JP2004009156A5 - - Google Patents
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この溝の大きさは特に限定されないが、例えば、溝の幅（図３における２２）は０．１ｍｍ以上（より好ましくは０．１〜５ｍｍ、更に好ましくは０．２〜３ｍｍ）であることが好ましい。通常、幅が０．１ｍｍ未満である溝を形成するのは困難となる傾向にある。また、溝の深さは０．１ｍｍ以上（より好ましくは０．１〜２．５ｍｍ、更に好ましくは０．２〜２．０ｍｍ）であることが好ましい。溝の深さが０．１ｍｍ未満では研磨パッドの寿命が過度に短くなるため好ましくない。更に、溝の間隔は、隣り合う溝の間の最小距離（図３における２３）が０．０５ｍｍ以上（より好ましくは０．０５〜１００ｍｍ、更に好ましくは０．１〜１０ｍｍ）であることが好ましい。この最小距離が０．０５ｍｍ未満である溝を形成するのは困難となる傾向にある。また、溝の幅と隣り合う溝の間の距離との和であるピッチ（図３における２１）は０．１５ｍｍ以上（より好ましくは０．１５〜１０５ｍｍ、更に好ましくは０．６〜１３ｍｍ）であることが好ましい。
上記各好ましい範囲は各々の組合せとすることができる。即ち、例えば、幅が０．１ｍｍ以上、深さが０．１ｍｍ以上且つ上記最小距離が０．０５ｍｍ以上であることが好ましく、幅が０．１〜５ｍｍ、深さが０．１〜２．５ｍｍ且つ上記最小距離が０．１５〜１０５ｍｍであることがより好ましく、幅が０．２〜３ｍｍ、深さが０．２〜２．０ｍｍ且つ上記最小距離が０．６〜１３ｍｍであることが更に好ましい。
上記各好ましい範囲は各々の組合せとすることができる。即ち、例えば、幅が０．１ｍｍ以上、深さが０．１ｍｍ以上且つ上記最小距離が０．０５ｍｍ以上であることが好ましく、幅が０．１〜５ｍｍ、深さが０．１〜２．５ｍｍ且つ上記最小距離が０．１５〜１０５ｍｍであることがより好ましく、幅が０．２〜３ｍｍ、深さが０．２〜２．０ｍｍ且つ上記最小距離が０．６〜１３ｍｍであることが更に好ましい。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002162142A JP3849582B2 (ja) | 2002-06-03 | 2002-06-03 | 研磨パッド及び複層型研磨パッド |
| KR1020030035237A KR100669301B1 (ko) | 2002-06-03 | 2003-06-02 | 연마 패드 및 복층형 연마 패드 |
| DE60308946T DE60308946T2 (de) | 2002-06-03 | 2003-06-02 | Polierkissen und Verfahren zur Herstellung eines Polierkissens |
| US10/449,196 US20040014413A1 (en) | 2002-06-03 | 2003-06-02 | Polishing pad and multi-layer polishing pad |
| TW092114938A TWI250572B (en) | 2002-06-03 | 2003-06-02 | Polishing pad and multi-layer polishing pad |
| EP03012509A EP1369204B1 (en) | 2002-06-03 | 2003-06-02 | Polishing pad and process for manufacturing a polishing pad |
| CNB031406815A CN100492597C (zh) | 2002-06-03 | 2003-06-03 | 抛光垫及其制备、使用方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002162142A JP3849582B2 (ja) | 2002-06-03 | 2002-06-03 | 研磨パッド及び複層型研磨パッド |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004009156A JP2004009156A (ja) | 2004-01-15 |
| JP2004009156A5 true JP2004009156A5 (ja) | 2005-05-26 |
| JP3849582B2 JP3849582B2 (ja) | 2006-11-22 |
Family
ID=30430993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002162142A Expired - Lifetime JP3849582B2 (ja) | 2002-06-03 | 2002-06-03 | 研磨パッド及び複層型研磨パッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3849582B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4616571B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2011-01-19 | 東洋ゴム工業株式会社 | 研磨パッド |
| JP2006114885A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-04-27 | Jsr Corp | 化学機械研磨パッド及び化学機械研磨方法 |
| JP3769581B1 (ja) | 2005-05-18 | 2006-04-26 | 東洋ゴム工業株式会社 | 研磨パッドおよびその製造方法 |
| KR100721196B1 (ko) * | 2005-05-24 | 2007-05-23 | 주식회사 하이닉스반도체 | 연마패드 및 이를 이용한 화학적기계적연마장치 |
| CN102498549A (zh) * | 2009-07-16 | 2012-06-13 | 嘉柏微电子材料股份公司 | 沟槽式化学机械抛光抛光垫 |
| US9211628B2 (en) * | 2011-01-26 | 2015-12-15 | Nexplanar Corporation | Polishing pad with concentric or approximately concentric polygon groove pattern |
| TWI599447B (zh) * | 2013-10-18 | 2017-09-21 | 卡博特微電子公司 | 具有偏移同心溝槽圖樣之邊緣排除區的ｃｍｐ拋光墊 |
| US10625393B2 (en) * | 2017-06-08 | 2020-04-21 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Chemical mechanical polishing pads having offset circumferential grooves for improved removal rate and polishing uniformity |
| CN113547450B (zh) * | 2021-09-22 | 2022-01-07 | 湖北鼎汇微电子材料有限公司 | 抛光垫、研磨设备及半导体器件的制造方法 |
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2002
- 2002-06-03 JP JP2002162142A patent/JP3849582B2/ja not_active Expired - Lifetime
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