JP2004191811A - Heat developable photosensitive material - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat developable photosensitive material suitable for medical image use and giving an image having high sensitivity and excellent in gradation and color tone by heat development after exposure with laser light of 350-430 nm. <P>SOLUTION: The heat developable photosensitive material has a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on at least one surface of a support. A silver iodide content of the photosensitive silver halide is 40-100 mol% and a compound represented by formula 1 is contained as the reducing agent. In the formula, R<SP>1</SP>and R<SP>1</SP>' are each independently a 3-20C alkyl in which a C atom bonding to a benzene ring is secondary or tertiary; R<SP>2</SP>and R<SP>2</SP>' are each methyl; L is -S- or -CHR<SP>3</SP>-; R<SP>3</SP>is H or a 1-20C alkyl; and X<SP>1</SP>and X<SP>1</SP>' are each independently H or a group substitutable on a benzene ring. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【００１４】
一般式（Ｒ−１）において、Ｒ¹およびＲ^1'は各々独立に炭素数３〜２０で、ベンゼン環に結合する炭素原子が２級、もしくは３級のアルキル基を表す。Ｒ²およびＲ^2'はメチル基を表す。Ｌは−Ｓ−基または−ＣＨＲ³−基を表す。Ｒ³は水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｘ¹およびＸ^1'は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。
（２） 下記一般式(Ｈ)で表される化合物を含有することを特徴とする（１）に記載の熱現像感光材料。
一般式（Ｈ）
Ｑ−（Ｙ）ｎ−Ｃ（Ｚ₁）（Ｚ₂）Ｘ
一般式（Ｈ）中、Ｑはアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、Ｙは２価の連結基を表し、ｎは０または１を表し、Ｚ₁およびＺ₂はハロゲン原子を表し、Ｘは水素原子または電子吸引性基を表す。
（３） 前記感光性ハロゲン化銀のヨウ化銀含有率が９０モル％〜１００モル％であることを特徴とする（１）もしくは（２）に記載の熱現像感光材料。
（４） 前記感光性ハロゲン化銀の平均粒子サイズが５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることを特徴とする（１）〜（３）に記載の熱現像感光材料。
（５） 前記感光性ハロゲン化銀の平均粒子サイズが５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることを特徴とする（１）〜（３）に記載の熱現像感光材料。
（６）さらに下記一般式(Ｒ−２)で表される化合物を含有することを特徴とする（１）〜（５）に記載の熱現像感光材料。
一般式(Ｒ−２)
【００１５】
【化５】

【００１６】
一般式（Ｒ−２）において、Ｒ¹¹およびＲ^11'は各々独立に炭素数３〜２０で、ベンゼン環に結合する炭素原子が２級、もしくは３級のアルキル基を表す。Ｒ¹²およびＲ^12'は各々独立に炭素数２〜２０のアルキル基を表す。Ｌは−Ｓ−基または−ＣＨＲ¹³−基を表す。Ｒ¹³は水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｘ¹¹およびＸ^11'は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。
（７） さらに下記一般式(Ｒ−３)で表される化合物を含有することを特徴とする（１）〜（６）に記載の熱現像感光材料。
一般式(Ｒ−３)
【００１７】
【化６】

【００１８】
一般式（Ｒ−３）において、Ｒ²¹およびＲ^21'は各々独立に炭素数１〜２０で、ベンゼン環に結合する炭素原子が１級であるアルキル基を表す。Ｒ²²およびＲ²²'は各々独立に炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｌは−Ｓ−基または−ＣＨＲ²³−基を表す。Ｒ²³は水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｘ²¹およびＸ^21'は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。
（８） レーザー光により露光されることを特徴とする（１）〜（７）に記載の熱現像感光材料。
（９） 前記レーザー光が３９０ｎｍ〜４３０ｎｍに発光ピーク強度を有することを特徴とする（８）に記載の熱現像感光材料。
（１０） 特性曲線のガンマが２〜５であることを特徴とする（１）〜（９）に記載の熱現像感光材料。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
【００２０】
１．熱現像感光材料
【００２１】
（有機銀塩）
本発明に用いることのできる有機銀塩は、光に対して比較的安定であるが、露光された光触媒（感光性ハロゲン化銀の潜像など）及び還元剤の存在下で、８０℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀画像を形成する銀塩である。有機銀塩は還元できる銀イオン源を含む任意の有機物質であってよい。
【００２２】
このような非感光性の有機銀塩については、特開平10-62899号の段落番号００４８〜００４９、欧州特許第0803764A1号の第１８ページ第２４行〜第１９ページ第３７行、欧州特許第0962812A1号、特開平11-349591号、特開2000-7683号、同2000-72711号等に記載されている。有機酸の銀塩が好ましく、特に（炭素数が10〜30、好ましくは15〜28の）長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましい。
有機銀塩の好ましい例としては、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、これらの混合物などを含む。本発明においては、これら有機銀塩の中でも、ベヘン酸銀含有率４０モル％以上の有機酸銀を用いることが好ましい。より好ましくはベヘン酸銀含有率７５モル％以上の有機酸銀を用いる。
【００２３】
本発明に用いることができる有機銀塩の形状としては特に制限はなく、針状、棒状、平板状、りん片状でよく、針状、りん片状が好ましく、特にりん片状が好ましい。
本明細書において、りん片状の有機銀塩とは、次のようにして定義する。有機酸銀塩を電子顕微鏡で観察し、有機酸銀塩粒子の形状を直方体と近似し、この直方体の辺を一番短かい方からａ、ｂ、ｃとした（ｃはｂと同じであってもよい。）とき、短い方の数値ａ、ｂで計算し、次のようにしてｘを求める。
ｘ＝ｂ／ａ
【００２４】
このようにして２００個程度の粒子についてｘを求め、その平均値ｘ（平均）としたとき、ｘ（平均）≧１．５の関係を満たすものをりん片状とする。好ましくは３０≧ｘ（平均）≧１．５、より好ましくは２０≧ｘ（平均）≧２．０である。因みに針状とは１≦ｘ（平均）＜１．５である。
【００２５】
りん片状粒子において、ａはｂとｃを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることができる。ａの平均は０．０１μｍ以上０．２３μｍが好ましく、０．１μｍ以上０．２０μｍ以下がより好ましい。ｃ／ｂの平均は好ましくは１以上６以下、より好ましくは１．０５以上４以下、さらに好ましくは１．１以上３以下、特に好ましくは１．１以上２以下である。
【００２６】
有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の１００分率が好ましくは１００％以下、より好ましくは８０％以下、更に好ましくは５０％以下である。有機銀塩の形状の測定方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より求めることができる。単分散性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動係数)が好ましくは１００％以下、より好ましくは８０％以下、更に好ましくは５０％以下である。
測定方法としては例えば液中に分散した有機銀塩を市販で得られるレーザー光散乱型粒子サイズ測定装置で測定することができる。
【００２７】
本発明に用いられる有機酸銀の製造及びその分散法は、公知の方法等を適用することができる。例えば上記の特開平10-62899号、欧州特許公開第0803763A1、欧州特許公開第0962812A1号、特開平11-349591号、特開2000-7683号、同2000-72711号、特願平11-348228〜30号、同11-203413号、特願2000-90093号、同2000-195621号、同2000-191226号、同2000-213813号、同2000-214155号、同2000-191226号等を参考にすることができる。
【００２８】
なお、有機銀塩の分散時に、感光性銀塩を共存させると、カブリが上昇し、感度が著しく低下するため、分散時には感光性銀塩を実質的に含まないことがより好ましい。本発明は、分散される水分散液中での感光性銀塩量は、その液中の有機酸銀塩１モルに対し０．１モル％以下であり、積極的な感光性銀塩の添加は行わないことが望ましい。
【００２９】
本発明の有機銀塩は所望の量で使用できるが、銀量として０．１〜５ｇ／ｍ²が好ましく、さらに好ましくは０．５〜３ｇ／ｍ²である。
【００３０】
（還元剤）
本発明に用いられる還元剤について説明する。
（１）一般式(Ｒ−１)で表される化合物
【００３１】
一般式(Ｒ−１)
【化７】

【００３２】
一般式（Ｒ−１）において、Ｒ¹およびＲ^1'は各々独立に炭素数３〜２０で、ベンゼン環に結合する炭素原子が２級、もしくは３級のアルキル基を表す。Ｒ²およびＲ^2'はメチル基を表す。Ｌは−Ｓ−基または−ＣＨＲ³−基を表す。Ｒ³は水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｘ¹およびＸ^1'は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。
【００３３】
各置換基について詳細に説明する。
１）Ｒ¹およびＲ¹'
一般式（Ｒ−１）においては、Ｒ¹およびＲ¹'は各々独立に置換または無置換の炭素数３〜２０のアルキル基であり、ベンゼン環に結合する炭素原子が２級、もしくは３級のアルキル基を表す。アルキル基の置換基は特に限定されることはないが、好ましくは、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等があげられる。
【００３４】
２）Ｒ²およびＲ²'
一般式（Ｒ−１）においては、Ｒ²およびＲ²'はメチル基を表す。
【００３５】
３）Ｘ¹およびＸ¹'
Ｘ¹およびＸ¹'は、各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。それぞれベンゼン環に置換可能な基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルアミノ基があげられる。
【００３６】
４）Ｌ
Ｌは−Ｓ−基または−ＣＨＲ³−基を表す。Ｒ³は水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、アルキル基は置換基を有していてもよい。
Ｒ³の無置換のアルキル基の具体例はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ウンデシル基、イソプロピル基、１−エチルペンチル基、２，４，４−トリメチルペンチル基などがあげられる。
アルキル基の置換基の例はＲ¹の置換基と同様で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基などがあげられる。
【００３７】
５）好ましい置換基
一般式（Ｒ−１）においては、Ｒ¹およびＲ¹'として好ましくは炭素数３〜１５の２級または３級のアルキル基であり、具体的にはイソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、ｔ−オクチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−メチルシクロプロピル基などがあげられる。Ｒ¹およびＲ¹'としてより好ましくは炭素数４〜１２の３級アルキル基で、その中でもｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、１−メチルシクロヘキシル基が更に好ましく、ｔ−ブチル基が最も好ましい。
【００３８】
Ｘ¹およびＸ¹'は、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基で、より好ましくは水素原子である。
Ｌは好ましくは−ＣＨＲ³−基である。
Ｒ³として好ましくは水素原子または炭素数１〜１５のアルキル基であり、アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、２，４，４−トリメチルペンチル基が好ましい。Ｒ³として特に好ましいのは水素原子、メチル基、プロピル基またはイソプロピル基である。
【００３９】
以下に本発明の一般式（Ｒ−１）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４０】
【化８】

【００４１】
（２）一般式(Ｒ−２)で表される化合物
【００４２】
一般式(Ｒ−２)
【化９】

【００４３】
一般式（Ｒ−２）において、Ｒ¹¹およびＲ¹¹'は各々独立に炭素数３〜２０で、ベンゼン環に結合する炭素原子が２級、もしくは３級のアルキル基を表す。Ｒ¹²およびＲ¹²'は各々独立に炭素数２〜２０のアルキル基を表す。Ｌは−Ｓ−基または−ＣＨＲ¹³−基を表す。Ｒ¹³は水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｘ¹¹およびＸ¹¹'は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。
各置換基について詳細に説明する。
１）Ｒ¹¹およびＲ¹¹'
一般式（Ｒ−２）におけるＲ¹¹およびＲ¹¹'は、一般式（Ｒ−１）におけるＲ¹およびＲ¹'と同義である。
【００４４】
２）Ｒ¹²およびＲ¹²'
一般式（Ｒ−２）においては、Ｒ¹²およびＲ¹²'は各々独立に炭素数２〜２０の置換、あるいは無置換のアルキル基を表す。
【００４５】
３）Ｘ¹およびＸ¹'
Ｘ¹¹およびＸ¹¹'は、一般式（Ｒ−１）のＸ¹およびＸ¹'と同義である。
【００４６】
４）Ｌ
一般式（Ｒ−２）におけるＬは、−Ｓ−基または−ＣＨＲ¹³−基を表す。Ｒ¹³は一般式（Ｒ−１）におけるＲ³と同義である。
【００４７】
５）好ましい置換基
一般式（Ｒ−２）においては、Ｒ¹¹およびＲ¹¹'として好ましいのは、一般式（Ｒ−１）におけるＲ¹およびＲ¹'と同じである。
【００４８】
一般式（Ｒ−２）においては、Ｒ¹²およびＲ¹²'として好ましくは炭素数２〜２０のアルキル基であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基などがあげられる。より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基である。
【００４９】
Ｘ¹¹およびＸ¹¹'は、一般式（Ｒ−１）のＸ¹およびＸ¹'におけると同様である。
【００５０】
以下に本発明の一般式（Ｒ−２）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５１】
【化１０】

【００５２】
（３）一般式(Ｒ−３)で表される化合物
【００５３】
一般式(Ｒ−３)
【化１１】

【００５４】
一般式（Ｒ−３）において、Ｒ²¹およびＲ²¹'は各々独立に炭素数１〜２０で、ベンゼン環に結合する炭素原子が１級であるアルキル基を表す。Ｒ²²およびＲ²²'は各々独立に炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｌは−Ｓ−基または−ＣＨＲ²³−基を表す。Ｒ²³は水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｘ²¹およびＸ²¹'は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。
各置換基について詳細に説明する。
１）Ｒ¹¹およびＲ¹¹'
一般式（Ｒ−１）においては、Ｒ¹¹およびＲ¹¹'は各々独立に置換または無置換の炭素数１〜２０のアルキル基であり、ベンゼン環と結合する炭素原子はメチル基あるいは１級炭素である基を表す。アルキル基の置換基は特に限定されることはなく、好ましい置換基は一般式（Ｒ−１）におけると同様である。置換基として好ましくは、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等があげられる。
以下に本発明の一般式（Ｒ−３）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５５】
【化１２】

【００５６】
本発明において一般式（Ｒ−１）で表される化合物の添加量は、０．０１〜２．０ｇ／ｍ²であることが好ましく、０．１〜１．０ｇ／ｍ²であることがより好ましく、画像形成層を有する面の銀１モルに対しては５〜５０％モル含まれることが好ましく、１０〜４０モル％で含まれることがさらに好ましい。
【００５７】
本発明において一般式（Ｒ−２）で表される化合物の添加量は、０．０１〜２．０ｇ／ｍ²であることが好ましく、０．１〜１．０ｇ／ｍ²であることがより好ましく、一般式（Ｒ−１）で表される化合物に対しては１〜３０００モル％含まれることが好ましく、５〜２０００モル％で含まれることがさらに好ましい。
【００５８】
本発明において一般式（Ｒ−３）で表される化合物の添加量は、０．０１〜２．０ｇ／ｍ²であることが好ましく、０．１〜１．０ｇ／ｍ²であることがより好ましく、一般式（Ｒ−１）で表される化合物に対しては１〜３０００モル％含まれることが好ましく、５〜２０００モル％で含まれることがさらに好ましい。
【００５９】
一般式（Ｒ−１）、（Ｒ−２）、および（Ｒ−３）で表される化合物は、画像形成層、およびその隣接層に添加することができるが、画像形成層に含有させることがより好ましい。
【００６０】
一般式（Ｒ−１）、（Ｒ−２）、および（Ｒ−３）で表される化合物は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてもよい。
よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。
【００６１】
また、固体微粒子分散法としては、一般式（Ｒ−１）、（Ｒ−２）、および（Ｒ−３）で表される化合物の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作成する方法が挙げられる。好ましくは、サンドミルを使った分散方法である。尚、その際に保護コロイド（例えば、ポリビニルアルコール）、界面活性剤（例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム（３つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物）などのアニオン性界面活性剤）を用いてもよい。水分散物には防腐剤（例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩）を含有させることができる。
【００６２】
特に好ましいのは、固体粒子分散法であり、平均粒子サイズ０．０５μｍ〜５．０μｍ、好ましくは０．０８μｍ〜１．０μｍの微粒子して添加するのが好ましい。本願においては他の固体分散物もこの範囲の粒子サイズに分散して用いるのが好ましい。
【００６３】
（現像促進剤）
本発明の熱現像感光材料では、現像促進剤として特開2000-267222号や特開2000-330234号等に記載の一般式（Ａ）で表されるスルホンアミドフェノール系の化合物、特開2001-92075号記載の一般式（II）で表されるヒンダードフェノール系の化合物、特開平10-62895号や特開平11-15116号等に記載の一般式（Ｉ）、特願2001-074278号に記載の一般式（１）で表されるヒドラジン系の化合物、特願2000-76240号に記載されている一般式（２）で表されるフェノール系またはナフトール系の化合物が好ましく用いられる。これらの現像促進剤は還元剤に対して０．１〜２０モル％の範囲で使用され、好ましくは０．５〜１０モル％の範囲で、より好ましくは１〜５モル％の範囲である。感材への導入方法は還元剤同様の方法があげられるが、特に固体分散物または乳化分散物として添加することが好ましい。乳化分散物として添加する場合、常温で固体である高沸点溶剤と低沸点の補助溶剤を使用して分散した乳化分散物として添加するか、もしくは高沸点溶剤を使用しない所謂オイルレス乳化分散物として添加することが好ましい。
【００６４】
本発明においては上記現像促進剤の中でも、特願2001-074278号に記載の一般式（１）で表されるヒドラジン系の化合物および特願2000-76240号に記載されている一般式（２）で表されるフェノール系またはナフトール系の化合物が特に好ましい。
以下、本発明の現像促進剤の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６５】
【化１３】

【００６６】
（水素結合性化合物）
本発明では、還元剤の芳香族性の水酸基（−ＯＨ）と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。
水素結合を形成しうる基としては、ホスホリル基、スルホキシド基、スルホニル基、カルボニル基、アミド基、エステル基、ウレタン基、ウレイド基、３級アミノ基、含窒素芳香族基などが挙げられる。その中でも好ましいのはホスホリル基、スルホキシド基、アミド基（但し、＞Ｎ−Ｈ基を持たず、＞Ｎ−Ｒa（ＲaはＨ以外の置換基）のようにブロックされている。）、ウレタン基（但し、＞Ｎ−Ｈ基を持たず、＞Ｎ−Ｒa（ＲaはＨ以外の置換基）のようにブロックされている。）、ウレイド基（但し、＞Ｎ−Ｈ基を持たず、＞Ｎ−Ｒa（ＲaはＨ以外の置換基）のようにブロックされている。）を有する化合物である。
【００６７】
本発明で、特に好ましい水素結合性化合物は下記一般式（Ａ）で表される化合物である。
【００６８】
【化１４】

【００６９】
一般式（Ａ）においてＲ²¹ないしＲ²³は各々独立にアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基またはヘテロ環基を表し、これらの基は無置換であっても置換基を有していてもよい。
Ｒ²¹ないしＲ²³が置換基を有する場合の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基などがあげられ、置換基として好ましいのはアルキル基またはアリール基でたとえばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｔ−オクチル基、フェニル基、４−アルコキシフェニル基、４−アシルオキシフェニル基などがあげられる。
【００７０】
Ｒ²¹ないしＲ²³のアルキル基としては具体的にはメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、ｔ−オクチル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、２−フェノキシプロピル基などがあげられる。
アリール基としてはフェニル基、クレジル基、キシリル基、ナフチル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、４−ｔ−オクチルフェニル基、４−アニシジル基、３，５−ジクロロフェニル基などが挙げられる。
【００７１】
アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、４−メチルシクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
アリールオキシ基としてはフェノキシ基、クレジルオキシ基、イソプロピルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、ナフトキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられる。
アミノ基としてはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基等が挙げられる。
【００７２】
Ｒ²¹ないしＲ²³としてはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基が好ましい。本発明の効果の点ではＲ²¹ないしＲ²³のうち少なくとも一つ以上がアルキル基またはアリール基であることが好ましく、二つ以上がアルキル基またはアリール基であることがより好ましい。また、安価に入手する事ができるという点ではＲ²¹ないしＲ²³が同一の基である場合が好ましい。
【００７３】
以下に本発明における一般式（Ａ）の化合物をはじめとする水素結合性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７４】
【化１５】

【００７５】
【化１６】

【００７６】
水素結合性化合物の具体例は上述の他に特願2000-192191号、同2000-194811号に記載のものがあげられる。
【００７７】
本発明の水素結合性化合物は、還元剤と同様に溶液形態、乳化分散形態、固体分散微粒子分散物形態で塗布液に含有せしめ、感光材料中で使用することができる。本発明の化合物は、溶液状態でフェノール性水酸基を有する化合物と水素結合による錯体を形成しており、還元剤と本発明の一般式（Ａ）の化合物との組み合わせによっては錯体として結晶状態で単離することができる。
【００７８】
このようにして単離した結晶粉体を固体分散微粒子分散物として使用することは安定した性能を得る上で特に好ましい。また、還元剤と本発明の水素結合性化合物を粉体で混合し、適当な分散剤を使って、サンドグラインダーミル等で分散時に錯形成させる方法も好ましく用いることができる。
【００７９】
本発明の水素結合性化合物は還元剤に対して、１〜２００モル％の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１０〜１５０モル％の範囲で、さらに好ましくは３０〜１００モル％の範囲である。
【００８０】
（感光性ハロゲン化銀）
１）ハロゲン化銀組成
【００８１】
本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀は、ハロゲン組成として４０モル％以上１００モル％以下の沃化銀を含む高沃化銀乳剤であることが特に好ましい。本発明のハロゲン化銀の一部は、直接遷移によって効率良く光を吸収する相を有することが好ましい。本発明の好ましい態様である３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの露光波長においては、六方晶系のウルツァイト構造または立方晶系のジンクブレンド構造を有する高沃化銀構造が直接遷移によって効率良く光を吸収することは知られていた。しかしながらこのような吸収構造をもつハロゲン化銀は、従来は低感度であり写真工業的には利用価値の低いものとしてほとんど省みられなかった。
【００８２】
本研究によれば、非感光性有機酸銀塩および熱現像剤を有する熱現像感光材料において、露光照度を１ｍＷ／ｍｍ²以上の大照度で短時間（１秒以下、好ましくは１０^-2秒以下、更に、好ましくは１０^-4秒以下）露光することによって、このような高沃化銀感光材料で高感度・高鮮鋭度を達成することができることが分かった。
また本研究によれば、このときのハロゲン化銀の平均粒子サイズは８０ｎｍ以下であることが好ましい。好ましくは、ハロゲン化銀の平均粒子サイズは、５ｎｍ〜８０ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ〜６０ｎｍである。最も好ましくは５ｎｍ以上４０ｎｍ以下である。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子の体積と同体積の球に換算したときの直径をいう。
【００８３】
本発明のハロゲン化銀の沃化銀含量のより好ましい範囲は、７０モル％以上１００モル％以下、さらに好ましくは９０モル％以上１００モル％以下である。高沃化銀含量になるほど本発明の効果は明瞭に発揮される。
【００８４】
本発明のハロゲン化銀が直接遷移の光吸収を持っているかどうかは、４００ｎｍ〜４３０ｎｍ付近に直接遷移に起因する励起子吸収が見られることで容易に区別することができる。
【００８５】
この様な直接遷移光吸収型高沃化銀相は、単独で存在してもかまわないが、臭化銀乳剤、塩化銀乳剤、または沃臭化銀乳剤、沃塩化銀およびこれらの混晶のような３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長域において間接遷移吸収を示すハロゲン化銀に接合して存在することも好ましく用いられる。
【００８６】
露光波長としては、好ましくは３５０ｎｍ〜４５０ｎｍであり、より好ましくは３７０ｎｍ〜４４０ｎｍであり、特に好ましくは３９０ｎｍ〜４３０ｎｍである。
【００８７】
感光性ハロゲン化銀の形成方法は当業界ではよく知られており、例えば、リサーチ・ディスクロージャー1978年6月の第17029号、および米国特許第3,700,458号に記載されている方法を用いることができる。具体的には有機酸銀に水溶性ハロゲン塩を反応させて有機酸銀の一部をハロゲン化銀に変えるコンバージョン法、有機酸と水溶性銀塩を反応させる間にハロゲン化銀を混合し有機酸銀粒子の中にハロゲン化銀を取り込む方法、あるいは有機酸銀粒子とハロゲン化銀粒子を予め調製してから混合する方法がある。本発明では、ゼラチンあるいは他のポリマー溶液中に銀供給化合物及びハロゲン供給化合物を添加することにより感光性ハロゲン化銀を調製し、その後で有機銀塩と混合する方法を用いるのが好ましい。また、特開平11-119374号の段落番号０２１７〜０２２４に記載されている方法、特願平11-98708号、特開2000-347335号記載の方法も好ましい。
【００８８】
ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特に立方体状粒子が好ましい。ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。
感光性ハロゲン化銀粒子の外表面の面指数（ミラー指数）については特に制限はないが、分光増感色素が吸着した場合の分光増感効率が高い｛１００｝面の占める割合が高いことが好ましい。その割合としては５０％以上が好ましく、６５％以上がより好ましく、８０％以上が更に好ましい。ミラー指数｛１００｝面の比率は増感色素の吸着における｛１１１｝面と｛１００｝面との吸着依存性を利用したT.Tani;J.Imaging Sci.,29、165(1985年)に記載の方法により求めることができる。
【００８９】
２）重金属
本発明においては、六シアノ金属錯体を粒子最表面に存在させたハロゲン化銀粒子が好ましい。六シアノ金属錯体としては、[Fe(CN)₆]^4-、[Fe(CN)₆]^3-、[Ru(CN)₆]^4-、[Os(CN)₆]^4-、[Co(CN)₆]^3-、[Rh(CN)₆]^3-、[Ir (CN)₆]^3-、[Cr(CN)₆]^3-、[Re(CN)₆]^3-などが挙げられる。本発明においては六シアノFe錯体が好ましい。
【００９０】
六シアノ金属錯体は、水溶液中でイオンの形で存在するので対陽イオンは重要ではないが、水と混和しやすく、ハロゲン化銀乳剤の沈澱操作に適合しているナトリウムイオン、カリウムイオン、ルビジウムイオン、セシウムイオンおよびリチウムイオン等のアルカリ金属イオン、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン（例えばテトラメチルアンモニウムイオン、テトラエチルアンモニウムイオン、テトラプロピルアンモニウムイオン、テトラ（n-ブチル）アンモニウムイオン）を用いることが好ましい。
【００９１】
六シアノ金属錯体は、水の他に水と混和しうる適当な有機溶媒（例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類等）との混合溶媒やゼラチンと混和して添加することができる。
【００９２】
六シアノ金属錯体の添加量は、銀１モル当たり1×１０^-5モル以上1×１０^-2モル以下が好ましく、より好ましくは1×１０^-4モル以上1×１０^-3モル以下である。
【００９３】
六シアノ金属錯体をハロゲン化銀粒子最表面に存在させるには、六シアノ金属錯体を、粒子形成に使用する硝酸銀水溶液を添加終了した後、硫黄増感、セレン増感およびテルル増感などのカルコゲン増感や金増感等の貴金属増感を行う化学増感工程の前までの仕込工程終了前、水洗工程中、分散工程中、または化学増感工程の前に直接添加する。ハロゲン化銀微粒子を成長させないためには、粒子形成後速やかに六シアノ金属錯体を添加することが好ましく、仕込工程終了前に添加することが好ましい。
【００９４】
尚、六シアノ金属錯体の添加は、粒子形成をするために添加する硝酸銀の総量の９６質量％を添加した後から開始してもよく、９８質量％添加した後から開始するのがより好ましく、９９質量％添加した後が特に好ましい。
【００９５】
これら六シアノ金属錯体を粒子形成の完了する直前の硝酸銀水溶液を添加した後に添加すると、ハロゲン化銀粒子最表面に吸着することができ、そのほとんどが粒子表面の銀イオンと難溶性の塩を形成する。この六シアノ鉄（II）の銀塩は、AgIよりも難溶性の塩であるため、微粒子による再溶解を防ぐことができ、粒子サイズが小さいハロゲン化銀微粒子を製造することが可能となった。
【００９６】
本発明の感光性ハロゲン化銀粒子は、周期律表（第１〜18族までを示す）の第８族〜第10族の金属または金属錯体を含有することができる。周期律表の第８族〜第10族の金属または金属錯体の中心金属として好ましくは、ロジウム、ルテニウム、イリジウムである。これら金属錯体は１種類でもよいし、同種金属及び異種金属の錯体を２種以上併用してもよい。好ましい含有率は銀１モルに対し1×10^-9モルから1×10^-3モルの範囲が好ましい。これらの重金属や金属錯体及びそれらの添加法については特開平7-225449号、特開平11-65021号段落番号0018〜0024、特開平11-119374号段落番号0227〜0240に記載されている。
【００９７】
さらに本発明に用いられるハロゲン化銀粒子に含有することのできる金属原子（例えば[Fe(CN)₆]^4-）、ハロゲン化銀乳剤の脱塩法や化学増感法については特開平11-84574号段落番号0046〜0050、特開平11-65021号段落番号0025〜0031、特開平11-119374号段落番号0242〜0250に記載されている。
【００９８】
３）ゼラチン
本発明に用いる感光性ハロゲン化銀乳剤に含有されるゼラチンとしては、種々のゼラチンが使用することができる。感光性ハロゲン化銀乳剤の有機銀塩含有塗布液中での分散状態を良好に維持するために、分子量は、500〜60,000の低分子量ゼラチンを使用することが好ましい。これらの低分子量ゼラチンは粒子形成時あるいは脱塩処理後の分散時に使用してもよいが、脱塩処理後の分散時に使用することが好ましい。
【００９９】
４）増感色素
本発明の感光性ロゲン化銀には増感色素を用いて増感しても良い。本発明に適用できる増感色素としてはハロゲン化銀粒子に吸着した際、所望の波長領域でハロゲン化銀粒子を分光増感できるもので、露光光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利に選択することができる。増感色素及び添加法については、特開平11-65021号の段落番号0103〜0109、特開平10-186572号一般式(II)で表される化合物、特開平11-119374号の一般式(I) で表される色素及び段落番号0106、米国特許第5,510,236号、同第3,871,887号実施例５に記載の色素、特開平2-96131号、特開昭59-48753号に開示されている色素、欧州特許公開第0803764A1号の第19ページ第38行〜第20ページ第35行、特願2000-86865号、特願2000-102560号、特願2000-205399号等に記載されている。これらの増感色素は単独で用いてもよく、２種以上組合せて用いてもよい。本発明において増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加する時期は、脱塩工程後、塗布までの時期が好ましく、より好ましくは脱塩後から化学熟成の開始前までの時期である。
本発明における増感色素の添加量は、感度やカブリの性能に合わせて所望の量にすることができるが、感光性層のハロゲン化銀１モル当たり10^-6〜１モルが好ましく、さらに好ましくは10^-4〜10^-1モルである。
【０１００】
本発明は分光増感効率を向上させるため、強色増感剤を用いることができる。本発明に用いる強色増感剤としては、欧州特許公開第587,338号、米国特許第3,877,943号、同第4,873,184号、特開平5-341432号、同11-109547号、同10-111543号等に記載の化合物が挙げられる。
【０１０１】
５）化学増感
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、硫黄増感法、セレン増感法もしくはテルル増感法にて化学増感されていることが好ましい。硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法に好ましく用いられる化合物としては公知の化合物、例えば、特開平7-128768号等に記載の化合物等を使用することができる。特に本発明においてはテルル増感が好ましく、特開平11-65021号段落番号００３０に記載の文献に記載の化合物、特開平5-313284号中の一般式（II），(III)，(IV)で示される化合物がより好ましい。
【０１０２】
本発明においては、化学増感は粒子形成後で塗布前であればいかなる時期でも可能であり、脱塩後、(1)分光増感前、(2)分光増感と同時、(3)分光増感後、(4)塗布直前等があり得る。特に分光増感後に行われることが好ましい。
本発明で用いられる硫黄、セレンおよびテルル増感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等によって変わるが、ハロゲン化銀１モル当たり１０^-8〜１０^-2モル、好ましくは１０^-7〜１０^-3モル程度を用いる。本発明における化学増感の条件としては特に制限はないが、ｐＨとしては５〜８、ｐＡｇとしては６〜１１、温度としては４０〜９５℃程度である。
本発明で用いるハロゲン化銀乳剤には、欧州特許公開第293,917号公報に示される方法により、チオスルホン酸化合物を添加してもよい。
【０１０３】
６）１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、後続反応によってさらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物
本発明における熱現像感光材料は、１電子酸化されて１電子酸化体が後続反応によってさらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物を含有することが好ましい。
１電子酸化されて１電子酸化体が後続反応によってさらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物とは以下のタイプ１〜５から選ばれる化合物である。
【０１０４】
本発明に用いられる１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物とは以下のタイプ１〜５から選ばれる化合物である。
【０１０５】
(タイプ１) １電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに２電子以上の電子を放出し得る化合物。
【０１０６】
(タイプ２) １電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらにもう１電子を放出し得る化合物で、かつ同じ分子内にハロゲン化銀への吸着性基を２つ以上有する化合物。
【０１０７】
(タイプ３) １電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合形成過程を経た後に、さらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
【０１０８】
(タイプ４) １電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く分子内の環開裂反応を経た後に、さらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
【０１０９】
(タイプ５) Ｘ−Ｙで表される化合物においてＸは還元性基を、Ｙは脱離基を表し、Ｘで表される還元性基が１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続くＸ−Ｙ結合の開裂反応を伴ってＹを脱離してＸラジカルを生成し、そこからさらにもう１電子を放出し得る化合物。
【０１１０】
上記タイプ１およびタイプ３〜５の化合物のうち好ましいものは、「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」であるか、または「分子内に、分光増感色素の部分構造を有する化合物」である。
より好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」である。
【０１１１】
タイプ１〜５の化合物について詳細に説明する。
タイプ１の化合物において「結合開裂反応」とは具体的に炭素−炭素、炭素−ケイ素、炭素−水素、炭素−ホウ素、炭素−スズ、炭素−ゲルマニウムの各元素間の結合の開裂を意味し、炭素−水素結合の開裂がさらにこれらに付随してもよい。
タイプ１の化合物は１電子酸化されて１電子酸化体となった後に、初めて結合開裂反応を伴って、さらに２電子以上(好ましくは３電子以上)の電子を放出し得る化合物である。言いかえればさらに２電子以上(好ましくは３電子以上)酸化され得る化合物である。
【０１１２】
タイプ１の化合物のうち好ましい化合物は一般式(Ａ)、一般式(Ｂ)、一般式（１）、一般式（２）または一般式（３）で表される。
【０１１３】
一般式（Ａ）
【化１７】

【０１１４】
一般式（Ｂ）
【化１８】

【０１１５】
一般式（Ａ）においてＲＥＤ₁₁は１電子酸化され得る還元性基を表し、Ｌ₁₁は脱離基を表す。
Ｒ₁₁₂は水素原子または置換基を表す。
Ｒ₁₁₁は炭素原子（C）およびＲＥＤ₁₁と共に、特定の５員もしくは６員の環状構造を形成し得る非金属原子団を表す。
ここに特定の５員もしくは６員の環状構造とは、５員もしくは６員の芳香族環（芳香族ヘテロ環を含む）のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体、もしくはオクタヒドロ体に相当する環構造を意味する。
【０１１６】
一般式（Ｂ）においてＲＥＤ₁₂は１電子酸化され得る還元性基を表し、Ｌ₁₂は、脱離基を表す。
Ｒ₁₂₁およびＲ₁₂₂は、それぞれ水素原子または置換基を表す。ＥＤ₁₂は電子供与性基を表す。
一般式（Ｂ）においてＲ₁₂₁とＲＥＤ₁₂、Ｒ₁₂₁とＲ₁₂₂、またはＥＤ₁₂とＲＥＤ₁₂とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【０１１７】
これら化合物は一般式(Ａ)または一般式(Ｂ)の、ＲＥＤ₁₁またはＲＥＤ₁₂で表される還元性基が１電子酸化された後、自発的にＬ₁₁またはＬ₁₂を結合開裂反応により離脱することで、即ちＣ(炭素原子)−Ｌ₁₁結合またはＣ(炭素原子)−Ｌ₁₂結合が開裂することで、これに伴いさらに電子を２つ以上、好ましくは３つ以上放出し得る化合物である。
【０１１８】
一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）
【化１９】

【０１１９】
一般式（１）においてＺ₁は窒素原子およびベンゼン環の２つの炭素原子と共に６員環を形成し得る原子団を表し、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ_N1はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｘ₁はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、ｍ₁は０〜３の整数を表し、Ｌ₁は脱離基を表す。
一般式（２）においてＥＤ₂₁は電子供与性基を表し、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ_N21、Ｒ_{1 3}、Ｒ₁₄はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｘ₂₁はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、ｍ₂₁は０〜３の整数を表し、Ｌ₂₁は脱離基を表す。
Ｒ_N21、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄、Ｘ₂₁およびＥＤ₂₁は、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
一般式（３）においてＲ₃₂、Ｒ₃₃、Ｒ₃₁、Ｒ_N31、Ｒ_a、Ｒ_bはそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｌ₃₁は脱離基を表す。
但し、Ｒ_N31がアリール基以外の基を表す時、Ｒ_aおよびＲ_bは互いに結合して芳香族環を形成する。
【０１２０】
これら化合物は１電子酸化された後、自発的にＬ₁、Ｌ₂₁、またはＬ₃₁を結合開裂反応により離脱することで、即ちＣ(炭素原子)−Ｌ₁結合、Ｃ(炭素原子)−Ｌ₂₁結合、またはＣ(炭素原子)−Ｌ₃₁結合が開裂することで、これに伴いさらに電子を２つ以上、好ましくは３つ以上放出し得る化合物である。
【０１２１】
以下、先ず一般式(Ａ)で表される化合物について詳しく説明する。
一般式(Ａ)においてＲＥＤ₁₁で表される１電子酸化され得る還元性基は、後述するＲ₁₁₁と結合して特定の環形成をし得る基であり、具体的には次の１価基から環形成をするのに適切な箇所の水素原子１個を除いた２価基が挙げられる。
例えば、アルキルアミノ基、アリールアミノ基(アニリノ基、ナフチルアミノ基等)、ヘテロ環アミノ基(ベンズチアゾリルアミノ基、ピロリルアミノ基等)、アルキルチオ基、アリールチオ基(フェニルチオ基等)、ヘテロ環チオ基、アルコキシ基、アリールオキシ基(フェノキシ基等)、ヘテロ環オキシ基、アリール基(フェニル基、ナフチル基、アントラニル基等)、芳香族または非芳香族のヘテロ環基(５員〜７員の、単環もしくは縮合環の、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、セレン原子のうち少なくとも１つのヘテロ原子を含むヘテロ環で、その具体例としては、例えばテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロキナゾリン環、インドリン環、インドール環、インダゾール環、カルバゾール環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、ベンゾチアゾリン環、ピロール環、イミダゾール環、チアゾリン環、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、メチレンジオキシフェニル環等が挙げられる)である（以後、便宜上ＲＥＤ₁₁は１価基名として記述する）。
これらは置換基を有していてもよい。
【０１２２】
置換基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基(アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基(置換する位置は問わない)、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、スルホニルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)チオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基またはその塩、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、等が挙げられる。
これら置換基は、これら置換基でさらに置換されていてもよい。
【０１２３】
一般式(Ａ)においてＬ₁₁は、ＲＥＤ₁₁で表される還元性基が１電子酸化された後に初めて結合開裂により脱離し得る脱離基を表し、具体的にはカルボキシ基もしくはその塩、シリル基、水素原子、トリアリールホウ素アニオン、トリアルキルスタニル基、トリアルキルゲルミル基、または−ＣＲ_C1Ｒ_C2Ｒ_C3基を表す。
【０１２４】
Ｌ₁₁がカルボキシ基の塩を表すとき、塩を形成するカウンターイオンとしては具体的にアルカリ金属イオン（Ｌｉ⁺、Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｃｓ⁺）、アルカリ土類金属イオン（Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｂａ²⁺）、重金属イオン（Ａｇ⁺、Ｆｅ^2+/3+）、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
Ｌ₁₁がシリル基を表す時、シリル基とは具体的にトリアルキルシリル基、アリールジアルキルシリル基、トリアリールシリル基などを表し、ここにアルキル基とはメチル、エチル、ベンジル、ｔ−ブチル基等が、またアリール基とはフェニル基などが挙げられる。
【０１２５】
Ｌ₁₁がトリアリールホウ素アニオンを表す時、アリール基として好ましくは、置換もしくは無置換のフェニル基で、置換基としてはＲＥＤ₁₁が有していても良い置換基と同じものが挙げられる。
Ｌ₁₁がトリアルキルスタニル基またはトリアルキルゲルミル基を表す時、ここにアルキル基とは炭素数１〜２４の、直鎖、分岐、または環状のアルキル基で、置換基を有していてもよく、置換基としてはＲＥＤ₁₁が有していても良い置換基と同じものが挙げられる。
【０１２６】
Ｌ₁₁が−ＣＲ_C1Ｒ_C2Ｒ_C3基を表す時、ここにＲ_C1、Ｒ_C2、Ｒ_C3はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基を表し、これらが互いに結合して環状構造を形成していてもよく、さらに置換基を有していてもよい。
置換基としてはＲＥＤ₁₁が有していても良い置換基と同じものが挙げられる。
但し、Ｒ_C1、Ｒ_C2、Ｒ_C3のうち１つが水素原子もしくはアルキル基を表す時、残る２つが水素原子またはアルキル基を表すことはない。
Ｒ_C1、Ｒ_C2、Ｒ_C3として好ましくは、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基（特にフェニル基）、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環基、アルコキシ基、ヒドロキシ基で、具体的にその例を挙げると、フェニル基、ｐ−ジメチルアミノフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、ｐ−ヒドロキシフェニル基、メチルチオ基、フェニルチオ基、フェノキシ基、メトキシ基、エトキシ基、ジメチルアミノ基、Ｎ−メチルアニリノ基、ジフェニルアミノ基、モルホリノ基、チオモルホリノ基、ヒドロキシ基などが挙げられる。
またこれらが互いに結合して環状構造を形成する場合の例としては１，３−ジチオラン−２−イル基、１，３−ジチアン−２−イル基、Ｎ−メチル−１，３−チアゾリジン−２−イル基、Ｎ−ベンジル−ベンゾチアゾリジン−２−イル基などが挙げられる。
【０１２７】
−ＣＲ_C1Ｒ_C2Ｒ_C3基として好ましくは、トリチル基、トリ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メチル基、１，１−ジフェニル−１−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）メチル基、１，１−ジフェニル−１−（メチルチオ）メチル基、１−フェニル−１，１−（ジメチルチオ）メチル基、１，３−ジチオラン−２−イル基、２−フェニル−１，３−ジチオラン−２−イル基、１，３−ジチアン−２−イル基、２−フェニル−１，３−ジチアン−２−イル基、２−メチル−１，３−ジチアン−２−イル基、Ｎ−メチル−１，３−チアゾリジン−２−イル基、２−メチル−３−メチル−１，３−チアゾリジン−２−イル基、Ｎ−ベンジル−ベンゾチアゾリジン−２−イル基、１，１−ジフェニル−１−ジメチルアミノメチル基、１，１−ジフェニル−１−モルホリノメチル基等が挙げられる。
また、−ＣＲ_C1Ｒ_C2Ｒ_C3基が、Ｒ_C1、Ｒ_C2、Ｒ_C3についてそれぞれ上述した範囲内で選択された結果として、一般式（Ａ）からＬ₁₁を除いた残基と同じ基を表す場合もまた好ましい。
【０１２８】
一般式(Ａ)においてＲ₁₁₂は水素原子または炭素原子に置換可能な置換基を表す。Ｒ₁₁₂が炭素原子に置換可能な置換基を表す時、ここに置換基とは具体的に、ＲＥＤ₁₁が置換基を有する時の置換基の例と同じものが挙げられる。
但しＲ₁₁₂がＬ₁₁と同じ基を表すことはない。
【０１２９】
一般式(Ａ)においてＲ₁₁₁は炭素原子(C)およびＲＥＤ₁₁と共に、特定の５員もしくは６員の環状構造を形成し得る非金属原子団を表す。
ここにＲ₁₁₁が形成する特定の５員もしくは６員の環状構造とは、５員もしくは６員の芳香族環(芳香族ヘテロ環を含む)のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体もしくはオクタヒドロ体に相当する環構造を意味する。
ここにヒドロ体とは、芳香族環(芳香族ヘテロ環を含む)に内在する炭素−炭素２重結合(または炭素−窒素２重結合)が部分的に水素化された環構造を意味し、テトラヒドロ体とは２つの炭素−炭素２重結合(または炭素−窒素２重結合)が水素化された構造を意味し、ヘキサヒドロ体とは３つの炭素−炭素２重結合(または炭素−窒素２重結合)が水素化された構造を意味し、オクタヒドロ体とは４つの炭素−炭素２重結合(または炭素−窒素２重結合)が水素化された構造を意味する。水素化されることで芳香族環は、部分的に水素化された非芳香族の環構造となる。
【０１３０】
具体的には、単環の５員環の場合の例としてはピロール環、イミダゾール環、チアゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環等の芳香族環のテトラヒドロ体に相当する、ピロリジン環、イミダゾリジン環、チアゾリジン環、ピラゾリジン環およびオキサゾリジン環等が挙げられる。
６員環の単環の場合の例としてはピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環等の芳香族環のテトラヒドロ体もしくはヘキサヒドロ体が挙げられ、例えばピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環等が挙げられる。
６員環の縮合環の場合の例としてはナフタレン環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、キノキサリン環等の芳香族環のテトラヒドロ体に相当する、テトラリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、およびテトラヒドロキノキサリン環等が挙げられる。
３環性化合物の場合の例としてはカルバゾール環のテトラヒドロ体のテトラヒドロカルバゾール環やフェナントリジン環のオクタヒドロ体であるオクタヒドロフェナントリジン環等が挙げられる。
【０１３１】
これらの環構造はさらに置換されていてもよく、その置換基の例としてはＲＥＤ₁₁が有していてもよい置換基について説明したものと同じものが挙げられる。
これらの環構造の置換基どおしがさらに連結して環を形成していてもよく、ここに新たに形成される環は非芳香族の炭素環またはヘテロ環である。
【０１３２】
次に本発明の一般式(Ａ)で表される化合物の好ましい範囲を説明する。
一般式(Ａ)においてＬ₁₁は、好ましくはカルボキシ基またはその塩、および水素原子である。より好ましくはカルボキシ基またはその塩である。
塩のカウンターイオンとして好ましくはアルカリ金属イオンまたはアンモニウムイオンであり、アルカリ金属イオン(特にＬｉ⁺、Ｎａ⁺、Ｋ⁺イオン)が最も好ましい。
【０１３３】
Ｌ₁₁が水素原子を表す時、一般式(Ａ)で表される化合物は、分子内に内在する塩基部位を有していることが好ましい。
この塩基部位の作用により、一般式(Ａ)で表される化合物が酸化された後、Ｌ₁₁で表される水素原子が脱プロトン化されて、ここからさらに電子が放出されるのである。
【０１３４】
ここに塩基とは、具体的に約１〜約１０のpKaを示す酸の共役塩基である。
例えば含窒素ヘテロ環類(ピリジン類、イミダゾール類、ベンゾイミダゾール類、チアゾール類など）、アニリン類、トリアルキルアミン類、アミノ基、炭素酸類 (活性メチレンアニオンなど)、チオ酢酸アニオン、カルボキシレート(−ＣＯＯ^-）、サルフェート(−ＳＯ₃ ^-）、またはアミンオキシド(＞N⁺(O^-)−)などが挙げられる。
好ましくは約１〜約８のpKaを示す酸の共役塩基であり、カルボキシレート、サルフェート、またはアミンオキシドがより好ましく、カルボキシレートが特に好ましい。
これらの塩基がアニオンを有する時、対カチオンを有していてもよく、その例としてはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、重金属イオン、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
これら塩基は、任意の位置で一般式(Ａ)で表される化合物に連結される。これら塩基部位が結合する位置としては、一般式(Ａ)のRED₁₁、Ｒ₁₁₁、Ｒ₁₁₂の何れでもよく、またこれらの基の置換基に連結していてもよい。
【０１３５】
L₁₁が水素原子を表す時、該水素原子と塩基部位は８個以下の原子団で連結されていることが好ましい。さらには５個以上、８個以下の原子団で連結されていることがより好ましい。
ここで連結原子団としてカウントされるのは、塩基部位の中心的原子（すなわちアニオンを有する原子または孤立電子対を有する原子）と該水素原子とを共有結合で連結する原子団であり、例えばカルボキシレートの場合には−Ｃ−Ｏ^-の２原子がカウントされ、サルフェートの場合にはＳ−Ｏ^-の２原子がカウントされる。
また、一般式（Ａ）のCで表される炭素原子も、その数に加えられる。
【０１３６】
一般式（Ａ）において、L₁₁が水素原子を表し、ＲＥＤ₁₁がアニリン類を表し、かつその窒素原子がＲ₁₁₁と６員の単環の飽和の環構造（ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環、セレノモルホリン環など）を形成する時、該化合物は分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有することが好ましく、また同時に該化合物は分子内に内在する塩基部位を有し、その塩基部位と該水素原子とが８個以下の原子団で連結されていることがより好ましい。
【０１３７】
一般式(Ａ)においてＲＥＤ₁₁は、好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリール基、芳香族または非芳香族のヘテロ環基であり、このうちヘテロ環基に関してはテトラヒドロキノリニル基、テトラヒドロキノキサリニル基、テトラヒドロキナゾリニル基、インドリル基、インドレニル基、カルバゾリル基、フェノキサジニル基、フェノチアジニル基、ベンゾチアゾリニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、チアゾリジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾイミダゾリニル基、3,4-メチレンジオキシフェニル-1-イル基などが好ましい。
さらに好ましくはアリールアミノ基(特にアニリノ基)、アリール基(特にフェニル基)である。
ここでＲＥＤ₁₁がアリール基を表す時、アリール基は少なくとも１つの電子供与性基（電子供与性基の数は、好ましくは４つ以下であり、より好ましくは１〜３つ）を有していることが好ましい。
ここに電子供与性基とは即ち、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、活性メチン基、電子過剰な芳香族ヘテロ環基(例えばインドリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、チアゾリル基、ベンズチアゾリル基、インダゾリル基など)、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基(ピロリジニル基、インドリニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリノ基など)である。
ここで活性メチン基とは２つの電子求引性基で置換されたメチン基を意味し、ここに電子求引性基とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボンイミドイル基を意味する。ここで２つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。
ＲＥＤ₁₁がアリール基を表す時、そのアリール基の置換基としてより好ましくはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基であり、さらに好ましくはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基であり、最も好ましくはアルキルアミノ基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基である。
【０１３８】
一般式(Ａ)においてＲ₁₁₂は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基(フェニル基など)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基など)、ヒドロキシ基、アルキルチオ基(メチルチオ基、ブチルチオ基など)、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、フェニル基、アルキルアミノ基である。
【０１３９】
一般式(Ａ)においてＲ₁₁₁は好ましくは、炭素原子(C)およびＲＥＤ₁₁と共に、以下の特定の５員もしくは６員の環状構造を形成し得る非金属原子団である。即ち、単環の５員環の芳香族環であるピロール環、イミダゾール環のテトラヒドロ体に相当するピロリジン環、イミダゾリジン環等や、単環の６員環の芳香族環であるピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環のテトラヒドロ体もしくはヘキサヒドロ体（例えば、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環など）や、縮合環の６員環の芳香族環であるナフタレン環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、キノキサリン環のテトラヒドロ体に相当する、テトラリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、およびテトラヒドロキノキサリン環などや、３環性の芳香族環であるカルバゾール環のテトラヒドロ体であるテトラヒドロカルバゾール環や、フェナントリジン環のオクタヒドロ体であるオクタヒドロフェナントリジン環などが挙げられる。
Ｒ₁₁₁が形成する環状構造としてさらに好ましくは、ピロリジン環、イミダゾリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロカルバゾール環であり、特に好ましくは、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロカルバゾール環であり、最も好ましくはピロリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロキノリン環である。
【０１４０】
次に一般式(Ｂ)について詳しく説明する。
一般式(Ｂ)においてＲＥＤ₁₂、Ｌ₁₂は、それぞれ一般式(Ａ)のＲＥＤ₁₁、Ｌ₁₁に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。
但し、ＲＥＤ₁₂は下記の環状構造を形成する場合以外は１価基であり、具体的にはＲＥＤ₁₁で記載した１価基名の基が挙げられる。
Ｒ₁₂₁およびＲ₁₂₂は一般式(Ａ)のＲ₁₁₂に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。ＥＤ₁₂は電子供与性基を表す。
Ｒ₁₂₁とＲＥＤ₁₂、Ｒ₁₂₁とＲ₁₂₂、またはＥＤ₁₂とＲＥＤ₁₂とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【０１４１】
一般式(Ｂ)においてＥＤ₁₂で表される電子供与性基とは、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、活性メチン基、電子過剰な芳香族ヘテロ環基(例えばインドリル基、ピロリル基、インダゾリル基)、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基(ピロリジニル基、ピペリジニル基、インドリニル基、ピペラジニル基、モルホリノ基など)、およびこれら電子供与性基で置換されたアリール基(例えばp-ヒドロキシフェニル基、p-ジアルキルアミノフェニル基、o,p-ジアルコキシフェニル基、4-ヒドロキシナフチル基など)である。
ここで活性メチン基とは、ＲＥＤ₁₁がアリール基を表すときの置換基として説明したものに同じである。
ＥＤ₁₂として好ましくはヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、活性メチン基、電子過剰な芳香族ヘテロ環基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、およびこれら電子供与性基で置換されたフェニル基であり、さらにヒドロキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、およびこれら電子供与性基で置換されたフェニル基(例えばp-ヒドロキシフェニル基、p-ジアルキルアミノフェニル基、o,p-ジアルコキシフェニル基等)が好ましい。
【０１４２】
一般式(Ｂ)においてＲ₁₂₁とＲＥＤ₁₂、Ｒ₁₂₂とＲ₁₂₁、またはＥＤ₁₂とＲＥＤ₁₂とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
ここで形成される環状構造とは、非芳香族の炭素環もしくはヘテロ環であって、５員〜７員環の単環または縮合環で、置換もしくは無置換の環状構造である。Ｒ₁₂₁とＲＥＤ₁₂とが環構造を形成するとき、その具体例としてはピロリジン環、ピロリン環、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、チアゾリジン環、チアゾリン環、ピラゾリジン環、ピラゾリン環、オキサゾリジン環、オキサゾリン環、インダン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、インドリン環、テトラリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロ-1,4-オキサジン環、2,3-ジヒドロベンゾ-1,4-オキサジン環、テトラヒドロ-1,4-チアジン環、2, 3-ジヒドロベンゾ-1,4-チアジン環、2,3-ジヒドロベンゾフラン環、2,3-ジヒドロベンゾチオフェン環等が挙げられる。
ＥＤ₁₂とＲＥＤ₁₂とが環構造を形成するとき、ＥＤ₁₂は好ましくはアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基を表し、形成される環構造の具体例としては、テトラヒドロピラジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロイソキノリン環などが挙げられる。
Ｒ₁₂₂とＲ₁₂₁とが環構造を形成するとき、その具体例としてはシクロヘキサン環、シクロペンタン環などが挙げられる。
【０１４３】
本発明の一般式(Ａ)で表される化合物のうちさらに好ましいものは、以下の一般式(１０)〜(１２)で、また一般式(Ｂ)で表される化合物のうちさらに好ましいものは、以下の一般式(１３)および(１４)で表される。
【０１４４】
【化２０】

【０１４５】
一般式(１０)〜(１４)において、Ｌ₁₀₀、Ｌ₁₀₁、Ｌ₁₀₂、Ｌ₁₀₃、Ｌ₁₀₄は一般式(Ａ)のＬ₁₁に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。
Ｒ₁₁₀₀とＲ₁₁₀₁、Ｒ₁₁₁₀とＲ₁₁₁₁、Ｒ₁₁₂₀とＲ₁₁₂₁、Ｒ₁₁₃₀とＲ₁₁₃₁、Ｒ₁₁₄₀とＲ₁₁₄₁は、それぞれ一般式(Ｂ)のＲ₁₂₂とＲ₁₂₁に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。
ＥＤ₁₃、ＥＤ₁₄はそれぞれ一般式(Ｂ)のＥＤ₁₂と同義の基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。
X₁₀、X₁₁、X₁₂、X₁₃、X₁₄はそれぞれベンゼン環に置換可能な置換基を表し、ｍ₁₀、m₁₁、m₁₂、m₁₃、m₁₄はそれぞれ０〜３の整数を表し、これらが複数の時、複数のＸ₁₀、Ｘ₁₁、Ｘ₁₂、Ｘ₁₃、Ｘ₁₄は同じでも異なっていてもよい。
Ｙ₁₂およびＹ₁₄はアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、窒素原子で置換する非芳香族の含窒素ヘテロ環基(ピロリル基、ピペリジニル基、インドリニル基、ピペラジノ基、モルホリノ基など)、ヒドロキシ基、アルコキシ基を表す。
【０１４６】
Ｚ₁₀、Ｚ₁₁、Ｚ₁₂は、特定の環構造を形成しうる非金属原子団を表す。
Ｚ₁₀が形成する特定の環構造とは、５員または６員の、単環もしくは縮合環の、含窒素芳香族ヘテロ環のテトラヒドロ体もしくはヘキサヒドロ体にあたる環構造で、具体的にはピロリジン環、イミダゾリジン環、チアゾリジン環、ピラゾリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキノキサリン環、などが例として挙げられる。
Ｚ₁₁が形成する特定の環構造とは、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環である。
Ｚ₁₂が形成する特定の環構造とは、テトラリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環である。
【０１４７】
Ｒ_N11、Ｒ_N13はそれぞれ水素原子、または窒素原子に置換可能な置換基である。
置換基としては具体的に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アシル基であり、好ましくはアルキル基、アリール基である。
【０１４８】
Ｘ₁₀、Ｘ₁₁、Ｘ₁₂、Ｘ₁₃、Ｘ₁₄で表されるベンゼン環に置換可能な置換基としては、一般式(Ａ)のＲＥＤ₁₁が有していてもよい置換基の例と同じものが具体例として挙げられる。
好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、ニトロ基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)チオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、スルファモイル基等である。
ｍ₁₀、m₁₁、m₁₂、m₁₃、m₁₄は好ましくは０〜２であり、さらに好ましくは０または１である。
【０１４９】
Ｙ₁₂およびＹ₁₄は好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、窒素原子で置換する非芳香族の含窒素ヘテロ環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基であり、さらに好ましくはアルキルアミノ基、窒素原子で置換する５〜６員の非芳香族含窒素ヘテロ環基、ヒドロキシ基であり、最も好ましくはアルキルアミノ基(特にジアルキルアミノ基)または窒素原子で置換する５〜６員の非芳香族含窒素ヘテロ環基である。
【０１５０】
一般式(１３)においてＲ₁₁₃₁とＸ₁₃、Ｒ₁₁₃₁とＲ_N13、Ｒ₁₁₃₀とＸ₁₃、またはＲ₁₁₃₀とＲ_N13とが結合して、環状構造を形成していてもよい。
また一般式(１４)においてＲ₁₁₄₁とＸ₁₄、Ｒ₁₁₄₁とＲ₁₁₄₀、ＥＤ₁₄とＸ₁₄、またはＲ₁₁₄₀とＸ₁₄とが結合して、環状構造を形成していてもよい。
ここで形成される環状構造とは、非芳香族の炭素環もしくはヘテロ環であって、５員〜７員環の単環または縮合環で、置換もしくは無置換の環状構造である。一般式(１３)においてＲ₁₁₃₁とＸ₁₃とが結合して環状構造を形成する場合、およびＲ₁₁₃₁とＲ_N13とが結合して環状構造を形成する場合は、環構造を形成しない場合と同様に、一般式(１３)で表される化合物の好ましい例である。
一般式(１３)においてＲ₁₁₃₁とＸ₁₃とで形成される環構造としては具体的に、インドリン環(この場合、Ｒ₁₁₃₁は単結合を表すことになる)、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、2,3-ジヒドロベンゾ-1,4-オキサジン環、2,3-ジヒドロベンゾ-1,4-チアジン環、などが挙げられる。
特に好ましくはインドリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環である。
一般式(１３)においてＲ₁₁₃₁とＲ_N13とで形成される環構造としては具体的に、ピロリジン環、ピロリン環、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、チアゾリジン環、チアゾリン環、ピラゾリジン環、ピラゾリン環、オキサゾリジン環、オキサゾリン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、インドリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロ-1,4-オキサジン環、2,3-ジヒドロベンゾ-1,4-オキサジン環、テトラヒドロ-1,4-チアジン環、2,3-ジヒドロベンゾ-1,4-チアジン環、2,3-ジヒドロベンゾフラン環、2,3-ジヒドロベンゾチオフェン環、等が挙げられる。
特に好ましくはピロリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環である。
【０１５１】
一般式(１４)においてＲ₁₁₄₁とＸ₁₄とが結合して環状構造を形成する場合、およびＥＤ₁₄とＸ₁₄とが結合して環状構造を形成する場合は、環構造を形成しない場合と同様に、一般式(１４)で表される化合物の好ましい例である。
一般式(１４)においてＲ₁₁₄₁とＸ₁₄とが結合して形成する環状構造としては、インダン環、テトラリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、インドリン環などが挙げられる。
ＥＤ₁₄とＸ₁₄とが結合して形成する環状構造としては、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロシンノリン環などが挙げられる。
【０１５２】
次に一般式（１）〜（３）について説明する。
一般式（１）〜（３）において、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₃₁はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、これらは一般式（Ａ）のＲ₁₁₂と同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。
Ｌ₁、Ｌ₂₁、Ｌ₃₁はそれぞれ独立に脱離基を表し、これは一般式（Ａ）のＬ₁₁について説明した中で具体例として挙げた基と同じ基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。
Ｘ₁、Ｘ₂₁はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、それぞれ独立に一般式（Ａ）のＲＥＤ₁₁が置換基を有する時の置換基の例と同じものが挙げらる。
ｍ₁、ｍ₂₁は０〜３の整数を表し、好ましくは０〜２であり、より好ましくは０または１である。
【０１５３】
Ｒ_N1、Ｒ_N21、Ｒ_N31は水素原子または窒素原子に置換可能な置換基を表し、置換基としてはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基が好ましく、これらはさらに置換基を有していてもよく、その置換基としては一般式（Ａ）のＲＥＤ₁₁が有していても良い置換基と同じものが挙げられる。
Ｒ_N1、Ｒ_N21、Ｒ_N31は水素原子、アルキル基またはアリール基が好ましく、水素原子またはアルキル基がより好ましい。
【０１５４】
Ｒ₁₃、Ｒ₁₄、Ｒ₃₂、Ｒ₃₃、Ｒ_a、Ｒ_bはそれぞれ独立に水素原子または炭素原子に置換可能な置換基を表す。
置換基としては一般式（Ａ）においてＲＥＤ₁₁が有していても良い置換基と同じものが挙げられる。
好ましくは、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、アルコキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基などである。
【０１５５】
一般式（１）においてＺ₁は窒素原子およびベンゼン環の２つの炭素原子と共に６員環を形成し得る原子団を表す。
Ｚ₁が形成する６員環は、一般式（１）のベンゼン環と縮合した非芳香族のヘテロ環であり、具体的には縮合するベンゼン環も含めた環構造としてテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロキナゾリン環であり、これらは置換基を有していてもよい。
置換基としては、一般式（Ａ）のＲ₁₁₂が置換基を表す時の例と同じものが挙げられ、その好ましい範囲もまた同じである。
【０１５６】
一般式（１）においてＺ₁は好ましくは窒素原子およびベンゼン環の２つの炭素原子と共にテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環を形成する原子団を表す。
【０１５７】
一般式（２）においてＥＤ₂₁は電子供与性基を表し、これは一般式（Ｂ）のＥＤ₁₂と同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。
【０１５８】
一般式（２）においてＲ_N21、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄、Ｘ₂₁およびＥＤ₂₁のいずれか２つは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
ここでＲ_N21とＸ₂₁が結合して形成される環状構造とは、好ましくはベンゼン環と縮合した５員〜７員の非芳香族の炭素環もしくはヘテロ環であって、その具体例としては、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、インドリン環、２，３−ジヒドロ−５，６−ベンゾ−１，４−チアジン環などが挙げられる。
好ましくはテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、インドリン環である。
【０１５９】
一般式（３）においてＲ_N31がアリール基以外の基を表す時、Ｒ_aおよびＲ_bは互いに結合して芳香族環を形成する。
ここに芳香族環とはアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基）および芳香族ヘテロ環基（例えばピリジン環基、ピロール環基、キノリン環基、インドール環基など）であり、アリール基が好ましい。
該芳香族環基は置換基を有していてもよく、その置換基としては一般式（１）におけるＸ₁が置換基を表す時に挙げた置換基と同じものが挙げられ、その好ましい範囲もまた同じである。
一般式（３）においてＲ_aおよびＲ_bは、互いに結合して芳香族環（特にフェニル基）を形成する場合が好ましい。
【０１６０】
一般式（３）においてＲ₃₂は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、アミノ基などであり、ここにＲ₃₂がヒドロキシ基を表す時、同時にＲ₃₃が電子求引性基を表す場合も好ましい例の１つである。
ここに電子求引性基とは、アシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボンイミドイル基を意味し、アシル基、アルコシキカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基が好ましい。
【０１６１】
次にタイプ２の化合物について説明する。
タイプ２の化合物は１電子酸化されて１電子酸化体となった後に、初めて結合開裂反応を伴なってさらにもう１電子を放出し、言いかえればさらに１電子酸化され得る化合物である。
ここに結合開裂反応とは炭素−炭素、炭素−ケイ素、炭素−水素、炭素−ホウ素、炭素−スズ、炭素−ゲルマニウムの各元素間の結合の開裂を意味し、炭素−水素結合の開裂がこれに付随してもよい。
【０１６２】
但し、タイプ２の化合物は分子内にハロゲン化銀への吸着性基を２つ以上（好ましくは２〜６つ、より好ましくは２〜４つ）有する化合物である。
より好ましくは２つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物である。
吸着性基の数は、好ましくは２〜６、さらに好ましくは２〜４が良い。吸着性基については後述する。
【０１６３】
タイプ２の化合物のうち好ましい化合物は一般式(Ｃ)で表される。
【０１６４】
一般式（Ｃ）
【化２１】

【０１６５】
ここに一般式（Ｃ）で表される化合物は、ＲＥＤ₂で表される還元性基が１電子酸化された後、自発的にＬ₂を結合開裂反応により離脱することで、即ちＣ(炭素原子)−Ｌ₂結合が開裂することで、これに伴いさらに電子を１つ放出し得る化合物である。
【０１６６】
一般式(Ｃ)においてＲＥＤ₂は一般式(Ｂ)のＲＥＤ₁₂と同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。
Ｌ₂は一般式(Ａ)のＬ₁₁について説明したのと同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。
なおＬ₂がシリル基を表す時、該化合物は分子内に、２つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物である。
Ｒ₂₁、Ｒ₂₂は水素原子または置換基を表し、これらは一般式(Ａ)のＲ₁₁₂と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。
ＲＥＤ₂とＲ₂₁とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。
【０１６７】
ここで形成される環構造とは、５員〜７員の、単環もしくは縮合環の、非芳香族の炭素環またはヘテロ環であり、置換基を有していてもよい。
但し、該環構造が、芳香族環または芳香族ヘテロ環のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体もしくはオクタヒドロ体に相当する環構造であることはない。
置換基としては一般式（Ａ）のＲＥＤ₁₁が置換基を有する時の置換基の例と同じものが挙げられる。
環構造として好ましくは、芳香族環または芳香族ヘテロ環のジヒドロ体に相当する環構造で、その具体例としては、例えば２−ピロリン環、２−イミダゾリン環、２−チアゾリン環、１，２−ジヒドロピリジン環、１，４−ジヒドロピリジン環、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、２，３−ジヒドロベンゾチオフェン環、２，３−ジヒドロベンゾフラン環、ベンゾ−α−ピラン環、１，２−ジヒドロキノリン環、１，２−ジヒドロキナゾリン環、１，２−ジヒドロキノキサリン環などが挙げられる。
【０１６８】
好ましくは、２−イミダゾリン環、２−チアゾリン環、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、１，２−ジヒドロピリジン環、１，２−ジヒドロキノリン環、１，２−ジヒドロキナゾリン環、１，２−ジヒドロキノキサリン環などが挙げられ、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、１，２−ジヒドロキノリン環がより好ましく、インドリン環が特に好ましい。
【０１６９】
次にタイプ３の化合物について説明する。
タイプ３の化合物は１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合形成過程を経た後に、さらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得ることを特徴とする化合物であり、ここに結合形成過程とは炭素−炭素、炭素−窒素、炭素−硫黄、炭素−酸素などの原子間結合の形成を意味する。
【０１７０】
タイプ３の化合物は好ましくは、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続いて分子内に共存する反応性基部位（炭素−炭素２重結合部位、炭素−炭素３重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位）と反応して結合を形成した後に、さらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得ることを特徴とする化合物である。
【０１７１】
タイプ３の化合物が１電子酸化されて生成する１電子酸化体とはカチオンラジカル種であるが、そこからプロトンの脱離を伴って中性のラジカル種となる場合も在り得る。
この１電子酸化体(カチオンラジカル種もしくはラジカル種)が、同じ分子内に共存する炭素−炭素２重結合部位、炭素−炭素３重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位と反応し、炭素−炭素、炭素−窒素、炭素−硫黄、炭素−酸素などの原子間結合を形成して、分子内に新たな環構造を形成する。
その際同時に、もしくはその後に、さらに１電子もしくはそれ以上の電子が放出される点にタイプ３の化合物の特徴がある。
【０１７２】
さらに詳細に述べるとタイプ３の化合物は、１電子酸化された後にこの結合形成反応により新たに環構造を有するラジカル種を生成するが、このラジカル種から直接もしくはプロトンの脱離を伴って、さらに２電子目の電子が放出され、酸化される特徴を有している。
【０１７３】
タイプ３の化合物にはさらに、そうして生成した２電子酸化体がその後、ある場合には加水分解反応を受けた後に、またある場合には直接、プロトンの異動に伴なう互変異性化反応を起して、そこからさらに１電子以上、通常２電子以上の電子を放出し、酸化される能力を有しているものが含まれる。
あるいはまたこうした互変異性化反応を経由せずに、直接その２電子酸化体から、さらに１電子以上、通常２電子以上の電子を放出し、酸化される能力を有しているものが含まれる。
【０１７４】
タイプ３の化合物は好ましくは、一般式(Ｄ)で表される。
【０１７５】
一般式（Ｄ）
【化２２】

【０１７６】
一般式(Ｄ)においてＲＥＤ₃は１電子酸化され得る還元性基を表し、Ｙ₃はＲＥＤ₃が１電子酸化された後に反応する反応性基部位を表し、具体的には炭素−炭素２重結合部位、炭素−炭素３重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位を含む有機基を表す。
Ｌ₃はＲＥＤ₃とＹ₃とを連結する連結基を表す。
【０１７７】
一般式(Ｄ)においてＲＥＤ₃は、一般式(Ｂ)のＲＥＤ₁₂と同義の基を表す。
一般式（Ｄ）においてＲＥＤ₃は、好ましくはアリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリール基、芳香族または非芳香族のヘテロ環基（特に含窒素ヘテロ環基が好ましい）であり、さらに好ましくはアリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリール基、芳香族または非芳香族のヘテロ環基であり、このうちヘテロ環基に関しては、テトラヒドロキノリン環基、テトラヒドロキノキサリン環基、テトラヒドロキナゾリン環基、インドリン環基、インドール環基、カルバゾール環基、フェノキサジン環基、フェノチアジン環基、ベンゾチアゾリン環基、ピロール環基、イミダゾール環基、チアゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ベンゾイミダゾリン環基、ベンゾチアゾリン環基、3,4-メチレンジオキシフェニル-1-イル基などが好ましい。
ＲＥＤ₃として特に好ましくはアリールアミノ基（特にアニリノ基）、アリール基（特にフェニル基）、芳香族または非芳香族のヘテロ環基である。
【０１７８】
ここでＲＥＤ₃がアリール基を表す時、アリール基は少なくとも１つの電子供与性基を有していることが好ましい。
ここに電子供与性基とは、即ち、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、活性メチン基、電子過剰な芳香族ヘテロ環基（例えばインドリル基、ピロリル基、インダゾリル基）、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基（ピロリジニル基、インドリニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリノ基、チオモルホリノ基など）である。
ここで活性メチン基とは、２つの電子求引性基で置換されたメチン基を意味し、ここに電子求引性基とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボンイミドイル基を意味する。
ここで２つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。
【０１７９】
ＲＥＤ₃がアリール基を表す時、そのアリール基の置換基としてより好ましくはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基であり、さらに好ましくはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基であり、最も好ましくはアルキルアミノ基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基である。
【０１８０】
一般式(Ｄ)においてＹ₃で表される反応性基が置換基を有する炭素−炭素２重結合または炭素−炭素３重結合を含む有機基を表す時、その置換基として好ましくは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜８）、アリール基（好ましくは炭素数６〜１２）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜８）、カルバモイル基、アシル基、電子供与性基などである。
ここに電子供与性基とは、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜８）、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基（好ましくは炭素数１〜８）、アリールアミノ基（好ましくは炭素数６〜１２）、ヘテロ環アミノ基（好ましくは炭素数２〜６）、スルホンアミド基、アシルアミノ基、活性メチン基、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜８）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜１２）、およびこれらの基を置換基に有するアリール基（アリール部分の炭素数は好ましくは６〜１２）である。
ヒドロキシ基がシリル基で保護されていてもよく、例えばトリメチルシリルオキシ基、t-ブチルジメチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、フェニルジメチルシリルオキシ基などが挙げられる。
炭素−炭素２重結合部位および炭素−炭素３重結合部位の例としては、ビニル基、エチニル基が挙げられる。
【０１８１】
Ｙ₃が置換基を有する炭素−炭素２重結合部位を含む有機基を表すとき、その置換基としてより好ましくは、アルキル基、フェニル基、アシル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、電子供与基などであり、ここに電子供与性基として好ましくは、アルコキシ基、ヒドロキシ基（シリル基で保護されていてもよい）、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、スルホンアミド基、活性メチン基、メルカプト基、アルキルチオ基、およびこれら電子供与性基を置換基に有するフェニル基である。
【０１８２】
なおここで炭素−炭素２重結合部位を含む有機基が置換基としてヒドロキシ基を有する時、Ｙ₃は右記部分構造：＞Ｃ₁＝Ｃ₂（−ＯＨ）−を含むことになるが、これは互変異性化して右記部分構造：＞Ｃ₁Ｈ−Ｃ₂(＝Ｏ)−となっていても良い。
さらにこの場合に、該Ｃ₁炭素に置換する置換基が電子求引性基である場合もまた好ましく、この場合Ｙ₃は「活性メチレン基」または「活性メチン基」の部分構造を有することになる。
このような活性メチレン基または活性メチン基の部分構造を与え得る電子求引性基とは、上述の「活性メチン基」の説明の中で説明したものと同じである。
【０１８３】
Ｙ₃が置換基を有する炭素−炭素３重結合部位を含む有機基を表すとき、その置換基としてはアルキル基、フェニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、電子供与基などが好ましく、ここに電子供与性基として好ましくは、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、活性メチン基、メルカプト基、アルキルチオ基、およびこれら電子供与性基を置換基に有するフェニル基である。
【０１８４】
Ｙ₃が芳香族基部位を含む有機基を表す時、芳香族基として好ましくは電子供与性基を置換基として有するアリール基（特にフェニル基が好ましい）またはインドール環基で、ここに電子供与性基として好ましくは、ヒドロキシ基（シリル基で保護ざれていてもよい）、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、活性メチン基、スルホンアミド基、メルカプト基である。
【０１８５】
Ｙ₃がベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位を含む有機基を表す時、ベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基として好ましくはアニリン構造を部分構造として内在するもので、例えば、インドリン環基、１，２，３，４−テトラヒドロキノリン環基、１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン環基、４−キノロン環基などが挙げられる。
【０１８６】
一般式(Ｄ)においてＹ₃で表される反応性基としてより好ましくは、炭素−炭素２重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基を含む有機基である。
さらに好ましくは、炭素−炭素２重結合部位、電子供与性基を置換基として有するフェニル基、インドール環基、アニリン構造を部分構造として内在するベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基である。
ここに炭素−炭素２重結合部位は少なくとも１つの電子供与性基を置換基として有することがより好ましい。
【０１８７】
一般式(Ｄ)においてＹ₃で表される反応性基が、これまでに説明した範囲から選択された結果として、一般式(Ｄ)においてＲＥＤ₃で表される還元性基と同じ部分構造を有する場合もまた、一般式（Ｄ）で表される化合物の好ましい例である。
【０１８８】
一般式(Ｄ)においてＬ₃は、ＲＥＤ₃とＹ₃とを連結する連結基を表し、具体的には単結合、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ_N−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＳＯ−、−Ｐ（＝Ｏ）−の各基の単独、またはこれらの基の組み合わせからなる基を表す。
ここにＲ_Nは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。
Ｌ₃で表される連結基は置換基を有していてもよい。
置換基としては、一般式(Ａ)のＲＥＤ₁₁が有していてもよい置換基として説明したものと同じものが挙げられる。
Ｌ₃で表される連結基は、ＲＥＤ₃およびＹ₃で表される基の任意の位置で、それぞれの任意の１個の水素原子と置換する形で、連結され得る。
【０１８９】
一般式(Ｄ)のＬ₃で表される基は、一般式(Ｄ)のＲＥＤ₃が酸化されて生成するカチオンラジカル種（Ｘ⁺・）、またはそこからプロトンの脱離を伴って生成するラジカル種（Ｘ・）と、一般式(Ｄ)のＹ₃で表される反応性基とが反応して結合形成する際、これに関わる原子団が、Ｌ₃を含めて３〜７員の環状構造を形成しうることが好ましい。
この為にはラジカル種（Ｘ⁺・またはＸ・）、Ｙで表される反応性基、およびＬが、３〜７個の原子団で連結されていることが好ましい。
【０１９０】
Ｌ₃の好ましい例としては、単結合、アルキレン基（特にメチレン基、エチレン基、プロピレン基）、アリーレン基(特にフェニレン基)、−Ｃ（＝Ｏ）−基、−Ｏ−基、−ＮＨ−基、−Ｎ(アルキル基)−基、およびこれらの基の組み合わせからなる２価の連結基が挙げられる。
【０１９１】
一般式(Ｄ)で表される化合物のうち、好ましい化合物は、以下の一般式(Ｄ−１)〜（Ｄ−４）によって表される。
【０１９２】
【化２３】

【０１９３】
一般式(Ｄ−１)〜(Ｄ−４)においてＡ₁₀₀、Ａ₂₀₀、Ａ₄₀₀はアリーレン基または２価のヘテロ環基を表し、Ａ₃₀₀はアリール基またはヘテロ環基を表わす。
これらの環基の好ましい範囲は一般式(Ｄ)のＲＥＤ₃の好ましい範囲と同じである。
Ｌ₃₀₁、Ｌ₃₀₂、Ｌ₃₀₃、Ｌ₃₀₄は連結基を表し、これは一般式(Ｄ)のＬ₃と同義の基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。
Ｙ₁₀₀、Ｙ₂₀₀、Ｙ₃₀₀、Ｙ₄₀₀は反応性基を表し、これは一般式(Ｄ)のＹ₃と同義の基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。
Ｒ₃₁₀₀、Ｒ₃₁₁₀、Ｒ₃₂₀₀、Ｒ₃₂₁₀、Ｒ₃₃₁₀は水素原子または置換基を表す。
Ｒ₃₁₀₀、Ｒ₃₁₁₀は好ましくは水素原子、アルキル基またはアリール基である。
Ｒ₃₂₀₀、Ｒ₃₃₁₀は好ましくは水素原子である。
Ｒ₃₂₁₀は好ましくは置換基であり、置換基として好ましくはアルキル基またはアリール基である。
Ｒ₃₁₁₀はＡ₁₀₀と、Ｒ₃₂₁₀はＡ₂₀₀と、Ｒ₃₃₁₀はＡ₃₀₀と、それぞれ結合して環構造を形成していてもよい。
ここに形成される環構造として好ましくは、テトラリン環、インダン環、テトラヒドロキノリン環、インドリン環などである。
Ｘ₄₀₀はヒドロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基を表し、好ましくはヒドロキシ基、メルカプト基で、より好ましくはメルカプト基である。
【０１９４】
一般式(Ｄ−１)〜(Ｄ−４)のうち、より好ましい化合物は、一般式(Ｄ−２)、(Ｄ−３)、(Ｄ−４)で表される化合物である。
さらに好ましくは一般式 (Ｄ−２)または(Ｄ−３)で表される化合物である。
【０１９５】
次にタイプ４の化合物について説明する。
タイプ４の化合物は還元性基の置換した環構造を有する化合物であり、該還元性基が１電子酸化された後、環構造の開裂反応を伴ってさらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出しうる化合物である。
タイプ４の化合物は１電子酸化を受けた後に環構造が開裂する。ここで言う環の開裂反応は、下記で表される形式のものを指す。
【０１９６】
【化２４】

【０１９７】
式中、化合物aはタイプ４の化合物を表す。
化合物a中、Ｄは還元性基を表し、Ｘ、Ｙは環構造中の１電子酸化後に開裂する結合を形成している原子を表す。
まず、化合物aが１電子酸化されて 1電子酸化体ｂを生成する。ここからＤ−Ｘの単結合が２重結合になると同時にＸ−Ｙの結合が切断され開環体ｃが生成する。あるいはまた1電子酸化体ｂからプロトンの脱離を伴ってラジカル中間体ｄが生成し、ここから同様に開環体eを生成する経路をとる場合もある。
このように生成した開環体ｃまたはeから、引き続きさらに1つ以上の電子が放出される点に本発明の化合物の特徴がある。
【０１９８】
タイプ４の化合物が有する環構造とは、３〜７員環の炭素環またはヘテロ環であり、単環もしくは縮環の、飽和もしくは不飽和の非芳香族の環を表す。
好ましくは飽和の環構造であり、より好ましくは3員環あるいは4員環である。好ましい環構造としてはシクロプロパン環、シクロブタン環、オキシラン環、オキセタン環、アジリジン環、アゼチジン環、エピスルフィド環、チエタン環が挙げられる。
より好ましくはシクロプロパン環、シクロブタン環、オキシラン環、オキセタン環、アゼチジン環であり、特に好ましくはシクロプロパン環、シクロブタン環、アゼチジン環である。
環構造は置換基を有していても良い。
【０１９９】
タイプ４の化合物は好ましくは一般式(Ｅ)または(Ｆ)で表される。
【０２００】
一般式（Ｅ）
【化２５】

【０２０１】
一般式（Ｆ）
【化２６】

【０２０２】
一般式(Ｅ)および一般式(Ｆ)においてＲＥＤ₄₁およびＲＥＤ₄₂は、それぞれ一般式(Ｂ)のＲＥＤ₁₂と同義の基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。Ｒ₄₀〜Ｒ₄₄およびＲ₄₅〜Ｒ₄₉は、それぞれ水素原子または置換基を表す。置換基とてはＲＥＤ₁₂が有していてもよい置換基と同じものが挙げられる。
一般式(Ｆ)においてＺ₄₂は、−ＣＲ₄₂₀Ｒ₄₂₁−、−ＮＲ₄₂₃−、または−Ｏ−を表す。ここにＲ₄₂₀、Ｒ₄₂₁は、それぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ₄₂₃は水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。
【０２０３】
一般式(Ｅ)においてＲ₄₀は、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基、スルファモイル基を表し、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基であり、特に好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基である。
【０２０４】
Ｒ₄₁〜Ｒ₄₄は、これらのうち少なくとも1つがドナー性基である場合と、Ｒ₄₁とＲ₄₂、あるいはＲ₄₃とＲ₄₄がともに電子求引性基である場合が好ましい。より好ましくはＲ₄₁〜Ｒ₄₄の少なくとも1つがドナー性基である場合である。さらに好ましくはＲ₄₁〜Ｒ₄₄の少なくとも1つがドナー性基であり且つ、Ｒ₄₁〜Ｒ₄₄の中でドナー性基でない基が水素原子またはアルキル基である場合である。
【０２０５】
ここで言うドナー性基とは、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、メルカプト基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、活性メチン基、あるいはＲＥＤ₄₁およびＲＥＤ₄₂として好ましい基の群から選ばれる基である。
ドナー性基として好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、窒素原子を環内に1つ持つ5員環の芳香族ヘテロ環基（単環でも縮環でもよい）、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、少なくとも1つの電子供与性基で置換されたフェニル基（ここでは電子供与性基はヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、または窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基を表す）が用いられる。
より好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、窒素原子を環内に1つ持つ5員環の芳香族ヘテロ環基（ここでは芳香族ヘテロ環はインドール環、ピロール環、カルバゾール環を表す）、電子供与性基で置換されたフェニル基（ここでは特に3つ以上のアルコキシ基で置換されたフェニル基、ヒドロキシ基またはアルキルアミノ基またはアリールアミノ基で置換されたフェニル基を表す）が用いられる。
特に好ましくはアリールアミノ基、窒素原子を環内に1つ持つ5員環の芳香族ヘテロ環基（ここでは３−インドリル基を表す）、電子供与性基で置換されたフェニル基（ここでは特にトリアルコキシフェニル基、アルキルアミノ基またはアリールアミノ基で置換されたフェニル基を表す）が用いられる。
電子求引性基は、既に活性メチン基についての説明の中で説明したものと同じである。
【０２０６】
一般式(Ｆ)においてＲ₄₅の好ましい範囲は、上述の一般式(Ｅ)のＲ₄₀のそれと同じである。
Ｒ₄₆〜Ｒ₄₉として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、メルカプト基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミノ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基である。
特に好ましいＲ₄₆〜Ｒ₄₉は、Ｚ₄₂が−ＣＲ₄₂₀Ｒ₄₂₁−で表される基の場合には水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基であり、Ｚ₄₂が−ＮＲ₄₂₃−を表す場合には水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基であり、Ｚ₄₂が−Ｏ−を表す場合には水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基である。
【０２０７】
Ｚ₄₂として好ましくは−ＣＲ₄₂₀Ｒ₄₂₁−または−ＮＲ₄₂₃−であり、より好ましくは−ＮＲ₄₂₃−である。
Ｒ₄₂₀、Ｒ₄₂₁は好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、メルカプト基、アシルアミノ基、スルホンアミノ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アミノ基である。
Ｒ₄₂₃は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、芳香族ヘテロ環基を表し、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、t-アミル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基、アリル基、フェニル基、ナフチル基、２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−チアゾリル基である。
【０２０８】
Ｒ₄₀〜Ｒ₄₉およびＲ₄₂₀、Ｒ₄₂₁、Ｒ₄₂₃の各基が置換基である場合にはそれぞれ総炭素数が４０以下のものが好ましく、より好ましくは総炭素数３０以下で、特に好ましくは総炭素数１５以下である。
またこれらの置換基は互いに結合して、あるいは分子中の他の部位(ＲＥＤ₄₁、ＲＥＤ₄₂あるいはＺ₄₂)と結合して環を形成していても良い。
【０２０９】
本発明のタイプ１、３、４の化合物は、「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」であるか、または「分子内に、分光増感色素の部分構造を有する化合物」であることが好ましい。
本発明のタイプ１、３、４の化合物は、より好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」である。
タイプ２の化合物は、「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を２つ以上有する化合物」である。
タイプ１〜４の化合物はさらに好ましくは「２つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物」である。
【０２１０】
本発明のタイプ１〜４の化合物においてハロゲン化銀への吸着性基とは、ハロゲン化銀に直接吸着する基、またはハロゲン化銀への吸着を促進する基であり、具体的には、メルカプト基(またはその塩)、チオン基(−Ｃ（＝Ｓ）−)、窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも１つの原子を含むヘテロ環基、スルフィド基、カチオン性基、またはエチニル基である。
但し、本発明のタイプ２の化合物においては、吸着性基としてスルフィド基は含まれない。
【０２１１】
吸着性基としてメルカプト基(またはその塩)とは、メルカプト基(またはその塩)そのものを意味すると同時に、より好ましくは、少なくとも１つのメルカプト基(またはその塩)の置換したヘテロ環基またはアリール基またはアルキル基を表す。
ここにヘテロ環基は、５員〜７員の、単環もしくは縮合環の、芳香族または非芳香族のヘテロ環基で、例えばイミダゾール環基、チアゾール環基、オキサゾール環基、ベンズイミダゾール環基、ベンズチアゾール環基、ベンズオキサゾール環基、トリアゾール環基、チアジアゾール環基、オキサジアゾール環基、テトラゾール環基、プリン環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基等が挙げられる。
また４級化された窒素原子を含むヘテロ環基でもよく、この場合、置換したメルカプト基が解離してメソイオンとなっていてもよく、この様なヘテロ環基の例としてはイミダゾリウム環基、ピラゾリウム環基、チアゾリウム環基、トリアゾリウム環基、テトラゾリウム環基、チアジアゾリウム環基、ピリジニウム環基、ピリミジニウム環基、トリアジニウム環基などが挙げられ、中でもトリアゾリウム環基(例えば１，２，４−トリアゾリウム−３−チオレート環基)が好ましい。アリール基としてはフェニル基またはナフチル基が挙げられる。
アルキル基としては炭素数１〜３０の直鎖または分岐または環状のアルキル基が挙げられる。
メルカプト基が塩を形成するとき、対イオンとしてはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などのカチオン(Ｌｉ⁺、Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｍｇ²⁺、Ａｇ⁺、Ｚｎ²⁺等)、アンモニウムイオン、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
【０２１２】
吸着性基としてのメルカプト基はさらにまた、互変異性化してチオン基となっていてもよく、具体的にはチオアミド基(ここでは−Ｃ(＝Ｓ)−ＮＨ−基)、および該チオアミド基の部分構造を含む基、すなわち、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、またはジチオカルバミン酸エステル基などが挙げられる。
ここで環状の例としてはチアゾリジン−２−チオン基、オキサゾリジン−２−チオン基、２−チオヒダントイン基、ローダニン基、イソローダニン基、チオバルビツール酸基、２−チオキソ−オキサゾリジン−４−オン基などが挙げられる。
【０２１３】
吸着性基としてチオン基とは、上述のメルカプト基が互変異性化してチオン基となった場合を含め、メルカプト基に互変異性化できない(チオン基のα位に水素原子を持たない)、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、またはジチオカルバミン酸エステル基も含まれる。
【０２１４】
吸着性基として窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも１つの原子を含むヘテロ環基とは、イミノ銀（＞ＮＡｇ）を形成しうる−ＮＨ−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基、または配位結合で銀イオンに配位し得る、"−Ｓ−"基または"−Ｓe−"基または"−Ｔe−"基または"＝Ｎ−"基をヘテロ環の部分構造として有するヘテロ環基で、前者の例としてはベンゾトリアゾール基、トリアゾール基、インダゾール基、ピラゾール基、テトラゾール基、ベンズイミダゾール基、イミダゾール基、プリン基などが、後者の例としてはチオフェン基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、トリアジン基、セレノアゾール基、ベンズセレノアゾール基、テルルアゾール基、ベンズテルルアゾール基などが挙げられる。
好ましくは前者である。
【０２１５】
吸着性基としてスルフィド基とは、"−Ｓ−"の部分構造を有する基すべてが挙げられるが、好ましくはアルキル(またはアルキレン)−Ｓ−アルキル(またはアルキレン)、アリール(またはアリーレン)−Ｓ−アルキル(またはアルキレン)、アリール(またはアリーレン)−Ｓ−アリール(またはアリーレン)の部分構造を有する基である。
さらにこれらのスルフィド基は、環状構造を形成していてもよく、また−Ｓ−Ｓ−基となっていてもよい。
環状構造を形成する場合の具体例としてはチオラン環、１，３−ジチオラン環または１，２−ジチオラン環、チアン環、ジチアン環、テトラヒドロ−１，４−チアジン環（チオモルホリン環）などを含む基が挙げられる。
スルフィド基として特に好ましくはアルキル(またはアルキレン)−Ｓ−アルキル(またはアルキレン)の部分構造を有する基である。
【０２１６】
吸着性基としてカチオン性基とは、４級化された窒素原子を含む基を意味し、具体的にはアンモニオ基または４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。
但し、該カチオン性基が色素構造を形成する原子団（例えばシアニン発色団）の一部となることはない。
ここにアンモニオ基とは、トリアルキルアンモニオ基、ジアルキルアリールアンモニオ基、アルキルジアリールアンモニオ基などで、例えばベンジルジメチルアンモニオ基、トリヘキシルアンモニオ基、フェニルジエチルアンモニオ基などが挙げられる。
４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基とは、例えばピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、イミダゾリオ基などが挙げられる。
好ましくはピリジニオ基およびイミダゾリオ基であり、特に好ましくはピリジニオ基である。
これら４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基は任意の置換基を有していてもよいが、ピリジニオ基およびイミダゾリオ基の場合、置換基として好ましくはアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、クロル原子、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基などが挙げられ、ピリジニオ基の場合、置換基として特に好ましくはフェニル基である。
【０２１７】
吸着性基としてエチニル基とは、−Ｃ≡ＣＨ基を意味し、水素原子は置換されていてもよい。
上記の吸着性基は任意の置換基を有していてもよい。
【０２１８】
なお吸着性基の具体例としては、さらに特開平１１−９５３５５号の明細書４〜７頁に記載されているものが挙げられる。
【０２１９】
本発明において吸着性基として好ましいものは、メルカプト置換含窒素ヘテロ環基（例えば２−メルカプトチアジアゾール基、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール基、５−メルカプトテトラゾール基、２−メルカプト−１，３，４−オキサジアゾール基、２−メルカプトベンズオキサゾール基、２−メルカプトベンズチアゾール基、１，５−ジメチル−１，２，４−トリアゾリウム−３−チオレート基など）、またはイミノ銀（＞ＮＡｇ）を形成しうる−ＮＨ−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基（例えば、ベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など）である。
特に好ましくは、５−メルカプトテトラゾール基、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール基、およびベンゾトリアゾール基であり、最も好ましいのは、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール基、および５−メルカプトテトラゾール基である。
【０２２０】
本発明の化合物のうち、分子内に２つ以上のメルカプト基を部分構造として有する化合物もまた特に好ましい化合物である。
ここにメルカプト基（−ＳＨ）は、互変異性化できる場合にはチオン基となっていてもよい。
この様な化合物の例としては、以上述べてきたメルカプト基もしくはチオン基を部分構造として有する吸着性基（例えば環形成チオアミド基、アルキルメルカプト基、アリールメルカプト基、ヘテロ環メルカプト基など）を分子内に２つ以上有する化合物であってもよいし、また吸着性基の中で、２つ以上のメルカプト基またはチオン基を部分構造として有する吸着性基（例えばジメルカプト置換含窒素テロ環基）を、１つ以上有していてもよい。
【０２２１】
２つ以上のメルカプト基を部分構造として有する吸着性基（ジメルカプト置換含窒素テロ環基など）の例としては、２，４−ジメルカプトピリミジン基、２，４−ジメルカプトトリアジン基、３，５−ジメルカプト−１，２，４−トリアゾール基、２，５−ジメルカプト−１，３−チアゾール基、２，５−ジメルカプト−１，３−オキサゾール基、２，７−ジメルカプト−５−メチル−ｓ−トリアゾロ（１，５−Ａ）−ピリミジン、２，６，８−トリメルカプトプリン、６，８−ジメルカプトプリン、３，５，７−トリメルカプト−ｓ−トリアゾロトリアジン、４，６−ジメルカプトピラゾロピリミジン、２，５−ジメルカプトイミダゾールなどが挙げられ、２，４−ジメルカプトピリミジン基、２，４−ジメルカプトトリアジン基、３，５−ジメルカプト−１，２，４−トリアゾール基が特に好ましい。
【０２２２】
吸着性基は、一般式（Ａ）〜（Ｆ）および一般式（１）〜（３）のどこに置換されていてもよいが、一般式（Ａ）〜（Ｄ）においては、ＲＥＤ₁₁、ＲＥＤ₁₂、ＲＥＤ₂、ＲＥＤ₃に、一般式（Ｅ）、（Ｆ）においては、ＲＥＤ₄₁、Ｒ₄₁、ＲＥＤ₄₂、Ｒ₄₆〜Ｒ₄₈に、一般式（１）〜（３）においては、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₃₁、Ｌ₁、Ｌ₂₁、Ｌ₃₁を除く任意の位置に置換されていることが好ましく、さらに、一般式（Ａ）〜（Ｆ）全て、ＲＥＤ₁₁〜ＲＥＤ₄₂に置換されていることがより好ましい。
【０２２３】
分光増感色素の部分構造とは、分光増感色素の発色団を含む基であり、分光増感色素化合物から任意の水素原子または置換基を除いた残基である。
分光増感色素の部分構造は、一般式（Ａ）〜（Ｆ）および一般式（１）〜（３）のどこに置換されていてもよいが、一般式（Ａ）〜（Ｄ）においては、ＲＥＤ₁₁、ＲＥＤ₁₂、ＲＥＤ₂、ＲＥＤ₃に、一般式（Ｅ）、（Ｆ）においては、ＲＥＤ₄₁、Ｒ₄₁、ＲＥＤ₄₂、Ｒ₄₆〜Ｒ₄₈に、一般式（１）〜（３）においては、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₃₁、Ｌ₁、Ｌ₂₁、Ｌ₃₁を除く任意の位置に置換されていることが好ましく、さらに、一般式（Ａ）〜（Ｆ）全て、ＲＥＤ₁₁〜ＲＥＤ₄₂に置換されていることがより好ましい。
好ましい分光増感色素は、典型的にカラー増感技法で用いられる分光増感色素であり、例えばシアニン色素類、複合シアニン色素類、メロシアニン色素類、複合メロシアニン色素類、同極のシアニン色素類、スチリル色素類、ヘミシアニン色素類を含む。
代表的な分光増感色素は、リサーチディスクロージャー、アイテム３６５４４、１９９４年９月に開示されている。
前記リサーチディスクロージャー、もしくはF.M.HamerのThe Cyanine dyes and Related Compounds (Interscience Publishers, New yprk, 1964)に記載される手順によって当業者は、これらの色素を合成することができる。
さらに特開平１１−９５３５５号（米国特許６，０５４，２６０号）の明細書７〜１４頁に記載された色素類が全てそのまま当てはまる。
【０２２４】
本発明のタイプ１〜４の化合物は、その総炭素数が１０〜６０の範囲のものが好ましい。より好ましくは１０〜５０、さらに好ましくは１１〜４０であり、特に好ましくは１２〜３０である。
【０２２５】
本発明のタイプ１〜４の化合物は、これを用いたハロゲン化銀写真感光材料が露光されることを引き金に１電子酸化され、引き続く反応の後、さらに１電子、あるいはタイプによっては２電子以上の電子が放出され、酸化されるが、その１電子目の酸化電位は、約１．４Ｖ以下が好ましく、さらには１．０Ｖ以下が好ましい。
この酸化電位は好ましくは０Ｖより高く、より好ましくは０．３Ｖより高い。従って酸化電位は好ましくは約０〜約１．４Ｖ、より好ましくは約０．３〜約１．０Ｖの範囲である。
【０２２６】
ここに酸化電位はサイクリックボルタンメトリーの技法で測定でき、具体的には試料をアセトニトリル：水（０．１Ｍの過塩素酸リチウムを含む）＝８０％：２０％（容量％）の溶液に溶解し、１０分間窒素ガスを通気した後、ガラス状のカーボンディスクを動作電極に用い、プラチナ線を対電極に用い、そしてカロメル電極（ＳＣＥ）を参照電極に用いて、２５℃で、０．１Ｖ／秒の電位走査速度で測定したものである。サイクリックボルタンメトリー波のピーク電位の時に酸化電位対ＳＣＥをとる。
【０２２７】
本発明のタイプ１〜４の化合物が１電子酸化され、引き続く反応の後、さらに１電子を放出する化合物である場合には、この後段の酸化電位は好ましくは−０．５Ｖ〜−２Ｖであり、より好ましくは−０．７Ｖ〜２Ｖであり、さらに好ましくは−０．９Ｖ〜−１．６Ｖである。
【０２２８】
本発明のタイプ１〜４の化合物が１電子酸化され、引き続く反応の後、さらに２電子以上の電子を放出し、酸化される化合物である場合には、この後段の酸化電位については特に制限はない。
２電子目の酸化電位と３電子目以降の酸化電位が明確に区別できない点で、これらを実際に正確に測定し区別することは困難な場合が多いためである。
【０２２９】
以下に本発明のタイプ１〜４の化合物の具体例を列挙するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２３０】
【化２７】

【０２３１】
【化２８】

【０２３２】
【化２９】

【０２３３】
【化３０】

【０２３４】
【化３１】

【０２３５】
【化３２】

【０２３６】
【化３３】

【０２３７】
本発明のタイプ１〜４の化合物は、それぞれ特願２００２−１９２３７３号、特願２００２−１８８５３７号、特願２００２−１８８５３６号、特願２００１−２７２１３７号において、詳細に説明した化合物と同じものである。
これら特許出願明細書に記載した具体的化合物例もまた、本発明のタイプ１〜４の化合物の具体例として挙げることができる。
また本発明のタイプ１〜４の化合物の合成例も、これら特許に記載したものと同じである。
【０２３８】
次にタイプ５の化合物について説明する。
タイプ５の化合物はＸ−Ｙで表され、ここにＸは還元性基を、Ｙは脱離基を表し、Ｘで表される還元性基が１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続くＸ−Ｙ結合の開裂反応を伴ってＹを脱離してＸラジカルを生成し、そこからさらにもう１電子を放出し得る化合物である。
この様なタイプ５の化合物が酸化された時の反応は、以下の式で表すことができる。
【０２３９】
【化３４】

【０２４０】
タイプ５の化合物は、好ましくはその酸化電位が０〜１．４Ｖであり、より好ましくは０．３Ｖ〜１．０Ｖである。
また上記反応式において生成するラジカルＸ・の酸化電位は−０．７Ｖ〜−２．０Ｖであることが好ましく、−０．９Ｖ〜−１．６Ｖがより好ましい。
【０２４１】
タイプ５の化合物は、好ましくは一般式(Ｇ)で表される。
【０２４２】
一般式（Ｇ）
【化３５】

【０２４３】
一般式(Ｇ)においてＲＥＤ₀は還元性基を表し、Ｌ₀は脱離基を表し、Ｒ₀およびＲ₀₀は水素原子または置換基を表す。
ＲＥＤ₀ とＲ₀、およびＲ₀とＲ₀₀とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。
ＲＥＤ₀は一般式(Ｃ)のＲＥＤ₂と同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。
Ｒ₀およびＲ₀₀は一般式（Ｃ）のＲ₂₁およびＲ₂₂と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。但しＲ₀およびＲ₀₀が、水素原子を除いて、Ｌ₀と同義の基を表すことはない。
ＲＥＤ₀とＲ₀とは互いに結合して環構造を形成していてもよく、ここに環構造の例としては、一般式（Ｃ）のＲＥＤ₂とＲ₂₁が連結して環構造を形成する場合と同じ例が挙げられ、その好ましい範囲も同じである。
Ｒ₀とＲ₀₀とが互いに結合して形成される環構造の例としては、シクロペンタン環やテトラヒドロフラン環などが挙げられる。
一般式(Ｇ)においてＬ₀は、一般式（Ｃ）のＬ₂と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。
【０２４４】
一般式(Ｇ)で表される化合物は分子内にハロゲン化銀への吸着性基、もしくは分光増感色素の部分構造を有していることが好ましいが、Ｌ₀がシリル基以外の基を表す時、分子内に吸着性基を同時に２つ以上有することはない。
但し、ここで吸着性基としてのスルフィド基は、Ｌ₀に依らず、これを２つ以上有していてもよい。
【０２４５】
一般式(Ｇ)で表される化合物が有するハロゲン化銀への吸着性基としては、本発明のタイプ１〜４の化合物が有していてもよい吸着性基と同じものがその例として挙げられるが、さらに加えて、セレノオキソ基（−Ｃ＝Ｓe−）、テルルオキソ基（−Ｃ＝Ｔe−）、セレノ基（−Ｓｅ−）、テルロ基（−Ｔｅ−）、または活性メチン基が挙げられる。
ここでセレノオキソ基（−Ｃ＝Ｓe−）およびテルルオキソ基（−Ｃ＝Ｔe−）とは、チオン基（−Ｃ＝Ｓ−）を有する化合物のＳｅもしくはＴｅ誘導体であり、チオン基について説明した様に、セレノアミド基（−Ｃ＝Ｓe−ＮＨ−）またはテルルアミド基（−Ｃ＝Ｔe−ＮＨ−）を含む基であってもよい。
セレノ基（−Ｓｅ−）およびテルロ基（−Ｔｅ−）とは、これもまたスルフィド基（−Ｓ−）を有する化合物のＳｅもしくはＴｅ誘導体であり、スルフィド基を有する化合物のＳｅもしくはＴｅ置換体がそのままその例として挙げられる。活性メチン基とは、２つの電子求引性基で置換されたメチン基を意味し、ここに電子求引性基とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボンイミドイル基を意味する。
ここで２つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。
【０２４６】
一般式(Ｇ)で表される化合物が有する吸着性基として好ましくは、メルカプト基(またはその塩)、チオン基(−Ｃ＝Ｓ−)、窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも１つの原子を含むヘテロ環基、スルフィド基であり、さらに好ましくは、メルカプト置換含窒素ヘテロ環基、またはイミノ銀（＞ＮＡｇ）を形成しうる−ＮＨ−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基であり、これらはタイプ１〜４の化合物が有していてもよい吸着性基の好ましい範囲について説明したものと同じである。
吸着性基は、一般式（Ｇ）のどこに置換されていてもよいが、好ましくはＲＥＤ₀またはＲ₀に、より好ましくは、ＲＥＤ₀に置換されていることが好ましい。
【０２４７】
一般式(Ｇ)で表される化合物が有していてもよい分光増感色素の部分構造とは、本発明のタイプ１〜４の化合物が有していてもよい分光増感色素の部分構造と同じである。
【０２４８】
以下に一般式(Ｇ)で表される化合物の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
【０２４９】
【化３６】

【０２５０】
【化３７】

【０２５１】
【化３８】

【０２５２】
一般式(Ｇ)で表される化合物の具体例としては、さらに特開平９−２１１７６９号(２８〜３２頁の表Ｅおよび表Ｆに記載の化合物ＰＭＴ−１〜Ｓ−３７)、特開平９−２１１７７４号、特開平１１−９５３５５号(化合物ＩＮＶ１〜３６)、特表２００１−５００９９６号(化合物１〜７４、８０〜８７、９２〜１２２)、米国特許５，７４７，２３５号、米国特許５，７４７，２３６号、欧州特許７８６６９２Ａ１号(化合物ＩＮＶ１〜３５)、欧州特許８９３７３２Ａ１号、米国特許６，０５４，２６０号、米国特許５，９９４，０５１号などの特許に記載の「１光子２電子増感剤」または「脱プロトン化電子供与増感剤」と称される化合物の例が、そのまま挙げられる。
【０２５３】
本発明のタイプ１〜５の化合物は、感光性ハロゲン化銀乳剤調製時、熱現像感光材料製造工程中のいかなる場合にも使用しても良い。例えば感光性ハロゲン化銀粒子形成時、脱塩工程、化学増感時、塗布前などである。またこれらの工程中の複数回に分けて添加することもできる。添加位置として好ましくは、感光性ハロゲン化銀粒子形成終了時から脱塩工程の前、化学増感時（化学増感開始直前から終了直後）、塗布前であり、より好ましくは化学増感時から非感光性有機銀塩と混合される前まである。
【０２５４】
本発明のタイプ１〜５の化合物は、水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒またはこれらの混合溶媒に溶解して添加することが好ましい。
水に溶解する場合、ｐＨを高くまたは低くした方が溶解度が上がる化合物については、ｐＨを高くまたは低くして溶解し、これを添加しても良い。
【０２５５】
本発明のタイプ１〜５の化合物は、感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する乳剤層中に使用するのが好ましいが、該乳剤層と共に保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。
本発明の化合物の添加時期は増感色素の前後を問わず、それぞれ好ましくはハロゲン化銀１モル当り、１×１０^-9〜５×１０^-1モル、更に好ましくは１×１０^-8〜２×１０^-2モルの割合でハロゲン化銀乳剤層に含有する。
【０２５６】
７）吸着基と還元基を有する化合物
本発明における熱現像感光材料は、下記一般式（Ｉ）で表される吸着基と還元基を有する化合物を含有することが好ましい。該化合物は、単独、あるいは前記の種々の化学増感剤と併用して用いられ、ハロゲン化銀の感度増加をもたらすことができる。
【０２５７】
一般式（Ｉ） Ａ−（Ｗ）ｎ−Ｂ
[一般式（Ｉ）中、Ａはハロゲン化銀に吸着可能な基（以後、吸着基と呼ぶ）を表し、Ｗは２価の連結基を表し、ｎは０または１を表し、Ｂは還元基を表す。]
【０２５８】
次に一般式（Ｉ）について詳細に説明する。
一般式（Ｉ）中、Ａで表される吸着基とはハロゲン化銀に直接吸着する基、またはハロゲン化銀への吸着を促進する基であり、具体的には、メルカプト基(またはその塩)、チオン基(−Ｃ（＝Ｓ）−)、窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも１つの原子を含むヘテロ環基、スルフィド基、ジスルフィド基、カチオン性基、またはエチニル基等が挙げられる。
【０２５９】
吸着基としてメルカプト基(またはその塩)とは、メルカプト基(またはその塩)そのものを意味すると同時に、より好ましくは、少なくとも１つのメルカプト基(またはその塩)の置換したヘテロ環基またはアリール基またはアルキル基を表す。ここにヘテロ環基とは、少なくとも５員〜７員の、単環もしくは縮合環の、芳香族または非芳香族のヘテロ環基、例えばイミダゾール環基、チアゾール環基、オキサゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、トリアゾール環基、チアジアゾール環基、オキサジアゾール環基、テトラゾール環基、プリン環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基等が挙げられる。また４級化された窒素原子を含むヘテロ環基でもよく、この場合、置換したメルカプト基が解離してメソイオンとなっていてもよく、この様なヘテロ環基の例としてはイミダゾリウム環基、ピラゾリウム環基、チアゾリウム環基、トリアゾリウム環基、テトラゾリウム環基、チアジアゾリウム環基、ピリジニウム環基、ピリミジニウム環基、トリアジニウム環基などが挙げられ、中でもトリアゾリウム環基(例えば１，２，４−トリアゾリウム−３−チオレート環基)が好ましい。アリール基としてはフェニル基またはナフチル基が挙げられる。アルキル基としては炭素数１〜３０の直鎖または分岐または環状のアルキル基が挙げられる。メルカプト基が塩を形成するとき、対イオンとしてはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などのカチオン(Ｌｉ⁺、Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｍｇ²⁺、Ａｇ⁺、Ｚｎ²⁺等)、アンモニウムイオン、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
【０２６０】
吸着基としてのメルカプト基はさらにまた、互変異性化してチオン基となっていてもよく、具体的にはチオアミド基(ここでは−Ｃ(＝Ｓ)−ＮＨ−基)、および該チオアミド基の部分構造を含む基、すなわち、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、またはジチオカルバミン酸エステル基などが挙げられる。ここで環状の例としてはチアゾリジン−２−チオン基、オキサゾリジン−２−チオン基、２−チオヒダントイン基、ローダニン基、イソローダニン基、チオバルビツール酸基、２−チオキソ−オキサゾリジン−４−オン基などが挙げられる。
【０２６１】
吸着基としてチオン基とは、上述のメルカプト基が互変異性化してチオン基となった場合を含め、メルカプト基に互変異性化できない(チオン基のα位に水素原子を持たない) 、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、またはジチオカルバミン酸エステル基も含まれる。
【０２６２】
吸着基として窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも１つの原子を含むヘテロ環基とは、イミノ銀（＞ＮＡｇ）を形成しうる−ＮＨ−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基、または配位結合で銀イオンに配位し得る、"−Ｓ−"基または"−Ｓe−"基または"−Ｔe−"基または"＝Ｎ−"基をヘテロ環の部分構造として有するヘテロ環基で、前者の例としてはベンゾトリアゾール基、トリアゾール基、インダゾール基、ピラゾール基、テトラゾール基、ベンゾイミダゾール基、イミダゾール基、プリン基などが、後者の例としてはチオフェン基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンゾチオフェン基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、トリアジン基、セレノアゾール基、ベンゾセレノアゾール基、テルルアゾール基、ベンゾテルルアゾール基などが挙げられる。好ましくは前者である。
【０２６３】
吸着基としてスルフィド基またはジスルフィド基とは、"−Ｓ−"または"−Ｓ−Ｓ−"の部分構造を有する基すべてが挙げられるが、好ましくはアルキル(またはアルキレン)−Ｘ−アルキル(またはアルキレン)、アリール(またはアリーレン)−Ｘ−アルキル(またはアルキレン)、アリール(またはアリーレン)−Ｘ−アリール(またはアリーレン)の部分構造を有する基で、ここにＸは−Ｓ−基または−Ｓ−Ｓ−基を表す。さらにこれらのスルフィド基またはジスルフィド基は、環状構造を形成していてもよく、環状構造を形成する場合の具体例としてはチオラン環、１，３−ジチオラン環、１，２−ジチオラン環、チアン環、ジチアン環、チオモルホリン環などを含む基が挙げられる。スルフィド基として特に好ましくはアルキル(またはアルキレン)−Ｓ−アルキル(またはアルキレン)の部分構造を有する基が、またジスルフィド基として特に好ましくは１，２−ジチオラン環基が挙げられる。
【０２６４】
吸着基としてカチオン性基とは、４級化された窒素原子を含む基を意味し、具体的にはアンモニオ基または４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。ここにアンモニオ基とは、トリアルキルアンモニオ基、ジアルキルアリールアンモニオ基、アルキルジアリールアンモニオ基などで、例えばベンジルジメチルアンモニオ基、トリヘキシルアンモニオ基、フェニルジエチルアンモニオ基などが挙げられる。４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基とは、例えばピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、イミダゾリオ基などが挙げられる。好ましくはピリジニオ基およびイミダゾリオ基であり、特に好ましくはピリジニオ基である。これら４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基は任意の置換基を有していてもよいが、ピリジニオ基およびイミダゾリオ基の場合、置換基として好ましくはアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、クロル原子、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基などが挙げられ、ピリジニオ基の場合、置換基として特に好ましくはフェニル基である。
吸着基としてエチニル基とは、−ＣＣＨ基を意味し、該水素原子は置換されていてもよい。
【０２６５】
上記の吸着基は任意の置換基を有していてもよい。置換基としては、例えばハロゲン原子（フッ素原子、クロル原子、臭素原子、または沃素原子）、アルキル基（直鎖、分岐、環状のアルキル基で、ビシクロアルキル基や活性メチン基を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基（置換する位置は問わない）、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−ヒドロキシカルバモイル基、Ｎ−アシルカルバモイル基、Ｎ−スルホニルカルバモイル基、Ｎ−カルバモイルカルバモイル基、チオカルバモイル基、Ｎ−スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、カルボキシ基またはその塩、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基（Carbonimidoyl基）、ホルミル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基（エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む）、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、（アルキル，アリール，またはヘテロ環）アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、Ｎ−ヒドロキシウレイド基、イミド基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、Ｎ−（アルキルもしくはアリール）スルホニルウレイド基、Ｎ−アシルウレイド基、Ｎ−アシルスルファモイルアミノ基、ヒドロキシアミノ基、ニトロ基、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基（例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基）、イソシアノ基、イミノ基、メルカプト基、（アルキル，アリール，またはヘテロ環）チオ基、（アルキル，アリール，またはヘテロ環）ジチオ基、（アルキルまたはアリール）スルホニル基、（アルキルまたはアリール）スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基、Ｎ−スルホニルスルファモイル基またはその塩、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基等が挙げられる。なおここで活性メチン基とは２つの電子求引性基で置換されたメチン基を意味し、ここに電子求引性基とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボンイミドイル基（Carbonimidoyl基）を意味する。ここで２つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。また塩とは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などの陽イオンや、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどの有機の陽イオンを意味する。
【０２６６】
さらに吸着基の具体例としては、さらに特開平１１−９５３５５号の明細書ｐ４〜ｐ７に記載されているものが挙げられる。
【０２６７】
一般式（Ｉ）中、Ａで表される吸着基としてより好ましいものは、メルカプト置換ヘテロ環基（例えば２−メルカプトチアジアゾール基、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール基、５−メルカプトテトラゾール基、２−メルカプト−１，３，４−オキサジアゾール基、２−メルカプトベンズチアゾール基、２−メルカプトベンズイミダゾール基、１，５−ジメチル−１，２，４−トリアゾリウム−３−チオレート基など）、ジメルカプト置換ヘテロ環基(例えば２，４−ジメルカプトピリミジン基、２，４−ジメルカプトトリアジン基、３，５−ジメルカプト−１，２，４−トリアゾール基、２，５−ジメルカプト−１，３−チアゾール基など)、またはイミノ銀（＞ＮＡｇ）を形成しうる−ＮＨ−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基(例えばベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など)であり、特に好ましいものはジメルカプト置換ヘテロ環基である。
【０２６８】
一般式（Ｉ）中、Ｗは２価の連結基を表す。該連結基は写真性に悪影響を与えないものであればどのようなものでも構わない。例えば炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子から構成される２価の連結基が利用できる。具体的には炭素数１〜２０のアルキレン基（例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等）、炭素数６〜２０のアリーレン基（例えばフェニレン基、ナフチレン基等）、−ＣＯＮＲ₁−、−ＳＯ₂ＮＲ₂−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ₃−、−ＮＲ₄ＣＯ−、−ＮＲ₅ＳＯ₂−、−ＮＲ₆ＣＯＮＲ₇−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、これらの連結基の組み合わせ等があげられる。ここでＲ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆およびＲ₇は水素原子、脂肪族基、アリール基を表わす。Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆またはＲ₇で表される脂肪族基は好ましくは、炭素数１〜３０のものであって特に炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチルル基、ｎ−デシル基、ｎ−へキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基、プロパルギル基、３−ペンチニル基、ベンジル基等）が挙げられる。一般式（Ｉ）において、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆またはＲ₇で表されるアリール基は好ましくは、炭素数６〜３０、さらに好ましくは炭素数６〜２０の単環または縮環のアリール基であり、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆またはＲ₇で表される上記の置換基はさらに他の任意の置換基を有していてもよく、この任意の置換基は前述の吸着基の置換基と同義である。
【０２６９】
一般式（Ｉ）中、Ｂで表される還元基とは銀イオンを還元可能な基を表し、例えばヒドロキシルアミン類、ヒドロキサム酸類、ヒドロキシウレア類、ヒドロキシウレタン類、ヒドロキシセミカルバジド類、レダクトン類(レダクトン誘導体を含む)、アニリン類、フェノール類(クロマン-6-オール類、2,3-ジヒドロベンゾフラン-5-オール類、アミノフェノール類、スルホンアミドフェノール類、およびハイドロキノン類、カテコール類、レゾルシノール類、ベンゼントリオール類、ビスフェノール類のようなポリフェノール類を含む)、ヒドラジン類、ヒドラジド類、フェニドン類から選ばれる化合物から誘導される残基が挙げられる。
【０２７０】
ヒドロキシルアミン類とは一般式(B1)で表され、ヒドロキサム酸類とは一般式(B2)で表され、ヒドロキシウレア類とは一般式(B3)で表され、ヒドロキシウレタン類とは一般式(B4)で表され、ヒドロキシセミカルバジド類とは一般式(B5)で表され、レダクトン類とは一般式(B6)で表され、アニリン類とは一般式(B7)で表され、フェノール類とは一般式(B8)、(B9)、(B10)で表され、ヒドラジン類とは一般式(B11)で表され、ヒドラジド類とは一般式(B12)で表され、フェニドン類とは一般式(B13)で表される化合物である。
【０２７１】
【化３９】

【０２７２】
一般式(B1)〜(B13)において、R_b1、R_b2、R_b3、R_b4、R_b5、R_b70、R_b71、R_b110、R_b111、R_b112、R_b113、R_b12、R_b13、R_N1、R_N2、R_N3、R_N4、R_N5は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表し、R_H3、R_H5、R'_H5、R_H12、R'_H12、R_H13は水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アルキルスルホニル基もしくはアリールスルホニル基を表し、このうちR_H3はさらにヒドロキシ基であってもよい。R_b100、R_b101、R_b102、Ｒ_b130〜Ｒ_b133は水素原子または置換基を表す。Y₇、Y₈はヒドロキシ基を除く置換基を表し、Y₉は置換基を表し、ｍ₅は０または１、ｍ₇は０〜５の整数、ｍ₈は１〜５の整数、ｍ₉は０〜４の整数を表す。Y₇、Y₈、Y₉はさらにベンゼン環に縮合するアリール基(例えばベンゼン縮合環)であってもよく、さらにこれが置換基を有していてもよい。Z₁₀は環を形成し得る非金属原子団を表し、X₁₂は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、または環状のアミノ基を含む）、カルバモイル基を表す。
【０２７３】
一般式(B6)においてX₆、X'₆はそれぞれヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アミノ基（アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、または環状のアミノ基を含む）、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、ウレイド基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アルキルアミノカルボニルオキシ基、またはアリールアミノカルボニルオキシ基を表す。R_b60、R_b61はアルキル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基を表し、R_b60とR_b61は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【０２７４】
上記の一般式(B1)〜(B13)の各基の説明の中で、アルキル基とは炭素数１〜３０の、直鎖、分岐もしくは環状の、置換もしくは無置換のアルキル基を意味し、アリール基とはフェニル基やナフチル基のような、単環もしくは縮合環の、置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環を表し、ヘテロ環基とはヘテロ原子を少なくとも１つ含有する、芳香族もしくは非芳香族の、単環もしくは縮合環の、置換もしくは無置換のヘテロ環基を意味する。
また一般式(B1)〜(B13)の各基の説明の中で述べられている置換基とは、前述の吸着基の置換基と同義である。これら置換基は、これら置換基でさらに置換されていてもよい。
【０２７５】
一般式(B1)〜一般式(B5)においてR_N1、R_N2、R_N3、R_N4、R_N5は、好ましくは水素原子またはアルキル基で、ここにアルキル基として好ましくは炭素数１〜１２の、直鎖、分岐もしくは環状の、置換もしくは無置換のアルキル基で、より好ましくは炭素数１〜６の、直鎖もしくは分岐の、置換もしくは無置換のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ベンジル基などである。
【０２７６】
一般式(B1)においてR_b1は好ましくはアルキル基またはヘテロ環基で、ここにアルキル基とは直鎖、分岐もしくは環状の、置換もしくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数１〜３０の、より好ましくは炭素数１〜１８のアルキル基である。ヘテロ環基とは５員もしくは６員の単環または縮合環の、芳香族または非芳香族のヘテロ環基で、置換基を有していてもよい。ヘテロ環基として好ましくは芳香族ヘテロ環基で、例えばピリジン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基、チアゾール環基、ベンゾチアゾール環基、オキサゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、イミダゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ピラゾール環基、インダゾール環基、インドール環基、プリン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、キナゾリン環基などが挙げられ、特にトリアジン環基、ベンゾチアゾール環基が好ましい。R_b1で表されるアルキル基またはヘテロ環基が、その置換基として−N(R _N1)OH基をさらに１つもしくは２つ以上有する場合もまた一般式(B1)で表される化合物の好ましい例の一つである。
【０２７７】
一般式(B2)においてR_b2は好ましくはアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基で、より好ましくはアルキル基またはアリール基である。アルキル基の好ましい範囲はR_b1における説明と同じである。アリール基として好ましくはフェニル基またはナフチル基で、フェニル基が特に好ましく、置換基を有していてもよい。R_b2で表される基がその置換基として−ＣＯN(R _N2)OH基をさらに１つもしくは２つ以上有する場合もまた一般式(B2)で表される化合物の好ましい例の一つである。
【０２７８】
一般式(B3)においてR_b3は好ましくはアルキル基またはアリール基で、これらの好ましい範囲はR_b1およびR_b2における説明と同じである。R_H3は好ましくは水素原子、アルキル基、またはヒドロキシ基であり、より好ましくは水素原子である。R_b3で表される基がその置換基として−Ｎ(R_H3)ＣＯN(R _N3)OH基をさらに１つもしくは２つ以上有する場合もまた一般式(B3)で表される化合物の好ましい例の一つである。またR_b3とR_N3とが結合して環構造(好ましくは５員または６員の飽和のヘテロ環)を形成していてもよい。
一般式(B4)においてR _b4は好ましくはアルキル基で、その好ましい範囲はR_b1における説明と同じである。R_b4で表される基がその置換基として−ＯＣＯN(R _N4)OH基をさらに１つもしくは２つ以上有する場合もまた一般式(B4)で表される化合物の好ましい例の一つである。
【０２７９】
一般式(B5)においてR_b5は好ましくはアルキル基またはアリール基、より好ましくはアリール基で、これらの好ましい範囲はR_b1およびR_b2における説明と同じである。R_H5、R'_H5は好ましくは水素原子またはアルキル基で、より好ましくは水素原子である。
【０２８０】
一般式(B6)においてR_b60、R_b61は、互いに結合して環構造を形成する場合が好ましい。ここで形成される環状構造は、５員〜７員の非芳香族の炭素環もしくはヘテロ環で、単環でも縮合環であってもよい。環構造の好ましい例を具体的に挙げれば、例えば２−シクロペンテン−１−オン環、２，５−ジヒドロフラン−２−オン環、３−ピロリン−２−オン環、４−ピラゾリン−３−オン環、２−シクロヘキセン−１−オン環、５，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−オン環、５，６−ジヒドロ−２−ピリドン環、１，２−ジヒドロナフタレン−２−オン環、クマリン環(ベンゾ−α−ピラン−２−オン環)、２−キノロン環、１，４−ジヒドロナフタレン−１−オン環、クロモン環(ベンゾ−γ−ピラン−４−オン環)、４−キノロン環、インデン−１−オン環、３−ピロリン−２，４−ジオン環、ウラシル環、チオウラシル環、ジチオウラシル環などが挙げられ、より好ましくは２−シクロペンテン−１−オン環、２，５−ジヒドロフラン−２−オン環、３−ピロリン−２−オン環、４−ピラゾリン−３−オン環、１，２−ジヒドロナフタレン−２−オン環、クマリン環(ベンゾ−α−ピラン−２−オン環)、２−キノロン環、１，４−ジヒドロナフタレン−１−オン環、クロモン環(ベンゾ−γ−ピラン−４−オン環)、４−キノロン環、インデン−１−オン環、ジチオウラシル環などであり、さらに好ましくは２−シクロペンテン−１−オン環、２，５−ジヒドロフラン−２−オン環、３−ピロリン−２−オン環、インデン−１−オン環、４−ピラゾリン−３−オン環である。
【０２８１】
X₆、X'₆が環状のアミノ基を表す時、環状のアミノ基とは窒素原子で結合する非芳香族の含窒素ヘテロ環基で、例えばピロリジノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基、モルホリノ基、１，４−チアジン−４−イル基、２，３，５，６−テトラヒドロ−１，４−チアジン−４−イル基、インドリル基などである。
【０２８２】
X₆、X'₆として好ましくは、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基、または環状のアミノ基を含む)、アシルアミノ基、スルホンアミド基、またはアシルオキシ基、アシルチオ基であり、より好ましくはヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、アルキルアミノ基、環状のアミノ基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、またはアシルオキシ基であり、特に好ましくはヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、環状のアミノ基である。さらにX₆およびX'₆のうち少なくとも１つはヒドロキシ基であることが好ましい。
【０２８３】
一般式(B7)においてR_b70、R_b71は好ましくは水素原子、アルキル基またはアリール基で、より好ましくはアルキル基である。アルキル基の好ましい範囲はR_b1における説明と同じである。R_b70、R_b71は互いに結合して環状構造(例えばピロリジン環、ピペリジン環、モルホリノ環、チオモルホリノ環など)を形成していてもよい。Y₇で表される置換基として好ましくはアルキル基(その好ましい範囲はR_b1における説明と同じ)、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、クロル原子、スルホ基またはその塩、カルボキシ基またはその塩などで、ｍ₇は好ましくは０〜２を表す。
【０２８４】
一般式(B8)においてｍは１〜４が好ましく、複数のY₈は同じでも異なっていてもよい。ｍ₈が１の時のY₈、もしくはｍ₈が２以上の時の複数のY₈のうち少なくとも１つは、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基を含む)、スルホンアミド基、もしくはアシルアミノ基であることが好ましい。ｍ₈が２以上の時、残るY₈はスルホンアミド基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルキル基、アルキルチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基またはその塩、カルボキシ基またはその塩、クロル原子などが好ましい。ここにY₈で表される置換基として、ヒドロキシ基のオルト位またはパラ位に、ｏ'−(またはｐ'−)ヒドロキシフェニルメチル基（さらに置換基を有していてもよい）が置換されている場合には、一般にビスフェノール類と呼ばれる化合物群を表すが、この場合もまた、一般式(B8)で表される化合物の好ましい例の一つである。さらに、Ｙ₈がベンゼン縮合環を表し、その結果一般式（B8）がナフトール類を表す場合も非常に好ましい。
【０２８５】
一般式(B9)において２つのヒドロキシ基の置換位置は、互いにオルト位(カテコール類)、メタ位(レゾルシノール類)またはパラ位(ハイドロキノン類)であってよい。ｍ₉は１〜２が好ましく、複数のY₉は同じでも異なっていてもよい。Y₉で表される置換基として好ましくは、クロル原子、アシルアミノ基、ウレイド基、スルホンアミド基、アルキル基、アルキルチオ基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基またはその塩、カルボキシ基またはその塩、ヒドロキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。Y₉がベンゼン縮合環を表し、その結果一般式(B9)が１，４−ナフトハイドロキノン類を表す場合もまた好ましい。一般式(B9)がカテコール類を表す時、Y₉は特にスルホ基またはその塩、ヒドロキシ基が好ましい。
【０２８６】
一般式(B10)においてR_b100、R_b101、R_b102が置換基を表す時、置換基の好ましい例は、Y₉の好ましい例と同じである。中でもアルキル基(特にメチル基)が好ましい。Z₁₀が形成する環構造として好ましくは、クロマン環、2,3-ジヒドロベンゾフラン環であり、これらの環構造は置換基を有していてもよく、またスピロ環を形成していてもよい。
【０２８７】
一般式(B11)においてR_b110、R_b111、R_b112、R_b113として好ましくは、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基で、これらの好ましい範囲はR_b1およびR_b2における説明と同じである。中でもアルキル基が好ましく、R_b110〜R_b113のうち２つのアルキル基が結合して環状構造を形成していてもよい。ここに環状構造とは５員または６員の非芳香族のヘテロ環で、例えばピロリジン環、ピペリジン環、モルホリノ環、チオモルホリノ環、ヘキサヒドロピリダジン環などが挙げられる。
一般式(B12)においてR_b12として好ましくは、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基で、これらの好ましい範囲はR_b1およびR_b2における説明と同じである。X₁₂は好ましくはアルキル基、アリール基(特にフェニル基)、ヘテロ環基、アルコキシ基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、または環状のアミノ基を含む)、カルバモイル基であり、アルキル基(特に炭素数１〜８のアルキル基が好ましい)、アリール基(特にフェニル基が好ましい)、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基、または環状のアミノ基を含む)がより好ましい。R_H12、R'_H12は好ましくは水素原子またはアルキル基、より好ましくは水素原子である。
【０２８８】
一般式(B13)においてR_b13は好ましくはアルキル基またはアリール基であり、これらの好ましい範囲はR_b1およびR_b2における説明と同じである。R_b130、R_b131、R_b132、R_b133は好ましくは水素原子、アルキル基(特に炭素数１〜８が好ましい)、アリール基(特にフェニル基が好ましい)である。R_H13は水素原子またはアシル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
【０２８９】
一般式（Ｉ）中、Ｂで表される還元基は好ましくはヒドロキシルアミン類、ヒドロキサム酸類、ヒドロキシウレア類、ヒドロキシセミカルバジド類、フェノール類、ヒドラジン類、ヒドラジド類、フェニドン類であり、特に好ましくはヒドロキシウレア類、ヒドロキシセミカルバジド類、フェノール類、ヒドラジド類、フェニドン類である。
【０２９０】
一般式（Ｉ）中、Ｂで表される還元基はその酸化電位を、藤嶋昭著「電気化学測定法」（150-208頁、技報堂出版）や日本化学会編著「実験化学講座」第4版（９巻282-344頁、丸善）に記載の測定法を用いて測定することができる。例えば回転ディスクボルタンメトリーの技法で、具体的には試料をメタノール：pH6.5 ブリトン−ロビンソン緩衝液（Britton-Robinson buffer）＝１０％：９０％（容量％）の溶液に溶解し、１０分間窒素ガスを通気した後、グラッシーカーボン製の回転ディスク電極（RDE）を作用電極に用い、白金線を対極に用い、飽和カロメル電極を参照電極に用いて、２５℃、１０００回転／分、２０ｍV／秒のスイープ速度で測定できる。得られたボルタモグラムから半波電位（E1/2）を求めることができる。
【０２９１】
本発明のＢで表される還元基は上記測定法で測定した場合、その酸化電位が約−０．３V〜約１．０Ｖの範囲にあることが好ましい。より好ましくは約−０．１Ｖ〜約０．８Ｖの範囲であり、特に好ましくは約０〜約０．７Ｖの範囲である。
【０２９２】
本発明のＢで表される還元基は写真業界においてその多くが公知の化合物であり、その例は以下の特許にも記載されている。例えば特開２００１−４２４６６号、特開平８−１１４８８４号、特開平８−３１４０５１号、特開平８−３３３３２５号、特開平９−１３３９８３号、特開平１１−２８２１１７号、特開平１０−２４６９３１号、特開平１０−９０８１９号、特開平９−５４３８４号、特開平１０−１７１０６０、特開平７−７７７８３。またフェノール類の一例として米国特許６０５４２６０号に記載の化合物（カラム６０〜６３に記載の一般式とその化合物例）も挙げられる。
【０２９３】
本発明の一般式（Ｉ）の化合物は、その中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基またはポリマー鎖が組み込まれているものでもよい。またポリマーとしては、例えば特開平１−１００５３０号に記載のものが挙げられる。
【０２９４】
本発明の一般式（Ｉ）の化合物はビス体、トリス体であっても良い。本発明の一般式（Ｉ）の化合物の分子量は好ましくは１００〜１００００の間であり、より好ましくは１２０〜１０００の間であり、特に好ましくは１５０〜５００の間である。
【０２９５】
以下に本発明の一般式（Ｉ）の化合物を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２９６】
【化４０】

【０２９７】
【化４１】

【０２９８】
【化４２】

【０２９９】
【化４３】

【０３００】
【化４４】

【０３０１】
【化４５】

【０３０２】
【化４６】

【０３０３】
【化４７】

【０３０４】
本発明の化合物は公知の方法にならって容易に合成することが出来る。
本発明の一般式（Ｉ）の化合物は、一種類の化合物を単独で用いてもよいが、同時に２種以上の化合物を用いることも好ましい。２種類以上の化合物を用いる場合、それらは同一層に添加しても、別層に添加してもよく、またそれぞれ添加方法が異なっていてもよい。
【０３０５】
本発明の一般式（Ｉ）の化合物は、ハロゲン化銀乳剤層に添加されることが好ましく、乳剤調製時に添加することがより好ましい。乳剤調製時に添加する場合、その工程中のいかなる場合に添加することも可能であり、その例を挙げると、ハロゲン化銀の粒子形成工程、脱塩工程の開始前、脱塩工程、化学熟成の開始前、化学熟成の工程、完成乳剤調製前の工程などを挙げることができる。またこれらの工程中の複数回にわけて添加することもできる。また乳剤層に使用するのが好ましいが、乳剤層とともに隣接する保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。
好ましい添加量は、上述した添加法や添加する化合物種に大きく依存するが、一般には感光性ハロゲン化銀１モル当たり、１×10^-6〜1モル、好ましくは１×10^-5〜５×10^-1モルさらに好ましくは１×10^-4〜１×10^-1モルである。
【０３０６】
本発明の一般式（Ｉ）の化合物は、水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒またはこれらの混合溶媒に溶解して添加することができる。この際、酸または塩基によってｐＨを適当に調整してもよく、また界面活性剤を共存させてもよい。さらに乳化分散物として高沸点有機溶媒に溶解させて添加することもできる。また、固体分散物として添加することもできる。
【０３０７】
８）ハロゲン化銀の複数併用
本発明に用いられる感光材料中の感光性ハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上（例えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの）併用してもよい。感度の異なる感光性ハロゲン化銀を複数種用いることで階調を調節することができる。これらに関する技術としては特開昭57-119341号、同53-106125号、同47-3929号、同48-55730号、同46-5187号、同50-73627号、同57-150841号などが挙げられる。感度差としてはそれぞれの乳剤で0.2logE以上の差を持たせることが好ましい。
【０３０８】
９）ハロゲン化銀の塗布量
感光性ハロゲン化銀の添加量は、感材１ｍ²当たりの塗布銀量で示して、0.03〜0.6g/m²であることが好ましく、0.07〜0.4g/m²であることがさらに好ましく、0.05〜0.3g/m²であることが最も好ましい。有機銀塩1モルに対しては、感光性ハロゲン化銀は0.01モル以上0.5モル以下が好ましく、より好ましくは0.02モル以上0.3モル以下、さらに好ましくは0.03モル以上0.2モル以下である。
【０３０９】
１０）ハロゲン化銀と有機酸銀の混合
別々に調製した感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合方法及び混合条件については、それぞれ調製終了したハロゲン化銀粒子と有機銀塩を高速撹拌機やボールミル、サンドミル、コロイドミル、振動ミル、ホモジナイザー等で混合する方法や、あるいは有機銀塩の調製中のいずれかのタイミングで調製終了した感光性ハロゲン化銀を混合して有機銀塩を調製する方法等があるが、本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。また、混合する際に２種以上の有機銀塩水分散液と２種以上の感光性銀塩水分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ましい方法である。
【０３１０】
本発明のハロゲン化銀の画像形成層塗布液中への好ましい添加時期は、塗布する180分前から直前、好ましくは60分前から10秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋幸司訳“液体混合技術”(日刊工業新聞社刊、1989年)の第8章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。
【０３１１】
（バインダー）
本発明の有機銀塩含有層のバインダーはいかなるポリマーであってもよく、好適なバインダーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然樹脂やポリマー及びコポリマー、合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、ゼラチン類、ゴム類、ポリ（ビニルアルコール）類、ヒドロキシエチルセルロース類、セルロースアセテート類、セルロースアセテートブチレート類、ポリ（ビニルピロリドン）類、カゼイン、デンプン、ポリ（アクリル酸）類、ポリ（メチルメタクリル酸）類、ポリ（塩化ビニル）類、ポリ（メタクリル酸）類、スチレン−無水マレイン酸共重合体類、スチレン−アクリロニトリル共重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体類、ポリ（ビニルアセタール）類（例えば、ポリ（ビニルホルマール）及びポリ（ビニルブチラール））、ポリ（エステル）類、ポリ（ウレタン）類、フェノキシ樹脂、ポリ（塩化ビニリデン）類、ポリ（エポキシド）類、ポリ（カーボネート）類、ポリ（酢酸ビニル）類、ポリ（オレフィン）類、セルロースエステル類、ポリ（アミド）類がある。バインダーは水又は有機溶媒またはエマルションから被覆形成してもよい。
【０３１２】
有機銀塩含有層が溶媒の６０質量％以上が水である場合にはスチレン−ブタジエン共重合体のポリマーラテックスをバインダーに用いることが好ましく、溶剤の６０質量％以上が有機溶剤である場合にはポリビニルブチラールをバインダーに用いる事が好ましい。
【０３１３】
感光性層の塗布液溶媒の６０重量％以上が水である場合には、バインダーの６０重量％以上１００重量％以下がポリマーラテックスであることが好ましく、さらに好ましくは８０重量％以上１００重量以下がポリマーラテックスであり、このポリマーラテックスにはスチレンーブタジエン共重合体ポリマーラテックスを用いることが好ましい。
【０３１４】
感光性層の塗布液溶媒の６０重量％以上が有機溶媒である場合には、バインダーの６０重量％以上１００重量％以下がポリビニルブチラールであることが好ましく、さらに好ましくは８０重量％以上100重量以下がポリビニルブチラールである。
【０３１５】
本発明では、有機銀塩を含有する層のバインダーのガラス転移温度は−２０℃以上８０℃以下であることが好ましく、０℃〜７０℃であることがより好ましく、１０℃以上６５℃以下であることが更に好ましい。
【０３１６】
なお、本明細書においてＴｇは下記の式で計算される。
１／Ｔｇ＝Σ(Ｘi／Ｔｇi)
ここでは、ポリマーはｉ＝１からｎまでのｎ個のモノマー成分が共重合しているとする。Ｘiはｉ番目のモノマーの重量分率（ΣＸｉ＝１）、Ｔｇiはｉ番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度（絶対温度）である。ただしΣはｉ＝１からｎまでの和をとる。
尚、各モノマーの単独重合体ガラスの転移温度の値（Ｔｇi）はPolymer Handbook(3rd Edition)(J.Brandrup, E.H.Immergut著(Wiley-Interscience、1989))の値を採用した。
【０３１７】
バインダーとなるポリマーは単独種で用いてもよいし、必要に応じて２種以上を併用しても良い。また、ガラス転移温度が２０℃以上のものとガラス転移温度が２０℃未満のものを組み合わせて用いてもよい。Ｔｇの異なるポリマーを２種以上ブレンドして使用する場合には、その重量平均Ｔｇが上記の範囲に入ることが好ましい。
【０３１８】
本発明においては、有機銀塩含有層が溶媒の３０質量％以上が水である塗布液を用いて塗布し、乾燥して形成される場合に、さらに有機銀塩含有層のバインダーが水系溶媒（水溶媒）に可溶または分散可能である場合に、特に２５℃６０％ＲＨでの平衡含水率が２質量％以下のポリマーのラテックスからなる場合に性能が向上する。
最も好ましい形態は、イオン伝導度が２．５ｍＳ／ｃｍ以下になるように調製されたものであり、このような調製法としてポリマー合成後分離機能膜を用いて精製処理する方法が挙げられる。
【０３１９】
ここでいう前記ポリマーが可溶または分散可能である水系溶媒とは、水または水に７０質量％以下の水混和性の有機溶媒を混合したものである。
水混和性の有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール等のアルコール系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系、酢酸エチル、ジメチルホルミアミドなどを挙げることができる。
【０３２０】
また「２５℃６０％ＲＨにおける平衡含水率」とは、２５℃６０％ＲＨの雰囲気下で調湿平衡にあるポリマーの重量Ｗ１と２５℃で絶乾状態にあるポリマーの重量Ｗ０を用いて以下のように表すことができる。
２５℃６０％ＲＨにおける平衡含水率＝[(Ｗ１−Ｗ０)/Ｗ０]×１００(質量％)
【０３２１】
含水率の定義と測定法については、例えば高分子工学講座１４、高分子材料試験法(高分子学会編、地人書館)を参考にすることができる。
【０３２２】
本発明のバインダーポリマーの２５℃６０％ＲＨにおける平衡含水率は２質量％以下であることが好ましいが、より好ましくは０．０１質量％以上１．５質量％以下、さらに好ましくは０．０２質量％以上１質量％以下が望ましい。
【０３２３】
本発明のバインダーは水系溶媒に分散可能なポリマーが特に好ましい。分散状態の例としては、水不溶な疎水性ポリマーの微粒子が分散しているラテックスやポリマー分子が分子状態またはミセルを形成して分散しているものなどがあるが、いずれも好ましい。分散粒子の平均粒径は１〜５００００ｎｍ、より好ましくは５〜１０００ｎｍ程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持つものでもよい。
【０３２４】
本発明において水系溶媒に分散可能なポリマーの好ましい態様としては、アクリル系ポリマー、ポリ（エステル）類、ゴム類（例えばＳＢＲ樹脂）、ポリ（ウレタン）類、ポリ（塩化ビニル）類、ポリ（酢酸ビニル）類、ポリ（塩化ビニリデン）類、ポリ（オレフィン）類等の疎水性ポリマーを好ましく用いることができる。これらポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでもまた架橋されたポリマーでもよいし、単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、２種類以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも、ブロックコポリマーでもよい。
これらポリマーの分子量は数平均分子量で５０００〜１００００００、好ましくは１００００〜２０００００がよい。分子量が小さすぎるものは乳剤層の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは成膜性が悪く好ましくない。
【０３２５】
好ましいポリマーラテックスの具体例としては以下のものを挙げることができる。以下では原料モノマーを用いて表し、括弧内の数値は質量％、分子量は数平均分子量である。多官能モノマーを使用した場合は架橋構造を作るため分子量の概念が適用できないので架橋性と記載し、分子量の記載を省略した。Ｔｇはガラス転移温度を表す。
【０３２６】
P-1;-MMA(70)-EA(27)-MAA(3)-のラテックス(分子量37000、Tg61℃)
P-2;-MMA(70)-2EHA(20)-St(5)-AA(5)-のラテックス(分子量40000、Tg59℃)
P-3;-St(50)-Bu(47)-MAA(3)-のラテックス(架橋性、Tg-17℃)
P-4;-St(68)-Bu(29)-AA(3)-のラテックス(架橋性、Tg17℃)
P-5;-St(71)-Bu(26)-AA(3)-のラテックス(架橋性,Tg24℃)
P-6;-St(70)-Bu(27)-IA(3)-のラテックス(架橋性)
P-7;-St(75)-Bu(24)-AA(1)-のラテックス(架橋性、Tg29℃)
P-8;-St(60)-Bu(35)-DVB(3)-MAA(2)-のラテックス(架橋性)
P-9;-St(70)-Bu(25)-DVB(2)-AA(3)-のラテックス(架橋性)
P-10;-VC(50)-MMA(20)-EA(20)-AN(5)-AA(5)-のラテックス(分子量80000)
P-11;-VDC(85)-MMA(5)-EA(5)-MAA(5)-のラテックス(分子量67000)
P-12;-Et(90)-MAA(10)-のラテックス(分子量12000)
P-13;-St(70)-2EHA(27)-AA(3)のラテックス（分子量130000、Tg43℃）
P-14;-MMA(63)-EA(35)- AA(2)のラテックス（分子量33000、Tg47℃）
P-15;-St(70.5)-Bu(26.5)-AA(3)-のラテックス(架橋性,Tg23℃)
P-16;-St(69.5)-Bu(27.5)-AA(3)-のラテックス(架橋性,Tg20.5℃)
【０３２７】
上記構造の略号は以下のモノマーを表す。MMA；メチルメタクリレート、EA；エチルアクリレート、MAA；メタクリル酸、2EHA；2-エチルヘキシルアクリレート、St；スチレン、Bu；ブタジエン、AA；アクリル酸、DVB；ジビニルベンゼン、VC；塩化ビニル、AN；アクリロニトリル、VDC；塩化ビニリデン、Et；エチレン、IA；イタコン酸。
【０３２８】
以上に記載したポリマーラテックスは市販もされていて、以下のようなポリマーが利用できる。アクリル系ポリマーの例としては、セビアンA-4635,4718，4601（以上ダイセル化学工業（株）製）、Nipol Lx811、814、821、820、857（以上日本ゼオン（株）製）など、ポリ（エステル）類の例としては、FINETEX ES650、611、675、850（以上大日本インキ化学（株）製）、WD-size、WMS（以上イーストマンケミカル製）など、ポリ（ウレタン）類の例としては、HYDRAN AP10、20、30、40（以上大日本インキ化学（株）製）など、ゴム類の例としては、LACSTAR 7310K、3307B、4700H、7132C（以上大日本インキ化学（株）製）、Nipol Lx416、410、438C、2507（以上日本ゼオン（株）製）など、ポリ（塩化ビニル）類の例としては、G351、G576（以上日本ゼオン（株）製）など、ポリ（塩化ビニリデン）類の例としては、L502、L513（以上旭化成工業（株）製）など、ポリ（オレフィン）類の例としては、ケミパールS120、SA100（以上三井石油化学（株）製）などを挙げることができる。
【０３２９】
これらのポリマーラテックスは単独で用いてもよいし、必要に応じて２種以上ブレンドしてもよい。
【０３３０】
本発明に用いられるポリマーラテックスとしては、特に、スチレン−ブタジエン共重合体のラテックスが好ましい。スチレン−ブタジエン共重合体におけるスチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位との重量比は４０：６０〜９５：５であることが好ましい。また、スチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位との共重合体に占める割合は６０〜９９質量％であることが好ましい。好ましい分子量の範囲は前記と同様である。
【０３３１】
本発明に用いることが好ましいスチレン−ブタジエン共重合体のラテックスとしては、前記のP-3〜P-8,14,15、市販品であるLACSTAR-3307B、7132C、Nipol Lx416等が挙げられる。
【０３３２】
本発明の感光材料の有機銀塩含有層には必要に応じてゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加してもよい。
これらの親水性ポリマーの添加量は有機銀塩含有層の全バインダーの３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下が好ましい。
【０３３３】
本発明の有機銀塩含有層（即ち、画像形成層）は、ポリマーラテックスをバインダーに用いて形成されたものが好ましい。有機銀塩含有層のバインダーの量は、全バインダー／有機銀塩の重量比が１／１０〜１０／１、更には１／５〜４／１の範囲が好ましい。
【０３３４】
また、このような有機銀塩含有層は、通常、感光性銀塩である感光性ハロゲン化銀が含有された感光性層（乳剤層）でもあり、このような場合の、全バインダー／ハロゲン化銀の重量比は４００〜５、より好ましくは２００〜１０の範囲が好ましい。
【０３３５】
本発明の画像形成層の全バインダー量は０．２〜３０ｇ／ｍ²、より好ましくは１〜１５ｇ／ｍ²の範囲が好ましい。本発明の画像形成層には架橋のための架橋剤、塗布性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。
【０３３６】
本発明において感光材料の有機銀塩含有層塗布液の溶媒（ここでは簡単のため、溶媒と分散媒をあわせて溶媒と表す。）は、水を３０質量％以上含む水系溶媒が好ましい。水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなど任意の水混和性有機溶媒を用いてよい。溶媒の水含有率は５０質量％以上がより好ましく、さらに好ましくは７０質量％以上が良い。
好ましい溶媒組成の具体例を挙げると、水１００の他、水／メチルアルコール＝９０／１０、水／メチルアルコール＝７０／３０、水／メチルアルコール／ジメチルホルムアミド＝８０／１５／５、水／メチルアルコール／エチルセロソルブ＝８５／１０／５、水／メチルアルコール／イソプロピルアルコール＝８５／１０／５などがある（数値は質量％）。
【０３３７】
（かぶり防止剤）
本発明はカブリ防止剤として下記一般式（Ｈ）で表される化合物が含有する。
一般式（Ｈ）
Ｑ−（Ｙ）ｎ−Ｃ（Ｚ₁）（Ｚ₂）Ｘ
【０３３８】
一般式（Ｈ）において、Ｑはアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、Ｙは２価の連結基を表し、ｎは０または１を表し、Ｚ₁およびＺ₂はハロゲン原子を表し、Ｘは水素原子または電子求引性基を表す。
Ｑは好ましくはハメットの置換基定数σｐが正の値をとる電子求引性基で置換されたフェニル基を表す。ハメットの置換基定数に関しては、Journal of Medicinal Chemistry,1973,Vol.16,No.11,1207-1216 等を参考にすることができる。
【０３３９】
このような電子求引性基としては、例えばハロゲン原子（フッ素原子（σｐ値：０．０６）、塩素原子（σｐ値：０．２３）、臭素原子（σｐ値：０．２３）、ヨウ素原子（σｐ値：０．１８））、トリハロメチル基（トリブロモメチル（σｐ値：０．２９）、トリクロロメチル（σｐ値：０．３３）、トリフルオロメチル（σｐ値：０．５４））、シアノ基（σｐ値：０．６６）、ニトロ基（σｐ値：０．７８）、脂肪族・アリールもしくは複素環スルホニル基（例えば、メタンスルホニル（σｐ値：０．７２））、脂肪族・アリールもしくは複素環アシル基（例えば、アセチル（σｐ値：０．５０）、ベンゾイル（σｐ値：０．４３））、アルキニル基（例えば、Ｃ≡ＣＨ（σｐ値：０．２３））、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル（σｐ値：０．４５）、フェノキシカルボニル（σｐ値：０．４４））、カルバモイル基（σｐ値：０．３６）、スルファモイル基（σｐ値：０．５７）、スルホキシド基、ヘテロ環基、ホスホリル基等があげられる。
σｐ値としては好ましくは０．２〜２．０の範囲で、より好ましくは０．４から１．０の範囲である。
【０３４０】
電子求引性基として特に好ましいのは、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルホスホリル基、カルボキシル基、アルキルまたはアリールカルボニル基、およびアリールスルホニル基であり、好ましくはカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルホスホリル基であり、カルバモイル基が最も好ましい。
Ｘは、好ましくは電子求引性基であり、より好ましくはハロゲン原子、脂肪族・アリールもしくは複素環スルホニル基、脂肪族・アリールもしくは複素環アシル基、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基であり、特に好ましくはハロゲン原子である。
ハロゲン原子の中でも、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくは臭素原子である。
Ｙは好ましくは−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ−または−ＳＯ₂ −を表し、より好ましくは−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂ −であり、特に好ましくは−ＳＯ₂ −である。ｎは、０または１を表し、好ましくは１である。
【０３４１】
以下に本発明の一般式（Ｈ）の化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０３４２】
【化４８】

【０３４３】
【化４９】

【０３４４】
本発明の一般式（Ｈ）で表される化合物は画像形成層の非感光性銀塩１モルあたり、１０^-5〜０．５モルの範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１０^-4〜０．３モルの範囲で、さらに好ましくは１×１０^-3〜０．１モルの範囲で使用することが好ましい。
本発明において、一般式（Ｈ）で表される化合物を感光材料に含有せしめる方法としては、前記還元剤の含有方法に記載の方法が挙げられる。
【０３４５】
一般式（Ｈ）で表される化合物の融点は２００℃以下であることが好ましく、さらに好ましくは１７０℃以下がよい。
【０３４６】
本発明に用いられるその他の有機ポリハロゲン化物として、特開平11-65021号の段落番号0111〜0112に記載の特許に開示されているものが挙げられる。特に特願平11-87297号の式（Ｐ）で表される有機ハロゲン化合物、特開平10-339934号の一般式（II）で表される有機ポリハロゲン化合物、特願平11-205330号に記載の有機ポリハロゲン化合物が好ましい。
【０３４７】
（その他のかぶり防止剤）
その他のカブリ防止剤としては特開平11-65021号段落番号0113の水銀（II）塩、同号段落番号0114の安息香酸類、特開2000-206642号のサリチル酸誘導体、特開2000-221634号の式（Ｓ）で表されるホルマリンスカベンジャー化合物、特開平11-352624号の請求項９に係るトリアジン化合物、特開平6-11791号の一般式（III）で表される化合物、４−ヒドロキシ−６−メチル−１,３,３ａ,７−テトラザインデン等が挙げられる。
本発明に用いることのできるカブリ防止剤、安定剤および安定剤前駆体特開平10-62899号の段落番号００７０、欧州特許0803764A1号の第20頁第57行〜第21頁第７行に記載の特許のもの、特開平9-281637号、同9-329864号記載の化合物が挙げられる。
【０３４８】
本発明における熱現像感光材料はカブリ防止を目的としてアゾリウム塩を含有しても良い。アゾリウム塩としては、特開昭59-193447号記載の一般式（XI）で表される化合物、特公昭55-12581号記載の化合物、特開昭60-153039号記載の一般式（II）で表される化合物が挙げられる。アゾリウム塩は感光材料のいかなる部位に添加しても良いが、添加層としては感光性層を有する面の層に添加することが好ましく、有機銀塩含有層に添加することがさらに好ましい。
アゾリウム塩の添加時期としては塗布液調製のいかなる工程で行っても良く、有機銀塩含有層に添加する場合は有機銀塩調製時から塗布液調製時のいかなる工程でも良いが有機銀塩調製後から塗布直前が好ましい。アゾリウム塩の添加法としては粉末、溶液、微粒子分散物などいかなる方法で行っても良い。また、増感色素、還元剤、色調剤など他の添加物と混合した溶液として添加しても良い。
【０３４９】
本発明においてアゾリウム塩の添加量としてはいかなる量でも良いが、銀１モル当たり１×１０^-6モル以上２モル以下が好ましく、１×１０^-3モル以上０．５モル以下がさらに好ましい。
【０３５０】
（その他の添加剤）
１）メルカプト、ジスルフィド、およびチオン類
本発明には現像を抑制あるいは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させることができ、特開平10-62899号の段落番号0067〜0069、特開平10-186572号の一般式（Ｉ）で表される化合物及びその具体例として段落番号0033〜0052、欧州特許公開第0803764A1号の第２０ページ第３６〜５６行、特願平11-273670号等に記載されている。中でもメルカプト置換複素芳香族化合物が好ましい。
【０３５１】
２）色調剤
本発明の熱現像感光材料では色調剤の添加が好ましく、色調剤については、特開平１０−６２８９９号の段落番号００５４〜００５５、欧州特許０８０３７６４Ａ１号のｐ．２１，２３行〜４８行、特開２０００−３５６３１７号や特願２０００−１８７２９８号に記載されており、特に、フタラジノン類（フタラジノン、フタラジノン誘導体もしくは金属塩；例えば４−（１−ナフチル）フタラジノン、６−クロロフタラジノン、５，７−ジメトキシフタラジノンおよび２，３−ジヒドロー１，４−フタラジンジオン）；フタラジノン類とフタル酸類（例えば、フタル酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル酸、フタル酸二アンモニウム、フタル酸ナトリウム、フタル酸カリウムおよびテトラクロロ無水フタル酸）の組み合わせ；フタラジン類（フタラジン、フタラジン誘導体もしくは金属塩；例えば４−（１−ナフチル）フタラジン、６−イソプロピルフタラジン、６−ｔ−ブチルフタラジン、６−クロロフタラジン、５．７−ジメトキシフタラジン、および２，３−ジヒドロフタラジン）が好ましく、特に、ヨウ化銀含有率の高い組成のハロゲン化銀との組み合わせにおいては、フタラジン類とフタル酸類の組み合わせが好ましい。
【０３５２】
３）可塑剤、潤滑剤
本発明の感光性層に用いることのできる可塑剤および潤滑剤については特開平11-65021号段落番号0117に記載されている。滑り剤については特開平11-84573号段落番号0061〜0064や特願平11-106881号段落番号0049〜0062記載されている。
４）染料、顔料
本発明の感光性層には色調改良、レーザー露光時の干渉縞発生防止、イラジエーション防止の観点から各種染料や顔料（例えばC.I.Pigment Blue 60、C.I.Pigment Blue 64、C.I.Pigment Blue 15:6）を用いることができる。これらについてはWO98/36322号、特開平10-268465号、同11-338098号等に詳細に記載されている。
【０３５３】
（塗布液の調製および塗布）
本発明の画像形成層塗布液の調製温度は３０℃以上６５℃以下がよく、さらに好ましい温度は３５℃以上６０℃未満、より好ましい温度は３５℃以上５５℃以下である。また、ポリマーラテックス添加直後の画像形成層塗布液の温度が３０℃以上６５℃以下で維持されることが好ましい。
【０３５４】
（層構成）
本発明の熱現像感光材料は、画像形成層に加えて非感光性層を有することができる。非感光性層は、その配置から（a）画像形成層の上（支持体よりも遠い側）に設けられる表面保護層、（b）複数の画像形成層の間や画像形成層と保護層の間に設けられる中間層、（c）画像形成層と支持体との間に設けられる下塗り層、（d）画像形成層の反対側に設けられるバック層に分類できる。
また、光学フィルターとして作用する層を設けることができるが、（a）または（b）の層として設けられる。アンチハレーション層は、（c）または（d）の層として感光材料に設けられる。
【０３５５】
１）表面保護層
本発明における熱現像感光材料は画像形成層の付着防止などの目的で表面保護層を設けることができる。表面保護層は単層でもよいし、複数層であってもよい。表面保護層については、特開平11-65021号段落番号0119〜0120、特願2000-171936号に記載されている。
【０３５６】
本発明の表面保護層のバインダーとしてはゼラチンが好ましいがポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いる若しくは併用することも好ましい。ゼラチンとしてはイナートゼラチン（例えば新田ゼラチン750）、フタル化ゼラチン（例えば新田ゼラチン801）など使用することができる。
ＰＶＡとしては、特開2000-171936号の段落番号0009〜0020に記載のものがあげられ、完全けん化物のＰＶＡ−１０５、部分けん化物のＰＶＡ−２０５，ＰＶＡ−３３５、変性ポリビニルアルコールのＭＰ−２０３（以上、クラレ（株）製の商品名）などが好ましく挙げられる。
保護層（１層当たり）のポリビニルアルコール塗布量（支持体１ｍ²当たり）としては０．３〜４．０ｇ／ｍ²が好ましく、０．３〜２．０ｇ／ｍ²がより好ましい。
【０３５７】
さらに、表面保護層用のバインダーとして、特願平11-6872号明細書のポリマーラテックスの組み合わせ、特願平11-143058号明細書の段落番号0021〜0025に記載の技術、特願平11-6872号明細書の段落番号0027〜0028に記載の技術、特願平10-199626号明細書の段落番号0023〜0041に記載の技術を適用してもよい。 表面保護層のポリマーラテックスの比率は全バインダーの１０質量％以上９０質量％以下が好ましく、特に２０質量％以上８０質量％以下が好ましい。
【０３５８】
表面保護層（１層当たり）の全バインダー（水溶性ポリマー及びラテックスポリマーを含む）塗布量（支持体１ｍ²当たり）としては０．３〜５．０ｇ／ｍ²が好ましく、０．３〜２．０ｇ／ｍ²がより好ましい。
【０３５９】
２）アンチハレーション層
本発明の熱現像感光材料においては、アンチハレーション層を設けることができる。アンチハレーション層については特開平11-65021号段落番号0123〜0124、特開平11-223898号、同9-230531号、同10-36695号、同10-104779号、同11-231457号、同11-352625号、同11-352626号等に記載されている。
アンチハレーション層には、露光波長に吸収を有するアンチハレーション染料を含有する。露光波長が赤外域にある場合には赤外線吸収染料を用いればよく、その場合には可視域に吸収を有しない染料が好ましい。
可視域に吸収を有する染料を用いてハレーション防止を行う場合には、画像形成後には染料の色が実質的に残らないようにすることが好ましく、熱現像の熱により消色する手段を用いることが好ましく、特に非感光性層に熱消色染料と塩基プレカーサーとを添加してアンチハレーション層として機能させることが好ましい。これらの技術については特開平11-231457号等に記載されている。
本発明の３５０ｎｍ〜４５０ｎｍ領域にピーク強度を有する光源で露光する場合は、この波長領域に最大吸収波長を有する近紫外〜青色染料を用いる望ましい。
【０３６０】
消色染料の添加量は、染料の用途により決定する。一般には、目的とする波長で測定したときの光学濃度（吸光度）が０．１を越える量で使用する。光学濃度は、０．２〜２であることが好ましい。このような光学濃度を得るための染料の使用量は、一般に０．００１〜１ｇ／ｍ²程度である。
【０３６１】
なお、このように染料を消色すると、熱現像後の光学濃度を０．１以下に低下させることができる。二種類以上の消色染料を、熱消色型記録材料や熱現像感光材料において併用してもよい。同様に、二種類以上の塩基プレカーサーを併用してもよい。
このような消色染料と塩基プレカーサーを用いる熱消色においては、特開平11-352626号に記載のような塩基プレカーサーと混合すると融点を３℃（ｄｅｇ）以上降下させる物質（例えば、ジフェニルスルフォン、４−クロロフェニル（フェニル）スルフォン）を併用することが熱消色性等の点で好ましい。
【０３６２】
本発明においては、銀色調、画像の経時変化を改良する目的で３００〜４５０ｎｍに吸収極大を有する着色剤を添加することができる。このような着色剤は、特開昭62-210458号、同63-104046号、同63-103235号、同63-208846号、同63-306436号、同63-314535号、特開平01-61745号、特願平11-276751号などに記載されている。
このような着色剤は、通常、０．１ｍｇ／ｍ²〜１ｇ／ｍ²の範囲で添加され、添加する層としては感光性層の反対側に設けられるバック層が好ましい。
【０３６３】
３）バック層
本発明に適用することのできるバック層については特開平11-65021号段落番号0128〜0130に記載されている。
４）マット剤
本発明において、搬送性改良のためにマット剤を表面保護層、およびバック層に添加することが好ましい。マット剤については、特開平11-65021号段落番号0126〜0127に記載されている。
マット剤は感光材料１ｍ²当たりの塗布量で示した場合、好ましくは１〜４００ｍｇ／ｍ²、より好ましくは５〜３００ｍｇ／ｍ²である。
また、乳剤面のマット度は星屑故障が生じなければいかようでも良いが、ベック平滑度が３０秒以上２０００秒以下が好ましく、特に４０秒以上１５００秒以下が好ましい。ベック平滑度は、日本工業規格（ＪＩＳ）P8119「紙および板紙のベック試験器による平滑度試験方法」およびTAPPI標準法T479により容易に求めることができる。
【０３６４】
本発明においてバック層のマット度としてはベック平滑度が１２００秒以下１０秒以上が好ましく、８００秒以下２０秒以上が好ましく、さらに好ましくは５００秒以下４０秒以上である。
【０３６５】
本発明において、マット剤は感光材料の最外表面層もしくは最外表面層として機能する層、あるいは外表面に近い層に含有されるのが好ましく、またいわゆる保護層として作用する層に含有されることが好ましい。
【０３６６】
５）ポリマーラテックス
本発明の表面保護層やバック層にポリマーラテックスを添加することができる。
このようなポリマーラテックスについては「合成樹脂エマルジョン（奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行（１９７８））」、「合成ラテックスの応用（杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行（１９９３））」、「合成ラテックスの化学（室井宗一著、高分子刊行会発行（１９７０））」などにも記載され、具体的にはメチルメタクリレート（３３．５質量％）／エチルアクリレート（５０質量％）／メタクリル酸（１６．５質量％）コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート（４７．５質量％）／ブタジエン（４７．５質量％）／イタコン酸（５質量％）コポリマーのラテックス、エチルアクリレート／メタクリル酸のコポリマーのラテックス、メチルメタクリレート（５８．９質量％）／２−エチルヘキシルアクリレート（２５．４質量％）／スチレン（８．６質量％）／２−ヒドロキシエチルメタクリレート（５．１質量％）／アクリル酸（２．０質量％）コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート（６４．０質量％）／スチレン（９．０質量％） ／ブチルアクリレート（２０．０質量％）／２−ヒドロキシエチルメタクリレート（５．０質量％）／アクリル酸（２．０質量％）コポリマーのラテックスなどが挙げられる。
【０３６７】
６）膜面ｐＨ
本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理前の膜面ｐＨが７．０以下であることが好ましく、さらに好ましくは６．６以下である。その下限には特に制限はないが、３程度である。最も好ましいｐＨ範囲は４〜６．２の範囲である。
膜面ｐＨの調節はフタル酸誘導体などの有機酸や硫酸などの不揮発性の酸、アンモニアなどの揮発性の塩基を用いることが、膜面ｐＨを低減させるという観点から好ましい。特にアンモニアは揮発しやすく、塗布する工程や熱現像される前に除去できることから低膜面ｐＨを達成する上で好ましい。
また、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム、水酸化リチウム等の不揮発性の塩基とアンモニアを併用することも好ましく用いられる。なお、膜面ｐＨの測定方法は、特願平11-87297号明細書の段落番号０１２３に記載されている。
【０３６８】
７）硬膜剤
本発明の感光性層、保護層、バック層など各層には硬膜剤を用いても良い。
硬膜剤の例としてはT.H.James著“THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION”(Macmillan Publishing Co., Inc.刊、1977年刊)７７頁から８７頁に記載の各方法があり、クロムみょうばん、２,４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジンナトリウム塩、Ｎ,Ｎ−エチレンビス（ビニルスルフォンアセトアミド）、Ｎ,Ｎ−プロピレンビス（ビニルスルフォンアセトアミド）の他、同書７８頁など記載の多価金属イオン、米国特許4,281,060号、特開平6-208193号などのポリイソシアネート類、米国特許4,791,042号などのエポキシ化合物類、特開昭62-89048号などのビニルスルホン系化合物類が好ましく用いられる。
【０３６９】
硬膜剤は溶液として添加され、この溶液の保護層塗布液中への添加時期は、塗布する１８０分前から直前、好ましくは６０分前から１０秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。
具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋幸司訳“液体混合技術”（日刊工業新聞社刊、1989年）の第８章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。
【０３７０】
８）界面活性剤
本発明に適用できる界面活性剤については特開平11-65021号段落番号0132に記載されている。
本発明においてはフッ素系の界面活性剤を使用することが好ましい。フッ素系界面活性剤の具体例は特開平10-197985号、特開2000-19680号、特開2000-214554号等に記載された化合物があげられる。また、特開平9-281636号記載の高分子フッ素系界面活性剤も好ましく用いられる。本発明の熱現像感光材料においては特願2000-206560号、特願2001-203462号、特願2001-242357号および特願2001-264110号記載のフッ素系界面活性剤の使用が好ましい。特に特願2001-242357号および特願2001-264110号記載のフッ素系界面活性剤は水系の塗布液で塗布製造を行う場合、帯電調整能力、塗布面状の安定性、スベリ性の点で好ましく、特願2001-264110号記載のフッ素系界面活性剤は帯電調整能力が高く使用量が少なくてすむという点で最も好ましい。
【０３７１】
本発明においてフッ素系界面活性剤は乳剤面、バック面のいずれにも使用することができ、両方の面に使用することが好ましい。また、前述の金属酸化物を含む導電層と組み合わせて使用することが特に好ましい。この場合には導電層を有する面のフッ素系界面活性剤の使用量を低減もしくは除去しても十分な性能が得られる。
【０３７２】
フッ素系界面活性剤の好ましい使用量は乳剤面、バック面それぞれに0.1mg/m²〜100mg/m²の範囲で、より好ましくは0.3mg/m²〜30mg/m²の範囲、さらに好ましくは1mg/m²〜10mg/m²の範囲である。特に特願2001-264110号記載のフッ素系界面活性剤は効果が大きく、0.01〜10mg/m²の範囲が好ましく、0.1〜5mg/m²の範囲がより好ましい。
【０３７３】
９）支持体
透明支持体は二軸延伸時にフィルム中に残存する内部歪みを緩和させ、熱現像処理中に発生する熱収縮歪みをなくすために、１３０〜１８５℃の温度範囲で熱処理を施したポリエステル、特にポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。
医療用の熱現像感光材料の場合、透明支持体は青色染料（例えば、特開平8-240877号実施例記載の染料-1）で着色されていてもよいし、無着色でもよい。
具体的な支持体の例は、特開平11-65021同号段落番号0134に記載されている。
【０３７４】
支持体には、特開平11-84574号の水溶性ポリエステル、同10-186565号のスチレンブタジエン共重合体、特開2000-39684号や特願平11-106881号段落番号0063〜0080の塩化ビニリデン共重合体などの下塗り技術を適用することが好ましい。
また、本発明では、公知の種々の金属酸化物あるいは導電性ポリマーなどを含む帯電防止層を有しても良い。帯電防止層は前述の下塗り層、バック層表面保護層などと兼ねても良く、また別途設けてもよい。帯電防止層については、特開平11-65021号段落番号0135、特開昭56-143430号、同56-143431号、同58-62646号、同56-120519号、特開平11-84573号の段落番号0040〜0051、米国特許第5,575,957号、特開平11-223898号の段落番号0078〜0084に記載の技術を適用することができる。
【０３７５】
１０）その他の添加剤
熱現像感光材料には、さらに、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤あるいは被覆助剤を添加してもよい。特開平11-65021号段落番号0133の記載の溶剤を添加しても良い。各種の添加剤は、感光性層あるいは非感光性層のいずれかに添加する。それらについてWO98/36322号、EP803764A1号、特開平10-186567号、同10-18568号等を参考にすることができる。
【０３７６】
１１）塗布方式
本発明における熱現像感光材料はいかなる方法で塗布されても良い。具体的には、エクストルージョンコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、浸漬コーティング、ナイフコーティング、フローコーティング、または米国特許第2,681,294号に記載の種類のホッパーを用いる押出コーティングを 含む種々のコーティング操作が用いられ、Stephen F. Kistler、Petert M. Schweizer著“LIQUID FILM COATING”（CHAPMAN & HALL社刊、1997年）399頁から536頁記載のエクストルージョンコーティング、またはスライドコーティング好ましく用いられ、特に好ましくはスライドコーティングが用いられる。
スライドコーティングに使用されるスライドコーターの形状の例は同書427頁のFigure 11b.1に ある。また、所望により同書399頁から536頁記載の方法、米国特許第2,761,791 号および英国特許第837,095号に記載の方法により２層またはそれ以上の層を同時に被覆することができる。
【０３７７】
本発明における有機銀塩含有層塗布液は、いわゆるチキソトロピー流体であることが好ましい。この技術については特開平11-52509号を参考にすることができる。
本発明における有機銀塩含有層塗布液は剪断速度０．１Ｓ^-1における粘度は４００ｍＰａ・ｓ以上１００,０００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、さらに好ましくは５００ｍＰａ・ｓ以上２０,０００ｍＰａ・ｓ以下である。
また、剪断速度１０００Ｓ^-1においては１ｍＰａ・ｓ以上２００ｍＰａ・ｓ以下が好まく、さらに好ましくは５ｍＰａ・ｓ以上８０ｍＰａ・ｓ以下である。
【０３７８】
１２）その他の利用できる技術
本発明の熱現像感光材料に用いることのできる技術としては、EP803764A1号、EP883022A1号、WO98/36322号、特開昭56-62648号、同58-62644号、特開平9-43766、同9-281637、同9-297367号、同9-304869号、同9-311405号、同9-329865号、同10-10669号、同10-62899号、同10-69023号、同10-186568号、同10-90823号、同10-171063号、同10-186565号、同10-186567号、同10-186569号〜同10-186572号、同10-197974号、同10-197982号、同10-197983号、同10-197985号〜同10-197987号、同10-207001号、同10-207004号、同10-221807号、同10-282601号、同10-288823号、同10-288824号、同10-307365号、同10-312038号、同10-339934号、同11-7100号、同11-15105号、同11-24200号、同11-24201号、同11-30832号、同11-84574号、同11-65021号、同11-109547号、同11-125880号、同11-129629号、同11-133536号〜同11-133539号、同11-133542号、同11-133543号、同11-223898号、同11-352627号、同11-305377号、同11-305378号、同11-305384号、同11-305380号、同11-316435号、同11-327076号、同11-338096号、同11-338098号、同11-338099号、同11-343420号、特願2000-187298号、同2000-10229号、同2000-47345号、同2000-206642号、同2000-98530号、同2000-98531号、同2000-112059号、同2000-112060号、同2000-112104号、同2000-112064号、同2000-171936号も挙げられる。
【０３７９】
多色感光性熱現像写真材料の構成は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよく、また、米国特許第4,708,928号に記載されているように単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。
多染料多色感光性熱現像写真材料の場合、各乳剤層は、一般に、米国特許第4,460,681号に記載されているように、各感光性層の間に官能性もしくは非官能性のバリアー層を使用することにより、互いに区別されて保持される。
【０３８０】
２．画像形成方法
２−１．露光
本発明の感光材料はいかなる方法で露光されても良いが、露光光源としてレーザー光が好ましい。本発明によるレーザー光としては、ガスレーザー、ＹＡＧレーザー、色素レーザー、半導体レーザーなどが好ましい。また、半導体レーザーと第２高調波発生素子などを用いることもできる。
特に、本発明の熱現像画像記録材料の露光には、青色半導体レーザーを利用した短波長領域のレーザー出力装置を用いるのが好ましい。青色半導体レーザーは、前述のように高精細の画像記録が可能であること、記録密度の増大、かつ長寿命で安定した出力が得られるなど極めて優れた特徴を有している。
露光波長としては、好ましくは３５０ｎｍ〜４５０ｎｍであり、より好ましくは３７０ｎｍ〜４３０ｎｍであり、特に好ましくは３９０ｎｍ〜４２０ｎｍである。
【０３８１】
２−２．熱現像
本発明の熱現像感光材料はいかなる方法で現像されても良いが、通常イメージワイズに露光した熱現像感光材料を昇温して現像される。好ましい現像温度としては８０〜２５０℃であり、さらに好ましくは１００〜１４０℃である。
現像時間としては１〜６０秒が好ましく、３〜３０秒がさらに好ましく、５〜２０秒が特に好ましい。最も好ましくは１０〜１５秒である。
【０３８２】
熱現像の方式としてはプレートヒーター方式が好ましい。プレートヒーター方式による熱現像方式とは特開平11-133572号に記載の方法が好ましく、潜像を形成した熱現像感光材料を熱現像部にて加熱手段に接触させることにより可視像を得る熱現像装置であって、前記加熱手段がプレートヒータからなり、かつ前記プレートヒータの一方の面に沿って複数個の押えローラが対向配設され、前記押えローラと前記プレートヒータとの間に前記熱現像感光材料を通過させて熱現像を行うことを特徴とする熱現像装置である。プレートヒータを２〜６段に分けて先端部については１〜１０℃程度温度を下げることが好ましい。
このような方法は特開昭54-30032号にも記載されており、熱現像感光材料に含有している水分や有機溶媒を系外に除外させることができ、また、急激に熱現像感光材料が加熱されることでの熱現像感光材料の支持体形状の変化を押さえることもできる。
【０３８３】
２−３．システム
露光部及び熱現像部を備えた医療用のレーザーイメージャーとしては富士メディカルドライレーザーイメージャーＦＭ−ＤＰＬを挙げることができる。ＦＭ−ＤＰＬに関しては、Fuji Medical Review No.8,page 39〜55に記載されており、それらの技術は本発明の熱現像感光材料のレーザーイメージャーとして適用することは言うまでもない。また、DICOM規格に適応したネットワークシステムとして富士フィルムメディカル（株）が提案した「AD network」の中でのレーザーイメージャー用の熱現像感光材料としても適用することができる。
【０３８４】
３．本発明の用途
本発明の熱現像感光材料は、銀画像による黒白画像を形成し、医療診断用の熱現像感光材料、工業写真用熱現像感光材料、印刷用熱現像感光材料、ＣＯＭ用の熱現像感光材料として使用されることが好ましい。特に医療診断用の熱現像感光材料が好ましい。
【０３８５】
【実施例】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
１．ＰＥＴ支持体の作成、および下塗り
１）製膜
テレフタル酸とエチレングリコ−ルを用い、常法に従い固有粘度IV=0.66(フェノ−ル／テトラクロルエタン=６／４（重量比）中２５℃で測定)のＰＥＴを得た。これをペレット化した後１３０℃で４時間乾燥し、３００℃で溶融し、その後Ｔ型ダイから押し出して急冷し、熱固定後の膜厚が１７５μｍになるような厚みの未延伸フィルムを作成した。
【０３８６】
これを、周速の異なるロ−ルを用い３．３倍に縦延伸、ついでテンタ−で４．５倍に横延伸を実施した。この時の温度はそれぞれ、１１０℃、１３０℃であった。この後、２４０℃で２０秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に４％緩和した。この後テンタ−のチャック部をスリットした後、両端にナ−ル加工を行い、４ｋｇ／ｃｍ²で巻き取り、厚み１７５μｍのロ−ルを得た。
【０３８７】
２）表面コロナ処理
ピラー社製ソリッドステートコロナ処理機６ＫＶＡモデルを用い、支持体の両面を室温下において２０ｍ／分で処理した。この時の電流、電圧の読み取り値から、支持体には０．３７５ｋＶ・Ａ・分／ｍ²の処理がなされていることがわかった。この時の処理周波数は９．６ｋＨｚ、電極と誘電体ロ−ルのギャップクリアランスは１．６ｍｍであった。
【０３８８】
３）下塗り
３−１）下塗層塗布液の作成
処方▲１▼（感光層側下塗り層用）
高松油脂(株)製ペスレジンA-520(30質量％溶液) 59ｇ
ポリエチレングリコールモノノニルフェニルエーテル
(平均エチレンオキシド数＝8.5) 10質量％溶液 5.4ｇ
綜研化学(株)製 MP-1000(ポリマー微粒子、平均粒径0.4μm) 0.91g
蒸留水 935ml
【０３８９】
処方▲２▼（バック面第１層用）
スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス 158ｇ
（固形分40質量％、スチレン／ブタジエン重量比＝68/32）
２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−Ｓ−
トリアジンナトリウム塩 ８質量％水溶液 20g
ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウムの１質量％水溶液 10ml
蒸留水 854ml
【０３９０】
処方▲３▼（バック面側第２層用）
SnO₂/SbO (9/1質量比、平均粒径0.038μm、17質量％分散物） 84ｇ
ゼラチン(10質量%水溶液) 89.2ｇ
信越化学(株)製 メトローズTC-5(2質量%水溶液) 8.6g
綜研化学(株)製 MP-1000 0.01g
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの１質量％水溶液 10ml
NaOH(1質量%) 6ml
プロキセル（ＩＣＩ社製） 1ml
蒸留水 805ml
【０３９１】
３−２)下塗り
上記厚さ１７５μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレート支持体の両面それぞれに、上記コロナ放電処理を施した後、片面（感光性層面）に上記下塗り塗布液処方▲１▼をワイヤーバーでウエット塗布量が６．６ｍｌ／ｍ²（片面当たり）になるように塗布して１８０℃で５分間乾燥し、ついでこの裏面（バック面）に上記下塗り塗布液処方▲２▼をワイヤーバーでウエット塗布量が５．７ｍｌ／ｍ²になるように塗布して１８０℃で５分間乾燥し、更に裏面（バック面）に上記下塗り塗布液処方▲３▼をワイヤーバーでウエット塗布量が７．７ｍｌ／ｍ²になるように塗布して１８０℃で６分間乾燥して下塗り支持体を作製した。
【０３９２】
２．バック層
２−１）バック層塗布液の調製
（ハレーション防止層塗布液の調製）
ゼラチン60g、ポリアクリルアミド24.5g、１ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム2.2ｇ、単分散ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒子サイズ8μｍ、粒径標準偏差0.4）2.4g、ベンゾイソチアゾリノン0.08g、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム0.3g、青色染料化合物−１を0.21ｇ、黄色染料化合物−１を0.15g、アクリル酸／エチルアクリレート共重合ラテックス（共重合比５／９５）8.3ｇを混合し、水にて全体を８１８ｍｌとし、ハレーション防止層塗布液を調製した。
【０３９３】
（バック面保護層塗布液の調製）
容器を40℃に保温し、ゼラチン40g、流動パラフィン乳化物を流動パラフィンとして1.5g、ベンゾイソチアゾリノン35ｍｇ、１ｍｏｌ／ｌの苛性6.8ｇ、 t-オクチルフェノキシエトキシエタンスルホン酸ナトリウム0.5ｇ、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム0.27g、フッ素系界面活性剤（Ｆ−１）2%水溶液を5.4m、アクリル酸／エチルアクリレート共重合体（共重合重量比5／95）6.0g、 N,N-エチレンビス（ビニルスルホンアセトアミド） 2.0gを混合し、水で１０００mlとしてバック面保護層塗布液とした。
【０３９４】
２−２）バック層の塗布
上記下塗り支持体のバック面側に、ハレーション防止層塗布液をゼラチン塗布量が０．８８ｇ／ｍ²となるように、またバック面保護層塗布液をゼラチン塗布量が１．２ｇ／ｍ²となるように同時重層塗布し、乾燥し、バック層を作成した。
【０３９５】
３．画像形成層、中間層、および表面保護層
３−１．塗布用材料の準備
１）ハロゲン化銀乳剤の調製
（ハロゲン化銀乳剤１の調製）
蒸留水１４２０ｍｌに1質量％ヨウ化カリウム溶液４．３ｍｌを加え、さらに０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸を３．５ｍｌ、フタル化ゼラチン３６．７ｇを添加した液をステンレス製反応壺中で攪拌しながら、４２℃に液温を保ち、硝酸銀２２．２２ｇに蒸留水を加え１９５．６ｍｌに希釈した溶液Ａとヨウ化カリウム２１．８ｇを蒸留水にて容量２１８ｍｌに希釈した溶液Ｂを一定流量で９分間かけて全量添加した。その後、３．５質量％の過酸化水素水溶液を１０ｍｌ添加し、さらにベンゾイミダゾールの１０質量％水溶液を１０．８ｍｌ添加した。
【０３９６】
さらに、硝酸銀５１．８６ｇに蒸留水を加えて３１７．５ｍｌに希釈した溶液Ｃとヨウ化カリウム６０ｇを蒸留水にて容量６００ｍｌに希釈した溶液Ｄを、溶液Ｃは一定流量で１２０分間かけて全量添加し、溶液ＤはｐＡｇを８．１に維持しながらコントロールドダブルジェット法で添加した。銀１モル当たり１×１０-4モルになるよう六塩化イリジウム（III）酸カリウム塩を溶液Ｃおよび溶液Ｄを添加しはじめてから１０分後に全量添加した。また、溶液Ｃの添加終了の５秒後に六シアン化鉄（II）カリウム水溶液を銀1モル当たり３×１０^-4モル全量添加した。０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸を用いてｐＨを３．８に調整し、攪拌を止め、沈降／脱塩／水洗工程をおこなった。１ｍｏｌ／Ｌ濃度の水酸化ナトリウムを用いてｐＨ５．９に調整し、ｐＡｇ８．０のハロゲン化銀分散物を作成した。
【０３９７】
上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら３８℃に維持して、０．３４質量％の１、２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンのメタノール溶液を５ｍｌ加え、４７℃に昇温した。昇温の２０分後にベンゼンチオスルフォン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀1モルに対して７．６×１０^-5モル加え、さらに５分後にテルル増感剤Ｂをメタノール溶液で銀１モル当たり２．９×１０^-4モル加えて９１分間熟成した。
Ｎ、Ｎ'−ジヒドロキシ−Ｎ"−ジエチルメラミンの０．８質量％メタノール溶液１．３ｍｌを加え、さらに４分後に、５−メチル−２−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀1モル当たり４．８×１０^-3モル及び１−フェニル−２−ヘプチル−５−メルカプト−１、３、４−トリアゾールをメタノール溶液で銀１モルに対して５．４×１０^-3モル添加して、ハロゲン化銀乳剤１を作製した。
【０３９８】
調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、平均球相当径０．０４０μｍ、球相当径の変動係数１８％の純ヨウ化銀粒子であった。粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用い１０００個の粒子の平均から求めた。
【０３９９】
（ハロゲン化銀乳剤２の調製）
反応溶液の温度を65℃に変更し、２，２‘−（エチレンジチオ）ジエタノールの５％メタノール溶液５ｍｌを溶液AとBの添加後に添加したこと以外はハロゲン化銀乳剤1と全く同様にしてハロゲン化銀乳剤２を作成した。
調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、平均球相当径０．０７５μｍ、球相当径の変動係数２３％の純ヨウ化銀粒子であった。粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用い１０００個の粒子の平均から求めた。
【０４００】
（ハロゲン化銀乳剤３の調製）
反応溶液の温度を２７℃に変更したこと以外はハロゲン化銀乳剤１と全く同様にしてハロゲン化銀乳剤３を作成した。
調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、平均球相当径０．０２２μｍ、球相当径の変動係数１７％の純ヨウ化銀粒子であった。粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用い１０００個の粒子の平均から求めた。
【０４０１】
（塗布液用混合乳剤Ａの調製）
ハロゲン化銀乳剤１とハロゲン化銀乳剤２とハロゲン化銀乳剤３を銀モル比として５：２：３になる量を溶解し、ベンゾチアゾリウムヨーダイドを１質量％水溶液にて銀１モル当たり７×１０^-3モル添加した。さらに塗布液用混合乳剤１ｋｇあたりハロゲン化銀の含有量が銀として３８．２ｇとなるように加水し、塗布液用混合乳剤１ｋｇあたり0.34ｇとなるように１−（３−メチルウレイド）−５−メルカプトテトラゾールナトリウム塩を添加した。
【０４０２】
さらに「１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物」として、化合物２と２０と２６をそれぞれハロゲン化銀の銀１モル当たり２×１０^-3モルになる量を添加した。
【０４０３】
２）脂肪酸銀分散物の調製
＜再結晶ベヘン酸の調製＞
ヘンケル社製ベヘン酸（製品名Edenor C22-85R）100kgを、1200kgのイソプロピルアルコールにまぜ、50℃で溶解し、10μｍのフィルターで濾過した後、30℃まで、冷却し、再結晶を行った。再結晶をする際の、冷却スピードは、3℃/時間にコントロールした。得られた結晶を遠心濾過し、100kgのイソプルピルアルコールでかけ洗いを実施した後、乾燥を行った。得られた結晶をエステル化してGC-FID測定をしたところ、ベヘン酸含有率は96モル％、それ以外にリグノセリン酸がモル2％、アラキジン酸が２モル％、エルカ酸０．００１モル％含まれていた。
【０４０４】
＜脂肪酸銀分散物の調製＞
再結晶ベヘン酸88kg、蒸留水422L、5mol/L濃度のNaOH水溶液49.2L、ｔ−ブチルアルコール120Lを混合し、75℃にて1時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液Bを得た。別に、硝酸銀40.4kgの水溶液206.2L（pH4.0）を用意し、10℃にて保温した。635Lの蒸留水と30Lのｔ−ブチルアルコールを入れた反応容器を30℃に保温し、十分に撹拌しながら先のベヘン酸ナトリウム溶液の全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそれぞれ93分15秒と90分かけて添加した。このとき、硝酸銀水溶液添加開始後11分間は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあとベヘン酸ナトリウム溶液を添加開始し、硝酸銀水溶液の添加終了後14分15秒間はベヘン酸ナトリウム溶液のみが添加されるようにした。このとき、反応容器内の温度は30℃とし、液温度が一定になるように外温コントロールした。また、ベヘン酸ナトリウム溶液の添加系の配管は、２重管の外側に温水を循環させる事により保温し、添加ノズル先端の出口の液温度が75℃になるよう調製した。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、２重管の外側に冷水を循環させることにより保温した。ベヘン酸ナトリウム溶液の添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は撹拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に接触しないような高さに調製した。
【０４０５】
ベヘン酸ナトリウム溶液を添加終了後、そのままの温度で20分間撹拌放置し、30分かけて35℃に昇温し、その後210分熟成を行った。熟成終了後直ちに、遠心濾過で固形分を濾別し、固形分を濾過水の伝導度が30μS/cmになるまで水洗した。こうして脂肪酸銀塩を得た。得られた固形分は、乾燥させないでウエットケーキとして保管した。
【０４０６】
得られたベヘン酸銀粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価したところ、平均値でa=0.21μｍ、b=0.4μｍ、c=0.4μｍ、平均アスペクト比2.1、球相当径の変動係数11％の結晶であった。（a,b,cは本文の規定）
【０４０７】
乾燥固形分260kg相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール（商品名：PVA-217）19.3kgおよび水を添加し、全体量を1000kgとしてからディゾルバー羽根でスラリー化し、更にパイプラインミキサー（みづほ工業製：ＰＭ−１０型）で予備分散した。
【０４０８】
次に予備分散済みの原液を分散機（商品名：マイクロフルイダイザーＭ−６１０、マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーション製、Ｚ型インタラクションチャンバー使用）の圧力を1150kg／cm²に調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで18℃の分散温度に設定した。
【０４０９】
３）還元剤分散物の調製
還元剤（種類は表１記載）10kgと変性ポリビニルアルコール（クラレ(株)製、ポバールMP203）の10質量％水溶液16kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2：アイメックス（株）製)にて３時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて還元剤の濃度が25質量％になるように調製した。この分散液を80℃で５時間を標準時間として加熱処理し、還元剤分散物を得た。加熱時間は還元剤粒子のメジアン径が0.40μmになるように調整した。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径0.40μｍ、最大粒子径1.4μｍ以下であった。得られた還元剤分散物は孔径3.0μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
還元剤粒子のメジアン径、最大粒子径は堀場製作所製LA-920を用いて測定した。以下の他分散物のメジアン径、最大粒子径も同様に測定した。
【０４１０】
４）水素結合性化合物分散物の調製
水素結合性化合物−１（トリ（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィンオキシド）10kgと変性ポリビニルアルコール（クラレ(株)製、ポバールMP203）の10質量％水溶液16kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2：アイメックス（株）製)にて４時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて水素結合性化合物の濃度が25質量％になるように調製した。この分散液を４０℃で１時間加熱した後、引き続いてさらに８０℃で１時間加温し、水素結合性化合物―１分散物を得た。こうして得た水素結合性化合物分散物に含まれる水素結合性化合物粒子はメジアン径0.45μｍ、最大粒子径1.3μｍ以下であった。得られた水素結合性化合物分散物は孔径3.0μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４１１】
５）現像促進剤分散物、色調調整剤分散物の調製
（現像促進剤−１分散物の調製）
現像促進剤−１を10kgと変性ポリビニルアルコール（クラレ(株)製、ポバールMP203）の10質量％水溶液20kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2：アイメックス（株）製)にて３時間30分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて現像促進剤の濃度が20質量％になるように調製し、現像促進剤−１分散物を得た。こうして得た現像促進剤分散物に含まれる現像促進剤粒子はメジアン径0.48μｍ、最大粒子径1.4μｍ以下であった。得られた現像促進剤分散物は孔径3.0μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４１２】
（現像促進剤−２および色調調整剤−１の固体分散物の調製）
現像促進剤−２および色調調整剤−１の固体分散物についても現像促進剤−１と同様の方法により分散し、それぞれ20質量%、１５質量％の分散液を得た。
【０４１３】
６）ポリハロゲン化合物分散物の調製
（有機ポリハロゲン化合物−１分散物の調製）
有機ポリハロゲン化合物―１（トリブロモメタンスルホニルベンゼン）10kgと変性ポリビニルアルコール（クラレ(株)製ポバールMP203）の20質量％水溶液10kgと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量％水溶液0.4kgと、水14kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2：アイメックス（株）製)にて5時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が30質量％になるように調製し、有機ポリハロゲン化合物―１分散物を得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径0.41μｍ、最大粒子径2.0μｍ以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径10.0μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４１４】
（有機ポリハロゲン化合物−２分散物の調製）
有機ポリハロゲン化合物―２（Ｎ−ブチル−３−トリブロモメタンスルホニルベンゾアミド）10kgと変性ポリビニルアルコール（クラレ(株)製ポバールMP203）の10質量％水溶液20kgと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量％水溶液0.4kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2：アイメックス（株）製)にて5時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が３０質量％になるように調製した。この分散液を４０℃で５時間加温し、有機ポリハロゲン化合物―２分散物を得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径0.40μｍ、最大粒子径1.3μｍ以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径3.0μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４１５】
７）フタラジン化合物溶液の調整
8kgのクラレ（株）製変性ポリビニルアルコールMP203を水174.57kgに溶解し、次いでトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量％水溶液3.15kgとフタラジン化合物―１（6-イソプロピルフタラジン）の70質量％水溶液14.28kgを添加し、フタラジン化合物―１の5質量％溶液を調製した。
【０４１６】
８）メルカプト化合物−１の調整
メルカプト化合物―１（１−（３−メチルウレイド）−５−メルカプトテトラゾールナトリウム塩）20ｇを水980ｇに溶解し、2.0質量％の水溶液とした。
【０４１７】
９）顔料−１分散物の調製
C.I.Pigment Blue 60を64gと花王(株)製デモールNを6.4gに水250gを添加し良く混合してスラリーとした。平均直径0.5mmのジルコニアビーズ800ｇを用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機（1/4Ｇサンドグラインダーミル：アイメックス（株）製）にて25時間分散し、水を加えて顔料の濃度が5質量％になるように調製して顔料−１分散物を得た。こうして得た顔料分散物に含まれる顔料粒子は平均粒径0.21μｍであった。
【０４１８】
１０）ＳＢＲラテックス液の調製
ＳＢＲラテックスは以下により調整した。
ガスモノマー反応装置（耐圧硝子工業(株)製ＴＡＳ−２Ｊ型）の重合釜に、蒸留水２８７ｇ、界面活性剤（パイオニンＡ−４３−Ｓ（竹本油脂(株)製）：固形分４８．５％）７．７３ｇ、１ｍｏｌ／リットルＮａＯＨを１４．０６ｍｌ、エチレンジアミン４酢酸４ナトリウム塩０．１５ｇ、スチレン２５５ｇ、アクリル酸１１．２５ｇ、ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタン３．０ｇを入れ、反応容器を密閉し撹拌速度２００ｒｐｍで撹拌した。真空ポンプで脱気し窒素ガス置換を数回繰返した後に、１，３−ブタジエン１０８．７５ｇを圧入して内温６０℃まで昇温した。ここに過硫酸アンモニウム１．８７５ｇを水５０ｍｌに溶解した液を添加し、そのまま５時間撹拌した。
さらに９０℃に昇温して３時間撹拌し、反応終了後内温が室温になるまで下げた後、１ｍｏｌ／リットルのＮａＯＨとＮＨ₄ＯＨを用いてＮａ⁺イオン：ＮＨ4⁺イオン＝１：５．３（モル比）になるように添加処理し、ｐＨ８．４に調整した。その後、孔径１.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納し、ＳＢＲラテックスを７７４．７ｇ得た。イオンクロマトグラフィーによりハロゲンイオンを測定したところ、塩化物イオン濃度３ｐｐｍであった。高速液体クロマトグラフィーによりキレート剤の濃度を測定した結果、１４５ｐｐｍであった。
【０４１９】
上記ラテックスは平均粒径９０ｎｍ、Ｔｇ＝１７℃、固形分濃度４４質量%、25℃60%RHにおける平衡含水率0.6質量％、イオン伝導度４．８０mS/cm(イオン伝導度の測定は東亜電波工業(株)製伝導度計CM-30S使用し、ラテックス原液(４４質量%)を25℃にて測定)、pH8.4
【０４２０】
３−２．塗布液の調整
１）画像形成層塗布液の調製
上記で得た脂肪酸銀分散物1000g、水276mlに顔料−１分散物、有機ポリハロゲン化合物−１分散物（量は表１記載）、有機ポリハロゲン化合物−２分散物（量は表１記載）、フタラジン化合物―１溶液、SBRラテックス(Tg:１７℃)液、還元剤分散物（量と種類は表1記載）、水素結合性化合物−１分散物、現像促進剤−１分散物、現像促進剤−２分散物、色調調整剤−１分散物、メルカプト化合物−１水溶液を順次添加し、塗布直前にハロゲン化銀混合乳剤Aを添加して良く混合した画像形成層塗布液をそのままコーティングダイへ送液し、塗布した。
【０４２１】
表１中の実験番号１で用いた感材の画像形成層塗布液の粘度は東京計器のB型粘度計で測定して、40℃（No.1ローター、60rpm）で28[mPa・s]であった。
レオメトリックスファーイースト株式会社製ＲＦＳフルードスペクトロメーターを使用した25℃での塗布液の粘度は剪断速度が0.1、1、10、100、1000[1/秒] においてそれぞれ242、63、48、28、21[mPa・s]であった。
【０４２２】
塗布液中のジルコニウム量は銀１ｇあたり０．３８ｍｇであった。
【０４２３】
２）中間層塗布液の調製
ポリビニルアルコールPVA-205(クラレ(株)製)1000g、顔料-1分散物272g、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合重量比64/9/20/5/2)ラテックス19質量％液4200mlにエアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量％水溶液を27ml、フタル酸二アンモニウム塩の20質量％水溶液を135ml、総量10000gになるように水を加え、pHが7.5になるようにNaOHで調整して中間層塗布液とし、9.1ml/m²になるようにコーティングダイへ送液した。
表１中の実験番号１で用いた感材の塗布液の粘度はB型粘度計40℃（No.1ローター、60rpm）で62[mPa・s]であった。
【０４２４】
３）表面保護層第１層塗布液の調製
イナートゼラチン64ｇを水に溶解し、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体（共重合重量比64/9/20/5/2）ラテックス19.0質量％液112g、フタル酸の15質量％メタノール溶液を30ml、４−メチルフタル酸の10質量％水溶液23ml、0.5mol/L濃度の硫酸を28ml、エアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量％水溶液を5ml、フェノキシエタノール0.5g、ベンゾイソチアゾリノン0.1gを加え、総量750gになるように水を加えて塗布液とし、4質量％のクロムみょうばん26mlを塗布直前にスタチックミキサーで混合したものを18.6ml/m²になるようにコーティングダイへ送液した。
表１中の実験番号１で用いた感材の塗布液の粘度はB型粘度計40℃（No.1ローター、60rpm）で22[mPa・s]であった。
【０４２５】
４）表面保護層第２層塗布液の調製
イナートゼラチン80ｇを水に溶解し、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体（共重合重量比64/9/20/5/2）ラテックス27.5質量％液102g、フッ素系界面活性剤（Ｆ−１）の2質量％溶液を5.4ml、フッ素系界面活性剤（Ｆ−２）の2質量％水溶液を5.4ml、エアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量％溶液を23ml、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径0.7μｍ)4ｇ、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μｍ)21ｇ、4-メチルフタル酸1.6g、フタル酸4.8g、0.5mol/L濃度の硫酸44ml、ベンゾイソチアゾリノン10mgに総量650gとなるよう水を添加して、4質量％のクロムみょうばんと0.67質量％のフタル酸を含有する水溶液445mlを塗布直前にスタチックミキサーで混合したものを表面保護層塗布液とし、8.3ml/m²になるようにコーティングダイへ送液した。
表１中の実験番号１で用いた感材の塗布液の粘度はB型粘度計40℃（No.1ローター,60rpm）で20[mPa・s]であった。
【０４２６】
３−３．熱現像感光材料の作製
バック面と反対の面に下塗り面から画像形成層、中間層、表面保護層第１層、表面保護層第２層の順番でスライドビード塗布方式にて同時重層塗布し、熱現像感光材料の試料を作成した。このとき、画像形成層と中間層は31℃に、表面保護層第１層は36℃に、表面保護層第２層は37℃に温度調整した。
【０４２７】
画像形成層の各化合物の塗布量（g/m²）は以下の通りである。
ベヘン酸銀 ５．２７
顔料(C.I.Pigment Blue 60) ０．０３６
ポリハロゲン化合物−１ 量は表１記載
ポリハロゲン化合物−２ 量は表１記載
フタラジン化合物−１ ０．１８
ＳＢＲラテックス ９．４３
還元剤 量と種類は表１記載
水素結合性化合物−１ ０．２８
現像促進剤−１ ０．０２５
現像促進剤−２ ０．０２０
色調調整剤−１ ０．００８
メルカプト化合物−１ ０．００６
ハロゲン化銀（Ａｇとして） ０．０４６
【０４２８】
塗布乾燥条件は以下のとおりである。
支持体は塗布前にイオン風にて除電し、塗布はスピード160m/minで行った。塗布乾燥条件は各試料に対して以下の範囲で調整し、もっとも安定した面状が得られる条件に設定した。
コーティングダイ先端と支持体との間隙を0.10〜0.30mm。
減圧室の圧力を大気圧に対して196〜882Pa低く設定。
引き続くチリングゾーンにて、乾球温度10〜20℃の風にて塗布液を冷却。
無接触型搬送して、つるまき式無接触型乾燥装置にて、乾球温度23〜45℃、湿球温度15〜21℃の乾燥風で乾燥。
乾燥後、25℃で湿度40〜60％RHで調湿。
引き続き、膜面を70〜90℃になるように加熱し、加熱後、膜面を25℃まで冷却した。
【０４２９】
作製された熱現像感光材料のマット度はベック平滑度で画像形成層面側が550秒、バック面が130秒であった。また、画像形成層面側の膜面のpHを測定したところ6.0であった。
【０４３０】
以下に本発明の実施例で用いた化合物の化学構造を示す。
【０４３１】
【化５０】

【０４３２】
【化５１】

【０４３３】
【化５２】

【０４３４】
【化５３】

【０４３５】
４．評価
(写真性能の評価)
得られた試料は半切サイズに切断し、２５℃５０％ＲＨの環境下で以下の包装材料に包装し、２週間常温下で保管した後、以下の評価を行った。
（包装材料）
PET 10μｍ/PE 12μｍ/アルミ箔9μｍ/Ny 15μｍ/カーボン3%を含むポリエチレン50μｍ。
酸素透過率：0.02ml/atm・m²・25℃・day、水分透過率：0.10g/atm・m²・25℃・day。
【０４３６】
試料は富士メディカルドライレーザーイメージャーＦＭ−ＤＰ Ｌの露光部に半導体レーザー光源として日亜化学工業のＮＬＨＶ３０００Ｅ半導体レーザーを実装し、ビーム径を１００μｍに絞った。レーザー光の感光材料面での照度を０および１ｍＷ／ｍｍ²〜１０００ｍＷ／ｍｍ²の間で変化させて１０^-6秒で露光を行った。レーザー光の発振波長は４０５ｎｍであった。熱現像は４枚のパネルヒーターを112℃−118℃−120℃−120℃に設定し、搬送速度を速めて合計１４秒になるように現像した。得られた画像の評価を濃度計により行った。
【０４３７】
（感度、階調）
得られた画像を濃度計に濃度測定し露光量の対数に対する濃度の特性曲線を作成した。未露光の部分の光学濃度を被りとし、また濃度３．０の光学濃度が得られる露光量の逆数を感度とし、感光材料１の感度を１００とし相対値で表した。
光学濃度２と光学濃度0.25の平均コントラストを下記ガンマで算出した。
ガンマ＝（光学濃度2.0−光学濃度0.25）／（対数（被り濃度＋光学濃度2.0を与える露光量）−対数（被り濃度＋光学濃度0.25を与える露光量））
【０４３８】
（光熱画像保存性テスト）
熱現像後試料を２５℃６０％ＲＨ環境で、蛍光灯下で試料に１０００ルクスの光があたるようにし、１週間放置後のDmin変化を測定し、Dmin変化が少ない試料が光熱画像保存性に優れるサンプルである。
【０４３９】
（フレッシュ色調）
熱現像直後の試料について画像色調の評価を行った。銀画像は純黒調であることが好ましく、わずかに黄色味が強くなるとマイナス点、青味が強くなるとプラス点とする官能評価を行い、評価点を下記のようにつけ、評価点は０点であることが好ましく、０点から離れるほど、フレッシュ色調の点で好ましくない。
＋２点 かなり青味が強い。
＋１点 わずかに青味が感じられる。
０点 色調バランスがとれ、純黒調。
−１点 わずかに黄色味が感じられる。
−２点 かなり黄色味が強い。
【０４４０】
結果を表１に記載した。
【０４４１】
【表１】

【０４４２】
本発明の試料は、実用的に色調が良く、画像保存性も優れていた。
従来、感光性ハロゲン化銀として高ヨウ化銀乳剤を用いると、現像抑制が強いために画像色調を調整することが難しかったが、本発明の還元剤を用いることで好ましいニュートラルな銀色調にすることができた。このように、還元剤の選択によってヨウ化銀系での銀色調を調整できることは予想外の効果であった。さらに、本発明の選ばれた還元剤を併用することでポリハロゲンを減量しても、好ましい銀色調を得る事ができ、高感化も達成することができることが見出された。
【０４４３】
【発明の効果】
本発明によれば、医療画像用途に適した熱現像感光材料であって、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍのレーザー光で露光後、熱現像することによって、高い感度と優れた階調、色調を有した画像が得られる熱現像感光材料が提供される。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a photothermographic material. In particular, the present invention relates to a photothermographic material suitable for medical diagnosis.
[0002]
[Prior art]
In recent years, in the medical diagnostic film field and the photoengraving film field, reduction of the amount of processing waste liquid has been strongly desired from the viewpoint of environmental protection and space saving. Therefore, thermal development as a medical diagnostic film and a photoengraving film that can be efficiently exposed by a laser image setter or a laser imager and can form a clear black image having high resolution and sharpness. There is a need for techniques relating to photosensitive materials. According to these photothermographic materials, it is possible to supply customers with a photothermographic processing system that does not require solution processing chemicals and that is simpler and does not impair the environment.
[0003]
A thermal image forming system using an organic silver salt is generally known as a dry silver type photothermographic material (see, for example, Patent Documents 1 and 2 and Non-Patent Document 1).
A dry silver type photothermographic material generally has a catalytically active amount of a photocatalyst (for example, silver halide), a reducing agent, a reducible silver salt (for example, an organic silver salt), and a color that controls the color tone of silver if necessary. It has a photosensitive layer in which the formulation is dispersed in a binder matrix. The photothermographic material is heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after image exposure, and a black silver image is formed by an oxidation-reduction reaction between a reducible silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. Form. The oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image of silver halide generated by exposure. Therefore, a black silver image is formed in the exposure area.
[0004]
There are similar requirements in the field of general image forming materials, but medical diagnostic images are required to be finely drawn, so they have high image quality and cool black tone with excellent sharpness and graininess. In order to increase the accuracy, it is required as an important characteristic that the image gradation is appropriate. Image gradation is generally represented by gamma, which is the slope in the characteristic curve (log of exposure dose versus density plot). In this application, it describes with the gradient between optical density 2.0 and 0.25 as represented by following Formula.
Gamma = (optical density 2.0−optical density 0.25) / (logarithm (coverage density + exposure amount giving optical density 2.0) −logarithm (coverage density + exposure amount giving optical density 0.25))
[0005]
For medical diagnostic images, gamma is preferably 2 to 5, particularly preferably 2 to 4. If the gamma is smaller than this range, the image will be unclear, and if it is larger than this range, a fine signal will be lost.
[0006]
In addition, dry silver type photothermographic materials have poor image storability of processed samples compared to conventional silver halide light-sensitive materials using processing solutions, and are particularly poor in light stability, and improvements are desired. ing. As means for improving the stability to light, methods using silver iodide formed by converting an organic silver salt are disclosed, but these methods are not practical because of low sensitivity. (For example, refer to Patent Documents 3 and 4). Further, the method using silver iodide has a disadvantage that the developed silver color tone is not completely neutral and is not preferred as a medical diagnostic image.
[0007]
A photothermographic material using a photosensitive silver halide having a silver iodide content of 6 mol% to 36 mol% is known (for example, see Patent Document 5). A photothermographic material having improved infrared sensitivity by infrared sensitization is disclosed.
[0008]
In recent years, an image forming system in which image information is digitized, stored, image-processed as necessary, transmitted over a network, and laser-output to a photosensitive material at a necessary place has spread particularly in the medical field.
As a laser light source, coherent light such as argon, helium-neon, helium-cadmium, or the like is used. Recently, the spread of semiconductor lasers is remarkable. However, all of these laser tubes have shortcomings such as the necessity of using a dedicated driver for a high-voltage power supply, and the disadvantage that they cannot be increased in size. In addition, the disadvantage of semiconductor lasers is that the emission wavelength has been longer than 650 nm, so silver halide photographic materials with photosensitivity in this region have unstable spectral sensitizing dyes and can be stored. It was inferior in stability and had the problem of being easily fogged or desensitized during storage.
At this point, a module in which an SHG (Second Harmonic Generator) element and a semiconductor laser are integrated and a blue semiconductor laser have been developed, and a laser output device in a short wavelength region has been closed up. The blue semiconductor laser is expected to increase in demand in the future because high-definition image recording is possible, the recording density is increased, and a stable output is obtained with a long lifetime. Accordingly, there is a need for a highly sensitive heat-developable laser light recording material corresponding to a blue laser, and the corresponding material is disclosed in patent literature (see, for example, Patent Literature 6), but still has low sensitivity and meets these requirements. I can't. Also, the photothermographic material disclosed in the above-mentioned Patent Document 5 is quite insensitive to blue laser exposure and cannot be applied.
[0009]
[Patent Document 1]
U.S. Pat. No. 3,152,904
[Patent Document 2]
U.S. Pat. No. 3,457,075
[Patent Document 3]
US Pat. No. 6,143,488
[Patent Document 4]
European Patent No. 09229595
[Patent Document 5]
JP-A-8-297345
[Patent Document 6]
JP 2000-305213 A
[Non-Patent Document 1]
D. Klosterboer, “Thermally Processed Silver Systems” (Imaging Processes and Materials Neblette 8th Edition, J. Sturge, V (Walworth, A. Shepp, Chapter 9, 279, 1989)
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to solve the above-described problems of the prior art. More specifically, the problem to be solved by the present invention is a photosensitive material for use in medical imaging and the like, and an image having an optimum gradation and a preferable color tone for diagnosis can be obtained, and image storage stability is improved. An object of the present invention is to provide an improved photothermographic material. In particular, it is to provide a high-sensitivity photothermographic material suitable for exposure with blue laser light.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
The above-mentioned problems of the present inventors have been achieved by the following photothermographic material of the present invention.
[0012]
(1) In a photothermographic material containing a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent, and a binder on at least one surface of a support, the silver iodide content of the photosensitive silver halide Is a photothermographic material comprising a compound represented by the following general formula (R-1) as the reducing agent:
[0013]
Formula (R-1)
[Formula 4]

[0014]
In the general formula (R-1), R¹And R^{1 '}Each independently has 3 to 20 carbon atoms, and the carbon atom bonded to the benzene ring represents a secondary or tertiary alkyl group. R²And R^{2 '}Represents a methyl group. L is a -S- group or -CHR.^Three-Represents a group. R^ThreeRepresents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X¹And X^{1 '}Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring.
(2) The photothermographic material according to (1), which contains a compound represented by the following general formula (H).
General formula (H)
Q- (Y) n-C (Z₁) (Z₂) X
In general formula (H), Q represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, Y represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, Z₁And Z₂Represents a halogen atom, and X represents a hydrogen atom or an electron-withdrawing group.
(3) The photothermographic material according to (1) or (2), wherein the photosensitive silver halide has a silver iodide content of 90 mol% to 100 mol%.
(4) The photothermographic material according to any one of (1) to (3), wherein an average grain size of the photosensitive silver halide is from 5 nm to 80 nm.
(5) The photothermographic material according to any one of (1) to (3), wherein the average grain size of the photosensitive silver halide is from 5 nm to 40 nm.
(6) The photothermographic material according to any one of (1) to (5), further comprising a compound represented by the following general formula (R-2).
Formula (R-2)
[0015]
[Chemical formula 5]

[0016]
In the general formula (R-2), R¹¹And R^{11 '}Each independently has 3 to 20 carbon atoms, and the carbon atom bonded to the benzene ring represents a secondary or tertiary alkyl group. R¹²And R^{12 '}Each independently represents an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms. L is a -S- group or -CHR.¹³-Represents a group. R¹³Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X¹¹And X^{11 '}Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring.
(7) The photothermographic material according to any one of (1) to (6), further comprising a compound represented by the following general formula (R-3).
General formula (R-3)
[0017]
[Chemical 6]

[0018]
In general formula (R-3), R^{twenty one}And R^{twenty one'}Each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and primary carbon atoms bonded to the benzene ring. R^{twenty two}And R^{twenty two}Each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. L is a -S- group or -CHR.^{twenty three}-Represents a group. R^{twenty three}Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X^{twenty one}And X^{twenty one'}Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring.
(8) The photothermographic material according to any one of (1) to (7), which is exposed to a laser beam.
(9) The photothermographic material according to (8), wherein the laser beam has an emission peak intensity at 390 nm to 430 nm.
(10) The photothermographic material according to any one of (1) to (9), wherein the characteristic curve has a gamma of 2 to 5.
[0019]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The present invention is described in detail below.
[0020]
1. Photothermographic material
[0021]
(Organic silver salt)
The organic silver salt that can be used in the present invention is relatively stable to light, but is 80 ° C. or higher in the presence of an exposed photocatalyst (such as a latent image of photosensitive silver halide) and a reducing agent. It is a silver salt that forms a silver image when heated above. The organic silver salt may be any organic material that contains a source of reducible silver ions.
[0022]
Regarding such non-photosensitive organic silver salt, paragraphs 0048 to 0049 of JP-A-10-62899, page 18 line 24 to page 19 line 37 of European Patent No. 073684A1, European Patent No. 0962812A1 No. 1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, JP-A-2000-72711, and the like. Silver salts of organic acids are preferable, and silver salts of long-chain aliphatic carboxylic acids (having 10 to 30 carbon atoms, preferably 15 to 28 carbon atoms) are particularly preferable.
Preferable examples of the organic silver salt include silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, and a mixture thereof. In the present invention, among these organic silver salts, it is preferable to use organic acid silver having a silver behenate content of 40 mol% or more. More preferably, organic acid silver having a silver behenate content of 75 mol% or more is used.
[0023]
The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, and may be a needle shape, a rod shape, a flat plate shape, or a flake shape, preferably a needle shape or flake shape, and particularly preferably a flake shape.
In the present specification, the scaly organic silver salt is defined as follows. The organic acid silver salt was observed with an electron microscope, the shape of the organic acid silver salt particle was approximated to a rectangular parallelepiped, and the sides of the rectangular parallelepiped were designated as a, b, and c from the shortest side (c was the same as b). Then, the shorter numerical values a and b are calculated, and x is obtained as follows.
x = b / a
[0024]
In this way, x is obtained for about 200 particles, and when the average value x (average) is obtained, particles satisfying the relationship of x (average) ≧ 1.5 are defined as flakes. Preferably, 30 ≧ x (average) ≧ 1.5, more preferably 20 ≧ x (average) ≧ 2.0. Incidentally, the needle shape is 1 ≦ x (average) <1.5.
[0025]
In the flake shaped particle, a can be regarded as a thickness of a tabular particle having a main plane with b and c as sides. The average of a is preferably from 0.01 μm to 0.23 μm, more preferably from 0.1 μm to 0.20 μm. The average of c / b is preferably 1 or more and 6 or less, more preferably 1.05 or more and 4 or less, further preferably 1.1 or more and 3 or less, and particularly preferably 1.1 or more and 2 or less.
[0026]
The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodispersion is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, and even more preferably 50% of the value obtained by dividing the standard deviation of the lengths of the short and long axes by the short and long axes. It is as follows. The method for measuring the shape of the organic silver salt can be determined from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method for measuring monodispersity, there is a method of obtaining the standard deviation of the volume weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage (variation coefficient) of the value divided by the volume weighted average diameter is preferably 100% or less, more Preferably it is 80% or less, More preferably, it is 50% or less.
As a measuring method, for example, an organic silver salt dispersed in a liquid can be measured with a commercially available laser light scattering particle size measuring device.
[0027]
Known methods and the like can be applied to the production and dispersion method of the organic acid silver used in the present invention. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-62899, European Patent Publication No. 0803683A1, European Patent Publication No. 0962812A1, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-349591, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-7683, Japanese Patent Application No. 2000-72711, Japanese Patent Application No. 11-348228- No. 30, No. 11-203413, No. 2000-90093, No. 2000-195621, No. 2000-191226, No. 2000-213813, No. 2000-214155, No. 2000-191226, etc. be able to.
[0028]
In addition, when the photosensitive silver salt is allowed to coexist at the time of dispersion of the organic silver salt, the fog is increased and the sensitivity is remarkably lowered. Therefore, it is more preferable that the photosensitive silver salt is not substantially contained at the time of dispersion. In the present invention, the amount of the photosensitive silver salt in the aqueous dispersion to be dispersed is 0.1 mol% or less with respect to 1 mol of the organic acid silver salt in the aqueous solution. It is desirable not to do this.
[0029]
The organic silver salt of the present invention can be used in a desired amount, but the silver amount is 0.1 to 5 g / m.²Is preferable, and more preferably 0.5 to 3 g / m.²It is.
[0030]
(Reducing agent)
The reducing agent used in the present invention will be described.
(1) Compound represented by general formula (R-1)
[0031]
Formula (R-1)
[Chemical 7]

[0032]
In the general formula (R-1), R¹And R^{1 '}Each independently has 3 to 20 carbon atoms, and the carbon atom bonded to the benzene ring represents a secondary or tertiary alkyl group. R²And R^{2 '}Represents a methyl group. L is a -S- group or -CHR.^Three-Represents a group. R^ThreeRepresents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X¹And X^{1 '}Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring.
[0033]
Each substituent will be described in detail.
1) R¹And R¹'
In general formula (R-1), R¹And R¹Each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 3 to 20 carbon atoms, and the carbon atom bonded to the benzene ring represents a secondary or tertiary alkyl group. The substituent of the alkyl group is not particularly limited, but preferably an aryl group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acylamino group, a sulfonamido group, a sulfonyl group, a phosphoryl group, An acyl group, a carbamoyl group, an ester group, a halogen atom and the like can be mentioned.
[0034]
2) R²And R²'
In general formula (R-1), R²And R²'Represents a methyl group.
[0035]
3) X¹And X¹'
X¹And X¹Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring. Preferred examples of each group that can be substituted on the benzene ring include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, and an acylamino group.
[0036]
4) L
L is a -S- group or -CHR.^Three-Represents a group. R^ThreeRepresents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the alkyl group may have a substituent.
R^ThreeSpecific examples of the unsubstituted alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, undecyl group, isopropyl group, 1-ethylpentyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group and the like. .
Examples of substituents for alkyl groups are R¹In the same manner as the above substituent, a halogen atom, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryloxy group, an arylthio group, an acylamino group, a sulfonamide group, a sulfonyl group, a phosphoryl group, an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group and the like can be mentioned.
[0037]
5) Preferred substituents
In general formula (R-1), R¹And R¹'Is preferably a secondary or tertiary alkyl group having 3 to 15 carbon atoms, specifically, isopropyl group, isobutyl group, t-butyl group, t-amyl group, t-octyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl. Group, 1-methylcyclohexyl group, 1-methylcyclopropyl group and the like. R¹And R¹'Is more preferably a tertiary alkyl group having 4 to 12 carbon atoms, among which a t-butyl group, a t-amyl group, and a 1-methylcyclohexyl group are more preferable, and a t-butyl group is most preferable.
[0038]
X¹And X¹'Is preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
L is preferably -CHR^Three-Group.
R^ThreeIs preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and the alkyl group is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a 2,4,4-trimethylpentyl group. R^ThreeParticularly preferred is a hydrogen atom, a methyl group, a propyl group or an isopropyl group.
[0039]
Specific examples of the compound represented by formula (R-1) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0040]
[Chemical 8]

[0041]
(2) Compound represented by general formula (R-2)
[0042]
Formula (R-2)
[Chemical 9]

[0043]
In the general formula (R-2), R¹¹And R¹¹'Each independently represents an alkyl group having 3 to 20 carbon atoms, wherein the carbon atom bonded to the benzene ring is a secondary or tertiary alkyl group. R¹²And R¹²Each independently represents an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms. L is a -S- group or -CHR.¹³-Represents a group. R¹³Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X¹¹And X¹¹Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring.
Each substituent will be described in detail.
1) R¹¹And R¹¹'
R in the general formula (R-2)¹¹And R¹¹'Is R in the general formula (R-1).¹And R¹It is synonymous with '.
[0044]
2) R¹²And R¹²'
In general formula (R-2), R¹²And R¹²Each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 2 to 20 carbon atoms.
[0045]
3) X¹And X¹'
X¹¹And X¹¹'Is X in the general formula (R-1)¹And X¹It is synonymous with '.
[0046]
4) L
L in the general formula (R-2) represents an —S— group or —CHR.¹³-Represents a group. R¹³Is R in the general formula (R-1)^ThreeIt is synonymous with.
[0047]
5) Preferred substituents
In general formula (R-2), R¹¹And R¹¹'Is preferably R in the general formula (R-1).¹And R¹Same as'.
[0048]
In general formula (R-2), R¹²And R¹²'Is preferably an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms, specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-amyl group, cyclohexyl group, 1-methyl group. Examples include cyclohexyl group, benzyl group, methoxymethyl group, methoxyethyl group and the like. More preferred are methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group and t-butyl group.
[0049]
X¹¹And X¹¹'Is X in the general formula (R-1)¹And X¹Same as in '.
[0050]
Specific examples of the compound represented by formula (R-2) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0051]
Embedded image

[0052]
(3) Compound represented by general formula (R-3)
[0053]
General formula (R-3)
Embedded image

[0054]
In general formula (R-3), R^{twenty one}And R^{twenty one}Each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and having a primary carbon atom bonded to the benzene ring. R^{twenty two}And R^{twenty two}Each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. L is a -S- group or -CHR.^{twenty three}-Represents a group. R^{twenty three}Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X^{twenty one}And X^{twenty one}Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring.
Each substituent will be described in detail.
1) R¹¹And R¹¹'
In general formula (R-1), R¹¹And R¹¹Each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the carbon atom bonded to the benzene ring represents a methyl group or a primary carbon group. The substituent of the alkyl group is not particularly limited, and preferred substituents are the same as in general formula (R-1). The substituent is preferably an aryl group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acylamino group, sulfonamide group, sulfonyl group, phosphoryl group, acyl group, carbamoyl group, ester group, halogen atom, etc. Can be given.
Specific examples of the compound represented by formula (R-3) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0055]
Embedded image

[0056]
In the present invention, the amount of the compound represented by the general formula (R-1) is 0.01 to 2.0 g / m.²Preferably, 0.1 to 1.0 g / m²More preferably, it is contained in an amount of 5 to 50% by mole, more preferably 10 to 40% by mole based on 1 mole of silver on the surface having the image forming layer.
[0057]
In the present invention, the amount of the compound represented by the general formula (R-2) is 0.01 to 2.0 g / m.²Preferably, 0.1 to 1.0 g / m²It is more preferable that it is contained with respect to the compound represented by the general formula (R-1), preferably 1 to 3000 mol%, and more preferably 5 to 2000 mol%.
[0058]
In the present invention, the amount of the compound represented by the general formula (R-3) is 0.01 to 2.0 g / m.²Preferably, 0.1 to 1.0 g / m²It is more preferable that it is contained with respect to the compound represented by the general formula (R-1), preferably 1 to 3000 mol%, and more preferably 5 to 2000 mol%.
[0059]
The compounds represented by the general formulas (R-1), (R-2), and (R-3) can be added to the image forming layer and its adjacent layers, but should be contained in the image forming layer. Is more preferable.
[0060]
The compounds represented by the general formulas (R-1), (R-2), and (R-3) can be incorporated into the coating solution by any method such as solution form, emulsified dispersion form, solid fine particle dispersion form, etc. It may be contained in the material.
Well-known emulsifying dispersion methods include dissolving oil using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically emulsifying the dispersion. The method of producing is mentioned.
[0061]
Further, as the solid fine particle dispersion method, a powder of a compound represented by the general formulas (R-1), (R-2), and (R-3) is mixed in a suitable solvent such as water with a ball mill, a colloid mill, Examples thereof include a method of producing a solid dispersion by dispersing with a vibrating ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill or ultrasonic waves. A dispersion method using a sand mill is preferable. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good. The aqueous dispersion can contain a preservative (eg, benzoisothiazolinone sodium salt).
[0062]
The solid particle dispersion method is particularly preferable, and it is preferable to add fine particles having an average particle size of 0.05 μm to 5.0 μm, preferably 0.08 μm to 1.0 μm. In the present application, it is preferable to use other solid dispersions dispersed in a particle size within this range.
[0063]
(Development accelerator)
In the photothermographic material of the present invention, a sulfonamide phenol compound represented by the general formula (A) described in JP-A-2000-267222, JP-A-2000-330234, or the like as a development accelerator, Hindered phenol compounds represented by general formula (II) described in 92075, general formula (I) described in JP-A-10-62895 and JP-A-11-15116, and Japanese Patent Application No. 2001-074278 The hydrazine compounds represented by the general formula (1) described above and the phenolic or naphthol compounds represented by the general formula (2) described in Japanese Patent Application No. 2000-76240 are preferably used. These development accelerators are used in the range of 0.1 to 20 mol% with respect to the reducing agent, preferably in the range of 0.5 to 10 mol%, more preferably in the range of 1 to 5 mol%. The introduction method to the light-sensitive material includes the same method as the reducing agent, but it is particularly preferable to add as a solid dispersion or an emulsified dispersion. When added as an emulsified dispersion, it is added as an emulsified dispersion dispersed using a high-boiling solvent that is solid at room temperature and a low-boiling auxiliary solvent, or as a so-called oilless emulsified dispersion that does not use a high-boiling solvent. It is preferable to add.
[0064]
In the present invention, among the above development accelerators, a hydrazine compound represented by the general formula (1) described in Japanese Patent Application No. 2001-074278 and a general formula (2) described in Japanese Patent Application No. 2000-76240. A phenolic or naphtholic compound represented by
Hereinafter, although the preferable specific example of the development accelerator of this invention is given, this invention is not limited to these.
[0065]
Embedded image

[0066]
(Hydrogen bonding compound)
In the present invention, it is preferable to use a non-reducing compound having a group capable of forming a hydrogen bond with an aromatic hydroxyl group (—OH) of the reducing agent.
Examples of the group capable of forming a hydrogen bond include phosphoryl group, sulfoxide group, sulfonyl group, carbonyl group, amide group, ester group, urethane group, ureido group, tertiary amino group, and nitrogen-containing aromatic group. Among them, preferred are a phosphoryl group, a sulfoxide group, an amide group (however, it does not have a> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a urethane group. (However, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a ureido group (but does not have a> N—H group,> N-Ra (Ra is a substituent other than H).)
[0067]
In the present invention, particularly preferred hydrogen bonding compounds are compounds represented by the following general formula (A).
[0068]
Embedded image

[0069]
R in the general formula (A)^{twenty one}Or R^{twenty three}Each independently represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a heterocyclic group, and these groups may be unsubstituted or may have a substituent.
R^{twenty one}Or R^{twenty three}In the case where has a substituent, the substituent is a halogen atom, alkyl group, aryl group, alkoxy group, amino group, acyl group, acylamino group, alkylthio group, arylthio group, sulfonamido group, acyloxy group, oxycarbonyl group, carbamoyl Group, sulfamoyl group, sulfonyl group, phosphoryl group and the like. Preferred as substituents are alkyl groups or aryl groups such as methyl group, ethyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-octyl group, phenyl group, 4-alkoxyphenyl group, 4-acyloxyphenyl group and the like can be mentioned.
[0070]
R^{twenty one}Or R^{twenty three}Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, butyl group, octyl group, dodecyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-amyl group, t-octyl group, cyclohexyl group, and 1-methylcyclohexyl group. Benzyl group, phenethyl group, 2-phenoxypropyl group, and the like.
Examples of the aryl group include phenyl group, cresyl group, xylyl group, naphthyl group, 4-t-butylphenyl group, 4-t-octylphenyl group, 4-anisidyl group, and 3,5-dichlorophenyl group.
[0071]
Alkoxy groups include methoxy, ethoxy, butoxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, 3,5,5-trimethylhexyloxy, dodecyloxy, cyclohexyloxy, 4-methylcyclohexyloxy, benzyl An oxy group etc. are mentioned.
Examples of the aryloxy group include a phenoxy group, a cresyloxy group, an isopropylphenoxy group, a 4-t-butylphenoxy group, a naphthoxy group, and a biphenyloxy group.
Examples of the amino group include a dimethylamino group, a diethylamino group, a dibutylamino group, a dioctylamino group, an N-methyl-N-hexylamino group, a dicyclohexylamino group, a diphenylamino group, and an N-methyl-N-phenylamino group. .
[0072]
R^{twenty one}Or R^{twenty three}Are preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group. In terms of the effect of the present invention, R^{twenty one}Or R^{twenty three}Of these, at least one is preferably an alkyl group or an aryl group, and more preferably two or more are an alkyl group or an aryl group. In addition, R can be obtained at low cost.^{twenty one}Or R^{twenty three}Are preferably the same group.
[0073]
Specific examples of the hydrogen bonding compound including the compound of the general formula (A) in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0074]
Embedded image

[0075]
Embedded image

[0076]
Specific examples of the hydrogen bonding compound include those described in Japanese Patent Application Nos. 2000-192191 and 2000-194811 in addition to those described above.
[0077]
The hydrogen bonding compound of the present invention can be used in a light-sensitive material after being contained in a coating solution in the form of a solution, an emulsified dispersion, or a solid dispersed fine particle dispersion in the same manner as the reducing agent. The compound of the present invention forms a complex by a hydrogen bond with a compound having a phenolic hydroxyl group in a solution state. Depending on the combination of the reducing agent and the compound of the general formula (A) of the present invention, the compound of the present invention Can be separated.
[0078]
The use of the crystal powder isolated in this way as a solid dispersed fine particle dispersion is particularly preferable for obtaining stable performance. Further, a method in which the reducing agent and the hydrogen bonding compound of the present invention are mixed as a powder and complexed at the time of dispersion with a sand grinder mill or the like using an appropriate dispersant can be preferably used.
[0079]
The hydrogen bonding compound of the present invention is preferably used in the range of 1 to 200 mol%, more preferably in the range of 10 to 150 mol%, still more preferably in the range of 30 to 100 mol% with respect to the reducing agent. It is.
[0080]
(Photosensitive silver halide)
1) Silver halide composition
[0081]
The photosensitive silver halide used in the present invention is particularly preferably a high silver iodide emulsion containing 40 mol% or more and 100 mol% or less of silver iodide as the halogen composition. Part of the silver halide of the present invention preferably has a phase that efficiently absorbs light by direct transition. It is known that a high silver iodide structure having a hexagonal wurtzite structure or a cubic zinc blend structure absorbs light efficiently by direct transition at an exposure wavelength of 350 nm to 450 nm, which is a preferred embodiment of the present invention. It was done. However, silver halides having such an absorption structure have hitherto been hardly considered as having low sensitivity and low utility value in the photographic industry.
[0082]
According to this study, in a photothermographic material having a non-photosensitive organic acid silver salt and a heat developer, the exposure illuminance is 1 mW / mm.²Short time (less than 1 second, preferably 10)^-2Seconds or less, more preferably 10^-FourIt has been found that high sensitivity and high sharpness can be achieved with such a high silver iodide light-sensitive material by exposing to light (seconds or less).
According to this study, the average grain size of the silver halide at this time is preferably 80 nm or less. Preferably, the average grain size of the silver halide is 5 nm to 80 nm, more preferably 5 nm to 60 nm. Most preferably, it is 5 nm or more and 40 nm or less. The grain size here refers to the diameter when converted to a sphere having the same volume as the volume of the silver halide grains.
[0083]
A more preferable range of the silver iodide content of the silver halide of the present invention is 70 mol% or more and 100 mol% or less, more preferably 90 mol% or more and 100 mol% or less. The higher the silver iodide content, the more clearly the effect of the present invention.
[0084]
Whether or not the silver halide of the present invention has light absorption of direct transition can be easily distinguished by the fact that exciton absorption caused by direct transition is observed in the vicinity of 400 nm to 430 nm.
[0085]
Such a direct transition light absorption type high silver iodide phase, which may be present alone, is a silver bromide emulsion, a silver chloride emulsion, or a silver iodobromide emulsion, silver iodochloride and a mixed crystal thereof. It is also preferably used in the presence of a silver halide exhibiting indirect transition absorption in the wavelength range of 350 nm to 450 nm.
[0086]
The exposure wavelength is preferably 350 nm to 450 nm, more preferably 370 nm to 440 nm, and particularly preferably 390 nm to 430 nm.
[0087]
Methods for forming photosensitive silver halide are well known in the art, and for example, the methods described in Research Disclosure No. 17029 of June 1978 and US Pat. No. 3,700,458 can be used. Specifically, a conversion method in which a water-soluble halogen salt reacts with an organic acid silver to convert a part of the organic acid silver into a silver halide. There are a method of incorporating silver halide into silver acid grains or a method of mixing organic acid grains and silver halide grains after preparing them in advance. In the present invention, it is preferable to use a method in which a photosensitive silver halide is prepared by adding a silver supply compound and a halogen supply compound to gelatin or another polymer solution and then mixed with an organic silver salt. In addition, the method described in paragraph Nos. 0217 to 0224 of JP-A-11-119374, the method described in Japanese Patent Application No. 11-98708, and JP-A-2000-347335 are also preferable.
[0088]
Examples of the shape of silver halide grains include cubes, octahedrons, tabular grains, spherical grains, rod-shaped grains, and potato-shaped grains. In the present invention, cubic grains are particularly preferred. Grains with rounded corners of silver halide grains can also be preferably used.
The surface index (Miller index) on the outer surface of the photosensitive silver halide grain is not particularly limited, but the ratio of the {100} plane, which has high spectral sensitizing efficiency when adsorbed by the spectral sensitizing dye, is high. preferable. The ratio is preferably 50% or more, more preferably 65% or more, and still more preferably 80% or more. The ratio of the Miller index {100} plane is calculated by T. Tani; J. Imaging Sci., 29, 165 (1985) using the adsorption dependence of {111} plane and {100} plane in the adsorption of sensitizing dyes. It can be determined by the method described.
[0089]
2) Heavy metal
In the present invention, silver halide grains in which a hexacyano metal complex is present on the outermost surface of the grains are preferred. As hexacyano metal complexes, [Fe (CN)₆]^Four-, [Fe (CN)₆]^3-, [Ru (CN)₆]^Four-, [Os (CN)₆]^Four-, [Co (CN)₆]^3-, [Rh (CN)₆]^3-, [Ir (CN)₆]^3-, [Cr (CN)₆]^3-, [Re (CN)₆]^3-Etc. In the present invention, a hexacyano Fe complex is preferred.
[0090]
The hexacyano metal complex is present in the form of ions in aqueous solution, so the counter cation is not important, but it is easy to mix with water and is suitable for precipitation of silver halide emulsions. Sodium ion, potassium ion, rubidium It is preferable to use alkali metal ions such as ions, cesium ions, and lithium ions, ammonium ions, and alkylammonium ions (for example, tetramethylammonium ion, tetraethylammonium ion, tetrapropylammonium ion, and tetra (n-butyl) ammonium ion).
[0091]
In addition to water, the hexacyano metal complex is miscible with a mixed solvent or gelatin with an appropriate organic solvent miscible with water (for example, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides, etc.). Can be added.
[0092]
The amount of hexacyano metal complex added is 1 x 10 per mole of silver.^-FiveMore than mole 1 × 10^-2Or less, more preferably 1 × 10^-FourMore than mole 1 × 10^-3It is below the mole.
[0093]
In order for the hexacyano metal complex to be present on the outermost surface of the silver halide grain, the chalcogen such as sulfur sensitization, selenium sensitization and tellurium sensitization is completed after the addition of the aqueous silver nitrate solution used for grain formation. It is added directly before the completion of the preparation step before the chemical sensitization step for performing noble metal sensitization such as sensitization or gold sensitization, during the water washing step, during the dispersion step, or before the chemical sensitization step. In order to prevent the silver halide fine grains from growing, it is preferable to add the hexacyano metal complex immediately after the grain formation, and it is preferable to add it before the completion of the preparation step.
[0094]
The addition of the hexacyano metal complex may be started after adding 96% by mass of the total amount of silver nitrate to be added to form grains, more preferably starting after adding 98% by mass, The addition of 99% by mass is particularly preferable.
[0095]
When these hexacyanometal complexes are added after the addition of the aqueous silver nitrate solution just before the completion of grain formation, they can be adsorbed on the outermost surface of the silver halide grains, and most of them form slightly soluble salts with silver ions on the grain surface. To do. Since this silver salt of hexacyanoiron (II) is a less soluble salt than AgI, it is possible to prevent re-dissolution by fine particles and to produce silver halide fine particles having a small particle size. .
[0096]
The photosensitive silver halide grain of the present invention can contain a metal or metal complex of Group 8 to Group 10 of the Periodic Table (showing Groups 1 to 18). As the central metal of the group 8 to group 10 metal or metal complex of the periodic table, rhodium, ruthenium and iridium are preferable. One kind of these metal complexes may be used, or two or more kinds of complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is 1 x 10 per mole of silver^-9From mole to 1 × 10^-3A molar range is preferred. These heavy metals and metal complexes and methods for adding them are described in JP-A-7-225449, JP-A-11-65021, paragraphs 0018 to 0024, and JP-A-11-119374, paragraphs 0227 to 0240.
[0097]
Further, metal atoms that can be contained in the silver halide grains used in the present invention (for example, [Fe (CN)₆]^Four-), Desalting method and chemical sensitization method of silver halide emulsion, paragraph numbers 0046 to 0050 of JP-A-11-84574, paragraph numbers 0025 to 0031 of JP-A-11-65021, paragraph number 0242 of JP-A-11-119374 ~ 0250.
[0098]
3) Gelatin
Various gelatins can be used as the gelatin contained in the photosensitive silver halide emulsion used in the present invention. In order to maintain a good dispersion state of the photosensitive silver halide emulsion in the coating solution containing an organic silver salt, it is preferable to use low molecular weight gelatin having a molecular weight of 500 to 60,000. These low molecular weight gelatins may be used at the time of particle formation or dispersion after desalting, but are preferably used at the time of dispersion after desalting.
[0099]
4) Sensitizing dye
The photosensitive silver rogenide of the present invention may be sensitized using a sensitizing dye. As a sensitizing dye that can be applied to the present invention, it can spectrally sensitize silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on silver halide grains, and has a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the exposure light source. The dye can be advantageously selected. As for the sensitizing dye and the addition method, paragraphs 0103 to 0109 of JP-A-11-65021, compounds represented by general formula (II) of JP-A-10-186572, and general formulas (I) of JP-A-11-119374 ) And the dyes described in paragraph No. 0106, U.S. Pat.Nos. 5,510,236 and 3,871,887 in Example 5, the dyes disclosed in JP-A-2-96131 and JP-A-59-48753, European Patent Publication No. 074364A1, page 19, line 38 to page 20, line 35, Japanese Patent Application No. 2000-86865, Japanese Patent Application No. 2000-102560, Japanese Patent Application No. 2000-205399, and the like. These sensitizing dyes may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the time when the sensitizing dye is added to the silver halide emulsion is preferably the time from the desalting step to the coating, and more preferably the time from the desalting to the start of chemical ripening.
The addition amount of the sensitizing dye in the present invention can be set to a desired amount in accordance with the sensitivity and the fogging performance, but it is 10 per mol of silver halide in the photosensitive layer.^-6~ 1 mol is preferred, more preferably 10^-Four~Ten^-1Is a mole.
[0100]
In the present invention, a supersensitizer can be used to improve spectral sensitization efficiency. Examples of supersensitizers used in the present invention include European Patent Publication No. 587,338, U.S. Pat.Nos. 3,877,943, 4,873,184, JP-A Nos. 5-341432, 11-109547, and 10-111543. And the compounds described.
[0101]
5) Chemical sensitization
The photosensitive silver halide grain in the present invention is preferably chemically sensitized by sulfur sensitizing method, selenium sensitizing method or tellurium sensitizing method. As the compound preferably used in the sulfur sensitization method, selenium sensitization method and tellurium sensitization method, known compounds, for example, compounds described in JP-A-7-128768 and the like can be used. In the present invention, tellurium sensitization is particularly preferred. The compounds described in the literature described in paragraph No. 0030 of JP-A-11-65021, and the general formulas (II), (III), (IV) in JP-A-5-313284 The compound shown by is more preferable.
[0102]
In the present invention, chemical sensitization can be performed at any time after particle formation and before coating, and after desalting, (1) before spectral sensitization, (2) simultaneously with spectral sensitization, (3) spectral sensitization After sensitization, there may be (4) just before application. In particular, it is preferably performed after spectral sensitization.
The amount of sulfur, selenium and tellurium sensitizers used in the present invention varies depending on the silver halide grains used, chemical ripening conditions, etc., but is 10 per mol of silver halide.^-8-10^-2Moles, preferably 10^-7-10^-3Use about moles. The conditions for chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, and the temperature is about 40 to 95 ° C.
A thiosulfonic acid compound may be added to the silver halide emulsion used in the present invention by the method shown in European Patent Publication No. 293,917.
[0103]
6) A compound in which a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation can further emit one or more electrons by a subsequent reaction.
The photothermographic material according to the invention preferably contains a compound that is one-electron oxidized and the one-electron oxidant can further emit one or more electrons by a subsequent reaction.
The compound which is one-electron oxidized and the one-electron oxidant can further emit one electron or more electrons by a subsequent reaction is a compound selected from the following types 1 to 5.
[0104]
The one-electron oxidant produced by one-electron oxidation used in the present invention is a compound selected from the following types 1 to 5 that can emit one or more electrons.
[0105]
(Type 1) A compound in which a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation can further emit two or more electrons with a subsequent bond cleavage reaction.
[0106]
(Type 2) A one-electron oxidant produced by one-electron oxidation is a compound capable of releasing another electron with subsequent bond cleavage reaction, and has an adsorbing group for silver halide in the same molecule. A compound having two or more.
[0107]
(Type 3) A compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit one or more electrons after a subsequent bond formation process.
[0108]
(Type 4) A compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit one or more electrons after undergoing a subsequent ring-opening reaction in the molecule.
[0109]
(Type 5) In the compound represented by XY, X represents a reducing group, Y represents a leaving group, and a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation of the reducing group represented by X is: A compound capable of releasing Y by releasing Y with a subsequent XY bond cleavage reaction to generate an X radical.
[0110]
Preferred among the compounds of types 1 and 3 to 5 are “compounds having an adsorbing group for silver halide in the molecule” or “partial structure of spectral sensitizing dye in the molecule”. Compound ".
More preferred is a “compound having an adsorptive group to silver halide in the molecule”.
[0111]
The compounds of types 1 to 5 will be described in detail.
In the type 1 compound, “bond cleavage reaction” specifically means cleavage of bonds between carbon-carbon, carbon-silicon, carbon-hydrogen, carbon-boron, carbon-tin, and carbon-germanium elements, These may be further accompanied by carbon-hydrogen bond cleavage.
A type 1 compound is a compound capable of emitting two or more (preferably three or more) electrons for the first time after a one-electron oxidation to form a one-electron oxidant with a bond cleavage reaction. In other words, it is a compound that can be further oxidized by 2 electrons or more (preferably 3 electrons or more).
[0112]
Among the compounds of type 1, preferred compounds are represented by general formula (A), general formula (B), general formula (1), general formula (2) or general formula (3).
[0113]
Formula (A)
Embedded image

[0114]
General formula (B)
Embedded image

[0115]
In general formula (A), RED₁₁Represents a reducing group which can be oxidized by one electron, and L₁₁Represents a leaving group.
R₁₁₂Represents a hydrogen atom or a substituent.
R₁₁₁Is carbon atom (C) and RED₁₁And represents a non-metallic atomic group capable of forming a specific 5-membered or 6-membered cyclic structure.
The specific 5-membered or 6-membered cyclic structure means a ring structure corresponding to a tetrahydro, hexahydro or octahydro form of a 5-membered or 6-membered aromatic ring (including aromatic heterocycle). .
[0116]
In the general formula (B), RED₁₂Represents a reducing group which can be oxidized by one electron, and L₁₂Represents a leaving group.
R₁₂₁And R₁₂₂Each represents a hydrogen atom or a substituent. ED₁₂Represents an electron donating group.
R in the general formula (B)₁₂₁And RED₁₂, R₁₂₁And R₁₂₂Or ED₁₂And RED₁₂And may be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0117]
These compounds are represented by RED of general formula (A) or general formula (B).₁₁Or RED₁₂After the reducing group represented by₁₁Or L₁₂Is released by bond cleavage reaction, that is, C (carbon atom) -L₁₁Bond or C (carbon atom) -L₁₂It is a compound that can release two or more, preferably three or more electrons in association with the cleavage of the bond.
[0118]
General formula (1), general formula (2), general formula (3)
Embedded image

[0119]
In general formula (1), Z₁Represents an atomic group capable of forming a 6-membered ring with a nitrogen atom and two carbon atoms of a benzene ring, and R₁, R₂, R_N1Each represents a hydrogen atom or a substituent, and X₁Represents a substitutable substituent on the benzene ring, m₁Represents an integer of 0 to 3, L₁Represents a leaving group.
ED in general formula (2)_{twenty one}Represents an electron donating group, R₁₁, R₁₂, R_N21, R_{1 Three}, R₁₄Each represents a hydrogen atom or a substituent, and X_{twenty one}Represents a substitutable substituent on the benzene ring, m_{twenty one}Represents an integer of 0 to 3, L_{twenty one}Represents a leaving group.
R_N21, R₁₃, R₁₄, X_{twenty one}And ED_{twenty one}May be bonded to each other to form a cyclic structure.
In the general formula (3), R₃₂, R₃₃, R₃₁, R_N31, R_a, R_bEach represents a hydrogen atom or a substituent, and L₃₁Represents a leaving group.
However, R_N31When represents a group other than an aryl group, R_aAnd R_bCombine with each other to form an aromatic ring.
[0120]
After these compounds are oxidized by one electron,₁, L_{twenty one}Or L₃₁Is released by bond cleavage reaction, that is, C (carbon atom) -L₁Bond, C (carbon atom) -L_{twenty one}Bond, or C (carbon atom) -L₃₁It is a compound that can release two or more, preferably three or more electrons in association with the cleavage of the bond.
[0121]
Hereinafter, the compound represented by formula (A) will be described in detail first.
In general formula (A), RED₁₁A reducing group that can be oxidized by one electron is represented by R described later.₁₁₁And a divalent group obtained by removing one hydrogen atom at a suitable site for ring formation from the following monovalent group.
For example, alkylamino group, arylamino group (anilino group, naphthylamino group etc.), heterocyclic amino group (benzthiazolylamino group, pyrrolylamino group etc.), alkylthio group, arylthio group (phenylthio group etc.), heterocyclic thiol Group, alkoxy group, aryloxy group (phenoxy group etc.), heterocyclic oxy group, aryl group (phenyl group, naphthyl group, anthranyl group etc.), aromatic or non-aromatic heterocyclic group (5-membered to 7-membered) , A monocyclic or condensed ring hetero ring containing at least one hetero atom among nitrogen atom, sulfur atom, oxygen atom and selenium atom. Specific examples thereof include, for example, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinoxaline ring , Tetrahydroquinazoline ring, indoline ring, indole ring, indazole ring, carbazo Ring, phenoxazine ring, phenothiazine ring, benzothiazoline ring, pyrrole ring, imidazole ring, thiazoline ring, piperidine ring, pyrrolidine ring, morpholine ring, benzimidazole ring, benzoimidazoline ring, benzoxazoline ring, methylenedioxyphenyl ring, etc. (Hereinafter referred to as RED for convenience)₁₁Is described as a monovalent radical name).
These may have a substituent.
[0122]
Examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group (including an aralkyl group, a cycloalkyl group, and an active methine group), an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group (regardless of the substitution position), and a quaternary. A substituted nitrogen atom-containing heterocyclic group (e.g., pyridinio group, imidazolio group, quinolinio group, isoquinolinio group), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or salt thereof, sulfonylcarbamoyl group, An acylcarbamoyl group, a sulfamoylcarbamoyl group, a carbazoyl group, an oxalyl group, an oxamoyl group, a cyano group, a carbonimidoyl group, a thiocarbamoyl group, a hydroxy group, an alkoxy group (a group containing repeating ethyleneoxy group or propyleneoxy group units) Including), Ally Oxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide group Ureido group, thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, ammonio group, oxamoylamino group, (alkyl or aryl) sulfonyl Ureido group, acylureido group, acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfi Group, a sulfo group or a salt thereof, sulfamoyl group, sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, phosphoric acid amide or a group containing a phosphoric acid ester structure and so forth.
These substituents may be further substituted with these substituents.
[0123]
In general formula (A), L₁₁RED₁₁Represents a leaving group that can be eliminated by bond cleavage only after one-electron oxidation of the reducing group represented by the formula, specifically, a carboxy group or a salt thereof, a silyl group, a hydrogen atom, a triarylboron anion, a trialkyl. Stanyl group, trialkylgermyl group, or -CR_C1R_C2R_C3Represents a group.
[0124]
L₁₁Is a carboxy group salt, the counter ion forming the salt is specifically an alkali metal ion (Li⁺, Na⁺, K⁺, Cs⁺), Alkaline earth metal ions (Mg²⁺, Ca²⁺, Ba²⁺), Heavy metal ions (Ag⁺, Fe^{2 + / 3 +}), Ammonium ions, phosphonium ions, and the like.
L₁₁When represents a silyl group, the silyl group specifically represents a trialkylsilyl group, an aryldialkylsilyl group, a triarylsilyl group, etc., where the alkyl group includes a methyl, ethyl, benzyl, t-butyl group, and the like. In addition, examples of the aryl group include a phenyl group.
[0125]
L₁₁When represents a triarylboron anion, the aryl group is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group, and the substituent is RED.₁₁The same thing as the substituent which may have is mentioned.
L₁₁Represents a trialkylstannyl group or a trialkylgermyl group, the alkyl group is a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, which may have a substituent. As a substituent, RED₁₁The same thing as the substituent which may have is mentioned.
[0126]
L₁₁-CR_C1R_C2R_C3When representing a group, here R_C1, R_C2, R_C3Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, or a hydroxy group. May be bonded to each other to form a cyclic structure, and may further have a substituent.
As a substituent, RED₁₁The same thing as the substituent which may have is mentioned.
However, R_C1, R_C2, R_C3When one of them represents a hydrogen atom or an alkyl group, the remaining two do not represent a hydrogen atom or an alkyl group.
R_C1, R_C2, R_C3Preferably, each independently represents an alkyl group, an aryl group (particularly a phenyl group), an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic group, an alkoxy group, or a hydroxy group. For example, phenyl group, p-dimethylaminophenyl group, p-methoxyphenyl group, 2,4-dimethoxyphenyl group, p-hydroxyphenyl group, methylthio group, phenylthio group, phenoxy group, methoxy group, ethoxy group, dimethylamino Group, N-methylanilino group, diphenylamino group, morpholino group, thiomorpholino group, hydroxy group and the like.
Examples of the case where they are bonded to each other to form a cyclic structure include 1,3-dithiolan-2-yl group, 1,3-dithian-2-yl group, N-methyl-1,3-thiazolidine-2 -Yl group, N-benzyl-benzothiazolidin-2-yl group and the like.
[0127]
-CR_C1R_C2R_C3The group is preferably a trityl group, a tri- (p-hydroxyphenyl) methyl group, a 1,1-diphenyl-1- (p-dimethylaminophenyl) methyl group, or a 1,1-diphenyl-1- (methylthio) methyl group. 1-phenyl-1,1- (dimethylthio) methyl group, 1,3-dithiolan-2-yl group, 2-phenyl-1,3-dithiolan-2-yl group, 1,3-dithian-2-yl group Group, 2-phenyl-1,3-dithian-2-yl group, 2-methyl-1,3-dithian-2-yl group, N-methyl-1,3-thiazolidin-2-yl group, 2-methyl -3-methyl-1,3-thiazolidin-2-yl group, N-benzyl-benzothiazolidin-2-yl group, 1,1-diphenyl-1-dimethylaminomethyl group, 1,1-diphenyl-1-morpholino Methyl Etc. The.
-CR_C1R_C2R_C3The group is R_C1, R_C2, R_C3As a result of each selected within the above-mentioned range, the general formula (A) to L₁₁It is also preferred if it represents the same group as the residue excluding.
[0128]
R in the general formula (A)₁₁₂Represents a substituent substitutable on a hydrogen atom or a carbon atom. R₁₁₂Represents a substituent substitutable on a carbon atom, the substituent is specifically RED₁₁The same thing as the example of a substituent when when has a substituent is mentioned.
However, R₁₁₂Is L₁₁Does not represent the same group.
[0129]
R in the general formula (A)₁₁₁Is carbon atom (C) and RED₁₁And represents a nonmetallic atomic group capable of forming a specific 5-membered or 6-membered cyclic structure.
R here₁₁₁The specific 5-membered or 6-membered cyclic structure formed by means a ring structure corresponding to a tetrahydro, hexahydro or octahydro form of a 5-membered or 6-membered aromatic ring (including aromatic heterocycle) .
Here, the hydro form means a ring structure in which a carbon-carbon double bond (or carbon-nitrogen double bond) inherent in an aromatic ring (including an aromatic heterocycle) is partially hydrogenated, The tetrahydro form means a structure in which two carbon-carbon double bonds (or carbon-nitrogen double bonds) are hydrogenated, and the hexahydro form means three carbon-carbon double bonds (or carbon-nitrogen double bonds). (Bond) means a hydrogenated structure, and the octahydro form means a structure in which four carbon-carbon double bonds (or carbon-nitrogen double bonds) are hydrogenated. By being hydrogenated, the aromatic ring becomes a partially hydrogenated non-aromatic ring structure.
[0130]
Specifically, as an example of a monocyclic 5-membered ring, a pyrrolidine ring, an imidazolidine ring, which corresponds to a tetrahydro form of an aromatic ring such as a pyrrole ring, an imidazole ring, a thiazole ring, a pyrazole ring, or an oxazole ring, Examples include a thiazolidine ring, a pyrazolidine ring, an oxazolidine ring, and the like.
Examples of 6-membered monocycles include tetrahydro or hexahydro forms of aromatic rings such as pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, such as piperidine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, And piperazine ring.
Examples of a 6-membered condensed ring include a tetralin ring, a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroisoquinoline ring, a tetrahydroisoquinoline ring, a tetrahydro ring corresponding to an aromatic tetrahydro form such as a naphthalene ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a quinazoline ring, and a quinoxaline ring. Examples thereof include a quinazoline ring and a tetrahydroquinoxaline ring.
Examples of the tricyclic compound include a tetrahydrocarbazole ring of a tetrahydro form of a carbazole ring and an octahydrophenanthridine ring which is an octahydro form of a phenanthridine ring.
[0131]
These ring structures may be further substituted, and examples of the substituent include RED.₁₁The same thing as what was demonstrated about the substituent which this may have is mentioned.
The substituents of these ring structures may be further connected to form a ring, and the newly formed ring is a non-aromatic carbocycle or heterocycle.
[0132]
Next, the preferable range of the compound represented by the general formula (A) of the present invention will be described.
In general formula (A), L₁₁Is preferably a carboxy group or a salt thereof, and a hydrogen atom. More preferably, it is a carboxy group or a salt thereof.
The salt counter ions are preferably alkali metal ions or ammonium ions, and alkali metal ions (especially Li ions).⁺, Na⁺, K⁺Ion) is most preferred.
[0133]
L₁₁When represents a hydrogen atom, the compound represented by the general formula (A) preferably has a base moiety inherent in the molecule.
After the compound represented by the general formula (A) is oxidized by the action of this base moiety,₁₁Is deprotonated, and further electrons are emitted therefrom.
[0134]
Here, the base is specifically a conjugate base of an acid having a pKa of about 1 to about 10.
For example, nitrogen-containing heterocycles (pyridines, imidazoles, benzimidazoles, thiazoles, etc.), anilines, trialkylamines, amino groups, carbon acids (active methylene anions, etc.), thioacetic acid anions, carboxylates (- COO^-), Sulfate (-SO_Three ^-), Or amine oxide (> N⁺(O^-)-) And the like.
Preferably, it is a conjugate base of an acid exhibiting a pKa of about 1 to about 8, more preferably carboxylate, sulfate, or amine oxide, particularly preferably carboxylate.
When these bases have anions, they may have counter cations, examples of which include alkali metal ions, alkaline earth metal ions, heavy metal ions, ammonium ions, phosphonium ions and the like.
These bases are linked to the compound represented by the general formula (A) at an arbitrary position. The position at which these base sites bind is the RED of general formula (A)₁₁, R₁₁₁, R₁₁₂Any of these may be sufficient, and you may connect with the substituent of these groups.
[0135]
L₁₁When represents a hydrogen atom, it is preferable that the hydrogen atom and the base moiety are linked by 8 or less atomic groups. Furthermore, it is more preferable that they are connected by 5 or more and 8 or less atomic groups.
Here, what is counted as a linking atomic group is an atomic group that connects a central atom (that is, an atom having an anion or an atom having a lone electron pair) of the base moiety and the hydrogen atom by a covalent bond. -C-O for rate^-2 atoms are counted, and in the case of sulfate, SO^-Are counted.
Moreover, the carbon atom represented by C of general formula (A) is also added to the number.
[0136]
In general formula (A), L₁₁Represents a hydrogen atom, RED₁₁Represents an aniline and the nitrogen atom is R₁₁₁And a 6-membered monocyclic saturated ring structure (piperidine ring, piperazine ring, morpholine ring, thiomorpholine ring, selenomorpholine ring, etc.), the compound has an adsorbing group for silver halide in the molecule. At the same time, the compound preferably has a base moiety inherent in the molecule, and the base moiety and the hydrogen atom are more preferably linked by 8 or less atomic groups.
[0137]
In general formula (A), RED₁₁Is preferably an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an aryl group, or an aromatic or non-aromatic heterocyclic group. Among these, for the heterocyclic group, a tetrahydroquinolinyl group, a tetrahydroquinoxalyl group, Nyl group, tetrahydroquinazolinyl group, indolyl group, indolenyl group, carbazolyl group, phenoxazinyl group, phenothiazinyl group, benzothiazolinyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, thiazolidinyl group, benzoimidazolyl group, benzoimidazolinyl group, 3 1,4-methylenedioxyphenyl-1-yl group and the like are preferable.
More preferred are an arylamino group (particularly anilino group) and an aryl group (particularly a phenyl group).
Where RED₁₁When represents an aryl group, the aryl group preferably has at least one electron donating group (the number of electron donating groups is preferably 4 or less, more preferably 1 to 3). .
Here, the electron donating group means a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an acylamino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an active methine group, an electron-rich aromatic heterocyclic ring. A group (e.g., indolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, benzimidazolyl group, thiazolyl group, benzthiazolyl group, indazolyl group), a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom (pyrrolidinyl group, indolinyl group, piperidinyl group, A piperazinyl group, a morpholino group, etc.).
Here, the active methine group means a methine group substituted with two electron-withdrawing groups, and the electron-withdrawing group means an acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, alkyl group. A sulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a cyano group, a nitro group, and a carbonimidoyl group are meant. Here, the two electron withdrawing groups may be bonded to each other to form a cyclic structure.
RED₁₁When represents an aryl group, the substituent of the aryl group is more preferably an alkylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an active methine group, a non-aromatic nitrogen-containing heterocycle substituted with a nitrogen atom More preferably an alkylamino group, a hydroxy group, an active methine group, and a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom, and most preferably an alkylamino group and a non-aromatic group substituted with a nitrogen atom. Nitrogen heterocyclic group.
[0138]
R in the general formula (A)₁₁₂Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group (such as a phenyl group), an alkoxy group (such as a methoxy group, an ethoxy group, and a benzyloxy group), a hydroxy group, an alkylthio group (such as a methylthio group and a butylthio group), an amino group, and an alkyl group An amino group, an arylamino group, and a heterocyclic amino group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, a phenyl group, and an alkylamino group.
[0139]
R in the general formula (A)₁₁₁Are preferably carbon atoms (C) and RED₁₁A nonmetallic atomic group capable of forming the following specific 5-membered or 6-membered cyclic structure. That is, a pyrrole ring that is a monocyclic 5-membered aromatic ring, a pyrrolidine ring corresponding to a tetrahydro form of an imidazole ring, an imidazolidine ring, a pyridine ring that is a monocyclic aromatic ring, and pyridazine Ring, pyrimidine ring, tetrahydro or hexahydro form of pyrazine ring (for example, piperidine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, piperazine ring), naphthalene ring, quinoline ring which is a 6-membered aromatic ring of condensed ring Of the carbazole ring, which is a tricyclic aromatic ring, such as a tetralin ring, a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroisoquinoline ring, a tetrahydroquinazoline ring, a tetrahydroquinoxaline ring, etc. Tetrahydroca which is tetrahydro form Bazoru rings and, like octahydrophenanthridine ring are exemplified an octahydro form of a phenanthridine ring.
R₁₁₁More preferably, the cyclic structure formed by pyrrolidine ring, imidazolidine ring, piperidine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, piperazine ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, tetrahydrocarbazole ring, especially Preferred are a pyrrolidine ring, piperidine ring, piperazine ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, tetrahydroquinoxaline ring and tetrahydrocarbazole ring, and most preferred are a pyrrolidine ring, piperidine ring and tetrahydroquinoline ring.
[0140]
Next, the general formula (B) will be described in detail.
In general formula (B), RED₁₂, L₁₂Are respectively RED of the general formula (A)₁₁, L₁₁The preferred range is also the same.
However, RED₁₂Is a monovalent group except when it forms the following cyclic structure, specifically RED.₁₁And monovalent group names described in the above.
R₁₂₁And R₁₂₂Is R in the general formula (A)₁₁₂The preferred range is also the same. ED₁₂Represents an electron donating group.
R₁₂₁And RED₁₂, R₁₂₁And R₁₂₂Or ED₁₂And RED₁₂And may be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0141]
ED in general formula (B)₁₂The electron donating group represented by is a hydroxy group, alkoxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfonamido group, acylamino group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group , Active methine group, electron-rich aromatic heterocyclic group (for example, indolyl group, pyrrolyl group, indazolyl group), non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with nitrogen atom (pyrrolidinyl group, piperidinyl group, indolinyl group, piperazinyl group) , And morpholino groups), and aryl groups substituted with these electron-donating groups (for example, p-hydroxyphenyl group, p-dialkylaminophenyl group, o, p-dialkoxyphenyl group, 4-hydroxynaphthyl group, etc.) is there.
Here, the active methine group is RED.₁₁Is the same as that described as the substituent when A represents an aryl group.
ED₁₂Preferably, a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an alkylamino group, an arylamino group, an active methine group, an electron-rich aromatic heterocyclic group, a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom And a phenyl group substituted with these electron-donating groups, and further, a hydroxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an alkylamino group, an arylamino group, an active methine group, and a non-aromatic nitrogen-containing heterogeneous group substituted with a nitrogen atom A cyclic group and a phenyl group substituted with these electron donating groups (for example, p-hydroxyphenyl group, p-dialkylaminophenyl group, o, p-dialkoxyphenyl group, etc.) are preferable.
[0142]
R in the general formula (B)₁₂₁And RED₁₂, R₁₂₂And R₁₂₁Or ED₁₂And RED₁₂And may be bonded to each other to form a cyclic structure.
The cyclic structure formed here is a non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring, which is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed ring, and is a substituted or unsubstituted cyclic structure. R₁₂₁And RED₁₂Specific examples of pyrrolidine ring, pyrroline ring, imidazolidine ring, imidazoline ring, thiazolidine ring, thiazoline ring, pyrazolidine ring, pyrazoline ring, oxazolidine ring, oxazoline ring, indane ring, piperidine ring. , Piperazine ring, morpholine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, indoline ring, tetralin ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, tetrahydro-1,4-oxazine ring, 2,3-dihydrobenzo-1 1,4-oxazine ring, tetrahydro-1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzo-1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzofuran ring, 2,3-dihydrobenzothiophene ring and the like.
ED₁₂And RED₁₂And form a ring structure, ED₁₂Preferably represents an amino group, an alkylamino group, or an arylamino group, and specific examples of the ring structure formed include a tetrahydropyrazine ring, a piperazine ring, a tetrahydroquinoxaline ring, and a tetrahydroisoquinoline ring.
R₁₂₂And R₁₂₁When and form a ring structure, specific examples thereof include a cyclohexane ring and a cyclopentane ring.
[0143]
Of the compounds represented by the general formula (A) of the present invention, more preferred are the following general formulas (10) to (12), and among the compounds represented by the general formula (B), Are represented by the following general formulas (13) and (14).
[0144]
Embedded image

[0145]
In the general formulas (10) to (14), L₁₀₀, L₁₀₁, L₁₀₂, L₁₀₃, L₁₀₄Is L in the general formula (A)₁₁The preferred range is also the same.
R₁₁₀₀And R₁₁₀₁, R₁₁₁₀And R₁₁₁₁, R₁₁₂₀And R₁₁₂₁, R₁₁₃₀And R₁₁₃₁, R₁₁₄₀And R₁₁₄₁Are R in the general formula (B), respectively.₁₂₂And R₁₂₁The preferred range is also the same.
ED₁₃, ED₁₄Is the ED of the general formula (B)₁₂Represents a group having the same meaning, and the preferred range thereof is also the same.
X_Ten, X₁₁, X₁₂, X₁₃, X₁₄Each represents a substitutable substituent on the benzene ring, m_Ten, M₁₁, M₁₂, M₁₃, M₁₄Each represents an integer from 0 to 3, and when these are multiple, multiple X_Ten, X₁₁, X₁₂, X₁₃, X₁₄May be the same or different.
Y₁₂And Y₁₄Is an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom (pyrrolyl group, piperidinyl group, indolinyl group, piperazino group, morpholino group, etc.), hydroxy group, alkoxy group Represent.
[0146]
Z_Ten, Z₁₁, Z₁₂Represents a nonmetallic atomic group capable of forming a specific ring structure.
Z_TenThe specific ring structure formed by is a ring structure corresponding to a tetrahydro or hexahydro form of a 5-membered or 6-membered, monocyclic or condensed ring, nitrogen-containing aromatic heterocycle, specifically, pyrrolidine ring, imidazolidine Examples include a ring, a thiazolidine ring, a pyrazolidine ring, a piperidine ring, a tetrahydropyridine ring, a tetrahydropyrimidine ring, a piperazine ring, a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroisoquinoline ring, a tetrahydroquinazoline ring, and a tetrahydroquinoxaline ring.
Z₁₁The specific ring structure formed by is a tetrahydroquinoline ring or a tetrahydroquinoxaline ring.
Z₁₂The specific ring structure formed by is a tetralin ring, a tetrahydroquinoline ring or a tetrahydroisoquinoline ring.
[0147]
R_N11, R_N13Are each a hydrogen atom or a substituent substitutable on a nitrogen atom.
Specific examples of the substituent include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and an acyl group, preferably an alkyl group and an aryl group.
[0148]
X_Ten, X₁₁, X₁₂, X₁₃, X₁₄As the substituent that can be substituted on the benzene ring represented by formula (A),₁₁Specific examples are the same as the examples of the substituent which may have.
Preferably, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a cyano group, an alkoxy group (a group repeatedly containing an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group unit). (Including), (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamido group, ureido group, thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, nitro group, (alkyl, aryl, or Heterocycle) thio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, sulfamoyl group and the like.
m_Ten, M₁₁, M₁₂, M₁₃, M₁₄Is preferably 0 to 2, more preferably 0 or 1.
[0149]
Y₁₂And Y₁₄Is preferably an alkylamino group, an arylamino group, a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom, a hydroxy group or an alkoxy group, more preferably an alkylamino group or a 5- to 6-membered substituent with a nitrogen atom A non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group and a hydroxy group, most preferably an alkylamino group (particularly a dialkylamino group) or a 5- to 6-membered non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom.
[0150]
In the general formula (13), R₁₁₃₁And X₁₃, R₁₁₃₁And R_N13, R₁₁₃₀And X₁₃Or R₁₁₃₀And R_N13And may form a cyclic structure.
In the general formula (14), R₁₁₄₁And X₁₄, R₁₁₄₁And R₁₁₄₀, ED₁₄And X₁₄Or R₁₁₄₀And X₁₄And may form a cyclic structure.
The cyclic structure formed here is a non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring, which is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed ring, and is a substituted or unsubstituted cyclic structure. In the general formula (13), R₁₁₃₁And X₁₃And combine to form a cyclic structure, and R₁₁₃₁And R_N13Are combined with each other to form a cyclic structure, which is a preferred example of the compound represented by the general formula (13) as in the case where no cyclic structure is formed.
In the general formula (13), R₁₁₃₁And X₁₃Specific examples of the ring structure formed by and include an indoline ring (in this case, R₁₁₃₁Represents a single bond), tetrahydroquinoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, 2,3-dihydrobenzo-1,4-oxazine ring, 2,3-dihydrobenzo-1,4-thiazine ring, etc. .
Particularly preferred are an indoline ring, a tetrahydroquinoline ring and a tetrahydroquinoxaline ring.
In the general formula (13), R₁₁₃₁And R_N13Specific examples of the ring structure formed by pyrrolidine ring, pyrroline ring, imidazolidine ring, imidazoline ring, thiazolidine ring, thiazoline ring, pyrazolidine ring, pyrazoline ring, oxazolidine ring, oxazoline ring, piperidine ring, piperazine ring, Morpholine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, indoline ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, tetrahydro-1,4-oxazine ring, 2,3-dihydrobenzo-1,4-oxazine ring, tetrahydro 1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzo-1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzofuran ring, 2,3-dihydrobenzothiophene ring, and the like.
Particularly preferred are pyrrolidine ring, piperidine ring, tetrahydroquinoline ring and tetrahydroquinoxaline ring.
[0151]
In the general formula (14), R₁₁₄₁And X₁₄And to form a ring structure, and ED₁₄And X₁₄Are combined with each other to form a cyclic structure, which is a preferred example of the compound represented by the general formula (14) as in the case where the ring structure is not formed.
In the general formula (14), R₁₁₄₁And X₁₄Examples of the cyclic structure formed by combining and include an indane ring, a tetralin ring, a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroisoquinoline ring, and an indoline ring.
ED₁₄And X₁₄Examples of the cyclic structure formed by combining with each other include a tetrahydroisoquinoline ring and a tetrahydrocinnoline ring.
[0152]
Next, general formulas (1) to (3) will be described.
In the general formulas (1) to (3), R₁, R₂, R₁₁, R₁₂, R₃₁Each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and these represent R in the general formula (A).₁₁₂The preferred range is also the same.
L₁, L_{twenty one}, L₃₁Each independently represents a leaving group, which is represented by L in the general formula (A)₁₁Represents the same groups as those given as specific examples in the description, and preferred ranges thereof are also the same.
X₁, X_{twenty one}Represents a substituent that can be substituted on the benzene ring, and each independently represents a RED of the general formula (A).₁₁The same thing as the example of a substituent when when has a substituent is mentioned.
m₁, M_{twenty one}Represents an integer of 0 to 3, preferably 0 to 2, more preferably 0 or 1.
[0153]
R_N1, R_N21, R_N31Represents a substituent capable of substituting for a hydrogen atom or a nitrogen atom, and the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, which may further have a substituent, and the substituent is generally RED of formula (A)₁₁The same thing as the substituent which may have is mentioned.
R_N1, R_N21, R_N31Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
[0154]
R₁₃, R₁₄, R₃₂, R₃₃, R_a, R_bEach independently represents a hydrogen atom or a substituent capable of substituting for a carbon atom.
As the substituent, RED in the general formula (A)₁₁The same thing as the substituent which may have is mentioned.
Preferably, alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, cyano group, alkoxy group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, alkylthio group, arylthio group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl Group, sulfamoyl group and the like.
[0155]
In general formula (1), Z₁Represents an atomic group capable of forming a 6-membered ring together with the nitrogen atom and the two carbon atoms of the benzene ring.
Z₁Is a non-aromatic heterocycle condensed with the benzene ring of the general formula (1), specifically, a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroquinoxaline ring, as a ring structure including the condensed benzene ring, Tetrahydroquinazoline ring, which may have a substituent.
As the substituent, R in the general formula (A)₁₁₂The same examples as in the case where represents a substituent are mentioned, and the preferred ranges thereof are also the same.
[0156]
In general formula (1), Z₁Preferably represents an atomic group forming a tetrahydroquinoline ring or a tetrahydroquinoxaline ring together with a nitrogen atom and two carbon atoms of a benzene ring.
[0157]
ED in general formula (2)_{twenty one}Represents an electron donating group, which is an ED of the general formula (B)₁₂The preferred range is also the same.
[0158]
In the general formula (2), R_N21, R₁₃, R₁₄, X_{twenty one}And ED_{twenty one}Any two of these may combine with each other to form a cyclic structure.
Where R_N21And X_{twenty one}The cyclic structure formed by bonding is preferably a 5- to 7-membered non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring condensed with a benzene ring. Specific examples thereof include a tetrahydroquinoline ring and a tetrahydroquinoxaline ring. A ring, an indoline ring, a 2,3-dihydro-5,6-benzo-1,4-thiazine ring, and the like.
Preferred are a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroquinoxaline ring and an indoline ring.
[0159]
In the general formula (3), R_N31When represents a group other than an aryl group, R_aAnd R_bCombine with each other to form an aromatic ring.
Here, the aromatic ring is an aryl group (for example, phenyl group, naphthyl group) and an aromatic heterocyclic group (for example, pyridine ring group, pyrrole ring group, quinoline ring group, indole ring group, etc.), and an aryl group is preferable.
The aromatic ring group may have a substituent, and examples of the substituent include X in the general formula (1).₁Are the same as the substituents exemplified when the substituent represents, and the preferred ranges thereof are also the same.
In the general formula (3), R_aAnd R_bAre preferably bonded to each other to form an aromatic ring (particularly a phenyl group).
[0160]
In the general formula (3), R₃₂Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a droxy group, an alkoxy group, a mercapto group, an amino group, etc., where R₃₂When R represents a hydroxy group,₃₃The case where represents an electron-attracting group is also a preferred example.
Here, the electron withdrawing group is an acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group, trifluoromethyl group, cyano group, nitro group, carbonimide. It means an yl group, and an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and a cyano group are preferable.
[0161]
Next, the type 2 compound will be described.
A compound of type 2 is a compound that can be oxidized one more electron after the formation of a one-electron oxidant after one-electron oxidation, and in other words, one more electron is emitted.
Here, bond cleavage reaction means the cleavage of bonds between carbon-carbon, carbon-silicon, carbon-hydrogen, carbon-boron, carbon-tin, and carbon-germanium elements. It may be attached to.
[0162]
However, the compound of type 2 is a compound having 2 or more (preferably 2 to 6, more preferably 2 to 4) adsorptive groups to silver halide in the molecule.
More preferred is a compound having a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups as an adsorptive group.
The number of adsorptive groups is preferably 2-6, more preferably 2-4. The adsorptive group will be described later.
[0163]
A preferable compound among the compounds of type 2 is represented by the general formula (C).
[0164]
General formula (C)
Embedded image

[0165]
The compound represented by the general formula (C) is RED₂After the reducing group represented by₂Is released by bond cleavage reaction, that is, C (carbon atom) -L₂It is a compound that can release one more electron along with the cleavage of the bond.
[0166]
In general formula (C), RED₂Is RED of general formula (B)₁₂Represents the same group, and the preferred range is also the same.
L₂Is L in the general formula (A)₁₁Represents the same group as described above, and its preferred range is also the same.
L₂When represents a silyl group, the compound is a compound having, as an adsorptive group, a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups in the molecule.
R_{twenty one}, R_{twenty two}Represents a hydrogen atom or a substituent, and these are R in the general formula (A)₁₁₂The preferred range is also the same.
RED₂And R_{twenty one}And may be bonded to each other to form a ring structure.
[0167]
The ring structure formed here is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed, non-aromatic carbocycle or heterocycle, which may have a substituent.
However, the ring structure is not a ring structure corresponding to a tetrahydro, hexahydro or octahydro form of an aromatic ring or an aromatic heterocycle.
As the substituent, RED of the general formula (A)₁₁The same thing as the example of a substituent when when has a substituent is mentioned.
The ring structure is preferably a ring structure corresponding to a dihydro form of an aromatic ring or an aromatic heterocycle, and specific examples thereof include, for example, a 2-pyrroline ring, a 2-imidazoline ring, a 2-thiazoline ring, 1,2- Dihydropyridine ring, 1,4-dihydropyridine ring, indoline ring, benzimidazoline ring, benzothiazoline ring, benzoxazoline ring, 2,3-dihydrobenzothiophene ring, 2,3-dihydrobenzofuran ring, benzo-α-pyran ring, 1 , 2-dihydroquinoline ring, 1,2-dihydroquinazoline ring, 1,2-dihydroquinoxaline ring and the like.
[0168]
Preferably, 2-imidazoline ring, 2-thiazoline ring, indoline ring, benzimidazoline ring, benzothiazoline ring, benzoxazoline ring, 1,2-dihydropyridine ring, 1,2-dihydroquinoline ring, 1,2-dihydroquinazoline ring 1,2-dihydroquinoxaline ring, indoline ring, benzimidazoline ring, benzothiazoline ring, 1,2-dihydroquinoline ring are more preferable, and indoline ring is particularly preferable.
[0169]
Next, the compound of type 3 will be described.
A compound of type 3 is a compound characterized in that one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can emit one electron or more after passing through a subsequent bond formation process. The formation process means formation of interatomic bonds such as carbon-carbon, carbon-nitrogen, carbon-sulfur, and carbon-oxygen.
[0170]
The compound of type 3 is preferably a reactive group site (carbon-carbon double bond site, carbon-carbon triple bond site, fragrance) in which a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation coexists in the molecule. And a non-aromatic heterocyclic group part of a benzo-condensed ring) to form a bond and then emit one electron or more electrons.
[0171]
A one-electron oxidant produced by one-electron oxidation of a type 3 compound is a cation radical species, but may be a neutral radical species with proton elimination therefrom.
This one-electron oxidant (cation radical species or radical species) is a non-aromatic carbon-carbon double bond site, carbon-carbon triple bond site, aromatic group site, or benzo-fused non-aromatic group present in the same molecule. It reacts with a heterocyclic group site to form an interatomic bond such as carbon-carbon, carbon-nitrogen, carbon-sulfur, carbon-oxygen and the like, thereby forming a new ring structure in the molecule.
At this time, one or more electrons are emitted at the same time or after that, which is a characteristic of the type 3 compound.
[0172]
In more detail, the compound of type 3 generates a radical species having a new ring structure by this bond formation reaction after being subjected to one-electron oxidation. The second electron is emitted and oxidized.
[0173]
Type 3 compounds further have tautomerization of the two-electron oxidant so produced, after undergoing a hydrolysis reaction in some cases, and directly in some cases with proton transfer. Those having the ability to cause a reaction, further emit one or more electrons, usually two or more electrons therefrom, and be oxidized are included.
Alternatively, those having the ability to emit one or more electrons, usually two or more electrons, from the two-electron oxidant directly without going through such a tautomerization reaction and to be oxidized are included. .
[0174]
The compound of type 3 is preferably represented by the general formula (D).
[0175]
Formula (D)
Embedded image

[0176]
In general formula (D), RED_ThreeRepresents a reducing group which can be oxidized by one electron, Y_ThreeIs RED_ThreeRepresents a reactive group site that reacts after one-electron oxidation, specifically a carbon-carbon double bond site, a carbon-carbon triple bond site, an aromatic group site, or a non-aromatic heterocycle of a benzo-fused ring An organic group containing a ring group site is represented.
L_ThreeIs RED_ThreeAnd Y_ThreeRepresents a linking group for linking.
[0177]
In general formula (D), RED_ThreeIs RED of the general formula (B)₁₂Represents a group having the same meaning as
In general formula (D), RED_ThreeIs preferably an arylamino group, a heterocyclic amino group, an aryloxy group, an arylthio group, an aryl group, an aromatic or non-aromatic heterocyclic group (particularly a nitrogen-containing heterocyclic group is preferred), and more preferably an aryl An amino group, a heterocyclic amino group, an aryl group, an aromatic or non-aromatic heterocyclic group, and among these heterocyclic groups, a tetrahydroquinoline ring group, a tetrahydroquinoxaline ring group, a tetrahydroquinazoline ring group, an indoline ring group , Indole ring group, carbazole ring group, phenoxazine ring group, phenothiazine ring group, benzothiazoline ring group, pyrrole ring group, imidazole ring group, thiazole ring group, benzimidazole ring group, benzoimidazoline ring group, benzothiazoline ring group, 3,4-methylenedioxyphenyl-1-yl group and the like are preferable .
RED_ThreeParticularly preferred are an arylamino group (particularly anilino group), an aryl group (particularly a phenyl group), and an aromatic or non-aromatic heterocyclic group.
[0178]
Where RED_ThreeWhen represents an aryl group, the aryl group preferably has at least one electron-donating group.
Here, the electron-donating group means a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, an alkylthio group, a sulfonamide group, an acylamino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an active methine group, an electron-excessive group. Aromatic heterocyclic group (for example, indolyl group, pyrrolyl group, indazolyl group), non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with nitrogen atom (pyrrolidinyl group, indolinyl group, piperidinyl group, piperazinyl group, morpholino group, thiomorpholino group, etc. ).
Here, the active methine group means a methine group substituted with two electron-withdrawing groups, and the electron-withdrawing group here means an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, An alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a cyano group, a nitro group, and a carbonimidoyl group are meant.
Here, the two electron withdrawing groups may be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0179]
RED_ThreeWhen represents an aryl group, the substituent of the aryl group is more preferably an alkylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an active methine group, a non-aromatic nitrogen-containing heterocycle substituted with a nitrogen atom More preferably an alkylamino group, a hydroxy group, an active methine group, and a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom, and most preferably an alkylamino group and a non-aromatic group substituted with a nitrogen atom. Nitrogen heterocyclic group.
[0180]
Y in general formula (D)_ThreeWhen the reactive group represented by formula (1) represents an organic group containing a carbon-carbon double bond or carbon-carbon triple bond having a substituent, the substituent is preferably an alkyl group (preferably having 1 to 8 carbon atoms). ), An aryl group (preferably having 6 to 12 carbon atoms), an alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 8 carbon atoms), a carbamoyl group, an acyl group, an electron donating group, and the like.
Here, the electron-donating group is an alkoxy group (preferably having 1 to 8 carbon atoms), a hydroxy group, an amino group, an alkylamino group (preferably having 1 to 8 carbon atoms), an arylamino group (preferably having 6 to 6 carbon atoms). 12), heterocyclic amino group (preferably having 2 to 6 carbon atoms), sulfonamide group, acylamino group, active methine group, mercapto group, alkylthio group (preferably having 1 to 8 carbon atoms), arylthio group (preferably having carbon number) 6-12), and aryl groups having these groups as substituents (the carbon number of the aryl moiety is preferably 6-12).
The hydroxy group may be protected with a silyl group, and examples thereof include a trimethylsilyloxy group, a t-butyldimethylsilyloxy group, a triphenylsilyloxy group, a triethylsilyloxy group, and a phenyldimethylsilyloxy group.
Examples of the carbon-carbon double bond site and the carbon-carbon triple bond site include a vinyl group and an ethynyl group.
[0181]
Y_ThreeRepresents an organic group containing a carbon-carbon double bond moiety having a substituent, the substituent is more preferably an alkyl group, a phenyl group, an acyl group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an electron donating group. Here, the electron donating group is preferably an alkoxy group, a hydroxy group (which may be protected with a silyl group), an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a sulfonamide group, an active methine group, Mercapto groups, alkylthio groups, and phenyl groups having these electron donating groups as substituents.
[0182]
Here, when the organic group containing a carbon-carbon double bond site has a hydroxy group as a substituent, Y_ThreeIs the partial structure on the right:> C₁= C₂(—OH) — is included, but this is tautomerized and the partial structure shown on the right:> C₁HC₂It may be (= O)-.
In this case, the C₁It is also preferred that the substituent substituted for carbon is an electron withdrawing group, in which case Y_ThreeHas a partial structure of “active methylene group” or “active methine group”.
The electron withdrawing group that can give such a partial structure of the active methylene group or active methine group is the same as that described in the description of the above-mentioned “active methine group”.
[0183]
Y_ThreeRepresents an organic group containing a carbon-carbon triple bond moiety having a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, a phenyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an electron donating group, and the like. As the group, an alkoxy group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, a sulfonamide group, an acylamino group, an active methine group, a mercapto group, an alkylthio group, and these electron donating groups are preferably substituted. The phenyl group possessed by
[0184]
Y_ThreeRepresents an organic group containing an aromatic group, an aromatic group is preferably an aryl group having an electron donating group as a substituent (particularly a phenyl group is preferred) or an indole ring group, where the electron donating group is Preferred are a hydroxy group (which may be protected with a silyl group), an alkoxy group, an amino group, an alkylamino group, an active methine group, a sulfonamide group and a mercapto group.
[0185]
Y_ThreeRepresents an organic group containing a non-aromatic heterocyclic group portion of a benzo-fused ring, preferably a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group that preferably has an aniline structure as a partial structure, for example, an indoline ring group, 1,2,3,4-tetrahydroquinoline ring group, 1,2,3,4-tetrahydroquinoxaline ring group, 4-quinolone ring group and the like can be mentioned.
[0186]
Y in general formula (D)_ThreeMore preferred as the reactive group represented by is an organic group containing a carbon-carbon double bond site, an aromatic group site, or a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group.
More preferred are a carbon-carbon double bond site, a phenyl group having an electron donating group as a substituent, an indole ring group, and a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group having an aniline structure as a partial structure.
Here, the carbon-carbon double bond site preferably has at least one electron donating group as a substituent.
[0187]
Y in general formula (D)_ThreeAs a result of selection of the reactive group represented by the above-described range, RED in the general formula (D)_ThreeThe case where it has the same partial structure as the reducing group represented by general formula (D) is also a preferred example of the compound represented by general formula (D).
[0188]
In general formula (D), L_ThreeRED_ThreeAnd Y_ThreeAnd specifically represents a single bond, an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, -O-, -S-, -NR._N-, -C (= O)-, -SO₂The group which consists of individual group of-, -SO-, -P (= O)-, or a combination of these groups is represented.
R here_NRepresents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
L_ThreeThe linking group represented by may have a substituent.
As the substituent, RED of the general formula (A)₁₁The same thing as what was demonstrated as a substituent which may have may be mentioned.
L_ThreeThe linking group represented by RED_ThreeAnd Y_ThreeIn any position of the group represented by the formula (1), each of the hydrogen atoms may be linked to replace any one hydrogen atom.
[0189]
L in general formula (D)_ThreeThe group represented by the formula is RED of the general formula (D)_ThreeCation radical species (X⁺.), Or a radical species (X.) generated from the proton withdrawn therefrom, and Y in the general formula (D)_ThreeWhen the reactive group represented by the above reacts to form a bond, the atomic group involved in this reaction is L_ThreeIt is preferable that a 3-7 membered cyclic structure including can be formed.
For this purpose, radical species (X⁺-Or X-), the reactive group represented by Y, and L are preferably connected by 3 to 7 atomic groups.
[0190]
L_ThreePreferred examples of are: a single bond, an alkylene group (particularly a methylene group, an ethylene group, a propylene group), an arylene group (particularly a phenylene group), a —C (═O) — group, an —O— group, an —NH— group, -N (alkyl group)-group and the bivalent coupling group which consists of a combination of these groups are mentioned.
[0191]
Among the compounds represented by the general formula (D), preferred compounds are represented by the following general formulas (D-1) to (D-4).
[0192]
Embedded image

[0193]
In the general formulas (D-1) to (D-4), A₁₀₀, A₂₀₀, A₄₀₀Represents an arylene group or a divalent heterocyclic group, and A₃₀₀Represents an aryl group or a heterocyclic group.
The preferred range of these ring groups is RED of the general formula (D)_ThreeIt is the same as the preferable range.
L₃₀₁, L₃₀₂, L₃₀₃, L₃₀₄Represents a linking group, which is represented by L in the general formula (D)_ThreeRepresents a group having the same meaning, and the preferred range thereof is also the same.
Y₁₀₀, Y₂₀₀, Y₃₀₀, Y₄₀₀Represents a reactive group, which is represented by Y in the general formula (D)_ThreeRepresents a group having the same meaning, and the preferred range thereof is also the same.
R₃₁₀₀, R₃₁₁₀, R₃₂₀₀, R₃₂₁₀, R₃₃₁₀Represents a hydrogen atom or a substituent.
R₃₁₀₀, R₃₁₁₀Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
R₃₂₀₀, R₃₃₁₀Is preferably a hydrogen atom.
R₃₂₁₀Is preferably a substituent, and the substituent is preferably an alkyl group or an aryl group.
R₃₁₁₀Is A₁₀₀And R₃₂₁₀Is A₂₀₀And R₃₃₁₀Is A₃₀₀And may be bonded to each other to form a ring structure.
The ring structure formed here is preferably a tetralin ring, an indane ring, a tetrahydroquinoline ring, an indoline ring or the like.
X₄₀₀Represents a hydroxy group, a mercapto group or an alkylthio group, preferably a hydroxy group or a mercapto group, more preferably a mercapto group.
[0194]
Among the general formulas (D-1) to (D-4), more preferable compounds are compounds represented by the general formulas (D-2), (D-3), and (D-4).
More preferred is a compound represented by formula (D-2) or (D-3).
[0195]
Next, the type 4 compound will be described.
A compound of type 4 is a compound having a ring structure substituted with a reducing group, and after the reducing group is oxidized by one electron, one or more electrons are emitted along with the ring structure cleavage reaction. Compound.
Type 4 compounds undergo one-electron oxidation and the ring structure is cleaved. The ring cleavage reaction mentioned here refers to the type represented by the following.
[0196]
Embedded image

[0197]
In the formula, compound a represents a type 4 compound.
In compound a, D represents a reducing group, and X and Y represent atoms forming a bond that is cleaved after one-electron oxidation in the ring structure.
First, the compound a is oxidized one electron to produce a one-electron oxidant b. From this, the single bond of XX becomes a double bond, and at the same time, the bond of XY is cleaved to produce a ring-opened product c. Alternatively, a radical intermediate d may be generated from the one-electron oxidant b with proton desorption, and a ring-opening body e may be similarly generated therefrom.
The compound of the present invention is characterized in that one or more electrons are subsequently released from the ring-opened product c or e thus produced.
[0198]
The ring structure possessed by the type 4 compound is a 3- to 7-membered carbocyclic or heterocyclic ring, and represents a monocyclic or condensed, saturated or unsaturated non-aromatic ring.
A saturated ring structure is preferable, and a 3-membered ring or 4-membered ring is more preferable. Preferred examples of the ring structure include a cyclopropane ring, a cyclobutane ring, an oxirane ring, an oxetane ring, an aziridine ring, an azetidine ring, an episulfide ring, and a thietane ring.
More preferred are cyclopropane ring, cyclobutane ring, oxirane ring, oxetane ring and azetidine ring, and particularly preferred are cyclopropane ring, cyclobutane ring and azetidine ring.
The ring structure may have a substituent.
[0199]
The compound of type 4 is preferably represented by the general formula (E) or (F).
[0200]
General formula (E)
Embedded image

[0201]
Formula (F)
Embedded image

[0202]
RED in general formula (E) and general formula (F)₄₁And RED₄₂Are respectively RED of the general formula (B)₁₂Represents a group having the same meaning, and the preferred range thereof is also the same. R₄₀~ R₄₄And R₄₅~ R₄₉Each represents a hydrogen atom or a substituent. As a substituent, RED₁₂The same thing as the substituent which may have is mentioned.
In general formula (F), Z₄₂Is -CR₄₂₀R₄₂₁-, -NR₄₂₃-Represents-or -O-. R here₄₂₀, R₄₂₁Each represents a hydrogen atom or a substituent, and R₄₂₃Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
[0203]
R in the general formula (E)₄₀Is preferably a hydrogen atom, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, amino group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group, alkoxycarbonyl group, acyl group, carbamoyl Group, cyano group, sulfamoyl group, more preferably a hydrogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, alkoxycarbonyl group, acyl group, carbamoyl group, particularly preferably a hydrogen atom, alkyl group, An aryl group, a heterocyclic group, an alkoxycarbonyl group, and a carbamoyl group.
[0204]
R₄₁~ R₄₄In which at least one of these is a donor group, and R₄₁And R₄₂Or R₄₃And R₄₄Are preferably electron withdrawing groups. More preferably R₄₁~ R₄₄This is a case where at least one of the above is a donor group. More preferably R₄₁~ R₄₄At least one of them is a donor group and R₄₁~ R₄₄In this case, the group that is not a donor group is a hydrogen atom or an alkyl group.
[0205]
The donor group referred to here is a hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, acylamino group, sulfonylamino group, active methine group, or RED.₄₁And RED₄₂As a group selected from the group of preferable groups.
The donor group is preferably an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, a 5-membered aromatic heterocyclic group having one nitrogen atom in the ring (which may be monocyclic or condensed), and a nitrogen atom. Non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group to be substituted, phenyl group substituted with at least one electron-donating group (here, the electron-donating group is a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, an alkylamino group, an aryl group) An amino group, a heterocyclic amino group, or a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom).
More preferably, an alkylamino group, an arylamino group, a 5-membered aromatic heterocyclic group having one nitrogen atom in the ring (herein, the aromatic heterocyclic ring represents an indole ring, a pyrrole ring, or a carbazole ring), an electron A phenyl group substituted with a donating group (here, particularly represents a phenyl group substituted with three or more alkoxy groups, a phenyl group substituted with a hydroxy group, an alkylamino group or an arylamino group) is used.
Particularly preferably, an arylamino group, a 5-membered aromatic heterocyclic group having one nitrogen atom in the ring (in this case, a 3-indolyl group), a phenyl group substituted with an electron-donating group (here, particularly Represents a phenyl group substituted with a trialkoxyphenyl group, an alkylamino group or an arylamino group).
The electron withdrawing group is the same as that already described in the description of the active methine group.
[0206]
R in general formula (F)₄₅Is preferably R in the general formula (E).₄₀Is the same as that.
R₄₆~ R₄₉Preferably a hydrogen atom, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group, hydroxy group, alkoxy group, amino group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group, mercapto group, arylthio group, An alkylthio group, an acylamino group, and a sulfoneamino group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an alkylamino group, an arylamino group, and a heterocyclic amino group.
Particularly preferred R₄₆~ R₄₉Is Z₄₂-CR₄₂₀R₄₂₁In the case of a group represented by-, a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkylamino group, an arylamino group, and Z₄₂-NR₄₂₃-Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and Z₄₂Is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
[0207]
Z₄₂Preferably as -CR₄₂₀R₄₂₁-Or -NR₄₂₃-, More preferably -NR₄₂₃-.
R₄₂₀, R₄₂₁Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a hydroxy group, an alkoxy group, an amino group, a mercapto group, an acylamino group, or a sulfonamino group, more preferably a hydrogen atom, An alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, and an amino group;
R₄₂₃Preferably represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aromatic heterocyclic group, more preferably a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, a benzyl group, a diphenylmethyl group, or an allyl group. Group, phenyl group, naphthyl group, 2-pyridyl group, 4-pyridyl group and 2-thiazolyl group.
[0208]
R₄₀~ R₄₉And R₄₂₀, R₄₂₁, R₄₂₃When each of these groups is a substituent, those having a total carbon number of 40 or less are preferable, more preferably a total carbon number of 30 or less, and particularly preferably a total carbon number of 15 or less.
These substituents may be bonded to each other or other sites in the molecule (RED₄₁, RED₄₂Or Z₄₂) To form a ring.
[0209]
The compounds of types 1, 3, and 4 of the present invention are “compounds having an adsorptive group to silver halide in the molecule” or “compounds having a partial structure of a spectral sensitizing dye in the molecule”. It is preferable that
The compounds of types 1, 3, and 4 of the present invention are more preferably “compounds having an adsorptive group to silver halide in the molecule”.
A type 2 compound is a “compound having two or more adsorptive groups to silver halide in the molecule”.
The compounds of types 1 to 4 are more preferably “compound having a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups as an adsorptive group”.
[0210]
In the compounds of types 1 to 4 of the present invention, the adsorptive group to silver halide is a group that directly adsorbs to silver halide or a group that promotes adsorption to silver halide. Specifically, mercapto A heterocyclic group containing at least one atom selected from a group (or a salt thereof), a thione group (—C (═S) —), a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom, a sulfide group, a cationic group, Or an ethynyl group.
However, the type 2 compound of the present invention does not contain a sulfide group as an adsorptive group.
[0211]
The mercapto group (or salt thereof) as the adsorptive group means the mercapto group (or salt thereof) itself, and more preferably a heterocyclic group or aryl group substituted with at least one mercapto group (or salt thereof). Or represents an alkyl group.
Here, the heterocyclic group is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed aromatic or non-aromatic heterocyclic group such as an imidazole ring group, a thiazole ring group, an oxazole ring group, or a benzimidazole ring group. , Benzthiazole ring group, benzoxazole ring group, triazole ring group, thiadiazole ring group, oxadiazole ring group, tetrazole ring group, purine ring group, pyridine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, pyrimidine ring group, triazine A cyclic group etc. are mentioned.
Further, it may be a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. In this case, the substituted mercapto group may be dissociated into a meso ion. Examples of such a heterocyclic group include an imidazolium ring group, Examples include a pyrazolium ring group, a thiazolium ring group, a triazolium ring group, a tetrazolium ring group, a thiadiazolium ring group, a pyridinium ring group, a pyrimidinium ring group, and a triazinium ring group. Among them, a triazolium ring group (for example, 1,2,4- Triazolium-3-thiolate ring group) is preferable. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.
Examples of the alkyl group include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms.
When the mercapto group forms a salt, the counter ion may be a cation such as alkali metal, alkaline earth metal, or heavy metal (Li⁺, Na⁺, K⁺, Mg²⁺, Ag⁺, Zn²⁺Etc.), ammonium ions, quaternized heterocyclic groups containing nitrogen atoms, phosphonium ions and the like.
[0212]
Further, the mercapto group as the adsorptive group may be tautomerized into a thione group, specifically, a thioamide group (here, —C (═S) —NH— group), and the thioamide group. A group having a partial structure of, ie, a chain or cyclic thioamide group, a thioureido group, a thiourethane group, or a dithiocarbamate group.
Examples of cyclic groups include thiazolidine-2-thione group, oxazolidine-2-thione group, 2-thiohydantoin group, rhodanine group, isorhodanine group, thiobarbituric acid group, 2-thioxo-oxazolidine-4-one group Is mentioned.
[0213]
The thione group as an adsorptive group cannot be tautomerized to a mercapto group (including a hydrogen atom at the α-position of the thione group), including the case where the mercapto group described above is tautomerized into a thione group. A chain or cyclic thioamide group, thioureido group, thiourethane group, or dithiocarbamate group is also included.
[0214]
A heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom as the adsorptive group is a -NH- group capable of forming imino silver (> NAg) and a partial structure of the heterocyclic ring A nitrogen-containing heterocyclic group, or a “—S—” group, a “—Se—” group, a “—Te—” group or a “═N—” group which can coordinate to a silver ion via a coordination bond. A heterocyclic group having a ring partial structure. Examples of the former include benzotriazole group, triazole group, indazole group, pyrazole group, tetrazole group, benzimidazole group, imidazole group, and purine group, and examples of the latter include thiophene. Group, thiazole group, oxazole group, benzothiazole group, benzoxazole group, thiadiazole group, oxadiazole group, triazine group, selenoazo Group, benzselenoazole group, tellurazole group, benztelluazole group and the like.
The former is preferred.
[0215]
The sulfide group as the adsorptive group includes all groups having a partial structure of “—S—”, preferably alkyl (or alkylene) -S-alkyl (or alkylene), aryl (or arylene) -S—. A group having a partial structure of alkyl (or alkylene), aryl (or arylene) -S-aryl (or arylene).
Furthermore, these sulfide groups may form a cyclic structure or may be an -S-S- group.
Specific examples in the case of forming a cyclic structure include a thiolane ring, a 1,3-dithiolane ring or a 1,2-dithiolane ring, a thiane ring, a dithiane ring, a tetrahydro-1,4-thiazine ring (thiomorpholine ring) and the like. Groups.
Particularly preferred as the sulfide group is a group having a partial structure of alkyl (or alkylene) -S-alkyl (or alkylene).
[0216]
The cationic group as the adsorptive group means a group containing a quaternized nitrogen atom, specifically, an ammonio group or a group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. .
However, the cationic group does not become a part of an atomic group forming a dye structure (for example, a cyanine chromophore).
Here, the ammonio group is a trialkylammonio group, a dialkylarylammonio group, an alkyldiarylammonio group or the like, and examples thereof include a benzyldimethylammonio group, a trihexylammonio group, and a phenyldiethylammonio group.
Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom include a pyridinio group, a quinolinio group, an isoquinolinio group, an imidazolio group, and the like.
A pyridinio group and an imidazolio group are preferable, and a pyridinio group is particularly preferable.
These nitrogen-containing heterocyclic groups containing a quaternized nitrogen atom may have an arbitrary substituent, but in the case of a pyridinio group and an imidazolio group, the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, an acylamino group , A chloro atom, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and the like. In the case of a pyridinio group, a phenyl group is particularly preferable as a substituent.
[0217]
An ethynyl group as an adsorptive group means a —C≡CH group, and a hydrogen atom may be substituted.
The above adsorptive group may have an arbitrary substituent.
[0218]
Specific examples of the adsorptive group further include those described in pages 4 to 7 of JP-A No. 11-95355.
[0219]
In the present invention, preferred adsorptive groups are mercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic groups (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1). , 3,4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzoxazole group, 2-mercaptobenzthiazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group), or imino silver (> A nitrogen-containing heterocyclic group (for example, a benzotriazole group, a benzimidazole group, an indazole group, etc.) having a —NH— group that can form NAg) as a partial structure of the heterocyclic ring.
Particularly preferred are 5-mercaptotetrazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and benzotriazole group, most preferred are 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and 5 -Mercaptotetrazole group.
[0220]
Of the compounds of the present invention, compounds having two or more mercapto groups as partial structures in the molecule are also particularly preferred compounds.
Here, the mercapto group (—SH) may be a thione group if it can be tautomerized.
Examples of such compounds include adsorbable groups having a partial structure of a mercapto group or thione group described above (for example, a ring-forming thioamide group, an alkyl mercapto group, an aryl mercapto group, a heterocyclic mercapto group, etc.) Or an adsorbing group having two or more mercapto groups or thione groups as a partial structure (for example, a dimercapto-substituted nitrogen-containing telocyclic group). You may have one or more.
[0221]
Examples of the adsorptive group having two or more mercapto groups as a partial structure (such as a dimercapto-substituted nitrogen-containing telocyclic group) include 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3,5 -Dimercapto-1,2,4-triazole group, 2,5-dimercapto-1,3-thiazole group, 2,5-dimercapto-1,3-oxazole group, 2,7-dimercapto-5-methyl-s- Triazolo (1,5-A) -pyrimidine, 2,6,8-trimercaptopurine, 6,8-dimercaptopurine, 3,5,7-trimercapto-s-triazolotriazine, 4,6-dimercapto Examples include pyrazolopyrimidine, 2,5-dimercaptoimidazole, 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3,5. Dimercapto-1,2,4-triazole group are particularly preferred.
[0222]
The adsorptive group may be substituted anywhere in the general formulas (A) to (F) and the general formulas (1) to (3), but in the general formulas (A) to (D), RED₁₁, RED₁₂, RED₂, RED_ThreeIn the general formulas (E) and (F), RED₄₁, R₄₁, RED₄₂, R₄₆~ R₄₈In the general formulas (1) to (3), R₁, R₂, R₁₁, R₁₂, R₃₁, L₁, L_{twenty one}, L₃₁Is preferably substituted at any position except for ## STR4 ## and all of the general formulas (A) to (F) are represented by RED.₁₁~ RED₄₂More preferably, it is substituted.
[0223]
The partial structure of the spectral sensitizing dye is a group containing the chromophore of the spectral sensitizing dye, and is a residue obtained by removing any hydrogen atom or substituent from the spectral sensitizing dye compound.
The partial structure of the spectral sensitizing dye may be substituted anywhere in the general formulas (A) to (F) and the general formulas (1) to (3). In the general formulas (A) to (D), RED₁₁, RED₁₂, RED₂, RED_ThreeIn the general formulas (E) and (F), RED₄₁, R₄₁, RED₄₂, R₄₆~ R₄₈In the general formulas (1) to (3), R₁, R₂, R₁₁, R₁₂, R₃₁, L₁, L_{twenty one}, L₃₁Is preferably substituted at any position except for ## STR4 ## and all of the general formulas (A) to (F) are represented by RED.₁₁~ RED₄₂More preferably, it is substituted.
Preferred spectral sensitizing dyes are spectral sensitizing dyes typically used in color sensitization techniques such as cyanine dyes, complex cyanine dyes, merocyanine dyes, complex merocyanine dyes, homopolar cyanine dyes, Includes styryl dyes and hemicyanine dyes.
Exemplary spectral sensitizing dyes are disclosed in Research Disclosure, Item 36544, September 1994.
Those skilled in the art can synthesize these dyes by the procedures described in the Research Disclosure or F.M. Hamer's The Cyanine dyes and Related Compounds (Interscience Publishers, New yprk, 1964).
Further, all the dyes described in JP-A-11-95355 (US Pat. No. 6,054,260), pages 7 to 14 are applied as they are.
[0224]
The compounds of types 1 to 4 of the present invention preferably have a total carbon number of 10 to 60. More preferably, it is 10-50, More preferably, it is 11-40, Most preferably, it is 12-30.
[0225]
The compounds of types 1 to 4 of the present invention are subjected to 1-electron oxidation triggered by exposure of the silver halide photographic light-sensitive material using the compound, and after the subsequent reaction, further 1 electron, or 2 electrons or more depending on the type. Electrons are emitted and oxidized, and the oxidation potential of the first electron is preferably about 1.4 V or less, and more preferably 1.0 V or less.
This oxidation potential is preferably higher than 0V, more preferably higher than 0.3V. Accordingly, the oxidation potential is preferably in the range of about 0 to about 1.4V, more preferably about 0.3 to about 1.0V.
[0226]
Here, the oxidation potential can be measured by a cyclic voltammetry technique. Specifically, a sample is dissolved in a solution of acetonitrile: water (including 0.1 M lithium perchlorate) = 80%: 20% (volume%). After bubbling nitrogen gas for 10 minutes, a glassy carbon disk was used as the working electrode, a platinum wire was used as the counter electrode, and a calomel electrode (SCE) was used as the reference electrode at 25 ° C. and 0.1 V / Measured at a potential scanning speed of seconds. The oxidation potential versus SCE is taken at the peak potential of the cyclic voltammetry wave.
[0227]
In the case where the compounds of types 1 to 4 of the present invention are one-electron oxidized and further emit one electron after the subsequent reaction, the subsequent oxidation potential is preferably −0.5 V to −2 V. More preferably, it is -0.7V-2V, More preferably, it is -0.9V--1.6V.
[0228]
In the case where the compound of types 1 to 4 of the present invention is a compound that is oxidized by one electron and emits two or more electrons after the subsequent reaction and is oxidized, there is no particular limitation on the oxidation potential of this latter stage. Absent.
This is because the oxidation potential of the second electron and the oxidation potential of the third and subsequent electrons cannot be clearly distinguished, and it is often difficult to accurately measure and distinguish these actually.
[0229]
Although the specific example of the compound of the types 1-4 of this invention is enumerated below, this invention is not limited to these.
[0230]
Embedded image

[0231]
Embedded image

[0232]
Embedded image

[0233]
Embedded image

[0234]
Embedded image

[0235]
Embedded image

[0236]
Embedded image

[0237]
The compounds of types 1 to 4 of the present invention are the same as those described in detail in Japanese Patent Application Nos. 2002-192373, 2002-188537, 2002-188536, and 2001-272137, respectively. is there.
Specific compound examples described in these patent application specifications can also be given as specific examples of the compounds of types 1 to 4 of the present invention.
The synthesis examples of the compounds of types 1 to 4 of the present invention are also the same as those described in these patents.
[0238]
Next, the compound of type 5 will be described.
A compound of type 5 is represented by XY, where X represents a reducing group, Y represents a leaving group, and a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation of the reducing group represented by X is This is a compound capable of releasing X by further elimination of Y with subsequent XY bond cleavage reaction to generate an X radical, from which another electron is emitted.
The reaction when such a type 5 compound is oxidized can be represented by the following formula.
[0239]
Embedded image

[0240]
The compound of type 5 preferably has an oxidation potential of 0 to 1.4V, more preferably 0.3V to 1.0V.
Further, the oxidation potential of the radical X · generated in the above reaction formula is preferably −0.7 V to −2.0 V, and more preferably −0.9 V to −1.6 V.
[0241]
The compound of type 5 is preferably represented by the general formula (G).
[0242]
General formula (G)
Embedded image

[0243]
In general formula (G), RED₀Represents a reducing group, L₀Represents a leaving group, R₀And R₀₀Represents a hydrogen atom or a substituent.
RED₀ And R₀And R₀And R₀₀And may be bonded to each other to form a ring structure.
RED₀Is RED of general formula (C)₂Represents the same group, and the preferred range is also the same.
R₀And R₀₀Is R in the general formula (C)_{twenty one}And R_{twenty two}The preferred range is also the same. However, R₀And R₀₀Except for the hydrogen atom, L₀Does not represent the same group as
RED₀And R₀May be bonded to each other to form a ring structure, and examples of the ring structure include RED of the general formula (C).₂And R_{twenty one}Examples are the same as in the case of linking to form a ring structure, and the preferred range is also the same.
R₀And R₀₀Examples of the ring structure formed by bonding to each other include a cyclopentane ring and a tetrahydrofuran ring.
In general formula (G), L₀Is L in the general formula (C)₂The preferred range is also the same.
[0244]
The compound represented by the general formula (G) preferably has an adsorbing group to silver halide or a partial structure of a spectral sensitizing dye in the molecule.₀When represents a group other than a silyl group, it does not have two or more adsorptive groups in the molecule at the same time.
However, the sulfide group as the adsorptive group here is L₀You may have two or more regardless of this.
[0245]
Examples of the adsorptive group to the silver halide of the compound represented by the general formula (G) include the same adsorptive groups that the compounds of types 1 to 4 of the present invention may have. In addition, a selenooxo group (—C═Se—), a tellurium oxo group (—C═Te—), a seleno group (—Se—), a tellurium group (—Te—), or an active methine group may be mentioned. .
Here, the selenooxo group (—C═Se—) and the tellurium oxo group (—C═Te—) are Se or Te derivatives of a compound having a thione group (—C═S—), as described for the thione group. In addition, a group containing a selenoamide group (—C═Se—NH—) or a telluramide group (—C═Te—NH—) may be used.
The seleno group (—Se—) and tellurium group (—Te—) are also Se or Te derivatives of compounds having a sulfide group (—S—), and are Se or Te substitutes of compounds having a sulfide group. Is given as an example. The active methine group means a methine group substituted with two electron-withdrawing groups, and the electron-withdrawing group is an acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, alkylsulfonyl group. Group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group, trifluoromethyl group, cyano group, nitro group, carbonimidoyl group.
Here, the two electron withdrawing groups may be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0246]
The adsorptive group possessed by the compound represented by the general formula (G) is preferably selected from a mercapto group (or a salt thereof), a thione group (—C═S—), a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom. A heterocyclic group containing at least one atom, a sulfide group, and more preferably a mercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group or an —NH— group capable of forming imino silver (> NAg) as a partial structure of the heterocyclic ring These are the same as those described for the preferred range of the adsorptive group that the compounds of types 1 to 4 may have.
The adsorptive group may be substituted anywhere in the general formula (G), but preferably RED.₀Or R₀More preferably, RED₀Is preferably substituted.
[0247]
The partial structure of the spectral sensitizing dye that the compound represented by the general formula (G) may have is the partial structure of the spectral sensitizing dye that the compounds of types 1 to 4 of the present invention may have. Is the same.
[0248]
Specific examples of the compound represented by the general formula (G) are given below, but the invention is not limited to these.
[0249]
Embedded image

[0250]
Embedded image

[0251]
Embedded image

[0252]
Specific examples of the compound represented by the general formula (G) include JP-A-9-211769 (compounds PMT-1 to S-37 described in Table E and Table F on pages 28 to 32), JP-A-9 No. -21774, JP-A-11-95355 (compounds INV1 to 36), JP-T-2001-500996 (compounds 1 to 74, 80 to 87, 92 to 122), US Pat. No. 5,747,235, US Pat. , 747,236, European Patent No. 786692A1 (compounds INV1 to 35), European Patent No. 893732A1, US Pat. No. 6,054,260, US Pat. No. 5,994,051, and the like. Examples of compounds called “sensitizers” or “deprotonated electron donating sensitizers” are mentioned as they are.
[0253]
The compounds of types 1 to 5 of the present invention may be used at any time during the preparation of the photosensitive silver halide emulsion and during the photothermographic material production process. For example, at the time of photosensitive silver halide grain formation, desalting step, chemical sensitization, before coating. Moreover, it can also add in several steps in these processes. The addition position is preferably from the end of the formation of the photosensitive silver halide grains to before the desalting step, at the time of chemical sensitization (immediately after the start of chemical sensitization to immediately after the end), and before coating, more preferably from the time of chemical sensitization. Until mixed with non-photosensitive organic silver salt.
[0254]
The compounds of types 1 to 5 of the present invention are preferably added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof.
When the compound is dissolved in water, the compound having higher solubility when the pH is increased or decreased may be dissolved at a higher or lower pH and added.
[0255]
The compounds of types 1 to 5 of the present invention are preferably used in an emulsion layer containing a photosensitive silver halide and a non-photosensitive organic silver salt, but added to a protective layer or an intermediate layer together with the emulsion layer. Alternatively, it may be diffused during application.
The timing of addition of the compound of the present invention is preferably before or after the sensitizing dye, and preferably 1 × 10 5 per mole of silver halide.^-9~ 5x10^-1Mole, more preferably 1 × 10^-8~ 2x10^-2It is contained in the silver halide emulsion layer in a molar ratio.
[0256]
7) A compound having an adsorbing group and a reducing group
The photothermographic material in the invention preferably contains a compound having an adsorbing group and a reducing group represented by the following general formula (I). The compound can be used alone or in combination with the above-described various chemical sensitizers, and can increase the sensitivity of silver halide.
[0257]
Formula (I) A- (W) n-B
[In general formula (I), A represents a group capable of adsorbing to silver halide (hereinafter referred to as an adsorbing group), W represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, and B represents a reduction. Represents a group. ]
[0258]
Next, the general formula (I) will be described in detail.
In the general formula (I), the adsorptive group represented by A is a group that directly adsorbs to silver halide or a group that promotes adsorption to silver halide. Specifically, a mercapto group (or a salt thereof) ), A thione group (—C (═S) —), a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom, a heterocyclic group containing at least one atom selected from a selenium atom and a tellurium atom, a sulfide group, a disulfide group, a cationic group, or ethynyl Groups and the like.
[0259]
The mercapto group (or salt thereof) as the adsorptive group means the mercapto group (or salt thereof) itself, and more preferably, a heterocyclic group or aryl group substituted with at least one mercapto group (or salt thereof) or Represents an alkyl group. Here, the heterocyclic group is at least a 5- to 7-membered monocyclic or condensed aromatic or non-aromatic heterocyclic group such as an imidazole ring group, a thiazole ring group, an oxazole ring group, or a benzimidazole ring. Group, benzothiazole ring group, benzoxazole ring group, triazole ring group, thiadiazole ring group, oxadiazole ring group, tetrazole ring group, purine ring group, pyridine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, pyrimidine ring group, And triazine ring group. Further, it may be a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. In this case, the substituted mercapto group may be dissociated into a meso ion. Examples of such a heterocyclic group include an imidazolium ring group, Examples include a pyrazolium ring group, a thiazolium ring group, a triazolium ring group, a tetrazolium ring group, a thiadiazolium ring group, a pyridinium ring group, a pyrimidinium ring group, and a triazinium ring group. Among them, a triazolium ring group (for example, 1,2,4- Triazolium-3-thiolate ring group) is preferable. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the alkyl group include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms. When the mercapto group forms a salt, the counter ion may be a cation such as alkali metal, alkaline earth metal, or heavy metal (Li⁺, Na⁺, K⁺, Mg²⁺, Ag⁺, Zn²⁺Etc.), ammonium ions, quaternized heterocyclic groups containing nitrogen atoms, phosphonium ions and the like.
[0260]
Further, the mercapto group as the adsorptive group may be tautomerized into a thione group, specifically, a thioamide group (here, —C (═S) —NH— group), and the thioamide group. Examples thereof include a group containing a partial structure, that is, a chain or cyclic thioamide group, thioureido group, thiourethane group, or dithiocarbamate group. Examples of cyclic groups include thiazolidine-2-thione group, oxazolidine-2-thione group, 2-thiohydantoin group, rhodanine group, isorhodanine group, thiobarbituric acid group, 2-thioxo-oxazolidine-4-one group Is mentioned.
[0261]
The thione group as the adsorptive group means that the mercapto group cannot be tautomerized (having no hydrogen atom at the α-position of the thione group), including the case where the above-mentioned mercapto group is tautomerized into a thione group. Also included are cyclic or cyclic thioamide groups, thioureido groups, thiourethane groups, or dithiocarbamate groups.
[0262]
A heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom as an adsorptive group is a -NH- group capable of forming imino silver (> NAg) as a partial structure of the heterocyclic ring. A nitrogen-containing heterocyclic group having a heterocyclic ring, or a "-S-" group, a "-Se-" group, a "-Te-" group or a "= N-" group capable of coordinating to a silver ion by a coordination bond A heterocyclic group having a partial structure of benzotriazole group, triazole group, indazole group, pyrazole group, tetrazole group, benzimidazole group, imidazole group, purine group, etc. , Thiazole group, oxazole group, benzothiophene group, benzothiazole group, benzoxazole group, thiadiazole group, oxadiazole group, triazide Group, selenoazole group, benzoselenoazole group, tellurazole group, benzotelluazole group and the like. The former is preferred.
[0263]
Examples of the sulfide group or disulfide group as the adsorptive group include all groups having a partial structure of “—S—” or “—S—S—”, preferably alkyl (or alkylene) -X-alkyl (or alkylene). ), Aryl (or arylene) -X-alkyl (or alkylene), aryl (or arylene) -X-aryl (or arylene) having a partial structure, wherein X is an —S— group or —SS— -Represents a group. Further, these sulfide groups or disulfide groups may form a cyclic structure. Specific examples of the cyclic structure include a thiolane ring, 1,3-dithiolane ring, 1,2-dithiolane ring, thiane ring. , A group containing a dithiane ring, a thiomorpholine ring, and the like. A group having a partial structure of alkyl (or alkylene) -S-alkyl (or alkylene) is particularly preferred as the sulfide group, and a 1,2-dithiolane ring group is particularly preferred as the disulfide group.
[0264]
The cationic group as the adsorptive group means a group containing a quaternized nitrogen atom, specifically, an ammonio group or a group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. Here, the ammonio group is a trialkylammonio group, a dialkylarylammonio group, an alkyldiarylammonio group or the like, and examples thereof include a benzyldimethylammonio group, a trihexylammonio group, and a phenyldiethylammonio group. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom include a pyridinio group, a quinolinio group, an isoquinolinio group, an imidazolio group, and the like. A pyridinio group and an imidazolio group are preferable, and a pyridinio group is particularly preferable. These nitrogen-containing heterocyclic groups containing a quaternized nitrogen atom may have an arbitrary substituent, but in the case of a pyridinio group and an imidazolio group, the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, an acylamino group , A chloro atom, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and the like. In the case of a pyridinio group, a phenyl group is particularly preferable as a substituent.
An ethynyl group as an adsorptive group means a —CCH group, and the hydrogen atom may be substituted.
[0265]
The adsorbing group may have an arbitrary substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (a fluorine atom, a chloro atom, a bromine atom, or an iodine atom), an alkyl group (a linear, branched, or cyclic alkyl group, including a bicycloalkyl group or an active methine group), an alkenyl group. , Alkynyl group, aryl group, heterocyclic group (regardless of the position of substitution), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, heterocyclic oxycarbonyl group, carbamoyl group, N-hydroxycarbamoyl group, N-acylcarbamoyl Group, N-sulfonylcarbamoyl group, N-carbamoylcarbamoyl group, thiocarbamoyl group, N-sulfamoylcarbamoyl group, carbazoyl group, carboxy group or a salt thereof, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, carbonimidoyl group (Carbonimidoyl group) Group), formyl group, hydro Xyl group, alkoxy group (including groups containing repeating ethyleneoxy or propyleneoxy group units), aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy Group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, N-hydroxyureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfo group Famoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, ammonio group, oxamoylamino group, N- (alkyl or aryl) sulfonylureido group, N-acylureido group, N-acylsulfamo A ruamino group, a hydroxyamino group, a nitro group, a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom (eg, pyridinio group, imidazolio group, quinolinio group, isoquinolinio group), isocyano group, imino group, mercapto group, (alkyl, aryl) , Or heterocyclic) thio group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) dithio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group or a salt thereof, sulfamoyl group, N-acylsulfa Examples include a moyl group, an N-sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, a phosphino group, a phosphinyl group, a phosphinyloxy group, a phosphinylamino group, and a silyl group. Here, the active methine group means a methine group substituted with two electron-withdrawing groups, and the electron-withdrawing group here means an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, An alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a cyano group, a nitro group, and a carbonimidoyl group (Carbonimidoyl group) are meant. Here, the two electron withdrawing groups may be bonded to each other to form a cyclic structure. The salt means a cation such as alkali metal, alkaline earth metal or heavy metal, or an organic cation such as ammonium ion or phosphonium ion.
[0266]
Further, specific examples of the adsorbing group include those described in the specifications p4 to p7 of JP-A No. 11-95355.
[0267]
In general formula (I), more preferred as the adsorptive group represented by A is a mercapto-substituted heterocyclic group (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group). Group, 2-mercapto-1,3,4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzthiazole group, 2-mercaptobenzimidazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group, etc. ), Dimercapto-substituted heterocyclic group (for example, 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3,5-dimercapto-1,2,4-triazole group, 2,5-dimercapto-1, 3-thiazole group, etc.), or —NH— group capable of forming imino silver (> NAg) as a partial structure of a heterocyclic ring Nitrogen Hajime Tamaki (e.g., a benzotriazole group, benzimidazole group, indazole group), particularly preferred are dimercapto-substituted heterocyclic group.
[0268]
In general formula (I), W represents a divalent linking group. Any linking group may be used as long as it does not adversely affect photographic properties. For example, a divalent linking group composed of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom can be used. Specifically, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (eg, methylene group, ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, hexamethylene group, etc.), an arylene group having 6 to 20 carbon atoms (eg, phenylene group, naphthylene group, etc.) , -CONR₁-, -SO₂NR₂-, -O-, -S-, -NR_Three-, -NR_FourCO-, -NR_FiveSO₂-, -NR₆CONR₇-, -COO-, -OCO-, combinations of these linking groups, and the like. Where R₁, R₂, R_Three, R_Four, R_Five, R₆And R₇Represents a hydrogen atom, an aliphatic group, or an aryl group. R₁, R₂, R_Three, R_Four, R_Five, R₆Or R₇Is preferably a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group (for example, methyl group) having 1 to 30 carbon atoms and having 1 to 20 carbon atoms. Group, ethyl group, isopropyl group, t-butyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-hexadecyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, allyl group, 2-butenyl group, 3-pentenyl group Group, propargyl group, 3-pentynyl group, benzyl group, etc.). In general formula (I), R₁, R₂, R_Three, R_Four, R_Five, R₆Or R₇Is preferably a monocyclic or condensed aryl group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. R₁, R₂, R_Three, R_Four, R_Five, R₆Or R₇The above-mentioned substituent represented by the formula (1) may further have any other substituent, and this arbitrary substituent has the same meaning as the substituent of the above-mentioned adsorbing group.
[0269]
In general formula (I), the reducing group represented by B represents a group capable of reducing silver ions. For example, hydroxylamines, hydroxamic acids, hydroxyureas, hydroxyurethanes, hydroxysemicarbazides, reductones (reductones) Derivatives), anilines, phenols (chroman-6-ols, 2,3-dihydrobenzofuran-5-ols, aminophenols, sulfonamidophenols, hydroquinones, catechols, resorcinols, benzene A residue derived from a compound selected from triols, polyphenols such as bisphenols), hydrazines, hydrazides, and phenidones.
[0270]
Hydroxylamines are represented by the general formula (B1), hydroxamic acids are represented by the general formula (B2), hydroxyureas are represented by the general formula (B3), and hydroxyurethanes are represented by the general formula (B4). Hydroxy semicarbazides are represented by the general formula (B5), reductones are represented by the general formula (B6), anilines are represented by the general formula (B7), and phenols are general. It is represented by the formula (B8), (B9), (B10), the hydrazine is represented by the general formula (B11), the hydrazide is represented by the general formula (B12), and the phenidone is represented by the general formula (B13). ).
[0271]
Embedded image

[0272]
In the general formulas (B1) to (B13), R_b1, R_b2, R_b3, R_b4, R_b5, R_b70, R_b71, R_b110, R_b111, R_b112, R_b113, R_b12, R_b13, R_N1, R_N2, R_N3, R_N4, R_N5Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and R_H3, R_H5, R '_H5, R_H12, R '_H12, R_H13Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkylsulfonyl group or an arylsulfonyl group, of which R_H3May further be a hydroxy group. R_b100, R_b101, R_b102, R_b130~ R_b133Represents a hydrogen atom or a substituent. Y₇, Y₈Represents a substituent other than a hydroxy group, Y₉Represents a substituent, m_FiveIs 0 or 1, m₇Is an integer from 0 to 5, m₈Is an integer from 1 to 5, m₉Represents an integer of 0-4. Y₇, Y₈, Y₉May further be an aryl group condensed with a benzene ring (for example, a benzene condensed ring), which may further have a substituent. Z_TenRepresents a nonmetallic atomic group capable of forming a ring, and X₁₂Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an amino group (including an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, or a cyclic amino group), or a carbamoyl group.
[0273]
X in general formula (B6)₆, X '₆Are hydroxy group, alkoxy group, mercapto group, alkylthio group, amino group (including alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group, or cyclic amino group), acylamino group, sulfonamido group, alkoxycarbonylamino group, respectively. Represents a ureido group, an acyloxy group, an acylthio group, an alkylaminocarbonyloxy group, or an arylaminocarbonyloxy group. R_b60, R_b61Represents an alkyl group, an aryl group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, and R_b60And R_b61May be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0274]
In the explanation of each group of the above general formulas (B1) to (B13), the alkyl group means a linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, The aryl group represents a monocyclic or condensed ring substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring such as a phenyl group or a naphthyl group, and the heterocyclic group is an aromatic or aromatic group containing at least one heteroatom. Non-aromatic, monocyclic or condensed ring, substituted or unsubstituted heterocyclic group.
In addition, the substituent described in the description of each group of the general formulas (B1) to (B13) has the same meaning as the substituent of the above-described adsorbing group. These substituents may be further substituted with these substituents.
[0275]
R in general formula (B1) to general formula (B5)_N1, R_N2, R_N3, R_N4, R_N5Is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, wherein the alkyl group is preferably a linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms. A linear or branched, substituted or unsubstituted alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a benzyl group.
[0276]
R in general formula (B1)_b1Is preferably an alkyl group or a heterocyclic group, wherein the alkyl group is a linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group, preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 1 carbon atoms. 18 alkyl groups. The heterocyclic group is a 5-membered or 6-membered monocyclic or condensed ring aromatic or non-aromatic heterocyclic group which may have a substituent. The heterocyclic group is preferably an aromatic heterocyclic group, such as a pyridine ring group, a pyrimidine ring group, a triazine ring group, a thiazole ring group, a benzothiazole ring group, an oxazole ring group, a benzoxazole ring group, an imidazole ring group, or a benzimidazole. Examples thereof include a ring group, a pyrazole ring group, an indazole ring group, an indole ring group, a purine ring group, a quinoline ring group, an isoquinoline ring group, and a quinazoline ring group, and a triazine ring group and a benzothiazole ring group are particularly preferable. R_b1An alkyl group or a heterocyclic group represented by the formula --N (R_N1The case where it further has one or two or more OH groups is also a preferred example of the compound represented by formula (B1).
[0277]
R in general formula (B2)_b2Is preferably an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, more preferably an alkyl group or an aryl group. Preferred range of alkyl group is R_b1This is the same as the description in FIG. The aryl group is preferably a phenyl group or a naphthyl group, and the phenyl group is particularly preferable and may have a substituent. R_b2The group represented by the formula: —CON (R_N2The case where one or more OH groups are further present is also a preferred example of the compound represented by formula (B2).
[0278]
R in general formula (B3)_b3Is preferably an alkyl group or an aryl group, these preferred ranges being R_b1And R_b2This is the same as the description in FIG. R_H3Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or a hydroxy group, more preferably a hydrogen atom. R_b3The group represented by the formula is -N (R_H3) CON (R_N3The case of further having one or two or more OH groups is also a preferred example of the compound represented by the general formula (B3). Also R_b3And R_N3And may form a ring structure (preferably a 5- or 6-membered saturated heterocycle).
R in general formula (B4)_b4Is preferably an alkyl group, the preferred range of which is R_b1This is the same as the description in FIG. R_b4Is represented by —OCON (R_N4The case where it further has one or more OH groups is also a preferred example of the compound represented by the general formula (B4).
[0279]
R in general formula (B5)_b5Is preferably an alkyl group or an aryl group, more preferably an aryl group, these preferred ranges being R_b1And R_b2This is the same as the description in FIG. R_H5, R '_H5Is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
[0280]
R in general formula (B6)_b60, R_b61Are preferably bonded to each other to form a ring structure. The cyclic structure formed here is a 5-membered to 7-membered non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring, which may be a monocyclic ring or a condensed ring. Specific examples of preferred ring structures include, for example, 2-cyclopenten-1-one ring, 2,5-dihydrofuran-2-one ring, 3-pyrrolin-2-one ring, 4-pyrazolin-3-one Ring, 2-cyclohexen-1-one ring, 5,6-dihydro-2H-pyran-2-one ring, 5,6-dihydro-2-pyridone ring, 1,2-dihydronaphthalen-2-one ring, coumarin Ring (benzo-α-pyran-2-one ring), 2-quinolone ring, 1,4-dihydronaphthalen-1-one ring, chromone ring (benzo-γ-pyran-4-one ring), 4-quinolone ring , Indene-1-one ring, 3-pyrroline-2,4-dione ring, uracil ring, thiouracil ring, dithiouracil ring and the like, more preferably 2-cyclopenten-1-one ring, 2,5-dihydro Flan-2-one , 3-pyrrolin-2-one ring, 4-pyrazolin-3-one ring, 1,2-dihydronaphthalen-2-one ring, coumarin ring (benzo-α-pyran-2-one ring), 2-quinolone ring 1,4-dihydronaphthalen-1-one ring, chromone ring (benzo-γ-pyran-4-one ring), 4-quinolone ring, inden-1-one ring, dithiouracil ring, etc., more preferably They are 2-cyclopenten-1-one ring, 2,5-dihydrofuran-2-one ring, 3-pyrrolin-2-one ring, inden-1-one ring and 4-pyrazolin-3-one ring.
[0281]
X₆, X '₆Represents a cyclic amino group, the cyclic amino group is a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group bonded with a nitrogen atom, such as a pyrrolidino group, piperidino group, piperazino group, morpholino group, 1,4-thiazine- 4-yl group, 2,3,5,6-tetrahydro-1,4-thiazin-4-yl group, indolyl group and the like.
[0282]
X₆, X '₆Preferred are a hydroxy group, a mercapto group, an amino group (including an alkylamino group, an arylamino group, or a cyclic amino group), an acylamino group, a sulfonamide group, an acyloxy group, and an acylthio group, more preferably Group, mercapto group, amino group, alkylamino group, cyclic amino group, sulfonamide group, acylamino group or acyloxy group, particularly preferably a hydroxy group, amino group, alkylamino group or cyclic amino group. X₆And X '₆At least one of them is preferably a hydroxy group.
[0283]
R in general formula (B7)_b70, R_b71Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, more preferably an alkyl group. Preferred range of alkyl group is R_b1This is the same as the description in FIG. R_b70, R_b71May be bonded to each other to form a cyclic structure (eg, pyrrolidine ring, piperidine ring, morpholino ring, thiomorpholino ring, etc.). Y₇Is preferably an alkyl group (its preferred range is R_b1, Alkoxy group, amino group, acylamino group, sulfonamido group, ureido group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, chloro atom, sulfo group or salt thereof, carboxy group or salt thereof, etc. And m₇Preferably represents 0-2.
[0284]
In general formula (B8), m is preferably 1 to 4, and a plurality of Y₈May be the same or different. m₈Y when is 1₈Or m₈Multiple Y when is 2 or more₈At least one of them is preferably an amino group (including an alkylamino group and an arylamino group), a sulfonamide group, or an acylamino group. m₈When Y is 2 or more, Y remains₈Is preferably a sulfonamido group, an acylamino group, a ureido group, an alkyl group, an alkylthio group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfo group or a salt thereof, a carboxy group or a salt thereof, or a chloro atom. Y here₈In the case where o ′-(or p ′-) hydroxyphenylmethyl group (which may further have a substituent) is substituted at the ortho-position or para-position of the hydroxy group as a substituent represented by Represents a group of compounds generally called bisphenols, and this case is also one of the preferred examples of the compound represented by the general formula (B8). Y₈It is also very preferable that represents a benzene condensed ring and as a result, the general formula (B8) represents a naphthol.
[0285]
In the general formula (B9), the substitution positions of the two hydroxy groups may be ortho positions (catechols), meta positions (resorcinols) or para positions (hydroquinones). m₉Is preferably 1-2, and a plurality of Y₉May be the same or different. Y₉Preferably, the substituent represented by chloro atom, acylamino group, ureido group, sulfonamido group, alkyl group, alkylthio group, alkoxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfo group or salt thereof, carboxy group Or the salt, a hydroxy group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group etc. are mentioned. Y₉It is also preferable that represents a benzene condensed ring and as a result, the general formula (B9) represents 1,4-naphthohydroquinones. When general formula (B9) represents catechols, Y₉Is particularly preferably a sulfo group or a salt thereof, or a hydroxy group.
[0286]
R in general formula (B10)_b100, R_b101, R_b102When represents a substituent, preferred examples of the substituent are Y₉This is the same as the preferred example. Of these, an alkyl group (particularly a methyl group) is preferred. Z_TenThe ring structure formed by is preferably a chroman ring or a 2,3-dihydrobenzofuran ring, and these ring structures may have a substituent or may form a spiro ring.
[0287]
R in general formula (B11)_b110, R_b111, R_b112, R_b113As an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, these preferred ranges are R_b1And R_b2This is the same as the description in FIG. Of these, an alkyl group is preferred, and R_b110~ R_b113Two of these alkyl groups may be bonded to form a cyclic structure. Here, the cyclic structure is a 5-membered or 6-membered non-aromatic heterocycle, and examples thereof include a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a morpholino ring, a thiomorpholino ring, and a hexahydropyridazine ring.
R in general formula (B12)_b12As an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, these preferred ranges are R_b1And R_b2This is the same as the description in FIG. X₁₂Is preferably an alkyl group, an aryl group (particularly a phenyl group), a heterocyclic group, an alkoxy group, an amino group (including an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, or a cyclic amino group), or a carbamoyl group. An alkyl group (especially an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferred), an aryl group (especially a phenyl group is preferred), and an amino group (including an alkylamino group, an arylamino group, or a cyclic amino group) are more preferred. R_H12, R '_H12Is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
[0288]
R in general formula (B13)_b13Is preferably an alkyl group or an aryl group, and preferred ranges thereof are R_b1And R_b2This is the same as the description in FIG. R_b130, R_b131, R_b132, R_b133Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group (particularly preferably having 1 to 8 carbon atoms), or an aryl group (particularly preferred is a phenyl group). R_H13Is preferably a hydrogen atom or an acyl group, more preferably a hydrogen atom.
[0289]
In general formula (I), the reducing group represented by B is preferably hydroxylamines, hydroxamic acids, hydroxyureas, hydroxysemicarbazides, phenols, hydrazines, hydrazides, and phenidones, particularly preferably hydroxy. Ureas, hydroxysemicarbazides, phenols, hydrazides, and phenidones.
[0290]
In the general formula (I), the reducing group represented by B shows its oxidation potential, Akira Fujishima “Electrochemical Measurement Method” (pages 150-208, published by Gihodo) and the Chemical Society of Japan “Experimental Chemistry Course” 4th edition. (9, pages 282-244, Maruzen). For example, by a rotating disk voltammetry technique, specifically, a sample is dissolved in a solution of methanol: pH 6.5 Briton-Robinson buffer = 10%: 90% (volume%), and nitrogen gas is used for 10 minutes. , A glassy rotating disk electrode (RDE) is used as a working electrode, a platinum wire is used as a counter electrode, a saturated calomel electrode is used as a reference electrode, 25 ° C., 1000 rev / min, 20 mV / sec. Can be measured at sweep speed. A half-wave potential (E1 / 2) can be obtained from the obtained voltammogram.
[0291]
The reducing group represented by B of the present invention preferably has an oxidation potential in the range of about −0.3 V to about 1.0 V when measured by the above measurement method. More preferably, it is in the range of about -0.1V to about 0.8V, and particularly preferably in the range of about 0 to about 0.7V.
[0292]
Many of the reducing groups represented by B of the present invention are known compounds in the photographic industry, and examples thereof are also described in the following patents. For example, JP 2001-42466, JP 8-114884, JP 8-314051, JP 8-333325, JP 9-133983, JP 11-282117, JP 10-246931, JP-A-10-90819, JP-A-9-54384, JP-A-10-171060, JP-A-7-77783. Examples of phenols include compounds described in US Pat. No. 6,054,260 (general formulas and examples of compounds described in columns 60 to 63).
[0293]
The compound of the general formula (I) of the present invention may be one in which a ballast group or polymer chain commonly used in an immobile photographic additive such as a coupler is incorporated. Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.
[0294]
The compound of the general formula (I) of the present invention may be a bis form or a tris form. The molecular weight of the compound of the general formula (I) of the present invention is preferably between 100 and 10,000, more preferably between 120 and 1000, particularly preferably between 150 and 500.
[0295]
Although the compound of general formula (I) of this invention is illustrated below, this invention is not limited to these.
[0296]
Embedded image

[0297]
Embedded image

[0298]
Embedded image

[0299]
Embedded image

[0300]
Embedded image

[0301]
Embedded image

[0302]
Embedded image

[0303]
Embedded image

[0304]
The compounds of the present invention can be easily synthesized according to known methods.
As the compound of the general formula (I) of the present invention, one type of compound may be used alone, but it is also preferable to use two or more types of compounds at the same time. When two or more kinds of compounds are used, they may be added in the same layer or in different layers, and the addition method may be different.
[0305]
The compound of the general formula (I) of the present invention is preferably added to the silver halide emulsion layer, and more preferably added during preparation of the emulsion. When added at the time of emulsion preparation, it can be added at any time during the process. For example, silver halide grain formation process, before desalting process start, desalting process, chemical ripening Examples include a step before starting, a chemical ripening step, and a step before preparing a finished emulsion. Moreover, it can also be added in several steps in these processes. Although it is preferably used in the emulsion layer, it may be added to the adjacent protective layer or intermediate layer together with the emulsion layer and diffused during coating.
The preferred addition amount largely depends on the above-mentioned addition method and the kind of the compound to be added, but generally 1 × 10 6 per mole of photosensitive silver halide.^-6~ 1 mole, preferably 1 x 10^-Five~ 5 × 10^-1Mole more preferably 1 × 10^-Four~ 1 × 10^-1Is a mole.
[0306]
The compound of the general formula (I) of the present invention can be added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. At this time, the pH may be appropriately adjusted with an acid or a base, and a surfactant may be allowed to coexist. Furthermore, it can also be dissolved in a high boiling point organic solvent and added as an emulsified dispersion. It can also be added as a solid dispersion.
[0307]
8) Multiple silver halide combinations
The light-sensitive silver halide emulsion in the light-sensitive material used in the present invention may be one kind or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes, different halogen compositions, different crystal habits, chemical increase). Those with different feeling conditions) may be used in combination. The gradation can be adjusted by using a plurality of types of photosensitive silver halides having different sensitivities. As technologies related to these, JP-A-57-119341, 53-106125, 47-3929, 48-55730, 46-5187, 50-73627, 57-150841, etc. Can be mentioned. As the sensitivity difference, it is preferable that each emulsion has a difference of 0.2 logE or more.
[0308]
9) Amount of silver halide applied
The amount of photosensitive silver halide added is 1m of photosensitive material.²Indicated by the amount of silver applied per unit, 0.03 to 0.6 g / m²Preferably, 0.07 to 0.4 g / m²More preferably, 0.05 to 0.3 g / m²Most preferably. The photosensitive silver halide is preferably 0.01 mol or more and 0.5 mol or less, more preferably 0.02 mol or more and 0.3 mol or less, and further preferably 0.03 mol or more and 0.2 mol or less with respect to 1 mol of the organic silver salt.
[0309]
10) Mixing of silver halide and organic acid silver
Regarding the mixing method and mixing conditions of the separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the silver halide grains and organic silver salt that were prepared respectively were mixed with a high-speed stirrer, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer. Etc., or a method of preparing an organic silver salt by mixing photosensitive silver halide that has been prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt, etc., but the effect of the present invention is sufficient As long as it appears in, there is no particular limitation. Moreover, mixing two or more organic silver salt aqueous dispersions and two or more photosensitive silver salt aqueous dispersions when mixing is a preferred method for adjusting photographic characteristics.
[0310]
The preferred addition time of the silver halide of the present invention to the image-forming layer coating solution is from 180 minutes before coating to immediately before, preferably from 60 minutes to 10 seconds before coating. There is no particular limitation as long as the effect is sufficiently exhibited. Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid delivered to the coater is the desired time, and by N. Harnby, MFEdwards, AWNienow, Takahashi There is a method of using a static mixer or the like described in Chapter 8 of the translation of Koji “Liquid Mixing Technology” (Nikkan Kogyo Shimbun, 1989).
[0311]
(binder)
The binder of the organic silver salt-containing layer of the present invention may be any polymer, suitable binders are transparent or translucent and generally colorless, natural resins, polymers and copolymers, synthetic resins, polymers and copolymers, other films Forming media such as gelatins, gums, poly (vinyl alcohol) s, hydroxyethyl celluloses, cellulose acetates, cellulose acetate butyrates, poly (vinyl pyrrolidone) s, casein, starch, poly (acrylic acid) , Poly (methyl methacrylic acid) s, poly (vinyl chloride) s, poly (methacrylic acid) s, styrene-maleic anhydride copolymers, styrene-acrylonitrile copolymers, styrene-butadiene copolymers, Poly (vinyl acetal) s (eg, poly (vinyl acetal) Marl) and poly (vinyl butyral)), poly (esters), poly (urethane) s, phenoxy resins, poly (vinylidene chloride) s, poly (epoxides), poly (carbonates), poly (vinyl acetate) s , Poly (olefin) s, cellulose esters, and poly (amides). The binder may be coated from water or an organic solvent or emulsion.
[0312]
When the organic silver salt-containing layer is 60% by mass or more of the solvent, it is preferable to use a polymer latex of a styrene-butadiene copolymer as a binder, and when 60% by mass or more of the solvent is an organic solvent. It is preferable to use polyvinyl butyral as a binder.
[0313]
When 60% by weight or more of the coating solution solvent for the photosensitive layer is water, 60% by weight or more and 100% by weight or less of the binder is preferably a polymer latex, more preferably 80% by weight or more and 100% by weight or less. The polymer latex is preferably a styrene-butadiene copolymer polymer latex.
[0314]
When 60% by weight or more of the coating solution solvent for the photosensitive layer is an organic solvent, 60% by weight or more and 100% by weight or less of the binder is preferably polyvinyl butyral, more preferably 80% by weight or more and 100% by weight or less. Is polyvinyl butyral.
[0315]
In the present invention, the glass transition temperature of the binder of the layer containing the organic silver salt is preferably −20 ° C. or higher and 80 ° C. or lower, more preferably 0 ° C. to 70 ° C., and 10 ° C. or higher and 65 ° C. or lower. More preferably it is.
[0316]
In this specification, Tg is calculated by the following formula.
1 / Tg = Σ (Xi / Tgi)
Here, it is assumed that n monomer components from i = 1 to n are copolymerized in the polymer. Xi is the weight fraction of the i-th monomer (ΣXi = 1), and Tgi is the glass transition temperature (absolute temperature) of the homopolymer of the i-th monomer. However, Σ is the sum from i = 1 to n.
As the transition temperature value (Tgi) of the homopolymer glass of each monomer, the value of Polymer Handbook (3rd Edition) (by J. Brandrup, E.H. Immergut (Wiley-Interscience, 1989)) was adopted.
[0317]
The polymer used as a binder may be used alone or in combination of two or more as required. Further, a glass transition temperature of 20 ° C. or higher and a glass transition temperature of less than 20 ° C. may be used in combination. When two or more kinds of polymers having different Tg are blended, the weight average Tg is preferably within the above range.
[0318]
In the present invention, when the organic silver salt-containing layer is formed using a coating solution in which 30% by mass or more of the solvent is water and dried, the binder of the organic silver salt-containing layer is further an aqueous solvent ( When it is soluble or dispersible in an aqueous solvent), the performance is improved particularly when it is made of a latex of a polymer having an equilibrium moisture content of 2% by mass or less at 25 ° C. and 60% RH.
The most preferable form is one prepared so that the ionic conductivity is 2.5 mS / cm or less, and as such a preparation method, there is a method of purifying using a separation functional membrane after polymer synthesis.
[0319]
The aqueous solvent in which the polymer is soluble or dispersible here is a mixture of water or water with 70% by mass or less of a water-miscible organic solvent.
Examples of the water-miscible organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol and propyl alcohol, cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and butyl cellosolve, ethyl acetate and dimethylformamide.
[0320]
The “equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH” is the following using the weight W1 of the polymer in the humidity-controlled equilibrium under the atmosphere of 25 ° C. and 60% RH and the weight W0 of the polymer in the absolutely dry state at 25 ° C. It can be expressed as
Equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH = [(W1-W0) / W0] × 100 (mass%)
[0321]
For the definition and measurement method of the moisture content, for example, Polymer Engineering Course 14, Polymer Material Testing Method (Edited by Polymer Society, Jinshokan) can be referred to.
[0322]
The equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH of the binder polymer of the present invention is preferably 2% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or more and 1.5% by mass or less, and further preferably 0.02% by mass. % To 1% by mass is desirable.
[0323]
The binder of the present invention is particularly preferably a polymer that can be dispersed in an aqueous solvent. Examples of the dispersed state include latex in which fine particles of water-insoluble hydrophobic polymer are dispersed and polymer molecules dispersed in a molecular state or forming micelles, and all are preferable. The average particle size of the dispersed particles is preferably 1 to 50000 nm, more preferably about 5 to 1000 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.
[0324]
In the present invention, preferred embodiments of the polymer dispersible in an aqueous solvent include acrylic polymers, poly (esters), rubbers (for example, SBR resin), poly (urethanes), poly (vinyl chloride) s, poly (acetic acid). Hydrophobic polymers such as vinyl), poly (vinylidene chloride) and poly (olefin) can be preferably used. These polymers may be linear polymers, branched polymers, crosslinked polymers, so-called homopolymers obtained by polymerizing a single monomer, or copolymers obtained by polymerizing two or more types of monomers. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer.
These polymers have a number average molecular weight of 5,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 200,000. When the molecular weight is too small, the mechanical strength of the emulsion layer is insufficient, and when the molecular weight is too large, the film formability is poor, which is not preferable.
[0325]
Specific examples of preferable polymer latex include the following. Below, it represents using a raw material monomer, the numerical value in a parenthesis is the mass%, and molecular weight is a number average molecular weight. When a polyfunctional monomer was used, the concept of molecular weight was not applicable because a crosslinked structure was formed, so it was described as crosslinkability, and the description of molecular weight was omitted. Tg represents the glass transition temperature.
[0326]
Latex of P-1; -MMA (70) -EA (27) -MAA (3)-(molecular weight 37000, Tg61 ℃)
Latex of P-2; -MMA (70) -2EHA (20) -St (5) -AA (5)-(molecular weight 40000, Tg59 ° C)
Latex of P-3; -St (50) -Bu (47) -MAA (3)-(crosslinkability, Tg-17 ° C)
Latex of P-4; -St (68) -Bu (29) -AA (3)-(crosslinkability, Tg17 ° C)
Latex of P-5; -St (71) -Bu (26) -AA (3)-(crosslinkability, Tg24 ℃)
Latex of P-6; -St (70) -Bu (27) -IA (3)-(crosslinkability)
Latex of P-7; -St (75) -Bu (24) -AA (1)-(crosslinkability, Tg29 ° C)
Latex of P-8; -St (60) -Bu (35) -DVB (3) -MAA (2)-(crosslinkability)
P-9; -St (70) -Bu (25) -DVB (2) -AA (3)-latex (crosslinkable)
Latex of P-10; -VC (50) -MMA (20) -EA (20) -AN (5) -AA (5)-(molecular weight 80000)
P-11; -VDC (85) -MMA (5) -EA (5) -MAA (5)-latex (molecular weight 67000)
Latex of P-12; -Et (90) -MAA (10)-(molecular weight 12000)
P-13; -St (70) -2EHA (27) -AA (3) latex (molecular weight 130000, Tg43 ℃)
P-14; -MMA (63) -EA (35)-AA (2) latex (molecular weight 33000, Tg47 ℃)
Latex of P-15; -St (70.5) -Bu (26.5) -AA (3)-(crosslinkability, Tg23 ° C)
Latex of P-16; -St (69.5) -Bu (27.5) -AA (3)-(crosslinkability, Tg20.5 ℃)
[0327]
The abbreviations for the above structures represent the following monomers. MMA; methyl methacrylate, EA; ethyl acrylate, MAA; methacrylic acid, 2EHA; 2-ethylhexyl acrylate, St; styrene, Bu; butadiene, AA; acrylic acid, DVB; divinylbenzene, VC; vinyl chloride, AN; acrylonitrile, VDC Vinylidene chloride, Et; ethylene, IA; itaconic acid.
[0328]
The polymer latex described above is also commercially available, and the following polymers can be used. Examples of acrylic polymers include Sebian A-4635, 4718, 4601 (above made by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811, 814, 821, 820, 857 (above made by Nippon Zeon Co., Ltd.), poly ( Examples of esters include polynet (urethane) such as FINETEX ES650, 611, 675, 850 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), WD-size, WMS (Eastman Chemical). Examples of rubbers such as HYDRAN AP10, 20, 30, 40 (above made by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) include LACSTAR 7310K, 3307B, 4700H, 7132C (above made by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), Examples of poly (vinyl chloride) such as Nipol Lx416, 410, 438C, 2507 (above made by Nippon Zeon Co., Ltd.), poly (vinylidene chloride) such as G351, G576 (above made by Nippon Zeon Co., Ltd.), etc. Examples of poly (olefins) such as L502 and L513 (made by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) To can Chemipearl S120, SA100 (all manufactured by Mitsui Petrochemical Co.) and the like.
[0329]
These polymer latexes may be used alone or in combination of two or more as required.
[0330]
As the polymer latex used in the present invention, a styrene-butadiene copolymer latex is particularly preferable. The weight ratio of the styrene monomer unit to the butadiene monomer unit in the styrene-butadiene copolymer is preferably 40:60 to 95: 5. The proportion of the styrene monomer unit and the butadiene monomer unit in the copolymer is preferably 60 to 99% by mass. The preferred molecular weight range is the same as described above.
[0331]
Examples of latexes of styrene-butadiene copolymer that are preferably used in the present invention include the aforementioned P-3 to P-8, 14, 15, commercially available products LACSTAR-3307B, 7132C, Nipol Lx416, and the like.
[0332]
If necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose may be added to the organic silver salt-containing layer of the light-sensitive material of the present invention.
The amount of these hydrophilic polymers added is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, based on the total binder of the organic silver salt-containing layer.
[0333]
The organic silver salt-containing layer (that is, the image forming layer) of the present invention is preferably formed using a polymer latex as a binder. The amount of the binder in the organic silver salt-containing layer is preferably such that the weight ratio of total binder / organic silver salt is 1/10 to 10/1, more preferably 1/5 to 4/1.
[0334]
Further, such an organic silver salt-containing layer is usually a photosensitive layer (emulsion layer) containing a photosensitive silver halide which is a photosensitive silver salt. The weight ratio of silver is preferably 400-5, more preferably 200-10.
[0335]
The total binder amount of the image forming layer of the present invention is 0.2 to 30 g / m.², More preferably 1 to 15 g / m²The range of is preferable. The image forming layer of the present invention may contain a crosslinking agent for crosslinking, a surfactant for improving coating properties, and the like.
[0336]
In the present invention, the solvent of the organic silver salt-containing layer coating solution of the light-sensitive material (here, for simplicity, the solvent and the dispersion medium are collectively referred to as a solvent) is preferably an aqueous solvent containing 30% by mass or more of water. As a component other than water, any water-miscible organic solvent such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate may be used. The water content of the solvent is more preferably 50% by mass or more, and still more preferably 70% by mass or more.
Specific examples of the preferred solvent composition include water 100, water / methyl alcohol = 90/10, water / methyl alcohol = 70/30, water / methyl alcohol / dimethylformamide = 80/15/5, water / methyl. Alcohol / ethyl cellosolve = 85/10/5, water / methyl alcohol / isopropyl alcohol = 85/10/5, etc. (numerical values are mass%).
[0337]
(Anti-fogging agent)
The present invention contains a compound represented by the following general formula (H) as an antifoggant.
General formula (H)
Q- (Y) n-C (Z₁) (Z₂) X
[0338]
In the general formula (H), Q represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, Y represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, Z₁And Z₂Represents a halogen atom, and X represents a hydrogen atom or an electron withdrawing group.
Q preferably represents a phenyl group substituted with an electron-withdrawing group in which Hammett's substituent constant σp takes a positive value. Regarding the Hammett substituent constant, Journal of Medicinal Chemistry, 1973, Vol. 16, No. 11, 1207-1216, etc. can be referred to.
[0339]
Examples of such an electron withdrawing group include a halogen atom (fluorine atom (σp value: 0.06), chlorine atom (σp value: 0.23), bromine atom (σp value: 0.23), iodine atom. (Σp value: 0.18)), trihalomethyl group (tribromomethyl (σp value: 0.29), trichloromethyl (σp value: 0.33), trifluoromethyl (σp value: 0.54)), Cyano group (σp value: 0.66), nitro group (σp value: 0.78), aliphatic aryl, or heterocyclic sulfonyl group (for example, methanesulfonyl (σp value: 0.72)), aliphatic aryl Or a heterocyclic acyl group (for example, acetyl (σp value: 0.50), benzoyl (σp value: 0.43)), alkynyl group (for example, C≡CH (σp value: 0.23)), aliphatic Aryl or heterocyclic oxycarbo Group (for example, methoxycarbonyl (σp value: 0.45), phenoxycarbonyl (σp value: 0.44)), carbamoyl group (σp value: 0.36), sulfamoyl group (σp value: 0.57), Examples thereof include a sulfoxide group, a heterocyclic group, and a phosphoryl group.
The σp value is preferably in the range of 0.2 to 2.0, more preferably in the range of 0.4 to 1.0.
[0340]
Particularly preferred as the electron withdrawing group are carbamoyl group, alkoxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, alkylphosphoryl group, carboxyl group, alkyl or arylcarbonyl group, and arylsulfonyl group, preferably carbamoyl group, alkoxycarbonyl group. , An alkylsulfonyl group and an alkylphosphoryl group, and a carbamoyl group is most preferred.
X is preferably an electron-withdrawing group, more preferably a halogen atom, aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl group, aliphatic / aryl or heterocyclic acyl group, aliphatic / aryl or heterocyclic oxycarbonyl group, A carbamoyl group and a sulfamoyl group, particularly preferably a halogen atom.
Among the halogen atoms, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, a chlorine atom and a bromine atom are more preferable, and a bromine atom is particularly preferable.
Y is preferably -C (= O)-, -SO- or -SO.₂ -, More preferably -C (= O)-, -SO₂ -, Particularly preferably -SO₂ -. n represents 0 or 1, and is preferably 1.
[0341]
Although the specific example of the compound of general formula (H) of this invention is shown below, this invention is not limited to these.
[0342]
Embedded image

[0343]
Embedded image

[0344]
The compound represented by the general formula (H) of the present invention is 10 per mole of the non-photosensitive silver salt of the image forming layer.^-FiveIt is preferable to use in the range of ~ 0.5 mol, more preferably 10^-FourIn the range of ~ 0.3 mol, more preferably 1 × 10^-3It is preferable to use in the range of ˜0.1 mol.
In the present invention, examples of the method for incorporating the compound represented by the general formula (H) into the photosensitive material include the methods described in the method for containing a reducing agent.
[0345]
The melting point of the compound represented by the general formula (H) is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 170 ° C. or lower.
[0346]
Other organic polyhalides used in the present invention include those disclosed in the patents described in paragraph Nos. 0111 to 0112 of JP-A-11-65021. In particular, an organic halogen compound represented by the formula (P) in Japanese Patent Application No. 11-87297, an organic polyhalogen compound represented by the general formula (II) in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-339934, and Japanese Patent Application No. 11-205330 The organic polyhalogen compounds described are preferred.
[0347]
(Other antifoggants)
Examples of other antifoggants include mercury (II) salts of paragraph No. 0113 of JP-A-11-65021, benzoic acids of paragraph No. 0114 of the same, salicylic acid derivatives of JP-A-2000-206642, and formulas of JP-A-2000-221634 A formalin scavenger compound represented by (S), a triazine compound according to claim 9 of JP-A-11-352624, a compound represented by the general formula (III) of JP-A-6-111791, 4-hydroxy-6-6 And methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene and the like.
Antifoggant, stabilizer and stabilizer precursor that can be used in the present invention described in paragraph No. 0070 of JP-A-10-62899, page 20 line 57 to page 21 line 7 of European Patent 0803964A1 Patented compounds and compounds described in JP-A-9-281637 and 9-329864 can be mentioned.
[0348]
The photothermographic material in the invention may contain an azolium salt for the purpose of fog prevention. Examples of the azolium salt include compounds represented by general formula (XI) described in JP-A-59-193447, compounds described in JP-B-55-12581, and general formula (II) described in JP-A-60-153039. And the compounds represented. The azolium salt may be added to any part of the photosensitive material, but the addition layer is preferably added to the layer having the photosensitive layer, and more preferably to the organic silver salt-containing layer.
The azolium salt may be added at any step in the coating solution preparation. When added to the organic silver salt-containing layer, any step from the preparation of the organic silver salt to the preparation of the coating solution may be used. To immediately before coating. The azolium salt may be added by any method such as powder, solution, fine particle dispersion. Moreover, you may add as a solution mixed with other additives, such as a sensitizing dye, a reducing agent, and a color toning agent.
[0349]
In the present invention, any amount of the azolium salt may be added, but 1 × 10 10 per silver mole.^-6Preferred is 1 mol or more and 2 mol or less.^-3More preferably, it is more than mol and less than 0.5 mol.
[0350]
(Other additives)
1) Mercapto, disulfide, and thiones
In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, and a thione compound can be contained in order to suppress or promote development to control development, to improve spectral sensitization efficiency, and to improve storage stability before and after development. JP-A-10-62899, paragraphs 0067 to 0069, JP-A-10-186572, the compound represented by the general formula (I) and specific examples thereof, paragraphs 0033 to 0052, European Patent Publication No. 080364A1 20 pages, lines 36 to 56, and Japanese Patent Application No. 11-273670. Of these, mercapto-substituted heteroaromatic compounds are preferred.
[0351]
2) Color preparation
In the photothermographic material of the present invention, it is preferable to add a color toning agent. For the color toning agent, paragraph numbers 0054 to 0055 of JP-A No. 10-62899, p. Lines 21, 23 to 48, JP-A No. 2000-356317 and Japanese Patent Application No. 2000-187298, in particular, phthalazinones (phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazinones and phthalic acids (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid, A combination of diammonium phthalate, sodium phthalate, potassium phthalate and tetrachlorophthalic anhydride); phthalazines (phthalazine, phthalazine derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6-isopropylphthalazine, 6 -T-butylphthalazine, 6-chloro (Talazine, 5.7-dimethoxyphthalazine, and 2,3-dihydrophthalazine) are preferable. In particular, in the combination with silver halide having a high silver iodide content, the combination of phthalazine and phthalic acid is preferable.
[0352]
3) Plasticizer, lubricant
The plasticizer and lubricant that can be used in the photosensitive layer of the present invention are described in paragraph No. 0117 of JP-A No. 11-65021. The slip agents are described in JP-A No. 11-84573, paragraph numbers 0061 to 0064 and Japanese Patent Application No. 11-106881, paragraph numbers 0049 to 0062.
4) Dyes and pigments
The photosensitive layer of the present invention contains various dyes and pigments (for example, CIPigment Blue 60, CIPigment Blue 64, and CIPigment Blue 15: 6) from the viewpoints of improving color tone, preventing interference fringes during laser exposure, and preventing irradiation. Can be used. These are described in detail in WO98 / 36322, JP-A Nos. 10-268465, 11-338098, and the like.
[0353]
(Preparation and application of coating solution)
The preparation temperature of the image forming layer coating solution of the present invention is preferably 30 ° C. or more and 65 ° C. or less, more preferably 35 ° C. or more and less than 60 ° C., and more preferably 35 ° C. or more and 55 ° C. or less. Moreover, it is preferable that the temperature of the image forming layer coating liquid immediately after the addition of the polymer latex is maintained at 30 ° C. or higher and 65 ° C. or lower.
[0354]
(Layer structure)
The photothermographic material of the present invention can have a non-photosensitive layer in addition to the image forming layer. The non-photosensitive layer consists of (a) a surface protective layer provided on the image forming layer (on the side farther from the support), (b) between the plurality of image forming layers and between the image forming layer and the protective layer. An intermediate layer provided between them, (c) an undercoat layer provided between the image forming layer and the support, and (d) a back layer provided on the opposite side of the image forming layer.
In addition, although a layer acting as an optical filter can be provided, it is provided as the layer (a) or (b). The antihalation layer is provided on the photosensitive material as the layer (c) or (d).
[0355]
1) Surface protective layer
In the photothermographic material of the invention, a surface protective layer can be provided for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer. The surface protective layer may be a single layer or a plurality of layers. The surface protective layer is described in JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0119 to 0120 and Japanese Patent Application No. 2000-171936.
[0356]
As the binder for the surface protective layer of the present invention, gelatin is preferable, but it is also preferable to use polyvinyl alcohol (PVA) or a combination thereof. As gelatin, inert gelatin (for example, Nitta gelatin 750), phthalated gelatin (for example, Nitta gelatin 801), and the like can be used.
Examples of PVA include those described in JP-A No. 2000-171936, paragraphs 0009 to 0020, which are completely saponified PVA-105, partially saponified PVA-205, PVA-335, and modified polyvinyl alcohol MP-. Preferred is 203 (trade name, manufactured by Kuraray Co., Ltd.).
Polyvinyl alcohol coating amount of protective layer (per layer) (support 1m²Per unit) as 0.3 to 4.0 g / m²Is preferable, 0.3 to 2.0 g / m²Is more preferable.
[0357]
Further, as a binder for the surface protective layer, a combination of polymer latex described in Japanese Patent Application No. 11-6872 and the technique described in paragraph Nos. 0021 to 0025 of Japanese Patent Application No. 11-143058, The technique described in paragraph Nos. 0027 to 0028 of the 6872 specification and the technique described in paragraph Nos. 0023 to 0041 of the Japanese Patent Application No. 10-199626 may be applied. The ratio of the polymer latex in the surface protective layer is preferably 10% by mass or more and 90% by mass or less, and particularly preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less of the total binder.
[0358]
Total binder (including water-soluble polymer and latex polymer) coating amount of surface protective layer (per layer) (support 1m)²As per) 0.3 to 5.0 g / m²Is preferable, 0.3 to 2.0 g / m²Is more preferable.
[0359]
2) Antihalation layer
In the photothermographic material of the present invention, an antihalation layer can be provided. For the antihalation layer, paragraphs 0123 to 0124 of JP-A-11-65021, JP-A-11-223898, 9-230531, 10-36695, 10-104779, 11-231457, 11 -352625, 11-352626, etc.
The antihalation layer contains an antihalation dye having absorption at the exposure wavelength. When the exposure wavelength is in the infrared region, an infrared absorbing dye may be used, and in that case, a dye having no absorption in the visible region is preferable.
When antihalation is performed using a dye having absorption in the visible range, it is preferable that the dye color does not substantially remain after image formation, and a means for decoloring by the heat of heat development is used. In particular, it is preferable to add a thermally decolorable dye and a base precursor to the non-photosensitive layer to function as an antihalation layer. These techniques are described in JP-A-11-231457 and the like.
When exposure is performed with a light source having a peak intensity in the 350 nm to 450 nm region of the present invention, it is desirable to use a near ultraviolet to blue dye having a maximum absorption wavelength in this wavelength region.
[0360]
The amount of decoloring dye added is determined by the use of the dye. In general, the optical density (absorbance) measured at the target wavelength is used in an amount exceeding 0.1. The optical density is preferably 0.2-2. The amount of dye used to obtain such an optical density is generally 0.001 to 1 g / m.²Degree.
[0361]
When the dye is decolored in this way, the optical density after heat development can be reduced to 0.1 or less. Two or more kinds of decoloring dyes may be used in combination in a heat decoloring type recording material or a photothermographic material. Similarly, two or more kinds of base precursors may be used in combination.
In the thermal decoloration using such decoloring dye and base precursor, a substance (for example, diphenylsulfone, which lowers the melting point by 3 ° C. (deg) or more when mixed with a base precursor as described in JP-A-11-352626). 4-Chlorophenyl (phenyl) sulfone) is preferably used in view of thermal decoloring properties and the like.
[0362]
In the present invention, a colorant having an absorption maximum at 300 to 450 nm can be added for the purpose of improving the silver color tone and the temporal change of the image. Such colorants are disclosed in JP-A Nos. 62-210458, 63-104046, 63-103235, 63-208846, 63-306436, 63-314535, and JP-A-01-61745. And Japanese Patent Application No. 11-276751.
Such colorants are typically 0.1 mg / m²~ 1g / m²The back layer provided on the opposite side of the photosensitive layer is preferable as the layer to be added in the range of.
[0363]
3) Back layer
Back layers that can be applied to the present invention are described in paragraph Nos. 0128 to 0130 of JP-A No. 11-65021.
4) Matting agent
In the present invention, it is preferable to add a matting agent to the surface protective layer and the back layer in order to improve transportability. Matting agents are described in paragraph Nos. 0126 to 0127 of JP-A No. 11-65021.
Matting agent is photosensitive material 1m²When expressed in a coating amount per unit, preferably 1 to 400 mg / m², More preferably 5 to 300 mg / m²It is.
The emulsion surface may have any matte degree as long as no stardust failure occurs, but the Beck smoothness is preferably 30 seconds or more and 2000 seconds or less, and particularly preferably 40 seconds or more and 1500 seconds or less. The Beck smoothness can be easily obtained by Japanese Industrial Standard (JIS) P8119 “Smoothness test method using Beck tester for paper and paperboard” and TAPPI standard method T479.
[0364]
In the present invention, the matte degree of the back layer is preferably a Beck smoothness of 1200 seconds or less and 10 seconds or more, preferably 800 seconds or less and 20 seconds or more, and more preferably 500 seconds or less and 40 seconds or more.
[0365]
In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer of the photosensitive material, the layer functioning as the outermost surface layer, or a layer close to the outer surface, and is contained in a layer acting as a so-called protective layer. It is preferable.
[0366]
5) Polymer latex
A polymer latex can be added to the surface protective layer or the back layer of the present invention.
For such polymer latex, “Synthetic resin emulsion (Hiraku Okuda, Hiroshi Inagaki, published by Kobunshi Publishing (1978))”, “Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Ikuo Kataoka, Junichi Suzuki, Keiji Kasahara, Takashi "Molecular Publications (1993))" and "Synthetic Latex Chemistry (Muroichi Muroi, published by High Polymers Publication (1970))", specifically, methyl methacrylate (33.5% by mass) / Ethyl acrylate (50 wt%) / methacrylic acid (16.5 wt%) copolymer latex, methyl methacrylate (47.5 wt%) / butadiene (47.5 wt%) / itaconic acid (5 wt%) copolymer Latex, latex of ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate (58.9% by mass) / 2-ethyl A latex of xyl acrylate (25.4% by weight) / styrene (8.6% by weight) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.1% by weight) / acrylic acid (2.0% by weight) copolymer, methyl methacrylate (64. 0 mass%) / styrene (9.0 mass%) / butyl acrylate (20.0 mass%) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.0 mass%) / acrylic acid (2.0 mass%) copolymer latex, etc. Is mentioned.
[0367]
6) Membrane pH
The photothermographic material of the present invention preferably has a film surface pH of 7.0 or less, more preferably 6.6 or less before heat development. The lower limit is not particularly limited, but is about 3. The most preferred pH range is in the range of 4 to 6.2.
The film surface pH is preferably adjusted using an organic acid such as a phthalic acid derivative, a non-volatile acid such as sulfuric acid, or a volatile base such as ammonia from the viewpoint of reducing the film surface pH. In particular, ammonia is volatile and is preferable for achieving a low film surface pH because it can be removed before the coating process or heat development.
In addition, it is also preferable to use ammonia in combination with a nonvolatile base such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, or lithium hydroxide. The method for measuring the film surface pH is described in paragraph No. 0123 of Japanese Patent Application No. 11-87297.
[0368]
7) Hardener
A hardener may be used for each layer such as the photosensitive layer, protective layer, and back layer of the present invention.
Examples of hardeners are THJames's “THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION” (Macmillan Publishing Co., Inc., published in 1977), each of the methods described on pages 77 to 87. , 4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine sodium salt, N, N-ethylenebis (vinylsulfonacetamide), N, N-propylenebis (vinylsulfonacetamide) and polyvalent metals described on page 78 of the same book Ions, polyisocyanates such as US Pat. No. 4,281,060 and JP-A-6-208193, epoxy compounds such as US Pat. No. 4,791,042, and vinyl sulfone compounds such as JP-A 62-89048 are preferably used.
[0369]
The hardening agent is added as a solution, and the addition time of this solution into the protective layer coating solution is from 180 minutes before to immediately before application, preferably from 60 minutes to 10 seconds before application. As long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited, there is no particular limitation.
Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid delivered to the coater is the desired time, and by N. Harnby, MFEdwards, AWNienow, Takahashi There is a method of using a static mixer or the like described in Chapter 8 of “Liquid mixing technology” (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1989).
[0370]
8) Surfactant
Surfactants applicable to the present invention are described in paragraph No. 0132 of JP-A No. 11-65021.
In the present invention, it is preferable to use a fluorosurfactant. Specific examples of the fluorosurfactant include compounds described in JP-A-10-197985, JP-A-2000-19680, JP-A-2000-214554, and the like. In addition, polymeric fluorine-based surfactants described in JP-A-9-281636 are also preferably used. In the photothermographic material of the present invention, it is preferable to use the fluorosurfactants described in Japanese Patent Application Nos. 2000-206560, 2001-203462, 2001-242357 and 2001-264110. In particular, the fluorosurfactants described in Japanese Patent Application Nos. 2001-242357 and 2001-264110 are preferable in terms of charge adjustment ability, stability of the coated surface, and smoothness when coating and manufacturing with an aqueous coating solution. The fluorine-based surfactant described in Japanese Patent Application No. 2001-264110 is most preferable in that it has a high charge adjusting ability and requires a small amount of use.
[0371]
In the present invention, the fluorosurfactant can be used on either the emulsion surface or the back surface, and is preferably used on both surfaces. Further, it is particularly preferable to use in combination with a conductive layer containing the above-described metal oxide. In this case, sufficient performance can be obtained even if the amount of the fluorosurfactant used on the surface having the conductive layer is reduced or removed.
[0372]
The preferred amount of fluorosurfactant used is 0.1 mg / m for each of the emulsion surface and the back surface.²~ 100mg / m²In the range, more preferably 0.3 mg / m²~ 30mg / m²Range, more preferably 1 mg / m²~ 10mg / m²Range. In particular, the fluorosurfactant described in Japanese Patent Application No. 2001-264110 has a large effect and is 0.01 to 10 mg / m.²Is preferably in the range of 0.1 to 5 mg / m²The range of is more preferable.
[0373]
9) Support
The transparent support is a polyester, particularly polyethylene, which has been heat-treated in a temperature range of 130 to 185 ° C. in order to relieve internal strain remaining in the film during biaxial stretching and to eliminate thermal shrinkage strain generated during heat development. Terephthalate is preferably used.
In the case of a photothermographic material for medical use, the transparent support may be colored with a blue dye (for example, dye-1 described in Examples of JP-A-8-240877) or may be uncolored.
Specific examples of the support are described in paragraph No. 0134 of JP-A-11-65021.
[0374]
Examples of the support include water-soluble polyesters disclosed in JP-A-11-84574, styrene-butadiene copolymers described in JP-A-10-186565, and vinylidene chloride described in JP-A-2000-39684 and JP-A-11-106881, paragraphs 0063 to 0080. It is preferable to apply an undercoating technique such as a copolymer.
In the present invention, an antistatic layer containing various known metal oxides or conductive polymers may be provided. The antistatic layer may also serve as the above-described undercoat layer, back layer surface protective layer, or the like, or may be provided separately. For the antistatic layer, JP-A-11-65021, paragraph No. 0135, JP-A-56-143430, JP-A-56-143431, JP-A-58-62646, JP-A-56-120519, paragraphs of JP-A-11-84573 Techniques described in paragraph numbers 0078 to 0084 of US Pat. Nos. 0040 to 0051, US Pat. No. 5,575,957 and JP-A-11-223898 can be applied.
[0375]
10) Other additives
An antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, or a coating aid may be further added to the photothermographic material. A solvent described in paragraph No. 0133 of JP-A-11-65021 may be added. Various additives are added to either the photosensitive layer or the non-photosensitive layer. For these, reference can be made to WO98 / 36322, EP803764A1, JP-A-10-186567, 10-18568 and the like.
[0376]
11) Application method
The photothermographic material in the invention may be applied by any method. Specifically, various coating operations are used, including extrusion coating, slide coating, curtain coating, dip coating, knife coating, flow coating, or extrusion coating using a hopper of the type described in U.S. Pat. Stephen F. Kistler, Petert M. Schweizer “LIQUID FILM COATING” (CHAPMAN & HALL, 1997) pages 399 to 536, preferably used for extrusion coating or slide coating, particularly preferably used for slide coating It is done.
An example of the shape of the slide coater used for slide coating is shown in Figure 11b.1 on page 427 of the same book. If desired, two or more layers can be simultaneously coated by the method described in pages 399 to 536 of the same document, the method described in US Pat. No. 2,761,791 and British Patent 837,095.
[0377]
The organic silver salt-containing layer coating solution in the present invention is preferably a so-called thixotropic fluid. Regarding this technique, JP-A-11-52509 can be referred to.
In the present invention, the organic silver salt-containing layer coating solution has a shear rate of 0.1 S.^-1The viscosity is preferably 400 mPa · s or more and 100,000 mPa · s or less, and more preferably 500 mPa · s or more and 20,000 mPa · s or less.
Also, shear rate 1000S^-1Is preferably 1 mPa · s or more and 200 mPa · s or less, more preferably 5 mPa · s or more and 80 mPa · s or less.
[0378]
12) Other available technologies
Techniques that can be used for the photothermographic material of the present invention include EP803764A1, EP883022A1, WO98 / 36322, JP 56-62648, 58-62644, JP 9-43766, and 9- 281637, 9-297367, 9-304869, 9-311405, 9-329865, 10-10669, 10-62899, 10-69023, 10-186568, 10-90823, 10-171063, 10-186565, 10-186567, 10-186569 to 10-186572, 10-197974, 10-197982, 10 -197983, 10-197985 to 10-197987, 10-207001, 10-207004, 10-221807, 10-282601, 10-288823, 10-288823, 10-288824 10-307365, 10-312038, 10-339934, 11-7100, 11-15105, 11-24200, 11-24201, 11-30832, 11-84574, 11-65021, 11-109547, 11-125880, 11-129629, 11-133536 to 11-133539, 11-133542, 11 -133543, 11-223898, 11-352627, 11-305377, 11-305378, 11-305384, 11-305380, 11-316435, 11-327076, 11-338096, 11-338098, 11-338099, 11- No. 343420, No. 2000-187298, No. 2000-10229, No. 2000-47345, No. 2000-206642, No. 2000-98530, No. 2000-98531, No. 2000-112059, No. 2000-112060 No., 2000-112104, 2000-112064, 2000-171936.
[0379]
The construction of a multicolor photosensitive photothermographic material may include a combination of these two layers for each color and includes all components in a single layer as described in US Pat. No. 4,708,928. Also good.
In the case of a multi-dye multicolor photosensitive photothermographic material, each emulsion layer generally has a functional or non-functional barrier layer between each photosensitive layer as described in U.S. Pat.No. 4,460,681. By using, they are kept distinguished from each other.
[0380]
2. Image forming method
2-1. exposure
The light-sensitive material of the present invention may be exposed by any method, but laser light is preferred as the exposure light source. As the laser beam according to the present invention, a gas laser, a YAG laser, a dye laser, a semiconductor laser and the like are preferable. A semiconductor laser and a second harmonic generation element can also be used.
In particular, for exposure of the heat-developable image recording material of the present invention, it is preferable to use a laser output device in a short wavelength region using a blue semiconductor laser. As described above, the blue semiconductor laser has extremely excellent features such as high-definition image recording, increased recording density, and long life and stable output.
The exposure wavelength is preferably 350 nm to 450 nm, more preferably 370 nm to 430 nm, and particularly preferably 390 nm to 420 nm.
[0381]
2-2. Heat development
The photothermographic material of the present invention may be developed by any method, but is usually developed by raising the temperature of the photothermographic material exposed imagewise. The preferred development temperature is 80 to 250 ° C, more preferably 100 to 140 ° C.
The development time is preferably 1 to 60 seconds, more preferably 3 to 30 seconds, and particularly preferably 5 to 20 seconds. Most preferably, it is 10 to 15 seconds.
[0382]
A plate heater method is preferred as the heat development method. The heat development method using a plate heater method is preferably a method described in JP-A-11-133572, in which a heat-developable photosensitive material on which a latent image has been formed is brought into contact with a heating means in a heat-development section to obtain a visible image In the developing device, the heating unit includes a plate heater, and a plurality of press rollers are disposed to face each other along one surface of the plate heater, and the heat is interposed between the press roller and the plate heater. A thermal development apparatus that performs thermal development by passing a development photosensitive material. It is preferable to divide the plate heater into 2 to 6 stages and lower the temperature about 1 to 10 ° C. at the tip.
Such a method is also described in JP-A-54-30032, which can exclude moisture and organic solvents contained in the photothermographic material out of the system, and can be rapidly developed in the photothermographic material. It is also possible to suppress changes in the shape of the support of the photothermographic material due to heating of the photothermographic material.
[0383]
2-3. system
As a medical laser imager provided with an exposure part and a heat development part, Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL can be mentioned. FM-DPL is described in Fuji Medical Review No. 8, pages 39 to 55, and it goes without saying that these techniques are applied as a laser imager of the photothermographic material of the present invention. It can also be applied as a photothermographic material for laser imagers in the “AD network” proposed by Fuji Film Medical Co., Ltd. as a network system that conforms to the DICOM standard.
[0384]
3. Application of the present invention
The photothermographic material of the present invention forms a black and white image by a silver image, and is used as a photothermographic material for medical diagnosis, a photothermographic material for industrial photography, a photothermographic material for printing, and a photothermographic material for COM. It is preferably used. In particular, a photothermographic material for medical diagnosis is preferable.
[0385]
【Example】
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
Example 1
1. Preparation of PET support and undercoating
1) Film formation
Using terephthalic acid and ethylene glycol, PET having an intrinsic viscosity of IV = 0.66 (measured in phenol / tetrachloroethane = 6/4 (weight ratio) at 25 ° C.) was obtained according to a conventional method. This was pelletized, dried at 130 ° C. for 4 hours, melted at 300 ° C., then extruded from a T-die and quenched to create an unstretched film having a thickness of 175 μm after heat setting. .
[0386]
This was stretched 3.3 times longitudinally using rolls with different peripheral speeds, and then stretched 4.5 times with a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. Thereafter, after heat setting at 240 ° C. for 20 seconds, the film was relaxed by 4% in the lateral direction at the same temperature. After slitting the chuck part of the tenter, knurling is performed on both ends and 4 kg / cm.²And a roll having a thickness of 175 μm was obtained.
[0387]
2) Surface corona treatment
Using a solid state corona treatment machine 6KVA model manufactured by Pillar, both surfaces of the support were treated at room temperature at 20 m / min. From the current and voltage readings at this time, the support is 0.375 kV · A · min / m.²It was found that the process was done. The treatment frequency at this time was 9.6 kHz, and the gap clearance between the electrode and the dielectric roll was 1.6 mm.
[0388]
3) Undercoat
3-1) Preparation of undercoat layer coating solution
Formulation (1) (for the undercoat layer on the photosensitive layer side)
59g pesresin A-520 (30% by mass solution) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.
Polyethylene glycol monononyl phenyl ether
(Average number of ethylene oxide = 8.5) 10% by mass solution 5.4g
MP-1000 (polymer fine particles, average particle size 0.4μm) 0.91g by Soken Chemical Co., Ltd.
935ml distilled water
[0389]
Formulation (2) (for back layer 1st layer)
Styrene-butadiene copolymer latex 158g
(Solid content 40% by mass, styrene / butadiene weight ratio = 68/32)
2,4-dichloro-6-hydroxy-S-
Triazine sodium salt 8% by weight aqueous solution 20g
10% 1% by weight aqueous solution of sodium laurylbenzenesulfonate
Distilled water 854ml
[0390]
Formula (3) (Back side 2nd layer)
SnO₂/ SbO (9/1 mass ratio, average particle size 0.038μm, 17 mass% dispersion) 84g
Gelatin (10 mass% aqueous solution) 89.2g
Metrows TC-5 (2% by weight aqueous solution) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.8.6g
MP-1000 0.01g manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.
10% 1% by weight aqueous solution of sodium dodecylbenzenesulfonate
NaOH (1% by mass) 6ml
Proxel (made by ICI) 1ml
805ml of distilled water
[0390]
3-2) Undercoat
After both surfaces of the biaxially stretched polyethylene terephthalate support having a thickness of 175 μm are subjected to the corona discharge treatment, the undercoat coating solution formulation {circle around (1)} is applied to one surface (photosensitive layer surface) with a wire bar. .6ml / m²(Per side) and dried at 180 ° C. for 5 minutes, and then the undercoat coating liquid formulation (2) is applied to the back side (back side) with a wire bar at a wet coating amount of 5.7 ml / m.²And then dried at 180 ° C. for 5 minutes. Further, the undercoat coating liquid formulation (3) is applied to the back surface (back surface) with a wire bar so that the wet coating amount is 7.7 ml / m.²And then dried at 180 ° C. for 6 minutes to prepare an undercoat support.
[0392]
2. Back layer
2-1) Preparation of back layer coating solution
(Preparation of antihalation layer coating solution)
Gelatin 60 g, polyacrylamide 24.5 g, 1 mol / l sodium hydroxide 2.2 g, monodisperse polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 8 μm, particle size standard deviation 0.4) 2.4 g, benzoisothiazolinone 0.08 g, polystyrene sulfonate sodium 0.3 g, 0.21 g of blue dye compound-1, 0.15 g of yellow dye compound-1 and 8.3 g of acrylic acid / ethyl acrylate copolymer latex (copolymerization ratio 5/95) were mixed, and the whole was made up to 818 ml with water. An antihalation layer coating solution was prepared.
[0393]
(Preparation of back surface protective layer coating solution)
Keep container at 40 ° C, gelatin 40g, liquid paraffin emulsion as liquid paraffin 1.5g, benzoisothiazolinone 35mg, 1mol / l caustic 6.8g, t-octylphenoxyethoxyethane sulfonate 0.5g, polystyrene sulfone Sodium sulfate 0.27g, fluorine surfactant (F-1) 2% aqueous solution 5.4m, acrylic acid / ethyl acrylate copolymer (copolymerization weight ratio 5/95) 6.0g, N, N-ethylenebis (vinyl) 2.0 g of sulfoneacetamide) was mixed and made up to 1000 ml with water to obtain a back surface protective layer coating solution.
[0394]
2-2) Application of back layer
The coating amount of the antihalation layer coating solution on the back surface side of the undercoat support is 0.88 g / m.²In addition, the coating amount of the back surface protective layer was 1.2 g / m for the gelatin coating amount.²A multi-layer coating was applied and dried to form a back layer.
[0395]
3. Image forming layer, intermediate layer, and surface protective layer
3-1. Preparation of coating materials
1) Preparation of silver halide emulsion
(Preparation of silver halide emulsion 1)
To a solution of 1420 ml of distilled water, 4.3 ml of a 1% by weight potassium iodide solution, 3.5 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid and 36.7 g of phthalated gelatin were added and stirred in a stainless steel reaction vessel. While maintaining the liquid temperature at 42 ° C., a solution A in which distilled water was diluted to 22.56 g of silver nitrate and diluted to 195.6 ml and solution B in which 21.8 g of potassium iodide was diluted with distilled water to a volume of 218 ml were added at a constant flow rate. The whole amount was added over 9 minutes. Thereafter, 10 ml of a 3.5% by mass aqueous hydrogen peroxide solution was added, and 10.8 ml of a 10% by mass aqueous solution of benzimidazole was further added.
[0396]
Further, Solution C obtained by adding distilled water to 51.86 g of silver nitrate and diluting to 317.5 ml and Solution D obtained by diluting 60 g of potassium iodide to a volume of 600 ml with distilled water were added to Solution C over 120 minutes at a constant flow rate. Solution D was added by the controlled double jet method while maintaining pAg at 8.1. The total amount of potassium hexachloroiridium (III) was added 10 minutes after the start of the addition of Solution C and Solution D so as to be 1 × 10 −4 mol per mol of silver. Further, 5 seconds after the completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium iron (II) hexacyanide was added at 3 × 10 5^-FourThe whole molar amount was added. The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 8.0.
[0397]
The silver halide dispersion was maintained at 38 ° C. with stirring, 5 ml of a 0.34 mass% 1,2-benzisothiazolin-3-one methanol solution was added, and the temperature was raised to 47 ° C. After 20 minutes of temperature increase, sodium benzenethiosulfonate was 7.6 × 10 6 in 1 mol of silver with a methanol solution.^-Five5 minutes later, tellurium sensitizer B was added in methanol solution to give 2.9 × 10 6 per mole of silver.^-FourMole was added and aged for 91 minutes.
1.3 ml of a 0.8 mass% methanol solution of N, N′-dihydroxy-N ″ -diethylmelamine was added, and after 4 minutes, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added in methanol solution at a rate of 4. 8 × 10^-3Mole and 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole in methanol solution at 5.4 × 10 5 per mole of silver^-3A silver halide emulsion 1 was prepared by adding a molar amount.
[0398]
The grains in the silver halide emulsion thus prepared were pure silver iodide grains having an average sphere equivalent diameter of 0.040 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 18%. The particle size and the like were determined from an average of 1000 particles using an electron microscope.
[0399]
(Preparation of silver halide emulsion 2)
Except that the temperature of the reaction solution was changed to 65 ° C. and 5 ml of a 5% methanol solution of 2,2 ′-(ethylenedithio) diethanol was added after the addition of solutions A and B, exactly the same as silver halide emulsion 1. Silver halide emulsion 2 was prepared.
The grains in the prepared silver halide emulsion were pure silver iodide grains having an average sphere equivalent diameter of 0.075 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 23%. The particle size and the like were determined from an average of 1000 particles using an electron microscope.
[0400]
(Preparation of silver halide emulsion 3)
A silver halide emulsion 3 was prepared in exactly the same manner as the silver halide emulsion 1 except that the temperature of the reaction solution was changed to 27 ° C.
The grains in the prepared silver halide emulsion were pure silver iodide grains having an average sphere equivalent diameter of 0.022 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 17%. The particle size and the like were determined from an average of 1000 particles using an electron microscope.
[0401]
(Preparation of mixed emulsion A for coating solution)
Silver halide emulsion 1, silver halide emulsion 2 and silver halide emulsion 3 are dissolved in a molar ratio of 5: 2: 3, and 1 mol of benzothiazolium iodide is added in a 1% by mass aqueous solution. 7 × 10 per^-3Mole was added. Further, water is added so that the content of silver halide per 1 kg of the mixed emulsion for coating solution is 38.2 g as silver, and 1- (3-methylureido) -5 is added so that the content becomes 0.34 g per 1 kg of the mixed emulsion for coating solution. -Mercaptotetrazole sodium salt was added.
[0402]
Further, as “a compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can emit one electron or more”, compounds 2 and 20 and 26 are each 2 × 10 2 per mole of silver halide silver.^-3Molar amounts were added.
[0403]
2) Preparation of fatty acid silver dispersion
<Preparation of recrystallized behenic acid>
100 kg of behenic acid (product name Edenor C22-85R) manufactured by Henkel was mixed in 1200 kg of isopropyl alcohol, dissolved at 50 ° C., filtered through a 10 μm filter, cooled to 30 ° C., and recrystallized. The cooling speed during recrystallization was controlled at 3 ° C / hour. The obtained crystals were centrifugally filtered, washed with 100 kg of isopropyl alcohol, and then dried. When the obtained crystals were esterified and subjected to GC-FID measurement, the behenic acid content was 96 mol%, in addition, 2 mol% lignoceric acid, 2 mol% arachidic acid, and 0.001 mol% erucic acid. It was.
[0404]
<Preparation of fatty acid silver dispersion>
Recrystallized behenic acid 88 kg, distilled water 422 L, 5 mol / L NaOH aqueous solution 49.2 L and t-butyl alcohol 120 L were mixed and stirred at 75 ° C. for 1 hour to react to obtain sodium behenate solution B. Separately, 206.2 L (pH 4.0) of an aqueous solution of 40.4 kg of silver nitrate was prepared and kept warm at 10 ° C. Keep the reaction vessel containing 635L distilled water and 30L t-butyl alcohol at 30 ° C, and with sufficient agitation, the total amount of sodium behenate solution and the total amount of silver nitrate aqueous solution are 93 minutes and 15 seconds, respectively. And added over 90 minutes. At this time, only the silver nitrate aqueous solution is added for 11 minutes after the start of the addition of the aqueous silver nitrate solution, and then the addition of the sodium behenate solution is started. After the addition of the aqueous silver nitrate solution, only the sodium behenate solution is added for 14 minutes and 15 seconds. It was made to be. At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C., and the external temperature was controlled so that the liquid temperature was constant. The pipe of the addition system of the sodium behenate solution was kept warm by circulating hot water outside the double pipe so that the liquid temperature at the outlet at the tip of the addition nozzle was 75 ° C. Moreover, the piping of the addition system of the silver nitrate aqueous solution was kept warm by circulating cold water outside the double pipe. The addition position of the sodium behenate solution and the addition position of the aqueous silver nitrate solution were arranged symmetrically around the stirring axis, and were adjusted so as not to contact the reaction solution.
[0405]
After completion of the addition of the sodium behenate solution, the mixture was left stirring for 20 minutes at the same temperature, heated to 35 ° C. over 30 minutes, and then aged for 210 minutes. Immediately after completion of aging, the solid content was separated by centrifugal filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of filtered water reached 30 μS / cm. Thus, a fatty acid silver salt was obtained. The obtained solid content was stored as a wet cake without drying.
[0406]
When the morphology of the obtained silver behenate particles was evaluated by electron microscope photography, the average value was a = 0.21 μm, b = 0.4 μm, c = 0.4 μm, the average aspect ratio 2.1, and the coefficient of variation of the equivalent sphere diameter was 11%. It was a crystal. (A, b, and c are the provisions of the text)
[0407]
Add 19.3 kg of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and water to a wet cake equivalent to a dry solid content of 260 kg, make the total amount 1000 kg, and then slurry with a dissolver blade. Pipeline mixer (manufactured by Mizuho Kogyo Co., Ltd .: PM-10 type).
[0408]
Next, the pre-dispersed stock solution is subjected to a disperser (trade name: Microfluidizer M-610, manufactured by Microfluidics International Corporation, using a Z-type interaction chamber) at a pressure of 1150 kg / cm²And was treated three times to obtain a silver behenate dispersion. The cooling operation was set to a dispersion temperature of 18 ° C. by installing a serpentine heat exchanger before and after the interaction chamber and adjusting the temperature of the refrigerant.
[0409]
3) Preparation of reducing agent dispersion
10 kg of water was added to 16 kg of a 10% by weight aqueous solution of a reducing agent (type is listed in Table 1) and a modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203), and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm for 3 hours, and then 0.2 g of benzoisothiazolinone sodium salt Water was added to prepare a reducing agent concentration of 25% by mass. This dispersion was heat-treated at 80 ° C. for 5 hours as a standard time to obtain a reducing agent dispersion. The heating time was adjusted so that the median diameter of the reducing agent particles was 0.40 μm. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
The median diameter and the maximum particle diameter of the reducing agent particles were measured using LA-920 manufactured by Horiba. The median diameter and maximum particle diameter of the following other dispersions were also measured in the same manner.
[0410]
4) Preparation of hydrogen bonding compound dispersion
Add 10 kg of water to 10 kg of 10% aqueous solution of hydrogen bonding compound-1 (tri (4-t-butylphenyl) phosphine oxide) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203). Mix to make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm for 4 hours, and then 0.2 g of benzoisothiazolinone sodium salt Water was added to prepare a hydrogen bonding compound concentration of 25% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 1 hour and then further heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a hydrogen bonding compound-1 dispersion. The hydrogen bonding compound particles contained in the hydrogen bonding compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.45 μm and a maximum particle diameter of 1.3 μm or less. The obtained hydrogen bonding compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0411]
5) Preparation of development accelerator dispersion and color tone modifier dispersion
(Preparation of Development Accelerator-1 Dispersion)
10 kg of water was added to 10 kg of a development accelerator 1 and 20 kg of a 10% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 3 hours 30 minutes in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added so that the concentration of the development accelerator was 20% by mass to obtain a development accelerator-1 dispersion. The development accelerator particles contained in the development accelerator dispersion thus obtained had a median diameter of 0.48 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained development accelerator dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0412]
(Preparation of solid dispersion of development accelerator-2 and color tone modifier-1)
The solid dispersions of the development accelerator-2 and the color tone modifier-1 were also dispersed by the same method as the development accelerator-1, and 20% by mass and 15% by mass of dispersions were obtained, respectively.
[0413]
6) Preparation of polyhalogen compound dispersion
(Preparation of organic polyhalogen compound-1 dispersion)
10 kg of organic polyhalogen compound-1 (tribromomethanesulfonylbenzene), 10 kg of 20% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Poval MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 0.4 kg of 20% by weight aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate, 14 kg of water was added and mixed well to make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. Then, 0.2 g of benzoisothiazolinone sodium salt Water was added to prepare an organic polyhalogen compound concentration of 30% by mass to obtain an organic polyhalogen compound-1 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.41 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0414]
(Preparation of organic polyhalogen compound-2 dispersion)
10 kg of organic polyhalogen compound-2 (N-butyl-3-tribromomethanesulfonylbenzoamide), 20 kg of 10% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Poval MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.), and 20 of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate 0.4 kg of a mass% aqueous solution was added and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. Then, 0.2 g of benzoisothiazolinone sodium salt Water was added to adjust the concentration of the organic polyhalogen compound to 30% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 5 hours to obtain an organic polyhalogen compound-2 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.3 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0415]
7) Preparation of phthalazine compound solution
8 kg of Kuraray Co., Ltd. modified polyvinyl alcohol MP203 is dissolved in 174.57 kg of water, then 3.15 kg of a 20% by weight aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate and a 70% by weight aqueous solution of phthalazine compound-1 (6-isopropylphthalazine) 14.28 kg was added to prepare a 5 mass% solution of phthalazine compound-1.
[0416]
8) Preparation of mercapto compound-1
20 g of mercapto compound-1 (1- (3-methylureido) -5-mercaptotetrazole sodium salt) was dissolved in 980 g of water to obtain a 2.0 mass% aqueous solution.
[0417]
9) Preparation of pigment-1 dispersion
C.I. Pigment Blue 60 (64 g) and Kao Co., Ltd. (Demol N) 6.4 g were mixed with 250 g of water and mixed well to form a slurry. Prepare 800 g of zirconia beads with an average diameter of 0.5 mm, put them in a vessel together with the slurry, disperse with a disperser (1 / 4G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) for 25 hours, add water to add pigment concentration Was prepared so as to be 5% by mass to obtain a pigment-1 dispersion. The pigment particles contained in the pigment dispersion thus obtained had an average particle size of 0.21 μm.
[0418]
10) Preparation of SBR latex solution
The SBR latex was prepared as follows.
In a polymerization kettle of a gas monomer reactor (TAS-2J type manufactured by Pressure Glass Industrial Co., Ltd.), 287 g of distilled water and a surfactant (Pionin A-43-S (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.)): solid content 48.5 %) 7.73 g, 14.06 ml of 1 mol / liter NaOH, 0.15 g of ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt, 255 g of styrene, 11.25 g of acrylic acid, 3.0 g of tert-dodecyl mercaptan, and the reaction vessel was sealed and stirred. Stir at a speed of 200 rpm. After degassing with a vacuum pump and repeating nitrogen gas replacement several times, 108.75 g of 1,3-butadiene was injected to raise the internal temperature to 60 ° C. A solution obtained by dissolving 1.875 g of ammonium persulfate in 50 ml of water was added thereto, and the mixture was stirred as it was for 5 hours.
The mixture was further heated to 90 ° C. and stirred for 3 hours. After the reaction was completed, the internal temperature was lowered to room temperature, and then 1 mol / liter NaOH and NH._FourNa with OH⁺Ion: NH4⁺The addition treatment was performed so that the ion was 1: 5.3 (molar ratio), and the pH was adjusted to 8.4. Thereafter, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored to obtain 774.7 g of SBR latex. When the halogen ions were measured by ion chromatography, the chloride ion concentration was 3 ppm. As a result of measuring the concentration of the chelating agent by high performance liquid chromatography, it was 145 ppm.
[0419]
The latex has an average particle size of 90 nm, Tg = 17 ° C., solid content concentration of 44% by mass, equilibrium water content of 0.6% by mass at 25 ° C. and 60% RH, ionic conductivity of 4.80 mS / cm. Using a conductivity meter CM-30S manufactured by Kogyo Co., Ltd., measuring latex stock solution (44% by mass) at 25 ° C.), pH 8.4
[0420]
3-2. Adjustment of coating solution
1) Preparation of image forming layer coating solution
1000 g of the fatty acid silver dispersion obtained above, 276 ml of water, pigment-1 dispersion, organic polyhalogen compound-1 dispersion (amount described in Table 1), organic polyhalogen compound-2 dispersion (amount described in Table 1) , Phthalazine compound-1 solution, SBR latex (Tg: 17 ° C) liquid, reducing agent dispersion (quantity and type are listed in Table 1), hydrogen bonding compound-1 dispersion, development accelerator-1 dispersion, development acceleration Agent-2 dispersion, color tone modifier-1 dispersion, and mercapto compound-1 aqueous solution were added sequentially, and the silver halide mixed emulsion A was added immediately before coating, and the well-mixed image forming layer coating solution was directly applied to the coating die. The solution was fed and applied.
[0421]
The viscosity of the image-forming layer coating solution of the photosensitive material used in Experiment No. 1 in Table 1 is 28 [mPa · s] at 40 ° C (No. 1 rotor, 60 rpm) measured with a B-type viscometer of Tokyo Keiki. Met.
The viscosity of the coating solution at 25 ° C using a rheometrics far-east RFS fluid spectrometer is 242, 63, 48, 28 at shear rates of 0.1, 1, 10, 100, and 1000 [1 / second], respectively. 21 [mPa · s].
[0422]
The amount of zirconium in the coating solution was 0.38 mg per 1 g of silver.
[0423]
2) Preparation of intermediate layer coating solution
Polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 1000 g, pigment-1 dispersion 272 g, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization weight ratio 64/9/20/5 / 2) In 4200 ml of latex 19 wt% solution, add 27 ml of 5 wt% aqueous solution of Aerosol OT (American Cyanamid), 135 ml of 20 wt% aqueous solution of diammonium phthalate, so that the total amount is 10000 g. In addition, adjust to pH 7.5 with NaOH to make the intermediate layer coating solution, 9.1 ml / m²Then, the solution was fed to the coating die.
The viscosity of the photosensitive material coating solution used in Experiment No. 1 in Table 1 was 62 [mPa · s] at 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm) B-type viscometer.
[0424]
3) Preparation of surface protective layer first layer coating solution
Inert gelatin 64g dissolved in water, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization weight ratio 64/9/20/5/2) latex 19.0 mass% liquid 112g, phthalic acid 30 ml of 15 mass% methanol solution, 23 ml of 10 mass% aqueous solution of 4-methylphthalic acid, 28 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid, 5 ml of 5 mass% aqueous solution of Aerosol OT (American Cyanamid), phenoxyethanol Add 0.5g and 0.1g of benzoisothiazolinone, add water to a total amount of 750g to make a coating solution, and mix 12.6ml of 4% by weight chromium alum with a static mixer just before coating 18.6ml / m²Then, the solution was fed to the coating die.
The viscosity of the photosensitive material coating solution used in Experiment No. 1 in Table 1 was 22 [mPa · s] at 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm) B-type viscometer.
[0425]
4) Preparation of surface protective layer second layer coating solution
Inert gelatin 80g dissolved in water, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization weight ratio 64/9/20/5/2) latex 27.5 mass% liquid 102g, fluorine-based 5.4 ml of a 2% by weight solution of a surfactant (F-1), 5.4 ml of a 2% by weight aqueous solution of a fluorosurfactant (F-2), and 5% by weight of aerosol OT (manufactured by American Cyanamid) % Solution 23ml, polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 0.7μm) 4g, polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 4.5μm) 21g, 4-methylphthalic acid 1.6g, phthalic acid 4.8g, 0.5mol / L sulfuric acid 44ml of benzoisothiazolinone 10mg with water added to a total amount of 650g Protective layer 8.3ml / m as coating solution²Then, the solution was fed to the coating die.
The viscosity of the photosensitive material coating solution used in Experiment No. 1 in Table 1 was 20 [mPa · s] at 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm) B-type viscometer.
[0426]
3-3. Preparation of photothermographic material
A photothermographic material sample was applied simultaneously on the surface opposite to the back surface by the slide bead coating method in the order of the image forming layer, the intermediate layer, the first surface protective layer, and the second surface protective layer from the undercoat surface. It was created. At this time, the image forming layer and the intermediate layer were adjusted to 31 ° C., the first surface protective layer was adjusted to 36 ° C., and the second surface protective layer was adjusted to 37 ° C.
[0427]
Coating amount of each compound in the image forming layer (g / m²) Is as follows.
Silver behenate 5.27
Pigment (C.I.Pigment Blue 60) 0.036
The amount of polyhalogen compound-1 is listed in Table 1.
The amount of polyhalogen compound-2 is described in Table 1.
Phthalazine Compound-1 0.18
SBR latex 9.43
The amount and type of reducing agent are listed in Table 1.
Hydrogen bonding compound-1 0.28
Development accelerator-1 0.025
Development accelerator-2 0.020
Color tone adjusting agent-1 0.008
Mercapto Compound-1 0.006
Silver halide (as Ag) 0.046
[0428]
The coating and drying conditions are as follows.
The support was neutralized with ion wind before coating, and coating was performed at a speed of 160 m / min. The coating and drying conditions were adjusted within the following ranges for each sample, and were set to conditions that would provide the most stable surface shape.
The gap between the coating die tip and the support is 0.10 to 0.30 mm.
The pressure in the decompression chamber is set to 196 to 882 Pa lower than the atmospheric pressure.
In the subsequent chilling zone, the coating solution is cooled with wind at a dry bulb temperature of 10 to 20 ° C.
It is transported in a non-contact manner and dried with a dry air having a dry bulb temperature of 23 to 45 ° C. and a wet bulb temperature of 15 to 21 ° C. in a helical contactless dryer.
After drying, adjust the humidity at 25 ℃ and humidity 40-60% RH.
Subsequently, the film surface was heated to 70 to 90 ° C., and after the heating, the film surface was cooled to 25 ° C.
[0429]
The photothermographic material thus prepared had a Beck smoothness of 550 seconds on the image forming layer surface side and 130 seconds on the back surface. Further, the pH of the film surface on the image forming layer surface side was measured and found to be 6.0.
[0430]
The chemical structures of the compounds used in the examples of the present invention are shown below.
[0431]
Embedded image

[0432]
Embedded image

[0433]
Embedded image

[0434]
Embedded image

[0435]
4). Evaluation
(Evaluation of photographic performance)
The obtained sample was cut into half-cut sizes, packaged in the following packaging materials in an environment of 25 ° C. and 50% RH, stored at room temperature for 2 weeks, and then evaluated as follows.
(Packaging material)
PET 10μm / PE 12μm / aluminum foil 9μm / Ny 15μm / polyethylene 50μm containing 3% carbon.
Oxygen permeability: 0.02ml / atm · m²・ 25 ℃ ・ day, moisture permeability: 0.10g / atm ・ m²・ 25 ℃ ・ day.
[0436]
As a sample, an NLHV3000E semiconductor laser manufactured by Nichia Chemical Co., Ltd. was mounted as a semiconductor laser light source on the exposure part of Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL, and the beam diameter was reduced to 100 μm. The illuminance on the photosensitive material surface of the laser beam is 0 and 1 mW / mm²~ 1000mW / mm²Vary between 10^-6Exposure was performed in seconds. The oscillation wavelength of the laser beam was 405 nm. In the heat development, four panel heaters were set at 112 ° C.-118 ° C.-120 ° C.-120 ° C., and the development was carried out so that the conveyance speed was increased to a total of 14 seconds. The obtained image was evaluated with a densitometer.
[0437]
(Sensitivity, gradation)
The density of the obtained image was measured with a densitometer, and a density characteristic curve with respect to the logarithm of the exposure amount was prepared. The optical density of the unexposed part was covered, the reciprocal of the exposure amount at which an optical density of 3.0 was obtained was taken as sensitivity, and the sensitivity of the photosensitive material 1 was taken as 100, and expressed as a relative value.
The average contrast of optical density 2 and optical density 0.25 was calculated by the following gamma.
Gamma = (optical density 2.0−optical density 0.25) / (logarithmic (coverage density + exposure amount giving optical density 2.0) −logarithm (coverage density + exposure amount giving optical density 0.25))
[0438]
(Photothermal image storability test)
After heat development, the sample is exposed to 1000 lux light under a fluorescent lamp in an environment of 25 ° C. and 60% RH, and the Dmin change after standing for one week is measured. Excellent sample.
[0439]
(Fresh color tone)
The color tone of the sample immediately after heat development was evaluated. The silver image is preferably pure black, and a sensory evaluation is performed with a negative point when the yellowish color becomes slightly strong and a positive point when the blueness becomes strong. It is preferable that the distance from the 0 point is less preferable in terms of fresh color tone.
+2 points
+1 point Slight blueness is felt.
0 points The color tone is balanced and pure black.
-1 point A slight yellowish tinge is felt.
-2 points
[0440]
The results are shown in Table 1.
[0441]
[Table 1]

[0442]
The sample of the present invention has practically good color tone and excellent image storage stability.
Conventionally, when a high silver iodide emulsion is used as the photosensitive silver halide, it has been difficult to adjust the image color tone due to strong development suppression, but the neutral silver tone can be made preferable by using the reducing agent of the present invention. I was able to. Thus, it was an unexpected effect that the silver color tone in the silver iodide system can be adjusted by selecting the reducing agent. Furthermore, it has been found that even when the polyhalogen is reduced by using the selected reducing agent of the present invention in combination, a preferable silver tone can be obtained and high sensitivity can be achieved.
[0443]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is a photothermographic material suitable for medical image use, and an image having high sensitivity, excellent gradation, and color tone is obtained by heat development after exposure with a laser beam of 350 nm to 450 nm. The resulting photothermographic material is provided.

Claims (10)

In a photothermographic material containing a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent, and a binder on at least one surface of a support, the silver iodide content of the photosensitive silver halide is 40 mol. A photothermographic material comprising a compound represented by the following general formula (R-1) as the reducing agent:
Formula (R-1)

In General Formula (R-1), R ¹ and R ^{1 ′} each independently represent a C 3-20 carbon atom, and the carbon atom bonded to the benzene ring represents a secondary or tertiary alkyl group. R ² and R ^{2 ′} represent a methyl group. L represents an —S— group or a —CHR ³ — group. R ³ represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X ¹ and X ^{1 ′} each independently represent a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring. The photothermographic material according to claim 1, comprising a compound represented by the following general formula (H):
General formula (H)
Q- (Y) n-C (Z ₁ ) (Z ₂ ) X
In general formula (H), Q represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, Y represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, Z ₁ and Z ₂ represent a halogen atom, X represents a hydrogen atom or an electron-withdrawing group. 3. The photothermographic material according to claim 1, wherein a silver iodide content of the photosensitive silver halide is 90 to 100 mol%. 4. The photothermographic material according to claim 1, wherein an average grain size of the photosensitive silver halide is from 5 nm to 80 nm. 4. The photothermographic material according to claim 1, wherein an average grain size of the photosensitive silver halide is from 5 nm to 40 nm. The photothermographic material according to claim 1, further comprising a compound represented by the following general formula (R-2).
Formula (R-2)

In the general formula (R-2), R ¹¹ and R ¹¹ ′ each independently represent a alkyl group having 3 to 20 carbon atoms in which the carbon atom bonded to the benzene ring is secondary or tertiary. R ¹² and R ^{12 ′} each independently represents an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms. L represents an —S— group or a —CHR ¹³ — group. R ¹³ represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X ¹¹ and X ^{11 ′} each independently represent a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring. The photothermographic material according to claim 1, further comprising a compound represented by the following general formula (R-3).
General formula (R-3)

In the general formula (R-3), R ²¹ and R ^{21 ′} each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and having a primary carbon atom bonded to the benzene ring. R ²² and R ^{22 ′} each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. L represents a —S— group or a —CHR ²³ — group. R ²³ represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X ²¹ and X ^{21 ′} each independently represent a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring. The photothermographic material according to claim 1, wherein the photothermographic material is exposed to a laser beam. 9. The photothermographic material according to claim 8, wherein the laser beam has an emission peak intensity at 390 nm to 430 nm. 10. The photothermographic material according to claim 1, wherein the characteristic curve has a gamma of 2 to 5.