JP2003332359A - Method for manufacturing semiconductor device and semiconductor manufacturing apparatus - Google Patents

Method for manufacturing semiconductor device and semiconductor manufacturing apparatus

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JP2003332359A
JP2003332359A JP2002139415A JP2002139415A JP2003332359A JP 2003332359 A JP2003332359 A JP 2003332359A JP 2002139415 A JP2002139415 A JP 2002139415A JP 2002139415 A JP2002139415 A JP 2002139415A JP 2003332359 A JP2003332359 A JP 2003332359A
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春彦 深澤
Yoshiaki Makita
美明 蒔田
Masayuki Mochizuki
政幸 望月
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Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
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Renesas Technology Corp
Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To rapidly change setting of waiting positions of an upper claw and a lower claw corresponding to the thickness of a work, in a grip mechanism used for conveying a work. <P>SOLUTION: Waiting position contacts P1, P2 for a pair of upper claw and lower claw to be opened or closed by a cam mechanism are set on a large diameter vertex and on the small diameter vertex of a cam 21a for the upper claw. When the work is thick, the upper claw is made to wait at the waiting position contact for the upper claw set to the large diameter vertex; while when the work is thin, the waiting position contact P2 for the upper claw set to the small diameter vertex is waited so that the upper claw can be opened or closed at the gripping time of the shortest upper claw stroke, in response to the thickness of the work. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
技術に関し、特に、半導体装置の製造工程におけるワー
ク搬送で用いられるグリップ機構に適用して有効な技術
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device manufacturing technique, and more particularly to a technique effective when applied to a grip mechanism used for carrying a work in a semiconductor device manufacturing process.

【0002】[0002]

【従来の技術】以下に説明する技術は、本発明を研究、
完成するに際し、本発明者によって検討されたものであ
り、その概要は次のとおりである。
2. Description of the Related Art The techniques described below are for studying the present invention,
The present invention was studied by the present inventors upon completion, and its outline is as follows.

【0003】半導体装置の製造工程では、種々の工程が
連続して設けられ、隣接工程間では、直前の工程で処理
が完了したワークを隣接する次工程に搬送する作業が行
われる。搬送手段としては、搬送レール上のワークを背
後から押したり、あるいは回転ローラ間に挟んでローラ
推進させたり、あるいはワークの上下面を上下動する上
爪と下爪との間に挟持する手段など、種々の手段が適宜
採用されている。
In the manufacturing process of a semiconductor device, various processes are continuously provided, and between adjacent processes, a work in which a work completed in the immediately preceding process is transferred to an adjacent next process is performed. As the conveying means, there is a means for pushing the work on the conveying rail from the back, or for propelling the work by sandwiching it between rotating rollers, or for sandwiching the upper and lower surfaces of the work between upper and lower claws that move up and down. Various means are appropriately adopted.

【0004】例えば、半導体装置のパッケージ組立工程
では、それに使用されるダイボンダで、上爪と下爪とを
用いたグリップ搬送機構でリードフレームの搬送が行わ
れている。かかる工程では、ウエハをダイシングして切
り離された個々の半導体チップ(ダイとも言う)が、グ
リップ搬送機構により所定位置に搬送されるリードフレ
ームのダイパッド上に移載されて接着される。その後、
半導体チップ上のパッドとリードフレームのインナーリ
ードとのボンディングが行われる。
For example, in a semiconductor device package assembly process, a lead frame is carried by a grip carrying mechanism using upper and lower claws in a die bonder used for the same. In this step, individual semiconductor chips (also referred to as dies) that have been separated by dicing the wafer are transferred and bonded onto the die pad of the lead frame that is transferred to a predetermined position by the grip transfer mechanism. afterwards,
Bonding between the pads on the semiconductor chip and the inner leads of the lead frame is performed.

【0005】ダイボンディング工程では、フレームラッ
クに収納したリードフレームが、フレームローダを介し
て搬送レール上に引き出され、引き出されたリードフレ
ームが、グリップ機構部の下降する上爪と、上昇する下
爪との間に、レール上から少し浮かせた状態で挟持され
る。上爪、下爪とも、予め設定された待機位置、すなわ
ち、いっぱいに開いた爪高さの位置から下降、あるいは
上昇することとなる。
In the die bonding process, the lead frame housed in the frame rack is pulled out onto the transport rail via the frame loader, and the lead frame pulled out is the upper claw of the grip mechanism and the lower claw of the grip mechanism. It is sandwiched between the rail and the rail while being slightly floated from the rail. Both the upper claw and the lower claw are lowered or raised from the preset standby position, that is, the position of the fully opened claw height.

【0006】リードフレームは、長手方向に沿って相対
するその側縁部の複数箇所を、複数の上記グリップ機構
部の上下の爪で挟持され、その状態で、ダイボンディン
グを行う所定ステージまで搬送される。所定位置に搬送
されたリードフレームは、グリップ機構部の上爪と下爪
が開いてリードフレームを離すことにより、レール上に
載置される。その後、上爪と下爪は、元の待機位置まで
開かれ、次のリードフレームの搬送に備えることとな
る。
The lead frame is sandwiched by a plurality of upper and lower claws of a plurality of the grip mechanism portions at a plurality of side edge portions facing each other along the longitudinal direction, and in that state, the lead frame is conveyed to a predetermined stage for die bonding. It The lead frame conveyed to a predetermined position is placed on the rail by opening the upper and lower claws of the grip mechanism unit and separating the lead frame. After that, the upper claw and the lower claw are opened to the original standby position to prepare for the next lead frame conveyance.

【0007】かかる構成のグリップ搬送機構では、リー
ドフレームを挟持する上爪、下爪の待機位置は、次の2
つのいずれかの方法で設定されている。すなわち、待機
位置に相当する爪開高さを、そのダイボンダでの使用が
想定される最大厚さのリードフレームの厚さにクリアラ
ンスを加えた高さに予め一律に設定しておく方法と、厚
さの異なるリードフレーム毎にその厚さにクリアランス
を加えた高さに、都度設定替えをする方法とがある。
In the grip transfer mechanism having such a structure, the standby positions of the upper and lower claws for holding the lead frame are as follows.
Is set in one of two ways. That is, the claw opening height corresponding to the standby position is uniformly set in advance to a height obtained by adding clearance to the thickness of the lead frame having the maximum thickness expected to be used in the die bonder, and the thickness. There is a method of changing the setting each time to a height obtained by adding clearance to the thickness of each different lead frame.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記グリッ
プ方式で採用されている技術においては、以下の課題が
あることを本発明者は見出した。
However, the present inventor has found that the technique adopted in the above grip method has the following problems.

【0009】すなわち、予め上爪、下爪の両爪の待機位
置である爪開高さを、例えば、そのダイボンダで使用で
きるリードフレームなどの最大厚さのワークに合わせて
一律に設定しておく方法では、ワークが薄い程、ワーク
の挟持時あるいは搬送後にワークを離して元の待機位置
に戻るまでの上爪、下爪のストロークが長くなる。
That is, a method in which the open heights of the upper and lower claws, which are the standby positions of both the claws, are uniformly set in advance, for example, in accordance with the maximum thickness work such as a lead frame that can be used in the die bonder. Then, the thinner the work, the longer the stroke of the upper claw and the lower claw until the work is clamped or conveyed and then returned to the original standby position.

【0010】すなわち、ワークをグリップするまでの時
間がかかる。併せて、ワークの搬送後、次の動作に移る
に際して、両爪が(最大フレーム厚さ+クリアランス)
に相当する待機位置まで戻るまでに時間かかり、次工程
への移行時間が長くなる。
That is, it takes time to grip the work. At the same time, after moving the work, when moving to the next operation, both pawls (maximum frame thickness + clearance)
It takes time to return to the standby position corresponding to, and the transition time to the next process becomes long.

【0011】一方、搬送ユニットの上爪、下爪の待機位
置である爪開高さを、(対象フレーム厚さ+クリアラン
ス)に合わせて調節する方法では、ワークの厚さが異な
る度に爪開高さの設定変更をしなければならず、その都
度かなりの手間がかかる。
On the other hand, in the method of adjusting the claw opening height, which is the standby position of the upper claw and the lower claw of the transport unit, according to (target frame thickness + clearance), the claw opening height is changed every time the work thickness changes. It is necessary to change the setting of, and it takes a lot of trouble each time.

【0012】特に、ワークとして複数のフレームを一連
に多数設けたリードフレームなどのような構成では、そ
の長手方向に沿って、搬送時にリードフレームの歪みが
発生しないように、複数箇所をグリップする必要がある
が、かかる複数箇所のグリップ機構部の上下の爪の爪開
高さを一様に精度高く調節するのは面倒でかなりの時間
がかかる作業である。
In particular, in a structure such as a lead frame in which a plurality of frames are provided in series as a work, it is necessary to grip a plurality of points along the longitudinal direction so that distortion of the lead frame does not occur during transportation. However, it is a troublesome and time-consuming work to uniformly and accurately adjust the claw opening heights of the upper and lower claws of the grip mechanism section at the plurality of places.

【0013】かかる調整が精度よく行えない場合には、
グリップ時にグリップ部毎にグリップレベルが異なるな
どして、リードフレームに無用の撓みなどを発生させ
る。リードフレームの厚さは、現行で、最大数ミリから
数μmという微小なものであるため、爪開高さの調整範
囲も細かく、設定変更には熟練した調整技術が求められ
る。
If such adjustment cannot be performed with high accuracy,
At the time of gripping, the grip level is different for each grip portion, which causes unnecessary bending of the lead frame. At present, the thickness of the lead frame is as small as several millimeters to several μm at maximum, so that the adjustment range of the claw opening height is also fine, and skilled adjustment techniques are required to change the settings.

【0014】一方、かかる微細調整を回避する方法とし
ては、幾つかの爪開高さに対応した上爪、下爪を予め用
意しておき、必要に応じて所要の爪の交換をする方式も
考えられる。しかし、かかる交換方式でも、複数箇所
で、爪の固定ねじを外して、用意した所定構成の爪に交
換し、再度緩みがでないように交換した爪を固定するな
ど相当程度の時間は必要となる。
On the other hand, as a method of avoiding such fine adjustment, a method of preparing upper and lower claws corresponding to a plurality of claw opening heights in advance and replacing the necessary claws as necessary is also considered. To be However, even with such an exchange method, a considerable amount of time is required such as removing the fixing screws of the claws at a plurality of places, replacing the claws with the prepared predetermined configuration, and fixing the replaced claws so that they will not come loose again. .

【0015】すなわち、現状では、いずれの構成を採用
しても、ワーク厚みの変更時に対応する爪開高さの設定
変更には時間がかかることとなる。そこで、本発明者
は、かかるワーク厚さの変更に迅速に対応できる技術が
必要と考えた。
That is, at present, whichever configuration is adopted, it takes time to change the setting of the claw opening height corresponding to the change of the work thickness. Therefore, the present inventor thought that a technique capable of promptly responding to such a change in the work thickness was necessary.

【0016】本発明の目的は、半導体装置の製造に際し
て、ワーク搬送に使用されるグリップ機構で、ワークの
厚みに対応して上爪と下爪の待機位置の設定変更を迅速
に行うことができる技術を提供することにある。
An object of the present invention is a grip mechanism used for transporting a work in the manufacture of a semiconductor device, which can quickly change the setting of the standby positions of the upper claw and the lower claw according to the thickness of the work. To provide the technology.

【0017】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
次のとおりである。
Among the inventions disclosed in the present application, a brief description will be given to the outline of typical ones.
It is as follows.

【0019】すなわち、本発明では、半導体装置の製造
方法において、カム機構で開閉する複数の爪の間にワー
クを挟持して搬送するグリップ機構で、ワークの挟持に
際して、爪の待機位置から挟持位置までの爪ストローク
が異なるように設定された複数の爪用待機位置接点が、
爪用カムのカム面に設定されているため、ワークの厚み
変更に対して、複数の待機位置から対象とするワークま
でのストロークを短くする待機位置を選択することがで
きる。
That is, according to the present invention, in the method of manufacturing a semiconductor device, the grip mechanism for sandwiching and transporting the work between the plurality of claws opened and closed by the cam mechanism is used. The standby position contacts for multiple claws, which are set to have different claw strokes,
Since it is set on the cam surface of the claw cam, it is possible to select a standby position that shortens the stroke from the plurality of standby positions to the target work when the thickness of the work is changed.

【0020】かかる待機位置の設定変更は、爪用カムの
カム面に設けられた爪用待機位置接点を選択することで
行えるため、簡単に迅速な設定変更が行える。
Since the standby position setting can be changed by selecting the pawl standby position contact provided on the cam surface of the pawl cam, the setting can be easily and quickly changed.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明す
るための全図において、同一の機能を有する部材には同
一の符号を付し、その繰り返しの説明を省略する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. In all the drawings for explaining the embodiments, members having the same function are designated by the same reference numeral, and repeated description thereof will be omitted.

【0022】図1(a)は、本発明の半導体装置の製造
方法で使用される半導体製造装置の一例を模式的に示す
要部平面図であり、(b)は要部側面図である。
FIG. 1 (a) is a plan view of a main part schematically showing an example of a semiconductor manufacturing apparatus used in the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, and FIG. 1 (b) is a side view of the main part.

【0023】図1に示す場合には、半導体製造装置10
は半導体チップをボンディングする機能を有するダイボ
ンダ10aに構成されている。ダイボンダ10aには、
ワーク供給部11が設けられ、ワーク供給部11の前面
にワーク搬送レール12が設けられている。
In the case shown in FIG. 1, the semiconductor manufacturing apparatus 10
Is configured in a die bonder 10a having a function of bonding a semiconductor chip. The die bonder 10a has
A work supply unit 11 is provided, and a work transfer rail 12 is provided on the front surface of the work supply unit 11.

【0024】ワーク搬送レール12に沿って、ワークグ
リップ機構部13が設けられている。ワーク搬送レール
12a側に設けられたワークグリップ機構部13には、
上下動する爪の間にワークWを挟持する複数のグリップ
部13a、13b、13c、13d、13eが設けられ
ている。一方、ワーク搬送レール12b側のワークグリ
ップ機構部13には、それぞれグリップ部13f、13
gが設けられている。
A work grip mechanism section 13 is provided along the work transfer rail 12. In the work grip mechanism section 13 provided on the side of the work transfer rail 12a,
A plurality of grip portions 13a, 13b, 13c, 13d, 13e for sandwiching the work W are provided between the vertically moving claws. On the other hand, the work grip mechanism section 13 on the side of the work transport rail 12b has grip sections 13f and 13f, respectively.
g is provided.

【0025】かかる構成のワークグリップ機構部13
は、ワークグリップ機構駆動部14に接続され、ワーク
グリップ機構駆動部14の左右の移動にしたがって、ワ
ーク搬送レール12に沿った左右移動ができるようにな
っている。ワーク搬送レール12の側方には、ウエハカ
セット15からウエハホルダ16に、ウエハFを、ガイ
ド17aに沿って移動して取り出すウエハ取出部17が
設けられている。
The work grip mechanism section 13 having such a configuration
Is connected to the work grip mechanism drive unit 14 and can be moved left and right along the work transfer rail 12 as the work grip mechanism drive unit 14 moves left and right. On the side of the work transfer rail 12, a wafer take-out section 17 is provided from the wafer cassette 15 to the wafer holder 16 to take out the wafer F by moving it along the guide 17a.

【0026】また、ウエハホルダ16とワーク搬送レー
ル12bとの間には、ウエハテープに貼り付けられたウ
エハFのダイシングにより個片化された半導体チップ
を、ウエハテープの裏面側から各々別に突き上げるダイ
突上部18が設けられている。併せて、図1(b)に示
すように、個片化された半導体チップを吸着して、図1
(a)に示すダイボンディングポイントPで、搬送され
てきたワークWにダイボンダするボンディングヘッド1
9が設けられている。
Further, between the wafer holder 16 and the work transfer rail 12b, die protrusions for individually pushing up the semiconductor chips individually diced by dicing the wafer F attached to the wafer tape from the back surface side of the wafer tape. An upper part 18 is provided. At the same time, as shown in FIG. 1B, the semiconductor chips that have been separated into individual pieces are adsorbed to
A bonding head 1 for die-bonding to a conveyed work W at a die bonding point P shown in (a).
9 is provided.

【0027】ボンディングヘッド19は、図1(b)の
両矢印に示すように、半導体チップの吸着、解放ができ
るように上下動可能に構成された吸着部19aが設けら
れ、吸着部19aはボンディングヘッド19に従って、
ダイ突上部18とダイボンディングポイントPとの間を
往復動できるように構成されている。なお、図1(a)
では、ワークグリップ機構部13を示すために、ボンデ
ィングヘッド19の図示を省略してある。
As shown by the double-headed arrow in FIG. 1B, the bonding head 19 is provided with a suction portion 19a which is vertically movable so that the semiconductor chip can be suctioned and released, and the suction portion 19a is bonded. According to the head 19
It is configured to be able to reciprocate between the die protrusion 18 and the die bonding point P. Note that FIG. 1 (a)
The bonding head 19 is not shown to show the work grip mechanism section 13.

【0028】図2(a)に、ワーク搬送レール12aに
設けたワークグリップ機構部13のグリップ部13gの
要部平面図を示す。グリップ部13gには、図2(a)
〜(c)に示すように、偏心カムに構成された上爪用カ
ム21a、下爪用カム22aが設けられ、1個のモータ
23で共用のカム軸24により回転できるようになって
いる。
FIG. 2A shows a plan view of the main part of the grip portion 13g of the work grip mechanism portion 13 provided on the work transfer rail 12a. As shown in FIG.
As shown in (c) to (c), an upper claw cam 21a and a lower claw cam 22a, which are eccentric cams, are provided so that one motor 23 can rotate by a common cam shaft 24.

【0029】かかる上爪用カム21a、下爪用カム22
aに対応して、図2(b)、(c)に示すように、各々
のカムに追従する上爪用カムフォロア21b、下爪用カ
ムフォロア22bが設けられている。上爪用カムフォロ
ア21b、下爪用カムフォロア22bは、それぞれ同一
基台31に上下動可能に固定されている。
The upper claw cam 21a and the lower claw cam 22
As shown in FIGS. 2B and 2C, corresponding to a, an upper claw cam follower 21b and a lower claw cam follower 22b that follow each cam are provided. The upper claw cam follower 21b and the lower claw cam follower 22b are fixed to the same base 31 so as to be vertically movable.

【0030】上爪用カムフォロア21bの一端側は、図
2(b)に示すように、爪先端部25aが鉛直下方を向
くようにして上爪25に形成されている。上爪用カムフ
ォロア21bの他端側にはカムローラ26が設けられ、
カムローラ26が上爪用カム21aのカム面に接触して
いる。
As shown in FIG. 2B, one end of the cam follower for upper claw 21b is formed on the upper claw 25 so that the tip 25a of the claw faces vertically downward. A cam roller 26 is provided on the other end side of the upper nail cam follower 21b,
The cam roller 26 is in contact with the cam surface of the upper claw cam 21a.

【0031】カムローラ26は、上爪用カムフォロア2
1bと基台31とを引っ張り用のばね32により連結す
ることにより、上爪用カム21aのカム面に接触できる
ように付勢が付けられている。また、上爪用カムフォロ
ア21bには、上下方向に向けて摺動部材27が設けら
れ、基台31に対して鉛直方向に設けたガイド33に沿
って上下方向に摺動できるようになっている。
The cam roller 26 is a cam follower 2 for the upper claw.
By connecting 1b and the base 31 with a pulling spring 32, a biasing force is applied so that the cam surface of the upper claw cam 21a can be contacted. A sliding member 27 is provided on the cam follower for upper claw 21b in the vertical direction so that the sliding member 27 can slide in the vertical direction along a guide 33 provided in the vertical direction with respect to the base 31. .

【0032】なお、カムローラ26が上爪用カム21a
の最下点に位置したときは、カムローラ26と上爪用カ
ム21aとの間に、隙間があくようにばね32のばね圧
力が設定され、その隙間を上爪下降時のグリップ代とし
ている。
Incidentally, the cam roller 26 is the cam 21a for the upper claw.
When it is located at the lowermost point, the spring pressure of the spring 32 is set so that there is a gap between the cam roller 26 and the upper claw cam 21a, and the gap serves as a grip allowance when the upper claw is lowered.

【0033】かかる構成により、上爪用カム21aの回
転が、カムローラ26を介して上爪用カムフォロア21
bの上下方向の運動に変換され、上爪25が上下動する
ことができる。
With this configuration, the rotation of the upper claw cam 21a is controlled by the cam roller 26 via the cam roller 26.
The upper claw 25 can be moved up and down by being converted into a vertical movement of b.

【0034】同様に、下爪用カムフォロア22bもその
一端側が、爪先端部28aが鉛直上方を向くようにして
下爪28に形成されている。下爪用カムフォロア22b
の他端側に設けたカムローラ26が、基台31と下爪用
カムフォロア22bとをばね32で連結することによ
り、カムローラ26が下爪用カム22aのカム面に接触
できるように付勢が付けられている。
Similarly, the lower pawl cam follower 22b is also formed on the lower pawl 28 such that one end of the cam follower 22b is directed vertically upward. Cam follower 22b for lower claw
A cam roller 26 provided on the other end side of the base connects the base 31 and the cam follower 22b for the lower claw with a spring 32 to urge the cam roller 26 to contact the cam surface of the cam 22a for the lower claw. Has been.

【0035】また、下爪用カムフォロア22bには、上
下方向に向けて摺動部材27が設けられ、基台31に鉛
直方向に設けたガイド33に沿って上下方向に摺動でき
るようになっている。
Further, the lower follower cam follower 22b is provided with a sliding member 27 in the vertical direction so that it can slide in the vertical direction along a guide 33 provided in the base 31 in the vertical direction. There is.

【0036】かかる構成により、下爪用カム22aの回
転が、カムローラ26を介して下爪用カムフォロア22
bの上下方向の運動に変換され、下爪28が上下動する
こととなる。
With this configuration, the rotation of the lower pawl cam 22a is controlled by the cam roller 26 through the lower pawl cam follower 22.
This is converted into a vertical movement of b, and the lower claw 28 moves up and down.

【0037】一方、上爪25と下爪28とは、その爪先
端部25a、28aがそれぞれ相対するように構成され
ており、下降する上爪25と、上昇する下爪28との両
爪先端部25a、28a間にワークを挟持することがで
きるようになっている。
On the other hand, the upper claw 25 and the lower claw 28 are constructed such that their claw tips 25a and 28a face each other, and both claw tips of the descending upper claw 25 and the ascending lower claw 28 are provided. The work can be held between the parts 25a and 28a.

【0038】このように構成されたワークグリップ機構
部13では、カム軸24を1個のモータ23で回転させ
ることにより、上爪25、下爪28が協働してワークを
挟持したり、あるいはワークを離したりすることができ
るようになっている。すなわち、ワークを挟持する場合
には、上爪25は待機位置からワークの挟持位置まで下
降し、併せて、下爪28も待機位置からワークの挟持位
置まで上昇して、両爪の間にワークを挟持することとな
る。
In the work grip mechanism section 13 thus constructed, the cam shaft 24 is rotated by the single motor 23 so that the upper claw 25 and the lower claw 28 cooperate to clamp the work, or The work can be separated. That is, when the work is clamped, the upper claw 25 is lowered from the standby position to the work clamping position, and at the same time, the lower claw 28 is also raised from the standby position to the work clamping position so that the work is clamped between the two claws. Will be pinched.

【0039】また、ワークを離す場合には、上爪25
は、ワークの挟持位置から元の待機位置まで上昇し、併
せて、下爪28はワークの挟持位置から元の待機位置ま
で下降することとなる。このようにして上爪25、下爪
28が開くことによりワークの挟持は解除され、解除さ
れたワークは所定位置でワーク搬送レール12上に載置
されることとなる。
When the work is released, the upper claw 25
Is raised from the work clamping position to the original standby position, and at the same time, the lower claw 28 is lowered from the work clamping position to the original standby position. By thus opening the upper claw 25 and the lower claw 28, the clamping of the work is released, and the released work is placed on the work transport rail 12 at a predetermined position.

【0040】上爪25と、下爪28のワーク挟持位置へ
の到達するタイミングは、下爪28の挟持位置への到達
が、上爪25より先か、同時であるように設定されてい
る。かかる設定を行うのは、上爪25が先にワーク挟持
位置に到達すると、爪先端部25aでワークをレール側
に押付けてしまい、ワークが変形する虞れがあるためで
ある。
The timing at which the upper claw 25 and the lower claw 28 arrive at the work clamping position is set so that the lower claw 28 reaches the clamping position before the upper claw 25 or at the same time. This setting is performed because when the upper claw 25 first reaches the work holding position, the work may be deformed by pressing the work toward the rail with the claw tip 25a.

【0041】図3(a)、(b)には、上爪用カム21
a、下爪用カム22aの構成を例示した。図3(a)に
示すように、偏心カムに構成された上爪用カム21a
は、そのカム面に、0゜〜90°、270°〜360°
で上爪25の上爪ストロークが4mmとなるようにカム
変位と割り付け角度が設定されている。すなわち、0°
が、ワークの挟持位置までのストロークが最長となるよ
うに設定された上爪用待機位置接点P1に相当すること
となる。
3 (a) and 3 (b), the cam 21 for the upper claw is shown.
a, the configuration of the lower claw cam 22a is illustrated. As shown in FIG. 3A, the upper claw cam 21a configured as an eccentric cam
Is 0 ° to 90 °, 270 ° to 360 ° on the cam surface.
The cam displacement and the allocation angle are set so that the upper claw stroke of the upper claw 25 is 4 mm. That is, 0 °
Corresponds to the upper claw standby position contact point P1 set so that the stroke up to the clamping position of the work becomes the longest.

【0042】なお、図3に示す上爪用カム21a、下爪
用カム22aは、説明が分かり易いように多少のデフォ
ルメをしているため、図4に示すカム線図との一致は確
保されていない。あくまで説明用の図である。
Since the upper claw cam 21a and the lower claw cam 22a shown in FIG. 3 are slightly deformed for easy understanding, the agreement with the cam diagram shown in FIG. 4 is ensured. Not not. It is merely a diagram for explanation.

【0043】また、上爪用カム21aは、90°〜27
0°の範囲で上爪ストロークが2mmとなるようにカム
変位と割り付け角度が設定されている。すなわち、18
0°が、ワークの挟持位置までの上爪ストロークが最短
となるように設定された上爪用待機位置接点P2に相当
することとなる。
The upper claw cam 21a is 90 ° to 27 °.
The cam displacement and the allocation angle are set so that the upper claw stroke is 2 mm in the range of 0 °. That is, 18
0 ° corresponds to the upper claw standby position contact P2 set so that the upper claw stroke to the work clamping position is the shortest.

【0044】一方、図3(b)に示すように、偏心カム
に構成された下爪用カム22aは、そのカム面に、0゜
〜360°で下爪28の下爪ストロークが0.1mmと
なるようにカム変位と割り付け角度が設定されている。
すなわち、0°、180°に設定された下爪用待機位置
接点P3、P4は、ワークの挟持位置までの下爪ストロ
ークが等しく設定されていることとなる。
On the other hand, as shown in FIG. 3B, the lower pawl cam 22a formed as an eccentric cam has a lower pawl stroke of 0.1 mm on its cam surface at 0 ° to 360 °. The cam displacement and allocation angle are set so that
That is, the lower claw standby position contacts P3 and P4 set to 0 ° and 180 ° have the same lower claw stroke to the work clamping position.

【0045】図4(a)には上爪25の変位を示すカム
線図を、(b)には下爪28の変位を示すカム線図を示
した。ワーク厚3〜1mmに対しては、上爪25の待機
位置は、上爪用カム21aの0°における上爪用待機位
置接点P1を選択すればよい。下爪用待機位置接点P3
も下爪用カム22aの0°の位置を選択する。なお、図
4(a)には、グリップ代を0.3mmとった場合を示
している。
FIG. 4A shows a cam diagram showing the displacement of the upper claw 25, and FIG. 4B shows a cam diagram showing the displacement of the lower claw 28. For the work thickness of 3 to 1 mm, the standby position of the upper claw 25 may be selected from the upper claw standby position contact P1 at 0 ° of the upper claw cam 21a. Standby position contact P3 for lower claw
Also selects the 0 ° position of the lower claw cam 22a. Note that FIG. 4A shows a case where the grip allowance is 0.3 mm.

【0046】一方、ワーク厚1〜0.1mmに対して
は、上爪25の待機位置は、上爪用カム21aの180
°における上爪用待機位置接点P2を選択すればよい。
下爪用待機位置接点P4も下爪用カム22aの180°
の位置を選択する。
On the other hand, for a work thickness of 1 to 0.1 mm, the standby position of the upper claw 25 is 180 degrees of the upper claw cam 21a.
It suffices to select the upper claw standby position contact P2 at °.
The lower claw standby position contact P4 is also 180 ° of the lower claw cam 22a.
Select the position of.

【0047】このように上爪25、下爪28の待機位置
を、それぞれに対応する上爪用カム21a、下爪用カム
22aにそれぞれ2箇所設定することにより、それぞれ
のワーク厚さに対応した待機位置が得られることとな
り、ワーク厚の如何にかかわらず1箇所の待機位置しか
設定していない場合に比べて、ワークをグリップするま
での時間、ワークを離して次の挟持に向けて待機するま
での時間を短縮することができる。
As described above, the standby positions of the upper claw 25 and the lower claw 28 are set at two positions respectively on the upper claw cam 21a and the lower claw cam 22a, respectively, to correspond to the respective work thicknesses. The standby position can be obtained, and compared with the case where only one standby position is set regardless of the work thickness, the time until the work is gripped, the work is released and the work is waited for the next sandwiching. It is possible to shorten the time until.

【0048】すなわち、上記構成では、上爪25の待機
位置を、上爪用カム21aのカム面に設定しておいた待
機位置から挟持位置までの異なる上爪ストロークの複数
の上爪用待機位置接点P1、P2から、挟持するワーク
の厚さに応じて最短ストロークとなる上爪用待機位置接
点P1あるいはP2を選択することができる。そのた
め、グリップ動作における上爪25の開閉動作を短縮す
ることができる。
That is, in the above configuration, the standby position of the upper claw 25 is set on the cam surface of the upper claw cam 21a to the clamping position. From the contact points P1 and P2, the standby position contact point P1 or P2 for the upper claw having the shortest stroke can be selected according to the thickness of the workpiece to be clamped. Therefore, the opening / closing operation of the upper claw 25 in the grip operation can be shortened.

【0049】なお、上爪25を上爪ストロークが最大の
上爪用待機位置接点P1で待機させるには、モータ23
で上爪用カム21aを回転させて、図3(a)に示すよ
うに、上爪用カム21aの大径側頂点を鉛直上方位置に
停止させるようにすればよい。大径側頂点が鉛直上方位
置に停止しているか否かは、図2(a)に示す待機位置
検出センサ41により確認することができるようになっ
ている。
In order to make the upper claw 25 stand by at the upper claw standby position contact P1 having the largest upper claw stroke, the motor 23
The upper claw cam 21a may be rotated with to stop the apex on the large diameter side of the upper claw cam 21a at the vertically upper position as shown in FIG. 3 (a). Whether or not the apex on the large diameter side is stopped at the vertically upper position can be confirmed by the standby position detection sensor 41 shown in FIG. 2 (a).

【0050】待機位置検出センサ41は、上爪用カム2
1aに対応して回転する遮光板などが、センサビームを
遮断するか否かで検出する光チョッパー方式に構成され
ている。
The standby position detecting sensor 41 is used for the upper claw cam 2
A light-shielding plate that rotates corresponding to 1a is configured as an optical chopper system that detects whether or not the sensor beam is blocked.

【0051】すなわち、図2(a)、図5(a)に示す
ように、待機位置検出センサ41では、カム軸24を回
転させるモータ23の回転軸に遮光板42が設けられて
いる。遮光板42は、回転中心に対して設定された2個
の同心円周上に、センサビームを通すビーム用通孔4
3、44が形成されている。
That is, as shown in FIGS. 2A and 5A, in the standby position detection sensor 41, the light shielding plate 42 is provided on the rotation shaft of the motor 23 that rotates the cam shaft 24. The light shielding plate 42 has a beam through hole 4 for passing the sensor beam on two concentric circles set with respect to the rotation center.
3, 44 are formed.

【0052】ビーム用通孔43は外側の円周43a上に
設けられ、ビーム用通孔44は内側の円周44a上に、
中心角度で90°の位相差を付けて設けられている。ビ
ーム用通孔43は上爪用待機位置接点P1の位置検出
に、ビーム用通孔44は上爪用待機位置接点P2の位置
検出にそれぞれ使用される。
The beam through hole 43 is provided on the outer circumference 43a, and the beam through hole 44 is provided on the inner circumference 44a.
They are provided with a phase difference of 90 ° at the central angle. The beam through hole 43 is used for detecting the position of the upper claw standby position contact P1, and the beam through hole 44 is used for detecting the position of the upper claw standby position contact P2.

【0053】併せて、90°の位相差を設けたビーム用
通孔43、44に対応して、第1センサ45、第2セン
サ46が設けられ、それぞれのセンサの検出部は両ビー
ム用通孔43、44に合わせて位相差が90°に設定さ
れている。
At the same time, a first sensor 45 and a second sensor 46 are provided corresponding to the beam passage holes 43 and 44 having a phase difference of 90 °, and the detection portions of the respective sensors pass through both beams. The phase difference is set to 90 ° in accordance with the holes 43 and 44.

【0054】すなわち、上爪25が上爪用カム21aの
大径側頂点の上爪用待機位置接点P1に待機している状
態では、図5(a)に示すように、遮光板42のビーム
用通孔43が、第1センサ45に位置合わせさせられ、
遮光板42の背後から第1センサ45の受光部に向けて
発しているセンサビームがビーム用通孔43を通して第
1センサ45の受光部で受光されている。
That is, in a state in which the upper claw 25 is on standby at the upper claw standby position contact P1 on the apex on the large diameter side of the upper claw cam 21a, as shown in FIG. The through hole 43 is aligned with the first sensor 45,
The sensor beam emitted from the back of the light shielding plate 42 toward the light receiving portion of the first sensor 45 is received by the light receiving portion of the first sensor 45 through the beam through hole 43.

【0055】一方、上爪25がワークWを挟持するため
下降している場合には、すなわちモータ23の回転によ
りカム軸24が回転して上爪用カム21aが回転し、上
爪25が上爪用待機位置接点P1から外れている場合に
は、モータ23の回転に合わせて遮光板42も回転し、
センサビームの通過位置からビーム用通孔43が外れ
て、第1センサ45でセンサビームの受光が行われない
状態となっている。かかる様子を、図5(b)に示し
た。
On the other hand, when the upper claw 25 is descending to clamp the work W, that is, the rotation of the motor 23 causes the cam shaft 24 to rotate and the upper claw cam 21a to rotate, so that the upper claw 25 moves upward. When it is out of the claw standby position contact P1, the light shielding plate 42 also rotates in accordance with the rotation of the motor 23,
The beam passage hole 43 is removed from the passage position of the sensor beam, and the first sensor 45 is in a state where the sensor beam is not received. This state is shown in FIG.

【0056】なお、図5(b)に示す場合には、ワーク
Wを把持した状態での遮光板42の回転位置を示してい
る。図5(a)に示す場合を、上爪用カムの0°に対応
させておけば、135°回転した状態でワークWを上爪
25、下爪28で把持することとなる。かかる様子は、
前記した図4(a)のカム線図に対応して示したが、グ
リップ時にどの程度回転させるかという回転角度に関し
ては、カム変位の設計に依存するもので、本説明に限定
される必要のないことは言うまでもない。
Note that, in the case shown in FIG. 5B, the rotation position of the light shielding plate 42 in the state where the work W is gripped is shown. If the case shown in FIG. 5A is associated with 0 ° of the upper claw cam, the work W is gripped by the upper claw 25 and the lower claw 28 in a state of being rotated by 135 °. This situation is
Although shown corresponding to the cam diagram of FIG. 4 (a) described above, the rotation angle of how much to rotate at the time of grip depends on the design of the cam displacement and needs to be limited to this description. Needless to say

【0057】一方、上爪25が上爪用カム21aの小径
側頂点の上爪用待機位置接点P2に待機している状態で
は、図6(a)に示すように、遮光板42のビーム用通
孔44が、第2センサ46に位置合わせさせられ、遮光
板42の背後から第2センサ46の受光部に向けて発し
ているセンサビームがビーム用通孔44を通して第2セ
ンサ46の受光部で受光されている。
On the other hand, in the state where the upper claw 25 stands by at the upper claw standby position contact P2 on the small diameter side vertex of the upper claw cam 21a, as shown in FIG. The through hole 44 is aligned with the second sensor 46, and the sensor beam emitted from the back of the light shielding plate 42 toward the light receiving portion of the second sensor 46 passes through the beam through hole 44 and the light receiving portion of the second sensor 46. Is received by.

【0058】そこで、上爪25がワークWを挟持するた
め下降している場合には、図6(b)に示すように、モ
ータ23の回転に合わせて遮光板42も回転し、センサ
ビームの通過位置からビーム用通孔44が外れて、第2
センサ46でセンサビームの受光が行われない状態とな
っている。
Therefore, when the upper claw 25 is lowered to hold the work W, the light shielding plate 42 also rotates in accordance with the rotation of the motor 23, as shown in FIG. The beam through hole 44 is disengaged from the passing position, and the second
The sensor 46 is not receiving the sensor beam.

【0059】図6(b)に示す場合には、ワークWを把
持した状態での遮光板42の回転位置を示しており、上
爪用カム21aの0°を基準にすれば、275°回転し
た状態でワークWは上爪25、下爪28でグリップされ
ることとなる。
In the case shown in FIG. 6 (b), the rotation position of the light shielding plate 42 in the state where the work W is gripped is shown, and it is 275 ° rotation with reference to 0 ° of the upper claw cam 21a. In this state, the work W is gripped by the upper claw 25 and the lower claw 28.

【0060】このようにして、上爪用待機位置接点P
1、P2のどの接点に上爪25が待機しているか否かの
確認は、複数の待機位置の接点に対応させて遮光板42
に設けたビーム用通孔43、44からのセンサビームの
第1センサ45、あるいは第2センサ46における受光
の有無で判断することができる。
In this way, the upper claw standby position contact P
In order to confirm which contact point 1 or P2 the upper claw 25 is on standby, the shading plate 42 is made to correspond to the contact points at a plurality of standby positions.
It can be determined by the presence / absence of light reception by the first sensor 45 or the second sensor 46 of the sensor beam from the beam through holes 43, 44 provided in the.

【0061】従って、例えば、薄いワークから厚いワー
クへの製品替えを行う場合には、待機位置検出センサ4
1を構成する第1センサ45でセンサビームの受光がで
きる状態、すなわち上爪25の待機時に第1センサ45
がONで、第2センサ46がOFFとなるように設定替
えを行えばよい。
Therefore, for example, when changing a product from a thin work to a thick work, the standby position detection sensor 4
In the state where the sensor beam can be received by the first sensor 45 constituting the first sensor 45, that is, when the upper nail 25 is on standby, the first sensor 45
The setting may be changed so that is ON and the second sensor 46 is OFF.

【0062】逆に、薄いワークに対応させる場合には、
待機時の設定が第1センサがOFFで、第2センサ46
がON設定の状態となるようにモータ23を回転させて
カム位置の設定替えを行えばよい。
On the contrary, in the case of supporting a thin work,
The setting for standby is that the first sensor is OFF and the second sensor 46
The motor 23 may be rotated to change the setting of the cam position so that the ON position is set to ON.

【0063】なお、待機位置検出センサ41の構成は、
上記光チヨッパー方式の光センサに限定する必要はな
く、待機位置の検出が有効にできるセンサ機構であれば
使用することができる。
The structure of the standby position detection sensor 41 is as follows.
It is not necessary to limit to the optical sensor of the optical chopper method, and any sensor mechanism that can effectively detect the standby position can be used.

【0064】上記説明では、ワークグリップ機構部13
のグリップ部13gを例にあげて説明したが、グリップ
部13a、13b、13c、13d、13e、13fも
同様に構成されている。但し、グリップ部13a、13
b、13c、13d、13eまでは、同一モータにより
同一カム軸で回転されるようにしておけばよい。かかる
場合には、グリップ部13a〜13e、13f、13g
に対応して合計3個のモータが設けられることとなる
が、これら3個のモータの駆動開始、停止は同期が取れ
るようにしておけばよい。
In the above description, the work grip mechanism section 13
The grip portion 13g has been described as an example, but the grip portions 13a, 13b, 13c, 13d, 13e, 13f are also configured in the same manner. However, the grip portions 13a, 13
b, 13c, 13d, and 13e may be rotated by the same motor by the same cam shaft. In such a case, the grip portions 13a to 13e, 13f, 13g
Although a total of three motors will be provided corresponding to the above, it is sufficient to start and stop the driving of these three motors in a synchronized manner.

【0065】また、前記説明では、カムを2分割し、カ
ムストロークを180°で割り付けているが、例えば、
120°の割り付け角度で3分割、あるいは、90°の
割り付け角度で4分割など、分割数を増やすことによ
り、より細かに爪の待機位置の選択ができるようにして
も構わない。種々のワーク厚さに対応して細かに、爪ス
トロークを短くする待機位置の選定が行える。
Further, in the above description, the cam is divided into two and the cam stroke is allocated at 180 °.
By increasing the number of divisions, such as dividing the allocation angle of 120 ° into three, or dividing the allocation angle of 90 ° into four, the standby position of the claw may be selected more finely. It is possible to finely select the standby position that shortens the claw stroke according to various work thicknesses.

【0066】さらに、前記説明では、平カムのカム面に
カムローラを介してカムフォロアを追従させるカム構成
を例示したが、板カムを使用するカム機構を採用するよ
うにしても構わない。平カムの場合には、カムの回転に
よる待機位置の設定が簡単に行えるが、板カムの場合に
は板カムの往復動が必要となり、待機位置の迅速設定と
いう観点からは、平カムの方が好ましい。
Further, in the above description, the cam structure in which the cam follower is made to follow the cam surface of the flat cam via the cam roller is exemplified, but a cam mechanism using a plate cam may be adopted. In the case of a flat cam, the standby position can be easily set by rotating the cam, but in the case of a plate cam, reciprocating motion of the plate cam is required. Is preferred.

【0067】上記構成では、下爪用カム22aに設定し
た下爪用待機位置接点P3、P4は同一ストロークとし
ているが、上爪用待機位置接点の設定と同様に、爪スト
ロークの異なる複数の下爪用待機位置接点を下爪用カム
22aに設定しておいても構わない。
In the above structure, the lower claw standby position contacts P3 and P4 set on the lower claw cam 22a have the same stroke, but similar to the setting of the upper claw standby position contact, a plurality of lower claw strokes having different claw strokes are set. The claw standby position contact may be set on the lower claw cam 22a.

【0068】さらには、上記構成では、上爪用カム21
aと下爪用カム22aのカム軸24を共用することによ
り、1個のモータ23で上爪25、下爪28の開閉動作
を行うようにしているが、上爪用カム21aと下爪用カ
ム22aとを、それぞれ独立に異なるモータで回転する
ように構成することもできる。
Further, in the above structure, the upper claw cam 21
By using the cam shaft 24 of the cam 22a for the lower claw and a, the opening and closing operations of the upper claw 25 and the lower claw 28 are performed by one motor 23. The cam 22a and the cam 22a may be independently rotated by different motors.

【0069】かかる構成では、上爪用待機位置接点と下
爪用待機位置接点とを、それぞれ独立して選択すること
ができるため、これら上下の爪の待機位置接点の組合せ
によりワーク厚さに細かに対応した上爪、下爪のグリッ
プ開閉動作を行わせることができる。そのため、全体と
して、予め上爪用カムと下爪用カムとを一対一に対応さ
せてカム軸を共用する場合に比べて、よりグリップ開閉
時の時間短縮を図ることができる。
In such a configuration, since the upper claw standby position contact and the lower claw standby position contact can be selected independently, the work thickness can be reduced by combining the upper and lower claw standby position contacts. It is possible to perform grip opening / closing operations for the upper and lower claws corresponding to. Therefore, as a whole, the time required to open and close the grip can be further shortened as compared with the case where the cams for the upper claw and the cams for the lower claw are previously made to correspond one-to-one and the cam shaft is shared.

【0070】かかる構成において、実際に厚さの異なる
ワークをグリップする場合における開閉時の時間を、図
7(a)〜(c)に示した。
In such a construction, the time required for opening and closing when actually gripping a work having a different thickness is shown in FIGS. 7 (a) to 7 (c).

【0071】図7(a)は、厚さ3mmのワークW1を
挟持する場合を示している。かかる場合には、図3
(a)に示すように、上爪用カム21aのカム変位の割
り付け角度0°〜180°で、上爪ストロークを4mm
とするように上爪25を上爪用待機位置接点P1で待機
させる。且つ、最下降時のストロークは3mmでカムの
回転を止めるようにしておく。下爪ストロークは1mm
に設定する。
FIG. 7A shows a case where a work W1 having a thickness of 3 mm is sandwiched. In such a case,
As shown in (a), when the cam displacement allocation angle of the upper pawl cam 21a is 0 ° to 180 °, the upper pawl stroke is 4 mm.
As described above, the upper claw 25 is made to stand by at the upper claw standby position contact P1. In addition, the stroke of the lowest descent is 3 mm and the rotation of the cam is stopped. Lower jaw stroke is 1mm
Set to.

【0072】かかる設定にしたがって、上爪25、下爪
28でワークのグリップを行うと、上爪の移動速度を1
mm/10msecとすれば、ワークのグリップに要す
る時間は10msecとなる。
When the work is gripped by the upper claw 25 and the lower claw 28 according to the above setting, the moving speed of the upper claw becomes 1
If it is mm / 10 msec, the time required for gripping the work is 10 msec.

【0073】なお、図7(a)では、左側に上爪、下爪
の待機状態を、右側にグリップ時の状態を並べて示して
いる。以下、図7(b)、(c)においても同様の図示
を行っている。
In FIG. 7A, the left side shows the standby state of the upper and lower claws, and the right side shows the gripped state. Hereinafter, similar illustrations are made in FIGS. 7B and 7C.

【0074】一方、ワークW2の厚さが0.1mmの場
合には、図7(b)に示すように、上爪用カム21a
(図3(a)参照)のカム変位の割り付け角度180°
〜360°で、上爪ストロークを2mmとするように上
爪25を上爪用待機位置接点P2で待機させる。すなわ
ち、上爪用カム21aの小径頂点を上爪用待機位置接点
P2に設定することとなる。かかる場合には、上爪25
の移動速度が上記と同様に設定されていれば、20ms
ecとなる。
On the other hand, when the thickness of the work W2 is 0.1 mm, as shown in FIG. 7 (b), the upper claw cam 21a is formed.
Allocation angle of cam displacement (see Fig. 3 (a)) 180 °
At ~ 360 °, the upper claw 25 is made to stand by at the upper claw standby position contact P2 so that the upper claw stroke becomes 2 mm. That is, the small diameter apex of the upper claw cam 21a is set to the upper claw standby position contact P2. In such a case, the upper nail 25
If the moving speed of is set as above, 20ms
It becomes ec.

【0075】また、ワークW3の厚さが1mmの場合に
は、図7(c)に示すように、上爪用カム21aのカム
変位の割り付け角度180°〜360°で、上爪ストロ
ークを2mmとするように上爪用待機位置接点P2で上
爪25を待機させる。すなわち、上爪用カム21aの小
径頂点に上爪用待機位置接点P2を設定しておけばよ
く、この場合にもワークのグリップに要する時間は20
msecとなる。
Further, when the thickness of the work W3 is 1 mm, as shown in FIG. 7C, the cam displacement allocation angle of the upper pawl cam 21a is 180 ° to 360 °, and the upper pawl stroke is 2 mm. Thus, the upper claw 25 is made to stand by at the upper claw standby position contact P2. That is, it suffices to set the standby position contact P2 for the upper claw on the small diameter apex of the cam 21a for the upper claw, and in this case as well, the time required to grip the work is 20.
It becomes msec.

【0076】そこで、上記説明の構成においては、ワー
ク厚が3〜1mmの場合には図7(a)の設定を、ワー
ク厚が1〜0.1mmの場合には図7(b)の設定を行
えばよいことが分かる。
Therefore, in the configuration described above, when the work thickness is 3 to 1 mm, the setting of FIG. 7A is set, and when the work thickness is 1 to 0.1 mm, the setting of FIG. 7B is set. You can see that

【0077】一方、ワーク厚さに対応した2箇所の待機
位置接点を設けない場合には、すなわち、最大ワーク厚
さに合わせて上爪ストロークを4mmと一律に設定を固
定する場合には、ワーク厚さが3mmの場合も、1mm
の場合も40msecとなり、本発明の実施形態に係る
上記説明の構成の方がグリップ時間の短縮が図れること
が明らかである。
On the other hand, when the two standby position contacts corresponding to the work thickness are not provided, that is, when the upper jaw stroke is uniformly set to 4 mm according to the maximum work thickness, the work is fixed. 1mm even if the thickness is 3mm
In the case of, the time is 40 msec, and it is clear that the configuration described above according to the embodiment of the present invention can shorten the grip time.

【0078】次に、上記説明のグリップ搬送機構を有す
るダイボンダを用いて、半導体装置を製造する方法につ
いて説明する。
Next, a method for manufacturing a semiconductor device using the die bonder having the grip transfer mechanism described above will be described.

【0079】先ず、図1に示すダイボンダ10aに構成
された半導体製造装置10のウエハカセット15から、
既にダイシングされているウエハFをウエハホルダ16
に引き出す。ガイド17aに沿って移動するウエハ取出
部17により個片化された半導体チップ50を、ウエハ
ホルダ16に引き出しておいたウエハFから取り出す。
半導体チップ50は、図8に示すように、その主面に電
極パッド51が設けられ、かかる電極パッド51はシリ
コン基板上に形成された素子部と電気的に接続された構
成を有している。
First, from the wafer cassette 15 of the semiconductor manufacturing apparatus 10 constituted in the die bonder 10a shown in FIG.
The wafer F that has already been diced is placed on the wafer holder 16
Pull out to. The semiconductor chips 50 that have been separated into individual pieces by the wafer extractor 17 that moves along the guide 17a are taken out from the wafer F that has been pulled out to the wafer holder 16.
As shown in FIG. 8, the semiconductor chip 50 has an electrode pad 51 provided on the main surface thereof, and the electrode pad 51 is electrically connected to an element portion formed on a silicon substrate. .

【0080】一方、ワーク供給部11からは、ワーク5
2として、例えば図9に示す構成のリードフレーム52
aがワーク搬送レール12上に供給される。かかるリー
ドフレーム52aに向けて、ワーク搬送レール12a、
12bに設けられたワークグリップ機構部13が、ワー
クグリップ機構駆動部14により図面左側に移動する。
On the other hand, from the work supply unit 11, the work 5
2, for example, the lead frame 52 having the configuration shown in FIG.
a is supplied onto the work transfer rail 12. Towards the lead frame 52a, the work transfer rail 12a,
The work grip mechanism unit 13 provided on 12b is moved to the left side in the drawing by the work grip mechanism drive unit 14.

【0081】リードフレーム52aの側縁部53の所定
位置にグリップ部13a〜13gが到達した時点で、リ
ードフレーム52aの厚さに対応して設定しておいた上
爪用待機位置接点P1から上爪25が下降し、下爪用待
機位置接点P3から下爪28が上昇して、リードフレー
ム52aをグリップする。
When the grip portions 13a to 13g reach the predetermined position of the side edge portion 53 of the lead frame 52a, the gripping portions 13a to 13g are moved upward from the upper claw standby position contact P1 corresponding to the thickness of the lead frame 52a. The claw 25 descends, the lower claw 28 rises from the lower claw standby position contact P3, and grips the lead frame 52a.

【0082】グリップに際しては、上爪25より下爪2
8が先にグリップ位置まで上昇して、リードフレーム5
2aをワーク搬送レール12から少し浮かせた状態にし
て、上爪25の下降を待つようにタイミング設定がなさ
れている。
When gripping, the lower claw 2
8 rises to the grip position first, and the lead frame 5
The timing is set so that 2a is slightly lifted from the work transfer rail 12 and the lowering of the upper claw 25 is waited for.

【0083】このようにしてリードフレーム52aを挟
持したグリップ部13a〜13gは、ワークグリップ機
構駆動部14により図面右側に移動し、リードフレーム
52aのダイパッド54がボンディングステージ位置に
達した時点で停止する。
The grip parts 13a to 13g holding the lead frame 52a in this way are moved to the right side in the drawing by the work grip mechanism drive part 14 and are stopped when the die pad 54 of the lead frame 52a reaches the bonding stage position. .

【0084】この状態で、ディスペンサから接着剤がダ
イパッド54上に滴下される。併せて、ボンディングヘ
ッドが、前記ウエハ取出部17によって取り出された半
導体チップ50をコレット吸着などでダイパッド54上
に移載し、図8に示すように、リードフレーム52aに
ダイボンディングされる。
In this state, the adhesive is dripped onto the die pad 54 from the dispenser. At the same time, the bonding head transfers the semiconductor chip 50 taken out by the wafer take-out unit 17 onto the die pad 54 by collet suction or the like, and is die-bonded to the lead frame 52a as shown in FIG.

【0085】ダイボンディング後は、半導体チップ50
の電極パッド51と、リードフレーム52aのインナー
リード55とが、Au線などのボンディングワイヤ56
を使用してワイヤボンディングされ、その後、樹脂封止
されて半導体装置が製造される。
After die bonding, the semiconductor chip 50
Electrode pad 51 and the inner lead 55 of the lead frame 52a are bonded by a bonding wire 56 such as an Au wire.
Is used for wire bonding, and then resin-sealed to manufacture a semiconductor device.

【0086】以上、本発明者によってなされた発明を実
施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実
施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

【0087】例えば、上記説明では、本発明に関するグ
リップ機構を用いた半導体製造装置としてダイボンダを
例に挙げて説明したが、CSPマウンター、リードオン
チップマウンターなどのマウンター、ペレットボンダ、
ワイヤボンダなどのように、半導体チップを移載した
り、移載してボンディングしたりする機能を有する半導
体製造装置として構成してもよい。
For example, in the above description, the die bonder was described as an example of the semiconductor manufacturing apparatus using the grip mechanism according to the present invention. However, a mounter such as a CSP mounter or a lead-on-chip mounter, a pellet bonder,
It may be configured as a semiconductor manufacturing apparatus having a function of transferring semiconductor chips or transferring and bonding the semiconductor chips, such as a wire bonder.

【0088】[0088]

【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下の通りである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in this application will be briefly described as follows.
It is as follows.

【0089】すなわち、本発明では、カム機構により開
閉する爪の間にワークを挟持するグリップ搬送機構にお
いて、爪の開閉ストロークが異なる待機位置がカム面に
複数設定されているので、ワークの厚みに応じて、爪ス
トロークの短い待機位置を設定することができ、爪の開
閉に基づくグリップ時間の短縮が図れる。
That is, according to the present invention, in the grip conveying mechanism for sandwiching the work between the pawls opened and closed by the cam mechanism, a plurality of standby positions having different opening and closing strokes of the pawls are set on the cam surface. Accordingly, it is possible to set a standby position where the claw stroke is short, and the grip time based on the opening and closing of the claw can be shortened.

【0090】グリップ時間の短縮が図れるため、半導体
装置の製造における単位時間あたりのワーク搬送数を増
やすことができ、全体として半導体装置の製造時間の短
縮と、生産コストの低減を図ることができる。
Since the grip time can be shortened, it is possible to increase the number of workpieces transported per unit time in the manufacturing of the semiconductor device, and it is possible to shorten the manufacturing time of the semiconductor device and the manufacturing cost as a whole.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)は本発明の半導体装置の製造方法で使用
する半導体製造装置をダイボンダに構成した場合の一例
を示す要部平面図であり、(b)は要部側面図である。
FIG. 1A is a plan view of relevant parts showing an example in which a semiconductor manufacturing apparatus used in a method for manufacturing a semiconductor device of the present invention is configured as a die bonder, and FIG. 1B is a side view of the essential parts.

【図2】(a)はワークグリップ機構部の要部平面図で
あり、(b)は上爪のカム機構を示す要部側面図であ
り、(c)は下爪のカム機構を示す要部側面図である。
2A is a plan view of a main part of a work grip mechanism portion, FIG. 2B is a side view of a main part showing a cam mechanism of an upper pawl, and FIG. 2C is a main view showing a cam mechanism of a lower pawl. FIG.

【図3】(a)は上爪用カムの一例を示す説明図であ
り、(b)は下爪用カムの一例を示す説明図である。
FIG. 3A is an explanatory diagram showing an example of an upper claw cam, and FIG. 3B is an explanatory diagram showing an example of a lower claw cam.

【図4】(a)は上爪用カムのカム線図であり、(b)
は下爪用カムのカム線図である。
FIG. 4A is a cam diagram of a cam for an upper claw, and FIG.
[Fig. 3] is a cam diagram of a lower claw cam.

【図5】(a)は待機位置検出センサによる上爪用待機
位置接点P1の位置確認状況の一例を示す説明図であ
り、(b)はワークグリップ状況の一例を示す説明図で
ある。
FIG. 5A is an explanatory diagram showing an example of a position confirmation situation of the upper claw standby position contact P1 by a standby position detection sensor, and FIG. 5B is an explanatory diagram showing an example of a work grip situation.

【図6】(a)は待機位置検出センサによる上爪用待機
位置接点P2の位置確認状況の一例を示す説明図であ
り、(b)はワークグリップ状況の一例を示す説明図で
ある。
FIG. 6A is an explanatory diagram showing an example of a position confirmation state of the upper claw standby position contact P2 by a standby position detection sensor, and FIG. 6B is an explanatory diagram showing an example of a work grip state.

【図7】(a)は厚さ3mmのワークに対応して上爪の
待機位置を設定した場合のグリップ状況の一例を示す説
明図であり、(b)は厚さ0.1mmのワークに対応す
る場合のグリップ状況の一例を示す説明図であり、
(c)は厚さ1mmのワークに対応するグリップ状況の
一例を示す説明図である。
FIG. 7A is an explanatory diagram showing an example of a grip situation when the standby position of the upper claw is set corresponding to a work having a thickness of 3 mm, and FIG. 7B is a work having a thickness of 0.1 mm. It is explanatory drawing which shows an example of the grip situation in the case of correspondence,
(C) is an explanatory view showing an example of a grip situation corresponding to a work having a thickness of 1 mm.

【図8】半導体装置の組立構造の一例を示す説明図であ
る。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing an example of an assembly structure of a semiconductor device.

【図9】リードフレームの一例を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing an example of a lead frame.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 半導体製造装置 10a ダイボンダ 11 ワーク供給部 12 ワーク搬送レール 12a ワーク搬送レール 12b ワーク搬送レール 13 ワークグリップ機構部 13a グリップ部 13b グリップ部 13c グリップ部 13d グリップ部 13e グリップ部 13f グリップ部 13g グリップ部 14 ワークグリップ機構駆動部 15 ウエハカセット 16 ウエハホルダ 17 ウエハ取出部 17a ガイド 18 ダイ突上部 19 ボンディングヘッド 19a 吸着部 21a 上爪用カム 21b 上爪用カムフォロア 22a 下爪用カム 22b 下爪用カムフォロア 23 モータ 24 カム軸 25 上爪 25a 爪先端部 26 カムローラ 27 摺動部材 28 下爪 28a 爪先端部 31 基台 32 ばね 33 ガイド 41 待機位置検出センサ 42 遮光板 43 ビーム用通孔 43a 円周 44 ビーム用通孔 44a 円周 45 第1センサ 46 第2センサ 50 半導体チップ 51 電極パッド 52 ワーク 52a リードフレーム 53 側縁部 54 ダイパッド 55 インナーリード 56 ボンディングワイヤ P ダイボンディングポイント P1 上爪用待機位置接点 P2 上爪用待機位置接点 P3 下爪用待機位置接点 P4 下爪用待機位置接点 F ウエハ W ワーク W1 ワーク W2 ワーク W3 ワーク 10 Semiconductor manufacturing equipment 10a die bonder 11 Work supply department 12 Work transfer rail 12a Work transfer rail 12b Work transfer rail 13 Work grip mechanism 13a grip part 13b grip part 13c grip part 13d grip part 13e Grip part 13f grip part 13g grip part 14 Work grip mechanism drive 15 wafer cassette 16 Wafer holder 17 Wafer take-out section 17a guide 18 Die top 19 Bonding head 19a Adsorption part 21a Cam for upper claw 21b Cam follower for upper claw 22a Cam for lower claw 22b Cam follower for lower claw 23 motor 24 cam shaft 25 Upper nail 25a Claw tip 26 Cam roller 27 Sliding member 28 Lower nail 28a Claw tip 31 base 32 springs 33 Guide 41 Standby position detection sensor 42 Light shield 43 beam holes 43a circumference 44 beam through hole 44a circumference 45 First sensor 46 Second sensor 50 semiconductor chips 51 electrode pad 52 work 52a lead frame 53 Side edge 54 die pad 55 Inner lead 56 bonding wire P die bonding point P1 standby position contact for upper claw P2 standby position contact for upper claw P3 Standby position contact for lower claw P4 Standby position contact for lower claw F wafer W work W1 work W2 work W3 work

フロントページの続き (72)発明者 蒔田 美明 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 望月 政幸 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内Continued front page    (72) Inventor Miaki Makita             3-3 Fujibashi, Ome City, Tokyo 2 Hitachi Higashi             Inside Kyo Electronics Co., Ltd. (72) Inventor Masayuki Mochizuki             3-3 Fujibashi, Ome City, Tokyo 2 Hitachi Higashi             Inside Kyo Electronics Co., Ltd.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 カム機構で開閉する複数の爪の間にワー
クを挟持して搬送する工程を有する半導体装置の製造方
法であって、 前記カム機構では、前記ワークの挟持に際しての待機位
置から挟持位置までの爪ストロークが異なるように設定
された複数の爪用待機位置接点が、爪用カムのカム面に
設定されていることを特徴とする半導体装置の製造方
法。
1. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising a step of nipping and conveying a work between a plurality of claws opened and closed by a cam mechanism, wherein the cam mechanism nips the work from a standby position when nipping the work. A method for manufacturing a semiconductor device, wherein a plurality of claw standby position contacts, which have different claw strokes to different positions, are set on the cam surface of the claw cam.
【請求項2】 カム機構で上下する上爪と下爪との間に
ワークを挟持して搬送する工程を有する半導体装置の製
造方法であって、 前記カム機構では、前記ワークの挟持に際しての待機位
置から挟持位置までの上爪ストロークが異なるように設
定された複数の上爪用待機位置接点が、上爪用カムのカ
ム面に設定されていることを特徴とする半導体装置の製
造方法。
2. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising a step of nipping and transporting a work between an upper claw and a lower claw that are moved up and down by a cam mechanism, wherein the cam mechanism waits when nipping the work. A method of manufacturing a semiconductor device, wherein a plurality of upper claw standby position contacts, which are set to have different upper claw strokes from a position to a nipping position, are set on a cam surface of the upper claw cam.
【請求項3】 カム機構で上下する上爪と下爪との間に
ワークを挟持して搬送する工程を有する半導体装置の製
造方法であって、 前記カム機構では、前記ワークの挟持に際しての待機位
置から挟持位置までの上爪ストロークが異なるように設
定された複数の上爪用待機位置接点が上爪用カムのカム
面に設定されている上爪を有し、 前記上爪用カムと下爪用カムとは、カム軸が共用されて
いることを特徴とする半導体装置の製造方法。
3. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising a step of sandwiching and transporting a work between an upper claw and a lower claw that are moved up and down by a cam mechanism, wherein the cam mechanism waits when sandwiching the work. A plurality of upper claw standby position contacts that are set to have different upper claw strokes from the position to the clamping position, and have an upper claw set on the cam surface of the upper claw cam. A method for manufacturing a semiconductor device is characterized in that a cam shaft is shared with a claw cam.
【請求項4】 カム機構で上下する上爪と下爪との間に
ワークを挟持して搬送する機能を有する半導体製造装置
を用いる半導体装置の製造方法であって、 前記カム機構では、前記ワークの挟持に際しての待機位
置から挟持位置までの上爪ストロークが異なるように設
定された複数の上爪用待機位置接点が上爪用カムのカム
面に設定されている上爪を有し、 前記半導体製造装置は、半導体チップを前記ワーク上に
移載する機能を有することを特徴とする半導体装置の製
造方法。
4. A semiconductor device manufacturing method using a semiconductor manufacturing apparatus having a function of sandwiching and transporting a work between an upper claw and a lower claw that are moved up and down by a cam mechanism, wherein the cam mechanism uses the work. A plurality of upper claw standby position contacts, which are set to have different upper claw strokes from the standby position to the clamping position when the upper claw is clamped, have an upper claw set on the cam surface of the upper claw cam, A method of manufacturing a semiconductor device, wherein the manufacturing device has a function of transferring a semiconductor chip onto the work.
【請求項5】 カム機構で上下する上爪と下爪との間に
ワークを挟持して搬送する機能を有する半導体製造装置
であって、 前記カム機構では、前記ワークの挟持に際しての待機位
置から挟持位置までの上爪ストロークが異なるように設
定された複数の上爪用待機位置接点が上爪用カムのカム
面に設定されている上爪を有することを特徴とする半導
体製造装置。
5. A semiconductor manufacturing apparatus having a function of nipping and conveying a work between an upper claw and a lower claw which are moved up and down by a cam mechanism, wherein the cam mechanism moves from a standby position when nipping the work. A semiconductor manufacturing apparatus, wherein a plurality of upper-claw standby position contacts, which are set to have different upper-claw strokes up to the holding position, have upper claws set on the cam surface of the upper-claw cam.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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