JP2004113961A - Gas component decomposition method - Google Patents

Gas component decomposition method Download PDF

Info

Publication number
JP2004113961A
JP2004113961A JP2002282497A JP2002282497A JP2004113961A JP 2004113961 A JP2004113961 A JP 2004113961A JP 2002282497 A JP2002282497 A JP 2002282497A JP 2002282497 A JP2002282497 A JP 2002282497A JP 2004113961 A JP2004113961 A JP 2004113961A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
gas component
reactor
decomposition method
photocatalyst
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002282497A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4272865B2 (en
Inventor
Hideharu Osada
長田 秀晴
Tatsutoshi Shimabara
島原 辰利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Osada Giken Co Ltd
Original Assignee
Osada Giken Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Osada Giken Co Ltd filed Critical Osada Giken Co Ltd
Priority to JP2002282497A priority Critical patent/JP4272865B2/en
Priority to EP03021658A priority patent/EP1403357A3/en
Priority to US10/671,514 priority patent/US20040073078A1/en
Publication of JP2004113961A publication Critical patent/JP2004113961A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4272865B2 publication Critical patent/JP4272865B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Catalysts (AREA)
  • Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas component decomposition method which is simple and economical and excellent in gas component decomposition ability. <P>SOLUTION: The gas component decomposition method is for oxidizing and decomposing a gas component to be treated by introducing a gas containing the gas component to be treated into a reactor, heating the gas at 50-500°C, and bringing the gas into contact with a photocatalytic particle to which electromagnetic beam is radiated. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、ガス成分分解方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
工場や種々の製造所、家畜業その他廃棄物処理等の設備においてはどうしても悪臭ガスが発生し、それを大気に放出せざるをえない。勿論、周囲環境の問題から脱臭装置を通過させ、臭気をなくして放出するよう心がけているが、簡単な脱臭装置では完璧とはいかず、どうしても地域住民との間で紛争が生じたりしている。
非常に大きな高額な脱臭装置を設ければ問題はない。しかし、中小企業においてはなかなか難しい問題である。
【0003】
従来の脱臭装置は、燃焼タイプ、洗浄タイプ、吸着タイプなどが主であるが、最近では光触媒タイプなどがある。燃焼タイプは、悪臭成分を燃焼させて酸化物にするもので、高温で酸化触媒を用いて行なうものである。洗浄タイプは、化学的に中和したり酸化分解するものである。
【0004】
また、光触媒タイプは、光触媒を壁面のタイルや塗料或いはハニカム構造のフィルターに固着し、そこに紫外線を照射して光触媒の酸化作用で分解するものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の脱臭装置では、どれも完全とは言えず臭気がそのまま放出されてしまうことがあった。
また、無臭であっても有害物質は多数存在し、そのような物質についてもできるだけ無害にすることが望ましいことは言うまでもない。
【0006】
【課題を解決するための手段】
以上のような状況に鑑み、本発明者は鋭意研究の結果本発明ガス成分分解方法をを完成したものであり、その特徴とするところは、処理すべきガス成分を含有する気体を、反応器に導入し、該反応器内において50℃〜500℃に加熱され、且つ電磁波が照射されている光触媒粒子と接触させ、酸化分解させる点にある。
【0007】
本発明でいう処理すべきガス成分とは、通常は悪臭ガスであるが、分解を要するガスであれば悪臭はなくともよい。通常は、アンモニア、メルカプタン等のチッソやイオウの化合物、その他無臭の有害物である。
【0008】
このようなガス成分を含む気体は、燃焼廃ガス、工場からの廃ガス、養鶏場や養豚場等の排気、その他どのような気体でもよい。また、その気体が予め何らかの処理がされたものでもよい。
【0009】
反応器とは、単なる容器でよく、気体が導入でき、排出できればよい。この反応器には、ヒーターが設けられている。電気式、ガス式、オイル式等どのような方式でもよい。このヒーターによって気体は50〜500℃に加熱される。勿論、最初はすべてこのヒーターによって加熱されるが、反応器内部で発熱反応すれば、その分はエネルギー的に助かることとなる。
【0010】
この反応器内に光触媒粒子を入れておく。この粒子は、基本的には、何かに固着させておいても、フリーに導入してもよい。
光触媒とは、電磁波(紫外線、可視光等)によって励起され酸化触媒等として働くものをいう。現在では、酸化チタンのアナターゼ型結晶がよく知られている。粒子のサイズは、特別限定しないが、数μ〜数十μがよい。しかし、反応器内にフリーに充填した場合には、同伴の問題に関してはより大きい方が望ましいと思われる。
【0011】
また、同伴の問題の解決策として、排出口近傍(近傍でなくともよい)に、水の噴霧装置を設けて水によって同伴を防止してもよい。ほこりの多い場所に水を打つのと同じである。また、この水分子は光触媒により酸化されてヒドロキシラジカル等になり、酸化を助けるため有効である。
量的には蒸発して排出される程度がよい。
【0012】
小さな粒子(セラミック、石、金属等)に光触媒粒子を担持させ、それをフリーに充填してもよい。この粒子のサイズは気体の流れで舞い上がる程度のものがよい。また、舞い上がり程度が小さければ攪拌装置で舞い上がらせてもよい。
【0013】
本発明では、処理すべきガス成分を含有する気体に、酸素が酸化に必要なだけ含まれていれば、別途酸素を供給する必要はない。しかし、燃焼廃ガスのように酸素がほとんどなければ、反応器に空気を導入する。単に、開口を設けて反応器のドラフトによる吸引力で引っ張っても、ブロアで押し込んでもよい。
空気でなく酸素でも、前記したような水(上記でもよい)でもよい。要するに酸化反応を助けるものであればよい。
【0014】
結局、本発明方法は、処理すべきガス成分を光触媒に接触させ酸化分解するのであるが、そのとき光触媒に電磁波が照射されているのは当然であるが、本発明では加熱もされているのである。光触媒は、電磁波を照射すれば励起されることは公知であるが、本発明者はそれを常温以上に加熱すれば触媒効果が著しく向上することを見出したのである。
【0015】
本発明で照射する電磁波は、電磁波ならば何でもよいが、通常は紫外線である。しかし、可視光でも励起する光触媒が最近叫ばれている。勿論、より波長の短い電子線のようなものでもよい。最も安価なものは紫外線ランプによる照射である。
【0016】
本発明では、加熱温度は50〜500℃である。これは、この程度で十分効果があることと、これ以上上げても光触媒効果は変わらず、単なる燃焼になってしまうためである。
燃焼方法と比較して、このような低温で効果を発揮するところが本発明の大きな特徴である。これによって、ダイオキシン類の発生を軽減若しくは温度によってはまったく発生させずにガス成分を分解することが可能である。現在、300〜600℃でダイオキシン発生の可能性が大きいと言われているが、もしそうならば300℃以下で運転すれば、ダイオキシン発生の可能性が極めて小さい。
【0017】
ダイオキシンの問題を考慮しなくとも、効果とコストの兼ね合いからすれば、200〜300℃が最も効率的であった。しかし、50℃程度でも、加熱しないものと比較すれば、明らかに分解効率は上昇していた。
【0018】
上記のように温度を考慮すれば、どのようなものが含まれていてもダイオキシンの発生をほとんどなくすことができるが、それだけでなく、ダイオキシンが含まれている気体を処理した場合、そのダイオキシンを酸化分解することも期待されている。
【0019】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明方法を実施する反応器1の1例を示す概略断面図である。内部に2層のフィルター2が設けられている。このフィルター2は、不織布であり、その繊維に光触媒粒子が固着されている。固着の方法は接着でも、単に物理的に引っかかっているだけでもよい。このフィルター2の中心部分にヒーター3が設けられている。この例では、電気ヒーターであるが他の加熱具でもよい。ここでは、このヒーター3によって270℃まで加熱している。
また、反応器1の天井部分と底部には紫外線ランプ4を設けている。これは、光触媒粒子に紫外線を照射するためであり、且つヒーターの熱を直接受けないようにしている。
【0020】
気体は導入口5から入り、2層のフィルター2を通過し、排出口6から排出される。フィルター2内の光触媒粒子にガス成分が接触したとき、又は光触媒によって発生したスーパーオキシドやヒドロキシラジカル等によってガス成分が酸化分解されると考えられる。
【0021】
この例で、メチルメルカプタン50ppm混合した空気を導入すると、排出側ではまったく無臭であった。流速は、反応器中央で約1m/Sであった。
ここで、ヒーターを切って常温で同じ実験を試みたが、わずかであるが臭気が残った。
【0022】
図2は、図1と同様本発明方法を実施する反応器1の1例を示す概略断面図である。この例では、フィルターではなく、セラミック粒子7(サイズ、2〜10mm)に光触媒が固着されているものである。このセラミック粒子が網8で上下から挟まれ固定されている。このセラミック粒子層の内部に図1と同様のヒーターが設けられている。運転方法や効果は図1とほとんど同じである。
【0023】
図3は、光触媒粒子9がフリーに充填されている例であり、反応器1内で気体の流れによって浮遊している。紫外線ランプ4は側壁に設けられている。また、加熱装置はガスバーナー10である。この例では、光触媒粒子は気体との同伴をできるだけ軽減するため、大きな粒子を用いている。例えば、100μ程度のものである。
反応器1内に2段階にフィルター11を設けている。これは、粒子をこのフィルター11に衝突させて出口方向への運動量を減少させるためである。よって、繊維状の目詰まりするような細かいものでなく、粗いものを多段に設けた方がよい。
【0024】
更に、光触媒粒子9の排出を防止するため、排出口6付近に水の噴霧ノズル12を設けている。
更に、この例では排出口6後方に、サイクロン型集塵器13を設けて、光触媒粒子が系外に出るのを防止している。勿論、ここで回収した光触媒粒子は、反応器において再使用できる。
この例は、前記図1、図2の例よりも効率はよい。おそらく、ガス成分と光触媒粒子との接触が多いためと考えられる。
【0025】
【発明の効果】
本発明ガス成分分解方法には次のような大きな利点がある。
(1) 光触媒粒子を加熱しているため、光触媒効果が向上し、ガス成分の分解効率が向上する。一般的な悪臭成分はほとんどすべて分解される。
(2) 簡単な装置でよいため、臭気を放出しているどのような設備においても簡単に採用できる。
(3) 光触媒粒子が浮遊するタイプであれば、より効果的にガス成分を分解することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明方法を実施する反応器の1例を示す概略断面図である。
【図2】本発明方法を実施する反応器の他の例を示す概略断面図である。
【図3】本発明方法を実施する反応器の他の例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
1 反応器
2 フィルター
3 ヒーター
4 紫外線ランプ
5 導入口
6 排出口
7 セラミック粒子
8 網
9 光触媒粒子
10 バーナー
11 フィルター
12 水の噴霧ノズル
13 サイクロン型集塵器
[0001]
[Industrial applications]
The present invention relates to a gas component decomposition method.
[0002]
[Prior art]
In factories, various factories, livestock and other waste treatment facilities, odorous gas is inevitably generated and must be released to the atmosphere. Of course, due to the problem of the surrounding environment, we try to pass through the deodorizing device and release it with no odor.
There is no problem if a very large and expensive deodorizing device is provided. However, it is a difficult problem for SMEs.
[0003]
Conventional deodorizing apparatuses are mainly of a combustion type, a cleaning type, an adsorption type and the like, but recently there are photocatalytic types and the like. The combustion type burns malodorous components to form oxides, and is performed at a high temperature using an oxidation catalyst. The cleaning type is one that is chemically neutralized or oxidatively decomposed.
[0004]
In the photocatalyst type, the photocatalyst is fixed to a wall tile, a paint, or a filter having a honeycomb structure, and is irradiated with ultraviolet rays to be decomposed by the oxidizing action of the photocatalyst.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional deodorizing apparatus, none of them is completely perfect, and the odor may be released as it is.
In addition, even if it is odorless, there are many harmful substances, and it is needless to say that it is desirable to make such substances as harmless as possible.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
In view of the above situation, the present inventor has completed the gas component decomposition method of the present invention as a result of diligent research, and the feature of the method is that the gas containing the gas component to be treated is supplied to the reactor. And heated to 50 ° C. to 500 ° C. in the reactor and brought into contact with the photocatalyst particles irradiated with the electromagnetic wave to cause oxidative decomposition.
[0007]
The gas component to be treated in the present invention is usually an odorous gas, but any gas that needs to be decomposed may have no odor. Usually, it is a compound of nitrogen and sulfur such as ammonia and mercaptan, and other odorless harmful substances.
[0008]
The gas containing such a gas component may be combustion waste gas, waste gas from a factory, exhaust gas from a poultry farm, a pig farm, or any other gas. Further, the gas may have been subjected to some kind of processing in advance.
[0009]
The reactor may be a simple container, as long as gas can be introduced and discharged. The reactor is provided with a heater. Any system such as an electric system, a gas system, and an oil system may be used. The gas is heated to 50 to 500 ° C. by this heater. Of course, the heater is initially heated at all, but if an exothermic reaction occurs inside the reactor, the energy is saved.
[0010]
The photocatalyst particles are put in this reactor. The particles may basically be fixed to something or introduced freely.
The photocatalyst is one that is excited by an electromagnetic wave (such as ultraviolet light or visible light) and functions as an oxidation catalyst or the like. At present, titanium oxide anatase crystals are well known. The size of the particles is not particularly limited, but is preferably several μm to several tens μm. However, if the reactor is freely charged, a larger one may be desirable with regard to entrainment problems.
[0011]
As a solution to the entrainment problem, a water spraying device may be provided near the discharge port (not necessarily in the vicinity) to prevent entrainment with water. It is the same as hitting a dusty place with water. Further, the water molecules are oxidized by a photocatalyst to form hydroxyl radicals and the like, which is effective for assisting the oxidation.
The quantity is preferably such that it is evaporated and discharged.
[0012]
Photocatalyst particles may be supported on small particles (ceramic, stone, metal, etc.) and may be filled free. The size of the particles is preferably such that they soar in the gas flow. If the degree of sowing is small, it may be soared by a stirrer.
[0013]
In the present invention, there is no need to separately supply oxygen as long as the gas containing the gas component to be treated contains oxygen necessary for oxidation. However, if there is little oxygen, such as combustion waste gas, air is introduced into the reactor. The opening may be simply provided and pulled by the suction force of the draft of the reactor, or may be pushed by a blower.
Oxygen instead of air, or water as described above (or the above) may be used. In short, any material that assists the oxidation reaction may be used.
[0014]
In the end, the method of the present invention involves contacting the gas component to be treated with a photocatalyst to oxidatively decompose it. is there. It is known that a photocatalyst is excited by irradiating an electromagnetic wave, but the present inventors have found that a catalytic effect can be significantly improved by heating the photocatalyst to normal temperature or higher.
[0015]
The electromagnetic wave applied in the present invention may be any electromagnetic wave, but is usually ultraviolet light. However, photocatalysts that excite even visible light have recently been called out. Of course, an electron beam having a shorter wavelength may be used. The cheapest is irradiation with an ultraviolet lamp.
[0016]
In the present invention, the heating temperature is 50 to 500C. This is because this effect is sufficient, and even if it is further increased, the photocatalytic effect does not change and the combustion simply occurs.
A major feature of the present invention is that the effect is exhibited at such a low temperature as compared with the combustion method. This makes it possible to reduce the generation of dioxins or to decompose gas components without generating them at all depending on the temperature. At present, it is said that the possibility of generating dioxin is high at 300 to 600 ° C, but if it is operated at 300 ° C or lower, the possibility of generating dioxin is extremely small.
[0017]
Even if the problem of dioxin is not considered, 200-300 ° C. was the most efficient from the viewpoint of the balance between the effect and the cost. However, even at about 50 ° C., the decomposition efficiency was clearly higher than that of the case without heating.
[0018]
If the temperature is taken into account as described above, the generation of dioxin can be almost eliminated regardless of what is contained, but not only that, when a gas containing dioxin is treated, the dioxin is removed. It is also expected to be oxidatively decomposed.
[0019]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
FIG. 1 is a schematic sectional view showing one example of a reactor 1 for carrying out the method of the present invention. A two-layer filter 2 is provided inside. The filter 2 is a nonwoven fabric, and the photocatalyst particles are fixed to the fiber. The method of fixing may be bonding or simply physically stuck. A heater 3 is provided at the center of the filter 2. In this example, an electric heater is used, but another heater may be used. Here, the heater 3 heats up to 270 ° C.
An ultraviolet lamp 4 is provided on the ceiling and the bottom of the reactor 1. This is for irradiating the photocatalyst particles with ultraviolet rays and is not directly receiving the heat of the heater.
[0020]
The gas enters through the inlet 5, passes through the two-layer filter 2, and is discharged through the outlet 6. It is considered that the gas component is oxidatively decomposed when the gas component comes into contact with the photocatalyst particles in the filter 2 or by superoxide or hydroxyl radical generated by the photocatalyst.
[0021]
In this example, when air mixed with 50 ppm of methyl mercaptan was introduced, the discharge side was completely odorless. The flow rate was about 1 m / S at the center of the reactor.
Here, the same experiment was performed at room temperature with the heater turned off, but a slight odor remained.
[0022]
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing one example of a reactor 1 for performing the method of the present invention as in FIG. In this example, the photocatalyst is fixed not to the filter but to the ceramic particles 7 (size: 2 to 10 mm). The ceramic particles are sandwiched and fixed by the net 8 from above and below. A heater similar to that of FIG. 1 is provided inside the ceramic particle layer. The driving method and effects are almost the same as those in FIG.
[0023]
FIG. 3 shows an example in which the photocatalyst particles 9 are freely filled, and are suspended in the reactor 1 by a gas flow. The ultraviolet lamp 4 is provided on the side wall. The heating device is a gas burner 10. In this example, large particles are used for the photocatalyst particles in order to reduce entrainment with gas as much as possible. For example, about 100 μm.
The filter 11 is provided in the reactor 1 in two stages. This is to reduce the momentum in the exit direction by causing particles to collide with the filter 11. Therefore, it is better to provide a coarse material in multiple stages, instead of a fine material such as fibrous clogging.
[0024]
Further, in order to prevent the discharge of the photocatalyst particles 9, a water spray nozzle 12 is provided near the discharge port 6.
Further, in this example, a cyclone type dust collector 13 is provided behind the discharge port 6 to prevent the photocatalyst particles from going out of the system. Of course, the photocatalyst particles recovered here can be reused in the reactor.
This example is more efficient than the examples shown in FIGS. Probably because of the large contact between the gas component and the photocatalyst particles.
[0025]
【The invention's effect】
The gas component decomposition method of the present invention has the following great advantages.
(1) Since the photocatalyst particles are heated, the photocatalytic effect is improved, and the decomposition efficiency of the gas component is improved. Almost all common odor components are decomposed.
(2) Since a simple device is sufficient, it can be easily adopted in any equipment that emits odor.
(3) If the photocatalyst particles are of a floating type, the gas component can be decomposed more effectively.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of a reactor for carrying out the method of the present invention.
FIG. 2 is a schematic sectional view showing another example of a reactor for carrying out the method of the present invention.
FIG. 3 is a schematic sectional view showing another example of a reactor for carrying out the method of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Reactor 2 Filter 3 Heater 4 Ultraviolet lamp 5 Inlet 6 Outlet 7 Ceramic particle 8 Net 9 Photocatalytic particle 10 Burner 11 Filter 12 Water spray nozzle 13 Cyclone dust collector

Claims (4)

処理すべきガス成分を含有する気体を、反応器に導入し、該反応器内において50℃〜500℃に加熱され、且つ電磁波が照射されている光触媒粒子と接触させ、酸化分解させることを特徴とするガス成分分解方法。A gas containing a gas component to be treated is introduced into a reactor, heated to 50 ° C. to 500 ° C. in the reactor, and brought into contact with photocatalyst particles irradiated with electromagnetic waves to oxidize and decompose. Gas component decomposition method. 該光触媒粒子は、フィルターに固定されているものである請求項1記載のガス成分分解方法。The gas component decomposition method according to claim 1, wherein the photocatalyst particles are fixed to a filter. 該光触媒粒子は、反応器内でフリーに移動可能である請求項1記載のガス成分分解方法。The gas component decomposition method according to claim 1, wherein the photocatalyst particles are freely movable in the reactor. 反応器内で光触媒粒子に水を噴霧するものである請求項3記載のガス成分分解方法。4. The gas component decomposition method according to claim 3, wherein water is sprayed on the photocatalyst particles in the reactor.
JP2002282497A 2002-09-27 2002-09-27 Gas component decomposition method Expired - Lifetime JP4272865B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002282497A JP4272865B2 (en) 2002-09-27 2002-09-27 Gas component decomposition method
EP03021658A EP1403357A3 (en) 2002-09-27 2003-09-26 Method for decomposing organic substance
US10/671,514 US20040073078A1 (en) 2002-09-27 2003-09-29 Method for decomposing organic substance

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002282497A JP4272865B2 (en) 2002-09-27 2002-09-27 Gas component decomposition method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004113961A true JP2004113961A (en) 2004-04-15
JP4272865B2 JP4272865B2 (en) 2009-06-03

Family

ID=32276630

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002282497A Expired - Lifetime JP4272865B2 (en) 2002-09-27 2002-09-27 Gas component decomposition method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4272865B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005342623A (en) * 2004-06-03 2005-12-15 Osada Giken Co Ltd Method for reactivating titanium oxide catalyst
JP2016132569A (en) * 2015-01-22 2016-07-25 株式会社トクヤマ Handrail sterilizer of passenger conveyor and passenger conveyor

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0454511B2 (en) * 1986-08-07 1992-08-31 Hosokawa Micron Kk
JPH04341787A (en) * 1991-05-17 1992-11-27 Sharp Corp Ceramic heater
JPH05337337A (en) * 1991-12-21 1993-12-21 Franz D Oeste Purifying method of gas, exhaust gas, vapor and sol and apparatus therefor
JPH06218234A (en) * 1992-10-06 1994-08-09 Fuji Electric Co Ltd Removing method and device for harmful gas
JPH07280314A (en) * 1994-02-16 1995-10-27 Matsushita Seiko Co Ltd Ventilating apparatus
JPH08173764A (en) * 1994-12-28 1996-07-09 Fuji Electric Co Ltd Harmful gas removing apparatus
JPH09103644A (en) * 1995-10-09 1997-04-22 Takenaka Komuten Co Ltd Apparatus for treating volatile organic compound
JPH10314544A (en) * 1997-05-14 1998-12-02 Toyo Eng Works Ltd Photocatalyst fluidization-circulation-type deodorizing device
JPH11267670A (en) * 1998-03-26 1999-10-05 Toshiba Corp Treating device using photocatalyst
JP2000189749A (en) * 1998-12-28 2000-07-11 Toshiba Corp Treating device
JP2000225321A (en) * 1999-02-03 2000-08-15 Sharp Corp Catalyst for deodorization and deodorization apparatus using same catalyst
JP2001079351A (en) * 1999-09-13 2001-03-27 Takuma Co Ltd Treatment of waste gas and device therefor
JP2001300260A (en) * 2000-04-18 2001-10-30 Nissho Iwai Plastic Corp Photodecomposition method of non-metallic fluoride in gas
JP2002028496A (en) * 2000-07-14 2002-01-29 Nippon Zeon Co Ltd Photocatalyst and its usage
JP2004089953A (en) * 2002-09-03 2004-03-25 National Institute Of Advanced Industrial & Technology Method of continuously decomposing and removing organic substance contained in gas

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0454511B2 (en) * 1986-08-07 1992-08-31 Hosokawa Micron Kk
JPH04341787A (en) * 1991-05-17 1992-11-27 Sharp Corp Ceramic heater
JPH05337337A (en) * 1991-12-21 1993-12-21 Franz D Oeste Purifying method of gas, exhaust gas, vapor and sol and apparatus therefor
JPH06218234A (en) * 1992-10-06 1994-08-09 Fuji Electric Co Ltd Removing method and device for harmful gas
JPH07280314A (en) * 1994-02-16 1995-10-27 Matsushita Seiko Co Ltd Ventilating apparatus
JPH08173764A (en) * 1994-12-28 1996-07-09 Fuji Electric Co Ltd Harmful gas removing apparatus
JPH09103644A (en) * 1995-10-09 1997-04-22 Takenaka Komuten Co Ltd Apparatus for treating volatile organic compound
JPH10314544A (en) * 1997-05-14 1998-12-02 Toyo Eng Works Ltd Photocatalyst fluidization-circulation-type deodorizing device
JPH11267670A (en) * 1998-03-26 1999-10-05 Toshiba Corp Treating device using photocatalyst
JP2000189749A (en) * 1998-12-28 2000-07-11 Toshiba Corp Treating device
JP2000225321A (en) * 1999-02-03 2000-08-15 Sharp Corp Catalyst for deodorization and deodorization apparatus using same catalyst
JP2001079351A (en) * 1999-09-13 2001-03-27 Takuma Co Ltd Treatment of waste gas and device therefor
JP2001300260A (en) * 2000-04-18 2001-10-30 Nissho Iwai Plastic Corp Photodecomposition method of non-metallic fluoride in gas
JP2002028496A (en) * 2000-07-14 2002-01-29 Nippon Zeon Co Ltd Photocatalyst and its usage
JP2004089953A (en) * 2002-09-03 2004-03-25 National Institute Of Advanced Industrial & Technology Method of continuously decomposing and removing organic substance contained in gas

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005342623A (en) * 2004-06-03 2005-12-15 Osada Giken Co Ltd Method for reactivating titanium oxide catalyst
JP2016132569A (en) * 2015-01-22 2016-07-25 株式会社トクヤマ Handrail sterilizer of passenger conveyor and passenger conveyor

Also Published As

Publication number Publication date
JP4272865B2 (en) 2009-06-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7828940B2 (en) Onsite chemistry air filtration system
US9855362B2 (en) High intensity air purifier
KR101198718B1 (en) Air decontamination device and method
JP4371607B2 (en) Photocatalytic reactor
KR101708799B1 (en) Sterilization and purifying apparatus using hydroxyl radical
KR101000306B1 (en) Deodorizing device using ultraviolet ray and Photocatalyst
JP2010036148A (en) Removal system for volatile organic compound by gas absorption tower
CN1960769B (en) Method for decomposing harmful substance and apparatus for decomposing harmful substance
JP2004305395A (en) Gas purifying system and gas purifying method, and air-conditioner utilizing gas purifying system
CN108260269A (en) Low temperature plasma generating device and gas handling system
JP3829156B2 (en) Exhaust gas treatment equipment
JP4272865B2 (en) Gas component decomposition method
KR100428965B1 (en) Air purification method
JP4253480B2 (en) Photocatalytic reactor
KR101918938B1 (en) Volatile Organic Compounds decompose device
KR101404577B1 (en) Offensive odor treatment apparatus and the method
JP2005048160A (en) Method for decomposing organic material
KR100478803B1 (en) Processing methode for air purification and equipment therefor
JP4468069B2 (en) Gas purification device and gas purification method
JP2003310723A (en) Air cleaner and catalyst
KR100475276B1 (en) Air purification method
JP2008194545A (en) Method for oxidizing or decomposing target substance
JP2001062287A (en) Hazardous material treating device
JP2002336650A (en) Method of treating waste combustion gas
JP2006320467A (en) Cleaning filter unit and air cleaning apparatus using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050927

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080129

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080212

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080327

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090203

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090302

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120306

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120306

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130306

Year of fee payment: 4