JP2004083835A - New phosphonium compound and thermosetting resin composition containing the same - Google Patents

New phosphonium compound and thermosetting resin composition containing the same Download PDF

Info

Publication number
JP2004083835A
JP2004083835A JP2002319477A JP2002319477A JP2004083835A JP 2004083835 A JP2004083835 A JP 2004083835A JP 2002319477 A JP2002319477 A JP 2002319477A JP 2002319477 A JP2002319477 A JP 2002319477A JP 2004083835 A JP2004083835 A JP 2004083835A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
optionally substituted
thermosetting resin
formula
resin composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002319477A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4397575B2 (en
Inventor
Takeshi Endo
遠藤 剛
Takeshi Okada
岡田 雄志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nichia Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Nichia Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nichia Chemical Industries Ltd filed Critical Nichia Chemical Industries Ltd
Priority to JP2002319477A priority Critical patent/JP4397575B2/en
Publication of JP2004083835A publication Critical patent/JP2004083835A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4397575B2 publication Critical patent/JP4397575B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new compound without requiring a high temperature for curing reaction and becoming a curing catalyst having a high polymerization activity and a thermosetting resin composition containing the same and excellent in preservation stability. <P>SOLUTION: This phosphonium compound expressed by general formula (I). The thermosetting composition is obtained by blending the phosphonium compound containing ≥2 phosphorus atoms having the phosphonium group in at least one of R<SP>1</SP>to R<SP>4</SP>in general formula (I), as a thermally latent cationic polymerization catalyst with the thermosetting resin. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は新規なホスホニウム化合物に関する。さらに詳しくは、本発明は新規なホスホニウム化合物に関するとともにこの化合物からなる重合触媒、この化合物を含む熱硬化性樹脂組成物ならびにそれを熱硬化させた樹脂組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】
エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂と重合触媒とからなる一液性の熱硬化性樹脂組成物は作業性などに優れているため従来から広く用いられている。一液性の熱硬化性樹脂組成物用重合触媒としては、低温では重合反応は開始せず、ある一定の温度以上に加熱した時に速やかに重合反応が進行するとともに、得られた熱硬化性樹脂硬化物に着色や臭気を付与せず、しかも硬化物の安定性に影響を与えないという性質が要求される。
このような一液性の熱硬化性樹脂組成物における重合触媒として、従来からベンジルホスホニウム化合物やホスホニウム塩が使用されている(例えば、特許文献1および2参照)。しかし、これらのホスホニウム塩は、熱硬化性樹脂であるエポキシ樹脂に対する重合活性が低く、硬化に120℃以上の温度を必要とするため使用範囲が制限されてしまう問題点がある。さらに、これらのホスホニウム化合物では、得られる熱硬化性樹脂硬化物の安定性が十分ではないという問題点もある。
【0003】
【特許文献1】
特開平5−105692号公報
【特許文献2】
特開平6−157624号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本願発明の目的は、上記した問題点を解決することにあり、硬化反応に高温を必要とせず、しかも重合活性の高い硬化触媒となる新規化合物およびそれを含有する保存安定性に優れた熱硬化性樹脂組成物ならびにその硬化物を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、下記一般式(I)で示されるホスホニウム化合物が熱硬化性樹脂の硬化触媒として使用すると、120℃以下の低温で硬化反応が進行し、かつ高活性であることを見出し、この知見に基づき本発明を完成した。
すなわち本発明は、
(1)一般式(I):
【化3】

Figure 2004083835
(式中、R〜Rは、同一または異なって、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいジアリールメチル基または式(II):
【化4】
Figure 2004083835
(式中、R〜Rは、同一または異なって、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいジアリールメチル基を示し、R〜R11は、同一または異なって水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基であり、Aは置換されていてもよい芳香族炭化水素環であり、nは1〜5の整数、mは0または1であり、Xはハロゲン原子、SbF、AsF、PF、BFまたはBPhを表す。)で表される基を示し(ただし、R〜Rのうち少なくとも1つは式(II)で表される基である。)、または、R〜Rのうちのいずれか1つと、R〜Rのうちのいずれか1つとが一緒になって低級アルキレン基を形成してリン原子2個を含む複素環を形成してもよく、Xは式(II)における定義と同義である。)で示されるホスホニウム化合物、
(2)R〜Rのうち少なくとも1つは、上記式(II)で表される基であって、R〜Rが同一または異なってフェニル基、置換されていてもよいベンジル基、ナフチルメチル基、置換されていてもよいジフェニルメチル基または置換されていてもよいアルキル基であり、Rが水素原子、Rが水素原子またはフェニル基、nが1〜4の整数、mが0であり、R〜Rのうちの残りはフェニル基、置換されていてもよいベンジル基、ナフチルメチル基、置換されていてもよいジフェニルメチル基または置換されていてもよいアルキル基である上記(1)記載のホスホニウム化合物、
(3)Rは、上記式(II)で表される基であって、R、RおよびRがフェニル基であり、Rが水素原子であり、mが0、nが2であり、RはRと一緒になって炭素数1〜4のアルキレン基を形成し、RおよびRはフェニル基である上記(1)記載のホスホニウム化合物、
(4)Rは、上記式(II)で表される基であって、R〜Rがフェニル基または式:−(CH−PPh(式中、pは1〜4の整数を示す)で表される基、R〜R11が水素原子、Aが置換されていてもよいベンゼン環であり、mおよびnが1であり、R〜Rはフェニル基または式:−(CH−PPh(式中、pは1〜4の整数を示す)で表される基である上記(1)記載のホスホニウム化合物、
(5)Rは、上記式(II)で表される基であって、RおよびRがフェニル基、R〜R11が水素原子、Aが置換されていてもよいベンゼン環であり、mおよびnが1であり、RはRと一緒になって炭素数1〜8のアルキレン基を形成し、RおよびRはフェニル基である上記(1)記載のホスホニウム化合物、
(6)上記(1)〜(5)のいずれか1に記載のホスホニウム化合物からなる重合触媒、
(7)熱硬化性樹脂に、上記(1)〜(5)のいずれか1に記載のホスホニウム化合物を配合してなる熱硬化性樹脂組成物、
(8)熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂である上記(7)記載の熱硬化性樹脂組成物、
(9)エポキシ樹脂100重量部に対し、上記(2)〜(5)のいずれか1に記載のホスホニウム化合物を0.01〜10重量部含有してなる上記(8)記載の熱硬化性樹脂組成物、
(10)ホスホニウム化合物の対イオンXがSbF である上記(9)記載の熱硬化性樹脂組成物、および
(11)上記(7)〜(9)のいずれか1に記載の熱硬化性樹脂組成物を加熱・硬化させて得られる硬化物を提供する。
【0006】
【発明の実施の形態】
本発明に係る新規なホスホニウム化合物および重合触媒は下記一般式(I)で示されることを特徴としている。
【化5】
Figure 2004083835
ここで、R〜Rのうち少なくとも1つは式(II):
【化6】
Figure 2004083835
で表される基である。
式(II)中、R〜Rは、同一または異なって、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいジアリールメチル基を示し、R〜R11は、同一または異なって水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基であり、Aは置換されていてもよい芳香族炭化水素環であり、nは1〜5の整数、mは0または1であり、Xはハロゲン原子、SbF、AsF、PF、BFまたはBPhを表す。
式(I)におけるR〜Rのうち式(II)で表される基以外のものは、同一または異なって、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいジアリールメチル基である。またはR〜Rのうちのいずれか1つと、R〜Rのうちのいずれか1つとが一緒になって低級アルキレン基を形成してリン原子2個を含む複素環を形成してもよい。
また、式(I)におけるXは、式(II)における定義と同義である。
〜Rの置換されていてもよいアルキル基の置換アルキル基としては、たとえば式:−(CH−PPh(式中、pは1〜4の整数を示す)で表される基などが挙げられる。
〜Rの置換されていてもよいアリール基のアリール基としては、たとえばフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、該置換基としては、たとえばフッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、シアノ基、ベンゾイル基、アルキル基などが挙げられる。
〜Rの置換されていてもよいアラルキル基としては、たとえばベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、ピレニルメチル基およびアントラセニルメチル基などが挙げられ、該置換基としては、たとえばフッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、シアノ基、ベンゾイル基、アルキル基、トリフルオロメチルなどのハロゲン化アルキル基、置換されていてもよいフェニル基(該置換基としては、たとえばフッ素、塩素などのハロゲン原子、トリフルオロメチルなどのハロゲン化アルキル基等)などが挙げられ、置換基の数は1または2が好ましい。
〜Rの置換されていてもよいジアリールメチル基としては、たとえばジフェニルメチル基などが挙げられ、置換基としてはフッ素、塩素などのハロゲン原子等が挙げられる。
また、式(II)におけるR〜Rの置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基および置換されていてもよいジアリールメチル基は、それぞれ、上記R〜Rにおける置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基および置換されていてもよいジアリールメチル基の定義と同義である。
また、R〜Rのうちのいずれか1つと、R〜Rのうちのいずれか1つとが一緒になって低級アルキレン基を形成してリン原子2個を含む複素環を形成する場合の該低級アルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ブチレン、イソブチレンなどの炭素数1〜4のアルキレン基が好ましい。
【0007】
本発明に係る一般式(I)で表されるホスホニウム化合物としては、具体的には以下の4つのタイプの化合物を挙げることができる。
第1のタイプの化合物としては、上記式(I)において、R〜Rのうち少なくとも1つは、上記式(II)で表される基であって、R〜Rが同一または異なってフェニル基、置換されていてもよいベンジル基、ナフチルメチル基、置換されていてもよいジフェニルメチル基または置換されていてもよいアルキル基であり、Rが水素原子、Rが水素原子またはフェニル基、nが1〜4の整数、mが0であり、R〜Rのうちの残りの基はフェニル基、置換されていてもよいベンジル基、ナフチルメチル基、置換されていてもよいジフェニルメチル基または置換されていてもよいアルキル基であるホスホニウム化合物が挙げられる。
ここで、R〜Rの置換されていてもよいベンジル基の置換基としては、たとえばフッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、シアノ基、ベンゾイル基、アルキル基、トリフルオロメチルなどのハロゲン化アルキル基、置換されていてもよいフェニル基(該置換基としては、たとえばフッ素、塩素などのハロゲン原子、トリフルオロメチルなどのハロゲン化アルキル基等)などが挙げられ、置換基の数は1または2が好ましい。
〜Rの置換されていてもよいジフェニルメチル基の置換基としては、フッ素、塩素などのハロゲン原子等が挙げられる。
〜Rの置換されていてもよいアルキル基の置換アルキル基としては、たとえば式:−(CH−PPh(式中、pは1〜4の整数を示す)で表される基などが挙げられる。
また、R〜Rの置換されていてもよいベンジル基、置換されていてもよいジフェニルメチル基および置換されていてもよいアルキル基の具体例としては、各々上記R〜Rにおけると同様のものが挙げられる。
【0008】
第2のタイプの化合物としては、上記式(I)において、Rは、上記式(II)で表される基であって、R、RおよびRがフェニル基であり、Rが水素原子であり、mが0、nが2であり、RはRと一緒になって炭素数1〜4のアルキレン基を形成し、RおよびRはフェニル基である下記式(III)で示されるホスホニウム化合物が挙げられる。
【化7】
Figure 2004083835
式中、qは1〜4の整数であり、Xはハロゲン原子、SbF、AsF、PF、BFまたはBPhを表す。
【0009】
第3のタイプの化合物としては、上記式(I)において、Rは、上記式(II)で表される基であって、R〜Rがフェニル基または式:−(CH−PPh(式中、pは1〜4の整数を示す)で表される基、R〜R11が水素原子、Aが置換されていてもよいベンゼン環であり、mおよびnが1であり、R〜Rはフェニル基または式:−(CH−PPh(式中、pは1〜4の整数を示す)で表される基である、下式(IV)で示されるホスホニウム化合物が挙げられ
る。
【化8】
Figure 2004083835
ここで、R12およびR13は、式(II)におけるAの置換されていてもよいベンゼン環の置換基であり、たとえばアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基などが挙げられる。また、置換基:−CH−P・Xの置換位置は、o、mおよびp位のいずれであってもよい。Xはハロゲン原子、SbF、AsF、PF、BFまたはBPhを表す。
【0010】
第4のタイプの化合物としては、上記式(I)において、Rは、上記式(II)で表される基であって、RおよびRがフェニル基、R〜R11が水素原子、Aが置換されていてもよいベンゼン環であり、mおよびnが1であり、RはRと一緒になって炭素数1〜8のアルキレン基を形成し、RおよびRはフェニル基である、下記式(V)で示されるホスホニウム化合物が挙げられる。
【化9】
Figure 2004083835
ここで、R14およびR15は、式(II)におけるAの置換されていてもよいベンゼン環の置換基であり、式(IV)のR12およびR13と同様のものが挙げられる。また、rは1〜8の整数であるが、式(V)におけるベンゼン環上のリン原子が結合したメチレン基が相互にo位にある場合は、rは1〜4の整数であり、前記メチレン基が相互にm位またはp位にある場合は、rは4〜8の整数を示す。Xはハロゲン原子、SbF、AsF、PF、BFまたはBPhを表す。
【0011】
本発明における一般式(I)で示されるホスホニウム化合物は、自体公知の方法により、たとえば、有機3級ホスフィン化合物とベンジルハライド等の有機ハロゲン化物とを反応させて有機ホスホニウムハライドを調製し、次いで塩交換を行うことにより製造することができる。
このような有機ホスホニウムハライドの調製は、有機溶媒中で行うことができる。有機溶媒としては例えば、メタノール、アセトン、アセトニトリル、N,N−ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。
また反応温度は室温〜110℃、好ましくは30〜80℃程度である。反応終了後、反応液を濃縮し、次いで再結晶させるなど常法により精製を行うことにより上記のような本発明に係る新規な有機ホスホニウムハライドが得られる。
さらに、得られた有機ホスホニウムハライドの対イオンを常法により、例えばKSbF、NaSbFなどを用いてSbF に塩変換することによって目的とする新規なホスホニウム塩を製造することができる。
このような対イオン交換反応は水、あるいは水−メタノール、水−アセトン、水−アセトニトリルなどの水性溶媒中で行うことができる。
【0012】
本発明に係るホスホニウム化合物は重合触媒として優れた特性を有する。すなわち、カチオン重合あるいはラジカル重合に対して高い触媒活性を示す。これらの触媒をエポキシ樹脂に使用する場合は、ホスホニウム化合物の対イオンXはSbF 、AsF 、PF 、BF またはBPh であるものが好ましく、特にSbF であるものが重合活性が高く、少量の触媒使用量で硬化反応が進行するので熱潜在性カチオン重合触媒として好ましく使用される。例えばこれらをエポキシ化合物からなる熱硬化性樹脂組成物の重合触媒として用いると、80℃以下では殆ど重合活性を示さないが、90〜120℃で顕著な重合活性を示し、速やかに硬化反応が進行する。また、得られた熱硬化性樹脂組成物の硬化物は、着色したり、臭気を有することもなく、安定性にも優れている。さらに、本発明に係るホスホニウム化合物を含む熱硬化性樹脂組成物は、スルホニウム化合物を含む熱硬化性樹脂組成物に比べ非常にポットライフが長く、潜在性に優れているという特徴を有する。従って、本発明に係るホスホニウム化合物は一液性の重合触媒として優れた特性を有している。なお、これらのホスホニウム化合物は1種単独で使用してもよいし、2種以上併用するものであってもよい。
【0013】
本発明に係るホスホニウム化合物を熱硬化性樹脂に配合することによって一液性の熱硬化性樹脂組成物が得られる。熱硬化性樹脂としては、カチオン重合性化合物またはラジカル重合性化合物を用いることができる。
カチオン重合性化合物としては、まず、エポキシ樹脂が挙げられる。本発明で用いられるエポキシ樹脂としては、特に限定されず、分子中に1個以上のエポキシ基を有するものであればモノマー、オリゴマーまたはポリマーのいずれであっても使用することができる。エポキシ樹脂としては、たとえば、従来公知の脂肪族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂および芳香族エポキシ樹脂が挙げられる。これらのエポキシ樹脂としては、たとえば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリグリシジルエステル、エポキシ化フェノールノボラック樹脂、エポキシ化ポリオレフィン、脂環式エポキシ化合物などのエポキシ化合物が代表例として挙げられる。具体的には、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、1,2−エポキシブタン、ブタジエンモノオキサイド、エポキシヘキサン、エポキシオクタン、エポキシデカン、エポキシヘキサデカン、エポキシオクタデカンなどのアルキレンオキサイド、エポキシヘキセン、エポキシオクテン等のエポキシ基と2重結合不飽和基を有する化合物、グリシジルメチルエーテル、グリシジルイソプロピルエーテル、グリシジルブチルエーテル、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル等のグリシジル基を有する化合物などの分子内に1個のエポキシ基を含む化合物、および脂肪族多価アルコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテルなどの分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物が挙げられる。この分子内に2個以上のエポキシ基を有するオキシラン化合物の代表例としては、ジエポキシブタン、ジエポキシオクタン、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールのジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテルなどのアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリンあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテルなどの多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテルなどのポリアルキレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテルなどが挙げられる。ここでアルキレンオキサイド付加体におけるアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドのほか上述のアルキレンオキサイドを好適に挙げることができる。
脂環式エポキシ樹脂としては少なくとも1個のシクロヘキセンまたはシクロペンテン環などのシクロアルケン環を有する化合物を過酸化水素、過酸などの適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる、シクロヘキセンオキサイドまたはシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましく、具体例としては3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレートなどが挙げられる。
また芳香族エポキシ樹脂として好ましいものは、フェノールのモノグリシジルエーテル、クレゾールのモノグリシジルエーテル、エポキシプロピルベンゼンおよびスチレンオキシドなどの分子内に1個のエポキシ基を含む芳香族オキシラン化合物、および、少なくとも1個の芳香核を有する多価フェノールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジまたはポリグリシジルエーテルなどの分子内に2個以上のエポキシ基を有する芳香族オキシラン化合物である。この分子内に2個以上のエポキシ基を有する芳香族オキシラン化合物としては、例えば、ビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、およびノボラック型エポキシ樹脂などが挙げられる。ここでアルキレンオキサイド付加体におけるアルキレンオキサイドとしては前記脂肪族エポキシ樹脂の場合と同様、前述したアルキレンオキサイドを好適に挙げることができる。
その他のカチオン重合性化合物としてはスチレン、α−メチルスチレン、n−ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル、メチルアクリレートやエチルアクリレート等のアクリル酸エステル、ラクトン、環状カーボネート等が挙げられる。これらの熱硬化性樹脂は、単独でまたは2種以上組み合わせて使用することができる。
【0014】
本発明に係るホスホニウム化合物を熱硬化性樹脂に配合して熱硬化性樹脂組成物を調製する場合、ホスホニウム化合物の配合量としては、熱硬化性樹脂組成物100重量部当り、0.01〜10重量部程度であり、好ましくは0.05〜5重量部である。触媒の配合量が0.01重量部より少ない場合は、十分な硬化反応が進行せず、架橋密度の高い硬化物を高収率で得ることができない。また10重量部より多い場合は、触媒を多量に用いることによる好ましいカチオン重合反応促進効果の向上はほとんど認められないので経済面から好ましくない。
【0015】
本発明の熱硬化性樹脂組成物は、加熱することによって熱カチオン重合を開始・進行させて速やかに硬化させることができる。以下、エポキシ樹脂組成物を例にとって説明する。加熱によって熱潜在性カチオン重合触媒から生成するカチオン種またはルイス酸が、エポキシ化合物中のオキシラン環の酸素原子を攻撃してこれらを開環せしめ、次いでこの開環反応が連続的に進行することにより一気に自己重合して3次元網目構造を有する硬化物を形成する。エポキシ樹脂組成物の硬化反応は、通常無溶媒状態下で行われるが、溶媒中で行ってもよい。
硬化反応を無溶媒状態下で行う場合は、エポキシ化合物は熔融した状態で硬化反応を行うのが望ましい。従って、硬化反応はエポキシ化合物の融点より高い温度で行うのが望ましい。
また、硬化反応を溶媒中で行う場合、エポキシ化合物を反応溶媒中に溶解させた状態、または、膨潤させた状態で硬化反応を行う必要があり、そのためには、反応液が液体状態になるような反応温度にすることが望ましい。したがって、本発明における加熱温度はこのような温度として少なくとも40℃以上である必要がある。しかしながら、加熱温度が200℃を越えると硬化物の品質に悪影響を及ぼすようになるので、本発明の硬化反応における加熱温度は40〜200℃、好ましくは60〜150℃の範囲である。
本発明に係るエポキシ樹脂組成物の硬化反応における反応時間、すなわち、加熱時間については、エポキシ化合物の仕込量、熱潜在性カチオン重合触媒の種類および使用量、溶媒の有無、反応溶媒の種類および使用量および加熱温度などの硬化反応の条件によって異なるが、通常1分〜24時間であり、好ましくは5分〜10時間、より好ましくは10分〜5時間である。
また、本発明に係るエポキシ樹脂組成物の硬化反応においては、得られる硬化物の望ましくない酸化などによる劣化を防止するために、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガスなどの不活性ガス雰囲気下で行われることが望ましい。
【0016】
本発明の熱硬化性樹脂組成物は使用に際し、本発明の硬化反応を損なわない範囲内であれば、公知の各種添加剤、例えば、無機充填剤、強化材、着色剤、安定剤(熱安定剤、耐候性改良材など)、増量剤、粘度調節剤、難燃剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、変色防止剤、抗菌剤、防黴剤、老化防止剤、帯電防止剤、可塑剤、滑剤、発泡剤、離型剤などを添加・混合することができる。上記着色剤としては、直接染料、酸性染料、塩基性染料、金属錯塩染料などの染料、カーボンブラック、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、マイカなどの無機顔料およびカップリングアゾ系、縮合アゾ系、アンスラキノン系、チオインジゴ系、ジオキサゾリン系、フタロシアニン系などの有機顔料などが挙げられる。また、上記安定化剤としては、ヒンダードフェノール系、ヒドラジン系、リン系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、オキザリックアシッドアニリド系などの化合物が挙げられる。さらにまた、上記無機充填剤としては、ガラス繊維、アスベスト繊維、炭素繊維、シリカ繊維、アルミナ繊維、シリカ・アルミナ繊維、ジルコニア繊維、窒化ホウ素繊維、窒化ケイ素繊維、塩基性硫酸マグネシウム繊維、ホウ素繊維、ステンレス鋼繊維、アルミニウム、チタン、銅、真鍮、マグネシウムなどの無機質および金属繊維、銅、鉄、ニッケル、亜鉛、スズ、鉛、ステンレス鋼、アルミニウム、金および銀などの金属粉末、木粉、マグネシア、カルシアなどの酸化物、珪酸アルミニウム、ケイソウ土、石英粉末、タルク、クレイ、各種金属の水酸化物、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、ホウ珪酸塩、アルミノ珪酸塩、チタン酸塩、塩基性硫酸塩、塩基性炭酸塩およびその他の塩基性塩、ガラス中空球、ガラスフレークなどのガラス材料、炭化ケイ素、窒化アルミ、ムライト、コージェライトなどのセラミック、およびフライアッシュやミクロシリカなどの廃棄物などが挙げられる。
【0017】
また、本発明に係る有機ホスホニウムハライドは熱硬化性樹脂に配合することにより硬化促進剤として作用する。例えばエポキシ化合物の硬化剤として酸無水物を用いる場合に本発明に係る有機ホスホニウムハライドを添加すると、これらは80℃前後で硬化反応を促進させることができる。従って、一般的に揮発性が高く、不向きとされる酸無水物系硬化剤による薄膜硬化においても、本発明に係る有機ホスホニウムハライドを添加することにより機械特性等を低下させることなく硬化することができる。
【0018】
【実施例】
以下、実施例および試験例により本発明をさらに詳細に説明する。
(実施例1)
1,2−ビス(ベンジルジフェニルホスホニア)エタンジヘキサフルオロアンチモネートの合成
攪拌装置、還流冷却器、温度計を備え付けた100ml容量の3ッ口フラスコを窒素置換した後、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン2.4g(6.0mmol)、トルエン40mlを取り、35℃に加温して溶解させた。そこにベンジルクロライド1.5g(12.0mmol)を加え80℃で10時間、攪拌しながら反応を続けたところ白色の結晶を得た。これを室温まで冷却し、析出した結晶を濾別し、乾燥したところ1,2−ビス(ベンジルジフェニルホスホニア)エタンジクロライド2.9g(74.4%)が得られた。
このようにして得られた1,2−ビス(ベンジルジフェニルホスホニア)エタンジクロライド1.1g(1.6mmol)を三角フラスコに取り、メタノール20mlに溶解させた。その後、水40mlに溶解されたポタシウムヘキサフルオロアンチモナート1.1g(4.0mmol)を攪拌しながら滴下したところ、すぐに白濁しスラリー状の沈殿が生じた。滴下終了後、室温で3時間、攪拌を続け、次いで結晶を濾別した後、メタノールで再結晶したところ、1,2−ビス(ベンジルジフェニルホスホニア)エタンジヘキサフルオロアンチモネート0.75g(44.1%)が得られた。この化合物の融点は252〜3℃であり、NMRスペクトルは次ぎの通りであった。
H−NMR;500MHz(Acetone−d、δ)  3.44 ( 4H, d )、4.73 (2H, d )、4.74 (2H, d )、6.88 (4H, d )、7.17 (4H, dd )、7.29 (2H, dd )、7.67〜7.88 (16H, m )、7.97 (4H, dd )
【0019】
(実施例2〜38)
実施例1と同様の方法により、表1に示す化合物を用いてホスホニウム化合物の合成を行った。
【表1】
Figure 2004083835
表1中、有機ホスフィン欄の記号は次ぎのものを示す。
DPPM:ビス(ジフェニルホスフィノ)メタン
DPPE: 1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン
DPPP: 1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン
DPPB: 1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン
TRIPHOS:ビス(2−ジフェニルホスフィノエチル)フェニルホスフィン
TETRAPHOS−II:トリス(2−ジフェニルホスフィノエチル)ホスフィン
TPP:トリフェニルホスフィン
【0020】
実施例1〜38で得られた生成物の構造および融点を表2および表3に示す。なお、表中、Bzlはベンジル基を、Napはナフチル基を示す。
【表2】
Figure 2004083835
【0021】
【表3】
Figure 2004083835
【0022】
(重合試験例1)
実施例1で得られたホスホニウム化合物(以下、化合物1と称す)を脂環式エポキシ樹脂であるセロキサイド2021p(ダイセル化学工業(株)製)100重量部に対し、各々、0.25重量部および1.0重量部添加して2つの均一なエポキシ樹脂組成物を得た。
これらのエポキシ樹脂組成物をそれぞれ板状の型(60mm×50mm×3mm)に入れ、140℃で4時間加熱して硬化した。
【0023】
(重合試験例2)
実施例8で得られたホスホニウム化合物(以下、化合物8と称す)をセロキサイド2021p(ダイセル化学工業(株)製)100重量部に対し、各々、0.5重量部および1.0重量部添加して2つの均一なエポキシ樹脂組成物を得た。
これらのエポキシ樹脂組成物をそれぞれ板状の型(60mm×50mm×3mm)に入れ、140℃で4時間加熱して硬化した。
【0024】
(比較例1)
従来のホスホニウム化合物であるベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート(Ref.1)をセロキサイド2021p(ダイセル化学工業(株)製)100重量部に対し、各々、0.5重量部、1.0重量部および2.5重量部を添加して3つの均一なエポキシ樹脂組成物を得た。
これらのエポキシ樹脂組成物をそれぞれ板状の型(60mm×50mm×3mm)に入れ、140℃で4時間加熱して硬化した。
【0025】
(比較例2)
従来のホスホニウム化合物であるp−クロロベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート(Ref.2)をセロキサイド2021p(ダイセル化学工業(株)製)100重量部に対し、各々、0.5重量部および1.0重量部を添加して2つの均一なエポキシ樹脂組成物を得た。
これらのエポキシ樹脂組成物をそれぞれ板状の型(60mm×50mm×3mm)に入れ、140℃で4時間加熱して硬化した。
【0026】
(比較例3)
従来のホスホニウム化合物であるベンジルメチルジフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート(Ref.3)をセロキサイド2021p(ダイセル化学工業(株)製)100重量部に対し、各々、0.5重量部および1.0重量部を添加して2つの均一なエポキシ樹脂組成物を得た。
これらのエポキシ樹脂組成物を板状の型(60mm×50mm×3mm)に入れ、140℃で4時間加熱して硬化した。
【0027】
(比較例4)
従来のホスホニウム化合物であるp−クロロベンジルメチルジフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート(Ref.4)をセロキサイド2021p(ダイセル化学工業(株)製)100重量部に対し、各々、0.5重量部および1.0重量部を添加して2つの均一なエポキシ樹脂組成物を得た。
これらのエポキシ樹脂組成物を板状の型(60mm×50mm×3mm)に入れ、140℃で4時間加熱して硬化した。
【0028】
重合試験例1〜2および比較例1〜4で得られた硬化物のガラス転移温度Tg(℃)と添加した触媒(ホスホニウム化合物)量との関係を図1に示す。図1より明らかなように、重合試験例1および2で得られた硬化物のガラス転移温度Tgは比較例1〜4で得られた硬化物のガラス転移温度Tgより高く、このことから化合物1および化合物8のホスホニウム化合物は、従来のホスホニウム化合物(Ref.1〜4)に比べ高い重合活性を有しており、しかも少ない触媒量で優れた触媒作用を発揮することが判る。
【0029】
(重合試験例3)
実施例20および33で得られたホスホニウム化合物(以下、各々化合物20および化合物33と称す)を各々、脂環式エポキシモノマーであるセロキサイド2021p(ダイセル化学工業(株)製)1エポキシ当量に対し、0.042mol%を添加して均一なエポキシ樹脂組成物を得た。このエポキシ樹脂組成物をそれぞれサンプル瓶に1gとり、ホットプレート(60,80,100,120℃)上での発熱挙動についてIRカメラを用いて観察した。
【0030】
図2に化合物20を重合触媒とした場合の、図3に化合物33を重合触媒とした場合の、エポキシ樹脂組成物の発熱挙動の観測結果を示す。図2より、化合物20の場合は80℃では硬化反応に伴う発熱は観測されなかったが、100℃では発熱が観測され、約200分程度でエポキシ樹脂組成物が硬化したことが判る。同様に図3より、化合物33の場合は、60℃では硬化反応は起こらないが、80℃では短時間で硬化反応が進行して発熱し、反応終了とともに温度が下がっていることがわかる。このように、本発明に係るホスホニウム化合物は従来のホスホニウム化合物より低温から重合活性を示すことが判った(図4,5参照)。すなわち、本発明のホスホニウム化合物の種類を選択することにより、熱硬化性樹脂組成物の硬化温度を好ましい温度に設定することも可能である。
【0031】
(比較例5)
従来のホスホニウム化合物であるベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート(Ref.1)、p−クロロベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート(Ref.2)を各々、脂環式エポキシモノマーであるセロキサイド2021p(ダイセル化学工業(株)製)1エポキシ当量に0.083mol%を添加して均一なエポキシ樹脂組成物を得た。このエポキシ樹脂組成物をサンプル瓶に1gとり、ホットプレート(120,140℃)上での発熱挙動についてIRカメラを用いて観察した(図4、5参照)。
【0032】
従来のホスホニウム塩であるRef.1およびRef.2の場合、120℃では硬化反応に伴う発熱は観測されず、140℃で各々約300分、約200分で熱硬化性樹脂組成物が硬化したことが判る。このように従来のホスホニウム塩を用いると120℃以上の高温で硬化させる必要がある。
【0033】
(重合試験例4)
化合物8をセロキサイド2021p(ダイセル化学工業(株)製)100重量部に対し0.5重量部添加して均一なエポキシ樹脂組成物を得た。次いで、得られたエポキシ樹脂組成物を板状の型(60mm×50mm×3mm)に入れ、140℃で4時間加熱して硬化した。得られた硬化物のガラス転移温度Tgは145℃であった。
得られた硬化物は、表面研磨し、耐熱性および耐光性試験を行った。尚、耐熱性試験は150℃で100時間保管、耐光性試験は120℃の雰囲気下で主波長300〜450nm、460〜570nmのメタルハライドランプ100時間照射という条件で行った。
【0034】
(比較例6)
p−クロロベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート(Ref.2)をセロキサイド2021p(ダイセル化学工業(株)製)100重量部に対し、1.3重量部添加して均一なエポキシ樹脂組成物を得た。次いで、得られたエポキシ樹脂組成物を板状の型(60mm×50mm×3mm)に入れ、140℃で4時間加熱して硬化した。得られた硬化物のガラス転移温度Tgは147℃であった。
得られた硬化物について重合試験例4と同様にして耐熱性および耐光性試験を行った。
【0035】
(比較例7)
p−クロロベンジルメチルジフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート(Ref.4)をセロキサイド2021p(ダイセル化学工業(株)製)100重量部に対し、2.5重量部添加して均一なエポキシ樹脂組成物を得た。次いで、得られたエポキシ樹脂組成物を板状の型(60mm×50mm×3mm)に入れ、140℃で4時間加熱して硬化した。得られた硬化物のガラス転移温度Tgは142℃であった。
得られた硬化物について重合試験例4と同様にして耐熱性および耐光性試験を行った。
【0036】
耐熱性および耐光性試験前後の試験片の470nmにおける透過率を表4に示す。( )内は試験前後の変化率である。
【表4】
Figure 2004083835
表4より、化合物8を用いて重合試験例4で得られた硬化物は、従来のホスホニウム化合物触媒(Ref.2、4)を用いて得られた硬化物(比較例6、7)に比べ耐熱性、耐光性とも優れていることが判る。
【0037】
(重合例1〜30)
エポキシ樹脂100重量部に対して表2および3に示した触媒0.4重量部を用い、それぞれ表5に示した条件下で3時間重合反応を行い、硬化物を得た。なお表5中、エポキシ樹脂として、Aはセロキサイド2021p(ダイセル化学工業(株)製)のみを含む樹脂組成物を示し、Bはセロキサイド2021p/YX8000(ジャパンエポキシレジン(株)製)=80/20(wt%)の混合物である樹脂組成物を示す。
【表5】
Figure 2004083835
【0038】
【発明の効果】
本発明に係るホスホニウム化合物は、2つ以上のリン原子を含む構造を有しており、従来のホスホニウム化合物に比べて熱硬化性樹脂に対する重合活性が高く、低温かつ少量の添加で熱硬化性樹脂を硬化させることができ、これを熱潜在性カチオン重合触媒として含有させた一液性熱硬化性樹脂組成物は保存安定性にも優れ、しかも加熱硬化させて得られた硬化物は着色、臭気もなく、耐熱性、耐光性等の安定性に優れるという特性を有している。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1〜2および比較例1〜4で得られた硬化物のガラス転移温度Tg(℃)と添加した触媒量との関係を示す図である。
【図2】化合物20を重合触媒とした場合の、エポキシ樹脂組成物の発熱挙動の観測結果である。
【図3】化合物33を重合触媒とした場合の、エポキシ樹脂組成物の発熱挙動の観測結果である。
【図4】Ref.1を重合触媒とした場合の、エポキシ樹脂組成物の発熱挙動の観測結果である。
【図5】Ref.2を重合触媒とした場合の、エポキシ樹脂組成物の発熱挙動の観測結果である。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to novel phosphonium compounds. More specifically, the present invention relates to a novel phosphonium compound, a polymerization catalyst comprising the compound, a thermosetting resin composition containing the compound, and a resin composition obtained by thermosetting the same.
[0002]
[Prior art]
A one-part thermosetting resin composition comprising a thermosetting resin such as an epoxy resin and a polymerization catalyst has been widely used because of its excellent workability and the like. As a one-part polymerization catalyst for a thermosetting resin composition, the polymerization reaction does not start at a low temperature, the polymerization reaction proceeds promptly when heated to a certain temperature or more, and the obtained thermosetting resin A property that does not impart coloring or odor to the cured product and does not affect the stability of the cured product is required.
As a polymerization catalyst in such a one-part thermosetting resin composition, a benzylphosphonium compound or a phosphonium salt has been conventionally used (for example, see Patent Documents 1 and 2). However, these phosphonium salts have a low polymerization activity with respect to an epoxy resin which is a thermosetting resin, and require a temperature of 120 ° C. or more for curing, so that the range of use is limited. Further, with these phosphonium compounds, there is a problem that the stability of the obtained cured thermosetting resin is not sufficient.
[0003]
[Patent Document 1]
JP-A-5-105692
[Patent Document 2]
JP-A-6-157624
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, a novel compound which does not require a high temperature for a curing reaction, and which is a curing catalyst having high polymerization activity, and a thermosetting composition containing the compound which has excellent storage stability. The present invention provides a curable resin composition and a cured product thereof.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems. As a result, when a phosphonium compound represented by the following general formula (I) is used as a curing catalyst for a thermosetting resin, a curing reaction proceeds at a low temperature of 120 ° C. or less, Further, they have found that they have high activity, and completed the present invention based on this finding.
That is, the present invention
(1) General formula (I):
Embedded image
Figure 2004083835
(Where R1~ R4Are the same or different and may be an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, an optionally substituted diarylmethyl group or a compound of the formula (II):
Embedded image
Figure 2004083835
(Where R5~ R7Is the same or different and represents an alkyl group which may be substituted, an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted, and a diarylmethyl group which may be substituted;8~ R11Are the same or different, a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, and an optionally substituted aryl group, A is an optionally substituted aromatic hydrocarbon ring, and n is 1 to 5 And m is 0 or 1, X is a halogen atom, SbF6, AsF6, PF6, BF4Or BPh4Represents ) Represents a group represented by the following (provided that R1~ R4At least one is a group represented by the formula (II). ) Or R1~ R4Any one of R and R5~ R7May be taken together to form a lower alkylene group to form a heterocyclic ring containing two phosphorus atoms, and X has the same meaning as defined in formula (II). A) a phosphonium compound represented by
(2) R1~ R4At least one of the groups represented by the above formula (II),5~ R7Is the same or different and is a phenyl group, an optionally substituted benzyl group, a naphthylmethyl group, an optionally substituted diphenylmethyl group or an optionally substituted alkyl group,8Is a hydrogen atom, R9Is a hydrogen atom or a phenyl group, n is an integer of 1 to 4, m is 0, and R is1~ R4The rest of which is a phenyl group, an optionally substituted benzyl group, a naphthylmethyl group, an optionally substituted diphenylmethyl group or an optionally substituted alkyl group, the phosphonium compound according to the above (1),
(3) R2Is a group represented by the above formula (II),6, R7And R9Is a phenyl group, and R8Is a hydrogen atom, m is 0, n is 2, R1Is R5To form an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms;3And R4Is a phosphonium compound according to the above (1), which is a phenyl group,
(4) R1Is a group represented by the above formula (II),5~ R7Is a phenyl group or a formula:-(CH2)p-PPh2(Wherein p represents an integer of 1 to 4), a group represented by R8~ R11Is a hydrogen atom, A is a benzene ring which may be substituted, m and n are 1, R2~ R4Is a phenyl group or a formula:-(CH2)p-PPh2(Wherein p is an integer of 1 to 4), the phosphonium compound according to the above (1),
(5) R2Is a group represented by the above formula (II),6And R7Is a phenyl group, R8~ R11Is a hydrogen atom, A is a benzene ring which may be substituted, m and n are 1, R1Is R5To form an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms;3And R4Is a phosphonium compound according to the above (1), which is a phenyl group,
(6) a polymerization catalyst comprising the phosphonium compound according to any one of the above (1) to (5),
(7) a thermosetting resin composition obtained by mixing the phosphonium compound according to any one of (1) to (5) above with a thermosetting resin;
(8) The thermosetting resin composition according to (7), wherein the thermosetting resin is an epoxy resin.
(9) The thermosetting resin according to the above (8), which contains 0.01 to 10 parts by weight of the phosphonium compound according to any one of the above (2) to (5) based on 100 parts by weight of the epoxy resin. Composition,
(10) Counterion X of phosphonium compoundIs SbF6 The thermosetting resin composition according to the above (9), and
(11) A cured product obtained by heating and curing the thermosetting resin composition according to any one of (7) to (9).
[0006]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
A novel phosphonium compound and a polymerization catalyst according to the present invention are characterized by being represented by the following general formula (I).
Embedded image
Figure 2004083835
Where R1~ R4At least one of the formula (II):
Embedded image
Figure 2004083835
Is a group represented by
In the formula (II), R5~ R7Is the same or different and represents an alkyl group which may be substituted, an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted, and a diarylmethyl group which may be substituted;8~ R11Are the same or different, a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, and an optionally substituted aryl group, A is an optionally substituted aromatic hydrocarbon ring, and n is 1 to 5 And m is 0 or 1, X is a halogen atom, SbF6, AsF6, PF6, BF4Or BPh4Represents
R in formula (I)1~ R4Of the groups other than the group represented by the formula (II), the same or different, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, A diarylmethyl group which may be substituted. Or R1~ R4Any one of R and R5~ R7May form a lower alkylene group together with any one of the above to form a heterocyclic ring containing two phosphorus atoms.
X in the formula (I) has the same definition as in the formula (II).
R1~ R4Examples of the substituted alkyl group of the optionally substituted alkyl group include a group represented by the formula:-(CH2)p-PPh2(Wherein, p represents an integer of 1 to 4).
R1~ R4Examples of the aryl group of the optionally substituted aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the substituent include a halogen atom such as fluorine, chlorine and bromine, a cyano group, a benzoyl group and an alkyl group. And the like.
R1~ R4Examples of the aralkyl group which may be substituted include a benzyl group, a phenethyl group, a naphthylmethyl group, a pyrenylmethyl group, an anthracenylmethyl group, and the like. Halogen atom, cyano group, benzoyl group, alkyl group, halogenated alkyl group such as trifluoromethyl, phenyl group which may be substituted (for example, halogen atom such as fluorine and chlorine, trifluoromethyl etc. And the like, and the number of substituents is preferably 1 or 2.
R1~ R4Examples of the optionally substituted diarylmethyl group include a diphenylmethyl group and the like, and examples of the substituent include a halogen atom such as fluorine and chlorine.
In addition, R in the formula (II)5~ R7The optionally substituted alkyl group, the optionally substituted aryl group, the optionally substituted aralkyl group and the optionally substituted diarylmethyl group are each represented by the aforementioned R1~ R4Has the same meaning as the definition of the optionally substituted alkyl group, the optionally substituted aryl group, the optionally substituted aralkyl group and the optionally substituted diarylmethyl group.
Also, R1~ R4Any one of R and R5~ R7When forming a lower alkylene group together with any one of the above to form a heterocyclic ring containing two phosphorus atoms, the lower alkylene group includes methylene, ethylene, propylene, isopropylene, butylene, An alkylene group having 1 to 4 carbon atoms such as isobutylene is preferred.
[0007]
Specific examples of the phosphonium compound represented by formula (I) according to the present invention include the following four types of compounds.
The compound of the first type includes, in the above formula (I), R1~ R4At least one of the groups represented by the above formula (II),5~ R7Is the same or different and is a phenyl group, an optionally substituted benzyl group, a naphthylmethyl group, an optionally substituted diphenylmethyl group or an optionally substituted alkyl group,8Is a hydrogen atom, R9Is a hydrogen atom or a phenyl group, n is an integer of 1 to 4, m is 0, and R is1~ R4Among them, the remaining groups include a phosphonium compound which is a phenyl group, an optionally substituted benzyl group, a naphthylmethyl group, an optionally substituted diphenylmethyl group or an optionally substituted alkyl group.
Where R1~ R4Examples of the substituent of the optionally substituted benzyl group include halogen atoms such as fluorine, chlorine, and bromine; halogenated alkyl groups such as cyano group, benzoyl group, alkyl group, and trifluoromethyl; A good phenyl group (for example, a halogen atom such as fluorine and chlorine, a halogenated alkyl group such as trifluoromethyl and the like) and the like are mentioned, and the number of substituents is preferably 1 or 2.
R1~ R4Examples of the substituent of the optionally substituted diphenylmethyl group include halogen atoms such as fluorine and chlorine.
R1~ R4Examples of the substituted alkyl group of the optionally substituted alkyl group include a group represented by the formula:-(CH2)p-PPh2(Wherein, p represents an integer of 1 to 4).
Also, R5~ R7Specific examples of the optionally substituted benzyl group, the optionally substituted diphenylmethyl group and the optionally substituted alkyl group include the above-mentioned R1~ R4And the same as those described in the above.
[0008]
The compound of the second type includes, in the above formula (I), R2Is a group represented by the above formula (II),6, R7And R9Is a phenyl group, and R8Is a hydrogen atom, m is 0, n is 2, R1Is R5To form an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms;3And R4Is a phosphonium compound represented by the following formula (III), which is a phenyl group.
Embedded image
Figure 2004083835
In the formula, q is an integer of 1 to 4, X is a halogen atom, SbF6, AsF6, PF6, BF4Or BPh4Represents
[0009]
The third type of compound includes, in the above formula (I), R1Is a group represented by the above formula (II),5~ R7Is a phenyl group or a formula:-(CH2)p-PPh2(Wherein p represents an integer of 1 to 4), a group represented by R8~ R11Is a hydrogen atom, A is a benzene ring which may be substituted, m and n are 1, R2~ R4Is a phenyl group or a formula:-(CH2)p-PPh2(Wherein p is an integer of 1 to 4), and a phosphonium compound represented by the following formula (IV):
You.
Embedded image
Figure 2004083835
Where R12And RThirteenIs a substituent of the optionally substituted benzene ring of A in the formula (II), and examples thereof include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a nitro group, and a hydroxyl group. Further, a substituent: -CH2-P+R5R6R7・ XMay be at any of the o, m and p positions. X is a halogen atom, SbF6, AsF6, PF6, BF4Or BPh4Represents
[0010]
A fourth type of compound is represented by the formula (I)2Is a group represented by the above formula (II),6And R7Is a phenyl group, R8~ R11Is a hydrogen atom, A is a benzene ring which may be substituted, m and n are 1, R1Is R5To form an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms;3And R4Is a phenyl group, and includes a phosphonium compound represented by the following formula (V).
Embedded image
Figure 2004083835
Where R14And RFifteenIs a substituent of an optionally substituted benzene ring of A in the formula (II), and represents R in the formula (IV)12And RThirteenAnd the same. Also, r is an integer of 1 to 8, and when the methylene group to which the phosphorus atom on the benzene ring in formula (V) is in the o-position to each other, r is an integer of 1 to 4, When the methylene groups are at the m-position or the p-position, r is an integer of 4-8. X is a halogen atom, SbF6, AsF6, PF6, BF4Or BPh4Represents
[0011]
The phosphonium compound represented by the general formula (I) in the present invention is prepared by a method known per se, for example, by reacting an organic tertiary phosphine compound with an organic halide such as benzyl halide to prepare an organic phosphonium halide, It can be manufactured by exchanging.
Preparation of such an organic phosphonium halide can be performed in an organic solvent. As the organic solvent, for example, methanol, acetone, acetonitrile, N, N-dimethylacetamide and the like can be used.
The reaction temperature is from room temperature to 110 ° C, preferably about 30 to 80 ° C. After completion of the reaction, the reaction solution is concentrated and then purified by a conventional method such as recrystallization to obtain the novel organic phosphonium halide according to the present invention as described above.
Further, a counter ion of the obtained organic phosphonium halide is converted into KSbF6, NaSbF6SbF using6 The desired novel phosphonium salt can be produced by salt conversion.
Such a counterion exchange reaction can be performed in water or an aqueous solvent such as water-methanol, water-acetone, and water-acetonitrile.
[0012]
The phosphonium compound according to the present invention has excellent properties as a polymerization catalyst. That is, it shows high catalytic activity for cationic polymerization or radical polymerization. When these catalysts are used for epoxy resins, the counter ion X of the phosphonium compoundIs SbF6 , AsF6 , PF6 , BF4 Or BPh4 Is preferable, and in particular, SbF6 Is preferably used as a heat-latent cationic polymerization catalyst because the polymerization activity is high and the curing reaction proceeds with a small amount of catalyst used. For example, when these are used as a polymerization catalyst of a thermosetting resin composition composed of an epoxy compound, they hardly show polymerization activity at 80 ° C. or lower, but show remarkable polymerization activity at 90 to 120 ° C., and the curing reaction proceeds rapidly. I do. Further, the cured product of the obtained thermosetting resin composition does not have coloring or odor and has excellent stability. Furthermore, the thermosetting resin composition containing the phosphonium compound according to the present invention has a feature that the pot life is much longer than that of the thermosetting resin composition containing the sulfonium compound, and the potency is excellent. Therefore, the phosphonium compound according to the present invention has excellent properties as a one-part polymerization catalyst. These phosphonium compounds may be used alone or in combination of two or more.
[0013]
By mixing the phosphonium compound according to the present invention into a thermosetting resin, a one-part thermosetting resin composition can be obtained. As the thermosetting resin, a cationically polymerizable compound or a radically polymerizable compound can be used.
An example of the cationically polymerizable compound is an epoxy resin. The epoxy resin used in the present invention is not particularly limited, and any one of a monomer, an oligomer and a polymer can be used as long as it has one or more epoxy groups in a molecule. Examples of the epoxy resin include conventionally known aliphatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, and aromatic epoxy resins. Representative examples of these epoxy resins include bisphenol A type epoxy resins, polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, polyglycidyl esters, epoxidized phenol novolak resins, epoxidized polyolefins, and epoxy compounds such as alicyclic epoxy compounds. No. Specifically, alkylene oxides such as ethylene oxide, propylene oxide, 1,2-epoxybutane, butadiene monooxide, epoxyhexane, epoxyoctane, epoxydecane, epoxyhexadecane, and epoxyoctadecane; epoxy groups such as epoxyhexene and epoxyoctene; And a compound having a glycidyl group such as a compound having a double bond unsaturated group, glycidyl methyl ether, glycidyl isopropyl ether, glycidyl butyl ether, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, and monoglycidyl ether of an aliphatic higher alcohol. Compounds containing an epoxy group, and molecules such as di- or polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof Compounds having two or more epoxy groups in. Representative examples of the oxirane compound having two or more epoxy groups in the molecule include diepoxybutane, diepoxyoctane, diglycidyl ether of ethylene glycol, diglycidyl ether of 1,4-butanediol, 1,6- Diglycidyl ether of alkylene glycol such as diglycidyl ether of hexanediol, diglycidyl ether of tetraethylene glycol, di- or triglycidyl ether of glycerin or an alkylene oxide adduct thereof, and polyhydric alcohol such as triglycidyl ether of trimethylolpropane Polyglycidyl ether, polyethylene glycol or its alkylene oxide adduct diglycidyl ether, polypropylene glycol or its alkylene oxide adduct Polyalkylene glycol or diglycidyl ethers of alkylene oxide adducts, such as glycidyl ether. Here, as the alkylene oxide in the alkylene oxide adduct, ethylene oxide, propylene oxide, and the above-described alkylene oxide can be suitably mentioned.
As the alicyclic epoxy resin, cyclohexene oxide or cyclopentene oxide obtained by epoxidizing a compound having a cycloalkene ring such as at least one cyclohexene or cyclopentene ring with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. The compound is preferable, and specific examples include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexylcarboxylate.
Preferred as the aromatic epoxy resin are aromatic oxirane compounds having one epoxy group in a molecule such as phenol monoglycidyl ether, cresol monoglycidyl ether, epoxypropylbenzene and styrene oxide, and at least one Aromatic oxirane compounds having two or more epoxy groups in the molecule, such as di- or polyglycidyl ethers, produced by reacting a polyhydric phenol having an aromatic nucleus or an alkylene oxide adduct thereof with epichlorohydrin. Examples of the aromatic oxirane compound having two or more epoxy groups in the molecule include di- or polyglycidyl ether of bisphenol A or its alkylene oxide adduct, di- or polyglycidyl ether of hydrogenated bisphenol A or its alkylene oxide adduct. Glycidyl ether and novolak type epoxy resin are exemplified. Here, as the alkylene oxide in the alkylene oxide adduct, the alkylene oxide described above can be suitably mentioned, similarly to the case of the aliphatic epoxy resin.
Other cationically polymerizable compounds include styrene, α-methylstyrene, vinyl ethers such as n-butyl vinyl ether, acrylates such as methyl acrylate and ethyl acrylate, lactones, and cyclic carbonates. These thermosetting resins can be used alone or in combination of two or more.
[0014]
When preparing a thermosetting resin composition by mixing the phosphonium compound according to the present invention with a thermosetting resin, the amount of the phosphonium compound to be added is 0.01 to 10 per 100 parts by weight of the thermosetting resin composition. It is about 10 parts by weight, preferably 0.05 to 5 parts by weight. If the amount of the catalyst is less than 0.01 part by weight, a sufficient curing reaction does not proceed, and a cured product having a high crosslinking density cannot be obtained in a high yield. When the amount is more than 10 parts by weight, the effect of promoting the cationic polymerization reaction by using a large amount of the catalyst is hardly recognized, so that it is not economically preferable.
[0015]
The thermosetting resin composition of the present invention can be cured quickly by initiating / promoting thermal cationic polymerization by heating. Hereinafter, the epoxy resin composition will be described as an example. The cationic species or Lewis acid generated from the heat-latent cationic polymerization catalyst by heating attacks the oxygen atom of the oxirane ring in the epoxy compound to open them, and then the ring-opening reaction proceeds continuously. Self-polymerizes at a stretch to form a cured product having a three-dimensional network structure. The curing reaction of the epoxy resin composition is usually performed in a solventless state, but may be performed in a solvent.
When the curing reaction is performed in a solvent-free state, the curing reaction is desirably performed in a molten state of the epoxy compound. Therefore, the curing reaction is desirably performed at a temperature higher than the melting point of the epoxy compound.
When the curing reaction is performed in a solvent, it is necessary to perform the curing reaction in a state in which the epoxy compound is dissolved in the reaction solvent or in a state in which the epoxy compound is swollen. It is desirable to keep the reaction temperature at a low level. Therefore, the heating temperature in the present invention needs to be at least 40 ° C. or more as such a temperature. However, if the heating temperature exceeds 200 ° C., the quality of the cured product is adversely affected, so the heating temperature in the curing reaction of the present invention is in the range of 40 to 200 ° C., preferably 60 to 150 ° C.
Reaction time in the curing reaction of the epoxy resin composition according to the present invention, that is, the heating time, the amount of the epoxy compound charged, the type and amount of the heat latent cationic polymerization catalyst, the presence or absence of a solvent, the type and use of the reaction solvent. Although it depends on the curing reaction conditions such as the amount and the heating temperature, it is usually 1 minute to 24 hours, preferably 5 minutes to 10 hours, more preferably 10 minutes to 5 hours.
Further, in the curing reaction of the epoxy resin composition according to the present invention, in order to prevent deterioration of the obtained cured product due to undesired oxidation or the like, the curing is performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas, argon gas, and helium gas. Is desirable.
[0016]
When the thermosetting resin composition of the present invention is used, various known additives such as an inorganic filler, a reinforcing material, a coloring agent, and a stabilizer (thermostable) can be used as long as the curing reaction of the present invention is not impaired. Agents, weather resistance improvers, etc.), extenders, viscosity modifiers, flame retardants, ultraviolet absorbers, antioxidants, discoloration inhibitors, antibacterial agents, antifungal agents, antioxidants, antistatic agents, plasticizers, lubricants , A foaming agent, a release agent and the like can be added and mixed. As the colorant, direct dyes, acid dyes, basic dyes, dyes such as metal complex dyes, carbon black, titanium oxide, zinc oxide, iron oxide, inorganic pigments such as mica, coupling azo, condensed azo, Organic pigments such as anthraquinone type, thioindigo type, dioxazoline type, and phthalocyanine type are exemplified. Examples of the stabilizer include hindered phenol compounds, hydrazine compounds, phosphorus compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, and oxalic acid anilide compounds. Further, as the inorganic filler, glass fiber, asbestos fiber, carbon fiber, silica fiber, alumina fiber, silica-alumina fiber, zirconia fiber, boron nitride fiber, silicon nitride fiber, basic magnesium sulfate fiber, boron fiber, Inorganic and metal fibers such as stainless steel fiber, aluminum, titanium, copper, brass and magnesium, metal powders such as copper, iron, nickel, zinc, tin, lead, stainless steel, aluminum, gold and silver, wood powder, magnesia, Oxides such as calcia, aluminum silicate, diatomaceous earth, quartz powder, talc, clay, hydroxides, carbonates, sulfates, phosphates, borates, borosilicates, aluminosilicates, titanoates of various metals Gases such as salts, basic sulfates, basic carbonates and other basic salts, glass hollow spheres, glass flakes, etc. Scan materials, silicon carbide, aluminum nitride, mullite, ceramic, such as cordierite, and the like waste, such as fly ash and micro silica.
[0017]
Further, the organic phosphonium halide according to the present invention acts as a curing accelerator by being blended with a thermosetting resin. For example, when an acid anhydride is used as a curing agent for an epoxy compound, the addition of the organic phosphonium halide according to the present invention can accelerate the curing reaction at around 80 ° C. Therefore, generally high volatility, even in thin film curing with an acid anhydride-based curing agent which is considered unsuitable, it is possible to cure without lowering the mechanical properties etc. by adding the organic phosphonium halide according to the present invention. it can.
[0018]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Test Examples.
(Example 1)
Synthesis of 1,2-bis (benzyldiphenylphosphonia) ethanedihexafluoroantimonate
After replacing a 100 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser and a thermometer with nitrogen, 2.4 g (6.0 mmol) of 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane and 40 ml of toluene were taken. The mixture was heated to 35 ° C. and dissolved. 1.5 g (12.0 mmol) of benzyl chloride was added thereto, and the reaction was continued with stirring at 80 ° C. for 10 hours to obtain white crystals. This was cooled to room temperature, and the precipitated crystals were separated by filtration and dried to obtain 2.9 g (74.4%) of 1,2-bis (benzyldiphenylphosphonia) ethanedichloride.
1.1 g (1.6 mmol) of 1,2-bis (benzyldiphenylphosphonia) ethane dichloride thus obtained was placed in an Erlenmeyer flask and dissolved in 20 ml of methanol. Then, when 1.1 g (4.0 mmol) of potassium hexafluoroantimonate dissolved in 40 ml of water was added dropwise with stirring, the mixture immediately became cloudy and a slurry-like precipitate was formed. After completion of the dropwise addition, stirring was continued at room temperature for 3 hours, and then the crystals were separated by filtration and recrystallized with methanol to give 0.75 g (44 g) of 1,2-bis (benzyldiphenylphosphonia) ethanedihexafluoroantimonate. .1%). The melting point of this compound was 252 to 3 ° C, and the NMR spectrum was as follows.
1H-NMR; 500 MHz (Acetone-d6, Δ) {3.44} ({4H, {d}), 4.73 (2H, {d}), 4.74} (2H, {d}), 6.88} (4H, {d}), 7.17} (4H, {dd}), 7. 29 {(2H, {dd}), 7.67-7.88} (16H, {m}), 7.97} (4H, {dd})
[0019]
(Examples 2 to 38)
A phosphonium compound was synthesized using the compounds shown in Table 1 in the same manner as in Example 1.
[Table 1]
Figure 2004083835
In Table 1, the symbols in the organic phosphine column indicate the following.
DPPM: bis (diphenylphosphino) methane
DPPE: 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane
DPPP: 1,3-bis (diphenylphosphino) propane
DPPB: 1,4-bis (diphenylphosphino) butane
TRIPHOS: bis (2-diphenylphosphinoethyl) phenylphosphine
TETRAPHOS-II: tris (2-diphenylphosphinoethyl) phosphine
TPP: triphenylphosphine
[0020]
Tables 2 and 3 show the structures and melting points of the products obtained in Examples 1 to 38. In the table, Bzl represents a benzyl group, and Nap represents a naphthyl group.
[Table 2]
Figure 2004083835
[0021]
[Table 3]
Figure 2004083835
[0022]
(Polymerization test example 1)
The phosphonium compound obtained in Example 1 (hereinafter, referred to as Compound 1) was added in an amount of 0.25 parts by weight to 100 parts by weight of alicyclic epoxy resin Celoxide 2021p (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.). 1.0 part by weight was added to obtain two uniform epoxy resin compositions.
Each of these epoxy resin compositions was placed in a plate-shaped mold (60 mm × 50 mm × 3 mm) and cured by heating at 140 ° C. for 4 hours.
[0023]
(Polymerization test example 2)
The phosphonium compound (hereinafter referred to as compound 8) obtained in Example 8 was added in an amount of 0.5 part by weight and 1.0 part by weight, respectively, to 100 parts by weight of celloxide 2021p (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.). Thus, two uniform epoxy resin compositions were obtained.
Each of these epoxy resin compositions was placed in a plate-shaped mold (60 mm × 50 mm × 3 mm) and cured by heating at 140 ° C. for 4 hours.
[0024]
(Comparative Example 1)
A conventional phosphonium compound, benzyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate (Ref. 1), was added in an amount of 0.5 part by weight and 1.0 part by weight based on 100 parts by weight of celloxide 2021p (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.). And 2.5 parts by weight were added to obtain three uniform epoxy resin compositions.
Each of these epoxy resin compositions was placed in a plate-shaped mold (60 mm × 50 mm × 3 mm) and cured by heating at 140 ° C. for 4 hours.
[0025]
(Comparative Example 2)
A conventional phosphonium compound, p-chlorobenzyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate (Ref. 2) was added in an amount of 0.5 part by weight and 1. part by weight to 100 parts by weight of celloxide 2021p (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.). 0 parts by weight were added to obtain two uniform epoxy resin compositions.
Each of these epoxy resin compositions was placed in a plate-shaped mold (60 mm × 50 mm × 3 mm) and cured by heating at 140 ° C. for 4 hours.
[0026]
(Comparative Example 3)
A conventional phosphonium compound, benzylmethyldiphenylphosphonium hexafluoroantimonate (Ref. 3), was added in an amount of 0.5 parts by weight and 1.0 part by weight, respectively, based on 100 parts by weight of celloxide 2021p (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.). Was added to obtain two uniform epoxy resin compositions.
These epoxy resin compositions were placed in a plate-shaped mold (60 mm × 50 mm × 3 mm) and cured by heating at 140 ° C. for 4 hours.
[0027]
(Comparative Example 4)
A conventional phosphonium compound, p-chlorobenzylmethyldiphenylphosphonium hexafluoroantimonate (Ref. 4), was added in an amount of 0.5 part by weight and 1 part by weight based on 100 parts by weight of celloxide 2021p (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.). 0 parts by weight were added to obtain two uniform epoxy resin compositions.
These epoxy resin compositions were placed in a plate-shaped mold (60 mm × 50 mm × 3 mm) and cured by heating at 140 ° C. for 4 hours.
[0028]
FIG. 1 shows the relationship between the glass transition temperature Tg (° C.) of the cured products obtained in Polymerization Test Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 4 and the amount of the added catalyst (phosphonium compound). As is clear from FIG. 1, the glass transition temperatures Tg of the cured products obtained in Polymerization Test Examples 1 and 2 are higher than the glass transition temperatures Tg of the cured products obtained in Comparative Examples 1 to 4. It can be seen that the phosphonium compound of Compound 8 has higher polymerization activity than the conventional phosphonium compounds (Refs. 1 to 4), and exhibits excellent catalytic action with a small amount of catalyst.
[0029]
(Polymerization test example 3)
Each of the phosphonium compounds obtained in Examples 20 and 33 (hereinafter, referred to as Compound 20 and Compound 33, respectively) was equivalent to 1 epoxy equivalent of celoxide 2021p (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) which is an alicyclic epoxy monomer. 0.042 mol% was added to obtain a uniform epoxy resin composition. 1 g of each of the epoxy resin compositions was placed in a sample bottle, and the exothermic behavior on a hot plate (60, 80, 100, 120 ° C.) was observed using an IR camera.
[0030]
FIG. 2 shows the results of observation of the exothermic behavior of the epoxy resin composition when the compound 20 was used as a polymerization catalyst, and FIG. 3 shows the results when the compound 33 was used as a polymerization catalyst. From FIG. 2, in the case of the compound 20, no exothermicity was observed at 80 ° C. due to the curing reaction, but exothermicity was observed at 100 ° C., indicating that the epoxy resin composition was cured in about 200 minutes. Similarly, FIG. 3 shows that, in the case of Compound 33, the curing reaction does not occur at 60 ° C., but at 80 ° C., the curing reaction proceeds in a short time and generates heat, and the temperature decreases as the reaction is completed. Thus, it was found that the phosphonium compound according to the present invention exhibited polymerization activity at a lower temperature than the conventional phosphonium compound (see FIGS. 4 and 5). That is, by selecting the type of the phosphonium compound of the present invention, the curing temperature of the thermosetting resin composition can be set to a preferable temperature.
[0031]
(Comparative Example 5)
Conventional phosphonium compounds, benzyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate (Ref. 1) and p-chlorobenzyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate (Ref. 2), were each added to the alicyclic epoxy monomer Celloxide 2021p (Daicel). 0.083 mol% was added to 1 epoxy equivalent (manufactured by Chemical Industry Co., Ltd.) to obtain a uniform epoxy resin composition. 1 g of this epoxy resin composition was placed in a sample bottle, and the exothermic behavior on a hot plate (120, 140 ° C.) was observed using an IR camera (see FIGS. 4 and 5).
[0032]
A conventional phosphonium salt, Ref. 1 and Ref. In the case of No. 2, at 120 ° C., no heat generation due to the curing reaction was observed, indicating that the thermosetting resin composition was cured at 140 ° C. for about 300 minutes and about 200 minutes, respectively. As described above, when a conventional phosphonium salt is used, it is necessary to cure at a high temperature of 120 ° C. or higher.
[0033]
(Polymerization test example 4)
Compound 8 was added in an amount of 0.5 part by weight based on 100 parts by weight of celloxide 2021p (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) to obtain a uniform epoxy resin composition. Next, the obtained epoxy resin composition was placed in a plate-shaped mold (60 mm × 50 mm × 3 mm), and was cured by heating at 140 ° C. for 4 hours. The glass transition temperature Tg of the obtained cured product was 145 ° C.
The obtained cured product was polished and subjected to heat resistance and light resistance tests. The heat resistance test was carried out at 150 ° C. for 100 hours, and the light resistance test was carried out in an atmosphere at 120 ° C. under irradiation with a metal halide lamp having a main wavelength of 300 to 450 nm and 460 to 570 nm for 100 hours.
[0034]
(Comparative Example 6)
1.3 parts by weight of p-chlorobenzyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate (Ref. 2) was added to 100 parts by weight of celloxide 2021p (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) to obtain a uniform epoxy resin composition. Was. Next, the obtained epoxy resin composition was placed in a plate-shaped mold (60 mm × 50 mm × 3 mm), and was cured by heating at 140 ° C. for 4 hours. The glass transition temperature Tg of the obtained cured product was 147 ° C.
The obtained cured product was subjected to a heat resistance and light resistance test in the same manner as in Polymerization Test Example 4.
[0035]
(Comparative Example 7)
2.5 parts by weight of p-chlorobenzylmethyldiphenylphosphonium hexafluoroantimonate (Ref. 4) was added to 100 parts by weight of celloxide 2021p (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) to obtain a uniform epoxy resin composition. Was. Next, the obtained epoxy resin composition was placed in a plate-shaped mold (60 mm × 50 mm × 3 mm), and was cured by heating at 140 ° C. for 4 hours. The glass transition temperature Tg of the obtained cured product was 142 ° C.
The obtained cured product was subjected to a heat resistance and light resistance test in the same manner as in Polymerization Test Example 4.
[0036]
Table 4 shows the transmittance at 470 nm of the test pieces before and after the heat resistance and light resistance tests. () Shows the rate of change before and after the test.
[Table 4]
Figure 2004083835
From Table 4, the cured product obtained in Polymerization Test Example 4 using Compound 8 was compared with the cured product obtained using the conventional phosphonium compound catalyst (Ref. 2, 4) (Comparative Examples 6, 7). It can be seen that both heat resistance and light resistance are excellent.
[0037]
(Polymerization Examples 1 to 30)
Using 0.4 parts by weight of the catalyst shown in Tables 2 and 3 with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin, a polymerization reaction was carried out for 3 hours under the conditions shown in Table 5 to obtain a cured product. In Table 5, as the epoxy resin, A indicates a resin composition containing only celloxide 2021p (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), and B indicates celloxide 2021p / YX8000 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) = 80/20. (Wt%) is shown as a resin composition.
[Table 5]
Figure 2004083835
[0038]
【The invention's effect】
The phosphonium compound according to the present invention has a structure containing two or more phosphorus atoms, has a higher polymerization activity for a thermosetting resin than a conventional phosphonium compound, and has a low temperature and a small amount of addition. The one-part thermosetting resin composition containing this as a heat-latent cationic polymerization catalyst has excellent storage stability, and the cured product obtained by heating and curing is colored and odorous. None, and has excellent stability such as heat resistance and light resistance.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a graph showing the relationship between the glass transition temperature Tg (° C.) of the cured products obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 4 and the amount of catalyst added.
FIG. 2 is an observation result of an exothermic behavior of an epoxy resin composition when compound 20 is used as a polymerization catalyst.
FIG. 3 is an observation result of an exothermic behavior of an epoxy resin composition when a compound 33 is used as a polymerization catalyst.
FIG. 4 shows Ref. It is an observation result of the exothermic behavior of the epoxy resin composition when 1 is used as a polymerization catalyst.
FIG. 5: Ref. 2 is an observation result of an exothermic behavior of the epoxy resin composition when No. 2 was used as a polymerization catalyst.

Claims (11)

一般式(I):
Figure 2004083835
(式中、R〜Rは、同一または異なって、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいジアリールメチル基または式(II):
Figure 2004083835
(式中、R〜Rは、同一または異なって、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基または置換されていてもよいジアリールメチル基を示し、R〜R11は、同一または異なって水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基であり、Aは置換されていてもよい芳香族炭化水素環であり、nは1〜5の整数、mは0または1であり、Xはハロゲン原子、SbF、AsF、PF、BFまたはBPhを表す。)で表される基を示し(ただし、R〜Rのうち少なくとも1つは式(II)で表される基である。)、または、R〜Rのうちのいずれか1つと、R〜Rのうちのいずれか1つとが一緒になって低級アルキレン基を形成してリン原子2個を含む複素環を形成してもよく、Xは式(II)における定義と同義である。)で示されるホスホニウム化合物。
General formula (I):
Figure 2004083835
(Wherein, R 1 to R 4 are the same or different and are an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, an optionally substituted diaryl Methyl group or formula (II):
Figure 2004083835
(Wherein, R 5 to R 7 are the same or different and each may be an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, or an optionally substituted diaryl A methyl group; R 8 to R 11 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group which may be substituted, or an aryl group which may be substituted, and A represents an aromatic hydrocarbon which may be substituted; A hydrogen ring, n is an integer of 1 to 5, m is 0 or 1, and X represents a halogen atom, SbF 6 , AsF 6 , PF 6 , BF 4 or BPh 4 ). (Provided that at least one of R 1 to R 4 is a group represented by formula (II)), or any one of R 1 to R 4 and R 5 to R 7 With one of them May form a heterocyclic ring containing two phosphorus atoms to form a grade alkylene group, X is as defined in formula (II). A) a phosphonium compound represented by the formula:
〜Rのうち少なくとも1つは、上記式(II)で表される基であって、R〜Rが同一または異なってフェニル基、置換されていてもよいベンジル基、ナフチルメチル基、置換されていてもよいジフェニルメチル基または置換されていてもよいアルキル基であり、Rが水素原子、Rが水素原子またはフェニル基、nが1〜4の整数、mが0であり、
〜Rのうち残りの基はフェニル基、置換されていてもよいベンジル基、ナフチルメチル基、置換されていてもよいジフェニルメチル基または置換されていてもよいアルキル基である請求項1記載のホスホニウム化合物。
At least one of R 1 to R 4 is a group represented by the above formula (II), wherein R 5 to R 7 are the same or different and are phenyl, optionally substituted benzyl, naphthylmethyl R 8 is a hydrogen atom, R 9 is a hydrogen atom or a phenyl group, n is an integer of 1 to 4, m is 0, or a diphenylmethyl group which may be substituted or an alkyl group which may be substituted. Yes,
The remaining group among R 1 to R 4 is a phenyl group, an optionally substituted benzyl group, a naphthylmethyl group, an optionally substituted diphenylmethyl group or an optionally substituted alkyl group. The phosphonium compound according to the above.
は、上記式(II)で表される基であって、R、RおよびRがフェニル基であり、Rが水素原子であり、mが0、nが2であり、 RはRと一緒になって炭素数1〜4のアルキレン基を形成し、RおよびRはフェニル基である請求項1記載のホスホニウム化合物。R 2 is a group represented by the above formula (II), wherein R 6 , R 7 and R 9 are phenyl groups, R 8 is a hydrogen atom, m is 0, n is 2, The phosphonium compound according to claim 1, wherein R 1 and R 5 together form an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R 3 and R 4 are phenyl groups. は、上記式(II)で表される基であって、R〜Rがフェニル基または式:−(CH−PPh(式中、pは1〜4の整数を示す)で表される基、R〜R11が水素原子、Aが置換されていてもよいベンゼン環であって、mおよびnが1であり、
〜Rはフェニル基または式:−(CH−PPh(式中、pは1〜4の整数を示す)で表される基である請求項1記載のホスホニウム化合物。
R 1 is a group represented by the above formula (II), wherein R 5 to R 7 are a phenyl group or a formula: — (CH 2 ) p —PPh 2 (where p is an integer of 1 to 4; R 8 to R 11 are a hydrogen atom, A is a benzene ring which may be substituted, m and n are 1,
The phosphonium compound according to claim 1, wherein R 2 to R 4 are a phenyl group or a group represented by the formula: — (CH 2 ) p —PPh 2 (wherein p is an integer of 1 to 4).
は、上記式(II)で表される基であって、RおよびRがフェニル基、R〜R11が水素原子、Aが置換されていてもよいベンゼン環であって、mおよびnは1であり、
はRと一緒になって炭素数1〜8のアルキレン基を形成し、RおよびRはフェニル基である請求項1記載のホスホニウム化合物。
R 2 is a group represented by the above formula (II), wherein R 6 and R 7 are phenyl groups, R 8 to R 11 are hydrogen atoms, A is a benzene ring which may be substituted, m and n are 1;
R 1 together with R 5 to form an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, R 3 and R 4 are phosphonium compound according to claim 1, wherein the phenyl group.
請求項1〜5のいずれか1項に記載のホスホニウム化合物からなる重合触媒。A polymerization catalyst comprising the phosphonium compound according to claim 1. 熱硬化性樹脂に、請求項1〜5のいずれか1項に記載のホスホニウム化合物を配合してなる熱硬化性樹脂組成物。A thermosetting resin composition obtained by blending the phosphonium compound according to any one of claims 1 to 5 with a thermosetting resin. 熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂である請求項7記載の熱硬化性樹脂組成物。The thermosetting resin composition according to claim 7, wherein the thermosetting resin is an epoxy resin. エポキシ樹脂100重量部に対し、請求項2〜5のいずれか1項に記載のホスホニウム化合物を0.01〜10重量部含有してなる請求項8記載の熱硬化性樹脂組成物。The thermosetting resin composition according to claim 8, wherein the composition contains 0.01 to 10 parts by weight of the phosphonium compound according to any one of claims 2 to 5 based on 100 parts by weight of the epoxy resin. ホスホニウム化合物の対イオンXがSbF である請求項9記載の熱硬化性樹脂組成物。Counterion X phosphonium compounds - is SbF 6 - a is 9. The thermosetting resin composition according. 請求項7〜9のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物を加熱・硬化させて得られる硬化物。A cured product obtained by heating and curing the thermosetting resin composition according to any one of claims 7 to 9.
JP2002319477A 2002-07-03 2002-11-01 Novel phosphonium compound and thermosetting resin composition containing the same Expired - Fee Related JP4397575B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002319477A JP4397575B2 (en) 2002-07-03 2002-11-01 Novel phosphonium compound and thermosetting resin composition containing the same

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002194540 2002-07-03
JP2002319477A JP4397575B2 (en) 2002-07-03 2002-11-01 Novel phosphonium compound and thermosetting resin composition containing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004083835A true JP2004083835A (en) 2004-03-18
JP4397575B2 JP4397575B2 (en) 2010-01-13

Family

ID=32071943

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002319477A Expired - Fee Related JP4397575B2 (en) 2002-07-03 2002-11-01 Novel phosphonium compound and thermosetting resin composition containing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4397575B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100595964B1 (en) * 2004-11-18 2006-07-05 한국화학연구원 Catalytic phosphine-based curing agent and epoxy resin composition containing the same
DE102007041988A1 (en) * 2007-09-05 2009-03-12 Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh Flame retardant additives
JP2011201835A (en) * 2010-03-26 2011-10-13 Jx Nippon Oil & Energy Corp Phosphonium compound

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100595964B1 (en) * 2004-11-18 2006-07-05 한국화학연구원 Catalytic phosphine-based curing agent and epoxy resin composition containing the same
DE102007041988A1 (en) * 2007-09-05 2009-03-12 Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh Flame retardant additives
US20100160476A1 (en) * 2007-09-05 2010-06-24 Henkel Ag &Co. Kgaa Flame-retardant additives
JP2011201835A (en) * 2010-03-26 2011-10-13 Jx Nippon Oil & Energy Corp Phosphonium compound

Also Published As

Publication number Publication date
JP4397575B2 (en) 2010-01-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4288940B2 (en) Epoxy resin composition
JP5611192B2 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product
KR20150018771A (en) Curing agent for anionically curable compounds, curable composition, cured product, novel imidazole-based compound and use of same
JP5059634B2 (en) Liquid curable composition and cured product thereof
US6365760B1 (en) Naphthalene derivative, binaphthalene derivative and biphenyl derivative and cationically curable compound
JPH06345726A (en) Novel sulfonium salt compound and its use as initiator for polymerization
JP3716416B2 (en) Novel sulfonium salt compounds and polymerization initiators
JP4397575B2 (en) Novel phosphonium compound and thermosetting resin composition containing the same
US3285991A (en) Polyepoxides cured with the reaction product of a dihydroxydiphenylsul-fone, an amine, and an aldehyde
TWI734042B (en) Epoxy oxetane compound, its synthesis method and utilization of the compound
JPH05156002A (en) Polyether amine compound and epoxy adhesive
JP5686629B2 (en) Epoxy resin composition
JP4251138B2 (en) Curing accelerator for cationic polymerization type composition
JP2001040085A (en) Cation curable composition
JP2001261780A (en) Epoxy resin composition
JP6736051B2 (en) Epoxy resin, completely modified epoxy resin and curable composition containing them
JP2001261780A5 (en)
JP4085773B2 (en) Thermosetting resin composition and cured product obtained by curing the same
JP4967660B2 (en) Cyclohexene oxide compound having cyclohexyl group or long-chain alkyl group and use thereof
JP4352862B2 (en) Cycloaliphatic compounds having an oxetane ring
JPH04128279A (en) Glycidyl ether compound containing triple bond
JPH10510870A (en) Epoxy-functional polyether
JPWO2008035514A1 (en) Liquid curable composition and cured product thereof
JP2851414B2 (en) Heat resistant vinyl ester resin composition
JP2008297271A (en) Oxetane compound and curable composition

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040902

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20060420

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20060420

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20060429

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060810

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060822

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061020

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20061020

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070220

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070423

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20070618

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20070907

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090903

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20091021

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121030

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4397575

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121030

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121030

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131030

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees