JP2004233836A - Structure of liquid crystal display and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for decreasing contamination of a liquid crystal in a liquid crystal display manufactured by liquid crystal dropping (one-drop-fill (ODF)) techniques and for improving the quality and yield of the liquid crystal display. <P>SOLUTION: In a first step, a first substrate 110 having a conductive pattern layer 120 comprising peripheral circuits is supplied. The conductive pattern layer 120 is made of an indium tin oxide material. In a second step, a second substrate 150 having a black matrix layer 140 which prevents leaking of light from the liquid crystal display is supplied. A UV-curing seal 130 is applied on the first substrate 110. A liquid crystal material is dropped onto the first substrate 110. The first substrate 110 and the second substrate 150 are adhered in a vacuum chamber. The seal 130 is exposed to UV rays through the first substrate 110 to be preliminarily cured for a specified period. At last, the seal 130 is heated in a heating chamber. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ディスプレーおよび液晶ディスプレーの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
最近、液晶ディスプレー(LCD)は光学技術と半導体技術の急速な進歩により電気製品に広く応用されてきている。さらに高画質、コンパクトなサイズ、軽量、低駆動電圧、および低消費電力の利点によりLCDは携帯型コンピュータ、携帯情報端末、カラーテレビに導入され、従来のディスプレーに用いられる陰極線管(CRT)と徐々に置き換わりつつある。LCDは主流のディスプレー装置になりつつある。
【0003】
LCDの主要部は二つの平行な透明基板とそれにシールされたLCから成る液晶(LC)ユニットである。LCDの主流は薄膜トランジスタ(TFT)LCDである。TFT−LCDの製作工程は以下の四つの部分に分けられる。即ち、TFTアレー工程、カラーフィルタ(CF)工程、LCセル組立工程、および液晶モジュール(LCM)工程である。
【0004】
TFTアレー工程はTFT基板を製作するのに用いられる。各TFTはそれぞれ一つの画素電極にアライメントされる。CF工程はカラーフィルタ基板を製作するのに用いられる。異なるカラーフィルタシートから成るカラーフィルタ層はカラーフィルタ基板の上に着いており、ブラックマトリックス層が各カラーフィルタシートを囲んでいる。
【0005】
LCセル組立工程はTFT基板とCF基板を並行に組立てるのに用いられ、それらの間に並べられたビーズスペーサがTFT基板とCF基板の間の不変の距離、即ちセルギャップを維持する。LCがセルギャップに注入され、注入口がシールされる。基本的に各画素電極はそれぞれ一つのカラーフィルタシートに対応し、ブラックマトリックス層はTFTと、異なるTFTを接続する金属線とを覆う。
【0006】
LCM工程は、パネルにポラライザを取り付け、ドライバーICとパネル回路を電気的に接続するのに用いられる。その後、リフレクタとバックライトがパネルに組付けられる。バーンインステップ後、LCM工程は終了する。
【0007】
一般的にTFTにより制御される液晶分子軸の方向は各画素が光を透過するかどうかを決定する。各画素の色はカラーフィルタシートの色により決定される。例えば、光が赤いカラーフィルタシートを通過するときは赤いスポットがパネルに表示される。赤、緑、および青を混合してフルカラー画像を表示出来る。
【0008】
画素電極とカラーフィルタシートの間にある液晶分子の分子軸は正確に制御しなければならないのでカラーフィルタとTFT基板は正確にアライメントされなければならない。アライメントの許容誤差はわずか数マイクロメータ以内である。
【0009】
従来のLC注入はTFT−LCD製作工程においては複雑な手順である。液晶滴下法(ODF)は製作工程を単純化する。ODF工程では紫外(UV)型シールが歩留まり率を改善するのに用いられる。しかし実際の製作工程ではUV型シールにより多くのLCDパネルが汚染される。TFT−LCDの歩留まりと品質は低下する。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
液晶滴下(ODF)技術により製造される液晶ディスプレーにおける液晶の汚染を低減する方法と構造を提供することが本発明の目的である。
紫外線硬化型のシール予備硬化条件を改善して汚染問題を低減する方法と構造を提供することが本発明のもう一つの目的である。
液晶の汚染問題を改善して液晶ディスプレーの品質と歩留まりを向上することが本発明のさらにもう一つの目的である。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明は液晶滴下技術を用いて液晶ディスプレーを製作する方法を提供する。この方法は以下のステップを含む。第1に、周辺回路により形成される導電パターン層を有する第1の基板が供給される。導電パターン層は酸化インジウム錫材料で出来ている。第2に、液晶ディスプレーの光漏れを避けるためのブラックマトリックス層を有する第2の基板が供給される。そうして紫外線硬化型シールが第1の基板に並べられる。液晶材料が第1の基板に滴下される。第1の基板と第2の基板は真空チャンバ内で一緒に接着される。シールは所定の間シールを予備硬化するために第1の基板からの紫外線に曝される。最後にシールが加熱チャンバ内で加熱される。
【0012】
第1の基板は薄膜トランジスタのガラス基板であり、第2の基板はカラーフィルタのガラス基板である。周辺回路は液晶ディスプレーの非表示領域に配置された周辺駆動回路である。
紫外線硬化型シールは第1の基板ではなく第2の基板に並べられてもよい。液晶材料は第1の基板ではなく第2の基板に滴下されてもよい。
【0013】
もう一つの態様において、本発明は液晶滴下技術により製造される液晶ディスプレーの構造を提供する。この構造は第1の基板、導電パターン層、第2の基板、ブラックマトリックス層、液晶層、および紫外線硬化型シールを備える。導電パターン層は第1の基板に形成される。導電パターン層は酸化インジウム錫(ITO)材料で作られた周辺回路を含む。ブラックマトリックス層は第2の基板に形成されて液晶ディスプレーからの光漏れを避ける。紫外線硬化型シールは第1の基板を第2の基板に接着して液晶を蓄えるための導電パターン層とブラックマトリックス層との間のチャンバを形成する。紫外線硬化型シールは所定の間、導電パターン層を介して第1の基板からの紫外線により予備硬化され、次に加熱チャンバ内で加熱されて完全に硬化される。
【0014】
以上の態様と本発明に付帯する多くの利点は、下記の添付図と関連して考慮すれば、以下の詳細な説明を参照することでよりよく理解され、それらはより容易に認識される。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下の説明は本発明を実行する現在最もよく考えられた形態についてのものである。この説明は限定的意味で捉えられるべきではなく、単に本発明の一般的な原理を説明するためになされる。本発明の範囲は添付された特許請求の範囲を参照することにより決定されるべきである。
【0016】
図1は本発明の一実施例によるTFT−LCDのシールされた個所の詳細な断面図を示す。図面が示すようにTFT−LCDは第1の基板110と第2の基板150を有し、その両方は透明なガラス材料である。従来、導電パターン層120はブラックマトリックス層140の後ろに隠されている。導電パターン層120はTFT−LCDの周辺駆動回路を含む。周辺駆動回路は銅、アルミニウム、またはクロムで出来た金属層により形成され、非表示領域に配置される。
【0017】
本実施例によるTFT−LCDはODF工程を利用してLCDにLCを充填する。紫外線硬化型シール130は紫外線により容易に予備硬化される。
導電パターン層120はTFTの基板である第1の基板110に形成され、ブラックマトリックス層はカラーフィルタの基板である第2の基板150に形成される。シールは基板の周辺に並べられ、その後に液晶160はODF工程により基板の中心に滴下される。最後に二つの基板が真空チャンバ内で圧力でシールされる。シールは約30秒間紫外線に曝されてシール面を予備硬化し、その後にシールは加熱チャンバ内で完全に硬化される。液晶が滴下され、ODF工程中に第1の基板110または第2の基板150の一方にシールが並べられる。シールと液晶はどのような順序で着けてもよく、あるいは同時に着けてもよい。重要なことは接着ステップの後に二つの基板が真空チャンバに送られて、その中で内部の空気が排気されることである。次にシールは約30秒間紫外線に曝され、その後に完全に硬化するために約60分間加熱される。
【0018】
バックライトまたは定位誤差により生じる光漏れを避けるために、LCDの周辺がブラックマトリックス層140で覆われる。従って、ブラックマトリックス層140は紫外線を通さないので第2の基板150からの紫外線で紫外線硬化型シールが予備硬化されることはない。特にブラックマトリックスは、17インチより小さいTFT−LCDにおいては非常に薄く、また非常に狭い。シールを紫外線に曝す唯一の方法は第1の基板110からである。導電パターン層220と、アルミニウム、銅、またはクロムで出来た金属回路を有する従来の第1の基板、即ちTFT基板は完全に透明ではない。従って導電パターン層はメッシュ層を形成する。
【0019】
図2は本実施例によるTFT−LCDのシールされた個所の正面図である。導電パターン層220は透明な正方形で形成される。シール230はこの領域内に並べられる。ブラックマトリックス層240はシール230と導電パターン層220の下にあり、シール230を完全に覆う。液晶260は図面の左側に配置される。
【0020】
予備硬化ステップを改善するためにシールは紫外線に完全に曝されなければならない。即ち、導電パターン層220は完全に透明でなければならない。本発明による導電パターン層は酸化インジウム錫(ITO)材料のような透明材料で出来ている。従来技術においては導電パターン層が部分透明に過ぎなかったために紫外線は一部透過出来るに過ぎない。従って紫外線がシールに到達出来ない部分は予備硬化しない。従ってシール面は濡れている。真空チャンバにおいて、基板に圧力がかかると液晶はシールに接触し、濡れたシールは液晶を汚染する。
【0021】
本実施例ではITO材料を用いて完全に透明な層である導電パターン層を形成する。シールは紫外線により完全に予備硬化出来る。濡れたシールにより生じる汚染は避けることが出来る。LCDの品質と歩留まりは向上し、欠陥率が減少する。
【0022】
当業者には言うまでもないが、本発明の以上の好ましい実施例は本発明を限定するものではなく本発明を例証するものである。添付の特許請求の範囲の精神と範囲内に種々の変形と類似の配置を含むつもりであり、その範囲にはそのような変形と類似の構造の全てを包含するように最も広い解釈が与えられるべきである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による液晶ディスプレーであって、シールされた個所を示す詳細な断面図である。
【図2】本発明の一実施例による液晶ディスプレーであって、シールされた個所の正面を示す図である。
【符号の説明】
110 第1の基板
120 導電パターン層
130 紫外線硬化型シール
140 ブラックマトリックス層
150 第2の基板
160 液晶
220 導電パターン層
230 紫外線硬化型シール
240 ブラックマトリックス層
260 液晶
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a liquid crystal display and a method for manufacturing a liquid crystal display.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Recently, liquid crystal displays (LCDs) have been widely applied to electric appliances due to rapid progress of optical technology and semiconductor technology. In addition, LCDs have been introduced in portable computers, personal digital assistants, and color televisions due to the advantages of high image quality, compact size, light weight, low driving voltage, and low power consumption. Is being replaced. LCDs are becoming the mainstream display devices.
[0003]
The main part of an LCD is a liquid crystal (LC) unit consisting of two parallel transparent substrates and an LC sealed to it. The mainstream of LCDs is thin film transistor (TFT) LCDs. The manufacturing process of the TFT-LCD is divided into the following four parts. That is, a TFT array process, a color filter (CF) process, an LC cell assembling process, and a liquid crystal module (LCM) process.
[0004]
The TFT array process is used to fabricate a TFT substrate. Each TFT is aligned with one pixel electrode. The CF process is used to manufacture a color filter substrate. Color filter layers comprising different color filter sheets are on the color filter substrate, and a black matrix layer surrounds each color filter sheet.
[0005]
The LC cell assembling process is used to assemble the TFT substrate and the CF substrate in parallel, and the bead spacers arranged therebetween maintain a constant distance between the TFT substrate and the CF substrate, that is, a cell gap. LC is injected into the cell gap and the inlet is sealed. Basically, each pixel electrode corresponds to one color filter sheet, and the black matrix layer covers a TFT and a metal line connecting different TFTs.
[0006]
The LCM process is used to attach a polarizer to a panel and electrically connect a driver IC to a panel circuit. Thereafter, the reflector and the backlight are assembled on the panel. After the burn-in step, the LCM process ends.
[0007]
Generally, the direction of the liquid crystal molecular axis controlled by the TFT determines whether or not each pixel transmits light. The color of each pixel is determined by the color of the color filter sheet. For example, when light passes through a red color filter sheet, a red spot is displayed on the panel. A full-color image can be displayed by mixing red, green, and blue.
[0008]
Since the molecular axis of the liquid crystal molecules between the pixel electrode and the color filter sheet must be accurately controlled, the color filter and the TFT substrate must be accurately aligned. The alignment tolerance is only within a few micrometers.
[0009]
Conventional LC injection is a complicated procedure in the TFT-LCD fabrication process. Liquid crystal dropping (ODF) simplifies the fabrication process. In the ODF process, an ultraviolet (UV) type seal is used to improve the yield. However, in the actual manufacturing process, many LCD panels are contaminated by the UV-type seal. The yield and quality of the TFT-LCD are reduced.
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
It is an object of the present invention to provide a method and structure for reducing liquid crystal contamination in liquid crystal displays manufactured by liquid crystal dropping (ODF) technology.
It is another object of the present invention to provide a method and structure for improving the UV curing seal pre-curing conditions to reduce contamination problems.
It is still another object of the present invention to improve the quality and yield of liquid crystal displays by improving the problem of liquid crystal contamination.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
To achieve the above object, the present invention provides a method for manufacturing a liquid crystal display using a liquid crystal dropping technique. The method includes the following steps. First, a first substrate having a conductive pattern layer formed by a peripheral circuit is provided. The conductive pattern layer is made of an indium tin oxide material. Second, a second substrate is provided having a black matrix layer to avoid light leakage of the liquid crystal display. The UV-curable seal is then arranged on the first substrate. A liquid crystal material is dropped on the first substrate. The first substrate and the second substrate are bonded together in a vacuum chamber. The seal is exposed to ultraviolet light from the first substrate to pre-cure the seal for a predetermined time. Finally, the seal is heated in the heating chamber.
[0012]
The first substrate is a thin film transistor glass substrate, and the second substrate is a color filter glass substrate. The peripheral circuit is a peripheral drive circuit arranged in a non-display area of the liquid crystal display.
The UV-curable seal may be arranged on the second substrate instead of the first substrate. The liquid crystal material may be dropped on the second substrate instead of the first substrate.
[0013]
In another embodiment, the present invention provides a structure of a liquid crystal display manufactured by a liquid crystal dropping technique. The structure includes a first substrate, a conductive pattern layer, a second substrate, a black matrix layer, a liquid crystal layer, and a UV-curable seal. The conductive pattern layer is formed on the first substrate. The conductive pattern layer includes a peripheral circuit made of indium tin oxide (ITO) material. The black matrix layer is formed on the second substrate to prevent light leakage from the liquid crystal display. The UV-curable seal forms a chamber between a conductive pattern layer for storing liquid crystal by bonding a first substrate to a second substrate and a black matrix layer. The UV-curable seal is pre-cured by ultraviolet light from the first substrate via the conductive pattern layer for a predetermined period, and then heated in a heating chamber to be completely cured.
[0014]
The above aspects and many of the advantages associated with the present invention will be better understood and more readily appreciated by reference to the following detailed description when considered in conjunction with the accompanying drawings.
[0015]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
The following description is of the presently contemplated mode of carrying out the invention. This description is not to be taken in a limiting sense, but merely to illustrate the general principles of the invention. The scope of the invention should be determined by reference to the appended claims.
[0016]
FIG. 1 shows a detailed sectional view of a sealed portion of a TFT-LCD according to one embodiment of the present invention. As shown in the drawing, the TFT-LCD has a first substrate 110 and a second substrate 150, both of which are transparent glass materials. Conventionally, the conductive pattern layer 120 is hidden behind the black matrix layer 140. The conductive pattern layer 120 includes a peripheral driving circuit of the TFT-LCD. The peripheral driving circuit is formed by a metal layer made of copper, aluminum, or chromium, and is disposed in a non-display area.
[0017]
In the TFT-LCD according to the present embodiment, the LCD is filled with LC using an ODF process. The ultraviolet-curable seal 130 is easily pre-cured by ultraviolet rays.
The conductive pattern layer 120 is formed on a first substrate 110 that is a TFT substrate, and the black matrix layer is formed on a second substrate 150 that is a color filter substrate. The seal is arranged around the periphery of the substrate, and then the liquid crystal 160 is dropped at the center of the substrate by an ODF process. Finally, the two substrates are pressure sealed in a vacuum chamber. The seal is exposed to ultraviolet light for about 30 seconds to pre-cure the seal surface, after which the seal is completely cured in the heating chamber. Liquid crystal is dropped, and a seal is arranged on one of the first substrate 110 and the second substrate 150 during the ODF process. The seal and the liquid crystal may be worn in any order or may be worn simultaneously. What is important is that after the bonding step, the two substrates are sent to a vacuum chamber in which the internal air is evacuated. The seal is then exposed to UV light for about 30 seconds, and then heated for about 60 minutes to fully cure.
[0018]
The periphery of the LCD is covered with a black matrix layer 140 to avoid light leakage caused by backlight or localization errors. Accordingly, since the black matrix layer 140 does not transmit ultraviolet rays, the ultraviolet-curable seal is not pre-cured by the ultraviolet rays from the second substrate 150. In particular, the black matrix is very thin and very narrow in a TFT-LCD smaller than 17 inches. The only way to expose the seal to ultraviolet light is from the first substrate 110. The conventional first substrate having the conductive pattern layer 220 and the metal circuit made of aluminum, copper, or chromium, ie, the TFT substrate, is not completely transparent. Therefore, the conductive pattern layer forms a mesh layer.
[0019]
FIG. 2 is a front view of a sealed portion of the TFT-LCD according to the present embodiment. The conductive pattern layer 220 is formed as a transparent square. The seal 230 is arranged in this area. The black matrix layer 240 is under the seal 230 and the conductive pattern layer 220, and completely covers the seal 230. The liquid crystal 260 is arranged on the left side of the drawing.
[0020]
The seal must be completely exposed to UV light to improve the pre-cure step. That is, the conductive pattern layer 220 must be completely transparent. The conductive pattern layer according to the present invention is made of a transparent material such as an indium tin oxide (ITO) material. In the prior art, since the conductive pattern layer is only partially transparent, only a part of ultraviolet rays can be transmitted. Therefore, the portion where ultraviolet rays cannot reach the seal is not pre-cured. Therefore, the sealing surface is wet. In a vacuum chamber, when pressure is applied to the substrate, the liquid crystal contacts the seal and the wet seal contaminates the liquid crystal.
[0021]
In this embodiment, a conductive pattern layer which is a completely transparent layer is formed using an ITO material. The seal can be completely pre-cured by UV light. Contamination caused by a wet seal can be avoided. LCD quality and yield are improved and defect rates are reduced.
[0022]
It will be appreciated by those skilled in the art that the above preferred embodiments of the present invention are illustrative of the invention rather than limiting the invention. It is intended to cover various modifications and similar arrangements within the spirit and scope of the appended claims, the scope of which is given the broadest interpretation to encompass all such modifications and similar structures. Should.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a detailed sectional view showing a sealed portion of a liquid crystal display according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a front view of a sealed portion of a liquid crystal display according to an embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
110 First substrate 120 Conductive pattern layer 130 UV curable seal 140 Black matrix layer 150 Second substrate 160 Liquid crystal 220 Conductive pattern layer 230 UV curable seal 240 Black matrix layer 260 Liquid crystal

Claims (12)

液晶滴下技術を用いる液晶ディスプレーの製造方法であって、
酸化インジウム錫材料からなる周辺回路により形成される導電パターン層を有する第1の基板を供給するステップと、
液晶ディスプレーの光漏れを避けるためのブラックマトリックス層を有する第2の基板を供給するステップと、
第1の基板に紫外線硬化型シールを並べるステップと、
第1の基板に液晶材料を滴下するステップと、
第1の基板および第2の基板を真空チャンバ内で接着するステップと、
所定の間、シールを第1の基板からの紫外線に曝してシールを予備硬化するステップと、
シールを加熱するステップと、
を含むことを特徴とする液晶ディスプレーの製造方法。
A method for manufacturing a liquid crystal display using a liquid crystal dropping technique,
Providing a first substrate having a conductive pattern layer formed by a peripheral circuit comprising an indium tin oxide material;
Providing a second substrate having a black matrix layer to avoid light leakage of the liquid crystal display;
Arranging a UV-curable seal on the first substrate;
Dropping a liquid crystal material on the first substrate;
Bonding the first substrate and the second substrate in a vacuum chamber;
Exposing the seal to ultraviolet light from the first substrate for a predetermined time to pre-cure the seal;
Heating the seal;
A method for producing a liquid crystal display, comprising:
第1の基板が薄膜トランジスタのガラス基板を備えることを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレーの製造方法。The method according to claim 1, wherein the first substrate comprises a glass substrate of a thin film transistor. 第2の基板がカラーフィルタのガラス基板を備えることを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレーの製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the second substrate comprises a glass substrate of a color filter. 周辺回路が液晶ディスプレーの非表示領域に配置された周辺駆動回路を備えることを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレーの製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the peripheral circuit includes a peripheral driving circuit disposed in a non-display area of the liquid crystal display. 第1の基板と第2の基板との間から空気を排気するために真空チャンバが用いられることを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレーの製造方法。The method according to claim 1, wherein a vacuum chamber is used to exhaust air from between the first substrate and the second substrate. 第1の基板に紫外線硬化型シールを並べるステップが第2の基板に紫外線硬化型シールを並べるステップに置き換えられることを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレーの製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the step of arranging the ultraviolet-curable seal on the first substrate is replaced with the step of arranging the ultraviolet-curable seal on the second substrate. 第1の基板に液晶材料を滴下するステップが第2の基板に液晶材料を滴下するステップに置き換えられることを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレーの製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the step of dropping the liquid crystal material on the first substrate is replaced with the step of dropping the liquid crystal material on the second substrate. 液晶滴下技術を用いて製造される液晶ディスプレーであって、
第1の基板と、
第1の基板に形成され、酸化インジウム錫材料からなる周辺回路により形成される導電パターン層と、
第2の基板と、
液晶ディスプレーからの光漏れを避けるために第2の基板に形成されたブラックマトリックス層と、
液晶滴下技術により形成された液晶層と、
第1の基板と第2の基板とを接着して、液晶層を蓄えるための導電パターン層と、ブラックマトリックス層の間のチャンバを形成する紫外線硬化型シールであって、前記紫外線硬化型シールが所定の間、導電パターン層を介して第1の基板からの紫外線により予備硬化され、シールが加熱チャンバ内で加熱されることにより完全に硬化するシールと、
を備えることを特徴とする液晶ディスプレー。
A liquid crystal display manufactured using a liquid crystal dropping technique,
A first substrate;
A conductive pattern layer formed on a first substrate and formed by a peripheral circuit made of indium tin oxide material;
A second substrate;
A black matrix layer formed on the second substrate to avoid light leakage from the liquid crystal display;
A liquid crystal layer formed by liquid crystal dropping technology,
An ultraviolet-curable seal for bonding a first substrate and a second substrate to form a chamber between a conductive pattern layer for storing a liquid crystal layer and a black matrix layer, wherein the ultraviolet-curable seal is A seal that is pre-cured by ultraviolet light from the first substrate through the conductive pattern layer for a predetermined time, and is completely cured by being heated in the heating chamber;
A liquid crystal display comprising:
第1の基板が薄膜トランジスタのガラス基板を備えることを特徴とする請求項8記載の液晶ディスプレー。9. The liquid crystal display of claim 8, wherein the first substrate comprises a thin film transistor glass substrate. 第2の基板がカラーフィルタのガラス基板を備えることを特徴とする請求項8記載の液晶ディスプレー。9. The liquid crystal display according to claim 8, wherein the second substrate comprises a color filter glass substrate. 周辺回路が液晶ディスプレーの非表示領域に配置された周辺駆動回路を備えることを特徴とする請求項8記載の液晶ディスプレー。9. The liquid crystal display according to claim 8, wherein the peripheral circuit includes a peripheral driving circuit arranged in a non-display area of the liquid crystal display. 紫外線硬化型シールが第1の基板を第2の基板に接着した後に、第1の基板と第2の基板の間から空気を排気するために真空チャンバが用いられることを特徴とする請求項8記載の液晶ディスプレー。The vacuum chamber is used to evacuate air between the first substrate and the second substrate after the UV-curable seal bonds the first substrate to the second substrate. The liquid crystal display as described.
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