JP2004033952A

JP2004033952A - Method for discharging salt from reaction vessel in hydrothermal reaction apparatus and hydrothermal reaction apparatus

Info

Publication number: JP2004033952A
Application number: JP2002196133A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiko Hatake; 畠　康彦
Original assignee: Komatsu Ltd; Kurita Water Industries Ltd; General Atomics Corp
Current assignee: Komatsu Ltd; Kurita Water Industries Ltd; General Atomics Corp
Priority date: 2002-07-04
Filing date: 2002-07-04
Publication date: 2004-02-05

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hydrothermal reaction apparatus in which the clogging of a discharge pipeline system for discharging a reaction product from a reaction vessel can be prevented. <P>SOLUTION: This hydrothermal reaction apparatus is used for supplying the object to be treated to the reaction vessel 21 and treating the supplied object in the water of a supercritical or subcritical state in the vessel 21 by hydrothermal oxidation reaction. Salt dissolution promoting agent supplying means (14-17) are arranged for supplying a salt dissolution promoting agent to the inside of the vessel 21 in order to dissolve the salt produced by the hydrothermal oxidation reaction. A net 31 is arranged in the vessel 21 in the position that the water of a liquid phase exists for retaining a solid having the size enough to clog the discharge pipeline system (51, 52, 54, 57, 58) in the vessel 21. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、廃棄物分解、エネルギー生成または化学物質製造を目的とする水熱酸化反応を、反応容器内の水の超臨界状態または亜臨界状態で行った結果、生成された塩を溶解させて反応容器から排出させる水熱反応処理装置における反応容器からの塩の排出方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
被処理物を処理して酸化分解や加水分解を行うことにより、廃棄物を分解したり、エネルギーを生成したり、または、化学物質を製造する水熱反応処理は、長年に亘って研究され、利用されてきている。
特に、近年、３７４℃以上、２２．１ＭＰａ（２２０気圧）以上の超臨界状態で、または、例えば３７４℃以上、２．５ＭＰａ（２５気圧）以上２２．１ＭＰａ未満、あるいは３７４℃未満、２２．１ＭＰａ以上、あるいは３７４℃未満、２２．１ＭＰａ未満であっても臨界点に近い高温高圧状態である亜臨界状態で、被処理物と、酸化剤を含んだ水とを反応させることにより、燃焼を含む水熱酸化反応を生じさせ、被処理物中の有機物を短時間でほぼ完全に分解する水熱反応処理が注目されている。
【０００３】
このように水熱反応処理して被処理物を酸化分解する場合、被処理物、酸化剤、水を加熱、加圧して反応容器内へ供給し、反応させる。
そして、水熱反応処理の結果、有機物は酸化分解され、水と二酸化炭素（ＣＯ_２）とからなる高温高圧流体、乾燥またはスラリー状の灰分や塩類等の固体からなる反応生成物が得られる。
【０００４】
上記した塩の中には、反応容器の内側に付着して堆積するものがある。
このように反応容器の内側に塩が堆積すると、塩が塊のまま自重で落下することにより、または、反応領域を狭めるため、スクレーパーで塩を掻き落としたりすることにより、反応容器内の下部に塩が溜まるので、反応容器内の下部にクエンチ水を導入し、気相の水が液相になる温度まで反応容器内の下部を冷却し、液相の水およびクエンチ水で塩を溶解させて反応容器から排出させている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、塩の中には液相状態の水にも溶けにくい塩、例えば炭酸ナトリウム（Ｎａ_２ＣＯ_３）、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ_３）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）などの炭酸塩や酸化物などがあるため、その塩の塊の大きさによっては、反応容器から反応生成物などを排出させる排出管、減圧弁などの排出配管系統を詰まらせてしまうという不都合があった。
【０００６】
この発明は、上記したような不都合を解消するためになされたもので、反応容器から反応生成物などを排出させる排出配管系統が詰まるのを防止することのできる水熱反応処理装置における反応容器からの塩の排出方法、水熱反応処理装置を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
この発明は、水熱反応処理装置における反応容器からの塩の排出方法において、塩を溶解させる塩溶解促進剤を反応容器内へ導入し、水熱酸化反応によって生成された塩を溶解させて反応容器から排出させる水熱反応処理装置における反応容器からの塩の排出方法である。
そして、被処理物を水熱酸化反応させて処理する前の反応容器を所定温度に温める起動時に、または、被処理物を水熱酸化反応させて処理するのを終了して反応容器を冷却する停止時に、塩溶解促進剤を反応容器内へ導入し、水熱酸化反応によって生成された塩を溶解させて反応容器から排出させるのが望ましい。
さらに、反応容器内の水が液相で存在する部分に、排出配管系統を詰まらせる大きさの固体を滞留させるのが望ましい。
【０００８】
この発明は、反応容器内に供給される被処理物を、この反応容器内の水の超臨界状態または亜臨界状態の中で水熱酸化反応によって処理する水熱反応処理装置において、水熱酸化反応によって生成された塩を溶解させる塩溶解促進剤を反応容器内へ供給する塩溶解促進剤供給手段を設けたものである。
そして、反応容器内の水が液相で存在する部分に、排出配管系統を詰まらせる大きさの固体を滞留させる滞留手段を設けるのが望ましい。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施形態を図に基づいて説明する。
図１はこの発明の一実施形態である水熱反応処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【００１０】
図１において、１は被処理物としての廃液を貯留する被処理物貯留槽、２は被処理物貯留槽１内の廃液を後述する反応容器２１内へ供給する供給管、３は供給管２に配設された高圧送液ポンプを示し、この高圧送液ポンプ３は、廃液を、例えば２．５ＭＰａ（２５気圧）以上の高圧で反応容器２１内へ供給するものである。
４は補助燃料を貯留する補助燃料貯留槽、５は補助燃料貯留槽４内の補助燃料を高圧送液ポンプ３よりも下流の供給管２内へ供給する供給管、６は供給管５に配設された高圧ポンプを示し、この高圧ポンプ６は、補助燃料を、例えば２．５ＭＰａ以上の高圧で供給管２内へ供給するものである。
【００１１】
７は水を貯留する水槽、８は水槽７内の水を高圧送液ポンプ３よりも下流の供給管２内へ供給する供給管、９は供給管８に配設された高圧送液ポンプを示し、この高圧送液ポンプ９は、水を、例えば２．５ＭＰａ以上の高圧で供給管２内へ供給するものである。
１０はエアーコンプレッサーを示し、酸化剤としての空気を、例えば２．５ＭＰａ以上の高圧で高圧送液ポンプ３よりも下流の供給管２内へ、供給管１１を介して供給するものである。
１２は供給管１１に配設された予備加熱器を示し、エアーコンプレッサー１０からの空気を所定の温度に予備加熱するものである。
【００１２】
１３はクエンチ水を貯留するクエンチ水貯留槽、１４はクエンチ水貯留槽１３内のクエンチ水を反応容器２１内の下側（の冷却ゾーン２６Ｄ：水が気相から液相になって存在する部分）へ供給する供給管、１５は供給管１４に配設された高圧送液ポンプを示し、この高圧送液ポンプ１５は、クエンチ水を、例えば２．５ＭＰａ以上の高圧で反応容器２１内へ供給するものである。
１６は塩を溶解させる塩溶解促進剤を貯留する塩溶解促進剤貯留槽、１７は塩溶解促進剤貯留槽１６内の塩溶解促進剤を高圧送液ポンプ１５よりも上流の供給管１４内へ供給する供給管を示し、塩溶解促進剤貯留槽１６、供給管１７，１４、高圧送液ポンプ１５によって塩溶解促進剤供給機構（塩溶解促進剤供給手段）が構成されている。
【００１３】
なお、塩溶解促進剤は、例えば塩酸（ＨＣｌ）、硫酸（Ｈ_２ＳＯ_４）、硝酸（ＨＮＯ_３）などの酸、または、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）などのアルカリを使用することができ、生成される塩によって使い分ける。
【００１４】
２１は円筒状をした縦型の反応容器を示し、上蓋（天井）に、供給管２から供給される廃液などを上側（の混合ゾーン２６Ｕ）へ噴出するノズル（２９）が設けられ、下側に、供給管１４からクエンチ水が供給されるクエンチ水供給孔（２２ａ）、反応生成物などを排出する排出口（孔）（２４ａ）、所定の大きさ以上の塩などを滞留させる滞留手段としての網（３１）などが設けられている。
【００１５】
５１は反応容器２１の排出口（２４ａ）に接続された排出管、５２は排出管５１に配設された開閉弁、５３は開閉弁５２よりも下流の排出管５１に配設された冷却器を示し、この冷却器５３は、反応容器２１の排出口（２４ａ）から排出される反応生成物などを冷却するものである。
なお、冷却器５３は、開閉弁５２よりも上流の排出管５１に設けてもよい。
５４は排出管５１に接続された気液分離器を示し、排出管５１から供給される反応生成物などを、気体と、固体を含む液体とに分離するものである。
【００１６】
５５は気液分離器５４に接続された気体排出管、５６は気体排出管５５に配設された減圧弁を示し、この減圧弁５６は、気液分離器５４で分離した気体を減圧して放出するためのものである。
５７は気液分離器５４に接続された液体排出管、５８は液体排出管５７に配設された減圧弁を示し、この減圧弁５８は、気液分離器５４で分離した液体を減圧して放出するためのものである。
【００１７】
図２は図１に示した反応容器の概略構成を示す断面図である。
【００１８】
図２において、反応容器２１は、内部に円柱状をした反応用の空間部が形成され、下端部分が漏斗状に中心へ向けて狭まっている円筒部２２と、この円筒部２２の内面に、腐蝕から保護する目的で配設されたライナー２３と、複数のブロックを積層して構成され、円筒部２２が載置される基台２４とで構成されている。そして、円筒部２２の天井には、中心部分に、供給管２に接続され、円筒部２２内の上側の混合ゾーン２６Ｕへ廃液などを供給するノズル２９が円筒部２２の軸方向へ向けて配設されている。
【００１９】
さらに、円筒部２２の下側部分には、供給管１４を介して供給されるクエンチ水を円筒部２２内の下側の冷却ゾーン２６Ｄへ供給するためのクエンチ水供給孔２２ａが設けられている。
また、基台２４には、円筒部２２内の下側から反応生成物などを排出管５１へ排出する排出口（孔）２４ａが上側部分に設けられ、後述する駆動機構４６のチェーン４７が挿入される開口２４ｂが下側部分に設けられている。
２６Ｍは反応容器２１内の栓状平行流ゾーンを示し、混合ゾーン２６Ｕの下側で、冷却ゾーン２６Ｄの上側に位置する。
【００２０】
３１は滞留手段としての網を示し、反応容器２１から反応生成物などを排出させる排出管５１、開閉弁５２、減圧弁５８などの排出配管系統を詰まらせる大きさ、例えば１ｍｍ以上の大きさの固体を滞留させるため、反応容器２１内の水が液相で存在する部分、すなわち冷却ゾーン２６Ｄの、クエンチ水供給孔２２ａよりも下側に配設されている。
【００２１】
４１はスクレーパーを示し、基台２４に、回転可能に円筒部２２の軸方向へ配設され、上部が網３１を貫通して円筒部２２内の下側へ突出した回転軸４２と、この回転軸４２の上部に取り付けられ、ライナー２３の内側に付着した塩などを掻き取るようにライナー２３の内面に下側から上側へ沿う形状に形成されたスクレーパー本体４３とで構成されている。
そして、回転軸４２の開口２４ｂに対応する高さの周面には、駆動機構４６のチェーン４７に噛合する歯車が設けられている。
上記したスクレーパー本体４３は、回転軸４２の周囲に所定間隔、例えば６０度間隔で６本取り付けられている棒状のものであったり、円筒状で円筒面の複数個所に開口を設けて刃を形成したもの等を用いることができる。
【００２２】
上記した駆動機構４６は、反応容器２１の外に配置されたモータと、このモータと回転軸４２の歯車とに張架され、開口２４ｂに配設されたチェーン４７とで構成されている。
なお、駆動機構４６はオーバートルク時に作動する安全機構を備えている。
そして、網３１と、反応容器２１および回転軸４２との間は１ｍｍ以上の大きさの固体が通過できないようにシールされ、他の部分も、シール材によってシールされている。
【００２３】
次に、水熱反応処理方法の第１実施形態について説明する。
まず、開閉弁５２を開放させた後、高圧ポンプ６、高圧送液ポンプ９，１５、エアーコンプレッサー１０および予備加熱器１２を作動させ、補助燃料などを反応容器２１内の混合ゾーン２６Ｕへノズル２９から供給して水熱酸化反応を起こさせるとともに、クエンチ水貯留槽１３内のクエンチ水に塩溶解促進剤貯留槽１６内の塩溶解促進剤を添加した液体を、反応容器２１のクエンチ水供給孔２２ａから供給反応容器２１内の冷却ゾーン２６Ｄへ供給し、反応容器内２１を所定の温度に上昇させる起動運転を開始する。
【００２４】
このようにして水熱反応処理装置を起動させると、前回の運転（被処理物の水熱反応処理）によって反応容器２１の内側へ付着して残った塩などが、反応容器２１（ライナー２３）との熱膨張率の差によって反応容器２１の内側から剥離し、網３１の上に堆積する。
このように、網３１の上に塩などが堆積しても、排出配管系統（排出管５１、開閉弁５２、気液分離器５４、液体排出管５７、減圧弁５８）を詰まらせる大きさの固体は網３１の上に滞留するので、固体で排出配管系統を詰まらせることがなくなる。
【００２５】
また、網３１の上に滞留した溶解物、すなわち塩の塊は、水熱酸化反応によって気相となり、冷えて液相となった水、クエンチ水、および塩塩溶解促進剤に、冷却ゾーン２６Ｄの高温で溶解を促進されて溶け、排出配管系統を詰まらせることのない１ｍｍ未満の大きさになると、網３１の目から落下し、クエンチ水などによって気液分離器５４へ排出される。
このようにして塩を溶解させて排出させるのを、所定時間継続する。
【００２６】
そして、所定時間経過後、反応容器２１内の温度が所定値に上昇したならば、高圧送液ポンプ３も作動させ、被処理物貯留槽１内の廃液を反応容器２１内の混合ゾーン２６Ｕへノズル２９から供給し、水熱酸化反応させて処理する。
このようにして廃液を反応容器２１内で水熱酸化反応させたとき、廃液が、例えば有機性廃液であると、有機性廃液は水熱酸化反応により、水、二酸化炭素（ＣＯ_２）の高温高圧流体、乾燥またはスラリー状の灰分や塩類等の固体からなる反応生成物が得られる。
【００２７】
そして、この運転（水熱酸化反応の処理）を継続すると、稼働時間の経過に伴って反応容器２１の内側への塩などの付着量が多くなって反応領域が狭くなるので、稼働とともに駆動機構４６でスクレーパー４１を回転させると、回転するスクレーパー本体４３で反応容器２１（ライナー２３）の内側に付着した塩などが掻き落とされ、網３１の上に塩などが堆積する。
【００２８】
このようにして網３１の上に塩などが堆積しても、前述したように、排出配管系統を詰まらせる大きさ固体は網３１の上に滞留するので、固体で排出配管系統を詰まらせることがなくなる。
そして、網３１の上に滞留した塩の塊は、前述したように、水熱酸化反応によって液相となった水、クエンチ水、および塩溶解促進剤に、冷却ゾーン２６Ｄの高温で溶解を促進されて溶け、排出配管系統を詰まらせることのない１ｍｍ未満の大きさになると、網３１の目から落下し、クエンチ水などによって気液分離器５４へ排出される。
【００２９】
このようにして気液分離器５４へ供給された反応生成物などは気体と、固定を含む液体とに分離され、分離された気体は減圧弁５６で減圧された後、気体排出管５５を介して排出され、分離された液体は減圧弁５８で減圧された後、液体排出管５７を介して排出される。
【００３０】
そして、水熱反応処理を終了させるときは、高圧送液ポンプ３，９，１５、高圧ポンプ６、エアーコンプレッサー１０、予備加熱器１２および駆動機構４７の作動を停止させ、廃液、補助燃料などの反応容器２１内への供給を停止する。
そして、所定時間経過後、開閉弁５２を閉成させる。
【００３１】
次に、水熱反応処理方法の第２実施形態について説明する。
なお、第２実施形態の水熱反応処理方法が、第１実施形態と異なる点は、水熱反応処理を終了させる部分であるので、その部分についてのみ説明する。
【００３２】
まず、第１実施形態と同様にして水熱反応処理を開始し、水熱反応処理を終了させるとき、高圧送液ポンプ３，９、高圧ポンプ６、エアーコンプレッサー１０、予備加熱器１２および駆動機構４７の作動を停止させ、廃液、補助燃料などの反応容器２１内への供給を停止する。
そして、クエンチ水貯留槽１３内のクエンチ水に塩溶解促進剤貯留槽１６内の塩溶解促進剤を添加した液体を、反応容器２１内へ供給しながら反応容器２１を冷却させる。
【００３３】
このようにして反応容器２１を冷却すると、反応容器２１の内側に付着していた塩などが、反応容器２１（ライナー２３）との熱膨張率の差によって反応容器２１の内側から剥離し、網３１の上に堆積する。
このように、網３１の上に塩などが堆積しても、前述したように、排出配管系統を詰まらせる大きさの固体は網３１の上に滞留するので、固体で排出配管系統を詰まらせることがなくなる。
【００３４】
そして、網３１の上に滞留した塩の塊は、前述したように、水熱酸化反応によって液相となった水、クエンチ水、および塩溶解促進剤に、冷却ゾーン２６Ｄの高温で溶解を促進されて、排出配管系統を詰まらせることのない１ｍｍ未満の大きさになると、網３１の目から落下し、クエンチ水などによって気液分離器５４へ排出される。
このように、廃液などの反応容器２１内への供給を停止させ、クエンチ水に塩溶解促進剤を添加した液体を、反応容器２１内へ供給し、網３１の上に堆積した塩の塊を溶解させて反応容器２１から排出するのを所定時間行った後、高圧送液ポンプ１５を停止させるとともに、開閉弁５２を閉成させる。
【００３５】
次に、水熱反応処理方法の第３実施形態について説明する。
なお、第３実施形態の水熱反応処理方法が、第１実施形態と異なる点は、起動時の部分であるので、その部分についてのみ説明する。
【００３６】
まず、開閉弁５２を閉成させたまま、高圧送液ポンプ１５を作動させて反応容器２１内へ、クエンチ水貯留槽１３内のクエンチ水に塩溶解促進剤貯留槽１６内の塩溶解促進剤を添加した液体を供給し、その液体を反応容器２１内にほぼ充満させた後、高圧送液ポンプ１５を停止させる。
そして、この状態を所定時間継続させ、前回の運転によって反応容器２１の内側へ付着して残った塩を溶解させた後、開閉弁５２を開放させ、反応容器２１内の液体を排出させる。
【００３７】
以後は、第１実施形態と同様に、水熱反応処理装置を起動させた後、廃液を反応容器２１内へ供給し、廃液を水熱酸化反応させて処理する。
【００３８】
次に、水熱反応処理方法の第４実施形態について説明する。
なお、第４実施形態の水熱反応処理方法が、第１実施形態と異なる点は、水熱反応処理を終了させる部分であるので、その部分についてのみ説明する。
【００３９】
まず、第１実施形態と同様にして水熱反応処理を開始し、水熱反応処理を終了させるとき、高圧送液ポンプ３，９、高圧ポンプ６、エアーコンプレッサー１０、予備加熱器１２および駆動機構４７の作動を停止させ、廃液、補助燃料などの反応容器２１内への供給を停止するとともに、開閉弁５２を閉成し、反応容器２１内へ、クエンチ水貯留槽１３内のクエンチ水に塩溶解促進剤貯留槽１６内の塩溶解促進剤を添加した液体を供給し、その液体を反応容器２１内にほぼ充満させた後、高圧送液ポンプ１５を停止させる。
そして、この状態を所定時間継続させて反応容器２１の内側に付着している塩を溶解させ、開閉弁５２を開放させて反応容器２１内の液体を排出させた後、開閉弁５２を閉成させる。
【００４０】
上述したように、この発明によれば、塩溶解促進剤を反応容器内へ導入し、水熱酸化反応によって生成された塩を溶解させて反応容器から排出させるようにしたので、水熱酸化反応で生成された塩によって排出配管系統が詰まるのを防止することができる。
そして、水熱反応処理装置の起動時または停止時に塩溶解促進剤を反応容器内へ導入するようにしたので、排出配管系統を詰まらせることなく、効率よく塩を反応容器２１から排出させることができる。
【００４１】
また、水熱反応処理装置の起動時または停止時に塩溶解促進剤を反応容器２１内へ導入する場合、塩溶解促進剤を添加した液体を反応容器２１内にほぼ充満させるようにしたので、確実に塩を溶解させて排出させることができる。
さらに、反応容器２１内の水が液相で存在する部分に網３１を設け、１ｍｍ以上の大きさの固体を滞留させたので、塩の塊を、排出配管系統を詰まらせることのない１ｍｍ未満の大きさにして排出させることができる。
【００４２】
上記した水熱反応処理装置は、スクレーパー４１を設けた例を示したが、スクレーパー４１を設けず、自然崩落によって堆積物を網３１の上に落下させる構成であってもよい。
また、塩溶解促進剤をクエンチ水に添加する例を示したが、塩溶解促進剤を、高圧送液ポンプ３よりも上流の供給管２内の被処理物に添加したり、高圧送液ポンプ９よりも上流の供給管８内の水に添加したり、または、これらの３つから少なくとも２つを組み合わせても、同様な効果を得ることができる。
【００４３】
さらに、塩溶解促進剤は、図１に示すように、連続的に供給したり、開閉弁を設け、この開閉弁を開閉することによって断続（間欠）的に供給してもよい。
そして、滞留手段の一例として網３１を示したが、パンチングメタルなどのように、網３１と同様に機能する他のものであってもよいことは言うまでもない。
【００４４】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、塩溶解促進剤を反応容器内へ導入し、水熱酸化反応によって生成された塩を溶解させて反応容器から排出させるようにしたので、水熱酸化反応で生成された塩によって排出配管系統が詰まるのを防止することができる。
そして、水熱反応処理装置の起動時または停止時に塩溶解促進剤を反応容器内へ導入するようにしたので、排出配管系統を詰まらせることなく、効率よく塩を反応容器から排出させることができる。
さらに、反応容器内の水が液相で存在する部分に、排出配管系統を詰まらせ大きさの固体を滞留させたので、塩の塊を、排出配管系統を詰まらせ大きさ未満にして排出させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施形態である水熱反応処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】図１に示した反応容器の概略構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１　　　　　被処理物貯留槽
２，５，８　供給管
３，９　　　高圧送液ポンプ
４　　　　　補助燃料貯留槽
６　　　　　高圧ポンプ
７　　　　　水槽
１０　　　　エアーコンプレッサー
１１　　　　供給管
１２　　　　予備加熱器
１３　　　　クエンチ水貯留槽
１４，１７　供給管（塩溶解促進剤供給手段）
１５　　　　高圧送液ポンプ（塩溶解促進剤供給手段）
１６　　　　塩溶解促進剤貯留槽（塩溶解促進剤供給手段）
２１　　　　反応容器
２２　　　　円筒部
２２ａ　　　クエンチ水供給孔
２３　　　　ライナー
２４　　　　基台
２４ａ　　　排出口
２４ｂ　　　開口
２６Ｕ　　　混合ゾーン
２６Ｍ　　　栓状平行流ゾーン
２６Ｄ　　　冷却ゾーン
２９　　　　ノズル
３１　　　　網（滞留手段）
４１　　　　スクレーパー
４２　　　　回転軸
４３　　　　スクレーパー本体
４６　　　　駆動機構
４７　　　　チェーン
５１　　　　排出管
５２　　　　開閉弁
５３　　　　冷却器
５４　　　　気液分離器
５５　　　　気体排出管
５６，５８　減圧弁
５７　　　　液体排出管[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention dissolves a salt generated as a result of performing a hydrothermal oxidation reaction for the purpose of waste decomposition, energy generation or chemical substance production in a supercritical or subcritical state of water in a reaction vessel. The present invention relates to a method for discharging a salt from a reaction vessel in a hydrothermal reaction apparatus that discharges the salt from the reaction vessel.
[0002]
[Prior art]
Hydrothermal treatments that decompose waste, generate energy, or produce chemical substances by treating and oxidizing and hydrolyzing the material to be treated have been studied for many years, Has been used.
In particular, in recent years, in a supercritical state of 374 ° C. or more and 22.1 MPa (220 atm) or more, or, for example, 374 ° C. or more, 2.5 MPa (25 atm) or more and less than 22.1 MPa, or less than 374 ° C. or 22.1 MPa Including combustion by reacting an object to be treated with water containing an oxidizing agent in a subcritical state, which is a high temperature and high pressure state close to a critical point even if the temperature is lower than 374 ° C. or lower than 22.1 MPa, Attention has been paid to a hydrothermal reaction treatment that causes a hydrothermal oxidation reaction and almost completely decomposes an organic substance in an object to be treated in a short time.
[0003]
When the object to be treated is oxidatively decomposed by the hydrothermal reaction treatment as described above, the object to be treated, the oxidizing agent, and water are heated, pressurized, supplied into the reaction vessel, and reacted.
As a result of the hydrothermal reaction, the organic matter is oxidatively decomposed to obtain a high-temperature and high-pressure fluid composed of water and carbon dioxide (CO ₂ ), and a reaction product composed of a dried or slurry-like solid such as ash and salts.
[0004]
Some of the above salts adhere to and accumulate on the inside of the reaction vessel.
When salt accumulates inside the reaction vessel in this way, the salt falls under its own weight as a lump, or by scraping off the salt with a scraper to narrow the reaction area, Since salt accumulates, quench water is introduced into the lower part of the reaction vessel, the lower part of the reaction vessel is cooled to a temperature at which gaseous water becomes a liquid phase, and the salt is dissolved with the liquid phase water and quench water. It is discharged from the reaction vessel.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, some salts are hardly soluble in water in a liquid state, for example, carbonates such as sodium carbonate (Na ₂ CO ₃ ), calcium carbonate (CaCO ₃ ), calcium oxide (CaO), and magnesium oxide (MgO). There is an inconvenience that, depending on the size of the lump of the salt, a discharge pipe for discharging a reaction product and the like from the reaction vessel and a discharge piping system such as a pressure reducing valve are clogged.
[0006]
The present invention has been made in order to solve the above-described inconveniences, and has been developed from a reaction vessel in a hydrothermal reaction processing apparatus capable of preventing a discharge piping system for discharging a reaction product or the like from the reaction vessel from being clogged. The present invention provides a method for discharging a salt and a hydrothermal treatment apparatus.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The present invention provides a method for discharging a salt from a reaction vessel in a hydrothermal reaction apparatus, wherein a salt dissolution promoter for dissolving the salt is introduced into the reaction vessel, and the salt generated by the hydrothermal oxidation reaction is dissolved to react. This is a method for discharging salt from a reaction vessel in a hydrothermal reaction apparatus that discharges from a vessel.
Then, at the time of start-up in which the reaction container is heated to a predetermined temperature before the object is subjected to the hydrothermal oxidation reaction, or when the object is terminated by the hydrothermal oxidation reaction, the reaction container is cooled. At the time of shutdown, it is desirable to introduce a salt dissolution promoter into the reaction vessel, dissolve the salt generated by the hydrothermal oxidation reaction, and discharge the salt from the reaction vessel.
Further, it is desirable that a solid having a size that clogs the discharge piping system is retained in a portion of the reaction vessel where water exists in the liquid phase.
[0008]
The present invention provides a hydrothermal reaction apparatus for treating an object to be supplied supplied to a reaction vessel in a supercritical state or a subcritical state of water in the reaction vessel by a hydrothermal oxidation reaction. A salt dissolution promoter supplying means for supplying a salt dissolution promoter for dissolving the salt generated by the reaction into the reaction vessel is provided.
Then, it is desirable to provide a retention means for retaining a solid having a size that clogs the discharge piping system in a portion where water in the reaction vessel exists in the liquid phase.
[0009]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a hydrothermal reaction apparatus according to one embodiment of the present invention.
[0010]
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes an object storage tank for storing waste liquid as an object to be processed, 2 denotes a supply pipe for supplying the waste liquid in the object storage tank 1 into a reaction vessel 21 described later, and 3 denotes a supply pipe 2. The high-pressure liquid pump 3 is for supplying a waste liquid into the reaction vessel 21 at a high pressure of, for example, 2.5 MPa (25 atm) or more.
Reference numeral 4 denotes an auxiliary fuel storage tank for storing auxiliary fuel, reference numeral 5 denotes a supply pipe for supplying the auxiliary fuel in the auxiliary fuel storage tank 4 into the supply pipe 2 downstream of the high-pressure liquid feed pump 3, and reference numeral 6 denotes a supply pipe. The high-pressure pump 6 supplies auxiliary fuel to the supply pipe 2 at a high pressure of, for example, 2.5 MPa or more.
[0011]
7 is a water tank for storing water, 8 is a supply pipe for supplying the water in the water tank 7 into the supply pipe 2 downstream of the high-pressure liquid pump 3, and 9 is a high-pressure liquid pump provided in the supply pipe 8. The high-pressure liquid pump 9 supplies water to the supply pipe 2 at a high pressure of, for example, 2.5 MPa or more.
Reference numeral 10 denotes an air compressor, which supplies air as an oxidizing agent at a high pressure of, for example, 2.5 MPa or more into the supply pipe 2 downstream of the high-pressure liquid pump 3 via a supply pipe 11.
Reference numeral 12 denotes a pre-heater provided in the supply pipe 11, which pre-heats air from the air compressor 10 to a predetermined temperature.
[0012]
Reference numeral 13 denotes a quench water storage tank for storing quench water, and 14 denotes a quench water in the quench water storage tank 13 at a lower side of the reaction vessel 21 (a cooling zone 26D: a portion where water is present from a gas phase to a liquid phase). ) Is a high-pressure liquid feed pump disposed in the supply pipe 14, and this high-pressure liquid pump 15 supplies quench water to the reaction vessel 21 at a high pressure of, for example, 2.5 MPa or more. Is what you do.
16 is a salt dissolution promoter storage tank for storing a salt dissolution promoter for dissolving salt, and 17 is a salt dissolution promoter in the salt dissolution promoter storage tank 16 into the supply pipe 14 upstream of the high-pressure liquid pump 15. A supply pipe is shown for supply, and a salt dissolution promoter supply mechanism (salt dissolution promoter supply means) is constituted by the salt dissolution promoter storage tank 16, supply pipes 17 and 14, and the high-pressure liquid pump 15.
[0013]
As the salt dissolution accelerator, for example, an acid such as hydrochloric acid (HCl), sulfuric acid (H ₂ SO ₄ ), nitric acid (HNO ₃ ), or an alkali such as sodium hydroxide (NaOH) can be used. Depending on the salt used.
[0014]
Reference numeral 21 denotes a vertical reaction vessel having a cylindrical shape. A nozzle (29) for ejecting waste liquid or the like supplied from the supply pipe 2 to an upper side (a mixing zone 26U) is provided on an upper lid (ceiling). A quench water supply hole (22a) through which quench water is supplied from the supply pipe 14, a discharge port (hole) (24a) for discharging reaction products, etc., and a retention means for retaining salts or the like having a predetermined size or more. Network (31) is provided.
[0015]
51 is a discharge pipe connected to the discharge port (24a) of the reaction vessel 21, 52 is an open / close valve provided in the discharge pipe 51, and 53 is a cooler provided in the discharge pipe 51 downstream of the open / close valve 52. The cooler 53 cools a reaction product and the like discharged from the outlet (24a) of the reaction vessel 21.
The cooler 53 may be provided in the discharge pipe 51 upstream of the on-off valve 52.
Reference numeral 54 denotes a gas-liquid separator connected to the discharge pipe 51, which separates a reaction product or the like supplied from the discharge pipe 51 into a gas and a liquid containing a solid.
[0016]
Reference numeral 55 denotes a gas discharge pipe connected to the gas-liquid separator 54, and reference numeral 56 denotes a pressure reducing valve provided in the gas discharge pipe 55. The pressure reducing valve 56 depressurizes the gas separated by the gas-liquid separator 54. It is for release.
Reference numeral 57 denotes a liquid discharge pipe connected to the gas-liquid separator 54, and reference numeral 58 denotes a pressure reducing valve provided in the liquid discharge pipe 57. The pressure reducing valve 58 reduces the pressure of the liquid separated by the gas-liquid separator 54. It is for release.
[0017]
FIG. 2 is a sectional view showing a schematic configuration of the reaction vessel shown in FIG.
[0018]
In FIG. 2, a reaction vessel 21 has a cylindrical space 22 inside which a columnar reaction space is formed, and a lower end portion is narrowed down toward a center in a funnel shape. It comprises a liner 23 provided for the purpose of protection from corrosion, and a base 24 on which a plurality of blocks are laminated and on which a cylindrical portion 22 is placed. A nozzle 29 connected to the supply pipe 2 at the center of the ceiling of the cylindrical portion 22 and supplying waste liquid to the upper mixing zone 26U in the cylindrical portion 22 is disposed in the axial direction of the cylindrical portion 22. Is established.
[0019]
Further, a quench water supply hole 22a for supplying quench water supplied via the supply pipe 14 to the lower cooling zone 26D in the cylindrical portion 22 is provided in a lower portion of the cylindrical portion 22. .
The base 24 is provided at its upper part with a discharge port (hole) 24a for discharging a reaction product or the like from the lower side inside the cylindrical portion 22 to the discharge pipe 51, and a chain 47 of a drive mechanism 46 to be described later is inserted. Opening 24b is provided in the lower portion.
26M denotes a plug-shaped parallel flow zone in the reaction vessel 21, which is located below the mixing zone 26U and above the cooling zone 26D.
[0020]
Reference numeral 31 denotes a net as a retaining means, which has a size that blocks a discharge piping system such as a discharge pipe 51 for discharging reaction products and the like from the reaction vessel 21, an on-off valve 52, and a pressure reducing valve 58, for example, a size of 1 mm or more. In order to retain the solid, it is disposed below the quench water supply hole 22a in the portion where the water in the reaction vessel 21 exists in the liquid phase, that is, in the cooling zone 26D.
[0021]
Reference numeral 41 denotes a scraper, which is disposed on the base 24 so as to be rotatable in the axial direction of the cylindrical portion 22, and a rotating shaft 42 whose upper portion penetrates the net 31 and projects downward in the cylindrical portion 22. A scraper main body 43 is attached to the upper portion of the shaft 42 and is formed on the inner surface of the liner 23 from the lower side to the upper side so as to scrape salt or the like adhered to the inside of the liner 23.
A gear that meshes with the chain 47 of the drive mechanism 46 is provided on the peripheral surface of the rotary shaft 42 at a height corresponding to the opening 24b.
The above-mentioned scraper body 43 is a rod-shaped one attached to the circumference of the rotating shaft 42 at predetermined intervals, for example, six at intervals of 60 degrees, or a cylindrical shape having openings at a plurality of positions on a cylindrical surface to form a blade. Can be used.
[0022]
The drive mechanism 46 includes a motor disposed outside the reaction vessel 21 and a chain 47 which is stretched around the motor and the gear of the rotary shaft 42 and disposed in the opening 24b.
The drive mechanism 46 has a safety mechanism that operates when over torque occurs.
The space between the net 31 and the reaction vessel 21 and the rotating shaft 42 is sealed so that a solid having a size of 1 mm or more cannot pass therethrough, and the other parts are also sealed with a sealing material.
[0023]
Next, a first embodiment of the hydrothermal reaction method will be described.
First, after opening the on-off valve 52, the high-pressure pump 6, the high-pressure liquid pumps 9 and 15, the air compressor 10, and the pre-heater 12 are operated, and the auxiliary fuel and the like are supplied to the mixing zone 26U in the reaction vessel 21 by the nozzle 29. And a liquid obtained by adding the salt dissolution promoter in the salt dissolution promoter storage tank 16 to the quenching water in the quench water storage tank 13 and the quench water supply hole of the reaction vessel 21. The supply operation is started from 22 a to the cooling zone 26 </ b> D in the supply reaction container 21 and the inside of the reaction container 21 is started to a predetermined temperature.
[0024]
When the hydrothermal reaction processing apparatus is started in this way, salts and the like remaining on the inside of the reaction vessel 21 by the previous operation (hydrothermal reaction treatment of the object to be treated) are removed from the reaction vessel 21 (liner 23). Due to the difference in the coefficient of thermal expansion from the inside of the reaction vessel 21, it is separated and deposited on the net 31.
As described above, even if salt or the like is deposited on the net 31, the discharge pipe system (the discharge pipe 51, the on-off valve 52, the gas-liquid separator 54, the liquid discharge pipe 57, and the pressure reducing valve 58) is sized to be clogged. Since the solids stay on the net 31, the solids do not clog the discharge piping system.
[0025]
Further, the dissolved matter retained on the net 31, that is, the lump of salt is turned into a gas phase by the hydrothermal oxidation reaction, and is cooled by the water, quenching water, and the salt and salt dissolution promoter, which are turned into a liquid phase, into the cooling zone 26D. When the size becomes less than 1 mm so as not to block the discharge piping system by melting at a high temperature, the water drops from the mesh 31 and is discharged to the gas-liquid separator 54 by quench water or the like.
Dissolving and discharging the salt in this manner is continued for a predetermined time.
[0026]
Then, after a lapse of a predetermined time, if the temperature in the reaction vessel 21 rises to a predetermined value, the high-pressure liquid feed pump 3 is also operated, and the waste liquid in the storage tank 1 is transferred to the mixing zone 26U in the reaction vessel 21. The water is supplied from the nozzle 29 and subjected to a hydrothermal oxidation reaction to be processed.
When the waste liquid is subjected to the hydrothermal oxidation reaction in the reaction vessel 21 in this manner, if the waste liquid is, for example, an organic waste liquid, the organic waste liquid is subjected to the hydrothermal oxidation reaction to generate high-temperature water and carbon dioxide (CO ₂ ). A reaction product composed of a high-pressure fluid, a solid such as ash or salt in a dried or slurry state is obtained.
[0027]
If this operation (processing of the hydrothermal oxidation reaction) is continued, the amount of adhesion of salts and the like to the inside of the reaction vessel 21 increases with the elapse of the operation time, and the reaction region becomes narrow. When the scraper 41 is rotated at 46, the salt and the like attached to the inside of the reaction vessel 21 (liner 23) are scraped off by the rotating scraper body 43, and the salt and the like are deposited on the net 31.
[0028]
Even if salt or the like accumulates on the net 31 in this way, as described above, the solids that clog the discharge piping system stay on the net 31, so the solids may clog the discharge piping system. Disappears.
As described above, the lump of salt retained on the net 31 promotes the dissolution of water, quench water, and the salt dissolution promoter in a liquid phase by the hydrothermal oxidation reaction at a high temperature in the cooling zone 26D. When it is melted and reduced to a size of less than 1 mm without clogging the discharge piping system, it falls from the mesh 31 and is discharged to the gas-liquid separator 54 by quench water or the like.
[0029]
The reaction product and the like supplied to the gas-liquid separator 54 in this manner are separated into a gas and a liquid containing immobilization, and the separated gas is depressurized by the pressure reducing valve 56 and then passed through the gas discharge pipe 55. The liquid separated and discharged is reduced in pressure by a pressure reducing valve 58 and then discharged through a liquid discharge pipe 57.
[0030]
When terminating the hydrothermal reaction process, the operations of the high-pressure liquid sending pumps 3, 9, and 15, the high-pressure pump 6, the air compressor 10, the preheater 12, and the drive mechanism 47 are stopped, and the waste liquid, auxiliary fuel, and the like are stopped. The supply into the reaction vessel 21 is stopped.
After a lapse of a predetermined time, the on-off valve 52 is closed.
[0031]
Next, a second embodiment of the hydrothermal reaction treatment method will be described.
Note that the difference between the hydrothermal reaction processing method of the second embodiment and the first embodiment is a part for ending the hydrothermal reaction processing, and therefore only that part will be described.
[0032]
First, the hydrothermal reaction process is started in the same manner as in the first embodiment, and when the hydrothermal reaction process is terminated, the high-pressure liquid sending pumps 3, 9, the high-pressure pump 6, the air compressor 10, the preheater 12, and the driving mechanism The operation of 47 is stopped, and the supply of waste liquid, auxiliary fuel, etc. into the reaction vessel 21 is stopped.
Then, the reaction vessel 21 is cooled while the liquid obtained by adding the salt dissolution promoter in the salt dissolution promoter storage tank 16 to the quench water in the quench water storage tank 13 is supplied into the reaction vessel 21.
[0033]
When the reaction vessel 21 is cooled in this way, the salt or the like adhering to the inside of the reaction vessel 21 is separated from the inside of the reaction vessel 21 due to a difference in the coefficient of thermal expansion from the reaction vessel 21 (liner 23), and It is deposited on 31.
As described above, even if salt or the like accumulates on the net 31, as described above, the solid having a size that clogs the discharge pipe system stays on the net 31, so that the solid blocks the discharge pipe system. Is gone.
[0034]
As described above, the lump of salt retained on the net 31 promotes the dissolution of water, quench water, and the salt dissolution promoter in a liquid phase by the hydrothermal oxidation reaction at a high temperature in the cooling zone 26D. Then, when the size becomes less than 1 mm so as not to block the discharge piping system, it falls from the mesh 31 and is discharged to the gas-liquid separator 54 by quench water or the like.
In this way, the supply of the waste liquid into the reaction vessel 21 is stopped, the liquid obtained by adding the salt dissolution promoter to the quench water is supplied into the reaction vessel 21, and the lump of salt deposited on the net 31 is removed. After dissolving and discharging from the reaction vessel 21 for a predetermined time, the high-pressure liquid pump 15 is stopped and the on-off valve 52 is closed.
[0035]
Next, a third embodiment of the hydrothermal reaction processing method will be described.
Note that the difference between the hydrothermal reaction processing method of the third embodiment and the first embodiment is a portion at the time of startup, and therefore only that portion will be described.
[0036]
First, with the on-off valve 52 closed, the high-pressure liquid sending pump 15 is operated to enter the reaction vessel 21, and the quench water in the quench water storage tank 13 is added to the salt dissolution accelerator in the quench water storage tank 16. Is supplied, and the liquid is substantially filled in the reaction vessel 21, and then the high-pressure liquid sending pump 15 is stopped.
Then, this state is continued for a predetermined time, and after the salt remaining on the inside of the reaction vessel 21 by the previous operation is dissolved, the on-off valve 52 is opened, and the liquid in the reaction vessel 21 is discharged.
[0037]
Thereafter, as in the first embodiment, after activating the hydrothermal reaction processing apparatus, the waste liquid is supplied into the reaction vessel 21, and the waste liquid is subjected to a hydrothermal oxidation reaction to be processed.
[0038]
Next, a fourth embodiment of the hydrothermal reaction treatment method will be described.
Note that the difference between the hydrothermal reaction processing method of the fourth embodiment and the first embodiment is a part for ending the hydrothermal reaction processing, and therefore only that part will be described.
[0039]
First, the hydrothermal reaction process is started in the same manner as in the first embodiment, and when the hydrothermal reaction process is terminated, the high-pressure liquid sending pumps 3, 9, the high-pressure pump 6, the air compressor 10, the preheater 12, and the driving mechanism 47, the supply of waste liquid, auxiliary fuel, etc. into the reaction vessel 21 is stopped, the on-off valve 52 is closed, and the quench water in the quench water storage tank 13 is introduced into the reaction vessel 21. After the liquid to which the salt dissolution promoter is added in the dissolution promoter storage tank 16 is supplied, and the liquid is substantially filled in the reaction vessel 21, the high-pressure liquid pump 15 is stopped.
Then, this state is continued for a predetermined time to dissolve the salt attached to the inside of the reaction vessel 21, and the on-off valve 52 is opened to discharge the liquid in the reaction vessel 21, and then the on-off valve 52 is closed. Let it.
[0040]
As described above, according to the present invention, the salt dissolution promoter is introduced into the reaction vessel, and the salt generated by the hydrothermal oxidation reaction is dissolved and discharged from the reaction vessel. It is possible to prevent the discharge piping system from being clogged by the salt generated in step (1).
Since the salt dissolution promoter is introduced into the reaction vessel when the hydrothermal reaction apparatus starts or stops, the salt can be efficiently discharged from the reaction vessel 21 without clogging the discharge piping system. it can.
[0041]
In addition, when the salt dissolution promoter is introduced into the reaction vessel 21 when the hydrothermal reaction apparatus is started or stopped, the liquid to which the salt dissolution promoter is added is almost completely filled in the reaction vessel 21, so that the reaction vessel 21 is surely filled. The salt can be dissolved and discharged.
Further, a net 31 is provided in a portion where water in the reaction vessel 21 exists in a liquid phase, and a solid having a size of 1 mm or more is retained, so that a lump of salt is less than 1 mm which does not clog the discharge piping system. The size can be discharged.
[0042]
Although the above-described hydrothermal treatment apparatus has been described with the example in which the scraper 41 is provided, the configuration may be such that the scraper 41 is not provided and the sediment falls onto the net 31 by natural collapse.
In addition, the example in which the salt dissolution promoter is added to the quench water has been described. However, the salt dissolution promoter is added to the material to be treated in the supply pipe 2 upstream of the high pressure liquid pump 3 or the high pressure liquid pump is used. The same effect can be obtained by adding to the water in the supply pipe 8 upstream of 9 or combining at least two of these three.
[0043]
Further, as shown in FIG. 1, the salt dissolution promoter may be supplied continuously, or may be provided intermittently (intermittently) by opening and closing an on-off valve.
And although the net 31 was shown as an example of the staying means, it is needless to say that other things that function similarly to the net 31 such as punched metal may be used.
[0044]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the salt dissolution promoter is introduced into the reaction vessel, and the salt generated by the hydrothermal oxidation reaction is dissolved and discharged from the reaction vessel. It is possible to prevent the discharge piping system from being clogged by the salt generated in step (1).
Then, the salt dissolution promoter is introduced into the reaction vessel when the hydrothermal reaction apparatus is started or stopped, so that the salt can be efficiently discharged from the reaction vessel without clogging the discharge piping system. .
Furthermore, since solids of a size that clog the discharge piping system and stay in the portion where water in the reaction vessel is present in the liquid phase are retained, the lump of salt is clogged and discharged to a size smaller than the discharge piping system. be able to.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a hydrothermal reaction apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a sectional view showing a schematic configuration of a reaction vessel shown in FIG.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Processing object storage tanks 2, 5, 8 Supply pipe 3, 9 High-pressure liquid feed pump 4 Auxiliary fuel storage tank 6 High-pressure pump 7 Water tank 10 Air compressor 11 Supply pipe 12 Preheater 13 Quench water storage tank 14, 17 Supply pipe (Salt dissolution promoter supply means)
15 High-pressure liquid feed pump (Salt dissolution promoter supply means)
16 Salt dissolution promoter storage tank (Salt dissolution promoter supply means)
21 reaction vessel 22 cylindrical portion 22a quench water supply hole 23 liner 24 base 24a discharge port 24b opening 26U mixing zone 26M plug-shaped parallel flow zone 26D cooling zone 29 nozzle 31 net (retaining means)
41 Scraper 42 Rotating shaft 43 Scraper body 46 Drive mechanism 47 Chain 51 Discharge pipe 52 On-off valve 53 Cooler 54 Gas-liquid separator 55 Gas discharge pipe 56, 58 Pressure reducing valve 57 Liquid discharge pipe

Claims

In a method for discharging salt from a reaction vessel in a hydrothermal reaction treatment device,
Introducing a salt dissolution accelerator for dissolving the salt into the reaction vessel, dissolving the salt generated by the hydrothermal oxidation reaction and discharging the salt from the reaction vessel,
A method for discharging salt from a reaction vessel in a hydrothermal reaction apparatus.

A method for discharging salt from a reaction vessel in the hydrothermal reaction treatment apparatus according to claim 1,
At the time of starting the reaction vessel to be heated to a predetermined temperature before the treatment object is subjected to the hydrothermal oxidation reaction, or when the treatment object is subjected to the hydrothermal oxidation reaction and terminated, the reaction vessel is treated. When cooling is stopped, the salt dissolution promoter is introduced into the reaction vessel, and the salt generated by the hydrothermal oxidation reaction is dissolved and discharged from the reaction vessel.
A method for discharging salt from a reaction vessel in a hydrothermal reaction apparatus.

A method for discharging salt from a reaction vessel in the hydrothermal treatment apparatus according to claim 1 or 2,
In the portion where the water in the reaction vessel exists in the liquid phase, a solid having a size that clogs the discharge piping system is retained,
A method for discharging salt from a reaction vessel in a hydrothermal reaction apparatus.

In a hydrothermal reaction processing apparatus for processing an object to be supplied into a reaction vessel by a hydrothermal oxidation reaction in a supercritical state or a subcritical state of water in the reaction vessel,
A salt dissolution promoter supplying means for supplying a salt dissolution promoter for dissolving the salt generated by the hydrothermal oxidation reaction into the reaction vessel,
A hydrothermal treatment apparatus characterized by the above-mentioned.

The hydrothermal reaction apparatus according to claim 4,
In the portion where the water in the reaction vessel is present in the liquid phase, a retaining means for retaining a solid having a size that clogs the discharge piping system is provided.
A hydrothermal treatment apparatus characterized by the above-mentioned.