JP2004164762A - Original disk exposing device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスク原盤を作製する場合に使用されるディスク原盤露光装置に関し、特に、原盤中心を検知し、中心位置に応じて描画位置補正を行うディスク原盤露光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
CD、DVD等に代表される光ディスクは、可搬性の大容量記録媒体であることを特徴としており、広く使用されている。
光ディスクを製造するためには、たとえば、ガラス基板にレジスト層を形成してなる光ディスク原盤作製用ディスクを用意し、この光ディスク原盤作製用ディスクを使用して光ディスク原盤を作成し、さらに、この光ディスク原盤を使用して光ディスク原盤作製用金型を作製する必要がある。
従来、上記光ディスク原盤はレーザビームを光ディスク原盤作製用ディスクのレジスト層に照射し、デジタル情報に対応したピットを形成することにより作製されていた。
しかし、光ディスクの記録密度は急激に上がってきており、レーザ光を使用した原盤作製では、記録密度の限界が考えられるようになった。そのため、電子ビームを用いた光ディスク原盤の作製が検討されるようになってきた。
【0003】
光、電子、イオン等のマイクロビームを用いて、回転円板に描画する技術として、例えば特許文献1に記載されているものが知られている。
上記特許文献1に記載されるものは、回転円板の中心軸のふらつきによる描画位置精度の低下を改善するため、回転軸の位置ズレをモニタし、それズレ量に応じて描画ビーム位置を補正することで、高精度な描画を行うようにしたものである。
また、特許文献2には、光ディスク原盤作製用ディスクの電子ビーム照射装置において、ピット形成部分の単位面積当たりのドーズ量が光ディスク原盤作製用ディスクの半径方向の位置によらず一定になるようにするとともに、光ディスク原盤作製用ディスクの回転中心の偏心を補正するようにした技術が開示されている。
上記特許文献2に記載の偏心補正も、特許文献1に記載されるものと同様、ディスク原盤作製用ディスクを回転させるモータの機械的振動により、光ディスク原盤作成用ディスクの回転中心が偏心してしまうことを補正し、高精度なピットを形成できるようにしたものである。
【0004】
【特許文献1】
特開昭60−224160号公報
【特許文献2】
特開2000−11464号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
電子ビームを用いた露光装置は、従来のレーザを用いたものと異なり真空雰囲気中での光ディスク原盤作製用ディスク(以下では単にディスク原盤という)への描画となる。このため、ディスク原盤の出し入れ、および、ターンテーブルへの設置は、真空雰囲気を守るために、ロードロック機構が用いられる。
しかし、ロードロック機構を用いてディスク原盤などの試料をターンテーブル上に簡単かつ精度良く設置する機構は難しく、多少の位置ズレが生じることがある。特に、試料によってはあらかじめ決められた中心を持っているものもあり、取り付け段階でこれらをターンテーブルの回転中心と精度よく一致させるのは手間がかかる場合がある。
ターンテーブルに搭載されたディスク原盤の中心とターンテーブルの回転中心のズレが大きい場合には、(1) 描画後の工程で描画結果(軌跡)の描画中心を新たに計測して決める必要があり、また、(2) 描画結果(軌跡)が全体的に楕円のようにつぶれる。さらに、(3) 描画時のドーズ量が原盤の角度位置により変化し、線幅やピット長が変化する、など品位が落ちてしまうことがある。
本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、本発明の目的は、ターンテーブルに搭載されたディスク原盤の中心とターンテーブルの回転中心がズレていても、ディスク原盤の中心に対して、螺旋状にピット列やグループを描画できるようにし、高品位なディスク原盤の描画を行えるようにすることである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明においては、ターンテーブルに載ったディスク原盤の回転中心をあらかじめ検知し、ディスク原盤の中心と回転中心のズレ量に基づき、電子ビーム照射位置補正を加えながら、ディスク原盤の中心に対応したピット列等の描画を行う。
すなわち、本発明においては、以下のようにして、電子ビーム照射位置を補正する。
(1)少なくとも1軸方向に移動可能に構成されスピンドルモータにより回転するディスク原盤が載置されるターンテーブルと、上記ディスク原盤に電子ビームを照射して、ディスク原盤にデジタル情報を描画する電子ビーム照射手段とを備えたディスク原盤露光装置において、上記電子ビームの照射位置を補正する電子ビーム照射位置偏向補正手段を設け、ターンテーブルの回転中心に対してディスク原盤の中心位置がズレているとき、電子ビーム照射位置を補正して、上記ディスク原盤の中心に対して、螺旋状にデジタル情報を描画する。
(2)上記(1)において、ディスク原盤中心を検出する手段を設ける。
(3)上記(2)において、ディスク原盤の中心を検出する手段として電子ビームとそれが物体にあたったときの反射電子または2次電子信号を検出する電子検出器を用いる。
(4)上記(2)において、ディスク原盤の中心を検出する手段として高さ検出器を用いる。
上記電子検出器あるいは高さ検出器の出力によるディスク原盤の中心位置の検出は、例えば以下のように行われる。
ディスク原盤を回転させながら、ターンテーブルをX方向に移動させ、電子検出器、もしくは高さ検出器により、ターンテーブル上の所定の位置におけるディスク原盤の有無を検出する。そして、上記電子検出器、もしくは高さ検出器がディスク面を検出しはじめたときのX座標値と、上記電子検出器もしくは高さ検出器がディスク面のみを検出しはじめるときのX座標の値に基づき、回転中心に対するディスクの中心位置を求める。
(5)上記(1)〜(4)において、ターンテーブルの回転角度を検出するロータリーエンコーダ等の回転角度検出機構を設け、上記電子ビーム照射位置偏向補正手段が、ターンテーブルの回転中心と、ディスク原盤の中心とのズレ量と、上記回転角度検出機構により検出されたターンテーブルの回転角度に基づき、電子ビームの照射位置を補正して、上記ディスク原盤の中心に対して、螺旋状にデジタル情報を描画する。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、図を参照して、本発明の装置の実施形態について説明する。
図1は本発明が適用される電子ビーム露光装置の概要図である。真空チャンバ1内にXステージ2が設置され、その上にスピンドルモータ3aにより回転するターンテーブル3が搭載されている。Xステージ2はXステージ駆動装置6により駆動され、同図の左右方向に移動する。これにより、ターンテーブル3も同図の左右方向に移動する。
試料5(ディスク原盤)は、試料ホルダ4に収納され、そのホルダ4がターンテーブル3に固定されるような構造となっている。
露光装置には、電子ビームを照射する電子銃8が設けられている。また、電子ビームのフォーカス調整補正を行うために高さ検出器7が取り付けられ、高さ検出器7の測定スポット内に電子ビーム落下(照射)位置があるように調整されている。
また、電子ビーム調整時のモニタのため電子検出器9が取付けられ、電子ビームを電子銃8内でスキャンさせることにより電子顕微鏡としての像も得られるようになっている。
実際の描画はディスク原盤5を回転させながら、Xステージ2をゆっくり移動させることにより、螺旋状にディスク原盤5に信号データを書き込むことにより行う。
【0008】
上記Xステージ2の位置制御、ターンテーブル3の回転制御、電子銃8による照射位置の制御を行うため、制御部10が設けられており、制御部10から、スピンドルモータ3aの駆動信号、Xステージ6への駆動信号、電子銃8への駆動信号が出力され、また、高さ検出器7、電子検出器9の出力、スピンドルモータ3aに設けられたエンコーダの出力、Xステージ位置信号が制御部10に送られる。
上記ディスク原盤5上への描画を制御するため、制御部10には、描画制御手段11が設けられている。
描画制御手段11は、例えば前記特許文献2に記載されるような描画制御を行うための手段であり、照射位置制御手段12により電子ビームの照射位置を制御し、前記したようにディスク原盤5を回転させながら、Xステージ2をゆっくり移動させ、ディスク原盤5に螺旋状に信号データを書き込むための制御を行う。また、高さ検出器7の出力により、電子銃8から照射される電子ビームのフォーカス調整を行ったり、電子ビーム調整時等に、電子検出器9の出力に基づき、電子ビームの照射位置をモニタしたり、ターンテーブル面の電子顕微鏡像をモニタ13に表示させる。なお、特許文献1,2に記載されるように、上記描画制御手段11に、スピンドルモータ3aの機械的振動によるディスク原盤の回転中心の偏心を補正する機能を設けてもよい。
さらに本実施例においては、制御部10に、回転中心とディスク原盤の中心とのズレ量を検出するズレ量検出手段14と、このズレ量に基づきビーム照射位置を補正するビーム位置偏向補正手段15が設けられている。
【0009】
図2はターンテーブル上に設置された、ディスク原盤の様子を示す図である。同図に示すように、試料ホルダ4にディスク原盤5が搭載され、試料ホルダ4がターンテーブル3上に載置されている。
ここでは、説明のため、同図に示すように、ディスク原盤5の中心には直径30mmで精度よくあけられた穴5aがあらかじめ設けられており、ターンテーブル3の回転中心と原盤の中心がhズレていると仮定する。描画はこの穴と同心円状に近い形状になることが要求される。
【0010】
次に本実施例による、ディスク原盤への描画について説明する。
まず、ディスク原盤5の回転中心近辺に電子ビーム照射位置がくるようにXステージ2を移動させておく。
ターンテーブル3を適当な回転速度で回転させながら、電子銃8から電子ビームを照射し、ディスク原盤5の下のホルダまたはターンテーブル面を電子顕微鏡像として観察する。このとき観察画像の中心部分がターンテーブル3の回転中心となるように、X方向については、Xステージ駆動手段6により、Xステージ2を移動させ、Y方向(図1の紙面に垂直方向)については照射位置制御手段12により電子銃8から照射されるビームを偏向させる。
このときY方向の偏向補正分が必要精度に比べ大きい場合は、Y方向の偏向補正後の電子ビーム落下(照射)位置に、高さ検出器7の測定点が一致するように再調整を行っておく。以上の操作により、ターンテーブル3の回転中心と電子ビーム落下(照射)位置および高さ検出器7の測定点のY座標成分が一致する。
【0011】
次に、図3、図4および図5により、電子ビームと電子検出器9を用いて、ターンテーブル3の回転中心とディスク原盤5の中心とのズレ量を計測する方法について説明する。なお、図3、図4はターンテーブル2を回転させながらXステージ2を移動させたときの電子検出器9の出力の変化を示し、図5は、ディスク原盤5の穴の位置の変化を示す。
ここで、ここまでの操作で、決められたXステージ2の座標値をX0とする。このとき、ディスク原盤5の中心の軌跡は、同図の実線に示すようになり、ディスク原盤の中心のX座標値がX0のときの穴の位置は同図の太実線に示すようになる。また、ディスク原盤5を回転させながらXステージ2を移動させると、ディスク原盤5の穴の位置は、同図の点線のように変化する。
Xステージ2の座標値がX0のとき、電子検出器9の検出点はディスク原盤5の穴部分である。なお、電子ビームが穴部分と原盤部分に照射されているときはその材質の帯電状況の違いから、電子検出器9のレベルに差が生じる。
【0012】
ターンテーブル3を回転させた状態のまま、ゆっくりXステージ2を(例えば図1の右方向に)移動させていくと、電子検出器9の出力は、図3、図4の(a),(b),(c),(d)を順にたどるように変化していく。
すなわち、(a)に示すように原盤面非検出の状態から、(b)に示すように原盤面の検出が始まり、(c)に示すように原盤面と穴部を検出する状態になり、さらに、(d)に示すように原盤面のみを検出するように変化する。
ここで、図3(b)のようにディスク原盤表面を検出し始める時のXステージ座標をX1、また、図4(d)に示すようにディスク原盤面のみを検出し始めたときのXステージ座標をX2とすると、図5から明らかなように、原盤中心のX座標値はX0=(X2+X1−30)/2となり、ディスク原盤中心と回転中心のズレ量hは、(X2−X1)/2となる。
前記図1に示したズレ量検出手段14は、上記のように電子検出器9の出力とXステージ2のX座標値から、ディスク原盤表面を検出し始める時のXステージ座標をX1と、ディスク原盤面のみを検出し始めたときのXステージ座標をX2を求め、これから、ディスク原盤中心のX座標値X0と、ディスク原盤中心と回転中心のズレ量hを算出する。
【0013】
次に上記ズレ量hに基づくビーム照射位置の補正について説明する。
ターンテーブル3の回転角、ディスク原盤5の中心と回転中心のズレhの関係が図6に示すようであると仮定する。
このとき、ターンテーブル3の回転角度θに応じて、ディスク原盤5の中心位置は回転中心に対して、図6に示すようにY方向にhcosθ、X方向にhsinθズレる。
したがって、電子ビームの位置補正をY方向のズレについてはhcosθ、X方向のズレについてはhsinθ分行えばよい。
図1に示すビーム位置偏向補正手段15は、スピンドルモータ3aに設けられたエンコーダの出力から、ターンテーブル3の回転角θを求め、この回転角θとズレ量検出手段14により検出されたズレ量hとに基づき、上記のようにして電子ビームの位置補正量を求め、電子ビーム照射位置補正信号を照射位置制御手段12に出力する。
これにより描画対象のディスク原盤中心に対して螺旋状のピット列の描画を行うことできる。
【0014】
ところで、通常、ディスク原盤面には無用な電子ビームは照射したくない場合が多い。
そこで、ターンテーブル3の回転中心と電子ビーム照射位置および高さ検出器7の測定点のY座標成分が一致していることがわかっている場合には、高さ検出器7で上記と同様にして、ディスク原盤の中心位置のズレ量を求めことができる。
図7、図8に、ディスク原盤中心と回転中心のズレ量hを求める過程における、高さ検出器7の出力変化の様子を示す。
穴部検出時は、盤表面よりはるかに遠いため、検出器出力は飽和状態となっている。図7、図8の(a),(b),(c),(d)と順をたどるにつれ原盤面の検出量が増えてくる。すなわち、(a)に示すように原盤面非検出の状態から、(b)に示すように原盤面の検出が始まり、(c)に示すように原盤面と穴部を検出する状態になり、さらに、(d)に示すように原盤面のみを検出するように変化する。なお、(d)において出力が緩やかに変化しているのは原盤のもつうねりである。
上記高さ検出器7の変化から、前記電子検出器9を用いた場合と同様に、ディスク原盤中心と回転中心のズレ量hを求めることができ、これを用いて、描画時に前記と同様に電子ビーム位置の補正を行うことができる。
【0015】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ディスク原盤の中心が、ターンテーブルの回転中心と一致していなくとも、原盤の中心に対して螺旋状にピット列やグルーブを描画することが可能となる。このため、後の工程にとって有利な高品位な原盤の描画を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明が適用される電子ビーム露光装置の概要を示す図である。
【図2】ターンテーブル上に設置されたディスク原盤の様子を示す図である。
【図3】ディスク原盤を回転させながらXステージを移動させたときの電子検出器の出力の変化を示す図(1)である。
【図4】ディスク原盤を回転させながらXステージを移動させたときの電子検出器の出力の変化を示す図(2)である。
【図5】ディスク原盤の中心の求め方を説明する図である。
【図6】回転中心とディスク原盤中心の関係を示す図である。
【図7】ディスク原盤を回転させながらXステージを移動させたときの高さ検出器出力の変化を示す図(1)である。
【図8】ディスク原盤を回転させながらXステージを移動させたときの高さ検出器出力の変化を示す図(2)である。
【符号の説明】
1 真空チャンバ
2 Xステージ
3 回転ステージ
3a スピンドルモータ
4 試料ホルダ
5 試料(ディスク原盤)
6 Xステージ駆動装置
7 高さ検出器
8 電子銃
9 電子検出器
10 制御部
11 描画制御手段
12 照射位置制御手段
13 モニタ
14 ズレ量検出手段
15 ビーム位置偏向補正手段[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a disc master exposure apparatus used for producing an optical disc master, and more particularly to a disc master exposure apparatus that detects a center of a master and corrects a drawing position according to the center position.
[0002]
[Prior art]
Optical discs such as CDs and DVDs are characterized by being portable, large-capacity recording media, and are widely used.
In order to manufacture an optical disk, for example, a disk for producing an optical disk master prepared by forming a resist layer on a glass substrate is prepared, and an optical disk master is prepared using the disk for manufacturing an optical disk master. It is necessary to produce a mold for producing an optical disc master using the above method.
Conventionally, the above-described optical disk master has been manufactured by irradiating a resist layer of a disk for manufacturing an optical disk master with a laser beam to form pits corresponding to digital information.
However, the recording density of the optical disk has been rapidly increasing, and the limitation of the recording density has been considered in the production of a master using laser light. For this reason, production of an optical disk master using an electron beam has been studied.
[0003]
As a technique for drawing on a rotating disk using a microbeam of light, electrons, ions, or the like, for example, a technique described in
The technique disclosed in
Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-163873 discloses an apparatus for irradiating an electron beam for a disc for producing an optical disc master, in which the dose per unit area of a pit formation portion is constant irrespective of the radial position of the disc for producing an optical disc master. In addition, there is disclosed a technique for correcting the eccentricity of the center of rotation of a disc for producing an optical disc master.
Also in the eccentricity correction described in
[0004]
[Patent Document 1]
JP-A-60-224160 [Patent Document 2]
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-11464
[Problems to be solved by the invention]
An exposure apparatus using an electron beam, unlike a conventional apparatus using a laser, performs drawing on a disk for producing an optical disk master (hereinafter simply referred to as a disk master) in a vacuum atmosphere. For this reason, the loading and unloading of the master disc and the installation on the turntable use a load lock mechanism to protect the vacuum atmosphere.
However, it is difficult to easily and accurately set a sample such as a master disk on a turntable using a load lock mechanism, and a slight displacement may occur. In particular, some samples have a predetermined center, and it may take time and effort to accurately match them with the rotation center of the turntable in the mounting stage.
If the discrepancy between the center of the disc master mounted on the turntable and the center of rotation of the turntable is large, (1) it is necessary to newly measure and determine the drawing center of the drawing result (trajectory) in the process after drawing (2) The drawing result (trajectory) is entirely collapsed like an ellipse. Further, (3) the quality may be degraded, for example, the dose amount at the time of writing changes depending on the angular position of the master, and the line width and pit length change.
The present invention has been made in view of the above circumstances, the object of the present invention is, even if the rotation center of the turntable and the center of the disc master mounted on the turntable is displaced, with respect to the center of the disc master, It is an object of the present invention to enable pit rows and groups to be drawn in a spiral shape and to draw a high-quality master disk.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problem, in the present invention, the rotation center of the disk master placed on the turntable is detected in advance, and based on the amount of deviation between the center of the disk master and the rotation center, the electron beam irradiation position is corrected, A pit row or the like corresponding to the center of the master is drawn.
That is, in the present invention, the electron beam irradiation position is corrected as follows.
(1) A turntable on which a disk master that is configured to be movable in at least one axial direction and is rotated by a spindle motor is mounted, and an electron beam that irradiates the disk master with an electron beam and draws digital information on the disk master. In the master disc exposure apparatus having irradiation means, an electron beam irradiation position deflection correction means for correcting the irradiation position of the electron beam is provided, and when the center position of the disc master is shifted with respect to the rotation center of the turntable, The electron beam irradiation position is corrected, and digital information is drawn spirally with respect to the center of the disk master.
(2) In the above (1), means for detecting the center of the master disc is provided.
(3) In the above (2), an electron beam and an electron detector for detecting a reflected electron or a secondary electron signal when the electron beam hits an object are used as means for detecting the center of the master disk.
(4) In the above (2), a height detector is used as means for detecting the center of the disk master.
The detection of the center position of the master disc by the output of the electronic detector or the height detector is performed, for example, as follows.
The turntable is moved in the X direction while rotating the disk master, and the presence or absence of the disk master at a predetermined position on the turntable is detected by an electronic detector or a height detector. The X coordinate value when the electronic detector or the height detector starts detecting the disk surface, and the X coordinate value when the electronic detector or the height detector starts detecting only the disk surface , The center position of the disk with respect to the rotation center is obtained.
(5) In the above (1) to (4), a rotation angle detecting mechanism such as a rotary encoder for detecting a rotation angle of the turntable is provided, and the electron beam irradiation position deflection correcting means is provided with a rotation center of the turntable and a disk. Based on the amount of deviation from the center of the master and the rotation angle of the turntable detected by the rotation angle detecting mechanism, the irradiation position of the electron beam is corrected, and digital information is spirally formed with respect to the center of the disk master. To draw.
[0007]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of the device of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic diagram of an electron beam exposure apparatus to which the present invention is applied. An
The sample 5 (master disc) is housed in a sample holder 4, and the holder 4 is fixed to the
The exposure apparatus is provided with an electron gun 8 for irradiating an electron beam. In addition, a height detector 7 is attached for performing focus adjustment correction of the electron beam, and the height detector 7 is adjusted so that the measurement spot of the height detector 7 has an electron beam falling (irradiation) position.
An electron detector 9 is attached for monitoring when adjusting the electron beam, and an image as an electron microscope can be obtained by scanning the electron beam in the electron gun 8.
The actual drawing is performed by writing signal data spirally on the disk master 5 by slowly moving the
[0008]
In order to control the position of the
In order to control drawing on the disk master 5, the control unit 10 is provided with drawing control means 11.
The drawing control unit 11 is a unit for performing drawing control as described in
Further, in this embodiment, the control unit 10 includes a shift amount detecting unit 14 for detecting a shift amount between the rotation center and the center of the disc master, and a beam position
[0009]
FIG. 2 is a diagram showing a state of a master disk set on a turntable. As shown in FIG. 1, a disk master 5 is mounted on a sample holder 4, and the sample holder 4 is mounted on the
Here, for the sake of explanation, as shown in the figure, a hole 5a having a diameter of 30 mm and accurately drilled is provided in advance at the center of the disk master 5, and the rotation center of the
[0010]
Next, drawing on the master disk according to the present embodiment will be described.
First, the
An electron beam is emitted from the electron gun 8 while rotating the
At this time, if the deflection correction amount in the Y direction is larger than the required accuracy, readjustment is performed so that the measurement point of the height detector 7 matches the electron beam fall (irradiation) position after the Y direction deflection correction. Keep it. By the above operation, the Y-coordinate component of the rotation center of the
[0011]
Next, referring to FIGS. 3, 4 and 5, a method of measuring the amount of deviation between the center of rotation of the
Here, the coordinate value of the
When the coordinate value of the
[0012]
When the
That is, from the state in which the master surface is not detected as shown in (a), the detection of the master surface is started as shown in (b), and the state is such that the master surface and the hole are detected as shown in (c), Further, as shown in (d), the state changes so as to detect only the master surface.
Here, the X stage coordinate when starting to detect the disk master surface as shown in FIG. 3 (b) is X1, and the X stage when starting to detect only the disk master surface as shown in FIG. 4 (d). Assuming that the coordinates are X2, as is clear from FIG. 5, the X coordinate value of the center of the master is X0 = (X2 + X1-30) / 2, and the displacement h between the center of the master disk and the center of rotation is (X2-X1) / It becomes 2.
The shift amount detecting means 14 shown in FIG. 1 calculates the X-stage coordinate at the time of starting to detect the surface of the master disc from the output of the electronic detector 9 and the X-coordinate value of the X-stage 2 as described above, The X stage coordinates when only the master surface is started to be detected is determined as X2, and from this, the X coordinate value X0 of the center of the master disk and the displacement h between the center of the master disk and the rotation center are calculated.
[0013]
Next, correction of the beam irradiation position based on the displacement amount h will be described.
It is assumed that the relationship between the rotation angle of the
At this time, in accordance with the rotation angle θ of the
Therefore, the position correction of the electron beam may be performed by hcos θ for the displacement in the Y direction and hsin θ for the displacement in the X direction.
The beam position deflection correcting means 15 shown in FIG. 1 obtains the rotation angle θ of the
This makes it possible to draw a spiral pit row with respect to the center of the disk master to be drawn.
[0014]
By the way, usually, it is often the case that it is not desired to irradiate an unnecessary electron beam to the disk master surface.
Therefore, if it is known that the center of rotation of the
7 and 8 show how the output of the height detector 7 changes in the process of obtaining the displacement h between the center of the disc master and the center of rotation.
When the hole is detected, the output of the detector is in a saturated state because it is far from the surface of the board. As the order of (a), (b), (c), and (d) of FIGS. 7 and 8 is followed, the detection amount of the master surface increases. That is, from the state in which the master surface is not detected as shown in (a), the detection of the master surface is started as shown in (b), and the state is such that the master surface and the hole are detected as shown in (c), Further, as shown in (d), the state changes so as to detect only the master surface. Note that the gradual change in the output in (d) is due to the undulation of the master.
From the change in the height detector 7, a shift amount h between the center of the disc master and the center of rotation can be obtained in the same manner as in the case where the electronic detector 9 is used. The electron beam position can be corrected.
[0015]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, even if the center of the disc master does not coincide with the rotation center of the turntable, it is possible to draw a pit row or groove spirally with respect to the center of the master. Become. For this reason, it is possible to draw a high-quality master that is advantageous for the subsequent steps.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing an outline of an electron beam exposure apparatus to which the present invention is applied.
FIG. 2 is a diagram showing a state of a disc master placed on a turntable.
FIG. 3 is a diagram (1) illustrating a change in the output of the electron detector when the X stage is moved while rotating the disk master.
FIG. 4 is a diagram (2) illustrating a change in the output of the electron detector when the X stage is moved while rotating the disk master.
FIG. 5 is a diagram for explaining how to determine the center of a master disc.
FIG. 6 is a diagram showing a relationship between a rotation center and a disc master disc center.
FIG. 7 is a diagram (1) illustrating a change in height detector output when the X stage is moved while rotating the disk master.
FIG. 8 is a diagram (2) illustrating a change in the output of the height detector when the X stage is moved while rotating the disk master.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
6 X stage driving device 7 Height detector 8 Electron gun 9 Electron detector 10 Control unit 11
Claims (5)
上記ディスク原盤に電子ビームを照射して、ディスク原盤にデジタル情報を描画する電子ビーム照射手段とを備えたディスク原盤露光装置であって、
上記電子ビームの照射位置を補正する電子ビーム照射位置偏向補正手段を備え、
上記電子ビーム照射位置偏向補正手段は、ターンテーブルの回転中心に対してディスク原盤の中心位置がずれているとき、電子ビーム照射位置を補正して、上記ディスク原盤の中心に対して、螺旋状にデジタル情報を描画する
ことを特徴とするディスク原盤露光装置。A turntable on which a disc master is placed, the turntable being configured to be movable in at least one axial direction and rotated by a spindle motor;
Irradiating the disk master with an electron beam, and electron beam irradiation means for drawing digital information on the disk master, a disk master exposure apparatus,
An electron beam irradiation position deflection correction means for correcting the irradiation position of the electron beam,
The electron beam irradiation position deflection correction means corrects the electron beam irradiation position when the center position of the disc master is shifted with respect to the rotation center of the turntable, and spirally moves with respect to the center of the disc master. An original disc exposure apparatus for drawing digital information.
ことを特徴とする請求項1のディスク原盤露光装置。2. An apparatus according to claim 1, further comprising means for detecting a center of said master disk.
ことを特徴とする請求項2のディスク原盤露光装置。3. An apparatus according to claim 2, wherein an electronic detector is used as means for detecting the center of said disk master.
ことを特徴とする請求項2のディスク原盤露光装置。3. An apparatus according to claim 2, wherein a height detector is used as means for detecting the center of said master disk.
上記電子ビーム照射位置偏向補正手段は、ターンテーブルの回転中心と、ディスク原盤の中心とのズレ量と、上記回転角度検出機構により検出されたターンテーブルの回転角度に基づき、電子ビームの照射位置を補正して、上記ディスク原盤の中心に対して、螺旋状にデジタル情報を描画する
ことを特徴とする請求項1,2,3または請求項4のディスク原盤露光装置。Equipped with a rotation angle detection mechanism that detects the rotation angle of the turntable,
The electron beam irradiation position deflection correction means, based on the amount of deviation between the rotation center of the turntable and the center of the disc master, and the rotation angle of the turntable detected by the rotation angle detection mechanism, determines the irradiation position of the electron beam. 5. The disk master exposure apparatus according to claim 1, wherein the digital information is drawn spirally with respect to the center of the disk master.
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