JP2004046259A5 - Mask substrate information generation method and mask substrate manufacturing method - Google Patents

Mask substrate information generation method and mask substrate manufacturing method Download PDF

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本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、その目的とするところは、ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックした後でマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効なマスク基板情報生成方法およびマスク基板の製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and an object thereof is a product resulting from deterioration in the flatness of a mask substrate after chucking the mask substrate on the mask stage of a wafer exposure apparatus. It is an object of the present invention to provide a mask substrate information generation method and a mask substrate manufacturing method that are effective for solving the problem of yield reduction.

すなわち、上記目的を達成するために、本発明に係るマスク基板情報生成方法は、マスク基板の主面の平坦性を示す第１の情報を取得する工程と、前記第１の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の平坦度を示す第２の情報とを取得する工程と、前記シミュレーションによって取得された前記マスク基板の主面の平坦度が仕様に合うか否かを取得する工程と、を有することを特徴とする。
本発明に係るマスク基板情報生成方法は、複数のマスク基板の各主面には主なパターンが形成される第１の領域と、露光装置のマスクステージにチャックされる第２の領域とがあり、これらマスク基板の主面の前記第１の領域の平坦性を示す第１の情報を取得する工程と、これらマスク基板の主面の前記第２の領域の平坦性を示す第２の情報とを取得する工程と、前記第１の情報と第２の情報とを対応付けて記憶する工程と、を有することを特徴とする。
本発明に係るマスク基板情報生成方法は、マスク基板の主面の表面形状を示す第１の情報と、露光装置のマスクステージにチャックする前の前記主面の平坦度を示す第２の情報を取得する工程と、前記露光装置のマスクステージ上におけるマスク基板を、チャックに対し０度および９０度回転させた方向に配置するチャック時の前記主面の平坦度を示す第３の情報とを取得する工程と、前記工程により取得した第３の情報が仕様に合うか否かに関する情報を取得する工程と、を有することを特徴とする。
本発明に係るマスク基板情報生成方法は、マスク基板の主面には主にパターンが形成される第１の領域と、露光装置のマスクステージにチャックされる第２の領域とがあり、このマスク基板の主面の前記第１の領域の平坦性を示す第１の情報を取得する工程と、前記マスク基板の主面の前記第２の領域の平坦性を示す第２の情報を取得する工程と、露光装置のマスクステージへのチャック時の前記第１の領域の平坦度を示す第３の情報とを取得する工程と、前記マスク基板と前記第１、第２および第３の情報とを対応付けて記憶する工程と、を有することを特徴とする。
本発明に係るマスク基板情報生成方法は、マスク基板の主面の表面形状を示す第１の情報と、露光装置のマスクステージにチャックする前の前記主面の平坦度を示す第２の情報を取得する工程と、前記露光装置のマスクステージ上におけるマスク基板を、チャックに対し０度および９０度回転させた方向に配置するチャック時の前記主面の平坦度を示す第３の情報とを取得する工程と、前記各マスク基板の第１、第２および第３の情報とを対応付けて記憶する工程と、を有することを特徴とする。
本発明に係るマスク基板情報生成方法は、マスク基板の主面の表面形状を示す第１の情報と、露光装置のマスクステージにチャックする前の前記主面の平坦度を示す第２の情報を取得する工程と、前記露光装置のマスクステージ上におけるマスク基板を、チャックに対し０度および９０度回転させた方向に配置するチャック時の前記主面の平坦度を示す第３の情報とを取得する工程と、前記各マスク基板の第１、第２および第３の情報とを対応付けて記憶する工程と、前記第３の情報が仕様に合うか否かに関する情報を取得する工程と、を有することを特徴とする。
本発明に係るマスク基板情報生成方法は、複数のマスク基板の各々について、主面の表面形状を示す第１の情報と、測定装置により測定した前記主面の平坦度と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから各マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の平坦度を示す第２の情報とを取得する工程を備えて、各マスク基板と前記第１の情報および第２の情報とを各マスク基板が収容される容器に呈示することを有することを特徴とする。 That is, in order to achieve the above object, the mask substrate information generation method according to the present invention comprises the steps of acquiring first information indicating flatness of the main surface of the mask substrate, the first information and the exposure apparatus. Acquiring, from the information on the structure of the mask chuck, second information indicating the flatness of the main surface by simulation when the mask substrate is set in the exposure apparatus; and the mask substrate acquired by the simulation And obtaining the flatness of the main surface of the substrate according to the specification .
In the mask substrate information generation method according to the present invention, there are a first region where a main pattern is formed on each main surface of a plurality of mask substrates, and a second region which is chucked by the mask stage of the exposure apparatus. Obtaining first information indicating flatness of the first region of the main surface of the mask substrate, and second information indicating flatness of the second region of the main surface of the mask substrate And storing the first information and the second information in association with each other.
A mask substrate information generation method according to the present invention comprises: first information indicating a surface shape of a main surface of a mask substrate; and second information indicating flatness of the main surface before chucking on a mask stage of an exposure apparatus. The step of acquiring and third information indicating the flatness of the main surface at the time of chucking in which the mask substrate on the mask stage of the exposure apparatus is arranged in a direction rotated by 0 degrees and 90 degrees with respect to the chuck And a step of acquiring information on whether or not the third information acquired in the step conforms to the specifications.
In the mask substrate information generation method according to the present invention, there are a first region where a pattern is mainly formed on the main surface of the mask substrate, and a second region which is chucked by the mask stage of the exposure apparatus. Obtaining first information indicating flatness of the first region of the main surface of the substrate; and obtaining second information indicating flatness of the second region of the main surface of the mask substrate Obtaining third information indicating the flatness of the first region at the time of chucking to the mask stage of the exposure apparatus, the mask substrate, and the first, second, and third information And storing the information in association with each other.
A mask substrate information generation method according to the present invention comprises: first information indicating a surface shape of a main surface of a mask substrate; and second information indicating flatness of the main surface before chucking on a mask stage of an exposure apparatus. The step of acquiring and third information indicating the flatness of the main surface at the time of chucking in which the mask substrate on the mask stage of the exposure apparatus is arranged in a direction rotated by 0 degrees and 90 degrees with respect to the chuck And storing the first, second and third information of each of the mask substrates in association with each other.
A mask substrate information generation method according to the present invention comprises: first information indicating a surface shape of a main surface of a mask substrate; and second information indicating flatness of the main surface before chucking on a mask stage of an exposure apparatus. The step of acquiring and third information indicating the flatness of the main surface at the time of chucking in which the mask substrate on the mask stage of the exposure apparatus is arranged in a direction rotated by 0 degrees and 90 degrees with respect to the chuck A process of correlating and storing the first, second and third information of each of the mask substrates, and a process of acquiring information on whether or not the third information conforms to specifications It is characterized by having.
In the mask substrate information generation method according to the present invention, for each of a plurality of mask substrates, first information indicating the surface shape of the main surface, the flatness of the main surface measured by the measuring device, and the mask chuck of the exposure device Obtaining the second information indicating the flatness of the main surface by simulation when each mask substrate is set in the exposure apparatus from the information on the structure, each mask substrate, the first information, and It is characterized by presenting the second information in a container in which each mask substrate is accommodated.

本発明に係るマスク基板の製造方法は、石英基板上に遮光体が形成されたマスク基板を準備する工程と、前記マスク基板の主面の平坦性を示す第１の情報を取得する工程と、前記第１の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の平坦度を示す第２の情報とを取得する工程と、前記シミュレーションによって取得された前記マスク基板の主面の平坦度が仕様に合うか否かを判断する工程と、を備えることを特徴とする。 The method for manufacturing a mask substrate according to the present invention comprises the steps of: preparing a mask substrate having a light shielding body formed on a quartz substrate; and acquiring first information indicating flatness of the main surface of the mask substrate. Acquiring, from the first information and information on a structure of a mask chuck of an exposure apparatus, second information indicating flatness of the main surface by simulation when the mask substrate is set in the exposure apparatus; Determining whether the flatness of the main surface of the mask substrate obtained by the simulation matches the specification .

本発明に係るマスク基板の製造方法は、マスク基板の主面の平坦性を示す第１の情報を取得する工程と、前記第１の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の平坦度を示す第２の情報とを取得する工程と、前記シミュレーションによって取得された前記マスク基板の主面の平坦度が仕様に合うか否かを判断する工程とを備え、前記マスク基板の平坦度が仕様に合っていないと判断された場合には、前記マスク基板の主面上の遮光体を剥離し、新たな遮光体を前記基板の主面に形成することを特徴とする。
本発明に係るマスク基板の製造方法は、マスク基板の主面の平坦性を示す第１の情報を取得する工程と、前記第１の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の平坦度を示す第２の情報とを取得する工程と、前記シミュレーションによって取得された前記マスク基板の主面の平坦度が仕様に合うか否かを判断する工程とを備え、前記マスク基板の平坦度が仕様に合っていないと判断された場合には、前記マスク基板の主面上の遮光体を剥離し、前記基板の主面を研磨した後、新たな遮光体を前記基板の主面に形成することを特徴とする。 In the method of manufacturing a mask substrate according to the present invention, the mask is obtained from the step of acquiring first information indicating the flatness of the main surface of the mask substrate, the first information and information on the structure of the mask chuck of the exposure apparatus. Obtaining the second information indicating the flatness of the main surface by simulation when the substrate is set in the exposure apparatus, and the flatness of the main surface of the mask substrate obtained by the simulation meeting the specifications If it is determined that the flatness of the mask substrate does not meet the specifications, the light shield on the main surface of the mask substrate is peeled off, and a new light shield is removed. It is characterized in that it is formed on the main surface of the substrate .
In the method of manufacturing a mask substrate according to the present invention, the mask is obtained from the step of acquiring first information indicating the flatness of the main surface of the mask substrate, the first information and information on the structure of the mask chuck of the exposure apparatus. Obtaining the second information indicating the flatness of the main surface by simulation when the substrate is set in the exposure apparatus, and the flatness of the main surface of the mask substrate obtained by the simulation meeting the specifications And determining whether the flatness of the mask substrate does not meet the specifications, the light shield on the main surface of the mask substrate is peeled off, and the main surface of the substrate is removed. After polishing, a new light shield is formed on the main surface of the substrate.

本発明によれば、ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックした後でマスク基板の主面の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するのに有効なマスク基板情報生成方法およびマスク基板の製造方法を実現できるようになる。 According to the present invention, a mask effective for solving the problem of the decrease in product yield caused by the deterioration of the flatness of the main surface of the mask substrate after chucking the mask substrate to the mask stage of the wafer exposure apparatus It becomes possible to realize the substrate information generation method and the mask substrate manufacturing method .

Claims (19)

測定装置によりマスク基板の主面の表面形状に関する第１の情報を取得する工程と、前記第1の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の表面形状に関する第２の情報を生成する工程と、を有することを特徴とするマスク基板情報生成方法。 When the mask substrate is set in the exposure device from the step of acquiring the first information on the surface shape of the main surface of the mask substrate by the measuring device and the information on the first information and the structure of the mask chuck of the exposure device And generating second information on the surface shape of the main surface by simulation of the mask substrate information generation method. 測定装置によりマスク基板の主面の表面形状に関する第１の情報を取得する工程と、前記第1の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の表面形状に関する第２の情報を生成する工程とを備え、この第２の情報から得られる前記マスク基板の主面の平坦度に基づきマスク基板が選択されることを特徴とするマスク基板情報生成方法。 When the mask substrate is set in the exposure device from the step of acquiring the first information on the surface shape of the main surface of the mask substrate by the measuring device and the information on the first information and the structure of the mask chuck of the exposure device characterized in a step of generating a second information relating to the surface shape of the main surface by simulation, the mask substrate on the basis of the flatness of the main surface of the mask substrate obtained from the second information is selected Method of generating mask substrate information. シミュレーションによる前記主面の表面形状に関する第２の情報を生成する工程は、マスクステージ上に配置されるマスク基板の配置方向が互いに９０度異なる２方向に対してそれぞれ生成されることを特徴とする請求項１又は２記載のマスク基板情報生成方法。The step of generating second information on the surface shape of the main surface by simulation is characterized in that the arrangement directions of the mask substrate arranged on the mask stage are respectively generated in two directions different from each other by 90 degrees. The mask substrate information generation method according to claim 1. 複数のマスク基板の各主面には主なパターンが形成される第1の領域と、露光装置のマスクステージにチャックされる第２の領域とがあり、これらマスク基板の主面の前記第1の領域の表面形状に関する第1の情報を取得する工程と、これらマスク基板の主面の前記第２の領域の表面形状に関する第２の情報とを取得する工程と、前記第1の情報と第２の情報とを対応付けて記憶する工程と、を有することを特徴とするマスク基板情報生成方法。 Each of the main surfaces of the plurality of mask substrates has a first region where a main pattern is to be formed and a second region which is chucked by the mask stage of the exposure apparatus. Obtaining first information on the surface shape of the second region, obtaining second information on the surface shape of the second region of the main surface of the mask substrate, and And 2) storing the information in association with each other. 前記第２の情報の中で、主面の表面形状が凸状に関する情報のマスク基板を選択する工程と、を有することを特徴とする請求項４記載のマスク基板情報生成方法。 The method of generating mask substrate information according to claim 4 , further comprising the step of: selecting a mask substrate of information relating to a convex shape of the surface shape of the main surface among the second information. マスク基板の主面には主にパターンが形成される第１の領域と、露光装置のマスクステージにチャックされる第２の領域とがあり、このマスク基板の主面の前記第１の領域の表面形状に関する第１の情報を取得する工程と、前記マスク基板の主面の前記第２の領域の表面形状に関する第２の情報を取得する工程と、露光装置のマスクステージへのチャック時の前記第１の領域の表面形状に関する第３の情報とを取得する工程と、前記マスク基板と前記工程で取得された第３の情報とを対応付けて記憶する工程と、を有することを特徴とするマスク基板情報生成方法。 On the main surface of the mask substrate, there is a first region where a pattern is mainly formed, and a second region to be chucked by the mask stage of the exposure apparatus. The first region of the main surface of the mask substrate A step of obtaining first information on the surface shape, a step of obtaining second information on the surface shape of the second region of the main surface of the mask substrate, and the step of chucking the mask stage of the exposure apparatus A step of acquiring third information related to the surface shape of the first region, and a step of associating and storing the mask substrate and the third information acquired in the step are characterized. Mask substrate information generation method. 前記対応付けて記憶したマスク基板と第３の情報から得られる前記マスク基板の主面の平坦度に関する情報とを前記マスク基板が収容される容器に呈示することを特徴とする請求項６に記載のマスク基板情報生成方法。 7. The container according to claim 6 , wherein the mask substrate stored in association with the information about the flatness of the main surface of the mask substrate obtained from the third information is presented in a container in which the mask substrate is accommodated. Mask substrate information generation method. 複数のマスク基板の各々について、測定装置により測定した主面の表面形状に関する情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから各マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の表面形状に関する情報を生成する工程とを備え、前記工程で生成された情報から得られる前記マスク基板の主面の平坦度に関する情報を管理することを特徴とするマスク基板情報生成方法。 For each of the plurality of mask substrates, the information on the surface shape of the main surface measured by the measuring device and the information on the structure of the mask chuck of the exposure apparatus and a step of generating information relating to the surface shape, the mask substrate information generating method characterized in that manages information about flatness of the main surface of the mask substrate obtained from the information generated in the process. 前記各マスク基板と前記工程でシミュレーションにより生成された表面形状に関する情報とを各マスク基板が収容される容器に対して前記マスク基板の主面の平坦度に関する情報を管理することを特徴とする請求項８に記載のマスク基板情報生成方法。 Information on the flatness of the main surface of the mask substrate is managed for each of the mask substrates and the information on the surface shape generated by the simulation in the process with respect to the container in which the mask substrate is accommodated. 9. A mask substrate information generation method according to item 8 . 前記マスク基板の主面にはマスクパターンが形成されていることを特徴とする請求項１、２、３、８、９のいずれかに記載のマスク基板情報生成方法。 The mask substrate information generation method according to any one of claims 1, 2, 3 , 8 , and 9 , wherein a mask pattern is formed on the main surface of the mask substrate. 前記マスクパターンは、回路パターン又は位置合わせパターンの少なくとも一つを含むものであることを特徴とする請求項１０記載のマスク基板情報生成方法。 11. The method of claim 10 , wherein the mask pattern includes at least one of a circuit pattern or an alignment pattern. 前記マスク基板には、位置合わせ用マークが予め形成されていることを特徴とする請求項１、２、３、８、９のいずれかに記載のマスク基板情報生成方法。 The mask substrate information generating method according to any one of claims 1, 2, 3 , 8 , and 9 , wherein alignment marks are formed in advance on the mask substrate. 前記シミュレーションによる第２の情報の取得は、有限要素法を用いたことを特徴とする請求項１、２、３、８、９のいずれかに記載のマスク基板情報生成方法。 The mask substrate information generation method according to any one of claims 1, 2, 3 , 8 , and 9 , wherein acquisition of the second information by the simulation uses a finite element method. 石英基板上に遮光体が形成されたマスク基板を準備する工程と、測定装置により前記マスク基板の主面の表面形状に関する第１の情報を取得する工程と、前記第1の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の表面形状に関する第２の情報を生成する工程と、この第２の情報から得られる前記マスク基板の主面の平坦度が仕様に合うか否かを判断する工程と、を備えることを特徴とするマスク基板の製造方法。 Preparing a mask substrate having a light shielding body formed on a quartz substrate; obtaining first information on a surface shape of the main surface of the mask substrate by a measuring device; and Generating , from the information on the structure of the mask chuck, second information on the surface shape of the main surface by simulation when the mask substrate is set in the exposure apparatus; and the mask substrate obtained from the second information Determining whether the flatness of the main surface of the substrate conforms to specifications or not. 測定装置によりマスク基板の主面の表面形状に関する第１の情報を取得する工程と、前記第1の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の表面形状に関する第２の情報を生成する工程と、この第２の情報から得られる前記マスク基板の主面の平坦度が仕様に合うか否かを判断する工程とを備え、前記マスク基板の平坦度が仕様に合っていないと判断された場合には、前記マスク基板の主面上の遮光体を剥離し、新たな遮光体を前記基板の主面に形成することを特徴とするマスク基板の製造方法。 When the mask substrate is set in the exposure device from the step of acquiring the first information on the surface shape of the main surface of the mask substrate by the measuring device and the information on the first information and the structure of the mask chuck of the exposure device A step of generating second information related to the surface shape of the main surface by simulation of the second step, and a step of determining whether the flatness of the main surface of the mask substrate obtained from the second information meets specifications In the case where it is determined that the flatness of the mask substrate does not meet the specifications, the light shield on the main surface of the mask substrate is peeled off, and a new light shield is formed on the main surface of the substrate. A method of manufacturing a mask substrate characterized by 測定装置によりマスク基板の主面の表面形状に関する第１の情報を取得する工程と、前記第1の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の表面形状に関する第２の情報を生成する工程と、この第２の情報から得られる前記マスク基板の主面の平坦度が仕様に合うか否かを判断する工程とを備え、前記マスク基板の平坦度が仕様に合っていないと判断された場合には、前記マスク基板の主面上の遮光体を剥離し、前記基板の主面を研磨した後、新たな遮光体を前記基板の主面に形成することを特徴とするマスク基板の製造方法。 When the mask substrate is set in the exposure device from the step of acquiring the first information on the surface shape of the main surface of the mask substrate by the measuring device and the information on the first information and the structure of the mask chuck of the exposure device A step of generating second information related to the surface shape of the main surface by simulation of the second step, and a step of determining whether the flatness of the main surface of the mask substrate obtained from the second information meets specifications If it is determined that the flatness of the mask substrate does not meet the specification, the light shield on the main surface of the mask substrate is peeled off, and the main surface of the substrate is polished, and then a new light shield is obtained. And forming a mask substrate on the main surface of the substrate. 複数のマスク基板の各主面には主なパターンが形成される第1の領域と、露光装置のマスクステージにチャックされる第２の領域とがあり、これらマスク基板の主面の前記第1の領域の表面形状に関する第1の情報を取得する工程と、これらマスク基板の主面の前記第２の領域の表面形状に関する第２の情報とを取得する工程と、前記工程で取得した第２の情報の中で、表面形状が凸状に関する情報とそれと対応したマスク基板とを対応付けて記憶する工程と、を有することを特徴とするマスク基板情報生成方法。 Each of the main surfaces of the plurality of mask substrates has a first region where a main pattern is to be formed and a second region which is chucked by the mask stage of the exposure apparatus. Acquiring the first information on the surface shape of the second region, acquiring the second information on the surface shape of the second region of the main surface of the mask substrate, and A method of generating mask substrate information, comprising the steps of: storing information associated with a convex surface shape in association with a mask substrate corresponding to the information, among the information of (1). さらに、前記マスク基板を露光装置のマスクステージにチャックした時の前記マスク基板の主面の表面形状に関する第３の情報を取得する工程と、前記工程により取得した第３の情報から得られる前記マスク基板の平坦度が仕様に合うか否かに関する情報を取得する工程と、を有することを特徴とする請求項１７に記載のマスク基板情報生成方法。 Furthermore, the step of acquiring third information on the surface shape of the main surface of the mask substrate when the mask substrate is chucked on the mask stage of the exposure apparatus, and the mask obtained from the third information acquired in the step The method for generating mask substrate information according to claim 17 , further comprising the step of acquiring information on whether or not the flatness of the substrate conforms to specifications. 測定装置によりマスク基板の主面の表面形状に関する第１の情報を取得する工程と、前記第1の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の表面形状に関する第２の情報とを生成する工程と、この第２の情報に基づき前記マスク基板が仕様に合うように選択されることを特徴とするマスク基板の検査方法。 When the mask substrate is set in the exposure device from the step of acquiring the first information on the surface shape of the main surface of the mask substrate by the measuring device and the information on the first information and the structure of the mask chuck of the exposure device And generating a second information on the surface shape of the main surface by simulation of the main surface, and selecting the mask substrate based on the second information so as to meet specifications. .
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