JP2004069373A - Liquid crystal precision position controller - Google Patents

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JP2004069373A
JP2004069373A JP2002226298A JP2002226298A JP2004069373A JP 2004069373 A JP2004069373 A JP 2004069373A JP 2002226298 A JP2002226298 A JP 2002226298A JP 2002226298 A JP2002226298 A JP 2002226298A JP 2004069373 A JP2004069373 A JP 2004069373A
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Japan
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liquid crystal
pattern
image
substrate
laser
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Application number
JP2002226298A
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Japanese (ja)
Inventor
Katsumi Yoshino
吉野 勝美
Toshio Osono
大薗 敏雄
Junya Kobayashi
小林 潤也
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Japan Science and Technology Agency
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Japan Science and Technology Corp
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal precise position controller which utilizes pattern recognition and is capable of performing fine working adjusting to the objective of a work, by attaching an electro-optical liquid crystal marker of high visibility to the work. <P>SOLUTION: In this liquid crystal precise position controller, an electro-optical liquid crystal display marker to be a luminous source is arranged in one dimension or two dimensions and a predetermined pattern is formed. Its position is detected by image-recognizing this pattern, and positioning is performed. A plate (liquid crystal display substrate) 27 of the luminous source is set on stages 19, 24, and the pattern of the substrate 27 is controlled. A place to be laser-worked is determined by marking (lighting) a designated position or its vicinity. The determined position is stored as image information by an image sensing device 17 via a condensing lens 18 on a memory in order. The pattern of the stored image data on the memory and a pattern taken in beforehand are collated, and instructions for driving are transmitted to each power supply driver 25, 22 to drive an X-stage motor 26 and a Y-stage motor 23 from a motion control unit 21, so that the patterns may match. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、発光源によって形成されたパターンを画像認識により検出して位置合わせをする装置に関する。本発明によるこのような装置は、有機EL(エレクトロルミネッセンス)による表示素子の作製、レーザ描画装置、レジスト感光用精密位置決めレーザ感光装置、細胞切断レーザマイクロカッタ、DNA、1塩基置換による遺伝子の多型性を用いたSNPチップ(マイクロアレー)の製造等に利用することができる。
【0002】
また、本発明による装置は、表示装置のカラーフィルタや透明電極(例えば、インジウムスズ酸化物(ITO))パターンやプリント回路板のパターンの配線の修正のためのレーザリペア装置、シリコンやガラスプレート上の微細穴に生体細胞や核や精子等を冷凍保存するための省エネ型保存小型チップ、感光レジストの微細加工装置、レーザ描画装置、レーザスキャナ装置、ミニラボ写真プリント装置、レーザピンセット装置、細胞や核に刺すマイクロニードルを移動位置決めするための装置、レーザ工作加工装置、レーザマーキング装置、蛍光等を発光する生体や化学物質の位置のナノレベル検出装置、プロテオニクス分析装置、μ−TAS(マイクロトータルアナリシス分析器)やμ化学ファクトリ用の溝加工や部品組立て用位置制御装置へ利用することもできる。
【0003】
【従来の技術】
PLED(ポリマー有機エレクトロルミネッセンス素子)等に代表される次世代FPD(フラットパネルディスプレイ)の製作においては、レジストで2次元上に構成されたスペースに正確に材料をスポットする製作装置や、各素子の発光状態を確認して、その良否を判定する検査装置等が必要とされている。
【0004】
また、テーラメード医療薬として細胞内のたんぱく質を参考にして、細胞受容体を増殖因子よりブロックするための分子認識薬を選定する場合には、たんぱく質の種類や薬との組み合わせを検討する必要があり、そのためには個人の細胞内のたんぱく質を取り出すためのレーザマイクロカッター装置や、組み合わせを評価するためのマイクロアレー作製装置等が必要であり、その検査装置を実現するためには精密な位置制御装置が不可欠である。現在は、サブミクロンレベルの精密な細胞レーザカットやマイクロスポットを配列させる作製工程のタクトタイムと精密度が医療薬開発を進める上でのネックとなっている。位置あわせのためのメカトロ精度に頼る傾向が今後、益々高くなる。
【0005】
ところで、通常、マイクロ以下のステージ制御をする場合は、ステージの移動量や現在地を直接把握するために、磁気目盛りや光学目盛りやレーザ干渉等を利用した測長器をステージに取り付け、測長器からの信号をモーションコントロール部にフィードバックするフルクローズド制御を採らなければ、位置制御は殆ど不可能である。また、直接、試料細胞や検体位置を捉える必要性から、今後は、2次元上の目標とする絶対位置に精密にステージを移動制御する方法が望まれている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、ステージのコントロールを精密に行っても、例えば、ワークの熱膨張との差による誤差が生じたりすると、ワークの定位置を絶えずおさえることは、フルクローズド制御といえどもできない。そのため、熱膨張率の近い材質を使ったり、温度補償を行うための環境センサを別途、設けたりするという対症療法的に複雑化乃至制約が生じる。
【0007】
また、ワークそれぞれの個体差は当然発生する。従って、ワークの個体差にあわせて、ステージの制御位置を設定する必要があるので、自動化による歩留まり上、この点が最も大きな問題となる。ワーク作りそのものに同等の精度が要求される等現実的ではない。
【0008】
また、1軸駆動モータを採用すると、当然、XYの2軸のモータが必要となり、必然的に測長器は複数(例えば、XYΘ等)が必要とされる。そのため、誤差が必然的に累積されるので、アライメント精度がより厳しくなり、高コスト化が避けられない。従って、本来、直接ワークそのものを観測しながら、そのワークの希望する位置に合わせるのが理想的であるし、その位置情報を制御系に与えるなら、ワークの位置あわせそのものを精密に行うことが可能である。従って、歩留まりの向上は当然期待できる。
【0009】
半導体やバイオチップ等の集積度の高いものを製作する場合は、ステージに載せたワークを2次元的に捉えるのが最もコストパフォーマンスにすぐれた方法である。そのため、最近、マシンビジョン方式が盛んに採入れれられようとしている。対象物への照明の照射方法を工夫したり、目標を確認しやすい工夫をしたりしているが、しかし、輝度が高く、高コントラストの視認度の高い解決方法は、従来、知られていない。また、パターンをコード化して管理するというデータベースを新たに考慮しなければならなかった。
【0010】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、発光源によって形成されたパターンを画像認識によって検出して位置合わせをする装置を提供することを目的とする。即ち、本発明によれば、このように視認度の高いマーカ(画像処理においてエンハンス等の処理を全く必要としないコントラストの高いマーカ)をワークに取り付け、ワークの目的にあわせて微細な加工ができるパターンマッチングのためのパターン画像認識を利用することを目的とし、従来の高価な測長スケールを全く必要としないより高精度なフルクローズド制御装置とそれを用いて製作したワークを実現することを目的とするものである。
【0011】
例えば、DNA等のバイオチップや化学マイクロ工場チップにおいて、半導体技術と同じように単位面積あたりの集積密度が高くなればなるほど、1枚からとれるチップの数が増えるため、ローコスト化にはスポット密度を高くすることが当然要求される。また、基板1枚1枚の加工後(例えば、スポッティング)の良否判定もパターン認識で自動確認検査しながら進めることで、生産性も向上して、コストにはメリットがでる。ところで、これまでのDNAアレイの基本は、一枚のチップ上に複数遺伝子をスポットして解析を行うことであった。最近は、特定遺伝子に対して複数試料の遺伝子解析を行える技術をも必要だと考えられている。このような技術は、臨床において遺伝子多型(SNP)と病気の発病の因果を知ることに繋がると考えられる。
【0012】
即ち、DNAチップの現在の検査工程が変わって、スポット一つ一つにそれぞれ異なったハイブリダイゼーションを行うことで診断時間の短縮化が要求されることも考えられるので、スポットと同様の位置にハイブリダイゼーションを行う位置決めが必要とされる可能性もある。これらは、従来は診断用の電軸のXYステージ等のメカトロ精度に頼らざるを得なかったが、現実にはワークの診断基板の各々の個体差にあわせた位置あわせ精度が重要となっている。
【0013】
同様に、小型化学実験室等に必要とされる実験用プレートにも、色々な試薬を決められた位置に正確にスポットする技術が必要となってくるので、プレート個々のカスタマイズや再現性の高い生産性の向上のためには、ワークそのものの位置を各々精密に判定して処理し、メカトロ本体のステージに頼らない構造の方が望ましいとされている。即ち、基板上に誘導灯を点灯させて、その位置に正確に加工プローブを着地させるようなことを行うのである。
【0014】
そのためには、ワークのスポット部分をスポッタの任意の位置(例えば、中央に)位置あわせする技術とスポッティング後の状態を良否を判別する技術を兼ね備えた方法が最も望ましい。そのようにすれば、メカトロステージの保守や校正等の煩わしさはなくなり、作製装置自体の精度要求が軽減されて、製作コストが格段に軽減できる。
【0015】
例えば、メカトロステージをサブマイクロ程度の精度で制御するには、従来は、必ず、光学式又は磁気式スケールの指示値を読み取り、それをメカトロに返すためのエンコーダが必要であったが、それが不要となる。特に、μDNAチップやMEMS応用の化学ファクトリの生産基板には、必ず2次元(XY)のステージの移動が要求されるので、スケール付きメカトロ系が2組必要であって、非常に高価なものとなっていた。
【0016】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するには、マシンビジョン等で使用されるパターン認識によるモーションコントロールが最も適切である。ワーク各々を撮像装置(CCDカメラや赤外線ビジコンカメラ等)によって捉えて、細部の位置を認識しながら、ステージを駆動させて、位置を制御することによって、メカトロの負担は軽減され、また、ファクトリ用の基板そのものの精密度が向上して、歩留まりがよくなる結果、システムコストとランニングコストを大幅に低減することが可能となる。
【0017】
しかし、パターン認識を利用して任意の位置を正確に合わせるためには、基板上に任意の位置を知らせるパターンをライブで表示する必要がある。また、精密度と認識速度を向上させるためには、エンファンス(増幅)等の画像処理を必要としないような視認度の高い標識(マーキング)が必要とされる。
【0018】
このような課題を解決するため、本発明によれば、発光源によって所定パターンを形成する手段と、形成されたパターンを認識する手段と、認識手段によって認識された位置に基づき、発光源を所定位置に移動させる移動手段とを備えた精密位置制御装置が提供される。即ち、本発明によれば、発光源となる電気光学液晶表示マーカが1次元又は2次元配列されて所定パターンを形成し、これを画像認識することによって位置を検出して、位置決めを行うことを特徴とする液晶精密位置制御装置が提供される。
【0019】
ここで、発光源は、例えば、電気的、化学的、光又は磁気的に励起されて、その際に電気光学効果を生じる液晶、電子ペーパに用いられれるコロイド粒子、又は蛍光を発するエレクトロルミネッセンス素子、燐光を発する素子、又はレーザスポットや光シャッタアレー等のプロジェクタ素子によって光のスポットを表示させる素子等を用いることができる。
【0020】
このような発光源を用いれば、視認度が非常に高いので、精密な位置あわせが可能である。また、自ら発光するので、照明を当てずに、レーザカット後の細胞の状態やスポッティングやその他の試薬による描画結果を実時間で確認することが可能である。
【0021】
また、DNAチップ等の場合は、プレートそのものが発光させることができるので、蛍光や燐光の光源にもなる。また、発光箇所を任意に指定することができるので、指定された場所の発光パターンの認識のみをすることによって、診断作業性を格段に高めることもできる。各スポットに照射する蛍光の励起光の波長をカラーフィルタ等を使うことも可能である。また、パターン認識そのものを軸においた設計であるので、チップの作製→ハイブリダイゼーション→蛍光パターン認識それぞれにカスタムメイドが可能になり、且つ、一つの装置で全工程を行うことができるオールインワン装置の実現が可能になる。
【0022】
この液晶基板は、底面にはバックライト光源があり、下部ガラス基板、液晶層、上部ガラス等の基板からなる。上部ガラス基板には、DNAオリゴ等がスポッティングされるために、接触角(濡れ性)の調整をするためのカップリング剤等による表面処理等の前処理がなされていたり、耐薬品性のためのフッ素コーティングがなされていてもよい。
【0023】
また、ガラス基板自体がそのような耐薬品性を有していてもよく、赤外光をよく通す材質や紫外光をよく通す材質からなるものであってもよい。逆に、ガラス基板上の試料にレーザ加工を加えるために、ガラス基板そのものに耐レーザ光コーティングがなされたものであってもよい。また、上部基板に直接、μみぞ等のエッチング処理がなさたものを用いてもよいし、ピットのアレイのような窪みのマトリクスを既に作製されたような感光性のガラス基材のものであってもよい。いずれにしても、上部下部基板の裏側には、液晶を駆動させるための一対の電極が設置されている。
【0024】
また、この電極部分のうち、上部基板の液晶界面側には、遮光を目的としたクロム蒸着膜やクロムエッチング膜や金印刷等のパターンニングが施されていてもよく、液晶に接触しない基板面に金属膜がコーティングされていてもよい。また、液晶表示基板を駆動させるために、配線が基板に取り付けられていなくともよい。リードピンがステージ側にセットされており、液晶表示基板のITO端子や金属端子にステージ固定時にコンタクトがとれるような構造であってもよいし、液晶基板そのものに表示駆動IC光源駆動IC等が実装されたチップオンガラス(COG)タイプのものであってもよい、カード式のコネクタを備えた基板タイプのものであってもよい。
【0025】
また、今後、ワイヤレス化が進むので、受信装置の付いたICをガラス基板に設けることもできる。そのような液晶表示パネルをカード化乃至スティック化し、装置ドライブに挿入して、メカステージ制御が始まり、そのスティックがバイオチップ等に変換されるような構成とすることもできる。
【0026】
ここでは、液晶を例に挙げて説明したが、今後、電子励起発光、エレクトロルミネッセンス、電子励起燐光、レーザダイオード、発光ダイオード(LED)を利用した有機・無機素材や電子励起燐光素材等のより視認性の高い材料を用いても基本的に同様の使い方によって目的を達成することができる。
【0027】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明による装置において用いる認識マーカが施された基板の構造を示す。図1中、(A)は液晶パネルの断面図を示し、(B)は液晶パネルの上部表面を示し、(C)は液晶パネルの上部基板の液晶界面側を示し、(D)は液晶パネルの下部基板の液晶界面側を示す。また、図2は、マイクロレーザカッタ加工装置の構成例を示す。以下の説明において、「パターン」とは、液晶で表示されるマークの形状を指す。また、上記液晶の表示パターンを撮像素子で収集してアナログ信号を得、このアナログ信号をデアダク処理して、画像認識データとし、この画像認識データが画像メモリ上にマトリクスとしてストアされる。このようにストアされた画像メモリの最小単位をピクセルという。
【0028】
液晶パネル10は、上部基板6と下部基板9の間に液晶8が挟まれて構成されている。上部基板6にはクロム蒸着や金印刷部7によって遮光部2が形成されていると共に、光透過部1として四角乃至丸型のパターンが形成されている。
【0029】
また、上部基板6の液晶界面側には、透明導電性コーティングITO(インジウムスズ酸化物)層3が施されており、それとマトリクスを形成するように下部基板9の液晶界面側にも透明な電極層4が形成されており、任意の光透過部のところのオン・オフ動作が可能な状態になっている。通電によって上下基板に挟まれた液晶8が駆動して、図1の基板の底面に設置させたバックライト(図示せず)の光を透過させて点灯させることによって、そのパターンが点灯できるようになる。
【0030】
図1の基板10と同じプレート27が図2の装置のステージ19、24上にセットされる。装置制御部13にCPU(中央演算装置)16から制御信号を送信し、液晶表示基板27のパターンを制御して、レーザスポットする場所の近傍をマーキング(点灯)させる。点灯位置はパターンのセンターにあたる画像メモリのピクセル座標を入力する方法でもいいし、もともと走査する(順次点灯させる)順番やタイミングをストアしていてもよいし、タブレットやキータッチパネルやマウス11等で実際にプレート27、CRT(ブラウン管)12を見ながら、ポインタで指定した位置を点灯させるような描画機構を設けてもよい。パターンから更なる精密制御については後述の図3のフロー図の説明においても述べる。
【0031】
点灯させた位置を集光レンズ18を介して撮像素子17によって画像情報として、一画素ごとに明るさ強度を電圧に変換し、連続したアナログ電圧信号として出力したものを、画像取り込みボード20がA/D(アナログ/デジタル)変換器によって連続したアナログ電圧信号を時間軸で分割し、デジタル信号に変換し、メモリ上に順番に格納する。格納されたメモリ上の画像データのパターンと予め取り込まれたパターンとの照合を行い、そのパターンがマッチするように、モーションコントロール部21よりXステージモータ26とYステージモータ23を駆動させるために各電源ドライバ駆動25、22に指示を送信する。パターンが視野中央に設置されたことをカメラ17によって確認して後、レーザ照射装置15に制御部14を介して指示を送信してポイントされる。
【0032】
パターンの具体的な認識が図3に示したフローチャートによって処理をする。図4に液晶パターンと画像ピクセルの関係を示す。即ち、複数のピクセル31からなるエリア(縦横のピクセルの集団)32を決めて、エリア32中に形成された液晶パターン30(図4中、斜線部で示す。)を選択する。認識ピクセルの大きさは40×40ピクセル〜200×200ピクセル程度が望ましい。
【0033】
画像メモリ上にはこのエリア32の画像情報がストアされている。おのおののピクセル31はそれぞれ256諧調の数値が割り当てられている。エリア32を選択し、決定するとは、縦×横×各ピクセルの諧調度の3次元データをメモリに取り込むことを指す。このデータと同じものを640×480ピクセル中の画像全体中からある認識率でマッチするエリアを探し、そのエリアの重心、中点、中心座標等を決定する。
【0034】
そして、そのセンターの座標33と640×480のピクセルマトリクスの目標位置、例えば、中央座標(340,240)までの距離を算出する。その距離を予め校正しておいた1ピクセル当たり距離からステージ上の物理長を換算、置き換えて、モーションコントロール部(図2の21)に距離を送信して、モータを動作させるパルスをモーションコントロール部21よりドライバ22に更に送信する。それによりステージが目的位置にパターンがくるように移動する。
【0035】
次に、図3のフロー図における液晶パターンの動きを図5において説明する。原点40からマーカである液晶パターンがカメラによって画像としてとらえる位置まで、ステージを粗く動作させる。カメラの視野(画像メモリ640×480ピクセル)43内に液晶パターン41が認識エリア42として検出されると、その正確な位置が予め格納されたCPU内のテーブルと参照され、採用されると同時に視野43上の相対位置を算出する。目標44の座標と液晶パターン41の現在位置より移動に必要な相対移動量を画像ピクセル数として算出した後、それをモーションコントローラ内にて距離からパルスに置き換え、モータドライバに伝えて、パターンと目標位置が一致するまで、画像として確認しながら位置制御を行う。
【0036】
モーションコントロール部21からドライバに送信されるパルスのミスカウントがあり、目的位置に到達しない場合は、再度、目標とパターンとの相対距離をライブでモニターして、最終的に落ちつくまで、パターン認識→モータ微動が繰り返される。位置決めができた時点で図2ではレーザ加工が行われる。
【0037】
ところで、図2に示した撮像装置17は、視認度が上がるようであれば、感度波長を変えてもよい。例えば、赤外線ビジコンカメラ等を用いてもよいし、CCDにインテンシファイヤ(光倍増管)を取り付けてもよい。熱画像カメラによってステージをコントロールしてもよい。また、高速シャッタカメラを用いたり、ハイスピードカメラのような高速フレームレートにのものを用いて、メカ制御してもよい。例えば、ビジコンカメラを用いれば、スポッティングの状態がより鮮明に確認できる場合があるので、波長フィルタを自動交換すれば、位置制御と検査が同時に可能である。液晶によって近赤外光のオンオフが可能であるから、バックライトに近赤外LED光源を用いてもよい。場合によっては、液晶を用いずに、エレクトロルミネッセンス(EL)を使った有機・無機材料を用いても、任意のパターンや位置が点灯できる。勿論、蛍光の励起光を発する発光体マトリクスによる位置制御方式でもよい。
【0038】
また、反射ミラーアレーを利用して、プロジェクタのようにステージ上のワークに光を照射投影する方法でスポットをパターン認識する方法も用いることができる。現在、発光パターンの微細化が可能な最も有望なデバイスの一は液晶表示パネルであり、5μm角のパターン(セグメント)まで可能である。今後、発光表示素子の微細化が進めば、それを利用することもできる。
【0039】
【発明の効果】
制御精度の点からみると、従来の方式の場合、エンコーダの1目盛りずつの測長結果がモータ移動のパルス数に相当するので、目盛り間に相当なばらつきがあるとき、モータに送るパルスとメモリから読む測長結果の値がちぐはぐとなり、ところによっては、ハンチングが大きいところが生じて、制御位置が定まらないところがでてくる。従って、メカを停止させても、繰り返し制御精度が著しく劣化することが避けられない。
【0040】
しかし、本発明によれば、撮像素子の1ピクセルが側長目盛りに相当する。認識するパターン間の距離にばらつきが生じても、測長誤差には反映されない。最近のCCDの各画素間の誤差はコンマ数%であるから、画像メモリーにストアされる視野の1ピクセルが1マイクロの場合、誤差は数ナノメータとなる。従って、ハンチングを限りなく小さくできる。
【0041】
また、ある光学倍率を設定した後、レーザヘテロダイン等で精密に測定した距離と撮像素子との関係を一度計算すれば、校正は完了したことになる。従って、パターンを認識するエリア内の相対的位置関係(パターンの形状に依存し、例えば、重心位置等)がノイズ(ハンチング)リミットとなり、パターン間の距離のばらつきはハンチングや精度劣化の原因とはならず、かくして、パターン間の校正も不要となる。
【0042】
応用面から触れるに、例えば、細胞輪郭をレーザにより切り取る例を挙げればレーザ照射用試料台の精密位置あわせが非常に簡単にできる。また、DNAチップ等の作製やハイブリダイゼーション後の蛍光認識については、任意の位置の蛍光を励起できるので、DNAチップの蛍光認識も同時に行うようなことも可能である。このように一連の作業が同一装置内でできるので、作業効率がよく、装置コストや導入コストが格段に軽減できる。
【0043】
以上のことから、本発明の装置を用いれば、従来、コスト高の一つの原因となっていたロータリーエンコーダやリニアエンコーダといったものをステージに設置することなく、非常に精密なステージ等の位置決めが可能となる。
【0044】
また、従来のパターン認識を用いた延長上の技術では、認識させるパターンを予めメモリしておかねば、位置決めの目的が達成できないので、マッチング精度を挙げるためにはパターンが必然的に複雑化するが、しかし、本発明の装置によれば、単一のパターンのみで絶対位置を指定してメカトロ制御するので、これまでにないアブソリュートなフルクローズド制御を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の装置における基板の構成図である。
【図2】本発明の装置全体の構成図である。
【図3】本発明の装置の作動を示すフローチャートである。
【図4】液晶パターンと画像ピクセルの関係図である。
【図5】図3のフローチャートに示す液晶パターンの動きを説明する図である。
【符号の説明】
1…光透過部
2…遮光部
3…リード線
4…各セグメント
6…上部基板
8…液晶
9…下部基板
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an apparatus that performs alignment by detecting a pattern formed by a light emitting source by image recognition. Such an apparatus according to the present invention includes the production of a display element by organic EL (electroluminescence), a laser drawing apparatus, a precision positioning laser exposure apparatus for resist exposure, a cell cutting laser micro cutter, DNA, and polymorphism of a gene by DNA and single base substitution. It can be used for the production of SNP chips (microarrays) using the characteristics.
[0002]
In addition, the device according to the present invention is a laser repair device for correcting a color filter of a display device or a wiring of a transparent electrode (for example, indium tin oxide (ITO)) pattern or a pattern of a printed circuit board, or a device on a silicon or glass plate. Energy-saving small-sized chip for freezing and storing living cells, nuclei, sperm, etc. in micro holes, fine processing device for photosensitive resist, laser drawing device, laser scanner device, minilab photo print device, laser tweezer device, cell and nucleus Equipment for moving and positioning microneedles to be pierced, laser processing equipment, laser marking equipment, nano-level detection equipment for the position of biological and chemical substances that emit fluorescence, etc., proteomics analyzer, μ-TAS (micro total analysis) Groove machining and position control equipment for assembling parts for μ chemical factory It can also be used for installation.
[0003]
[Prior art]
In the production of next-generation FPDs (flat panel displays) typified by PLEDs (polymer organic electroluminescence elements) and the like, a production apparatus that accurately spots a material in a space two-dimensionally formed by a resist, a production apparatus for each element, and the like. There is a need for an inspection device or the like that checks the light emission state and determines the quality of the light emission.
[0004]
In addition, when selecting a molecular recognition drug to block cell receptors from growth factors with reference to intracellular protein as a tailored medicine, it is necessary to consider the type of protein and its combination with the drug. For that purpose, a laser microcutter device for extracting proteins from the cells of an individual and a microarray manufacturing device for evaluating combinations are necessary, and a precise position control device is required to realize the inspection device. Is essential. At present, the tact time and precision of the fabrication process for arranging cell laser cuts and microspots at the submicron level are bottlenecks in the development of medical drugs. The tendency to rely on the mechatronic accuracy for alignment will increase in the future.
[0005]
By the way, usually, when controlling the stage below the micrometer, in order to directly grasp the movement amount of the stage and the current position, a length measuring device using a magnetic scale, an optical scale, laser interference, etc. is attached to the stage, and the length measuring device is used. Position control is almost impossible unless full-closed control for feeding back a signal from the controller to the motion control unit is employed. In addition, since it is necessary to directly detect the position of a sample cell or a specimen, a method of precisely moving and controlling the stage to a two-dimensional target absolute position is desired in the future.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, even if the stage is controlled precisely, for example, if an error occurs due to a difference from the thermal expansion of the work, it cannot be said that the fixed position of the work is constantly held even in the fully closed control. Therefore, the use of a material having a similar coefficient of thermal expansion, or the provision of a separate environmental sensor for performing temperature compensation, complicates or restricts the symptomatic treatment.
[0007]
In addition, individual differences between the workpieces naturally occur. Therefore, it is necessary to set the control position of the stage according to the individual difference of the work, and this is the biggest problem in terms of the yield by automation. It is not realistic that the same precision is required for the work itself.
[0008]
In addition, if a one-axis drive motor is used, two-axis XY motors are naturally required, and a plurality of length measuring devices (for example, XY #) are inevitably required. For this reason, errors are inevitably accumulated, so that the alignment accuracy becomes stricter and cost increases are inevitable. Therefore, ideally, it is ideal to adjust the desired position of the work while directly observing the work itself, and if the position information is given to the control system, the work itself can be precisely adjusted. It is. Accordingly, improvement in yield can be expected.
[0009]
When manufacturing a highly integrated product such as a semiconductor or a biochip, two-dimensionally capturing a work placed on a stage is the most cost-effective method. Therefore, recently, the machine vision system is being actively adopted. We have devised a method of irradiating the object with light, and have devised a way to confirm the target easily. However, a solution with high brightness, high contrast and high visibility has not been known so far. . In addition, a database for coding and managing patterns had to be newly considered.
[0010]
The present invention has been made in view of such circumstances, and it is an object of the present invention to provide a device that detects a pattern formed by a light emitting source by image recognition and performs positioning. That is, according to the present invention, such a marker with high visibility (a marker with high contrast that does not require any processing such as enhancement in image processing) is attached to the work, and fine processing can be performed according to the purpose of the work. The purpose is to use pattern image recognition for pattern matching, and to realize a more accurate full-closed control device that does not require a conventional expensive length measuring scale at all and a workpiece manufactured using it. It is assumed that.
[0011]
For example, in the case of biochips such as DNA and chemical micro-factory chips, the higher the integration density per unit area, as in semiconductor technology, the greater the number of chips that can be obtained from one chip. It is naturally required to be high. In addition, by performing the quality judgment after processing each substrate (for example, spotting) while automatically checking and inspecting by pattern recognition, the productivity is improved and the cost is reduced. By the way, the basics of conventional DNA arrays have been to spot a plurality of genes on a single chip for analysis. Recently, it has been considered necessary to have a technique that can perform gene analysis of a plurality of samples for a specific gene. Such a technique is thought to lead to the knowledge of genetic polymorphisms (SNPs) and the etiology of the disease in clinical practice.
[0012]
That is, it is conceivable that the current inspection process of the DNA chip changes, and it is necessary to shorten the diagnosis time by performing different hybridization for each of the spots. Positioning for performing the hybridization may be required. Conventionally, these systems have had to rely on the mechatronic accuracy of an XY stage or the like of an electric axis for diagnosis, but in reality, the accuracy of alignment according to each individual difference of a work diagnostic board is important. .
[0013]
Similarly, the technology required to accurately spot various reagents at predetermined positions is also required for experimental plates required for small chemical laboratories, etc., so that individual plates can be customized and highly reproducible. In order to improve the productivity, it is considered that a structure that does not rely on the stage of the mechatronic main body, and that accurately determines and processes the position of the work itself, is desirable. That is, the guide light is turned on on the substrate, and the processing probe is accurately landed at that position.
[0014]
For this purpose, it is most desirable to use a method that combines a technique for aligning the spot portion of the work with an arbitrary position (for example, the center) of the spotter and a technique for determining whether the spotted state is good or bad. This eliminates the need for maintenance and calibration of the mechatronic stage, reduces the accuracy requirements of the manufacturing apparatus itself, and significantly reduces manufacturing costs.
[0015]
For example, in order to control a mechatronic stage with sub-micron accuracy, conventionally, an encoder for reading an indicated value of an optical or magnetic scale and returning it to the mechatronic was required. It becomes unnecessary. In particular, the production substrate of a chemical factory using a μDNA chip or MEMS always requires movement of a two-dimensional (XY) stage, so two sets of mechatronics systems with a scale are required, which is very expensive. Had become.
[0016]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, motion control based on pattern recognition used in machine vision or the like is most appropriate. Each work is captured by an image pickup device (CCD camera, infrared vidicon camera, etc.), and the stage is driven and the position is controlled while recognizing the position of the details. As a result, the precision of the substrate itself is improved and the yield is improved, so that the system cost and the running cost can be significantly reduced.
[0017]
However, in order to accurately adjust an arbitrary position using pattern recognition, it is necessary to display a pattern indicating the arbitrary position on a substrate live. Further, in order to improve the precision and the recognition speed, a sign (marking) having high visibility that does not require image processing such as enhancement (amplification) is required.
[0018]
In order to solve such a problem, according to the present invention, a means for forming a predetermined pattern by a light emitting source, a means for recognizing a formed pattern, and a method for setting a light emitting source based on a position recognized by the recognizing means. A precise position control device comprising a moving means for moving to a position. That is, according to the present invention, the electro-optical liquid crystal display markers serving as the light emitting source are one-dimensionally or two-dimensionally arranged to form a predetermined pattern, and the position is detected by recognizing the image to perform positioning. A liquid crystal precision position control device is provided.
[0019]
Here, the light-emitting source is, for example, a liquid crystal which is excited electrically, chemically, optically or magnetically to generate an electro-optical effect, a colloid particle used for electronic paper, or an electroluminescent element which emits fluorescence. An element that emits phosphorescence, an element that displays a light spot by a projector element such as a laser spot or an optical shutter array, or the like can be used.
[0020]
If such a light emitting source is used, the visibility is very high, so that precise alignment is possible. In addition, since the light is emitted by itself, it is possible to check in real time the state of the cells after laser cutting, the result of drawing by spotting, and other reagents without lighting.
[0021]
In the case of a DNA chip or the like, since the plate itself can emit light, it also serves as a light source for fluorescence or phosphorescence. In addition, since the light emitting portion can be arbitrarily designated, diagnosis workability can be remarkably improved by only recognizing the light emitting pattern at the designated location. It is also possible to use a color filter or the like for the wavelength of the excitation light of the fluorescent light applied to each spot. In addition, since the design is based on the pattern recognition itself, it is possible to customize each of chip production → hybridization → fluorescent pattern recognition, and realize an all-in-one device that can perform all processes with one device. Becomes possible.
[0022]
This liquid crystal substrate has a backlight light source on the bottom surface and is composed of a substrate such as a lower glass substrate, a liquid crystal layer, and an upper glass. Since DNA oligos and the like are spotted on the upper glass substrate, pretreatment such as surface treatment with a coupling agent or the like for adjusting a contact angle (wetting property) is performed, or chemical resistance is improved. A fluorine coating may be provided.
[0023]
Further, the glass substrate itself may have such chemical resistance, and may be made of a material that allows infrared light to pass well or a material that allows ultraviolet light to pass well. Conversely, the glass substrate itself may be provided with a laser-resistant coating in order to apply laser processing to the sample on the glass substrate. Further, the upper substrate may be directly processed by etching such as μ-grooves, or may be made of a photosensitive glass base material in which a matrix of depressions such as an array of pits has already been prepared. You may. In any case, a pair of electrodes for driving the liquid crystal is provided on the back side of the upper lower substrate.
[0024]
In addition, on the liquid crystal interface side of the upper substrate in this electrode portion, a patterning such as a chromium vapor deposition film or a chromium etching film or gold printing for the purpose of shading may be performed, and the surface of the substrate not in contact with the liquid crystal may be provided. May be coated with a metal film. Further, in order to drive the liquid crystal display substrate, the wiring does not have to be attached to the substrate. The lead pins are set on the stage side, and the structure may be such that a contact can be made when the stage is fixed to the ITO terminal or metal terminal of the liquid crystal display substrate, or the display driving IC light source driving IC etc. are mounted on the liquid crystal substrate itself Chip-on-glass (COG) type, or a substrate type provided with a card-type connector.
[0025]
In addition, since wireless technology will be used in the future, an IC with a receiving device can be provided on a glass substrate. Such a liquid crystal display panel may be made into a card or a stick, inserted into the device drive, the mechanical stage control starts, and the stick may be converted into a biochip or the like.
[0026]
Here, the liquid crystal has been described as an example, but in the future, electronically excited light emission, electroluminescence, electronically excited phosphorescence, laser diodes, organic / inorganic materials using light emitting diodes (LEDs), and electronically excited phosphorescent materials will be more visible. Even if a material having high properties is used, the object can be achieved by basically using the same method.
[0027]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
FIG. 1 shows the structure of a substrate provided with a recognition marker used in the device according to the invention. 1, (A) shows a cross-sectional view of the liquid crystal panel, (B) shows the upper surface of the liquid crystal panel, (C) shows the liquid crystal interface side of the upper substrate of the liquid crystal panel, and (D) shows the liquid crystal panel. 3 shows the liquid crystal interface side of the lower substrate. FIG. 2 shows a configuration example of a microlaser cutter processing apparatus. In the following description, “pattern” refers to the shape of a mark displayed on the liquid crystal. In addition, the display pattern of the liquid crystal is collected by an image sensor to obtain an analog signal, and the analog signal is subjected to deduction processing to obtain image recognition data, and the image recognition data is stored as a matrix on an image memory. The minimum unit of the image memory stored in this way is called a pixel.
[0028]
The liquid crystal panel 10 is configured such that a liquid crystal 8 is sandwiched between an upper substrate 6 and a lower substrate 9. The upper substrate 6 has the light-shielding portion 2 formed by chromium evaporation or gold printing portion 7, and a square or round pattern as the light transmitting portion 1.
[0029]
A transparent conductive coating ITO (indium tin oxide) layer 3 is provided on the liquid crystal interface side of the upper substrate 6, and a transparent electrode is also formed on the liquid crystal interface side of the lower substrate 9 so as to form a matrix therewith. The layer 4 is formed, and an on / off operation at an arbitrary light transmitting portion is enabled. When the liquid crystal 8 sandwiched between the upper and lower substrates is driven by energization, the pattern is turned on by transmitting light from a backlight (not shown) provided on the bottom surface of the substrate in FIG. Become.
[0030]
The same plate 27 as the substrate 10 of FIG. 1 is set on the stages 19 and 24 of the apparatus of FIG. A control signal is transmitted from the CPU (Central Processing Unit) 16 to the device control unit 13 to control the pattern of the liquid crystal display substrate 27 to mark (turn on) the vicinity of the laser spot. The lighting position may be a method of inputting the pixel coordinates of the image memory corresponding to the center of the pattern, may store the order of scanning (sequential lighting) and timing, or may use a tablet, a key touch panel, a mouse 11 or the like. May be provided with a drawing mechanism for lighting the position designated by the pointer while viewing the plate 27 and the CRT (CRT) 12. Further precise control based on the pattern will be described later in the description of the flowchart of FIG.
[0031]
The image capturing board 20 converts the lit position into image information by the image sensor 17 via the condenser lens 18, converts the brightness intensity into a voltage for each pixel, and outputs it as a continuous analog voltage signal. A continuous analog voltage signal is divided by a time axis by a / D (analog / digital) converter, converted into a digital signal, and sequentially stored on a memory. The pattern of the stored image data on the memory is compared with a previously fetched pattern, and the motion control unit 21 drives the X stage motor 26 and the Y stage motor 23 so that the patterns match. The instruction is transmitted to the power supply driver drives 25 and 22. After confirming by the camera 17 that the pattern is set at the center of the field of view, an instruction is transmitted to the laser irradiation device 15 via the control unit 14 to be pointed.
[0032]
The specific recognition of the pattern is performed according to the flowchart shown in FIG. FIG. 4 shows the relationship between the liquid crystal pattern and the image pixels. That is, an area (group of vertical and horizontal pixels) 32 composed of a plurality of pixels 31 is determined, and a liquid crystal pattern 30 (shown by a hatched portion in FIG. 4) formed in the area 32 is selected. The size of the recognition pixel is preferably about 40 × 40 pixels to 200 × 200 pixels.
[0033]
The image information of the area 32 is stored in the image memory. Each pixel 31 is assigned a numerical value of 256 tones. Selecting and determining the area 32 refers to loading the memory with the three-dimensional data of the vertical, horizontal, and gradation of each pixel. An area that matches the same data as the entire image in 640 × 480 pixels is searched for at a certain recognition rate, and the center of gravity, midpoint, center coordinates and the like of the area are determined.
[0034]
Then, the distance to the coordinates 33 of the center and the target position of the 640 × 480 pixel matrix, for example, the center coordinates (340, 240) are calculated. The distance is converted into the physical length on the stage from the distance per pixel which has been calibrated in advance, and the distance is transmitted to the motion control unit (21 in FIG. 2), and the pulse for operating the motor is transmitted to the motion control unit. 21 to the driver 22. Thereby, the stage moves so that the pattern comes to the target position.
[0035]
Next, the movement of the liquid crystal pattern in the flowchart of FIG. 3 will be described with reference to FIG. The stage is roughly moved from the origin 40 to a position where the liquid crystal pattern as a marker is captured as an image by the camera. When the liquid crystal pattern 41 is detected as the recognition area 42 in the camera's visual field (image memory 640 × 480 pixels) 43, its exact position is referred to a table stored in the CPU which is stored in advance, and is adopted and used at the same time. The relative position on 43 is calculated. After calculating the relative movement amount required for movement from the coordinates of the target 44 and the current position of the liquid crystal pattern 41 as the number of image pixels, it is converted into a pulse from a distance in the motion controller, and transmitted to the motor driver to transmit the pattern and the target. Until the positions match, position control is performed while confirming the image.
[0036]
If there is a miscount of the pulse transmitted from the motion control unit 21 to the driver and the target position is not reached, the relative distance between the target and the pattern is monitored again live, and the pattern recognition is performed until the target is finally settled. Motor fine movement is repeated. When the positioning is completed, laser processing is performed in FIG.
[0037]
By the way, the imaging device 17 shown in FIG. 2 may change the sensitivity wavelength as long as the visibility increases. For example, an infrared vidicon camera or the like may be used, or an intensifier (light multiplier) may be attached to the CCD. The stage may be controlled by a thermal imaging camera. Alternatively, mechanical control may be performed using a high-speed shutter camera or a high-speed camera such as a high-speed camera. For example, if a vidicon camera is used, the spotting state can be more clearly confirmed. Therefore, if the wavelength filter is automatically replaced, the position control and the inspection can be performed simultaneously. Since near-infrared light can be turned on and off by liquid crystal, a near-infrared LED light source may be used for the backlight. In some cases, an arbitrary pattern or position can be lit even if an organic or inorganic material using electroluminescence (EL) is used without using a liquid crystal. Of course, a position control method using a light emitting matrix that emits fluorescent excitation light may be used.
[0038]
In addition, a method of irradiating and projecting light onto a work on a stage, such as a projector, using a reflection mirror array to recognize a spot pattern can also be used. At present, one of the most promising devices capable of miniaturizing a light emission pattern is a liquid crystal display panel, which can make a pattern (segment) of 5 μm square. In the future, if the light emitting display element is miniaturized, it can be used.
[0039]
【The invention's effect】
In terms of control accuracy, in the case of the conventional method, the length measurement result of each encoder scale corresponds to the number of motor movement pulses. The value of the length measurement result read from the data may fluctuate, and in some places, hunting may be large and the control position may not be determined. Therefore, even if the mechanism is stopped, it is inevitable that the precision of the repetitive control is significantly deteriorated.
[0040]
However, according to the present invention, one pixel of the image sensor corresponds to the side length scale. Even if the distance between the patterns to be recognized varies, it is not reflected on the length measurement error. Since the error between each pixel of a recent CCD is a few percent of a comma, if one pixel of a field of view stored in an image memory is 1 micron, the error is several nanometers. Therefore, hunting can be reduced as much as possible.
[0041]
Further, once a certain optical magnification is set, and once the relation between the distance precisely measured by laser heterodyne or the like and the image pickup device is calculated, the calibration is completed. Accordingly, the relative positional relationship (depending on the shape of the pattern, for example, the position of the center of gravity, etc.) within the area for recognizing the pattern becomes a noise (hunting) limit, and the variation in the distance between the patterns is a cause of hunting and accuracy deterioration. Thus, calibration between patterns is not required.
[0042]
From an application point of view, for example, if an example in which a cell contour is cut by a laser is given, precise positioning of a laser irradiation sample stage can be very easily performed. Further, regarding the fluorescence recognition after the production of the DNA chip or the hybridization or the hybridization, the fluorescence at an arbitrary position can be excited, so that the fluorescence recognition of the DNA chip can be performed at the same time. Since a series of operations can be performed in the same apparatus as described above, the operation efficiency is high, and the apparatus cost and the introduction cost can be remarkably reduced.
[0043]
From the above, by using the apparatus of the present invention, it is possible to position a very precise stage or the like without installing a rotary encoder or a linear encoder, which has conventionally been one of the causes of high cost, on the stage. It becomes.
[0044]
In addition, with the conventional extension technology using pattern recognition, the purpose of positioning cannot be achieved unless the pattern to be recognized is stored in advance, so that the pattern is inevitably complicated in order to increase the matching accuracy. However, according to the apparatus of the present invention, since the mechatronic control is performed by designating the absolute position using only a single pattern, it is possible to realize absolute full closed control that has never been achieved before.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a configuration diagram of a substrate in an apparatus of the present invention.
FIG. 2 is a configuration diagram of the entire apparatus of the present invention.
FIG. 3 is a flowchart showing the operation of the device of the present invention.
FIG. 4 is a diagram showing the relationship between a liquid crystal pattern and image pixels.
5 is a diagram for explaining the movement of the liquid crystal pattern shown in the flowchart of FIG.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Light transmission part 2 ... Shield part 3 ... Lead wire 4 ... Each segment 6 ... Upper substrate 8 ... Liquid crystal 9 ... Lower substrate

Claims (3)

発光源となる電気光学液晶表示マーカが1次元又は2次元配列されて所定パターンを形成し、これを画像認識することによって位置を検出して、位置決めを行うことを特徴とする液晶精密位置制御装置。An electro-optical liquid crystal display marker serving as a light emitting source is one-dimensionally or two-dimensionally arranged to form a predetermined pattern, and the image is recognized to detect a position and perform positioning. . 電源を投入後、発光源を順番に点灯させて、その点灯番号を画像認識によって検出することによって、自らの現在位置を知る手段を有する請求項1記載の液晶精密位置制御装置。2. The liquid crystal precision position control device according to claim 1, further comprising means for turning on the power source, sequentially turning on the light emitting sources, and detecting the current lighting position by detecting the lighting number by image recognition. 1・2次元パターンを構成する要素の形状が任意の形状であり、画像認識することによってその位置を検出して、所定の位置に順次移動することによって、所要の工程を基板上で実施する請求項1に記載の液晶精密位置制御装置。The shape of an element constituting a one- or two-dimensional pattern is an arbitrary shape, and the position is detected by image recognition, and sequentially moved to a predetermined position, thereby performing a required process on a substrate. Item 2. A liquid crystal precision position control device according to item 1.
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