JP2004075688A - Method for producing alkenylphosphonic ester - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for production of an alkenylphosphorus compound (alkenylphosphonic ester) by using a hydrogenated phosphonic ester as a starting material and using an inexpensive catalyst. <P>SOLUTION: The method for production of the alkenylphosphonic ester expressed by formula (3), (4) comprises a process reacting a hydrogenated phosphonic ester expressed by formula (2) to an acetylenic compound of formula (1) in the presence of a nickel complex with lower valency comprising a tertiary phosphorus compound such as a tertiary phosphine or a tertiary phosphite or the like, as a ligand [excluding nickel complexes with lower valency using a phosphine containing two or more tertiary phosphorus atoms, triphenylphosphine, tri(hydroxymethyl)phosphine, tri(n-butyl)phosphine or triphenyl phosphite as ligand]. And the method for production of the alkenylphosphonic ester with improved position-selectivity carries out the reaction in the presence of a phosphinic acid. R<SP>1</SP>(C≡CR<SP>2</SP>)<SB>n</SB>[1], HP(O)(OR<SP>3</SP>)(OR<SP>4</SP>) [2], R<SP>1</SP>äCH=CR<SP>2</SP>[P(O)(OR<SP>3</SP>)(OR<SP>4</SP>)]}<SB>n</SB>[3], R<SP>1</SP>äC[P(O)(OR<SP>3</SP>)(OR<SP>4</SP>)]=CHR<SP>2</SP>}<SB>n</SB>[4], (in the formulas n is 1 or 2, R<SP>1</SP>-R<SP>4</SP>are each an alkylene group or the like). <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

 本発明は、アルケニルホスホン酸エステル等のアルケニルリン化合物の製造方法に関するものである。アルケニルリン化合物は、その基本骨格が天然に見出され、酵素などと作用することにより、それ自身が生理活性を示すことが知られている。同化合物は、各種触媒反応の補助配位子等として広く用いられる第3級ホスフィン等に容易に変換される極めて有用な化合物でもある。更に、同化合物は、求核剤やラジカル種と容易に反応し、Horner-Wittig反応に用いることもできるなど、精密化学品の合成の面でも有用性が高い一群の化合物である。 << The present invention relates to a method for producing an alkenyl phosphorus compound such as an alkenyl phosphonic acid ester. It is known that alkenyl phosphorus compounds themselves show physiological activity when their basic skeleton is found in nature and act with enzymes and the like. The compound is also a very useful compound that can be easily converted to tertiary phosphine or the like widely used as an auxiliary ligand or the like in various catalytic reactions. Further, the compound is a group of compounds having high utility also in synthesizing fine chemicals, for example, easily reacting with a nucleophile or a radical species, and can be used for the Horner-Wittig reaction.

 このようなアルケニルリン化合物を炭素−リン結合の生成を伴って合成する方法としては、一般的には、対応するアルケニルハライド化合物を水素化ホスホン酸エステル、水素化ホスフィン酸エステル及び二置換ホスフィンオキシド(以下、これらのリン化合物を総称してP−H化合物と呼ぶ。)で置換する方法が考えられる。しかし、この方法では、反応に伴って同時に生成するハロゲン化水素を捕捉するための塩基の添加が必要であり、これによって、大量のハロゲン化水素塩を併産する。また、その出発原料であるアルケニルハライド化合物は、工業的には必ずしも入手が容易でなく、また一般に毒性を有する。このため、この方法は、工業的に有利な方法とは考えられない。一方、触媒を用いて、P−H化合物のアセチレンへの付加によるアルケニルリン化合物の製造法も最近報告されているが(特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4、特許文献5等)、何れも高価なパラジウム又はロジウム触媒を使用する方法であり、且つこれらの方法は何れも生成物の選択性があまり高くない。 As a method of synthesizing such an alkenyl phosphorus compound with generation of a carbon-phosphorus bond, generally, a corresponding alkenyl halide compound is converted to a hydrogenated phosphonic acid ester, a hydrogenated phosphinic acid ester and a disubstituted phosphine oxide ( Hereinafter, these phosphorus compounds are collectively referred to as a PH compound.). However, in this method, it is necessary to add a base for capturing the hydrogen halide produced simultaneously with the reaction, thereby producing a large amount of a hydrogen halide salt. Further, the alkenyl halide compound as the starting material is not always easily available industrially, and generally has toxicity. Therefore, this method is not considered to be an industrially advantageous method. On the other hand, a method for producing an alkenyl phosphorus compound by addition of a PH compound to acetylene using a catalyst has also been recently reported (Patent Document 1, Patent Document 2, Patent Document 3, Patent Document 4, Patent Document 5). Etc.), all of which use expensive palladium or rhodium catalysts, and none of these methods has a very high product selectivity.

日本国特許第2775426号Japanese Patent No. 2775426 日本国特許第2777985号Japanese Patent No. 2777985 日本国特許第2849712号Japanese Patent No. 2849712 日本国特許第3007984号Japanese Patent No. 3007984 日本国特許第3041396号Japanese Patent No. 3041396

 本発明は、水素化ホスホン酸エステルを出発原料とし、安価な触媒を用いて、アルケニルリン化合物(アルケニルホスホン酸エステル)を製造する方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a method for producing an alkenyl phosphorus compound (alkenyl phosphonate) using a hydrogenated phosphonate as a starting material and using an inexpensive catalyst.

 本発明者らは、容易に入手可能な水素化ホスホン酸エステルとアセチレン化合物の反応について鋭意研究を重ねた結果、安価なニッケル触媒存在下でこの付加反応が進行し、容易に対応するアルケニルリン化合物(アルケニルホスホン酸エステル)を与えることを見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventors have conducted intensive studies on the reaction between an easily available hydrogenated phosphonate and an acetylene compound, and as a result, this addition reaction proceeds in the presence of an inexpensive nickel catalyst, and the corresponding alkenyl phosphorus compound (Alkenyl phosphonate), and completed the present invention.

 即ち、本発明は、3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物を配位子とする低原子価のニッケル錯体[但し、3価のリン原子を2個以上有するホスフィン、或いはトリフェニルホスフィン、トリ(ヒドロキシメチル)ホスフィン、トリ(n−ブチル)ホスフィン又はトリフェニルホスファイトを配位子とする低原子価のニッケル錯体を除く。]の存在下に、一般式[1]
    R(C≡CR)    [1]
(式中、nは1又は2であり、nが1の場合のR及びR、並びにnが2の場合のRは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、同シクロアルキル基、同アルケニル基、同シクロアルケニル基、同アリール基、同アラルキル基、同ヘテロアリール基、同アルコキシ基、同シクロアルコキシ基、同アラルキロキシ基、同アリールオキシ基、同シリル基、又はフェロセニル基を示す。また、nが2の場合のRは、置換基を有していてもよいアルキレン基、同シクロアルキレン基、同アルケニレン基、同シクロアルケニレン基、同アリーレン基、同アラルキレン基、同ヘテロアリーレン基、同アルキレンジオキシ基、同シクロアルキレンジオキシ基、同アラルキレンジオキシ基、同アリーレンジオキシ基、同シリレン基、又はフェロセニレン基を示す。)で表されるアセチレン化合物を、一般式[2]
    HP(O)(OR)(OR)   [2]
(式中、R及びRは、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアルキル基、同シクロアルキル基、同アラルキル基又は同アリール基を示す。また、R及びRそれぞれの基から一個の水素原子又は基そのものを除いてなる残基又は結合手で互いに結合し、環状構造を形成していてもよい。)で表される水素化ホスホン酸エステルと反応させることを特徴とする、一般式[3]
    R{CH=CR[P(O)(OR)(OR)]}  [3]
又は/及び一般式[4]
    R{C[P(O)(OR)(OR)]=CHR}  [4]
(式中、n、R、R、R及びRは前記と同じ。)で表されるアルケニルホスホン酸エステルの製造方法に関する。
That is, the present invention relates to a low-valent nickel complex having a trivalent phosphorus compound such as a tertiary phosphine or a tertiary phosphite as a ligand [provided that a phosphine having two or more trivalent phosphorus atoms or Excludes low-valent nickel complexes having phenylphosphine, tri (hydroxymethyl) phosphine, tri (n-butyl) phosphine or triphenylphosphite as a ligand. ] In the presence of the general formula [1]
R 1 (C≡CR 2 ) n [1]
(Wherein, n is 1 or 2, R 2 in the case of R 1 and R 2 when n is 1, and n is 2 are each independently a hydrogen atom, substituted Good alkyl group, the same cycloalkyl group, the same alkenyl group, the same cycloalkenyl group, the same aryl group, the same aralkyl group, the same heteroaryl group, the same alkoxy group, the same cycloalkoxy group, the same aralkyloxy group, the same aryloxy group, R 1 when n is 2 is an alkylene group, a cycloalkylene group, an alkenylene group, an alkenylene group, an arylene group, or an arylene group, which may have a substituent; Group, the same aralkylene group, the same heteroarylene group, the same alkylenedioxy group, the same cycloalkylenedioxy group, the same aralkylenedioxy group, the same arylenedioxy group, The silylene group, or ferrocenylene a group.) Acetylene compound represented by the general formula [2]
HP (O) (OR 3) (OR 4) [2]
(Wherein, R 3 and R 4 each independently represent an alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, or an aryl group which may have a substituent. In addition, R 3 and R 4 May be bonded to each other by a residue or a bond formed by removing one hydrogen atom or the group itself from each group to form a cyclic structure.) Characteristic, general formula [3]
R 1 {CH = CR 2 [P (O) (OR 3 ) (OR 4 )]} n [3]
Or / and general formula [4]
R 1 {C [P (O) (OR 3 ) (OR 4 )] = CHR 2 } n [4]
(Wherein, n, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same as described above).

 本発明は、医薬・農薬などの生理活性物質や触媒調製用配位子等の合成中間体として有用なアルケニルホスホン酸エステルの高収率で且つ実用性の高い製造方法を提供するものである。本発明のアルケニルホスホン酸エステルの合成方法は、触媒として比較的安価なニッケル錯体触媒を使用し、アセチレン類に水素化ホスホン酸エステルを反応させるだけで、簡便、安全、且つ効率的に合成することができ、生成物の分離精製も容易である。従って、本発明は工業的に多大の効果をもたらす。 The present invention provides a process for producing alkenyl phosphonate esters useful as synthetic intermediates such as physiologically active substances such as pharmaceuticals and agricultural chemicals and ligands for preparing catalysts in high yield and high practicability. The method for synthesizing an alkenyl phosphonate according to the present invention provides a simple, safe, and efficient synthesis by simply reacting a hydrogenated phosphonate with an acetylene using a relatively inexpensive nickel complex catalyst as a catalyst. And the separation and purification of the product is easy. Therefore, the present invention has a great effect industrially.

 上記一般式[1]、[3]及び[4]において、nが1の場合のR及びR、並びにnが2の場合のRで示される、置換基を有していても良いアルキル基のアルキル基としては、例えば、炭素数が1〜20、好ましくは1〜10、より好ましくは1〜6の直鎖状又は分枝状のアルキル基が挙げられ、より具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第二級ブチル基、第三級ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などが挙げられる。
 また、置換基を有していてもよいシクロアルキル基のシクロアルキル基としては、例えば、炭素数3〜30、好ましくは3〜20、より好ましくは3〜12の単環、多環又は縮合環式のシクロアルキル基が挙げられ、より具体的には、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロドデシル基等が挙げられる。
 置換基を有していてもよいアルケニル基のアルケニル基としては、例えば、前記した炭素数2以上のアルキル基に1個以上の二重結合を有するものが挙げられ、より具体的には、アリル基、1−プロペニル基、イソプロペニル基、2−ブテニル基、1,3−ブタジエニル基、2−ペンテニル基、2−ヘキセニル基等が挙げられる。
 置換基を有していてもよいシクロアルケニル基のシクロアルケニル基としては、前記したシクロアルキル基に1個以上の二重結合を有するものが挙げられ、より具体的には、シクロプロペニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロオクテニル基等が挙げられる。
The general formula [1], in [3] and [4], n is R 1 and R 2 in the case of 1, and n is represented by R 2 in the case of two may have a substituent Examples of the alkyl group of the alkyl group include a linear or branched alkyl group having 1 to 20, preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 6 carbon atoms, and more specifically, Examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a secondary butyl group, a tertiary butyl group, a pentyl group, and a hexyl group.
The cycloalkyl group of the cycloalkyl group which may have a substituent includes, for example, a monocyclic, polycyclic or condensed ring having 3 to 30, preferably 3 to 20, and more preferably 3 to 12 carbon atoms. Examples include the cycloalkyl group of the formula, more specifically, a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclooctyl group, a cyclododecyl group, and the like.
Examples of the alkenyl group of the alkenyl group which may have a substituent include, for example, those having one or more double bonds in the alkyl group having 2 or more carbon atoms, and more specifically, allyl. Groups, 1-propenyl group, isopropenyl group, 2-butenyl group, 1,3-butadienyl group, 2-pentenyl group, 2-hexenyl group and the like.
Examples of the cycloalkenyl group of the cycloalkenyl group which may have a substituent include those having one or more double bonds in the above-described cycloalkyl group, and more specifically, a cyclopropenyl group and a cycloalkyl group Examples include a pentenyl group, a cyclohexenyl group, and a cyclooctenyl group.

 置換基を有していてもよいアリール基のアリール基としては、例えば、炭素数6〜30、好ましくは6〜20、より好ましくは6〜14の単環、多環又は縮合環式の芳香族炭化水素基が挙げられ、より具体的には、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、メチルナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基等が挙げられる。
 置換基を有していてもよいアラルキル基のアラルキル基としては、例えば、炭素数7〜30、好ましくは7〜20、より好ましくは7〜15の単環、多環又は縮合環式のアラルキル基が挙げられ、より具体的には、例えば、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。
 置換基を有していてもよいヘテロアリール基のヘテロアリール基としては、酸素、窒素、イオウなどのヘテロ原子を含む各種の複素芳香環基が挙げられ、それに含まれる炭素数は通常4〜12、好ましくは4〜8である。その具体例としては、チエニル基、フリル基、ピリジル基、ピロリル基などが挙げられる。
 置換基を有していてもよいアルコキシ基のアルコキシ基としては、例えば炭素数1〜8、好ましくは1〜4のアルコキシ基が挙げられ、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。
 置換基を有していてもよいシクロアルコキシ基のシクロアルコキシ基としては、例えば、炭素数3〜30、好ましくは3〜20、より好ましくは3〜12の単環、多環又は縮合環式のシクロアルコキシ基が挙げられ、より具体的には、シクロプロピルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロオクチルオキシ基、シクロドデシルオキシ基等が挙げられる。
 置換基を有していてもよいアラルキロキシ基としては、例えば、炭素数7〜30、好ましくは7〜20、より好ましくは7〜15の単環、多環又は縮合環式のアラルキロキシ基が挙げられ、より具体的には、例えば、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ナフチルメチルオキシ基、ナフチルエチルオキシ基等が挙げられる。
 置換基を有していてもよいアリールオキシ基のアリールオキシ基としては、例えば、炭素数6〜30、好ましくは6〜20、より好ましくは6〜14の単環、多環又は縮合環式の芳香族炭化水素基を有するアリールオキシ基が挙げられ、より具体的には、例えば、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフトキシ基、メチルナフチルオキシ基、アントリルオキシ基、フェナントリルオキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられる。
Examples of the aryl group of the aryl group which may have a substituent include, for example, a monocyclic, polycyclic or condensed ring aromatic having 6 to 30, preferably 6 to 20, and more preferably 6 to 14 carbon atoms. Examples include a hydrocarbon group, and more specifically, for example, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, a methylnaphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, a biphenyl group and the like.
Examples of the aralkyl group of the aralkyl group which may have a substituent include, for example, a monocyclic, polycyclic or condensed aralkyl group having 7 to 30, preferably 7 to 20, and more preferably 7 to 15 carbon atoms. And more specifically, for example, a benzyl group, a phenethyl group, a naphthylmethyl group, a naphthylethyl group and the like.
Examples of the heteroaryl group of the heteroaryl group which may have a substituent include various heteroaromatic ring groups containing a hetero atom such as oxygen, nitrogen, and sulfur, and the number of carbon atoms contained therein is usually 4 to 12 , Preferably 4 to 8. Specific examples thereof include a thienyl group, a furyl group, a pyridyl group, and a pyrrolyl group.
Examples of the alkoxy group of the optionally substituted alkoxy group include an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, and specific examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, and a butoxy group. And the like.
Examples of the cycloalkoxy group of the cycloalkoxy group which may have a substituent include, for example, a monocyclic, polycyclic or condensed cyclic compound having 3 to 30, preferably 3 to 20, and more preferably 3 to 12 carbon atoms. A cycloalkoxy group is mentioned, and more specifically, a cyclopropyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cyclooctyloxy group, a cyclododecyloxy group and the like are mentioned.
Examples of the aralkyloxy group which may have a substituent include a monocyclic, polycyclic or fused cyclic aralkyloxy group having 7 to 30, preferably 7 to 20, and more preferably 7 to 15 carbon atoms. More specifically, examples include a benzyloxy group, a phenethyloxy group, a naphthylmethyloxy group, a naphthylethyloxy group, and the like.
Examples of the aryloxy group of the aryloxy group which may have a substituent include, for example, a monocyclic, polycyclic or condensed cyclic one having 6 to 30, preferably 6 to 20, and more preferably 6 to 14 carbon atoms. Examples include an aryloxy group having an aromatic hydrocarbon group, and more specifically, for example, a phenoxy group, a tolyloxy group, a xylyloxy group, a naphthoxy group, a methylnaphthyloxy group, an anthryloxy group, a phenanthryloxy group, And a biphenyloxy group.

 これらアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アラルキロキシ基及びアリールオキシ基の置換基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、水酸基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、例えば塩素、臭素、フッ素等のハロゲン原子、シアノ基、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ基、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、シリル基、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基等の置換シリル基、例えばt−ブチルジメチルシロキシ基等のシロキシ基等が挙げられる。 Examples of the substituent for the alkyl group, cycloalkyl group, alkenyl group, cycloalkenyl group, aryl group, aralkyl group, heteroaryl group, alkoxy group, cycloalkoxy group, aralkyloxy group and aryloxy group include, for example, methyl group, ethyl group , An alkyl group such as a propyl group, a hydroxyl group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an alkoxy group such as a butoxy group, such as a halogen atom such as chlorine, bromine and fluorine, a cyano group such as a dimethylamino group and a diethylamino group. Dialkylamino group, for example, methoxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group such as ethoxycarbonyl group, silyl group, for example, substituted silyl group such as trimethylsilyl group, triethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group, triphenylsilyl group, for example, t-butyl Such siloxy groups such as methylsiloxy group.

 また、置換基を有していてもよいシリル基としては、例えばアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基等で置換されたものが含まれる。その具体例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジメチルシリル基、トリメトキシシリル基、t-ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。 The silyl group which may have a substituent includes, for example, those substituted with an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, and the like. Specific examples thereof include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a triphenylsilyl group, a phenyldimethylsilyl group, a trimethoxysilyl group, a t-butyldimethylsilyl group, and the like.

 nが2の場合のRで示される置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、置換基を有していてもよいアルケニレン基、置換基を有していてもよいシクロアルケニレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基、置換基を有していてもよいアラルキレン基、置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレンジオキシ基、置換基を有していてもよいシクロアルキレンジオキシ基、置換基を有していてもよいアリーレンジオキシ基、置換基を有していてもよいシリレン基、又はフェロセニレン基は前記したnが1の場合のRから水素1原子を取り除いた二価の残基、或いは水素1原子を酸素1原子に置き換えた二価の残基の中から選ばれ、その具体例としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基、1,2−ジメチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基、ナフチレン基、フェニルメチレン基、フランジイル基、2−ブテンジイル基、テトラメチレンジオキシ基、テトラリンジイルオキシ基、フェニレンジオキシ基、ジメチルシリレン基、フェロセニレン基等が挙げられる。 an alkylene group optionally having a substituent, a cycloalkylene group optionally having a substituent, an alkenylene group optionally having a substituent, a substituent represented by R 1 when n is 2 A cycloalkenylene group which may have a substituent, an arylene group which may have a substituent, an aralkylene group which may have a substituent, a heteroarylene group which may have a substituent, and a substituent May have an alkylenedioxy group, an optionally substituted cycloalkylenedioxy group, an optionally substituted arylenedioxy group, may have a substituent The silylene group or ferrosenylene group is selected from divalent residues obtained by removing one hydrogen atom from R 1 when n is 1, or divalent residues obtained by replacing one hydrogen atom with one oxygen atom. As a specific example, Are methylene, ethylene, trimethylene, methylethylene, tetramethylene, 1,2-dimethylethylene, pentamethylene, hexamethylene, cyclohexylene, phenylene, naphthylene, phenylmethylene, flange Examples thereof include an yl group, a 2-butenediyl group, a tetramethylenedioxy group, a tetralindiyloxy group, a phenylenedioxy group, a dimethylsilylene group, and a ferrocenylene group.

 本発明の製造方法において好ましく用いられる、上記一般式[1]で示されるアセチレン化合物を例示すると、無置換アセチレン、メチルアセチレン、ブチン、1−ヘキシン、2−ヘキシン、1−オクチン、4−オクチン、1−ブチン−4−オール、2−ブチン−1−オール、3−ブチン−1−オール、5−ヘキシン−1−オール、1−オクチン−3−オール、5−クロロ−1−ペンチン、フェニルアセチレン、トリメチルシリルアセチレン、エチニルチオフェン、ヘキシノニトリル、シクロヘキセニルアセチレン、エチニルフェロセン、1,4−ペンタジイン、1,8−ノナジイン、ジエチニルベンゼンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the acetylene compound represented by the general formula [1] preferably used in the production method of the present invention include unsubstituted acetylene, methylacetylene, butyne, 1-hexyne, 2-hexyne, 1-octyne, 4-octyne, 1-butyn-4-ol, 2-butyn-1-ol, 3-butyn-1-ol, 5-hexyn-1-ol, 1-octin-3-ol, 5-chloro-1-pentyne, phenylacetylene , Trimethylsilylacetylene, ethynylthiophene, hexinonitrile, cyclohexenylacetylene, ethynylferrocene, 1,4-pentadiyne, 1,8-nonadiyne, diethynylbenzene, and the like, but are not limited thereto.

 一般式[2]、[3]及び[4]において、R及びRで示される、置換基を有していても良いアルキル基、同シクロアルキル基、同アラルキル基、同アリール基における、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基及びアリール基の定義並びに具体例としては、上記R及びRのところで挙げたものと同じものが挙げられる。また、これらの置換基も、上記R及びRのところで挙げたものと同じものが挙げられる。また、R及びRそれぞれの基から一個の水素原子又は基そのものを除いてなる残基又は結合手で互いに結合し、環状構造を形成している場合の具体例としては、例えば、エチレン基、テトラメチルエチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、オルトフェニレン基、オルトキシリレン基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。 In the general formulas [2], [3] and [4], in the alkyl group optionally having a substituent, the cycloalkyl group, the aralkyl group and the aryl group represented by R 3 and R 4 , The definition and specific examples of the alkyl group, cycloalkyl group, aralkyl group and aryl group include the same as those described for R 1 and R 2 above. In addition, the same substituents as those described above for R 1 and R 2 can also be used. Further, specific examples of the case where a ring structure is formed by bonding to each other with a residue or a bond formed by removing one hydrogen atom or a group itself from each of R 3 and R 4 to form, for example, an ethylene group , A tetramethylethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, an orthophenylene group, an orthoxylylene group, and the like, but are not limited thereto.

 本発明の製造方法において用いられる好適な水素化ホスホン酸エステルを具体的に例示すると、ホスホン酸ジメチル、ホスホン酸ジエチル、ホスホン酸ジブチル、ホスホン酸ジフェニルなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない Specific examples of suitable hydrogenated phosphonates used in the production method of the present invention include dimethyl phosphonate, diethyl phosphonate, dibutyl phosphonate, diphenyl phosphonate, and the like, but are not limited thereto. Absent

 アセチレン化合物と水素化ホスホン酸エステルの使用比率は、一般的にモル比で1:1が好ましいが、これより大きくても小さくても、反応の生起を阻害するものではない。 The use ratio of the acetylene compound to the hydrogenated phosphonic acid ester is generally preferably 1: 1 in molar ratio, but larger or smaller than this does not inhibit the occurrence of the reaction.

 本発明に係る反応は、3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物を配位子とする低原子価のニッケル錯体[但し、3価のリン原子を2個以上有するホスフィン、或いはトリフェニルホスフィン、トリ(ヒドロキシメチル)ホスフィン、トリ(n−ブチル)ホスフィン又はトリフェニルホスファイトを配位子とする低原子価のニッケル錯体を除く。]の存在下において好ましい速度で進行する。
 更に、反応系中で容易に3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物を配位子とする低原子価のニッケル錯体[但し、3価のリン原子を2個以上有するホスフィン、或いはトリフェニルホスフィン、トリ(ヒドロキシメチル)ホスフィン、トリ(n−ブチル)ホスフィン又はトリフェニルホスファイトを配位子とする低原子価のニッケル錯体を除く。]に変換し得る前駆体錯体を用い、反応系中で3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物を配位子とする低原子価のニッケル錯体を形成させて反応させることも好ましい態様である。
 また、3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物を配位子として含まないニッケル錯体と、3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物とを併用し、
反応系中で3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物を配位子とする低原子価のニッケル錯体[但し、3価のリン原子を2個以上有するホスフィン、或いはトリフェニルホスフィン、トリ(ヒドロキシメチル)ホスフィン、トリ(n−ブチル)ホスフィン又はトリフェニルホスファイトを配位子とする低原子価のニッケル錯体を除く。]を形成させて使用する方法や、3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物を配位子とする低原子価錯体[但し、3価のリン原子を2個以上有するホスフィン、或いはトリフェニルホスフィン、トリ(ヒドロキシメチル)ホスフィン、トリ(n−ブチル)ホスフィン又はトリフェニルホスファイトを配位子とする低原子価のニッケル錯体を除く。]に同種又は異種の3級ホスフィン、3級ホスファイト等の3価のリン化合物を更に添加して使用する方法等も好ましい態様である。
 これらのいずれかの方法で有利な性能を発揮する配位子としては、種々の3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物を挙げることが出来るが、好適に用いることが出来る配位子を例示すると、例えば、ジフェニルメチルホスフィン、フェニルジメチルホスフィン等が挙げられる。
The reaction according to the present invention is a low-valent nickel complex having a trivalent phosphorus compound such as a tertiary phosphine or a tertiary phosphite as a ligand [however, a phosphine having two or more trivalent phosphorus atoms, or Excludes low-valent nickel complexes having triphenylphosphine, tri (hydroxymethyl) phosphine, tri (n-butyl) phosphine or triphenylphosphite as a ligand. ] At a preferred rate.
Further, a low-valent nickel complex having a trivalent phosphorus compound such as a tertiary phosphine or a tertiary phosphite as a ligand in the reaction system [however, a phosphine having two or more trivalent phosphorus atoms, Alternatively, a low-valent nickel complex having triphenylphosphine, tri (hydroxymethyl) phosphine, tri (n-butyl) phosphine, or triphenylphosphite as a ligand is excluded. The reaction may be carried out by forming a low-valent nickel complex having a trivalent phosphorus compound such as a tertiary phosphine or a tertiary phosphite as a ligand in a reaction system using a precursor complex that can be converted to This is a preferred embodiment.
Further, a nickel complex containing no trivalent phosphorus compound such as tertiary phosphine or tertiary phosphite as a ligand and a trivalent phosphorus compound such as tertiary phosphine or tertiary phosphite are used in combination,
A low-valent nickel complex having a trivalent phosphorus compound such as a tertiary phosphine or a tertiary phosphite as a ligand in the reaction system [however, a phosphine having two or more trivalent phosphorus atoms or a triphenylphosphine] And low-valent nickel complexes having tri (hydroxymethyl) phosphine, tri (n-butyl) phosphine or triphenylphosphite as a ligand. And a low-valent complex having a trivalent phosphorus compound such as a tertiary phosphine or a tertiary phosphite as a ligand [however, a phosphine having two or more trivalent phosphorus atoms, Alternatively, a low-valent nickel complex having triphenylphosphine, tri (hydroxymethyl) phosphine, tri (n-butyl) phosphine, or triphenylphosphite as a ligand is excluded. In another preferred embodiment, a trivalent phosphorus compound such as a tertiary phosphine or a tertiary phosphite is used.
Examples of ligands that exhibit advantageous performance by any of these methods include various tertiary phosphorus compounds such as tertiary phosphine and tertiary phosphite, and ligands that can be preferably used. Illustrative ligands include, for example, diphenylmethylphosphine, phenyldimethylphosphine and the like.

 本発明に係る上記配位子と組み合わせて用いられる、3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物を配位子として含まない錯体としては、例えば、ビス(アクリロニトリル)ニッケル、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル[Ni(cod) ]、ビス(π−アリル)ニッケル、ニッケロセン、ニッケルカルボニル、(π−シクロペンタジエニル)(π−アリル) ニッケル、酢酸ニッケル、臭化ニッケル等が挙げられる。 Examples of the complex which does not contain a trivalent phosphorus compound such as tertiary phosphine or tertiary phosphite as a ligand used in combination with the ligand according to the present invention include bis (acrylonitrile) nickel and bis ( 1,5-cyclooctadiene) nickel [Ni (cod) 2 ], bis (π-allyl) nickel, nickelocene, nickel carbonyl, (π-cyclopentadienyl) (π-allyl) nickel, nickel acetate, bromide Nickel and the like can be mentioned.

 また、3級ホスフィンやホスファイトを配位子として含んでなる錯体としては、例えば、ジメチルビス(ジフェニルメチルホスフィン)ニッケル、テトラキス(ジフェニルメチルホスフィン)ニッケル、テトラキス(ジメチルフェニルホスフィン)ニッケル等が挙げられ、特に好適に用いられるホスフィン錯体としては、テトラキス(ジフェニルメチルホスフィン)ニッケル、テトラキス(ジメチルフェニルホスフィン)ニッケルなどが挙げられる。 Examples of the complex containing tertiary phosphine or phosphite as a ligand include dimethylbis (diphenylmethylphosphine) nickel, tetrakis (diphenylmethylphosphine) nickel, and tetrakis (dimethylphenylphosphine) nickel. Particularly preferred examples of the phosphine complex include tetrakis (diphenylmethylphosphine) nickel and tetrakis (dimethylphenylphosphine) nickel.

 前駆体錯体を用い反応系中で低原子価ニッケル錯体を発生させる方法においては、前駆ニッケル錯体の構造によっては低原子価にするための処理剤を併用することが好ましい。その際に用いられる処理剤としては、還元剤やグリニャール試薬等が挙げられ、より具体的には、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ナトリウム等の水素化物、トリエチルアルミニウム、フェニルリチウム、ブチルリチウム、金属リチウム、金属ナトリウム、ナトリウムアマルガム、金属亜鉛、臭化メチルマグネシウム、沃化フェニルマグネシウム、臭化イソプロピルマグネシウム等が挙げられる。
 前駆ニッケル錯体の具体例としては、例えば、ジクロロビス(ジフェニルメチルホスフィン)ニッケル、ジクロロビス(ジメチルフェニルホスフィン)ニッケルなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
In the method of generating a low-valent nickel complex in a reaction system using a precursor complex, it is preferable to use a treating agent for lowering the valence depending on the structure of the precursor nickel complex. Examples of the treating agent used at that time include a reducing agent and a Grignard reagent, and more specifically, for example, sodium borohydride, lithium aluminum hydride, hydrides such as sodium hydride, triethylaluminum, phenyl Examples include lithium, butyl lithium, metallic lithium, metallic sodium, sodium amalgam, metallic zinc, methylmagnesium bromide, phenylmagnesium iodide, and isopropylmagnesium bromide.
Specific examples of the precursor nickel complex include, but are not limited to, dichlorobis (diphenylmethylphosphine) nickel, dichlorobis (dimethylphenylphosphine) nickel, and the like.

 本発明の反応において用いられる上記の錯体は反応に応じて好適なものを1種又は2種以上適宜選択して用いられる。
 本発明の反応に用いられるニッケル錯体の使用量はいわゆる触媒量で良く、アセチレン化合物に対して20モル%以下で足りるが、通常は10モル%以下で十分である。
 なお、3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物を配位子として用いる場合のこれらの使用量は、特に厳密な制限ではないが、リンのニッケルに対する原子比があまりに過剰であると触媒活性を低下させる傾向にあるので、一般的にはその原子比で50以下、好ましくは10以下に設定するのが好ましい。
One or more of the above complexes used in the reaction of the present invention may be suitably selected according to the reaction and used.
The amount of the nickel complex used in the reaction of the present invention may be a so-called catalytic amount, which is sufficient to be 20 mol% or less based on the acetylene compound, but usually 10 mol% or less is sufficient.
When a trivalent phosphorus compound such as tertiary phosphine or tertiary phosphite is used as a ligand, the amount of these ligands is not particularly strictly limited, but the atomic ratio of phosphorus to nickel is excessively large. In general, it is preferable to set the atomic ratio to 50 or less, preferably 10 or less.

 3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物を配位子とする低原子価のニッケル錯体は、単独でも活性を示すが、ホスフィン酸添加剤と共に用いることも出来る。特に位置異性体が生じる反応においては、ホスフィン酸添加物を併用することにより位置選択性が高まるので、そのような場合には併用するのが望ましい。
 これらのホスフィン酸は、例えば一般式[5]
    HO−P(O)(R)    [5]
(式中、Rはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。)で表される。
A low-valent nickel complex having a trivalent phosphorus compound such as tertiary phosphine or tertiary phosphite as a ligand exhibits activity even when used alone, but can be used together with a phosphinic acid additive. Particularly, in a reaction in which a regioisomer is generated, regioselectivity is enhanced by the combined use of a phosphinic acid additive.
These phosphinic acids have, for example, the general formula [5]
HO-P (O) (R 5) 2 [5]
(In the formula, R 5 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.)

 一般式[5]において、Rがアルキル基の場合のアルキル基としては、例えば炭素数1〜6、好ましくは1〜4のアルキル基が挙げられ、その具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、n−又はiso−プロピル基、n−、iso−、sec−又はtert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基などが挙げられる。
 Rがシクロアルキル基の場合のシクロアルキル基としては、例えば炭素数3〜12、好ましくは5〜12のシクロアルキル基が挙げられ、その具体例としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロドデシル基などが挙げられる。
 Rがアリール基の場合のアリール基としては、例えば炭素数6〜14、好ましくは6〜10のアリール基が挙げられ、その具体例としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などが挙げられ、さらにそれらの置換体(トリル基、キシリル基、ベンジルフェニル基など)も包含される。
 Rがアラルキル基の場合のアラルキル基としては、例えば炭素数7〜15、好ましくは7〜11のアラルキル基が挙げられ、その具体例としては、例えばベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基などが挙げられる。
 Rで示されるアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基は,反応に不活性な置換基、例えば、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、ジメチルアミノ基、フルオロ基、クロロ基、ヒドロキシ基などで置換されていてもよい。
In the general formula [5], when R 5 is an alkyl group, examples of the alkyl group include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, Examples include an ethyl group, n- or iso-propyl group, n-, iso-, sec- or tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group and the like.
When R 5 is a cycloalkyl group, examples of the cycloalkyl group include a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, preferably 5 to 12 carbon atoms. Specific examples thereof include, for example, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cycloalkyl group. Examples include an octyl group and a cyclododecyl group.
When R 5 is an aryl group, the aryl group includes, for example, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, preferably 6 to 10 carbon atoms, and specific examples thereof include, for example, a phenyl group and a naphthyl group. Further, their substituted products (tolyl group, xylyl group, benzylphenyl group, etc.) are also included.
When R 5 is an aralkyl group, the aralkyl group includes, for example, an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms, preferably 7 to 11 carbon atoms, and specific examples thereof include, for example, a benzyl group, a phenethyl group, and a naphthylmethyl group. No.
The alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group represented by R 5 is a substituent inert to the reaction, for example, a methoxy group, a methoxycarbonyl group, a cyano group, a dimethylamino group, a fluoro group, a chloro group, a hydroxy group. It may be substituted with a group or the like.

 本発明で用いられるホスフィン酸の具体例としては、例えばジフェニルホスフィン酸やジメチルホスフィン酸などが挙げられる。その使用量は、用いるP−H化合物に対して等モル以下、好ましくは、0.1〜10モル%である。 具体 Specific examples of the phosphinic acid used in the present invention include, for example, diphenylphosphinic acid and dimethylphosphinic acid. The amount of use is not more than equimolar to the P-H compound used, preferably 0.1 to 10 mol%.

 反応は特に溶媒を用いなくてもよいが、必要に応じて溶媒中で実施することもできる。溶媒としては、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオノニトリル等のニトリル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)等のアミド系溶媒等、種々のものが使用できる。また、これらは単独若しくは2種以上の混合物として使用することも出来る。 The reaction does not need to use a solvent, but can be carried out in a solvent if necessary. Examples of the solvent include hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, ether solvents such as dioxane, tetrahydrofuran (THF), diisopropyl ether and dimethoxyethane, ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone. Various solvents can be used, such as a nitrile solvent such as acetic acid, acetonitrile and propiononitrile, and an amide solvent such as N, N-dimethylformamide (DMF). These can be used alone or as a mixture of two or more.

 反応温度は、あまりに低温では反応が有利な速度で進行せず、あまりに高温では触媒が分解するので、一般的には、−20℃から300℃の範囲から選ばれ、好ましくは0℃から150℃の範囲で実施される。反応時間は、用いるアセチレン化合物及びP−H化合物の種類や反応温度その他の反応条件等により自ずから異なるが、通常数時間〜数十時間程度である。 The reaction temperature is generally selected from the range of −20 ° C. to 300 ° C., preferably 0 ° C. to 150 ° C., since the reaction does not proceed at an advantageous rate at a too low temperature and the catalyst decomposes at a too high temperature. It is carried out within the range. The reaction time varies depending on the kind of the acetylene compound and the PH compound used, the reaction temperature and other reaction conditions, but is usually about several hours to several tens of hours.

 本反応は空気中等の酸素の存在下でも進行するが、本反応系中で作用する触媒活性種は酸素に敏感なので、反応の実施は窒素、アルゴン、メタン等の不活性ガス雰囲気で行うのが好ましい。反応混合物からの生成物の分離は、クロマトグラフィー、蒸留、再結晶等によって容易に達成される。 Although this reaction proceeds even in the presence of oxygen such as in air, the catalytically active species acting in this reaction system is sensitive to oxygen, so the reaction should be performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen, argon, or methane. preferable. Separation of the product from the reaction mixture is easily achieved by chromatography, distillation, recrystallization, and the like.

 本発明を以下の実施例によって更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。 The present invention will be described more specifically with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

 フェニルジメチルホスフィン又はジフェニルメチルホスフィンを配位子とする本発明に係るニッケル錯体を用い、溶媒1ミリリットル中、HP(O)(OCMe−MeCO)1ミリモルと1-オクチン1ミリモルを窒素雰囲気下、表1に記載の各反応時間、室温で反応させたところ、2−(1−オクテン−2−イル)−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサホスホラン2−オキシドが表1に記載の各収率で得られた。これらの結果を表1にまとめて示す。また、3価のリン原子を2個有するホスフィンやトリフェニルホスフィン或いはトリフェニルホスファイトを配位子とするニッケル錯体を用いた参考例1〜11の結果を表1に併せて示す。 Using a nickel complex according to the present invention having phenyldimethylphosphine or diphenylmethylphosphine as a ligand, 1 mmol of HP (O) (OCMe 2 -Me 2 CO) and 1 mmol of 1-octyne in 1 ml of a solvent were mixed in a nitrogen atmosphere. When the reaction was carried out at room temperature for each reaction time shown in Table 1, 2- (1-octen-2-yl) -4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaphospho was obtained. Run 2-oxide was obtained in each of the yields listed in Table 1. These results are summarized in Table 1. Table 1 also shows the results of Reference Examples 1 to 11 using a phosphine having two trivalent phosphorus atoms, triphenylphosphine, or a nickel complex having triphenylphosphite as a ligand.

Figure 2004075688
Figure 2004075688

 表1から明らかなように、フェニルジメチルホスフィン又はジフェニルメチルホスフィンを配位子とする本発明に係るニッケル錯体を用いた本発明の製造方法(実施例1の(1)〜(5))によれば、3価のリン原子を2個有するホスフィンやトリフェニルホスフィン或いはトリフェニルホスファイトを配位子とするニッケル錯体を用いた参考例(1)〜(11)と比べて、反応時間及び収率面で極めて好ましい結果が得られることが判る。
参考例12
 1,4−ジオキサン 1ミリリットルに、HP(O)(OCMe−MeCO)1ミリモル、1-オクチン 1ミリモル、触媒として Ni(cod) (10モル%)を用い、窒素雰囲気下、室温で5時間反応させたところ、2−(1−オクテン−2−イル)−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサホスホラン2−オキシドが36%の収率で得られた。
As is clear from Table 1, the production method of the present invention using the nickel complex of the present invention having phenyldimethylphosphine or diphenylmethylphosphine as a ligand ((1) to (5) of Example 1). For example, as compared with Reference Examples (1) to (11) using a nickel complex having phosphine, triphenylphosphine, or triphenylphosphite having two trivalent phosphorus atoms as a ligand, the reaction time and yield are higher. It can be seen that a very favorable result is obtained in terms of surface.
Reference Example 12
To 1 ml of 1,4-dioxane, 1 mmol of HP (O) (OCMe 2 -Me 2 CO), 1 mmol of 1-octyne, and Ni (cod) 2 (10 mol%) as a catalyst were used under a nitrogen atmosphere at room temperature. For 5 hours, the yield of 2- (1-octen-2-yl) -4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaphosphorane 2-oxide was 36%. Was obtained.

参考例13
 参考例12と同様の反応条件下、触媒として Ni(cod) (10モル%)とPhP(CH)PPh(10モル%)を用い、反応を行ったところ、2−(1−オクテン−2−イル)−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサホスホラン2−オキシドが72%の収率で得られた。
Reference Example 13
The reaction was carried out under the same reaction conditions as in Reference Example 12 using Ni (cod) 2 (10 mol%) and Ph 2 P (CH 2 ) 3 PPh 2 (10 mol%) as catalysts. 1-octen-2-yl) -4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaphosphorane 2-oxide was obtained with a yield of 72%.

 1−オクチンの代わりに、フェニルアセチレンを用いて実施例1の(3)と同様の反応条件下で反応を行ったところ、CH=C(Ph)[P(O)(OCMe−MeCO)]が99%の収率で得られた。 When the reaction was carried out under the same reaction conditions as in (3) of Example 1 using phenylacetylene instead of 1-octyne, CH 2 CC (Ph) [P (O) (OCMe 2 -Me 2 CO)] was obtained in a yield of 99%.

 アセチレンガス(1気圧)を用い、実施例2と同様の反応条件下で反応を行ったところ、CH=CH[P(O)(OCMe−MeCO)]が95%の収率で得られた。 The reaction was carried out under the same reaction conditions as in Example 2 using acetylene gas (1 atm), and CH 2 CHCH [P (O) (OCMe 2 -Me 2 CO)] was obtained in a yield of 95%. Obtained.

 HP(O)(OCMe−MeCO)の代わりに、(MeO)P(O)Hを用い、実施例1の(3)と同様の反応条件下で、1−オクチンとの反応を行ったところ、CH=C(n−C13)[P(O)(OMe)]と(E)−CH(n−C13)=CH[P(O)(OMe)]の混合物(比率=100:46)が97%の収率で得られた。 Using (MeO) 2 P (O) H instead of HP (O) (OCMe 2 -Me 2 CO), the reaction with 1-octyne was carried out under the same reaction conditions as in (3) of Example 1. When went, CH 2 = C (n- C 6 H 13) [P (O) (OMe) 2] and (E) -CH (n-C 6 H 13) = CH [P (O) (OMe) 2 ] (ratio = 100: 46) was obtained in 97% yield.

 実施例4の反応をジフェニルホスフィン酸(10モル%)共存下で行ったところ、CH=C(n−C13)[P(O)(OMe)]が96%の収率で選択的に生成した。 When the reaction of Example 4 was carried out in the presence of diphenylphosphinic acid (10 mol%), CH 2 CC (n-C 6 H 13 ) [P (O) (OMe) 2 ] was obtained in a yield of 96%. Selectively generated.

 実施例5と同様の反応条件下で、アセチレン化合物として1,8−ノナジインを用いて(MeO)P(O)Hとの反応を行ったところ、CH=C[P(O)(OMe)]−(CH)−[P(O)(OMe)]C=CHが91%の収率で生成した。 The reaction with (MeO) 2 P (O) H using 1,8-nonadiyne as an acetylene compound under the same reaction conditions as in Example 5 gave CH 2 CHC [P (O) (OMe ) 2 ]-(CH 2 ) 5- [P (O) (OMe) 2 ] C = CH 2 was produced in 91% yield.

 1−オクチンの代わりにアセチレンガス(1気圧)を用い、実施例4と同じ反応条件下で反応を行ったところ、CH=CH[P(O)(OMe)]が92%の収率で得られた。 The reaction was carried out under the same reaction conditions as in Example 4 using acetylene gas (1 atm) in place of 1-octyne. As a result, the yield of CH 2 CHCH [P (O) (OMe) 2 ] was 92%. Was obtained.

Claims (5)

 3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物を配位子とする低原子価のニッケル錯体[但し、3価のリン原子を2個以上有するホスフィン、或いはトリフェニルホスフィン、トリ(ヒドロキシメチル)ホスフィン、トリ(n−ブチル)ホスフィン又はトリフェニルホスファイトを配位子とする低原子価のニッケル錯体を除く。]の存在下に、一般式[1]
    R(C≡CR)    [1]
(式中、nは1又は2であり、nが1の場合のR及びR、並びにnが2の場合のRは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、同シクロアルキル基、同アルケニル基、同シクロアルケニル基、同アリール基、同アラルキル基、同ヘテロアリール基、同アルコキシ基、同シクロアルコキシ基、同アラルキロキシ基、同アリールオキシ基、同シリル基、又はフェロセニル基を示す。また、nが2の場合のRは、置換基を有していてもよいアルキレン基、同シクロアルキレン基、同アルケニレン基、同シクロアルケニレン基、同アリーレン基、同アラルキレン基、同ヘテロアリーレン基、同アルキレンジオキシ基、同シクロアルキレンジオキシ基、同アラルキレンジオキシ基、同アリーレンジオキシ基、同シリレン基、又はフェロセニレン基を示す。)で表されるアセチレン化合物を、一般式[2]
    HP(O)(OR)(OR)   [2]
(式中、R及びRは、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアルキル基、同シクロアルキル基、同アラルキル基又は同アリール基を示す。また、R及びRそれぞれの基から一個の水素原子又は基そのものを除いてなる残基又は結合手で互いに結合し、環状構造を形成していてもよい。)で表される水素化ホスホン酸エステルと反応させることを特徴とする、一般式[3]
    R{CH=CR[P(O)(OR)(OR)]}  [3]
又は/及び一般式[4]
    R{C[P(O)(OR)(OR)]=CHR}  [4]
(式中、n、R、R、R及びRは前記と同じ。)で表されるアルケニルホスホン酸エステルの製造方法。
Low-valent nickel complex having a trivalent phosphorus compound such as tertiary phosphine or tertiary phosphite as a ligand [however, phosphine having two or more trivalent phosphorus atoms, or triphenylphosphine, tri (hydroxy) Excludes low-valent nickel complexes having methyl) phosphine, tri (n-butyl) phosphine or triphenylphosphite as a ligand. ] In the presence of the general formula [1]
R 1 (C≡CR 2 ) n [1]
(Wherein, n is 1 or 2, R 2 in the case of R 1 and R 2 when n is 1, and n is 2 are each independently a hydrogen atom, substituted Good alkyl group, the same cycloalkyl group, the same alkenyl group, the same cycloalkenyl group, the same aryl group, the same aralkyl group, the same heteroaryl group, the same alkoxy group, the same cycloalkoxy group, the same aralkyloxy group, the same aryloxy group, R 1 when n is 2 is an alkylene group, a cycloalkylene group, an alkenylene group, an alkenylene group, an arylene group, or an arylene group, which may have a substituent; Group, the same aralkylene group, the same heteroarylene group, the same alkylenedioxy group, the same cycloalkylenedioxy group, the same aralkylenedioxy group, the same arylenedioxy group, The silylene group, or ferrocenylene a group.) Acetylene compound represented by the general formula [2]
HP (O) (OR 3) (OR 4) [2]
(Wherein, R 3 and R 4 each independently represent an alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, or an aryl group which may have a substituent. In addition, R 3 and R 4 May be bonded to each other by a residue or a bond formed by removing one hydrogen atom or the group itself from each group to form a cyclic structure.) Characteristic, general formula [3]
R 1 {CH = CR 2 [P (O) (OR 3 ) (OR 4 )]} n [3]
Or / and general formula [4]
R 1 {C [P (O) (OR 3 ) (OR 4 )] = CHR 2 } n [4]
(Wherein n, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same as described above).
 3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物を配位子とする低原子価のニッケル錯体がフェニルジメチルホスフィン又はジフェニルメチルホスフィンを配位子とする低原子価のニッケル錯体である請求項1に記載の製造方法。 The low-valent nickel complex having a ligand of a trivalent phosphorus compound such as tertiary phosphine or tertiary phosphite is a low-valent nickel complex having a ligand of phenyldimethylphosphine or diphenylmethylphosphine. Item 1. The production method according to Item 1.  反応系中で容易に3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物を配位子とする低原子価のニッケル錯体に変換し得る前駆体錯体を用いて反応を行う請求項1又は2に記載の製造方法。 The reaction is carried out using a precursor complex which can be easily converted to a low-valent nickel complex having a trivalent phosphorus compound such as a tertiary phosphine or a tertiary phosphite as a ligand in the reaction system. 3. The production method according to 2.  3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物を配位子とする低原子価のニッケル錯体が、3級ホスフィン、3級ホスファイト等の3価のリン化合物を配位子として含まない同金属錯体と、3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物とを併用し、反応系中で形成させた3級ホスフィンや3級ホスファイト等の3価のリン化合物を配位子とする低原子価錯体である請求項1又は2に記載の製造方法。 A low-valent nickel complex having a trivalent phosphorus compound such as tertiary phosphine or tertiary phosphite as a ligand contains a trivalent phosphorus compound such as tertiary phosphine or tertiary phosphite as a ligand. And a trivalent phosphorus compound such as a tertiary phosphine or a tertiary phosphite formed in the reaction system. The production method according to claim 1, wherein the production method is a low-valent complex used as a ligand.  反応を、一般式[5]
    HO−P(O)(R)    [5]
(式中、Rはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。)で表されるホスフィン酸の存在下に行う、請求項1〜4の何れかに記載の製造方法。
The reaction is performed according to the general formula [5]
HO-P (O) (R 5) 2 [5]
(Wherein R 5 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group). The method according to claim 1, wherein the reaction is performed in the presence of a phosphinic acid represented by the formula:
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