JP2004014046A - Manufacturing method of multilayer optical disk - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To allow a substrate for transfer to be easily pilled off from the side of a disk substrate. <P>SOLUTION: A signal layer 12 is deposited on irregularity information 11c preliminarily formed on one surface of the disk substrate 11, a peeling layer 22 is deposited on irregularity information 21c preliminarily formed on one surface of the substrate 21 having diameter D2 of circumference 21b larger than diameter D1 of circumference 11b of the disk substrate 11, a second light transmission layer 13B by transparent ultraviolet cured resin is deposited on the peeling layer 22 and furthermore, the substrate 21 is peeled from the side of the disk substrate 11 as attaching the peeling layer 22 on the substrate 21 after adhering the second light transmission layer 13B on the side of the substrate 21 via a first light transmission layer 13A by a transparent adhesive agent dropped on the signal layer 12 on the side of the disk substrate 11. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、厚みが厚いディスク基板の一方の面側に信号層を多層に形成し、且つ、多層化した信号層のうちで積層方向に対してディスク基板から最も離れた最外層の信号層上に厚みが薄い透明カバー層を形成して、透明カバー層からレーザービームを各層の信号層に向けて入射させるように構成した多層型光ディスクの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
一般的に、光ディスクは、映像情報とか音声情報やコンピュータデータなどの情報信号を円盤状のディスク基板上で螺旋状又は同心円状に形成したトラックに高密度に記録し、且つ、記録済みのトラックを再生する際に所望のトラックを高速にアクセスできることから多用されている。
【0003】
この際、光ディスクは、再生専用タイプと記録再生タイプとに大別できる。ここで、再生専用タイプの光ディスクは、情報信号を凹状のピットと凸状のランドとでディジタル的なピット列に変換して、このピット列が円盤状の透明なディスク基板上に螺旋状又は同心円状に形成されており、更に、ピット列上に金属反射膜,保護膜を順に成膜して、金属反射膜を成膜したピット列による信号層が再生専用に形成されている。
【0004】
一方、記録再生タイプの光ディスクは、凹状のグルーブと凸状のランドとが円盤状の透明なディスク基板上に螺旋状又は同心円状に予め交互に形成されており、更に、これらのグルーブ上及びランド上に記録膜,金属反射膜,保護膜を順に成膜して、記録膜を成膜したグルーブ及びランドによる信号層が記録再生可能に形成されている。
【0005】
そして、再生専用タイプの光ディスクは、光ディスク装置内で光ディスクの径方向に移動自在に設けた光ピックアップから対物レンズを介して出射された再生用のレーザービームをディスク基板のレーザービーム入射面から信号層に向けて照射して、信号層から反射された戻り光を光ピックアップ内のフォトディテクタで検出して再生している。
【0006】
一方、記録再生タイプの光ディスクは、光ディスク装置内で光ディスクの径方向に移動自在に設けた光ピックアップから対物レンズを介して出射された記録用のレーザービームをディスク基板のレーザービーム入射面から信号層に向けて照射して、このレーザービームで信号層を記録し、この後、記録済みの信号層を上記と同じように再生用のレーザービームで再生している。
【0007】
上記した光ディスクのうちで音楽情報を収録したCD(Compact Disc)とか、コンピュータデータを収録したCD−ROM(CD−Read Only Memory)とか、情報信号を1回だけ記録できる記録再生可能なCD−R(CD−Recordable)とか、CDよりも記録容量を6〜8倍高めてディジタル化して圧縮した映像情報や音声情報を収録できるDVD(Digital Versatile Disc)とか、情報信号を1回だけ記録できる記録再生可能なDVD−R(DVD−Recordable)とか、情報信号を複数回記録できる記録再生可能なDVD−RW(DVD−Re recordable),DVD−RAM(DVD−Random Access Memory又はDVD−Writable)などは、既に多用されている。
【0008】
一方、最近になって既存のCDや既存のDVDと外形寸法が略同じで、DVDよりも情報信号を超高密度に記録及び/又は再生でき、15GB〜25GB程度の記録容量を有する超高密度の光ディスクの開発が盛んに行われている。
【0009】
ここで、光ディスクへの記録容量を向上させるには、一般的にレーザービームのスポット径を小さくすることが必要であり、レーザービームのスポット径はレーザー波長と、対物レンズの開口数(NA)とに起因する。この際、対物レンズの開口数(NA)を大きくすると光ディスクの傾きに対して収差が増大しやすくなり、光ディスクの傾き角(Tilt)による影響が大きくなる。この収差はディスク基板上でレーザービームの入射面から信号層までの厚みと(NA)に比例するために、対物レンズのNAを大きくする場合には、レーザービームの入射面から信号層までの厚みを薄くすることによって収差を小さくすることができる。
【0010】
上記に伴って、超高密度の光ディスクの場合には、波長が400nm近辺のレーザービームを用い、且つ、対物レンズには開口数(NA)が0.7〜0.85程度のものを用いることで、ディスク基板上でレーザービームの入射面から信号層までの厚みが略0.1mm〜0.2mm程度になっている。そして、超高密度の光ディスクにおいて、ディスク基板上の信号層は、トラックピッチが0.32μm、最短記録長さは0.14μmから0.17μmで情報信号が記録され、且つ、2T系変調信号が用いられており、符号方式は1,7PPと呼ばれ(1,7)RLL符号化方式を改良した方式が用いられている。
【0011】
ところで、ディスク基板上で信号層を多層化することで、超高密度の光ディスクの記録容量を更に増大させることができる超高密度の多層型光ディスが検討されており、この一例として、超高密度の2層型光ディスクを製造するための新規な製造法方法が、2001年秋台湾で行われたISOM学会(International Symposium on Optical Memory 2001,Oct16−19,Taipei,Taiwan )の予稿集312ページに下記の図12及び図13に示した如く開示されている。
【0012】
図12は従来例における超高密度の2層型光ディスクを説明するために模式的に示した図である。
【0013】
図12に示した如く、従来例における超高密度の2層型光ディスク100は、波長が405nmの青色のレーザービームを用い、且つ、開口数(NA)が0.85の対物レンズを用いて、厚みが厚いディスク基板101の外形寸法を120mmの円盤状に形成した時に1層当たりの信号層の記録容量が25GB程度であり、この信号層を2層化にすることで記録容量を2倍にしたものである。
【0014】
即ち、厚みが厚く略1.1mm程度に形成されたディスク基板101は、中心孔101aの径が15mm、且つ、外周101bの径が120mmに形成され、このディスク基板101の一方の面上に凹凸状の刻印からなる凹凸情報101cが射出成形により形成されている。また、ディスク基板101の凹凸情報101c上に金属反射膜を有する第2信号層102が成膜されている。
【0015】
また、第2信号層102上に透明な紫外線硬化樹脂を用いた透明接着剤による第1光透過層(透明接着剤層)103Aを介して後述する転写用基板111(図13)側の第2光透過層103Bが接着されることで、第1,第2光透過層103A,103Bを合わせて光透過層103が30μm程度の膜厚で形成されている。
【0016】
また、光透過層103の第2光透過層103B上に後述する転写用基板111{図13(b)}の凹凸情報111cによって凹凸情報103B1が転写された後に、この凹凸情報103B1上に半透過反射膜を有する第1信号層104が成膜されている。
【0017】
更に、第1信号層104上に透明接着剤層105A及び透明樹脂カバーシート105Bからなる透明カバー層105が厚みを薄くして形成されており、透明樹脂カバーシート105Bのレーザービーム入射面(=表面)から第1光透過層(透明接着剤層)103Aと第2光透過層103Bとの間に位置する接着面までの距離が略0.1mm程度に設定されている。
【0018】
そして、透明カバー層105の透明樹脂カバーシート105B側がレーザービームの入射側になっている。
【0019】
上記した構成により、透明カバー層105側から入射したレーザービームが第1信号層104の半透過反射膜を透過し、更に、光透過層103を通過して第2信号層102に到達した場合には、第2信号層102上に情報信号を超高密度に記録したり、あるいは、記録済みの情報信号を超高密度に再生できる。
【0020】
また、透明カバー層105側から入射したレーザービームが第1信号層104の半透過反射膜で反射された場合には、第1信号層104上に情報信号を超高密度に記録したり、あるいは、記録済みの情報信号を超高密度に再生できる。
【0021】
従って、上記した上層の第2信号層102と、上記した下層の第1信号層104とで従来例における超高密度の2層型光ディスク100が得られている。
【0022】
次に、上記した従来例における超高密度の2層型光ディスク100を製造する場合について、図13(a)〜(e)を用いて説明する。
【0023】
図13(a)〜(e)は従来例における超高密度の2層型光ディスクを製造する製造工程を説明するために模式的に示した図である。
【0024】
まず、図13(a)に示した如く、厚みが厚いディスク基板101側を用意する。ディスク基板101は、ポリカーボネート樹脂などを用いて中心孔の径が15mm、外周の径が120mm、基板厚みが略1.1mmに形成されており、且つ、射出成型機内に取り付けた不図示のスタンパによりディスク基板101の一方の面上に凹凸情報101cが凹凸状に刻まれた状態で転写されている。また、ディスク基板101の凹凸情報101c上に金属反射膜を有する第2信号層102が成膜されている。
【0025】
また、図13(b)に示した如く、転写用基板111側を用意する。この転写用基板111は例えば透明なポリカーボネート樹脂などを用いて中心孔の径が15mm、外周の径が120mmに形成されており、射出成型機内に取り付けた不図示のスタンパにより転写用基板111の一方の面上に凹凸情報111cが凹凸状に刻まれた状態で転写されている。また、転写用基板111の凹凸情報111c上に透明な紫外線硬化樹脂を用いて第2光透過層103Bが成膜されている。
【0026】
次に、図13(c)に示した如く、ディスク基板101側と転写用基板111側とを透明な紫外線硬化樹脂を用いた透明接着剤による第1光透過層(透明接着剤層)103Aで接着する。具体的には、ディスク基板101側の第2信号層102上に透明な紫外線硬化樹脂を用いた透明接着剤を滴下して、この透明接着剤による第1光透過層(透明接着剤層)103Aを介して転写用基板111側の第2光透過層103Bを接着することで、第1,第2光透過層103A,103Bを合わせた光透過層103が30μm程度の厚みで形成される。この際、ディスク基板101側と転写用基板111側とを透明接着剤で接着する時に、透明接着剤を硬化させるためにはディスク基板101側の第2信号層102に金属反射膜が必ず成膜されているので紫外線を照射した時に金属反射膜が紫外線を遮ってしまう。一方、透明な転写用基板111側には金属反射膜が成膜されていないために、透明な転写用基板111側から紫外線を照射すると第2光透過層103Bを介して紫外線が第1光透過層(透明接着剤層)103Aに到達するので第1光透過層(透明接着剤層)103Aを硬化させることができる。
【0027】
次に、図13(d)に示した如く、図13(c)に示した状態のディスク基板101側から転写用基板111を剥離する。これにより、転写用基板111の凹凸情報111cが第2光透過層103B上で凹凸情報103B1として転写された状態でこの第2光透過層103Bがディスク基板101側の第2信号層102上に第1光透過層(透明接着剤層)103Aを介して接着されている。
【0028】
次に、図13(e)に示した如く、ディスク基板101側の光透過層103上に第1信号層104と透明樹脂カバー層105とを順に形成する。具体的にはディスク基板101側に接着した第2光透過層103Bの凹凸情報103B1上に半透過反射膜を有する第1信号層104を成膜し、且つ、第1信号層104上に透明な紫外線硬化樹脂を用いた透明接着剤による透明接着剤層105Aを介して厚みが薄い透明樹脂カバーシート105Bを接着し、透明接着剤層105Aと透明樹脂カバーシート105Bとで厚みが略0.1mm程度の透明カバー層105を形成する。そして、ディスク基板101側に透明樹脂カバーシート105Bを接着した時の合計の厚みは略1.2mmとなり、従来例における超高密度の2層型光ディスク100が完成する。
【0029】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記したように従来例における超高密度の2層型光ディスク100を製造するにあたって、ディスク基板101側と転写用基板111側とを接着した後に図13(d)に示したようにディスク基板101側から転写用基板111を外周から内周に向かって徐々に剥離していくに際に、ディスク基板101側と転写用基板111側とを接着した時に両基板101,111の外径寸法が同じであるために第1光透過層(透明接着剤層)103Aとなる透明接着剤が転写用基板111の外周端面に回り込んで付着するので、転写用基板111の外周端面で第2光透過層103Bが付着したままになり、転写用基板111から第2光透過層103Bがうまく剥離できず2層型光ディク100の外周部位で欠陥が生じてしまい、品質及び信頼性の悪い2層型光ディスク100が作製されるなどの問題点も生じている。
【0030】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、第1の発明は、厚みが厚いディスク基板の一方の面側に信号層を多層に形成し、且つ、多層化した前記信号層のうちで積層方向に対して前記ディスク基板から最も離れた最外層の信号層上に厚みが薄い透明カバー層を形成して、前記透明カバー層側からレーザービームを各層の信号層に向けて入射させるように構成した多層型光ディスクの製造方法において、
前記ディスク基板の一方の面に予め形成された凹凸情報上に信号層を成膜する第1のステップと、
前記ディスク基板の外周の径より大きな外周の径を有する転写用基板の一方の面に予め形成された凹凸情報上に剥離層を成膜する第2のステップと、
前記転写用基板側の前記剥離層上に透明な紫外線硬化樹脂による第2光透過層を成膜する第3のステップと、
前記ディスク基板側の前記信号層上に接着剤による第1光透過層を介して前記転写用基板側の前記第2光透過層を接着する第4のステップと、
前記転写用基板に前記剥離層を付けたまま該転写用基板を前記ディスク基板側から剥離して、前記ディスク基板側に移行した前記第2光透過層上に前記転写用基板側の凹凸情報により転写された凹凸情報を露出させる第5のステップと、
前記ディスク基板側に移行した前記第2光透過層の凹凸情報上に信号層を成膜する第6のステップと、
他の転写用基板を用いて上記した第2〜第6のステップを繰り返して、前記ディスク基板側に必要に応じて更に信号層を多層化する第7のステップと、
前記ディスク基板側に多層化した前記信号層のうちで前記最外層の信号層上に厚みが薄い前記透明カバー層を形成する第8のステップとからなることを特徴とする多層型光ディスクの製造方法である。
【0031】
また、第2の発明は、厚みが厚いディスク基板の一方の面側に信号層を多層に形成し、且つ、多層化した前記信号層のうちで積層方向に対して前記ディスク基板から最も離れた最外層の信号層上に厚みが薄い透明カバー層を形成して、前記透明カバー層側からレーザービームを各層の信号層に向けて入射させるように構成した多層型光ディスクの製造方法において、
前記ディスク基板の一方の面に予め形成された凹凸情報上に信号層を成膜する第1のステップと、
前記ディスク基板側の前記信号層上に透明な紫外線硬化樹脂による第1光透過層を成膜する第2のステップと、
前記ディスク基板の外周の径より大きな外周の径を有する転写用基板の一方の面に予め形成された凹凸情報上に剥離層を成膜する第3のステップと、
前記ディスク基板側の前記第1光透過層上に透明接着剤を滴下して、この透明接着剤による第2光透過層上に前記転写用基板の一方の面に形成した前記凹凸情報を前記剥離層を介して転写させる第4のステップと、
前記転写用基板に前記剥離層を付けたまま該転写用基板を前記ディスク基板側から剥離して、前記ディスク基板側の前記第2光透過層上に転写された前記凹凸情報を露出させる第5のステップと、
前記ディスク基板側の前記第2光透過層の凹凸情報上に信号層を成膜する第6のステップと、
他の転写用基板を用いて上記した第2〜第6のステップを繰り返して、前記ディスク基板側に必要に応じて更に信号層を多層化する第7のステップと、
前記ディスク基板側に多層化した前記信号層のうちで前記最外層の信号層上に厚みが薄い前記透明カバー層を形成する第8のステップとからなることを特徴とする多層型光ディスクの製造方法である。
【0032】
【発明の実施の形態】
以下に本発明に係る多層型光ディスクの製造方法の一実施例を図1乃至図11を参照して、<2層型光ディスク>,<多層型光ディスクの製造方法>,<3層型光ディスク>,<4層型光ディスク>,<変形例の多層型光ディスクの製造方法>の順に詳細に説明する。
【0033】
本発明に係る多層型光ディスクの製造方法は、先に図12及び図13を用いて説明した従来例における超高密度の2層型光ディスクの製造方法に対して一部改良を図ったものであり、多層型光ディスクの製造工程は従来と基本的に同じであるものの、とくに、ディスク基板の一方の面に形成した凹凸情報上に信号層を成膜し、且つ、ディスク基板の外周の径より大きな外周の径を有する転写用基板の一方の面に形成した凹凸情報上に剥離層を成膜すると共に、この剥離層上に透明な紫外線硬化樹脂による第2光透過層を成膜して、ディスク基板側の信号層上に滴下した透明接着剤による第1光透過層を介して転写用基板側の第2光透過層を接着した後に、転写用基板に剥離層を付けたまま転写用基板をディスク基板側から剥離する際に、転写用基板の外形寸法をディスク基板の外形寸法より一回り大きく形成して、転写用基板側に成膜した第2光透過層の外周部位の剥離性能を向上させるように改良を図ることにより、転写用基板側に成膜した第2光透過層の凹凸情報をディスク基板側に確実に移行できるようにしたものである。尚、本発明に係る多層型光ディスクの製造方法は、2層型光ディスクは勿論のこと、2層以上の多層型光ディスクにも適用可能である。
【0034】
<2層型光ディスク>
本発明に係る多層型光ディスクの製造方法を説明する前に、この製造方法を適用して作製した2層型光ディスクについて図1を用いて説明する。
【0035】
図1は本発明に係る多層型光ディスクの製造方法を適用して作製した2層型光ディスクを説明するために模式的に示した図である。
【0036】
図1に示した如く、本発明に係る多層型光ディスクの製造方法を適用して作製した2層型光ディスク10は、従来と略同様に、厚みが厚い円盤状のディスク基板11の一方の面側に信号層12,14が2層に形成されており、これら2層の信号層12,14のうちで積層方向に対してディスク基板11から最も離れた最外層の信号層14上に厚みが薄い透明カバー層15を形成して、透明カバー層15側からレーザービームを信号層12,14に向けて入射させるように構成したものである。
【0037】
上記した2層型光ディスク10は、波長が400nm近辺の青色のレーザービームを用い、且つ、開口数(NA)が0.7〜0.85の対物レンズを用いて、厚みが厚いディスク基板11の外形寸法を120mmに形成した時に1層当たりの信号層の記録容量が25GB程度であり、この信号層を2層化にすることで記録容量を2倍にしたものである。
【0038】
即ち、上記した2層型光ディスク10において、厚みが厚く略1.1mm程度に形成されたディスク基板11は、中心孔11aの径が15mm、且つ、外周11bの径が120mmに形成され、このディスク基板11の一方の面上に凹凸状の刻印からなる凹凸情報11cが射出成形により予め形成されていると共に、ディスク基板11の一方の面の最内周側にリング状溝11dが中心孔11aに沿って深さを浅く同心的に予め形成されている。この際、ディスク基板11の一方の面上に刻まれた凹凸情報11cは、再生専用タイプの場合にディスクの非記録再生面側からみて凹状のピットと凸状のランドとによるピット列がディスク基板11上で螺旋状又は同心円状に形成されたものであり、一方、記録再生タイプの場合にディスクの非記録再生面側からみて凹状のグルーブと凸状のランドとがディスク基板11上で螺旋状又は同心円状に予め交互に形成されたものである。
【0039】
また、ディスク基板11の一方の面の最内周側に形成されたリング状溝11dは、後述するように第2信号層12上に透明な紫外線硬化樹脂による透明接着剤を滴下して第1光透過層(透明接着剤層)13Aを成膜する際に透明接着剤が中心孔11a側に延伸しないように防止するためのものである。
【0040】
また、ディスク基板11の凹凸情報11c上に金属反射膜を有する第2信号層12が成膜されている。この際、ディスク基板11の凹凸情報11c上に成膜した第2信号層12は、再生専用タイプの場合にピット列上にアルミニウムなどの金属反射膜のみが成膜されたものであり、一方、記録再生タイプの場合に凹状のグルーブ上及び凸状のランド上に金属反射膜と記録膜とが上記順に成膜されたものである。
【0041】
また、第2信号層12上に透明な紫外線硬化樹脂を用いた透明接着剤による第1光透過層(透明接着剤層)13Aを介して後述する転写用基板21{図2(b)}の剥離層22上に透明な紫外線硬化樹脂により成膜した第2光透過層13Bが接着されることで、第1,第2光透過層13A,13Bからなる光透過層13が20〜30μm程度の膜厚で形成されている。
【0042】
また、光透過層13では、内側の第1光透過層13A上にディスク基板11の凹凸情報11c及びリング状溝11dによって凹凸情報13A1及びリング状凸部13A2が転写され、且つ、外側の第2光透過層13B上に後述する転写用基板21{図2(b)}の凹凸情報21c及びリング状溝21dによって凹凸情報13B1及びリング状凸部13B2が転写されている。
【0043】
また、第2光透過層13B側の凹凸情報13B1上及びリング状凸部13B2上に半透過金属反射膜を有する第1信号層14が成膜されている。
【0044】
更に、第1信号層14上に透明接着剤層15A及び透明樹脂カバーシート15Bからなる透明カバー層15が厚みを薄くして形成されており、この実施例では従来例とは異なって、透明樹脂カバーシート15Bのレーザービーム入射面(=表面)から第2信号層12と第1光透過層13Aとの間に位置する接合面までの距離を略0.1mm程度に設定している。
【0045】
そして、透明カバー層15の透明樹脂カバーシート15B側がレーザービームの入射側になっていると共に、第2信号層12に対して2層目の層番号が予め内周側に付与され、且つ、第1信号層14に対して1層目の層番号が予め内周側に付与されているので、透明樹脂カバーシート15B側から入射したレーザービームを層番号に応じて各信号層12,14をフォーカス制御するようになっている。
【0046】
ここで、透明樹脂カバーシート15Bのレーザービーム入射面から奥側の第2信号層12までの距離を予め設定する理由について説明する。例えば、透明樹脂カバーシート15Bのレーザービーム入射面から奥側の第2信号層12までの距離を例えば100μm(=0.1mm)に予め設定すると、光透過層13の厚みが20μm〜30μm程度であるならば、透明樹脂カバーシート15Bのレーザービーム入射面から手前側の第1信号層14までの距離は当然100μmより短く70μm〜80μm程度となる。
【0047】
図1では信号層を2層化した場合を図示しているが、後述するように信号層を2層だけでなく更に多層化した場合を含めて考慮すると、透明樹脂カバーシート15Bのレーザービーム入射面から積層方向に対して最内層側の信号層までの距離を予め設定し、且つ、手前側の各信号層になるに従いレーザービーム入射面から各信号層までの距離を順次短くしていく手法を取っている。従って、透明樹脂カバーシート15Bのレーザービーム入射面から最内層側の信号層までの距離と等価となるように透明カバー層15の厚みが固定されるため、光ピックアップ内の対物レンズを設計する時には、最内層側の信号層までの距離に合わせて対物レンズの収差が少なくなるように設計できる。一方、対物レンズを手前側の各信号層に焦点を合わせた時に生じる球面収差は増加するものの、この球面収差増加分は、透明樹脂カバーシート15Bのレーザービーム入射面から手前側の各信号層までの距離が短くなるに従ってディスクの反りによるチルトに対するコマ周差分が減少することで補正することができ、信号層を多層化しても各信号層からの信号品質が同じになるという効果を得られるので、透明樹脂カバーシート15Bのレーザービーム入射面から積層方向に対して最内層側の信号層までの距離を予め設定することが有効な方法であることが明らかである。
【0048】
上記した構成により、透明カバー層15側から入射したレーザービームが第1信号層14の半透過金属反射膜を透過し、更に、光透過層13を通過して第2信号層12に到達した場合に着目してみると、第2信号層12上に情報信号を超高密度に記録したり、あるいは、記録済みの情報信号を超高密度に再生できる。
【0049】
また、透明カバー層15側から入射したレーザービームが第1信号層14の半透過金属反射膜で記録時に熱吸収されたり、あるいは再生時に反射された場合に着目してみると、第1信号層14上に情報信号を超高密度に記録したり、あるいは、記録済みの情報信号を超高密度に再生できる。
【0050】
従って、上記した上層の第2信号層12と、上記した下層の第1信号層14とで超高密度の2層型光ディスク10が得られている。
【0051】
<多層型光ディスクの製造方法>
本発明に係る多層型光ディスクの製造方法について、図2〜図9を用いて工程順に説明する。
【0052】
図2(a),(b)は本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、ディスク基板と転写用基板とをそれぞれ製造した際の縦断面図、
図3(a),(b)は本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、ディスク基板側と転写用基板側とにそれぞれ成膜した際の縦断面図、
図4(a),(b)は本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、ディスク基板側と転写用基板側とを接着する際の縦断面図、
図5は本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、ディスク基板側と転写用基板側との接着時に紫外線で透明接着剤による第1光透過層を硬化させる際の縦断面図、
図6は本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、転写用基板に剥離層を付けたまま転写用基板をディスク基板側から剥離させる際の縦断面図、
図7は本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、ディスク基板側に接着した第2光透過層の外周をカッターで切削する際の縦断面図、
図8は本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、ディスク基板側に接着した第2光透過層上に第1信号層を成膜した際の縦断面図、
図9は本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、ディスク基板側の第1信号層上に透明カバー層を形成して2層型光ディスクを完成させた際の縦断面図である。
【0053】
(第1工程)
図2(a),(b)に示した如く、第1工程では、厚みが厚いディスク基板11と、転写用基板21とをそれぞれ作製する。
【0054】
まず、図2(a)に示した厚みが厚いディスク基板11は、ポリカーボネート樹脂などを用いて中心孔11aの径が15mm、外周11bの径D1が120mm、基板厚みT1が略1.1mmに形成されており、且つ、射出成型機内に取り付けた不図示のスタンパによりディスク基板11の一方の面上に凹凸情報11cが凹凸状に刻まれた状態で予め転写されていると共に、最内周部位にリング状溝11dが中心孔11aに沿って同心的に形成されている。
【0055】
この際、ディスク基板11の一方の面上に形成した凹凸情報11cは、例えば直径42mmから直径117mmの範囲に亘ってトラックピッチ0.32μm前後で螺旋状又は同心円状に形成されている。更に、凹凸情報11cを再生専用タイプに形成する場合にはピット深さが0.08μm前後のピット列の形態を取っており、一方、凹凸情報11cを記録再生タイプに形成する場合にはグルーブ深さが0.02μm前後のグルーブとグルーブ間にまたがるランドとの形態を取っている。また、ディスク基板11の一方の面上で最内周部位に形成したリング状溝11dは例えば直径19mmから直径20mmの範囲に亘って深さ0.1mm程度で凹状に形成されている。
【0056】
一方、図2(b)に示した転写用基板21は、紫外線に対して50%以上、望ましくは70%以上の光透過率を有する透明な基板材料を用いており、具体的には例えばポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂,アモルファスポリオレフィン樹脂,スチロール樹脂,石英ガラス,ソーダ石灰ガラス,ホウ珪酸ガラスなどが用いられている。
【0057】
そして、転写用基板21は、中心孔21aの径がディスク基板11の中心孔11aの径15mmより僅かに大きく形成され、且つ、外周21bの径D2がディスク基板11の外周11bの径D1(=120mm)より大きく130mmに形成され、更に、基板厚みT2が略1.2mmに形成されており、且つ、射出成型機内に取り付けた不図示のスタンパにより転写用基板21の一方の面上に凹凸情報21cが凹凸状に刻まれた状態で予め転写されていると共に、最内周部位にリング状溝21dが中心孔21aに沿って同心的に予め形成されている。
【0058】
この際、転写用基板21の外周21bの径D2を、従来と異なってディスク基板11の外周11bの径D1よりも一回り大きく形成することで、後述するように転写用基板21をディスク基板11側から剥離し易くしており、転写用基板21の外周21bの径D2は121mm以上であれば良いが、この実施例では上述したように130mmに設定した。
【0059】
また、転写用基板21の基板厚みT2は、0.6mm以上であれば良いが、この実施例では上述したように略1.2mmに設定した。とくに、転写用基板21の基板厚みT2を1mm〜2mm程度に厚くすることで、転写用基板21の一方の面のうねりが少なくなり、望ましい。しかし、転写用基板21の基板厚みT2を3mm以上に厚くすると、剥離時に転写用基板21を反らす際に大きな力が必要となり、効率が低下するので望ましくない。
【0060】
また、転写用基板21の一方の面上に形成した凹凸情報21cは、ディスク基板11と同様に、例えば直径42mmから直径117mmの範囲に亘ってトラックピッチ0.32μm前後で螺旋状又は同心円状に形成され、且つ、再生専用タイプに形成する場合にはピット列の形態を取り、一方、記録再生タイプに形成する場合にはグルーブとランドとの形態を取っているものの、後述するように上記した凹凸情報21cを第2光透過層13Bを介してディスク基板11側に移行させた時に転写用基板21の凹凸情報21cの回転方向がディスク基板11の凹凸情報11cの回転方向と一致するように予め不図示のスタンパ側で設定されている。
【0061】
また、転写用基板21の一方の面上で最内周部位に形成したリング状溝21dは、ディスク基板11と同様に、例えば直径19mmから直径20mmの範囲に亘って深さ0.1mm程度で凹状に形成されている。
【0062】
(第2工程)
図3(a),(b)に示した如く、第2工程では、ディスク基板11側と、転写用基板21側とにそれぞれ成膜する。
【0063】
まず、図3(a)に示した如く、ディスク基板11の一方の面に形成した凹凸情報11c上に金属反射膜を有する第2信号層12を成膜している。この際、ディスク基板11の凹凸情報11c上に成膜した第2信号層12は、再生専用タイプの場合にピット列上にアルミニウムなどの金属反射膜のみを成膜しており、一方、記録再生タイプの場合に凹状のグルーブ上及び凸状のランド上にアルミニウムなどの金属反射膜と、酸化ケイ素透明膜,テルル系相変化記録膜,酸化ケイ素透明膜を積層した記録膜とを上記順に成膜している。尚、記録再生タイプの場合には、記録膜は相変化記録型であるので、レーザービームを用いて初期化処理を施し、成膜されたテルル系相変化記録膜を結晶化させておくことが望ましい。なぜならば、記録膜を成膜した後に膜面が大気中でのゴミや汚れなどの汚染を受けることが少ない状態で初期化されるので、良好な記録特性を有する記録膜とすることができる。尚、第2信号層12中の記録膜の初期化処理は、後述する第5工程の終了後に施すことも可能である。
【0064】
次に、図3(b)に示した如く、転写用基板21の一方の面に形成した凹凸情報21c上に剥離改善を目的とした、厚さ5nmから50nmほどの剥離層22を成膜している。
【0065】
更に、剥離層22上に紫外線硬化樹脂を滴下して、第2光透過層13Bを略10μm程度の厚みで成膜している。この際、転写用基板21の一方の面と反対側の他方の面を不図示の回転テーブル上に装着して、回転テーブルを回転させながら、剥離層22上に紫外線硬化樹脂を滴下し、回転テーブルを高速回転し、所望の厚さに紫外線硬化樹脂を塗布する。そして、塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して硬化させると第2光透過層13Bになる。この第2光透過層13Bの厚さは5μmから10μmくらいの厚さとすることが好ましく、実施例では略10μmとした。第2光透過層13Bの厚さを5μmより薄く成膜させようとすると、回転テーブルを長時間回転させなければならず、生産効率が悪化する結果となる。一方、第2光透過層13Bの厚さを10μmより厚く成膜させると、回転テーブルによる紫外線硬化樹脂延伸後、紫外線硬化樹脂の膜の厚さがディスク内周部と外周部とで異なってしまうので望ましくない。
【0066】
また、第2光透過層13Bを剥離層22上に成膜した時に、紫外線硬化樹脂によって転写用基板21の凹凸情報21cに対して相補的な凹凸情報13B1が形成されると共に、紫外線硬化樹脂が剥離層22を介して最内周部位に形成した転写用基板21のリング状溝21d内に入り込むのでこのリング状溝21dに対して相補的なリング状凸部13B2が形成されるが、この際、紫外線硬化樹脂が転写用基板21の中心孔21aに進入する前にリング状溝21dで一旦せき止められるために、転写用基板21の中心孔21a内に紫外線硬化樹脂が付着することがなくなり、紫外線硬化樹脂塗布後、硬化までの時間にゆとりが生じ、製造効率が向上する。そして、後述するように転写用基板21の第2光透過層13Bをディスク基板11側に移行させた時に、上記したリング状凸部13B2は、カバー層形成時の位置出し用突起として利用できる効果も生じる。
【0067】
また、上記した剥離層22は転写用基板21に対して密着性が良いものが望ましく、具体的には、金,クロム,ニッケル,珪素,珪素炭化物又は窒化物,酸化物などを薄膜に成膜することで光透過性を有しており、後述する第3工程で紫外線が透過できる厚さに制御されている。この際、剥離層22は1nm,2nmのようにあまり薄いと、均一な膜とならず、所々膜の形成されていないところが生じてしまい、後工程で述べるように第2光透過層13Bを転写用基板21から剥離する時に剥離層22が成膜されているところとそうでないところとで、第2光透過層13Bへの剥離強度が異なり、転写用基板21の凹凸情報21cを第2光透過層13Bによりディスク基板11側に正しく移行するという、当初の目的を果たさなくなるので不都合であり、従って目的を達成するには5nm以上の厚さが望ましい。一方、剥離層22の厚みが100nmのように厚くなると、第2光透過層13Bの成膜後の膜の表面形状は、転写用基板21の凹凸情報21cを正確に現さなくなったり、成膜時の膜内応力により、転写用基板21と剥離層22との間の密着性が悪くなり、後工程で述べる第2光透過層13Bの剥離時に成膜された第2光透過層13Bが剥離層22ごと剥離してしまい、転写用基板21の凹凸情報21cを第2光透過層13Bによりディスク基板11側に正しく移行するという、当初の目的を果たさなくなるので、均一な膜が成膜される範囲で膜厚はできるだけ薄い方が好ましい。この際、適切に選択された剥離層22は適切に選択された厚みのもとで、複数回の転写、剥離工程に対しても効果を維持できるようになるため、転写用基板21を多数用意する必要がなくなり、製造効率が向上する効果も生じる。
【0068】
(第3工程)
図4(a),(b)に示した如く、第3工程では、ディスク基板11側と、転写用基板21側とを紫外線硬化樹脂を用いた透明接着剤により接着する。
【0069】
この第3工程では、図4(a)に示したようにディスク基板11の中心孔11aを回転テーブル31のセンタースピンドル31aに嵌合させて、ディスク基板11の一方の面と反対側の面を回転テーブル31上に載置すると、一方の面側に成膜した第2信号層12が上方を向くので、この状態で回転テーブル31を回転させながら透明な紫外線硬化樹脂を用いた透明接着剤を第2信号層12上に滴下する。そして、透明接着剤が第2信号層12上で均一に延伸した時に回転テーブル31を停止する。この後、転写用基板21の一方の面に成膜した剥離層22及びこの剥離層22上に成膜した第2光透過層13Bを下方に向けた状態で、ディスク基板11の上方から転写用基板21の中心孔21aを回転テーブル31のセンタースピンドル31aに嵌合させて、転写用基板21の第2光透過層13Bをディスク基板11の第2信号層12上に透明接着剤による第1光透過層(透明接着剤層)13Aを介して接着すると、図4(b)に示したように第1光透過層13A,第2光透過層13Bによる光透過層13が一体的に形成される。
【0070】
また、透明接着剤による第1光透過層13Aを第2信号層12上に成膜した時に、紫外線硬化樹脂が最内周部位に形成したディスク基板11のリング状溝11d内に入り込んで、ディスク基板11の中心孔11aに進入する前にリング状溝11dで一旦せき止められるために、ディスク基板11の中心孔11a内に紫外線硬化樹脂が付着することがなくなり、紫外線硬化樹脂塗布後、硬化までの時間にゆとりが生じ、製造効率が向上する。
【0071】
この際、透明接着剤は、ウレタンアクリレート樹脂,エポキシアクリレート樹脂,ウレタンメタクリレート樹脂,エポキシメタクリレート樹脂などが用いられ、これらの各樹脂は紫外線で硬化するように光重合開始剤が添加されている。
【0072】
そして、前述したように第2光透過層13Bが略10μm程度に予め成膜されているために、第1,第2光透過層13A,13Bを含めた光透過層13の厚みは、20μm〜30μm程度となる。
【0073】
この際、前述したように、転写用基板21の外周の径がディスク基板11の外周の径より大きいので転写用基板21の外周部位はディスク基板11の外周部位よりはみ出している。
【0074】
また、回転テーブル31のセンタースピンドル31aは、ディスク基板11の中心孔11aと転写用基板21の中心孔11aとを同心的に一致させるために、2枚の基板11,21の各中心孔11a,21aの径より直径で5μm〜10μmほど小さくしておくことで、2枚の基板11,21はお互いに偏芯が少なくなるように重ね合わすことができ、且つ、センタースピンドル31aの高さは貼り合わせる2枚の基板11,21の厚みより僅かに高く設定されている。
【0075】
このように、回転テーブル31上に2枚の基板11,21順に積層して載置すると、下記する第4工程における接着剤硬化の時に紫外線が転写用基板21を通して照射可能となる。
【0076】
(第4工程)
図5に示した如く、第4工程では、ディスク基板11側と、転写用基板21側とを紫外線硬化樹脂を用いた透明接着剤により接着した時に、紫外線により透明接着剤による第1光透過層(透明接着剤層)13Aを硬化させている。
【0077】
この第4工程では、回転テーブル31上にディスク基板11を載置し、このディスク基板11上に転写用基板21を紫外線硬化樹脂を用いた透明接着剤により接着した時に、回転テーブル31を回転させながら転写用基板21の上方から紫外線ランプ32を照射することで、紫外線ランプ32からの紫外線が透明な転写用基板21と、光透過性を有する剥離層22と、第2光透過層13Bとを順に通過して、第1光透過層(透明接着剤層)13Aに到達するので、透明接着剤による第1光透過層13Aを硬化させることができる。そして、透明接着剤が硬化した後に、回転テーブル31の回転を停止して、貼り合わせた2枚の基板11,21を回転テーブル31上から取り外す。
【0078】
尚、上記した第1光透過層13Aは紫外線硬化樹脂を用いた透明接着剤によるものとして説明したが、これに限定されるものでなく、同様な接着機能を有するものであれば他の材料(=他の接着剤)でも良い。
【0079】
本発明に好適な他の接着剤としては、透明な両面粘着シートを挙げることができる。この透明な両面粘着シートは、粘着シートの両面に剥離シートが設けられているものであり、取扱時に粘着シート同士が接着しあうこともなく、作業工程の効率が上がり好ましい。更に、透明な両面粘着シートは、シート厚さに対する厚さバラツキがなく、例えばシート厚さ20μmに対してバラツキの範囲を±1μm程度とすることが容易であるために、本発明のように光透過層13の膜厚をを正確に制御するのに好ましい。
【0080】
この際、透明な両面粘着シートを用いる場合の手順は、まず、転写用基板21の第2光透過層13B上に片面の剥離シートを剥がした粘着シートを回転ローラなどを用いて貼り付ける。この後、転写用基板21の第2光透過層13B上に貼り付けた粘着シートの反対面の剥離シートを剥がして、真空槽内で粘着シートの反対面をディスク基板11の第2信号層12に貼り合わせる。この時に真空槽内の真空度は100Pa以下とすると、貼り合わせ中に粘着シートに気泡を巻き込むことがなく好ましい。そして、真空中でディスク基板11の第2信号層12と転写用基板21の第2光透過層13Bとを粘着シートを介して貼り合わせた後に、10μm以下で残存する微小気泡を除去するために5気圧(5×10Pa)以下のオートクレーブ(=加圧加熱器)で加圧脱泡する。このようにすると微小気泡が消滅し、厚み誤差が少ない光透過層13が得られる効果が生じる。
【0081】
この透明な粘着シートの材料としては、例えば、エチレン酢酸ビニル共重合体や、塩素化ポリオレフィン、ブタジエンスチレン共重合体などが接着力が強く、貼の合わせた後に、第2信号層12と第2光透過層13Bとの間で剥離することがないので好ましい。
【0082】
(第5工程)
図6に示した如く、第5工程では、ディスク基板11側と転写用基板21側とを紫外線硬化樹脂を用いた透明接着剤により接着した後に、転写用基板21に剥離層22を付けたまま転写用基板21をディスク基板11側から剥離する。このようにすることで、剥離層22は何度も再使用可能となる。
【0083】
ここで、前述したように、転写用基板21の外周の径D2はディスク基板11の外周の径D1より一回り大きく、且つ、転写用基板21の凹凸情報21c上に剥離層22が成膜されているので、転写用基板21の外周部位をそらすことにより、転写用基板21の剥離層22上に成膜した第2光透過層13Bを外周部位から内周部位に向かって確実に剥離させることができる。
【0084】
尚、ディスク基板11側から転写用基板21を剥離する際に、転写用基板21の外周21bの径D2をディスク基板11の外周11bの径D1より大きく形成する場合と、転写用基板21の一方の面上に剥離層22を成膜する場合とをそれぞれ単独で実施しても転写用基板21の剥離性能が向上するものであり、実施例のように両者を併用すれば転写用基板21の剥離性能がより一層向上するものである。
【0085】
そして、転写用基板21に剥離層22を付けたまま転写用基板21がディスク基板11側から剥離されると、転写用基板21側の第2光透過層13Bはディスク基板11側の第2信号層12上に第1光透過層(透明接着剤層)13Aを介して接着されたままの状態となり、第2光透過層13Bの表面に転写用基板21の凹凸情報21cに対して相補関係にある凹凸情報13B1と、転写用基板21のリング状溝21dに対して相補関係にあるリング状凸部13B2とが確実に転写されて露出している。この際、転写用基板21からディスク基板11側に移行した第2光透過層13Bは外周部位がディスク基板11の外周部位より突出している。
【0086】
この状態の時に、第2工程で記録再生用の場合に成膜した第2信号層12中の記録膜(テルル系相変化記録膜)に対して初期化処理が行われていなければ、記録膜(テルル系相変化記録膜)に対してレーザービームを用いて初期化処理を施し、成膜した記録膜を結晶化させておくことが望ましい。この第5工程で初期化処理を行うと、記録膜の上に光透過層13が形成されているので、初期化時の熱で記録膜が変化することを防ぐ効果があり、良好な記録特性を有する記録膜とすることができる。
【0087】
(第6工程)
図7に示した如く、第6工程では、ディスク基板11側に移行した第2光透過層13Bの外周部位をカッター33によりディスク基板11の外周の径に沿って削除する。
【0088】
(第7工程)
図8に示した如く、第7工程では、ディスク基板11側に移行した第2光透過層13B上に半透過金属反射膜を有する第1信号層14を成膜する。
【0089】
この第7工程では、ディスク基板11側に移行した第2光透過層13Bの凹凸情報13B1上及びリング状凸部13B2上に第1信号層14を成膜している。この際、凹凸情報13B1上に成膜した第1信号層14は、再生専用タイプの場合にピット列上に金などの半透過金属反射膜のみを成膜しており、一方、記録再生タイプの場合に凹状のグルーブ上及び凸状のランド上に金などの半透過金属反射膜と、酸化ケイ素透明膜,テルル系相変化記録膜,酸化ケイ素透明膜を積層した記録膜とを上記順に成膜している。この際、第1信号層14の半透過金属反射膜は、入射したレーザービームの30%〜50%を透過する性質を有する。
【0090】
尚、記録再生タイプの場合には、第1信号層14の記録膜は相変化記録型であるので、レーザービームを用いて初期化処理を施し、成膜されたテルル系相変化記録膜を結晶化させておくことが望ましい。望ましい理由は、この第7工程で第1信号層14中の記録膜に対して初期化処理を施すことで、記録膜の成膜後にゴミ及び大気により記録膜表面の汚染が進む前に初期化処理を行うことができるので、記録特性の良好な記録膜を得ることができる効果がある。
【0091】
(第8工程)
図9に示した如く、第8工程では、厚みが厚いディスク基板11側に成膜した第1信号層14上に厚みが薄い透明カバー層15を形成する。
【0092】
この第8工程では、厚み0.09μm程度の薄い透明樹脂カバーシート15Bを予め用意する。上記した透明樹脂カバーシート15Bは、中心孔15B1の径を20mmに設定することで、この中心孔15B1内にディスク基板11側に移行した第2光透過層13Bの最内周部位で直径19mmから直径20mmに亘って突出させたリング状凸部13B2を同心的に嵌合させて位置合わせできると共に、透明樹脂カバーシート15Bの外周の径をディスク基板11の外周の径より一回り小さく119mmに設定している。この際、透明樹脂カバーシート15Bの外周の径がディスク基板11の外周の径より一回り小さいので、ディスク取扱い中に手などが透明樹脂カバーシート15Bの外周部位に触れても、透明樹脂カバーシート15Bが剥がれることを防ぐことができ、信頼性の高い透明カバー層15を得ることができる。
【0093】
そして、厚みが厚いディスク基板11の一方の面と反対側の面を再度不図示の回転テーブル上に載置し、回転テーブルを回転させながらディスク基板11側の第1信号層14上に透明な紫外線硬化樹脂を用いた透明接着剤を滴下する。そして、透明接着剤が第1信号層14上で均一に延伸した時に回転テーブル31を停止する。この後、用意した透明樹脂カバーシート15Bの中心孔15B1内にリング状凸部13B2に嵌合させて、紫外線を照射しながら透明樹脂カバーシート15Bを透明接着剤による透明樹脂カバー層15Aを介して第1信号層14上に接着することで、0.01mm程度に成膜した透明樹脂カバー層15Aと0.09mm程度の薄い透明樹脂カバーシート15Bとにより厚みが0.1mm程度の薄い透明樹脂カバー層15が形成される。そして、ディスク基板11側に透明樹脂カバーシート15Bを接着した時の合計の厚みは略1.2mmとなり、超高密度の2層型光ディスク10が完成する。この際、透明カバー層15の透明樹脂カバーシート15B側がレーザービームの入射側になっている。
【0094】
尚、0.09mm程度の薄い透明樹脂カバーシート15Bを用いることなく、透明接着剤による透明樹脂カバー層15を略0.1mm程度になるように複数回に亘って繰り返し成膜する方法でも良い。この時、液体状の紫外線硬化樹脂のみを用いて、略0.1mmの厚さに成膜し、その後紫外線硬化樹脂を硬化させる方法であれば、上記した最内周部位に形成したリング状凸部13B2の高さが0.1mm程度であるので、リング状凸部13B2によって紫外線硬化樹脂がディスク基板11の中心孔11a内に流入することを防止できる。
【0095】
このようにして作製された超高密度の2層型光ディスク10は、ディスク基板11の外周部位及び第1信号層14の凹凸情報に欠陥が少なく、高品質とすることができた。
【0096】
<3層型光ディスク>
図10は本発明に係る多層型光ディスクの製造方法を適用して作製した3層型光ディスクを説明するために模式的に示した図である。
【0097】
図10に示した3層型光ディスク30は、厚みが略1.1mmと厚いディスク基板31の一方の面側に、金属反射膜を有する第3信号層32と、光透過層33と、半透過金属反射膜を有する第2信号層34と、光透過層35と、半透過金属反射膜を有する第1信号層36とが上記した順に成膜されており、且つ、第3,第2,第1信号層32,34,36のうちで積層方向に対してディスク基板31から最も離れた最外層の第1信号層36上に厚みが略0.1mmと薄い透明カバー層37が形成されて、全体の厚みが略1.2mmとなっていると共に、透明カバー層37側がレーザービーム入射側になっている。
【0098】
この際、ディスク基板31側に成膜した第2信号層34及び第1信号層36は、先に説明した本発明に係る多層型光ディスクの製造方法を適用してそれぞれ別々の転写用基板に形成した各凹凸情報を前記した第2光透過層によりディスク基板31側に移行させた後に成膜したものである。
【0099】
そして、透明カバー層37から入射したレーザービームで第3信号層32,第2信号34,第1信号層36に情報信号を超高密度に記録したり、あるいは、記録済みの情報信号を超高密度に再生している。
【0100】
このように、ディスク基板側に信号層を多層化する際には、凹凸情報が異なる転写用基板を複数用いて前記した第2光透過層をそれぞれ成膜した後に、各第2光透過層をディスク基板側に移行させて各第2光透過層上に信号層を成膜し、更に、多層化した信号層のうちで積層方向に対してディスク基板から最も離れた最外層の信号層上に厚みが薄い透明カバー層を形成すれば、多層化が可能である。
【0101】
<4層型光ディスク>
図11は本発明に係る多層型光ディスクの製造方法を適用して作製した4層型光ディスクを説明するために模式的に示した図である。
【0102】
図11に示した4層型光ディスク30は、厚みが略0.5mmの第1ディスク基板41の一方の面側に、金属反射膜を有する第2信号層42と、光透過層43と、半透過金属反射膜を有する第1信号層44とが上記した順に成膜されており、且つ、第2,第1信号層42,44のうちで積層方向に対して第1ディスク基板41から最も離れた最外層の第1信号層44上に厚みが略0.1mmと薄い透明カバー層45が形成されている。
【0103】
一方、厚みが略0.5mmの第2ディスク基板46の一方の面側に、金属反射膜を有する第4信号層47と、光透過層48と、半透過金属反射膜を有する第3信号層49とが上記した順に成膜されており、且つ、第4,第3信号層47,49のうちで積層方向に対して第2ディスク基板46から最も離れた最外層の第3信号層49上に厚みが略0.1mmと薄い透明カバー層50が形成されている。そして、第1,第2ディスク基板41,46の各一方の面と反対側の各他方の面同士を紫外線硬化樹脂を用いた透明接着剤による透明接着剤層51を介して接着することにより、全体の全体の厚みが略1.2mmとなっていると共に、両面の透明カバー層45,50側がそれぞれレーザービーム入射側になっている。
【0104】
この際、第1ディスク基板41側に成膜した第1信号層44及び第2ディスク基板46側に成膜した第3信号層49は、先に説明した本発明に係る多層型光ディスクの製造方法を適用してそれぞれ別々の転写用基板に形成した各凹凸情報を前記した第2光透過層により第1ディスク基板41側及び第2ディスク基板46側に移行させた後に成膜したものである。
【0105】
そして、透明カバー層45から入射したレーザービームで第1ディスク基板41側の第2信号層42,第1信号44に情報信号を超高密度に記録したり、あるいは、記録済みの情報信号を超高密度に再生していると共に、透明カバー層505から入射したレーザービームで第2ディスク基板46側の第4信号層47,第3信号49に情報信号を超高密度に記録したり、あるいは、記録済みの情報信号を超高密度に再生している。
【0106】
<変形例の多層型光ディスクの製造方法>
上記した多層型光ディスクの製造方法では、ディスク基板の一方の面側に信号層を多層化するにあたって、ディスク基板11の一方の面に形成した凹凸情報11c上に信号層12を成膜し、且つ、ディスク基板11の外周11bの径D1より大きな外周21bの径D2を有する転写用基板21の一方の面に形成した凹凸情報21c上に剥離層22を成膜すると共に、この剥離層22上に透明な紫外線硬化樹脂による第2光透過層13Bを成膜し、更に、ディスク基板11側の信号層12上に滴下した透明接着剤による第1光透過層(透明接着剤層)13Aを介して転写用基板21側の第2光透過層13Bを接着した後に、転写用基板21に剥離層22を付けたまま転写用基板21をディスク基板11側から剥離するように説明したが、上記とは逆に、ディスク基板11の一方の面に形成した凹凸情報11c上に信号層12を成膜すると共に、信号層12上に透明な紫外線硬化樹脂による第1光透過層13Aを成膜し、且つ、ディスク基板11の外周11bの径D1より大きな外周21bの径D2を有する転写用基板21の一方の面に形成した凹凸情報21c上に剥離層22を成膜し、更に、ディスク基板11側の第1光透過層13A上に透明接着剤を滴下して、この透明接着剤による第2光透過層13B上に転写用基板21の一方の面に形成した凹凸情報21cを剥離層22を介して転写させた後に、転写用基板21に剥離層22を付けたまま転写用基板21をディスク基板11側から剥離するように変形させても可能である。
【0107】
即ち、このように多層型光ディスクの製造方法を一部変形させて信号層を多層化する場合の工程は、図示を省略するものの、ディスク基板の一方の面に形成した凹凸情報上に信号層を成膜する第1のステップと、ディスク基板側の信号層上に透明な紫外線硬化樹脂による第1光透過層を成膜する第2のステップと、ディスク基板の外周の径より大きな外周の径を有する転写用基板の一方の面に形成した凹凸情報上に剥離層を成膜する第3のステップと、ディスク基板側の第1光透過層上に透明接着剤を滴下して、この透明接着剤による第2光透過層上に転写用基板の一方の面に形成した凹凸情報を剥離層を介して転写させる第4のステップと、転写用基板に剥離層を付けたまま転写用基板をディスク基板側から剥離して、ディスク基板側の第2光透過層上に転写された凹凸情報を露出させる第5のステップと、ディスク基板側の第2光透過層の凹凸情報上に信号層を成膜する第6のステップと、他の転写用基板を用いて上記した第2〜第6のステップを繰り返して、ディスク基板側に必要に応じて更に信号層を多層化する第7のステップと、ディスク基板側に多層化した信号層のうちで最外層の信号層上に厚みが薄い透明カバー層を形成する第8のステップとすれば良いものである。
【0108】
尚、上記した説明では、ディスク基板11の直径が12cmの多層型光ディスクの製造方法について説明したが、これに限ることなく、ディスク基板11の直径が直径が5cmとか8cmなどにも適用可能であることはいうまでもない。
【0109】
【発明の効果】
以上詳述した本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、請求項1記載によると、ディスク基板の一方の面側に信号層を多層化するにあたって、ディスク基板の一方の面に予め形成された凹凸情報上に信号層を成膜し、且つ、ディスク基板の外周の径より大きな外周の径を有する転写用基板の一方の面に予め形成された凹凸情報上に剥離層を成膜すると共に、この剥離層上に透明な紫外線硬化樹脂による第2光透過層を成膜し、更に、ディスク基板側の信号層上に接着剤による第1光透過層を介して転写用基板側の第2光透過層を接着した後に、転写用基板に剥離層を付けたまま転写用基板をディスク基板側から剥離する際に、とくに、転写用基板の外周の径をディスク基板の外周の径より大きく形成したので、転写用基板上に成膜した第2光透過層を外周部位から内周部位に向かって確実に剥離させることができ、これにより、ディスク基板側に移行した第2光透過層上に転写用基板の凹凸情報に対して相補関係にある凹凸情報を欠陥なく確実に転写できる。
【0110】
また、請求項2記載によると、ディスク基板の一方の面側に信号層を多層化するにあたって、ディスク基板の一方の面に予め形成された凹凸情報上に信号層を成膜すると共に、この信号層上に透明な紫外線硬化樹脂による第1光透過層を成膜し、且つ、ディスク基板の外周の径より大きな外周の径を有する転写用基板の一方の面に予め形成された凹凸情報上に剥離層を成膜し、更に、ディスク基板側の第1光透過層上に透明接着剤を滴下して、この透明接着剤による第2光透過層上に転写用基板の一方の面に形成した凹凸情報を剥離層を介して転写させた後に、転写用基板に剥離層を付けたまま転写用基板をディスク基板側から剥離する際に、とくに、転写用基板の外周の径をディスク基板の外周の径より大きく形成したので、剥離層を付けたまま転写用基板を外周部位から内周部位に向かって確実に剥離させることができ、これにより、ディスク基板側の第2光透過層上に転写用基板の凹凸情報に対して相補関係にある凹凸情報を欠陥なく確実に転写できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る多層型光ディスクの製造方法を適用して作製した2層型光ディスクを説明するために模式的に示した図である。
【図2】(a),(b)は本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、ディスク基板と転写用基板とをそれぞれ製造した際の縦断面図である。
【図3】(a),(b)は本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、ディスク基板側と転写用基板側とにそれぞれ成膜した際の縦断面図である。
【図4】(a),(b)は本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、ディスク基板側と転写用基板側とを接着する際の縦断面図である。
【図5】本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、ディスク基板側と転写用基板側との接着時に紫外線で透明接着剤による第1光透過層を硬化させる際の縦断面図である。
【図6】本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、転写用基板に剥離層を付けたまま転写用基板をディスク基板側から剥離させる際の縦断面図である。
【図7】本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、ディスク基板側に接着した第2光透過層の外周をカッターで切削する際の縦断面図である。
【図8】本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、ディスク基板側に接着した第2光透過層上に第1信号層を成膜した際の縦断面図である。
【図9】本発明に係る多層型光ディスクの製造方法において、ディスク基板側の第1信号層上に透明カバー層を形成して2層型光ディスクを完成させた際の縦断面図である。
【図10】本発明に係る多層型光ディスクの製造方法を適用して作製した3層型光ディスクを説明するために模式的に示した図である。
【図11】本発明に係る多層型光ディスクの製造方法を適用して作製した4層型光ディスクを説明するために模式的に示した図である。
【図12】従来例における超高密度の2層型光ディスクを説明するために模式的に示した図である。
【図13】(a)〜(e)は従来例における超高密度の2層型光ディスクを製造する製造工程を説明するために模式的に示した図である。
【符号の説明】
10…2層型光ディスク、
11…ディスク基板、11a…中心孔、11b…外周、11c…凹凸情報、
11d…リング状溝、
12…第2信号層、
13…光透過層、13A,13B…第1,第2光透過層、
13A1…凹凸情報、13A2…リング状凸部、
13B1…凹凸情報、13B2…リング状凸部、
14…第1信号層、
15…透明カバー層、15A…透明接着剤層、15B…透明樹脂カバーシート、 21…転写用基板、21a…中心孔、21b…外周、21c…凹凸情報、
21d…リング状溝、
30…3層型光ディスク、
31…ディスク基板、32…第3信号層、33…光透過層、
34…第2信号層、35…光透過層、36…第1信号層、37…透明カバー層、
40…4層型光ディスク、
41…ディスク基板、42…第2信号層、43…光透過層、44…第1信号層、 45…透明カバー層、
46…ディスク基板、47…第4信号層、48…光透過層、49…第3信号層、 50…透明カバー層、51…接着剤層。
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
According to the present invention, a signal layer is formed in multiple layers on one side of a thick disk substrate, and, among the multilayered signal layers, on the outermost signal layer farthest from the disk substrate in the stacking direction. The present invention relates to a method for manufacturing a multi-layer optical disc, wherein a thin transparent cover layer is formed on a substrate, and a laser beam is incident from the transparent cover layer toward each signal layer.
[0002]
[Prior art]
In general, an optical disc records information signals such as video information, audio information, and computer data at a high density on spirally or concentrically formed tracks on a disc-shaped disc substrate, and records recorded tracks. It is frequently used because a desired track can be accessed at high speed during reproduction.
[0003]
At this time, optical disks can be roughly classified into a read-only type and a recording / reproducing type. Here, the read-only type optical disk converts an information signal into a digital pit row with concave pits and convex lands, and this pit row is spirally or concentrically formed on a disk-shaped transparent disk substrate. Further, a metal reflection film and a protective film are sequentially formed on the pit row, and a signal layer of the pit row having the metal reflection film formed thereon is formed only for reproduction.
[0004]
On the other hand, in the recording / reproducing type optical disk, concave grooves and convex lands are alternately formed in advance in a spiral or concentric manner on a disk-shaped transparent disk substrate. A recording film, a metal reflection film, and a protective film are sequentially formed thereon, and a signal layer formed of grooves and lands on which the recording film is formed is formed so as to be recordable and reproducible.
[0005]
The read-only type optical disk uses a laser beam for reproduction emitted from an optical pickup, which is movably provided in the optical disk device in the radial direction of the optical disk, via an objective lens, from a laser beam incident surface of the disk substrate to a signal layer. , And the return light reflected from the signal layer is detected by a photodetector in the optical pickup and reproduced.
[0006]
On the other hand, a recording / reproducing type optical disk has a recording laser beam emitted through an objective lens from an optical pickup provided movably in a radial direction of the optical disk in the optical disk apparatus, and a signal layer from a laser beam incident surface of the disk substrate to a signal layer. And the signal layer is recorded with this laser beam, and then the recorded signal layer is reproduced with the reproduction laser beam in the same manner as described above.
[0007]
Among the above optical discs, a CD (Compact Disc) containing music information, a CD-ROM (CD-Read Only Memory) containing computer data, and a recordable / reproducible CD-R capable of recording an information signal only once. (CD-Recordable), DVD (Digital Versatile Disc) capable of recording video information and audio information which is digitized and compressed by increasing the recording capacity by 6 to 8 times as compared with CD, and recording / reproducing which can record an information signal only once. Possible DVD-R (DVD-Recordable), recordable / reproducible DVD-RW (DVD-Recordable) capable of recording information signals a plurality of times, DVD-RAM (DVD-Random Access Memory) or DVD-Writable ), Etc., it is already widely used.
[0008]
On the other hand, recently, the outer dimensions are almost the same as those of existing CDs and existing DVDs, and information signals can be recorded and / or reproduced at an ultra-high density compared to DVDs. Ultra-high density having a recording capacity of about 15 GB to 25 GB is available. The development of optical discs is being actively pursued.
[0009]
Here, in order to increase the recording capacity of the optical disc, it is generally necessary to reduce the spot diameter of the laser beam. The spot diameter of the laser beam depends on the laser wavelength, the numerical aperture (NA) of the objective lens, and the like. caused by. At this time, if the numerical aperture (NA) of the objective lens is increased, the aberration tends to increase with respect to the tilt of the optical disk, and the influence of the tilt angle (Tilt) of the optical disk increases. Since this aberration is proportional to the thickness from the laser beam incident surface to the signal layer on the disk substrate and (NA) 3 , when increasing the NA of the objective lens, the distance from the laser beam incident surface to the signal layer is increased. The aberration can be reduced by reducing the thickness.
[0010]
As described above, in the case of an ultra-high-density optical disk, use a laser beam having a wavelength of about 400 nm and use an objective lens having a numerical aperture (NA) of about 0.7 to 0.85. Thus, the thickness from the laser beam incident surface to the signal layer on the disk substrate is approximately 0.1 mm to 0.2 mm. In an ultra-high-density optical disk, a signal layer on a disk substrate has an information signal recorded with a track pitch of 0.32 μm, a minimum recording length of 0.14 μm to 0.17 μm, and a 2T modulation signal. The coding method is called 1,7PP, and a method obtained by improving the (1,7) RLL coding method is used.
[0011]
By the way, an ultra-high-density multi-layer optical disc capable of further increasing the recording capacity of an ultra-high-density optical disc by multiplying a signal layer on a disc substrate has been studied. A new manufacturing method for manufacturing a high-density two-layer type optical disc is described in a preliminary book page 312 of the International Symposium on Optical Memory 2001, Oct 16-19, Taipei, Taiwan, held in Taiwan in the fall of 2001. 12 and 13 are disclosed.
[0012]
FIG. 12 is a diagram schematically illustrating an ultra-high-density two-layer optical disc in a conventional example.
[0013]
As shown in FIG. 12, the conventional ultra-high-density two-layer optical disc 100 uses a blue laser beam with a wavelength of 405 nm and an objective lens with a numerical aperture (NA) of 0.85. When the outer dimensions of the thick disk substrate 101 are formed in a disk shape of 120 mm, the recording capacity of the signal layer per layer is about 25 GB, and the recording capacity is doubled by making this signal layer into two layers. It was done.
[0014]
That is, the disk substrate 101 having a large thickness of about 1.1 mm has a center hole 101a having a diameter of 15 mm and an outer periphery 101b having a diameter of 120 mm. Concavo-convex information 101c, which is formed as a stamp, is formed by injection molding. Further, a second signal layer 102 having a metal reflection film is formed on the unevenness information 101c of the disk substrate 101.
[0015]
Further, a second light-transmitting layer (transparent adhesive layer) 103A made of a transparent adhesive using a transparent ultraviolet curable resin is provided on the second signal layer 102, and a second substrate on a transfer substrate 111 (FIG. 13) described later is formed. By bonding the light transmitting layer 103B, the light transmitting layer 103 is formed to have a thickness of about 30 μm including the first and second light transmitting layers 103A and 103B.
[0016]
After the unevenness information 103B1 is transferred onto the second light transmitting layer 103B of the light transmitting layer 103 by the unevenness information 111c shown in FIG. 13B described later, the semi-transparent information is transferred onto the unevenness information 103B1. A first signal layer 104 having a reflective film is formed.
[0017]
Further, a transparent cover layer 105 composed of a transparent adhesive layer 105A and a transparent resin cover sheet 105B is formed on the first signal layer 104 with a reduced thickness, and the laser beam incident surface (= surface) of the transparent resin cover sheet 105B is formed. ) To the bonding surface located between the first light transmitting layer (transparent adhesive layer) 103A and the second light transmitting layer 103B is set to about 0.1 mm.
[0018]
The transparent resin cover sheet 105B side of the transparent cover layer 105 is the laser beam incident side.
[0019]
With the above-described configuration, when the laser beam incident from the transparent cover layer 105 side passes through the semi-transmissive reflective film of the first signal layer 104 and further reaches the second signal layer 102 through the light transmission layer 103. Can record an information signal on the second signal layer 102 at a very high density, or reproduce a recorded information signal at a very high density.
[0020]
When a laser beam incident from the transparent cover layer 105 side is reflected by the semi-transmissive reflection film of the first signal layer 104, an information signal is recorded on the first signal layer 104 at an ultra high density, or In addition, a recorded information signal can be reproduced at a very high density.
[0021]
Therefore, the above-described second signal layer 102 of the upper layer and the first signal layer 104 of the lower layer provide an ultra-high-density two-layer optical disc 100 in the conventional example.
[0022]
Next, a case of manufacturing the above-described conventional high-density two-layer optical disc 100 will be described with reference to FIGS.
[0023]
FIGS. 13 (a) to 13 (e) are views schematically showing a manufacturing process for manufacturing an ultra-high-density two-layer optical disc in a conventional example.
[0024]
First, as shown in FIG. 13A, a thick disk substrate 101 is prepared. The disk substrate 101 has a center hole diameter of 15 mm, an outer diameter of 120 mm, and a substrate thickness of about 1.1 mm using a polycarbonate resin or the like, and is provided with a stamper (not shown) mounted in an injection molding machine. On one surface of the disk substrate 101, the unevenness information 101c is transferred in a state of being etched in an uneven shape. Further, a second signal layer 102 having a metal reflection film is formed on the unevenness information 101c of the disk substrate 101.
[0025]
Further, as shown in FIG. 13B, the transfer substrate 111 side is prepared. The transfer substrate 111 has a center hole having a diameter of 15 mm and an outer diameter of 120 mm using, for example, a transparent polycarbonate resin. One of the transfer substrates 111 is provided by a stamper (not shown) mounted in an injection molding machine. Is transferred in a state where the unevenness information 111c is carved in an uneven shape. The second light transmitting layer 103B is formed on the unevenness information 111c of the transfer substrate 111 using a transparent ultraviolet curable resin.
[0026]
Next, as shown in FIG. 13C, the disk substrate 101 side and the transfer substrate 111 side are covered with a first light transmitting layer (transparent adhesive layer) 103A made of a transparent adhesive using a transparent ultraviolet curable resin. Glue. Specifically, a transparent adhesive using a transparent ultraviolet curable resin is dropped on the second signal layer 102 on the disk substrate 101 side, and a first light transmitting layer (transparent adhesive layer) 103A made of the transparent adhesive is used. By bonding the second light transmitting layer 103B on the transfer substrate 111 side through the substrate, the light transmitting layer 103 including the first and second light transmitting layers 103A and 103B is formed with a thickness of about 30 μm. At this time, when the disk substrate 101 side and the transfer substrate 111 side are bonded with a transparent adhesive, a metal reflective film is necessarily formed on the second signal layer 102 on the disk substrate 101 side in order to cure the transparent adhesive. Therefore, the metal reflective film blocks the ultraviolet rays when the ultraviolet rays are irradiated. On the other hand, since a metal reflection film is not formed on the transparent transfer substrate 111 side, when ultraviolet light is irradiated from the transparent transfer substrate 111 side, the ultraviolet light is transmitted through the first light transmission layer 103B through the first light transmission layer 103B. Since the light reaches the layer (transparent adhesive layer) 103A, the first light transmitting layer (transparent adhesive layer) 103A can be cured.
[0027]
Next, as shown in FIG. 13D, the transfer substrate 111 is separated from the disk substrate 101 in the state shown in FIG. 13C. As a result, in a state where the unevenness information 111c of the transfer substrate 111 is transferred as the unevenness information 103B1 on the second light transmitting layer 103B, the second light transmitting layer 103B is placed on the second signal layer 102 on the disk substrate 101 side. One light transmission layer (transparent adhesive layer) 103A is adhered.
[0028]
Next, as shown in FIG. 13E, a first signal layer 104 and a transparent resin cover layer 105 are sequentially formed on the light transmitting layer 103 on the disk substrate 101 side. Specifically, a first signal layer 104 having a semi-transmissive reflective film is formed on the unevenness information 103B1 of the second light transmitting layer 103B adhered to the disk substrate 101, and a transparent layer is formed on the first signal layer 104. A thin transparent resin cover sheet 105B is bonded via a transparent adhesive layer 105A made of a transparent adhesive using an ultraviolet curable resin, and the thickness of the transparent adhesive layer 105A and the transparent resin cover sheet 105B is about 0.1 mm. Is formed. Then, the total thickness when the transparent resin cover sheet 105B is bonded to the disk substrate 101 side is approximately 1.2 mm, and the ultra-high density two-layer type optical disk 100 in the conventional example is completed.
[0029]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, in manufacturing the ultra-high density two-layer type optical disc 100 in the conventional example as described above, the disc substrate 101 side and the transfer substrate 111 side are adhered to each other as shown in FIG. When the transfer substrate 111 is gradually peeled from the outer periphery toward the inner periphery from the 101 side, when the disk substrate 101 side and the transfer substrate 111 side are bonded, the outer diameter of the two substrates 101 and 111 becomes smaller. Since the same is applied, the transparent adhesive to be the first light transmitting layer (transparent adhesive layer) 103A wraps around and attaches to the outer peripheral end surface of the transfer substrate 111, so that the second light transmission The layer 103B remains adhered, the second light transmitting layer 103B cannot be peeled off from the transfer substrate 111, and defects occur in the outer peripheral portion of the two-layer optical disc 100, resulting in quality and reliability. Two-layer type optical disc 100 is caused a problem such as are made poor.
[0030]
[Means for Solving the Problems]
The present invention has been made in view of the above problems, and a first invention is to form a signal layer in multiple layers on one surface side of a thick disk substrate, and to form a multilayer among the signal layers. A thin transparent cover layer is formed on the outermost signal layer farthest from the disc substrate in the stacking direction, and a laser beam is directed from the transparent cover layer side toward each signal layer. In the method for manufacturing the configured multilayer optical disc,
A first step of forming a signal layer on unevenness information previously formed on one surface of the disk substrate;
A second step of forming a release layer on unevenness information formed in advance on one surface of the transfer substrate having an outer diameter larger than the outer diameter of the disk substrate;
A third step of forming a second light transmission layer made of a transparent ultraviolet curable resin on the release layer on the transfer substrate side;
A fourth step of bonding the second light transmitting layer on the transfer substrate side to the signal layer on the disk substrate side via a first light transmitting layer made of an adhesive;
The transfer substrate is peeled off from the disk substrate while the transfer layer is still attached to the transfer substrate, and the unevenness information on the transfer substrate side is formed on the second light transmitting layer shifted to the disk substrate side. A fifth step of exposing the transferred unevenness information,
A sixth step of forming a signal layer on the unevenness information of the second light transmitting layer shifted to the disk substrate side;
A seventh step of repeating the above-described second to sixth steps using another transfer substrate to further multiply a signal layer on the disk substrate side as necessary;
An eighth step of forming the thin transparent cover layer on the outermost signal layer of the signal layers multilayered on the disk substrate side. It is.
[0031]
Further, in the second invention, the signal layer is formed in multiple layers on one surface side of the thick disk substrate, and the signal layer which is the most distant from the disk substrate in the stacking direction among the multilayered signal layers. Forming a thin transparent cover layer on the outermost signal layer, a method for manufacturing a multilayer optical disc configured to make a laser beam incident from the transparent cover layer side toward the signal layer of each layer,
A first step of forming a signal layer on unevenness information previously formed on one surface of the disk substrate;
A second step of forming a first light transmitting layer of a transparent ultraviolet curable resin on the signal layer on the disk substrate side;
A third step of forming a release layer on unevenness information formed in advance on one surface of the transfer substrate having an outer diameter larger than the outer diameter of the disk substrate;
A transparent adhesive is dropped on the first light transmitting layer on the disk substrate side, and the uneven information formed on one surface of the transfer substrate on the second light transmitting layer by the transparent adhesive is peeled off. A fourth step of transferring through the layer;
Fifth, exposing the transfer substrate from the disk substrate side while exposing the transfer substrate with the release layer attached thereto, exposing the unevenness information transferred onto the second light transmitting layer on the disk substrate side. Steps and
A sixth step of forming a signal layer on the unevenness information of the second light transmitting layer on the disk substrate side;
A seventh step of repeating the above-described second to sixth steps using another transfer substrate to further multiply a signal layer on the disk substrate side as necessary;
An eighth step of forming the thin transparent cover layer on the outermost signal layer of the signal layers multilayered on the disk substrate side. It is.
[0032]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
One embodiment of a method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 11 with reference to <double-layer optical disk>, <multi-layer optical disk manufacturing method>, <three-layer optical disk>, The details will be described in the order of <four-layer optical disc> and <method of manufacturing multilayer optical disc of modified example>.
[0033]
The method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention is a partial improvement on the method for manufacturing an ultra-high-density two-layer optical disk in the conventional example described above with reference to FIGS. Although the manufacturing process of a multilayer optical disk is basically the same as the conventional one, in particular, a signal layer is formed on the unevenness information formed on one surface of the disk substrate, and the diameter is larger than the outer diameter of the disk substrate. A release layer is formed on the uneven information formed on one surface of the transfer substrate having an outer diameter, and a second light transmission layer made of a transparent ultraviolet curable resin is formed on the release layer. After bonding the second light transmitting layer on the transfer substrate side via the first light transmitting layer with the transparent adhesive dropped on the signal layer on the substrate side, the transfer substrate is attached with the release layer attached to the transfer substrate. When peeling from the disk substrate side, transfer The outer dimensions of the substrate are formed to be slightly larger than the outer dimensions of the disk substrate, and the outer peripheral portion of the second light transmitting layer formed on the transfer substrate side is improved so as to improve the peeling performance. The information on the unevenness of the second light transmitting layer formed on the substrate side can be reliably transferred to the disk substrate side. The method of manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention is applicable not only to a two-layer optical disk but also to a multilayer optical disk having two or more layers.
[0034]
<Dual-layer optical disk>
Before describing the method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention, a two-layer optical disk manufactured by applying this manufacturing method will be described with reference to FIG.
[0035]
FIG. 1 is a diagram schematically illustrating a two-layer optical disk manufactured by applying the method of manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention.
[0036]
As shown in FIG. 1, a two-layer type optical disk 10 manufactured by applying the method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention has a thick disk-shaped disk substrate 11 on one side in a manner similar to the conventional one. The signal layers 12, 14 are formed in two layers, and the thickness of the two signal layers 12, 14 is thin on the outermost signal layer 14 farthest from the disk substrate 11 in the laminating direction. The transparent cover layer 15 is formed so that a laser beam is incident on the signal layers 12 and 14 from the transparent cover layer 15 side.
[0037]
The above-described two-layer type optical disk 10 uses a blue laser beam having a wavelength of about 400 nm and an objective lens having a numerical aperture (NA) of 0.7 to 0.85 to form a thick disk substrate 11. When the external dimensions are formed to 120 mm, the recording capacity of the signal layer per layer is about 25 GB, and the recording capacity is doubled by making this signal layer into two layers.
[0038]
That is, in the above-described two-layer type optical disk 10, the disk substrate 11 having a large thickness of about 1.1 mm has a center hole 11a having a diameter of 15 mm and an outer periphery 11b having a diameter of 120 mm. Concavo-convex information 11c consisting of an embossed mark is formed in advance on one surface of the substrate 11 by injection molding, and a ring-shaped groove 11d is formed in the center hole 11a on the innermost peripheral side of one surface of the disk substrate 11. It is pre-formed concentrically with a shallow depth. At this time, the unevenness information 11c engraved on one surface of the disk substrate 11 indicates that a pit row formed by concave pits and convex lands when viewed from the non-recording / reproducing surface side of the disk in the case of a read-only type. On the other hand, in the case of the recording / reproducing type, a concave groove and a convex land are formed on the disk substrate 11 in a spiral shape when viewed from the non-recording / reproducing surface side of the disk. Alternatively, they are formed alternately and concentrically in advance.
[0039]
A ring-shaped groove 11d formed on the innermost peripheral side of one surface of the disk substrate 11 is formed by dropping a transparent adhesive made of a transparent ultraviolet curable resin onto the second signal layer 12 as described later. This is to prevent the transparent adhesive from extending toward the center hole 11a when the light transmitting layer (transparent adhesive layer) 13A is formed.
[0040]
Further, a second signal layer 12 having a metal reflection film is formed on the unevenness information 11c of the disk substrate 11. At this time, the second signal layer 12 formed on the unevenness information 11c of the disk substrate 11 is a read-only type in which only a metal reflection film such as aluminum is formed on a pit row. In the case of the recording / reproducing type, a metal reflection film and a recording film are formed on a concave groove and a convex land in the above order.
[0041]
In addition, a transfer substrate 21 (FIG. 2B) described later via a first light transmitting layer (transparent adhesive layer) 13A made of a transparent adhesive using a transparent ultraviolet curable resin on the second signal layer 12 is used. By bonding the second light transmitting layer 13B formed of a transparent ultraviolet curable resin on the release layer 22, the light transmitting layer 13 including the first and second light transmitting layers 13A and 13B has a thickness of about 20 to 30 μm. It is formed with a film thickness.
[0042]
In the light transmitting layer 13, the unevenness information 13A1 and the ring-shaped convex portion 13A2 are transferred onto the inner first light transmitting layer 13A by the unevenness information 11c and the ring-shaped groove 11d of the disk substrate 11, and the outer second light-transmitting layer 13A. The unevenness information 13B1 and the ring-shaped convex portion 13B2 are transferred onto the light transmitting layer 13B by the unevenness information 21c and the ring-shaped groove 21d of the transfer substrate 21 (FIG. 2B) described later.
[0043]
Further, the first signal layer 14 having a semi-transmissive metal reflection film is formed on the unevenness information 13B1 on the second light transmission layer 13B side and on the ring-shaped protrusion 13B2.
[0044]
Further, a transparent cover layer 15 composed of a transparent adhesive layer 15A and a transparent resin cover sheet 15B is formed on the first signal layer 14 with a reduced thickness. In this embodiment, unlike the conventional example, a transparent resin layer 15A is provided. The distance from the laser beam incident surface (= surface) of the cover sheet 15B to the bonding surface located between the second signal layer 12 and the first light transmitting layer 13A is set to about 0.1 mm.
[0045]
The transparent resin cover sheet 15B side of the transparent cover layer 15 is the laser beam incident side, and a second layer number is given in advance to the second signal layer 12 on the inner peripheral side, and Since the first layer number is assigned to the first signal layer 14 on the inner peripheral side in advance, the laser beam incident from the transparent resin cover sheet 15B side focuses each signal layer 12, 14 according to the layer number. Control.
[0046]
Here, the reason why the distance from the laser beam incident surface of the transparent resin cover sheet 15B to the rear second signal layer 12 is set in advance will be described. For example, if the distance from the laser beam incident surface of the transparent resin cover sheet 15B to the rear side second signal layer 12 is preset to, for example, 100 μm (= 0.1 mm), the thickness of the light transmission layer 13 is about 20 μm to 30 μm. If there is, the distance from the laser beam incident surface of the transparent resin cover sheet 15B to the first signal layer 14 on the near side is naturally shorter than 100 μm and about 70 μm to 80 μm.
[0047]
Although FIG. 1 shows a case where the signal layer is formed into two layers, considering the case where the signal layer is further formed into a plurality of layers as well as two layers as described later, the laser beam incident on the transparent resin cover sheet 15B is considered. A method in which the distance from the surface to the innermost signal layer in the stacking direction is set in advance, and the distance from the laser beam incident surface to each signal layer is gradually shortened as each signal layer becomes closer to the front. Is taking. Therefore, since the thickness of the transparent cover layer 15 is fixed so as to be equivalent to the distance from the laser beam incident surface of the transparent resin cover sheet 15B to the innermost signal layer, when designing the objective lens in the optical pickup, The objective lens can be designed to reduce aberrations in accordance with the distance to the innermost signal layer. On the other hand, although the spherical aberration that occurs when the objective lens is focused on each of the signal layers on the front side increases, the increase in the spherical aberration is from the laser beam incident surface of the transparent resin cover sheet 15B to each of the signal layers on the front side. Can be corrected by reducing the frame circumference difference with respect to the tilt due to the warpage of the disk as the distance becomes shorter, and the effect that the signal quality from each signal layer becomes the same even if the signal layers are multilayered is obtained. It is clear that setting the distance from the laser beam incident surface of the transparent resin cover sheet 15B to the innermost signal layer in the stacking direction in advance is an effective method.
[0048]
With the above-described configuration, when the laser beam incident from the transparent cover layer 15 side passes through the semi-transparent metal reflective film of the first signal layer 14 and further passes through the light transmission layer 13 and reaches the second signal layer 12 Focusing on, it is possible to record an information signal on the second signal layer 12 at a very high density, or to reproduce a recorded information signal at a very high density.
[0049]
Focusing on the case where the laser beam incident from the transparent cover layer 15 side is thermally absorbed by the semi-transmissive metal reflective film of the first signal layer 14 during recording or reflected during reproduction, the first signal layer It is possible to record an information signal at an ultra-high density on the recording medium 14, or to reproduce a recorded information signal at an ultra-high density.
[0050]
Therefore, the two-layer type optical disc 10 having an extremely high density is obtained by the above-mentioned upper second signal layer 12 and the above-mentioned lower first signal layer 14.
[0051]
<Manufacturing method of multilayer optical disk>
A method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention will be described in the order of steps with reference to FIGS.
[0052]
FIGS. 2A and 2B are longitudinal sectional views when a disk substrate and a transfer substrate are manufactured in the method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention.
FIGS. 3A and 3B are longitudinal cross-sectional views of a method of manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention, in which films are formed on the disk substrate side and the transfer substrate side, respectively.
FIGS. 4A and 4B are longitudinal sectional views of a method of manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention, in which a disk substrate side and a transfer substrate side are bonded.
FIG. 5 is a longitudinal sectional view of a method of manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention, in which the first light transmitting layer is cured by a transparent adhesive with ultraviolet light when the disk substrate side and the transfer substrate side are bonded;
FIG. 6 is a vertical cross-sectional view of the method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention, in which the transfer substrate is separated from the disk substrate while the transfer substrate is provided with the release layer.
FIG. 7 is a longitudinal sectional view when the outer periphery of the second light transmitting layer adhered to the disk substrate side is cut by a cutter in the method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention;
FIG. 8 is a vertical cross-sectional view of a method of manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention, in which a first signal layer is formed on a second light transmission layer adhered to a disk substrate side;
FIG. 9 is a longitudinal sectional view of a method of manufacturing a multilayer optical disc according to the present invention, in which a transparent cover layer is formed on the first signal layer on the disc substrate side to complete a two-layer optical disc.
[0053]
(First step)
As shown in FIGS. 2A and 2B, in the first step, a thick disk substrate 11 and a transfer substrate 21 are manufactured.
[0054]
First, the thick disk substrate 11 shown in FIG. 2A is formed using a polycarbonate resin or the like so that the diameter of the center hole 11a is 15 mm, the diameter D1 of the outer periphery 11b is 120 mm, and the substrate thickness T1 is approximately 1.1 mm. The unevenness information 11c is preliminarily transferred to one surface of the disk substrate 11 in a state of being etched in an uneven shape by a stamper (not shown) attached in the injection molding machine. A ring-shaped groove 11d is formed concentrically along the center hole 11a.
[0055]
At this time, the concavo-convex information 11c formed on one surface of the disk substrate 11 is spirally or concentrically formed at a track pitch of about 0.32 μm, for example, in a range of 42 mm to 117 mm in diameter. Furthermore, when the unevenness information 11c is formed in a read-only type, the pit depth is in the form of a pit row of about 0.08 μm. On the other hand, when the unevenness information 11c is formed in a recording / reproducing type, the groove depth is increased. It takes the form of a groove having a height of about 0.02 μm and a land extending between the grooves. Further, the ring-shaped groove 11d formed at the innermost peripheral portion on one surface of the disk substrate 11 is formed in a concave shape with a depth of about 0.1 mm over a range of 19 mm to 20 mm in diameter, for example.
[0056]
On the other hand, the transfer substrate 21 shown in FIG. 2B uses a transparent substrate material having a light transmittance of 50% or more, preferably 70% or more with respect to ultraviolet rays. Resin, acrylic resin, amorphous polyolefin resin, styrene resin, quartz glass, soda-lime glass, borosilicate glass and the like are used.
[0057]
The transfer substrate 21 is formed such that the diameter of the center hole 21a is slightly larger than the diameter 15mm of the center hole 11a of the disk substrate 11, and the diameter D2 of the outer periphery 21b is equal to the diameter D1 (= 120 mm), the substrate thickness T2 is formed to be approximately 1.2 mm, and unevenness information is formed on one surface of the transfer substrate 21 by a stamper (not shown) mounted in an injection molding machine. 21c is preliminarily transferred in an unevenly carved state, and a ring-shaped groove 21d is preliminarily formed in the innermost peripheral portion along the center hole 21a.
[0058]
At this time, the diameter D2 of the outer periphery 21b of the transfer substrate 21 is formed to be slightly larger than the diameter D1 of the outer periphery 11b of the disk substrate 11 differently from the related art, so that the transfer substrate 21 is Although the diameter D2 of the outer periphery 21b of the transfer substrate 21 may be 121 mm or more, it is set to 130 mm as described above in this embodiment.
[0059]
The substrate thickness T2 of the transfer substrate 21 may be 0.6 mm or more, but in this embodiment, it is set to approximately 1.2 mm as described above. In particular, increasing the substrate thickness T2 of the transfer substrate 21 to about 1 mm to 2 mm reduces the undulation on one surface of the transfer substrate 21, which is desirable. However, if the substrate thickness T2 of the transfer substrate 21 is increased to 3 mm or more, a large force is required to warp the transfer substrate 21 at the time of peeling, and the efficiency decreases, which is not desirable.
[0060]
Similarly to the disk substrate 11, the unevenness information 21c formed on one surface of the transfer substrate 21 has a spiral or concentric shape with a track pitch of about 0.32 μm over a range of 42 mm to 117 mm in diameter, for example. When formed into a read-only type, it takes the form of a pit row, while when formed into a record / reproduce type, it takes the form of grooves and lands, but as described below. When the unevenness information 21c is shifted to the disk substrate 11 side via the second light transmission layer 13B, the rotation direction of the unevenness information 21c of the transfer substrate 21 is set in advance so as to match the rotation direction of the unevenness information 11c of the disk substrate 11. It is set on the stamper side (not shown).
[0061]
Similarly to the disk substrate 11, the ring-shaped groove 21d formed on one surface of the transfer substrate 21 at the innermost peripheral portion has a depth of about 0.1 mm over a range of 19 mm to 20 mm in diameter, for example. It is formed in a concave shape.
[0062]
(2nd process)
As shown in FIGS. 3A and 3B, in the second step, a film is formed on each of the disk substrate 11 side and the transfer substrate 21 side.
[0063]
First, as shown in FIG. 3A, a second signal layer 12 having a metal reflection film is formed on the unevenness information 11c formed on one surface of the disk substrate 11. At this time, in the case of the read-only type, the second signal layer 12 formed on the unevenness information 11c of the disk substrate 11 has only a metal reflection film such as aluminum formed on the pit row. In the case of the type, a metal reflective film such as aluminum and a recording film in which a silicon oxide transparent film, a tellurium-based phase change recording film, and a silicon oxide transparent film are laminated on the concave groove and the convex land are formed in the above order. are doing. In the case of the recording / reproducing type, since the recording film is a phase change recording type, it is necessary to carry out an initialization process using a laser beam to crystallize the formed tellurium-based phase change recording film. desirable. This is because, after the recording film is formed, the film surface is initialized in a state where the film surface is less likely to be contaminated by dust and dirt in the air, so that a recording film having good recording characteristics can be obtained. Incidentally, the initialization processing of the recording film in the second signal layer 12 can be performed after a fifth step described later is completed.
[0064]
Next, as shown in FIG. 3B, a peeling layer 22 having a thickness of about 5 nm to 50 nm is formed on the unevenness information 21c formed on one surface of the transfer substrate 21 for the purpose of improving peeling. ing.
[0065]
Further, an ultraviolet curable resin is dropped on the release layer 22 to form the second light transmission layer 13B with a thickness of about 10 μm. At this time, the other surface opposite to the one surface of the transfer substrate 21 is mounted on a rotary table (not shown), and while the rotary table is rotated, an ultraviolet curable resin is dropped on the release layer 22 and rotated. The table is rotated at a high speed, and the ultraviolet curing resin is applied to a desired thickness. Then, when the applied ultraviolet curable resin is cured by irradiating it with ultraviolet light, it becomes the second light transmitting layer 13B. It is preferable that the thickness of the second light transmitting layer 13B is about 5 μm to about 10 μm, and in the embodiment, it is about 10 μm. If the thickness of the second light transmitting layer 13B is to be formed to be thinner than 5 μm, the rotary table must be rotated for a long time, resulting in a decrease in production efficiency. On the other hand, if the second light transmitting layer 13B is formed to have a thickness of more than 10 μm, the thickness of the ultraviolet curable resin is different between the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the disk after the ultraviolet curing resin is stretched by the rotating table. Not so desirable.
[0066]
When the second light transmitting layer 13B is formed on the release layer 22, the UV curable resin forms the concave / convex information 13B1 complementary to the concave / convex information 21c of the transfer substrate 21, and the UV curable resin is Since it enters the ring-shaped groove 21d of the transfer substrate 21 formed at the innermost peripheral portion via the release layer 22, a ring-shaped convex portion 13B2 complementary to the ring-shaped groove 21d is formed. Since the ultraviolet curable resin is temporarily dammed by the ring-shaped groove 21d before entering the center hole 21a of the transfer substrate 21, the ultraviolet curable resin does not adhere to the center hole 21a of the transfer substrate 21. After applying the cured resin, there is ample time to cure and the production efficiency is improved. Then, when the second light transmitting layer 13B of the transfer substrate 21 is shifted to the disk substrate 11 side as described later, the above-mentioned ring-shaped convex portion 13B2 can be used as a projection for positioning when forming the cover layer. Also occurs.
[0067]
The above-mentioned peeling layer 22 desirably has good adhesion to the transfer substrate 21. Specifically, gold, chromium, nickel, silicon, silicon carbide or nitride, oxide, or the like is formed into a thin film. By doing so, the film has light transmittance, and is controlled to a thickness through which ultraviolet rays can be transmitted in a third step described later. At this time, if the release layer 22 is too thin, such as 1 nm or 2 nm, the film will not be uniform, and some portions of the film will not be formed, and the second light transmitting layer 13B will be transferred as described in a later step. The peel strength to the second light transmitting layer 13B is different between the part where the peeling layer 22 is formed and the part where the peeling layer 22 is not formed when peeling from the transfer substrate 21. The layer 13B is inconvenient because it does not fulfill its original purpose of correctly transferring to the disk substrate 11 side. Therefore, a thickness of 5 nm or more is desirable to achieve the purpose. On the other hand, when the thickness of the peeling layer 22 is increased to 100 nm, the surface shape of the film after the formation of the second light transmitting layer 13B may not accurately represent the unevenness information 21c of the transfer substrate 21 or may cause The adhesiveness between the transfer substrate 21 and the release layer 22 deteriorates due to the intra-film stress, and the second light transmission layer 13B formed at the time of peeling of the second light transmission layer 13B described in a later step becomes a release layer. Since the entire object 22 is peeled off and the irregularity information 21c of the transfer substrate 21 is correctly transferred to the disk substrate 11 side by the second light transmitting layer 13B, the original purpose is not achieved, so that a uniform film is formed. And the film thickness is preferably as thin as possible. At this time, since the appropriately selected release layer 22 can maintain its effect even in a plurality of transfer and release steps under an appropriately selected thickness, a large number of transfer substrates 21 are prepared. There is no need to perform this, and an effect of improving the manufacturing efficiency also occurs.
[0068]
(3rd step)
As shown in FIGS. 4A and 4B, in the third step, the disk substrate 11 side and the transfer substrate 21 side are bonded with a transparent adhesive using an ultraviolet curable resin.
[0069]
In the third step, the center hole 11a of the disk substrate 11 is fitted to the center spindle 31a of the rotary table 31 as shown in FIG. When placed on the turntable 31, the second signal layer 12 formed on one surface side faces upward. In this state, the turntable 31 is rotated and a transparent adhesive using a transparent ultraviolet curable resin is applied. It is dropped on the second signal layer 12. Then, when the transparent adhesive is uniformly stretched on the second signal layer 12, the turntable 31 is stopped. Thereafter, the transfer layer 21 is formed from above the disk substrate 11 with the release layer 22 formed on one surface of the transfer substrate 21 and the second light transmitting layer 13B formed on the release layer 22 facing downward. The center hole 21a of the substrate 21 is fitted to the center spindle 31a of the rotary table 31, and the second light transmitting layer 13B of the transfer substrate 21 is placed on the second signal layer 12 of the disk substrate 11 by the first light using a transparent adhesive. When bonding is performed via the transmission layer (transparent adhesive layer) 13A, the light transmission layer 13 of the first light transmission layer 13A and the second light transmission layer 13B is integrally formed as shown in FIG. 4B. .
[0070]
Further, when the first light transmitting layer 13A made of the transparent adhesive is formed on the second signal layer 12, the ultraviolet curable resin enters the ring-shaped groove 11d of the disk substrate 11 formed at the innermost peripheral portion, and the disk is formed. Before entering the center hole 11a of the substrate 11, it is temporarily blocked by the ring-shaped groove 11d, so that the ultraviolet curing resin does not adhere to the center hole 11a of the disk substrate 11, and after the application of the ultraviolet curing resin, until the curing. This allows more time and improves production efficiency.
[0071]
At this time, as the transparent adhesive, a urethane acrylate resin, an epoxy acrylate resin, a urethane methacrylate resin, an epoxy methacrylate resin, or the like is used, and a photopolymerization initiator is added to each of these resins so as to be cured by ultraviolet rays.
[0072]
As described above, since the second light transmission layer 13B is formed in advance to about 10 μm, the thickness of the light transmission layer 13 including the first and second light transmission layers 13A and 13B is 20 μm to It is about 30 μm.
[0073]
At this time, as described above, since the outer diameter of the transfer substrate 21 is larger than the outer diameter of the disk substrate 11, the outer peripheral portion of the transfer substrate 21 protrudes from the outer peripheral portion of the disk substrate 11.
[0074]
In addition, the center spindle 31a of the rotary table 31 is arranged so that the center hole 11a of the disk substrate 11 and the center hole 11a of the transfer substrate 21 concentrically coincide with each other. By making the diameter 5 μm to 10 μm smaller than the diameter of 21a, the two substrates 11 and 21 can be overlapped with each other so that the eccentricity is reduced, and the height of the center spindle 31a is attached. The thickness is set slightly higher than the thickness of the two substrates 11 and 21 to be combined.
[0075]
As described above, when the two substrates 11 and 21 are stacked and placed on the turntable 31 in this order, ultraviolet rays can be irradiated through the transfer substrate 21 at the time of curing the adhesive in the fourth step described below.
[0076]
(4th process)
As shown in FIG. 5, in the fourth step, when the disk substrate 11 side and the transfer substrate 21 side are bonded with a transparent adhesive using an ultraviolet curable resin, the first light transmitting layer of the transparent adhesive is irradiated with ultraviolet rays. (Transparent adhesive layer) 13A is cured.
[0077]
In the fourth step, when the disk substrate 11 is placed on the rotary table 31 and the transfer substrate 21 is bonded onto the disk substrate 11 with a transparent adhesive using an ultraviolet curable resin, the rotary table 31 is rotated. By irradiating the ultraviolet lamp 32 from above the transfer substrate 21 with the ultraviolet light from the ultraviolet lamp 32, the transfer substrate 21, the release layer 22 having light transmittance, and the second light transmission layer 13B are separated. Since the light passes through the first light transmitting layer (transparent adhesive layer) 13A sequentially, the first light transmitting layer 13A can be cured by the transparent adhesive. Then, after the transparent adhesive is hardened, the rotation of the turntable 31 is stopped, and the two substrates 11 and 21 bonded to each other are removed from the turntable 31.
[0078]
Although the first light transmitting layer 13A is described as being made of a transparent adhesive using an ultraviolet curable resin, the present invention is not limited to this, and other materials (e.g., a material having a similar adhesive function) may be used. = Other adhesives).
[0079]
Other adhesives suitable for the present invention include transparent double-sided PSA sheets. This transparent double-sided pressure-sensitive adhesive sheet is one in which release sheets are provided on both sides of the pressure-sensitive adhesive sheet, and the pressure-sensitive adhesive sheets do not adhere to each other during handling, which is preferable because the efficiency of the work process increases. Further, since the transparent double-sided pressure-sensitive adhesive sheet has no thickness variation with respect to the sheet thickness, for example, it is easy to set the range of variation to about ± 1 μm with respect to the sheet thickness of 20 μm. It is preferable to accurately control the thickness of the transmission layer 13.
[0080]
At this time, in the case of using a transparent double-sided pressure-sensitive adhesive sheet, first, a pressure-sensitive adhesive sheet from which one side of the release sheet has been peeled off is attached to the second light transmitting layer 13B of the transfer substrate 21 using a rotating roller or the like. Thereafter, the release sheet on the opposite side of the adhesive sheet stuck on the second light transmitting layer 13B of the transfer substrate 21 is peeled off, and the opposite side of the adhesive sheet is placed in the vacuum chamber on the second signal layer 12 of the disk substrate 11. Paste on. At this time, it is preferable that the degree of vacuum in the vacuum chamber is 100 Pa or less, since air bubbles are not involved in the adhesive sheet during bonding. Then, after bonding the second signal layer 12 of the disk substrate 11 and the second light transmitting layer 13B of the transfer substrate 21 via a pressure-sensitive adhesive sheet in a vacuum, in order to remove microbubbles remaining at 10 μm or less, Pressure degassing is performed in an autoclave (= pressurized heater) of 5 atm (5 × 10 5 Pa) or less. By doing so, the microbubbles disappear, and the effect of obtaining the light transmitting layer 13 with a small thickness error occurs.
[0081]
As a material of this transparent pressure-sensitive adhesive sheet, for example, ethylene vinyl acetate copolymer, chlorinated polyolefin, butadiene styrene copolymer and the like have a strong adhesive force. This is preferable because it does not peel off from the light transmitting layer 13B.
[0082]
(Fifth step)
As shown in FIG. 6, in the fifth step, the disc substrate 11 side and the transfer substrate 21 side are bonded with a transparent adhesive using an ultraviolet curable resin, and then the transfer substrate 21 is left with the release layer 22 attached thereto. The transfer substrate 21 is peeled off from the disk substrate 11 side. By doing so, the release layer 22 can be reused many times.
[0083]
Here, as described above, the outer diameter D2 of the outer periphery of the transfer substrate 21 is slightly larger than the outer diameter D1 of the disk substrate 11, and the release layer 22 is formed on the unevenness information 21c of the transfer substrate 21. Therefore, by deflecting the outer peripheral portion of the transfer substrate 21, the second light transmitting layer 13B formed on the release layer 22 of the transfer substrate 21 is surely separated from the outer peripheral portion toward the inner peripheral portion. Can be.
[0084]
When the transfer substrate 21 is peeled from the disk substrate 11 side, the diameter D2 of the outer periphery 21b of the transfer substrate 21 is formed to be larger than the diameter D1 of the outer periphery 11b of the disk substrate 11; The separation performance of the transfer substrate 21 is improved even when the release layer 22 is formed on the surface of the transfer substrate 21 alone. The peeling performance is further improved.
[0085]
When the transfer substrate 21 is peeled off from the disk substrate 11 while the transfer layer 21 is still attached to the transfer substrate 21, the second light transmitting layer 13B on the transfer substrate 21 side becomes the second signal on the disk substrate 11 side. The first light transmitting layer (transparent adhesive layer) 13A is adhered to the layer 12 via the first light transmitting layer (transparent adhesive layer) 13A, and the surface of the second light transmitting layer 13B is complementary to the unevenness information 21c of the transfer substrate 21. The certain concavo-convex information 13B1 and the ring-shaped protrusion 13B2 complementary to the ring-shaped groove 21d of the transfer substrate 21 are reliably transferred and exposed. At this time, the outer peripheral portion of the second light transmitting layer 13 </ b> B shifted from the transfer substrate 21 to the disk substrate 11 protrudes from the outer peripheral portion of the disk substrate 11.
[0086]
In this state, if the recording film (tellurium-based phase change recording film) in the second signal layer 12 formed for recording and reproduction in the second step has not been initialized, the recording film It is preferable that the (tellurium-based phase-change recording film) is subjected to an initialization process using a laser beam to crystallize the formed recording film. When the initialization process is performed in the fifth step, since the light transmitting layer 13 is formed on the recording film, there is an effect of preventing the recording film from being changed by heat at the time of initialization, and good recording characteristics are obtained. Can be obtained.
[0087]
(Sixth step)
As shown in FIG. 7, in the sixth step, the outer peripheral portion of the second light transmission layer 13 </ b> B shifted to the disk substrate 11 side is deleted by the cutter 33 along the outer peripheral diameter of the disk substrate 11.
[0088]
(Seventh step)
As shown in FIG. 8, in the seventh step, the first signal layer 14 having a semi-transmissive metal reflection film is formed on the second light transmission layer 13B shifted to the disk substrate 11 side.
[0089]
In the seventh step, the first signal layer 14 is formed on the unevenness information 13B1 and the ring-shaped protrusion 13B2 of the second light transmitting layer 13B shifted to the disk substrate 11 side. At this time, the first signal layer 14 formed on the concavo-convex information 13B1 has only a semi-transparent metal reflective film such as gold formed on the pit row in the case of the read-only type, while In this case, a semi-transmissive metal reflection film such as gold, a transparent silicon oxide film, a tellurium-based phase change recording film, and a recording film having a transparent silicon oxide film laminated on the concave groove and the convex land are formed in this order. are doing. At this time, the semi-transmissive metal reflection film of the first signal layer 14 has a property of transmitting 30% to 50% of the incident laser beam.
[0090]
In the case of the recording / reproducing type, since the recording film of the first signal layer 14 is a phase change recording type, the recording film is initialized by using a laser beam, and the formed tellurium-based phase change recording film is crystallized. It is desirable to make it. A desirable reason is that in the seventh step, the recording film in the first signal layer 14 is subjected to an initialization process, so that the recording film is initialized before the contamination of the recording film surface by dust and air proceeds after the formation of the recording film. Since the processing can be performed, there is an effect that a recording film having good recording characteristics can be obtained.
[0091]
(Eighth step)
As shown in FIG. 9, in the eighth step, a thin transparent cover layer 15 is formed on the first signal layer 14 formed on the thick disk substrate 11 side.
[0092]
In the eighth step, a thin transparent resin cover sheet 15B having a thickness of about 0.09 μm is prepared in advance. By setting the diameter of the center hole 15B1 to 20 mm, the transparent resin cover sheet 15B has a diameter of 19 mm at the innermost periphery of the second light transmitting layer 13B shifted to the disk substrate 11 side in the center hole 15B1. The ring-shaped protrusions 13B2 projecting over a diameter of 20 mm can be concentrically fitted and aligned, and the outer diameter of the transparent resin cover sheet 15B is set to 119 mm, which is slightly smaller than the outer diameter of the disk substrate 11. are doing. At this time, since the outer diameter of the transparent resin cover sheet 15B is slightly smaller than the outer diameter of the disk substrate 11, even if a hand or the like touches the outer peripheral portion of the transparent resin cover sheet 15B while handling the disk, the transparent resin cover sheet 15B can be prevented from peeling off, and a highly reliable transparent cover layer 15 can be obtained.
[0093]
Then, the surface opposite to the one surface of the thick disk substrate 11 is placed again on a rotating table (not shown), and a transparent signal is formed on the first signal layer 14 on the disk substrate 11 while rotating the rotating table. A transparent adhesive using an ultraviolet curable resin is dropped. Then, when the transparent adhesive is uniformly stretched on the first signal layer 14, the turntable 31 is stopped. Thereafter, the ring-shaped convex portion 13B2 is fitted into the center hole 15B1 of the prepared transparent resin cover sheet 15B, and the transparent resin cover sheet 15B is irradiated with ultraviolet rays via the transparent resin cover layer 15A made of a transparent adhesive. The transparent resin cover layer 15A having a thickness of about 0.01 mm and the transparent resin cover sheet 15B having a thickness of about 0.09 mm are adhered on the first signal layer 14 to form a thin transparent resin cover having a thickness of about 0.1 mm. Layer 15 is formed. Then, the total thickness when the transparent resin cover sheet 15B is adhered to the disk substrate 11 side is approximately 1.2 mm, and the super-high-density two-layer optical disk 10 is completed. At this time, the transparent resin cover sheet 15B side of the transparent cover layer 15 is the laser beam incident side.
[0094]
Note that a method may be used in which the transparent resin cover layer 15 made of a transparent adhesive is repeatedly formed a plurality of times so as to be about 0.1 mm without using the thin transparent resin cover sheet 15B of about 0.09 mm. At this time, if only the liquid UV-curable resin is used to form a film having a thickness of about 0.1 mm and then the UV-curable resin is cured, the ring-shaped convex formed at the innermost peripheral portion described above may be used. Since the height of the portion 13B2 is about 0.1 mm, it is possible to prevent the ultraviolet curable resin from flowing into the center hole 11a of the disk substrate 11 by the ring-shaped convex portion 13B2.
[0095]
The ultra-high-density two-layer type optical disk 10 manufactured in this way has few defects in the unevenness information of the outer peripheral portion of the disk substrate 11 and the first signal layer 14 and has a high quality.
[0096]
<Three-layer type optical disk>
FIG. 10 is a diagram schematically illustrating a three-layer optical disk manufactured by applying the method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention.
[0097]
The three-layer type optical disc 30 shown in FIG. 10 has a third signal layer 32 having a metal reflective film, a light transmitting layer 33, and a semi-transmitting layer on one surface of a disc substrate 31 having a thickness of approximately 1.1 mm. The second signal layer 34 having a metal reflection film, the light transmission layer 35, and the first signal layer 36 having a semi-transmission metal reflection film are formed in the order described above, and the third, second, and second layers are formed. A thin transparent cover layer 37 having a thickness of approximately 0.1 mm is formed on the outermost first signal layer 36 farthest from the disk substrate 31 in the stacking direction among the one signal layers 32, 34, and 36, The overall thickness is about 1.2 mm, and the transparent cover layer 37 side is the laser beam incident side.
[0098]
At this time, the second signal layer 34 and the first signal layer 36 formed on the disk substrate 31 are formed on separate transfer substrates by applying the above-described method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention. The film is formed after the respective unevenness information is transferred to the disk substrate 31 side by the second light transmitting layer.
[0099]
Then, an information signal is recorded on the third signal layer 32, the second signal 34, and the first signal layer 36 at an ultra-high density with a laser beam incident from the transparent cover layer 37, or the recorded information signal is super-high-density. Regenerating to density.
[0100]
As described above, when the signal layer is multilayered on the disc substrate side, the second light transmitting layers are formed using a plurality of transfer substrates having different unevenness information, and then each second light transmitting layer is formed. A signal layer is formed on each of the second light transmitting layers by moving to the disk substrate side, and further on the outermost signal layer farthest from the disk substrate in the stacking direction among the multilayered signal layers. If a transparent cover layer having a small thickness is formed, multilayering is possible.
[0101]
<Four-layer optical disk>
FIG. 11 is a diagram schematically illustrating a four-layer optical disk manufactured by applying the method of manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention.
[0102]
The four-layer type optical disc 30 shown in FIG. 11 has a second signal layer 42 having a metal reflection film, a light transmission layer 43, and a half on one surface side of a first disc substrate 41 having a thickness of about 0.5 mm. The first signal layer 44 having a transmission metal reflective film is formed in the above-described order, and the second signal layer 42, 44 is farthest from the first disk substrate 41 in the stacking direction. On the outermost first signal layer 44, a thin transparent cover layer 45 having a thickness of about 0.1 mm is formed.
[0103]
On the other hand, a fourth signal layer 47 having a metal reflection film, a light transmission layer 48, and a third signal layer having a semi-transmission metal reflection film are provided on one surface side of a second disc substrate 46 having a thickness of about 0.5 mm. 49 are formed in the above order, and on the outermost third signal layer 49 of the fourth and third signal layers 47, 49, which is farthest from the second disk substrate 46 in the laminating direction. A transparent cover layer 50 having a thickness as small as about 0.1 mm is formed. Then, the other surfaces of the first and second disk substrates 41 and 46, which are opposite to the respective one surfaces, are adhered to each other via a transparent adhesive layer 51 made of a transparent adhesive using an ultraviolet curable resin. The total thickness of the whole is approximately 1.2 mm, and the transparent cover layers 45 and 50 on both sides are on the laser beam incident side.
[0104]
At this time, the first signal layer 44 formed on the first disk substrate 41 and the third signal layer 49 formed on the second disk substrate 46 are formed by the above-described method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention. Is applied, and the unevenness information formed on the respective separate transfer substrates is transferred to the first disk substrate 41 side and the second disk substrate 46 side by the second light transmitting layer, and then the film is formed.
[0105]
Then, an information signal is recorded at an extremely high density on the second signal layer 42 and the first signal 44 on the first disk substrate 41 side by the laser beam incident from the transparent cover layer 45, or the recorded information signal is overwritten. While reproducing at high density, an information signal is recorded at an ultra-high density on the fourth signal layer 47 and the third signal 49 on the second disk substrate 46 by a laser beam incident from the transparent cover layer 505, or The recorded information signal is reproduced at a very high density.
[0106]
<Method of Manufacturing Multi-Layer Optical Disk of Modification>
In the above-described method for manufacturing a multilayer optical disk, the signal layer 12 is formed on the unevenness information 11c formed on one surface of the disk substrate 11 when forming the signal layer on one surface of the disk substrate. The release layer 22 is formed on the unevenness information 21c formed on one surface of the transfer substrate 21 having a diameter D2 of the outer circumference 21b larger than the diameter D1 of the outer circumference 11b of the disk substrate 11, and the release layer 22 is formed on the release layer 22. A second light transmitting layer 13B made of a transparent ultraviolet curable resin is formed, and further via a first light transmitting layer (transparent adhesive layer) 13A made of a transparent adhesive dropped on the signal layer 12 on the disk substrate 11 side. After the second light transmitting layer 13B on the transfer substrate 21 side is bonded, the transfer substrate 21 is peeled off from the disk substrate 11 with the release layer 22 still attached to the transfer substrate 21. Conversely, the signal layer 12 is formed on the unevenness information 11c formed on one surface of the disk substrate 11, and the first light transmission layer 13A made of a transparent ultraviolet curable resin is formed on the signal layer 12, and The release layer 22 is formed on the unevenness information 21c formed on one surface of the transfer substrate 21 having a diameter D2 of the outer periphery 21b larger than the diameter D1 of the outer periphery 11b of the disk substrate 11; A transparent adhesive is dropped on the first light transmitting layer 13A, and the unevenness information 21c formed on one surface of the transfer substrate 21 on the second light transmitting layer 13B by the transparent adhesive is applied via the release layer 22. After the transfer, the transfer substrate 21 may be deformed so as to be separated from the disk substrate 11 while the transfer substrate 21 has the release layer 22 attached thereto.
[0107]
In other words, although the process for forming the signal layer into multiple layers by partially modifying the method of manufacturing a multilayer optical disk is omitted, the signal layer is formed on the uneven information formed on one surface of the disk substrate. A first step of forming a film, a second step of forming a first light transmission layer of a transparent ultraviolet curable resin on the signal layer on the disk substrate side, and a step of forming an outer diameter larger than the outer diameter of the disk substrate. A third step of forming a release layer on the unevenness information formed on one surface of the transfer substrate, and dropping a transparent adhesive on the first light-transmitting layer on the disk substrate side. A step of transferring the unevenness information formed on one surface of the transfer substrate onto the second light transmitting layer via the release layer, and transferring the transfer substrate to the disk substrate with the release layer attached to the transfer substrate. From the disk substrate side A fifth step of exposing the unevenness information transferred onto the light transmitting layer, a sixth step of forming a signal layer on the unevenness information of the second light transmitting layer on the disk substrate side, and another transfer substrate And the above-described second to sixth steps are repeated to further increase the number of signal layers as necessary on the disk substrate side. This may be the eighth step of forming a thin transparent cover layer on the outer signal layer.
[0108]
In the above description, a method of manufacturing a multilayer optical disk having a disk substrate 11 having a diameter of 12 cm has been described. However, the present invention is not limited to this, and is applicable to a disk substrate 11 having a diameter of 5 cm or 8 cm. Needless to say.
[0109]
【The invention's effect】
In the method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention described in detail above, according to the first aspect, when the signal layer is multilayered on one surface side of the disk substrate, the signal layer is formed in advance on one surface of the disk substrate. Forming a signal layer on the concavo-convex information, and, while forming a release layer on concavo-convex information formed in advance on one surface of the transfer substrate having a larger outer diameter than the outer diameter of the disk substrate, A second light transmitting layer made of a transparent ultraviolet curable resin is formed on the release layer, and a second light transmitting layer on the transfer substrate side is formed on the signal layer on the disk substrate via a first light transmitting layer made of an adhesive. When the transfer substrate was peeled from the disk substrate side with the release layer attached to the transfer substrate after bonding the transmission layer, the outer diameter of the transfer substrate was formed to be larger than the outer diameter of the disk substrate, in particular. So, film formation on transfer substrate The second light transmitting layer can be reliably peeled from the outer peripheral part toward the inner peripheral part, so that the unevenness information of the transfer substrate can be complemented on the second light transmitting layer transferred to the disk substrate side. The related unevenness information can be reliably transferred without any defect.
[0110]
According to the second aspect of the present invention, when the signal layer is multilayered on one surface side of the disk substrate, the signal layer is formed on the unevenness information formed in advance on one surface of the disk substrate, and the signal layer is formed. Forming a first light transmitting layer of a transparent ultraviolet curable resin on the layer, and forming the first light transmitting layer on the surface of the transfer substrate having a larger outer diameter than the outer diameter of the disk substrate on the unevenness information formed in advance on one surface of the transfer substrate; A release layer was formed, and a transparent adhesive was dropped on the first light transmitting layer on the disk substrate side, and formed on one surface of the transfer substrate on the second light transmitting layer made of the transparent adhesive. After transferring the unevenness information via the release layer, when the transfer substrate is peeled off from the disk substrate side with the release layer attached to the transfer substrate, the diameter of the outer periphery of the transfer substrate is particularly adjusted to the outer circumference of the disk substrate. Because it was formed larger than the diameter of The transfer substrate can be reliably peeled from the outer peripheral portion toward the inner peripheral portion as it is, whereby the unevenness complementary to the unevenness information of the transfer substrate is formed on the second light transmitting layer on the disk substrate side. Information can be reliably transferred without defects.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram schematically illustrating a two-layer optical disc manufactured by applying a method of manufacturing a multilayer optical disc according to the present invention.
FIGS. 2A and 2B are longitudinal sectional views when a disk substrate and a transfer substrate are respectively manufactured in the method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention.
3 (a) and 3 (b) are longitudinal sectional views when films are formed on the disk substrate side and the transfer substrate side, respectively, in the method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention.
FIGS. 4A and 4B are longitudinal cross-sectional views when a disc substrate side and a transfer substrate side are bonded in a method for manufacturing a multilayer optical disc according to the present invention.
FIG. 5 is a longitudinal sectional view of a method of manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention, in which the first light transmitting layer is cured with a transparent adhesive by ultraviolet rays when the disk substrate side and the transfer substrate side are bonded.
FIG. 6 is a vertical cross-sectional view when the transfer substrate is peeled off from the disk substrate side with the release layer attached to the transfer substrate in the method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention.
FIG. 7 is a longitudinal sectional view when the outer periphery of the second light transmitting layer adhered to the disk substrate side is cut by a cutter in the method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention.
FIG. 8 is a longitudinal sectional view when a first signal layer is formed on a second light transmitting layer adhered to the disk substrate side in the method for manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention.
FIG. 9 is a longitudinal sectional view of a method of manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention, in which a transparent cover layer is formed on the first signal layer on the disk substrate side to complete a two-layer optical disk.
FIG. 10 is a diagram schematically illustrating a three-layer optical disc manufactured by applying the method of manufacturing a multilayer optical disc according to the present invention.
FIG. 11 is a diagram schematically illustrating a four-layer optical disk manufactured by applying the method of manufacturing a multilayer optical disk according to the present invention.
FIG. 12 is a diagram schematically illustrating an ultra-high-density two-layer optical disc in a conventional example.
13 (a) to 13 (e) are views schematically showing a manufacturing process for manufacturing an ultra-high-density two-layer type optical disc in a conventional example.
[Explanation of symbols]
10 ... two-layer type optical disc,
11: disk substrate, 11a: center hole, 11b: outer periphery, 11c: unevenness information,
11d: ring-shaped groove,
12 ... second signal layer,
13: light transmitting layer, 13A, 13B: first and second light transmitting layers,
13A1... Unevenness information, 13A2.
13B1 ... unevenness information, 13B2 ... ring-shaped convex part,
14 ... first signal layer,
15: transparent cover layer, 15A: transparent adhesive layer, 15B: transparent resin cover sheet, 21: transfer substrate, 21a: center hole, 21b: outer periphery, 21c: unevenness information,
21d: ring-shaped groove,
30 ... three-layer type optical disc,
31: disk substrate, 32: third signal layer, 33: light transmitting layer,
34, a second signal layer, 35, a light transmitting layer, 36, a first signal layer, 37, a transparent cover layer,
40 ... 4-layer type optical disc,
41: disk substrate, 42: second signal layer, 43: light transmitting layer, 44: first signal layer, 45: transparent cover layer,
46: disk substrate, 47: fourth signal layer, 48: light transmitting layer, 49: third signal layer, 50: transparent cover layer, 51: adhesive layer.

Claims (2)

厚みが厚いディスク基板の一方の面側に信号層を多層に形成し、且つ、多層化した前記信号層のうちで積層方向に対して前記ディスク基板から最も離れた最外層の信号層上に厚みが薄い透明カバー層を形成して、前記透明カバー層側からレーザービームを各層の信号層に向けて入射させるように構成した多層型光ディスクの製造方法において、
前記ディスク基板の一方の面に予め形成された凹凸情報上に信号層を成膜する第1のステップと、
前記ディスク基板の外周の径より大きな外周の径を有する転写用基板の一方の面に予め形成された凹凸情報上に剥離層を成膜する第2のステップと、
前記転写用基板側の前記剥離層上に透明な紫外線硬化樹脂による第2光透過層を成膜する第3のステップと、
前記ディスク基板側の前記信号層上に接着剤による第1光透過層を介して前記転写用基板側の前記第2光透過層を接着する第4のステップと、
前記転写用基板に前記剥離層を付けたまま該転写用基板を前記ディスク基板側から剥離して、前記ディスク基板側に移行した前記第2光透過層上に前記転写用基板側の凹凸情報により転写された凹凸情報を露出させる第5のステップと、
前記ディスク基板側に移行した前記第2光透過層の凹凸情報上に信号層を成膜する第6のステップと、
他の転写用基板を用いて上記した第2〜第6のステップを繰り返して、前記ディスク基板側に必要に応じて更に信号層を多層化する第7のステップと、
前記ディスク基板側に多層化した前記信号層のうちで前記最外層の信号層上に厚みが薄い前記透明カバー層を形成する第8のステップとからなることを特徴とする多層型光ディスクの製造方法。
A signal layer is formed in multiple layers on one surface side of a thick disk substrate, and a thickness is formed on the outermost signal layer farthest from the disk substrate in the stacking direction among the multilayered signal layers. Forming a thin transparent cover layer, a method for manufacturing a multilayer optical disc configured to allow a laser beam to be incident from the transparent cover layer side toward the signal layer of each layer,
A first step of forming a signal layer on unevenness information previously formed on one surface of the disk substrate;
A second step of forming a release layer on unevenness information formed in advance on one surface of the transfer substrate having an outer diameter larger than the outer diameter of the disk substrate;
A third step of forming a second light transmission layer made of a transparent ultraviolet curable resin on the release layer on the transfer substrate side;
A fourth step of bonding the second light transmitting layer on the transfer substrate side to the signal layer on the disk substrate side via a first light transmitting layer made of an adhesive;
The transfer substrate is peeled off from the disk substrate while the transfer layer is still attached to the transfer substrate, and the unevenness information on the transfer substrate side is formed on the second light transmitting layer shifted to the disk substrate side. A fifth step of exposing the transferred unevenness information,
A sixth step of forming a signal layer on the unevenness information of the second light transmitting layer shifted to the disk substrate side;
A seventh step of repeating the above-described second to sixth steps using another transfer substrate to further multiply a signal layer on the disk substrate side as necessary;
An eighth step of forming the thin transparent cover layer on the outermost signal layer of the signal layers multilayered on the disk substrate side. .
厚みが厚いディスク基板の一方の面側に信号層を多層に形成し、且つ、多層化した前記信号層のうちで積層方向に対して前記ディスク基板から最も離れた最外層の信号層上に厚みが薄い透明カバー層を形成して、前記透明カバー層側からレーザービームを各層の信号層に向けて入射させるように構成した多層型光ディスクの製造方法において、
前記ディスク基板の一方の面に予め形成された凹凸情報上に信号層を成膜する第1のステップと、
前記ディスク基板側の前記信号層上に透明な紫外線硬化樹脂による第1光透過層を成膜する第2のステップと、
前記ディスク基板の外周の径より大きな外周の径を有する転写用基板の一方の面に予め形成された凹凸情報上に剥離層を成膜する第3のステップと、
前記ディスク基板側の前記第1光透過層上に透明接着剤を滴下して、この透明接着剤による第2光透過層上に前記転写用基板の一方の面に形成した前記凹凸情報を前記剥離層を介して転写させる第4のステップと、
前記転写用基板に前記剥離層を付けたまま該転写用基板を前記ディスク基板側から剥離して、前記ディスク基板側の前記第2光透過層上に転写された前記凹凸情報を露出させる第5のステップと、
前記ディスク基板側の前記第2光透過層の凹凸情報上に信号層を成膜する第6のステップと、
他の転写用基板を用いて上記した第2〜第6のステップを繰り返して、前記ディスク基板側に必要に応じて更に信号層を多層化する第7のステップと、
前記ディスク基板側に多層化した前記信号層のうちで前記最外層の信号層上に厚みが薄い前記透明カバー層を形成する第8のステップとからなることを特徴とする多層型光ディスクの製造方法。
A signal layer is formed in multiple layers on one surface side of a thick disk substrate, and a thickness is formed on the outermost signal layer farthest from the disk substrate in the stacking direction among the multilayered signal layers. Forming a thin transparent cover layer, a method for manufacturing a multilayer optical disc configured to allow a laser beam to be incident from the transparent cover layer side toward the signal layer of each layer,
A first step of forming a signal layer on unevenness information previously formed on one surface of the disk substrate;
A second step of forming a first light transmitting layer of a transparent ultraviolet curable resin on the signal layer on the disk substrate side;
A third step of forming a release layer on unevenness information formed in advance on one surface of the transfer substrate having an outer diameter larger than the outer diameter of the disk substrate;
A transparent adhesive is dropped on the first light transmitting layer on the disk substrate side, and the uneven information formed on one surface of the transfer substrate on the second light transmitting layer by the transparent adhesive is peeled off. A fourth step of transferring through the layer;
Fifth, exposing the transfer substrate from the disk substrate side while exposing the transfer substrate with the release layer attached thereto, exposing the unevenness information transferred onto the second light transmitting layer on the disk substrate side. Steps and
A sixth step of forming a signal layer on the unevenness information of the second light transmitting layer on the disk substrate side;
A seventh step of repeating the above-described second to sixth steps using another transfer substrate to further multiply a signal layer on the disk substrate side as necessary;
An eighth step of forming the thin transparent cover layer on the outermost signal layer of the signal layers multilayered on the disk substrate side. .
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