JP2004141727A

JP2004141727A - Vacuum distillation equipment

Info

Publication number: JP2004141727A
Application number: JP2002307288A
Authority: JP
Inventors: Akio Maeda; 前田　章雄; Takeshi Okafuji; 岡藤　健
Original assignee: GOKO SHOJI KK; Osaka Gas Co Ltd
Current assignee: GOKO SHOJI KK; Osaka Gas Co Ltd
Priority date: 2002-10-22
Filing date: 2002-10-22
Publication date: 2004-05-20
Anticipated expiration: 2022-10-22
Also published as: JP3890006B2

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vacuum distillation equipment capable of reducing the load related to maintenance even in such a case that the amount of a treatment liquid to be distilled is much or one or more kinds of treatment liquids to be distilled are set as a treatment object. <P>SOLUTION: The vacuum distillation equipment is equipped with a distillation vessel 1 equipped with a heating means K for heating a supplied treatment liquid to be distilled, a suction means 4 for applying sucking action to the vapor discharge passage 3 connected to the distillation vessel 1 to evacuate the distillation vessel 1 and a condenser 5 for liquefying the vapor passing through the vapor discharge passage 3. As this vacuum distillation vessel 1, a plurality of the distillation vessels 1, are provided in such a state that the treatment liquids to be distilled can be supplied from different supply sources 11 and the vapor discharge passages 3 are connected to a plurality of the distillation vessels 1 in parallel not only to evacuate a plurality of the distillation vessels 1 by the suction means 4 but also to liquefy the vapor supplied from a plurality of the distillation vessels 1 in a confluent state by the condenser 5. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、供給される被蒸留処理液を加熱する加熱手段を備えた蒸留釜と、
その蒸留釜に接続される蒸気排出路に吸引作用して、前記蒸留釜内を減圧する吸引手段と、
前記蒸気排出路を通流する蒸気を液化する凝縮器とが設けられた真空蒸留装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
かかる真空蒸留装置は、蒸留釜内を減圧した状態で、加熱手段により被蒸留処理液を加熱することにより、被蒸留処理液中に含まれる蒸留分離対象成分の沸点を低下させて、蒸留分離対象成分を効率良く蒸発させ、その蒸留分離対象成分の蒸気を凝縮器にて液化させて蒸留分離対象成分を蒸留液として分離する蒸留分離処理を行うものであり、例えば、水分を含む廃液から水分を蒸留液として蒸留分離処理して、廃液の廃棄量を減量化する用途や、溶剤を含む廃液から溶剤を蒸留分離処理して回収する用途で用いられる。
【０００３】
このような真空蒸留装置において、従来では、蒸留釜として、一つの蒸留釜を設け、蒸気排出路をその一つの蒸留釜に接続して、吸引手段にて一つの蒸留釜を減圧させ、凝縮器にて一つの蒸留釜から供給される蒸留分離対象成分の蒸気を液化するように構成していた（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平６−６３３０４号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、かかる真空蒸留装置を設置するに当たっては、その設置箇所により、処理対象の被蒸留処理液の量が異なるものであり、又、蒸留分離対象成分が同じであるが蒸留分離対象成分以外の成分が夫々異なる複数種の被蒸留処理液を処理対象とする箇所もある。
つまり、このような真空蒸留装置は、例えば、水溶性切削液、アルカリ洗浄廃液、界面活性剤廃液及びメッキ廃液等の各種廃液の濃縮減量、含水廃油の再生、あるいは、廃溶剤の溶剤成分の回収において用いられるものであり、真空蒸留装置の設置箇所により、処理対象の被蒸留処理液の量が異なるものであり、又、前述のような複数種の被蒸留処理液を処理対象とする場合もある。
これに対して、従来の真空蒸留装置は、一つの蒸留釜を吸引手段にて減圧して、その一つの蒸留釜から発生する蒸留分離対象成分の蒸気を凝縮器にて液化する構成であることから、処理対象の被蒸留処理液の量が多くて、１台の真空処理装置では処理し切れない場合は、処理対象の被蒸留処理液の量に応じた台数の真空処理装置を設置することになる。
又、前述のような複数種の被蒸留処理液を処理対象とする場合は、被蒸留処理液の種類毎に、真空蒸留装置を設置することになり、このような場合も、真空処理装置を複数台設置することになる。
しかしながら、処理対象の被蒸留処理液の量が多い場合や、複数種の被蒸留処理液を処理対象とする場合のように、複数台の真空蒸留装置を設置すると、複数台の蒸留釜の他に、複数台の凝縮器及び複数台の吸引手段がメンテナンスの対象となり、メンテナンス作業が煩雑なものとなって、メンテナンスに係わる負担が重くなるという問題があった。
【０００６】
本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、処理対象の被蒸留処理液の量が多い場合や複数種の被蒸留処理液を処理対象とする場合でも、メンテナンスに係わる負担を軽減し得る真空蒸留装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
〔請求項１記載の発明〕
請求項１に記載の真空蒸留装置は、供給される被蒸留処理液を加熱する加熱手段を備えた蒸留釜と、
その蒸留釜に接続される蒸気排出路に吸引作用して、前記蒸留釜内を減圧する吸引手段と、
前記蒸気排出路を通流する蒸気を液化する凝縮器とが設けられたものであって、
前記蒸留釜として、異なる供給源より被蒸留処理液を供給可能な状態で複数の蒸留釜が設けられ、
前記蒸気排出路が前記複数の蒸留釜に並列状態に接続されて、前記吸引手段が前記複数の蒸留釜内を減圧させ且つ前記凝縮器が前記複数の蒸留釜から合流状態で供給される蒸気を液化するように構成されている点を特徴構成とする。
即ち、複数の蒸留釜に異なる供給源から被蒸留処理液が供給され、それら複数の蒸留釜に並列状態に接続されている蒸気排出路に吸引手段が吸引作用することにより、複数の蒸留釜が減圧され、そのように減圧されることにより複数の蒸留釜から発生して蒸気排出路を合流状態で通流する蒸留分離対象成分の蒸気が、凝縮器にて液化される。
ここで、異なる供給源より被蒸留処理液を供給可能な状態とは、夫々同じ被蒸留処理液を供給する複数の異なる供給源から被蒸留処理液が供給される状態、蒸留分離対象成分が同じであるが蒸留分離対象成分以外の成分が夫々異なる被蒸留処理液を供給する複数の異なる供給源から被蒸留処理液が供給される状態、及び、一つの供給源から被蒸留処理液が供給される状態を含むものである。
そして、複数の蒸留釜に対して、夫々同じ被蒸留処理液を供給する複数の異なる供給源から被蒸留処理液が供給される状態、又は、一つの供給源から被蒸留処理液が供給される状態にすると、複数の蒸留釜には同じ被蒸留処理液が供給され、各蒸留釜にて、被蒸留処理液から蒸留分離対象成分が蒸発し、そのように各蒸留釜にて発生する蒸留分離対象成分の蒸気が合流状態で蒸気排出路を通流して、凝縮器にて液化されることになり、複数の蒸留釜を用いて、同じ被蒸留処理液を蒸留分離処理することが可能になるので、多量の被蒸留処理液を処理することが可能になる。
又、蒸留分離対象成分が同じであるが蒸留分離対象成分以外の成分が夫々異なる被蒸留処理液を供給する複数の異なる供給源から被蒸留処理液が供給される状態にすると、複数の蒸留釜には異なる種類の被蒸留処理液が供給されることになるが、蒸留分離対象成分が同じであるので、各蒸留釜にて、被蒸留処理液から蒸留分離対象成分を所望通りに蒸発させることができ、そのように各蒸留釜にて発生する蒸留分離対象成分の蒸気が合流状態で蒸気排出路を通流して、凝縮器にて液化されることになり、複数の蒸留釜を用いて、複数種の被蒸留処理液を一括して蒸留分離処理することが可能になる。
従って、蒸留釜は複数台設けるものの、吸引手段及び凝縮器は夫々１台ずつ設ける構成にて、多量の被蒸留処理液の処理、及び、複数種の被蒸留処理液の処理が可能となるので、メンテナンスの対象としては、蒸留釜は複数台となるものの、吸引手段及び凝縮器は夫々１台ずつであるので、メンテナンス作業を簡素化することが可能となり、メンテナンスに係わる負担を軽減することが可能となる。要するに、処理対象の被蒸留処理液の量が多い場合や複数種の被蒸留処理液を処理対象とする場合でも、メンテナンスに係わる負担を軽減し得る真空蒸留装置を提供することができるようになった。
【０００８】
〔請求項２記載の発明〕
請求項２に記載の真空蒸留装置は、請求項１において、前記複数の蒸留釜の一つ、前記凝縮器、及び、前記吸引手段を備えるユニット状に組み付けてメインユニットが構成され、前記複数の蒸留釜の一つを備えるユニット状に組み付けてサブユニットが構成され、前記メインユニットと前記サブユニットとが並び状態に設置可能に構成されている点を特徴構成とする。
即ち、複数の蒸留釜の一つ、凝縮器及び吸引手段を備えるメインユニットと、複数の蒸留釜の一つを備えるサブユニットとが並び状態に設置されることにより、真空蒸留装置が設置される。
つまり、処理対象の被蒸留処理液の量が異なることに対しては、処理対象の被蒸留処理液の量に応じた台数のサブユニットを設置することにより対応することが可能となり、又、蒸留分離対象成分が同じであるが蒸留分離対象成分以外の成分が夫々異なる複数種の被蒸留処理液を処理対象とする場合に、被蒸留処理液の種類の数が異なることに対しては、被蒸留処理液の種類の数に応じた台数のサブユニットを設置することにより対応することが可能となり、いずれも、サブユニットの台数を設定して、そのように設定した台数のサブユニットをメインユニットと共に並び状態で設置するだけの簡単な作業にて、真空蒸留装置を設置することが可能となる。
これに対して、メインユニット及びサブユニットにユニット化しない場合は、処理対象の被蒸留処理液の量や、被蒸留処理液の種類の数に応じた蒸留釜の台数を設定し、そのように設定した台数の蒸留釜に応じた配管等の付帯部材を用意して、複数の蒸留釜、凝縮器及び吸引手段を付帯設備を用いて組み付ける必要があり、真空蒸留装置の設置作業が煩雑なものとなる。
従って、真空蒸留装置の設置作業を簡略化することができるようになった。
【０００９】
〔請求項３記載の発明〕
請求項３に記載の真空蒸留装置は、請求項１又は２において、前記加熱手段が、前記蒸留釜内への挿入状態に設置される加熱ヒータを備えて構成され、
その加熱ヒータが、先端部が閉塞された有底筒状のセラミックス製本体部とその内部に挿入される熱媒戻り管とを備えて、前記セラミックス製本体部の基端側から内部に供給される加熱用熱媒を前記熱媒戻り管を通して外部に排出するように構成されている点を特徴構成とする。
即ち、加熱用熱媒は、セラミックス製本体部の基端側から内部に供給されて、セラミックス製本体部内を通流した後、熱媒戻り管に流入してその熱媒戻り管を通して外部に排出される形態で通流し、そのようにセラミックス製本体部内を通流する加熱用熱媒の熱がセラミックス製本体部の周壁を通じて伝熱して、蒸留釜内の被蒸留処理液が加熱される。
そして、セラミックス製本体部は、先端部が閉塞された有底筒状の如き簡素な形状であるので、被蒸留処理液が濃縮されたときに生じる残滓がセラミックス製本体部に付着し難く、しかも、セラミックス自体が、前述の如き残滓が付着し難いものであるので、付着した残滓を除去するためのメンテナンスを無くす、又は、メンテナンスの頻度を低くすることが可能となり、メンテナンスに係わる負担を軽減することが可能となる。
ちなみに、有底筒状のセラミックス製本体部は、軸心が直線状の直筒状に形成すると最も形状が簡素となり好ましいが、Ｕ字筒状やＪ字筒状に形成すると、伝熱面積を広くしながらも、形状の簡素化を図ることができて、メンテナンスに係わる負担を軽減することが可能となる。
しかも、セラミックスは金属に比べて伝熱係数が大きいので、加熱ヒータを有底筒状の如き簡素な形状のセラミックス製本体部を備えて構成して、残滓が付着し難い簡素な形状として、伝熱面積を小さくしながらも、被蒸留処理液を蒸留分離処理に適切な温度に加熱することが可能となる。
又、セラミックスは酸やアルカリに腐食し難いので、加熱ヒータをセラミックス製本体部を備えて構成することにより、酸性やアルカリ性の被蒸留処理液を処理対象とする場合でも、加熱ヒータの寿命を長くすることが可能となるので、真空蒸留装置の耐久性を向上することが可能となる。
従って、メンテナンスに係わる負担を更に軽減することができるようになり、又、酸性やアルカリ性の被蒸留処理液を処理対象とする場合に、耐久性を向上することができるようになった。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて、本発明の実施の形態を説明する
図１に示すように、真空蒸留装置は、供給される被蒸留処理液を加熱する加熱手段Ｋを備えた蒸留釜１、その蒸留釜１内における被蒸留処理液の貯留レベルを調整する貯留レベル調整器２、蒸留釜１に接続される蒸気排出路３に吸引作用して、蒸留釜１内を減圧する吸引手段しての真空ポンプ４、蒸気排出路３を通流する蒸気を冷却水による冷却により液化する凝縮器５、その凝縮器５にて凝縮された蒸留液を貯留するバッファタンク６、及び、真空蒸留装置の各種制御を司る制御部７等を備えて構成してある。
【００１１】
そして、本発明においては、蒸留釜１として、異なる処理液貯留槽１１（供給源に相当する）より被蒸留処理液を供給可能な状態で複数の蒸留釜１を設け、蒸気排出路３を複数の蒸留釜１に並列状態に接続して、真空ポンプ４が複数の蒸留釜１内を減圧させ且つ凝縮器５が複数の蒸留釜１から合流状態で供給される蒸気を液化するように構成してある。
【００１２】
以下、真空蒸留装置の各部について説明を加える。
蒸留釜１は、有底円筒状の釜本体部１ｍと、その釜本体部１ｍの開口部を閉じる釜蓋体１ｃとを備えて構成し、更に、熱媒流動用加熱ジャケット１ｊを、釜本体部１ｍの外周部を囲む状態で形成してある。そして、その蒸留釜１の複数を（本実施形態では３台、図２及び図３参照）、夫々、釜本体部１ｍの軸心が上下方向を向く縦姿勢で配置してある。
各蒸留釜１を上述のように配置した状態で、熱媒流動用加熱ジャケット１ｊにおける上端部に位置する箇所には、加熱用水蒸気供給口１ｉを形成し、底部に位置する箇所にはドレイン排出口１ｅを形成してある。
各蒸留釜１の底部には残液排出路８を接続し、その残液排出路８には、蒸留釜１から残液を強制的に排出する残液排出用ポンプ９、及び、残液排出路８を開閉する残液排出用電磁弁Ｖ１を設けてある。
【００１３】
蒸気排出路３は、複数の蒸留釜１に並列状態に接続し、真空ポンプ４は、蒸気排出路３における各蒸留釜１に接続される部分を合流させる合流流路部分３Ｊに対して吸引作用するように設け、その合流流路部分３Ｊには、凝縮器５とバッファタンク６とを凝縮器５がバッファタンク６よりも上流側に位置するように設け、合流流路部分３Ｊにおける凝縮器５とバッファタンク６との間の個所、及び、バッファタンク６よりも下流側の個所の夫々に逆止弁１２を設けてある。尚、蒸気排出路３は、各蒸留釜１の上部の気相部に対して接続してある。
バッファタンク６は、上部に気相部を形成する状態で蒸留液を貯留するように構成してあり、そのバッファタンク６の気相部に蒸気排出路３の合流流路部分３Ｊを接続してある。
又、バッファタンク６の下端には、蒸留液排出路１３を接続してあり、その蒸留液排出路１３には、バッファタンク６内から蒸留液を排出する蒸留液排出用ポンプ１４、及び、蒸留液排出路１３を開閉する蒸留液排出用電磁弁Ｖ３を設けてある。
バッファタンク６には、内部に貯留される蒸留液の貯留レベルを検出する蒸留液レベルセンサ６ｓを備えてある。
【００１４】
複数の処理液貯留槽１１を設け、それら複数の処理液貯留槽１１と複数の蒸留釜１とを１対１で処理液供給路１０にて接続して、複数の蒸留釜１を、互いに異なる処理液貯留槽１１から被蒸留処理液が供給されるように設けてある。
そして、蒸気排出路３を通じての真空ポンプ４の吸引作用により、複数の蒸留釜１が減圧され、そのように減圧されることによる吸引力により、各蒸留釜１には、夫々に対応する処理液貯留層１１から処理液供給路１０を通じて被蒸留処理液が供給される。各処理液供給路１０には、蒸留釜１への被蒸留処理液の供給を断続する処理液供給用電磁弁Ｖ２を設けてある。
【００１５】
本実施形態においては、加熱手段Ｋとして、蒸留釜１内への挿入状態に設置される加熱ヒータＨと、上述の熱媒流動用加熱ジャケット１ｊとを備えて構成してある。
加熱ヒータＨについて説明を加えると、図４ないし図６に示すように、加熱ヒータＨは、先端部が閉塞された有底筒状のセラミックス製本体部１５とその内部に挿入される熱媒戻り管１６とを備えて、セラミックス製本体部１５の基端側から内部に供給される加熱用水蒸気を熱媒戻り管１６を通して外部に排出するように構成してある。ちなみに、セラミックス製本体部１５は、軸心が直線状で且つ径が軸心方向に略一定な直筒状に形成してある。
セラミックス製本体部１５の基端開口部を閉じるヒータ蓋体１７を設け、熱媒戻り管１６は、そのヒータ蓋体１７を貫通する状態でヒータ蓋体１７に支持し、更に、そのヒータ蓋体１７には、そのヒータ蓋体１７がセラミックス製本体部１５に取り付けられた状態でセラミックス製本体部１５内に連通する加熱用水蒸気供給部１８と、熱媒戻り管１６の基端に連通する加熱用水蒸気排出部１９とを設けてある。
そのヒータ蓋体１７は、セラミックス製本体部１５の基端開口縁に備えられた鍔部に係止される複数のナット部材２０と、ヒータ蓋体１７に挿通状態で設けられて、複数のナット部材２０に各別に螺挿される複数のボルト２１を用いて、セラミックス製本体部１５の基端開口部にテフロン製等のパッキング２９を介在させた状態で取り付けるようになっている。
【００１６】
ヒータ蓋体１７をセラミックス製本体部１５の基端開口部に取り付けた状態で、熱媒戻り管１６がセラミックス製本体部１５内の先端近くまで延びるように構成すると共に、熱媒戻り管１６におけるセラミックス製本体部１５内に挿入される部分の外周部には、その略全長にわたって螺旋状に羽根体２２を取り付けてある。そして、セラミックス製本体部１５の基端側に供給された加熱用水蒸気を螺旋状の羽根体２２の案内にてセラミックス製本体部１５内の先端にまで螺旋状に通流させた後、熱媒戻り管１６の先端開口部に流入させるようにすることにより、セラミックス製本体部１５内の略全長にわたって加熱用水蒸気を通流させるようにして、蒸留釜１内を効率良く加熱できるように構成してある。
【００１７】
図１に示すように、上述のように構成した加熱ヒータＨを、そのセラミックス製本体部１５が蒸留釜１の釜蓋体１ｃを貫通する状態で釜蓋体１ｃに支持させ、そのように加熱ヒータＨを支持させた釜蓋体１ｃを釜本体部１ｍに取り付けると、加熱ヒータＨが、そのセラミックス製本体部１５が同軸心状に釜内に挿入される状態で蒸留釜１に備えられることになる。
【００１８】
セラミックス製本体部１５の素材について説明を加えると、セラミックス製本体部１５の素材は、ケイ素と炭化ケイ素との混合物である。
ケイ素と炭化ケイ素との混合物には、ケイ素中に炭化ケイ素を分散させてなる混合物、炭化ケイ素にケイ素を含浸させてなる混合物が含まれる。
【００１９】
ケイ素中に炭化ケイ素を分散させてなる混合物としては、例えば、ケイ素と炭化ケイ素の焼結体、溶融したケイ素と炭化ケイ素を混合したものが挙げられる。
ケイ素と炭化ケイ素の焼結体は、平均粒径１〜１０００μｍ程度、好ましくは１〜１００μｍ程度の大きさのケイ素及び炭化ケイ素の粉末を均一に混合し、適当な焼結助剤、バインダー、可塑剤及び溶剤を加えて混練し、常法に従って成形して、窒素、アルゴンなどの不活性ガス中で、１５００〜２５００°Ｃ程度、好ましくは１６００〜２０００°Ｃ程度で、０．５〜２４時間程度、好ましくは、１〜１０時間程度焼成することにより得ることができる。ケイ素と炭化ケイ素の焼結体としては、東海高熱工業社製の高温用セラミック材料「リクライト（商品名）」などの市販品を利用しても良い。
【００２０】
焼結助剤としては、Ｂ、Ａｌ、Ａｌ_４Ｃ_８、Ａｌ_２Ｏ_３などが例示される。バインダーとしては、メチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースなどのセルロース系のバインダ―やポロビニルアルコールなどが挙げられる。可塑剤としては、グリセリン、ポリアルキルグリコールポリエチレングリコールなどが挙げられる。溶剤としては、水、エタノール、トルエン、メチルエチルケトンなどが挙げられる。
【００２１】
溶融したケイ素と炭化ケイ素を混合してなる混合物は、溶融したケイ素（１５００〜２５００°Ｃ程度、好ましくは１６００〜２０００°Ｃ程度）に炭化ケイ素の粉末（平均粒径１〜１０００μｍ程度、好ましくは１〜１００μｍ程度）を混合して成形したり、所望の形状の型に充填した炭化ケイ素粉末（平均粒径１〜１０００μｍ程度、好ましくは１〜１００μｍ程度）中に溶融したケイ素（１５００〜２５００°Ｃ程度、好ましくは１６００〜２０００°Ｃ程度）を流し込んで得ることができる。
【００２２】
炭化ケイ素にケイ素を含浸させた素材は、例えば下記のようにして得ることができる。
先ず、炭化ケイ素（平均粒径１〜１０００μｍ程度、好ましくは１〜１００μｍ程度）の粉末を、必要に応じて焼結助剤、バインダー、可塑剤、溶剤などを加えて混練し、常法に従って成形して、窒素、アルゴンなどの不活性ガス中で２０００〜３０００°Ｃ程度、好ましくは２５００〜３０００°Ｃ程度の温度で、０．５〜２４時間程度、好ましくは３〜１２時間程度焼成する方法により、炭化ケイ素の焼結体を得る。
あるいは、炭化ケイ素、ケイ素及び炭素を、必要に応じて焼結助剤、バインダー、可塑剤、溶剤などを加えて混練し、常法に従って成形して、窒素、アルゴンなどの不活性ガス中で１５００〜３０００°Ｃ程度、好ましくは１６００〜２４００°Ｃ程度の温度で、０．５〜２４時間程度、好ましくは５〜２４時間程度焼成する方法により、炭化ケイ素の焼結体を得ることができる。炭素としては、例えば粒径１〜１００μｍ程度の炭素の微粉末を用いることができる。
【００２３】
次いで、得られた炭化ケイ素の焼結体を、１５００〜２５００°Ｃ程度、好ましくは１６００〜２０００°Ｃ程度の温度の溶融したケイ素に、０．５〜２４時間程度、好ましくは１〜１２時間程度、必要に応じて０．１〜１０Ｐａ程度の圧力をかけて浸漬させ、ケイ素を炭化ケイ素焼結体に含浸させて得ることができる。
【００２４】
セラミックス製本体部１５の素材であるケイ素と炭化ケイ素との混合物において、ケイ素及び炭化ケイ素の合計重量を１００％とした場合のケイ素の割合は、特に限定されるものではないが、優れた耐久性を得るためには５〜６０重量％程度が好ましく、５〜３５重量％程度がより好ましい。
【００２５】
上述の如きケイ素と炭化ケイ素との混合物は、伝熱係数が大きく、又、酸及びアルカリに対する耐性に優れているので、このようなケイ素と炭化ケイ素との混合物をセラミックス製本体部１５の素材として用いると、加熱効率を向上してランニングコストを低廉化することができ、又、耐久性を向上することができる。
【００２６】
図１に示すように、ボイラ等の加熱用水蒸気供給源２３に接続した加熱用水蒸気供給路２４を、複数の蒸留釜１の加熱ヒータＨの加熱用水蒸気供給部１８に並列接続すると共に、加熱用水蒸気供給源２３に接続した加熱用水蒸気戻し路２５を、複数の蒸留釜１の加熱ヒータＨの加熱用水蒸気排出部１９に並列接続し、更に、加熱用水蒸気供給路２４において、各蒸留釜１の加熱ヒータＨに個別に接続される部分を分岐させて、その分岐部分を各蒸留釜１の熱媒流動用加熱ジャケット１ｊの加熱用水蒸気供給口１ｉに接続して、加熱用水蒸気供給源２３から、複数の蒸留釜１の加熱ヒータＨ及び熱媒流動用加熱ジャケット１ｊに加熱用水蒸気を並行して供給するように構成してある。又、加熱用水蒸気供給路２４において、各蒸留釜１の加熱ヒータＨに個別に接続される部分には、加熱ヒータＨ及び熱媒流動用加熱ジャケット１ｊへの加熱用水蒸気の供給を断続する加熱蒸気用電磁弁Ｖ４を設けてある。
ちなみに、各蒸留釜１において、加熱用水蒸気を加熱ヒータＨに通流させる流量と熱媒流動用加熱ジャケット１ｊに通流させる流量との比は、３対１程度である。
【００２７】
図１に示すように、貯留レベル調整器２は、複数の蒸留釜１の夫々に対して、底部を液相部連通路２６にて蒸留釜１の底部に連通し、且つ、上部の気相部を気相部連通部２７にて蒸留釜１の気相部に連通する状態で設けてあり、各貯留レベル調整器２には、貯留レベル調整器２内の被蒸留処理液の貯留レベルを検出する処理液貯留レベルセンサ２ｓを設けてある。
【００２８】
図１ないし図３に示すように、本実施形態においては、複数の蒸留釜１の一つ、その蒸留釜１に対応する貯留レベル調整器２、凝縮器５、バッファタンク６、真空ポンプ４、制御部７及び操作盤２８を備えるユニット状に組み付けてメインユニットＵｍを構成し、複数の蒸留釜１の一つ及びその蒸留釜１に対応する貯留レベル調整器２を備えるユニット状に組み付けてサブユニットＵｓを構成し、メインユニッＵｍとサブユニットＵｓとを並び状態に設置可能に構成してある。
そして、本実施形態においては、１台のメインユニッＵｍと２台のサブユニットＵｓとを並び状態に設置してある。
【００２９】
以下、図２及び図３に基づいて、メインユニッＵｍ及びサブユニットＵｓについて説明を加える。
メインユニットＵｍは、板状のメインユニットベース３１上に、蒸留釜１、凝縮器５、バッファタンク６、真空ポンプ４、制御部７及び操作盤２８を組み付けて構成してある。メインユニットベース３１の底面側には、複数の脚部３２を分散させて螺挿してあり、各脚部３２の螺挿量の変更調節により、メインユニットベース３１の高さを変更調節自在なように構成してある。
【００３０】
サブユニットＵｓは、幅（メインユニットＵｍ及びサブユニットＵｓの並び方向に直交する方向の寸法）がメインユニットベース３１と同幅の板状のサブユニットベース３３上に、蒸留釜１及び貯留レベル調整器２を組み付けて構成してある。サブユニットベース３３の底面側には、メインユニットベース３１と同様に、複数の脚部３２を分散させて螺挿してあり、各脚部３２の螺挿量の変更調節により、サブユニットベース３３の高さを変更調節自在なように構成してある。
【００３１】
上述のように、メインユニットＵｍ及びサブユニットＵｓを互いに同幅に構成することにより、それらのメインユニットＵｍ及びサブユニットＵｓを平面視で矩形状になる状態でコンパクトに並置することが可能なように構成してある。
【００３２】
蒸気排出路３においてメインユニットＵｍ及びサブユニットＵｓの各ユニットに対応するユニット対応流路部分３Ｅは、蒸留釜１に接続される蒸留釜接続流路部分３ｃの端部に、隣接するユニットのユニット対応流路部分３Ｅに接続される隣接ユニット接続流路部分３ｎの長手方向中間部を連通接続したＴ字状に形成してある。
そして、メインユニットＵｍ及びサブユニットＵｓを一列に並べた状態で、複数のユニット対応流路部分３Ｅの隣接ユニット接続流路部分３ｎが一連に連なって並ぶと共に、互いに隣接する隣接ユニット接続流路部分３ｎ同士の隣接する端部開口部同士を連通接続可能なように構成してある。
ちなみに、メインユニットＵｍのユニット対応流路部分３Ｅの隣接ユニット接続流路部分３ｎの一端側は、合流流路部分３Ｊに連通接続し、並び方向の端部に配置されるサブユニットＵｓのユニット対応流路部分３Ｅの隣接ユニット接続流路部分３ｎにおける前記並び方向端部側の開口部は、蓋体３４にて閉塞するように構成してある。
【００３３】
そして、上述のようにして、メインユニットＵｍ及びサブユニットＵｓを一列に並べると共に、隣接するユニット対応流路部分３Ｅ同士を連通接続することにより、蒸気排出路３が複数の蒸留釜１に並列状態に接続されて、真空ポンプ４が複数の蒸留釜１に対して吸引作用して、複数の蒸留釜１内が減圧されるように構成してある。
【００３４】
又、サブユニットＵｓを増設する場合には、増設するサブユニットＵｓを、既設のメインユニットＵｍ及びサブユニットＵｓにおける並び方向端部のサブユニットＵｓに隣接配置して、増設するサブユニットＵｓのユニット対応流路部分３Ｅを既設のサブユニットＵｓのユニット対応流路部分３Ｅに連通接続する簡単な作業により、増設したサブユニットＵｓの蒸留釜１に対して、真空ポンプ４を吸引作用させることができるように構成してある。
ちなみに、サブユニットＵｓが増設される場合を想定して、真空ポンプ４及び凝縮器５共に、能力に余裕のあるものを設けるようにしても良い。
【００３５】
次に、制御部７の制御動作について説明する。
制御部７は、操作盤２８から運転開始指令が指令されると、真空ポンプ４を作動させ、各蒸留釜１に対応する処理液供給用電磁弁Ｖ２及び加熱蒸気用電磁弁Ｖ４を開弁して、蒸留分離処理運転を開始する。
つまり、各蒸留釜１内が減圧され、その減圧による吸引力により、処理液供給路１０を通じて、貯留レベルが設定範囲内になるように各蒸留釜１に被蒸留処理液が供給され、又、加熱ヒータＨ及び熱媒流動用加熱ジャケット１ｊに加熱用水蒸気が通流されて、各蒸留釜１内の被蒸留処理液が加熱される。そして、各蒸留釜１内が減圧されると共に、被蒸留処理液が加熱されることに伴って、各蒸留釜１内の被蒸留処理液から蒸留分離対象成分が蒸発し、各蒸留釜１にて蒸発した蒸留分離対象成分の蒸気が蒸気排出路３の合流流路部分３Ｊに合流し、その合流流路部分３Ｊを通流する蒸留分離対象成分の蒸気が凝縮器５にて冷却水により冷却されて液化し、そのように液化した蒸留液がバッファタンク６内に貯留されることになり、各蒸留釜１内の被蒸留処理液から蒸留分離対象成分が蒸留分離されて回収されることになる。
【００３６】
上述の蒸留分離処理運転中は、各貯留レベル調整器２の処理液貯留レベルセンサ２ｓの検出情報に基づいて、貯留レベル調整器２における被蒸留処理液の貯留レベルを設定範囲内に維持するように、各処理液供給用電磁弁Ｖ２を開閉制御する。そして、蒸留釜１の被蒸留処理液の貯留レベルは貯留レベル調整器２の被蒸留処理液の貯留レベルと同一になるので、蒸留釜１の被蒸留処理液の貯留レベルが設定範囲内に維持されることになる。
つまり、被蒸留処理液の貯留レベルが下限値よりも低くなると処理液供給用電磁弁Ｖ２が開弁される。すると、処理液供給路１０を通じて蒸留釜１に被蒸留処理液が供給されて、蒸留釜１と貯留レベルが上昇するのと同様に貯留レベル調整器２の貯留レベルが上昇する。そして、貯留レベル調整器２の貯留レベルが上限値に達すると、処理液供給用電磁弁Ｖ２が閉弁されて、蒸留釜１への被蒸留処理液の供給が停止される。
【００３７】
又、バッファタンク６の蒸留液レベルセンサ６ｓの検出情報に基づいて、バッファタンク６における蒸留液の貯留レベルを設定範囲内に維持するように、蒸留液排出用電磁弁Ｖ３の開閉制御及び蒸留液排出用ポンプ１４の発停制御を実行する。
つまり、バッファタンク６の貯留レベルが上限値を越えると、蒸留液排出用電磁弁Ｖ３が開弁されると共に、蒸留液排出用ポンプ１４が作動されて、バッファタンク６から蒸留液が排出され、その排出に伴って、バッファタンク６の貯留レベルが下限値に達すると、蒸留液排出用電磁弁Ｖ３が閉弁されると共に、蒸留液排出用ポンプ１４が停止されて、バッファタンク６からの蒸留液の排出が停止される。
【００３８】
又、蒸留釜１毎に、蒸留釜１内に残留している残液を排出する残液排出指令が指令されるように構成してあり、残液排出指令が指令されると、残液排出指令が指令された蒸留釜１に対応する残液排出用電磁弁Ｖ１を開弁させると共に、残液排出用ポンプ９を作動させる。従って、残液排出指令が指令された蒸留釜１内から、残液が強制的に排出される。
ちなみに、前記残液排出指令は、操作盤２８により蒸留釜１毎に人為的に指令するように構成してある。
あるいは、蒸留分離処理が終期に達したことに相当する処理終期を検出する処理終期検出手段を蒸留釜１毎に設けて、その処理終期検出手段が処理終期を検出することに基づいて、前記残液排出指令が指令されるように構成することができる。
ちなみに、前記処理終期検出手段としては、例えば、蒸留分離処理運転を実行する運転時間を設定する運転時間設定部を設けて、蒸留分離処理運転の開始後、前記運転時間設定部にて設定された運転時間が経過することに基づいて、処理終期に達したことを検出するように構成することができる。
【００３９】
又、操作盤２８から運転停止指令が指令されると、処理液供給用電磁弁Ｖ２及び加熱蒸気用電磁弁Ｖ４を閉弁し、それらの閉弁後、設定時間が経過すると真空ポンプ４を停止させて、蒸留分離処理運転を停止する。
【００４０】
真空蒸留装置を上述のように構成して、複数の処理液貯留槽１１に、同じ被蒸留処理液を貯留するようにすると、複数の蒸留釜１に同じ被蒸留処理液が供給されるので、複数の蒸留釜１を用いて、同じ被蒸留処理液を蒸留分離処理することが可能となり、蒸留分離処理量を多くすることが可能になる。
【００４１】
又、複数の処理液貯留槽１１に、蒸留分離対象成分が同一であるが蒸留分離対象成分以外の成分が夫々異なる被蒸留処理液を貯留するようにすると、複数の蒸留釜１に異なる種類の被蒸留処理液が供給されて、複数の蒸留釜１を用いて、複数種の被蒸留処理液を蒸留分離処理することが可能になる。
【００４２】
又、真空蒸留装置に設けた複数の処理液貯留槽１１のうち、一部の複数の処理液貯留槽１１には同じ被蒸留処理液を貯留し、他の処理液貯留槽１１には、前記一部の複数の処理液貯留槽１１に貯留した被蒸留処理液とは、蒸留分離対象成分は同じであるがそれ以外の成分が異なる異種類の被蒸留処理液を貯留するようにして、真空蒸留装置に設けた複数の蒸留釜１のうちの一部の複数の蒸留釜１で同じ被蒸留処理液を蒸留分離処理し、他の蒸留釜１では前記異種類の被蒸留処理液を蒸留分離処理するようにしても良い。
【００４３】
ちなみに、蒸留分離対象成分が水である場合は、例えば、蒸留釜１内を１２．７ｋＰａ程度に減圧し、蒸留釜１内を７０°Ｃ程度に加熱する。
【００４４】
〔別実施形態〕
次に別実施形態を説明する。
（イ）　上記の実施形態においては、複数の処理液貯留槽１１を設け、それら複数の処理液貯留槽１１と複数の蒸留釜１とを１対１で処理液供給路１０にて接続する場合について例示したが、これに代えて、１つの処理液貯留槽１１を設けて、その一つの処理液貯留槽１１に対して、処理液供給路１０にて複数の蒸留釜１を並列接続して、一つの処理液貯留槽１１から複数の蒸留釜１に被蒸留処理液を供給するようにしても良い。
【００４５】
（ロ）　被蒸留処理液の供給源の具体例としては、上記の実施形態において例示した処理液貯留槽１１に限定されるものではなく、各種のものが適用可能であり、例えば、被蒸留処理液が連続して供給される流路を適用することができる。
【００４６】
（ハ）　サブユニットＵｓの設置台数は、上記の実施形態において例示した２台に限定されるものではなく、処理対象の被蒸留処理液の量、又は、前述の如き被蒸留処理液の種類の数に応じて設定することができる。
又、処理対象の被蒸留処理液の量が増加したり、前述の如き被蒸留処理液の種類の数が増加したりした場合、サブユニットＵｓを増設することも可能である。
又、サブユニットＵｓを設けずに、メインユニットＵｍのみで真空蒸留装置を構成することも可能である。
【００４７】
（ニ）　上記の実施形態においては、真空蒸留装置を、蒸留釜１を１台ずつ備えたメインユニットＵｍとサブユニットＵｓからなる複数のユニットに分割した状態に構成する場合について例示したが、複数のユニットに分割することなく一つのユニットとして構成しても良い。
【００４８】
（ホ）　蒸気排出路３の各ユニット対応流路部分３Ｅにおける蒸留釜接続流路部分３ｃに、電磁弁を設けて、その電磁弁の開閉操作により、複数の蒸留釜１のうちから、真空ポンプ４にて吸引作用させるものを選択自在なように構成しても良い。
【００４９】
（ヘ）　加熱手段Ｋの具体構成としては、上記実施形態において例示した如き加熱用熱媒を熱源とする加熱ヒータＨに限定されるものではない。
例えば、蒸留釜１内に設けられる電気ヒータや、蒸留釜１の外部から加熱作用するように設けられる電気ヒータ等にて構成することができる。
【００５０】
（ト）　セラミックス製本体部１５の素材としては、上記の実施形態において例示したものに限定されるものではなく、炭化ケイ素、酸化アルミニウム等の種々のセラミックスを用いることができる。
【００５１】
（チ）　蒸留釜１は通常はステンレス等の金属製であり、酸性の被蒸留処理液を処理対象とする場合は、蒸留釜１の腐食を防止するために、蒸留釜１の内面をテフロン等の耐酸性の材料にてコーティングする。従って、蒸留釜１の内面をコーティングする場合は、そのコーティング膜により伝熱性能が低下するので、熱媒流動用加熱ジャケット１ｊは省略するのが好ましい。
【００５２】
（リ）　セラミックス製本体部１５の形状は、上記実施形態において例示した如き直筒状に限定されるものではなく、Ｕ字筒状やＪ字筒状等、種々の形状が可能であるが、形状を簡素化する上では、直筒状が最も好ましい。
【００５３】
（ヌ）　加熱ヒータＨに通流させる加熱用熱媒としては、上記の実施形態において例示した如き水蒸気に限定されるものではなく、温水、油等種々の熱媒を用いることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態に係る真空蒸留装置の全体構成を示すブロック図
【図２】実施形態に係る真空蒸留装置の全体構成を示す正面図
【図３】実施形態に係る真空蒸留装置の全体構成を示す平面図
【図４】実施形態に係る真空蒸留装置の加熱ヒータの縦断面図
【図５】実施形態に係る真空蒸留装置の加熱ヒータの平面図
【図６】実施形態に係る真空蒸留装置の加熱ヒータの横断平面図
【符号の説明】
１　　蒸留釜
３　　蒸気排出路
４　　吸引手段
５　　凝縮器
１１　供給源
１５　セラミックス製本体部
１６　熱媒戻り管
Ｈ　　加熱ヒータ
Ｋ　　加熱手段
Ｕｍ　メインユニット
Ｕｓ　サブユニット[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention is a distillation kettle equipped with a heating means for heating the supplied liquid to be distilled,
A suction means for depressurizing the inside of the distillation pot by sucking the steam discharge path connected to the distillation pot;
The present invention relates to a vacuum distillation apparatus provided with a condenser for liquefying steam flowing through the steam discharge path.
[0002]
[Prior art]
Such a vacuum distillation apparatus reduces the boiling point of the components to be distilled and contained in the liquid to be distilled by heating the liquid to be distilled by a heating means in a state where the inside of the distillation kettle is depressurized. The component is efficiently evaporated, and the vapor of the distillation separation target component is liquefied in a condenser to perform a distillation separation process for separating the distillation separation target component as a distillate. For example, moisture is removed from waste liquid containing water. It is used for distillative separation treatment as a distillate to reduce the amount of waste liquid discarded or for distillative separation treatment of solvent from waste liquid containing solvent.
[0003]
In such a vacuum distillation apparatus, conventionally, one distillation kettle is provided as a distillation kettle, a steam discharge path is connected to the one distillation kettle, and one distillation kettle is depressurized by suction means, and a condenser The vapor of the distillation separation target component supplied from one distillation kettle is liquefied (see, for example, Patent Document 1).
[0004]
[Patent Document 1]
JP-A-6-63304
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, in installing such a vacuum distillation apparatus, the amount of the liquid to be distilled to be processed differs depending on the installation location, and the components to be distilled and separated are the same, but components other than the components to be distilled and separated There are also places where a plurality of types of to-be-distilled treatment liquids are treated.
That is, such a vacuum distillation apparatus can be used for, for example, concentrating and reducing various waste liquids such as water-soluble cutting liquid, alkali cleaning waste liquid, surfactant waste liquid and plating waste liquid, regenerating water-containing waste oil, or recovering solvent components of waste solvents. The amount of the liquid to be distilled varies depending on the installation location of the vacuum distillation apparatus, and the above-mentioned plural types of liquid to be distilled may be treated. is there.
On the other hand, the conventional vacuum distillation apparatus has a configuration in which one distillation kettle is depressurized by a suction means, and the vapor of the distillation separation target component generated from the one distillation kettle is liquefied by a condenser. From the above, if there is a large amount of the liquid to be distilled to be processed and it cannot be processed with one vacuum processing apparatus, install a number of vacuum processing apparatuses according to the amount of the liquid to be distilled to be processed. become.
In addition, when a plurality of types of to-be-distilled processing liquids as described above are to be processed, a vacuum distillation apparatus will be installed for each type of to-be-distilled processing liquid. Multiple units will be installed.
However, when a plurality of vacuum distillation apparatuses are installed as in the case where the amount of the processing target distillation liquid is large or when a plurality of types of target processing liquids are processed, In addition, a plurality of condensers and a plurality of suction means are subject to maintenance, and the maintenance work becomes complicated, increasing the burden on maintenance.
[0006]
The present invention has been made in view of such circumstances, and its purpose is related to maintenance even when the amount of the treatment liquid to be distilled is large or when a plurality of kinds of distillation treatment liquids are to be treated. An object of the present invention is to provide a vacuum distillation apparatus that can reduce the burden.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
[Invention of Claim 1]
The vacuum distillation apparatus according to claim 1, a distillation kettle provided with a heating means for heating the supplied liquid to be distilled,
A suction means for depressurizing the inside of the distillation pot by sucking the steam discharge path connected to the distillation pot;
A condenser for liquefying the steam flowing through the steam discharge path,
As the distillation kettle, a plurality of distillation kettles are provided in a state where the liquid to be distilled can be fed from different sources,
The steam discharge path is connected in parallel to the plurality of distillation stills, the suction means depressurizes the plurality of distillation stills, and the condenser supplies steam supplied from the plurality of distillation stills in a combined state. A characteristic configuration is a point configured to be liquefied.
That is, to-be-distilled process liquid is supplied to a plurality of distillation kettles from different sources, and the suction means acts on the steam discharge passages connected in parallel to the plurality of distillation kettles, so that the plurality of distillation kettles are The pressure is reduced, and the vapor of the distillation separation target component that is generated from the plurality of distillation kettles and flows through the vapor discharge path in a combined state is liquefied in the condenser.
Here, the state in which the liquid to be distilled can be supplied from different sources means the state in which the liquid to be distilled is supplied from a plurality of different sources that respectively supply the same liquid to be distilled, and the components to be separated by distillation are the same However, a state in which the liquid to be distilled is supplied from a plurality of different sources that supply different liquids to be distilled to components other than the components to be separated by distillation, and a liquid to be distilled is supplied from one source. Including the state.
Then, a state in which the liquid to be distilled is supplied from a plurality of different sources supplying the same liquid to be distilled to the plurality of distillation stills, or a liquid to be distilled is supplied from a single supply source. In this state, the same liquid to be distilled is supplied to a plurality of distillation kettles, the components to be distilled and separated from the liquid to be distilled in each distillation kettle, and the distillation separation generated in each kettle as such. The steam of the target component flows through the steam discharge path in a combined state and is liquefied by the condenser, and the same distillation target treatment liquid can be distilled and separated using a plurality of distillation stills. Therefore, it becomes possible to process a large amount of the liquid to be distilled.
In addition, when the distillation target liquids are supplied from a plurality of different sources for supplying the distillation target processing liquids having the same target components for distillation separation but different components other than the target components for distillation separation, Different types of distillation target liquids will be supplied to the tank, but since the components to be distilled and separated are the same, the components to be distilled and separated are evaporated from the liquid to be distilled as desired in each distillation tank. In this way, the vapors of the components subject to distillation separation generated in each distillation kettle flow through the vapor discharge path in a combined state and are liquefied by the condenser. A plurality of types of distillation target liquids can be subjected to distillation separation treatment collectively.
Therefore, although a plurality of distillation kettles are provided, a configuration in which one suction means and one condenser are provided, respectively, enables a large amount of the treatment liquid to be distilled and a plurality of types of the distillation treatment liquids to be processed. As a maintenance target, although there are a plurality of distillation kettles, there are one suction means and one condenser each, so that the maintenance work can be simplified and the burden on maintenance can be reduced. It becomes possible. In short, it is possible to provide a vacuum distillation apparatus that can reduce the burden associated with maintenance even when the amount of the liquid to be distilled to be processed is large or when multiple types of liquid to be distilled are to be processed. It was.
[0008]
[Invention of Claim 2]
A vacuum distillation apparatus according to a second aspect of the present invention is the vacuum distillation apparatus according to the first aspect, wherein a main unit is configured by assembling one of the plurality of distillation kettles, the condenser, and the suction unit into a unit shape. It is characterized by the fact that a subunit is constructed by assembling it into a unit comprising one of the stills, and that the main unit and the subunit can be installed side by side.
That is, a vacuum distillation apparatus is installed by arranging one of a plurality of distillation stills, a main unit including a condenser and suction means, and a subunit including one of the plurality of distillation stills in a line. .
In other words, it is possible to cope with the difference in the amount of the processing target distillation treatment liquid by installing a number of subunits corresponding to the amount of the processing target distillation processing liquid. In the case where a plurality of types of to-be-distilled processing liquids having the same separation target component but different components other than the distillation separation target component are to be processed, the difference in the number of types of to-be-distilled processing liquids It is possible to respond by installing the number of subunits corresponding to the number of types of distillation treatment liquid. In both cases, the number of subunits is set, and the number of subunits set as such is the main unit. In addition, it is possible to install the vacuum distillation apparatus by a simple operation that is simply installed in a line.
On the other hand, if the main unit and sub-unit are not unitized, set the number of distillation kettles according to the amount of the liquid to be distilled and the number of types of liquid to be distilled, and so on. It is necessary to prepare auxiliary members such as pipes according to the number of distillation kettles set, and to assemble multiple distillation kettles, condensers and suction means using auxiliary equipment, and the installation work of the vacuum distillation apparatus is complicated It becomes.
Accordingly, the installation work of the vacuum distillation apparatus can be simplified.
[0009]
[Invention of Claim 3]
A vacuum distillation apparatus according to a third aspect of the present invention is the vacuum distillation apparatus according to the first or second aspect, wherein the heating means includes a heater installed in an insertion state into the distillation kettle.
The heater includes a bottomed cylindrical ceramic body with a closed end and a heat medium return pipe inserted into the ceramic body, and is supplied to the inside from the base end side of the ceramic body. The heating heat medium to be heated is discharged to the outside through the heat medium return pipe.
That is, the heating medium is supplied to the inside from the base end side of the ceramic body, flows through the ceramic body, flows into the heat medium return pipe, and is discharged to the outside through the heat medium return pipe. The heat of the heating heat medium flowing through the ceramic main body is transferred through the peripheral wall of the ceramic main body, so that the liquid to be distilled in the distillation kettle is heated.
The ceramic body has a simple shape such as a bottomed cylinder with a closed end, so that residues generated when the liquid to be distilled is concentrated are less likely to adhere to the ceramic body. The ceramic itself is difficult to attach the residue as described above, so it is possible to eliminate the maintenance for removing the attached residue or reduce the frequency of the maintenance, thereby reducing the maintenance burden. It becomes possible.
By the way, the bottomed cylindrical body made of ceramic is the most simple and preferable when the shaft center is formed in a straight cylindrical shape, but if it is formed in a U-shaped or J-shaped tube, the heat transfer area is widened. However, simplification of the shape can be achieved, and the burden on maintenance can be reduced.
In addition, since ceramic has a larger heat transfer coefficient than metal, the heater is provided with a ceramic body with a simple shape such as a bottomed cylindrical shape so that the residue does not easily adhere to the residue. It is possible to heat the liquid to be distilled to a temperature suitable for the distillation separation process while reducing the heat area.
In addition, since ceramics are not easily corroded by acids and alkalis, the heater is provided with a ceramic body, so that the life of the heater can be extended even when acidic or alkaline liquids to be distilled are processed. Therefore, it is possible to improve the durability of the vacuum distillation apparatus.
Therefore, the burden on maintenance can be further reduced, and the durability can be improved when an acidic or alkaline liquid to be distilled is to be treated.
[0010]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
As shown in FIG. 1, the vacuum distillation apparatus includes a distillation kettle 1 provided with a heating means K for heating the supplied to-be-distilled processing liquid, and a storage level for adjusting the storing level of the to-be-distilled processing liquid in the distillation kettle 1. The vacuum pump 4 as a suction means for reducing the pressure in the distillation pot 1 by sucking the regulator 2 and the steam discharge path 3 connected to the distillation pot 1, and the steam flowing through the steam discharge path 3 is cooled by cooling water A condenser 5 that liquefies by cooling, a buffer tank 6 that stores a distillate condensed in the condenser 5, a control unit 7 that performs various controls of the vacuum distillation apparatus, and the like are provided.
[0011]
In the present invention, as the distillation pot 1, a plurality of distillation pots 1 are provided in a state in which the processing liquid to be distilled can be supplied from different processing liquid storage tanks 11 (corresponding to the supply sources), and a plurality of steam discharge passages 3 are provided. The vacuum pump 4 is configured to depressurize the plurality of distillation kettles 1 and the condenser 5 liquefies steam supplied from the plurality of distillation kettles 1 in a combined state. It is.
[0012]
Hereinafter, each part of the vacuum distillation apparatus will be described.
The distillation kettle 1 includes a bottomed cylindrical kettle main body 1m and a kettle lid 1c that closes the opening of the kettle main body 1m, and further includes a heating medium flow heating jacket 1j. It is formed so as to surround the outer periphery of the portion 1m. A plurality of distillation kettles 1 (three in this embodiment, see FIGS. 2 and 3) are arranged in a vertical posture in which the axial center of the kettle main body 1m faces the vertical direction.
With each distillation kettle 1 arranged as described above, a heating steam supply port 1i is formed at a position located at the upper end portion of the heating jacket 1j for heat medium flow, and a drain discharge port is located at the bottom portion. An outlet 1e is formed.
A residual liquid discharge path 8 is connected to the bottom of each distillation tank 1, and a residual liquid discharge pump 9 for forcibly discharging the residual liquid from the distillation pot 1 and a residual liquid discharge are connected to the residual liquid discharge path 8. A residual liquid discharge solenoid valve V1 for opening and closing the passage 8 is provided.
[0013]
The steam discharge path 3 is connected in parallel to the plurality of distillation stills 1, and the vacuum pump 4 is suctioned to the merged flow path portion 3J that joins the portions connected to the respective distillation stills 1 in the steam discharge path 3. In the merging channel portion 3J, the condenser 5 and the buffer tank 6 are provided so that the condenser 5 is located upstream of the buffer tank 6, and the condenser 5 in the merging channel portion 3J is provided. The check valve 12 is provided at a location between the buffer tank 6 and a location downstream of the buffer tank 6. The steam discharge path 3 is connected to the gas phase part at the top of each distillation kettle 1.
The buffer tank 6 is configured to store the distillate in a state in which a gas phase portion is formed in the upper portion, and a confluence channel portion 3J of the vapor discharge path 3 is connected to the gas phase portion of the buffer tank 6. is there.
A distillate discharge path 13 is connected to the lower end of the buffer tank 6, and the distillate discharge path 13 is connected to a distillate discharge pump 14 for discharging the distillate from the buffer tank 6, and the distillation. A distillate discharge solenoid valve V3 for opening and closing the liquid discharge passage 13 is provided.
The buffer tank 6 is provided with a distillate level sensor 6s for detecting the storage level of the distillate stored inside.
[0014]
A plurality of treatment liquid storage tanks 11 are provided, the plurality of treatment liquid storage tanks 11 and the plurality of distillation pots 1 are connected one-to-one by the treatment liquid supply path 10, and the plurality of distillation tanks 1 are different from each other. A process liquid to be distilled is supplied from the process liquid storage tank 11.
A plurality of distillation kettles 1 are depressurized by the suction action of the vacuum pump 4 through the steam discharge passage 3, and each of the distilling kettles 1 has a corresponding treatment liquid by a suction force caused by such depressurization. A to-be-distilled process liquid is supplied from the storage layer 11 through the process liquid supply path 10. Each treatment liquid supply path 10 is provided with a treatment liquid supply electromagnetic valve V2 for intermittently supplying the distillation target liquid to the distillation kettle 1.
[0015]
In the present embodiment, the heating means K includes a heater H installed in a state of being inserted into the distillation still 1 and the above-described heating jacket 1j for flowing a heat medium.
The heater H will be described below. As shown in FIGS. 4 to 6, the heater H includes a bottomed cylindrical ceramic main body 15 with a closed end and a heat medium return inserted in the inside. The heating steam supplied to the inside from the base end side of the ceramic main body 15 is discharged to the outside through the heating medium return pipe 16. Incidentally, the ceramic main body 15 is formed in a straight cylindrical shape having an axial center that is linear and whose diameter is substantially constant in the axial direction.
A heater lid 17 that closes the base end opening of the ceramic body 15 is provided, and the heat medium return pipe 16 is supported by the heater lid 17 in a state of passing through the heater lid 17, and further, the heater lid 17, the heater lid 17 is attached to the ceramic main body 15, and the heating steam supply unit 18 communicates with the ceramic main body 15 and the heating medium communicates with the proximal end of the heating medium return pipe 16. A water vapor discharge unit 19 is provided.
The heater lid body 17 is provided in a state of being inserted into the plurality of nut members 20 that are locked to the flange provided on the base end opening edge of the ceramic main body section 15 and the heater lid body 17, and includes a plurality of nuts. A plurality of bolts 21 that are screwed into the member 20 are used to attach the packing 20 made of Teflon or the like to the proximal end opening of the ceramic body 15.
[0016]
In a state where the heater lid 17 is attached to the proximal end opening of the ceramic body 15, the heat medium return pipe 16 extends to the vicinity of the tip in the ceramic body 15, and the heat medium return pipe 16 A blade body 22 is helically attached to the outer peripheral portion of the portion inserted into the ceramic main body 15 over substantially the entire length thereof. The heating water vapor supplied to the base end side of the ceramic body portion 15 is spirally passed to the tip of the ceramic body portion 15 by the guide of the spiral blade body 22, and then the heating medium By making it flow into the opening of the front end of the return pipe 16, the inside of the distillation pot 1 can be efficiently heated so that the heating steam flows through substantially the entire length of the ceramic body 15. It is.
[0017]
As shown in FIG. 1, the heater H configured as described above is supported by the lid 1c with the ceramic main body portion 15 penetrating the kettle lid 1c of the distillation kettle 1, and heated as such. When the kettle lid 1c supporting the heater H is attached to the kettle main body 1m, the heater H is provided in the distillation kettle 1 with the ceramic main body 15 inserted coaxially into the kettle. become.
[0018]
When the material of the ceramic body portion 15 is described, the material of the ceramic body portion 15 is a mixture of silicon and silicon carbide.
The mixture of silicon and silicon carbide includes a mixture obtained by dispersing silicon carbide in silicon and a mixture obtained by impregnating silicon into silicon carbide.
[0019]
Examples of the mixture obtained by dispersing silicon carbide in silicon include a sintered body of silicon and silicon carbide, and a mixture of molten silicon and silicon carbide.
A sintered body of silicon and silicon carbide is obtained by uniformly mixing silicon and silicon carbide powder having an average particle size of about 1 to 1000 μm, preferably about 1 to 100 μm, and then mixing an appropriate sintering aid, binder, plastic An agent and a solvent are added and kneaded, molded according to a conventional method, and in an inert gas such as nitrogen or argon, about 1500 to 2500 ° C, preferably about 1600 to 2000 ° C, for 0.5 to 24 hours. It can be obtained by baking to a degree, preferably about 1 to 10 hours. As the sintered body of silicon and silicon carbide, a commercially available product such as a high-temperature ceramic material “Liquerite (trade name)” manufactured by Tokai Koetsu Kogyo Co., Ltd. may be used.
[0020]
As sintering aids, B, Al, Al ₄ C ₈ , Al ₂ O ₃ Etc. are exemplified. Examples of the binder include cellulose binders such as methylcellulose, carboxymethylcellulose, and hydroxypropylmethylcellulose, and polyvinyl alcohol. Examples of the plasticizer include glycerin and polyalkyl glycol polyethylene glycol. Examples of the solvent include water, ethanol, toluene, methyl ethyl ketone and the like.
[0021]
A mixture obtained by mixing molten silicon and silicon carbide is obtained by adding silicon carbide powder (average particle size of about 1 to 1000 μm, preferably about 1500 to 2500 ° C., preferably about 1600 to 2000 ° C.) Silicon (1500-2500 °) melted in silicon carbide powder (average particle size of about 1-1000 μm, preferably about 1-100 μm) filled with a mold having a desired shape. C, preferably about 1600 to 2000 ° C.).
[0022]
A material obtained by impregnating silicon carbide with silicon can be obtained, for example, as follows.
First, a powder of silicon carbide (average particle size of about 1 to 1000 μm, preferably about 1 to 100 μm) is kneaded with a sintering aid, a binder, a plasticizer, a solvent, etc., if necessary, and molded according to a conventional method. And baking in an inert gas such as nitrogen or argon at a temperature of about 2000 to 3000 ° C, preferably about 2500 to 3000 ° C for about 0.5 to 24 hours, preferably about 3 to 12 hours. Thus, a sintered body of silicon carbide is obtained.
Alternatively, silicon carbide, silicon, and carbon are kneaded by adding a sintering aid, a binder, a plasticizer, a solvent, and the like, if necessary, molded according to a conventional method, and 1500 in an inert gas such as nitrogen or argon. A sintered body of silicon carbide can be obtained by a method of firing at a temperature of about ˜3000 ° C., preferably about 1600-2400 ° C., for about 0.5-24 hours, preferably about 5-24 hours. As the carbon, for example, a fine powder of carbon having a particle size of about 1 to 100 μm can be used.
[0023]
Next, the obtained silicon carbide sintered body is melted into molten silicon having a temperature of about 1500 to 2500 ° C, preferably about 1600 to 2000 ° C, for about 0.5 to 24 hours, preferably 1 to 12 hours. It can be obtained by immersing under a pressure of about 0.1 to 10 Pa as required, and impregnating the silicon carbide sintered body with silicon.
[0024]
In the mixture of silicon and silicon carbide, which is the material of the ceramic body 15, the silicon ratio is not particularly limited when the total weight of silicon and silicon carbide is 100%, but excellent durability Is preferably about 5 to 60% by weight, more preferably about 5 to 35% by weight.
[0025]
Since the mixture of silicon and silicon carbide as described above has a large heat transfer coefficient and is excellent in resistance to acids and alkalis, such a mixture of silicon and silicon carbide is used as the material of the ceramic body 15. When used, the heating efficiency can be improved, the running cost can be reduced, and the durability can be improved.
[0026]
As shown in FIG. 1, a heating steam supply path 24 connected to a heating steam supply source 23 such as a boiler is connected in parallel to a heating steam supply section 18 of a heater H of a plurality of distillation kettles 1 and heated. The heating steam return path 25 connected to the steam supply source for heating 23 is connected in parallel to the heating steam discharge section 19 of the heater H of the plurality of distillation kettles 1. A portion that is individually connected to one heater H is branched, and the branched portion is connected to a heating steam supply port 1 i of a heating medium flow heating jacket 1 j of each distillation pot 1 to supply a heating steam supply source. 23, the steam for heating is supplied in parallel to the heaters H of the plurality of distillation pots 1 and the heating jacket 1j for flowing the heat medium. Further, in the heating steam supply path 24, heating for intermittently supplying the heating steam to the heating heater H and the heating medium flow heating jacket 1 j is connected to a portion individually connected to the heating heater H of each distillation pot 1. A steam solenoid valve V4 is provided.
Incidentally, in each distillation pot 1, the ratio of the flow rate for flowing the heating water vapor to the heater H and the flow rate for flowing the heating medium flow heating jacket 1j is about 3 to 1.
[0027]
As shown in FIG. 1, the storage level adjuster 2 communicates the bottom of each of the plurality of stills 1 with the bottom of the still 1 through a liquid phase communication passage 26 and the upper gas phase. Are connected to the gas phase portion of the distillation still 1 at the gas phase communication portion 27, and each storage level adjuster 2 has a storage level of the liquid to be distilled in the storage level adjuster 2. A processing liquid storage level sensor 2s to be detected is provided.
[0028]
As shown in FIGS. 1 to 3, in the present embodiment, one of a plurality of distillation pots 1, a storage level adjuster 2 corresponding to the distillation pot 1, a condenser 5, a buffer tank 6, a vacuum pump 4, The main unit Um is configured by assembling in a unit shape including the control unit 7 and the operation panel 28, and is assembled into a unit shape including one of a plurality of distillation kettles 1 and a storage level adjuster 2 corresponding to the distilling kettle 1. The unit Us is configured so that the main unit Um and the sub unit Us can be installed side by side.
In this embodiment, one main unit Um and two subunits Us are arranged in a line.
[0029]
Hereinafter, the main unit Um and the subunit Us will be described with reference to FIGS. 2 and 3.
The main unit Um is configured by assembling a distillation pot 1, a condenser 5, a buffer tank 6, a vacuum pump 4, a control unit 7 and an operation panel 28 on a plate-like main unit base 31. A plurality of leg portions 32 are screwed into the bottom side of the main unit base 31 so that the height of the main unit base 31 can be changed and adjusted by changing the screwing amount of each leg portion 32. It is configured.
[0030]
The sub unit Us has a width (dimension in a direction perpendicular to the direction in which the main unit Um and the sub unit Us are arranged) on the plate-like sub unit base 33 having the same width as the main unit base 31. The container 2 is assembled. Similar to the main unit base 31, a plurality of leg portions 32 are dispersed and screwed onto the bottom surface side of the sub unit base 33. The height can be changed and adjusted.
[0031]
As described above, by configuring the main unit Um and the subunit Us to have the same width, it is possible to arrange the main unit Um and the subunit Us compactly in a rectangular shape in plan view. It is configured.
[0032]
The unit corresponding flow path portion 3E corresponding to each unit of the main unit Um and the sub unit Us in the steam discharge path 3 is a unit of an adjacent unit at the end of the distillation still connection channel portion 3c connected to the distillation still 1. It is formed in a T-shape in which the middle part in the longitudinal direction of the adjacent unit connection flow path part 3n connected to the corresponding flow path part 3E is connected in communication.
In addition, adjacent unit connection flow path portions 3n of the plurality of unit corresponding flow path portions 3E are arranged in series in a state where the main units Um and the subunits Us are arranged in a line, and adjacent unit connection flow path portions adjacent to each other. Adjacent end openings of 3n are configured to communicate with each other.
Incidentally, one end side of the adjacent unit connection flow path part 3n of the unit corresponding flow path part 3E of the main unit Um is connected to the merge flow path part 3J and corresponds to the unit Us of the subunit Us arranged at the end in the arrangement direction. The opening on the end side in the arrangement direction of the adjacent unit connection flow path portion 3n of the flow path portion 3E is configured to be closed by a lid 34.
[0033]
Then, as described above, the main units Um and the subunits Us are arranged in a line, and the adjacent unit-corresponding flow path portions 3E are connected to each other so that the steam discharge paths 3 are in parallel with the plurality of distillation stills 1. The vacuum pump 4 is configured to suck the plurality of distillation kettles 1 so that the insides of the plurality of distillation kettles 1 are depressurized.
[0034]
In addition, when adding the subunits Us, the subunits Us to be added are arranged adjacent to the subunits Us at the end in the arrangement direction of the existing main unit Um and the subunits Us, and the units of the subunits Us to be added are added. By a simple operation of connecting the corresponding flow path portion 3E to the unit corresponding flow path portion 3E of the existing subunit Us, the vacuum pump 4 can be sucked to the distillation kettle 1 of the added subunit Us. It is constituted as follows.
By the way, assuming that the subunit Us is added, both the vacuum pump 4 and the condenser 5 may be provided with sufficient capacity.
[0035]
Next, the control operation of the control unit 7 will be described.
When an operation start command is instructed from the operation panel 28, the control unit 7 operates the vacuum pump 4 to open the treatment liquid supply solenoid valve V2 and the heating steam solenoid valve V4 corresponding to each distillation kettle 1. Then, the distillation separation processing operation is started.
That is, the inside of each distillation pot 1 is depressurized, and the to-be-distilled processing liquid is supplied to each distillation pot 1 through the processing liquid supply path 10 so that the storage level is within the set range by the suction force due to the reduced pressure, Steam for heating is passed through the heater H and the heating jacket 1j for flowing the heat medium, and the liquid to be distilled in each distillation kettle 1 is heated. Then, as the inside of each distillation pot 1 is depressurized and the process liquid to be distilled is heated, the distillation separation target component evaporates from the process liquid to be distilled in each distillation pot 1, and The vapor of the distillation separation target component evaporated in this way merges into the confluence channel portion 3J of the vapor discharge passage 3, and the vapor of the distillation separation target component flowing through the confluence passage portion 3J is cooled by the condenser 5 with cooling water. The liquefied distillate is stored in the buffer tank 6, and the components to be distilled and separated are distilled and recovered from the to-be-distilled liquid in each distiller 1. Become.
[0036]
During the above-described distillation separation processing operation, the storage level of the to-be-distilled processing liquid in the storage level adjuster 2 is maintained within the set range based on the detection information of the processing liquid storage level sensor 2s of each storage level adjuster 2. In addition, each process liquid supply electromagnetic valve V2 is controlled to open and close. And since the storage level of the to-be-distilled process liquid of the distillation pot 1 becomes the same as the storage level of the to-be-distilled process liquid of the storage level adjuster 2, the storage level of the to-be-distilled process liquid of the still pot 1 is maintained within the set range. Will be.
That is, when the storage level of the to-be-distilled process liquid becomes lower than the lower limit value, the process liquid supply electromagnetic valve V2 is opened. Then, the to-be-distilled process liquid is supplied to the distillation pot 1 through the process liquid supply path 10, and the storage level of the storage level adjuster 2 increases in the same manner as the distillation pot 1 and the storage level increase. When the storage level of the storage level adjuster 2 reaches the upper limit value, the processing liquid supply electromagnetic valve V2 is closed, and the supply of the processing liquid to be distilled to the distillation pot 1 is stopped.
[0037]
Further, based on the detection information of the distillate level sensor 6s of the buffer tank 6, the distillate discharge electromagnetic valve V3 is controlled to open and close and the distillate is maintained so that the distillate storage level in the buffer tank 6 is maintained within the set range. The start / stop control of the discharge pump 14 is executed.
That is, when the storage level of the buffer tank 6 exceeds the upper limit value, the distillate discharge electromagnetic valve V3 is opened, the distillate discharge pump 14 is operated, and the distillate is discharged from the buffer tank 6. When the storage level of the buffer tank 6 reaches the lower limit with the discharge, the distillate discharge solenoid valve V3 is closed and the distillate discharge pump 14 is stopped to distill from the buffer tank 6. Liquid discharge is stopped.
[0038]
Further, each distillation kettle 1 is configured so that a residual liquid discharge command for discharging the residual liquid remaining in the distillation kettle 1 is instructed. When the residual liquid discharge command is instructed, the residual liquid is discharged. The residual liquid discharge electromagnetic valve V1 corresponding to the commanded distillation kettle 1 is opened and the residual liquid discharge pump 9 is operated. Therefore, the residual liquid is forcibly discharged from the distillation still 1 where the residual liquid discharge command is commanded.
Incidentally, the residual liquid discharge instruction is configured to be artificially instructed for each distillation kettle 1 by the operation panel 28.
Alternatively, based on the fact that a process end detecting means for detecting the process end corresponding to the end of the distillation separation process is provided for each distillation pot 1, the process end detecting means detects the process end. A liquid discharge command can be commanded.
Incidentally, as the process end detection means, for example, an operation time setting unit for setting an operation time for performing the distillation separation process operation is provided, and the operation time setting unit is set after the start of the distillation separation process operation. Based on the elapse of the operation time, it can be configured to detect that the end of the process has been reached.
[0039]
When an operation stop command is issued from the operation panel 28, the processing liquid supply solenoid valve V2 and the heating steam solenoid valve V4 are closed, and the vacuum pump 4 is stopped when a set time elapses after the valves are closed. To stop the distillation separation operation.
[0040]
When the vacuum distillation apparatus is configured as described above and the same process liquid to be distilled is stored in the plurality of process liquid storage tanks 11, the same process liquid to be distilled is supplied to the plurality of distillation tanks 1. By using a plurality of distillation kettles 1, it is possible to subject the same liquid to be distilled to distillation separation treatment, and it is possible to increase the distillation separation treatment amount.
[0041]
In addition, when a plurality of treatment liquid storage tanks 11 store distillation treatment liquids having the same components for distillation separation but different components other than the components for distillation separation, different kinds of distillation tanks 1 have different types. Distillation process liquids are supplied, and a plurality of types of distillation process liquids can be subjected to distillation separation using a plurality of distillation stills 1.
[0042]
Among the plurality of treatment liquid storage tanks 11 provided in the vacuum distillation apparatus, a part of the plurality of treatment liquid storage tanks 11 stores the same to-be-distilled treatment liquid, and the other treatment liquid storage tanks 11 include the above-described treatment liquid storage tanks 11. The distillation target processing liquid stored in some of the plurality of processing liquid storage tanks 11 stores different types of distillation target processing liquids that have the same components for distillation separation but differ in other components. The same to-be-distilled processing liquid is distilled and separated in some of the plurality of distilling tanks 1 provided in the distillation apparatus, and the other types of to-be-distilled processing liquids are distilled and separated in the other distillation pots 1. You may make it process.
[0043]
Incidentally, when the distillation separation target component is water, for example, the inside of the distillation pot 1 is decompressed to about 12.7 kPa, and the inside of the distillation pot 1 is heated to about 70 ° C.
[0044]
[Another embodiment]
Next, another embodiment will be described.
(A) In the above embodiment, a plurality of treatment liquid storage tanks 11 are provided, and the plurality of treatment liquid storage tanks 11 and the plurality of distillation kettles 1 are connected by the treatment liquid supply path 10 in one-to-one correspondence However, instead of this, a single treatment liquid storage tank 11 is provided, and a plurality of distillation kettles 1 are connected in parallel to the single treatment liquid storage tank 11 through the treatment liquid supply path 10. Alternatively, the process liquid to be distilled may be supplied from one process liquid storage tank 11 to the plurality of distillation stills 1.
[0045]
(B) As a specific example of the supply source of the to-be-distilled process liquid, it is not limited to the process liquid storage tank 11 illustrated in the above-described embodiment, and various types can be applied. A flow path through which the liquid is continuously supplied can be applied.
[0046]
(C) The number of sub-units Us installed is not limited to the two illustrated in the above embodiment, but the amount of the processing target liquid to be processed or the type of the processing target liquid as described above. It can be set according to the number.
In addition, when the amount of the processing solution to be distilled increases or the number of types of the processing solution to be distilled increases as described above, the subunit Us can be added.
It is also possible to configure the vacuum distillation apparatus only with the main unit Um without providing the subunit Us.
[0047]
(D) In the above embodiment, the vacuum distillation apparatus is illustrated as being divided into a plurality of units including the main unit Um and the sub unit Us each having one distillation kettle 1. You may comprise as one unit, without dividing | segmenting into these units.
[0048]
(E) An electromagnetic valve is provided in the distillation kettle connection flow path portion 3c of each unit corresponding flow path portion 3E of the steam discharge path 3, and a vacuum pump is provided from among the plurality of distillation kettles 1 by opening and closing the electromagnetic valve. You may comprise so that what attracts | sucks in 4 can be selected freely.
[0049]
(F) The specific configuration of the heating means K is not limited to the heater H using a heating heat medium as a heat source as exemplified in the above embodiment.
For example, an electric heater provided in the distillation pot 1 or an electric heater provided so as to be heated from the outside of the distillation pot 1 can be used.
[0050]
(G) The material of the ceramic body 15 is not limited to those exemplified in the above embodiment, and various ceramics such as silicon carbide and aluminum oxide can be used.
[0051]
(H) The distillation kettle 1 is usually made of a metal such as stainless steel. When an acidic distilling liquid is to be treated, the inner surface of the distillation kettle 1 is teflon or the like to prevent corrosion of the distillation kettle 1. Coating with acid resistant material. Therefore, when coating the inner surface of the still 1, the heat transfer performance is reduced by the coating film, and therefore it is preferable to omit the heating medium flow heating jacket 1 j.
[0052]
(L) The shape of the ceramic main body 15 is not limited to the straight cylindrical shape exemplified in the above embodiment, but various shapes such as a U-shaped cylindrical shape and a J-shaped cylindrical shape are possible. In order to simplify the shape, a straight cylindrical shape is most preferable.
[0053]
(Nu) The heating heat medium to be passed through the heater H is not limited to water vapor as exemplified in the above embodiment, and various heat mediums such as warm water and oil can be used.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram showing the overall configuration of a vacuum distillation apparatus according to an embodiment.
FIG. 2 is a front view showing the overall configuration of the vacuum distillation apparatus according to the embodiment.
FIG. 3 is a plan view showing the overall configuration of the vacuum distillation apparatus according to the embodiment.
FIG. 4 is a longitudinal sectional view of a heater of the vacuum distillation apparatus according to the embodiment.
FIG. 5 is a plan view of a heater of the vacuum distillation apparatus according to the embodiment.
FIG. 6 is a cross-sectional plan view of a heater of the vacuum distillation apparatus according to the embodiment.
[Explanation of symbols]
1 Distiller
3 Steam exhaust passage
4 suction means
5 Condenser
11 Source
15 Ceramic body
16 Heating medium return pipe
H Heating heater
K heating means
Um main unit
Us subunit

Claims

A distillation kettle equipped with a heating means for heating the supplied liquid to be distilled;
A suction means for depressurizing the inside of the distillation pot by sucking the steam discharge path connected to the distillation pot;
A vacuum distillation apparatus provided with a condenser for liquefying the steam flowing through the steam discharge path,
As the distillation kettle, a plurality of distillation kettles are provided in a state where the liquid to be distilled can be fed from different sources,
The steam discharge path is connected in parallel to the plurality of distillation stills, the suction means depressurizes the plurality of distillation stills, and the condenser supplies steam supplied from the plurality of distillation stills in a combined state. A vacuum distillation apparatus configured to liquefy.

One of the plurality of distillation stills, the condenser, and a unit including the suction means are assembled to form a main unit, and a unit including one of the plurality of distillation stills is assembled to form a subunit. The vacuum distillation apparatus according to claim 1, wherein the main unit and the subunit can be installed side by side.

The heating means comprises a heater installed in an inserted state in the distillation kettle;
The heater includes a bottomed cylindrical ceramic body with a closed end and a heat medium return pipe inserted into the ceramic body, and is supplied to the inside from the base end side of the ceramic body. The vacuum distillation apparatus according to claim 1, wherein the heating heat medium is discharged to the outside through the heat medium return pipe.