは、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基（特にフェニル基）、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環基、アルコキシ基、ヒドロキシ基で、具体的にその例を挙げると、フェニル基、ｐ−ジメチルアミノフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、ｐ−ヒドロキシフェニル基、メチルチオ基、フェニルチオ基、フェノキシ基、メトキシ基、エトキシ基、ジメチルアミノ基、Ｎ−メチルアニリノ基、ジフェニルアミノ基、モルホリノ基、チオモルホリノ基、ヒドロキシ基などが挙げられる。またこれらが互いに結合して環状構造を形成する場合の例としては１，３−ジチオラン−２−イル基、１，３−ジチアン−２−イル基、Ｎ−メチル−１，３−チアゾリジン−２−イル基、Ｎ−ベンジル−ベンゾチアゾリジン−２−イル基などが挙げられる。
−ＣＲ_Ｃ１Ｒ_Ｃ２Ｒ_Ｃ３基が、Ｒ_Ｃ１、Ｒ_Ｃ２、Ｒ_Ｃ３についてそれぞれ上述した範囲内で選択された結果として、一般式（Ａ）からＬ_１１を除いた残基と同じ基を表す場合もまた好ましい。
【０１３６】
一般式（Ａ）においてＬ_１１は、好ましくはカルボキシ基またはその塩、および水素原子である。より好ましくはカルボキシ基またはその塩である。
【０１３７】
Ｌ_１１が水素原子を表す時、一般式（Ａ）で表される化合物は、分子内に内在する塩基部位を有していることが好ましい。この塩基部位の作用により、一般式（Ａ）で表される化合物が酸化された後、Ｌ_１１で表される水素原子が脱プロトン化されて、ここからさらに電子が放出されるのである。
【０１３８】
ここに塩基とは、具体的に約１〜約１０のｐＫａを示す酸の共役塩基である。例えば含窒素ヘテロ環類（ピリジン類、イミダゾール類、ベンゾイミダゾール類、チアゾール類など）、アニリン類、トリアルキルアミン類、アミノ基、炭素酸類（活性メチレンアニオンなど）、チオ酢酸アニオン、カルボキシレート（−ＣＯＯ⁻）、サルフェート（−ＳＯ_３ ⁻）、またはアミンオキシド（＞Ｎ^＋（Ｏ⁻）−）などが挙げられる。好ましくは約１〜約８のｐＫａを示す酸の共役塩基であり、カルボキシレート、サルフェート、またはアミンオキシドがより好ましく、カルボキシレートが特に好ましい。これらの塩基がアニオンを有する時、対カチオンを有していてもよく、その例としてはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、重金属イオン、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。これら塩基は、任意の位置で一般式（Ａ）で表される化合物に連結される。これら塩基部位が結合する位置としては、一般式（Ａ）のＲＥＤ_１１、Ｒ_１１１、Ｒ_１１２の何れでもよく、またこれらの基の置換基に連結していてもよい。
【０１３９】
一般式（Ａ）においてＲ_１１２は水素原子または炭素原子に置換可能な置換基を表す。但しＲ_１１２がＬ_１１と同じ基を表すことはない。
Ｒ_１１２は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基（フェニル基など）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基など）、ヒドロキシ基、アルキルチオ基（メチルチオ基、ブチルチオ基など）、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、フェニル基、アルキルアミノ基である。
【０１４０】
一般式（Ａ）においてＲ_１１１が形成する環状構造とは、５員もしくは６員の芳香族環（芳香族ヘテロ環を含む）のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体もしくはオクタヒドロ体に相当する環構造で、ここにヒドロ体とは、芳香族環（芳香族ヘテロ環を含む）に内在する炭素−炭素２重結合（または炭素−窒素２重結合）が部分的に水素化された環構造を意味し、テトラヒドロ体とは２つの、ヘキサヒドロ体とは３つの、オクタヒドロ体とは４つの、炭素−炭素２重結合（または炭素−窒素２重結合）が水素化された構造を意味する。水素化されることで芳香族環は、部分的に水素化された非芳香族の環構造となる。
具体的には、ピロリジン環、イミダゾリジン環、チアゾリジン環、ピラゾリジン環およびオキサゾリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環、テトラリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、およびテトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロカルバゾール環、オクタヒドロフェナントリジン環等が挙げられる。これらの環構造は任意の置換基を有していてもよい。
【０１４１】
Ｒ_１１１が形成する環状構造としてさらに好ましくは、ピロリジン環、イミダゾリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロカルバゾール環であり、特に好ましくは、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキノキサリン環であり、最も好ましくはピロリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環である。
【０１４２】
一般式（Ｂ）においてＲＥＤ_１２、Ｌ_１２は、それぞれ一般式（Ａ）のＲＥＤ_１１、Ｌ_１１に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。但し、ＲＥＤ_１２は下記の環状構造を形成する場合以外は１価基であり、具体的にはＲＥＤ_１１で記載した１価基名の基が挙げられる。Ｒ_１２１およびＲ_１２２は一般式（Ａ）のＲ_１１２に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。ＥＤ_１２は電子供与性基を表す。Ｒ_１２１とＲＥＤ_１２、Ｒ_１２１とＲ_１２２、またはＥＤ_１２とＲＥＤ_１２とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【０１４３】
一般式（Ｂ）においてＥＤ_１２で表される電子供与性基とは、ＲＥＤ_１１がアリール基を表すときの置換基として説明した電子供与性基と同じものである。ＥＤ_１２として好ましくはヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、活性メチン基、窒素原子を環内に少なくとも１つ含む５員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、およびこれら電子供与性基で置換されたフェニル基であり、さらにヒドロキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、およびこれら電子供与性基で置換されたフェニル基（例えばｐ−ヒドロキシフェニル基、ｐ−ジアルキルアミノフェニル基、ｏ，ｐ−ジアルコキシフェニル基等）がより好ましい。
【０１４４】
一般式（Ｂ）においてＲ_１２１とＲＥＤ_１２、Ｒ_１２２とＲ_１２１、またはＥＤ_１２とＲＥＤ_１２とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。ここで形成される環状構造とは、非芳香族の炭素環もしくはヘテロ環であって、５員〜７員環の単環または縮合環で、置換もしくは無置換の環状構造である。Ｒ_１２１とＲＥＤ_１２とが環構造を形成するとき、その具体例としては、一般式（Ａ）においてＲ_１１１が形成する環状構造の例として挙げたものに加えて、ピロリン環、イミダゾリン環、チアゾリン環、ピラゾリン環、オキサゾリン環、インダン環、モルホリン環、インドリン環、テトラヒドロ−１，４−オキサジン環、２，３−ジヒドロベンゾ−１，４−オキサジン環、テトラヒドロ−１，４−チアジン環、２，３−ジヒドロベンゾ−１，４−チアジン環、２，３−ジヒドロベンゾフラン環、２，３−ジヒドロベンゾチオフェン環等が挙げられる。ＥＤ_１２とＲＥＤ_１２とが環構造を形成するとき、ＥＤ_１２は好ましくはアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基を表し、形成される環構造の具体例としては、テトラヒドロピラジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロイソキノリン環などが挙げられる。Ｒ_１２２とＲ_１２１とが環構造を形成するとき、その具体例としてはシクロヘキサン環、シクロペンタン環などが挙げられる。
【０１４５】
次に一般式（１）〜（３）について説明する。
一般式（１）〜（３）においてＲ_１、Ｒ_２、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_３１は、一般式（Ａ）のＲ_１１２と同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。Ｌ_１、Ｌ_２１、Ｌ_３１は、一般式（Ａ）のＬ_１１について説明した中で具体例として挙げた基と同じ脱離基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。Ｘ_１、Ｘ_２１で表される置換基としては、一般式（Ａ）のＲＥＤ_１１が置換基を有する時の置換基の例と同じであり、好ましい範囲も同じである。ｍ_１、ｍ_２１は好ましくは０〜２の整数であり、より好ましくは０または１である。
【０１４６】
Ｒ_Ｎ１、Ｒ_Ｎ２１、Ｒ_Ｎ３１が置換基を表す時、置換基としてはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基が好ましく、これらはさらに任意の置換基を有していてもよい。Ｒ_Ｎ１、Ｒ_Ｎ２１、Ｒ_Ｎ３１は水素原子、アルキル基またはアリール基が好ましく、水素原子またはアルキル基がより好ましい。
【０１４７】
Ｒ_１３、Ｒ_１４、Ｒ_３３、Ｒ_ａ、Ｒ_ｂが置換基を表す時、置換基として好ましくは、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、アルコキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基などである。
【０１４８】
一般式（１）においてＺ_１が形成する６員環は、一般式（１）のベンゼン環と縮合した非芳香族のヘテロ環であり、具体的には縮合するベンゼン環も含めた環構造としてテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロキナゾリン環であり、好ましくはテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環である。これらは置換基を有していてもよい。
【０１４９】
一般式（２）においてＥＤ_２１は、一般式（Ｂ）のＥＤ_１２と同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。
【０１５０】
一般式（２）においてＲ_Ｎ２１、Ｒ_１３、Ｒ_１４、Ｘ_２１およびＥＤ_２１のいずれか２つは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。ここでＲ_Ｎ２１とＸ_２１が結合して形成される環状構造とは、好ましくはベンゼン環と縮合した５員〜７員の非芳香族の炭素環もしくはヘテロ環であって、その具体例としては、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、インドリン環、２，３−ジヒドロ−５，６−ベンゾ−１，４−チアジン環などが挙げられる。好ましくはテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、インドリン環である。
【０１５１】
一般式（３）においてＲ_Ｎ３１がアリール基以外の基を表す時、Ｒ_ａおよびＲ_ｂは互いに結合して芳香族環を形成する。ここに芳香族環とはアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基）および芳香族ヘテロ環基（例えばピリジン環基、ピロール環基、キノリン環基、インドール環基など）であり、アリール基が好ましい。該芳香族環基は任意の置換基を有していてもよい。
一般式（３）においてＲ_ａおよびＲ_ｂは、互いに結合して芳香族環（特にフェニル基）を形成する場合が好ましい。
【０１５２】
一般式（３）においてＲ_３２は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、アミノ基などであり、ここにＲ_３２がヒドロキシ基を表す時、同時にＲ_３３が「電子求引性基」を表す場合も好ましい例の１つである。ここに「電子求引性基」とは、先に説明したものと同じであり、アシル基、アルコシキカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基が好ましい。
【０１５３】
次にタイプ２の化合物について説明する。
タイプ２の化合物において「結合開裂反応」とは炭素−炭素、炭素−ケイ素、炭素−水素、炭素−ホウ素、炭素−スズ、炭素−ゲルマニウムの各元素間の結合の開裂を意味し、炭素−水素結合の開裂がこれに付随してもよい。
【０１５４】
タイプ２の化合物は分子内にハロゲン化銀への吸着性基を２つ以上（好ましくは２〜６つ、より好ましくは２〜４つ）有する化合物である。より好ましくは２つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物である。吸着性基の数は、好ましくは２〜６、さらに好ましくは２〜４が良い。吸着性基については後述する。
【０１５５】
タイプ２の化合物のうち好ましい化合物は一般式（Ｃ）で表される。
【０１５６】
一般式（Ｃ）
【化１８】

【０１５７】
ここに一般式（Ｃ）で表される化合物は、ＲＥＤ_２で表される還元性基が１電子酸化された後、自発的にＬ_２を結合開裂反応により離脱することで、これに伴いさらに電子を１つ放出し得る化合物である。
【０１５８】
一般式（Ｃ）においてＲＥＤ_２は一般式（Ｂ）のＲＥＤ_１２と同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。Ｌ_２は一般式（Ａ）のＬ_１１について説明したのと同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。なおＬ_２がシリル基を表す時、該化合物は分子内に、２つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物である。Ｒ_２１、Ｒ_２２は水素原子または置換基を表し、これらは一般式（Ａ）のＲ_１１２と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。ＲＥＤ_２とＲ_２１とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。
【０１５９】
ここで形成される環構造とは、５員〜７員の、単環もしくは縮合環の、非芳香族の炭素環またはヘテロ環であり、置換基を有していてもよい。但し該環構造が、芳香族環または芳香族ヘテロ環のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体もしくはオクタヒドロ体に相当する環構造であることはない。環構造として好ましくは、芳香族環または芳香族ヘテロ環のジヒドロ体に相当する環構造で、その具体例としては、例えば２−ピロリン環、２−イミダゾリン環、２−チアゾリン環、１，２−ジヒドロピリジン環、１，４−ジヒドロピリジン環、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、２，３−ジヒドロベンゾチオフェン環、２，３−ジヒドロベンゾフラン環、ベンゾ−α−ピラン環、１，２−ジヒドロキノリン環、１，２−ジヒドロキナゾリン環、１，２−ジヒドロキノキサリン環などが挙げられ、好ましくは２−イミダゾリン環、２−チアゾリン環、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、１，２−ジヒドロピリジン環、１，２−ジヒドロキノリン環、１，２−ジヒドロキナゾリン環、１，２−ジヒドロキノキサリン環などであり、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、１，２−ジヒドロキノリン環がより好ましく、インドリン環が特に好ましい。
【０１６０】
次にタイプ３の化合物について説明する。
タイプ３の化合物において「結合形成過程」とは炭素−炭素、炭素−窒素、炭素−硫黄、炭素−酸素などの原子間結合の形成を意味する。
【０１６１】
タイプ３の化合物は好ましくは、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続いて分子内に共存する反応性基部位（炭素−炭素２重結合部位、炭素−炭素３重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位）と反応して結合を形成した後に、さらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得ることを特徴とする化合物である。
【０１６２】
さらに詳細に述べるとタイプ３の化合物は、１電子酸化されて生成するその１電子酸化体（カチオンラジカル種、またはそこからプロトンの脱離により生成する中性のラジカル種）が、同じ分子内に共存する上記反応性基と反応し、結合を形成して、分子内に新たに環構造を有するラジカル種を生成する。そしてこのラジカル種から、直接もしくはプロトンの脱離を伴って、２電子目の電子が放出される特徴を有している。
そしてさらにタイプ３の化合物の中には、そうして生成した２電子酸化体がその後、ある場合には加水分解反応を受けた後に、またある場合には直接プロトンの移動を伴なう互変異性化反応を起して、そこからさらに１電子以上、通常２電子以上の電子を放出する場合がある。あるいはまたこうした互変異性化反応を経由せずに直接２電子酸化体から、さらに１電子以上、通常２電子以上の電子を放出する能力を有しているものも含まれる。
【０１６３】
タイプ３の化合物は好ましくは、一般式（Ｄ）で表される。
【０１６４】
一般式（Ｄ）
【化１９】

【０１６５】
一般式（Ｄ）においてＲＥＤ_３は１電子酸化され得る還元性基を表し、Ｙ_３はＲＥＤ_３が１電子酸化された後に反応する反応性基部位を表し、具体的には炭素−炭素２重結合部位、炭素−炭素３重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位を含む有機基を表す。Ｌ_３はＲＥＤ_３とＹ_３とを連結する連結基を表す。
【０１６６】
ＲＥＤ_３は一般式（Ｂ）のＲＥＤ_１２と同義の基を表し、好ましくはアリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリール基、芳香族または非芳香族のヘテロ環基（特に含窒素ヘテロ環基が好ましい）であり、さらに好ましくはアリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリール基、芳香族または非芳香族のヘテロ環基であり、このうちヘテロ環基に関しては、テトラヒドロキノリン環基、テトラヒドロキノキサリン環基、テトラヒドロキナゾリン環基、インドリン環基、インドール環基、カルバゾール環基、フェノキサジン環基、フェノチアジン環基、ベンゾチアゾリン環基、ピロール環基、イミダゾール環基、チアゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ベンゾイミダゾリン環基、ベンゾチアゾリン環基、３，４−メチレンジオキシフェニル−１−イル基などが好ましい。
ＲＥＤ_３として特に好ましくはアリールアミノ基（特にアニリノ基）、アリール基（特にフェニル基）、芳香族または非芳香族のヘテロ環基である。
【０１６７】
ここでＲＥＤ_３がアリール基を表す時、アリール基は少なくとも１つの「電子供与性基」を有していることが好ましい。「電子供与性基」は先に説明したものと同じである。
【０１６８】
ＲＥＤ_３がアリール基を表す時、そのアリール基の置換基としてより好ましくはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基であり、さらに好ましくはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基であり、最も好ましくはアルキルアミノ基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基である。
【０１６９】
Ｙ_３で表される炭素−炭素２重結合部位を含む有機基（例えばビニル基）が置換基を有するとき、その置換基として好ましくは、アルキル基、フェニル基、アシル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、電子供与基などであり、ここに電子供与性基として好ましくは、アルコキシ基、ヒドロキシ基（シリル基で保護されていてもよく、例えばトリメチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、フェニルジメチルシリルオキシ基などが挙げられる）、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、スルホンアミド基、活性メチン基、メルカプト基、アルキルチオ基、およびこれら電子供与性基を置換基に有するフェニル基である。
【０１７０】
なおここで炭素−炭素２重結合部位を含む有機基が置換基としてヒドロキシ基を有する時、Ｙ_３は右記部分構造：＞Ｃ_１＝Ｃ_２（−ＯＨ）−を含むことになるが、これは互変異性化して右記部分構造：＞Ｃ_１Ｈ−Ｃ_２（＝Ｏ）−となっていても良い。さらにこの場合に、該Ｃ_１炭素に置換する置換基が電子求引性基である場合もまた好ましく、この場合Ｙ_３は「活性メチレン基」または「活性メチン基」の部分構造を有することになる。このような活性メチレン基または活性メチン基の部分構造を与え得る電子求引性基とは、上述の「活性メチン基」の説明の中で説明したものと同じである。
【０１７１】
Ｙ_３で表される炭素−炭素３重結合部位を含む有機基（例えばエチニル基）が置換基を有するとき、その置換基としてはアルキル基、フェニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、電子供与基などが好ましい。
【０１７２】
Ｙ_３が芳香族基部位を含む有機基を表す時、芳香族基として好ましくは電子供与性基を置換基として有するアリール基（特にフェニル基が好ましい）またはインドール環基で、ここに電子供与性基として好ましくは、ヒドロキシ基（シリル基で保護されていてもよい）、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、活性メチン基、スルホンアミド基、メルカプト基である。
【０１７３】
Ｙ_３がベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位を含む有機基を表す時、ベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基として好ましくはアニリン構造を部分構造として内在するもので、例えば、インドリン環基、１，２，３，４−テトラヒドロキノリン環基、１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン環基、４−キノロン環基などが挙げられる。
【０１７４】
Ｙ_３で表される反応性基としてより好ましくは、炭素−炭素２重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基を含む有機基である。さらに好ましくは、炭素−炭素２重結合部位、電子供与性基を置換基として有するフェニル基、インドール環基、アニリン構造を部分構造として内在するベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基である。ここに炭素−炭素２重結合部位は少なくとも１つの電子供与性基を置換基として有することがより好ましい。
【０１７５】
Ｙ_３で表される反応性基が、これまでに説明した範囲から選択された結果として、ＲＥＤ_３で表される還元性基と同じ部分構造を有する場合もまた、一般式（Ｄ）で表される化合物の好ましい例である。
【０１７６】
Ｌ_３は、ＲＥＤ_３とＹ_３とを連結する連結基を表し、具体的には単結合、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ_Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、−Ｐ（＝Ｏ）−の各基の単独、またはこれらの基の組み合わせからなる基を表す。ここにＲ_Ｎは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。Ｌ_３で表される連結基は任意の置換基を有していてもよい。Ｌ_３で表される連結基は、ＲＥＤ_３およびＹ_３で表される基の任意の位置で、それぞれの任意の１個の水素原子と置換する形で、連結され得る。
Ｌ_３の好ましい例としては、単結合、アルキレン基（特にメチレン基、エチレン基、プロピレン基）、アリーレン基（特にフェニレン基）、−Ｃ（＝Ｏ）−基、−Ｏ−基、−ＮＨ−基、−Ｎ（アルキル基）−基、およびこれらの基の組み合わせからなる２価の連結基が挙げられる。
【０１７７】
Ｌ_３で表される基は、ＲＥＤ_３が酸化されて生成するカチオンラジカル種（Ｘ^＋・）、またはそこからプロトンの脱離を伴って生成するラジカル種（Ｘ・）と、Ｙ_３で表される反応性基とが反応して結合形成する際、これに関わる原子団が、Ｌ_３を含めて３〜７員の環状構造を形成しうることが好ましい。この為にはラジカル種（Ｘ^＋・またはＸ・）、Ｙで表される反応性基、およびＬが、３〜７個の原子団で連結されていることが好ましい。
【０１７８】
次にタイプ４の化合物について説明する。
タイプ４の化合物は還元性基の置換した環構造を有する化合物であり、該還元性基が１電子酸化された後、環構造の開裂反応を伴ってさらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出しうる化合物である。ここで言う環構造の開裂反応とは、下記で表される形式のものを意味する。
【０１７９】
【化２０】

【０１８０】
式中、化合物ａはタイプ４の化合物を表す。化合物ａ中、Ｄは還元性基を表し、Ｘ、Ｙは環構造中の１電子酸化後に開裂する結合を形成している原子を表す。まず化合物ａが１電子酸化されて１電子酸化体ｂを生成する。ここからＤ−Ｘの単結合が２重結合になると同時にＸ−Ｙの結合が切断され開環体ｃが生成する。あるいはまた１電子酸化体ｂからプロトンの脱離を伴ってラジカル中間体ｄが生成し、ここから同様に開環体ｅを生成する経路をとる場合もある。このように生成した開環体ｃまたはｅから、引き続きさらに１つ以上の電子が放出される点に本発明の化合物の特徴がある。
【０１８１】
タイプ４の化合物が有する環構造とは、３〜７員環の炭素環またはヘテロ環であり、単環もしくは縮環の、飽和もしくは不飽和の非芳香族の環を表す。好ましくは飽和の環構造であり、より好ましくは３員環あるいは４員環である。好ましい環構造としてはシクロプロパン環、シクロブタン環、オキシラン環、オキセタン環、アジリジン環、アゼチジン環、エピスルフィド環、チエタン環が挙げられる。より好ましくはシクロプロパン環、シクロブタン環、オキシラン環、オキセタン環、アゼチジン環であり、特に好ましくはシクロプロパン環、シクロブタン環、アゼチジン環である。環構造は任意の置換基を有していても良い。
【０１８２】
タイプ４の化合物は好ましくは一般式（Ｅ）または（Ｆ）で表される。
【０１８３】
一般式（Ｅ）
【化２１】

【０１８４】
一般式（Ｆ）
【化２２】

【０１８５】
一般式（Ｅ）および一般式（Ｆ）においてＲＥＤ_４１およびＲＥＤ_４２は、それぞれ一般式（Ｂ）のＲＥＤ_１２と同義の基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。Ｒ_４０〜Ｒ_４４およびＲ_４５〜Ｒ_４９は、それぞれ水素原子または置換基を表す。一般式（Ｆ）においてＺ_４２は、−ＣＲ_４２０Ｒ_４２１−、−ＮＲ_４２３−、または−Ｏ−を表す。ここにＲ_４２０、Ｒ_４２１は、それぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ_４２３は水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。
【０１８６】
一般式（Ｅ）および一般式（Ｆ）においてＲ_４０およびＲ_４５は、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表し、水素原子、アルキル基、アリール基がより好ましい。Ｒ_４１〜Ｒ_４４およびＲ_４６〜Ｒ_４９として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基である。
【０１８７】
Ｒ_４１〜Ｒ_４４は、これらのうち少なくとも１つがドナー性基である場合と、Ｒ_４１とＲ_４２、あるいはＲ_４３とＲ_４４がともに電子求引性基である場合が好ましい。より好ましくはＲ_４１〜Ｒ_４４の少なくとも１つがドナー性基である場合である。さらに好ましくはＲ_４１〜Ｒ_４４の少なくとも１つがドナー性基であり且つ、Ｒ_４１〜Ｒ_４４の中でドナー性基でない基が水素原子またはアルキル基である場合である。
【０１８８】
ここで言うドナー性基とは、「電子供与性基」、または少なくとも１つの「電子供与性基」で置換されたアリール基である。ドナー性基として好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、窒素原子を環内に少なくとも１つ含む５員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、少なくとも１つの電子供与性基で置換されたフェニル基が用いられる。より好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、窒素原子を環内に少なくとも１つ含む５員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基（インドール環、ピロール環、カルバゾール環など）、電子供与性基で置換されたフェニル基（３つ以上のアルコキシ基で置換されたフェニル基、ヒドロキシ基またはアルキルアミノ基またはアリールアミノ基で置換されたフェニル基など）が用いられる。 特に好ましくはアリールアミノ基、窒素原子を環内に少なくとも１つ含む５員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基（特に３−インドリル基）、電子供与性基で置換されたフェニル基（特にトリアルコキシフェニル基、アルキルアミノ基またはアリールアミノ基で置換されたフェニル基）が用いられる。
【０１８９】
Ｚ_４２として好ましくは−ＣＲ_４２０Ｒ_４２１−または−ＮＲ_４２３−であり、より好ましくは−ＮＲ_４２３−である。Ｒ_４２０、Ｒ_４２１は好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシルアミノ基、スルホンアミノ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基である。Ｒ_４２３は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、芳香族ヘテロ環基を表し、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基である。
【０１９０】
Ｒ_４０〜Ｒ_４９およびＲ_４２０、Ｒ_４２１、Ｒ_４２３の各基が置換基である場合にはそれぞれ総炭素数が４０以下のものが好ましく、より好ましくは総炭素数３０以下で、特に好ましくは総炭素数１５以下である。またこれらの置換基は互いに結合して、あるいは分子中の他の部位（ＲＥＤ_４１、ＲＥＤ_４２あるいはＺ_４２）と結合して環を形成していても良い。
【０１９１】
本発明のタイプ１〜４の化合物においてハロゲン化銀への吸着性基とは、ハロゲン化銀に直接吸着する基、またはハロゲン化銀への吸着を促進する基であり、具体的には、メルカプト基（またはその塩）、チオン基（−Ｃ（＝Ｓ）−）、窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも１つの原子を含むヘテロ環基、スルフィド基、カチオン性基、またはエチニル基である。但し、本発明のタイプ２の化合物においては、吸着性基としてスルフィド基は含まれない。
【０１９２】
吸着性基としてメルカプト基（またはその塩）とは、メルカプト基（またはその塩）そのものを意味すると同時に、より好ましくは、少なくとも１つのメルカプト基（またはその塩）の置換したヘテロ環基またはアリール基またはアルキル基を表す。ここにヘテロ環基は、５員〜７員の、単環もしくは縮合環の、芳香族または非芳香族のヘテロ環基で、例えばイミダゾール環基、チアゾール環基、オキサゾール環基、ベンズイミダゾール環基、ベンズチアゾール環基、ベンズオキサゾール環基、トリアゾール環基、チアジアゾール環基、オキサジアゾール環基、テトラゾール環基、プリン環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基等が挙げられる。また４級化された窒素原子を含むヘテロ環基でもよく、この場合、置換したメルカプト基が解離してメソイオンとなっていてもよく、この様なヘテロ環基の例としてはイミダゾリウム環基、ピラゾリウム環基、チアゾリウム環基、トリアゾリウム環基、テトラゾリウム環基、チアジアゾリウム環基、ピリジニウム環基、ピリミジニウム環基、トリアジニウム環基などが挙げられ、中でもトリアゾリウム環基（例えば１，２，４−トリアゾリウム−３−チオレート環基）が好ましい。アリール基としてはフェニル基またはナフチル基が挙げられる。アルキル基としては炭素数１〜３０の直鎖または分岐または環状のアルキル基が挙げられる。メルカプト基が塩を形成するとき、対イオンとしてはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などのカチオン（Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ａｇ^＋、Ｚｎ^２＋等）、アンモニウムイオン、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
【０１９３】
吸着性基としてのメルカプト基はさらにまた、互変異性化してチオン基となっていてもよく、具体的にはチオアミド基（ここでは−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−基）、および該チオアミド基の部分構造を含む基、すなわち、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、またはジチオカルバミン酸エステル基などが挙げられる。ここで環状の例としてはチアゾリジン−２−チオン基、オキサゾリジン−２−チオン基、２−チオヒダントイン基、ローダニン基、イソローダニン基、チオバルビツール酸基、２−チオキソ−オキサゾリジン−４−オン基などが挙げられる。
【０１９４】
吸着性基としてチオン基とは、上述のメルカプト基が互変異性化してチオン基となった場合を含め、メルカプト基に互変異性化できない（チオン基のα位に水素原子を持たない）、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、またはジチオカルバミン酸エステル基も含まれる。
【０１９５】
吸着性基として窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも１つの原子を含むヘテロ環基とは、イミノ銀（＞ＮＡｇ）を形成しうる−ＮＨ−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基、または配位結合で銀イオンに配位し得る、”−Ｓ−”基または”−Ｓｅ−”基または”−Ｔｅ−”基または”＝Ｎ−”基をヘテロ環の部分構造として有するヘテロ環基で、前者の例としてはベンゾトリアゾール基、トリアゾール基、インダゾール基、ピラゾール基、テトラゾール基、ベンズイミダゾール基、イミダゾール基、プリン基などが、後者の例としてはチオフェン基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、トリアジン基、セレノアゾール基、ベンズセレノアゾール基、テルルアゾール基、ベンズテルルアゾール基などが挙げられる。好ましくは前者である。
【０１９６】
吸着性基としてスルフィド基とは、”−Ｓ−”の部分構造を有する基すべてが挙げられるが、好ましくはアルキル（またはアルキレン）−Ｓ−アルキル（またはアルキレン）、アリール（またはアリーレン）−Ｓ−アルキル（またはアルキレン）、アリール（またはアリーレン）−Ｓ−アリール（またはアリーレン）の部分構造を有する基である。さらにこれらのスルフィド基は、環状構造を形成していてもよく、また−Ｓ−Ｓ−基となっていてもよい。環状構造を形成する場合の具体例としてはチオラン環、１，３−ジチオラン環または１，２−ジチオラン環、チアン環、ジチアン環、テトラヒドロ−１，４−チアジン環（チオモルホリン環）などを含む基が挙げられる。スルフィド基として特に好ましくはアルキル（またはアルキレン）−Ｓ−アルキル（またはアルキレン）の部分構造を有する基である。
【０１９７】
吸着性基としてカチオン性基とは、４級化された窒素原子を含む基を意味し、具体的にはアンモニオ基または４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。但し、該カチオン性基が色素構造を形成する原子団（例えばシアニン発色団）の一部となることはない。ここにアンモニオ基とは、トリアルキルアンモニオ基、ジアルキルアリールアンモニオ基、アルキルジアリールアンモニオ基などで、例えばベンジルジメチルアンモニオ基、トリヘキシルアンモニオ基、フェニルジエチルアンモニオ基などが挙げられる。４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基とは、例えばピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、イミダゾリオ基などが挙げられる。好ましくはピリジニオ基およびイミダゾリオ基であり、特に好ましくはピリジニオ基である。これら４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基は任意の置換基を有していてもよいが、ピリジニオ基およびイミダゾリオ基の場合、置換基として好ましくはアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、クロル原子、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基などが挙げられ、ピリジニオ基の場合、置換基として特に好ましくはフェニル基である。
【０１９８】
吸着性基としてエチニル基とは、−Ｃ≡ＣＨ基を意味し、水素原子は置換されていてもよい。
上記の吸着性基は任意の置換基を有していてもよい。
【０１９９】
なお吸着性基の具体例としては、さらに特開平１１−９５３５５号の明細書４〜７頁に記載されているものが挙げられる。
【０２００】
本発明において吸着性基として好ましいものは、メルカプト置換含窒素ヘテロ環基（例えば２−メルカプトチアジアゾール基、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール基、５−メルカプトテトラゾール基、２−メルカプト−１，３，４−オキサジアゾール基、２−メルカプトベンズオキサゾール基、２−メルカプトベンズチアゾール基、１，５−ジメチル−１，２，４−トリアゾリウム−３−チオレート基など）、またはイミノ銀（＞ＮＡｇ）を形成しうる−ＮＨ−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基（例えば、ベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など）である。特に好ましくは、５−メルカプトテトラゾール基、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール基、およびベンゾトリアゾール基であり、最も好ましいのは、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール基、および５−メルカプトテトラゾール基である。
【０２０１】
本発明の化合物のうち、分子内に２つ以上のメルカプト基を部分構造として有する化合物もまた特に好ましい化合物である。ここにメルカプト基（−ＳＨ）は、互変異性化できる場合にはチオン基となっていてもよい。この様な化合物の例としては、以上述べてきたメルカプト基もしくはチオン基を部分構造として有する吸着性基（例えば環形成チオアミド基、アルキルメルカプト基、アリールメルカプト基、ヘテロ環メルカプト基など）を分子内に２つ以上有する化合物であってもよいし、また吸着性基の中で、２つ以上のメルカプト基またはチオン基を部分構造として有する吸着性基（例えばジメルカプト置換含窒素ヘテロ環基）を、１つ以上有していてもよい。
【０２０２】
２つ以上のメルカプト基を部分構造として有する吸着性基（ジメルカプト置換含窒素ヘテロ環基など）の例としては、２，４−ジメルカプトピリミジン基、２，４−ジメルカプトトリアジン基、３，５−ジメルカプト−１，２，４−トリアゾール基、２，５−ジメルカプト−１，３−チアゾール基、２，５−ジメルカプト−１，３−オキサゾール基、２，７−ジメルカプト−５−メチル−ｓ−トリアゾロ（１，５−Ａ）−ピリミジン、２，６，８−トリメルカプトプリン、６，８−ジメルカプトプリン、３，５，７−トリメルカプト−ｓ−トリアゾロトリアジン、４，６−ジメルカプトピラゾロピリミジン、２，５−ジメルカプトイミダゾールなどが挙げられ、２，４−ジメルカプトピリミジン基、２，４−ジメルカプトトリアジン基、３，５−ジメルカプト−１，２，４−トリアゾール基が特に好ましい。
【０２０３】
吸着性基は一般式（Ａ）〜（Ｆ）および一般式（１）〜（３）のどこに置換されていてもよいが、一般式（Ａ）〜（Ｄ）においてはＲＥＤ_１１、ＲＥＤ_１２、ＲＥＤ_２、ＲＥＤ_３に、一般式（Ｅ）、（Ｆ）においてはＲＥＤ_４１、Ｒ_４１、ＲＥＤ_４２、Ｒ_４６〜Ｒ_４８に、一般式（１）〜（３）においてはＲ_１、Ｒ_２、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_３１、Ｌ_１、Ｌ_２１、Ｌ_３１を除く任意の位置に置換されていることが好ましく、さらに一般式（Ａ）〜（Ｆ）全てでＲＥＤ_１１〜ＲＥＤ_４２に置換されていることがより好ましい。
【０２０４】
分光増感色素の部分構造とは分光増感色素の発色団を含む基であり、分光増感色素化合物から任意の水素原子または置換基を除いた残基である。分光増感色素の部分構造は一般式（Ａ）〜（Ｆ）および一般式（１）〜（３）のどこに置換されていてもよいが、一般式（Ａ）〜（Ｄ）においてはＲＥＤ_１１、ＲＥＤ_１２、ＲＥＤ_２、ＲＥＤ_３に、一般式（Ｅ）、（Ｆ）においてはＲＥＤ_４１、Ｒ_４１、ＲＥＤ_４２、Ｒ_４６〜Ｒ_４８に、一般式（１）〜（３）においてはＲ_１、Ｒ_２、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_３１、Ｌ_１、Ｌ_２１、Ｌ_３１を除く任意の位置に置換されていることが好ましく、さらに一般式（Ａ）〜（Ｆ）全てでＲＥＤ_１１〜ＲＥＤ_４２に置換されていることがより好ましい。好ましい分光増感色素は、典型的にカラー増感技法で用いられる分光増感色素であり、例えばシアニン色素類、複合シアニン色素類、メロシアニン色素類、複合メロシアニン色素類、同極のシアニン色素類、スチリル色素類、ヘミシアニン色素類を含む。代表的な分光増感色素は、リサーチディスクロージャー、アイテム３６５４４、１９９４年９月に開示されている。前記リサーチディスクロージャー、もしくはＦ．Ｍ．ＨａｍｅｒのＴｈｅ Ｃｙａｎｉｎｅ ｄｙｅｓ ａｎｄ Ｒｅｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ（Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ， Ｎｅｗ ｙｐｒｋ， １９６４）に記載される手順によって当業者は、これらの色素を合成することができる。さらに特開平１１−９５３５５号（米国特許６，０５４，２６０号）の明細書７〜１４頁に記載された色素類が全てそのまま当てはまる。
【０２０５】
本発明のタイプ１〜４の化合物は、その総炭素数が１０〜６０の範囲のものが好ましい。より好ましくは１５〜５０、さらに好ましくは１８〜４０であり、特に好ましくは１８〜３０である。
【０２０６】
本発明のタイプ１〜４の化合物は、これを用いたハロゲン化銀写真感光材料が露光されることを引き金に１電子酸化され、引き続く反応の後、さらに１電子、あるいはタイプによっては２電子以上の電子が放出され、酸化されるが、その１電子目の酸化電位は、約１．４Ｖ以下が好ましく、さらには１．０Ｖ以下が好ましい。この酸化電位は好ましくは０Ｖより高く、より好ましくは０．３Ｖより高い。従って酸化電位は好ましくは約０〜約１．４Ｖ、より好ましくは約０．３〜約１．０Ｖの範囲である。
【０２０７】
ここに酸化電位はサイクリックボルタンメトリーの技法で測定でき、具体的には試料をアセトニトリル：水（０．１Ｍの過塩素酸リチウムを含む）＝８０％：２０％（容量％）の溶液に溶解し、１０分間窒素ガスを通気した後、ガラス状のカーボンディスクを動作電極に用い、プラチナ線を対電極に用い、そしてカロメル電極（ＳＣＥ）を参照電極に用いて、２５℃で、０．１Ｖ／秒の電位走査速度で測定したものである。サイクリックボルタンメトリー波のピーク電位の時に酸化電位対ＳＣＥをとる。
【０２０８】
本発明のタイプ１〜４の化合物が１電子酸化され、引き続く反応の後、さらに１電子を放出する化合物である場合には、この後段の酸化電位は好ましくは−０．５Ｖ〜−２Ｖであり、より好ましくは−０．７Ｖ〜−２Ｖであり、さらに好ましくは−０．９Ｖ〜−１．６Ｖである。
【０２０９】
本発明のタイプ１〜４の化合物が１電子酸化され、引き続く反応の後、さらに２電子以上の電子を放出し、酸化される化合物である場合には、この後段の酸化電位については特に制限はない。２電子目の酸化電位と３電子目以降の酸化電位が明確に区別できない点で、これらを実際に正確に測定し区別することは困難な場合が多いためである。
【０２１０】
次にタイプ５の化合物について説明する。
タイプ５の化合物はＸ−Ｙで表され、ここにＸは還元性基を、Ｙは脱離基を表し、Ｘで表される還元性基が１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続くＸ−Ｙ結合の開裂反応を伴ってＹを脱離してＸラジカルを生成し、そこからさらにもう１電子を放出し得る化合物である。この様なタイプ５の化合物が酸化された時の反応は、以下の式で表すことができる。
【０２１１】
【化２３】

【０２１２】
タイプ５の化合物は好ましくはその酸化電位が０〜１．４Ｖであり、より好ましくは０．３Ｖ〜１．０Ｖである。また上記反応式において生成するラジカルＸ・の酸化電位は−０．７Ｖ〜−２．０Ｖであることが好ましく、−０．９Ｖ〜−１．６Ｖがより好ましい。
【０２１３】
タイプ５の化合物は、好ましくは一般式（Ｇ）で表される。
【０２１４】
一般式（Ｇ）
【化２４】

【０２１５】
一般式（Ｇ）においてＲＥＤ_０は還元性基を表し、Ｌ_０は脱離基を表し、Ｒ_０およびＲ_００は水素原子または置換基を表す。ＲＥＤ_０とＲ_０、およびＲ_０とＲ_００とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。ＲＥＤ_０は一般式（Ｃ）のＲＥＤ_２と同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。Ｒ_０およびＲ_００は一般式（Ｃ）のＲ_２１およびＲ_２２と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。但しＲ_０およびＲ_００が、水素原子を除いて、Ｌ_０と同義の基を表すことはない。ＲＥＤ_０とＲ_０とは互いに結合して環構造を形成していてもよく、ここに環構造の例としては、一般式（Ｃ）のＲＥＤ_２とＲ_２１が連結して環構造を形成する場合と同じ例が挙げられ、その好ましい範囲も同じである。Ｒ_０とＲ_００とが互いに結合して形成される環構造の例としては、シクロペンタン環やテトラヒドロフラン環などが挙げられる。一般式（Ｇ）においてＬ_０は、一般式（Ｃ）のＬ_２と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。
【０２１６】
一般式（Ｇ）で表される化合物は分子内にハロゲン化銀への吸着性基、もしくは分光増感色素の部分構造を有していることが好ましいが、Ｌ_０がシリル基以外の基を表す時、分子内に吸着性基を同時に２つ以上有することはない。但しここで吸着性基としてのスルフィド基は、Ｌ_０に依らず、これを２つ以上有していてもよい。
【０２１７】
一般式（Ｇ）で表される化合物が有するハロゲン化銀への吸着性基としては、本発明のタイプ１〜４の化合物が有していてもよい吸着性基と同じものがその例として挙げられるが、さらに加えて、特開平１１−９５３５５号の明細書４〜７頁に「ハロゲン化銀吸着基」として記載されているもの全てが挙げられ、好ましい範囲も同じである。
一般式（Ｇ）で表される化合物が有していてもよい分光増感色素の部分構造とは、本発明のタイプ１〜４の化合物が有していてもよい分光増感色素の部分構造と同じであるが、同時に特開平１１−９５３５５号の明細書７〜１４頁に「光吸収性基」として記載されているもの全てが挙げられ、好ましい範囲も同じである。
【０２１８】
以下に本発明のタイプ１〜５の化合物の具体例を列挙するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２１９】
【化２５】

【０２２０】
【化２６】

【０２２１】
【化２７】

【０２２２】
【化２８】

【０２２３】
本発明のタイプ１〜４の化合物は、それぞれ特願２００２−１９２３７３号、特願２００２−１８８５３７号、特願２００２−１８８５３６号、特願２００１−２７２１３７号、特願２００２−１９２３７４号において、詳細に説明した化合物と同じものである。これら特許出願明細書に記載した具体的化合物例もまた、本発明のタイプ１〜４の化合物の具体例として挙げることができる。また本発明のタイプ１〜４の化合物の合成例も、これら特許に記載したものと同じである。
【０２２４】
本発明のタイプ５の化合物の具体例としては、さらに特開平９−２１１７６９号（２８〜３２頁の表Ｅおよび表Ｆに記載の化合物ＰＭＴ−１〜Ｓ−３７）、特開平９−２１１７７４号、特開平１１−９５３５５号（化合物ＩＮＶ１〜３６）、特表２００１−５００９９６号（化合物１〜７４、８０〜８７、９２〜１２２）、米国特許５，７４７，２３５号、米国特許５，７４７，２３６号、欧州特許７８６６９２Ａ１号（化合物ＩＮＶ１〜３５）、欧州特許８９３７３２Ａ１号、米国特許６，０５４，２６０号、米国特許５，９９４，０５１号などの特許に記載の「１光子２電子増感剤」または「脱プロトン化電子供与増感剤」と称される化合物の例が、そのまま挙げられる。
【０２２５】
本発明のタイプ１〜５の化合物は感光性ハロゲン化銀乳剤調製時、熱現像感光材料製造工程中のいかなる場合にも使用しても良い。例えば感光性ハロゲン化銀粒子形成時、脱塩工程、化学増感時、塗布前などである。またこれらの工程中の複数回に分けて添加することも出来る。添加位置として好ましくは、感光性ハロゲン化銀粒子形成終了時から脱塩工程の前、化学増感時（化学増感開始直前から終了直後）、塗布前であり、より好ましくは化学増感時から非感光性有機銀塩と混合される前までである。
【０２２６】
本発明のタイプ１〜５の化合物は水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒またはこれらの混合溶媒に溶解して添加することが好ましい。水に溶解する場合、ｐＨを高くまたは低くした方が溶解度が上がる化合物については、ｐＨを高くまたは低くして溶解し、これを添加しても良い。
【０２２７】
本発明のタイプ１〜５の化合物は感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する乳剤層中に使用するのが好ましいが、感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する乳剤層と共に保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。本発明の化合物の添加時期は増感色素の前後を問わず、それぞれ好ましくはハロゲン化銀１モル当り、１×１０^−９〜５×１０^−１モル、更に好ましくは１×１０^−８〜５×１０^−２モルの割合でハロゲン化銀乳剤層に含有する。
【０２２８】
６．吸着基と還元基を有するレドックス化合物
本発明においては、分子内にハロゲン化銀への吸着基と還元基を有するレドックス化合物を含有させることが好ましい。前記レドックス化合物は、下記式（Ｉ）で表される化合物であることが好ましい。
【０２２９】
式（Ｉ） Ａ−（Ｗ）ｎ−Ｂ
［式（Ｉ）中、Ａはハロゲン化銀に吸着可能な基（以後、吸着基と呼ぶ）を表し、Ｗは２価の連結基を表し、ｎは０または１を表し、Ｂは還元基を表す。］
【０２３０】
式（Ｉ）中、Ａで表される吸着基とはハロゲン化銀に直接吸着する基、またはハロゲン化銀への吸着を促進する基であり、具体的には、メルカプト基（またはその塩）、チオン基（−Ｃ（＝Ｓ）−）、窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも１つの原子を含むヘテロ環基、スルフィド基、ジスルフィド基、カチオン性基、またはエチニル基等が挙げられる。
【０２３１】
吸着基としてメルカプト基（またはその塩）とは、メルカプト基（またはその塩）そのものを意味すると同時に、より好ましくは、少なくとも１つのメルカプト基（またはその塩）の置換したヘテロ環基またはアリール基またはアルキル基を表す。ここにヘテロ環基とは、少なくとも５員〜７員の、単環もしくは縮合環の、芳香族または非芳香族のヘテロ環基、例えばイミダゾール環基、チアゾール環基、オキサゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、トリアゾール環基、チアジアゾール環基、オキサジアゾール環基、テトラゾール環基、プリン環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基等が挙げられる。また４級化された窒素原子を含むヘテロ環基でもよく、この場合、置換したメルカプト基が解離してメソイオンとなっていても良い。メルカプト基が塩を形成するとき、対イオンとしてはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などのカチオン（Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ａｇ^＋、Ｚｎ^２＋等）、アンモニウムイオン、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
【０２３２】
吸着基としてのメルカプト基はさらにまた、互変異性化してチオン基となっていても良い。
吸着基としてチオン基とは、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、またはジチオカルバミン酸エステル基も含まれる。
吸着基として窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも１つの原子を含むヘテロ環基とは、イミノ銀（＞ＮＡｇ）を形成しうる−ＮＨ−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基、または配位結合で銀イオンに配位し得る、”−Ｓ−”基または”−Ｓｅ−”基または”−Ｔｅ−”基または”＝Ｎ−”基をヘテロ環の部分構造として有するヘテロ環基で、前者の例としてはベンゾトリアゾール基、トリアゾール基、インダゾール基、ピラゾール基、テトラゾール基、ベンゾイミダゾール基、イミダゾール基、プリン基などが、後者の例としてはチオフェン基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンゾチオフェン基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、トリアジン基、セレノアゾール基、ベンゾセレノアゾール基、テルルアゾール基、ベンゾテルルアゾール基などが挙げられる。
【０２３３】
吸着基としてスルフィド基またはジスルフィド基とは、”−Ｓ−”または”−Ｓ−Ｓ−”の部分構造を有する基すべてが挙げられる。
吸着基としてカチオン性基とは、４級化された窒素原子を含む基を意味し、具体的にはアンモニオ基または４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基とは、例えばピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、イミダゾリオ基などが挙げられる。吸着基としてエチニル基とは、−Ｃ≡ＣＨ基を意味し、該水素原子は置換されていてもよい。
上記の吸着基は任意の置換基を有していてもよい。
【０２３４】
さらに吸着基の具体例としては、さらに特開平１１−９５３５５号の明細書ｐ４〜ｐ７に記載されているものが挙げられる。
【０２３５】
式（Ｉ）中、Ａで表される吸着基として好ましいものは、メルカプト置換ヘテロ環基（例えば２−メルカプトチアジアゾール基、２−メルカプト−５−アミノチアジアゾール基、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール基、５−メルカプトテトラゾール基、２−メルカプト−１，３，４−オキサジアゾール基、２−メルカプトベンズイミダゾール基、１，５−ジメチル−１，２，４−トリアゾリウム−３−チオレート基、２，４−ジメルカプトピリミジン基、２，４−ジメルカプトトリアジン基、３，５−ジメルカプト−１，２，４−トリアゾール基、２，５−ジメルカプト−１，３−チアゾール基など）、またはイミノ銀（＞ＮＡｇ）を形成しうる−ＮＨ−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基（例えばベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など）であり、さらに好ましい吸着基は２−メルカプトベンズイミダゾール基、３，５−ジメルカプト−１，２，４−トリアゾール基である。
【０２３６】
式（Ｉ）中、Ｗは２価の連結基を表す。該連結基は写真性に悪影響を与えないものであればどのようなものでも構わない。例えば炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子から構成される２価の連結基が利用できる。具体的には炭素数１〜２０のアルキレン基（例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等）、炭素数２〜２０のアルケニレン基、炭素数２〜２０のアルキニレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基（例えばフェニレン基、ナフチレン基等）、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ_１−、これらの連結基の組み合わせ等があげられる。ここでＲ_１は水素原子、アルキル基、ヘテロ環基、アリール基を表わす。
Ｗで表される連結基は任意の置換基を有していてもよい。
【０２３７】
式（Ｉ）中、Ｂで表される還元基とは銀イオンを還元可能な基を表し、例えばホルミル基、アミノ基、アセチレン基やプロパルギル基などの３重結合基、メルカプト基、ヒドロキシルアミン類、ヒドロキサム酸類、ヒドロキシウレア類、ヒドロキシウレタン類、ヒドロキシセミカルバジド類、レダクトン類（レダクトン誘導体を含む）、アニリン類、フェノール類（クロマン−６−オール類、２，３−ジヒドロベンゾフラン−５−オール類、アミノフェノール類、スルホンアミドフェノール類、およびハイドロキノン類、カテコール類、レゾルシノール類、ベンゼントリオール類、ビスフェノール類のようなポリフェノール類を含む）、アシルヒドラジン類、カルバモイルヒドラジン類、３−ピラゾリドン類等から水素原子を１つ除去した残基が挙げられる。もちろん、これらは任意の置換基を有していても良い。
【０２３８】
式（Ｉ）中、Ｂで表される還元基はその酸化電位を、藤嶋昭著「電気化学測定法」（１５０−２０８頁、技報堂出版）や日本化学会編著「実験化学講座」第４版（９巻２８２−３４４頁、丸善）に記載の測定法を用いて測定することができる。例えば回転ディスクボルタンメトリーの技法で、具体的には試料をメタノール：ｐＨ６．５ブリトン−ロビンソン緩衝液（Ｂｒｉｔｔｏｎ−Ｒｏｂｉｎｓｏｎ ｂｕｆｆｅｒ）＝１０％：９０％（容量％）の溶液に溶解し、１０分間窒素ガスを通気した後、グラッシーカーボン製の回転ディスク電極（ＲＤＥ）を作用電極に用い、白金線を対極に用い、飽和カロメル電極を参照電極に用いて、２５℃、１０００回転／分、２０ｍＶ／秒のスイープ速度で測定できる。得られたボルタモグラムから半波電位（Ｅ１／２）を求めることができる。
本発明のＢで表される還元基は上記測定法で測定した場合、その酸化電位が約−０．３Ｖ〜約１．０Ｖの範囲にあることが好ましい。より好ましくは約−０．１Ｖ〜約０．８Ｖの範囲であり、特に好ましくは約０〜約０．７Ｖの範囲である。
【０２３９】
式（Ｉ）中、Ｂで表される還元基は好ましくはヒドロキシルアミン類、ヒドロキサム酸類、ヒドロキシウレア類、ヒドロキシセミカルバジド類、レダクトン類、フェノール類、アシルヒドラジン類、カルバモイルヒドラジン類、３−ピラゾリドン類から水素原子を１つ除去した残基である。
【０２４０】
以下にＢで表される還元基の具体例を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。ここで＊印は式（Ｉ）において、ＡまたはＷと結合する位置を示す。
【０２４１】
【化２９】

【０２４２】
本発明の式（Ｉ）の化合物は、その中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基またはポリマー鎖が組み込まれているものでもよい。またポリマーとしては、例えば特開平１−１００５３０号に記載のものが挙げられる。
【０２４３】
本発明の式（Ｉ）の化合物の分子量は好ましくは１００〜１００００の間であり、より好ましくは１２０〜１０００の間であり、特に好ましくは１５０〜５００の間である。
【０２４４】
以下に本発明の式（Ｉ）の化合物を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２４５】
【化３０】

【０２４６】
【化３１】

【０２４７】
【化３２】

【０２４８】
【化３３】

【０２４９】
【化３４】

【０２５０】
【化３５】

【０２５１】
【化３６】

【０２５２】
本発明の化合物は公知の方法にならって容易に合成することが出来る。
本発明の式（Ｉ）の化合物は、一種類の化合物を単独で用いてもよいが、同時に２種以上の化合物を用いることも好ましい。２種類以上の化合物を用いる場合、それらは同一層に添加しても、別層に添加してもよく、またそれぞれ添加方法が異なっていてもよい。
【０２５３】
本発明の式（Ｉ）の化合物は、ハロゲン化銀乳剤層に添加されることが好ましく、乳剤調製時に添加することがより好ましい。乳剤調製時に添加する場合、その工程中のいかなる場合に添加することも可能であり、その例を挙げると、ハロゲン化銀の粒子形成工程、脱塩工程の開始前、脱塩工程、化学熟成の開始前、化学熟成の工程、完成乳剤調製前の工程などを挙げることができる。またこれらの工程中の複数回にわけて添加することもできる。また乳剤層に使用するのが好ましいが、乳剤層とともに隣接する保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。
好ましい添加量は、上述した添加法や添加する化合物種に大きく依存するが、一般には感光性ハロゲン化銀１モル当たり、１×１０^−６〜１モル、好ましくは１×１０^−５〜５×１０^−１モルさらに好ましくは１×１０^−４〜１×１０^−１モルである。
【０２５４】
本発明の式（Ｉ）の化合物は、水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒またはこれらの混合溶媒に溶解して添加することができる。この際、酸または塩基によってｐＨを適当に調整してもよく、また界面活性剤を共存させてもよい。さらに乳化分散物として高沸点有機溶媒に溶解させて添加することもできる。また、固体分散物として添加することもできる。
【０２５５】
７．有機銀塩の説明
１）組成
本発明に用いる非感光性有機銀塩は、光に対して比較的安定であるが、露光された感光性ハロゲン化銀及び還元剤の存在下で、８０℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀画像を形成する銀塩である。有機銀塩は銀イオンを還元できる源を含む任意の有機物質であってよい。このような非感光性の有機銀塩については、特開平１０−６２８９９号の段落番号００４８〜００４９、欧州特許公開第０８０３７６４Ａ１号の第１８ページ第２４行〜第１９ページ第３７行、欧州特許公開第０９６２８１２Ａ１号、特開平１１−３４９５９１号、特開２０００−７６８３号、同２０００−７２７１１号等に記載されている。有機酸の銀塩、特に（炭素数が１０〜３０、好ましくは１５〜２８の）長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましい。有機銀塩の好ましい例としては、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、これらの混合物などを含む。本発明においては、これら有機銀塩の中でも、ベヘン酸銀含有率５０モル％以上１００モル％以下の有機酸銀を用いることが好ましい。特にベヘン酸銀含有率は７５モル％以上９８モル％以下であることが好ましい。
【０２５６】
２）形状
本発明に用いることができる有機銀塩の形状としては特に制限はなく、針状、棒状、平板状、りん片状でもよい。
本発明においてはりん片状の有機銀塩が好ましい。本明細書において、りん片状の有機銀塩とは、次のようにして定義する。有機銀塩を電子顕微鏡で観察し、有機銀塩粒子の形状を直方体と近似し、この直方体の辺を一番短かい方からａ、ｂ、ｃとした（ｃはｂと同じであってもよい。）とき、短い方の数値ａ、ｂで計算し、次のようにしてｘを求める。
ｘ＝ｂ／ａ
【０２５７】
このようにして２００個程度の粒子についてｘを求め、その平均値ｘ（平均）としたとき、ｘ（平均）≧１．５の関係を満たすものをりん片状とする。好ましくは３０≧ｘ（平均）≧１．５、より好ましくは１５≧ｘ（平均）≧１．５である。因みに針状とは１≦ｘ（平均）＜１．５である。
【０２５８】
りん片状粒子において、ａはｂとｃを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることができる。ａの平均は０．０１μｍ以上０．３μｍ以下が好ましく０．１μｍ以上０．２３μｍ以下がより好ましい。ｃ／ｂの平均は好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下、さらに好ましくは１以上３以下、特に好ましくは１以上２以下である。
【０２５９】
有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の１００分率が好ましくは１００％以下、より好ましくは８０％以下、更に好ましくは５０％以下であることを指す。有機銀塩の形状の測定方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より求めることができる。単分散性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差から求める方法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率（変動係数）が好ましくは１００％以下、より好ましくは８０％以下、更に好ましくは５０％以下である。測定方法としては例えば液中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その散乱光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求めることにより得られた粒子サイズ（体積加重平均直径）から求めることができる。
【０２６０】
３）調製方法
本発明に用いられる有機酸銀の製造及びその分散法は、公知の方法等を適用することができる。例えば上記の特開平１０−６２８９９号、欧州特許公開第０８０３７６３Ａ１号、欧州特許公開第０９６２８１２Ａ１号、特開平１１−３４９５９１号、特開２０００−７６８３号、同２０００−７２７１１号、特開２００１−１６３８２７号、特開２００１−１６３８８９〜９０号、同１１−２０３４１３号、特願２０００−９００９３号、同２０００−１９５６２１号、同２０００−１９１２２６号、同２０００−２１３８１３号、同２０００−２１４１５５号、同２０００−１９１２２６号等を参考にすることができる。
【０２６１】
本発明において有機銀塩水分散液と感光性銀塩水分散液を混合して感光材料を製造することが可能である。混合する際に２種以上の有機銀塩水分散液と２種以上の感光性銀塩水分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ましく用いられる方法である。
【０２６２】
４）添加量
本発明の有機銀塩は所望の量で使用できるが、銀量として０．１〜５ｇ／ｍ^２が好ましく、さらに好ましくは１〜３ｇ／ｍ^２である。特に好ましくは１．０〜１．９ｇ／ｍ^２である。
５）銀現像率
熱現像感光材料の塗布膜中の銀は、熱現像すると還元剤によって金属銀に還元され、画像を形成する。画像への銀の利用効率を銀現像率と称する。
ここで、現像率とは熱現像感光材料中の単位面積あたりの全銀量（有機銀塩とハロゲン化銀の合計）のモル数をＡとし、熱現像により還元銀になった銀の単位面積あたりのモル数をＢとしたときに、Ｂ／Ａ×１００で定義される。
【０２６３】
具体的に現像率を求める方法としては、まず還元銀のモル数Ｂを求める。最大濃度を与えるように露光と現像を行った熱現像感光材料を２，２’−（エチレンジチオ）ジエタノールの１０％メタノール溶液に１時間浸漬することにより未現像の有機銀塩と感光性ハロゲン化銀を定着する。ついでメタノール溶液により洗浄し、乾燥させる。これを蛍光Ｘ線強度により単位面積あたりの銀量を測定する。あらかじめ塗布銀量が既知のもので検量線を求めることにより求めることができる。つぎに熱現像感光材料中の全銀量のモル数Ａを求める方法としては、未現像の熱現像感光材料を用いて、蛍光Ｘ線強度により全塗布銀量を求めることにより得られる。
【０２６４】
本発明の熱現像感光材料は、最大濃度における現像率が７０％以上であることが好ましい。より好ましくは最大濃度における現像率が８０％以上、最も好ましくは９０％以上である。
【０２６５】
この数字が大きいほど、有機銀塩の利用効率が高く、より少ない有機銀塩量でより高い最大濃度が得られる。本発明者らは、銀現像率について鋭意解析を進めた結果、有機ポリハロゲン化合物により有機銀塩の一部がハロゲン化銀に変換されたり、還元された銀をハロゲン化銀に変換したりして、銀現像率を低下させていることを見出した。加えて、十分に現像を行うと銀現像率は高くなるが、最適な写真性（例えば、かぶり、画像色調、または階調など）は、それより低い現像率の現像条件で得られることなども判明した。従って、熱現像感光材料の保存安定性、写真性能、および迅速現像性などの特性を維持しつつ、高い現像率を得ることは、熱現像感光材料を設計する上で常に要求される課題であった。特に、写真特性の中でも画像色調は、銀現像率依存性が大きく、最適な画像色調を得ながら同時に高い銀現像率を得るのは容易ではなかった。
【０２６６】
画像色調は官能評価による評価方法もあるが、定量的にはＪＩＳ Ｚ８７２９規格で規定されたａ^＊ｂ^＊座標から得られる色相角（ｈ_ａｂ）により評価できる。
本発明では、光学濃度１．０になるように露光現像した試料の色相角が、１８０°〜２７０°が好ましい。
【０２６７】
８．現像促進剤
本発明の熱現像感光材料では、現像促進剤として特開２０００‐２６７２２２号や特開２０００‐３３０２３４号等に記載の一般式（Ａ）で表されるスルホンアミドフェノール系の化合物、特開２００１‐９２０７５号記載の一般式（ＩＩ）で表されるヒンダードフェノール系の化合物、特開平１０‐６２８９５号や特開平１１‐１５１１６号等に記載の一般式（Ｉ）、特開２００２‐２７８０１７号に記載の一般式（１）で表されるヒドラジン系の化合物、特願２０００−７６２４０号に記載されている一般式（２）で表されるフェノール系またはナフトール系の化合物が好ましく用いられる。これらの現像促進剤は還元剤に対して０．１〜２０モル％の範囲で使用され、好ましくは０．５〜１０モル％の範囲で、より好ましくは１〜５モル％の範囲である。感材への導入方法は還元剤同様の方法があげられるが、特に固体分散物または乳化分散物として添加することが好ましい。乳化分散物として添加する場合、常温で固体である高沸点溶剤と低沸点の補助溶剤を使用して分散した乳化分散物として添加するか、もしくは高沸点溶剤を使用しない所謂オイルレス乳化分散物として添加することが好ましい。
【０２６８】
本発明においては上記現像促進剤の中でも、特開２００２‐２７８０１７号に記載の一般式（１）で表されるヒドラジン系の化合物および特願２０００−７６２４０号に記載されている一般式（２）で表されるフェノール系またはナフトール系の化合物が特に好ましい。
【０２６９】
以下、本発明の現像促進剤の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２７０】
【化３７】

【０２７１】
９．水素結合性化合物
本発明では、還元剤の芳香族性の水酸基（−ＯＨ）と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。
【０２７２】
水素結合を形成しうる基としては、ホスホリル基、スルホキシド基、スルホニル基、カルボニル基、アミド基、エステル基、ウレタン基、ウレイド基、３級アミノ基、含窒素芳香族基などが挙げられる。その中でも好ましいのはホスホリル基、スルホキシド基、アミド基（但し、＞Ｎ−Ｈ基を持たず、＞Ｎ−Ｒａ（ＲａはＨ以外の置換基）のようにブロックされている。）、ウレタン基（但し、＞Ｎ−Ｈ基を持たず、＞Ｎ−Ｒａ（ＲａはＨ以外の置換基）のようにブロックされている。）、ウレイド基（但し、＞Ｎ−Ｈ基を持たず、＞Ｎ−Ｒａ（ＲａはＨ以外の置換基）のようにブロックされている。）を有する化合物である。
【０２７３】
本発明で、特に好ましい水素結合性化合物は下記一般式（Ｄ）で表される化合物である。
【０２７４】
一般式（Ｄ）
【化３８】

【０２７５】
一般式（Ｄ）においてＲ^２１ないしＲ^２３は各々独立にアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基またはヘテロ環基を表し、これらの基は無置換であっても置換基を有していてもよい。
【０２７６】
Ｒ^２１ないしＲ^２３が置換基を有する場合の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基などがあげられ、置換基として好ましいのはアルキル基またはアリール基でたとえばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｔ−オクチル基、フェニル基、４−アルコキシフェニル基、４−アシルオキシフェニル基などがあげられる。
【０２７７】
Ｒ^２１ないしＲ^２３のアルキル基としては具体的にはメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、ｔ−オクチル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、２−フェノキシプロピル基などがあげられる。
【０２７８】
アリール基としてはフェニル基、クレジル基、キシリル基、ナフチル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、４−ｔ−オクチルフェニル基、４−アニシジル基、３，５−ジクロロフェニル基などが挙げられる。
【０２７９】
アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、４−メチルシクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
【０２８０】
アリールオキシ基としてはフェノキシ基、クレジルオキシ基、イソプロピルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、ナフトキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられる。
【０２８１】
アミノ基としてはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基等が挙げられる。
【０２８２】
Ｒ^２１ないしＲ^２３としてはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基が好ましい。本発明の効果の点ではＲ^２１ないしＲ^２３のうち少なくとも一つ以上がアルキル基またはアリール基であることが好ましく、二つ以上がアルキル基またはアリール基であることがより好ましい。また、安価に入手する事ができるという点ではＲ^２１ないしＲ^２３が同一の基である場合が好ましい。
【０２８３】
以下に本発明における一般式（Ｄ）の化合物をはじめとする水素結合性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２８４】
【化３９】

【０２８５】
【化４０】

【０２８６】
水素結合性化合物の具体例は上述の他に特開２００２‐１５６７２７号、同２００２‐３１８４３１号に記載のものがあげられる。
【０２８７】
本発明の水素結合性化合物は、還元剤と同様に溶液形態、乳化分散形態、固体分散微粒子分散物形態で塗布液に含有せしめ、感光材料中で使用することができる。本発明の化合物は、溶液状態でフェノール性水酸基を有する化合物と水素結合による錯体を形成しており、還元剤と本発明の一般式（Ａ）の化合物との組み合わせによっては錯体として結晶状態で単離することができる。
【０２８８】
このようにして単離した結晶粉体を固体分散微粒子分散物として使用することは安定した性能を得る上で特に好ましい。また、還元剤と本発明の水素結合性化合物を粉体で混合し、適当な分散剤を使って、サンドグラインダーミル等で分散時に錯形成させる方法も好ましく用いることができる。
【０２８９】
本発明の水素結合性化合物は還元剤に対して、１〜２００モル％の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１０〜１５０モル％の範囲で、さらに好ましくは３０〜１００モル％の範囲である。
【０２９０】
９．かぶり防止剤
本発明で用いることのできるカブリ防止剤としては、特開平１１−６５０２１号段落番号０１１３の水銀（ＩＩ）塩、同号段落番号０１１４の安息香酸類、特開２０００−２０６６４２号のサリチル酸誘導体、特開２０００−２２１６３４号の式（Ｓ）で表されるホルマリンスカベンジャー化合物、特開平１１−３５２６２４号の請求項９に係るトリアジン化合物、特開平６−１１７９１号の一般式（ＩＩＩ）で表される化合物、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン等が挙げられる。
【０２９１】
その他の本発明に用いることのできるカブリ防止剤、安定剤および安定剤前駆体として、特開平１０−６２８９９号の段落番号００７０、欧州特許０８０３７６４Ａ１号の第２０頁第５７行〜第２１頁第７行に記載の特許のもの、特開平９−２８１６３７号、同９−３２９８６４号記載の化合物が挙げられる。
【０２９２】
本発明における熱現像感光材料はカブリ防止を目的としてアゾリウム塩を含有しても良い。アゾリウム塩としては、特開昭５９−１９３４４７号記載の一般式（ＸＩ）で表される化合物、特公昭５５−１２５８１号記載の化合物、特開昭６０−１５３０３９号記載の一般式（ＩＩ）で表される化合物が挙げられる。アゾリウム塩は感光材料のいかなる部位に添加しても良いが、添加層としては感光性層を有する面の層に添加することが好ましく、有機銀塩含有層に添加することがさらに好ましい。
【０２９３】
アゾリウム塩の添加時期としては塗布液調製のいかなる工程で行っても良く、有機銀塩含有層に添加する場合は有機銀塩調製時から塗布液調製時のいかなる工程でも良いが有機銀塩調製後から塗布直前が好ましい。アゾリウム塩の添加法としては粉末、溶液、微粒子分散物などいかなる方法で行っても良い。また、増感色素、還元剤、色調剤など他の添加物と混合した溶液として添加しても良い。
【０２９４】
本発明においてアゾリウム塩の添加量としてはいかなる量でも良いが、銀１モル当たり１×１０^−６モル以上２モル以下が好ましく、１×１０^−３モル以上０．５モル以下がさらに好ましい。
【０２９５】
１１．バインダー
本発明の有機銀塩含有層のバインダーはいかなるポリマーであってもよく、好適なバインダーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然樹脂やポリマー及びコポリマー、合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、ゼラチン類、ゴム類、ポリ（ビニルアルコール）類、ヒドロキシエチルセルロース類、セルロースアセテート類、セルロースアセテートブチレート類、ポリ（ビニルピロリドン）類、カゼイン、デンプン、ポリ（アクリル酸）類、ポリ（メチルメタクリル酸）類、ポリ（塩化ビニル）類、ポリ（メタクリル酸）類、スチレン−無水マレイン酸共重合体類、スチレン−アクリロニトリル共重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体類、ポリ（ビニルアセタール）類（例えば、ポリ（ビニルホルマール）及びポリ（ビニルブチラール））、ポリ（エステル）類、ポリ（ウレタン）類、フェノキシ樹脂、ポリ（塩化ビニリデン）類、ポリ（エポキシド）類、ポリ（カーボネート）類、ポリ（酢酸ビニル）類、ポリ（オレフィン）類、セルロースエステル類、ポリ（アミド）類がある。バインダーは水又は有機溶媒またはエマルションから被覆形成してもよい。
【０２９６】
本発明では、有機銀塩を含有する層のバインダーのガラス転移温度は１０℃以上８０℃以下であることが好ましく、２０℃〜７０℃であることがより好ましく、２３℃以上６５℃以下であることが更に好ましい。
【０２９７】
なお、本明細書においてＴｇは下記の式で計算される。
１／Ｔｇ＝Σ（Ｘｉ／Ｔｇｉ）
【０２９８】
ここでは、ポリマーはｉ＝１からｎまでのｎ個のモノマー成分が共重合しているとする。Ｘｉはｉ番目のモノマーの重量分率（ΣＸｉ＝１）、Ｔｇｉはｉ番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度（絶対温度）である。ただしΣはｉ＝１からｎまでの和をとる。
尚、各モノマーの単独重合体ガラスの転移温度の値（Ｔｇｉ）はＰｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ（３^ｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ）（Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ， Ｅ．Ｈ．Ｉｍｍｅｒｇｕｔ著（Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ、１９８９））の値を採用した。
【０２９９】
バインダーとなるポリマーは単独種で用いてもよいし、必要に応じて２種以上を併用しても良い。また、ガラス転移温度が２０℃以上のものとガラス転移温度が２０℃未満のものを組み合わせて用いてもよい。Ｔｇの異なるポリマーを２種以上ブレンドして使用する場合には、その重量平均Ｔｇが上記の範囲に入ることが好ましい。
【０３００】
本発明においては、有機銀塩含有層が溶媒の３０質量％以上が水である塗布液を用いて塗布し、乾燥して形成される場合に、さらに有機銀塩含有層のバインダーが水系溶媒（水溶媒）に可溶または分散可能である場合に、特に２５℃６０％ＲＨでの平衡含水率が２質量％以下のポリマーのラテックスからなる場合に性能が向上する。
最も好ましい形態は、イオン伝導度が２．５ｍＳ／ｃｍ以下になるように調製されたものであり、このような調製法としてポリマー合成後分離機能膜を用いて精製処理する方法が挙げられる。
【０３０１】
ここでいう前記ポリマーが可溶または分散可能である水系溶媒とは、水または水に７０質量％以下の水混和性の有機溶媒を混合したものである。
水混和性の有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール等のアルコール系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系、酢酸エチル、ジメチルホルムアミドなどを挙げることができる。
【０３０２】
また「２５℃６０％ＲＨにおける平衡含水率」とは、２５℃６０％ＲＨの雰囲気下で調湿平衡にあるポリマーの重量Ｗ１と２５℃で絶乾状態にあるポリマーの重量Ｗ０を用いて以下のように表すことができる。
２５℃６０％ＲＨにおける平衡含水率＝［（Ｗ１−Ｗ０）／Ｗ０］×１００（質量％）含水率の定義と測定法については、例えば高分子工学講座１４、高分子材料試験法（高分子学会編、地人書館）を参考にすることができる。
【０３０３】
本発明のバインダーポリマーの２５℃６０％ＲＨにおける平衡含水率は２質量％以下であることが好ましいが、より好ましくは０．０１質量％以上１．５質量％以下、さらに好ましくは０．０２質量％以上１質量％以下が望ましい。
【０３０４】
本発明のバインダーは水系溶媒に分散可能なポリマーが特に好ましい。分散状態の例としては、水不溶な疎水性ポリマーの微粒子が分散しているラテックスやポリマー分子が分子状態またはミセルを形成して分散しているものなどがあるが、いずれも好ましい。分散粒子の平均粒径は１〜５００００ｎｍ、より好ましくは５〜１０００ｎｍ程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持つものでもよい。
【０３０５】
本発明において水系溶媒に分散可能なポリマーの好ましい態様としては、アクリル系ポリマー、ポリ（エステル）類、ゴム類（例えばＳＢＲ樹脂）、ポリ（ウレタン）類、ポリ（塩化ビニル）類、ポリ（酢酸ビニル）類、ポリ（塩化ビニリデン）類、ポリ（オレフィン）類等の疎水性ポリマーを好ましく用いることができる。これらポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでもまた架橋されたポリマーでもよいし、単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、２種類以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも、ブロックコポリマーでもよい。
【０３０６】
これらポリマーの分子量は数平均分子量で５０００〜１００００００、好ましくは１００００〜２０００００がよい。分子量が小さすぎるものは乳剤層の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは成膜性が悪く好ましくない。
【０３０７】
好ましいポリマーラテックスの具体例としては以下のものを挙げることができる。以下では原料モノマーを用いて表し、括弧内の数値は質量％、分子量は数平均分子量である。多官能モノマーを使用した場合は架橋構造を作るため分子量の概念が適用できないので架橋性と記載し、分子量の記載を省略した。Ｔｇはガラス転移温度を表す。
【０３０８】
Ｐ−１；−ＭＭＡ（７０）−ＥＡ（２７）−ＭＡＡ（３）−のラテックス（分子量３７０００、Ｔｇ６１℃）
Ｐ−２；−ＭＭＡ（７０）−２ＥＨＡ（２０）−Ｓｔ（５）−ＡＡ（５）−のラテックス（分子量４００００、Ｔｇ５９℃）
Ｐ−３；−Ｓｔ（５０）−Ｂｕ（４７）−ＭＡＡ（３）−のラテックス（架橋性、Ｔｇ−１７℃）
Ｐ−４；−Ｓｔ（６８）−Ｂｕ（２９）−ＡＡ（３）−のラテックス（架橋性、Ｔｇ１７℃）
Ｐ−５；−Ｓｔ（７１）−Ｂｕ（２６）−ＡＡ（３）−のラテックス（架橋性，Ｔｇ２４℃）
Ｐ−６；−Ｓｔ（７０）−Ｂｕ（２７）−ＩＡ（３）−のラテックス（架橋性）
Ｐ−７；−Ｓｔ（７５）−Ｂｕ（２４）−ＡＡ（１）−のラテックス（架橋性、Ｔｇ２９℃）
Ｐ−８；−Ｓｔ（６０）−Ｂｕ（３５）−ＤＶＢ（３）−ＭＡＡ（２）−のラテックス（架橋性）
Ｐ−９；−Ｓｔ（７０）−Ｂｕ（２５）−ＤＶＢ（２）−ＡＡ（３）−のラテックス（架橋性）
Ｐ−１０；−ＶＣ（５０）−ＭＭＡ（２０）−ＥＡ（２０）−ＡＮ（５）−ＡＡ（５）−のラテックス（分子量８００００）
Ｐ−１１；−ＶＤＣ（８５）−ＭＭＡ（５）−ＥＡ（５）−ＭＡＡ（５）−のラテックス（分子量６７０００）
Ｐ−１２；−Ｅｔ（９０）−ＭＡＡ（１０）−のラテックス（分子量１２０００）
Ｐ−１３；−Ｓｔ（７０）−２ＥＨＡ（２７）−ＡＡ（３）のラテックス（分子量１３００００、Ｔｇ４３℃）
Ｐ−１４；−ＭＭＡ（６３）−ＥＡ（３５）−ＡＡ（２）のラテックス（分子量３３０００、Ｔｇ４７℃）
Ｐ−１５；−Ｓｔ（７０．５）−Ｂｕ（２６．５）−ＡＡ（３）−のラテックス（架橋性，Ｔｇ２３℃）
Ｐ−１６；−Ｓｔ（６９．５）−Ｂｕ（２７．５）−ＡＡ（３）−のラテックス（架橋性，Ｔｇ２０．５℃）
【０３０９】
上記構造の略号は以下のモノマーを表す。ＭＭＡ；メチルメタクリレート、ＥＡ；エチルアクリレート、ＭＡＡ；メタクリル酸、２ＥＨＡ；２−エチルヘキシルアクリレート、Ｓｔ；スチレン、Ｂｕ；ブタジエン、ＡＡ；アクリル酸、ＤＶＢ；ジビニルベンゼン、ＶＣ；塩化ビニル、ＡＮ；アクリロニトリル、ＶＤＣ；塩化ビニリデン、Ｅｔ；エチレン、ＩＡ；イタコン酸。
【０３１０】
以上に記載したポリマーラテックスは市販もされていて、以下のようなポリマーが利用できる。アクリル系ポリマーの例としては、セビアンＡ−４６３５，４７１８，４６０１（以上ダイセル化学工業（株）製）、Ｎｉｐｏｌ Ｌｘ８１１、８１４、８２１、８２０、８５７（以上日本ゼオン（株）製）など、ポリ（エステル）類の例としては、ＦＩＮＥＴＥＸＥＳ６５０、６１１、６７５、８５０（以上大日本インキ化学（株）製）、ＷＤ−ｓｉｚｅ、ＷＭＳ（以上イーストマンケミカル製）など、ポリ（ウレタン）類の例としては、ＨＹＤＲＡＮ ＡＰ１０、２０、３０、４０（以上大日本インキ化学（株）製）など、ゴム類の例としては、ＬＡＣＳＴＡＲ ７３１０Ｋ、３３０７Ｂ、４７００Ｈ、７１３２Ｃ（以上大日本インキ化学（株）製）、Ｎｉｐｏｌ Ｌｘ４１６、４１０、４３８Ｃ、２５０７（以上日本ゼオン（株）製）など、ポリ（塩化ビニル）類の例としては、Ｇ３５１、Ｇ５７６（以上日本ゼオン（株）製）など、ポリ（塩化ビニリデン）類の例としては、Ｌ５０２、Ｌ５１３（以上旭化成工業（株）製）など、ポリ（オレフィン）類の例としては、ケミパールＳ１２０、ＳＡ１００（以上三井石油化学（株）製）などを挙げることができる。
これらのポリマーラテックスは単独で用いてもよいし、必要に応じて２種以上ブレンドしてもよい。
【０３１１】
本発明に用いられるポリマーラテックスとしては、特に、スチレン−ブタジエン共重合体のラテックスが好ましい。スチレン−ブタジエン共重合体におけるスチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位との重量比は４０：６０〜９５：５であることが好ましい。また、スチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位との共重合体に占める割合は６０〜９９質量％であることが好ましい。好ましい分子量の範囲は前記と同様である。
【０３１２】
本発明に用いることが好ましいスチレン−ブタジエン共重合体のラテックスとしては、前記のＰ−３〜Ｐ−８，１４，１５、市販品であるＬＡＣＳＴＡＲ−３３０７Ｂ、７１３２Ｃ、Ｎｉｐｏｌ Ｌｘ４１６等が挙げられる。
【０３１３】
本発明の感光材料の有機銀塩含有層には必要に応じてゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加してもよい。
【０３１４】
これらの親水性ポリマーの添加量は有機銀塩含有層の全バインダーの３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下が好ましい。
【０３１５】
本発明の有機銀塩含有層（即ち、画像形成層）は、ポリマーラテックスをバインダーに用いて形成されたものが好ましい。有機銀塩含有層のバインダーの量は、全バインダー／有機銀塩の重量比が１／１０〜１０／１、更には１／５〜４／１の範囲が好ましい。
【０３１６】
また、このような有機銀塩含有層は、通常、感光性銀塩である感光性ハロゲン化銀が含有された感光性層（乳剤層）でもあり、このような場合の、全バインダー／ハロゲン化銀の重量比は４００〜５、より好ましくは２００〜１０の範囲が好ましい。
【０３１７】
本発明の画像形成層の全バインダー量は０．２〜３０ｇ／ｍ^２、より好ましくは１〜１５ｇ／ｍ^２の範囲が好ましい。本発明の画像形成層には架橋のための架橋剤、塗布性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。
【０３１８】
本発明において感光材料の有機銀塩含有層塗布液の溶媒（ここでは簡単のため、溶媒と分散媒をあわせて溶媒と表す。）は、水を３０質量％以上含む水系溶媒が好ましい。水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなど任意の水混和性有機溶媒を用いてよい。溶媒の水含有率は５０質量％以上がより好ましく、さらに好ましくは７０質量％以上が良い。
【０３１９】
好ましい溶媒組成の具体例を挙げると、水１００の他、水／メチルアルコール＝９０／１０、水／メチルアルコール＝７０／３０、水／メチルアルコール／ジメチルホルムアミド＝８０／１５／５、水／メチルアルコール／エチルセロソルブ＝８５／１０／５、水／メチルアルコール／イソプロピルアルコール＝８５／１０／５などがある（数値は質量％）。
【０３２０】
１２．その他の添加剤
１）メルカプト、ジスルフィド、およびチオン類
本発明には現像を抑制あるいは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させることができ、特開平１０−６２８９９号の段落番号００６７〜００６９、特開平１０−１８６５７２号の一般式（Ｉ）で表される化合物及びその具体例として段落番号００３３〜００５２、欧州特許公開第０８０３７６４Ａ１号の第２０ページ第３６〜５６行、特願平１１−２７３６７０号等に記載されている。中でもメルカプト置換複素芳香族化合物が好ましい。
【０３２１】
２）色調剤
本発明の熱現像感光材料では色調剤の添加が好ましく、色調剤については、特開平１０−６２８９９号の段落番号００５４〜００５５、欧州特許０８０３７６４Ａ１号のｐ．２１，２３行〜４８行、特開２０００−３５６３１７号や特願２０００−１８７２９８号に記載されており、特に、フタラジノン類（フタラジノン、フタラジノン誘導体もしくは金属塩；例えば４−（１−ナフチル）フタラジノン、６−クロロフタラジノン、５，７−ジメトキシフタラジノンおよび２，３−ジヒドロー１，４−フタラジンジオン）；フタラジノン類とフタル酸類（例えば、フタル酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル酸、フタル酸二アンモニウム、フタル酸ナトリウム、フタル酸カリウムおよびテトラクロロ無水フタル酸）の組み合わせ；フタラジン類（フタラジン、フタラジン誘導体もしくは金属塩；例えば４−（１−ナフチル）フタラジン、６−イソプロピルフタラジン、６−ｔ−ブチルフタラジン、６−クロロフタラジン、５．７−ジメトキシフタラジン、および２，３−ジヒドロフタラジン）が好ましく、特に、ヨウ化銀含有率の高い組成のハロゲン化銀との組み合わせにおいては、フタラジン類とフタル酸類の組み合わせが好ましい。
【０３２２】
好ましいフタラジン類の添加量としては、有機銀塩１モル当たり０．０１モル〜０．３モルであり、さらに好ましくは０．０２〜０．２モル、特に好ましくは０．０２〜０．１モルである。この添加量は、本発明のヨウ化銀含有率の高い組成のハロゲン化銀乳剤で課題である現像促進にとって重要な要因であり、適正な添加量の選択によって十分な現像性と低いかぶりの両立が可能となる。
【０３２３】
３）可塑剤、潤滑剤
本発明の感光性層に用いることのできる可塑剤および潤滑剤については特開平１１−６５０２１号段落番号０１１７に記載されている。滑り剤については特開平１１−８４５７３号段落番号００６１〜００６４や特願平１１−１０６８８１号段落番号００４９〜００６２記載されている。
【０３２４】
４）染料、顔料
本発明の感光性層には色調改良、レーザー露光時の干渉縞発生防止、イラジエーション防止の観点から各種染料や顔料（例えばＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ ６０、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ ６４、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６）を用いることができる。これらについてはＷＯ９８／３６３２２号、特開平１０−２６８４６５号、同１１−３３８０９８号等に詳細に記載されている。
【０３２５】
５）超硬調化剤
印刷製版用途に適した超硬調画像形成のためには、画像形成層に超硬調化剤を添加することが好ましい。超硬調化剤やその添加方法及び添加量については、特開平１１−６５０２１号公報段落番号０１１８、特開平１１−２２３８９８号公報段落番号０１３６〜０１９３、特願平１１−８７２９７号明細書の式（Ｈ）、式（１）〜（３）、式（Ａ）、（Ｂ）の化合物、特願平１１−９１６５２号明細書記載の一般式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）の化合物（具体的化合物：化２１〜化２４）、硬調化促進剤については特開平１１−６５０２１号公報段落番号０１０２、特開平１１−２２３８９８号公報段落番号０１９４〜０１９５に記載されている。
【０３２６】
蟻酸や蟻酸塩を強いかぶらせ物質として用いるには、感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を有する側に銀１モル当たり５ミリモル以下、さらには１ミリモル以下で含有させることが好ましい。
本発明の熱現像感光材料で超硬調化剤を用いる場合には五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩を併用して用いることが好ましい。五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩としては、メタリン酸（塩）、ピロリン酸（塩）、オルトリン酸（塩）、三リン酸（塩）、四リン酸（塩）、ヘキサメタリン酸（塩）などを挙げることができる。特に好ましく用いられる五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩としては、オルトリン酸（塩）、ヘキサメタリン酸（塩）を挙げることができる。具体的な塩としてはオルトリン酸ナトリウム、オルトリン酸二水素ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸アンモニウムなどが挙げられる。
五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩の使用量（感光材料１ｍ^２あたりの塗布量）は感度やカブリなどの性能に合わせて所望の量でよいが、０．１〜５００ｍｇ／ｍ^２が好ましく、０．５〜１００ｍｇ／ｍ^２がより好ましい。
【０３２７】
６）ハレーション防止染料
本発明の熱現像感光材料は、露光時のハレーション防止を目的として、感光層および非感光層のうちの少なくとも１層に、露光波長に光吸収のある染料を含有することが好ましい。該非感光層としては、感光層より支持体側にある非感光層（ハレーション防止層、下塗り層でもよい）、支持体に対して感光層と反対側にあるバック面の非感光層である。
ハレーション防止染料は、露光波長が赤外域にある場合には、赤外吸収染料を用いればよく、また露光波長が紫外域にある場合には紫外吸収染料を用いればよく、両者とも可視域の吸収を有しないか、もしくは可視域の吸収が少ない染料が好ましい。
【０３２８】
露光波長が可視域にある場合には、ハレーション防止染料は、画像形成後には染料の色が実質的に残らないようにすることが好ましく、熱現像の熱により消色する手段を用いることが好ましく、特に非感光性層に熱消色染料と塩基プレカーサーとを添加して熱消色性のハレーション防止層として機能させることが好ましい。これらの技術については特開平１１−２３１４５７号等に記載されている。
【０３２９】
ハレーション防止染料の添加量は、染料の用途により決定する。一般には、目的とする波長で測定したときの光学濃度（吸光度）が０．１を越える量で使用することが好ましく、特に０．２〜２であることがより好ましい。このような光学濃度を得るための染料の使用量は、一般に０．００１〜１ｇ／ｍ^２程度である。
【０３３０】
露光光源がレーザー光である場合、ハレーション防止層は、その発光ピーク波長に合わせ、狭い波長領域で吸収があればよいので、染料塗布量を少なくすることができ、低コストで感光材料を作製することができる。
また、レーザー光の発光ピーク波長は、短波長ほど高精細の画像記録が可能となる。このため、レーザー光の発光ピーク波長は３５０〜４３０ｎｍであることが好ましく、実用的な観点からは、３８０〜４２０ｎｍであることがより好ましい。
【０３３１】
発光ピーク波長が３５０〜４３０ｎｍのレーザー光を露光光源とした場合、ハレーション防止染料は、３５０ｎｍ〜４３０ｎｍの間に吸収極大を有することが好ましい。さらにレーザー光の発光ピーク波長が３８０〜４２０ｎｍの場合、前記染料は、３８０ｎｍ〜４２０ｎｍに吸収極大を有することが好ましい。
３５０ｎｍ〜４３０ｎｍの間に吸収極大を有する染料を含有する層は、好ましくは、感光層、感光層より支持体側にある非感光層（ハレーション防止層でもよい）、支持体に対して感光層と反対側にあるバック面の非感光層である。
【０３３２】
前記染料は、３５０ｎｍ〜４３０ｎｍの間に吸収極大を有するものであればその種類は特に制限されない。３５０ｎｍ〜４３０ｎｍの間に観測される吸収極大は、主吸収であっても副吸収であってもよい。３５０ｎｍ〜４３０ｎｍの間に吸収極大を有する染料の具体例としては、アゾ染料、アゾメチン染料、キノン系染料（例えばアントラキノン染料、ナフトキノン染料など）、キノリン染料（例えばキノフタロン染料など）、メチン染料（例えば、シアニン、メロシアニン、オキソノール、スチリル、アリーリデン、アミノブタジエン染料などで、ポリメチン染料も含む。）、カルボニウム染料（例えばジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、アクリジン染料などのカチオン染料）、アジン染料（例えば、チアジン染料、オキサジン染料、フェナジン染料などのカチオン染料）、アザ［１８］π電子系染料（例えばポルフィン染料、テトラアザポルフィン染料、フタロシアニン染料等）、インジゴイド染料（インジゴ、チオインジゴ染料など）、スクアリリウム染料、クロコニウム染料、ピロメテン染料、ニトロ・ニトロソ染料、ベンゾトリアゾール系染料、トリアジン系染料などを挙げることができ、好ましくは、アゾ染料、アゾメチン染料、キノン系染料、キノリン染料、メチン染料、アザ［１８］π電子系染料、インジゴイド染料、ピロメテン染料であり、より好ましくはアゾ染料、アゾメチン染料、メチン染料であり、メチン染料が特に好ましい。これらの染料は固体微粒子分散状態、会合状態（液晶状態も含む）であってもよく、２種類以上の染料を併用してもよい。
【０３３３】
ハレーション防止染料として、露光波長における吸収が大きいものを使用すれば、染料の塗布量を低減することができるために好ましい。したがって、ハレーション防止染料は、半値幅が狭いシャープな吸収スペクトルピークを示す染料であること、あるいはそのような吸収を示す状態で使用することが好ましい。前記染料は、固体微粒子分散状態や会合状態で使用すれば、吸収を大きくし、吸収スペクトルピークをシャープにすることができるので好ましい。前記染料の会合体を形成するためには、イオン性親水性基を有する染料を使用することが好ましい。染料の吸収の半値幅は１００ｎｍ以下が好ましく、７５ｎｍ以下がより好ましく、５０ｎｍ以下がさらに好ましい。
【０３３４】
ハレーション防止染料は、画像形成後に消色させても、消色させなくてもよい。染料を消色させない場合（以下、これを非消色という）は、視感度的に目立たないことが好ましく、露光波長における吸収を４２５ｎｍの吸収で徐した比がより大きいことが好ましい。例えば、４０５ｎｍの波長の半導体レーザーで感光材料を露光記録する場合、４０５ｎｍの吸収／４２５ｎｍの吸収比は、好ましくは５以上、より好ましくは１０以上、特に好ましくは１５以上である。
このような染料の例としては、アミノブタジエン系染料、酸性核と塩基性核が直結したメロシアニン染料、またはポリメチン染料が挙げられる。また、非消色である染料においては、水溶性であれば水溶液として添加することができる。
【０３３５】
一方、ハレーション防止染料を熱現像処理の過程で消色させることも好ましい。染料の消色方法としては、以下のものが知られており、任意のものを使用することができる。
（１）特開平９−３４０７７号公報、特開２００１−５１３７１号公報に記載されたような、電子供与性呈色性有機化合物と酸性顕色剤からなる着色剤（染料）と、特定の消色剤とを熱現像時に反応させて消色させる方法；
（２）特開平９−１３３９８４号公報、特開２０００−２９１６８号公報、同２０００−２８４４０３号公報、同２０００−３４７３４１号公報に記載されたような、光照射や加熱によりラジカル発生させる化合物と消色性染料との組合せにより該消色性染料を消色する方法。
（３）米国特許５１３５８４２号明細書、同５２５８７２４号明細書、同５３１４７９５号明細書、同５３２４６２７号明細書、同５３８４２３７号明細書、特開平３−２６７６５号公報、同６−２２２５０４号公報、同６−２２２５０５号公報、同７−３６１４５号公報に記載された、加熱時に塩基もしくは求核剤を発生する化合物と消色性染料との組合せにより該消色性染料を消色する方法。
（４）米国特許４８９４３５８号明細書、特開平２−２８９８５６号公報、特開昭５９−１８２４３６号公報に記載された、染料自身の熱分解により分子内閉環反応を起こして染料を消色する方法。
（５）特開平６−８２９４８号公報、特開平１１−２３１４５７号公報、特開２０００−１１２０５８号公報、同２０００−２８１９２３号公報、特開２０００−１６９２４８号公報に記載された、消色性のきわめて良好な分子内閉環消色型染料と、塩基もしくは塩基プレカーサーとの組合せにより染料を消色する方法。
【０３３６】
上記の中でも、消色剤（ラジカル発生剤、塩基プレカーサー、求核剤発生剤も含む）と消色性染料との組合せは、熱現像時の消色性および未現像時の保存安定性を両立させやすく、好ましい。特に分子内閉環消色型染料と塩基プレカーサーとの組合せが、高い次元で消色性と安定性とを両立できるので、さらに好ましい。
【０３３７】
分子内閉環消色型染料の中で好ましいものは、ポリメチン発色団を有する染料であり、より好ましくは、ポリメチン部位と反応して５〜７員環を形成できる位置に、塩基の作用により求核部位を生じ得る基を有するポリメチン染料である。特に好ましいものは、下記一般式（１）および（２）で表される染料のような、解離により求核性基となり得る基を、５〜７員環を形成し得る位置に有するポリメチン染料である。
特に、下記一般式（１）または（２）で表される染料を使用することが好ましい。
【０３３８】
【化４１】

【０３３９】
一般式（１）および（２）において、Ｒ^１は、水素原子、脂肪族基、芳香族基、−ＮＲ^２１Ｒ^２６、−ＯＲ^２１または−ＳＲ^２１を表し、Ｒ^２１およびＲ^２６はそれぞれ独立に水素原子、脂肪族基もしくは芳香族基を表すか、またはＲ^２１とＲ^２６とが結合して含窒素複素環を形成する。Ｒ^２は水素原子、脂肪族基または芳香族基を表し、Ｒ^１とＲ^２とは互いに結合して５または６員環を形成してもよい。Ｌ^１およびＬ^２はそれぞれ独立に、置換または無置換のメチンを表し、メチンの置換基同士が結合して不飽和脂肪族環または不飽和複素環を形成してもよい。Ｚ^１は、５または６員の含窒素複素環を完成するのに必要な原子団であって、含窒素複素環には芳香族環が縮合していてもよく、含窒素複素環およびその縮合環は置換基を有していてもよい。Ａは酸性核を表し、Ｂは芳香族基、不飽和複素環基または下記一般式（３）で表される基を表す。ｎおよびｍは、それぞれ１〜３のいずれかの整数を表す。ｎおよびｍがそれぞれ２以上のとき、２以上のＬ^１およびＬ^２は同一であっても異なっていてもよい。
【０３４０】
【化４２】

【０３４１】
一般式（３）において、Ｌ^３は置換または無置換のメチンを表し、Ｌ^２と結合して不飽和脂肪族環または不飽和複素環を形成してもよい。Ｒ^３は脂肪族基または芳香族基を表す。Ｚ^２は５または６員の含窒素複素環を完成するのに必要な原子団であって、含窒素複素環には芳香族環が縮合していてもよく、含窒素複素環およびその縮合環は置換基を有していてもよい。
【０３４２】
式中、Ｒ^１は、水素原子、脂肪族基、芳香族基、−ＮＲ^２１Ｒ^２６、−ＯＲ^２１または−ＳＲ^２１を表し、Ｒ^２１およびＲ^２６はそれぞれ独立に水素原子、脂肪族基もしくは芳香族基を表すか、またはＲ^２１とＲ^２６とが結合して含窒素複素環を形成する。Ｒ^１は、−ＮＲ^２１Ｒ^２６、−ＯＲ^２１または−ＳＲ^２１であることが好ましい。Ｒ^２１は、脂肪族基または芳香族基であることが好ましく、無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アラルキル基、置換アラルキル基、無置換アリール基または置換アリール基であることがさらに好ましい。Ｒ^２６は、水素原子または脂肪族基であることが好ましく、水素原子、無置換アルキル基または置換アルキル基であることがさらに好ましい。Ｒ^２１とＲ^２６とが結合して形成する含窒素複素環は、５員環または６員環であることが好ましい。含窒素複素環は、窒素以外のヘテロ原子（例、酸素原子、硫黄原子）を有していてもよい。
【０３４３】
本明細書において、「脂肪族基」とは、無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アルケニル基、置換アルケニル基、無置換アルキニル基、置換アルキニル基、無置換アラルキル基または置換アラルキル基を意味する。本発明では、無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アルケニル基、置換アルケニル基、無置換アラルキル基または置換アラルキル基が好ましく、無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アラルキル基または置換アラルキル基がさらに好ましい。また、環状脂肪族基よりも鎖状脂肪族基が好ましい。鎖状脂肪族基は分岐を有していてもよい。無置換アルキル基の炭素原子数は、１〜３０であることが好ましく、１〜１５であることがより好ましく、１〜１０であることがさらに好ましく、１〜８であることが最も好ましい。置換アルキル基のアルキル部分は、無置換アルキル基の好ましい範囲と同様である。
【０３４４】
無置換アルケニル基および無置換アルキニル基の炭素原子数は、２〜３０であることが好ましく、２〜１５であることがより好ましく、２〜１２であることがさらに好ましく、２〜８であることが最も好ましい。置換アルケニル基のアルケニル部分および置換アルキニル基のアルキニル部分は、それぞれ無置換アルケニル基および無置換アルキニル基の好ましい範囲と同様である。無置換アラルキル基の炭素原子数は、７〜３５であることが好ましく、７〜２０であることがより好ましく、７〜１５であることがさらに好ましく、７〜１０であることが最も好ましい。置換アラルキル基のアラルキル部分は、無置換アラルキル基の好ましい範囲と同様である。
【０３４５】
脂肪族基（置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基、置換アラルキル基）の置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルチオカルボニル基、ヘテロ環基、シアノ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基およびシリル基が含まれる。カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基は、塩の状態であってもよい。カルボキシル基、ホスホノ基およびスルホ基と塩を形成するカチオンは、アンモニウムやアルカリ金属イオン（例、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン）が好ましい。
【０３４６】
本明細書において、「芳香族基」とは、無置換アリール基または置換アリール基を意味する。無置換アリール基の炭素原子数は、６〜３０であることが好ましく、６〜２０であることがより好ましく、６〜１５であることがさらに好ましく、６〜１２であることが最も好ましい。置換アリール基のアリール部分は、無置換アリール基の好ましい範囲と同様である。芳香族基（置換アリール基）の置換基の例には、脂肪族基および脂肪族基の置換基の例で挙げたものを挙げることができる。
【０３４７】
前記一般式（１）および（２）中、Ｒ^２は水素原子、脂肪族基または芳香族基を表し、Ｒ^１とＲ^２が結合して５または６員環を形成してもよい。脂肪族基と芳香族基の定義は、前述した通りである。Ｒ^２は、水素原子または脂肪族基であることが好ましく、水素原子またはアルキル基であることがより好ましく、水素原子または炭素原子数が１〜１５のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
【０３４８】
前記一般式（１）、（２）および（３）において、Ｌ^１、Ｌ^２およびＬ^３はそれぞれ独立に、置換されていてもよいメチンを表す。メチンの置換基同士が結合して不飽和脂肪族環または不飽和複素環を形成してもよい。メチンの置換基の例には、ハロゲン原子、脂肪族基および芳香族基が含まれる。脂肪族基と芳香族基の定義は前述した通りである。メチンの置換基が結合して不飽和脂肪族環または不飽和複素環を形成してもよい。不飽和複素環よりも、不飽和脂肪族環のほうが好ましい。形成する環は、５員環または６員環であることが好ましく、シクロペンテン環またはシクロヘキセン環であることがさらに好ましい。メチンは、無置換であるか、またはメソ位がアルキル基もしくはアリール基で置換されていることが特に好ましい。
【０３４９】
前記一般式（１）において、ｎは１〜３のいずれかの整数を表すが、好ましくは１または２である。ｎが２以上の時、繰り返されるメチンは同一であっても異なっていてもよい。前記一般式（２）において、ｍは１〜３のいずれかの整数を表すが、好ましくは１または２である。ｍが２以上の時、繰り返されるメチンは同一であっても異なっていてもよい。
【０３５０】
前記一般式（１）および（２）中、Ｚ^１は、５員または６員の含窒素複素環を完成するのに必要な原子団であって、含窒素複素環には芳香族環が縮合していてもよく、含窒素複素環およびその縮合環は置換基を有していてもよい。前記含窒素複素環の例には、オキサゾール環、チアゾール環、セレナゾール環、ピロール環、ピロリン環、イミダゾール環およびピリジン環が含まれる。６員環よりも５員環の方が好ましい。含窒素複素環には、芳香族環（ベンゼン環、ナフタレン環）が縮合していてもよい。含窒素複素環およびその縮合環は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、先述の芳香族基の置換基を挙げる事ができるが、好ましくは、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、ヒドロキシル、ニトロ、カルボキシル、スルホ、アルコキシ、アリール基およびアルキル基である。カルボキシルとスルホは、塩の状態であってもよい。カルボキシルおよびスルホと塩を形成するカチオンは、アンモニウム、アルカリ金属イオン（例、ナトリウムイオン、カリウムイオン）が好ましい。
【０３５１】
一般式（１）において、Ｂは芳香族基、不飽和ヘテロ環基または下記一般式（３）を表す。芳香族基の定義は、前述した通りである。Ｂで表される芳香族基としては、置換あるいは無置換のフェニル基が好ましく、置換基としてはハロゲン原子、アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル基、アルキルチオ基、アリール基を有するものが好ましく、４位にアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アルキル基を有するものが特に好ましい。Ｂで表される不飽和ヘテロ環基としては、炭素、酸素、窒素、イオウ原子から構成された５または６員のヘテロ環基が好ましい。中でも５員環が特に好ましい。好ましい例としては、置換もしくは無置換の、ピロール、インドール、チオフェンおよびフランが挙げられる。
【０３５２】
前記一般式（３）中、Ｚ^２は、５員または６員の含窒素複素環を形成する原子団であり、Ｚ^１と同じであっても異なっていてもよい。前記含窒素複素環の例は、上記Ｚ^１で例示したものと同様のものが例示される。前記一般式（３）中、Ｒ^３は、脂肪族基または芳香族基を表すが、脂肪族基が好ましく、特に前記一般式（１）の窒素原子上の置換基である−ＣＨＲ^２（ＣＯＲ^１）である場合が最も好ましい。
【０３５３】
前記一般式（２）中、Ａは酸性核を表す。酸性核としては、環状のケトメチレン化合物または電子求引性基によってはさまれたメチレン基を有する化合物のそれぞれから１以上（通常２つ）の水素原子を除いた基が好ましい。環状のケトメチレン化合物の例としては、２−ピラゾリン−５−オン、ロダニン、ヒダントイン、チオヒダントイン、２，４−オキサゾリジンジオン、イソオキサゾロン、バルビツール酸、チオバルビツール酸、インダンジオン、ジオキソピラゾロピリジン、メルドラム酸、ヒドロキシピリジン、ピラゾリジンジオン、２，５−ジヒドロフラン−２−オン、ピロリン−２−オンを挙げることができる。これらは置換基を有していてもよい。
【０３５４】
前記電子求引性基によって挟まれたメチレン基を有する化合物はＺ^ａＣＨ_２Ｚ^ｂと表すことができる。Ｚ^ａおよびＺ^ｂは各々独立に、−ＣＮ、−ＳＯ_２Ｒ^ａ１、−ＣＯＲ^ａ１、−ＣＯＯＲ^ａ２、−ＣＯＮＨＲ^ａ２、−ＳＯ_２ＮＨＲ^ａ２、−Ｃ〔＝Ｃ（ＣＮ）_２〕Ｒ^ａ１、−Ｃ〔＝Ｃ（ＣＮ）_２〕ＮＨＲ^ａ１を表し、Ｒ^ａ１はアルキル基、アリール基または複素環基を表し、Ｒ^ａ２は水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、そしてＲ^ａ１およびＲ^ａ２はそれぞれ置換基を有していてもよい。これらの酸性核の中でも２−ピラゾリン−５−オン、イソオキサゾロン、バルビツール酸、インダンジオン、ヒドロキシピリジン、ピラゾリジンジオンおよびジオキソピラゾロピリジンがより好ましい。
【０３５５】
前記一般式（１）で表される染料は、アニオンと塩を形成していることが好ましい。前記一般式（１）で表される染料が置換基として、カルボキシル基やスルホ基のようなアニオン性基を有する場合は、染料は分子内塩を形成することができる。それ以外の場合は、染料は分子外のアニオンと塩を形成するのが好ましい。アニオンは１価または２価であることが好ましく、１価であることがさらに好ましい。アニオンの例には、ハロゲンイオン（Ｃｌ⁻、Ｂｒ⁻、Ｉ⁻）、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、１、５−ジスルホナフタレンジアニオン、ＰＦ_６ ⁻、ＢＦ_４ ⁻およびＣｌＯ_４ ⁻が含まれる。
【０３５６】
前記一般式（１）および（２）で表される染料は、分子分散状態で用いてもよいが、固体微粒子分散状態や会合状態で使用することが好ましい。前記染料が会合体を形成するためには、前記染料はイオン性親水性基を有するのが好ましい。イオン性親水性基には、スルホ基、カルボキシル基、ホスホノ基および４級アンモニウム基等が含まれる。前記イオン性親水性基としては、カルボキシル基、ホスホノ基、およびスルホ基が好ましく、特にカルボキシル基、スルホ基が好ましい。カルボキシル基、ホスホノ基およびスルホ基は塩の状態であってもよく、塩を形成する対イオンの例には、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン（例、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン）および有機カチオン（例、テトラメチルアンモニウムイオン、テトラメチルグアニジウムイオン、テトラメチルホスホニウム）が含まれる。
【０３５７】
次に、ハレーション防止用の非消色染料として好ましく用いられるアミノブタジエン系染料、メロシアニン染料の一般式を以下に示す。
【０３５８】
一般式（４）
【化４３】

【０３５９】
式中、Ｒ^４１、Ｒ^４２はそれぞれ独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基、または互いに連結して５または６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。また、また、Ｒ^４１、Ｒ^４２のいずれかが窒素原子の隣のメチン基と結合して、５または６員環を形成しても良い。Ａ^４１は酸性核を表す。
【０３６０】
一般式（５）
【化４４】

【０３６１】
式中、Ｒ^５１〜Ｒ^５５はそれぞれ独立に、水素原子、脂肪族基または芳香族基を表し、Ｒ^５１とＲ^５４は一緒になって二重結合を形成しても良く、Ｒ^５１とＲ^５４が一緒になって二重結合を形成するときは、Ｒ^５２とＲ^５３は連結してベンゼン環またはナフタレン環を形成しても良い。Ｒ^５５は脂肪族基または芳香族基を表し、Ｅは酸素原子、イオウ原子、エチレン基、＞Ｎ−Ｒ^５６または＞Ｃ（Ｒ^５７）（Ｒ^５８）を表し、Ｒ^５６は脂肪族基または芳香族基を表し、Ｒ^５７、Ｒ^５８はそれぞれ独立に、水素原子または脂肪族基を表す。Ａ^５１は酸性核を表す。
【０３６２】
一般式（６）
【化４５】

【０３６３】
式中、Ｒ^６１は水素原子、脂肪族基、または芳香族基を表す。Ｒ^６２は水素原子、脂肪族基、または芳香族基を表す。Ｚ^６１は含窒素複素環を形成するために必要な原子群を表す。Ｚ^６２とＺ^６２’は（Ｎ−Ｒ^６２）ｍと一緒になって複素環、または非環式の酸性末端基を形成するために必要な原子群を表す。但し、Ｚ^６１、およびＺ^６２とＺ^６２’にはそれぞれ環が縮環していても良い。ｍは０または１を表す。
【０３６４】
以下、一般式（４）、（５）および（６）で表される染料について詳細に述べる。
一般式（４）、（５）および（６）における、Ｒ^４１、Ｒ^４２、Ｒ^５１〜Ｒ^５８、Ｒ^６１、およびＲ^６２における脂肪族基、芳香族基は、Ｒ^１で述べた脂肪族基、芳香族基と同様のものが適用でき、置換基の例も同様である。
【０３６５】
Ａ^４１、Ａ^５１で表される酸性核は、一般式（２）中のＡで挙げたものと同様のものが適用でき、環状のケトメチレン化合物または電子求引性基によってはさまれたメチレン基を有する化合物のそれぞれから１以上（通常２つ）の水素原子を除いた基が好ましい。より好ましいメチレン化合物の例としては、Ｚ^ａＣＨ_２Ｚ^ｂ（一般式（２）中のＡの説明で挙げたものと同義）、２−ピラゾリン−５−オン、イソオキサゾロン、バルビツール酸、インダンジオン、メルドラム酸、ヒドロキシピリジン、ピラゾリジンジオンおよびジオキソピラゾロピリジン等を挙げることができる。これらは置換基を有していてもよい。
Ｒ^４１とＲ^４２が連結して形成される５または６員環としては、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環などを好ましい例として挙げることができる。
【０３６６】
前記一般式（６）中、Ｚ^６１は、５員または６員の含窒素複素環を完成するのに必要な原子団であって、含窒素複素環には芳香族環が縮合していてもよく、含窒素複素環およびその縮合環は置換基を有していてもよい。前記含窒素複素環の例としては、チアゾリン核、チアゾール核、ベンゾチアゾール核、オキサゾリン核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核、セレナゾリン核、セレナゾール核、ベンゾセレナゾール核、テルラゾリン核、テルラゾール核、ベンゾテルラゾール核、３，３−ジアルキルインドレニン核（例えば３，３−ジメチルインドレニン）、イミダゾリン核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核、２−ピリジン核、４−ピリジン核、２−キノリン核、４−キノリン核、１−イソキノリン核、３−イソキノリン核、イミダゾ〔４，５−ｂ〕キノキザリン核、オキサジアゾール核、チアジアゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核などを挙げることができるが、好ましくはチアゾリン核、チアゾール核、ベンゾチアゾール核、オキサゾリン核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核、３，３−ジアルキルインドレニン核（例えば３，３−ジメチルインドレニン）、イミダゾリン核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核、２−ピリジン核、４−ピリジン核、２−キノリン核、４−キノリン核、１−イソキノリン核、３−イソキノリン核であり、さらに好ましくはチアゾリン核、チアゾール核、ベンゾチアゾール核、オキサゾリン核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核、３，３−ジアルキルインドレニン核（例えば３，３−ジメチルインドレニン）、イミダゾリン核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核であり、特に好ましくはチアゾリン核、チアゾール核、ベンゾチアゾール核、オキサゾリン核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核であり、最も好ましくはチアゾリン核、オキサゾリン核、ベンゾオキサゾール核である。含窒素複素環には、芳香族環（ベンゼン環、ナフタレン環）が縮合していてもよい。含窒素複素環およびその縮合環は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、先述の芳香族基の置換基を挙げることができるが、好ましくは、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、アルコキシ基、アリール基およびアルキル基である。カルボキシル基とスルホ基は、塩の状態であってもよい。カルボキシル基およびスルホ基と塩を形成するカチオンは、アンモニウム、アルカリ金属イオン（例えば、ナトリウムイオン、カリウムイオン）が好ましい。
【０３６７】
Ｚ^６２とＺ^６２’と（Ｎ−Ｒ^６２）ｍはそれぞれ一緒になって、複素環、または非環式の酸性末端基を形成するために必要な原子群を表わす。複素環（好ましくは５または６員の複素環）としてはいかなるものでも良いが、酸性核が好ましい。
次に、酸性核および非環式の酸性末端基について説明する。酸性核および非環式の酸性末端基は、いかなる一般のメロシアニン色素の酸性核および非環式の酸性末端基の形をとることもできる。好ましい形においてＺ^６２はチオカルボニル基、カルボニル基、エステル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基、スルホニル基であり、さらに好ましくはチオカルボニル基、カルボニル基である。Ｚ^６２’は酸性核および非環式の酸性末端基を形成するために必要な残りの原子群を表す。非環式の酸性末端基を形成する場合は、好ましくはチオカルボニル基、カルボニル基、エステル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基、スルホニル基などである。
ｍは０または１であるが、好ましくは１である。
【０３６８】
ここでいう酸性核および非環式の酸性末端基は、例えばジェイムス（Ｊａｍｅｓ）編「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・プロセス」（Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ ｔｈｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ）第４版、マクミラン出版社、１９７７年、１９７〜２００貢に記載されている。ここでは、非環式の酸性末端基とは、酸性すなわち電子受容性の末端基のうち、環を形成しないものを意味することとする。
酸性核および非環式の酸性末端基は、具体的には、米国特許第３、５６７、７１９号明細書、第３、５７５、８６９号明細書、第３、８０４、６３４号明細書、第３、８３７、８６２号明細書、第４、００２、４８０号明細書、第４、９２５、７７７号明細書、特開平３ー１６７５４６号公報、米国特許第５，９９４，０５１号明細書、米国特許５，７４７，２３６号明細書などに記載されているものが挙げられる。
【０３６９】
酸性核は、炭素原子、窒素原子、および／またはカルコゲン原子（典型的には酸素原子、硫黄原子、セレン原子、およびテルル原子）からなる複素環（好ましくは５員または６員の含窒素複素環）が好ましく、さらに好ましくは炭素原子、窒素原子、および／またはカルコゲン原子（典型的には酸素原子、硫黄原子、セレン原子、およびテルル原子）からなる５員または６員の含窒素複素環である。具体的には、２−ピラゾリン−５−オン、ピラゾリジン−３，５−ジオン、イミダゾリン−５−オン、ヒダントイン、２または４−チオヒダントイン、２−イミノオキサゾリジン−４−オン、２−オキサゾリン−５−オン、２−チオオキサゾリジン−２，５−ジオン、２−チオオキサゾリン−２，４−ジオン、イソオキサゾリン−５−オン、２−チアゾリン−４−オン、チアゾリジン−４−オン、チアゾリジン−２，４−ジオン、ローダニン、チアゾリジン−２，４−ジチオン、イソローダニン、インダン−１，３−ジオン、チオフェン−３−オン、チオフェン−３−オン−１，１−ジオキシド、インドリン−２−オン、インドリン−３−オン、２−オキソインダゾリニウム、３−オキソインダゾリニウム、５，７−ジオキソ−６，７−ジヒドロチアゾロ［３，２−ａ］ピリミジン、シクロヘキサン−１，３−ジオン、３，４−ジヒドロイソキノリン−４−オン、１，３−ジオキサン−４，６−ジオン、バルビツール酸、２−チオバルビツール酸、クロマン−２，４−ジオン、インダゾリン−２−オン、ピリド［１，２−ａ］ピリミジン−１，３−ジオン、ピラゾロ［１，５−ｂ］キナゾロン、ピラゾロ［１，５−ａ］ベンゾイミダゾール、ピラゾロピリドン、１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−２，４−ジオン、３−オキソ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｄ］チオフェン−１，１−ジオキサイド、３−ジシアノメチン−２，３−ジヒドロベンゾ［ｄ］チオフェン−１，１−ジオキサイドの核、これらの核を形成しているカルボニル基もしくはチオカルボニル基を酸性核の活性メチレン位で置換したエキソメチレン構造を有する核、および、非環式の酸性末端基の原料となるケトメチレンやシアノメチレンなどの構造を有する活性メチレン化合物の活性メチレン位で置換したエキソメチレン構造を有する核、およびこれを繰り返した核を挙げることができる。
これらの酸性核、および非環式の酸性末端基には、前述の芳香族基の置換基の例で示した置換基または環が、置換していても、縮環していても良い。
【０３７０】
Ｚ^６２とＺ^６２’と（Ｎ−Ｒ^６２）ｍとして好ましくは、ヒダントイン、２または４−チオヒダントイン、２−オキサゾリン−５−オン、２−チオオキサゾリン−２，４−ジオン、チアゾリジン−２，４−ジオン、ローダニン、チアゾリジン−２，４−ジチオン、バルビツール酸、２−チオバルビツール酸であり、さらに好ましくは、ヒダントイン、２または４−チオヒダントイン、２−オキサゾリン−５−オン、ローダニン、バルビツール酸、２−チオバルビツール酸である。特に好ましくは２または４−チオヒダントイン、２−オキサゾリン−５−オン、ローダニンである。
【０３７１】
上記一般式一般式（４）〜（６）で表される染料が水溶性である場合には、イオン性親水性基を有することが好ましい。イオン性親水性基の例および好ましい例は、一般式（１）、（２）で記述したものと同様である。
【０３７２】
以下に、好ましく用いられるハレーション防止染料の具体例を示すが、ハレーション防止染料は以下の具体例に限定されるわけではない。
【０３７３】
【化４６】

【０３７４】
【化４７】

【０３７５】
【化４８】

【０３７６】
【化４９】

【０３７７】
【化５０】

【０３７８】
【化５１】

【０３７９】
【化５２】

【０３８０】
【化５３】

【０３８１】
【化５４】

【０３８２】
【化５５】

【０３８３】
【化５６】

【０３８４】
【化５７】

【０３８５】
【化５８】

【０３８６】
【化５９】

【０３８７】
【化６０】

【０３８８】
【化６１】

【０３８９】
【化６２】

【０３９０】
【化６３】

【０３９１】
ハレーション防止染料化合物の合成については、一般的な方法が”Ｔｈｅ Ｃｙａｎｉｎｅ Ｄｙｅｓ ａｎｄ Ｒｅｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ”， Ｆｒａｎｃｅｓ Ｈａｍｅｒ，ＩｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅＰｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，１９６４に記されており、具体的には前述の特開平１１−２３１４５７号公報、特開２０００−１１２０５８号公報、同２０００−８６９２７号公報、同２０００−８６９２８号公報に順じた方法で合成できる。
【０３９２】
ハレーション防止染料を、熱現像の過程で消色させる場合には、加熱条件下で消色剤を作用させることにより消色させることができる。特に、前記一般式（１）および（２）の染料は、塩基の作用により染料中の活性メチレン基が脱プロトン化され、それにより発生する求核種が分子内のメチレン鎖を求核攻撃し、分子内閉環体を形成することにより消色する。従ってこの反応に使用可能な塩基としては、染料中の活性メチレン基を脱プロトン化させることができる塩基であればいかなるものでもよい。分子内閉環反応により新たに形成される環の環員数は特に限定されないが、５〜７員環であることが好ましく、５員環または７員環であることがより好ましい。このようにして形成される実質的に無色の化合物は、安定な化合物であって、元の染料に戻ることがなく、一旦消色された染料が元に戻ることによる着色等の問題はない。
【０３９３】
前記染料の消色反応における加熱温度は、４０〜２００℃であることが好ましく、８０〜１５０℃であることがより好ましく、１００〜１３０℃であることがさらに好ましく、１１５〜１２５℃であることが最も好ましい。加熱時間は、５〜１２０秒であることが好ましく、１０〜６０秒であることがより好ましく、１２〜３０秒であることがさらに好ましく、１４〜２５秒であることが最も好ましい。なお、熱現像感光材料では、熱現像のための加熱を利用することもできる。また、後述するように、熱の供与によって塩基を発生する熱応答型塩基プレカーサー（詳細は後述）を使用することが好ましい。そのような場合、実際の加熱温度と加熱時間は、熱現像に要する温度と時間、あるいは熱分解に要する温度と時間も考慮して決定する。
【０３９４】
消色反応に必要な消色剤は、ラジカル、求核剤、塩基またはそれらのプレカーサーが好ましい。前記一般式（１）または（２）で表される染料を用いる場合には、塩基もしくは塩基プレカーサーを用いて消色させるのが好ましい。消色反応に必要な塩基は、広義の塩基であって、狭義の塩基に加えて、求核剤（ルイス塩基）も含まれる。塩基が染料と共存すると、室温であっても消色反応が若干進行する場合がある。従って、塩基を染料から物理的または化学的に隔離しておき、消色すべき時に、例えば加熱することによって隔離状態を解除し、塩基と染料とを接触（反応）させるのが好ましい。双方を物理的に隔離する手段としては、前記染料および前記塩基の少なくとも一方をマイクロカプセルに内包させる；前記染料および前記塩基の少なくとも一方を熱溶融性物質の微粒子に内包させる；または前記染料および前記塩基を互いに異なる層に含有させる；手段がある。前記マイクロカプセルには、圧力により破裂するものと、加熱により破裂するものとがある。前記消色反応は加熱条件下で容易に進行するので、加熱により破裂する（熱応答性）マイクロカプセルを用いるのが都合がよい。隔離のためには、塩基および染料の少なくとも一方をマイクロカプセルに封入する。双方を別々のマイクロカプセルに内包させることもできる。また、マイクロカプセルの外殻が不透明である場合は、染料をマイクロカプセル外の状態で含有させ、塩基をマイクロカプセルに内包させるのが好ましい。熱応答性マイクロカプセルについては、森賀弘之、入門・特殊紙の化学（昭和５０年）や特開平１−１５０５７５号公報に記載がある。
【０３９５】
前記染料と塩基との隔離のために用いられる前記熱溶融性物質として、ワックス等を用いることができる。前記熱溶融性物質の微粒子内に塩基および染料の一方（好ましくは塩基）を添加して隔離することができる。前記熱溶融性物質の融点は、室温と前述した消色反応が進行する際の加熱温度との間であるのが好ましい。染料を含む層と塩基を含む層とを別にして、双方を隔離する場合は、それらの層の間に熱溶融性物質を含むバリアー層を設けることが好ましい。
【０３９６】
前記染料と前記塩基とを化学的に隔離するのが、実施が容易であるので好ましい。双方を化学的に隔離する手段としては、塩基として、加熱により塩基を生成（放出も含まれる）可能なプレカーサーを用いるのが好ましい。前記塩基プレカーサ−としては、熱分解型の塩基プレカーサーが代表的であり、特に、カルボン酸と塩基との塩からなる熱分解型（脱炭酸型）塩基プレカーサーが代表的である。脱炭酸型塩基プレカーサーを加熱すると、カルボン酸のカルボキシル基が脱炭酸反応し、有機塩基が放出される。前記熱分解方塩基プレカーサ−を構成しているカルボン酸としては、脱炭酸しやすいスルホニル酢酸やプロピオール酸を用いることができる。スルホニル酢酸およびプロピオール酸は、脱炭酸を促進する芳香族性を有する基（アリール基や不飽和複素環基）を置換基として有することが好ましい。スルホニル酢酸塩の塩基プレカーサーについては特開昭５９−１６８４４１号公報に、プロピオール酸塩の塩基プレカーサーについては特開昭５９−１８０５３７号公報にそれぞれ記載がある。脱炭酸型塩基プレカーサーの塩基側成分としては、有機塩基が好ましく、アミジン、グアニジンまたはそれらの誘導体であることがさらに好ましい。有機塩基は、二酸塩基、三酸塩基または四酸塩基であることが好ましく、二酸塩基であることがさらに好ましく、アミジン誘導体またはグアニジン誘導体の二酸塩基であることが最も好ましい。
【０３９７】
アミジン誘導体の二酸塩基、三酸塩基または四酸塩基のプレカーサーについては、特公平７−５９５４５号公報に記載がある。グアニジン誘導体の二酸塩基、三酸塩基または四酸塩基のプレカーサーについては、特公平８−１０３２１号公報に記載がある。アミジン誘導体またはグアニジン誘導体の二酸塩基は、（Ａ）２つのアミジン部分またはグアニジン部分、（Ｂ）アミジン部分またはグアニジン部分の置換基および（Ｃ）２つのアミジン部分またはグアニジン部分を結合する２価の連結基からなる。（Ｂ）の置換基の例には、アルキル基（シクロアルキル基を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基および複素環残基が含まれる。２個以上の置換基が結合して含窒素複素環を形成してもよい。（Ｃ）の連結基は、アルキレン基またはフェニレン基であることが好ましい。アミジン誘導体またはグアニジン誘導体の二酸塩基プレカーサーの例として、特開平１１−２３１４５７号公報の化５５〜化９５に記載の塩基プレカーサーを本発明において好ましく用いることができる。
【０３９８】
前記染料を消色すると、熱現像後の光学濃度を０．１以下に低下させることができる。２種類以上の消色染料を、熱現像感光材料において併用してもよい。同様に、２種類以上の塩基プレカーサーを併用してもよい。このような消色染料と塩基プレカーサーを用いる熱消色においては、特開平１１−３５２６２６号公報に記載のような塩基プレカーサーと混合すると融点を３℃（ｄｅｇ）以上降下させる物質（例えば、ジフェニルスルホン、４−クロロフェニル（フェニル）スルホン）、２−ナフチルベンゾエート等を併用することが熱消色性等の点で好ましい。
【０３９９】
ハレーション防止染料を含有する層は、前記染料とともにバインダーを含有することが好ましい。バインダーとしては、親水性ポリマー（例、ポリビニルアルコール、ゼラチン）が好ましく用いられる。ハレーション防止染料の添加量は、一般的には、熱現像感光材料では、目的とする波長で測定したときの光学濃度（吸光度）が０．１を超える量で使用するのが好ましく、さらに、０．２〜２．０であることがより好ましい。このような光学濃度を得るための染料の使用量は、会合体を使用することによって少量とすることができ、一般的には０．００１〜０．２ｇ／ｍ^２程度である。好ましくは、０．００１〜０．１ｇ／ｍ^２、より好ましくは、０．００１〜０．０５ｇ／ｍ^２である。なお、ハレーション防止染料を消色する態様では、染料を消色することによって、光学濃度を０．１以下に低下させることができる。２種類以上の染料を併用してもよい。同様に、２種類以上の塩基プレカーサーを併用してもよい。塩基プレカーサーの使用量（モル）は、染料の使用量（モル）の１〜１００倍であることが好ましく、３〜３０倍であることがさらに好ましい。塩基プレカーサーは、固体微粒子状態で熱現像感光材料のいずれかの層に分散含有させるのが好ましい。
【０４００】
ハレーション防止染料を非感光層に添加する方法としては、固体微粒子分散物あるいは会合体分散物を非感光層の塗布液に添加する方法が採用できる。この添加方法は、通常の熱現像感光材料に染料を添加する方法と同様である。
【０４０１】
１３．層構成、その他の構成成分
本発明の熱現像感光材料は、画像形成層に加えて非感光性層を有することができる。非感光性層は、その配置から（ａ）画像形成層の上（支持体よりも遠い側）に設けられる表面保護層、（ｂ）複数の画像形成層の間や画像形成層と保護層の間に設けられる中間層、（ｃ）画像形成層と支持体との間に設けられる下塗り層、（ｄ）画像形成層の反対側に設けられるバック層に分類できる。
【０４０２】
また、光学フィルターとして作用する層を設けることができるが、（ａ）または（ｂ）の層として設けられる。アンチハレーション層は、（ｃ）または（ｄ）の層として感光材料に設けられる。
【０４０３】
１）表面保護層
本発明における熱現像感光材料は画像形成層の付着防止などの目的で表面保護層を設けることができる。表面保護層は単層でもよいし、複数層であってもよい。表面保護層については、特開平１１−６５０２１号段落番号０１１９〜０１２０、特願２０００−１７１９３６号に記載されている。
【０４０４】
本発明の表面保護層のバインダーとしてはゼラチンが好ましいがポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いる若しくは併用することも好ましい。ゼラチンとしてはイナートゼラチン（例えば新田ゼラチン７５０）、フタル化ゼラチン（例えば新田ゼラチン８０１）など使用することができる。
【０４０５】
ＰＶＡとしては、特開２０００−１７１９３６号の段落番号０００９〜００２０に記載のものがあげられ、完全けん化物のＰＶＡ−１０５、部分けん化物のＰＶＡ−２０５，ＰＶＡ−３３５、変性ポリビニルアルコールのＭＰ−２０３（以上、クラレ（株）製の商品名）などが好ましく挙げられる。
【０４０６】
保護層（１層当たり）のポリビニルアルコール塗布量（支持体１ｍ^２当たり）としては０．３〜４．０ｇ／ｍ^２が好ましく、０．３〜２．０ｇ／ｍ^２がより好ましい。
【０４０７】
表面保護層（１層当たり）の全バインダー（水溶性ポリマー及びラテックスポリマーを含む）塗布量（支持体１ｍ^２当たり）としては０．３〜５．０ｇ／ｍ^２が好ましく、０．３〜２．０ｇ／ｍ^２がより好ましい。
【０４０８】
２）バック層
本発明に適用することのできるバック層については特開平１１−６５０２１号段落番号０１２８〜０１３０に記載されている。
【０４０９】
本発明においては、銀色調、画像の経時変化を改良する目的で３００〜４５０ｎｍに吸収極大を有する着色剤を添加することができる。このような着色剤は、特開昭６２−２１０４５８号、同６３−１０４０４６号、同６３−１０３２３５号、同６３−２０８８４６号、同６３−３０６４３６号、同６３−３１４５３５号、特開平０１−６１７４５号、特願平１１−２７６７５１号などに記載されている。このような着色剤は、通常、０．１ｍｇ／ｍ^２〜１ｇ／ｍ^２の範囲で添加され、添加する層としては感光性層の反対側に設けられるバック層が好ましい。
【０４１０】
３）マット剤
本発明において、搬送性改良のためにマット剤を表面保護層、およびバック層に添加することが好ましい。マット剤については、特開平１１−６５０２１号段落番号０１２６〜０１２７に記載されている。
マット剤は感光材料１ｍ^２当たりの塗布量で示した場合、好ましくは１〜４００ｍｇ／ｍ^２、より好ましくは５〜３００ｍｇ／ｍ^２である。
【０４１１】
また、乳剤面のマット度は、画像部に小さな白抜けが生じ、光漏れが発生するいわゆる星屑故障が生じなければいかようでも良いが、ベック平滑度が３０秒以上２０００秒以下が好ましく、特に４０秒以上１５００秒以下が好ましい。ベック平滑度は、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｐ８１１９「紙および板紙のベック試験器による平滑度試験方法」およびＴＡＰＰＩ標準法Ｔ４７９により容易に求めることができる。
【０４１２】
本発明においてバック層のマット度としてはベック平滑度が１２００秒以下１０秒以上が好ましく、８００秒以下２０秒以上が好ましく、さらに好ましくは５００秒以下４０秒以上である。
【０４１３】
本発明において、マット剤は感光材料の最外表面層もしくは最外表面層として機能する層、あるいは外表面に近い層に含有されるのが好ましく、またいわゆる保護層として作用する層に含有されることが好ましい。
【０４１４】
４）ポリマーラテックス
本発明の表面保護層やバック層にポリマーラテックスを添加することができる。
このようなポリマーラテックスについては「合成樹脂エマルジョン（奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行（１９７８））」、「合成ラテックスの応用（杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行（１９９３））」、「合成ラテックスの化学（室井宗一著、高分子刊行会発行（１９７０））」などにも記載され、具体的にはメチルメタクリレート（３３．５質量％）／エチルアクリレート（５０質量％）／メタクリル酸（１６．５質量％）コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート（４７．５質量％）／ブタジエン（４７．５質量％）／イタコン酸（５質量％）コポリマーのラテックス、エチルアクリレート／メタクリル酸のコポリマーのラテックス、メチルメタクリレート（５８．９質量％）／２−エチルヘキシルアクリレート（２５．４質量％）／スチレン（８．６質量％）／２−ヒドロキシエチルメタクリレート（５．１質量％）／アクリル酸（２．０質量％）コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート（６４．０質量％）／スチレン（９．０質量％）／ブチルアクリレート（２０．０質量％）／２−ヒドロキシエチルメタクリレート（５．０質量％）／アクリル酸（２．０質量％）コポリマーのラテックスなどが挙げられる。
【０４１５】
ポリマーラテックスは、表面保護層、あるいはバック層の全バインダー（水溶性ポリマーおよびラテックスポリマーを含む）の１０質量％〜９０質量％用いるのが好ましく、特に２０質量％〜８０質量％が好ましい。
【０４１６】
５）膜面ｐＨ
本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理前の膜面ｐＨが７．０以下であることが好ましく、さらに好ましくは６．６以下である。その下限には特に制限はないが、３程度である。最も好ましいｐＨ範囲は４〜６．２の範囲である。
【０４１７】
膜面ｐＨの調節はフタル酸誘導体などの有機酸や硫酸などの不揮発性の酸、アンモニアなどの揮発性の塩基を用いることが、膜面ｐＨを低減させるという観点から好ましい。特にアンモニアは揮発しやすく、塗布する工程や熱現像される前に除去できることから低膜面ｐＨを達成する上で好ましい。
また、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム、水酸化リチウム等の不揮発性の塩基とアンモニアを併用することも好ましく用いられる。なお、膜面ｐＨの測定方法は、特願平１１−８７２９７号明細書の段落番号０１２３に記載されている。
【０４１８】
６）硬膜剤
本発明の感光性層、保護層、バック層など各層には硬膜剤を用いても良い。
硬膜剤の例としてはＴ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ著”ＴＨＥ ＴＨＥＯＲＹ ＯＦ ＴＨＥ ＰＨＯＴＯＧＲＡＰＨＩＣ ＰＲＯＣＥＳＳ ＦＯＵＲＴＨ ＥＤＩＴＩＯＮ”（Ｍａｃｍｉｌｌａｎ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．， Ｉｎｃ．刊、１９７７年刊）７７頁から８７頁に記載の各方法があり、クロムみょうばん、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジンナトリウム塩、Ｎ，Ｎ−エチレンビス（ビニルスルフォンアセトアミド）、Ｎ，Ｎ−プロピレンビス（ビニルスルフォンアセトアミド）の他、同書７８頁など記載の多価金属イオン、米国特許４，２８１，０６０号、特開平６−２０８１９３号などのポリイソシアネート類、米国特許４，７９１，０４２号などのエポキシ化合物類、特開昭６２−８９０４８号などのビニルスルホン系化合物類が好ましく用いられる。
【０４１９】
硬膜剤は溶液として添加され、この溶液の保護層塗布液中への添加時期は、塗布する１８０分前から直前、好ましくは６０分前から１０秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。
【０４２０】
具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やＮ．Ｈａｒｎｂｙ、Ｍ．Ｆ．Ｅｄｗａｒｄｓ、Ａ．Ｗ．Ｎｉｅｎｏｗ著、高橋幸司訳”液体混合技術”（日刊工業新聞社刊、１９８９年）の第８章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。
【０４２１】
７）界面活性剤
本発明に適用できる界面活性剤については特開平１１−６５０２１号段落番号０１３２に記載されている。
本発明ではフッ素系界面活性剤を使用することが好ましい。フッ素系界面活性剤の好ましい具体例は特開平１０−１９７９８５号、特開２０００−１９６８０号、特開２０００−２１４５５４号等に記載されている化合物が挙げられる。また、特開平９−２８１６３６号記載の高分子フッ素系界面活性剤も好ましく用いられる。本発明においては、特願２０００−２０６５６０号記載のフッ素系界面活性剤の使用が特に好ましい。
【０４２２】
８）帯電防止剤
また、本発明では、公知の種々の金属酸化物あるいは導電性ポリマーなどを含む帯電防止層を有しても良い。帯電防止層は前述の下塗り層、バック層表面保護層などと兼ねても良く、また別途設けてもよい。帯電防止層については、特開平１１−６５０２１号段落番号０１３５、特開昭５６−１４３４３０号、同５６−１４３４３１号、同５８−６２６４６号、同５６−１２０５１９号、特開平１１−８４５７３号の段落番号００４０〜００５１、米国特許第５，５７５，９５７号、特開平１１−２２３８９８号の段落番号００７８〜００８４に記載の技術を適用することができる。
【０４２３】
９）支持体
透明支持体は二軸延伸時にフィルム中に残存する内部歪みを緩和させ、熱現像処理中に発生する熱収縮歪みをなくすために、１３０〜１８５℃の温度範囲で熱処理を施したポリエステル、特にポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。
【０４２４】
医療用の熱現像感光材料の場合、透明支持体は青色染料（例えば、特開平８−２４０８７７号実施例記載の染料−１）で着色されていてもよいし、無着色でもよい。具体的な支持体の例は、特開平１１−６５０２１同号段落番号０１３４に記載されている。
【０４２５】
支持体には、特開平１１−８４５７４号の水溶性ポリエステル、同１０−１８６５６５号のスチレンブタジエン共重合体、特開２０００−３９６８４号や特願平１１−１０６８８１号段落番号００６３〜００８０の塩化ビニリデン共重合体などの下塗り技術を適用することが好ましい。
【０４２６】
１０）その他の添加剤
熱現像感光材料には、さらに、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤あるいは被覆助剤を添加してもよい。特開平１１−６５０２１号段落番号０１３３の記載の溶剤を添加しても良い。各種の添加剤は、感光性層あるいは非感光性層のいずれかに添加する。それらについてＷＯ９８／３６３２２号、ＥＰ８０３７６４Ａ１号、特開平１０−１８６５６７号、同１０−１８５６８号等を参考にすることができる。
【０４２７】
１１）塗布方式
本発明における熱現像感光材料はいかなる方法で塗布されても良い。具体的には、エクストルージョンコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、浸漬コーティング、ナイフコーティング、フローコーティング、または米国特許第２，６８１，２９４号に記載の種類のホッパーを用いる押出コーティングを含む種々のコーティング操作が用いられ、Ｓｔｅｐｈｅｎ Ｆ． Ｋｉｓｔｌｅｒ、Ｐｅｔｅｒｔ Ｍ． Ｓｃｈｗｅｉｚｅｒ著”ＬＩＱＵＩＤ ＦＩＬＭ ＣＯＡＴＩＮＧ”（ＣＨＡＰＭＡＮ ＆ ＨＡＬＬ社刊、１９９７年）３９９頁から５３６頁記載のエクストルージョンコーティング、またはスライドコーティングが好ましく用いられ、特に好ましくはスライドコーティングが用いられる。
【０４２８】
スライドコーティングに使用されるスライドコーターの形状の例は同書４２７頁のＦｉｇｕｒｅ １１ｂ．１にある。また、所望により同書３９９頁から５３６頁記載の方法、米国特許第２，７６１，７９１号および英国特許第８３７，０９５号に記載の方法により２層またはそれ以上の層を同時に被覆することができる。
【０４２９】
本発明における有機銀塩含有層塗布液は、いわゆるチキソトロピー流体であることが好ましい。この技術については特開平１１−５２５０９号を参考にすることができる。
本発明における有機銀塩含有層塗布液は剪断速度０．１Ｓ^−１における粘度は４００ｍＰａ・ｓ以上１００，０００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、さらに好ましくは５００ｍＰａ・ｓ以上２０，０００ｍＰａ・ｓ以下である。
また、剪断速度１０００Ｓ^−１においては１ｍＰａ・ｓ以上２００ｍＰａ・ｓ以下が好まく、さらに好ましくは５ｍＰａ・ｓ以上８０ｍＰａ・ｓ以下である。
【０４３０】
１２）包装材料
本発明の熱現像感光材料は、使用される前の保存時に写真性能の変質を防ぐため、あるいはロール状態の製品形態の場合にはカールしたり巻き癖が付くのを防ぐために、酸素透過率および／または水分透過率の低い包装材料で密閉包装するのが好ましい。酸素透過率は、２５℃で５０ｍｌ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは１０ｍｌ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下であり、さらに好ましくは１．０ｍｌ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下である。水分透過率は、１０ｇ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは５ｇ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下であり、さらに好ましくは１ｇ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下である。酸素透過率および／または水分透過率の低い包装材料の具体例としては、例えば特開平８−２５４７９３号、特開２０００−２０６６５３号に記載されているものを利用することができる。
【０４３１】
１３）その他の利用できる技術
本発明の熱現像感光材料に用いることのできる技術としては、ＥＰ８０３７６４Ａ１号、ＥＰ８８３０２２Ａ１号、ＷＯ９８／３６３２２号、特開昭５６−６２６４８号、同５８−６２６４４号、特開平９−４３７６６、同９−２８１６３７、同９−２９７３６７号、同９−３０４８６９号、同９−３１１４０５号、同９−３２９８６５号、同１０−１０６６９号、同１０−６２８９９号、同１０−６９０２３号、同１０−１８６５６８号、同１０−９０８２３号、同１０−１７１０６３号、同１０−１８６５６５号、同１０−１８６５６７号、同１０−１８６５６９号〜同１０−１８６５７２号、同１０−１９７９７４号、同１０−１９７９８２号、同１０−１９７９８３号、同１０−１９７９８５号〜同１０−１９７９８７号、同１０−２０７００１号、同１０−２０７００４号、同１０−２２１８０７号、同１０−２８２６０１号、同１０−２８８８２３号、同１０−２８８８２４号、同１０−３０７３６５号、同１０−３１２０３８号、同１０−３３９９３４号、同１１−７１００号、同１１−１５１０５号、同１１−２４２００号、同１１−２４２０１号、同１１−３０８３２号、同１１−８４５７４号、同１１−６５０２１号、同１１−１０９５４７号、同１１−１２５８８０号、同１１−１２９６２９号、同１１−１３３５３６号〜同１１−１３３５３９号、同１１−１３３５４２号、同１１−１３３５４３号、同１１−２２３８９８号、同１１−３５２６２７号、同１１−３０５３７７号、同１１−３０５３７８号、同１１−３０５３８４号、同１１−３０５３８０号、同１１−３１６４３５号、同１１−３２７０７６号、同１１−３３８０９６号、同１１−３３８０９８号、同１１−３３８０９９号、同１１−３４３４２０号、特願２０００−１８７２９８号、同２０００−１０２２９号、同２０００−４７３４５号、同２０００−２０６６４２号、同２０００−９８５３０号、同２０００−９８５３１号、同２０００−１１２０５９号、同２０００−１１２０６０号、同２０００−１１２１０４号、同２０００−１１２０６４号、同２０００−１７１９３６号も挙げられる。
【０４３２】
１４）カラー画像形成
多色カラー熱現像感光材料の構成は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよく、また、米国特許第４，７０８，９２８号に記載されているように単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。
多色カラー熱現像感光材料の場合、各乳剤層は、一般に、米国特許第４，４６０，６８１号に記載されているように、各感光性層の間に官能性もしくは非官能性のバリアー層を使用することにより、互いに区別されて保持される。
【０４３３】
２．画像形成方法
１）露光
本発明の感光材料はいかなる方法で露光されても良いが、露光光源としてレーザー光が好ましい。本発明のようにヨウ化銀含有率の高いハロゲン化銀乳剤は、従来はその感度が低くて問題であった。しかし、レーザー光のような高照度で書き込むことで低感度の問題も解消され、しかもより少ないエネルギーで画像記録できることがわかった。このような強い光で短時間に書き込むことによって目標の感度を達成することができる。
【０４３４】
特に最高濃度（Ｄｍａｘ）を出すような露光量を与える場合、感光材料表面の好ましい光量は０．１Ｗ／ｍｍ^２〜１００Ｗ／ｍｍ^２である。より好ましくは０．５Ｗ／ｍｍ^２〜５０Ｗ／ｍｍ^２であり、最も好ましくは１Ｗ／ｍｍ^２〜５０Ｗ／ｍｍ^２である。
【０４３５】
本発明によるレーザー光としては、ガスレーザー（Ａｒ^＋，Ｈｅ−Ｎｅ，Ｈｅ−Ｃｄ）、ＹＡＧレーザー、色素レーザー、半導体レーザーなどが好ましい。また、半導体レーザーと第２高調波発生素子などを用いることもできる。好ましく用いられるレーザーは、熱現像感光材料の分光増感色素などの光吸収ピーク波長に対応して決まるが、赤〜赤外発光のＨｅ−Ｎｅレーザー、赤色半導体レーザー、あるいは青〜緑発光のＡｒ^＋，Ｈｅ−Ｎｅ，Ｈｅ−Ｃｄレーザー、青色半導体レーザーである。 近年、特に、ＳＨＧ（Ｓｅｃｏｎｄ Ｈａｒｍｏｎｉｃ Ｇｅｎｅｒａｔｏｒ）素子と半導体レーザーを一体化したモジュールや青色半導体レーザーが開発されてきて、短波長領域のレーザー出力装置がクローズアップされてきた。青色半導体レーザーは、高精細の画像記録が可能であること、記録密度の増大、かつ長寿命で安定した出力が得られることから、今後需要が拡大していくことが期待されている。レーザー光のピーク波長は、青色の３００ｎｍ〜５００ｎｍ、好ましくは３５０ｎｍ〜４３０ｎｍ、より好ましくは３８０ｎｍ〜４２０ｎｍ、赤〜近赤外の６００ｎｍ〜９００ｎｍ、好ましくは６２０ｎｍ〜８５０ｎｍ、より好ましくは６４０ｎｍ〜８３０ｎｍである。
【０４３６】
レーザー光は、高周波重畳などの方法によって縦マルチに発振していることも好ましく用いられる。
【０４３７】
２）熱現像
本発明の熱現像感光材料はいかなる方法で現像されても良いが、通常イメージワイズに露光した熱現像感光材料を昇温して現像される。好ましい現像温度としては８０〜２５０℃であり、さらに好ましくは１００〜１４０℃である。
現像時間としては１〜６０秒が好ましく、５〜３０秒がさらに好ましく、６〜１４秒が特に好ましい。
【０４３８】
熱現像の方式としてはプレートヒーター方式が好ましい。プレートヒーター方式による熱現像方式とは特開平１１−１３３５７２号に記載の方法が好ましく、潜像を形成した熱現像感光材料を熱現像部にて加熱手段に接触させることにより可視像を得る熱現像装置であって、前記加熱手段がプレートヒータからなり、かつ前記プレートヒータの一方の面に沿って複数個の押えローラが対向配設され、前記押えローラと前記プレートヒータとの間に前記熱現像感光材料を通過させて熱現像を行うことを特徴とする熱現像装置である。プレートヒータを２〜６段に分けて先端部については１〜１０℃程度温度を下げることが好ましい。
【０４３９】
このような方法は特開昭５４−３００３２号にも記載されており、熱現像感光材料に含有している水分や有機溶媒を系外に除外させることができ、また、急激に熱現像感光材料が加熱されることでの熱現像感光材料の支持体形状の変化を押さえることもできる。
【０４４０】
３）システム
露光部および熱現像部を備えた医療用レーザーイメージャーとして富士メディカル・ドライイメージャー−ＦＭ−ＤＰＬやＤＲＹＰＩＸ７００を挙げることができる。該システムは、Ｆｕｊｉ Ｍｅｄｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ Ｎｏ．８，ｐａｇｅ３９〜５５に記載されており、それらの技術を利用することができる。また、ＤＩＣＯＭ規格に適合したネットワークシステムとして富士メディカル（株）が提案した「ＡＤ ｎｅｔｗｏｒｋ」の中のレーザーイメージャー用の熱現像感光材料としても適用することができる。
【０４４１】
３．本発明の用途
本発明の高ヨウ化銀写真乳剤を用いた熱現像感光材料は、銀画像による黒白画像を形成し、医療診断用の熱現像感光材料、工業写真用熱現像感光材料、印刷用熱現像感光材料、ＣＯＭ用の熱現像感光材料として使用されることが好ましい。
【実施例】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
【０４４２】
１．ＰＥＴ支持体の作製
１−１．製膜
（製膜）
テレフタル酸とエチレングリコ−ルを用い、常法に従い固有粘度ＩＶ＝０．６６（フェノ−ル／テトラクロルエタン＝６／４（重量比）中２５℃で測定）のＰＥＴを得た。これをペレット化した後１３０℃で４時間乾燥し、３００℃で溶融後Ｔ型ダイから押し出して急冷し、熱固定後の膜厚が１７５μｍになるような厚みの未延伸フィルムを作成した。
【０４４３】
これを、周速の異なるロ−ルを用い３．３倍に縦延伸、ついでテンタ−で４．５倍に横延伸を実施した。この時の温度はそれぞれ、１１０℃、１３０℃であった。この後、２４０℃で２０秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に４％緩和した。この後テンタ−のチャック部をスリットした後、両端にナ−ル加工を行い、４ｋｇ／ｃｍ^２で巻き取り、厚み１７５μｍのロ−ルを得た。
【０４４４】
（表面コロナ放電処理）
ピラー社製ソリッドステートコロナ放電処理機６ＫＶＡモデルを用い、支持体の両面を室温下において２０ｍ／分で処理した。この時の電流、電圧の読み取り値から、支持体には０．３７５ｋＶ・Ａ・分／ｍ^２の処理がなされていることがわかった。この時の処理周波数は９．６ｋＨｚ、電極と誘電体ロ−ルのギャップクリアランスは１．６ｍｍであった。
【０４４５】
１−２．下塗り支持体の作製
（１）下塗層塗布液の作成
処方▲１▼（感光層側下塗り層用）
高松油脂（株）製ペスレジンＡ−５２０（３０質量％溶液） ５９ｇ
ポリエチレングリコールモノノニルフェニルエーテル
（平均エチレンオキシド数＝８．５）１０質量％溶液 ５．４ｇ
綜研化学（株）製 ＭＰ−１０００（ポリマー微粒子、平均粒径０．４μｍ）
０．９１ｇ蒸留水 ９３５ｍｌ
【０４４６】
処方▲２▼（バック面第１層用）
スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス １５８ｇ
（固形分４０質量％、スチレン／ブタジエン重量比＝６８／３２）
２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ
−Ｓ−トリアジンナトリウム塩 ８質量％水溶液 ２０ｇ
ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウムの１質量％水溶液１０ｍｌ
蒸留水 ８５４ｍｌ
【０４４７】
処方▲３▼（バック面側第２層用）
ＳｎＯ_２／ＳｂＯ（９／１質量比、平均粒径０．０３８μｍ、１７質量％分散物）
８４ｇ
ゼラチン（１０質量％水溶液） ８９．２ｇ
信越化学（株）製 メトローズＴＣ−５（２質量％水溶液） ８．６ｇ
綜研化学（株）製 ＭＰ−１０００ ０．０１ｇ
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの１質量％水溶液１０ｍｌ
ＮａＯＨ（１質量％） ６ｍｌ
プロキセル（ＩＣＩ社製） １ｍｌ
蒸留水 ８０５ｍｌ
【０４４８】
上記厚さ１７５μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレート支持体の両面それぞれに、上記コロナ放電処理を施した後、片面（感光性層面）に上記下塗り塗布液処方▲１▼をワイヤーバーでウエット塗布量が６．６ｍｌ／ｍ^２（片面当たり）になるように塗布して１８０℃で５分間乾燥し、ついでこの裏面（バック面）に上記下塗り塗布液処方▲２▼をワイヤーバーでウエット塗布量が５．７ｍｌ／ｍ^２になるように塗布して１８０℃で５分間乾燥し、更に裏面（バック面）に上記下塗り塗布液処方▲３▼をワイヤーバーでウエット塗布量が７．７ｍｌ／ｍ^２になるように塗布して１８０℃で６分間乾燥して下塗り支持体を作製した。
【０４４９】
２．バック層
１）塗布液の調製
（ハレーション防止層塗布液の調製）
４０℃に保温した水に石灰処理ゼラチン３２．７ｇ、単分散ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒子サイズ８μｍ、粒径標準偏差０．４μｍ）０．７７ｇ、ベンゾイソチアゾリノン０．０８ｇ、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム０．３ｇ、青色染料化合物−１を０．０６ｇ、紫外光吸収剤−１を１．５ｇ、アクリル酸／エチルアクリレート共重合ラテックス（共重合比５／９５）５．０ｇ、Ｎ，Ｎ−エチレンビス（ビニルスルホンアセトアミド）１．７ｇを混合し、１ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウムでｐＨを６．０に調整し、水にて全体を８１８ｍｌとし、ハレーション防止層塗布液を調製した。
【０４５０】
（バック面保護層塗布液の調製）
４０℃に保温した水に石灰処理ゼラチン６６．５ｇ、流動パラフィン乳化物を流動パラフィンとして５．４ｇ、ベンゾイソチアゾリノン０．１０ｇ、スルホコハク酸ジ（２−エチルヘキシル）ナトリウム０．５ｇ、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム０．２７ｇ、フッ素系界面活性剤（Ｆ−１）２質量％水溶液を１３．６ｍＬ、アクリル酸／エチルアクリレート共重合体（共重合重量比５／９５）１０．０ｇを混合し、１ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウムでｐＨを６．０に調整し、水で１０００ｍｌとしてバック面保護層塗布液とした。
【０４５１】
２）バック層の塗布
上記下塗り支持体のバック面側に、ハレーション防止層塗布液をゼラチン塗布量が１．７０ｇ／ｍ^２となるように、またバック面保護層塗布液をゼラチン塗布量が０．７９ｇ／ｍ^２となるように同時重層塗布し、乾燥し、バック層を作成した。
【０４５２】
２．画像形成層、中間層、および表面保護層
２−１．塗布用材料の準備
１）ハロゲン化銀乳剤の調製
（ハロゲン化銀乳剤１の調製）
蒸留水１４２０ｍｌに１質量％ヨウ化カリウム溶液４．３ｍｌを加え、さらに０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸を３．５ｍｌ、フタル化ゼラチン３６．７ｇを添加した液をステンレス製反応壺中で攪拌しながら、４２℃に液温を保ち、硝酸銀２２．２２ｇに蒸留水を加え１９５．６ｍｌに希釈した溶液Ａとヨウ化カリウム２１．８ｇを蒸留水にて容量２１８ｍｌに希釈した溶液Ｂを一定流量で９分間かけて全量添加した。その後、３．５質量％の過酸化水素水溶液を１０ｍｌ添加し、さらにベンゾイミダゾールの１０質量％水溶液を１０．８ｍｌ添加した。
【０４５３】
さらに、硝酸銀５１．８６ｇに蒸留水を加えて３１７．５ｍｌに希釈した溶液Ｃとヨウ化カリウム６０ｇを蒸留水にて容量６００ｍｌに希釈した溶液Ｄを、溶液Ｃは一定流量で１２０分間かけて全量添加し、溶液ＤはｐＡｇを８．１に維持しながらコントロールドダブルジェット法で添加した。銀１モル当たり１×１０^−４モルになるよう六塩化イリジウム（ＩＩＩ）酸カリウム塩を溶液Ｃおよび溶液Ｄを添加しはじめてから１０分後に全量添加した。また、溶液Ｃの添加終了の５秒後に六シアン化鉄（ＩＩ）カリウム水溶液を銀１モル当たり３×１０^−４モル全量添加した。０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸を用いてｐＨを３．８に調整し、攪拌を止め、沈降／脱塩／水洗工程をおこなった。１ｍｏｌ／Ｌ濃度の水酸化ナトリウムを用いてｐＨ５．９に調整し、ｐＡｇ８．０のハロゲン化銀分散物を作成した。
【０４５４】
上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら３８℃に維持して、０．３４質量％の１、２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンのメタノール溶液を５ｍｌ加え、４７℃に昇温した。昇温の２０分後にベンゼンチオスルフォン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀１モルに対して７．６×１０^−５モル加え、さらに５分後にテルル増感剤Ｃをメタノール溶液で銀１モル当たり２．９×１０^−４モル加えて９１分間熟成した。
Ｎ、Ｎ’−ジヒドロキシ−Ｎ”，Ｎ”−ジエチルメラミンの０．８質量％メタノール溶液１．３ｍｌを加え、さらに４分後に、５−メチル−２−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀１モル当たり４．８×１０^−３モル及び１−フェニル−２−ヘプチル−５−メルカプト−１、３、４−トリアゾールをメタノール溶液で銀１モルに対して５．４×１０^−３モル添加して、ハロゲン化銀乳剤１を作製した。
【０４５５】
調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、平均球相当径０．０４０μｍ、球相当径の変動係数１８％の純ヨウ化銀粒子であった。また（００１）、｛１００｝、｛１０１｝面を有する１４面体粒子であり、Ｘ線粉末回折分析を用いて測定するとそのγ相の比率は３０％であった。粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用い１０００個の粒子の平均から求めた。
【０４５６】
（ハロゲン化銀乳剤２，３の調製）
上記の様に乳剤１の調製と同様な方法で用いるＫＢｒとＫＩの濃度を変えることと仕込温度をコントロールすることによって以下に示すハロゲン組成と粒子サイズの乳剤２、乳剤３を調製した。
【０４５７】
乳剤１ 沃化銀１００モル％ ＡｇＩ_１００ 粒子サイズ４０ｎｍ
乳剤２ 沃化銀９０モル％ ＡｇＢｒ_１０Ｉ_９０ 粒子サイズ４０ｎｍ
乳剤３ 沃化銀３モル％ ＡｇＢｒ_９７Ｉ_３ 粒子サイズ４０ｎｍ
【０４５８】
（ハロゲン化銀希釈乳剤１Ａ，１Ｂの調製）
ハロゲン化銀乳剤−１を溶解し、ベンゾチアゾリウムヨーダイドを１質量％水溶液にて銀１モル当たり７×１０^−３モル添加した。さらに塗布液用混合乳剤１ｋｇあたりハロゲン化銀の含有量が銀として３８．２ｇとなるように加水し、希釈乳剤１ｋｇあたり０．３４ｇとなるようにした。
【０４５９】
さらに「１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物」として、化合物２と２０と２６をそれぞれハロゲン化銀の銀１モル当たり２×１０^−３モルになる量を添加した。
また、吸着基と還元基を有する化合物として、化合物（１２）と（２７）と（３６）をそれぞれハロゲン化銀１モルあたり８×１０^−３モルになる量を添加した。
【０４６０】
ハロゲン化銀希釈乳剤１Ａ：いずれの化合物も添加しない。
ハロゲン化銀希釈乳剤１Ｂ：化合物（２）（２０）（２６）及び化合物（１２）（２７）（３６）をそれぞれ上記の様に添加した。
【０４６１】
（ハロゲン化銀希釈乳剤２Ａの調製）
ハロゲン化銀希釈乳剤１Ａの調製と同様にして、但し、ハロゲン化銀乳剤１の代わりにハロゲン化銀乳剤２を用いてハロゲン化銀希釈乳剤２Ａを調製した。
【０４６２】
（ハロゲン化銀希釈乳剤２Ｂの調製）
ハロゲン化銀希釈乳剤１Ｂの調製と同様にして、但し、ハロゲン化銀乳剤１の代わりにハロゲン化銀乳剤２を用いてハロゲン化銀希釈乳剤２Ｂを調製した。
【０４６３】
（ハロゲン化銀希釈乳剤３Ａの調製）
ハロゲン化銀希釈乳剤１Ａの調製と同様にして、但し、ハロゲン化銀乳剤１の代わりにハロゲン化銀乳剤３を用いてハロゲン化銀希釈乳剤３Ａを調製した。
【０４６４】
（ハロゲン化銀希釈乳剤３Ｂの調製）
ハロゲン化銀希釈乳剤１Ｂの調製と同様にして、但し、ハロゲン化銀乳剤１の代わりにハロゲン化銀乳剤３を用いてハロゲン化銀希釈乳剤３Ｂを調製した。
【０４６５】
２）脂肪酸銀分散物の調製
＜再結晶ベヘン酸の調製＞
ヘンケル社製ベヘン酸（製品名Ｅｄｅｎｏｒ Ｃ２２−８５Ｒ）１００Ｋｇを、１２００Ｋｇのイソプロピルアルコールにまぜ、５０℃で溶解し、１０μｍのフィルターで濾過した後、３０℃まで、冷却し、再結晶を行った。再結晶をする際の、冷却スピードは、３℃／時間にコントロールした。得られた結晶を遠心濾過し、１００Ｋｇのイソプルピルアルコールでかけ洗いを実施した後、乾燥を行った。得られた結晶をエステル化してＧＣ−ＦＩＤ測定をしたところ、ベヘン酸含有率は９６モル％、それ以外にリグノセリン酸が２モル％、アラキジン酸が２モル％、エルカ酸０．００１モル％含まれていた。
【０４６６】
＜脂肪酸銀分散物の調製＞
再結晶ベヘン酸８８Ｋｇ、蒸留水４２２Ｌ、５ｍｏｌ／Ｌ濃度のＮａＯＨ水溶液４９．２Ｌ、ｔ−ブチルアルコール１２０Ｌを混合し、７５℃にて１時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液Ｂを得た。別に、硝酸銀４０．４ｋｇの水溶液２０６．２Ｌ（ｐＨ４．０）を用意し、１０℃にて保温した。６３５Ｌの蒸留水と３０Ｌのｔ−ブチルアルコールを入れた反応容器を３０℃に保温し、十分に撹拌しながら先のベヘン酸ナトリウム溶液の全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそれぞれ９３分１５秒と９０分かけて添加した。このとき、硝酸銀水溶液添加開始後１１分間は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあとベヘン酸ナトリウム溶液を添加開始し、硝酸銀水溶液の添加終了後１４分１５秒間はベヘン酸ナトリウム溶液のみが添加されるようにした。このとき、反応容器内の温度は３０℃とし、液温度が一定になるように外温コントロールした。また、ベヘン酸ナトリウム溶液の添加系の配管は、２重管の外側に温水を循環させる事により保温し、添加ノズル先端の出口の液温度が７５℃になるよう調製した。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、２重管の外側に冷水を循環させることにより保温した。ベヘン酸ナトリウム溶液の添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は撹拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に接触しないような高さに調製した。
【０４６７】
ベヘン酸ナトリウム溶液を添加終了後、そのままの温度で２０分間撹拌放置し、３０分かけて３５℃に昇温し、その後２１０分熟成を行った。熟成終了後直ちに、遠心濾過で固形分を濾別し、固形分を濾過水の伝導度が３０μＳ／ｃｍになるまで水洗した。こうして脂肪酸銀塩を得た。得られた固形分は、乾燥させないでウエットケーキとして保管した。
【０４６８】
得られたベヘン酸銀粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価したところ、平均値でａ＝０．２１μｍ、ｂ＝０．４μｍ、ｃ＝０．４μｍ、平均アスペクト比２．１、球相当径の変動係数１１％の結晶であった。（ａ，ｂ，ｃは本文の規定）
【０４６９】
乾燥固形分２６０Ｋｇ相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−２１７）１９．３Ｋｇおよび水を添加し、全体量を１０００Ｋｇとしてからディゾルバー羽根でスラリー化し、更にパイプラインミキサー（みづほ工業製：ＰＭ−１０型）で予備分散した。
【０４７０】
次に予備分散済みの原液を分散機（商品名：マイクロフルイダイザーＭ−６１０、マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーション製、Ｚ型インタラクションチャンバー使用）の圧力を１１５０ｋｇ／ｃｍ^２に調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで１８℃の分散温度に設定した。
【０４７１】
３）還元剤分散物の調製
（還元剤−１分散物の調製）
還元剤―１（２，２’−メチレンビス−（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール））１０Ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ２０３）の１０質量％水溶液１６Ｋｇに、水１０Ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて３時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて還元剤の濃度が２５質量％になるように調製した。この分散液を６０℃で５時間加熱処理し、還元剤―１分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径０．４０μｍ、最大粒子径１．４μｍ以下であった。得られた還元剤分散物は孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４７２】
（還元剤−２分散物の調製）
還元剤―２（６，６’−ジ−ｔ−ブチル−４，４’−ジメチル−２，２’−ブチリデンジフェノール）１０Ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ２０３）の１０質量％水溶液１６Ｋｇに、水１０Ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて３時間３０分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて還元剤の濃度が２５質量％になるように調製した。この分散液を４０℃で１時間加熱した後、引き続いてさらに８０℃で１時間加熱処理し、還元剤―２分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径０．５０μｍ、最大粒子径１．６μｍ以下であった。得られた還元剤分散物は孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４７３】
４）水素結合性化合物分散物の調製
（水素結合性化合物−１分散物の調製）
水素結合性化合物−１（トリ（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィンオキシド）１０Ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ２０３）の１０質量％水溶液１６Ｋｇに、水１０Ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて４時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて水素結合性化合物の濃度が２５質量％になるように調製した。この分散液を４０℃で１時間加熱した後、引き続いてさらに８０℃で１時間加温し、水素結合性化合物―１分散物を得た。こうして得た水素結合性化合物分散物に含まれる水素結合性化合物粒子はメジアン径０．４５μｍ、最大粒子径１．３μｍ以下であった。得られた水素結合性化合物分散物は孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４７４】
５）現像促進剤分散物、色調調整剤分散物の調製
（現像促進剤−１分散物の調製）
現像促進剤−１を１０Ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ２０３）の１０質量％水溶液２０Ｋｇに、水１０Ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて３時間３０分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて現像促進剤の濃度が２０質量％になるように調製し、現像促進剤−１分散物を得た。こうして得た現像促進剤分散物に含まれる現像促進剤粒子はメジアン径０．４８μｍ、最大粒子径１．４μｍ以下であった。得られた現像促進剤分散物は孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４７５】
現像促進剤−２および色調調整剤−１の固体分散物についても現像促進剤−１と同様の方法により分散し、それぞれ２０質量％、１５質量％の分散液を得た。
【０４７６】
６）有機ハロゲン化合物分散物の調製
（有機ハロゲン化合物−１分散物の調製）（比較化合物）
有機ハロゲン化合物―１（トリブロモメタンスルホニルベンゼン）１０Ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ポバールＭＰ２０３）の２０質量％水溶液１０Ｋｇと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの２０質量％水溶液０．４Ｋｇと、水１４Ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて５時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて有機ハロゲン化合物の濃度が３０質量％になるように調製し、有機ハロゲン化合物―１分散物を得た。こうして得た有機ハロゲン化合物分散物に含まれる有機ハロゲン化合物粒子はメジアン径０．４１μｍ、最大粒子径２．０μｍ以下であった。得られた有機ハロゲン化合物分散物は孔径１０．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４７７】
（有機ハロゲン化合物−２分散物の調製）
有機ハロゲン化合物−１分散物の調整と同様にして、但し、有機ハロゲン化合物−１（トリブロモメタンスルホニルベンゼン）を有機ハロゲン化合物−２（一般式（１ａ）の１ａ−１の化合物）に代えて、有機ハロゲン化合物−２分散物を調整した。
【０４７８】
（有機ハロゲン化合物−３分散物の調製）
有機ハロゲン化合物−１分散物の調整と同様にして、但し、有機ハロゲン化合物−１（トリブロモメタンスルホニルベンゼン）を有機ハロゲン化合物−２（一般式（１ｂ）の１ｂ−３０の化合物）に代えて、有機ハロゲン化合物−３分散物を調整した。
【０４７９】
（有機ハロゲン化合物−４分散物の調製）
有機ハロゲン化合物−１分散物の調整と同様にして、但し、有機ハロゲン化合物−１（トリブロモメタンスルホニルベンゼン）を有機ハロゲン化合物−３（一般式（１ｃ）の１ｃ−１の化合物）に代えて、有機ハロゲン化合物−４分散物を調整した。
【０４８０】
７）フタラジン化合物溶液の調製
（フタラジン化合物−１溶液の調製）
８Ｋｇのクラレ（株）製変性ポリビニルアルコールＭＰ２０３を水１７４．５７Ｋｇに溶解し、次いでトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの２０質量％水溶液３．１５Ｋｇとフタラジン化合物―１（６−イソプロピルフタラジン）の７０質量％水溶液１４．２８Ｋｇを添加し、フタラジン化合物―１の５質量％溶液を調製した。
【０４８１】
８）メルカプト化合物の調製
（メルカプト化合物−１水溶液の調製）
メルカプト化合物―１（１−（３−スルホフェニル）−５−メルカプトテトラゾールナトリウム塩）７ｇを水９９３ｇに溶解し、０．７質量％の水溶液とした。
（メルカプト化合物−２水溶液の調製）
メルカプト化合物―２（１−（３−メチルウレイドフェニル）−５−メルカプトテトラゾール）２０ｇを水９８０ｇに溶解し、２．０質量％の水溶液とした。
【０４８２】
９）顔料−１分散物の調製
《顔料−１分散物の調製》
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ ６０を６４ｇと花王（株）製デモールＮを６．４ｇに水２５０ｇを添加し良く混合してスラリーとした。平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズ８００ｇを用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機（１／４Ｇサンドグラインダーミル：アイメックス（株）製）にて２５時間分散し、水を加えて顔料の濃度が５質量％になるように調製して顔料−１分散物を得た。こうして得た顔料分散物に含まれる顔料粒子は平均粒径０．２１μｍであった。
【０４８３】
１０）ＳＢＲラテックス液の調製
ＳＢＲラテックスは以下により調整した。
ガスモノマー反応装置（耐圧硝子工業（株）製ＴＡＳ−２Ｊ型）の重合釜に、蒸留水２８７ｇ、界面活性剤（パイオニンＡ−４３−Ｓ（竹本油脂（株）製）：固形分４８．５質量％）７．７３ｇ、１ｍｏｌ／リットルＮａＯＨ１４．０６ｍｌ、エチレンジアミン４酢酸４ナトリウム塩０．１５ｇ、スチレン２５５ｇ、アクリル酸１１．２５ｇ、ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタン３．０ｇを入れ、反応容器を密閉し撹拌速度２００ｒｐｍで撹拌した。真空ポンプで脱気し窒素ガス置換を数回繰返した後に、１，３−ブタジエン１０８．７５ｇを圧入して内温６０℃まで昇温した。ここに過硫酸アンモニウム１．８７５ｇを水５０ｍｌに溶解した液を添加し、そのまま５時間撹拌した。さらに９０℃に昇温して３時間撹拌し、反応終了後内温が室温になるまで下げた後、１ｍｏｌ／リットルのＮａＯＨとＮＨ_４ＯＨを用いてＮａ^＋イオン：ＮＨ_４ ^＋イオン＝１：５．３（モル比）になるように添加処理し、ｐＨ８．４に調整した。その後、孔径１．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納し、ＳＢＲラテックスを７７４．７ｇ得た。イオンクロマトグラフィーによりハロゲンイオンを測定したところ、塩化物イオン濃度３ｐｐｍであった。高速液体クロマトグラフィーによりキレート剤の濃度を測定した結果、１４５ｐｐｍであった。
【０４８４】
上記ラテックスは平均粒径９０ｎｍ、Ｔｇ＝１７℃、固形分濃度４４質量％、２５℃６０％ＲＨにおける平衡含水率０．６質量％、イオン伝導度４．８０ｍＳ／ｃｍ（イオン伝導度の測定は東亜電波工業（株）製伝導度計ＣＭ−３０Ｓ使用し、ラテックス原液（４４質量％）を２５℃にて測定）、ｐＨ８．４
【０４８５】
２−２．塗布液の調整
１）画像形成層塗布液−１〜３０の調製
上記で得た脂肪酸銀分散物１０００ｇ、水２７６ｍｌに顔料−１分散物、有機ハロゲン化合物−１〜４分散物（表１、表２に示す）、フタラジン化合物―１溶液、ＳＢＲラテックス（Ｔｇ：１７℃）液、還元剤−１分散物、還元剤−２分散物、水素結合性化合物−１分散物、現像促進剤−１分散物、現像促進剤−２分散物、色調調整剤−１分散物、メルカプト化合物−１水溶液、メルカプト化合物−２水溶液を順次添加し、塗布直前にハロゲン化銀希釈乳剤１Ａ，１Ｂ，２Ａ，２Ｂ，３Ａ，３Ｃ（表１、表２に示す）を添加して良く混合した画像形成層塗布液をそのままコーティングダイへ送液した。
【０４８６】
塗布液中のジルコニウム量は銀１ｇあたり０．５２ｍｇであった。
【０４８７】
２）中間層塗布液の調製
ポリビニルアルコールＰＶＡ−２０５（クラレ（株）製）１０００ｇ、顔料−１分散物２７２ｇ、メチルメタクリレート／スチレン／ブチルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／アクリル酸共重合体（共重合重量比６４／９／２０／５／２）ラテックス１９質量％液４２００ｍｌにエアロゾールＯＴ（アメリカンサイアナミド社製）の５質量％水溶液を２７ｍｌ、フタル酸二アンモニウム塩の２０質量％水溶液を１３５ｍｌ、総量１００００ｇになるように水を加え、ｐＨが７．５になるようにＮａＯＨで調整して中間層塗布液とし、９．１ｍｌ／ｍ^２になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はＢ型粘度計４０℃（Ｎｏ．１ローター、６０ｒｐｍ）で５８［ｍＰａ・ｓ］であった。
【０４８８】
３）表面保護層第１層塗布液の調製
イナートゼラチン６４ｇを水に溶解し、メチルメタクリレート／スチレン／ブチルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／アクリル酸共重合体（共重合重量比６４／９／２０／５／２）ラテックス１９．０質量％液１１２ｇ、フタル酸の１５質量％メタノール溶液を３０ｍｌ、４−メチルフタル酸の１０質量％水溶液２３ｍｌ、０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸を２８ｍｌ、エアロゾールＯＴ（アメリカンサイアナミド社製）の５質量％水溶液を５ｍｌ、フェノキシエタノール０．５ｇ、ベンゾイソチアゾリノン０．１ｇを加え、総量７５０ｇになるように水を加えて塗布液とし、４質量％のクロムみょうばん２６ｍｌを塗布直前にスタチックミキサーで混合したものを１８．６ｍｌ／ｍ^２になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はＢ型粘度計４０℃（Ｎｏ．１ローター、６０ｒｐｍ）で２０［ｍＰａ・ｓ］であった。
【０４８９】
４）表面保護層第２層塗布液の調製
イナートゼラチン８０ｇを水に溶解し、メチルメタクリレート／スチレン／ブチルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／アクリル酸共重合体（共重合重量比６４／９／２０／５／２）ラテックス２７．５質量％液１０２ｇ、フッ素系界面活性剤（Ｆ−１）の２質量％溶液を５．４ｍｌ、フッ素系界面活性剤（Ｆ−２）の２質量％水溶液を５．４ｍｌ、エアロゾールＯＴ（アメリカンサイアナミド社製）の５質量％溶液を２３ｍｌ、ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒径０．７μｍ）４ｇ、ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒径４．５μｍ）２１ｇ、４−メチルフタル酸１．６ｇ、フタル酸４．８ｇ、０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸４４ｍｌ、ベンゾイソチアゾリノン１０ｍｇに総量６５０ｇとなるよう水を添加して、４質量％のクロムみょうばんと０．６７質量％のフタル酸を含有する水溶液４４５ｍｌを塗布直前にスタチックミキサーで混合したものを表面保護層塗布液とし、８．３ｍｌ／ｍ^２になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はＢ型粘度計４０℃（Ｎｏ．１ローター，６０ｒｐｍ）で１９［ｍＰａ・ｓ］であった。
【０４９０】
２−３．塗布試料の作成
１）熱現像感光材料１〜３０の作製
バック面と反対の面に下塗り面から、画像形成層、中間層、表面保護層第１層、表面保護層第２層の順番でスライドビード塗布方式にて同時重層塗布し、熱現像感光材料の試料を作成した。画像形成層には、画像形成層塗布液１〜３０を用いた。
画像形成層と中間層は３１℃に、表面保護層第１層は３６℃に、表面保護層第２層は３７℃に温度調整した。
【０４９１】
画像形成層の各化合物の塗布量（ｇ／ｍ^２）は以下の通りである。
ベヘン酸銀 ４．７３
顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ６０） ０．０３６
有機ハロゲン化合物−１〜４（表１に示す） ０．２１
フタラジン化合物−１ ０．１４
ＳＢＲラテックス ８．４９
還元剤−１ ０．４０
還元剤−２ ０．４０
水素結合性化合物−１ ０．２５
現像促進剤−１ ０．０２３
現像促進剤−２ ０．０１８
色調調整剤−１ ０．００７
メルカプト化合物−１ ０．００１
メルカプト化合物−２ ０．００４
ハロゲン化銀（表１、表２に示す） ０．０３７（Ａｇとして）
【０４９２】
塗布乾燥条件は以下のとおりである。
支持体は塗布前にイオン風にて除電し、塗布はスピード１６０ｍ／ｍｉｎで行った。
塗布乾燥条件は各試料に対して以下の範囲で調整し、もっとも安定した面状が得られる条件に設定した。
コーティングダイ先端と支持体との間隙を０．１０〜０．３０ｍｍ。
減圧室の圧力を大気圧に対して１９６〜８８２Ｐａ低く設定。
引き続くチリングゾーンにて、乾球温度１０〜２０℃の風にて塗布液を冷却。
無接触型搬送して、つるまき式無接触型乾燥装置にて、乾球温度２３〜４５℃、湿球温度１５〜２１℃の乾燥風で乾燥。
乾燥後、２５℃で湿度４０〜６０％ＲＨで調湿。
引き続き、膜面を７０〜９０℃になるように加熱し、加熱後、膜面を２５℃まで冷却した。
【０４９３】
以下に本発明の実施例で用いた化合物の化学構造を示す。
【０４９４】
【化６４】

【０４９５】
【化６５】

【０４９６】
【化６６】

【０４９７】
【化６７】

【０４９８】
（写真性能の評価）
得られた試料は半切サイズに切断し、２５℃５０％ＲＨの環境下で以下の包装材料に包装し、２週間常温下で保管した後、以下の評価を行った。
（包装材料）
ＰＥＴ １０μｍ／ＰＥ １２μｍ／アルミ箔９μｍ／Ｎｙ １５μｍ／カーボン３質量％を含むポリエチレン５０μｍ
酸素透過率：０．０２ｍｌ／ａｔｍ・ｍ^２・２５℃・ｄａｙ、水分透過率：０．１０ｇ／ａｔｍ・ｍ^２・２５℃・ｄａｙ
【０４９９】
各試料は富士フイルムメディカル（株）ドライレーザーイメージャーＤＲＹＰＩＸ７０００の露光部に半導体レーザー光源として日亜化学工業のＮＬＨＶ３０００Ｅ半導体レーザーを実装し、ビーム径を１００μｍに絞った。レーザー光の感光材料面での照度を０および１ｍＷ／ｍｍ^２〜１０００ｍＷ／ｍｍ^２の間で変化させて１０^−６秒で露光を行った。レーザー光の発振波長は４０５ｎｍであった。熱現像は３枚のパネルヒーターを１０７℃−１２１℃−１２１℃に設定し、熱現像時間１４秒になるように現像した。得られた画像の評価を濃度計により行った。
【０５００】
（感度）
カブリ＋１．０の黒化濃度を与える露光量の逆数で感度を表し、熱現像感光材料−３の感度を１００としてそれに対する相対値で示した。数値は大きいほど感度が高いことを示す。
（Ｄｍｉｎ）
非画像部の濃度をマクベス濃度計により測定した。
【０５０１】
（経時保存性）
作成した試料を半切サイズに切断し、２５℃４０％ＲＨの環境下で上記の包装材料に包装したのち、５０℃に昇温して１週間保管した後、写真性能を評価した。
上記条件で保存した時の感度（Ｓ_２）を測定して保存前の感度（Ｓ_１）に対しての変化（ΔＳ）をもって経時保存性とした。ΔＳは絶対値が小さいほど経時保存性が優れていることを意味する。
ΔＳ ＝ Ｓ_１― Ｓ_２
【０５０２】
（熱現像後の画像保存性：プリントアウトの評価）
本発明の熱現像感光材料を熱現像して得られた画像サンプルを、３０℃７０％ＲＨの環境下で５００ルクスの蛍光灯下に７日間曝光した後、未露光の部分の光学濃度を測定した。このときの光学濃度をＤｍｉｎ_２とし、蛍光灯下に曝す前のＤｍｉｎとの差（△Ｄｍｉｎ）を算出した。
△Ｄｍｉｎ ＝ Ｄｍｉｎ_２−Ｄｍｉｎ
Ｄｍｉｎの増加は少ない程、画像保存性が優れている。
【０５０３】
【表１】

【０５０４】
【表２】

【０５０５】
得られた結果を表１および表２に示した。この結果が示すように、本発明の熱現像感光材料は、高感度で、カブリが低く、経時保存性が良好でかつ熱現像後の画像保存性が良好であった。
特に本発明の一般式（１ａ），（１ｂ），（１ｃ）で表される有機ハロゲン化合物を用いない場合、あるいはヨウ化銀含量の低いハロゲン化銀乳剤３Ａ，３Ｂの場合には従来より知られている有機ハロゲンの比較化合物に較べて感度が少し低下し、また、経時保存性の改良効果が僅かであるのに対して、高ヨウ化銀含有率のハロゲン化銀乳剤１Ａ，１Ｂ，２Ａ，２Ｂにおいては、本発明の一般式（１ａ），（１ｂ），（１ｃ）で表される有機ハロゲン化合物を用いた場合、感度の増加が予想外の大きさであった。経時保存性の改良効果も高ヨウ化銀乳剤で本発明の一般式（１ａ），（１ｂ），（１ｃ）で表される有機ハロゲン化合物は、予想外の顕著な改良効果を示した。
【０５０６】
実施例２．
１．ＰＥＴ支持体の作成、および下塗り
１−１．製膜
【０５０７】
テレフタル酸とエチレングリコ−ルを用い、常法に従い固有粘度ＩＶ＝０．６６（フェノ−ル／テトラクロルエタン＝６／４（重量比）中２５℃で測定）のＰＥＴを得た。これをペレット化した後１３０℃で４時間乾燥し、３００℃で溶融し下記構造の染料ＢＢを０．０４質量％含有させた。その後Ｔ型ダイから押し出して急冷し、熱固定後の膜厚が１７５μｍになるような厚みの未延伸フィルムを作成した。
【０５０８】
【化６８】

【０５０９】
これを、周速の異なるロ−ルを用い３．３倍に縦延伸、ついでテンタ−で４．５倍に横延伸を実施した。この時の温度はそれぞれ、１１０℃、１３０℃であった。この後、２４０℃で２０秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に４％緩和した。この後テンタ−のチャック部をスリットした後、両端にナ−ル加工を行い、４ｋｇ／ｃｍ^２で巻き取り、厚み１７５μｍのロ−ルを得た。
【０５１０】
１−２．表面コロナ放電処理
ピラー社製ソリッドステートコロナ放電処理機６ＫＶＡモデルを用い、支持体の両面を室温下において２０ｍ／分で処理した。この時の電流、電圧の読み取り値から、支持体には０．３７５ｋＶ・Ａ・分／ｍ^２の処理がなされていることがわかった。この時の処理周波数は９．６ｋＨｚ、電極と誘電体ロ−ルのギャップクリアランスは１．６ｍｍであった。
【０５１１】
２．バック層塗布液の調製と塗布
８３０ｇのＭＥＫを攪拌しながら、セルロースアセテートブチレート（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社、ＣＡＢ３８１−２０）８４．２ｇ及びポリエステル樹脂（Ｂｏｓｔｉｃ社、ＶｉｔｅｌＰＥ２２００Ｂ）４．５ｇを添加し溶解した。この溶解した液に、染料１を０．３０ｇ添加し、さらにメタノール４３．２ｇに溶解したフッ素系界面活性剤（旭硝子社、サーフロンＫＨ４０）４．５ｇとフッ素系界面活性剤（大日本インク社、メガファックＦ１２０Ｋ）２．３ｇを添加して、溶解するまで十分に攪拌を行った。最後に、メチルエチルケトンに１質量％の濃度でディゾルバー型ホモジナイザーにて分散したシリカ（Ｗ．Ｒ．Ｇｒａｃｅ社、シロイド６４Ｘ６０００）７５ｇを添加、攪拌し、バック面の塗布液を調製した。
【０５１２】
このように調整したバック層塗布液を、支持体上に、乾燥膜厚が３．５μｍになるように押し出しコーターにて塗布乾燥を行った。乾燥温度１００℃、露点温度１０℃の乾燥風を用いて５分間かけて乾燥した。
【０５１３】
３．画像形成層、中間層、および表面保護層
３−１．塗布用材料の準備
【０５１４】
１）ハロゲン化銀乳剤
（ハロゲン化銀乳剤６の調製）
水５４２９ｍｌに、フタル化ゼラチン８８．３ｇ、ＰＡＯ化合物（ＨＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）ｎ−（ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２Ｏ）_１７−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）ｍ−Ｈ；ｍ＋ｎ＝５〜７）の１０質量％メタノール水溶液１０ｍｌ、臭化カリウム０．３２ｇを添加溶解し４０℃に保った中へ、０．６７ｍｏｌ／ｌの硝酸銀水溶液６５９ｍｌと１リットルあたり０．７０３ｍｏｌのＫＢｒおよび０．０１３ｍｏｌのＫＩを溶解した液とを特公昭５８−５８２８８号、同５８−５８２８９号に示される混合攪拌機を用い、ｐＡｇ８．０９に制御しながら同時混合法により４分４５秒を要して添加し核形成を行った。１分後、０．６３Ｎの水酸化カリウム溶液２０ｍｌを添加した。６分経過後、０．６７ｍｏｌ／ｌの硝酸銀水溶液１９７６ｍｌと１リットルあたり０．６５７ｍｏｌのＫＢｒ、０．０１３ｍｏｌの沃化カリウムおよび３０μｍｏｌの六塩化イリジウム酸二カリウムを溶解した液とを、温度４０℃、ｐＡｇ８．０９に制御しながら、同時混合法により１４分１５秒かけて添加した。５分間攪拌した後、３８℃に降温した。
【０５１５】
これに、５６質量％酢酸水溶液１８ｍ１を添加してハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分２リットルを残して上澄み液を取り除き、水１０リットルを加え、攪拌後、再度ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。さらに、沈降部分１．５リットルを残し、上澄み液を取り除き、更に１０リットルを加え、攪拌後、ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分１．５リットルを残し、上澄み液を取り除いた後、水１５１ｍｌに無水炭酸ナトリウム１．７２ｇ溶解した液を加え、５５℃に昇温した。さらに１２０分攪拌した。最後にｐＨが５．０になるように調整し、銀量１ｍｏｌ当たり１１６１ｇになるように水を加えた。
この乳剤は、平均粒子サイズ４０ｎｍ、粒子サイズの変動係数１２％、［１００］面比率９２％のヨウ化銀含量が２モル％の単分散立方体沃臭化銀粒子であった。
【０５１６】
上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら３８℃に維持して、０．３４質量％の１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンのメタノール溶液を５ｍｌ加え、４７℃に昇温した。昇温の２０分後にベンゼンチオスルフォン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀１モルに対して７．６×１０^−５モル加え、そのあとｐＡｇ５．５に調製したあと５分後にテルル増感剤（ビス（Ｎ―フェニル−Ｎ―メチルカルバモイル）テルリド）を５．１×１０^−４モル／モル銀を加えて８４分間熟成した。乳剤のｐＡｇを７．５に調製したあと、Ｎ，Ｎ’−ジヒドロキシ−Ｎ”，Ｎ”−ジエチルメラミンの０．８質量％メタノール溶液１．３ｍｌを加え、さらに４分後に、５−メチル−２−メルカプトベンヅイミダゾールをメタノール溶液で銀１モル当たり４．８×１０^−３モル及び１−フェニル−２−ヘプチル−５−メルカプト−１，３，４−トリアゾールをメタノール溶液で銀１モルに対して５．４×１０^−３モル添加した。これを乳剤６（比較乳剤）とした。
【０５１７】
（ハロゲン化銀乳剤４、および５の調製）
上記の乳剤６の調製と同様な方法で、用いるＫＢｒとＫＩの濃度を変えることと仕込温度をコントロールすることによって以下に示すハロゲン組成と粒子サイズのハロゲン化銀乳剤４、および５を調製した。
【０５１８】
乳剤４ 沃化銀１００モル％ ＡｇＩ_１００ 粒子サイズ４０ｎｍ
乳剤５ 沃化銀９０モル％ ＡｇＢｒ_１０Ｉ_９０ 粒子サイズ４０ｎｍ
乳剤６ 沃化銀２モル％ ＡｇＢｒ_９８Ｉ_２ 粒子サイズ４０ｎｍ
【０５１９】
２）粉末有機銀塩
（粉末有機銀塩−６の調製）
４７２０ｍｌの純水にベヘン酸０．３７７６モル、アラキジン酸０．２２６６モル、ステアリン酸０．１５１０モルを添加し８０℃で溶解した後、１．５Ｎの水酸化ナトリウム水溶液５４０．２ｍｌを添加し、濃硝酸６．９ｍｌを加えた後、５５℃に冷却して有機酸ナトリウム溶液を得た。上記の有機酸ナトリウム溶液の温度を５５℃に保ったまま、上記ハロゲン化銀乳剤６を脂肪酸１モルあたりハロゲン化銀０．０３モルになる量と純水４５０ｍｌを添加し、ＩＫＡ ＪＡＰＡＮ社製ホモジナイザー（ＵＬＴＲＡ−ＴＵＲＲＡＸＴ−２５）により１３２００ｒｐｍ（機械振動周波数として２１．１ＫＨｚ）にて５分間撹拌した。次に、１ｍｏｌ／ｌの硝酸銀溶液７０２．６ｍｌを２分間かけて添加し、１０分間攪拌し、有機銀塩分散物を得た。その後、得られた有機銀塩分散物を水洗容器に移し、脱イオン水を加えて攪拌後、静置させて有機銀塩分散物を浮上分離させ、下方の水溶性塩類を除去した。その後、排水の電導度が２μＳ／ｃｍになるまで脱イオン水による水洗、排水を繰り返し、遠心脱水を実施した後、４０℃にて重量減がなくなるまで酸素分圧１０容量％の温風で循環乾燥機にて乾燥を行い、感光性ハロゲン化銀を含む粉末有機銀塩を得た。
（粉末有機銀塩−４、および５の調製）
粉末有機銀塩−６の調製と同様にして、ハロゲン化銀乳剤６をハロゲン化銀乳剤４、および５に変更して粉末有機銀塩−４、および５を調製した。
【０５２０】
３）感光性ハロゲン化銀を含む有機銀塩の分散物の調製
ポリビニルブチラール粉末（Ｍｏｎｓａｎｔ社 Ｂｕｔｖａｒ Ｂ−７９）１４．５７ｇをメチルエチルケトン（ＭＥＫ）１４５７ｇに溶解し、ＶＭＡ−ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製ディゾルバーＤＩＳＰＥＲＭＡＴ ＣＡ−４０Ｍ型にて攪拌しながら上記の粉末有機銀塩５００ｇを徐々に添加して十分に混合しスラリー状とした。
上記スラリーをエスエムテー社製ＧＭ−２型圧力式ホモジナイザーで、２パス分散することにより感光性乳剤分散液を調製した。この際、１パス時の処理圧は２８０ｋｇ／ｃｍ^２であり、２パス時の処理圧は５６０ｋｇ／ｃｍ^２とした。
【０５２１】
こうして粉末有機銀塩−４、５、および６に対応した感光性ハロゲン化銀を含む有機銀塩分散物―４、−５、およびー６を得た。
【０５２２】
４）感光層塗布液の調製
（感光層塗布液２−１の調製）
５０７ｇの上記有機銀塩分散物−６を１３℃で１５分間撹拌し、１０質量％のピリジニウムブロマイド過臭化物（ＰＨＰ）メタノール溶液３．９ｍｌを添加した。２時間撹拌後、７２質量％の臭化カルシウムのメタノール溶液５．２ｍｌを添加した。撹拌を３０分続けた後、ＢｕｔｖａｒＢ−７９を１１７ｇ添加した。さらに３０分攪拌した後、還元剤として１，１−ビス（２−ヒドロキシー３，５−ジメチルフェニル）−２−メチルプロパンを２７．３ｇ添加し、さらに１５分間撹拌を続けた。その後、増感色素−１をハロゲン化銀１モル当たり１×１０^−３モル加え、１５分間撹拌した。続いて、１．３９ｇのＤｅｓｍｏｄｕｒ Ｎ３３００（モーベイ社、脂肪族イソシアネート）を１２．３ｇもＭＥＫに溶解した液を添加し、さらに１５分間撹拌し、その後、２１℃で１５分間加熱した。
【０５２３】
この分散液１００ｇに２−トリブロモメチルスルホニルピリジンを塗布銀量１モル当たり０．０３モル、水素結合性化合物―１を還元剤と等モル、現像促進剤―１を塗布銀量１モル当たり５．０×１０^−３モルを加えた。さらに「１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物」として、化合物２と２０と２６をそれぞれハロゲン化銀の銀１モル当たり２×１０^−３モルになる量を添加した。
【０５２４】
また、吸着基と還元基を有する化合物として、化合物（１２）と（２７）と（３６）をそれぞれハロゲン化銀１モルあたり８×１０^−３モルになる量を添加した。
その後、２．２ｇの４−クロロベンゾフェノンー２−カルボン酸、０．４７ｇの２−クロロ安息香酸および０．４７ｇの５−メチルー２−メルカプトベンズイミダゾールを添加し、２１℃で１時間撹拌した。次いで、０．３６８ｇのフタラジン、０．１２３ｇのテトラクロロフタル酸および２ｇの染料−１を添加し、画像形成層塗布液２−１を完成させた。
【０５２５】
（感光層塗布液２−２の調製）
感光層塗布液２−１の調製と同様にして、ただし、２−トリブロモメチルスルホニルピリジンを当モルの本発明の一般式（１ａ）の１ａ−２の化合物に代えて感光層塗布液２−２を調製した。
【０５２６】
（感光層塗布液２−３の調製）
感光層塗布液２−１の調製と同様にして、ただし、２−トリブロモメチルスルホニルピリジンを当モルの本発明の一般式（１ｂ）の１ｂ−３０の化合物に代えて感光層塗布液２−３を調製した。
【０５２７】
（感光層塗布液２−４の調製）
感光層塗布液２−１の調製と同様にして、ただし、２−トリブロモメチルスルホニルピリジンを当モルの本発明の一般式（１ｃ）の１ｃ−２の化合物に代えて感光層塗布液２−４を調製した。
【０５２８】
（感光層塗布液２−５〜２−８の調製）
感光層塗布液２−１〜２−４の調製と同様にして、ただし、有機銀塩分散物−６を有機銀塩分散物−５に代えて感光層塗布液２−５〜２−８を調製した。
【０５２９】
（感光層塗布液２−９〜２−１２の調製）
感光層塗布液２−１〜２−４の調製と同様にして、ただし、有機銀塩分散物−６を有機銀塩分散物−４に代えて感光層塗布液２−９〜２−１２を調製した。
【０５３０】
ＭＥＫ８６５ｇを撹拌しながら、セルロースアセテートブチレート（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社、ＣＡＢ１７１−１５）９６ｇ、ポリメチルメタクリル酸（ローム＆ハース社、パラロイドＡ−２１）４．５ｇ、１，３−ジ（ビニルスルフォニル）−２−プロパノール１．５ｇ、ベンゾトリアゾール１．０ｇ、フッ素系界面活性剤Ｃ１．０ｇを添加し溶解した後、１３、６重量％のセルロースアセテートブチレート（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社、ＣＡＢ１７１−１５）と９質量％の炭酸カルシウム（Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ Ｍｉｎｅｒａｌｓ社、Ｓｕｐｅｒ−Ｐｆｌｅｘ２００）をＭＥＫにディゾルバー型ホモジナイザーにて８０００ｒｐｍで３０分間分散したもの３０ｇを添加して撹拌し、表面保護層塗布液を調製した。
【０５３１】
３−２．熱現像感光材料の作成
感光層塗布液２−１〜２−１２と表面保護層塗布疲を押し出しコーターで、バック層を塗布した支持体のバック層とは反対の面に同時重層塗布することにより、熱現像感光材料２−１〜２−１２を作製した。感光層は塗布銀量１．５ｇ／ｍ^２、表面保護層は乾燥膜厚で２．５μｍになるように塗布した。その後、乾燥温度７５℃、露点温度１０℃の乾燥風を用いて、１０分間乾燥した。
【０５３２】
以下、実施例で用いた化合物を示す。
【０５３３】
【化６９】

【０５３４】
３−３．露光及び現像処理
高周波重量にて波長８００ｎｍ〜８２０ｎｍの縦マルチモード化された半導体レーザーを露光源とした露光機を試作し、上記の作成した試料Ｎｏ．２−１〜Ｎｏ．２−１２の画像形成層面側から、この露光機によりレーザー走査による露光を与えた。この際に、感光材料の露光面への走査レーザー光の入射角度を７５度として画像を記録した。その後、ヒートドラムを有する自動現像機を用いて感光材料の保護層とドラム表面が接触するようにして、１２４℃で１５秒熱現像し、得られた画像の評価を濃度計で行った。その際、露光及び現像した部屋は２３℃、５０％ＲＨであった。
【０５３５】
感度はカブリ＋１．０の黒化濃度を与える露光量の逆数で試料Ｎｏ．２−６の感度を１００として相対値で示した。数値が大きい程感度が高いことを示す。経時保存性、画像保存性は実施例１と同様に評価を行った。
銀色調の評価は、光学濃度１．０になるように露光現像した試料を作成し、ＪＩＳ Ｚ８７２９規格で規定されたａ^＊ｂ^＊座標から得られる角度ｈ_ａｂにより求めた。ｈ_ａｂの範囲によって、次のようにランク付けした。
◎ ： ２１０°≦ｈ_ａｂ≦２６０°
○ ： １９５°≦ｈ_ａｂ＜２１０°、２６０°＜ｈ_ａｂ≦２６５°
△： １８０°≦ｈ_ａｂ＜１９５°、２６５°＜ｈ_ａｂ≦２７０°
× ： ｈ_ａｂ＜１８０°、２７０°＜ｈ_ａｂ
【０５３６】
【表３】

【０５３７】
得られた結果を表３に示した。この結果が示すように、本発明の熱現像感光材料は、高感度で経時保存性が良好で、かつ、熱現像後の画像保存性が良好であった。特に、従来から知られている有機ハロゲン化合物の比較例の２−トリブロモメチルスルホニルピリジンに対して、本発明の有機ハロゲン化合物（１ａ−２），（１ｂ−３０），（１ｃ−２）は、ヨウ化銀含有率の低い乳剤６の場合には感度が少し低下して、経時保存性の改良効果は僅かであったが、高ヨウ化銀含有率の乳剤４，５においては感度の増加は予想外の大きさであった。本発明の有機ハロゲン化合物（１ａ−２），（１ｂ−３０），（１ｃ−２）は、経時保存性の改良効果も高ヨウ化銀乳剤で顕著であった。
【０５３８】
実施例３
１．試料の作成
１）感光層塗布液３−１の調製
５００ｇの感光性ハロゲン化銀を含む有機銀塩分散物−６に、窒素気流下で撹拌しながら、ＭＥＫを１００ｇ加え、２４℃に保温した。下記のかぶり防止剤１の１０質量％メタノール溶液を２．５ｍｌ添加して１５分間撹拌した。下記の色素吸着助剤と酢酸カリウムの１：５質量混合比で色素吸着助剤が２０質量％である溶液を１．８ｍｌ加え、１５分撹拌した。ハロゲン化銀１モル当たり１．０×１０^−３モル、４−クロロー２−ベンゾイル安息香酸、および強色増感剤の５−メチルー２−メルカプトベンズイミダゾールの混合溶液（混合比率＝質量で２５：２、合計３．０質量％メタノール溶液）を７ｍｌ、２−トリブロモメチルスルホニルキノリンを塗布銀量１モル当たり０．０３モル、さらに「１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物」として、化合物２と２０と２６をそれぞれハロゲン化銀の銀１モル当たり２×１０^−３モルになる量を添加した。
さらに、吸着基と還元基を有する化合物として、化合物（１２）と（２７）と（３６）をそれぞれハロゲン化銀１モルあたり８×１０^−３モルになる量を添加した。
【０５３９】
１時間撹拌した後、温度を１３℃まで下げ、さらに３０分撹拌をした。１３℃に保ったまま、ポリビニルブチラールを４８ｇ添加して充分に溶解させてから以下の添加物を加えた。これらの操作は全て窒素気流下で行った。
【０５４０】
現像促進剤―１、現像促進剤―２、還元剤−１、還元剤−２は、実施例１に用いたものと同じものである。
【０５４１】
フタラジン １．５ｇ
テトラクロロフタル酸 ０．５ｇ
４−メチルフタル酸 ０．５ｇ
かぶり防止剤−２ ０．９ｇ
水素結合性化合物―１ ０．６７ｇ
現像促進剤―１ ０．０４６ｇ
現像促進剤―２ ０．０３９ｇ
染料２ ２．０ｇ
還元剤−１ ７．５ｇ
還元剤−２ ７．５ｇ
デスモデュール Ｎ３３００（モーベイ社、脂肪族イソシアネート）１．１０ｇ
ハロゲン化乳剤６ ０．６９ｇ（銀として）
【０５４２】
【化７０】

【０５４３】
２）感光層塗布液３−２〜３−１２の調製
表４に示すように、ハロゲン化銀乳剤と、有機ハロゲン化合物として２−トリブロモメチルスルホニルキノリンの代わりに本発明の１ａ−３，１ｂ−３０，１ｃ−３の有機ハロゲン化合物の等モルに変更したこと以外は感光層塗布液３−１と同様にして感光層塗布液３−２〜３−１２を調製した。
【０５４４】
３）塗布
画像形成層：実施例２における支持体と同じ支持体に、上記の画像形成層塗布液を塗布銀量が１．８ｇ／ｍ^２、バインダーのポリビニルブチラ−ルが８．５ｇ／ｍ^２になるように塗布した。
表面保護層：下記の塗布液を湿潤塗布厚みが１００μｍになるように塗布した。
【０５４５】
アセトン １７５ｍｌ
２−プロパノール ４０ｍｌ
メタノール １５ｍｌ
セルロースアセテート ８ｇ
フタラジン １．５ｇ
４−メチルフタル酸 ０．７２ｇ
テトラクロロフタル酸 ０．２２ｇ
テトラクロロフタル酸無水物 ０．５ｇ
平均粒子サイズ４μｍの単分散シリカ（変動係数２０％）
バインダーに対して１質量％
実施例２に同じフッ素系高分子界面活性剤Ｃ ０．５ｇ
【０５４６】
２．性能評価
１）露光、および熱現像処理
得られた試料を４０５ｎｍにピークを有する光干渉フィルターを介して、ステップウェッジを通して発光時間１０^−６秒のキセノンフラッシュ光で露光した。この露光条件は、青色半導体レーザーに対応した性能を評価できる条件である。露光後、実施例２と同様にヒートドラムを有する自動現像機を用いて感光材料の保護層とドラム表面が接触するようにして、１２４℃で１５秒熱現像した。
実施例２と同様に評価した結果を表４に示した。
【０５４７】
【表４】

【０５４８】
本発明の試料は、いずれも高い感度を有し、かつかぶりが少なく、画像保存性が極めて良好であった。
本露光条件は、青色レーザー露光に対応するものであり、本発明の熱現像感光材料が青色レーザー露光に対して高い感度を有することを意味する。
【０５４９】
【発明の効果】
高い感度を有し、感材の生経時保存性、処理後の画像保存安定性に優れた熱現像感光材料が得られる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a photothermographic material, and more particularly to a photothermographic material using a silver halide emulsion having a high silver iodide content. The sensitivity of the photothermographic material is greatly improved, and the sensitivity of the photosensitive material over time is reduced with low fog. The present invention relates to a photothermographic material excellent in stability and excellent in image storage stability after development processing.
[0002]
[Prior art]
In recent years, in the medical field and the printing plate making field, dry development of photographic development processing is strongly desired from the viewpoint of environmental protection and space saving. In these areas, digitization has progressed, and image information is captured and stored on a computer, stored, and processed if necessary, and output to photosensitive materials by laser image setter or laser imager where necessary by communication. However, systems for developing and creating images on the spot are rapidly spreading. As a photosensitive material, it is necessary to form a clear black image that can be recorded by laser exposure with high illuminance and has high resolution and sharpness. As such digital imaging recording materials, various hard copy systems using pigments and dyes such as inkjet printers and electrophotography are distributed as general image forming systems, but the diagnostic ability is determined like medical images. It is unsatisfactory in terms of image quality (sharpness, graininess, gradation, color tone) and recording speed (sensitivity), and has not yet reached a level that can replace the conventional silver salt film for wet development.
[0003]
On the other hand, thermal image forming systems using organic silver salts are known (see, for example, Patent Documents 1 and 2 and Non-Patent Document 1). Photothermographic materials generally contain a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), a reducing agent, a reducible silver salt (eg, an organic silver salt), and, if necessary, a toning agent that controls the color tone of silver. A photosensitive layer dispersed in the matrix.
[0004]
The photothermographic material is heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after image exposure, and is blackened by an oxidation-reduction reaction between silver halide or a reducible silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. Form a silver image. The oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image of silver halide generated by exposure. Therefore, a black silver image is formed in the exposure region (see, for example, Patent Documents 3 and 4). Fuji Medical Dry Imager FM-DPL was released as a medical image forming system using a photothermographic material.
[0005]
For a photothermographic material using an organic silver salt, higher sensitivity is required to increase the image recording speed, and lower fog is required to improve medical diagnostic ability. Furthermore, it is extremely important to further improve the raw storability and image storability of such a photothermographic material in order to replace the conventional silver salt image recording material for wet development.
[0006]
In such an image forming system using an organic silver salt, since there is no fixing step, image storage stability after development processing, in particular, deterioration of printout when exposed to light has been a serious problem. As a means for improving this printout, a method using silver iodide formed by converting an organic silver salt is disclosed (for example, see Patent Document 5.6). However, the method of converting an organic silver salt as disclosed herein with iodine cannot obtain sufficient sensitivity, and it is difficult to construct an actual system. Other photosensitive materials using silver iodide are described in several patent documents (see, for example, Patent Documents 7 to 11), but none of them achieves sufficient sensitivity and fog level, and laser exposure. It did not endure practical use as a sensitive material.
[0007]
As means for increasing the sensitivity of the silver iodide photographic emulsion, in the technical literature, by immersion in a halogen acceptor such as sodium nitrite, pyrogallol, hydroquinone or an aqueous silver nitrate solution, or by sulfur sensitization with pAg 7.5, It has been known to sensitize (see, for example, Non-Patent Documents 2 to 4). However, as shown in the Examples, the sensitizing effect of these halogen acceptors was very small and extremely insufficient in the photothermographic material targeted by the present invention. Therefore, development of a technique capable of greatly increasing the sensitivity in a photothermographic material using high silver iodide has been eagerly desired.
[0008]
In a silver halide light-sensitive material subjected to liquid development processing, a method of sensitizing using a compound that generates two electrons with one photon is known (for example, see Patent Documents 12 to 15).
[0009]
However, a silver halide light-sensitive material for liquid development processing is a development in which silver halide is generally reduced by a developer (reducing agent) contained in the liquid processing solution to form a silver image or by-product. A color image is formed using an oxidized form of a medicine, and the basic reaction is reduction of silver halide with a developer. On the other hand, in the photothermographic material, the silver halide only forms a latent image by exposure, and the silver halide itself is not reduced by the reducing agent, but is reduced from the non-photosensitive organic silver salt. It is the silver ion supplied. In the case of liquid development processing, the reducing agent is also an ionic reducing agent such as hydroquinone or p-phenylenediamine, whereas in the case of a photothermographic material, a hindered material generally known as a radical reagent is used. It is a phenol derivative.
[0010]
As described above, the mechanism of the development reaction (reduction reaction) is completely different between the liquid development-processed photosensitive material and the heat-developable photosensitive material, and the compounds used are completely different. Therefore, it cannot be said that a compound effective in the liquid development processing is effective as it is in the photothermographic material as it is. It is completely unpredictable whether the compounds described in the above-mentioned U.S. Patents can be applied to a photothermographic material to obtain the same effect or a completely different effect. Furthermore, it cannot be recalled at all for application to a photothermographic material using a high silver iodide emulsion, and its effect cannot be estimated.
[0011]
[Patent Document 1]
U.S. Pat. No. 3,152,904
[Patent Document 2]
U.S. Pat. No. 3,457,075
[Patent Document 3]
US Patent 2,910,377
[Patent Document 4]
Japanese Patent Publication No.43-4924
[Patent Document 5]
U. US Pat. No. 6,143,488
[Patent Document 6]
European Patent No. 0922995
[Patent Document 7]
WO97-48014
[Patent Document 8]
WO97-48015
[Patent Document 9]
US Pat. No. 6,165,705
[Patent Document 10]
JP-A-8-197345
[Patent Document 11]
Japanese Patent No. 2785129
[Patent Document 12]
US Pat. No. 5,747,235
[Patent Document 13]
US Pat. No. 5,747,236
[Patent Document 14]
US Pat. No. 6,054,260
[Patent Document 15]
US Pat. No. 5,994,051
[Non-Patent Document 1]
D. H. Klosterboer, “Thermally Processed Silver Systems” (Imaging Processes and Materials), 8th edition, Sturge (Stur). (Walworth, A. Shepp, Chapter 9, 279, 1989)
[Non-Patent Document 2]
P. B. Gilman, Photographic Science and Engineering, 18 (5), 475 (issued in 1974)
[Non-Patent Document 3]
W. L. Gardner, Photographic Science and Engineering, 18 (5), 475 (issued in 1974)
[Non-Patent Document 4]
T.A. H. James, Photographic Science and Engineering, 5, 216 (issued in 1961)
[0012]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a photothermographic material having high sensitivity and low fog in a photothermographic material using high silver iodide and excellent in storability with time before heat development processing and image storability after processing. It is to be.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
The above object of the present invention has been achieved by the following means.
<1> A photothermographic material containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent, and a binder on one surface of a support, and 1) an average of the photosensitive silver halide The silver iodide content is 5 mol% or more and 100 mol% or less, and 2) contains at least one selected from the group of compounds represented by the following general formulas (1a), (1b), and (1c). A heat-developable photosensitive material.
General formula (1a)
RY₁-(L₁)_n1-CX₁X₂X₃
[Where X₁, X₂And X₃Each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. However, X₁, X₂And X₃At least one of is a halogen atom. L₁Represents a sulfonyl group. n1 represents 0 or 1. Y1 is -N (R₁)-, Sulfur atom, oxygen atom, selenium atom, or-(R₂) C = C (R₃)-, R₁, R₂And R₃Each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic group, an aryl group, or a heterocyclic group. ]
General formula (1b)
RY₂-L₂-CX₁X₂X₃
[Where X₁, X₂And X₃Each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. However, X₁, X₂And X₃At least one of is a halogen atom. L₂Represents a carbonyl group or a sulfinyl group. Y₂Is -N (R₁)-, Sulfur atom, oxygen atom, selenium atom, or-(R₂) C = C (R₃)-, R₁, R₂And R₃Each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic group, an aryl group, or a heterocyclic group. ]
General formula (1c)
RY₃-(L₃)_n2-CX₁X₂X₃
[Where X₁, X₂And X₃Each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. However, X₁, X₂And X₃At least one of is a halogen atom. L₃Represents a sulfonyl group, a carbonyl group, or a sulfinyl group. n2 represents 2 or 3. Y₃Is a single bond, -N (R₁)-, Sulfur atom, oxygen atom, selenium atom, or-(R₂) C = C (R₃)-, R₁, R₂And R₃Each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic group, an aryl group, or a heterocyclic group. ]
<2> The photothermographic material according to <1>, wherein in the general formulas (1a), (1b), and (1c), R is an alkyl group.
<3> In the general formulas (1a), (1b), and (1c), X₁, X₂And X₃The photothermographic material according to <1> or <2>, wherein is a Br.
<4> In the general formula (1a), Y₁-N (R₁The photothermographic material according to any one of <1> to <3>, wherein the photothermographic material is-.
<5> In the general formula (1a), R₁The photothermographic material according to <4>, wherein is an alkyl group.
<6> In the general formula (1b), Y₂-N (R₁The photothermographic material according to any one of <1> to <3>, wherein the photothermographic material is-.
<7> In the general formula (1b), R₁The photothermographic material according to <6>, wherein is a hydrogen atom.
<8> In the general formula (1c), Y₃The photothermographic material according to any one of <1> to <3>, wherein is a single bond.
<9> The photothermographic material according to any one of <1> to <3>, and <8>, wherein n2 is 2 in the general formula (1c).
<10> In the general formulas (1a), (1b), and (1c), R and R₁Or R and R₃The photothermographic material according to any one of <1> to <9>, wherein is a ring.
<11> The photothermographic material according to <10>, wherein the ring is an alicyclic group.
<12> The photothermographic material according to any one of <1> to <11>, wherein the photosensitive silver halide has an average silver iodide content of 40 mol% or more and 100 mol% or less. .
<13> The thermal development according to any one of <1> to <12>, wherein the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation contains a compound capable of emitting one or more electrons. Photosensitive material.
<14> The photothermographic material according to any one of <1> to <13>, which contains an adsorbing redox compound having an adsorbing group and a reducing group.
<15> The photothermographic material according to any one of <1> to <14>, wherein a hue angle at an image density of 1.0 is in a range of 180 to 270 °.
<16> The silver coating amount is 1 to 1.9 g / m.²The photothermographic material according to any one of <1> to <15>, which is in the range of
<17> The photothermographic material according to any one of <1> to <16>, wherein the heat development time is in the range of 6 to 14 seconds.
<18> The photothermographic material according to any one of <1> to <17>, wherein the development rate at the maximum density is 80% or more.
<19> The photothermographic material according to any one of <1> to <18>, wherein the development rate at the maximum density is 90% or more.
<20> The photothermographic material according to any one of <1> to <19>, wherein the silver halide is chemically sensitized by at least one of chalcogen sensitization, gold sensitization, and reduction sensitization.
<21> The photothermographic material according to <20>, wherein the chalcogen sensitization is tellurium sensitization, selenium sensitization, or sulfur sensitization.
<22> The photothermographic material according to <20> or <21>, wherein the chalcogen sensitization is tellurium sensitization or selenium sensitization.
<23> The photothermographic material according to any one of <20> to <22>, wherein the chalcogen sensitization is tellurium sensitization.
<24> The photothermographic material according to any one of <1> to <23>, wherein the silver iodide content of the silver halide photograph is 80 mol% or more and 100 mol% or less.
<25> The photothermographic material according to any one of <1> to <24>, wherein a silver iodide content of the silver halide photograph is 90 mol% or more and 100 mol% or less.
<26> The photothermographic material according to any one of <1> to <25>, wherein the silver halide grains have an epitaxially formed portion containing silver bromide and silver chloride.
<27> The photothermographic material according to any one of <1> to <26>, wherein the silver halide contains at least one of dislocation lines and lattice defects.
<28> The photothermographic material according to any one of <1> to <27>, wherein the silver halide has a grain size of 5 nm to 100 nm.
<29> The photothermographic material according to any one of <1> to <28>, wherein the silver halide has a grain size of 5 nm to 55 nm.
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The present invention is described in detail below.
The photothermographic material of the present invention has an image forming layer containing a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent, and a binder on at least one surface of a support. Moreover, it is preferable to have a surface protective layer on the image forming layer, or a back layer or a back protective layer on the opposite side.
The configuration of each layer and preferred components thereof will be described in detail.
[0015]
1. Compound represented by general formula (1a), (1b), or (1c)
The compounds represented by the general formula (1a), (1b) or (1c) of the present invention will be described below.
[0016]
General formula (1a)
RY₁-(L₁)_n1-CX₁X₂X₃
[Where X₁, X₂And X₃Each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. However, X₁, X₂And X₃At least one of is a halogen atom. L₁Represents a sulfonyl group. n1 represents 0 or 1. Y1 is -N (R₁)-, Sulfur atom, oxygen atom, selenium atom, or-(R₂) C = C (R₃)-, R₁, R₂And R₃Each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic group, an aryl group, or a heterocyclic group. ]
[0017]
General formula (1b)
RY₂-L₂-CX₁X₂X₃
[Where X₁, X₂And X₃Each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. However, X₁, X₂And X₃At least one of is a halogen atom. L₂Represents a carbonyl group or a sulfinyl group. Y₂Is -N (R₁)-, Sulfur atom, oxygen atom, selenium atom, or-(R₂) C = C (R₃)-, R₁, R₂And R₃Each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic group, an aryl group, or a heterocyclic group. ]
[0018]
General formula (1c)
RY₃-(L₃)_n2-CX₁X₂X₃
[Where X₁, X₂And X₃Each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. However, X₁, X₂And X₃At least one of is a halogen atom. L₃Represents a sulfonyl group, a carbonyl group, or a sulfinyl group. n2 represents 2 or 3. Y₃Is a single bond, -N (R₁)-, Sulfur atom, oxygen atom, selenium atom, or-(R₂) C = C (R₃)-, R₁, R₂And R₃Each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic group, an aryl group, or a heterocyclic group. ]
[0019]
In the general formulas (1a) and (1b), X₁, X₂And X₃Each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent,₁, X₂And X₃At least one of is a halogen atom. The halogen atom is F, Cl, Br, or I, and when two or more are substituted, they may be the same or different. Cl or Br is preferable, and Br is more preferable.
[0020]
Substituents other than halogen atoms are optional, but preferably alkyl groups, alkenyl groups, aryl groups, alkoxy groups, acyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxy groups, aryloxycarbonyl groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups, acyloxy groups. , Acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, ureido group, phosphoric acid amide group, sulfinyl group, hydroxy group, heterocyclic group and the like. Among these, an electron withdrawing group, that is, a trihalomethyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, and the like are preferable. Particularly preferably, X₁, X₂And X₃Are all halogen atoms, and more preferably X₁, X₂And X₃Is all Br.
[0021]
Y₁And Y₂Are each independently -N (R₁)-, Sulfur atom, oxygen atom, selenium atom, or-(R2) C = C (R₃)-. R₁, R₂And R₃Each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. Y₁And Y₂Are preferably each independently -N (R₁)-, An oxygen atom, or a vinyl group, especially -N (R₁)-Is preferred. In general formula (1a), Y₁Is -N (R₁)-, R₁Is preferably an alkyl group.
R and R₁, R and R₃May combine with each other to form a ring. The ring formed is preferably an alicyclic group. The ring may contain a heteroatom.
In general formula (1b), Y₂Is -N (R₁)-, R₁Is preferably a hydrogen atom.
[0022]
R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic group, an aryl group, or a heterocyclic group.
The aliphatic group may have a substituent or may be unsubstituted, and is a linear, branched, or cyclic alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, or heterocyclic group.
Among the alkyl groups, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms is preferable. For example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, t-butyl, n-octyl, eicosyl, 2-chloroethyl, 2-cyanoethyl, 2-ethylhexyl, cyclohexyl, cyclopentyl, 4-n-dodecylcyclohexyl, bicyclo [1,2, 2] heptan-2-yl, bicyclo [2,2,2] octane-3-yl and the like.
Of the alkenyl groups, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms is preferred. For example, vinyl, allyl, prenyl, geranyl, oleyl, 2-cyclopenten-1-yl, 2-cyclohexen-1-yl, bicyclo [2,2,1] hept-2-en-1-yl, bicyclo [2,2 , 2] Oct-2-en-4-yl and the like.
Of the alkynyl groups, a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms is preferable. For example, ethynyl, propargyl, trimethylsilylethynyl group and the like can be mentioned.
Among the aryl groups, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms is preferable. For example, phenyl, p-tolyl, naphthyl, m-chlorophenyl, o-hexadecanoylaminophenyl and the like can be mentioned.
Among the heterocyclic groups, a 5- or 6-membered aromatic or non-aromatic heterocyclic group is preferable. Here, the heterocyclic group refers to a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a heterocyclic compound. For example, furyl group, thienyl group, pyrimidinyl group, benzothiazolyl group, pyridyl group, triazinyl group, thiazole group, benzothiazole group, oxazole group, benzoxazole group, imidazole group, benzimidazole group, pyrazole group, indazole group, indole group, A purine group, a quinoline group, an isoquinoline group, a quinazoline group, a piperidyl group, etc. are mentioned.
[0023]
In the general formulas (1a) and (1b), R is preferably an aliphatic group, an aryl group, or a heterocyclic group, more preferably an alkyl group or an aryl group, and particularly preferably an alkyl group. When R is an aliphatic group, an aryl group, or a heterocyclic group, R is further —Y₁-(L₁)_n1-CX₁X₂X₃Group, or -Y₂-L₂-CX₁X₂X₃It is also preferable to have a group. In this case, in the general formula (1a), -Y₁-(L1)_n1-CX₁X₂X₃In the general formula (1b), 1 to 3 and further —Y₂-L₂-CX₁X₂X₃It is preferable to further have 1 or more and 3 or less groups. Where Y₁, L₁, N1, X₁, X₂, X₃, Y₂, L₂Are respectively synonymous with those in the general formulas (1a) and (1b).
[0024]
L₁Represents a sulfonyl group and L₂Represents a carbonyl group or a sulfinyl group. n1 represents 0 or 1, but is preferably 1.
[0025]
Next, the compound represented by the general formula (1c) will be described. In general formula (1c), X₁, X₂, X₃, And R are synonymous with the general formula (1a) or (1b), and the preferred range of R is also the same.
[0026]
When R is an aliphatic group, an aryl group, or a heterocyclic group, R is -Y₃-(L₃)_n2-CX₁X₂X₃It is also preferable to have a plurality of (preferably 2 to 4). Where Y₃, N2, X₁, X₂, X₃, L₃Are as defined in general formula (1c).
[0027]
Y in general formula (1c)₃Is a single bond, -N (R₁)-, Sulfur atom, oxygen atom, selenium atom, or-(R₂) C = C (R₃)-. R₁, R₂And R₃Each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. Y₃Is preferably a single bond, —N (R₁)-, An oxygen atom or a vinyl group, in particular a single bond or -N (R₁)-Is preferred. Y₃Is -N (R₁)-, R₁Is preferably an alkyl group or a hydrogen atom.
R and R₁, R and R₃May combine with each other to form a ring. Preferably, it is an alicyclic group. The ring may contain a heteroatom. L₃Represents a sulfonyl group, a carbonyl group or a sulfinyl group, more preferably a sulfonyl group. n2 represents 2 or 3, and is preferably 2.
[0028]
In the present invention, among the general formulas (1a) to (1c), a compound represented by the general formula (1a) or (1b) is more preferable, and a compound represented by the general formula (1b) is particularly preferable. is there.
[0029]
The halogen compounds represented by the general formulas (1a) to (1c) can have a ballast group. The ballast group as used herein refers to a substituent having a size corresponding to a total carbon number of 8 or more, preferably 8 to 100, more preferably 8 to 60, and still more preferably 10 to 40. The ballast group is preferably an aliphatic hydrocarbon group (eg, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, etc.), aryl group, heterocyclic group, or these groups and an ether group, thioether group, carbonyl group, amino group, sulfonyl group. A group consisting of a group or a combination with a group such as a phosphonyl group. The ballast group may be a polymer. Specific examples of the ballast group include those described in Research Disclosure, 1995/2, 37938, pages 82 to 89, JP-A-1-280747, 1-283548 and the like.
The ballast group is R₁, R₂And R₃A substituent represented by R, an aliphatic group represented by R, and X₁, X₂And X₃Can be added as a substituent represented by
[0030]
Next, specific examples of the compounds represented by the general formulas (1a) to (1c) are listed below, but the present invention is not limited thereto.
[0031]
[Chemical 1]

[0032]
[Chemical 2]

[0033]
[Chemical 3]

[0034]
[Formula 4]

[0035]
[Chemical formula 5]

[0036]
[Chemical 6]

[0037]
[Chemical 7]

[0038]
[Chemical 8]

[0039]
The compound represented by the general formula (1a), (1b), or (1c) of the present invention is preferably added to the image forming layer, and more preferably added during the preparation of the image forming layer coating solution. When added at the time of preparing the image forming layer coating solution, it can be added at any time during the process. For example, the silver halide grain forming process, before the start of the desalting process, the desalting process Examples include a step before chemical ripening, a step of chemical ripening, and a step before preparation of a finished emulsion. Moreover, it can also be added in several steps in these processes. Moreover, although it is preferable to use it for an image forming layer, it may be added to the adjacent surface protective layer or intermediate layer together with the image forming layer and diffused during coating.
The preferred addition amount largely depends on the above-mentioned addition method and the kind of compound to be added, but generally 1 × 10 5 per mole of non-photosensitive organic silver salt.^-4~ 0.8 mol, preferably 1 x 10^-3~ 0.1 mol, more preferably 5 x 10^-3-0.05 mol.
[0040]
The compound of the present invention can be added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. At this time, the pH may be appropriately adjusted with an acid or a base, and a surfactant may be allowed to coexist. Furthermore, it can also be dissolved in a high boiling point organic solvent and added as an emulsified dispersion. It can also be added as a solid dispersion.
[0041]
2. Compound represented by general formula (H)
In this invention, you may use together the compound represented with the following general formula (H) with the compound of the said general formula (1a), (1b), (1c). The ratio {(1a) + (1b) + (1c)} / (H) used in combination is preferably 50/50 to 100/0, more preferably 70/30 to 100/0 in terms of mass ratio.
[0042]
General formula (H)
Q- (Y) n-C (Z₁) (Z₂) X
In the general formula (H), Q represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, Y represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, Z₁And Z₂Represents a halogen atom, and X represents a hydrogen atom or an electron withdrawing group.
[0043]
Q preferably represents a phenyl group substituted with an electron-withdrawing group in which Hammett's substituent constant σp takes a positive value. For Hammett's substituent constants, see Journal of Medicinal Chemistry, 1973, Vol. 16, no. 11, 1207-1216 etc. can be referred to.
[0044]
Examples of such an electron withdrawing group include a halogen atom (fluorine atom (σp value: 0.06), chlorine atom (σp value: 0.23), bromine atom (σp value: 0.23), iodine atom. (Σp value: 0.18)), trihalomethyl group (tribromomethyl (σp value: 0.29), trichloromethyl (σp value: 0.33), trifluoromethyl (σp value: 0.54)), Cyano group (σp value: 0.66), nitro group (σp value: 0.78), aliphatic aryl, or heterocyclic sulfonyl group (for example, methanesulfonyl (σp value: 0.72)), aliphatic aryl Or a heterocyclic acyl group (for example, acetyl (σp value: 0.50), benzoyl (σp value: 0.43)), alkynyl group (for example, C≡CH (σp value: 0.23)), aliphatic Aryl or heterocyclic oxycarbo Group (for example, methoxycarbonyl (σp value: 0.45), phenoxycarbonyl (σp value: 0.44)), carbamoyl group (σp value: 0.36), sulfamoyl group (σp value: 0.57), Examples thereof include a sulfoxide group, a heterocyclic group, and a phosphoryl group.
The σp value is preferably in the range of 0.2 to 2.0, more preferably in the range of 0.4 to 1.0.
[0045]
Preferred as the electron withdrawing group are a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an alkylphosphoryl group, a carboxyl group, an alkyl or arylcarbonyl group, and an arylsulfonyl group, and particularly preferably a carbamoyl group and an alkoxycarbonyl group. , An alkylsulfonyl group and an alkylphosphoryl group, and a carbamoyl group is most preferred.
[0046]
X is preferably an electron-withdrawing group, more preferably a halogen atom, aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl group, aliphatic / aryl or heterocyclic acyl group, aliphatic / aryl or heterocyclic oxycarbonyl group, A carbamoyl group and a sulfamoyl group, particularly preferably a halogen atom.
Among the halogen atoms, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, a chlorine atom and a bromine atom are more preferable, and a bromine atom is particularly preferable.
[0047]
Y is preferably -C (= O)-, -SO- or -SO.₂-, More preferably -C (= O)-, -SO₂-, Particularly preferably -SO₂-. n represents 0 or 1, and is preferably 1.
[0048]
Although the specific example of the compound of general formula (H) of this invention is shown below, this invention is not limited to these.
[0049]
[Chemical 9]

[0050]
Embedded image

[0051]
3. Photosensitive silver halide
1) Halogen composition
It is important that the photosensitive silver halide used in the present invention has a high silver iodide content of 5 mol% or more and 100 mol% or less. The rest is not particularly limited and can be selected from silver chloride, silver bromide, or organic silver salts such as silver thiocyanate and silver phosphate. Silver bromide and silver chloride are particularly preferred. By using such a silver halide having a high silver iodide content, it is possible to design a preferable photothermographic material in which image storage stability after development processing, in particular, an increase in fog due to light irradiation is remarkably small.
[0052]
The silver iodide content is more preferably 40 mol% or more and 100 mol% or less, further preferably 80 mol% or more and 100 mol% or less, particularly preferably 90 mol% or more and 100 mol% or less, and after the treatment. From the viewpoint of image storage stability against light irradiation, it is extremely preferable.
[0053]
The distribution of the halogen composition in the grains may be uniform, the halogen composition may be changed stepwise, or may be continuously changed. Further, silver halide grains having a core / shell structure can also be preferably used. A preferable structure is a 2- to 5-fold structure, more preferably 2- to 4-fold core / shell particles. A core high silver iodide structure having a high silver iodide content in the core part or a shell high silver iodide structure having a high silver iodide content in the shell part can also be preferably used. Further, a technique of localizing silver chloride or silver bromide as an epitaxial portion on the surface of the grain can be preferably used.
[0054]
2) Particle size
The grain size is particularly important for high silver iodide silver halides used in the present invention. Larger silver halide sizes increase the amount of silver halide coating required to achieve the required maximum density. The present inventor found that the silver halide composition having a high silver iodide content preferably used in the present invention, when the coating amount is large, the development is remarkably suppressed and the sensitivity is lowered, and the density stability with respect to the development time deteriorates. It has been found that the maximum density cannot be obtained in a predetermined development time when the particle size is not less than a certain value. On the other hand, it has been found that if the amount added is limited, the silver iodide has sufficient developability.
[0055]
In this way, when using high silver iodide, the size of the silver halide grains is sufficiently larger than that of conventional silver bromide and silver iodide containing low iodine to achieve a sufficient maximum optical density. It needs to be small. The preferred silver halide grain size is 5 nm or more and 70 nm or less, and more preferably 5 nm or more and 55 nm or less. Especially preferably, it is 10 nm or more and 45 nm or less. The term “particle size” as used herein means an average diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area observed with an electron microscope.
[0056]
3) Application amount
The coating amount of such silver halide grains is 0.5 mol% or more and 15 mol% or less, preferably 0.5 mol% or more and 12 mol% or less with respect to 1 mol of silver of the non-photosensitive organic silver salt described later. More preferably, it is 10 mol% or less. It is more preferably 1 mol% or more and 9 mol% or less, and particularly preferably 1 mol% or more and 7 mol% or less. In order to suppress remarkable development suppression by the silver halide having a high silver iodide content found by the present inventor, the selection of the addition amount is extremely important.
[0057]
4) Particle formation method
Methods for forming photosensitive silver halide are well known in the art, for example using the methods described in Research Disclosure No. 17029, June 1978, and US Pat. No. 3,700,458. Specifically, there is used a method in which a photosensitive silver halide is prepared by adding a silver supply compound and a halogen supply compound to gelatin or another polymer solution, and then mixed with an organic silver salt. Further, the method described in paragraph Nos. 0217 to 0224 of JP-A No. 11-119374, and the method described in JP-A No. 11-352627 and Japanese Patent Application No. 2000-42336 are also preferable.
[0058]
5) Particle shape
Examples of the shape of the silver halide grains in the present invention include cubes, octahedrons, dodecahedrons, tetrahedrons, tabular grains, spherical grains, rod-like grains, potato-like grains, etc. Is particularly preferably a dodecahedron or a tetrahedron. The dodecahedron particles referred to here are particles having (001), {1 (-1) 0}, {101} faces, and the tetradecahedral particles are (001), {100}, {101. } A particle having a face. Here, {100} represents a crystal plane group having a plane index equivalent to the (100) plane.
The silver iodide of the present invention can have any β phase and γ phase content. The β phase refers to a high silver iodide structure having a hexagonal wurtzite structure, and the γ phase refers to a high silver iodide structure having a cubic zinc blend structure.
The average γ phase ratio here is C.I. R. It is determined using the method proposed by Berry. This method is determined based on the peak ratio of the silver iodide β phase (100), (101), (002) and the γ phase (111) in the powder X-ray diffraction method. Reference can be made to Physical Review, Volume 161, Number 3, Page 848-851, 1967.
Regarding the method for forming tabular grains of silver iodide, the methods described in JP-A-59-119350 and JP-A-59-119344 are preferably used. The dodecahedron, the tetrahedron, and the octahedron can be prepared with reference to Japanese Patent Application Nos. 2002-081020, 2002-87955, and 2002-91756.
The silver halide having a high silver iodide content composition of the present invention can take a complicated form. L. JENKINS et al. J of Photo. Sci. Vol. 28 (1980) p164-Fig1. FIG. Tabular grains as shown in Fig. 1 are also preferably used. Grains with rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (Miller index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grain is not particularly limited, but the ratio of the [100] plane having high spectral sensitization efficiency when the spectral sensitizing dye is adsorbed is high. preferable. The ratio is preferably 50% or more, more preferably 65% or more, and still more preferably 80% or more. The ratio of the Miller index [100] plane is determined by T.T. Tani; Imaging Sci. 29, 165 (1985).
[0059]
6) Heavy metal
The photosensitive silver halide grain of the present invention can contain a metal or metal complex of Group 8 to Group 10 of the Periodic Table (showing Groups 1 to 18). As the central metal of the group 8 to group 10 metal or metal complex of the periodic table, rhodium, ruthenium and iridium are preferable. One kind of these metal complexes may be used, or two or more kinds of complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is 1 x 10 per mole of silver.^-9From mole to 1 × 10^-3A molar range is preferred. These heavy metals and metal complexes and methods for adding them are described in JP-A-7-225449, JP-A-11-65021, paragraphs 0018 to 0024, and JP-A-11-119374, paragraphs 0227 to 0240.
[0060]
In the present invention, silver halide grains in which a hexacyano metal complex is present on the outermost surface of the grains are preferred. As the hexacyano metal complex, [Fe (CN)₆]^4-, [Fe (CN)₆]^3-, [Ru (CN)₆]^4-, [Os (CN)₆]^4-, [Co (CN)₆]^3-, [Rh (CN)₆]^3-, [Ir (CN)₆]^3-, [Cr (CN)₆]^3-, [Re (CN)₆]^3-Etc. In the present invention, a hexacyano Fe complex is preferred.
[0061]
The hexacyano metal complex is present in the form of ions in aqueous solution, so the counter cation is not important, but it is easy to mix with water and is suitable for precipitation of silver halide emulsions. Sodium ion, potassium ion, rubidium It is preferable to use alkali metal ions such as ions, cesium ions, and lithium ions, ammonium ions, and alkylammonium ions (for example, tetramethylammonium ions, tetraethylammonium ions, tetrapropylammonium ions, tetra (n-butyl) ammonium ions).
[0062]
In addition to water, the hexacyano metal complex is miscible with a mixed solvent or gelatin with an appropriate organic solvent miscible with water (for example, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides, etc.). Can be added.
[0063]
The amount of hexacyano metal complex added is 1 × 10 5 per mole of silver.^-51 x 10 moles or more^-2Or less, more preferably 1 × 10^-41 x 10 moles or more^-3It is below the mole.
[0064]
In order for the hexacyano metal complex to be present on the outermost surface of the silver halide grain, the chalcogen sensitization of sulfur sensitization, selenium sensitization and tellurium sensitization is completed after the addition of the aqueous silver nitrate solution used for grain formation. It is added directly before the completion of the preparation step before the chemical sensitization step for performing noble metal sensitization such as sensitization and gold sensitization, during the washing step, during the dispersion step, or before the chemical sensitization step. In order to prevent the silver halide fine grains from growing, it is preferable to add the hexacyano metal complex immediately after the grain formation, and it is preferable to add it before the completion of the preparation step.
[0065]
The addition of the hexacyano metal complex may be started after adding 96% by mass of the total amount of silver nitrate to be added to form grains, more preferably starting after adding 98% by mass, The addition of 99% by mass is particularly preferable.
When these hexacyanometal complexes are added after the addition of the aqueous silver nitrate solution just before the completion of grain formation, they can be adsorbed on the outermost surface of the silver halide grains, and most of them form slightly soluble salts with silver ions on the grain surface. To do. This silver salt of hexacyanoiron (II) is a less soluble salt than AgI, so that re-dissolution by fine particles can be prevented and silver halide fine particles having a small particle size can be produced. .
[0066]
Further, metal atoms that can be contained in the silver halide grains used in the present invention (for example, [Fe (CN)₆]^4-), Desalting methods and chemical sensitization methods for silver halide emulsions, paragraph numbers 0046 to 0050 of JP-A-11-84574, paragraph numbers 0025 to 0031 of JP-A-11-65021, paragraph number 0242 of JP-A-11-119374 ~ 0250.
[0067]
7) Gelatin
Various gelatins can be used as the gelatin contained in the photosensitive silver halide emulsion used in the present invention. In order to satisfactorily maintain the dispersion state of the photosensitive silver halide emulsion in the organic silver salt-containing coating solution, it is preferable to use low molecular weight gelatin having a molecular weight of 500 to 60,000. These low molecular weight gelatins may be used at the time of particle formation or dispersion after desalting, but are preferably used at the time of dispersion after desalting.
[0068]
8) Chemical sensitization
The photosensitive silver halide used in the present invention may be non-chemically sensitized, but is preferably chemically sensitized by at least one of a chalcogen sensitizing method, a gold sensitizing method, and a reduction sensitizing method. Examples of the chalcogen sensitizing method include a sulfur sensitizing method, a selenium sensitizing method, and a tellurium sensitizing method.
[0069]
In sulfur sensitization, unstable sulfur compounds are used. The unstable sulfur compounds described in Grafkides, Chimie et Physique Photographic (published by Paul Momtel, 1987, 5th edition), Research Disclosure 307, 307105, and the like can be used.
Specifically, thiosulfate (for example, hypo), thioureas (for example, diphenylthiourea, triethylthiourea, N-ethyl-N ′-(4-methyl-2-thiazolyl) thiourea, carboxymethyltrimethylthiourea), thioamides (Eg, thioacetamide), rhodanines (eg, diethyl rhodanine, 5-benzylidene-N-ethyl rhodanine), phosphine sulfides (eg, trimethylphosphine sulfide), thiohydantoins, 4-oxo-oxazolidin-2 Known sulfur compounds such as -thiones, disulfides or polysulfides (for example, dimorpholine disulfide, cystine, lenthionine), polythionates, elemental sulfur, and active gelatin can also be used. Particularly preferred are thiosulfates, thioureas and rhodanines.
[0070]
In selenium sensitization, unstable selenium compounds are used, and Japanese Patent Publication Nos. 43-13489, 44-15748, JP-A-4-25832, JP-A-4-109340, JP-A-4-271341, and JP-A-5-40324. No. 5-11385, Japanese Patent Application No. Hei 4-202415, No. 4-330495, No. 4-333030, No. 5-4203, No. 5-4204, No. 5-106977, No. 5-236538. Selenium compounds described in JP-A-5-241642 and JP-A-5-286916 can be used.
[0071]
Specifically, colloidal metal selenium, selenoureas (eg, N, N-dimethylselenourea, trifluoromethylcarbonyl-trimethylselenourea, acetyl-trimethylselenourea), selenoamides (eg, selenoamide, N, N-diethyl) Phenylselenoamide), phosphine selenides (eg, triphenylphosphine selenide, pentafluorophenyl-triphenylphosphine selenide), selenophosphates (eg, tri-p-tolylselenophosphate, tri-n) -Butylselenophosphate), selenoketones (for example, selenobenzophenone), isoselenocyanates, selenocarboxylic acids, selenoesters, diacyl selenides and the like may be used. Furthermore, non-labile selenium compounds described in JP-B Nos. 46-4553 and 52-34492, such as selenite, selenocyanate, selenazoles, and selenides can also be used. In particular, phosphine selenides, selenoureas and selenocyanates are preferred.
[0072]
In tellurium sensitization, an unstable tellurium compound is used, and JP-A-4-224595, JP-A-4-271341, JP-A-4-3333043, JP-A-5-303157, JP-A-6-27573, JP-A-6-175258, The unstable tellurium described in JP-A-6-180478, JP-A-6-208186, JP-A-6-208184, JP-A-6-317867, JP-A-7-140579, JP-A-7-301879, JP-A-7-301880, etc. A compound can be used.
[0073]
Specifically, phosphine tellurides (for example, butyl-diisopropylphosphine telluride, tributylphosphine telluride, tributoxyphosphine telluride, ethoxydiphenylphosphine telluride), diacyl (di) tellurides ( For example, bis (diphenylcarbamoyl) ditelluride, bis (N-phenyl-N-methylcarbamoyl) ditelluride, bis (N-phenyl-N-methylcarbamoyl) telluride, bis (N-phenyl-N-benzylcarbamoyl) telluride, bis (ethoxycarbonyl) Telluride), telluroureas (for example, N, N′-dimethylethylenetellurourea, N, N′-diphenylethylenetellurourea) telluramides, telluroesters and the like may be used. In particular, diacyl (di) tellurides and phosphine tellurides are preferable. Particularly, compounds described in literatures described in paragraph No. 0030 of JP-A-11-65021, general formula (II) in JP-A-5-313284, Compounds represented by (III) and (IV) are more preferred.
[0074]
Particularly, in the chalcogen sensitization of the present invention, selenium sensitization and tellurium sensitization are preferable, and tellurium sensitization is particularly preferable.
[0075]
In gold sensitization, P.I. Gold sensitizers described by Grafkides, Chimie et Physique Photographic (published by Paul Momtel, 1987, 5th edition), Research Disclosure 307, No. 307105 can be used. Specifically, chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, gold sulfide, gold selenide and the like, in addition to these, U.S. Pat. Nos. 2,642,361, 5,049,484, 5,049,485, 5,169,751, Gold compounds described in 5252455, Belgian Patent No. 691857 and the like can also be used. P. Precious metals such as platinum, palladium, iridium, etc. other than gold described in Grafkides, Chimie et Physique Photographic (published by Paul Momtel, 1987, 5th edition), Research Disclosure 307, 307105 are also used. I can do it.
[0076]
Although gold sensitization can be used alone, it is preferably used in combination with the chalcogen sensitization described above. Specifically, gold sulfur sensitization, gold selenium sensitization, gold tellurium sensitization, gold sulfur selenium sensitization, gold sulfur tellurium sensitization, gold selenium tellurium sensitization, and gold sulfur selenium tellurium sensitization.
[0077]
In the present invention, chemical sensitization can be performed at any time after particle formation and before coating. After desalting, (1) before spectral sensitization, (2) simultaneously with spectral sensitization, (3) spectral After sensitization, there may be (4) immediately before application.
[0078]
The amount of chalcogen sensitizer used in the present invention varies depending on the silver halide grains used, chemical ripening conditions, etc., but is 10 per mole of silver halide.^-8-10^-1Moles, preferably 10^-7-10^-2Use about moles.
Similarly, the amount of the gold sensitizer used in the present invention varies depending on various conditions, but as a guideline, it is 10 per silver halide.^-7Mol-10^-2Mole, more preferably 10^-6Mol ~ 5 × 10^-3Is a mole. The environmental conditions for chemically sensitizing this emulsion can be selected under any conditions, but the pAg is 8 or less, preferably 7.0 or less to 6.5 or less, particularly 6.0 or less, and the pAg is 1.5 or less. Above, preferably 2.0 or more, particularly preferably 2.5 or more, pH is 3 to 10, preferably 4 to 9, temperature is 20 to 95 ° C., preferably about 25 to 80 ° C. is there.
[0079]
In the present invention, reduction sensitization can be used in combination with chalcogen sensitization or gold sensitization. In particular, it is preferably used in combination with chalcogen sensitization.
As specific compounds for reduction sensitization, ascorbic acid, thiourea dioxide, and dimethylamine borane are preferable. In addition, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds, etc. It is preferable to use it. The reduction sensitizer may be added at any stage in the photosensitive emulsion production process from crystal growth to the preparation process immediately before coating. Further, reduction sensitization is also preferable by ripening while maintaining the pH of the emulsion at 8 or more or pAg at 4 or less, and reduction sensitization is performed by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation. Is also preferable.
The amount of reduction sensitizer added varies depending on various conditions, but as a guideline it is 10 per silver halide.^-7Mol-10^-1Mole, more preferably 10^-6Mol ~ 5 × 10^-2Is a mole.
[0080]
A thiosulfonic acid compound may be added to the silver halide emulsion used in the present invention by the method shown in European Patent Publication No. 293,917.
The photosensitive silver halide grains in the invention are preferably chemically sensitized by at least one of gold sensitization and chalcogen sensitization from the viewpoint of designing a high-sensitivity photothermographic material.
[0081]
9) Sensitizing dye
As a sensitizing dye that can be applied to the present invention, it can spectrally sensitize silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on silver halide grains, and has a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the exposure light source. The dye can be advantageously selected. The photothermographic material of the present invention is preferably spectrally sensitized so as to have a spectral sensitivity peak at 600 nm to 900 nm, or 300 nm to 500 nm. Regarding the sensitizing dye and the addition method, paragraphs 0103 to 0109 of JP-A No. 11-65021, compounds represented by the general formula (II) of JP-A No. 10-186572, and general formulas (I of JP-A No. 11-119374) ) And the dye described in Example 5 of U.S. Pat. Nos. 5,510,236 and 3,871,887, JP-A-2-96131, JP-A-59-48753. Dyes disclosed in Japanese Patent No. 2000-83865, Japanese Patent Application No. 2000-86865, Japanese Patent Application No. 2000-102560, Japanese Patent Application No. 2000-205399, etc. It is described in. These sensitizing dyes may be used alone or in combination of two or more.
[0082]
The addition amount of the sensitizing dye in the present invention can be set to a desired amount in accordance with the sensitivity and the fogging performance, but is 10 per mol of silver halide in the photosensitive layer.^-6~ 1 mol is preferred, more preferably 10^-4-10^-1Is a mole.
[0083]
In the present invention, a supersensitizer can be used to improve spectral sensitization efficiency. As the supersensitizer used in the present invention, European Patent Publication No. 587,338, US Pat. Nos. 3,877,943, 4,873,184, JP-A-5-341432, 11- 109547, 10-111543, etc. are mentioned.
[0084]
10) Combined use of silver halide
The photosensitive silver halide emulsion in the photothermographic material used in the present invention may be one kind or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes, those having different halogen compositions, those having different crystal habits, Those having different chemical sensitization conditions) may be used in combination. The gradation can be adjusted by using a plurality of types of photosensitive silver halides having different sensitivities. Examples of these technologies include JP-A-57-119341, 53-106125, 47-3929, 48-55730, 46-5187, 50-73627, 57-150841 and the like. Can be mentioned. The sensitivity difference is preferably 0.2 log E or more for each emulsion.
[0085]
11) Mixing of silver halide and organic silver salt
It is particularly preferred that the photosensitive silver halide grains of the present invention are formed in the absence of non-photosensitive organic silver salt and chemically sensitized. This is because sufficient sensitivity may not be achieved by the method of forming silver halide by adding a halogenating agent to the organic silver salt.
As a method of mixing silver halide and organic silver salt, a method of mixing separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt with a high speed stirrer, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer, etc. Alternatively, there may be mentioned a method of preparing an organic silver salt by mixing photosensitive silver halide which has been prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt. In any method, the effects of the present invention can be preferably obtained.
[0086]
12) Mixing silver halide into coating solution
The preferred addition timing of the silver halide of the present invention to the image forming layer coating solution is from 180 minutes before coating to immediately before, preferably from 60 minutes to 10 seconds before coating. There is no particular limitation as long as the effect is sufficiently exhibited. Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid fed to the coater is a desired time, and N.I. Harnby, M.M. F. Edwards, A.D. W. There is a method using a static mixer described in Chapter 8 of Nienow's Koji Takahashi "Liquid Mixing Technology" (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1989).
[0087]
13) Preparation of coating solution
The preparation temperature of the image forming layer coating solution of the present invention is preferably 30 ° C. or more and 65 ° C. or less, more preferably 35 ° C. or more and less than 60 ° C., and more preferably 35 ° C. or more and 55 ° C. or less. Moreover, it is preferable that the temperature of the image forming layer coating liquid immediately after the addition of the polymer latex is maintained at 30 ° C. or higher and 65 ° C. or lower.
[0088]
4). Reducing agent
The photothermographic material of the present invention contains a reducing agent for organic silver salt. The reducing agent may be any substance (preferably an organic substance) that can reduce silver ions to metallic silver. Examples of the reducing agent are disclosed in JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0043 to 0045, European Patent No. 0803764, p. 7, lines 34-p. 18th and 12th lines.
[0089]
A preferable reducing agent used in the present invention is a so-called hindered phenol reducing agent having a substituent at the ortho position of the phenolic hydroxyl group, or a bisphenol reducing agent. Particularly preferred are compounds represented by the following general formula (R).
[0090]
General formula (R)
Embedded image

[0091]
In general formula (R), R¹¹And R¹¹Each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R¹²And R¹²Each independently represents a hydrogen atom or a substituent that can be substituted on the benzene ring. L is a -S- group or -CHR.¹³-Represents a group. R¹³Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X¹And X¹Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring.
[0092]
Each substituent will be described in detail.
1) R¹¹And R¹¹’
R¹¹And R¹¹Each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the substituent of the alkyl group is not particularly limited, but is preferably an aryl group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group. Group, alkylthio group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, acyl group, carbamoyl group, ester group, halogen atom and the like.
[0093]
2) R¹²And R¹²', X¹And X¹’
R¹²And R¹²Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring.
X¹And X¹Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring. Preferred examples of each group that can be substituted on the benzene ring include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, and an acylamino group.
[0094]
3) L
L is a -S- group or -CHR.¹³-Represents a group. R¹³Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the alkyl group may have a substituent.
R¹³Specific examples of the unsubstituted alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, undecyl group, isopropyl group, 1-ethylpentyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group and the like. .
[0095]
Examples of substituents for alkyl groups are R¹¹In the same manner as the above substituent, a halogen atom, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryloxy group, an arylthio group, an acylamino group, a sulfonamide group, a sulfonyl group, a phosphoryl group, an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group and the like can be mentioned.
[0096]
4) Preferred substituents
R¹¹And R¹¹'Is preferably a secondary or tertiary alkyl group having 3 to 15 carbon atoms, specifically, isopropyl group, isobutyl group, t-butyl group, t-amyl group, t-octyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl. Group, 1-methylcyclohexyl group, 1-methylcyclopropyl group and the like. R¹¹And R¹¹'Is more preferably a tertiary alkyl group having 4 to 12 carbon atoms, among which a t-butyl group, a t-amyl group, and a 1-methylcyclohexyl group are more preferable, and a t-butyl group is most preferable.
[0097]
R¹²And R¹²'Is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-amyl group, cyclohexyl group, 1-methyl group. Examples include cyclohexyl group, benzyl group, methoxymethyl group, methoxyethyl group and the like. More preferred are methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group and t-butyl group.
[0098]
X¹And X¹'Is preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
[0099]
L is preferably -CHR¹³-Group.
[0100]
R¹³Is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and the alkyl group is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a 2,4,4-trimethylpentyl group. R¹³Particularly preferred is a hydrogen atom, a methyl group, a propyl group or an isopropyl group.
[0101]
R¹³R is a hydrogen atom, R¹²And R¹²'Is preferably an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, more preferably an ethyl group or a propyl group, and most preferably an ethyl group.
[0102]
R¹³Is a primary or secondary alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R¹²And R¹²'Is preferably a methyl group. R¹³The primary or secondary alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group or an isopropyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group or a propyl group.
[0103]
R¹¹, R¹¹'And R¹², R¹²When both are methyl groups,¹³Is preferably a secondary alkyl group. In this case, R¹³As the secondary alkyl group, isopropyl group, isobutyl group, and 1-ethylpentyl group are preferable, and isopropyl group is more preferable.
[0104]
The reducing agent is R¹¹, R¹¹'And R¹²And R¹²'And R¹³Depending on the combination, various heat development performances differ. Since these heat development performances can be adjusted by using two or more reducing agents in combination at various mixing ratios, it is preferable to use two or more reducing agents in combination depending on the purpose.
[0105]
Although the specific example of the reducing agent which can be used for this invention including the compound represented with general formula (R) of this invention below is shown, this invention is not limited to these.
[0106]
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[0107]
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[0108]
Embedded image

[0109]
Particularly preferred are compounds as shown in (R-1) to (R-20).
[0110]
In the present invention, the reducing agent is added in an amount of 0.01 to 5.0 g / m.²Is preferably 0.1 to 3.0 g / m.²More preferably, it is contained in an amount of 5 to 50 mol%, more preferably 10 to 40 mol%, based on 1 mol of silver on the surface having the image forming layer.
[0111]
The reducing agent of the present invention can be added to an image forming layer containing an organic silver salt and a photosensitive silver halide and its adjacent layer, but it is more preferably contained in the image forming layer.
[0112]
The reducing agent of the present invention may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photosensitive material.
[0113]
Well-known emulsifying dispersion methods include dissolving oil using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically emulsifying the dispersion. The method of producing is mentioned.
[0114]
The solid fine particle dispersion method includes a method in which a reducing agent is dispersed in an appropriate solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibration ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill, or an ultrasonic wave to create a solid dispersion. Can be mentioned. A dispersion method using a sand mill is preferable. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good. The aqueous dispersion can contain a preservative (eg, benzoisothiazolinone sodium salt).
[0115]
Particularly preferable is a solid particle dispersion method of a reducing agent, and it is preferable to add fine particles having an average particle size of 0.01 μm to 10 μm, preferably 0.05 μm to 5 μm, more preferably 0.1 μm to 1 μm. In the present application, it is preferable to use other solid dispersions dispersed in a particle size within this range.
[0116]
5.1 One-electron oxidant produced by one-electron oxidation can emit one or more electrons
In the photothermographic material of the invention, it is preferable that the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation contains a compound capable of emitting one electron or more. The compound can be used alone or in combination with the above-described various chemical sensitizers, and can increase the sensitivity of silver halide.
[0117]
The one-electron oxidant produced by one-electron oxidation contained in the photothermographic material of the present invention is a compound selected from the following types 1 to 5 that can emit one or more electrons.
[0118]
(Type 1)
A compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit two or more electrons with a subsequent bond cleavage reaction.
(Type 2)
The one-electron oxidant produced by one-electron oxidation is a compound capable of releasing another electron with subsequent bond cleavage reaction, and has two or more adsorptive groups to silver halide in the same molecule. Compound.
(Type 3)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent bond formation process.
(Type 4)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent intramolecular ring-cleaving reaction.
(Type 5)
In the compound represented by XY, X represents a reducing group, Y represents a leaving group, and a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation of the reducing group represented by X is followed by XY A compound capable of releasing Y by releasing Y with a bond cleavage reaction and releasing another electron therefrom.
[0119]
Preferred among the compounds of types 1 and 3 to 5 above are “compounds having an adsorptive group to silver halide in the molecule” or “partial structure of spectral sensitizing dye in the molecule”. Compound ". More preferred is a “compound having an adsorptive group to silver halide in the molecule”. The compounds of types 1 to 4 are more preferably “compounds having a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups as an adsorptive group”.
[0120]
The compounds of types 1 to 5 will be described in detail.
In the type 1 compound, “bond cleavage reaction” specifically means cleavage of bonds between carbon-carbon, carbon-silicon, carbon-hydrogen, carbon-boron, carbon-tin, and carbon-germanium elements, These may be further accompanied by carbon-hydrogen bond cleavage. A type 1 compound is a compound capable of emitting two or more (preferably three or more) electrons for the first time after a one-electron oxidation to form a one-electron oxidant, followed by a bond cleavage reaction.
[0121]
A preferable compound among the compounds of type 1 is represented by general formula (A), general formula (B), general formula (1), general formula (2), or general formula (3).
[0122]
Formula (A)
Embedded image

[0123]
General formula (B)
Embedded image

[0124]
In general formula (A), RED₁₁Represents a reducing group which can be oxidized by one electron, and L₁₁Represents a leaving group. R₁₁₂Represents a hydrogen atom or a substituent. R₁₁₁Is carbon atom (C) and RED₁₁And a nonmetallic atomic group capable of forming a cyclic structure corresponding to a tetrahydro form, hexahydro form, or octahydro form of a 5-membered or 6-membered aromatic ring (including an aromatic heterocycle).
[0125]
In the general formula (B), RED₁₂Represents a reducing group which can be oxidized by one electron, and L₁₂Represents a leaving group. R₁₂₁And R₁₂₂Each represents a hydrogen atom or a substituent. ED₁₂Represents an electron donating group. R in the general formula (B)₁₂₁And RED₁₂, R₁₂₁And R₁₂₂Or ED₁₂And RED₁₂And may be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0126]
These compounds represented by the general formula (A) or the general formula (B) are represented by RED.₁₁Or RED₁₂After the reducing group represented by₁₁Or L₁₂Is a compound that can release two or more electrons, preferably three or more electrons, by releasing them by bond cleavage reaction.
[0127]
General formula (1), general formula (2), general formula (3)
Embedded image

[0128]
In general formula (1), Z₁Represents an atomic group capable of forming a 6-membered ring with a nitrogen atom and two carbon atoms of a benzene ring, and R₁, R₂, R_N1Each represents a hydrogen atom or a substituent, and X₁Represents a substitutable substituent on the benzene ring, m₁Represents an integer of 0 to 3, L₁Represents a leaving group. ED in general formula (2)₂₁Represents an electron donating group, R₁₁, R₁₂, R_N21, R₁₃, R₁₄Each represents a hydrogen atom or a substituent, and X₂₁Represents a substitutable substituent on the benzene ring, m₂₁Represents an integer of 0 to 3, L₂₁Represents a leaving group. R_N21, R₁₃, R₁₄, X₂₁And ED₂₁May be bonded to each other to form a cyclic structure. In the general formula (3), R₃₂, R₃₃, R₃₁, R_N31, R_a, R_bEach represents a hydrogen atom or a substituent, and L₃₁Represents a leaving group. However, R_N31When represents a group other than an aryl group, R_aAnd R_bCombine with each other to form an aromatic ring.
[0129]
After these compounds are oxidized by one electron,₁, L₂₁Or L₃₁Is a compound that can release two or more electrons, preferably three or more electrons, by releasing them by bond cleavage reaction.
[0130]
Hereinafter, the compound represented by the general formula (A) will be described in detail first.
In general formula (A), RED₁₁A reducing group that can be oxidized by one electron is represented by R described later.₁₁₁And a divalent group obtained by removing one hydrogen atom at a suitable site for ring formation from the following monovalent group. For example, alkylamino group, arylamino group (anilino group, naphthylamino group etc.), heterocyclic amino group (benzthiazolylamino group, pyrrolylamino group etc.), alkylthio group, arylthio group (phenylthio group etc.), heterocyclic thio Group, alkoxy group, aryloxy group (phenoxy group etc.), heterocyclic oxy group, aryl group (phenyl group, naphthyl group, anthranyl group etc.), aromatic or non-aromatic heterocyclic group (5-membered to 7-membered) , A monocyclic or condensed ring hetero ring containing at least one hetero atom among nitrogen atom, sulfur atom, oxygen atom and selenium atom. Specific examples thereof include, for example, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinoxaline ring , Tetrahydroquinazoline ring, indoline ring, indole ring, indazo Ring, carbazole ring, phenoxazine ring, phenothiazine ring, benzothiazoline ring, pyrrole ring, imidazole ring, thiazoline ring, piperidine ring, pyrrolidine ring, morpholine ring, benzimidazole ring, benzimidazoline ring, benzoxazoline ring, methylenedioxyphenyl Ring, etc.) (hereinafter referred to as RED for convenience)₁₁Is described as a monovalent radical name). RED₁₁May have a substituent.
[0131]
In the present invention, the substituent means a substituent selected from the following groups unless otherwise specified. Halogen atoms, alkyl groups (including aralkyl groups, cycloalkyl groups, active methine groups, etc.), alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic groups (regardless of the position of substitution), quaternized nitrogen atoms Heterocyclic groups (eg pyridinio group, imidazolio group, quinolinio group, isoquinolinio group), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or salt thereof, sulfonylcarbamoyl group, acylcarbamoyl group, sulfa Moylcarbamoyl group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, carbonimidoyl group, thiocarbamoyl group, hydroxy group, alkoxy group (including groups containing ethyleneoxy group or propyleneoxy group unit repeatedly), aryloxy group , Telocyclic oxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group Thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, ammonio group, oxamoylamino group, (alkyl or aryl) sulfonylureido group, Acylureido group, acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) Rufiniru group, a sulfo group or a salt thereof, sulfamoyl group, sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, phosphoric acid amide or a group containing a phosphoric acid ester structure and so forth. These substituents may be further substituted with these substituents.
[0132]
RED₁₁Are preferably alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group, aryl group, aromatic or non-aromatic heterocyclic group, more preferably arylamino group (especially anilino group), aryl group (especially phenyl). Group). When these have a substituent, the substituent is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an acylamino group, or a sulfonamide group.
However, RED₁₁When represents an aryl group, the aryl group preferably has at least one “electron-donating group”. Here, the “electron donating group” means a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an acylamino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an active methine group, and a nitrogen atom in the ring. 5-membered, monocyclic or condensed, electron-rich aromatic heterocyclic group (for example, indolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, benzimidazolyl group, thiazolyl group, benzthiazolyl group, indazolyl group) containing at least one, nitrogen A non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group (a group that can also be called a cyclic amino group such as a pyrrolidinyl group, an indolinyl group, a piperidinyl group, a piperazinyl group, or a morpholino group) substituted with an atom. Here, the active methine group means a methine group substituted by two “electron-withdrawing groups”, and the “electron-withdrawing group” means an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, It means a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a cyano group, a nitro group, or a carbonimidoyl group. Here, the two electron withdrawing groups may be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0133]
In general formula (A), L₁₁Is specifically a carboxy group or a salt thereof, a silyl group, a hydrogen atom, a triarylboron anion, a trialkylstannyl group, a trialkylgermyl group, or -CR_C1R_C2R_C3Represents a group. Here, the silyl group specifically represents a trialkylsilyl group, an aryldialkylsilyl group, a triarylsilyl group, or the like, and may have an arbitrary substituent.
[0134]
L₁₁When represents a salt of a carboxy group, the counter ions that form the salt include alkali metal ions, alkaline earth metal ions, heavy metal ions, ammonium ions, phosphonium ions, and the like, preferably alkali metal ions or ammonium ions. , Alkali metal ions (especially Li⁺, Na⁺, K⁺Ion) is most preferred.
[0135]
L₁₁-CR_C1R_C2R_C3When representing a group, here R_C1, R_C2, R_C3Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, or a hydroxy group. May be bonded to each other to form a cyclic structure, and may further have an arbitrary substituent. However, R_C1, R_C2, R_C3When one of them represents a hydrogen atom or an alkyl group, the remaining two do not represent a hydrogen atom or an alkyl group. R_C1, R_C2, R_C3Preferably, each independently represents an alkyl group, an aryl group (particularly a phenyl group), an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic group, an alkoxy group, or a hydroxy group. For example, phenyl group, p-dimethylaminophenyl group, p-methoxyphenyl group, 2,4-dimethoxyphenyl group, p-hydroxyphenyl group, methylthio group, phenylthio group, phenoxy group, methoxy group, ethoxy group, dimethylamino Group, N-methylanilino group, diphenylamino group, morpholino group, thiomorpholino group, hydroxy group and the like. Examples of the case where they are bonded to each other to form a cyclic structure include 1,3-dithiolan-2-yl group, 1,3-dithian-2-yl group, N-methyl-1,3-thiazolidine-2 -Yl group, N-benzyl-benzothiazolidin-2-yl group and the like.
-CR_C1R_C2R_C3The group is R_C1, R_C2, R_C3As a result of each selected within the above-mentioned range, the general formula (A) to L₁₁It is also preferred if it represents the same group as the residue excluding.
[0136]
In general formula (A), L₁₁Is preferably a carboxy group or a salt thereof, and a hydrogen atom. More preferably, it is a carboxy group or a salt thereof.
[0137]
L₁₁When represents a hydrogen atom, the compound represented by the general formula (A) preferably has a base moiety inherent in the molecule. After the compound represented by the general formula (A) is oxidized by the action of this base moiety,₁₁Is deprotonated, and further electrons are emitted therefrom.
[0138]
Here, the base is specifically a conjugate base of an acid having a pKa of about 1 to about 10. For example, nitrogen-containing heterocycles (pyridines, imidazoles, benzimidazoles, thiazoles, etc.), anilines, trialkylamines, amino groups, carbon acids (active methylene anions, etc.), thioacetic acid anions, carboxylates (- COO⁻), Sulfate (-SO₃ ⁻), Or amine oxide (> N⁺(O⁻)-) And the like. Preferably, it is a conjugate base of an acid having a pKa of about 1 to about 8, more preferably carboxylate, sulfate, or amine oxide, and particularly preferably carboxylate. When these bases have anions, they may have counter cations, examples of which include alkali metal ions, alkaline earth metal ions, heavy metal ions, ammonium ions, phosphonium ions and the like. These bases are linked to the compound represented by the general formula (A) at an arbitrary position. The position at which these base sites are bonded includes RED of the general formula (A).₁₁, R₁₁₁, R₁₁₂Any of these may be sufficient, and you may connect with the substituent of these groups.
[0139]
R in the general formula (A)₁₁₂Represents a substituent substitutable on a hydrogen atom or a carbon atom. However, R₁₁₂Is L₁₁And does not represent the same group.
R₁₁₂Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group (such as a phenyl group), an alkoxy group (such as a methoxy group, an ethoxy group, and a benzyloxy group), a hydroxy group, an alkylthio group (such as a methylthio group and a butylthio group), an amino group, and an alkyl group An amino group, an arylamino group and a heterocyclic amino group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, a phenyl group and an alkylamino group.
[0140]
R in the general formula (A)₁₁₁Is a ring structure corresponding to a tetrahydro form, hexahydro form or octahydro form of a 5-membered or 6-membered aromatic ring (including aromatic heterocycle), where the hydro form is an aromatic A ring structure in which a carbon-carbon double bond (or carbon-nitrogen double bond) inherent in a ring (including an aromatic heterocycle) is partially hydrogenated means a tetrahydro form, and two hexahydro forms The three and octahydro forms mean a structure in which four carbon-carbon double bonds (or carbon-nitrogen double bonds) are hydrogenated. By being hydrogenated, the aromatic ring becomes a partially hydrogenated non-aromatic ring structure.
Specifically, pyrrolidine ring, imidazolidine ring, thiazolidine ring, pyrazolidine ring and oxazolidine ring, piperidine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, piperazine ring, tetralin ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, And tetrahydroquinoxaline ring, tetrahydrocarbazole ring, octahydrophenanthridine ring and the like. These ring structures may have an arbitrary substituent.
[0141]
R₁₁₁More preferably, the cyclic structure formed by pyrrolidine ring, imidazolidine ring, piperidine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, piperazine ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, tetrahydrocarbazole ring Particularly preferred are pyrrolidine ring, piperidine ring, piperazine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, most preferably pyrrolidine ring, piperidine ring, tetrahydropyridine ring. , Tetrahydroquinoline ring and tetrahydroisoquinoline ring.
[0142]
In the general formula (B), RED₁₂, L₁₂Are respectively RED of the general formula (A)₁₁, L₁₁The preferred range is also the same. However, RED₁₂Is a monovalent group except when it forms the following cyclic structure, specifically RED.₁₁And monovalent group names described in the above. R₁₂₁And R₁₂₂Is R in the general formula (A)₁₁₂The preferred range is also the same. ED₁₂Represents an electron donating group. R₁₂₁And RED₁₂, R₁₂₁And R₁₂₂Or ED₁₂And RED₁₂And may be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0143]
ED in general formula (B)₁₂The electron donating group represented by RED₁₁Is the same as the electron-donating group described as the substituent for when A represents an aryl group. ED₁₂Preferably a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an alkylamino group, an arylamino group, an active methine group, a 5-membered monocyclic or condensed ring electron containing at least one nitrogen atom in the ring An excess aromatic heterocyclic group, a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom, and a phenyl group substituted with these electron donating groups, and further a hydroxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an alkylamino group Group, arylamino group, active methine group, non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with nitrogen atom, and phenyl group substituted with these electron donating groups (for example, p-hydroxyphenyl group, p-dialkylaminophenyl group) , O, p-dialkoxyphenyl group, etc.) are more preferable.
[0144]
R in the general formula (B)₁₂₁And RED₁₂, R₁₂₂And R₁₂₁Or ED₁₂And RED₁₂And may be bonded to each other to form a cyclic structure. The cyclic structure formed here is a non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring, which is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed ring, and is a substituted or unsubstituted cyclic structure. R₁₂₁And RED₁₂When and form a ring structure, specific examples thereof include R in general formula (A).₁₁₁In addition to those listed as examples of the cyclic structure formed by: pyrroline ring, imidazoline ring, thiazoline ring, pyrazoline ring, oxazoline ring, indane ring, morpholine ring, indoline ring, tetrahydro-1,4-oxazine ring, 2, 3-dihydrobenzo-1,4-oxazine ring, tetrahydro-1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzo-1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzofuran ring, 2,3-dihydrobenzothiophene A ring etc. are mentioned. ED₁₂And RED₁₂And form a ring structure, ED₁₂Preferably represents an amino group, an alkylamino group, or an arylamino group, and specific examples of the ring structure formed include a tetrahydropyrazine ring, a piperazine ring, a tetrahydroquinoxaline ring, and a tetrahydroisoquinoline ring. R₁₂₂And R₁₂₁When and form a ring structure, specific examples thereof include a cyclohexane ring and a cyclopentane ring.
[0145]
Next, general formulas (1) to (3) will be described.
In the general formulas (1) to (3), R₁, R₂, R₁₁, R₁₂, R₃₁Is R in the general formula (A)₁₁₂The preferred range is also the same. L₁, L₂₁, L₃₁Is L in the general formula (A)₁₁Represents the same leaving group as the specific examples given in the description, and preferred ranges thereof are also the same. X₁, X₂₁As the substituent represented by the formula (A),₁₁Is the same as the example of the substituent when has a substituent, and the preferred range is also the same. m₁, M₂₁Is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1.
[0146]
R_N1, R_N21, R_N31When represents a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and these may further have an arbitrary substituent. R_N1, R_N21, R_N31Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
[0147]
R₁₃, R₁₄, R₃₃, R_a, R_bWhen represents a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, cyano group, alkoxy group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, alkylthio group. An arylthio group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, and the like.
[0148]
In general formula (1), Z₁The 6-membered ring formed by is a non-aromatic heterocycle condensed with the benzene ring of the general formula (1). Specifically, a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroquinoxaline ring as a ring structure including the condensed benzene ring, A tetrahydroquinazoline ring, preferably a tetrahydroquinoline ring or a tetrahydroquinoxaline ring. These may have a substituent.
[0149]
ED in general formula (2)₂₁Is the ED of the general formula (B)₁₂The preferred range is also the same.
[0150]
In the general formula (2), R_N21, R₁₃, R₁₄, X₂₁And ED₂₁Any two of these may combine with each other to form a cyclic structure. Where R_N21And X₂₁The cyclic structure formed by bonding is preferably a 5- to 7-membered non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring condensed with a benzene ring. Specific examples thereof include a tetrahydroquinoline ring and a tetrahydroquinoxaline ring. A ring, an indoline ring, a 2,3-dihydro-5,6-benzo-1,4-thiazine ring, and the like. Preferred are a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroquinoxaline ring and an indoline ring.
[0151]
In the general formula (3), R_N31When represents a group other than an aryl group, R_aAnd R_bCombine with each other to form an aromatic ring. Here, the aromatic ring is an aryl group (for example, a phenyl group or a naphthyl group) and an aromatic heterocyclic group (for example, a pyridine ring group, a pyrrole ring group, a quinoline ring group, or an indole ring group), and an aryl group is preferable. The aromatic ring group may have an arbitrary substituent.
In the general formula (3), R_aAnd R_bAre preferably bonded to each other to form an aromatic ring (particularly a phenyl group).
[0152]
In the general formula (3), R₃₂Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, an amino group, etc., where R₃₂When R represents a hydroxy group,₃₃The case where represents an “electron-withdrawing group” is also a preferred example. Here, the “electron withdrawing group” is the same as described above, and an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and a cyano group are preferable.
[0153]
Next, the type 2 compound will be described.
In the type 2 compound, “bond cleavage reaction” means carbon-carbon, carbon-silicon, carbon-hydrogen, carbon-boron, carbon-tin, carbon-germanium bond cleavage, and carbon-hydrogen. This may be accompanied by cleavage of the bond.
[0154]
The type 2 compound is a compound having two or more (preferably 2 to 6, more preferably 2 to 4) adsorptive groups to silver halide in the molecule. More preferred is a compound having a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups as an adsorptive group. The number of adsorptive groups is preferably 2-6, more preferably 2-4. The adsorptive group will be described later.
[0155]
A preferable compound among the compounds of type 2 is represented by the general formula (C).
[0156]
General formula (C)
Embedded image

[0157]
The compound represented by the general formula (C) is RED₂After the reducing group represented by₂It is a compound that can release one more electron with this by leaving the group by bond cleavage reaction.
[0158]
In the general formula (C), RED₂Is the RED of the general formula (B)₁₂Represents the same group, and the preferred range is also the same. L₂Is L in the general formula (A)₁₁Represents the same group as described above, and its preferred range is also the same. L₂When represents a silyl group, the compound is a compound having, as an adsorptive group, a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups in the molecule. R₂₁, R₂₂Represents a hydrogen atom or a substituent, and these are R in the general formula (A)₁₁₂The preferred range is also the same. RED₂And R₂₁And may be bonded to each other to form a ring structure.
[0159]
The ring structure formed here is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed, non-aromatic carbocycle or heterocycle, which may have a substituent. However, the ring structure is not a ring structure corresponding to a tetrahydro, hexahydro or octahydro form of an aromatic ring or an aromatic heterocycle. The ring structure is preferably a ring structure corresponding to a dihydro form of an aromatic ring or an aromatic heterocycle, and specific examples thereof include, for example, a 2-pyrroline ring, a 2-imidazoline ring, a 2-thiazoline ring, 1,2- Dihydropyridine ring, 1,4-dihydropyridine ring, indoline ring, benzimidazoline ring, benzothiazoline ring, benzoxazoline ring, 2,3-dihydrobenzothiophene ring, 2,3-dihydrobenzofuran ring, benzo-α-pyran ring, 1 , 2-dihydroquinoline ring, 1,2-dihydroquinazoline ring, 1,2-dihydroquinoxaline ring and the like, preferably 2-imidazoline ring, 2-thiazoline ring, indoline ring, benzoimidazoline ring, benzothiazoline ring, Benzoxazoline ring, 1,2-dihydropyridine ring, 1,2-dihydroquino Down ring, 1,2-dihydro-quinazoline ring, and the like 1,2-dihydro-quinoxaline ring, indoline ring, benzimidazoline ring, a benzothiazoline ring, 1,2-dihydroquinoline ring is more preferable, indoline ring is particularly preferred.
[0160]
Next, the compound of type 3 will be described.
In the type 3 compound, “bond formation process” means formation of an interatomic bond such as carbon-carbon, carbon-nitrogen, carbon-sulfur, carbon-oxygen and the like.
[0161]
The compound of type 3 is preferably a reactive group site (carbon-carbon double bond site, carbon-carbon triple bond site, fragrance) in which a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation coexists in the molecule. And a non-aromatic heterocyclic group part of a benzo-condensed ring) to form a bond and then emit one electron or more electrons.
[0162]
More specifically, a type 3 compound has a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation (a cation radical species or a neutral radical species produced by elimination of a proton therefrom) in the same molecule. It reacts with the coexisting reactive group, forms a bond, and generates a radical species having a new ring structure in the molecule. This radical species has a feature that electrons of the second electron are emitted directly or with elimination of protons.
And in some of the type 3 compounds, the two-electron oxidant thus produced is then subjected to a hydrolysis reaction in some cases, and in some cases tautomerization with direct proton transfer. There is a case in which one or more electrons, usually two or more electrons are emitted from the oxidization reaction. Alternatively, those having the ability to emit one or more electrons, usually two or more electrons, directly from a two-electron oxidant without going through such a tautomerization reaction are also included.
[0163]
The compound of type 3 is preferably represented by the general formula (D).
[0164]
Formula (D)
Embedded image

[0165]
In general formula (D), RED₃Represents a reducing group which can be oxidized by one electron, Y₃Is RED₃Represents a reactive group site that reacts after one-electron oxidation, specifically a carbon-carbon double bond site, a carbon-carbon triple bond site, an aromatic group site, or a non-aromatic heterocycle of a benzo-fused ring An organic group containing a ring group site is represented. L₃Is RED₃And Y₃Represents a linking group for linking.
[0166]
RED₃Is the RED of the general formula (B)₁₂And is preferably an arylamino group, a heterocyclic amino group, an aryloxy group, an arylthio group, an aryl group, an aromatic or non-aromatic heterocyclic group (particularly a nitrogen-containing heterocyclic group is preferred). And more preferably an arylamino group, a heterocyclic amino group, an aryl group, an aromatic or non-aromatic heterocyclic group, and among these heterocyclic groups, a tetrahydroquinoline ring group, a tetrahydroquinoxaline ring group, a tetrahydroquinazoline ring Group, indoline ring group, indole ring group, carbazole ring group, phenoxazine ring group, phenothiazine ring group, benzothiazoline ring group, pyrrole ring group, imidazole ring group, thiazole ring group, benzimidazole ring group, benzoimidazoline ring group, Benzothiazoline ring group, 3,4-methylenedioxyphenyl- - etc. yl group.
RED₃Particularly preferred are an arylamino group (particularly anilino group), an aryl group (particularly a phenyl group), and an aromatic or non-aromatic heterocyclic group.
[0167]
Where RED₃When represents an aryl group, the aryl group preferably has at least one “electron-donating group”. The “electron donating group” is the same as described above.
[0168]
RED₃When represents an aryl group, the substituent of the aryl group is more preferably an alkylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an active methine group, a non-aromatic nitrogen-containing heterocycle substituted with a nitrogen atom More preferably an alkylamino group, a hydroxy group, an active methine group, and a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom, and most preferably an alkylamino group and a non-aromatic group substituted with a nitrogen atom. Nitrogen heterocyclic group.
[0169]
Y₃When the organic group containing a carbon-carbon double bond site represented by (for example, vinyl group) has a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, a phenyl group, an acyl group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, A carbamoyl group, an electron donating group, and the like. As the electron donating group, an alkoxy group, a hydroxy group (which may be protected with a silyl group, such as a trimethylsilyloxy group, a t-butyldimethylsilyloxy group, Phenylsilyloxy group, triethylsilyloxy group, phenyldimethylsilyloxy group, etc.), amino group, alkylamino group, arylamino group, sulfonamide group, active methine group, mercapto group, alkylthio group, and these electron donors It is a phenyl group having a functional group as a substituent.
[0170]
Here, when the organic group containing a carbon-carbon double bond site has a hydroxy group as a substituent, Y₃Is the partial structure on the right:> C₁= C₂(—OH) — is included, but this is tautomerized and the partial structure shown on the right:> C₁HC₂It may be (= O)-. In this case, the C₁It is also preferred that the substituent substituted for carbon is an electron withdrawing group, in which case Y₃Has a partial structure of “active methylene group” or “active methine group”. The electron withdrawing group that can give such a partial structure of the active methylene group or active methine group is the same as that described in the description of the above-mentioned “active methine group”.
[0171]
Y₃When the organic group containing a carbon-carbon triple bond site represented by (for example, ethynyl group) has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group, a phenyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and an electron donating group. preferable.
[0172]
Y₃Represents an organic group containing an aromatic group, an aromatic group is preferably an aryl group having an electron donating group as a substituent (particularly a phenyl group is preferred) or an indole ring group, where the electron donating group is Preferred are a hydroxy group (which may be protected with a silyl group), an alkoxy group, an amino group, an alkylamino group, an active methine group, a sulfonamide group and a mercapto group.
[0173]
Y₃Represents an organic group containing a non-aromatic heterocyclic group portion of a benzo-fused ring, preferably a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group that preferably has an aniline structure as a partial structure, for example, an indoline ring group, 1,2,3,4-tetrahydroquinoline ring group, 1,2,3,4-tetrahydroquinoxaline ring group, 4-quinolone ring group and the like can be mentioned.
[0174]
Y₃More preferred as the reactive group represented by is an organic group containing a carbon-carbon double bond site, an aromatic group site, or a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group. More preferred are a carbon-carbon double bond site, a phenyl group having an electron donating group as a substituent, an indole ring group, and a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group having an aniline structure as a partial structure. Here, the carbon-carbon double bond site preferably has at least one electron donating group as a substituent.
[0175]
Y₃As a result of the selection of the reactive group represented by₃The case where it has the same partial structure as the reducing group represented by general formula (D) is also a preferred example of the compound represented by general formula (D).
[0176]
L₃RED₃And Y₃And specifically represents a single bond, an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, -O-, -S-, -NR._N-, -C (= O)-, -SO₂The group which consists of individual group of-, -SO-, -P (= O)-, or a combination of these groups is represented. R here_NRepresents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. L₃The linking group represented by may have an arbitrary substituent. L₃The linking group represented by RED₃And Y₃In any position of the group represented by the formula (1), each of the hydrogen atoms may be linked to replace any one hydrogen atom.
L₃Preferred examples of are: a single bond, an alkylene group (particularly a methylene group, an ethylene group, a propylene group), an arylene group (particularly a phenylene group), a —C (═O) — group, an —O— group, an —NH— group, -N (alkyl group)-group and the bivalent coupling group which consists of a combination of these groups are mentioned.
[0177]
L₃The group represented by₃Cation radical species (X⁺.), Or a radical species (X.) generated from the proton withdrawn therefrom, and Y₃When the reactive group represented by the above reacts to form a bond, the atomic group involved in this reaction is L₃It is preferable that a 3-7 membered cyclic structure including can be formed. For this purpose, radical species (X⁺-Or X-), the reactive group represented by Y, and L are preferably connected by 3 to 7 atomic groups.
[0178]
Next, the type 4 compound will be described.
A compound of type 4 is a compound having a ring structure substituted with a reducing group, and after the reducing group is oxidized by one electron, one or more electrons are emitted along with the ring structure cleavage reaction. Compound. The ring structure cleavage reaction referred to here means one having the following form.
[0179]
Embedded image

[0180]
In the formula, compound a represents a type 4 compound. In compound a, D represents a reducing group, and X and Y represent atoms forming a bond that is cleaved after one-electron oxidation in the ring structure. First, one-electron oxidation of the compound a generates a one-electron oxidant b. From this, the single bond of XX becomes a double bond, and at the same time, the bond of XY is cleaved to produce a ring-opened product c. Alternatively, a radical intermediate d may be generated from the one-electron oxidant b with proton desorption, and a ring-opening body e may be similarly generated therefrom. The compound of the present invention is characterized in that one or more electrons are subsequently released from the ring-opened product c or e thus produced.
[0181]
The ring structure possessed by the type 4 compound is a 3- to 7-membered carbocyclic or heterocyclic ring, and represents a monocyclic or condensed, saturated or unsaturated non-aromatic ring. A saturated ring structure is preferable, and a 3-membered ring or 4-membered ring is more preferable. Preferred examples of the ring structure include a cyclopropane ring, a cyclobutane ring, an oxirane ring, an oxetane ring, an aziridine ring, an azetidine ring, an episulfide ring, and a thietane ring. More preferred are cyclopropane ring, cyclobutane ring, oxirane ring, oxetane ring and azetidine ring, and particularly preferred are cyclopropane ring, cyclobutane ring and azetidine ring. The ring structure may have an arbitrary substituent.
[0182]
The compound of type 4 is preferably represented by the general formula (E) or (F).
[0183]
General formula (E)
Embedded image

[0184]
Formula (F)
Embedded image

[0185]
RED in general formula (E) and general formula (F)₄₁And RED₄₂Are respectively RED of the general formula (B)₁₂Represents a group having the same meaning, and the preferred range thereof is also the same. R₄₀~ R₄₄And R₄₅~ R₄₉Each represents a hydrogen atom or a substituent. In general formula (F), Z₄₂Is -CR₄₂₀R₄₂₁-, -NR₄₂₃-Represents-or -O-. R here₄₂₀, R₄₂₁Each represents a hydrogen atom or a substituent, and R₄₂₃Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
[0186]
R in general formula (E) and general formula (F)₄₀And R₄₅Preferably represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R₄₁~ R₄₄And R₄₆~ R₄₉And preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an arylthio group, an alkylthio group, an acylamino group, or a sulfonamide group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. is there.
[0187]
R₄₁~ R₄₄In which at least one of these is a donor group and R₄₁And R₄₂Or R₄₃And R₄₄Are preferably electron withdrawing groups. More preferably R₄₁~ R₄₄This is a case where at least one of the above is a donor group. More preferably R₄₁~ R₄₄At least one of them is a donor group and R₄₁~ R₄₄In this case, the group that is not a donor group is a hydrogen atom or an alkyl group.
[0188]
The donor group mentioned here is an “electron-donating group” or an aryl group substituted with at least one “electron-donating group”. The donor group is preferably an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, a 5-membered monocyclic or condensed ring electron-rich aromatic heterocyclic group containing at least one nitrogen atom in the ring, nitrogen A non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with an atom or a phenyl group substituted with at least one electron-donating group is used. More preferably, an alkylamino group, an arylamino group, a 5-membered monocyclic or condensed ring-excessive aromatic heterocyclic group containing at least one nitrogen atom in the ring (an indole ring, a pyrrole ring, a carbazole ring, etc.) ), A phenyl group substituted with an electron-donating group (such as a phenyl group substituted with three or more alkoxy groups, a phenyl group substituted with a hydroxy group, an alkylamino group, or an arylamino group). Particularly preferably, an arylamino group, a 5-membered monocyclic or condensed ring-containing electron-rich aromatic heterocyclic group (particularly a 3-indolyl group) or an electron-donating group containing at least one nitrogen atom in the ring is substituted. Used phenyl groups (particularly phenyl groups substituted with trialkoxyphenyl groups, alkylamino groups or arylamino groups).
[0189]
Z₄₂Preferably as -CR₄₂₀R₄₂₁-Or -NR₄₂₃-, More preferably -NR₄₂₃-. R₄₂₀, R₄₂₁Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acylamino group, or a sulfoneamino group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. R₄₂₃Preferably represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aromatic heterocyclic group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
[0190]
R₄₀~ R₄₉And R₄₂₀, R₄₂₁, R₄₂₃When each of these groups is a substituent, the total number of carbon atoms is preferably 40 or less, more preferably 30 or less, and particularly preferably 15 or less. These substituents may be bonded to each other or other sites in the molecule (RED₄₁, RED₄₂Or Z₄₂) To form a ring.
[0191]
In the compounds of types 1 to 4 of the present invention, the adsorptive group to silver halide is a group that directly adsorbs to silver halide or a group that promotes adsorption to silver halide. Specifically, mercapto A heterocyclic group containing at least one atom selected from a group (or a salt thereof), a thione group (—C (═S) —), a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom, a sulfide group, a cationic group, Or an ethynyl group. However, the type 2 compound of the present invention does not contain a sulfide group as an adsorptive group.
[0192]
The mercapto group (or salt thereof) as the adsorptive group means the mercapto group (or salt thereof) itself, and more preferably a heterocyclic group or aryl group substituted with at least one mercapto group (or salt thereof). Or represents an alkyl group. Here, the heterocyclic group is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed aromatic or non-aromatic heterocyclic group such as an imidazole ring group, a thiazole ring group, an oxazole ring group, or a benzimidazole ring group. , Benzthiazole ring group, benzoxazole ring group, triazole ring group, thiadiazole ring group, oxadiazole ring group, tetrazole ring group, purine ring group, pyridine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, pyrimidine ring group, triazine A cyclic group etc. are mentioned. Further, it may be a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. In this case, the substituted mercapto group may be dissociated into a meso ion. Examples of such a heterocyclic group include an imidazolium ring group, Examples include a pyrazolium ring group, a thiazolium ring group, a triazolium ring group, a tetrazolium ring group, a thiadiazolium ring group, a pyridinium ring group, a pyrimidinium ring group, and a triazinium ring group. Among them, a triazolium ring group (for example, 1,2,4- Triazolium-3-thiolate ring group) is preferable. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the alkyl group include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms. When the mercapto group forms a salt, the counter ion is a cation such as an alkali metal, alkaline earth metal, or heavy metal (Li⁺, Na⁺, K⁺, Mg²⁺, Ag⁺, Zn²⁺And the like, ammonium ions, quaternized heterocyclic groups containing nitrogen atoms, phosphonium ions, and the like.
[0193]
Further, the mercapto group as the adsorptive group may be tautomerized into a thione group, specifically, a thioamide group (here, —C (═S) —NH— group) and the thioamide group. A group having a partial structure of, ie, a chain or cyclic thioamide group, a thioureido group, a thiourethane group, or a dithiocarbamate group. Examples of cyclic groups include thiazolidine-2-thione group, oxazolidine-2-thione group, 2-thiohydantoin group, rhodanine group, isorhodanine group, thiobarbituric acid group, 2-thioxo-oxazolidine-4-one group Is mentioned.
[0194]
The thione group as an adsorptive group cannot be tautomerized to a mercapto group (including a hydrogen atom at the α-position of the thione group), including the case where the mercapto group described above is tautomerized into a thione group. A chain or cyclic thioamide group, thioureido group, thiourethane group, or dithiocarbamate group is also included.
[0195]
A heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom as the adsorptive group is a -NH- group capable of forming imino silver (> NAg) and a partial structure of the heterocyclic ring A nitrogen-containing heterocyclic group, or a “—S—” group, a “—Se—” group, a “—Te—” group, or a “═N—” group that can coordinate to a silver ion via a coordination bond. A heterocyclic group having a ring partial structure. Examples of the former include benzotriazole group, triazole group, indazole group, pyrazole group, tetrazole group, benzimidazole group, imidazole group, and purine group, and examples of the latter include thiophene. Group, thiazole group, oxazole group, benzothiazole group, benzoxazole group, thiadiazole group, oxadiazole group, triazine group Seleno azole group, benzimidazole seleno azole group, tellurium azole group, such as benz tellurium azole group. The former is preferred.
[0196]
The sulfide group as the adsorptive group includes all groups having a partial structure of “—S—”, preferably alkyl (or alkylene) -S-alkyl (or alkylene), aryl (or arylene) -S—. A group having a partial structure of alkyl (or alkylene), aryl (or arylene) -S-aryl (or arylene). Furthermore, these sulfide groups may form a cyclic structure or may be an -S-S- group. Specific examples in the case of forming a cyclic structure include a thiolane ring, a 1,3-dithiolane ring or a 1,2-dithiolane ring, a thiane ring, a dithiane ring, a tetrahydro-1,4-thiazine ring (thiomorpholine ring) and the like. Groups. Particularly preferred as the sulfide group is a group having a partial structure of alkyl (or alkylene) -S-alkyl (or alkylene).
[0197]
The cationic group as the adsorptive group means a group containing a quaternized nitrogen atom, specifically, an ammonio group or a group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. . However, the cationic group does not become a part of an atomic group forming a dye structure (for example, a cyanine chromophore). Here, the ammonio group is a trialkylammonio group, a dialkylarylammonio group, an alkyldiarylammonio group or the like, and examples thereof include a benzyldimethylammonio group, a trihexylammonio group, and a phenyldiethylammonio group. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom include a pyridinio group, a quinolinio group, an isoquinolinio group, an imidazolio group, and the like. A pyridinio group and an imidazolio group are preferable, and a pyridinio group is particularly preferable. These nitrogen-containing heterocyclic groups containing a quaternized nitrogen atom may have an arbitrary substituent, but in the case of a pyridinio group and an imidazolio group, the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, an acylamino group , A chloro atom, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and the like. In the case of a pyridinio group, a phenyl group is particularly preferable as a substituent.
[0198]
An ethynyl group as an adsorptive group means a —C≡CH group, and a hydrogen atom may be substituted.
The above adsorptive group may have an arbitrary substituent.
[0199]
Specific examples of the adsorptive group further include those described in pages 4 to 7 of JP-A No. 11-95355.
[0200]
In the present invention, preferred adsorptive groups are mercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic groups (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1). , 3,4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzoxazole group, 2-mercaptobenzthiazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group), or imino silver (> A nitrogen-containing heterocyclic group (for example, a benzotriazole group, a benzimidazole group, an indazole group, etc.) having a —NH— group that can form NAg) as a partial structure of the heterocyclic ring. Particularly preferred are 5-mercaptotetrazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and benzotriazole group, most preferred are 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and 5 -Mercaptotetrazole group.
[0201]
Among the compounds of the present invention, compounds having two or more mercapto groups in the molecule as partial structures are also particularly preferred compounds. Here, the mercapto group (—SH) may be a thione group if it can be tautomerized. Examples of such compounds include the above-described adsorptive groups having a mercapto group or thione group as a partial structure (for example, a ring-forming thioamide group, an alkyl mercapto group, an aryl mercapto group, a heterocyclic mercapto group, etc.) Or a compound having two or more mercapto groups or thione groups as a partial structure (for example, a dimercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group), You may have one or more.
[0202]
Examples of the adsorptive group having two or more mercapto groups as a partial structure (such as a dimercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group) include 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3,5 -Dimercapto-1,2,4-triazole group, 2,5-dimercapto-1,3-thiazole group, 2,5-dimercapto-1,3-oxazole group, 2,7-dimercapto-5-methyl-s- Triazolo (1,5-A) -pyrimidine, 2,6,8-trimercaptopurine, 6,8-dimercaptopurine, 3,5,7-trimercapto-s-triazolotriazine, 4,6-dimercapto And pyrazolopyrimidine, 2,5-dimercaptoimidazole, and the like. 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3, - dimercapto-1,2,4-triazole group are particularly preferred.
[0203]
The adsorptive group may be substituted anywhere in the general formulas (A) to (F) and the general formulas (1) to (3). In general formulas (A) to (D), RED₁₁, RED₁₂, RED₂, RED₃In the general formulas (E) and (F), RED₄₁, R₄₁, RED₄₂, R₄₆~ R₄₈In the general formulas (1) to (3), R₁, R₂, R₁₁, R₁₂, R₃₁, L₁, L₂₁, L₃₁It is preferably substituted at any position except for RED, and RED in all of the general formulas (A) to (F)₁₁~ RED₄₂More preferably, it is substituted.
[0204]
The partial structure of the spectral sensitizing dye is a group containing the chromophore of the spectral sensitizing dye, and is a residue obtained by removing any hydrogen atom or substituent from the spectral sensitizing dye compound. The partial structure of the spectral sensitizing dye may be substituted anywhere in the general formulas (A) to (F) and the general formulas (1) to (3), but in the general formulas (A) to (D), RED₁₁, RED₁₂, RED₂, RED₃In the general formulas (E) and (F), RED₄₁, R₄₁, RED₄₂, R₄₆~ R₄₈In the general formulas (1) to (3), R₁, R₂, R₁₁, R₁₂, R₃₁, L₁, L₂₁, L₃₁It is preferably substituted at any position except for RED, and RED in all of the general formulas (A) to (F)₁₁~ RED₄₂More preferably, it is substituted. Preferred spectral sensitizing dyes are spectral sensitizing dyes typically used in color sensitization techniques such as cyanine dyes, complex cyanine dyes, merocyanine dyes, complex merocyanine dyes, homopolar cyanine dyes, Includes styryl dyes and hemicyanine dyes. Exemplary spectral sensitizing dyes are disclosed in Research Disclosure, Item 36544, September 1994. Research Disclosure or F.I. M.M. One of ordinary skill in the art can synthesize these dyes by the procedure described by Hammer's The Cyanines and Related Compounds (Interscience Publishers, New yprk, 1964). Further, all the dyes described in JP-A-11-95355 (US Pat. No. 6,054,260), pages 7 to 14 are applied as they are.
[0205]
The compounds of types 1 to 4 of the present invention preferably have a total carbon number of 10 to 60. More preferably, it is 15-50, More preferably, it is 18-40, Most preferably, it is 18-30.
[0206]
The compounds of types 1 to 4 of the present invention are subjected to 1-electron oxidation triggered by exposure of the silver halide photographic light-sensitive material using the compound, and after the subsequent reaction, further 1 electron, or 2 electrons or more depending on the type. Electrons are emitted and oxidized, and the oxidation potential of the first electron is preferably about 1.4 V or less, and more preferably 1.0 V or less. This oxidation potential is preferably higher than 0V, more preferably higher than 0.3V. Accordingly, the oxidation potential is preferably in the range of about 0 to about 1.4V, more preferably about 0.3 to about 1.0V.
[0207]
Here, the oxidation potential can be measured by a cyclic voltammetry technique. Specifically, a sample is dissolved in a solution of acetonitrile: water (including 0.1 M lithium perchlorate) = 80%: 20% (volume%). After bubbling nitrogen gas for 10 minutes, a glassy carbon disk was used as the working electrode, a platinum wire was used as the counter electrode, and a calomel electrode (SCE) was used as the reference electrode at 25 ° C. and 0.1 V / Measured at a potential scanning speed of seconds. The oxidation potential versus SCE is taken at the peak potential of the cyclic voltammetry wave.
[0208]
In the case where the compounds of types 1 to 4 of the present invention are one-electron oxidized and further emit one electron after the subsequent reaction, the subsequent oxidation potential is preferably −0.5 V to −2 V. More preferably, it is -0.7V--2V, More preferably, it is -0.9V--1.6V.
[0209]
In the case where the compound of types 1 to 4 of the present invention is a compound that is oxidized by one electron and emits two or more electrons after the subsequent reaction and is oxidized, there is no particular limitation on the oxidation potential of this latter stage. Absent. This is because the oxidation potential of the second electron and the oxidation potential of the third and subsequent electrons cannot be clearly distinguished, and it is often difficult to accurately measure and distinguish these actually.
[0210]
Next, the compound of type 5 will be described.
A compound of type 5 is represented by XY, where X represents a reducing group, Y represents a leaving group, and a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation of the reducing group represented by X is This is a compound capable of releasing X by further elimination of Y with subsequent XY bond cleavage reaction to generate an X radical, from which another electron is emitted. The reaction when such a type 5 compound is oxidized can be represented by the following formula.
[0211]
Embedded image

[0212]
The compound of type 5 preferably has an oxidation potential of 0 to 1.4V, more preferably 0.3V to 1.0V. The oxidation potential of the radical X · generated in the above reaction formula is preferably −0.7 V to −2.0 V, more preferably −0.9 V to −1.6 V.
[0213]
The compound of type 5 is preferably represented by the general formula (G).
[0214]
General formula (G)
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[0215]
In general formula (G), RED₀Represents a reducing group, L₀Represents a leaving group, R₀And R₀₀Represents a hydrogen atom or a substituent. RED₀And R₀And R₀And R₀₀And may be bonded to each other to form a ring structure. RED₀Is RED of general formula (C)₂Represents the same group, and the preferred range is also the same. R₀And R₀₀Is R in the general formula (C)₂₁And R₂₂The preferred range is also the same. However, R₀And R₀₀Except for the hydrogen atom, L₀Does not represent the same group as RED₀And R₀May be bonded to each other to form a ring structure, and examples of the ring structure include RED of the general formula (C).₂And R₂₁Examples are the same as in the case of linking to form a ring structure, and the preferred range is also the same. R₀And R₀₀Examples of the ring structure formed by bonding to each other include a cyclopentane ring and a tetrahydrofuran ring. In general formula (G), L₀Is L in the general formula (C)₂The preferred range is also the same.
[0216]
The compound represented by the general formula (G) preferably has an adsorbing group to silver halide or a partial structure of a spectral sensitizing dye in the molecule.₀When represents a group other than a silyl group, it does not have two or more adsorptive groups in the molecule at the same time. However, the sulfide group as the adsorptive group here is L₀You may have two or more regardless of this.
[0217]
Examples of the adsorptive group to the silver halide of the compound represented by the general formula (G) include the same adsorptive groups that the compounds of types 1 to 4 of the present invention may have. In addition, all those described as “silver halide adsorbing groups” on pages 4 to 7 of JP-A No. 11-95355 can be mentioned, and preferred ranges are also the same.
The partial structure of the spectral sensitizing dye that the compound represented by the general formula (G) may have is the partial structure of the spectral sensitizing dye that the compounds of types 1 to 4 of the present invention may have. However, at the same time, all those described as “light-absorbing groups” on pages 7 to 14 of JP-A-11-95355 can be mentioned, and the preferred ranges are also the same.
[0218]
Specific examples of the compounds of types 1 to 5 of the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.
[0219]
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[0220]
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[0221]
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[0222]
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[0223]
The compounds of types 1 to 4 of the present invention are described in detail in Japanese Patent Application No. 2002-192373, Japanese Patent Application No. 2002-188537, Japanese Patent Application No. 2002-188536, Japanese Patent Application No. 2001-272137, and Japanese Patent Application No. 2002-192374, respectively. Same as described compound. Specific compound examples described in these patent application specifications can also be given as specific examples of the compounds of types 1 to 4 of the present invention. The synthesis examples of the compounds of types 1 to 4 of the present invention are also the same as those described in these patents.
[0224]
Specific examples of the compound of type 5 of the present invention are further described in JP-A-9-211769 (compounds PMT-1 to S-37 described in Table E and Table F on pages 28-32), JP-A-9-21774. JP-A-11-95355 (compounds INV1-36), JP-T-2001-99696 (compounds 1-74, 80-87, 92-122), US Pat. No. 5,747,235, US Pat. No. 5,747, No. 236, European Patent No. 786692A1 (compounds INV1 to 35), European Patent No. 893732A1, US Pat. No. 6,054,260, US Pat. No. 5,994,051, etc. Examples of compounds referred to as “deprotonated electron donating sensitizers” are mentioned as they are.
[0225]
The compounds of types 1 to 5 of the present invention may be used at any time during the process of producing a photothermographic material when preparing a photosensitive silver halide emulsion. For example, at the time of photosensitive silver halide grain formation, desalting step, chemical sensitization, before coating. Moreover, it can also add in several steps in these processes. The addition position is preferably from the end of formation of the photosensitive silver halide grains to before the desalting step, at the time of chemical sensitization (immediately after the start of chemical sensitization to immediately after completion), and before coating, more preferably from the time of chemical sensitization Until before mixing with the non-photosensitive organic silver salt.
[0226]
The compounds of types 1 to 5 of the present invention are preferably added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. When the compound is dissolved in water, the compound having higher solubility when the pH is increased or decreased may be dissolved at a higher or lower pH and added.
[0227]
The compounds of types 1 to 5 of the present invention are preferably used in emulsion layers containing photosensitive silver halide and non-photosensitive organic silver salt, but contain photosensitive silver halide and non-photosensitive organic silver salt. It may be added to the protective layer or intermediate layer together with the emulsion layer to be diffused during coating. The timing of addition of the compound of the present invention is preferably before or after the sensitizing dye, and preferably 1 × 10 5 per mole of silver halide.^-9~ 5x10^-1Mole, more preferably 1 × 10^-8~ 5x10^-2It is contained in the silver halide emulsion layer in a molar ratio.
[0228]
6). Redox compounds having adsorbing groups and reducing groups
In the present invention, it is preferable to contain a redox compound having an adsorbing group and a reducing group for silver halide in the molecule. The redox compound is preferably a compound represented by the following formula (I).
[0229]
Formula (I) A- (W) n-B
[In Formula (I), A represents a group capable of being adsorbed to silver halide (hereinafter referred to as an adsorbing group), W represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, and B represents a reducing group. Represents. ]
[0230]
In formula (I), the adsorptive group represented by A is a group that directly adsorbs to silver halide or a group that promotes adsorption to silver halide. Specifically, a mercapto group (or a salt thereof) , A thione group (—C (═S) —), a heterocyclic group, a sulfide group, a disulfide group, a cationic group, or an ethynyl group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom, and a tellurium atom Etc.
[0231]
The mercapto group (or salt thereof) as the adsorptive group means the mercapto group (or salt thereof) itself, and more preferably, a heterocyclic group or aryl group substituted with at least one mercapto group (or salt thereof) or Represents an alkyl group. Here, the heterocyclic group is at least a 5- to 7-membered monocyclic or condensed aromatic or non-aromatic heterocyclic group such as an imidazole ring group, a thiazole ring group, an oxazole ring group, or a benzimidazole ring. Group, benzothiazole ring group, benzoxazole ring group, triazole ring group, thiadiazole ring group, oxadiazole ring group, tetrazole ring group, purine ring group, pyridine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, pyrimidine ring group, And triazine ring group. Further, it may be a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. In this case, the substituted mercapto group may be dissociated to form a meso ion. When the mercapto group forms a salt, the counter ion is a cation such as an alkali metal, alkaline earth metal, or heavy metal (Li⁺, Na⁺, K⁺, Mg²⁺, Ag⁺, Zn²⁺And the like, ammonium ions, quaternized heterocyclic groups containing nitrogen atoms, phosphonium ions, and the like.
[0232]
Further, the mercapto group as the adsorptive group may be tautomerized into a thione group.
The thione group as the adsorptive group also includes a chain or cyclic thioamide group, thioureido group, thiourethane group, or dithiocarbamate group.
A heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom as an adsorptive group is a -NH- group capable of forming imino silver (> NAg) as a partial structure of the heterocyclic ring. A nitrogen-containing heterocyclic group having a heterocyclic ring, or a "-S-" group, a "-Se-" group, a "-Te-" group or a "= N-" group capable of coordinating to a silver ion by a coordination bond A heterocyclic group having a partial structure of benzotriazole group, triazole group, indazole group, pyrazole group, tetrazole group, benzimidazole group, imidazole group, purine group, etc. , Thiazole group, oxazole group, benzothiophene group, benzothiazole group, benzoxazole group, thiadiazole group, oxadiazo Group, a triazine group, seleno azole group, benzoselenazole group, tellurium azole group, such as benzo tellurium azole group.
[0233]
Examples of the sulfide group or disulfide group as the adsorbing group include all groups having a partial structure of “—S—” or “—S—S—”.
The cationic group as the adsorptive group means a group containing a quaternized nitrogen atom, specifically, an ammonio group or a group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom include a pyridinio group, a quinolinio group, an isoquinolinio group, an imidazolio group, and the like. An ethynyl group as an adsorptive group means a —C≡CH group, and the hydrogen atom may be substituted.
The adsorbing group may have an arbitrary substituent.
[0234]
Further, specific examples of the adsorbing group include those described in the specifications p4 to p7 of JP-A No. 11-95355.
[0235]
In the formula (I), preferred as the adsorptive group represented by A is a mercapto-substituted heterocyclic group (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 2-mercapto-5-aminothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4). -Triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1,3,4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzimidazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3,5-dimercapto-1,2,4-triazole group, 2,5-dimercapto-1,3-thiazole group), or Nitrogen-containing heterocyclic groups having —NH— groups that can form imino silver (> NAg) as a heterocyclic partial structure (for example, benzotria) Lumpur group, benzimidazole group, an indazole group), more preferable as an adsorptive group is a 2-mercaptobenzimidazole group, a 3,5-dimercapto-1,2,4-triazole group.
[0236]
In formula (I), W represents a divalent linking group. Any linking group may be used as long as it does not adversely affect photographic properties. For example, a divalent linking group composed of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom can be used. Specifically, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a hexamethylene group, etc.), an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms, and an alkynylene group having 2 to 20 carbon atoms. An arylene group having 6 to 20 carbon atoms (for example, a phenylene group, a naphthylene group, etc.), -CO-, -SO₂-, -O-, -S-, -NR₁-, The combination of these coupling groups, etc. are mention | raise | lifted. Where R₁Represents a hydrogen atom, an alkyl group, a heterocyclic group, or an aryl group.
The linking group represented by W may have an arbitrary substituent.
[0237]
In formula (I), the reducing group represented by B represents a group capable of reducing silver ions. For example, a triple bond group such as formyl group, amino group, acetylene group or propargyl group, mercapto group, hydroxylamines. Hydroxamic acids, hydroxyureas, hydroxyurethanes, hydroxysemicarbazides, reductones (including reductone derivatives), anilines, phenols (chroman-6-ols, 2,3-dihydrobenzofuran-5-ols, Aminophenols, sulfonamidophenols, and hydroquinones, catechols, resorcinols, benzenetriols, polyphenols such as bisphenols), acylhydrazines, carbamoylhydrazines, 3-pyrazolidones, etc. The residue after removing one And the like. Of course, these may have an arbitrary substituent.
[0238]
In the formula (I), the reducing group represented by B shows its oxidation potential by Akira Fujishima “Electrochemical measurement method” (pages 150-208, published by Gihodo) or “The Experimental Chemistry Course” edited by the Chemical Society of Japan, 4th edition ( 9 pages 282-344, Maruzen). For example, by a rotating disk voltammetry technique, specifically, a sample is dissolved in a solution of methanol: pH 6.5 Briton-Robinson buffer (10%: 90% (volume%)) and nitrogen gas is used for 10 minutes. , A glassy carbon rotating disk electrode (RDE) is used as a working electrode, a platinum wire is used as a counter electrode, a saturated calomel electrode is used as a reference electrode, 25 ° C., 1000 rev / min, 20 mV / sec. Can be measured at sweep speed. A half-wave potential (E1 / 2) can be obtained from the obtained voltammogram.
The reducing group represented by B of the present invention preferably has an oxidation potential in the range of about −0.3 V to about 1.0 V when measured by the above-described measurement method. More preferably, it is in the range of about -0.1V to about 0.8V, and particularly preferably in the range of about 0 to about 0.7V.
[0239]
In the formula (I), the reducing group represented by B is preferably selected from hydroxylamines, hydroxamic acids, hydroxyureas, hydroxysemicarbazides, reductones, phenols, acylhydrazines, carbamoylhydrazines, and 3-pyrazolidones. A residue obtained by removing one hydrogen atom.
[0240]
Specific examples of the reducing group represented by B are illustrated below, but the present invention is not limited thereto. Here, * indicates a position where A or W is bonded in Formula (I).
[0241]
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[0242]
The compound of the formula (I) of the present invention may be one in which a ballast group or a polymer chain commonly used in an immobile photographic additive such as a coupler is incorporated. Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.
[0243]
The molecular weight of the compounds of the formula (I) according to the invention is preferably between 100 and 10000, more preferably between 120 and 1000, particularly preferably between 150 and 500.
[0244]
Examples of the compound of formula (I) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0245]
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[0246]
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[0247]
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[0248]
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[0249]
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[0250]
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[0251]
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[0252]
The compounds of the present invention can be easily synthesized according to known methods.
As the compound of formula (I) of the present invention, one kind of compound may be used alone, but it is also preferred to use two or more kinds of compounds at the same time. When two or more kinds of compounds are used, they may be added in the same layer or in different layers, and the addition methods may be different.
[0253]
The compound of formula (I) of the present invention is preferably added to the silver halide emulsion layer, and more preferably added during the preparation of the emulsion. When added at the time of emulsion preparation, it can be added at any time during the process. For example, silver halide grain formation process, before desalting process start, desalting process, chemical ripening Examples include a step before starting, a chemical ripening step, and a step before preparing a finished emulsion. Moreover, it can also be added in several steps in these processes. Although it is preferably used in the emulsion layer, it may be added to the adjacent protective layer or intermediate layer together with the emulsion layer and diffused during coating.
The preferred addition amount largely depends on the above-mentioned addition method and the kind of compound to be added, but generally 1 × 10 5 per mole of photosensitive silver halide.^-6~ 1 mole, preferably 1 x 10^-5~ 5x10^-1Mole more preferably 1 × 10^-4~ 1x10^-1Is a mole.
[0254]
The compound of the formula (I) of the present invention can be added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. At this time, the pH may be appropriately adjusted with an acid or a base, and a surfactant may be allowed to coexist. Furthermore, it can also be dissolved in a high boiling point organic solvent and added as an emulsified dispersion. It can also be added as a solid dispersion.
[0255]
7). Description of organic silver salt
1) Composition
The non-photosensitive organic silver salt used in the present invention is relatively stable to light, but when heated to 80 ° C. or higher in the presence of exposed photosensitive silver halide and a reducing agent. A silver salt that forms a silver image. The organic silver salt may be any organic material containing a source capable of reducing silver ions. As for such non-photosensitive organic silver salt, paragraph numbers 0048 to 0049 of JP-A-10-62899, page 18 line 24 to page 19 line 37 of European Patent Publication No. 0803764A1, European Patent Publication. No. 0968212A1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, JP-A-2000-72711, and the like. Silver salts of organic acids, particularly silver salts of long-chain aliphatic carboxylic acids (having 10 to 30, preferably 15 to 28 carbon atoms) are preferred. Preferable examples of the organic silver salt include silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, and a mixture thereof. In the present invention, among these organic silver salts, it is preferable to use organic acid silver having a silver behenate content of 50 mol% to 100 mol%. In particular, the silver behenate content is preferably 75 mol% or more and 98 mol% or less.
[0256]
2) Shape
The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, and may be a needle shape, a rod shape, a flat plate shape, or a flake shape.
In the present invention, scaly organic silver salts are preferred. In the present specification, the scaly organic silver salt is defined as follows. The organic silver salt is observed with an electron microscope, the shape of the organic silver salt particle is approximated to a rectangular parallelepiped, and the sides of the rectangular parallelepiped are defined as a, b, and c from the shortest side (even though c is the same as b) Good)), and calculate with the shorter numbers a and b, and find x as follows.
x = b / a
[0257]
In this way, x is obtained for about 200 particles, and when the average value x (average) is obtained, particles satisfying the relationship of x (average) ≧ 1.5 are defined as flakes. Preferably, 30 ≧ x (average) ≧ 1.5, more preferably 15 ≧ x (average) ≧ 1.5. Incidentally, the needle shape is 1 ≦ x (average) <1.5.
[0258]
In the flake shaped particle, a can be regarded as a thickness of a tabular particle having a main plane with b and c as sides. The average of a is preferably 0.01 μm or more and 0.3 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 0.23 μm or less. The average of c / b is preferably 1 or more and 6 or less, more preferably 1 or more and 4 or less, still more preferably 1 or more and 3 or less, and particularly preferably 1 or more and 2 or less.
[0259]
The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodispersion is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, and even more preferably 50% of the value obtained by dividing the standard deviation of the lengths of the short and long axes by the short and long axes. Indicates the following. The method for measuring the shape of the organic silver salt can be determined from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method for measuring monodispersity, there is a method of obtaining from the standard deviation of the volume weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage (variation coefficient) of the value divided by the volume weighted average diameter is preferably 100% or less, more Preferably it is 80% or less, More preferably, it is 50% or less. As a measuring method, for example, it is obtained from the particle size (volume weighted average diameter) obtained by irradiating an organic silver salt dispersed in a liquid with laser light and obtaining an autocorrelation function with respect to the temporal change of the fluctuation of the scattered light. Can do.
[0260]
3) Preparation method
Known methods and the like can be applied to the production and dispersion method of the organic acid silver used in the present invention. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-62899, European Patent Publication No. 0803763A1, European Patent Publication No. 0968212A1, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-349591, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-7683, Japanese Patent Application Laid-Open No. JP-A-2001-163889-90, JP-A-11-203413, Japanese Patent Application Nos. 2000-90093, 2000-195621, 2000-191226, 2000-213813, 2000-214155, 2000-. Reference may be made to 191226 and the like.
[0261]
In the present invention, an organic silver salt aqueous dispersion and a photosensitive silver salt aqueous dispersion can be mixed to produce a photosensitive material. Mixing two or more organic silver salt water dispersions and two or more photosensitive silver salt water dispersions when mixing is a method preferably used for adjusting photographic properties.
[0262]
4) Amount added
The organic silver salt of the present invention can be used in a desired amount, but the amount of silver is 0.1 to 5 g / m.²Is more preferable, and more preferably 1 to 3 g / m.²It is. Particularly preferably, 1.0 to 1.9 g / m²It is.
5) Silver development rate
When the silver in the coating film of the photothermographic material is thermally developed, it is reduced to metallic silver by a reducing agent to form an image. The silver utilization efficiency in the image is referred to as the silver development rate.
Here, the development rate is the unit area of silver converted to reduced silver by heat development, where A is the number of moles of total silver per unit area (total of organic silver salt and silver halide) in the photothermographic material. When the number of moles per unit is B, it is defined as B / A × 100.
[0263]
Specifically, as a method for obtaining the development rate, first, the number of moles B of reduced silver is obtained. The undeveloped organic silver salt and photosensitive halogenation are obtained by immersing the photothermographic material exposed and developed to give the maximum density in a 10% methanol solution of 2,2 '-(ethylenedithio) diethanol for 1 hour. Fix silver. It is then washed with a methanol solution and dried. The amount of silver per unit area is measured from the fluorescent X-ray intensity. It can be obtained by obtaining a calibration curve with a known amount of silver applied in advance. Next, the method for obtaining the mole number A of the total silver amount in the photothermographic material can be obtained by obtaining the total coated silver amount from the fluorescent X-ray intensity using an undeveloped photothermographic material.
[0264]
The photothermographic material of the present invention preferably has a development rate at the maximum density of 70% or more. More preferably, the developing rate at the maximum density is 80% or more, and most preferably 90% or more.
[0265]
The larger this number, the higher the utilization efficiency of the organic silver salt, and the higher maximum concentration can be obtained with a smaller amount of organic silver salt. As a result of diligent analysis on the silver development rate, the present inventors have converted part of the organic silver salt into silver halide by the organic polyhalogen compound, or converted the reduced silver into silver halide. It was found that the silver development rate was lowered. In addition, the silver development rate increases when fully developed, but the optimum photographic properties (for example, fog, image color tone, or gradation) can be obtained under development conditions with a lower development rate. found. Accordingly, obtaining a high development rate while maintaining the characteristics of the photothermographic material such as storage stability, photographic performance, and rapid developability has always been a challenge in designing photothermographic materials. It was. In particular, among the photographic characteristics, the image color tone is highly dependent on the silver development rate, and it is not easy to obtain a high silver development rate at the same time while obtaining an optimum image color tone.
[0266]
Image color tone can be evaluated by sensory evaluation, but quantitatively, a defined in JIS Z8729 standard^*b^*Hue angle obtained from coordinates (h_ab).
In the present invention, the hue angle of the sample exposed and developed so that the optical density is 1.0 is preferably 180 ° to 270 °.
[0267]
8). Development accelerator
In the photothermographic material of the present invention, a sulfonamide phenol compound represented by the general formula (A) described in JP-A No. 2000-267222, JP-A No. 2000-330234, or the like is used as a development accelerator. Hindered phenol compounds represented by general formula (II) described in No. 92075, general formula (I) described in JP-A Nos. 10-62895 and 11-15116, and JP-A No. 2002-278017 The hydrazine-based compound represented by the general formula (1) described above and the phenol-based or naphthol-based compound represented by the general formula (2) described in Japanese Patent Application No. 2000-76240 are preferably used. These development accelerators are used in the range of 0.1 to 20 mol% with respect to the reducing agent, preferably in the range of 0.5 to 10 mol%, more preferably in the range of 1 to 5 mol%. The introduction method to the light-sensitive material includes the same method as the reducing agent, but it is particularly preferable to add as a solid dispersion or an emulsified dispersion. When added as an emulsified dispersion, it is added as an emulsified dispersion dispersed using a high-boiling solvent that is solid at room temperature and a low-boiling auxiliary solvent, or as a so-called oilless emulsified dispersion that does not use a high-boiling solvent. It is preferable to add.
[0268]
In the present invention, among the above development accelerators, a hydrazine-based compound represented by the general formula (1) described in JP-A No. 2002-278017 and a general formula (2) described in Japanese Patent Application No. 2000-76240. A phenolic or naphtholic compound represented by the formula is particularly preferred.
[0269]
Hereinafter, although the preferable specific example of the development accelerator of this invention is given, this invention is not limited to these.
[0270]
Embedded image

[0271]
9. Hydrogen bonding compound
In the present invention, it is preferable to use a non-reducing compound having a group capable of forming a hydrogen bond with an aromatic hydroxyl group (—OH) of the reducing agent.
[0272]
Examples of the group capable of forming a hydrogen bond include a phosphoryl group, a sulfoxide group, a sulfonyl group, a carbonyl group, an amide group, an ester group, a urethane group, a ureido group, a tertiary amino group, and a nitrogen-containing aromatic group. Among them, preferred are a phosphoryl group, a sulfoxide group, an amide group (however, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a urethane group. (However, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a ureido group (however, it has no> N—H group,> N-Ra (Ra is a substituent other than H).)
[0273]
In the present invention, particularly preferred hydrogen bonding compounds are compounds represented by the following general formula (D).
[0274]
Formula (D)
Embedded image

[0275]
R in general formula (D)²¹Or R²³Each independently represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a heterocyclic group, and these groups may be unsubstituted or may have a substituent.
[0276]
R²¹Or R²³In the case where has a substituent, the substituent is a halogen atom, alkyl group, aryl group, alkoxy group, amino group, acyl group, acylamino group, alkylthio group, arylthio group, sulfonamido group, acyloxy group, oxycarbonyl group, carbamoyl Group, sulfamoyl group, sulfonyl group, phosphoryl group and the like. Preferred as substituents are alkyl groups or aryl groups such as methyl group, ethyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-octyl group, phenyl group, 4-alkoxyphenyl group, 4-acyloxyphenyl group and the like can be mentioned.
[0277]
R²¹Or R²³Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, butyl group, octyl group, dodecyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-amyl group, t-octyl group, cyclohexyl group, and 1-methylcyclohexyl group. Benzyl group, phenethyl group, 2-phenoxypropyl group, and the like.
[0278]
Examples of the aryl group include phenyl group, cresyl group, xylyl group, naphthyl group, 4-t-butylphenyl group, 4-t-octylphenyl group, 4-anisidyl group, and 3,5-dichlorophenyl group.
[0279]
Alkoxy groups include methoxy, ethoxy, butoxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, 3,5,5-trimethylhexyloxy, dodecyloxy, cyclohexyloxy, 4-methylcyclohexyloxy, benzyl An oxy group etc. are mentioned.
[0280]
Examples of the aryloxy group include a phenoxy group, a cresyloxy group, an isopropylphenoxy group, a 4-t-butylphenoxy group, a naphthoxy group, and a biphenyloxy group.
[0281]
Examples of the amino group include a dimethylamino group, a diethylamino group, a dibutylamino group, a dioctylamino group, an N-methyl-N-hexylamino group, a dicyclohexylamino group, a diphenylamino group, and an N-methyl-N-phenylamino group. .
[0282]
R²¹Or R²³Are preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group. In terms of the effect of the present invention, R²¹Or R²³Of these, at least one is preferably an alkyl group or an aryl group, and more preferably two or more are an alkyl group or an aryl group. In addition, R can be obtained at low cost.²¹Or R²³Are preferably the same group.
[0283]
Specific examples of the hydrogen bonding compound including the compound of the general formula (D) in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0284]
Embedded image

[0285]
Embedded image

[0286]
Specific examples of the hydrogen bonding compound include those described in JP-A Nos. 2002-156727 and 2002-318431 in addition to the above.
[0287]
The hydrogen bonding compound of the present invention can be used in a light-sensitive material after being contained in a coating solution in the form of a solution, an emulsified dispersion, or a solid dispersed fine particle dispersion in the same manner as the reducing agent. The compound of the present invention forms a complex by a hydrogen bond with a compound having a phenolic hydroxyl group in a solution state. Depending on the combination of the reducing agent and the compound of the general formula (A) of the present invention, the compound of the present invention Can be separated.
[0288]
The use of the crystal powder isolated in this way as a solid dispersed fine particle dispersion is particularly preferable for obtaining stable performance. Further, a method in which the reducing agent and the hydrogen bonding compound of the present invention are mixed as a powder and complexed at the time of dispersion with a sand grinder mill or the like using an appropriate dispersant can be preferably used.
[0289]
The hydrogen bonding compound of the present invention is preferably used in the range of 1 to 200 mol%, more preferably in the range of 10 to 150 mol%, still more preferably in the range of 30 to 100 mol% with respect to the reducing agent. It is.
[0290]
9. Antifogging agent
Examples of antifoggants that can be used in the present invention include mercury (II) salts described in paragraph No. 0113 of JP-A No. 11-65021, benzoic acids of paragraph No. 0114 of the same, salicylic acid derivatives disclosed in JP-A No. 2000-206642, A formalin scavenger compound represented by formula (S) of 2000-221634, a triazine compound according to claim 9 of JP-A-11-352624, a compound represented by formula (III) of JP-A-6-11791, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene and the like.
[0291]
As other antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors that can be used in the present invention, paragraph No. 0070 of JP-A No. 10-62899, page 20, line 57 to page 21, page 7 of European Patent No. 0803764A1 Patents described in the row, and compounds described in JP-A-9-281638 and JP-A-9-329864 are exemplified.
[0292]
The photothermographic material in the invention may contain an azolium salt for the purpose of fog prevention. Examples of the azolium salt include compounds represented by general formula (XI) described in JP-A-59-193447, compounds described in JP-B-55-12581, and general formula (II) described in JP-A-60-153039. And the compounds represented. The azolium salt may be added to any part of the photosensitive material, but the addition layer is preferably added to the layer having the photosensitive layer, and more preferably to the organic silver salt-containing layer.
[0293]
The azolium salt may be added at any step in the coating solution preparation. When added to the organic silver salt-containing layer, any step from the preparation of the organic silver salt to the preparation of the coating solution may be used. To immediately before coating. The azolium salt may be added by any method such as powder, solution, fine particle dispersion. Moreover, you may add as a solution mixed with other additives, such as a sensitizing dye, a reducing agent, and a color toning agent.
[0294]
In the present invention, any amount of the azolium salt may be added, but 1 × 10 10 per silver mole.^-6Preferred is 1 mol or more and 2 mol or less.^-3More preferably, it is more than mol and less than 0.5 mol.
[0295]
11. binder
The binder of the organic silver salt-containing layer of the present invention may be any polymer, suitable binders are transparent or translucent and generally colorless, natural resins, polymers and copolymers, synthetic resins, polymers and copolymers, other films Forming media such as gelatins, gums, poly (vinyl alcohol) s, hydroxyethyl celluloses, cellulose acetates, cellulose acetate butyrates, poly (vinyl pyrrolidone) s, casein, starch, poly (acrylic acid) , Poly (methyl methacrylic acid) s, poly (vinyl chloride) s, poly (methacrylic acid) s, styrene-maleic anhydride copolymers, styrene-acrylonitrile copolymers, styrene-butadiene copolymers, Poly (vinyl acetal) s (eg, poly (vinyl acetal) Marl) and poly (vinyl butyral)), poly (esters), poly (urethane) s, phenoxy resins, poly (vinylidene chloride) s, poly (epoxides), poly (carbonates), poly (vinyl acetate) s , Poly (olefin) s, cellulose esters, and poly (amides). The binder may be coated from water or an organic solvent or emulsion.
[0296]
In the present invention, the glass transition temperature of the binder of the layer containing the organic silver salt is preferably 10 ° C. or higher and 80 ° C. or lower, more preferably 20 ° C. to 70 ° C., and 23 ° C. or higher and 65 ° C. or lower. More preferably.
[0297]
In this specification, Tg is calculated by the following formula.
1 / Tg = Σ (Xi / Tgi)
[0298]
Here, it is assumed that n monomer components from i = 1 to n are copolymerized in the polymer. Xi is the weight fraction of the i-th monomer (ΣXi = 1), and Tgi is the glass transition temperature (absolute temperature) of the homopolymer of the i-th monomer. However, Σ is the sum from i = 1 to n.
The transition temperature value (Tgi) of the homopolymer glass of each monomer was determined by Polymer Handbook (3^rd  (Edition) (by J. Brandrup, EH Immergut (Wiley-Interscience, 1989)).
[0299]
The polymer used as the binder may be used alone or in combination of two or more as required. Further, a glass transition temperature of 20 ° C. or higher and a glass transition temperature of less than 20 ° C. may be used in combination. When two or more kinds of polymers having different Tg are blended and used, the weight average Tg is preferably within the above range.
[0300]
In the present invention, when the organic silver salt-containing layer is formed using a coating solution in which 30% by mass or more of the solvent is water and dried, the binder of the organic silver salt-containing layer is further an aqueous solvent ( When it is soluble or dispersible in an aqueous solvent), the performance is improved particularly when it is made of a latex of a polymer having an equilibrium moisture content of 2% by mass or less at 25 ° C. and 60% RH.
The most preferable form is one prepared so that the ionic conductivity is 2.5 mS / cm or less, and as such a preparation method, there is a method of performing purification treatment using a separation functional membrane after polymer synthesis.
[0301]
The aqueous solvent in which the polymer is soluble or dispersible here is a mixture of water or water and 70% by mass or less of a water-miscible organic solvent.
Examples of the water-miscible organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, and propyl alcohol, cellosolvs such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve, ethyl acetate, and dimethylformamide.
[0302]
The “equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH” is the following using the weight W1 of the polymer in the humidity-controlled equilibrium under the atmosphere of 25 ° C. and 60% RH and the weight W0 of the polymer in the absolutely dry state at 25 ° C. It can be expressed as
Equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH = [(W1−W0) / W0] × 100 (mass%) For the definition and measurement method of moisture content, see, for example, Polymer Engineering Laboratory 14, Polymer Material Testing Method (polymer (Journal of academic society, Jinjinshokan).
[0303]
The equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH of the binder polymer of the present invention is preferably 2% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or more and 1.5% by mass or less, and further preferably 0.02% by mass. % To 1% by mass is desirable.
[0304]
The binder of the present invention is particularly preferably a polymer that can be dispersed in an aqueous solvent. Examples of the dispersed state include latex in which fine particles of water-insoluble hydrophobic polymer are dispersed and polymer molecules dispersed in a molecular state or forming micelles, and all are preferable. The average particle size of the dispersed particles is preferably 1 to 50000 nm, more preferably about 5 to 1000 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.
[0305]
In the present invention, preferred embodiments of the polymer that can be dispersed in an aqueous solvent include acrylic polymers, poly (esters), rubbers (eg, SBR resin), poly (urethanes), poly (vinyl chloride) s, poly (acetic acid). Hydrophobic polymers such as vinyl), poly (vinylidene chloride) and poly (olefin) can be preferably used. These polymers may be linear polymers, branched polymers, crosslinked polymers, so-called homopolymers obtained by polymerizing a single monomer, or copolymers obtained by polymerizing two or more types of monomers. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer.
[0306]
These polymers have a number average molecular weight of 5,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 200,000. When the molecular weight is too small, the mechanical strength of the emulsion layer is insufficient, and when the molecular weight is too large, the film formability is poor, which is not preferable.
[0307]
Specific examples of preferable polymer latex include the following. Below, it represents using a raw material monomer, the numerical value in a parenthesis is the mass%, and molecular weight is a number average molecular weight. When a polyfunctional monomer was used, the concept of molecular weight was not applicable because a crosslinked structure was formed, so it was described as crosslinkability, and the description of molecular weight was omitted. Tg represents the glass transition temperature.
[0308]
Latex of P-1; -MMA (70) -EA (27) -MAA (3)-(molecular weight 37000, Tg 61 ° C.)
Latex of P-2; -MMA (70) -2EHA (20) -St (5) -AA (5)-(molecular weight 40000, Tg 59 ° C.)
P-3; latex of -St (50) -Bu (47) -MAA (3)-(crosslinkability, Tg-17 ° C)
Latex of P-4; -St (68) -Bu (29) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 17 ° C.)
Latex of P-5; -St (71) -Bu (26) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 24 ° C.)
Latex of P-6; -St (70) -Bu (27) -IA (3)-(crosslinkability)
Latex of P-7; -St (75) -Bu (24) -AA (1)-(crosslinkability, Tg 29 ° C.)
Latex (crosslinkability) of P-8; -St (60) -Bu (35) -DVB (3) -MAA (2)-
Latex (crosslinkability) of P-9; -St (70) -Bu (25) -DVB (2) -AA (3)-
P-10; latex of VC (50) -MMA (20) -EA (20) -AN (5) -AA (5)-(molecular weight 80000)
P-11; latex of VDC (85) -MMA (5) -EA (5) -MAA (5)-(molecular weight 67000)
Latex of P-12; -Et (90) -MAA (10)-(molecular weight 12000)
P-13; Latex of -St (70) -2EHA (27) -AA (3) (molecular weight 130000, Tg 43 ° C)
P-14; latex of MMA (63) -EA (35) -AA (2) (molecular weight 33000, Tg 47 ° C.)
Latex of P-15; -St (70.5) -Bu (26.5) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 23 ° C.)
Latex of P-16; -St (69.5) -Bu (27.5) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 20.5 ° C)
[0309]
The abbreviations for the above structures represent the following monomers. MMA; Methyl methacrylate, EA; Ethyl acrylate, MAA; Methacrylic acid, 2EHA; 2-Ethylhexyl acrylate, St; Styrene, Bu; Butadiene, AA; Acrylic acid, DVB; Divinylbenzene, VC; Vinyl chloride, AN; Acrylonitrile, VDC Vinylidene chloride, Et; ethylene, IA; itaconic acid.
[0310]
The polymer latex described above is also commercially available, and the following polymers can be used. Examples of the acrylic polymer include Sebian A-4635, 4718, 4601 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811, 814, 821, 820, 857 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), poly ( Examples of esters (polyesters) such as FINITEXES650, 611, 675, and 850 (above made by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), WD-size, and WMS (above made by Eastman Chemical) As examples of rubbers such as HYDRAN AP10, 20, 30, 40 (manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), LACSTAR 7310K, 3307B, 4700H, 7132C (manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), Nipol Lx416, 410, 438C, 2507 (above ZEON CORPORATION) Examples of poly (vinyl chloride) include G351 and G576 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), and examples of poly (vinylidene chloride) include L502 and L513 (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.). Examples of poly (olefin) s include Chemipearl S120, SA100 (manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd.).
These polymer latexes may be used alone or in combination of two or more as required.
[0311]
As the polymer latex used in the present invention, a styrene-butadiene copolymer latex is particularly preferable. The weight ratio of the styrene monomer unit to the butadiene monomer unit in the styrene-butadiene copolymer is preferably 40:60 to 95: 5. The proportion of the styrene monomer unit and the butadiene monomer unit in the copolymer is preferably 60 to 99% by mass. The preferred molecular weight range is the same as described above.
[0312]
Examples of the latex of styrene-butadiene copolymer that is preferably used in the present invention include the aforementioned P-3 to P-8, 14, and 15, commercially available LACSTAR-3307B and 7132C, and Nipol Lx416.
[0313]
If necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose may be added to the organic silver salt-containing layer of the light-sensitive material of the present invention.
[0314]
The amount of these hydrophilic polymers added is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, based on the total binder of the organic silver salt-containing layer.
[0315]
The organic silver salt-containing layer (that is, the image forming layer) of the present invention is preferably formed using a polymer latex as a binder. The amount of the binder in the organic silver salt-containing layer is preferably such that the weight ratio of total binder / organic silver salt is 1/10 to 10/1, more preferably 1/5 to 4/1.
[0316]
In addition, such an organic silver salt-containing layer is usually a photosensitive layer (emulsion layer) containing a photosensitive silver halide which is a photosensitive silver salt. The weight ratio of silver is preferably 400-5, more preferably 200-10.
[0317]
The total binder amount of the image forming layer of the present invention is 0.2 to 30 g / m.², More preferably 1-15 g / m²The range of is preferable. The image forming layer of the present invention may contain a crosslinking agent for crosslinking, a surfactant for improving coating properties, and the like.
[0318]
In the present invention, the solvent of the organic silver salt-containing layer coating solution of the light-sensitive material (here, for simplicity, the solvent and the dispersion medium are collectively referred to as a solvent) is preferably an aqueous solvent containing 30% by mass or more of water. As a component other than water, any water-miscible organic solvent such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate may be used. The water content of the solvent is more preferably 50% by mass or more, and still more preferably 70% by mass or more.
[0319]
Specific examples of the preferred solvent composition include water 100, water / methyl alcohol = 90/10, water / methyl alcohol = 70/30, water / methyl alcohol / dimethylformamide = 80/15/5, water / methyl. Alcohol / ethyl cellosolve = 85/10/5, water / methyl alcohol / isopropyl alcohol = 85/10/5, etc. (numerical values are mass%).
[0320]
12 Other additives
1) Mercapto, disulfide, and thiones
In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, and a thione compound can be contained in order to suppress or promote development to control development, to improve spectral sensitization efficiency, and to improve storage stability before and after development. JP-A-10-62899, Paragraph Nos. 0067 to 0069, JP-A-10-186572, General Formula (I) and specific examples thereof include Paragraph Nos. 0033 to 0052, European Patent Publication No. 0803764A1 20 pages, lines 36 to 56, and Japanese Patent Application No. 11-273670. Of these, mercapto-substituted heteroaromatic compounds are preferred.
[0321]
2) Color preparation
In the photothermographic material of the present invention, it is preferable to add a color toning agent. For the color toning agent, paragraph numbers 0054 to 0055 of JP-A No. 10-62899, p. Lines 21, 23 to 48, JP-A No. 2000-356317 and Japanese Patent Application No. 2000-187298, in particular, phthalazinones (phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazinones and phthalic acids (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid, A combination of diammonium phthalate, sodium phthalate, potassium phthalate and tetrachlorophthalic anhydride); phthalazines (phthalazine, phthalazine derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6-isopropylphthalazine, 6 -T-butylphthalazine, 6-chloro (Talazine, 5.7-dimethoxyphthalazine, and 2,3-dihydrophthalazine) are preferable. In particular, in the combination with silver halide having a high silver iodide content, the combination of phthalazine and phthalic acid is preferable.
[0322]
The amount of phthalazine added is preferably 0.01 to 0.3 mol, more preferably 0.02 to 0.2 mol, particularly preferably 0.02 to 0.1 mol, per mol of the organic silver salt. It is. This addition amount is an important factor for promoting development, which is a problem in the silver halide emulsion having a high silver iodide content of the present invention. By selecting an appropriate addition amount, both sufficient developability and low fog are achieved. Is possible.
[0323]
3) Plasticizer, lubricant
The plasticizer and lubricant that can be used in the photosensitive layer of the present invention are described in paragraph No. 0117 of JP-A No. 11-65021. The slip agent is described in JP-A No. 11-84573, paragraph numbers 0061 to 0064 and Japanese Patent Application No. 11-106881, paragraph numbers 0049 to 0062.
[0324]
4) Dyes and pigments
In the photosensitive layer of the present invention, various dyes and pigments (for example, CI Pigment Blue 60, CI Pigment Blue 64, C.I. Pigment Blue 64, C.I. I. Pigment Blue 15: 6) can be used. These are described in detail in WO98 / 36322, JP-A-10-268465, JP-A-11-338098 and the like.
[0325]
5) Ultra-high contrast agent
In order to form an ultrahigh contrast image suitable for printing plate making applications, it is preferable to add an ultrahigh contrast agent to the image forming layer. As for the ultra-high contrast agent and its addition method and addition amount, the formulas of JP-A No. 11-65021, paragraph No. 0118, JP-A No. 11-223898, paragraph Nos. 0136 to 0193, and Japanese Patent Application No. 11-87297 ( H), compounds of formulas (1) to (3), formulas (A) and (B), compounds of general formulas (III) to (V) described in Japanese Patent Application No. 11-91652 (specific compounds: Chemical Formula 21 to Chemical Formula 24) and the high contrast accelerator are described in paragraph No. 0102 of JP-A No. 11-65021 and paragraph Nos. 0194 to 0195 of JP-A No. 11-223898.
[0326]
In order to use formic acid or formate as a strong fogging substance, it is preferably contained at 5 mmol or less, more preferably 1 mmol or less, per mol of silver on the side having the image forming layer containing photosensitive silver halide.
When the ultrahigh contrast agent is used in the photothermographic material of the present invention, it is preferable to use an acid formed by hydrating diphosphorus pentoxide or a salt thereof in combination. Acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include metaphosphoric acid (salt), pyrophosphoric acid (salt), orthophosphoric acid (salt), triphosphoric acid (salt), tetraphosphoric acid (salt), hexametalin An acid (salt) etc. can be mentioned. Examples of the acid or salt thereof formed by hydrating diphosphorus pentoxide particularly preferably include orthophosphoric acid (salt) and hexametaphosphoric acid (salt). Specific examples of the salt include sodium orthophosphate, sodium dihydrogen orthophosphate, sodium hexametaphosphate, ammonium hexametaphosphate and the like.
Amount of acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide (1m photosensitive material)²The coating amount per unit) may be a desired amount according to the performance such as sensitivity and fog, but 0.1 to 500 mg / m²Is preferably 0.5 to 100 mg / m²Is more preferable.
[0327]
6) Antihalation dye
The photothermographic material of the present invention preferably contains a dye having light absorption at the exposure wavelength in at least one of the photosensitive layer and the non-photosensitive layer for the purpose of preventing halation during exposure. Examples of the non-photosensitive layer include a non-photosensitive layer (an antihalation layer or an undercoat layer) on the support side of the photosensitive layer, and a non-photosensitive layer on the back surface on the opposite side of the support from the photosensitive layer.
The antihalation dye may be an infrared absorbing dye when the exposure wavelength is in the infrared region, and may be an ultraviolet absorbing dye when the exposure wavelength is in the ultraviolet region, both of which absorb in the visible region. Dyes that do not have or have little absorption in the visible range are preferred.
[0328]
When the exposure wavelength is in the visible range, it is preferable that the antihalation dye does not substantially retain the dye color after image formation, and it is preferable to use a means for decoloring by the heat of heat development. In particular, it is preferable to add a thermally decolorable dye and a base precursor to the non-photosensitive layer to function as a thermally decolorable antihalation layer. These techniques are described in JP-A-11-231457 and the like.
[0329]
The amount of antihalation dye added is determined by the use of the dye. In general, the optical density (absorbance) when measured at the target wavelength is preferably used in an amount exceeding 0.1, and more preferably 0.2 to 2. The amount of dye used to obtain such an optical density is generally 0.001 to 1 g / m.²Degree.
[0330]
When the exposure light source is laser light, the antihalation layer only needs to absorb light in a narrow wavelength region in accordance with the emission peak wavelength, so that the amount of dye applied can be reduced, and a photosensitive material is produced at low cost. be able to.
In addition, as the emission peak wavelength of laser light becomes shorter, higher-definition image recording becomes possible. For this reason, it is preferable that the light emission peak wavelength of a laser beam is 350-430 nm, and it is more preferable that it is 380-420 nm from a practical viewpoint.
[0331]
When laser light having an emission peak wavelength of 350 to 430 nm is used as an exposure light source, the antihalation dye preferably has an absorption maximum between 350 nm and 430 nm. Furthermore, when the emission peak wavelength of laser light is 380 to 420 nm, the dye preferably has an absorption maximum at 380 nm to 420 nm.
The layer containing a dye having an absorption maximum between 350 nm and 430 nm is preferably a photosensitive layer, a non-photosensitive layer on the support side of the photosensitive layer (which may be an antihalation layer), and opposite to the photosensitive layer with respect to the support This is a non-photosensitive layer on the back surface on the side.
[0332]
The type of the dye is not particularly limited as long as it has an absorption maximum between 350 nm and 430 nm. The absorption maximum observed between 350 nm and 430 nm may be main absorption or secondary absorption. Specific examples of dyes having an absorption maximum between 350 nm and 430 nm include azo dyes, azomethine dyes, quinone dyes (such as anthraquinone dyes and naphthoquinone dyes), quinoline dyes (such as quinophthalone dyes), and methine dyes (for example, Cyanine, merocyanine, oxonol, styryl, arylidene, aminobutadiene dyes, including polymethine dyes), carbonium dyes (eg, cationic dyes such as diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, acridine dyes), azine dyes (eg. , Thiazine dyes, oxazine dyes, phenazine dyes and other cationic dyes), aza [18] π-electron dyes (for example, porphine dyes, tetraazaporphine dyes, phthalocyanine dyes), indigoid dyes (indigo dyes) , Thioindigo dyes, etc.), squarylium dyes, croconium dyes, pyromethene dyes, nitro / nitroso dyes, benzotriazole dyes, triazine dyes, etc., preferably azo dyes, azomethine dyes, quinone dyes, quinoline dyes Methine dyes, aza [18] π electron dyes, indigoid dyes, and pyromethene dyes, more preferably azo dyes, azomethine dyes, and methine dyes, with methine dyes being particularly preferred. These dyes may be in a solid fine particle dispersed state, an associated state (including a liquid crystal state), or two or more kinds of dyes may be used in combination.
[0333]
It is preferable to use an antihalation dye having a large absorption at the exposure wavelength because the amount of the dye applied can be reduced. Therefore, it is preferable that the antihalation dye is a dye exhibiting a sharp absorption spectrum peak with a narrow half width, or used in a state exhibiting such absorption. It is preferable to use the dye in a solid fine particle dispersed state or an associated state because it can increase absorption and sharpen the absorption spectrum peak. In order to form the dye aggregate, it is preferable to use a dye having an ionic hydrophilic group. The full width at half maximum of dye absorption is preferably 100 nm or less, more preferably 75 nm or less, and even more preferably 50 nm or less.
[0334]
The antihalation dye may or may not be decolored after image formation. When the dye is not decolored (hereinafter referred to as “non-decoloring”), it is preferable that the dye is not noticeable, and it is preferable that the ratio obtained by slowing the absorption at the exposure wavelength by the absorption at 425 nm is larger. For example, when the photosensitive material is exposed and recorded with a semiconductor laser having a wavelength of 405 nm, the absorption ratio of 405 nm / 425 nm is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, and particularly preferably 15 or more.
Examples of such dyes include aminobutadiene dyes, merocyanine dyes in which an acidic nucleus and a basic nucleus are directly connected, or polymethine dyes. In addition, a non-decolorable dye can be added as an aqueous solution if it is water-soluble.
[0335]
On the other hand, it is also preferable to decolorize the antihalation dye during the heat development process. As the dye decoloring method, the following are known, and any method can be used.
(1) As described in JP-A-9-34077 and JP-A-2001-51371, a colorant (dye) comprising an electron-donating color developing organic compound and an acidic developer, and a specific erasing agent. A method of decoloring by reacting with a colorant during heat development;
(2) Compounds and radicals generated by light irradiation or heating as described in JP-A-9-133984, JP-A-2000-29168, 2000-284403, 2000-347341 A method of erasing the decolorizable dye in combination with a chromatic dye.
(3) U.S. Pat. Nos. 5,135,842, 5,258,724, 5,314,795, 5,324,627, 5,384,237, JP-A-3-26765, 6-222504, A method of decoloring the decolorizable dye by a combination of a compound capable of generating a base or a nucleophilic agent upon heating and a decolorizable dye described in JP-A-6-222505 and 7-36145.
(4) A method for decolorizing a dye by causing an intramolecular ring closure reaction by thermal decomposition of the dye itself, as described in US Pat. No. 4,894,358, JP-A-2-289856, and JP-A-59-182436 .
(5) Decolorizing properties described in JP-A-6-82948, JP-A-11-231457, JP-A 2000-112058, 2000-281923, and JP-A 2000-169248. A method of decolorizing a dye by a combination of a very good intramolecular ring-closing decoloring dye and a base or a base precursor.
[0336]
Among the above, the combination of the decolorizer (including radical generator, base precursor, nucleophile generator) and decolorizable dye achieves both decolorization during heat development and storage stability when not developed. It is easy to make it preferable. In particular, a combination of an intramolecular ring-closing decoloring dye and a base precursor is more preferable because it can achieve both decoloring properties and stability at a high level.
[0337]
Among the intramolecular ring-closing decoloring dyes, preferred are dyes having a polymethine chromophore, more preferably nucleophilicity by the action of a base at a position capable of reacting with a polymethine moiety to form a 5- to 7-membered ring. A polymethine dye having a group capable of generating a site. Particularly preferred is a polymethine dye having a group capable of forming a nucleophilic group by dissociation at a position capable of forming a 5- to 7-membered ring, such as a dye represented by the following general formulas (1) and (2). is there.
In particular, it is preferable to use a dye represented by the following general formula (1) or (2).
[0338]
Embedded image

[0339]
In the general formulas (1) and (2), R¹Is a hydrogen atom, aliphatic group, aromatic group, -NR²¹R²⁶, -OR²¹Or -SR²¹Represents R²¹And R²⁶Each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group, or R²¹And R²⁶And combine to form a nitrogen-containing heterocycle. R²Represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group, and R¹And R²And may combine with each other to form a 5- or 6-membered ring. L¹And L²Each independently represents a substituted or unsubstituted methine, and the substituents of methine may be bonded to each other to form an unsaturated aliphatic ring or an unsaturated heterocyclic ring. Z¹Is an atomic group necessary to complete a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring, and the nitrogen-containing heterocyclic ring may be condensed with an aromatic ring, and the nitrogen-containing heterocyclic ring and the condensed ring are It may have a substituent. A represents an acidic nucleus, and B represents an aromatic group, an unsaturated heterocyclic group, or a group represented by the following general formula (3). n and m each represent an integer of 1 to 3. When n and m are each 2 or more, L is 2 or more¹And L²May be the same or different.
[0340]
Embedded image

[0341]
In general formula (3), L³Represents substituted or unsubstituted methine, L²To form an unsaturated aliphatic ring or an unsaturated heterocyclic ring. R³Represents an aliphatic group or an aromatic group. Z²Is an atomic group necessary for completing a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring, and the nitrogen-containing heterocyclic ring may be condensed with an aromatic ring, and the nitrogen-containing heterocyclic ring and the condensed ring are substituted. It may have a group.
[0342]
Where R¹Is a hydrogen atom, aliphatic group, aromatic group, -NR²¹R²⁶, -OR²¹Or -SR²¹Represents R²¹And R²⁶Each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group, or R²¹And R²⁶And combine to form a nitrogen-containing heterocycle. R¹Is -NR²¹R²⁶, -OR²¹Or -SR²¹It is preferable that R²¹Is preferably an aliphatic group or an aromatic group, more preferably an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aralkyl group, a substituted aralkyl group, an unsubstituted aryl group or a substituted aryl group. R²⁶Is preferably a hydrogen atom or an aliphatic group, more preferably a hydrogen atom, an unsubstituted alkyl group or a substituted alkyl group. R²¹And R²⁶The nitrogen-containing heterocyclic ring formed by combining with each other is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring. The nitrogen-containing heterocycle may have a hetero atom other than nitrogen (eg, oxygen atom, sulfur atom).
[0343]
In this specification, “aliphatic group” means an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted alkenyl group, a substituted alkenyl group, an unsubstituted alkynyl group, a substituted alkynyl group, an unsubstituted aralkyl group or a substituted aralkyl group. To do. In the present invention, an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted alkenyl group, a substituted alkenyl group, an unsubstituted aralkyl group or a substituted aralkyl group is preferred, and an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aralkyl group or a substituted aralkyl group Is more preferable. A chain aliphatic group is preferred to a cyclic aliphatic group. The chain aliphatic group may have a branch. The number of carbon atoms of the unsubstituted alkyl group is preferably 1-30, more preferably 1-15, still more preferably 1-10, and most preferably 1-8. The alkyl part of the substituted alkyl group is the same as the preferred range of the unsubstituted alkyl group.
[0344]
The number of carbon atoms of the unsubstituted alkenyl group and the unsubstituted alkynyl group is preferably 2 to 30, more preferably 2 to 15, further preferably 2 to 12, and 2 to 8. Is most preferred. The alkenyl part of the substituted alkenyl group and the alkynyl part of the substituted alkynyl group are the same as the preferred ranges of the unsubstituted alkenyl group and the unsubstituted alkynyl group, respectively. The number of carbon atoms in the unsubstituted aralkyl group is preferably 7 to 35, more preferably 7 to 20, still more preferably 7 to 15, and most preferably 7 to 10. The aralkyl part of the substituted aralkyl group is the same as the preferred range of the unsubstituted aralkyl group.
[0345]
Examples of substituents for aliphatic groups (substituted alkyl groups, substituted alkenyl groups, substituted alkynyl groups, substituted aralkyl groups) include halogen atoms (fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms), hydroxyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups Silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, nitro group, sulfo group, carboxyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group Alkylthiocarbonyl group, heterocyclic group, cyano group, amino group (including anilino group), acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkyl and Reelsulfonylamino group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, alkyl and arylsulfinyl group, alkyl and arylsulfonyl group, alkoxycarbonyl group, imide group, phosphino group, phosphinyl group, phosphinyl group An oxy group, a phosphinylamino group, a phosphono group and a silyl group are included. The carboxyl group, sulfo group, and phosphono group may be in a salt state. The cation that forms a salt with the carboxyl group, phosphono group, or sulfo group is preferably ammonium or an alkali metal ion (eg, lithium ion, sodium ion, potassium ion).
[0346]
In the present specification, the “aromatic group” means an unsubstituted aryl group or a substituted aryl group. The number of carbon atoms of the unsubstituted aryl group is preferably 6-30, more preferably 6-20, still more preferably 6-15, and most preferably 6-12. The aryl part of the substituted aryl group is the same as the preferred range of the unsubstituted aryl group. Examples of the substituent of the aromatic group (substituted aryl group) include the aliphatic group and those exemplified in the examples of the substituent of the aliphatic group.
[0347]
In the general formulas (1) and (2), R²Represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group, and R¹And R²May combine to form a 5- or 6-membered ring. The definition of the aliphatic group and the aromatic group is as described above. R²Is preferably a hydrogen atom or an aliphatic group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, further preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom. Most preferred.
[0348]
In the general formulas (1), (2) and (3), L¹, L²And L³Each independently represents an optionally substituted methine. Methine substituents may be bonded to each other to form an unsaturated aliphatic ring or an unsaturated heterocyclic ring. Examples of the methine substituent include a halogen atom, an aliphatic group, and an aromatic group. The definition of the aliphatic group and the aromatic group is as described above. A methine substituent may be bonded to form an unsaturated aliphatic ring or an unsaturated heterocyclic ring. An unsaturated aliphatic ring is preferred over an unsaturated heterocyclic ring. The ring to be formed is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring, and more preferably a cyclopentene ring or a cyclohexene ring. It is particularly preferred that the methine is unsubstituted or substituted at the meso position with an alkyl group or an aryl group.
[0349]
In the general formula (1), n represents an integer of 1 to 3, and is preferably 1 or 2. When n is 2 or more, the repeated methine may be the same or different. In the general formula (2), m represents an integer of 1 to 3, and is preferably 1 or 2. When m is 2 or more, the repeated methine may be the same or different.
[0350]
In the general formulas (1) and (2), Z¹Is an atomic group necessary to complete a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle, and the nitrogen-containing heterocycle may be condensed with an aromatic ring, and the nitrogen-containing heterocycle and its condensed ring May have a substituent. Examples of the nitrogen-containing heterocycle include oxazole ring, thiazole ring, selenazole ring, pyrrole ring, pyrroline ring, imidazole ring and pyridine ring. A 5-membered ring is preferred over a 6-membered ring. The nitrogen-containing heterocycle may be condensed with an aromatic ring (benzene ring or naphthalene ring). The nitrogen-containing heterocycle and its condensed ring may have a substituent. Examples of the substituent include the substituents of the above-mentioned aromatic group, preferably a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom), hydroxyl, nitro, carboxyl, sulfo, alkoxy, aryl group And an alkyl group. Carboxyl and sulfo may be in a salt state. The cation that forms a salt with carboxyl and sulfo is preferably ammonium or an alkali metal ion (eg, sodium ion, potassium ion).
[0351]
In the general formula (1), B represents an aromatic group, an unsaturated heterocyclic group, or the following general formula (3). The definition of the aromatic group is as described above. The aromatic group represented by B is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group, and the substituent includes a halogen atom, an amino group, an acylamino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkyl group, an alkylthio group, and an aryl group. Those having an amino group, acylamino group, alkoxy group or alkyl group at the 4-position are particularly preferred. The unsaturated heterocyclic group represented by B is preferably a 5- or 6-membered heterocyclic group composed of carbon, oxygen, nitrogen, or sulfur atoms. Of these, a 5-membered ring is particularly preferred. Preferred examples include substituted or unsubstituted pyrrole, indole, thiophene and furan.
[0352]
In the general formula (3), Z²Is an atomic group forming a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle, and Z¹May be the same or different. Examples of the nitrogen-containing heterocycle are the above Z¹The thing similar to what was illustrated in (5) is illustrated. In the general formula (3), R³Represents an aliphatic group or an aromatic group, and is preferably an aliphatic group, particularly —CHR which is a substituent on the nitrogen atom of the general formula (1).²(COR¹) Is most preferable.
[0353]
In the general formula (2), A represents an acidic nucleus. The acidic nucleus is preferably a group obtained by removing one or more (usually two) hydrogen atoms from each of a cyclic ketomethylene compound or a compound having a methylene group sandwiched between electron-withdrawing groups. Examples of cyclic ketomethylene compounds include 2-pyrazolin-5-one, rhodanine, hydantoin, thiohydantoin, 2,4-oxazolidinedione, isoxazolone, barbituric acid, thiobarbituric acid, indandione, dioxopyrazolo Examples include pyridine, meldrum acid, hydroxypyridine, pyrazolidinedione, 2,5-dihydrofuran-2-one, and pyrrolin-2-one. These may have a substituent.
[0354]
The compound having a methylene group sandwiched between the electron withdrawing groups is Z^aCH₂Z^bIt can be expressed as. Z^aAnd Z^bAre each independently -CN, -SO₂R^a1, -COR^a1, -COOR^a2, -CONHR^a2, -SO₂NHR^a2, -C [= C (CN)₂] R^a1, -C [= C (CN)₂NHR^a1Represents R^a1Represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and R^a2Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and R^a1And R^a2Each may have a substituent. Among these acidic nuclei, 2-pyrazolin-5-one, isoxazolone, barbituric acid, indandione, hydroxypyridine, pyrazolidinedione and dioxopyrazolopyridine are more preferable.
[0355]
The dye represented by the general formula (1) preferably forms a salt with an anion. When the dye represented by the general formula (1) has an anionic group such as a carboxyl group or a sulfo group as a substituent, the dye can form an inner salt. In other cases, the dye preferably forms a salt with an anion outside the molecule. The anion is preferably monovalent or divalent, and more preferably monovalent. Examples of anions include halogen ions (Cl⁻, Br⁻, I⁻), P-toluenesulfonic acid ion, ethyl sulfate ion, 1,5-disulfonaphthalene dianion, PF₆ ⁻, BF₄ ⁻And ClO₄ ⁻Is included.
[0356]
The dyes represented by the general formulas (1) and (2) may be used in a molecular dispersion state, but are preferably used in a solid fine particle dispersion state or an association state. In order for the dye to form an aggregate, the dye preferably has an ionic hydrophilic group. Examples of the ionic hydrophilic group include a sulfo group, a carboxyl group, a phosphono group, and a quaternary ammonium group. As the ionic hydrophilic group, a carboxyl group, a phosphono group, and a sulfo group are preferable, and a carboxyl group and a sulfo group are particularly preferable. The carboxyl group, phosphono group, and sulfo group may be in the form of a salt. Examples of counter ions that form a salt include ammonium ions, alkali metal ions (eg, lithium ions, sodium ions, potassium ions), and organic cations. (Eg, tetramethylammonium ion, tetramethylguanidinium ion, tetramethylphosphonium).
[0357]
Next, general formulas of aminobutadiene dyes and merocyanine dyes preferably used as non-decoloring dyes for preventing halation are shown below.
[0358]
General formula (4)
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[0359]
Where R⁴¹, R⁴²Each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a group of nonmetallic atoms necessary to form a 5- or 6-membered ring by linking each other. Also, R⁴¹, R⁴²May be bonded to a methine group adjacent to the nitrogen atom to form a 5- or 6-membered ring. A⁴¹Represents an acidic nucleus.
[0360]
General formula (5)
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[0361]
Where R⁵¹~ R⁵⁵Each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group;⁵¹And R⁵⁴Together may form a double bond, R⁵¹And R⁵⁴Together form a double bond, R⁵²And R⁵³May be linked to form a benzene ring or a naphthalene ring. R⁵⁵Represents an aliphatic group or an aromatic group, E represents an oxygen atom, a sulfur atom, an ethylene group,> N—R⁵⁶Or> C (R⁵⁷) (R⁵⁸) And R⁵⁶Represents an aliphatic group or an aromatic group, R⁵⁷, R⁵⁸Each independently represents a hydrogen atom or an aliphatic group. A⁵¹Represents an acidic nucleus.
[0362]
General formula (6)
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[0363]
Where R⁶¹Represents a hydrogen atom, an aliphatic group, or an aromatic group. R⁶²Represents a hydrogen atom, an aliphatic group, or an aromatic group. Z⁶¹Represents an atomic group necessary for forming a nitrogen-containing heterocycle. Z⁶²And Z^{62 '}Is (N-R⁶²) Represents a group of atoms necessary for forming a heterocyclic or acyclic acidic terminal group together with m). However, Z⁶¹, And Z⁶²And Z^{62 '}Each may have a condensed ring. m represents 0 or 1;
[0364]
Hereinafter, the dyes represented by the general formulas (4), (5) and (6) will be described in detail.
R in the general formulas (4), (5) and (6)⁴¹, R⁴², R⁵¹~ R⁵⁸, R⁶¹And R⁶²An aliphatic group and an aromatic group in R are R¹The same aliphatic groups and aromatic groups described in the above can be applied, and examples of substituents are also the same.
[0365]
A⁴¹, A⁵¹As the acidic nucleus represented by the formula (2), those similar to those exemplified in A can be applied, each of a cyclic ketomethylene compound or a compound having a methylene group sandwiched between electron withdrawing groups. 1 or more (usually two) hydrogen atoms are preferably removed. Examples of more preferred methylene compounds include Z^aCH₂Z^b(Synonymous with those described in the description of A in the general formula (2)), 2-pyrazolin-5-one, isoxazolone, barbituric acid, indandione, meldrum acid, hydroxypyridine, pyrazolidinedione and dioxo And pyrazolopyridine. These may have a substituent.
R⁴¹And R⁴²Preferred examples of the 5- or 6-membered ring formed by linking pyrrolidine ring, piperidine ring, morpholine ring and the like.
[0366]
In the general formula (6), Z⁶¹Is an atomic group necessary to complete a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle, and the nitrogen-containing heterocycle may be condensed with an aromatic ring, and the nitrogen-containing heterocycle and its condensed ring May have a substituent. Examples of the nitrogen-containing heterocycle include thiazoline nucleus, thiazole nucleus, benzothiazole nucleus, oxazoline nucleus, oxazole nucleus, benzoxazole nucleus, selenazoline nucleus, selenazole nucleus, benzoselenazole nucleus, tellurazoline nucleus, tellurazole nucleus, benzotelrazole Nucleus, 3,3-dialkylindolenine nucleus (eg 3,3-dimethylindolenine), imidazoline nucleus, imidazole nucleus, benzimidazole nucleus, 2-pyridine nucleus, 4-pyridine nucleus, 2-quinoline nucleus, 4-quinoline nucleus 1-isoquinoline nucleus, 3-isoquinoline nucleus, imidazo [4,5-b] quinoxaline nucleus, oxadiazole nucleus, thiadiazole nucleus, tetrazole nucleus, pyrimidine nucleus, etc., preferably thiazoline nucleus, thiazole nucleus Benzothiazole nucleus, oxa Phosphorus nucleus, oxazole nucleus, benzoxazole nucleus, 3,3-dialkylindolenine nucleus (for example, 3,3-dimethylindolenine), imidazoline nucleus, imidazole nucleus, benzimidazole nucleus, 2-pyridine nucleus, 4-pyridine nucleus, 2 -Quinoline nucleus, 4-quinoline nucleus, 1-isoquinoline nucleus, 3-isoquinoline nucleus, more preferably thiazoline nucleus, thiazole nucleus, benzothiazole nucleus, oxazoline nucleus, oxazole nucleus, benzoxazole nucleus, 3,3-dialkylindo A renin nucleus (for example, 3,3-dimethylindolenine), an imidazoline nucleus, an imidazole nucleus, a benzimidazole nucleus, particularly preferably a thiazoline nucleus, a thiazole nucleus, a benzothiazole nucleus, an oxazoline nucleus, an oxazole nucleus, a benzoxazole nucleus, Most preferred It is a thiazoline nucleus, an oxazoline nucleus, a benzoxazole nucleus. The nitrogen-containing heterocycle may be condensed with an aromatic ring (benzene ring or naphthalene ring). The nitrogen-containing heterocycle and its condensed ring may have a substituent. Examples of the substituent include the above-mentioned aromatic substituents, preferably a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom), hydroxyl group, nitro group, carboxyl group, sulfo group, An alkoxy group, an aryl group and an alkyl group; The carboxyl group and the sulfo group may be in a salt state. The cation that forms a salt with the carboxyl group and the sulfo group is preferably ammonium or an alkali metal ion (for example, sodium ion or potassium ion).
[0367]
Z⁶²And Z^{62 '}And (N-R⁶²) M together represent a group of atoms necessary to form a heterocyclic or acyclic acidic end group. The heterocyclic ring (preferably a 5- or 6-membered heterocyclic ring) may be any, but an acidic nucleus is preferable.
Next, the acidic nucleus and the acyclic acidic end group will be described. The acidic nuclei and acyclic acidic end groups can take the form of the acidic nuclei and acyclic acidic end groups of any common merocyanine dye. Z in the preferred form⁶²Is a thiocarbonyl group, a carbonyl group, an ester group, an acyl group, a carbamoyl group, a cyano group or a sulfonyl group, more preferably a thiocarbonyl group or a carbonyl group. Z^{62 '}Represents the remaining atomic groups necessary to form an acidic nucleus and an acyclic acidic end group. In the case of forming an acyclic acidic terminal group, a thiocarbonyl group, a carbonyl group, an ester group, an acyl group, a carbamoyl group, a cyano group, a sulfonyl group and the like are preferable.
m is 0 or 1, but is preferably 1.
[0368]
The acidic nucleus and the acyclic acidic terminal group mentioned here are, for example, “The Theory of the Photographic Process” edited by James, 4th edition, Macmillan Publishing Co., Ltd. 1977, 197-200 Mitsugu. Here, an acyclic acidic terminal group means an acidic or electron-accepting terminal group that does not form a ring.
Acid nuclei and acyclic acidic end groups are specifically described in U.S. Pat. Nos. 3,567,719, 3,575,869, 3,804,634, No. 3,837,862, No. 4,002,480, No. 4,925,777, JP-A-3-167546, U.S. Pat. No. 5,994,051, U.S. Pat. Examples thereof include those described in Japanese Patent No. 5,747,236.
[0369]
The acidic nucleus is a heterocyclic ring (preferably a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring) composed of a carbon atom, a nitrogen atom, and / or a chalcogen atom (typically an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, and a tellurium atom). And more preferably a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle consisting of a carbon atom, a nitrogen atom, and / or a chalcogen atom (typically an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, and a tellurium atom). . Specifically, 2-pyrazolin-5-one, pyrazolidine-3,5-dione, imidazolin-5-one, hydantoin, 2 or 4-thiohydantoin, 2-iminooxazolidine-4-one, 2-oxazoline-5 -One, 2-thiooxazolidine-2,5-dione, 2-thiooxazoline-2,4-dione, isoxazolin-5-one, 2-thiazoline-4-one, thiazolidine-4-one, thiazolidine-2, 4-dione, rhodanine, thiazolidine-2,4-dithione, isorhodanine, indan-1,3-dione, thiophen-3-one, thiophen-3-one-1,1-dioxide, indoline-2-one, indoline- 3-one, 2-oxoindazolinium, 3-oxoindazolinium, 5,7-dioxo-6,7-dihi Rothiazolo [3,2-a] pyrimidine, cyclohexane-1,3-dione, 3,4-dihydroisoquinolin-4-one, 1,3-dioxane-4,6-dione, barbituric acid, 2-thiobarbitur Acid, chroman-2,4-dione, indazolin-2-one, pyrido [1,2-a] pyrimidine-1,3-dione, pyrazolo [1,5-b] quinazolone, pyrazolo [1,5-a] Benzimidazole, pyrazolopyridone, 1,2,3,4-tetrahydroquinoline-2,4-dione, 3-oxo-2,3-dihydrobenzo [d] thiophene-1,1-dioxide, 3-dicyanomethine-2, 3-Dihydrobenzo [d] thiophene-1,1-dioxide nuclei, carbonyl groups or thiocarbonyl groups forming these nuclei are active in acidic nuclei Nuclei having an exomethylene structure substituted at the tylene position, and nuclei having an exomethylene structure substituted at the active methylene position of an active methylene compound having a structure such as ketomethylene or cyanomethylene as a raw material for an acyclic acidic end group , And nuclei in which this is repeated.
These acidic nuclei and acyclic acidic terminal groups may be substituted or condensed with the substituents or rings shown in the examples of the substituents of the aromatic group.
[0370]
Z⁶²And Z^{62 '}And (N-R⁶²) M is preferably hydantoin, 2 or 4-thiohydantoin, 2-oxazoline-5-one, 2-thiooxazoline-2,4-dione, thiazolidine-2,4-dione, rhodanine, thiazolidine-2,4- Dithione, barbituric acid, 2-thiobarbituric acid, more preferably hydantoin, 2 or 4-thiohydantoin, 2-oxazolin-5-one, rhodanine, barbituric acid, 2-thiobarbituric acid . Particularly preferred are 2 or 4-thiohydantoin, 2-oxazolin-5-one and rhodanine.
[0371]
When the dye represented by the general formulas (4) to (6) is water-soluble, it preferably has an ionic hydrophilic group. Examples and preferred examples of the ionic hydrophilic group are the same as those described in the general formulas (1) and (2).
[0372]
Specific examples of preferably used antihalation dyes are shown below, but the antihalation dyes are not limited to the following specific examples.
[0373]
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[0374]
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[0390]
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[0390]
For the synthesis of antihalation dye compounds, a general method is described in “The Cyanines Dies and Related Compounds”, Frances Hammer, Interscience Publishers, 1964. Specifically, the above-mentioned JP-A-11-231457, special It can be synthesized by a method in conformity with Japanese Unexamined Patent Publication Nos. 2000-112058, 2000-86927 and 2000-86928.
[0392]
When the antihalation dye is decolored in the process of heat development, it can be decolored by applying a decoloring agent under heating conditions. Particularly, in the dyes of the general formulas (1) and (2), the active methylene group in the dye is deprotonated by the action of the base, and the nucleophilic species generated thereby nucleophilically attacks the methylene chain in the molecule, Discolors by forming an intramolecular ring closure. Accordingly, any base that can be used for this reaction can deprotonate the active methylene group in the dye. The number of ring members newly formed by the intramolecular ring closure reaction is not particularly limited, but is preferably a 5- to 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or a 7-membered ring. The substantially colorless compound formed in this way is a stable compound and does not return to the original dye, and there is no problem such as coloring due to the once decolored dye returning to its original state.
[0393]
The heating temperature in the decoloring reaction of the dye is preferably 40 to 200 ° C, more preferably 80 to 150 ° C, still more preferably 100 to 130 ° C, and 115 to 125 ° C. Is most preferred. The heating time is preferably 5 to 120 seconds, more preferably 10 to 60 seconds, further preferably 12 to 30 seconds, and most preferably 14 to 25 seconds. In the photothermographic material, heating for heat development can be used. As will be described later, it is preferable to use a heat-responsive base precursor (details will be described later) that generates a base by supplying heat. In such a case, the actual heating temperature and heating time are determined in consideration of the temperature and time required for thermal development or the temperature and time required for thermal decomposition.
[0394]
The decoloring agent necessary for the decoloring reaction is preferably a radical, a nucleophile, a base or a precursor thereof. When using the dye represented by the general formula (1) or (2), it is preferable to decolorize using a base or a base precursor. The base necessary for the decoloring reaction is a broad base, and includes a nucleophile (Lewis base) in addition to a narrow base. When the base coexists with the dye, the decoloring reaction may proceed slightly even at room temperature. Accordingly, it is preferable that the base is physically or chemically isolated from the dye, and when the color is to be erased, the isolated state is released by heating, for example, and the base and the dye are brought into contact (reaction). As a means for physically separating both, at least one of the dye and the base is encapsulated in a microcapsule; at least one of the dye and the base is encapsulated in a fine particle of a hot-melt material; or Bases are included in different layers; there is a means. The microcapsules include those that burst by pressure and those that burst by heating. Since the decolorization reaction proceeds easily under heating conditions, it is convenient to use microcapsules that burst (thermally responsive) when heated. For sequestration, at least one of base and dye is encapsulated in microcapsules. Both can be encapsulated in separate microcapsules. When the outer shell of the microcapsule is opaque, it is preferable that the dye is contained outside the microcapsule and the base is encapsulated in the microcapsule. The thermo-responsive microcapsules are described in Hiroyuki Moriga, Introductory / Special Paper Chemistry (Showa 50), and JP-A-1-150575.
[0395]
Wax or the like can be used as the hot-melt material used for separating the dye from the base. One of a base and a dye (preferably a base) can be added to the fine particles of the heat-meltable substance for isolation. The melting point of the hot-melt material is preferably between room temperature and the heating temperature when the decoloring reaction proceeds. When the layer containing the dye and the layer containing the base are separated and separated from each other, it is preferable to provide a barrier layer containing a hot-melt material between these layers.
[0396]
It is preferable to chemically separate the dye and the base because they are easy to implement. As a means for chemically isolating both, it is preferable to use a precursor that can generate (including release) a base by heating. As the base precursor, a thermal decomposition type base precursor is representative, and in particular, a thermal decomposition type (decarboxylation type) base precursor composed of a salt of a carboxylic acid and a base is representative. When the decarboxylated base precursor is heated, the carboxyl group of the carboxylic acid undergoes a decarboxylation reaction, and the organic base is released. As the carboxylic acid constituting the thermal decomposition method base precursor, sulfonylacetic acid or propiolic acid which is easily decarboxylated can be used. The sulfonylacetic acid and propiolic acid preferably have an aromatic group (aryl group or unsaturated heterocyclic group) that promotes decarboxylation as a substituent. The base precursor of sulfonyl acetate is described in JP-A-59-168441, and the base precursor of propiolate is described in JP-A-59-180537. The base component of the decarboxylation type base precursor is preferably an organic base, more preferably amidine, guanidine or a derivative thereof. The organic base is preferably a diacid base, a triacid base or a tetraacid base, more preferably a diacid base, and most preferably a diacid base of an amidine derivative or a guanidine derivative.
[0397]
The diacid base, triacid base or tetraacid base precursor of the amidine derivative is described in JP-B-7-59545. The diacid base, triacid base or tetraacid base precursor of the guanidine derivative is described in JP-B-8-10321. The diacid base of the amidine derivative or guanidine derivative comprises (A) two amidine or guanidine moieties, (B) a substituent of the amidine or guanidine moiety and (C) a divalent linking two amidine or guanidine moieties. Consists of a linking group. Examples of the substituent of (B) include an alkyl group (including a cycloalkyl group), an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, and a heterocyclic residue. Two or more substituents may combine to form a nitrogen-containing heterocycle. The linking group (C) is preferably an alkylene group or a phenylene group. As an example of a diacid base precursor of an amidine derivative or a guanidine derivative, a base precursor described in Chemical formula 55 to Chemical formula 95 of JP-A No. 11-231457 can be preferably used in the present invention.
[0398]
When the dye is decolored, the optical density after heat development can be reduced to 0.1 or less. Two or more decoloring dyes may be used in combination in the photothermographic material. Similarly, two or more kinds of base precursors may be used in combination. In the thermal decoloration using such decoloring dye and base precursor, a substance (for example, diphenyl sulfone) whose melting point is lowered by 3 ° C. (deg) or more when mixed with a base precursor as described in JP-A-11-352626. , 4-chlorophenyl (phenyl) sulfone), 2-naphthylbenzoate, and the like are preferable in terms of thermal decoloring properties and the like.
[0399]
The layer containing an antihalation dye preferably contains a binder together with the dye. As the binder, a hydrophilic polymer (eg, polyvinyl alcohol, gelatin) is preferably used. In general, in the photothermographic material, the addition amount of the antihalation dye is preferably used in such an amount that the optical density (absorbance) exceeds 0.1 when measured at a target wavelength. More preferably, it is 2 to 2.0. The amount of dye used to obtain such an optical density can be reduced by using an aggregate, and is generally 0.001 to 0.2 g / m.²Degree. Preferably, 0.001 to 0.1 g / m²More preferably, 0.001 to 0.05 g / m²It is. In the mode of decoloring the antihalation dye, the optical density can be lowered to 0.1 or less by decoloring the dye. Two or more dyes may be used in combination. Similarly, two or more kinds of base precursors may be used in combination. The use amount (mol) of the base precursor is preferably 1 to 100 times, more preferably 3 to 30 times the use amount (mol) of the dye. The base precursor is preferably dispersed and contained in any layer of the photothermographic material in the form of solid fine particles.
[0400]
As a method for adding the antihalation dye to the non-photosensitive layer, a method of adding a solid fine particle dispersion or an aggregate dispersion to the coating solution for the non-photosensitive layer can be employed. This addition method is the same as the method of adding a dye to an ordinary photothermographic material.
[0401]
13. Layer structure, other components
The photothermographic material of the present invention can have a non-photosensitive layer in addition to the image forming layer. The non-photosensitive layer includes (a) a surface protective layer provided on the image forming layer (on the side farther than the support), (b) between the plurality of image forming layers and between the image forming layer and the protective layer. It can be classified into an intermediate layer provided therebetween, (c) an undercoat layer provided between the image forming layer and the support, and (d) a back layer provided on the opposite side of the image forming layer.
[0402]
In addition, although a layer acting as an optical filter can be provided, it is provided as the layer (a) or (b). The antihalation layer is provided on the photosensitive material as the layer (c) or (d).
[0403]
1) Surface protective layer
In the photothermographic material of the invention, a surface protective layer can be provided for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer. The surface protective layer may be a single layer or a plurality of layers. The surface protective layer is described in JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0119 to 0120 and Japanese Patent Application No. 2000-171936.
[0404]
As the binder for the surface protective layer of the present invention, gelatin is preferable, but it is also preferable to use polyvinyl alcohol (PVA) or a combination thereof. As gelatin, inert gelatin (for example, Nitta gelatin 750), phthalated gelatin (for example, Nitta gelatin 801), and the like can be used.
[0405]
Examples of PVA include those described in paragraph Nos. 0009 to 0020 of JP-A No. 2000-171936. Completely saponified PVA-105, partially saponified PVA-205, PVA-335, and modified polyvinyl alcohol MP- Preferred is 203 (trade name, manufactured by Kuraray Co., Ltd.).
[0406]
Polyvinyl alcohol coating amount of protective layer (per layer) (support 1m²Per unit) as 0.3 to 4.0 g / m²Is preferable, 0.3 to 2.0 g / m²Is more preferable.
[0407]
Total binder (including water-soluble polymer and latex polymer) coating amount of surface protective layer (per layer) (support 1m)²As per) 0.3 to 5.0 g / m²Is preferable, 0.3 to 2.0 g / m²Is more preferable.
[0408]
2) Back layer
The back layer applicable to the present invention is described in paragraph Nos. 0128 to 0130 of JP-A No. 11-65021.
[0409]
In the present invention, a colorant having an absorption maximum at 300 to 450 nm can be added for the purpose of improving the silver color tone and the temporal change of the image. Such colorants are disclosed in JP-A-62-210458, JP-A-63-104046, JP-A-63-103235, JP-A-63-208846, JP-A-63-306436, JP-A-63-314535, and JP-A-01-61745. And Japanese Patent Application No. 11-276751. Such colorants are typically 0.1 mg / m²~ 1g / m²The back layer provided on the opposite side of the photosensitive layer is preferable as the layer to be added in the range of.
[0410]
3) Matting agent
In the present invention, it is preferable to add a matting agent to the surface protective layer and the back layer in order to improve transportability. Matting agents are described in JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0126 to 0127.
Matting agent is photosensitive material 1m²When expressed in a coating amount per unit, preferably 1 to 400 mg / m², More preferably 5 to 300 mg / m²It is.
[0411]
Further, the matte degree of the emulsion surface may be any as long as a so-called stardust failure in which small white spots occur in the image area and light leakage occurs, but the Beck smoothness is preferably 30 seconds or more and 2000 seconds or less. It is preferably 40 seconds or more and 1500 seconds or less. The Beck smoothness can be easily determined by Japanese Industrial Standard (JIS) P8119 "Smoothness test method using Beck tester for paper and paperboard" and TAPPI standard method T479.
[0412]
In the present invention, the matte degree of the back layer is preferably a Beck smoothness of 1200 seconds or less and 10 seconds or more, preferably 800 seconds or less and 20 seconds or more, and more preferably 500 seconds or less and 40 seconds or more.
[0413]
In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer of the photosensitive material, the layer functioning as the outermost surface layer, or a layer close to the outer surface, and is contained in a layer acting as a so-called protective layer. It is preferable.
[0414]
4) Polymer latex
A polymer latex can be added to the surface protective layer or the back layer of the present invention.
For such polymer latex, “Synthetic resin emulsion (Hiraku Okuda, Hiroshi Inagaki, published by Kobunshi Publishing (1978))”, “Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Ikuo Kataoka, Junichi Suzuki, Keiji Kasahara, Takashi "Molecular Publications (1993))" and "Synthetic Latex Chemistry (Muroichi Muroi, published by High Polymers Publication (1970))", specifically, methyl methacrylate (33.5% by mass) / Ethyl acrylate (50 wt%) / methacrylic acid (16.5 wt%) copolymer latex, methyl methacrylate (47.5 wt%) / butadiene (47.5 wt%) / itaconic acid (5 wt%) copolymer Latex, latex of ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate (58.9% by mass) / 2-ethyl A latex of xyl acrylate (25.4% by weight) / styrene (8.6% by weight) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.1% by weight) / acrylic acid (2.0% by weight) copolymer, methyl methacrylate (64. 0 mass%) / styrene (9.0 mass%) / butyl acrylate (20.0 mass%) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.0 mass%) / acrylic acid (2.0 mass%) copolymer latex, etc. Is mentioned.
[0415]
The polymer latex is preferably used in an amount of 10% by mass to 90% by mass, particularly preferably 20% by mass to 80% by mass, based on the total binder (including the water-soluble polymer and latex polymer) of the surface protective layer or the back layer.
[0416]
5) Membrane pH
The photothermographic material of the present invention preferably has a film surface pH of 7.0 or less, more preferably 6.6 or less before heat development. The lower limit is not particularly limited, but is about 3. The most preferred pH range is in the range of 4 to 6.2.
[0417]
The film surface pH is preferably adjusted using an organic acid such as a phthalic acid derivative, a non-volatile acid such as sulfuric acid, or a volatile base such as ammonia from the viewpoint of reducing the film surface pH. In particular, ammonia is volatile and is preferable for achieving a low film surface pH because it can be removed before the coating process or heat development.
In addition, it is also preferable to use ammonia in combination with a nonvolatile base such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, or lithium hydroxide. The method for measuring the film surface pH is described in paragraph No. 0123 of Japanese Patent Application No. 11-87297.
[0418]
6) Hardener
A hardener may be used for each layer such as the photosensitive layer, protective layer, and back layer of the present invention.
Examples of hardeners include T.W. H. There are various methods described in "THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION" by James (published by Macmillan Publishing Co., Inc., published in 1977), pages 77 to 87. Chrome Alum, 2,4-Dichloro 6-hydroxy -S-triazine sodium salt, N, N-ethylenebis (vinylsulfonacetamide), N, N-propylenebis (vinylsulfonacetamide), polyvalent metal ions described on page 78 thereof, U.S. Pat. No. 4,281, Polyisocyanates such as 060 and JP-A-6-208193, epoxy compounds such as US Pat. No. 4,791,042, and vinyl sulfone compounds such as JP-A 62-89048 are preferably used. It is.
[0419]
The hardening agent is added as a solution, and the addition time of this solution into the protective layer coating solution is from 180 minutes before to immediately before application, preferably from 60 minutes to 10 seconds before application. As long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited, there is no particular limitation.
[0420]
Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid fed to the coater is a desired time, and N.I. Harnby, M.M. F. Edwards, A.D. W. There is a method using a static mixer described in Chapter 8 of Nienow's Koji Takahashi "Liquid Mixing Technology" (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1989).
[0421]
7) Surfactant
Surfactants applicable to the present invention are described in paragraph No. 0132 of JP-A No. 11-65021.
In the present invention, it is preferable to use a fluorochemical surfactant. Preferable specific examples of the fluorosurfactant include compounds described in JP-A Nos. 10-197985, 2000-19680, 2000-214554 and the like. Further, a polymeric fluorine-based surfactant described in JP-A-9-281636 is also preferably used. In the present invention, the use of a fluorosurfactant described in Japanese Patent Application No. 2000-206560 is particularly preferred.
[0422]
8) Antistatic agent
In the present invention, an antistatic layer containing various known metal oxides or conductive polymers may be provided. The antistatic layer may also serve as the above-described undercoat layer, back layer surface protective layer, or the like, or may be provided separately. Regarding the antistatic layer, paragraph No. 0135 of JP-A No. 11-65021, paragraphs of JP-A Nos. 56-143430, 56-143431, 58-62646, No. 56-120519, and paragraphs of JP-A No. 11-84573. The techniques described in Paragraph Nos. 0078 to 0084 of Nos. 0040 to 0051, US Pat. No. 5,575,957 and JP-A-11-223898 can be applied.
[0423]
9) Support
The transparent support is a polyester, particularly polyethylene, which has been heat-treated in a temperature range of 130 to 185 ° C. in order to relieve internal strain remaining in the film during biaxial stretching and to eliminate thermal shrinkage strain generated during heat development. Terephthalate is preferably used.
[0424]
In the case of a photothermographic material for medical use, the transparent support may be colored with a blue dye (for example, dye-1 described in Examples of JP-A-8-240877) or may be uncolored. Specific examples of the support are described in paragraph No. 0134 of JP-A No. 11-65021.
[0425]
Examples of the support include water-soluble polyesters disclosed in JP-A-11-84574, styrene-butadiene copolymers described in JP-A-10-186565, and vinylidene chloride described in JP-A-2000-39684 and Japanese Patent Application No. 11-106881, paragraph numbers 0063 to 0080. It is preferable to apply an undercoating technique such as a copolymer.
[0426]
10) Other additives
An antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, or a coating aid may be further added to the photothermographic material. A solvent described in paragraph No. 0133 of JP-A No. 11-65021 may be added. Various additives are added to either the photosensitive layer or the non-photosensitive layer. With respect to these, WO 98/36322, EP 803764A1, JP-A-10-186567, 10-18568 and the like can be referred to.
[0427]
11) Application method
The photothermographic material in the invention may be applied by any method. Specifically, various coating operations including extrusion coating, slide coating, curtain coating, dip coating, knife coating, flow coating, or extrusion coating using a hopper of the type described in US Pat. No. 2,681,294. And Stephen F. Kistler, Peter M. et al. Extrusion coating or slide coating described in pages 399 to 536 of "LIQUID FILM COATING" (CHAPMAN & HALL, 1997) by Schweizer is preferably used, and slide coating is particularly preferably used.
[0428]
An example of the shape of a slide coater used for slide coating is shown in FIG. 11b. 1 If desired, two or more layers can be simultaneously coated by the method described on pages 399 to 536 of the same document, the method described in US Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 837,095. .
[0429]
The organic silver salt-containing layer coating solution in the present invention is preferably a so-called thixotropic fluid. Regarding this technique, JP-A-11-52509 can be referred to.
In the present invention, the organic silver salt-containing layer coating solution has a shear rate of 0.1 S.^-1The viscosity is preferably 400 mPa · s or more and 100,000 mPa · s or less, and more preferably 500 mPa · s or more and 20,000 mPa · s or less.
Also, shear rate 1000S^-1Is preferably 1 mPa · s or more and 200 mPa · s or less, more preferably 5 mPa · s or more and 80 mPa · s or less.
[0430]
12) Packaging materials
The photothermographic material of the present invention has an oxygen transmission rate and a photosensitivity in order to prevent deterioration of photographic performance during storage before use, or to prevent curling or wrinkling in the case of a rolled product form. It is preferable to hermetically package with a packaging material having a low moisture permeability. Oxygen permeability is 50 ml / atm / m at 25 ° C²-Day or less is preferable, more preferably 10 ml / atm / m²-Day or less, more preferably 1.0 ml / atm / m²-Day or less. Moisture permeability is 10 g / atm / m²-Day or less is preferable, more preferably 5 g / atm / m²-Day or less, more preferably 1 g / atm / m²-Day or less. As specific examples of the packaging material having low oxygen permeability and / or moisture permeability, those described in, for example, JP-A-8-254793 and JP-A-2000-206653 can be used.
[0431]
13) Other available technologies
Techniques that can be used for the photothermographic material of the present invention include EP80364A1, EP883022A1, WO98 / 36322, JP56-62648, 58-62644, JP9-43766, and 9-. 281637, 9-297367, 9-304869, 9-311405, 9-329865, 10-10669, 10-62899, 10-69023, 10-186568, 10-90823, 10-171106, 10-186565, 10-186567, 10-186567 to 10-186572, 10-197974, 10-197982, 10 -197983, 10-197985 to 10-197987, 10- 07001, 10-207004, 10-221807, 10-282601, 10-288823, 10-288824, 10-307365, 10-312038, 10-339934 11-7100, 11-15105, 11-24200, 11-24201, 11-30201, 11-30832, 11-84574, 11-65021, 11-109547, 11-125880, 11-129629, 11-133536 to 11-133539, 11-133542, 11-133543, 11-223898, 11-352627, 11- 305377, 11-305378, 11-305384, 11-30538 11-316435, 11-327076, 11-338096, 11-338098, 11-338099, 11-343420, Japanese Patent Application 2000-187298, 2000-10229 2000-47345, 2000-206642, 2000-98530, 2000-98531, 2000-112059, 2000-112060, 2000-112104, 2000-112604, No. 2000-171936 is also mentioned.
[0432]
14) Color image formation
The construction of a multicolor color photothermographic material may include a combination of these two layers for each color and contains all the components in a single layer as described in US Pat. No. 4,708,928. May be included.
In the case of a multicolor color photothermographic material, each emulsion layer is generally a functional or non-functional barrier layer between each photosensitive layer as described in U.S. Pat. No. 4,460,681. Are used to keep them distinguished from each other.
[0433]
2. Image forming method
1) Exposure
The light-sensitive material of the present invention may be exposed by any method, but laser light is preferred as the exposure light source. A silver halide emulsion having a high silver iodide content as in the present invention has been problematic because of its low sensitivity. However, it has been found that writing with high illuminance such as laser light eliminates the problem of low sensitivity and allows image recording with less energy. The target sensitivity can be achieved by writing with such strong light in a short time.
[0434]
In particular, when an exposure amount giving the maximum density (Dmax) is given, the preferable light amount on the surface of the photosensitive material is 0.1 W / mm.²~ 100W / mm²It is. More preferably 0.5 W / mm²~ 50W / mm²And most preferably 1 W / mm²~ 50W / mm²It is.
[0435]
As the laser light according to the present invention, a gas laser (Ar⁺, He—Ne, He—Cd), YAG laser, dye laser, semiconductor laser and the like are preferable. A semiconductor laser and a second harmonic generation element can also be used. The laser preferably used is determined according to the light absorption peak wavelength of the photosensitizing material such as a spectral sensitizing dye, but it is a red to infrared emitting He-Ne laser, a red semiconductor laser, or a blue to green emitting Ar.⁺, He—Ne, He—Cd laser, blue semiconductor laser. In recent years, in particular, a module in which an SHG (Second Harmonic Generator) element and a semiconductor laser are integrated and a blue semiconductor laser have been developed, and a laser output device in a short wavelength region has been closed up. The blue semiconductor laser is expected to increase in demand in the future because high-definition image recording is possible, the recording density is increased, and a stable output is obtained with a long lifetime. The peak wavelength of the laser light is 300 nm to 500 nm of blue, preferably 350 nm to 430 nm, more preferably 380 nm to 420 nm, 600 nm to 900 nm of red to near infrared, preferably 620 nm to 850 nm, more preferably 640 nm to 830 nm. .
[0436]
It is also preferable that the laser light is oscillated in a vertical multi by a method such as high frequency superposition.
[0437]
2) Thermal development
The photothermographic material of the present invention may be developed by any method, but is usually developed by raising the temperature of the photothermographic material exposed imagewise. The preferred development temperature is 80 to 250 ° C, more preferably 100 to 140 ° C.
The development time is preferably 1 to 60 seconds, more preferably 5 to 30 seconds, and particularly preferably 6 to 14 seconds.
[0438]
A plate heater method is preferred as the heat development method. The heat development method using the plate heater method is preferably a method described in JP-A-11-133572. The heat development photosensitive material on which a latent image is formed is brought into contact with a heating means in a heat development part, and heat for obtaining a visible image. In the developing device, the heating unit includes a plate heater, and a plurality of press rollers are disposed to face each other along one surface of the plate heater, and the heat is interposed between the press roller and the plate heater. A thermal development apparatus that performs thermal development by passing a development photosensitive material. It is preferable to divide the plate heater into 2 to 6 stages and lower the temperature about 1 to 10 ° C. at the tip.
[0439]
Such a method is also described in JP-A-54-30032, which can exclude moisture and organic solvents contained in the photothermographic material out of the system, and rapidly develop the photothermographic material. It is also possible to suppress changes in the shape of the support of the photothermographic material due to heating of the photothermographic material.
[0440]
3) System
Fuji Medical Dry Imager-FM-DPL and DRYPIX 700 can be given as medical laser imagers having an exposure unit and a thermal development unit. The system is Fuji Medical Review No. 8, pages 39 to 55, and these techniques can be used. Further, it can also be applied as a photothermographic material for a laser imager in “AD network” proposed by Fuji Medical Co., Ltd. as a network system conforming to the DICOM standard.
[0441]
3. Application of the present invention
The photothermographic material using the high silver iodide photographic emulsion of the present invention forms a black-and-white image with a silver image, and is a photothermographic material for medical diagnosis, a photothermographic material for industrial photography, and a photothermographic material for printing. It is preferably used as a photothermographic material for COM.
【Example】
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
Example 1
[0442]
1. Preparation of PET support
1-1. Film formation
(Film formation)
Using terephthalic acid and ethylene glycol, PET having an intrinsic viscosity of IV = 0.66 (measured at 25 ° C. in phenol / tetrachloroethane = 6/4 (weight ratio)) was obtained according to a conventional method. This was pelletized, dried at 130 ° C. for 4 hours, melted at 300 ° C., extruded from a T-die and quenched, and an unstretched film having a thickness of 175 μm after heat setting was prepared.
[0443]
This was longitudinally stretched 3.3 times using rolls with different peripheral speeds, and then stretched 4.5 times with a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. Thereafter, the film was heat-fixed at 240 ° C. for 20 seconds and relaxed by 4% in the lateral direction at the same temperature. After slitting the chuck part of the tenter, knurling is performed on both ends and 4 kg / cm.²And a roll having a thickness of 175 μm was obtained.
[0444]
(Surface corona discharge treatment)
Using a solid state corona discharge treatment machine 6KVA model manufactured by Pillar, both surfaces of the support were treated at room temperature at 20 m / min. From the current and voltage readings at this time, the support is 0.375 kV · A · min / m.²It was found that the process was done. The treatment frequency at this time was 9.6 kHz, and the gap clearance between the electrode and the dielectric roll was 1.6 mm.
[0445]
1-2. Preparation of undercoat support
(1) Preparation of undercoat layer coating solution
Formulation (1) (for the undercoat layer on the photosensitive layer side)
59 g of Pesresin A-520 (30% by mass solution) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.
Polyethylene glycol monononyl phenyl ether
(Average number of ethylene oxide = 8.5) 5.4 g of 10% by mass solution
MP-1000 (polymer fine particles, average particle size 0.4 μm) manufactured by Soken Chemical
0.91g distilled water 935ml
[0446]
Formulation (2) (for back layer 1st layer)
Styrene-butadiene copolymer latex 158g
(Solid content 40% by mass, styrene / butadiene weight ratio = 68/32)
2,4-dichloro-6-hydroxy
-S-triazine sodium salt 20% by weight aqueous solution 20 g
10 ml of 1% by weight aqueous solution of sodium laurylbenzenesulfonate
854 ml of distilled water
[0447]
Formula (3) (Back side 2nd layer)
SnO₂/ SbO (9/1 mass ratio, average particle size 0.038 μm, 17 mass% dispersion)
84g
Gelatin (10 mass% aqueous solution) 89.2g
8.6g made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Metroz TC-5 (2 mass% aqueous solution)
MP-1000 0.01g made by Soken Chemical Co., Ltd.
10ml of 1% by weight aqueous solution of sodium dodecylbenzenesulfonate
NaOH (1% by mass) 6 ml
Proxel (ICI) 1ml
805 ml of distilled water
[0448]
After both surfaces of the biaxially stretched polyethylene terephthalate support having a thickness of 175 μm are subjected to the corona discharge treatment, the undercoat coating solution formulation {circle around (1)} is applied to one surface (photosensitive layer surface) with a wire bar. .6ml / m²(Per side) and dried at 180 ° C. for 5 minutes, and then the undercoat coating liquid formulation (2) is applied to the back side (back side) with a wire bar at a wet coating amount of 5.7 ml / m.²And then dried at 180 ° C. for 5 minutes. Further, the undercoat coating liquid formulation (3) is applied to the back surface (back surface) with a wire bar so that the wet coating amount is 7.7 ml / m.²And then dried at 180 ° C. for 6 minutes to prepare an undercoat support.
[0449]
2. Back layer
1) Preparation of coating solution
(Preparation of antihalation layer coating solution)
32.7 g of lime-processed gelatin in water kept at 40 ° C., 0.77 g of monodisperse polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 8 μm, particle size standard deviation 0.4 μm), benzoisothiazolinone 0.08 g, sodium polystyrene sulfonate 0.3 g, 0.06 g of blue dye compound-1, 1.5 g of ultraviolet light absorber-1, 5.0 g of acrylic acid / ethyl acrylate copolymer latex (copolymerization ratio 5/95), N, N-ethylene Bis (vinylsulfone acetamide) 1.7 g was mixed, pH was adjusted to 6.0 with 1 mol / l sodium hydroxide, and the whole was made up to 818 ml with water to prepare an antihalation layer coating solution.
[0450]
(Preparation of back surface protective layer coating solution)
66.5 g of lime-processed gelatin in water kept at 40 ° C., 5.4 g of liquid paraffin emulsion as liquid paraffin, 0.10 g of benzoisothiazolinone, 0.5 g of sodium di (2-ethylhexyl) sulfosuccinate, polystyrene sulfonic acid 0.27 g of sodium, 13.6 mL of a 2% by mass aqueous solution of a fluorosurfactant (F-1), and 10.0 g of acrylic acid / ethyl acrylate copolymer (copolymerization weight ratio 5/95) were mixed to obtain 1 mol / The pH was adjusted to 6.0 with 1 sodium hydroxide, and the solution was made up to 1000 ml with water to obtain a back surface protective layer coating solution.
[0451]
2) Application of back layer
The coating amount of the antihalation layer coating solution on the back surface side of the undercoat support is 1.70 g / m.²In addition, the coating amount of the back surface protective layer was 0.79 g / m for the gelatin coating amount.²A multi-layer coating was applied and dried to form a back layer.
[0452]
2. Image forming layer, intermediate layer, and surface protective layer
2-1. Preparation of coating materials
1) Preparation of silver halide emulsion
(Preparation of silver halide emulsion 1)
To a solution of 1420 ml of distilled water, 4.3 ml of a 1% by weight potassium iodide solution, 3.5 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid, and 36.7 g of phthalated gelatin were added and stirred in a stainless steel reaction vessel. While maintaining the liquid temperature at 42 ° C., solution A in which distilled water was added to 22.22 g of silver nitrate and diluted to 195.6 ml and solution B in which 21.8 g of potassium iodide was diluted with distilled water to a volume of 218 ml were added at a constant flow rate. The whole amount was added over 9 minutes. Thereafter, 10 ml of a 3.5% by mass aqueous hydrogen peroxide solution was added, and 10.8 ml of a 10% by mass aqueous solution of benzimidazole was further added.
[0453]
Further, Solution C obtained by adding distilled water to 51.86 g of silver nitrate and diluting to 317.5 ml and Solution D obtained by diluting 60 g of potassium iodide to a volume of 600 ml with distilled water were added to Solution C over 120 minutes at a constant flow rate. Solution D was added by the controlled double jet method while maintaining pAg at 8.1. 1 x 10 per mole of silver^-4The total amount of potassium hexachloroiridate (III) was added 10 minutes after the start of the addition of Solution C and Solution D so as to have a molar ratio. In addition, 5 seconds after completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium iron (II) hexacyanide was added at 3 × 10 5 per mol of silver.^-4The whole molar amount was added. The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 8.0.
[0454]
While maintaining the silver halide dispersion at 38 ° C. with stirring, 5 ml of a 0.34 mass% 1,2-benzisothiazolin-3-one methanol solution was added, and the temperature was raised to 47 ° C. 20 minutes after the temperature rise, sodium benzenethiosulfonate was 7.6 × 10 6 in 1 mol of silver with a methanol solution.^-55 minutes later, tellurium sensitizer C was added in a methanol solution to give 2.9 × 10 6 per mole of silver.^-4Mole was added and aged for 91 minutes.
Add 1.3 ml of a 0.8 mass% methanol solution of N, N′-dihydroxy-N ″, N ″ -diethylmelamine, and after another 4 minutes, add 1 mol of 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole with a methanol solution. 4.8 × 10 per^-3Mole and 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole in methanol solution at 5.4 × 10 5 per mole of silver^-3A silver halide emulsion 1 was prepared by adding a molar amount.
[0455]
The grains in the silver halide emulsion thus prepared were pure silver iodide grains having an average sphere equivalent diameter of 0.040 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 18%. Moreover, it is a tetrahedral particle | grain which has (001), {100}, {101} face, The ratio of the (gamma) phase was 30% when measured using the X-ray powder diffraction analysis. The particle size and the like were determined from an average of 1000 particles using an electron microscope.
[0456]
(Preparation of silver halide emulsions 2 and 3)
As described above, emulsions 2 and 3 having the following halogen compositions and grain sizes were prepared by changing the concentrations of KBr and KI used in the same manner as in the preparation of emulsion 1 and controlling the feed temperature.
[0457]
Emulsion 1 Silver iodide 100 mol% AgI₁₀₀      Particle size 40nm
Emulsion 2 Silver iodide 90 mol% AgBr₁₀I₉₀Particle size 40nm
Emulsion 3 Silver iodide 3 mol% AgBr₉₇I₃  Particle size 40nm
[0458]
(Preparation of silver halide diluted emulsions 1A and 1B)
Silver Halide Emulsion-1 was dissolved, and benzothiazolium iodide was dissolved in a 1% by mass aqueous solution at 7 × 10 5 per mol of silver.^-3Mole was added. Further, water was added so that the content of silver halide per 1 kg of the mixed emulsion for coating solution was 38.2 g as silver, so that the content was 0.34 g per 1 kg of the diluted emulsion.
[0459]
Further, as “a compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can emit one electron or more”, compounds 2 and 20 and 26 are each 2 × 10 2 per mole of silver halide silver.^-3Molar amounts were added.
Further, as compounds having an adsorbing group and a reducing group, the compounds (12), (27) and (36) are each 8 × 10 6 per 1 mol of silver halide.^-3Molar amounts were added.
[0460]
Silver halide diluted emulsion 1A: No compound is added.
Silver halide diluted emulsion 1B: Compounds (2), (20) and (26) and compounds (12), (27) and (36) were added as described above.
[0461]
(Preparation of silver halide diluted emulsion 2A)
A silver halide diluted emulsion 2A was prepared in the same manner as the preparation of the silver halide diluted emulsion 1A, except that the silver halide emulsion 2 was used instead of the silver halide emulsion 1.
[0462]
(Preparation of silver halide diluted emulsion 2B)
A silver halide diluted emulsion 2B was prepared in the same manner as the preparation of the silver halide diluted emulsion 1B, except that the silver halide emulsion 2 was used instead of the silver halide emulsion 1.
[0463]
(Preparation of diluted silver halide emulsion 3A)
A silver halide diluted emulsion 3A was prepared in the same manner as the preparation of the silver halide diluted emulsion 1A, except that the silver halide emulsion 3 was used instead of the silver halide emulsion 1.
[0464]
(Preparation of silver halide diluted emulsion 3B)
A silver halide diluted emulsion 3B was prepared in the same manner as the preparation of the silver halide diluted emulsion 1B, except that the silver halide emulsion 3 was used instead of the silver halide emulsion 1.
[0465]
2) Preparation of fatty acid silver dispersion
<Preparation of recrystallized behenic acid>
Henkel behenic acid (product name Edenor C22-85R) 100 kg was mixed in 1200 kg isopropyl alcohol, dissolved at 50 ° C., filtered through a 10 μm filter, cooled to 30 ° C., and recrystallized. The cooling speed during recrystallization was controlled at 3 ° C./hour. The obtained crystals were centrifugally filtered, washed with 100 kg of isopropyl alcohol, and then dried. When the obtained crystals were esterified and subjected to GC-FID measurement, the behenic acid content was 96 mol%, and in addition, lignoceric acid was 2 mol%, arachidic acid was 2 mol%, and erucic acid was 0.001 mol%. It was.
[0466]
<Preparation of fatty acid silver dispersion>
Recrystallized behenic acid 88 kg, distilled water 422 L, 5 mol / L NaOH aqueous solution 49.2 L and t-butyl alcohol 120 L were mixed and stirred at 75 ° C. for 1 hour to react to obtain sodium behenate solution B. Separately, 206.2 L (pH 4.0) of an aqueous solution containing 40.4 kg of silver nitrate was prepared and kept warm at 10 ° C. A reaction vessel containing 635 L of distilled water and 30 L of t-butyl alcohol was kept at 30 ° C., and with sufficient agitation, the total amount of the previous sodium behenate solution and the total amount of silver nitrate aqueous solution were kept at a constant flow rate of 93 minutes and 15 seconds, respectively. And added over 90 minutes. At this time, only the silver nitrate aqueous solution is added for 11 minutes after the start of the addition of the aqueous silver nitrate solution, and then the addition of the sodium behenate solution is started. After the addition of the aqueous silver nitrate solution, only the sodium behenate solution is added for 14 minutes and 15 seconds. It was made to be. At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C., and the external temperature was controlled so that the liquid temperature was constant. The pipe of the addition system for the sodium behenate solution was kept warm by circulating hot water outside the double pipe so that the liquid temperature at the outlet at the tip of the addition nozzle was 75 ° C. Moreover, the piping of the addition system of the silver nitrate aqueous solution was kept warm by circulating cold water outside the double pipe. The addition position of the sodium behenate solution and the addition position of the aqueous silver nitrate solution were arranged symmetrically around the stirring axis, and were adjusted so as not to contact the reaction solution.
[0467]
After completion of the addition of the sodium behenate solution, the mixture was left stirring for 20 minutes at the same temperature, heated to 35 ° C. over 30 minutes, and then aged for 210 minutes. Immediately after completion of aging, the solid content was separated by centrifugal filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of filtered water reached 30 μS / cm. Thus, a fatty acid silver salt was obtained. The obtained solid content was stored as a wet cake without drying.
[0468]
When the morphology of the obtained silver behenate particles was evaluated by electron microscope photography, the average values were a = 0.21 μm, b = 0.4 μm, c = 0.4 μm, average aspect ratio 2.1, and equivalent sphere diameter. The crystal had a coefficient of variation of 11%. (A, b, and c are the text provisions)
[0469]
19.3 kg of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and water are added to a wet cake corresponding to a dry solid content of 260 kg, and the whole amount is set to 1000 kg, and then slurried with a dissolver blade, and further a pipeline mixer (manufactured by Mizuho Kogyo Co., Ltd.). : PM-10 type).
[0470]
Next, the pre-dispersed stock solution is subjected to a pressure of 1150 kg / cm of a dispersing machine (trade name: Microfluidizer M-610, manufactured by Microfluidics International Corporation, using a Z-type interaction chamber).²And was treated three times to obtain a silver behenate dispersion. The cooling operation was carried out by installing a serpentine heat exchanger before and after the interaction chamber, and adjusting the temperature of the refrigerant to a dispersion temperature of 18 ° C.
[0471]
3) Preparation of reducing agent dispersion
(Preparation of reducing agent-1 dispersion)
Reducing agent-1 (2,2′-methylenebis- (4-ethyl-6-tert-butylphenol)) 10 kg and denatured polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., POVAL MP203) 10% by weight aqueous solution 16 kg, 10 kg water Add and mix well to make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump, dispersed for 3 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0. 2 g and water were added to prepare a reducing agent concentration of 25% by mass. This dispersion was heat-treated at 60 ° C. for 5 hours to obtain a reducing agent-1 dispersion. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0472]
(Preparation of reducing agent-2 dispersion)
10 mass of reducing agent-2 (6,6′-di-t-butyl-4,4′-dimethyl-2,2′-butylidenediphenol) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) 10 kg of water was added to 16 kg of% aqueous solution and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 3 hours 30 minutes in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to prepare a reducing agent concentration of 25% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 1 hour, and then further heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a reducing agent-2 dispersion. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.50 μm and a maximum particle diameter of 1.6 μm or less. The obtained reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0473]
4) Preparation of hydrogen bonding compound dispersion
(Preparation of hydrogen bonding compound-1 dispersion)
10 kg of water is added to 10 kg of a 10 wt% aqueous solution of hydrogen bonding compound-1 (tri (4-t-butylphenyl) phosphine oxide) and denatured polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203). Mix to make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump, and dispersed for 4 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare a hydrogen bonding compound concentration of 25% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 1 hour and then further heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a hydrogen bonding compound-1 dispersion. The hydrogen bonding compound particles contained in the hydrogen bonding compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.45 μm and a maximum particle diameter of 1.3 μm or less. The obtained hydrogen bonding compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0474]
5) Preparation of development accelerator dispersion and color tone modifier dispersion
(Preparation of Development Accelerator-1 Dispersion)
To 10 kg of development accelerator-1 and 20 kg of a 10% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203), 10 kg of water was added and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 3 hours 30 minutes in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to adjust the concentration of the development accelerator to 20% by mass to obtain a development accelerator-1 dispersion. The development accelerator particles contained in the development accelerator dispersion thus obtained had a median diameter of 0.48 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained development accelerator dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0475]
The solid dispersions of the development accelerator-2 and the color tone modifier-1 were also dispersed by the same method as the development accelerator-1, and 20% by mass and 15% by mass of a dispersion liquid were obtained, respectively.
[0476]
6) Preparation of organic halogen compound dispersion
(Preparation of organic halogen compound-1 dispersion) (Comparative compound)
10 kg of an organic halogen compound-1 (tribromomethanesulfonylbenzene), 10 kg of a 20% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Poval MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 0.4 kg of a 20% by weight aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate, 14 kg of water was added and mixed well to make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare an organic halogen compound concentration of 30% by mass to obtain an organic halogen compound-1 dispersion. The organic halogen compound particles contained in the thus obtained organic halogen compound dispersion had a median diameter of 0.41 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less. The obtained organic halogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0477]
(Preparation of organic halogen compound-2 dispersion)
In the same manner as in the preparation of the organic halogen compound-1 dispersion, except that the organic halogen compound-1 (tribromomethanesulfonylbenzene) is replaced with the organic halogen compound-2 (the compound of 1a-1 in the general formula (1a)). The organic halogen compound-2 dispersion was prepared.
[0478]
(Preparation of organic halogen compound-3 dispersion)
Similar to the preparation of the organic halogen compound-1 dispersion, except that the organic halogen compound-1 (tribromomethanesulfonylbenzene) was replaced with the organic halogen compound-2 (the compound of 1b-30 in the general formula (1b)). An organic halogen compound-3 dispersion was prepared.
[0479]
(Preparation of organic halogen compound-4 dispersion)
Similar to the preparation of the organic halogen compound-1 dispersion, except that the organic halogen compound-1 (tribromomethanesulfonylbenzene) was replaced with the organic halogen compound-3 (the compound of 1c-1 in the general formula (1c)). An organic halogen compound-4 dispersion was prepared.
[0480]
7) Preparation of phthalazine compound solution
(Preparation of phthalazine compound-1 solution)
8 kg of modified polyvinyl alcohol MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd. was dissolved in 174.57 kg of water, and then 3.15 kg of a 20 wt% aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate and 70 wt% of phthalazine compound-1 (6-isopropylphthalazine). % Aqueous solution 14.28 kg was added to prepare a 5 mass% solution of phthalazine compound-1.
[0481]
8) Preparation of mercapto compound
(Preparation of mercapto compound-1 aqueous solution)
7 g of mercapto compound-1 (1- (3-sulfophenyl) -5-mercaptotetrazole sodium salt) was dissolved in 993 g of water to obtain a 0.7% by mass aqueous solution.
(Preparation of mercapto compound-2 aqueous solution)
20 g of mercapto compound-2 (1- (3-methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole) was dissolved in 980 g of water to obtain a 2.0 mass% aqueous solution.
[0482]
9) Preparation of pigment-1 dispersion
<< Preparation of Pigment-1 Dispersion >>
C. I. Pigment Blue 60 (64 g) and Kao Corp. demole N (6.4 g) were added to 250 g of water and mixed well to prepare a slurry. Prepare 800 g of zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, put them in a vessel together with the slurry, and disperse with a disperser (1/4 G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) for 25 hours. A pigment-1 dispersion was obtained by adjusting the concentration to 5% by mass. The pigment particles contained in the pigment dispersion thus obtained had an average particle size of 0.21 μm.
[0483]
10) Preparation of SBR latex solution
The SBR latex was prepared as follows.
In a polymerization kettle of a gas monomer reactor (TAS-2J type manufactured by Pressure Glass Industrial Co., Ltd.), 287 g of distilled water and a surfactant (Pionin A-43-S (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.)): solid content 48.5 (Mass%) 7.73 g, 1 mol / liter NaOH 14.06 ml, ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt 0.15 g, styrene 255 g, acrylic acid 11.25 g, tert-dodecyl mercaptan 3.0 g were put, the reaction vessel was sealed and the stirring speed was Stir at 200 rpm. After degassing with a vacuum pump and repeating nitrogen gas replacement several times, 108.75 g of 1,3-butadiene was injected to raise the internal temperature to 60 ° C. A solution obtained by dissolving 1.875 g of ammonium persulfate in 50 ml of water was added thereto, and the mixture was stirred as it was for 5 hours. The mixture was further heated to 90 ° C. and stirred for 3 hours. After the reaction was completed, the internal temperature was lowered to room temperature, and then 1 mol / liter NaOH and NH.₄Na with OH⁺Ion: NH₄ ⁺The addition treatment was performed so that the ion was 1: 5.3 (molar ratio), and the pH was adjusted to 8.4. Thereafter, the mixture was filtered with a polypropylene filter having a pore size of 1.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored, and 774.7 g of SBR latex was obtained. When the halogen ions were measured by ion chromatography, the chloride ion concentration was 3 ppm. As a result of measuring the concentration of the chelating agent by high performance liquid chromatography, it was 145 ppm.
[0484]
The latex has an average particle size of 90 nm, Tg = 17 ° C., solid content concentration of 44 mass%, equilibrium water content of 0.6 mass% at 25 ° C. and 60% RH, ion conductivity of 4.80 mS / cm (measurement of ion conductivity is Using a conductivity meter CM-30S manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd., measuring latex stock solution (44% by mass) at 25 ° C.), pH 8.4
[0485]
2-2. Adjustment of coating solution
1) Preparation of image forming layer coating solutions-1 to 30
1000 g of the fatty acid silver dispersion obtained above, 276 ml of water, pigment-1 dispersion, organic halogen compound-1 to 4 dispersion (shown in Tables 1 and 2), phthalazine compound-1 solution, SBR latex (Tg: 17 ° C) liquid, reducing agent-1 dispersion, reducing agent-2 dispersion, hydrogen bonding compound-1 dispersion, development accelerator-1 dispersion, development accelerator-2 dispersion, color tone modifier-1 dispersion Then, mercapto compound-1 aqueous solution and mercapto compound-2 aqueous solution may be added sequentially, and silver halide diluted emulsions 1A, 1B, 2A, 2B, 3A, 3C (shown in Tables 1 and 2) may be added immediately before coating. The mixed image forming layer coating solution was fed as it was to the coating die.
[0486]
The amount of zirconium in the coating solution was 0.52 mg per 1 g of silver.
[0487]
2) Preparation of intermediate layer coating solution
Polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 1000 g, pigment-1 dispersion 272 g, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymer weight ratio 64/9/20/5 / 2) 27200 ml of an aerosol OT (manufactured by American Cyanamid Co.) was added to 4200 ml of a latex 19 wt% solution, 135 ml of a 20 wt% aqueous solution of diammonium phthalate, and water was added to a total amount of 10,000 g. In addition, an intermediate layer coating solution was prepared by adjusting with NaOH so that the pH was 7.5, and 9.1 ml / m²Then, the solution was fed to the coating die.
The viscosity of the coating solution was 58 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
[0488]
3) Preparation of surface protective layer first layer coating solution
Inert gelatin (64 g) is dissolved in water, and methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization weight ratio 64/9/20/5/2) 19.0% by weight of latex 112 g, 30 ml of 15% by weight methanol solution of phthalic acid, 23 ml of 10% by weight aqueous solution of 4-methylphthalic acid, 28 ml of sulfuric acid having a concentration of 0.5 mol / L, and 5% by weight aqueous solution of Aerosol OT (American Cyanamid Co., Ltd.) Add 5 ml, 0.5 g phenoxyethanol, 0.1 g benzoisothiazolinone, add water to make a total amount of 750 g, and use 26 ml of 4% by weight chromium alum mixed with a static mixer just before coating. 18.6 ml / m²Then, the solution was fed to the coating die.
The viscosity of the coating solution was 20 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
[0489]
4) Preparation of surface protective layer second layer coating solution
Inert gelatin (80 g) is dissolved in water, and methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization weight ratio 64/9/20/5/2) 27.5% by weight of latex 102 g, 5.4 ml of a 2% by weight solution of a fluorosurfactant (F-1), 5.4 ml of a 2% by weight aqueous solution of a fluorosurfactant (F-2), Aerosol OT (American Cyanamid Co., Ltd.) ) 23 ml, 4 g of polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 0.7 μm), 21 g of polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 4.5 μm), 1.6 g of 4-methylphthalic acid, 4.8 g of phthalic acid Water was added to 44 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid and 10 mg of benzoisothiazolinone to a total amount of 650 g. A solution obtained by mixing 445 ml of an aqueous solution containing chrome alum of 0.6% by mass and 0.67% by mass of phthalic acid with a static mixer immediately before coating is used as the surface protective layer coating solution, and 8.3 ml / m.²Then, the solution was fed to the coating die.
The viscosity of the coating solution was 19 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
[0490]
2-3. Preparation of coated sample
1) Preparation of photothermographic materials 1 to 30
On the surface opposite to the back surface, from the undercoat surface, the image forming layer, the intermediate layer, the surface protective layer first layer, and the surface protective layer second layer are coated simultaneously in the order of the slide bead coating method. A sample was prepared. Image forming layer coating solutions 1 to 30 were used for the image forming layer.
The image forming layer and the intermediate layer were adjusted to 31 ° C., the first surface protective layer was adjusted to 36 ° C., and the second surface protective layer was adjusted to 37 ° C.
[0491]
Coating amount of each compound in the image forming layer (g / m²) Is as follows.
Silver behenate 4.73
Pigment (C.I. Pigment Blue 60) 0.036
Organohalogen compounds-1 to 4 (shown in Table 1) 0.21
Phthalazine Compound-1 0.14
SBR latex 8.49
Reducing agent-1 0.40
Reducing agent-2 0.40
Hydrogen bonding compound-1 0.25
Development accelerator-1 0.023
Development accelerator-2 0.018
Color tone adjusting agent-1 0.007
Mercapto Compound-1 0.001
Mercapto compound-2 0.004
Silver halide (shown in Tables 1 and 2) 0.037 (as Ag)
[0492]
The coating and drying conditions are as follows.
The support was neutralized with ion wind before coating, and coating was performed at a speed of 160 m / min.
The coating and drying conditions were adjusted within the following ranges for each sample, and were set to conditions that would provide the most stable surface shape.
The gap between the coating die tip and the support is 0.10 to 0.30 mm.
The pressure in the decompression chamber is set to 196 to 882 Pa lower than the atmospheric pressure.
In the subsequent chilling zone, the coating solution is cooled with air at a dry bulb temperature of 10 to 20 ° C.
It is transported in a non-contact manner, and dried with a dry air having a dry bulb temperature of 23 to 45 ° C. and a wet bulb temperature of 15 to 21 ° C. in a helical contactless dryer.
After drying, the humidity is adjusted at 25 ° C. and humidity of 40-60% RH.
Subsequently, the film surface was heated to 70 to 90 ° C., and after the heating, the film surface was cooled to 25 ° C.
[0493]
The chemical structures of the compounds used in the examples of the present invention are shown below.
[0494]
Embedded image

[0495]
Embedded image

[0496]
Embedded image

[0497]
Embedded image

[0498]
(Evaluation of photographic performance)
The obtained sample was cut into half-cut sizes, packaged in the following packaging materials in an environment of 25 ° C. and 50% RH, stored at room temperature for 2 weeks, and then evaluated as follows.
(Packaging material)
PET 10 μm / PE 12 μm / aluminum foil 9 μm / Ny 15 μm / polyethylene 50 μm containing 3% by mass of carbon
Oxygen permeability: 0.02 ml / atm · m²・ 25 ° C./day, moisture permeability: 0.10 g / atm · m²・ 25 ℃ ・ day
[0499]
Each sample was mounted with an NLHV3000E semiconductor laser manufactured by Nichia Corporation as a semiconductor laser light source on the exposure part of a dry laser imager DRYPIX7000 of FUJIFILM Medical Co., Ltd., and the beam diameter was reduced to 100 μm. The illuminance on the photosensitive material surface of the laser beam is 0 and 1 mW / mm²~ 1000mW / mm²Vary between 10^-6Exposure was performed in seconds. The oscillation wavelength of the laser beam was 405 nm. In the heat development, three panel heaters were set at 107 ° C.-121 ° C.-121 ° C. and developed so that the heat development time was 14 seconds. The obtained image was evaluated with a densitometer.
[0500]
(sensitivity)
Sensitivity was represented by the reciprocal of the exposure amount giving a blackening density of fog + 1.0, and the sensitivity of the photothermographic material-3 was taken as 100, and expressed as a relative value. The larger the value, the higher the sensitivity.
(Dmin)
The density of the non-image area was measured with a Macbeth densitometer.
[0501]
(Storage over time)
The prepared sample was cut into half-cut sizes, packaged in the above packaging material in an environment of 25 ° C. and 40% RH, heated to 50 ° C. and stored for 1 week, and then photographic performance was evaluated.
Sensitivity when stored under the above conditions (S₂) To measure the sensitivity before storage (S₁) With respect to (), the storage stability with time. ΔS means that the smaller the absolute value, the better the storage stability with time.
ΔS = S₁-S₂
[0502]
(Image storage stability after heat development: evaluation of printout)
An image sample obtained by heat development of the photothermographic material of the present invention was exposed to a fluorescent lamp of 500 lux in an environment of 30 ° C. and 70% RH for 7 days, and the optical density of the unexposed part was measured. did. The optical density at this time is Dmin.₂And the difference (ΔDmin) from Dmin before exposure to a fluorescent lamp was calculated.
ΔDmin = Dmin₂-Dmin
The smaller the increase in Dmin, the better the image storage stability.
[0503]
[Table 1]

[0504]
[Table 2]

[0505]
The obtained results are shown in Tables 1 and 2. As shown by the results, the photothermographic material of the present invention had high sensitivity, low fog, good storage with time, and good image storage after heat development.
In particular, when the organic halogen compounds represented by the general formulas (1a), (1b) and (1c) of the present invention are not used, or in the case of the silver halide emulsions 3A and 3B having a low silver iodide content, they are conventionally known. The silver halide emulsions 1A, 1B, and 2A having a high silver iodide content, while the sensitivity is slightly lower than that of the comparative organic halogen compounds, and the effect of improving the storage stability with time is slight. , 2B, when the organic halogen compounds represented by the general formulas (1a), (1b), (1c) of the present invention were used, the increase in sensitivity was an unexpected magnitude. The effect of improving the storage stability with time was also a high silver iodide emulsion, and the organic halogen compounds represented by the general formulas (1a), (1b) and (1c) of the present invention showed a remarkable unexpected improvement effect.
[0506]
Example 2
1. Preparation of PET support and undercoating
1-1. Film formation
[0507]
Using terephthalic acid and ethylene glycol, PET having an intrinsic viscosity of IV = 0.66 (measured at 25 ° C. in phenol / tetrachloroethane = 6/4 (weight ratio)) was obtained according to a conventional method. This was pelletized, dried at 130 ° C. for 4 hours, melted at 300 ° C., and 0.04% by mass of dye BB having the following structure was contained. Thereafter, the film was extruded from a T-die and quenched to prepare an unstretched film having a thickness such that the film thickness after heat setting was 175 μm.
[0508]
Embedded image

[0509]
This was longitudinally stretched 3.3 times using rolls with different peripheral speeds, and then stretched 4.5 times with a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. Thereafter, the film was heat-fixed at 240 ° C. for 20 seconds and relaxed by 4% in the lateral direction at the same temperature. After slitting the chuck part of the tenter, knurling is performed on both ends and 4 kg / cm.²And a roll having a thickness of 175 μm was obtained.
[0510]
1-2. Surface corona discharge treatment
Using a solid state corona discharge treatment machine 6KVA model manufactured by Pillar, both surfaces of the support were treated at room temperature at 20 m / min. From the current and voltage readings at this time, the support is 0.375 kV · A · min / m.²It was found that the process was done. The treatment frequency at this time was 9.6 kHz, and the gap clearance between the electrode and the dielectric roll was 1.6 mm.
[0511]
2. Preparation and application of back layer coating solution
While stirring 830 g of MEK, 84.2 g of cellulose acetate butyrate (Eastman Chemical, CAB381-20) and 4.5 g of a polyester resin (Bostic, VitelPE2200B) were added and dissolved. To this dissolved liquid, 0.30 g of dye 1 was added, and 4.5 g of a fluorosurfactant (Asahi Glass Co., Surflon KH40) dissolved in 43.2 g of methanol and a fluorosurfactant (Dainippon Ink, Inc. 2.3 g of MegaFuck F120K) was added and stirred well until dissolved. Finally, 75 g of silica (WR Grace, Syloid 64X6000) dispersed in methyl ethyl ketone at a concentration of 1% by mass with a dissolver type homogenizer was added and stirred to prepare a coating solution for the back surface.
[0512]
The back layer coating solution prepared in this manner was applied and dried by an extrusion coater on a support so that the dry film thickness was 3.5 μm. It dried for 5 minutes using the drying air with a drying temperature of 100 degreeC, and dew point temperature of 10 degreeC.
[0513]
3. Image forming layer, intermediate layer, and surface protective layer
3-1. Preparation of coating materials
[0514]
1) Silver halide emulsion
(Preparation of silver halide emulsion 6)
To 5429 ml of water, 88.3 g of phthalated gelatin, PAO compound (HO (CH₂CH₂O) n- (CH (CH₃) CH₂O)₁₇-(CH₂CH₂O) m-H; m + n = 5-7) 10 mass% methanol aqueous solution 10 ml, potassium bromide 0.32 g was added and dissolved, and kept at 40 ° C., 0.67 mol / l silver nitrate aqueous solution 659 ml and 1 liter A solution in which 0.703 mol of KBr and 0.013 mol of KI were dissolved was mixed by a simultaneous mixing method using a mixing stirrer shown in Japanese Patent Publication Nos. 58-58288 and 58-58289 while controlling to pAg of 8.09. Nucleation was carried out by adding 45 minutes. After 1 minute, 20 ml of a 0.63N potassium hydroxide solution was added. After 6 minutes, 1976 ml of a 0.67 mol / l silver nitrate aqueous solution and a solution in which 0.657 mol of KBr, 0.013 mol of potassium iodide and 30 μmol of dipotassium hexachloroiridate were dissolved at a temperature of 40 ° C. The mixture was added over 14 minutes and 15 seconds by the simultaneous mixing method while controlling at pAg of 8.09. After stirring for 5 minutes, the temperature was lowered to 38 ° C.
[0515]
To this was added 18 ml of a 56% by weight aqueous acetic acid solution to precipitate the silver halide emulsion. The supernatant was removed, leaving 2 liters of sediment, 10 liters of water was added, and after stirring, the silver halide emulsion was sedimented again. Furthermore, 1.5 liters of the sedimented portion was left, the supernatant was removed, 10 liters were further added, and after stirring, the silver halide emulsion was sedimented. After leaving 1.5 liter of sedimented portion and removing the supernatant, a solution obtained by dissolving 1.72 g of anhydrous sodium carbonate in 151 ml of water was added, and the temperature was raised to 55 ° C. The mixture was further stirred for 120 minutes. Finally, the pH was adjusted to 5.0, and water was added to 1161 g per 1 mol of silver.
This emulsion was monodispersed cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 40 nm, a grain size variation coefficient of 12%, a [100] face ratio of 92% and a silver iodide content of 2 mol%.
[0516]
The silver halide dispersion was maintained at 38 ° C. with stirring, 5 ml of a methanol solution of 0.34% by mass of 1,2-benzisothiazolin-3-one was added, and the temperature was raised to 47 ° C. 20 minutes after the temperature rise, sodium benzenethiosulfonate was 7.6 × 10 6 in 1 mol of silver with a methanol solution.^-5Mole was added, and after 5 minutes of preparation to pAg 5.5, tellurium sensitizer (bis (N-phenyl-N-methylcarbamoyl) telluride) was added to 5.1 × 10 5.^-4Mol / mol silver was added and aged for 84 minutes. After the pAg of the emulsion was adjusted to 7.5, 1.3 ml of a 0.8 mass% methanol solution of N, N′-dihydroxy-N ″, N ″ -diethylmelamine was added, and after 4 minutes, 5-methyl- 2-Mercaptoben ヅ imidazole in methanol solution at 4.8 × 10 4 per mole of silver^-3Mole and 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole in a methanol solution at 5.4 × 10 5 per mole of silver^-3Mole was added. This was designated as Emulsion 6 (Comparative Emulsion).
[0517]
(Preparation of silver halide emulsions 4 and 5)
Silver halide emulsions 4 and 5 having the following halogen composition and grain size were prepared by changing the concentration of KBr and KI used and controlling the charging temperature in the same manner as in the preparation of emulsion 6 above.
[0518]
Emulsion 4 Silver iodide 100 mol% AgI₁₀₀      Particle size 40nm
Emulsion 5 Silver iodide 90 mol% AgBr₁₀I₉₀Particle size 40nm
Emulsion 6 Silver iodide 2 mol% AgBr₉₈I₂  Particle size 40nm
[0519]
2) Powdered organic silver salt
(Preparation of powdered organic silver salt-6)
To 4720 ml of pure water, behenic acid 0.3776 mol, arachidic acid 0.2266 mol and stearic acid 0.1510 mol were added and dissolved at 80 ° C., and then 1.5N sodium hydroxide aqueous solution 540.2 ml was added. After adding 6.9 ml of concentrated nitric acid, the mixture was cooled to 55 ° C. to obtain an organic acid sodium solution. While maintaining the temperature of the organic acid sodium solution at 55 ° C., an amount of 0.03 mol of silver halide per mol of fatty acid and 450 ml of pure water were added to the silver halide emulsion 6, and a homogenizer manufactured by IKA JAPAN. (ULTRA-TURRAXT-25) was stirred for 5 minutes at 13200 rpm (21.1 KHz as the mechanical vibration frequency). Next, 702.6 ml of a 1 mol / l silver nitrate solution was added over 2 minutes and stirred for 10 minutes to obtain an organic silver salt dispersion. Thereafter, the obtained organic silver salt dispersion was transferred to a water-washing container, deionized water was added and stirred, and then allowed to stand to float and separate the organic silver salt dispersion, thereby removing the lower water-soluble salts. Thereafter, washing with deionized water and drainage are repeated until the electrical conductivity of the drainage reaches 2 μS / cm, and after centrifugal dehydration, circulation with warm air with an oxygen partial pressure of 10% by volume is performed at 40 ° C. until there is no weight loss. Drying was performed with a drier to obtain a powdered organic silver salt containing photosensitive silver halide.
(Preparation of powdered organic silver salt-4 and 5)
In the same manner as in the preparation of powdered organic silver salt-6, silver halide emulsion 6 was changed to silver halide emulsions 4 and 5 to prepare powdered organic silver salts-4 and 5.
[0520]
3) Preparation of dispersion of organic silver salt containing photosensitive silver halide
Dissolve 14.57 g of polyvinyl butyral powder (Monsant Butvar B-79) in 1457 g of methyl ethyl ketone (MEK). Add and mix well to form a slurry.
A photosensitive emulsion dispersion was prepared by dispersing the slurry in two passes with a GM-2 pressure homogenizer manufactured by SMT. At this time, the processing pressure during one pass is 280 kg / cm.²The processing pressure during two passes is 560 kg / cm²It was.
[0521]
Thus, organic silver salt dispersions -4, -5 and -6 containing photosensitive silver halides corresponding to powdered organic silver salts -4, 5 and 6 were obtained.
[0522]
4) Preparation of photosensitive layer coating solution
(Preparation of photosensitive layer coating solution 2-1)
507 g of the above organic silver salt dispersion-6 was stirred at 13 ° C. for 15 minutes, and 3.9 ml of 10 mass% pyridinium bromide perbromide (PHP) methanol solution was added. After stirring for 2 hours, 5.2 ml of a 72 mass% calcium bromide methanol solution was added. Stirring was continued for 30 minutes, after which 117 g Butvar B-79 was added. After stirring for another 30 minutes, 27.3 g of 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -2-methylpropane was added as a reducing agent, and stirring was continued for another 15 minutes. Thereafter, sensitizing dye-1 was added at 1 × 10 5 per mole of silver halide.^-3Mole was added and stirred for 15 minutes. Subsequently, a solution in which 12.3 g of 1.39 g of Desmodur N3300 (Mobay, aliphatic isocyanate) was dissolved in MEK was added, and the mixture was further stirred for 15 minutes, and then heated at 21 ° C. for 15 minutes.
[0523]
100 g of this dispersion was mixed with 0.03 mol of 2-tribromomethylsulfonylpyridine per mol of applied silver, 5 mol of hydrogen bonding compound-1 with a reducing agent, and 5 of development accelerator-1 per mol of applied silver .0x10^-3Mole was added. Further, as “a compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can emit one electron or more”, compounds 2 and 20 and 26 are each 2 × 10 2 per mole of silver halide silver.^-3Molar amounts were added.
[0524]
Further, as compounds having an adsorbing group and a reducing group, the compounds (12), (27) and (36) are each 8 × 10 6 per 1 mol of silver halide.^-3Molar amounts were added.
Thereafter, 2.2 g of 4-chlorobenzophenone-2-carboxylic acid, 0.47 g of 2-chlorobenzoic acid and 0.47 g of 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole were added and stirred at 21 ° C. for 1 hour. Next, 0.368 g of phthalazine, 0.123 g of tetrachlorophthalic acid and 2 g of dye-1 were added to complete the image forming layer coating solution 2-1.
[0525]
(Preparation of photosensitive layer coating solution 2-2)
In the same manner as in the preparation of the photosensitive layer coating solution 2-1, except that 2-tribromomethylsulfonylpyridine is replaced with an equimolar amount of the compound of the general formula (1a) of the present invention (1a-2), the photosensitive layer coating solution 2- 2 was prepared.
[0526]
(Preparation of photosensitive layer coating solution 2-3)
In the same manner as in the preparation of the photosensitive layer coating solution 2-1, except that 2-tribromomethylsulfonylpyridine is replaced with an equimolar amount of the compound of 1b-30 of the general formula (1b) of the present invention, the photosensitive layer coating solution 2- 3 was prepared.
[0527]
(Preparation of photosensitive layer coating solution 2-4)
In the same manner as in the preparation of the photosensitive layer coating solution 2-1, except that 2-tribromomethylsulfonylpyridine is replaced by an equimolar amount of the compound of the formula (1c) of the present invention (1c-2), the photosensitive layer coating solution 2- 4 was prepared.
[0528]
(Preparation of photosensitive layer coating solution 2-5 to 2-8)
In the same manner as in the preparation of the photosensitive layer coating solutions 2-1 to 2-4, except that the organic silver salt dispersion-6 was replaced with the organic silver salt dispersion-5, and the photosensitive layer coating solutions 2-5 to 2-8 were used. Prepared.
[0529]
(Preparation of photosensitive layer coating solutions 2-9 to 2-12)
In the same manner as in the preparation of the photosensitive layer coating solutions 2-1 to 2-4, except that the organic silver salt dispersion-6 was replaced with the organic silver salt dispersion-4 and the photosensitive layer coating solutions 2-9 to 2-12 were used. Prepared.
[0530]
While stirring MEK865g, cellulose acetate butyrate (Eastman Chemical Co., CAB171-15) 96g, polymethylmethacrylic acid (Rohm & Haas Co., Paraloid A-21) 4.5g, 1,3-di (vinylsulfonyl)- After 1.5 g of 2-propanol, 1.0 g of benzotriazole and 1.0 g of fluorosurfactant C were added and dissolved, 13, 6 wt% cellulose acetate butyrate (Eastman Chemical Co., CAB171-15) and 9 masses 30 g of calcium carbonate (Speciality Minerals, Super-Pflex200) dispersed in MEK for 30 minutes at 8000 rpm with a dissolver type homogenizer was added and stirred to prepare a surface protective layer coating solution.
[0531]
3-2. Preparation of photothermographic material
The photothermographic material 2 is formed by simultaneously coating the photosensitive layer coating solutions 2-1 to 2-12 and the surface protective layer coating fatigue on the surface opposite to the back layer of the support on which the back layer is coated with an extrusion coater. -1 to 2-12 were produced. The photosensitive layer has an applied silver amount of 1.5 g / m.²The surface protective layer was applied to a dry film thickness of 2.5 μm. Then, it dried for 10 minutes using the drying air with a drying temperature of 75 degreeC and a dew point temperature of 10 degreeC.
[0532]
The compounds used in the examples are shown below.
[0533]
Embedded image

[0534]
3-3. Exposure and development processing
An exposure machine using an exposure source of a longitudinally multimode semiconductor laser having a wavelength of 800 nm to 820 nm with a high frequency weight was manufactured. 2-1. From the image forming layer surface side of 2-12, exposure by laser scanning was given by this exposure machine. At this time, an image was recorded by setting the incident angle of the scanning laser beam to the exposure surface of the photosensitive material as 75 degrees. Thereafter, using an automatic developing machine having a heat drum, the protective layer of the photosensitive material and the drum surface were brought into contact with each other, and heat development was performed at 124 ° C. for 15 seconds, and the obtained image was evaluated with a densitometer. At that time, the exposed and developed room was 23 ° C. and 50% RH.
[0535]
Sensitivity is the reciprocal of the exposure amount giving a blackening density of fog + 1.0. The sensitivity of 2-6 is shown as 100 and expressed as a relative value. The larger the value, the higher the sensitivity. The storage stability with time and the image storage stability were evaluated in the same manner as in Example 1.
For the evaluation of silver tone, a sample exposed and developed so as to have an optical density of 1.0 was prepared, and a defined in JIS Z8729 standard^*b^*Angle h obtained from coordinates_abDetermined by h_abThe ranking was as follows according to the range.
◎: 210 ° ≦ h_ab≦ 260 °
○: 195 ° ≦ h_ab<210 °, 260 ° <h_ab≦ 265 °
Δ: 180 ° ≦ h_ab<195 °, 265 ° <h_ab≦ 270 °
×: h_ab<180 °, 270 ° <h_ab
[0536]
[Table 3]

[0537]
The obtained results are shown in Table 3. As this result shows, the photothermographic material of the present invention has high sensitivity, good storage stability with time, and good image storage stability after heat development. In particular, the organic halogen compounds (1a-2), (1b-30), and (1c-2) of the present invention are different from 2-tribromomethylsulfonylpyridine, which is a comparative example of conventionally known organic halogen compounds. In the case of the emulsion 6 having a low silver iodide content, the sensitivity was slightly lowered and the effect of improving the storage stability with time was slight, but in the emulsions 4 and 5 having a high silver iodide content, the sensitivity was increased. Was an unexpected size. The organohalogen compounds (1a-2), (1b-30), and (1c-2) of the present invention also have a remarkable effect of improving the storage stability with time in the high silver iodide emulsion.
[0538]
Example 3
1. Sample preparation
1) Preparation of photosensitive layer coating solution 3-1.
100 g of MEK was added to an organic silver salt dispersion-6 containing 500 g of photosensitive silver halide while stirring under a nitrogen stream, and the mixture was kept at 24 ° C. 2.5 ml of a 10 mass% methanol solution of the following antifoggant 1 was added and stirred for 15 minutes. 1.8 ml of a solution containing the following dye adsorption assistant and potassium acetate in a mixing ratio of 1: 5 mass and a dye adsorption assistant of 20 mass% was added and stirred for 15 minutes. 1.0 x 10 per mole of silver halide^-37 ml of a mixed solution of 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole (mixing ratio = mass: 25: 2, total 3.0 mass% methanol solution) of mol, 4-chloro-2-benzoylbenzoic acid and supersensitizer 2-tribromomethylsulfonylquinoline is 0.03 mol per 1 mol of coated silver, and further “a compound that can be produced by one-electron oxidation to emit one or more electrons” 2 x 20 and 26 are each 2 x 10 per mole of silver halide.^-3Molar amounts were added.
Further, as a compound having an adsorbing group and a reducing group, the compounds (12), (27) and (36) are each 8 × 10 8 per mole of silver halide.^-3Molar amounts were added.
[0539]
After stirring for 1 hour, the temperature was lowered to 13 ° C. and stirring was continued for 30 minutes. While maintaining at 13 ° C., 48 g of polyvinyl butyral was added and dissolved sufficiently, and then the following additives were added. All these operations were performed under a nitrogen stream.
[0540]
Development accelerator-1, development accelerator-2, reducing agent-1, and reducing agent-2 are the same as those used in Example 1.
[0541]
Phthalazine 1.5g
Tetrachlorophthalic acid 0.5g
4-methylphthalic acid 0.5g
Antifoggant-2 0.9g
Hydrogen bonding compound-1 0.67g
Development accelerator-1 0.046g
Development accelerator-2 0.039g
Dye 2 2.0g
Reducing agent-1 7.5g
Reducing agent-2 7.5g
Desmodur N3300 (Mobay, aliphatic isocyanate) 1.10 g
Halogenated emulsion 6 0.69g (as silver)
[0542]
Embedded image

[0543]
2) Preparation of photosensitive layer coating solutions 3-2 to 3-12
As shown in Table 4, the silver halide emulsion was changed to equimolar amounts of the organic halogen compounds of 1a-3, 1b-30, and 1c-3 of the present invention instead of 2-tribromomethylsulfonylquinoline as the organic halogen compound. Except for the above, photosensitive layer coating solutions 3-2 to 3-12 were prepared in the same manner as the photosensitive layer coating solution 3-1.
[0544]
3) Application
Image forming layer: The above-mentioned image forming layer coating solution was applied to the same support as the support in Example 2, and the amount of silver applied was 1.8 g / m.², 8.5g / m of polyvinyl butyral binder²It applied so that it might become.
Surface protective layer: The following coating solution was applied so that the wet coating thickness was 100 μm.
[0545]
175 ml of acetone
2-propanol 40ml
Methanol 15ml
Cellulose acetate 8g
Phthalazine 1.5g
4-methylphthalic acid 0.72g
Tetrachlorophthalic acid 0.22g
Tetrachlorophthalic anhydride 0.5g
Monodispersed silica with an average particle size of 4μm (coefficient of variation 20%)
1% by weight based on binder
0.5 g of the same fluoropolymer surfactant C as in Example 2
[0546]
2. Performance evaluation
1) Exposure and heat development processing
The obtained sample was passed through a step wedge through an optical interference filter having a peak at 405 nm, and the emission time was 10.^-6Exposed with a second xenon flash light. This exposure condition is a condition by which the performance corresponding to the blue semiconductor laser can be evaluated. After the exposure, using an automatic developing machine having a heat drum as in Example 2, the photosensitive layer was thermally developed at 124 ° C. for 15 seconds so that the protective layer of the photosensitive material was in contact with the drum surface.
The results evaluated in the same manner as in Example 2 are shown in Table 4.
[0547]
[Table 4]

[0548]
All of the samples of the present invention had high sensitivity, little fogging, and very good image storage stability.
This exposure condition corresponds to blue laser exposure, and means that the photothermographic material of the present invention has high sensitivity to blue laser exposure.
[0549]
【The invention's effect】
It is possible to obtain a photothermographic material having a high sensitivity and excellent in storage stability of the light-sensitive material over time and image storage stability after processing.

Claims (29)

A photothermographic material comprising at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent, and a binder on one surface of a support, 1) an average silver iodide of the photosensitive silver halide The content is 5 mol% or more and 100 mol% or less, and 2) contains at least one selected from the group of compounds represented by the following general formulas (1a), (1b), (1c) Photothermographic material.
General formula (1a)
_{R-Y 1 - (L 1} ) n1 -CX 1 X 2 X 3
[Wherein, X ₁ , X ₂ and X ₃ each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. However, at least one of X ₁ , X ₂ , and X ₃ is a halogen atom. L ₁ represents a sulfonyl group. n1 represents 0 or 1. Y1 is, -N _(R 1) -, sulfur atom, an oxygen atom, a selenium atom, or _{- (R 2) C = C} (R 3) - _represents, R 1, _{R 2,} and _{R 3} are each independently Represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic group, an aryl group, or a heterocyclic group. ]
General formula (1b)
_{R-Y 2 -L 2 -CX 1} X 2 X 3
[Wherein, X ₁ , X ₂ and X ₃ each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. However, at least one of X ₁ , X ₂ , and X ₃ is a halogen atom. L ₂ represents a carbonyl group or a sulfinyl group. Y ₂ represents —N (R ₁ ) —, a sulfur atom, an oxygen atom, a selenium atom, or — (R ₂ ) C═C (R ₃ ) —, and each of R ₁ , R ₂ , and R ₃ represents Independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic group, an aryl group, or a heterocyclic group. ]
General formula (1c)
_{R-Y 3 - (L 3} ) n2 -CX 1 X 2 X 3
[Wherein, X ₁ , X ₂ and X ₃ each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. However, at least one of X ₁ , X ₂ , and X ₃ is a halogen atom. L ₃ represents a sulfonyl group, a carbonyl group, or a sulfinyl group. n2 represents 2 or 3. Y ₃ represents a single bond, —N (R ₁ ) —, a sulfur atom, an oxygen atom, a selenium atom, or — (R ₂ ) C═C (R ₃ ) —, and R ₁ , R ₂ , and R ₃ Each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic group, an aryl group, or a heterocyclic group. ] 2. The photothermographic material according to claim 1, wherein R in the general formulas (1a), (1b), and (1c) is an alkyl group. _{3. The} photothermographic material according to claim ₁ , wherein in the general formulas (1a), (1b), and (1c), X ₁ , X _2, and X ₃ are Br. 4. The photothermographic material according to claim 1, wherein, in the general formula (1a), Y ₁ is —N (R ₁ ) —. 5. The photothermographic material according to claim 4, wherein, in the general formula (1a), R ₁ is an alkyl group. 4. The photothermographic material according to claim 1, wherein, in the general formula (1b), Y ₂ is —N (R ₁ ) —. 7. The photothermographic material according to claim 6, wherein R ₁ in the general formula (1b) is a hydrogen atom. 4. The photothermographic material according to claim 1, wherein Y ₃ in the general formula (1c) is a single bond. The photothermographic material according to claim 1, wherein n2 is 2 in the general formula (1c). Formula (1a), (1b), in (1c), wherein R and _{R 1} or R and _{R 3,,} according to any one of claims 1 to 9, characterized in that to form a ring Photothermographic material. The photothermographic material according to claim 10, wherein the ring is an alicyclic group. 12. The photothermographic material according to claim 1, wherein an average silver iodide content of the photosensitive silver halide is 40 mol% or more and 100 mol% or less. 13. The photothermographic material according to claim 1, wherein the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation contains a compound capable of emitting one or more electrons. 14. The photothermographic material according to claim 1, further comprising an adsorptive redox compound having an adsorbing group and a reducing group. 15. The photothermographic material according to claim 1, wherein a hue angle at an image density of 1.0 is in a range of 180 to 270 [deg.]. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver coating amount is in the range of 1 to 1.9 g / m ² . 17. The photothermographic material according to claim 1, wherein the heat development time is in the range of 6 to 14 seconds. The photothermographic material according to claim 1, wherein the development rate at the maximum density is 80% or more. 19. The photothermographic material according to claim 1, wherein the development rate at the maximum density is 90% or more. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver halide is chemically sensitized by at least one of chalcogen sensitization, gold sensitization, and reduction sensitization. 21. The photothermographic material according to claim 20, wherein the chalcogen sensitization is tellurium sensitization, selenium sensitization, or sulfur sensitization. The photothermographic material according to claim 20 or 21, wherein the chalcogen sensitization is tellurium sensitization or selenium sensitization. The photothermographic material according to any one of claims 20 to 22, wherein the chalcogen sensitization is tellurium sensitization. 24. The photothermographic material according to claim 1, wherein a silver iodide content of the silver halide photograph is 80 mol% or more and 100 mol% or less. 25. The photothermographic material according to claim 1, wherein a silver iodide content of the silver halide photograph is 90 mol% or more and 100 mol% or less. 26. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver halide grains have an epitaxially formed portion containing silver bromide and silver chloride. 27. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver halide contains at least one of dislocation lines and lattice defects. 28. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver halide has a grain size of 5 nm to 100 nm. 29. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver halide has a grain size of 5 nm to 55 nm.