JP2003519894A - Microwave system with two magnetrons and method of controlling this system - Google Patents

Microwave system with two magnetrons and method of controlling this system

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JP2003519894A JP2001551879A JP2001551879A JP2003519894A JP 2003519894 A JP2003519894 A JP 2003519894A JP 2001551879 A JP2001551879 A JP 2001551879A JP 2001551879 A JP2001551879 A JP 2001551879A JP 2003519894 A JP2003519894 A JP 2003519894A
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Abstract

(57)【要約】 2つの分離したマグネトロン(11,12)によって供給されるアプリケータ又はオーブン(5)を有する、物質又は物体の加熱システム又はマイクロ波処理システムが開示される。マグネトロンがマジックT結合器若しくはリングを形成する方向性結合器の結合ブランチ(3,4)に搭載される。その他の結合ブランチ(1,2)が物質(10)に照射する。インピダンスアダプタ(8,9)が、マグネトロンの作用をデカップリングして、マグネトロンから発せられた全パワーを物質又は物体へ送るために、ブランチ(3,4)に、及び/又はマグネトロン(11,12)の前に、設けられる。記述された方法によれば、例えば、デュアルバランストミキサーの助けで、インピダンスアダプタを調整することにより、物質や物体に対して一定で均一な最大分布、或いは反対に、物質や物体に応じて変調された分布を得ることができる。 Abstract: A heating system or microwave treatment system for a substance or object having an applicator or oven (5) provided by two separate magnetrons (11, 12) is disclosed. A magnetron is mounted on the coupling branch (3,4) of the magic T-coupler or directional coupler forming a ring. The other coupling branches (1,2) irradiate the substance (10). Impedance adapters (8,9) are coupled to the branches (3,4) and / or to the magnetrons (11,12) to decouple the operation of the magnetron and to transfer the total power emitted from the magnetron to the substance or object. ). According to the described method, for example, by adjusting the impedance adapter with the aid of a dual balanced mixer, a constant and uniform maximum distribution for the substance or object, or conversely, a modulation according to the substance or object The obtained distribution can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の背景】BACKGROUND OF THE INVENTION

所定の外形を有する所定の製品を加熱するためのマイクロ波アプリケータを作
ることは、常に特別な場合である。数多くの解決策が提案されてきたが、技術者
が提起した全ての問題を解決するのに十分で普遍的なものはない。家庭用オーブ
ンの構造の基礎である、多モード空洞は、容積が1dmに近い製品に対して最
適な方法で機能する。より小さいか、より大きい容積の製品に対しては、このオ
ーブンの効率は二流である。加熱時間は多くの半ば工業的使用に対して法外に長
くなるに違いない。
Making a microwave applicator for heating a given product with a given contour is always a special case. Many solutions have been proposed, but none is sufficient and universal to solve all the problems raised by engineers. The basis of the construction of a domestic oven, the multimodal cavity, works in an optimal way for products with a volume close to 1 dm 3 . For smaller or larger volume products, the efficiency of this oven is second order. The heating time must be prohibitively long for many mid-industrial uses.

【0002】 例えば、−18℃に保たれた冷凍庫から取り出した、肉片又はチーズ片を含む
ロールパンを温める場合を考えてみよう。800Wのパワーの家庭用マイクロ波
オーブンで35℃の温度にするためには、5分間の加熱が必要である。
For example, consider the case of warming a roll containing meat or cheese pieces taken from a freezer kept at -18 ° C. Heating to a temperature of 35 ° C. in a household microwave oven with 800 W power requires 5 minutes of heating.

【0003】 物体と同じ大きさの導管内にジェネレータによって発せされた放射エネルギー
を案内するする方法を我々は知っていると仮定しよう。製品中への波の透過は約
2cmである。このことは、物体の入口表面からの波の反射を無視すれば、又は
その前部に適当なインピダンスアダプタを配置することで受けたパワーに適応す
るようにすれば、波が4cm毎に半分に減衰して物体を横切るということを意味
する。物体の厚さが与えられれば、入射力の3分の1が反対面を通って物体から
抜け出るだろう。このパワーを物体に向けて反射させることは可能であるけれど
も、入口面は常に反対面よりも加熱されているから、製品の反対面で熱くなる前
に製品は入口面で焼けるかもしれない。
Let us assume that we know how to guide the radiant energy emitted by a generator into a conduit of the same size as an object. Wave penetration into the product is about 2 cm. This means that if we ignore the reflection of the wave from the entrance surface of the object, or by adapting the received power by placing a suitable impedance adapter in front of it, the wave will be halved every 4 cm. It means to decay and cross an object. Given the thickness of the object, one third of the incident force will exit the object through the opposite surface. Although it is possible to reflect this power back to the object, the product may burn at the inlet surface before it heats up at the opposite surface of the product, since the inlet surface is always heated more than the opposite surface.

【0004】 欧州特許第0 136 453号では、この状況を改善するために、マグネトロンから
発せられたパワーを二等分にして物体の各面に放射させることが提案されている
。物体内の電磁場の分布は対称であって微調整が可能である。2つからなる、各
面に1つ置かれた、適応物を介してマグネトロンから発せられた全パワーを伝送
することができる。アダプタは表面からの反射と、製品を通って送られた波を中
和する。
In EP 0 136 453, to improve this situation, it is proposed that the power emitted by the magnetron be bisected and radiated to each side of the object. The distribution of the electromagnetic field in the object is symmetric and can be fine-tuned. It is possible to transmit the total power emitted from the magnetron via the adaptation, which consists of two, one on each side. The adapter neutralizes the reflections from the surface and the waves sent through the product.

【0005】 しかしながら、物体の加熱が一度に2つのマグネトロンの使用を要求するとな
ると、単一のマグネトロンによって発せられるパワーは低すぎるから、問題は複
雑化する。1つのマグネトロンによって各面が放射されると、伝送され波は別の
マグネトロンの作用を妨害し、時にはチューブの破壊を招く。入射波を偏向した
り、互いに波の偏向を回転させたりする解決策がしばしば述べられてきた。物体
の両面で起こる回折現象のために、送られた波がしばしば多モード偏向を有する
ことから、周知ではあるが、それは必ずしも応用可能でなく、効率的でない。
However, the problem is complicated when the heating of the object requires the use of two magnetrons at a time, since the power emitted by a single magnetron is too low. As each surface is radiated by one magnetron, the transmitted waves interfere with the action of another magnetron, sometimes leading to tube destruction. Solutions have been often described for deflecting the incident waves and rotating the deflection of the waves with respect to each other. As is well known, it is not always applicable or efficient, as the transmitted waves often have multi-mode polarization due to diffraction phenomena that occur on both sides of the object.

【0006】 同様に、放射源が連続的でなく、パルス化された時間割で交互にそのパワーを
発する解決策が唱道されてきた。その結果、マグネトロンの1つから発せられて
他方のマグネトロンに到達した波はその他方のマグネトロンがオフである少しの
間だけ到来する。このデカップリング(decoupling)は効果的ではあるが、限界を
示している。
[0006] Similarly, solutions have been advocated in which the radiation source is not continuous and emits its power alternately in a pulsed timetable. As a result, waves emanating from one of the magnetrons and arriving at the other magnetron will arrive only while the other magnetron is off. This decoupling, although effective, has shown its limitations.

【0007】 次に述べる本発明は、各マグネトロンから発せされた波をマジックティー又は
他の方向性のある結合器を用いて、完全な方法でデカップリングすることを可能
にする。
The invention described below enables the waves emitted from each magnetron to be decoupled in a complete manner using magic tees or other directional couplers.

【0008】 こうして、事柄を固定して上述の例を続けると、18℃に保たれた冷凍庫から
取り出した、肉片又はチーズ片を含むロールパンは、本発明に従えば、5分間で
なく、約30秒で温められる。
Thus, continuing with the above example with the matter fixed, a roll containing meat pieces or cheese pieces taken from a freezer kept at 18 ° C., according to the invention, is not about 5 minutes, but about 30 minutes. Can be heated in seconds.

【0009】 本発明は、2つの分離したマグネトロンによって供給され、物質のためのマイ
クロ波加熱又は処理システムに関する。マグネトロンがマジックティー若しくは
方向性結合器の結合ブランチに搭載され、その他の結合ブランチはリングを形成
して物質に照射し、かつインピダンスアダプタは、マグネトロンの作用をデカッ
プリングしてマグネトロンから発せられたパワーを物質又は物体へ送信するよう
に、側方のブランチに、及び/又はマグネトロンの前に位置する。
The present invention relates to a microwave heating or processing system for materials supplied by two separate magnetrons. The magnetron is mounted on the magic tee or the coupling branch of the directional coupler, the other coupling branch forms a ring to irradiate the substance, and the impedance adapter decouples the action of the magnetron to generate the power emitted from the magnetron. To a substance or object, located in a lateral branch and / or in front of a magnetron.

【0010】 本発明は、2つのマグネトロンのそれぞれから到来する分布を、デュアルバラ
ンストミキサー(dual balanced mixers)の助けで、これらにより発生する電磁場
分布から、分離するための2つのマグネトロンを有するシステムの制御方法に関
する。
The present invention describes a system with two magnetrons for separating the distributions coming from each of the two magnetrons from the electromagnetic field distributions generated by them, with the aid of dual balanced mixers. Regarding control method.

【0011】 この方法は都合良く自動化され、フィードバック制御プロセスに従って、マグ
ネトロンの開口パラメータを最適化するように、デュアルバランストミキサーが
アダプタの調整を連続的に行う。
The method is conveniently automated and, according to a feedback control process, a dual balanced mixer continuously adjusts the adapter so as to optimize the aperture parameters of the magnetron.

【0012】 このようにして、均一で一定の分布が物質や物体に対して得られる。もし必要
であれば、変調された又は不均一の方法で場に分布するように、例えば物体の芯
が最大分布で、表面がより少ない場となるように、調整を制御することもできる
In this way, a uniform and constant distribution is obtained for the substance or object. If necessary, the adjustment can also be controlled so that it is distributed in the field in a modulated or non-uniform manner, for example the maximum distribution of the object core and less surface.

【0013】 物質のマイクロ波加熱又は処理のための対応するシステムは、2又は3以上の
マグネトロンによって供給されるアプリケータ又はオーブンと、アプリケータに
より反射されかつマグネトロンのそれぞれが受ける波を打ち消し可能にするいく
つかのインピダンスアダプタとを備える。1又は2以上のデュアルバランストミ
キサーは、そのリファレンスがマグネトロンから供給され、インピダンスアダプ
タを調整して物質に対してマグネトロンから発せられた全パワーを伝送するよう
に、受けたすべての波の中から前記マグネトロンから発せられた波の分け前を検
出する。
A corresponding system for microwave heating or processing of materials is capable of canceling the applicator or oven supplied by two or more magnetrons and the waves reflected by the applicators and received by each of the magnetrons. And several impedance adapters. One or more dual balanced mixers, whose reference is supplied by the magnetron and which adjusts the impedance adapter to transmit all the power emitted by the magnetron to the material, out of all the waves it receives The share of the waves emitted from the magnetron is detected.

【0014】 更に別の観点では、本発明は物質のマイクロ波加熱又は処理システムに関し、
このシステムは、2又は3以上のマグネトロンによって供給されるアプリケータ
と、マグネトロンのそれぞれから発せられてアプリケータに伝送されそして前記
アプリケータで反射された波の部分変更を可能にするいくつかの調整回路とを備
える。そのリファレンスパスがマグネトロンによって供給される1又は2以上の
デュアルバランストミキサーは、物質に作用する電磁場の分布を部分変更する回
路を調整してマグネトロンによって発せられる全パワーをそこに伝送するように
、受けたすべての波の中から、その他のマグネトロンのそれぞれによって発せら
れた波の分布を検出する。
In yet another aspect, the invention relates to a microwave heating or processing system for materials,
This system includes applicators supplied by two or more magnetrons and some adjustments that allow partial modification of the waves emitted from each of the magnetrons, transmitted to the applicator and reflected by said applicator. And a circuit. One or more dual balanced mixers, whose reference path is supplied by the magnetron, adjusts a circuit that partially modifies the distribution of the electromagnetic field acting on the material so that it transmits the total power emitted by the magnetron, Among all the waves received, the distribution of the waves emitted by each of the other magnetrons is detected.

【0015】 最後の2つの場合では、デュアルミキサーのリファレンスパスが、その周波数
をマグネトロンの1つの周波数に安定させる補助ジェネレータにより供給され、 その周波数が固定値によるマグネトロンの周波数からシフトしている補助ジェ
ネレータにより供給され、 信号レベルの等化後にマグネトロンからデュアルバランストミキサーのリファ
レンスパスに供給される。
In the last two cases, the reference path of the dual mixer is supplied by an auxiliary generator that stabilizes its frequency to one frequency of the magnetron, the frequency of which is shifted from the frequency of the magnetron by a fixed value. Is supplied from the magnetron to the reference path of the dual balanced mixer after signal level equalization.

【0016】 このような関係においては、以下に詳述するように、4つのデュアルバランス
トミキサーを用いることが可能となる。更に最良化のためには、全数が6つのデ
ュアルバランストミキサーがある。その2つの付加的なミキサーは、マイクロ波
を受ける物質又は物体、或いは製品の芯に直接的に又は極めて近くでなされた測
定のために用いられる。
In such a relationship, it is possible to use four dual balanced mixers, as will be described in detail below. For further optimization, there are 6 dual balanced mixers in total. The two additional mixers are used for measurements made directly or very close to the substance or object receiving microwaves or the core of the product.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

本発明は、非制限的な例によって単に示される付図を参照してより良く理解さ
れるだろう。
The present invention will be better understood with reference to the accompanying figures, which are merely given by way of non-limiting example.

【0018】 装置の操作方法は図1と図2の助けで容易に理解されるであろう。マイクロ波
アプリケータ又はオーブン5内に置かれた加熱される物体又は物質10は、マジ
ックティー(T)の対称な結合ブランチ(導波管)1及び2によって照射される
。図2に示されるようにその他の2つのブランチと直交する、その他の結合ブラ
ンチ(導波管)3及び4は、二重矢印で示すマイクロ波放射源又はマグネトロン
11と12を備える。ブランチ1と2は等長であり、その配置は完全に対称であ
る。全体として、導波管1,2はリング状又はリング導管状の導波管を形成する
How to operate the device will be readily understood with the aid of FIGS. 1 and 2. A heated object or substance 10 placed in a microwave applicator or oven 5 is illuminated by symmetrical coupling branches (waveguides) 1 and 2 of a magic tee (T). The other coupling branch (waveguide) 3 and 4, orthogonal to the other two branches as shown in FIG. 2, comprises microwave radiation sources or magnetrons 11 and 12, indicated by double arrows. The branches 1 and 2 are of equal length and their arrangement is perfectly symmetrical. As a whole, the waveguides 1 and 2 form a ring-shaped or ring-conduit-shaped waveguide.

【0019】 ブランチ3から生じる、マグネトロン11から発せられたエネルギーは、ブラ
ンチ4を通って出ていかない。それはティーのレベルで分割され、ブランチ1と
2において、同じ位相の2つの波になる。これらの波はそれぞれ物質10の面1
3と14で反射される。これらは位相が同じままで、ティーで結合し、ブランチ
3で一緒に加えられる。これらの反射波はブランチ4で対称のために打ち消され
る。従って、物体10の両面の前に、これらの反射波を打ち消すように2つのイ
ンピダンスアダプタ6,7をブランチ1,2に対称的に配置することは必要を満
たす。もし物体がエネルギーを全く吸収しなければ、伝送された波はそれら自身
位相が同じである。それはまたブランチ3においてティーのレベルで一緒になる
。従って、それらの反射波がマグネトロン11に到来しないようにまたマグネト
ロン11の作用を妨げないようにマグネトロン11の前のブランチ3に第3アダ
プタ8を配置することは必要を満たす。
The energy emitted from the magnetron 11 originating from the branch 3 does not exit through the branch 4. It splits at the tee level, resulting in two waves of the same phase in branches 1 and 2. Each of these waves is on surface 1 of substance 10.
It is reflected at 3 and 14. They remain in phase, join at the tee and are added together in branch 3. These reflected waves are canceled at branch 4 due to symmetry. Therefore, it is sufficient to arrange two impedance adapters 6, 7 symmetrically in the branches 1, 2 in front of both sides of the object 10 so as to cancel these reflected waves. If the objects do not absorb any energy, the transmitted waves are themselves in phase. It will also come together at tee level in branch three. Therefore, it is necessary to arrange the third adapter 8 in the branch 3 in front of the magnetron 11 so that those reflected waves do not reach the magnetron 11 and do not interfere with the operation of the magnetron 11.

【0020】 ブランチ4に位置するマグネトロン12は同様に作用する。ブランチ4は反対
の位相を有する波をブランチ1と2に発し、波は明らかに反対の位相で面101
と102から反射する。ティーでは、もし面101と102の前の対称的なアダ
プタ6,7がこれらの反射を消去すれば、それらはブランチ3で打ち消され、前
述したようにブランチ4で一緒に加えられる。マグネトロン12はエネルギーを
受けない。また前述したように、マグネトロン12から生じ、伝送されれた波は
、互いに反対の位相である。それらはティーのブランチ3で打ち消され、それら
を発したマグネトロン12のブランチ4で一緒になる。マグネトロン12の前に
置かれた第4のインピダンスアダプタ9は波がそこに到達するのを防ぐ。
The magnetron 12 located in the branch 4 operates in the same way. Branch 4 emits a wave with opposite phase to branches 1 and 2, the wave having a clearly opposite phase on surface 101.
And reflected from 102. At the tee, if the symmetric adapters 6,7 in front of faces 101 and 102 eliminate these reflections, they are canceled at branch 3 and added together at branch 4 as described above. The magnetron 12 receives no energy. Also, as mentioned above, the waves originating from and transmitted by the magnetron 12 are in opposite phase. They are countered on branch 3 of the tee and come together on branch 4 of the magnetron 12 that emitted them. A fourth impedance adapter 9 placed in front of the magnetron 12 prevents waves from reaching it.

【0021】 2つのマグネトロンの間のデカップリングはこうして可能な限り完全である。
マグネトロン11によって発せられたいかなる波もマグネトロン12に到達せず
、その逆も同じである。更に各マグネトロンによって発せられかつ各マグネトロ
ンに受け止められた波の反射を、個々に作用するインピダンスアダプタによって
、減じることができる。
The decoupling between the two magnetrons is thus as complete as possible.
No waves emitted by magnetron 11 reach magnetron 12 and vice versa. Furthermore, the reflection of the waves emitted by each magnetron and received by each magnetron can be reduced by the individually acting impedance adapters.

【0022】 こうしたインピダンスアダプタ6,7,8,9は図3に示される。それらは例
えばネジ付きのプランジャ型であって、f1に沿った導波管への挿入及び高さと
、f2に沿った長手方向の点から2つの自由度を享有する(導波管1に置かれた
アダプタの例で、ロッド6とスロット6'である)。
Such impedance adapters 6, 7, 8, 9 are shown in FIG. They are, for example, of the plunger type with threads and enjoy two degrees of freedom in terms of insertion and height into the waveguide along f1 and longitudinal points along f2. An example of an adapter that has a rod 6 and a slot 6 ').

【0023】 図4に示されるように、この装置は製品における電磁場の均一な分布を達成す
る利点を付加的に有する。この図4はmVの縦座標と、マグネトロン11,12
によって個々に照射された電場の振幅E1とE2を示す。全エネルギーに関連した
電場は、それらの共役、即ちE=E+Eに由来する。理想的には、E
水平線である。
As shown in FIG. 4, this device has the additional advantage of achieving a uniform distribution of the electromagnetic field in the product. This FIG. 4 shows the ordinate of mV and the magnetrons 11 and 12
2A and 2B show the amplitudes E1 and E2 of the electric fields individually irradiated by. The electric field related to the total energy comes from their conjugation: E * = E 1 + E 2 . Ideally, E * is the horizon.

【0024】 マグネトロン11からの発生で作られる電磁場の定常分布は2つのインピダン
スアダプタ6,7の間で対称である。場は、例えば図3のカーブ(11)のように物
体10の中心で最大を示す。分布は、製品における波の減衰に依存して多少顕著
である、最大と最小を示す。2つの連続した最大の間の距離は物質内の2分され
た波長に等しい。
The stationary distribution of the electromagnetic field produced by the magnetron 11 is symmetrical between the two impedance adapters 6, 7. The field shows a maximum at the center of the object 10, eg curve (11) in FIG. The distribution shows maxima and minima, which are somewhat pronounced depending on the wave attenuation in the product. The distance between two consecutive maxima is equal to the halved wavelength in the material.

【0025】 マグネトロン12で作られた電磁場の定常分布は、前述した分布と比較して、
同じ振幅の波に相応するが、波の分布は反対の位相である。定常分布は、マグネ
トロン11によって発せられた場の定常分布の最小が位置するところにその最大
が位置するように、波長の4分の1だけシフトされる。
The stationary distribution of the electromagnetic field produced by the magnetron 12 is
Corresponding to waves of the same amplitude, but the wave distributions are in opposite phase. The stationary distribution is shifted by a quarter of a wavelength such that its maximum is located where the minimum of the stationary distribution of the field emitted by the magnetron 11 is located.

【0026】 製品内に放散されたエネルギーEは、個々の分布の場の二乗の和に比例する
。双方の分布のそれぞれよりも双方の分布を考慮すれば、加熱はずっと均一であ
ることは分かっている。2つの分布の相対的な振幅が所望のようでなければ、ブ
ランチ1と2に位置する側方のインピダンスアダプタ6,7を微調整することに
より、エネルギーの局部分割を、本発明の範囲から離れることなく、調整するこ
とができる。続いて確かに、この装置は各マグネトロンの前のインピダンスアダ
プタ8,9を有するから、マグネトロンで反射された波はもはや無にされること
はないであろう。各マグネトロンの前で補正されるべき波は各マグネトロンから
真に発せられているから、前記マグネトロンでの調整をいかに是正するかは明ら
かであろう。
The energy E * dissipated in the product is proportional to the sum of the field squares of the individual distributions. It has been found that heating is much more uniform if both distributions are considered, rather than each. If the relative amplitudes of the two distributions are not as desired, the local division of energy is departed from the scope of the invention by fine-tuning the lateral impedance adapters 6,7 located in branches 1 and 2. Can be adjusted without. Then, indeed, since the device has an impedance adapter 8, 9 in front of each magnetron, the waves reflected by the magnetron will no longer be negated. Since the waves to be corrected in front of each magnetron are truly emanating from each magnetron, it will be clear how to correct the adjustments in said magnetron.

【0027】 記述された本発明は、連続的に発する2つのマグネトロンの作用をデカップリ
ングするために、マジックティー(T)を用い、また本発明は他のマグネトロンに
関して一方のマグネトロンを交互に作動するマグネトロンに適用する。本発明は
この解決を行い得るデカップリングを強化する。同様に、本発明は上述の従来の
手段と組み合わされる。この手段は、伝送及び反射波、又は発せられた波の偏向
の面を回転することになっている。
The invention described uses a magic tee (T) to decouple the action of two magnetrons that are emitted sequentially, and the invention also operates one magnetron with respect to another magnetron. Applies to magnetron. The present invention enhances the decoupling that can provide this solution. Similarly, the invention is combined with the conventional means described above. This means is to rotate the plane of deflection of the transmitted and reflected waves, or of the emitted waves.

【0028】 ブランチ3と4を通ってアプリケータに供給するようにする一方、マジックテ
ィーのブランチ1と2にマグネトロンを配置することにすれば、本発明の範囲か
ら離れないだろう。操作方法は同じ方法で示されるかもしれない。
It would be within the scope of the invention to place the magnetron in branches 1 and 2 of the magic tee while feeding the applicator through branches 3 and 4. The operating method may be shown in the same way.

【0029】 図2に示されるティー以外のマジックティーを、それが形状は異なっても同様
に作用するのであれば、使用してもよい。
Magic tees other than the tees shown in FIG. 2 may be used provided that they work differently in the same shape.

【0030】 同様に、90度ティーとして呼ばれる、3dbの方向性結合器を用いることが
できる。この結合器は普通の小さな側に普通の開口を有する2つの導管からなる
。このティーはマジックティーとは異なった対称面を有する。即ち、結合ブラン
チ1と2を通ってきた波は、3及び4で放射源に拘わらず、互いに直角位相であ
る。(λ/4だけ)異なるブランチ1と2の長さが選ばれるとして、この差異は
従来のマジックティーで示された状況に等しい。
Similarly, a 3db directional coupler, referred to as a 90 degree tee, can be used. This combiner consists of two conduits with a regular opening on the regular small side. This tee has a different plane of symmetry than the magic tee. That is, the waves coming through the coupling branches 1 and 2 are in quadrature with each other at 3 and 4 regardless of the radiation source. Given that different lengths of branches 1 and 2 (by λ g / 4) are chosen, this difference is equivalent to the situation illustrated by conventional magic tees.

【0031】 同様に、本発明の範囲を離れることなく、同じパワー出力又は異なるパワー出
力を有する2つのジェネレータとともに、3db、例えば10db異なる結合係
数を有する方向性結合器を用いることができる。波の循環は上述したように起こ
る。定常分布は明らかに振幅で部分変更され、例えば物体のある面を所望の時間
過熱するために、そこから利益を得ることができる。
Similarly, without departing from the scope of the invention, it is possible to use a directional coupler with a coupling coefficient different by 3 db, for example 10 db, with two generators having the same power output or different power outputs. Wave circulation occurs as described above. The stationary distribution is obviously modified in amplitude and can benefit from it, for example to heat a surface of the object for a desired time.

【0032】 一般的な方法でしかも工業的マグネトロンの価格がパワー出力よりも急速に高
くなれば、より低いパワーの2つのマグネトロンの使用が単一のマグネトロンの
使用と比べて非常に経済的な解決になる。
If the price of an industrial magnetron is rapidly higher than the power output in a general way, the use of two lower power magnetrons is a very economical solution compared to the use of a single magnetron. become.

【0033】 本発明は、いくつかの高周波又はマイクロ波放射源のアッセンブラやコンバイ
ナと呼ばれる装置と同じようなものを何も有しないことに注意すべきである。こ
れらの装置は、2つ又は3つのブランチを有する。これらは2つ又は3つのアン
プや同期放射源、即ち全く同一のプリアンプによって供給される同期放射源に分
割するのに役立つ。これらの装置を用いて、波の組合せは放射源が同期的である
だけの理由で起こる。
It should be noted that the present invention does not have anything similar to some high frequency or microwave radiation source assemblies or devices called combiners. These devices have two or three branches. These serve to divide into two or three amplifiers or synchronous radiation sources, ie synchronous radiation sources fed by exactly the same preamplifier. With these devices, wave combination occurs only because the radiation sources are synchronous.

【0034】 本発明は、2つのパーツに分けられたアプリケータ又は同じように作動する2
つのアプリケータに供給する単一のジェネレータ付きのマジックティーを用いな
いし、またこれによって特徴的ではない。この装置は、その個々の反射した波が
処理の過程で同じように強く変化するが、例えば FR 2 316 761 に示されるよう
に、調整なしで2つのアプリケータのおける吸収を最適にするためにマジックテ
ィーを用いている。
The present invention is an applicator divided into two parts or two that operate in the same way.
It does not use and is not characteristic of a magic tee with a single generator feeding two applicators. This device is designed to optimize the absorption in the two applicators without adjustment, as shown for example in FR 2 316 761, whose individual reflected waves vary equally strongly during the process. I use magic tea.

【0035】 本発明によるシステムの第1の空間的な配置は、例えば図5に示される。そこ
での参照番号は、図1〜図3に示される部材と同一であるか又は全く同一の機能
を果たす部材に対して図1〜図3から借用している。マイクロ波アプリケータ5
又はオーブンは処理される製品10を封じ込める。この製品10がドアによって
アプリケータの中に挿入され、そこから引き出されることが可能なアプリケータ
が描かれている。。
A first spatial arrangement of the system according to the invention is shown, for example, in FIG. The reference numbers there are borrowed from FIGS. 1 to 3 for the same or to perform the same function as the members shown in FIGS. Microwave applicator 5
Alternatively, the oven contains the product 10 to be treated. An applicator is depicted that allows this product 10 to be inserted into and withdrawn from the applicator by a door. .

【0036】 マジックティー(T)は、マグネトロン11と12からそれぞれ始まり、アプリ
ケータ5に導くブランチ又は導波管1,2からなるリング状導管で終わるブラン
チ3と4、即ち導波管の結合位置にある。導波管は例えば標準の86×43mm
方形型である。リングは環状若しくは楕円状、或いは真っ直ぐな部分を曲げても
よい。
The magic tee (T) is a branch 3 and 4 which starts from the magnetrons 11 and 12 respectively, and which leads to the applicator 5 or ends with a ring-shaped conduit consisting of the waveguides 1 and 2, that is, the coupling position of the waveguides. It is in. The waveguide is, for example, a standard 86 × 43 mm
It is a square type. The ring may have an annular or elliptical shape, or a straight portion may be bent.

【0037】 この場合、マグネトロン11,12から始まり製品で受け取られる本発明のマ
イクロ波エネルギーに応じた最適な分布のためにアダプタ6,7,8,9の位置
を最終的に調整することができる。
In this case, the positions of the adapters 6, 7, 8, 9 can be finally adjusted for the optimum distribution according to the microwave energy of the present invention received by the product starting from the magnetrons 11, 12. .

【0038】 本発明で述べられた装置はまた自動化し得る。その使用はこの事実だけで正当
化し得る。特に、もし処理される製品の誘電特性が変わる場合、或いはもし製品
が変化する形状を具備する場合、図1及び2の装置のアダプタの調整は、図6を
参照しても明らかなように、十分に自動化し得る。
The device described in the present invention may also be automated. Its use can be justified by this fact alone. In particular, if the dielectric properties of the product to be processed change, or if the product has a varying shape, the adjustment of the adapter of the device of FIGS. 1 and 2, as will be apparent with reference to FIG. It can be fully automated.

【0039】 例えば、加熱又は調理の間、処理される製品がふくらんだり、反対にしぼんだ
りする場合がしばしばある。そのとき誘電特性は一般的に変化し、その場合、そ
れに応じて時間及び付与されるパワーの関数として調整を部分変更できることが
有利である。
For example, during heating or cooking, the product being treated often swells and vice versa. The dielectric properties then generally change, in which case it is advantageous to be able to modify the adjustment accordingly as a function of time and applied power.

【0040】 このことを行うために、方向性測定結合器の形状をしたセンサ13,14が各
マグネトロン11,12の前に配置される。これらのセンサは、各マグネトロン
11及び12によって、入射パワーPiの測定と反射パワーPrの測定が可能である
。4つのデュアルバランストミキサーはマイクロ波信号を検出するのに用いられ
る。なお、この装置はまた、処理される製品のすぐ近くか、或いは製品の芯にす
べり込ませたアンテナ又はセンサ15を有する。この点は以下に詳述する。即ち
、本発明のシステムの他の幾何学的配置を示した後で、対応する参照符号は同一
部材か、機能的に同一部材を示している。
To do this, sensors 13, 14 in the form of directional measuring couplers are arranged in front of each magnetron 11, 12. These sensors can measure the incident power Pi and the reflected power Pr by the respective magnetrons 11 and 12. Four dual balanced mixers are used to detect the microwave signal. It should be noted that the device also has an antenna or sensor 15 that is slipped in the immediate vicinity of the product to be processed or in the core of the product. This point will be described in detail below. That is, after showing other geometries of the system of the present invention, corresponding reference numerals indicate identical or functionally identical parts.

【0041】 実際、図7はこのシステムの他の装置を示す。ここでオーブン5は錐体の代わ
りに平行六面体であり、オーブンと導波管(ブランチ1,2)の間には導波管1
6と17が、ブランチ1と2に関して傾いて、しかも互いに直交してそれぞれ介
装される。これらの2つの相補的な導波管16,17は、電場ベクトルの指向に
作用し、これにより反射と伝送の複素係数の相対値を調節し、もし必要ならばマ
グネトロンのデカップリングを高めることを可能にする。
In fact, FIG. 7 shows another device of this system. Here, the oven 5 is a parallelepiped instead of a cone, and the waveguide 1 is provided between the oven and the waveguide (branches 1 and 2).
6 and 17 are respectively inclined with respect to the branches 1 and 2 and are orthogonal to each other. These two complementary waveguides 16 and 17 act on the orientation of the electric field vector, thereby adjusting the relative values of the complex coefficients of reflection and transmission and, if necessary, enhancing the decoupling of the magnetron. to enable.

【0042】 図8は更に別の装置を示す。ここでは4つのマグネトロン11,12;11'
,12'が二つ一組になって2つのマジックティーT、T'にそれぞれ4つのブラ
ンチ1,2,3,4(第1リング状導管)、1',2',3',4'(第2リング状
導管)を有する。この2つのリングが円筒状のオーブン5'の両側部で終端する
FIG. 8 shows yet another device. Here four magnetrons 11, 12; 11 '
, 12 'as a set of two magic tees T, T'each having four branches 1, 2, 3, 4 (first ring-shaped conduit), 1', 2 ', 3', 4 '. (Second ring-shaped conduit). The two rings terminate on both sides of the cylindrical oven 5 '.

【0043】 別の形態として、図示しないが、2つの他のマグネトロンによって供給されか
つ他の2つのマグネトロンに関して直交する第3のリング状導管を付加すること
は可能である。即ち図8では水平面にある。
Alternatively, although not shown, it is possible to add a third ring-shaped conduit supplied by two other magnetrons and orthogonal to the other two magnetrons. That is, it is on a horizontal plane in FIG.

【0044】 図9は更に別の装置を図式的に示す。ここでマイクロ波エネルギーが開放的な
アプリケータ構造5におけるスロット18で放射され、この構造は処理される製
品がスロットを過ぎて移動するのを可能にする。
FIG. 9 schematically shows a further device. Here microwave energy is radiated in the slots 18 in the open applicator structure 5, which allows the product to be treated to move past the slots.

【0045】 囲まれた空間に置かれた物質又は物体に放射するこのスロットガイドは、スロ
ット近傍における電磁場の均一な分布を得ることが難しいけれども、数多くの高
性能のアプリケータの基礎になっている(特に、Sebastien Keller, These de D
octorat, Universite de Henri Poincare (Nancy 1), 6 November 1997を参照)
。2つのマグネトロンからスロットガイドに供給することによって問題は単純化
される。
This slot guide, which emits to a substance or object placed in an enclosed space, is the basis of many high performance applicators, although it is difficult to obtain a uniform distribution of the electromagnetic field in the vicinity of the slot. (Especially Sebastien Keller, These de D
(See octorat, Universite de Henri Poincare (Nancy 1), 6 November 1997)
. The problem is simplified by feeding the slot guide from two magnetrons.

【0046】 図9に示されるこうした装置では、長さ方向で均一でありかつスロットに垂直
な方向で均一である分布が得られる電磁場放射器が例示される。バッチ式処理に
むしろ関係する前述した図の装置とは反対に、それは連続処理を可能にする。ス
ロット18が高さの真ん中に位置しておらず、むしろ高さの2/3と3/4の間
にあることに留意すべきである。この放射用スロットガイドは傾斜したフラップ
19,20を備えることが好ましい。
In such a device as shown in FIG. 9, an electromagnetic field radiator is illustrated which gives a distribution that is uniform in the length direction and uniform in the direction perpendicular to the slots. In contrast to the device of the above figures, which is rather concerned with batchwise processing, it allows continuous processing. It should be noted that the slot 18 is not located in the middle of the height, but rather between 2/3 and 3/4 of the height. The radiating slot guide preferably comprises slanted flaps 19,20.

【0047】 デュアルバランストミキサーの詳細について戻ると、この役割は、図10に示
される原則に従ってセンサ13,14で測定されたパラメータの変化を連続的に
観測しそして処理することである。
Returning to the details of the dual balanced mixer, its role is to continuously observe and process the changes in the parameters measured by the sensors 13, 14 according to the principle shown in FIG.

【0048】 これらのデュアルバランストミキサーにはリファレンスマイクロ波信号Rがそ
れらの入力に供給される。次いでそれらはリファレンス信号と同位相であるすべ
ての波とリファレンスと同位相である波のみをベクトル的に検出する。次に信号
Pi11,Pr11,Pi12及びPr12は、 各ブランチ3及び4で反射されたいずれかの波の画像か、 又は物体の各面で反射された波の不均衡な画像か、 或いは各マグネトロンから伝送された波の不均衡な画像か を得るために結合され得る。
A reference microwave signal R is supplied to their inputs to these dual balanced mixers. They then vectorically detect only all waves that are in phase with the reference signal and only those waves that are in phase with the reference. Next signal
Pi11, Pr11, Pi12 and Pr12 are either images of the waves reflected on each branch 3 and 4 or an unbalanced image of the waves reflected on each face of the object, or transmitted from each magnetron Can be combined to obtain an unbalanced image of the waves.

【0049】 Pi11はマグネトロン11から、Pi12はマグネトロン12から発せられた入射パ
ワーを示す。Pr11はマグネトロン11に向かう反射パワー、Pr12はマグネトロン
12に向かう反射パワーを示す。
Pi 11 indicates the incident power emitted from the magnetron 11, and Pi 12 indicates the incident power emitted from the magnetron 12. Pr11 indicates the reflection power toward the magnetron 11, and Pr12 indicates the reflection power toward the magnetron 12.

【0050】 関連のある波の振幅と位相を特徴づけるこの情報は、決められたスケジュール
で所望の処理の関数として、4つのアダプタの調整に作用することを可能にする
。基本波が回路を循環する方法及び基本波を循環したい方法は知られているので
、あるスケジュールを明らかに適用することができる。
This information, which characterizes the amplitude and phase of the relevant waves, makes it possible to act on the coordination of the four adapters as a function of the desired treatment on a fixed schedule. Since it is known how the fundamental wave circulates in the circuit and how it wants to circulate the fundamental wave, certain schedules can obviously be applied.

【0051】 都合良く、アダプタはそれらの出力信号をプロセッサに発する。これは単純な
携帯コンピュータに変えてもよい。もし必要ならば、それらの絶対的又は相対的
位置を変えることによって、常に最適なスケジュールのままであるようにして、
プロセッサはアダプタ6,7,8、9へ制御コマンドを送る。
Conveniently, the adapters emit their output signals to the processor. This may be turned into a simple handheld computer. If necessary, change their absolute or relative position so that they always remain at the optimal schedule,
The processor sends control commands to the adapters 6, 7, 8, 9.

【0052】 1(上記参照)又は2以上のアンテナを用いて、またそのリファレンス信号が各
マグネトロンから発せられた入射波であるデュアルバランストミキサーを用いる
ことによって、製品内の電磁場の分布を直接測定し、このことによって手順をま
た実行することができる。各マグネトロンによって作られる電場の値を隔離する
ことは可能である。
Direct measurement of the electromagnetic field distribution in a product by using one (see above) or two or more antennas and by using a dual balanced mixer whose reference signal is the incident wave emitted from each magnetron However, this allows the procedure to be performed again. It is possible to isolate the value of the electric field created by each magnetron.

【0053】 方向性測定結合器を用いることなく単一のマグネトロン11から発せられた信
号をデュアルバランストミキサーのリファレンスパスに供給することは可能であ
る。一般的に、マグネトロンはショートサーキットの前の矩形の導管内に据え付
けられる。その位置はマグネトロン11がその出力に従って作動しかつ反対方向
の導管内へのその全パワーを発するように考慮して選択される。マグネトロン1
1の送波に比例した振幅の波を磁気の影響で感知するように、環状回路をショー
トサーキットの底部に搭載することができる。この環状回路はデュアルバランス
トミキサーに供給し得る。
It is possible to feed the signal emitted by a single magnetron 11 to the reference path of a dual balanced mixer without using a directional measuring coupler. The magnetron is typically installed in a rectangular conduit in front of the short circuit. The position is chosen taking into account that the magnetron 11 operates according to its output and emits its total power into the conduit in the opposite direction. Magnetron 1
A ring circuit can be mounted at the bottom of the short circuit so that a wave of amplitude proportional to the transmission of 1 is sensed under the influence of magnetism. This loop circuit can feed a dual balanced mixer.

【0054】 オーブンが少なくとも4つのインピダンスアダプタを備えるため、換言すれば
4つのアダプタは各アダプタが側方位置と押し込まれる量の2つの自由度を有し
合計で8つの調整を有するので、異なった形態での上述したようなオーブンの調
整の自動制御は、複雑である。オーブンが少なくとも2つのマグネトロンにより
供給される事実、即ちオーブン内又はリングの全てのブランチ内に広がる電磁場
が各マグネトロンから発せられる電磁場の可変の一次組合せである事実を留意し
なければならない。従って、センサが各マグネトロンから発せられる電磁場の分
け前を選択すること、またセンサが振幅と位相に関する2種の情報を与えること
が、必要である。
Since the oven comprises at least four impedance adapters, in other words the four adapters are different because each adapter has two degrees of freedom in the lateral position and the amount pushed in and has a total of eight adjustments. The automatic control of oven conditioning as described above in form is complicated. It should be noted that the oven is supplied by at least two magnetrons, i.e. the electromagnetic field spreading in the oven or in every branch of the ring is a variable first-order combination of the electromagnetic fields emanating from each magnetron. Therefore, it is necessary for the sensor to select a share of the electromagnetic field emanating from each magnetron, and for the sensor to provide two types of information regarding amplitude and phase.

【0055】 これらの条件は、全電磁場の振幅だけを測定するダイオード付きの通常の検出
器では保証され得ない。他方、意図した目的は単純なミキサーを用いることによ
り達成し得る。ミキサーは2つの電気信号が供給される検出器である。一方は信
号Sと呼ばれ、他方はリファレンスRと呼ばれる。この入力は「局部発振器」の
表現で技術文献にしばしば示される。2つの信号RとSが同一周波数で同位相で
あるときしか、単純なミキサーは非ゼロ電圧を付与しない。この電圧は、振幅S
と、Rに対する位相Sの余弦に比例する。即ち、V=S・cosψである。
These conditions cannot be guaranteed in a conventional detector with a diode, which measures only the amplitude of the total electromagnetic field. On the other hand, the intended purpose can be achieved by using a simple mixer. A mixer is a detector supplied with two electrical signals. One is called the signal S and the other is called the reference R. This input is often referred to in the technical literature by the expression "local oscillator". A simple mixer provides a non-zero voltage only when the two signals R and S are at the same frequency and in phase. This voltage has an amplitude S
And is proportional to the cosine of the phase S with respect to R. That is, V = S · cos ψ.

【0056】 平行に配置した2つの単純なミキサーと適当な移相器を備えた形態で、デュア
ルバランストミキサーの作り方は知られている。このデュアルバランストミキサ
ーに同位相の信号Sと、リファレンスRが供給されると、デュアルバランストミ
キサーはS・cosψとS・sinψに比例した2つの出力電圧を与える。
It is known how to make a dual balanced mixer with two simple mixers arranged in parallel and a suitable phase shifter. When the signal S having the same phase and the reference R are supplied to the dual balanced mixer, the dual balanced mixer gives two output voltages proportional to S · cosφ and S · sinφ.

【0057】 例えば、もし信号Rがマグネトロン11からの波であれば、デュアルバランス
トミキサーの入力Sに双方のマグネトロンから到来する複合信号を利用すること
ができる。その結果、デュアルバランストミキサーの出力は信号R、即ちマグネ
トロン11から発せられた波と同位相の電磁場の分け前だけを検出する。更にデ
ュアルバランストミキサーは検出された分け前の振幅と位相を与える。この2つ
の出力は所望のインピダンスアダプタを調整可能にする。
For example, if the signal R is a wave from the magnetron 11, then the composite signal coming from both magnetrons can be used for the input S of the dual balanced mixer. As a result, the output of the dual balanced mixer detects only the signal R, ie the share of the electromagnetic field in phase with the wave emitted by the magnetron 11. In addition, the dual balanced mixer provides the amplitude and phase of the detected shares. These two outputs allow the desired impedance adapter to be adjusted.

【0058】 4つのインピダンスアダプタ6−7−8−9の調整のフローチャートを示す図
10に戻って、2つの方向性測定結合器13,14をマグネトロンとインピダン
スアダプタ8,9の間のティーの結合ブランチ3と4に設けることができる。
Returning to FIG. 10 which shows a flow chart for the adjustment of the four impedance adapters 6-7-8-9, two directional measuring couplers 13,14 are used to couple the tees between the magnetron and the impedance adapters 8,9. It can be provided in branches 3 and 4.

【0059】 各測定結合器は入射波と反射波にそれぞれ比較例した、関連するブランチを循
環するPi11,Pr12,Pi11,Pr12で示された2つの信号を与える。
Each measurement coupler provides two signals, Pi11, Pr12, Pi11, Pr12, circulating in the relevant branches, respectively, for the incident and reflected waves respectively.

【0060】 もしデュアルバランストミキサーがリファレンス信号Rとして入射波Pi11を、
信号Sとして反射波Pr12を有すれば、その出力はマグネトロン11の送出波と同
位相の波の振幅と位相を示すであろう。これらの出力は、前述から明らかなよう
に、マグネトロン11から発せられかつ物体や物質10の面13で反射された波
を打ち消すように、アダプタ6と7を対称に位置すれば、それらを打ち消すよう
に調整することを可能にする。
If the dual balanced mixer uses the incident wave Pi11 as the reference signal R,
If the signal S has a reflected wave Pr12, its output will show the amplitude and phase of the wave in phase with the outgoing wave of the magnetron 11. As will be apparent from the above, these outputs will cancel the waves emitted from the magnetron 11 and reflected by the surface 13 of the object or substance 10 if the adapters 6 and 7 are symmetrically positioned. It is possible to adjust to.

【0061】 アダプタの対称性の調整は、これらの出力をまた打ち消すような事柄を考案す
ることによって、そのリファレンスRが信号Pi12により付与され、その信号パス
に信号Pr11が供給される、別のデュアルバランストミキサーの出力Sによりまた
制御され得る。
Adjusting the symmetry of the adapter is another dual, where its reference R is provided by the signal Pi12 and its signal path is supplied with the signal Pr11 by devising things such that these outputs are also cancelled. It can also be controlled by the output S of the balanced mixer.

【0062】 もし第3のデュアルバランストミキサーのリファレンスRに信号Pi11が供給さ
れ、その信号パスに信号Pr11が供給されれば、マグネトロン11が受けそしてそ
こから発せられた反射波を測定する、振幅と位相に関する情報がその出力に直接
的に得られる。従って、その電圧がゼロになるようにインピダンスアダプタ8を
調整することによって前記反射波を打ち消すことができる。
If the reference R of the third dual balanced mixer is supplied with the signal Pi11 and its signal path is supplied with the signal Pr11, the reflected wave received by and emitted from the magnetron 11 is measured, And the information about the phase is available directly at its output. Therefore, the reflected wave can be canceled by adjusting the impedance adapter 8 so that the voltage becomes zero.

【0063】 同じ手順に従って同じ精神で、もし第4のバランストミキサーのリファレンス
パスRに信号Pi12が供給され、その信号パスSに信号Pr12が供給されれば、マグ
ネトロン12がいかなる反射波を受けないように、マグネトロン12の前に位置
するインピダンスアダプタを調整可能にする情報が出力される。
According to the same procedure and in the same spirit, if the signal Pi12 is supplied to the reference path R of the fourth balanced mixer and the signal Pr12 is supplied to the signal path S, the magnetron 12 does not receive any reflected wave. Thus, information is output enabling adjustment of the impedance adapter located in front of the magnetron 12.

【0064】 先に示した4つのインピダンスアダプタの調整のフローチャートでは、4つの
デュアルバランストミキサーが使用され、そのリファレンスパスRにマグネトロ
ンの前に位置する2つの方向性結合器によって集められた信号が供給される。イ
ンピダンスアダプタの調整はこれらのデュアルバランストミキサーからの出力を
ゼロにすることを努めるに等しい。
In the flow chart of coordination of the four impedance adapters shown above, four dual balanced mixers are used, whose reference path R contains the signals collected by the two directional couplers in front of the magnetron. Supplied. Adjusting the impedance adapter is equivalent to trying to zero the output from these dual balanced mixers.

【0065】 別な言い方をすれば、調整は、 a) マグネトロン12からの反射信号Pr、即ちPr12を、マグネトロン11の入射
信号Pi,、即ちPi11に交差させることによって、 b) マグネトロン11からの反射信号Pr、即ちPr11を、マグネトロン12の入射
信号Pi,、即ちPi12に交差させることによって、 c) 信号Pr11を信号Pi11に組合せることによって、更に d) 信号Pr12を信号Pi12に組合せることによって、得られるデュアルバランスト
ミキサーからの出力信号を打ち消すことにより、行われる。
In other words, the adjustment is a) by crossing the reflected signal Pr from the magnetron 12, ie Pr12, with the incident signal Pi of the magnetron 11, ie Pi11, b) the reflection from the magnetron 11. By crossing the signal Pr, Pr11, with the incident signal Pi, i.e. Pi12, of the magnetron 12, c) by combining the signal Pr11 with the signal Pi11, and d) by combining the signal Pr12 with the signal Pi12, This is done by canceling the resulting output signal from the dual balanced mixer.

【0066】 図10a〜10dは符号a)〜d)の上記組合せのそれぞれに相応する。図10a
と図10bでは、対称性調整はオーブン5の上流のリングをなすブランチ1と2
に位置するアダプタ6と7をそれぞれ制御することにより行われ、図10cでは
ブランチ3に位置するアダプタ8が調整され、図10bではブランチ4に位置す
るアダプタ9が調整される。
FIGS. 10 a to 10 d correspond to each of the above combinations of symbols a) to d). Figure 10a
And in FIG. 10b, the symmetry adjustment involves branch 1 and 2 forming a ring upstream of the oven 5.
By adjusting each of the adapters 6 and 7 located at 1. In FIG. 10c the adapter 8 located at branch 3 is adjusted and in FIG. 10b the adapter 9 located at branch 4 is adjusted.

【0067】 本発明の範囲から離れることなく、このフローチャートは部分変更し得る。最
初に、既に上述したように、ショートサーキットピストンの底部に位置するアン
テナにより、デュアルバランストミキサーのリファレンスパスRに、マグネトロ
ン11と12にできるだけ近くで取り出した信号を供給することできる。
This flowchart may be modified without departing from the scope of the invention. First, as already mentioned above, the antenna located at the bottom of the short circuit piston allows the reference path R of the dual balanced mixer to be fed with the extracted signal as close as possible to the magnetrons 11 and 12.

【0068】 最良の結果を得るように、製品に作用する全電磁場の分布を評価し、4つのイ
ンピダンスアダプタの調整に作用することもできる。実際、図6に示された製品
の中央に位置するセンサとして働くアンテナ15を考えてみると、それは全場を
示す。電磁場、即ちマグネトロン11から発せられる分け前のコンポーネント1
1を評価するためには、リファレンスパスRにPi11が供給される第5のデュアル
バランストミキサーの信号パスSにこのアンテナを接続することが十分である。
このとき、明らかに、電磁場分布のコンポーネント11の振幅が最大になるよう
に、4つのインピダンスアダプタは一緒に調整されるであろう。
For best results, the distribution of the total electromagnetic field acting on the product can also be evaluated and act on the adjustment of the four impedance adapters. Indeed, considering the antenna 15 acting as a sensor located in the center of the product shown in FIG. 6, it shows the whole field. Electromagnetic field, ie the component 1 of the share emitted from the magnetron 11.
To evaluate 1, it is sufficient to connect this antenna to the signal path S of the fifth dual balanced mixer in which Pi11 is supplied to the reference path R.
Obviously then, the four impedance adapters will be adjusted together so that the amplitude of the component 11 of the electromagnetic field distribution is maximized.

【0069】 同様に、リファレンスパスRがPi12であって信号パスSがアンテナ15まで配
線される第6のデュアルバランストミキサーは、製品の中央に広がる電磁場の(
マグネトロン12から発せられる)コンポーネント12に関する振幅と位相につ
いての情報を供給する。もし4つのインピダンスアダプタが適切に調整されれば
、それは最小になるはずである。
Similarly, the sixth dual balanced mixer in which the reference path R is Pi12 and the signal path S is wired to the antenna 15 is the electromagnetic field spreading in the center of the product (
It supplies information about amplitude and phase for component 12 (which originates from magnetron 12). If the four impedance adapters are properly adjusted, it should be minimal.

【0070】 先に詳述したようにまた図4に示されるように、この調整はアプリケータ5に
置かれた物質又は物体に最大で均一な分布を放射するように意図される。この調
整を異なった方法でやり遂げることによって、上述したように、空間的に不均一
に広がった特別な分布を作り出すこともできる。
As detailed above and as shown in FIG. 4, this adjustment is intended to emit a maximum uniform distribution of the substance or object placed on the applicator 5. By accomplishing this adjustment in different ways, it is also possible to create special spatially non-uniform distributions, as described above.

【0071】 上述したように、本発明は、従って、デュアルバランストアダプタにより発せ
される信号の関数として連続的にそれらの出力周波数を調整しかつ物質又は物体
への最適な分布を保証するように、上述した調整手段とアダプタ(6,7,8,9)の制
御手段を含む加熱システムにまた関する。
As mentioned above, the present invention thus continuously adjusts their output frequencies as a function of the signals emitted by the dual balanced adapter and ensures an optimum distribution to the substance or object. , A heating system including the adjusting means and the control means of the adapters (6,7,8,9) described above.

【0072】 デュアルバランストミキサーは市場で利用可能な装置である。これらは例えば
アメリカ合衆国のANARENやMINI-CIRCUITSで製造される。
The dual balanced mixer is a commercially available device. These are manufactured, for example, by ANAREN and MINI-CIRCUITS in the United States.

【0073】 本発明は、食物の解凍若しくは調理又は飲物の加熱用の、及びまた食料業界又
はより一般的には物質処理業界における工業用のどんなタイプのマイクロ波シス
テムに実施することができる。
The present invention can be implemented in any type of microwave system for the defrosting or cooking of food or the heating of drinks, and also for industry in the food industry or more generally in the material processing industry.

【0074】 特に有益な用途は、常に極端に高価な操作である、廃棄物を焼却するよりもむ
しろ廃棄物を投げ捨て得るか再利用し得るように、特に感染性廃棄物、例えば W
O 97/44069 の例に記述されるような、廃棄物の処理用である。こうしたシステ
ムはその基礎を築くことができるであろう。
A particularly beneficial application is always an extremely expensive operation, especially for infectious wastes, such as W, so that the waste can be dumped or reused rather than incinerated.
For the treatment of waste as described in the example of O 97/44069. Such a system could lay the foundation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 図1は、本発明のマイクロ波加熱又は処理システムのマジックティー(T)とそ
の関連リングを有する例示的なアプリケータの基本的概略図である。
FIG. 1 is a basic schematic diagram of an exemplary applicator having a Magic Tee (T) and its associated ring of a microwave heating or treatment system of the present invention.

【図2】 図2は、図1で示されたアプリケータのマジックティーの(例えば、観察者は
矢印Pで画された軸に沿って見えるが)概略の斜視図である。
FIG. 2 is a schematic perspective view of the magic tee of the applicator shown in FIG. 1 (eg, as seen by an observer along the axis delineated by arrow P).

【図3】 図3は、図1にようなアプリケータ用のプランジャロッド付きのインピダンス
アダプタの詳細図である。
FIG. 3 is a detailed view of an impedance adapter with a plunger rod for the applicator as in FIG.

【図4】 図4は、マグネトロンのそれぞれ及びリング内のその結合により生じた電磁場
の定常分布を示す。
FIG. 4 shows the steady-state distribution of the electromagnetic field produced by each of the magnetrons and its coupling in the ring.

【図5】 図5は、図1の基本図に従った本発明システムの第1実施形態の外観斜視図で
ある。
5 is an external perspective view of the first embodiment of the system of the present invention according to the basic diagram of FIG. 1. FIG.

【図6】 図6は、マグネトロンの作動の調整を可能にするセンサが示される図5に対応
する図である。
FIG. 6 is a view corresponding to FIG. 5 in which a sensor is shown which allows adjustment of the operation of the magnetron.

【図7】 図7は、ブランチとアプリケータの間にあってアプリケータの入力に置かれる
2つの付加的な導波管を有する、本発明システムの別の空間的な配置を示す。
FIG. 7 shows another spatial arrangement of the inventive system with two additional waveguides located at the input of the applicator between the branch and the applicator.

【図8】 図8は、4つのマグネトロン(2つのマグネトロンの2倍)を用いた本発明シ
ステムの更に別の空間的な配置を示す。
FIG. 8 shows yet another spatial arrangement of the inventive system with four magnetrons (twice the two magnetrons).

【図9】 図9は、マイクロ波エネルギーを発するスロットを通り過ぎる物質の連続処理
に有利なマイクロ波スロットアプリケータを有する更に別のレイアウトを示す。
FIG. 9 shows yet another layout with a microwave slot applicator that is advantageous for continuous processing of material past slots that emit microwave energy.

【図10】 図10(図10a〜10d)は、測定の原則と、リングの作用を調整するため
にデュアルバランストミキサーに用いられる計算の原則を概略図の形態で一緒に
示す。
FIG. 10 (FIGS. 10a-10d) together show in schematic form the principle of measurement and the principle of calculation used in a dual balanced mixer to regulate the action of the ring.

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Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 2つの分離したマグネトロン(11,12)によって供給されるア
プリケータ又はオーブン(5)を有する、物体又は物質を加熱又は処理するための
マイクロ波システムにおいて、 前記マグネトロンがマジックティー若しくはリングを形成する方向性結合器の
結合ブランチ(3,4)に搭載され、その他の結合ブランチ(1,2)が前記物質(10)に照
射し、かつインピダンスアダプタ(8,9)が、前記マグネトロンの作用をデカップ
リングして、前記マグネトロンから発せられた全パワーを前記物質又は物体へ伝
送するように、前記ブランチ(3,4)に、及び/又は前記マグネトロン(11,12)の前
に、設けられたことを特徴とする、物体又は物質を加熱又は処理するためのマイ
クロ波システム。
1. A microwave system for heating or treating an object or substance, comprising an applicator or an oven (5) supplied by two separate magnetrons (11, 12), said magnetron comprising a magic tee or Mounted on the coupling branch (3, 4) of the directional coupler forming a ring, the other coupling branch (1, 2) irradiates the substance (10), and the impedance adapter (8, 9), To the branch (3, 4) and / or before the magnetron (11, 12) to decouple the action of the magnetron and transfer the total power emitted from the magnetron to the substance or object. , A microwave system for heating or treating an object or substance, characterized in that it is provided.
【請求項2】 インピダンスアダプタ(6,7)が、アプリケータ(5)により反射
された、マグネトロンのそれぞれが受ける波を打ち消すことができ、しかも前記
マグネトロンから発せられた波の分け前を、受けたすべての波の中から検出しか
つ前記インピダンスアダプタ(6,7)を調整するように、1又は2以上のデュアル
バランストミキサーを有し、そのリファレンスは1つのマグネトロンによって供
給されることを特徴とする請求項1記載の加熱システム。
2. An impedance adapter (6, 7) is capable of canceling the waves received by each of the magnetrons reflected by the applicator (5), and yet receiving the share of the waves emitted from said magnetron. Characterized in that it has one or more dual balanced mixers, the reference being supplied by one magnetron, to detect in all the waves and adjust the impedance adapters (6, 7) The heating system according to claim 1.
【請求項3】 マグネトロンのそれぞれから発せられ、アプリケータ(5)に
伝送され、前記アプリケータにより反射された波の分布を部分変更することを可
能にするいくつかの調整回路を有し、デュアルバランストミキサーのリファレン
スパスに、その他のマグネトロンのそれぞれによって発せられた波の分布を、受
けたすべての波の中から検出しかつ物体又は物質に作用する電磁場の分布を部分
変更する前記回路を調整するように、マグネトロンから供給されることを特徴と
する請求項2記載の加熱システム。
3. A dual, having several adjusting circuits, which make it possible to modify the distribution of the waves emitted from each of the magnetrons, transmitted to the applicator (5) and reflected by said applicator, Adjust the above circuit that detects the distribution of the waves emitted by each of the other magnetrons in the balanced mixer reference path from all the received waves and modifies the distribution of the electromagnetic field acting on the object or substance. A heating system according to claim 2, characterized in that it is supplied by a magnetron.
【請求項4】 デュアルミキサーのリファレンスパスが、その周波数をマグ
ネトロンの1つの周波数に安定させる補助ジェネレータにより供給され、 その周波数が固定値によるマグネトロンの周波数からシフトしている補助ジェ
ネレータにより供給され、 信号レベルの等化後にマグネトロンからデュアルミキサーのリファレンスパス
に供給されることを特徴とする請求項2又は3記載の加熱システム。
4. A dual mixer reference path is provided by an auxiliary generator which stabilizes its frequency to one frequency of a magnetron, the frequency of which is provided by an auxiliary generator whose frequency is shifted from the frequency of the magnetron by a fixed value. 4. A heating system according to claim 2 or 3, characterized in that it is supplied from the magnetron to the reference path of the dual mixer after level equalization.
【請求項5】 2つのマグネトロンのそれぞれから到来する分布が、デュア
ルバランストミキサーの助けでこれらにより発生する電磁場から分離されること
を特徴とする、2つの分離したマグネトロンを有するシステムの制御方法。
5. A method for controlling a system with two separate magnetrons, characterized in that the distribution coming from each of the two magnetrons is separated from the electromagnetic field generated by them with the aid of a dual balanced mixer.
【請求項6】 バランストミキサーの助けで、アダプタの調整が、マグネト
ロンの開口パラメータを最適化するように、連続的に同調されることを特徴とす
る請求項5記載の方法。
6. A method as claimed in claim 5, characterized in that, with the aid of a balanced mixer, the adjustment of the adapter is continuously tuned so as to optimize the aperture parameters of the magnetron.
【請求項7】 物質や物体に対して一定で均一な最大分布を得るように、調
整が行われることを特徴とする請求項6記載の方法。
7. A method according to claim 6, characterized in that adjustments are made to obtain a constant and uniform maximum distribution over the substance or object.
【請求項8】 調整は、 a) マグネトロン(12)からの反射信号Pr、即ち(Pr12)を、マグネトロン(11)の入
射信号Pi,、即ち(Pi11)に交差させることによって、 b) マグネトロン(11)からの反射信号Pr、即ち(Pr11)を、マグネトロン(12)の入
射信号Pi,、即ち(Pi12)に交差させることによって、 c) 信号(Pr11)を信号(Pi11)に組合せることによって、更に d) 信号(Pr12)を信号(Pi12)に組合せることによって、得られたデュアルバラン
ストミキサーからの出力信号を打ち消すことにあることを特徴とする請求項7記
載の方法。
8. The adjustment comprises: a) crossing the reflected signal Pr, ie, (Pr12), from the magnetron (12) with the incident signal Pi, ie (Pi11), of the magnetron (11); and b) the magnetron ( By crossing the reflected signal Pr from (11), i.e. (Pr11), with the incident signal Pi of the magnetron (12), i.e. (Pi12), c) by combining the signal (Pr11) with the signal (Pi11) 8. The method of claim 7, further comprising: d) canceling the resulting output signal from the dual balanced mixer by combining the signal (Pr12) with the signal (Pi12).
【請求項9】 物質や物体に対して変調した分布を得るように、調整が行わ
れることを特徴とする請求項6記載の方法。
9. The method of claim 6, wherein adjustments are made to obtain a modulated distribution for the substance or object.
【請求項10】 請求項5ないし9いずれかに記載の方法における手段と、
アダプタ(6,7,8,9)の制御手段とを備え、前記アダプタをデュアルバランストア
ダプタによって伝えられた信号の関数として連続的に同調しかつ物質や物体に対
して最適な分布を保証するようにした請求項1ないし4いずれかに記載の自動化
した加熱システム。
10. Means in the method according to any one of claims 5 to 9,
A control means for the adapters (6,7,8,9), which continuously tunes said adapters as a function of the signals carried by the dual balanced adapters and ensures an optimal distribution for substances and objects. The automated heating system according to any one of claims 1 to 4, wherein.
【請求項11】 感染性廃棄物、特に病院の廃棄物の処理における請求項1
ないし5又は11いずれかに記載のシステムの使用。
11. Claim 1 in the treatment of infectious waste, especially hospital waste.
Use of the system according to any one of 5 to 11 above.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009123377A (en) * 2007-11-12 2009-06-04 Panasonic Corp High-frequency processor
JP2009138954A (en) * 2007-12-03 2009-06-25 Panasonic Corp High frequency processing device
JP2013152919A (en) * 2011-12-28 2013-08-08 Tokyo Electron Ltd Microwave heating apparatus and method
JP2015517725A (en) * 2012-05-14 2015-06-22 コリア エレクトロテクノロジー リサーチ インスティテュートKorea Electrotechnology Research Institute Microwave heating device for uniform heating of an object to be heated based on conditions near the cutoff value

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2837658B1 (en) * 2002-03-20 2004-08-06 Rimm Technologies Corp N V METHOD FOR DETECTING THE PRESENCE OR NATURE OF A PRODUCT IN A MICROWAVE OVEN
DE50304425D1 (en) * 2002-06-17 2006-09-14 Silvia Hofmann Arrangement and procedure for the killing of wood-destroying insects and fungi and for the treatment of polluted materials
US20060021980A1 (en) * 2004-07-30 2006-02-02 Lee Sang H System and method for controlling a power distribution within a microwave cavity
EP2239994B1 (en) 2009-04-07 2018-11-28 Whirlpool Corporation A microwave oven with a regulation system using field sensors
EP2953425B1 (en) * 2014-06-03 2019-08-21 Ampleon Netherlands B.V. Radio frequency heating apparatus
GB2536695A (en) * 2015-03-26 2016-09-28 E2V Tech (Uk) Ltd Combining arrangement
KR102402039B1 (en) 2015-11-16 2022-05-26 삼성전자주식회사 Cooking apparatus and control method thereof

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3723900A (en) * 1971-10-29 1973-03-27 Microdry Corp Microwave applicator with time-sharing of magnetron sources
SE457620B (en) * 1985-12-30 1989-01-16 Ekerot Sven Torbjoern PROCEDURE AND DEVICE FOR HEATING OF CERAMIC MATERIALS IN METALLURGICAL USE
SE451656B (en) * 1986-02-11 1987-10-19 Alfastar Ab DEVICE FOR HEATING BY MICROVAGS ENERGY

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009123377A (en) * 2007-11-12 2009-06-04 Panasonic Corp High-frequency processor
JP2009138954A (en) * 2007-12-03 2009-06-25 Panasonic Corp High frequency processing device
JP2013152919A (en) * 2011-12-28 2013-08-08 Tokyo Electron Ltd Microwave heating apparatus and method
JP2015517725A (en) * 2012-05-14 2015-06-22 コリア エレクトロテクノロジー リサーチ インスティテュートKorea Electrotechnology Research Institute Microwave heating device for uniform heating of an object to be heated based on conditions near the cutoff value
US10660166B2 (en) 2012-05-14 2020-05-19 Korea Electrotechnology Research Institute Microwave heating apparatus for uniformly heating objects based on near-cutoff condition

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