JP2004093393A

JP2004093393A - Pulsation absorption structure of electronic gas meter

Info

Publication number: JP2004093393A
Application number: JP2002255598A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiro Ushijima; 牛嶋　一博
Original assignee: Yazaki Corp
Current assignee: Yazaki Corp
Priority date: 2002-08-30
Filing date: 2002-08-30
Publication date: 2004-03-25

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a ripple absorption structure of an electronic gas meter which can reduce influence of the pulsation, and contributes to stable flow rate measurement by reducing irregularity of flow rate. SOLUTION: A flow rate sensor 10 is installed in a through conduit 53 in a meter. Shock absorption chambers 53A are arranged on the upstream side and the downstream side of the flow rate sensor 10. The chambers 53A perform adjustment in such a manner that an installation position of the flow rate sensor 10 coincides almost with a position of antinode of pressure fluctuation which is generated by the pulsation which is transduced from a mouth 51 for inflow or a pouring spout 52 of the through conduit 53 to the through conduit 53. COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子化ガスメータの脈動吸収構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、マイクロコンピュータを利用して流量センサによる検出流量を積算してガス使用量を算出したり、異常時には保安のために流路を遮断する遮断弁装置等を備えたガスメータが普及している。ところが、ガスメータの小型化が進むと、流量センサ前後の流路直線部を十分確保しきれなくなり、流量センサは、その上流側のガス供給圧力や下流側のガス使用状況の影響を受け易くなるという問題が発生する。また、ガス消費設備としての給湯器やガスヒートポンプ等は、間歇駆動されていることが多く、このため流路内に圧力変動、すなわち脈動が発生して、逆流が発生することがある。特に、給湯器のバルブオン／オフ制御により発生する脈動は、周波数的には５０Ｈｚ〜１５０Ｈｚで圧力波形的には正弦波であり、ガスヒートポンプと比較してより厳しい環境になっている。そこで、この逆流を検出してより正確な流量を検出する必要があるが、遮断弁装置等の内部装置の存在によって、流量センサの設置位置から見た場合の流路が非対称にならざるを得ず、このため、正流時と逆流時のセンサ出力特性が不均一になって、マイクロコンピュータの流量演算処理時の負担が大きくなるという問題も発生する。
【０００３】
そこで、上述の問題を緩和するために、流量センサが取り付けられているメータ内の流路に整流器を装着した電子化ガスメータが提案されている。
【０００４】
図７は、従来の電子化ガスメータの構成例を示す概略構成図である。図７において、電子化ガスメータは、ガス供給源側である上流側配管５１Ａ及びガス消費源側である下流側配管５２Ａの間に接続される。この上流側配管５１Ａ及び下流側配管５２Ａは、所定の間隔を有して、電子化ガスメータの流入口５１及び流出口５２がそれぞれ連結されている。流入口１１から流入したガスは、ガスメータ内部の流路５３を通過し、流出口５２に流出していく。この流路５３の一部には流量センサ１０が取り付けられ、ここでのガス流が流量センサ１０によって計量される。流量センサ１０は、その測定面が流路の内壁面から流路中にやや突出するように取付けられている。流量センサ１０としては、例えば、マイクロフローセンサが用いられる。
【０００５】
このマイクロフローセンサで発生した、流路５３を流れる流速に対応する熱起電力信号は、マイクロコンピュータ（ＣＰＵ）５０に出力され、ＣＰＵ５０は、この信号に基づいて、流路５３を流れるガスの瞬時的な流速を求め、これに流路５３の断面積及びその構造に依存する係数を乗じて、流路５３内を流れるガスの瞬時流量を求める。また、ＣＰＵ５０は、流路５３内のガス圧またはガス流量の異常値を検知した場合には、遮断弁装置５５Ａの遮断弁を閉制御して流路５３を流れるガスを遮断する。
【０００６】
流量センサ１０が取り付けられている流路５３部分には、複数の整流板１４と、整流板１４の両端に密着して配置された第１メッシュ１５Ａ及び第２メッシュ１５Ｂと、第１メッシュ１５Ａから上流側に所定の間隔を置いて配置された第３メッシュ１５Ｃとを含む整流器１が装着されている。この整流器１の装着によって、流量センサ１０付近のガスの流れは整流され、それにより流量センサ１０に対する上流側及び下流側からの影響が軽減されて、流量センサ１０の検出精度が高められる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上述の構成の電子化ガスメータにおいては、ガス供給源側またはガス消費源側から流路５３内に脈動が導入された場合、脈動による流路５３内の圧力変動時に、図８において曲線Ｐで示す圧力変動特性における腹の位置（丸ＡおよびＡ′で囲んだ位置）に流量センサ１０があれば、流量センサ１０に対する脈動の影響（流速変化）は小さくなる。しかし、配管の具合によっては、流量センサ１０の位置が、図８に示す節の位置（丸Ｂで囲んだ位置）にくることもあり、この場合には、流量センサ１０に対する脈動の影響（流速変化）は逆に大きくなってしまう。
【０００８】
これは、流路５３内においては、ガスの圧力の変動に伴って生じる流速の変化は、図８において曲線Ｖで示すように、圧力変動に対して位相が９０度ずれる関係にあるからである。すなわち、圧力の変動における腹（丸ＡおよびＡ′で囲んだ位置）においては、流速の変化はほぼゼロになり、圧力の変動における節（丸Ｂで囲んだ位置）においては、流速の変動はほぼ最大になる。
【０００９】
そこで本発明は、上述した従来の問題を解決し、脈動の影響を軽減することができ、流量バラツキを低減して安定した流量測定に寄与する電子化ガスメータの脈動吸収構造を提供することを課題としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するためになされた請求項１記載の発明は、メータ内の流路中に流量センサが設置され、該流量センサの上流側および下流側に、前記流量センサの設置位置が前記流路の流入口または前記流出口から前記流路に導入される脈動による圧力変動の腹の位置にほぼ一致するように調整するための緩衝室が設けられていることを特徴とする電子化ガスメータの脈動吸収構造に存する。
【００１１】
請求項１記載の発明によれば、メータ内の流路中に流量センサが設置され、流量センサの上流側および下流側に、流量センサの設置位置が流路の流入口または流出口から流路に導入される脈動による圧力変動の腹の位置にほぼ一致するように調整するための緩衝室が設けられているので、流入口または流出口から流路に導入される脈動の流量センサへの影響を緩和することができる。また、これに伴い、流量センサの逆流側検出範囲を小さくできるため、回路のコストダウンとなる。
【００１２】
上記課題を解決するためになされた請求項２記載の発明は、前記緩衝室は、前記流路の流入口の直後及び流出口の直前にそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項１記載の電子化ガスメータの脈動吸収構造に存する。
【００１３】
請求項２記載の発明によれば、緩衝室は、流路の流入口の直後及び流出口の直前にそれぞれ設けられているので、流入口と流出口の間に設置された流量センサ付近での流速変化が小さくなる効果が得られる。
【００１４】
上記課題を解決するためになされた請求項３記載の発明は、前記緩衝室は、前記メータの裏側に設けられており、前記流量センサの上流側および下流側に前記緩衝室への出入り口をそれぞれ設けたことを特徴とする請求項１記載の電子化ガスメータの脈動吸収構造に存する。
【００１５】
請求項３記載の発明によれば、緩衝室は、メータの裏側に設けられており、流量センサの上流側および下流側に緩衝室への出入り口をそれぞれ設けているので、流量センサ付近での流速変化が小さくなる効果が得られる。
【００１６】
上記課題を解決するためになされた請求項４記載の発明は、前記流量センサは、前記流路の流入口に連通する導入路と前記流路の流出口に連通する導出路との間に穴付き仕切板で区切られた計測路内に設置され、前記緩衝室は、前記導入路との間および前記計測路との間にそれぞれ出入り口を有する第１の緩衝室と、前記導出路との間および前記計測路との間にそれぞれ出入り口を有する第２の緩衝室とからなることを特徴とする請求項１記載の電子化ガスメータの脈動吸収構造に存する。
【００１７】
請求項４記載の発明によれば、流量センサは、流路の流入口に連通する導入路と流路の流出口に連通する導出路との間に穴付き仕切板で区切られた計測路内に設置され、緩衝室は、導入路との間および計測路との間にそれぞれ出入り口を有する第１の緩衝室と、導出路との間および計測路との間にそれぞれ出入り口を有する第２の緩衝室とからなるので、流量センサ付近での流速変化が小さくなる効果が得られる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、本発明の第１の実施形態に係る電子化ガスメータの脈動吸収構造を示し、（Ａ）は概略構成図、（Ｂ）は（Ａ）における流路部分を示す部分断面図である。図１において、電子化ガスメータは、ガス供給源側である上流側配管５１Ａ及びガス消費源側である下流側配管５２Ａの間に接続される。この上流側配管５１Ａ及び下流側配管５２Ａは、所定の間隔を有して、電子化ガスメータのガスメータ本体５の流入口５１及び流出口５２がそれぞれ連結されている。流入口１１から流入したガスは、ガスメータ内部の流路５３を通過し、流出口５２に流出していく。この流路５３の途中には、整流器１を収容するために整流器１の形状に対応した整流器収容部５４が形成されている。
【００１９】
この整流器収容部５４は、図１（Ａ）に示すように、第１のメッシュユニット収容部５４１、第２のメッシュユニット収容部５４２および整流板ユニット収容部５４３から構成されている。特に、整流板ユニット収容部５４３には、流路５３を通過するガス流量を検出するための流量センサの測定面に対応した円形状のセンサ孔５４４が設けられている。詳細には、このセンサ孔５４４の位置は、整流板ユニット収容部５４３の中央部に設けられている。
【００２０】
整流器１は、図１（Ｂ）および図２に示すように、複数の整流板１４と、第１〜第３メッシュ１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃとからなる。複数の整流板１４は共に同一形状をなしており、流路５３の断面を流れ方向にほぼ均等に複数層の小流路、たとえば６層の小流路に分割するように、それぞれ、等間隔かつ平行になるように配置されている。すなわち、複数の整流板１４のうちの一番上にある整流板１４は、流量センサ１０が設置されている第１層の小流路を形成し、一番上にある整流板１４の真下にある整流板１４は、一番上にある整流板１４との間で第２層の小流路を形成し、以下同様にして第３層の小流路〜第６層の小流路が形成されている。複数の整流板１４は、流量センサ１０の設置箇所に基づいて配置されており、詳細には、流れ方向に沿って流量センサ１０の設置位置から整流板１４の一方の端部までの長さ（Ｌ１）が、流量センサ１０の設置位置から整流板１４の他方の端部までの長さ（Ｌ２）と同一になるように配置されている。
【００２１】
第１メッシュ１５Ａおよび第２メッシュ１５Ｂは、複数の整流板１４を上流側（図面中左側）および下流側（図面中右側）からそれぞれ密着して挟むように流路５３の途中に配置されている。また、第３メッシュ１５Ｃは、第１メッシュ１５Ａの上流側に所定の間隔をおいて流路５３の途中に配置されている。そして、これら第１メッシュ１５Ａ、第２メッシュ１５Ｂおよび第３メッシュ１５Ｃの目の細かさ、すなわち、１平方インチ当たりの格子数は、それぞれ、例えば、８０個、４０個および８０個である。すなわち、上流側から順に各メッシュの格子数は、８０個（密）、８０個（密）および４０個（粗）となっている。
【００２２】
また、流路５３の流入口５１の直後及び流出口５２の直前には、流路５３と連通した緩衝室５３Ａが設けられている。
【００２３】
次に、上述の第１の実施形態に係る電子化ガスメータの脈動吸収構造で使用される整流器の具体的構成について、図３および図４を用いて説明する。図３および図４は、それぞれ、整流器の斜視図および分解斜視図である。
【００２４】
図３および図４に示すように、整流器１は、第１および第２のメッシュユニット１１および１２、並びに整流板ユニット１３から構成される。これらのユニット１１、１２および１３は、それぞれ別途に形成されて、これらが一体化されて一つの整流器１が形成される。このような整流器１は、例えば、ガスメータの流量センサ１０が設置される流路５３の途中に形成された整流器収容部５４に装着される。
【００２５】
第１のメッシュユニット１１は、所定長の四角形筒状の外枠部、およびこの外枠部により形成される両開口面をそれぞれ覆い、整流器１が装着される流路のガス流方向に対して垂直になるように、この外枠部に図１（Ｂ）および図２で示したような第１メッシュ１５Ａ、第３メッシュ１５Ｃがそれぞれ固着されている。詳細には、第３のメッシュ１５Ｃおよび第１のメッシュ１５Ａは、それぞれ、この外枠部の上流側開口面および下流側開口面を覆うように固着されている。この固着には、例えば超音波振動溶着が利用される。これら外枠部およびメッシュは、それぞれ、例えば、耐熱性プラスティック製および金属製である。この第１のメッシュユニット１１の両側面縁部からは、可撓性のある腕状の係止片１１１、１１３が突設されている。そして、これら係止片１１１、１１３のそれぞれの先端付近には、内向する係止突起１１１ａ、１１３ａが形成されている。
【００２６】
また、第２のメッシュユニット１２は、第１のメッシュユニット１１と類似の構成を有しており、所定長の四角形筒状の外枠部、およびこの外枠部により形成される上流開口面を覆い、整流器１が装着される流路のガス流方向に対して垂直になりこの外枠の下流側開口面を覆うように、図１（Ｂ）および図２で示したような第２メッシュ１５Ｂが固着されている。この固着にも、例えば超音波振動溶着が利用される。これら外枠部およびメッシュは、それぞれ、例えば、耐熱性プラスティック製および金属製である。この第２のメッシュユニット１２における上流側両側面縁部からも、可撓性のある腕状の係止片１２２、１２４が突設されている。そして、これら係止片１２２、１２４のそれぞれの先端付近には、内向する係止突起１２２ａ、１２４ａが形成されている。なお、ここでいう上流側または下流側とは、正流時における上流側または下流側を示すものとする。
【００２７】
一方、整流板ユニット１３は、所定長で断面凹状をした外枠部、およびこの外枠部の内壁に流路の断面を均等に分割するように、図２で示したような複数の薄い板状の整流板１４Ａ〜１４Ｅが、それぞれ、等間隔で平行に配設されている。これら外枠部および整流板１４Ａ〜１４Ｅは共に、例えば、耐熱性プラスティック製である。この整流板ユニット１３には、対向する側面外壁がくりぬかれるようにして、４つの係止溝１３１、１３２等（係止片１１３、１２４に対応する係止溝は不図示）が形成されている。詳細には、係止溝１３１は、係止片１１１の係止突起１１１ａがスライド可能なスライド溝１３１ｂおよび係止突起１１１ａに対応した形状の係止凹部１３１ａから構成される。また、整流板ユニット１３の外枠部の対向する内壁には、５枚の薄板状の整流板１４がそれぞれスライド挿入される複数の溝１３５が形成されている。これらの溝１３５を利用して、５枚の整流板１４が取り付けられる。他の係止溝１３２等も同様であるので、ここでは説明を省略する。
【００２８】
そして、整流板ユニット１３を両側から挟むように、第１のメッシュユニット１１および第２のメッシュユニット１２が組み付けられて整流器１が形成される。すなわち、整流器１の組み立て時には、まず、複数の整流板１４がそれぞれ、整流板ユニット１３の複数の溝１３５にスライド挿入される。次に、係止片１１１、１１３の係止突起１１１ａ、１１３ａを、係止溝１３１、１３３のスライド溝１３１ｂ等上をスライドさせながら、係止凹部１３１ａ等まで誘導して、係止突起１１１ａ、１１３ａを係止凹部１３１ａ等に係合させる。これによって、第１のメッシュユニット１１を整流板ユニット１３に固定する。
【００２９】
同様にして、第２のメッシュユニット１２の整流板ユニット１３への固定時には、係止片１２２、１２４の係止突起１２２ａ、１２４ａを、係止溝１３２等のスライド溝１３２ｂ等上をスライドさせながら、係止凹部１３２ａ等まで誘導して、係止突起１２２ａ、１２４ａを係止凹部１３２ａ等に係合させる。なお、この第２のメッシュユニット１２の整流板ユニット１３への固定を、第１のメッシュユニット１１の整流板ユニット１３への固定より先に行ってもよいし、組み立て時間節約のために、第１のメッシュユニット１１および第２のメッシュユニット１２を同時に整流板ユニット１３に固定するようにしても良い。
【００３０】
このようにして組み立てられた整流器１は、図１に示すガスメータ本体５の流路５３の所定位置に固定される。詳細には、図２に示す整流器１の一番上に配置される整流板１４が、図１に示すガスメータ本体５の整流器収容部５４のセンサ孔５４４に対向し、整流器１を構成する第１のメッシュユニット１１、第２のメッシュユニット１２および整流板ユニット１３が、整流器収容部５４を構成する第１のメッシュユニット収容部５４１、第２のメッシュユニット収容部５４２および整流板ユニット収容部５４３にそれぞれ対応するようにして、整流器１が、ガスメータ本体５の背面から装着される。このように装着されると、上述したように、流れ方向に沿って流量センサ１０前後の整流板１４の長さＬ１およびＬ２が同一になる。
【００３１】
以上のように、流路５３内に整流器１を装着したことにより上流側および下流側から導入される脈動の影響が軽減される。また、流れ方向に沿って流量センサ１０前後の整流板１４の長さが同一になるようにしているので、正流時および逆流時の流量センサ１０の出力特性も均一化される。したがって、正流時および逆流時に同等のパラメータおよび処理手順が適用できるため、流量計算処理が簡素化されてマイクロコンピュータの負担が軽減される。
【００３２】
さらに、本発明では、上述のように、流路５３の流入口５１の直後及び流出口５２の直前に、流路５３と連通した緩衝室５３Ａが設けられている。
【００３３】
この緩衝室５３Ａは、流量センサ１０の設置位置が流入口５１または流出口５２から流路５３に導入される脈動による圧力変動の腹の位置にほぼ一致するように調整する作用を行う。より詳細には、流入口５１または流出口５２から流路５３に導入される脈動のうち最も圧力変動の振幅の大きい周波数成分に対して、その圧力変動の腹の位置（すなわち、図８における曲線Ｐで示す圧力変動特性における腹の位置（丸ＡおよびＡ′で囲んだ位置））に流量センサ１０の設置位置がほぼ一致するように、緩衝室５３Ａの空間の大きさ、すなわち容積が設定される。
【００３４】
具体的には、緩衝室の容積は、たとえば１リットル以下とする。一例として、脈動周波数１５Ｈｚに対して±２０００（リットル／時）の流速が変動していると仮定すると、流速の変動量は、以下の計算式の通り１リットル以下となる。
｛２×２０００（リットル）／３６００（秒）｝×（１／１５）＝０．０７４（リットル）
よって、緩衝室５３Ａの容積は、１リットル以下で十分である。
【００３５】
このように構成される第１の実施の形態によれば、脈動のうち最も圧力変動の振幅の大きい周波数成分による圧力変動に対してほぼ９０度の位相差で遅れる流速の変動は、流量センサ１０付近においてほぼゼロになり、また、上述の脈動周波数成分の周波数に近い周波数を有する脈動周波数成分による流速の変化も小さくなる。したがって、流量センサ１０への脈動の影響は、整流器１で緩和されるが、緩衝室５３Ａによってさらに緩和される。また、これに伴い、流量センサ１０の逆流側検出範囲を小さくできるため、回路のコストダウンとなる。
【００３６】
次に、図５は、本発明の第２の実施形態に係る電子化ガスメータの脈動吸収構造を示し、（Ａ）は概略構成図、（Ｂ）は（Ａ）における流路部分を示す部分断面図である。図２においては、図１における流量センサ１０および整流器１の配置は同じであるが、図１における緩衝室５３Ａに代えて、緩衝室５３Ａと同一の作用および効果を伴う緩衝室５３Ｂが、ガスメータ本体５の裏側に突出して設けられており、流量センサの上流側および下流側において整流器１の直前および直後に緩衝室５３Ｂへの出入り口５３ｂがそれぞれ設けられている。
【００３７】
上述の構成において、第１の実施形態と同様に、ガスメータ本体５の裏側に設けられた緩衝室５３Ｂの容積の適宜な設定により、流入口５１または流出口５２から流路５３に脈動が導入された場合、脈動を伴うガスの流れは、出入り口５３ｂを介して緩衝室５３Ｂに出入りし、それにより、流量センサ１０の設置位置が、脈動による圧力変動の腹の位置にほぼ一致するようになる。
【００３８】
その結果、このように構成される第２の実施の形態においても、脈動のうち最も圧力変動の振幅の大きい周波数成分による圧力変動に対してほぼ９０度の位相差で遅れる流速の変動は、流量センサ１０付近においてほぼゼロになり、また、上述の脈動周波数成分の周波数に近い周波数を有する脈動周波数成分による流速の変化も小さくなる。したがって、流量センサ１０への脈動の影響は、整流器１で緩和されるが、緩衝室５３Ｂによってさらに緩和される。また、これに伴い、流量センサ１０の逆流側検出範囲を小さくできるため、回路のコストダウンとなる。
【００３９】
次に、図６は、本発明の第３の実施形態に係る電子化ガスメータの脈動吸収構造を示し、（Ａ）は概略構成図、（Ｂ）は（Ａ）における流路部分を示す部分断面図である。図６においては、Ｕ字状の流路５３における流入口５１から連通する垂直な流れ方向の導入路および流出口５２から連通する垂直な流れ方向の導出路と、水平な流れ方向の計測路との間に、ガスが通過する穴６０ａを有する穴付き仕切板６０をそれぞれ備え、これらの穴付き仕切板６０で区切られた計測路内に整流器１および流量センサ１０を配置すると共に、導入路および計測路の下部と、導出路および計測路の下部とに、それぞれ、第１の緩衝室５３Ｃおよび第２の緩衝室５３Ｄを備えている。また、第１の緩衝室５３Ｃは、正流時に導入路からガスが流入して計測路へ出ていく出入り口５３ｃ１および５３ｃ２を有し、第２の緩衝室５３Ｄは、逆流時に導出路からガスが流入して計測路へ出ていく出入り口５３ｄ１および５３ｄ２を有する。
【００４０】
上述の構成において、第１の緩衝室５３Ｃおよび第２の緩衝室５３Ｄは同一の容積を有し、これらの容積の適宜な設定により、流入口５１から流路５３に脈動が導入された場合、脈動を伴うガスの流れは、導入路から穴６０ａを介して計測路に入ると共に、出入り口５３ｃ１を介して第１の緩衝室５３Ｂに入って出入り口５３ｃ２を介して計測路に入る。また、流出口５２から流路５３に脈動が導入された場合は、脈動を伴うガスの流れは、導出路から穴６０ａを介して計測路に入ると共に、出入り口５３ｄ１を介して第２の緩衝室５３Ｄに入って出入り口５３ｃ２を介して計測路に入る。このようなガスの出入りによって、流量センサ１０の設置位置が、脈動による圧力変動の腹の位置にほぼ一致するようになる。
【００４１】
その結果、このように構成される第３の実施の形態においても、脈動のうち最も圧力変動の振幅の大きい周波数成分による圧力変動に対してほぼ９０度の位相差で遅れる流速の変動は、流量センサ１０付近においてほぼゼロになり、また、上述の脈動周波数成分の周波数に近い周波数を有する脈動周波数成分による流速の変化も小さくなる。したがって、流量センサ１０への脈動の影響は、整流器１で緩和されるが、第１の緩衝室５３Ｃおよび第２の緩衝室５３Ｄによってさらに緩和される。また、これに伴い、流量センサ１０の逆流側検出範囲を小さくできるため、回路のコストダウンとなる。
【００４２】
以上の通り、本発明の実施の形態について説明したが、本発明はこれに限らず、種々の変形、応用が可能である。
【００４３】
たとえば、上述の第２の実施形態では、緩衝室５３Ｂが、ガスメータ本体５の裏側に突出して設けられているが、この緩衝室５３Ｂは、電子化ガスメータの裏カバーによって形成されるように構成しても良い。また、上述の第２の実施形態では、出入り口５３ｂは、整流器１の直前および直後に、それぞれ１個のみ示されているが、これに限らず、流路５３の任意の場所、たとえば流入口５１の直後および流出口５２の直前に設けたり、それぞれの場所に複数個設けたりしても良い。
【００４４】
また、本発明は、上述した電子化ガスメータ以外の流量測定装置にも適用可能である。また、整流器を構成するユニット数や係止片等の形状も、本発明の主旨を逸脱しない範囲で変更可能である。
【００４５】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１記載の発明によれば、流入口または流出口から流路に導入される脈動の流量センサへの影響を緩和することができる。また、これに伴い、流量センサの逆流側検出範囲を小さくできるため、回路のコストダウンとなる。
【００４６】
請求項２、３または４記載の発明によれば、流入口と流出口の間に設置された流量センサ付近での流速変化が小さくなる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る電子化ガスメータの脈動吸収構造を示し、（Ａ）は概略構成図、（Ｂ）は（Ａ）における流路部分を示す部分断面図である。
【図２】図１におけるＸ−Ｘ線断面から見た場合の整流器の構成を説明する略図である。
【図３】本発明の電子化ガスメータの脈動吸収構造で使用される整流器の斜視図である。
【図４】本発明の電子化ガスメータの脈動吸収構造で使用される整流器の分解斜視図である。
【図５】本発明の第２の実施形態に係る電子化ガスメータの脈動吸収構造を示し、（Ａ）は概略構成図、（Ｂ）は（Ａ）における流路部分を示す部分断面図である。
【図６】本発明の第３の実施形態に係る電子化ガスメータの脈動吸収構造を示し、（Ａ）は概略構成図、（Ｂ）は（Ａ）における流路部分を示す部分断面図である。
【図７】従来の電子化ガスメータの構成例を示す概略構成図である。
【図８】図７の電子化ガスメータにおける流路内の位置（Ｘ）に対する圧力変動特性および流速変動特性を示すグラフである。
【符号の説明】
１　　　　整流器
１０　　　流量センサ
５３　　　流路
５３Ａ　　緩衝室
５３Ｂ　　緩衝室
５３ｂ　出入り口
５３Ｃ　　第１の緩衝室
５３ｃ１　出入り口
５３ｃ２　出入り口
５３Ｄ　　第２の緩衝室
５３ｄ１　出入り口
５３ｄ２　出入り口[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a pulsation absorbing structure of an electronic gas meter.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art In recent years, a gas meter provided with a shutoff valve device or the like that integrates a flow rate detected by a flow rate sensor using a microcomputer to calculate a gas usage amount, or shuts off a flow path for security when an abnormality occurs. However, as the size of the gas meter decreases, it becomes impossible to secure a sufficient flow path straight section before and after the flow sensor, and the flow sensor is susceptible to the gas supply pressure on the upstream side and the gas usage on the downstream side. Problems arise. Further, a water heater, a gas heat pump, or the like as gas consuming equipment is often driven intermittently, and therefore, pressure fluctuations, that is, pulsations occur in the flow path, and a backflow may occur. In particular, the pulsation generated by the valve on / off control of the water heater has a frequency of 50 Hz to 150 Hz and a sine wave in a pressure waveform, which is a more severe environment as compared with a gas heat pump. Therefore, it is necessary to detect this backflow to detect a more accurate flow rate. However, due to the presence of an internal device such as a shutoff valve device, the flow path as viewed from the installation position of the flow sensor must be asymmetric. For this reason, the sensor output characteristics at the time of normal flow and at the time of reverse flow become non-uniform, which causes a problem that the load on the microcomputer during the flow rate calculation processing increases.
[0003]
In order to alleviate the above-mentioned problem, an electronic gas meter has been proposed in which a rectifier is installed in a flow path in a meter to which a flow sensor is attached.
[0004]
FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing a configuration example of a conventional electronic gas meter. In FIG. 7, the digitized gas meter is connected between an upstream pipe 51A on the gas supply source side and a downstream pipe 52A on the gas consumption source side. The upstream side pipe 51A and the downstream side pipe 52A are connected to the inflow port 51 and the outflow port 52 of the electronic gas meter at a predetermined interval. The gas flowing in from the inflow port 11 passes through the flow path 53 inside the gas meter, and flows out to the outflow port 52. A flow sensor 10 is attached to a part of the flow path 53, and the gas flow there is measured by the flow sensor 10. The flow sensor 10 is mounted such that its measurement surface slightly protrudes from the inner wall surface of the flow channel into the flow channel. As the flow sensor 10, for example, a micro flow sensor is used.
[0005]
A thermo-electromotive force signal generated by the micro flow sensor and corresponding to the flow velocity flowing through the flow path 53 is output to a microcomputer (CPU) 50. The CPU 50 detects the instantaneous gas flowing through the flow path 53 based on this signal. The instantaneous flow rate of the gas flowing through the flow path 53 is obtained by multiplying this by the coefficient that depends on the cross-sectional area of the flow path 53 and its structure. When detecting an abnormal value of the gas pressure or the gas flow rate in the flow path 53, the CPU 50 closes the shutoff valve of the shutoff valve device 55 A to shut off the gas flowing through the flow path 53.
[0006]
In the flow path 53 where the flow rate sensor 10 is attached, a plurality of rectifying plates 14, a first mesh 15 A and a second mesh 15 B disposed in close contact with both ends of the rectifying plate 14, and a first mesh 15 A The rectifier 1 including the third mesh 15C arranged at a predetermined interval on the upstream side is mounted. By mounting the rectifier 1, the flow of gas near the flow sensor 10 is rectified, thereby reducing the influence on the flow sensor 10 from the upstream side and the downstream side, and increasing the detection accuracy of the flow sensor 10.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the electronic gas meter having the above-described configuration, when a pulsation is introduced into the flow path 53 from the gas supply source side or the gas consumption source side, when the pressure changes in the flow path 53 due to the pulsation, the curve P in FIG. If the flow sensor 10 is located at the antinode position (the position surrounded by the circles A and A ') in the pressure fluctuation characteristic shown by, the influence of pulsation (flow rate change) on the flow sensor 10 is reduced. However, depending on the condition of the piping, the position of the flow sensor 10 may come to the position of the node shown in FIG. 8 (the position surrounded by a circle B). In this case, the influence of the pulsation on the flow sensor 10 (flow velocity) Change) becomes larger on the contrary.
[0008]
This is because, in the flow path 53, the change in the flow velocity caused by the change in the gas pressure is in a relationship in which the phase is shifted by 90 degrees with respect to the pressure change as shown by a curve V in FIG. . That is, at the antinode of the pressure fluctuation (positions surrounded by circles A and A '), the change of the flow velocity is almost zero, and at the node of the pressure fluctuation (position surrounded by circle B), the fluctuation of the flow velocity is Almost maximum.
[0009]
Accordingly, the present invention has been made to solve the above-described conventional problems, and to provide a pulsation absorption structure of an electronic gas meter that can reduce the influence of pulsation, reduce flow variation, and contribute to stable flow measurement. And
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 1 is characterized in that a flow sensor is installed in a flow path in a meter, and an installation position of the flow sensor is located upstream and downstream of the flow sensor. A buffer chamber for adjusting so as to substantially coincide with a position of an antinode of pressure fluctuation due to pulsation introduced from the inlet or the outlet from the outlet to the flow path, wherein the buffer chamber is provided. Exist in the pulsation absorbing structure.
[0011]
According to the first aspect of the present invention, the flow sensor is installed in the flow path in the meter, and the flow sensor is installed on the upstream side and the downstream side of the flow path from the inlet or the outlet of the flow path. Since a buffer chamber is provided for adjusting the pressure fluctuation to substantially coincide with the antinode position of the pressure fluctuation caused by the pulsation introduced into the flow path, the influence of the pulsation introduced into the flow path from the inflow port or the outflow port on the flow sensor Can be alleviated. In addition, the detection range of the reverse flow side of the flow sensor can be reduced, thereby reducing the cost of the circuit.
[0012]
The invention according to claim 2, which has been made to solve the above-mentioned problem, is characterized in that the buffer chamber is provided immediately after an inlet and an outlet of the flow path, respectively. In the pulsation absorption structure of the electronic gas meter.
[0013]
According to the invention described in claim 2, the buffer chamber is provided immediately after the inlet of the flow path and immediately before the outlet, so that the buffer chamber is provided near the flow sensor installed between the inlet and the outlet. The effect of reducing the change in the flow velocity is obtained.
[0014]
The invention according to claim 3 has been made to solve the above-described problem. The buffer chamber is provided on the back side of the meter, and has an entrance to the buffer chamber on an upstream side and a downstream side of the flow sensor, respectively. A pulsation absorbing structure for an electronic gas meter according to claim 1, wherein the pulsation absorbing structure is provided.
[0015]
According to the third aspect of the present invention, the buffer chamber is provided on the back side of the meter, and the entrance to the buffer chamber is provided on the upstream side and the downstream side of the flow sensor, respectively. The effect of reducing the change is obtained.
[0016]
The invention according to claim 4, which has been made to solve the above problem, is characterized in that the flow rate sensor has a hole between an introduction path communicating with an inlet of the flow path and an output path communicating with an outlet of the flow path. The buffer chamber is installed in a measurement path separated by a partition plate, and the buffer chamber is between a first buffer chamber having an entrance and an exit between the introduction path and the measurement path, and the discharge path. 2. A pulsation absorbing structure for an electronic gas meter according to claim 1, further comprising a second buffer chamber having an entrance and an exit between the measurement path and the measurement path.
[0017]
According to the invention described in claim 4, the flow rate sensor is provided in the measurement path divided by the partition plate with a hole between the introduction path communicating with the flow path inlet and the discharge path communicating with the flow path outlet. The buffer chamber is provided with a first buffer chamber having an entrance between the introduction path and the measurement path, and a second buffer having an entrance between the discharge path and the measurement path. Since it is composed of the buffer chamber, the effect of reducing the change in flow velocity near the flow sensor can be obtained.
[0018]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 1A and 1B show a pulsation absorbing structure of an electronic gas meter according to a first embodiment of the present invention, wherein FIG. 1A is a schematic configuration diagram, and FIG. 1B is a partial cross-sectional view showing a flow path portion in FIG. . In FIG. 1, the digitized gas meter is connected between an upstream pipe 51A on the gas supply source side and a downstream pipe 52A on the gas consumption source side. The inflow port 51 and the outflow port 52 of the gas meter main body 5 of the electronic gas meter are connected to each other at a predetermined interval between the upstream pipe 51A and the downstream pipe 52A. The gas flowing in from the inflow port 11 passes through the flow path 53 inside the gas meter, and flows out to the outflow port 52. A rectifier accommodating portion 54 corresponding to the shape of the rectifier 1 is formed in the middle of the flow path 53 to accommodate the rectifier 1.
[0019]
As shown in FIG. 1A, the rectifier accommodating section 54 includes a first mesh unit accommodating section 541, a second mesh unit accommodating section 542, and a rectifying plate unit accommodating section 543. In particular, a circular sensor hole 544 corresponding to the measurement surface of the flow rate sensor for detecting the flow rate of the gas passing through the flow path 53 is provided in the current plate unit housing 543. Specifically, the position of the sensor hole 544 is provided at the center of the current plate unit accommodating portion 543.
[0020]
The rectifier 1 includes a plurality of rectifying plates 14 and first to third meshes 15A, 15B, and 15C, as shown in FIGS. The plurality of current plates 14 have the same shape, and are equally spaced so as to divide the cross section of the flow path 53 into a plurality of small flow paths, for example, six layers of small flow paths substantially uniformly in the flow direction. They are arranged so as to be parallel. That is, the top straightening plate 14 of the plurality of straightening plates 14 forms a small channel of the first layer in which the flow rate sensor 10 is installed, and is located directly below the top straightening plate 14. A certain current plate 14 forms a second layer of small channels with the uppermost current plate 14, and similarly forms a third layer of small channels to a sixth layer of small channels. Have been. The plurality of rectifying plates 14 are arranged based on the installation location of the flow sensor 10, and more specifically, the length from the installation position of the flow sensor 10 to one end of the rectifying plate 14 along the flow direction ( L1) is arranged to be the same as the length (L2) from the installation position of the flow sensor 10 to the other end of the current plate 14.
[0021]
The first mesh 15A and the second mesh 15B are arranged in the middle of the flow channel 53 so as to sandwich the plurality of current plates 14 from the upstream side (left side in the drawing) and the downstream side (right side in the drawing), respectively. . Further, the third mesh 15C is disposed at a predetermined interval on the upstream side of the first mesh 15A in the middle of the flow path 53. The fineness of the first mesh 15A, the second mesh 15B, and the third mesh 15C, that is, the number of grids per square inch is, for example, 80, 40, and 80, respectively. That is, the number of grids of each mesh is 80 (dense), 80 (dense), and 40 (coarse) in order from the upstream side.
[0022]
Immediately after the inflow port 51 and immediately before the outflow port 52 of the flow channel 53, a buffer chamber 53A communicating with the flow channel 53 is provided.
[0023]
Next, a specific configuration of a rectifier used in the pulsation absorbing structure of the electronic gas meter according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 3 and 4 are a perspective view and an exploded perspective view of the rectifier, respectively.
[0024]
As shown in FIGS. 3 and 4, the rectifier 1 includes first and second mesh units 11 and 12 and a rectifying plate unit 13. These units 11, 12, and 13 are separately formed, and are integrated to form one rectifier 1. Such a rectifier 1 is mounted, for example, in a rectifier accommodating portion 54 formed in the middle of a flow path 53 where the flow sensor 10 of the gas meter is installed.
[0025]
The first mesh unit 11 covers a rectangular cylindrical outer frame portion having a predetermined length and both opening surfaces formed by the outer frame portions, respectively, and is arranged in a gas flow direction of a flow path in which the rectifier 1 is mounted. The first mesh 15A and the third mesh 15C as shown in FIGS. 1B and 2 are fixed to the outer frame so as to be vertical. Specifically, the third mesh 15C and the first mesh 15A are fixed to cover the upstream opening surface and the downstream opening surface of the outer frame portion, respectively. For this fixing, for example, ultrasonic vibration welding is used. The outer frame and the mesh are made of, for example, heat-resistant plastic and metal, respectively. Flexible arm-shaped locking pieces 111 and 113 project from both side edges of the first mesh unit 11. Inwardly adjacent locking projections 111a and 113a are formed near the tips of the locking pieces 111 and 113, respectively.
[0026]
The second mesh unit 12 has a configuration similar to that of the first mesh unit 11, and includes a rectangular cylindrical outer frame portion having a predetermined length and an upstream opening surface formed by the outer frame portion. The second mesh 15B as shown in FIGS. 1B and 2 so as to be perpendicular to the gas flow direction of the flow path in which the rectifier 1 is mounted so as to cover the downstream opening surface of the outer frame. Is fixed. For this fixing, for example, ultrasonic vibration welding is used. The outer frame and the mesh are made of, for example, heat-resistant plastic and metal, respectively. Flexible arm-shaped locking pieces 122 and 124 also protrude from the edges of both sides on the upstream side of the second mesh unit 12. Inwardly adjacent locking projections 122a and 124a are formed near the tips of the locking pieces 122 and 124, respectively. Here, the upstream side or the downstream side indicates the upstream side or the downstream side at the time of normal flow.
[0027]
On the other hand, the current plate unit 13 has a plurality of thin plates as shown in FIG. 2 so as to equally divide the cross section of the flow path into an outer frame portion having a predetermined length and having a concave cross section, and an inner wall of the outer frame portion. Rectifying plates 14A to 14E are arranged in parallel at equal intervals. Both the outer frame and the current plates 14A to 14E are made of, for example, heat-resistant plastic. The locking plate unit 13 is formed with four locking grooves 131, 132 and the like (locking grooves corresponding to the locking pieces 113, 124 are not shown) so that the opposing side outer walls are cut out. . Specifically, the locking groove 131 includes a slide groove 131b in which the locking protrusion 111a of the locking piece 111 can slide, and a locking recess 131a having a shape corresponding to the locking protrusion 111a. In addition, a plurality of grooves 135 into which five thin plate-shaped current plates 14 are slidably inserted are formed in the inner walls of the outer frame portion of the current plate unit 13 opposite to each other. The five current plates 14 are mounted using these grooves 135. The same applies to the other locking grooves 132 and the like, and the description is omitted here.
[0028]
Then, the first mesh unit 11 and the second mesh unit 12 are assembled so as to sandwich the current plate unit 13 from both sides, and the rectifier 1 is formed. That is, when the rectifier 1 is assembled, first, the plurality of rectifying plates 14 are slid and inserted into the plurality of grooves 135 of the rectifying plate unit 13, respectively. Next, the sliding protrusions 111a and 113a of the locking pieces 111 and 113 are guided to the locking recesses 131a and the like while sliding on the sliding grooves 131b and the like of the locking grooves 131 and 133, and the locking protrusions 111a and 113a is engaged with the locking recess 131a and the like. As a result, the first mesh unit 11 is fixed to the current plate unit 13.
[0029]
Similarly, when the second mesh unit 12 is fixed to the current plate unit 13, the locking projections 122 a and 124 a of the locking pieces 122 and 124 are slid on slide grooves 132 b and the like of the locking grooves 132 and the like. The locking projections 122a and 124a are engaged with the locking recesses 132a and the like. The fixing of the second mesh unit 12 to the current plate unit 13 may be performed prior to the fixing of the first mesh unit 11 to the current plate unit 13. The first mesh unit 11 and the second mesh unit 12 may be fixed to the current plate unit 13 at the same time.
[0030]
The rectifier 1 assembled in this manner is fixed to a predetermined position of the flow path 53 of the gas meter main body 5 shown in FIG. In detail, the rectifier plate 14 disposed at the top of the rectifier 1 shown in FIG. 2 faces the sensor hole 544 of the rectifier accommodating portion 54 of the gas meter main body 5 shown in FIG. The mesh unit 11, the second mesh unit 12, and the rectifying plate unit 13 of the rectifier accommodating portion 54 constitute the rectifier receiving portion 54, the first mesh unit receiving portion 541, the second mesh unit receiving portion 542, and the rectifying plate unit receiving portion 543. The rectifier 1 is mounted from the back of the gas meter main body 5 in a corresponding manner. When mounted in this way, as described above, the lengths L1 and L2 of the flow straightening plates 14 before and after the flow sensor 10 along the flow direction become the same.
[0031]
As described above, by installing the rectifier 1 in the flow path 53, the influence of the pulsation introduced from the upstream side and the downstream side is reduced. Further, since the lengths of the rectifying plates 14 before and after the flow sensor 10 along the flow direction are the same, the output characteristics of the flow sensor 10 at the time of normal flow and at the time of reverse flow are also uniformed. Therefore, since the same parameters and processing procedures can be applied at the time of normal flow and reverse flow, the flow rate calculation processing is simplified and the load on the microcomputer is reduced.
[0032]
Further, in the present invention, as described above, the buffer chamber 53A communicating with the flow path 53 is provided immediately after the inflow port 51 and immediately before the outflow port 52 of the flow path 53.
[0033]
The buffer chamber 53A performs an operation of adjusting the installation position of the flow sensor 10 so as to substantially coincide with the antinode of pressure fluctuation due to pulsation introduced into the flow path 53 from the inflow port 51 or the outflow port 52. More specifically, for the frequency component having the largest amplitude of the pressure fluctuation among the pulsations introduced from the inlet 51 or the outlet 52 to the flow path 53, the position of the antinode of the pressure fluctuation (that is, the curve in FIG. 8) The size of the space of the buffer chamber 53A, that is, the volume, is set so that the installation position of the flow rate sensor 10 substantially matches the antinode position (the position surrounded by circles A and A ') in the pressure fluctuation characteristic indicated by P. You.
[0034]
Specifically, the capacity of the buffer chamber is, for example, 1 liter or less. As an example, assuming that a flow rate of ± 2000 (liters / hour) fluctuates with respect to a pulsation frequency of 15 Hz, the fluctuation amount of the flow rate is 1 liter or less according to the following formula.
{2 x 2000 (liter) / 3600 (seconds)} x (1/15) = 0.074 (liter)
Therefore, a capacity of the buffer chamber 53A of 1 liter or less is sufficient.
[0035]
According to the first embodiment configured as described above, the fluctuation of the flow velocity which is delayed by a phase difference of substantially 90 degrees with respect to the pressure fluctuation due to the frequency component having the largest amplitude of the pressure fluctuation in the pulsation is detected by the flow rate sensor 10. In the vicinity, it becomes almost zero, and the change in the flow velocity due to the pulsation frequency component having a frequency close to the frequency of the above-mentioned pulsation frequency component also becomes small. Therefore, the influence of the pulsation on the flow sensor 10 is reduced by the rectifier 1, but is further reduced by the buffer chamber 53A. In addition, the detection range of the reverse flow side of the flow rate sensor 10 can be reduced, thereby reducing the cost of the circuit.
[0036]
Next, FIG. 5 shows a pulsation absorbing structure of an electronic gas meter according to a second embodiment of the present invention, where (A) is a schematic configuration diagram and (B) is a partial cross section showing a flow path portion in (A). FIG. In FIG. 2, the arrangement of the flow sensor 10 and the rectifier 1 in FIG. 1 is the same, but instead of the buffer chamber 53A in FIG. 1, a buffer chamber 53B having the same operation and effect as the buffer chamber 53A is provided. 5 is provided on the rear side of the flow sensor, and an entrance 53b to the buffer chamber 53B is provided immediately before and immediately after the rectifier 1 on the upstream side and the downstream side of the flow sensor.
[0037]
In the above-described configuration, as in the first embodiment, pulsation is introduced into the flow path 53 from the inflow port 51 or the outflow port 52 by appropriately setting the volume of the buffer chamber 53B provided on the back side of the gas meter main body 5. In this case, the pulsating gas flow enters and exits the buffer chamber 53B via the entrance 53b, whereby the installation position of the flow sensor 10 substantially coincides with the antinode of pressure fluctuation due to pulsation.
[0038]
As a result, also in the second embodiment configured as described above, the fluctuation of the flow velocity that lags behind the pressure fluctuation due to the frequency component having the largest amplitude of the pressure fluctuation by a phase difference of about 90 degrees in the pulsation is the flow rate. It becomes substantially zero near the sensor 10, and the change in the flow velocity due to the pulsation frequency component having a frequency close to the frequency of the pulsation frequency component described above also becomes small. Therefore, the influence of the pulsation on the flow sensor 10 is reduced by the rectifier 1, but is further reduced by the buffer chamber 53B. In addition, the detection range of the reverse flow side of the flow rate sensor 10 can be reduced, thereby reducing the cost of the circuit.
[0039]
Next, FIG. 6 shows a pulsation absorbing structure of an electronic gas meter according to a third embodiment of the present invention, where (A) is a schematic configuration diagram and (B) is a partial cross section showing a flow path portion in (A). FIG. In FIG. 6, a vertical flow direction introduction path communicating with the inflow port 51 and a vertical flow direction derivation path communicating with the outflow port 52 in the U-shaped flow path 53, and a horizontal flow direction measurement path are shown. And a partition plate 60 having a hole 60a through which gas passes. The rectifier 1 and the flow rate sensor 10 are arranged in a measurement path divided by the partition plate 60 with a hole. A first buffer chamber 53C and a second buffer chamber 53D are provided at the lower part of the measurement path and the lower part of the lead-out path and the measurement path, respectively. The first buffer chamber 53C has entrances and exits 53c1 and 53c2 in which gas flows in from the introduction path and flows out of the measurement path at the time of normal flow, and the second buffer chamber 53D has gas at the time of reverse flow when gas flows from the discharge path. It has entrances 53d1 and 53d2 that flow in and exit to the measurement path.
[0040]
In the above-described configuration, the first buffer chamber 53C and the second buffer chamber 53D have the same volume, and when pulsation is introduced into the flow path 53 from the inflow port 51 by appropriately setting these volumes, The pulsating gas flow enters the measurement path from the introduction path via the hole 60a, enters the first buffer chamber 53B via the entrance 53c1, and enters the measurement path via the entrance 53c2. When pulsation is introduced into the flow path 53 from the outlet 52, the pulsating gas flow enters the measurement path from the outlet path through the hole 60a, and enters the second buffer chamber through the entrance 53d1. Enter 53D and enter the measurement path via the entrance 53c2. Due to such gas inflow and outflow, the installation position of the flow rate sensor 10 becomes substantially coincident with the antinode of pressure fluctuation due to pulsation.
[0041]
As a result, even in the third embodiment configured as described above, the fluctuation of the flow velocity that is delayed by a phase difference of about 90 degrees with respect to the pressure fluctuation due to the frequency component having the largest amplitude of the pressure fluctuation in the pulsation is the flow rate. It becomes substantially zero near the sensor 10, and the change in the flow velocity due to the pulsation frequency component having a frequency close to the frequency of the pulsation frequency component described above also becomes small. Therefore, the influence of the pulsation on the flow sensor 10 is reduced by the rectifier 1, but is further reduced by the first buffer chamber 53C and the second buffer chamber 53D. In addition, the detection range of the reverse flow side of the flow rate sensor 10 can be reduced, thereby reducing the cost of the circuit.
[0042]
As described above, the embodiment of the present invention has been described. However, the present invention is not limited to this, and various modifications and applications are possible.
[0043]
For example, in the above-described second embodiment, the buffer chamber 53B is provided so as to project from the back side of the gas meter main body 5, but the buffer chamber 53B is configured to be formed by the back cover of the electronic gas meter. May be. Further, in the above-described second embodiment, only one entrance 53b is shown immediately before and immediately after the rectifier 1; however, the invention is not limited to this, and any place in the flow path 53, for example, the entrance 51 And immediately before the outlet 52, or a plurality of them may be provided at each location.
[0044]
The present invention is also applicable to a flow measuring device other than the above-described electronic gas meter. Further, the number of units constituting the rectifier and the shapes of the locking pieces and the like can be changed without departing from the gist of the present invention.
[0045]
【The invention's effect】
As described above, according to the first aspect of the invention, it is possible to reduce the influence of the pulsation introduced from the inflow port or the outflow port on the flow sensor. In addition, the detection range of the reverse flow side of the flow sensor can be reduced, thereby reducing the cost of the circuit.
[0046]
According to the second, third or fourth aspect of the present invention, the effect of reducing the change in the flow velocity near the flow sensor installed between the inflow port and the outflow port can be obtained.
[Brief description of the drawings]
1A and 1B show a pulsation absorbing structure of an electronic gas meter according to a first embodiment of the present invention, wherein FIG. 1A is a schematic configuration diagram, and FIG. 1B is a partial cross-sectional view showing a flow path portion in FIG. .
FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a configuration of a rectifier as viewed from a cross section taken along line XX in FIG.
FIG. 3 is a perspective view of a rectifier used in the pulsation absorbing structure of the electronic gas meter of the present invention.
FIG. 4 is an exploded perspective view of a rectifier used in the pulsation absorbing structure of the electronic gas meter of the present invention.
5A and 5B show a pulsation absorbing structure of an electronic gas meter according to a second embodiment of the present invention, wherein FIG. 5A is a schematic configuration diagram, and FIG. 5B is a partial cross-sectional view showing a flow path portion in FIG. .
6A and 6B show a pulsation absorbing structure of an electronic gas meter according to a third embodiment of the present invention, wherein FIG. 6A is a schematic configuration diagram, and FIG. .
FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing a configuration example of a conventional electronic gas meter.
8 is a graph showing a pressure fluctuation characteristic and a flow velocity fluctuation characteristic with respect to a position (X) in a flow path in the electron gas meter of FIG.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Rectifier 10 Flow sensor 53 Flow path 53A Buffer chamber 53B Buffer chamber 53b Doorway 53C First buffer chamber 53c1 Doorway 53c2 Doorway 53D Second buffer chamber 53d1 Doorway 53d2 Doorway

Claims

A flow sensor is installed in the flow path in the meter, and on the upstream and downstream sides of the flow sensor, the installation position of the flow sensor is determined by the pulsation introduced into the flow path from the inlet or outlet of the flow path. A pulsation absorbing structure for an electronic gas meter, wherein a buffer chamber for adjusting the pressure fluctuation to substantially coincide with the antinode of pressure fluctuation is provided.

The pulsation absorbing structure for an electronic gas meter according to claim 1, wherein the buffer chamber is provided immediately after an inlet of the flow channel and immediately before an outlet of the flow channel.

The pulsation of the electronic gas meter according to claim 1, wherein the buffer chamber is provided on the back side of the meter, and an entrance to the buffer chamber is provided on an upstream side and a downstream side of the flow sensor, respectively. Absorption structure.

The flow rate sensor is installed in a measurement path separated by a hole-partitioning plate between an introduction path communicating with an inflow port of the flow path and an outflow path communicating with an outflow path of the flow path,
The buffer chamber has a first buffer chamber having an entrance between the introduction path and the measurement path, and a second buffer chamber has an entrance between the lead path and the measurement path. 2. A pulsation absorbing structure for an electronic gas meter according to claim 1, wherein said pulsation absorbing structure comprises: