JP2004252242A - Liquid crystal display device and its manufacturing method - Google Patents

Liquid crystal display device and its manufacturing method Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device provided with strength and impact resistance to external pressure and capable of obtaining satisfactory display characteristics and to provide its manufacturing method. <P>SOLUTION: The liquid crystal display has substrates 2 and 4 at least one of which is transparent, a liquid crystal 6 sealed between the substrates 2 and 4 and columnar spacers 20 formed by using a rubber based photoresist, adhering to both substrates 2 and 4 and maintaining a cell gap between the substrates 2 and 4. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。より詳しく言えば、本発明は、少なくとも一方が透明である一対の基板の間に、一般に液晶として知られる光スイッチ機能を有する媒体を挟持した液晶表示装置であって、外的な衝撃に対しても有効表示領域における基板間のセルギャップが均一かつ一定に保たれることにより、コントラストや応答速度等の均一性が向上し良好な表示品質の得られる液晶表示装置、及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
少なくとも一方が透明である一対の基板間に、光スイッチ機能を有する媒体である液晶を充填した液晶表示装置は、一般に薄くて軽量で低消費電力であるという特徴を有する。このため、電卓、家庭電化製品あるいはOA機器等の表示装置や、空間光変調装置(Spacial Light Modulator)等として広く用いられている。
【0003】
液晶表示装置では、基板間のセルギャップが表示領域内で均一かつ一定であることは、良好な表示を行うのに不可欠である。均一かつ一定なセルギャップを維持するために、基板間にはスペーサが配置されている。スペーサには、粒子(ビーズ)状の球状スペーサと、柱(ピラー)状の柱状スペーサに大別される。従来、これらのスペーサの配置及び固定化技術が種々開発されてきた。
【0004】
一般的な方法として、球状スペーサを基板上に散布し、セルギャップを均一に制御する方法がある。ところがこの方法では、球状スペーサの配置を制御することが困難であるという問題が生じていた。また、球状スペーサは表示に不可欠な画素領域にも散布されるため、球状スペーサにより光が散乱し、コントラストの低下が起こったり、画素領域内で液晶分子の配向欠陥が生じ、光漏れ等により表示品質が低下するという問題が生じていた。
【0005】
上記の問題を解消するため、球状スペーサの散布に代えて、フォトリソグラフィ法により画素領域以外の領域に柱状スペーサを選択的に形成する技術が提案されている。この技術によれば、画素領域にスペーサが存在しないため、液晶分子の配向欠陥等による光漏れが抑制される。したがって、液晶表示装置のコントラストが向上し、表示品質の低下を防止できる。ところが柱状スペーサは、通常一方の基板には接着しているものの、他方の基板には接着していない。このため、例えば指先で押される等の外からの圧力(外圧)が基板面の一部に加えられると、外圧が加えられた領域は基板間隔が狭くなり、他の領域は基板間隔が広くなる。この基板間隔の変動に伴い、両基板上にそれぞれ形成された電極間の間隔が変動する。したがって、干渉縞の発生や色調のばらつき、駆動電圧特性のばらつき、液晶の応答速度のばらつき等の問題が生じていた。さらに極端な場合には、外圧によって基板同士が接触して配向膜が損傷を受け、これにより液晶の配向が乱れて表示品質が低下する等の問題が生じていた。
【0006】
そこで、柱状スペーサに両基板の双方との接着性を持たせ、液晶の応答速度のばらつき等を抑制して表示品質を向上させる検討が行われている。しかしながら、セルギャップの精密な制御と高い接着性とを両立させるのは困難であった。例えば、圧力や熱で変形しない球状スペーサを柱状スペーサに含有させ、柱状スペーサの強度を高めてセルギャップを精密に制御するとともに、高い接着性の実現を図る手法がある(例えば、特許文献1)。ところがこの手法では、球状スペーサを柱状スペーサ形成用の樹脂に分散させているため、以下に示す問題が発生する。
(1)確率的に球状スペーサを含有しない柱状スペーサが存在するため、セルギャップの均一性が劣る。
(2)(1)の問題を避けるために球状スペーサの含有量を増やすと、球状スペーサがフィラーとして作用して悪影響を及ぼし、基板上への柱状スペーサ形成材料の均一なスピンコートが困難になる。このため、柱状スペーサ形成材料の塗布厚さにムラができ、その結果柱状スペーサの高さが不均一になる。
(3)均一な粒径を有する球状スペーサは高価である。しかも柱状スペーサ以外の部分はパターニングにより除去されるため、ほとんどの球状スペーサは捨てられることになる。このため、液晶表示装置の製造コストが増加する。
【0007】
また他の手法として、本願出願人による日本国特許出願(特願2002−138627号)には、外圧に対してセルギャップが変動しないようにスペーサに接着性を持たせる技術が提案されている。
【0008】
【特許文献1】
特開2000−155321号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の技術では、スペーサがいずれも比較的硬い樹脂で形成されているため弾性が低い。このため、より大きな外圧が基板面に加えられると、スペーサの接着部位が外れてセルギャップが変動し、表示が乱れてしまうという問題が生じる。また、落下等により液晶表示装置に衝撃が加えられると、スペーサの接着部位が外れてセルギャップが変動し易くなるという問題が生じる。
【0010】
このように、これまでのスペーサの配置及び固定化技術は、外圧に対して強く耐衝撃性の高い、表示特性の良好な液晶表示装置を実現するのに十分ではなかった。
また、これまでのスペーサを用いた場合、基板上にスペーサを均一かつ高密度に配置させた状態で配向膜材料溶液を塗布することが困難である。さらに、配向膜のラビング処理の際にスペーサが剥がれ落ちてしまうおそれもある。このため、液晶表示装置の表示品質を維持したままスペーサを基板上に固定するのが困難であった。
【0011】
本発明の目的は、外圧に対する強度と耐衝撃性を備え、良好な表示特性の得られる液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、少なくとも一方が透明な一対の基板と、前記一対の基板間に封止された液晶と、ゴム系フォトレジストで形成され、前記一対の基板間のセルギャップを維持する柱状スペーサとを有することを特徴とする液晶表示装置によって達成される。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施の形態による液晶表示装置及びその製造方法について図1乃至図3を用いて説明する。図1は、本実施の形態による液晶表示装置の概略構成を示している。図1に示すように、液晶表示装置は、薄膜トランジスタ(TFT;Thin Film Transistor)や画素電極、ゲートバスライン、ドレインバスライン等が形成されたTFT基板2と、カラーフィルタや共通電極等が形成された対向基板4とが対向して貼り合わされ、その間に液晶(図1では図示せず)が封止された液晶表示パネルを有している。
【0014】
TFT基板2には、複数のゲートバスラインを駆動するドライバICが実装されたゲートバスライン駆動回路80と、複数のドレインバスラインを駆動するドライバICが実装されたドレインバスライン駆動回路82とが設けられている。両駆動回路80、82は、制御回路84から出力された所定の信号に基づいて、走査信号やデータ信号を所定のゲートバスラインあるいはドレインバスラインに出力するようになっている。TFT基板2の素子形成面と反対側の面には偏光板87が貼り付けられ、偏光板87のTFT基板2と反対側の面にはバックライトユニット88が配置されている。一方、対向基板4の共通電極形成面と反対側の面には、偏光板86が貼り付けられている。
【0015】
図2は、本実施の形態による液晶表示装置の概略の断面構成を示している。図2に示すように、TFT基板2と対向基板4とは、外周部に塗布された例えば熱硬化性のシール材12を介して貼り合わされている。両基板2、4の少なくとも一方は、ガラス等の透明基板を用いて形成されている。図示していないが、TFT基板2上には画素毎に画素電極が形成され、対向基板4上にはほぼ全面に共通電極が形成されている。画素電極及び共通電極のうち、少なくとも透明基板上に形成される電極は、透明導電膜により形成される。TFT基板2及び対向基板4の対向面には、液晶6の配向を規制する配向膜がそれぞれ形成されている。配向膜は、ポリイミド等の樹脂により形成され、所定のラビング処理が施されている。
【0016】
両基板2、4間のセルギャップは、一方の基板上にフォトリソグラフィ法を用いて形成された柱状スペーサ20により維持されている。柱状スペーサ20は、例えば熱硬化性のゴム系フォトレジストを用いて形成され、比較的高い弾性を有している。柱状スペーサ20は、基板2、4を重ね合わせた後に、所定温度に加熱されて硬化している。柱状スペーサ20は、例えば直径10μmの円柱形状であり、100μm間隔でマトリクス状に配置される。柱状スペーサ20の両底面は、基板2、4にそれぞれ接着された接着面になっている。柱状スペーサ20は、基板2、4の双方に接着されて基板2、4間を強固に結合しているとともに、基板2、4間のセルギャップを均一かつ一定に保持している。
【0017】
ゴム系フォトレジストは、フォトリソグラフィ法によるパターニングが可能であるため、所望の位置に柱状スペーサ20を形成するのが容易である。このため、液晶表示装置の画素領域以外の領域であって、基板2、4間の一定のセルギャップの維持に有効な位置にのみ柱状スペーサ20を配置することができる。また、パターニングに先立って基板全面に塗布形成されるゴム系フォトレジスト膜の膜厚を調整することにより、セルギャップを容易に制御できる。
【0018】
熱硬化性のシール材12は、両基板2、4のいずれか一方の外周部に塗布され、基板2、4を重ね合わせた後に所定温度に加熱されて硬化している。硬化したシール材12は、液晶6の漏れを防ぐ封止機能を有している。シール材12には通常樹脂材料が用いられる。柱状スペーサ20を形成するゴム系フォトレジストの硬化温度がシール材12の硬化温度以下であれば、柱状スペーサ20を先に硬化させて所定のセルギャップを設定し、そのセルギャップを維持したままで基板2、4間の外周部を封止できる。このため、ゴム系フォトレジストの硬化温度がシール材12の硬化温度以下であれば、柱状スペーサ20の形成による基板2、4間の結合と、シール材12の硬化による基板2、4の外周部の封止とを同一工程で行うことができる。
【0019】
上記のような基板2、4を重ね合わせた後の加熱工程では、配向膜のラビング効果が損なわれる温度より低い温度で加熱することが重要である。一般に、配向膜のラビング効果は150℃を超える温度になると損なわれるため、150℃より高い温度に加熱するのは避けるべきである。このため、ゴム系フォトレジスト及びシール材12の硬化温度は、150℃以下であることが望ましい。また一般に、液晶6を基板2、4間に封入した後、液晶6を再配向させるアニール処理の温度は110℃程度である。このため、アニール処理の際に柱状スペーサ20及びシール材12が硬化してしまわないように、ゴム系フォトレジスト及びシール材12の硬化温度は、110℃以上であることが望ましい。
【0020】
本実施の形態では、シール材12として熱硬化性樹脂を用いているが、光硬化性樹脂を用いることもできる。シール材12として光硬化性樹脂を用いれば、より低温下で基板2、4間を封止することができる。
【0021】
本実施の形態による液晶表示装置のTFT基板2及び対向基板4は、柱状スペーサ20が未硬化(又は半硬化)の状態で、互いに対向する所定の位置に位置合わせされる。その後、未硬化の柱状スペーサ20を加熱して硬化させることにより柱状スペーサ20が基板2、4の双方に接着され、基板2、4間が結合される。柱状スペーサ20をある程度硬化させてから両基板2、4を加圧することで、柱状スペーサ20の変形が抑制され、所望のセルギャップが得られる。
【0022】
本実施の形態による液晶表示装置に用いられる液晶は特に限定されない。例えば、ツイステッドネマティック(TN)型液晶、スーパーツイステッドネマティック(STN)型液晶、ヴァーティカリアラインド(VA)型液晶、ネマティックコレステリック相転移型液晶、ポリマ分散型液晶、強誘電性液晶、反強誘電性液晶、ツイストグレインバウンダリ液晶、電傾効果を示すスメクティックA相液晶等の公知の液晶を用いることができる。
【0023】
本実施の形態では、柱状スペーサ20はゴム系フォトレジストで形成されているため比較的高い弾性を有している。また、柱状スペーサ20は、基板2、4の双方に接着している。このため、大きな外圧が基板面の一部に加えられてセルギャップが変動しても、柱状スペーサ20はセルギャップの変動に応じて伸縮し、柱状スペーサ20の基板2、4への接着部位が外れてしまうことがない。また、セルギャップが変動して柱状スペーサ20が伸縮すると、柱状スペーサ20には弾性により所定のセルギャップを維持する方向の力が生じる。このため、基板面の一部に外圧が加えられてセルギャップが一時的に変動したとしても、外圧を取り去ればセルギャップが回復し、セルギャップが継続的に変動してしまうことがない。したがって、外圧に対して強く、表示特性の良好な液晶表示装置が得られる。また、液晶表示装置に衝撃が加えられても、柱状スペーサ20の弾性により、接着部位が外れてセルギャップが継続的に変動してしまうことがない。このため、耐衝撃性の高い液晶表示装置が得られる。
【0024】
また、本実施の形態では、基板上に散布される球状スペーサを用いず、柱状スペーサ20を用いているため、配向膜のラビング処理の際にスペーサが剥がれ落ちてしまう問題が生じない。
【0025】
次に、本実施の形態による液晶表示装置の製造方法について図3を用いて説明する。図3は、本実施の形態による液晶表示装置の製造方法を示す工程断面図である。まず、所定の工程を経てそれぞれ作製されたTFT基板2及び対向基板4の各表面に、ポリイミド等を塗布して配向膜を形成する。次に、図3(a)に示すように、例えばネガ型のゴム系フォトレジストを例えば対向基板4上の全面にスピンコート法を用いて塗布し、膜厚2μmのゴム系フォトレジスト膜30を形成する。次に、ゴム系フォトレジスト膜30をプリベークする。次に、柱状スペーサ20を形成する領域が開口されたネガ型のフォトマスクを用いて、紫外線露光装置により露光する。この露光工程では、柱状スペーサ20形成領域のゴム系フォトレジスト膜31が所定露光量で露光される。
【0026】
次に、露光したゴム系フォトレジスト膜30、31を現像し、図3(b)に示すように、未硬化の柱状スペーサ21を形成する。柱状スペーサ21は、例えば直径10μmの円柱形状であり、100μm間隔でマトリクス状に配置される。続いて、柱状スペーサ21を純水で洗浄し、乾燥させる。続いて、両基板2、4上の配向膜のラビング処理を行う。
【0027】
次に、図3(c)に示すように、例えば対向基板4上の外周部に、液晶注入口となる部分を残して熱硬化性のシール材12を塗布する。次に、両基板2、4を重ね合わせ、重ね合わせ基板を作製する。次に、重ね合わせ基板を熱処理装置内に装填し、未硬化の柱状スペーサ21及びシール材12の硬化温度(例えば110℃〜150℃)で加圧加熱する。ここで、柱状スペーサ21を加熱によりある程度硬化させてから重ね合わせ基板を加圧することで、未硬化の柱状スペーサ21の変形が抑制され、所望のセルギャップが得られる。柱状スペーサ21は、両基板2、4側からの圧力が加えられた状態で硬化し、両基板2、4に接着した柱状スペーサ20となる。それとともに、シール材12が硬化し、両基板2、4の外周部がシールされる。このとき、柱状スペーサ21は、シール材12とほぼ同時又はシール材12より先に硬化する。柱状スペーサ20及びシール材12により、両基板2、4は強固に結合される。その後、液晶注入口から両基板2、4間に液晶6を注入し、封止材により液晶注入口を封止する。以上の工程を経て、図2に示す液晶表示装置が完成する。
【0028】
基板2、4間への液晶の注入方法としては、上記のように予め対向させて貼り合わせた基板2、4間に真空を利用して液晶を充填封入する真空注入法と、対向基板4(又はTFT基板2)上に液晶を滴下してからTFT基板2(又は対向基板4)を重ねて貼り合わせる滴下注入法とが代表的である。本実施の形態は、いずれの液晶注入法にも適用可能である。滴下注入法による場合、例えば対向基板4上に未硬化の柱状スペーサ20を形成し、対向基板4又はTFT基板2の外周部にシール材12を塗布形成して、液晶6を滴下した後に両基板2、4を重ね合わせ、液晶6が充填された重ね合わせ基板を作製する。その後、重ね合わせ基板を加圧加熱する。これにより、シール材12が硬化するとともに未硬化の柱状スペーサ20が硬化して、基板2、4の双方に接着した柱状スペーサ20が得られる。
【0029】
また、本実施の形態は、他の液晶注入法にも対応可能である。例えば、外周部にシール材12が全く形成されていない対向基板4(又はTFT基板2)上に、液晶6を付着させる。次いで、両基板2、4を重ね合わせて液晶6を基板2、4間に充填させ、重ね合わせ基板を形成する。その後、重ね合わせ基板の外周部をシール材で封止する。あるいは、限られた極一部の領域にのみシール材12が形成され、実質的にシール材12が形成されていない対向基板4(又はTFT基板2)上であってシール材12が形成されていない領域に、液晶6を付着させる。次いで、両基板2、4を重ね合わせて液晶6を基板2、4間に充填させ、重ね合わせ基板を形成する。その後、重ね合わせ基板の外周部のうち、シール材12が形成されていない領域をシール材で封止する。これらの液晶注入法を用いれば、液晶6を基板2、4間に効率良く注入できる。したがって、液晶表示装置の製造工程でのスループットを向上させ、製造コストを低減させ、製造歩留まりを向上させることができる。
【0030】
上記の液晶注入法を用いる場合、例えば対向基板4に液晶6を付着させる前後の圧力差又は温度差、あるいはこれらの双方を利用して、基板2、4間に液晶6を充填してもよい。これにより、基板2、4間に液晶6をより短時間で充填できる。また、例えば対向基板4に液晶6を付着させる際に、ディスペンサを使用して液晶6を滴下してもよい。ディスペンサを使用することによって、定量的かつ容易な液晶6の付着が可能になる。
【0031】
本実施の形態では、柱状スペーサ20の形成材料であるゴム系フォトレジストには、球状スペーサが含有されていない。このため、基板上へのゴム系フォトレジストの均一なスピンコートが可能になり、均一な高さの柱状スペーサ20を形成できる。したがって、表示領域全体で均一なセルギャップが得られる。また、本実施の形態では、ゴム系フォトレジストを塗布して形成されたゴム系フォトレジスト膜30をパターニングすることにより、柱状スペーサ20(21)が形成される。このため、柱状スペーサ20を所望の位置に容易な工程で形成できる。さらに本実施の形態では、柱状スペーサ20(21)を配向膜上に形成しているため、基板上にスペーサを配置した状態での配向膜材料溶液の塗布に関する問題が生じない。
【0032】
本実施の形態では、柱状スペーサ20の形成材料としてネガ型のゴム系フォトレジストを用いているが、ポジ型のゴム系フォトレジストを用いることもできる。一般に、ポジ型のゴム系フォトレジストを用いた方が、より高い接着性を得られる。ただし、ネガ型のゴム系フォトレジストを用いれば、未硬化の柱状スペーサ21の硬度を露光量により制御することが可能である。
【0033】
以下、本実施の形態による液晶表示装置及びその製造方法について、具体的実施例及び比較例を用いて説明する。
(実施例1)
まず、本実施の形態の実施例1による液晶表示装置及びその製造方法について説明する。既に述べた本実施の形態による液晶表示装置の製造方法に基づき、本実施例による液晶表示装置を次のように作製した。一方の表面にITO(Indium Tin Oxide)からなる透明電極が形成された200mm×100mm×1.1mmの一対のガラス基板上に、濃度3wt%のポリイミド溶液をスピンコータにより2000rpmの回転数で塗布する。次に、ガラス基板を200℃で30分間焼成して配向膜を形成する。
【0034】
一方のガラス基板(対向基板4)の配向膜上に、例えばネガ型のゴム系フォトレジスト(例えばOMR85、東京応化工業社製)をスピンコート法により塗布し、膜厚2μmのゴム系フォトレジスト膜30を形成する。次に、ホットプレートを用いてゴム系フォトレジスト膜30を80℃で15分間プリベークする。次に、紫外線露光装置により積算照射量100mJ/cmでゴム系フォトレジスト膜30を露光する。次に、露光したゴム系フォトレジスト膜30を現像し、未硬化の柱状スペーサ21を形成する。柱状スペーサ21は、直径10μmの円柱形状であり、100μm間隔でマトリクス状に配置される。次に、柱状スペーサ21を純水で洗浄して乾燥させる。続いて、両基板2、4上の配向膜のラビング処理を行う。
【0035】
次に、150℃、1時間で硬化するエポキシ樹脂を液晶注入口となる部分以外の対向基板4の外周部に印刷法によって付着させ、シール材12を形成する。次に、透明電極が向き合うように両基板2、4を重ね合わせ、重ね合わせ基板を作製する。次に、重ね合わせ基板を真空袋に入れて150℃で1時間加熱し、シール材12を硬化させるとともに、未硬化の柱状スペーサ21を硬化させて、基板2、4の双方に接着した柱状スペーサ20を形成する。これにより、貼り合わせ基板が作製される。次に、真空注入法を用いて液晶注入口から強誘電性液晶を注入して液晶注入口を封止する。以上の工程を経て、液晶表示装置が得られた。
【0036】
この液晶表示装置をクロスニコル下に置き、先端径が0.8mmのペン先を用いて荷重300gで表示部の中央を押した。荷重を加えている間はペン先の周囲に表示色の変化が見られたものの、荷重を取り去ると良好な表示に戻った。これにより、この液晶表示装置は液晶層厚を小さくする外圧に対して、耐ストレス性を備えることが示された。また、液晶表示装置の中央部を支持し、両端に500gの荷重を加えた。荷重を加えている間は表示画面に表示色の変化が見られたものの、荷重を取り去ると表示画面全体にわたって良好な表示に戻った。さらに、液晶表示装置に所定の衝撃を加えたところ、表示品質の変化は見られなかった。これにより、この液晶表示装置は、耐衝撃性を備えることが示された。
【0037】
(比較例1)
ここでは、実施例1による液晶表示装置と比較するために、ガラス基板の寸法形状や、配向膜及び液晶材料等の条件は実施例1と同一にして、柱状スペーサ20を形成するネガ型のゴム系フォトレジスト膜31の露光時間を実施例1の露光時間の5倍に変更する。これにより、基板2、4を重ね合わせる際に未硬化である柱状スペーサ21の強度が高くなる。
【0038】
実施例1と同様に、対向基板4の配向膜上に、膜厚2μmのゴム系フォトレジスト膜30を形成する。次に、ホットプレートを用いてゴム系フォトレジスト膜30を80℃で15分間プリベークする。次に、紫外線露光装置により積算照射量500mJ/cmでゴム系フォトレジスト膜30を露光する。次に、露光したゴム系フォトレジスト膜30を現像し、未硬化の柱状スペーサ21を形成する。その後、実施例1と同様の工程で液晶表示装置を作製した。
【0039】
この液晶表示装置をクロスニコル下に置き、先端径が0.8mmのペン先を用いて荷重300gで表示部の中央を押した。荷重を加えている間はペン先の周囲に表示色の変化が見られた。また荷重を取り去っても良好な表示には戻らなかった。これにより、この液晶表示装置は液晶層厚を小さくする方向の外圧に対する耐ストレス性が劣ることが示された。また、液晶表示装置の中央部を支持し、両端に500gの荷重を加えた。荷重を加えている間は画面全体にわたり表示色の変化が見られた。また荷重を取り去っても良好な表示には戻らなかった。これは、基板2、4を重ね合わせる前に既に硬化が進んでいた柱状スペーサ20がTFT基板2側に十分接着していないために、柱状スペーサ20の接着部位が荷重により外れ、セルギャップが変動したためである。さらに、この液晶表示装置は、実施例1の液晶表示装置よりも耐衝撃性に劣ることが分かった。
【0040】
このように、本変形例の液晶表示装置は、外圧に対する強度、耐衝撃性及び表示特性が実施例1の液晶表示装置よりも劣っている。これは、露光時間が長いことにより柱状スペーサ21の硬化が進んで強度が高くなっていたため、基板2、4を重ね合わせてから加熱しても柱状スペーサ20とTFT基板2との接着性が不十分であったのが原因と考えられる。
【0041】
(比較例2)
柱状スペーサ20の形成材料として、190℃、1時間で硬化するネガ型レジストを用い、基板2、4重ね合わせ後に190℃で1時間加熱して硬化させたこと以外は、実施例1と同様に液晶表示装置を作製した。その結果、配向膜に熱によるダメージが生じて液晶に対する配向規制力が低下し、液晶表示装置の表示品質が低下した。
【0042】
(比較例3)
柱状スペーサ20の形成材料として150℃、1時間で硬化するネガ型レジストを用い、シール材12として140℃、1時間で硬化するエポキシ樹脂を用いたこと以外は、実施例1と同様に液晶表示装置を作製した。その結果、液晶表示パネル外周部のシール材12が硬化した後に柱状スペーサ20が硬化したため、表示領域の中央部が膨らみ、セルギャップが不均一になり、液晶表示装置の表示品質が低下した。
【0043】
(比較例4)
柱状スペーサ20の形成材料として100℃、1時間で硬化するネガ型レジストを用い、シール材12として100℃、1時間で硬化するエポキシ樹脂を用いる。また、液晶を加温しながら一方の基板上に滴下し、その後基板を重ね合わせる滴下注入法を用い、柱状スペーサ20及びシール材12を100℃で硬化させる。上記以外は、実施例1と同様に液晶表示装置を作製した。その結果、ネガ型レジスト、シール材12の硬化温度が低いため、加温状態(100℃)で液晶を充填する際に柱状スペーサ20の硬化が始まってしまう。このため、柱状スペーサ20とTFT基板2との接着性が得られず、液晶表示装置の表示品質が低下した。
【0044】
(比較例5)
柱状スペーサ20の形成材料として160℃、1時間で硬化するネガ型レジストを用い、シール材12として160℃、1時間で硬化するエポキシ樹脂を用い、柱状スペーサ20及びシール材12を160℃で硬化させたこと以外は、実施例1と同様に液晶表示装置を作製した。その結果、配向膜に熱によるダメージが生じて液晶に対する配向規制力が低下し、液晶表示装置の表示品質が低下した。
【0045】
(実施例2)
次に、本実施の形態の実施例2による液晶表示装置及びその製造方法について説明する。滴下注入法を用いて液晶を注入したこと以外は、実施例1と同様に液晶表示装置を作製した。まず、一方のガラス基板(対向基板4)の外周部にシール材12を塗布する。次に、例えば対向基板4上に、未硬化の柱状スペーサ21を形成する。次に、例えば対向基板4上に、ディスペンサを使用して液晶を滴下する。次に、透明電極が向き合うように両基板2、4を真空下で重ね合わせ、150℃で1時間加熱して、シール材12と柱状スペーサ21を硬化させる。以上の工程を経て、液晶表示装置が完成する。この液晶表示装置は、実施例1と同様に、外圧に対する耐ストレス性、耐衝撃性及び良好な表示特性を示した。
【0046】
本発明は、上記実施の形態に限らず種々の変形が可能である。
例えば、上記実施の形態では、対向基板4上に柱状スペーサ20を形成しているが、本発明はこれに限らず、TFT基板2上に柱状スペーサ20を形成してもよい。
【0047】
また、上記実施の形態では透過型の液晶表示装置を例に挙げたが、本発明はこれに限らず、反射型や半透過型等の他の液晶表示装置にも適用できる。
【0048】
以上説明した実施の形態による液晶表示装置及びその製造方法は、以下のようにまとめられる。
(付記1)
少なくとも一方が透明な一対の基板と、
前記一対の基板間に封止された液晶と、
ゴム系フォトレジストで形成され、前記一対の基板間のセルギャップを維持する柱状スペーサと
を有することを特徴とする液晶表示装置。
【0049】
(付記2)
付記1記載の液晶表示装置において、
前記ゴム系フォトレジストはネガ型であること
を特徴とする液晶表示装置。
【0050】
(付記3)
付記1又は2に記載の液晶表示装置において、
前記ゴム系フォトレジストは、前記一対の基板の対向面に形成される配向膜のラビング効果が損なわれる温度より低いレジスト硬化温度を有すること
を特徴とする液晶表示装置。
【0051】
(付記4)
付記3記載の液晶表示装置において、
前記レジスト硬化温度は、前記液晶を再配向させるアニール処理の温度以上であること
を特徴とする液晶表示装置。
【0052】
(付記5)
付記3又は4に記載の液晶表示装置において、
前記レジスト硬化温度は、110℃以上150℃以下であること
を特徴とする液晶表示装置。
【0053】
(付記6)
付記1乃至5のいずれか1項に記載の液晶表示装置において、
前記一対の基板の外周部に形成され、所定のシール材硬化温度で硬化して前記液晶を封止するシール材をさらに有し、
前記シール材硬化温度は、前記一対の基板の対向面に形成される配向膜のラビング効果が損なわれる温度より低いこと
を特徴とする液晶表示装置。
【0054】
(付記7)
付記6記載の液晶表示装置において、
前記シール材硬化温度は、前記液晶を再配向させるアニール処理の温度以上であること
を特徴とする液晶表示装置。
【0055】
(付記8)
付記6又は7に記載の液晶表示装置において、
前記シール材硬化温度は、110℃以上150℃以下であること
を特徴とする液晶表示装置。
【0056】
(付記9)
付記6乃至8のいずれか1項に記載の液晶表示装置において、
前記レジスト硬化温度は、前記シール材硬化温度以下であること
を特徴とする液晶表示装置。
【0057】
(付記10)
付記1乃至9のいずれか1項に記載の液晶表示装置において、
前記柱状スペーサは、前記一対の基板の一方に接着された第1の接着面と、前記一対の基板の他方に接着された第2の接着面とを有していること
を特徴とする液晶表示装置。
【0058】
(付記11)
ゴム系フォトレジストからなる未硬化柱状スペーサを一方の基板上に形成する第1の工程と、
前記一方の基板と他方の基板とを重ね合わせ、重ね合わせ基板を作製する第2の工程と、
前記未硬化柱状スペーサを硬化させて柱状スペーサを形成するとともに、前記一方の基板と前記他方の基板とを貼り合わせ、貼り合わせ基板を作製する第3の工程と
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【0059】
(付記12)
付記11記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第1の工程は、前記一方の基板上にゴム系フォトレジストを塗布してレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜をパターニングする工程とを含むこと
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【0060】
(付記13)
付記11又は12に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第3の工程は、前記柱状スペーサを前記他方の基板に接着させること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【0061】
(付記14)
付記11乃至13のいずれか1項に記載の液晶表示装置の製造方法において、前記第3の工程は、前記未硬化柱状スペーサを所定の加熱温度で加熱して硬化させること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【0062】
(付記15)
付記14記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第2の工程の前に、前記一方の基板又は前記他方の基板の外周部に熱硬化性のシール材を塗布する工程をさらに有し、
前記第3の工程は、前記シール材を前記加熱温度で加熱して硬化させる工程を含むこと
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【0063】
(付記16)
付記15記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第3の工程は、前記未硬化柱状スペーサを前記シール材とほぼ同時に又は前記シール材より先に硬化させること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【0064】
(付記17)
付記14乃至16のいずれか1項に記載の液晶表示装置の製造方法において、前記加熱温度は、前記重ね合わせ基板の対向面に形成された配向膜のラビング効果が損なわれる温度より低いこと
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【0065】
(付記18)
付記14乃至17のいずれか1項に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記加熱温度は、110℃以上150℃以下であること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【0066】
【発明の効果】
以上の通り、本発明によれば、外圧に対する強度と耐衝撃性を備え、良好な表示特性の得られる液晶表示装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態による液晶表示装置の概略構成を示す図である。
【図2】本発明の一実施の形態による液晶表示装置の概略構成を示す断面図である。
【図3】本発明の一実施の形態による液晶表示装置の製造方法を示す工程断面図である。
【符号の説明】
2 TFT基板
4 対向基板
12 シール材
20 柱状スペーサ
21 未硬化の柱状スペーサ
30、31 ゴム系フォトレジスト膜
80 ゲートバスライン駆動回路
82 ドレインバスライン駆動回路
84 制御回路
86、87 偏光板
88 バックライトユニット
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same. More specifically, the present invention relates to a liquid crystal display device in which a medium having an optical switch function generally known as a liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates at least one of which is transparent, Also, the present invention relates to a liquid crystal display device in which uniformity such as contrast and response speed is improved by maintaining a uniform and constant cell gap between substrates in an effective display region to obtain good display quality, and a method of manufacturing the same.
[0002]
[Prior art]
A liquid crystal display device in which a liquid crystal which is a medium having an optical switching function is filled between a pair of substrates, at least one of which is transparent, is generally thin, lightweight, and consumes low power. For this reason, it is widely used as a display device such as a calculator, a home appliance or an OA device, and a spatial light modulator (Spacial Light Modulator).
[0003]
In the liquid crystal display device, it is essential that the cell gap between the substrates is uniform and constant in the display area in order to perform good display. In order to maintain a uniform and constant cell gap, spacers are arranged between the substrates. The spacers are roughly classified into spherical spacers in the form of particles (beads) and columnar spacers in the form of pillars (pillars). Conventionally, various techniques for arranging and fixing these spacers have been developed.
[0004]
As a general method, there is a method of dispersing spherical spacers on a substrate to uniformly control a cell gap. However, this method has a problem that it is difficult to control the arrangement of the spherical spacers. In addition, since the spherical spacers are scattered in the pixel area which is indispensable for display, light is scattered by the spherical spacers, which causes a decrease in contrast or alignment defects of liquid crystal molecules in the pixel area. There has been a problem that the quality is reduced.
[0005]
In order to solve the above problem, a technique has been proposed in which, instead of dispersing spherical spacers, columnar spacers are selectively formed in a region other than a pixel region by a photolithography method. According to this technique, since there is no spacer in the pixel region, light leakage due to alignment defects or the like of liquid crystal molecules is suppressed. Therefore, the contrast of the liquid crystal display device is improved, and a decrease in display quality can be prevented. However, the columnar spacer is usually adhered to one substrate, but not adhered to the other substrate. For this reason, when an external pressure (external pressure) such as being pressed by a fingertip is applied to a part of the substrate surface, the area between the substrates to which the external pressure is applied becomes narrow, and the other area becomes wide. . With the change in the substrate interval, the interval between the electrodes formed on both substrates changes. Therefore, problems such as the occurrence of interference fringes, variations in color tone, variations in driving voltage characteristics, and variations in response speed of liquid crystal have occurred. In an extreme case, the substrates are brought into contact with each other due to the external pressure, and the alignment film is damaged, whereby the alignment of the liquid crystal is disturbed and the display quality is deteriorated.
[0006]
Therefore, studies have been made to improve the display quality by providing the columnar spacers with adhesiveness to both of the substrates and suppressing variations in the response speed of the liquid crystal. However, it has been difficult to achieve both precise control of the cell gap and high adhesiveness. For example, there is a method in which a spherical spacer that is not deformed by pressure or heat is contained in a columnar spacer, the strength of the columnar spacer is increased, the cell gap is precisely controlled, and high adhesiveness is realized (for example, Patent Document 1). . However, in this method, since the spherical spacers are dispersed in the resin for forming the columnar spacers, the following problems occur.
(1) Since there is a columnar spacer that does not contain a spherical spacer, the uniformity of the cell gap is inferior.
(2) If the content of the spherical spacer is increased to avoid the problem of (1), the spherical spacer acts as a filler and exerts an adverse effect, making it difficult to uniformly spin coat the columnar spacer forming material on the substrate. . For this reason, the applied thickness of the columnar spacer forming material becomes uneven, and as a result, the height of the columnar spacer becomes uneven.
(3) Spherical spacers having a uniform particle size are expensive. Moreover, since parts other than the columnar spacers are removed by patterning, most of the spherical spacers are discarded. For this reason, the manufacturing cost of the liquid crystal display device increases.
[0007]
As another method, Japanese Patent Application (Japanese Patent Application No. 2002-138627) filed by the present applicant proposes a technique for imparting adhesiveness to a spacer so that a cell gap does not vary with an external pressure.
[0008]
[Patent Document 1]
JP 2000-155321 A
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the above technique, the elasticity is low because the spacers are all formed of a relatively hard resin. For this reason, when a larger external pressure is applied to the substrate surface, the adhesion portion of the spacer is disengaged, the cell gap fluctuates, and the display is disturbed. Further, when an impact is applied to the liquid crystal display device due to a drop or the like, a problem arises in that a bonding portion of the spacer is removed and a cell gap is easily changed.
[0010]
As described above, conventional techniques for arranging and fixing spacers have not been sufficient to realize a liquid crystal display device that is strong against external pressure, has high impact resistance, and has good display characteristics.
Further, when the conventional spacers are used, it is difficult to apply the alignment film material solution in a state where the spacers are uniformly and densely arranged on the substrate. Further, the spacer may be peeled off during the rubbing treatment of the alignment film. For this reason, it was difficult to fix the spacer on the substrate while maintaining the display quality of the liquid crystal display device.
[0011]
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device having strength against external pressure and impact resistance and capable of obtaining good display characteristics, and a method for manufacturing the same.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
The object is to form a pair of substrates at least one of which is transparent, a liquid crystal sealed between the pair of substrates, and a columnar spacer formed of a rubber-based photoresist and maintaining a cell gap between the pair of substrates. This is achieved by a liquid crystal display device characterized by having.
[0013]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
A liquid crystal display device and a method of manufacturing the same according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 shows a schematic configuration of the liquid crystal display device according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device includes a TFT substrate 2 on which thin film transistors (TFTs), pixel electrodes, gate bus lines, drain bus lines, and the like are formed, a color filter, a common electrode, and the like. And a liquid crystal display panel in which liquid crystal (not shown in FIG. 1) is sealed therebetween.
[0014]
The TFT substrate 2 includes a gate bus line driving circuit 80 on which a driver IC for driving a plurality of gate bus lines is mounted and a drain bus line driving circuit 82 on which a driver IC for driving a plurality of drain bus lines is mounted. Is provided. Both drive circuits 80 and 82 output a scanning signal and a data signal to a predetermined gate bus line or a drain bus line based on a predetermined signal output from the control circuit 84. A polarizing plate 87 is attached to a surface of the TFT substrate 2 opposite to the element forming surface, and a backlight unit 88 is disposed on a surface of the polarizing plate 87 opposite to the TFT substrate 2. On the other hand, a polarizing plate 86 is attached to a surface of the opposite substrate 4 opposite to the surface on which the common electrode is formed.
[0015]
FIG. 2 shows a schematic sectional configuration of the liquid crystal display device according to the present embodiment. As shown in FIG. 2, the TFT substrate 2 and the opposing substrate 4 are bonded together via, for example, a thermosetting sealing material 12 applied to the outer peripheral portion. At least one of the substrates 2 and 4 is formed using a transparent substrate such as glass. Although not shown, a pixel electrode is formed for each pixel on the TFT substrate 2, and a common electrode is formed on almost the entire surface of the counter substrate 4. At least an electrode formed on a transparent substrate among the pixel electrode and the common electrode is formed of a transparent conductive film. On the opposing surfaces of the TFT substrate 2 and the opposing substrate 4, alignment films for regulating the alignment of the liquid crystal 6 are formed. The alignment film is formed of a resin such as polyimide, and has been subjected to a predetermined rubbing treatment.
[0016]
The cell gap between the two substrates 2 and 4 is maintained by a columnar spacer 20 formed on one of the substrates by using a photolithography method. The columnar spacer 20 is formed using, for example, a thermosetting rubber-based photoresist and has relatively high elasticity. The columnar spacer 20 is cured by being heated to a predetermined temperature after the substrates 2 and 4 are overlapped. The columnar spacers 20 have, for example, a cylindrical shape with a diameter of 10 μm, and are arranged in a matrix at intervals of 100 μm. Both bottom surfaces of the columnar spacer 20 are bonded surfaces bonded to the substrates 2 and 4, respectively. The columnar spacer 20 is adhered to both the substrates 2 and 4 to firmly connect the substrates 2 and 4, and also keeps the cell gap between the substrates 2 and 4 uniform and constant.
[0017]
Since the rubber-based photoresist can be patterned by a photolithography method, it is easy to form the columnar spacer 20 at a desired position. For this reason, the columnar spacer 20 can be arranged only in a region other than the pixel region of the liquid crystal display device and effective in maintaining a constant cell gap between the substrates 2 and 4. Further, the cell gap can be easily controlled by adjusting the thickness of the rubber-based photoresist film applied and formed on the entire surface of the substrate prior to patterning.
[0018]
The thermosetting sealing material 12 is applied to the outer peripheral portion of one of the substrates 2 and 4, and is heated to a predetermined temperature and cured after the substrates 2 and 4 are overlapped. The cured sealing material 12 has a sealing function of preventing the liquid crystal 6 from leaking. A resin material is usually used for the sealing material 12. If the curing temperature of the rubber-based photoresist forming the columnar spacer 20 is equal to or lower than the curing temperature of the sealing material 12, the columnar spacer 20 is cured first to set a predetermined cell gap, and the cell gap is maintained. The outer peripheral portion between the substrates 2 and 4 can be sealed. Therefore, if the curing temperature of the rubber-based photoresist is equal to or lower than the curing temperature of the sealing material 12, the bonding between the substrates 2, 4 by forming the columnar spacers 20 and the outer peripheral portions of the substrates 2, 4 due to the curing of the sealing material 12 Can be performed in the same step.
[0019]
In the heating step after the substrates 2 and 4 are overlapped as described above, it is important to heat the alignment film at a temperature lower than the temperature at which the rubbing effect of the alignment film is impaired. In general, the rubbing effect of the alignment film is impaired at a temperature higher than 150 ° C., so that heating to a temperature higher than 150 ° C. should be avoided. For this reason, the curing temperature of the rubber photoresist and the sealing material 12 is desirably 150 ° C. or lower. Generally, after the liquid crystal 6 is sealed between the substrates 2 and 4, the annealing temperature for reorienting the liquid crystal 6 is about 110 ° C. For this reason, the curing temperature of the rubber-based photoresist and the sealing material 12 is desirably 110 ° C. or higher so that the columnar spacer 20 and the sealing material 12 are not cured during the annealing process.
[0020]
In the present embodiment, a thermosetting resin is used as the sealant 12, but a photocurable resin can also be used. If a photocurable resin is used as the sealant 12, the space between the substrates 2 and 4 can be sealed at a lower temperature.
[0021]
The TFT substrate 2 and the opposing substrate 4 of the liquid crystal display device according to the present embodiment are aligned at predetermined positions facing each other in a state where the columnar spacers 20 are uncured (or semi-cured). Then, the columnar spacer 20 is adhered to both the substrates 2 and 4 by heating and curing the uncured columnar spacer 20, and the substrates 2 and 4 are joined. By pressing the substrates 2 and 4 after the columnar spacer 20 is cured to some extent, deformation of the columnar spacer 20 is suppressed, and a desired cell gap is obtained.
[0022]
The liquid crystal used in the liquid crystal display device according to the present embodiment is not particularly limited. For example, twisted nematic (TN) type liquid crystal, super twisted nematic (STN) type liquid crystal, vertically aligned (VA) type liquid crystal, nematic cholesteric phase transition type liquid crystal, polymer dispersed type liquid crystal, ferroelectric liquid crystal, antiferroelectricity Known liquid crystals such as a liquid crystal, a twist grain boundary liquid crystal, and a smectic A-phase liquid crystal exhibiting an electroclinical effect can be used.
[0023]
In this embodiment, the columnar spacer 20 has relatively high elasticity because it is formed of a rubber-based photoresist. The columnar spacer 20 is adhered to both the substrates 2 and 4. For this reason, even if a large external pressure is applied to a part of the substrate surface and the cell gap fluctuates, the columnar spacer 20 expands and contracts in accordance with the cell gap fluctuation, and the bonding portion of the columnar spacer 20 to the substrates 2 and 4 is reduced. It does not come off. Further, when the cell gap fluctuates and the columnar spacer 20 expands and contracts, a force is generated in the columnar spacer 20 in a direction for maintaining a predetermined cell gap by elasticity. Therefore, even if an external pressure is applied to a part of the substrate surface and the cell gap temporarily fluctuates, removing the external pressure recovers the cell gap and the cell gap does not fluctuate continuously. Therefore, a liquid crystal display device that is strong against external pressure and has good display characteristics can be obtained. Further, even if an impact is applied to the liquid crystal display device, the adhesion of the adhesion portion does not occur and the cell gap does not continuously change due to the elasticity of the columnar spacer 20. Therefore, a liquid crystal display device having high impact resistance can be obtained.
[0024]
Further, in the present embodiment, since the columnar spacers 20 are used instead of the spherical spacers scattered on the substrate, there is no problem that the spacers peel off during the rubbing treatment of the alignment film.
[0025]
Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the liquid crystal display according to the present embodiment. First, an alignment film is formed by applying polyimide or the like to each surface of the TFT substrate 2 and the counter substrate 4 that have been manufactured through predetermined processes. Next, as shown in FIG. 3A, for example, a negative rubber-based photoresist is applied to the entire surface of the counter substrate 4 by using, for example, a spin coating method, and a rubber-based photoresist film 30 having a thickness of 2 μm is formed. Form. Next, the rubber-based photoresist film 30 is pre-baked. Next, exposure is performed by an ultraviolet exposure apparatus using a negative type photomask in which a region for forming the columnar spacer 20 is opened. In this exposure step, the rubber-based photoresist film 31 in the area where the columnar spacer 20 is formed is exposed at a predetermined exposure amount.
[0026]
Next, the exposed rubber-based photoresist films 30 and 31 are developed to form uncured columnar spacers 21 as shown in FIG. The columnar spacers 21 have, for example, a cylindrical shape with a diameter of 10 μm, and are arranged in a matrix at intervals of 100 μm. Subsequently, the columnar spacer 21 is washed with pure water and dried. Subsequently, a rubbing process is performed on the alignment films on the substrates 2 and 4.
[0027]
Next, as shown in FIG. 3C, a thermosetting sealing material 12 is applied to the outer peripheral portion of the counter substrate 4, for example, except for a portion serving as a liquid crystal injection port. Next, the two substrates 2 and 4 are superposed to produce a superposed substrate. Next, the superposed substrate is loaded into a heat treatment apparatus, and is heated under pressure at a curing temperature of the uncured columnar spacer 21 and the sealing material 12 (for example, 110 ° C. to 150 ° C.). Here, by deforming the columnar spacer 21 to some extent by heating and then pressing the superposed substrate, deformation of the uncured columnar spacer 21 is suppressed, and a desired cell gap is obtained. The columnar spacer 21 is cured in a state where pressure is applied from both substrates 2 and 4, and becomes the columnar spacer 20 adhered to both substrates 2 and 4. At the same time, the sealing material 12 is cured, and the outer peripheral portions of the substrates 2 and 4 are sealed. At this time, the columnar spacers 21 are hardened almost simultaneously with the sealing material 12 or earlier than the sealing material 12. The two substrates 2 and 4 are firmly connected by the columnar spacer 20 and the sealing material 12. Thereafter, the liquid crystal 6 is injected between the two substrates 2 and 4 from the liquid crystal injection port, and the liquid crystal injection port is sealed with a sealing material. Through the above steps, the liquid crystal display device shown in FIG. 2 is completed.
[0028]
As a method of injecting the liquid crystal between the substrates 2 and 4, a vacuum injection method of filling and enclosing the liquid crystal using a vacuum between the substrates 2 and 4, which are previously opposed and bonded as described above, and a method of injecting the opposing substrate 4 ( Alternatively, a typical example is a drop injection method in which liquid crystal is dropped on the TFT substrate 2), and the TFT substrate 2 (or the counter substrate 4) is stacked and bonded. This embodiment is applicable to any liquid crystal injection method. In the case of the drop-injection method, for example, an uncured columnar spacer 20 is formed on the opposing substrate 4, a sealing material 12 is applied and formed on the outer periphery of the opposing substrate 4 or the TFT substrate 2, and after the liquid crystal 6 is dropped, the two substrates are dropped. 2 and 4 are superposed to produce a superposed substrate filled with liquid crystal 6. Thereafter, the superposed substrate is heated under pressure. Thereby, the sealing material 12 is cured and the uncured columnar spacers 20 are cured, and the columnar spacers 20 adhered to both the substrates 2 and 4 are obtained.
[0029]
Further, the present embodiment is applicable to other liquid crystal injection methods. For example, the liquid crystal 6 is adhered to the counter substrate 4 (or the TFT substrate 2) on which the sealing material 12 is not formed at all in the outer peripheral portion. Next, the substrates 2 and 4 are overlapped with each other, and the liquid crystal 6 is filled between the substrates 2 and 4 to form an overlapped substrate. Thereafter, the outer peripheral portion of the superposed substrate is sealed with a sealing material. Alternatively, the sealing material 12 is formed only in a limited part of the limited area, and the sealing material 12 is formed on the counter substrate 4 (or the TFT substrate 2) on which the sealing material 12 is not substantially formed. The liquid crystal 6 is adhered to the region where there is no liquid crystal. Next, the substrates 2 and 4 are overlapped with each other, and the liquid crystal 6 is filled between the substrates 2 and 4 to form an overlapped substrate. Thereafter, a region of the outer peripheral portion of the superposed substrate where the sealant 12 is not formed is sealed with the sealant. If these liquid crystal injection methods are used, the liquid crystal 6 can be efficiently injected between the substrates 2 and 4. Therefore, the throughput in the manufacturing process of the liquid crystal display device can be improved, the manufacturing cost can be reduced, and the manufacturing yield can be improved.
[0030]
When the above-described liquid crystal injection method is used, the liquid crystal 6 may be filled between the substrates 2 and 4 using, for example, a pressure difference or a temperature difference before and after the liquid crystal 6 is attached to the counter substrate 4 or both. . Thereby, the liquid crystal 6 can be filled between the substrates 2 and 4 in a shorter time. Further, for example, when attaching the liquid crystal 6 to the counter substrate 4, the liquid crystal 6 may be dropped using a dispenser. The use of the dispenser makes it possible to apply the liquid crystal 6 quantitatively and easily.
[0031]
In the present embodiment, the rubber-based photoresist that is the material for forming the columnar spacer 20 does not contain a spherical spacer. For this reason, uniform spin coating of the rubber-based photoresist on the substrate becomes possible, and the columnar spacer 20 having a uniform height can be formed. Therefore, a uniform cell gap can be obtained over the entire display area. In the present embodiment, the columnar spacer 20 (21) is formed by patterning the rubber-based photoresist film 30 formed by applying a rubber-based photoresist. Therefore, the columnar spacer 20 can be formed at a desired position by an easy process. Furthermore, in the present embodiment, since the columnar spacers 20 (21) are formed on the alignment film, there is no problem with the application of the alignment film material solution in a state where the spacers are arranged on the substrate.
[0032]
In the present embodiment, a negative rubber photoresist is used as a material for forming the columnar spacer 20, but a positive rubber photoresist can also be used. In general, higher adhesiveness can be obtained by using a positive type rubber-based photoresist. However, if a negative type rubber-based photoresist is used, the hardness of the uncured columnar spacer 21 can be controlled by the exposure amount.
[0033]
Hereinafter, the liquid crystal display device according to the present embodiment and the method of manufacturing the same will be described using specific examples and comparative examples.
(Example 1)
First, a liquid crystal display device according to Example 1 of the present embodiment and a method for manufacturing the same will be described. Based on the method for manufacturing the liquid crystal display device according to the present embodiment described above, the liquid crystal display device according to the present example was manufactured as follows. On a pair of glass substrates of 200 mm × 100 mm × 1.1 mm each having a transparent electrode made of ITO (Indium Tin Oxide) formed on one surface, a 3 wt% concentration polyimide solution is applied by a spin coater at a rotation speed of 2000 rpm. Next, the glass substrate is baked at 200 ° C. for 30 minutes to form an alignment film.
[0034]
For example, a negative type rubber-based photoresist (for example, OMR85, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is applied on the alignment film of one glass substrate (opposing substrate 4) by a spin coating method, and a 2 μm-thick rubber-based photoresist film is applied. Form 30. Next, the rubber-based photoresist film 30 is pre-baked at 80 ° C. for 15 minutes using a hot plate. Next, the integrated irradiation amount was 100 mJ / cm by an ultraviolet exposure device. 2 Exposes the rubber-based photoresist film 30. Next, the exposed rubber-based photoresist film 30 is developed to form an uncured columnar spacer 21. The columnar spacers 21 have a cylindrical shape with a diameter of 10 μm, and are arranged in a matrix at intervals of 100 μm. Next, the columnar spacer 21 is washed with pure water and dried. Subsequently, a rubbing process is performed on the alignment films on the substrates 2 and 4.
[0035]
Next, an epoxy resin that cures at 150 ° C. for one hour is adhered to the outer peripheral portion of the opposite substrate 4 except for the portion serving as the liquid crystal injection port by a printing method, thereby forming the sealant 12. Next, the two substrates 2 and 4 are overlapped so that the transparent electrodes face each other, thereby producing an overlapped substrate. Next, the overlapped substrate is placed in a vacuum bag and heated at 150 ° C. for 1 hour to cure the sealing material 12 and to cure the uncured columnar spacer 21, thereby bonding the columnar spacer adhered to both the substrates 2 and 4. 20 are formed. Thereby, a bonded substrate is manufactured. Next, a ferroelectric liquid crystal is injected from the liquid crystal injection port using a vacuum injection method, and the liquid crystal injection port is sealed. Through the above steps, a liquid crystal display device was obtained.
[0036]
This liquid crystal display device was placed under crossed Nicols, and the center of the display was pressed with a load of 300 g using a pen tip having a tip diameter of 0.8 mm. While the display color changed around the pen tip while the load was applied, the display returned to good when the load was removed. This indicates that the liquid crystal display device has stress resistance against an external pressure that reduces the thickness of the liquid crystal layer. In addition, a center portion of the liquid crystal display device was supported, and a load of 500 g was applied to both ends. Although a change in display color was observed on the display screen while the load was being applied, the display returned to good display over the entire display screen when the load was removed. Further, when a predetermined impact was applied to the liquid crystal display device, no change in display quality was observed. This indicated that the liquid crystal display device had impact resistance.
[0037]
(Comparative Example 1)
Here, in order to compare with the liquid crystal display device according to the first embodiment, the size and shape of the glass substrate, the conditions of the alignment film, the liquid crystal material, and the like are the same as those in the first embodiment, and the negative type rubber for forming the columnar spacer 20 is used. The exposure time of the system photoresist film 31 is changed to five times the exposure time of the first embodiment. Thereby, the strength of the uncured columnar spacer 21 when the substrates 2 and 4 are overlapped increases.
[0038]
As in the first embodiment, a rubber-based photoresist film 30 having a thickness of 2 μm is formed on the alignment film of the counter substrate 4. Next, the rubber-based photoresist film 30 is pre-baked at 80 ° C. for 15 minutes using a hot plate. Next, the integrated irradiation amount was 500 mJ / cm by an ultraviolet exposure device. 2 Exposes the rubber-based photoresist film 30. Next, the exposed rubber-based photoresist film 30 is developed to form an uncured columnar spacer 21. Thereafter, a liquid crystal display device was manufactured in the same steps as in Example 1.
[0039]
This liquid crystal display device was placed under crossed Nicols, and the center of the display was pressed with a load of 300 g using a pen tip having a tip diameter of 0.8 mm. While the load was applied, a change in display color was observed around the pen tip. Even when the load was removed, the display did not return to a good level. This indicates that this liquid crystal display device is inferior in stress resistance to external pressure in the direction of reducing the thickness of the liquid crystal layer. In addition, a center portion of the liquid crystal display device was supported, and a load of 500 g was applied to both ends. While the load was applied, the display color changed over the entire screen. Even when the load was removed, the display did not return to a good level. This is because the columnar spacer 20, which has already been cured before the substrates 2 and 4 are superposed, is not sufficiently adhered to the TFT substrate 2 side. That's because Further, it was found that this liquid crystal display device was inferior to the liquid crystal display device of Example 1 in impact resistance.
[0040]
As described above, the liquid crystal display device of the present modification is inferior in strength against external pressure, impact resistance, and display characteristics to those of the liquid crystal display device of the first embodiment. This is because the columnar spacer 21 and the TFT substrate 2 are not adhered to each other even if the substrates 2 and 4 are heated after the substrates 2 and 4 are overlapped, because the columnar spacer 21 is hardened due to the long exposure time and the strength is increased. It is thought that it was enough.
[0041]
(Comparative Example 2)
As in Example 1, except that a negative resist that cures at 190 ° C. for 1 hour was used as a material for forming the columnar spacer 20 and the substrates 2 and 4 were superposed and heated and cured at 190 ° C. for 1 hour. A liquid crystal display device was manufactured. As a result, the alignment film was damaged by heat, and the alignment control force for the liquid crystal was reduced, and the display quality of the liquid crystal display device was reduced.
[0042]
(Comparative Example 3)
A liquid crystal display was formed in the same manner as in Example 1, except that a negative resist that cured at 150 ° C. for 1 hour was used as a material for forming the columnar spacer 20 and an epoxy resin that cured at 140 ° C. for 1 hour was used as the sealing material 12. The device was made. As a result, the columnar spacer 20 was hardened after the sealing material 12 on the outer peripheral portion of the liquid crystal display panel was hardened, so that the central portion of the display area swelled, the cell gap became nonuniform, and the display quality of the liquid crystal display device deteriorated.
[0043]
(Comparative Example 4)
A negative resist that cures at 100 ° C. for one hour is used as a material for forming the columnar spacer 20, and an epoxy resin that cures at 100 ° C. for one hour is used as the sealant 12. Further, the columnar spacer 20 and the sealing material 12 are cured at 100 ° C. by using a drop injection method in which the liquid crystal is dropped on one of the substrates while heating, and then the substrates are overlapped. Except for the above, a liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1. As a result, the curing temperature of the negative resist and the sealing material 12 is low, so that when the liquid crystal is filled in a heated state (100 ° C.), the curing of the columnar spacer 20 starts. For this reason, the adhesion between the columnar spacer 20 and the TFT substrate 2 could not be obtained, and the display quality of the liquid crystal display device deteriorated.
[0044]
(Comparative Example 5)
A negative resist that cures at 160 ° C. for 1 hour is used as a material for forming the columnar spacer 20, and an epoxy resin that cures at 160 ° C. for 1 hour is used as the sealing material 12, and the columnar spacer 20 and the sealing material 12 are cured at 160 ° C. A liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the operation was performed. As a result, the alignment film was damaged by heat, and the alignment control force for the liquid crystal was reduced, and the display quality of the liquid crystal display device was reduced.
[0045]
(Example 2)
Next, a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present embodiment and a method for manufacturing the same will be described. A liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the liquid crystal was injected by the drop injection method. First, a sealing material 12 is applied to the outer peripheral portion of one glass substrate (opposite substrate 4). Next, an uncured columnar spacer 21 is formed on the counter substrate 4, for example. Next, for example, liquid crystal is dropped on the counter substrate 4 using a dispenser. Next, the substrates 2 and 4 are overlapped under vacuum so that the transparent electrodes face each other, and heated at 150 ° C. for 1 hour to cure the sealing material 12 and the columnar spacer 21. Through the above steps, a liquid crystal display device is completed. This liquid crystal display device exhibited stress resistance to external pressure, impact resistance, and good display characteristics, as in Example 1.
[0046]
The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications are possible.
For example, in the above embodiment, the columnar spacers 20 are formed on the counter substrate 4, but the present invention is not limited to this, and the columnar spacers 20 may be formed on the TFT substrate 2.
[0047]
In the above embodiment, a transmissive liquid crystal display device is described as an example. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to other liquid crystal display devices such as a reflective liquid crystal display device and a transflective liquid crystal display device.
[0048]
The liquid crystal display device and the method of manufacturing the same according to the above-described embodiments are summarized as follows.
(Appendix 1)
A pair of substrates at least one of which is transparent,
Liquid crystal sealed between the pair of substrates,
A columnar spacer formed of a rubber-based photoresist and maintaining a cell gap between the pair of substrates;
A liquid crystal display device comprising:
[0049]
(Appendix 2)
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein
The rubber type photoresist is a negative type
A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
[0050]
(Appendix 3)
The liquid crystal display device according to claim 1 or 2,
The rubber-based photoresist has a resist curing temperature lower than a temperature at which a rubbing effect of an alignment film formed on the facing surfaces of the pair of substrates is impaired.
A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
[0051]
(Appendix 4)
The liquid crystal display device according to claim 3, wherein
The resist curing temperature is equal to or higher than the temperature of an annealing process for reorienting the liquid crystal.
A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
[0052]
(Appendix 5)
The liquid crystal display device according to attachment 3 or 4,
The resist curing temperature is 110 ° C. or more and 150 ° C. or less
A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
[0053]
(Appendix 6)
6. The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 1 to 5, wherein
A sealing material formed on the outer peripheral portions of the pair of substrates and sealing the liquid crystal by curing at a predetermined sealing material curing temperature,
The sealing material curing temperature is lower than a temperature at which the rubbing effect of the alignment film formed on the facing surfaces of the pair of substrates is impaired.
A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
[0054]
(Appendix 7)
The liquid crystal display device according to attachment 6, wherein
The sealing material curing temperature is equal to or higher than an annealing temperature for reorienting the liquid crystal.
A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
[0055]
(Appendix 8)
6. The liquid crystal display device according to claim 6, wherein
The sealing material curing temperature is 110 ° C. or more and 150 ° C. or less.
A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
[0056]
(Appendix 9)
9. The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 6 to 8, wherein
The resist curing temperature is equal to or lower than the sealing material curing temperature.
A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
[0057]
(Appendix 10)
10. The liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 1 to 9,
The columnar spacer has a first adhesive surface adhered to one of the pair of substrates and a second adhesive surface adhered to the other of the pair of substrates.
A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
[0058]
(Appendix 11)
A first step of forming an uncured columnar spacer made of a rubber-based photoresist on one of the substrates;
A second step of superimposing the one substrate and the other substrate to produce a superimposed substrate;
Curing the uncured columnar spacers to form columnar spacers, and bonding the one substrate and the other substrate to form a bonded substrate;
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
[0059]
(Appendix 12)
The method for manufacturing a liquid crystal display device according to supplementary note 11, wherein
The first step includes a step of applying a rubber-based photoresist on the one substrate to form a resist film, and a step of patterning the resist film.
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
[0060]
(Appendix 13)
In the method for manufacturing a liquid crystal display device according to Supplementary Note 11 or 12,
In the third step, the columnar spacer is bonded to the other substrate.
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
[0061]
(Appendix 14)
14. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 11 to 13, wherein the third step includes heating and curing the uncured columnar spacer at a predetermined heating temperature.
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
[0062]
(Appendix 15)
The method for manufacturing a liquid crystal display device according to supplementary note 14, wherein
Before the second step, further comprising a step of applying a thermosetting sealing material to the outer periphery of the one substrate or the other substrate,
The third step includes a step of heating and curing the sealing material at the heating temperature.
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
[0063]
(Appendix 16)
The method for manufacturing a liquid crystal display device according to supplementary note 15, wherein
In the third step, the uncured columnar spacer is cured almost simultaneously with the sealing material or earlier than the sealing material.
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
[0064]
(Appendix 17)
17. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 14 to 16, wherein the heating temperature is lower than a temperature at which a rubbing effect of an alignment film formed on a facing surface of the superposed substrate is impaired.
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
[0065]
(Appendix 18)
18. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to any one of supplementary notes 14 to 17, wherein
The heating temperature is 110 ° C or higher and 150 ° C or lower.
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
[0066]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to realize a liquid crystal display device having strength against external pressure and impact resistance, and having good display characteristics.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the liquid crystal display according to the embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
2 TFT substrate
4 Counter substrate
12 Sealing material
20 pillar spacer
21 Uncured columnar spacer
30, 31 Rubber-based photoresist film
80 Gate bus line drive circuit
82 Drain bus line drive circuit
84 control circuit
86, 87 Polarizing plate
88 backlight unit

Claims (5)

少なくとも一方が透明な一対の基板と、
前記一対の基板間に封止された液晶と、
ゴム系フォトレジストで形成され、前記一対の基板間のセルギャップを維持する柱状スペーサと
を有することを特徴とする液晶表示装置。
A pair of substrates at least one of which is transparent,
Liquid crystal sealed between the pair of substrates,
A liquid crystal display device comprising a columnar spacer formed of a rubber-based photoresist and maintaining a cell gap between the pair of substrates.
請求項1記載の液晶表示装置において、
前記ゴム系フォトレジストはネガ型であること
を特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1,
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the rubber photoresist is a negative type.
請求項1又は2に記載の液晶表示装置において、
前記ゴム系フォトレジストは、前記一対の基板の対向面に形成される配向膜のラビング効果が損なわれる温度より低いレジスト硬化温度を有すること
を特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein
The liquid crystal display device, wherein the rubber-based photoresist has a resist curing temperature lower than a temperature at which a rubbing effect of an alignment film formed on the facing surfaces of the pair of substrates is impaired.
請求項3記載の液晶表示装置において、
前記レジスト硬化温度は、前記液晶を再配向させるアニール処理の温度以上であること
を特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 3,
The liquid crystal display device, wherein the resist curing temperature is equal to or higher than an annealing temperature for reorienting the liquid crystal.
ゴム系フォトレジストからなる未硬化柱状スペーサを一方の基板上に形成する第1の工程と、
前記一方の基板と他方の基板とを重ね合わせ、重ね合わせ基板を作製する第2の工程と、
前記未硬化柱状スペーサを硬化させて柱状スペーサを形成するとともに、前記一方の基板と前記他方の基板とを貼り合わせ、貼り合わせ基板を作製する第3の工程と
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
A first step of forming an uncured columnar spacer made of a rubber-based photoresist on one of the substrates;
A second step of superimposing the one substrate and the other substrate to produce a superimposed substrate;
A liquid crystal display comprising: a step of curing the uncured columnar spacer to form a columnar spacer, and bonding the one substrate and the other substrate to produce a bonded substrate. Device manufacturing method.
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