JP2003346494A - Method for verifying operation of semiconductor device and verification circuit built-in semiconductor device - Google Patents

Method for verifying operation of semiconductor device and verification circuit built-in semiconductor device

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JP2003346494A
JP2003346494A JP2002150381A JP2002150381A JP2003346494A JP 2003346494 A JP2003346494 A JP 2003346494A JP 2002150381 A JP2002150381 A JP 2002150381A JP 2002150381 A JP2002150381 A JP 2002150381A JP 2003346494 A JP2003346494 A JP 2003346494A
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JP
Japan
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read enable
enable signal
semiconductor device
read
memory
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Application number
JP2002150381A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Sowa
剛 曽和
Hiroshi Tanase
寛 多那瀬
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve a problem that a conventional memory built-in semiconductor device cannot verify operations of the actual product taking into account an operating margin of data read from the memory when the operating temperature and the operating voltage of the semiconductor device are changed. <P>SOLUTION: The semiconductor device includes a delay circuit 110 and an AND circuit 120. The delay circuit 110 delays a read enable signal 101 to set a read enable period in an ordinary state, and a read enable signal 121 outputted from the AND circuit 120 resulting from AND operation of the read enable signal 101 and the delayed read enable signal 111 has a read enable period shorter than that of the ordinary read enable signal 101. Thus, the memory data read operation can be verified under a tighter condition than that of an ordinary memory data read operation by producing the read enable signal 121 with the shorter read enable period and performing data read in this way. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に関
し、特に内蔵されたメモリのデータ読出しにおいて半導
体装置の動作条件が変化した時でも確実にメモリセルの
データ読出しができるという動作検証を可能とする半導
体装置の動作検証方法および検証回路内蔵半導体装置に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly, to an operation verification in which data can be reliably read from a memory cell even when an operating condition of the semiconductor device changes in reading data from a built-in memory. The present invention relates to a semiconductor device operation verification method and a semiconductor device with a built-in verification circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置においてメモリデータを読出
す場合の従来の代表的な方法を以下に示す。
2. Description of the Related Art A typical conventional method for reading memory data in a semiconductor device will be described below.

【0003】図4(a)において、430は半導体装置に
内蔵されているメモリであり、401はメモリ430に
対しデータの読出しを可能な状態にするリードイネーブ
ル信号である。図4(b)はリードイネーブル信号401
を示したもので、イネーブル期間の間にメモリデータを
読出す事を表している。
In FIG. 4A, reference numeral 430 denotes a memory built in the semiconductor device, and reference numeral 401 denotes a read enable signal for enabling the memory 430 to read data. FIG. 4B shows a read enable signal 401.
Indicates that memory data is read during the enable period.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成でメモリデータを読出す場合、動作検証時(検査
時)においても通常動作時とメモリ読出しのイネーブル
時間は同一である為、半導体装置の動作条件、特に動作
温度や動作電圧が変化した時に、実製品におけるデータ
読出しか可能かどうか十分に検証出来ない問題があっ
た。特に半導体装置が動作しない時に、メモリデータを
読出せない事によるものなのか、プログラム異常による
ものなのかを検証出来ない為、半導体装置の信頼性の低
下を招く恐れがある。
However, when memory data is read with the above-mentioned conventional configuration, the enable time of the memory read is the same as that in the normal operation even at the time of operation verification (at the time of inspection). When the conditions, particularly the operating temperature and the operating voltage change, there is a problem that it is not possible to sufficiently verify whether only data reading in an actual product is possible. In particular, when the semiconductor device does not operate, it is not possible to verify whether the data is due to the inability to read the memory data or the program error, which may reduce the reliability of the semiconductor device.

【0005】本発明は、上記従来の問題点を解決するも
ので、半導体装置の動作条件が変化した時に動作条件に
対応した厳しいメモリリードイネーブル信号でメモリの
データ読出しを行う事で、データ読出しの動作マージン
を考慮した確実な動作検証を可能にする半導体装置の動
作検証方法および検証回路内蔵半導体装置を提供するこ
とを目的としている。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems. When the operating conditions of a semiconductor device change, the data is read from the memory by a strict memory read enable signal corresponding to the operating conditions. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device operation verification method and a semiconductor device with a built-in verification circuit that enable reliable operation verification in consideration of an operation margin.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の動
作検証方法は、入力されるリードイネーブル信号のパル
ス幅の期間がデータ読出しが可能なリードイネーブル期
間となるメモリを備えた半導体装置の動作検証方法であ
って、通常動作時にメモリに入力されるリードイネーブ
ル信号よりパルス幅の短いリードイネーブル信号をメモ
リへ入力するようにしてメモリからのデータ読出し動作
を検証することを特徴とする。
According to the method of verifying operation of a semiconductor device of the present invention, the operation of a semiconductor device having a memory in which the period of the pulse width of an input read enable signal is a read enable period during which data can be read is performed. A verifying method is characterized in that a data read operation from a memory is verified by inputting a read enable signal having a shorter pulse width than a read enable signal input to the memory during normal operation to the memory.

【0007】この方法によれば、リードイネーブル期間
(時間)を通常動作時よりも短くするため、通常のデー
タ読出しより厳しい条件でメモリデータを読み出す事に
なり、半導体装置の動作条件が変化した時に動作条件に
対応した厳しいメモリリードイネーブル信号でメモリの
データ読出しを行う事で、データ読出しの動作マージン
を考慮した確実な動作検証が可能となる。
According to this method, the read enable period (time) is made shorter than that in the normal operation, so that the memory data is read under more severe conditions than the normal data read. By performing data read from the memory with a strict memory read enable signal corresponding to the operation conditions, reliable operation verification in consideration of the data read operation margin becomes possible.

【0008】また、本発明の検証回路内蔵半導体装置
は、入力されるリードイネーブル信号のパルス幅の期間
がデータ読出しが可能なリードイネーブル期間となるメ
モリを備えた半導体装置に、所定のパルス幅の第1のリ
ードイネーブル信号を入力し、所定時間遅延させて出力
する遅延回路と、第1のリードイネーブル信号と遅延回
路によって遅延された第2のリードイネーブル信号とを
入力し、第1と第2のリードイネーブル信号のパルスの
重なり期間をパルス幅とする第3のリードイネーブル信
号をメモリへ出力する論理回路とを設けたものである。
Further, the semiconductor device with a built-in verification circuit according to the present invention comprises a semiconductor device having a memory in which the pulse width period of the input read enable signal is a read enable period during which data can be read out. A first read enable signal, a delay circuit for delaying by a predetermined time and outputting the first read enable signal, and a first read enable signal and a second read enable signal delayed by the delay circuit; And a logic circuit for outputting to the memory a third read enable signal having a pulse width corresponding to the pulse overlap period of the read enable signal.

【0009】この構成によれば、通常動作時でのリード
イネーブル期間を設定するための所定のパルス幅の第1
のリードイネーブル信号と、それを遅延させた第2のリ
ードイネーブル信号とから生成されて、メモリへ入力さ
れる第3のリードイネーブル信号は、第1のリードイネ
ーブル信号よりパルス幅が短くなる。したがってリード
イネーブル期間(時間)が通常動作時よりも短くなり、
通常のデータ読出しより厳しい条件でメモリデータを読
み出す事になり、半導体装置の動作条件が変化した時に
動作条件に対応した厳しいメモリリードイネーブル信号
でメモリのデータ読出しを行う事で、データ読出しの動
作マージンを考慮した確実な動作検証が可能となる。
According to this configuration, the first pulse having the predetermined pulse width for setting the read enable period in the normal operation is used.
The third read enable signal generated from the read enable signal and the second read enable signal delayed from the read enable signal and input to the memory has a shorter pulse width than the first read enable signal. Therefore, the read enable period (time) is shorter than during normal operation,
Memory data is read out under more severe conditions than normal data readout, and when the operating conditions of the semiconductor device change, the data readout of the memory is performed using a strict memory read enable signal corresponding to the operating conditions, thereby providing a data read operation margin. And reliable operation verification in consideration of the above.

【0010】なお、通常動作時には、遅延回路の遅延時
間を0とすることで、所定のパルス幅の第1のリードイ
ネーブル信号と同じパルス幅の第3のリードイネーブル
信号が生成されメモリへ入力される。
In the normal operation, by setting the delay time of the delay circuit to 0, a third read enable signal having the same pulse width as the first read enable signal having a predetermined pulse width is generated and input to the memory. You.

【0011】さらに、本発明の検証回路内蔵半導体装置
において、遅延回路は、半導体装置の動作温度条件によ
って遅延時間を決定することを特徴とする。これによ
り、半導体装置の動作温度条件が変化した時にその温度
条件に対応した厳しいメモリリードイネーブル信号でメ
モリデータを読み出す事になり、データ読出しの温度条
件動作マージンを考慮した確実な動作検証が可能とな
る。
Further, in the semiconductor device with a built-in verification circuit according to the present invention, the delay circuit determines a delay time according to an operating temperature condition of the semiconductor device. As a result, when the operating temperature condition of the semiconductor device changes, memory data is read with a strict memory read enable signal corresponding to the temperature condition, and reliable operation verification can be performed in consideration of the operating margin of the data reading temperature condition. Become.

【0012】また、本発明の検証回路内蔵半導体装置に
おいて、遅延回路は、半導体装置の動作電圧条件によっ
て遅延時間を決定することを特徴とする。これにより、
半導体装置の動作電圧条件が変化した時にその電圧条件
に対応した厳しいメモリリードイネーブル信号でメモリ
データを読お出す事になり、データ読出しの電圧条件動
作マージンを考慮した確実な動作検証が可能となる。
In the semiconductor device with a built-in verification circuit according to the present invention, the delay circuit determines a delay time according to an operating voltage condition of the semiconductor device. This allows
When the operating voltage condition of the semiconductor device changes, memory data is read out with a strict memory read enable signal corresponding to the voltage condition, and reliable operation verification can be performed in consideration of a voltage reading operation margin of data reading. .

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0014】図1(a)は本発明の第1の実施の形態にお
ける半導体装置の回路構成を示すものである。図1(a)
において、101はリードイネーブル信号、110はリ
ードイネーブル信号101に遅延を持たす回路、111
は遅延回路110から出力されるリードイネーブル信
号、120はリードイネーブル信号101と遅延回路1
10によって遅延したリードイネーブル信号111の論
理積を取る回路、121は論理積回路120より出力さ
れるリードイネーブル信号、130はメモリを示す。こ
こで、リードイネーブル信号101のパルス幅が、通常
動作時におけるメモリ130のリードイネーブル期間
(データ読出し可能期間)である。
FIG. 1A shows a circuit configuration of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. Fig. 1 (a)
, 101 is a read enable signal, 110 is a circuit having a delay to the read enable signal 101, 111
Is a read enable signal output from the delay circuit 110, and 120 is the read enable signal 101 and the delay circuit 1
A circuit that takes the logical product of the read enable signal 111 delayed by 10, 121 denotes a read enable signal output from the logical product circuit 120, and 130 denotes a memory. Here, the pulse width of the read enable signal 101 is a read enable period (data readable period) of the memory 130 during a normal operation.

【0015】図1(b)は図1(a)によって作り出される信
号のタイミングチャートを示している。図1(a)で構成
される回路によってリードイネーブル信号121は、ベ
ースとなるリードイネーブル信号101に比べて、デー
タ読出しのイネーブル時間が短くなっている事を示して
いる。
FIG. 1 (b) shows a timing chart of the signal generated by FIG. 1 (a). 1A shows that the read enable signal 121 has a shorter data read enable time than the base read enable signal 101.

【0016】本実施の形態の半導体装置の動作を説明す
る。
The operation of the semiconductor device according to the present embodiment will be described.

【0017】リードイネーブル信号101は遅延回路1
10に入力される事により、リードイネーブル信号10
1に対し時間Dt1遅延したリードイネーブル信号11
1を作り出す。リードイネーブル信号101と遅延した
リードイネーブル信号111の論理積を取る事により、
出力されたリードイネーブル信号121は実際のリード
イネーブル信号101に比べてリードイネーブル期間が
短くなる。
The read enable signal 101 is the delay circuit 1
10, the read enable signal 10
Read enable signal 11 delayed by time Dt1 with respect to 1
Create one. By taking the logical product of the read enable signal 101 and the delayed read enable signal 111,
The output read enable signal 121 has a shorter read enable period than the actual read enable signal 101.

【0018】この回路によって作られた信号でメモリデ
ータの読出し動作を行った場合、より厳しい条件でメモ
リデータを読出す事になる。リードイネーブル信号12
1でデータを読出す事は、半導体装置の通常動作時にお
けるデータ読出しをリードイネーブル信号101で行っ
ている場合に対して、読出し動作マージンを持たしてい
る事になり、実品種におけるメモリデータ読出し時の確
実な動作検証が可能となる。
When a read operation of memory data is performed with a signal generated by this circuit, the memory data is read under more severe conditions. Read enable signal 12
Reading data at 1 has a read operation margin as compared with the case where data reading is performed by the read enable signal 101 during normal operation of the semiconductor device, and the memory data reading in the actual product is performed. It is possible to reliably verify the operation at the time.

【0019】なお、遅延回路110は、動作条件によっ
て分類された複数の遅延時間Dt1を有しており、動作
条件を検出した上で、動作条件に対応する遅延時間Dt
1を選択するものである(遅延回路110は動作条件に
かかわらず遅延時間Dt1が0となるように設定する事
も可能)。データ読出し動作検証時には、厳しい条件と
なる遅延時間Dt1(0ではない)を遅延回路110で
選択し、メモリ130のデータ読出し動作を行う。そし
て、動作検証の結果、良品の半導体装置には、遅延時間
Dt1が0となるように設定した後、製品として出荷す
る。
The delay circuit 110 has a plurality of delay times Dt1 classified according to operating conditions. After detecting the operating conditions, the delay circuit 110 detects the delay times Dt1 corresponding to the operating conditions.
1 (the delay circuit 110 can be set so that the delay time Dt1 becomes 0 regardless of the operating conditions). At the time of data read operation verification, a delay time Dt1 (not 0) which is a severe condition is selected by the delay circuit 110, and the data read operation of the memory 130 is performed. Then, as a result of the operation verification, the delay time Dt1 is set to 0 for non-defective semiconductor devices, and then shipped as a product.

【0020】以上のように本実施の形態によれば、通常
動作時よりもリードイネーブル期間の短いリードイネー
ブル信号121を生成しデータ読出しを実施する事で、
通常のメモリデータ読出しに比べ、より厳しい条件でメ
モリデータ読出し動作検証をする事になり、半導体装置
の高品質を確保する事が可能となる。
As described above, according to the present embodiment, the data read is performed by generating the read enable signal 121 having a shorter read enable period than in the normal operation and reading the data.
Compared with normal memory data reading, memory data reading operation verification is performed under more severe conditions, and high quality of the semiconductor device can be secured.

【0021】なお、遅延回路120は遅延を持たすもの
としたが、通常メモリデータ読出しを実施する場合は遅
延を持たす必要は無い(すなわち、遅延時間Dt1を0
にする)。
Although the delay circuit 120 has a delay, it is not necessary to provide a delay when normal memory data reading is performed (ie, the delay time Dt1 is set to 0).
To).

【0022】以下、本発明の第2の実施の形態について
図面を参照しながら説明する。
Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0023】図2(a)は本発明の第2の実施の形態にお
ける半導体装置の回路構成を示すものである。図2(a)
において、201はリードイネーブル信号、210はリ
ードイネーブル信号201に遅延を持たせる回路、21
1は遅延回路210から出力されるリードイネーブル信
号、220はリードイネーブル信号201と遅延回路2
10によって遅延したリードイネーブル信号211の論
理積を取る回路、221は論理積回路220より出力さ
れるリードイネーブル信号、230はメモリを示す。こ
こで、リードイネーブル信号201のパルス幅が、通常
動作時におけるメモリ230のリードイネーブル期間
(データ読出し可能期間)である。また、遅延回路21
0は、半導体装置の動作温度に対する遅延パラメータ
(遅延時間)を決定し、その遅延パラメータに応じてリ
ードイネーブル信号201を遅延させてリードイネーブ
ル信号211として出力する。
FIG. 2A shows a circuit configuration of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention. Fig. 2 (a)
, 201 is a read enable signal, 210 is a circuit for giving a delay to the read enable signal 201, 21
1 is a read enable signal output from the delay circuit 210, 220 is a read enable signal 201 and the delay circuit 2
A circuit that takes the logical product of the read enable signal 211 delayed by 10, 221 denotes a read enable signal output from the logical product circuit 220, and 230 denotes a memory. Here, the pulse width of the read enable signal 201 is a read enable period (data readable period) of the memory 230 during normal operation. The delay circuit 21
0 determines a delay parameter (delay time) with respect to the operating temperature of the semiconductor device, delays the read enable signal 201 according to the delay parameter, and outputs it as a read enable signal 211.

【0024】図2(b)は図2(a)に示された信号のタイミ
ングチャートを示している。Dt2は半導体装置の動作
温度によって決まる遅延パラメータ(遅延時間)を示
す。図2(a)で構成される回路によってリードイネーブ
ル信号221は、ベースとなるリードイネーブル信号2
01に比べて、データ読出しイネーブル時間が短くなっ
ている。
FIG. 2 (b) shows a timing chart of the signals shown in FIG. 2 (a). Dt2 indicates a delay parameter (delay time) determined by the operating temperature of the semiconductor device. The read enable signal 221 by the circuit shown in FIG.
Data read enable time is shorter than 01.

【0025】本実施の形態では、遅延回路210が半導
体装置の動作温度によって遅延パラメータDt2を決定
する構成になっている。
In the present embodiment, the delay circuit 210 determines the delay parameter Dt2 according to the operating temperature of the semiconductor device.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】表1は図2(a)の遅延回路210により決
定される図2(b)の遅延パラメータDt2の一覧を表
す。
Table 1 shows a list of the delay parameter Dt2 of FIG. 2B determined by the delay circuit 210 of FIG. 2A.

【0028】Dt21は半導体装置を動作させる温度が
T1以上T2未満の場合に決定する遅延パラメータ、D
t22は半導体装置を動作させる温度がT2以上T3未
満の場合に決定する遅延パラメータ、Dt23は半導体
装置を動作させる温度がT3以上T4未満の場合に決定
する遅延パラメータを示す。
Dt21 is a delay parameter determined when the temperature for operating the semiconductor device is equal to or higher than T1 and lower than T2;
t22 indicates a delay parameter determined when the temperature at which the semiconductor device operates is T2 or more and less than T3, and Dt23 indicates a delay parameter determined when the temperature at which the semiconductor device operates is T3 or more and less than T4.

【0029】なお、半導体装置の動作温度によって遅延
パラメータを決定する方法は、どのような手段を用いて
も良い。
Note that any method may be used to determine the delay parameter according to the operating temperature of the semiconductor device.

【0030】また、表1では遅延パラメータの条件を3
通りにしたが、遅延時間Dt2が0の場合(通常動作時
の場合)を含むN通り(Nは複数)であれば本発明の手
法は成立するものである。
In Table 1, the condition of the delay parameter is 3
However, the method of the present invention can be realized if there are N (N is plural) cases including the case where the delay time Dt2 is 0 (the case of normal operation).

【0031】本実施の形態の半導体装置の動作を説明す
る。
The operation of the semiconductor device according to the present embodiment will be described.

【0032】リードイネーブル信号201は遅延回路2
10に入力される事により、リードイネーブル信号20
1に対し時間Dt2遅延したリードイネーブル信号21
1を作り出す。この時の遅延時間Dt2は半導体装置の
動作温度によって、表1に示される遅延パラメータに決
定されるものとする。リードイネーブル信号201とリ
ードイネーブル信号211との論理積を取る事により、
出力されたリードイネーブル信号221は実際のリード
イネーブル信号201に比べて、表1に示される半導体
装置の動作温度に対する遅延パラメータ分だけリードイ
ネーブル信号のイネーブル時間が短くなる。この回路に
よって作られた信号でメモリデータの読出し動作を行っ
た場合、より厳しい条件でメモリデータを読出す事にな
る。リードイネーブル信号221でデータを読出す事は
半導体装置の通常動作時におけるデータ読出しをリード
イネーブル信号201で行っている場合に対して、半導
体装置の動作温度マージンを持たしている事になり、実
品種におけるメモリデータ読出し時の確実な動作検証が
可能となる。
The read enable signal 201 is supplied to the delay circuit 2
10, the read enable signal 20
Read enable signal 21 delayed by time Dt2 with respect to 1
Create one. The delay time Dt2 at this time is determined by the delay parameters shown in Table 1 depending on the operating temperature of the semiconductor device. By taking the logical product of the read enable signal 201 and the read enable signal 211,
The output read enable signal 221 has a shorter enable time than the actual read enable signal 201 by the delay parameter corresponding to the operating temperature of the semiconductor device shown in Table 1. When a memory data read operation is performed with a signal generated by this circuit, the memory data is read under more severe conditions. Reading data with the read enable signal 221 has an operating temperature margin of the semiconductor device compared to the case where data reading is performed with the read enable signal 201 during normal operation of the semiconductor device. Reliable operation verification at the time of reading memory data in a product type is possible.

【0033】なお、遅延回路210は、データ読出し動
作検証時に半導体装置の動作温度を検出し、その温度に
対して予め決定されている遅延パラメータを選択するも
のである(遅延回路210は動作温度を検出せず遅延パ
ラメータが0となるようにする事も可能)。データ読出
し動作検証時には、遅延時間Dt2が0ではない遅延パ
ラメータが遅延回路210で選択され、メモリ230の
データ読出し動作を行う。そして、動作検証の結果、良
品の半導体装置には、遅延時間Dt2が0となる遅延パ
ラメータに設定した後、製品として出荷する。
The delay circuit 210 detects the operating temperature of the semiconductor device at the time of verifying the data read operation, and selects a delay parameter determined in advance for that temperature. It is also possible to set the delay parameter to 0 without detection.) At the time of data read operation verification, a delay parameter whose delay time Dt2 is not 0 is selected by the delay circuit 210, and the data read operation of the memory 230 is performed. Then, as a result of the operation verification, a non-defective semiconductor device is set as a delay parameter such that the delay time Dt2 becomes 0, and then shipped as a product.

【0034】以上のように本実施の形態によれば、半導
体装置の動作温度によって厳しくなる条件のリードイネ
ーブル信号221を生成しデータ読出しを実施する事
で、通常のメモリデータ読出しに比べ、動作温度マージ
ンを持ったメモリデータ読出し動作検証をする事にな
り、半導体装置の高品質を確保する事が可能となる。
As described above, according to the present embodiment, by generating the read enable signal 221 under conditions that become more severe depending on the operating temperature of the semiconductor device and performing data reading, the operating temperature is lower than that of normal memory data reading. The memory data reading operation with a margin is verified, and high quality of the semiconductor device can be ensured.

【0035】なお、遅延回路210は温度条件によって
遅延条件を決定するものとしたが、通常メモリデータ読
出しを実施する場合は遅延パラメータDt2を0として
良い。
Although the delay circuit 210 determines the delay condition according to the temperature condition, the delay parameter Dt2 may be set to 0 when normal memory data reading is performed.

【0036】以下、本発明の第3の実施の形態について
図面を参照しながら説明する。
Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0037】図3(a)は本発明の第3の実施の形態にお
ける半導体装置の回路構成を示すものである。図3(a)
において、301はリードイネーブル信号、310はリ
ードイネーブル信号301に遅延を持たせる回路、31
1は遅延回路310から出力されるリードイネーブル信
号、320はリードイネーブル信号301と遅延回路3
10によって遅延したリードイネーブル信号311の論
理積を取る回路、321は論理積回路320より出力さ
れるリードイネーブル信号、330はメモリを示す。こ
こで、リードイネーブル信号301のパルス幅が、通常
動作時におけるメモリ330のリードイネーブル期間
(データ読出し可能期間)である。また、遅延回路31
0は、半導体装置の動作電圧に対する遅延パラメータ
(遅延時間)を決定し、その遅延パラメータに応じてリ
ードイネーブル信号301を遅延させてリードイネーブ
ル信号311として出力する。
FIG. 3A shows a circuit configuration of a semiconductor device according to the third embodiment of the present invention. Fig. 3 (a)
, 301 is a read enable signal, 310 is a circuit for giving a delay to the read enable signal 301, 31
1 is a read enable signal output from the delay circuit 310, 320 is a read enable signal 301 and the delay circuit 3
A circuit that takes the logical product of the read enable signal 311 delayed by 10, 321 denotes a read enable signal output from the logical product circuit 320, and 330 denotes a memory. Here, the pulse width of the read enable signal 301 is a read enable period (data readable period) of the memory 330 during normal operation. The delay circuit 31
0 determines the delay parameter (delay time) for the operating voltage of the semiconductor device, delays the read enable signal 301 according to the delay parameter, and outputs the read enable signal 301 as the read enable signal 311.

【0038】図3(b)は図3(a)に示された信号のタイミ
ングチャートを示している。Dt3は半導体装置の動作
電圧によって決まる遅延パラメータ(遅延時間)を示
す。図3(a)で構成される回路によってリードイネーブ
ル信号321は、ベースとなるリードイネーブル信号3
01に比べて、データ読出しイネーブル時間が短くなっ
ている。
FIG. 3 (b) shows a timing chart of the signals shown in FIG. 3 (a). Dt3 indicates a delay parameter (delay time) determined by the operating voltage of the semiconductor device. The read enable signal 321 by the circuit shown in FIG.
Data read enable time is shorter than 01.

【0039】本実施の形態では、遅延回路310が半導
体装置の動作電圧によって遅延パラメータDt3を決定
する構成になっている。
In this embodiment, the delay circuit 310 determines the delay parameter Dt3 based on the operating voltage of the semiconductor device.

【0040】[0040]

【表2】 [Table 2]

【0041】表2は図3(a)の遅延回路310により決
定される図3(b)の遅延パラメータDt3の一覧を表
す。
Table 2 shows a list of the delay parameter Dt3 of FIG. 3B determined by the delay circuit 310 of FIG.

【0042】Dt31は半導体装置の動作電圧がV1以
上V2未満の場合に決定する遅延パラメータ、Dt32
は半導体装置を動作電圧がV2以上V3未満の場合に決
定する遅延パラメータ、Dt33は半導体装置を動作電
圧がV3以上V4未満の場合に決定する遅延パラメータ
を示す。
Dt31 is a delay parameter determined when the operating voltage of the semiconductor device is equal to or higher than V1 and lower than V2.
Represents a delay parameter for determining the semiconductor device when the operating voltage is V2 or more and less than V3, and Dt33 represents a delay parameter for determining the semiconductor device when the operating voltage is V3 or more and less than V4.

【0043】なお、半導体装置の動作電圧によって遅延
パラメータを決定する方法は、どのような手段を用いて
も良い。
Note that any method may be used to determine the delay parameter based on the operating voltage of the semiconductor device.

【0044】また、表2では遅延パラメータの条件を3
通りにしたが、遅延時間Dt3が0の場合(通常動作時
の場合)を含むN通り(Nは複数)であれば本発明の手
法は成立するものである。
In Table 2, the condition of the delay parameter is set to 3
As described above, the method of the present invention holds when there are N (N is plural) cases including the case where the delay time Dt3 is 0 (the case of normal operation).

【0045】本実施の形態の半導体装置の動作を説明す
る。
The operation of the semiconductor device according to the present embodiment will be described.

【0046】リードイネーブル信号301は遅延回路3
10に入力される事により、リードイネーブル信号30
1に対し時間Dt3遅延したリードイネーブル信号31
1を作り出す。この時の遅延時間Dt3は半導体装置の
動作電圧によって、表2に示される遅延パラメータに決
定されるものとする。リードイネーブル信号301とリ
ードイネーブル信号311との論理積を取る事により、
出力されたリードイネーブル信号321は実際のリード
イネーブル信号301に比べて、表2に示される半導体
装置の動作電圧に対する遅延パラメータ分だけリードイ
ネーブル信号のイネーブル時間が短くなる。この回路に
よって作られた信号でメモリデータの読出し動作を行っ
た場合、より厳しい条件でメモリデータを読出す事にな
る。リードイネーブル信号321でデータを読出す事は
半導体装置の通常動作時におけるデータ読出しをリード
イネーブル信号301で行っている場合に対して、半導
体装置の動作電圧マージンを持たしている事になり、実
品種におけるメモリデータ読出し時の確実な動作検証が
可能となる。
The read enable signal 301 is supplied to the delay circuit 3
10, the read enable signal 30
Read enable signal 31 delayed by time Dt3 with respect to 1
Create one. The delay time Dt3 at this time is determined by the delay parameters shown in Table 2 depending on the operating voltage of the semiconductor device. By taking the logical product of the read enable signal 301 and the read enable signal 311,
The output read enable signal 321 has a shorter enable time for the read enable signal than the actual read enable signal 301 by the delay parameter for the operating voltage of the semiconductor device shown in Table 2. When a memory data read operation is performed with a signal generated by this circuit, the memory data is read under more severe conditions. Reading data with the read enable signal 321 has an operating voltage margin of the semiconductor device compared to the case where data reading is performed with the read enable signal 301 during normal operation of the semiconductor device. Reliable operation verification at the time of reading memory data in a product type is possible.

【0047】なお、遅延回路310は、データ読出し動
作検証時に半導体装置の動作電圧を検出し、その電圧に
対して予め決定されている遅延パラメータを選択するも
のである(遅延回路310は動作電圧を検出せず遅延パ
ラメータが0となるようにする事も可能)。データ読出
し動作検証時には、遅延時間Dt3が0ではない遅延パ
ラメータが遅延回路310で選択され、メモリ330の
データ読出し動作を行う。そして、動作検証の結果、良
品の半導体装置には、遅延時間Dt3が0となる遅延パ
ラメータに設定した後、製品として出荷する。
The delay circuit 310 detects the operating voltage of the semiconductor device at the time of data read operation verification, and selects a delay parameter determined in advance for the voltage (delay circuit 310 determines the operating voltage. It is also possible to set the delay parameter to 0 without detection.) At the time of data read operation verification, a delay parameter whose delay time Dt3 is not 0 is selected by the delay circuit 310, and the data read operation of the memory 330 is performed. Then, as a result of the operation verification, a non-defective semiconductor device is set as a delay parameter such that the delay time Dt3 becomes 0, and then shipped as a product.

【0048】以上のように本実施の形態によれば、半導
体装置の動作電圧によって厳しくなる条件のリードイネ
ーブル信号321を生成しデータ読出しを実施する事
で、通常のメモリデータ読出しに比べ、動作電圧マージ
ンを持ったメモリデータ読出し動作検証をする事にな
り、半導体装置の高品質を確保する事が可能となる。
As described above, according to the present embodiment, by generating the read enable signal 321 under conditions that become more severe depending on the operating voltage of the semiconductor device and performing data reading, the operating voltage is lower than that of normal memory data reading. The memory data reading operation with a margin is verified, and high quality of the semiconductor device can be ensured.

【0049】なお、遅延回路310は電圧条件によって
遅延条件を決定するものとしたが、通常メモリデータ読
出しを実施する場合は遅延パラメータDt3を0として
良い。
Although the delay circuit 310 determines the delay condition according to the voltage condition, the delay parameter Dt3 may be set to 0 when normal memory data reading is performed.

【0050】[0050]

【発明の効果】本発明によれば、メモリからデータ読出
しを行うためのリードイネーブル期間を、半導体装置の
動作環境に合せて、実製品における動作マージンを考慮
した時間に設定する事で、通常データ読出しの動作検証
を確実に実施する事が可能となり、半導体装置の高品質
を確保することができるという優れた効果を有する。
According to the present invention, the read enable period for reading data from the memory is set to a time in consideration of the operating margin of the actual product in accordance with the operating environment of the semiconductor device, thereby enabling normal data to be read. It is possible to reliably perform read operation verification, which has an excellent effect that high quality of a semiconductor device can be ensured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態における半導体装置
のブロック図およびタイミングチャート
FIG. 1 is a block diagram and a timing chart of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施の形態における半導体装置
のブロック図およびタイミングチャート
FIG. 2 is a block diagram and a timing chart of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention;

【図3】本発明の第3の実施の形態における半導体装置
のブロック図およびタイミングチャート
FIG. 3 is a block diagram and a timing chart of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【図4】従来の半導体装置のブロック図およびタイミン
グチャート
FIG. 4 is a block diagram and a timing chart of a conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 ベースとなるリードイネーブル信号 110 遅延回路 111 遅延回路110から出力されるリードイネーブ
ル信号 120 論理積回路 121 論理積回路120から出力されるリードイネー
ブル信号 130 メモリ 201 ベースとなるリードイネーブル信号 210 遅延回路 211 遅延回路210から出力されるリードイネーブ
ル信号 220 論理積回路 221 論理積回路220から出力されるリードイネー
ブル信号 230 メモリ 301 ベースとなるリードイネーブル信号 310 遅延回路 311 遅延回路310から出力されるリードイネーブ
ル信号 320 論理積回路 321 論理積回路320から出力されるリードイネー
ブル信号 330 メモリ
101 base read enable signal 110 delay circuit 111 read enable signal 120 output from delay circuit 110 logical product circuit 121 read enable signal 130 output from logical product circuit 120 memory 201 read enable signal 210 base and delay circuit 211 Read enable signal 220 output from delay circuit 210 AND circuit 221 Read enable signal 230 output from AND circuit 220 Memory 301 Read enable signal 310 serving as a base Delay circuit 311 Read enable signal 320 output from delay circuit 310 AND circuit 321 Read enable signal 330 output from AND circuit 320 Memory

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G01R 31/28 V Fターム(参考) 2G132 AA08 AB01 AG09 AK07 AK21 AL11 4M106 AA08 AC07 5F038 DF01 DF05 DT07 DT15 EZ20 5L106 DD22 EE02 EE03 FF05 GG03Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat II (reference) G01R 31/28 VF term (reference) 2G132 AA08 AB01 AG09 AK07 AK21 AL11 4M106 AA08 AC07 5F038 DF01 DF05 DT07 DT15 EZ20 5L106 DD22 EE02 EE03 FF05 GG03

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 入力されるリードイネーブル信号のパル
ス幅の期間がデータ読出しが可能なリードイネーブル期
間となるメモリを備えた半導体装置の動作検証方法であ
って、 通常動作時に前記メモリに入力される前記リードイネー
ブル信号よりパルス幅の短いリードイネーブル信号を前
記メモリへ入力するようにして前記メモリからのデータ
読出し動作を検証することを特徴とする半導体装置の動
作検証方法。
1. A method of verifying operation of a semiconductor device including a memory in which a period of a pulse width of an input read enable signal is a read enable period in which data can be read, wherein the method is input to the memory during a normal operation. A method for verifying operation of a semiconductor device, wherein a data read operation from the memory is verified by inputting a read enable signal having a pulse width shorter than the read enable signal to the memory.
【請求項2】 入力されるリードイネーブル信号のパル
ス幅の期間がデータ読出しが可能なリードイネーブル期
間となるメモリを備えた半導体装置に、 所定のパルス幅の第1のリードイネーブル信号を入力
し、所定時間遅延させて出力する遅延回路と、 前記第1のリードイネーブル信号と前記遅延回路によっ
て遅延された第2のリードイネーブル信号とを入力し、
前記第1と第2のリードイネーブル信号のパルスの重な
り期間をパルス幅とする第3のリードイネーブル信号を
前記メモリへ出力する論理回路とを設けた検証回路内蔵
半導体装置。
2. A first read enable signal having a predetermined pulse width is input to a semiconductor device including a memory in which a period of a pulse width of an input read enable signal is a read enable period in which data can be read. A delay circuit for delaying and outputting a predetermined time; and a first read enable signal and a second read enable signal delayed by the delay circuit.
A semiconductor device with a built-in verification circuit, comprising: a logic circuit for outputting to the memory a third read enable signal having a pulse width of an overlapping period of the first and second read enable signals.
【請求項3】 遅延回路は、半導体装置の動作温度条件
によって遅延時間を決定することを特徴とする請求項2
記載の検証回路内蔵半導体装置。
3. The delay circuit according to claim 2, wherein the delay time is determined according to an operating temperature condition of the semiconductor device.
The semiconductor device with a built-in verification circuit according to the above.
【請求項4】 遅延回路は、半導体装置の動作電圧条件
によって遅延時間を決定することを特徴とする請求項2
記載の検証回路内蔵半導体装置。
4. The delay circuit according to claim 2, wherein the delay time is determined by an operating voltage condition of the semiconductor device.
The semiconductor device with a built-in verification circuit according to the above.
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