JP2004233434A - Display device - Google Patents

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Hiroshi Tabata
弘志 田畠
Koji Takahashi
康二 高橋
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Japan Display Central Inc
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Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the occurrence of uneven luminance in a non-display region when a distance between two transparent substrates is narrowed, or a backlight device high in luminance is used. <P>SOLUTION: A resin film 15 for shielding light and dummy patterns 18 and 19a, 19b... composed of a metal film for shielding the light are disposed in combination and in a stacked state on the non-display region of the transparent substrate 1. The dummy pattern 18 for shielding the light is formed with a plurality of wiring lines composed of the metal film so as to make its wiring density on the same level as that of signal lines S and is connected to an adjacent power source line 17 in a bundled state. The dummy patterns 19a, 19b... for shielding the light are formed by disposing each of the wiring lines composed of the metal film between each pair of the neighboring signal lines in a nondense region of the signal lines S1, S2... so as to make wiring density resulting from each of the dummy patterns 19 for shielding the light and each of the signal lines S on the same level as that of each of the signal lines S in a dense region. Each of the dummy patterns 19 for shielding the light is individually connected to the adjacent signal line S. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透明基板上に表示領域とその周辺の非表示領域を備えた透過型の表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置に代表される表示装置の普及に伴い、その表示品位に対する要求が高まっている。特に液晶テレビでは高輝度、高コントラスト、高速応答の要求が強くなっており、これらの要求を満たすために、液晶層を保持する2つの透明基板の間隔を狭くし、高輝度のバックライト装置を用いるように設計することが必要となる場合がある。このため、バックライト装置からの光を透過すべきではない部分での遮光がこれまで以上に重要となってきている。
【0003】
従来の液晶表示装置では、透明基板上の画素が配置された表示領域以外の領域である非表示領域に遮光膜を形成していた(特許文献1参照)。例えば、透明基板上の表示領域においては走査線あるいは信号線といった表示動作に本来必要な金属膜の配線で遮光膜を兼用し、周辺の非表示領域ではこのように兼用された金属膜の配線と黒色の樹脂膜で遮光層を形成していた。
【0004】
【特許文献1】
特許第2776356号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の非表示領域の遮光手法では、2つの透明基板の間隔を狭くすると、遮光用の樹脂膜の膜厚も薄くせざるを得ず、光の透過率が高まってしまうことになる。また、高輝度のバックライト装置を使用した場合には、黒色の樹脂膜だけでは遮光が不十分となり、光漏れが発生することとなる。このため、金属膜の配線密度が低い部分では光漏れが顕著に発生し、非表示領域での輝度ムラの原因となっていた。
【0006】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、2つの透明基板の間隔を狭くし、あるいは高輝度のバックライト装置を使用した場合でも、非表示領域における輝度ムラの発生を防止し得る液晶表示装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
第1の本発明の表示装置は、透明基板上の画素が配置された表示領域以外の領域である非表示領域に形成された遮光用の樹脂膜と、前記非表示領域に前記樹脂膜と重ねて形成され、表示動作用の本来の配線に接続された金属膜の遮光用ダミーパターンと、を有することを特徴とする。
【0008】
本発明にあっては、非表示領域に遮光用の樹脂膜と金属膜の遮光用ダミーパターンを重なるように併設することで、光の透過面積を低減して光漏れを防ぐようにしている。また、遮光用ダミーパターンを形成する金属膜を表示動作用の本来の配線に接続することで、遮光用ダミーパターンが浮遊容量となって表示動作に悪影響を与えてしまうことを防ぐようにしている。
【0009】
第2の本発明は、上記表示装置において、前記遮光用ダミーパターンは、前記金属膜による複数の配線からなり、その配線密度が前記表示動作用の本来の配線の密度と同程度であることを特徴とする。
【0010】
第3の本発明は、上記各表示装置において、前記遮光用ダミーパターンは、前記金属膜による配線が前記表示動作用の本来の配線の疎領域における当該配線間に設けられたものであり、当該遮光用ダミーパターンと当該表示動作用の本来の配線による配線密度が、前記表示動作用の本来の配線の密領域における配線密度と同程度であることを特徴とする。
【0011】
第2及び第3の本発明にあっては、金属膜の複数の配線からなる遮光用ダミーパターンの配線密度を表示動作用の本来の配線の密度と同程度にし、あるいは表示動作用の本来の配線間に金属膜の配線である遮光用ダミーパターンを形成した領域における配線密度を、表示動作用の本来の配線の密領域における配線密度と同程度にすることで、仮に光漏れが生じた場合であっても、輝度ムラになることを防ぐようにしている。
【0012】
第4の本発明は、上記各表示装置において、前記表示動作用の本来の配線は、前記遮光用ダミーパターンの近傍に配置された電源線であることを特徴とする。
【0013】
第5の本発明は、上記各表示装置において、前記表示動作用の本来の配線は、前記遮光用ダミーパターンの近傍に配置された信号線若しくは走査線であることを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】
本実施の形態では、本発明の表示装置を一例として液晶表示装置に適用した場合について説明する。
【0015】
図1の平面図に示すように、本液晶表示装置は、ガラス製の透明基板1上に画像表示を行うための表示領域13と表示領域以外の領域である非表示領域を備える。非表示領域には、遮光用の黒色の樹脂膜15が配置される他、走査線駆動回路11、信号線駆動回路12が形成される。
【0016】
走査線駆動回路11からの走査線Y1,Y2,…(以下、適宜「Y」と総称する)と信号線駆動回路12からの信号線S1,S2,…(以下、適宜「S」と総称する)は、表示領域13上で交差するように配線される。走査線Yと信号線Sの各交差部には画素14が配置される。このように、表示領域には複数の画素14がマトリクス状に配置される。
【0017】
本液晶表示装置は、各画素14毎にスイッチング素子が配置されたアクティブマトリクス型である。各画素14毎のスイッチング素子と、走査線駆動回路11および信号線駆動回路12を形成するスイッチング素子は、同一の製造プロセスによって形成される。ここでは、一例として各スイッチング素子は、電界効果型の薄膜トランジスタとする。
【0018】
図2の断面図に示すように、透明基板1とこれに対向して配置されたガラス製の透明基板2の間隙に液晶層3が保持され、液晶層3はシール材4により周囲が封止される。透明基板1の液晶層3に接する側の表面には各画素14に対応する複数の画素電極16が形成され、透明基板2の液晶層3に接する側の表面には対向電極21が形成される。バックライト装置は、透明基板1の液晶層3に接する側とは反対の背面側に配置される。
【0019】
図3の拡大平面図に示すように、非表示領域に形成された樹脂膜15上には表示動作用の本来の配線として電源線17、信号線Sが配線され、金属膜の遮光用ダミーパターン18、遮光用ダミーパターン19a,19b,…(以下、適宜「19」と総称する)が、樹脂膜15に重ねて形成されるとともに、表示動作用の本来の配線に接続される。
【0020】
より具体的には、遮光用ダミーパターン18は、金属膜による複数の配線で形成されたものであり、その配線密度が信号線Sの配線密度と同程度となるように形成される。なお、この配線密度は、信号線Sの密領域における配線密度と同程度とすることが望ましい。この金属膜による複数の配線は、束ねた状態で近傍の電源線17に接続される。
【0021】
また、遮光用ダミーパターン19a,19b,…は、金属膜による配線が信号線S1,S2,…の疎領域における各信号線間に設けられたものであり、各遮光用ダミーパターン19と各信号線Sによる配線密度が、各信号線Sの密領域における配線密度と同程度となるように形成される。各遮光用ダミーパターン19a,19b,…は、近傍の信号線S1,S2,…にそれぞれ個別に接続される。
【0022】
したがって、本実施の形態によれば、透明基板1上の非表示領域に遮光用の樹脂膜15と金属膜の遮光用ダミーパターン18及び19を重なるように併設することで、光の透過面積が低減されるので、光漏れを防ぐことができる。これによって、透明基板1と透明基板2の間隔を狭くし、あるいは高輝度のバックライト装置を用いた場合でも、非表示領域における輝度ムラの発生を防止した液晶表示装置を提供することができる。
【0023】
本実施の形態によれば、遮光用ダミーパターン18及び19を形成する金属膜を表示動作用の本来の配線である電源線17、信号線Sにそれぞれ接続することで、遮光用ダミーパターン18及び19が浮遊容量となって表示動作に悪影響を与えることを防止することができる。
【0024】
本実施の形態によれば、遮光用ダミーパターン18の配線密度を信号線Sの密度と同程度にし、あるいは遮光用ダミーパターン19と信号線Sによる配線密度を、信号線Sの密領域における配線密度と同程度にすることで、仮に光漏れが生じた場合であっても、輝度ムラになることを防止することができる。
【0025】
また、樹脂膜15の黒色をより濃くすることで、光漏れ防止のさらなる効果を得ることができる。
【0026】
なお、本実施の形態では、信号線駆動回路12の周囲に着目して遮光用ダミーパターン19a,19b,…を信号線S1,S2,…にそれぞれ接続することとしたが、走査線駆動回路11の周囲では、遮光用ダミーパターンを走査線Y1,Y2,…にそれぞれ接続するようにする。
【0027】
また、遮光用の樹脂膜15は、透明基板1上の非表示領域だけではなく、透明基板2上の非表示領域に形成するようにしてもよい。
【0028】
【発明の効果】
以上、説明したように、本発明の表示装置によれば、2つの透明基板の間隔を狭くし、あるいは高輝度のバックライト装置を使用した場合でも、非表示領域における輝度ムラの発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】一実施の形態における表示装置の構成を示す平面図である。
【図2】上記表示装置の構成を示す断面図である。
【図3】図1のA部における遮光用ダミーパターンの形成状態を示す拡大平面図である。
【符号の説明】
1…透明基板
2…透明基板
3…液晶層
4…シール材
11…走査線駆動回路
12…信号線駆動回路
13…表示領域
14…画素
15…樹脂膜
16…画素電極
17…電源線
18,19…遮光用ダミーパターン
21…対向電極
S…信号線
Y…走査線
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a transmissive display device having a display area on a transparent substrate and a non-display area around the display area.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art In recent years, with the spread of display devices represented by liquid crystal display devices, demands for display quality have been increasing. Particularly in liquid crystal televisions, demands for high brightness, high contrast, and high-speed response are increasing. To satisfy these demands, the distance between two transparent substrates holding a liquid crystal layer is reduced, and a backlight device with high brightness is required. It may be necessary to design for use. For this reason, it is more important than ever before to block light from transmitting light from a backlight device in a portion where light should not be transmitted.
[0003]
In a conventional liquid crystal display device, a light-shielding film is formed in a non-display area other than a display area where pixels are arranged on a transparent substrate (see Patent Document 1). For example, in a display area on a transparent substrate, a wiring of a metal film originally required for a display operation such as a scanning line or a signal line also serves as a light shielding film, and in a peripheral non-display area, a wiring of a metal film thus shared is used. The light-shielding layer was formed of a black resin film.
[0004]
[Patent Document 1]
Japanese Patent No. 2776356
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional non-display area light-shielding method, if the distance between the two transparent substrates is reduced, the thickness of the light-shielding resin film has to be reduced, and the light transmittance increases. Further, when a high-luminance backlight device is used, the black resin film alone does not sufficiently shield light, and light leakage occurs. For this reason, light leakage occurs remarkably in a portion where the wiring density of the metal film is low, which causes luminance unevenness in a non-display region.
[0006]
The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to reduce the distance between two transparent substrates, or to reduce the luminance unevenness in a non-display area even when a high-luminance backlight device is used. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device capable of preventing the occurrence of the phenomenon.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The display device according to the first aspect of the present invention includes a light-shielding resin film formed in a non-display area that is an area other than a display area in which pixels on a transparent substrate are arranged, and the resin film overlapping the non-display area. And a light-shielding dummy pattern of a metal film connected to the original wiring for the display operation.
[0008]
In the present invention, a light-blocking resin film and a metal-blocking light-blocking dummy pattern are juxtaposed in a non-display area so as to overlap with each other, thereby reducing the light transmission area and preventing light leakage. In addition, by connecting the metal film forming the light-shielding dummy pattern to the original wiring for the display operation, it is possible to prevent the light-shielding dummy pattern from becoming a stray capacitance and adversely affecting the display operation. .
[0009]
According to a second aspect of the present invention, in the display device, the light-shielding dummy pattern is composed of a plurality of wirings made of the metal film, and a wiring density thereof is approximately equal to a density of the original wirings for the display operation. Features.
[0010]
In a third aspect of the present invention, in each of the display devices, the light-shielding dummy pattern is such that a wiring made of the metal film is provided between the wirings in a region where the original wiring for the display operation is sparse. The wiring density of the light-shielding dummy pattern and the original wiring for the display operation is substantially equal to the wiring density in a dense region of the original wiring for the display operation.
[0011]
According to the second and third aspects of the present invention, the wiring density of the light-shielding dummy pattern composed of a plurality of wirings of the metal film is made substantially equal to the original wiring density for the display operation, or the original wiring density for the display operation is reduced. If the wiring density in the region where the light-shielding dummy pattern, which is a wiring of a metal film between the wirings is formed, is approximately the same as the wiring density in the dense region of the original wiring for display operation, if light leakage occurs, Even in such a case, luminance unevenness is prevented.
[0012]
According to a fourth aspect of the present invention, in each of the above display devices, the original wiring for the display operation is a power supply line arranged near the light-shielding dummy pattern.
[0013]
In a fifth aspect of the present invention, in each of the above display devices, the original wiring for the display operation is a signal line or a scanning line arranged near the light-shielding dummy pattern.
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
In this embodiment, a case where the display device of the present invention is applied to a liquid crystal display device as an example will be described.
[0015]
As shown in the plan view of FIG. 1, the present liquid crystal display device includes a display region 13 for displaying an image on a transparent substrate 1 made of glass and a non-display region other than the display region. In the non-display area, a black resin film 15 for light shielding is arranged, and a scanning line driving circuit 11 and a signal line driving circuit 12 are formed.
[0016]
The scanning lines Y1, Y2,... (Hereinafter, appropriately referred to as “Y”) from the scanning line driving circuit 11 and the signal lines S1, S2,. ) Are wired so as to intersect on the display area 13. A pixel 14 is arranged at each intersection of the scanning line Y and the signal line S. Thus, the plurality of pixels 14 are arranged in a matrix in the display area.
[0017]
The present liquid crystal display device is an active matrix type in which a switching element is arranged for each pixel 14. The switching element for each pixel 14 and the switching elements forming the scanning line driving circuit 11 and the signal line driving circuit 12 are formed by the same manufacturing process. Here, as an example, each switching element is a field-effect thin film transistor.
[0018]
As shown in the cross-sectional view of FIG. 2, a liquid crystal layer 3 is held in a gap between a transparent substrate 1 and a transparent substrate 2 made of glass disposed opposite thereto, and the periphery of the liquid crystal layer 3 is sealed by a sealing material 4. Is done. A plurality of pixel electrodes 16 corresponding to the respective pixels 14 are formed on the surface of the transparent substrate 1 on the side in contact with the liquid crystal layer 3, and a counter electrode 21 is formed on the surface of the transparent substrate 2 on the side in contact with the liquid crystal layer 3. . The backlight device is disposed on the back side of the transparent substrate 1 opposite to the side in contact with the liquid crystal layer 3.
[0019]
As shown in the enlarged plan view of FIG. 3, on the resin film 15 formed in the non-display area, a power supply line 17 and a signal line S are wired as original wirings for display operation, and a light-shielding dummy pattern of a metal film is formed. 18, light-shielding dummy patterns 19a, 19b,... (Hereinafter collectively referred to as "19" as appropriate) are formed on the resin film 15 and connected to the original wiring for the display operation.
[0020]
More specifically, the light-shielding dummy pattern 18 is formed of a plurality of wirings made of a metal film, and is formed such that the wiring density is substantially equal to the wiring density of the signal lines S. It is desirable that the wiring density is substantially equal to the wiring density in the dense region of the signal line S. The plurality of wirings made of the metal film are connected to a nearby power supply line 17 in a bundled state.
[0021]
The light-shielding dummy patterns 19a, 19b,... Are formed by providing a wiring made of a metal film between signal lines in a sparse region of the signal lines S1, S2,. The wiring density of the lines S is formed so as to be approximately the same as the wiring density in the dense region of each signal line S. The light-shielding dummy patterns 19a, 19b,... Are individually connected to the neighboring signal lines S1, S2,.
[0022]
Therefore, according to the present embodiment, the light-transmitting area can be reduced by providing the light-shielding resin film 15 and the light-shielding dummy patterns 18 and 19 of the metal film so as to overlap with each other in the non-display area on the transparent substrate 1. Since it is reduced, light leakage can be prevented. Accordingly, it is possible to provide a liquid crystal display device in which the gap between the transparent substrate 1 and the transparent substrate 2 is reduced or the occurrence of luminance unevenness in a non-display area is prevented even when a high-luminance backlight device is used.
[0023]
According to the present embodiment, the metal films forming the light-shielding dummy patterns 18 and 19 are connected to the power supply line 17 and the signal line S, which are the original wirings for the display operation, respectively. 19 can be prevented from becoming a floating capacitance and adversely affecting the display operation.
[0024]
According to the present embodiment, the wiring density of the light-blocking dummy pattern 18 is made substantially equal to the density of the signal line S, or the wiring density of the light-blocking dummy pattern 19 and the signal line S is reduced in the dense area of the signal line S. By making the density approximately the same, even if light leakage occurs, luminance unevenness can be prevented.
[0025]
Further, by further increasing the black color of the resin film 15, a further effect of preventing light leakage can be obtained.
[0026]
In this embodiment, the dummy patterns 19a, 19b,... For shielding light are connected to the signal lines S1, S2,. Are connected to the scanning lines Y1, Y2,... Respectively.
[0027]
The light-shielding resin film 15 may be formed not only in the non-display area on the transparent substrate 1 but also in the non-display area on the transparent substrate 2.
[0028]
【The invention's effect】
As described above, according to the display device of the present invention, even when the distance between two transparent substrates is reduced or a high-luminance backlight device is used, the occurrence of luminance unevenness in a non-display area is prevented. be able to.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view illustrating a configuration of a display device according to an embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a configuration of the display device.
FIG. 3 is an enlarged plan view showing a formation state of a light-shielding dummy pattern in a portion A of FIG. 1;
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent substrate 2 ... Transparent substrate 3 ... Liquid crystal layer 4 ... Sealant 11 ... Scan line drive circuit 12 ... Signal line drive circuit 13 ... Display area 14 ... Pixel 15 ... Resin film 16 ... Pixel electrode 17 ... Power supply lines 18 and 19 ... Dummy pattern 21 for shielding light ... Counter electrode S ... Signal line Y ... Scanning line

Claims (5)

透明基板上の画素が配置された表示領域以外の領域である非表示領域に形成された遮光用の樹脂膜と、
前記非表示領域に前記樹脂膜と重ねて形成され、表示動作用の本来の配線に接続された金属膜の遮光用ダミーパターンと、
を有することを特徴とする表示装置。
A light-shielding resin film formed in a non-display area that is an area other than the display area where the pixels on the transparent substrate are arranged,
A light-blocking dummy pattern of a metal film formed on the non-display area so as to overlap with the resin film and connected to an original wiring for a display operation;
A display device comprising:
前記遮光用ダミーパターンは、前記金属膜による複数の配線からなり、その配線密度が前記表示動作用の本来の配線の密度と同程度であることを特徴とする請求項1記載の表示装置。2. The display device according to claim 1, wherein the light-shielding dummy pattern includes a plurality of wirings made of the metal film, and a wiring density thereof is substantially equal to a density of the original wirings for the display operation. 前記遮光用ダミーパターンは、前記金属膜による配線が前記表示動作用の本来の配線の疎領域における当該配線間に設けられたものであり、当該遮光用ダミーパターンと当該表示動作用の本来の配線による配線密度が、前記表示動作用の本来の配線の密領域における配線密度と同程度であることを特徴とする請求項1又は2記載の表示装置。In the light-shielding dummy pattern, the wiring made of the metal film is provided between the wirings in a region where the original wiring for the display operation is sparse, and the light-shielding dummy pattern and the original wiring for the display operation are provided. 3. The display device according to claim 1, wherein a wiring density of the display operation is substantially equal to a wiring density in a dense area of the original wiring for the display operation. 4. 前記表示動作用の本来の配線は、前記遮光用ダミーパターンの近傍に配置された電源線であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の表示装置。4. The display device according to claim 1, wherein the original wiring for the display operation is a power supply line arranged near the light-shielding dummy pattern. 前記表示動作用の本来の配線は、前記遮光用ダミーパターンの近傍に配置された信号線若しくは走査線であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の表示装置。5. The display device according to claim 1, wherein the original wiring for the display operation is a signal line or a scanning line arranged near the light-shielding dummy pattern.
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