JP2004094240A - Heat developable photosensitive material and image forming method - Google Patents

Heat developable photosensitive material and image forming method Download PDF

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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat developable photosensitive material having high picture quality equal to or superior to a wet type silver halide photosensitive material, particularly, having an excellent property for image diagnosis, and to provide a method for forming an image. <P>SOLUTION: The optical density of 0.5, 1.0, 1.5 and the minimum optical density of the heat developable photosensitive material are measured, and u<SP>*</SP>and v<SP>*</SP>at each of the above densities are plotted on a a two-dimensional coordinate having the u<SP>*</SP>as the abscissa and the v<SP>*</SP>as the ordinate in the CIE 1976(L<SP>*</SP>u<SP>*</SP>v<SP>*</SP>) color space to produce a linear regression line. The coefficient of major determination R<SP>2</SP>of the linear regression line is ≥0.998 and ≤1.000. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

 本発明は、熱現像感光材料及び画像形成方法に関する。 The present invention relates to a photothermographic material and an image forming method.

 従来、医療や印刷製版の分野では、画像形成材料の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問題となっており、近年では、環境保全、省スペースの観点からも処理廃液の減量が強く望まれている。 Conventionally, in the fields of medical treatment and printing plate making, the waste liquid due to wet processing of image forming materials has been a problem in terms of workability.In recent years, the amount of treated waste liquid has been strongly reduced from the viewpoint of environmental conservation and space saving. Is desired.

 そこで、レーザー・イメージャーやレーザー・イメージセッターにより効率的な露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像形成することができる写真技術用途の光熱写真材料に関する技術が必要とされている。 Therefore, there is a need for a technology relating to photothermographic materials for photographic technology, which enables efficient exposure with a laser imager or a laser imagesetter and can form a high-resolution, clear black image.

 かかる技術として、支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン化銀粒子、及び還元剤を含有する熱現像写真感光材料(熱現像感光材料)(例えば、特許文献1、2、非特許文献1参照。)が知られている。この熱現像感光材料では溶液系処理薬品を一切使用しないため、より簡便で環境を損なわないシステムをユーザーに提供することができる。 As such a technique, a photothermographic material (photothermographic material) containing an organic silver salt, photosensitive silver halide particles, and a reducing agent on a support (see, for example, Patent Documents 1 and 2 and Non-Patent Document 1) .)It has been known. Since this photothermographic material does not use any solution processing chemicals, it is possible to provide the user with a system that is simpler and does not damage the environment.

 熱現像感光材料のいわば永遠のテーマとして一層の高画質化が要望されている。特に、医療用画像の分野では一層正確な診断を可能にする高画質化が要望されている。熱現像感光材料は従来から医用画像診断に用いられている湿式の銀塩感光材料と比較して画質が劣ることが指摘される場合があった。
米国特許第3,152,904号明細書 米国特許第3,487,075号明細書 D.H.Klosterboer:Dry Silver   Photographic Materials:Handbook of   Imaging Materials,Marcel Dekker,Inc.   第48頁,1991年
Further improvement in image quality is demanded as a so-called eternal theme of photothermographic materials. In particular, in the field of medical images, there is a demand for higher image quality that enables more accurate diagnosis. It has been pointed out that the heat-developable photosensitive material is inferior in image quality as compared with a wet-type silver halide photosensitive material conventionally used for medical image diagnosis.
U.S. Pat. No. 3,152,904 U.S. Pat. No. 3,487,075 D. H. Klosterboer: Dry Silver Photographic Materials: Handbook of Imaging Materials, Marcel Dekker, Inc. Page 48, 1991

 従って、本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、従来の湿式の銀塩感光材料と比較して同等以上の高画質、特に画像診断性に優れた熱現像感光材料及び画像形成方法を提供することにある。 Accordingly, the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a heat developing method which is equivalent to or higher in image quality than conventional wet-type silver halide photographic materials, and particularly excellent in image diagnostic performance. An object of the present invention is to provide a photosensitive material and an image forming method.

 本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。 The above object of the present invention can be achieved by the following constitutions.

 1.熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5および最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 1. The optical densities 0.5, 1.0, 1.5 and the minimum optical density of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * u * v * ) color space was u * , and the vertical axis was the two-dimensional coordinates to v *, and wherein the u * at each optical density, v the linear regression line of determination R 2 created arranged * is 1.000 or less than 0.998 Photothermographic material.

 2.熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5および最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であり、かつ縦軸との交点のv*値が−5以上5以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 2. The optical densities 0.5, 1.0, 1.5 and the minimum optical density of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * u * v * ) color space was u * , and the vertical axis was the v * to the two-dimensional coordinate in terms of the, u * of the above each optical density, v the linear regression line of determination R 2 created arranged * is 1.000 or less than 0.998, and a vertical axis A photothermographic material, wherein the value of v * at the intersection of is not less than -5 and not more than 5.

 3.熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5および最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であり、かつ傾き(v*/u*)が0.7以上2.5以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 3. The optical densities 0.5, 1.0, 1.5 and the minimum optical density of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * u * v * ) color space was u * , and the vertical axis was Is determined by placing u * and v * at the above respective optical densities in two-dimensional coordinates where v * is v *, and the multiple determination R 2 of the linear regression line created is 0.998 or more and 1.000 or less, and the slope (v * / U * ) is 0.7 or more and 2.5 or less.

 4.熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5および最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 4. The optical densities 0.5, 1.0, 1.5 and the minimum optical density of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * a * b * ) color space was a * and the vertical axis was Is determined by arranging a * and b * at the respective optical densities in two-dimensional coordinates where b * is the b *, and the determination R 2 of the linear regression line created is 0.998 or more and 1.000 or less. Photothermographic material.

 5.熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5および最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であり、かつ縦軸との交点のb*値が−5以上5以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 5. The optical densities 0.5, 1.0, 1.5 and the minimum optical density of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * a * b * ) color space was a * and the vertical axis was the two-dimensional coordinates to b *, a * in the above each optical density, the linear regression line of determination R 2 created by placing b * is 1.000 or less than 0.998, and a vertical axis A photothermographic material, wherein the b * value at the point of intersection is -5 or more and 5 or less.

 6.熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5および最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であり、かつ傾き(b*/a*)が0.7以上2.5以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 6. The optical densities 0.5, 1.0, 1.5 and the minimum optical density of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * a * b * ) color space was a * and the vertical axis was the two-dimensional coordinates to b *, a * in the above each optical density, the linear regression line of determination R 2 created by placing b * is 1.000 or less than 0.998, and the slope (b * / A * ) is 0.7 or more and 2.5 or less.

 7.熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 7. The optical densities 0.5, 1.0, and 1.5 of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * u * v * ) color space was u * , and the vertical axis was v * . the two-dimensional coordinates, the photothermographic material characterized in that the u * at each optical density, v the linear regression line of determination R 2 created arranged * is 1.000 or less than 0.998 .

 8.熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であり、かつ縦軸との交点のv*値が−5以上5以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 8. The optical densities 0.5, 1.0, and 1.5 of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * u * v * ) color space was u * , and the vertical axis was v * . In the two-dimensional coordinates, u * and v * at the respective optical densities described above are arranged, and the multiple determination R 2 of the linear regression line created is 0.998 or more and 1.000 or less, and v at the intersection with the vertical axis. * A photothermographic material having a value of -5 or more and 5 or less.

 9.熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であり、かつ傾き(v*/u*)が0.7以上2.5以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 9. The optical densities 0.5, 1.0, and 1.5 of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * u * v * ) color space was u * , and the vertical axis was v * . the two-dimensional coordinates, u * of the above each optical density, v the linear regression line of determination R 2 created arranged * is 1.000 or less than 0.998, and the slope (v * / u * Is 0.7 to 2.5.

 10.熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 10. The optical densities 0.5, 1.0, and 1.5 of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * a * b * ) color space was a * , and the vertical axis was b * . to the two-dimensional coordinates, the photothermographic material characterized in that the a * at each optical density, the linear regression line of determination R 2 created by placing b * is 1.000 or less than 0.998 .

 11.熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であり、かつ縦軸との交点のb*値が−5以上5以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 11. The optical densities 0.5, 1.0, and 1.5 of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * a * b * ) color space was a * , and the vertical axis was b * . In the two-dimensional coordinates, a * and b * at each of the above optical densities are arranged, and the overlap determination R 2 of the linear regression line created is 0.998 or more and 1.000 or less, and b at the intersection with the vertical axis * A photothermographic material having a value of -5 or more and 5 or less.

 12.熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であり、かつ傾き(b*/a*)が0.7以上2.5以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 12. The optical densities 0.5, 1.0, and 1.5 of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * a * b * ) color space was a * , and the vertical axis was b * . In the two-dimensional coordinates, a * and b * at each of the above optical densities are arranged, and the multiple determination R 2 of the linear regression line created is 0.998 or more and 1.000 or less, and the slope (b * / a *) Is 0.7 to 2.5.

 13.下記一般式(A−1)で表される還元剤と、下記一般式(A−4)で表される化合物を含有することを特徴とする前記1〜12のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。 {13. 13. The heat as described in any one of the above items 1 to 12, comprising a reducing agent represented by the following general formula (A-1) and a compound represented by the following general formula (A-4). Developed photosensitive material.

Figure 2004094240
Figure 2004094240

(式中、Zは炭素原子と共に3〜10員環を構成するのに必要な原子群を表し、Rxは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表す。R1、R2、Q0はベンゼン環上に置換可能な基を表し、Lは2価の連結基を表し、kは0〜1の整数を表し、n及びmは0〜2の整数を表す。複数のR1、R2、Q0は同じでも異なっていても良い。) (In the formula, Z represents an atomic group necessary for constituting a 3- to 10-membered ring together with a carbon atom, and R x represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group. R 1 , R 2 , Q 0 represents a group substitutable on the benzene ring, L represents a divalent linking group, k is an integer of 0 to 1, n and m represents an integer of 0 to 2. plurality of R 1, R 2 and Q 0 may be the same or different.)

Figure 2004094240
Figure 2004094240

(式中、R41は置換または無置換のアルキル基を表し、R42は水素原子、置換又は無置換のアルキル基または置換又は無置換のアシルアミノ基を表すが、R41、R42は2−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。R43は水素原子または置換または無置換のアルキル基を表し、R44はベンゼン環に置換可能な置換基を表す。)
 14.前記一般式(A−1)で表される還元剤が下記一般式(A−2)で表される還元剤であることを特徴とする前記13又は14に記載の熱現像感光材料。
(Wherein, R 41 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, R 42 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted acylamino group, and R 41 and R 42 represent 2- not be a hydroxyphenyl methyl group .R 43 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, R 44 represents a substituent capable of substituting on the benzene ring.)
14. 15. The photothermographic material as described in 13 or 14, wherein the reducing agent represented by the general formula (A-1) is a reducing agent represented by the following general formula (A-2).

Figure 2004094240
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(式中、Q1はハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、Q2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Gは窒素原子または炭素原子を表すが、Gが窒素原子の場合、ngは0であり、Gが炭素原子の場合、ngは0または1である。Z2は炭素原子、及びGとともに3〜10員の非芳香族環を構成するのに必要な原子群を表す。R1、R2、Rx、Q0、L、k、n、及びmは一般式(A−1)におけるものと同義である。)
 15.前記一般式(A−1)で表される還元剤が前記一般式(A−2)で表される還元剤であることを特徴とする前記13又は14に記載の熱現像感光材料。
(Wherein, Q 1 represents a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and Q 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, G represents a nitrogen atom or a carbon atom, and when G is a nitrogen atom, ng is 0. When G is a carbon atom, ng is 0 or 1. Z 2 is carbon atom. And a group of atoms necessary to form a 3- to 10-membered non-aromatic ring together with the atom and G. R 1 , R 2 , R x , Q 0 , L, k, n, and m are represented by the general formula ( It is the same as that in A-1).
15. 15. The photothermographic material as described in 13 or 14, wherein the reducing agent represented by the general formula (A-1) is a reducing agent represented by the general formula (A-2).

 16.一般式(A−2)におけるZが表す非芳香環が6員であることを特徴とする前記13〜15のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。 {16. 16. The photothermographic material according to any one of the above items 13 to 15, wherein the non-aromatic ring represented by Z in the general formula (A-2) has 6 members.

 17.前記熱現像感光材料の画像形成層を有する側の層が、ビニル化合物、ヒドラジン誘導体、シラン化合物および4級オニウム塩から選ばれる少なくとも1種の省銀化剤を含有することを特徴とする前記1〜16のいずれか1項記載の熱現像感光材料。 {17. Wherein the layer on the side having the image forming layer of the photothermographic material contains at least one silver saving agent selected from a vinyl compound, a hydrazine derivative, a silane compound and a quaternary onium salt. 17. The photothermographic material according to any one of items 16 to 16.

 18.前記1〜17のいずれか1項に記載の熱現像感光材料を、温度110℃以上140℃以下、時間5秒以上20秒以下で現像し、画像を形成することを特徴とする画像形成方法。 {18. 18. An image forming method, comprising developing the photothermographic material according to any one of 1 to 17 above at a temperature of 110 ° C. to 140 ° C. for a time of 5 seconds to 20 seconds to form an image.

 19.前記1〜17のいずれか1項に記載の熱現像感光材料を、400nm以上830nm以下のレーザー波長で露光し、画像を形成することを特徴とする画像形成方法。 {19. 18. An image forming method, comprising exposing the photothermographic material according to any one of 1 to 17 to a laser wavelength of 400 nm to 830 nm to form an image.

 20.前記1〜17のいずれか1項に記載の熱現像感光材料を、780nm以上830nm以下のレーザー波長で露光し、画像を形成することを特徴とする画像形成方法。 {20. 18. An image forming method, comprising exposing the photothermographic material according to any one of 1 to 17 to a laser wavelength of 780 nm to 830 nm to form an image.

 本発明により従来の湿式の銀塩感光材料と比較して同等以上の高画質、特に画像診断性に優れた熱現像感光材料及び画像形成方法が得られた。 (4) According to the present invention, a photothermographic material and an image forming method excellent in image quality, particularly excellent in image diagnostic properties, which are equal to or higher than those of the conventional wet silver salt photosensitive material, are obtained.

 本発明を更に詳しく説明する。従来から、光学濃度1.0付近でのCIE 1976(L***)色空間または(L***)色空間におけるu*、v*またはa*、b*を特定の数値に調整することにより見た目の色調が好ましい診断画像を得ようとする試みがなされてきた。例えば、米国特許6,174,657号では熱現像銀塩感光材料において、好ましい色調(色相角)について記載されている。しかしながら発明者の検討の結果、上記のような診断画像は従来から用いられている湿式の銀塩感光材料より診断性が劣ることが明らかとなった。そこで鋭意検討の結果、CIE 1976(L***)色空間または(L***)色空間において横軸をu*またはa*、縦軸をv*またはb*としたグラフ上に、様々な写真濃度でのu*、v*またはa*、b*をプロットし線形回帰直線を作成した際に、その線形回帰直線を本発明の範囲に調整することにより従来の湿式の銀塩感光材料同等以上の診断性を持つことを見いだした。 The present invention will be described in more detail. Conventionally, u * , v * or a * , b * in the CIE 1976 (L * u * v * ) color space or the (L * a * b * ) color space near an optical density of 1.0 is a specific numerical value. Attempts have been made to obtain a diagnostic image having a favorable visual color tone by adjusting the color tone. For example, US Pat. No. 6,174,657 describes a preferable color tone (hue angle) in a heat-developable silver salt photosensitive material. However, as a result of the study by the inventor, it has been clarified that the diagnostic images as described above are inferior in diagnostic performance to conventionally used wet silver salt photographic materials. Therefore, as a result of intensive studies, a graph in which the horizontal axis is u * or a * and the vertical axis is v * or b * in the CIE 1976 (L * u * v * ) color space or the (L * a * b * ) color space. Above, u * , v * or a * , b * at various photographic densities are plotted to form a linear regression line, and by adjusting the linear regression line to the range of the present invention, the conventional wet type It has been found that it has diagnostic properties equal to or better than silver halide photosensitive materials.

 本発明の熱現像感光材料を得る方法には特に限定はないが、現像銀形状を変化せしめる化合物や一定の銀画像濃度を得るために必要な銀量を低減化し得る化合物を用いることができる。これらの化合物の添加量、種類を適宜調整して用いたり、複数の化合物を組み合わせたりすることにより、熱現像感光材料の特性を調整することができる。 The method for obtaining the photothermographic material of the present invention is not particularly limited, but a compound capable of changing the shape of developed silver or a compound capable of reducing the amount of silver necessary for obtaining a constant silver image density can be used. The properties of the photothermographic material can be adjusted by appropriately adjusting the amounts and types of these compounds used or by combining a plurality of compounds.

 上記のような特徴をもつ線形回帰直線は、現像銀形状を変化せしめる化合物を添加することにより達成された。 (4) The linear regression line having the above characteristics was achieved by adding a compound capable of changing the shape of developed silver.

 以下に、本発明の熱現像銀塩感光材料の構成要素について説明する。本発明において、銀画像形成のための銀イオン供給源としての有機銀塩としては、有機酸及びヘテロ有機酸の銀塩、特にこの中でも長鎖の(炭素数10〜30、好ましくは15〜25)脂肪族カルボン酸の銀塩、及び含窒素複素環化合物の銀塩が好ましい。配位子が銀イオンに対する総安定度常数として4.0〜10.0の値を持つようなリサーチ・ディスクロージャー(以下、単にRDともいう)17029及び29963に記載された有機又は無機の錯体も好ましい。これら好適な銀塩の例としては、以下のものが挙げられる。 (4) The components of the heat-developable silver salt photographic material of the present invention are described below. In the present invention, as the organic silver salt as a silver ion supply source for forming a silver image, a silver salt of an organic acid and a hetero organic acid, especially a long chain (10 to 30 carbon atoms, preferably 15 to 25 carbon atoms) A) Silver salts of aliphatic carboxylic acids and silver salts of nitrogen-containing heterocyclic compounds are preferred. Organic or inorganic complexes described in Research Disclosure (hereinafter, also simply referred to as RD) 17029 and 29963 in which the ligand has a value of 4.0 to 10.0 as a total stability constant for silver ions are also preferable. . Examples of these suitable silver salts include the following.

 有機酸の銀塩、例えば、没食子酸、蓚酸、ベヘン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の銀塩;銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩、例えば、1−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメチルチオ尿素等の銀塩;アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボン酸とのポリマー反応生成物の銀塩乃至錯体、例えば、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド等)とヒドロキシ置換酸類(例えば、サリチル酸、安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸)の反応生成物の銀塩乃至錯体;チオン類の銀塩又は錯体、例えば、3−(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロキシメチル−4−チアゾリン−2−チオン、及び3−カルボキシメチル−4−チアゾリン−2−チオン等の銀塩乃至錯体;イミダゾール、ピラゾール、ウラゾール、1,2,4−チアゾール及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−トリアゾール及びベンズトリアゾールから選択される窒素酸と銀との錯体または塩;サッカリン、5−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩;銀メルカプチド類等を挙げることができる。これらの中、特に好ましい銀塩としては、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀及びステアリン酸銀などの長鎖の(炭素数10〜30、好ましくは15〜25)脂肪族カルボン酸の銀塩が挙げられる。 Silver salts of organic acids, for example, silver salts such as gallic acid, oxalic acid, behenic acid, stearic acid, arachidic acid, palmitic acid, lauric acid; carboxyalkylthiourea salts of silver, for example, 1- (3-carboxypropyl) thio Silver salts such as urea and 1- (3-carboxypropyl) -3,3-dimethylthiourea; silver salts or complexes of polymer reaction products of aldehydes with hydroxy-substituted aromatic carboxylic acids, for example, aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde) , Butyraldehyde, etc.) and a hydroxy-substituted acid (eg, salicylic acid, benzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid); a silver salt or complex; a thiones silver salt or complex, for example, 3- (2- Carboxyethyl) -4-hydroxymethyl-4-thiazoline-2-thione, and 3-carboxymethyl- Silver salts or complexes such as -thiazoline-2-thione; from imidazole, pyrazole, urazole, 1,2,4-thiazole and 1H-tetrazole, 3-amino-5-benzylthio-1,2,4-triazole and benzotriazole Complexes or salts of selected nitrogen acids with silver; silver salts such as saccharin and 5-chlorosalicylaldoxime; and silver mercaptides. Among them, particularly preferred silver salts include silver salts of long-chain (10 to 30, preferably 15 to 25 carbon atoms) aliphatic carboxylic acids such as silver behenate, silver arachidate and silver stearate. .

 又、本発明においては有機銀塩が2種以上混合されていることが現像性を上げ高濃度、高コントラストの銀画像を形成する上で好ましく、例えば2種以上の有機酸混合物に銀イオン溶液を混合して調製することが好ましい。 In the present invention, it is preferable that two or more kinds of organic silver salts are mixed in order to enhance developability and to form a high-density, high-contrast silver image. For example, a silver ion solution is mixed with a mixture of two or more kinds of organic acids. Is preferably prepared by mixing.

 有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−127643号に記載されている様なコントロールドダブルジェット法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカリ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を作製した後に、コントロールドダブルジェット法により、前記ソープと硝酸銀などを混合して有機銀塩の結晶を作製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよい。 The organic silver salt compound can be obtained by mixing a water-soluble silver compound and a compound which forms a complex with silver, and can be obtained by a forward mixing method, a reverse mixing method, a simultaneous mixing method, or a method described in JP-A No. 9-127643. A controlled double jet method or the like is preferably used. For example, after adding an alkali metal salt (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.) to an organic acid to produce an organic acid alkali metal salt soap (eg, sodium behenate, sodium arachidate, etc.), a controlled double jet According to the method, the soap and silver nitrate are mixed to prepare a crystal of an organic silver salt. At that time, silver halide grains may be mixed.

 本発明に係る上記の有機銀塩は種々の形状のものを使用できるが、平板状の粒子が好ましい。特に、アスペクト比3以上の平板状有機銀塩粒子であり、且つ、最大面積を有する2枚のほぼ平行に相対する面(主平面)の形状異方性を小さくして感光層中での充填率をあげるため、主平面方向から計測される該平板状有機銀塩粒子の針状比率の平均値が1.1以上、10.0未満である粒子が好ましい。なお、更に好ましい針状比率は1.1以上5.0未満である。 有機 The organic silver salt according to the present invention may have various shapes, but tabular grains are preferred. In particular, it is a tabular organic silver salt particle having an aspect ratio of 3 or more, and is filled in the photosensitive layer by reducing the shape anisotropy of two substantially parallel facing surfaces (principal planes) having the largest area. In order to increase the ratio, it is preferable that the average value of the acicular ratio of the tabular organic silver salt particles measured from the main plane direction is 1.1 or more and less than 10.0. In addition, a more preferable needle ratio is 1.1 or more and less than 5.0.

 また、アスペクト比3以上の平板状有機銀塩粒子であるとは、前記平板状有機銀塩粒子が全有機銀塩粒子の個数の50%以上を占めることを表す。更に、本発明に係る有機銀塩は、アスペクト比3以上の平板状有機銀塩粒子が全有機銀塩粒子の個数の60%以上を占めることが好ましく、更に好ましくは70%以上(個数)であり、特に好ましくは80%以上(個数)である。 The phrase "tabular organic silver salt particles having an aspect ratio of 3 or more" means that the tabular organic silver salt particles account for 50% or more of the total number of organic silver salt particles. Further, in the organic silver salt according to the present invention, the tabular organic silver salt particles having an aspect ratio of 3 or more preferably account for 60% or more of the total number of organic silver salt particles, and more preferably 70% or more (number). And it is particularly preferably at least 80% (number).

 アスペクト比3以上の平板状粒子とは粒径と厚さの比、下記式で表されるいわゆるアスペクト比(ARと略す)が3以上の粒子である。 平板 The tabular grains having an aspect ratio of 3 or more are grains having a so-called aspect ratio (abbreviated as AR) of 3 or more, which is expressed by the following formula.

   AR=粒径(μm)/厚さ(μm)
 平板状有機銀塩粒子のアスペクト比は、好ましくは、3〜20であり、更に好ましくは3〜10である。その理由としては、アスペクト比が低すぎると、有機銀塩粒子が最密されやすくなり、また、アスペクト比があまりに高い場合には、有機銀塩粒子同士が重なりやすく、また、くっついた状態で分散されやすくなるので光散乱等が起きやすくなり、その結果として感光材料の透明感の低下をもたらすので、上記記載の範囲が好ましい。
AR = particle size (μm) / thickness (μm)
The aspect ratio of the tabular organic silver salt grains is preferably from 3 to 20, and more preferably from 3 to 10. The reason is that if the aspect ratio is too low, the organic silver salt particles are likely to be densest, and if the aspect ratio is too high, the organic silver salt particles are likely to overlap each other and disperse in a stuck state. The above-mentioned range is preferable because light scattering and the like are likely to occur because the light-sensitive material is liable to be scattered, and as a result, the transparency of the photosensitive material is reduced.

 上記記載の有機銀塩粒子の粒径を測定するには、分散後の有機銀塩を希釈してカーボン支持膜付きグリッド上に分散し、透過型電子顕微鏡(例えば、日本電子製、2000FX型、直接倍率5000倍)により、写真撮影を行い、粒径を測定する。なお、平均粒径を求める場合は、スキャナにてネガ画像をデジタル画像として取り込み、適当な画像処理ソフトを用いて粒径(円相当径)を300個以上測定し、平均粒径を算出する。 In order to measure the particle size of the organic silver salt particles described above, the dispersed organic silver salt is diluted and dispersed on a grid with a carbon support film, and is measured using a transmission electron microscope (for example, JEOL 2000FX, (Magnification: 5000 times), and the particle size is measured. When obtaining the average particle diameter, a negative image is captured as a digital image by a scanner, and 300 or more particle diameters (equivalent circle diameters) are measured using appropriate image processing software to calculate the average particle diameter.

 上記記載の有機銀塩粒子の厚さを求めるには、下記に示すようなTEM(透過型電子顕微鏡)を用いた方法により算出する。 厚 The thickness of the organic silver salt particles described above is calculated by a method using a TEM (transmission electron microscope) as shown below.

 まず、支持体上に塗布された画像形成層を接着剤により適当なホルダーに貼り付け、支持体面と垂直な方向にダイヤモンドナイフを用いて厚さ0.1〜0.2μmの超薄切片を作製する。作製された超薄切片を、銅メッシュに支持させ、グロー放電により親水化されたカーボン膜上に移し液体窒素により−130℃以下に冷却しながら透過型電子顕微鏡(以下TEMと称す)を用いて、倍率5,000倍乃至40,000倍にて明視野像を観察し、画像はフィルム、イメージングプレート、CCDカメラなどに素早く記録する。この際、観察される視野としては切片に破れや弛みがない部分を適宜選択することが好ましい。 First, the image forming layer applied on the support is attached to an appropriate holder with an adhesive, and an ultra-thin section having a thickness of 0.1 to 0.2 μm is prepared using a diamond knife in a direction perpendicular to the surface of the support. I do. The prepared ultrathin section is supported on a copper mesh, transferred onto a carbon film that has been hydrophilized by glow discharge, and cooled with liquid nitrogen to −130 ° C. or lower using a transmission electron microscope (hereinafter referred to as a TEM). A bright field image is observed at a magnification of 5,000 to 40,000, and the image is quickly recorded on a film, an imaging plate, a CCD camera or the like. At this time, as the visual field to be observed, it is preferable to appropriately select a portion where there is no break or looseness in the section.

 カーボン膜としては極薄いコロジオン、ホルムバールなど有機膜に支持されたものを使用することが好ましく、更に好ましくは岩塩基板上に形成し基板を溶解除去して得るか、または、上記有機膜を有機溶媒、イオンエッチングにより除去して得られたカーボン単独の膜である。TEMの加速電圧としては80〜400kVが好ましく、特に好ましくは80〜200kVである。 It is preferable to use a carbon film supported by an organic film such as ultra-thin collodion or formvar, more preferably a carbon film formed on a rock salt substrate and dissolving and removing the substrate, or using the organic film in an organic solvent. A film of carbon alone obtained by ion etching. The acceleration voltage of the TEM is preferably from 80 to 400 kV, particularly preferably from 80 to 200 kV.

 適当な媒体に記録されたTEM画像は、画像1枚を少なくとも1024画素×1024画素、好ましくは2048画素×2048画素以上に分解し、コンピュータによる画像処理をおこなうことが好ましい。画像処理をおこなうためには、フィルムに記録されたアナログ画像はスキャナなどでデジタル画像に変換し、シェーディング補正、コントラスト・エッジ強調などを必要に応じて施すことが好ましい。その後、ヒストグラムを作製し2値化処理によって有機銀塩粒子に相当する箇所を抽出する。 は The TEM image recorded on an appropriate medium is preferably decomposed into at least 1024 pixels × 1024 pixels, preferably 2048 pixels × 2048 pixels or more, and subjected to image processing by a computer. In order to perform image processing, it is preferable that an analog image recorded on a film is converted into a digital image by a scanner or the like, and shading correction, contrast / edge enhancement, and the like are performed as necessary. Thereafter, a histogram is prepared, and a portion corresponding to the organic silver salt particles is extracted by a binarization process.

 平均厚さを求めるには、上記抽出した有機銀塩粒子の厚さを300個以上適当なソフトでマニュアル測定し、平均値を求める。 In order to determine the average thickness, the thickness of the extracted organic silver salt particles is manually measured with 300 or more suitable software, and the average value is determined.

 又、平板状有機銀塩粒子の針状比率の平均値は下記の方法により求められる。 {Circle around (2)} The average value of the acicular ratio of the tabular organic silver salt grains can be determined by the following method.

 まず、平板状有機銀塩粒子を含む感光層を光感光層バインダーを溶解可能な有機溶媒にて膨潤させて支持体上から剥離し、上記溶媒を用いた超音波洗浄、遠心分離、上澄み除去を5回繰り返す。尚、上記工程はセーフライト下に実施する。続いて、有機銀固形分濃度が0.01%になるようにMEK(メチルエチルケトン)にて希釈し、超音波分散した後、グロー放電により親水化されたポリエチレンテレフタレートフィルム上に滴下し乾燥させる。粒子が搭載されたフィルムは真空蒸着装置にてフィルム面に対して30°の角度から厚さとして3nmのPt−Cを電子ビームにより斜め蒸着した後、観察に使用することが好ましい。 First, the photosensitive layer containing the tabular organic silver salt particles is swollen with an organic solvent capable of dissolving the photosensitive layer binder, separated from the support, and subjected to ultrasonic cleaning, centrifugation, and supernatant removal using the solvent. Repeat 5 times. The above steps are performed under safe light. Subsequently, the mixture is diluted with MEK (methyl ethyl ketone) so as to have an organic silver solid concentration of 0.01%, dispersed by ultrasonic waves, and then dropped on a polyethylene terephthalate film that has been hydrophilized by glow discharge and dried. The film on which the particles are mounted is preferably used for observation after obliquely vapor-depositing 3 nm thick Pt-C with an electron beam from a 30 ° angle with respect to the film surface by a vacuum vapor deposition apparatus.

 その他、電子顕微鏡観察技法、および試料作製技法の詳細については「日本電子顕微鏡学会関東支部編/医学・生物学電子顕微鏡観察法」(丸善)、「日本電子顕微鏡学会関東支部編/電子顕微鏡生物試料作製法」(丸善)をそれぞれ参考にすることができる。 For more information on electron microscopy techniques and sample preparation techniques, see "The Electron Microscopy Society of Japan, Kanto Chapter / Medical and Biological Electron Microscopy" (Maruzen), "The Japan Electron Microscopy Society, Kanto Chapter", Electron Microscopy Biological Specimens Production method ”(Maruzen) can be referred to.

 作製された試料は電界放射型走査電子顕微鏡(以下FE−SEMと称す)を用いて加速電圧2kVないし4kVにて倍率として5000〜20000倍にて二次電子像を観察し、適当な記録媒体への画像保存をおこなう。 The prepared sample is observed with a field emission scanning electron microscope (hereinafter, referred to as FE-SEM) at a accelerating voltage of 2 kV to 4 kV and a secondary electron image at a magnification of 5,000 to 20,000 times, and transferred to an appropriate recording medium. Save the image.

 上記処理のためには電子顕微鏡本体からの画像信号をAD変換し直接メモリ上にデジタル情報として記録可能な装置を用いるのが便利であるが、ポラロイドフィルムなどに記録されたアナログ画像もスキャナなどでデジタル画像に変換し、シェーディング補正、コントラスト・エッジ強調などを必要に応じ施すことにより使用することができる。 For the above processing, it is convenient to use a device that can AD-convert the image signal from the electron microscope main body and record it directly as digital information on the memory, but the analog image recorded on polaroid film or the like can also be used with a scanner or the like. It can be used by converting it to a digital image and performing shading correction, contrast / edge enhancement, etc. as necessary.

 適当な媒体に記録された画像は、画像1枚を少なくとも1024画素×1024画素、好ましくは2048画素×2048画素以上に分解し、コンピュータによる画像処理を行うことが好ましい。 画像 As for an image recorded on an appropriate medium, it is preferable that one image is decomposed into at least 1024 pixels × 1024 pixels, preferably 2048 pixels × 2048 pixels or more, and image processing is performed by a computer.

 上記記載の画像処理の手順としては、まず、ヒストグラムを作製し2値化処理によって、アスペクト比3以上の有機銀塩粒子に相当する箇所を抽出する。やむを得ず凝集した粒子は適当なアルゴリズムまたはマニュアル操作にて切断し輪郭抽出をおこなう。その後、各粒子の最大長(MX LNG)および粒子の最小幅(WIDTH)を少なくとも1000個の粒子に関して各々測定し、各粒子ごとに下記式にて針状比率を求める。ここで、粒子の最大長とは粒子内の2点を直線で結んだ時の最大値をいう。粒子の最小幅とは粒子に外接する2本の平行線を引いた時、平行線の距離が最小値になる時の値をいう。 As the procedure of the image processing described above, first, a histogram is prepared, and a portion corresponding to organic silver salt particles having an aspect ratio of 3 or more is extracted by binarization processing. The unavoidably agglomerated particles are cut by a suitable algorithm or manual operation to perform contour extraction. Thereafter, the maximum length (MX LNG) and the minimum width (WIDTH) of each particle are measured for at least 1000 particles, and the acicular ratio is determined for each particle by the following formula. Here, the maximum length of a particle refers to the maximum value when two points in the particle are connected by a straight line. The minimum width of a particle refers to a value when a distance between the parallel lines becomes a minimum when two parallel lines circumscribing the particle are drawn.

   針状比率=(MX LNG)÷(WIDTH)
 その後、計測された全粒子に関する針状比率の平均値を算出する。上記手順で計測をおこなう際にはあらかじめ、標準試料を用いて、1画素あたりの長さ補正(スケール補正)および計測系の2次元ひずみの補正を十分におこなうことが好ましい。標準試料としては米国ダウケミカル社より市販されるユニフォーム・ラテックス・パーティクルス(DULP)が適当であり、0.1ないし0.3μmの粒径に対して10%未満の変動係数を有するポリスチレン粒子が好ましく、具体的には粒径0.212μm、標準偏差0.0029μmというロットが入手可能である。
Needle ratio = (MX LNG) / (WIDTH)
After that, the average value of the needle ratio of all the measured particles is calculated. When the measurement is performed in the above procedure, it is preferable that the length correction per pixel (scale correction) and the correction of the two-dimensional distortion of the measurement system be sufficiently performed using a standard sample in advance. As a standard sample, Uniform Latex Particles (DULP) commercially available from Dow Chemical Co., USA is suitable, and polystyrene particles having a coefficient of variation of less than 10% with respect to a particle size of 0.1 to 0.3 μm are suitable. Preferably, specifically, a lot having a particle size of 0.212 μm and a standard deviation of 0.0029 μm is available.

 画像処理技術の詳細は「田中弘編 画像処理応用技術(工業調査会)」を参考にすることができ、画像処理プログラムまたは装置としては上記操作が可能なものであれば特に限定はされないが、一例としてニレコ社製Luzex−IIIが挙げられる。 The details of the image processing technology can be referred to "Hiroshi Tanaka Image Processing Applied Technology (Industry Research Committee)", and the image processing program or device is not particularly limited as long as it can perform the above operations. One example is Luzex-III manufactured by Nireco.

 前記の形状を有する有機銀塩粒子を得る方法としては、特に限定されないが、有機酸アルカリ金属塩ソープ形成時の混合状態および/または前記ソープに硝酸銀を添加する際の混合状態などを良好に保つことや、ソープと反応する硝酸銀の割合を最適にすることなどが有効である。 The method for obtaining the organic silver salt particles having the above-mentioned shape is not particularly limited, but the mixed state at the time of forming the organic acid alkali metal salt soap and / or the mixed state at the time of adding silver nitrate to the soap is preferably maintained. It is effective to optimize the ratio of silver nitrate that reacts with the soap.

 本発明に係る平板状有機銀塩粒子は必要に応じバインダーや界面活性剤などと共に予備分散した後、メディア分散機または高圧ホモジナイザなどで分散粉砕することが好ましい。上記予備分散にはアンカー型、プロペラ型等の一般的攪拌機や高速回転遠心放射型攪拌機(ディゾルバ)、高速回転剪断型撹拌機(ホモミキサ)を使用することができる。 平板 The tabular organic silver salt particles according to the present invention are preferably preliminarily dispersed together with a binder, a surfactant, and the like, if necessary, and then dispersed and ground using a media disperser, a high-pressure homogenizer, or the like. For the preliminary dispersion, a general stirrer such as an anchor type or a propeller type, a high-speed rotary centrifugal radiation type stirrer (dissolver), and a high-speed rotary shear type stirrer (homomixer) can be used.

 また、上記メディア分散機としては、ボールミル、遊星ボールミル、振動ボールミルなどの転動ミルや、媒体攪拌ミルであるビーズミル、アトライター、その他バスケットミルなどを用いることが可能であり、高圧ホモジナイザとしては壁、プラグなどに衝突するタイプ、液を複数に分けてから高速で液同士を衝突させるタイプ、細いオリフィスを通過させるタイプなど様々なタイプを用いることができる。 Further, as the media dispersing machine, a rolling mill such as a ball mill, a planetary ball mill, and a vibrating ball mill, a bead mill as a medium stirring mill, an attritor, and other basket mills can be used. Various types can be used, such as a type that collides with a plug or the like, a type in which liquids are divided into a plurality of pieces and then collides with each other at high speed, and a type in which a thin orifice passes.

 メディア分散時に使用されるセラミックスビーズに用いられるセラミックスとしては、例えば、Al23、BaTiO3、MgO、ZrO、BeO、Cr23、SiO2、SiO2−Al23、Cr23−MgO、MgO−CaO、MgO−C、MgO−Al23(スピネル)、SiC、TiO2、K2O、Na2O、BaO、PbO、B23、SrTiO3(チタン酸ストロンチウム)、BeAl24、Y3Al512、ZrO2−Y23(立方晶ジルコニア)、3BeO−Al23−6SiO2(合成エメラルド)、C(合成ダイヤモンド)、Si2O−nH2O、チッカ珪素、イットリウム安定化ジルコニア、ジルコニア強化アルミナ等が好ましい。分散時におけるビーズや分散機との摩擦による不純物生成が少ない等の理由から、イットリウム安定化ジルコニア、ジルコニア強化アルミナ(これらジルコニアを含有するセラミックスを以下においてジルコニアと略す)が特に好ましく用いられる。 Examples of ceramics used for ceramic beads used at the time of media dispersion include Al 2 O 3 , BaTiO 3 , MgO, ZrO, BeO, Cr 2 O 3 , SiO 2 , SiO 2 —Al 2 O 3 , and Cr 2 O 3 -MgO, MgO-CaO, MgO -C, MgO-Al 2 O 3 ( spinel), SiC, TiO 2, K 2 O, Na 2 O, BaO, PbO, B 2 O 3, SrTiO 3 ( strontium titanate ), BeAl 2 O 4, Y 3 Al 5 O 12, ZrO 2 -Y 2 O 3 ( cubic zirconia), 3BeO-Al 2 O 3 -6SiO 2 ( synthesis emerald), C (diamond), Si 2 O -nH 2 O, ticker silicon, yttrium stabilized zirconia, zirconia toughened alumina, and the like are preferable. Yttrium-stabilized zirconia and zirconia reinforced alumina (ceramics containing these zirconia are hereinafter abbreviated as zirconia) are particularly preferably used because the generation of impurities due to friction with the beads and the disperser during dispersion is small.

 平板状有機銀塩粒子を分散する際に用いられる装置類において、該有機銀塩粒子が接触する部材の材質としてジルコニア、アルミナ、窒化珪素、窒化ホウ素などのセラミックス類またはダイヤモンドを用いることが好ましく、中でも、ジルコニアを用いることが好ましい。 In the apparatus used when dispersing the tabular organic silver salt particles, it is preferable to use ceramics or diamond such as zirconia, alumina, silicon nitride, and boron nitride as a material of a member with which the organic silver salt particles are in contact, Among them, zirconia is preferably used.

 上記分散をおこなう際、バインダー濃度は有機銀塩質量の0.1〜10%添加することが好ましく、予備分散から本分散を通して液温が45℃を上回らないことが好ましい。また、本分散の好ましい運転条件としては、例えば高圧ホモジナイザを分散手段として用いる場合には、29.42MPa〜98.06MPa、運転回数は2回以上が好ましい運転条件として挙げられる。又、メディア分散機を分散手段として用いる場合には、周速が6m/秒〜13m/秒が好ましい条件として挙げられる。 (4) When performing the above dispersion, the binder concentration is preferably 0.1 to 10% of the mass of the organic silver salt, and the liquid temperature is preferably not higher than 45 ° C. from the preliminary dispersion to the main dispersion. Preferred operating conditions for the dispersion include, for example, when a high-pressure homogenizer is used as the dispersing means, 29.42 MPa to 98.06 MPa, and the number of operation times is preferably 2 or more. When a media dispersing machine is used as the dispersing means, a preferable condition is a peripheral speed of 6 m / sec to 13 m / sec.

 又、本発明に係る熱現像感光材料において好ましい態様は、当該材料の支持体面と垂直な断面を電子顕微鏡観察した時、0.025μm2未満の投影面積を示す有機銀塩粒子の割合が有機銀塩粒子の全投影面積の70%以上を示し、且つ、0.2μm2以上の投影面積を示す粒子の割合が有機銀塩粒子の全投影面積の10%以下である特徴を有する有機銀塩、更には感光性ハロゲン化銀を含有する感光性乳剤を塗布してなるものである。このような場合、感光性乳剤中において有機銀塩粒子の凝集が少なく、且つ、均一に分布した状態を得ることができる。 Further, a preferred embodiment photothermographic material according to the present invention, when the support surface and the cross section perpendicular of the material observed with an electron microscope, the ratio organic silver of the organic silver salt particles exhibiting a projection area of less than 0.025 .mu.m 2 An organic silver salt having a feature of exhibiting 70% or more of the total projected area of the salt particles and having a ratio of particles having a projected area of 0.2 μm 2 or more of 10% or less of the total projected area of the organic silver salt particles; Further, a photosensitive emulsion containing photosensitive silver halide is coated. In such a case, it is possible to obtain a state in which the organic silver salt particles are less aggregated in the photosensitive emulsion and are uniformly distributed.

 このような特徴を有する感光性乳剤を作製する条件としては、特に限定されないが、有機酸アルカリ金属塩ソープ形成時の混合状態および/または前記ソープに硝酸銀を添加する際の混合状態などを良好に保つことや、ソープと反応する硝酸銀の割合を最適にすること、分散粉砕にはメディア分散機または高圧ホモジナイザなどで分散すること、その際バインダーの使用量(濃度)としては有機銀塩質量の0.1〜10%とすること、乾燥から本分散終了までの温度が45℃を上回らないことなどに加えて、調液時にはディゾルバを使用し周速2.0m/秒以上で攪拌することなどが好ましい条件として挙げられる。 The conditions for producing a photosensitive emulsion having such characteristics are not particularly limited, and the mixing state at the time of forming the organic acid alkali metal salt soap and / or the mixing state at the time of adding silver nitrate to the soap can be favorably determined. Optimizing the ratio of silver nitrate that reacts with the soap, dispersing with a media disperser or a high-pressure homogenizer for dispersion and pulverization. In addition to the fact that the temperature from drying to the end of the main dispersion does not exceed 45 ° C., stirring at a peripheral speed of 2.0 m / sec or more using a dissolver at the time of liquid preparation is performed. Preferred conditions are mentioned.

 上記記載のような特定の投影面積値を有する有機銀塩粒子の投影面積や全投影面積にしめる割合などは、上記記載の平板状粒子の平均厚さを求める個所で記載したと同様に、TEM(透過型電子顕微鏡)を用いた方法により、有機銀塩粒子に相当する個所を抽出する。 The projection area of the organic silver salt grains having a specific projection area value as described above, the ratio of the total projection area, and the like can be determined in the same manner as described in the section for obtaining the average thickness of the tabular grains described above, using TEM ( A portion corresponding to the organic silver salt particles is extracted by a method using a transmission electron microscope).

 この際に凝集した有機銀塩粒子はひとつの粒子と見なして処理し各粒子の面積(AREA)を求める。同様にして少なくとも1,000個、好ましくは2,000個の粒子について面積を求め、それぞれについて、A:0.025μm2未満、B:0.025μm2以上、0.2μm2未満、C:0.2μm2以上の3つの群に分類する。本発明の感光材料は、A群に属する粒子の面積の合計が測定された全粒子の面積の70%以上であり、かつC群に属する粒子の面積の合計が測定された全粒子の面積の10%以下を満たすものであることが好ましい。 At this time, the aggregated organic silver salt particles are treated as one particle, and the area (AREA) of each particle is determined. At least 1,000 in the same manner, preferably obtains the area about 2,000 particles, each, A: 0.025 .mu.m less than 2, B: 0.025 .mu.m 2 or more and less than 0.2 [mu] m 2, C: 0 Classification into three groups of 2 μm 2 or more. In the light-sensitive material of the present invention, the total area of the particles belonging to Group A is 70% or more of the total area of the measured particles, and the total area of the particles belonging to Group C is measured. Preferably, it satisfies 10% or less.

 上記手順で計測をおこなう際にはあらかじめ、標準試料を用いて、1画素あたりの長さ補正(スケール補正)および計測系の2次元ひずみの補正を上述した針状比率の平均値を算出する際に行った方法を用いることが好ましい。 When the measurement is performed in the above procedure, the length correction (scale correction) per pixel and the correction of the two-dimensional distortion of the measurement system are calculated in advance by using the standard sample to calculate the average value of the above-described needle ratio. It is preferable to use the method performed in the above.

 画像処理技術の詳細は前記と同様「田中弘編 画像処理応用技術(工業調査会)」を参考にすることができ、画像処理プログラムまたは装置としては上記操作が可能なのであれば特に限定はされないが、やはり一例として前記と同様ニレコ社製Luzex−IIIが挙げられる。 The details of the image processing technology can be referred to “Hiroshi Tanaka Image Processing Application Technology (Industrial Research Council)” as described above, and the image processing program or device is not particularly limited as long as the above operation is possible. As another example, Luzex-III manufactured by Nireco is also mentioned as an example.

 本発明に係る有機銀塩粒子は、単分散粒子であることが好ましく、好ましい単分散度としては1〜30%であり、この範囲の単分散粒子にすることにより、濃度の高い画像が得られる。ここでいう単分散度とは、下記式で定義される。 The organic silver salt particles according to the present invention are preferably monodisperse particles, and the preferred degree of monodispersion is 1 to 30%. By using the monodisperse particles in this range, a high-density image can be obtained. . Here, the monodispersity is defined by the following equation.

  単分散度={(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)}×100
 上記記載の有機銀塩の平均粒径(円相当径)は0.01〜0.3μmが好ましく、更に好ましくは、0.02〜0.2μmである。なお、平均粒径(円相当径)とは、電子顕微鏡で観察される個々の粒子像と等しい面積を有する円の直径を表す。
Monodispersity = {(standard deviation of particle size) / (average value of particle size)} × 100
The average particle diameter (equivalent circle diameter) of the organic silver salt described above is preferably 0.01 to 0.3 μm, and more preferably 0.02 to 0.2 μm. The average particle diameter (equivalent circle diameter) indicates the diameter of a circle having the same area as the individual particle images observed with an electron microscope.

 本発明においては感光材料の失透を防ぐためには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換算して1m2当たり0.3g以上、1.5g以下であることが好ましい。この範囲にすることで医用画像として用いる場合は、好ましい画像が得られる。1m2当たり0.3g未満では画像濃度が低下してしまうことがある。また、1m2当たり1.5gを越えるとかぶりが増加したり、PS版への焼き付け時に感度低下をおこしてしまうことがある。 In the present invention, in order to prevent devitrification of the light-sensitive material, the total amount of silver halide and organic silver salt is preferably 0.3 g or more and 1.5 g or less per m 2 in terms of silver amount. By using this range, a preferable image can be obtained when used as a medical image. If the amount is less than 0.3 g per 1 m 2 , the image density may decrease. If the amount exceeds 1.5 g per 1 m 2 , fog may increase or sensitivity may decrease at the time of printing on a PS plate.

 本発明に係るハロゲン化銀(以下、感光性ハロゲン化銀粒子またはハロゲン化銀粒子ともいう)について説明する。なお、本発明に係るハロゲン化銀とは、ハロゲン化銀結晶の固有の性質として本来的に光吸収し得て、又は、人為的に物理化学的な方法により可視光ないし赤外光を吸収し得て、かつ紫外光領域から赤外光領域の光波長範囲内のいずれかの領域の光を吸収したときに当該ハロゲン化銀結晶内及び/又は結晶表面において物理化学的変化が起こり得るように処理製造されたハロゲン化銀結晶粒子をいう。 銀 The silver halide according to the present invention (hereinafter also referred to as photosensitive silver halide grains or silver halide grains) will be described. Incidentally, the silver halide according to the present invention can be inherently light-absorbing as an inherent property of silver halide crystals, or absorb visible light or infrared light by artificial physicochemical methods. To obtain a physicochemical change in the silver halide crystal and / or the crystal surface when the light is absorbed in any region within the light wavelength range from the ultraviolet light region to the infrared light region. It refers to silver halide crystal grains produced by processing.

 本発明に用いられるハロゲン化銀粒子自体は、P.Glafkides著 Chimie et Physique Photographique(Paul Montel社刊、1967年)、G.F.Duffin著 Photographic Emulsion Chemistry(The Focal Press刊、1966年)、V.L.Zelikman et al著 Making and Coating Photographic Emulsion(The Focal Press刊、1964年)等に記載された方法を用いてハロゲン化銀粒子乳剤(ハロゲン化銀乳剤ともいう)として調製することができる。即ち、酸性法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよく、又可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等のいずれを用いてもよいが、上記方法の中でも形成条件をコントロールしつつハロゲン化銀粒子を調製する所謂コントロールドダブルジェット法が好ましい。ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよい。 銀 The silver halide grains used in the present invention are themselves P.I. Chiffie et Physique Photographique, published by Paul Montel, 1967, by Glafkides; F. Duffin, Photographic Emulsion Chemistry (The Focal Press, 1966); L. It can be prepared as a silver halide grain emulsion (also referred to as a silver halide emulsion) by using a method described in "Making and Coating Photographic Emulsion" (published by Zelikman et al, The Focal Press, 1964). That is, any of an acidic method, a neutral method, an ammonia method and the like may be used, and a method of reacting a soluble silver salt with a soluble halide may be any one of a one-side mixing method, a double-mixing method, a combination thereof and the like. Of these methods, the so-called controlled double jet method of preparing silver halide grains while controlling the formation conditions is preferable among the above methods. The halogen composition is not particularly limited, and may be any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide, and silver iodide.

 粒子形成は通常、ハロゲン化銀種粒子(核)生成と粒子成長の2段階に分けられ、一度にこれらを連続的に行う方法でもよく、又核(種粒子)形成と粒子成長を分離して行う方法でもよい。粒子形成条件であるpAg、pH等をコントロールして粒子形成を行うコントロールドダブルジェット法が粒子形状やサイズのコントロールができるので好ましい。例えば、核生成と粒子成長を分離して行う方法を行う場合には、先ず銀塩水溶液とハライド水溶液をゼラチン水溶液中で均一、急速に混合させ核(種粒子)生成(核生成工程)した後、コントロールされたpAg、pH等のもとで銀塩水溶液とハライド水溶液を供給しつつ粒子成長させる粒子成長工程によりハロゲン化銀粒子を調製する。粒子形成後、脱塩工程により不要な塩類等をヌードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透析法等公知の脱塩法により除くことで所望のハロゲン化銀乳剤を得ることができる。 Grain formation is usually divided into two stages of silver halide seed grain (nucleus) formation and grain growth, and these may be performed continuously at once, or by separating nucleus (seed grain) formation and grain growth. It may be a method of performing. The controlled double jet method for forming particles by controlling the pAg, pH and the like, which are the particle forming conditions, is preferable because the shape and size of the particles can be controlled. For example, when performing a method in which nucleation and particle growth are performed separately, first, an aqueous silver salt solution and an aqueous halide solution are uniformly and rapidly mixed in an aqueous gelatin solution to generate nuclei (seed particles) (nucleation step). The silver halide grains are prepared by a grain growing step of growing grains while supplying an aqueous silver salt solution and an aqueous halide solution under controlled pAg, pH, and the like. After forming the grains, a desired silver halide emulsion can be obtained by removing unnecessary salts and the like by a desalting step by a known desalting method such as a noodle method, flocculation method, ultrafiltration method, and electrodialysis method. .

 本発明において、ハロゲン化銀粒子の粒子サイズは単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる粒子サイズの変動係数が30%以下をいう。好ましくは20%以下であり、更に好ましくは15%以下である。 に お い て In the present invention, the silver halide grains are preferably monodispersed. The term “monodisperse” as used herein means that the coefficient of variation of the particle size determined by the following equation is 30% or less. It is preferably at most 20%, more preferably at most 15%.

  粒子サイズの変動係数%=(粒径の標準偏差/粒径の平均値)×100
 ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、八面体、14面体粒子、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ状粒子などを挙げることができるが、これらの中、特に、立方体、八面体、14面体、平板状ハロゲン化銀粒子が好ましい。
Coefficient of variation% of particle size = (standard deviation of particle size / average value of particle size) × 100
Examples of the shape of silver halide grains include cubic, octahedral, and tetrahedral grains, tabular grains, spherical grains, rod-like grains, potato-like grains, and among these, among them, cubic, octahedral, It is preferable to use a tabular or tabular silver halide grain.

 平板状ハロゲン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は、好ましくは1.5以上、100以下、より好ましくは2以上、50以下である。これらについては米国特許第5,264,337号、同5,314,798号、同5,320,958号等に記載されており、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。更に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。 (4) The average aspect ratio when tabular silver halide grains are used is preferably 1.5 or more and 100 or less, more preferably 2 or more and 50 or less. These are described in U.S. Pat. Nos. 5,264,337, 5,314,798, and 5,320,958, and the desired tabular grains can be easily obtained. Further, grains having rounded corners of silver halide grains can also be preferably used.

 ハロゲン化銀粒子外表面の晶癖については特に制限はないが、ハロゲン化銀粒子表面への増感色素の吸着反応において、晶癖(面)選択性を有する増感色素を使用する場合には、その選択性に適応する晶癖を相対的に高い割合で有するハロゲン化銀粒子を使用することが好ましい。例えば、ミラー指数〔100〕の結晶面に選択的に吸着する増感色素を使用する場合には、ハロゲン化銀粒子外表面において〔100〕面の占める割合が高いことが好ましく、この割合が50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好まし、80%以上であることが特に好ましい。なお、ミラー指数〔100〕面の比率は増感色素の吸着における〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用したT.Tani,J.Imaging Sci.,29,165(1985年)により求めることができる。 The crystal habit on the outer surface of the silver halide grains is not particularly limited. However, in the case of using a sensitizing dye having crystal habit (plane) selectivity in the adsorption reaction of the sensitizing dye on the surface of the silver halide grains. It is preferable to use silver halide grains having a relatively high proportion of crystal habit adapted to the selectivity. For example, when a sensitizing dye that selectively adsorbs to a crystal plane having a Miller index of [100] is used, the ratio of the [100] plane to the outer surface of the silver halide grain is preferably high, and this ratio is preferably 50%. % Or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more. The ratio of the Miller index [100] plane is determined by the T.V. method using the adsorption dependence of the [111] plane and the [100] plane in the adsorption of the sensitizing dye. Tani, J .; Imaging @ Sci. , 29, 165 (1985).

 本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、該粒子形成時に平均分子量5万以下の低分子量ゼラチンを用いて調製することが好ましいが、特にハロゲン化銀粒子の核形成時に用いることが好ましい。 The silver halide grains used in the present invention are preferably prepared by using low molecular weight gelatin having an average molecular weight of 50,000 or less at the time of forming the grains, and particularly preferably at the time of forming nuclei of the silver halide grains.

 本発明において低分子量ゼラチンは、平均分子量5万以下のものが好ましく、より好ましくは2000〜40000であり、特に好ましくは5000〜25000である。ゼラチンの平均分子量はゲル濾過クロマトグラフィーで測定することができる。低分子量ゼラチンは、通常用いられる平均分子量10万程度のゼラチン水溶液にゼラチン分解酵素を加えて酵素分解したり、酸又はアルカリを加えて加熱し加水分解したり、大気圧下又は加圧下での加熱により熱分解したり、超音波照射して分解したり、それらの方法を併用したりして得ることができる。 に お い て In the present invention, the low molecular weight gelatin preferably has an average molecular weight of 50,000 or less, more preferably 2,000 to 40,000, and particularly preferably 5,000 to 25,000. The average molecular weight of gelatin can be measured by gel filtration chromatography. Low-molecular-weight gelatin is generally used for enzymatic degradation by adding a gelatin-degrading enzyme to an aqueous gelatin solution having an average molecular weight of about 100,000, hydrolyzing by adding an acid or alkali, and heating under atmospheric pressure or under pressure. By thermal decomposition, decomposition by irradiation with ultrasonic waves, or a combination of these methods.

 核形成時の分散媒の濃度は5質量%以下が好ましく、0.05〜3.0質量%の低濃度で行うのがより好ましい。 (5) The concentration of the dispersion medium at the time of nucleation is preferably 5% by mass or less, and more preferably a low concentration of 0.05 to 3.0% by mass.

 本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、該粒子形成時に下記の一般式で表される化合物を用いることが好ましい。 銀 As the silver halide grains used in the present invention, it is preferable to use a compound represented by the following general formula at the time of forming the grains.

 一般式
  YO(CH2CH2O)m(CH(CH3)CH2O)p(CH2CH2O)n
 式中、Yは水素原子、−SO3M、又は−CO−B−COOMを表し、Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基又は炭素原子数5以下のアルキル基にて置換されたアンモニウム基を表し、Bは有機2塩基性酸を形成する鎖状又は環状の基を表す。m及びnは各々0〜50を表し、pは1〜100を表す。
General formula YO (CH 2 CH 2 O) m (CH (CH 3 ) CH 2 O) p (CH 2 CH 2 O) n Y
Wherein, Y is a hydrogen atom, a -SO 3 M, or -CO-B-COOM, M is a hydrogen atom, an alkali metal atom, ammonium group or substituted ammonium group at carbon atom number of 5 or less in the alkyl group And B represents a linear or cyclic group forming an organic dibasic acid. m and n each represent 0 to 50, and p represents 1 to 100.

 上記の一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は、ハロゲン化銀写真感光材料を製造するに際し、ゼラチン水溶液を製造する工程、ゼラチン溶液に水溶性ハロゲン化物及び水溶性銀塩を添加する工程、乳剤を支持体上に塗布する工程等、乳剤原料を撹拌したり、移動したりする場合の著しい発泡に対する消泡剤として好ましく用いられてきたものであり、消泡剤として用いる技術は例えば特開昭44−9497号に記載されている。上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は核形成時の消泡剤としても機能する。 The polyethylene oxide compound represented by the above general formula is used in producing a silver halide photographic light-sensitive material, a step of producing an aqueous gelatin solution, a step of adding a water-soluble halide and a water-soluble silver salt to the gelatin solution, and It has been preferably used as an antifoaming agent against remarkable foaming when the emulsion raw material is stirred or moved, such as a step of coating on a support. No.-9497. The polyethylene oxide compound represented by the above general formula also functions as an antifoaming agent at the time of nucleation.

 上記一般式で表される化合物は銀に対して1質量%以下で用いるのが好ましく、より好ましくは0.01〜0.1質量%で用いる。 化合物 The compound represented by the above general formula is preferably used in an amount of 1% by mass or less based on silver, more preferably 0.01 to 0.1% by mass.

 上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は核形成時に存在していればよく、核形成前の分散媒中に予め加えておくのが好ましいが、核形成中に添加してもよいし、核形成時に使用する銀塩水溶液やハライド水溶液に添加して用いてもよい。好ましくはハライド水溶液若しくは両方の水溶液に0.01〜2.0質量%で添加して用いることである。又、上記一般式で表される化合物は核形成工程の少なくとも50%に亘る時間で存在せしめるのが好ましく、更に好ましくは70%以上に亘る時間で存在せしめる。上記一般式で表される化合物は粉末で添加しても、メタノール等の溶媒に溶かして添加してもよい。 The polyethylene oxide compound represented by the above general formula only needs to be present at the time of nucleation, and is preferably added in advance to the dispersion medium before nucleation, but may be added during nucleation, It may be used by being added to a silver salt aqueous solution or a halide aqueous solution used at the time of formation. Preferably, it is used by adding it to a halide aqueous solution or both aqueous solutions at 0.01 to 2.0% by mass. The compound represented by the above general formula is preferably present for at least 50% of the time of the nucleation step, and more preferably for at least 70% of the time. The compound represented by the above general formula may be added as a powder or may be added after being dissolved in a solvent such as methanol.

 なお、核形成時の温度は通常5〜60℃、好ましくは15〜50℃であり、一定の温度であっても、昇温パターン(例えば、核形成開始時の温度が25℃で、核形成中徐々に温度を挙げ、核形成終了時の温度が40℃の様な場合)やその逆のパターンであっても前記温度範囲内で制御するのが好ましい。 The temperature at the time of nucleation is usually 5 to 60 ° C., preferably 15 to 50 ° C. Even if the temperature is constant, the temperature rising pattern (for example, the temperature at the start of nucleation is 25 ° C. It is preferable to control the temperature within the above-mentioned temperature range even when the temperature is gradually increased and the temperature at the end of nucleation is 40 ° C.) or vice versa.

 核形成に用いる銀塩水溶液及びハライド水溶液の濃度は3.5モル/L以下が好ましく、更には0.01〜2.5モル/Lの低濃度域で使用されるのが好ましい。核形成時の銀イオンの添加速度は、反応液1L当たり1.5×10-3モル/分〜3.0×10-1モル/分が好ましく、更に好ましくは3.0×10-3モル/分〜8.0×10-2モル/分である。 The concentrations of the silver salt aqueous solution and the halide aqueous solution used for nucleation are preferably 3.5 mol / L or less, and more preferably used in a low concentration range of 0.01 to 2.5 mol / L. The rate of addition of silver ion during nucleation is preferably reaction 1L per 1.5 × 10 -3 mol / min to 3.0 × 10 -1 mol / min, more preferably 3.0 × 10 -3 mol / Min to 8.0 × 10 -2 mol / min.

 核形成時のpHは通常1.7〜10の範囲に設定できるが、アルカリ側のpHでは形成する核の粒径分布を広げてしまうので好ましくはpH2〜6である。又、核形成時のpBrは通常0.05〜3.0であり、好ましくは1.0〜2.5、より好ましくは1.5〜2.0である。 PH The pH at the time of nucleation can be usually set in the range of 1.7 to 10, but the pH on the alkali side is preferably pH 2 to 6, since the particle size distribution of nuclei to be formed is widened. The pBr during nucleation is usually 0.05 to 3.0, preferably 1.0 to 2.5, and more preferably 1.5 to 2.0.

 本発明に用いられるハロゲン化銀粒子はいかなる方法で画像形成層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀粒子は還元可能な銀源(有機銀塩)に近接するように配置するのが好ましい。 The silver halide grains used in the present invention may be added to the image forming layer by any method. In this case, the silver halide grains are preferably arranged so as to be close to a reducible silver source (organic silver salt). .

 本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は予め調製しておき、これを有機銀塩粒子を調製するための溶液に添加するのが、ハロゲン化銀調製工程と有機銀塩粒子調製工程を分離して扱えるので製造コントロール上も好ましいが、英国特許第1,447,454号に記載されている様に、有機銀塩粒子を調製する際にハライドイオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成成分と共存させこれに銀イオンを注入することで有機銀塩粒子の生成とほぼ同時に生成させることもできる。 The silver halide grains used in the present invention are prepared in advance and added to a solution for preparing the organic silver salt grains by separating the silver halide preparing step and the organic silver salt preparing step. Although it is preferable from the viewpoint of production control because it can be handled, as described in British Patent No. 1,447,454, a halogen component such as a halide ion is allowed to coexist with an organic silver salt forming component when preparing organic silver salt particles. By injecting silver ions into this, it is possible to produce organic silver salt particles almost simultaneously with the production thereof.

 又、有機銀塩にハロゲン含有化合物を作用させ、有機銀塩のコンバージョンによりハロゲン化銀粒子を調製することも可能である。即ち、予め調製された有機銀塩の溶液もしくは分散液、又は有機銀塩を含むシート材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。 It is also possible to prepare a silver halide grain by converting an organic silver salt with a halogen-containing compound and converting the organic silver salt. That is, a silver halide-forming component is applied to a solution or dispersion of an organic silver salt prepared in advance or a sheet material containing the organic silver salt to convert a part of the organic silver salt into photosensitive silver halide. You can also.

 ハロゲン化銀形成成分としては、無機ハロゲン化合物、オニウムハライド類、ハロゲン化炭化水素類、N−ハロゲン化合物、その他の含ハロゲン化合物があり、その具体例については米国特許第4,009,039号、同3,457,075号、同4,003,749号、英国特許第1,498,956号及び特開昭53−27027号、同53−25420号に詳説される金属ハロゲン化物、ハロゲン化アンモニウム等の無機ハロゲン化物、例えばトリメチルフェニルアンモニウムブロマイド、セチルエチルジメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムブロマイドの様なオニウムハライド類、例えば、ヨードフォルム、ブロモフォルム、四塩化炭素、2−ブロム−2−メチルプロパン等のハロゲン化炭化水素類、N−ブロム琥珀酸イミド、N−ブロムフタルイミド、N−ブロムアセトアミド等のN−ハロゲン化合物、その他例えば、塩化トリフェニルメチル、臭化トリフェニルメチル、2−ブロム酢酸、2−ブロムエタノール、ジクロロベンゾフェノン等がある。この様にハロゲン化銀を有機酸銀塩とハロゲンイオンとの反応により有機酸銀塩中の銀の一部又は全部をハロゲン化銀に変換することによって調製することもできる。また、別途調製したハロゲン化銀にこれらの有機銀塩の一部をコンバージョンすることで製造したハロゲン化銀粒子を併用してもよい。 Examples of the silver halide forming component include inorganic halogen compounds, onium halides, halogenated hydrocarbons, N-halogen compounds, and other halogen-containing compounds, and specific examples thereof are described in U.S. Pat. No. 4,009,039. No. 3,457,075, No. 4,003,749, British Patent No. 1,498,956, and JP-A-53-27027 and JP-A-53-25420, metal halides and ammonium halides Onium halides such as trimethylphenylammonium bromide, cetylethyldimethylammonium bromide and trimethylbenzylammonium bromide, for example, iodoform, bromoform, carbon tetrachloride, 2-bromo-2-methylpropane, etc. Halogenated hydrocarbons, N-halogen compounds such as -bromosuccinimide, N-bromophthalimide, N-bromoacetamide, and others such as triphenylmethyl chloride, triphenylmethyl bromide, 2-bromoacetic acid, 2-bromoethanol, and dichlorobenzophenone. is there. In this way, the silver halide can also be prepared by converting a part or all of the silver in the organic acid silver salt to silver halide by reacting the organic acid silver salt with the halogen ion. Further, silver halide grains produced by converting a part of these organic silver salts to separately prepared silver halide may be used in combination.

 これらのハロゲン化銀粒子は、別途調製したハロゲン化銀粒子、有機銀塩のコンバージョンによるハロゲン化銀粒子とも、有機銀塩1モルに対し0.001〜0.7モル使用するのが好ましく、0.03〜0.5モル使用するのがより好ましい。 These silver halide grains, both separately prepared silver halide grains and silver halide grains obtained by conversion of organic silver salt, are preferably used in an amount of 0.001 to 0.7 mol per 1 mol of organic silver salt. It is more preferable to use 0.03 to 0.5 mol.

 本発明に用いられるハロゲン化銀には、元素周期律表の6族〜11族に属する遷移金属のイオンを含有することが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、Co、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、Pt、Auが好ましい。これらは1種類でも同種或いは異種の金属錯体を2種以上併用してもよい。これらの金属イオンは金属塩をそのままハロゲン化銀に導入してもよいが、金属錯体又は錯体イオンの形でハロゲン化銀に導入できる。含有率は銀1モルに対し1×10-9モル〜1×10-2モルの範囲が好ましく、1×10-8〜1×10-4の範囲がより好ましい。本発明においては、遷移金属錯体又は錯体イオンは下記一般式で表されるものが好ましい。 The silver halide used in the present invention preferably contains ions of transition metals belonging to Groups 6 to 11 of the periodic table. As the above metal, W, Fe, Co, Ni, Cu, Ru, Rh, Pd, Re, Os, Ir, Pt, and Au are preferable. These may be used alone or in combination of two or more of the same or different metal complexes. These metal ions may be directly introduced into silver halide as a metal salt, but can be introduced into silver halide in the form of a metal complex or complex ion. The content is preferably in the range of 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −2 mol per mol of silver, more preferably in the range of 1 × 10 −8 to 1 × 10 −4 . In the present invention, the transition metal complex or complex ion is preferably represented by the following general formula.

 一般式〔ML6m
 式中、Mは元素周期表の6〜11族の元素から選ばれる遷移金属、Lは配位子を表し、mは0、−1、−2、−3又は−4を表す。Lで表される配位子の具体例としては、ハロゲンイオン(弗素イオン、塩素イオン、臭素イオン、沃素イオン)、シアナイド、シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が存在する場合には、配位子の一つ又は二つを占めることが好ましい。Lは同一でもよく、また異なっていてもよい。
General formula [ML 6 ] m
In the formula, M represents a transition metal selected from elements of Groups 6 to 11 of the periodic table, L represents a ligand, and m represents 0, -1, -2, -3, or -4. Specific examples of the ligand represented by L include halogen ion (fluoride ion, chloride ion, bromide ion, iodide ion), cyanide, cyanate, thiocyanate, selenocyanate, tellurocyanate, azide and aquo. Ligand, nitrosyl, thionitrosyl and the like, and preferably aquo, nitrosyl and thionitrosyl. If an aquo ligand is present, it preferably occupies one or two of the ligands. L may be the same or different.

 これらの金属のイオン又は錯体イオンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよいが、核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好ましく、核形成、成長の段階で添加するのがより好ましく、特に好ましくは核形成の段階で添加する。添加に際しては、数回にわたって分割して添加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、特開昭63−29603号、特開平2−306236号、同3−167545号、同4−76534号、同6−110146号、同5−273683号等に記載されている様に粒子内に分布をもたせて含有させることもできる。 The compound which provides the ion or complex ion of these metals is preferably added during silver halide grain formation and incorporated into silver halide grains. Preparation of silver halide grains, that is, nucleation, growth, and physical ripening , May be added at any stage before and after chemical sensitization, nucleation, growth, preferably added at the stage of physical ripening, nucleation, more preferably added at the stage of growth, particularly preferably It is added at the stage of nucleation. In the addition, it may be added in several portions, may be added uniformly in the silver halide grains, or may be added uniformly to the silver halide grains, as disclosed in JP-A-63-29603, JP-A-2-306236, and JP-A-3-167545. As described in JP-A Nos. 4-76534, 6-110146, 5-273683, etc., they can be contained in the particles with distribution.

 これらの金属化合物は、水或いは適当な有機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添加することができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩水溶液とハライド水溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液として添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製時に予め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液をハライド水溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に添加する時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中もしくは終了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入することもできる。 These metal compounds can be added after being dissolved in water or a suitable organic solvent (eg, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides). A method in which an aqueous solution or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl and KCl are dissolved together is added to a water-soluble silver salt solution or a water-soluble halide solution during grain formation, or a silver salt aqueous solution and a halide aqueous solution are mixed at the same time. To prepare silver halide grains by a method of simultaneous mixing of three liquids, a method of charging a required amount of an aqueous solution of a metal compound into a reaction vessel during grain formation, or a method of preparing silver halide. There is a method in which another silver halide grain doped with metal ions or complex ions in advance is sometimes added and dissolved. In particular, a method of adding an aqueous solution of a powder of a metal compound or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl and KCl are dissolved together is added to an aqueous halide solution. When adding to the surface of the particles, a required amount of an aqueous solution of a metal compound can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particles, during or at the end of physical ripening, or at the time of chemical ripening.

 別途調製した感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透析法等の公知の脱塩法により脱塩することができるが、熱現像感光材料においては脱塩しないで用いることもできる。 The separately prepared photosensitive silver halide grains can be desalted by a known desalting method such as a noodle method, flocculation method, ultrafiltration method, and electrodialysis method. It can also be used without.

 本発明に用いられるハロゲン化銀粒子には化学増感を施すことができる。例えば、特開2001−249428、同2001−249426に開示されている方法等により、硫黄などのカルコゲン原子を有する化合物や金イオンなどの貴金属イオンを放出する貴金属化合物を用いて化学増感中心(化学増感核)を形成付与できる。本発明においては上記のカルコゲン原子を有する化合物による化学増感と貴金属化合物を用いる化学増感を併用することが特に好ましい。 (4) The silver halide grains used in the present invention can be subjected to chemical sensitization. For example, according to the methods disclosed in JP-A-2001-249428 and JP-A-2001-249426, a chemical sensitization center (chemical reaction) is performed using a compound having a chalcogen atom such as sulfur or a noble metal compound which releases a noble metal ion such as a gold ion. (Sensitizing nucleus). In the present invention, it is particularly preferable to use both the chemical sensitization using the compound having a chalcogen atom and the chemical sensitization using a noble metal compound.

 本発明においては、以下に示すカルコゲン原子を含有する化合物により化学増感されているのが好ましい。 に お い て In the present invention, it is preferable that the compound is chemically sensitized by a compound containing a chalcogen atom shown below.

 これら有機増感剤として有用なカルコゲン原子を含有する化合物はハロゲン化銀へ吸着可能な基と不安定カルコゲン原子部位を有する化合物であることが好ましい。 The compound containing a chalcogen atom useful as an organic sensitizer is preferably a compound having a group capable of adsorbing to silver halide and an unstable chalcogen atom site.

 これらの有機増感剤としては、特開昭60−150046号、特開平4−109240号、同11−218874号等に開示されている種々の構造を有する有機増感剤を用いることができるが、それらのうちカルコゲン原子が炭素原子又はリン原子と二重結合で結ばれている構造を有する化合物の少なくとも1種であることが好ましい。 As these organic sensitizers, organic sensitizers having various structures disclosed in JP-A-60-150046, JP-A-4-109240, and JP-A-11-218874 can be used. Of these, it is preferable that at least one compound having a structure in which a chalcogen atom is connected to a carbon atom or a phosphorus atom by a double bond is used.

 有機増感剤としてのカルコゲン原子を含有する化合物の使用量は、使用するカルコゲン化合物、ハロゲン化銀粒子、化学増感を施す際の反応環境などにより変わるが、ハロゲン化銀1モル当たり、10-8〜10-2モルが好ましく、より好ましくは10-7〜10-3モルである。本発明における化学増感環境としては特に制限はないが、感光性ハロゲン化銀粒子上のカルコゲン化銀又は銀核を消滅或いはそれらの大きさを減少させ得る化合物の存在下において、又特に銀核を酸化しうる酸化剤の共存下においてカルコゲン原子を含有する有機増感剤を用いてカルコゲン増感を施すことが好ましく、該増感条件として、pAgとしては6〜11が好ましく、より好ましくは7〜10であり、pHは4〜10が好ましく、より好ましくは5〜8、又、温度としては30℃以下で増感を施すことが好ましい。 The amount of the compound containing a chalcogen atom as an organic sensitizer is variable, chalcogen compound to be used, silver halide grains will vary due reaction environment when subjected to chemical sensitization, per mol of silver halide, 10 - The amount is preferably from 8 to 10 -2 mol, more preferably from 10 -7 to 10 -3 mol. The chemical sensitizing environment in the present invention is not particularly limited, but in the presence of a compound capable of eliminating silver chalcogen or silver nuclei on the photosensitive silver halide grains or reducing the size thereof, and in particular, silver nuclei. Chalcogen sensitization is preferably performed using an organic sensitizer containing a chalcogen atom in the presence of an oxidizing agent capable of oxidizing the compound. The sensitization condition is that the pAg is preferably 6 to 11, more preferably 7 to 11. -10, and the pH is preferably 4-10, more preferably 5-8, and the sensitization is preferably performed at a temperature of 30 ° C. or less.

 従って、本発明の熱現像感光材料においては、前記感光性ハロゲン化銀が、該粒子上の銀核を酸化しうる酸化剤の共存下においてカルコゲン原子を含有する有機増感剤を用いて温度30℃以下において化学増感を施され、かつ、有機銀塩と混合して分散され脱水及び乾燥された感光性ハロゲン化銀乳剤を用いることが好ましい。 Therefore, in the photothermographic material of the present invention, the photosensitive silver halide is heated to a temperature of 30 ° C using an organic sensitizer containing a chalcogen atom in the presence of an oxidizing agent capable of oxidizing silver nuclei on the grains. It is preferable to use a photosensitive silver halide emulsion which has been subjected to chemical sensitization at a temperature of not more than ℃, mixed with an organic silver salt, dispersed, dehydrated and dried.

 また、これらの有機増感剤を用いた化学増感は分光増感色素またはハロゲン化銀粒子に対して吸着性を有するヘテロ原子含有化合物の存在下で行われることが好ましい。ハロゲン化銀に吸着性を有する化合物の存在下化学増感を行うことで、化学増感中心核の分散化を防ぐことができ高感度、低かぶりを達成できる。本発明において用いられる分光増感色素については後述するが、ハロゲン化銀に吸着性を有するヘテロ原子含有化合物とは、特開平3−24537号に記載されている含窒素複素環化合物が好ましい例として挙げられる。本発明に用いられる含窒素複素環化合物において、複素環としてはピラゾール環、ピリミジン環、1,2,4−トリアゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,3−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,2,5−チアジアゾール環、1,2,3,4−テトラゾール環、ピリダジン環、1,2,3−トリアジン環、これらの環が2〜3個結合した環、例えばトリアゾロトリアゾール環、ジアザインデン環、トリアザインデン環、ペンタアザインデン環などを挙げることができる。単環の複素環と芳香族環の縮合した複素環、例えばフタラジン環、ベンズイミダゾール環、インダゾール環、ベンズチアゾール環なども適用できる。 化学 Further, the chemical sensitization using these organic sensitizers is preferably performed in the presence of a spectral sensitizing dye or a heteroatom-containing compound having adsorptivity to silver halide grains. By performing chemical sensitization in the presence of a compound having adsorptivity to silver halide, dispersion of the chemical sensitization center nucleus can be prevented, and high sensitivity and low fog can be achieved. The spectral sensitizing dye used in the present invention will be described later. The heteroatom-containing compound having adsorptivity to silver halide is preferably a nitrogen-containing heterocyclic compound described in JP-A-3-24537. No. In the nitrogen-containing heterocyclic compound used in the present invention, the heterocyclic ring is a pyrazole ring, a pyrimidine ring, a 1,2,4-triazole ring, a 1,2,3-triazole ring, a 1,3,4-thiadiazole ring, , 2,3-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,2,5-thiadiazole ring, 1,2,3,4-tetrazole ring, pyridazine ring, 1,2,3-triazine ring, And, for example, a triazolotriazole ring, diazaindene ring, triazaindene ring, and pentaazaindene ring. A condensed heterocyclic ring of a monocyclic heterocycle and an aromatic ring, for example, a phthalazine ring, a benzimidazole ring, an indazole ring, a benzthiazole ring, and the like can also be applied.

 これらの中で好ましいのはアザインデン環であり、かつ置換基としてヒドロキシル基を有するアザインデン化合物、例えばヒドロキシトリアザインデン、ヒドロキシテトラアザインデン、ヒドロキシペンタアザインデン化合物等が更に好ましい。 Of these, azaindene rings are preferred, and azaindene compounds having a hydroxyl group as a substituent, such as hydroxytriazaindene, hydroxytetraazaindene, and hydroxypentaazaindene compounds, are more preferred.

 複素環にはヒドロキシル基以外の置換基を有してもよい。置換基としては例えばアルキル基、置換アルキル基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、シアノ基などを有してもよい。 The heterocyclic ring may have a substituent other than a hydroxyl group. Examples of the substituent include an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkylthio group, an amino group, a hydroxyamino group, an alkylamino group, a dialkylamino group, an arylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a halogen atom, and a cyano group. You may.

 これら含複素環化合物の添加量はハロゲン化銀粒子の大きさや組成その他の条件等に応じて広い範囲に亘って変化するが、おおよその量はハロゲン化銀1モルあたりの量で10-6モル〜1モルの範囲であり、好ましくは10-4モル〜10-1モルの範囲である。 The addition amount of these heterocyclic compounds varies over a wide range depending on the size, composition, and other conditions of silver halide grains, but the approximate amount is 10 -6 mole per mole of silver halide. -1 mol, preferably 10 -4 mol -10 -1 mol.

 本発明に係るハロゲン化銀粒子には、前述のように、金イオンなどの貴金属イオンを放出する化合物を利用して貴金属増感を施すことができる。例えば、金増感剤として、塩化金酸塩や有機金化合物が利用できる。 銀 As described above, the silver halide grains according to the present invention can be sensitized with a noble metal using a compound that releases a noble metal ion such as a gold ion. For example, chloroaurate or an organic gold compound can be used as a gold sensitizer.

 又、上記の増感法の他、還元増感法等も用いることができ、還元増感の貝体的な化合物としてはアスコルビン酸、2酸化チオ尿素、塩化第1スズ、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることができる。また、乳剤のpHを7以上またはpAgを8.3以下に保持して熟成することにより還元増感することができる。 In addition to the above-described sensitization methods, reduction sensitization methods and the like can also be used. Examples of the reduction-sensitized shell-like compounds include ascorbic acid, thiourea dioxide, stannous chloride, hydrazine derivatives, and borane compounds. , A silane compound, a polyamine compound, and the like. Further, reduction sensitization can be achieved by ripening the emulsion while maintaining the pH of the emulsion at 7 or more or the pAg at 8.3 or less.

 本発明に係る化学増感を施されるハロゲン化銀は、有機銀塩の存在下で形成されたものでも、有機銀塩の存在しない条件下で形成されたものでも、また、両者が混合されたものでもよい。 The silver halide subjected to chemical sensitization according to the present invention may be one formed in the presence of an organic silver salt, one formed under the absence of an organic silver salt, or a mixture of both. May be used.

 本発明に用いる感光性ハロゲン化銀粒子には分光増感色素を吸着させ分光増感を施すことが好ましい。分光増感色素としてシアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用いることができる。例えば特開昭63−159841号、同60−140335号、同63−231437号、同63−259651号、同63−304242号、同63−15245号、米国特許第4,639,414号、同4,740,455号、同4,741,966号、同4,751,175号、同4,835,096号に記載された増感色素が使用できる。本発明に使用される有用な増感色素は例えばRD17643IV−A項(1978年12月p.23)、同18431X項(1978年8月p.437)に記載もしくは引用された文献に記載されている。特に各種レーザイメージャーやスキャナー光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を用いるのが好ましい。例えば、特開平9−34078号、同9−54409号、同9−80679号記載の化合物が好ましく用いられる。 (4) It is preferable that the photosensitive silver halide grains used in the present invention are subjected to spectral sensitization by adsorbing a spectral sensitizing dye. As the spectral sensitizing dye, cyanine dye, merocyanine dye, complex cyanine dye, complex merocyanine dye, holopolar cyanine dye, styryl dye, hemicyanine dye, oxonol dye, hemioxonol dye, and the like can be used. For example, JP-A-63-159814, JP-A-60-140335, JP-A-63-231437, JP-A-63-259651, JP-A-63-304242, JP-A-63-15245, U.S. Pat. The sensitizing dyes described in 4,740,455, 4,741,966, 4,751,175, and 4,835,096 can be used. Useful sensitizing dyes for use in the present invention are described, for example, in the literature described or cited in RD17643 IV-A (p.23, December 1978, p.23) and 18431X (p.437, August 1978). I have. In particular, it is preferable to use a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of various laser imagers and scanner light sources. For example, compounds described in JP-A-9-34078, JP-A-9-54409, and JP-A-9-80679 are preferably used.

 有用なシアニン色素は、例えば、チアゾリン核、オキサゾリン核、ピロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核およびイミダゾール核などの塩基性核を有するシアニン色素である。有用なメロシアニン染料で好ましいものは、上記の塩基性核に加えて、チオヒダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジンジオン核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、チアゾリノン核、マロノニトリル核およびピラゾロン核などの酸性核を含む。 Useful cyanine dyes are, for example, cyanine dyes having basic nuclei such as thiazoline nucleus, oxazoline nucleus, pyrroline nucleus, pyridine nucleus, oxazole nucleus, thiazole nucleus, selenazole nucleus and imidazole nucleus. Preferred useful merocyanine dyes include, in addition to the above basic nuclei, acidic nuclei such as a thiohydantoin nucleus, a rhodanine nucleus, an oxazolidinedione nucleus, a thiazolinedione nucleus, a barbituric acid nucleus, a thiazolinone nucleus, a malononitrile nucleus and a pyrazolone nucleus. including.

 本発明においては特に赤外に分光感度を有する増感色素を用いることが好ましい。本発明において、好ましく用いられる赤外分光増感色素としては、例えば、米国特許第4,536,473号、同4,515,888号、同4,959,294号等に開示されている赤外分光増感色素が挙げられる。 に お い て In the present invention, it is particularly preferable to use a sensitizing dye having a spectral sensitivity in the infrared. The infrared spectral sensitizing dyes preferably used in the present invention include, for example, those disclosed in U.S. Pat. Nos. 4,536,473, 4,515,888, and 4,959,294. And external spectral sensitizing dyes.

 本発明において用いられる赤外分光増感色素については、ベンズアゾール環のベンゼン環上にスルフィニル基が置換されていることを特徴とした長鎖のポリメチン色素が特に好ましい。 赤 外 The infrared spectral sensitizing dye used in the present invention is particularly preferably a long-chain polymethine dye characterized by having a sulfinyl group substituted on the benzene ring of a benzazole ring.

 上記の赤外増感色素は、例えばエフ・エム・ハーマー著、The Chemistry of Heterocyclic Compounds第18巻、The Cyanine Dyes and Related Compounds(A.Weissberger ed.Interscience社刊、New York 1964年)に記載の方法によって容易に合成することができる。 The above-mentioned infrared sensitizing dyes are described in, for example, FM Hammer, The Chemistry of Heterocyclic Compounds, Vol. 18, The Cyanine Dyes and Related Documents (A. Weissberger, Germany, 1964). It can be easily synthesized by the method.

 これらの赤外増感色素の添加時期はハロゲン化銀調製後のどの時点でもよく、例えば、溶剤に添加して、或いは、微粒子状に分散した所謂固体分散状態でハロゲン化銀粒子或いはハロゲン化銀粒子/有機銀塩粒子を含有する感光性乳剤に添加できる。又、前記のハロゲン化銀粒子に対し吸着性を有するヘテロ原子含有化合物と同様に、化学増感に先立ってハロゲン化銀粒子に添加し吸着させた後、化学増感を施すこともでき、これにより化学増感中心核の分散化を防ぐことができ高感度、低かぶりを達成することができる。 These infrared sensitizing dyes may be added at any time after the preparation of the silver halide. For example, they may be added to a solvent or in the form of fine particles dispersed in a so-called solid dispersion state of silver halide grains or silver halide. Grains / organic silver salt grains. Also, like the heteroatom-containing compound having an adsorptivity to the silver halide grains, the chemical sensitization can be performed after adding and adsorbing the silver halide grains prior to the chemical sensitization. Thereby, the dispersion of the chemical sensitization center nucleus can be prevented, and high sensitivity and low fog can be achieved.

 本発明において、上記の分光増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せは、特に強色増感の目的でしばしば用いられる。 In the present invention, the above-mentioned spectral sensitizing dyes may be used alone, or a combination thereof may be used, and a combination of sensitizing dyes is often used particularly for supersensitization.

 本発明の熱現像感光材料に用いられるハロゲン化銀粒子又は有機銀塩粒子を含有する乳剤は、増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感効果を発現する物質を乳剤中に含ませ、これによりハロゲン化銀粒子が強色増感されていてもよい。 The emulsion containing silver halide grains or organic silver salt grains used in the photothermographic material of the present invention, together with the sensitizing dye, does not substantially absorb a dye having no spectral sensitizing effect or visible light by itself. The emulsion may contain a substance exhibiting a supersensitizing effect, whereby the silver halide grains may be supersensitized.

 有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せおよび強色増感を示す物質はRD17643(1978年12月発行)第23頁IVのJ項、あるいは特公平9−25500号、特公昭43−4933号、特開昭59−19032号、同59−192242号、特開平5−341432号等に記載されているが、本発明においては、強色増感剤として下記の一般式で表される複素芳香族メルカプト化合物又はメルカプト誘導体化合物が好ましい。 Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization and substances exhibiting supersensitization are described in RD17643 (December, 1978), page 23, IV, J, or JP-B 9-25500, 43-4933, JP-A-59-19032, JP-A-59-192242, JP-A-5-341432, and the like. In the present invention, a supersensitizer represented by the following general formula is used. A heteroaromatic mercapto compound or a mercapto derivative compound is preferred.

 一般式 Ar−SM
 式中、Mは水素原子またはアルカリ金属原子であり、Arは1個以上の窒素、硫黄、酸素、セレニウム、またはテルリウム原子を有する芳香族複素環または芳香族縮合環である。好ましい芳香族複素環または芳香族縮合環としてはベンズイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンズチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンズセレナゾール、ベンズテルラゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリン、またはキナゾリン等が挙げられる。しかしながら、他の芳香族複素環も含まれる。
General formula Ar-SM
In the formula, M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic heterocycle or an aromatic fused ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium, or tellurium atoms. Preferred aromatic heterocycles or aromatic condensed rings are benzimidazole, naphthoimidazole, benzthiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzselenazole, benztellurazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, triazine, pyrimidine, Examples include pyridazine, pyrazine, pyridine, purine, quinoline, and quinazoline. However, other aromatic heterocycles are also included.

 なお、本発明においては、有機酸銀塩又はハロゲン化銀粒子乳剤の分散物中に含有させたときに実質的に上記のメルカプト化合物を生成するメルカプト誘導体化合物が含まれることが好ましい。特に、下記の一般式で表されるメルカプト誘導体化合物が好ましい例として挙げられる。 In the present invention, it is preferable that a mercapto derivative compound which substantially forms the above-mentioned mercapto compound when contained in a dispersion of an organic acid silver salt or a silver halide grain emulsion is contained. Particularly, a mercapto derivative compound represented by the following general formula is mentioned as a preferable example.

 一般式 Ar−S−S−Ar
 式中のArは上記の一般式で表されたメルカプト化合物の場合と同義である。
General formula Ar-SS-Ar
Ar in the formula has the same meaning as in the case of the mercapto compound represented by the above general formula.

 上記の芳香族複素環または芳香族縮合環は、例えば、ハロゲン原子(例えば、Cl、Br、I)、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有するもの)及びアルコキシ基(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有するもの)からなる群から選ばれる置換基を有しうる。 The aromatic heterocyclic ring or aromatic condensed ring is, for example, a halogen atom (eg, Cl, Br, I), a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, an alkyl group (eg, one or more carbon atoms, preferably , Having 1 to 4 carbon atoms) and an alkoxy group (for example, having 1 or more carbon atoms, preferably having 1 to 4 carbon atoms) sell.

 本発明においては、上記の強色増感剤の他に、特開2001−330918に開示されている次の一般式(1)で表される化合物と大環状化合物を強色増感剤として使用できる。 In the present invention, in addition to the above-described supersensitizer, a compound represented by the following general formula (1) and a macrocyclic compound disclosed in JP-A-2001-330918 are used as a supersensitizer. it can.

Figure 2004094240
Figure 2004094240

 式中、H31Arは芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表し、T31は脂肪族炭化水素基からなる2価の連結基または単なる結合手を表し、J31は酸素原子、硫黄原子または窒素原子を一つ以上含む2価の連結基または単なる結合手を表す。Ra、Rb、Rc及びRdは各々、水素原子、アシル基、脂肪族炭化水素基、アリール基または複素環基を表し、RaとRb、RcとRd、RaとRc或いはRbとRdの間で結合して含窒素複素環基を形成してもよい。M31は分子内の電荷を相殺するに必要なイオンを表し、k31は分子内の電荷を相殺するに必要なイオンの数を表す。 In the formula, H 31 Ar represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group, T 31 represents a divalent linking group consisting of an aliphatic hydrocarbon group or a mere bond, and J 31 represents an oxygen atom, sulfur Represents a divalent linking group containing one or more atoms or nitrogen atoms or a simple bond. Ra, Rb, Rc and Rd each represent a hydrogen atom, an acyl group, an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group or a heterocyclic group, and bond between Ra and Rb, Rc and Rd, Ra and Rc or Rb and Rd To form a nitrogen-containing heterocyclic group. M 31 represents an ion necessary to compensate for intramolecular charge, k 31 represents the number of ions necessary to compensate for an intramolecular charge.

 一般式(1)において、T31で表される脂肪族炭化水素基からなる2価の連結基としては、直鎖、分岐または環状のアルキレン基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、更に好ましくは1〜12のアルキレン基)、アルケニレン基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、更に好ましくは2〜12のアルケニレン基)、アルキニレン基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、更に好ましくは2〜12のアルキニレン基)等が挙げられる。 In the general formula (1), as the divalent linking group consisting of the aliphatic hydrocarbon group represented by T 31 , a linear, branched or cyclic alkylene group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms) To 16, more preferably 1 to 12 alkylene groups), alkenylene groups (preferably having 2 to 20, more preferably 2 to 16, more preferably 2 to 12 alkenylene groups), and alkynylene groups (preferably having 2 to 12 carbon atoms). 2-20, more preferably 2-16, and still more preferably 2-12 alkynylene groups).

 上記の各基は置換基を有していてもよい。 各 Each of the above groups may have a substituent.

 J31で表される酸素原子、硫黄原子または窒素原子を一つ以上含む2価の連結基としては、例えば、以下のものが挙げられる。また、これらの組み合わせであってもよい。 Oxygen atom represented by J 31, as the divalent linking group containing one or more sulfur atom or a nitrogen atom, for example, include the following. Also, a combination of these may be used.

Figure 2004094240
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 ここで、Re及びRfは各々、前述したRa〜Rdに定義した内容に同義である。 Here, Re and Rf have the same meanings as those defined in Ra to Rd, respectively.

 H31Arは芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表すが、H31Arで表される芳香族炭化水素基としては好ましくは炭素数6〜30のものであり、より好ましくは炭素数6〜20の単環または縮環のアリール基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、特に好ましくはフェニル基である。H31Arで表される芳香族複素環基としてはN、O及びSのうちの少なくとも一つの原子を含む5〜10員の不飽和のヘテロ環基であり、これらの基中のヘテロ環は単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。このようなヘテロ環基中のヘテロ環として好ましくは、5〜6員の芳香族ヘテロ環、及びそのベンゾ縮合環であり、より好ましくは窒素原子を含む5〜6員の芳香族ヘテロ環、及びそのベンゾ縮合環であり、更に好ましくは窒素原子を1〜2原子含む5〜6員の芳香族ヘテロ環、及びそのベンゾ縮合環である。 H 31 Ar represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group, and the aromatic hydrocarbon group represented by H 31 Ar preferably has 6 to 30 carbon atoms, and more preferably has 3 to 30 carbon atoms. 6 to 20 monocyclic or condensed aryl groups, such as a phenyl group and a naphthyl group, and particularly preferably a phenyl group. The aromatic heterocyclic group represented by H 31 Ar is a 5- to 10-membered unsaturated heterocyclic group containing at least one atom of N, O and S, and the heterocyclic ring in these groups is It may be a single ring or may form a condensed ring with another ring. The heterocycle in such a heterocyclic group is preferably a 5- to 6-membered aromatic heterocycle, and a benzo-fused ring thereof, more preferably a 5- to 6-membered aromatic heterocycle containing a nitrogen atom, and It is a benzo-fused ring, more preferably a 5- to 6-membered aromatic heterocycle containing 1 to 2 nitrogen atoms, and the benzo-fused ring.

 H31Arで表される芳香族炭化水素基並びに芳香族複素環基は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、T31の置換基として挙げた基と同様のものを挙げることができ、好ましい範囲も同様である。これらの置換基は更に置換されてもよく、また、置換基が二つ以上ある場合には各々、同じでも異なってもよい。H31Arで表される基は好ましくは芳香族複素環基である。 The aromatic hydrocarbon group and the aromatic heterocyclic group represented by H 31 Ar may have a substituent, and examples of the substituent include those similar to the groups exemplified as the substituent of T 31. The preferred range is also the same. These substituents may be further substituted, and when there are two or more substituents, each may be the same or different. The group represented by H 31 Ar is preferably an aromatic heterocyclic group.

 Ra、Rb、Rc、Rdで表される脂肪族炭化水素基、アリール基及び複素環基は、前記T31に於て脂肪族炭化水素基、アリール基及び複素環基の例として挙げたと同様のものを挙げることができ、好ましい範囲も同様である。Ra、Rb、Rc、Rdで表されるアシル基としては炭素数1〜12の脂肪族或いは芳香族の基であり、具体的にはアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル等の基が挙げられる。RaとRb、RcとRd、RaとRc或いはRbとRdの間で結合して形成する含窒素複素環基としては3〜10員の飽和、不飽和のヘテロ環基(例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、アクリジン環、ピロリジン環、ピロール環、モルフォリン環等の環基)が挙げられる。 Ra, Rb, Rc, aliphatic hydrocarbon groups represented by Rd, aryl group and heterocyclic group, an aliphatic hydrocarbon group At a the T 31, similar to that taken as examples of the aryl group and heterocyclic group And preferred ranges are also the same. The acyl group represented by Ra, Rb, Rc, and Rd is an aliphatic or aromatic group having 1 to 12 carbon atoms, and specific examples include acetyl, benzoyl, formyl, and pivaloyl. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group formed by bonding between Ra and Rb, Rc and Rd, Ra and Rc or Rb and Rd include a 3- to 10-membered saturated or unsaturated heterocyclic group (for example, piperidine ring, piperazine Ring, acridine ring, pyrrolidine ring, pyrrole ring, morpholine ring and the like).

 M31で表される分子内の電荷を相殺するに必要なイオンとして酸アニオンの具体例としては例えば、ハロゲンイオン(例えば塩素イオン、臭素イオン、沃素イオン等)、p−トルエンスルホン酸イオン、過塩素酸イオン、4フッ化ホウ素イオン、硫酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等が挙げられる。 Specific examples of the acid anion as ion necessary to compensate for intramolecular charge, represented by M 31 for example, a halogen ion (e.g. chloride ion, bromide ion, iodide ion, etc.), p-toluenesulfonate ion, peroxide Chlorate ion, boron tetrafluoride ion, sulfate ion, methyl sulfate ion, ethyl sulfate ion, methanesulfonate ion, trifluoromethanesulfonate ion and the like can be mentioned.

 ヘテロ原子を含む大環状化合物は、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子、セレン原子の少なくとも1つを含む9員環以上の大環状化合物である。代表的化合物としては、クラウンエーテルであり下記のPedersenが1967年に合成し、その特異な性質を報告以来、数多く合成されているものである。これらの化合物は、C.J.Pedersen,Journal of American chemical Society vol.86(2495),7017〜7036(1967);G.W.Gokel,S.H,Korzeniowski,“Macrocyclic polyethr synthesis”,Springer−Verlag.(1982);小田、庄野、田伏編“クラウンエーテルの化学”化学同人(1978);田伏等“ホストーゲスト”共立出版(1979);佐々木、古賀“有機合成化学”Vol45(6)、571〜582(1987)等に詳細に書かれている。これらヘテロ原子を含む大環状化合物の具体例としては特開2000−347343段落0030〜0037に記載されたものが挙げられる。 大 A macrocyclic compound containing a hetero atom is a 9 or more-membered macrocyclic compound containing at least one of a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and a selenium atom as a hetero atom. Representative compounds are crown ethers, which were synthesized by Pedersen below in 1967, and have been synthesized many times since their unique properties were reported. These compounds are C.I. J. Pedersen, Journal of American Chemical Society vol. 86 (2495), 7017-7036 (1967); W. Gokel, S.M. H. Korzeniowski, "Macrocyclic @ polyethr @ synthesis", Springer-Verlag. (1982); Oda, Shono, and Tabushi, eds., "Chemistry of Crown Ethers" Kagaku Doujinshi (1978); Tabushi, et al., "Host-Guest", Kyoritsu Shuppan (1979); 1987). Specific examples of the macrocyclic compound containing a hetero atom include those described in paragraphs 0030 to 0037 of JP-A-2000-347343.

 強色増感剤は有機銀塩及びハロゲン化銀粒子を含む乳剤層中に銀1モル当たり0.001〜1.0モルの範囲で用いるのが好ましい。銀1モル当たり0.01〜0.5モルの範囲で用いるのが特に好ましい。 (4) The supersensitizer is preferably used in the emulsion layer containing the organic silver salt and silver halide grains in the range of 0.001 to 1.0 mol per mol of silver. It is particularly preferable to use it in the range of 0.01 to 0.5 mol per mol of silver.

 上記の現像銀形状を変化せしめる化合物としては、還元剤を挙げることができる。本発明においては、還元剤(銀イオン還元剤)として、特に、還元剤の少なくとも一種がビスフェノール誘導体である化合物を単独又は他の異なる化学構造を有する還元剤と併せて用いることが好ましい。本発明に係る熱現像感光材料において、このような還元剤を適宜用いることにより、現像銀の形状を変化せしめ、CIE 1976(L***)色空間又は(L***)色空間における、u**若しくはa**に係る線形回帰直線を調整することができる。 Examples of the compound capable of changing the shape of the developed silver include a reducing agent. In the present invention, as the reducing agent (silver ion reducing agent), it is particularly preferable to use a compound in which at least one of the reducing agents is a bisphenol derivative alone or in combination with another reducing agent having a different chemical structure. In the photothermographic material according to the present invention, by appropriately using such a reducing agent, the shape of developed silver is changed, and the CIE 1976 (L * u * v * ) color space or (L * a * b * ) is used. A linear regression line for u * v * or a * b * in the color space can be adjusted.

 本発明に用いられる還元剤としては、前記一般式(A−1)、より好ましくは前記一般式(A−2)の還元剤が用いられる。 還 元 As the reducing agent used in the present invention, the reducing agent represented by the formula (A-1), more preferably the formula (A-2) is used.

 一般式(A−1)中、Zは炭素原子とともに3〜10員環を構成するのに必要な原子群を表し、該3〜10員環は非芳香族環であるのが好ましく、該環として具体的に3員環としてはシクロプロピル、アジリジル、オキシラニル、4員環としてはシクロブチル、シクロブテニル、オキセタニル、アゼチジニル、5員環としてはシクロペンチル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、テトラヒドロフラニル、ピロリジニル、テトラヒドロチエニル、6員環としてはシクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニル、テトラヒドロピラニル、ピラニル、ピペリジニル、ジオキサニル、テトラヒドロチオピラニル、ノルカラニル、ノルピナニル、ノルボルニル、7員環としてはシクロヘプチル、シクロヘプチニル、シクロヘプタジエニル、8員環としてはシクロオクタニル、シクロオクテニル、シクロオクタジエニル、シクロオクタトリエニル、9員環としてはシクロノナニル、シクロノネニル、シクロノナジエニル、シクロノナトリエニル、10員環としてはシクロデカニル、シクロデケニル、シクロデカジエニル、シクロデカトリエニル等の各基が挙げられる。 In the general formula (A-1), Z represents an atomic group necessary for forming a 3- to 10-membered ring together with a carbon atom, and the 3- to 10-membered ring is preferably a non-aromatic ring. Specifically, as a 3-membered ring, cyclopropyl, aziridyl, oxiranyl, as a 4-membered ring, cyclobutyl, cyclobutenyl, oxetanyl, azetidinyl, as a 5-membered ring, cyclopentyl, cyclopentenyl, cyclopentadienyl, tetrahydrofuranyl, pyrrolidinyl, tetrahydrogen Thienyl, as a 6-membered ring, cyclohexyl, cyclohexenyl, cyclohexadienyl, tetrahydropyranyl, pyranyl, piperidinyl, dioxanyl, tetrahydrothiopyranyl, norcaranyl, norpinanyl, norbornyl, as a 7-membered ring, cycloheptyl, cycloheptinyl, cycloheptayl Enyl, 8-membered ring is cyclooctanyl, cyclooctenyl, cyclooctadienyl, cyclooctatrienyl, 9-membered ring is cyclononanyl, cyclononenyl, cyclononadienyl, cyclononatrienyl, 10-membered ring is cyclodecanyl, cyclodecenyl , Cyclodecadienyl, cyclodecatrienyl and the like.

 好ましくは3〜6員環であり、より好ましくは5〜6員環であり、最も好ましくは6員環であり、その中でもヘテロ原子を含まない炭化水素環が好ましい。該環はスピロ原子を通じて他の環とスピロ結合を形成してもよいし、芳香族環を含む他の環と如何様にも縮環してよい。また環上には任意の置換基を有することができる。前記炭化水素環は−C=C−や−C≡C−を含むアルケニル構造やアルキニル構造を含む炭化水素環であることが特に好ましい。 Preferably it is a 3- to 6-membered ring, more preferably a 5- to 6-membered ring, most preferably a 6-membered ring, and among them, a hydrocarbon ring containing no hetero atom is preferable. The ring may form a spiro bond with another ring through a spiro atom, or may be condensed in any way with another ring including an aromatic ring. The ring may have any substituent. The hydrocarbon ring is particularly preferably a hydrocarbon ring having an alkenyl structure or an alkynyl structure containing -C = C- or -C や C-.

 該置換基として具体的には、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、iso−ペンチル基、2−エチル−ヘキシル基、オクチル基、デシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等)、アルケニル基(例えば、エテニル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基等)、シクロアルケニル基(例えば、1−シクロアルケニル基、2−シクロアルケニル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、1−プロピニル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等)、アルキルカルボニルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基等)、カルボキシル基、アルキルカルボニルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基等)、ウレイド基(例えば、メチルアミノカルボニルアミノ基等)、アルキルスルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルアミノ基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基等)、カルバモイル基(例えば、カルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N−モルホリノカルボニル基等)、スルファモイル基(スルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、モルフォリノスルファモイル基等)、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基等)、アルキルアミノ基(例えばアミノ基、N,N−ジメチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基等)、スルホ基、ホスフォノ基、サルファイト基、スルフィノ基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基(例えば、メタンスルホニルアミノカルボニル基、エタンスルホニルアミノカルボニル基等)、アルキルカルボニルアミノスルホニル基(例えば、アセトアミドスルホニル基、メトキシアセトアミドスルホニル基等)、アルキニルアミノカルボニル基(例えば、アセトアミドカルボニル基、メトキシアセトアミドカルボニル基等)、アルキルスルフィニルアミノカルボニル基(例えば、メタンスルフィニルアミノカルボニル基、エタンスルフィニルアミノカルボニル基等)等が挙げられる。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なっていてもよい。特に好ましい置換基はアルキル基である。 Specific examples of the substituent include a halogen atom (e.g., a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkyl group (e.g., a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, an iso-pentyl group, 2-ethyl-hexyl group, octyl group, decyl group, etc., cycloalkyl group (eg, cyclohexyl group, cycloheptyl group, etc.), alkenyl group (eg, ethenyl-2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl) -3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, etc.), cycloalkenyl group (eg, 1-cycloalkenyl group, 2-cycloalkenyl group, etc.), alkynyl group (eg, ethynyl group, 1-propynyl group, etc.), alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, etc.), alkylcarbonyloxy (Eg, acetyloxy group), alkylthio group (eg, methylthio group, trifluoromethylthio group, etc.), carboxyl group, alkylcarbonylamino group (eg, acetylamino group, etc.), ureido group (eg, methylaminocarbonylamino group) An alkylsulfonylamino group (e.g., methanesulfonylamino group), an alkylsulfonyl group (e.g., methanesulfonyl group, trifluoromethanesulfonyl group, etc.), a carbamoyl group (e.g., carbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N-morpholinocarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, morpholinosulfamoyl group, etc.), trifluoromethyl group, hydroxyl group, nitro group, cyano group, alkyl sulfone Amide group (eg, methanesulfonamide group, butanesulfonamide group, etc.), alkylamino group (eg, amino group, N, N-dimethylamino group, N, N-diethylamino group, etc.), sulfo group, phosphono group, sulfite Group, sulfino group, alkylsulfonylaminocarbonyl group (eg, methanesulfonylaminocarbonyl group, ethanesulfonylaminocarbonyl group, etc.), alkylcarbonylaminosulfonyl group (eg, acetamidosulfonyl group, methoxyacetamidosulfonyl group, etc.), alkynylaminocarbonyl group (Eg, acetamidocarbonyl group, methoxyacetamidocarbonyl group, etc.), alkylsulfinylaminocarbonyl group (eg, methanesulfinylaminocarbonyl group, ethanesulfinylaminocarbonyl group) And the like). When there are two or more substituents, they may be the same or different. Particularly preferred substituents are alkyl groups.

 R1、R2はベンゼン環上に置換可能な基を表すが、例えば水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又は複素環基があげられる。これらの基の中で水素原子、アルキル基、アリール基、又は複素環基がより好ましい。アルキル基として具体的には炭素数1〜10のアルキル基であることが好ましい。具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、iso−ペンチル基、2−エチル−ヘキシル基、オクチル基、デシル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、1−メチルシクロヘキシル基等、アルケニル基としては、エテニル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、1−シクロアルケニル基、2−シクロアルケニル基等、アルキニル基としては、エチニル基、1−プロピニル基等が挙げられる。より好ましくは、メチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基等が挙げられる。好ましくはメチル基、t−ブチル基、1−メチルシクロヘキシル基であり、もっとも好ましくはメチル基である。アリール基として具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントラニル基等が挙げられる。複素環基として具体的にはピリジン基、キノリン基、イソキノリン基、イミダゾール基、ピラゾール基、トリアゾール基、オキサゾール基、チアゾール基、オキサジアゾール基、チアジアゾール基、テトラゾール基等の芳香族ヘテロ環基やピペリジノ基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基等の非芳香族ヘテロ環基が挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよく、該置換基としては前述の環上の置換基をあげることができる。複数のR1、R2は同じでも異なっていてもよいが、最も好ましくはすべてがメチル基の場合である。 R 1 and R 2 each represent a group that can be substituted on the benzene ring, and examples thereof include a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, and a heterocyclic group. Among these groups, a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group is more preferable. Specifically, the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specific examples include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, t-butyl, pentyl, iso-pentyl, 2-ethyl-hexyl, octyl, decyl, cyclohexyl, and cycloheptyl. Alkenyl groups such as ethenyl-2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, 1-methylcyclohexyl group and the like; Examples of the alkynyl group such as -cycloalkenyl group and 2-cycloalkenyl group include an ethynyl group and a 1-propynyl group. More preferred are a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a cyclohexyl group, a 1-methylcyclohexyl group, and the like. Preferred are a methyl group, t-butyl group and 1-methylcyclohexyl group, and most preferred is a methyl group. Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthranyl group. Specific examples of the heterocyclic group include a pyridine group, a quinoline group, an isoquinoline group, an imidazole group, a pyrazole group, a triazole group, an oxazole group, a thiazole group, an oxadiazole group, a thiadiazole group, and an aromatic heterocyclic group such as a tetrazole group. Non-aromatic heterocyclic groups such as piperidino group, morpholino group, tetrahydrofuryl group, tetrahydrothienyl group and tetrahydropyranyl group are exemplified. These groups may further have a substituent, and examples of the substituent include the aforementioned substituents on the ring. A plurality of R 1 and R 2 may be the same or different, but most preferably all are methyl groups.

 RXは水素原子、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表すが、アルキル基として具体的には炭素数1〜10のアルキル基であることが好ましい。具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、iso−ペンチル基、2−エチル−ヘキシル基、オクチル基、デシル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、1−メチルシクロヘキシル基、エテニル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、1−シクロアルケニル基、2−シクロアルケニル基、エチニル基、1−プロピニル基等が挙げられる。より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基等が挙げられる。好ましくはRXは水素原子である。 R X represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group. Specifically, the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specific examples include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, t-butyl, pentyl, iso-pentyl, 2-ethyl-hexyl, octyl, decyl, cyclohexyl, and cycloheptyl. Group, 1-methylcyclohexyl group, ethenyl-2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, 1-cycloalkenyl group, 2 -Cycloalkenyl group, ethynyl group, 1-propynyl group and the like. More preferred are a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group and the like. Preferably, R X is a hydrogen atom.

 Q0はベンゼン環上に置換可能な基を表すが、具体的には炭素数1〜25のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、ハロゲン化アルキル基(トリフルオロメチル基、パーフルオロオクチル基等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル基、シクロペンチル基等)、アルキニル基(プロパルギル基等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(フェニル基等)、複素環基(ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、スリホラニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等)、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基等)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル基等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、スルファモイル基(アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、ウレタン基(メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、フェニルウレイド基、2−ピリジルウレイド基等)、アシル基(アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ピリジノイル基等)、カルバモイル基(アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、アミド基(アセトアミド基、プロピオンアミド基、ブタンアミド基、ヘキサンアミド基、ベンズアミド基等)、スルホニル基(メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、アニリノ基、2−ピリジルアミノ基等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。又これらの基は更にこれらの基で置換されていてもよい。n及びmは0〜2の整数を表すが、最も好ましくはn、mともに0の場合である。 Q 0 represents a group that can be substituted on the benzene ring, and specifically, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms (a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group) , Cyclohexyl group, etc.), halogenated alkyl group (trifluoromethyl group, perfluorooctyl group, etc.), cycloalkyl group (cyclohexyl group, cyclopentyl group, etc.), alkynyl group (propargyl group, etc.), glycidyl group, acrylate group, methacrylate Group, aryl group (phenyl group, etc.), heterocyclic group (pyridyl group, thiazolyl group, oxazolyl group, imidazolyl group, furyl group, pyrrolyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, selenazolyl group, slipholanyl group, piperidinyl group, Pyrazolyl group, tetrazolyl group, etc.), halogen atom ( A hydrogen atom, a bromine atom, an iodine atom, a fluorine atom, etc., an alkoxy group (a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, a pentyloxy group, a cyclopentyloxy group, a hexyloxy group, a cyclohexyloxy group, etc.), an aryloxy group (phenoxy group) Group), alkoxycarbonyl group (methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (phenyloxycarbonyl group, etc.), sulfonamide group (methanesulfonamide group, ethanesulfonamide group) , Butanesulfonamide group, hexanesulfonamide group, cyclohexanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, etc.), sulfamoyl group (aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, Laminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc., urethane group (methylureide group, ethylureide group, pentylureide group, cyclohexylureide group, phenylureide group) , 2-pyridylureido group, etc.), acyl group (acetyl group, propionyl group, butanoyl group, hexanoyl group, cyclohexanoyl group, benzoyl group, pyridinoyl group, etc.), carbamoyl group (aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethyl group) Aminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), amide group Acetamide group, propionamide group, butanamide group, hexaneamide group, benzamide group, etc.), sulfonyl group (methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, phenylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), Amino group (amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, anilino group, 2-pyridylamino group, etc.), cyano group, nitro group, sulfo group, carboxyl group, hydroxyl group, oxamoyl group, etc. Can be mentioned. These groups may be further substituted with these groups. n and m each represent an integer of 0 to 2, and most preferably n and m are both 0.

 Lは2価の連結基を表すが、好ましくはメチレン、エチレン、プロピレン等のアルキレン基であり、炭素数は1〜20が好ましく、1〜5がより好ましい。kは0〜1の整数を表すが最も好ましくはk=0の場合である。 L represents a divalent linking group, preferably an alkylene group such as methylene, ethylene and propylene, and preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 5 carbon atoms. k represents an integer of 0 to 1, but most preferably k = 0.

 一般式(A−2)中、Q1はハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表し、Q2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表すが、ハロゲン原子として具体的には塩素、臭素、フッ素、ヨウ素が挙げられる。好ましくはフッ素、塩素、臭素である。アルキル基として具体的には炭素数1〜10のアルキル基であることが好ましい。具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、iso−ペンチル基、2−エチル−ヘキシル基、オクチル基、デシル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、1−メチルシクロヘキシル基、エテニル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、1−シクロアルケニル基、2−シクロアルケニル基、エチニル基、1−プロピニル基等が挙げられる。より好ましくは、メチル基、およびエチル基である。アリール基として具体的にはフェノル基、ナフチル基が挙げられる。ヘテロ環基としてはピリジル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基等の5〜6員環のヘテロ芳香族基が好ましく挙げられる。Gは窒素原子又は炭素原子を表すが、好ましくは炭素原子である。ngは0又は1を表すが好ましくは1である。 In formula (A-2), Q 1 represents a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and Q 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl. Represents a group, an aryl group, or a heterocyclic group, and specific examples of the halogen atom include chlorine, bromine, fluorine, and iodine. Preferred are fluorine, chlorine and bromine. Specifically, the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specific examples include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, t-butyl, pentyl, iso-pentyl, 2-ethyl-hexyl, octyl, decyl, cyclohexyl, and cycloheptyl. Group, 1-methylcyclohexyl group, ethenyl-2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, 1-cycloalkenyl group, 2 -Cycloalkenyl group, ethynyl group, 1-propynyl group and the like. More preferably, they are a methyl group and an ethyl group. Specific examples of the aryl group include a phenol group and a naphthyl group. Preferred examples of the heterocyclic group include a 5- to 6-membered heteroaromatic group such as a pyridyl group, a furyl group, a thienyl group, and an oxazolyl group. G represents a nitrogen atom or a carbon atom, preferably a carbon atom. ng represents 0 or 1, but is preferably 1.

 Q1として最も好ましくはメチル基であり。Q2として好ましくは水素原子、又はメチル基であり最も好ましくは水素原子である。 Most preferably, Q 1 is a methyl group. Q 2 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, and most preferably a hydrogen atom.

 Z2は炭素原子及びGとともに3〜10員の非芳香族環を構成するのに必要な原子群を表すが、該3〜10員の非芳香族環としては、前述の一般式(A−1)におけるものと同義である。 Z 2 represents an atomic group necessary to configure the non-aromatic ring of 3 to 10 members together with the carbon atoms and G, as the non-aromatic ring of the 3- to 10-membered, the aforementioned general formula (A- It is the same as that in 1).

 R1、R2、RX、Q0、k、n、及びmは一般式(A−1)におけるものと同義である。 R 1 , R 2 , R X , Q 0 , k, n, and m have the same meanings as those in formula (A-1).

 本発明においては、前記一般式(A−1)で表される化合物と下記一般式(A−3)で表される化合物とを併用することが好ましい。併用比率としては〔一般式(A−1)の質量〕:〔一般式(A−3)の質量〕=95:5〜55:45が好ましく、より好ましくは90:10〜60:40である。 In the present invention, it is preferable to use a compound represented by the general formula (A-1) and a compound represented by the following general formula (A-3) in combination. The combined ratio is preferably [mass of general formula (A-1)]: [mass of general formula (A-3)] = 95: 5 to 55:45, more preferably 90:10 to 60:40. .

Figure 2004094240
Figure 2004094240

 前記一般式(A−3)中、X1はカルコゲン原子またはCHRを表す。カルコゲン原子としては、硫黄、セレン、テルルであり、好ましくは硫黄原子である。CHRにおけるRは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表し、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等であり、アルキル基としては置換、または無置換の炭素数1〜20のアルキル基が好ましい。アルキル基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキサジエニル基、エテニル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基等である。 In the general formula (A-3), X 1 represents a chalcogen atom or CHR. The chalcogen atom is sulfur, selenium or tellurium, preferably a sulfur atom. R in CHR represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom, and a substituted or unsubstituted alkyl group. An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferred. Specific examples of the alkyl group include, for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, heptyl, vinyl, allyl, butenyl, hexadienyl, ethenyl-2-propenyl, and 3-butenyl. Group, 1-methyl-3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group and the like.

 これらの基は更に置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、シクロアルキル基(例えば、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等)、シクロアルケニル基(例えば、1−シクロアルケニル基、2−シクロアルケニル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等)、アルキルカルボニルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基等)、カルボキシル基、アルキルカルボニルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基等)、ウレイド基(例えば、メチルアミノカルボニルアミノ基等)、アルキルスルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルアミノ基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基等)、カルバモイル基(例えば、カルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N−モルホリノカルボニル基等)、スルファモイル基(スルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、モルフォリノスルファモイル基等)、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基等)、アルキルアミノ基(例えばアミノ基、N,N−ジメチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基等)、スルホ基、ホスフォノ基、サルファイト基、スルフィノ基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基(例えば、メタンスルホニルアミノカルボニル基、エタンスルホニルアミノカルボニル基等)、アルキルカルボニルアミノスルホニル基(例えば、アセトアミドスルホニル基、メトキシアセトアミドスルホニル基等)、アルキニルアミノカルボニル基(例えば、アセトアミドカルボニル基、メトキシアセトアミドカルボニル基等)、アルキルスルフィニルアミノカルボニル基(例えば、メタンスルフィニルアミノカルボニル基、エタンスルフィニルアミノカルボニル基等)等が挙げられる。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なっていてもよい。 These groups may further have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cycloalkyl group (eg, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, etc.) A cycloalkenyl group (eg, 1-cycloalkenyl group, 2-cycloalkenyl group, etc.), an alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, etc.), an alkylcarbonyloxy group (eg, acetyloxy group, etc.), Alkylthio group (eg, methylthio group, trifluoromethylthio group, etc.), carboxyl group, alkylcarbonylamino group (eg, acetylamino group, etc.), ureido group (eg, methylaminocarbonylamino group, etc.), alkylsulfonylamino group (eg, , Methanesulfonylamino group, etc.) Group (eg, methanesulfonyl group, trifluoromethanesulfonyl group, etc.), carbamoyl group (eg, carbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N-morpholinocarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl group, N, N-dimethyl group) Sulfamoyl group, morpholinosulfamoyl group, etc.), trifluoromethyl group, hydroxyl group, nitro group, cyano group, alkylsulfonamide group (eg, methanesulfonamide group, butanesulfonamide group, etc.), alkylamino group ( For example, amino group, N, N-dimethylamino group, N, N-diethylamino group, etc., sulfo group, phosphono group, sulfite group, sulfino group, alkylsulfonylaminocarbonyl group (for example, methanesulfonylaminocarbonyl group, ethanesulfonyl group) A Alkylcarbonylaminosulfonyl group (eg, acetamidosulfonyl group, methoxyacetamidosulfonyl group, etc.), alkynylaminocarbonyl group (eg, acetamidocarbonyl group, methoxyacetamidocarbonyl group, etc.), alkylsulfinylaminocarbonyl group (eg, Methanesulfinylaminocarbonyl group, ethanesulfinylaminocarbonyl group, etc.). When there are two or more substituents, they may be the same or different.

 R3はアルキル基を表し、同一でも異なっていてもよいが、少なくとも一方は2級または3級のアルキル基である。アルキル基としては置換または無置換の炭素数1〜20のものが好ましく、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、1−メチルシクロヘキシル基、1−メチルシクロプロピル基等が挙げられる。 R 3 represents an alkyl group, which may be the same or different, at least one of which is a secondary or tertiary alkyl group. The alkyl group is preferably a substituted or unsubstituted one having 1 to 20 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a t-amyl group , T-octyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 1-methylcyclohexyl group, 1-methylcyclopropyl group and the like.

 アルキル基の置換基は特に限定されることはないが、例えばアリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等が挙げられる。また、(Q0nおよび(Q0mと飽和環を形成してもよい。R1は、好ましくはいずれも2級または3級のアルキル基であり、炭素数2以上、20以下が好ましい。より好ましくは3級アルキル基である。更に好ましくはt−ブチル基、t−アミル基、1−メチルシクロヘキシル基であり、最も好ましくは1−メチルシクロヘキシル基である。 The substituent of the alkyl group is not particularly limited, and examples thereof include an aryl group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acylamino group, a sulfonamide group, a sulfonyl group, a phosphoryl group, and an acyl group. Carbamoyl group, ester group, halogen atom and the like. Further, (Q 0 ) n and (Q 0 ) m may form a saturated ring. R 1 is preferably a secondary or tertiary alkyl group, and preferably has 2 to 20 carbon atoms. More preferably, it is a tertiary alkyl group. More preferred are a t-butyl group, a t-amyl group and a 1-methylcyclohexyl group, and most preferred is a 1-methylcyclohexyl group.

 R4は水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。ベンゼン環に置換可能な基としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、スルホニル基、アルキルスルホニル基、スルフィニル基、シアノ基、ヘテロ環基等が挙げられる。複数のR3、R4は同じでも異なっていてもよい。 R 4 represents a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring. Examples of the group that can be substituted on the benzene ring include a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom, an alkyl group, an aryl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, an amino group, an acyl group, Examples include an acyloxy group, an acylamino group, a sulfonylamino group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, an alkylthio group, a sulfonyl group, an alkylsulfonyl group, a sulfinyl group, a cyano group, and a heterocyclic group. A plurality of R 3 and R 4 may be the same or different.

 R4は炭素数1〜5が好ましく、更に好ましくは炭素数1〜2である。これらの基は更に置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、iso−ペンチル基、2−エチル−ヘキシル基、オクチル基、デシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等)、アルケニル基(例えば、エテニル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基等)、シクロアルケニル基(例えば、1−シクロアルケニル基、2−シクロアルケニル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、1−プロピニル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等)、アルキルカルボニルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基等)、カルボキシル基、アルキルカルボニルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基等)、ウレイド基(例えば、メチルアミノカルボニルアミノ基等)、アルキルスルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルアミノ基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基等)、カルバモイル基(例えば、カルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N−モルホリノカルボニル基等)、スルファモイル基(スルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、モルフォリノスルファモイル基等)、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基等)、アルキルアミノ基(例えばアミノ基、N,N−ジメチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基等)、スルホ基、ホスフォノ基、サルファイト基、スルフィノ基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基(例えば、メタンスルホニルアミノカルボニル基、エタンスルホニルアミノカルボニル基等)、アルキルカルボニルアミノスルホニル基(例えば、アセトアミドスルホニル基、メトキシアセトアミドスルホニル基等)、アルキニルアミノカルボニル基(例えば、アセトアミドカルボニル基、メトキシアセトアミドカルボニル基等)、アルキルスルフィニルアミノカルボニル基(例えば、メタンスルフィニルアミノカルボニル基、エタンスルフィニルアミノカルボニル基等)等が挙げられる。R4は好ましくはいずれも炭素数1〜20のアルキル基であり、最も好ましくはメチル基である。 R 4 preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 2 carbon atoms. These groups may further have a substituent, and as the substituent, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Butyl group, pentyl group, iso-pentyl group, 2-ethyl-hexyl group, octyl group, decyl group, etc., cycloalkyl group (eg, cyclohexyl group, cycloheptyl group, etc.), alkenyl group (eg, ethenyl-2-yl) Propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, etc., cycloalkenyl group (for example, 1-cycloalkenyl group, 2-cycloalkenyl group) Alkynyl group (eg, ethynyl group, 1-propynyl group, etc.), alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, propoxy group) ), An alkylcarbonyloxy group (eg, acetyloxy group, etc.), an alkylthio group (eg, methylthio group, trifluoromethylthio group, etc.), a carboxyl group, an alkylcarbonylamino group (eg, acetylamino group, etc.), a ureido group (eg, , Methylaminocarbonylamino group, etc.), alkylsulfonylamino group (eg, methanesulfonylamino group), alkylsulfonyl group (eg, methanesulfonyl group, trifluoromethanesulfonyl group, etc.), carbamoyl group (eg, carbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N-morpholinocarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, morpholinosulfamoyl group, etc.), trifluoromethyl group, hydroxyl group, nitro , Cyano group, alkylsulfonamide group (eg, methanesulfonamide group, butanesulfonamide group, etc.), alkylamino group (eg, amino group, N, N-dimethylamino group, N, N-diethylamino group, etc.), sulfo group , A phosphono group, a sulfite group, a sulfino group, an alkylsulfonylaminocarbonyl group (eg, methanesulfonylaminocarbonyl group, ethanesulfonylaminocarbonyl group, etc.), an alkylcarbonylaminosulfonyl group (eg, acetamidosulfonyl group, methoxyacetamidosulfonyl group, etc.) ), An alkynylaminocarbonyl group (eg, acetamidocarbonyl group, methoxyacetamidocarbonyl group, etc.), an alkylsulfinylaminocarbonyl group (eg, methanesulfinylaminocarbonyl group, ethanol And the like. R 4 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and most preferably a methyl group.

 Q0は一般式(A−1)におけるものと同義である。また、Q0はR3、R4と飽和環を形成してもよい。Q0は好ましくは水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。 Q 0 has the same meaning as that in formula (A-1). Further, Q 0 may form a saturated ring with R 3 and R 4 . Q 0 is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.

 以下に、本発明の一般式(A−1)、(A−2)及び(A−3)で表される化合物の具体例を列記するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 具体 Specific examples of the compounds represented by formulas (A-1), (A-2) and (A-3) of the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2004094240
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 本発明の一般式(A−1)、(A−2)及び(A−3)で表される化合物は従来公知の方法により容易に合成することができる。好ましい合成スキームを一般式(A−1)に相当する場合を例にとり以下に図示する。 化合物 The compounds of the present invention represented by formulas (A-1), (A-2) and (A-3) can be easily synthesized by a conventionally known method. A preferred synthesis scheme is shown below, taking as an example a case corresponding to the general formula (A-1).

Figure 2004094240
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 即ち、好ましくは2当量のフェノール及び1当量のアルデヒドを無溶媒で、もしくは適当な有機溶媒で溶解または懸濁させ、触媒量の酸を加えて、好ましくは−20〜120℃の温度下で0.5〜60時間反応させることにより好収率で目的とする一般式(A−1)に相当する化合物を得ることができる。一般式(A−2)又は(A−3)で表される化合物についても同様である。 That is, preferably, 2 equivalents of phenol and 1 equivalent of aldehyde are dissolved or suspended without a solvent or with an appropriate organic solvent, and a catalytic amount of an acid is added. By reacting for 0.5 to 60 hours, the desired compound corresponding to the general formula (A-1) can be obtained in good yield. The same applies to the compound represented by formula (A-2) or (A-3).

 有機溶媒として好ましくは、炭化水素系有機溶媒であり、具体的にはベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム等が挙げられる。好ましくはトルエンである。更に収率の点からは無溶媒で反応させることが最も好ましい。酸触媒としてあらゆる無機酸、有機酸を使用することができるが、濃塩酸、p−トルエンスルホン酸、及び燐酸が好ましく用いられる。触媒量としては対応するアルデヒドに対して0.001〜1.5当量使用することが好ましい。反応温度として好ましくは室温付近(15〜25℃)が好ましく、反応時間としては3〜20時間が好ましい。 The organic solvent is preferably a hydrocarbon organic solvent, and specific examples include benzene, toluene, xylene, dichloromethane, chloroform and the like. Preferably, it is toluene. It is most preferable to carry out the reaction without solvent from the viewpoint of yield. As the acid catalyst, any inorganic acid or organic acid can be used, but concentrated hydrochloric acid, p-toluenesulfonic acid, and phosphoric acid are preferably used. The amount of the catalyst is preferably 0.001 to 1.5 equivalents to the corresponding aldehyde. The reaction temperature is preferably around room temperature (15 to 25 ° C.), and the reaction time is preferably 3 to 20 hours.

 本発明では米国特許第3,589,903号、同4,021,249号若しくは英国特許第1,486,148号及び特開昭51−51933号、同50−36110号、同50−116023号、同52−84727号若しくは特公昭51−35727号に記載されたポリフェノール化合物、例えば2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル、6,6′−ジブロモ−2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル等の米国特許第3,672,904号に記載されたビスナフトール類、更に、例えば4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2,6−ジクロロ−4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、4−ベンゼンスルホンアミドナフトール等の米国特許第3,801,321号に記載されているようなスルホンアミドフェノール又はスルホンアミドナフトール類も銀イオン還元剤として用いることができる。 In the present invention, U.S. Pat. Nos. 3,589,903 and 4,021,249 or British Patent 1,486,148 and JP-A-51-51933, JP-A-50-36110, and JP-A-50-116023 are disclosed. And polyphenol compounds described in JP-B-52-84727 or JP-B-51-35727, such as 2,2'-dihydroxy-1,1'-binaphthyl and 6,6'-dibromo-2,2'-dihydroxy-1. Bisnaphthols described in U.S. Pat. No. 3,672,904, for example, 4-benzenesulfonamidophenol, 2-benzenesulfonamidophenol, 2,6-dichloro-4-benzene Described in U.S. Patent No. 3,801,321 such as sulfonamidophenol and 4-benzenesulfonamidonaphthol Sulfonamidophenols or sulfonamidonaphthols, such as can be used as the silver ion reducing agent.

 その他、米国特許第3,589,903号、同4,021,249号若しくは英国特許第1,486,148号及び特開昭51−51933号、同50−36110号、同50−116023号、同52−84727号若しくは特公昭51−35727号に記載されたポリフェノール化合物、例えば2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル、6,6′−ジブロモ−2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル等の米国特許第3,672,904号に記載されたビスナフトール類、更に、例えば4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2,6−ジクロロ−4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、4−ベンゼンスルホンアミドナフトール等の米国特許第3,801,321号に記載されているようなスルホンアミドフェノール又はスルホンアミドナフトール類も挙げることができる。 In addition, U.S. Pat. Nos. 3,589,903 and 4,021,249 or British Patent 1,486,148 and JP-A-51-51933, JP-A-50-36110, JP-A-50-116023, Polyphenol compounds described in JP-A-52-84727 or JP-B-51-35727, such as 2,2'-dihydroxy-1,1'-binaphthyl, 6,6'-dibromo-2,2'-dihydroxy-1, Bisnaphthols described in U.S. Pat. No. 3,672,904, such as 1'-binaphthyl, and furthermore, for example, 4-benzenesulfonamidophenol, 2-benzenesulfonamidophenol, 2,6-dichloro-4-benzenesulfone Amidophenol, 4-benzenesulfonamidonaphthol and the like are described in U.S. Pat. No. 3,801,321. Sulfonamidophenols or sulfonamidonaphthols, such as may also be mentioned.

 前記一般式(A−1)、(A−2)、(A−3)で表される化合物を始めとする還元剤の使用量は、好ましくは銀1モル当り1×10-2〜10モル、特に好ましくは1×10-2〜1.5モルである。 The amount of the reducing agent including the compounds represented by the general formulas (A-1), (A-2) and (A-3) is preferably 1 × 10 −2 to 10 mol per mol of silver. And particularly preferably 1 × 10 -2 to 1.5 mol.

 本発明の熱現像感光材料に使用される還元剤の量は、有機銀塩や還元剤の種類、その他の添加剤によって変化するが、一般的には有機銀塩1モル当たり0.05〜10モル好ましくは0.1〜3モルが適当である。又この量の範囲内において、上述した還元剤は2種以上併用されてもよい。本発明においては、前記還元剤を塗布直前に感光性ハロゲン化銀及び有機銀塩粒子及び溶媒からなる感光乳剤溶液に添加混合して塗布した方が、停滞時間による写真性能変動が小さく好ましい場合がある。 The amount of the reducing agent used in the photothermographic material of the present invention varies depending on the type of the organic silver salt and the reducing agent and other additives, but is generally 0.05 to 10 per mol of the organic silver salt. Molar, preferably 0.1 to 3 moles is suitable. Further, within this range, two or more of the above-mentioned reducing agents may be used in combination. In the present invention, it is preferable that the reducing agent be added to and mixed with a photosensitive emulsion solution composed of photosensitive silver halide and organic silver salt particles and a solvent immediately before coating, and the photographic performance fluctuation due to the stagnation time is small, which is preferable. is there.

 一般式(A−4)の化合物について詳細に説明する。一般式(A−4)において、R41は置換または無置換のアルキル基を表す。一般式(A−4)において、R42が水素原子以外の置換基である場合にはR41はアルキル基を表す。アルキル基としては炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、アルキル基は無置換でも置換基を有していてもよい。アルキル基としては具体的にはメチル、エチル、ブチル、オクチル、イソプロピル、tert−ブチル、tert−オクチル、tert−アミル、sec−ブチル、シクロヘキシル、1−メチル−シクロヘキシル基などが好ましく、イソプロピル基よりも立体的に大きな基(例えば、イソプロピル基、イソノニル基、tert−ブチル基、tert−アミル基、tert−オクチル基、シクロヘキシル基、1−メチル−シクロヘキシル基、アダマンチル基など)であることが好ましく、その中でも2級または3級のアルキル基が好ましく、3級アルキル基であるtert−ブチル、tert−オクチル、tert−アミル基などが特に好ましい。R41が置換基を有する場合の置換基としてはハロゲン原子、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基などが挙げられる。 The compound represented by formula (A-4) will be described in detail. In Formula (A-4), R 41 represents a substituted or unsubstituted alkyl group. In Formula (A-4), when R 42 is a substituent other than a hydrogen atom, R 41 represents an alkyl group. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms is preferable, and the alkyl group may be unsubstituted or may have a substituent. As the alkyl group, specifically, methyl, ethyl, butyl, octyl, isopropyl, tert-butyl, tert-octyl, tert-amyl, sec-butyl, cyclohexyl, 1-methyl-cyclohexyl group and the like are preferable, and the isopropyl group is more preferable. It is preferably a sterically large group (eg, isopropyl group, isononyl group, tert-butyl group, tert-amyl group, tert-octyl group, cyclohexyl group, 1-methyl-cyclohexyl group, adamantyl group, etc.) Of these, a secondary or tertiary alkyl group is preferable, and tertiary alkyl groups such as tert-butyl, tert-octyl, and tert-amyl group are particularly preferable. When R 41 has a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, an aryl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, an acylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonamide group, an acyloxy group, an oxycarbonyl group, and a carbamoyl group. , A sulfamoyl group, a sulfonyl group, a phosphoryl group and the like.

 R42は水素原子、置換又は無置換のアルキル基または置換又は無置換のアシルアミノ基を表す。R42が示すアルキル基は炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、R42が示すアシルアミノ基は炭素数1〜30のアシルアミノ基が好ましい。アルキル基の説明はR41と同様である。アシルアミノ基は無置換であっても置換基を有していてもよく、具体的には、アセチルアミノ基、アルコキシアセチルアミノ基、アリールオキシアセチルアミノ基などが挙げられる。R42として好ましくは水素原子または無置換の炭素数1〜24のアルキル基であり、具体的にはメチル基、イソプロピル基、t−ブチル基が挙げられる。R41、R42は2−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。 R 42 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted acylamino group. Alkyl group R 42 represents preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an acylamino group represented by R 42 is preferably an acylamino group having 1 to 30 carbon atoms. Description of the alkyl group is the same as R 41. The acylamino group may be unsubstituted or have a substituent, and specific examples include an acetylamino group, an alkoxyacetylamino group, and an aryloxyacetylamino group. R42 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, and specific examples include a methyl group, an isopropyl group, and a t-butyl group. R 41 and R 42 are never a 2-hydroxyphenylmethyl group.

 R43は水素原子または置換または無置換のアルキル基を表す。R43が示すアルキル基は炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、アルキル基の説明はR41と同様である。R43として好ましくは、水素原子または無置換の炭素数1〜24のアルキル基で、具体的にはメチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基が挙げられる。また、R42、R43はいずれか一方は水素原子であることが好ましい。 R 43 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group. The alkyl group represented by R 43 is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and the description of the alkyl group is the same as that of R 41 . R 43 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, specifically, a methyl group, an isopropyl group, and a tert-butyl group. Further, it is preferable that one of R 42 and R 43 is a hydrogen atom.

 R44はベンゼン環に置換可能な基を表し、たとえば一般式(A−1)のR2で説明したのと同様な基である。R44として好ましいのは置換または無置換の炭素数1〜30のアルキル基、炭素数2〜30のオキシカルボニル基であり、炭素数1〜24のアルキル基がより好ましい。アルキル基の置換基としてはアリール基、アミノ基、アルコキシ基、オキシカルボニル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、イミド基、ウレイド基などがあげられ、アリール基、アミノ基、オキシカルボニル基、アルコキシ基がより好ましい。これらのアルキル基の置換基はさらにこれらの置換基で置換されていてもよい。 R 44 represents a group substitutable on the benzene ring, the same groups as described for example in R 2 of the general formula (A-1). Preferred are substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms as R 44, an oxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms. Examples of the substituent of the alkyl group include an aryl group, an amino group, an alkoxy group, an oxycarbonyl group, an acylamino group, an acyloxy group, an imide group, and a ureido group. preferable. The substituents of these alkyl groups may be further substituted with these substituents.

 あるいは、R44は、一般式(A−4)の化合物が以下に説明する一般式(A−5)の化合物となるような置換基を示す。即ち、一般式(A−4)の化合物の中でさらに好ましい構造は下記一般式(A−5)で表される。 Alternatively, R 44 represents a substituent such that the compound of the general formula (A-4) becomes a compound of the general formula (A-5) described below. That is, a more preferred structure among the compounds of the general formula (A-4) is represented by the following general formula (A-5).

Figure 2004094240
Figure 2004094240

 R51、R52、R53およびR54は各々独立に置換または無置換の炭素数1〜20のアルキル基である。アルキル基上の置換基は特に限定されることはないが、好ましくは、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等が挙げられる。R51、R52、R53およびR54においては、イソプロピル基よりも立体的に大きな基(例えば、イソプロピル基、イソノニル基、tert−ブチル基、tert−アミル基、tert−オクチル基、シクロヘキシル基、1−メチル−シクロヘキシル基、アダマンチル基など)が少なくとも一つ存在することが好ましく、さらに好ましくは2つ以上存在する。イソプロピル基よりも立体的に大きな基としては3級アルキル基であるtert−ブチル、tert−オクチル、tert−アミル基などが特に好ましい。一般式(A−5)におけるL5は、一般式(A−1)のLについて説明したものと同様である。 R 51 , R 52 , R 53 and R 54 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. The substituent on the alkyl group is not particularly limited, but is preferably an aryl group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acylamino group, a sulfonamide group, a sulfonyl group, a phosphoryl group. , An acyl group, a carbamoyl group, an ester group, a halogen atom and the like. In R 51 , R 52 , R 53 and R 54 , groups sterically larger than the isopropyl group (for example, isopropyl group, isononyl group, tert-butyl group, tert-amyl group, tert-octyl group, cyclohexyl group, It is preferable that at least one 1-methyl-cyclohexyl group, an adamantyl group and the like be present, and more preferably two or more. As a group sterically larger than the isopropyl group, a tertiary alkyl group such as tert-butyl, tert-octyl, and tert-amyl group are particularly preferable. L 5 in the general formula (A-5) is the same as that described for L in the general formula (A-1).

 一般式(A−4)〜(A−5)で表される化合物としては例えば特開2002−169249の「0032」〜「0038」記載の化合物(II−1)〜(II−40)、EP1211093の「0026」記載の化合物(ITS−1)〜(ITS−12)をあげることができる。 Examples of the compounds represented by formulas (A-4) to (A-5) include compounds (II-1) to (II-40) described in JP-A-2002-169249, “0032” to “0038”, and EP1211093. Compounds (ITS-1) to (ITS-12) described in “0026” of the above.

 以下に本発明で用いることができる一般式(A−4)又は一般式(A−5)の化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of the compound represented by formula (A-4) or (A-5) that can be used in the present invention are shown below, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

Figure 2004094240
Figure 2004094240

 一般式(A−4)又は一般式(A−5)で表される化合物の添加方法としては、一般式(A−1)で表される化合物の添加方法と同様の方法で添加することができ、溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、任意の方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてもよい。 As a method for adding the compound represented by the general formula (A-4) or (A-5), a method similar to the method for adding the compound represented by the general formula (A-1) may be used. It may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, and a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photosensitive material.

 一般式(A−4)の化合物(ヒンダードフェノール化合物)(一般式(A−5)の化合物も含まれる)の一般式(A−1)〜(A−3)で表される化合物(o位連結のポリフェノール)の総量に対する添加量比(モル比)は、{一般式(A−4)〜(A−5)の化合物}/{一般式(A−1)〜(A−3)の化合物}(モル比)=0.001〜0.2の範囲であり、好ましくは0.005〜0.1の範囲であり、さらに好ましくは0.008〜0.05の範囲である。 Compounds represented by the general formulas (A-1) to (A-3) of the compound of the general formula (A-4) (hindered phenol compound) (including the compound of the general formula (A-5)) (o The addition ratio (molar ratio) to the total amount of the polyphenols of the coordinated linkage is {compounds of general formulas (A-4) to (A-5)} / {compounds of general formulas (A-1) to (A-3). Compound} (molar ratio) is in the range of 0.001 to 0.2, preferably in the range of 0.005 to 0.1, and more preferably in the range of 0.008 to 0.05.

 一般式(A−1)〜(A−5)の化合物は、有機銀塩を含有する画像形成層に含有させることが好ましいが、一方を画像形成層に他方をその隣接する非画像形成層に含有させてもよく、両者を非画像形成層に含有させてもよい。また、画像形成層が複数層で構成されている場合にそれぞれ別層に含有させてもよい。本発明の熱現像感光材料では、現像促進剤として特開2000−267222明細書に記載の式(A)で表されるフェノール誘導体が好ましく用いられる。 The compounds of the general formulas (A-1) to (A-5) are preferably contained in an image forming layer containing an organic silver salt. They may be contained, or both may be contained in the non-image forming layer. When the image forming layer is composed of a plurality of layers, they may be contained in separate layers. In the photothermographic material of the present invention, a phenol derivative represented by the formula (A) described in JP-A-2000-267222 is preferably used as a development accelerator.

 本発明の熱現像感光材料に好適なバインダーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えばゼラチン、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルピロリドン、カゼイン、デンプン、又、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル等のエチレン性不飽和モノマーを構成単位として含む重合体または共重合体よりなる化合物、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。これらの代表例としてはポリ塩化ビニル、コポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエン)、ポリビニルアセタール類(例えば、ポリビニルホルマール及びポリビニルブチラール)、ポリエステル類、ポリウレタン類、フェノキシ樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリエポキシド類、ポリカーボネート類、ポリビニルアセテート、セルロースエステル類、ポリアミド類等が挙げられる。親水性でも非親水性でもよい。 Binders suitable for the photothermographic material of the present invention are transparent or translucent, generally colorless, and include natural polymer synthetic resins, polymers and copolymers, and other film-forming media such as gelatin, gum arabic, polyvinyl alcohol, and hydroxyethyl cellulose. , Cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, polyvinylpyrrolidone, casein, starch, vinyl chloride, vinyl acetate, vinyl alcohol, maleic acid, acrylic acid, acrylate ester, vinylidene chloride, acrylonitrile, methacrylic acid, methacrylic ester, styrene , A compound comprising a polymer or copolymer containing ethylenically unsaturated monomers such as butadiene, ethylene, vinyl butyral, vinyl acetal and vinyl ether as constituent units, Down resins, various rubber resins. In addition, phenol resin, epoxy resin, polyurethane curable resin, urea resin, melamine resin, alkyd resin, formaldehyde resin, silicone resin, epoxy-polyamide resin, polyester resin and the like can be mentioned. These resins are described in detail in "Plastic Handbook" published by Asakura Shoten. Typical examples thereof include polyvinyl chloride, copoly (styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), polyvinylacetals (for example, polyvinylformal and polyvinylbutyral), polyesters, and polyurethane. , Phenoxy resin, polyvinylidene chloride, polyepoxides, polycarbonates, polyvinyl acetate, cellulose esters, polyamides and the like. It may be hydrophilic or non-hydrophilic.

 これらのうち本発明に係る熱現像感光材料の感光性層に好ましいバインダーはポリビニルアセタール類であり、特に好ましいバインダーはポリビニルブチラールである。詳しくは後述する。又、上塗り層や下塗り層、特に保護層やバックコート層等の非感光層に対しては、より軟化温度の高いポリマーであるセルロースエステル類、特にトリアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート等のポリマーが好ましい。なお、必要に応じて、上記のバインダーは2種以上を組み合わせて用いうる。バインダーには−COOM、−SO3M、−OSO3M、−P=O(OM)2、−O−P=O(OM)2、(Mは水素原子、またはアルカリ金属塩基を表す)、−N(R)2、−N+(R)3(Rは炭化水素基を表す)、エポキシ基、−SH、−CNなどから選ばれる少なくとも一つ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましく、特に−SO3M、−OSO3M、が好ましい。このような極性基の量は、10-1〜10-8モル/gであり、好ましくは10-2〜10-6モル/gである。 Among these, the preferred binder for the photosensitive layer of the photothermographic material according to the present invention is polyvinyl acetal, and the particularly preferred binder is polyvinyl butyral. Details will be described later. Further, for non-photosensitive layers such as an overcoat layer and an undercoat layer, particularly a protective layer and a backcoat layer, polymers having a higher softening temperature, such as cellulose esters, especially triacetyl cellulose, and a polymer such as cellulose acetate butyrate. preferable. In addition, if necessary, the above binders may be used in combination of two or more. The binder (representing M is a hydrogen atom or an alkali metal salt,) -COOM, -SO 3 M, -OSO 3 M, -P = O (OM) 2, -O-P = O (OM) 2,, At least one polar group selected from -N (R) 2 , -N + (R) 3 (R represents a hydrocarbon group), an epoxy group, -SH, -CN and the like is copolymerized or added. it is preferable to use those introduced, in particular -SO 3 M, -OSO 3 M, is preferred. The amount of such a polar group is from 10 -1 to 10 -8 mol / g, preferably from 10 -2 to 10 -6 mol / g.

 このようなバインダーは、バインダーとして機能するのに効果的な範囲で用いられる。効果的な範囲は当業者が容易に決定しうる。例えば、画像形成層において少なくとも有機銀塩を保持する場合の指標としては、バインダーと有機銀塩との割合は15:1〜1:2が好ましく、特に8:1〜1:1の範囲が好ましい。即ち、画像形成層のバインダー量が1.5〜6g/m2であることが好ましい。更に好ましくは1.7〜5g/m2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。 Such a binder is used in a range effective to function as a binder. Effective ranges can be readily determined by one skilled in the art. For example, as an index when at least the organic silver salt is retained in the image forming layer, the ratio of the binder to the organic silver salt is preferably from 15: 1 to 1: 2, and particularly preferably from 8: 1 to 1: 1. . That is, the amount of the binder in the image forming layer is preferably 1.5 to 6 g / m 2 . More preferably, it is 1.7 to 5 g / m 2 . If it is less than 1.5 g / m 2 , the density of the unexposed portion will increase significantly and may not be usable.

 本発明で用いるバインダーのガラス転移温度Tgは、70℃以上、105℃以下であることが好ましい。Tgは、示差走査熱量計で測定して求めることができ、ベースラインと吸熱ピークの傾きとの交点をガラス転移点とする。 バ イ ン ダ ー The glass transition temperature Tg of the binder used in the present invention is preferably from 70 ° C to 105 ° C. Tg can be determined by measuring with a differential scanning calorimeter, and the intersection between the baseline and the slope of the endothermic peak is defined as the glass transition point.

 本発明において、ガラス転移温度(Tg)は、ブランドラップらによる“重合体ハンドブック”III−139頁〜III−179頁(1966年,ワイリーアンドサン社版)に記載の方法で求めたものである。 In the present invention, the glass transition temperature (Tg) is determined by a method described in Brand Polymer, et al., “Polymer Handbook”, pages III-139 to III-179 (1966, Wiley & Sun). .

 バインダーが共重合体樹脂である場合のTgは下記の式で求められる。 T The Tg when the binder is a copolymer resin is determined by the following equation.

  Tg(共重合体)(℃)=v1Tg1+v2Tg2+・・・+vnTgn
 式中、v1、v2・・・vnは共重合体中の単量体の質量分率を表し、Tg1、Tg2・・・Tgnは共重合体中の各単量体から得られる単一重合体のTg(℃)を表す。
Tg (copolymer) (℃) = v 1 Tg 1 + v 2 Tg 2 + ··· + v n Tg n
Wherein, v 1, v 2 ··· v n represents the mass fraction of the monomer in the copolymer, Tg 1, Tg 2 ··· Tg n from each monomer in the copolymer It represents the Tg (° C.) of the obtained homopolymer.

 上式に従って計算されたTgの精度は、±5℃である。 精度 The accuracy of Tg calculated according to the above equation is ± 5 ° C.

 Tgが70〜105℃のバインダーを用いると、画像形成において十分な最高濃度が得ることができ好ましい。 Use of a binder having a ΔTg of from 70 to 105 ° C. is preferable because a sufficient maximum density can be obtained in image formation.

 本発明のバインダーとしてはTgが70〜105℃、数平均分子量が1,000〜1,000,000、好ましくは10,000〜500,000、重合度が約50〜1,000程度のものである。 The binder of the present invention has a Tg of 70 to 105 ° C, a number average molecular weight of 1,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 500,000, and a degree of polymerization of about 50 to 1,000. is there.

 前述のエチレン性不飽和モノマーを構成単位として含む重合体または共重合体について更に詳しく述べると、重合体の構成単位となるエチレン性不飽和モノマーとしてはアクリル酸アルキルエステル類、アクリル酸アリールエステル類、メタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸アリールエステル類、シアノアクリル酸アルキルエステル類、シアノアクリル酸アリールエステル類などを挙げることができ、それらのアルキル基、アリール基は置換されていてもされていなくてもよく、具体的には、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ベンジル、クロロベンジル、オクチル、ステアリル、スルホプロピル、N−エチル−フェニルアミノエチル、2−(3−フェニルプロピルオキシ)エチル、ジメチルアミノフェノキシエチル、フルフリル、テトラヒドロフルフリル、フェニル、クレジル、ナフチル、2−ヒドロキシエチル、4−ヒドロキシブチル、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、2−メトキシエチル、3−メトキシブチル、2−アセトキシエチル、2−アセトアセトキシエチル、2−エトキシエチル、2−iso−プロポキシエチル、2−ブトキシエチル、2−(2−メトキシエトキシ)エチル、2−(2−エトキシエトキシ)エチル、2−(2−ブトキシエトキシ)エチル、2−ジフェニルホスホリルエチル、ω−メトキシポリエチレングリコール(付加モル数n=6)、アリル、ジメチルアミノエチルメチルクロライド塩などを挙げることができる。 The polymer or copolymer containing the above-mentioned ethylenically unsaturated monomer as a constitutional unit will be described in more detail.As the ethylenically unsaturated monomer as a constitutional unit of the polymer, alkyl acrylates, aryl acrylates, Methacrylic acid alkyl esters, methacrylic acid aryl esters, cyanoacrylic acid alkyl esters, cyanoacrylic acid aryl esters, and the like, and the alkyl group and the aryl group thereof may be substituted or unsubstituted. Well, specifically, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, amyl, hexyl, cyclohexyl, benzyl, chlorobenzyl, octyl, stearyl, sulfopropyl, N -Ethyl- Phenylaminoethyl, 2- (3-phenylpropyloxy) ethyl, dimethylaminophenoxyethyl, furfuryl, tetrahydrofurfuryl, phenyl, cresyl, naphthyl, 2-hydroxyethyl, 4-hydroxybutyl, triethylene glycol, dipropylene glycol, 2-methoxyethyl, 3-methoxybutyl, 2-acetoxyethyl, 2-acetoacetoxyethyl, 2-ethoxyethyl, 2-iso-propoxyethyl, 2-butoxyethyl, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl, 2-diphenylphosphorylethyl, ω-methoxypolyethylene glycol (additional mole number n = 6), allyl, dimethylaminoethyl methyl chloride salt and the like. be able to.

 その他、下記のモノマー等が使用できる。ビニルエステル類(例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニルなど);N−置換アクリルアミド類、N−置換メタクリルアミド類およびアクリルアミド、メタクリルアミド(N−置換基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、tert−ブチル、シクロヘキシル、ベンジル、ヒドロキシメチル、メトキシエチル、ジメチルアミノエチル、フェニル、ジメチル、ジエチル、β−シアノエチル、N−(2−アセトアセトキシエチル)、ジアセトニルなどの各基を有するものなど);オレフィン類(例えば、ジシクロペンタジエン、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロプレン、ブタジエン、2,3−ジメチルブタジエン等;スチレン類:例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、tert−ブチルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチルエステルなど);ビニルエーテル類(例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテルなど);N−置換マレイミド類(N−置換基として、メチル、エチル、プロピル、ブチル、tert−ブチル、シクロヘキシル、ベンジル、n−ドデシル、フェニル、2−メチルフェニル、2,6−ジエチルフェニル、2−クロルフェニルなどの各基を有するものなど);その他として、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジブチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチル、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、N−ビニルオキサゾリドン、N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、メチレンマロンニトリル、塩化ビニリデンなどを挙げることができる。 In addition, the following monomers can be used. Vinyl esters (for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl methoxy acetate, vinyl phenyl acetate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, etc.); N -Substituted acrylamides, N-substituted methacrylamides and acrylamide, methacrylamide (N-substituents include methyl, ethyl, propyl, butyl, tert-butyl, cyclohexyl, benzyl, hydroxymethyl, methoxyethyl, dimethylaminoethyl, Olefins (e.g., dicyclopentadiene, ethylene); phenyl, dimethyl, diethyl, β-cyanoethyl, N- (2-acetoacetoxyethyl), diacetonyl, etc. Propylene, 1-butene, 1-pentene, vinyl chloride, vinylidene chloride, isoprene, chloroprene, butadiene, 2,3-dimethylbutadiene and the like; styrenes: for example, methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, isopropylstyrene, tert-butylstyrene, chloromethylstyrene, methoxystyrene, acetoxystyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, methyl vinyl benzoate, etc .; vinyl ethers (for example, methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether) , Dimethylaminoethyl vinyl ether, etc.); N-substituted maleimides (as N-substituents, methyl, ethyl, propyl, butyl, tert. -Butyl, cyclohexyl, benzyl, n-dodecyl, phenyl, 2-methylphenyl, 2,6-diethylphenyl, 2-chlorophenyl, etc.); and butyl crotonate, hexyl crotonate, Dimethyl itaconate, dibutyl itaconate, diethyl maleate, dimethyl maleate, dibutyl maleate, diethyl fumarate, dimethyl fumarate, dibutyl fumarate, methyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, methoxyethyl vinyl ketone, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate , N-vinyloxazolidone, N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile, methylenemalononitrile, vinylidene chloride and the like.

 これらのうち、特に好ましい例としては、メタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸アリールエステル類、スチレン類等が挙げられる。このような高分子化合物のなかでも、アセタール基を持つ高分子化合物を用いることが好ましい。アセタール基をもつ高分子化合物でも、アセトアセタール構造をもつポリビニルアセタールであることがより好ましく、例えば、米国特許第2,358,836号、同第3,003,879号、同第2,828,204号、英国特許第771,155号に示されるポリビニルアセタールを挙げることができる。 特 に Among these, particularly preferred examples include alkyl methacrylates, aryl methacrylates, and styrenes. Among such polymer compounds, it is preferable to use a polymer compound having an acetal group. Even a polymer compound having an acetal group is more preferably a polyvinyl acetal having an acetoacetal structure. For example, U.S. Pat. Nos. 2,358,836, 3,003,879, and 2,828, No. 204 and British Patent No. 771,155.

 アセタール基を持つ高分子化合物としては、下記一般式(V)で表される化合物が、特に好ましい。 As the polymer compound having an acetal group, a compound represented by the following general formula (V) is particularly preferable.

Figure 2004094240
Figure 2004094240

 式中、R11は無置換アルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリール基を表すが好ましくはアリール基以外の基である。R12は無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、−COR13または−CONHR13を表す。R13はR11と同義である。 In the formula, R 11 represents an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, and is preferably a group other than the aryl group. R 12 represents an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aryl group, a substituted aryl group, —COR 13 or —CONHR 13 . R 13 has the same meaning as R 11 .

 R11、R12、R13で表される無置換アルキル基としては、炭素数1〜20のものが好ましく、特に好ましくは炭素数1〜6である。これらは直鎖であっても分岐していてもよく、好ましくは直鎖のアルキル基が好ましい。このような無置換アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−アミル基、t−アミル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプシル基、n−オクチル基、t−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−オクタデシル基等が挙げられるが、特に好ましくはメチル基もしくはプロピル基である。 The unsubstituted alkyl group represented by R 11 , R 12 and R 13 preferably has 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably has 1 to 6 carbon atoms. These may be linear or branched, and are preferably linear alkyl groups. Such unsubstituted alkyl groups include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-amyl group, t-amyl group, n -Hexyl group, cyclohexyl group, n-hepsyl group, n-octyl group, t-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-octadecyl group and the like. Is particularly preferably a methyl group or a propyl group.

 無置換アリール基としては、炭素数6〜20のものが好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。上記のアルキル基、アリール基に置換可能な基としては、アルキル基(例えば、メチル基、n−プロピル基、t−アミル基、t−オクチル基、n−ノニル基、ドデシル基等)、アリール基(例えば、フェニル基等)、ニトロ基、水酸基、シアノ基、スルホ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基等)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基等)、スルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基等)、スルファモイル基(例えば、メチルスルファモイル基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、カルボキシ基、カルバモイル基(例えば、メチルカルバモイル基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基等)、スルホニル基(例えば、メチルスルホニル基等)などが挙げられる。この置換基が2つ以上あるときは、同じでも異なっていてもよい。置換アルキル基の総炭素数は、1〜20が好ましく、置換アリール基の総炭素数は6〜20が好ましい。 The unsubstituted aryl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the group that can be substituted for the above-mentioned alkyl group and aryl group include an alkyl group (for example, a methyl group, an n-propyl group, a t-amyl group, a t-octyl group, an n-nonyl group, a dodecyl group, etc.), an aryl group (E.g., phenyl group), nitro group, hydroxyl group, cyano group, sulfo group, alkoxy group (e.g., methoxy group, etc.), aryloxy group (e.g., phenoxy group, etc.), acyloxy group (e.g., acetoxy group, etc.), Acylamino group (eg, acetylamino group), sulfonamide group (eg, methanesulfonamide group), sulfamoyl group (eg, methylsulfamoyl group), halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom) ), A carboxy group, a carbamoyl group (eg, a methylcarbamoyl group), an alkoxycarbonyl group (eg, Aryloxycarbonyl group), a sulfonyl group (e.g., methyl sulfonyl group). When two or more substituents are present, they may be the same or different. The total carbon number of the substituted alkyl group is preferably 1 to 20, and the total carbon number of the substituted aryl group is preferably 6 to 20.

 R12としては、−COR13(R13はアルキル基またはアリール基)、−CONHR13(R13はアリール基)が好ましい。a、b、cは、各繰り返し単位の質量をモル(mol)%で示した値であり、aは、40〜86モル%、bは0〜30モル%、cは0〜60モル%の範囲で、a+b+c=100モル%となる数を表し、特に好ましくは、aが50〜86モル%、bが5〜25モル%、cが0〜40モル%の範囲である。a、b、cの各組成比をもつ各繰り返し単位は、それぞれ同一のもののみで構成されていても、異なるもので構成されていてもよい。 As R 12 , —COR 13 (R 13 is an alkyl group or an aryl group) and —CONHR 13 (R 13 is an aryl group) are preferable. a, b, and c are values in which the mass of each repeating unit is represented by mol (mol)%, a is 40 to 86 mol%, b is 0 to 30 mol%, and c is 0 to 60 mol%. In the range, a + b + c = 100 mol%, and particularly preferably, a is in the range of 50 to 86 mol%, b is 5 to 25 mol%, and c is 0 to 40 mol%. Each of the repeating units having the respective composition ratios of a, b, and c may be composed of only the same unit or different units.

 上記一般式(V)で表される高分子化合物は、「酢酸ビニル樹脂」桜田一郎編(高分子化学刊行会、1962年)等に記載の一般的な合成方法で合成することができる。 The polymer compound represented by the general formula (V) can be synthesized by a general synthesis method described in “Vinyl acetate resin” edited by Ichiro Sakurada (Polymer Chemistry Publishing Association, 1962).

 本発明で用いることのできるポリウレタン樹脂としては、構造がポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。またポリウレタン分子末端に少なくとも1個ずつ、合計2個以上のOH基を有することが好ましい。OH基は、硬化剤であるポリイソシアネートと架橋して3次元の網状構造を形成するので、分子中に多数含むほど好ましい。特に、OH基が分子末端にある方が、硬化剤との反応性が高いので好ましい。ポリウレタンは、分子末端にOH基を3個以上有することが好ましく、4個以上有することが特に好ましい。本発明において、ポリウレタンを用いる場合は、ガラス転移温度が70〜105℃、破断伸びが100〜2000%、破断応力は0.5〜100N/mm2が好ましい。 As the polyurethane resin that can be used in the present invention, known resins such as polyester polyurethane, polyether polyurethane, polyether polyester polyurethane, polycarbonate polyurethane, polyester polycarbonate polyurethane, and polycaprolactone polyurethane can be used. Further, it is preferable that the polyurethane molecule has at least one OH group at each terminal, that is, two or more OH groups in total. Since the OH group forms a three-dimensional network structure by crosslinking with polyisocyanate as a curing agent, it is preferable to include a large number of OH groups in the molecule. In particular, it is preferable that the OH group is located at the molecular terminal because the reactivity with the curing agent is high. The polyurethane preferably has three or more OH groups at the molecular terminals, particularly preferably four or more. In the present invention, when polyurethane is used, the glass transition temperature is preferably 70 to 105 ° C, the elongation at break is 100 to 2000%, and the stress at break is preferably 0.5 to 100 N / mm 2 .

 これらの高分子化合物(ポリマー)は単独で用いてもよいし、2種類以上をブレンドして用いてもよい。本発明の画像形成層には上記ポリマーを主バインダーとして用いる。ここで言う主バインダーとは「画像形成層の全バインダーの50質量%以上を上記ポリマーが占めている状態」をいう。従って、全バインダーの50質量%未満の範囲で他のポリマーをブレンドして用いてもよい。これらのポリマーとしては、本発明のポリマーが可溶となる溶媒であれば、特に制限はない。より好ましくはポリ酢酸ビニル、ポリアクリル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。 These high molecular compounds (polymers) may be used alone or as a mixture of two or more. The above polymer is used as a main binder in the image forming layer of the present invention. The term "main binder" as used herein means "a state in which the polymer accounts for 50% by mass or more of the total binder in the image forming layer". Therefore, other polymers may be blended and used in a range of less than 50% by mass of the total binder. These polymers are not particularly limited as long as they are solvents in which the polymer of the present invention is soluble. More preferably, polyvinyl acetate, polyacrylic resin, urethane resin and the like can be mentioned.

 本発明においては、画像形成層に有機性ゲル化剤を含有せしめてもよい。なお、ここででいう有機性ゲル化剤とは、例えば、多価アルコール類のように有機液体に添加することにより、その系に降伏値を付与し、系の流動性を消失あるいは低下させる機能を有する化合物を言う。 に お い て In the present invention, the image forming layer may contain an organic gelling agent. The organic gelling agent referred to here is, for example, a function of imparting a yield value to the system by adding it to an organic liquid, such as a polyhydric alcohol, so as to eliminate or reduce the fluidity of the system. A compound having the following formula:

 本発明においては、画像形成層用塗布液が水性分散されたポリマーラテックスを含有するのも好ましい態様である。この場合、画像形成層用塗布液中の全バインダーの50質量%以上が水性分散されたポリマーラテックスであることが好ましい。 好 ま し い In the present invention, it is also a preferred embodiment that the coating solution for the image forming layer contains a polymer latex dispersed in water. In this case, it is preferable that 50% by mass or more of the total binder in the coating solution for the image forming layer is a polymer latex dispersed in an aqueous solution.

 また、本発明に係る画像形成層がポリマーラテックスを含有する場合、前記画像形成層中の全バインダーの50質量%以上がポリマーラテックスであることが好ましく、更に好ましくは70質量%以上である。 When the image forming layer according to the present invention contains a polymer latex, it is preferable that 50% by mass or more of all binders in the image forming layer is a polymer latex, more preferably 70% by mass or more.

 本発明に係る「ポリマーラテックス」とは水不溶性の疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散したものである。分散状態としてはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造をもち分子鎖自身が分子状分散したものなどいずれでもよい。 「The“ polymer latex ”according to the present invention is a polymer in which a water-insoluble hydrophobic polymer is dispersed as fine particles in a water-soluble dispersion medium. The dispersion state is such that the polymer is emulsified in a dispersion medium, emulsion-polymerized, micelle-dispersed, or partially dispersed in polymer molecules and molecular chains themselves are molecularly dispersed. Any of them may be used.

 分散粒子の平均粒径は1〜50000nmが好ましく、より好ましくは5〜1000nm程度の範囲である。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限は無く、広い粒径分布をもつものでも単分散の粒径分布を持つものでもよい。 (4) The average particle size of the dispersed particles is preferably from 1 to 50,000 nm, more preferably from about 5 to 1,000 nm. There is no particular limitation on the particle size distribution of the dispersed particles, and they may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.

 本発明に係るポリマーラテックスとしては、通常の均一構造のポリマーラテックス以外、いわゆるコア/シェル型のラテックスでもよい。この場合コアとシェルはガラス転移温度を変えると好ましい場合がある。本発明に係るポリマーラテックスの最低造膜温度(MFT)は、−30〜90℃であることが好ましく、更に好ましくは0〜70℃程度である。また、最低造膜温度をコントロールするために造膜助剤を添加してもよい。本発明に用いられる造膜助剤は可塑剤ともよばれポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合物(通常有機溶媒)であり、例えば「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」に記載されている。 ポ リ マ ー As the polymer latex according to the present invention, a so-called core / shell type latex other than a polymer latex having a normal uniform structure may be used. In this case, it may be preferable to change the glass transition temperature of the core and the shell. The minimum film forming temperature (MFT) of the polymer latex according to the present invention is preferably from -30 to 90C, more preferably from about 0 to 70C. Further, a film-forming auxiliary may be added to control the minimum film-forming temperature. The film-forming assistant used in the present invention is an organic compound (usually an organic solvent) which is also called a plasticizer and lowers the minimum film-forming temperature of the polymer latex. Issuance (1970)) ".

 ポリマーラテックスに用いられるポリマー種としてはアクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂、またはこれらの共重合体などがある。ポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでも、また架橋されたポリマーでもよい。またポリマーとしては単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、2種以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでもブロックコポリマーでもよい。ポリマーの分子量は数平均分子量で通常5000〜1000000、好ましくは10000〜100000程度である。分子量が小さすぎるものは感光層の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは製膜性が悪く好ましくない。 ポ リ マ ー Examples of the polymer used for the polymer latex include acrylic resin, vinyl acetate resin, polyester resin, polyurethane resin, rubber-based resin, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, polyolefin resin, and copolymers thereof. The polymer may be a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer. The polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized, or a copolymer in which two or more monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The molecular weight of the polymer is usually from 5,000 to 1,000,000, preferably from about 10,000 to 100,000 in number average molecular weight. If the molecular weight is too small, the mechanical strength of the photosensitive layer is insufficient, and if it is too large, the film-forming properties are poor, which is not preferable.

 ポリマーラテックスは25℃、60%RHでの平衡含水率が0.01〜2質量%以下のものが好ましく、更に好ましくは、0.01〜1質量%のものである。平衡含水率の定義と測定法については、例えば「高分子工学講座14、高分子材料試験法(高分子学会編、地人書館)」などを参考にすることができる。 (4) The polymer latex preferably has an equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH of 0.01 to 2% by mass or less, more preferably 0.01 to 1% by mass. For the definition and measurement method of the equilibrium moisture content, for example, “Polymer Engineering Course 14, Polymer Material Testing Method (Polymer Society, edited by Jinjinshokan)” can be referred to.

 ポリマーラテックスの具体例としては、メチルメタクリレート/エチルアクリレート/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/スチレン/アクリル酸コポリマーのラテックス、スチレン/ブタジエン/アクリル酸コポリマーのラテックス、スチレン/ブタジエン/ジビニルベンゼン/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート/塩化ビニル/アクリル酸コポリマーのラテックス、塩化ビニリデン/エチルアクリレート/アクリロニトリル/メタクリル酸コポリマーのラテックスなどが挙げられる。 Specific examples of the polymer latex include methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer latex, methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / styrene / acrylic acid copolymer latex, styrene / butadiene / acrylic acid copolymer latex, and styrene / butadiene / latex. Latex of divinylbenzene / methacrylic acid copolymer, latex of methyl methacrylate / vinyl chloride / acrylic acid copolymer, latex of vinylidene chloride / ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid copolymer and the like can be mentioned.

 これらのポリマーは単独で用いてもよいし、必要に応じて2種以上ブレンドして用いてもよい。ポリマーラテックスのポリマー種としては、アクリレートまたはメタクリレート成分のごときカルボン酸成分を0.1〜10質量%程度含有するものが好ましい。 ポ リ マ ー These polymers may be used alone or as a blend of two or more as necessary. As the polymer species of the polymer latex, those containing about 0.1 to 10% by mass of a carboxylic acid component such as an acrylate or methacrylate component are preferable.

 更に、必要に応じて全バインダーの50質量%以下の範囲でゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加してもよい。これらの親水性ポリマーの添加量は前記感光層の全バインダーの30質量%以下が好ましい。 If necessary, hydrophilic polymers such as gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose, and hydroxypropylmethylcellulose may be added in a range of 50% by mass or less of the whole binder. The addition amount of these hydrophilic polymers is preferably 30% by mass or less of the total binder in the photosensitive layer.

 本発明に係る画像形成層用塗布液の調製において、有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスの添加の順序については、いずれが先に添加してもよいし、同時に添加してもよいが、好ましくは、ポリマーラテックスが後である。 In the preparation of the coating solution for the image forming layer according to the present invention, the order of addition of the organic silver salt and the aqueous dispersed polymer latex may be added first or may be added simultaneously, Preferably, the polymer latex is later.

 更に、ポリマーラテックス添加前に有機銀塩、更には還元剤が混合されていることが好ましい。また、本発明においては、有機銀塩とポリマーラテックスを混合した後、経時させる温度が低すぎると塗布面状が損なわれ、高すぎるとかぶりが上昇する問題があるので、混合後の塗布液は30℃〜65℃で下記時間経時されることが好ましい。更には35℃〜60℃で経時させることが好ましく、特には35℃〜55℃で経時されることが好ましい。このように温度を維持するには塗布液の調液槽等を保温すればよい。 It is preferable that an organic silver salt and further a reducing agent are mixed before the addition of the polymer latex. In addition, in the present invention, after mixing the organic silver salt and the polymer latex, if the temperature for aging is too low, the coated surface state is impaired, and if it is too high, there is a problem that fogging increases. It is preferable to age at 30 ° C. to 65 ° C. for the following time. Further, the aging is preferably performed at 35 ° C to 60 ° C, particularly preferably at 35 ° C to 55 ° C. In order to maintain the temperature in this manner, it is only necessary to keep the temperature of the coating solution preparation tank or the like.

 本発明に係る画像形成層用塗布液の塗布は有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスを混合した後、30分〜24時間経過した塗布液を用いるのが好ましく、更に好ましくは、混合した後、60分〜12時間経過させることであり、特に好ましくは、120分〜10時間経過した塗布液を用いることである。 The application of the coating solution for the image forming layer according to the present invention is preferably performed by mixing an organic silver salt and an aqueously dispersed polymer latex, and then using a coating solution that has passed 30 minutes to 24 hours, and more preferably, after mixing. , 60 minutes to 12 hours, and particularly preferably, a coating solution after 120 minutes to 10 hours.

 ここで、「混合した後」とは、有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスを添加し、添加素材が均一に分散された後を言う。 Here, “after mixing” refers to a state after the organic silver salt and the polymer latex dispersed in water are added and the added materials are uniformly dispersed.

 本発明においては、架橋剤を上記バインダーに対し用いることが、膜付きがよくなり、現像ムラが少なくなるため好ましい。更に、保存時のかぶり抑制や、現像後のプリントアウト銀の生成を抑制する効果もある。 (4) In the present invention, it is preferable to use a crosslinking agent for the binder, since the film becomes better and unevenness in development is reduced. Further, it also has an effect of suppressing fogging during storage and suppressing generation of printout silver after development.

 本発明で用いられる架橋剤としては、従来写真感材用として使用されている種々の架橋剤、例えば、特開昭50−96216号に記載されているアルデヒド系、エポキシ系、エチレンイミン系、ビニルスルホン系、スルホン酸エステル系、アクリロイル系、カルボジイミド系、シラン化合物系架橋剤を用いうるが、好ましいのは以下に示す、イソシアネート系化合物、シラン化合物、エポキシ化合物又は酸無水物である。 Examples of the cross-linking agent used in the present invention include various cross-linking agents conventionally used for photographic light-sensitive materials, for example, aldehyde-based, epoxy-based, ethylene-imine-based and vinyl-based resins described in JP-A-50-96216. Sulfone-based, sulfonate-based, acryloyl-based, carbodiimide-based, and silane compound-based cross-linking agents can be used. Preferred are the following isocyanate-based compounds, silane compounds, epoxy compounds, or acid anhydrides.

 好適なものの一つである下記一般式(2)で表されるイソシアネート系及びチオイソシアネート系架橋剤について説明する。 イ ソ シ ア ネ ー ト The isocyanate-based and thioisocyanate-based cross-linking agents represented by the following general formula (2), which is one of the preferable ones, will be described.

 一般式(2)
   X2=C=N−L−(N=C=X2v
 式中、vは1または2であり、Lはアルキレン、アルケニレン、アリール基またはアルキルアリール基で、v+1価の連結基を表し、X2は酸素または硫黄原子を表す。
General formula (2)
X 2 = C = NL- (N = C = X 2 ) v
In the formula, v is 1 or 2, L is an alkylene, alkenylene, aryl group or alkylaryl group, represents a v + 1-valent linking group, and X 2 represents an oxygen or sulfur atom.

 なお、上記一般式(2)で表される化合物において、アリール基のアリール環は置換基を有し得る。好ましい置換基の例は、ハロゲン原子(例えば、臭素原子または塩素原子)、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基およびアルコキシ基から選択される。 In the compound represented by the general formula (2), the aryl ring of the aryl group may have a substituent. Examples of preferred substituents are selected from halogen atoms (eg, bromine or chlorine atoms), hydroxy, amino, carboxyl, alkyl and alkoxy groups.

 上記イソシアネート系架橋剤は、イソシアネート基を少なくとも2個有しているイソシアネート類及びその付加体(アダクト体)であり、更に、具体的には、脂肪族ジイソシアネート類、環状基を有する脂肪族ジイソシアネート類、ベンゼンジイソシアネート類、ナフタレンジイソシアネート類、ビフェニルイソシアネート類、ジフェニルメタンジイソシアネート類、トリフェニルメタンジイソシアネート類、トリイソシアネート類、テトライソシアネート類、これらのイソシアネート類の付加体及びこれらのイソシアネート類と2価又は3価のポリアルコール類との付加体が挙げられる。 The isocyanate-based crosslinking agent is an isocyanate having at least two isocyanate groups and an adduct thereof (adduct). More specifically, aliphatic diisocyanates and aliphatic diisocyanates having a cyclic group Benzene diisocyanates, naphthalene diisocyanates, biphenyl isocyanates, diphenylmethane diisocyanates, triphenylmethane diisocyanates, triisocyanates, tetraisocyanates, adducts of these isocyanates, and divalent or trivalent diisocyanates of these isocyanates. Adducts with polyalcohols may be mentioned.

 具体例としては、特開昭56−5535号の10頁〜12頁に記載されているイソシアネート化合物を利用することができる。 As specific examples, the isocyanate compounds described on pages 10 to 12 of JP-A-56-5535 can be used.

 なお、イソシアネートとポリアルコールの付加体は特に、層間接着を良くし、層の剥離や画像のズレ及び気泡の発生を防止する能力が高い。かかるイソシアネートは光熱写真材料のどの部分に置かれてもよい。例えば支持体中(特に支持体が紙の場合、そのサイズ組成中に含ませることができる)感光層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引き層等の支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層又は2層以上に添加することができる。 The adduct of an isocyanate and a polyalcohol has a particularly high ability to improve interlayer adhesion and to prevent delamination of the layer, image displacement and generation of bubbles. Such isocyanates may be located in any part of the photothermographic material. For example, in the support (especially when the support is paper, it can be included in the size composition), the photosensitive layer side of the support such as a photosensitive layer, a surface protective layer, an intermediate layer, an antihalation layer, and an undercoat layer It can be added to any layer, and can be added to one or more of these layers.

 又、本発明において使用することが可能なチオイソシアネート系架橋剤としては、上記のイソシアネート類に対応するチオイソシアネート構造を有する化合物も有用である。 化合物 As the thioisocyanate-based crosslinking agent that can be used in the present invention, a compound having a thioisocyanate structure corresponding to the above isocyanates is also useful.

 本発明において使用される上記架橋剤の量は、銀1モルに対して通常0.001〜2モル、好ましくは0.005〜0.5モルの範囲である。 The amount of the crosslinking agent used in the present invention is usually in the range of 0.001 to 2 mol, preferably 0.005 to 0.5 mol, per 1 mol of silver.

 本発明において含有させることができるイソシアネート化合物及びチオイソシアネート化合物は、上記の架橋剤として機能する化合物であることが好ましいが、上記の一般式においてvが零(0)、即ち、当該官能基を一つのみ有する化合物であっても良い結果がえられる。 The isocyanate compound and the thioisocyanate compound that can be contained in the present invention are preferably compounds that function as the above-mentioned crosslinking agent. In the above general formula, v is zero (0), that is, when the functional group is one, Good results can be obtained with only one compound.

 本発明において架橋剤として使用できるシラン化合物の例としては、特開2001−264930に開示されている一般式(1)〜一般式(3)で表される化合物が挙げられる。 シ ラ ン Examples of silane compounds that can be used as a crosslinking agent in the present invention include compounds represented by general formulas (1) to (3) disclosed in JP-A-2001-264930.

 本発明において架橋剤として使用できるエポキシ化合物としてはエポキシ基を1個以上有するものであればよく、エポキシ基の数、分子量、その他に制限はない。エポキシ基はエーテル結合やイミノ結合を介してグリシジル基として分子内に含有されることが好ましい。またエポキシ化合物はモノマー、オリゴマー、ポリマー等のいずれであってもよく、分子内に存在するエポキシ基の数は通常1〜10個程度、好ましくは2〜4個である。エポキシ化合物がポリマーである場合は、ホモポリマー、コポリマーのいずれであってもよく、その数平均分子量Mnの特に好ましい範囲は2000〜20000程度である。 エ ポ キ シ The epoxy compound that can be used as a crosslinking agent in the present invention may be any compound having at least one epoxy group, and there is no limitation on the number, molecular weight, etc. of the epoxy group. The epoxy group is preferably contained in the molecule as a glycidyl group via an ether bond or an imino bond. The epoxy compound may be any of a monomer, oligomer, polymer and the like, and the number of epoxy groups present in the molecule is usually about 1 to 10, preferably 2 to 4. When the epoxy compound is a polymer, it may be a homopolymer or a copolymer, and a particularly preferred range of the number average molecular weight Mn is about 2,000 to 20,000.

 又、本発明に用いられる酸無水物は下記の構造式で示される酸無水物基を少なくとも1個有する化合物である。 The acid anhydride used in the present invention is a compound having at least one acid anhydride group represented by the following structural formula.

   −CO−O−CO−
 本発明に用いられる酸無水物はこのような酸無水基を1個以上有するものであればよく、酸無水基の数、分子量、その他に制限はない。
-CO-O-CO-
The acid anhydride used in the present invention only needs to have at least one such acid anhydride group, and there is no limitation on the number, molecular weight, and the like of the acid anhydride groups.

 上記のエポキシ化合物や酸無水物は、1種のみを用いても2種以上を併用してもよい。その添加量は特に制限はないが、1×10-6〜1×10-2モル/m2の範囲が好ましく、より好ましくは1×10-5〜1×10-3モル/m2の範囲である。 The above epoxy compounds and acid anhydrides may be used alone or in combination of two or more. The addition amount is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 mol / m 2 , more preferably in the range of 1 × 10 −5 to 1 × 10 −3 mol / m 2 . It is.

 本発明においてエポキシ化合物や酸無水物は、感光層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引き層等の支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層又は2層以上に添加することができる。 In the present invention, an epoxy compound or an acid anhydride can be added to an optional layer on the photosensitive layer side of the support such as a photosensitive layer, a surface protective layer, an intermediate layer, an antihalation layer, and an undercoat layer. It can be added to one layer or two or more layers.

 本発明において、一定の銀画像濃度を得るために必要な銀量を低減化し得る化合物としては、省銀化剤を使用することにより、本発明の効果を更に高めることができる。 効果 In the present invention, the effect of the present invention can be further enhanced by using a silver saving agent as a compound capable of reducing the amount of silver required for obtaining a certain silver image density.

 この必要な銀量を低減化する機能の作用機構は種々考えられるが、現像銀の被覆力を向上させる機能を有する化合物が好ましい。ここで、現像銀の被覆力とは、銀の単位量当たりの光学濃度をいう。 There are various possible mechanisms for the function of reducing the required amount of silver, but a compound having a function of improving the covering power of developed silver is preferable. Here, the covering power of the developed silver means an optical density per unit amount of silver.

 省銀化剤としては、下記一般式(H)で表されるヒドラジン誘導体化合物、下記一般式(G)で表されるビニル化合物、下記一般式(P)で表される4級オニウム化合物等が好ましい例として挙げられる。 Examples of the silver saving agent include a hydrazine derivative compound represented by the following general formula (H), a vinyl compound represented by the following general formula (G), and a quaternary onium compound represented by the following general formula (P). Preferred examples are given.

Figure 2004094240
Figure 2004094240

 一般式(H)において、式中、A0はそれぞれ置換基を有してもよい脂肪族基、芳香族基、複素環基又は−G0−D0基を、B0はブロッキング基を表し、A1、A2はともに水素原子、又は一方が水素原子で他方はアシル基、スルホニル基又はオキザリル基を表す。ここで、G0は−CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG11)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)(G11)−基を表し、G1は単なる結合手、−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。好ましいD0としては、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられる。 In the general formula (H), A 0 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a -G 0 -D 0 group which may have a substituent, and B 0 represents a blocking group. , A 1 and A 2 each represent a hydrogen atom, or one represents a hydrogen atom and the other represents an acyl group, a sulfonyl group or an oxalyl group. Here, G 0 is a —CO— group, a —COCO— group, a —CS— group, a —C (= NG 1 D 1 ) — group, a —SO— group, a —SO 2 — group, or a —P (O) ( G 1 represents a D 1 ) — group, G 1 represents a mere bond, —O—, —S—, or —N (D 1 ) —, and D 1 represents an aliphatic group, an aromatic group, a complex Represents a ring group or a hydrogen atom, and when a plurality of D 1 are present in a molecule, they may be the same or different. D 0 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group. Preferred examples of D 0 include a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, and an amino group.

 一般式(H)において、A0で表される脂肪族基は、好ましくは炭素数1〜30のものであり、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げられ、これらは更に適当な置換基(例えば、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スルファモイル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換されていてもよい。 In the general formula (H), the aliphatic group represented by A 0 preferably has 1 to 30 carbon atoms, particularly preferably a straight-chain, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Examples include a methyl group, an ethyl group, a t-butyl group, an octyl group, a cyclohexyl group, and a benzyl group. These are further substituted with suitable substituents (for example, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfoxy group). Group, sulfonamide group, sulfamoyl group, acylamino group, ureido group, etc.).

 一般式(H)において、A0で表される芳香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例えばベンゼン環又はナフタレン環が挙げられ、A0で表される複素環基としては、単環又は縮合環で窒素、硫黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子を含む複素環が好ましく、例えばピロリジン環、イミダゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げられる。A0の芳香族基、複素環基及び−G0−D0基は置換基を有していてもよい。A0として、特に好ましいものはアリール基及び−G0−D0基である。 In the general formula (H), the aromatic group represented by A 0 is preferably a monocyclic or condensed-ring aryl group, for example, a benzene ring or a naphthalene ring, and the heterocyclic group represented by A 0 Nitrogen, sulfur, a heterocyclic ring containing at least one heteroatom selected from oxygen atoms is preferred, such as a pyrrolidine ring, an imidazole ring, a tetrahydrofuran ring, a morpholine ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, a quinoline ring. Examples include a thiazole ring, a benzothiazole ring, a thiophene ring, and a furan ring. Aromatic groups A 0, heterocyclic group or -G 0 -D 0 group may have a substituent. Particularly preferred as A 0 are an aryl group and a —G 0 -D 0 group.

 又、一般式(H)において、A0は耐拡散基又はハロゲン化銀吸着基を、少なくとも一つ含むことが好ましい。耐拡散基としては、カプラー等の不動性写真用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラスト基としては、写真的に不活性であるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げられ、置換基部分の炭素数の合計は8以上であることが好ましい。 In the general formula (H), A 0 preferably contains at least one of a diffusion-resistant group or a silver halide adsorption group. As the diffusion-resistant group, a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers is preferable. As the ballast group, a photographically inactive alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxy group, phenyl group And a phenoxy group, an alkylphenoxy group and the like, and the total number of carbon atoms in the substituent is preferably 8 or more.

 一般式(H)において、ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト複素環基或いは特開昭64−90439号に記載の吸着基等が挙げられる。 In the general formula (H), the thiourea, thiourethane group, mercapto group, thioether group, thione group, heterocyclic group, thioamide heterocyclic group, mercapto heterocyclic group or And the adsorbing group described in JP-A-90439.

 一般式(H)において、B0はブロッキング基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は−CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG11)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)(G11)−基を表す。好ましいG0としては−CO−基、−COCO−基が挙げられ、G1は単なる結合手、−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ましいD0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられる。A1、A2はともに水素原子、又は一方が水素原子で他方はアシル基(アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、スルホニル基(メタンスルホニル基、トルエンスルホニル基等)、又はオキザリル基(エトキザリル基等)を表す。 In the general formula (H), B 0 represents a blocking group, preferably -G 0 -D 0 group, and G 0 represents -CO- group, -COCO- group, -CS- group, -C (= NG 1 D 1 )-, -SO-, -SO 2-, or -P (O) (G 1 D 1 )-. Preferable G 0 includes a —CO— group and a —COCO— group, G 1 represents a mere bond, —O— group, —S— group or —N (D 1 ) — group, and D 1 represents a fatty acid. A group represents an aromatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom. When a plurality of D 1 are present in a molecule, they may be the same or different. D 0 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group, and preferred D 0 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, And an amino group. A 1 and A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is an acyl group (acetyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), a sulfonyl group (methanesulfonyl group, toluenesulfonyl group, etc.), or an oxalyl group (Such as an ethoxalyl group).

 これら一般式(H)で表される化合物は、公知の方法により容易に合成することができる。例えば、米国特許第5,464,738号、同5,496,695号を参考にして合成することができる。 化合物 The compounds represented by the general formula (H) can be easily synthesized by a known method. For example, it can be synthesized with reference to U.S. Patent Nos. 5,464,738 and 5,496,695.

 その他に好ましく用いることのできるヒドラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号カラム11〜20に記載の化合物H−1〜H−29、米国特許第5,464,738号カラム9〜11に記載の化合物1〜12である。これらのヒドラジン誘導体は公知の方法で合成することができる。 Other hydrazine derivatives that can be preferably used include compounds H-1 to H-29 described in U.S. Pat. No. 5,545,505, columns 11 to 20, and columns 9 to 11 in U.S. Pat. No. 5,464,738. Compounds 1 to 12 described above. These hydrazine derivatives can be synthesized by a known method.

 一般式(G)において、X21とR21はシスの形で表示してあるが、X21とR21がトランスの形も一般式(G)に含まれる。この事は具体的化合物の構造表示においても同様である。 In the general formula (G), X 21 and R 21 are represented in the form of cis, but the general formula (G) also includes the form of X 21 and R 21 in a trans form. This is the same in the structural representation of a specific compound.

 一般式(G)において、X21は電子吸引性基を表し、W21は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アシル基、チオアシル基、オキサリル基、オキシオキサリル基、チオオキサリル基、オキサモイル基、オキシカルボニル基、チオカルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシスルフィニル基、チオスルフィニル基、スルファモイル基、オキシスルフィニル基、チオスルフィニル基、スルフィナモイル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ基、N−カルボニルイミノ基、N−スルホニルイミノ基、ジシアノエチレン基、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ピリリウム基、インモニウム基を表す。 In the general formula (G), X 21 represents an electron-withdrawing group, and W 21 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, an acyl group, a thioacyl group, an oxalyl group. , Oxyoxalyl, thiooxalyl, oxamoyl, oxycarbonyl, thiocarbonyl, carbamoyl, thiocarbamoyl, sulfonyl, sulfinyl, oxysulfinyl, thiosulfinyl, sulfamoyl, oxysulfinyl, thiosulfinyl Group, sulfinamoyl group, phosphoryl group, nitro group, imino group, N-carbonylimino group, N-sulfonylimino group, dicyanoethylene group, ammonium group, sulfonium group, phosphonium group, pyrylium group and immonium group.

 R21はハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルケニルチオ基、アシルチオ基、アルコキシカルボニルチオ基、アミノカルボニルチオ基、ヒドロキシル基又はメルカプト基の有機又は無機の塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、銀塩等)、アミノ基、アルキルアミノ基、環状アミノ基(例えば、ピロリジノ基)、アシルアミノ基、オキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環基(5〜6員の含窒素ヘテロ環、例えばベンツトリアゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基等)、ウレイド基、スルホンアミド基を表す。X21とW21、X21とR21は、それぞれ互いに結合して環状構造を形成してもよい。X21とW21が形成する環としては、例えばピラゾロン、ピラゾリジノン、シクロペンタンジオン、β−ケトラクトン、β−ケトラクタム等が挙げられる。 R 21 represents a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkenyloxy group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, an aminocarbonyloxy group, a mercapto group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group. Organic or inorganic salts (eg, sodium salt, potassium salt, silver salt, etc.) of a group, alkenylthio group, acylthio group, alkoxycarbonylthio group, aminocarbonylthio group, hydroxyl group or mercapto group, amino group, alkylamino group A cyclic amino group (for example, a pyrrolidino group), an acylamino group, an oxycarbonylamino group, a heterocyclic group (for example, a 5- to 6-membered nitrogen-containing heterocycle such as a benztriazolyl group, an imidazolyl group, a triazolyl group, or a tetrazolyl group) , Ureido group, sulfone It represents a de group. X 21 and W 21 , and X 21 and R 21 may be bonded to each other to form a cyclic structure. Examples of the ring formed by X 21 and W 21 include pyrazolone, pyrazolidinone, cyclopentanedione, β-ketolactone, β-ketolactam and the like.

 以下に本発明にて好ましく使用される化合物例を示す。 化合物 Examples of compounds preferably used in the present invention are shown below.

Figure 2004094240
Figure 2004094240

 一般式(P)において、Qは窒素原子又は燐原子を表し、R31、R32、R33及びR34は、各々水素原子又は置換基を表し、X31 -はアニオンを表す。尚、R31〜R34は互いに連結して環を形成してもよい。 In the general formula (P), Q represents a nitrogen atom or a phosphorus atom, R 31 , R 32 , R 33 and R 34 each represent a hydrogen atom or a substituent, and X 31 represents an anion. Incidentally, R 31 to R 34 may be connected to each other to form a ring.

 R31〜R34で表される置換基としては、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(アリル基、ブテニル基等)、アルキニル基(プロパルギル基、ブチニル基等)、アリール基(フェニル基、ナフチル基等)、複素環基(ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピリジル基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、スルホラニル基等)、アミノ基等が挙げられる。 Examples of the substituent represented by R 31 to R 34 include an alkyl group (methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group (allyl group, butenyl group, etc.), an alkynyl group (Propargyl group, butynyl group, etc.), aryl group (phenyl group, naphthyl group, etc.), heterocyclic group (piperidinyl group, piperazinyl group, morpholinyl group, pyridyl group, furyl group, thienyl group, tetrahydrofuryl group, tetrahydrothienyl group, Sulfolanyl group), an amino group and the like.

 R31〜R34が互いに連結して形成しうる環としては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げられる。 Examples of the ring that can be formed by linking R 31 to R 34 include a piperidine ring, morpholine ring, piperazine ring, quinuclidine ring, pyridine ring, pyrrole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, and the like.

 R31〜R34で表される基はヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル基、スルホ基、アルキル基、アリール基等の置換基を有してもよい。R31、R32、R33及びR34としては、水素原子及びアルキル基が好ましい。 The groups represented by R 31 to R 34 may have a substituent such as a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group, and an aryl group. As R 31 , R 32 , R 33 and R 34 , a hydrogen atom and an alkyl group are preferred.

 X31 -が表すアニオンとしては、ハロゲンイオン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが挙げられる。 X 31 - as an anion represented by the halogen ion, sulfate ion, nitrate ion, acetate ion, and inorganic and organic anions, such as p- toluenesulfonic acid ion.

 上記4級オニウム化合物は公知の方法に従って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合物はChemical Reviews vol.55 p.335〜483に記載の方法を参考にできる。上記省銀化剤の添加量は有機銀塩1モルに対し10-5〜1モル、好ましくは10-4〜5×10-1モルの範囲である。
本発明では、省銀化剤の少なくとも一種が、シラン化合物であることが好ましい。
The quaternary onium compound can be easily synthesized according to a known method. For example, the tetrazolium compound can be synthesized as described in Chemical Reviews vol. 55 p. 335-483 can be referred to. The amount of the silver saving agent is in the range of 10 -5 to 1 mol, preferably 10 -4 to 5 × 10 -1 mol, per 1 mol of the organic silver salt.
In the present invention, at least one of the silver saving agents is preferably a silane compound.

 本発明において、省銀化剤として用いるシラン化合物としては、特開2003−5324号に記載されているような一級または二級アミノ基を2個以上有するアルコキシシラン化合物あるいはその塩であることが好ましい。 In the present invention, the silane compound used as a silver saving agent is preferably an alkoxysilane compound having two or more primary or secondary amino groups or a salt thereof as described in JP-A-2003-5324. .

 ここで、一級または二級アミノ基を2個以上有するとは、一級アミノ基のみを2個以上、二級アミノ基のみを2個以上、さらには一級アミノ基と二級アミノ基をそれぞれ1個以上含むことを指し、アルコキシシラン化合物の塩とは、アミノ基とオニウム塩を形成しうる無機酸あるいは有機酸とアルコキシシラン化合物との付加物をさす。 Here, having two or more primary or secondary amino groups means that two or more primary amino groups only, two or more secondary amino groups only, and one primary amino group and one secondary amino group each. Including the above, a salt of an alkoxysilane compound refers to an adduct of an alkoxysilane compound with an inorganic or organic acid capable of forming an onium salt with an amino group.

 このようなアルコキシシラン化合物あるいはその塩としては、下記に記載するようなものを挙げることができるが、本発明においては、分子内一級または二級アミノ基を2個以上有するアルコキシシラン化合物あるいはその塩で有れば、これらの化合物に限定されない。 Examples of such an alkoxysilane compound or a salt thereof include those described below. In the present invention, an alkoxysilane compound having two or more intramolecular primary or secondary amino groups or a salt thereof Is not limited to these compounds.

Figure 2004094240
Figure 2004094240

Figure 2004094240
Figure 2004094240

 これらの化合物において、アルコキシシリルを形成するアルコキシ基としては、飽和炭化水素からなるアルコキシ基が好ましく、更には、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基がより保存安定性に優れることから好ましい。また、熱現像前の保存条件による感度変動を低減する目的においては、分子内に不飽和炭化水素基を有さない化合物がより好ましい。なお、これらのアルコキシシラン化合物あるいはその塩は1種単独でも2種以上を組み合わせて用いても良い。 に お い て In these compounds, the alkoxy group forming an alkoxysilyl is preferably an alkoxy group composed of a saturated hydrocarbon, and more preferably a methoxy group, an ethoxy group, or an isopropoxy group because they have more excellent storage stability. Further, for the purpose of reducing sensitivity fluctuation due to storage conditions before thermal development, a compound having no unsaturated hydrocarbon group in the molecule is more preferable. These alkoxysilane compounds or salts thereof may be used alone or in combination of two or more.

 また、画像形成層が少なくとも1個以上の一級アミノ基を有するアルコキシシラン化合物とケトン化合物との脱水縮合反応から形成されるシフ塩基を含有することが好ましい。 It is preferable that the image forming layer contains a Schiff base formed by a dehydration condensation reaction between an alkoxysilane compound having at least one primary amino group and a ketone compound.

 このようなシフ塩基を用いることにより、省銀化することができ、かつ熱現像前の保存時条件によらず低カブリで感度変動も少なく、ガンマも極端に立たない画像が得られる。さらに、あらかじめ一級アミン部分が封鎖されているため、後述する画像形成層形成塗工液を調製する際にケトン系溶剤を用いる場合には、塗工液調製後の時間経時による感度変動を抑制することができる。 (5) By using such a Schiff base, silver can be saved, and an image having low fog, little sensitivity fluctuation, and extremely low gamma can be obtained irrespective of storage conditions before thermal development. Further, since the primary amine portion is blocked in advance, when a ketone-based solvent is used when preparing an image forming layer forming coating solution described later, sensitivity variation due to aging over time after preparing the coating solution is suppressed. be able to.

 上記のアルコキシシラン化合物とシフ塩基を形成する為に用いられるケトン化合物としては、特に制限なく用いることができるが、後述する画像形成方法により画像を形成した際に生じる臭気の問題から、沸点が150℃以下のものが好ましく、さらには100℃以下のものがより好ましい。 The ketone compound used for forming the above-mentioned alkoxysilane compound and the Schiff base can be used without any particular limitation, but has a boiling point of 150 due to the problem of odor generated when an image is formed by an image forming method described later. C. or less, more preferably 100.degree. C. or less.

 このようなシフ塩基としては、1個以上の一級アミノ基を有するアルコキシシラン化合物とケトン化合物との脱水縮合反応から形成されるシフ塩基で有ることが好ましい。 Such a Schiff base is preferably a Schiff base formed by a dehydration condensation reaction between an alkoxysilane compound having one or more primary amino groups and a ketone compound.

 なお、上述の化合物の中で、より省銀化する目的のためには、分子内に1個以上の二級アミノ基を有するシフ塩基がより好ましい。尚、これらのシフ塩基は1種単独でも2種以上を組み合わせて用いても良い。 Of the above compounds, for the purpose of saving silver, a Schiff base having one or more secondary amino groups in the molecule is more preferable. These Schiff bases may be used alone or in combination of two or more.

 省銀化剤として、アルコキシシラン化合物あるいはその塩、またはシフ塩基を画像形成層中に添加する場合は、銀1モルに対して通常0.00001〜0.05モルの範囲で添加するのが好ましい。また、アルコキシシラン化合物あるいはその塩と、シフ塩基の両方を画像形成層に添加する場合も同様の範疇となる。 When an alkoxysilane compound or a salt thereof or a Schiff base is added to the image forming layer as a silver saving agent, it is preferably added in the range of usually 0.00001 to 0.05 mol per mol of silver. . The same applies to the case where both an alkoxysilane compound or a salt thereof and a Schiff base are added to the image forming layer.

 しかしながら、上述のアルコキシシラン化合物またはシフ塩基の銀1モルに対する添加量が少しでも多くなると、後述する画像形成方法で形成された未露光部の画像濃度が高くなる場合がある。そこで、添加するアルコキシシラン化合物またはシフ塩基の銀1モルに対する添加量の依存性を緩和する目的で、さらに、画像形成層に分子内に2個以上のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物を添加するのが好ましい。イソシアネート化合物としては、前述した架橋剤として使用されるイソシアネート化合物を用いることができる。 However, if the addition amount of the above-mentioned alkoxysilane compound or Schiff base to 1 mol of silver is slightly increased, the image density of an unexposed portion formed by an image forming method described later may be increased. Therefore, in order to alleviate the dependence of the added amount of the added alkoxysilane compound or Schiff base on 1 mol of silver, an isocyanate compound having two or more isocyanate groups in the molecule is further added to the image forming layer. preferable. As the isocyanate compound, the isocyanate compound used as the above-mentioned crosslinking agent can be used.

 本発明の熱現像感光材料の特性を調整するためには、更にカブリ防止及び画像安定化剤を用いることができる。 (4) In order to adjust the characteristics of the photothermographic material of the present invention, a fog prevention and image stabilizer can be further used.

 還元剤としては、主に、ビスフェノール類やスルホンアミドフェノール類のようなプロトンをもった還元剤が用いる場合、これらの水素を引き抜くことができる活性種を発生することにより還元剤を不活性化できる化合物が含有されていることが好ましい。好適には、無色の光酸化性物質として、露光時にフリーラジカルを反応活性種として生成可能な化合物が好ましい。 When a reducing agent having a proton such as bisphenols or sulfonamidophenols is mainly used as the reducing agent, the reducing agent can be inactivated by generating active species capable of extracting these hydrogens. Preferably, a compound is contained. Preferably, as the colorless photo-oxidizable substance, a compound capable of generating a free radical as a reactive species upon exposure is preferable.

 従ってこれらの機能を有する化合物であればいかなる化合物でもよいが、複数の原子からなる有機フリーラジカルが好ましい。かかる機能を有しかつ熱現像感光材料に格別の弊害を生じることのない化合物であればいかなる構造をもった化合物でもよい。 Accordingly, any compound having these functions may be used, but an organic free radical comprising a plurality of atoms is preferable. A compound having any structure may be used as long as it has such a function and does not cause any particular adverse effect on the photothermographic material.

 又、これらのフリーラジカルを発生する化合物としては発生するフリーラジカルに、これが還元剤と反応し不活性化するに充分な時間接触できる位の安定性をもたせるために炭素環式、又は複素環式の芳香族基を有するものが好ましい。 In addition, these free radical-generating compounds may be carbocyclic or heterocyclic in order to have such stability that the free radicals generated can be contacted with the reducing agent for a sufficient time to react with and inactivate them. Those having an aromatic group are preferred.

 これらの化合物の代表的なものとしてビイミダゾリル化合物、ヨードニウム化合物をあげることができる。 ビ Representative of these compounds are biimidazolyl compounds and iodonium compounds.

 上記のビイミダゾリル化合物、ヨウドニウム化合物の添加量は0.001〜0.1モル/m2、好ましくは、0.005〜0.05モル/m2の範囲である。なお、当該化合物は、本発明の感光材料において、いかなる構成層中にも含有させることが出来るが、還元剤の近傍に含有させることが好ましい。 The addition amount of the biimidazolyl compound and the iodonium compound is in the range of 0.001 to 0.1 mol / m 2 , and preferably in the range of 0.005 to 0.05 mol / m 2 . The compound can be contained in any of the constituent layers in the light-sensitive material of the present invention, but is preferably contained near the reducing agent.

 又、本発明においては、ハロゲン原子を活性種として放出する化合物を好ましく使用することが出来る。ハロゲン原子を活性種として放出できる化合物も多くのものが知られており、併用により良好な効果が得られる。 In the present invention, a compound that releases a halogen atom as an active species can be preferably used. Many compounds that can release a halogen atom as an active species are known, and a good effect can be obtained when used in combination.

 これらの活性ハロゲン原子を生成する化合物の具体例としては、以下に挙げる一般式(9)の化合物がある。 具体 Specific examples of the compounds that generate these active halogen atoms include compounds of the following general formula (9).

Figure 2004094240
Figure 2004094240

 一般式(9)中、Q51はアリール基またはヘテロ環基を表す。X51、X52及びX53は水素原子、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルフォニル基、アリール基を表すが、少なくとも一つはハロゲン原子である。Y51は−C(=O)−、−SO−または−SO2−を表す。 In the general formula (9), Q 51 represents an aryl group or a heterocyclic group. X 51 , X 52 and X 53 represent a hydrogen atom, a halogen atom, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group or an aryl group, at least one of which is a halogen atom. Y 51 represents —C (= O) —, —SO— or —SO 2 —.

 Q51で表されるアリール基は、単環または縮環していてもよく、好ましくは炭素数6〜30の単環または二環のアリール基(例えばフェニル、ナフチル等)であり、より好ましくはフェニル基、ナフチル基であり、更に好ましくはフェニル基である。 The aryl group represented by Q 51 may be monocyclic or condensed, and is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group having 6 to 30 carbon atoms (eg, phenyl, naphthyl, etc.), more preferably It is a phenyl group or a naphthyl group, and more preferably a phenyl group.

 Q51で表されるヘテロ環基は、N、OまたはSの少なくとも一つの原子を含む3ないし10員の飽和もしくは不飽和のヘテロ環基であり、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。 The heterocyclic group represented by Q 51 is a 3- to 10-membered saturated or unsaturated heterocyclic group containing at least one atom of N, O or S, which may be monocyclic, Further, a condensed ring may be formed with another ring.

 ヘテロ環基として好ましくは、縮合環を有していてもよい5ないし6員の不飽和ヘテロ環基であり、より好ましくは縮合環を有していてもよい5ないし6員の芳香族ヘテロ環基である。更に好ましくは窒素原子を含む縮合環を有していてもよい5ないし6員の芳香族ヘテロ環基であり、特に好ましくは窒素原子を1ないし4原子含む縮合環を有していてもよい5ないし6員の芳香族ヘテロ環基である。このようなヘテロ環基におけるヘテロ環として好ましくは、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、インドレニン、テトラザインデンであり、より好ましくはイミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、テトラザインデンであり、更に好ましくはイミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、チアジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、テトラゾール、チアゾール、ベンズイミダゾール、ベンズチアゾールであり、特に好ましくはピリジン、チアジアゾール、キノリン、ベンズチアゾールである。 The heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered unsaturated heterocyclic group optionally having a condensed ring, and more preferably a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic ring optionally having a condensed ring. Group. More preferably, it is a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group which may have a condensed ring containing a nitrogen atom, and particularly preferably it may have a condensed ring containing 1 to 4 nitrogen atoms. And a 6-membered aromatic heterocyclic group. As the heterocycle in such a heterocyclic group, preferably, imidazole, pyrazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, indole, indazole, purine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline , Cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole, indolenine, tetrazaindene, more preferably imidazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, Triazine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, Zoline, cinnoline, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole, tetrazaindene, more preferably imidazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, thiadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, They are quinoxaline, quinazoline, cinnoline, tetrazole, thiazole, benzimidazole and benzthiazole, particularly preferably pyridine, thiadiazole, quinoline and benzthiazole.

 Q51で表されるアリール基およびヘテロ環基は−Y51−C(X51)(X52)(X53)の他に置換基を有していてもよく、置換基として好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルホニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、より好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子である。 Aryl group and heterocyclic group represented by Q 51 may have other substitution groups -Y 51 -C (X 51) ( X 52) (X 53), preferably an alkyl group as a substituent , Alkenyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, Sulfamoyl group, carbamoyl group, sulfonyl group, ureido group, phosphoric acid amide group, halogen atom, cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, heterocyclic group, more preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, Aryloxy group, acyl group, acylamino group, alkoxycarbonyl An amino group, an aryloxycarbonylamino group, a sulfonylamino group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, a ureido group, a phosphoric acid amide group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, or a heterocyclic group, and more preferably an alkyl group or an aryl group , An alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an acylamino group, a sulfonylamino group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, and a heterocyclic group, and particularly preferably an alkyl group, an aryl group, and a halogen atom. It is.

 X51、X52及びX53は好ましくはハロゲン原子、ハロアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ヘテロ環基であり、より好ましくはハロゲン原子、ハロアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基であり、更に好ましくはハロゲン原子、トリハロメチル基であり、特に好ましくはハロゲン原子である。ハロゲン原子の中でも好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくは臭素原子である。 X 51 , X 52 and X 53 are preferably a halogen atom, a haloalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a sulfonyl group, a heterocyclic group, more preferably a halogen atom, It is a haloalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, or a sulfonyl group, more preferably a halogen atom or a trihalomethyl group, and particularly preferably a halogen atom. Among the halogen atoms, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferred, a chlorine atom and a bromine atom are more preferred, and a bromine atom is particularly preferred.

 Y51は−C(=O)−、−SO−、−SO2−を表し、好ましくは−SO2−である。 Y 51 is -C (= O) -, - SO -, - SO 2 - represents preferably -SO 2 - is.

 これらの化合物の添加量は、実質的にハロゲン化銀の生成によるプリントアウト銀の増加が問題にならない範囲が好ましく、前記活性ハロゲンラジカルを生成しない化合物に対する比率で、最大150%以下、更に好ましくは100%以下であることが好ましい。 The addition amount of these compounds is preferably within a range in which the increase in printout silver due to the formation of silver halide does not pose a problem, and is preferably at most 150% or less, more preferably at most 150% by weight, with respect to the compounds that do not generate active halogen radicals. It is preferably 100% or less.

 次に本発明において好ましく使用されるかぶり防止剤について説明する。本発明で好ましく使用されるかぶり防止剤としては下記一般式(A−6)〜(A−8)で表される化合物を挙げることができる。 Next, the antifoggant preferably used in the present invention will be described. Examples of the antifoggant preferably used in the present invention include compounds represented by the following formulas (A-6) to (A-8).

 一般式(A−6)  X1−SO2−S−M1
 一般式(A−7)  X1−SO2−S−Y1
 一般式(A−8)  X1−SO−S−Y1
 式中X1、Y1は置換または未置換のアルキル基、アリール基、複素環基を表し、M1は金属原子または有機カチオンを表す。
General formula (A-6) X 1 -SO 2 -SM 1
General formula (A-7) X 1 -SO 2 -SY 1
General formula (A-8) X 1 -SO-SY 1
In the formula, X 1 and Y 1 represent a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or heterocyclic group, and M 1 represents a metal atom or an organic cation.

 X1およびY1で表される脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、更に好ましくは1〜12)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、更に好ましくは2〜12)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、更に好ましくは2〜12)であり、置換基を有していてもよい。X1およびY1で表される脂肪族炭化水素基の置換基として好ましくは、アリール基、アルコキシ基、ヘテロ環基であり、より好ましくはアリール基、ヘテロ環基である。X1およびY1で表される脂肪族炭化水素基として好ましくはアルキル基であり、より好ましくは鎖状アルキル基である。 The aliphatic hydrocarbon group represented by X 1 and Y 1 is a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 20, more preferably 1 to 16, more preferably 1 to 12), alkenyl Group (preferably having 2 to 20, more preferably 2 to 16, more preferably 2 to 12) alkynyl group (preferably having 2 to 20, more preferably 2 to 16, and still more preferably 2 to 12) And may have a substituent. The substituent of the aliphatic hydrocarbon group represented by X 1 and Y 1 is preferably an aryl group, an alkoxy group, or a heterocyclic group, and more preferably an aryl group or a heterocyclic group. The aliphatic hydrocarbon group represented by X 1 and Y 1 is preferably an alkyl group, and more preferably a chain alkyl group.

 X1およびY1で表されるアリール基としては、好ましくは炭素数6〜30の単環または縮環のアリール基であり、より好ましくは炭素数6〜20の単環または縮環のアリール基であり、例えばフェニル、ナフチル等が挙げられ、特に好ましくはフェニルである。X1およびY1で表されるアリール基は置換基を有して良い。X1およびY1で表されるアリール基の具体例としては、フェニル、4−メチルフェニル、ナフチル、ベンゾイルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルウレイドなどが挙げられる。 The aryl group represented by X 1 and Y 1 is preferably a monocyclic or condensed aryl group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably a monocyclic or condensed aryl group having 6 to 20 carbon atoms. And, for example, phenyl, naphthyl and the like can be mentioned, and phenyl is particularly preferable. The aryl group represented by X 1 and Y 1 may have a substituent. Specific examples of the aryl group represented by X 1 and Y 1 include phenyl, 4-methylphenyl, naphthyl, benzoylamino, phenylsulfonylamino, phenylureido and the like.

 X1およびY1で表されるヘテロ環基は、N、OまたはS原子の少なくとも一つを含む3ないし10員の飽和もしくは不飽和のヘテロ環であり、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。ヘテロ環基として好ましくは、5ないし6員のヘテロ環基であり、より好ましくは窒素原子を含む5ないし6員のヘテロ環基であり、更に好ましくは窒素原子を1ないし2原子含む5ないし6員の芳香族ヘテロ環基である。ヘテロ環基の具体例としては、例えばイミダゾリル、チアゾリル、オキサゾリル、1,2,4−トリアゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、ピリジル、キノリル、テトラゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズチアゾリル、ベンズトリアゾリル、トリアジニルなどが挙げられる。 The heterocyclic group represented by X 1 and Y 1 is a 3- to 10-membered saturated or unsaturated hetero ring containing at least one of N, O and S atoms, and these may be monocyclic. Alternatively, a condensed ring may be formed with another ring. The heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered heterocyclic group, more preferably a 5- or 6-membered heterocyclic group containing a nitrogen atom, even more preferably a 5- or 6-membered heterocyclic group containing 1 or 2 nitrogen atoms. Membered aromatic heterocyclic group. Specific examples of the heterocyclic group include, for example, imidazolyl, thiazolyl, oxazolyl, 1,2,4-triazolyl, 1,3,4-oxadiazolyl, 1,3,4-thiadiazolyl, pyridyl, quinolyl, tetrazolyl, benzimidazolyl, benz Oxazolyl, benzothiazolyl, benzotriazolyl, triazinyl and the like can be mentioned.

 M1で表される金属原子としては、ナトリウムイオン、カリウムイオンのごときアルカリ金属原子が、有機カチオンとしては、アンモニウムイオン、グアニジン基などが好ましい。 The metal atom represented by M 1 is preferably an alkali metal atom such as a sodium ion or a potassium ion, and the organic cation is preferably an ammonium ion or a guanidine group.

 一般式(A−6)〜(A−8)で表される化合物の具体例としては、例えば特開平8−314059号の「0012」に記載の化合物例a〜j、特開平7−209797号の「0028」に記載のチオスルホネートエステルA〜K、特開昭55−140833号のp14から記載の化合物例(1)〜(44)があげられる。以下に本発明の化合物の具体例を示すが、本発明はこれらの化合物に限定されない。 Specific examples of the compounds represented by the general formulas (A-6) to (A-8) include, for example, compound examples a to j described in “0012” of JP-A-8-314059 and JP-A-7-209797. And the compound examples (1) to (44) described from p14 of JP-A-55-140833. Hereinafter, specific examples of the compound of the present invention are shown, but the present invention is not limited to these compounds.

Figure 2004094240
Figure 2004094240

 次に下記一般式(A−9)で表される化合物について説明する。 Next, the compound represented by the following formula (A-9) will be described.

 一般式(A−9)  Z7−P7−L7−(C=Q7)−W7
 式中、P7は酸素原子、硫黄原子またはNH基を表し、Q7は酸素原子または硫黄原子を表し、W7はOH基、OM基、SH基、SM基(Mは対イオン)またはNH2基を表し、L7はアルキレン基を表し、Z7はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。
Formula (A-9) Z 7 -P 7 -L 7 - (C = Q 7) -W 7
In the formula, P 7 represents an oxygen atom, a sulfur atom or an NH group, Q 7 represents an oxygen atom or a sulfur atom, W 7 is an OH group, an OM group, an SH group, a SM group (M is a counter ion) or NH It represents 2 group, L 7 represents an alkylene group, Z 7 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.

 一般式(A−9)において、−(C=Q7)−W7で表される置換基の好ましい例として、カルボキシル基、カルボン酸塩、チオカルボキシル基、チオカルボン酸塩、ジチオカルボキシル基、ジチオカルボン酸塩、カルバモイル基を挙げることができる。W7がOM基またはSM基であるとき(Mは対イオンを表す)、対イオンの例としては、無機あるいは有機のアンモニウムイオン(例えば、アンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン)、アルカリ金属イオン(例えば、ナトリウムイオン、カリウムイオン)、アルカリ土類金属イオン(例えば、カルシウムイオン、マグネシウムイオン)、その他の金属イオン(例えば、アルミニウムイオン、バリウムイオン、亜鉛イオン)が挙げられる。イオン性ポリマー、あるいは逆電荷を有する他の有機化合物、あるいは金属錯イオン(例えば、ヒドロキソペンタアクアアルミニウム(III)イオン、トリス(2,2′−ビピリジン)鉄(II)イオン)も対イオンになりうる。また、分子内の他の置換基と分子内塩を形成していても良い。好ましいものは、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオンであるり、さらに好ましいものはナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオンである。 In the general formula (A-9), preferred examples of the substituent represented by-(C = Q 7 ) -W 7 include a carboxyl group, a carboxylate, a thiocarboxyl group, a thiocarboxylate, a dithiocarboxyl group, Thiocarboxylates and carbamoyl groups can be mentioned. When W 7 is an OM group or an SM group (M represents a counter ion), examples of the counter ion include inorganic or organic ammonium ions (for example, ammonium ion, triethylammonium ion, and pyridinium ion), and alkali metal ions. (Eg, sodium ion, potassium ion), alkaline earth metal ion (eg, calcium ion, magnesium ion), and other metal ions (eg, aluminum ion, barium ion, zinc ion). An ionic polymer, or another organic compound having a reverse charge, or a metal complex ion (eg, hydroxopentaaquaaluminum (III) ion, tris (2,2'-bipyridine) iron (II) ion) can also be a counter ion. sell. Further, it may form an inner salt with another substituent in the molecule. Preferred are sodium ion, potassium ion, ammonium ion, triethylammonium ion and pyridinium ion, and more preferred are sodium ion, potassium ion and ammonium ion.

 L7で表されるアルキレン基の長さは、好ましくは1〜4原子分、さらに好ましくは1ないし2原子分である。Lで表されるアルキレン基は、更に置換基を有していてもよい。好ましい例としては−CH2−、−CH2CH2−、−CH(CH3)−、−CH(CH2CH3)CH2−などを挙げることができる。より好ましいのは、−CH2−である。 The length of the alkylene group represented by L 7 is preferably 2 atomic to 1-4 atomic, more preferably 1. The alkylene group represented by L may further have a substituent. -CH 2 Preferred examples -, - CH 2 CH 2 - , - CH (CH 3) -, - CH (CH 2 CH 3) CH 2 - and the like. More preferred, -CH 2 - is.

 Z7で表されるアルキル基は、直鎖、分岐、環状またはこれらの組み合わせのアルキル基であり、好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは1〜30、さらに好ましくは1〜25である。例えば、メチル基、エチル基、アリル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、sec−ペンチル基、イソペンチル基、tert−ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、tert−オクチル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ドコシル基、2−ヘキシルデシル基、2−エチルヘキシル基、6−メチル−1−(3−メチルヘキシル)ノニル基、ベンジル基等が挙げられる。 Alkyl group represented by Z 7 is a straight-chain, branched or cyclic alkyl group or a combination thereof, preferably 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30, more preferably from 1 to 25. For example, methyl, ethyl, allyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, sec-pentyl, isopentyl, tert-pentyl, hexyl Group, cyclohexyl group, octyl group, tert-octyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, pentadecyl group, nonadecyl group, icosyl group, docosyl group, 2-hexyldecyl group, 2-ethylhexyl group, 6- Examples thereof include a methyl-1- (3-methylhexyl) nonyl group and a benzyl group.

 Z7で表されるアルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては既知のいかなる基であっても構わない。例えば、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子)、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基(N−置換の含窒素ヘテロ環基を含む、例えばモルホリノ基)、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオカルボニル基、カルバゾイル基、シアノ基、チオカルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルオキシ基、スルホニルオキシ基、アシルアミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、(アルキルもしくはアリール)スルホニルウレイド基、ニトロ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、スルファモイル基、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、シリル基、カルボキシル基またはその塩、スルホ基またはその塩、リン酸基、ヒドロキシ基、4級アンモニウム基等が挙げられる。これら置換基は、これら置換基でさらに置換されていてもよい。 The alkyl group represented by Z 7 may have a substituent, and the substituent may be any known group. For example, a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom), an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group (including a N-substituted nitrogen-containing heterocyclic group, such as a morpholino group ), Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, imino group, imino group substituted with N atom, thiocarbonyl group, carbazoyl group, cyano group, thiocarbamoyl group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group An acyloxy group, an (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, a sulfonyloxy group, an acylamide group, a sulfonamide group, a ureido group, a thioureido group, an imide group, an (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, a sulfamoylamino group, Semi-carba Group, thiosemicarbazide group, (alkyl or aryl) sulfonyluureido group, nitro group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, sulfamoyl group, group containing a phosphoric acid amide or a phosphoric ester structure, silyl group, carboxyl group or a salt thereof , A sulfo group or a salt thereof, a phosphate group, a hydroxy group, a quaternary ammonium group, and the like. These substituents may be further substituted with these substituents.

 Z7で表される置換基を有するアルキル基の例として、アリールオキシアルキル基、アルコキシアルキル基、ポリアルキレンオキシアルキル基(ヒドロキシエトキシエチル基、エトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基など)、アルキルチオアルキル基(エチルチオエチル基など)などを挙げることができる。 Examples of the alkyl group having a substituent represented by Z 7 include an aryloxyalkyl group, an alkoxyalkyl group, a polyalkyleneoxyalkyl group (such as a hydroxyethoxyethyl group, an ethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group), and an alkylthioalkyl group (Such as an ethylthioethyl group).

 Z7で表されるアリール基は単環または縮合環のアリール基であり、好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは6〜16、さらに好ましくは6〜10であり、フェニル基またはナフチル基が好ましい。Z7で表されるアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としては写真性能に悪影響を及ぼさない置換基であればどのような基でも構わない。例えば、前述のアルキル基の置換基と同様の基が挙げられる。アリール基上の置換基の好ましい置換位置は2−位であり、置換基がP7、Q7またはW7と共に銀イオンと錯体を形成することができるものであることが好ましい。置換基及び置換位置の好ましい例としては、2−カルボキシ基、2−カルバモイル基、2−チオカルボキシ基、2−ジチオカルボキシル基などを挙げることができる。 The aryl group represented by Z 7 is an aryl group or a monocyclic or condensed ring, preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16, more preferably 6 to 10, a phenyl group or a naphthyl group preferable. The aryl group represented by Z 7 may have a substituent, and any substituent may be used as long as it does not adversely affect photographic performance. For example, the same groups as the above-mentioned substituents of the alkyl group can be mentioned. The preferred substitution position of the substituent on the aryl group is at the 2-position, and it is preferable that the substituent can form a complex with silver ion together with P 7 , Q 7 or W 7 . Preferred examples of the substituent and the substitution position include a 2-carboxy group, a 2-carbamoyl group, a 2-thiocarboxy group, and a 2-dithiocarboxyl group.

 Z7で表されるヘテロ環基は、ヘテロ環が窒素、酸素および硫黄原子からなる群より選ばれるヘテロ原子を1個以上含む、5〜7員の飽和または不飽和の単環または縮合環であるものが好ましい。ヘテロ環の例としては、好ましくはピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピリダジン環、フタラジン環、トリアジン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環等が挙げられ、さらに好ましくはピリジン環、キノリン環、ピリミジン環、チアジアゾール環、ベンゾチアゾール環であり、特に好ましくは、ピリジン環、キノリン環、ピリミジン環である。Z7で表されるヘテロ環基は置換基を有してもよく、例えば前述のアルキル基の置換基と同様の基が挙げられる。 The heterocyclic group represented by Z 7 is a 5- to 7-membered saturated or unsaturated monocyclic or condensed ring in which the heterocyclic ring contains at least one heteroatom selected from the group consisting of nitrogen, oxygen and sulfur atoms. Some are preferred. Examples of the hetero ring, preferably a pyridine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, phthalazine ring, triazine ring, furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, benzoxazole ring, thiazole Ring, benzothiazole ring, imidazole ring, benzimidazole ring, thiadiazole ring, triazole ring, etc., more preferably pyridine ring, quinoline ring, pyrimidine ring, thiadiazole ring, benzothiazole ring, particularly preferably pyridine ring Quinoline ring and pyrimidine ring. The heterocyclic group represented by Z 7 may have a substituent, and examples thereof include the same groups as the above-mentioned substituents of the alkyl group.

 Z7は、好ましくは、置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基、キノリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ポリエチレンオキシ基であり、更に好ましくは、フェニル基、置換フェニル基であり、特に好ましくは、2−アルキルフェニル基、2,4−ジアルキルフェニル基、2−カルボキシフェニル基、2−カルバモイルフェニル基、2−チオカルボキシフェニル基である。また、Z7の置換基として、写真用素材で公知のいわゆるバラスト基や、銀塩への吸着基、水溶性を付与する基を有していてもよい。置換基どうしが結合してビス型、トリス型、テトラキス型を形成してもよく、互いに重合してポリマーを形成してもよい。 Z 7 is preferably an optionally substituted phenyl group, a naphthyl group, a quinolyl group, a pyridyl group, a pyrimidyl group, a polyethyleneoxy group, more preferably a phenyl group, a substituted phenyl group, and particularly preferably , A 2-alkylphenyl group, a 2,4-dialkylphenyl group, a 2-carboxyphenyl group, a 2-carbamoylphenyl group, and a 2-thiocarboxyphenyl group. Further, as the substituent of Z 7, known and so-called ballast group in a photographic material, the adsorption group to silver halide may have a group which imparts water solubility. The substituents may combine to form a bis-type, tris-type, or tetrakis-type, or may be polymerized with each other to form a polymer.

 一般式(A−9)で表される化合物は、水または適当な有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用いることができる。また、既によく知られている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレジルホスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製して用いることができる。あるいは固体分散法として知られている方法によって、一般式(A−9)で表される化合物の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって分散して用いることもできる。 Compounds represented by the general formula (A-9) include water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methylethylketone), dimethylformamide, dimethylsulfoxide, It can be used by dissolving it in methylcellosolve or the like. Also, by the well-known emulsification dispersion method, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, oil such as glyceryl triacetate or diethyl phthalate, dissolved using an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, mechanically emulsified dispersion. Can be prepared and used. Alternatively, a powder of the compound represented by the general formula (A-9) may be dispersed in a suitable solvent such as water using a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method. it can.

 一般式(A−9)で表される化合物は、支持体に対して画像形成層側のいずれの層に添加してもよいが、画像形成層あるいはそれに隣接する層に添加することが好ましい。一般式(A−9)で表される化合物の添加量は好ましくは0.01〜10mmol/m2の範囲で、より好ましくは0.1〜5mmol/m2、さらにより好ましくは0.2〜2mmol/m2の範囲である。 The compound represented by formula (A-9) may be added to any layer on the image forming layer side of the support, but is preferably added to the image forming layer or a layer adjacent thereto. The addition amount of the compound represented by formula (A-9) is preferably in the range of 0.01 to 10 mmol / m 2, more preferably 0.1 to 5 mmol / m 2, even more preferably 0.2 to The range is 2 mmol / m 2 .

 一般式(A−9)で表される化合物の具体例としては例えば特開2001−13627の「0063」記載の化合物(I−1)〜(I−6)、「0066」記載の(C−1)〜(C−3)、特開2002−90937の「0027」記載の化合物(III−1)〜(III−108)があげられる。以下に一般式(A−9)で表される化合物の好ましい例を挙げるが、本発明で使用することができる一般式(A−9)の化合物はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the compound represented by the general formula (A-9) include, for example, compounds (I-1) to (I-6) described in “0063” of JP-A-2001-13627, and (C-) described in “0066”. 1) to (C-3), and compounds (III-1) to (III-108) described in “0027” of JP-A-2002-90937. Preferred examples of the compound represented by Formula (A-9) are shown below, but the compounds of Formula (A-9) that can be used in the present invention are not limited thereto.

Figure 2004094240
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 本発明に用いる還元剤が芳香族性の水酸基(−OH)を有する場合、特にビスフェノール類の場合には、これらの基と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。水酸基またはアミノ基と水素結合を形成する基としては、ホスホリル基、スルホキシド基、スルホニル基、カルボニル基、アミド基、エステル基、ウレタン基、ウレイド基、3級アミノ基、含窒素芳香族基などが挙げられる。その中でも好ましいのはホスホリル基、スルホキシド基、アミド基(但し、>N−H基を持たず、>N−R(RはH以外の置換基)のようにブロックされている。)、ウレタン基(但し、>N−H基を持たず、>N−R(RはH以外の置換基)のようにブロックされている。)、ウレイド基(但し、>N−H基を持たず、>N−R(RはH以外の置換基)のようにブロックされている。)を有する化合物である。 When the reducing agent used in the present invention has an aromatic hydroxyl group (-OH), particularly in the case of bisphenols, a non-reducing compound having a group capable of forming a hydrogen bond with these groups is used. It is preferable to use them in combination. Examples of the group that forms a hydrogen bond with a hydroxyl group or an amino group include a phosphoryl group, a sulfoxide group, a sulfonyl group, a carbonyl group, an amide group, an ester group, a urethane group, a ureido group, a tertiary amino group, and a nitrogen-containing aromatic group. No. Among them, preferred are a phosphoryl group, a sulfoxide group, an amide group (provided that they have no> NH group and are blocked like> NR (R is a substituent other than H)), and a urethane group. (However, it has no> NH group and is blocked like> NR (R is a substituent other than H)), a ureido group (however, does not have a> NH group and has> It is a compound having NR (R is blocked like a substituent other than H).

 本発明で、特に好ましい水素結合性の化合物は下記一般式(A−10)で表される化合物である。 特 に In the present invention, a particularly preferred hydrogen bonding compound is a compound represented by the following formula (A-10).

Figure 2004094240
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 一般式(A−10)において、R5、R6及びR7は各々独立にアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基またはヘテロ環基を表し、これらの基は無置換であっても置換基を有していてもよい。R5、R6及びR7が置換基を有する場合の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基などがあげられ、置換基として好ましいのはアルキル基またはアリール基でたとえばメチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−オクチル基、フェニル基、4−アルコキシフェニル基、4−アシルオキシフェニル基などがあげられる。 In Formula (A-10), R 5 , R 6, and R 7 each independently represent an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, or a heterocyclic group. It may be unsubstituted or have a substituent. When R 5 , R 6 and R 7 have a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, an acylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonamide group, An acyloxy group, an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a sulfonyl group, a phosphoryl group and the like are mentioned. Preferred substituents are an alkyl group or an aryl group such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, Examples include a t-octyl group, a phenyl group, a 4-alkoxyphenyl group, and a 4-acyloxyphenyl group.

 R5、R6及びR7で表されるアルキル基としては、炭素数1〜20の直鎖、分枝鎖、環状またはこれらの組み合わせの置換又は未置換のアルキル基が好ましく、具体的にはメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、2−フェノキシプロピル基などが挙げられる。アラルキル基の例としては、炭素数7〜27のアラルキル基が好ましく、ベンジル基、フェネチル基、2−フェノキシプロピル基などが挙げられる。 As the alkyl group represented by R 5 , R 6 and R 7 , a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, which is linear, branched, cyclic, or a combination thereof is preferable. Methyl, ethyl, butyl, octyl, dodecyl, isopropyl, t-butyl, t-amyl, t-octyl, cyclohexyl, 1-methylcyclohexyl, benzyl, phenethyl, 2- Phenoxypropyl group and the like. As an example of the aralkyl group, an aralkyl group having 7 to 27 carbon atoms is preferable, and examples thereof include a benzyl group, a phenethyl group, and a 2-phenoxypropyl group.

 アリール基としては、炭素数6〜20の単環又は多環の置換又は未置換のアリール基が好ましく、フェニル基、クレジル基、キシリル基、ナフチル基、4−t−ブチルフェニル基、4−t−オクチルフェニル基、4−アニシジル基、3,5−ジクロロフェニル基などが挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数1〜20の直鎖、分枝鎖、環状またはこれらの組み合わせの置換又は未置換のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、4−メチルシクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。アリールオキシ基としては炭素数6〜20のアリールオキシ基が好ましく、フェノキシ基、クレジルオキシ基、イソプロピルフェノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ基、ナフトキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられる。 As the aryl group, a monocyclic or polycyclic substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms is preferable, and a phenyl group, a cresyl group, a xylyl group, a naphthyl group, a 4-t-butylphenyl group, a 4-t -Octylphenyl group, 4-anisidyl group, 3,5-dichlorophenyl group and the like. The alkoxy group is preferably a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, such as a straight-chain, branched-chain, cyclic or combination thereof, and is preferably a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, an octyloxy group, or a 2-ethylhexyl group. Examples include an oxy group, a 3,5,5-trimethylhexyloxy group, a dodecyloxy group, a cyclohexyloxy group, a 4-methylcyclohexyloxy group, a benzyloxy group and the like. As the aryloxy group, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms is preferable, and examples thereof include a phenoxy group, a cresyloxy group, an isopropylphenoxy group, a 4-t-butylphenoxy group, a naphthoxy group, and a biphenyloxy group.

 アミノ基としては炭素数0〜20のアミノ基が好ましく、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、N−メチル−N−ヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基等が挙げられる。 As the amino group, an amino group having 0 to 20 carbon atoms is preferable, and a dimethylamino group, a diethylamino group, a dibutylamino group, a dioctylamino group, an N-methyl-N-hexylamino group, a dicyclohexylamino group, a diphenylamino group, And a methyl-N-phenylamino group.

 ヘテロ環基としては、N、OまたはS原子の少なくとも一つを含む3ないし10員の飽和もしくは不飽和のヘテロ環基であり、これらは単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。ヘテロ環基中のヘテロ環の具体例としては、例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルフォリン、チオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンズセレナゾール、インドレニン、テトラザインデンなどが挙げられる。 The heterocyclic group is a 3- to 10-membered saturated or unsaturated heterocyclic group containing at least one of N, O and S atoms, which may be a monocyclic ring or a heterocyclic group. A condensed ring may be formed. Specific examples of the heterocycle in the heterocyclic group include, for example, pyrrolidine, piperidine, piperazine, morpholine, thiophene, furan, pyrrole, imidazole, pyrazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, indole, indazole, purine , Thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole, benzoselenazole, indolenine, tetra Seinden and the like.

 R5とR6、R6とR7またはR5とR6とR7は一緒になって、置換されていてもよい単環系または多環系炭化水素基を表すことができる。R5〜R7としてはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基が好ましい。本発明の効果の点ではR5〜R7のうち少なくとも一つ以上がアルキル基またはアリール基であることが好ましく、二つ以上がアルキル基またはアリール基であることがより好ましい。また、安価に入手する事ができるという点ではR5〜R7が同一の基である場合が好ましい。 R 5 and R 6 , R 6 and R 7, or R 5 and R 6 and R 7 together can represent an optionally substituted monocyclic or polycyclic hydrocarbon group. As R 5 to R 7 , an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, and an aryloxy group are preferable. From the viewpoint of the effects of the present invention, at least one of R 5 to R 7 is preferably an alkyl group or an aryl group, and more preferably two or more are an alkyl group or an aryl group. Further, it is preferable that R 5 to R 7 are the same group in that they can be obtained at low cost.

 一般式(A−10)の化合物の具体例としては例えば特開2002−90937の「0061」〜「0064」に記載の化合物(II−1)〜(II−40)が挙げられる。以下に具体例を示すが発明で用いることができる化合物はこれらに限定されるものではない。 具体 Specific examples of the compound of the general formula (A-10) include, for example, compounds (II-1) to (II-40) described in “0061” to “0064” of JP-A-2002-90937. Specific examples are shown below, but the compounds that can be used in the present invention are not limited to these.

Figure 2004094240
Figure 2004094240

 一般式(A−10)で表される化合物は、還元剤と同様に溶液形態、乳化分散形態、固体分散微粒子分散物形態で塗布液に含有せしめ、熱現像感光材料中で使用することができる。一般式(A−10)で表される化合物は、溶液状態でフェノール性水酸基、アミノ基を有する化合物と水素結合性の錯体を形成しており、還元剤と一般式(A−10)で表される化合物との組み合わせによっては錯体として結晶状態で単離することができる。このようにして単離した結晶粉体を固体分散微粒子分散物として使用することは安定した性能を得る上で特に好ましい。また、還元剤と一般式(A−10)で表される化合物を粉体で混合し、適当な分散剤を使って、サンドグラインダーミル等で分散時に錯形成させる方法も好ましく用いることができる。一般式(A−10)で表される化合物は、還元剤に対して1〜200モル%の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは10〜150モル%の範囲で、さらに好ましくは30〜100モル%の範囲である。 The compound represented by the general formula (A-10) can be used in a photothermographic material after being contained in a coating solution in the form of a solution, an emulsified dispersion, or a solid-dispersed fine particle dispersion, like the reducing agent. . The compound represented by the general formula (A-10) forms a hydrogen bonding complex with a compound having a phenolic hydroxyl group and an amino group in a solution state, and the compound represented by the general formula (A-10) is represented by the following formula: Depending on the combination with the compound to be prepared, the compound can be isolated in a crystalline state as a complex. It is particularly preferable to use the crystal powder isolated in this way as a solid dispersion fine particle dispersion in order to obtain stable performance. Further, a method in which a reducing agent and a compound represented by the general formula (A-10) are mixed in a powder form, and a suitable dispersant is used to form a complex at the time of dispersion with a sand grinder mill or the like can also be preferably used. The compound represented by formula (A-10) is preferably used in a range of 1 to 200 mol%, more preferably in a range of 10 to 150 mol%, and still more preferably 30 to 150 mol%, based on the reducing agent. It is in the range of 100 mol%.

 本発明ではビニルスルホン類(一般式(A−11))及び/又はβ−ハロスルホン類(一般式(A−12))をかぶり安定性向上のために好ましく使用することができる。 In the present invention, vinyl sulfones (general formula (A-11)) and / or β-halo sulfones (general formula (A-12)) can be preferably used for improving fog stability.

 一般式(A−11)
  (CH2=CH−SO2n11−L11
 一般式(A−12)
  (X11CH2CH2−SO2n11−L11
 式中、X11は塩素又は臭素のようなハロゲン原子を表し、n11は1、2、3、又は4を表し、L11は有機結合基を表す。この有機結合基は例えば炭素数20以下のアルキル、アルケン、アリール、又は(例えば、この分野で種々知られているアルカリール又はアラルキル又はアリールアルキル基のような)アルキル及びアリール基の混合でもよい。結合基の別な例は先に挙げたハロゲン化銀写真特許に見られる。
General formula (A-11)
(CH 2 = CH-SO 2 ) n11 -L 11
General formula (A-12)
(X 11 CH 2 CH 2 -SO 2) n11 -L 11
In the formula, X 11 represents a halogen atom such as chlorine or bromine, n11 represents 1, 2, 3, or 4, and L 11 represents an organic bonding group. The organic linking group may be, for example, an alkyl, alkene, aryl, or mixture of alkyl and aryl groups (e.g., alkaryl or aralkyl or arylalkyl groups known in the art) having no more than 20 carbon atoms. Another example of a linking group is found in the silver halide photographic patents cited above.

 アリール環はハロゲン(例えば、Br,Cl)、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、アルキル、アルコキシからなる群から選択される置換基を有してもよい。ここで、置換基を記載するのに「基」という用語を用いる場合は、この置換基の上の置換が意図される。例えば、アルキル基には、エーテル基(例えば、CH3−CH2−CH2−O−CH2−)、ハロアルキル、ニトロアルキル、カルボキシアルキル、ヒドロキシアルキル、スルホアルキルなどが含まれる。他方、「アルキル」という用語には炭化水素のみが含まれる。非常に強力な電子吸引性または酸化性置換基のような活性成分と反応する置換基は、当然のことながら、不活性または無害でないとして排除される。 The aryl ring may have a substituent selected from the group consisting of halogen (eg, Br, Cl), hydroxy, amino, carboxy, alkyl, alkoxy. Where the term "group" is used to describe a substituent, substitution above this substituent is intended. For example, the alkyl group, an ether group (e.g., CH 3 -CH 2 -CH 2 -O -CH 2 -), haloalkyl, nitro alkyl, carboxyalkyl, hydroxyalkyl, and the like sulfoalkyl. On the other hand, the term "alkyl" includes only hydrocarbons. Substituents that react with the active ingredient, such as very strong electron withdrawing or oxidizing substituents, are of course excluded as not being inert or harmless.

 ビニルスルホン類及びジビニルスルホン類は文献、例えば米国特許第2,994,611号、同第3,061,436号、同第3,132,945号、同第3,490,911号、同第3,527,807号、同第3,593,644号、同第3,642,486号、同第3,642,908号、同第3,839,042号、同第3,841,872号、同第3,957,882号、同第4,088,495号、同第4,108,848号、同第4,137,082号、及び同第4,142,897号で公知である。これらはベルギー特許819,015号及び米国特許第4,173,481号でも記載されている。また具体的には特開平6−208192の「0013」に記載の化合物VS−1〜VS−7、化合物HS−1〜HS−5をあげることができる。本発明に用いることが好ましい先のビニルスルホン及びβ−ハロスルホンかぶり防止剤の特定例を以下に列挙するが、本発明がこれらに限定されると解されるべきでない。
(21)CH2=CH−SO2−CH(OH)−CH2−SO2−CH=CH2
(22)CH2=CH−SO2−CH2−CH2−O−CH=CH−SO2−CH=CH2
(23)CH2=CH−SO2−CH=CH−SO2−CH=CH2
(24)CH2=CH−SO2−CH2−O−CH2−SO2−CH=CH2
(25)Cl−CH2−CH2−SO2−CH2−SO2−CH2−CH2−Cl
(26)Br−CH2−CH2−SO2−CH2−SO2−CH2−CH2−Br
(27)Cl−CH2−CH2−SO2−CH2−O−CH2−SO2−CH2−CH2−Cl
 上記かぶり防止剤は一般に銀のモルに対して少なくとも0.001モル用いる。通常、その範囲は銀のモルに対して化合物は0.01〜5モル、好ましくは銀のモルに対して化合物は0.02〜0.6モルである。
Vinyl sulfones and divinyl sulfones are described in the literature, for example, U.S. Pat. Nos. 2,994,611, 3,061,436, 3,132,945, 3,490,911 and 3,490,911. No. 3,527,807, No. 3,593,644, No. 3,642,486, No. 3,642,908, No. 3,839,042, No. 3,841,872 Nos. 3,957,882, 4,088,495, 4,108,848, 4,137,082, and 4,142,897. is there. These are also described in Belgian Patent 819,015 and U.S. Pat. No. 4,173,481. Specific examples include compounds VS-1 to VS-7 and compounds HS-1 to HS-5 described in “0013” of JP-A-6-208192. Specific examples of the above-mentioned vinylsulfone and β-halosulfone antifoggants which are preferably used in the present invention are listed below, but it should not be understood that the present invention is limited thereto.
(21) CH 2 CHCH—SO 2 —CH (OH) —CH 2 —SO 2 —CH = CH 2
(22) CH 2 = CH- SO 2 -CH 2 -CH 2 -O-CH = CH-SO 2 -CH = CH 2
(23) CH 2 = CH- SO 2 -CH = CH-SO 2 -CH = CH 2
(24) CH 2 = CH- SO 2 -CH 2 -O-CH 2 -SO 2 -CH = CH 2
(25) Cl-CH 2 -CH 2 -SO 2 -CH 2 -SO 2 -CH 2 -CH 2 -Cl
(26) Br-CH 2 -CH 2 -SO 2 -CH 2 -SO 2 -CH 2 -CH 2 -Br
(27) Cl-CH 2 -CH 2 -SO 2 -CH 2 -O-CH 2 -SO 2 -CH 2 -CH 2 -Cl
The above antifoggant is generally used in an amount of at least 0.001 mol per mol of silver. Usually, the range is from 0.01 to 5 moles of compound per mole of silver, preferably from 0.02 to 0.6 moles per mole of silver.

 なお、上記の化合物の他に、本発明の熱現像感光材料中には、従来かぶり防止剤として知られている化合物が含まれてもよいが、上記の化合物と同様な反応活性種を生成することができる化合物であっても、かぶり防止機構が異なる化合物であってもよい。例えば、米国特許第3,589,903号、同4,546,075号、同4,452,885号、特開昭59−57234号、米国特許第3,874,946号、同4,756,999号、特開平9−288328号、同9−90550号に記載されている化合物が挙げられる。更に、その他のかぶり防止剤としては、米国特許第5,028,523号及び欧州特許第600,587号、同605,981号、同631,176号に開示されている化合物が挙げられる。 In addition to the above compounds, the photothermographic material of the present invention may contain a compound conventionally known as an antifoggant, but produces the same reactive species as the above compounds. The compound may be a compound capable of preventing fog, or a compound having a different fog prevention mechanism. For example, U.S. Pat. Nos. 3,589,903, 4,546,075, 4,452,885, JP-A-59-57234, U.S. Pat. Nos. 3,874,946 and 4,756. , 999, JP-A-9-288328, and 9-90550. Further, examples of other antifoggants include compounds disclosed in U.S. Pat. No. 5,028,523 and European Patent Nos. 600,587, 605,981 and 631,176.

 本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理にて写真画像を形成するもので、必要に応じて銀の色調を調整する色調剤を通常(有機)バインダーマトリックス中に分散した状態で含有していることが好ましい。 The photothermographic material of the present invention is for forming a photographic image by a heat development process, and contains a toning agent for adjusting the color tone of silver, if necessary, usually in a state dispersed in an (organic) binder matrix. Is preferred.

 本発明に用いられる好適な色調剤の例は、RD17029号、米国特許第4,123,282号、同3,994,732号、同3,846,136号および同4,021,249号に開示されており、例えば、次のものがある。 Examples of suitable toning agents used in the present invention are described in RD17029, U.S. Pat. Nos. 4,123,282, 3,994,732, 3,846,136 and 4,021,249. Disclosed, for example, include:

 イミド類(例えば、スクシンイミド、フタルイミド、ナフタールイミド、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミド);メルカプタン類(例えば、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);フタラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、フタラジノン、4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジンとフタル酸類(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸)の組み合わせ;フタラジンとマレイン酸無水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸又はo−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物)から選択される少なくとも1つの化合物との組み合わせ等が挙げられる。特に好ましい色調剤としてはフタラジノン又はフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類の組み合わせである。 Imides (eg, succinimide, phthalimide, naphthalimide, N-hydroxy-1,8-naphthalimide); mercaptans (eg, 3-mercapto-1,2,4-triazole); phthalazinone derivatives or metal salts of these derivatives ( For example, phthalazinone, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethyloxyphthalazinone, and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazine and phthalic acids ( For example, a combination of phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic acid); phthalazine and maleic anhydride, and phthalic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid or o-phenylene acid derivative and its anhydride (E.g., phthalic acid, 4-methylphthalic acid, - a combination of at least one compound selected from nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride) and the like. Particularly preferred toning agents are phthalazinone or a combination of phthalazine with phthalic acid or phthalic anhydride.

 本発明では熱現像処理装置でのフィルム搬送性や環境適性(生体内への蓄積性)を改良するために下記一般式(A−13)で表されるフッ素系界面活性剤が用いられる。 で は In the present invention, a fluorine-based surfactant represented by the following general formula (A-13) is used in order to improve film transportability and environmental suitability (accumulation in a living body) in a heat development processing apparatus.

 一般式(A−13)  (Rf−(L1n1−)p−(Y)m1−(A)q
 式中、Rfはフッ素原子を含有する置換基を表し、L1はフッ素原子を含有しない2価の連結基を表し、Yはフッ素原子を有さない2価〜4価の連結基を表し、Aはアニオン基またはその塩からなる基を表し、n1、m1は0または1の整数を表し、pは1〜3の整数を表し、qは1〜3の整数を表す。ただし、qが1の時はn1とm1は同時に0ではない。
Formula (A-13) (Rf- ( L 1) n1 -) p - (Y) m1 - (A) q
In the formula, Rf represents a substituent containing a fluorine atom, L 1 represents a divalent linking group containing no fluorine atom, Y represents a divalent to tetravalent linking group having no fluorine atom, A represents an anion group or a group comprising a salt thereof, n1 and m1 represent an integer of 0 or 1, p represents an integer of 1 to 3, and q represents an integer of 1 to 3. However, when q is 1, n1 and m1 are not simultaneously 0.

 一般式(A−13)において、Rfはフッ素原子を含有する置換基を表すが、該フッ素原子を含有する置換基としては例えば、フッ素原子で置換された炭素数1〜25のアルキル基(例えば、フッ素原子で置換されたメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基およびオクタデシル基等)またはフッ素原子で置換されたアルケニル基(例えば、フッ素原子で置換されたプロペニル基、ブテニル基、ノネニル基およびドデセニル基等)等が挙げられる。 In Formula (A-13), Rf represents a substituent containing a fluorine atom. Examples of the substituent containing a fluorine atom include an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms and substituted with a fluorine atom (e.g., A fluorine atom-substituted methyl group, ethyl group, butyl group, octyl group, dodecyl group, octadecyl group or the like) or a fluorine atom-substituted alkenyl group (eg, a fluorine atom-substituted propenyl group, butenyl group, A nonenyl group and a dodecenyl group).

 L1はフッ素原子を有さない2価の連結基を表すが、該フッ素原子を有さない2価の連結基としては例えば、アルキレン基(例えば、メチレン基、エチレン基、ブチレン基等)、アルキレンオキシ基(メチレンオキシ基、エチレンオキシ基、ブチレンオキシ基等)、オキシアルキレン基(例えば、オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシブチレン基等)、オキシアルキレンオキシ基(例えば、オキシメチレンオキシ基、オキシエチレンオキシ基、オキシエチレンオキシエチレンオキシ基等)、フェニレン基、オキシフェニレン基、フェニルオキシ基、オキシフェニルオキシ基またはこれらの基を組み合わせた基等が挙げられる。 L 1 represents a divalent linking group having no fluorine atom. Examples of the divalent linking group having no fluorine atom include an alkylene group (for example, a methylene group, an ethylene group, a butylene group, etc.), Alkyleneoxy group (methyleneoxy group, ethyleneoxy group, butyleneoxy group, etc.), oxyalkylene group (eg, oxymethylene group, oxyethylene group, oxybutylene group, etc.), oxyalkyleneoxy group (eg, oxymethyleneoxy group, An oxyethyleneoxy group, an oxyethyleneoxyethyleneoxy group), a phenylene group, an oxyphenylene group, a phenyloxy group, an oxyphenyloxy group, or a group obtained by combining these groups.

 Aはアニオン基またはその塩からなる基を表すが、例えば、カルボン酸基またはその塩からなる基(ナトリウム塩、カリウム塩およびリチウム塩)、スルホン酸基またはその塩からなる基(ナトリウム塩、カリウム塩およびリチウム塩)および燐酸基またはその塩からなる基(ナトリウム塩およびカリウム塩等)等が挙げられる。 A represents an anion group or a group consisting of a salt thereof, for example, a group consisting of a carboxylic acid group or a salt thereof (sodium salt, potassium salt and lithium salt), a group consisting of a sulfonic acid group or a salt thereof (sodium salt, potassium salt) And a salt group or a salt thereof (sodium salt and potassium salt).

 Y1はフッ素原子を有さない3価または4価の連結基を表すが、例えば、フッ素原子を有さない3価または4価の連結基で炭素原子または窒素原子を中心にして構成される原子群が挙げられる。n1は0または1の整数を表すが、1であるのが好ましい。 Y 1 represents a trivalent or tetravalent linking group having no fluorine atom, for example, a trivalent or tetravalent linking group having no fluorine atom and constituted around a carbon atom or a nitrogen atom Atom group. n1 represents an integer of 0 or 1, and is preferably 1.

 一般式(A−13)で表されるフッ素系界面活性剤は、フッ素原子を導入した炭素数1〜25のアルキル化合物(例えば、トリフロロメチル基、ペンタフロロエチル基、パーフロロブチル基、パーフロロオクチル基およびパーフロロオクタデシル基等を有する化合物)およびアルケニル化合物(例えば、パーフロロヘキセニル基およびパーフロロノネニル基等)と、それぞれフッ素原子を導入していない3価〜6価のアルカノール化合物、水酸基を3〜4個有する芳香族化合物またはヘテロ化合物との付加反応や縮合反応によって得られた化合物(一部Rf化されたアルカノール化合物)に、更に例えば硫酸エステル化等によりアニオン基(A)を導入することにより得ることができる。 The fluorine-based surfactant represented by the general formula (A-13) is an alkyl compound having 1 to 25 carbon atoms into which a fluorine atom is introduced (for example, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, perfluorobutyl group, A compound having a fluorooctyl group and a perfluorooctadecyl group) and an alkenyl compound (e.g., a perfluorohexenyl group and a perfluorononenyl group), and a trivalent to hexavalent alkanol compound to which a fluorine atom is not introduced, An anion group (A) is further added to the compound (partially Rf-modified alkanol compound) obtained by addition reaction or condensation reaction with an aromatic compound or a hetero compound having 3 to 4 hydroxyl groups by, for example, sulfate esterification. It can be obtained by introducing.

 上記3〜6価のアルカノール化合物としては、グリセリン、ペンタエリスリトール、2−メチル−2−ヒドロキシメチル1,3−プロパンジオール、2,4−ジヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルペンテン、1,2,6−ヘキサントリオール、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)プロパン、2,2−ビス(ブタノール)−3、脂肪族トリオール、テトラメチロールメタン、D−ソルビトール、キシリトール、D−マンニトール等が挙げられる。 Examples of the tri- to hexavalent alkanol compounds include glycerin, pentaerythritol, 2-methyl-2-hydroxymethyl 1,3-propanediol, 2,4-dihydroxy-3-hydroxymethylpentene, 1,2,6-hexane Triol, 1,1,1-tris (hydroxymethyl) propane, 2,2-bis (butanol) -3, aliphatic triol, tetramethylolmethane, D-sorbitol, xylitol, D-mannitol and the like can be mentioned.

 また、上記水酸基を3〜4個有する芳香族化合物およびへテロ化合物としては、1,3,5−トリヒドロキシベンゼンおよび2,4,6−トリヒドロキシピリジン等が挙げられる。 Examples of the aromatic compound and the hetero compound having 3 to 4 hydroxyl groups include 1,3,5-trihydroxybenzene and 2,4,6-trihydroxypyridine.

 以下に、一般式(A−13)で表されるフッ素系界面活性剤の好ましい具体的化合物を示す。 好 ま し い The following are preferable specific compounds of the fluorine-based surfactant represented by the general formula (A-13).

Figure 2004094240
Figure 2004094240

Figure 2004094240
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 本発明の一般式(A−13)で表されるフッ素系界面活性剤を塗布液に添加する方法としては公知の添加法に従って添加することができる。即ち、メタノールやエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトンやアセトン等のケトン類、ジメチルスルホキシドやジメチルホルムアミド等の極性溶媒等に溶解して添加することができる。又、サンドミル分散やジェットミル分散、超音波分散やホモジナイザー分散により1μm以下の微粒子にして水や有機溶媒に分散して添加することもできる。微粒子分散技術については多くの技術が開示されているが、これらに準じて分散することができる。一般式(A−13)で表されるフッ素系界面活性剤は、最外層の保護層に添加することが好ましい。 は As a method for adding the fluorine-based surfactant represented by the general formula (A-13) of the present invention to a coating solution, it can be added according to a known addition method. That is, it can be added by dissolving in alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as methyl ethyl ketone and acetone, and polar solvents such as dimethyl sulfoxide and dimethylformamide. Further, fine particles of 1 μm or less can be dispersed in water or an organic solvent by sand mill dispersion, jet mill dispersion, ultrasonic dispersion or homogenizer dispersion, and then added. Although many techniques have been disclosed as fine particle dispersion techniques, they can be dispersed according to these techniques. The fluorine-based surfactant represented by the general formula (A-13) is preferably added to the outermost protective layer.

 本発明の一般式(A−13)で表されるフッ素系界面活性剤の添加量は1m2当たり1×10-8〜1×10-1モルが好ましく、1×10-5〜1×10-2モルが特に好ましい。前者の範囲未満では、帯電特性が得られず、前者の範囲を越えると、湿度依存性が大きく高湿下の保存性が劣化する。 The addition amount of the fluorine-based surfactant represented by the general formula (A-13) of the present invention is preferably from 1 × 10 −8 to 1 × 10 −1 mol per 1 m 2 , and from 1 × 10 −5 to 1 × 10 mol. -2 mol is particularly preferred. If the amount is less than the former range, the charging characteristics cannot be obtained. If the amount exceeds the former range, the humidity dependency is large and the storage stability under high humidity deteriorates.

 本発明の熱現像感光材料は、画像形成層を有する側の最表面に含まれるマット剤の平均粒径をLe(μm)、バックコート層を有する側の最表面に含まれるマット剤の平均粒径をLb(μm)とするときLb/Leが1.5以上10以下であることが好ましい。Lb/Leをこの範囲とすることで熱現像時の濃度むらを改良することができる。 In the photothermographic material of the invention, the average particle size of the matting agent contained in the outermost surface on the side having the image forming layer is Le (μm), and the average particle size of the matting agent contained in the outermost surface on the side having the backcoat layer is provided. When the diameter is Lb (μm), it is preferable that Lb / Le is 1.5 or more and 10 or less. By setting Lb / Le within this range, density unevenness during thermal development can be improved.

 本発明においては、熱現像感光材料の表面層に(画像形成層側、又支持体をはさみ画像形成層の反対側に非感光層を設けた場合にも)、本発明の目的、また表面粗さをコントロールする等のためにマット剤として有機または無機の粉末を用いることが好ましい。本発明において用いられる粉末としては、モース硬度が5以上の粉末を用いることが好ましい。粉末としては公知の無機質粉末や有機質粉末を適宜選択して使用することができる。無機質粉末としては、例えば、酸化チタン、硫酸バリウム、窒化ホウ素、SnO2、SiO2、Cr23、α−Al23、α−Fe23、α−FeOOH、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモンド、ザクロ石、ガーネット、マイカ、ケイ石、窒化ケイ素、炭化ケイ素等を挙げることができる。有機質粉末としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、テフロン(R)等の粉末を挙げることができる。これらの中でも好ましいのは、SiO2、酸化チタン、硫酸バリウム、α−Al23、α−Fe23、α−FeOOH、Cr23、マイカ等の無機粉末等であり、その中でも、SiO2、α−Al23が好ましく、特に好ましいのはSiO2である。 In the present invention, the object of the present invention and the surface roughness of the surface layer of the photothermographic material (even when a non-photosensitive layer is provided on the image forming layer side or on the side opposite to the image forming layer sandwiching the support) are provided. It is preferable to use an organic or inorganic powder as a matting agent for controlling the surface roughness. As the powder used in the present invention, it is preferable to use a powder having a Mohs hardness of 5 or more. As the powder, a known inorganic powder or organic powder can be appropriately selected and used. Examples of the inorganic powder include titanium oxide, barium sulfate, boron nitride, SnO 2 , SiO 2 , Cr 2 O 3 , α-Al 2 O 3 , α-Fe 2 O 3 , α-FeOOH, cerium oxide, corundum, Artificial diamond, garnet, garnet, mica, silica, silicon nitride, silicon carbide and the like can be mentioned. Examples of the organic powder include powders such as polymethyl methacrylate, polystyrene, and Teflon (R). Among these, preferred are inorganic powders such as SiO 2 , titanium oxide, barium sulfate, α-Al 2 O 3 , α-Fe 2 O 3 , α-FeOOH, Cr 2 O 3 , mica, etc. , SiO 2 and α-Al 2 O 3 are preferred, and SiO 2 is particularly preferred.

 本発明において、前記粉末が、Si化合物及び/又はAl化合物により表面処理されていることが好ましい。かかる表面処理のなされた粉末を用いると最上層の表面状態を良好にすることができる。前記Si及び/又はAlの含有量としては、前記粉末に対して、Siが0.1〜10質量%、Alが0.1〜10質量%であるのが好ましく、より好ましくはSiが0.1〜5質量%、Alが0.1〜5質量%であり、Siが0.1〜2質量%、Alが0.1〜2質量%であるのが特に好ましい。又、Si、Alの質量比がSi<Alであるのがよい。表面処理に関しては特開平2−83219号に記載された方法により行うことができる。なお、本発明における粉末の平均粒径とは、球状粉末においてはその平均直径を、針状粉末においてはその平均長軸長を、板状粉末においてはその板状面の最大の対角線の長さの平均値をそれぞれ意味し、電子顕微鏡による測定から容易に求めることができる。 に お い て In the present invention, the powder is preferably surface-treated with a Si compound and / or an Al compound. The use of such a surface-treated powder can improve the surface condition of the uppermost layer. The content of Si and / or Al is preferably 0.1 to 10% by mass of Si and 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, based on the powder. It is particularly preferable that 1 to 5% by mass, Al is 0.1 to 5% by mass, Si is 0.1 to 2% by mass, and Al is 0.1 to 2% by mass. Further, the mass ratio of Si and Al is preferably Si <Al. The surface treatment can be performed by the method described in JP-A-2-83219. In the present invention, the average particle diameter of the powder is the average diameter of the spherical powder, the average major axis length of the acicular powder, and the maximum diagonal length of the plate-like surface of the plate-like powder. Mean value, and can be easily obtained from measurement with an electron microscope.

 上記の有機または無機粉末は、平均粒径が0.5〜10μmであることが好ましく、更に好ましくは1.0〜8.0μmである。 有機 The above-mentioned organic or inorganic powder preferably has an average particle size of 0.5 to 10 µm, more preferably 1.0 to 8.0 µm.

 感光層側の最外層に含まれる有機または無機粉末の平均粒径は通常0.5〜8.0μm、好ましくは1.0〜6.0μmであり、より好ましくは2.0〜5.0μmである。添加量は最外層に用いられるバインダー量(硬化剤についてはバインダー量に含む)に対して通常1.0〜20質量%であり、好ましくは2.0〜15質量%であり、より好ましくは3.0〜10質量%である。支持体をはさんで感光層側とは反対側の最外層に含まれる有機または無機粉末の平均粒径は、通常2.0〜15.0μm、好ましくは3.0〜12.0μmであり、より好ましくは4.0〜10.0μmである。添加量は最外層に用いられるバインダー量(硬化剤についてはバインダー量に含む)に対して通常0.2〜10質量%であり、好ましくは0.4〜7質量%であり、より好ましくは0.6〜5質量%である。 The average particle size of the organic or inorganic powder contained in the outermost layer on the photosensitive layer side is usually 0.5 to 8.0 µm, preferably 1.0 to 6.0 µm, more preferably 2.0 to 5.0 µm. is there. The amount added is usually from 1.0 to 20% by mass, preferably from 2.0 to 15% by mass, more preferably from 3 to 10% by mass, based on the amount of the binder used in the outermost layer (the curing agent is included in the amount of the binder). 0.0 to 10% by mass. The average particle size of the organic or inorganic powder contained in the outermost layer on the side opposite to the photosensitive layer side with respect to the support is usually 2.0 to 15.0 μm, preferably 3.0 to 12.0 μm, More preferably, it is 4.0 to 10.0 μm. The amount of addition is usually 0.2 to 10% by mass, preferably 0.4 to 7% by mass, more preferably 0 to 10% by mass, based on the amount of binder used for the outermost layer (the curing agent is included in the amount of binder). 0.6 to 5% by mass.

 又、粒子サイズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好ましく、更に、好ましくは40%以下であり、特に好ましくは30%以下となる粉末である。 粉末 Further, a powder having a variation coefficient of the particle size distribution of preferably 50% or less, more preferably 40% or less, and particularly preferably 30% or less.

 ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下記の式で表される値である。 Here, the variation coefficient of the particle size distribution is a value represented by the following equation.

   {(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)}×100
 有機または無機粉末の添加方法は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前に有機または無機粉末を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類の粉末を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。
{(Standard deviation of particle size) / (Average value of particle size)} × 100
The method of adding the organic or inorganic powder may be a method in which the organic or inorganic powder is dispersed in advance and applied, or a method in which the organic or inorganic powder is sprayed before the drying is completed after the application of the coating liquid. You may. When a plurality of types of powder are added, both methods may be used in combination.

 本発明に係る熱現像感光材料に用いる支持体の素材としては各種高分子材料、ガラス、ウール布、コットン布、紙、金属(例えばアルミニウム)等が挙げられるが、情報記録材料としての取り扱い上は可撓性のあるシート又はロールに加工できるものが好適である。従って本発明の熱現像感光材料における支持体としては、プラスチックフィルム(例えば、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、セルローストリアセテートフィルム又はポリカーボネートフィルム等)が好ましく、本発明においては2軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。支持体の厚みとしては50〜300μm程度、好ましくは70〜180μmである。 Examples of the material of the support used in the photothermographic material according to the present invention include various polymer materials, glass, wool cloth, cotton cloth, paper, metal (for example, aluminum), and the like. What can be processed into a flexible sheet or roll is suitable. Accordingly, as the support in the photothermographic material of the present invention, a plastic film (for example, a cellulose acetate film, a polyester film, a polyethylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, a polyamide film, a polyimide film, a cellulose triacetate film or a polycarbonate film) is used. In the present invention, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferred. The thickness of the support is about 50 to 300 μm, preferably 70 to 180 μm.

 本発明においては、帯電性を改良するために金属酸化物および/または導電性ポリマーなどの導電性化合物を構成層中に含ませることができる。これらはいずれの層に含有させてもよいが、好ましくは、バッキング層または感光性層側の表面保護層、下引層などに含まれる。本発明においては、米国特許第5,244,773号カラム14〜20に記載された導電性化合物などが好ましく用いられる。 In the present invention, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer can be included in the constituent layer in order to improve the chargeability. These may be contained in any layer, but are preferably contained in a backing layer or a surface protective layer on the photosensitive layer side, an undercoat layer, or the like. In the present invention, conductive compounds described in U.S. Pat. No. 5,244,773, columns 14 to 20, and the like are preferably used.

 なかでも本発明では、バッキング層側の表面保護層に導電性金属酸化物を含有することが好ましい。このことで、更に本発明の効果(特には熱現像処理時の搬送性)を高められることがわかった。ここで、導電性金属酸化物とは、結晶性の金属酸化物粒子であり、酸素欠陥を含むもの及び用いられる金属酸化物に対してドナーを形成する異種原子を少量含むもの等は一般的に言って導電性が高いので特に好ましく、特に後者はハロゲン化銀乳剤にかぶりを与えないので特に好ましい。金属酸化物の例としてZnO、TiO2、SnO2、Al23、In23、SiO2、MgO、BaO、MoO3、V25等、あるいはこれらの複合酸化物がよく、特にZnO、TiO2及びSnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加、SnO2に対してはSb、Nb、P、ハロゲン元素等の添加、またTiO2に対してはNb、Ta等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01〜30モル%の範囲が好ましいが、0.1〜10モル%であれば特に好ましい。更に又、微粒子分散性、透明性改良のために、微粒子作製時にケイ素化合物を添加してもよい。本発明に用いられる金属酸化物微粒子は導電性を有しており、その体積抵抗率は107Ωcm以下、特に105Ωcm以下である。これらの酸化物については特開昭56−143431号、同56−120519号、同58−62647号などに記載されている。更に又、特公昭59−6235号に記載のごとく、他の結晶性金属酸化物粒子あるいは繊維状物(例えば酸化チタン)に上記の金属酸化物を付着させた導電性素材を使用してもよい。 In particular, in the present invention, the surface protective layer on the backing layer side preferably contains a conductive metal oxide. Thus, it was found that the effects of the present invention (especially, transportability during thermal development processing) can be further improved. Here, the conductive metal oxide is a crystalline metal oxide particle, and generally includes those containing oxygen vacancies and those containing a small amount of heteroatoms forming a donor with respect to the metal oxide used. It is particularly preferable because of its high conductivity, and the latter is particularly preferable because it does not give fog to the silver halide emulsion. Examples of metal oxides include ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 3 , V 2 O 5, and the like, or composite oxides thereof. ZnO, TiO 2 and SnO 2 are preferred. Examples of including heteroatoms include, for example, addition of Al, In or the like to ZnO, addition of Sb, Nb, P, a halogen element or the like to SnO 2 , or addition of Nb, Ta or the like to TiO 2 . Is effective. The addition amount of these different atoms is preferably in the range of 0.01 to 30 mol%, and particularly preferably 0.1 to 10 mol%. Further, a silicon compound may be added at the time of preparing the fine particles in order to improve fine particle dispersibility and transparency. The metal oxide fine particles used in the present invention have conductivity, and have a volume resistivity of 10 7 Ωcm or less, particularly 10 5 Ωcm or less. These oxides are described in JP-A-56-143431, JP-A-56-120519, and JP-A-58-62647. Further, as described in JP-B-59-6235, a conductive material in which the above-mentioned metal oxide is adhered to other crystalline metal oxide particles or fibrous materials (for example, titanium oxide) may be used. .

 利用できる粒子サイズは1μm以下が好ましいが、0.5μm以下であると分散後の安定性が良く使用し易い。また光散乱性をできるだけ小さくする為に、0.3μm以下の導電性粒子を利用すると透明感光材料を形成することが可能となり大変好ましい。又、導電性金属酸化物が針状あるいは繊維状の場合はその長さは30μm以下で直径が1μm以下が好ましく、特に好ましいのは長さが10μm以下で直径0.3μm以下であり長さ/直径比が3以上である。なお、SnO2としては、石原産業(株)より市販されており、SNS10M、SN−100P、SN−100D、FSS10Mなどを用いることができる。 The particle size that can be used is preferably 1 μm or less, but if it is 0.5 μm or less, stability after dispersion is good and easy to use. Use of conductive particles having a size of 0.3 μm or less to minimize the light scattering property is very preferable because a transparent photosensitive material can be formed. When the conductive metal oxide is acicular or fibrous, the length is preferably 30 μm or less and the diameter is preferably 1 μm or less, and particularly preferably the length is 10 μm or less and the diameter is 0.3 μm or less. The diameter ratio is 3 or more. As the SnO 2, is also commercially available from Ishihara Sangyo Co., it can be used SNS10M, SN-100P, SN- 100D, FSS10M the like.

 本発明の熱現像感光材料は支持体上に少なくとも1層の感光層である画像形成層を有している。支持体の上に画像形成層のみを形成してもよいが、画像形成層の上に少なくとも一層の非感光層を形成するのが好ましい。例えば画像形成層の上には保護層が、画像形成層を保護する目的で設けられることが好ましく、又支持体の反対の面には熱現像材料間の、或いは熱現像材料ロールにおいてくっつきを防止する為に、バックコート層が設けられる。これらの保護層やバックコート層に用いるバインダーとしては画像形成層よりもガラス転位点が高く、擦り傷や、変形の生じにくいポリマー、例えばセルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート等のポリマーが、前記のバインダーのなかから選ばれる。 熱 The photothermographic material of the present invention has at least one photosensitive layer as an image forming layer on a support. Although only the image forming layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-photosensitive layer on the image forming layer. For example, a protective layer is preferably provided on the image forming layer for the purpose of protecting the image forming layer, and prevents sticking between the heat developing materials or in the heat developing material roll on the opposite surface of the support. For this purpose, a back coat layer is provided. As a binder used for these protective layer or back coat layer, a glass transition point is higher than the image forming layer, and abrasion or a polymer that hardly deforms, for example, cellulose acetate, a polymer such as cellulose acetate butyrate, is a polymer of the binder. Selected from among them.

 なお、階調調整等のために、画像形成層を支持体の一方の側に2層以上又は支持体の両側に1層以上設置してもよい。 In addition, two or more image forming layers may be provided on one side of the support, or one or more layers may be provided on both sides of the support for gradation adjustment or the like.

 本発明に係る熱現像感光材料においては、画像形成層を透過する光の量または波長分布を制御するために画像形成層と同じ側または反対の側にフィルター層を形成するか、画像形成層に染料又は顔料を含有させることが好ましい。 In the photothermographic material according to the present invention, a filter layer is formed on the same side as or opposite to the image forming layer to control the amount or wavelength distribution of light transmitted through the image forming layer, or the image forming layer It is preferable to include a dye or a pigment.

 本発明において用いられる染料としては、熱現像材料の感色性に応じて種々の波長領域の光を吸収する公知の化合物が使用できる。 As the dye used in the present invention, known compounds that absorb light in various wavelength ranges according to the color sensitivity of the heat-developable material can be used.

 例えば、本発明に係る熱現像材料を赤外光による画像記録材料とする場合には、特開2001−83655に開示されているようなチオピリリウム核を有するスクアリリウム染料(本公報ではチオピリリウムスクアリリウム染料と呼ぶ)及びピリリウム核を有するスクアリリウム染料(本公報ではピリリウムスクアリリウム染料と呼ぶ)、又スクアリリウム染料に類似したチオピリリウムクロコニウム染料、又はピリリウムクロコニウム染料を使用することが好ましい。 For example, when the heat-developable material according to the present invention is used as an image recording material using infrared light, a squarylium dye having a thiopyrylium nucleus as disclosed in JP-A-2001-83655 (the thiopyrylium squarylium dye in this publication) It is preferable to use a squarylium dye having a pyrylium nucleus (hereinafter referred to as a pyrylium squarylium dye), or a thiopyrylium croconium dye similar to the squarylium dye or a pyrylium croconium dye.

 尚、スクアリリウム核を有する化合物とは、分子構造中に1−シクロブテン−2−ヒドロキシ−4−オンを有する化合物であり、クロコニウム核を有する化合物とは分子構造中に1−シクロペンテン−2−ヒドロキシ−4,5−ジオンを有する化合物である。ここで、ヒドロキシ基は解離していてもよい。以下本明細書ではこれらの色素を便宜的に一括してスクアリリウム染料とよぶ。なお、染料としては特開平8−201959号の化合物も好ましい。 The compound having a squarylium nucleus is a compound having 1-cyclobuten-2-hydroxy-4-one in a molecular structure, and the compound having a croconium nucleus is a compound having 1-cyclopenten-2-hydroxy-one in a molecular structure. It is a compound having 4,5-dione. Here, the hydroxy group may be dissociated. Hereinafter, in the present specification, these dyes are collectively referred to as a squarylium dye for convenience. As the dye, compounds described in JP-A-8-201959 are also preferable.

 本発明の熱現像感光材料は、上述した各構成層の素材を溶媒に溶解又は分散させた塗布液を作り、それら塗布液を複数同時に重層塗布した後、加熱処理を行って形成されることが好ましい。ここで「複数同時に重層塗布」とは、各構成層(例えば感光層、保護層)の塗布液を作製し、これを支持体へ塗布する際に各層個別に塗布、乾燥の繰り返しをするのではなく、同時に重層塗布を行い乾燥する工程も同時に行える状態で各構成層を形成しうることを意味する。即ち、下層中の全溶剤の残存量が70質量%以下となる前に、上層を設けることである。 The photothermographic material of the present invention may be formed by preparing a coating solution obtained by dissolving or dispersing the above-described constituent layer materials in a solvent, applying a plurality of these coating solutions simultaneously and then performing a heat treatment. preferable. Here, “multi-layer coating at the same time” means that a coating solution for each constituent layer (for example, a photosensitive layer and a protective layer) is prepared, and when the coating solution is applied to a support, coating and drying are repeated for each layer individually. In other words, it means that each constituent layer can be formed in a state where the steps of simultaneously performing multi-layer coating and drying can be performed at the same time. That is, the upper layer is provided before the remaining amount of all the solvents in the lower layer becomes 70% by mass or less.

 各構成層を複数同時に重層塗布する方法には特に制限はなく、例えばバーコーター法、カーテンコート法、浸漬法、エアーナイフ法、ホッパー塗布法、エクストリュージョン塗布法などの公知の方法を用いることができる。これらのうちより好ましくはエクストリュージョン塗布法と呼ばれる前計量タイプの塗布方式である。該エクストリュージョン塗布法はスライド塗布方式のようにスライド面での揮発がないため、精密塗布、有機溶剤塗布に適している。この塗布方法は感光層を有する側について述べたが、バックコート層を設ける際、下引きとともに塗布する場合についても同様である。熱現像材料における同時重層塗布方法に関しては、特開2000−15173に詳細な記載がある。 There is no particular limitation on the method of simultaneously applying multiple layers of each constituent layer, for example, using a known method such as a bar coater method, a curtain coat method, an immersion method, an air knife method, a hopper application method, or an extrusion application method. Can be. Of these, a pre-metering type coating method called an extrusion coating method is more preferable. The extrusion coating method does not volatilize on the slide surface unlike the slide coating method, and thus is suitable for precision coating and organic solvent coating. Although this coating method has been described on the side having the photosensitive layer, the same applies to the case where the backcoat layer is provided and the coating is performed together with the undercoating. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-15173 describes in detail the simultaneous multilayer coating method for a heat developing material.

 なお、本発明において、塗布銀量は、熱現像感光材料の目的に応じた適量を選ぶことが好ましいが、医療用画像を目的とする場合には、0.3g/m2以上、1.5g/m2以下が好ましく、0.5g/m2以上、1.5g/m2以下がより好ましい。当該塗布銀量の内、ハロゲン化銀に由来するものは全銀量に対して2〜18%を占めることが好ましい、更には、5〜15%が好ましい。 In the present invention, it is preferable to select an appropriate amount of silver to be applied according to the purpose of the photothermographic material. However, for the purpose of medical images, the amount is preferably 0.3 g / m 2 or more and 1.5 g / m 2 or more. / M 2 or less, more preferably 0.5 g / m 2 or more and 1.5 g / m 2 or less. Of the coated silver amount, the amount derived from silver halide preferably accounts for 2 to 18% of the total silver amount, and more preferably 5 to 15%.

 また、本発明において、0.01μm以上(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子の塗布密度は1×1014個/m2以上、1×1018個/m2以下が好ましい。更には、1×1015個/m2以上、1×1017個/m2以下が好ましい。 In the present invention, the coating density of silver halide grains having a particle size of 0.01 μm or more (equivalent sphere equivalent size) is preferably 1 × 10 14 grains / m 2 or more and 1 × 10 18 grains / m 2 or less. Further, the density is preferably 1 × 10 15 / m 2 or more and 1 × 10 17 / m 2 or less.

 更に、前記の非感光性長鎖脂肪族カルボン酸銀の塗布密度は、0.01μm以上(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子1個当たり、1×10-17g以上、1×10-15g以下が好ましく、1×10-16g以上、1×10-14g以下がより好ましい。 Further, the coating density of the non-photosensitive long-chain aliphatic carboxylate is 1 × 10 −17 g or more and 1 × 10 −17 g or more per silver halide grain having a particle size of 0.01 μm or more (equivalent sphere equivalent particle size). -15 g or less, preferably 1 × 10 −16 g or more and 1 × 10 −14 g or less.

 上記のような範囲内の条件において塗布した場合には、一定塗布銀量当たりの銀画像の光学的最高濃度、即ち、銀被覆量(カバーリング・パワー)及び銀画像の色調等の観点から好ましい結果が得られる。 When the coating is performed under the above-mentioned conditions, it is preferable from the viewpoint of the optical maximum density of the silver image per a fixed amount of silver applied, that is, the silver coating amount (covering power) and the color tone of the silver image. The result is obtained.

 本発明においては、熱現像感光材料が、現像時に溶剤を5〜1000mg/m2の範囲で含有していることが好ましい。100〜500mg/m2であるように調整することがより好ましい。それにより、高感度、低かぶり、最高濃度の高い熱現像感光材料となる。 In the present invention, the photothermographic material preferably contains a solvent in the range of 5 to 1000 mg / m 2 during development. It is more preferable to adjust so as to be 100 to 500 mg / m 2 . Thereby, a photothermographic material having high sensitivity, low fog and high maximum density can be obtained.

 溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、イソホロン等のケトン類;メチルアルコール、エチルアルコール、i−プロピルアルコール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等のアルコール類;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテルアルコール類;i−プロピルエーテル等のエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;塩化メチレン、ジクロルベンゼン等の塩化物類;炭化水素類等が挙げられる。その他、水、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、トルイジン、テトラヒドロフラン、酢酸等が挙げられる。ただし、これらに限定されるものではない。又、これらの溶剤は、単独、又は数種類組み合わせて用いることができる。 Examples of the solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and isophorone; alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, i-propyl alcohol, cyclohexanol, and benzyl alcohol; ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, and hexylene glycol. Glycols such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monoethyl ether; ethers such as i-propyl ether; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; chlorides such as methylene chloride and dichlorobenzene. Hydrocarbons and the like. Other examples include water, formamide, dimethylformamide, toluidine, tetrahydrofuran, acetic acid and the like. However, it is not limited to these. These solvents can be used alone or in combination of several kinds.

 尚、熱現像感光材料中の上記溶剤の含有量は塗布工程後の乾燥工程等における温度条件等の条件変化によって調整できる。又、当該溶剤の含有量は、含有させた溶剤を検出するために適した条件下におけるガスクロマトグラフィーで測定できる。 The content of the solvent in the photothermographic material can be adjusted by changing conditions such as temperature conditions in a drying step after the coating step. The content of the solvent can be measured by gas chromatography under conditions suitable for detecting the contained solvent.

 本発明の熱現像感光材料を保存する場合は、経時での濃度変化やかぶり発生を防止するため、包装体に収納して保存することが好ましい。包装体内の空隙率は0.01〜10%、好ましくは0.02〜5%とするのがよく、窒素封入を行って包装体内の窒素分圧を80%以上、好ましくは90%以上とするのがよい。 熱 When storing the photothermographic material of the present invention, it is preferable to store and store the photothermographic material in a package in order to prevent the density from changing over time and the occurrence of fogging. The porosity in the package is preferably from 0.01 to 10%, and more preferably from 0.02 to 5%. Nitrogen sealing is performed so that the partial pressure of nitrogen in the package is at least 80%, preferably at least 90%. Is good.

 本発明の熱現像感光材料は、画像記録する際にレーザ光を用いるのが普通である。本発明の熱現像感光材料の露光は、当該材料に付与した感色性に対し適切な光源を用いることが望ましい。例えば、当該材料を赤外光に感じ得るものとした場合は、赤外光域ならば如何なる光源にも適用可能であるが、レーザパワーがハイパワーであることや、熱現像感光材料を透明にできる等の点から、赤外半導体レーザ(780nm、820nm)がより好ましく用いられる。 熱 The photothermographic material of the present invention generally uses a laser beam when recording an image. In the exposure of the photothermographic material of the invention, it is desirable to use a light source appropriate for the color sensitivity imparted to the material. For example, if the material can be felt as infrared light, it can be applied to any light source in the infrared light range, but the laser power is high and the photothermographic material is made transparent. From the standpoint of being able to do so, an infrared semiconductor laser (780 nm, 820 nm) is more preferably used.

 本発明において、露光はレーザ走査露光により行うことが好ましいが、その露光方法には種々の方法が採用できる。例えば、第1の好ましい方法として、感光材料の露光面と走査レーザ光のなす角が実質的に垂直になることがないレーザ走査露光機を用いる方法が挙げられる。 In the present invention, the exposure is preferably performed by laser scanning exposure, but various methods can be adopted as the exposure method. For example, as a first preferred method, there is a method using a laser scanning exposure machine in which an angle between an exposure surface of a photosensitive material and a scanning laser beam does not become substantially perpendicular.

 ここで、「実質的に垂直になることがない」とはレーザ光走査中に最も垂直に近い角度として好ましくは55度以上88度以下、より好ましくは60度以上86度以下、更に好ましくは65度以上84度以下、最も好ましくは70度以上82度以下であることをいう。 Here, “not substantially perpendicular” means that the angle is most perpendicular during laser beam scanning, preferably 55 to 88 degrees, more preferably 60 to 86 degrees, and still more preferably 65 to 86 degrees. Degrees to 84 degrees, most preferably 70 degrees to 82 degrees.

 レーザ光が、感光材料に走査されるときの感光材料露光面でのビームスポット直径は、好ましくは200μm以下、より好ましくは100μm以下である。これは、スポット径が小さい方がレーザ光入射角度の垂直からのずらし角度を減らせる点で好ましい。なお、ビームスポット直径の下限は10μmである。このようなレーザ走査露光を行うことにより干渉縞様のムラの発生等のような反射光に係る画質劣化を減じることができる。 ビ ー ム The beam spot diameter on the photosensitive material exposed surface when the laser light is scanned on the photosensitive material is preferably 200 µm or less, more preferably 100 µm or less. It is preferable that the spot diameter is small in that the shift angle of the laser beam incident angle from the perpendicular can be reduced. Note that the lower limit of the beam spot diameter is 10 μm. By performing such laser scanning exposure, it is possible to reduce image quality deterioration related to reflected light such as occurrence of interference fringe-like unevenness.

 また、第2の方法として、本発明における露光は縦マルチである走査レーザ光を発するレーザ走査露光機を用いて行うことも好ましい。縦単一モードの走査レーザ光に比べて干渉縞様のムラの発生等の画質劣化が減少する。 As a second method, it is also preferable that the exposure in the present invention is performed using a laser scanning exposure machine that emits a scanning laser beam that is a vertical multi. Image quality deterioration such as generation of interference fringe-like unevenness is reduced as compared with the scanning laser beam in the longitudinal single mode.

 縦マルチ化するには、合波による、戻り光を利用する、高周波重畳をかける、などの方法がよい。なお、縦マルチとは、露光波長が単一でないことを意味し、通常露光波長の分布が5nm以上、好ましくは10nm以上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に制限はないが、通常60nm程度である。 To achieve vertical multiplication, a method such as combining, using return light, or superimposing a high frequency is preferable. Note that the vertical multi means that the exposure wavelength is not single, and the distribution of the exposure wavelength is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more. The upper limit of the exposure wavelength distribution is not particularly limited, but is usually about 60 nm.

 更に、第3の態様としては、2本以上のレーザ光を用いて、走査露光により画像を形成することも好ましい。 Further, as a third aspect, it is preferable to form an image by scanning exposure using two or more laser beams.

 このような複数本のレーザ光を利用した画像記録方法としては、高解像度化、高速化の要求から1回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むレーザプリンタやデジタル複写機の画像書込み手段で使用されている技術であり、例えば、特開昭60−166916号等により知られている。これは、光源ユニットから放射されたレーザ光をポリゴンミラーで偏向走査し、fθレンズ等を介して感光体上に結像する方法であり、これはレーザイメージャなどと原理的に同じレーザ走査光学装置である。 Such an image recording method using a plurality of laser beams is used in an image writing means of a laser printer or a digital copier which writes an image by a plurality of lines in one scan due to a demand for higher resolution and higher speed. This technique is known, for example, from Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-166916. This is a method in which laser light emitted from a light source unit is deflected and scanned by a polygon mirror to form an image on a photoreceptor via an fθ lens or the like. It is.

 レーザプリンタやデジタル複写機の画像書込み手段における感光体上へのレーザ光の結像は、1回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むという用途から、一つのレーザ光の結像位置から1ライン分ずらして次のレーザ光が結像されている。具体的には、二つの光ビームは互いに副走査方向に像面上で数10μmオーダーの間隔で近接しており、印字密度が400dpi(dpiとは1インチ、即ち2.54cm当たりのドット数を表す)で2ビームの副走査方向ピッチは63.5μm、600dpiで42.3μmである。このような、副走査方向に解像度分ずらした方法とは異なり、本発明では同一の場所に2本以上のレーザを入射角を変え露光面に集光させ画像形成することが好ましい。この際、通常の1本のレーザ光(波長λ[nm])で書き込む場合の露光面での露光エネルギーがEであり、露光に使用するN本のレーザ光が同一波長(波長λ[nm])、同一露光エネルギー(En)である場合に、0.9×E≦En×N≦1.1×Eの範囲にするのが好ましい。このようにすることにより、露光面ではエネルギーは確保されるが、それぞれのレーザ光の画像形成層への反射は、レーザの露光エネルギーが低いため低減され、ひいては干渉縞の発生が抑えられる。 The image formation of the laser beam on the photoreceptor in the image writing means of the laser printer or the digital copier is performed by writing one image from a single laser beam for one line from the purpose of writing an image by a plurality of lines in one scan. The next laser light is imaged shifted. Specifically, the two light beams are close to each other at an interval of several tens of μm on the image plane in the sub-scanning direction, and the print density is 400 dpi (dpi is 1 inch, that is, the number of dots per 2.54 cm). ), The pitch in the sub-scanning direction of the two beams is 63.5 μm, and 42.3 μm at 600 dpi. Unlike such a method in which the resolution is shifted in the sub-scanning direction, in the present invention, it is preferable to form an image by focusing two or more lasers at the same location on the exposure surface while changing the incident angle. At this time, the exposure energy on the exposure surface when writing with one ordinary laser beam (wavelength λ [nm]) is E, and the N laser beams used for exposure have the same wavelength (wavelength λ [nm]). ), if the same exposure energy (E n), preferably in the range of 0.9 × E ≦ E n × n ≦ 1.1 × E. By doing so, energy is secured on the exposed surface, but the reflection of each laser beam to the image forming layer is reduced because the exposure energy of the laser is low, and thus the generation of interference fringes is suppressed.

 なお、上述では複数本のレーザ光の波長をλと同一のものを使用したが、波長の異なるものを用いてもよい。この場合には、λ[nm]に対して(λ−30)<λ1、λ2、・・・・・λn≦(λ+30)の範囲にするのが好ましい。 In the above description, the wavelength of the plurality of laser beams is the same as λ. However, laser beams having different wavelengths may be used. In this case, it is preferable that (λ−30) <λ 1 , λ 2 ,... Λ n ≦ (λ + 30) with respect to λ [nm].

 なお、上述した第1、第2及び第3の態様の画像記録方法において、走査露光に用いるレーザとしては、一般によく知られている、ルビーレーザ、YAGレーザ、ガラスレーザ等の固体レーザ;He−Neレーザ、Arイオンレーザ、Krイオンレーザ、CO2レーザ、COレーザ、He−Cdレーザ、N2レーザ、エキシマーレーザ等の気体レーザ;InGaPレーザ、AlGaAsレーザ、GaAsPレーザ、InGaAsレーザ、InAsPレーザ、CdSnP2レーザ、GaSbレーザ等の半導体レーザ;化学レーザ、色素レーザ等を用途に併せて適時選択して使用できるが、これらの中でもメンテナンスや光源の大きさの問題から、波長が600〜1200nmの半導体レーザによるレーザ光を用いるのが好ましい。なお、レーザ・イメージャやレーザ・イメージセッタで使用されるレーザ光において、熱現像材料に走査されるときの該材料露光面でのビームスポット径は、一般に短軸径として5〜75μm、長軸径として5〜100μmの範囲であり、レーザ光走査速度は熱現像材料固有のレーザ発振波長における感度とレーザパワーによって、熱現像感光材料毎に最適な値に設定することができる。 In the image recording methods of the first, second and third aspects described above, the laser used for scanning exposure is a solid laser such as a ruby laser, a YAG laser, or a glass laser, which is generally well known; Gas lasers such as Ne laser, Ar ion laser, Kr ion laser, CO 2 laser, CO laser, He-Cd laser, N 2 laser, excimer laser; InGaP laser, AlGaAs laser, GaAsP laser, InGaAs laser, InAsP laser, CdSnP 2 lasers, semiconductor lasers such as GaSb lasers; chemical lasers, dye lasers, etc. can be selected and used as appropriate according to the application. Among them, semiconductor lasers having a wavelength of 600 to 1200 nm are used due to maintenance and the size of the light source. It is preferable to use a laser beam according to In the laser light used in a laser imager or a laser imagesetter, the beam spot diameter on the exposed surface of the heat-developable material when scanning the material is generally 5 to 75 μm as a short axis diameter, and a long axis diameter. The laser beam scanning speed can be set to an optimum value for each photothermographic material by the sensitivity and laser power at the laser oscillation wavelength inherent to the photothermographic material.

 本発明でいう熱現像処理装置は、構成としては、フィルムトレイで代表されるフィルム供給部、レーザ画像記録部、熱現像感光材料の全面に均一で安定した熱を供給する熱現像部、フィルム供給部からレーザ記録を経て、熱現像により画像形成された熱現像感光材料を装置外に排出するまでの搬送部から構成される。この態様の熱現像処理装置の具体例は図1に示すものである。 The heat development processing apparatus according to the present invention includes a film supply unit represented by a film tray, a laser image recording unit, a heat development unit that supplies uniform and stable heat to the entire surface of the photothermographic material, and a film supply unit. And a transport section from the section through laser recording until the photothermographic material on which an image is formed by thermal development is discharged out of the apparatus. A specific example of the thermal development processing apparatus of this embodiment is shown in FIG.

 熱現像装置100は、シート状の熱現像感光材料(フォトサーモグラフィックエレメント又は単にフィルムともいう)を1枚ずつ給送する給送部110、給送されたフィルムFを露光する露光部120、露光されたフィルムFを現像する現像部130、現像を停止させる冷却部150と集積部160とを有し、給送部からフィルムFを供給するための供給ローラ対140、現像部にフィルムを送るための供給ローラ対144、各部間でフィルムFを円滑に移送するための搬送ローラ対141、142、143、145等複数のローラ対からなっている。熱現像部はフィルムFを現像する加熱手段として、外周にほぼ密着して保持しつつ加熱可能な複数の対向ローラ2を有するヒートドラム1と現像したフィルムFを剥離し冷却部に送るための剥離爪6等からなる。 The thermal developing apparatus 100 includes a feeding unit 110 that feeds a sheet-like photothermographic material (also referred to as a photothermographic element or simply a film) one by one, an exposure unit 120 that exposes the fed film F, and an exposure unit. A developing unit 130 for developing the film F, a cooling unit 150 for stopping the development, and a collecting unit 160, a pair of supply rollers 140 for supplying the film F from the feeding unit, and a film for feeding the film to the developing unit. And a plurality of roller pairs, such as transport roller pairs 141, 142, 143, and 145, for smoothly transporting the film F between the respective units. The heat developing section is a heating means for developing the film F. The heat drum 1 having a plurality of opposed rollers 2 which can be heated while being held almost in close contact with the outer periphery, and the peeling for peeling the developed film F and sending it to the cooling section. It consists of nails 6 and the like.

 なお、熱現像感光材料の搬送速度は10〜200mm/secが好ましい範囲である。 (4) The transport speed of the photothermographic material is preferably in the range of 10 to 200 mm / sec.

 本発明の熱現像感光材料の現像条件は、使用する機器、装置、あるいは手段に依存して変化するが、典型的には、適した高温において像様に露光した熱現像材料を加熱することにより現像を行うものである。露光後に得られた潜像は、中程度の高温(約80〜200℃、好ましくは約100〜200℃、更に好ましくは110〜140℃)で、十分な時間(一般には約1秒〜約2分間、好ましくは5〜20秒間)、熱現像材料を加熱することにより現像される。 The development conditions of the photothermographic material of the present invention vary depending on the equipment, apparatus, or means used, but typically, by heating the photothermographic material imagewise exposed at a suitable high temperature. The development is performed. The latent image obtained after the exposure is heated at a moderately high temperature (about 80 to 200C, preferably about 100 to 200C, more preferably 110 to 140C) for a sufficient time (generally about 1 second to about 2 seconds). (Preferably 5 to 20 seconds) by heating the heat-developable material.

 加熱温度が80℃未満では、短時間に十分な画像濃度が得られず、又、200℃を越えると、バインダーが溶融し、ローラへの転写など画像そのものだけでなく搬送性や現像機等へも悪影響を及ぼす。加熱することで有機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応により銀画像を生成する。この反応過程は、外部からの水等の処理液の供給を一切行わないで進行する。 If the heating temperature is lower than 80 ° C, a sufficient image density cannot be obtained in a short time. If the heating temperature is higher than 200 ° C, the binder is melted, and not only the image itself such as transfer to a roller, but also the transportability and a developing machine. Also have an adverse effect. By heating, a silver image is generated by an oxidation-reduction reaction between an organic silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. This reaction process proceeds without any supply of a processing liquid such as water from the outside.

 加熱する機器、装置あるいは手段としては、例えば、ホットプレート、アイロン、ホットローラ、炭素又は白色チタン等を用いた熱発生器として典型的な加熱手段等で行ってよい。より好ましくは、保護層の設けられた熱現像材料は、保護層を有する側の面を加熱手段と接触させ加熱処理することが、均一な加熱を行う上で、また、熱効率、作業性等の観点から好ましく、保護層を有する側の面をヒートローラに接触させながら搬送し、加熱処理して現像することが好ましい。 機器 As a device, apparatus or means for heating, for example, a hot plate, an iron, a hot roller, a heating means typical of a heat generator using carbon or white titanium or the like may be used. More preferably, the heat-developable material provided with the protective layer may be subjected to heat treatment by bringing the surface having the protective layer into contact with a heating means, in order to perform uniform heating, and to improve heat efficiency and workability. From the viewpoint, it is preferable that the surface having the protective layer is conveyed while being brought into contact with the heat roller, subjected to heat treatment, and developed.

 以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の実施の態様はこれらに限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but embodiments of the present invention are not limited thereto.

 実施例1
 《下引済み写真用支持体の作製》
 市販の2軸延伸熱固定済みの厚さ175μmの、光学濃度で0.170(コニカ株式会社製デンシトメータPDA−65にて測定)に青色染料で青色着色したPETフィルムの両面に8W/m2・分のコロナ放電処理を施し、一方の面に下記下引塗布液a−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設し乾燥させて下引層A−1とし、また反対側の面に下記下引塗布液b−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設し乾燥させて下引層B−1とした。
Example 1
<< Preparation of Subtracted Photographic Support >>
A commercially available biaxially stretched heat-fixed PET film having a thickness of 175 μm and an optical density of 0.170 (measured with a densitometer PDA-65 manufactured by Konica Corp.) was colored 8 W / m 2. For one minute, and apply the following undercoating coating solution a-1 on one surface so as to have a dry film thickness of 0.8 μm, and dry to form an undercoating layer A-1. The following undercoating coating solution b-1 was applied so as to have a dry film thickness of 0.8 μm and dried to obtain an undercoating layer B-1.

Figure 2004094240
Figure 2004094240

 《下引塗布液a−1》
 ブチルアクリレート(30質量%)
 t−ブチルアクリレート(20質量%)
 スチレン(25質量%)
 2−ヒドロキシエチルアクリレート(25質量%)
  の共重合体ラテックス液(固形分30%)          270g
 (C−1)                         0.6g
 ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア)       0.8g
 水で1Lに仕上げる
 《下引塗布液b−1》
 ブチルアクリレート(40質量%)
 スチレン(20質量%)
 グリシジルアクリレート(40質量%)
  の共重合体ラテックス液(固形分30%)          270g
 (C−1)                         0.6g
 ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア)       0.8g
 水で1Lに仕上げる。
<< Undercoating liquid a-1 >>
Butyl acrylate (30% by mass)
t-butyl acrylate (20% by mass)
Styrene (25% by mass)
2-hydroxyethyl acrylate (25% by mass)
270 g of a copolymer latex solution (solid content: 30%)
(C-1) 0.6 g
Hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8 g
Finish to 1L with water << Coating solution b-1 >>
Butyl acrylate (40% by mass)
Styrene (20% by mass)
Glycidyl acrylate (40% by mass)
270 g of a copolymer latex solution (solid content: 30%)
(C-1) 0.6 g
Hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8 g
Finish to 1L with water.

 引き続き、下引層A−1及び下引層B−1の上表面に、8W/m2・分のコロナ放電を施し、下引層A−1の上には、下記下引上層塗布液a−2を乾燥膜厚0.1μmになる様に下引上層A−2として、下引層B−1の上には下記下引上層塗布液b−2を乾燥膜厚0.4μmになる様に帯電防止機能をもつ下引上層B−2として塗設した。 Subsequently, a corona discharge of 8 W / m 2 · min was applied to the upper surfaces of the undercoat layer A-1 and the undercoat layer B-1, and the following undercoat upper layer coating solution a was applied on the undercoat layer A-1. -2 as an undercoating upper layer A-2 so as to have a dry film thickness of 0.1 μm, and the following undercoating upper layer coating solution b-2 on the undercoating layer B-1 having a dry film thickness of 0.4 μm. Was coated as an undercoating upper layer B-2 having an antistatic function.

 《下引上層塗布液a−2》
 ゼラチン                   0.4g/m2になる質量
 (C−1)                         0.2g
 (C−2)                         0.2g
 (C−3)                         0.1g
 シリカ粒子(平均粒径3μm)                0.1g
 水で1Lに仕上げる
 《下引上層塗布液b−2》
 SbドープされたSnO2(SNS10M;石原産業(株)製)   60g
 (C−4)を成分とするラテックス液(固形分20%)      80g
 硫酸アンモニウム                      0.5g
 (C−5)                          12g
 ポリエチレングリコール(質量平均分子量600)         6g
 水で1Lに仕上げる。
<< Lower layer upper layer coating liquid a-2 >>
Gelatin 0.4g / m 2 Mass (C-1) 0.2g
(C-2) 0.2 g
(C-3) 0.1 g
Silica particles (average particle size 3 μm) 0.1 g
Finish to 1L with water << Coating solution for lower layer b-2 >>
60 g of Sb-doped SnO 2 (SNS10M; manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.)
80 g of a latex liquid containing (C-4) as a component (solid content: 20%)
0.5 g of ammonium sulfate
(C-5) 12 g
6 g of polyethylene glycol (weight average molecular weight 600)
Finish to 1L with water.

Figure 2004094240
Figure 2004094240

Figure 2004094240
Figure 2004094240

 《バックコート層塗布液の調製》
 メチルエチルケトン(MEK)830gを攪拌しながら、セルロースアセテートブチレート(EastmanChemical社、CAB381−20)84.2gおよびポリエステル樹脂(Bostic社、VitelPE2200B)4.5gを添加し溶解した。次に、溶解した液に0.30gの赤外染料1を添加し、更にメタノール43.2gに溶解したF系界面活性剤(旭硝子社、サーフロンKH40)4.5gとF系界面活性剤(大日本インキ社、メガファッグF120K)2.3gを添加して、溶解するまで十分に攪拌を行った。次にオレイルオレートの2.5gを添加した。最後に、メチルエチルケトンに1質量%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散したシリカ(W.R.Grace社、シロイド64X6000)を75g添加、攪拌しバックコート層塗布液を調製した。
<< Preparation of backcoat layer coating solution >>
While stirring 830 g of methyl ethyl ketone (MEK), 84.2 g of cellulose acetate butyrate (Eastman Chemical Co., CAB381-20) and 4.5 g of a polyester resin (Bostic, VitelPE2200B) were added and dissolved. Next, 0.30 g of infrared dye 1 was added to the dissolved solution, and 4.5 g of an F-based surfactant (Surflon KH40, Asahi Glass Co., Ltd.) dissolved in 43.2 g of methanol and an F-based surfactant (large 2.3 g of Nippon Ink Co., Ltd., Megafag F120K) was added and sufficiently stirred until dissolved. Next, 2.5 g of oleyl oleate was added. Finally, 75 g of silica (WR Grace, Syloid 64X6000) dispersed in methyl ethyl ketone at a concentration of 1% by mass with a dissolver-type homogenizer was added and stirred to prepare a coating solution for the back coat layer.

Figure 2004094240
Figure 2004094240

 《バックコート層保護層(表面保護層)塗布液の調製》
 セルロースアセテートブチレート(10%メチルエチルケトン溶液)
                                15g
 単分散度15%単分散シリカ(平均粒径:8μm)       0.03
  (シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理)
 C817(CH2CH2O)12817             0.05g
 フッ素系界面活性剤(SF−3)              0.01g
 ステアリン酸                        0.1g
 オレイルオレート                      0.1g
 α−アルミナ(モース硬度9)                0.1g
 《感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製》
 (A1)
 フェニルカルバモイル化ゼラチン              88.3g
 化合物(A)(10%メタノール水溶液)           10ml
 臭化カリウム                       0.32g
 水で5429mlに仕上げる
 (B1)
 0.67モル/L硝酸銀水溶液              2635ml
 (C1)
 臭化カリウム                      51.55g
 沃化カリウム                       1.47g
 水で660mlに仕上げる
 (D1)
 臭化カリウム                      154.9g
 沃化カリウム                       4.41g
 塩化イリジウム(1%溶液)               0.93ml
 水で1982mlに仕上げる
 (E1)
 0.4モル/L臭化カリウム水溶液          下記銀電位制御量
 (F1)
 水酸化カリウム                      0.71g
 水で20mlに仕上げる
 (G1)
 56%酢酸水溶液                    18.0ml
 (H1)
 無水炭酸ナトリウム                    1.72g
 水で151mlに仕上げる
 化合物(A):
 HO(CH2CH2O)n(CH(CH3)CH2O)17(CH2CH2O)m
  (m+n=5〜7)
 特公昭58−58288号、同58−58289号に示される混合攪拌機を用いて溶液(A1)に溶液(B1)の1/4量及び溶液(C1)全量を温度20℃、pAg8.09に制御しながら、同時混合法により4分45秒を要して添加し核形成を行った。1分後、溶液(F1)の全量を添加した。この間pAgの調整を(E1)を用いて適宜行った。6分間経過後、溶液(B1)の3/4量及び溶液(D1)の全量を、温度20℃、pAg8.09に制御しながら、14分15秒かけて同時混合法により添加した。5分間攪拌した後、40℃に降温し、溶液(G1)を全量添加し、ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分2000mlを残して上澄み液を取り除き、水を10L加え、攪拌後、再度ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分1500mlを残し、上澄み液を取り除き、更に水を10L加え、攪拌後、ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分1500mlを残し、上澄み液を取り除いた後、溶液(H1)を加え、60℃に昇温し、更に120分攪拌した。最後にpHが5.8になるように調整し、銀量1モル当たり1161gになるように水を添加し、感光性ハロゲン化銀乳剤Aを得た。
<< Preparation of backcoat layer protective layer (surface protective layer) coating solution >>
Cellulose acetate butyrate (10% methyl ethyl ketone solution)
15g
Monodispersity 15% monodisperse silica (average particle size: 8 μm) 0.03
(Surface treatment with aluminum of 1% by mass of the total mass of silica)
C 8 F 17 (CH 2 CH 2 O) 12 C 8 F 17 0.05 g
Fluorosurfactant (SF-3) 0.01g
0.1 g of stearic acid
Oleyl oleate 0.1g
α-Alumina (Mohs hardness 9) 0.1g
<< Preparation of photosensitive silver halide emulsion A >>
(A1)
88.3 g of phenylcarbamoylated gelatin
Compound (A) (10% aqueous methanol solution) 10 ml
Potassium bromide 0.32g
Finish to 5429 ml with water (B1)
0.67mol / L silver nitrate aqueous solution 2635ml
(C1)
Potassium bromide 51.55 g
1.47 g of potassium iodide
Finish to 660ml with water (D1)
Potassium bromide 154.9g
4.41 g of potassium iodide
0.93 ml of iridium chloride (1% solution)
Finish to 1982ml with water (E1)
0.4 mol / L aqueous potassium bromide solution The following silver potential control amount (F1)
Potassium hydroxide 0.71g
Finish with water 20ml (G1)
56% acetic acid aqueous solution 18.0 ml
(H1)
1.72 g of anhydrous sodium carbonate
Make up to 151 ml with water Compound (A):
HO (CH 2 CH 2 O) n (CH (CH 3 ) CH 2 O) 17 (CH 2 CH 2 O) m H
(M + n = 5-7)
Using a mixing stirrer disclosed in JP-B-58-58288 and JP-B-58-58289, a quarter of the solution (B1) and the total amount of the solution (C1) were controlled at a temperature of 20 ° C. and pAg of 8.09 in the solution (A1). While the mixture was added by the simultaneous mixing method in 4 minutes and 45 seconds, nucleation was performed. One minute later, the entire amount of the solution (F1) was added. During this time, pAg was appropriately adjusted using (E1). After a lapse of 6 minutes, 3 of the solution (B1) and the entire amount of the solution (D1) were added by a double jet method over 14 minutes and 15 seconds while controlling the temperature at 20 ° C. and the pAg at 8.09. After stirring for 5 minutes, the temperature was lowered to 40 ° C., and the whole amount of the solution (G1) was added to precipitate a silver halide emulsion. The supernatant was removed except for 2000 ml of the sedimented portion, 10 L of water was added, and after stirring, the silver halide emulsion was sedimented again. The supernatant was removed, leaving 1500 ml of the sedimented portion, and 10 L of water was further added. After stirring, the silver halide emulsion was sedimented. After removing the supernatant liquid leaving 1500 ml of the sedimented portion, the solution (H1) was added, the temperature was raised to 60 ° C., and the mixture was further stirred for 120 minutes. Finally, the pH was adjusted to 5.8, and water was added so as to be 1161 g per 1 mol of silver, whereby photosensitive silver halide emulsion A was obtained.

 この乳剤は平均粒子サイズ25nm、粒子サイズの変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった。 乳 剤 This emulsion was monodispersed cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 25 nm, a coefficient of variation in grain size of 12%, and a [100] face ratio of 92%.

 《感光性ハロゲン化銀乳剤Bの調製》
 同時混合法による添加時の温度を40℃に変更した以外は感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製と同様に行った。この乳剤は平均粒子サイズ50nm、粒子サイズの変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった。
<< Preparation of photosensitive silver halide emulsion B >>
The preparation was performed in the same manner as in the preparation of the photosensitive silver halide emulsion A, except that the temperature at the time of addition by the double jet method was changed to 40 ° C. This emulsion was monodisperse cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 50 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92%.

 《粉末有機銀塩Aの調製》
 4720mlの純水にベヘン酸130.8g、アラキジン酸67.7g、ステアリン酸43.6g、パルミチン酸2.3gを80℃で溶解した。次に1.5モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液540.2mlを添加し濃硝酸6.9mlを加えた後、55℃に冷却して脂肪酸ナトリウム溶液を得た。上記の脂肪酸ナトリウム溶液の温度を55℃に保ったまま、36.2gの上記の感光性ハロゲン化銀乳剤Aと9.1gの上記の感光性ハロゲン化銀乳剤Bと純水450mlを添加し5分間攪拌した。
<< Preparation of powdered organic silver salt A >>
130.8 g of behenic acid, 67.7 g of arachidic acid, 43.6 g of stearic acid and 2.3 g of palmitic acid were dissolved in 4720 ml of pure water at 80 ° C. Next, 540.2 ml of a 1.5 mol / L aqueous sodium hydroxide solution was added, 6.9 ml of concentrated nitric acid was added, and the mixture was cooled to 55 ° C. to obtain a fatty acid sodium solution. While maintaining the temperature of the above sodium fatty acid solution at 55 ° C., 36.2 g of the above-mentioned photosensitive silver halide emulsion A, 9.1 g of the above-mentioned photosensitive silver halide emulsion B, and 450 ml of pure water were added. Stirred for minutes.

 次に1モル/Lの硝酸銀溶液468.4mlを2分間かけて添加し、10分間攪拌し有機銀塩分散物を得た。その後、得られた有機銀塩分散物を水洗容器に移し、脱イオン水を加えて攪拌後、静置させて有機銀塩分散物を浮上分離させ、下方の水溶性塩類を除去した。その後、排水の電導度が2μS/cmになるまで脱イオン水による水洗、排水を繰り返し、遠心脱水を実施した後、得られたケーキ状の有機銀塩を、気流式乾燥機フラッシュジェットドライヤー(株式会社セイシン企業製)を用いて、窒素ガス雰囲気及び乾燥機入り口熱風温度の運転条件により含水率が0.1%になるまで乾燥して乾燥済みの粉末有機銀塩Aを得た。 (4) Next, 468.4 ml of a 1 mol / L silver nitrate solution was added over 2 minutes and stirred for 10 minutes to obtain an organic silver salt dispersion. Thereafter, the obtained organic silver salt dispersion was transferred to a water washing container, deionized water was added thereto, and the mixture was stirred and allowed to stand. Then, the organic silver salt dispersion was floated and separated to remove lower water-soluble salts. Thereafter, washing with deionized water and draining are repeated until the conductivity of the waste water becomes 2 μS / cm, and centrifugal dehydration is performed. The obtained organic silver salt in the form of a cake is then washed with an air-flow dryer flash jet dryer (stock). (Manufactured by Seishin Enterprise Co., Ltd.) and dried under a nitrogen gas atmosphere and operating conditions of hot air temperature at the dryer inlet until the water content becomes 0.1% to obtain dried powdered organic silver salt A.

 なお、有機銀塩組成物の含水率測定には赤外線水分計を使用した。 赤 外線 An infrared moisture meter was used to measure the water content of the organic silver salt composition.

 《予備分散液Aの調製》
 画像形成層バインダーとして、−SO3K基含有ポリビニルブチラール(Tg75℃、−SO3Kを0.2ミリモル/g含む)14.57gをメチルエチルケトン1457gに溶解し、VMA−GETZMANN社製ディゾルバDISPERMAT CA−40M型にて攪拌しながら粉末有機銀塩A500gを徐々に添加して十分に混合することにより予備分散液Aを調製した。
<< Preparation of Preliminary Dispersion A >>
An image forming layer binder, -SO 3 K group containing polyvinyl butyral (Tg of 75 ° C., containing -SO 3 K 0.2 mmol / g) 14.57 g was dissolved in methyl ethyl ketone 1457g to, VMA-GETZMANN Co. dissolver DISPERMAT CA- Preliminary dispersion liquid A was prepared by gradually adding 500 g of powdered organic silver salt A while stirring with a 40M mold and mixing well.

 《感光性乳剤分散液1の調製》
 予備分散液Aをポンプを用いてミル内滞留時間が1.5分間となるように、0.5mm径のジルコニアビーズ(東レ製トレセラム)を内容積の80%充填したメディア型分散機DISPERMAT SL−C12EX型(VMA−GETZMANN社製)に供給し、ミル周速8m/sにて分散を行なうことにより感光性乳剤分散液1を調製した。
<< Preparation of photosensitive emulsion dispersion 1 >>
A media type disperser DISPERMAT SL- filled with 0.5% zirconia beads (Toray Toraycere) having a diameter of 0.5 mm so that the pre-dispersion liquid A has a residence time in the mill of 1.5 minutes using a pump. C1EX type (manufactured by VMA-GETZMANN) was supplied and dispersed at a mill peripheral speed of 8 m / s to prepare a photosensitive emulsion dispersion liquid 1.

 《安定剤液の調製》
 1.0gの安定剤1、0.31gの酢酸カリウムをメタノール4.97gに溶解し安定剤液を調製した。
<< Preparation of stabilizer solution >>
1.0 g of Stabilizer 1 and 0.31 g of potassium acetate were dissolved in 4.97 g of methanol to prepare a stabilizer solution.

 《赤外増感色素液Aの調製》
 19.2mgの赤外増感色素、1.488gの2−クロロ−安息香酸、2.779gの安定剤2および365mgの5−メチル−2−メルカプトベンズイミダゾールを31.3mlのMEKに暗所にて溶解し赤外増感色素液Aを調製した。
<< Preparation of infrared sensitizing dye solution A >>
19.2 mg of infrared sensitizing dye, 1.488 g of 2-chloro-benzoic acid, 2.779 g of Stabilizer 2 and 365 mg of 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole in 31.3 ml of MEK in the dark. And dissolved to prepare an infrared sensitizing dye solution A.

 《添加液aの調製》
 還元剤(表1〜3に記載の化合物と量)と一般式(A−4)で表される化合物(表1〜3に記載の化合物と量)、1.54gの4−メチルフタル酸、0.48gの前記赤外染料1をMEK110gに溶解し添加液aとした。
<< Preparation of additive liquid a >>
A reducing agent (compounds and amounts described in Tables 1 to 3) and a compound represented by the general formula (A-4) (compounds and amounts described in Tables 1 to 3); 1.54 g of 4-methylphthalic acid; .48 g of the infrared dye 1 was dissolved in 110 g of MEK to prepare an additive solution a.

 《添加液bの調製》
 1.56gのかぶり防止剤2、3.43gのフタラジンをMEK40.9gに溶解し添加液bとした。
<< Preparation of additive liquid b >>
1.56 g of the antifoggant 2, 3.43 g of phthalazine were dissolved in 40.9 g of MEK to prepare an additive liquid b.

 《添加液cの調製》
 省銀化剤として一般式(G)で表されるビニル化合物A1の0.5gをMEK39.5gに溶解し添加液cとした。
<< Preparation of additive liquid c >>
As a silver saving agent, 0.5 g of the vinyl compound A1 represented by the general formula (G) was dissolved in 39.5 g of MEK to prepare an additive liquid c.

 《添加液dの調製》
 1gの強色増感剤1をMEK9gに溶解し、添加液dとした。
<< Preparation of additive liquid d >>
1 g of supersensitizer 1 was dissolved in 9 g of MEK to prepare an additive solution d.

 《添加液eの調製》
 1.0gの化合物(種類は表1〜3に記載)をMEK9.0gに溶解し、添加液eとした。番号は前述した例示化合物の番号に対応する。
<< Preparation of additive liquid e >>
1.0 g of the compound (types are described in Tables 1 to 3) was dissolved in 9.0 g of MEK to prepare an additive solution e. The numbers correspond to the numbers of the exemplified compounds described above.

 《添加液fの調製》
 1.0gのビニルスルホンを含有するかぶり防止剤(化合物(21))をMEK9.0gに溶解し、添加液fとした。
<< Preparation of additive solution f >>
An antifoggant (compound (21)) containing 1.0 g of vinyl sulfone was dissolved in 9.0 g of MEK to prepare an additive solution f.

 《添加液gの調製》
 1.0gの一般式(A−10)で表される化合物(化合物(19))をMEK9.0gに溶解し、添加液gとした。
<< Preparation of additive liquid g >>
1.0 g of the compound represented by the general formula (A-10) (compound (19)) was dissolved in 9.0 g of MEK to prepare an additive liquid g.

Figure 2004094240
Figure 2004094240

 《画像形成層塗布液の調製》
 不活性気体雰囲気下(窒素97%)において、前記感光性乳剤分散液1(50g)およびMEK15.11gを攪拌しながら21℃に保温し、化学増感剤S−5(0.5%メタノール溶液)1000μlを加え、2分後にかぶり防止剤1(10%メタノール溶液)390μlを加え、1時間攪拌した。更に臭化カルシウム(10%メタノール溶液)494μlを添加して10分撹拌した後に上記の有機化学増感剤の1/20モル相当の金増感剤Au−5を添加し、更に20分攪拌した。続いて、安定剤液167mlを添加して10分間攪拌した後、1.32gの前記赤外増感色素液Aを添加して1時間攪拌した。その後、温度を13℃まで降温して更に30分攪拌した。13℃に保温したまま、6.4gの添加液d、0.5gの量の添加液e、0.5gの量の添加液f、8.0gの量の添加液g、予備分散液Aで使用したバインダー13.31gを添加して30分攪拌した後、テトラクロロフタル酸(9.4質量%MEK溶液)1.084gを添加して15分間攪拌した。更に攪拌を続けながら、12.43gの添加液a、1.6mlのDesmodurN3300/モーベイ社製の脂肪族イソシアネート(10%MEK溶液)、4.27gの添加液b、4.0gの添加液cを順次添加し攪拌することにより画像形成層塗布液を得た。
<< Preparation of image forming layer coating solution >>
In an inert gas atmosphere (nitrogen 97%), the photosensitive emulsion dispersion liquid 1 (50 g) and MEK 15.11 g were kept at 21 ° C. while stirring, and the chemical sensitizer S-5 (0.5% methanol solution) was added. ) 1000 μl was added, and 2 minutes later, 390 μl of antifoggant 1 (10% methanol solution) was added, and the mixture was stirred for 1 hour. Further, 494 μl of calcium bromide (10% methanol solution) was added, and the mixture was stirred for 10 minutes. Then, a gold sensitizer Au-5 corresponding to 1/20 mol of the organic chemical sensitizer was added, and the mixture was further stirred for 20 minutes. . Then, after adding 167 ml of stabilizer liquids and stirring for 10 minutes, 1.32 g of the said infrared sensitizing dye liquid A was added and stirred for 1 hour. Thereafter, the temperature was lowered to 13 ° C., and the mixture was further stirred for 30 minutes. While keeping the temperature at 13 ° C., 6.4 g of the additive solution d, 0.5 g of the additive solution e, 0.5 g of the additive solution f, 8.0 g of the additive solution g, and the preliminary dispersion A After adding 13.31 g of the used binder and stirring for 30 minutes, 1.084 g of tetrachlorophthalic acid (9.4 mass% MEK solution) was added and stirred for 15 minutes. While further stirring, 12.43 g of Additive Solution a, 1.6 ml of Desmodur N3300 / Mobay's aliphatic isocyanate (10% MEK solution), 4.27 g of Additive Solution b, and 4.0 g of Additive Solution c The coating solution for the image forming layer was obtained by sequentially adding and stirring.

Figure 2004094240
Figure 2004094240

 《画像形成層保護層下層(表面保護層下層)の調製》
 アセトン                            5g
 メチルエチルケトン                      21g
 セルロースアセテートブチレート               2.3g
 メタノール                           7g
 フタラジン                        0.25g
 単分散度15%単分散シリカ(平均粒径:3μm)     0.140g
  (シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理)
 CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 0.035g
 C1225(CH2CH2O)101225            0.01g
 フッ素系界面活性剤(SF−3)              0.01g
 ステアリン酸                        0.1g
 ステアリン酸ブチル                     0.1g
 α−アルミナ(モース硬度9)                0.1g
 《画像形成層保護層上層(表面保護層上層)の調製》
 アセトン                            5g
 メチルエチルケトン                      21g
 セルロースアセテートブチレート               2.3g
 メタノール                           7g
 フタラジン                        0.25g
 単分散度15%単分散シリカ(平均粒径:3μm)     0.140g
  (シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理)
 CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 0.035g
 C1225(CH2CH2O)101225            0.01g
 フッ素系界面活性剤(SF−3)              0.01g
 ステアリン酸                        0.1g
 ステアリン酸ブチル                     0.1g
 α−アルミナ(モース硬度9)                0.1g
 《熱現像感光材料の作製》
 前記のように調製したバックコート層塗布液、バックコート層保護層塗布液を、乾燥膜厚がそれぞれ3.5μmになるように、下引上層B−2上に押し出しコーターにて塗布速度50m/minにて塗布を行った。なお、乾燥は乾燥温度100℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて5分間かけて行った。
<< Preparation of image forming layer protective layer lower layer (surface protective layer lower layer) >>
5 g of acetone
21 g of methyl ethyl ketone
2.3 g of cellulose acetate butyrate
7 g of methanol
Phthalazine 0.25g
0.140 g of monodisperse silica having a monodispersity of 15% (average particle size: 3 μm)
(Surface treatment with aluminum of 1% by mass of the total mass of silica)
CH 2 CHCHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH = CH 2 0.035 g
C 12 F 25 (CH 2 CH 2 O) 10 C 12 F 25 0.01 g
Fluorosurfactant (SF-3) 0.01g
0.1 g of stearic acid
0.1 g of butyl stearate
α-Alumina (Mohs hardness 9) 0.1g
<< Preparation of upper layer of image forming layer protective layer (upper layer of surface protective layer) >>
5 g of acetone
21 g of methyl ethyl ketone
2.3 g of cellulose acetate butyrate
7 g of methanol
Phthalazine 0.25g
0.140 g of monodisperse silica having a monodispersity of 15% (average particle size: 3 μm)
(Surface treatment with aluminum of 1% by mass of the total mass of silica)
CH 2 CHCHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH = CH 2 0.035 g
C 12 F 25 (CH 2 CH 2 O) 10 C 12 F 25 0.01 g
Fluorosurfactant (SF-3) 0.01g
0.1 g of stearic acid
0.1 g of butyl stearate
α-Alumina (Mohs hardness 9) 0.1g
<< Preparation of photothermographic material >>
The backcoat layer coating solution and the backcoat layer protective layer coating solution prepared as described above are extruded onto the lower pull-up layer B-2 by a coater so that the dry film thickness becomes 3.5 μm, respectively, at a coating speed of 50 m / m. min. The drying was performed for 5 minutes using a drying air having a drying temperature of 100 ° C. and a dew point temperature of 10 ° C.

 前記画像形成層塗布液と画像形成層保護層(表面保護層)塗布液を押し出し(エクストルージョン)コーターを用いて塗布速度50m/minにて、下引上層A−2上に同時重層塗布することにより表1〜3に示す感光材料試料No.1〜No.15を作製した。塗布は、画像形成層は塗布銀量1.2g/m2、画像形成層保護層(表面保護層)は乾燥膜厚で2.5μm(表面保護層上層1.3μm、表面保護層下層1.2μm)になる様にして行った後、乾燥温度75℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて、10分間乾燥を行った。 Simultaneous multilayer coating of the image forming layer coating solution and the image forming layer protective layer (surface protective layer) coating solution on the undercoating upper layer A-2 at an application speed of 50 m / min using an extrusion (extrusion) coater. The photosensitive material sample Nos. 1 to No. No. 15 was produced. In the coating, the image forming layer had a coated silver amount of 1.2 g / m 2 , and the image forming layer protective layer (surface protective layer) had a dry film thickness of 2.5 μm (the surface protective layer upper layer 1.3 μm, the surface protective layer lower layer 1. 2 μm), and then dried for 10 minutes using a drying air having a drying temperature of 75 ° C. and a dew point temperature of 10 ° C.

 《露光および現像処理》
 上記のように作製した熱現像感光材料試料No.1〜No.15を半切サイズ((14×2.54)cm×(17×2.54)cm)に加工した後、図1に示す熱現像処理装置を用いて以下の要領で処理した。
《Exposure and development processing》
The photothermographic material sample No. 1 produced as described above was used. 1 to No. After processing No. 15 into a half-cut size ((14 × 2.54) cm × (17 × 2.54) cm), it was processed in the following manner using the thermal development processing apparatus shown in FIG.

 熱現像感光材料をフィルムトレイから取り出し、レーザ露光部に搬送した後、画像形成層面側から、高周波重畳にて波長810nmの縦マルチモード化された半導体レーザ(1本の最大出力35mWを2本合波して最大出力70mWにしたもの)を露光源とした露光機によりレーザ走査による露光を与えた。この際に、熱現像感光材料の露光面と露光レーザ光の角度を75度として画像を形成した。その後、熱現像感光材料は熱現像部へと搬送され、ヒートドラムが熱現像感光材料の画像形成層側の保護層とドラム表面とが接触するようにして、125℃で15秒熱現像処理した後、熱現像感光材料を装置外に搬出した。このときの感光材料供給部から画像露光部までの搬送速度、画像露光部での搬送速度、熱現像部での搬送速度はそれぞれ20mm/secで行った。なお、露光及び現像は23℃、50%RHに調湿した部屋で行った。 The photothermographic material is taken out of the film tray, transported to the laser exposure section, and then, from the image forming layer surface side, a vertical multi-mode semiconductor laser having a wavelength of 810 nm is superimposed on a high frequency (a maximum output of two 35 mW single lasers is combined). Exposure by laser scanning was given by an exposure machine using an exposure source of which the maximum output was 70 mW by wave. At this time, an image was formed at an angle of 75 degrees between the exposure surface of the photothermographic material and the exposure laser beam. Thereafter, the photothermographic material was conveyed to a photothermographic development unit, and was subjected to heat development at 125 ° C. for 15 seconds so that the heat drum was in contact with the protective layer on the image forming layer side of the photothermographic material and the drum surface. Thereafter, the photothermographic material was carried out of the apparatus. At this time, the conveying speed from the photosensitive material supply unit to the image exposing unit, the conveying speed in the image exposing unit, and the conveying speed in the heat developing unit were each set at 20 mm / sec. Exposure and development were performed in a room conditioned at 23 ° C. and 50% RH.

 画像濃度
 上記の条件にて得られた画像の濃度を濃度計により測定し光学濃度として示す。
Image density The density of the image obtained under the above conditions is measured by a densitometer and is shown as an optical density.

 CIE 1976色空間におけるu*、v*およびa*、b*の測定
 図1示す熱現像装置を用いて未露光部、および光学濃度0.5、1.0、1.5を含む4段のウエッジ試料を作製した。このようにして作製したそれぞれのウエッジ濃度部をCM−3600d(ミノルタ株式会社製)で測定しu*、v*またはa*、b*を算出した。その際の測定条件は光源としてF7光源、視野角を10°として透過測定モードで測定を行った。横軸をu*またはa*、縦軸をv*またはb*としたグラフ上に測定したu*、v*またはa*、b*をプロットし線形回帰直線を求め重決定R2、切片および傾きを求めた。u*、v*はそのグラフを図2に示し、結果を表1、表2に示す。a*、b*はそのグラフを図3に示し、結果を表3に示す。
Measurement of u * , v * and a * , b * in CIE 1976 color space Using a thermal developing apparatus shown in FIG. A wedge sample was prepared. The wedge density parts thus prepared were measured with CM-3600d (manufactured by Minolta Co., Ltd.) to calculate u * , v * or a * , b * . The measurement was performed in a transmission measurement mode with an F7 light source as a light source and a viewing angle of 10 °. The horizontal axis u * or a *, vertical axis v * or b * are plotted on the graph u *, v * or a *, b * were plotted obtains a linear regression line of determination R 2, intercept, and The slope was determined. The graphs of u * and v * are shown in FIG. 2, and the results are shown in Tables 1 and 2. The graphs of a * and b * are shown in FIG. 3, and the results are shown in Table 3.

 画質評価
 本発明および比較で作製した試料に胸部単純画像30サンプルを出力した。その際肺野濃度はD=1.7±0.02になるように調整した。評価は輝度3200cd/m2にしたシャーカステンを用い、7名によるBRH法評価を行った。評価点数は各水準の30サンプルに関して平均した値で解剖学的評価、物理学的評価とも点数の高い方が画質的に優れる。評価結果を表1〜3に示す。
Image quality evaluation Thirty simple chest images were output to the samples prepared in the present invention and in the comparison. At that time, the lung field concentration was adjusted so that D = 1.7 ± 0.02. The evaluation was performed by a BRK method evaluation by seven persons using Shakasten having a luminance of 3200 cd / m 2 . The evaluation score is an average value of 30 samples of each level, and the higher the score in both anatomical evaluation and physical evaluation, the better the image quality. The evaluation results are shown in Tables 1 to 3.

Figure 2004094240
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Figure 2004094240
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Figure 2004094240
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 表1〜3から、比較の熱現像感光材料と比べて、本発明の熱現像感光材料は解剖学的評価、物理学的評価とも点数の高く画質的に優れていることは明らかである。 1〜3 From Tables 1 to 3, it is clear that the photothermographic material of the present invention has high scores in both anatomical evaluation and physical evaluation and is excellent in image quality as compared with the comparative photothermographic material.

熱現像処理装置の具体例を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a specific example of a thermal development processing apparatus. CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする二次元座標に、各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線を示す図である。A linear regression line created by arranging u * and v * at each optical density on two-dimensional coordinates where the horizontal axis is u * and the vertical axis is v * in the CIE 1976 (L * u * v * ) color space. FIG. CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする二次元座標に、各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線を示す図である。A linear regression line created by arranging a * and b * at each optical density on two-dimensional coordinates where the abscissa is a * and the ordinate is b * in the CIE 1976 (L * a * b * ) color space. FIG.

符号の説明Explanation of reference numerals

 1 ヒートドラム
 2 対向ローラ
 6 剥離爪
 100 熱現像処理装置
 110 供給部
 120 露光部
 130 熱現像部
 140 供給ローラ対
 141,142,143,145 搬送ローラ対
 144 供給ローラ対
 150 冷却部
 160 集積部
 F フィルム
 C フィルムトレイ
 L レーザビーム
REFERENCE SIGNS LIST 1 heat drum 2 opposed roller 6 peeling claw 100 thermal development processing device 110 supply unit 120 exposure unit 130 thermal development unit 140 supply roller pair 141, 142, 143, 145 transport roller pair 144 supply roller pair 150 cooling unit 160 stacking unit F film C Film tray L Laser beam

Claims (20)

熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5および最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 The optical densities 0.5, 1.0, 1.5 and the minimum optical density of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * u * v * ) color space was u * , and the vertical axis was the two-dimensional coordinates to v *, and wherein the u * at each optical density, v the linear regression line of determination R 2 created arranged * is 1.000 or less than 0.998 Photothermographic material. 熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5および最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であり、かつ縦軸との交点のv*値が−5以上5以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 The optical densities 0.5, 1.0, 1.5 and the minimum optical density of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * u * v * ) color space was u * , and the vertical axis was the v * to the two-dimensional coordinate in terms of the, u * of the above each optical density, v the linear regression line of determination R 2 created arranged * is 1.000 or less than 0.998, and a vertical axis A photothermographic material, wherein the value of v * at the intersection of is not less than -5 and not more than 5. 熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5および最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であり、かつ傾き(v*/u*)が0.7以上2.5以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 The optical densities 0.5, 1.0, 1.5 and the minimum optical density of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * u * v * ) color space was u * , and the vertical axis was Is determined by placing u * and v * at the above respective optical densities in two-dimensional coordinates where v * is v *, and the multiple determination R 2 of the linear regression line created is 0.998 or more and 1.000 or less, and the slope (v * / U * ) is 0.7 or more and 2.5 or less. 熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5および最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 The optical densities 0.5, 1.0, 1.5 and the minimum optical density of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * a * b * ) color space was a * and the vertical axis was Is determined by arranging a * and b * at the respective optical densities in two-dimensional coordinates where b * is the b *, and the determination R 2 of the linear regression line created is 0.998 or more and 1.000 or less. Photothermographic material. 熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5および最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であり、かつ縦軸との交点のb*値が−5以上5以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 The optical densities 0.5, 1.0, 1.5 and the minimum optical density of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * a * b * ) color space was a * and the vertical axis was the two-dimensional coordinates to b *, a * in the above each optical density, the linear regression line of determination R 2 created by placing b * is 1.000 or less than 0.998, and a vertical axis A photothermographic material, wherein the b * value at the point of intersection is -5 or more and 5 or less. 熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5および最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であり、かつ傾き(b*/a*)が0.7以上2.5以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 The optical densities 0.5, 1.0, 1.5 and the minimum optical density of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * a * b * ) color space was a * and the vertical axis was the two-dimensional coordinates to b *, a * in the above each optical density, the linear regression line of determination R 2 created by placing b * is 1.000 or less than 0.998, and the slope (b * / A * ) is 0.7 or more and 2.5 or less. 熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 The optical densities 0.5, 1.0, and 1.5 of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * u * v * ) color space was u * , and the vertical axis was v * . the two-dimensional coordinates, the photothermographic material characterized in that the u * at each optical density, v the linear regression line of determination R 2 created arranged * is 1.000 or less than 0.998 . 熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であり、かつ縦軸との交点のv*値が−5以上5以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 The optical densities 0.5, 1.0, and 1.5 of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * u * v * ) color space was u * , and the vertical axis was v * . In the two-dimensional coordinates, u * and v * at the respective optical densities described above are arranged, and the multiple determination R 2 of the linear regression line created is 0.998 or more and 1.000 or less, and v at the intersection with the vertical axis. * A photothermographic material having a value of -5 or more and 5 or less. 熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であり、かつ傾き(v*/u*)が0.7以上2.5以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 The optical densities 0.5, 1.0, and 1.5 of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * u * v * ) color space was u * , and the vertical axis was v * . the two-dimensional coordinates, u * of the above each optical density, v the linear regression line of determination R 2 created arranged * is 1.000 or less than 0.998, and the slope (v * / u * Is 0.7 to 2.5. 熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 The optical densities 0.5, 1.0, and 1.5 of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * a * b * ) color space was a * , and the vertical axis was b * . to the two-dimensional coordinates, the photothermographic material characterized in that the a * at each optical density, the linear regression line of determination R 2 created by placing b * is 1.000 or less than 0.998 . 熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であり、かつ縦軸との交点のb*値が−5以上5以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 The optical densities 0.5, 1.0, and 1.5 of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * a * b * ) color space was a * , and the vertical axis was b * . In the two-dimensional coordinates, a * and b * at each of the above optical densities are arranged, and the overlap determination R 2 of the linear regression line created is 0.998 or more and 1.000 or less, and b at the intersection with the vertical axis * A photothermographic material having a value of -5 or more and 5 or less. 熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする二次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の重決定R2が0.998以上1.000以下であり、かつ傾き(b*/a*)が0.7以上2.5以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 The optical densities 0.5, 1.0, and 1.5 of the photothermographic material were measured, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * a * b * ) color space was a * , and the vertical axis was b * . In the two-dimensional coordinates, a * and b * at each of the above optical densities are arranged, and the multiple determination R 2 of the linear regression line created is 0.998 or more and 1.000 or less, and the slope (b * / a *) Is 0.7 to 2.5. 下記一般式(A−1)で表される還元剤と、下記一般式(A−4)で表される化合物を含有することを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
Figure 2004094240
(式中、Zは炭素原子と共に3〜10員環を構成するのに必要な原子群を表し、Rxは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表す。R1、R2、Q0はベンゼン環上に置換可能な基を表し、Lは2価の連結基を表し、kは0〜1の整数を表し、n及びmは0〜2の整数を表す。複数のR1、R2、Q0は同じでも異なっていても良い。)
Figure 2004094240
(式中、R41は置換または無置換のアルキル基を表し、R42は水素原子、置換又は無置換のアルキル基または置換又は無置換のアシルアミノ基を表すが、R41、R42は2−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。R43は水素原子または置換または無置換のアルキル基を表し、R44はベンゼン環に置換可能な置換基を表す。)
The composition according to any one of claims 1 to 12, comprising a reducing agent represented by the following general formula (A-1) and a compound represented by the following general formula (A-4). Photothermographic material.
Figure 2004094240
(In the formula, Z represents an atomic group necessary for constituting a 3- to 10-membered ring together with a carbon atom, and R x represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group. R 1 , R 2 , Q 0 represents a group substitutable on the benzene ring, L represents a divalent linking group, k is an integer of 0 to 1, n and m represents an integer of 0 to 2. plurality of R 1, R 2 and Q 0 may be the same or different.)
Figure 2004094240
(Wherein, R 41 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, R 42 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted acylamino group, and R 41 and R 42 represent 2- not be a hydroxyphenyl methyl group .R 43 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, R 44 represents a substituent capable of substituting on the benzene ring.)
一般式(A−4)のR41、R42の少なくとも一方が2級または3級のアルキル基であることを特徴とする請求項13に記載の熱現像感光材料。 14. The photothermographic material according to claim 13, wherein at least one of R 41 and R 42 in the general formula (A-4) is a secondary or tertiary alkyl group. 前記一般式(A−1)で表される還元剤が下記一般式(A−2)で表される還元剤であることを特徴とする請求項13又は14に記載の熱現像感光材料。
Figure 2004094240
(式中、Q1はハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、Q2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Gは窒素原子または炭素原子を表すが、Gが窒素原子の場合、ngは0であり、Gが炭素原子の場合、ngは0または1である。Z2は炭素原子、及びGとともに3〜10員の非芳香族環を構成するのに必要な原子群を表す。R1、R2、Rx、Q0、L、k、n、及びmは一般式(A−1)におけるものと同義である。)
15. The photothermographic material according to claim 13, wherein the reducing agent represented by the general formula (A-1) is a reducing agent represented by the following general formula (A-2).
Figure 2004094240
(Wherein, Q 1 represents a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and Q 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, G represents a nitrogen atom or a carbon atom, and when G is a nitrogen atom, ng is 0. When G is a carbon atom, ng is 0 or 1. Z 2 is carbon atom. And a group of atoms necessary to form a 3- to 10-membered non-aromatic ring together with the atom and G. R 1 , R 2 , R x , Q 0 , L, k, n, and m are represented by the general formula ( It is the same as that in A-1).
一般式(A−2)におけるZ2が表す非芳香環が6員であることを特徴とする請求項13〜15のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。 The photothermographic material according to any one of claims 13 to 15, wherein the non-aromatic ring represented by Z 2 in the general formula (A-2) is a 6-membered. 前記熱現像感光材料の画像形成層を有する側の層が、ビニル化合物、ヒドラジン誘導体、シラン化合物および4級オニウム塩から選ばれる少なくとも1種の省銀化剤を含有することを特徴とする請求項1〜16のいずれか1項記載の熱現像感光材料。 The layer on the side having the image forming layer of the photothermographic material contains at least one silver saving agent selected from a vinyl compound, a hydrazine derivative, a silane compound and a quaternary onium salt. 17. The photothermographic material according to any one of items 1 to 16. 請求項1〜17のいずれか1項に記載の熱現像感光材料を、温度110℃以上140℃以下、時間5秒以上20秒以下で現像し、画像を形成することを特徴とする画像形成方法。 An image forming method, comprising developing the photothermographic material according to any one of claims 1 to 17 at a temperature of 110 ° C to 140 ° C for a time of 5 seconds to 20 seconds to form an image. . 請求項1〜17のいずれか1項に記載の熱現像感光材料を、400nm以上830nm以下のレーザー波長で露光し、画像を形成することを特徴とする画像形成方法。 An image forming method, comprising exposing the photothermographic material according to any one of claims 1 to 17 with a laser wavelength of 400 nm to 830 nm to form an image. 請求項1〜17のいずれか1項に記載の熱現像感光材料を、780nm以上830nm以下のレーザー波長で露光し、画像を形成することを特徴とする画像形成方法。 An image forming method, comprising exposing the photothermographic material according to any one of claims 1 to 17 with a laser wavelength of 780 nm to 830 nm to form an image.
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