JP2004134157A - Manufacturing method of plasma display panel - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
図1は、交流駆動方式の反射型プラズマディスプレイパネル(PDP)のパネル構造を示す縦断面図である。
【0003】
このPDPの前面基板1の内面側に、それぞれITOなどからなる透明電極Xa,Yaと銀などの厚膜電極からなるバス電極Xb,Ybとによって構成される行電極XとYが対になった行電極対(X,Y)と、この行電極対(X,Y)を被覆する誘電体層2と、この誘電体層2を被覆するMgOなどからなる保護層3が形成されている。
【0004】
また、背面基板4の前面基板1に対向する内面側には、行電極対(X,Y)と交差する方向に延びて行電極対(X,Y)と交差する位置の放電空間S内に放電セルCを構成する列電極Dと、この列電極Dを被覆する列電極保護層5と、この列電極保護層5上に各放電セルC毎に赤,緑,青に色分けされた蛍光体層6と、放電空間Sを各放電セルC毎に区画する隔壁(図示せず)が形成されている。
【0005】
そして、放電空間S内には、キセノンXeを5〜10%含むネオンNeとの混合ガスが放電ガスとして封入されている。
【0006】
蛍光体層6は、放電によってXeガスから放出される真空紫外線(波長147nm)によって励起されることにより発光する。
【0007】
図2は、上記のような構成のPDPの従来の製造工程を示す工程説明図である。
この図2の前面基板作製工程s1において、前面基板1上にフォトリソ法などによる行電極X,Yの形成とスクリーン印刷法などによる誘電体層2の形成が行われた後、保護層(MgO層)3が成膜される。
【0008】
一方、背面基板作製工程s2において、背面基板4上にフォトリソ法などによる列電極Dの形成、および、スクリーン印刷法などによる列電極保護層5の形成,サンドブラスト法などによる隔壁の形成が順次行われた後、隔壁間に蛍光体ペーストが充填されて焼成されることにより、蛍光体層6が成膜される。
【0009】
次に、背面基板4の前面基板1に対向される側の面の周縁部に、封着用のガラスフリットが塗布されて、約400℃の温度で焼成されることにより封着層が形成され、この後、前面基板1と背面基板4とが、それぞれに形成された行電極X,Yと列電極Dとが直交する向きになるように互いに対向されて重ね合わされる。そして、この状態で約450℃の温度で加熱され、背面基板4に形成された封着層が前面基板1に溶着されることによって、背面基板4と前面基板1の間に形成される放電空間Sの周囲が封止される(工程s3)。
【0010】
この後、約350℃の温度での加熱状態において放電空間S内からの排気(ベーキング)が行われ(工程s4)、冷却後に放電空間S内に放電ガスが所定の圧力(400〜600Toor)で導入される(工程s5)。
この放電ガスの導入が終了した後、排気および放電ガスの導入に使用された排気管が封止される(工程s6)。
【0011】
そして、前面基板1の対をなす行電極X,Y間に駆動パルスが印加されて所定時間放電が発生されることにより、前面基板1に形成されている保護層3の活性化(エージング)と放電の安定化が行われる(工程s7)。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような従来のPDPの製造工程において、工程s4のベーキング工程は、放電空間S内のいわゆる枯らしを行うことによって、パネルの初期性能だけでなく、長期に亘る信頼性を確保するために行われるものである。
【0013】
このために、この工程s4におけるベーキング工程の工程時間を長く設定しておく必要があり、このベーキング工程の工程時間が短いと、工程s7におけるエージング工程の工程時間の方を長く設定する必要が生じるので、図3に示されるように、このベーキング工程時間とエージング工程時間を合わたリードタイムL1が長くなって、PDPの製造時間を短縮しようとする際の障害になっている。
【0014】
この発明は、上記のようなプラズマディスプレイパネルの製造工程における問題点を解決するために為されたものである。
【0015】
【課題を解決するための手段】
この発明によるプラズマディスプレイパネルの製造方法は、上記目的を達成するために、二枚の基板の互いに対向される側にそれぞれ構造物を形成し、この構造物が形成された二枚の基板を互いに対向させてその間の放電空間を封止し、この後、加熱状態で放電空間内から排気を行うベーキング工程,このベーキング工程後に放電空間内に放電ガスを導入する工程,この放電ガス導入工程後に放電空間内に放電を発生させるエージング工程を経てプラズマディスプレイパネルの製造を行う方法において、前記ベーキング工程後に、放電ガス導入工程後に導入される放電ガスに比べてスパッタレートが高い洗浄ガスを二枚の基板の間の放電空間に導入する工程と、この放電空間に洗浄ガスが導入されている状態でこの空間内において放電を発生させる工程とを有していることを特徴としている。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の最も好適と思われる実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明を行う。
【0017】
図4は、この発明によるプラズマディスプレイパネル(PDP)の製造方法の実施形態における一例を示す工程説明図である。
この図4の製造方法は、前面基板作製工程S1において、前面基板1上にフォトリソ法などによって行電極X,Yが形成され、この行電極X,Yを被覆するようにスクリーン印刷法などによって誘電体層2が形成され、さらに、この誘電体層2にその背面を被覆する保護層(MgO層)3が形成される(図1参照)。
【0018】
一方、背面基板作製工程S2においては、背面基板4上にフォトリソ法などによって列電極Dが形成され、スクリーン印刷法などによって列電極Dを被覆する列電極保護層5が形成され、この列電極保護層5上にサンドブラスト法などによって放電空間Sを区画する隔壁が形成され、さらに、隔壁間に蛍光体ペーストが充填されて焼成されることにより蛍光体層6が形成される(図1参照)。
【0019】
以上のようにして、前面基板作製工程S1および背面基板作製工程S2が終了すると、次に、図5に示されるように、背面基板4の前面基板1に対向される側の面の周縁部に、封着用のガラスフリットが塗布されて約400℃の温度で焼成されることにより、封着層7が形成され、この後、前面基板1と背面基板4とが、それぞれに形成された行電極X,Yと列電極Dとが直交する向きになるように互いに対向されて重ね合わされる。
【0020】
そして、この状態でベーク炉H内において、約450℃の温度で加熱され、背面基板に形成された封着層が前面基板に溶着されることによって、背面基板4と前面基板1の間に形成される放電空間の周囲が封止される(工程S3)。
【0021】
この後、背面基板4に形成された排気孔に排気管10が接続されて封着され、約350℃による加熱状態において、排気管10を介して放電空間S内からの排気を行う真空ベーキングが行われる(工程S4)。
この工程S4のベーキング工程終了後、パネル温度が下がった状態で、洗浄ガス導入系11から洗浄ガス(放電ガス)を導入する(工程S5)。
【0022】
この工程S5において導入される洗浄ガスは、保護層を形成するMgOに対するスパッタレートが、Xeの分圧を約1パーセントに設定するかガス全圧を低く設定するなどの方法によって、後述する放電ガスに対して高くなるように設定されている。
【0023】
このような高スパッタレートの洗浄ガスの導入方法としては、
(1)Xeの分圧が1パーセント以下のNe−Xeガスを400〜600Toorの圧力で導入する、
(2)Xeの分圧が5〜10パーセント以下のNe−Xeガスを300Toor以下の圧力で導入する、
等の方法がある。
【0024】
この工程S5の終了後、前面基板1の対をなす行電極X,Y間に駆動パルスが印加されて所定時間放電が発生されることにより、前面基板1に形成されている保護層(MgO層)3に対するエージング(活性化)が行われる(工程S6)。
【0025】
この工程S6の後、放電空間S内から洗浄ガスの排気が行われると、次に、放電ガス導入系12から排気管10を介して放電空間S内に放電ガスが所定の圧力(400〜600Toor)で導入される(工程S7)。
【0026】
さらに、この放電ガスの導入の終了後、排気および放電ガスの導入に使用された排気管10が封止される(工程S8)。
【0027】
そして、前面基板10の対をなす行電極X,Y間に駆動パルスが印加されて所定時間放電が発生されることにより、前面基板1に形成されている保護層(MgO層)3のエージング(活性化)と放電の安定化が行われる(工程S9)。
【0028】
上記PDPの製造方法によれば、工程S4におけるベーキング工程の後に行われる工程S5のエージング工程によって、保護層3を形成するMgOに対するプラズマイオンによるスパッタが行われるが、このエージングの際に、放電空間S内に高スパッタレートの洗浄ガスが導入されていることによって、保護層3のMgOに対するプラズマイオンによるスパッタが促進される。
【0029】
これによって、図6に示されるように、工程S4におけるベーキング工程時間と、工程S9におけるエージングの工程時間を短くすることができ、これらの工程時間を合わせたリードタイムL2を従来の従来の製造方法におけるリードタイムL1(図3参照)と比べて大幅に短縮することが出来る。
【0030】
そして、この保護層3のMgOを活性化するための工程時間の短縮化によって、PDPの製造工程における省電力化およびスペース効率化を図ることが可能になり、PDPの製品コストを下げることが出来るようになる。
【0031】
上記の実施形態によるPDPの製造方法は、二枚の基板の互いに対向される側にそれぞれ構造物を形成し、この構造物が形成された二枚の基板を互いに対向させてその間の放電空間を封止し、この後、加熱状態で放電空間内から排気を行うベーキング工程,このベーキング工程後に放電空間内に放電ガスを導入する工程,この放電ガス導入工程後に放電空間内に放電を発生させるエージング工程を経てプラズマディスプレイパネルの製造を行う方法において、前記ベーキング工程後に、放電ガス導入工程後に導入される放電ガスに比べてスパックレートが高い洗浄ガスを二枚の基板の間の放電空間に導入する工程と、この放電空間に洗浄ガスが導入されている状態でこの空間内において放電を発生させる工程とを有しているPDPの製造方法を、その上位概念の実施形態としているものである。
【0032】
この上位概念を構成する実施形態によれば、それぞれに構造物が形成された二枚の基板を重ね合わせてその間の放電空間が封止された後、ベーキング工程において基板に形成された構造物の加熱による活性化が行われると、次の工程において、放電空間内に高スパッタレートの洗浄ガスが導入され、この状態で放電空間内に放電が発生されることにより、基板に形成された構造物に対するプラズマイオンによる活性化が行われる。
そして、この後、放電空間への放電ガスの導入工程およびエージング工程を経てPDPが製造される。
【0033】
以上のように、このPDPの製造方法によれば、ベーキング工程の直ぐ後にエージングが行われ、このエージングが高スパッタレートの洗浄ガスの雰囲気内において行われることによって、基板に形成された構造物に対するプラズマイオンによる活性化が促進される。
【0034】
これによって、ベーキングの工程時間と、放電空間内に放電ガスが導入された状態で行われる最終工程のエージングの工程時間を短縮することができ、これらの工程時間を合わせたリードタイムを従来の製造方法に比べて大幅に短縮することが出来る。
【0035】
そして、この基板の構造物を活性化するための工程時間の短縮化によって、PDPの製造工程における省電力化およびスペース効率化を図ることが可能になり、PDPの製品コストを下げることが出来るようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】プラズマディスプレイパネルの一般的構成を示す断面図である。
【図2】従来のプラズマディスプレイパネルの製造方法を示す工程説明図である。
【図3】従来の製造方法におけるリードタイムを説明するための説明図である。
【図4】この発明によるプラズマディスプレイパネルの製造方法の一例を示す工程説明図である。
【図5】同例における洗浄ガス導入工程および放電ガス導入工程の説明図である。
【図6】同例の製造方法におけるリードタイムを説明するための説明図である。
【符号の説明】
1 …前面基板(基板)
2 …誘電体層
3 …保護層(構造物)
4 …背面基板(基板)
5 …列電極保護層
7 …蛍光体層
11 …洗浄ガス導入系
12 …放電ガス導入系
X,Y …行電極
D …列電極[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing a plasma display panel.
[0002]
[Prior art]
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a panel structure of a reflection type plasma display panel (PDP) of an AC drive system.
[0003]
On the inner surface side of the
[0004]
On the inner side of the
[0005]
In the discharge space S, a mixed gas with neon Ne containing 5 to 10% of xenon Xe is sealed as a discharge gas.
[0006]
The
[0007]
FIG. 2 is a process explanatory view showing a conventional manufacturing process of a PDP having the above-described configuration.
In the front substrate manufacturing step s1 of FIG. 2, after the row electrodes X and Y are formed on the
[0008]
On the other hand, in the back substrate manufacturing step s2, formation of the column electrodes D on the
[0009]
Next, a glass frit for sealing is applied to the peripheral portion of the surface of the
[0010]
Thereafter, in the heating state at a temperature of about 350 ° C., the discharge space S is evacuated (baked) from the inside of the discharge space S (step s4). Is introduced (step s5).
After the introduction of the discharge gas is completed, the exhaust pipe used for exhaust and introduction of the discharge gas is sealed (step s6).
[0011]
A drive pulse is applied between the pair of row electrodes X and Y of the
[0012]
[Problems to be solved by the invention]
In the conventional PDP manufacturing process as described above, the baking process in the process s4 is performed to secure not only the initial performance of the panel but also the reliability over a long period of time by performing so-called wiping in the discharge space S. It is something to be done.
[0013]
For this reason, it is necessary to set the process time of the baking process in step s4 to be long. If the process time of the baking process is short, it is necessary to set the process time of the aging process in step s7 longer. Therefore, as shown in FIG. 3, the lead time L1 which is the sum of the baking process time and the aging process time becomes long, which is an obstacle to shortening the PDP manufacturing time.
[0014]
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems in the plasma display panel manufacturing process.
[0015]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention forms a structure on each of two substrates on opposite sides, and attaches the two substrates on which the structure is formed to each other. A baking step in which the discharge space is sealed by opposing the discharge space, and thereafter, a baking step of exhausting the discharge space in a heated state, a step of introducing a discharge gas into the discharge space after the baking step, and a discharge step after the discharge gas introduction step In a method for manufacturing a plasma display panel through an aging step of generating a discharge in a space, a cleaning gas having a higher sputter rate than a discharge gas introduced after a discharge gas introduction step is applied to two substrates after the baking step. Between the process of introducing into the discharge space and the occurrence of discharge in this space while the cleaning gas is being introduced into the discharge space It is characterized by having a step of.
[0016]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, the most preferable embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0017]
FIG. 4 is a process explanatory view showing one example of an embodiment of a method of manufacturing a plasma display panel (PDP) according to the present invention.
In the manufacturing method shown in FIG. 4, in the front substrate manufacturing step S1, row electrodes X and Y are formed on the
[0018]
On the other hand, in the rear substrate manufacturing step S2, a column electrode D is formed on the
[0019]
When the front substrate manufacturing step S1 and the back substrate manufacturing step S2 are completed as described above, next, as shown in FIG. A glass frit for sealing is applied and baked at a temperature of about 400 ° C. to form a
[0020]
Then, in this state, the substrate is heated at a temperature of about 450 ° C. in a baking furnace H, and the sealing layer formed on the back substrate is welded to the front substrate, thereby forming between the
[0021]
Thereafter, the
After the completion of the baking step in step S4, a cleaning gas (discharge gas) is introduced from the cleaning
[0022]
The cleaning gas introduced in this step S5 is a discharge gas, which will be described later, by a method such as setting the partial pressure of Xe to about 1% or lowering the total gas pressure so that the sputtering rate for MgO forming the protective layer is set to about 1%. It is set to be higher with respect to.
[0023]
As a method for introducing such a high sputter rate cleaning gas,
(1) Ne-Xe gas having a partial pressure of Xe of 1% or less is introduced at a pressure of 400 to 600 Toor.
(2) Ne-Xe gas having a partial pressure of Xe of 5 to 10% or less is introduced at a pressure of 300 Toor or less,
And so on.
[0024]
After the step S5 is completed, a driving pulse is applied between the pair of row electrodes X and Y of the
[0025]
After this step S6, when the cleaning gas is exhausted from the discharge space S, the discharge gas is then discharged from the discharge
[0026]
Further, after the introduction of the discharge gas is completed, the
[0027]
A drive pulse is applied between the pair of row electrodes X and Y of the
[0028]
According to the method of manufacturing the PDP, the aging step of step S5 performed after the baking step of step S4 performs sputtering by plasma ions on MgO forming the
[0029]
As a result, as shown in FIG. 6, the baking step time in step S4 and the aging step time in step S9 can be shortened, and the lead time L2 combining these step times can be reduced by the conventional manufacturing method. Can be greatly reduced as compared with the lead time L1 (see FIG. 3).
[0030]
By reducing the process time for activating MgO of the
[0031]
In the method of manufacturing a PDP according to the above-described embodiment, a structure is formed on each of two substrates facing each other, and the two substrates on which the structures are formed face each other to reduce a discharge space therebetween. Sealing, and thereafter, a baking step of exhausting the inside of the discharge space in a heated state, a step of introducing a discharge gas into the discharge space after the baking step, and aging to generate a discharge in the discharge space after the discharge gas introduction step In a method of manufacturing a plasma display panel through a process, after the baking process, a cleaning gas having a higher spar rate than a discharge gas introduced after a discharge gas introduction process is introduced into a discharge space between two substrates. A process for producing a PDP, comprising the steps of: generating a discharge in a discharge space with a cleaning gas being introduced into the discharge space; , Those that are the embodiments of the broader concept.
[0032]
According to the embodiment that constitutes this generic concept, after the two substrates on each of which the structure is formed are overlapped and the discharge space between them is sealed, the structure formed on the substrate in the baking step is removed. When activation by heating is performed, in the next step, a cleaning gas having a high sputter rate is introduced into the discharge space, and a discharge is generated in the discharge space in this state, so that the structure formed on the substrate is formed. Is activated by plasma ions.
After that, a PDP is manufactured through a process of introducing a discharge gas into a discharge space and an aging process.
[0033]
As described above, according to this method of manufacturing a PDP, aging is performed immediately after the baking step, and this aging is performed in an atmosphere of a cleaning gas having a high sputter rate. Activation by plasma ions is promoted.
[0034]
As a result, the baking process time and the aging process time of the final process performed in a state where the discharge gas is introduced into the discharge space can be shortened, and the lead time combining these process times can be reduced by the conventional manufacturing time. It can be significantly reduced compared to the method.
[0035]
By shortening the process time for activating the structure of the substrate, power saving and space efficiency in the PDP manufacturing process can be achieved, and the product cost of the PDP can be reduced. become.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a general configuration of a plasma display panel.
FIG. 2 is a process explanatory view showing a conventional plasma display panel manufacturing method.
FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a lead time in a conventional manufacturing method.
FIG. 4 is a process explanatory view showing one example of a method for manufacturing a plasma display panel according to the present invention.
FIG. 5 is an explanatory diagram of a cleaning gas introduction step and a discharge gas introduction step in the same example.
FIG. 6 is an explanatory diagram for explaining a lead time in the manufacturing method of the example.
[Explanation of symbols]
1 ... front substrate (substrate)
2 ...
4 Back substrate (substrate)
5 ... column
Claims (3)
前記ベーキング工程後に、放電ガス導入工程後に導入される放電ガスに比べてスパッタレートが高い洗浄ガスを二枚の基板の間の放電空間に導入する工程と、この放電空間に洗浄ガスが導入されている状態でこの空間内において放電を発生させる工程とを有していることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。A structure is formed on each side of the two substrates facing each other, the two substrates on which the structure is formed face each other to seal a discharge space therebetween, and thereafter, the discharge is performed in a heated state. A method of manufacturing a plasma display panel through a baking step of exhausting from a space, a step of introducing a discharge gas into a discharge space after the baking step, and an aging step of generating a discharge in the discharge space after the discharge gas introduction step At
After the baking step, a step of introducing a cleaning gas having a higher sputter rate than the discharge gas introduced after the discharge gas introducing step into the discharge space between the two substrates, and the cleaning gas is introduced into the discharge space. Generating a discharge in this space in a state where the plasma display panel is in a standing state.
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