JP2003347187A - Edge exposure device - Google Patents

Edge exposure device

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JP2003347187A
JP2003347187A JP2002149348A JP2002149348A JP2003347187A JP 2003347187 A JP2003347187 A JP 2003347187A JP 2002149348 A JP2002149348 A JP 2002149348A JP 2002149348 A JP2002149348 A JP 2002149348A JP 2003347187 A JP2003347187 A JP 2003347187A
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和也 小野
Kenji Kamei
謙治 亀井
Kazuya Akiyama
一也 秋山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an edge exposure device which is capable of exposing the edge of a substrate to light having a uniform distribution of light intensity so as to carry out superior edge exposure. <P>SOLUTION: Light emitted from a light source unit has an irregular distribution of light intensity. Therefore, the intensity of light that impinges on optical fiber strands 33a and 33b composing light guides 31a and 31b reflects the light source having an irregular distribution of light intensity. When light having the irregular distribution of light intensity is incident on optical mixing optical elements 60a and 60b, the light is mixed inside the optical elements 60a and 60b, and lights emitted from light emitting surfaces 62a and 62b have nearly uniform distributions of light intensity. Moreover, the optical mixing optical elements 60a and 60b are pasted together as optically isolated from each other so as to prevent lights of the elements 60a and 60b from being mixed together. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、回転する半導体基
板、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス
基板、光ディスク用基板等(以下、「基板」と称する)
の端縁部に光を照射して当該端縁部の露光を行うエッジ
露光装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a rotating semiconductor substrate, a glass substrate for a liquid crystal display, a glass substrate for a photomask, a substrate for an optical disk, and the like (hereinafter referred to as "substrate").
The present invention relates to an edge exposure apparatus that irradiates light to an edge portion of the device to expose the edge portion.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、上記のような基板に対しては、
レジスト塗布処理、現像処理およびそれらに付随する熱
処理を順次行わせることにより一連の基板処理を達成し
ている。これらのうちレジスト塗布処理は、基板を回転
させつつフォトレジスト(以下、単に「レジスト」とい
う)を供給し、遠心力によって基板の表面全面にレジス
ト塗布を行う処理である。
2. Description of the Related Art Generally, for a substrate as described above,
A series of substrate processes is achieved by sequentially performing a resist coating process, a developing process, and a heat treatment associated therewith. Among these, the resist coating process is a process in which a photoresist (hereinafter, simply referred to as “resist”) is supplied while rotating the substrate, and the resist is applied to the entire surface of the substrate by centrifugal force.

【0003】従って、レジスト塗布処理後の基板にはそ
の全面にレジスト膜が形成されているのであるが、基板
端縁部においては半導体チップ等のパターンが形成され
ることはないため、レジスト膜が不要であるばかりでな
く、基板搬送時の機械的接触によって発塵等の原因とな
るため、基板端縁部のレジスト膜についてはむしろ積極
的に除去する必要がある。
Therefore, although a resist film is formed on the entire surface of the substrate after the resist coating process, a pattern such as a semiconductor chip is not formed at the edge of the substrate. Not only is it unnecessary, but it also causes dust and the like due to mechanical contact during transport of the substrate. Therefore, it is necessary to remove the resist film at the edge of the substrate positively.

【0004】このため、従来より、光源からの光(一般
的には紫外線)を光ファイバーを束ねたライトガイドに
よって導き、基板端縁部に照射することによって、当該
部分のレジスト膜を除去するエッジ露光が行われてき
た。
For this reason, conventionally, light (generally, ultraviolet light) from a light source is guided by a light guide in which optical fibers are bundled, and is applied to the edge of the substrate to remove the resist film in the relevant portion by edge exposure. Has been done.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、エッジ露光
を含む基板処理一般の技術課題として、タクトタイムを
短縮してスループットを向上させるということが挙げら
れる。特に近年は基板の大径化の進展が著しく、直径が
300mm以上の基板も取り扱われるようになりつつあ
る。基板のサイズが大きくなると、エッジ露光を行うべ
き基板端縁部の面積(以下、「露光面積」とする)も増
大する。従来と同じ装置を用いてエッジ露光を行った場
合、露光面積が増大するとエッジ露光に要するタクトタ
イムも当然に長くなるため、エッジ露光に要するタクト
タイムを短縮したいという要望は大きい。
As a general technical problem of substrate processing including edge exposure, there is a problem of shortening a tact time and improving a throughput. In particular, in recent years, the diameter of the substrate has been remarkably increased, and a substrate having a diameter of 300 mm or more is being handled. As the size of the substrate increases, the area of the edge of the substrate to be subjected to edge exposure (hereinafter, referred to as “exposure area”) also increases. When edge exposure is performed using the same apparatus as in the related art, the tact time required for edge exposure naturally increases as the exposure area increases, and there is a great demand to reduce the tact time required for edge exposure.

【0006】そこで、本発明者等はエッジ露光に要する
タクトタイムを短縮するために、例えば光源を複数台設
け、各光源からのライトガイドを合流させて照射面積を
大きくする技術を検討している。しかしながら、各光源
から放射される光の強度分布は一般的に不均一であり、
ライトガイドを構成する各光ファイバーの入射端面にお
ける光強度も当然不均一となっている。そして、各光フ
ァイバーにより基板端縁部側に導光され、その出射面か
ら出射される光の強度も不均一となっている。その結
果、ライトガイドを介してエッジ露光された基板端縁部
における光強度分布は不均一となり、端縁部のレジスト
膜の一部が十分に感光されず、エッジ露光後に現像処理
を施したとしても端縁部にレジスト膜が部分的に残存し
てしまうという問題があった。
In order to shorten the tact time required for edge exposure, the present inventors are studying a technique of providing a plurality of light sources and joining light guides from the respective light sources to increase the irradiation area. . However, the intensity distribution of light emitted from each light source is generally non-uniform,
Naturally, the light intensity at the incident end face of each optical fiber constituting the light guide is also non-uniform. The light is guided toward the edge of the substrate by each optical fiber, and the intensity of the light emitted from the emission surface is also non-uniform. As a result, the light intensity distribution at the edge of the substrate exposed to the edge through the light guide becomes non-uniform, and a part of the resist film at the edge is not sufficiently exposed, and the development processing is performed after the edge exposure. Also, there is a problem that the resist film partially remains at the edge.

【0007】また、複数台の光源を設けた場合には、各
光源ごとの光の強度分布が不均一であるのみならず、複
数の光源間の強度が異なっていることも多い。このよう
な場合は、複数の光源からのライトガイドを介してエッ
ジ露光された基板端縁部における光強度分布がより不均
一なものとなるという問題が生じる。
When a plurality of light sources are provided, not only is the light intensity distribution of each light source non-uniform, but also the intensity of the plurality of light sources is often different. In such a case, there arises a problem that the light intensity distribution at the edge of the substrate that has been edge-exposed through the light guides from the plurality of light sources becomes more non-uniform.

【0008】さらに、複数台の光源を設けた場合には、
いずれか1台の光源のランプ交換を行う場合であって
も、全ての光源を消灯してエッジ露光装置を停止しなけ
ればならなかった。
Further, when a plurality of light sources are provided,
Even when the lamp of one of the light sources is replaced, all the light sources must be turned off and the edge exposure apparatus must be stopped.

【0009】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、基板の端縁部を均一な光強度分布で露光して良
好なエッジ露光処理を実施することができるエッジ露光
装置を提供することを第1の目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and provides an edge exposure apparatus capable of performing a favorable edge exposure process by exposing an edge portion of a substrate with a uniform light intensity distribution. This is the first object.

【0010】また、本発明は、上記第1の目的を達成し
た上で、光源のランプ交換時にも装置運転を継続するこ
とができるエッジ露光装置を提供することを第2の目的
とする。
It is a second object of the present invention to provide an edge exposure apparatus capable of continuing the operation of the apparatus even when the lamp of the light source is replaced, while achieving the first object.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1の発明は、回転する基板の端縁部に光を照
射して当該端縁部の露光を行うエッジ露光装置におい
て、光を放射するn個(但し、nは2以上の自然数)の
光源と、前記n個の光源と1対1で対応して設けられ、
それぞれが対応する光源からの光を前記端縁部に向けて
導く光ファイバー素線を複数本束ねて形成されたn本の
素線群と、入射側端部にて相互に離間していた前記n本
の素線群を相互に分離した状態にて合流させて一つの出
射側端部を有する合流素線群を形成する導光路合流部
と、前記n本の素線群と1対1で対応して設けられたn
個の光混合光学素子と、を備え、前記n個の光混合光学
素子のそれぞれを、当該光混合光学素子に対応する素線
群の経路中の任意の位置に設けるとともに、当該素線群
に対応する光源からの光をその内部で光混合させてい
る。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an edge exposure apparatus for irradiating an edge of a rotating substrate with light to expose the edge. (Where n is a natural number of 2 or more), and the light sources are provided in one-to-one correspondence with the n light sources,
A group of n wires formed by bundling a plurality of optical fiber wires, each of which guides light from a corresponding light source toward the edge, and the n which are separated from each other at an incident side end. The light guide path converging section, which forms a merging element group having one exit side end by merging the element groups in a state where the element groups are separated from each other, has a one-to-one correspondence with the n element groups. N provided
Light mixing optical elements, and each of the n light mixing optical elements is provided at an arbitrary position in a path of a wire group corresponding to the light mixing optical element, and Light from the corresponding light source is light-mixed therein.

【0012】また、請求項2の発明は、請求項1の発明
にかかるエッジ露光装置において、前記n個の光混合光
学素子のそれぞれを、当該光混合光学素子に対応する素
線群の入射側端部に接して設けるとともに、当該光混合
光学素子に当該素線群に対応する光源からの光の一部を
直接受けて光混合させた後、混合された光を当該素線群
の入射側端部の端面に向けて出射させている。
According to a second aspect of the present invention, in the edge exposure apparatus according to the first aspect of the present invention, each of the n light-mixing optical elements is connected to an incident side of a wire group corresponding to the light-mixing optical element. After being provided in contact with the end portion, the light mixing optical element directly receives a part of the light from the light source corresponding to the element wire group and mixes the light, and then mixes the mixed light with the incident side of the element wire group. The light is emitted toward the end face of the end.

【0013】また、請求項3の発明は、請求項1の発明
にかかるエッジ露光装置において、前記n個の光混合光
学素子のそれぞれを、当該光混合光学素子に対応する素
線群の入射側端部から前記導光路合流部に至るまでのい
ずれかの位置に設けるとともに、当該光混合光学素子に
当該素線群のうちの当該光混合光学素子よりも上流側部
分によって導かれた当該素線群に対応する光源からの光
を受けて光混合させた後、混合された光を当該素線群の
うちの当該光混合光学素子よりも下流側部分に向けて出
射させている。
According to a third aspect of the present invention, in the edge exposure apparatus according to the first aspect of the present invention, each of the n light-mixing optical elements is connected to an incident side of a wire group corresponding to the light-mixing optical element. The element wire provided at any position from the end to the light guide path junction, and guided to the light mixing optical element by a portion of the element group upstream from the light mixing optical element. After receiving the light from the light source corresponding to the group and mixing the light, the mixed light is emitted toward the downstream side of the light mixing optical element in the element wire group.

【0014】また、請求項4の発明は、請求項1の発明
にかかるエッジ露光装置において、前記n個の光混合光
学素子をそれぞれが相互に光学的に遮断された状態にて
前記導光路合流部内に一体化して組み込み、各光混合光
学素子に当該光混合光学素子に対応する素線群のうちの
当該光混合光学素子よりも上流側部分によって導かれた
当該素線群に対応する光源からの光を受けて光混合させ
た後、混合された光を当該素線群のうちの当該光混合光
学素子よりも下流側部分に向けて出射させている。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the edge exposure apparatus according to the first aspect of the present invention, wherein the n light-mixing optical elements are combined with each other while the n light-mixing optical elements are mutually optically blocked. From the light source corresponding to the group of wires guided by the upstream portion of the group of wires corresponding to the light mixing optical element to the respective light mixing optical elements. After the light is received and light-mixed, the mixed light is emitted toward a portion of the element group downstream of the light-mixing optical element.

【0015】また、請求項5の発明は、請求項1の発明
にかかるエッジ露光装置において、前記n個の光混合光
学素子をそれぞれが相互に光学的に遮断された状態にて
前記導光路合流部から前記合流素線群の出射側端部に至
るまでのいずれかの位置に一体化して設けるとともに、
各光混合光学素子に当該光混合光学素子に対応する素線
群のうちの当該光混合光学素子よりも上流側部分によっ
て導かれた当該素線群に対応する光源からの光を受けて
光混合させた後、混合された光を当該素線群のうちの当
該光混合光学素子よりも下流側部分に向けて出射させて
いる。
According to a fifth aspect of the present invention, in the edge exposure apparatus according to the first aspect of the present invention, the n light-mixing optical elements are combined with each other while the n light-mixing optical elements are optically isolated from each other. Along with providing integrally at any position from the part to the exit side end of the merging element group,
Each light-mixing optical element receives light from the light source corresponding to the element group, which is guided by a portion of the element group corresponding to the light-mixing optical element that is located on the upstream side of the optical element, and performs light mixing. After that, the mixed light is emitted toward the downstream side of the light mixing optical element in the element wire group.

【0016】また、請求項6の発明は、請求項1の発明
にかかるエッジ露光装置において、前記n個の光混合光
学素子をそれぞれが相互に光学的に遮断された状態にて
一体化して前記合流素線群の出射側端部に接して設ける
とともに、各光混合光学素子に当該光混合光学素子に対
応する素線群によって導かれた当該素線群に対応する光
源からの光を受けて光混合させた後、混合された光を前
記端縁部に向けて直接出射させている。
According to a sixth aspect of the present invention, in the edge exposure apparatus according to the first aspect of the present invention, the n light mixing optical elements are integrated with each other in a state where they are optically isolated from each other. Provided in contact with the exit side end of the merging element group, and receive light from the light source corresponding to the element group guided to each light mixing optical element by the element group corresponding to the light mixing optical element. After the light mixing, the mixed light is directly emitted toward the edge.

【0017】また、請求項7の発明は、請求項1から請
求項6のいずれかの発明にかかるエッジ露光装置におい
て、前記光混合光学素子と前記光ファイバー素線の芯線
とを同一材料で形成している。
According to a seventh aspect of the present invention, in the edge exposure apparatus according to any one of the first to sixth aspects, the light mixing optical element and the core wire of the optical fiber are formed of the same material. ing.

【0018】また、請求項8の発明は、請求項7の発明
にかかるエッジ露光装置において、前記光混合光学素子
および前記光ファイバー素線の芯線を石英で形成してい
る。
According to an eighth aspect of the present invention, in the edge exposure apparatus according to the seventh aspect of the present invention, the light mixing optical element and the core of the optical fiber are formed of quartz.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態について詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0020】図1は、本発明に係るエッジ露光装置の全
体構成を示す斜視図である。図1には、XY平面を水平
面とし、Z軸方向を鉛直方向とするXYZ直交座標系を
付している。
FIG. 1 is a perspective view showing the entire configuration of an edge exposure apparatus according to the present invention. FIG. 1 shows an XYZ orthogonal coordinate system in which the XY plane is a horizontal plane and the Z-axis direction is a vertical direction.

【0021】図1のエッジ露光装置は、基板Wを回転さ
せつつ、その基板Wの端縁部に光を照射してエッジ露光
を行う装置であり、主として基板Wを回転させる回転処
理部10と、照射位置を移動させる駆動処理部20と、
光の照射を行う照射処理部30と、受光器50とを備え
ている。
The edge exposure apparatus shown in FIG. 1 is an apparatus for performing edge exposure by irradiating the edge of the substrate W with light while rotating the substrate W. A drive processing unit 20 for moving the irradiation position;
An irradiation processing unit 30 for irradiating light and a light receiver 50 are provided.

【0022】回転処理部10は、スピンモータ11、モ
ータ軸12およびスピンチャック13を備えている。ス
ピンチャック13は基板Wを裏面から真空吸着してその
基板Wを略水平姿勢にて保持する。また、スピンチャッ
ク13はモータ軸12を介してスピンモータ11と連結
されている。これにより、スピンモータ11の回転動作
はモータ軸12を介してスピンチャック13に伝達さ
れ、スピンチャック13に保持された基板Wを略水平面
内(XY面内)にて回転させる。なお、スピンチャック
13は基板Wを真空吸着する形態に限定されるものでは
なく、基板Wを機械的に把持する形態であっても良い。
The rotation processing unit 10 includes a spin motor 11, a motor shaft 12, and a spin chuck 13. The spin chuck 13 vacuum-adsorbs the substrate W from the back surface and holds the substrate W in a substantially horizontal posture. The spin chuck 13 is connected to the spin motor 11 via a motor shaft 12. As a result, the rotation operation of the spin motor 11 is transmitted to the spin chuck 13 via the motor shaft 12, and rotates the substrate W held by the spin chuck 13 in a substantially horizontal plane (XY plane). Note that the spin chuck 13 is not limited to a form in which the substrate W is vacuum-sucked, but may be a form in which the substrate W is mechanically held.

【0023】駆動処理部20は、X方向駆動部22とY
方向駆動部24とを備える。X方向駆動部22は、エッ
ジ露光装置に固定配置されるとともに、その上面に配置
されたY方向駆動部24を図中矢印AR1に示すように
X方向に沿って駆動させる駆動機構を備えている。X方
向駆動部22がY方向駆動部24をX方向に沿って移動
させると、それに連動してY方向駆動部24の上面に配
置された露光アーム28もX方向に沿って移動する。
The drive processing section 20 includes an X-direction drive section 22 and a Y-direction drive section 22.
A direction driving unit 24. The X-direction drive unit 22 is fixedly disposed on the edge exposure device, and includes a drive mechanism for driving the Y-direction drive unit 24 disposed on the upper surface thereof in the X direction as indicated by an arrow AR1 in the drawing. . When the X-direction drive unit 22 moves the Y-direction drive unit 24 along the X-direction, the exposure arm 28 disposed on the upper surface of the Y-direction drive unit 24 also moves along the X-direction.

【0024】Y方向駆動部24は、その上面に配置され
た露光アーム28を図中矢印AR2にて示すようにY方
向に沿って駆動させる駆動機構を備えている。これによ
り、Y方向駆動部24は露光アーム28をY方向に沿っ
て駆動させることができる。従って、駆動処理部20
は、X方向駆動部22およびY方向駆動部24によって
露光アーム28をXY平面内にて自在に任意の位置(但
し、X方向駆動部22およびY方向駆動部24の駆動可
能範囲内)に移動させることができる。なお、X方向駆
動部22およびY方向駆動部24には、ボールネジを用
いた機構やプーリとベルトとを用いた機構等公知の種々
の機構を採用することができる。
The Y-direction drive section 24 has a drive mechanism for driving the exposure arm 28 disposed on the upper surface thereof in the Y-direction as indicated by an arrow AR2 in the drawing. Thus, the Y-direction drive unit 24 can drive the exposure arm 28 along the Y direction. Therefore, the drive processing unit 20
Moves the exposure arm 28 to an arbitrary position within the XY plane by the X-direction drive unit 22 and the Y-direction drive unit 24 (however, within the drivable range of the X-direction drive unit 22 and the Y-direction drive unit 24). Can be done. It should be noted that various known mechanisms such as a mechanism using a ball screw and a mechanism using a pulley and a belt can be adopted as the X-direction driving unit 22 and the Y-direction driving unit 24.

【0025】照射処理部30は、光の照射を行う2つの
光源ユニット40a,40bと、露光アーム28の先端
に設けられた照射ヘッド29と、それらを結ぶライトガ
イド31a,31b,35とを備えている。図2は、照
射処理部30の概略構成を示す図である。
The irradiation processing unit 30 includes two light source units 40a and 40b for irradiating light, an irradiation head 29 provided at the tip of an exposure arm 28, and light guides 31a, 31b and 35 connecting them. ing. FIG. 2 is a diagram illustrating a schematic configuration of the irradiation processing unit 30.

【0026】2つの光源ユニット40a,40bは相互
に全く同一のユニットである。光源ユニット40aは、
ランプハウス45aの内部にランプ42a、リフレクタ
41a、シャッターモータ43a、シャッター44a、
絞り円盤46a、絞りモータ47aを設けている。ラン
プ42aは200Wの紫外線ランプである。リフレクタ
41aは、ランプ42aから放射された光の一部を反射
して所定位置に集光する。この集光位置にはシャッター
44aが配置されており、シャッター44aに連結され
たシャッターモータ43aによって開閉制御される。ま
た、この集光位置には、ライトガイド31aの入射側端
部32aが図示を省略するライトガイド接合部によって
ランプハウス45aに固定されている。さらに、ランプ
42aとシャッター44aとの間には、開口を有する絞
り円盤46aが配置されており、絞り円盤46aに連結
された絞りモータ47aによってその開口の大きさ(絞
り径)が調整される。
The two light source units 40a and 40b are identical units. The light source unit 40a
Inside the lamp house 45a, a lamp 42a, a reflector 41a, a shutter motor 43a, a shutter 44a,
An aperture disk 46a and an aperture motor 47a are provided. The lamp 42a is a 200 W ultraviolet lamp. The reflector 41a reflects a part of the light emitted from the lamp 42a and collects the light at a predetermined position. A shutter 44a is arranged at this light condensing position, and is opened and closed by a shutter motor 43a connected to the shutter 44a. In addition, at this light condensing position, the incident side end 32a of the light guide 31a is fixed to the lamp house 45a by a light guide joint not shown. Further, an aperture disk 46a having an opening is arranged between the lamp 42a and the shutter 44a, and the size (diameter) of the aperture is adjusted by an aperture motor 47a connected to the aperture disk 46a.

【0027】このため、シャッターモータ43aによっ
てシャッター44aが開放された状態においては、ラン
プ42aからの直接光の一部およびリフレクタ41aか
らの反射光の一部がライトガイド31aの入射側端部3
2aの入射端面に入射する。そして、このときにライト
ガイド31aに入射する光の光量は絞り円盤46aによ
って規定される。一方、シャッターモータ43aによっ
てシャッター44aが閉鎖された状態(図2の状態)に
おいては、ランプ42aからの直接光およびリフレクタ
41aからの反射光が遮断され、それらのライトガイド
31aへの入射が禁止される。
For this reason, when the shutter 44a is opened by the shutter motor 43a, a part of the direct light from the lamp 42a and a part of the reflected light from the reflector 41a are transmitted to the incident end 3 of the light guide 31a.
2a. The amount of light incident on the light guide 31a at this time is defined by the stop disk 46a. On the other hand, when the shutter 44a is closed by the shutter motor 43a (the state in FIG. 2), the direct light from the lamp 42a and the reflected light from the reflector 41a are blocked, and their incidence on the light guide 31a is prohibited. You.

【0028】光源ユニット40bの構成は光源ユニット
40aと全く同じである。すなわち、光源ユニット40
bは、ランプハウス45bの内部にランプ42b、リフ
レクタ41b、シャッターモータ43b、シャッター4
4b、絞り円盤46b、絞りモータ47bを設けてい
る。ランプ42bは200Wの紫外線ランプである。リ
フレクタ41bは、ランプ42bから放射された光の一
部を反射して集光する。この集光位置にはシャッター4
4bが配置されており、シャッター44bに連結された
シャッターモータ43bによって開閉制御される。ま
た、この集光位置には、ライトガイド31bの入射側端
部32bが図示を省略するライトガイド接合部によって
ランプハウス45bに固定されている。さらに、ランプ
42bとシャッター44bとの間には、開口を有する絞
り円盤46bが配置されており、絞り円盤46bに連結
された絞りモータ47bによってその開口の大きさ(絞
り径)が調整される。
The configuration of the light source unit 40b is exactly the same as that of the light source unit 40a. That is, the light source unit 40
b denotes a lamp 42b, a reflector 41b, a shutter motor 43b, a shutter 4 inside a lamp house 45b.
4b, an aperture disk 46b, and an aperture motor 47b. The lamp 42b is a 200 W ultraviolet lamp. The reflector 41b reflects and collects a part of the light emitted from the lamp 42b. The shutter 4
4b is arranged, and is opened and closed by a shutter motor 43b connected to a shutter 44b. In addition, at this light condensing position, the incident side end 32b of the light guide 31b is fixed to the lamp house 45b by a light guide joint not shown. Further, an aperture disk 46b having an aperture is arranged between the lamp 42b and the shutter 44b, and the size (diameter) of the aperture is adjusted by an aperture motor 47b connected to the aperture disk 46b.

【0029】このため、シャッターモータ43bによっ
てシャッター44bが開放された状態においては、ラン
プ42bからの直接光の一部およびリフレクタ41bか
らの反射光の一部がライトガイド31bの入射側端部3
2bの入射端面に入射する。そして、このときにライト
ガイド31bに入射する光の光量は絞り円盤46bによ
って規定される。一方、シャッターモータ43bによっ
てシャッター44bが閉鎖された状態(図2の状態)に
おいては、ランプ42bからの直接光およびリフレクタ
41bからの反射光が遮断され、それらのライトガイド
31bへの入射が禁止される。
Therefore, when the shutter 44b is opened by the shutter motor 43b, a part of the direct light from the lamp 42b and a part of the reflected light from the reflector 41b are applied to the light-incident end 3 of the light guide 31b.
2b. The amount of light incident on the light guide 31b at this time is defined by the stop disk 46b. On the other hand, when the shutter 44b is closed by the shutter motor 43b (the state in FIG. 2), the direct light from the lamp 42b and the reflected light from the reflector 41b are blocked, and their incidence on the light guide 31b is prohibited. You.

【0030】照射ヘッド29は露光アーム28の先端に
固設されている(図1参照)。図2に示すように、照射
ヘッド29の内部には投影レンズ36、ファイバー結合
部34およびスリットマスク37が設けられている。フ
ァイバー結合部34にはライトガイド35の出射側端部
39が嵌入結合される。そして、本実施形態ではライト
ガイド35の出射側端部39に接して光混合部60が設
けられている。光混合部60については後にさらに詳述
する。
The irradiation head 29 is fixed to the tip of the exposure arm 28 (see FIG. 1). As shown in FIG. 2, a projection lens 36, a fiber coupling section 34, and a slit mask 37 are provided inside the irradiation head 29. The outgoing end 39 of the light guide 35 is fitted and connected to the fiber connecting portion 34. In the present embodiment, a light mixing section 60 is provided in contact with the emission side end 39 of the light guide 35. The light mixing section 60 will be described in further detail later.

【0031】スリットマスク37には矩形形状のスリッ
トが形成されている。ライトガイド35の出射側端部3
9の出射端面から出射された光は光混合部60およびス
リットマスク37のスリットを通過して投影レンズ36
からスピンチャック13に保持された基板Wの端縁部に
投影される。
The slit mask 37 has a rectangular slit. Outgoing end 3 of light guide 35
The light exiting from the exit end surface of the projection lens 36 passes through the light mixing section 60 and the slit of the slit mask 37.
Is projected onto the edge of the substrate W held by the spin chuck 13.

【0032】2つの光源ユニット40a,40bと照射
ヘッド29とは導光路たるライトガイド31a,31b
によって接続されている。ライトガイド31aは、光源
ユニット40aからの光(厳密には、シャッター44a
の開放時にランプ42aから出射された光)をスピンチ
ャック13に保持された基板Wの端縁部に向けて導く光
ファイバー素線(図3の符号33a)を複数本束ねて形
成された素線群である。同様に、ライトガイド31b
は、光源ユニット40bからの光(厳密には、シャッタ
ー44bの開放時にランプ42bから出射された光)を
スピンチャック13に保持された基板Wの端縁部に向け
て導く光ファイバー素線(図3の符号33b)を複数本
束ねて形成された素線群である。なお、本実施形態にお
いては、ライトガイド31a,31bのそれぞれは50
0本の光ファイバー素線33a,33bを束ねたもので
ある。また、本実施形態の光ファイバー素線33a,3
3bの芯線は石英にて形成されている。そして、ライト
ガイド31aとライトガイド31bとは合流用治具38
によって合流され、合流素線群たるライトガイド35が
形成される。
The two light source units 40a and 40b and the irradiation head 29 are connected to light guides 31a and 31b as light guide paths.
Connected by The light guide 31a is provided with light (strictly speaking, a shutter 44a) from the light source unit 40a.
A group of optical fibers formed by bundling a plurality of optical fiber wires (reference numeral 33a in FIG. 3) for guiding the light emitted from the lamp 42a at the opening of the substrate W toward the edge of the substrate W held by the spin chuck 13. It is. Similarly, the light guide 31b
Is an optical fiber (FIG. 3) that guides light from the light source unit 40b (strictly, light emitted from the lamp 42b when the shutter 44b is opened) toward the edge of the substrate W held by the spin chuck 13. Is a group of wires formed by bundling a plurality of reference numerals 33b). In the present embodiment, each of the light guides 31a and 31b is 50
It is a bundle of zero optical fiber wires 33a and 33b. Further, the optical fiber strands 33a, 33
The core wire 3b is formed of quartz. Then, the light guide 31a and the light guide 31b are joined to the jig 38 for joining.
To form a light guide 35 as a group of merged wires.

【0033】図3は、ライトガイドと光混合部60との
接続状態の一例を示す図である。この実施形態において
は、同図に示すように、500本の光ファイバー素線3
3aからなるライトガイド31aと500本の光ファイ
バー素線32bからなるライトガイド31bとが相互に
明確に分離された状態にて合流用治具38によって合流
されてライトガイド35が形成されている。すなわち、
例えば図3では、ライトガイド31aを構成していた5
00本の光ファイバー素線33aがライトガイド35内
部の上半分を占め、ライトガイド31bを構成していた
500本の光ファイバー素線33bがライトガイド35
内部の下半分を占めている。
FIG. 3 is a diagram showing an example of a connection state between the light guide and the light mixing section 60. In this embodiment, as shown in FIG.
The light guide 31a composed of 3a and the light guide 31b composed of 500 optical fiber strands 32b are merged by a merging jig 38 in a state where they are clearly separated from each other to form a light guide 35. That is,
For example, in FIG. 3, the light guide 31a
The 00 optical fiber wires 33a occupy the upper half inside the light guide 35, and the 500 optical fiber wires 33b constituting the light guide 31b are
Occupies the lower half of the interior.

【0034】このように、本実施形態では、入射側端部
32a,32bにおいては相互に離間していたライトガ
イド31aとライトガイド31bとを相互に分離した状
態にて合流用治具38により単に合流させて一つの出射
側端部39を有するライトガイド35を形成しており、
各光ファイバー素線自体は相互に合流・分岐されるもの
ではない。換言すれば、合流素線群たるライトガイド3
5はライトガイド31a,31bが合流した集合体に過
ぎず、光源ユニット40a,40bからの光をスピンチ
ャック13に保持された基板Wの端縁部に向けて導くの
はライトガイド31a,31b(より正確にはライトガ
イド31a,31bの光ファイバー素線33a,33
b)である。
As described above, in the present embodiment, the light guide 31a and the light guide 31b, which have been separated from each other at the incident side ends 32a and 32b, are simply separated by the merging jig 38 in a state where they are separated from each other. To form a light guide 35 having one exit side end 39,
The optical fibers themselves are not joined or branched from each other. In other words, the light guide 3 which is a group of merging wires
Reference numeral 5 denotes only an aggregate of the light guides 31a and 31b, and the light guides 31a and 31b (5) guide the light from the light source units 40a and 40b toward the edge of the substrate W held by the spin chuck 13. More precisely, the optical fiber wires 33a, 33 of the light guides 31a, 31b.
b).

【0035】光混合部60は、ライトガイド35の出射
側端部39に接して設けられている。より厳密には、光
混合部60の入射面とライトガイド35の出射側端部3
9の出射端面とを対面当接させるように光混合部60が
配置されている。
The light mixing section 60 is provided in contact with the exit side end 39 of the light guide 35. More precisely, the entrance surface of the light mixing section 60 and the exit side end 3 of the light guide 35
The light mixing section 60 is arranged so that the light-emitting end face of the light-receiving section 9 comes into contact with the light-emitting end face.

【0036】光混合部60は、2つの光混合光学素子6
0a,60bを貼り合わせて構成されるとともに、ファ
イバー結合部34内に固設されている。本実施形態の光
混合光学素子60a,60bは石英ロッドで構成されて
いる。そして、ライトガイド31aの光ファイバー素線
33aの出射端面は光混合光学素子60aの入射面61
aのみと対面当接され、ライトガイド31aの500本
の光ファイバー素線33aにより伝送されてきた500
本の分割光は光混合光学素子60aの入射面61aを介
して光混合光学素子60a内のみに入射する。一方、ラ
イトガイド31bの光ファイバー素線33bの出射端面
は光混合光学素子60bの入射面61bのみと対面当接
され、ライトガイド31bの500本の光ファイバー素
線33bにより伝送されてきた500本の分割光は光混
合光学素子60bの入射面61bを介して光混合光学素
子60b内のみに入射する。
The light mixing section 60 includes two light mixing optical elements 6
0a and 60b are bonded together, and are fixed in the fiber coupling portion 34. The light mixing optical elements 60a and 60b of the present embodiment are constituted by quartz rods. The exit end face of the optical fiber 33a of the light guide 31a is connected to the entrance face 61 of the light mixing optical element 60a.
a, which has been transmitted by the 500 optical fiber wires 33a of the light guide 31a.
The split light beams enter only the light mixing optical element 60a via the incident surface 61a of the light mixing optical element 60a. On the other hand, the exit end face of the optical fiber wire 33b of the light guide 31b is in contact with only the incident surface 61b of the light mixing optical element 60b, and the 500 divided light beams transmitted by the 500 optical fiber wires 33b of the light guide 31b. The light enters only the light mixing optical element 60b through the incident surface 61b of the light mixing optical element 60b.

【0037】ライトガイド31aから光混合光学素子6
0a内に入射した500本の分割光は、光混合光学素子
60aの内部にて光混合された後、入射面61aと反対
側に設けられた出射面62aから1本の光として出射さ
れる。一方、ライトガイド31bから光混合光学素子6
0b内に入射した500本の分割光は、光混合光学素子
60bの内部にて光混合された後、入射面61bと反対
側に設けられた出射面62bから1本の光として出射さ
れる。
From the light guide 31a to the light mixing optical element 6
The 500 divided lights incident on 0a are light-mixed inside the light mixing optical element 60a, and then emitted as one light from an emission surface 62a provided on the side opposite to the incidence surface 61a. On the other hand, the light mixing optical element 6
The 500 divided lights incident on 0b are light-mixed inside the light-mixing optical element 60b, and then emitted as one light from an emission surface 62b provided on the side opposite to the incidence surface 61b.

【0038】ここで、光混合光学素子60aと光混合光
学素子60bとは相互に光学的に遮断された状態にて貼
り合わされ、光混合部60として一体化されている。具
体的には、例えば光混合光学素子60aと光混合光学素
子60bとの間の界面に遮光板や反射板を挟み込む。こ
のため、光混合光学素子60a内に入射した光が光混合
光学素子60b内に混入することはなく、逆に光混合光
学素子60b内に入射した光が光混合光学素子60a内
に混入することもない。
Here, the light mixing optical element 60a and the light mixing optical element 60b are bonded together in a state where they are optically shielded from each other, and are integrated as a light mixing section 60. Specifically, for example, a light shielding plate or a reflection plate is sandwiched between the light mixing optical element 60a and the light mixing optical element 60b. Therefore, the light incident on the light mixing optical element 60a does not enter the light mixing optical element 60b, and conversely, the light incident on the light mixing optical element 60b enters the light mixing optical element 60a. Nor.

【0039】したがって、光源ユニット40aからライ
トガイド31aによって導かれた光は光混合光学素子6
0aのみに入射してその内部で光混合され、混合過程で
光混合光学素子60b側に漏れることなく、出射面62
aから基板Wの端縁部に向けて直接出射される。一方、
光源ユニット40bからライトガイド31bによって導
かれた光は光混合光学素子60bのみに入射してその内
部で光混合され、混合過程で光混合光学素子60a側に
漏れることなく、出射面62bから基板Wの端縁部に向
けて直接出射される。つまり、本実施形態では、2個の
光混合光学素子60a,60bはそれぞれが相互に光学
的に遮断された状態にて一体化されて合流素線群たるラ
イトガイド35の出射側端部39に接して設けられると
ともに、光混合光学素子60a(60b)は当該光混合
光学素子60a(60b)に対応するライトガイド31
a(31b)によって導かれた当該ライトガイド31a
(31b)に対応する光源ユニット40a(40b)か
らの光を受けて光混合させた後、混合された光を基板W
の端縁部に向けて直接出射するのである。
Therefore, the light guided from the light source unit 40a by the light guide 31a is
0a, and is mixed light therein, and does not leak to the light mixing optical element 60b side during the mixing process.
a is emitted directly toward the edge of the substrate W. on the other hand,
The light guided by the light guide 31b from the light source unit 40b is incident only on the light mixing optical element 60b and is mixed inside the light mixing optical element 60b. Is emitted directly toward the edge of the. That is, in the present embodiment, the two light mixing optical elements 60a and 60b are integrated in a state where they are optically isolated from each other, and are integrated with the exit side end 39 of the light guide 35 that is a group of merging element wires. The light mixing optical element 60a (60b) is provided in contact with the light mixing optical element 60a (60b).
a (31b) led by the light guide 31a
After receiving the light from the light source unit 40a (40b) corresponding to (31b) and mixing the light, the mixed light is transferred to the substrate W
The light is emitted directly toward the edge.

【0040】こうして光混合光学素子60a,60bの
それぞれの出射面62a,62bから出射された混合後
の光がスリットマスク37のスリットを通過して投影レ
ンズ36からスピンチャック13に保持された基板Wの
端縁部に照射されて当該端縁部の露光が行われる。
The mixed light emitted from the emission surfaces 62a and 62b of the light mixing optical elements 60a and 60b in this manner passes through the slit of the slit mask 37 and passes from the projection lens 36 to the substrate W held on the spin chuck 13 by the projection lens 36. Is irradiated to expose the edge.

【0041】なお、この実施形態においては、照射処理
部30によって形成された照射領域の照度判定のために
受光器50が設けられている。
In this embodiment, a light receiver 50 is provided for judging the illuminance of the irradiation area formed by the irradiation processing section 30.

【0042】以上、本実施形態のエッジ露光装置の構成
について説明したが、次にこのエッジ露光装置における
光照射について説明する。本実施形態のエッジ露光装置
においては、光源ユニット40a,40bのいずれか一
方のみを使用したエッジ露光を行うこともできるし、両
方を使用したエッジ露光を行うことも可能であるが、こ
こでは両方の光源ユニット40a,40bを使用した処
理について説明する。
The configuration of the edge exposure apparatus of the present embodiment has been described above. Next, light irradiation in the edge exposure apparatus will be described. In the edge exposure apparatus of the present embodiment, it is possible to perform edge exposure using only one of the light source units 40a and 40b or to perform edge exposure using both. The processing using the light source units 40a and 40b will be described.

【0043】まず、適当なタイミングで光源ユニット4
0aのランプ42aおよび光源ユニット40bのランプ
42bがともに点灯される。そして、エッジ露光を開始
するまでシャッター44a,44bは閉鎖されており、
これによってランプ42a,42bからの光がライトガ
イド31a,31bに入射されるのを防止している。そ
して、駆動処理部20によって照射ヘッド29が適当な
照射位置(通常はスピンチャック13に保持された基板
Wの端縁部直上)に移動される。
First, at an appropriate timing, the light source unit 4
The lamp 42a of Oa and the lamp 42b of the light source unit 40b are both turned on. The shutters 44a and 44b are closed until the edge exposure is started.
This prevents light from the lamps 42a and 42b from being incident on the light guides 31a and 31b. Then, the drive processing unit 20 moves the irradiation head 29 to an appropriate irradiation position (usually, just above the edge of the substrate W held by the spin chuck 13).

【0044】エッジ露光を開始する、あるいは受光器5
0によって照度判定を行う際には、シャッターモータ4
3a,43bによってそれぞれシャッター44a,44
bを開放してランプ42a,42bからの光が照射ヘッ
ド29側に導光される。
Start edge exposure, or light receiver 5
When the illuminance determination is performed based on 0, the shutter motor 4
The shutters 44a and 44b are respectively provided by 3a and 43b.
b is released, and light from the lamps 42a and 42b is guided to the irradiation head 29 side.

【0045】エッジ露光を開始するためにシャッター4
4a,44bがともに開放されると、それと同時に、ラ
ンプ42a,42bからの光がそれぞれライトガイド3
1a,31bの入射側端部32a,32bの入射端面に
入射する。これにより、光源ユニット40aからの光が
ライトガイド31aによって光混合光学素子60aに導
光され、その光混合光学素子60aの内部で光混合され
た後、光混合光学素子60aの出射面62aから基板W
の端縁部に向けて出射される。一方、光源ユニット40
bからの光がライトガイド31bによって光混合光学素
子60bに導光され、その光混合光学素子60bの内部
で光混合された後、光混合光学素子60bの出射面62
bから基板Wの端縁部に向けて出射される。そして、ス
ピンチャック13に保持された基板Wがスピンモータ1
1によって回転されることにより、基板Wの端縁部の露
光処理が進行する。なお、この過程において、光源ユニ
ット40aからの光と光源ユニット40bからの光が相
互に混じり合わないことは上述した通りである。
Shutter 4 for starting edge exposure
When both 4a and 44b are opened, at the same time, the light from the lamps 42a and 42b is transmitted to the light guide 3 respectively.
Light is incident on the incident end faces of the incident side ends 32a and 32b of 1a and 31b. Thereby, the light from the light source unit 40a is guided to the light mixing optical element 60a by the light guide 31a, and after being mixed inside the light mixing optical element 60a, the light is mixed from the emission surface 62a of the light mixing optical element 60a to the substrate. W
The light is emitted toward the edge of. On the other hand, the light source unit 40
b is guided by the light guide 31b to the light mixing optical element 60b, and after being mixed inside the light mixing optical element 60b, the light exit surface 62 of the light mixing optical element 60b.
b is emitted toward the edge of the substrate W. Then, the substrate W held by the spin chuck 13 is
By the rotation by 1, the exposure processing of the edge of the substrate W proceeds. In this process, the light from the light source unit 40a and the light from the light source unit 40b do not mix with each other as described above.

【0046】ところで、既述したように、光源ユニット
40a,40bから出射される光は不均一な光強度分布
を有している。そのため、各ライトガイド31a,31
bを構成する光ファイバー素線33a,33bのそれぞ
れに入射する光の強度も上記不均一な光強度分布を反映
したものとなっており、例えばライトガイド31a,3
1bが合流した位置における図3のA−A線に沿った光
強度分布は、図4(a)に示すように、不均一なものと
なっている。
As described above, the light emitted from the light source units 40a and 40b has an uneven light intensity distribution. Therefore, each light guide 31a, 31
The intensity of light incident on each of the optical fiber strands 33a, 33b constituting b also reflects the non-uniform light intensity distribution, for example, the light guides 31a, 3a.
The light intensity distribution along the line AA in FIG. 3 at the position where 1b has merged is non-uniform as shown in FIG.

【0047】このように不均一な強度分布の光が光混合
光学素子60a,60bに入射すると、それぞれの内部
でミキシング(光混合)されて出射面62a,62bか
ら出射される光は、図4(b)に示すように、ほぼ均一
な光強度分布を有することとなる。
When the light having the non-uniform intensity distribution is incident on the light mixing optical elements 60a and 60b, the light is mixed (light mixed) inside the light mixing optical elements 60a and 60b, and the light emitted from the emission surfaces 62a and 62b is formed as shown in FIG. As shown in (b), the light intensity distribution is substantially uniform.

【0048】ここで、本実施形態では、光混合光学素子
60aにはライトガイド31aによって導かれた光のみ
が入射し、光混合光学素子60bにはライトガイド31
bによって導かれた光のみが入射し、光混合光学素子6
0aと光混合光学素子60bとは相互に光学的に遮断さ
れた状態にて光混合部60として一体化されたものであ
る。すなわち、光源ユニット40a,40bとライトガ
イド31a,31bとは1対1で対応して設けられたも
のであり、ライトガイド31a,31bと光混合光学素
子60a,60bとも1対1で対応して設けられたもの
であり、光源ユニット40aからの光は光混合光学素子
60aのみにおいて光混合され、光源ユニット40bか
らの光は光混合光学素子60bのみにおいて光混合され
る。したがって、光源ユニット40a,40bのそれぞ
れごとに光混合されることとなり、図4に示すように、
光源ユニット40aからの光の強度と光源ユニット40
bからの光の強度が異なる場合には、光混合部60によ
り各光源ユニットごとに均一な光強度分布となりつつ
も、光源ユニット間の光強度の差異は残る。
In this embodiment, only the light guided by the light guide 31a enters the light mixing optical element 60a, and the light guide 31 enters the light mixing optical element 60b.
b, only the light guided by b enters, and the light mixing optical element 6
The light mixing unit 60a and the light mixing optical element 60b are integrated as a light mixing unit 60 while being optically isolated from each other. That is, the light source units 40a, 40b and the light guides 31a, 31b are provided in one-to-one correspondence, and the light guides 31a, 31b and the light mixing optical elements 60a, 60b are also provided in one-to-one correspondence. The light from the light source unit 40a is light-mixed only in the light mixing optical element 60a, and the light from the light source unit 40b is light-mixed only in the light mixing optical element 60b. Therefore, light is mixed for each of the light source units 40a and 40b, and as shown in FIG.
Light intensity from light source unit 40a and light source unit 40
When the light intensity from b differs, the light mixing unit 60 provides a uniform light intensity distribution for each light source unit, but the difference in light intensity between the light source units remains.

【0049】なお、図4においては、光源ユニット40
a,40bのそれぞれごとに光混合部60にて光混合さ
れる点の理解を容易にするために、光源ユニット40a
からの光の強度分布と光源ユニット40bからの光の強
度分布が異なる場合を例として説明したが、光源ユニッ
ト40a,40bの両方を使用したエッジ露光を行う場
合には、両光源ユニット40a,40bの光強度分布が
同じものを用いる方が好ましいのは勿論である。
In FIG. 4, the light source unit 40
In order to facilitate understanding of the fact that light is mixed by the light mixing unit 60 for each of the light source units 40a and 40b, the light source unit 40a
The case where the intensity distribution of the light from the light source unit 40b and the intensity distribution of the light from the light source unit 40b are different has been described as an example, but when performing edge exposure using both of the light source units 40a and 40b, the two light source units 40a and 40b Of course, it is preferable to use the same light intensity distribution.

【0050】図5は、基板Wのエッジ露光の様子を示す
図である。シャッター44aおよびシャッター44bの
双方が開放されている場合、すなわちライトガイド31
a,31bの全ての光ファイバー素線によって光が導か
れている場合は、図5(c)に示すように、基板Wの主
面高さ位置における照射領域LAが照射幅w1、露光幅
w2の長方形となる。なお、「照射幅」とは照射領域L
Aの基板Wの回転方向に沿った一辺の幅であり、「露光
幅」とは照射領域LAの基板Wの半径方向に沿った一辺
の幅である。
FIG. 5 is a diagram showing a state of edge exposure of the substrate W. When both the shutter 44a and the shutter 44b are open, that is, the light guide 31
In the case where light is guided by all the optical fiber strands a and 31b, as shown in FIG. 5C, the irradiation area LA at the height of the main surface of the substrate W is equal to the irradiation width w1 and the exposure width w2. It becomes a rectangle. The “irradiation width” means the irradiation area L
A is the width of one side of the substrate W along the rotation direction, and the “exposure width” is the width of one side of the irradiation area LA along the radial direction of the substrate W.

【0051】この照射領域LAは、光源ユニット40a
からの光による照射領域LA1と光源ユニット40bか
らの光による照射領域LA2とを併せたものである。光
源ユニット40a,40bのそれぞれごとに光混合され
た後に出射されるため、照射領域LA1は光源ユニット
40aからの光のみによって形成されるものであり、照
射領域LA2は光源ユニット40bからの光のみによっ
て形成されるものである。そして、光源ユニット40
a,40bのそれぞれごとに光混合部60にて均一な光
強度分布とされるため、照射領域LA1内での照度分布
は均一であり、また照射領域LA2内での照度分布も均
一となる。両光源ユニット40a,40bの光強度分布
が同じである場合には、照射領域LA全体内での照度分
布も均一となる。
The irradiation area LA includes the light source unit 40a
The irradiation area LA1 by light from the light source unit 40b is combined with the irradiation area LA2 by light from the light source unit 40b. Since the light is emitted after being mixed in each of the light source units 40a and 40b, the irradiation area LA1 is formed only by the light from the light source unit 40a, and the irradiation area LA2 is formed only by the light from the light source unit 40b. Is formed. Then, the light source unit 40
Since a uniform light intensity distribution is obtained in the light mixing section 60 for each of the light emitting elements a and 40b, the illuminance distribution in the irradiation area LA1 is uniform, and the illuminance distribution in the irradiation area LA2 is also uniform. When the light intensity distributions of the two light source units 40a and 40b are the same, the illuminance distribution in the entire irradiation area LA is also uniform.

【0052】このようにすれば、基板Wの端縁部を均一
な光強度分布で露光して良好なエッジ露光処理を実施す
ることができるとともに、2台の光源ユニット40a,
40bからの光照射によって照射面積を大きくすること
ができる。したがって、基板Wの回転速度を従来よりも
大きくすることができるため、エッジ露光に要するタク
トタイムが短縮され、その結果スループットを大幅に向
上させることができる。
In this manner, the edge portion of the substrate W can be exposed with a uniform light intensity distribution to perform a good edge exposure process, and the two light source units 40a, 40a,
The irradiation area can be increased by light irradiation from 40b. Therefore, since the rotation speed of the substrate W can be made higher than before, the takt time required for edge exposure can be shortened, and as a result, the throughput can be greatly improved.

【0053】また、本実施形態では、光源ユニット40
aからの光は光混合光学素子60aのみにおいて光混合
された後に出射され、光源ユニット40bからの光は光
混合光学素子60bのみにおいて光混合された後に出射
されるため、光源ユニット40a,40bのいずれか一
方のみを使用した場合であっても、光の強度分布が完全
に均一化された状態の照射領域が確保される。すなわ
ち、例えば光源ユニット40aのみを使用した場合に
は、光源ユニット40aからの光がライトガイド31a
を介して光混合光学素子60aのみに入射され、その内
部にて光混合された後、出射面62aから出射され、図
5(a)に示すような照射幅w1/2、露光幅w2の照
射領域LA1を形成する。光混合光学素子60aから光
混合光学素子60bに光が混入することは防止されてい
るため、光源ユニット40aのみを使用した場合には照
射領域LA1のみに光が到達し、しかもその光の強度分
布は均一化されている。
In the present embodiment, the light source unit 40
The light from the light source unit 40a is emitted after the light is mixed only in the light mixing optical element 60a, and the light from the light source unit 40b is emitted after the light is mixed only in the light mixing optical element 60b. Even when only one of them is used, an irradiation area in which the light intensity distribution is completely uniform is secured. That is, for example, when only the light source unit 40a is used, the light from the light source unit 40a is
, The light is mixed only inside the light mixing optical element 60a, is emitted therefrom, is emitted from the emission surface 62a, and has an irradiation width w1 / 2 and an exposure width w2 as shown in FIG. The area LA1 is formed. Since light is prevented from being mixed from the light mixing optical element 60a into the light mixing optical element 60b, when only the light source unit 40a is used, the light reaches only the irradiation area LA1, and furthermore, the intensity distribution of the light Are uniform.

【0054】逆に、光源ユニット40bのみを使用した
場合には、光源ユニット40bからの光がライトガイド
31bを介して光混合光学素子60bのみに入射され、
その内部にて光混合された後、出射面62bから出射さ
れ、図5(b)に示すような照射幅w1/2、露光幅w
2の照射領域LA2を形成する。光混合光学素子60b
から光混合光学素子60aに光が混入することは防止さ
れているため、光源ユニット40bのみを使用した場合
には照射領域LA2のみに光が到達し、しかもその光の
強度分布は均一化されている。
Conversely, when only the light source unit 40b is used, light from the light source unit 40b is incident only on the light mixing optical element 60b via the light guide 31b.
After the light is mixed therein, the light is emitted from the emission surface 62b, and the irradiation width w1 / 2 and the exposure width w as shown in FIG.
The second irradiation area LA2 is formed. Light mixing optical element 60b
Since light is prevented from being mixed into the light mixing optical element 60a, the light reaches only the irradiation area LA2 when only the light source unit 40b is used, and the intensity distribution of the light is made uniform. I have.

【0055】このため、光源ユニット40a,40bの
いずれかのランプ交換を行う場合であっても、エッジ露
光装置を停止する必要が無い。例えば、光源ユニット4
0a,40bの両方を使用したエッジ露光を行っている
ときに、光源ユニット40bのランプ42bを交換する
場合であっても、光源ユニット40aを継続して使用す
ることによって図5(a)に示す如き光の強度分布が均
一化された照射領域LA1を確保することができる。し
たがって、光源ユニット40a,40bの両方を使用し
たエッジ露光を行う場合に比較して、照射面積が半分に
なってスループットも半減するものの、従来の如く装置
を完全に停止させるよりも全体的なエッジ露光処理効率
は向上する。逆に、光源ユニット40aのランプ42a
を交換する場合であっても、光源ユニット40bを継続
して使用することによって図5(b)に示す如き光の強
度分布が均一化された照射領域LA2を確保することが
でき、装置運転を継続することができる。
Therefore, even when the lamp of one of the light source units 40a and 40b is replaced, there is no need to stop the edge exposure apparatus. For example, the light source unit 4
Even when the lamp 42b of the light source unit 40b is exchanged while performing edge exposure using both the light sources 0a and 40b, the light source unit 40a is used continuously, as shown in FIG. The irradiation area LA1 in which the light intensity distribution is uniform as described above can be secured. Therefore, as compared with the case of performing edge exposure using both of the light source units 40a and 40b, the irradiation area is halved and the throughput is halved. Exposure processing efficiency is improved. Conversely, the lamp 42a of the light source unit 40a
When the light source unit 40b is continuously used, the irradiation area LA2 in which the light intensity distribution is uniform as shown in FIG. 5B can be secured by continuously using the light source unit 40b. Can continue.

【0056】また、上述の如く、光源ユニットごとに光
混合部60にて個別に光をミキシングして個別に出射す
ることとなるため、光源ユニット40a,40bのいず
れか一方のみを使用したエッジ露光処理が可能である。
これにより、常時いずれか一方の光源ユニットを切り替
えて使用することによるエッジ露光装置の連続運転も可
能となり、いわゆる装置のダウンタイムを削減できるだ
けでなく、全体としてのランニングコストを低減するこ
ともできる。
As described above, since the light is individually mixed by the light mixing unit 60 for each light source unit and emitted individually, the edge exposure using only one of the light source units 40a and 40b is performed. Processing is possible.
As a result, continuous operation of the edge exposure apparatus by always switching and using one of the light source units is possible, so that not only the downtime of the apparatus can be reduced, but also the running cost as a whole can be reduced.

【0057】また、光源ユニットごとに光混合部60に
て個別に光をミキシングして個別に出射することとなる
ため、意図的に光源ユニット40a,40bの光強度分
布を異なるものとし、露光対象の基板Wに塗布されたレ
ジストの種類に応じて光源ユニット40a,40bを切
り替えることができる。例えば、光源ユニット40aの
光強度分布を弱くし、光源ユニット40bの光強度分布
を強くしたときは、弱い光に適したレジスト(強い光だ
と発泡等が生じる)が塗布された基板Wを処理するとき
には光源ユニット40aを使用し、強い光に適したレジ
スト(弱い光だと感光しない)が塗布された基板Wを処
理するときには光源ユニット40bを使用するというよ
うな運用が可能となる。
Also, since the light is individually mixed in the light mixing unit 60 for each light source unit and emitted individually, the light intensity distribution of the light source units 40a and 40b is intentionally made different, and The light source units 40a and 40b can be switched according to the type of resist applied to the substrate W. For example, when the light intensity distribution of the light source unit 40a is weakened and the light intensity distribution of the light source unit 40b is increased, the substrate W coated with a resist suitable for weak light (foaming or the like generates foaming). In this case, the light source unit 40a can be used, and when processing a substrate W coated with a resist suitable for strong light (which is not sensitive to weak light), the light source unit 40b can be used.

【0058】さらに、意図的に光源ユニット40a,4
0bのランプの種類自体を異なるものとして、露光対象
の基板Wに塗布されたレジストの種類に応じて光源ユニ
ット40a,40bを切り替えることもできる。例え
ば、光源ユニット40aを紫外線の光源とし、光源ユニ
ット40bをエキシマレーザの光源として、化学増幅型
レジストが塗布された基板Wを処理するときのみ光源ユ
ニット40bを使用するというような運用も可能とな
る。
Further, the light source units 40a, 4
The light source units 40a and 40b can be switched according to the type of the resist applied to the substrate W to be exposed, with the type of the lamp 0b itself being different. For example, the light source unit 40a may be used as a light source for ultraviolet light, the light source unit 40b may be used as a light source for excimer laser, and the light source unit 40b may be used only when processing a substrate W coated with a chemically amplified resist. .

【0059】以上のように、本実施形態のエッジ露光装
置では光源ユニットごとに光混合部60にて個別に光を
ミキシングして出射する構成としているために、装置運
用のバリエーションに大きな幅を持たせることが可能と
なっているのである。
As described above, in the edge exposure apparatus of this embodiment, the light mixing unit 60 mixes and emits light individually for each light source unit. It is possible to make it.

【0060】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、この発明は上記の例に限定されるものではない。
例えば、上記実施形態においては2個の光混合光学素子
60a,60bを一体化してライトガイド35の出射側
端部39に接して設けるようにしていたが、光混合光学
素子60a,60bの配置を図6〜図9に示すような形
態にしても良い。なお、図6〜図9において、上記実施
形態と同一の部材については同一の符号を付している。
Although the embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above-described example.
For example, in the above embodiment, two light mixing optical elements 60a and 60b are integrated and provided in contact with the emission side end 39 of the light guide 35. However, the arrangement of the light mixing optical elements 60a and 60b is changed. 6 to 9 may be used. 6 to 9, the same members as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals.

【0061】図6に示す例では、2個の光混合光学素子
60a,60bのそれぞれをライトガイド31a,31
bの入射側端部に接して設けるようにしている。すなわ
ち、光源ユニット40aの集光位置に光混合光学素子6
0aの入射面61aが対向配置され、ランプ42aから
の直接光の一部およびリフレクタ41aからの反射光の
一部が光混合光学素子60aの入射面61aに直接入射
する。そして、光混合光学素子60aの出射面62aと
ライトガイド31aの入射側端部32aの入射端面とを
対面当接させるように構成されている。したがって、光
源ユニット40aからの光の一部は光混合光学素子60
aのみに直接入射してその内部で光混合され、出射面6
2aから出射される。光混合光学素子60aの出射面6
2aから出射された光は、ライトガイド31aの入射側
端部32aの入射端面を介して入射され、そのままライ
トガイド31aによって照射ヘッド29まで導光され、
ライトガイド35の出射側端部39からスピンチャック
13に保持された基板Wの端縁部に向けて出射される。
In the example shown in FIG. 6, the two light mixing optical elements 60a and 60b are respectively connected to the light guides 31a and 31b.
b is provided in contact with the incident side end. That is, the light mixing optical element 6 is located at the converging position of the light source unit 40a.
The incident surface 61a of the light mixing optical element 60a is directly incident on a part of the direct light from the lamp 42a and a part of the reflected light from the reflector 41a. The light exit surface 62a of the light mixing optical element 60a and the incident end surface of the incident side end 32a of the light guide 31a are configured to face each other. Therefore, part of the light from the light source unit 40a is
a, the light is directly mixed therein, and the light is mixed therein.
It is emitted from 2a. Emission surface 6 of light mixing optical element 60a
The light emitted from 2a enters through the incident end face of the incident side end 32a of the light guide 31a, and is guided as it is to the irradiation head 29 by the light guide 31a.
The light is emitted from the emission side end 39 of the light guide 35 toward the edge of the substrate W held by the spin chuck 13.

【0062】一方、光源ユニット40bの集光位置には
光混合光学素子60bの入射面61bが対向配置され、
ランプ42bからの直接光の一部およびリフレクタ41
bからの反射光の一部が光混合光学素子60bの入射面
61bに直接入射する。そして、光混合光学素子60b
の出射面62bとライトガイド31bの入射側端部32
bの入射端面とを対面当接させるように構成されてい
る。したがって、光源ユニット40bからの光の一部は
光混合光学素子60bのみに直接入射してその内部で光
混合され、出射面62bから出射される。光混合光学素
子60bの出射面62bから出射された光は、ライトガ
イド31bの入射側端部32bの入射端面を介して入射
され、そのままライトガイド31bによって照射ヘッド
29まで導光され、ライトガイド35の出射側端部39
からスピンチャック13に保持された基板Wの端縁部に
向けて出射される。
On the other hand, the incident surface 61b of the light mixing optical element 60b is arranged at the light condensing position of the light source unit 40b,
Part of the direct light from the lamp 42b and the reflector 41
Part of the reflected light from b is directly incident on the incident surface 61b of the light mixing optical element 60b. Then, the light mixing optical element 60b
Outgoing surface 62b of the light guide 31b and the incident side end 32 of the light guide 31b
It is configured such that the incident end face b is brought into face-to-face contact. Therefore, part of the light from the light source unit 40b is directly incident only on the light mixing optical element 60b, is mixed inside the light, and is emitted from the emission surface 62b. The light emitted from the emission surface 62b of the light mixing optical element 60b enters through the incident end surface of the incident side end 32b of the light guide 31b, and is guided as it is to the irradiation head 29 by the light guide 31b. Exit side end 39 of
Are emitted toward the edge of the substrate W held by the spin chuck 13.

【0063】すなわち、図6に示す例では、2個の光混
合光学素子60a,60bのそれぞれは、光混合光学素
子60a,60bに対応する素線群たるライトガイド3
1a,31bの入射側端部32a,32bに接して設け
られるとともに、ライトガイド31a,31bに対応す
る光源ユニット40a,40bからの光の一部を直接受
けて光混合させた後、混合された光をライトガイド31
a,31bの入射側端部32a,32bの端面に向けて
出射する。なお、図6では、そもそも光混合光学素子6
0aと光混合光学素子60bとが離間配置されているた
めに、それらは相互に光学的に遮断された状態になって
おり、また、ライトガイド31aとライトガイド31b
とが相互に明確に分離された状態にて合流用治具38に
よって単に合流されてライトガイド35が形成されてい
る。
That is, in the example shown in FIG. 6, each of the two light mixing optical elements 60a and 60b is a light guide 3 which is a strand group corresponding to the light mixing optical elements 60a and 60b.
After being provided in contact with the incident side ends 32a, 32b of the light guide units 1a, 31b and receiving a part of the light from the light source units 40a, 40b corresponding to the light guides 31a, 31b directly, the light is mixed and then mixed. Light guide 31
The light exits toward the end faces of the incident-side ends 32a and 32b of the a and 31b. In FIG. 6, the light mixing optical element 6
0a and the light mixing optical element 60b are spaced apart from each other, so that they are optically isolated from each other.
The light guide 35 is simply formed by the joining jig 38 in a state where the light guide 35 is clearly separated from each other.

【0064】このようにしても、光源ユニットごとに個
別に光をミキシングして個別に出射することとなるた
め、各光源ユニットごとに光の強度分布が均一化された
照射領域を確保することができ、それによる上記実施形
態と同様の効果を得ることが出来るとともに、同様の装
置運用が可能となる。
Also in this case, since the light is individually mixed for each light source unit and emitted separately, it is possible to secure an irradiation area in which the light intensity distribution is uniform for each light source unit. Accordingly, the same effects as those of the above embodiment can be obtained, and the same device operation can be performed.

【0065】また、2個の光混合光学素子60a,60
bの配置を図7のようにしても良い。図7に示す例で
は、2個の光混合光学素子60a,60bのそれぞれが
ライトガイド31a,31bの入射側端部32a,32
bから合流用治具38に至るまでのいずれかの位置に介
設されている。具体的には、ライトガイド31aを入射
側端部32aから合流用治具38に至るまでのいずれか
の位置にて切断してその間に光混合光学素子60aを挟
み込み、光混合光学素子60aの入射面61aおよび出
射面62aとライトガイド31aの両切断端面とが対面
当接されるように構成する。したがって、光源ユニット
40aからライトガイド31aによって導かれた光は入
射面61aを介して光混合光学素子60aのみに入射し
てその内部で光混合され、出射面62aから出射され
る。光混合光学素子60aの出射面62aから出射され
た光は、再びライトガイド31aに入射され、そのまま
ライトガイド31aによって照射ヘッド29まで導光さ
れ、ライトガイド35の出射側端部39からスピンチャ
ック13に保持された基板Wの端縁部に向けて出射され
る。
The two light mixing optical elements 60a, 60
The arrangement of b may be as shown in FIG. In the example shown in FIG. 7, the two light-mixing optical elements 60a and 60b are respectively the incident-side ends 32a and 32 of the light guides 31a and 31b.
It is interposed at any position from b to the joining jig 38. Specifically, the light guide 31a is cut at any position from the incident side end 32a to the merging jig 38, and the light mixing optical element 60a is sandwiched between the light guide 31a and the light mixing optical element 60a. The surface 61a and the emission surface 62a are configured so that the two cut end surfaces of the light guide 31a face each other. Therefore, the light guided by the light guide 31a from the light source unit 40a is incident on only the light mixing optical element 60a via the incident surface 61a, is mixed therein, and is emitted from the emission surface 62a. The light emitted from the emission surface 62a of the light mixing optical element 60a is again incident on the light guide 31a, and is guided to the irradiation head 29 by the light guide 31a as it is, and from the emission side end 39 of the light guide 35 to the spin chuck 13a. The light is emitted toward the edge of the substrate W held by the substrate.

【0066】同様に、ライトガイド31bを入射側端部
32bから合流用治具38に至るまでのいずれかの位置
にて切断してその間に光混合光学素子60bを挟み込
み、光混合光学素子60bの入射面61bおよび出射面
62bとライトガイド31bの両切断端面とが対面当接
されるように構成する。したがって、光源ユニット40
bからライトガイド31bによって導かれた光は入射面
61bを介して光混合光学素子60bのみに入射してそ
の内部で光混合され、出射面62bから出射される。光
混合光学素子60bの出射面62bから出射された光
は、再びライトガイド31bに入射され、そのままライ
トガイド31bによって照射ヘッド29まで導光され、
ライトガイド35の出射側端部39からスピンチャック
13に保持された基板Wの端縁部に向けて出射される。
Similarly, the light guide 31b is cut at any position from the incident side end 32b to the merging jig 38, and the light mixing optical element 60b is sandwiched between the light guide 31b and the light mixing optical element 60b. The light incident surface 61b and the light emitting surface 62b are configured to be in contact with both cut end surfaces of the light guide 31b. Therefore, the light source unit 40
The light guided from b through the light guide 31b is incident only on the light mixing optical element 60b via the incident surface 61b, is mixed therein, and is emitted from the emission surface 62b. The light emitted from the emission surface 62b of the light mixing optical element 60b enters the light guide 31b again, and is guided to the irradiation head 29 by the light guide 31b as it is,
The light is emitted from the emission side end 39 of the light guide 35 toward the edge of the substrate W held by the spin chuck 13.

【0067】すなわち、図7に示す例では、2個の光混
合光学素子60a,60bのそれぞれは、光混合光学素
子60a,60bに対応する素線群たるライトガイド3
1a,31bの入射側端部32a,32bから導光路合
流部である合流用治具38に至るまでのいずれかの位置
に設けられるとともに、ライトガイド31a,31bの
うちの光混合光学素子60a,60bよりも上流側部分
によって導かれたライトガイド31a,31bに対応す
る光源ユニット40a,40bからの光を受けて光混合
させた後、混合された光をライトガイド31a,31b
のうちの光混合光学素子60a,60bよりも下流側部
分に向けて出射する。なお、図7でも、そもそも光混合
光学素子60aと光混合光学素子60bとが離間配置さ
れているために、それらは相互に光学的に遮断された状
態になっており、また、ライトガイド31aとライトガ
イド31bとが相互に明確に分離された状態にて合流用
治具38によって単に合流されてライトガイド35が形
成されている。
That is, in the example shown in FIG. 7, each of the two light mixing optical elements 60a and 60b is a light guide 3 that is a group of wires corresponding to the light mixing optical elements 60a and 60b.
The light mixing optical element 60a of the light guides 31a, 31b is provided at any position from the incident side ends 32a, 32b of the light guides 1a, 31b to the merging jig 38 which is the light guide path merging portion. After receiving the light from the light source units 40a and 40b corresponding to the light guides 31a and 31b guided by the upstream portion of the light guides 60b and mixing them, the mixed light is mixed with the light guides 31a and 31b.
Out of the light mixing optical elements 60a and 60b. In FIG. 7, the light mixing optical element 60a and the light mixing optical element 60b are separated from each other because they are separated from each other, so that they are optically isolated from each other. The light guide 35 is simply formed by the merging jig 38 in a state where the light guide 31b and the light guide 31b are clearly separated from each other.

【0068】このようにしても、光源ユニットごとに個
別に光をミキシングして個別に出射することとなるた
め、各光源ユニットごとに光の強度分布が均一化された
照射領域を確保することができ、それによる上記実施形
態と同様の効果を得ることが出来るとともに、同様の装
置運用が可能となる。
Also in this case, since the light is individually mixed for each light source unit and individually emitted, it is possible to secure an irradiation area in which the light intensity distribution is uniform for each light source unit. Accordingly, the same effects as those of the above embodiment can be obtained, and the same device operation can be performed.

【0069】また、2個の光混合光学素子60a,60
bの配置を図8のようにしても良い。図8に示す例で
は、光混合光学素子60aと光混合光学素子60bとが
相互に光学的に遮断された状態にて貼り合わされて一体
化された光混合部60が合流用治具38からライトガイ
ド35の出射側端部39に至るまでのいずれかの位置に
介設されている。具体的には、ライトガイド35を合流
用治具38から出射側端部39に至るまでのいずれかの
位置にて切断してその間に光混合部60を挟み込む。こ
のときに、光混合光学素子60aの入射面61aおよび
出射面62aはライトガイド31aの両切断端面のみと
対面当接されるとともに、光混合光学素子60bの入射
面61bおよび出射面62bはライトガイド31bの両
切断端面のみと対面当接されるように光混合部60を介
設する。
Further, the two light mixing optical elements 60a, 60
The arrangement of b may be as shown in FIG. In the example shown in FIG. 8, the light mixing optical element 60 a and the light mixing optical element 60 b are bonded together in a state where they are optically isolated from each other, and the integrated light mixing section 60 is The guide 35 is interposed at any position up to the emission side end 39. Specifically, the light guide 35 is cut at any position from the joining jig 38 to the emission side end 39, and the light mixing unit 60 is sandwiched therebetween. At this time, the entrance surface 61a and the exit surface 62a of the light mixing optical element 60a face-to-face contact only with both cut end surfaces of the light guide 31a, and the entrance surface 61b and the exit surface 62b of the light mixing optical element 60b are connected to the light guide. The light mixing section 60 is interposed so as to face and contact only the two cut end faces of the base 31b.

【0070】したがって、光源ユニット40aからライ
トガイド31aによって導かれた光は入射面61aを介
して光混合光学素子60aのみに入射してその内部で光
混合され、出射面62aから出射される。光混合光学素
子60aの出射面62aから出射された光は、再びライ
トガイド31aに入射され、そのままライトガイド31
aによって照射ヘッド29まで導光され、ライトガイド
35の出射側端部39からスピンチャック13に保持さ
れた基板Wの端縁部に向けて出射される。また、光源ユ
ニット40bからライトガイド31bによって導かれた
光は入射面61bを介して光混合光学素子60bのみに
入射してその内部で光混合され、出射面62bから出射
される。光混合光学素子60bの出射面62bから出射
された光は、再びライトガイド31bに入射され、その
ままライトガイド31bによって照射ヘッド29まで導
光され、ライトガイド35の出射側端部39からスピン
チャック13に保持された基板Wの端縁部に向けて出射
される。
Therefore, the light guided by the light guide 31a from the light source unit 40a is incident only on the light mixing optical element 60a via the incident surface 61a, is mixed inside the light mixing optical element 60a, and is emitted from the emission surface 62a. The light emitted from the emission surface 62a of the light mixing optical element 60a is again incident on the light guide 31a, and is
The light is guided to the irradiation head 29 by a, and is emitted from the emission side end 39 of the light guide 35 toward the edge of the substrate W held by the spin chuck 13. Further, the light guided by the light guide 31b from the light source unit 40b is incident on only the light mixing optical element 60b via the incident surface 61b, is mixed therein, and is emitted from the emission surface 62b. The light emitted from the emission surface 62b of the light mixing optical element 60b is again incident on the light guide 31b, guided as it is to the irradiation head 29 by the light guide 31b, and sent from the emission side end 39 of the light guide 35 to the spin chuck 13b. The light is emitted toward the edge of the substrate W held by the substrate.

【0071】すなわち、図8に示す例では、2個の光混
合光学素子60a,60bはそれぞれが相互に光学的に
遮断された状態にて導光路合流部である合流用治具38
からライトガイド35の出射側端部39に至るまでのい
ずれかの位置に一体化されて設けられるとともに、各光
混合光学素子60a(60b)は当該光混合光学素子6
0a(60b)に対応するライトガイド31a(31
b)のうちの当該光混合光学素子60a(60b)より
も上流側部分によって導かれた当該ライトガイド31a
(31b)に対応する光源ユニット40a(40b)か
らの光を受けて光混合させた後、混合された光を当該ラ
イトガイド31a(31b)のうちの光混合光学素子6
0a(60b)よりも下流側部分に向けて出射する。な
お、図8では、上記実施形態と同じく、光混合光学素子
60aと光混合光学素子60bとが相互に光学的に遮断
された状態にて貼り合わされているため、光混合光学素
子60a内に入射した光が光混合光学素子60b内に混
入することはなく、逆に光混合光学素子60b内に入射
した光が光混合光学素子60a内に混入することもな
い。また、ライトガイド31aとライトガイド31bと
が相互に明確に分離された状態にて合流用治具38によ
って単に合流されてライトガイド35が形成されてい
る。
That is, in the example shown in FIG. 8, the two light mixing optical elements 60a and 60b are joined to each other in a state where they are optically shut off from each other.
And the light mixing optical element 60a (60b) is integrally provided at any position from the light guide 35 to the emission side end 39 of the light guide 35.
0a (60b) corresponding to the light guide 31a (31
b) the light guide 31a guided by the upstream portion of the light mixing optical element 60a (60b).
After receiving and mixing the light from the light source unit 40a (40b) corresponding to (31b), the mixed light is mixed with the light mixing optical element 6 of the light guide 31a (31b).
The light is emitted toward the downstream side from 0a (60b). In FIG. 8, as in the above embodiment, the light mixing optical element 60a and the light mixing optical element 60b are bonded together in a state where they are optically isolated from each other. The light thus mixed does not enter the light mixing optical element 60b, and conversely, the light entering the light mixing optical element 60b does not enter the light mixing optical element 60a. Also, the light guide 31a and the light guide 31b are simply merged by the merging jig 38 in a state where they are clearly separated from each other to form the light guide 35.

【0072】このようにしても、光源ユニットごとに個
別に光をミキシングして個別に出射することとなるた
め、各光源ユニットごとに光の強度分布が均一化された
照射領域を確保することができ、それによる上記実施形
態と同様の効果を得ることが出来るとともに、同様の装
置運用が可能となる。
Also in this case, since the light is individually mixed for each light source unit and emitted separately, it is possible to secure an irradiation area in which the light intensity distribution is uniform for each light source unit. Accordingly, the same effects as those of the above embodiment can be obtained, and the same device operation can be performed.

【0073】さらに、2個の光混合光学素子60a,6
0bの配置を図9のようにしても良い。図9に示す例で
は、光混合光学素子60aと光混合光学素子60bとが
相互に光学的に遮断された状態にて貼り合わされて一体
化された光混合部60が合流用治具38の内部に組み込
まれている。具体的には、ライトガイド31a,31b
を合流用治具38内の合流位置にて切断してその間に光
混合部60を挟み込む。このときに、光混合光学素子6
0aの入射面61aおよび出射面62aはライトガイド
31aの両切断端面のみと対面当接されるとともに、光
混合光学素子60bの入射面61bおよび出射面62b
はライトガイド31bの両切断端面のみと対面当接され
るように構成する。
Further, the two light mixing optical elements 60a, 60
The arrangement of 0b may be as shown in FIG. In the example shown in FIG. 9, the light mixing unit 60 is integrated with the light mixing optical element 60a and the light mixing optical element 60b in a state where the light mixing optical element 60a is optically isolated from each other. Built in. Specifically, the light guides 31a, 31b
Is cut at the joining position in the joining jig 38, and the light mixing unit 60 is interposed therebetween. At this time, the light mixing optical element 6
The light incident surface 61a and the light outgoing surface 62a of the light mixing optical element 60b are in contact with only the two cut end surfaces of the light guide 31a.
Are configured to face and contact only the two cut end faces of the light guide 31b.

【0074】したがって、光源ユニット40aからライ
トガイド31aによって導かれた光は入射面61aを介
して光混合光学素子60aのみに入射してその内部で光
混合され、出射面62aから出射される。光混合光学素
子60aの出射面62aから出射された光は、再びライ
トガイド31aに入射され、そのままライトガイド31
aによって照射ヘッド29まで導光され、ライトガイド
35の出射側端部39からスピンチャック13に保持さ
れた基板Wの端縁部に向けて出射される。一方、光源ユ
ニット40bからライトガイド31bによって導かれた
光は入射面61bを介して光混合光学素子60bのみに
入射してその内部で光混合され、出射面62bから出射
される。光混合光学素子60bの出射面62bから出射
された光は、再びライトガイド31bに入射され、その
ままライトガイド31bによって照射ヘッド29まで導
光され、ライトガイド35の出射側端部39からスピン
チャック13に保持された基板Wの端縁部に向けて出射
される。
Therefore, the light guided by the light guide 31a from the light source unit 40a is incident on only the light mixing optical element 60a via the incident surface 61a, is mixed therein, and is emitted from the emission surface 62a. The light emitted from the emission surface 62a of the light mixing optical element 60a is again incident on the light guide 31a, and is
The light is guided to the irradiation head 29 by a, and is emitted from the emission side end 39 of the light guide 35 toward the edge of the substrate W held by the spin chuck 13. On the other hand, light guided by the light guide 31b from the light source unit 40b is incident only on the light mixing optical element 60b via the incident surface 61b, is mixed in the inside, and is emitted from the emission surface 62b. The light emitted from the emission surface 62b of the light mixing optical element 60b is again incident on the light guide 31b, guided as it is to the irradiation head 29 by the light guide 31b, and sent from the emission side end 39 of the light guide 35 to the spin chuck 13b. The light is emitted toward the edge of the substrate W held by the substrate.

【0075】すなわち、図9に示す例では、2個の光混
合光学素子60a,60bはそれぞれが相互に光学的に
遮断された状態にて導光路合流部である合流用治具38
内に一体化されて組み込まれ、各光混合光学素子60a
(60b)は当該光混合光学素子60a(60b)に対
応するライトガイド31a(31b)のうちの当該光混
合光学素子60a(60b)よりも上流側部分によって
導かれた当該ライトガイド31a(31b)に対応する
光源ユニット40a(40b)からの光を受けて光混合
させた後、混合された光を当該ライトガイド31a(3
1b)のうちの当該光混合光学素子60a(60b)よ
りも下流側部分に向けて出射する。なお、図9でも、上
記実施形態と同じく、光混合光学素子60aと光混合光
学素子60bとが相互に光学的に遮断された状態にて貼
り合わされているため、光混合光学素子60a内に入射
した光が光混合光学素子60b内に混入することはな
く、逆に光混合光学素子60b内に入射した光が光混合
光学素子60a内に混入することもない。また、ライト
ガイド31aとライトガイド31bとが相互に明確に分
離された状態にて合流用治具38によって単に合流され
てライトガイド35が形成されている。
That is, in the example shown in FIG. 9, the two light mixing optical elements 60a and 60b are joined to each other in a state where they are optically shut off from each other.
Integrated into each light mixing optical element 60a.
(60b) is the light guide 31a (31b) guided by the upstream portion of the light mixing optical element 60a (60b) of the light guide 31a (31b) corresponding to the light mixing optical element 60a (60b). After receiving the light from the light source unit 40a (40b) corresponding to the light guide 31a and performing light mixing, the mixed light is transmitted to the light guide 31a (3
The light is emitted toward the downstream side of the light mixing optical element 60a (60b) in 1b). In FIG. 9, as in the above embodiment, the light mixing optical element 60a and the light mixing optical element 60b are bonded together in a state where they are optically isolated from each other. The light thus mixed does not enter the light mixing optical element 60b, and conversely, the light entering the light mixing optical element 60b does not enter the light mixing optical element 60a. Also, the light guide 31a and the light guide 31b are simply merged by the merging jig 38 in a state where they are clearly separated from each other to form the light guide 35.

【0076】このようにしても、光源ユニットごとに個
別に光をミキシングして個別に出射することとなるた
め、各光源ユニットごとに光の強度分布が均一化された
照射領域を確保することができ、それによる上記実施形
態と同様の効果を得ることが出来るとともに、同様の装
置運用が可能となる。
Even in this case, since the light is individually mixed for each light source unit and emitted separately, it is possible to secure an irradiation area in which the light intensity distribution is uniform for each light source unit. Accordingly, the same effects as those of the above embodiment can be obtained, and the same device operation can be performed.

【0077】以上のように、光混合光学素子60a,6
0bはライトガイド31a,31bの導光経路中のいず
れかに設けるようにしておけば良い。光混合光学素子6
0a,60bをそれらに対応するライトガイド31a,
31bの導光経路中の任意の位置(両端部を含む)に設
けるとともに、それぞれに対応する光源ユニットからの
光をその内部で光混合させるようにすれば、光源ユニッ
トごとに個別に光をミキシングして個別に出射すること
となるため、各光源ユニットごとに光の強度分布が均一
化された照射領域を確保することができ、基板Wの端縁
部を均一な光強度分布で露光して良好なエッジ露光処理
を実施することができるとともに、光源のランプ交換時
にも装置運転を継続することができる。もっとも、光混
合光学素子60a(60b)とライトガイド31a(3
1b)との間の光の出入射を繰り返すごとに光損失が発
生して伝送される光の光量が低下するため、そのような
出入射回数は少ない方が好ましい。このような観点から
は、図3または図6に示すように、光混合光学素子60
a,60bはライトガイド31a,31bの導光経路の
端部に設ける形態が好ましい。
As described above, the light mixing optical elements 60a, 60a
Ob may be provided in any of the light guide paths of the light guides 31a and 31b. Light mixing optical element 6
0a, 60b correspond to the corresponding light guides 31a,
If the light from the corresponding light source unit is mixed inside the light source unit at an arbitrary position (including both ends) in the light guide path of the light source unit 31b, the light is individually mixed for each light source unit. Since the light is individually emitted, it is possible to secure an irradiation area in which the light intensity distribution is uniform for each light source unit, and to expose the edge of the substrate W with a uniform light intensity distribution. A favorable edge exposure process can be performed, and the apparatus operation can be continued even when the lamp of the light source is replaced. However, the light mixing optical element 60a (60b) and the light guide 31a (3
Each time light is emitted and incident between 1b) and 1b), light loss occurs and the amount of transmitted light is reduced. Therefore, it is preferable that the number of such incidents and incidents is small. From this point of view, as shown in FIG. 3 or FIG.
Preferably, a and 60b are provided at the ends of the light guide paths of the light guides 31a and 31b.

【0078】また、上記実施形態においては、2つの光
源ユニット40a,40bを設けた場合について説明し
たが、光源ユニットを3個以上設けるようにしても良
い。すなわち、光源ユニットをn個(但し、nは2以上
の自然数)設けた場合、これらの光源ユニットと1対1
で対応してn本のライトガイドを設け、これらn本のラ
イトガイドごとにその導光経路中の任意の位置に光混合
光学素子を設け、光源ユニットごとに個別に光をミキシ
ングして個別に出射するようにすれば、上記実施形態と
同様の効果を得ることができる。
In the above embodiment, the case where two light source units 40a and 40b are provided has been described. However, three or more light source units may be provided. That is, when n light source units (where n is a natural number of 2 or more) are provided, one-to-one
In response, n light guides are provided, and a light mixing optical element is provided at an arbitrary position in the light guide path for each of the n light guides, and light is separately mixed for each light source unit and individually. If the light is emitted, the same effect as in the above embodiment can be obtained.

【0079】また、上記実施形態のおいては、光混合光
学素子60a,60bを石英ロッドにて構成していた
が、ミキシング(光混合)を行うことができる光学素子
であれば石英以外の材料で形成された光学素子を用いる
ようにしても良い。石英以外の材料としては例えば蛍石
(CaF2)のロッドにて光混合光学素子60a,60
bを構成するようにしても良い。但し、上記実施形態で
は、光ファイバー素線33a,33bの芯線を石英にて
形成している。このように、光混合光学素子60a,6
0bと光ファイバー素線33a,33bの芯線とを同一
材料(上記実施形態では石英)で形成することは以下の
点で好ましい。すなわち、光混合光学素子と各光ファイ
バー素線との間では光損失が避けられないが、光混合光
学素子60a,60bと光ファイバー素線33a,33
bの芯線とを同一材料、つまり石英で構成すれば、光混
合光学素子60a,60bと光ファイバー素線33a,
33bとの間での光損失を最小限に抑えることができ
る。このことは光源ユニット40a,40bからの光の
光強度低下を最小限に抑制して極力高い光量で露光処理
を行うことができることを意味しており、スループット
の向上を図る上で有利である。
In the above embodiment, the light mixing optical elements 60a and 60b are made of quartz rods. However, if the optical element can perform mixing (light mixing), a material other than quartz can be used. May be used. The example fluorite material other than quartz rod with light mixing optical element 60a of (CaF 2), 60
b may be configured. However, in the above embodiment, the core wires of the optical fiber wires 33a and 33b are formed of quartz. Thus, the light mixing optical elements 60a, 60
It is preferable to form the optical fiber 0b and the core wires of the optical fiber wires 33a and 33b from the same material (quartz in the above embodiment) in the following points. That is, although light loss cannot be avoided between the light mixing optical element and each optical fiber, the light mixing optical elements 60a and 60b and the optical fiber wires 33a and 33
If the core wire of b is made of the same material, that is, quartz, the light mixing optical elements 60a and 60b and the optical fiber wires 33a and
Light loss between the light emitting device and the light emitting device 33b can be minimized. This means that the light intensity of the light from the light source units 40a and 40b can be minimized and the exposure process can be performed with the highest possible light quantity, which is advantageous in improving the throughput.

【0080】また、上記実施形態においては、照射ヘッ
ド29を移動させるとともに、基板Wを回転させること
によってエッジ露光処理を行うようにしていたが、基板
Wおよび照射ヘッド29のうちの少なくとも一方を相対
的に移動させてエッジ露光処理を実行するエッジ露光装
置全般に本発明にかかる技術を適用することができる。
In the above-described embodiment, the edge exposure process is performed by moving the irradiation head 29 and rotating the substrate W. However, at least one of the substrate W and the irradiation head 29 is relatively moved. The technology according to the present invention can be applied to an entire edge exposure apparatus that performs edge exposure processing by moving the image exposure apparatus.

【0081】さらに、上記実施形態では、ライトガイド
31a,31bのそれぞれを構成する光ファイバー素線
数を500本としていたが、これに限定されるものでは
なく、任意の素線数とすることができる。
Further, in the above embodiment, the number of optical fiber wires constituting each of the light guides 31a and 31b is 500. However, the present invention is not limited to this. .

【0082】[0082]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、n個の光混合光学素子のそれぞれは、当該光混
合光学素子に対応する素線群の経路中の任意の位置に設
けられるとともに、当該素線群に対応する光源からの光
をその内部で光混合させるため、光源ごとに個別に光を
光混合して個別に出射することとなるため、各光源ごと
に光の強度分布が均一化された照射領域を確保すること
ができ、基板の端縁部を均一な光強度分布で露光して良
好なエッジ露光処理を実施することができるとともに、
いずれかの光源を使用して他の光源のランプ交換時にも
装置運転を継続することができる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, each of the n light-mixing optical elements is located at an arbitrary position in the path of the wire group corresponding to the light-mixing optical element. In addition to being provided, the light from the light source corresponding to the element wire group is mixed inside the light source, so that the light is individually mixed and emitted individually for each light source. An irradiation area where the intensity distribution is uniformized can be secured, and the edge portion of the substrate can be exposed with a uniform light intensity distribution and a good edge exposure process can be performed.
Using any one of the light sources, the operation of the apparatus can be continued even when the lamp of another light source is replaced.

【0083】また、請求項2の発明によれば、n個の光
混合光学素子のそれぞれは、当該光混合光学素子に対応
する素線群の入射側端部に接して設けられるとともに、
当該素線群に対応する光源からの光の一部を直接受けて
光混合させた後、混合された光を当該素線群の入射側端
部の端面に向けて出射するため、請求項1記載の発明と
同様に、基板の端縁部を均一な光強度分布で露光して良
好なエッジ露光処理を実施することができるとともに、
いずれかの光源を使用して他の光源のランプ交換時にも
装置運転を継続することができ、しかも光混合光学素子
と素線群との間の光損失を最小限に抑制することができ
る。
According to the second aspect of the present invention, each of the n light mixing optical elements is provided in contact with an incident side end of a group of wires corresponding to the light mixing optical element.
2. The method according to claim 1, wherein after a part of the light from the light source corresponding to the wire group is directly received and mixed, the mixed light is emitted toward the end face of the incident side end of the wire group. Similarly to the described invention, it is possible to perform a good edge exposure process by exposing the edge of the substrate with a uniform light intensity distribution,
Using any one of the light sources, the operation of the apparatus can be continued even when the lamp of another light source is replaced, and the light loss between the light mixing optical element and the element group can be minimized.

【0084】また、請求項3の発明によれば、n個の光
混合光学素子のそれぞれは、当該光混合光学素子に対応
する素線群の入射側端部から導光路合流部に至るまでの
いずれかの位置に設けられるとともに、当該素線群のう
ちの当該光混合光学素子よりも上流側部分によって導か
れた当該素線群に対応する光源からの光を受けて光混合
させた後、混合された光を当該素線群のうちの当該光混
合光学素子よりも下流側部分に向けて出射するため、請
求項1記載の発明と同様に、基板の端縁部を均一な光強
度分布で露光して良好なエッジ露光処理を実施すること
ができるとともに、いずれかの光源を使用して他の光源
のランプ交換時にも装置運転を継続することができる。
According to the third aspect of the present invention, each of the n light-mixing optical elements extends from the incident-side end of the element group corresponding to the light-mixing optical element to the light guide path junction. After being provided at any position, after receiving light from the light source corresponding to the element wire group guided by the upstream portion of the light mixing optical element of the element wire group and performing light mixing, Since the mixed light is emitted toward the downstream side of the light mixing optical element in the element group, a uniform light intensity distribution is applied to the edge of the substrate as in the invention according to claim 1. , And a favorable edge exposure process can be performed, and the apparatus can be operated even when one of the light sources is used and the lamp of another light source is replaced.

【0085】また、請求項4の発明によれば、n個の光
混合光学素子はそれぞれが相互に光学的に遮断された状
態にて導光路合流部内に一体化されて組み込まれ、各光
混合光学素子は当該光混合光学素子に対応する素線群の
うちの当該光混合光学素子よりも上流側部分によって導
かれた当該素線群に対応する光源からの光を受けて光混
合させた後、混合された光を当該素線群のうちの当該光
混合光学素子よりも下流側部分に向けて出射するため、
請求項1記載の発明と同様に、基板の端縁部を均一な光
強度分布で露光して良好なエッジ露光処理を実施するこ
とができるとともに、いずれかの光源を使用して他の光
源のランプ交換時にも装置運転を継続することができ
る。
According to the fourth aspect of the present invention, the n light mixing optical elements are integrated and incorporated into the light guide path junction in a state where they are optically isolated from each other. The optical element receives light from the light source corresponding to the element group, which is guided by the upstream portion of the element group corresponding to the optical element, and mixes the light. To emit the mixed light toward the downstream side of the light mixing optical element in the element group,
Similarly to the first aspect of the present invention, the edge of the substrate can be exposed with a uniform light intensity distribution to perform a good edge exposure process, and one of the light sources can be used for the other light source. The apparatus operation can be continued even when the lamp is replaced.

【0086】また、請求項5の発明によれば、n個の光
混合光学素子はそれぞれが相互に光学的に遮断された状
態にて導光路合流部から合流素線群の出射側端部に至る
までのいずれかの位置に一体化されて設けられるととも
に、各光混合光学素子は当該光混合光学素子に対応する
素線群のうちの当該光混合光学素子よりも上流側部分に
よって導かれた当該素線群に対応する光源からの光を受
けて光混合させた後、混合された光を当該素線群のうち
の当該光混合光学素子よりも下流側部分に向けて出射す
るため、請求項1記載の発明と同様に、基板の端縁部を
均一な光強度分布で露光して良好なエッジ露光処理を実
施することができるとともに、いずれかの光源を使用し
て他の光源のランプ交換時にも装置運転を継続すること
ができる。
Further, according to the fifth aspect of the present invention, the n light mixing optical elements are connected from the light guide path merging portion to the light emitting side end of the merging element group in a state where they are optically isolated from each other. In addition to being provided integrally at any position up to, each light mixing optical element is guided by a portion of the element group corresponding to the light mixing optical element on the upstream side of the light mixing optical element. After receiving the light from the light source corresponding to the element group and mixing the light, the mixed light is emitted toward the downstream side of the light mixing optical element in the element group, Similar to the invention described in Item 1, the edge of the substrate can be exposed with a uniform light intensity distribution to perform a favorable edge exposure process, and a lamp of another light source can be used by using one of the light sources. The device operation can be continued even at the time of replacement.

【0087】また、請求項6の発明によれば、n個の光
混合光学素子はそれぞれが相互に光学的に遮断された状
態にて一体化されて合流素線群の出射側端部に接して設
けられるとともに、各光混合光学素子は当該光混合光学
素子に対応する素線群によって導かれた当該素線群に対
応する光源からの光を受けて光混合させた後、混合され
た光を基板の端縁部に向けて直接出射するため、請求項
1記載の発明と同様に、基板の端縁部を均一な光強度分
布で露光して良好なエッジ露光処理を実施することがで
きるとともに、いずれかの光源を使用して他の光源のラ
ンプ交換時にも装置運転を継続することができ、しかも
光混合光学素子と素線群との間の光損失を最小限に抑制
することができる。
According to the sixth aspect of the present invention, the n light mixing optical elements are integrated in a state where they are optically isolated from each other, and come into contact with the exit side end of the merging element group. Each light mixing optical element receives light from a light source corresponding to the element group guided by the element group corresponding to the light mixing optical element, and performs light mixing, and then mixes the mixed light. Is emitted directly toward the edge of the substrate, so that the edge of the substrate can be exposed with a uniform light intensity distribution and a good edge exposure process can be performed, similarly to the first aspect of the invention. At the same time, the operation of the apparatus can be continued even when the lamp of another light source is replaced using one of the light sources, and the light loss between the light mixing optical element and the element group is minimized. it can.

【0088】また、請求項7の発明によれば、光混合光
学素子と光ファイバー素線の芯線とが同一材料で形成さ
れているため、光混合光学素子と素線群との間の光損失
を最小限に抑制することができる。
According to the seventh aspect of the present invention, since the light mixing optical element and the core wire of the optical fiber are formed of the same material, light loss between the light mixing optical element and the element group is reduced. It can be minimized.

【0089】また、請求項8の発明によれば、光混合光
学素子および光ファイバー素線の芯線が石英で形成され
ているため、光混合光学素子と素線群との間の光損失を
最小限に抑制することができる。
According to the eighth aspect of the present invention, since the cores of the light mixing optical element and the optical fiber are formed of quartz, light loss between the light mixing optical element and the element group is minimized. Can be suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るエッジ露光装置の全体構成を示す
斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an overall configuration of an edge exposure apparatus according to the present invention.

【図2】図1のエッジ露光装置の照射処理部の概略構成
を示す図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a schematic configuration of an irradiation processing unit of the edge exposure apparatus of FIG. 1;

【図3】ライトガイドと光混合部との接続状態の一例を
示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a connection state between a light guide and a light mixing unit.

【図4】光混合前後の強度分布を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing intensity distributions before and after light mixing.

【図5】図1のエッジ露光装置による基板のエッジ露光
の様子を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a state of edge exposure of a substrate by the edge exposure apparatus of FIG. 1;

【図6】ライトガイドと光混合部との接続状態の他の例
を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing another example of the connection state between the light guide and the light mixing unit.

【図7】ライトガイドと光混合部との接続状態の他の例
を示す図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating another example of a connection state between the light guide and the light mixing unit.

【図8】ライトガイドと光混合部との接続状態の他の例
を示す図である。
FIG. 8 is a diagram illustrating another example of a connection state between the light guide and the light mixing unit.

【図9】ライトガイドと光混合部との接続状態の他の例
を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing another example of a connection state between the light guide and the light mixing unit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

29 照射ヘッド 30 照射処理部 31a,31b,35 ライトガイド 32a,32b 光ファイバー素線 38 合流用治具 40a,40b 光源ユニット 60 光混合部 60a,60b 光混合光学素子 W 基板 29 Irradiation head 30 Irradiation processing unit 31a, 31b, 35 Light guide 32a, 32b Optical fiber strand 38 Jig for merging 40a, 40b light source unit 60 Light mixing unit 60a, 60b Light mixing optical element W substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 亀井 謙治 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神 北町1番地の1 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 秋山 一也 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神 北町1番地の1 大日本スクリーン製造株 式会社内 Fターム(参考) 5F046 LA18    ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page    (72) Inventor Kenji Kamei             4-chome Tenjin that rises in Horikawa-dori temple in Kamigyo-ku, Kyoto             1 Kitamachi 1 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.             In the formula company (72) Inventor Kazuya Akiyama             4-chome Tenjin that rises in Horikawa-dori temple in Kamigyo-ku, Kyoto             1 Kitamachi 1 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.             In the formula company F term (reference) 5F046 LA18

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回転する基板の端縁部に光を照射して当
該端縁部の露光を行うエッジ露光装置であって、 光を放射するn個(但し、nは2以上の自然数)の光源
と、 前記n個の光源と1対1で対応して設けられ、それぞれ
が対応する光源からの光を前記端縁部に向けて導く光フ
ァイバー素線を複数本束ねて形成されたn本の素線群
と、 入射側端部にて相互に離間していた前記n本の素線群を
相互に分離した状態にて合流させて一つの出射側端部を
有する合流素線群を形成する導光路合流部と、 前記n本の素線群と1対1で対応して設けられたn個の
光混合光学素子と、を備え、 前記n個の光混合光学素子のそれぞれは、当該光混合光
学素子に対応する素線群の経路中の任意の位置に設けら
れるとともに、当該素線群に対応する光源からの光をそ
の内部で光混合させることを特徴とするエッジ露光装
置。
1. An edge exposure apparatus for irradiating an edge of a rotating substrate with light to expose the edge, wherein n (where n is a natural number of 2 or more) emitting light is provided. A light source, provided in one-to-one correspondence with the n light sources, and a plurality of n optical fiber wires formed by bundling a plurality of optical fiber wires each of which guides light from the corresponding light source toward the edge. The element group and the n element groups separated from each other at the incident side end are merged in a state where they are separated from each other to form a merged element group having one exit side end. A light guide path merging section; and n light mixing optical elements provided in one-to-one correspondence with the n element wire groups, wherein each of the n light mixing optical elements is The light from the light source corresponding to the element group is provided at an arbitrary position in the path of the element group corresponding to the mixing optical element. Edge exposure apparatus, characterized in that for optically mixed therein.
【請求項2】 請求項1記載のエッジ露光装置におい
て、 前記n個の光混合光学素子のそれぞれは、当該光混合光
学素子に対応する素線群の入射側端部に接して設けられ
るとともに、当該素線群に対応する光源からの光の一部
を直接受けて光混合させた後、混合された光を当該素線
群の前記入射側端部の端面に向けて出射することを特徴
とするエッジ露光装置。
2. The edge exposure apparatus according to claim 1, wherein each of the n light-mixing optical elements is provided in contact with an incident-side end of a wire group corresponding to the light-mixing optical element, After directly receiving a part of the light from the light source corresponding to the element group and mixing the light, the mixed light is emitted toward the end face of the incident side end of the element group. Edge exposure equipment.
【請求項3】 請求項1記載のエッジ露光装置におい
て、 前記n個の光混合光学素子のそれぞれは、当該光混合光
学素子に対応する素線群の入射側端部から前記導光路合
流部に至るまでのいずれかの位置に設けられるととも
に、当該素線群のうちの当該光混合光学素子よりも上流
側部分によって導かれた当該素線群に対応する光源から
の光を受けて光混合させた後、混合された光を当該素線
群のうちの当該光混合光学素子よりも下流側部分に向け
て出射することを特徴とするエッジ露光装置。
3. The edge exposure apparatus according to claim 1, wherein each of the n light-mixing optical elements is connected from the incident side end of a group of wires corresponding to the light-mixing optical element to the light guide path junction. And light mixing is performed by receiving light from a light source corresponding to the element group guided by a portion of the element group upstream of the light mixing optical element. An edge exposure apparatus that emits the mixed light toward a downstream portion of the element group from the light mixing optical element.
【請求項4】 請求項1記載のエッジ露光装置におい
て、 前記n個の光混合光学素子はそれぞれが相互に光学的に
遮断された状態にて前記導光路合流部内に一体化されて
組み込まれ、各光混合光学素子は当該光混合光学素子に
対応する素線群のうちの当該光混合光学素子よりも上流
側部分によって導かれた当該素線群に対応する光源から
の光を受けて光混合させた後、混合された光を当該素線
群のうちの当該光混合光学素子よりも下流側部分に向け
て出射することを特徴とするエッジ露光装置。
4. The edge exposure apparatus according to claim 1, wherein the n light-mixing optical elements are integrated and incorporated into the light-guide-path merging section in a state where each of the n light-mixing optical elements is optically cut off from each other. Each light-mixing optical element receives light from a light source corresponding to the element group, which is guided by a portion of the element group corresponding to the light-mixing optical element that is located upstream of the optical element, and performs light mixing. An edge exposure apparatus that emits the mixed light toward a portion downstream of the light mixing optical element in the group of element wires after the light exposure.
【請求項5】 請求項1記載のエッジ露光装置におい
て、 前記n個の光混合光学素子はそれぞれが相互に光学的に
遮断された状態にて前記導光路合流部から前記合流素線
群の出射側端部に至るまでのいずれかの位置に一体化さ
れて設けられるとともに、各光混合光学素子は当該光混
合光学素子に対応する素線群のうちの当該光混合光学素
子よりも上流側部分によって導かれた当該素線群に対応
する光源からの光を受けて光混合させた後、混合された
光を当該素線群のうちの当該光混合光学素子よりも下流
側部分に向けて出射することを特徴とするエッジ露光装
置。
5. The edge exposure apparatus according to claim 1, wherein the n light mixing optical elements emit the converging element group from the converging portion of the light guide path in a state where each of the n light mixing optical elements is optically isolated from each other. The light mixing optical element is provided integrally at any position up to the side end, and each light mixing optical element is an upstream portion of the element group corresponding to the light mixing optical element on the upstream side of the light mixing optical element. After receiving the light from the light source corresponding to the group of element wires guided by the optical element and mixing the light, the mixed light is emitted toward a portion of the element group downstream of the light mixing optical element. An edge exposure apparatus.
【請求項6】 請求項1記載のエッジ露光装置におい
て、 前記n個の光混合光学素子はそれぞれが相互に光学的に
遮断された状態にて一体化されて前記合流素線群の出射
側端部に接して設けられるとともに、各光混合光学素子
は当該光混合光学素子に対応する素線群によって導かれ
た当該素線群に対応する光源からの光を受けて光混合さ
せた後、混合された光を前記端縁部に向けて直接出射す
ることを特徴とするエッジ露光装置。
6. The edge exposure apparatus according to claim 1, wherein the n light-mixing optical elements are integrated with each other in a state where they are optically isolated from each other, and the emission-side end of the merging element group. Each light mixing optical element is provided in contact with the light mixing optical element, and receives light from a light source corresponding to the element group guided by the element group corresponding to the light mixing optical element, and performs light mixing. An edge exposure device for directly emitting the emitted light toward the edge.
【請求項7】 請求項1から請求項6のいずれかに記載
のエッジ露光装置において、 前記光混合光学素子と前記光ファイバー素線の芯線とは
同一材料で形成されていることを特徴とするエッジ露光
装置。
7. The edge exposure apparatus according to claim 1, wherein the light mixing optical element and the core of the optical fiber are formed of the same material. Exposure equipment.
【請求項8】 請求項7記載のエッジ露光装置におい
て、 前記光混合光学素子および前記光ファイバー素線の芯線
は石英で形成されていることを特徴とするエッジ露光装
置。
8. An edge exposure apparatus according to claim 7, wherein the optical mixing optical element and the core of the optical fiber are made of quartz.
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