JP2003342431A - Thermoplastic resin composition and molding - Google Patents

Thermoplastic resin composition and molding

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JP2003342431A
JP2003342431A JP2002154815A JP2002154815A JP2003342431A JP 2003342431 A JP2003342431 A JP 2003342431A JP 2002154815 A JP2002154815 A JP 2002154815A JP 2002154815 A JP2002154815 A JP 2002154815A JP 2003342431 A JP2003342431 A JP 2003342431A
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inorganic
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広志 山本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermoplastic resin composition capable of obtaining a molding having a large dielectric constant, a small dielectric loss tangent, and a small temperature coefficient of dielectric constant in a high frequency region not smaller than 1 GHz. <P>SOLUTION: This thermoplastic resin composition contains a thermoplastic resin selected at least either one of a styrenic polymer having syndiotactic structure or a liquid crystal polymer resin, and an inorganic filler which is a solid solution having a characteristic at sintering of a dielectric constant at 1 MHz of 18-130, an fQ value of not smaller than 2,000, and a resonance frequency temperature coefficient at -20°C-80°C of -2 to 35 ppm. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高周波用の回路基
板に使用される熱可塑性樹脂組成物及び成形品に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thermoplastic resin composition used for a high frequency circuit board and a molded article.

【0002】[0002]

【従来の技術】高度情報化時代を迎え、情報伝送はより
高速化・高周波数化の傾向にある。特に近年では、IT
S(Intelligent Transport Systems)関連をはじめ、1
GHz以上の周波数帯が盛んに使われる傾向にある。例
えば、ETC(自動料金支払いシステム)では5.8G
Hz、スマートプレート(電子ナンバープレート)では
5.8GHz、無線LAN(IEEE(米国電気電子学
会)811.01a規格)では5.2GHzなどであ
る。またこれらの情報伝送に使用される機器は小型化が
望まれており、ITS関連の車載用途等では設置できる
スペースが限られることから特に小型化が望まれてい
る。
2. Description of the Related Art In the advanced information age, information transmission tends to be faster and higher in frequency. Especially in recent years, IT
1 including S (Intelligent Transport Systems) related
Frequency bands of GHz and above tend to be actively used. For example, 5.8G for ETC (Automatic Charge Payment System)
Hz, 5.8 GHz for smart plate (electronic license plate), 5.2 GHz for wireless LAN (IEEE (Institute of Electrical and Electronics Engineers) 811.01a standard). In addition, downsizing of devices used for transmitting such information is desired, and downsizing is particularly desired due to limited space for installation in ITS-related in-vehicle applications.

【0003】この小型化に対応するには、高周波用の回
路基板の大きさは使用電磁波の波長が基準となっている
ので、比誘電率εrの大きい材料を用いて回路基板を形
成することが必須である。これは、比誘電率εrの誘電
体中を伝播する際の電磁波の波長λは、真空中の伝播波
長をλとすると下記式(1)で表される波長となり、
回路基板に用いる材料の比誘電率εrが大きい程、波長
λが小さくなるので、回路基板を小型化することが可能
となるからである。
In order to cope with this miniaturization, the size of the circuit board for high frequency is based on the wavelength of the electromagnetic wave used, so that the circuit board may be formed using a material having a large relative permittivity εr. Required. This means that the wavelength λ of an electromagnetic wave when propagating in a dielectric having a relative permittivity εr is a wavelength represented by the following formula (1) when the propagation wavelength in vacuum is λ 0 :
This is because the wavelength λ decreases as the relative permittivity εr of the material used for the circuit board increases, which allows the circuit board to be downsized.

【0004】 λ=λ/(εr)1/2 (1) このように比誘電率を大きくすればするほど高周波用の
回路基板を小型化するができる。しかし、このような高
周波用の回路基板でアンテナを作製するにあたって、ア
ンテナにはサイズ効果があり、小さくし過ぎるとアンテ
ナ特性が極端に低下してしまうので、アンテナの小型化
には限界がある。
Λ = λ 0 / (εr) 1/2 (1) As the relative permittivity is increased, the circuit board for high frequency can be downsized. However, when manufacturing an antenna with such a circuit board for high frequencies, the antenna has a size effect, and if it is made too small, the antenna characteristics are extremely deteriorated, so there is a limit to the miniaturization of the antenna.

【0005】更に、高周波用の回路基板に使われる材料
の特性としては、誘電正接(tanδ)が小さいことも
必須である。これは、下記式(2)で表されるように、
誘電正接(tanδ)が大きくなると、伝送中の損失P
が大きくなる為である。尚、下記式(2)中、fは周波
数を表し、Vは電圧を表し、Cは誘電体の静電容量を表
す。
Further, as a characteristic of a material used for a circuit board for high frequency, it is essential that the dielectric loss tangent (tan δ) is small. This is expressed by the following equation (2):
When the dissipation factor (tan δ) becomes large, the loss P during transmission P
Because it becomes larger. In the formula (2) below, f represents frequency, V represents voltage, and C represents dielectric capacitance.

【0006】 P=2πfVCtanδ (2) また、高周波用の回路基板に使われる材料の特性として
は、比誘電率の温度係数や誘電正接が小さいことも必須
である。
P = 2πfV 2 Ctanδ (2) Further, as a characteristic of the material used for the circuit board for high frequency, it is essential that the temperature coefficient of the dielectric constant and the dielectric loss tangent are small.

【0007】そして、これらの高周波用の回路基板の材
料として、樹脂系材料やセラミック系材料を使用するこ
とが従来から検討されている。しかし、樹脂単体の材料
は、セラミック系材料に比べて、価格や後加工性の点で
非常に優れているが、一般的に比誘電率が小さいという
問題点があり、アンテナの小型化に対応することが難し
い。そこで、樹脂系材料の比誘電率を高める為に、ポリ
フッ化ビニリデン(比誘電率13)やシアノ樹脂(比誘
電率16〜20)などの高比誘電率樹脂を用いることが
検討されているが、これらの樹脂は誘電正接が大きく、
高周波用の回路基板の材料としては不適である。
The use of resin-based materials or ceramic-based materials as materials for these high-frequency circuit boards has been conventionally studied. However, although resin-based materials are extremely superior to ceramic-based materials in terms of price and post-processability, they generally have the problem of a low relative permittivity, and are compatible with antenna miniaturization. Difficult to do. Therefore, in order to increase the relative permittivity of the resin material, it has been considered to use a high relative permittivity resin such as polyvinylidene fluoride (relative permittivity 13) or cyano resin (relative permittivity 16 to 20). , These resins have a large dielectric loss tangent,
It is not suitable as a material for a high frequency circuit board.

【0008】そこで、樹脂中に無機誘電体粒子を分散さ
せることによって比誘電率を大きくする複合化技術が注
目され、現在まで検討され続けている(例えば、特公昭
49−25159号公報、特公昭54−18754号公
報、特開平5−128912号公報を参照)。しかし、
特公昭49−25159号公報や特公昭54−1875
4号公報に記載されている樹脂系材料については、高周
波用途に用いる為の工夫がなされておらず、しかも誘電
正接が大きいために高周波用の回路基板の用途には全く
適していない。また、特開平5−128912号公報に
は、樹脂にポリフェニレンエーテルやトリアリルイソシ
アネレートを用い、無機誘電体粒子にチタニアを用い、
それをガラスクロスで補強する樹脂系材料が提案されて
いる。この樹脂系材料の場合、誘電正接が改善されてい
るものの、この樹脂系材料を用いても、誘電正接は0.
003程度の値であり、高周波用の回路基板には不十分
である。また製造工法の点からもガラスクロスから作製
する積層材料では、中央部分と端面部分で厚みにばらつ
きがあるなど回路基板の厚み精度や、生産性が劣り、適
していない。
Therefore, a composite technology for increasing the relative dielectric constant by dispersing inorganic dielectric particles in a resin has attracted attention and has been studied until now (for example, Japanese Patent Publication No. 49-25159 and Japanese Patent Publication No. 25159). 54-18754 and JP-A-5-128912). But,
Japanese Patent Publication No. 49-25159 and Japanese Patent Publication No. 54-1875
The resin-based material described in Japanese Patent No. 4 has not been devised for use in high-frequency applications, and has a large dielectric loss tangent, so it is completely unsuitable for high-frequency circuit board applications. Further, in JP-A-5-128912, polyphenylene ether or triallyl isocyanurate is used for the resin, and titania is used for the inorganic dielectric particles,
Resin-based materials have been proposed that reinforce it with glass cloth. In the case of this resin-based material, the dielectric loss tangent is improved, but even if this resin-based material is used, the dielectric loss tangent is 0.
The value is about 003, which is insufficient for a high-frequency circuit board. Also, from the viewpoint of the manufacturing method, the laminated material produced from glass cloth is not suitable because the thickness accuracy of the circuit board and the productivity are poor due to variations in thickness between the central portion and the end face portion.

【0009】また、回路基板の信頼性向上のために、比
誘電率の温度特性を安定にする技術が注目され、現在ま
で検討され続けている(例えば、特開平4−16146
1号公報、特表2000−510639号公報を参
照)。すなわち特開平4−161461号公報では、比
誘電率の温度特性が正のセラミックと比誘電率の温度特
性が負のセラミックと高分子材料による温度係数を安定
にするような複合材料が提案されている。また特表20
00−510639号公報では、熱可塑性ポリマーと、
1.0GHz及び20℃において少なくとも約50の誘
電率を有する高誘電性セラミックと、1.0GHz及び
20℃において少なくとも約5の誘電率を有する第2の
セラミック材料から製造したポリマー組成物が提案され
ており、高誘電性セラミック及び第2のセラミック材料
として互いに正負が反対の温度係数を有するものを用
い、温度によって殆ど変化しない高い誘電率を有するポ
リマー組成物が提供されている。しかし、これらの方法
では、誘電特性の大きく異なる2種類のセラミックと高
分子材料を合わせて少なくとも3種類の原材料を用いる
必要があるので、セラミックの分散状態が変動して特性
が変動し易く、実用には適していない。
Further, in order to improve the reliability of the circuit board, a technique for stabilizing the temperature characteristic of the relative permittivity has attracted attention and has been studied until now (for example, JP-A-4-16146).
1 gazette, special table 2000-510639 gazette). That is, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-161461 proposes a composite material that stabilizes the temperature coefficient of a ceramic having a positive relative dielectric constant temperature characteristic and a ceramic having a negative relative dielectric constant temperature characteristic and a polymer material. There is. In addition, special table 20
No. 00-510639 discloses a thermoplastic polymer,
A polymeric composition made from a high dielectric ceramic having a dielectric constant of at least about 50 at 1.0 GHz and 20 ° C. and a second ceramic material having a dielectric constant of at least about 5 at 1.0 GHz and 20 ° C. is proposed. Therefore, a polymer composition having a high dielectric constant that hardly changes with temperature is provided by using a high dielectric ceramic and a second ceramic material having positive and negative temperature coefficients. However, in these methods, since it is necessary to use at least three kinds of raw materials including two kinds of ceramics and polymer materials having greatly different dielectric properties, the dispersion state of the ceramics fluctuates and the characteristics tend to fluctuate. Not suitable for.

【0010】以上のような理由で、更に大きな比誘電
率、小さな誘電正接、小さな比誘電率の温度係数の三つ
の特性を有する樹脂系材料が強く望まれているものの、
このような樹脂系材料が実用レベルでは未だに提供され
ていないのが現状である。
For the above reasons, a resin material having three characteristics of a larger relative permittivity, a smaller dielectric loss tangent, and a smaller temperature coefficient of the relative permittivity is strongly desired.
At present, such a resin material has not yet been provided at a practical level.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の点に
鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、
1GHz以上の高周波数領域で大きな比誘電率と、小さ
な誘電正接と、小さな比誘電率の温度係数を有する熱可
塑性樹脂組成物及び成形品を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and its object is to:
It is intended to provide a thermoplastic resin composition and a molded product having a large relative dielectric constant, a small dielectric loss tangent, and a small temperature coefficient of the relative dielectric constant in a high frequency region of 1 GHz or more.

【0012】[0012]

【課題を解決する為の手段】本発明の請求項1に係る熱
可塑性樹脂組成物は、主としてシンジオタクチック構造
を有するスチレン系重合体と液晶ポリマー樹脂の少なく
とも一方からなる熱可塑性樹脂と、焼結時特性が1MH
zでの比誘電率が18〜130、f・Q値が2000以
上、−20℃〜80℃における共振周波数温度係数が−
2〜35ppm/℃の固溶体である無機充填材とを含有
して成ることを特徴とするものである。
The thermoplastic resin composition according to claim 1 of the present invention comprises a thermoplastic resin mainly composed of at least one of a styrene polymer having a syndiotactic structure and a liquid crystal polymer resin, and a baking resin. Resulting characteristic is 1MH
The relative dielectric constant at z is 18 to 130, the f · Q value is 2000 or more, and the temperature coefficient of the resonance frequency at −20 ° C. to 80 ° C. is −
It is characterized by containing an inorganic filler which is a solid solution of 2 to 35 ppm / ° C.

【0013】また請求項2の発明は、請求項1におい
て、無機充填材が、MgO,CaO,TiOからなる
固溶体、BaO,TiO,Nd,Sm
Biからなる固溶体、BaO,TiO,Nd
,Sm,Bi,MnCOからなる固溶
体、Nd,LiCO,TiOからなる固溶
体、Nd,LiCO,SrTiO,CaTi
,TiOからなる固溶体、から選ばれる少なくと
も1種の固溶体であることを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the inorganic filler is a solid solution of MgO, CaO, TiO 2 , BaO, TiO 2 , Nd 2 O 3 , Sm 2 O 3 ,
Bi 2 O 3 solid solution, BaO, TiO 2 , Nd 2
O 3 , Sm 2 O 3 , Bi 2 O 3 , solid solution composed of MnCO, Nd 2 O 3 , LiCO 3 , solid solution composed of TiO 2 , Nd 2 O 3 , LiCO 3 , SrTiO 3 , CaTi.
It is characterized in that it is at least one kind of solid solution selected from O 3 and TiO 2 .

【0014】また請求項3の発明は、請求項1又は2に
おいて、熱可塑性樹脂と無機充填材の合計100質量部
中で、熱可塑性樹脂10〜90質量部に対し、無機充填
材を90〜10質量部含有することを特徴とするもので
ある。
According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, the inorganic filler is contained in an amount of 90 to 90 parts by weight with respect to 10 to 90 parts by weight of the thermoplastic resin in a total of 100 parts by weight of the thermoplastic resin and the inorganic filler. It is characterized by containing 10 parts by mass.

【0015】また請求項4の発明は、請求項1乃至3の
いずれかにおいて、上記熱可塑性樹脂と無機充填材の他
に、酸化剤可溶性無機充填材を含有することを特徴とす
るものである。
The invention of claim 4 is characterized in that, in any one of claims 1 to 3, in addition to the thermoplastic resin and the inorganic filler, an oxidant-soluble inorganic filler is contained. .

【0016】また請求項5の発明は、請求項4におい
て、熱可塑性樹脂と酸化剤可溶性無機充填材の合計10
0質量部中で、酸化剤可溶性無機充填材を5〜30質量
部含有することを特徴とするものである。
According to a fifth aspect of the present invention, in the fourth aspect, the thermoplastic resin and the oxidizer-soluble inorganic filler are added in a total amount of 10
It is characterized by containing 5 to 30 parts by mass of the oxidizer-soluble inorganic filler in 0 part by mass.

【0017】また請求項6の発明は、請求項4又は5に
おいて、酸化剤可溶性無機充填材は、平均粒子径が6μ
m以下であることを特徴とするものである。
The invention of claim 6 is the same as in claim 4 or 5, wherein the oxidizing agent-soluble inorganic filler has an average particle size of 6 μm.
It is characterized by being m or less.

【0018】また請求項7の発明は、請求項4乃至6の
いずれかにおいて、酸化剤可溶性無機充填材が炭酸カル
シウムであることを特徴とするものである。
The invention of claim 7 is characterized in that, in any one of claims 4 to 6, the oxidizing agent-soluble inorganic filler is calcium carbonate.

【0019】また請求項8の発明は、請求項1乃至7の
いずれかにおいて、主としてシンジオタクチック構造を
有するスチレン系重合体は、パラレルプレート法により
温度300℃、角速度100rad/sの条件下で測定
したときの溶融粘度が、1〜250Pa・sであること
を特徴とするものである。
According to the invention of claim 8, in any one of claims 1 to 7, the styrene-based polymer mainly having a syndiotactic structure is subjected to a parallel plate method at a temperature of 300 ° C. and an angular velocity of 100 rad / s. The melt viscosity measured is from 1 to 250 Pa · s.

【0020】また請求項9の発明は、請求項1乃至8の
いずれかにおいて、主としてシンジオタクチック構造を
有するスチレン系重合体は、昇温速度10℃/分、温度
330℃での質量減少が、5質量%以下であることを特
徴とするものである。
The invention of claim 9 is the styrene polymer according to any one of claims 1 to 8, wherein the styrene-based polymer mainly having a syndiotactic structure has a mass decrease at a temperature rising rate of 10 ° C / min and a temperature of 330 ° C. It is characterized by being 5 mass% or less.

【0021】また請求項10の発明は、請求項1乃至9
のいずれかにおいて、液晶ポリマー樹脂が、p−ヒドロ
キシ安息香酸のアセチル化物とポリエチレンテレフタレ
ートの共縮合から得られる、I型、II型、III型の液晶
性芳香族ポリエステルであることを特徴とするものであ
る。
Further, the invention of claim 10 is based on claims 1 to 9.
The liquid crystal polymer resin is a liquid crystalline aromatic polyester of type I, type II, or type III obtained from the cocondensation of acetylated p-hydroxybenzoic acid and polyethylene terephthalate. Is.

【0022】また請求項11の発明は、請求項1乃至1
0のいずれかにおいて、液晶ポリマー樹脂は、昇温速度
10℃/分、温度330℃での質量減少が、5質量%以
下であることを特徴とするものである。
The invention of claim 11 relates to claims 1 to 1.
In any one of 0, the liquid crystal polymer resin is characterized in that the mass reduction at a temperature rising rate of 10 ° C./min and a temperature of 330 ° C. is 5% by mass or less.

【0023】また請求項12の発明は、請求項1乃至1
1のいずれかにおいて、液晶ポリマー樹脂は、融点が3
00℃以上であることを特徴とするものである。
The invention of claim 12 is the same as claims 1 to 1.
In any one of 1, the liquid crystal polymer resin has a melting point of 3
It is characterized in that the temperature is 00 ° C. or higher.

【0024】また請求項13の発明は、請求項1乃至1
2のいずれかにおいて、無機充填材は、平均粒径が0.
1〜15μmであることを特徴とするものである。
Further, the invention of claim 13 is based on claims 1 to 1.
In any one of No. 2, the inorganic filler has an average particle size of 0.
It is characterized in that it is 1 to 15 μm.

【0025】また請求項14の発明は、請求項1乃至1
3のいずれかにおいて、無機充填材の表面に、無機水酸
化物と無機酸化物の少なくとも一方からなる無機コーテ
ィング層が形成されていることを特徴とするものであ
る。
Further, the invention of claim 14 is based on claims 1 to 1.
3 is characterized in that an inorganic coating layer composed of at least one of an inorganic hydroxide and an inorganic oxide is formed on the surface of the inorganic filler.

【0026】また請求項15の発明は、請求項14にお
いて、無機水酸化物あるいは無機酸化物が、チタン、ア
ルミニウム、ケイ素、ジルコニウム、スズ、亜鉛、アン
チモン及びマグネシウムからなる群の中から選ばれた少
なくとも1種の元素の、水酸化物あるいは酸化物である
ことを特徴とするものである。
According to a fifteenth aspect of the invention, in the fourteenth aspect, the inorganic hydroxide or the inorganic oxide is selected from the group consisting of titanium, aluminum, silicon, zirconium, tin, zinc, antimony and magnesium. It is characterized by being a hydroxide or an oxide of at least one element.

【0027】また請求項16の発明は、請求項14又は
15において、無機コーティング層に、無機充填材を構
成する無機化合物に含有される金属元素と同じ金属元素
の、水酸化物と酸化物の少なくとも一方を含有すること
を特徴とするものである。
According to a sixteenth aspect of the present invention, in the fourteenth or fifteenth aspect, the inorganic coating layer contains a hydroxide and an oxide of the same metal element as the metal element contained in the inorganic compound constituting the inorganic filler. It is characterized by containing at least one.

【0028】また請求項17の発明は、請求項13乃至
16のいずれかにおいて、無機充填材がアミノ基、又は
エポキシ基、又はメルカプト基を有するカップリング剤
で処理されていることを特徴とするものである。
The invention of claim 17 is characterized in that, in any one of claims 13 to 16, the inorganic filler is treated with a coupling agent having an amino group, an epoxy group, or a mercapto group. It is a thing.

【0029】また請求項18の発明は、請求項17にお
いて、無機充填材に処理するカップリング剤が、(N−
フェニル−γ−アミノプロピル)トリメトキシシランで
あることを特徴とするものである。
[0029] The invention of claim 18 is the method of claim 17, wherein the inorganic filler is (N-
It is a phenyl-γ-aminopropyl) trimethoxysilane.

【0030】本発明の請求項19に係る成形品は、請求
項1乃至18のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物を
射出成形することによって得られて成ることを特徴とす
るものである。
A molded article according to a nineteenth aspect of the present invention is characterized by being obtained by injection molding the thermoplastic resin composition according to any one of the first to eighteenth aspects.

【0031】また請求項20の発明は、請求項19にお
いて、1GHzでの比誘電率が3〜20であることを特
徴とするものである。
The invention of claim 20 is characterized in that, in claim 19, the relative dielectric constant at 1 GHz is 3 to 20.

【0032】また請求項21の発明は、請求項19又は
20において、1GHzでの誘電正接が0.002以下
であることを特徴とするものである。
The invention of claim 21 is characterized in that, in claim 19 or 20, the dielectric loss tangent at 1 GHz is 0.002 or less.

【0033】また請求項22の発明は、請求項19乃至
21のいずれかにおいて、−20℃〜80℃における1
MHzでの比誘電率の温度係数が、−1000〜100
0ppm/℃であることを特徴とするものである。
The invention according to claim 22 is the method according to any one of claims 19 to 21, wherein the temperature at -20 ° C to 80 ° C is 1 ° C.
Temperature coefficient of relative permittivity in MHz is -1000 to 100
It is characterized in that it is 0 ppm / ° C.

【0034】また請求項23の発明は、請求項19乃至
22のいずれかにおいて、熱可塑性樹脂組成物を射出成
形する際に少なくとも一種類の電極材料を一体化するこ
とによって、電極が形成されていることを特徴とするも
のである。
According to a twenty-third aspect of the present invention, in any one of the nineteenth to twenty-second aspects, an electrode is formed by integrating at least one kind of electrode material when the thermoplastic resin composition is injection molded. It is characterized by being present.

【0035】また請求項24の発明は、請求項23にお
いて、電極材料がマット面を有する金属箔であることを
特徴とするものである。
The invention of claim 24 is characterized in that in claim 23, the electrode material is a metal foil having a matte surface.

【0036】また請求項25の発明は、請求項19乃至
22のいずれかにおいて、メッキによって電極が形成さ
れていることを特徴とするものである。
The invention of claim 25 is characterized in that, in any one of claims 19 to 22, the electrode is formed by plating.

【0037】また請求項26の発明は、請求項19乃至
25のいずれかにおいて、電極の比抵抗が、1×10
−5Ω・cm以下であることを特徴とするものである。
The invention of claim 26 is based on any one of claims 19 to 25, wherein the specific resistance of the electrode is 1 × 10.
It is characterized by being −5 Ω · cm or less.

【0038】また請求項27の発明は、請求項23乃至
26のいずれかにおいて、電極の材料が銅であることを
特徴とするものである。
The invention of claim 27 is characterized in that in any one of claims 23 to 26, the material of the electrode is copper.

【0039】また請求項28の発明は、請求項23乃至
27のいずれかにおいて、電極の厚みが10〜110μ
mであることを特徴とするものである。
According to a twenty-eighth aspect of the present invention, in any one of the twenty-third to twenty-seventh aspects, the electrode has a thickness of 10 to 110 μm.
It is characterized by being m.

【0040】[0040]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below.

【0041】本発明に係る熱可塑性樹脂組成物は、熱可
塑性樹脂と無機充填材を主成分とするものであり、射出
成形することによって回路基板などを作製するために用
いられるものである。
The thermoplastic resin composition according to the present invention contains a thermoplastic resin and an inorganic filler as main components, and is used for producing a circuit board or the like by injection molding.

【0042】本発明において熱可塑性樹脂としては、主
としてシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合
体と、液晶ポリマーとを用いるものであり、いずれか一
方を単独で使用してもよく、両者を併用してもよい。
In the present invention, as the thermoplastic resin, a styrene polymer having a syndiotactic structure and a liquid crystal polymer are mainly used. Either one may be used alone, or both may be used in combination. May be.

【0043】ここで、本発明において熱可塑性樹脂とし
て用いる、上記の主としてシンジオタクチック構造を有
するスチレン系重合体(以下SPS樹脂と記することが
ある)は、ポリスチレン系樹脂のシンジオタクチック構
造を有するものであり、立体構造が主としてシンジオタ
クチック構造、すなわち、炭素−炭素結合から形成され
る主鎖に対して側鎖であるフェニル基や置換フェニル基
が交互に反対方向に位置する立体構造を有するものであ
る。そのタクティシティーは同位体炭素による核磁気共
鳴法(13C−NMR法)より定量することができる。
13C−NMR法により測定されるタクティシティー
は、連続する複数個の構成単位、例えば、2個の場合は
ダイアッド、3個の場合はトリアッド、5個の場合はペ
ンタッドの存在割合によって示すことができるが、本発
明にいう主としてシンジオタクチック構造を有するポリ
スチレン系樹脂とは、通常は、ダイアッドで75%以
上、好ましくは85%以上、又は、ペンタッド(ラセミ
ペンタッド)で30%以上、好ましくは、50%以上の
シンジオタクティシティーを有するポリスチレン、ポリ
(アルキルスチレン)、ポリ(ハロゲン化スチレン)、
ポリ(アルコキシスチレン)、ポリ(ビニル安息香酸エ
ステル)及びこれらの混合物、あるいはこれらを主成分
とする共重合体をいうものである。尚、ポリ(アルキル
スチレン)としては、ポリ(メチルスチレン)、ポリ
(エチルスチレン)、ポリ(イソプロピルスチレン)、
ポリ(t−ブチルスチレン)などがあり、ポリ(ハロゲ
ン化スチレン)としては、ポリ(クロロスチレン)、ポ
リ(ブロモスチレン)、ポリ(フルオロスチレン)など
がある。またポリ(アルコキシスチレン)としては、ポ
リ(メトキシスチレン)、ポリ(エトキシスチレン)な
どがある。これらのうち、本発明において特に好ましい
ポリスチレン系樹脂としては、ポリスチレン、ポリ(p
−メチルスチレン)、ポリ(m−メチルスチレン)、ポ
リ(p−t−ブチルスチレン)、ポリ(p−クロロスチ
レン)、ポリ(m−クロロスチレン)、ポリ(p−フル
オロスチレン)、更には、スチレンとp−メチルスチレ
ンとの共重合体を挙げることができる。
Here, the above-mentioned styrene-based polymer mainly having a syndiotactic structure (hereinafter sometimes referred to as SPS resin), which is used as a thermoplastic resin in the present invention, has a syndiotactic structure of polystyrene-based resin. The steric structure is mainly a syndiotactic structure, that is, a steric structure in which a phenyl group or a substituted phenyl group, which is a side chain with respect to a main chain formed from a carbon-carbon bond, is alternately located in opposite directions. I have. The tacticity can be quantified by a nuclear magnetic resonance method ( 13 C-NMR method) using isotope carbon.
Tacticity measured by the 13 C-NMR method may be represented by the presence ratio of a plurality of continuous constitutional units, for example, diad in the case of 2, triad in the case of 3, and pentad in the case of 5. However, the polystyrene-based resin having a predominantly syndiotactic structure as referred to in the present invention is usually 75% or more, preferably 85% or more in dyad, or 30% or more in pentad (racemic pentad), preferably , Polystyrene having a syndiotacticity of 50% or more, poly (alkylstyrene), poly (halogenated styrene),
The term refers to poly (alkoxystyrene), poly (vinyl benzoate) and mixtures thereof, or copolymers containing these as the main components. Incidentally, as poly (alkylstyrene), poly (methylstyrene), poly (ethylstyrene), poly (isopropylstyrene),
Examples of the poly (t-butyl styrene) include poly (t-butyl styrene), and examples of the poly (halogenated styrene) include poly (chlorostyrene), poly (bromostyrene), and poly (fluorostyrene). Examples of poly (alkoxystyrene) include poly (methoxystyrene) and poly (ethoxystyrene). Of these, particularly preferable polystyrene-based resins in the present invention are polystyrene and poly (p
-Methylstyrene), poly (m-methylstyrene), poly (pt-butylstyrene), poly (p-chlorostyrene), poly (m-chlorostyrene), poly (p-fluorostyrene), and A copolymer of styrene and p-methylstyrene can be mentioned.

【0044】これらのSPS樹脂として本発明では、溶
融粘度が、パラレルプレート法により温度300℃、角
速度100rad/sの条件下で測定して、1〜250
Pa・sであるものが好適に用いられる。溶融粘度が、
この範囲未満であれば、得られた成形品の機械的強度の
低下が大きくなり、又、この範囲を超えると、成形の際
の流動性が劣り成形時に未充填を起こし易い。ここでパ
ラレルプレート法は、厚み1mm×直径25mmのペレ
ットをハンドプレスで作製し、直径25mmの下部パラ
レルプレートの上にペレットを置いて上部パラレルプレ
ートを降ろして挟み、300℃で10分間保持した後に
測定をすることによって行われるものであり、例えば、
レオメトリックサイエンティフィック社製、アレス(商
品名)での測定が適当である。
In the present invention, these SPS resins have a melt viscosity of 1 to 250 as measured by the parallel plate method at a temperature of 300 ° C. and an angular velocity of 100 rad / s.
Those having Pa · s are preferably used. Melt viscosity
If it is less than this range, the mechanical strength of the obtained molded product is significantly lowered, and if it exceeds this range, the fluidity during molding is poor and unfilling easily occurs during molding. Here, in the parallel plate method, pellets having a thickness of 1 mm and a diameter of 25 mm are produced by a hand press, the pellets are placed on a lower parallel plate having a diameter of 25 mm, the upper parallel plate is lowered and sandwiched, and after holding at 300 ° C. for 10 minutes, It is done by measuring, for example,
The measurement with Ares (trade name) manufactured by Rheometric Scientific is suitable.

【0045】またこれらのSPS樹脂として本発明で
は、熱質量分析において、昇温速度10℃/分、温度3
30℃での質量減少が、5質量%以下であるものが好ま
しく用いられる。質量減少が5質量部を超えるものであ
ると、得られた成形品の表面にモールドデポジット(汚
れ)を生じるおそれがあるので好ましくない。質量減少
は小さいほど好ましく、0%が理想であるが、入手の可
能性などから実用上は0.1質量%である。
In the present invention, these SPS resins have a temperature rising rate of 10 ° C./min and a temperature of 3 in thermogravimetric analysis.
Those having a mass reduction of 5% by mass or less at 30 ° C. are preferably used. If the mass reduction exceeds 5 parts by mass, mold deposit (dirt) may occur on the surface of the obtained molded product, which is not preferable. The smaller the decrease in mass is, the more preferable, and 0% is ideal, but it is practically 0.1% by mass because of availability.

【0046】また、SPSの分子量分布は特に制限はな
く、さまざまなものを充当することが可能である。上記
のようなSPS樹脂は、融点が高く、従来のアタクチッ
ク構造のポリスチレン系樹脂に比べて耐熱性が格段に優
れている。このようなSPS樹脂は例えば、不活性炭化
水素溶媒中又は溶媒の不存在下に、チタン化合物、及び
水とトリアルキルアルミニウムの縮合生成物を触媒とし
て、スチレン系単量体(SPS樹脂に対応する単量体)
を重合することにより製造することができる(特開昭6
2−187708号公報参照)。
The molecular weight distribution of SPS is not particularly limited, and various kinds can be applied. The SPS resin as described above has a high melting point and is significantly superior in heat resistance to the conventional polystyrene resin having an atactic structure. Such an SPS resin is, for example, a styrene-based monomer (corresponding to an SPS resin in the presence of an inert hydrocarbon solvent or in the absence of a solvent, using a titanium compound and a condensation product of water and a trialkylaluminum as a catalyst. Monomer)
It can be produced by polymerizing
2-18708).

【0047】本発明において熱可塑性樹脂として用い
る、上記の液晶ポリマー樹脂としては、従来から成形材
料用途に使われているものであれば特に制限されない
が、p−ヒドロキシ安息香酸のアセチル化物とポリエチ
レンテレフタレートの共縮合から得られる、I型、II
型、III型の液晶性芳香族ポリエステル等を挙げること
ができる。このp−ヒドロキシ安息香酸のアセチル化物
とポリエチレンテレフタレートの共縮合から得られる、
I型、II型、III型の液晶性芳香族ポリエステルは、成
形して得られた成形品の力学特性が高く、また成形性が
良好である点で優れているので特に好ましい。
The above-mentioned liquid crystal polymer resin used as the thermoplastic resin in the present invention is not particularly limited as long as it has been conventionally used for molding material applications, but an acetylated product of p-hydroxybenzoic acid and polyethylene terephthalate. Form I, II obtained from the co-condensation of
Type and type III liquid crystalline aromatic polyesters and the like. Obtained from the cocondensation of this acetylated p-hydroxybenzoic acid and polyethylene terephthalate,
The I-type, II-type, and III-type liquid crystalline aromatic polyesters are particularly preferable because the molded products obtained by molding have high mechanical properties and excellent moldability.

【0048】またこの液晶ポリマー樹脂として本発明で
は、熱質量分析において、昇温速度10℃/分、温度3
30℃での質量減少が、5質量%以下であるものが好ま
しく用いられる。質量減少が5質量%を超えるものであ
ると、得られた成形品の表面にモールドデポジット(汚
れ)を生じるおそれがあるので好ましくない。質量減少
は小さいほど好ましく、0%が理想であるが、入手の可
能性などから実用上は0.1質量%が下限である。
In the present invention, this liquid crystal polymer resin has a temperature rising rate of 10 ° C./min and a temperature of 3 in thermogravimetric analysis.
Those having a mass reduction of 5% by mass or less at 30 ° C. are preferably used. If the mass reduction exceeds 5 mass%, mold deposit (dirt) may occur on the surface of the obtained molded product, which is not preferable. The smaller the mass loss is, the more preferable, and 0% is ideal, but 0.1 mass% is the lower limit in practical use due to availability and the like.

【0049】さらにこの液晶ポリマー樹脂として本発明
では、融点が300℃以上であるものが好ましい。この
ように融点が300℃以上の液晶ポリマーを用いること
によって、得られた成形品の半田耐熱性を高く得ること
ができるものである。液晶ポリマーの融点が高くなりす
ぎると、特殊な射出成形機を用いることが必要になるの
で、融点は400℃以下であることが望ましい。
Further, in the present invention, the liquid crystal polymer resin having a melting point of 300 ° C. or higher is preferable. By using a liquid crystal polymer having a melting point of 300 ° C. or higher as described above, the solder heat resistance of the obtained molded product can be increased. If the melting point of the liquid crystal polymer is too high, it is necessary to use a special injection molding machine, so the melting point is preferably 400 ° C. or lower.

【0050】上記のような液晶ポリマー樹脂としては、
例えば、住友化学工業(株)製「スミカスーパー」(商
品名)、日本石油化学(株)・Amoco社製「Xyda
r」(商品名)、ポリプラスチックス社・Hoechst Ce
lanese社製「Vectra」(商品名)、上野製薬
(株)製「UENOLCP」(商品名)、三菱エンジニ
アリングプラスチックス(株)製「ノバキュレート」
(商品名)、ユニチカ(株)製「ロッドラン」(商品
名)、東ソー(株)製「東ソーLCP」(商品名)等市
販の液晶ポリマー樹脂の中から適宜選択して使用するこ
とができる。
As the liquid crystal polymer resin as described above,
For example, “Sumika Super” (trade name) manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., “Xyda” manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd./Amoco
r "(trade name), Polyplastics Co., Hoechst Ce
"Vectra" (trade name) manufactured by lanese, "UENOLCP" (trade name) manufactured by Ueno Pharmaceutical Co., Ltd., "Novaculate" manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd.
(Commercial name), “Rod Run” (commercial name) manufactured by Unitika Ltd., “Tosoh LCP” (commercial name) manufactured by Tosoh Corp., and the like can be appropriately selected and used.

【0051】本発明において用いる無機充填材は、焼結
時特性が1MHzでの比誘電率が18〜130であり、
f・Q値が2000以上であり、−20℃〜80℃にお
ける共振周波数温度係数が−2〜35ppm/℃である
固溶体である。これらの評価はネットワークアナライザ
ーを用いて、比誘電率は両端短絡法で、FQ値は伝送ラ
イン法で、比誘電率の温度係数は空洞共振法で測定する
ことができる。熱可塑性樹脂組成物の比誘電率を大きく
するには、無機充填材として1MHzでの比誘電率が1
8以上のものを用いる必要がある、比誘電率は大きい程
望ましいが、130を超えるもので本発明に適したもの
は見当たらない。また無機充填材はf・Q値が2000
以上であって、大きいほど好ましいが、実質的な上限は
60000程度である。さらに−20℃〜80℃におけ
る共振周波数温度係数が−2〜35ppm/℃の無機充
填材を用いることによって、比誘電率の温度係数を安定
にすることができるものである。
The inorganic filler used in the present invention has a dielectric constant of 18 to 130 at 1 MHz when sintered,
The solid solution has an f · Q value of 2000 or more and a resonance frequency temperature coefficient at −20 ° C. to 80 ° C. of −2 to 35 ppm / ° C. These evaluations can be performed by using a network analyzer to measure the relative permittivity by the short-circuit method at both ends, the FQ value by the transmission line method, and the temperature coefficient of the relative permittivity by the cavity resonance method. In order to increase the relative dielectric constant of the thermoplastic resin composition, the relative dielectric constant at 1 MHz as an inorganic filler is 1
It is necessary to use a material having a relative permittivity of 8 or more. The larger the relative dielectric constant is, the more preferable. In addition, the inorganic filler has an fQ value of 2000.
It is above, and the larger the better, the more preferable, but the practical upper limit is about 60,000. Furthermore, by using an inorganic filler having a resonance frequency temperature coefficient of −20 to 80 ° C. of −2 to 35 ppm / ° C., the temperature coefficient of relative permittivity can be stabilized.

【0052】この無機充填材は複数の成分からなるもの
であるが、固溶体であるので各成分が均一に混在してお
り、誘電体特性は安定している。無機充填材として用い
る固溶体の中でも特に好ましいのは、MgO,CaO,
TiOからなる固溶体、BaO,TiO,Nd
,Sm,Biからなる固溶体、BaO,
TiO,Nd,Sm,Bi,Mn
COからなる固溶体、Nd,LiCO,TiO
からなる固溶体、Nd,LiCO,SrTi
,CaTiO,TiOからなる固溶体であり、
これらのうちの一種を単独で用いる他、二種以上の複数
種を併用することもできる。これらの固溶体は特に誘電
特性の点で本発明に適しているものである。尚、これら
の固溶体成分中の、例えば5質量%以下程度の少量成分
は、本発明の効果を損なわければ、無くても構わない。
Although this inorganic filler is composed of a plurality of components, since it is a solid solution, the components are uniformly mixed and the dielectric characteristics are stable. Among the solid solutions used as the inorganic filler, particularly preferred are MgO, CaO,
Solid solution of TiO 2 , BaO, TiO 2 , Nd 2 O
3 , Sm 2 O 3 , Bi 2 O 3 solid solution, BaO,
TiO 2, Nd 2 O 3, Sm 2 O 3, Bi 2 O 3, Mn
Solid solutions consisting of CO, Nd 2 O 3, LiCO 3, TiO
Solid solution consisting of 2 , Nd 2 O 3 , LiCO 3 , SrTi
A solid solution consisting of O 3 , CaTiO 3 , and TiO 2 ,
One of these may be used alone, or two or more may be used in combination. These solid solutions are particularly suitable for the present invention in terms of dielectric properties. In addition, a small amount component of about 5% by mass or less in these solid solution components may be omitted as long as the effects of the present invention are not impaired.

【0053】またこの無機充填材の粒径は、特に限定さ
れるものではないが、平均粒径が0.1〜15μmであ
るものが好ましい。平均粒径が0.1μm未満である
と、無機充填材の比表面積が比較的大きくなるために、
熱可塑性樹脂との濡れ性が低下して空気を巻きこみ、熱
可塑性樹脂との界面に空隙が生じて空隙に水分が入り込
むおそれがある。逆に平均粒径が15μmを超えると、
熱可塑性樹脂中に無機充填材を均一に分散させることが
難しくなる。
The particle size of the inorganic filler is not particularly limited, but an average particle size of 0.1 to 15 μm is preferable. If the average particle size is less than 0.1 μm, the specific surface area of the inorganic filler becomes relatively large,
There is a possibility that the wettability with the thermoplastic resin may be lowered and air may be entrained, a void may be generated at the interface with the thermoplastic resin, and water may enter the void. Conversely, if the average particle size exceeds 15 μm,
It becomes difficult to uniformly disperse the inorganic filler in the thermoplastic resin.

【0054】本発明で使用することができる固溶体であ
る無機充填材は公知のものであり、共立マテリアル
(株)などで市販されているものを入手して使用するこ
とが可能である。公知方法で製造するならば、例えばM
gO,CaO,TiOからなる固溶体であれば、各々
の成分の原材料を所定の化学量論比で混合した後、例え
ば800〜1200℃で焼成することで得ることができ
る。
The inorganic filler which is a solid solution that can be used in the present invention is a known one, and it is possible to obtain and use a commercially available one such as Kyoritsu Material Co., Ltd. If it is manufactured by a known method, for example, M
A solid solution composed of gO, CaO, and TiO 2 can be obtained by mixing the raw materials of the respective components at a predetermined stoichiometric ratio and then calcining at 800 to 1200 ° C., for example.

【0055】また本発明において無機充填材は、その表
面に無機水酸化物及び/又は無機酸化物からなる無機コ
ーティング層が形成された粒子であることが好ましい。
このように無機充填材の表面に無機水酸化物や無機酸化
物からなる無機コーティング層を形成することによっ
て、無機コーティング層を介して無機充填材が熱可塑性
樹脂と馴染みやすくなり、熱可塑性樹脂と無機充填材と
の密着性が向上するものである。
In the present invention, the inorganic filler is preferably particles having an inorganic coating layer made of an inorganic hydroxide and / or an inorganic oxide formed on the surface thereof.
By forming an inorganic coating layer composed of an inorganic hydroxide or an inorganic oxide on the surface of the inorganic filler in this way, the inorganic filler easily becomes compatible with the thermoplastic resin through the inorganic coating layer, and the thermoplastic resin The adhesiveness with the inorganic filler is improved.

【0056】無機コーティング層を形成する無機水酸化
物や無機酸化物としては、チタン、アルミニウム、ケイ
素、ジルコニウム、スズ、亜鉛、アンチモン及びマグネ
シウムからなる群の中から選ばれる少なくとも1種の元
素の水酸化物や酸化物が好ましい。これらの無機水酸化
物や無機酸化物は熱可塑性樹脂との馴染み性が特に優れ
ているので好ましいのである。
The inorganic hydroxide or inorganic oxide forming the inorganic coating layer is water of at least one element selected from the group consisting of titanium, aluminum, silicon, zirconium, tin, zinc, antimony and magnesium. Oxides and oxides are preferred. These inorganic hydroxides and inorganic oxides are preferable because they are particularly excellent in compatibility with the thermoplastic resin.

【0057】また無機充填材の表面に形成する無機コー
ティング層は、無機充填材を構成する無機化合物に含有
される金属元素と同じ金属元素の水酸化物及び/又は酸
化物によって形成するのが好ましい。つまり、無機充填
材がチタン酸ランタンからなる場合はチタン系の無機コ
ーティング層、無機充填材がチタン酸バリウムからなる
場合はアルミニウム系の無機コーティング層の無機コー
ティング層を、無機充填材の表面に形成することが好ま
しい。このものでは無機充填材と無機コーティング層と
の間の結合がより強固になるものである。
The inorganic coating layer formed on the surface of the inorganic filler is preferably formed of a hydroxide and / or an oxide of the same metal element as the metal element contained in the inorganic compound forming the inorganic filler. . That is, when the inorganic filler is lanthanum titanate, a titanium-based inorganic coating layer is formed on the surface of the inorganic filler, and when the inorganic filler is barium titanate, an aluminum-based inorganic coating layer is formed on the surface of the inorganic filler. Preferably. In this case, the bond between the inorganic filler and the inorganic coating layer becomes stronger.

【0058】さらに、無機コーティング層を多層構造に
形成し、無機充填材と接する側は無機充填材と馴染みの
良い無機コーティング層にすると共に熱可塑性樹脂と接
する側は熱可塑性樹脂や後述するカップリング剤と馴染
みの良い無機コーティング層にするようにしてもよい。
このようにすることによって無機充填材と熱可塑性樹脂
との間の結合がより強固になるものである。
Further, the inorganic coating layer is formed in a multi-layered structure, and the side in contact with the inorganic filler is an inorganic coating layer which is well compatible with the inorganic filler and the side in contact with the thermoplastic resin is a thermoplastic resin or a coupling described later. You may make it the inorganic coating layer with which an agent is familiar.
By doing so, the bond between the inorganic filler and the thermoplastic resin becomes stronger.

【0059】無機充填材の表面に無機コーティング層を
形成する方法としては、気相処理法(CVD法)や液相
処理法(液相反応を利用する方法)などを挙げることが
できる。液相処理法の場合、次のようにして無機コーテ
ィング層を形成することができる。例えば酸化チタンの
無機コーティング層の場合、四塩化チタンや硫酸チタニ
ウムを含む水溶液中に無機充填材を投入し、水溶液をp
H8.5〜10.5に調整することによって、酸化チタ
ンの無機コーティング層を形成することができる。この
とき、無機充填材の表面に形成する酸化チタンの無機コ
ーティング層の厚み(体積量)は、上記水溶液中のチタ
ンイオンの濃度によって調整することができる。また酸
化アルミニウムのコーティング層の場合、アルミン酸ナ
トリウム、塩化アルミニウム、硫酸アルミニウムを含む
水溶液中に無機充填材を投入し、水溶液をpH7程度に
調整することによって、酸化アルミニウムのコーティン
グ層形成することができる。このとき、無機充填材の表
面に形成する酸化アルミニウムの無機コーティング層の
厚みは、上記水溶液中のアルミニウムイオンの濃度で調
整することができる。さらに酸化ケイ素のコーティング
層を形成する場合には、ケイ酸塩を含む水溶液を使えば
良い。
Examples of the method for forming the inorganic coating layer on the surface of the inorganic filler include a vapor phase treatment method (CVD method) and a liquid phase treatment method (method utilizing a liquid phase reaction). In the case of the liquid phase treatment method, the inorganic coating layer can be formed as follows. For example, in the case of an inorganic coating layer of titanium oxide, the inorganic filler is put into an aqueous solution containing titanium tetrachloride and titanium sulfate, and the aqueous solution is
By adjusting to H8.5 to 10.5, the inorganic coating layer of titanium oxide can be formed. At this time, the thickness (volume amount) of the inorganic coating layer of titanium oxide formed on the surface of the inorganic filler can be adjusted by the concentration of titanium ions in the aqueous solution. In the case of a coating layer of aluminum oxide, the coating layer of aluminum oxide can be formed by introducing the inorganic filler into an aqueous solution containing sodium aluminate, aluminum chloride and aluminum sulfate and adjusting the pH of the aqueous solution to about 7. . At this time, the thickness of the inorganic coating layer of aluminum oxide formed on the surface of the inorganic filler can be adjusted by the concentration of aluminum ions in the aqueous solution. Further, when forming a coating layer of silicon oxide, an aqueous solution containing silicate may be used.

【0060】また、無機酸化物や無機水酸化物を2種類
以上用いた無機コーティング層を段階的あるいは同時に
形成する場合には、2種以上の塩を含む液を用いて膜が
析出するようにpHを調整することによって行なうこと
ができる。無機コーティング層を段階的に複数層に形成
する場合には、例えば四塩化チタンを溶解した液を用い
て、水酸化ナトリウムでpH調整することにより、無機
充填材の表面にチタン系の第1コーティング層を形成
し、次にその液にアルミン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリ
ウムを溶解させた後、硫酸でpH調整することにより、
その上にアルミニウム−シリコン系の第2コーティング
層を形成することができる。あるいは第2コーティング
層をアルミニウム系の層とし、その上にシリコン系の第
3コーティング層を形成するようにすることもできる。
When an inorganic coating layer containing two or more kinds of inorganic oxides or hydroxides is formed stepwise or simultaneously, a film containing two or more kinds of salts is used to form a film. This can be done by adjusting the pH. When the inorganic coating layers are formed in multiple layers stepwise, for example, by using a solution in which titanium tetrachloride is dissolved and adjusting the pH with sodium hydroxide, the titanium-based first coating is applied to the surface of the inorganic filler. After forming a layer, and then dissolving sodium aluminate and sodium silicate in the liquid, by adjusting the pH with sulfuric acid,
A second coating layer based on aluminum-silicon may be formed on the second coating layer. Alternatively, the second coating layer may be an aluminum-based layer, and the silicon-based third coating layer may be formed thereon.

【0061】尚、上記のように無機充填材の表面に無機
コーティング層を形成した後、表面の洗浄と乾燥を行う
ことが望ましい。特に洗浄は導電性成分が残留しないよ
うに細心の配慮を払いながら十分に行うことが重要であ
る。
It is desirable to wash and dry the surface after forming the inorganic coating layer on the surface of the inorganic filler as described above. In particular, it is important that the cleaning is performed thoroughly while paying close attention so that the conductive components do not remain.

【0062】さらに本発明では、無機充填材の表面に、
あるいは無機充填材に形成した無機コーティング層の表
面に、カップリング剤の処理を施しておくのが好まし
い。このようにカップリング剤で表面処理することによ
って、無機充填材と熱可塑性樹脂との馴染みがさらに良
くなって、無機充填材と熱可塑性樹脂との密着性が優れ
るものである。上記のカップリング剤としては、アミノ
基、エポキシ基、メルカプト基を有するカップリング剤
を用いることができるものであり、例えば、(N−フェ
ニル−γ−アミノプロピル)トリメトキシシラン、(2
−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、
(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシ
シラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
N−ビニルベンジルアミノエチル−アミノプロピルトリ
メトキシシラン塩酸塩、グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、
ビニルトリアセトキシシラン、クロロプロピルトリメト
キシシラン、アニリノプロピルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリメトキシシラン、オクタデシルジメチル[3−
(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロラ
イド、クロロプロピルメチルジメトキシシラン、メルカ
プトプロピルメチルジメトキシシラン、グリシドキシプ
ロピルメチルジメトキシシラン、ウレイドプロピルトリ
エトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメト
キシシラン、イソプロピルトリイソステアロイルチタネ
ート、イソプロピルトリス(ジオクチパイロホスフェー
ト)チタネート、イソプロピルトリス(N−アミノエチ
ル−アミノエチル)チタネート、イソプロピルトリオク
タノイルチタネート、アセトアルコキシアルミニウムジ
イソプロピレート等を挙げることができる。これらの中
でも(N−フェニル−γ−アミノプロピル)トリメトキ
シシランが、無機充填材と熱可塑性樹脂との密着性を高
める効果が高いので、特に好ましい。これは、熱可塑性
樹脂の化学構造と類似していることによる効果と考えら
れる。
Further, in the present invention, the surface of the inorganic filler is
Alternatively, the surface of the inorganic coating layer formed on the inorganic filler is preferably treated with a coupling agent. By thus surface-treating with the coupling agent, the compatibility between the inorganic filler and the thermoplastic resin is further improved, and the adhesiveness between the inorganic filler and the thermoplastic resin is excellent. As the coupling agent, a coupling agent having an amino group, an epoxy group, or a mercapto group can be used, and examples thereof include (N-phenyl-γ-aminopropyl) trimethoxysilane and (2
-Aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane,
(2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane,
N-vinylbenzylaminoethyl-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, glycidoxypropyltrimethoxysilane, mercaptopropyltrimethoxysilane,
Vinyltriacetoxysilane, chloropropyltrimethoxysilane, anilinopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, octadecyldimethyl [3-
(Trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride, chloropropylmethyldimethoxysilane, mercaptopropylmethyldimethoxysilane, glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, ureidopropyltriethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, isopropyltriisostearoyl titanate, isopropyl Examples thereof include tris (dioctypyrophosphate) titanate, isopropyl tris (N-aminoethyl-aminoethyl) titanate, isopropyltrioctanoyl titanate, and acetoalkoxyaluminum diisopropylate. Among these, (N-phenyl-γ-aminopropyl) trimethoxysilane is particularly preferable because it has a high effect of enhancing the adhesiveness between the inorganic filler and the thermoplastic resin. This is considered to be an effect due to the fact that it has a chemical structure similar to that of the thermoplastic resin.

【0063】上記の熱可塑性樹脂と無機充填材の配合量
は、熱可塑性樹脂と無機充填材の合計100質量部中
で、熱可塑性樹脂の10〜90質量部に対して、無機充
填材を90〜10質量部に設定するのが好ましい。熱可
塑性樹脂が10質量部未満であると、熱可塑性樹脂組成
物の溶融粘度が上昇して成形性が低下するおそれがあ
る。逆に熱可塑性樹脂が90質量部を超えると、無機充
填材を含有量が少なくなって比誘電率が比較的小さくな
り、回路基板を小型に形成することができず、機器の小
型化に対する寄与が期待できなくなるおそれがある。
The blending amount of the thermoplastic resin and the inorganic filler is 90 parts by weight of the inorganic filler with respect to 10 to 90 parts by weight of the thermoplastic resin in a total of 100 parts by weight of the thermoplastic resin and the inorganic filler. It is preferably set to 10 parts by mass. When the amount of the thermoplastic resin is less than 10 parts by mass, the melt viscosity of the thermoplastic resin composition may increase and the moldability may decrease. On the other hand, when the thermoplastic resin exceeds 90 parts by mass, the content of the inorganic filler becomes small and the relative dielectric constant becomes relatively small, so that the circuit board cannot be formed in a small size, which contributes to downsizing of the device. May not be expected.

【0064】次に本発明に係る熱可塑性樹脂組成物に
は、上記の熱可塑性樹脂と無機充填材の他に、酸化剤可
溶性無機充填材を配合する場合がある。このように酸化
剤可溶性無機充填材を配合して調製した熱可塑性樹脂組
成物を成形し、得られた成形品を酸化剤で処理すると、
成形品の表面に露出する酸化剤可溶性無機充填材が酸化
剤に溶出し、成形品の表面に微細な凹凸が生じて表面を
粗面化することができる。従って、成形品の表面にメッ
キを施す場合に、凹凸粗面によるアンカー効果でメッキ
皮膜の密着性を高く得ることができるのである。
Next, the thermoplastic resin composition according to the present invention may contain an oxidizer-soluble inorganic filler in addition to the above-mentioned thermoplastic resin and inorganic filler. Thus molding a thermoplastic resin composition prepared by blending an oxidizer-soluble inorganic filler, and treating the resulting molded article with an oxidant,
The oxidizer-soluble inorganic filler exposed on the surface of the molded product is eluted into the oxidizer, and fine irregularities are generated on the surface of the molded product, so that the surface can be roughened. Therefore, when plating is applied to the surface of the molded product, it is possible to obtain high adhesion of the plating film due to the anchor effect of the roughened surface.

【0065】この酸化剤可溶性無機充填材は、重クロム
酸、過マンガン酸、重クロム酸/硫酸混液、クロム酸、
クロム酸/硫酸混液等の酸化剤溶液に可溶なものから任
意に選択して使用することが可能であり、繊維状、粒
状、粉状、フレーク状等、様々な形状のものを用いるこ
とができる。例えば、繊維状の酸化剤可溶性無機充填材
としては、ウィスカー等が挙げられる。また粒状又はフ
レーク状の酸化剤可溶性無機充填材の材質としては、例
えば炭酸カルシウム、塩基性マグネシウムオキシサルフ
ェート、炭酸マグネシウム、ドロマイト、ドーソナイ
ト、水酸化マグネシウム、カオリン、パイオフェライ
ト、ゼオライト、ネフェライト、アダマイン、パリゴル
スカイト、三酸化アンチモン、酸化チタン、酸化鉄、酸
化マグネシウム、酸化亜鉛、金属粉末等を挙げることが
できる。これらは一種を単独で用いる他、複数を併用す
ることができるが、これらの中でも、特に炭酸カルシウ
ムが他の酸化剤可溶性無機充填材に比して電気特性など
の低下がみられないので好ましい。
This oxidizer-soluble inorganic filler is composed of dichromic acid, permanganate, dichromic acid / sulfuric acid mixture, chromic acid,
It is possible to arbitrarily select and use from those soluble in an oxidant solution such as chromic acid / sulfuric acid mixed solution, and it is possible to use various shapes such as fibrous, granular, powdery and flake-like. it can. Examples of the fibrous oxidant-soluble inorganic filler include whiskers and the like. Further, as the material of the granular or flaky oxidant-soluble inorganic filler, for example, calcium carbonate, basic magnesium oxysulfate, magnesium carbonate, dolomite, dawsonite, magnesium hydroxide, kaolin, pioferrite, zeolite, neferrite, adamine, Examples thereof include palygorskite, antimony trioxide, titanium oxide, iron oxide, magnesium oxide, zinc oxide and metal powder. These may be used alone or in combination of two or more. Of these, calcium carbonate is particularly preferable because it does not show deterioration in electrical characteristics as compared with other oxidant-soluble inorganic fillers.

【0066】酸化剤可溶性無機充填材の平均粒子径は、
6μm以下であることが好ましく、その中でも5μm以
下がより好ましく、4μm以下であることが更に好まし
い。
The average particle size of the oxidizer-soluble inorganic filler is
It is preferably 6 μm or less, more preferably 5 μm or less, and further preferably 4 μm or less.

【0067】そして酸化剤可溶性無機充填材の配合量
は、熱可塑性樹脂と酸化剤可溶性無機充填材の合計10
0質量部中で、酸化剤可溶性無機充填材が5〜30質量
部になるように設定するのが好ましい。酸化剤可溶性無
機充填材の配合量が5質量部未満であると、成形品にメ
ッキを施すにあたって、成形品の表面の粗面化が不十分
になってアンカーの不足により、メッキスキップの発生
や、メッキ皮膜の密着強度が不充分になるおそれがあ
る。逆に30質量部を超えると、熱可塑性樹脂組成物の
溶融粘度が上昇し、成形性が低下するおそれがある。
The compounding amount of the oxidizer-soluble inorganic filler is 10 in total of the thermoplastic resin and the oxidizer-soluble inorganic filler.
It is preferable that the content of the oxidizer-soluble inorganic filler is 5 to 30 parts by mass in 0 part by mass. When the compounding amount of the oxidizer-soluble inorganic filler is less than 5 parts by mass, when the molded product is plated, the roughening of the surface of the molded product is insufficient, and the lack of anchors causes the occurrence of plating skips. , The adhesion strength of the plating film may be insufficient. On the other hand, if it exceeds 30 parts by mass, the melt viscosity of the thermoplastic resin composition may increase, and the moldability may decrease.

【0068】また、本発明の熱可塑性樹脂組成物は、必
要に応じて、本発明の目的を損なわない限り、上記の熱
可塑性樹脂、無機充填材、酸化剤可溶性無機充填材の3
成分以外の、熱可塑性樹脂、エラストマー、無機物、難
燃性を付与する成分、酸化防止剤、結晶核剤、結晶化促
進剤、カップリング剤、離型剤、滑剤、着色剤、紫外線
吸収剤、帯電防止剤等を配合することができる。
If necessary, the thermoplastic resin composition of the present invention contains 3 parts of the above-mentioned thermoplastic resin, inorganic filler, and oxidizer-soluble inorganic filler unless the purpose of the present invention is impaired.
Other than components, thermoplastic resins, elastomers, inorganic substances, components imparting flame retardancy, antioxidants, crystal nucleating agents, crystallization accelerators, coupling agents, release agents, lubricants, colorants, UV absorbers, An antistatic agent or the like can be added.

【0069】上記の熱可塑性樹脂、エラストマーとして
は、例えば、ノルボルネン系樹脂、ポリオレフィン樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリオキシメチレン樹脂、ポリ
メチルペンテン樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリフ
ッ化ビニリデン樹脂、ポリアミド樹脂(ナイロン6樹
脂、ナイロン66樹脂、ナイロン610樹脂、共重合ナ
イロン樹脂)、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート
樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹
脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリエーテルエーテ
ルケトン樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエーテルイミ
ド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリ
スチレン樹脂、AS樹脂、ABS樹脂、フェノキシ樹
脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリテトラフルオロエ
チレン樹脂、石油樹脂、石炭樹脂、ノルボルネン系の樹
脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、
ウレタン樹脂等の合成樹脂やポリオレフィンゴム、オレ
フィン系共重合体、水素添加ゴム等のエラストマーを挙
げることができる。これらは、2種類以上を混合して使
用することもできる。
Examples of the above-mentioned thermoplastic resins and elastomers include norbornene resins, polyolefin resins, polyester resins, polyoxymethylene resins, polymethylpentene resins, polyvinylidene chloride resins, polyvinylidene fluoride resins, polyamide resins (nylon 6). Resin, nylon 66 resin, nylon 610 resin, copolymer nylon resin), polycarbonate resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene ether resin, polyetheretherketone resin, polyacetal resin, polyetherimide resin, Polyamideimide resin, polyimide resin, polystyrene resin, AS resin, ABS resin, phenoxy resin, polyether nitrile resin, polytetrafluoroethylene resin, petroleum resin, Charcoal resin, norbornene resin, epoxy resin, phenol resin, silicone resin,
Examples thereof include synthetic resins such as urethane resin, and elastomers such as polyolefin rubber, olefin copolymer, and hydrogenated rubber. These can also be used as a mixture of two or more kinds.

【0070】上記の無機物としてはガラス繊維などを用
いることができるものであり、特に、アスペクト比5〜
1500のガラス短繊維を含有させると、成形して得ら
れる回路基板等の機械的強度が向上し好ましい。このガ
ラス短繊維の配合量としては、熱可塑性樹脂と無機充填
材と酸化剤可溶性無機充填材及びガラス短繊維の合計1
00質量部中に対してガラス短繊維を5〜30質量部の
範囲が好ましい。ガラス短繊維が5質量部未満の場合は
その添加効果を十分に得ることができず、逆に30質量
部を超える場合は成形性や成形品の誘電特性が低下する
場合がある。
As the above-mentioned inorganic material, glass fiber or the like can be used. In particular, the aspect ratio is 5 to 5.
Containing 1500 glass short fibers is preferable because the mechanical strength of a circuit board or the like obtained by molding is improved. The blending amount of this glass short fiber is 1 in total of the thermoplastic resin, the inorganic filler, the oxidizer-soluble inorganic filler and the glass short fiber.
The range of 5 to 30 parts by mass of glass short fibers is preferable with respect to 00 parts by mass. If the amount of short glass fibers is less than 5 parts by mass, the effect of addition cannot be sufficiently obtained, and conversely, if it exceeds 30 parts by mass, moldability and the dielectric properties of the molded product may deteriorate.

【0071】上記の難燃性を付与する成分の難燃剤とし
ては、一般に市販されているものを用いることができ、
テトラブロモブタン、ヘキサブロモベンゼン、ペンタブ
ロモ・エチルベンゼン、ヘキサブロモ・ビフェニル、ペ
ンタブロモクロロ・シクロヘキサン、テトラブロモ・ビ
スフェノオールS、トリス(2,3ジブロモプロピルー
1)イソシアヌレート、2,2−ビス[4(2,3ジブ
ロモプロポキシ)−3,5−ジブロモフェニル]プロパ
ン、ハロゲン化アセチレンアルコール、臭素化エポキ
シ、デカブロモジフェニルエーテル、テトラブロモビス
フェノールAやそのカーボネートオリゴマーをはじめと
する誘導体、オクタブロモジフェニルオキサイド、ペン
タブロモジフェニルオキサイド、テトラブロモフェノー
ル、ジブロモスチレン、ペンタブロモベンジルアクリレ
ート、テトラブロモスチレン、ポリジブロモフェニレン
オキサイド、ビストリブロモフェノキシエタン、テトラ
ブロモフェタレーテトジオール、テトラブロモ無水フタ
ル酸、ジブロモ・クレジル・グリシジルエーテル、エピ
ブロモヒドリン、ジブロモネオペンチル・グリコール、
トリブロモネオペンチルアルコール、エチレンビステト
ラブロモフタルイミド、ブロム化ポリスチレンなどの臭
素化物、塩素化パラフィン、塩素化ポリオレフィン、ジ
メチル・クロレンデート、無水クロレンド酸、テトラク
ロロ無水フタル酸、フェニル・フォスフォン酸ジクロリ
ド、などの塩素系難燃剤、ポリテトラフロロエチレンな
どのフッ素化合物、赤リン、トリフェニルフォスフェー
ト、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェー
ト、トリクレジルフォスフェート、トリキシレニルフォ
スフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、クレ
ジル2,6キシレニルフォスフェート、トリス(クロロ
エチル)フォスフェート、トリス(クロロプロピル)フ
ォスフェート、トリス(ジクロロプロピルフォスフェー
ト、トリス(トリブロモネオペンチル)フォスフェー
ト、ジエチルフェニルフォスフォネート、ジメチルフェ
ニルフォフォネート、ビスフェノールA−ビス(ジクレ
ジルフォスフェート)、縮合リン酸エステルなどのリン
化合物、メラミン、メラミンシアヌレート、リン酸メラ
ミン、スルファミン酸グアニジンなどの窒素化合物、メ
タホウ酸バリウム、ホウ酸亜鉛、無水ホウ酸亜鉛などの
ホウ素系化合物、シリコーンパウダー難燃剤、シリコー
ン樹脂などのケイ素含有化合物、水酸化アルミニウム、
水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸カルシウ
ム、カオリンクレー、アルミン酸カルシウム、水酸化チ
タン、水酸化亜鉛、ドーソナイト、2水和石膏、アンチ
モニー・シリコ・オキシドなどの無機系難燃剤、酸化ア
ンチモンなどの金属酸化物、低融点ガラス等がある。こ
れらは単独で用いても良いし、2種以上併用しても良
い。これらの中でも、臭素化物、特に臭素化ポリスチレ
ンが望ましい。形態については、分散性を高める点で、
粉末状の臭素化ポリスチレンが好ましい。粒径の大きい
ペレットでは、均一に分散し難く、熱可塑性樹脂組成物
中に分散のばらつきが起こる恐れがある。
As the flame retardant of the above-mentioned component imparting flame retardancy, those commercially available in general can be used,
Tetrabromobutane, hexabromobenzene, pentabromoethylbenzene, hexabromobiphenyl, pentabromochlorocyclohexane, tetrabromobisphenool S, tris (2,3dibromopropyl-1) isocyanurate, 2,2-bis [4 ( 2,3 dibromopropoxy) -3,5-dibromophenyl] propane, halogenated acetylene alcohol, brominated epoxy, decabromodiphenyl ether, derivatives including tetrabromobisphenol A and its carbonate oligomer, octabromodiphenyl oxide, pentabromo Diphenyl oxide, tetrabromophenol, dibromostyrene, pentabromobenzyl acrylate, tetrabromostyrene, polydibromophenylene oxide, bisto Bromophenoxy ethane, tetrabromobisphenol feta Lethe preparative diol, tetrabromophthalic anhydride, dibromo-cresyl-glycidyl ether, epibromohydrin, dibromo neopentyl glycol,
Tribromoneopentyl alcohol, bromide such as ethylenebistetrabromophthalimide, brominated polystyrene, chlorinated paraffin, chlorinated polyolefin, dimethyl chlorendate, chlorendic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, phenylphosphonic acid dichloride, etc. Chlorine-based flame retardants, fluorine compounds such as polytetrafluoroethylene, red phosphorus, triphenyl phosphate, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, cresyl 2, 6 Xylenyl phosphate, tris (chloroethyl) phosphate, tris (chloropropyl) phosphate, tris (dichloropropyl phosphate, tris (trib Moneopentyl) phosphate, diethyl phenyl phosphonate, dimethyl phenyl phosphonate, bisphenol A-bis (dicresyl phosphate), phosphorus compounds such as condensed phosphoric acid ester, melamine, melamine cyanurate, melamine phosphate, guanidine sulfamate, etc. Nitrogen compounds, barium metaborate, zinc borate, boron-based compounds such as anhydrous zinc borate, silicone powder flame retardants, silicon-containing compounds such as silicone resins, aluminum hydroxide,
Inorganic flame retardants such as magnesium hydroxide, calcium hydroxide, calcium carbonate, kaolin clay, calcium aluminate, titanium hydroxide, zinc hydroxide, dawsonite, dihydrate gypsum, antimony silico oxide, and metals such as antimony oxide. There are oxides, low melting point glass, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, bromide, especially brominated polystyrene, is preferable. Regarding the form, in terms of enhancing dispersibility,
Brominated polystyrene in powder form is preferred. With pellets having a large particle size, it is difficult to disperse uniformly, and there is a risk that dispersion will occur in the thermoplastic resin composition.

【0072】上記の酸化防止剤としては、リン系酸化防
止剤、フェノール系酸化防止剤等が挙げられる。これら
は単独で使用しても良いし、2種類以上を混合して使用
することもできる。結晶核剤としては、ジベンジリデン
ソルビトール系化合物、t−ブチル安息香酸のアルミニ
ウム塩、リン酸エステルのナトリウム塩等が挙げられ
る。これらは、単独で使用しても良いし、2種類以上を
混合して使用することもできる。
Examples of the above-mentioned antioxidants include phosphorus-based antioxidants and phenol-based antioxidants. These may be used alone or in combination of two or more. Examples of the crystal nucleating agent include dibenzylidene sorbitol compounds, aluminum salts of t-butylbenzoic acid, sodium salts of phosphoric acid esters, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

【0073】上記の滑剤としては、内部滑剤、外部滑剤
の両方が使用でき、炭化水素系、脂肪酸系、脂肪酸アミ
ド、脂肪酸エステル等が挙げられる。これらは、単独で
使用しても良いし、2種類以上を混合して使用すること
もできる。また着色剤としては、公知の各種顔料又は染
料を使用することができ、例えば、カーボンブラック等
の黒色顔料、赤口黄鉛等の橙色顔料、弁柄等の赤色染顔
料、コバルトバイオレット等の紫色染顔料、コバルトブ
ルー等の青色染顔料、フタロシアニングリーン等の緑色
染顔料等を、使用することができる。更に、詳しくは、
最新顔料便覧(日本顔料技術協会編、昭和52年発行)
を参考にして、この便覧に掲載されているものを使用す
ることができる。
As the above-mentioned lubricant, both an internal lubricant and an external lubricant can be used, and examples thereof include a hydrocarbon type, a fatty acid type, a fatty acid amide, a fatty acid ester and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Further, as the colorant, various known pigments or dyes can be used, for example, black pigments such as carbon black, orange pigments such as red-mouth yellow lead, red dyes and pigments such as Benji, purple dyes such as cobalt violet. Pigments, blue dyes such as cobalt blue, green dyes such as phthalocyanine green, and the like can be used. More specifically,
The latest pigment handbook (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977)
You can use the ones listed in this handbook with reference to.

【0074】本発明で用いる熱可塑性樹脂組成物を調製
する方法は、上記の各成分をヘンシェルミキサー等の混
合機で混合したり、あるいは必要に応じて予め必要成分
の一部をマスターバッチ化して混合した後、エクストル
ーダ等の混練機で溶融混練して、ペレタイズする方法な
どを採用することができる。勿論、これに限定されるも
のではない。
The thermoplastic resin composition used in the present invention is prepared by mixing the above-mentioned components with a mixer such as a Henschel mixer, or if necessary, preparing a part of the necessary components into a masterbatch in advance. After mixing, a method of pelletizing by melt-kneading with a kneader such as an extruder can be adopted. Of course, it is not limited to this.

【0075】上記のようにして得られる本発明に係る熱
可塑性樹脂組成物を射出成形することによって成形品を
得ることができる。そしてこの成形品は主として回路基
板に加工して用いることができるものであり、またこの
回路基板は主としてアンテナに加工して用いることがで
きるものである。
A molded article can be obtained by injection molding the thermoplastic resin composition according to the present invention obtained as described above. This molded product can be mainly processed and used as a circuit board, and this circuit board can be mainly processed and used as an antenna.

【0076】このようにして成形品は、高周波用途の回
路基板として用いる場合には、1GHzでの比誘電率が
3〜20、1GHzでの誘電正接が0.002以下、−
20℃〜80℃における1MHzでの比誘電率の温度係
数が、−1000〜1000ppm/℃であることが望
ましい。1GHzでの比誘電率を3〜20に設定するこ
とは、高周波用回路基板の小型化のために好ましい。ま
た1GHzでの誘電正接を0.002以下に設定するこ
とによって、伝送中の損失Pが少なくなるので好まし
い。さらに−20℃〜80℃における1MHzでの比誘
電率の温度係数を−1000〜1000ppm/℃に設
定することによって、基板の信頼性を高く得ることがで
きるので好ましい。
Thus, when the molded product is used as a circuit board for high frequency applications, the relative dielectric constant at 1 GHz is 3 to 20, and the dielectric loss tangent at 1 GHz is 0.002 or less.
The temperature coefficient of the relative dielectric constant at 1 MHz at 20 ° C to 80 ° C is preferably -1000 to 1000 ppm / ° C. Setting the relative dielectric constant at 1 GHz to 3 to 20 is preferable for downsizing the high frequency circuit board. Further, it is preferable to set the dielectric loss tangent at 1 GHz to 0.002 or less because the loss P during transmission is reduced. Furthermore, it is preferable to set the temperature coefficient of the relative dielectric constant at 1 MHz at −20 ° C. to 80 ° C. to −1000 to 1000 ppm / ° C., because the substrate can be highly reliable.

【0077】成形品を回路基板として用いる場合、成形
品の表面に電極を設ける必要がある。このように成形品
の表面に電極を設けるにあたっては、本発明に係る熱可
塑性樹脂組成物と射出成形する際に電極材料を同時に一
体化して、成形品の表面に電極材料で電極を形成するこ
とによって行なうことができる。例えば、電極材料とし
て銅箔等の金属箔を用い、金属箔を金型内にセットして
おいて熱可塑性樹脂を射出成形して金型に充填すること
によって、金属箔を成形品の表面に一体化することがで
き、金属箔で成形品の表面に電極を形成することができ
るものである。。電極材料として、電解銅箔のように光
沢面とマット面を有する金属箔を用いる場合、粗面であ
るマット面が成形品の表面に接着されるように使用する
のが好ましく、成形品との間で強い密着性を得ることが
できる。これは、マット面によるアンカー効果と成形時
の圧力の効果によるものである。
When the molded product is used as a circuit board, it is necessary to provide electrodes on the surface of the molded product. Thus, in providing the electrode on the surface of the molded product, the thermoplastic resin composition according to the present invention and the electrode material at the time of injection molding should be integrated at the same time to form the electrode on the surface of the molded product with the electrode material. Can be done by. For example, by using a metal foil such as a copper foil as an electrode material, setting the metal foil in a mold, injection-molding a thermoplastic resin, and filling the mold with the metal foil, the metal foil is formed on the surface of the molded product. It can be integrated, and the electrode can be formed on the surface of the molded product with the metal foil. . When a metal foil having a glossy surface and a matte surface such as an electrolytic copper foil is used as the electrode material, it is preferable to use it so that the matte surface, which is a rough surface, is adhered to the surface of the molded article. It is possible to obtain strong adhesion between them. This is due to the anchor effect of the matte surface and the effect of pressure during molding.

【0078】また、成形品を成形した後に、成形品の表
面にメッキを施して電極を形成するようにしてもよい。
このように成形品の表面にメッキを施すにあたって、上
記のように酸化剤可溶性無機充填材を配合した熱可塑性
樹脂組成物を成形して得られた成形品を用いることによ
って、メッキの前工程で成形品を酸化剤で処理して表面
を粗面化することができ、メッキ皮膜の密着性を高く得
ることができるものである。
After molding the molded product, the surface of the molded product may be plated to form the electrodes.
In performing plating on the surface of the molded product in this manner, by using the molded product obtained by molding the thermoplastic resin composition containing the oxidant-soluble inorganic filler as described above, the pre-plating step is performed. The molded product can be treated with an oxidizing agent to roughen the surface, and the adhesion of the plating film can be increased.

【0079】ここで、上記のように成形品に形成する電
極は比抵抗が1×10−5Ω・cm以下であることが好
ましい。比抵抗がこれより高いと高周波特性が低下して
しまうおそれがある。比抵抗は小さい程望ましい。この
ような条件を満たす電極材料としては銅が最も好まし
い。また電極の厚みは10〜110μmであることが好
ましい。電極の厚みが10μm以下になると、回路基板
をアンテナとして用いるにあたって、電波を受信し難く
なり、逆に電極の厚みが110μmを超えると、温度サ
イクル試験などで電極の剥離などが生じるおそれがあ
る。
Here, the electrode formed on the molded product as described above preferably has a specific resistance of 1 × 10 −5 Ω · cm or less. If the specific resistance is higher than this range, the high frequency characteristics may deteriorate. The smaller the specific resistance, the more desirable. Copper is most preferable as the electrode material satisfying such conditions. The thickness of the electrode is preferably 10 to 110 μm. When the thickness of the electrode is 10 μm or less, it becomes difficult to receive radio waves when the circuit board is used as an antenna. On the contrary, when the thickness of the electrode exceeds 110 μm, peeling of the electrode may occur in a temperature cycle test or the like.

【0080】[0080]

【実施例】次に、本発明を実施例によって説明する。EXAMPLES Next, the present invention will be explained by examples.

【0081】(実施例1〜20、比較例1)熱可塑性樹
脂、無機充填材、可溶性無機充填材及びカップリング剤
として、下記のものを用い、表1〜3に示す配合量で配
合して溶融混練することによって熱可塑性樹脂組成物を
得た。尚、カップリング剤は、無機充填材に直接噴霧し
て無機充填材の表面を処理するのに使用した。そしてこ
の熱可塑性樹脂組成物を射出成形することによって、成
形品を作製した。
(Examples 1 to 20, Comparative Example 1) The following were used as the thermoplastic resin, the inorganic filler, the soluble inorganic filler and the coupling agent, and blended in the blending amounts shown in Tables 1 to 3. A thermoplastic resin composition was obtained by melt-kneading. The coupling agent was used to treat the surface of the inorganic filler by directly spraying the inorganic filler. Then, a molded article was produced by injection molding the thermoplastic resin composition.

【0082】尚、実施例20の無機充填材Aは、以下の
方法で処理して得た。まず、MgO,CaO,TiOか
らなる固溶体粒子をヘキサメタリン酸ナトリウムを含む
溶液に添加混合し懸濁分散させた。次いで、その溶液
に、無機コーティング層の原料として、四塩化チタン、
アルミン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウムを添加した
後、硫酸を用いてpH調整を行うことにより、表面に無
機コーティング層を形成した。その後、洗浄し、120
℃で24時間乾燥を行うことにより、表面に無機コーテ
ィング層が形成されたチタニア粒子を得た。続いて、こ
の無機コーティング層が形成された粒子をカップリング
剤としてN−フェニル−γ−アミノプロピル)トリメト
キシシランを添加した水溶液中に分散させることによ
り、無機コーティング層の表面にカップリング剤を沈積
させた。その後、ろ過、乾燥して、粒子の表面に無機コ
ーティング層が形成され、更にその表面にカップリング
剤処理が施されている無機充填材Aを得た。 1.熱可塑性樹脂 ・樹脂A:主としてシンジオタクチック構造を有するス
チレン系重合体(出光石油化学(株)製ザレック「30
0ZC」、融点270℃、溶融粘度98Pa・s(パラ
レルプレート法、300℃、100rad/s)、33
0℃での質量減少−3.5質量%) ・樹脂B:主としてシンジオタクチック構造を有するス
チレン系重合体(出光石油化学(株)製「S100」、
融点270℃、溶融粘度54Pa・s(パラレルプレー
ト法、300℃、100rad/s)、330℃での質
量減少−4.5質量%) ・樹脂C:液晶ポリマー樹脂(住友化学工業(株)製
「E6000」、融点320℃、330℃での質量減少
−0.2質量%) 2.無機充填材 ・充填材A:MgO,CaO,TiOからなる固溶体
(共立マテリアル(株)製「Hf−20HQ」、1MH
zでの比誘電率20、f・Q値55000、−20℃〜
80℃における共振周波数温度係数10ppm/℃、平
均粒径1.3μm) ・充填材B:BaO,TiO,Nd,Sm
,Biからなる固溶体(共立マテリアル(株)
製「Hf-120」、1MHzでの比誘電率119、f
・Q値2500、−20℃〜80℃における共振周波数
温度係数25ppm/℃、平均粒径1.0μm) ・充填材C:BaO,TiO,Nd,Sm
,Bi,MnCOからなる固溶体(共立マテリ
アル(株)製「Hf−90HQ」、1MHzでの比誘電
率91、f・Q値5000、−20℃〜80℃における
共振周波数温度係数7ppm/℃、平均粒径1.1μ
m) ・充填材D:Nd,LiCO,TiO(共立
マテリアル(株)製「LINDT」、1MHzでの比誘
電率75、f・Q値5000、平均粒径2.5μm) ・充填材E:Nd,LiCO,SrTiO
CaTiO,TiOからなる固溶体(共立マテリア
ル(株)製「Hf−200」、1MHzでの比誘電率2
00、f・Q値2000、−20℃〜80℃における共
振周波数温度係数80ppm/℃、平均粒径0.9μ
m) ・充填材F:チタン酸マグネシウム(共立マテリアル
(株)製「MT−1F」、1MHzでの比誘電率18、
平均粒径1.5μm) ・充填材G:チタン酸カルシウム(共立マテリアル
(株)製「CT」、平均粒径1.5μm) 3.酸化剤可溶性無機充填剤 ・可溶性充填剤A:炭酸カルシウム(白石工業(株)製
「シルバー(品番W)」、平均粒径3.3μm) ・可溶性充填剤B:炭酸カルシウム(白石工業(株)製
「WHITON(品番P30)」、平均粒径5.5μ
m) ・可溶性充填剤C:炭酸カルシウム(白石工業(株)製
「WHITON(品番P50)」、平均粒径16.3μ
m) 4.カップリング剤 ・カップリング剤A:アミノシラン系カップリング剤
(日本ユニカー社製、品番「Y9669」:(N−フェ
ニル−γ−アミノプロピル)トリメトキシシラン) ・カップリング剤B:アミノシラン系カップリング剤
(日本ユニカー社製、品番「A1100」:γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン) ・カップリング剤C:エポキシシラン系カップリング剤
(信越シリコーン社製、品番「KBM403」:γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン) ・カップリング剤D:メルカプトシラン系カップリング
剤(東芝シリコーン社製、品番「TSL8380E」:
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン) ・カップリング剤E:ビニルシラン系カップリング剤
(東レシリコーン社製、品番「SZ6300」:ビニル
トリメトキシシラン) <評価> (1)誘電特性(誘電率、誘電正接) 実施例1〜20及び比較例1で得た成形品(形状、φ5
0mm×1mm)を用い、1MHzにおける比誘電率及
び誘電正接を測定した。また成形品を切断研磨して1.
7mm×1.7mm×78.0mmの形状に加工し、ネ
ットワークアナライザ、誘電体共振器テストフィクスチ
ャを用いて摂動法により、1GHz、3GHz、10G
Hzにおける比誘電率及び誘電正接を測定した。 (2)誘電特性(誘電率の温度係数) 実施例1〜20及び比較例1で得た成形品について、−
20℃から80℃における1MHzでの比誘電率の温度
係数をネットワークアナライザで測定した。
The inorganic filler A of Example 20 was obtained by the following method. First, solid solution particles composed of MgO, CaO, and TiO were added to and mixed with a solution containing sodium hexametaphosphate to be suspended and dispersed. Then, in the solution, as a raw material of the inorganic coating layer, titanium tetrachloride,
After adding sodium aluminate and sodium silicate, the pH was adjusted using sulfuric acid to form an inorganic coating layer on the surface. Then, wash and 120
The titania particles having the inorganic coating layer formed on the surface thereof were obtained by drying at 24 ° C. for 24 hours. Subsequently, the particles having the inorganic coating layer formed thereon are dispersed in an aqueous solution to which N-phenyl-γ-aminopropyl) trimethoxysilane has been added as a coupling agent, so that the coupling agent is provided on the surface of the inorganic coating layer. Deposited. Then, it was filtered and dried to obtain an inorganic filler A in which an inorganic coating layer was formed on the surface of the particles and the surface of which was treated with a coupling agent. 1. Thermoplastic resin / Resin A: A styrene-based polymer mainly having a syndiotactic structure (Zarek “30 manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd.”
0ZC ”, melting point 270 ° C., melt viscosity 98 Pa · s (parallel plate method, 300 ° C., 100 rad / s), 33
Weight loss at 0 ° C.-3.5% by mass) Resin B: A styrene polymer mainly having a syndiotactic structure (“S100” manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd.,
Melting point 270 ° C., melt viscosity 54 Pa · s (parallel plate method, 300 ° C., 100 rad / s), mass reduction at 330 ° C.-4.5% by mass) Resin C: liquid crystal polymer resin (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) "E6000", melting point 320 ° C, mass reduction at 330 ° C-0.2 mass%) 1. Inorganic filler / filler A: solid solution consisting of MgO, CaO, and TiO 2 (“Hf-20HQ” manufactured by Kyoritsu Material Co., Ltd., 1MH
z relative dielectric constant 20, fQ value 55000, -20 ° C ~
Resonance frequency temperature coefficient at 80 ° C. 10 ppm / ° C., average particle size 1.3 μm) Filler B: BaO, TiO 2 , Nd 2 O 3 , Sm 2 O
3 , a solid solution composed of Bi 2 O 3 (Kyoritsu Material Co., Ltd.)
"Hf-120" made, relative permittivity 119, f at 1MHz
-Q value 2500, temperature coefficient of resonance frequency at -20 ° C to 80 ° C: 25 ppm / ° C, average particle size 1.0 μm) -Filler C: BaO, TiO 2 , Nd 2 O 3 , Sm 2 O
Solid solution consisting of 3 , Bi 2 O 3 and MnCO (“Hf-90HQ” manufactured by Kyoritsu Material Co., Ltd., relative permittivity 91 at 1 MHz, f · Q value 5000, temperature coefficient of resonance frequency at −20 ° C. to 80 ° C. 7 ppm / ° C, average particle size 1.1μ
m) -Filler D: Nd 2 O 3 , LiCO 3 , TiO 2 (“LINDT” manufactured by Kyoritsu Materials Co., Ltd., relative permittivity of 75 at 1 MHz, f / Q value of 5000, average particle diameter of 2.5 μm). Filler E: Nd 2 O 3 , LiCO 3 , SrTiO 3 ,
Solid solution consisting of CaTiO 3 and TiO 2 (“Hf-200” manufactured by Kyoritsu Material Co., Ltd.), relative permittivity 2 at 1 MHz
00, f · Q value 2000, temperature coefficient of resonance frequency at −20 ° C. to 80 ° C. 80 ppm / ° C., average particle size 0.9 μ
m) -Filler F: magnesium titanate ("MT-1F" manufactured by Kyoritsu Materials Co., Ltd., relative permittivity at 1 MHz, 18,
Filler G: calcium titanate (“CT” manufactured by Kyoritsu Material Co., Ltd., average particle diameter 1.5 μm) 3. Oxidizing agent Soluble inorganic filler-Soluble filler A: Calcium carbonate ("Silver (product number W)" manufactured by Shiraishi Industry Co., Ltd., average particle size 3.3 µm) ・ Soluble filler B: Calcium carbonate (Shiroishi Industry Co., Ltd.) Made by "WHITON (product number P30)", average particle size 5.5μ
m) -Soluble filler C: calcium carbonate (“WHITON (product number P50)” manufactured by Shiraishi Industry Co., Ltd., average particle size 16.3μ)
m) 4. Coupling agent / Coupling agent A: Aminosilane-based coupling agent (manufactured by Nippon Unicar Co., product number “Y9669”: (N-phenyl-γ-aminopropyl) trimethoxysilane) -Coupling agent B: Aminosilane-based coupling agent (Nippon Unicar, product number “A1100”: γ-aminopropyltriethoxysilane) Coupling agent C: Epoxysilane-based coupling agent (Shin-Etsu Silicone product number “KBM403”: γ-glycidoxypropyltrimethoxy Silane) -Coupling agent D: Mercaptosilane-based coupling agent (manufactured by Toshiba Silicone, product number "TSL8380E":
3-Mercaptopropyltrimethoxysilane) -Coupling agent E: Vinylsilane coupling agent (Toray Silicone Co., product number "SZ6300": vinyltrimethoxysilane) <Evaluation> (1) Dielectric properties (dielectric constant, dielectric loss tangent) Molded articles obtained in Examples 1 to 20 and Comparative Example 1 (shape, φ5
(0 mm × 1 mm), the relative permittivity and dielectric loss tangent at 1 MHz were measured. In addition, the molded product is cut and polished to 1.
It is processed into a shape of 7 mm x 1.7 mm x 78.0 mm and is perturbed by a network analyzer and a dielectric resonator test fixture by 1 GHz, 3 GHz, 10 G
The relative permittivity and dielectric loss tangent at Hz were measured. (2) Dielectric Properties (Temperature Coefficient of Permittivity) Regarding the molded products obtained in Examples 1 to 20 and Comparative Example 1, −
The temperature coefficient of relative permittivity at 1 MHz from 20 ° C. to 80 ° C. was measured with a network analyzer.

【0083】これらの結果を表1乃至表3に示す。The results are shown in Tables 1 to 3.

【0084】[0084]

【表1】 [Table 1]

【0085】[0085]

【表2】 [Table 2]

【0086】[0086]

【表3】 [Table 3]

【0087】[0087]

【発明の効果】上記のように本発明の熱可塑性樹脂組成
物は、主としてシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体と液晶ポリマー樹脂の少なくとも一方からな
る熱可塑性樹脂と、焼結時特性が1MHzでの比誘電率
が18〜130、f・Q値が2000以上、−20℃〜
80℃における共振周波数温度係数が−2〜35ppm
/℃の固溶体である無機充填材とを含有するので、1G
Hz以上の高周波数領域で大きな比誘電率と、小さな誘
電正接と、小さな比誘電率の温度係数を有する成形品を
容易に得ることができるものである。
As described above, the thermoplastic resin composition of the present invention comprises a thermoplastic resin mainly composed of at least one of a styrene polymer having a syndiotactic structure and a liquid crystal polymer resin, and has a sintering property of 1 MHz. Relative permittivity of 18 to 130, f · Q value of 2000 or more, −20 ° C.
Resonance frequency temperature coefficient at 80 ℃ is -2 to 35ppm
Since it contains an inorganic filler which is a solid solution of 1 / ° C, 1G
It is possible to easily obtain a molded product having a large relative dielectric constant, a small dielectric loss tangent, and a small temperature coefficient of the relative dielectric constant in a high frequency region of Hz or higher.

【0088】また、熱可塑性樹脂と無機充填材の他に、
酸化剤可溶性無機充填材を含有するので、熱可塑性樹脂
組成物を成形して得られた成形品を酸化剤で処理するこ
とによって酸化剤可溶性無機充填材が溶出し、成形品の
表面に微細な凹凸を形成することができ、成形品の表面
にメッキを施すにあたってアンカー効果で密着性を高く
得ることができるものである。
In addition to the thermoplastic resin and the inorganic filler,
Since it contains an oxidizer-soluble inorganic filler, the oxidizer-soluble inorganic filler is eluted by treating the molded product obtained by molding the thermoplastic resin composition with an oxidizer, and fine particles are formed on the surface of the molded product. Concavities and convexities can be formed, and high adhesion can be obtained by the anchor effect when plating the surface of the molded product.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // H05K 1/03 610 H05K 1/03 610R B29K 25:00 B29K 25:00 67:00 67:00 105:16 105:16 Fターム(参考) 4F071 AA22 AA43 AB12 AB18 AB21 AF12 AF40 BC01 BC03 4F206 AA13 AA24 AB11 AB16 AC07 AD03 AD08 4J002 BC03W CF18X DC006 DE066 DE076 DE096 DE136 DE237 FB076 FB086 FB146 GQ05─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) // H05K 1/03 610 H05K 1/03 610R B29K 25:00 B29K 25:00 67:00 67:00 105 : 16 105: 16 F term (reference) 4F071 AA22 AA43 AB12 AB18 AB21 AF12 AF40 BC01 BC03 4F206 AA13 AA24 AB11 AB16 AC07 AD03 AD08 4J002 BC03W CF18X DC006 DE066 DE076 DE096 DE136 DE237 FB076 FB086 FB146 GQ05

Claims (28)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 主としてシンジオタクチック構造を有す
るスチレン系重合体と液晶ポリマー樹脂の少なくとも一
方からなる熱可塑性樹脂と、焼結時特性が1MHzでの
比誘電率が18〜130、f・Q値が2000以上、−
20℃〜80℃における共振周波数温度係数が−2〜3
5ppm/℃の固溶体である無機充填材とを含有して成
ることを特徴とする熱可塑性樹脂組成物。
1. A thermoplastic resin mainly composed of at least one of a styrene-based polymer having a syndiotactic structure and a liquid crystal polymer resin, and has a relative dielectric constant of 18 to 130 and a f · Q value at a sintering characteristic of 1 MHz. Is more than 2000,-
Resonance frequency temperature coefficient at 20 ° C to 80 ° C is -2 to 3
A thermoplastic resin composition comprising an inorganic filler which is a solid solution of 5 ppm / ° C.
【請求項2】 無機充填材が、MgO,CaO,TiO
からなる固溶体、BaO,TiO,Nd,S
,Biからなる固溶体、BaO,TiO
,Nd,Sm,Bi,MnCOか
らなる固溶体、Nd,LiCO,TiOから
なる固溶体、Nd,LiCO,SrTiO
CaTiO,TiOからなる固溶体、から選ばれる
少なくとも1種の固溶体であることを特徴とする請求項
1に記載の熱可塑性樹脂組成物。
2. The inorganic filler is MgO, CaO, TiO.
A solid solution consisting of 2 , BaO, TiO 2 , Nd 2 O 3 , S
BaO, TiO, a solid solution composed of m 2 O 3 and Bi 2 O 3.
2 , Nd 2 O 3 , Sm 2 O 3 , Bi 2 O 3 and MnCO solid solution, Nd 2 O 3 , LiCO 3 and TiO 2 solid solution, Nd 2 O 3 , LiCO 3 and SrTiO 3 ,
The thermoplastic resin composition according to claim 1, wherein the thermoplastic resin composition is at least one solid solution selected from CaTiO 3 and TiO 2 .
【請求項3】 熱可塑性樹脂と無機充填材の合計100
質量部中で、熱可塑性樹脂10〜90質量部に対し、無
機充填材を90〜10質量部含有することを特徴とする
請求項1又は2に記載の熱可塑性樹脂組成物。
3. A total of 100 thermoplastic resins and inorganic fillers.
90 parts by mass of the inorganic filler is contained in 10 parts by mass to 90 parts by mass of the thermoplastic resin in the mass part, and the thermoplastic resin composition according to claim 1 or 2.
【請求項4】 上記熱可塑性樹脂と無機充填材の他に、
酸化剤可溶性無機充填材を含有することを特徴とする請
求項1乃至3のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
4. In addition to the thermoplastic resin and the inorganic filler,
The thermoplastic resin composition according to claim 1, further comprising an oxidizer-soluble inorganic filler.
【請求項5】 熱可塑性樹脂と酸化剤可溶性無機充填材
の合計100質量部中で、酸化剤可溶性無機充填材を5
〜30質量部含有することを特徴とする請求項4に記載
の熱可塑性樹脂組成物。
5. The oxidizer-soluble inorganic filler is added in a total amount of 100 parts by mass of the thermoplastic resin and the oxidizer-soluble inorganic filler.
-30 mass parts is contained, The thermoplastic resin composition of Claim 4 characterized by the above-mentioned.
【請求項6】 酸化剤可溶性無機充填材は、平均粒子径
が6μm以下であることを特徴とする請求項4又は5に
記載の熱可塑性樹脂組成物。
6. The thermoplastic resin composition according to claim 4, wherein the oxidizing agent-soluble inorganic filler has an average particle size of 6 μm or less.
【請求項7】 酸化剤可溶性無機充填材が炭酸カルシウ
ムであることを特徴とする請求項4乃至6のいずれかに
記載の熱可塑性樹脂組成物。
7. The thermoplastic resin composition according to claim 4, wherein the oxidizing agent-soluble inorganic filler is calcium carbonate.
【請求項8】 主としてシンジオタクチック構造を有す
るスチレン系重合体は、パラレルプレート法により温度
300℃、角速度100rad/sの条件下で測定した
ときの溶融粘度が、1〜250Pa・sであることを特
徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の熱可塑性樹
脂組成物。
8. The melt viscosity of the styrene polymer mainly having a syndiotactic structure is 1 to 250 Pa · s when measured by a parallel plate method at a temperature of 300 ° C. and an angular velocity of 100 rad / s. The thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 7.
【請求項9】 主としてシンジオタクチック構造を有す
るスチレン系重合体は、昇温速度10℃/分、温度33
0℃での質量減少が、5質量%以下であることを特徴と
する請求項1乃至8のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組
成物。
9. A styrene-based polymer mainly having a syndiotactic structure is heated at a rate of 10 ° C./min and a temperature of 33.
The thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 8, wherein the mass reduction at 0 ° C is 5 mass% or less.
【請求項10】 液晶ポリマー樹脂が、p−ヒドロキシ
安息香酸のアセチル化物とポリエチレンテレフタレート
の共縮合から得られる、I型、II型、III型の液晶性芳
香族ポリエステルであることを特徴とする請求項1乃至
9のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
10. The liquid crystal polymer resin is a type I, type II, or type III liquid crystalline aromatic polyester obtained from the cocondensation of acetylated p-hydroxybenzoic acid and polyethylene terephthalate. Item 10. The thermoplastic resin composition according to any one of items 1 to 9.
【請求項11】 液晶ポリマー樹脂は、昇温速度10℃
/分、温度330℃での質量減少が、5質量%以下であ
ることを特徴とする請求項1乃至10のいずれかに記載
の熱可塑性樹脂組成物。
11. The liquid crystal polymer resin has a temperature rising rate of 10 ° C.
/ Min, the mass reduction at a temperature of 330 ° C. is 5% by mass or less, The thermoplastic resin composition according to claim 1.
【請求項12】 液晶ポリマー樹脂は、融点が300℃
以上であることを特徴とする請求項1乃至11のいずれ
かに記載の熱可塑性樹脂組成物。
12. The liquid crystal polymer resin has a melting point of 300 ° C.
It is above, The thermoplastic resin composition in any one of Claim 1 thru | or 11 characterized by the above-mentioned.
【請求項13】 無機充填材は、平均粒径が0.1〜1
5μmであることを特徴とする請求項1乃至12のいず
れかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
13. The inorganic filler has an average particle size of 0.1 to 1.
It is 5 micrometers, The thermoplastic resin composition in any one of Claim 1 thru | or 12 characterized by the above-mentioned.
【請求項14】 無機充填材の表面に、無機水酸化物と
無機酸化物の少なくとも一方からなる無機コーティング
層が形成されていることを特徴とする請求項1乃至13
のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
14. The inorganic coating layer comprising at least one of an inorganic hydroxide and an inorganic oxide is formed on the surface of the inorganic filler.
The thermoplastic resin composition according to any one of 1.
【請求項15】 無機水酸化物あるいは無機酸化物が、
チタン、アルミニウム、ケイ素、ジルコニウム、スズ、
亜鉛、アンチモン及びマグネシウムからなる群の中から
選ばれた少なくとも1種の元素の、水酸化物あるいは酸
化物であることを特徴とする請求項14に記載の熱可塑
性樹脂組成物。
15. The inorganic hydroxide or inorganic oxide is
Titanium, aluminum, silicon, zirconium, tin,
The thermoplastic resin composition according to claim 14, which is a hydroxide or an oxide of at least one element selected from the group consisting of zinc, antimony and magnesium.
【請求項16】 無機コーティング層に、無機充填材を
構成する無機化合物に含有される金属元素と同じ金属元
素の、水酸化物と酸化物の少なくとも一方を含有するこ
とを特徴とする請求項14又は15に記載の熱可塑性樹
脂組成物。
16. The inorganic coating layer contains at least one of a hydroxide and an oxide of the same metal element as the metal element contained in the inorganic compound constituting the inorganic filler. Or the thermoplastic resin composition as described in 15 above.
【請求項17】 無機充填材がアミノ基、又はエポキシ
基、又はメルカプト基を有するカップリング剤で処理さ
れていることを特徴とする請求項1乃至16のいずれか
に記載の熱可塑性樹脂組成物。
17. The thermoplastic resin composition according to claim 1, wherein the inorganic filler is treated with a coupling agent having an amino group, an epoxy group, or a mercapto group. .
【請求項18】 無機充填材に処理するカップリング剤
が、(N−フェニル−γ−アミノプロピル)トリメトキ
シシランであることを特徴とする請求項17に記載の熱
可塑性樹脂組成物。
18. The thermoplastic resin composition according to claim 17, wherein the coupling agent used for treating the inorganic filler is (N-phenyl-γ-aminopropyl) trimethoxysilane.
【請求項19】 請求項1乃至18のいずれかに記載の
熱可塑性樹脂組成物を射出成形することによって得られ
て成ることを特徴とする成形品。
19. A molded article obtained by injection molding the thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 18.
【請求項20】 1GHzでの比誘電率が3〜20であ
ることを特徴とする請求項19に記載の成形品。
20. The molded article according to claim 19, which has a relative permittivity of 3 to 20 at 1 GHz.
【請求項21】 1GHzでの誘電正接が0.002以
下であることを特徴とする請求項19又は20に記載の
成形品。
21. The molded product according to claim 19, wherein the dielectric loss tangent at 1 GHz is 0.002 or less.
【請求項22】 −20℃〜80℃における1MHzで
の比誘電率の温度係数が、−1000〜1000ppm
/℃であることを特徴とする請求項19乃至21のいず
れかに記載の成形品。
22. The temperature coefficient of relative permittivity at −20 ° C. to 80 ° C. at 1 MHz is −1000 to 1000 ppm.
22. The molded article according to any one of claims 19 to 21, wherein the molded article has a temperature of / ° C.
【請求項23】 熱可塑性樹脂組成物を射出成形する際
に少なくとも一種類の電極材料を一体化することによっ
て、電極が形成されていることを特徴とする請求項19
乃至22のいずれかに記載の成形品。
23. The electrode is formed by integrating at least one kind of electrode material during injection molding of the thermoplastic resin composition.
23. The molded product according to any one of 22 to 22.
【請求項24】 電極材料がマット面を有する金属箔で
あることを特徴とする請求項23に記載の成形品。
24. The molded product according to claim 23, wherein the electrode material is a metal foil having a matte surface.
【請求項25】 メッキによって電極が形成されている
ことを特徴とする請求項19乃至22のいずれかに記載
の成形品。
25. The molded product according to claim 19, wherein the electrode is formed by plating.
【請求項26】 電極の比抵抗が、1×10−5Ω・c
m以下であることを特徴とする請求項19乃至25のい
ずれかに記載の成形品。
26. The specific resistance of the electrode is 1 × 10 −5 Ω · c.
The molded article according to any one of claims 19 to 25, characterized in that it is m or less.
【請求項27】 電極の材料が銅であることを特徴とす
る請求項23乃至26のいずれかに記載の成形品。
27. The molded product according to claim 23, wherein the material of the electrode is copper.
【請求項28】 電極の厚みが10〜110μmである
ことを特徴とする請求項23乃至27のいずれかに記載
の成形品。
28. The molded product according to claim 23, wherein the electrode has a thickness of 10 to 110 μm.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004231841A (en) * 2003-01-31 2004-08-19 Fujikura Ltd Styrenic resin composition, film, base and molded article
JP2006310822A (en) * 2005-04-28 2006-11-09 Samsung Electro Mech Co Ltd Printed circuit board with built-in capacitors using hybrid material, and method of manufacturing the same
WO2011093391A1 (en) * 2010-01-29 2011-08-04 旭硝子株式会社 High-permittivity resin sheet, laminate, and process for production of high-permittivity resin sheet
WO2024029207A1 (en) * 2022-08-03 2024-02-08 株式会社村田製作所 Liquid crystal polymer film and laminate comprising same, and liquid crystal polymer film manufacturing method

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0841247A (en) * 1994-07-28 1996-02-13 Otsuka Chem Co Ltd Resin composition for electronic part
JPH11323046A (en) * 1998-05-18 1999-11-26 Matsushita Electric Works Ltd Resin composition
JP2000133045A (en) * 1998-10-21 2000-05-12 Murata Mfg Co Ltd Composite dielectric material and dielectric antenna utilizing the composite dielectric material
JP2001181522A (en) * 1999-12-28 2001-07-03 Matsushita Electric Works Ltd Thermoplastic resin composition, its production method, and molded article
JP2001335688A (en) * 2000-05-26 2001-12-04 Matsushita Electric Works Ltd Thermoplastic resin composition, method of producing the same, and package for housing up semi-conductor elements
JP2001335708A (en) * 2000-05-26 2001-12-04 Matsushita Electric Works Ltd Thermoplastic resin composition, method for producing the same, and package for enclosing semiconductor element
JP2002038005A (en) * 2000-07-26 2002-02-06 Matsushita Electric Works Ltd Thermoplastic resin composition, method for manufacturing the same, and semiconductor element housing package
JP2002105333A (en) * 2000-06-28 2002-04-10 Matsushita Electric Works Ltd Thermoplastic resin composition, method for producing the same, and package for receiving semiconductor element

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0841247A (en) * 1994-07-28 1996-02-13 Otsuka Chem Co Ltd Resin composition for electronic part
JPH11323046A (en) * 1998-05-18 1999-11-26 Matsushita Electric Works Ltd Resin composition
JP2000133045A (en) * 1998-10-21 2000-05-12 Murata Mfg Co Ltd Composite dielectric material and dielectric antenna utilizing the composite dielectric material
JP2001181522A (en) * 1999-12-28 2001-07-03 Matsushita Electric Works Ltd Thermoplastic resin composition, its production method, and molded article
JP2001335688A (en) * 2000-05-26 2001-12-04 Matsushita Electric Works Ltd Thermoplastic resin composition, method of producing the same, and package for housing up semi-conductor elements
JP2001335708A (en) * 2000-05-26 2001-12-04 Matsushita Electric Works Ltd Thermoplastic resin composition, method for producing the same, and package for enclosing semiconductor element
JP2002105333A (en) * 2000-06-28 2002-04-10 Matsushita Electric Works Ltd Thermoplastic resin composition, method for producing the same, and package for receiving semiconductor element
JP2002038005A (en) * 2000-07-26 2002-02-06 Matsushita Electric Works Ltd Thermoplastic resin composition, method for manufacturing the same, and semiconductor element housing package

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004231841A (en) * 2003-01-31 2004-08-19 Fujikura Ltd Styrenic resin composition, film, base and molded article
JP4489358B2 (en) * 2003-01-31 2010-06-23 株式会社フジクラ Substrate and molded product
JP2006310822A (en) * 2005-04-28 2006-11-09 Samsung Electro Mech Co Ltd Printed circuit board with built-in capacitors using hybrid material, and method of manufacturing the same
WO2011093391A1 (en) * 2010-01-29 2011-08-04 旭硝子株式会社 High-permittivity resin sheet, laminate, and process for production of high-permittivity resin sheet
WO2024029207A1 (en) * 2022-08-03 2024-02-08 株式会社村田製作所 Liquid crystal polymer film and laminate comprising same, and liquid crystal polymer film manufacturing method

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