JP2003512319A - Enzyme inhibitors - Google Patents

Enzyme inhibitors

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JP2003512319A
JP2003512319A JP2001531367A JP2001531367A JP2003512319A JP 2003512319 A JP2003512319 A JP 2003512319A JP 2001531367 A JP2001531367 A JP 2001531367A JP 2001531367 A JP2001531367 A JP 2001531367A JP 2003512319 A JP2003512319 A JP 2003512319A
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Abstract

(57)【要約】 式(I)(式中、Arは、アリールまたはヘテロアリール基であり、R1およびR2は、同じであるか、または異なり、各々水素またはアルキルを表すか、あるいはR1およびR2が一緒にC1〜C3アルキレン基、−CO−または−CS−を形成し、R3およびR4は、同じであるか、または異なり、各々−アルキル−アリール、−アルキル−ヘテロアリール、−アルケニル−アリール、−アルケニル−ヘテロアリール、−アルキニル−アリール、−アルキニル−ヘテロアリール、アリールまたはヘテロアリールを表す)のビススルホンアミド誘導体は、a)シキミ酸経路を介した芳香族アミノ酸の生合成、および(b)キナ酸の異化作用を阻害することが可能である。 【化1】 (57) Abstract: Formula (I) wherein Ar is an aryl or heteroaryl group, and R 1 and R 2 are the same or different and each represents hydrogen or alkyl; 1 and R 2 together form a C 1 -C 3 alkylene group, —CO— or —CS—, and R 3 and R 4 are the same or different and are each -alkyl-aryl, -alkyl- Bissulfonamide derivatives of heteroaryl, -alkenyl-aryl, -alkenyl-heteroaryl, -alkynyl-aryl, -alkynyl-heteroaryl, aryl or heteroaryl) are described by a) aromatic amino acids via the shikimate route And (b) the catabolism of quinic acid. Embedded image

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】 本発明は、デヒドロキナ酸シンテターゼ(dehydroquinate synthetase)および
II型デヒドロキナーゼ(dehydroquinase)酵素の阻害剤として作用する一連のビ
ススルホンアミド誘導体に関する。
The present invention relates to a series of bissulfonamide derivatives that act as inhibitors of dehydroquinate synthetase and type II dehydroquinase enzymes.

【0002】 デヒドロキナ酸シンテターゼおよびデヒドロキナーゼ酵素は、エリトロース−
4−リン酸をトリプトファン、チロシンおよびフェニルアラニンのような芳香族
アミノ酸に変換するシキミ酸経路の必須部分を構成する。生合成デヒドロキナー
ゼの2つの型、すなわちI型(またはAroD)種、およびII型(またはAr
oQ)種が特徴付けられている(Garbe et al, Mol. Gen. Genet., 228, pgs 38
5-392 (1991), Hawkins et al, J. Gen. Microbiol. 139, pgs 2891-2899 (1993
)。
Dehydroquinate synthetase and dehydrokinase enzymes are erythrose-
It forms an integral part of the shikimate pathway that converts 4-phosphate to aromatic amino acids such as tryptophan, tyrosine and phenylalanine. Two types of biosynthetic dehydrokinases, type I (or AroD) species, and type II (or Ar
oQ) species have been characterized (Garbe et al, Mol. Gen. Genet., 228, pgs 38).
5-392 (1991), Hawkins et al, J. Gen. Microbiol. 139, pgs 2891-2899 (1993
).

【0003】 シキミ酸経路は、細菌、藻類、真菌類および高等植物において必須である。さ
らに、最近の研究は、アピコンプレクサ寄生虫におけるシキミ酸経路の酵素の存
在の証拠を示している(Roberts et al, Nature, 393, 1998, pgs 801-805)。し
たがって、シキミ酸経路を介したアミノ酸の生合成を阻害することができる化合
物は、様々な商業用途を有する。
The shikimate pathway is essential in bacteria, algae, fungi and higher plants. Furthermore, recent studies have shown evidence of the presence of enzymes of the shikimate pathway in Apicomplexan parasites (Roberts et al, Nature, 393, 1998, pgs 801-805). Therefore, compounds capable of inhibiting the biosynthesis of amino acids via the shikimate pathway have various commercial applications.

【0004】 それらの生合成機能のほかに、II型デヒドロキナーゼ酵素は、キナ酸異化作
用が行われる異化経路の重要な部分を構成する。この異化経路は、多くの真菌類
および細菌中に見出される。したがって、II型デヒドロキナーゼ酵素の阻害剤
は、殺真菌剤および抗生物質として商業用途を有する。
Besides their biosynthetic function, type II dehydrokinase enzymes form an important part of the catabolic pathway in which quinic acid catabolism occurs. This catabolic pathway is found in many fungi and bacteria. Therefore inhibitors of the type II dehydrokinase enzyme have commercial use as fungicides and antibiotics.

【0005】 非常に多くのジアミノビススルホンアミドが知られている。例えば、J. Chem.
Soc., 1161 (1970)では、テトラヒドロジベンゾジアゾシンへの中間体としての
多くのこれらの化合物の合成について記載され、J. Chem. Soc., 1170 (1962)で
は、ジアミノビススルホンアミドを伴う求電子置換反応について記載されている
。しかしながら、薬学的有用性は、これらの刊行物には記載されていない。置換
フタロシアニンへの中間体としての1,2−ビス(4−メチルフェニルスルホニ
ルアミノ)−4,5−ジブロモベンゼンの合成および使用が報告されている(Ac
ta. Chemica. Scand., 658 (1995))。幾つかのジアミノビススルホンアミドは
、非線形光学研究のための候補として興味深い(Acta. Cryst., 2395 (1995))
A large number of diaminobissulfonamides are known. For example, J. Chem.
Soc., 1161 (1970) describes the synthesis of many of these compounds as intermediates to tetrahydrodibenzodiazocines, and J. Chem. The electron substitution reaction is described. However, the pharmaceutical utility is not mentioned in these publications. The synthesis and use of 1,2-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -4,5-dibromobenzene as an intermediate to substituted phthalocyanines has been reported (Ac
Ta. Chemica. Scand., 658 (1995)). Some diaminobissulfonamides are interesting as candidates for nonlinear optical studies (Acta. Cryst., 2395 (1995)).
.

【0006】 腫瘍崩壊活性は、これまでに幾つかのジアミノビススルホンアミドによるもの
であった(J. Med. Chem., 599 (1963))。腫瘍崩壊活性は、ある型の腫瘍細胞に
よるビタミンB12への1,2−ジメチル−4,5−ジアミノベンゼンの生合成変
換の阻害によって働くことが見出された(Biochem. Pharmacol., 1163 (1962))
Oncolytic activity has previously been attributed to several diaminobissulfonamides (J. Med. Chem., 599 (1963)). Oncolytic activity was found to act by inhibition of biosynthesis conversion 1,2-dimethyl-4,5-diaminobenzene to the vitamin B 12 by tumor cells of a certain type (Biochem. Pharmacol., 1163 ( 1962))
.

【0007】 驚くべくことに、下記一般式(I):[0007]   Surprisingly, the following general formula (I):

【0008】[0008]

【化8】 [Chemical 8]

【0009】 (式中、 Arは、アリールまたはヘテロアリール基であり、 R1およびR2は、同じであるか、または異なり、各々水素またはアルキルを表
すか、あるいはR1およびR2は一緒にC1〜C3アルキレン基、−CO−または−
CS−を形成し、 R3およびR4は、同じであるか、または異なり、各々−アルキル−アリール、
−アルキル−ヘテロアリール、−アルケニル−アリール、−アルケニル−ヘテロ
アリール、−アルキニル−アリール、−アルキニル−ヘテロアリール、アリール
またはヘテロアリールを表す) の特定のビススルホンアミド誘導体は、デヒドロキナ酸シンテターゼ酵素の阻害
剤として、およびII型デヒドロキナーゼ酵素の阻害剤として作用することを見
出した。したがって、本発明は、第1の実施形態では、シキミ酸経路を介した芳
香族アミノ酸の生合成の阻害に使用するための薬剤の製造における、式(I)の
ビススルホンアミド誘導体、またはその薬学的に許容可能な塩の使用を提供する
Wherein Ar is an aryl or heteroaryl group, R 1 and R 2 are the same or different and each represent hydrogen or alkyl, or R 1 and R 2 together C 1 -C 3 alkylene group, -CO- or -
Forming CS-, R 3 and R 4 are the same or different and each is -alkyl-aryl,
-Alkyl-heteroaryl, -alkenyl-aryl, -alkenyl-heteroaryl, -alkynyl-aryl, -alkynyl-heteroaryl, aryl or heteroaryl) is a specific bissulfonamide derivative which inhibits dehydroquinate synthetase enzyme It has been found to act as an agent and as an inhibitor of the type II dehydrokinase enzyme. Therefore, the present invention provides, in a first embodiment, a bissulfonamide derivative of formula (I), or a pharmaceutical thereof, in the manufacture of a medicament for use in inhibiting the biosynthesis of aromatic amino acids via the shikimate pathway. The use of a pharmaceutically acceptable salt.

【0010】 典型的に、上記薬剤は、デヒドロキナ酸シンテターゼ酵素、特にAroB、お
よび/またはII型デヒドロキナーゼ酵素、特にAroQの阻害における使用の
ためである。
Typically, the agent is for use in inhibiting a dehydroquinate synthetase enzyme, especially AroB, and / or a type II dehydrokinase enzyme, especially AroQ.

【0011】 本明細書中で用いるアルキル基または部分は、典型的に、C1〜C4アルキル基
または部分のような、1〜6個の炭素原子を含有する直鎖または分岐鎖のアルキ
ル基または部分、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−
ブチル、i−ブチルおよびt−ブチルである。
As used herein, an alkyl group or moiety is typically a straight or branched chain alkyl group containing 1 to 6 carbon atoms, such as a C 1 -C 4 alkyl group or moiety. Or moieties such as methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-
Butyl, i-butyl and t-butyl.

【0012】 アルキル基または部分は、無置換であっても、いかなる位置で置換されてもよ
い。典型的に、それは無置換であるか、または1つもしくは2つの置換基を有す
る。適切な置換基としては、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノ、ヒドロキシ、
オキソおよび−CO2R、−SORおよび−S(O)2R(ここで、Rは、水素ま
たはアルキルである)が挙げられる。
The alkyl group or moiety may be unsubstituted or substituted at any position. Typically it is unsubstituted or has 1 or 2 substituents. Suitable substituents include halogen, cyano, nitro, amino, hydroxy,
Oxo and -CO 2 R, -SOR and -S (O) 2 R (where, R is hydrogen or alkyl) and the like.

【0013】 本明細書中で用いるアルケニル基または部分は、典型的に、C2〜C4アルケニ
ル基または部分のような、2〜6個の炭素原子を含有する直鎖または分岐鎖のア
ルケニル基または部分、例えば、エテニル、プロペニルおよびブテニルである。
Alkenyl groups or moieties as used herein are typically straight or branched chain alkenyl groups containing 2 to 6 carbon atoms, such as C 2 -C 4 alkenyl groups or moieties. Or moieties such as ethenyl, propenyl and butenyl.

【0014】 アルケニル基または部分は、無置換であっても、いかなる位置で置換されても
よい。典型的に、それは無置換であるか、または1つもしくは2つの置換基を有
する。適切な置換基としては、ハロゲン、アミノおよびヒドロキシが挙げられる
The alkenyl group or moiety may be unsubstituted or substituted at any position. Typically it is unsubstituted or has 1 or 2 substituents. Suitable substituents include halogen, amino and hydroxy.

【0015】 本明細書で用いるアルキニル基または部分は、典型的に、C2〜C4アルキニル
基または部分のような、2〜6個の炭素原子を含有する直鎖または分岐鎖のアル
キニル基、例えば、エチニル、プロピニルおよびブチニルである。
An alkynyl group or moiety as used herein is typically a straight or branched chain alkynyl group containing 2 to 6 carbon atoms, such as a C 2 -C 4 alkynyl group or moiety, For example, ethynyl, propynyl and butynyl.

【0016】 アルキニル基または部分は、いかなる位置で置換されても、無置換であっても
よい。典型的に、それは無置換であるか、または1つもしくは2つの置換基を有
する。適切な置換基としては、ハロゲン、アミノおよびヒドロキシが挙げられる
The alkynyl group or moiety may be substituted or unsubstituted at any position. Typically it is unsubstituted or has 1 or 2 substituents. Suitable substituents include halogen, amino and hydroxy.

【0017】 C1〜C3アルキレン基は、メチレン、エチレンまたはプロピレン基である。そ
れは無置換であっても、いかなる位置で置換されてもよい。典型的に、それは無
置換であるか、または1つの置換基を有する。適切な置換基としては、ハロゲン
、シアノ、ニトロ、オキソおよび−CO2R、−SORならびに−S(O)2R(
ここで、Rは、水素またはアルキルである)が挙げられる。
A C 1 -C 3 alkylene group is a methylene, ethylene or propylene group. It may be unsubstituted or substituted at any position. Typically it is unsubstituted or has one substituent. Suitable substituents include halogen, cyano, nitro, oxo and -CO 2 R, -SOR and -S (O) 2 R (
Where R is hydrogen or alkyl).

【0018】 本明細書で用いるアリール基は、典型的に、フェニルまたはナフチルのような
6〜C10アリール基である。フェニルが好ましい。アリール基は無置換であっ
ても、いかなる位置で置換されてもよい。典型的に、それは1つ、2つ、3つま
たは4つの置換基を有する。適切な置換基としては、アリール、カルボシクリル
、ヘテロアリールおよび複素環基、ニトロ、シアノ、ハロゲン、アルキル(例え
ば、ハロアルキル)、アルキルチオ、アルコキシ(例えば、ハロアルコキシ)、
ヒドロキシ、−CO2Rおよび−S(O)2R(ここで、Rは、アリール、ヘテロ
アリール、水素またはアルキルである)、−CONR’R”(ここで、R’およ
びR”は、同じであるか、または異なり、各々アリール、ヘテロアリール、水素
またはアルキルを表す)、−Z−NR’”R””および−NR’”R””(ここ
で、Zは、アルキルまたはアルケニルであり、R’”およびR””は、同じであ
るか、または異なり、各々アリール、ヘテロアリール、水素、アルキルまたは−
CO−L(ここで、Lは、アルキルまたはアリール基である)を表す)、ならび
に−O−Z−R’””(ここで、Zは、上記に定義する通りであり、R’””は
、アリール、ヘテロアリールまたはヘテロシクリルである)が挙げられる。
Aryl groups as used herein are typically C 6 -C 10 aryl groups such as phenyl or naphthyl. Phenyl is preferred. The aryl group may be unsubstituted or substituted at any position. Typically it has 1, 2, 3 or 4 substituents. Suitable substituents include aryl, carbocyclyl, heteroaryl and heterocyclic groups, nitro, cyano, halogen, alkyl (eg haloalkyl), alkylthio, alkoxy (eg haloalkoxy),
Hydroxy, -CO 2 R and -S (O) 2 R (where, R represents aryl, heteroaryl, is hydrogen or alkyl), - CONR'R "(where, R 'and R" are the same Or different, each representing aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl), -Z-NR '"R""and-NR'" R "", where Z is alkyl or alkenyl, R '"and R""are the same or different and are each aryl, heteroaryl, hydrogen, alkyl or-.
CO-L, where L is an alkyl or aryl group, as well as -O-Z-R '"", where Z is as defined above and R'"". Is aryl, heteroaryl or heterocyclyl).

【0019】 典型的に、−S(O)2R部におけるRは、水素またはアルキルである。典型
的に、−Z−NR’”R””および−NR’”R””部におけるR’”およびR
””は、同じであるか、または異なり、水素、アルキル、−CO−アルキルまた
は−CO−フェニルである。好ましくは、R’”およびR””の少なくとも1つ
は、水素またはアルキルである。典型的に、Zは、アルキル、例えば、メチルで
ある。典型的に、−O−Z−R’””部におけるR’””は、ヘテロアリール、
例えば、チアゾリルである。
Typically, R in the —S (O) 2 R moiety is hydrogen or alkyl. Typically, R '"and R in the -Z-NR'" R "" and -NR '"R""moieties
"" Are the same or different and are hydrogen, alkyl, -CO-alkyl or -CO-phenyl. Preferably, at least one of R '"and R""is hydrogen or alkyl. Typically Z is alkyl, for example methyl. Typically -O-Z-R'"". R '"" in the section is heteroaryl,
For example, thiazolyl.

【0020】 好ましいアリール置換基は、フェニルである。好ましいヘテロアリールおよび
複素環置換基は、N、OおよびSから選択される1つ、2つもしくは3つのヘテ
ロ原子を含有する、5または6員環のヘテロアリールあるいは複素環基である。
例としては、1つ、2つまたは3つのヘテロ原子を含有する5または6員環、例
えば、ピリジル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、ピラゾリル、チアジアゾ
リルおよびオキサジアゾリルが挙げられる。他の好ましい置換基としては、ニト
ロ、ヒドロキシ、ハロゲン(例えば、塩素、臭素およびフッ素)、−CF3およ
び−CCl3のようなC1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルキル、−CO2R(こ
こで、Rは、水素またはC1〜C4アルキルである)、C1〜C4アルコキシ、C1
〜C4ハロアルコキシ(例えば、−OCCl3および−OCF3)、−S(O)2
1〜C4アルキル、−CONR’R”(ここで、R’およびR”は、同じである
か、または異なり、ヘテロアリールまたは、好ましくは、アリール、水素または
1〜C4アルキルである)、−NR’”R””(ここで、R’”およびR””は
、同じであるか、または異なり、各々水素、アルキルまたは−CO−アルキルで
ある)、および−O−アルキル−R’””(ここで、R’””は、ヘテロアリー
ル、例えばチアゾリルである)が挙げられる。
A preferred aryl substituent is phenyl. Preferred heteroaryl and heterocycle substituents are 5- or 6-membered heteroaryl or heterocycle groups containing 1, 2 or 3 heteroatoms selected from N, O and S.
Examples include 5- or 6-membered rings containing 1, 2 or 3 heteroatoms, for example pyridyl, isoxazolyl, isothiazolyl, pyrazolyl, thiadiazolyl and oxadiazolyl. Other preferred substituents include nitro, hydroxy, halogen (e.g., chlorine, bromine and fluorine), - C 1 ~C 4 haloalkyl, such as CF 3 and -CCl 3, C 1 ~C 4 alkyl, -CO 2 R (where R is hydrogen or C 1 -C 4 alkyl), C 1 -C 4 alkoxy, C 1
-C 4 haloalkoxy (e.g., -OCCl 3 and -OCF 3), - S (O ) 2 -
C 1 -C 4 alkyl, -CONR'R "(where, R 'and R" are the same or different, heteroaryl or is preferably aryl, hydrogen or C 1 -C 4 alkyl ), -NR '"R""(whereR'" and R "" are the same or different and are each hydrogen, alkyl or -CO-alkyl), and -O-alkyl-R. """(Where R '""is heteroaryl, eg thiazolyl).

【0021】 上記置換基自身は、好ましくは無置換であるか、またはニトロ、シアノ、ハロ
ゲン、アルキル(例えば、ハロアルキル)、アルキルチオ、アルコキシ(例えば
、ハロアルコキシ)、およびヒドロキシから選択される1つまたはそれ以上のさ
らなる置換基で置換される。典型的に、これらのさらなる置換基自身は無置換で
ある。
The substituents themselves are preferably unsubstituted or one or selected from nitro, cyano, halogen, alkyl (eg haloalkyl), alkylthio, alkoxy (eg haloalkoxy) and hydroxy. It is substituted with further further substituents. Typically, these additional substituents themselves are unsubstituted.

【0022】 アリール基は、さらなる上記アリール基または炭素環、複素環もしくはヘテロ
アリール基に任意に融合してもよい。例えば、それはピリジン環に融合してキノ
リン基を形成してもよく、チアジアゾール環(例えば、1,2,5−チアジアゾ
ール環)に融合してイソベンゾ[1,2,5]−チアジアゾール基を形成しても
よく、または1,4ジオキサンもしくは1,3ジオキソラン環に融合してもよい
The aryl group may be optionally fused to a further aryl group or carbocycle, heterocycle or heteroaryl group as described above. For example, it may be fused to a pyridine ring to form a quinoline group, fused to a thiadiazole ring (eg, 1,2,5-thiadiazole ring) to form an isobenzo [1,2,5] -thiadiazole group. Or fused to a 1,4 dioxane or 1,3 dioxolane ring.

【0023】 本明細書で用いるヘテロアリール基は、典型的に、O、SおよびNから選択さ
れる少なくとも1つのヘテロ原子を含有する、5または6員環のような5〜10
員環の芳香環である。例としては、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリ
ダジニル、フラニル、チエニル、ピラゾリジニル、ピロリル、オキサジアゾリル
、イソオキサジル、チアジアゾリル、チアゾリル、イミダゾリルおよびピラゾリ
ル基が挙げられる。チエニル基が好ましい。ヘテロアリール基は無置換であって
も、いかなる位置で置換されてもよい。典型的に、それは、1つ、2つまたは3
つの置換基を有する。適切な置換基としては、アリール(例えば、フェニル)、
カルボシクリル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シアノ、ニトロ、ハロゲン
、アルキル(例えば、ハロアルキル)、アルキルチオ、アルコキシ(例えば、ハ
ロアルコキシ)、ヒドロキシ、−CO2Rおよび−S(O)2R(ここで、Rは、
アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキルである)、−CONR’R”(
ここで、R’およびR”は、同じであるか、または異なり、各々アリール、ヘテ
ロアリール、水素またはアルキルを表す)、−Z−NR’”R””および−NR
’”R””(ここで、Zは、アルキルまたはアルケニルであり、R’”およびR
””は、同じであるか、または異なり、各々アリール、ヘテロアリール、水素、
アルキルまたは−CO−L(ここで、Lは、アルキルまたはアリール基である)
を表す)、ならびに−O−Z−R’””(ここで、Zは、上記に定義する通りで
あり、R’””は、アリール、ヘテロアリールまたはヘテロシクリルである)が
挙げられる。
A heteroaryl group, as used herein, typically contains from 5 to 10 members such as a 5 or 6 membered ring containing at least one heteroatom selected from O, S and N.
It is a membered aromatic ring. Examples include pyridyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, furanyl, thienyl, pyrazolidinyl, pyrrolyl, oxadiazolyl, isoxazyl, thiadiazolyl, thiazolyl, imidazolyl and pyrazolyl groups. A thienyl group is preferred. The heteroaryl group may be unsubstituted or substituted at any position. Typically it is 1, 2 or 3
Has one substituent. Suitable substituents include aryl (eg phenyl),
Carbocyclyl, heteroaryl, heterocyclyl, cyano, nitro, halogen, alkyl (e.g., haloalkyl), alkylthio, alkoxy (e.g., haloalkoxy), hydroxy, -CO 2 R and -S (O) 2 R (where, R represents ,
Aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl), -CONR'R "(
Wherein R'and R "are the same or different and each represents aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl), -Z-NR '" R "" and -NR
'"R""(where Z is alkyl or alkenyl, R'" and R "
"" Are the same or different and are each aryl, heteroaryl, hydrogen,
Alkyl or -CO-L (where L is an alkyl or aryl group)
Represents) and as well as —O—Z—R ′ ″ ″, where Z is as defined above and R ′ ″ ″ is aryl, heteroaryl or heterocyclyl.

【0024】 典型的に、−S(O)2R部におけるRは、水素またはアルキルである。典型
的に、−Z−NR’”R””および−Z−NR’”R””部におけるR’”およ
びR””は、同じであるか、または異なり、水素、アルキル、−CO−アルキル
または−CO−フェニルである。好ましくは、R’”およびR””の少なくとも
1つは、水素またはアルキルである。典型的に、Zは、アルキル、例えば、メチ
ルである。典型的に、−O−Z−R’””部分におけるR’””は、ヘテロアリ
ール、例えば、チアゾリルである。
Typically, R in the —S (O) 2 R moiety is hydrogen or alkyl. Typically, R '"and R""in the -Z-NR'" R "" and -Z-NR '"R""moieties are the same or different and are hydrogen, alkyl, -CO-alkyl. Or —CO-phenyl, preferably at least one of R ′ ″ and R ″ ″ is hydrogen or alkyl. Typically Z is alkyl, for example methyl. Typically, R '"" in the -O-Z-R'"" moiety is heteroaryl, such as thiazolyl.

【0025】 好ましいアリール置換基は、フェニルである。好ましいヘテロアリールおよび
複素環置換基は、N、OおよびSから選択される1つ、2つもしくは3つのヘテ
ロ原子を含有する、5または6員環のヘテロアリールあるいは複素環基である。
例としては、1つ、2つまたは3つのヘテロ原子を含有する5または6員環、例
えば、イソオキサゾリル、ピリジル、イミダゾリル、チアゾリル、イソチアゾリ
ル、ピラゾリルおよびチアジアゾリルが挙げられる。他の好ましい置換基として
は、ニトロ、塩素、臭素またはフッ素のようなハロゲン、−CF3および−CC
3のようなC1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルキル、−CO2R(ここで、R
は、水素またはC1〜C4アルキルである)、C1〜C4アルコキシ、−S(O)2
−C1〜C4アルキル、および−(C1〜C4アルキル)NR’”R””(ここで、
R’”およびR””は、同じであるか、または異なり、各々水素、アルキルまた
は−CO−アリール、例えば、−CO−フェニルである)が挙げられる。
A preferred aryl substituent is phenyl. Preferred heteroaryl and heterocycle substituents are 5- or 6-membered heteroaryl or heterocycle groups containing 1, 2 or 3 heteroatoms selected from N, O and S.
Examples include 5- or 6-membered rings containing 1, 2 or 3 heteroatoms, such as isoxazolyl, pyridyl, imidazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, pyrazolyl and thiadiazolyl. Other preferred substituents include nitro, chlorine, halogens such as bromine or fluorine, -CF 3 and -CC
C 1 -C 4 haloalkyl such as l 3 , C 1 -C 4 alkyl, —CO 2 R (where R
Is hydrogen or C 1 -C 4 alkyl), C 1 -C 4 alkoxy, —S (O) 2
-C 1 -C 4 alkyl, and - (C 1 ~C 4 alkyl) NR '"R""(wherein,
R ′ ″ and R ″ ″ are the same or different and each is hydrogen, alkyl or —CO-aryl, such as —CO-phenyl).

【0026】 上記置換基自身は、好ましくは無置換であるか、またはニトロ、シアノ、ハロ
ゲン、アルキル(例えば、ハロアルキル)、アルキルチオ、アルコキシ(例えば
、ハロアルコキシ)、およびヒドロキシから選択される1つまたはそれ以上のさ
らなる置換基で置換される。典型的に、これらのさらなる置換基自身は無置換で
ある。
The substituents themselves are preferably unsubstituted or one or selected from nitro, cyano, halogen, alkyl (eg haloalkyl), alkylthio, alkoxy (eg haloalkoxy) and hydroxy. It is substituted with further further substituents. Typically, these additional substituents themselves are unsubstituted.

【0027】 ヘテロアリール基は、上記アリール基、さらなるヘテロアリール基、または複
素環または炭素環基に任意に融合してもよい。かかる融合ヘテロアリール基の例
としては、例えば、イミダゾリル基に融合したチオフェン環が挙げられる。
The heteroaryl group may be optionally fused to the above aryl group, a further heteroaryl group, or a heterocyclic or carbocyclic group. Examples of such fused heteroaryl groups include, for example, a thiophene ring fused to an imidazolyl group.

【0028】 本明細書中で用いるハロゲンは、典型的に、塩素、フッ素、臭素またはヨウ素
であり、好ましくは塩素、フッ素または臭素である。
Halogen as used herein is typically chlorine, fluorine, bromine or iodine, preferably chlorine, fluorine or bromine.

【0029】 本明細書中で用いる上記アルコキシ基は、典型的には、酸素原子に結合した上
記アルキル基である。アルキルチオ基は、典型的に、チオ基に結合した上記アル
キル基である。ハロアルキルまたはハロアルコキシ基は、典型的に、1つまたは
それ以上の上記ハロゲン原子で置換した上記アルキルまたはアルコキシ基である
。典型的に、それは、1つ、2つまたは3つの上記ハロゲン原子で置換される。
好ましいハロアルキルおよびハロアルコキシ基としては、−CX3および−OC
3(ここで、Xは、上記ハロゲン原子である)のようなペルハロアルキルおよ
びペルハロアルコキシ基が挙げられる。特に好ましいハロアルキル基は、CF3
およびCCl3である。特に好ましいハロアルコキシ基は、−OCF3および−O
CCl3である。
The alkoxy group used herein is typically the above alkyl group bonded to an oxygen atom. The alkylthio group is typically the above alkyl group attached to a thio group. Haloalkyl or haloalkoxy groups are typically the above alkyl or alkoxy groups substituted with one or more of the above halogen atoms. Typically it is substituted with 1, 2 or 3 of the above halogen atoms.
Preferred haloalkyl and haloalkoxy groups, -CX 3 and -OC
And perhaloalkyl and perhaloalkoxy groups such as X 3 (where X is a halogen atom as described above). A particularly preferred haloalkyl group is CF 3
And CCl 3 . Particularly preferred haloalkoxy groups, -OCF 3 and -O
It is CCl 3 .

【0030】 本明細書中で用いる炭素環基は、典型的に3〜6個の炭素原子を有する非芳香
族の飽和または不飽和の炭化水素環である。好ましくは、それは、3〜6個の炭
素原子を有する飽和炭化水素環(すなわち、シクロアルキル基)である。例とし
ては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルが
挙げられる。それは、好ましくはシクロヘキシルである。炭素環基は無置換であ
っても、いかなる位置で置換されてもよい。適切な置換基としては、ニトロ、ハ
ロゲン、アルキル(例えば、ハロアルキル)、アルキルチオ、アルコキシ(例え
ば、ハロアルコキシ)、ヒドロキシ、−CO2Rおよび−S(O)2R(ここで、
Rは、水素またはアルキルである)、シアノ、ならびに−NR’R”および−C
ONR’R”(ここで、R’およびR”は、同じであるか、または異なり、各々
水素またはアルキルを表す)が挙げられる。好ましい置換基は、ニトロ、塩素、
臭素またはフッ素のようなハロゲン、−CF3および−CCl3のようなC1〜C4 ハロアルキル、C1〜C4アルキル、−CO2R(ここで、Rは、水素またはC1
4アルキルである)、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ(例えば
、−OCCl3および−OCF3)、ならびに−S(O)2−C1〜C4アルキルで
ある。上記置換基自身は、典型的に無置換である。
Carbocyclic groups, as used herein, are non-aromatic saturated or unsaturated hydrocarbon rings typically having 3 to 6 carbon atoms. Preferably it is a saturated hydrocarbon ring having 3 to 6 carbon atoms (ie a cycloalkyl group). Examples include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl and cyclohexyl. It is preferably cyclohexyl. The carbocyclic group may be unsubstituted or substituted at any position. Suitable substituents include nitro, halogen, alkyl (eg haloalkyl), alkylthio, alkoxy (eg haloalkoxy), hydroxy, —CO 2 R and —S (O) 2 R, where
R is hydrogen or alkyl), cyano, and -NR'R "and -C
ONR'R "(wherein R'and R" are the same or different and each represents hydrogen or alkyl). Preferred substituents are nitro, chlorine,
Halogens such as bromine or fluorine, C 1 -C 4 haloalkyl, such as -CF 3 and -CCl 3, C 1 ~C 4 alkyl, -CO 2 R (where, R represents hydrogen or C 1 ~
C 4 alkyl), C 1 ~C 4 alkoxy, C 1 -C 4 haloalkoxy (e.g., -OCCl 3 and -OCF 3), and a -S (O) 2 -C 1 ~C 4 alkyl. The substituents themselves are typically unsubstituted.

【0031】 本明細書中で用いる複素環基は、典型的に、1つまたはそれ以上、例えば1つ
、2つまたは3つの炭素原子がN、OおよびSから選択されるヘテロ原子により
置き換えられる、非芳香族の飽和または不飽和のC5〜C10炭素環である。飽和
複素環基が好ましい。適切な複素環基の例としては、ピペリジン、モルホリン、
1,4ジオキサンおよび1,3ジオキソランが挙げられる。
Heterocyclic groups, as used herein, typically have one or more, for example 1, 2 or 3 carbon atoms replaced by a heteroatom selected from N, O and S. a C 5 -C 10 carbocyclic non-aromatic saturated or unsaturated. A saturated heterocyclic group is preferred. Examples of suitable heterocyclic groups include piperidine, morpholine,
Included are 1,4 dioxane and 1,3 dioxolane.

【0032】 複素環基は無置換であっても、いかなる位置で置換されてもよい。適切な置換
基としては、ニトロ、ハロゲン、アルキル(例えば、ハロアルキル)、アルキル
チオ、アルコキシ(例えば、ハロアルコキシ)、ヒドロキシ,−CO2Rおよび
−S(O)2R(ここで、Rは、水素またはアルキルである)、シアノ、ならび
に−NR’R”および−CONR’R”(ここで、R’およびR”は、同じであ
るか、または異なり、各々水素またはアルキルを表す)が挙げられる。好ましい
置換基は、ニトロ、塩素、臭素またはフッ素のようなハロゲン、−CF3および
−CCl3のようなC1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルキル、−CO2R(ここ
で、Rは、水素またはC1〜C4アルキルである)、C1〜C4アルコキシおよび−
S(O)2−C1〜C4アルキルである。上記置換基自身は、典型的に無置換であ
る。
The heterocyclic group may be unsubstituted or substituted at any position. Suitable substituents include nitro, halogen, alkyl (eg haloalkyl), alkylthio, alkoxy (eg haloalkoxy), hydroxy, —CO 2 R and —S (O) 2 R, where R is hydrogen. Or alkyl), cyano, and —NR′R ″ and —CONR′R ″, where R ′ and R ″ are the same or different and each represent hydrogen or alkyl. Preferred substituents are halogens such as nitro, chlorine, bromine or fluorine, C 1 -C 4 haloalkyl such as —CF 3 and —CCl 3 , C 1 -C 4 alkyl, —CO 2 R (where R is Is hydrogen or C 1 -C 4 alkyl), C 1 -C 4 alkoxy and-
It is S (O) 2 -C 1 ~C 4 alkyl. The substituents themselves are typically unsubstituted.

【0033】 典型的に−NR1S(O)23および−NR2S(O)24基は、Ar部分上の
隣接炭素原子に結合する。Arがヘテロアリール基である場合、それは、典型的
にピリジル、ピラジニル、ピリミジニルまたはピリダジニル基である。好ましく
は、Arは、アリール基、特に、フェニル基またはナフチル基である。典型的に
、それは、無置換であるか、または1つ、2つ、3つまたは4つの置換基、好ま
しくは1つまたは2つの置換基を有する。好ましい置換基としては、アリール、
ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シアノ、ニトロ、ハロゲン、アルキル(例え
ば、ハロアルキル)、アルキルチオ、アルコキシ(例えば、ハロアルコキシ)、
ヒドロキシ、−CO2R(ここで、Rは、アリール、ヘテロアリール、あるいは
、好ましくは水素またはアルキルである)、ならびに−NR’R”および−CO
NR’R”(ここで、R’およびR”は、同じであるか、または異なり、アリー
ル、ヘテロアリール、水素またはアルキルである)が挙げられる。これらの置換
基は、好ましくは無置換であるか、またはニトロ、シアノ、ハロゲン、アルキル
(例えば、ハロアルキル)、アルキルチオ、アルコキシ(例えば、ハロアルコキ
シ)およびヒドロキシから選択される1つまたはそれ以上のさらなる置換基で置
換される。典型的に、これらのさらなる置換基自身は無置換である。
Typically —NR 1 S (O) 2 R 3 and —NR 2 S (O) 2 R 4 groups are attached to adjacent carbon atoms on the Ar moiety. When Ar is a heteroaryl group, it is typically a pyridyl, pyrazinyl, pyrimidinyl or pyridazinyl group. Preferably Ar is an aryl group, especially a phenyl group or a naphthyl group. Typically it is unsubstituted or has 1, 2, 3 or 4 substituents, preferably 1 or 2 substituents. Preferred substituents are aryl,
Heteroaryl, heterocyclyl, cyano, nitro, halogen, alkyl (eg, haloalkyl), alkylthio, alkoxy (eg, haloalkoxy),
Hydroxy, —CO 2 R, where R is aryl, heteroaryl, or preferably hydrogen or alkyl, and —NR′R ″ and —CO.
NR′R ″, where R ′ and R ″ are the same or different and are aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl. These substituents are preferably unsubstituted or one or more further substituents selected from nitro, cyano, halogen, alkyl (eg haloalkyl), alkylthio, alkoxy (eg haloalkoxy) and hydroxy. It is substituted with a substituent. Typically, these additional substituents themselves are unsubstituted.

【0034】 典型的に、−NR’R”および−CONR’R”部分におけるR’およびR”
の少なくとも1つは、水素またはアルキルである。好ましいアリール置換基は、
フェニルである。好ましいヘテロアリールおよび複素環置換基は、N、Oおよび
Sから選択される1つ、2つもしくは3つのヘテロ原子を含有する5または6員
環のヘテロアリールあるいは複素環基、例えばオキサジアゾリル基である。Ar
基上のさらに好ましい置換基としては、ヒドロキシル、ニトロ、シアノ、塩素、
フッ素および臭素のようなハロゲン、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルキル
、−CO2R(ここで、Rは、水素またはC1〜C4アルキルである)、C1〜C4
アルコキシおよび−CONR’R”(ここで、R’およびR”は、同じであるか
、または異なり、アリール、ヘテロアリール、水素またはC1〜C4アルキルであ
る)が挙げられる。
Typically, R ′ and R ″ in the —NR′R ″ and —CONR′R ″ moieties
At least one of is hydrogen or alkyl. Preferred aryl substituents are
It is phenyl. Preferred heteroaryl and heterocycle substituents are 5- or 6-membered heteroaryl or heterocycle groups containing 1, 2 or 3 heteroatoms selected from N, O and S, eg oxadiazolyl groups. . Ar
Further preferred substituents on the group are hydroxyl, nitro, cyano, chlorine,
Halogens such as fluorine and bromine, C 1 -C 4 haloalkyl, C 1 -C 4 alkyl, -CO 2 R (where, R is hydrogen or C 1 -C 4 alkyl), C 1 -C 4
Alkoxy and —CONR′R ″, where R ′ and R ″ are the same or different and are aryl, heteroaryl, hydrogen or C 1 -C 4 alkyl.

【0035】 Arが、アリール、シクロアルキル、複素環またはヘテロアリール基に融合し
たアリール基である場合、それは典型的に上記複素環基に融合する。好ましくは
、それは、ヘテロ原子として2つの酸素原子を含有する飽和複素環基、例えば、
1,4ジオキサンまたは1,3ジオキソランに融合する。
When Ar is an aryl group fused to an aryl, cycloalkyl, heterocycle or heteroaryl group, it is typically fused to the above heterocycle group. Preferably it is a saturated heterocyclic group containing two oxygen atoms as heteroatoms, eg
Fuse to 1,4 dioxane or 1,3 dioxolane.

【0036】 より好ましくは、Arは、下記式Ar’:[0036]   More preferably, Ar has the formula Ar ':

【0037】[0037]

【化9】 [Chemical 9]

【0038】 (式中、R5〜R8は、同じであるか、または異なり、アリール、ヘテロアリール
、ヘテロシクリル、シアノ、ニトロ、ハロゲン、アルキル(例えば、ハロアルキ
ル)、アルキルチオ、アルコキシ(例えば、ハロアルコキシ)、ヒドロキシ、−
CO2R(ここで、Rは、アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキルであ
る)、または−NR’R”もしくは−CONR’R”(ここで、R’およびR”
は、同じであるか、または異なり、アリール、ヘテロアリール、水素またはアル
キルである)を表すか、あるいはR5およびR6もしくはR6およびR7もしくはR 7 およびR8は一緒にアルキレンジオキシ基を形成するか、またはそれらが結合す
る炭素原子と一緒にフェニル部分を形成する) を有する基である。
[0038] (In the formula, RFive~ R8Are the same or different and are aryl, heteroaryl
, Heterocyclyl, cyano, nitro, halogen, alkyl (eg haloalkyl
), Alkylthio, alkoxy (eg, haloalkoxy), hydroxy,-
CO2R (where R is aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl)
, Or -NR'R "or -CONR'R" (where R'and R "
Are the same or different and are aryl, heteroaryl, hydrogen or ar
Represents a kill) or RFiveAnd R6Or R6And R7Or R 7 And R8Form together an alkylenedioxy group or they bind
Form a phenyl moiety with a carbon atom) Is a group having

【0039】 典型的に、R5〜R8は、同じであるか、または異なり、シアノ、ニトロ、ハロ
ゲン、アルキル(例えば、ハロアルキル)、アルキルチオ、アルコキシ(例えば
、ハロアルコキシ)、ヒドロキシ、−CO2R(ここで、Rは、アリール、ヘテ
ロアリール、水素またはアルキルである)、または−NR’R”もしくは−CO
NR’R”(ここで、R’およびR”は、同じであるか、または異なり、アリー
ル、ヘテロアリール、水素またはアルキルである)を表すか、あるいはR5およ
びR6もしくはR6およびR7もしくはR7およびR8は一緒にアルキレンジオキシ
基を形成するか、またはそれらが結合する炭素原子と一緒にフェニル部分を形成
する。
Typically R 5 to R 8 are the same or different and are cyano, nitro, halogen, alkyl (eg haloalkyl), alkylthio, alkoxy (eg haloalkoxy), hydroxy, —CO 2 R, where R is aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl, or -NR'R "or -CO.
NR'R ", wherein R'and R" are the same or different and are aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl, or R 5 and R 6 or R 6 and R 7 Alternatively, R 7 and R 8 together form an alkylenedioxy group or together with the carbon atom to which they are attached form a phenyl moiety.

【0040】 典型的に、−CO2R部分におけるRは、水素またはアルキルである。典型的
に、−NR’R”部におけるR’およびR”は、同じであるか、または異なり、
水素またはアルキルである。典型的に、−CONR’R”部におけるR’および
R”は、同じであるか、または異なり、水素、アルキルまたはアリールである。
Typically, R in the —CO 2 R moiety is hydrogen or alkyl. Typically, R'and R "in the -NR'R" moiety are the same or different,
Hydrogen or alkyl. Typically, R'and R "in the -CONR'R" moiety are the same or different and are hydrogen, alkyl or aryl.

【0041】 典型的に、R5およびR8は、同じであるか、または異なり、水素、ハロゲン(
例えば、臭素)、アルキル、ヒドロキシ、アルコキシまたは−NR’R”(ここ
で、R’およびR”は、同じであるか、または異なり、水素またはアルキルであ
る)を表し、R6およびR7は、同じであるか、または異なり、水素、ハロゲン(
例えば、臭素)、アリール(例えば、フェニル)、ヘテロアリール(例えば、オ
キサジアゾリル)、ヘテロシクリル、ニトロ、シアノ、ハロゲン、アルキル(例
えば、ハロアルキル)、アルコキシ(例えば、ハロアルコキシ)、アルキルチオ
、ヒドロキシ、−CO2R(ここで、Rは、アリール、ヘテロアリール、水素ま
たはアルキルである)、または−NR’R”もしくは−CONR’R”(ここで
、R’およびR”は、同じであるか、または異なり、アリール、ヘテロアリール
、水素またはアルキルである)を表すか、あるいはR6およびR7は一緒にメチレ
ンジオキシもしくはエチレンジオキシ基のようなアルキレンジオキシ基を形成す
るか、またはそれらが結合する炭素原子と一緒にフェニル部分を形成する。
Typically R 5 and R 8 are the same or different and are hydrogen, halogen (
Bromine), alkyl, hydroxy, alkoxy or —NR′R ″ (wherein R ′ and R ″ are the same or different and are hydrogen or alkyl) and R 6 and R 7 are , Same or different, hydrogen, halogen (
For example, bromine), aryl (eg, phenyl), heteroaryl (eg, oxadiazolyl), heterocyclyl, nitro, cyano, halogen, alkyl (eg, haloalkyl), alkoxy (eg, haloalkoxy), alkylthio, hydroxy, —CO 2 R (where R is aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl), or -NR'R "or -CONR'R" (where R'and R "are the same or different , Aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl) or R 6 and R 7 together form an alkylenedioxy group, such as a methylenedioxy or ethylenedioxy group, or they are attached. Forms a phenyl moiety with a carbon atom.

【0042】 典型的に、R5およびR8は、同じであるか、または異なり、水素、アルキル、
ヒドロキシ、アルコキシまたは−NR’R”(ここで、R’およびR”は、同じ
であるか、または異なり、水素またはアルキルである)を表し、R6およびR7
、同じであるか、または異なり、水素、ニトロ、シアノ、ハロゲン、アルキル、
ハロアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、ハロアルコキシ、ヒドロキシ、−C
2R(ここで、Rは、アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキルである
)、または−NR’R”もしくは−CONR’R”(ここで、R’およびR”は
、同じであるか、または異なり、アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキ
ルである)を表すか、あるいはR6およびR7は一緒にメチレンジオキシもしくは
エチレンジオキシ基のようなアルキレンジオキシ基を形成するか、またはそれら
が結合する炭素原子と一緒にフェニル部分を形成する。
Typically R 5 and R 8 are the same or different and are hydrogen, alkyl,
Hydroxy, alkoxy or —NR′R ″, wherein R ′ and R ″ are the same or different and are hydrogen or alkyl, and R 6 and R 7 are the same, or Different, hydrogen, nitro, cyano, halogen, alkyl,
Haloalkyl, alkoxy, alkylthio, haloalkoxy, hydroxy, -C
O 2 R (where R is aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl), or —NR′R ″ or —CONR′R ″ (where R ′ and R ″ are the same, or Or, differently, is aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl), or R 6 and R 7 together form an alkylenedioxy group such as a methylenedioxy or ethylenedioxy group, or they are It forms a phenyl moiety with the carbon atom to which it is attached.

【0043】 典型的に、−NR’R”部におけるR’およびR”は、同じであるか、または
異なり、水素またはアルキルである。典型的に、−CONR’R”部におけるR
’およびR”は、同じであるか、または異なり、水素、アルキルまたはアリール
である。
Typically, R ′ and R ″ in the —NR′R ″ moiety are the same or different and are hydrogen or alkyl. Typically, R in the -CONR'R "part
'And R'are the same or different and are hydrogen, alkyl or aryl.

【0044】 好ましくは、R5およびR8の少なくとも1つが水素である。より好ましくは、
5およびR8の一方が水素であり、他方がハロゲン、またはより好ましくは水素
もしくはヒドロキシである。さらに好ましくは、R5およびR8の両方が水素であ
る。
Preferably at least one of R 5 and R 8 is hydrogen. More preferably,
One of R 5 and R 8 is hydrogen and the other is halogen, or more preferably hydrogen or hydroxy. More preferably, both R 5 and R 8 are hydrogen.

【0045】 典型的に、R5〜R8は無置換であるか、またはニトロ、シアノ、ハロゲン、ア
ルキル(例えば、ハロアルキル)、アルキルチオ、アルコキシ(例えば、ハロア
ルコキシ)、およびヒドロキシから選択される1つまたはそれ以上のさらなる置
換基で置換される。典型的に、これらのさらなる置換基自身は無置換である。
Typically R 5 to R 8 are unsubstituted or selected from nitro, cyano, halogen, alkyl (eg haloalkyl), alkylthio, alkoxy (eg haloalkoxy), and hydroxy 1. It is substituted with one or more further substituents. Typically, these additional substituents themselves are unsubstituted.

【0046】 好ましくは、R6およびR7は、水素、アリール(例えば、フェニル)、ヘテロ
アリール(例えば、オキサジアゾリル)、ニトロ、シアノ、アルキル、アルコキ
シ、ハロアルキル、ハロゲン、−CO2H、−CO2−アルキルまたは−CONR
’R”(ここで、R’およびR”は、同じであるか、または異なり、アリール、
ヘテロアリール、水素またはアルキルである)を表すか、あるいはR6およびR7 は一緒に上記アルキレンジオキシ基またはフェニル部分を形成する。さらに好ま
しくは、R6およびR7は、水素、ヘテロアリール(例えば、オキサジアゾリル)
、ニトロ、シアノ、メチルまたはエチルのようなC1〜C4アルキル、塩素、フッ
素または臭素のようなハロゲン、−CO2−Etおよび−CO2−Meのような−
CO2−(C1〜C4アルキル)、−OMeのようなC1〜C4アルコキシ、または
−CONR’R”(ここで、R’およびR”は、同じであるか、または異なり、
ヘテロアリール、または好ましくは、アリール(例えば、フェニル)、水素もし
くはC1〜C4アルキルである)を表すか、あるいはR6およびR7は、それが結合
する炭素原子と一緒にさらなるフェニル部分を形成する。さらに好ましくは、R 6 およびR7は、同じであるか、または異なり、水素、オキサジアゾリル、塩素、
フッ素、臭素、ニトロ、シアノ、メチル、メトキシ、−CO2H、−CO2Et、
−CO2Me、−CONH2、−CONHMe、および−CONMe2、−CON
H−フェニル、−CONH−(4−トリフルオロメトキシフェニル)または−C
ONH−(3,5−ジメトキシフェニル)から選択されるか、あるいはR6およ
びR7は、それらが結合する炭素原子と一緒にさらなるフェニル部分を形成する
[0046]   Preferably R6And R7Is hydrogen, aryl (eg, phenyl), hetero
Aryl (eg, oxadiazolyl), nitro, cyano, alkyl, alkoxy
Ci, haloalkyl, halogen, -CO2H, -CO2-Alkyl or -CONR
'R ", wherein R'and R" are the same or different and are aryl,
Heteroaryl, hydrogen or alkyl) or R6And R7 Together form the above alkylenedioxy group or phenyl moiety. More preferred
Actually, R6And R7Is hydrogen, heteroaryl (eg, oxadiazolyl)
C, such as, nitro, cyano, methyl or ethyl1~ CFourAlkyl, chlorine, fluorine
Elemental or halogen such as bromine, -CO2-Et and -CO2-Like Me-
CO2-(C1~ CFourAlkyl), C such as -OMe1~ CFourAlkoxy, or
-CONR'R "(where R'and R" are the same or different,
Heteroaryl, or, preferably, aryl (eg, phenyl), hydrogen if
Kuha C1~ CFourIs alkyl) or R6And R7Joins it
Forming a further phenyl moiety with the carbon atom which carries More preferably, R 6 And R7Are the same or different and are hydrogen, oxadiazolyl, chlorine,
Fluorine, bromine, nitro, cyano, methyl, methoxy, -CO2H, -CO2Et,
-CO2Me, -CONH2, -CONHMe, and -CONMe2, -CON
H-phenyl, -CONH- (4-trifluoromethoxyphenyl) or -C
Selected from ONH- (3,5-dimethoxyphenyl) or R6And
And R7Form an additional phenyl moiety with the carbon atom to which they are attached
.

【0047】 R1および/またはR2がアルキル基である場合には、それは典型的に無置換の
アルキル基である。好ましくは、R1およびR2は、同じであるか、または異なり
、水素またはアルキルであるか、あるいはR1およびR2は一緒にC1〜C3アルキ
レン基を形成する。より好ましくは、R1およびR2はともに水素である。
When R 1 and / or R 2 is an alkyl group it is typically an unsubstituted alkyl group. Preferably R 1 and R 2 are the same or different and are hydrogen or alkyl, or R 1 and R 2 together form a C 1 -C 3 alkylene group. More preferably, R 1 and R 2 are both hydrogen.

【0048】 典型的に、R3およびR4は、同時に−アルキニル−アリールまたは−アルキニ
ルヘテロアリール基であることはない。好ましい−アルキル−アリールおよび−
アルキル−ヘテロアリール基は、−(C1〜C4−アルキル)ーアリールおよび−
(C1〜C4アルキル)−ヘテロアリール基、例えば、−(C1〜C4ーアルキル)
−フェニル(ベンジル基のような)基である。好ましい−アルケニル−アリール
および−アルケニル−ヘテロアリール基は、−(C2〜C4アルケニル)−アリー
ルおよび−(C2〜C4アルケニル)−ヘテロアリール基、例えば−エテニル−フ
ェニル基のような−エテニルアリール基である。
Typically R 3 and R 4 are not simultaneously -alkynyl-aryl or -alkynylheteroaryl groups. Preferred -alkyl-aryl and-
Alkyl - heteroaryl group, - (C 1 ~C 4 - alkyl) Ariru and -
(C 1 -C 4 alkyl) - heteroaryl group, e.g., - (C 1 -C 4 Arukiru)
A phenyl (such as benzyl) group. Preferred - alkenyl - aryl and - alkenyl - heteroaryl group, - (C 2 -C 4 alkenyl) - aryl and - (C 2 -C 4 alkenyl) - heteroaryl group, for example - ethenyl - such as phenyl - It is an ethenylaryl group.

【0049】 典型的に、R3およびR4は、同じであるか、または異なり、各々アリールまた
はヘテロアリール基を表す。好ましいアリールおよびヘテロアリール基としては
、フェニル、ナフチル、ピリジル、フラニル、チエニル、イミダゾリル、ピラゾ
リジニル、イソオキサゾリルおよびピロリル基が挙げられる。より好ましいアリ
ールおよびヘテロアリール基は、フェニル、ナフチル、フラニル、チエニルおよ
びイソオキサゾリル基である。
Typically, R 3 and R 4 are the same or different and each represents an aryl or heteroaryl group. Preferred aryl and heteroaryl groups include phenyl, naphthyl, pyridyl, furanyl, thienyl, imidazolyl, pyrazolidinyl, isoxazolyl and pyrrolyl groups. More preferred aryl and heteroaryl groups are phenyl, naphthyl, furanyl, thienyl and isoxazolyl groups.

【0050】 R3およびR4が、アリール、シクロアルキル、複素環もしくはヘテロアリール
基に融合したアリールまたはヘテロアリール部を含有する場合、それは典型的に
上記複素環基または上記ヘテロアリール基に融合される。かかる融合基の例とし
ては、(1,2−シクロ(3−チオエチル)−イミダゾイル、ベンゾチエニル、
インドールおよびキノリン基である。キノリン基が好ましい。
When R 3 and R 4 contain an aryl or heteroaryl moiety fused to an aryl, cycloalkyl, heterocycle or heteroaryl group, it is typically fused to the above heterocycle group or above heteroaryl group. It Examples of such fused groups include (1,2-cyclo (3-thioethyl) -imidazoyl, benzothienyl,
Indole and quinoline groups. Quinoline groups are preferred.

【0051】 典型的に、R3およびR4は無置換であるか、または1つ、2つ、3つもしくは
4つの置換基、好ましくは1つまたは2つの置換基を有する。好ましい置換基と
しては、アリール、ヘテロアリールおよび複素環基、アルキル、ハロアルキル、
ハロゲン、ニトロ,−S(O)2−アルキル、ハロアルコキシ、シアノ、−CO2 R(ここで、Rは、アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキルである)、
アルコキシ、ヒドロキシ、−CONR’R”(ここで、R’およびR”は、同じ
であるか、または異なり、アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキルであ
る)、−Z−NR’”R””および−NR’”R””(ここで、Zは、アルキル
またはアルケニルであり、R’”およびR””は、同じであるか、または異なり
、各々アリール、ヘテロアリール、水素、アルキルまたは−CO−L(ここで、
Lは、アルキルまたはアリール基である)を表す)、ならびに−O−Z−R’”
”(ここで、Zは、上記に定義する通りであり、R’””は、アリール、ヘテロ
アリールまたはヘテロシクリルである)が挙げられる。
Typically R 3 and R 4 are unsubstituted or carry 1, 2, 3 or 4 substituents, preferably 1 or 2 substituents. Preferred substituents are aryl, heteroaryl and heterocyclic groups, alkyl, haloalkyl,
Halogen, nitro, -S (O) 2 - alkyl, haloalkoxy, cyano, -CO 2 R (where, R represents aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl),
Alkoxy, hydroxy, -CONR'R "(where R'and R" are the same or different and are aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl), -Z-NR '"R""and -NR '"R""(where Z is alkyl or alkenyl and R'" and R "" are the same or different and are each aryl, heteroaryl, hydrogen, alkyl or -CO-. L (where
L represents an alkyl or aryl group), and —O—Z—R ′ ″.
"Where Z is as defined above and R '""is aryl, heteroaryl or heterocyclyl.

【0052】 典型的に、Zは、上記部分において、アルキル、例えば、メチルである。−Z
NR’”R””および−NR’”R””部におけるR’”およびR””は、同じ
であるか、または異なり、水素、アルキル、−CO−アルキルまたは−CO−フ
ェニルである。好ましくは、R’”およびR””の少なくとも1つは、水素また
はアルキルである。典型的に、−O−Z−R’””部におけるR’””は、ヘテ
ロアリール、例えば、チアゾリルである。
Typically Z is alkyl in the above moieties, for example methyl. -Z
R '"and R""in the NR'" R "" and -NR '"R""moieties are the same or different and are hydrogen, alkyl, -CO-alkyl or -CO-phenyl. Is at least one of R ′ ″ and R ″ ″ is hydrogen or alkyl. Typically, R '"" in the -O-Z-R'"" moiety is heteroaryl, such as thiazolyl.

【0053】 より典型的には、R3およびR4は無置換であるか、または1つ、2つ、3つも
しくは4つの置換基、好ましくはアリール、ヘテロアリールおよび複素環基、ア
ルキル、ハロアルキル、ハロゲン、ニトロ、−S(O)2−アルキル、ハロアル
コキシ、シアノ、−CO2R(ここで、Rは、アリール、ヘテロアリール、水素
またはアルキルである)、アルコキシ、ヒドロキシならびに−NR’R”および
−CONR’R”(ここで、R’およびR”は、同じであるか、または異なり、
アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキルである)から選択される1つま
たは2つの置換基を有する。
More typically, R 3 and R 4 are unsubstituted or have 1, 2, 3 or 4 substituents, preferably aryl, heteroaryl and heterocyclic groups, alkyl, haloalkyl. , halogen, nitro, -S (O) 2 - alkyl, haloalkoxy, cyano, -CO 2 R (where, R represents aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl), alkoxy, hydroxy and -NR'R "And -CONR'R", where R'and R "are the same or different,
It has one or two substituents selected from aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl).

【0054】 好ましいアリール置換基は、フェニルである。好ましいヘテロアリールおよび
複素環置換基は、N、OおよびSから選択される1つ、2つもしくは3つのヘテ
ロ原子を含有する、5または6員環のヘテロアリールまたは複素環基である。例
としては、1つ、2つもしくは3つのヘテロ原子を含有する、5または6員環、
例えば、ピリジル、イソオキサゾリル、チアジアゾリル、チアゾリル、イソチア
ゾリルおよびピラゾリルが挙げられる。他の好ましい置換基としては、メチル、
エチル、n−プロピル、i−プロピルまたはt−ブチルのようなC1〜C4アルキ
ル、C1〜C4ハロアルキル、ハロゲン、ニトロ、シアノ、メトキシのようなC1
〜C4アルコキシ、−S(O)2−C1〜C4アルキル、−NR’”R””(ここで
、R’”およびR””は、同じであるか、または異なり、各々水素、C1〜C4
ルキル、または−CO−(C1〜C4アルキル)を表す)、−(C1〜C4アルキル
)−NR’”R””(ここで、R’”およびR””は、同じであるか、または異
なり、各々水素、C1〜C4アルキルまたは−CO−アリール(例えば、−CO−
フェニル)を表す)、および−O−(C1〜C4アルキル)−R’””(ここで、
R’””は、ヘテロアリール、例えば、チアゾリルである)が挙げられる。
A preferred aryl substituent is phenyl. Preferred heteroaryl and heterocycle substituents are 5- or 6-membered heteroaryl or heterocycle groups containing 1, 2 or 3 heteroatoms selected from N, O and S. Examples are 5- or 6-membered rings containing 1, 2 or 3 heteroatoms,
Examples include pyridyl, isoxazolyl, thiadiazolyl, thiazolyl, isothiazolyl and pyrazolyl. Other preferred substituents include methyl,
Ethyl, n- propyl, i- propyl or t-C 1 -C 4 alkyl, such as butyl, C 1 -C 4 haloalkyl, halogen, nitro, cyano, C 1 such as methoxy
-C 4 alkoxy, -S (O) 2 -C 1 ~C 4 alkyl, -NR '"R""(wherein,R'" and R "" are the same or different and are each hydrogen, C 1 -C represents a 4 alkyl or -CO-, (C 1 ~C 4 alkyl)), - (C 1 ~C 4 alkyl) -NR '"R""(wherein,R'" and R "" Are the same or different and are each hydrogen, C 1 -C 4 alkyl or —CO-aryl (eg, —CO—
Phenyl)), and -O- (C 1 ~C 4 alkyl) -R '"" (wherein,
R '"" is heteroaryl, for example thiazolyl).

【0055】 最も好ましい置換基は、フェニル、メチル、トリフルオロメチル、塩素、フッ
素、臭素、メトキシ、トリフルオロメトキシ、ニトロ、シアノ、−S(O)2
Me、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、ピラゾリル、チアジアゾリル、ピリ
ジル、チアゾリル、−NH−CO−Me、−O−CH2−チアゾリル、−CH2
NH−フェニル、および−CH2−NH−(4−クロロフェニル)である。
Most preferred substituents are phenyl, methyl, trifluoromethyl, chlorine, fluorine, bromine, methoxy, trifluoromethoxy, nitro, cyano, —S (O) 2 —.
Me, isoxazolyl, isothiazolyl, pyrazolyl, thiadiazolyl, pyridyl, thiazolyl, -NH-CO-Me, -O -CH 2 - thiazolyl, -CH 2 -
NH- phenyl, and -CH 2 -NH- (4-chlorophenyl).

【0056】 上記置換基自身は、好ましくは無置換であるか、またはニトロ、シアノ、ハロ
ゲン、アルキル(例えば、ハロアルキル)、アルキルチオ、アルコキシ(例えば
、ハロアルコキシ)およびヒドロキシから選択される1つまたはそれ以上のさら
なる置換基で置換される。典型的に、これらのさらなる置換基自身は無置換であ
る。
The substituents themselves are preferably unsubstituted or one or their selected from nitro, cyano, halogen, alkyl (eg haloalkyl), alkylthio, alkoxy (eg haloalkoxy) and hydroxy. It is substituted with the above further substituents. Typically, these additional substituents themselves are unsubstituted.

【0057】 本発明のさらに好ましい化合物は、下記式(Ia):[0057]   More preferred compounds of the present invention have the formula (Ia):

【0058】[0058]

【化10】 [Chemical 10]

【0059】 (式中、R5〜R8は、式Ar’にて上記に定義する通りであり、XおよびYは、
同じであるか、または異なり、フェニルまたはチエニルを表し、nは、Xがフェ
ニルである場合、0〜4の整数を表し、Xがチエニルの場合、0〜3の整数を表
し、mは、Yがフェニルの場合、0〜4の整数を表し、Yがチエニルの場合、0
〜3の整数を表し、R3’およびR4’は、同じであるか、または異なり、アリー
ル、ヘテロアリールおよび複素環基、アルキル(例えば、ハロアルキル)、ハロ
ゲン、ニトロ、−S(O)2−アルキル、アルコキシ(例えば、ハロアルコキシ
)、シアノ、−CO2R(ここで、Rは、アリール、ヘテロアリール、水素また
はアルキルである)、ヒドロキシ、−CONR’R”(ここで、R’およびR”
は、同じであるか、または異なり、アリール、ヘテロアリール、水素またはアル
キルである)、−Z−NR’”R””および−NR’”R””(ここで、Zは、
アルキルまたはアルケニルであり、R’”およびR””は、同じであるか、また
は異なり、各々アリール、ヘテロアリール、水素、アルキルまたは−CO−L(
ここで、Lは、アルキルまたはアリール基である)を表す)、または−O−Z−
R’””(ここで、Zは、上記に定義する通りであり、R’””は、アリール、
ヘテロアリールまたはヘテロシクリルである)から選択される) の化合物である。
(Wherein R 5 to R 8 are as defined above in formula Ar ′, and X and Y are
The same or different, represents phenyl or thienyl, n represents an integer of 0 to 4 when X is phenyl, represents an integer of 0 to 3 when X is thienyl, and m is Y Represents an integer of 0 to 4 when phenyl, and 0 when Y represents thienyl.
Represents an integer of 3 and R 3 ′ and R 4 ′ are the same or different and are aryl, heteroaryl and heterocyclic groups, alkyl (eg haloalkyl), halogen, nitro, —S (O) 2 - alkyl, alkoxy (e.g., haloalkoxy), cyano, -CO 2 R (where, R represents aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl), hydroxy, -CONR'R "(where, R 'and R ”
Are the same or different and are aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl), -Z-NR '"R""and-NR'" R "", where Z is
Alkyl or alkenyl, R ′ ″ and R ″ ″ are the same or different and are each aryl, heteroaryl, hydrogen, alkyl or —CO—L (
Here, L represents an alkyl or aryl group), or -O-Z-
R '"" (where Z is as defined above, R'"" is aryl,
Heteroaryl or heterocyclyl))).

【0060】 典型的に、Zは、上記部分において、アルキル、例えば、メチルである。典型
的に、−Z−NR’”R””および−NR’”R””部におけるR’”およびR
””は、同じであるか、または異なり、水素、アルキル、−CO−アルキルまた
は−CO−フェニルである。好ましくは、R’”およびR””の少なくとも1つ
は、水素またはアルキルである。典型的に、−O−Z−R’””部におけるR’
””は、ヘテロアリール、例えば、チアゾリルである。
Typically Z is alkyl in the above moieties, for example methyl. Typically, R '"and R in the -Z-NR'" R "" and -NR '"R""moieties
"" Are the same or different and are hydrogen, alkyl, -CO-alkyl or -CO-phenyl. Preferably, at least one of R ′ ″ and R ″ ″ is hydrogen or alkyl. Typically, R ′ in the —O—Z—R ′ ″ ″ part.
"" Is heteroaryl, for example thiazolyl.

【0061】 典型的に、R3’およびR4’は、同じであるか、または異なり、ヘテロアリー
ルおよび複素環基、アルキル(例えば、ハロアルキル)、ハロゲン、ニトロ、−
S(O)2−アルキル、アルコキシ(例えば、ハロアルコキシ)、シアノ、−C
2R(ここで、Rは、アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキルである
)、ヒドロキシ、ならびに−NR’R”および−CONR’R”(ここで、R’
およびR”は、同じであるか、または異なり、アリール、ヘテロアリール、水素
、またはアルキルである)から選択される。
Typically R 3 ′ and R 4 ′ are the same or different and are heteroaryl and heterocycle groups, alkyl (eg haloalkyl), halogen, nitro, —
S (O) 2 -alkyl, alkoxy (for example, haloalkoxy), cyano, -C
O 2 R (where, R represents aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl), hydroxy, and -NR'R "and -CONR'R" (where, R '
And R ″ are the same or different and are selected from aryl, heteroaryl, hydrogen, or alkyl).

【0062】 好ましい式(Ia)の好ましい化合物は、R5およびR8の一方は水素であり、
他方は水素、ハロゲンまたはヒドロキシであるか、あるいはR5およびR8がとも
に水素であり、R6およびR7は、同じであるか、または異なり、アリール(例え
ば、フェニル)、ヘテロアリール(例えば、オキサジアゾリル)、ニトロ、シア
ノ、アルキル(例えば、メチルおよびエチル)、ハロアルキル、ハロゲン(例え
ば、塩素、フッ素および臭素)、水素、−CO2H、−CO2−アルキル(例えば
、−CO2−Etおよび−CO2−Me)、アルコキシ(例えば、メトキシ)、な
らびにCONR’R”(ここで、R’およびR”は、同じであるか、または異な
り、ヘテロアリール、または好ましくは、アリール、水素もしくはアルキルであ
る)から選択されるか、あるいはR6およびR7は一緒にメチレンジオキシもしく
はエチレンジオキシ基のようなアルキレンジオキシ基を形成するか、またはそれ
らが結合する炭素原子と一緒にさらなるフェニル部分を形成し、XおよびYは、
同じであるか、または異なり、フェニルまたはチエニルであり、nおよびmは、
同じであるか、または異なり、0、1または2であり、R3’およびR4’は、同
じであるか、または異なり、下記: (a)フェニル部分に結合する場合、アリール(例えば、フェニル)、C1
4アルキル(例えば、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピルまたはt
−ブチル)、C1〜C4ハロアルキル(例えば、CCl3およびCF3)、ハロゲン
(例えば、塩素、フッ素および臭素)、ニトロ、シアノ、C1〜C4アルコキシ(
例えば、メトキシ)、−CO2R(ここで、Rは、水素またはC1〜C4アルキル
である)、−NR’R”(ここで、R’およびR”は、同じであるか、または異
なり、水素、C1〜C4アルキルまたは−CO−(C1〜C4)アルキルである)、
−O−(C1〜C4アルキル)−R’”(ここで、R’”は、ヘテロアリール(例
えば、チアゾリル)、またはヘテロシクリルである)、ならびに−S(O)2
1〜C4アルキル;並びに (b)チエニル部分に結合する場合、ピリジル、チアゾリル、イソオキサゾリ
ル、イソチアゾリル、ピラゾリル、ニトロ、塩素、臭素またはフッ素のようなハ
ロゲン、−CF3および−CCl3のようなC1〜C4ハロアルキル、メチル、エチ
ル、n−プロピル、i−プロピルまたはt−ブチルのようなC1〜C4アルキル、
−CO2R(ここで、Rは、水素またはC1〜C4アルキルである)、メトキシの
ようなC1〜C4アルコキシ、−(C1〜C4アルキル)−NH−アリール(例えば
、−(C1〜C4アルキル)−NH−フェニル)、ならびに−S(O)2−C1〜C 4 アルキル、 から選択される化合物である。
[0062]   Preferred compounds of formula (Ia) are RFiveAnd R8One is hydrogen,
The other is hydrogen, halogen or hydroxy, or RFiveAnd R8With
Is hydrogen and R6And R7Are the same or different and are aryl (eg
Phenyl), heteroaryl (eg oxadiazolyl), nitro, sia
No, alkyl (eg methyl and ethyl), haloalkyl, halogen (eg
Chlorine, fluorine and bromine), hydrogen, -CO2H, -CO2-Alkyl (eg
, -CO2-Et and -CO2-Me), alkoxy (eg methoxy),
And CONR'R ", where R'and R" are the same or different.
, Heteroaryl, or, preferably, aryl, hydrogen or alkyl.
R) or R6And R7Together with methylenedioxy
Forms an alkylenedioxy group, such as an ethylenedioxy group, or it
Together with the carbon atom to which they are attached form a further phenyl moiety, X and Y are
The same or different, phenyl or thienyl, n and m are
The same or different, 0, 1 or 2, R3'And RFour’Is the same
The same or different, below:   (A) when attached to a phenyl moiety, aryl (eg, phenyl), C1~
CFourAlkyl (eg methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl or t
-Butyl), C1~ CFourHaloalkyl (eg CCl3And CF3),halogen
(Eg chlorine, fluorine and bromine), nitro, cyano, C1~ CFourAlkoxy (
For example, methoxy), -CO2R (where R is hydrogen or C1~ CFourAlkyl
, -NR'R ", where R'and R" are the same or different.
Becomes, hydrogen, C1~ CFourAlkyl or -CO- (C1~ CFour) Is alkyl),
-O- (C1~ CFourAlkyl) -R '"(where R'" is heteroaryl (eg,
, Thiazolyl), or heterocyclyl), and -S (O).2
C1~ CFourAlkyl; and   (B) When bonded to a thienyl moiety, pyridyl, thiazolyl, isoxazoli
Groups such as hydrogen, isothiazolyl, pyrazolyl, nitro, chlorine, bromine or fluorine.
Rogen, -CF3And -CCl3C like1~ CFourHaloalkyl, methyl, ethi
C such as le, n-propyl, i-propyl or t-butyl1~ CFourAlkyl,
-CO2R (where R is hydrogen or C1~ CFourAlkyl), methoxy
Like C1~ CFourAlkoxy,-(C1~ CFourAlkyl) -NH-aryl (eg,
,-(C1~ CFourAlkyl) -NH-phenyl), as well as -S (O).2-C1~ C Four Alkyl, Is a compound selected from.

【0063】 典型的に、これらの好ましい化合物では、R6およびR7は、同じであるか、ま
たは異なり、ニトロ、メチルまたはエチルのようなアルキル、ハロアルキル、塩
素、フッ素または臭素のようなハロゲン、水素、−CO2−Etおよび−CO2
Meのような−CO2−アルキル、メトキシのようなアルコキシ、および−CO
NR’R”(ここで、R’およびR”は、同じであるか、または異なり、アリー
ル、ヘテロアリール、または好ましくは、水素あるいはアルキルである)から選
択されるか、あるいはR6およびR7は一緒にメチレンジオキシもしくはエチレン
ジオキシ基のようなアルキレンジオキシ基を形成するか、またはそれらが結合す
る炭素原子と一緒にさらなるフェニル部分を形成する。典型的に、フェニル部分
に結合する場合、R3’およびR4’は、C1〜C4アルキル(例えば、メチル、エ
チル、n−プロピル、i−プロピルまたはt−ブチル)、C1〜C4ハロアルキル
(例えば、CCl3およびCF3)、ハロゲン(例えば、塩素、フッ素および臭素
)、ニトロ、C1〜C4アルコキシ(例えば、メトキシ)、ならびに−S(O)2
−C1〜C4アルキルから選択される。典型的に、チエニル部分に結合する場合、
3’およびR4’は、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、ピラゾリル、ニトロ
、ハロゲン(例えば、塩素、臭素およびフッ素)、C1〜C4ハロアルキル(例え
ば、−CF3および−CCl3)、C1〜C4アルキル(例えば、メチル、エチル、
n−プロピル、i−プロピルおよびt−ブチル)、−CO2R(ここで、Rは、
水素またはC1〜C4アルキルである)、C1〜C4アルコキシ(例えば、メトキシ
)、ならびに−S(O)2−C1〜C4アルキルから選択される。
Typically, in these preferred compounds, R 6 and R 7 are the same or different and are alkyl such as nitro, methyl or ethyl, haloalkyl, halogen such as chlorine, fluorine or bromine, hydrogen, -CO 2 -Et and -CO 2 -
Me as -CO 2 - alkyl, alkoxy such as methoxy, and -CO
NR'R ", where R'and R" are the same or different and are selected from aryl, heteroaryl, or preferably hydrogen or alkyl, or R 6 and R 7 Together form an alkylenedioxy group such as a methylenedioxy or ethylenedioxy group, or together with the carbon atom to which they are attached form a further phenyl moiety. Typically, when bound to the phenyl moiety, R 3 'and R 4' is, C 1 -C 4 alkyl (e.g., methyl, ethyl, n- propyl, i- propyl or t- butyl), C 1 -C 4 haloalkyl (e.g., CCl 3 and CF 3), halogen (e.g., chlorine, fluorine and bromine), nitro, C 1 -C 4 alkoxy (e.g., methoxy), and -S (O) 2
It is selected from -C 1 -C 4 alkyl. Typically, when attached to a thienyl moiety,
R 3 ′ and R 4 ′ are isoxazolyl, isothiazolyl, pyrazolyl, nitro, halogen (eg chlorine, bromine and fluorine), C 1 -C 4 haloalkyl (eg —CF 3 and —CCl 3 ), C 1 -C. 4 alkyl (eg, methyl, ethyl,
n- propyl, i- propyl, and t- butyl), - CO 2 R (where, R represents
Hydrogen or C 1 -C 4 alkyl), C 1 -C 4 alkoxy (eg methoxy), and —S (O) 2 —C 1 -C 4 alkyl.

【0064】 特に好ましい式(Ia)の化合物は、R5およびR8が水素であり、R6および
7は、同じであるか、または異なり、水素、オキサジアゾリル、塩素、フッ素
、臭素、ニトロ、シアノ、メチル、メトキシ、−CO2Et、−CO2Me、−C
ONH2、−CONHMe、−CONMe2、−CONH−フェニル、−CONH
−(4−トリフルオロメトキシフェニル)および−CONH−(3,5−ジメト
キシフェニル)から選択されるか、あるいはそれらが結合する炭素原子と一緒に
フェニル部分を形成し、nおよびmは、同じであるか、または異なり、0、1ま
たは2であり、XおよびYは、同じであるか、または異なり、フェニルまたはチ
エニルであり、R3’およびR4’は、同じであるか、または異なり、メチル、エ
チル、i−プロピル、塩素、フッ素、臭素、メトキシ、トリフルオロメトキシ、
ニトロ、シアノ、−S(O)2Me、−CO2H、−NH−CO−CH3、−O−
CH2−(2−クロロチアゾリル)ならびに、XおよびYがチエニルである場合
は、ピリジル、チアゾリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、ピラゾリルお
よび−CH2−NH−R(ここで、Rは、フェニルまたは4−クロロフェニルで
ある)から選択される化合物である。
Particularly preferred compounds of formula (Ia) are those in which R 5 and R 8 are hydrogen and R 6 and R 7 are the same or different and are hydrogen, oxadiazolyl, chlorine, fluorine, bromine, nitro, cyano, methyl, methoxy, -CO 2 Et, -CO 2 Me , -C
ONH 2, -CONHMe, -CONMe 2, -CONH- phenyl, -CONH
Selected from-(4-trifluoromethoxyphenyl) and -CONH- (3,5-dimethoxyphenyl) or together with the carbon atom to which they are attached form a phenyl moiety, n and m being the same With or different, 0, 1 or 2, X and Y are the same or different, phenyl or thienyl, and R 3 'and R 4 ' are the same or different, Methyl, ethyl, i-propyl, chlorine, fluorine, bromine, methoxy, trifluoromethoxy,
Nitro, cyano, -S (O) 2 Me, -CO 2 H, -NH-CO-CH 3, -O-
CH 2 - (2-Kurorochiazoriru) and, if X and Y are thienyl, pyridyl, thiazolyl, isoxazolyl, isothiazolyl, pyrazolyl and -CH 2 -NH-R (where, R represents phenyl or 4-chlorophenyl There is a compound selected from.

【0065】 より好ましい本発明の化合物は、下記式(Ib):[0065]   More preferred compounds of the present invention have the formula (Ib):

【0066】[0066]

【化11】 [Chemical 11]

【0067】 (式中、R3およびR4は、同じであるか、または異なり、(a)ハロゲン(例え
ば、塩素)、C1〜C4アルキル(例えば、メチル)、C1〜C4ハロアルキル(例
えば、−CF3)、またはC1〜C4ハロアルコキシ(例えば、−OCF3)で任意
に置換されるフェニル、および(b)ハロゲン(例えば、塩素)、C1〜C4アル
キル(例えば、メチル)、C1〜C4ハロアルキル(例えば、−CF3)およびC1 〜C4ハロアルコキシ(例えば、−OCF3)で任意に置換されるチエニルから選
択され、R6は、ハロゲン(例えば、塩素およびフッ素)、またはC1〜C4ハロ
アルコキシ(例えば、−CF3および−CCl3)である) の化合物、またはその塩である。
Wherein R 3 and R 4 are the same or different and (a) halogen (eg chlorine), C 1 -C 4 alkyl (eg methyl), C 1 -C 4 haloalkyl (e.g., -CF 3), or C 1 -C 4 haloalkoxy (e.g., -OCF 3) phenyl optionally substituted with, and (b) halogen (e.g., chlorine), C 1 -C 4 alkyl (e.g. , Methyl), C 1 -C 4 haloalkyl (eg, —CF 3 ) and C 1 -C 4 haloalkoxy (eg, —OCF 3 ) optionally substituted thienyl, and R 6 is halogen (eg, , Chlorine and fluorine), or C 1 -C 4 haloalkoxy (for example, —CF 3 and —CCl 3 )), or a salt thereof.

【0068】 1つまたはそれ以上のキラル中心を含有する式(I)の化合物は、鏡像異性体
的に、またはジアステレオ異性体的に純粋な形態、あるいは異性体の混合物の形
態で使用されてもよい。
The compounds of formula (I) containing one or more chiral centers are used in enantiomerically or diastereomerically pure form, or in the form of a mixture of isomers. Good.

【0069】 典型的に、本発明の化合物が、例えば、MRSA以外の黄色ブドウ球菌株を阻
害するための抗菌剤として用いられる場合、R3およびR4は、アミノ基でパラ位
に置換されたフェニル基ではない。より典型的には、かかる化合物において、R 3 およびR4は、4−アミノフェニルまたは4−ニトロフェニル基ではない。好ま
しくは、R3およびR4は、かかる化合物においてアミノフェニル基ではない。
[0069]   Typically, compounds of the invention inhibit, for example, Staphylococcus aureus strains other than MRSA.
When used as an antibacterial agent to harm, R3And RFourIs the para position at the amino group
It is not a phenyl group substituted by. More typically, in such compounds R 3 And RFourIs not a 4-aminophenyl or 4-nitrophenyl group. Preferred
Actually, R3And RFourIs not an aminophenyl group in such compounds.

【0070】 好ましくは、R3およびR4が、同時にメチル基のようなC1〜C4アルキル基で
パラ位に置換されたフェニル基である場合、Arは、上記に定義する式Ar’(
式中、R5、R7およびR8は水素であり、R6は、メチルのようなC1〜C4アルキ
ルまたは−CO2−Etのような−CO2−(C1〜C4アルキル)である)を有す
る基ではない。
Preferably, when R 3 and R 4 are phenyl groups which are simultaneously substituted in the para position with a C 1 -C 4 alkyl group such as a methyl group, Ar is of the formula Ar ′ (as defined above.
Wherein, R 5, R 7, and R 8 are hydrogen, R 6 is, -CO 2 as C 1 -C 4 alkyl or -CO 2 -Et such as methyl - (C 1 ~C 4 alkyl A) is not a group having

【0071】 本明細書中で用いる薬学的に許容可能な塩は、薬学的に許容可能な酸または塩
基を有する塩である。薬学的に許容可能な酸としては、塩酸、硫酸、リン酸、二
リン酸、臭化水素酸または硝酸のような無機酸、およびクエン酸、フマル酸、マ
レイン酸、リンゴ酸、アスコルビン酸、コハク酸、酒石酸、安息香酸、酢酸、メ
タンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸またはp−トルエンス
ルホン酸のような有機酸の両方が挙げられる。薬学的に許容可能な塩基としては
、水酸化アルカリ金属(例えば、ナトリウムまたはカリウム)および水酸化アル
カリ土類金属(例えば、カルシウムまたはマグネシウム)、ならびにアルキルア
ミン、アラルキルアミンまたは複素環式アミンのような有機塩基が挙げられる。
As used herein, a pharmaceutically acceptable salt is a salt with a pharmaceutically acceptable acid or base. Pharmaceutically acceptable acids include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, diphosphoric acid, hydrobromic acid or nitric acid, and citric acid, fumaric acid, maleic acid, malic acid, ascorbic acid, succinic acid. Both acids, organic acids such as tartaric acid, benzoic acid, acetic acid, methanesulphonic acid, ethanesulphonic acid, benzenesulphonic acid or p-toluenesulphonic acid are mentioned. Pharmaceutically acceptable bases include alkali metal hydroxides (eg sodium or potassium) and alkaline earth metal hydroxides (eg calcium or magnesium), and alkylamines, aralkylamines or heterocyclic amines. An organic base is mentioned.

【0072】 特に好ましい式(I)の化合物としては、 1,2−ビス(4−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−ベンゼン 1,2−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジブロモベ
ンゼン 3,4−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−6−ブロモトルエン 1,2−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−4−フルオロベンゼ
ン 3−(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−(4−ヨー
ドフェニルスルホニルアミノ)トルエン 1,2−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−4−ニトロベンゼン 3−(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−4−(4−クロロフェニルス
ルホニルアミノ)トルエン 1,2−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−ベンゼン 1,2−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−4−フルオロ−5−
ニトロベンゼン 3,4−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−安息香酸メチルエス
テル 1,2−ビス(4−ブロモフェニルスルホニルアミノ)−ベンゼン N,N−1,4−ビス(4−メチルフェニルスルホンアミド)−7,8−ジブ
ロモキナゾリン 1,2−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジクロロベ
ンゼン 2,3−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)ナフタレン 1,2−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジフルオロ
ベンゼン 1,2−ビス(4−ブロモフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジブロモベ
ンゼン 1,2−ビス(4−フルオロフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジブロモ
ベンゼン 1,2−ビス(3−ブロモフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジブロモベ
ンゼン 1,2−ビス(4−トリフルオロメトキシフェニルスルホニルアミノ)−ベン
ゼン 1,2−ビス(4−イソプロピルフェニルスルホニルアミノ)−ベンゼン 1,2−ビス(4−フルオロフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジメチル
ベンゼン 1,2−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジメチルベ
ンゼン 1,2−ビス(4−トリフルオロメトキシフェニルスルホニルアミノ)−4,
5−ジメチルベンゼン 1,2−ビス(4−イソプロピルフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジメ
チルベンゼン 2,3−ビス(4−フルオロフェニルスルホニルアミノ)フェノール 2,3−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)フェノール 2,3−ビス(4−トリフルオロメトキシフェニルスルホニルアミノ)フェノ
ール 2,3−ビス(4−イソプロピルフェニルスルホニルアミノ)フェノール 3,4−ビス(4−フルオロフェニルスルホニルアミノ)アニソール 3,4−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)アニソール 3,4−ビス(4−フルオロメトキシフェニルスルホニルアミノ)アニソール 3,4−ビス(4−イソプロピルフェニルスルホニルアミノ)アニソール 3,4−ビス(4−メチルスルホノフェニルスルホニルアミノ)アニソール 1,2−ビス(フェニルスルホニルアミノ)ベンゼン 1,2−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)ベンゼン 1,2−ビス(4−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)ベンゼン 1,2−ビス(3−クロロ−2−メチルフェニルスルホニルアミノ)ベンゼン 1,2−ビス(2,6−ジフルオロフェニルスルホニルアミノ)ベンゼン 1,2−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4,5
−ジメチルベンゼン 1,2−ビス(3−クロロ−2−メチルフェニルスルホニルアミノ)−4,5
−ジメチルベンゼン 1,2−ビス(2,6−ジフルオロフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジ
メチルベンゼン 1,2−ビス(2,6−ジフルオロフェニルスルホニルアミノ)−4−フルオ
ロベンゼン 2,3−ビス(3,4−ジクロロフェニルスルホニルアミノ)−フェノール 2,3−ビス(2,4−ジフルオロフェニルスルホニルアミノ)−フェノール 1,2−ビス(4−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4,5
−ジメチルベンゼン 2,3−ビス(5−クロロ,2−メトキシフェニルスルホニルアミノ)−フェ
ノール 3,4−ビス(4−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−安息香
酸エチルエステル 3,4−ビス(3,4−ジクロロフェニルスルホニルアミノ)アニソール 3,4−ビス(5−クロロ,2−メトキシフェニルスルホニルアミノ)アニソ
ール 1,2−ビス(4−フルオロフェニルスルホニルアミノ)ベンゼン 1,2−ビス(2,4−ジフルオロフェニルスルホニルアミノ)ベンゼン 1,2−ビス(フェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジメチルベンゼン 1,2−ビス(5−クロロ−2−メトキシフェニルスルホニルアミノ)−4,
5−ジメチルベンゼン 2,3−ビス(フェニルスルホニルアミノ)−フェノール 2,3−ビス(2−メチル−5−ニトロフェニルスルホニルアミノ)フェノー
ル 3,4−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)アニソー
ル 1,2−ビス(5−クロロ−2−メトキシフェニルスルホニルアミノ)ベンゼ
ン 2,3−ビス(4−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)フェノー
ル 3,4−ビス(4−トリフロオロメチルフェニルスルホニルアミノ)アニソー
ル 1,2−ビス(4−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−フ
ルオロベンゼン 3,4−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−安息香
酸エチルエステル 1,2−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)−ベンゼン 2,3−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)−フェノール 1,2−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)−ナフタレン 1,2−ビス[2−(3−オキサゾリル)−5−チエニルスルホニルアミノ]
−ナフタレン 3,4−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)−安息香酸メチ
ルエステル 3,4−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)フルオロベンゼン 2,3−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)フェノール 3,4−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)−安息香酸エチ
ルエステル 3,4−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)−アニソール 2,3−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)−ベンゼン 1,2−ビス[2−(3−オキサゾリル)−5−チエニルスルホニルアミノ]
−ベンゼン 1,2−ジメチル−4,5−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)−ベンゼ
ン 1,2−ジメチル−4,5−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミ
ノ)−ベンゼン 1,2−ジフルオロ−4,5−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)−ベン
ゼン 1,2−ジブロモ−4,5−ビス(2,3ジクロロ−5−チエニルスルホニル
アミノ)−ベンゼン 3,4−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)クロロベンゼン 3,4−ビス(5−クロロ−2−チエニルスルホニルアミノ)クロロベンゼン 3,4−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)−安息香酸メチルエステル 3,4−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)フロオロベンゼ
ン 1,2−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)−3,4,5,6−テトラメ
チルベンゼン 3,4−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)−安息香酸エチルエステル 1,2−ビス(2,5−ジクロロ−3−チエニルスルホニルアミノ)−4,5
−ジメチルベンゼン 1,2−ビス(2,5−ジクロロ−3−チエニルスルホニルアミノ)−フェノ
ール 1,2−ビス(2,5−ジクロロ−3−チエニルスルホニルアミノ)−アニソ
ール 1,2−ジブロモ−4,5−ビス(2,5−ジクロロ−3−チエニルスルホニ
ルアミノ)−ベンゼン 3,4−ビス(2,5−ジクロロ−3−チエニルスルホニルアミノ)クロロベ
ンゼン 1,2−ビス(2,5−ジクロロ−3−チエニルスルホニルアミノ)−3,4
,5,6−テトラメチルベンゼン 2,3−ビス(フェニルスルホニルアミノ)ナフタレン 2,3−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)ナフタレ
ン 2,3−ビス(4−トリフルオロメトキシフェニルスルホニルアミノ)ナフタ
レン 2,3−ビス(3,4−ジクロロフェニルスルホニルアミノ)ナフタレン 2,3−ビス(4−イソプロピルフェニルスルホニルアミノ)ナフタレン 2,3−ビス(4−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)ナフタレ
ン 2,3−ビス(2,4−ジフルオロフェニルスルホニルアミノ)ナフタレン 2,3−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)ナフタレン 2,3−ビス(2−メチル−4−ニトロフェニルスルホニルアミノ)ナフタレ
ン 2,3−ビス(2−メチル−3−クロロフェニルスルホニルアミノ)ナフタレ
ン 2,3−ビス(4−シアノフェニルスルホニルアミノ)ナフタレン 2,3−ビス(3,5−ジメチル−3−オキサゾイルスルホニルアミノ)ナフ
タレン 2,3−ビス(2−アザ−4,5−ベンゾチアゾイルスルホニルアミノ)ナフ
タレン 2,3−ビス(2−(3−オキサゾイル)−5−チエニルスルホニルアミノ)
ナフタレン 2,3−ビス(2,6−ジフルオロフェニルスルホニルアミノ)ナフタレン 2,3−ビス(3−ニトロ−4−メチルフェニルスルホニルアミノ)ナフタレ
ン 3,4−ビス(2−(1,2−シクロ(3−チオエチル)−4−クロロ−5−
イミダゾリルスルホニルアミノ)ナフタレン 2,3−ビス(4−メチルスルホノフェニルスルホニルアミノ)ナフタレン 1,2−ビス(4−フルオロフェニルスルホニルアミノ)−4−ニトロベンゼ
ン 3,4−ビス(4−フルオロフェニルスルホニルアミノ)−安息香酸メチルエ
ステル 3,4−ビス(4−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−安息香
酸メチルエステル 3,4−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)−安息香酸メチ
ルエステル 3,4−ビス(2−メトキシ−2−クロロフェニルスルホニルアミノ)−安息
香酸メチルエステル 3,4−ビス(4−メチル−2−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−安息香
酸メチルエステル 1,2−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−フ
ルオロベンゼン 1,2−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)−4−フルオロベンゼン 1,2−ビス(3,4−ジクロロフェニルスルホニルアミノ)−4−フルオロ
ベンゼン 1,2−ビス(2−メチル−5−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−4−フ
ルオロベンゼン 1,2−ビス(フェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジフルオロベンゼン 3,4−ビス(3,4−ジクロロフェニルスルホニルアミノ)−安息香酸エチ
ルエステル 3,4−ビス(2,4−ジクロロフェニルスルホニルアミノ)−安息香酸エチ
ルエステル 3,4−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)−安息香酸エチ
ルエステル 3,4−ビス(2−メチル,5−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−安息香
酸エチルエステル 3,4−ビス(2,6−ジフルオロフェニルスルホニルアミノ)−安息香酸エ
チルエステル 1,2−ビス(2−メチル,5−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−4−メ
トキシベンゼン 1,2−ビス(4−メチル,3−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−4−メ
トキシベンゼン 1,2−ビス(3,4−ジクロロフェニルスルホニルアミノ)−ベンゼン 1,2−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)−ベンゼン 1,2−ビス(2−メチル−5−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−ベンゼ
ン 1,2−ビス(2−(3−オキサゾイル)−5−チエニルスルホニルアミノ)
−ベンゼン 1,2−ビス(4−メチル−3−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−ベンゼ
ン 1,2−ビス(4−イソプロピルフェニルスルホニルアミノ)−4−ニトロベ
ンゼン 1,2−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)−4,5−ジメチルベンゼン 1,2−ビス(3,4−ジクロロフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジメ
チルベンゼン 1,2−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)−4,5−ジメ
チルベンゼン 1,2−ビス(2−メチル−5−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−4,5
−ジメチルベンゼン 1,2−ビス(4−メチル−3−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−4,5
−ジメチルベンゼン 1,2−ビス(4−メチルスルホノフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジ
メチルベンゼン 1,2−ビス(1−ナフチルスルホニルアミノ)−4,5−ジブロモベンゼン 1,2−ビス(2,3−ジクロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)−4,5
−ジブロモベンゼン 1,2−ビス(2,5−ジクロロ−3−チエニルスルホニルアミノ)−4,5
−ジブロモベンゼン 1,2−ビス(4−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジブロモベ
ンゼン 1,2−ビス(4−ビフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジブロモベンゼ
ン 1,2−ビス(4−ブロモフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジブロモベ
ンゼン 1,2−ビス(4−カルボキシフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジブロ
モベンゼン 1,2−ビス(3,4−ジメトキシフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジ
ブロモベンゼン 1,2−ビス(3−メチルフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジブロモベ
ンゼン 1,2−ビス(2−フルオロフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジブロモ
ベンゼン 1,2−ビス(2−メトキシフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジブロモ
ベンゼン 1,2−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−4−シアノベンゼン 1,2−ビス(フェニルスルホニルアミノ)−4−クロロベンゼン 1,2−ビス(4−フルオロフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロベンゼ
ン 1,2−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−ク
ロロベンゼン 1,2−ビス(3−トリフルオロメトキシフェニルスルホニルアミノ)−4−
クロロベンゼン 1,2−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)−4−クロロベンゼン 1,2−ビス(3,4−ジクロロフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロベ
ンゼン 1,2−ビス(4−イソプロピルフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロベ
ンゼン 1,2−ビス(2,4−ジフルオロフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロ
ベンゼン 3,4−ビス(4−クロロ−2−メトキシフェニルスルホニルアミノ)安息香
酸エチルエステル 1,2−ビス(2,5−ジクロロ−3−チエニルスルホニルアミノ)−4−ク
ロロベンゼン 1,2−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)−4−クロロベ
ンゼン 1,2−ビス(2−メチル−5−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−4−ク
ロロベンゼン 1,2−ビス(2−メチル−3−クロロフェニルスルホニルアミノ)−4−ク
ロロベンゼン 1,2−ビス(4−シアノフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロベンゼン 1,2−ビス(3,5−ジメチル−4−オキサゾイルスルホニルアミノ)−4
−クロロベンゼン 1,2−ビス(2,6−ジフルオロフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロ
ベンゼン 1,2−ビス(4−メチル−3−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−4−ク
ロロベンゼン 3,4−ビス(2,4−ジフルオロフェニルスルホニルアミノ)−安息香酸メ
チルエステル 3,4−ビス(2−メチル−5−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−安息香
酸メチルエステル 3,4−ビス(2−メチル−3−クロロフェニルスルホニルアミノ)−安息香
酸メチルエステル 3,4−ビス(2,6−ジフルオロフェニルスルホニルアミノ)−安息香酸メ
チルエステル 1,2−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)−4−フルオロ
ベンゼン 1,2−ビス(2−メチル−3−クロロフェニルスルホニルアミノ)−4−フ
ルオロベンゼン 1,2−ビス(2−メトキシ−5−クロロフェニルスルホニルアミノ)−4−
フルオロベンゼン 1,2−ビス(2−メチル−3−クロロフェニルスルホニルアミノ)−3,4
,5,6−テトラメチルベンゼン 3,4−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)−安息香酸エチルエステル 3,4−ビス(3−クロロ−2−メチルフェニルスルホニルアミノ)−安息香
酸エチルエステル 2,3−ビス(4−フルオロフェニルスルホニルアミノ)ナフタレン 1,2−ビス(2,5−ジクロロ−3−チエニルスルホニルアミノ)−ベンゼ
ン 3,4−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−安息香
酸メチルエステル 1,2−ビス(2−(3−オキサゾイル)−5−チエニルスルホニルアミノ)
−4−フルオロベンゼン 1,2−ビス(2−(1,2−シクロ(3−チオエチル)−4−クロロ−5−
イミダゾイルスルホニルアミノ)−4−フルオロベンゼン 1,2−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4,5
−ジフルオロベンゼン 1,2−ビス(3−クロロ−2−メチルフェニルスルホニルアミノ)−4,5
−ジフルオロベンゼン 1,2−ビス(4−メチル−3−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−4,5
−ジフルオロベンゼン 1,2−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−ク
ロロ−5−メチルベンゼン 2,3−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)ナフタレン 1,2−ビス(4−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−ク
ロロベンゼン 1,2−ビス(4−フルオロフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジフルオ
ロベンゼン 1,2−ビス(4−メチルスルホノフェニルスルホニルアミノ)−3,4,5
,6−テトラメチルベンゼン 1,2−ビス(4−イソプロピルフェニルスルホニルアミノ)−4−フルオロ
ベンゼン 1,2−ビス(4−シアノフェニルスルホニルアミノ)−4−フルオロベンゼ
ン 1,2−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−4−シアノベンゼン 1,2−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4,5
−ジブロモベンゼン 1,2−ビス(2−トリフルオロメトキシフェニルスルホニルアミノ)−3,
5−ジブロモベンゼン 1,2−ビス(4−トリフルオロメトキシフェニルスルホニルアミノ)−4,
5−ジブロモベンゼン 3,4−ビス(8−キノリルスルホニルアミノ)−安息香酸エチルエステル 1,2−ビス(4−トリフルオロメトキシフェニルスルホニルアミノ)−4−
フルオロベンゼン 1,2−ビス(フェニルスルホニルアミノ)−4−フルオロベンゼン 3,4−ビス(3,5−ジメチル−4−オキサゾイルスルホニルアミノ)−安
息香酸メチルエステル 3,4−ビス(4−イソプロピルフェニルスルホニルアミノ)−安息香酸メチ
ルエステル 1,2−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロベンゼン 1,2−ビス(2−(3−オキサゾイル)−5−チエニルスルホニルアミノ)
−4,5−ジメチルベンゼン 3,4−ビス(3,5−ジメチル−4−オキサゾイルスルホニルアミノ)−4
,5−ジフルオロベンゾエート 1,2−ビス(2−(3−オキサゾイル)−5−チエニルスルホニルアミノ)
−4−メトキシベンゼン 1,2−ビス(2−(1,2−シクロ(3−チオエチル)−4−クロロ−5−
イミダゾイルスルホニルアミノ)−4−メトキシベンゼン 1,2−ビス(フェニルスルホニルアミノ)−4−シアノベンゼン 1,2−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−シ
アノベンゼン 1,2−ビス(4−トリフルオロメトキシフェニルスルホニルアミノ)−4−
シアノベンゼン 1,2−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)−4−シアノベンゼン 1,2−ビス(4−イソプロピルフェニルスルホニルアミノ)−4−シアノベ
ンゼン 1,2−ビス(2,4−ジフルオロフェニルスルホニルアミノ)−4−シアノ
ベンゼン 1,2−ビス(2,5−ジクロロ−3−チエニルスルホニルアミノ)−4−シ
アノベンゼン 1,2−ビス(3−クロロ,2−メチルフェニルスルホニルアミノ)−4−シ
アノベンゼン 1,2−ビス(2,6−ジフルオロフェニルスルホニルアミノ)−4−シアノ
ベンゼン 1,2−ビス(2−(3−オキサゾイル)−5−チエニルスルホニルアミノ)
−4,5−ジフルオロベンゼン 1,2−ビス(4−トリフルオロメトキシフェニルスルホニルアミノ)−4−
クロロ−5−メチルベンゼン 1,2−ビス(2−チエニルスルホニルアミノ)−4−クロロ−5−メチルベ
ンゼン 1,2−ビス(3,4−ジクロロフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロ−
5−メチルベンゼン 1,2−ビス(4−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−ク
ロロ−5−メチルベンゼン 1,2−ビス(2,4−ジフルオロフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロ
−5−メチルベンゼン 1,2−ビス(2,5−ジクロロ,3−チエニルスルホニルアミノ)−4−ク
ロロ−5−メチルベンゼン 1,2−ビス(2−クロロ,5−チエニルスルホニルアミノ)−4−クロロ−
5−メチルベンゼン 3,4−ビス(2,4−ジメチル,5−オキサ−3−チアゾイルスルホニルア
ミノ)−4−クロロ−5−メチルベンゼン 1,2−ビス(2−アザ−4,5−ベンゾチアゾイルスルホニルアミノ)−4
−クロロ−5−メチルベンゼン 1,2−ビス(2−(5−オキサ−2−チアゾイル)−5−チエニルスルホニ
ルアミノ)−4−クロロ−5−メチルベンゼン 1,2−ビス(2,4−ジフルオロフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロ
−5−メチルベンゼン 1,2−ビス(4−メチル,3−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−4−ク
ロロ−5−メチルベンゼン 1,2−ビス(4−メチル,3−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−4−シ
アノベンゼン 1,2−ビス(フェニルスルホニルアミノ)−4−クロロ−5−メチルベンゼ
ン 1,2−ビス(2−(3−オキサゾイル)−5−チエニルスルホニルアミノ)
−4,5−ジブロモベンゼン 1,2−ビス(3−クロロ,4−アセトアミドフェニルスルホニルアミノ)−
4,5−ジブロモベンゼン 1,2−ビス(4−アセトアミドフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジブ
ロモベンゼン 1,2−ビス(5−(2−ピリジル)−2−チエニルスルホニルアミノ)−4
−クロロベンゼン 1,2−ビス(5−(4−クロロアセトアミドメチル)−2−チエニルスルホ
ニルアミノ)−4−クロロベンゼン 1,2−ビス(2−(2−アザ−4−チアゾイル)−5−チエニルスルホニル
アミノ)−4−クロロベンゼン 1,2−ビス(2−(2−メチル−4−チアゾイル)−5−チエニルスルホニ
ルアミノ)−4−クロロベンゼン 3,4−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−安息香酸 2,3−ビス(2,4−ジクロロフェニルスルホニルアミノ)ナフタレン 1,2−ビス(2,4−ジクロロフェニルスルホニルアミノ)−ベンゼン 1,2−ビス(2−(2−メチル−4−チアゾイル)−5−チエニルスルホニ
ルアミノ)−ベンゼン 1,2−ビス(2−(2−メチル−4−チアゾイル)−5−チエニルスルホニ
ルアミノ)−4,5−ジメチルベンゼン 1,2−ビス(2−(2−メチル−4−チアゾイル)−5−チエニルスルホニ
ルアミノ)−4−フルオロベンゼン 1,2−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−(
3−メチル−5−オキサジアゾール)ベンゼン 1−(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−2−(3−トリフルオロメチ
ルフェニルスルホニルアミノ)−4−フルオロベンゼン 1−(2,5−ジクロロ−3−チエニルスルホニルアミノ)−2−(3−トリ
フルオロメチルスルホニルアミノ)−ベンゼン 3,4−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−N−フェニル−ベン
ズアミド 3,4−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−N−(4−フルオロ
メトキシフェニル)ベンズアミド 3,4−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−N−(3,5−ジメ
トキシフェニル)ベンズアミド 3−(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−4−(3−トリフルオロメチ
ルフェニルスルホニルアミノ)−安息香酸メチルエステル 3−(2,5−ジクロロ−3−チエニルスルホニルアミノ)−4−(3−トリ
フルオロメチルスルホニルアミノ)−安息香酸メチルエステル 1,2−ビス(4−メトキシフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジブロモ
ベンゼン 1,2−ビス(4−メトキシフェニルスルホニルアミノ)−4,5−ジクロロ
ベンゼン 1−(4−メトキシフェニルスルホニルアミノ)−2−(3−トリフルオロメ
チルフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロベンゼン 1−(3−クロロフェニルスルホニルアミノ)−2−(3−トリフルオロメチ
ルフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロベンゼン 1−(2−クロロフェニルスルホニルアミノ)−2−(3−トリフルオロメチ
ルフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロベンゼン 1−(3−メチルフェニルスルホニルアミノ)−2−(3−トリフルオロメチ
ルフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロベンゼン 1−(4−メチルアミドメチルフェニルスルホニルアミノ)−2−(3−トリ
フルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロベンゼン 1−(2−(フェニルアミドメチル)−5−チエニルスルホニルアミノ)−2
−(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロベンゼン 1−(4−(2−クロロ−5−チアゾイルメトキシフェニルスルホニルアミノ
)−2−(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−クロロベ
ンゼン 1−(2−(フェニルアミドメチル)−5−チエニルスルホニルアミノ)−2
−(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−ベンゼン 1−(2−(フェニルアミドメチル)−5−チエニルスルホニルアミノ)−2
−(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−フルオロベンゼ
ン 1,2−ビス(2−(N−フェニル)アミドメチル−5−チエニルスルホニル
アミノ)−ベンゼン 1−(4−(2−クロロ−5−チアゾイルメトキシフェニルスルホニルアミノ
)−2−(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−ベンゼン 1−(4−(2−クロロ−5−チアゾイルメトキシフェニルスルホニルアミノ
)−2−(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−フルオロ
ベンゼン 1−(2−クロロフェニルスルホニルアミノ)−2−(3−トリフルオロメチ
ルフェニルスルホニルアミノ)−ベンゼン 1−(2−クロロフェニルスルホニルアミノ)−2−(3−トリフルオロメチ
ルフェニルスルホニルアミノ)−4−フルオロベンゼン 1−(2−メチルフェニルスルホニルアミノ)−2−(3−トリフルオロメチ
ルフェニルスルホニルアミノ)−ベンゼン 1−(3−メチルフェニルスルホニルアミノ)−2−(3−トリフルオロメチ
ルフェニルスルホニルアミノ)−4−フルオロベンゼン 1−(4−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−2−(3−トリ
フルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−ベンゼン 1,2−ビス(ベンジルスルホニルアミノ)−4,5−ジフルオロベンゼン 1,2−ビス(ベンジルスルホニルアミノ)−ベンゼン 1,2−ビス(ベンジルスルホニルアミノ)−4−クロロ−5−メチルベンゼ
ン 1,2−ビス(フェニルスチリルスルホニルアミノ)−4−クロロベンゼン 1−(3−トリフルオロメチルスルホニルアミノ)−2−(フェニルスチリル
スルホニルアミノ)−4−フルオロベンゼン 1−(3−トリフルオロメチルスルホニルアミノ)−2−(フェニルスチリル
スルホニルアミノ)−ベンゼン 1−(3−トリフルオロメチルスルホニルアミノ)−2−(ベンジルスルホニ
ルアミノ)−4−フルオロベンゼン 4−(3−トリフルオロメチルスルホニルアミノ)−3−(2−フェニルエテ
ニルスルホニルアミノ)−安息香酸エチルエステル およびそれらの塩、特にそれらの薬学的に許容可能な塩が挙げられる。
Particularly preferred compounds of formula (I) include 1,2-bis (4-nitrophenylsulfonylamino) -benzene 1,2-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -4,5-dibromobenzene
Benzene 3,4-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -6-bromotoluene 1,2-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -4-fluorobenze
3- (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4- (4-ioo
Dephenylsulfonylamino) toluene 1,2-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -4-nitrobenzene 3- (4-methylphenylsulfonylamino) -4- (4-chlorophenyls
Rufonylamino) toluene 1,2-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -benzene 1,2-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -4-fluoro-5-
Nitrobenzene 3,4-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -methyl benzoate
Tell 1,2-bis (4-bromophenylsulfonylamino) -benzene N, N-1,4-bis (4-methylphenylsulfonamide) -7,8-dib
Lomoquinazoline 1,2-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -4,5-dichlorobe
Benzene 2,3-bis (4-methylphenylsulfonylamino) naphthalene 1,2-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -4,5-difluoro
Benzene 1,2-bis (4-bromophenylsulfonylamino) -4,5-dibromobe
Benzene 1,2-bis (4-fluorophenylsulfonylamino) -4,5-dibromo
Benzene 1,2-bis (3-bromophenylsulfonylamino) -4,5-dibromobe
Benzene 1,2-bis (4-trifluoromethoxyphenylsulfonylamino) -ben
Zen 1,2-bis (4-isopropylphenylsulfonylamino) -benzene 1,2-bis (4-fluorophenylsulfonylamino) -4,5-dimethyl
Benzene 1,2-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -4,5-dimethylbenzene
Benzene 1,2-bis (4-trifluoromethoxyphenylsulfonylamino) -4,
5-Dimethylbenzene 1,2-bis (4-isopropylphenylsulfonylamino) -4,5-dime
Cylbenzene 2,3-bis (4-fluorophenylsulfonylamino) phenol 2,3-bis (4-methylphenylsulfonylamino) phenol 2,3-bis (4-trifluoromethoxyphenylsulfonylamino) pheno
2,3-bis (4-isopropylphenylsulfonylamino) phenol 3,4-bis (4-fluorophenylsulfonylamino) anisole 3,4-bis (4-methylphenylsulfonylamino) anisole 3,4-bis ( 4-Fluoromethoxyphenylsulfonylamino) anisole 3,4-bis (4-isopropylphenylsulfonylamino) anisole 3,4-bis (4-methylsulfonophenylsulfonylamino) anisole 1,2-bis (phenylsulfonylamino) benzene 1,2-bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) benzene 1,2-bis (4-trifluoromethylphenylsulfonylamino) benzene 1,2-bis (3-chloro-2-methylphenylsulfonylamino) benzene 1, - bis (2,6-difluorophenyl sulfonylamino) benzene 1,2-bis (3-trifluoromethylphenyl sulfonylamino) -4,5
-Dimethylbenzene 1,2-bis (3-chloro-2-methylphenylsulfonylamino) -4,5
-Dimethylbenzene 1,2-bis (2,6-difluorophenylsulfonylamino) -4,5-di
Methylbenzene 1,2-bis (2,6-difluorophenylsulfonylamino) -4-fluor
Robenzene 2,3-bis (3,4-dichlorophenylsulfonylamino) -phenol 2,3-bis (2,4-difluorophenylsulfonylamino) -phenol 1,2-bis (4-trifluoromethylphenylsulfonylamino)- 4,5
-Dimethylbenzene 2,3-bis (5-chloro, 2-methoxyphenylsulfonylamino) -phen
Nole 3,4-bis (4-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -benzoyl
Acid ethyl ester 3,4-bis (3,4-dichlorophenylsulfonylamino) anisole 3,4-bis (5-chloro, 2-methoxyphenylsulfonylamino) anisole
1,2-bis (4-fluorophenylsulfonylamino) benzene 1,2-bis (2,4-difluorophenylsulfonylamino) benzene 1,2-bis (phenylsulfonylamino) -4,5-dimethylbenzene 1 , 2-bis (5-chloro-2-methoxyphenylsulfonylamino) -4,
5-Dimethylbenzene 2,3-bis (phenylsulfonylamino) -phenol 2,3-bis (2-methyl-5-nitrophenylsulfonylamino) pheno
Le 3,4-bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) aniso
Ru 1,2-bis (5-chloro-2-methoxyphenylsulfonylamino) benze
2,3-bis (4-trifluoromethylphenylsulfonylamino) phenone
Le 3,4-bis (4-trifluoromethylphenylsulfonylamino) aniso
Ru 1,2-bis (4-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4-ph
Luorobenzene 3,4-bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -benzoic acid
Acid ethyl ester 1,2-bis (2-thienylsulfonylamino) -benzene 2,3-bis (2-thienylsulfonylamino) -phenol 1,2-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamino) -naphthalene 1 , 2-bis [2- (3-oxazolyl) -5-thienylsulfonylamino]
-Naphthalene 3,4-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamino) -methyl benzoate
Luster 3,4-bis (2-thienylsulfonylamino) fluorobenzene 2,3-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamino) phenol 3,4-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamino) -benzoic acid Acid ethi
Luster 3,4-bis (2-thienylsulfonylamino) -anisole 2,3-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamino) -benzene 1,2-bis [2- (3-oxazolyl) -5-thienyl Sulfonylamino]
-Benzene 1,2-dimethyl-4,5-bis (2-thienylsulfonylamino) -benze
1,2-dimethyl-4,5-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamido)
No) -benzene 1,2-difluoro-4,5-bis (2-thienylsulfonylamino) -ben
Zen 1,2-dibromo-4,5-bis (2,3dichloro-5-thienylsulfonyl)
Amino) -benzene 3,4-bis (2-thienylsulfonylamino) chlorobenzene 3,4-bis (5-chloro-2-thienylsulfonylamino) chlorobenzene 3,4-bis (2-thienylsulfonylamino) -methyl benzoate Ester 3,4-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamino) fluorobenzene
1,2-bis (2-thienylsulfonylamino) -3,4,5,6-tetrame
Cylbenzene 3,4-bis (2-thienylsulfonylamino) -benzoic acid ethyl ester 1,2-bis (2,5-dichloro-3-thienylsulfonylamino) -4,5
-Dimethylbenzene 1,2-bis (2,5-dichloro-3-thienylsulfonylamino) -pheno
1,2-bis (2,5-dichloro-3-thienylsulfonylamino) -anisole
1,2-dibromo-4,5-bis (2,5-dichloro-3-thienylsulfonyl)
Lumino) -benzene 3,4-bis (2,5-dichloro-3-thienylsulfonylamino) chlorobe
Benzene 1,2-bis (2,5-dichloro-3-thienylsulfonylamino) -3,4
, 5,6-Tetramethylbenzene 2,3-bis (phenylsulfonylamino) naphthalene 2,3-bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) naphthalene
2,3-bis (4-trifluoromethoxyphenylsulfonylamino) naphtha
Len 2,3-bis (3,4-dichlorophenylsulfonylamino) naphthalene 2,3-bis (4-isopropylphenylsulfonylamino) naphthalene 2,3-bis (4-trifluoromethylphenylsulfonylamino) naphthalene
2,3-bis (2,4-difluorophenylsulfonylamino) naphthalene 2,3-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamino) naphthalene 2,3-bis (2-methyl-4-nitrophenylsulfonylamino) ) Naphthale
2,3-bis (2-methyl-3-chlorophenylsulfonylamino) naphthalene
2,3-bis (4-cyanophenylsulfonylamino) naphthalene 2,3-bis (3,5-dimethyl-3-oxazoylsulfonylamino) naphth
Thallene 2,3-bis (2-aza-4,5-benzothiazoylsulfonylamino) naphth
Thallene 2,3-bis (2- (3-oxazoyl) -5-thienylsulfonylamino)
Naphthalene 2,3-bis (2,6-difluorophenylsulfonylamino) naphthalene 2,3-bis (3-nitro-4-methylphenylsulfonylamino) naphthalene
3,4-bis (2- (1,2-cyclo (3-thioethyl) -4-chloro-5-
Imidazolylsulfonylamino) naphthalene 2,3-bis (4-methylsulfonophenylsulfonylamino) naphthalene 1,2-bis (4-fluorophenylsulfonylamino) -4-nitrobenze
3,4-Bis (4-fluorophenylsulfonylamino) -methyl benzoate
Steal 3,4-bis (4-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -benzoyl
Acid methyl ester 3,4-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamino) -benzoic acid methyl ester
Luster 3,4-bis (2-methoxy-2-chlorophenylsulfonylamino) -benzo
Aromatic acid methyl ester 3,4-bis (4-methyl-2-nitrophenylsulfonylamino) -benzoic acid
Acid methyl ester 1,2-bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4-fluoro
Luorobenzene 1,2-bis (2-thienylsulfonylamino) -4-fluorobenzene 1,2-bis (3,4-dichlorophenylsulfonylamino) -4-fluoro
Benzene 1,2-bis (2-methyl-5-nitrophenylsulfonylamino) -4-ph
Luorobenzene 1,2-bis (phenylsulfonylamino) -4,5-difluorobenzene 3,4-bis (3,4-dichlorophenylsulfonylamino) -ethyl benzoate
Luster 3,4-bis (2,4-dichlorophenylsulfonylamino) -benzoic acid ethi
Luster 3,4-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamino) -benzoic acid ethi
Luster 3,4-bis (2-methyl, 5-nitrophenylsulfonylamino) -benzoic acid
Acid ethyl ester 3,4-bis (2,6-difluorophenylsulfonylamino) -benzoic acid
Tyl ester 1,2-bis (2-methyl, 5-nitrophenylsulfonylamino) -4-me
Toxybenzene 1,2-bis (4-methyl, 3-nitrophenylsulfonylamino) -4-me
Toxibenzene 1,2-bis (3,4-dichlorophenylsulfonylamino) -benzene 1,2-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamino) -benzene 1,2-bis (2-methyl-5-nitrophenyl) Sulfonylamino) -benze
1,2-bis (2- (3-oxazoyl) -5-thienylsulfonylamino)
-Benzene 1,2-bis (4-methyl-3-nitrophenylsulfonylamino) -benze
1,2-bis (4-isopropylphenylsulfonylamino) -4-nitrobe
Benzene 1,2-bis (2-thienylsulfonylamino) -4,5-dimethylbenzene 1,2-bis (3,4-dichlorophenylsulfonylamino) -4,5-dimethyl
Cylbenzene 1,2-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamino) -4,5-dime
Cylbenzene 1,2-bis (2-methyl-5-nitrophenylsulfonylamino) -4,5
-Dimethylbenzene 1,2-bis (4-methyl-3-nitrophenylsulfonylamino) -4,5
-Dimethylbenzene 1,2-bis (4-methylsulfonophenylsulfonylamino) -4,5-di
Methylbenzene 1,2-bis (1-naphthylsulfonylamino) -4,5-dibromobenzene 1,2-bis (2,3-dichloro-5-thienylsulfonylamino) -4,5
-Dibromobenzene 1,2-bis (2,5-dichloro-3-thienylsulfonylamino) -4,5
-Dibromobenzene 1,2-bis (4-nitrophenylsulfonylamino) -4,5-dibromobenzene
Benzene 1,2-bis (4-biphenylsulfonylamino) -4,5-dibromobenze
1,2-bis (4-bromophenylsulfonylamino) -4,5-dibromobenzene
Benzene 1,2-bis (4-carboxyphenylsulfonylamino) -4,5-dibroth
Mobenzene 1,2-bis (3,4-dimethoxyphenylsulfonylamino) -4,5-di
Bromobenzene 1,2-bis (3-methylphenylsulfonylamino) -4,5-dibromobe
Benzene 1,2-bis (2-fluorophenylsulfonylamino) -4,5-dibromo
Benzene 1,2-bis (2-methoxyphenylsulfonylamino) -4,5-dibromo
Benzene 1,2-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -4-cyanobenzene 1,2-bis (phenylsulfonylamino) -4-chlorobenzene 1,2-bis (4-fluorophenylsulfonylamino) -4-chlorobenze
1,2-bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4-ku
Lorobenzene 1,2-bis (3-trifluoromethoxyphenylsulfonylamino) -4-
Chlorobenzene 1,2-bis (2-thienylsulfonylamino) -4-chlorobenzene 1,2-bis (3,4-dichlorophenylsulfonylamino) -4-chlorobe
Benzene 1,2-bis (4-isopropylphenylsulfonylamino) -4-chlorobe
Benzene 1,2-bis (2,4-difluorophenylsulfonylamino) -4-chloro
Benzene 3,4-bis (4-chloro-2-methoxyphenylsulfonylamino) benzoic
Acid ethyl ester 1,2-bis (2,5-dichloro-3-thienylsulfonylamino) -4-quat
Lolobenzene 1,2-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamino) -4-chlorobe
Benzene 1,2-bis (2-methyl-5-nitrophenylsulfonylamino) -4-quan
Lolobenzene 1,2-bis (2-methyl-3-chlorophenylsulfonylamino) -4-ku
Lorobenzene 1,2-bis (4-cyanophenylsulfonylamino) -4-chlorobenzene 1,2-bis (3,5-dimethyl-4-oxazoylsulfonylamino) -4
-Chlorobenzene 1,2-bis (2,6-difluorophenylsulfonylamino) -4-chloro
Benzene 1,2-bis (4-methyl-3-nitrophenylsulfonylamino) -4-ku
Lolobenzene 3,4-bis (2,4-difluorophenylsulfonylamino) -benzoic acid
Tyl ester 3,4-bis (2-methyl-5-nitrophenylsulfonylamino) -benzoic acid
Acid methyl ester 3,4-bis (2-methyl-3-chlorophenylsulfonylamino) -benzoic acid
Acid methyl ester 3,4-bis (2,6-difluorophenylsulfonylamino) -benzoic acid
Tyl ester 1,2-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamino) -4-fluoro
Benzene 1,2-bis (2-methyl-3-chlorophenylsulfonylamino) -4-ph
Luorobenzene 1,2-bis (2-methoxy-5-chlorophenylsulfonylamino) -4-
Fluorobenzene 1,2-bis (2-methyl-3-chlorophenylsulfonylamino) -3,4
, 5,6-Tetramethylbenzene 3,4-bis (2-thienylsulfonylamino) -benzoic acid ethyl ester 3,4-bis (3-chloro-2-methylphenylsulfonylamino) -benzoic acid
Acid ethyl ester 2,3-bis (4-fluorophenylsulfonylamino) naphthalene 1,2-bis (2,5-dichloro-3-thienylsulfonylamino) -benze
3,4-bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -benzoic acid
Acid methyl ester 1,2-bis (2- (3-oxazoyl) -5-thienylsulfonylamino)
-4-Fluorobenzene 1,2-bis (2- (1,2-cyclo (3-thioethyl) -4-chloro-5-
Imidazoylsulfonylamino) -4-fluorobenzene 1,2-bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4,5
-Difluorobenzene 1,2-bis (3-chloro-2-methylphenylsulfonylamino) -4,5
-Difluorobenzene 1,2-bis (4-methyl-3-nitrophenylsulfonylamino) -4,5
-Difluorobenzene 1,2-bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4-ku
Lolo-5-methylbenzene 2,3-bis (2-thienylsulfonylamino) naphthalene 1,2-bis (4-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4-ku
Lolobenzene 1,2-bis (4-fluorophenylsulfonylamino) -4,5-difluor
Robenzene 1,2-bis (4-methylsulfonophenylsulfonylamino) -3,4,5
, 6-Tetramethylbenzene 1,2-bis (4-isopropylphenylsulfonylamino) -4-fluoro
Benzene 1,2-bis (4-cyanophenylsulfonylamino) -4-fluorobenze
1,2-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -4-cyanobenzene 1,2-bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4,5
-Dibromobenzene 1,2-bis (2-trifluoromethoxyphenylsulfonylamino) -3,
5-dibromobenzene 1,2-bis (4-trifluoromethoxyphenylsulfonylamino) -4,
5-Dibromobenzene 3,4-bis (8-quinolylsulfonylamino) -benzoic acid ethyl ester 1,2-bis (4-trifluoromethoxyphenylsulfonylamino) -4-
Fluorobenzene 1,2-bis (phenylsulfonylamino) -4-fluorobenzene 3,4-bis (3,5-dimethyl-4-oxazoylsulfonylamino) -ammonium
Benzoic acid methyl ester 3,4-bis (4-isopropylphenylsulfonylamino) -benzoic acid methyl ester
Ester 1,2-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -4-chlorobenzene 1,2-bis (2- (3-oxazoyl) -5-thienylsulfonylamino)
-4,5-Dimethylbenzene 3,4-bis (3,5-dimethyl-4-oxazoylsulfonylamino) -4
, 5-Difluorobenzoate 1,2-bis (2- (3-oxazoyl) -5-thienylsulfonylamino)
-4-Methoxybenzene 1,2-bis (2- (1,2-cyclo (3-thioethyl) -4-chloro-5-
Imidazoylsulfonylamino) -4-methoxybenzene 1,2-bis (phenylsulfonylamino) -4-cyanobenzene 1,2-bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4-si
Anobenzene 1,2-bis (4-trifluoromethoxyphenylsulfonylamino) -4-
Cyanobenzene 1,2-bis (2-thienylsulfonylamino) -4-cyanobenzene 1,2-bis (4-isopropylphenylsulfonylamino) -4-cyanobe
Benzene 1,2-bis (2,4-difluorophenylsulfonylamino) -4-cyano
Benzene 1,2-bis (2,5-dichloro-3-thienylsulfonylamino) -4-si
Anobenzene 1,2-bis (3-chloro, 2-methylphenylsulfonylamino) -4-si
Anobenzene 1,2-bis (2,6-difluorophenylsulfonylamino) -4-cyano
Benzene 1,2-bis (2- (3-oxazoyl) -5-thienylsulfonylamino)
-4,5-Difluorobenzene 1,2-bis (4-trifluoromethoxyphenylsulfonylamino) -4-
Chloro-5-methylbenzene 1,2-bis (2-thienylsulfonylamino) -4-chloro-5-methylbenzene
Benzene 1,2-bis (3,4-dichlorophenylsulfonylamino) -4-chloro-
5-methylbenzene 1,2-bis (4-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4-quat
Lolo-5-methylbenzene 1,2-bis (2,4-difluorophenylsulfonylamino) -4-chloro
-5-Methylbenzene 1,2-bis (2,5-dichloro, 3-thienylsulfonylamino) -4-ku
Lolo-5-methylbenzene 1,2-bis (2-chloro, 5-thienylsulfonylamino) -4-chloro-
5-methylbenzene 3,4-bis (2,4-dimethyl, 5-oxa-3-thiazoylsulfonyla
Mino) -4-chloro-5-methylbenzene 1,2-bis (2-aza-4,5-benzothiazoylsulfonylamino) -4
-Chloro-5-methylbenzene 1,2-bis (2- (5-oxa-2-thiazoyl) -5-thienylsulfoni
Luamino) -4-chloro-5-methylbenzene 1,2-bis (2,4-difluorophenylsulfonylamino) -4-chloro
-5-Methylbenzene 1,2-bis (4-methyl, 3-nitrophenylsulfonylamino) -4-ku
Lolo-5-methylbenzene 1,2-bis (4-methyl, 3-nitrophenylsulfonylamino) -4-si
Anobenzene 1,2-bis (phenylsulfonylamino) -4-chloro-5-methylbenze
1,2-bis (2- (3-oxazoyl) -5-thienylsulfonylamino)
-4,5-Dibromobenzene 1,2-bis (3-chloro, 4-acetamidophenylsulfonylamino)-
4,5-Dibromobenzene 1,2-bis (4-acetamidophenylsulfonylamino) -4,5-dib
Lomobenzene 1,2-bis (5- (2-pyridyl) -2-thienylsulfonylamino) -4
-Chlorobenzene 1,2-bis (5- (4-chloroacetamidomethyl) -2-thienylsulfo
Nylamino) -4-chlorobenzene 1,2-bis (2- (2-aza-4-thiazoyl) -5-thienylsulfonyl
Amino) -4-chlorobenzene 1,2-bis (2- (2-methyl-4-thiazoyl) -5-thienylsulfoni
Lumino) -4-chlorobenzene 3,4-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -benzoic acid 2,3-bis (2,4-dichlorophenylsulfonylamino) naphthalene 1,2-bis (2,4-dichlorophenylsulfonylamino) ) -Benzene 1,2-bis (2- (2-methyl-4-thiazoyl) -5-thienylsulfoni
Lumino) -benzene 1,2-bis (2- (2-methyl-4-thiazoyl) -5-thienylsulfoni
Lumino) -4,5-dimethylbenzene 1,2-bis (2- (2-methyl-4-thiazoyl) -5-thienylsulfoni
Ruamino) -4-fluorobenzene 1,2-bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4- (
3-Methyl-5-oxadiazole) benzene 1- (4-methylphenylsulfonylamino) -2- (3-trifluoromethyl)
Luphenylsulfonylamino) -4-fluorobenzene 1- (2,5-dichloro-3-thienylsulfonylamino) -2- (3-tri
Fluoromethylsulfonylamino) -benzene 3,4-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -N-phenyl-ben
Zamido 3,4-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -N- (4-fluoro
Methoxyphenyl) benzamide 3,4-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -N- (3,5-dime
Toxyphenyl) benzamide 3- (4-methylphenylsulfonylamino) -4- (3-trifluoromethyl)
Luphenylsulfonylamino) -benzoic acid methyl ester 3- (2,5-dichloro-3-thienylsulfonylamino) -4- (3-tri
Fluoromethylsulfonylamino) -benzoic acid methyl ester 1,2-bis (4-methoxyphenylsulfonylamino) -4,5-dibromo
Benzene 1,2-bis (4-methoxyphenylsulfonylamino) -4,5-dichloro
Benzene 1- (4-methoxyphenylsulfonylamino) -2- (3-trifluorome
Tylphenylsulfonylamino) -4-chlorobenzene 1- (3-chlorophenylsulfonylamino) -2- (3-trifluoromethyl)
Luphenylsulfonylamino) -4-chlorobenzene 1- (2-chlorophenylsulfonylamino) -2- (3-trifluoromethyl)
Luphenylsulfonylamino) -4-chlorobenzene 1- (3-methylphenylsulfonylamino) -2- (3-trifluoromethyl)
Luphenylsulfonylamino) -4-chlorobenzene 1- (4-methylamidomethylphenylsulfonylamino) -2- (3-tri
Fluoromethylphenylsulfonylamino) -4-chlorobenzene 1- (2- (phenylamidomethyl) -5-thienylsulfonylamino) -2
-(3-Trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4-chlorobenzene 1- (4- (2-chloro-5-thiazoylmethoxyphenylsulfonylamino)
) -2- (3-Trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4-chlorobe
Benzene 1- (2- (phenylamidomethyl) -5-thienylsulfonylamino) -2
-(3-Trifluoromethylphenylsulfonylamino) -benzene 1- (2- (phenylamidomethyl) -5-thienylsulfonylamino) -2
-(3-Trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4-fluorobenze
1,2-bis (2- (N-phenyl) amidomethyl-5-thienylsulfonyl)
Amino) -benzene 1- (4- (2-chloro-5-thiazoylmethoxyphenylsulfonylamino
) -2- (3-Trifluoromethylphenylsulfonylamino) -benzene 1- (4- (2-chloro-5-thiazoylmethoxyphenylsulfonylamino)
) -2- (3-Trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4-fluoro
Benzene 1- (2-chlorophenylsulfonylamino) -2- (3-trifluoromethyl)
Luphenylsulfonylamino) -benzene 1- (2-chlorophenylsulfonylamino) -2- (3-trifluoromethyl)
Luphenylsulfonylamino) -4-fluorobenzene 1- (2-methylphenylsulfonylamino) -2- (3-trifluoromethyl)
Luphenylsulfonylamino) -benzene 1- (3-methylphenylsulfonylamino) -2- (3-trifluoromethyl)
Luphenylsulfonylamino) -4-fluorobenzene 1- (4-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -2- (3-tri
Fluoromethylphenylsulfonylamino) -benzene 1,2-bis (benzylsulfonylamino) -4,5-difluorobenzene 1,2-bis (benzylsulfonylamino) -benzene 1,2-bis (benzylsulfonylamino) -4- Chloro-5-methylbenze
1,2-bis (phenylstyrylsulfonylamino) -4-chlorobenzene 1- (3-trifluoromethylsulfonylamino) -2- (phenylstyryl
Sulfonylamino) -4-fluorobenzene 1- (3-trifluoromethylsulfonylamino) -2- (phenylstyryl)
Sulfonylamino) -benzene 1- (3-trifluoromethylsulfonylamino) -2- (benzylsulfoni
Ruamino) -4-fluorobenzene 4- (3-trifluoromethylsulfonylamino) -3- (2-phenylethene)
Nylsulfonylamino) -benzoic acid ethyl ester and salts thereof, especially their pharmaceutically acceptable salts.

【0073】 特に有効な化合物は、 1,2−ビス(2,5−ジクロロ−3−チエニルスルホニルアミノ)−4−ク
ロロベンゼン、 1,2−ビス(4−トリフルオロメトキシフェニルスルホニルアミノ)−4−
クロロベンゼン、 1,2−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−ク
ロロベンゼン、 1,2−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)−4−クロロベ
ンゼン、 1,2−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)−4−フルオロ
ベンゼン、 1,2−ビス(2−メチル−3−クロロフェニルスルホニルアミノ)−4−フ
ルオロベンゼン、 およびそれらの塩、特にそれらの薬学的に許容可能な塩である。
Particularly effective compounds are 1,2-bis (2,5-dichloro-3-thienylsulfonylamino) -4-chlorobenzene, 1,2-bis (4-trifluoromethoxyphenylsulfonylamino) -4-
Chlorobenzene, 1,2-bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4-chlorobenzene, 1,2-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamino) -4-chlorobenzene, 1,2-bis (2 -Chloro-5-thienylsulfonylamino) -4-fluorobenzene, 1,2-bis (2-methyl-3-chlorophenylsulfonylamino) -4-fluorobenzene, and salts thereof, particularly pharmaceutically acceptable thereof It is a salt.

【0074】 式(Ia)のあるビススルホンアミド誘導体は、それ自体新規である。これら
の化合物は、下記式(Id):
Certain bissulfonamide derivatives of formula (Ia) are novel per se. These compounds have the following formula (Id):

【0075】[0075]

【化12】 [Chemical 12]

【0076】 (式中、 R1およびR2は、上記に定義する通りであり、 R3およびR4は、上記に定義する通りであり、 Arは、上記に定義するAr’の基であるが、 但し、R1およびR2がともに水素であり、Arが、無置換のナフチル基、1つも
しくは2つのジメチルメチレンジオキシ、ヒドロキシ、メトキシ、エトキシ、メ
チル、塩素、臭素、フッ素、ニトロ、CF3またはアミノ基で任意に置換された
フェナントラセン基あるいはフェニル基である場合、R3およびR4は、(a)無
置換のキノリン基、(b)無置換のフェニル基、(c)メチル、メトキシ、−C
2H、塩素、シアノ、ニトロもしくはアミノ基、または−O−CO−N(CH3 )−基で一置換されたフェニル基、(d)ニトロ基およびメチル基で二置換され
たフェニル基ではない) のビススルホンアミド、およびその塩である。
Where R 1 and R 2 are as defined above, R 3 and R 4 are as defined above, and Ar is a group of Ar ′ as defined above. Where R 1 and R 2 are both hydrogen and Ar is an unsubstituted naphthyl group, 1 or 2 dimethylmethylenedioxy, hydroxy, methoxy, ethoxy, methyl, chlorine, bromine, fluorine, nitro, When it is a phenanthracene group optionally substituted with CF 3 or an amino group or a phenyl group, R 3 and R 4 are (a) an unsubstituted quinoline group, (b) an unsubstituted phenyl group, and (c) Methyl, methoxy, -C
In an O 2 H, chlorine, cyano, nitro or amino group, or a phenyl group monosubstituted by an —O—CO—N (CH 3 ) — group, (d) a phenyl group disubstituted by a nitro group and a methyl group, No) bissulfonamide, and salts thereof.

【0077】 適切な塩としては、薬学的に許容可能な塩として上述するものが挙げられる。[0077]   Suitable salts include those mentioned above for pharmaceutically acceptable salts.

【0078】 本発明の好ましい新規化合物は、上記に定義するような式(Id)のビススル
ホンアミド、およびその塩であり、ここで、R1およびR2はともに水素であり、
Arは、無置換のナフチル基、1つもしくは2つのC1〜C4アルキレンジオキシ
、ヒドロキシ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキル、ハロゲン、ニトロ、C 1 〜C4ハロアルキルまたはアミノ基で任意に置換されたフェナントラセン基ある
いはフェニル基であり、R3およびR4は、無置換のキノリン基、あるいは、C1
〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、−CO2R(ここで、Rは水素またはC1
〜C4アルキルである)、ハロゲン、シアノ、ニトロおよびアミノ基から、なら
びに式−O−CO−N(C1〜C4アルキル)−から選択される1つまたは2つの
基で任意に置換されたフェニル基でない。
[0078]   The preferred novel compounds of the present invention are bis-sulfurs of formula (Id) as defined above.
Honamide, and salts thereof, wherein R1And R2Are both hydrogen,
Ar is an unsubstituted naphthyl group, one or two C1~ CFourAlkylenedioxy
, Hydroxy, C1~ CFourAlkoxy, C1~ CFourAlkyl, halogen, nitro, C 1 ~ CFourA phenanthracene group optionally substituted with a haloalkyl or amino group
Is a phenyl group, R3And RFourIs an unsubstituted quinoline group or C1
~ CFourAlkyl, C1~ CFourAlkoxy, -CO2R (where R is hydrogen or C1
~ CFourAlkyl), halogen, cyano, nitro and amino groups,
And formula-O-CO-N (C1~ CFourOne or two selected from alkyl)-
Not a phenyl group optionally substituted with a group.

【0079】 式(I)の化合物は、下記式(II):[0079]   The compound of formula (I) has the following formula (II):

【0080】[0080]

【化13】 [Chemical 13]

【0081】 (式中、Ar、R1、R2およびR3は、上記に定義する通りである) の化合物を、下記式(III):Wherein Ar, R 1 , R 2 and R 3 are as defined above, the compound of formula (III):

【0082】[0082]

【化14】 [Chemical 14]

【0083】 (式中、R4は、上記に定義する通りであり、Xは、塩素原子のような脱離基で
ある) の化合物と反応させることを含むプロセスによって調製されてもよい。
May be prepared by a process comprising reacting a compound of the formula: wherein R4 is as defined above and X is a leaving group such as a chlorine atom.

【0084】 典型的に、反応は、有機溶媒および塩基の存在下で行われる。典型的に、塩基
は、ピリジン、トリエチルアミンまたは4−ジメチルアミノピリジンである。典
型的に、溶媒は、アセトニトリル、ジクロロメタン、トルエンまたはジメチルホ
ルムアミドである。典型的に、モル当量の式(II)および(III)の化合物
が用いられる。
The reaction is typically carried out in the presence of an organic solvent and a base. Typically the base is pyridine, triethylamine or 4-dimethylaminopyridine. Typically the solvent is acetonitrile, dichloromethane, toluene or dimethylformamide. Typically, molar equivalents of compounds of formulas (II) and (III) are used.

【0085】 式IIの化合物は、下記式(IV):[0085]   The compound of formula II has the formula (IV):

【0086】[0086]

【化15】 [Chemical 15]

【0087】 (式中、Ar、R1およびR2は、上記に定義する通りである) の化合物を、下記式(V):(Wherein Ar, R 1 and R 2 are as defined above), a compound of formula (V):

【0088】[0088]

【化16】 [Chemical 16]

【0089】 (式中、R3およびXは、上記に定義する通りである) の化合物と反応させることにより調製してもよい。May be prepared by reacting with a compound of the formula: wherein R 3 and X are as defined above.

【0090】 典型的に、反応は、有機溶媒および塩基の存在下で行われる。典型的に、溶媒
は、アセトニトリル、ジクロロメタン、トルエンまたはジメチルホルムアミドで
ある。典型的に、塩基は、ピリジン、トリエチルアミンまたは4−ジメチルアミ
ノピリジンである。典型的に、モル当量の式(IV)および(V)の化合物が用
いられる。
The reaction is typically carried out in the presence of organic solvent and base. Typically the solvent is acetonitrile, dichloromethane, toluene or dimethylformamide. Typically the base is pyridine, triethylamine or 4-dimethylaminopyridine. Typically, molar equivalents of compounds of formulas (IV) and (V) are used.

【0091】 式Iの化合物(式中、R3およびR4は同じである)は、当然ながら、上記反応
条件下において、式(IV)の化合物を2モル当量の式(III)の化合物と反
応させることにより調製してもよい。
The compound of formula I, wherein R 3 and R 4 are the same, is, of course, the compound of formula (IV), under the above reaction conditions, with 2 molar equivalents of the compound of formula (III) You may prepare by making it react.

【0092】 好ましくは、上記反応で用いる溶媒は、アセトニトリルまたはジクロロメタン
であり、反応は、ピリジンまたは4−ジメチルアミノピリジンの存在下で行われ
る。
Preferably, the solvent used in the above reaction is acetonitrile or dichloromethane and the reaction is carried out in the presence of pyridine or 4-dimethylaminopyridine.

【0093】 あるいは、式(II)(式中、Ar、R1およびR3は、上記に定義する通りで
あり、R3は水素である)の化合物は、下記式(VI):
Alternatively, the compound of formula (II), wherein Ar, R 1 and R 3 are as defined above, and R 3 is hydrogen, is represented by the following formula (VI):

【0094】[0094]

【化17】 [Chemical 17]

【0095】 (式中、Ar、R1およびR3は上記に定義する通りである) の化合物を、適切な還元剤と反応させることにより調製することもできる。It can also be prepared by reacting a compound of the formula: wherein Ar, R 1 and R 3 are as defined above with a suitable reducing agent.

【0096】 典型的に、還元剤は、ヒドラジン水和物を用いた炭素上パラジウム、塩化錫(
II)、水素ガスを用いた炭素上パラジウム、またはアルカリ溶液中の塩化第二
鉄である。好ましくは、還元剤は、塩化錫(II)またはヒドラジン水和物を用
いた炭素上パラジウムである。反応は、エタノール、ジメチルホルムアミド、ク
ロロホルム、酢酸エチルまたはテトラヒドロフランのような有機溶媒中で行われ
得る。好ましくは、溶媒は、ジメチルホルムアミドまたはエタノールである。
Typically, the reducing agent is palladium on carbon with hydrazine hydrate, tin chloride (
II), palladium on carbon with hydrogen gas, or ferric chloride in an alkaline solution. Preferably, the reducing agent is tin (II) chloride or palladium on carbon with hydrazine hydrate. The reaction can be carried out in an organic solvent such as ethanol, dimethylformamide, chloroform, ethyl acetate or tetrahydrofuran. Preferably the solvent is dimethylformamide or ethanol.

【0097】 式(VI)の化合物は、下記式(VII):[0097]   The compound of formula (VI) has the following formula (VII):

【0098】[0098]

【化18】 [Chemical 18]

【0099】 (式中、ArおよびR1は、上記に定義する通りである) の化合物と、式(V)の化合物との反応により調製することができる。典型的に
、反応は、有機溶媒および塩基の存在下で行われる。典型的に、溶媒は、アセト
ニトリル、ジクロロメタン、トルエンまたはジメチルホルムアミドである。典型
的に、塩基は、ピリジン、トリエチルアミンまたは4−ジメチルアミノピリジン
である。典型的に、モル当量の式(IV)および(V)の化合物が用いられる。
It can be prepared by reacting a compound of formula (V) in which Ar and R 1 are as defined above with a compound of formula (V). Typically the reaction is carried out in the presence of organic solvent and base. Typically the solvent is acetonitrile, dichloromethane, toluene or dimethylformamide. Typically the base is pyridine, triethylamine or 4-dimethylaminopyridine. Typically, molar equivalents of compounds of formulas (IV) and (V) are used.

【0100】 式Iのさらなる化合物を得るための従来方法により、このようにして得られる
式(I)の化合物のさらなる合成的操作(例えば臭素化、ニトロ化およびアシル
化)を行ってもよい。
Further synthetic manipulations (eg bromination, nitration and acylation) of the thus obtained compounds of formula (I) may be carried out by conventional methods for obtaining further compounds of formula I.

【0101】 このようにして得られる式(I)のビススルホンアミド誘導体は、適切な酸お
よび塩基で処理することにより塩化してもよい。
The bissulfonamide derivative of formula (I) thus obtained may be salified by treatment with a suitable acid and base.

【0102】 式(III)、(IV)、(V)、(VI)および(VII)の化合物は、既
知の化合物であるか、または既知の方法から類推して調製してもよい。
Compounds of formula (III), (IV), (V), (VI) and (VII) are known compounds or may be prepared by analogy with known methods.

【0103】 式(I)の化合物は、デヒドロキナ酸シンテターゼ酵素、特にAroB、およ
びII型デヒドロキナーゼ酵素、特に、AroQの阻害剤であることが見出され
ている。
The compounds of formula (I) have been found to be inhibitors of dehydroquinate synthetase enzymes, especially AroB, and type II dehydrokinase enzymes, especially AroQ.

【0104】 上記説明の通り、デヒドロキナ酸シンテターゼ酵素は、不変的にシキミ酸経路
の必須部分をになう。さらに、II型デヒドロキナーゼ酵素は、多くの生物にお
けるシキミ酸経路に関与している。II型デヒドロキナーゼ酵素はまた、キナ酸
異化作用が行われる異化経路の重要部分をになう。本発明の化合物は、シキミ酸
経路がII型デヒドロキナーゼ酵素を含む生物、およびシキミ酸経路およびキナ
酸異化経路の両方を用いる生物に対して特に高活性である。それは、それらがか
かる生物の2つの酵素標的を有するからである。
As explained above, the dehydroquinate synthetase enzyme invariably becomes an integral part of the shikimate pathway. Moreover, type II dehydrokinase enzymes are involved in the shikimate pathway in many organisms. The type II dehydrokinase enzyme also becomes an important part of the catabolic pathway in which quinic acid catabolism occurs. The compounds of the present invention are particularly highly active against organisms where the shikimate pathway comprises a type II dehydrokinase enzyme and those that use both the shikimate pathway and the quinic acid catabolic pathway. It has two enzymatic targets for such organisms.

【0105】 したがって、本発明は、シキミ酸経路を介した芳香族アミノ酸の生合成の阻害
剤を必要とする患者を治療する方法であって、有効量の式(I)の化合物または
その薬学的に許容可能な塩を上記患者に投与することを含む方法を提供する。
Accordingly, the present invention provides a method of treating a patient in need of an inhibitor of aromatic amino acid biosynthesis via the shikimate pathway, which comprises an effective amount of a compound of formula (I) Is administered to said patient.

【0106】 シキミ酸経路は、真菌類および細菌にて芳香族アミノ酸の合成のために必須で
ある。したがって、本発明の化合物は、細菌もしくは真菌感染を治療または予防
するのに有効である。実際は、本発明の化合物は、従来の抗生物質に耐性を発現
してきた多くの細菌に対して有効である。例えば、それらは、メチシリン耐性黄
色ブドウ球菌(MRSA)に対して有効である。したがって、上記薬剤は、細菌
もしくは真菌の攻撃を治療または予防する際における使用のためであり、上記患
者は、細菌もしくは真菌の攻撃に、典型的に冒されているか、または感染しやす
い。特に、上記患者は、MRSA感染に典型的に冒されているか、または感染し
やすく、上記薬剤は、典型的にMRSA感染の予防または治療における使用のた
めである。
The shikimate pathway is essential for the synthesis of aromatic amino acids in fungi and bacteria. Accordingly, the compounds of the present invention are effective in treating or preventing bacterial or fungal infections. In fact, the compounds of this invention are effective against many bacteria that have developed resistance to conventional antibiotics. For example, they are effective against methicillin-resistant Staphylococcus aureus (MRSA). Thus, the agents are for use in treating or preventing a bacterial or fungal attack, and the patient is typically vulnerable to or susceptible to a bacterial or fungal attack. In particular, the patient is typically afflicted with or susceptible to MRSA infection, and the agent is typically for use in the prevention or treatment of MRSA infection.

【0107】 II型デヒドロキナーゼをコードする遺伝子は、アクチノバチルス・プレウロ
ニューモニアエ(Actinobacillus pleuropneumoniae)、アクチノバチルス・アク
チノミセテス(Actinobacillus actinomycetes)、エロモナス・サルモニシダ(Aer
omonas salmonicida)亜種、サルモニシダ(Salmonicida)、アミコラトプシス・
メディテラネイ(Amycolatopsis mediterranei)、バシラス・サブチリス(Bacillu
s subtilis)、コリネバクテリウム・グルタミカム(Corynebacterium glutamicum
)、コリネバクテリウム・シュードツベルクロシス(Corynebacterium pseudotube
rculosis)、エメリセラ・ニードランス(Emericella nidulans)、ヘモフィルス・
インフルエンザエ(Haemopnilus influenzae)、ヘリコバクター・ピロリ(Helicob
acter pylori)、アカパンカビ・クラッサ(Neurospora crassa)、シュードモナス
・エルギノサ(Pseudomonas aeruginosa)、ストレプトマイセス・コエリカラー(S
treptomyces coelicolor)、ストレプトマイセス・ラベンドラエ(Streptomyces l
avendulae)、シネコシスチス種(Synechocystis sp)、サーモトガ・メリチマ(Th
ermotoga meritima)、カンピロバクター・ジェジュニ(Campylobacter jejuni)、
クロストリジウム・アセトブチリクム(Clostridium acetobutylicum)、ポルフィ
ロモナス・ジンジバリス(Porohyromonas gingivalis)、デイノコックス・ラジオ
ドランス(Deinococcus radiodurans)、クロロビウム・テピドム(Chlorobium tep
idum)、ビブリオ・コレラエ(Vibrio cholerae)、エルシニア・ペスチス(Yersini
a pestis)、シェワネラ・プトラファシエンス(Shewanella putrafaciens)、チオ
バシラス・フェロキシダンス(Thiobacillus ferroxidans)、シネコシスチス(Syn
echocystis)PCC6803、カンジダ・アルビカンス(Candida albicans)、ボ
ルデテラ・ペルツッシス(Bordetella pertussis)、マイコバクテリウム・アビウ
ム(Mycobacterium aviumu)、マイコバクテリウム・ツベルクロシス(Mycobacteri
um tuberculosis)、マイコバクテリウム・ボビス(Mycobacterium bovis)、マイ
コバクテリウム・レプラエ(Mycobacterium leprae)、コーロバクター・エレセン
ツス(Caulobacter eresentus)、およびクレブシエラ・ニューモニエ(Klebsiella
pneumoniae)に観察された。
Genes encoding type II dehydrokinases include Actinobacillus pleuropneumoniae, Actinobacillus actinomycetes, and Aeromonas salmonicida.
omonas salmonicida) subspecies, Salmonicida, Amycolatopsis
Mediterranei (Amycolatopsis mediterranei), Bacillus subtilis (Bacillu
s subtilis), Corynebacterium glutamicum
), Corynebacterium pseudotubercosis
rculosis), Emericella nidulans, Haemophilus
Haemopnilus influenzae, Helicob
acter pylori), Neurospora crassa, Pseudomonas aeruginosa, Streptomyces coelicolor (S
treptomyces coelicolor), Streptomyces lavendrae (Streptomyces l
avendulae), Synechocystis sp, Thermotoga melitima (Th
ermotoga meritima), Campylobacter jejuni,
Clostridium acetobutylicum, Porphyromonas gingivalis, Deinococcus radiodurans, Chlorobium tepdom
idum), Vibrio cholerae, Yersini pestis (Yersini)
a pestis), Shewanella putrafaciens, Thiobacillus ferroxidans, Synechocystis
echocystis PCC6803, Candida albicans, Bordetella pertussis, Mycobacterium aviumu, Mycobacterium tuberculosis (Mycobacteri)
um tuberculosis), Mycobacterium bovis, Mycobacterium leprae, Caulobacter eresentus, and Klebsiella pneumoniae.
pneumoniae).

【0108】 本発明の化合物は、上記生物に対して特に活性である。これは、上述のように
、本発明の化合物は、これらの生物におけるデヒドロキナ酸シンテターゼおよび
II型デヒドロキナーゼ酵素の両方を阻害するように作用するためである。した
がって、上記薬剤は、典型的に上記生物のうちの1つによる攻撃の治療または予
防における使用のためであるか、あるいは上記患者は、典型的に上記生物のうち
の1つによる攻撃に冒されているか、または感染しやすい。
The compounds of the invention are particularly active against the organisms mentioned above. This is because, as mentioned above, the compounds of the invention act to inhibit both dehydroquinate synthetase and type II dehydrokinase enzymes in these organisms. Thus, the agent is typically for use in the treatment or prevention of an attack by one of the organisms, or the patient is typically vulnerable to an attack by one of the organisms. Have or are susceptible to infection.

【0109】 本発明の化合物は、一般に細菌成長を予防するのに使用され得る。例えば、そ
れらは、コンタクトレンズ用溶液のような溶液に添加して、細菌成長を予防して
もよい。それらはまた、外科用器具上の抗生物質のコーティングおよび薬用セッ
ケンような製品において使用してもよい。したがって、本発明はまた、細菌成長
を阻害する際での本発明の化合物の非治療的使用を提供する。また、本発明の化
合物を含むコンタクトレンズ溶液または薬用セッケンが提供される。さらに、本
発明は、本発明の化合物を含む抗生物質のコーティングを有する外科用器具を提
供する。
The compounds of the present invention can generally be used to prevent bacterial growth. For example, they may be added to solutions such as contact lens solutions to prevent bacterial growth. They may also be used in products such as antibiotic coatings on surgical instruments and medicated soaps. Accordingly, the invention also provides the non-therapeutic use of the compounds of the invention in inhibiting bacterial growth. Also provided are contact lens solutions or medicated soaps containing the compounds of the invention. Further, the invention provides a surgical instrument having an antibiotic coating comprising the compound of the invention.

【0110】 シキミ酸経路はまた、寄生虫の代謝に関与する。例えば、それは、アピコンプ
レクサ寄生虫の治療に関与する。したがって、本発明の化合物は、芳香族アミノ
酸の生合成がシキミ酸経路を介して行われる寄生虫による感染の治療または予防
に効果的である。かかる寄生虫は、例えば、(a)インビトロ(in vitro)での
成長がグリホスフェートのようなシキミ酸経路の十分に特性化された阻害剤によ
って阻害されるかどうかを決定すること、および(b)かかる阻害がp−アミノ
ベンゾエートの添加によって無効にされるかどうかを決定することにより同定さ
れ得る。インビトロでの成長がグリホスフェートにより阻害され、かかる阻害が
p−アミノベンゾエートの添加によって無効にされる寄生虫は、代謝課程でシキ
ミ酸経路を使用する。したがって、本発明の化合物は、かかる寄生虫に対して活
性であろう。
The shikimate pathway is also involved in parasite metabolism. For example, it is involved in the treatment of Apicomplexan parasites. Therefore, the compounds of the present invention are effective in treating or preventing infections by parasites in which aromatic amino acid biosynthesis occurs via the shikimate pathway. Such parasites may, for example, (a) determine whether growth in vitro is inhibited by a well-characterized inhibitor of the shikimate pathway, such as glyphosphate, and (b ) Can be identified by determining whether such inhibition is abolished by the addition of p-aminobenzoate. Growth in vitro is inhibited by glyphosphate and such inhibition
Parasites that are disabled by the addition of p-aminobenzoate use the shikimate pathway in the metabolic process. Therefore, the compounds of the invention will be active against such parasites.

【0111】 特に、本発明の化合物は、アピコンプレクサ寄生虫(apicomplexan parasite)
、例えば、トキソプラスマ原虫、クリプトスポリジウムパルブム(Cryptosporidi
um parvum)および温帯熱マラリア原虫に対して活性である。温帯熱マラリア原虫
は、マラリアを引き起こすと知られている。したがって、上記患者は、典型的に
アピコンプレクサ寄生虫による感染に冒されているか、または感染しやすく、上
記薬剤は、典型的にアピコンプレクサ寄生虫による感染の治療または予防におけ
る使用のためである。特に、上記患者は、典型的にマラリアに冒されているか、
または感染しやすく、上記薬剤は、典型的にマラリアの治療または予防のためで
ある。
In particular, the compounds of the present invention are suitable for the apicomplexan parasite
, For example, Toxoplasma gondii, Cryptosporidium parvum (Cryptosporidi
um parvum) and temperate falciparum malaria. Plasmodium falciparum is known to cause malaria. Thus, the patient is typically susceptible to or susceptible to infection by the Apicomplexa parasite, and the agent is typically for use in treating or preventing infection by the Apicomplexa parasite. In particular, said patient typically suffers from malaria,
Or susceptible to infection, the drug is typically for the treatment or prevention of malaria.

【0112】 上記疾患を治療するために使用される場合、本発明の化合物は、様々な投与形
態で投与され得る。したがって、それらは、経口的に(例えば、錠剤、トローチ
、ロゼンジ、水性または油性懸濁液、分散性粉末または顆粒として)投与するこ
とができる。本発明の化合物はまた、非経口的に(皮下、静脈内、筋肉内、胸骨
内、経皮のどれか、または注入技術によって)投与されてもよい。
When used to treat the above disorders, the compounds of the present invention can be administered in a variety of dosage forms. Thus, they can be administered orally (eg as tablets, troches, lozenges, aqueous or oily suspensions, dispersible powders or granules). The compounds of the present invention may also be administered parenterally (either subcutaneously, intravenously, intramuscularly, intrasternally, transdermally, or by infusion techniques).

【0113】 式(I)のある化合物は、治療的状況ではこれまでに開示されていなかった。
したがって、本発明はまた、ヒトまたは動物の身体を治療する方法における使用
のための、上記に定義する式(I)(式中、Ar、R1、R2、R3およびR4は、
上記に定義する通りであるが、但し、R1およびR2が水素であり、R3およびR4 がフェニル、4−メチルフェニルまたは4−アミノフェニルである場合、Arは
、下記:
Certain compounds of formula (I) have not previously been disclosed in a therapeutic setting.
Accordingly, the invention also relates to formula (I) as defined above, wherein Ar, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are for use in a method of treating the human or animal body.
As defined above, provided that R 1 and R 2 are hydrogen and R 3 and R 4 are phenyl, 4-methylphenyl or 4-aminophenyl, Ar is:

【0114】[0114]

【化19】 (ここで、R’およびR”は、メチルまたは塩素である) ではない)のビルスルホンアミド誘導体、その薬学的に許容可能な塩を提供する
[Chemical 19] (Wherein R ′ and R ″ are not methyl or chlorine)), and bissulfonamide derivatives thereof, and pharmaceutically acceptable salts thereof.

【0115】 本発明はまたは、かかるビススルホンアミド誘導体、またはその薬学的に許容
可能な塩、および薬学的に許容可能な担体または希釈剤を含有する薬学的組成物
を提供する。
The present invention also provides a pharmaceutical composition containing such a bissulfonamide derivative, or a pharmaceutically acceptable salt thereof, and a pharmaceutically acceptable carrier or diluent.

【0116】 本発明の化合物は、典型的に、薬学的に許容可能な担体または希釈剤を用いて
投与用に配合される。例えば、固形経口形態は、活性化合物とともに、希釈剤(
例えば、ラクトース、デキストロース、サッカロース、セルロース、コーンスタ
ーチまたはポテトスターチ)、潤滑剤(例えば、シリカ、タルク、ステアリン酸
、ステアリン酸マグネシウムもしくはカルシウム、および/またはポリエチレン
グリコール)、結合剤(例えば、デンプン、アラビアゴム、ゼラチン、メチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロースまたはポリビニルピロリドン)、分離剤
(例えば、デンプン、アルギン酸、アルギネートまたはナトリウムデンプングリ
コネート)、発泡性混合物、色素、甘味料、湿潤剤(例えばレシチン、ポリソル
ベート、ラウリルスルフェート)、および一般に、薬学的処方物において用いら
れる非毒性で薬理学的に不活性な物質を含有してもよい。かかる薬学的調製物は
、既知の方法で、例えば、混合、造粒、錠剤化、糖被覆、または膜被覆プロセス
を用いて製造されてもよい。
The compounds of the invention are typically formulated for administration with a pharmaceutically acceptable carrier or diluent. For example, a solid oral form may consist of a diluent (with the active compound
For example, lactose, dextrose, saccharose, cellulose, corn starch or potato starch), lubricants (eg silica, talc, stearic acid, magnesium or calcium stearate and / or polyethylene glycol), binders (eg starch, acacia) , Gelatin, methylcellulose, carboxymethylcellulose or polyvinylpyrrolidone), separating agents (eg starch, alginic acid, alginate or sodium starch glycolate), effervescent mixtures, dyes, sweeteners, wetting agents (eg lecithin, polysorbates, laurylsulfates). , And generally may contain non-toxic, pharmacologically inactive substances used in pharmaceutical formulations. Such pharmaceutical preparations may be manufactured in a known manner, for example using mixing, granulating, tabletting, sugar coating or film coating processes.

【0117】 経口投与用液体分散物は、シロップ、乳濁液および懸濁液であってもよい。シ
ロップは、担体として、サッカロース、もしくはグリセリンを伴ったサッカロー
ス、および/またはマンニトールおよび/もしくはソルビトールを含有してもよ
い。
Liquid dispersions for oral administration may be syrups, emulsions and suspensions. The syrups may contain as carriers, saccharose or saccharose with glycerine, and / or mannitol and / or sorbitol.

【0118】 懸濁液および乳濁液は、担体として、例えば、天然ゴム、寒天、アルギン酸ナ
トリウム、ペクチン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、または
ポリビニルアルコールを含有してもよい。筋肉内注射用懸濁液または溶液は、活
性化合物とともに、薬学的に許容可能な担体、例えば、無菌水、オリーブ油、オ
レイン酸エチル、グリコール、例えば、プロピレングリコール、および望ましい
場合、適切な量の塩酸リドカインを含有してもよい。
Suspensions and emulsions may contain as carrier, for example a natural gum, agar, sodium alginate, pectin, methylcellulose, carboxymethylcellulose, or polyvinyl alcohol. Intramuscular injection suspensions or solutions, together with the active compound, in a pharmaceutically acceptable carrier, such as sterile water, olive oil, ethyl oleate, glycols such as propylene glycol, and, if desired, an appropriate amount of hydrochloric acid. It may contain lidocaine.

【0119】 注射または注入のための溶液は、担体として、例えば、無菌水を含有してもよ
く、またはそれらは、無菌等張食塩水溶液の形態であってもよい。
Solutions for injection or infusion may contain as carrier, for example, sterile water, or they may be in the form of sterile isotonic saline solutions.

【0120】 治療的に有効量の本発明の化合物を患者に投与する。典型的な用量は、特定の
化合物の活性、年齢、治療される被験者の体重および体調、疾病の型および重度
、ならびび投与の頻度および経路に応じて、体重1kgにつき約0.001〜5
0mgである。好ましくは、毎日の用量レベルは、約5mg〜2gである。
A therapeutically effective amount of a compound of the invention is administered to the patient. A typical dose will be from about 0.001 to 5 per kg body weight, depending on the activity of the particular compound, age, weight and condition of the subject being treated, type and severity of the illness, and frequency and route of administration.
It is 0 mg. Preferably, the daily dose level is about 5 mg to 2 g.

【0121】 シキミ酸経路はまた、高度植物、藻類および真菌類において必須である。さら
に、キナ酸の異化のための経路が、真菌類においても見出される。したがって、
本発明の化合物は、高度植物、藻類および真菌類を抑制するのに効果的である。
それらは、例えば、選択的な除草剤および殺真菌剤として使用することができる
。したがって、本発明は、除草剤もしくは殺真菌剤としての、式(I)の化合物
、またはその農学的に許容可能な塩の使用を提供する。また、ある場所の雑草ま
たは真菌類を抑制する方法を提供し、この方法は、式(I)の化合物またはその
農学的に許容可能な塩でその場所を処理することを含む。
The shikimate pathway is also essential in advanced plants, algae and fungi. Furthermore, a pathway for quinic acid catabolism is also found in fungi. Therefore,
The compounds of the present invention are effective in controlling advanced plants, algae and fungi.
They can be used, for example, as selective herbicides and fungicides. Accordingly, the present invention provides the use of a compound of formula (I), or an agriculturally acceptable salt thereof, as a herbicide or fungicide. Also provided is a method of controlling weeds or fungi in a locus, which method comprises treating the locus with a compound of formula (I) or an agriculturally acceptable salt thereof.

【0122】 典型的に、上記場所は、農業もしくは園芸植物、またはかかる植物が成長する
培地を含む。
Typically, the locus comprises agricultural or horticultural plants, or the medium in which such plants grow.

【0123】 真菌類を抑制するための好ましい方法は、真菌の攻撃に関して植物を処理する
か、または真菌の攻撃に対して植物を保護する方法であり、この方法は、式(I
)の化合物またはその農学的に許容可能な塩を、植物に適用することを含む。植
物に関する黒穂病(smuts)およびさび病(rusts)は、例えば、この方法により治
療することができる。
A preferred method for controlling fungi is to treat the plant with respect to fungal attack or to protect the plant against fungal attack, which method comprises:
A.) Or an agriculturally acceptable salt thereof, to a plant. Plant smuts and rusts can be treated, for example, by this method.

【0124】 典型的に、活性化合物は、葉に適用する。適用の数および適用の速度は、真菌
の攻撃の強度に依存する。しかしながら、活性化合物はまた、活性化合物を含む
液体組成物で植物の場所を含浸させることによるか、または土壌に固体形態(例
えば、顆粒形態)にある化合物を適用する(土壌適用)ことによって、土壌を介
して根を通って植物に適用する(全身作用)ことができる。活性化合物はまた、
活性化合物を含有する液体配合物で種子を含浸させることによるか、またはそれ
らを固体配合物で被覆するかにより、種に適用(被覆)してもよい。特殊な場合
では、適用のさらなる型はまた、例えば、植物の茎または芽の選択的処理にも可
能である。
Typically, the active compounds are applied to the leaves. The number of applications and the rate of application depend on the intensity of the fungal attack. However, the active compound may also be applied to the soil by impregnating the locus of the plant with a liquid composition containing the active compound or by applying to the soil the compound in solid form (eg granular form) (soil application). It can be applied to the plant through the roots through (systemic action). The active compound is also
The seeds may be applied (coated) by impregnating the seeds with a liquid formulation containing the active compound or by coating them with a solid formulation. In special cases, a further type of application is also possible, for example for the selective treatment of plant stems or shoots.

【0125】 本発明はまた、上記に定義する新規ビススルホンアミド誘導体、またはその農
学的に許容可能な塩、および農学的に許容可能な担体または希釈剤を含む除草剤
あるいは殺真菌剤組成物を提供する。
The present invention also provides a herbicidal or fungicide composition comprising a novel bissulfonamide derivative as defined above, or an agriculturally acceptable salt thereof, and an agriculturally acceptable carrier or diluent. provide.

【0126】 適切な農学的な許容可能な塩としては、薬学的に許容可能な塩の例として上述
した塩が挙げられる。
Suitable agronomically acceptable salts include those mentioned above as examples of pharmaceutically acceptable salts.

【0127】 上記除草剤または殺真菌剤組成物は、式(I)の化合物、またはその農学的に
許容可能な塩を、農学的に許容可能な担体または希釈剤と混合することにより調
製されてもよい。適切なかかる組成物としては、湿潤可能な粉末、顆粒、水分散
性顆粒、乳濁液濃縮物、懸濁液濃縮物、および植物に散布するのに適切な粉末が
挙げられる。殺真菌剤または除草剤組成物は、さらなる農学的化学物質、例えば
、さらなる殺真菌剤および除草剤、または殺虫剤、殺ダニ剤、植物成長調節剤、
肥料および土壌改良剤を含んでもよい。
The herbicidal or fungicide composition is prepared by mixing a compound of formula (I), or an agriculturally acceptable salt thereof, with an agriculturally acceptable carrier or diluent. Good. Suitable such compositions include wettable powders, granules, water dispersible granules, emulsion concentrates, suspension concentrates, and powders suitable for application to plants. The fungicide or herbicide composition is a further agrochemical, such as a further fungicide and herbicide, or an insecticide, acaricide, plant growth regulator,
Fertilizers and soil conditioners may be included.

【0128】 除草剤または殺真菌剤組成物は、好ましくは、さらなる殺真菌剤または除草剤
を含む。これにより、用量および人力の減少だけでなく、除草剤または殺真菌剤
スペクトル(spectrum)の広がりを導く。この広がりは、協同的活性に起因する。
The herbicide or fungicide composition preferably comprises an additional fungicide or herbicide. This leads to a broadening of the herbicide or fungicide spectrum as well as a reduction in dose and manpower. This spread is due to cooperative activity.

【0129】 適切な農学的に許容可能な担体および希釈剤としては、固体または液体担体お
よび希釈剤が挙げられる。
Suitable agriculturally acceptable carriers and diluents include solid or liquid carriers and diluents.

【0130】 固体担体または希釈剤の例としては、カオリナイト、モンモリロナイト、イラ
イトおよびポリグロスカイトのような、より具体的には、パイロフィライト、ア
タパルジャイト、セピオライト、カオリナイト、ベントナイト、バーミキュライ
ト、マイカおよびタルクのような粘土が挙げられる。セッコウ、炭酸カルシウム
、ドロマイト、ケイ藻土、マグネシウム石灰、リン石灰、ゼオライト、無水ケイ
酸および合成ケイ酸カルシウムのような他の無機物質もまた使用してもよい。適
切な有機担体および希釈剤としては、大豆粉、タバコ粉、クルミ粉、小麦粉、木
粉、デンプンおよび結晶性セルロースが挙げられる。クマロン樹脂、石油樹脂、
アルキド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアルキレングリコール、ケトン樹脂、エス
テルガム、コーパルガムおよびダンマルガムのようなさらなる合成または天然ポ
リマーが適切であり、カルナウバ蝋および蜜蝋のような蝋も同様である。
Examples of solid carriers or diluents include kaolinite, montmorillonite, illite and polygloskite, and more particularly pyrophyllite, attapulgite, sepiolite, kaolinite, bentonite, vermiculite, mica and Examples include clay such as talc. Other inorganic materials such as gypsum, calcium carbonate, dolomite, diatomaceous earth, magnesium lime, phosphorous lime, zeolites, anhydrous silicic acid and synthetic calcium silicates may also be used. Suitable organic carriers and diluents include soy flour, tobacco flour, walnut flour, wheat flour, wood flour, starch and crystalline cellulose. Coumarone resin, petroleum resin,
Further synthetic or natural polymers such as alkyd resins, polyvinyl chloride, polyalkylene glycols, ketone resins, ester gums, copal gums and dammal gums are suitable, as are waxes such as carnauba wax and beeswax.

【0131】 適切な液体担体および希釈剤の例としては、ケロシン、鉱油、スピンドル油お
よびホワイト油のようなパラフィンまたはナフテン族炭化水素、キシレン、エチ
ルベンゼン、クメンおよびメチルナフタレンのような芳香族炭化水素、トリクロ
ロエチレン、モノクロロベンゼンおよびo−クロロトルエンのような塩素化炭化
水素、ジオキサンおよびテトラヒドロフランのようなエーテル、アセトン、メチ
ルエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノンおよ
びイソホロンのようなケトン、酢酸エチル、酢酸アミル、エチレングリコールア
セテート、ジエチレングリコールアセテート、マレイン酸ジブチルおよびコハク
酸ジエチルのようなエステル、メタノール、n−ヘキサノール、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、シクロヘキサノールおよびベンジルアルコールの
ようなアルコール、エチレングリコールエチルエーテルおよびジエチレングリコ
ールブチルエーテルのようなエーテルアルコール、ならびにジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシドおよび水のような極性溶媒が挙げられる。
Examples of suitable liquid carriers and diluents are kerosene, paraffinic or naphthenic hydrocarbons such as mineral oil, spindle oil and white oil, aromatic hydrocarbons such as xylene, ethylbenzene, cumene and methylnaphthalene, Chlorinated hydrocarbons such as trichloroethylene, monochlorobenzene and o-chlorotoluene, ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, ketones such as acetophenone and isophorone, ethyl acetate, amyl acetate, ethylene glycol. Acetates, esters such as diethylene glycol acetate, dibutyl maleate and diethyl succinate, methanol, n-hexanol, ethylene glycol, diester Mention may be made of alcohols such as ethylene glycol, cyclohexanol and benzyl alcohol, ether alcohols such as ethylene glycol ethyl ether and diethylene glycol butyl ether, and polar solvents such as dimethylformamide, dimethylsulfoxide and water.

【0132】 典型的に、除草剤および殺真菌剤組成物は、界面活性剤および/または乳化、
分散、給湿、拡がり、希釈、併用破壊抑制、有効成分の安定化、流動性の改良、
腐食防止および凍結防止のような様々な目的に適した別の補助剤を含有する。好
ましくは、本発明の除草剤および殺真菌剤組成物は、少なくとも1つの界面活性
剤を含む。本発明はまた、下記: 式(I)のビススルホンアミドまたはその農学的に許容可能な塩、 少なくとも1つの界面活性剤、および 農学的に許容可能な担体または希釈剤、 を含む除草剤または殺真菌剤組成物を提供する。
Typically herbicidal and fungicide compositions comprise a surfactant and / or an emulsifying agent,
Dispersion, humidification, spreading, dilution, combined use destruction control, stabilization of active ingredient, improvement of fluidity,
It contains other auxiliaries which are suitable for various purposes such as corrosion protection and freeze protection. Preferably, the herbicidal and fungicidal composition of the present invention comprises at least one surfactant. The present invention also provides a herbicide or a killing agent comprising: a bissulfonamide of formula (I) or an agriculturally acceptable salt thereof, at least one surfactant, and an agriculturally acceptable carrier or diluent. A fungal composition is provided.

【0133】 適切な界面活性剤としては、非イオン性、陰イオン性、陽イオン性および両性
界面活性剤が挙げられる。非イオン性および陰イオン性界面活性剤が好ましい。
Suitable surfactants include nonionic, anionic, cationic and amphoteric surfactants. Nonionic and anionic surfactants are preferred.

【0134】 適切な陰イオン性界面活性剤は、水溶性セッケンおよび水溶性合成界面活性化
合物の両方であり得る。
Suitable anionic surfactants can be both water-soluble soaps and water-soluble synthetic surface-active compounds.

【0135】 適切なセッケンは、高度脂肪酸(10〜22個の炭素原子の鎖)のアルカリ金
属塩、アルカリ土類金属塩または無置換もしくは置換アンモニウム塩、例えば、
オレイン酸もしくはステアリン酸の、あるいは例えばココナッツ油もしくは獣脂
油から得ることができる天然脂肪酸混合物のナトリウムまたはカリウム塩である
。脂肪酸メチルタウリン塩もまた使用してもよい。
Suitable soaps are alkali metal salts, alkaline earth metal salts or unsubstituted or substituted ammonium salts of high fatty acids (chains of 10 to 22 carbon atoms), for example:
The sodium or potassium salt of oleic or stearic acid or of natural fatty acid mixtures which can be obtained, for example, from coconut oil or tallow oil. Fatty acid methyl taurine salts may also be used.

【0136】 しかしながら、より頻繁に、いわゆる合成界面活性剤、特に、脂肪族スルホネ
ート、脂肪族スルフェート、スルホン化ベンズイミダゾール誘導体またはアルキ
ルアリールスルホネートが使用される。
However, more often so-called synthetic surfactants are used, especially aliphatic sulfonates, aliphatic sulphates, sulphonated benzimidazole derivatives or alkylaryl sulphonates.

【0137】 脂肪族スルホネートまたはスルフェートは、通常、アルカリ金属塩、アルカリ
土類金属塩、または無置換もしくは置換アンモニウム塩の形態にあり、C8〜C2 2 アルキル基(それはまた、アルキル基のアルキル部分を含む)を有し、例えば
、リグノンスルホン酸、ドデシルスルフェートもしくは天然の脂肪酸から得られ
る脂肪族アルコールスルフェートの混合物のナトリウムまたはカリウム塩である
。これらの化合物はまた、脂肪族アルコール/エチレンオキシド付加体の硫酸エ
ステルおよびスルホン酸の塩を含む。スルホン化ベンズイミダゾール誘導体は、
好ましくは、2つのスルホン酸基および8〜22個の炭素原子を含有する1つの
脂肪酸基を含有する。アルキルアリールスルホネートの例としては、ドデシルベ
ンゼンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸の、もしくはナフタレンスル
ホン酸/ホルムアミド縮合体のナトリウム、カルシウムまたはトリエタノールア
ミン塩である。また、対応するホスフェート(例えば、4〜14モルのエチレン
オキシドとのp−ノニルフェノールの付加体のリン酸エステルの塩)は適切であ
る。
[0137] Aliphatic sulfonates or sulfates are usually in the form of alkali metal salts, in the form of alkaline earth metal salts or unsubstituted or substituted ammonium salts,, C 8 -C 2 2 alkyl group (which also includes the alkyl alkyl group Or a portion thereof) and is, for example, the sodium or potassium salt of a mixture of lignosulfonic acid, dodecyl sulfate or a fatty alcohol sulfate obtained from natural fatty acids. These compounds also include sulfates of fatty alcohol / ethylene oxide adducts and salts of sulfonic acids. The sulfonated benzimidazole derivative is
It preferably contains two sulfonic acid groups and one fatty acid group containing 8 to 22 carbon atoms. Examples of alkylaryl sulphonates are the sodium, calcium or triethanolamine salts of dodecylbenzene sulphonic acid, dibutylnaphthalene sulphonic acid or of naphthalene sulphonic acid / formamide condensates. Also suitable are the corresponding phosphates (eg salts of the phosphoric acid ester of an adduct of p-nonylphenol with 4 to 14 mol of ethylene oxide).

【0138】 非イオン性界面活性剤は、好ましくは、脂肪族もしくは脂環式アルコール、ま
たは飽和もしくは不飽和脂肪酸およびアルキルフェノールのポリグリコールエー
テル誘導体であり、上記誘導体は、3〜30個のグリコールエーテル基および(
脂肪族)炭化水素部分には8〜20個の炭素原子およびアルキルフェノールのア
ルキル部分には6〜18個の炭素原子を含有する。
The nonionic surfactants are preferably polyglycol ether derivatives of aliphatic or cycloaliphatic alcohols, or saturated or unsaturated fatty acids and alkylphenols, said derivatives having 3 to 30 glycol ether groups. and(
The (aliphatic) hydrocarbon portion contains 8 to 20 carbon atoms and the alkyl portion of the alkylphenol contains 6 to 18 carbon atoms.

【0139】 さらなる適切な非イオン性界面活性剤は、ポリエチレンオキシドの、プロピレ
ングリコール、エチレンジアミンプロピレングリコール、およびアルキル鎖に1
〜10個の炭素原子を含有するアルキルポリプロピレングリコールとの水溶性付
加体であり、この付加体は、20〜250個のエチレングリコールエーテル基お
よび10〜100個のプロピレングリコールエーテル基を含有する。これらの化
合物は、通常、プロピレングリコールユニット1個につき1〜5個のエチレング
リコールユニットを含有する。非イオン性界面活性剤の代表例は、ノニルフェノ
ールポリエトキシエタノール、ヒマシ油ポリグリコールエーテル、ポリプロピレ
ン/ポリエチレンオキシド付加体、トリブチルフェノキシポリエトキシエタノー
ル、ポリエチレングリコールおよびオクチルフェノキシエトキシエタノールであ
る。ポリオキシエチレンソルビタンおよびポリオキシエチレンソルビタントリオ
レエートの脂肪酸エステルもまた、適切な非イオン性界面活性剤である。
Further suitable nonionic surfactants are polyethylene oxide, propylene glycol, ethylenediamine propylene glycol, and alkyl chain 1
Water-soluble adducts with alkyl polypropylene glycols containing -10 carbon atoms, the adducts containing 20-250 ethylene glycol ether groups and 10-100 propylene glycol ether groups. These compounds usually contain 1 to 5 ethylene glycol units per propylene glycol unit. Representative examples of nonionic surfactants are nonylphenol polyethoxyethanol, castor oil polyglycol ether, polypropylene / polyethylene oxide adducts, tributylphenoxypolyethoxyethanol, polyethylene glycol and octylphenoxyethoxyethanol. Fatty acid esters of polyoxyethylene sorbitan and polyoxyethylene sorbitan trioleate are also suitable nonionic surfactants.

【0140】 陽イオン性界面活性剤は、好ましくは、N置換基として、少なくとも1つのC 8 〜C22のアルキル基、およびさらなる置換基として、低級無置換もしくはハロ
ゲン化アルキル、ベンジルまたは低級ヒドロキシアルキル基を有する第四アンモ
ニウム塩である。塩は、好ましくは、ハロゲン化物、メチルスルフェートまたは
エチルスルフェートの形態にあり、例えば、ステアリルトリメチルアンモニウム
クロリド、またはベンジルジ(2−クロロエチル)エチルアンモニウムブロミド
である。
[0140]   The cationic surfactant is preferably at least one C as N substituent. 8 ~ Ctwenty twoAn alkyl group of, and as a further substituent, a lower unsubstituted or halo
Quaternary ammonium having a benzylated alkyl, benzyl or lower hydroxyalkyl group
It is a nickel salt. The salt is preferably halide, methylsulfate or
In the form of ethylsulfate, for example stearyltrimethylammonium
Chloride or benzyldi (2-chloroethyl) ethylammonium bromide
Is.

【0141】 界面活性剤は、例えば、McCuycheon's Detergents and Emulsifiers Annual,
MC Publishing Corp. Ringwood, New Jersey, 1979およびSisely and Wood, Enc
yclopaedia of Surface Active Agents, Chemical Publishing Co., Inc. New Y
ork, 1980に記載されるような配合の従来技術にて慣例的に用いられる。
Surfactants include, for example, McCuycheon's Detergents and Emulsifiers Annual,
MC Publishing Corp. Ringwood, New Jersey, 1979 and Sisely and Wood, Enc
yclopaedia of Surface Active Agents, Chemical Publishing Co., Inc. New Y
Conventionally used in the prior art in formulations such as those described in ork, 1980.

【0142】 上記補助剤としては、カゼイン、ゼラチン、アルブミン、グルー、アルギン酸
ナトリウム、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチ
ルセルロースおよびポリビニルアルコールが挙げられる。
Examples of the above-mentioned auxiliary agents include casein, gelatin, albumin, glue, sodium alginate, carboxymethyl cellulose, methyl cellulose, hydroxyethyl cellulose and polyvinyl alcohol.

【0143】 上述の担体または希釈剤および様々な補助剤は、単独で、または組み合わせて
使用してもよい。
The carriers or diluents and various auxiliaries mentioned above may be used alone or in combination.

【0144】 本発明の除草剤および殺真菌剤組成物における活性化合物の含有量は、配合の
形態に応じて、広範囲に変化させてもよい。典型的に、活性化合物の量は、組成
物の0.1〜99重量%、好ましくは1〜80重量%である。
The active compound content of the herbicidal and fungicidal compositions according to the invention can be varied within wide limits depending on the form of formulation. Typically, the amount of active compound will be from 0.1 to 99% by weight of the composition, preferably from 1 to 80%.

【0145】 より具体的には、湿潤可能な粉末は、典型的に、25〜90重量%の活性化合
物を含有する。顆粒は、典型的に、1〜35重量%の活性化合物を含有し、それ
は固体担体もしくは希釈剤と一様に混合するか、あるいは固体担体もしくは希釈
剤の表面上に一様に混合するか、または吸収させてもよい。顆粒の直径は、0.
2〜1.5mmであることが好ましい。乳濁液濃縮物は、典型的に、5〜30重
量%の活性化合物、およびさらに5〜20重量%の乳化剤を含有する。懸濁液濃
縮物は、典型的に、5〜50重量%の活性化合物、およびさらに3〜10重量%
の分散湿潤剤を含有する。
More specifically, wettable powders typically contain 25-90% by weight of active compound. Granules typically contain 1 to 35% by weight of active compound, which is intimately mixed with the solid carrier or diluent or on the surface of the solid carrier or diluent, Alternatively, it may be absorbed. The diameter of the granules is 0.
It is preferably 2 to 1.5 mm. Emulsion concentrates typically contain 5-30% by weight of active compound, and additionally 5-20% by weight of emulsifier. Suspension concentrates typically contain 5-50% by weight of active compound, and additionally 3-10% by weight.
Of the dispersion wetting agent.

【0146】 本発明の化合物は、保護されるべき様々な場所、例えば、水田および高地のよ
うな農地、または非農産地に、有効量で適用してもよい。除草剤として使用する
場合、それらは雑草の発芽前に、または発芽後から成長期間の様々な段階の雑草
に適用してもよい。本発明の化合物を除草剤として使用する場合、用量は、一般
に、有効成分の量として、0.1〜10,000g/ha、好ましくは1〜5,
000g/ha、より好ましくは50〜3,000g/ha程度である。用量は
、目的の雑草の種類、それらの成長段階、適用の場所および天候に応じて、変化
させてもよい。本発明の化合物を殺真菌剤として使用する場合、用量は、典型的
に、1ヘクタールにつき50g〜5kg、好ましくは1ヘクタールにつき100
g〜2kg、より好ましくは1ヘクタールにつき200g〜500gの有効成分
である。
The compounds of the invention may be applied in effective amounts to various locations to be protected, for example agricultural lands such as paddy fields and uplands, or non-agricultural lands. When used as herbicides, they may be applied pre-emergence of weeds or to weeds at various stages of post-emergence to growth. When using the compounds according to the invention as herbicides, the dosage is generally 0.1 to 10,000 g / ha, preferably 1 to 5, as the amount of active ingredient.
000 g / ha, more preferably about 50 to 3,000 g / ha. The dose may vary depending on the type of weeds of interest, their stage of development, location of application and weather. If a compound of the invention is used as a fungicide, the dose will typically be 50 g to 5 kg per hectare, preferably 100 per hectare.
g to 2 kg, more preferably 200 g to 500 g of active ingredient per hectare.

【0147】 シキミ酸経路はまた、藻類における芳香族アミノ酸の合成に必須である。した
がって、本発明の化合物は、藻類を抑制するのに有効である。したがって、本発
明は、藻類を制御する際における、式(I)の化合物、またはその塩の使用を提
供する。特に、本発明は、水槽または池において藻類を処理するための方法を提
供し、この方法は、式(I)の化合物またはその塩を、水槽または池に適用する
ことを含む。
The shikimate pathway is also essential for the synthesis of aromatic amino acids in algae. Therefore, the compounds of the present invention are effective in controlling algae. Accordingly, the present invention provides the use of a compound of formula (I), or salt thereof, in controlling algae. In particular, the invention provides a method for treating algae in an aquarium or pond, which method comprises applying a compound of formula (I) or a salt thereof to the aquarium or pond.

【0148】 上述のように、II型デヒドロキナーゼ酵素は、キナ酸異化作用が行われる異
化経路の重要な部分をになう。したがって、本発明はまた、キナ酸異化作用の阻
害における、上記に定義する式(I)のビススルホンアミド誘導体、またはその
塩の使用を提供する。適切な塩としては、薬学的に許容可能な塩の例として上述
した塩が挙げられる。
As mentioned above, the type II dehydrokinase enzyme forms an important part of the catabolic pathway in which quinic acid catabolism takes place. Accordingly, the invention also provides the use of a bissulfonamide derivative of formula (I) as defined above, or a salt thereof, in the inhibition of quinic acid catabolism. Suitable salts include those mentioned above as examples of pharmaceutically acceptable salts.

【0149】 異化経路は、多くの真菌類および細菌に見出される。したがって、本発明の化
合物は、典型的に、真菌または細菌によるキナ酸の異化作用を阻害するのに使用
される。それらは、上記に定義するように、除草剤または殺真菌剤組成物のよう
な使用のために配合されてもよく、また上述の投与量範囲で使用されてもよい。
The catabolic pathway is found in many fungi and bacteria. Therefore, the compounds of the invention are typically used to inhibit the catabolic effects of quinic acid by fungi or bacteria. They may be formulated for use as a herbicide or fungicide composition, as defined above, and may be used in the dosage ranges mentioned above.

【0150】 以下の実施例は、本発明を説明する。[0150]   The following example illustrates the invention.

【0151】 実施例1 1,2−ビス(3−ニトロフェニルスルホニルアミノ)−ベンゼン 乾燥ピリジン(50ml)中の1,2−フェニレンジアミン(10mM)溶液
を室温にて窒素下で撹拌し、3−ニトロベンゼンスルホニルクロリド(20mM
)を数分かけて少しずつ添加した。得られた溶液を5時間、還流させながら加熱
し、次に冷却して、冷1N塩酸(500ml)上へ注いだ。生成物を酢酸エチル
(3×200ml)中に抽出して、有機抽出物を合わせて、水、1N水酸化ナト
リウム、ついで再び水で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムにより乾燥させて、
減圧下にて蒸発させた。シリカによるカラムクロマトグラフィーにより所望の生
成物が得られた(3.1g、65%)。
Example 1 1,2-Bis (3-nitrophenylsulfonylamino) -benzene A solution of 1,2-phenylenediamine (10 mM) in dry pyridine (50 ml) was stirred at room temperature under nitrogen to give 3- Nitrobenzenesulfonyl chloride (20 mM
) Was added little by little over a few minutes. The resulting solution was heated at reflux for 5 hours, then cooled and poured onto cold 1N hydrochloric acid (500 ml). The product was extracted into ethyl acetate (3 × 200 ml), the organic extracts were combined, washed with water, 1N sodium hydroxide, then again with water, then dried over anhydrous sodium sulfate,
Evaporated under reduced pressure. Column chromatography on silica gave the desired product (3.1 g, 65%).

【0152】 実施例2〜8 以下に示す化合物を、適切な出発原料を用いて、実施例1と同じ方法で調製し
た。
Examples 2-8 The compounds set out below were prepared in the same manner as Example 1 using the appropriate starting materials.

【0153】[0153]

【表1】 [Table 1]

【0154】 実施例9 1,2−ビス(4−トルエンスルホニルアミノ)−ベンゼン 乾燥アセトニトリル(50ml)中の1,2−フェニレンジアミン(10mM
、1.08g)溶液を室温にて窒素下で撹拌した。ジイソプロピルエチルアミン
(5ml)を添加した後、ベンゼンスルホニルクロリド(4.19g、22mM
)を添加した。得られた溶液を10時間、還流させながら加熱し、次に冷却して
、減圧下にて蒸発させた。得られた固体を水およびクロロホルム間に分配させて
、有機層を分離し、1N水酸化ナトリウム溶液、ついで水で洗浄して、最終的に
無水硫酸ナトリウムにより乾燥させて、減圧下にて蒸発させた。粗生成物を、酢
酸エチルおよびシクロヘキサンの混合物で溶出させるシリカによるカラムクロマ
トグラフィーにより精製した。白色粉末として生成物を単離した(1.8g、4
3%)。融点203〜205℃。
Example 9 1,2-Bis (4-toluenesulfonylamino) -benzene 1,2-Phenylenediamine (10 mM) in dry acetonitrile (50 ml).
, 1.08 g) was stirred at room temperature under nitrogen. After adding diisopropylethylamine (5 ml), benzenesulfonyl chloride (4.19 g, 22 mM)
) Was added. The resulting solution was heated at reflux for 10 hours, then cooled and evaporated under reduced pressure. The resulting solid was partitioned between water and chloroform, the organic layer was separated, washed with 1N sodium hydroxide solution, then water, finally dried over anhydrous sodium sulfate and evaporated under reduced pressure. It was The crude product was purified by column chromatography on silica eluting with a mixture of ethyl acetate and cyclohexane. The product was isolated as a white powder (1.8 g, 4
3%). Melting point 203-205 [deg.] C.

【0155】 実施例10〜21 以下に示す化合物を、適切な出発原料を用いて、実施例9と同じ方法で調製し
た。
Examples 10-21 The compounds shown below were prepared in the same manner as Example 9 using the appropriate starting materials.

【0156】[0156]

【表2】 [Table 2]

【0157】 実施例22 3−(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−(4−メチ
ルフェニルスルホニルアミノ)トルエン 乾燥ピリジン(50ml)中の3,4−ジアミノトルエン(10mM)溶液を
室温にて窒素下で撹拌し、3−(3−トリフルオロメチルフェニル)スルホニル
クロリド(10mM)を数分かけて少しずつ添加した。得られた溶液を5時間、
還流させながら加熱し、次に冷却して、冷水上へ注いだ。生成物を酢酸エチル(
3×200ml)中に抽出して、有機抽出物を合わせて、水、1N水酸化ナトリ
ウム、ついで再び水で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムにより乾燥させて、減
圧下にて蒸発させた。得られた4−(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−
3−アミノトリエンを、3−(トリフルオロメチルフェニル)スルホニルクロリ
ド(10mM)を用いて、同じ反応条件にさらした。シリカによるカラムクロマ
トグラフィーにより所望の生成物が得られた。
Example 22 3- (3-Trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4- (4-methylphenylsulfonylamino) toluene A solution of 3,4-diaminotoluene (10 mM) in dry pyridine (50 ml) is brought to room temperature. And stirred under nitrogen and 3- (3-trifluoromethylphenyl) sulfonyl chloride (10 mM) was added portionwise over a few minutes. The resulting solution for 5 hours,
Heat at reflux, then cool and pour onto cold water. The product was converted into ethyl acetate (
3 × 200 ml), the combined organic extracts were washed with water, 1N sodium hydroxide, then again with water, then dried over anhydrous sodium sulfate and evaporated under reduced pressure. Obtained 4- (4-methylphenylsulfonylamino)-
3-Aminotriene was exposed to the same reaction conditions with 3- (trifluoromethylphenyl) sulfonyl chloride (10 mM). Column chromatography on silica gave the desired product.

【0158】 実施例23および24 以下に示す化合物を、適切な出発原料を用いて、実施例22と同じ方法で調製
した。
Examples 23 and 24 The compounds set out below were prepared in the same manner as Example 22 using the appropriate starting materials.

【0159】[0159]

【表3】 [Table 3]

【0160】 実施例25 1,2−ビス(4−トルエンスルホニルアミノ)−4,5−ジブロモベンゼン 氷酢酸(10ml)中の1,2−ビス(4−トルエンスルホニルアミノ)−ベ
ンゼン(500mg、1.2mM)溶液を撹拌し、酢酸ナトリウム(200mg
)を添加した。臭素(385mg、0.13ml、2.4mM)を滴下して、次
に得られた黒みがかった溶液を80℃にて3時間加熱した。水(50ml)を添
加して、得られた沈殿物を濾過により分離し、酢酸からの再結晶により精製して
、白色針状物質として所望の生成物を得た。融点213〜215℃(650mg
、94%)。
Example 25 1,2-Bis (4-toluenesulfonylamino) -4,5-dibromobenzene 1,2-Bis (4-toluenesulfonylamino) -benzene (500 mg, 1 0.2 mM) solution was stirred and sodium acetate (200 mg
) Was added. Bromine (385 mg, 0.13 ml, 2.4 mM) was added dropwise and the resulting dark solution was heated at 80 ° C. for 3 hours. Water (50 ml) was added and the resulting precipitate was isolated by filtration and purified by recrystallisation from acetic acid to give the desired product as white needles. Melting point 213 to 215 ° C (650 mg
, 94%).

【0161】 実施例26 N,N−1,4−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)キナゾリン 4,5−ジブロモ−1,2−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)ベ
ンゼン(176mg、3×10-4モル)およびジブロモエタン(57mg、3×
10-4モル)を、乾燥アセトニトリル(250ml)中で炭酸カリウム(1.0
g、7.25×10-4モル)とともに、窒素下にて4時間還流させて、次に、室
温にて一晩撹拌した。溶液を濾過して、排出させて乾固するまで除去して、淡褐
色ガラス状物質として生成物を得た(0.16g、89%)。
Example 26 N, N-1,4-bis (4-methylphenylsulfonylamino) quinazoline 4,5-dibromo-1,2-bis (4-methylphenylsulfonylamino) benzene (176 mg, 3 × 10 4) -4 mol) and dibromoethane (57 mg, 3x
10 −4 mol) in potassium carbonate (1.0 ml) in dry acetonitrile (250 ml).
g, 7.25 × 10 −4 mol) under nitrogen for 4 hours and then stirred overnight at room temperature. The solution was filtered, drained and removed to dryness to give the product as a light brown glass (0.16 g, 89%).

【0162】 実施例27 1,2−ビス(2−クロロ,5−チエニルスルホニルアミノ)−4−クロロ−
5−メチルベンゼン 4−クロロ−5−メチルフェニレン−1,2−ジアミン(10mM、1.56
)を乾燥ピリジン(100ml)中に溶解させ、窒素下にて室温で撹拌した。こ
の溶液に、ピリジン(15ml)中の5−クロロ−2−チエニルスルホニルクロ
リド(21mM、4.55g)溶液を添加し、得られた溶液を窒素下にて85℃
で18時間撹拌した。次に、溶液を0.5M冷希釈塩酸(125ml)中に注ぎ
、生成物をクロロホルム中に抽出した。次に、溶液を無水炭酸水素ナトリウムに
より乾燥させ、減圧下にて蒸発させた。クロロホルムおよびメタノールの混合物
で溶出させるシリカによるカラムクロマトグラフィーにより、粗生成物を精製し
た。エタノール/水からの再結晶により、生成物をさらに精製し、生成物を真空
下にて一晩乾燥させた。オフホワイトの結晶性固体として生成物が得られた(2
.18g、42%)。
Example 27 1,2-Bis (2-chloro, 5-thienylsulfonylamino) -4-chloro-
5-Methylbenzene 4-chloro-5-methylphenylene-1,2-diamine (10 mM, 1.56
) Was dissolved in dry pyridine (100 ml) and stirred under nitrogen at room temperature. To this solution was added a solution of 5-chloro-2-thienylsulfonyl chloride (21 mM, 4.55 g) in pyridine (15 ml) and the resulting solution was heated to 85 ° C. under nitrogen.
It was stirred for 18 hours. The solution was then poured into cold 0.5M dilute hydrochloric acid (125ml) and the product extracted into chloroform. The solution was then dried over anhydrous sodium hydrogen carbonate and evaporated under reduced pressure. The crude product was purified by column chromatography on silica eluting with a mixture of chloroform and methanol. The product was further purified by recrystallisation from ethanol / water and dried under vacuum overnight. The product was obtained as an off-white crystalline solid (2
. 18 g, 42%).

【0163】 実施例28〜58 以下に示す化合物を、適切な出発原料を用いて、実施例27と同じ方法で調製
した。
Examples 28-58 The compounds set out below were prepared in the same manner as Example 27 using the appropriate starting materials.

【0164】[0164]

【表4】 [Table 4]

【0165】 実施例59 1,2−ビス(4−トリフルオロメトキシフェニルスルホニルアミノ)−ベン
ゼン アセトニトリル(2ml)中の1,2−フェニレンジアミン(24mg、0.
22mmol)溶液に、ピリジン(0.05ml、0.66mmol、3当量)
を添加した。この溶液に、アセトニトリル(2ml)中の(4−トリフルオロメ
トキシ)フェニルスルホニルクロリド(84mg、0.44mmol)溶液を添
加した。反応混合物を外気温度で24時間静置させた。完了したら、反応混合物
を真空中で濃縮して、濃厚なシロップを得た。シロップをジクロロメタン(1m
l)および水(1ml)中に溶解させた。相を分離して、有機相を水(1ml)
、クエン酸(10%、1ml)および飽和食塩水(1ml)で洗浄した。有機溶
液を真空中で乾燥させ、最終生成物を得て、それを質量分析と連結した液体クロ
マトグラフィーにより分析した。
Example 59 1,2-Bis (4-trifluoromethoxyphenylsulfonylamino) -benzene 1,2-Phenylenediamine (24 mg, 0.
22 mmol) solution, pyridine (0.05 ml, 0.66 mmol, 3 eq)
Was added. To this solution was added a solution of (4-trifluoromethoxy) phenylsulfonyl chloride (84 mg, 0.44 mmol) in acetonitrile (2 ml). The reaction mixture was allowed to stand at ambient temperature for 24 hours. Upon completion, the reaction mixture was concentrated in vacuo to give a thick syrup. Syrup in dichloromethane (1m
1) and water (1 ml). The phases are separated and the organic phase is water (1 ml).
Washed with citric acid (10%, 1 ml) and brine (1 ml). The organic solution was dried in vacuo to give the final product, which was analyzed by liquid chromatography coupled with mass spectrometry.

【0166】 実施例60〜64 以下に示す化合物を、適切な出発原料を用いて、実施例59と同じ方法で調製
した。
Examples 60-64 The compounds set out below were prepared in the same manner as Example 59 using the appropriate starting materials.

【0167】[0167]

【表5】 [Table 5]

【0168】 上記化合物を、検出器として質量分析装置と連結した液体クロマトグラフィー
により分析した。使用した装置は、Water2690連合溶媒送達システムお
よびWater966フォトダイオードアレイ検出器を備えたWaters27
00試料マネジャーであった。使用した質量分析器は、Micromass M
assLynxソフトウェアv3.2build004を実行するMicrom
ass Platform LCZ質量分析器であった。クロマトグラフィーは
、0.5ml/分の流速で3分かけて、5%のアセトニトリル中の10mMギ酸
および95%の水中の10mMギ酸から、95%のアセトニトリル中の10mM
ギ酸および5%の水中の10mMギ酸までの勾配溶出を用いて、Waters
Symmetry 3.5μm C18 50×2.0mm(WAT20065
0)カラムにより実行した。UV検出は、200〜300nmであり、質量スペ
クトルは、陽性および陰性エレクトロスプレー(electrospray)により収集した
。すべての反応生成物は、満足な純度を有する所望の化合物を示した。
The above compound was analyzed by liquid chromatography coupled to a mass spectrometer as a detector. The instrument used was a Waters 27 equipped with a Water 2690 Combined Solvent Delivery System and a Water 966 Photodiode Array Detector.
00 sample manager. The mass spectrometer used was a Micromass M
Microm running assLynx software v3.2 build004
It was an ass Platform LCZ mass spectrometer. Chromatography was performed at a flow rate of 0.5 ml / min for 3 minutes from 10 mM formic acid in 5% acetonitrile and 10 mM formic acid in 95% water to 10 mM in 95% acetonitrile.
Waters with gradient elution to 10 mM formic acid in formic acid and 5% water.
Symmetry 3.5 μm C18 50 × 2.0 mm (WAT20065
0) run by column. UV detection was 200-300 nm and mass spectra were collected by positive and negative electrospray. All reaction products showed the desired compound with satisfactory purity.

【0169】 実施例65 1,2−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4,5
−ジメチルベンゼン アセトニトリル(2ml)中の4,5−ジメチル−1,2−フェニレンジアミ
ン(30mg、0.22mmol)溶液に、ピリジン(0.05ml、0.66
mmol、3当量)を添加した。この溶液に、ジメチルホルムアミド(2ml)
中の3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルクロリド(108mg、0.4
4mmol)溶液を添加した。反応混合物を外気温度で24時間静置させた。完
了したら、反応混合物を真空中で濃縮して、濃厚なシロップを得た。シロップを
ジクロロメタン(1ml)および水(1ml)中に溶解させた。相を分離して、
有機相を水(1ml)、クエン酸(10%、1ml)および飽和食塩水(1ml
)で洗浄した。有機溶液を真空中で乾燥させ、最終生成物を得て、それを質量分
析と連結した液体クロマトグラフィーにより分析した。
Example 65 1,2-Bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4,5
-Dimethylbenzene To a solution of 4,5-dimethyl-1,2-phenylenediamine (30 mg, 0.22 mmol) in acetonitrile (2 ml), pyridine (0.05 ml, 0.66).
mmol, 3 eq) was added. Dimethylformamide (2 ml) was added to this solution.
3-trifluoromethylphenylsulfonyl chloride in (108 mg, 0.4
4 mmol) solution was added. The reaction mixture was allowed to stand at ambient temperature for 24 hours. Upon completion, the reaction mixture was concentrated in vacuo to give a thick syrup. The syrup was dissolved in dichloromethane (1 ml) and water (1 ml). Separate the phases,
The organic phase is water (1 ml), citric acid (10%, 1 ml) and saturated saline (1 ml).
) Was washed with. The organic solution was dried in vacuo to give the final product, which was analyzed by liquid chromatography coupled with mass spectrometry.

【0170】 実施例66〜256 以下に示す化合物を、適切な出発原料を用いて、実施例65と同じ方法で調製
した。
Examples 66-256 The compounds shown below were prepared in the same manner as Example 65 using the appropriate starting materials.

【0171】[0171]

【表6】 [Table 6]

【0172】 上記化合物を、検出器として質量分析装置と連結した液体クロマトグラフィー
により分析した。使用した装置は、Waters2690連合溶媒送達システム
およびWaster966フォトダイオードアレイ検出器を備えたWaters
2700試料マネジャーであった。使用した質量分析器は、Micromass
MassLynxソフトウェアv3.2build004を実行するMicr
omass Platform LCZ質量分析器であった。クロマトグラフィ
ーは、0.5ml/分の流速で3分かけて、5%のアセトニトリル中の10mM
ギ酸および95%の水中の10mMギ酸から、95%のアセトニトリル中の10
mMギ酸および5%の水中の10mMギ酸までの勾配溶出を用いて、Waste
rs Symmetry 3.5μm C18 50×2.0mm(WAT20
0650)カラムにより実行した。UV検出は、200〜300nmであり、質
量スペクトルは、陽性および陰性エレクトロスプレーにより収集した。すべての
反応生成物は、満足な純度を有する所望の化合物を示した。
The above compound was analyzed by liquid chromatography coupled to a mass spectrometer as a detector. The equipment used was a Waters 2690 Union Solvent Delivery System and a Waters 966 Photodiode Array Detector equipped Water detector.
It was a 2700 sample manager. The mass spectrometer used was a Micromass
Micr running MassLynx software v3.2 build004
It was an omas Platform LCZ mass spectrometer. Chromatography was performed at a flow rate of 0.5 ml / min for 3 minutes at 10 mM in 5% acetonitrile.
From 10 mM formic acid in formic acid and 95% water to 10% in 95% acetonitrile.
Waste elution with gradient elution to 10 mM formic acid in mM formic acid and 5% water.
rs Symmetry 3.5 μm C18 50 × 2.0 mm (WAT20
0650) column. UV detection was 200-300 nm and mass spectra were collected by positive and negative electrospray. All reaction products showed the desired compound with satisfactory purity.

【0173】 実施例257 3,4−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−安息香酸 3,4−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−安息香酸メチルエス
テル(実施例8、3.5g、7.38×10-4mol)を、1N水酸化ナトリウ
ム溶液(250mL)中にて、60C°で5時間撹拌した。この時間が過ぎた後
に、溶液を冷却し、沈殿物を濾過し、水で洗浄し、酢酸と水から再結晶させて、
表題の化合物を2.0g、59%得た。
Example 257 3,4-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -benzoic acid 3,4-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -benzoic acid methyl ester (Example 8, 3.5 g, 7 (.38 × 10 −4 mol) was stirred in 1N sodium hydroxide solution (250 mL) at 60 ° C. for 5 hours. After this time, the solution was cooled, the precipitate was filtered, washed with water, recrystallized from acetic acid and water,
Obtained 2.0 g, 59% of the title compound.

【0174】 実施例258 1,2−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−(
3−メチルオキサジアゾール−5−イル)ベンゼン THF(乾燥、15ml)中のN−ヒドロキシ−アセトアミジン(0.028
g、0.39mmol)を、水素化ナトリウム(0.015g、0.39mmo
l)を含有する乾燥THF(5ml)の撹拌溶液に添加した。混合物を窒素下に
て60℃に加熱した。乾燥THF(5ml)中の3,4−ビス(3−トリフルオ
ロメチルフェニルスルホニルアミノ)−安息香酸メチルエステル(実施例207
、76mg、0.13mM)溶液を15分かけて滴下した。一晩反応を還流させ
た。メタノール(5ml)、ついで水(5ml)を順次添加して、混合物を乾固
するまで濃縮した。粗生成物をメタノール/ジクロロメタンを用いたシリカによ
りカラムクロマトグラフィーにかけ、生成物を得た(21mg、27%)。
Example 258 1,2-bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4- (
3-Methyloxadiazol-5-yl) benzene N-hydroxy-acetamidine (0.028) in THF (dry, 15 ml).
g, 0.39 mmol) with sodium hydride (0.015 g, 0.39 mmo)
l) was added to a stirred solution of dry THF (5 ml). The mixture was heated to 60 ° C under nitrogen. 3,4-Bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -benzoic acid methyl ester (Example 207) in dry THF (5 ml).
, 76 mg, 0.13 mM) solution was added dropwise over 15 minutes. The reaction was refluxed overnight. Methanol (5 ml) and then water (5 ml) were added sequentially and the mixture was concentrated to dryness. The crude product was column chromatographed on silica with methanol / dichloromethane to give the product (21 mg, 27%).

【0175】 実施例259 3,4−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−N−フェニル−ベン
ズアミド 3,4−ビス(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−安息香酸(実施例2
57、0.092g、0.2mmol)、アニリン(0.0186g、0.2m
mol)、N,N−(ジイソプロピル)アミノ−メチルポリスチレン樹脂(PS
−DIEA)(0.172g、0.6mmol、負荷3.5mmol/g)およ
びO−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N,N−テトラメ
チルウロニウムヘキサフルオロホスフェート(HATU)(0.076g、0.
2mmol)を、無水アセトニトリル(8mL)中で窒素下にて撹拌し、50℃
にて40時間加熱した。この時間が過ぎた後に、反応混合物を室温に冷却した。
次に、隔離可能化試薬−テトラフルオロフタル酸無水物(0.132g、0.6
mmol)を添加して、反応混合物を窒素下にて18時間撹拌した。次にマクロ
孔質トリエチルアンモニウムメチルポリスチレンカーボネート樹脂(MP−カー
ボネート、0.630g、2.0mM、負荷3.18mM/g)を添加して、反
応混合物を窒素下にてさらに48時間撹拌した。次に反応混合物を、濾過シリン
ジを通してバイアル中へと濾過し、沈殿物をメタノールで洗浄した。合わせた溶
媒を真空濃縮機で除去し、0.051g、48%を得た。この生成物をLC−M
Sで分析し、85.0%純度を有していた。
Example 259 3,4-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -N-phenyl-benzamide 3,4-bis (4-methylphenylsulfonylamino) -benzoic acid (Example 2
57, 0.092 g, 0.2 mmol), aniline (0.0186 g, 0.2 m)
mol), N, N- (diisopropyl) amino-methyl polystyrene resin (PS
-DIEA) (0.172 g, 0.6 mmol, loading 3.5 mmol / g) and O- (7-azabenzotriazol-1-yl) -N, N, N, N-tetramethyluronium hexafluorophosphate ( HATU) (0.076 g, 0.
2 mmol) in anhydrous acetonitrile (8 mL) under nitrogen and stirred at 50 ° C.
It was heated for 40 hours. After this time had passed, the reaction mixture was cooled to room temperature.
Next, sequestration-enabling reagent-tetrafluorophthalic anhydride (0.132 g, 0.6
mmol) and the reaction mixture was stirred under nitrogen for 18 hours. Macroporous triethylammonium methylpolystyrene carbonate resin (MP-carbonate, 0.630 g, 2.0 mM, loading 3.18 mM / g) was then added and the reaction mixture was stirred under nitrogen for a further 48 hours. The reaction mixture was then filtered through a filter syringe into a vial and the precipitate washed with methanol. The combined solvent was removed on a vacuum concentrator to give 0.051 g, 48%. This product is LC-M
It was analyzed by S and had a purity of 85.0%.

【0176】 実施例260および261 以下に示す化合物を、適切な出発原料を用いて、実施例259と同じ方法で調
製した。
Examples 260 and 261 The compounds set out below were prepared in the same manner as Example 259, using the appropriate starting materials.

【0177】[0177]

【表7】 [Table 7]

【0178】 実施例262 3−(2−フェニル−エテンスルホニルアミノ)−4−(3−トリフルオロメ
チルベンゼンスルホニルアミノ)−安息香酸エチルエステル 4−(3−トリフルオロメチルスルホニルアミノ)−3−ニトロ−安息香酸エ
チルエステル(適切な出発原料を用いて実施例22に従って調製、1.00g、
2.66mmol)を、エタノール(50ml)中に溶解させた。この溶液を撹
拌して、炭素上のパラジウム(5%)をゆっくり添加した後に、エタノールを添
加して容器の側面を洗浄し、次に、過剰のヒドラジン水和物(2ml)を添加し
た。この溶液を18時間還流させて、濾過して、乾固するまで蒸発させた。次に
、溶離液としてメタノール/クロロホルムを用いたシリカにより、生成物を精製
して、3−アミノ−4−(3−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルアミノ)
−安息香酸エチルエステルを乾燥白色固体として得た(0.81g、89%)。
次に、この物質を実施例22に従って2−フェニルエテンスルホニルクロリドと
反応させて、表題の生成物を得た。
Example 262 3- (2-phenyl-ethenesulfonylamino) -4- (3-trifluoromethylbenzenesulfonylamino) -benzoic acid ethyl ester 4- (3-trifluoromethylsulfonylamino) -3-nitro Benzoic acid ethyl ester (prepared according to Example 22 using appropriate starting materials, 1.00 g,
2.66 mmol) was dissolved in ethanol (50 ml). The solution was stirred and palladium on carbon (5%) was added slowly, then ethanol was added to wash the sides of the vessel, then excess hydrazine hydrate (2 ml) was added. The solution was refluxed for 18 hours, filtered and evaporated to dryness. The product was then purified on silica using methanol / chloroform as eluent to give 3-amino-4- (3-trifluoromethylbenzenesulfonylamino).
-Benzoic acid ethyl ester was obtained as a dry white solid (0.81 g, 89%).
This material was then reacted with 2-phenylethenesulfonyl chloride according to Example 22 to give the title product.

【0179】 実施例263〜271 以下に示す化合物を、適切な出発原料を用いて、実施例262と同じ方法で調
製した。
Examples 263-271 The following compounds were prepared in the same manner as Example 262, using the appropriate starting materials.

【0180】[0180]

【表8】 [Table 8]

【0181】 実施例272 1−(4−メチルフェニルスルホニルアミノ)−2−(3−トリフルオロメチ
ルフェニルスルホニルアミノ)−4−フルオロベンゼン 1−ニトロ−2−(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4
−フルオロベンゼン(適切な出発原料を用いて実施例22に従って調製、0.1
3g、0.32mmol)を、塩化スズ(II)(0.28g、1.25mmo
l)を含有するジメチルホルムアミド(5ml)中にて撹拌した。反応を窒素下
にて室温で一晩撹拌させた。混合物を水(15ml)で希釈し、1M水酸化ナト
リウム溶液を用いてpHを7に調節した。水溶液をクロロホルムで抽出して、真
空下にてクロロホルムを除去して、橙色油を得た。これを、メタノール/クロロ
ホルムを用いたシリカによるフラッシュクロマトグラフィーにより精製して、1
−アミノ−2−(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−フ
ルオロベンゼンを得た(0.07g、58%)。次に、実施例22と同様の方法
で、この物質を4−メチルフェニルスルホニルクロリドと反応させて、表題の化
合物を得た。
Example 272 1- (4-methylphenylsulfonylamino) -2- (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4-fluorobenzene 1-nitro-2- (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4
-Fluorobenzene (prepared according to Example 22 using appropriate starting materials, 0.1
3 g, 0.32 mmol) with tin (II) chloride (0.28 g, 1.25 mmo)
It was stirred in dimethylformamide (1 ml) containing 1). The reaction was allowed to stir under nitrogen at room temperature overnight. The mixture was diluted with water (15 ml) and the pH was adjusted to 7 with 1M sodium hydroxide solution. The aqueous solution was extracted with chloroform and the chloroform was removed under vacuum to give an orange oil. It was purified by flash chromatography on silica with methanol / chloroform to give 1
-Amino-2- (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4-fluorobenzene was obtained (0.07 g, 58%). This material was then reacted with 4-methylphenylsulfonyl chloride in the same manner as in Example 22 to obtain the title compound.

【0182】 実施例273〜285 以下に示す化合物を、適切な出発原料を用いて、実施例272と同じ方法で調
製した。
Examples 273-285 The following compounds were prepared in the same manner as Example 272, using the appropriate starting materials.

【0183】[0183]

【表9】 [Table 9]

【0184】 実施例286 実施例1〜285の代表的化合物の分析データ[0184]   Example 286   Analytical data for representative compounds of Examples 1-285

【0185】[0185]

【表10】 [Table 10]

【0186】 実施例287 精製デヒドロキナ酸シンテターゼ(AroB)の阻害を、単一濃度(50μM
)にて96ウェルプレート中で測定した。つまりは、デヒドロキナ酸シンターゼ
(AroB)、デヒドロキナーゼ(I型)およびデヒドロシキメートデヒドラー
ゼ(DHSD)を用いた3酵素連鎖アッセイを構築した。この酵素混合物の存在
下では、基質である3−デオキシ−D−アラビノヘプツロン酸−7−リン酸(D
AHP)はプロトカテク酸に変換され、それは、290nmでの分光光度プレー
トリーダーセットを用いて定量化することができる。0.1%塩化第二鉄を添加
した後、続いてのインキュベーションにより、570nmにてプロトカテク酸−
鉄複合体の測定が可能になる。阻害剤の非存在下にて、アッセイにおけるDAH
P濃度を調節して、アッセイの初期段階後の290nmでの1ユニットの吸光度
を得る。化合物を、アッセイのそれぞれの段階における290nmおよび570
nmでの吸光度を減少させる能力に関して50μmで試験し、酵素混合物による
プロトカテク酸へのDAHPの変換の減少を求める。アッセイ培地はまた、緩衝
液(pH7.0にあるモルホリノプロパンスルホン酸)、塩化コバルト(最終濃
度40μM)、硫酸亜鉛(40μM)および硫酸マグネシウム(2.5mM)を
含有していた。NADは、補因子として20μMにて添加した。
Example 287 Inhibition of purified dehydroquinate synthetase (AroB) was tested at a single concentration (50 μM).
) In a 96-well plate. Briefly, a three-enzyme linkage assay was constructed using dehydroquinate synthase (AroB), dehydrokinase (type I) and dehydroshikimate dehydrase (DHSD). In the presence of this enzyme mixture, the substrate 3-deoxy-D-arabinohepturonic acid-7-phosphate (D
AHP) is converted to protocatechuic acid, which can be quantified using a spectrophotometric plate reader set at 290 nm. After the addition of 0.1% ferric chloride, the subsequent incubation resulted in protocatechuic acid-at 570 nm.
Measurement of iron complex is possible. DAH in the assay in the absence of inhibitor
Adjust the P concentration to obtain an absorbance of 1 unit at 290 nm after the initial steps of the assay. Compounds were tested at 290 nm and 570 at each step of the assay.
The ability to reduce absorbance at nm is tested at 50 μm to determine the reduction of DAHP conversion to protocatechuic acid by the enzyme mixture. The assay medium also contained buffer (morpholinopropanesulfonic acid at pH 7.0), cobalt chloride (final concentration 40 μM), zinc sulfate (40 μM) and magnesium sulfate (2.5 mM). NAD was added as a cofactor at 20 μM.

【0187】 追従デヒドロキナーゼアッセイを用いて、活性化合物がデヒドロキナ酸シンタ
ーゼを阻害していることを確認した。このアッセイは上述と同様であるが、基質
としてデヒドロキネートを用いて、アッセイ培地からデヒドロキナ酸シンターゼ
を除いて行った。試験化合物のいずれも、改変アッセイにおけるいかなる活性も
示さず、したがって、すべての活性物質は、デヒドロキナ酸シンターゼのみを阻
害することがわかった。
A follow-up dehydrokinase assay was used to confirm that active compounds were inhibiting dehydroquinate synthase. The assay was similar to that described above, but with dehydroquinate as the substrate and dehydroquinate synthase removed from the assay medium. None of the test compounds showed any activity in the modified assay, therefore all actives were found to inhibit only dehydroquinate synthase.

【0188】[0188]

【表11】 [Table 11]

【0189】 実施例288 精製デヒドロキナ酸シンテターゼ(AroB)の阻害を、実施例287に示し
た方法を用いて、96ウェルプレート中で測定した。IC50値が計算できるよう
に、実験を種々の濃度で繰り返した。IC50値は、290nmにて計算した。
Example 288 Inhibition of purified dehydroquinate synthetase (AroB) was measured in 96-well plates using the method described in Example 287. The experiment was repeated at various concentrations so that IC 50 values could be calculated. IC 50 values were calculated at 290 nm.

【0190】[0190]

【表12】 [Table 12]

【0191】 実施例289 精製M.ツベルクロシスII型デヒドロキナーゼ(AroQ)の阻害を、単一
濃度(50μM)にて96ウェルプレート中で測定した。つまりは、AroQお
よびデヒドロシキメートデヒドラーゼ(DHSD)を用いた2酵素連鎖アッセイ
を構築した。この酵素混合物の存在下では、基質であるキネートはプロトカテク
酸に変換され、それは、0.1%塩化第二鉄との2分間のインキュベーション後
に、(570nmでの分光光度プレートリーダーセットを用いて)定量化するこ
とができる。化合物を、570nmでの吸光度を減少させる能力に関して50μ
mで試験し、酵素混合物によるプロトカテク酸へのキネートの変換の減少を求め
た。アッセイ培地はまた、緩衝液(pH7.0にあるモルホリノプロパンスルホ
ン酸)、塩化コバルト(最終濃度40μM)、硫酸亜鉛(40μM)および硫酸
マグネシウム(2.5mM)を含有していた。
Example 289 Purified M. Inhibition of tuberculosis type II dehydrokinase (AroQ) was measured in 96-well plates at a single concentration (50 μM). Briefly, a two enzyme chain assay was constructed using AroQ and dehydroshikimate dehydrase (DHSD). In the presence of this enzyme mixture, the substrate, quinate, was converted to protocatechuic acid, which after 2 minutes incubation with 0.1% ferric chloride (using a spectrophotometric plate reader set at 570 nm). It can be quantified. Compounds were 50μ for their ability to reduce absorbance at 570nm.
m and tested for the reduction of conversion of quinate to protocatechuic acid by the enzyme mixture. The assay medium also contained buffer (morpholinopropanesulfonic acid at pH 7.0), cobalt chloride (final concentration 40 μM), zinc sulfate (40 μM) and magnesium sulfate (2.5 mM).

【0192】 追従アッセイを用いて、活性化合物がデヒドロキナーゼを阻害していることを
確認した。つまりは、化合物を通常の緩衝液混合物中でAroQ存在下にてイン
キュベートし、キネートのデヒドロシキミ酸への変換を減少する能力を分光測光
器で240nmにて測定した。試験化合物はすべて改変アッセイにて活性を示し
、したがって、デヒドロキナーゼの阻害剤であることがわかる。
A follow-up assay was used to confirm that the active compound was inhibiting dehydrokinase. Briefly, compounds were incubated in the presence of AroQ in a conventional buffer mixture and their ability to reduce the conversion of quinate to dehydroshikimic acid was measured spectrophotometrically at 240 nm. All test compounds show activity in the modified assay and are therefore found to be inhibitors of dehydrokinase.

【0193】[0193]

【表13】 [Table 13]

【0194】 実施例290 精製マイコバクテリウム属ツベルクロシスII型デヒドロキナーゼ(AroQ
)の阻害を、実施例289に示した方法を用いて、96ウェルプレート中で測定
した。IC50値が計算できるように、実験を種々の濃度で繰り返した。IC50
は、570nmでの結果を用いて計算した。
Example 290 Purified Mycobacterium tuberculosis type II dehydrokinase (AroQ
) Inhibition was measured in 96-well plates using the method described in Example 289. The experiment was repeated at various concentrations so that IC 50 values could be calculated. IC 50 values were calculated using the results at 570 nm.

【0195】[0195]

【表14】 [Table 14]

【0196】 実施例291 黄色ブドウ球菌に対する化合物の抗細菌活性 以下に示す方法を用いて、黄色ブドウ球菌のメチシリン感受性および耐性株に
対する化合物の最小阻止濃度(MIC)を測定した。抗菌感受性を測定すること
は、臨床検査に用いられる方法を改変したものである(NCCLS M7−A4
好気性で成長する細菌に関する希釈抗菌感受性試験方法、第四版)。
Example 291 Antibacterial Activity of Compounds Against Staphylococcus aureus The minimum inhibitory concentration (MIC) of compounds against methicillin sensitive and resistant strains of S. aureus was determined using the method described below. Measuring antimicrobial susceptibility is a modification of the method used for clinical testing (NCCLS M7-A4.
Diluted antimicrobial susceptibility testing method for aerobic, growing bacteria, 4th edition).

【0197】 アッセイに使用するブロス培地は、M9最小塩(Minimal Salts)が9割、ルリ
ア(レノックス)培地(Luria(Lennox)Media)が1割であった(9:1 M9:L
B)。
The broth medium used for the assay was 90% of M9 Minimal Salts and 10% of Luria (Lennox Media) (9: 1 M9: L).
B).

【0198】[0198]

【表15】 [Table 15]

【0199】 寒天平板用に、1.5%(w/v)Noble Agarを添加することによ
り、この培地を凝固させた。
For the agar plates, the medium was solidified by adding 1.5% (w / v) Noble Agar.

【0200】 9:1のM9:LBブロス3mlに、9:1のM9:LB寒天上で成長させた
黄色ブドウ球菌のメチシリン感受性およびメチシリン耐性株の新鮮な培養液から
の単一コロニーを接種した。これを振盪(〜250rpm)しながら37℃で4
〜5時間インキュベートした。ブロスの光学密度を600nmにて測定し、培養
液を0.1以下のA600が得られるように無菌0.85%生理食塩水で希釈した
。希釈接種物に関して、以下のように、マイルズおよびミスラ法(Miles and Mis
ra's)を実行した: a)無菌0.85%生理食塩水90μlを、マイクロタイタープレートの残存
ウェル(列B列からH)に添加した。 b)培養液10μlを列Aから列Bへ取り出し、十分混合した。連続希釈をプ
レートの下方へと続け、移動毎にチップを換えた。 c)3通りの、各希釈物の5μl容量を乾燥寒天平板の表面に移した。この平
板を約1時間放置して、液滴を寒天中へと乾燥させた。そして、 d)上記平板を37℃で一晩インキュベートし、スポット1つにつき10〜5
0の別個のコロニーが存在する希釈物でのコロニー数を数えた。次に、適切な計
算(以下を参照)をした。
3 ml of 9: 1 M9: LB broth was inoculated with a single colony from a fresh culture of a methicillin-sensitive and methicillin-resistant strain of S. aureus grown on 9: 1 M9: LB agar. . Shake this (~ 250 rpm) at 37 ° C for 4
Incubated for ~ 5 hours. The optical density of broth was measured at 600 nm, and the culture solution was diluted with sterile 0.85% saline to obtain an A 600 of 0.1 or less. For the diluted inoculum, use the Miles and Misla method as follows:
ra's) was performed: a) 90 μl of sterile 0.85% saline was added to the remaining wells (rows B to H) of the microtiter plate. b) 10 μl of culture was removed from row A to row B and mixed well. Serial dilutions continued down the plate, changing tips after each transfer. c) Triplicate 5 μl volumes of each dilution were transferred to the surface of dry agar plates. The plate was left for about 1 hour to dry the droplets into agar. And d) Incubating the plate at 37 ° C. overnight, 10-5 per spot.
Colonies were counted in the dilution where there were 0 distinct colonies. Then the appropriate calculations (see below) were made.

【0201】 9:1のM9:LBブロス200μlを、無菌マイクロタイタープレート中の
ウェルの最上列に添加して、これに、ジメチルスルホキシド(DMSO)中の実
施例25の化合物10μlを二つ組でウェルに添加した。二つ組の1つに、10
mg/mlフェニルアラニン2μl、10mg/mlトリプトファン2μl、0
.5mg/mlチロシン40μlおよび5μg/mlp−アミノ安息香酸2μl
を添加した。次に、ウェルに希釈細菌培養液(上記参照)5μlを接種した。マ
イクロタイタープレートを振盪(〜150rpm)しながら37℃で16〜20
時間インキュベートし、A600を記録して、次に、マイルズおよびミスラ法を培
養液に関して行った(上記参照)。
200 μl of 9: 1 M9: LB broth was added to the top row of wells in sterile microtiter plates to which 10 μl of the compound of Example 25 in dimethylsulfoxide (DMSO) was duplicated. Added to wells. 10 in 1 of 2 sets
mg / ml phenylalanine 2 μl, 10 mg / ml tryptophan 2 μl, 0
. 40 μl of 5 mg / ml tyrosine and 2 μl of 5 μg / ml p-aminobenzoic acid
Was added. The wells were then inoculated with 5 μl of diluted bacterial culture (see above). 16-20 at 37 ° C with shaking (~ 150 rpm) on microtiter plate
Incubated for hours, recorded A 600 , then performed Miles and Mithra method on the culture (see above).

【0202】 >MIC=(殺菌濃度)を確定するのに用いる基準は、薬剤処理バッチからの
サブ培養ブロス(sub-cultured broth)が抗菌剤を含まない培地上での成長を示
さない濃度であった。殺菌濃度は、MICをちょうど超えるモル濃度の狭い範囲
で化合物を試験することより計算した。次に、マイクロプレートのウェル中の細
菌の総数の曲線を、ウェルに接種した細菌数の百分率としてプロットした。
The criterion used to establish> MIC = (bactericidal concentration) is the concentration at which the sub-cultured broth from the drug treated batch does not show growth on media containing no antimicrobial agent. It was Bactericidal concentrations were calculated by testing compounds in a narrow range of molar concentrations just above the MIC. A curve of the total number of bacteria in the wells of the microplate was then plotted as a percentage of the number of bacteria inoculated into the well.

【0203】 結果に関して用いた計算は、c.f.u./ml=(コロニー数×希釈因子)
×200であった。接種物における細菌数は、c.f.u./ml/200であ
った。ウェル中の細菌の総数は、c.f.u./ml/5であった。
The calculations used on the results were c. f. u. / Ml = (number of colonies x dilution factor)
It was × 200. The bacterial count in the inoculum is c. f. u. / Ml / 200. The total number of bacteria in the well is c. f. u. / Ml / 5.

【0204】[0204]

【表16】 [Table 16]

【0205】[0205]

【表17】 [Table 17]

【0206】 実施例292 VERO細胞系に対する毒性 L−アラニル−L−グルタミン(Gibco 21855-025)とともに、10%のウシ胎
児血清(FBS)(Gibco 16000-044)を含有するダルベッコ変法イーグル培地(
DMEM)中で、細胞をルーチン的に培養する。続くプロセスは、下記: 1.1日目に、細胞100μlを96ウェルプレート中で5×104細胞/m
lで接種する。 2.2日目に、細胞を付着させた後に、DMSO中で作られた20mMストッ
クから、最終必要濃度の2倍に、増殖培地(DMEM)中で化合物を希釈し、ウ
ェル1つにつき100μlを添加する。増殖培地中で作られた0.5%DMSO
を対照ウェルに添加する。 3.細胞を、37℃、5%CO2にて72〜96時間インキュベートする。 4.吸引により培地を除去し、ウェル1つにつき1メチレンブルー(50%E
tOH中0.5%)100μlを添加して、細胞を染色し、室温で1時間インキ
ュベートする。次に、染料を流水で洗い落とし、空気乾燥させる。 5.形態の変化の兆候に関して、細胞を検査し得る。 6.可溶化溶液(1%N−ラウリルサルコシン、Sigma L−5125、
蒸留水中)100μlを添加することにより染料を細胞から放出させ、1時間穏
やかに振盪する。次に、プレートを読みとって、620nmでのODを測定する
。細胞成長の阻害百分率を、薬剤未処理の対照ウェルに関して計算した。
Example 292 Toxicity to VERO Cell Line Dulbecco's Modified Eagle Medium containing 10% fetal bovine serum (FBS) (Gibco 16000-044) with L-alanyl-L-glutamine (Gibco 21855-025) (
Cells are routinely cultured in DMEM). The process that follows is as follows: On day 1.1, 100 μl of cells in a 96-well plate are 5 × 10 4 cells / m 2.
Inoculate with l. 2.2. On day 2, after attaching cells, dilute compounds in growth medium (DMEM) from a 20 mM stock made in DMSO to twice the final required concentration, 100 μl per well. Added. 0.5% DMSO made in growth medium
Is added to control wells. 3. Cells are incubated for 72-96 hours at 37 ° C., 5% CO 2 . 4. Remove the medium by aspiration and use 1 methylene blue (50% E per well).
100 μl of 0.5% in tOH) are added to stain the cells and incubated for 1 hour at room temperature. The dye is then washed off with running water and air dried. 5. Cells may be examined for signs of morphological changes. 6. Solubilization solution (1% N-lauryl sarcosine, Sigma L-5125,
The dye is released from the cells by adding 100 μl of distilled water) and shaken gently for 1 hour. The plate is then read and the OD at 620 nm is measured. Percentage inhibition of cell growth was calculated for untreated control wells.

【0207】[0207]

【表18】 [Table 18]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61K 31/426 A61K 31/426 4H011 31/4436 31/4436 31/517 31/517 A61L 2/18 A61L 2/18 A61P 31/04 A61P 31/04 31/10 31/10 33/06 33/06 43/00 111 43/00 111 C07C 311/21 C07C 311/21 311/29 311/29 C07D 239/74 C07D 239/74 333/34 333/34 409/04 409/04 413/04 413/04 417/04 417/04 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ,UG ,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD, RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM,AT, AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,BZ,C A,CH,CN,CR,CU,CZ,DE,DK,DM ,DZ,EE,ES,FI,GB,GD,GE,GH, GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS,JP,K E,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS ,LT,LU,LV,MA,MD,MG,MK,MN, MW,MX,MZ,NO,NZ,PL,PT,RO,R U,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM ,TR,TT,TZ,UA,UG,US,UZ,VN, YU,ZA,ZW (72)発明者 ウィシャート,グラント イギリス ロンドン ダブリュシー1イー 6エーユー ゴーワー ストリート ク ルシフォーム ビルディング ザ ウォル フソン インスティチュート フォー バ イオメディカル リサーチ (72)発明者 ドルマン,マーク イギリス ロンドン ダブリュシー1イー 6エーユー ゴーワー ストリート ク ルシフォーム ビルディング ザ ウォル フソン インスティチュート フォー バ イオメディカル リサーチ (72)発明者 マウンダー,ピーター イギリス コーンウォール イーエックス 23 8エルワイ ブード ブード−ストラ トン ビジネス パーク トリポス レセ プター リサーチ リミテッド Fターム(参考) 4C058 AA09 AA14 BB07 CC01 CC02 JJ08 JJ21 4C063 AA01 BB02 CC92 DD12 DD58 DD61 DD62 EE01 4C086 AA01 AA02 AA03 BB02 BC17 BC69 BC78 BC79 GA04 GA08 GA09 GA10 MA01 MA04 MA05 MA17 MA23 MA35 MA37 MA52 MA55 MA63 MA66 NA14 ZB32 ZB35 ZB38 ZC20 4C206 AA01 AA02 AA03 JA13 MA01 MA04 MA05 MA37 MA43 MA52 MA55 MA57 MA83 MA86 ZB32 ZB35 ZB38 ZC20 4H006 AA01 AA03 AB03 AB04 AB28 4H011 AA01 AA02 AA03 AB01 AB02 AD01 BA01 BB07 DA02 DA15 DA16 DD01 DD03 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) A61K 31/426 A61K 31/426 4H011 31/4436 31/4436 31/517 31/517 A61L 2/18 A61L 2 / 18 A61P 31/04 A61P 31/04 31/10 31/10 33/06 33/06 43/00 111 43/00 111 C07C 311/21 C07C 311/21 311/29 311/29 C07D 239/74 C07D 239 / 74 333/34 333/34 409/04 409/04 413/04 413/04 417/04 417/04 (81) Designated countries EP (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR , GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE), OA (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD) , TG), AP (GH, GM, K E, LS, M W, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW), EA (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM), AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM , HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN , YU, ZA, ZW (72) Inventor Wishart, Grant London Dubley, England C1E6A You Gower Street Cruciform Building The Wolfson Institute For Biomedical Research (72) Inventor Dolman, Mark United Kingdom London W1C6E6A You Gower Street Cruciform Building The Wolfson Institute Four Biomedical Research (72) Inventor Mounder, Peter UK Cornwall IX 23 8 Elwy Bud Budo-Stratton Business Park Trypos Receptor Research Limited F-term (reference) 4C058 AA09 AA14 BB07 CC01 CC02 JJ08 JJ21 4C063 AA01 BB02 CC92 DD12 DD58 DD61 DD62 EE01 4C086 AA01 AA02 AA03 BB02 BC17 BC69 BC78 BC79 GA04 GA08 GA09 GA10 MA01 MA04 MA05 MA17 MA23 MA35 MA37 MA52 MA55 MA63 MA66 NA14 ZB32 ZB35 ZB38 ZC20 4C206 AA01 AA02 AA03 JA13 MA01 MA04 MA05 MA37 MA43 MA52 MA55 MA57 MA83 MA86 ZB32 ZB35 ZB38 ZC20 4H006 AA01 AA03 AB03 AB04 AB28 4H011 AA01 AA02 AA03 AB01 AB02 AD01 BA01 BB07 DA02 DA15 DA16 DD01 DD03

Claims (35)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 シキミ酸経路を介した芳香族アミノ酸の生合成の阻害に使用
するための薬剤の製造における、下記式(I): 【化1】 (式中、 Arは、アリールまたはヘテロアリール基であり、 R1およびR2は、同じであるか、または異なり、各々水素またはアルキルを表
すか、あるいはR1およびR2は一緒にC1〜C3アルキレン基、−CO−または−
CS−を形成し、 R3およびR4は、同じであるか、または異なり、各々−アルキル−アリール、
−アルキル−ヘテロアリール、−アルケニル−アリール、−アルケニル−ヘテロ
アリール、−アルキニル−アリール、−アルキニル−ヘテロアリール、アリール
またはヘテロアリールを表す) のビススルホンアミド誘導体またはその薬学的に許容可能な塩の使用。
1. The following formula (I) in the manufacture of a medicament for use in inhibiting the biosynthesis of aromatic amino acids via the shikimate pathway: Wherein Ar is an aryl or heteroaryl group, R 1 and R 2 are the same or different and each represents hydrogen or alkyl, or R 1 and R 2 together are C 1- C 3 alkylene group, -CO- or -
Forming CS-, R 3 and R 4 are the same or different and each is -alkyl-aryl,
-Alkyl-heteroaryl, -alkenyl-aryl, -alkenyl-heteroaryl, -alkynyl-aryl, -alkynyl-heteroaryl, aryl or heteroaryl) bissulfonamide derivative or a pharmaceutically acceptable salt thereof. use.
【請求項2】 R3およびR4は、同じであるか、または異なり、各々アリー
ルまたはヘテロアリール基を表す、請求項1に記載の使用。
2. Use according to claim 1, wherein R 3 and R 4 are the same or different and each represents an aryl or heteroaryl group.
【請求項3】 Arは、下記Ar’基: 【化2】 (式中、R5〜R8は、同じであるか、または異なり、アリール、ヘテロアリール
、ヘテロシクリル、シアノ、ニトロ、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アル
コキシ、アルキルチオ、ハロアルコキシ、ヒドロキシ、−CO2R(ここで、R
は、アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキルである)、または−NR’
R”もしくは−CONR’R”(ここで、R’およびR”は、同じであるか、ま
たは異なり、アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキルである)を表すか
、あるいはR5およびR6もしくはR6およびR7もしくはR7およびR8は一緒にア
ルキレンジオキシ基を形成するか、またはそれらが結合する炭素原子と一緒にフ
ェニル部分を形成する) である、請求項1に記載の使用。
3. Ar is the following Ar ′ group: (Wherein R 5 to R 8 are the same or different and are aryl, heteroaryl, heterocyclyl, cyano, nitro, halogen, alkyl, haloalkyl, alkoxy, alkylthio, haloalkoxy, hydroxy, —CO 2 R ( Where R
Is aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl), or -NR '
R "or -CONR'R", where R'and R "are the same or different and are aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl, or R 5 and R 6 or R 6 and R 7 or R 7 and R 8 together form an alkylenedioxy group or together with the carbon atom to which they are attached a phenyl moiety).
【請求項4】 R5およびR8は、同じであるか、または異なり、水素、ハロ
ゲン、アルキル、ヒドロキシ、アルコキシまたは−NR’R”(ここで、R’お
よびR”は、同じであるか、または異なり、水素またはアルキルである)を表し
、R6およびR7は、同じであるか、または異なり、水素、アリール、ヘテロアリ
ール、ヘテロシクリル、ニトロ、シアノ、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、
アルコキシ、アルキルチオ、ハロアルコキシ、ヒドロキシ、−CO2R(ここで
、Rは、アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキルである)、または−N
R’R”もしくは−CONR’R”(ここで、R’およびR”は、同じであるか
、または異なり、アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキルである)を表
すか、あるいはR6およびR7は一緒にアルキレンジオキシ基を形成するか、また
はそれらは結合する炭素原子とフェニル部分を形成する、請求項3に記載の使用
4. R 5 and R 8 are the same or different and are hydrogen, halogen, alkyl, hydroxy, alkoxy or —NR′R ″, wherein R ′ and R ″ are the same. , Or, differently, is hydrogen or alkyl), R 6 and R 7 are the same or different and are hydrogen, aryl, heteroaryl, heterocyclyl, nitro, cyano, halogen, alkyl, haloalkyl,
Alkoxy, alkylthio, haloalkoxy, hydroxy, -CO 2 R (where, R represents aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl), or -N
R'R "or -CONR'R", wherein R'and R "are the same or different and are aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl, or R 6 and R 7 The use according to claim 3, wherein together form an alkylenedioxy group, or they together form a phenyl moiety with the carbon atom to which they are attached.
【請求項5】 R5およびR8の一方が水素であり、他方が、水素、ハロゲン
またはヒドロキシであり、R6およびR7は、水素、アリール、ヘテロアリール、
ニトロ、シアノ、アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロゲン、−CO2
、−CO2−アルキルまたは−CONR’R”(ここで、R’およびR”は、同
じであるか、または異なり、アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキルで
ある)を表すか、あるいはR6およびR7は一緒にアルキレンジオキシ基またはフ
ェニル部分を形成する、請求項4に記載の使用。
5. One of R 5 and R 8 is hydrogen and the other is hydrogen, halogen or hydroxy, and R 6 and R 7 are hydrogen, aryl, heteroaryl,
Nitro, cyano, alkyl, alkoxy, haloalkyl, halogen, -CO 2 H
, —CO 2 -alkyl or —CONR′R ″, where R ′ and R ″ are the same or different and are aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl, or R 6 and R 7 forms a alkylenedioxy group or phenyl moiety together, use of claim 4.
【請求項6】 R1およびR2は、同じであるか、または異なり、水素または
アルキルを表すか、あるいはR1およびR2は一緒にC1〜C3アルキレン基を形成
する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の使用。
6. R 1 and R 2 are the same or different and represent hydrogen or alkyl, or R 1 and R 2 together form a C 1 -C 3 alkylene group. Use according to any one of 5 to 5.
【請求項7】 R3および/またはR4は、フェニル、ナフチル、ピリジル、
フラニル、チエニル、イミダゾリル、ピラゾリジニル、イソオキサゾリル、ピロ
リル、(1,2−シクロ(3−チオエチル)−イミダゾリル、ベンゾチエニル、
インドリルまたはキノリニルである、請求項1〜6のいずれか1項に記載の使用
7. R 3 and / or R 4 is phenyl, naphthyl, pyridyl,
Furanyl, thienyl, imidazolyl, pyrazolidinyl, isoxazolyl, pyrrolyl, (1,2-cyclo (3-thioethyl) -imidazolyl, benzothienyl,
Use according to any one of claims 1 to 6, which is indolyl or quinolinyl.
【請求項8】 R3および/またはR4は、無置換であるか、またはアリール
、ヘテロアリールおよび複素環基、アルキル、ハロアルキル、ハロゲン、ニトロ
、−S(O)2−アルキル、ハロアルコキシ、シアノ、−CO2R(ここで、Rは
、アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキルである)、アルコキシ、ヒド
ロキシ、−CONR’R”(ここで、R’およびR”は、同じであるか、または
異なり、アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキルである)、−Z−NR
'”R””および−NR’”R””(ここで、Zは、アルキルまたはアルケニル
であり、R’”およびR””は、同じであるか、または異なり、各々アリール、
ヘテロアリール、水素、アルキルまたは−CO−L(ここで、Lは、アルキルま
たはアリール基である)を表す)、ならびに−O−Z−R’””(ここで、Zは
、上記に定義する通りであり、R’””は、アリール、へテロアリールまたはヘ
テロシクリルである)から選択される1つまたは2つの置換基で置換される、請
求項1〜7のいずれか1項に記載の使用。
8. R 3 and / or R 4 are unsubstituted or are aryl, heteroaryl and heterocyclic groups, alkyl, haloalkyl, halogen, nitro, —S (O) 2 -alkyl, haloalkoxy, cyano, -CO 2 R (where, R represents aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl) or, alkoxy, hydroxy, -CONR'R "(where, R 'and R" are the same, Or, differently, is aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl), -Z-NR
'"R""and-NR'" R "" (where Z is alkyl or alkenyl and R '"and R""are the same or different and are each aryl,
Heteroaryl, hydrogen, alkyl or -CO-L (wherein L is an alkyl or aryl group), as well as -O-Z-R '"", where Z is defined above. And R ′ ″ ″ is substituted with one or two substituents selected from aryl, heteroaryl or heterocyclyl).
【請求項9】 式(I)の前記ビススルホンアミド誘導体は、下記式(Ia
): 【化3】 (式中、R5〜R8は、請求項3にて定義する通りであり、XおよびYは、同じで
あるか、または異なり、フェニルまたはチエニルを表し、nは、Xがフェニルで
ある場合、0〜4の整数を表し、Xがチエニルである場合、0〜3の整数を表し
、mは、Yがフェニルである場合、0〜4の整数を表し、Yがチエニルである場
合、0〜3の整数を表し、R3’およびR4’は、同じであるか、または異なり、
アリール、ヘテロアリールおよび複素環基、アルキル、ハロアルキル、ハロゲン
、ニトロ、−S−(O)2−、アルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、シアノ
、−CO2R(ここで、Rは、アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキル
である)、ヒドロキシ、−CONR’R”(ここで、R’およびR”は、同じで
あるか、または異なり、アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキルである
)、−Z−NR’”R””および−NR’”R””(ここで、Zは、アルキルま
たはアルケニルであり、R’”およびR””は、同じであるか、または異なり、
各々アリール、ヘテロアリール、水素、アルキルまたは−CO−L(ここで、L
は、アルキルまたはアリール基である)を表す)、ならびに−O−Z−R’””
(Zは、上記に定義する通りであり、R’””は、アリール、ヘテロアリールま
たはヘテロシクリルである)から選択される) のビススルホンアミド誘導体である、請求項1に記載の使用。
9. The bissulfonamide derivative of formula (I) has the formula (Ia)
): [Chemical 3] Where R 5 to R 8 are as defined in claim 3, X and Y are the same or different and represent phenyl or thienyl, and n is when X is phenyl. , 0 to 4, an integer of 0 to 3 when X is thienyl, m is an integer of 0 to 4 when Y is phenyl, and 0 when Y is thienyl. Represents an integer of 3 and R 3 'and R 4 ' are the same or different,
Aryl, heteroaryl and heterocyclic group, alkyl, haloalkyl, halogen, nitro, -S- (O) 2 -, alkyl, alkoxy, haloalkoxy, cyano, -CO 2 R (where, R represents aryl, heteroaryl , Hydrogen or alkyl), hydroxy, —CONR′R ″ (where R ′ and R ″ are the same or different and are aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl), —Z—NR '"R""and-NR'" R "" (where Z is alkyl or alkenyl and R '"and R""are the same or different;
Each is aryl, heteroaryl, hydrogen, alkyl or -CO-L (wherein L
Represents an alkyl or aryl group), and —O—Z—R ′ ″ ″
(Z is as defined above, R ′ ″ ″ is selected from aryl, heteroaryl or heterocyclyl)) and the bissulfonamide derivative thereof is used.
【請求項10】 前記式(Ia)において、R5およびR8は水素であり、R 6 およびR7は、同じであるか、または異なり、アリール、ヘテロアリール、ニト
ロ、シアノ、アルキル、ハロアルキル、ハロゲン、水素、−CO2H、−CO2
アルキル、アルコキシおよび−CONR’R”(ここで、R’およびR”は、同
じであるか、または異なり、アリール、ヘテロアリール、水素またはアルキル)
から選択されるか、あるいはR6およびR7は一緒にアルキレンジオキシ基を形成
するか、またはそれらが結合する炭素原子と一緒にさらなるフェニル部分を形成
し、XおよびYは、同じであるか、または異なり、フェニルまたはチエニルであ
り、nおよびmは、同じであるか、または異なり、0、1または2であり、R3
’およびR4’は、同じであるか、または異なり、下記: (a)フェニル部分に結合している場合、アリール、C1〜C4アルキル、C1
〜C4ハロアルキル、ハロゲン、ニトロ、シアノ、C1〜C4アルコキシ、−CO2 R(ここで、Rは、水素またはC1〜C4アルキルである)、−NR’R”(ここ
で、R’およびR”は、同じあるか、または異なり、水素、C1〜C4アルキルま
たは−CO−(C1〜C4アルキル)、−O−(C1〜C4アルキル)−R”(ここ
で、R”は、ヘテロアリールまたはヘテロシクリルである)、および−S(O) 2 −C1〜C4アルキル (b)チエニル部分に結合している場合、ピリジル、チアゾリル、イソオキサ
ゾリル、イソチアゾリル、ピラゾリル、ニトロ、ハロゲン、C1〜C4ハロアルキ
ル、C1〜C4アルキル、−CO2R(ここで、Rは、水素またはC1〜C4アルキ
ルである)、C1〜C4アルコキシ、−(C1〜C4アルキル)−NH−アリールお
よび−S(O)2−C1〜C4アルキル から選択される、請求項9に記載の使用。
10. In the formula (Ia), RFiveAnd R8Is hydrogen and R 6 And R7Are the same or different and are aryl, heteroaryl, nit
B, cyano, alkyl, haloalkyl, halogen, hydrogen, -CO2H, -CO2
Alkyl, alkoxy and -CONR'R "(wherein R'and R" are the same as
Same or different, aryl, heteroaryl, hydrogen or alkyl)
Selected from R6And R7Together form an alkylenedioxy group
Or form an additional phenyl moiety with the carbon atom to which they are attached
X and Y are the same or different and are phenyl or thienyl.
, N and m are the same or different and are 0, 1 or 2, R3
'And RFour'Is the same or different and is as follows:   (A) aryl, C when attached to the phenyl moiety1~ CFourAlkyl, C1
~ CFourHaloalkyl, halogen, nitro, cyano, C1~ CFourAlkoxy, -CO2 R (where R is hydrogen or C1~ CFourAlkyl), -NR'R "(here
And R'and R "are the same or different and are hydrogen, C1~ CFourAlkyl
Or -CO- (C1~ CFourAlkyl), -O- (C1~ CFourAlkyl) -R "(here
And R ″ is heteroaryl or heterocyclyl), and —S (O) 2 -C1~ CFourAlkyl   (B) when attached to a thienyl moiety, pyridyl, thiazolyl, isoxa
Zolyl, isothiazolyl, pyrazolyl, nitro, halogen, C1~ CFourHalo Archi
Le, C1~ CFourAlkyl, -CO2R (where R is hydrogen or C1~ CFourArchi
C)1~ CFourAlkoxy,-(C1~ CFourAlkyl) -NH-aryl
And -S (O)2-C1~ CFourAlkyl Use according to claim 9, selected from
【請求項11】 前記薬剤は、デヒドロキナ酸シンテターゼ酵素の阻害にお
ける使用のためである、請求項1〜10のいずれか1項に記載の使用。
11. The use according to any one of claims 1-10, wherein the agent is for use in inhibiting the dehydroquinate synthetase enzyme.
【請求項12】 前記デヒドロキナ酸シンテターゼ酵素は、AroBである
、請求項11に記載の使用。
12. The use according to claim 11, wherein the dehydroquinate synthetase enzyme is AroB.
【請求項13】 前記薬剤は、II型デヒドロキナーゼ酵素の阻害における
使用のためである、請求項1〜12のいずれか1項に記載の使用。
13. The use according to any one of claims 1 to 12, wherein the agent is for use in inhibiting type II dehydrokinase enzyme.
【請求項14】 前記II型デヒドロキナーゼ酵素は、AroQである、請
求項13に記載の使用。
14. The use according to claim 13, wherein the type II dehydrokinase enzyme is AroQ.
【請求項15】 前記薬剤は、細菌もしくは真菌感染の治療または予防にお
ける使用のためである、請求項1〜14のいずれか1項に記載の使用。
15. Use according to any one of claims 1-14, wherein the medicament is for use in the treatment or prevention of bacterial or fungal infections.
【請求項16】 前記薬剤は、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌感染の治療ま
たは予防における使用のためである、請求項15に記載の使用。
16. The use according to claim 15, wherein the agent is for use in the treatment or prevention of methicillin-resistant Staphylococcus aureus infection.
【請求項17】 前記薬剤は、シキミ酸経路を介して芳香族アミノ酸の生合
成が行われる寄生虫による感染の治療または予防のためである、請求項1〜12
のいずれか1項に記載の使用。
17. The drug is for the treatment or prevention of infection by a parasite in which aromatic amino acid biosynthesis is carried out via the shikimate pathway.
The use according to any one of 1.
【請求項18】 前記薬剤は、マラリアの治療または予防のためである、請
求項17の記載の使用。
18. The use according to claim 17, wherein the drug is for the treatment or prevention of malaria.
【請求項19】 下記: 請求項1〜10のいずれか1項にて定義するような式(I)のビススルホンア
ミド誘導体、またはその農学的に許容可能な塩、 少なくとも1つの界面活性剤、および 農学的に許容可能な担体または希釈剤 を含む、除草剤または殺真菌剤組成物。
19. The following: a bissulfonamide derivative of formula (I) as defined in any one of claims 1 to 10, or an agriculturally acceptable salt thereof, at least one surfactant, And a herbicidal or fungicidal composition comprising an agriculturally acceptable carrier or diluent.
【請求項20】 除草剤または殺真菌剤としての、請求項1〜10のいずれ
か1項にて定義するような式(I)のビススルホンアミド誘導体、またはその農
学的に許容可能な塩の使用。
20. A bissulfonamide derivative of formula (I) as defined in any one of claims 1 to 10, or agronomically acceptable salt thereof, as a herbicide or fungicide. use.
【請求項21】 ある場所の雑草または真菌類を抑制する方法であって、請
求項1〜10のいずれか1項にて定義するような式(I)のビススルホンアミド
誘導体、またはその農学的に許容可能な塩、あるいは請求項19または32のい
ずれか1項に記載の組成物をそれに投与することを含む方法。
21. A method for controlling weeds or fungi in a location, comprising a bissulfonamide derivative of formula (I) as defined in any one of claims 1 to 10, or an agricultural method thereof. 33. An acceptable salt, or a method comprising administering to it a composition according to any one of claims 19 or 32.
【請求項22】 前記場所は、農業もしくは園芸植物、またはかかる植物が
成長する培地を含む、請求項21に記載の方法。
22. The method of claim 21, wherein the location comprises an agricultural or horticultural plant, or a medium in which such plant grows.
【請求項23】 藻類の抑制における、請求項1〜10のいずれか1項にて
定義するような式(I)のビススルホンアミド誘導体、またはその塩の使用。
23. Use of a bissulfonamide derivative of formula (I) as defined in any one of claims 1 to 10 or a salt thereof in controlling algae.
【請求項24】 水槽または池にて藻類を処理する方法であって、請求項1
〜10のいずれか1項にて定義するような式(I)のビススルホンアミド誘導体
、またはその塩を、水槽または池に適用することを含む方法。
24. A method for treating algae in an aquarium or pond, comprising:
10. A method comprising applying a bissulfonamide derivative of formula (I), or a salt thereof, as defined in any one of 10 to 10 to an aquarium or pond.
【請求項25】 細菌成長の阻害における、請求項1〜10のいずれか1項
にて定義するような式(I)のビススルホンアミド誘導体、またはその塩の非治
療的使用。
25. A non-therapeutic use of a bissulfonamide derivative of formula (I), as defined in any one of claims 1 to 10, or a salt thereof, in inhibiting bacterial growth.
【請求項26】 請求項1〜10のいずれか1項にて定義するような式(I
)のビススルホンアミド誘導体、またはその薬学的に許容可能な塩を含む抗生物
質のコーティングを有する外科用器具。
26. A formula (I) as defined in any one of claims 1-10.
) A surgical instrument having an antibiotic coating containing the bissulfonamide derivative of), or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
【請求項27】 ヒトまたは動物の身体を治療する方法における使用のため
の、下記式(I): 【化4】 (式中、 Arは、アリールまたはヘテロアリール基であり、 R1およびR2は、同じであるか、または異なり、各々水素またはアルキルを表
すか、あるいはR1およびR2は一緒にC1〜C3アルキレン基、−CO−または−
CS−を形成し、 R3およびR4は、同じであるか、または異なり、各々アリールまたはヘテロア
リール基を表すが、 ただし、R1およびR2が水素である場合、R3およびR4は、フェニル、4−メチ
ルフェニル、または4−アミノフェニルであり、Arは、下記: 【化5】 (ここで、R’およびR”は、メチルまたは塩素である) ではない) のビススルホンアミド誘導体、またはその薬学的に許容可能な塩。
27. A compound of formula (I): for use in a method of treating the human or animal body. Wherein Ar is an aryl or heteroaryl group, R 1 and R 2 are the same or different and each represents hydrogen or alkyl, or R 1 and R 2 together are C 1- C 3 alkylene group, -CO- or -
Forming CS-, R 3 and R 4 are the same or different and each represents an aryl or heteroaryl group, provided that when R 1 and R 2 are hydrogen, R 3 and R 4 are , Phenyl, 4-methylphenyl, or 4-aminophenyl, and Ar is as follows: (Wherein R ′ and R ″ are not methyl or chlorine)), or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
【請求項28】 請求項27に記載のビススルホンアミド誘導体、またはそ
の薬学的に許容可能な塩、および薬学的に許容可能な担体または希釈剤を含む薬
学的組成物。
28. A pharmaceutical composition comprising the bissulfonamide derivative according to claim 27, or a pharmaceutically acceptable salt thereof, and a pharmaceutically acceptable carrier or diluent.
【請求項29】 下記式(Id): 【化6】 (式中、 R1およびR2は、請求項1および6のいずれか1項にて定義する通りであり、 R3およびR4は、請求項1、7および8のいずれか1項にて定義する通りであ
り、 Arは、請求項3〜5のいずれか1項にて定義する通りであるが、 ただし、R1およびR2がともに水素であり、Arが無置換のナフチル基、1つま
たは2つのジメチルメチレンジオキシ、ヒドロキシ、メトキシ、エトキシ、メチ
ル、塩素、臭素、フッ素、ニトロ、CF3またはアミノ基で任意に置換されるフ
ェナントラセン基またはフェニル基である場合、R3およびR4は、(a)無置換
のキノリン基、(b)無置換のフェニル基、(c)メチル、メトキシ、−CO2
H、塩素、シアノ、ニトロもしくはアミノ基によって、または−O−CO−N(
CH3)基によって一置換されたフェニル基、あるいは(d)ニトロ基およびメ
チル基によって二置換されたフェニル基ではない) のビススルホンアミド誘導体、またはその塩。
29. The following formula (Id): (In the formulae, R 1 and R 2 are as defined in any one of claims 1 and 6, and R 3 and R 4 are defined in any one of claims 1, 7 and 8. As defined, Ar is as defined in any one of claims 3 to 5, provided that R 1 and R 2 are both hydrogen, Ar is an unsubstituted naphthyl group, 1 One or two dimethylmethylenedioxy, hydroxy, methoxy, ethoxy, methyl, chlorine, bromine, fluorine, nitro, CF 3 or a phenanthracene group optionally substituted with an amino group or a phenyl group, R 3 and R 4 is (a) an unsubstituted quinoline group, (b) an unsubstituted phenyl group, (c) methyl, methoxy, —CO 2
By H, chlorine, cyano, nitro or amino groups, or -O-CO-N (
CH 3) bis sulfonamide derivatives of mono-substituted phenyl group by group or, (d) is not a disubstituted phenyl group by a nitro group and a methyl group) or a salt thereof.
【請求項30】 前記式(Id)の前記ビススルホンアミド誘導体は、請求
項9または10にて定義する式(Ia)のビススルホンアミド誘導体である、請
求項29に記載の化合物。
30. The compound of claim 29, wherein the bissulfonamide derivative of formula (Id) is a bissulfonamide derivative of formula (Ia) as defined in claim 9 or 10.
【請求項31】 Arは、下記: 【化7】 (式中、R5〜R8は、請求項3〜5のいずれか1項にて定義する通りであるが、
ただし、R5およびR6もR7およびR8も一緒にフェニル部分を形成しない) を表す、請求項30に記載の化合物。
31. Ar is as follows: (In the formula, R 5 to R 8 are as defined in any one of claims 3 to 5,
However, neither R 5 nor R 6 nor R 7 and R 8 together form a phenyl moiety).
【請求項32】 1,2−ビス(4−トリフルオロメトキシフェニルスルホ
ニルアミノ)−4−クロロベンゼン、 1,2−ビス(3−トリフルオロメチルフェニルスルホニルアミノ)−4−ク
ロロベンゼン、 1,2−ビス(2,5−ジクロロ−3−チエニルスルホニルアミノ)−4−ク
ロロベンゼン、 1,2−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)−4−クロロベ
ンゼン、 1,2−ビス(2−メチル−3−クロロフェニルスルホニルアミノ)−4−フ
ルオロベンゼン、 1,2−ビス(2−クロロ−5−チエニルスルホニルアミノ)−4−フルオロ
ベンゼン、 またはその塩である、請求項29に記載の化合物。
32. 1,2-Bis (4-trifluoromethoxyphenylsulfonylamino) -4-chlorobenzene, 1,2-bis (3-trifluoromethylphenylsulfonylamino) -4-chlorobenzene, 1,2-bis (2,5-Dichloro-3-thienylsulfonylamino) -4-chlorobenzene, 1,2-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamino) -4-chlorobenzene, 1,2-bis (2-methyl-3) The compound according to claim 29, which is -chlorophenylsulfonylamino) -4-fluorobenzene, 1,2-bis (2-chloro-5-thienylsulfonylamino) -4-fluorobenzene, or a salt thereof.
【請求項33】 請求項29〜32のいずれか1項にて定義する式(I)の
ビススルホンアミド誘導体、またはその農学的に許容可能な塩、および農学的に
許容可能な担体または希釈剤を含む、除草剤または殺真菌剤組成物。
33. A bissulfonamide derivative of formula (I) as defined in any one of claims 29 to 32, or an agriculturally acceptable salt thereof, and an agriculturally acceptable carrier or diluent. A herbicide or fungicide composition comprising:
【請求項34】 キナ酸異化作用の阻害における、請求項1〜10のいずれ
か1項にて定義する式(I)のビススルホンアミド誘導体、またはその塩の使用
34. Use of a bissulfonamide derivative of formula (I) as defined in any one of claims 1 to 10 or a salt thereof in inhibiting quinic acid catabolism.
【請求項35】 前記ビススルホンアミドまたはその塩は、真菌または細菌
によりキナ酸の異化作用を阻害するために使用される、請求項34に記載の使用
35. The use according to claim 34, wherein the bissulfonamide or salt thereof is used to inhibit the catabolism of quinic acid by fungi or bacteria.
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