JP2003332520A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2003332520A
JP2003332520A JP2002139422A JP2002139422A JP2003332520A JP 2003332520 A JP2003332520 A JP 2003332520A JP 2002139422 A JP2002139422 A JP 2002139422A JP 2002139422 A JP2002139422 A JP 2002139422A JP 2003332520 A JP2003332520 A JP 2003332520A
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Masahiro Kaminan
雅裕 上南
Yasuhiro Ishiyama
裕浩 石山
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which can improve EMS resistance and reduce spurious radiation noise by adding a capacity between power sources without increasing a mounting area. <P>SOLUTION: A first semiconductor chip 104 is mounted and fixed on a die pad 103. A second semiconductor chip 105 is face-down arranged face to face with the first chip 104. The first chip 104 is connected with the second chip 105 via bumps 102. A capacitance element 106 between power sources is disposed in the second chip 105 and connected with a lead 100 via bonding wire 101. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、同一パッケージに
複数の半導体チップを実装するシステムLSIのような
多機能な半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multifunctional semiconductor device such as a system LSI having a plurality of semiconductor chips mounted in the same package.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体技術の進展により、システムを1
つの半導体チップ上で実現するシステムLSIが主流と
なっている。システムLSIではチップ上にDRAMや
フラッシュメモリなどを混載することが多い。しかし、
混載されるメモリにおいては、その微細化のスピードが
ロジック部に比べて遅く、また混載プロセスの開発には
長期間を要する。
2. Description of the Related Art Due to the progress of semiconductor technology, system
A system LSI realized on one semiconductor chip has become the mainstream. In a system LSI, a DRAM, a flash memory, etc. are often mixedly mounted on the chip. But,
In the embedded memory, the speed of miniaturization is slower than that of the logic part, and it takes a long time to develop the embedded process.

【0003】こうした状況の中で、拡散プロセスの異な
る複数の半導体チップを同一パッケージに封止すること
でシステムLSIを実現する技術が注目されている。そ
の形態は様々で、大きく2種類に分けることができる。
Under these circumstances, a technique for realizing a system LSI by encapsulating a plurality of semiconductor chips having different diffusion processes in the same package is drawing attention. The form is various and can be roughly classified into two types.

【0004】一つ目は、ベースとなる半導体チップ(親
チップ;第1の半導体チップ)の表面に別のチップ(子
チップ;第2の半導体チップ)を表面向い合わせ状に対
向配置してバンプを介して接続する方法である。これ
は、子チップの表面が下向きになるため、フェイスダウ
ン法と呼ばれている。
First, bumps are formed by disposing another chip (child chip; second semiconductor chip) on the surface of a base semiconductor chip (parent chip; first semiconductor chip) so as to face each other. It is a method of connecting via. This is called the face-down method because the surface of the child chip faces downward.

【0005】二つ目は、親チップ上に子チップの裏面を
接着する方法である。チップの接続は、直接に、または
リードを介してのボンディングワイヤにより行われる。
これは、子チップの表面が上向きのため、フェイスアッ
プ法と呼ばれている。
The second method is to bond the back surface of the child chip onto the parent chip. Chips are connected directly or by bonding wires via leads.
This is called a face-up method because the surface of the child chip faces upward.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年の
技術進歩によるプロセスルールの微細化により、電源電
圧の低電圧化と動作周波数の高速化が加速的に進んでい
る。こうした微細化による高速化・低電圧化により、放
射ノイズが増加し、また逆に外来ノイズに対する耐性が
下がっている。
However, due to the miniaturization of the process rule due to the recent technological progress, the lowering of the power supply voltage and the higher operating frequency have been accelerated. Radiation noise increases due to speeding up and voltage reduction due to such miniaturization, and conversely, resistance to external noise is decreasing.

【0007】そこで、ノイズ対策として配線幅を広くし
て電源配線抵抗を低減させたり、チップ内にMOS容量
を形成し、電源間に挿入する手法が広く用いられてい
る。電源配線抵抗の低減のために配線幅を広くしたり、
ノイズ対策のために十分な容量をチップ内に挿入する
と、チップサイズの増加が避けられないという問題があ
る。
Therefore, as a measure against noise, a technique of widening the wiring width to reduce the power supply wiring resistance or forming a MOS capacitor in a chip and inserting it between power supplies is widely used. Wide the wiring width to reduce the power supply wiring resistance,
If a sufficient capacity is inserted into the chip as a countermeasure against noise, there is a problem that the increase in chip size cannot be avoided.

【0008】また、動作周波数の高速化に伴ってチップ
の発熱が大きくなる。特に、複数チップを同一パッケー
ジに実装する技術においては、半導体チップを縦方向に
重ねて実装する。この場合、チップ内における実装密度
が上昇し、発熱量が多く、放熱が困難になる。
Further, the heat generation of the chip increases as the operating frequency increases. In particular, in the technology of mounting a plurality of chips in the same package, semiconductor chips are stacked in the vertical direction and mounted. In this case, the mounting density in the chip increases, the amount of heat generated is large, and heat dissipation becomes difficult.

【0009】また、複数チップを積層して同一パッケー
ジに実装する場合、各チップの面積が同等であれば、親
チップのボンディングパッドが子チップに隠れるため、
リードへのワイヤ接続が不可能となり、外部との接続が
できないという問題がある。
Further, when a plurality of chips are stacked and mounted in the same package, if the areas of the chips are the same, the bonding pad of the parent chip is hidden by the child chip.
There is a problem that the wire connection to the lead becomes impossible and the external connection cannot be made.

【0010】また、高電位側電源または低電位側電源を
必要とする半導体チップ内の回路部は、高電位側電源ま
たは低電位側電源にワイヤ接続されたボンディングパッ
ドにつながる電源配線をチップ内に配線している。その
場合に、断線を誘発するエレクトロマイグレーションを
防止するために電源電流密度を低下させる必要からメタ
ル配線の幅を広くしていた。しかし、この配線領域をチ
ップ内に確保すると、チップ面積の縮小が困難となる。
Further, in the circuit section in the semiconductor chip which requires the high potential side power source or the low potential side power source, the power source wiring connected to the bonding pad wire-connected to the high potential side power source or the low potential side power source is provided in the chip. Wiring. In that case, the width of the metal wiring has been widened because it is necessary to reduce the power supply current density in order to prevent electromigration that causes disconnection. However, if this wiring region is secured in the chip, it becomes difficult to reduce the chip area.

【0011】また、電源電位の切り替えによって機能切
り替えをする機能可変型の制御回路をチップ上に構成す
る場合に、メタルオプション等のスイッチを設ける方式
がある。この場合、前記の機能切り替えのためのメタル
配線マスクの変更が必要となり、マスク製作のためのコ
ストアップが避けられない。また、メタルマスク工程か
らの変更となるため、顧客から注文を受けて製品を供給
するまでのターンアラウンドタイム(TAT:Turn Aro
und Time)が長くなってしまうという問題がある。
Further, there is a system in which a switch such as a metal option is provided when a function-variable control circuit for switching a function by switching a power supply potential is formed on a chip. In this case, it is necessary to change the metal wiring mask for switching the functions described above, and it is inevitable that the cost for manufacturing the mask is increased. In addition, since it is a change from the metal mask process, the turnaround time (TAT: Turn Aro) from receiving an order from a customer to supplying a product
There is a problem that und Time) becomes long.

【0012】本発明は、上記のような従来技術における
問題点を解消することを目的としている。
An object of the present invention is to solve the above problems in the prior art.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明は次のような手段を講じる。
In order to solve the above problems, the present invention takes the following means.

【0014】第1の解決手段として、本発明による半導
体装置は、互いに積層され互いに電気的に接続された複
数の半導体チップを備え、前記複数の半導体チップのう
ち少なくともいずれか1つが電源間容量素子を備えた構
成とされている。
As a first solution, the semiconductor device according to the present invention comprises a plurality of semiconductor chips stacked on each other and electrically connected to each other, and at least one of the plurality of semiconductor chips is an inter-power-source capacitance element. It is configured with.

【0015】この構成によれば、前記の電源間容量素子
を備えた半導体チップによって、外来ノイズの侵入に起
因する電源電位変動を抑制することができる。また、電
源間容量素子を備えた半導体チップが他の半導体チップ
を覆うためシールド効果が発揮され、第1の半導体チッ
プからのパッケージ外部への不要輻射ノイズを低減する
ことができる。
According to this structure, the semiconductor chip provided with the inter-power-source capacitance element can suppress the power-source potential fluctuation caused by the intrusion of external noise. Further, the semiconductor chip provided with the inter-power-source capacitance element covers the other semiconductor chips, so that the shielding effect is exerted, and unnecessary radiation noise from the first semiconductor chip to the outside of the package can be reduced.

【0016】上記第1の解決手段の構成は、より具体的
レベルでは次のものが好ましい。
The configuration of the first solving means is preferably the following on a more specific level.

【0017】その一は、第1の半導体チップと、前記第
1の半導体チップに対向配置されてバンプを介して電気
的に接続された第2の半導体チップとを備え、前記第1
の半導体チップと前記第2の半導体チップのいずれか一
方に電源配線および電源間容量素子が形成されている半
導体装置である。
One of them is provided with a first semiconductor chip and a second semiconductor chip which is arranged so as to face the first semiconductor chip and is electrically connected to the first semiconductor chip via a bump.
The semiconductor device in which the power supply wiring and the inter-power supply capacitive element are formed on either one of the semiconductor chip and the second semiconductor chip.

【0018】その二は、第1の半導体チップと、前記第
1の半導体チップ上に配置されてボンディングワイヤを
介して電気的に接続された第2の半導体チップとを備
え、前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップ
のいずれか一方に電源配線および電源間容量素子が形成
されている半導体装置である。
The second includes a first semiconductor chip and a second semiconductor chip arranged on the first semiconductor chip and electrically connected via a bonding wire, and the first semiconductor chip is provided. A semiconductor device in which a power supply wiring and an inter-power supply capacitive element are formed on either one of the chip and the second semiconductor chip.

【0019】上記のその一とその二との違いは、第1の
半導体チップと第2の半導体チップとの接続をバンプと
するかボンディングワイヤとするかである。前者の場合
には、両半導体チップが表面向かい合わせとなり、後者
の場合には、両半導体チップ表面が同一方向となる。い
ずれの場合も、上記同様に、電源間容量素子を備えた半
導体チップによって、外来ノイズの侵入に起因する電源
電位変動を抑制するとともに、チップ自身が持つシール
ド効果によってパッケージ外部への不要輻射ノイズを低
減する。
The difference between the first and the second is that the connection between the first semiconductor chip and the second semiconductor chip is a bump or a bonding wire. In the former case, both semiconductor chips face each other, and in the latter case, both semiconductor chip surfaces face in the same direction. In any case, similarly to the above, the semiconductor chip equipped with the inter-power supply capacitance element suppresses fluctuations in the power supply potential due to the intrusion of external noise, and the shield effect of the chip itself prevents unwanted radiation noise to the outside of the package. Reduce.

【0020】第2の解決手段として、本発明による半導
体装置は、互いに積層され互いに電気的に接続された複
数の半導体チップを備え、前記複数の半導体チップのう
ち少なくとも1組の隣接する半導体チップがP基板材料
で拡散された半導体チップとN基板材料で拡散された半
導体チップとであり、これら両半導体チップどうしが両
者間に容量素子を介在させる状態で裏面向かい合わせに
積層された構成とされている。
As a second solution, the semiconductor device according to the present invention comprises a plurality of semiconductor chips stacked on each other and electrically connected to each other, and at least one set of adjacent semiconductor chips among the plurality of semiconductor chips is A semiconductor chip diffused with a P substrate material and a semiconductor chip diffused with an N substrate material, and these two semiconductor chips are laminated so as to face each other with a capacitive element interposed therebetween. There is.

【0021】この構成によれば、前記積層状態で隣接し
ている2つの半導体チップにおいて、それぞれの基板材
料がP型とN型との極性を互いに逆にするものとなって
いる。したがって、これらを裏面向かい合わせで対向さ
せ、両者間に絶縁体を介在させれば、結果的に実質の容
量素子が形成されることになる。したがって、外来ノイ
ズの侵入に起因する電源電位変動を抑制するとともに、
そのために必要な容量素子の配置について、実装面積を
増加させることなく、電源間容量を挿入することができ
る。
According to this structure, in the two semiconductor chips that are adjacent to each other in the stacked state, the respective substrate materials have the P-type and N-type polarities opposite to each other. Therefore, if they are opposed to each other on the back side and an insulator is interposed between the two, a substantial capacitive element is eventually formed. Therefore, while suppressing fluctuations in power supply potential due to intrusion of external noise,
For the arrangement of the capacitive elements required for that purpose, the inter-power-source capacitance can be inserted without increasing the mounting area.

【0022】第3の解決手段として、本発明による半導
体装置は、ダイパッド上に実装された第1の半導体チッ
プと、前記第1の半導体チップに対向配置されてバンプ
を介して電気的に接続された第2の半導体チップとを備
えた構成とされ、さらに、前記第2の半導体チップはそ
の面積が前記第1の半導体チップよりも大きくされてい
る。
As a third means for solving the problem, the semiconductor device according to the present invention is arranged to face the first semiconductor chip mounted on the die pad and electrically connected to the first semiconductor chip via bumps. And a second semiconductor chip, and the area of the second semiconductor chip is larger than that of the first semiconductor chip.

【0023】この構成によれば、ダイパッド上の第1の
半導体チップに対して対向配置される第2の半導体チッ
プは、第1の半導体チップよりもパッケージの表面によ
り近い位置を占める。その第2の半導体チップのチップ
面積が第1の半導体チップよりも大きいので、パッケー
ジ表面からの放熱効率が向上する。なお、第2の半導体
チップの裏面にヒートシンク等の放熱装置を付加すれ
ば、さらに放熱効率が向上する。
According to this structure, the second semiconductor chip on the die pad arranged opposite to the first semiconductor chip occupies a position closer to the surface of the package than the first semiconductor chip. Since the chip area of the second semiconductor chip is larger than that of the first semiconductor chip, the efficiency of heat radiation from the package surface is improved. If a heat dissipation device such as a heat sink is added to the back surface of the second semiconductor chip, the heat dissipation efficiency will be further improved.

【0024】上記において好ましい態様は、前記ダイパ
ッドと前記第2の半導体チップとの間の隙間に放熱材料
が充填されていることである。これによれば、パッケー
ジ下面からの放熱効率を向上させることができる。
In the above-mentioned preferred mode, the heat radiation material is filled in the gap between the die pad and the second semiconductor chip. According to this, the heat dissipation efficiency from the lower surface of the package can be improved.

【0025】第4の解決手段として、本発明による半導
体装置は、ダイパッドに実装された第1の半導体チップ
と、前記第1の半導体チップに対向配置されてバンプを
介して電気的に接続された第2の半導体チップとを備え
た構成とされ、さらに、前記第2の半導体チップはその
サイズが前記第1の半導体チップとほぼ同一とされ、か
つ、前記第2の半導体チップがチップ面方向で前記第1
の半導体チップに対してずらされた状態で対向配置され
ている。
As a fourth solution, the semiconductor device according to the present invention is arranged so as to face the first semiconductor chip mounted on the die pad and electrically connected via a bump. A second semiconductor chip, the size of the second semiconductor chip is substantially the same as the size of the first semiconductor chip, and the second semiconductor chip is arranged in the chip surface direction. The first
Of the semiconductor chips are arranged so as to be offset from each other.

【0026】この構成によれば、第1の半導体チップの
上面において第2の半導体チップと重ならない周辺領域
のボンディングパッドは露出され、また、同様に、第2
の半導体チップの下面において第1の半導体チップと重
ならない周辺領域のボンディングパッドは露出されるた
め、両半導体チップとも、ボンディングワイヤを介して
のリードとの接続が可能となる。
According to this structure, the bonding pad in the peripheral region which does not overlap the second semiconductor chip is exposed on the upper surface of the first semiconductor chip, and similarly, the second bonding pad is also formed.
Since the bonding pad in the peripheral region which does not overlap with the first semiconductor chip is exposed on the lower surface of the semiconductor chip, the both semiconductor chips can be connected to the lead via the bonding wire.

【0027】既述のとおり、エレクトロマイグレーショ
ン対策としてメタル配線の幅を広くすることは、チップ
面積縮小を困難とする。また、機能可変型の制御回路の
ためのメタル配線マスクの変更はコストアップとターン
アラウンドタイムの増大を招く。
As described above, widening the metal wiring as a measure against electromigration makes it difficult to reduce the chip area. Further, the change of the metal wiring mask for the variable function control circuit causes an increase in cost and an increase in turnaround time.

【0028】そこで、第5の解決手段として、本発明は
次のような手段を講じる。すなわち、半導体チップの表
面に複数のボンディングパッドが形成された半導体装置
において、高電位側電源および低電位側電源にワイヤ接
続されたボンディングパッドを、同一の半導体チップに
おける別のボンディングパッド(チップ内ボンディング
パッド)に対してボンディングワイヤ(チップ内ボンデ
ィングワイヤ)を介して接続した構成としている。
Therefore, the present invention takes the following means as a fifth solution. That is, in a semiconductor device in which a plurality of bonding pads are formed on the surface of a semiconductor chip, a bonding pad wire-connected to a high-potential-side power source and a low-potential-side power source is replaced with another bonding pad (in-chip bonding) in the same semiconductor chip. The pad is connected via a bonding wire (bonding wire in a chip).

【0029】この構成によれば、エレクトロマイグレー
ション防止のための電源電流密度低下において、チップ
内ボンディングワイヤによって電源電流密度を充分小さ
くできるので、チップ内でメタル配線の幅を広くする必
要性を解消できる。その結果として、チップ面積の縮小
化を実現できる。また、チップ内ボンディングワイヤの
接続先を切り替えることによってチップ内ボンディング
パッドの電位を変更できるため、マスクオプション等の
マスク変更による接続切り替えが不要となり、コストダ
ウンおよびターンアラウンドタイム短縮を図ることがで
きる。
According to this structure, since the power supply current density can be sufficiently reduced by the bonding wire in the chip when the power supply current density is reduced to prevent electromigration, it is possible to eliminate the need to widen the width of the metal wiring in the chip. . As a result, the chip area can be reduced. Further, since the potential of the in-chip bonding pad can be changed by switching the connection destination of the in-chip bonding wire, it is not necessary to switch the connection by changing the mask such as the mask option, and it is possible to reduce the cost and the turnaround time.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図を用いて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0031】(実施の形態1)図1は本発明の実施の形
態1における半導体装置の構造を示す断面図と平面図で
ある。
(First Embodiment) FIG. 1 is a sectional view and a plan view showing a structure of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【0032】図1において、100はパッケージの内部
と外部とを電気的に接続するリード、101はボンディ
ングワイヤ、102はバンプ、103は半導体チップを
載置固定するダイパッド、104は第1の半導体チップ
(親チップ)、105は第2の半導体チップ(子チッ
プ)である。ダイパッド103はリードフレームの一部
を構成し、このダイパッド103に第1の半導体チップ
104をフェイスアップで載置固定している。第1の半
導体チップ104のボンディングパッドがボンディング
ワイヤ101を介してリード100に電気的に接続され
ている。第1の半導体チップ104の上に第2の半導体
チップ105がフェイスダウンに対向配置され、第1の
半導体チップ104と第2の半導体チップ105とがバ
ンプ102を介して電気的に接続されている。第2の半
導体チップ105の内部には電源間MOS容量のための
容量素子106が形成されており、この容量素子106
が第2の半導体チップ内の配線107、バンプ102、
第1の半導体チップ内の配線108、ボンディングワイ
ヤ101およびリード100を介して高電位側電源VD
D、低電位側電源VSSに接続されている。
In FIG. 1, 100 is a lead for electrically connecting the inside and the outside of the package, 101 is a bonding wire, 102 is a bump, 103 is a die pad for mounting and fixing a semiconductor chip, and 104 is a first semiconductor chip. (Parent chip), 105 is a second semiconductor chip (child chip). The die pad 103 constitutes a part of a lead frame, and the first semiconductor chip 104 is placed and fixed on the die pad 103 face up. The bonding pad of the first semiconductor chip 104 is electrically connected to the lead 100 via the bonding wire 101. The second semiconductor chip 105 is arranged face down on the first semiconductor chip 104, and the first semiconductor chip 104 and the second semiconductor chip 105 are electrically connected via the bumps 102. . A capacitance element 106 for inter-power MOS capacitance is formed inside the second semiconductor chip 105.
Are wirings 107, bumps 102 in the second semiconductor chip,
The high-potential-side power supply VD via the wiring 108, the bonding wire 101, and the lead 100 in the first semiconductor chip
D, connected to the low-potential-side power supply VSS.

【0033】以上の構成により、第2の半導体チップ1
05に形成された容量素子106の電源間MOS容量に
よって外部から侵入する電源ノイズを吸収し、EMS耐
性の向上を実現する。また、電源電位に固定された第2
の半導体チップ105により第1の半導体チップ104
からパッケージ外部に放射される不要輻射ノイズを低減
させる効果が得られる。また、第1の半導体チップ10
4上のMOS容量を低減できるため、実装面積の縮小化
を実現できる。
With the above configuration, the second semiconductor chip 1
The inter-power MOS capacitance of the capacitive element 106 formed in 05 absorbs power noise intruding from the outside, and improves the EMS resistance. In addition, the second fixed to the power supply potential
The semiconductor chip 105 of the first semiconductor chip 104
The effect of reducing unnecessary radiation noise radiated from the package to the outside of the package can be obtained. In addition, the first semiconductor chip 10
Since the MOS capacitance on 4 can be reduced, the mounting area can be reduced.

【0034】(実施の形態2)図2は本発明の実施の形
態2における半導体装置の構造を示す断面図と平面図で
ある。
(Second Embodiment) FIG. 2 is a sectional view and a plan view showing the structure of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【0035】本実施の形態2が実施の形態1と相違する
点は次のとおりである。ダイパッド103上にフェイス
アップで載置固定された第1の半導体チップ104の上
面に第2の半導体チップ105がフェイスアップで直接
に載置固定されている。第2の半導体チップ105にお
ける容量素子106がボンディングワイヤ101aを介
して第1の半導体チップ104上のボンディングパッド
102aに接続され、さらに、第1の半導体チップ10
4内の配線108、ボンディングワイヤ101を介して
リード100に接続されている。実施の形態1の場合に
は、第1の半導体チップ104と第2の半導体チップ1
05とが表面向かい合わせとなっているのに対して、本
実施の形態の場合には、第1の半導体チップ104の表
面と第2の半導体チップ105の表面が同一方向となっ
ている。その他の構成については実施の形態1の場合の
図1と同様であるので、同一部分に同一符号を付すにと
どめ、説明を省略する。
The second embodiment is different from the first embodiment in the following points. The second semiconductor chip 105 is directly mounted face-up on the upper surface of the first semiconductor chip 104 which is mounted face-up on the die pad 103. The capacitive element 106 in the second semiconductor chip 105 is connected to the bonding pad 102a on the first semiconductor chip 104 via the bonding wire 101a, and the first semiconductor chip 10 is further connected.
It is connected to the lead 100 via the wiring 108 in 4 and the bonding wire 101. In the case of the first embodiment, the first semiconductor chip 104 and the second semiconductor chip 1
In the present embodiment, the surface of the first semiconductor chip 104 and the surface of the second semiconductor chip 105 are in the same direction. Since other configurations are similar to those of the first embodiment shown in FIG. 1, the same parts are allotted with the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0036】本実施の形態においても、実施の形態1の
場合と同様の作用効果が発揮される。
Also in the present embodiment, the same operational effects as in the case of the first embodiment are exhibited.

【0037】(実施の形態3)図3は本発明の実施の形
態3における半導体装置の構造を示す断面図と平面図で
ある。
(Third Embodiment) FIG. 3 is a sectional view and a plan view showing the structure of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【0038】図3において、200はパッケージの内部
と外部とを電気的に接続するリード、201,201a
はボンディングワイヤ、203は配線基板、204はP
基板材料で拡散されたP基板チップ(第1の半導体チッ
プ)、205はN基板材料で拡散されたN基板チップ
(第2の半導体チップ)である。配線基板203上にバ
ンプ202を介して第1の半導体チップ204が電気的
かつ機械的に接続され、第1の半導体チップ204上に
容量素子(絶縁体)206を介在させる状態で第2の半
導体チップ205が積層されている。第1の半導体チッ
プ204と第2の半導体チップ205とはそれぞれの裏
面どうしの向かい合わせ状態で(すなわち背中合わせ状
態で)積層されている。配線基板203の周囲に配置の
リード200に対して第1の半導体チップ204がボン
ディングワイヤ201を介して接続され、リード200
に対して第2の半導体チップ205がボンディングワイ
ヤ201aを介して接続されている。
In FIG. 3, 200 is a lead for electrically connecting the inside and the outside of the package, and 201, 201a.
Is a bonding wire, 203 is a wiring board, and 204 is P
A P substrate chip (first semiconductor chip) diffused with the substrate material and 205 are N substrate chips (second semiconductor chip) diffused with the N substrate material. The first semiconductor chip 204 is electrically and mechanically connected to the wiring board 203 via the bumps 202, and the second semiconductor is provided with the capacitive element (insulator) 206 interposed on the first semiconductor chip 204. Chips 205 are stacked. The first semiconductor chip 204 and the second semiconductor chip 205 are stacked with their back surfaces facing each other (that is, back-to-back). The first semiconductor chip 204 is connected to the leads 200 arranged around the wiring board 203 via the bonding wires 201,
The second semiconductor chip 205 is connected to the second semiconductor chip 205 via the bonding wire 201a.

【0039】以上の構成により、P基板チップである第
1の半導体チップ204の裏面(低電位VSS)とN基
板チップである第2の半導体チップ205の裏面(高電
位VDD)とが絶縁体206を介して向かい合わせとな
っている。これは、結果的に実質の容量素子206を形
成していることになる。したがって、実装面積を増加さ
せることなく、電源間容量を挿入した構成となってい
る。その結果、外部から侵入する電源ノイズを吸収し、
EMS耐性の向上を実現することができる。
With the above configuration, the back surface of the first semiconductor chip 204 which is a P substrate chip (low potential VSS) and the back surface of the second semiconductor chip 205 which is an N substrate chip (high potential VDD) are insulators 206. Are facing each other. This results in the formation of a substantial capacitive element 206. Therefore, the structure is such that the inter-power-source capacitance is inserted without increasing the mounting area. As a result, it absorbs power supply noise that enters from the outside,
It is possible to improve the EMS resistance.

【0040】(実施の形態4)図4は本発明の実施の形
態4における半導体装置の構造を示す断面図と平面図で
ある。
(Fourth Embodiment) FIG. 4 is a sectional view and a plan view showing the structure of a semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention.

【0041】図4において、300はパッケージの内部
と外部とを電気的に接続するリード、301はボンディ
ングワイヤ、302はリードフレームの一部を構成する
ダイパッド、303は半導体チップ、310〜316は
チップ内部に形成されたチップ内ボンディングパッド、
320,321,322はチップ内ボンディングワイ
ヤ、330は機能可変型の制御回路である。
In FIG. 4, 300 is a lead for electrically connecting the inside and the outside of the package, 301 is a bonding wire, 302 is a die pad forming a part of a lead frame, 303 is a semiconductor chip, and 310 to 316 are chips. In-chip bonding pad formed inside,
320, 321, 322 are in-chip bonding wires, and 330 is a variable function control circuit.

【0042】半導体チップ303はダイパッド302上
にフェイスアップに載置固定されている。半導体チップ
303の周辺のボンディングパッドはボンディングワイ
ヤ301を介してリード300に電気的に接続されてい
る。チップ内ボンディングパッド310,314は高電
位側電源VDDに接続され、チップ内ボンディングパッ
ド312,316は低電位側電源VSSに接続されてい
る。
The semiconductor chip 303 is placed and fixed face-up on the die pad 302. Bonding pads around the semiconductor chip 303 are electrically connected to the leads 300 via bonding wires 301. The in-chip bonding pads 310 and 314 are connected to the high potential side power supply VDD, and the in-chip bonding pads 312 and 316 are connected to the low potential side power supply VSS.

【0043】チップ内ボンディングパッド310,31
1が互いにチップ内ボンディングワイヤ320を介して
接続され、チップ内ボンディングパッド312,313
が互いにチップ内ボンディングワイヤ321を介して接
続され、チップ内ボンディングパッド314,315が
互いにチップ内ボンディングワイヤ322を介して接続
されている。そして、チップ内ボンディングパッド31
5に機能可変型の制御回路330が接続されている。こ
の制御回路330は、チップ内ボンディングパッド31
5の電位によって機能を切り替えることができる回路で
ある。
In-chip bonding pads 310, 31
1 are connected to each other via in-chip bonding wires 320, and in-chip bonding pads 312, 313
Are connected to each other via in-chip bonding wires 321, and in-chip bonding pads 314 and 315 are connected to each other via in-chip bonding wires 322. Then, the in-chip bonding pad 31
A variable function control circuit 330 is connected to the control circuit 5. The control circuit 330 is used for the bonding pad 31 in the chip.
It is a circuit whose function can be switched by the potential of 5.

【0044】以上のように構成された半導体装置におい
て、機能可変型の制御回路330の機能を切り替えるに
は、チップ内ボンディングワイヤ322によるチップ内
ボンディングパッド315に対する電源接続を、チップ
内ボンディングパッド314とチップ内ボンディングパ
ッド316との間で切り替える。すなわち、高電位側電
源VDDに接続するか低電位側電源VSSに接続するか
によって機能の切り替えを行う。
In the semiconductor device configured as described above, in order to switch the function of the variable function control circuit 330, the power supply connection to the in-chip bonding pad 315 by the in-chip bonding wire 322 is changed to the in-chip bonding pad 314. Switching to the in-chip bonding pad 316. That is, the function is switched depending on whether it is connected to the high potential side power source VDD or the low potential side power source VSS.

【0045】以上のように本実施の形態においては、チ
ップ内部の電源配線をチップ内ボンディングワイヤで行
うようにしている。これにより、従来の半導体チップに
おいて幅の広い配線が必要であった電源配線を無くすこ
とができ、チップ面積の縮小化を実現できる。また、チ
ップ内ボンディングパッドの電位の切り替えを、チップ
内ボンディングワイヤの接続先の切り替えによって容易
に実現できる。
As described above, in the present embodiment, the power supply wiring inside the chip is performed by the bonding wire inside the chip. As a result, it is possible to eliminate the power supply wiring, which has required a wide wiring in the conventional semiconductor chip, and to reduce the chip area. Further, the switching of the potential of the in-chip bonding pad can be easily realized by switching the connection destination of the in-chip bonding wire.

【0046】(実施の形態5)図5は本発明の実施の形
態5における半導体装置の構造を示す断面図である。
(Fifth Embodiment) FIG. 5 is a sectional view showing a structure of a semiconductor device according to a fifth embodiment of the present invention.

【0047】図5において、400は第1の半導体チッ
プ、401はチップ面積が第1の半導体チップ400よ
りも大きい第2の半導体チップである。402はバン
プ、403はダイパッド、404は放熱材料、405は
放熱用のヒートシンクである。
In FIG. 5, 400 is a first semiconductor chip, and 401 is a second semiconductor chip having a chip area larger than that of the first semiconductor chip 400. Reference numeral 402 is a bump, 403 is a die pad, 404 is a heat dissipation material, and 405 is a heat sink for heat dissipation.

【0048】図示しないリードフレームの一部を構成す
るダイパッド403の上面に第1の半導体チップ400
がフェイスアップで載置固定され、第1の半導体チップ
400に対してより面積の大きな第2の半導体チップ4
01がフェイスダウンに対向配置され、第1の半導体チ
ップ400と第2の半導体チップ401とがバンプ40
2を介して電気的に接続されている。その場合に、第2
の半導体チップ401とダイパッド403および第1の
半導体チップ400との隙間に放熱材料404が充填さ
れている。そして、第2の半導体チップ401の裏面の
上にヒートシンク405が載置固定されている。なお、
モールドされた状態では、ヒートシンク405の放熱フ
ィン405aはモールド樹脂の外部に露出される。
The first semiconductor chip 400 is formed on the upper surface of the die pad 403 which constitutes a part of a lead frame (not shown).
Is mounted face-up and fixed, and the second semiconductor chip 4 having a larger area than the first semiconductor chip 400 is mounted.
01 are arranged face-down, and the first semiconductor chip 400 and the second semiconductor chip 401 are bumps 40.
It is electrically connected via 2. In that case, the second
The heat radiation material 404 is filled in the gaps between the semiconductor chip 401, the die pad 403, and the first semiconductor chip 400. The heat sink 405 is placed and fixed on the back surface of the second semiconductor chip 401. In addition,
In the molded state, the heat radiation fins 405a of the heat sink 405 are exposed to the outside of the molding resin.

【0049】以上のように構成された半導体装置におい
ては、ヒートシンク405に直接に接合された第2の半
導体チップ401の方が第1の半導体チップ400より
もチップ面積したがって放熱量が大きいので、その逆に
する場合に比べて、より高い放熱効率を得ることができ
る。
In the semiconductor device configured as described above, the second semiconductor chip 401 directly joined to the heat sink 405 has a larger chip area and therefore a larger amount of heat radiation than the first semiconductor chip 400. Higher heat dissipation efficiency can be obtained as compared with the case where it is reversed.

【0050】(実施の形態6)図6は本発明の実施の形
態6における半導体装置の構造を示す断面図と平面図で
ある。
(Sixth Embodiment) FIG. 6 is a sectional view and a plan view showing the structure of a semiconductor device according to a sixth embodiment of the present invention.

【0051】図6において、500はパッケージの内部
と外部とを電気的に接続するリード、501,501a
はボンディングワイヤ、502はダイパッド、503は
第1の半導体チップ、504は第2の半導体チップ、5
05はバンプである。
In FIG. 6, reference numeral 500 denotes leads for electrically connecting the inside and the outside of the package, 501 and 501a.
Is a bonding wire, 502 is a die pad, 503 is a first semiconductor chip, 504 is a second semiconductor chip, 5
Reference numeral 05 is a bump.

【0052】ダイパッド502の上に第1の半導体チッ
プ503がフェイスアップに載置固定されている。第1
の半導体チップ503に対して第2の半導体チップ50
4がフェイスダウンに対向されているが、この場合に、
第2の半導体チップ504は第1の半導体チップ503
と同一形状かつ同一チップサイズであり、第2の半導体
チップ504を第1の半導体チップ503に対してチッ
プ面方向に沿ってずらした状態に対向配置している。第
2の半導体チップ504と第1の半導体チップ503と
がバンプ505を介して電気的に接続されている。そし
て、第1の半導体チップ503の上面の周辺のボンディ
ングパッドがボンディングワイヤ501を介してリード
500に電気的に接続され、第2の半導体チップ504
の下面の周辺のボンディングパッドがボンディングワイ
ヤ501aを介してリード500に電気的に接続されて
いる。
The first semiconductor chip 503 is mounted face-up and fixed on the die pad 502. First
The second semiconductor chip 50 with respect to the semiconductor chip 503 of
4 is facing down, but in this case,
The second semiconductor chip 504 is the first semiconductor chip 503.
The second semiconductor chip 504 has the same shape and the same chip size as that of the first semiconductor chip 504, and is disposed so as to face the first semiconductor chip 503 in a state of being displaced along the chip surface direction. The second semiconductor chip 504 and the first semiconductor chip 503 are electrically connected via the bumps 505. Then, the bonding pads on the periphery of the upper surface of the first semiconductor chip 503 are electrically connected to the leads 500 via the bonding wires 501, and the second semiconductor chip 504.
Bonding pads around the lower surface of the are electrically connected to the leads 500 via the bonding wires 501a.

【0053】以上のように構成された本実施の形態の半
導体装置においては、チップ面積が互いに等しい2つの
半導体チップ503,504を積層する場合でも、各半
導体チップのボンディングパッドを露出させることがで
き、ボンディングワイヤを介してのリードとの接続が可
能となる。
In the semiconductor device of the present embodiment configured as described above, even when two semiconductor chips 503 and 504 having the same chip area are stacked, the bonding pad of each semiconductor chip can be exposed. It becomes possible to connect to the lead via the bonding wire.

【0054】[0054]

【発明の効果】本発明によると、第一に、積層された複
数の半導体チップのうちの少なくともいずれか1つの半
導体チップが電源間容量素子を備えていることにより、
実装面積を増加させることなく電源間容量を挿入するこ
とができ、その結果、外来ノイズの侵入による電源電位
変動を抑制し、電磁妨害対策のEMS(Electro-Magnet
ic Susceptibility:電磁波の感受性)耐性を向上させ
る効果を得る。また、容量を形成したチップは電源電位
に固定されているためシールド効果によってパッケージ
外部へ放射される不要輻射ノイズを低減させる効果を得
る。
According to the present invention, firstly, at least one semiconductor chip among a plurality of stacked semiconductor chips has an inter-power-source capacitance element,
Capacitors between power supplies can be inserted without increasing the mounting area, and as a result, fluctuations in power supply potential due to intrusion of external noise are suppressed, and EMS (Electro-Magnet
ic Susceptibility: The effect of improving resistance. Further, since the chip having the capacitance is fixed to the power supply potential, the effect of reducing unnecessary radiation noise radiated to the outside of the package due to the shield effect is obtained.

【0055】第二に、積層された複数の半導体チップの
うち少なくとも1組の隣接する半導体チップを、P基板
材料で拡散された半導体チップとN基板材料で拡散され
た半導体チップとし、これら両半導体チップどうしを両
者間に容量素子を介在させる状態で裏面向かい合わせに
積層することにより、実装面積を増加させることなく、
VDD(N基板裏面)とVSS(P基板裏面)の間に容
量を挿入することができ、その結果、外来ノイズの侵入
による電源電位変動を抑制し、EMS耐性を向上させる
効果を得る。
Second, at least one set of adjacent semiconductor chips among the plurality of stacked semiconductor chips is a semiconductor chip diffused with a P substrate material and a semiconductor chip diffused with an N substrate material, and these two semiconductor chips are combined. By stacking the chips facing each other with the capacitive element interposed between the chips, the mounting area is not increased,
Capacitors can be inserted between VDD (back surface of N substrate) and VSS (back surface of P substrate), and as a result, fluctuations in power supply potential due to intrusion of external noise are suppressed and EMS resistance is improved.

【0056】第三に、対向配置状態でバンプ接続された
第1の半導体チップと第2の半導体チップにつき、上側
の第2の半導体チップの面積を下側の第1の半導体チッ
プの面積よりも大きくしてあって、パッケージ表面に近
い側の第2の半導体チップが大きいので、放熱効率を向
上させる効果を得る。また、ダイパッドと第2の半導体
チップの間の隙間に放熱材料を充填することによって、
パッケージ下面からの放熱効率を向上させる効果を得
る。
Thirdly, the area of the second semiconductor chip on the upper side of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip which are bump-connected in the opposed arrangement state is smaller than the area of the first semiconductor chip on the lower side. Since the second semiconductor chip on the side close to the package surface is large, the heat dissipation efficiency is improved. Further, by filling the space between the die pad and the second semiconductor chip with the heat dissipation material,
The effect of improving the heat radiation efficiency from the lower surface of the package is obtained.

【0057】第四に、ほぼ同一サイズの2つの半導体チ
ップをチップ面方向でずらせて周辺領域のボンディング
パッドを露出させることにより、ほぼ同一サイズの2つ
の半導体チップを積層した半導体装置においても、両半
導体チップともボンディングワイヤを介してのリードと
の接続が可能となる。
Fourth, by shifting two semiconductor chips of substantially the same size in the chip surface direction to expose the bonding pads in the peripheral region, even in a semiconductor device in which two semiconductor chips of substantially the same size are stacked, It is possible to connect the semiconductor chip to the lead via the bonding wire.

【0058】第五に、半導体チップ上に形成したボンデ
ィングパッドを互いにボンディングワイヤで接続するこ
とにより、エレクトロマイグレーション対策では、チッ
プ内ボンディングワイヤによって電源電流密度を充分小
さくできるので、チップ内でメタル配線の幅を広くする
必要がなく、チップ面積の縮小化を実現できる。また、
チップ内ボンディングワイヤの接続先を切り替えること
によってチップ内ボンディングパッドの電位を変更でき
るため、マスクオプション等のマスク変更による接続切
り替えが不要となり、コストダウンおよびターンアラウ
ンドタイム短縮を図ることができる。
Fifth, by connecting the bonding pads formed on the semiconductor chip to each other by bonding wires, the power supply current density can be sufficiently reduced by the bonding wires in the chip in the electromigration countermeasure, so that the metal wiring in the chip is reduced. It is not necessary to increase the width, and the chip area can be reduced. Also,
Since the potential of the in-chip bonding pad can be changed by switching the connection destination of the in-chip bonding wire, it is not necessary to switch the connection by changing the mask such as the mask option, and the cost and turnaround time can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1における半導体装置の
構造を示す断面図と平面図
FIG. 1 is a sectional view and a plan view showing a structure of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の実施の形態2における半導体装置の
構造を示す断面図と平面図
FIG. 2 is a sectional view and a plan view showing a structure of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の実施の形態3における半導体装置の
構造を示す断面図と平面図
FIG. 3 is a sectional view and a plan view showing the structure of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の実施の形態4における半導体装置の
構造を示す断面図と平面図
FIG. 4 is a sectional view and a plan view showing a structure of a semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の実施の形態5における半導体装置の
構造を示す断面図
FIG. 5 is a sectional view showing a structure of a semiconductor device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の実施の形態6における半導体装置の
構造を示す断面図と平面図
FIG. 6 is a sectional view and a plan view showing the structure of a semiconductor device according to a sixth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100,200,300,500:リード 101,101a,201,201a,301,50
1,501a:ボンディングワイヤ 102,202,402,505:バンプ 102a:ボンディングパッド 103,302,403,502:ダイパッド 104,204,400,503:第1の半導体チップ 105,205,401,504:第2の半導体チップ 106:容量素子 203:配線基板 204:N基板チップ 205:P基板チップ 206:容量素子(絶縁体) 303:半導体チップ 310〜316:チップ内ボンディングパッド 320〜322:チップ内ボンディングワイヤ 330:機能可変型の制御回路 403:ダイパッド 404:放熱材料 405:ヒートシンク
100, 200, 300, 500: Leads 101, 101a, 201, 201a, 301, 50
1, 501a: bonding wires 102, 202, 402, 505: bumps 102a: bonding pads 103, 302, 403, 502: die pads 104, 204, 400, 503: first semiconductor chips 105, 205, 401, 504: first 2 semiconductor chip 106: Capacitance element 203: Wiring board 204: N board chip 205: P board chip 206: Capacitance element (insulator) 303: Semiconductor chips 310 to 316: In-chip bonding pads 320 to 322: In-chip bonding wires 330: variable function control circuit 403: die pad 404: heat dissipation material 405: heat sink

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 互いに積層され互いに電気的に接続され
た複数の半導体チップを備え、前記複数の半導体チップ
のうち少なくともいずれか1つが電源間容量素子を備え
ている半導体装置。
1. A semiconductor device comprising a plurality of semiconductor chips stacked on each other and electrically connected to each other, wherein at least one of the plurality of semiconductor chips comprises an inter-power-source capacitance element.
【請求項2】 第1の半導体チップと、前記第1の半導
体チップに対向配置されてバンプを介して電気的に接続
された第2の半導体チップとを備え、前記第1の半導体
チップと前記第2の半導体チップのいずれか一方に電源
配線および電源間容量素子が形成されている半導体装
置。
2. A first semiconductor chip, and a second semiconductor chip which is arranged to face the first semiconductor chip and is electrically connected via a bump, the first semiconductor chip and the first semiconductor chip A semiconductor device in which a power wiring and an inter-power capacitive element are formed on either one of the second semiconductor chips.
【請求項3】 第1の半導体チップと、前記第1の半導
体チップ上に配置されてボンディングワイヤを介して電
気的に接続された第2の半導体チップとを備え、前記第
1の半導体チップと前記第2の半導体チップのいずれか
一方に電源配線および電源間容量素子が形成されている
半導体装置。
3. A first semiconductor chip, and a second semiconductor chip disposed on the first semiconductor chip and electrically connected via a bonding wire, the first semiconductor chip and A semiconductor device in which a power wiring and an inter-power capacitive element are formed on either one of the second semiconductor chips.
【請求項4】 互いに積層され互いに電気的に接続され
た複数の半導体チップを備え、前記複数の半導体チップ
のうち少なくとも1組の隣接する半導体チップがP基板
材料で拡散された半導体チップとN基板材料で拡散され
た半導体チップとであり、これら両半導体チップどうし
が両者間に容量素子を介在させる状態で裏面向かい合わ
せに積層されている半導体装置。
4. A semiconductor chip and an N substrate having a plurality of semiconductor chips stacked on each other and electrically connected to each other, wherein at least one set of adjacent semiconductor chips among the plurality of semiconductor chips is diffused with a P substrate material. A semiconductor device having a semiconductor chip diffused with a material, and these two semiconductor chips are laminated so as to face each other with a capacitive element interposed therebetween.
【請求項5】 ダイパッド上に実装された第1の半導体
チップと、前記第1の半導体チップに対向配置されてバ
ンプを介して電気的に接続された第2の半導体チップと
を備え、前記第2の半導体チップはその面積が前記第1
の半導体チップよりも大きくされている半導体装置。
5. A first semiconductor chip mounted on a die pad, and a second semiconductor chip which is arranged so as to face the first semiconductor chip and is electrically connected via a bump, The area of the second semiconductor chip is the first
Semiconductor device that is larger than the semiconductor chip of.
【請求項6】 前記ダイパッドと前記第2の半導体チッ
プとの間の隙間に放熱材料が充填されている請求項5に
記載の半導体装置。
6. The semiconductor device according to claim 5, wherein a gap between the die pad and the second semiconductor chip is filled with a heat dissipation material.
【請求項7】 ダイパッドに実装された第1の半導体チ
ップと、前記第1の半導体チップに対向配置されてバン
プを介して電気的に接続された第2の半導体チップとを
備え、前記第2の半導体チップはそのサイズが前記第1
の半導体チップとほぼ同一とされ、かつ、前記第2の半
導体チップがチップ面方向で前記第1の半導体チップに
対してずらされた状態で対向配置されている半導体装
置。
7. A first semiconductor chip mounted on a die pad, and a second semiconductor chip which is arranged so as to face the first semiconductor chip and is electrically connected via a bump, wherein the second semiconductor chip is provided. The size of the semiconductor chip is
And a semiconductor device in which the second semiconductor chip is arranged so as to face the first semiconductor chip in the chip surface direction in a shifted state.
【請求項8】 半導体チップの表面に複数のボンディン
グパッドが形成されており、高電位側電源および低電位
側電源にワイヤ接続されたボンディングパッドが同一の
半導体チップにおける別のボンディングパッドに対して
ボンディングワイヤを介して接続されている半導体装
置。
8. A plurality of bonding pads are formed on the surface of a semiconductor chip, and a bonding pad wire-connected to a high potential side power source and a low potential side power source is bonded to another bonding pad in the same semiconductor chip. A semiconductor device connected via a wire.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008187050A (en) * 2007-01-30 2008-08-14 Toshiba Corp System in-package device
US7821069B2 (en) 2007-01-25 2010-10-26 Denso Corporation Semiconductor device and method for manufacturing the same
US8237289B2 (en) 2007-01-30 2012-08-07 Kabushiki Kaisha Toshiba System in package device

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