JP2004209205A

JP2004209205A - 向上されたイオン導入効果を有するイオン導入器の制御方法およびこれを採用するイオン導入器並びに携帯用皮膚美容器の誘導充電システム

Info

Publication number: JP2004209205A
Application number: JP2003050353A
Authority: JP
Inventors: Te Yoru Chon; テヨルチョン; Sun Yon Fan; スンヨンファン
Original assignee: CHAN GUN I
Current assignee: CHAN GUN I
Priority date: 2002-12-28
Filing date: 2003-02-27
Publication date: 2004-07-29

Abstract

【課題】皮膚への美容関連物質の導入効果の高いイオン導入器を提供すること。
【解決手段】本発明のイオン導入器はクレンジング段階及び栄養供給段階では１０００−１５００Ｈｚの範囲の周波数のガルバニック電流を発生し、マッサージ段階及びリフテイング段階では１５００−２０００Ｈｚ程度のガルバニック電流を発生するように低周波発生部（３２）を制御する制御部（２０）を備える。
【選択図】図１６

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は化粧品やビタミン剤等の美容関連物質が体内に効果的に導入されるようにした皮膚美容器としてのイオン導入器、その制御方法及びその非接触式充電システムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
使用者がガルバニックイオン電流を利用して顔面皮膚に美容関連物質を効果的に導入するようにした皮膚美容機器、その制御方法及び制御装置は既に知られており、大韓民国実用新案公報第９５−８４０２号及び大韓民国特許公報第９６−６６６２号および同９６−１４０９８号のような多数の文献にも既に従来技術として紹介されている。
【０００３】
即ち、皮膚美容機器では直流−直流変換部でバッテリーの電源を昇圧し、昇圧した電源でガルバニックイオン電流を発生して皮膚美容を行う。皮膚美容はクレンジング段階、マッサージ段階、栄養供給段階及びリフテイング段階を順次に行うことである。クレンジング段階では所定周波数を有するプラス・ガルバニックイオン電流及び連続的なプラス・ガルバニックイオン電流を出力することを繰り返す等の方法で皮膚に蓄積されている老廃物を除去し、マッサージ段階では所定周波数を有するプラス・ガルバニックイオン電流と、マイナス・ガルバニックイオン電流と交番するプラス及びマイナス・ガルバニックイオン電流を繰り返し出力する等の方法で顔面皮膚の毛孔を拡張及び縮小させて色艶と弾力のある皮膚に保持させ、栄養供給段階では所定周波数を有するマイナス・ガルバニックイオン電流及び連続的なマイナス・ガルバニックイオン電流を繰り返し出力して皮膚深く化粧品の栄養を供給し、リフテイング段階では所定の周波数範囲で可変するプラス及びマイナス・ガルバニックイオン電流を出力する等の方法で顔面皮膚の毛孔を拡張及び縮小させながら色艶があリ弾力のある皮膚に保持させる４段階であった。イオン電流の印加とともに遠赤外線及び振動を同時に顔面に印加する場合もある。
【０００４】
【特許文献１】
大韓民国実用新案公報第９５−８４０２号
【特許文献２】
大韓民国特許公報第９６−６６６２号
【特許文献３】
大韓民国特許公報第９６−１４０９８号
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
従来の皮膚美容機器及びその制御方法では、直流のガルバニック低電流顔面に印加するか０．１−５００Ｈｚの低周波のパルス波を顔面に印加していた。従って、顔面の表皮には、それなりに理容関連物質が浸透されるが、より深く、即ち、真皮には殆ど浸透がされないので効果が大きく劣るという問題点があった。
【０００６】
それにも拘わらず、以後開発された皮膚美容機器及びその制御方法は１０００Ｈｚ未満の低周波を顔面に印加するものばかりであり、問題点は大きく改善されなかった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
ここに、本発明者等は上述のような従来の問題点等を解決しようと鋭意研究した結果、１０００Ｈｚ以上の周波数を皮膚に印加したときに、最も好ましくは、第１段階であるクレンジング段階及び第３段階である栄養供給段階では１０００−１５００Ｈｚの範囲の周波数のガルバニック電流を印加し、第２段階であるマッサージ段階及び第４段階であるリフテイング段階では１５００−２０００Ｈｚ程度のガルバニック電流を印加するのが最も効果的であるという知見を得て、本発明を完成した。
【０００８】
特に、第３段階である栄養供給段階及び第４段階であるリフテイング段階では、約１０ｍｓの間、所定個数のパルスを加えた後、２次電流を印加して放電をさせることが最も好ましいという知見も得られた。
【０００９】
ガルバニック電流の周波数が２０００Ｈｚを超えると、人体に有害な影響を及ぼすことがあるので好ましくない。
一方、従来の携帯用皮膚美容器の一般的な充電方式は、図１７に示すように、皮膚美容機器の充電プローブ（Ｊ２）をプラグを有するコードに接触させるか、より改良された方法としては図２０に示すような形の充電器の電極に電気的接触をさせることにより充電をさせる方式であった。即ち、一般的なハンド・ホン（携帯電話器）の充電方式と類似の方式である。
【００１０】
しかし、携帯用皮膚美容器を使用するのは、クリ−ムや水分が多い環境下で使用するのが殆どであり、特に、美容室で使用する場合にはこのような環境下で頻繁な充電が必要になるが、充電時に万が一漏電の危険がある。また、充電をしない間には漏電の危険を減らすべく充電器コードを常に抜き取っていなければならないが、これは大変厄介なことである。しかも、皮膚美容機器本体のプローブの電極が露出された部分に異物質が付着あるいは挿入され、外観上にも良くないという問題点があった。
【００１１】
従って、本発明の他の目的は、充電器及び皮膚美容機器の電極を露出させないで密閉した状態においても非接触式で充電が行われるようにした携帯用皮膚美容器の誘導充電システムを提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
以上の本発明の目的を達成するための本発明の第１の態様に従うイオン導入機器は、制御部（２０）と駆動部（３０）とを含み、前記駆動部は動作状態を表示するデイスプレー部（３１）と、低周波ガルバニック電流を発生する低周波発生部（３２）とを含む。前記制御部はクレンジング段階及び栄養段階では１０００−１５００Ｈｚの範囲の周波数のガルバニック電流を発生させ、マッサージ段階及びリフテイング段階では１５００Ｈｚ−２０００Ｈｚ程度のガルバニック電流を発生させるように低周波発生部を制御することを特徴とする。
【００１３】
好ましくは、前記制御部は前記栄養供給段階及びリフテイング段階では所定個数のパルスを加えた後、２次電流を印加して放電をさせるように低周波発生部を制御する。
【００１４】
本発明の第２の態様に従うイオン導入機器は、イオン導入器に電源を供給する電源部（１０）、全体動作を制御する制御部（２０）、及び駆動部（３０）からなるイオン導入機器であって、前記駆動部は、制御部の制御により動作状態等を表すデイスプレー部（３１）と、低周波ガルバニック電流を発生させる低周波発生部（３２）を含み、前記電源部（１０）は、前記制御部（２０）のマイクロプロセッサー（Ｕ２）の動作如何に従って電源供給を遮断させるためにマイクロプロセッサー（Ｕ２）の動作如何を表す信号をゲート端で受けてスイッチングを行うＦＥＴ（Ｑ１）が挿入され、電源部のＤＣ−ＤＣコンバーター（Ｕ１）に昇圧される電圧が一定以上超えないように制御して電圧を安定的に供給するためにやはりマイクロプロセッサー（Ｕ２）から制御信号が印加されることを特徴とする。
【００１５】
本発明の第３の態様に従うイオン導入機器の制御方法は、１０００−１５００Ｈｚの範囲の周波数のガルバニック電流パルスを印加するクレンジング段階；１５００−２０００Ｈｚ程度のガルバニック電流パルスを印加するマッサージ段階；１０００−１５００Ｈｚの範囲の周波数のガルバニック電流パルスを印加する栄養供給段階；及び１５００−２０００Ｈｚ程度のガルバニック電流パルスを印加するリフテイング段階；を含むことを特徴とする。
【００１６】
本発明の第４の態様による携帯用皮膚美容機器の誘導充電システムは、イオン導入器に電源を供給する機器電源部（１０）、全体動作を制御する制御部（２０）、及び駆動部（３０）から成る携帯用イオン導入機器（１）；及び前記携帯用イオン導入機器に充電をさせるための充電器（２）を含み、前記充電器（２）は、外部電源に連結された電源部（２１）、前記電源部からの電源供給によって発振する発振部（２４）及び誘導起電力を発生させる１次側磁界誘導部（２３）を含み、前記イオン導入機器の機器電源部（１０）は、前記１次側磁界誘導部からの励起された誘導起電力によって誘導結合される２次側磁界誘導部（１１）、前記２次側磁界誘導部からの誘導された起電力によって充電される充電部（１３）を含み、前記イオン導入機器が前記充電機と電気的結合のない状態でも充電が行われるようにすることを特徴とする。
【００１７】
好ましくは、前記充電器（２）は電源部（２１）から入力される電源を整流する整流部（２２）をさらに含み、前記機器電源部（１０）は前記２次側磁界誘導部（１１）から発生された電源を整流する整流部（１２）をさらに含み、前記１次側磁界誘導部（２３）及び２次側磁界誘導部（１１）はそれぞれ機器内部に内蔵されたフェライトコア（２３ａ、１１ａ）から構成されることを特徴とする。
【００１８】
【発明の実施の形態】
図１は従来の皮膚美容器制御方法の各段階におけるガルバニック電流印加波形図であり、図２は本発明による皮膚美容器制御方法の各段階におけるガルバニック電流印加波形図である。
【００１９】
本発明の皮膚美容器のガルバニック電流パルスは図２に示すとおり、第１段階であるクレンジング段階では３７０μｓの間、プラス（＋）電圧を、そして５００μｓの間の０電圧（即ち、１１５０Ｈｚ）の矩形波のパルス波形を引き続き印加し、第２段階であるマッサージ段階では２２０μｓ間、＋電圧をそして３６０μｓ間の０電圧（即ち、１７２４Ｈｚ）の矩形波のパルス波形を引き続き印加する。そして第３段階である栄養供給段階では３７０μｓの間＋電圧を、そして５００μｓの間０電圧（即ち、１１５０Ｈｚ）の矩形波のパルス波形を印加するが１０．８ｍｓ後に一つのマイナス（−）電圧パルスを印加して放電をさせ、第４段階であるリフテイング段階では２２０μｓ間＋電圧をそして３４０μｓ間の０電圧（即ち、１７８５Ｈｚ）の矩形波のパルス波形を印加するが１１．１ｍｓ後に一つの−電圧パルスを印加して放電をさせる方法でこれを繰り返す。
【００２０】
図３はビタミンＣが皮膚の色素細胞からのメラニン減少を示す図であり、図４はビタミンＣの有無による皮膚に対する紫外線照射の結果を対比して示す図であり、図５はビタミンＣがフリラジカルの消滅に関与することを示す図であり、図６はプロビタミンＣを導入したヒトの皮膚を表皮と真皮とに分離させて示す図であり、図７は皮膚へのイオン浸透を示す模式図であり、図８は本発明の方法と外用塗布によるビタミンＣ投入結果を示すグラフである。
【００２１】
そして、図９は本発明による方法及び従来方法の印加波形の比較表であり、図１０及び図１１はＥＶＧ法によリ染色された実験に使用された皮膚組織片の図であり、図１２及び図１３は各々本発明の方法と従来技術によるビタミンＣ投入結果を示すグラフ及び表であり、図１４及び図１５は各々本発明の方法と従来技術によるビタミンＣ投入結果を示すグラフ及び表である。
【００２２】
実施例１
まず、本発明によるイオン導入機器の制御方法によるビタミンＣの皮膚浸透効果を外用塗布した時の皮膚浸透効果と比較した。本発明による方法は外用塗布に比べて４倍程の効果があることがわかった。
【００２３】
即ち、ビタミンＣ供給源として、活性持続型ビタミンＣ（４％アスコルビン酸−２−０−リン酸ナトリウム）を皮膚表面にいったん塗布したが、これがイオン導入されて皮膚の中でビタミンＣに効率良く変換されて、皮膚１ｇ当たり１．４×１０^１９個という豊富なビタミンＣ分子が導入された。この皮膚中ビタミンＣ濃度は健康人の血液中ビタミンＣ濃度の４００−６００倍ほど高く、また各種組織の中で最も濃厚にビタミンＣを蓄積する副腎よりも２．４−３．０倍ほど高いビタミンＣ濃度に相当する。
【００２４】
ビタミンＣを皮膚に浸透させると皮膚美容に効果があるが、ヒト皮膚の色素細胞から作られるメラニン（図３ａの粒子）は細胞の内部にビタミンＣを大量に浸透させると図３ｂのように減少した。皮膚の深くまで到達する紫外線Ａ波をヒト皮膚角化細胞に照射すると、図４ａに示すように、１時間後に細胞内部のＤＮＡに傷害（８−オキソデオキシグアニン）が生じるが、紫外線Ａ波の照射前に本発明の方法を使用して細胞内部にビタミンＣを大量に浸透させておくと、図４ｂに示すように、傷害が生じるのを防ぐことができた。併せて、ヒト皮膚を主に構成する角化細胞の内部には、ＤＮＡと細胞膜を傷つける元凶であるフリーラジカル（図５ａの斑紋）が豊富に存在しているが、本発明の方法を使用して細胞内部にビタミンＣを多量に浸透させると、フリーラジカルは消滅した（図５ｂ，５ｃ）。
【００２５】
このように、皮膚美容に良いビタミンＣを従来では皮膚の２層構造のうちの深い部分である真皮には浸透させにくかったが、本発明による方法を使用することにより大量のビタミンＣを浸透させることが可能になった。
【００２６】
総ビタミンＣの測定は、本発明による方法を使用してビタミンＣを導入したヒトの皮膚を外科的に摘出し、皮膚を構成する主な２層である表皮と真皮とに分離した。図６はトリプシン処理によって皮膚を表皮と真皮とに分離した姿を表す。
【００２７】
その後、各々の部分の中に含まれているビタミンＣを酸化分解させない工夫を凝らして、皮膚細胞内に入ったビタミンＣを余すことなく最大限に回収して測定した。ビタミンＣは高性能液体クロマトグラフィというＥＣＤ法で計測した。
【００２８】
図７及び図８に示すように、本発明の方法によれば、外用塗布に比べ表皮は勿論、真皮にも多量のビタミンＣが導入され、皮膚中のビタミンＣの保持率も高いのが分かる。即ち、図７に示すように、マイナスの電荷である活性持続型ビタミンＣは皮膚表面に配置されたイオン導入機器のマイナス端子と反発して、皮膚の深くへ浸透する。次いで、皮膚内に存在する酵素（フォスファターゼ）によって本来のビタミンＣへ変換される。尚、ビタミンＣそれ自体は元来よリ不安定であり、皮膚に塗布するだけでは、急速に酸化分解を受けてしまうため、皮膚の深くへは浸透しない。上述のとおり、皮膚の深くへ浸透したビタミンＣは皮膚メラニン抑制（肌美白）、シワ・タルミ防御（コラーゲン・エラスチン構築）、紫外線によるＤＮＡ傷害の多様な皮膚防御効果を発揮するようになる。これら皮膚防御効果は外用塗布だけでは、皮膚の浅い部分に止まったビタミンＣだけでは余り発揮されない。
【００２９】
実施例２
一方、実施例２では、本発明の方法と従来の上記０．１−５００Ｈｚのガルバニック波形を利用するが、本発明の方法の場合には第３段階単独にした場合と第３段階及び第４段階を併行した場合とに分けて実験をした。
【００３０】
使用したヒトの摘出皮膚片は３７歳日本人男性の側腹部の皮膚片であり、皮膚片の厚さは４．０６ｍｍである。その該皮膚片は表皮０．０９８ｍｍ、真皮１．９５ｍｍ、皮下組織２．０１ｍｍで構成されたものであった。皮膚断面の顕微鏡写真はＥＶＧ（ＥｌａｓｔｃａｖａｎＧｉｅｓｏｎ）法で染色して図１０及び図１１に示した。
【００３１】
設定電流値は‘Ｈｉｇｈ’の場合であって、０．３ｍＡにし、実測電流値は本発明の場合が０．０９−０．１０ｍＡで電流が不規則的に変わるものであったし。一方、従来の制御方法では０．１２−０．１５ｍＡの一定な電流値であった。
【００３２】
図１２は上記のビタミンＣ測定方法によって測定した値をグラフで表したものであり、図１３はその測定値である。
図１２及び図１３の実験結果に示すように、本発明の波形のイオン導入器によれば、ヒトから摘出した皮膚片に対して良好なビタミンＣ浸透率が得られ、表皮と真皮全てにおいて従来の低周波方法によるイオン導入器を凌駕した。同じ第３段階の場合において比較しても、本発明の方法は表皮においてビタミンＣ浸透率は３．６倍も増加し、真皮においても殆ど同じ倍率である３．５倍にビタミンＣ浸透量が増加した。
【００３３】
本発明の方法において、第３段階に加えて第４段階を併用すれば表皮では８．７倍にであって特別にビタミンＣ浸透率が増加した。ただ、真皮では第４段階による過度なビタミンＣ浸透による皮膚側面露出とビタミンＣ酸化促進に因り結果的に低調である。
【００３４】
実施例３
実施例３は、本発明のイオン導入機器と他社の従来のイオン導入機器とを比較するものであって、東芝メディカル（ＴｏｓｈｉｂａＭｅｄｉｃａｌ）社の製品名「アクアパフ（ＡｑｕａＰｕｆｆ）」、ラメンテ（ＬａＭｅｎｔｅ）社の製品名「イオンシュティカル（Ｉｏｎ−Ｃｅｕｔｉｃａｌ）（ＭＳ−ＪＭＡ）」、ドクターシーラボ（Ｄｒ．ＣｉＬａｂｏ）の製品名「ビオニック（Ｖ−ＩＯＮＩＣ）」、及びインデイバ社の製品名「ビタリオン（Ｖｉｔａｌｉｏｎｔ）」を比較した。
【００３５】
図９は本発明の方法によるガルバニック電流波形と従来製品の電流波形との比較を示す。従来製品はパルス周波数が１０００Ｈｚ以下であった。表示電流は、「アクアパフ」（従来例２）及び「イオンシュティカル」（従来例３）の場合にＨｉｇｈであり、「ビオニック」（従来例４）の場合に３ｍＡ及び「ビタリオン」（従来例１）の場合に０．３ｍＡであった。実測電流は「アクアパフ」の場合は０．２８ｍＡ、「イオンシュティカル」の場合は０．１５ｍＡ、「ビオニック」の場合は０．０４−０．０９ｍＡ、及び「ビタリオン」の場合は０．３ｍＡであった。残りは実施例２の場合と同一であった。
【００３６】
図１４及び図１５の実験結果に示すように、本発明の波形のイオン導入器によれば、ヒトから摘出した皮膚片似たいして良好なビタミンＣ浸透率であり、表皮と真皮の全てにおいて従来の低周波方法によるイオン導入器を凌駕した。
【００３７】
特に、真皮では、ビタミンＣ浸透率ばかりでなく、ビタミンＣ還元型保持率も良好であった。真皮では皮膚表面から移動した距離が長いほどビタミンＣが還元することが易く、この傾向は従来例においてもたびたび表れ、従来例２，３ではビタミンＣ還元保持率が５．８−２７．０％であって低調であった。これに対し、本発明の場合は６３．２％であって優れている。
【００３８】
次に、本発明のイオン導入器について図１６ないし図１９を参照して説明する。
図１６は本発明によるイオン導入器のブロック図であり、図１７ないし図１９は本発明と関連のイオン導入器の詳細回路図である。
【００３９】
図１６に示すように、本発明によるイオン導入器は、イオン導入器に電源を供給する機器電源部（１０）、全体動作を制御する制御部（２０）、及び駆動部（３０）を含む。駆動部は、制御部の制御によって動作状態等を表すデイスプレー部（３１）と、低周波ガルバニック電流を発生する低周波発生部（３２）と、遠赤外線を発生させる遠赤外線発生部（３３）と、モーター部（３４）とからなる。
【００４０】
電源部（１０）の詳細な回路を図１７に示す。バッテリー（Ｊ１）が充電プローブ（Ｊ２）を通じて充電され、スイッチ（ＳＷ１）及びダイオード（Ｄ１）を通じて昇圧用ＤＣ−ＤＣコンバータ−（Ｕ１）に印加される。このとき、図１８に示す制御部（２０）のマイクロプロセッサー（Ｕ２）が動作するか否かによって電源供給を遮断させるために、マイクロプロセッサー（Ｕ２）が動作するか否かを表す信号をゲート端で受けスイッチングを行うＦＥＴ（Ｑ１）が挿入される。併せて、電源部のＤＣ−ＤＣコンバータ−（Ｕ１）には昇圧される電圧が一定値を超えないように制限して電圧を安定的に供給するためにマイクロプロセッサー（Ｕ２）から制御信号がトランジスター（Ｑ３）のベースに印加される。
【００４１】
一方、図１８には制御部（２０）のマイクロプロセッサー（Ｕ２）に接続されている多数個の遠赤外線ＬＥＤ（Ｄ８、Ｄ１０、Ｄ１１）を有する遠赤外線発生部（３３）、機器が動作するか否か及び各種の情報を表すデイスプレー部（３１）、モーター（ＭＧ１）を含むモーター駆動部（３４）、ブザー（ＢＵＺ１）を含む警報音発生部（３５）、図１９に示す低周波発生部（３２）とその他付属回路が接続される。
【００４２】
図１９に示すように、マイクロプロセッサー（Ｕ２）の出力端子ＲＤＯ、ＲＤ１、ＲＡＯ、ＲＡ１を通じて低周波ガルバニック電流制御信号が出力され、増幅器（Ｕ３４）によって増幅された後、端子（Ｊ３）を通じて低周波のパルス波を出力するようになる。
【００４３】
以下、上記本発明の誘導充電システムを図２０ないし図２２を参照して詳細に説明する。
図２０は本発明による携帯用皮膚美容器の充電システムの概略図であり、図２１は本発明による携帯用皮膚美容器の誘導充電システムのブロック図であり、図２２は本発明による携帯用皮膚美容器の誘導充電システムの回路図である。
【００４４】
図２０に示すように、本発明による携帯用皮膚美容器の充電システムは、携帯用皮膚美容機器（１）を常用電源と連結された充電器（２）に挿入して充電をさせるようになる。
【００４５】
上記皮膚美容機器（１）は再び図１６に示すとおり、皮膚美容機器の機器電源部（１０）を含む。
なお、図２１に示すとおり、上記充電器（２）は、外部常用電源に連結されたコードを通じて連結され充電時の電源を供給する電源部（２１）と、電源部（２１）から入力される電源を整流する整流部（２２）と、上記電源部からの電源供給によって例えば、４０ＫＨｚの周波数で発振する高周波発振部（２４）と上記高周波発振された電源から誘導器電力を発生させる１次側磁界誘導部（２３）を含む。
【００４６】
より詳しくは、図２２（ａ）に示すように、高周波発振部（２４）がゲート抵抗（Ｒ１）を通じてＦＥＴ（Ｑ１）のゲート端に接続され、＋電源が上記ＦＥＴのスイッチングによって１次側磁界誘導部（２３）のフェライトコア（２３ａ）に交互的に印加され誘導起電力が発生されるようにする。
【００４７】
一方、上記イオン導入機器の機器電源部（１０）は、上記１次側磁界誘導部（２３）からの励起された誘導起電力によって誘導結合される２次側磁界誘導部（１１）と、上記２次側磁界誘導部（１１）から発生された電源を整流する整流部（１２）と、上記整流部によって整流された誘導起電力を充電する充電部（１３）を含む。
【００４８】
より詳しくは、図２２（ｂ）に示すように、２次側磁界誘導部（１１）としてのフェライトコア（１１ａ）が誘導起電力を受け整流部（１２）を通じて充電制御回路（１３ａ）によって制御され一例に、リチウムイオンバッテリー（１３ｂ）に充電をさせるようになる。
【００４９】
したがって、図２０に示すように、上記１次側及び２次側フェライトコア（２３ａ、１１ａ）が各々充電器（２）及び皮膚美容機器（２）の内部に密閉されて装着され、上記イオン導入機器が上記充電器と電気的結合のない状態においても非接触式で充電可能である。
【００５０】
【発明の効果】
本発明によるイオン導入機器及びその方法によれば、従来技術よりビタミンＣのような美容関連物質の浸透率、還元型保持率及びビタミンＣの安定化率が高くなり、ビタミンＣのような美容関連物質を大量に皮膚深く浸透させて一定量以上の美容物質を細胞の中で長らく保持させることにより、活性酸素を除去して細胞死を防ぐなど、各種の美容効果が得られる。
【００５１】
併せて、本発明の携帯用皮膚美容器の誘導充電システムによれば、イオン導入機器（１）が充電器（２）と電気的結合がない状態でも非接触式に充電可能であるので、使用が簡便であり、漏電及び感電の虞がなく、充電部が外観上、よりスマートであり、充電部に異物質が嵌らないので、より衛生的であるという種々の長所がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の皮膚美容器制御方法の各段階におけるガルバニック電流印加波形図。
【図２】本発明による皮膚美容器制御方法の各段階におけるガルバニック電流印加波形図。
【図３】ビタミンＣが皮膚の色素細胞におけるメラニン減少を示す図。
【図４】ビタミンＣの有無による皮膚に対する紫外線照射の結果を対比して示す図。
【図５】ビタミンＣがフリラジカルの消滅に関与することを示す図。
【図６】プロビタミンＣを導入したヒトの皮膚を表皮と真皮とに分離させて示す図。
【図７】皮膚へのイオン浸透を示す模式図。
【図８】本発明の方法と外用塗布によるビタミンＣ投入結果を示すグラフ。
【図９】本発明による方法及び他社の従来方法の印加波形を対比して示す表。
【図１０】ＥＶＧ法により染色された実験に使用された皮膚組織片の図。
【図１１】ＥＶＧ法により染色された皮膚組織片の図。
【図１２】本発明と従来技術によるビタミンＣ投入結果を示す図。
【図１３】本発明と従来技術によるビタミンＣ投入結果を示す図。
【図１４】本発明と従来技術によるビタミンＣ投入結果を示すグラフ。
【図１５】本発明と従来技術によるビタミンＣ投入結果を示す表。
【図１６】本発明のイオン導入器のブロック図。
【図１７】本発明のイオン導入器の電源部の回路図。
【図１８】本発明のイオン導入器の制御部、ディスプレー部、遠赤外線発生部及びモータ部の回路図。
【図１９】本発明のイオン導入器の低周波発生部の回路図。
【図２０】本発明による携帯用皮膚美容器の充電システムの概略図。
【図２１】本発明による携帯用皮膚美容器の誘導充電システムのブロック図。
【図２２】本発明による携帯用皮膚美容器の誘導充電システムの回路図。

Claims

動作状態を表示するデイスプレー部（３１）と、低周波ガルバニック電流を発生する低周波発生部（３２）とを含む駆動部（３０）と、
前記駆動部の動作を制御する制御部（２０）とを備え、前記制御部は、クレンジング段階及び栄養供給段階では１０００−１５００Ｈｚの範囲の周波数のガルバニック電流を発生させ、マッサージ段階及びリフテイング段階では１５００−２０００Ｈｚ程度のガルバニック電流を発生させるように前記低周波発生部を制御することを特徴とするイオン導入機器。
前記制御部は前記栄養供給段階及び前記リフテイング段階では所定個数のパルスを加えた後、２次電流を印加して放電をさせるように前記低周波発生部を制御することを特徴とする請求項１に記載のイオン導入機器。
イオン導入機器であって、
動作状態を表すデイスプレー部（３１）と、低周波ガルバニック電流を発生する低周波発生部（３２）とを含む駆動部（３０）と、
前記駆動部に電源を供給する機器電源部（１０）と、
前記機器電源部及び前記駆動部を制御する制御部（２０）とを備え、
前記機器電源部（１０）は、前記制御部（２０）のマイクロプロセッサー（Ｕ２）が動作するか否かによって電源供給を遮断させるためにマイクロプロセッサー（Ｕ２）が動作するか否かを表す信号をゲート端で受けてスイッチングを行うＦＥＴ（Ｑ１）を含み、前記機器電源部のＤＣ−ＤＣコンバーター（Ｕ１）に昇圧される電圧が一定値を超えないように制限して電圧を安定的に供給するためにマイクロプロセッサー（Ｕ２）から制御信号が印加されることを特徴とするイオン導入機器。
請求項１のイオン導入機器を制御する方法であって、
１０００−１５００Ｈｚの範囲の周波数のガルバニック電流パルスを印加するクレンジング段階と、
１５００−２０００Ｈｚ程度のガルバニック電流パルスを印加するマッサージ段階と、
１０００−１５００Ｈｚの範囲の周波数のガルバニック電流パルスを印加する栄養供給段階とを含むことを特徴とするイオン導入機器の制御方法。
前記栄養供給段階後に、１５００−２０００Ｈｚ程度のガルバニック電流パルスを印加するリフテイング段階をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載のイオン導入機器の制御方法。
前記栄養供給段階又はリフテイング段階では所定個数のパルスを加えた後、２次電流を印加して放電をさせることを特徴とする請求項４又は５に記載のイオン導入機器の制御方法。
電源を供給する機器電源部（１０）、全体動作を制御する制御部（２０）及び駆動部（３０）からなる携帯用イオン導入機器（１）と、
前記携帯用イオン導入機器に充電をさせるための充電器（２）とを備え、
前記充電器（２）は外部電源に連結された電源部（２１）、前記電源部からの電源供給によって発振する発振部（２４）及び誘導起電力を発生させる１次側磁界誘導部（２３）を含み、
前記イオン導入機器の機器電源部（１０）は、前記１次側磁界誘導部からの励起された誘導起電力によって誘導結合される２次側磁界誘導部（１１）、前記２次側磁界誘導部からの誘導された起電力によって充電される充電部（１３）を含み、
前記イオン導入機器が前記充電器と電気的結合のない状態でも充電が行われることを特徴とする誘導充電システム。
前記充電器（２）は電源部（２１）から入力される電源を整流する整流部（２２）をさらに含み、前記機器電源部（１０）は前記２次側磁界誘導部（１１）から発生された電源を整流する整流部（１２）をさらに含むことを特徴とする請求項７に記載の誘導充電システム。
前記１次側磁界誘導部（２３）及び２次側磁界誘導部（１１）は各々機器内部に内蔵されたフェライトコア（２３ａ、１１ａ）から構成されることを特徴とする請求項７または８に記載の誘導充電システム。