JP2003528902A - Composition - Google Patents

Composition

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JP2003528902A
JP2003528902A JP2001572068A JP2001572068A JP2003528902A JP 2003528902 A JP2003528902 A JP 2003528902A JP 2001572068 A JP2001572068 A JP 2001572068A JP 2001572068 A JP2001572068 A JP 2001572068A JP 2003528902 A JP2003528902 A JP 2003528902A
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chlorhexidine
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JP2001572068A
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ブック,ロバート,エム,
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スミスクライン ビーチャム コーポレーション
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    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/40Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing nitrogen
    • A61K8/43Guanidines
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61QSPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q11/00Preparations for care of the teeth, of the oral cavity or of dentures; Dentifrices, e.g. toothpastes; Mouth rinses

Abstract

(57)【要約】 口臭治療用の、クロルヘキシジンを含む口腔衛生組成物について記載する。   (57) [Summary] An oral hygiene composition comprising chlorhexidine for the treatment of halitosis is described.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】 本発明は、陽イオン性の抗菌剤であるクロルヘキシジンを含む口臭除去用の口
腔衛生組成物に関する。
The present invention relates to an oral hygiene composition for removing bad breath, which contains chlorhexidine, which is a cationic antibacterial agent.

【0002】 クロルヘキシジンなどの陽イオン性抗菌剤は、その本来備わっているin vitro
抗菌活性のみならず、口腔組織への染色性のために、プラーク、虫歯、歯周疾患
及び口臭などの様々な口腔の健康状態を処置するのに有効な治療薬として久しく
認められてきた。陽イオン性抗菌剤は、従って、口腔表面に吸収され、一定時間
にわたり徐々に放出されて、長く抗菌効果を生み出す。
Cationic antibacterial agents, such as chlorhexidine, have their natural in vitro
It has long been recognized as an effective therapeutic agent for treating various oral health conditions such as plaque, tooth decay, periodontal disease and halitosis because of its antibacterial activity and stainability to oral tissues. Cationic antimicrobial agents are therefore absorbed on the oral surface and slowly released over a period of time, producing a long-lasting antimicrobial effect.

【0003】 EP-A-920857には、0.025〜0.20重量%のクロルヘキシジン塩と、0.025〜0.10
重量%の第四級アンモニウム塩(例えば塩化セチルピリジニウム)と、100〜100
0ppmの亜鉛イオン又は銅イオンを供給する亜鉛塩又は銅塩との組み合わせを含む
口臭治療用の経口組成物が記載されている。
EP-A-920857 contains 0.025-0.20% by weight of chlorhexidine salt and 0.025-0.10.
Wt% quaternary ammonium salt (eg cetylpyridinium chloride), 100-100
An oral composition for the treatment of halitosis is described which comprises a combination with a zinc or copper salt which provides 0 ppm of zinc or copper ion.

【0004】 WO-00/51559(本願の優先日よりも後である2000年9月8日に公開された)には
、ビスグアニド及び第四級アンモニウム化合物から選択される0.005〜0.05%w/v
の抗菌剤及び0.05〜0.5%w/vの酢酸亜鉛を含む、口臭治療用うがい薬組成物が記
載されている。
WO-00 / 51559 (published on September 8, 2000 after the priority date of the present application) contains 0.005-0.05% w / v selected from bisguanides and quaternary ammonium compounds.
Mouthwash compositions for the treatment of halitosis comprising an antibacterial agent according to claim 1 and 0.05-0.5% w / v zinc acetate.

【0005】 このたび、特に低濃度のクロルヘキシジンが、口臭除去に驚くほど有効である
ことが見出された。
It has now been found that particularly low concentrations of chlorhexidine are surprisingly effective in removing halitosis.

【0006】 従って、本発明の第一の態様は、全組成物の0.025重量%より低い濃度のクロ
ルヘキシジン又はその経口上許容される付加塩、及び経口上許容される担体又は
賦形剤を含む口腔衛生組成物を提供する。但し、この口腔衛生組成物がうがい薬
組成物である場合には、0.05〜0.5%w/vの酢酸亜鉛を含まないことを条件とする
Accordingly, a first aspect of the invention is an oral cavity comprising chlorhexidine or an orally acceptable addition salt thereof at a concentration of less than 0.025% by weight of the total composition, and an orally acceptable carrier or excipient. Hygiene compositions are provided. However, when the oral hygiene composition is a mouthwash composition, 0.05 to 0.5% w / v zinc acetate is not included.

【0007】 第二の態様において、本発明は、上記のような口臭除去用の口腔衛生組成物の
製造におけるクロルヘキシジン又はその経口上許容される付加塩の使用を提供す
る。
In a second aspect, the present invention provides the use of chlorhexidine or an orally acceptable addition salt thereof in the manufacture of an oral hygiene composition for the removal of halitosis as described above.

【0008】 第三の態様において、本発明は、上記のような口腔衛生組成物を、口臭を除去
する必要がある患者に、投与することによる口臭除去法を提供する。
[0008] In a third aspect, the present invention provides a method for removing halitosis by administering an oral hygiene composition as described above to a patient in need of eliminating halitosis.

【0009】 好適には、クロルヘキシジン又はその経口上許容される付加塩は、口腔衛生組
成物の0.001〜0.024重量%、好ましくは0.002〜0.020重量%、より好ましくは0.
005〜0.015重量%の量で存在する。
Suitably the chlorhexidine or orally acceptable addition salt thereof is 0.001 to 0.024% by weight of the oral hygiene composition, preferably 0.002 to 0.020% by weight, more preferably 0.
It is present in an amount of 005 to 0.015% by weight.

【0010】 好適には、口腔衛生組成物は亜鉛塩又は銅塩を含まない。好ましくは、クロル
ヘキシジン又はその経口上許容される付加塩が唯一の抗菌剤として存在する。
Suitably, the oral hygiene composition is free of zinc or copper salts. Preferably, chlorhexidine or an orally acceptable addition salt thereof is present as the only antibacterial agent.

【0011】 このような好適なクロルヘキシジンの塩は、20℃で少なくとも0.005%w/vの溶
解度を有するもの、例えば、二グルコン酸塩、二ギ酸塩、二酢酸塩、二プロピオ
ン酸塩、二ヨウ化水素酸塩、二塩酸塩、二乳酸塩、二硝酸塩、硫酸塩及び酒石酸
塩が含まれる。これらのうち、二グルコン酸塩、二酢酸塩及び二塩酸塩が好まし
い。
Such suitable chlorhexidine salts have a solubility of at least 0.005% w / v at 20 ° C., for example digluconate, diformate, diacetate, dipropionate, diiodide. Includes hydrohydrates, dihydrochlorides, dilactates, dinitrates, sulphates and tartrates. Of these, digluconate, diacetate and dihydrochloride are preferred.

【0012】 本発明の口腔衛生組成物はまた、イオン性フッ素含有化合物を有効に含むこと
ができる。好ましいイオン性フッ素含有化合物としては、例えば、アミンフッ化
物及びアルカリ金属フッ化物塩などのフッ化物塩(例えばフッ化ナトリウム)、
並びにアルカリ金属モノフルオロリン酸塩などのモノフルオロリン酸塩(例えば
モノフルオロリン酸ナトリウム)が挙げられる。好適には、イオン性フッ素含有
化合物は、上記組成物に配合されて、100〜3000ppm、好ましくは500〜2000ppmの
フッ化物イオンを供給する。
The oral hygiene composition of the present invention can also effectively contain an ionic fluorine-containing compound. Preferred ionic fluorine-containing compounds include, for example, fluoride salts such as amine fluorides and alkali metal fluoride salts (eg sodium fluoride),
And monofluorophosphates such as alkali metal monofluorophosphates (eg sodium monofluorophosphate). Suitably, the ionic fluorine-containing compound is incorporated into the above composition to provide 100-3000 ppm, preferably 500-2000 ppm, of fluoride ion.

【0013】 本発明の口腔衛生組成物は、そのような製品に通常使用される提示形態、例え
ば練り歯磨き及び歯磨き粉を含む歯磨き剤、研磨性及び非研磨性のゲル、うがい
薬、含そう薬、口腔洗浄溶液、マウススプレー、並びにガム、トローチ、ロゼン
ジ及び口の中で速やかに溶かすことができるウェーハなど、使用者がなめたり噛
んだりする提示形態のいずれかで提供することができる。経口上許容される担体
又は賦形剤の成分は、関係する提示形態の特定のタイプに従って選択される。
The oral hygiene composition of the present invention comprises a presentation form commonly used in such products, such as dentifrices including toothpaste and toothpaste, abrasive and non-abrasive gels, mouthwashes, mouthwashes, It can be provided in any of the user's licking or chewing presentation forms such as mouthwash, mouth spray, and gums, troches, lozenges and wafers that can be quickly melted in the mouth. The components of the orally acceptable carrier or excipient are selected according to the particular type of presentation form involved.

【0014】 陽イオン性抗菌剤の抗菌力が実質的に減少しないようにするために、経口上許
容される担体又は賦形剤に含有させるものとして、適合性のある成分が選択され
ることは当業者に理解されるだろう。従って当業者は、必要な場合には、陰イオ
ン性の化学種を好ましくは避けるべきであることを容易に理解できよう。なぜな
ら、そのような化学種は、陽イオン性抗菌剤と共に不溶性の沈殿物を形成するこ
とにより、その陽イオン性抗菌剤の不活性化を引き起こす可能性があるからであ
る。このため、好ましくは陰イオン性界面活性剤及び陰イオン性増粘剤を排除す
るべきであり、非イオン性、陽イオン性又は両性の界面活性剤及び非イオン性増
粘剤などの、非陰イオン性の対応物を使用する。同様に、陰イオン源として作用
し得る研磨剤は、わずかに可溶性であるか、又は実質的に不溶性であるが例えば
その製造から生じる可溶性の不純物によりそれ自体が汚染されるか、のいずれか
の理由から、避けることが好ましく、適合性のある研磨剤を使用する。
In order to ensure that the antibacterial activity of the cationic antibacterial agent is not substantially reduced, compatible components are selected for inclusion in an orally acceptable carrier or excipient. As will be appreciated by those skilled in the art. Thus, one of ordinary skill in the art will readily understand that anionic species should preferably be avoided when necessary. This is because such species may cause inactivation of the cationic antimicrobial agent by forming an insoluble precipitate with the cationic antimicrobial agent. For this reason, preferably anionic surfactants and anionic thickeners should be excluded and non-anionic, cationic or amphoteric surfactants and non-ionic thickeners such as non-anionic thickeners should be excluded. Use ionic counterparts. Similarly, abrasives that can act as a source of anions are either slightly soluble or are substantially insoluble but are themselves contaminated, for example, by soluble impurities resulting from their manufacture. For reasons it is preferable to avoid and use compatible abrasives.

【0015】 好ましい非イオン性界面活性剤としては、例を挙げると、ポリエトキシル化ソ
ルビトールエステル、特にポリエトキシル化ソルビトールモノエステル、例えば
PEG(40)ソルビタンジイソステアリン酸エステル及び「Tween」の商標名でICI社
より市販されている製品;酸化エチレンと酸化プロピレンとのポリ縮合物(ポロ
キサマー)、例えば「Pluronic」の商標名でBASF-Wyandotte社より市販されてい
る製品;プロピレングリコールの縮合物;ポリエトキシル化水素化ひまし油、例
えばcremophors;及びソルビタン脂肪エステルがある。
Preferred nonionic surfactants include, by way of example, polyethoxylated sorbitol esters, especially polyethoxylated sorbitol monoesters, for example
PEG (40) sorbitan diisostearate and a product marketed by ICI under the trade name "Tween"; a polycondensate of ethylene oxide and propylene oxide (poloxamer), eg BASF-Wyandotte under the trade name "Pluronic". Commercially available products from the company; propylene glycol condensates; polyethoxylated hydrogenated castor oils such as cremophors; and sorbitan fatty esters.

【0016】 好適な両性界面活性剤としては、例を挙げると、長鎖イミダゾリン誘導体、例
えば「Miranol C2M」の商標名でMiranol社より市販されている製品;長鎖アルキ
ルベタイン、例えば「Empigen BB」の商標名でAlbright+Wilson社より市販され
ている製品、及び長鎖アルキルアミドアルキルベタイン、例えばコカミドプロピ
ルベタイン、並びにこれらの混合物がある。
Suitable amphoteric surfactants include, by way of example, long-chain imidazoline derivatives, such as the product marketed by the company Miranol under the trademark "Miranol C2M"; long-chain alkylbetaines, such as "Empigen BB". Products available from Albright + Wilson, Inc., and long chain alkylamidoalkyl betaines such as cocamidopropyl betaine, and mixtures thereof.

【0017】 好適な陽イオン性界面活性剤には、「CAE」の商標名で味の素社より市販され
ているエチル-N-ココイル-L-アルギネートのD,L-2-ピロリドン-5-カルボン酸塩
が含まれる。
Suitable cationic surfactants include ethyl-N-cocoyl-L-alginate D, L-2-pyrrolidone-5-carboxylic acid commercially available from Ajinomoto under the trade name "CAE". Contains salt.

【0018】 有利には、界面活性剤は、歯磨き剤の0.005〜20重量%、好ましくは0.1〜10重
量%、より好ましくは0.1〜5重量%の範囲内で存在する。
Advantageously, the surfactant is present in the range of 0.005 to 20% by weight of the dentifrice, preferably 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0019】 好適な非イオン性増粘剤には、例えば、(C1-6)-アルキルセルロースエーテル
(例:メチルセルロース)、ヒドロキシ(C1-6)-アルキルセルロースエーテル(
例:ヒドロキシプロピルセルロース)、(C2-6)-酸化アルキレン改変(C1-6)-アル
キルセルロースエーテル(例:ヒドロキシプロピルメチルセルロース)、及びこ
れらの混合物が含まれる。有利には、非イオン性増粘剤は、組成物の0.01〜30重
量%、好ましくは0.1〜15重量%、より好ましくは1〜5重量%の範囲内で存在す
る。
Suitable nonionic thickeners include, for example, (C1-6) -alkyl cellulose ethers (eg methylcellulose), hydroxy (C1-6) -alkyl cellulose ethers (
Examples include hydroxypropyl cellulose), (C2-6) -alkylene oxide modified (C1-6) -alkyl cellulose ethers (eg, hydroxypropyl methylcellulose), and mixtures thereof. Advantageously, the nonionic thickener is present in the range 0.01 to 30% by weight of the composition, preferably 0.1 to 15% by weight, more preferably 1 to 5% by weight.

【0020】 好適な研磨剤としては、陰イオンの形成を抑制する物質と組み合わせた難溶性
の塩又は実質的に不溶性の化合物が含まれる。
Suitable abrasives include sparingly soluble salts or substantially insoluble compounds in combination with substances that suppress the formation of anions.

【0021】 研磨剤として使用できる好適な難溶性の塩は、例えば、炭酸カルシウム、リン
酸カルシウム、炭酸マグネシウム、不溶性のメタリン酸ナトリウム、及びこれら
の好適な混合物である。陰イオンの形成を抑制する物質には、典型的には、研磨
剤の陰イオンと共に実質的に不溶性又は難溶性の塩を形成する陽イオン(研磨剤
の陽イオンと同じであってもよい)を含む水溶性の塩が含まれる。好ましくは、
研磨剤として用いられる難溶性の塩は、炭酸カルシウム(有利にはリン酸二カル
シウムと組み合わせて用いる)であり、これはまた製剤のpHを有効に緩衝化する
。炭酸カルシウムの好適なタイプには、天然と合成の両方の白亜(チョーク)が
含まれる。陰イオン形成を抑制する物質は、アルカリ土類金属塩、例えば塩化カ
ルシウムであり得る。この物質は、歯磨き剤の好ましくは0.0001〜1重量%、よ
り好ましくは0.005〜0.1重量%で存在する。
Suitable sparingly soluble salts that can be used as abrasives are, for example, calcium carbonate, calcium phosphate, magnesium carbonate, insoluble sodium metaphosphate, and suitable mixtures thereof. The substance that suppresses the formation of anions is typically a cation that may form a substantially insoluble or sparingly soluble salt with the anion of the polishing agent (which may be the same as the cation of the polishing agent). Water-soluble salts including are included. Preferably,
The sparingly soluble salt used as an abrasive is calcium carbonate, which is advantageously used in combination with dicalcium phosphate, which also effectively buffers the pH of the formulation. Suitable types of calcium carbonate include both natural and synthetic chalk. The substance that suppresses anion formation may be an alkaline earth metal salt such as calcium chloride. This material is preferably present in 0.0001 to 1% by weight of the dentifrice, more preferably 0.005 to 0.1% by weight.

【0022】 本明細書で使用する「実質的に不溶性の化合物」とは、水溶液中でもともと不
溶性である化合物を意味し、「Handbook of Chemistry and Physics」、第48版
、Chemical Rubber Compamy、第B章、「無機化合物の物性定数(Physical Consta
nts of Inorganic Compounds)」に、冷水中で「不溶性」であるとして列挙され
た化合物を含む。さらに、このような化合物は、研磨剤として使用した場合に、
汚染陰イオン不純物を、あるにしても、ごくわずかしか含まないだろう。好適に
は、不溶性研磨剤化合物に含まれる陰イオン不純物は、研磨剤の重量に基づいて
、1%未満、好ましくは0.5%未満、より好ましくは0.25%未満であるべきである
。研磨剤として用いるのに好適な実質的に不溶性の化合物として、例えば、シリ
カ、オルトリン酸亜鉛、プラスチック粒子、アルミナ、酸化アルミニウム三水和
物及びピロリン酸カルシウム、又はこれらの混合物を挙げることができる。
As used herein, "substantially insoluble compound" means a compound that is originally insoluble in aqueous solution, "Handbook of Chemistry and Physics", 48th Edition, Chemical Rubber Compamy, B. Chapter, “Physical Constants of Inorganic Compounds”
nts of Inorganic Compounds) ”include compounds listed as“ insoluble ”in cold water. Furthermore, such compounds, when used as abrasives,
It will contain very little, if any, contaminating anionic impurities. Suitably, the anionic impurities contained in the insoluble abrasive compound should be less than 1%, preferably less than 0.5%, more preferably less than 0.25%, based on the weight of the abrasive. Substantially insoluble compounds suitable for use as abrasives include, for example, silica, zinc orthophosphate, plastic particles, alumina, aluminum oxide trihydrate and calcium pyrophosphate, or mixtures thereof.

【0023】 好適には、研磨剤はシリカである。好適なシリカには、天然の無定形シリカ、
例えば珪藻土;及び合成の無定形シリカ、例えば沈降シリカ、若しくはシリカゲ
ル(例:シリカキセロゲル);又はこれらの混合物が含まれる。好ましい合成無
定形シリカは、水溶性陰イオン不純物が低レベルのもの(以後「低陰イオンシリ
カ」と呼ぶ)である。これらは、陰イオン不純物(特に硫酸ナトリウム及びケイ
酸ナトリウムからのそれぞれ硫酸イオン及びケイ酸イオン)のレベルを最小限に
保つように注意深く制御した製造工程から得ることができる。これとは別に、又
は追加的に、最初に製造したシリカを、例えば脱イオン水又は蒸留水で注意深く
洗浄することにより、陰イオン不純物のレベルを必要なレベルにまで下げること
ができる。好適な低陰イオンシリカは、0.5重量%未満、好ましくは0.25重量%
未満、より好ましくは0.1重量%未満の水溶性不純物、例えば硫酸ナトリウム及
び/又はケイ酸ナトリウムを含む。
Suitably, the abrasive is silica. Suitable silicas include natural amorphous silica,
For example, diatomaceous earth; and synthetic amorphous silica, such as precipitated silica, or silica gel (eg silica xerogel); or mixtures thereof. Preferred synthetic amorphous silicas have low levels of water-soluble anionic impurities (hereinafter "low anionic silica"). These can be obtained from a carefully controlled manufacturing process to keep the levels of anionic impurities (sulfate and silicate, respectively from sodium sulfate and sodium silicate, respectively) to a minimum. Alternatively or additionally, the level of anionic impurities can be reduced to the required level by carefully washing the initially produced silica with, for example, deionized or distilled water. Suitable low anion silica is less than 0.5% by weight, preferably 0.25% by weight
Less than 0.1% by weight, more preferably less than 0.1% by weight of water-soluble impurities such as sodium sulphate and / or sodium silicate.

【0024】 研磨剤は、有利には歯磨き剤の1〜80重量%、好ましくは5〜70重量%、より好
ましくは5〜60重量%の範囲内で存在する。
The abrasive is advantageously present in the range of 1 to 80% by weight of the dentifrice, preferably 5 to 70% and more preferably 5 to 60%.

【0025】 増粘剤、界面活性剤及び研磨剤のそれぞれは、歯磨き剤に使用するレベルにお
いて、陽イオン性抗菌剤と適合性であるべきである。すなわち、それぞれが陽イ
オン性抗菌剤の効力を実質的に、例えば30%より多く、好ましくは20%より多く
低下させることがないようにすべきである。これは、例えば標準的な寒天内拡散
法において検定生物としてM. luteusを用いる従来の微生物検定法によって、前
述の増粘剤、界面活性剤及び研磨剤のそれぞれの存在下及び不在下で、製剤の生
物活性を測定することにより、確認することができる。
Each of the thickeners, surfactants and abrasives should be compatible with the cationic antimicrobial agent at the level used in dentifrice. That is, each should not substantially reduce the efficacy of the cationic antimicrobial agent, eg, by more than 30%, preferably by more than 20%. This is achieved, for example, by the conventional microbial assay using M. luteus as the assay organism in the standard agar diffusion method in the presence and absence of each of the aforementioned thickeners, surfactants and abrasives. It can be confirmed by measuring the biological activity of.

【0026】 本発明によるうがい薬は、担体の成分として、水溶液又は水/エタノール溶液
中に界面活性剤及び湿潤剤を含むことが好ましい。本発明によるゲルは、担体の
成分として、界面活性剤、湿潤剤、増粘剤、場合により水を含むことが好ましい
。本発明に従う歯磨き剤は、担体の成分として、界面活性剤、湿潤剤、増粘剤、
研磨剤、必要に応じて水を含むことが好ましい。
The mouthwash according to the present invention preferably comprises, as components of the carrier, a surfactant and a wetting agent in an aqueous solution or a water / ethanol solution. The gel according to the invention preferably comprises, as a component of the carrier, a surface-active agent, a wetting agent, a thickener and optionally water. The dentifrice according to the present invention comprises, as components of the carrier, surfactants, wetting agents, thickeners,
It is preferable to contain an abrasive and optionally water.

【0027】 本発明の組成物中で使用するのに好適な湿潤剤として、例えばグリセリン、ソ
ルビトール、プロピレングリコール若しくはポリエチレングリコール、又はこれ
らの混合物が挙げられる。湿潤剤は、歯磨き剤の5〜70重量%、好ましくは5〜30
重量%、より好ましくは10〜30重量%の範囲内で存在することができる。
Suitable wetting agents for use in the compositions of the present invention include, for example, glycerin, sorbitol, propylene glycol or polyethylene glycol, or mixtures thereof. The humectant is 5 to 70% by weight of the dentifrice, preferably 5 to 30%.
It may be present in the range of wt%, more preferably 10 to 30 wt%.

【0028】 必要に応じて、上記組成物に他の物質、例えば甘味料、香味剤、着色剤及び白
色化剤、防腐剤及び乳化剤を添加してもよい。
If desired, other substances such as sweeteners, flavoring agents, coloring agents and whitening agents, preservatives and emulsifiers may be added to the composition.

【0029】 本発明による組成物のpHは、経口的に許容される範囲内にあり、典型的にはpH
4〜9の範囲内にある。
The pH of the composition according to the invention is within the orally acceptable range, typically the pH
It is in the range of 4-9.

【0030】 本発明による口腔衛生組成物は、その諸成分を、必要な割合でかつ都合のよい
順序で混合し、その後必要に応じて、要求される値にpHを調整することにより調
製することができる。
The oral hygiene composition according to the invention is prepared by mixing the components thereof in the required proportions and in any convenient order, and then adjusting the pH, if necessary, to the required value. You can

【0031】 以下の実施例により本発明を説明することにする。[0031]   The invention will be illustrated by the following examples.

【0032】実施例1:口臭抑制効力の測定 低用量のクロルヘキシジンが口臭(口腔の悪臭)を除去する能力は、システイ
ンチャレンジ法(cysteine challenge method)を用いて評価した。この方法は、
口内細菌が口腔の悪臭の主な臭気成分である揮発性硫黄化合物(VSC)をシステイ
ンから生成する能力を測定し、臭気審査員による官能評価と相関させる方法であ
る。
Example 1 Measurement of Halitosis Suppressing Efficacy The ability of low doses of chlorhexidine to eliminate halitosis (oral malodor) was evaluated using the cysteine challenge method. This method
It is a method of measuring the ability of oral bacteria to produce volatile sulfur compounds (VSC), which is the main odor component of the malodor in the oral cavity, from cysteine and correlating it with the sensory evaluation by odor examiners.

【0033】 試験は、6mMのシステイン5mlで口を30秒すすぐこと、及びその結果得られるVS
C反応(主に硫化水素)をHalimeterなどの化学センサー機器により測定すること
から成る。システインチャレンジ試験は、初期基準VSCを決定すること、続いて
システインチャレンジ基質を導入すること、20分間にわたりVSC反応を計測する
こと、試験用すすぎ液を導入すること、その後、設定した時間に、7時間に至る
までシステインチャレンジを繰り返すことから成る。
The test consists of rinsing the mouth for 30 seconds with 5 ml of 6 mM cysteine and the resulting VS
It consists of measuring the C reaction (mainly hydrogen sulfide) with a chemical sensor device such as a Halimeter. The cysteine challenge test consists of determining an initial baseline VSC, followed by introduction of a cysteine challenge substrate, measurement of the VSC response over 20 minutes, introduction of a test rinse, and then at a set time. It consists of repeating cysteine challenges through time.

【0034】 口臭の抑制は、試験剤であるクロルヘキシジン二グルコン酸塩によるシステイ
ンからのVSC生成の抑制の程度により、システインからの基準VSC生成と比較して
、量的に評価した。抑制の持続時間は、連続したシステインチャレンジによるVS
C生成が基準VSC生成に戻るまでに要する時間として評価した。
The inhibition of halitosis was quantitatively evaluated by the degree of inhibition of VSC production from cysteine by chlorhexidine digluconate, which is a test agent, compared with the reference VSC production from cysteine. The duration of inhibition was VS vs. consecutive cysteine challenges.
It was evaluated as the time required for C generation to return to the reference VSC generation.

【0035】 0.025%(v/v)の濃度のクロルヘキシジン二グルコン酸塩を含むうがい薬は、
VSC生成を顕著に抑制することがわかった。すすぎの2時間後に最大の抑制がみら
れ、抑制は最初のすすぎから7時間にわたって、徐々にレベルを下げながら維持
される。より低濃度(例えば、組成物の0.020、0.015、0.0125及び0.010重量%
)のクロルヘキシジン二グルコン酸塩でも、同様に有利な結果が得られる。
A mouthwash containing chlorhexidine digluconate at a concentration of 0.025% (v / v)
It was found that VSC production was significantly suppressed. Maximum inhibition was seen 2 hours after rinsing, and inhibition was maintained for 7 hours after the first rinse, with progressively decreasing levels. Lower concentrations (eg 0.020, 0.015, 0.0125 and 0.010% by weight of the composition)
The same advantageous results are obtained with chlorhexidine digluconate.

【0036】実施例2:低用量クロルヘキシジンうがい薬 %W/W クロルヘキシジン二グルコン酸塩 0.0125 ソルビトール 3.0 エタノール96% 6.0 Cremophor RH60 0.20 香油 0.12 色素溶液 0.10 サッカリンナトリウム 0.01 水 全量100 Example 2: Low dose chlorhexidine mouthwash % W / W Chlorhexidine digluconate 0.0125 Sorbitol 3.0 Ethanol 96% 6.0 Cremophor RH60 0.20 Perfume oil 0.12 Dye solution 0.10 Saccharin sodium 0.01 Water Total 100

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Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 全組成物の0.025重量%より低い濃度のクロルヘキシジン又
はその経口上許容される付加塩、及び経口上許容される担体又は賦形剤を含む口
腔衛生組成物であって、当該口腔衛生組成物がうがい薬組成物である場合には、
0.05〜0.5%w/vの酢酸亜鉛を含まないことを条件とする、上記口腔衛生組成物。
1. An oral hygiene composition comprising chlorhexidine or an orally acceptable addition salt thereof at a concentration lower than 0.025% by weight of the total composition, and an orally acceptable carrier or excipient. When the hygiene composition is a mouthwash composition,
The above oral hygiene composition, provided that it does not contain 0.05-0.5% w / v zinc acetate.
【請求項2】 クロルヘキシジン又はその経口上許容される付加塩が、口腔
衛生組成物の0.001〜0.024重量%の量で存在する、請求項1に記載の組成物。
2. The composition of claim 1, wherein chlorhexidine or orally acceptable addition salt thereof is present in an amount of 0.001 to 0.024% by weight of the oral hygiene composition.
【請求項3】 クロルヘキシジン又はその経口上許容される付加塩が、口腔
衛生組成物の0.002〜0.020重量%の量で存在する、請求項2に記載の組成物。
3. A composition according to claim 2 wherein chlorhexidine or orally acceptable addition salt thereof is present in an amount of 0.002-0.020% by weight of the oral hygiene composition.
【請求項4】 クロルヘキシジン又はその経口上許容される付加塩が、口腔
衛生組成物の0.005〜0.015重量%の量で存在する、請求項3に記載の組成物。
4. The composition according to claim 3, wherein chlorhexidine or orally acceptable addition salt thereof is present in an amount of 0.005 to 0.015% by weight of the oral hygiene composition.
【請求項5】 亜鉛塩又は銅塩を含まない、請求項1〜4のいずれか1項に
記載の組成物。
5. The composition according to claim 1, which is free of zinc salt or copper salt.
【請求項6】 クロルヘキシジン又はその経口上許容される付加塩が、唯一
の抗菌剤として存在する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の組成物。
6. The composition according to claim 1, wherein chlorhexidine or an orally acceptable addition salt thereof is present as the only antibacterial agent.
【請求項7】 クロルヘキシジンが、二グルコン酸塩として存在する、請求
項1〜6のいずれか1項に記載の組成物。
7. The composition according to claim 1, wherein chlorhexidine is present as a digluconate salt.
【請求項8】 うがい薬、含そう薬、口腔洗浄溶液又はマウススプレーの形
態である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の組成物。
8. A composition according to claim 1, which is in the form of a mouthwash, mouthwash, mouthwash solution or mouth spray.
【請求項9】 歯磨き剤の形態である、請求項1〜7のいずれか1項に記載
の組成物。
9. The composition according to claim 1, which is in the form of a dentifrice.
【請求項10】 使用者がなめるか、又は噛むための、請求項1〜7のいず
れか1項に記載の組成物。
10. A composition according to any one of claims 1 to 7 for licking or chewing by a user.
【請求項11】 口臭を除去するための請求項1〜10のいずれか1項に記
載の口腔衛生組成物の製造におけるクロルヘキシジン又はその経口上許容される
付加塩の使用。
11. Use of chlorhexidine or an orally acceptable addition salt thereof in the manufacture of the oral hygiene composition according to any one of claims 1 to 10 for removing halitosis.
【請求項12】 請求項1〜10のいずれか1項に記載の口腔衛生組成物を
、口臭を除去する必要がある患者に、投与することによる口臭除去法。
12. A method for removing halitosis by administering the oral hygiene composition according to any one of claims 1 to 10 to a patient in need of removing halitosis.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3046632B1 (en) 2013-09-18 2018-06-13 Glymur B.V. Oral hygiene compositions
FR3033700B1 (en) * 2015-03-16 2017-03-17 Medical Beyond Modern Care COMPOSITION FOR THE TREATMENT OR INHIBITION OF ORAL BRAIN IN THE FORM OF A SPRAY
BE1022773B1 (en) * 2015-03-16 2016-08-31 Medical Beyond Modern Care Oral bad breath treatment or inhibition composition in the form of a spray
JP2022516648A (en) * 2019-01-11 2022-03-01 メダ エービー Oral care preparations containing chlorhexidine and arginine or salts thereof
US20220273534A1 (en) * 2019-08-01 2022-09-01 MEDA Pharma S.p.A. Liquid oral care composition

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58109410A (en) * 1981-12-24 1983-06-29 Lion Corp Composition for oral cavity
JPS61268259A (en) * 1985-05-24 1986-11-27 ライオン株式会社 Deodorant
IN168400B (en) * 1987-01-30 1991-03-23 Colgate Palmolive Co
DE3725248A1 (en) * 1987-07-30 1989-02-09 Henkel Kgaa ANTIMICROBIAL EFFICIENT, FLAVORED PREPARATIONS
DE3928063A1 (en) * 1989-08-25 1991-02-28 Henkel Kgaa ANTI-COATING TOOTHPASTE
DK0425016T3 (en) * 1989-10-27 1996-05-06 Genencor Int Antimicrobial method and formulation using type II endoglycosidase and antimicrobial agent
JPH08268854A (en) * 1995-03-31 1996-10-15 Sunstar Inc Composition for oral cavity
US5804165A (en) * 1996-07-24 1998-09-08 Arnold; Michael J. Antiplaque oral composition
NO307168B1 (en) * 1999-03-01 2000-02-21 Orix As Oral preparation effective against halitosis

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