JP2004029669A

JP2004029669A - Method for manufacturing liquid crystal display

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Publication number: JP2004029669A
Application number: JP2002189878A
Authority: JP
Inventors: Tatsuya Minegishi; 峯岸　達弥; Shinsuke Nakazawa; 中澤　伸介
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2002-06-28
Filing date: 2002-06-28
Publication date: 2004-01-29

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for simply and easily manufacturing a reflection type or a transflective liquid crystal display which is provided with a back face substrate having a directional reflection body and displays a picture with high brightness and contrast without color blurring. <P>SOLUTION: The manufacturing method comprises at least; a pattern-forming process for forming a photosensitive adhesive layer on one surface of a base material for the back face substrate to form a pattern adhesive layer by exposing and developing this photosensitive adhesive layer with a predetermined pattern, a transfer process for press-fitting a transfer sheet provided with a peelable directional reflecting body on one side of a supporting body sheet after developing stickiness by heating the pattern adhesive layer, so that the directional reflecting body is abutted on the above pattern adhesive layer, to transfer the directional reflecting body only onto the pattern adhesive layer by peeling the supporting body sheet, and a cutting process for obtaining individual panels by cutting after pasting the front face substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶ディスプレイ、特に外光の反射光を利用して画像表示を行う反射型あるいは透過反射型の液晶ディスプレイの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来からフラットディスプレイとして、カラーの液晶ディスプレイが注目されており、パーソナルコンピュータのディスプレイのみならず、家庭用のテレビジョンにもその領域を広げつつある。また、近年の通信施設の発達とともに、携帯情報端末として携帯電話やＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ　Ｄａｔａ　Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）等にも、軽くて低消費電力という利点を生かして液晶ディスプレイが多く用いられている。
一般に、バックライトを光源とする透過モードの液晶ディスプレイでは、消費電力の大部分をバックライトが占めている。このため、上記の携帯情報端末用の液晶ディスプレイでは、電池の寿命を延ばすために、バックライトを光源とする代わりに外光を利用した反射モードにより画像を表示する反射型の液晶ディスプレイ、あるいは、明るい所では反射モードで画像を表示し、暗い所ではバックライトを用いた透過モードで画像を表示する透過反射型の液晶ディスプレイが多く使われている。
【０００３】
このような反射型および透過反射型の液晶ディスプレイでは、反射体として通常の鏡を使用すると、映り込みの問題が発生するため、拡散性を有する反射体を使用することが一般的である。しかし、反射体は、一般的に液晶ディスプレイを構成する前面基板（観察者側の基板）と背面基板のうち、背面基板の後方に設置され、２枚の基板間に形成される液晶セルの外側に位置するため、カラー画像表示においてコントラストの低下や色のにじみが生じ、高品質の画像表示が得られないという問題があった。また、上記の拡散性を有する反射体では、入射光が高範囲に散乱されるため画面が暗くなることが避けられず、拡散性の反射体を液晶セル内部に設けても、明るく高品質の画像表示は難しいという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、液晶セル内部に位置するように指向性反射体を設けた背面基板を用いることにより、カラー画像表示におけるコントラストの低下や色のにじみを防止するとともに、画像の明るさを向上させることが行なわれている。このような指向性反射体を備えた背面基板は、背面基板用の基材１枚毎に紫外線硬化型樹脂を塗布し、この塗布面に指向性を付与するための所定の凹凸形状を備えた原版を密着させて露光し、その後、形成された凹凸面にスパッタリング法、蒸着法等により反射膜を形成するという枚葉方式により製造されている。しかし、基材１枚毎の枚葉方式による凹凸の形成及び反射層の形成は、生産性が悪く、歩留りの低下、製造コストの増大を来たすという問題があった。
【０００５】
一方、上記の従来の製造方法で大面積の基材を用いて多面付けにより指向性反射体を設けた背面基板を製造する場合、個別の背面基板を得るための断裁工程において、反射膜から生じる金属粉等の発塵が避けられないという問題があった。この問題は、多面付けにより指向性反射体を設けた背面基板に前面基板を貼り合わせた後、断裁によって個別のパネルを得ることにより液晶ディスプレイを製造する場合においても同様であった。また、発塵を防止するために、各面付け毎に反射膜の形成を行なう場合、反射膜のパターニング工程等の工数が更に増えて、生産性や歩留りの低下を来たすことになる。
【０００６】
さらに、コントラストの低下や色のにじみの防止をより確実なものとするために、各画素毎に指向性反射体を設けることも考えられるが、従来の基材に直接指向性反射体を設ける製造方法では、基材１枚毎の枚葉方式であっても、画素レベルの微細なパターンの指向性反射体形成は歩留りが悪く困難なものであり、多面付けで製造する場合、歩留りの低下が更に大きなものとなる。
本発明は、上記のような実情に鑑みてなされたものであり、指向性反射体を有する背面基板を備えた、表示画像の輝度やコントラストが高く、色のにじみがない反射型あるいは透過反射型の液晶ディスプレイを簡便に製造するための製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明は指向性反射体を備えた背面基板と前面基板とを互いに対向して配置し、一対の該基板間に液晶を存在させてなる反射型あるいは透過反射型の液晶ディスプレイの製造方法において、背面基板用の基材の一方の面に感光性接着層を形成し、該感光性接着層を所定のパターンで露光、現像してパターン接着層を形成するパターン形成工程、該パターン接着層を加熱して粘着性を発現させた後、支持体シートの一方の面に剥離可能に指向性反射体が設けられた転写シートを、前記パターン接着層に前記指向性反射体が当接するように圧着し、前記支持体シートを剥離して前記指向性反射体を前記パターン接着層上にのみ転写する転写工程、背面基板用の基材の前記指向性反射体が転写された面に前面基板を貼り合わせた後、断裁により個別のパネルを得る断裁工程、とを少なくとも有するような構成とした。
【０００８】
また、本発明は指向性反射体を備えた背面基板と前面基板とを互いに対向して配置し、一対の該基板間に液晶を存在させてなる反射型あるいは透過反射型の液晶ディスプレイの製造方法において、背面基板用の基材の一方の面に感光性接着層を形成し、該感光性接着層を所定のパターンで露光、現像してパターン接着層を形成するパターン形成工程、該パターン接着層を加熱して粘着性を発現させた後、支持体シートの一方の面に剥離可能に指向性反射体が設けられた転写シートを、前記パターン接着層に前記指向性反射体が当接するように圧着し、前記支持体シートを剥離して前記指向性反射体を前記パターン接着層上にのみ転写する転写工程、断裁により個別の背面基板を得る断裁工程、前記背面基板と前面基板とを貼り合わせるパネル形成工程、とを少なくとも有するような構成とした。
【０００９】
本発明の他の態様として、前記転写シートが有する前記指向性反射体は、表面に凹凸を有する樹脂層と該樹脂層の凹凸面に設けられた反射層とからなり、該反射層は表面に凹凸を有する前記樹脂層を介して前記支持体シートと反対側に位置するような構成、前記凹凸面はホログラムであるような構成、前記ホログラムは計算機合成ホログラムであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記パターン形成工程にて各画素に相当する部位も所定のパターンで露光、現像してパターン接着層を形成し、前記転写工程にて画素毎にパターン接着層上に指向性反射体を転写するような構成とした。
このような本発明では、基材上に形成した感光性接着層を露光、現像することによりパターン接着層とし、このパターン接着層にのみ転写シートから指向性反射体を転写してパターン形成を行うので、各面付け毎に、更には各画素毎に指向性反射体を所望のパターンで形成することができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の最良と思われる実施形態について説明する。
図１は本発明の液晶ディスプレイ用背面基板の製造方法の一実施形態を説明するための工程図であり、図２は背面基板用の多面付け基材の一例を示す平面図である。本発明では、パターン形成工程において、背面基板用の基材１０の一方の面に感光性接着層１１を形成し、この感光性接着層１１をフォトマスクＭを介して各面付け毎に所定のパターンで露光する（図１（Ａ））。その後、感光性接着層１１を現像することにより、パターン接着層１２を形成する（図１（Ｂ））。図２では、背面基板用の多面付け基材として６面付けの基材１０が示されており、後工程の断裁により個別の背面基板、あるいは、個別のパネルを得るときの断裁位置（図中に鎖線で示す位置）にかからないように、各面付け毎に方形状のパターン接着層１２（図２に斜線で示す領域）が形成されている。
【００１１】
上記の感光性接着層１１を形成するための感光性接着剤としては、露光、現像によりパターン形成が可能で、かつ、加熱時に粘着性を発現する組成物を単独で、あるいは２種以上の組み合わせで使用することができる。また、半透過とする場合、硬化後の光透過率が高いことが望ましい。このような感光性接着剤としては、例えば、（株）ザ・インクテック製ＩＴ−ＭＰ３２６０、同ＩＴ−ＭＰ４０２、新日鐵化学（株）製Ｖ２５９ＰＡ／Ｘ２０４等を挙げることができる。
上記のような感光性接着剤を用いた感光性接着層１１の形成は、スピンコート法等により行うことができる。また、感光性接着層１１の厚みは、０．１〜３０μｍ、好ましくは０．５〜１０μｍ程度の範囲で適宜設定することができる。本発明では、このように多面付け基材１０に感光性接着層１１を形成するので、転写シートに形成する場合に比べて厚みの均一な感光性接着層を形成することができる。
【００１２】
次に、転写工程において、パターン接着層１２を加熱して粘着性を発現させ、その後、支持体シート２２の一方の面に剥離可能に指向性反射体２３が設けられた転写シート２１を、圧着ローラー５１によって指向性反射体２３がパターン接着層１２に当接するように圧着する（図１（Ｃ））。これにより、粘着性を有するパターン接着層１２に指向性反射体２３が接着し、その後、転写シート２１の支持体シート２２を剥離することにより、パターン接着層１２上にのみ指向性反射体２３を転写する（図１（Ｄ））。
上記のパターン接着層１２の加熱方法に特に制限はなく、例えば、多面付け基材１０の裏面側から赤外線、熱風等を用いて加熱する方法、圧着ローラー５１にヒーターを内蔵させて加熱圧着する方法、上記の加熱手段を併用する方法等が挙げられる。
【００１３】
上記のように指向性反射体２３を転写した基材１０に、多面付け（この場合、６面付け）の前面基板を貼り合わせた後、図２に鎖線で示す位置において断裁することにより、背面基板１と前面基板６１とからなる個別のパネル１００を形成する（図１（Ｅ））。この断裁工程では、断裁位置に指向性反射体２３が存在しないため、指向性反射体２３からの発塵が防止され、断裁工程における発塵を抑制することができる。
また、本発明では、図１（Ｄ）に示されるように指向性反射体２３を転写した基材１０を、図２に鎖線で示す位置において断裁することにより、個別の背面基板１とし、その後、パネルサイズの前面基板６１を背面基板１に貼り合わせてパネル１００を形成してもよい（図１（Ｅ））。この断裁工程においても、断裁位置に指向性反射体２３が存在しないため、指向性反射体２３からの発塵が防止され、断裁工程における発塵を抑制することができる。
【００１４】
次に、本発明の液晶ディスプレイの製造方法に使用する転写シートについて説明する。
図３は本発明に使用する転写シートの一例を示す概略断面図である。図３において、転写シート２１は、支持体シート２２と、この支持体シート２２上に剥離可能に設けられた指向性反射体２３とを備えている。
また、図４は本発明に使用する転写シートの他の例を示す概略断面図である。図４において、転写シート２１は、支持体シート２２上に剥離層２４、オーバーコート層２５を介して指向性反射体２３が設けられている。
上述の転写シート２１では、指向性反射体２３は、凹凸面２３ｂを有する樹脂層２３ａと、この樹脂層２３ａの凹凸面２３ｂに設けられた反射層２３ｃとからなっている。
【００１５】
転写シート２１を構成する支持体シート２２としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）フィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、セロファンフィルム、アセテートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリアミドイミドフィルム、エチレン−ビニルアルコール共重合体フィルム、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）フィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）フィルム等を挙げることができる。この支持体フィルム２２の厚みは５〜２００μｍ、好ましくは１０〜５０μｍ程度とすることができる。
【００１６】
指向性反射体２３を構成する樹脂層２３ａは、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等の各種樹脂材料を用いて形成することができる。具体的には、熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、アクリル変性ウレタン樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂等が挙げられ、これらの樹脂を単独で、あるいは２種以上の組み合わせとして使用することができる。また、電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシ変性アクリル系樹脂、ウレタン変性アクリル系樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂等が挙げられ、これらの樹脂を単独で、あるいは２種以上の組み合わせとして使用することができる。
【００１７】
樹脂層２３ａの凹凸面２３ｂは、支持体シート２２上、あるいは、剥離層２４、オーバーコート層２５上に上記の樹脂材料を用いて樹脂層を形成し、次に、所定の凹凸形状を備えた原版を上記の樹脂層上に圧着して凹凸形状を樹脂層表面に形成し、熱あるいは電離放射線による樹脂材料の硬化処理を行うことにより形成することができる。凹凸形状を備えた原版は、ローラー形状、平板形状のいずれであってもよい。上記の凹凸形状としては、二光束干渉で撮影したレリーフホログラム、干渉縞を計算した計算機合成ホログラム等のレリーフホログラムが挙げられ、特に計算機合成ホログラムが好ましく使用される。
【００１８】
また、指向性反射体２３を構成する反射層２３ｃは、例えば、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｇｅ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｒｂ等の金属およびその酸化物、窒化物等の１種あるいは２種以上の組み合わせで形成することができる。反射層２３ｃの形成は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング法、昇華法、電気めっき法等の公知の方法により行うことができ、厚みは１〜１００００ｎｍ、好ましくは２０〜２００ｎｍ程度の範囲で設定することができる。
【００１９】
転写シート２１を構成する剥離層２４は、樹脂層２３ａと支持体シート２２との間の剥離力、あるいは、オーバーコート層２５と支持体シート２２との間の剥離力が適切な範囲、例えば、１〜５ｇ／インチ（９０°剥離）の範囲にない場合、剥離力を適切な範囲とするために設けるものである。このような剥離層２４としては、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、シリコーン樹脂、塩化ゴム、カゼイン、各種界面活性剤、金属酸化物等の１種あるいは２種以上を用いて形成することができる。剥離層２４は、上記の材料を含有する塗布液をグラビアコート等の塗布方法により支持体シート２２上に塗布して形成することができ、剥離層２４の厚みは、剥離力、箔切れ性等を考慮して、例えば、０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜３μｍ程度の範囲で設定することができる。
【００２０】
転写シート２１を構成するオーバーコート層２５は、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレンビニル共重合体、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ＡＢＳ樹脂、ポリメタクリル酸樹脂、エチレンメタクリル酸樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、塩素化塩化ビニル、ポリビニルアルコール、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリビニルブチラール、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミック酸樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂等、および、重合可能なモノマーであるメチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、ｎ−ペンチルメタクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ｎ−デシルアクリレート、ｎ−デシルメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、グリシジル（メタ）アクリレートの１種以上と、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸の２量体（例えば、東亜合成化学（株）製Ｍ−５６００）、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、これらの酸無水物等の１種以上からなるポリマーまたはコポリマー等、屈折率が１．４〜１．７の範囲にある材料を用いて形成することができ、厚みは０．１〜３．０μｍ程度が好ましい。
【００２１】
図５は本発明に使用する転写シートの他の例を示す概略断面図である。図５において、転写シート２１′は、支持体シート２２′上に剥離層２４′を介して指向性反射体２３′が設けられている。この転写シート２１′では、指向性反射体２３′は、体積ホログラム層２３′ａと、この体積ホログラム層２３′ａに設けられた反射層２３′ｃとからなっている。
上記の転写シート２１′を構成する支持体シート２２′、反射層２３′ｃ、剥離層２４′は、いずれも上述の転写シート２１を構成する支持体シート２２、反射層２３ｃ、剥離層２４と同様とすることができる。
指向性反射体２３′を構成する体積ホログラム層２３′ａは、感光性樹脂層を形成し、二光束干渉を用い屈折率差を生じさせることにより形成することができる。
上述の転写シート２１，２１′は、いずれも接着層を備えていないため、転写シートを巻き取り状態で保存する場合等の管理が容易である。
尚、上述の転写シートは例示であり、これに限定されるものではない。
【００２２】
次に、上述の本発明の製造方法の実施形態において、指向性反射体を備える背面基板１について、更に詳しく説明する。
図６は、転写シート２１として上述の図４に示される転写シート２１を使用して各面付け毎に指向性反射体を転写形成し、その後、前面基板を貼り合わせて個別断裁を行うことにより形成したパネル１００を構成する背面基板１、あるいは、各面付け毎に指向性反射体を転写形成し、その後、個別断裁を行うことにより得られる背面基板１を示す概略部分断面図である。図６において、背面基板１は、基材１０上にパターン接着層１２を介して指向性反射体２３、オーバーコート層２５、剥離層２４を備えるものであり、剥離層２４上にはブラックマトリックス３１、着色層３２、保護層３３、共通透明電極層３４、配向膜３５が順次積層されている。尚、上記の背面基板１は、保護層３３を備えないものであってもよい。
【００２３】
このような背面基板１と、透明基板の一方に位相差板と偏光板を配設し、他方の面に透明画素電極、配向膜を設けた前面基板（図示せず）とを対向させ、両配向膜間に液晶層を挟持することにより反射型の液晶ディスプレイとすることができる。このような反射型の液晶ディスプレイでは、前面基板の位相差板と偏光板を透過し、液晶のシャッター作用により液晶層を透過し、さらに着色層３２を透過した光は、該当する画素に位置する指向性反射体２３において高い効率で観察者方向に反射され、同一経路を経て観察者側へ進むことになる。
尚、図６は背面基板の一例であり、これに限定されるものではなく、例えば、背面基板１に透明画素電極を設け、前面基板に共通透明電極層を設ける態様等、適宜構成を設定することができる。
【００２４】
本発明の液晶ディスプレイ用背面基板の製造方法では、上述の実施形態における感光性接着層１１を各面付け毎の所定のパターンで露光、現像してパターン接着層１２を形成するパターン形成工程において、各画素に相当する部位も所定のパターンで露光、現像して微細なパターン接着層１２を形成し、その後の転写工程にて、画素毎に所定パターンで指向性反射体２３を転写することができる。
すなわち、図２に斜線で示した各面付け毎のパターン接着層１２の形成と同時に、各画素においても所定のパターンで露光、現像を行って微細なパターン接着層１２を形成する。そして、図１（Ｃ）に示されるような転写工程によって、粘着性を有するパターン接着層１２に指向性反射体２３を接着し、その後、転写シート２１の支持体シート２２を剥離することにより、パターン接着層１２上にのみ指向性反射体２３を転写される。このように転写された指向性反射体２３は、各面付け毎の領域に所定のパターンで転写されるとともに、液晶ディスプレイの各画素を構成する部位において、所定のパターンで転写される。図７は、このように各画素毎に所定のパターンで転写形成された指向性反射体２３の一例を示す部分拡大平面図である。図７に示される例では、長方形状の各画素において、回廊形状に指向性反射体２３が形成されている。そして、各画素の中心部には、指向性反射体２３が存在しない透過領域２６が形成されている。
【００２５】
図８は、転写シート２１として上述の図４に示される転写シート２１を使用して各面付け毎、および、図７に示されるように各画素毎に指向性反射体を所定のパターンで転写形成し、その後、個別断裁を行うことにより得られる背面基板１、あるいは、前面基板を貼り合わせて個別断裁を行うことにより形成したパネル１００を構成する背面基板１の概略部分断面図である。図８において、背面基板１は、透明基材１０上にパターン接着層１２を介して指向性反射体２３、オーバーコート層２５、剥離層２４を備えるものであり、剥離層２４上にはブラックマトリックス４１、着色層４２、保護層４３、共通透明電極層４４、配向膜４５が順次積層され、透明基材１０の裏面には偏光板４６が配設されている。尚、上記の背面基板１は、保護層４３を備えないものであってもよい。
【００２６】
このような背面基板１と、透明基板の一方に偏光板を配設し、他方の面に透明画素電極、配向膜を設けた前面基板（図示せず）とを対向させ、両配向膜間に液晶層を挟持することにより透過反射型の液晶ディスプレイとすることができる。このような透過反射型の液晶ディスプレイでは、前面基板の位相差板と偏光板および液晶のシャッター作用により液晶層を透過し、さらに着色層４２を透過した光は、該当する画素に位置する回廊形状の指向性反射体２３において高い効率で観察者方向に集光反射され、同一経路を経て観察者側へ進むことになる。また、背面基板１側に光源（図示せず）を配置することにより、光源からの光は、各画素の透過領域２６（図７参照）にて背面基板１を透過して液晶層に到達するので、高輝度の画像表示が可能となる。
尚、図８は背面基板の一例であり、これに限定されるものではなく、例えば、背面基板１に透明画素電極を設け、前面基板に共通透明電極層を設ける態様、背面基板１にブラックマトリックスや着色層を設けずに前面基板にこれらを設ける態様等、適宜構成を設定することができる。
【００２７】
【実施例】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
【００２８】
［実施例］
転写シートの作製
支持体シートとして厚み２５μｍのポリエステルフィルムの一方の面に、剥離層用塗布液（東栄化成（株）製アクリナール＃１００）をグラビアコート法により塗布し、１００℃で乾燥して厚み０．２μｍの剥離層を形成した。
次に、上記のように形成した剥離層上に下記組成の樹脂層用塗布液をグラビアコート法により塗布し、１００℃で乾燥して厚み２μｍの樹脂層を形成した。
（樹脂層用塗布液の組成）
・樹脂溶液（固形分基準）　　　　　　　　　　　　　　…　１００重量部
・トリメチルシロキシケイ酸含有メチルポリシロキサン　…　　　１部
（信越化学工業（株）製　ＫＦ−７３１２）
・多官能モノマー（サートマー社製　ＳＲ−３９９）　　…　　２０重量部
・光増感剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　…　　　５重量部
（チバスペシャルティケミカルズ社製　イルガキュア９０７）
【００２９】
但し、上記の樹脂層用塗布液に用いた樹脂溶液は下記のように調製した。すなわち、冷却器、滴下ロートおよび温度計付きの２リットルの四つ口フラスコに、トルエン４０ｇおよびメチルエチルケトン（ＭＥＫ）４０ｇをアゾ系の開始剤とともに仕込み、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）２２．４ｇ、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）５３．４ｇ、メタクリル酸（ＭＡＡ）７．４ｇ、イソボニルメタクリレート（ＩＢＭ）１３．９ｇ、トルエン３０ｇおよびＭＥＫ２０ｇの混合液を滴下ロートを経て、約２時間かけて滴下させながら１００〜１１０℃の温度下で８時間反応させた後、室温まで冷却した。これに、２−イソシアネートエチルメタクリレート（昭和電工（株）製　カレンズＭＯＩ）２７．８ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２０ｇおよびＭＥＫ２０ｇの混合液を加えて、ラウリン酸ジブチル錫を触媒として付加反応させた。反応生成物の赤外線分析により２２００ｃｍ^−１の吸収ピークの消失を確認し反応を終了した。
【００３０】
次に、上記の樹脂層に、計算機合成ホログラムが凹凸形状で記録されている原版を加熱圧着し、その後、紫外線を照射して樹脂層を硬化させて凹凸面を形成した。次いで、上記の樹脂層の凹凸面に真空蒸着法によりアルミニウム薄膜（厚み８００Å）を成膜して反射層を形成した。これにより、凹凸を形成した樹脂層と、この凹凸面上に形成された反射層とからなる指向性反射体を剥離可能に備えた転写シートを作製した。
【００３１】
背面基板の製造
有機物除去の目的で紫外線洗浄を行ったガラス基板に、接着層用塗布液（新日鐵化学（株）製Ｖ２５９ＰＡ／Ｘ２０４）をスピンコート法により塗布し、１１０℃で３分間加熱処理を施して感光性接着層（厚み約２μｍ）を形成した。
次に、上記の感光性接着層に所定のマスクを介して紫外線を照射して露光し、その後、現像して未露光部位を除去して、各面付け毎に３０ｍｍ×４０ｍｍのパターン接着層を形成した。露光時のマスクと感光性接着層とのギャップは１００μｍとした。
【００３２】
次いで、上記のように形成したパターン接着層をガラス基板の反対側からホットプレートにより約１００℃に加熱しながら、上述のように作製した転写シートを、アルミニウム反射層が感光性接着層に当接するように圧着ローラーを用いて加熱圧着（１００℃、３ｋｇ／ｃｍ^２）させた。その後、支持体シートを剥離して、レリーフ層と反射層とからなる指向性反射体、および、剥離層をパターン接着層上にのみ転写し、２３０℃、３０分間のポストベークを施した。
次に、背面基板上にオーバーコート層用塗布液（（株）ザ・インクテック製ＩＴ−ＭＰ３２６０）をスピンコート法により塗布乾燥して厚み２μｍのオーバーコート層を形成した。
次に、上記のオーバーコート層上に赤色顔料分散型感光性樹脂塗布液をスピンコート法により塗布し、マスク露光、現像することにより、ストライプ状の赤色着色層を形成した。同様に、緑色顔料分散型感光性樹脂塗布液、青色顔料分散型感光性樹脂塗布液を使用してストライプ状の緑色着色層、青色着色層を形成した。これにより、着色層を形成した。
【００３３】
次いで、着色層上に（株）ザ・インクテック製ＩＴ−ＭＰ３２６０をスピンコート法により塗布乾燥して厚み２μｍの保護層を形成し、更に、真空蒸着法により酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）からなる透明電極層（厚み１５００Å）を形成した。
上述のように透明電極層まで形成した背面基板を、別途作製した前面基板と貼り合わせた後、指向性反射体が転写されていない所定の切断部位にてダイヤモンドカッターにより断裁して、個別のパネルを得た。このようなパネル形成では、金属粉塵の発生はみられなかった。次いで、このパネルを用いて反射型の液晶ディスプレイを作製した。この反射型液晶ディスプレイにおける表示画像は、表示不良の画素がないとともに、コントラストが高く、色のにじみのない良好な画像であった。
【００３４】
［比較例］
有機物除去の目的で紫外線洗浄を行ったガラス基板を準備し、このガラス基板の一方の面に樹脂層用塗布液（新日鐵化学（株）製Ｖ２５９ＰＡ／Ｘ２０４）をスピンコート法により塗布し乾燥して厚み２μｍの樹脂層を形成した。
次に、上記の樹脂層に、計算機合成ホログラムが凹凸形状で記録されている原版を加熱圧着し、その後、紫外線を照射して樹脂層を硬化させて凹凸面を形成した。次いで、上記の樹脂層の凹凸面に真空蒸着法によりアルミニウム薄膜（厚み８００Å）を成膜して反射層を形成した。これにより、凹凸を形成した樹脂層と、この凹凸面上に形成された反射層とからなる指向性反射体をガラス基板上全面に形成した。
【００３５】
次いで、アルミニウム反射層上にオーバーコート層用塗布液（（株）ザ・インクテック製ＩＴ−ＭＰ３２６０）をスピンコート法により塗布乾燥して厚み２μｍのオーバーコート層を形成した。
次に、実施例と同様にして、透明電極層まで形成し、別途作製した前面基板と貼り合わせた後、ダイヤモンドカッターにより断裁して、個別のパネルを得た。次いで、このパネルを用いて反射型の液晶ディスプレイを作製した。作製された反射型液晶ディスプレイにおける表示画像は、上記の断裁時のアルミニウム反射層からの発塵が原因となる表示不良の画素が存在し、良好な画像は得られなかった。
【００３６】
【発明の効果】
以上詳述したように、所定のパターンで感光性接着層を露光、現像してパターン接着層を形成し、このパターン接着層にのみ転写シートから指向性反射体を転写してパターン形成を行うので、切断部位には指向性反射体を存在させないことが可能で、個別のパネルを得る断裁工程、あるいは、個別の背面基板を得る断裁工程において発塵を抑制することができる。また、背面基板用の基材に感光性接着層を形成するので、転写シートに形成する場合に比べて厚みの均一な感光性接着層、したがって、厚みの均一なパターン接着層の形成が可能であり、背面基板を用いて液晶ディスプレイを構成したときの液晶層の厚み制御に悪影響を与えることがない。さらに、転写シートには接着層を設けないため、転写シートを巻き取り状態で保存する場合等の管理が容易であるとともに、背面基板用の多面付け基材に形成する感光性接着層に使用する接着剤の選択の幅が広いものとなる。また、各画素毎に指向性反射体を所望のパターンで形成することが可能であり、コントラストの低下や色のにじみの防止がより確実な反射タイプの背面基板、および、半透過タイプの背面基板の製造が容易である。そして、指向性反射体に欠陥部位が存在する場合、転写シート段階で欠陥部位の除去等が可能であり、背面基板用の基材の無駄、あるいは、前面基板の無駄を防止することができ、さらに、転写シートの製造に必要な真空成膜装置があれば十分であり、高価な大型真空成膜装置が不要であるため、大面積化が容易であり、製造コストの低減も可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液晶ディスプレイの製造方法の一実施形態を説明するための工程図である。
【図２】本発明で使用される背面基板用の多面付け基材の一例を示す平面図である。
【図３】本発明に使用する転写シートの一例を示す概略断面図である。
【図４】本発明に使用する転写シートの他の例を示す概略断面図である。
【図５】本発明に使用する転写シートの他の例を示す概略断面図である。
【図６】図４に示される転写シートを使用して各面付け毎に指向性反射体を転写形成し、その後、個別断裁を行うことにより得られる背面基板の概略部分断面図である。
【図７】本発明により各画素毎に所定のパターンで転写形成された指向性反射体の一例を示す部分拡大平面図である。
【図８】図４に示される転写シートを使用して各面付け毎、および、図７に示されるように各画素毎に指向性反射体を転写形成し、その後、個別断裁を行うことにより得られる背面基板の概略部分断面図である。
【符号の説明】
１…背面基板
１０…背面基板用の基材
１１…感光性接着層
１２…パターン接着層
２１，２１′…転写シート
２２，２２′…支持体シート
２３，２３′…指向性反射体
２３ａ，２３′ａ…樹脂層
２３ｂ…凹凸面
２３ｃ，２３′ｃ…反射層
２４，２４′…剥離層
２５…オーバーコート層
６１…前面基板
１００…パネル[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display, particularly a reflective or transflective liquid crystal display for displaying an image using reflected light of external light.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art As a flat display, a color liquid crystal display has been attracting attention, and its area is expanding not only to a personal computer display but also to a home television. Further, with the development of communication facilities in recent years, liquid crystal displays are often used in mobile phones, PDAs (Personal Data Assistants), and the like as portable information terminals, taking advantage of light weight and low power consumption.
Generally, in a transmission mode liquid crystal display using a backlight as a light source, the backlight occupies most of the power consumption. For this reason, in the above-mentioned liquid crystal display for a portable information terminal, in order to extend the life of the battery, a reflective liquid crystal display that displays an image in a reflection mode using external light instead of using a backlight as a light source, or A transflective liquid crystal display that displays an image in a reflective mode in a bright place and displays an image in a transmissive mode using a backlight in a dark place is often used.
[0003]
In such a reflection-type and transmission-reflection-type liquid crystal display, when a normal mirror is used as a reflector, a problem of reflection occurs. Therefore, a reflector having a diffusive property is generally used. However, the reflector is generally provided behind the rear substrate of the front substrate (substrate on the observer side) and the rear substrate constituting the liquid crystal display, and is provided outside the liquid crystal cell formed between the two substrates. , There is a problem in that a decrease in contrast and color bleeding occur in color image display, and high-quality image display cannot be obtained. In addition, in the reflector having the above diffusivity, the incident light is scattered to a high range, so that the screen is inevitably darkened. Even if the diffuser is provided inside the liquid crystal cell, a bright and high-quality reflector can be obtained. There was a problem that image display was difficult.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
Therefore, by using a back substrate provided with a directional reflector so as to be located inside the liquid crystal cell, it is possible to prevent a decrease in contrast and color bleeding in a color image display and to improve the brightness of an image. Have been. The back substrate provided with such a directional reflector has a predetermined uneven shape for applying directivity to the applied surface by applying an ultraviolet curable resin to each of the substrates for the back substrate. It is manufactured by a single-wafer method in which an original is brought into close contact and exposed, and then a reflective film is formed on the formed uneven surface by a sputtering method, an evaporation method, or the like. However, the formation of projections and depressions and the formation of the reflection layer by the single-wafer method for each base material have a problem in that the productivity is low, the yield is reduced, and the manufacturing cost is increased.
[0005]
On the other hand, in the case of manufacturing a rear substrate provided with a directional reflector by multi-face bonding using a large-area substrate in the above-described conventional manufacturing method, in a cutting step for obtaining an individual rear substrate, generated from a reflective film. There is a problem that dusting of metal powder and the like is inevitable. This problem is the same in the case where a liquid crystal display is manufactured by bonding a front substrate to a rear substrate provided with a directional reflector by multiple mounting and then obtaining individual panels by cutting. Further, in the case where the reflection film is formed for each imposition in order to prevent dust generation, the number of steps such as the patterning step of the reflection film is further increased, and the productivity and the yield are reduced.
[0006]
Furthermore, in order to more reliably prevent the reduction in contrast and the prevention of color bleeding, it is conceivable to provide a directional reflector for each pixel. According to the method, even in a single-wafer method for each base material, the formation of a directional reflector of a fine pattern at the pixel level is difficult because the yield is poor, and the reduction in the yield is difficult in the case of multi-face manufacturing. It will be even bigger.
The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and includes a rear substrate having a directional reflector, a high brightness and contrast of a display image, and a reflection type or a transmission reflection type without color bleeding. It is an object of the present invention to provide a manufacturing method for easily manufacturing the liquid crystal display of the above.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve such an object, the present invention provides a reflection type or transmission type in which a rear substrate and a front substrate provided with a directional reflector are arranged to face each other, and a liquid crystal is present between a pair of the substrates. In a method of manufacturing a reflective liquid crystal display, a photosensitive adhesive layer is formed on one surface of a substrate for a back substrate, and the photosensitive adhesive layer is exposed and developed in a predetermined pattern to form a pattern adhesive layer. After the pattern forming step, the pattern adhesive layer is heated to develop tackiness, the transfer sheet provided with a directional reflector releasably on one surface of the support sheet is directed to the pattern adhesive layer. Pressure transfer so that the directional reflector abuts, the transfer step of peeling the support sheet and transferring the directional reflector only onto the pattern adhesive layer, the directional reflector of the substrate for the back substrate is Front substrate on the transferred surface After bonding, cutting to obtain individual panels by cutting, and at least so as to have structure and.
[0008]
Further, the present invention provides a method of manufacturing a reflective or transflective liquid crystal display in which a back substrate and a front substrate provided with a directional reflector are arranged to face each other, and a liquid crystal is present between the pair of substrates. Forming a photosensitive adhesive layer on one surface of a substrate for a back substrate, exposing and developing the photosensitive adhesive layer in a predetermined pattern to form a pattern adhesive layer, the pattern adhesive layer After heating to develop the adhesiveness, a transfer sheet provided with a directional reflector releasably on one surface of a support sheet, such that the directional reflector abuts the pattern adhesive layer. Crimping, peeling off the support sheet and transferring the directional reflector only onto the pattern adhesive layer, cutting step for obtaining individual back substrate by cutting, laminating the back substrate and front substrate panel Formation process, and at least so as to have structure and.
[0009]
As another embodiment of the present invention, the directional reflector included in the transfer sheet includes a resin layer having irregularities on the surface and a reflective layer provided on the irregular surface of the resin layer, and the reflective layer is formed on the surface. The configuration was such that it was located on the opposite side of the support sheet via the resin layer having irregularities, the irregular surface was a hologram, and the hologram was a computer-generated hologram.
As another aspect of the present invention, a portion corresponding to each pixel is also exposed and developed with a predetermined pattern in the pattern forming step to form a pattern adhesive layer, and on the pattern adhesive layer for each pixel in the transfer step. The configuration is such that the directional reflector is transferred.
In the present invention, the photosensitive adhesive layer formed on the base material is exposed and developed into a pattern adhesive layer, and a directional reflector is transferred from the transfer sheet only to the pattern adhesive layer to form a pattern. Therefore, the directional reflector can be formed in a desired pattern for each imposition and for each pixel.
[0010]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment considered to be the best of the present invention will be described.
FIG. 1 is a process diagram for explaining one embodiment of a method for manufacturing a rear substrate for a liquid crystal display of the present invention, and FIG. 2 is a plan view showing an example of a multi-faced base material for the rear substrate. In the present invention, in the pattern forming step, a photosensitive adhesive layer 11 is formed on one surface of the substrate 10 for the back substrate, and the photosensitive adhesive layer 11 is provided with a predetermined value for each imposition via a photomask M. Exposure is performed in a pattern (FIG. 1A). Thereafter, the pattern adhesive layer 12 is formed by developing the photosensitive adhesive layer 11 (FIG. 1B). FIG. 2 shows a substrate 10 with six impositions as a multi-faced substrate for a rear substrate, and a cutting position for obtaining an individual rear substrate or an individual panel by cutting in a later process (in the drawing, A rectangular pattern adhesive layer 12 (a region indicated by oblique lines in FIG. 2) is formed for each imposition so as not to cover the position indicated by a chain line in FIG.
[0011]
As the photosensitive adhesive for forming the photosensitive adhesive layer 11, a composition capable of forming a pattern by exposure and development and exhibiting tackiness when heated is used alone or in combination of two or more. Can be used with In the case of semi-transmission, it is desirable that the light transmittance after curing is high. Examples of such a photosensitive adhesive include IT-MP3260 and IT-MP402 manufactured by The Inktech Co., Ltd., and V259PA / X204 manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.
The formation of the photosensitive adhesive layer 11 using the photosensitive adhesive as described above can be performed by a spin coating method or the like. Further, the thickness of the photosensitive adhesive layer 11 can be appropriately set in a range of about 0.1 to 30 μm, preferably about 0.5 to 10 μm. In the present invention, since the photosensitive adhesive layer 11 is formed on the multi-faced base material 10 as described above, a photosensitive adhesive layer having a uniform thickness can be formed as compared with the case where the photosensitive adhesive layer 11 is formed on a transfer sheet.
[0012]
Next, in the transfer step, the pattern adhesive layer 12 is heated to exhibit adhesiveness, and then the transfer sheet 21 provided with the directional reflector 23 on one surface of the support sheet 22 in a peelable manner is pressed. The directional reflector 23 is pressed by the roller 51 so as to be in contact with the pattern adhesive layer 12 (FIG. 1C). Thereby, the directional reflector 23 adheres to the adhesive pattern adhesive layer 12, and then the support sheet 22 of the transfer sheet 21 is peeled off, so that the directional reflector 23 is formed only on the pattern adhesive layer 12. Transfer (FIG. 1 (D)).
The method of heating the pattern adhesive layer 12 is not particularly limited. For example, a method of heating from the back surface side of the multi-faced base material 10 using infrared rays, hot air, or the like, a method of incorporating a heater in the pressure roller 51 and performing heat compression. And a method using the above-mentioned heating means in combination.
[0013]
After bonding the front substrate of the multi-faced (in this case, six-faced) to the base material 10 to which the directional reflector 23 has been transferred as described above, by cutting at the position indicated by the chain line in FIG. An individual panel 100 including the substrate 1 and the front substrate 61 is formed (FIG. 1E). In this cutting step, since the directional reflector 23 does not exist at the cutting position, dust generation from the directional reflector 23 is prevented, and dust generation in the cutting step can be suppressed.
Further, in the present invention, as shown in FIG. 1 (D), the substrate 10 to which the directional reflector 23 has been transferred is cut at a position indicated by a chain line in FIG. Alternatively, the panel 100 may be formed by attaching a panel-sized front substrate 61 to the rear substrate 1 (FIG. 1E). Also in this cutting step, since the directional reflector 23 does not exist at the cutting position, dust generation from the directional reflector 23 is prevented, and dust generation in the cutting step can be suppressed.
[0014]
Next, the transfer sheet used in the method for manufacturing a liquid crystal display of the present invention will be described.
FIG. 3 is a schematic sectional view showing an example of the transfer sheet used in the present invention. In FIG. 3, the transfer sheet 21 includes a support sheet 22 and a directional reflector 23 provided on the support sheet 22 so as to be peelable.
FIG. 4 is a schematic sectional view showing another example of the transfer sheet used in the present invention. In FIG. 4, the transfer sheet 21 has a directional reflector 23 provided on a support sheet 22 via a release layer 24 and an overcoat layer 25.
In the transfer sheet 21 described above, the directional reflector 23 includes a resin layer 23a having an uneven surface 23b and a reflective layer 23c provided on the uneven surface 23b of the resin layer 23a.
[0015]
The support sheet 22 constituting the transfer sheet 21 includes a polyethylene terephthalate (PET) film, a polyvinyl chloride (PVC) film, a polyvinylidene chloride film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polycarbonate film, a cellophane film, an acetate film, and a polyamide film. , A polyvinyl alcohol film, a polyamide imide film, an ethylene-vinyl alcohol copolymer film, a polymethyl methacrylate (PMMA) film, a polyether sulfone film, a polyether ether ketone (PEEK) film, and the like. The thickness of the support film 22 can be 5 to 200 μm, preferably about 10 to 50 μm.
[0016]
The resin layer 23a constituting the directional reflector 23 can be formed using various resin materials such as a thermosetting resin and an ionizing radiation curable resin. Specifically, examples of the thermosetting resin include unsaturated polyester resins, acrylic-modified urethane resins, epoxy-modified unsaturated polyester resins, alkyd resins, phenol resins, melamine resins, and the like.These resins can be used alone or It can be used as a combination of two or more. Examples of the ionizing radiation-curable resin include an epoxy-modified acrylic resin, a urethane-modified acrylic resin, and an acryl-modified polyester resin. These resins can be used alone or in combination of two or more. .
[0017]
The uneven surface 23b of the resin layer 23a has a resin layer formed on the support sheet 22, or on the release layer 24 and the overcoat layer 25 using the above resin material, and then has a predetermined uneven shape. The original plate can be formed by pressing the original plate on the resin layer to form an uneven shape on the surface of the resin layer, and performing a curing treatment of the resin material by heat or ionizing radiation. The original plate having the uneven shape may be either a roller shape or a flat plate shape. Examples of the uneven shape include relief holograms photographed by two-beam interference and relief holograms such as computer-generated holograms that calculate interference fringes, and computer-generated holograms are particularly preferably used.
[0018]
The reflection layer 23c constituting the directional reflector 23 is made of, for example, Cr, Ti, Fe, Co, Ni, Cu, Ag, Au, Ge, Al, Mg, Sb, Pb, Pd, Cd, Bi, Sn. , Se, In, Ge, Rb, etc., and one or a combination of two or more of oxides and nitrides thereof. The reflection layer 23c can be formed by a known method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, a reactive sputtering method, an ion plating method, a sublimation method, and an electroplating method, and has a thickness of 1 to 10,000 nm, preferably. Can be set in the range of about 20 to 200 nm.
[0019]
The release layer 24 forming the transfer sheet 21 has a release force between the resin layer 23a and the support sheet 22 or a release force between the overcoat layer 25 and the support sheet 22 in an appropriate range, for example, When it is not in the range of 1 to 5 g / inch (90 ° peeling), it is provided in order to keep the peeling force in an appropriate range. As such a release layer 24, one or two or more of polymethacrylic acid ester resin, polyvinyl chloride resin, cellulose resin, silicone resin, chlorinated rubber, casein, various surfactants, metal oxides, and the like are used. Can be formed. The release layer 24 can be formed by applying a coating solution containing the above-described material onto the support sheet 22 by a coating method such as gravure coating. In consideration of the above, for example, it can be set in a range of about 0.1 to 5 μm, preferably about 0.2 to 3 μm.
[0020]
The overcoat layer 25 constituting the transfer sheet 21 is made of an ethylene-vinyl acetate copolymer, an ethylene-vinyl chloride copolymer, an ethylene-vinyl copolymer, polystyrene, an acrylonitrile-styrene copolymer, an ABS resin, and a polymethacrylic acid resin. , Ethylene methacrylate resin, polyvinyl chloride resin, chlorinated vinyl chloride, polyvinyl alcohol, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, nylon 6, nylon 66, nylon 12, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, polyvinyl acetal , Polyether ether ketone, polyether sulfone, polyphenylene sulfide, polyarylate, polyvinyl butyral, epoxy resin, phenoxy resin, polyimide resin , Polyamide imide resin, polyamic acid resin, polyether imide resin, phenol resin, urea resin and the like, and polymerizable monomers methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate , Isopropyl acrylate, isopropyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, n-pentyl acrylate, n-pentyl methacrylate, n-hexyl acrylate, n- Hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate n-octyl acrylate, n-octyl methacrylate, n-decyl acrylate, n-decyl methacrylate, styrene, α-methylstyrene, N-vinyl-2-pyrrolidone, glycidyl (meth) acrylate, acrylic acid, methacrylic acid It is composed of at least one of a dimer of acid and acrylic acid (for example, M-5600 manufactured by Toa Gosei Chemical Co., Ltd.), itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, and acid anhydrides thereof. It can be formed using a material having a refractive index in the range of 1.4 to 1.7, such as a polymer or a copolymer, and preferably has a thickness of about 0.1 to 3.0 μm.
[0021]
FIG. 5 is a schematic sectional view showing another example of the transfer sheet used in the present invention. In FIG. 5, a transfer sheet 21 'is provided with a directional reflector 23' on a support sheet 22 'via a release layer 24'. In the transfer sheet 21 ', the directional reflector 23' includes a volume hologram layer 23'a and a reflection layer 23'c provided on the volume hologram layer 23'a.
The support sheet 22 ', the reflective layer 23'c, and the release layer 24' constituting the transfer sheet 21 'are all the same as the support sheet 22, the reflective layer 23c, and the release layer 24 constituting the transfer sheet 21 described above. The same can be applied.
The volume hologram layer 23'a constituting the directional reflector 23 'can be formed by forming a photosensitive resin layer and causing a refractive index difference using two-beam interference.
Since neither of the transfer sheets 21 and 21 'has an adhesive layer, it is easy to manage when the transfer sheet is stored in a wound state.
The above-described transfer sheet is an example, and the transfer sheet is not limited thereto.
[0022]
Next, the back substrate 1 including the directional reflector in the above-described embodiment of the manufacturing method of the present invention will be described in more detail.
FIG. 6 shows that the transfer sheet 21 shown in FIG. 4 described above is used as the transfer sheet 21 to transfer and form a directional reflector for each imposition, and then the front substrate is attached and cut individually. FIG. 4 is a schematic partial cross-sectional view showing the rear substrate 1 constituting the formed panel 100 or the rear substrate 1 obtained by transferring and forming a directional reflector for each imposition and thereafter performing individual cutting. 6, the back substrate 1 includes a directional reflector 23, an overcoat layer 25, and a release layer 24 on a substrate 10 via a pattern adhesive layer 12, and a black matrix 31 on the release layer 24. , A colored layer 32, a protective layer 33, a common transparent electrode layer 34, and an alignment film 35 are sequentially laminated. The back substrate 1 may not include the protective layer 33.
[0023]
Such a rear substrate 1 is opposed to a front substrate (not shown) provided with a retardation plate and a polarizing plate on one of the transparent substrates and a transparent pixel electrode and an alignment film on the other surface. By interposing a liquid crystal layer between the alignment films, a reflective liquid crystal display can be obtained. In such a reflection type liquid crystal display, light transmitted through the retardation plate and the polarizing plate of the front substrate, transmitted through the liquid crystal layer by the shutter action of the liquid crystal, and further transmitted through the colored layer 32 is located at the corresponding pixel. The light is reflected in the direction of the observer with high efficiency by the directional reflector 23, and travels to the observer through the same path.
FIG. 6 is an example of the rear substrate, and the present invention is not limited to this. For example, the configuration is appropriately set such as a mode in which a transparent pixel electrode is provided on the rear substrate 1 and a common transparent electrode layer is provided on the front substrate. be able to.
[0024]
In the method of manufacturing a rear substrate for a liquid crystal display of the present invention, in the pattern forming step of exposing and developing the photosensitive adhesive layer 11 in the above-described embodiment in a predetermined pattern for each imposition to form a pattern adhesive layer 12, A portion corresponding to each pixel is also exposed and developed in a predetermined pattern to form a fine pattern adhesive layer 12, and in a subsequent transfer step, the directional reflector 23 can be transferred in a predetermined pattern for each pixel. .
That is, simultaneously with the formation of the pattern adhesive layer 12 for each imposition indicated by oblique lines in FIG. 2, the fine pattern adhesive layer 12 is formed by performing exposure and development in a predetermined pattern on each pixel. Then, a directional reflector 23 is adhered to the adhesive pattern adhesive layer 12 by a transfer process as shown in FIG. 1C, and then the support sheet 22 of the transfer sheet 21 is peeled off. The directional reflector 23 is transferred only onto the pattern adhesive layer 12. The directional reflector 23 transferred in this manner is transferred in a predetermined pattern to a region for each imposition, and is transferred in a predetermined pattern in a portion constituting each pixel of the liquid crystal display. FIG. 7 is a partially enlarged plan view showing an example of the directional reflector 23 transferred and formed in a predetermined pattern for each pixel as described above. In the example shown in FIG. 7, the directional reflector 23 is formed in a corridor shape in each rectangular pixel. Then, a transmission region 26 in which the directional reflector 23 does not exist is formed at the center of each pixel.
[0025]
FIG. 8 shows the use of the transfer sheet 21 shown in FIG. 4 as the transfer sheet 21 to transfer the directional reflector in a predetermined pattern for each imposition and for each pixel as shown in FIG. FIG. 3 is a schematic partial cross-sectional view of a rear substrate 1 that is formed by forming and then performing individual cutting, or a rear substrate 1 that forms a panel 100 formed by performing individual cutting by bonding a front substrate. 8, the back substrate 1 is provided with a directional reflector 23, an overcoat layer 25, and a release layer 24 on a transparent substrate 10 via a pattern adhesive layer 12, and a black matrix is provided on the release layer 24. 41, a colored layer 42, a protective layer 43, a common transparent electrode layer 44, and an alignment film 45 are sequentially laminated, and a polarizing plate 46 is provided on the back surface of the transparent substrate 10. The back substrate 1 may not include the protective layer 43.
[0026]
Such a rear substrate 1 is provided with a polarizing plate on one of the transparent substrates and a front substrate (not shown) provided with a transparent pixel electrode and an alignment film on the other surface. By sandwiching the liquid crystal layer, a transflective liquid crystal display can be obtained. In such a transflective liquid crystal display, the light transmitted through the liquid crystal layer by the retardation plate and the polarizing plate of the front substrate and the shutter action of the liquid crystal, and further transmitted through the colored layer 42, is transmitted to the corridor shape located at the corresponding pixel. The light is condensed and reflected toward the observer with high efficiency by the directional reflector 23, and travels toward the observer via the same path. Further, by disposing a light source (not shown) on the back substrate 1 side, light from the light source passes through the back substrate 1 in the transmission region 26 (see FIG. 7) of each pixel and reaches the liquid crystal layer. Therefore, a high-luminance image can be displayed.
FIG. 8 is an example of a rear substrate, and the present invention is not limited to this. For example, a mode in which a transparent pixel electrode is provided on the rear substrate 1 and a common transparent electrode layer is provided on the front substrate, and a black matrix is provided on the rear substrate 1 The configuration can be set as appropriate, such as a mode in which these are provided on the front substrate without providing the coloring layer.
[0027]
【Example】
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
[0028]
[Example]
Preparation of transfer sheet
A coating solution for a release layer (Acrynal # 100 manufactured by Toei Kasei Co., Ltd.) is applied to one surface of a 25 μm-thick polyester film as a support sheet by a gravure coating method, and dried at 100 ° C. to obtain a 0.2 μm-thick film. A release layer was formed.
Next, a coating solution for a resin layer having the following composition was applied onto the release layer formed as described above by a gravure coating method, and dried at 100 ° C. to form a resin layer having a thickness of 2 μm.
(Composition of coating solution for resin layer)
・ Resin solution (solid content basis) 100 parts by weight
・ Methylpolysiloxane containing trimethylsiloxysilicate メチル 1 part
(KF-7312 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
・ Polyfunctional monomer (SR-399 manufactured by Sartomer Co.) 20 parts by weight
・ Photosensitizer: 5 parts by weight
(Irgacure 907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
[0029]
However, the resin solution used for the above-mentioned resin layer coating solution was prepared as follows. That is, 40 g of toluene and 40 g of methyl ethyl ketone (MEK) were charged together with an azo-based initiator into a 2 liter four-necked flask equipped with a condenser, a dropping funnel and a thermometer, and 22.4 g of 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), A mixture of 53.4 g of methyl methacrylate (MMA), 7.4 g of methacrylic acid (MAA), 13.9 g of isobornyl methacrylate (IBM), 30 g of toluene and 20 g of MEK was added dropwise through a dropping funnel over about 2 hours. After reacting at a temperature of １１０110 ° C. for 8 hours, it was cooled to room temperature. To this was added a mixed solution of 27.8 g of 2-isocyanateethyl methacrylate (Karenz MOI manufactured by Showa Denko KK), 20 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and 20 g of MEK, and an addition reaction was carried out using dibutyltin laurate as a catalyst. 2200 cm by infrared analysis of the reaction product^-1The disappearance of the absorption peak was confirmed, and the reaction was terminated.
[0030]
Next, an original plate on which a computer-generated hologram was recorded in an uneven shape was heat-pressed to the resin layer, and then the resin layer was cured by irradiating ultraviolet rays to form an uneven surface. Next, an aluminum thin film (thickness: 800 °) was formed on the uneven surface of the resin layer by a vacuum evaporation method to form a reflective layer. As a result, a transfer sheet having a directional reflector composed of a resin layer having irregularities formed thereon and a reflective layer formed on the irregularities was removably provided.
[0031]
Back substrate manufacturing
A coating liquid for an adhesive layer (V259PA / X204 manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) is applied by spin coating to a glass substrate that has been subjected to ultraviolet cleaning for the purpose of removing organic substances, and is subjected to a heat treatment at 110 ° C. for 3 minutes. A photosensitive adhesive layer (about 2 μm in thickness) was formed.
Next, the above photosensitive adhesive layer is exposed to ultraviolet rays through a predetermined mask and exposed, and then developed to remove unexposed portions, and a pattern adhesive layer of 30 mm × 40 mm is provided for each imposition. Formed. The gap between the mask and the photosensitive adhesive layer at the time of exposure was 100 μm.
[0032]
Next, while the pattern adhesive layer formed as described above is heated to about 100 ° C. by a hot plate from the opposite side of the glass substrate, the transfer sheet prepared as described above is brought into contact with the aluminum reflective layer against the photosensitive adhesive layer. Using a pressure roller (100 ° C, 3kg / cm²). Thereafter, the support sheet was peeled off, the directional reflector consisting of a relief layer and a reflective layer, and the peeling layer were transferred only onto the pattern adhesive layer, and subjected to post-baking at 230 ° C. for 30 minutes.
Next, an overcoat layer coating solution (IT-MP3260 manufactured by The Inktec Co., Ltd.) was applied on the back substrate by spin coating and dried to form an overcoat layer having a thickness of 2 μm.
Next, a red pigment-dispersed photosensitive resin coating solution was applied on the above-mentioned overcoat layer by a spin coating method, exposed by a mask, and developed to form a striped red colored layer. Similarly, using a green pigment-dispersed photosensitive resin coating liquid and a blue pigment-dispersed photosensitive resin coating liquid, a striped green colored layer and a blue colored layer were formed. Thereby, a colored layer was formed.
[0033]
Next, a protective layer having a thickness of 2 μm is formed on the colored layer by spin-coating IT-MP3260 manufactured by The Inktec Co., Ltd. to form a protective layer having a thickness of 2 μm. An electrode layer (thickness 1500 °) was formed.
After bonding the back substrate formed up to the transparent electrode layer as described above with a separately prepared front substrate, cut the surface with a diamond cutter at a predetermined cutting portion where the directional reflector is not transferred, and separate individual panels. Got. No metal dust was generated in such a panel formation. Next, a reflective liquid crystal display was manufactured using this panel. The display image on this reflective liquid crystal display was a good image with no display defective pixels, high contrast, and no color bleeding.
[0034]
[Comparative example]
A glass substrate that has been subjected to ultraviolet cleaning for the purpose of removing organic substances is prepared, and a coating solution for a resin layer (V259PA / X204 manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) is applied to one surface of the glass substrate by spin coating and dried. Thus, a resin layer having a thickness of 2 μm was formed.
Next, an original plate on which a computer-generated hologram was recorded in an uneven shape was heat-pressed to the resin layer, and then the resin layer was cured by irradiating ultraviolet rays to form an uneven surface. Next, an aluminum thin film (thickness: 800 °) was formed on the uneven surface of the resin layer by a vacuum evaporation method to form a reflective layer. As a result, a directional reflector composed of the resin layer having the unevenness and the reflective layer formed on the uneven surface was formed on the entire surface of the glass substrate.
[0035]
Next, a coating solution for an overcoat layer (IT-MP3260 manufactured by The Inktec Co., Ltd.) was applied on the aluminum reflective layer by a spin coating method and dried to form an overcoat layer having a thickness of 2 μm.
Next, in the same manner as in the example, up to the transparent electrode layer was formed and bonded to a separately manufactured front substrate, and then cut with a diamond cutter to obtain individual panels. Next, a reflective liquid crystal display was manufactured using this panel. In the display image on the manufactured reflection type liquid crystal display, defective pixels caused by dust generation from the aluminum reflection layer at the time of the cutting were present, and a good image was not obtained.
[0036]
【The invention's effect】
As described in detail above, the photosensitive adhesive layer is exposed and developed in a predetermined pattern to form a pattern adhesive layer, and the directional reflector is transferred from the transfer sheet only to this pattern adhesive layer to form a pattern. In addition, it is possible to prevent the directional reflector from being present at the cut portion, and it is possible to suppress dust generation in a cutting process for obtaining an individual panel or a cutting process for obtaining an individual back substrate. In addition, since the photosensitive adhesive layer is formed on the substrate for the back substrate, it is possible to form a photosensitive adhesive layer having a uniform thickness and, therefore, a pattern adhesive layer having a uniform thickness, as compared with the case of forming the transfer sheet. In addition, there is no adverse effect on the thickness control of the liquid crystal layer when a liquid crystal display is configured using the rear substrate. Furthermore, since the transfer sheet is not provided with an adhesive layer, it is easy to manage when the transfer sheet is stored in a wound state, and is used for the photosensitive adhesive layer formed on the multi-faced base material for the back substrate. The range of selection of the adhesive is wide. In addition, a directional reflector can be formed in a desired pattern for each pixel, and a reflective back substrate and a transflective back substrate that can more reliably prevent lowering of contrast and color bleeding. Is easy to manufacture. If a defective portion exists in the directional reflector, it is possible to remove the defective portion at the transfer sheet stage, and to prevent waste of the base material for the back substrate or waste of the front substrate, Further, a vacuum film forming apparatus required for manufacturing the transfer sheet is sufficient, and an expensive large-sized vacuum film forming apparatus is not required. Therefore, the area can be easily increased and the manufacturing cost can be reduced.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a process chart for explaining one embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal display of the present invention.
FIG. 2 is a plan view showing an example of a multi-faced base material for a back substrate used in the present invention.
FIG. 3 is a schematic sectional view showing an example of a transfer sheet used in the present invention.
FIG. 4 is a schematic sectional view showing another example of the transfer sheet used in the present invention.
FIG. 5 is a schematic sectional view showing another example of the transfer sheet used in the present invention.
6 is a schematic partial cross-sectional view of a rear substrate obtained by transferring and forming a directional reflector for each imposition using the transfer sheet shown in FIG. 4 and thereafter performing individual cutting.
FIG. 7 is a partially enlarged plan view showing an example of a directional reflector transferred and formed in a predetermined pattern for each pixel according to the present invention.
FIG. 8 shows a method of transferring and forming a directional reflector for each imposition using the transfer sheet shown in FIG. 4 and for each pixel as shown in FIG. 7, and thereafter performing individual cutting. FIG. 4 is a schematic partial cross-sectional view of a rear substrate obtained.
[Explanation of symbols]
1. Back substrate
10 ... Back substrate
11 Photosensitive adhesive layer
12: Pattern adhesive layer
21, 21 '... transfer sheet
22, 22 '... support sheet
23, 23 '... directional reflector
23a, 23'a ... resin layer
23b: Uneven surface
23c, 23'c ... reflection layer
24, 24 '... release layer
25 ... Overcoat layer
61 Front substrate
100 ... Panel

Claims

A method of manufacturing a reflective or transflective liquid crystal display in which a back substrate and a front substrate provided with a directional reflector are arranged to face each other, and a liquid crystal is present between a pair of the substrates.
Forming a photosensitive adhesive layer on one surface of the substrate for the back substrate, exposing the photosensitive adhesive layer in a predetermined pattern, developing a pattern forming step of forming a pattern adhesive layer,
After the pattern adhesive layer is heated to develop adhesiveness, the transfer sheet provided with a directional reflector releasably on one surface of the support sheet, the directional reflector is provided on the pattern adhesive layer. Pressing so as to abut, a transfer step of transferring the directional reflector only on the pattern adhesive layer by peeling the support sheet,
A method for manufacturing a liquid crystal display, comprising: a step of bonding a front substrate to a surface of the substrate for a rear substrate on which the directional reflector is transferred, and then obtaining individual panels by cutting. .

A method of manufacturing a reflective or transflective liquid crystal display in which a back substrate and a front substrate provided with a directional reflector are arranged to face each other, and a liquid crystal is present between a pair of the substrates.
Forming a photosensitive adhesive layer on one surface of the substrate for the back substrate, exposing the photosensitive adhesive layer in a predetermined pattern, developing a pattern forming step of forming a pattern adhesive layer,
After the pattern adhesive layer is heated to develop adhesiveness, the transfer sheet provided with a directional reflector releasably on one surface of the support sheet, the directional reflector is provided on the pattern adhesive layer. Pressing so as to abut, a transfer step of transferring the directional reflector only on the pattern adhesive layer by peeling the support sheet,
Cutting process to obtain individual back substrate by cutting,
A method for manufacturing a liquid crystal display, comprising at least a panel forming step of bonding the back substrate and the front substrate.

The directional reflector included in the transfer sheet includes a resin layer having irregularities on the surface and a reflective layer provided on the irregular surface of the resin layer, and the reflective layer is formed through the resin layer having irregularities on the surface. 3. The method according to claim 1, wherein the liquid crystal display is located on a side opposite to the support sheet.

The method according to claim 3, wherein the uneven surface is a hologram.

The method according to claim 4, wherein the hologram is a computer-generated hologram.

In the pattern forming step, a portion corresponding to each pixel is also exposed and developed with a predetermined pattern to form a pattern adhesive layer, and the directional reflector is transferred onto the pattern adhesive layer for each pixel in the transfer step. The method for manufacturing a liquid crystal display according to any one of claims 1 to 5, wherein: