JP2004271642A

JP2004271642A - Antiglare and antireflection film, method for manufacturing same, polarizing plate using film, liquid crystal display device, and image display device

Info

Publication number: JP2004271642A
Application number: JP2003058940A
Authority: JP
Inventors: Takahiro Moto; 隆裕本
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2003-03-05
Filing date: 2003-03-05
Publication date: 2004-09-30

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device and an image display device which hardly cause contrast degradation due to a change in visual angle, reversal in gradation and black and white, a change in hue, etc., and is free of bright spot defects by using an antiglare and antireflection film which is free of the bright spot (foreign substance) defects and has excellent flawing resistance and durability. <P>SOLUTION: The polarizing plate, the liquid crystal display device and the image display device are obtained by using the antiglare and antireflection film, which is constituted so that ruggedness of the extreme surface is formed from the outside after forming a low refractive index layer having the refractive index lower than the refractive index of a transparent support on the transparent support, wherein the average value in a wavelength region from 450 to 650 nm of specular reflectivity at 5° incidence is ≤0.6%, surface roughness Fa is 0.02 to 2.00 μm and Rz/Ra is 2 to 30. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、コンピュータ、ワードプロセッサ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、テレビジョン等の画像表示に用いる液晶表示素子や画像表示素子に関し、特に、視角特性の向上を図る防眩性を有する防眩性反射防止フィルム、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルム等の各種機能フィルム、それらを用いた偏光板、液晶表示装置及び画像表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に設けられている。眼鏡やカメラのレンズにも反射防止フィルムが設けられている。反射防止フィルムとしては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から普通に用いられている。複数の透明薄膜を用いるのは、様々な波長の光の反射を防止するためである。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により形成されている。金属酸化物の透明薄膜は、反射防止フィルムとして優れた光学的性質を有しているが、蒸着法やスパッタ法による製膜方法は、生産性が低く大量生産に適していない。
ＰＶＤ法による反射防止膜は、用途に応じて表面凹凸による防眩性を有する支持体上に形成される場合がある。平滑な支持体上に形成されたものより平行光線透過率は減少するが、背景の映り込みが表面凹凸によって散乱されて低下するため防眩性を発現し、反射防止効果とあいまって、画像形成装置に適用するとその表示品位は著しく改善される。
【０００３】
これらの蒸着法に代えて、無機微粒子の塗布により反射防止膜を形成する方法が提案されている。
特許文献１は、微細空孔と微粒子状無機物とを有する反射防止層を開示している。反射防止層は、塗布により形成される。微細空孔は、層の塗布後に活性化ガス処理を行ない、ガスが層から離脱することによって形成される。
特許文献２は、支持体、高屈折率層および低屈折率層の順に積層した反射防止膜を開示している。同公報は、支持体と高屈折率層の間に中屈折率層を設けた反射防止膜も開示している。低屈折率層は、ポリマーまたは無機微粒子の塗布により形成されている。
【０００４】
特許文献３は、二種類以上の超微粒子（例えば、ＭｇＦ_２とＳｉＯ_２）を混在させて、膜厚方向にその混合比を変化させた反射防止膜を開示している。混合比を変化させることにより屈折率を変化させ、上記特許文献２に記載されている高屈折率層と低屈折率層を設けた反射防止膜と同様の光学的性質を得ている。超微粒子は、エチルシリケートの熱分解で生じたＳｉＯ_２により接着している。エチルシリケートの熱分解では、エチル部分の燃焼によって、二酸化炭素と水蒸気も発生する。特許文献３の第１図に示されているように、二酸化炭素と水蒸気が層から離脱することにより、超微粒子の間に間隙が生じている。
特許文献４は、上記特許文献３記載の反射防止膜に存在する超微粒子間隙をバインダーで充填することを開示している。
特許文献５は、多孔質シリカよりなる無機微粉末とバインダーとを含有する反射防止膜を開示している。
特許文献６は、低屈折率層に無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねてミクロボイドを含有させた層を用いた、ウエット塗布による３層構成の反射防止膜を有するフィルムを開示している。オールウエット塗布による安価な製造コストにて、膜強度と反射率の低さを両立した反射防止フィルムを与える技術が公開されている。
【０００５】
上述したような塗布による反射防止フィルムに防眩性を付与する手段としては、表面凹凸を有する支持体上に反射防止層を塗布する方法や、表面凹凸を形成するためのマット粒子を、反射防止層を形成する塗布液に添加する方法の他に、特許文献７及び特許文献８は、平滑な反射防止フィルムの作成後に、エンボス法等によって表面凹凸構造を形成する方法を開示している。
【０００６】
【特許文献１】
特公昭６０−５９２５０号公報
【特許文献２】
特開昭５９−５０４０１号公報
【特許文献３】
特開平２−２４５７０２号公報
【特許文献４】
特開平５−１３０２１号公報
【特許文献５】
特開平７−４８５２７号公報
【特許文献６】
特開平１１−６９０２号公報
【特許文献７】
特開２０００−２７５４０１号公報
【特許文献８】
特開２０００−２７５４０４号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、エンボス加工均一化による更なる面状改良、塗布液凝集物などの異物が原因となる耐傷特性の改善、長期使用時における防眩性能の低下の防止が強く望まれていた。
従って、本発明の目的は、塗布層である低屈折率層を有していても、蒸着層からなる反射防止フィルムに匹敵する反射防止機能と防眩機能とを有し、輝点（異物）欠陥がなく、耐傷特性、耐久性にも優れた防眩性反射防止フィルム並びにその製造方法を提供することである。
また、偏光子および該防眩性反射防止フィルムからなる偏光板を提供すること、さらに該偏光板に液晶性化合物からなる光学異方層を有し、視野角（特に下方向視野角）を拡大し、視角変化によるコントラスト低下、階調または黒白反転、および色相変化等がほとんど発生することがなく、輝点欠陥のない液晶表示装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、上記性能に優れた防眩性反射防止フィルムを備えた画像表示装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、下記構成の防眩性反射防止フィルム、その製造方法、並びに偏光板、液晶表示装置および画像表示装置により達成される。
（１）透明支持体上に、透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層を形成した後、最表面の凹凸を外部から形成してなる防眩性反射防止フィルムであって、５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が０．６％以下であり、表面粗さＲａが０．０２〜２．００μｍであり、かつＲｚ／Ｒａが２〜３０であることを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
（２）最表面の凹凸をエンボス加工により形成することを特徴とする上記（１）記載の防眩性反射防止フィルム。
【０００９】
（３）透明支持体上に、透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層を形成した後、最表面の凹凸を、エンボスロールのＲａが０．２〜１００μｍであり、エンボスロール温度を８０〜２００℃とし、エンボス加工雰囲気の湿度を１０〜１００ｇ／ｍ^３とした条件でエンボス加工することにより形成することを特徴とする上記（２）に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
（４）上記（３）記載の製造方法で得られた防眩性反射防止フィルム。
【００１０】
（５）偏光子の両面を保護フィルムで挟持した偏光板において、保護フィルムの少なくとも一方が上記（１）、（２）又は（４）に記載の防眩性反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
（６）偏光子の両面を保護フィルムで挟持した偏光板において、保護フィルムの一方が光学異方層を有する保護フィルムであり、かつ他方の保護フィルムが上記（１）、（２）又は（４）に記載の防眩性反射防止フィルムであることを特徴とする楕円偏光板。
【００１１】
（７）偏光子の両面を保護フィルムで挟持した偏光板において、保護フィルムの一方に液晶性化合物を含有することからなる光学異方層を有し、かつ他方の保護フィルムが上記（１）、（２）又は（４）に記載の防眩性反射防止フィルムであることを特徴とする楕円偏光板。
（８）液晶性化合物がディスコティック化合物であることを特徴とする上記（７）に記載の楕円偏光板。
【００１２】
（９）上記（５）〜（８）のいずれかに記載の偏光板の防眩性反射防止フィルムでない側を液晶セル面に配置したことを特徴とする液晶表示装置。
（１０）上記（１）、（２）又は（４）に記載の防眩性反射防止フィルムを用いることを特徴とする画像表示装置。
【００１３】
本発明は、表面凹凸を有する低反射率層を有する防眩性反射防止フィルムの耐傷特性や輝点欠陥、防眩性能の耐久性が、表面の局所的な凹凸の多少と関連が深く、Ｒｚ／Ｒａ値と相関することを見出し、Ｒａ値が０．０２〜２．００μｍ且つＲｚ／Ｒａ値が２〜３０となるように最表面の凹凸を外部から形成することにより（好ましくはエンボス加工により）、上記課題が解決された、良好な防眩性能と反射防止性能を兼ね備えた防眩性反射防止フィルムを提供できることを知見したものである。更に、それを用いて、優れた性能の偏光板、液晶表示装置及び画像表示装置を得ることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の防眩性を有する防眩性反射防止フィルムの基本的な構成を更に詳述する。
【００１５】
［表面粗さ］
防眩性反射防止フィルムの表面凸凹は、ＪＩＳ−Ｂ−０６０１に規定される基準長２．５ｍｍ、カットオフ値が０．８ｍｍで測定したときの中心線平均表面粗さ（Ｒａ）を表し、本発明では、中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が０．０２〜２μｍであることを特徴とする。更にＲａが０．１〜１．５μｍであることが好ましく、０．３〜１．０μｍであることがより好ましい。更に本発明では、十点平均粗さ（Ｒｚ）とＲａとの比（Ｒｚ／Ｒａ値）が２〜３０であることを特徴とし、１１〜２５であることが好ましく、１３〜２０であることがより好ましい。
【００１６】
中心線平均粗さＲａは表面の凹凸の平均的な粗さを表すパラメータであり、この値が大きいほど表面の平均的な粗さが大きくなる。Ｒａが０．０２μｍ未満であると、充分な防眩機能を得ることができない。Ｒａが２μｍを越えると、解像度が低下したり、外光が当たった際に像が白く光ったりしやすい。Ｒｚは局所的な凹凸の大きさを表すパラメータであり、この値の中心線平均粗さに対する比率が大きいと局所的に突起が多く存在し、Ｒｚ／Ｒａが大きいほど、局所的に存在するブツが輝点となる面状欠陥が多いことを見出した。しかも、３０より大きいと輝点欠陥が顕著になるほか、耐擦り傷性能を悪化させることが分かった。
本発明では、反射防止フィルムの最表面の凹凸を、低屈折率層を形成した後、エンボスロールやサンドブラストなどを用いて外部から形成することにより、極めて容易に上記Ｒａ値及びＲｚ／Ｒａ値を所望の範囲に制御できる他、塗布液中に凝集物となる可能性のある粒子を含まず、凝集物の剥離によって誘因される表面の傷つきの懸念がないため、耐傷特性、耐久性に優れたものとすることができる。
【００１７】
我々が更に検討を進めた結果、同じ防眩性を与える防眩性反射防止フィルムであっても、このトータルの防眩性を発現するための、ひとつひとつの表面突起形状が異なると、ディスプレイ電源ＯＦＦ時または液晶の黒表示の時に、表面散乱性の違いで、外観状の黒の締まり（逆にいうと、白味）が異なることがわかった。表面突起の突起傾斜角が大きいと、広角域への表面散乱性が強くなるため、黒の締まりが損なわれて白っぽくなり、高級感が失われ、好ましくないことがわかった。特に、黒の締まりは、突起傾斜角度（９５％頻度）とよく相関があることを見出し、該角度が、好ましくは２０度以下、より好ましくは１５度以下、更に好ましくは１３度以下であるときに、黒の締まりが良好であることがわかった。ここで、「突起傾斜角度（９５％頻度）」とは、突起傾斜角度分布の角度の小さい側から９５％頻度の角度のことをいい、具体的には、表面の傾斜角を一定の範囲（１００点）にわたって計測し、その角度を小さい順にならべたときの９５番目の値を言う。
また、防眩性によく相関する、平均の表面突起傾斜角度（突起傾斜角度分布の角度の小さい側から５０％頻度の角度に相当）は、好ましくは１〜５度、より好ましくは１．５〜４．５度、更に好ましくは２〜４度である。
【００１８】
本発明の防眩性反射防止フィルムは、５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が０．６％以下であることを特徴とする。０．５％以下であることが好ましく、０．４％以下であることがより好ましい。
また、５度入射における積分反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が２．５％以下であることが好ましく、より好ましくは２．３％以下である。
【００１９】
５度入射における鏡面反射率は、サンプルの法線方向から＋５度の角度で入射した光に対して法線方向から−５度の角度で検出した反射光の強度の割合であり、背景の鏡面反射による映り込みの尺度を示す。
一方、５度入射における積分反射率とは、サンプルの法線方向から＋５度の角度で入射した光に対して全ての方向に反射した光の強度の積分値の割合である。
【００２０】
防眩性反射防止フィルムの５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が０．６％を越えると、背景の映り込みが気になり、表示装置の表面フィルムに適用したときの視認性が低下する。
一方、防眩性反射防止フィルムの５度入射における積分反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が２．５％を越えると、表示装置のコントラスト改善効果が少なくなり、防眩性付与のための表面凹凸起因の散乱光により表示画面が白化し、表示装置の表示品位が低下する。
【００２１】
防眩性反射防止フィルムのヘイズは値が低いほど、画像のボケを小さくして明瞭なディスプレイ表示を得ることができるため好ましく、ヘイズ値が高すぎると白っぽくなり好ましくない。ヘイズ値は１５％以下に制御することが好ましく、１０％以下とすることがより好ましい。なお、ヘイズ値はＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準じ、村上色彩技術研究所製ＨＲ−１００を用いて測定できる。
【００２２】
［反射防止フィルムの形成］
反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。ウエット塗布量を最小化することで乾燥ムラをなくす観点でマイクログラビア法およびグラビア法が好ましく、幅方向の膜厚均一性の観点で特にグラビア法が好ましい。２層以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【００２３】
本発明では、少なくとも透明支持体と低屈折率層が必須であり、且つその最表面の凹凸が特定のＲａ値及びＲｚ／Ｒａ値を有することが特徴であり、それ以外の層構成については特に限定されない。低屈折率層は、透明支持体よりも低い屈折率を有していればよい。図１（ａ）〜（ｃ）は、本発明の反射防止フィルムの基本的な層構成例を示す断面模式図であるが、これらの層構成に制限されず、多くのバリエーションがあることは勿論である。
例えば、図１（ａ）に示す如く、透明支持体（１３）の上に、下塗り層（１６）を介してハードコート層（１２）を設け、フィルム強度を上げる構成としてもよい。
【００２４】
図１（ｂ）では、透明支持体（１３）の上に、ハードコート層（１２）、高屈折率層（１４）及び低屈折率層（１１）の順序の層構成を有し、図１（ｃ）では、透明支持体（１３）の上に、ハードコート層（１２）、中屈折率層（１５）、高屈折率層（１４）及び低屈折率層（１１）の順序の層構成を有する。このような３層構成の反射防止フィルムは、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層の、それぞれの層の光学膜厚、すなわち屈折率と膜厚の積が設計波長λに対して（λ／４）ｎ前後、またはその倍数であることが好ましいことが特開昭５９−５０４０１号公報に記載されている。
しかしながら、本発明の低反射率且つ反射光の色味が低減された反射率特性を実現するためには、特に設計波長λ（＝５００ｎｍ）に対して中屈折率層が下式（Ｉ）を、高屈折率層が下式（ＩＩ）を、低屈折率層が下式（ＩＩＩ）をそれぞれ満足する必要がある。
【００２５】
１００．００＜ｎ１ｄ１＜１２５．００（Ｉ）
１８７．５０＜ｎ２ｄ２＜２３７．５０（ＩＩ）
１１８．７５＜ｎ３ｄ３＜１３１．２５（ＩＩＩ）
【００２６】
式中、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ２は高屈折率層の屈折率であり、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。
【００２７】
さらに、例えばトリアセチルセルロース（屈折率：１．４９）からなるような屈折率が１．４５〜１．５５の透明支持体に対しては、ｎ１は１．６０〜１．６５、ｎ２は１．８５〜１．９５、ｎ３は１．３５〜１．４５の屈折率である必要があり、ポリエチレンテレフタレート（屈折率：１．６６）からなるような屈折率が１．５５〜１．６５の透明支持体に対しては、ｎ１は１．６５〜１．７５、ｎ２は１．８５〜２．０５、ｎ３は１．３５〜１．４５の屈折率である必要がある。上記のような屈折率を有する中屈折率層や高屈折率層の素材が選択できない場合には、設定屈折率よりも高い屈折率を有する層と低い屈折率を有する層を複数層組み合わせた等価膜の原理を用いて、実質的に設定屈折率の中屈折率層あるいは高屈折率層と光学的に等価な層を形成できることは公知であり、本発明の反射率特性を実現するためにも用いることができる。本発明の「実質的に３層」とは、このような等価膜を用いた４層、５層の反射防止層も含むものである。
このような式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）を満たす反射防止性層は鏡面反射率を極めて低く抑えることができ、前述したように、５度入射の鏡面反射率を０．６％以下とすることができる。
【００２８】
［防眩性の付与］
本発明の反射防止フィルムに防眩性を付与するのは、最表面の凹凸を外部から形成して行なうものである。最表面の凹凸を粒子含有した層を用いて制御するよりも、エンボスロールやサンドブラストなどを用いて形成するほうが容易に制御できる。
【００２９】
図２に、塗布型反射防止フィルムへの防眩性の付与法の一例を示す。図中、反射防止フィルム（１）の反射防止層（３）側の表面をエンボスロール（４）とバックアップロール（５）によりプレスして少なくとも一方の表面に凹凸を形成することによって、反射防止性を損なうことなく防眩性を発現させることができる。このようにエンボス加工により、表面に凹凸を有し、かつ膜の厚みが実質的に均一である低屈折率層を構成することができる。ここで厚さが実質的に均一であるとは、膜厚の均一性が±３％以下であることが好ましい。反射防止性を損なわないために必要な実質的な膜の均一性は、光干渉層の層数や設計によって異なる。例えば、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層が空気界面側より、この順序に各層とも（λ／４）ｎの厚みで積層された３層型設計の場合、各層の膜厚の均一性は±３％が上限であって、それ以上になると著しく反射防止性能が低下してしまう。
【００３０】
防眩性の程度は、エンボス金型形状、エンボス加工における膜面温度、雰囲気湿度、プレス圧力、処理速度等の工程条件および反射防止フィルムを有する透明支持体および各層の力学特性によって制御することができるが、より温和な条件での実施が、コスト等の観点から好ましい。
【００３１】
本発明のエンボス加工は、作製した反射防止フィルムに片面エンボシングカレンダー機を用いてエンボス加工することで行われる。エンボスロールの表面形状は形成される防眩性反射防止フィルムの表面形状に直接影響するので極めて重要である。エンボスロールの表面粗さＲａは０．２〜１００μｍであることが好ましく、０．２〜２０μｍであることがより好ましく、０．２〜５μｍであることが特に好ましい。エンボスロールの凹凸形状はランダムに配置されていることが好ましく、凸部から隣接する凸部までの平均距離は好ましくは１０〜８０μｍ、より好ましくは１５〜７５μｍである。エンボスロールの温度は、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層などの屈折率層とハードコート層および支持体などの粘弾性特性により影響を受けるが、好ましくは８０℃〜２００℃、より好ましくは８０〜１９０℃、更に好ましくは１２０〜１８０℃で実施される。
また、エンボス加工雰囲気の湿度は前述した各層や支持体が吸湿によりその粘弾性特性を変化させ、特に重要である。エンボス加工雰囲気の湿度は５〜１００ｇ／ｍ^３であることが好ましく、１５〜９５ｇ／ｍ^３であることがより好ましく、２５〜９０ｇ／ｍ^３であることが特に好ましい。本発明の範囲の条件でエンボス加工することにより表面凹凸の経時変化を小さくすることができる。即ち、本発明の防眩性反射防止フィルムは６５℃９５％ＲＨの雰囲気下で１０００時間経時した後でもその防眩性を保持することができる。
エンボス加工時に低屈折率層やハードコート層の硬化を完了させずエンボス加工し、その後で硬化を完了させることでも、表面凹凸の経時変化を小さくすることができる。
【００３２】
エンボス加工の線圧は好ましくは１０〜１，２００ｋｇｆ／ｃｍ、より好ましくは５０〜９００ｋｇｆ／ｃｍであり、プレス前のプレヒートロール温度は好ましくは６０〜１８０℃、より好ましくは８０〜１８０℃、エンボス加工速度は好ましくは０．３〜１０ｍ／分、より好ましくは０．５〜５ｍ／分である。
【００３３】
また、エンボス加工は、支持体の上に、ハードコート層や中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層などを形成した後に行なうが、これらの層の形成に用いる熱または電離放射線硬化性素材の硬化をエンボス加工前に完了しておくことや、エンボス加工前に弱く硬化させてエンボス加工後に硬化を完了させることも好ましい。エンボス加工後に硬化を完了させることにより、エンボス加工により形成した表面凹凸が経時安定性、すなわち表面凹凸の耐久性を更に高めることができる。
【００３４】
［透明支持体］
透明支持体としては、プラスチックフイルムを用いることが好ましい。プラスチックフイルムの材料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリー１，４ーシクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、非晶質ポリオレフィン（例、ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが挙げられる。
【００３５】
特に液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等に用いるために本発明の反射防止フィルムを偏光板の表面保護フィルムの片側として用いる場合にはトリアセチルセルロースが好ましく用いられる。トリアセチルセルロースフイルムの作成法は、公開技報番号２００１−１７４５にて公開されたものが好ましく用いられる。また、平面ＣＲＴやＰＤＰ等に用いるためにガラス基板等に張り合わせて用いる場合にはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、非晶質ポリオレフィン、およびノルボルネン系樹脂が好ましい。
透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。透明支持体のヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。透明支持体の屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。また、厚さは２５〜１０００μｍが好ましい。
【００３６】
［屈折率層］
本発明の低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
本発明の低屈折率層としては、例えば、ＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ_２（ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ_３（ｎ＝１．４）、ＡｌＦ_３（ｎ＝１．４）、Ｎａ_３ＡｌＦ_６（ｎ＝１．３３）、ＳｉＯ_２（ｎ＝１．４５）等の低屈折率無機材料あるいはこれらを微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた材料、フッ素系、シリコーン系の有機材料等を用いることができる。これらの中でも本発明では特に熱または電離放射線により硬化する含フッ素化合物を用いることが好ましい。該硬化物の動摩擦係数は好ましくは０．０２〜０．１８、より好ましくは０．０３〜０．１５、純水に対する接触角は好ましくは９０〜１３０度、より好ましくは１００〜１２０度である。動摩擦係数が高いと、表面を擦った時に傷つきやすくなり、好ましくない。また、純水に対する接触角が小さいと指紋や油汚れ等が付着しやすくなるため、防汚性の観点で好ましくない。また本発明の低屈折率層には膜強度向上を目的として適宜シリカ粒子等のフィラーを添加しても良い。
【００３７】
低屈折率層に用いられる硬化性の含フッ素化合物としてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロー１，１，２，２ーテトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。
【００３８】
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロー２，２ージメチルー１，３ージオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【００３９】
硬化反応性付与のための構成単位としてはグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己硬化性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の硬化反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。
【００４０】
また上記含フッ素モノマー単位、硬化反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
【００４１】
上記のポリマーに対しては特開平８−９２３２３号、１０−２５３８８号、同１０−１４７７３９号、同１２−１７０２８号公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。
特にポリマーの硬化反応性基が水酸基、カルボキシル基のような単独で硬化反応性を持たない基の場合には硬化剤を併用することが必須であり、硬化剤としては例えばポリイソシアネート系、アミノプラスト、多塩基酸またはその無水物などを挙げることができる。
一方、硬化反応性基が自己硬化反応性の基である場合には、特に硬化剤を添加しなくても良いが、多官能（メタ）アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物等種々の硬化剤を適宜併用することもできる。
【００４２】
本発明で特に有用な含フッ素共重合体は、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％の場合である。
【００４３】
また本発明の含フッ素ポリマーには防汚性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが例えば特開平１１−１８９６２１号、同１１−２２８６３１号、特開２０００−３１３７０９号に記載のごとくシリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法、特開平２−２５１５５５号、同２−３０８８０６号に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。これらの場合ポリシロキサン成分はポリマー中の０．５〜１０質量％であることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％の場合である。
【００４４】
防汚性付与に対しては上記以外にも反応性基含有ポリシロキサン（例えばＫＦ−１００Ｔ，Ｘ−２２−１６９ＡＳ，ＫＦ−１０２，Ｘ−２２−３７０１ＩＥ，Ｘ−２２−１６４Ｂ，Ｘ−２２−５００２，Ｘ−２２−１７３Ｂ，Ｘ−２２−１７４Ｄ，Ｘ−２２−１６７Ｂ，Ｘ−２２−１６１ＡＳ（以上商品名、信越化学工業社製）、ＡＫ−５，ＡＫ−３０，ＡＫ−３２（以上商品名、東亜合成社製）、サイラプレーンＦＭ０２７５，サイラプレーンＦＭ０７２１（以上チッソ社製）等）を添加する手段も好ましい。この際これらのポリシロキサンは低屈折率層全固形分の０．５〜１０質量％の範囲で添加されることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％の場合である。
【００４５】
本発明の低屈折率層では、市販の含フッ素化合物としてＴＥＦＲＯＮＡＦ１６００（デュポン社製屈折率ｎ＝１．３０）、ＣＹＴＯＰ（旭硝子（株）社製ｎ＝１．３４）、１７ＦＭ（三菱レーヨン（株）社製ｎ＝１．３５）、オプスターＪＮ−７２１２（ＪＳＲ（株）社製ｎ＝１．４０）、オプスターＪＮ−７２２８（ＪＳＲ（株）社製ｎ＝１．４２）、ＬＲ２０１（日産化学工業（株）社製ｎ＝１．３８）（いずれも商品名）等を利用することもできる。
【００４６】
中屈折率層および高屈折率層は、屈折率の高い無機微粒子、熱または電離放射線硬化性のモノマ−、開始剤および溶媒を含有する塗布組成物の塗布、溶媒の乾燥、熱および／または電離放射線による硬化によって形成される。無機微粒子としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂの酸化物から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物からなるものが好ましい。このようにして形成された中屈折率層および高屈折率層は、高屈折率を有するポリマー溶液を塗布、乾燥したものと比較して、耐傷性、耐久性や密着性に優れる。分散液安定性や、硬化後の膜強度等を確保するために、特開平１１−１５３７０３号公報や米国特許第６２１０８５８Ｂ１等に記載されているような、多官能（メタ）アクリレートモノマーとアニオン性基含有（メタ）アクリレート分散剤とが塗布組成物中に含まれることが好ましい。
【００４７】
無機微粒子の平均粒径は、コールターカウンター法で測定したときの平均粒径で１〜１００ｎｍであることが好ましい。１ｎｍ以下では、比表面積が大きすぎるために、分散液中での安定性に乏しく、好ましくない。１００ｎｍ以上では、バインダーとの屈折率差に起因する可視光の散乱が発生し、好ましくない。高屈折率層および中屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、１％以下であることがより好ましい。
【００４８】
［ハードコート層］
本発明の反射防止フィルムにおいて、ハードコート層は、透明支持体に耐傷性を付与するために設けることが好ましい。ハードコート層は、透明支持体とその上の層との接着を強化する機能も有する。ハードコート層は、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマーやシリカ系化合物を用いて形成することができる。顔料をハードコート層に添加してもよい。ハードコートに用いる素材としては、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましく、架橋構造を有していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
【００４９】
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが含まれる。
【００５０】
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造を導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジンアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明において架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。ハードコート層は、溶剤中にモノマーおよび重合開始剤を溶解し、塗布後に重合反応（必要ならばさらに架橋反応）により形成することが好ましい。重合開始剤については、ベンゾフェノン系等の水素引き抜き型、アセトフェノン系、トリアジン系等のラジカル開列型を単独あるいは併用してモノマーと共に塗布液に添加するのが好ましい。ハードコート層の塗布液に、少量のポリマー（例：ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂）を添加してもよい。
【００５１】
ハードコート層の厚さとしては０．５〜２０μｍが好ましく、より好ましくは１〜１０μｍの範囲である。このようなハードコート層の厚さは、エンボス加工の適性に大きく影響する。即ち、ハードコート層が厚すぎるとエンボス適性を低下し、同じエンボス加工を行っても必要とする粗さを得ることができない。
本発明の反射防止フィルムには、さらに、防湿層、帯電防止層や保護層を設けてもよい。
【００５２】
［アルカリ鹸化処理］
本発明の反射防止フィルムを偏光子の表面保護フィルムの片側として用いる場合には、透明支持体の反射防止層が形成される面とは反対側の面をアルカリによって鹸化処理することが好ましい。アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、以下の２つから選択することができる。汎用のトリアセチルセルロースフイルムと同一の工程で処理できる点で（１）が優れているが、反射防止フィルム面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程となるが、（２）が優れる。（１）透明支持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも１回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理する（２）透明支持体上に反射防止層を形成する前または後に、アルカリ液を該反射防止フィルムの反射防止フィルムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗および／または中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理する。
【００５３】
［偏光板］
偏光板は、ポリマーフイルム上に配向膜および液晶性分子の配向を固定化した光学異方層を設けた光学補償シート、偏光子、本発明の防眩性反射防止フィルムをこの順に積層された層構成を有することが好ましい。
偏光子には、ヨウ素系偏光子、２色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
ポリマーフイルムの遅相軸と偏光子の透過軸の関係は、適用される液晶表示装置の種類により異なる。ＴＮ、ＭＶＡまたはＯＣＢの場合は、実質的に平行になるように配置する。反射型液晶表示装置の場合は、実質的に４５度となるように配置することが好ましい。
【００５４】
［光学補償シート］
光学補償シートは、鹸化処理したポリマーフイルムからなる透明支持体、その上に設けられた配向膜および配向膜上に形成された円盤状構造単位を有する光学異方層からなる。配向膜は架橋されたポリマーからなるラビング処理された膜であることが好ましい。
光学異方層に用いられる円盤状構造単位を有する化合物としては、低分子量の円盤状液晶性化合物（モノマー）または重合性円盤状液晶性化合物の重合により得られるポリマーを用いることができる。円盤状化合物（ディスコティック化合物）は、一般に、ディスコティック液晶相（即ち、ディスコティックネマチック相）を有する化合物とディスコティック液晶相を持たない化合物に大別することができる。円盤状化合物は、一般に負の複屈折を有する。光学異方層は、ディスコティック化合物の負の複屈折性を利用したものである。
【００５５】
［光学異方層］
光学補償シートにおける光学異方層は、配向膜上に形成される。光学異方層は、円盤状構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する層であることが好ましい。光学異方層は、低分子量の液晶性円盤状化合物（モノマー）の層または重合性の液晶性円盤状化合物の重合（硬化）により得られるポリマーの層である。円盤状（ディスコティック）化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基がその直鎖として放射線状に置換された構造である。円盤状化合物には、液晶性を示すディスコティック液晶が含まれる。円盤状化合物から形成した光学異方層には、熱や光で反応する基を有する低分子ディスコティック液晶を反応させて重合または架橋することにより、高分子量化して液晶性を失ったものも含まれる。円盤状化合物については、特開平８−５０２０６号公報に記載がある。
【００５６】
光学異方層は、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる層であって、そしてディスコティック構造単位の面が、透明支持体面に対して傾き、且つ該ディスコティック構造単位の面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さにより変化していることが好ましい。
【００５７】
ディスコティック構造単位の面の角度（傾斜角）は、光学異方層の配向膜底面からの距離の増加と共に増加または減少している。傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、および増加および減少を含む間欠的変化等を挙げることができる。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。傾斜角は、変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していることが好ましい。さらに、傾斜角は全体として増加していることが好ましく、特に連続的に変化することが好ましい。
【００５８】
［液晶表示装置、画像表示装置］
本発明の反射防止フィルムは、偏光子の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。また、液晶表示装置の視野角を改良する視野角拡大フィルムなどの光学補償フィルム、位相差板等を組み合わせて使用することもできる。また、透過型または半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム（偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。
また、λ／４板と組み合わせることで、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面および内部からの反射光を低減するのに用いることができる。さらに、ＰＥＴ、ＰＥＮ等の透明支持体上に本発明の反射防止層を形成して、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用できる。
【００５９】
【実施例】
以下に、実施例をもって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６０】
実施例１
＜ハードコート層用塗布液の調製＞
下記処方で化合物を混合溶解した。得られた溶液を、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過してハードコート層用塗布液を調製した。
【００６１】
（ハードコート層用塗布液処方）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサア
クリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２４０質量部
ポリグリシジルメタクリレート１００質量部
メチルエチルケトン１００質量部
シクロヘキサノン１１０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１０質量部
ＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ_２ゾル
のメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）４４０質量部
【００６２】
＜二酸化チタン分散物Ａの調製＞
下記処方で化合物を混合し、サンドグラインダーによって、コールター法で測定した平均粒径が７０ｎｍになるまで分散し、二酸化チタン分散物Ａを調製した。
【００６３】
（二酸化チタン分散物Ａの処方）
二酸化チタン超微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、石原産業（株）製）１００質量部
下記の架橋反応性基含有アニオン性ポリマー（化１）１５質量部
ジメチルアミノエチルアクリレート（ＤＭＡＥＡ、興人（株）製）１質量部
シクロヘキサノン１８４質量部
【００６４】
【化１】

【００６５】
＜中屈折率層用塗布液の調製＞
シクロヘキサノン７４８２質量部、メチルエチルケトン１９００質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１３質量部及び光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５質量部を混合溶解した。さらに、上記二酸化チタン分散物Ａを３２０質量部及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２８０質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、中屈折率層用塗布液を調製した。
【００６６】
＜高屈折率層用塗布液Ａの調製＞
シクロヘキサノン５４００質量部、メチルエチルケトン１８００質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１３質量部及び光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）４質量部を混合溶解した。さらに、上記二酸化チタン分散物Ａを２５８３質量部及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２００質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、高屈折率層用塗布液Ａを調製した。
【００６７】
＜低屈折率層用塗布液Ａの調製＞
シクロヘキサノン１９８質量部、メチルエチルケトン６３６質量部、光重合開始剤（ＵＶＩ１６９９０、ユニオンカーバイト社製）２質量部及び反応性シリコーン（Ｘ−２２−１６４Ｂ、信越化学工業（株）製）２質量部を混用溶解した。更に下記の含フッ素共重合体（化２）の１９．８質量％メチルイソブチルケトン溶液１６２質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、低屈折率層用塗布液Ａを調製した。
【００６８】
（含フッ素共重合体（化２）の合成）
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに、酢酸エチル３６質量部、ヒドロキシエチルビニルエーテル１３質量部及び過酸化ジラウロイル１質量部を仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。
さらに、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５質量部をオートクレーブ中に導入して７０℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が７０℃に達した時点の圧力は６．２ｋｇ／ｃｍ^２であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．４ｋｇ／ｃｍ^２に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。
さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行なうことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマーを２５質量部得た。
次に該ポリマーの２０質量部をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００質量部に溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１２質量部を滴下した後、室温で１２時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることにより含フッ素共重合体（１）を１８質量部得た。得られたポリマーの重量平均分子量は５．０万であり、屈折率は１．４２３であった。
【００６９】
【化２】

【００７０】
＜試料１の作成＞
（反射防止フイルムの作製）
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）上に、上記のハードコート層用塗布液を、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥した。次に紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ^２照射して、塗布層を硬化させ、ハードコート層（屈折率：１．５１、膜厚９μｍ）を設けた。
続いて、上記の中屈折率層用塗布液を、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ^２照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率：１．６３、膜厚：６９ｎｍ）を設けた。
中屈折率層の上に、上記の高屈折率層用塗布液Ａを、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ^２照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率：１．９０、膜厚：１０６ｎｍ）を設けた。
さらに高屈折率層の上に、上記の低屈折率層用塗布液Ａを、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ^２照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率：１．４３、膜厚：８７ｎｍ）を設けた。このようにして反射防止フィルムを作製した。
【００７１】
（エンボス加工）
以上のように作製した反射防止フィルムに、片面エンボシングカレンダー機（由利ロール（株）製）を用いて、エンボスロールとポリアミド素材で表面を覆ったバックアップロールをセットし、凹凸形状がランダムに形成した表面粗さＲａが０．８０μｍ、凸部から隣接する凸部までの平均ピッチが４２μｍのエンボスロールを用いて、プレヒートロール温度が９０℃、エンボスロール温度が１７１℃、エンボス加工雰囲気の湿度が３９ｇ／ｍ^３、エンボス線圧が３００ｋｇｆ／ｃｍ、処理速度が１．０ｍ／分の条件下で、エンボス加工を行ない、反射防止フィルム（試料１）を作製した。反射防止フィルム表面は、目視でざらつき感のなく、質感の高いものであった。また、各層の厚さを調べたところ、いずれの層の厚さも実質的に均一（層の厚さの平均値±１％未満）であった。
【００７２】
＜試料２〜８の作成＞
エンボス温度及びエンボス雰囲気湿度を表１に示した通りに変える以外は試料１と同様にして、エンボス加工を行った反射防止フィルム（試料２〜８）を作製した。
いずれの反射防止フィルムの表面も、目視でざらつき感のなく、質感の高いものであった。また、各層の厚さを調べたところ、いずれの層の厚さも実質的に均一（層の厚さの平均値±１％未満）であった。
【００７３】
＜比較用試料イの作成＞
エンボス温度及びエンボス雰囲気湿度を２３１℃及び１１４ｇ／ｍ^３に変えた他は試料１と同様にして、エンボス加工を行った反射防止フィルムを作製した（試料イ）。
エンボス温度、エンボス雰囲気湿度が本発明の範囲よりも高く、反射防止フィルムの表面反射率は１．５２％と高く、Ｒｚ／Ｒａ値も本発明の範囲を超えているため、輝点故障が発生するとともに、スチールウール耐性がない結果であった。各層の厚さを調べたところ、いずれの層の厚さも実質的に均一とはいえないものであった。
【００７４】
＜比較用試料ロの作成＞
エンボスロールのＲａが０．１３μｍ、凸部から隣接する凸部までの平均ピッチが２３μｍのエンボスロールを用いて、エンボス温度及びエンボス雰囲気湿度を７６℃及び４ｇ／ｍ^３に変えた他は試料１と同様にして、エンボス加工を行った反射防止フィルムを作製した（試料ロ）。
エンボスロールのＲａ値が本発明の範囲よりも小さいため、防眩性が本発明の防眩性反射防止フィルムよりも劣る結果であった。
【００７５】
＜試料９及び１０の作成＞
エンボスロールのＲａ、凸部から隣接する凸部までの平均ピッチが表１に示した通りのエンボスロールを用いて、エンボス温度及びエンボス雰囲気湿度を表１に示した通りに変える以外は試料１と同様にして、エンボス加工を行った反射防止フィルム（試料９及び１０）を作製した。
いずれの反射防止フィルムの表面も、目視でざらつき感のなく、質感の高いものであった。
【００７６】
＜試料１１の作成＞
（反射防止フィルムの作製）
試料１の作成において、ハードコート層塗布後の紫外線照射量を１５０ｍＪ／ｃｍ^２とし、中屈折率層用塗布後、高屈折率層用塗布後、低屈折率層用塗布後の紫外線照射量を３０ｍＪ／ｃｍ^２、３０ｍＪ／ｃｍ^２、４０ｍＪ／ｃｍ^２とする以外は試料１の作成と同様に実施した。
作製した反射防止フィルムに、片面エンボシングカレンダー機（由利ロール（株）製）を用いて、エンボスロールとポリアミド素材で表面を覆ったバックアップロールをセットし、凹凸形状がランダムに形成した表面粗さＲａが０．８０μｍ、凸部から隣接する凸部までの平均ピッチが４２μｍのエンボスロールを用いて、プレヒートロール温度が９０℃、エンボスロール温度が１９２℃、エンボス加工雰囲気の湿度が４０ｇ／ｍ^３、エンボス線圧が３００ｋｇｆ／ｃｍ、処理速度が１．０ｍ／分の条件下で、エンボス加工を行なった。
最後に紫外線を２５０ｍＪ／ｃｍ^２照射して防眩性反射防止フィルムを作製した（試料１１）。
反射防止フィルム表面は、目視でざらつき感のなく、質感の高いものであった。また、各層の厚さを調べたところ、いずれの層の厚さも実質的に均一（層の厚さの平均値±１％未満）であった。
【００７７】
＜試料１２の作成＞
（反射防止フィルムの作製）
試料１の作成において、ハードコート層塗布後の紫外線照射量を１５０ｍＪ／ｃｍ^２とし、中屈折率層用塗布後、高屈折率層用塗布後、低屈折率層用塗布後の紫外線照射量を３０ｍＪ／ｃｍ^２、３０ｍＪ／ｃｍ^２、４０ｍＪ／ｃｍ^２とする以外は試料１の作成と同様に実施した。
作製した反射防止フィルムに、片面エンボシングカレンダー機（由利ロール（株）製）を用いて、エンボスロールとポリアミド素材で表面を覆ったバックアップロールをセットし、凹凸形状がランダムに形成した表面粗さＲａが０．８０μｍ、凸部から隣接する凸部までの平均ピッチが４２μｍのエンボスロールを用いて、プレヒートロール温度が９０℃、エンボスロール温度が１９０℃、エンボス加工雰囲気の湿度が４１ｇ／ｍ^３、エンボス線圧が３００ｋｇｆ／ｃｍ、処理速度が１．０ｍ／分の条件下で、エンボス加工を行なった。
最後に紫外線を２５０ｍＪ／ｃｍ^２照射して防眩性反射防止フィルムを作製した（試料１２）。
反射防止フィルム表面は、目視でざらつき感のなく、質感の高いものであった。また、各層の厚さを調べたところ、いずれの層の厚さも実質的に均一（層の厚さの平均値±１％未満）であった。
【００７８】
（反射防止フィルムの評価）
得られるフィルムについて、以下の項目の評価を行った。その結果を表１にまとめた。
【００７９】
（１）表面粗さ（Ｒａ、Ｒｚ）
表面粗さは原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：ＡｔｏｍｉｃＦｏｒｃｅＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、ＳＰＩ３８００Ｎ、セイコーインスツルメント（株）製）にてＲａ、Ｒｚを測定し、Ｒｚ／Ｒａを計算した。
【００８０】
（２）鏡面反射率
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。
【００８１】
（３）スチールウール擦り耐性の評価
♯００００のスチールウールに０．４９Ｎ／ｃｍ^２の荷重をかけ、１００往復したときの傷の状態を観察して、以下の４段階で評価した。
◎：傷が全く付かなかったもの
○：殆ど見えない傷が少しついたもの
△：明確に見える傷が少しついたもの
×：明確に見える傷が付いたもの
【００８２】
（４）輝点故障
各フィルムの塗布層を設けた面の反対面（支持体面）を黒色インキで黒塗りし、塗布面側を上にして目視、光学顕微鏡（倍率：５０倍）による面状検査を行ない、１平方メートルあたりの目視可能な輝点故障（光学顕微鏡により確認）の数をカウントした。
【００８３】
（５）防眩性評価
作製した反射防止フィルムを、ルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ^２）を映し、蛍光灯の反射像のボケ具合を、以下の基準で目視評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない：◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる（防眩性あり）：○
蛍光灯がほとんどぼけない（防眩性不足）：×
【００８４】
（６）１０００時間経時後の防眩性評価
作製した反射防止フィルムを、６５℃、９５％ＲＨ（相対湿度）の雰囲気下で１０００時間保持した後にルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ^２）を映し、蛍光灯の反射像のボケ具合を、以下の基準で目視評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない：◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる（防眩性あり）：○
蛍光灯がほとんどぼけない（防眩性不足）：×
【００８５】
【表１】

【００８６】
表１の結果から、本発明の試料１〜１２の反射防止フイルムは、低反射率特性と防眩性を有し、輝点故障が少なく、傷がつき難い優れた防眩性反射防止フイルムであることが確認された。特に本発明の試料１１及び１２は６５℃、９５％ＲＨ（相対湿度）の環境下で、１０００時間経時しても防眩性の劣化の生じない優れた耐久性を有することが確認された。
【００８７】
実施例２
実施例１で作成した試料１〜１２の各反射防止フィルムを、２．０規定、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製）を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦをバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えたところ、いずれの試料においても画面のどの場所をとっても背景の映りこみが極めて少なく均一であり、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【００８８】
実施例３
実施例２の鹸化処理を、１．０規定のＫＯＨ水溶液を＃３バーにて反射防止フィルムの裏面に塗布し、膜面温度６０℃にて１０秒間処理した後に水洗、乾燥して行った以外は実施例２と同様にして、液晶表示装置に貼り付けたところ、実施例２と同様にいずれの試料においても画面のどの場所をとっても背景の映りこみが極めて少なく均一であり、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【００８９】
実施例４
実施例３の反射防止フィルムを貼り付けた透過型ＴＮ液晶セルの視認側に設置した偏光板の液晶セル側の保護フィルムおよびバックライト側に設置した偏光板の液晶セル側の保護フィルムに、ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有する視野角拡大フィルム（ワイドビュ−フィルムＳＡ−１２Ｂ、富士写真フィルム（株）製）を用いたところ、いずれの試料においても明室でのコントラストに優れ、且つ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
【００９０】
実施例５
実施例１で作成した試料１〜１２の各反射防止フィルムを有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、いずれの試料においてもガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られた。
【００９１】
実施例６
実施例２で作成した片面反射防止フィルム付き偏光板の反射防止膜を有している側の反対面にλ／４板を張り合わせ、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に貼り付けたところ、表面反射および、表面ガラスの内部からの反射がカットされ、極めて視認性の高い表示が得られた。
【００９２】
【発明の効果】
本発明によれば、塗布層である低屈折率層を有していても、蒸着層からなる反射防止フィルムに匹敵する反射防止機能と防眩機能とを有し、輝点（異物）欠陥がなく、耐傷特性、耐久性にも優れた防眩性反射防止フィルムを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射防止フィルムの層構成例を示す断面模式図である。
【図２】反射防止フィルムへの表面凹凸付与法の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
１反射防止フィルム
２透明支持体
３反射防止層
４エンボスロール
５バックアップロール
１１低屈折率層
１２ハードコート層
１３透明支持体
１４高屈折率層
１５中屈折率層
１６下塗り層[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a liquid crystal display element and an image display element used for image display such as a computer, a word processor, a plasma display, an organic EL display, and a television, and in particular, an antiglare antireflection having an antiglare property for improving viewing angle characteristics. The present invention relates to various functional films such as a film, a polarizing plate protective film, a retardation film, and a viewing angle widening film, a polarizing plate using them, a liquid crystal display device, and an image display device.
[0002]
[Prior art]
The antireflection film is provided in various image display devices such as a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display device (CRT). Anti-reflection films are also provided on glasses and camera lenses. As an antireflection film, a multilayer film obtained by laminating a transparent thin film of metal oxide has been conventionally used. The reason for using a plurality of transparent thin films is to prevent reflection of light of various wavelengths. The transparent thin film of metal oxide is formed by a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method, particularly a vacuum vapor deposition method or a sputtering method which is a kind of physical vapor deposition method. A transparent thin film of metal oxide has excellent optical properties as an antireflection film, but a film formation method by vapor deposition or sputtering is low in productivity and is not suitable for mass production.
The antireflection film by the PVD method may be formed on a support having an antiglare property due to surface unevenness depending on the application. Although the parallel light transmittance is lower than that formed on a smooth support, the reflection of the background is scattered and reduced by surface irregularities, so it exhibits anti-glare properties and, together with the antireflection effect, forms an image. When applied to an apparatus, the display quality is remarkably improved.
[0003]
Instead of these vapor deposition methods, a method of forming an antireflection film by applying inorganic fine particles has been proposed.
Patent Document 1 discloses an antireflection layer having fine pores and fine inorganic particles. The antireflection layer is formed by coating. The fine vacancies are formed by performing an activated gas treatment after the application of the layer and releasing the gas from the layer.
Patent Document 2 discloses an antireflection film in which a support, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are laminated in this order. The publication also discloses an antireflection film in which an intermediate refractive index layer is provided between a support and a high refractive index layer. The low refractive index layer is formed by applying a polymer or inorganic fine particles.
[0004]
Patent Document 3 describes two or more types of ultrafine particles (for example, MgF ₂ And SiO ₂ ) And the mixing ratio is changed in the film thickness direction. The refractive index is changed by changing the mixing ratio, and the same optical properties as the antireflection film provided with the high refractive index layer and the low refractive index layer described in Patent Document 2 are obtained. The ultrafine particles are composed of SiO generated by the thermal decomposition of ethyl silicate. ₂ It is adhered by. In the thermal decomposition of ethyl silicate, carbon dioxide and water vapor are also generated by combustion of the ethyl portion. As shown in FIG. 1 of Patent Document 3, carbon dioxide and water vapor are separated from the layer, thereby forming a gap between the ultrafine particles.
Patent Document 4 discloses that the ultrafine particle gaps existing in the antireflection film described in Patent Document 3 are filled with a binder.
Patent Document 5 discloses an antireflection film containing an inorganic fine powder made of porous silica and a binder.
Patent Document 6 discloses a film having an antireflection film having a three-layer structure by wet coating using a layer in which at least two inorganic fine particles are stacked on a low refractive index layer to contain microvoids. A technique for providing an antireflection film having both low film strength and low reflectivity at a low manufacturing cost by all wet coating has been disclosed.
[0005]
As means for imparting antiglare properties to the antireflection film by application as described above, a method of applying an antireflection layer on a support having surface irregularities, or mat particles for forming surface irregularities, are used for antireflection. In addition to the method of adding to the coating solution for forming the layer, Patent Document 7 and Patent Document 8 disclose a method of forming a surface uneven structure by an embossing method or the like after the production of a smooth antireflection film.
[0006]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Publication No. 60-59250
[Patent Document 2]
JP 59-50401 A
[Patent Document 3]
JP-A-2-245702
[Patent Document 4]
Japanese Patent Laid-Open No. 5-13021
[Patent Document 5]
JP 7-48527 A
[Patent Document 6]
Japanese Patent Laid-Open No. 11-6902
[Patent Document 7]
JP 2000-275401 A
[Patent Document 8]
JP 2000-275404 A
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, there has been a strong demand for further improvement of the surface shape by uniform embossing, improvement of scratch resistance caused by foreign matters such as coating liquid aggregates, and prevention of deterioration of antiglare performance during long-term use.
Accordingly, an object of the present invention is to have an antireflection function and an antiglare function comparable to an antireflection film composed of a vapor deposition layer even if it has a low refractive index layer as a coating layer, and a bright spot (foreign matter). An object of the present invention is to provide an antiglare antireflection film free from defects and excellent in scratch resistance and durability, and a method for producing the same.
Also, a polarizing plate comprising a polarizer and the antiglare antireflection film is provided, and the polarizing plate has an optical anisotropic layer comprising a liquid crystal compound, and the viewing angle (particularly the downward viewing angle) is expanded. It is another object of the present invention to provide a liquid crystal display device free from defects in bright spots, in which contrast reduction, gradation or black-and-white reversal, hue change, and the like hardly occur due to a change in viewing angle.
Another object of the present invention is to provide an image display device provided with an antiglare antireflection film having excellent performance.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The object of the present invention is achieved by an antiglare antireflection film having the following constitution, a production method thereof, a polarizing plate, a liquid crystal display device and an image display device.
(1) An anti-glare antireflection film formed on a transparent support by forming a low refractive index layer having a refractive index lower than the refractive index of the transparent support, and then forming irregularities on the outermost surface from the outside. The average value in the wavelength region from 450 nm to 650 nm of the specular reflectance at 5 degrees incidence is 0.6% or less, the surface roughness Ra is 0.02 to 2.00 μm, and Rz / Ra is An antiglare antireflection film, which is 2 to 30.
(2) The antiglare antireflection film as described in (1) above, wherein the unevenness on the outermost surface is formed by embossing.
[0009]
(3) On the transparent support, after forming a low refractive index layer having a refractive index lower than the refractive index of the transparent support, the unevenness of the outermost surface, the Ra of the embossing roll is 0.2 to 100 μm, The embossing roll temperature is 80 to 200 ° C., and the humidity of the embossing atmosphere is 10 to 100 g / m. ³ The method for producing an antiglare antireflection film as described in (2) above, which is formed by embossing under the conditions described above.
(4) An antiglare antireflection film obtained by the production method described in (3) above.
[0010]
(5) In the polarizing plate in which both sides of the polarizer are sandwiched between protective films, at least one of the protective films is the antiglare antireflection film described in (1), (2) or (4) above. Polarizing plate.
(6) In the polarizing plate in which both surfaces of the polarizer are sandwiched between protective films, one of the protective films is a protective film having an optical anisotropic layer, and the other protective film is the above (1), (2) or (4 An elliptically polarizing plate, which is an antiglare antireflection film as described in 1).
[0011]
(7) In the polarizing plate in which both sides of the polarizer are sandwiched between protective films, the protective film has an optical anisotropic layer comprising a liquid crystal compound in one of the protective films, and the other protective film is the above (1), An elliptically polarizing plate, which is the antiglare antireflection film according to (2) or (4).
(8) The elliptically polarizing plate as described in (7) above, wherein the liquid crystalline compound is a discotic compound.
[0012]
(9) A liquid crystal display device, wherein the side of the polarizing plate according to any one of (5) to (8) that is not the antiglare antireflection film is disposed on the liquid crystal cell surface.
(10) An image display device using the antiglare antireflection film as described in (1), (2) or (4) above.
[0013]
The present invention relates to the anti-glare antireflection film having a low reflectance layer having surface irregularities, and the durability of the anti-glare property, bright spot defect and anti-glare performance is closely related to the degree of local irregularities on the surface. / Ra value is found, and the outermost surface irregularities are formed from the outside so that the Ra value is 0.02 to 2.00 μm and the Rz / Ra value is 2 to 30 (preferably by embossing) It has been found that an antiglare antireflection film having good antiglare performance and antireflection performance, in which the above-mentioned problems are solved, can be provided. Furthermore, it is possible to obtain a polarizing plate, a liquid crystal display device and an image display device having excellent performance by using it.
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the basic configuration of the antiglare antireflection film having the antiglare property of the present invention will be described in more detail.
[0015]
[Surface roughness]
The surface unevenness of the antiglare antireflection film represents the centerline average surface roughness (Ra) when measured with a reference length of 2.5 mm as defined in JIS-B-0601 and a cutoff value of 0.8 mm. In the present invention, the center line average surface roughness (Ra) is 0.02 to 2 μm. Furthermore, Ra is preferably 0.1 to 1.5 μm, and more preferably 0.3 to 1.0 μm. Furthermore, in this invention, ratio (Rz / Ra value) of 10-point average roughness (Rz) and Ra is 2-30, It is preferable that it is 11-25, It is 13-20 Is more preferable.
[0016]
The center line average roughness Ra is a parameter representing the average roughness of the surface irregularities, and the larger the value, the larger the average roughness of the surface. When Ra is less than 0.02 μm, a sufficient antiglare function cannot be obtained. When Ra exceeds 2 μm, the resolution tends to decrease or the image tends to shine white when exposed to external light. Rz is a parameter representing the size of local irregularities, and if the ratio of this value to the centerline average roughness is large, there are many protrusions locally, and the larger Rz / Ra is, We found that there are many planar defects that become bright spots. Moreover, it has been found that when it is larger than 30, bright spot defects become remarkable and the scratch resistance performance is deteriorated.
In the present invention, the Ra and Rz / Ra values are very easily obtained by forming the unevenness on the outermost surface of the antireflection film from the outside using an embossing roll or sandblast after forming a low refractive index layer. In addition to being able to be controlled within the desired range, it does not contain particles that may form aggregates in the coating solution, and there is no concern about scratches on the surface caused by peeling of the aggregates, so it has excellent scratch resistance and durability. Can be.
[0017]
As a result of further investigations, even if the anti-glare anti-reflection film gives the same anti-glare property, the display power is turned off if each surface protrusion shape is different to express this total anti-glare property. At the time of black display of liquid crystal, it was found that the appearance of black tightening (in other words, whiteness) differs due to the difference in surface scattering. It has been found that when the protrusion inclination angle of the surface protrusion is large, the surface scattering property to a wide angle region becomes strong, so that the black tightening is impaired and whitish, and the high-class feeling is lost, which is not preferable. In particular, when black tightening is found to correlate well with the protrusion inclination angle (95% frequency), the angle is preferably 20 degrees or less, more preferably 15 degrees or less, and even more preferably 13 degrees or less. In addition, it was found that black tightening was good. Here, the “projection inclination angle (95% frequency)” means an angle having a frequency of 95% from the small angle side of the protrusion inclination angle distribution. Specifically, the surface inclination angle is within a certain range ( (100 points), and the 95th value when the angles are arranged in ascending order.
Further, the average surface protrusion inclination angle (corresponding to an angle of 50% frequency from the smaller angle of the protrusion inclination angle distribution), which correlates well with the antiglare property, is preferably 1 to 5 degrees, more preferably 1.5. -4.5 degrees, more preferably 2-4 degrees.
[0018]
The antiglare antireflection film of the present invention is characterized in that the average value in the wavelength region from 450 nm to 650 nm of the specular reflectance at 5 ° incidence is 0.6% or less. It is preferably 0.5% or less, and more preferably 0.4% or less.
Moreover, it is preferable that the average value in the wavelength region from 450 nm to 650 nm of the integrated reflectance at 5 degrees incidence is 2.5% or less, and more preferably 2.3% or less.
[0019]
The specular reflectance at 5 degrees incidence is the ratio of the intensity of the reflected light detected at an angle of -5 degrees from the normal direction to the light incident at an angle of +5 degrees from the normal direction of the sample. Indicates the scale of reflection due to reflection.
On the other hand, the integrated reflectance at 5 degrees incidence is the ratio of the integral value of the intensity of light reflected in all directions with respect to light incident at an angle of +5 degrees from the normal direction of the sample.
[0020]
When the average value of the specular reflectivity of the antiglare antireflection film in the wavelength region from 450 nm to 650 nm exceeds 5%, the reflection of the background is anxious and the surface film of the display device becomes a concern. Visibility when applied is reduced.
On the other hand, if the average value in the wavelength region from 450 nm to 650 nm of the integrated reflectance at 5 ° incidence of the antiglare antireflection film exceeds 2.5%, the contrast improvement effect of the display device is reduced and the antiglare property is reduced. The display screen is whitened by the scattered light due to surface irregularities for application, and the display quality of the display device is lowered.
[0021]
The lower the value of the haze of the antiglare antireflection film, the smaller the image blur and the better the clear display can be obtained. If the haze value is too high, it becomes unpreferable. The haze value is preferably controlled to 15% or less, and more preferably 10% or less. The haze value can be measured using HR-100 manufactured by Murakami Color Research Laboratory according to JIS-K-7105.
[0022]
[Formation of antireflection film]
Each layer of the antireflection film is formed by a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating, a micro gravure method or an extrusion coating method (US Pat. No. 2,681,294). It can be formed by coating. The microgravure method and the gravure method are preferable from the viewpoint of eliminating drying unevenness by minimizing the wet coating amount, and the gravure method is particularly preferable from the viewpoint of film thickness uniformity in the width direction. Two or more layers may be applied simultaneously. The methods of simultaneous application are described in US Pat. Nos. 2,761,791, 2,941,898, 3,508,947, and 3,526,528 and Yuji Harasaki, Coating Engineering, page 253, Asakura Shoten (1973).
[0023]
In the present invention, at least a transparent support and a low refractive index layer are essential, and the unevenness of the outermost surface has a specific Ra value and Rz / Ra value. It is not limited. The low refractive index layer should just have a refractive index lower than a transparent support body. FIGS. 1A to 1C are schematic cross-sectional views showing examples of the basic layer configuration of the antireflection film of the present invention, but are not limited to these layer configurations, and of course there are many variations. It is.
For example, as shown in FIG. 1 (a), a hard coat layer (12) may be provided on the transparent support (13) via an undercoat layer (16) to increase the film strength.
[0024]
In FIG.1 (b), it has a layer structure of the order of a hard-coat layer (12), a high refractive index layer (14), and a low refractive index layer (11) on a transparent support body (13), and FIG. In (c), a layer structure in the order of a hard coat layer (12), a medium refractive index layer (15), a high refractive index layer (14), and a low refractive index layer (11) on the transparent support (13). Have Such an antireflection film having a three-layer structure has an optical film thickness of each of the medium refractive index layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer, that is, the product of the refractive index and the film thickness with respect to the design wavelength λ. JP-A-59-50401 describes that (λ / 4) n or a multiple thereof is preferable.
However, in order to realize the low reflectance and the reflectance characteristics of the reflected light of the present invention, the middle refractive index layer has the following formula (I) particularly for the design wavelength λ (= 500 nm). The high refractive index layer must satisfy the following formula (II), and the low refractive index layer must satisfy the following formula (III).
[0025]
100.00 <n1d1 <125.00 (I)
187.50 <n2d2 <237.50 (II)
118.75 <n3d3 <131.25 (III)
[0026]
In the formula, n1 is the refractive index of the medium refractive index layer, d1 is the layer thickness (nm) of the medium refractive index layer, n2 is the refractive index of the high refractive index layer, and d2 is the layer of the high refractive index layer. The thickness (nm), n3 is the refractive index of the low refractive index layer, and d3 is the layer thickness (nm) of the low refractive index layer.
[0027]
Furthermore, for example, n1 is 1.60 to 1.65 and n2 is 1 for a transparent support having a refractive index of 1.45 to 1.55 made of triacetylcellulose (refractive index: 1.49). .85 to 1.95, n3 must have a refractive index of 1.35 to 1.45, and a refractive index of 1.55 to 1.65 made of polyethylene terephthalate (refractive index: 1.66). For the transparent support, n1 needs to have a refractive index of 1.65 to 1.75, n2 to 1.85 to 2.05, and n3 to 1.35 to 1.45. When materials of medium refractive index layer and high refractive index layer having the above refractive index cannot be selected, an equivalent combination of a layer having a refractive index higher than the set refractive index and a layer having a low refractive index is combined. It is known that a film layer can be used to form a layer that is optically equivalent to a medium refractive index layer or a high refractive index layer having a set refractive index, and also to realize the reflectance characteristics of the present invention. Can be used. The “substantially three layers” of the present invention includes four or five antireflection layers using such an equivalent film.
Such an antireflection layer satisfying the formulas (I), (II), and (III) can keep the specular reflectance very low, and as described above, the specular reflectance at 5 degrees incidence is 0.6%. It can be as follows.
[0028]
[Give antiglare properties]
The antireflection film of the present invention is imparted with antiglare properties by forming the outermost surface irregularities from the outside. It is easier to control the formation using embossing rolls, sandblasting, or the like than controlling using the layer containing particles on the outermost surface.
[0029]
FIG. 2 shows an example of a method for imparting antiglare properties to a coating-type antireflection film. In the figure, the surface of the antireflection film (1) on the side of the antireflection layer (3) is pressed by an embossing roll (4) and a backup roll (5) to form irregularities on at least one surface, thereby providing antireflection properties. Antiglare property can be expressed without impairing the brightness. Thus, by embossing, a low refractive index layer having irregularities on the surface and having a substantially uniform film thickness can be formed. Here, that the thickness is substantially uniform preferably means that the uniformity of the film thickness is ± 3% or less. The substantial film uniformity required for maintaining the antireflection property depends on the number and design of the optical interference layers. For example, in the case of a three-layer design in which a low refractive index layer, a high refractive index layer, and a middle refractive index layer are laminated in this order from the air interface side with a thickness of (λ / 4) n, the thickness of each layer The upper limit of the uniformity is ± 3%, and when it exceeds the upper limit, the antireflection performance is remarkably deteriorated.
[0030]
The degree of antiglare property can be controlled by the embossing die shape, film surface temperature in embossing, atmospheric humidity, press pressure, processing conditions such as processing speed, and the transparent support having an antireflection film and the mechanical properties of each layer. However, implementation under milder conditions is preferable from the viewpoint of cost and the like.
[0031]
The embossing of the present invention is performed by embossing the produced antireflection film using a single-side embossing calender machine. The surface shape of the embossing roll is extremely important because it directly affects the surface shape of the antiglare antireflection film to be formed. The surface roughness Ra of the embossing roll is preferably 0.2 to 100 μm, more preferably 0.2 to 20 μm, and particularly preferably 0.2 to 5 μm. The uneven shape of the embossing roll is preferably arranged at random, and the average distance from the convex portion to the adjacent convex portion is preferably 10 to 80 μm, more preferably 15 to 75 μm. The temperature of the embossing roll is affected by the refractive index layers such as the low refractive index layer, the high refractive index layer, the middle refractive index layer, and the viscoelastic properties of the hard coat layer and the support, but preferably 80 ° C to 200 ° C. More preferably, the reaction is carried out at 80 to 190 ° C, more preferably 120 to 180 ° C.
Further, the humidity of the embossing atmosphere is particularly important because each layer or support described above changes its viscoelastic properties due to moisture absorption. Humidity of embossing atmosphere is 5-100g / m ³ It is preferable that it is 15-95 g / m. ³ More preferably, it is 25-90 g / m. ³ It is particularly preferred that By embossing under the conditions within the scope of the present invention, it is possible to reduce the change over time of the surface irregularities. That is, the antiglare antireflection film of the present invention can maintain the antiglare property even after 1000 hours have elapsed in an atmosphere of 65 ° C. and 95% RH.
Even when embossing is performed without completing the curing of the low refractive index layer or the hard coat layer at the time of embossing, and then the curing is completed, the change over time of the surface irregularities can be reduced.
[0032]
The embossing linear pressure is preferably 10 to 1,200 kgf / cm, more preferably 50 to 900 kgf / cm, and the preheat roll temperature before pressing is preferably 60 to 180 ° C., more preferably 80 to 180 ° C., embossing The processing speed is preferably 0.3 to 10 m / min, more preferably 0.5 to 5 m / min.
[0033]
In addition, embossing is performed after forming a hard coat layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, a low refractive index layer, etc. on the support, and heat or ionizing radiation curing used for forming these layers. It is also preferable to complete the curing of the functional material before embossing, or to weaken it before embossing and complete the curing after embossing. By completing the curing after the embossing, the surface irregularities formed by the embossing can further improve the stability over time, that is, the durability of the surface irregularities.
[0034]
[Transparent support]
A plastic film is preferably used as the transparent support. Examples of plastic film materials include cellulose esters (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), polyamides, polycarbonates, polyesters (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate). , Poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, polypropylene) , Polyethylene, polymethylpentene), amorphous polyolefin (eg, ZEONEX: trade name, manufactured by ZEON CORPORATION), norbornene resin (Arton: trade name, manufactured by JSR Corporation), polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide, polymethyl methacrylate, and polyether ketone.
[0035]
In particular, when the antireflection film of the present invention is used as one side of a surface protective film of a polarizing plate for use in a liquid crystal display device, an organic EL display device or the like, triacetyl cellulose is preferably used. As a method for producing a triacetyl cellulose film, a method disclosed in published technical report number 2001-1745 is preferably used. In addition, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, amorphous polyolefin, and norbornene-based resin are preferable when used by bonding to a glass substrate or the like for use in flat CRT, PDP, or the like.
The light transmittance of the transparent support is preferably 80% or more, and more preferably 86% or more. The haze of the transparent support is preferably 2.0% or less, and more preferably 1.0% or less. The refractive index of the transparent support is preferably 1.4 to 1.7. The thickness is preferably 25 to 1000 μm.
[0036]
[Refractive index layer]
The material for forming the low refractive index layer of the present invention will be described below.
Examples of the low refractive index layer of the present invention include LiF (refractive index n = 1.4), MgF ₂ (N = 1.4), 3NaF · AlF ₃ (N = 1.4), AlF ₃ (N = 1.4), Na ₃ AlF ₆ (N = 1.33), SiO ₂ A low refractive index inorganic material such as (n = 1.45) or a material obtained by making these fine particles and including them in an acrylic resin or an epoxy resin, a fluorine-based or silicone-based organic material, or the like can be used. Among these, in the present invention, it is particularly preferable to use a fluorine-containing compound that is cured by heat or ionizing radiation. The dynamic friction coefficient of the cured product is preferably 0.02 to 0.18, more preferably 0.03 to 0.15, and the contact angle with pure water is preferably 90 to 130 degrees, more preferably 100 to 120 degrees. . If the coefficient of dynamic friction is high, the surface tends to be damaged when rubbed, which is not preferable. Also, if the contact angle with pure water is small, fingerprints and oil stains are likely to adhere, which is not preferable from the viewpoint of antifouling properties. In addition, a filler such as silica particles may be appropriately added to the low refractive index layer of the present invention for the purpose of improving the film strength.
[0037]
Examples of the curable fluorine-containing compound used for the low refractive index layer include perfluoroalkyl group-containing silane compounds (for example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) triethoxysilane), and fluorine-containing compounds. Examples thereof include a fluorine-containing copolymer having a monomer unit and a structural unit for imparting crosslinking reactivity as structural components.
[0038]
Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole), (meth) Examples include acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) and M-2020 (manufactured by Daikin)), and fully or partially fluorinated vinyl ethers. It is an olefin, and hexafluoropropylene is particularly preferable from the viewpoints of refractive index, solubility, transparency, availability, and the like.
[0039]
As structural units for imparting curing reactivity, structural units obtained by polymerization of monomers having a self-curing functional group in the molecule in advance such as glycidyl (meth) acrylate and glycidyl vinyl ether, carboxyl groups, hydroxy groups, amino groups , Obtained by polymerization of a monomer having a sulfo group or the like (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, maleic acid, crotonic acid, etc.) And a structural unit in which a curing reactive group such as a (meth) acryloyl group is introduced into these structural units by a polymer reaction (for example, it can be introduced by a technique such as allowing acrylic acid chloride to act on a hydroxy group) And the like.
[0040]
In addition to the fluorine-containing monomer unit and the structural unit for imparting curing reactivity, a monomer that does not contain a fluorine atom can be copolymerized as appropriate from the viewpoint of solubility in a solvent, film transparency, and the like. There are no particular limitations on the monomer units that can be used in combination. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2) -Ethylhexyl), methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl) Vinyl ether, ethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-silane) B hexyl acrylamide), methacrylamides, and acrylonitrile derivatives.
[0041]
As described in JP-A-8-92323, 10-25388, JP-A-10-147739, and JP-A-12-17028, a curing agent may be appropriately used in combination with the above polymer.
In particular, when the curing reactive group of the polymer is a group such as a hydroxyl group or a carboxyl group that does not have curing reactivity alone, it is essential to use a curing agent together. Examples of the curing agent include polyisocyanate-based, aminoplasts, and the like. , Polybasic acids or anhydrides thereof.
On the other hand, when the curing reactive group is a self-curing reactive group, it is not particularly necessary to add a curing agent, but various curing agents such as a polyfunctional (meth) acrylate compound and a polyfunctional epoxy compound are appropriately used. It can also be used together.
[0042]
The fluorine-containing copolymer particularly useful in the present invention is a random copolymer of a perfluoroolefin and vinyl ethers or vinyl esters. In particular, it preferably has a group capable of undergoing a crosslinking reaction alone (a radical reactive group such as a (meth) acryloyl group, a ring-opening polymerizable group such as an epoxy group or an oxetanyl group). These crosslinkable group-containing polymerized units preferably occupy 5 to 70 mol% of the total polymerized units of the polymer, particularly preferably 30 to 60 mol%.
[0043]
Moreover, it is preferable that the polysiloxane structure is introduce | transduced in the fluorine-containing polymer of this invention in order to provide antifouling property. There is no limitation on the method for introducing the polysiloxane structure, but the polysiloxane block copolymer component is prepared using a silicone macroazo initiator as described in JP-A-11-189621, JP-A-11-228631 and JP-A-2000-313709. A method of introducing a polysiloxane graft copolymer component using a silicone macromer as described in JP-A-2-251555 and JP-A-2-308806 is preferred. In these cases, the polysiloxane component is preferably 0.5 to 10% by mass in the polymer, particularly preferably 1 to 5% by mass.
[0044]
For imparting antifouling properties, reactive group-containing polysiloxanes other than the above (for example, KF-100T, X-22-169AS, KF-102, X-22-3701IE, X-22-164B, X-22- 5002, X-22-173B, X-22-174D, X-22-167B, X-22-161AS (above trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), AK-5, AK-30, AK-32 (above A trade name, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.), Silaplane FM0275, Silaplane FM0721 (manufactured by Chisso Corporation), etc.) is also preferred. In this case, these polysiloxanes are preferably added in the range of 0.5 to 10% by mass of the total solid content of the low refractive index layer, and particularly preferably 1 to 5% by mass.
[0045]
In the low refractive index layer of the present invention, as commercially available fluorine-containing compounds, TEFRON AF1600 (refractive index n = 1.30 manufactured by DuPont), CYTOP (n = 1.34 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), 17FM (Mitsubishi Rayon ( N = 1.35), Opstar JN-7212 (n = 1.40, JSR Corporation), Opstar JN-7228 (n = 1.42, JSR Corporation), LR201 (Nissan) Chemical Industry Co., Ltd. n = 1.38) (both trade names) can also be used.
[0046]
The medium refractive index layer and the high refractive index layer are coated with a coating composition containing inorganic fine particles having a high refractive index, a thermal or ionizing radiation curable monomer, an initiator and a solvent, drying of the solvent, heat and / or ionization. Formed by curing with radiation. As the inorganic fine particles, those composed of at least one metal oxide selected from oxides of Ti, Zr, In, Zn, Sn, and Sb are preferable. The medium refractive index layer and the high refractive index layer thus formed are excellent in scratch resistance, durability and adhesion as compared with those obtained by applying and drying a polymer solution having a high refractive index. In order to ensure dispersion stability, film strength after curing, etc., polyfunctional (meth) acrylate monomers and anionic properties as described in JP-A-11-153703, US Pat. No. 6,210,858 B1, etc. It is preferable that a group-containing (meth) acrylate dispersant is contained in the coating composition.
[0047]
The average particle diameter of the inorganic fine particles is preferably 1 to 100 nm as an average particle diameter measured by a Coulter counter method. If it is 1 nm or less, the specific surface area is too large, so that the stability in the dispersion is poor, which is not preferable. When the thickness is 100 nm or more, scattering of visible light due to a difference in refractive index from the binder occurs, which is not preferable. The haze of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 3% or less, and more preferably 1% or less.
[0048]
[Hard coat layer]
In the antireflection film of the present invention, the hard coat layer is preferably provided for imparting scratch resistance to the transparent support. The hard coat layer also has a function of strengthening the adhesion between the transparent support and the layer thereon. The hard coat layer can be formed using an acrylic polymer, a urethane polymer, an epoxy polymer, or a silica compound. A pigment may be added to the hard coat layer. The material used for the hard coat is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as the main chain, more preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain, and preferably having a crosslinked structure. The polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups.
[0049]
Examples of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohols and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate, pentaerythritol). Tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate , Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and its derivatives (examples) 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone), acrylamide (eg, methylenebisacrylamide) and methacrylamide are included .
[0050]
Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced by reaction of a crosslinkable group. Examples of crosslinkable functional groups include isocyanate groups, epoxy groups, aziridine groups, oxazoline groups, aldehyde groups, carbonyl groups, hydrazine anoacrylate derivatives, melamines, etherified methylols, esters and urethanes to introduce a crosslinked structure. It can be used as a monomer. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. In the present invention, the cross-linking group is not limited to the above compound, and may be one showing reactivity as a result of decomposition of the functional group. The hard coat layer is preferably formed by dissolving a monomer and a polymerization initiator in a solvent and applying a polymerization reaction (further crosslinking reaction if necessary) after coating. Regarding the polymerization initiator, it is preferable to add a hydrogen abstraction type such as a benzophenone type or a radical opening type such as an acetophenone type or a triazine type alone or in combination with the monomer to the coating solution. A small amount of polymer (eg, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, alkyd resin) may be added to the coating liquid for the hard coat layer.
[0051]
As thickness of a hard-coat layer, 0.5-20 micrometers is preferable, More preferably, it is the range of 1-10 micrometers. The thickness of such a hard coat layer greatly affects the suitability for embossing. That is, if the hard coat layer is too thick, the embossability is lowered, and the required roughness cannot be obtained even if the same embossing is performed.
The antireflection film of the present invention may further be provided with a moisture proof layer, an antistatic layer or a protective layer.
[0052]
[Alkaline saponification]
When the antireflection film of the present invention is used as one side of the surface protective film of the polarizer, it is preferable to saponify the surface of the transparent support opposite to the surface on which the antireflection layer is formed with an alkali. Specific means for the alkali saponification treatment can be selected from the following two. (1) is superior in that it can be processed in the same process as a general-purpose triacetyl cellulose film, but since the saponification treatment is performed up to the surface of the antireflection film, the surface is alkali-hydrolyzed and the film is deteriorated. The point that it becomes dirty when the liquid remains can be a problem. In that case, although it becomes a special process, (2) is excellent. (1) After forming the antireflection layer on the transparent support, saponify the back surface of the film by immersing it in an alkaline solution at least once (2) Before forming the antireflection layer on the transparent support Or after that, the alkaline solution is applied to the surface of the antireflection film opposite to the surface on which the antireflection film is formed, heated, washed with water, and / or neutralized to saponify only the back surface of the film.
[0053]
[Polarizer]
The polarizing plate is a layer in which an optical compensation sheet, a polarizer, and the antiglare antireflection film of the present invention are laminated in this order on a polymer film provided with an alignment film and an optically anisotropic layer in which the alignment of liquid crystal molecules is fixed. It is preferable to have a configuration.
Examples of the polarizer include an iodine-type polarizer and a dye-type polarizer using a dichroic dye and a polyene-type polarizer. The iodine polarizer and the dye polarizer are generally produced using a polyvinyl alcohol film.
The relationship between the slow axis of the polymer film and the transmission axis of the polarizer varies depending on the type of liquid crystal display device to be applied. In the case of TN, MVA or OCB, they are arranged so as to be substantially parallel. In the case of a reflective liquid crystal display device, it is preferably arranged so as to be substantially 45 degrees.
[0054]
[Optical compensation sheet]
The optical compensation sheet includes a transparent support made of a saponified polymer film, an alignment film provided thereon, and an optically anisotropic layer having a disk-like structural unit formed on the alignment film. The alignment film is preferably a rubbing film made of a crosslinked polymer.
As the compound having a discotic structural unit used in the optically anisotropic layer, a low molecular weight discotic liquid crystalline compound (monomer) or a polymer obtained by polymerization of a polymerizable discotic liquid crystalline compound can be used. Discotic compounds (discotic compounds) can generally be roughly classified into compounds having a discotic liquid crystal phase (that is, a discotic nematic phase) and compounds having no discotic liquid crystal phase. Discotic compounds generally have negative birefringence. The optically anisotropic layer utilizes the negative birefringence of the discotic compound.
[0055]
[Optically anisotropic layer]
The optical anisotropic layer in the optical compensation sheet is formed on the alignment film. The optically anisotropic layer is preferably a layer having negative birefringence composed of a compound having a discotic structural unit. The optically anisotropic layer is a layer of a low molecular weight liquid crystalline discotic compound (monomer) or a polymer layer obtained by polymerization (curing) of a polymerizable liquid crystalline discotic compound. Discotic compounds include C.I. Destrade et al., Mol. Cryst. 71, 111 (1981), benzene derivatives described in C.I. Destrade et al., Mol. Cryst. 122, 141 (1985), Physics lett, A, 78, 82 (1990); Kohne et al., Angew. Chem. 96, p. 70 (1984) and cyclohexane derivatives described in J. Am. M.M. Lehn et al. Chem. Commun. , 1794 (1985), J. Am. Zhang et al., J. Am. Chem. Soc. 116, 2655 (1994), and azacrown and phenylacetylene macrocycles are included. A discotic (discotic) compound generally has a structure in which these are used as a mother nucleus at the center of a molecule, and a linear alkyl group, an alkoxy group, or a substituted benzoyloxy group is radially substituted as the linear chain. The discotic compound includes a discotic liquid crystal exhibiting liquid crystallinity. Optical anisotropic layers formed from discotic compounds include those that have lost their liquid crystallinity by polymerizing or crosslinking by reacting with low molecular discotic liquid crystals having groups that react with heat or light. It is. Discotic compounds are described in JP-A-8-50206.
[0056]
The optically anisotropic layer is a layer made of a compound having a discotic structural unit, and the surface of the discotic structural unit is inclined with respect to the transparent support surface, and the surface of the discotic structural unit, the transparent support surface, Is preferably changed depending on the depth of the optically anisotropic layer.
[0057]
The angle (tilt angle) of the surface of the discotic structural unit increases or decreases as the distance from the bottom surface of the alignment layer of the optical anisotropic layer increases. Examples of the change in the inclination angle include a continuous increase, a continuous decrease, an intermittent increase, an intermittent decrease, a change including a continuous increase and a continuous decrease, and an intermittent change including an increase and a decrease. The intermittent change includes a region where the inclination angle does not change in the middle of the thickness direction. Even if the inclination angle includes a region that does not change, it is preferable that the inclination angle increases or decreases as a whole. Further, the inclination angle is preferably increased as a whole, and particularly preferably continuously changed.
[0058]
[Liquid crystal display device, image display device]
The antireflection film of the present invention, when used as one side of the surface protective film of a polarizer, is twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS), optical It can be preferably used for a transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display device of a mode such as a curry compensate bend cell (OCB). Further, an optical compensation film such as a viewing angle widening film for improving the viewing angle of the liquid crystal display device, a retardation plate, and the like can be used in combination. When used in a transmissive or transflective liquid crystal display device, it is used in combination with a commercially available brightness enhancement film (a polarized light separation film having a polarization selective layer, such as D-BEF manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.). Thus, a display device with higher visibility can be obtained.
Further, when combined with a λ / 4 plate, it can be used as a surface protective plate for an organic EL display to reduce reflected light from the surface and from the inside. Furthermore, the present invention can be applied to an image display device such as a plasma display panel (PDP) or a cathode ray tube display device (CRT) by forming the antireflection layer of the present invention on a transparent support such as PET or PEN.
[0059]
【Example】
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
[0060]
Example 1
<Preparation of coating solution for hard coat layer>
The compound was mixed and dissolved according to the following formulation. The obtained solution was filtered through a polypropylene filter (PPE-03) having a pore diameter of 3 μm to prepare a hard coat layer coating solution.
[0061]
(Coating solution formulation for hard coat layer)
Dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaa
240 parts by mass of chlorate mixture (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.)
100 parts by mass of polyglycidyl methacrylate
100 parts by mass of methyl ethyl ketone
110 parts by mass of cyclohexanone
Photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) 10 parts by mass
MEK-ST (SiO having an average particle size of 10 to 20 nm and a solid content concentration of 30% by mass ₂ Sol
440 parts by mass of methyl ethyl ketone dispersion, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.
[0062]
<Preparation of titanium dioxide dispersion A>
The compound was mixed by the following prescription, it disperse | distributed until the average particle diameter measured by the Coulter method became 70 nm with the sand grinder, and the titanium dioxide dispersion A was prepared.
[0063]
(Formulation of titanium dioxide dispersion A)
100 parts by mass of titanium dioxide ultrafine particles (TTO-55B, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.)
The following crosslinking reactive group-containing anionic polymer (Formula 1) 15 parts by mass
1 part by mass of dimethylaminoethyl acrylate (DMAEA, manufactured by Kojin Co., Ltd.)
184 parts by mass of cyclohexanone
[0064]
[Chemical 1]

[0065]
<Preparation of medium refractive index layer coating solution>
7482 parts by mass of cyclohexanone, 1900 parts by mass of methyl ethyl ketone, 13 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 5 parts by mass of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were mixed and dissolved. Further, 320 parts by mass of the titanium dioxide dispersion A and 280 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added and stirred at room temperature for 30 minutes. The solution was filtered through a polypropylene filter (PPE-03) having a pore diameter of 3 μm to prepare a coating solution for a medium refractive index layer.
[0066]
<Preparation of coating liquid A for high refractive index layer>
5400 parts by mass of cyclohexanone, 1800 parts by mass of methyl ethyl ketone, 13 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 4 parts by mass of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were mixed and dissolved. Further, 2583 parts by mass of the above titanium dioxide dispersion A and 200 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added and stirred at room temperature for 30 minutes. The solution was filtered through a polypropylene filter (PPE-03) having a pore diameter of 3 μm to prepare a coating solution A for a high refractive index layer.
[0067]
<Preparation of coating solution A for low refractive index layer>
198 parts by mass of cyclohexanone, 636 parts by mass of methyl ethyl ketone, 2 parts by mass of a photopolymerization initiator (UVI 16990, manufactured by Union Carbide) and 2 parts by mass of reactive silicone (X-22-164B, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) are mixed. Dissolved. Further, 162 parts by mass of a 19.8% by mass methyl isobutyl ketone solution of the following fluorine-containing copolymer (Chemical Formula 2) was added, stirred for 30 minutes at room temperature, and then filtered through a polypropylene filter (PPE-03) having a pore size of 3 μm. Thus, a coating solution A for a low refractive index layer was prepared.
[0068]
(Synthesis of fluorinated copolymer (Chemical Formula 2))
A stainless steel autoclave with a stirrer of 100 ml was charged with 36 parts by mass of ethyl acetate, 13 parts by mass of hydroxyethyl vinyl ether and 1 part by mass of dilauroyl peroxide, and the system was evacuated and replaced with nitrogen gas.
Furthermore, 25 parts by mass of hexafluoropropylene (HFP) was introduced into the autoclave and the temperature was raised to 70 ° C. The pressure when the temperature in the autoclave reaches 70 ° C. is 6.2 kg / cm ² Met. The reaction was continued for 8 hours while maintaining the temperature, and the pressure was 3.4 kg / cm. ² When the temperature reached, the heating was stopped and the mixture was allowed to cool. When the internal temperature dropped to room temperature, unreacted monomers were driven out, the autoclave was opened, and the reaction solution was taken out. The obtained reaction solution was poured into a large excess of hexane, and the polymer was precipitated by removing the solvent by decantation.
Further, this polymer was dissolved in a small amount of ethyl acetate and reprecipitated twice from hexane to completely remove the residual monomer. After drying, 25 parts by mass of the polymer was obtained.
Next, 20 parts by mass of the polymer was dissolved in 100 parts by mass of N, N-dimethylacetamide, and 12 parts by mass of acrylic acid chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 12 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution, washed with water, the organic layer was extracted and concentrated, and the obtained polymer was reprecipitated with hexane to obtain 18 parts by mass of a fluorinated copolymer (1). The weight average molecular weight of the obtained polymer was 50,000, and the refractive index was 1.423.
[0069]
[Chemical 2]

[0070]
<Preparation of sample 1>
(Preparation of antireflection film)
The above-mentioned coating solution for hard coat layer was applied on a triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm using a gravure coater and dried at 100 ° C. for 2 minutes. . Next, UV light is 300 mJ / cm ² Irradiation was performed to cure the coating layer, and a hard coat layer (refractive index: 1.51, film thickness 9 μm) was provided.
Subsequently, the above medium refractive index layer coating solution was applied using a gravure coater, dried at 100 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays at 100 mJ / cm. ² The coating layer was cured by irradiation to provide a medium refractive index layer (refractive index: 1.63, film thickness: 69 nm).
On the medium refractive index layer, the above high refractive index layer coating liquid A is applied using a gravure coater, dried at 100 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays of 100 mJ / cm. ² The coating layer was cured by irradiation to provide a high refractive index layer (refractive index: 1.90, film thickness: 106 nm).
Furthermore, on the high refractive index layer, the above coating solution A for the low refractive index layer is applied using a gravure coater, dried at 100 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays of 100 mJ / cm. ² The coating layer was cured by irradiation to provide a low refractive index layer (refractive index: 1.43, film thickness: 87 nm). In this way, an antireflection film was produced.
[0071]
(Embossing)
Using a single-sided embossing calender (manufactured by Yuri Roll Co., Ltd.) on the anti-reflection film produced as described above, set up a back-up roll that covers the surface with an embossing roll and a polyamide material. Using an embossed roll having a surface roughness Ra of 0.80 μm and an average pitch from the convex part to the adjacent convex part of 42 μm, the preheating roll temperature is 90 ° C., the embossing roll temperature is 171 ° C., and the humidity of the embossing atmosphere is 39 g / m ³ Then, embossing was performed under the conditions of an embossed linear pressure of 300 kgf / cm and a processing speed of 1.0 m / min to produce an antireflection film (Sample 1). The surface of the antireflection film had a high texture without visual roughness. Further, when the thicknesses of the respective layers were examined, the thicknesses of all the layers were substantially uniform (the average value of the layer thicknesses is less than ± 1%).
[0072]
<Preparation of Samples 2-8>
Except that the embossing temperature and the embossing atmosphere humidity were changed as shown in Table 1, the antireflection film (Samples 2 to 8) subjected to embossing was prepared in the same manner as Sample 1.
The surface of any of the antireflection films was visually rough and had a high texture. Further, when the thicknesses of the respective layers were examined, the thicknesses of all the layers were substantially uniform (the average value of the layer thicknesses is less than ± 1%).
[0073]
<Preparation of comparative sample A>
Embossing temperature and embossing atmosphere humidity are 231 ° C and 114g / m ³ An antireflection film embossed was prepared in the same manner as Sample 1 except that the sample was changed to (Sample A).
Embossing temperature and embossing atmosphere humidity are higher than the range of the present invention, the surface reflectance of the antireflection film is as high as 1.52%, and the Rz / Ra value exceeds the range of the present invention. As a result, there was no steel wool resistance. When the thickness of each layer was examined, none of the thicknesses of the layers was substantially uniform.
[0074]
<Preparation of sample for comparison>
Using an embossing roll in which the Ra of the embossing roll is 0.13 μm and the average pitch from the convex part to the adjacent convex part is 23 μm, the embossing temperature and the embossing atmosphere humidity are 76 ° C. and 4 g / m. ³ An antireflection film embossed was prepared in the same manner as Sample 1 except that the sample was changed to (Sample B).
Since the Ra value of the embossing roll was smaller than the range of the present invention, the antiglare property was inferior to the antiglare antireflection film of the present invention.
[0075]
<Preparation of Samples 9 and 10>
The embossing roll Ra and the average pitch from the convex part to the adjacent convex part are as shown in Table 1 except that the embossing temperature and the embossing atmosphere humidity are changed as shown in Table 1 with Sample 1. Similarly, an antireflection film (samples 9 and 10) subjected to embossing was produced.
The surface of any of the antireflection films was visually rough and had a high texture.
[0076]
<Preparation of sample 11>
(Preparation of antireflection film)
In the preparation of Sample 1, the amount of UV irradiation after applying the hard coat layer was 150 mJ / cm. ² The amount of UV irradiation after coating for the medium refractive index layer, after coating for the high refractive index layer, and after coating for the low refractive index layer is 30 mJ / cm. ² , 30mJ / cm ² , 40 mJ / cm ² The procedure was the same as the preparation of Sample 1 except that.
Using a single-sided embossing calendar machine (manufactured by Yuri Roll Co., Ltd.), set the backup roll with the surface covered with an embossing roll and a polyamide material on the anti-reflective film, and the surface roughness was randomly formed by uneven shapes. Using an embossing roll with Ra of 0.80 μm and an average pitch from the convex part to the adjacent convex part of 42 μm, the preheat roll temperature is 90 ° C., the embossing roll temperature is 192 ° C., and the embossing atmosphere humidity is 40 g / m. ³ The embossing was performed under the conditions of an embossed linear pressure of 300 kgf / cm and a processing speed of 1.0 m / min.
Finally, UV is 250 mJ / cm ² Irradiation produced an antiglare antireflection film (Sample 11).
The surface of the antireflection film had a high texture without visual roughness. Further, when the thicknesses of the respective layers were examined, the thicknesses of all the layers were substantially uniform (the average value of the layer thicknesses is less than ± 1%).
[0077]
<Preparation of sample 12>
(Preparation of antireflection film)
In the preparation of Sample 1, the amount of UV irradiation after applying the hard coat layer was 150 mJ / cm. ² The amount of UV irradiation after coating for the medium refractive index layer, after coating for the high refractive index layer, and after coating for the low refractive index layer is 30 mJ / cm. ² , 30mJ / cm ² , 40 mJ / cm ² The procedure was the same as the preparation of Sample 1 except that.
Using a single-sided embossing calendar machine (manufactured by Yuri Roll Co., Ltd.), set the backup roll with the surface covered with an embossing roll and a polyamide material on the anti-reflective film, and the surface roughness was randomly formed by uneven shapes. Using an embossing roll with an Ra of 0.80 μm and an average pitch from the convex part to the adjacent convex part of 42 μm, the preheat roll temperature is 90 ° C., the embossing roll temperature is 190 ° C., and the humidity in the embossing atmosphere is 41 g / m. ³ The embossing was performed under the conditions of an embossed linear pressure of 300 kgf / cm and a processing speed of 1.0 m / min.
Finally, UV is 250 mJ / cm ² Irradiation produced an antiglare antireflection film (Sample 12).
The surface of the antireflection film had a high texture without visual roughness. Further, when the thicknesses of the respective layers were examined, the thicknesses of all the layers were substantially uniform (the average value of the layer thicknesses is less than ± 1%).
[0078]
(Evaluation of antireflection film)
About the obtained film, the following items were evaluated. The results are summarized in Table 1.
[0079]
(1) Surface roughness (Ra, Rz)
For the surface roughness, Ra and Rz were measured with an atomic force microscope (AFM: Atomic Force Microscope, SPI3800N, manufactured by Seiko Instruments Inc.), and Rz / Ra was calculated.
[0080]
(2) Specular reflectance
A spectrophotometer V-550 (manufactured by JASCO Corporation) is equipped with an adapter ARV-474, and in the wavelength region of 380 to 780 nm, the specular reflectance at an incident angle of 5 ° at an incident angle of 5 ° is measured. An average reflectance of 450 to 650 nm was calculated, and antireflection properties were evaluated.
[0081]
(3) Evaluation of steel wool scuff resistance
0.49 N / cm on # 0000 steel wool ² The following four stages were evaluated by observing the state of scratches when 100 reciprocations were applied.
◎: No scratches
○: Slightly invisible scratches
Δ: Slightly visible scratches
×: Clearly visible scratches
[0082]
(4) Bright spot failure
The opposite surface (support surface) of the surface on which the coating layer of each film is provided is painted black with black ink. The number of visible bright spot failures (confirmed by optical microscope) was counted.
[0083]
(5) Antiglare evaluation
The produced antireflection film was exposed to a fluorescent lamp without a louver (8000 cd / m ² ) And the degree of blurring of the reflected image of the fluorescent lamp was visually evaluated according to the following criteria.
I do not know the outline of the fluorescent lamp at all: ◎
Slightly understand the outline of the fluorescent lamp (with anti-glare property): ○
Fluorescent lamp is hardly blurred (insufficient anti-glare property): ×
[0084]
(6) Antiglare evaluation after 1000 hours
The produced antireflection film was held at 65 ° C. and 95% RH (relative humidity) for 1000 hours, and then exposed to a fluorescent lamp without a louver (8000 cd / m). ² ) And the degree of blurring of the reflected image of the fluorescent lamp was visually evaluated according to the following criteria.
I do not know the outline of the fluorescent lamp at all: ◎
Slightly understand the outline of the fluorescent lamp (with anti-glare property): ○
Fluorescent lamp is hardly blurred (insufficient anti-glare property): ×
[0085]
[Table 1]

[0086]
From the results of Table 1, the antireflection films of Samples 1 to 12 of the present invention are excellent antiglare antireflection films that have low reflectance characteristics and antiglare properties, have few bright spot failures, and are hardly scratched. It was confirmed that there was. In particular, it was confirmed that Samples 11 and 12 of the present invention have excellent durability that does not cause deterioration in antiglare properties even after 1000 hours in an environment of 65 ° C. and 95% RH (relative humidity).
[0087]
Example 2
Each of the antireflection films of Samples 1 to 12 prepared in Example 1 was immersed in a 2.0 normal, 55 ° C. NaOH aqueous solution for 2 minutes to saponify the triacetyl cellulose surface on the back surface of the film, and had a thickness of 80 μm. Adheres and protects both sides of a polarizer made by adsorbing iodine to polyvinyl alcohol and stretching the film with saponified triacetylcellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) under the same conditions. Thus, a polarizing plate was created. The thus-prepared polarizing plate is a liquid crystal display device of a notebook computer equipped with a transmission type TN liquid crystal display device (Sumitomo 3M Co., Ltd., which is a polarization separation film having a polarization selection layer) so that the antireflection film side is the outermost surface. When the D-BEF made of D-BEF is attached to the polarizing plate on the viewing side (with a backlight and a liquid crystal cell), the reflection of the background is very small and uniform regardless of the location of the screen in any sample. A display device with very high display quality was obtained.
[0088]
Example 3
The saponification treatment of Example 2 was performed except that a 1.0 N KOH aqueous solution was applied to the back surface of the antireflection film with a # 3 bar, treated at a film surface temperature of 60 ° C. for 10 seconds, washed with water and dried. Was attached to the liquid crystal display device in the same manner as in Example 2. As in Example 2, the reflection of the background was very small and uniform for any sample anywhere on the screen, and the display quality was extremely high. A high display device was obtained.
[0089]
Example 4
For the protective film on the liquid crystal cell side of the polarizing plate installed on the viewing side of the transmission type TN liquid crystal cell to which the antireflection film of Example 3 was attached, and the protective film on the liquid crystal cell side of the polarizing plate installed on the backlight side, An optical system in which the disc surface of the tick structural unit is inclined with respect to the transparent support surface, and the angle formed by the disc surface of the discotic structural unit and the transparent support surface changes in the depth direction of the optical anisotropic layer. When a viewing angle widening film having a compensation layer (Wide View Film SA-12B, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used, all samples had excellent contrast in a bright room and had a vertical, horizontal, and horizontal viewing angle. A very wide liquid crystal display device with excellent visibility and high display quality was obtained.
[0090]
Example 5
When the antireflection films of Samples 1 to 12 prepared in Example 1 were bonded to the glass plate on the surface of the organic EL display device via an adhesive, reflection on the glass surface was suppressed in any sample, A display device with high visibility was obtained.
[0091]
Example 6
When the λ / 4 plate was pasted on the opposite surface of the polarizing plate with the single-side antireflection film prepared in Example 2 on the side having the antireflection film, and attached to the glass plate on the surface of the organic EL display device, the surface The reflection and the reflection from the inside of the surface glass were cut, and a display with extremely high visibility was obtained.
[0092]
【The invention's effect】
According to the present invention, even if it has a low refractive index layer that is a coating layer, it has an antireflection function and an antiglare function comparable to an antireflection film made of a vapor deposition layer, and has a bright spot (foreign matter) defect. In addition, an antiglare antireflection film excellent in scratch resistance and durability can be obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration example of an antireflection film of the present invention.
FIG. 2 is a schematic view showing an example of a method for imparting surface irregularities to an antireflection film.
[Explanation of symbols]
1 Antireflection film
2 Transparent support
3 Antireflection layer
4 Embossing roll
5 Backup roll
11 Low refractive index layer
12 Hard coat layer
13 Transparent support
14 High refractive index layer
15 Medium refractive index layer
16 Undercoat layer

Claims

An antiglare antireflection film formed by forming a low refractive index layer having a refractive index lower than the refractive index of the transparent support on the transparent support, and then forming the outermost surface irregularities from the outside. The average value in the wavelength region from 450 nm to 650 nm of the specular reflectivity at an incident angle is 0.6% or less, the surface roughness Ra is 0.02 to 2.00 μm, and Rz / Ra is 2 to 30 An antiglare antireflection film characterized by being

2. The antiglare antireflection film according to claim 1, wherein the unevenness on the outermost surface is formed by embossing.

After forming a low refractive index layer having a refractive index lower than the refractive index of the transparent support on the transparent support, Ra of the embossing roll is 0.2 to 100 μm and the embossing roll temperature The method for producing an antiglare antireflection film according to claim 2, wherein the film is formed by embossing at a temperature of 80 to 200 ° C. and a humidity of an embossing atmosphere of 10 to 100 g / m ^3. .

An antiglare antireflection film obtained by the production method according to claim 3.

A polarizing plate having both surfaces of a polarizer sandwiched between protective films, wherein at least one of the protective films is the antiglare antireflection film according to claim 1, 2 or 4.

5. The anti-glare reflection according to claim 1, wherein one of the protective films is a protective film having an optical anisotropic layer, and the other protective film is a protective film having both surfaces of the polarizer sandwiched between the protective films. An elliptically polarizing plate, which is a prevention film.

7. A liquid crystal display device, wherein the side of the polarizing plate according to claim 5 or 6 that is not an antiglare antireflection film is disposed on a liquid crystal cell surface.

An image display device using the antiglare antireflection film according to claim 1, 2 or 4.