JP2004182589A - Paste and method for manufacturing member for display panel using it - Google Patents

Paste and method for manufacturing member for display panel using it Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a paste which can be homogeneously and rapidly applied to a base surface. <P>SOLUTION: The paste is composed of an inorganic powder and organic components. The paste has a yield value which is characteristically shown in the viscosity range of 200-20,000 [Pa×s]. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

本発明はペーストおよびそれを用いたプラズマディスプレイ、プラズマアドレス液晶ディスプレイなどのディスプレイパネル用部材の製造方法に関する。   The present invention relates to a paste and a method for manufacturing a display panel member such as a plasma display and a plasma addressed liquid crystal display using the paste.

プラズマディスプレイパネル(以下PDPと称する)は、液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、また大型化が容易であることからOA機器および広報表示装置などの分野に浸透している。さらに、高品位テレビジョンの分野などでの進展が非常に期待されている。このような用途拡大に伴って、微細で多数の表示セルを有するカラーPDPが注目されている。   2. Description of the Related Art Plasma display panels (hereinafter, referred to as PDPs) can permeate at higher speeds than liquid crystal panels, and are easy to increase in size, and thus have permeated OA equipment and public information display devices. Further, progress in the field of high-definition television is highly expected. With such expanded use, color PDPs having fine and large numbers of display cells are receiving attention.

PDPは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間に備えられた放電空間内で電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電空間内に封入されているガスから発生した紫外線を放電空間内の蛍光体に当てることにより表示を行うものである。この場合、放電の広がりを一定領域に抑え、表示を規定のセル内で行わせると同時に、均一な放電空間を確保するために、およそ幅20〜80μm、高さ20〜200μmの形状をもつ隔壁が設けられている。   The PDP generates plasma discharge between electrodes in a discharge space provided between a front glass substrate and a rear glass substrate, and emits ultraviolet light generated from a gas sealed in the discharge space to a fluorescent light in the discharge space. The display is performed by touching the body. In this case, a partition having a width of about 20 to 80 μm and a height of about 20 to 200 μm in order to suppress the spread of discharge to a certain area and to perform display in a specified cell and to secure a uniform discharge space. Is provided.

この隔壁の形成方法としては、ガラスペーストをスクリーン印刷で印刷・乾燥し、この工程を多数回繰り返し、所定の高さにした後、焼成する方法、感光性ガラスペーストを用いてフォトリソグラフィー技術により形成する方法、フォトリソ法で形成したサブトラティブマスク層を介してサンドブラストや液体ホーニングにより隔壁を形成する方法などが知られている。   As a method of forming the partition walls, a glass paste is printed and dried by screen printing, this process is repeated many times, after a predetermined height, a method of baking, and a photolithographic technique using a photosensitive glass paste There is known a method of forming a partition by sandblasting or liquid honing through a subtractive mask layer formed by a photolithography method.

従来、この隔壁形成に用いられるガラスペーストや感光性ガラスペーストを基板に塗布する方法としては、スクリーン印刷法が知られているが、この方法では1回の塗布厚みが数十μmであるため、高さ20〜200μmの隔壁層を形成するためには、印刷/乾燥を多数回、一般には10回以上も繰り返す必要があり、生産性は極めて悪い。1回で基板全面に塗布する方法として、ドクターブレード法あるいはスリットダイコーター法などにより塗布する方法が提案されている。しかし、この方法を用いても従来のガラスペーストでは、基板端部の塗布膜が盛り上がり、高品質のPDPが得られないという問題があった。この問題を解決する方法として、ペーストのチキソトロピー指数を制御する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。確かに、ペーストのチキソトロピー指数を制御することで基板全面に均一な塗布が可能ではあるが、このペーストでは高速で均一な塗布ができず、PDPの生産性が向上できないという問題があった。
特開2000−327371号公報(第3〜8頁)
Conventionally, a screen printing method is known as a method of applying a glass paste or a photosensitive glass paste used for forming the partition walls to a substrate. However, in this method, a single application thickness is several tens of μm. In order to form a partition layer having a height of 20 to 200 μm, it is necessary to repeat printing / drying many times, generally ten times or more, and the productivity is extremely poor. As a method of coating the entire surface of the substrate at one time, a method of applying by a doctor blade method, a slit die coater method, or the like has been proposed. However, even with this method, the conventional glass paste has a problem in that the coating film at the edge of the substrate rises, and a high-quality PDP cannot be obtained. As a method for solving this problem, a method of controlling the thixotropic index of the paste has been proposed (for example, see Patent Document 1). Certainly, by controlling the thixotropy index of the paste, it is possible to perform uniform application over the entire surface of the substrate, but with this paste, high-speed uniform application is not possible, and there has been a problem that PDP productivity cannot be improved.
JP-A-2000-327371 (pages 3 to 8)

そこで、本発明は、上記従来技術に鑑みて、基板面内に均一な高速塗布が可能となるペーストを提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a paste that enables uniform high-speed application within a substrate surface in view of the above-described conventional technology.

本発明の他の目的は、かかるペーストを用いた、低コストでプラズマディスプレイパネル用部材を製造する方法を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a member for a plasma display panel at low cost using such a paste.

すなわち本発明は無機粉末および有機成分からなるペーストであって、ペーストが降伏値を持ち、降伏値を示す粘度が200〜20,000[Pa・s]の範囲であることを特徴とするペーストである。   That is, the present invention relates to a paste comprising an inorganic powder and an organic component, wherein the paste has a yield value, and the viscosity showing the yield value is in the range of 200 to 20,000 [Pa · s]. is there.

また本発明はペーストを基板上に塗布して乾燥する工程を含むディスプレイパネル用部材の製造方法であって、上記ペーストを用いることを特徴とするディスプレイパネル用部材の製造方法である。   Further, the present invention is a method for manufacturing a display panel member including a step of applying a paste on a substrate and drying the paste, wherein the paste is used.

ペーストが降伏値を持ち、降伏値を示す粘度が200〜20,000[Pa・s]の範囲であることを特徴とするペーストを用いることにより、高速塗布が可能となり、低コストでプラズマディスプレイパネル用部材を提供できる。   By using a paste characterized in that the paste has a yield value and the viscosity indicating the yield value is in the range of 200 to 20,000 [Pa · s], high-speed coating is possible, and the plasma display panel can be manufactured at low cost. Member can be provided.

本発明におけるペーストは、無機粉末と有機成分から構成される。無機粉末の含有量は、35〜95重量%、さらには、40〜90重量%であることが焼成時の収縮率が小さく、焼成による形状変化が小さくなり好ましい。ペースト中の無機粉末としては、ガラス粉末、金属粉末、耐火物フィラーなどが挙げられる。   The paste in the present invention is composed of an inorganic powder and an organic component. The content of the inorganic powder is preferably from 35 to 95% by weight, and more preferably from 40 to 90% by weight, since the shrinkage during firing is small and the change in shape due to firing is small. Examples of the inorganic powder in the paste include glass powder, metal powder, and refractory filler.

ガラス粉末は、50〜400℃の熱膨張係数が50×10-7〜100×10-7であることが好ましい。また、ガラス中に酸化珪素を3〜60重量%、酸化硼素を5〜50重量%の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨張係数、絶縁層の緻密性などの隔壁として要求される電気、機械および熱的特性を向上することができる。本発明におけるガラス粉末としては、主として低融点ガラス粉末からなることが好ましい。低融点ガラス粉末のガラス転移温度は、430〜500℃、ガラス軟化点は、470〜620℃であることが好ましい。ガラス転移温度とガラス軟化点がこの範囲にあると、焼成時に基板の歪みが小さく、また、緻密な隔壁層が得られる。ガラス粉末の粒子径は、作製しようとする隔壁の線幅や高さを考慮して選ばれるが、体積基準分布の中心径が1〜6μm、最大粒子サイズが30μm以下、比表面積1.5〜4cm2/gであることが好ましい。 The glass powder preferably has a coefficient of thermal expansion at 50 to 400 ° C. of 50 × 10 −7 to 100 × 10 −7 . In addition, by mixing silicon oxide in the glass in the range of 3 to 60% by weight and boron oxide in the range of 5 to 50% by weight, it is required as a partition wall for electric insulation, strength, coefficient of thermal expansion, and denseness of the insulating layer. The improved electrical, mechanical and thermal properties can be improved. The glass powder in the present invention is preferably mainly composed of a low-melting glass powder. The glass transition temperature of the low melting glass powder is preferably 430 to 500 ° C, and the glass softening point is preferably 470 to 620 ° C. When the glass transition temperature and the glass softening point are in these ranges, the distortion of the substrate during firing is small, and a dense partition layer can be obtained. The particle size of the glass powder is selected in consideration of the line width and height of the partition wall to be produced, but the center diameter of the volume-based distribution is 1 to 6 μm, the maximum particle size is 30 μm or less, and the specific surface area is 1.5 to 1.5 μm. It is preferably 4 cm 2 / g.

金属粉末としては、Ag、Au、Pd、Ni、Cu、AlおよびPtの群から選ばれる少なくとも1種を含むものが使用できる。これらは、単独、合金、混合粉末のいずれの状態であっても用いることができる。金属粉末の粒子径としては、体積基準分布の中心径が0.7〜6μmが好ましい。より好ましくは1.3〜4μmである。粒子径がこの範囲にあることで、緻密な微細パターンの形成が可能となる。   As the metal powder, a powder containing at least one selected from the group consisting of Ag, Au, Pd, Ni, Cu, Al and Pt can be used. These can be used singly, in an alloy, or in a mixed powder state. As the particle diameter of the metal powder, the center diameter of the volume-based distribution is preferably 0.7 to 6 μm. More preferably, it is 1.3 to 4 μm. When the particle diameter is in this range, a fine and fine pattern can be formed.

耐火物フィラーは、焼成時の形状を安定させるために好ましく添加される。耐火物フィラーとしては、500〜650℃程度の焼成温度で軟化しないものが広く使用でき、高融点ガラスやアルミナ、マグネシア、カルシア、コーディエライト、シリカ、ムライト、ジルコン、ジルコニア等のセラミックス粉末が例示できる。PDPの外光反射を低減し、実用上のコントラストを上げるために隔壁を暗色にする場合には、耐火性の黒色顔料として、Co−Cr−Fe、Co−Mn−Fe、Co−Fe−Mn−Al、Co−Ni−Cr−Fe、Co−Ni−Mn−Cr−Fe、Co−Ni−Al−Cr−Fe、Co−Mn−AL−Cr−Fe−Si等の顔料を用いてもよい。一方、蛍光体の発光を有効にパネル前面に導く目的で隔壁を白くする場合には、耐火性の白色顔料としてチタニアなどを用いてもよい。   The refractory filler is preferably added to stabilize the shape during firing. As the refractory filler, those which do not soften at a firing temperature of about 500 to 650 ° C. can be widely used, and examples thereof include ceramic powders such as high melting point glass, alumina, magnesia, calcia, cordierite, silica, mullite, zircon, and zirconia. it can. When the partition walls are darkened in order to reduce the external light reflection of the PDP and increase the practical contrast, Co-Cr-Fe, Co-Mn-Fe, Co-Fe-Mn may be used as a fire-resistant black pigment. Pigments such as -Al, Co-Ni-Cr-Fe, Co-Ni-Mn-Cr-Fe, Co-Ni-Al-Cr-Fe, Co-Mn-AL-Cr-Fe-Si may be used. . On the other hand, when the partition walls are whitened for the purpose of effectively guiding the emission of the phosphor to the front surface of the panel, titania or the like may be used as a fire-resistant white pigment.

本発明における有機成分としては、バインダー樹脂、有機溶剤、可塑剤、酸化防止剤、消泡剤などを挙げることができる。また、特に本発明のペーストを感光性ペーストとして用いる場合には、感光性ポリマー、感光性オリゴマー、感光性モノマーといった感光性成分や光重合開始剤、増感剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤などの添加物成分を加えることができる。   Examples of the organic component in the present invention include a binder resin, an organic solvent, a plasticizer, an antioxidant, and an antifoaming agent. In particular, when the paste of the present invention is used as a photosensitive paste, photosensitive components such as a photosensitive polymer, a photosensitive oligomer, and a photosensitive monomer, a photopolymerization initiator, a sensitizer, an ultraviolet absorber, a polymerization inhibitor, and the like. Can be added.

本発明のペーストにおけるバインダー樹脂は、焼成時に酸化または/および分解または/および気化し、炭化物が無機物中に残存しないことが好ましく、エチルセルロース、メチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等のセルロース系樹脂、または、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ノルマルブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、2−エチルメチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシルエチル(メタ)アクリレート等の重合体もしくは共重合体からなるアクリル樹脂、ポリ−α−メチルスルホン、ポリビニルアルコール、ポリブテン等が好ましく用いられる。本発明のペーストにおけるバインダー樹脂の含有量は、5〜65重量%、さらには、10〜60重量%であることが好ましい。   The binder resin in the paste of the present invention is preferably oxidized or / and decomposed or / and vaporized at the time of firing, and no carbide is left in the inorganic substance. Ethyl cellulose, methyl cellulose, nitrocellulose, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate Or a cellulose resin such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, normal butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, 2-ethylmethyl (meth) acrylate, 2 Acrylic resins made of polymers or copolymers such as hydroxylethyl (meth) acrylate, poly-α-methylsulfone, polyvinyl alcohol, polybutene and the like are preferably used. The content of the binder resin in the paste of the present invention is preferably 5 to 65% by weight, more preferably 10 to 60% by weight.

ペーストを基板に塗布する時の粘度を塗布方法に応じて調整するために有機溶剤が使用される。このとき使用される有機溶剤としては、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジイソブチレート、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、テルピネオール、ベンジルアルコール、1−ブトキシ−2−プロパン、1,2−ジアセトキシプロパン、1−メトキシ−2−プロパノール、2−アセトキシ−1−エトキシプロパン、(1,2−メトキシプロポキシ)−2−プロパノール、(1,2−エトキシプロポキシ)−2−プロパノール、2−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、3−メトキシ−3−メチルブチルアセテート、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−(メトキシメトキシ)エタノール、2−イソプロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、2−(イソペンチルオキシ)エタノール、2−(ヘキシルオキシ)エタノール、2−フェノキシエタノール、2−(ベンジルオキシ)エタノール、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、テトラフルフリルアルコール、2,2’−ジヒドロキシジエチルエーテル、2−(2−メトキシエトキシ)エタノール、2−[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]エタノール、2−メチル−1−ブタンノル、3−メチル−2−ブタノール、2−メチル−1−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチル−1−ブタノール、2−メトキシエチルアセテート、2−エトキシエチルアセテート、2−ブトキシエチルアセテート、2−フェノキシエチルアセテート、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタン、1,2−ジブトキシエタン、シクロヘキサンノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、1−メチルペンチルアセテート、2−エチルブチルアセテート、2−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロヘキシル、酢酸ベンジル、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、ジイソブチルケトンなどが挙げられる。本発明では有機溶剤をペースト中に20〜70wt%の範囲で含まれるのが好ましく、より好ましくは30〜65wt%の範囲である。有機溶剤が20wt%未満ではペーストの粘度が高くなり、高速塗布が困難となる。また、有機溶剤が70wt%を越えると分散粒子の沈降が速くなり、ペーストの組成を安定化することが困難となったり、乾燥に多大なエネルギーと時間を要する等の問題を生じる傾向がある。   An organic solvent is used to adjust the viscosity when applying the paste to the substrate according to the application method. As the organic solvent used at this time, diethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, 2,2,4-trimethyl-1,3- Pentanediol monoisobutyrate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol diisobutyrate, 2-ethyl-1,3-hexanediol, terpineol, benzyl alcohol, 1-butoxy-2-propane, , 2-diacetoxypropane, 1-methoxy-2-propanol, 2-acetoxy-1-ethoxypropane, (1,2-methoxypropoxy) -2-propanol, (1,2-ethoxypropoxy) -2-propanol Nol, 2-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, 3-methoxy-3-methylbutyl acetate, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2- (methoxymethoxy) ethanol, 2-isopropoxyethanol, 2- Butoxyethanol, 2- (isopentyloxy) ethanol, 2- (hexyloxy) ethanol, 2-phenoxyethanol, 2- (benzyloxy) ethanol, benzyl alcohol, furfuryl alcohol, tetrafurfuryl alcohol, 2,2′-dihydroxy Diethyl ether, 2- (2-methoxyethoxy) ethanol, 2- [2- (2-methoxyethoxy) ethoxy] ethanol, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-2-butanol, 2-methyl-1- Pentanol, 4-methyl -2-pentanol, 2-ethyl-1-butanol, 2-methoxyethyl acetate, 2-ethoxyethyl acetate, 2-butoxyethyl acetate, 2-phenoxyethyl acetate, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-di Ethoxyethane, 1,2-dibutoxyethane, cyclohexanenone, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, 1-methylpentyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, 2-ethylhexyl acetate, cyclohexyl acetate, acetic acid Examples thereof include benzyl, hexane, cyclohexane, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, 3-pentanone, 2-hexanone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, 4-heptanone, and diisobutyl ketone. In the present invention, the paste preferably contains the organic solvent in the range of 20 to 70 wt%, more preferably 30 to 65 wt%. If the amount of the organic solvent is less than 20% by weight, the viscosity of the paste becomes high, and high-speed coating becomes difficult. On the other hand, if the amount of the organic solvent exceeds 70% by weight, sedimentation of the dispersed particles becomes faster, and it tends to cause problems such as difficulty in stabilizing the composition of the paste and requiring much energy and time for drying.

本発明のペーストを感光性ペーストとして用いる場合には、バインダー樹脂として感光性ポリマーまたは/および感光性オリゴマーを用いるのが好ましい。そのオリゴマーまたはポリマーは、炭素−炭素二重結合を有する化合物から選ばれた成分の重合または共重合により得られる。   When the paste of the present invention is used as a photosensitive paste, it is preferable to use a photosensitive polymer and / or a photosensitive oligomer as a binder resin. The oligomer or polymer is obtained by polymerization or copolymerization of a component selected from compounds having a carbon-carbon double bond.

不飽和カルボン酸などの不飽和酸を共重合することによって、感光後のアルカリ水溶液での現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸またはこれらの酸無水物などが挙げられる。   By copolymerizing an unsaturated acid such as an unsaturated carboxylic acid, the developability in an aqueous alkali solution after exposure can be improved. Specific examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, and acid anhydrides thereof.

こうして得られた側鎖にカルボキシル基などの酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価は50〜180、さらには70〜140の範囲が好ましい。   The acid value of the polymer or oligomer having an acidic group such as a carboxyl group in the side chain thus obtained is preferably 50 to 180, more preferably 70 to 140.

感光性モノマーとしては、活性な炭素−炭素不飽和二重結合を有する化合物が多く用いられている。官能基として、ビニル基、アリル基、アクリレート基、メタクリレート基、アクリルアミド基を有する単官能および多官能化合物が応用できる。具体的には、2−(2−エトキシエトキシ)エチルアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、ペンタエリストールトリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グリシジルメタクリレートなどが挙げられる。   As the photosensitive monomer, a compound having an active carbon-carbon unsaturated double bond is often used. As the functional group, monofunctional and polyfunctional compounds having a vinyl group, an allyl group, an acrylate group, a methacrylate group, and an acrylamide group can be applied. Specifically, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl acrylate, 1,3-butanediol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, cyclohexyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate And glycidyl methacrylate.

光重合開始剤は、感光性ペーストに対して0.005〜5重量%の範囲で添加するのが、感光特性上好ましい。   The photopolymerization initiator is preferably added in the range of 0.005 to 5% by weight based on the photosensitive paste in terms of photosensitive characteristics.

本発明のペーストは、ペーストが降伏値を持ち、降伏値を示す粘度が200〜20,000[Pa・s]の範囲であることが必要で、さらにペーストの降伏値が0〜2[Pa]の範囲であり、かつ、降伏値を越える粘度が5〜50[Pa・s]の範囲であることが好ましい。ここで、降伏値および粘度は、ジャスコインターナショナル株式会社製ビスコアナライザーVAR−50のレオメーターを用いて測定した値であり、測定温度は25℃である。降伏値は、縦軸に粘度、横軸に応力をプロットし、粘度が極大値を示す点で降伏値が求められる。   The paste of the present invention requires the paste to have a yield value, the viscosity indicating the yield value to be in the range of 200 to 20,000 [Pa · s], and the yield value of the paste to be 0 to 2 [Pa]. And the viscosity exceeding the yield value is preferably in the range of 5 to 50 [Pa · s]. Here, the yield value and the viscosity are values measured using a rheometer of Visco Analyzer VAR-50 manufactured by Jusco International Co., Ltd., and the measurement temperature is 25 ° C. As the yield value, the viscosity is plotted on the vertical axis and the stress is plotted on the horizontal axis, and the yield value is determined at the point where the viscosity shows the maximum value.

ペーストが降伏値を持ち、降伏値を示す粘度が200〜20,000[Pa・s]、好ましくは300〜10,000[Pa・s]の範囲であり、さらにペーストの降伏値が0〜2[Pa]、好ましくは0〜1.5[Pa]の範囲であり、かつ、降伏値を越える粘度が5〜50[Pa・s]、好ましくは10〜40[Pa・s]の範囲であることで、基板面内に均一な高速塗布が可能なペーストを得ることが出来る。   The paste has a yield value, and the viscosity indicating the yield value is in the range of 200 to 20,000 [Pa · s], preferably 300 to 10,000 [Pa · s], and the yield value of the paste is 0 to 2 [Pa · s]. [Pa], preferably in the range of 0 to 1.5 [Pa], and the viscosity exceeding the yield value is in the range of 5 to 50 [Pa · s], preferably 10 to 40 [Pa · s]. This makes it possible to obtain a paste that can be uniformly applied at high speed within the substrate surface.

一般にドクターブレード法あるいはスリットダイコーター法などでは、塗布するペーストの粘度を下げると基板上に高速で塗布することが可能となるが、ペーストの粘度を下げただけでは、塗布後にペーストが流動し、ペーストが塗布エリアからはみ出す問題、ペーストが塗布直後に流動し、封着孔に流れ出す問題、および塗布膜厚が面内で均一にならない等の問題を生じる。ペーストの流動特性としては、塗布時には流動性が高く、塗布直後に流動性がなくなることが好ましい。具体的には、ペーストの粘度を下げ、さらにペーストにある一定値以上の降伏応力を持たせることで、塗布時の圧力がペーストの降伏応力を越えると高速塗布が可能となり、塗布後にはペーストの流動性がなくなり、塗布形状を保持することが可能となる。この場合、塗布直後の流動性をなくすために、降伏応力を示す粘度が高いことが好ましい。   In general, in the doctor blade method or the slit die coater method, etc., it is possible to apply the paste onto the substrate at a high speed by reducing the viscosity of the paste to be applied.However, simply reducing the viscosity of the paste causes the paste to flow after the application, There are problems such as a problem that the paste runs out of the application area, a problem that the paste flows immediately after the application and flows into the sealing hole, and a problem that the applied film thickness is not uniform in the plane. Regarding the flow characteristics of the paste, it is preferable that the fluidity is high at the time of application and the fluidity disappears immediately after application. Specifically, by lowering the viscosity of the paste and giving the paste a yield stress of a certain value or more, high-speed application becomes possible when the pressure at the time of application exceeds the yield stress of the paste. The fluidity is lost, and the coated shape can be maintained. In this case, in order to eliminate the fluidity immediately after the application, it is preferable that the viscosity indicating the yield stress is high.

特開2000−327371号公報に記載されているようにペーストにチキソトロピー付与剤を添加するとペーストにチキソトロピーが付与され、ある程度の流動特性の制御が可能にはなるが、チキソトロピー付与剤は増粘効果があり、チキソトロピー付与剤を添加しただけでは高速塗布が困難となる。   As described in JP-A-2000-327371, when a thixotropy-imparting agent is added to a paste, thixotropy is imparted to the paste and a certain amount of flow characteristics can be controlled. However, the thixotropy-imparting agent has a thickening effect. In some cases, high-speed coating becomes difficult only by adding a thixotropic agent.

そこで、本発明では、ペーストにチキソトロピー付与剤(A)と界面活性剤(B)を含ませることで流動特性を制御することに成功し、高速塗布を実現した。一般にチキソトロピー付与剤と界面活性剤は、相反する特性を引き出す特性があるために混合して用いられることはないが、本発明においては有効に働く。   Therefore, in the present invention, the flow characteristics were successfully controlled by including the thixotropic agent (A) and the surfactant (B) in the paste, and high-speed coating was realized. In general, a thixotropic agent and a surfactant are not mixed and used because they have properties that bring out contradictory properties, but they work effectively in the present invention.

A/Bの好ましい範囲としては、0.04〜120、より好ましくは0.05〜100の範囲であり、最も好ましくは0.06〜80である。
る。A/Bが0.02未満では、十分な降伏値が得られず、A/Bが120を越えると、降伏値を越える粘度が高くなり、高速塗布が困難となる。
The preferred range of A / B is 0.04 to 120, more preferably 0.05 to 100, and most preferably 0.06 to 80.
You. If A / B is less than 0.02, a sufficient yield value cannot be obtained, and if A / B exceeds 120, the viscosity exceeding the yield value becomes high, and high-speed coating becomes difficult.

本発明で用いられるチキソトロピー付与剤の具体例としては、カゼイン、グルー、ゼラチン、グルテン、大豆蛋白、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸カリウム、アルギン酸ナトリウム、アラビアガム、トラガカントガム、カラヤガム、グアールガム、ロカストビーンガム、アイリッシュモス、大豆レシチン、ペクチン酸、でんぷん、寒天、ベントナイト・クレー、ポリアクリル酸アンモニウム、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリメタクリル酸アンモニウム、アクリル系ポリマー、アクリルエマルジョンコポリマー、架橋アクリルエマルジョンコポリマー、ポリビニルアルコール、ビニルポリマーのカリウム塩、変性ポリ(ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸)、ビニルピロリドンコポリマー、ポリアクリルアミド、脂肪酸アミドなどの脂肪族アミド化合物、ポリエチレンオキシド、カルボキシル化メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、キサントゲン酸セルロース、カルボキシル化でんぷん、オレイン酸、オレイン酸アンモニウム、けい酸ナトリウム、アルミニウムのステアレートおよびオクトエート、マグネシウムステアレート、カルシウムステアレートなどが挙げられる。   Specific examples of the thixotropic agent used in the present invention include casein, glue, gelatin, gluten, soy protein, ammonium alginate, potassium alginate, sodium alginate, gum arabic, tragacanth gum, karaya gum, guar gum, locust bean gum, and irish. Moss, soy lecithin, pectic acid, starch, agar, bentonite clay, ammonium polyacrylate, sodium polyacrylate, ammonium polymethacrylate, acrylic polymer, acrylic emulsion copolymer, crosslinked acrylic emulsion copolymer, polyvinyl alcohol, vinyl polymer Potassium salt, modified poly (vinyl methyl ether / maleic anhydride), vinyl pyrrolidone copolymer, polyacrylamide, fatty acid amide, etc. Aliphatic amide compounds, polyethylene oxide, carboxylated methyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, xanthate cellulose, carboxylated starch, oleic acid, ammonium oleate, sodium silicate, aluminum stearate and octoate, magnesium stearate, calcium stearate, etc. No.

さらに、チキソトロピー付与剤は、次のような条件で測定した500℃での重量保持率が1重量%以下であることが好ましい。チキソトロピー付与剤を、熱重量測定装置(“TGA−50”、島津製作所製)を用いて、空気雰囲気下(流量20ml/分)、10℃/分で30℃から500℃まで昇温したときの500℃での重量を測定し、室温での重量との比を求めることで500℃での重量保持率を算出する。500℃での重量保持率が1重量%以下であることで、ペースト焼成後の焼成残渣を低減し、異常放電や輝度低下といったディスプレイの信頼性を低下させる問題を抑制することができる。より好ましくは、0.5重量%以下、さらに好ましくは0.2重量%以下である。   Further, the thixotropic agent preferably has a weight retention at 500 ° C. of 1% by weight or less measured under the following conditions. When the thixotropic agent was heated from 30 ° C. to 500 ° C. at 10 ° C./min under an air atmosphere (flow rate: 20 ml / min) using a thermogravimeter (“TGA-50”, manufactured by Shimadzu Corporation). The weight at 500 ° C. is measured, and the weight retention at 500 ° C. is calculated by determining the ratio to the weight at room temperature. When the weight retention rate at 500 ° C. is 1% by weight or less, the firing residue after the firing of the paste is reduced, and problems such as abnormal discharge and reduction in luminance, which lower the reliability of the display, can be suppressed. More preferably, it is 0.5% by weight or less, further preferably 0.2% by weight or less.

上記チキソトロピー付与剤の中では、ペーストの降伏値の制御や500℃での重量保持率が1%以下になる点から脂肪族アミド化合物を用いるのが好ましい。   Among the above thixotropic agents, it is preferable to use an aliphatic amide compound from the viewpoint of controlling the yield value of the paste and reducing the weight retention at 500 ° C. to 1% or less.

更に、チキソトロピー性付与効果の点からヒドロキシステアリン酸とアルキレンアミンを反応して得られる脂肪酸アミド、ヒドロキシステアリン酸と直鎖脂肪酸の混合物とアルキレンアミンを反応させて得られる脂肪酸アミド、ウレタン化合物と脂肪族アミド化合物のイソシアネート残基とアミン残基を反応して得られた尿素化合物、脂肪酸とポリカルボン酸およびポリアミンからなるポリアミドと水素添加ヒマシ油とのブレンド物などが好ましい。具体的には、N,N’−12−ヒドロキシステアリン酸エチレンジアミド、N,N’−12−ヒドロキシステアリン酸ヘキサメチレンジアミド、N,N’−12−ヒドロキシステアリン酸キシリレンアミド、12−ヒドロキシステアリン酸とカプロン酸、カプチル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸などの混合物とエチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレンジアミン、ブチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ジエチレントリアミド、トリエチレンテトラミンなどを反応させて得られる脂肪酸アミドなどが挙げられる。   Furthermore, fatty acid amides obtained by reacting hydroxystearic acid and alkyleneamine from the viewpoint of the effect of imparting thixotropic properties, fatty acid amides obtained by reacting a mixture of hydroxystearic acid and linear fatty acids with alkyleneamine, urethane compounds and aliphatic compounds A urea compound obtained by reacting an isocyanate residue and an amine residue of an amide compound, a blend of a polyamide composed of a fatty acid, a polycarboxylic acid, and a polyamine, and a hydrogenated castor oil are preferable. Specifically, N, N'-12-hydroxystearic acid ethylenediamide, N, N'-12-hydroxystearic acid hexamethylenediamide, N, N'-12-hydroxystearic acid xylyleneamide, 12-hydroxystearin Mixture of acid and caproic acid, captylic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, behenic acid and ethylenediamine, hexamethylenediamine, propylenediamine, butylenediamine, octamethylenediamine, diethylenetriamide, triethylene Examples thereof include fatty acid amides obtained by reacting tetramine and the like.

これらチキソトロピー付与剤は、直接ガラスペースト中に添加すると分散性が不良になる場合があるため、有機溶剤中に分散させ、加温処理を行った後にガラスペースト中に添加することが好ましい。この場合、分散に用いる有機溶剤としては、メタノール、エタノール、ベンジルアルコールのようなアルコール系溶剤、シクロペンタン、シクロヘキサン、デカリンなどの飽和炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸アミル、アジピン酸メチルのようなエステルが好ましく用いることができるがこれらに限定されない。加温処理は、30〜100℃の範囲内で1〜72時間行うことが好ましい。   If these thixotropic agents are directly added to the glass paste, the dispersibility may be poor. Therefore, it is preferable that the thixotropic agents be dispersed in an organic solvent, heated, and then added to the glass paste. In this case, as the organic solvent used for dispersion, methanol, ethanol, alcoholic solvents such as benzyl alcohol, cyclopentane, cyclohexane, saturated hydrocarbons such as decalin, ethyl acetate, butyl acetate, amyl propionate, methyl adipate Such esters can be preferably used, but are not limited thereto. The heating treatment is preferably performed within a range of 30 to 100 ° C. for 1 to 72 hours.

本発明のガラスペーストでは、上記のチキソトロピー付与剤を1種または2種以上使用するのが好ましい。チキソトロピー付与剤はペーストに対し、0.01〜20wt%の範囲で含むまれることが好ましく、より好ましくは0.05〜10wt%の範囲である。   In the glass paste of the present invention, it is preferable to use one or more of the above thixotropic agents. The thixotropy-imparting agent is contained preferably in the range of 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.05 to 10% by weight, based on the paste.

本発明のペーストで用いられる界面活性剤の具体例としては、ラウリル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルスルホコハク酸2ナトリウム、ヤシ油脂肪酸サルコシンナトリウム、N−ヤシ油脂肪酸アシル−L−グルタミン酸ナトリウム、ラウリルリン酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロースアンモニウム、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ひまし油硫酸化油、ポリカルボン酸塩などのアニオン性界面活性剤、ラウリルジメチルアミンオキシド、モノステアリン酸グリセリン、モノステアリン酸エチレングリコール、ジステアリン酸ポリエチレングリコール、モノオレイン酸ソルビタン、モノオレイン酸ポリオキシエチレンソルビタン、ポリオキシエチレンジオレイン酸メチルグルオキシド、ポリオキシエチレン牛脂アルキルヒドロキシミリスチレンエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、モノステアリン酸プロピレングリコール、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンラノリン、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンドデシルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸アルキロールアミドなどの非イオン性界面活性剤、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化ベヘニルトリメチルアンモニウム、塩化ジステアリルジメチルアンモニウム、エチル硫酸ラノリン脂肪酸アミノプロピルエチルジメチルアンモニウム、塩化セチルピリジウム、ステアリン酸ジエチルアミノエチルアミドの乳酸塩、ステアリン酸ジメチルアミノプロピルアミドのクエン酸塩などのカチオン性界面活性剤、ヤシ油脂肪酸アミドプロピルジメチルアミノ酢酸ベタイン、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン、ラウリルヒドロキシスルホベタイン、ラウロイルアミドエチルヒドロキシエチルカルボキシメチルベタインヒドロキシプロピルリン酸ナトリウム、β−ラウリルアミノプロピオン酸ナトリウムなどの両性界面活性剤などが挙げられる。   Specific examples of the surfactant used in the paste of the present invention include sodium lauryl sulfate, sodium polyoxyethylene lauryl sulfate, triethanolamine polyoxyethylene lauryl sulfate, sodium polyoxyethylene lauryl ether acetate, and polyoxyethylene lauryl sulfosuccinic acid. Anionic surfactants such as disodium, coconut oil fatty acid sarcosine sodium, N-coconut fatty acid acyl-L-glutamate sodium, sodium lauryl phosphate, carboxymethylcellulose ammonium, carboxymethylcellulose sodium, castor oil sulfated oil, polycarboxylate and the like , Lauryl dimethylamine oxide, glyceryl monostearate, ethylene glycol monostearate, polyethylene glycol distearate, Sorbitan oleate, polyoxyethylene sorbitan monooleate, polyoxyethylene dioleate methyl gluoxide, polyoxyethylene tallow alkyl hydroxy myristyl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, propylene glycol monostearate , Polyoxyethylene sorbite tetraoleate, polyoxyethylene hydrogenated castor oil, polyoxyethylene lanolin, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene dodecyl phenyl ether, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene Nonionic surfactants such as sorbitan fatty acid esters and fatty acid alkylolamides, stearyl chloride Trimethylammonium, behenyltrimethylammonium chloride, distearyldimethylammonium chloride, lanolin fatty acid aminopropylethyldimethylammonium ethyl sulfate, cetylpyridium chloride, lactate of stearate diethylaminoethylamide, citrate of dimethylaminopropylamide stearate, etc. Cationic surfactants, coconut oil fatty acid amidopropyldimethylaminoacetic acid betaine, lauryldimethylaminoacetic acid betaine, laurylhydroxysulfobetaine, lauroylamidoethylhydroxyethylcarboxymethylbetaine sodium hydroxypropyl phosphate, sodium β-laurylaminopropionate, etc. Examples include an amphoteric surfactant.

さらに、界面活性剤は、次のような条件で測定した500℃での重量保持率が1重量%以下であることが好ましい。界面活性剤を、熱重量測定装置(“TGA−50”、島津製作所製)を用いて、空気雰囲気下(流量20ml/分)、10℃/分で30℃から500℃まで昇温したときの500℃での重量を測定し、室温での重量との比を求めることで500℃での重量保持率を算出する。500℃での重量保持率が1重量%以下であることで、ペースト焼成後の焼成残渣を低減し、異常放電や輝度低下といったディスプレイの信頼性を低下させる問題を抑制することができる。より好ましくは、0.5重量%以下、さらに好ましくは0.2重量%以下である。   Further, the surfactant preferably has a weight retention at 500 ° C. of 1% by weight or less measured under the following conditions. When the surfactant was heated from 30 ° C. to 500 ° C. at 10 ° C./min under an air atmosphere (flow rate: 20 ml / min) using a thermogravimeter (“TGA-50”, manufactured by Shimadzu Corporation) The weight at 500 ° C. is measured, and the weight retention at 500 ° C. is calculated by determining the ratio to the weight at room temperature. When the weight retention rate at 500 ° C. is 1% by weight or less, the firing residue after the firing of the paste is reduced, and problems such as abnormal discharge and reduction in luminance, which lower the reliability of the display, can be suppressed. More preferably, it is 0.5% by weight or less, further preferably 0.2% by weight or less.

上記界面活性剤の中では、ペーストの降伏値の制御や500℃での重量保持率が1%以下になる点から非イオン性界面活性剤を用いるのが好ましい。より好ましくは、モノステアリン酸エチレングリコール、ジステアリン酸ポリエチレングリコール、モノオレイン酸ソルビタン、モノオレイン酸ポリオキシエチレンソルビタン、ポリオキシエチレンジオレイン酸メチルグルオキシド、ポリオキシエチレンセチルエーテル、モノステアリン酸プロピレングリコール、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステルから選ばれる少なくとも1種である。   Among the above surfactants, it is preferable to use a nonionic surfactant because the yield value of the paste is controlled and the weight retention at 500 ° C. becomes 1% or less. More preferably, ethylene glycol monostearate, polyethylene glycol distearate, sorbitan monooleate, polyoxyethylene sorbitan monooleate, methyl gluoxide of polyoxyethylene dioleate, polyoxyethylene cetyl ether, propylene glycol monostearate, It is at least one selected from polyoxyethylene sorbite, polyoxyethylene alkyl ether, and polyoxyethylene fatty acid ester.

本発明のガラスペーストでは、上記の界面活性剤を1種または2種以上使用するのが好ましい。界面活性剤はペーストに対し、0.01〜10wt%の範囲で含むまれることが好ましく、より好ましくは0.05〜5wt%の範囲である。   In the glass paste of the present invention, it is preferable to use one or more of the above surfactants. The surfactant is preferably contained in the range of 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.05 to 5% by weight, based on the paste.

本発明のペーストは、各種成分を所定の組成となるように調合した後、プラネタリーミキサー等のミキサーによって予備分散した後、3本ローラーなどの分散機で分散・混練手段によって均質に作製する。   The paste of the present invention is prepared by mixing various components so as to have a predetermined composition, preliminarily dispersed by a mixer such as a planetary mixer, and then uniformly prepared by a dispersing and kneading means using a three-roller or the like.

このような無機粉末含有ペーストを基板上に全面塗布、もしくは部部的に塗布する。塗布方法としては、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーターなどの常法を用いることができる。塗布した後、通風オーブン、ホットプレート、IR乾燥炉など任意のものを用いて乾燥し、塗布膜を形成する。   Such an inorganic powder-containing paste is applied over the entire surface of the substrate or partially applied. As a coating method, a conventional method such as a bar coater, a roll coater, a die coater, and a blade coater can be used. After the application, the product is dried using an arbitrary device such as a ventilation oven, a hot plate, and an IR drying furnace to form a coating film.

次に、本発明のペーストの製造方法によって製造されたペーストをディスプレイパネル用部材への適用する例について説明する。   Next, an example in which the paste manufactured by the paste manufacturing method of the present invention is applied to a display panel member will be described.

基板上に、書き込み電極として、感光性銀ペーストを用いてフォトリソグラフィー法により、ストライプ状電極を形成し、この基板に誘電体ペーストを塗布した後、500〜600℃で焼成して、誘電体層を形成する。   A stripe electrode is formed on the substrate by a photolithography method using a photosensitive silver paste as a writing electrode, and a dielectric paste is applied to the substrate, and then baked at 500 to 600 ° C. to form a dielectric layer. To form

さらに、誘電体層上に感光性ガラスペーストを用いて、フォトリソ法でパターン形成後、500〜600℃で10〜60分間焼成し、ストライプ状の隔壁パターンを形成する。   Further, a pattern is formed on the dielectric layer by a photolithography method using a photosensitive glass paste, and then baked at 500 to 600 ° C. for 10 to 60 minutes to form a stripe-shaped partition pattern.

このようにして形成された隔壁に、上記蛍光体ペーストを形成する。蛍光体の形成方法は特に限定されないが、例えば、スクリーン印刷法、口金から蛍光体ペーストを吐出する方法、感光性ペースト法などが挙げられるが、この中でも口金から蛍光体ペーストを吐出する方法、スクリーン印刷法が簡便で、低コストのPDPを得ることができるため好ましい。蛍光体ペーストを塗布して乾燥させた後、例えば、500℃で30分焼成して隔壁の側面および底部に蛍光体層を形成する。   The phosphor paste is formed on the partition walls thus formed. The method for forming the phosphor is not particularly limited, but includes, for example, a screen printing method, a method of discharging a phosphor paste from a die, a photosensitive paste method, and the like. A printing method is preferable because a simple and low-cost PDP can be obtained. After the phosphor paste is applied and dried, the paste is baked at, for example, 500 ° C. for 30 minutes to form a phosphor layer on the side and bottom of the partition.

以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。実施例中の濃度(%)は重量%である。   Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples. However, the present invention is not limited to this. The concentration (%) in the examples is% by weight.

本発明の実施例および比較例に使用した材料を以下に示す。
ガラス粉末 :Bi23/SiO2/Al23/ZnO/B23=82/5/3/5/3/2からなるガラスを粉砕した平均粒径2μmのガラス粉末
フィラー :平均粒径0.5μmの酸化チタン
ポリマー(1):エチルセルロース(ハーキュリーズ社製N−50)
ポリマー(2):”サイクロマー”P(ACA250、ダイセル化学工業社製)
有機溶剤(1):ベンジルアルコール
有機溶剤(2):ブチルカルビトールアセテート
モノマー :ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
光重合開始剤 :ベンゾフェノン
酸化防止剤 :1,6−ヘキサンジオール−ビス[(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]
有機染料 :ベージックブルー26
可塑剤 :アジピン酸ビス(ブトキシエチル)。
Materials used in Examples and Comparative Examples of the present invention are shown below.
Glass powder: Bi 2 O 3 / SiO 2 / Al 2 O 3 / ZnO / B 2 O 3 = 82/5/3/5/3 / of average particle size 2μm glass was milled composed of two glass powder filler: Average Titanium oxide polymer having a particle size of 0.5 μm (1): ethyl cellulose (N-50 manufactured by Hercules)
Polymer (2): "Cyclomer" P (ACA250, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)
Organic solvent (1): benzyl alcohol Organic solvent (2): butyl carbitol acetate monomer: dipentaerythritol hexaacrylate Photopolymerization initiator: benzophenone antioxidant: 1,6-hexanediol-bis [(3,5-di -T-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate]
Organic dye: Basic Blue 26
Plasticizer: bis (butoxyethyl) adipate.

チキソトロピー付与剤(1):N,N’−12−ヒドロキシステアリン酸ブチレンジアミド
チキソトロピー付与剤(2):N,N’−12−ヒドロキシステアリン酸エチレンジアミド
チキソトロピー付与剤(3):N,N’−12−ヒドロキシステアリン酸ヘキサメチレンジアミド
チキソトロピー付与剤(4):N,N’−12−ヒドロキシステアリン酸キシリレンジアミド
チキソトロピー付与剤(5):12−ヒドロキシステアリン酸1.2モルおよびパルミチン酸0.8モルを四つ口フラスコに仕込み、100℃に加熱して均一溶解後ヘキサメチレンジアミン1モルを添加し、窒素ガス気流中で除々に昇温し、200℃にて7時間反応して得られた淡黄色の脂肪酸アミド20部をベンジルアルコール80部中で加熱溶解して、除々に冷却しながら撹拌して得られたもの。
チキソトロピー付与剤(6):A.反応容器中に1モルのトリレンジイソシアネートを仕込み、メタノール1モルを滴下し、40℃で4時間撹拌することにより得られたウレタン化合物。B.反応容器中にキシリレンジアミン1モルを仕込み、80℃で撹拌しながら酪酸1モルを滴下して得られたアミド化合物。C.Bで得られたアミド化合物と同量のキシロールを仕込み、100℃まで昇温溶解させた後、Aで得られたウレタン化合物を同量のキシロールで希釈したものを滴下し、100℃で5時間熟成することにより得られたもの。
Thixotropy-imparting agent (1): N, N'-12-hydroxystearic acid butyrene amide thixotropy-imparting agent (2): N, N'-12-hydroxystearic acid ethylenediamide thixotropy-imparting agent (3): N, N'- 12-Hydroxystearic acid hexamethylene diamide thixotropy-imparting agent (4): N, N'-12-Hydroxystearic acid xylylenediamide thixotropy-imparting agent (5): 1.2 mol of 12-hydroxystearic acid and 0.8 of palmitic acid The mol was charged into a four-necked flask, heated to 100 ° C., uniformly dissolved, and 1 mol of hexamethylenediamine was added. The temperature was gradually increased in a nitrogen gas stream, and the reaction was carried out at 200 ° C. for 7 hours. Heat and dissolve 20 parts of pale yellow fatty acid amide in 80 parts of benzyl alcohol and gradually cool. What was obtained by stirring.
Thixotropic agent (6): A. A urethane compound obtained by charging 1 mol of tolylene diisocyanate in a reaction vessel, adding dropwise 1 mol of methanol, and stirring at 40 ° C. for 4 hours. B. An amide compound obtained by charging 1 mol of xylylenediamine into a reaction vessel and dropping 1 mol of butyric acid with stirring at 80 ° C. C. After charging the same amount of xylol as the amide compound obtained in B and heating and dissolving to 100 ° C., the urethane compound obtained in A diluted with the same amount of xylol was added dropwise, and the mixture was added at 100 ° C. for 5 hours. What was obtained by aging.

界面活性剤(1):ポリオキシエチレンセチルエーテル
界面活性剤(2):ポリオキシエチレンジオレイン酸メチルグルオキシド
界面活性剤(3):ジステアリン酸ポリエチレングリコール
界面活性剤(4):ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸ナトリウム。
Surfactant (1): polyoxyethylene cetyl ether surfactant (2): polyoxyethylene methyl dioleate surfactant (3): polyethylene glycol distearate surfactant (4): polyoxyethylene lauryl Sodium ether acetate.

(実施例1〜14、比較例1〜3)
表1に示した組成、比率で各材料を計量後、混合し、3本ローラーで混練して14種類のペーストを得た(ペーストNo.1〜17)。
(Examples 1 to 14, Comparative Examples 1 to 3)
After weighing each material at the composition and ratio shown in Table 1, they were mixed and kneaded with three rollers to obtain 14 types of pastes (pastes Nos. 1 to 17).

Figure 2004182589
Figure 2004182589

得られたペーストの降伏値および粘度をジャスコインターナショナル株式会社製ビスコアナライザーVAR−50を用いて測定した(測定温度25℃、テストジオメトリー30φ/4°コーンを使用)。また、チキソトロピー付与剤および界面活性剤の500℃での加熱残分を熱重量測定装置(“TGA−50”、島津製作所製)を用いて、空気雰囲気下(流量20ml/分)、10℃/分で30℃から500℃まで昇温したときの500℃での重量を測定し、室温での重量との比を求めることで500℃での重量保持率を算出した。   The yield value and the viscosity of the obtained paste were measured using a Visco Analyzer VAR-50 manufactured by Jusco International Co., Ltd. (measuring temperature 25 ° C., test geometry 30φ / 4 ° cone was used). Further, the residue obtained by heating the thixotropic agent and the surfactant at 500 ° C. was measured using a thermogravimeter (“TGA-50”, manufactured by Shimadzu Corporation) in an air atmosphere (flow rate: 20 ml / min), 10 ° C. / The weight at 500 ° C. when the temperature was raised from 30 ° C. to 500 ° C. in minutes was measured, and the weight retention at 500 ° C. was calculated by determining the ratio to the weight at room temperature.

次に、ダイコーター(東レ(株)製)を用いてペーストを340×260×2.8mmサイズのガラス基板(PD−200;旭硝子(株)製)上に塗布速度を変えて塗布し、面内が均一に塗布できなくなるまでの塗布速度を調べた。   Next, using a die coater (manufactured by Toray Industries, Inc.), the paste was applied onto a glass substrate (PD-200; manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having a size of 340 × 260 × 2.8 mm while changing the application speed. The coating speed until the inside could not be uniformly coated was examined.

次に、340×260×2.8mmサイズのガラス基板(PD−200;旭硝子(株)製)を使用してAC(交流)型プラズマディスプレイパネルの背面板を形成した。   Next, the back plate of an AC (AC) type plasma display panel was formed using a glass substrate (PD-200; manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having a size of 340 × 260 × 2.8 mm.

基板上に、書き込み電極として、感光性銀ペーストを用いてフォトリソグラフィー法により、ピッチ140μm、線幅60μm、焼成後厚み4μmのストライプ状電極を形成した。この基板に誘電体ペースト塗布した後、550℃で焼成して、厚み10μmの誘電体層を形成した。   A stripe electrode having a pitch of 140 μm, a line width of 60 μm, and a thickness of 4 μm after firing was formed on the substrate by a photolithography method using a photosensitive silver paste as a writing electrode. After applying a dielectric paste to this substrate, it was baked at 550 ° C. to form a dielectric layer having a thickness of 10 μm.

さらに、誘電体層上に上記のペーストを用いて、フォトリソ法で形成したサブトラクティブマスク層を介してサンドブラスト法により、パターン形成後、570℃で15分間焼成し、ピッチ140μm、線幅20μm、高さ100μmのストライプ状の隔壁パターンを形成した。   Further, using the above paste on the dielectric layer, through a subtractive mask layer formed by a photolithographic method, by sandblasting, after pattern formation, baking at 570 ° C. for 15 minutes, pitch 140 μm, line width 20 μm, high A 100 μm-striped partition pattern was formed.

このようにして形成された隔壁に各色蛍光体ペーストをスクリーン印刷法を用いて塗布焼成(500℃、30分)して隔壁の側面および底部に蛍光体層を形成した。   The phosphor paste of each color was applied and baked (500 ° C., 30 minutes) to the partition walls thus formed by using a screen printing method to form a phosphor layer on the side and bottom of the partition walls.

次に、前面板を以下の工程によって作製した。まず、背面板と同じガラス基板上に、ITOをスパッタ法で形成後、レジスト塗布し、露光・現像処理、エッチング処理によって厚み0.1μm、線幅200μmの透明電極を形成した。また、黒色銀粉末からなる感光性銀ペーストを用いてフォトリソグラフィー法により、焼成後厚み10μmのバス電極を形成した。電極はピッチ140μm、線幅60μmのものを作製した。   Next, a front plate was produced by the following steps. First, an ITO was formed on the same glass substrate as the back plate by a sputtering method, a resist was applied, and a transparent electrode having a thickness of 0.1 μm and a line width of 200 μm was formed by exposure, development, and etching. Further, a bus electrode having a thickness of 10 μm was formed after firing by a photolithography method using a photosensitive silver paste composed of black silver powder. Electrodes having a pitch of 140 μm and a line width of 60 μm were prepared.

さらに、電極形成した前面板上に透明誘電体ペーストを20μm塗布し、430℃で20分間保持して焼き付けた。次に形成した透明電極、黒色電極、誘電体層を一様に被覆するように電子ビーム蒸着機を用いて、厚みは0.5μmのMgO膜を形成して前面板を完成させた。   Further, a transparent dielectric paste was applied to a thickness of 20 μm on the front plate on which the electrodes were formed, and baked at 430 ° C. for 20 minutes. Next, an MgO film having a thickness of 0.5 μm was formed using an electron beam evaporator so as to uniformly cover the formed transparent electrode, black electrode, and dielectric layer, thereby completing the front plate.

得られた前面ガラス基板を、前記の背面ガラス基板と貼り合わせ封着した後、放電用ガスを封入し、駆動回路を接合してプラズマディスプレイ(PDP)を作製した。このパネルに電圧を印加して表示を観察した。   After the obtained front glass substrate was bonded and sealed to the above-mentioned rear glass substrate, a discharge gas was sealed therein, and a driving circuit was joined thereto to produce a plasma display (PDP). A display was observed by applying a voltage to the panel.

表2に実施例1〜14、比較例1〜3に用いたペーストの降伏値、降伏値を示す粘度、降伏値を越える粘度、チキソトロピー付与剤/界面活性剤比、チキソトロピー付与剤および界面活性剤の加熱残分、基板面内が均一に塗布できなくなるまでの塗布速度、塗布状態およびPDPの表示特性をまとめて示した。また、実施例1および比較例1で用いたペーストの流動特性図を図1に示した。   Table 2 shows the yield values of the pastes used in Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 to 3, the viscosity showing the yield value, the viscosity exceeding the yield value, the thixotropic agent / surfactant ratio, the thixotropic agent and the surfactant. The coating residue, the coating speed, the coating state, and the display characteristics of the PDP until the uniform coating on the substrate surface becomes impossible can be summarized. FIG. 1 shows a flow characteristic diagram of the paste used in Example 1 and Comparative Example 1.

Figure 2004182589
Figure 2004182589

実施例1〜10、14で得られたペーストは、塗布性は良好で、高速塗布が可能であった。また、PDPの表示特性も良好であった。   The pastes obtained in Examples 1 to 10 and 14 had good coatability and could be coated at high speed. The display characteristics of the PDP were also good.

実施例11〜12で得られたペーストも塗布性は良好で、高速塗布が可能であったが、チキソトロピー付与剤および界面活性剤の重量保持率が高いためにPDPの表示特性が少し不良であった。   The pastes obtained in Examples 11 to 12 also had good coatability and could be coated at high speed, but the display characteristics of the PDP were slightly poor due to the high weight retention of the thixotropic agent and the surfactant. Was.

比較例1では、降伏値を越える粘度が高く、高速塗布ができなかった。また、塗布状態および表示特性は不良であった。   In Comparative Example 1, the viscosity exceeding the yield value was high, and high-speed coating was not possible. Further, the coating state and the display characteristics were poor.

比較例2では、高速塗布が可能であったが、降伏値がないために塗布後の形状保持ができず、塗布状態が不良であった。また、PDPの表示特性も塗布不良に起因する表示不良が現れた。   In Comparative Example 2, although high-speed coating was possible, the shape could not be maintained after coating because there was no yield value, and the coating state was poor. In addition, the display characteristics of the PDP also showed display defects due to coating defects.

比較例3では、降伏値を示す際の粘度が高く、また、降伏値を越える粘度が高く、塗布ができなかった。   In Comparative Example 3, the viscosity at the time of showing the yield value was high, and the viscosity exceeding the yield value was too high to apply.

本発明に係るペーストの流動特性図である。It is a flow characteristic figure of the paste concerning the present invention.

Claims (12)

無機粉末および有機成分からなるペーストであって、ペーストが降伏値を持ち、降伏値を示す際の粘度が200〜20,000[Pa・s]の範囲であることを特徴とするペースト。 A paste comprising an inorganic powder and an organic component, wherein the paste has a yield value and a viscosity at which the paste exhibits a yield value is in a range of 200 to 20,000 [Pa · s]. 降伏値が0〜2[Pa]の範囲であり、かつ、降伏値を越える粘度が5〜50[Pa・s]の範囲であることを特徴とする請求項1記載のペースト。 The paste according to claim 1, wherein the yield value is in a range of 0 to 2 [Pa], and the viscosity exceeding the yield value is in a range of 5 to 50 [Pa · s]. ペーストがチキソトロピー付与剤(A)と界面活性剤(B)を含むことを特徴とする請求項1または2記載のペースト。 3. The paste according to claim 1, wherein the paste contains a thixotropic agent (A) and a surfactant (B). チキソトロピー付与剤(A)と界面活性剤(B)の比が下記に示される範囲であることを特徴とする請求項3記載のペースト。
A/B=0.04〜120
The paste according to claim 3, wherein the ratio of the thixotropic agent (A) to the surfactant (B) is in the range shown below.
A / B = 0.04 to 120
チキソトロピー付与剤が30℃から500℃まで10℃/分で昇温されたとき、500℃での重量保持率が1重量%以下であることを特徴とする請求項3または4記載のペースト。 The paste according to claim 3 or 4, wherein when the thixotropy-imparting agent is heated from 30 ° C to 500 ° C at a rate of 10 ° C / min, the weight retention at 500 ° C is 1% by weight or less. チキソトロピー付与剤が脂肪族アミド化合物であることを特徴とする請求項3〜5記載のいずれかに記載のペースト。 The paste according to any one of claims 3 to 5, wherein the thixotropic agent is an aliphatic amide compound. チキソトロピー付与剤がヒドロキシステアリン酸とアルキレンジアミンを反応して得られる脂肪酸アミド、ヒドロキシステアリン酸と直鎖脂肪酸の混合物とアルキレンジアミンを反応して得られる脂肪族アミド、ウレタン化合物と脂肪族アミド化合物のイソシアネート残基とアミン残基を反応して得られる尿素化合物から選ばれる少なくともいずれか1種であることを特徴とする請求項3〜5のいずれかに記載のペースト。 Fatty acid amide obtained by reacting hydroxystearic acid and alkylenediamine with a thixotropic agent, aliphatic amide obtained by reacting a mixture of hydroxystearic acid and linear fatty acid with alkylenediamine, isocyanate of urethane compound and aliphatic amide compound The paste according to any one of claims 3 to 5, wherein the paste is at least one selected from urea compounds obtained by reacting a residue with an amine residue. 界面活性剤が30℃から500℃まで10℃/分で昇温されたとき、500℃での重量保持率が1重量%以下であることを特徴とする請求項3〜7のいずれかに記載のペースト。 The weight retention at 500 ° C. when the temperature of the surfactant is raised from 30 ° C. to 500 ° C. at 10 ° C./minute is 1% by weight or less. Paste. ペースト中の無機粉末の含有量が35〜95重量%の範囲であることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載のペースト。 The paste according to any one of claims 1 to 8, wherein the content of the inorganic powder in the paste is in the range of 35 to 95% by weight. 無機粉末がガラスであることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載のペースト。 The paste according to any one of claims 1 to 9, wherein the inorganic powder is glass. ペーストが感光性有機成分を含むことを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載のペースト。 The paste according to claim 1, wherein the paste contains a photosensitive organic component. ペーストを基板上に塗布して乾燥する工程を含むディスプレイパネル用部材の製造方法であって、ペーストに請求項1〜11のいずれかに記載のペーストを用いることを特徴とするディスプレイパネル用部材の製造方法。 A method for producing a display panel member, comprising a step of applying a paste on a substrate and drying the paste, wherein the paste according to any one of claims 1 to 11 is used as the paste. Production method.
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