JP2003326646A - Gas barrier film - Google Patents

Gas barrier film

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JP2003326646A
JP2003326646A JP2002135885A JP2002135885A JP2003326646A JP 2003326646 A JP2003326646 A JP 2003326646A JP 2002135885 A JP2002135885 A JP 2002135885A JP 2002135885 A JP2002135885 A JP 2002135885A JP 2003326646 A JP2003326646 A JP 2003326646A
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JP
Japan
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gas barrier
coating layer
film
plastic film
group
Prior art date
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Pending
Application number
JP2002135885A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuya Yamamoto
哲也 山本
Hiroko Harada
弘子 原田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Shokubai Co Ltd filed Critical Nippon Shokubai Co Ltd
Priority to JP2002135885A priority Critical patent/JP2003326646A/en
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  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance usefulness of a gas barrier film. <P>SOLUTION: This gas barrier film is constituted by laminating a plastic film (A) and a covering layer (B) which is formed by using a composition including an organosilicon compound and/or a hydrolytic condensate thereof; the organosilicon compound is expressed by formula: R<SP>1</SP><SB>x</SB>Si(OR<SP>2</SP>)<SB>y</SB>(wherein R<SP>1</SP>is an alkyl group which can have a functional group which does not react with a hydrogen atom or active hydrogen; R<SP>2</SP>is a hydrogen atom or an alkyl group; x represents an integer greater than/equal to zero; y represents an integer greater than/equal to one; and a relationship between x and y is expressed by equation: x+y=4); and in the plastic film (A), a ratio (E'<SB>50</SB>/E'<SB>100</SB>) between a storage elastic modulus E'<SB>50</SB>at 50°C and a storage elastic modulus E'<SB>100</SB>at 100°C is in the range of 1.0-5.0, when viscoelasticity is measured at a frequency of 10 Hz in a tensile mode. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、酸素、二酸化炭
素、水蒸気などの気体の透過度が極めて小さいガスバリ
ア用フィルムに関し、より詳しくは、高い熱安定性を有
し、プラスチックフィルムと被覆層との剥離に起因する
ガスバリア性の低下を効果的に抑制しうるガスバリア用
フィルムに関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a gas barrier film having extremely low permeability to gases such as oxygen, carbon dioxide, and water vapor, and more specifically, it has high thermal stability and is composed of a plastic film and a coating layer. The present invention relates to a gas barrier film capable of effectively suppressing a decrease in gas barrier property due to peeling.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、包装、医療等の分野において、酸
素、窒素、二酸化炭素、水蒸気などの気体の透過度が極
めて小さいガスバリア用フィルムに対する需要が増大し
ている。
2. Description of the Related Art In recent years, in the fields of packaging, medical treatment and the like, there is an increasing demand for gas barrier films having extremely low permeability to gases such as oxygen, nitrogen, carbon dioxide and water vapor.

【0003】ガスバリア用フィルムを製造する手法とし
ては、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩化ビ
ニリデン系共重合体、芳香族系ナイロン等のガスバリア
性を有する材料でフィルムそのものを形成する、これ
らのガスバリア性を有する材料をフィルム基材にラミネ
ートまたはコーティングする、アルミ箔をフィルム基
材にラミネートする、フィルム基材表面に金属酸化物
を蒸着する等の方法がある。
As a method for producing a gas barrier film, the film itself is formed from a material having a gas barrier property such as an ethylene-vinyl alcohol copolymer, a vinylidene chloride copolymer, an aromatic nylon, and the like. There are methods such as laminating or coating a material having the above with a film base material, laminating an aluminum foil on the film base material, and depositing a metal oxide on the surface of the film base material.

【0004】しかしながら、これらのガスバリア性材料
は、いずれも耐湿性、環境性、透明性、可撓性の全てを
満足するものとはいえなかった。具体的には、エチレン
−ビニルアルコール共重合体や芳香族系ナイロンは、雰
囲気の湿度が大きくなるに従ってガスバリア性が大幅に
低下してしまう。塩化ビニリデン系共重合体は塩素原子
を含んでいるため、公害の原因となる恐れがある。アル
ミ箔をフィルム基材にラミネートした場合にはガスバリ
ア用フィルムが不透明になり、包装物の内容を確認でき
なくなる。また、ガスバリア用フィルム表面に金属酸化
物を蒸着した場合には蒸着層にクラックが生じ易く、ガ
スバリア性の低下が生じる。
However, none of these gas barrier materials can be said to satisfy all of moisture resistance, environmental resistance, transparency and flexibility. Specifically, the ethylene-vinyl alcohol copolymer and the aromatic nylon have a significantly reduced gas barrier property as the humidity of the atmosphere increases. Since the vinylidene chloride-based copolymer contains chlorine atoms, it may cause pollution. When the aluminum foil is laminated on the film substrate, the gas barrier film becomes opaque and the contents of the package cannot be confirmed. Further, when a metal oxide is vapor-deposited on the surface of the gas barrier film, cracks are likely to occur in the vapor deposition layer, and the gas barrier property is deteriorated.

【0005】そこで、本発明者らは、これらの問題を解
決すべく、ガスバリア用コーティング剤およびこれを用
いてポリシロキサン系重合体を含む膜を表面に形成した
ガスバリア用フィルムを既に提案している(特開平8−
295848号公報など)。かかるガスバリア用フィル
ムは、高いガスバリア性を保持し、耐湿性、環境性、透
明性、可撓性に優れたものであり、各種用途に適用する
に当たり、非常に高い有用性を有するものといえる。
In order to solve these problems, the present inventors have already proposed a gas barrier coating agent and a gas barrier film having a film containing a polysiloxane polymer formed on the surface thereof. (JP-A-8-
295848, etc.). Such a gas barrier film retains high gas barrier properties and is excellent in moisture resistance, environment resistance, transparency and flexibility, and can be said to be extremely useful when applied to various applications.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記ポリシ
ロキサン系重合体からなる層を有するガスバリア用フィ
ルムの有用性をより高めることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to further enhance the usefulness of a gas barrier film having a layer composed of the above polysiloxane polymer.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明は、プラスチックフィルム(A)と、下記式(1):
The present invention which solves the above-mentioned problems includes a plastic film (A) and the following formula (1):

【0008】[0008]

【化3】 [Chemical 3]

【0009】(式中、R1は水素原子または官能基を有
していてもよいアルキル基であり、R2は水素原子また
はアルキル基であり、xは0以上の整数であり、yは1
以上の整数であり、x+y=4であり、xまたはyが2
以上の場合にはR1またはR2は異なっていてもよい)で
表される有機ケイ素化合物および/またはその加水分解
縮合物を含む組成物を用いて形成されてなる被覆層
(B)と、が積層されてなるガスバリア用フィルムであ
って、前記プラスチックフィルム(A)は、引っ張りモ
ードによって周波数10Hzで粘弾性を測定したとき
に、50℃での貯蔵弾性率E’50と100℃での貯蔵弾
性率E’100との比(E’50/E’100)が、1.0〜
5.0であることを特徴とするガスバリア用フィルムで
ある。
(Wherein R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group which may have a functional group, R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group, x is an integer of 0 or more, and y is 1
It is an integer greater than or equal to x + y = 4, and x or y is 2
In the above cases, R 1 or R 2 may be different) a coating layer (B) formed using a composition containing an organosilicon compound represented by The plastic film (A) is a gas barrier film obtained by laminating the above, and the plastic film (A) has a storage elastic modulus E ′ 50 at 50 ° C. and a storage at 100 ° C. when viscoelasticity is measured at a frequency of 10 Hz by a tensile mode. 'ratio of 100 (E' modulus E 50 / E '100) is 1.0
It is a film for gas barriers, which is 5.0.

【0010】また本発明は、プラスチックフィルム
(A)と、活性水素が結合した窒素原子を分子内に有す
る有機化合物(b−i)、および前記活性水素と反応し
て前記窒素原子と化学結合を形成しうる官能基を分子内
に有する有機化合物(b−ii)を反応して得られた組成
物を用いて形成されてなる被覆層(B)と、が積層され
てなるガスバリア用フィルムであって、前記プラスチッ
クフィルム(A)は、引っ張りモードによって周波数1
0Hzで粘弾性を測定したときに、50℃での貯蔵弾性
率E’50と100℃での貯蔵弾性率E’100との比
(E’50/E’100)が、1.0〜5.0であることを
特徴とするガスバリア用フィルムである。
In the present invention, the plastic film (A), the organic compound (b-i) having a nitrogen atom to which active hydrogen is bonded in the molecule, and the active hydrogen are reacted with each other to chemically bond with the nitrogen atom. A gas barrier film comprising a coating layer (B) formed by using a composition obtained by reacting an organic compound (b-ii) having a functional group capable of forming in a molecule, and a coating layer (B). The plastic film (A) has a frequency of 1 depending on the tension mode.
When measured viscoelasticity at 0 Hz, the ratio of the 100 'the storage modulus E at 50 to 100 ° C.' the storage modulus E at 50 ℃ (E '50 / E ' 100), 1.0~5 It is a film for gas barriers characterized by being 0.0.

【0011】また本発明は、プラスチックフィルム
(A)と、活性水素が結合した窒素原子を分子内に有す
る有機化合物(b−i)、および前記活性水素と反応し
て前記窒素原子と化学結合を形成しうる官能基を分子内
に有する有機化合物(b−ii)を反応して得られた組成
物を用いて形成されてなる被覆層(B)と、が積層され
てなるガスバリア用フィルムであって、前記プラスチッ
クフィルム(A)と前記被覆層(B)との密着強度が、
250gf/15mm以上であることを特徴とするガス
バリア用フィルムである。
In the present invention, the plastic film (A), the organic compound (b-i) having a nitrogen atom to which active hydrogen is bonded in the molecule, and the active hydrogen are reacted with each other to chemically bond with the nitrogen atom. A gas barrier film comprising a coating layer (B) formed by using a composition obtained by reacting an organic compound (b-ii) having a functional group capable of forming in a molecule, and a coating layer (B). The adhesive strength between the plastic film (A) and the coating layer (B) is
The film for gas barrier is characterized by having a thickness of 250 gf / 15 mm or more.

【0012】本発明者らは、優れた特性を有する前記ガ
スバリア用フィルムの特性をさらに向上させるべく鋭意
検討したところ、貯蔵弾性率や密着強度と熱安定性との
相関性があることを見出した。即ち、プラスチックフィ
ルムの貯蔵弾性率やプラスチックフィルムと被覆層との
密着強度が上記規定値を満たすガスバリア用フィルム
は、非常に優れた熱安定性を有する。このため、本発明
のガスバリア用フィルムは、非常に過酷な条件(例え
ば、高温における煮沸)においても優れたガスバリア性
を維持できる。
The inventors of the present invention have conducted extensive studies to further improve the characteristics of the gas barrier film having excellent characteristics, and have found that there is a correlation between the storage elastic modulus or the adhesion strength and the thermal stability. . That is, the gas barrier film having the storage elastic modulus of the plastic film and the adhesion strength between the plastic film and the coating layer satisfying the above-specified values has very good thermal stability. Therefore, the gas barrier film of the present invention can maintain excellent gas barrier properties even under extremely severe conditions (for example, boiling at high temperature).

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明のガスバリア用フィルム
は、少なくとも、プラスチックフィルム(A)と、被覆
層(B)とが積層されてなる。以下、構成要素である、
プラスチックフィルム(A)、被覆層(B)を中心に詳
細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The gas barrier film of the present invention comprises at least a plastic film (A) and a coating layer (B) laminated together. Below are the components,
The plastic film (A) and the coating layer (B) will be mainly described in detail.

【0014】プラスチックフィルム(A)は、50℃で
の貯蔵弾性率E’50と100℃での貯蔵弾性率E’100
との比(E’50/E’100)が、1.0〜5.0である
ことが好ましい。50℃での貯蔵弾性率E’50と100
℃での貯蔵弾性率E’100との比(以下、便宜上「貯蔵
弾性率比」とも記載する)がかような範囲である場合に
は、得られるガスバリア用フィルムは優れた熱安定性を
有する。貯蔵弾性率は、周期荷重を加えたときに振動応
力と同位相にある弾性率をいい、動的弾性率とも呼ばれ
る。一般には、値が大きいほど変形しづらいことを表
す。従って、E’50/E’100が大きいということは、
プラスチックフィルム(A)が高温で変形しやすいこと
を意味する。逆に、E’50/E’100が小さいというこ
とは、プラスチックフィルム(A)が高温で変形しづら
いことを意味する。貯蔵弾性率は測定時に用いる周波数
によって異なる場合があるため、本願においては、使用
する周波数を10Hzとする。また測定モードは、引っ
張りモードを用いる。貯蔵弾性率は、市販されている測
定機器を用いて測定することができる。例えば、レオメ
トリックサイエンティフィック社製固体粘弾性アナライ
ザーRSAIIなどを用いて測定することができる。
[0014] a plastic film (A) is, 'storage modulus at 50 and 100 ° C. E' storage modulus E at 50 ° C. 100
The ratio of the (E '50 / E' 100 ) is preferably 1.0 to 5.0. Storage modulus E '50 at 50 ° C. and 100
The ratio of the storage modulus E '100 at ° C. (hereinafter, for convenience also referred to as "storage modulus ratio") when it is such a range is for the resulting gas barrier film has excellent thermal stability . The storage elastic modulus is an elastic modulus that is in the same phase as a vibration stress when a cyclic load is applied, and is also called a dynamic elastic modulus. In general, the larger the value, the more difficult it is to deform. Accordingly, E '50 / E' 100 that is large,
It means that the plastic film (A) is easily deformed at high temperature. Conversely, E '50 / E' that 100 is small, a plastic film (A) which means that difficult to deform at high temperatures. Since the storage elastic modulus may vary depending on the frequency used at the time of measurement, the frequency used is 10 Hz in the present application. The tension mode is used as the measurement mode. The storage elastic modulus can be measured using a commercially available measuring instrument. For example, it can be measured using a solid viscoelasticity analyzer RSAII manufactured by Rheometric Scientific.

【0015】プラスチックフィルム(A)と被覆層
(B)とが積層されているガスバリア用フィルムが一定
温度に保持されている間は、プラスチックフィルム
(A)と被覆層(B)との密着性に対する貯蔵弾性率比
は、本質的には問題とならないと考えられる。しかしな
がら、ガスバリア用フィルムが例えば90℃の煮沸殺菌
に晒されたときには、貯蔵弾性率比がプラスチックフィ
ルム(A)と被覆層(B)との密着性に大きな影響を及
ぼす。プラスチックフィルム(A)に関する貯蔵弾性率
比(E’50/E’100)が被覆層(B)の貯蔵弾性率比
に対して小さいと、プラスチックフィルム(A)は変形
しづらい一方で、被覆層(B)は変形しやすいこととな
る。そうすると、高温でガスバリア用フィルムを変形さ
せた際に、被覆層(B)にクラックが生じるなどの問題
が生じ、ガスバリア性の低下を招来してしまう。逆に、
プラスチックフィルム(A)に関する貯蔵弾性率比
(E’50/E’ 100)が被覆層(B)の貯蔵弾性率比に
対して大きいと、プラスチックフィルム(A)は変形し
やすい一方で、被覆層(B)は変形しづらいこととな
る。そうすると、高温でガスバリア用フィルムを変形さ
せた際に、プラスチックフィルム(A)の軟化に被覆層
(B)が追随できずに剥離したり、クラックが生じたり
する恐れがある。これらの問題はいずれもガスバリア性
の低下を引き起こす。
Plastic film (A) and coating layer
The film for gas barrier laminated with (B) is constant
Plastic film while held at temperature
Storage elastic modulus ratio with respect to adhesion between (A) and coating layer (B)
Is considered to be essentially non-issue. But
For example, the gas barrier film is sterilized by boiling at 90 ° C.
When exposed to
It has a great influence on the adhesion between the rum (A) and the coating layer (B).
I'm sorry. Storage modulus of plastic film (A)
Ratio (E '50/ E '100) Is the storage elastic modulus ratio of the coating layer (B)
If it is small, the plastic film (A) will deform
On the other hand, it is difficult for the coating layer (B) to be easily deformed.
It This will deform the gas barrier film at high temperatures.
Problems such as cracks in the coating layer (B) when applied
Occurs, resulting in deterioration of the gas barrier property. vice versa,
Storage modulus ratio for plastic film (A)
(E ’50/ E ' 100) Is the storage elastic modulus ratio of the coating layer (B)
On the other hand, if it is large, the plastic film (A) will deform
Although it is easy, the coating layer (B) is not easily deformed.
It This will deform the gas barrier film at high temperatures.
When applied, it softens the plastic film (A) and a coating layer
(B) cannot follow and peels off or cracks occur.
There is a risk of All of these problems are gas barrier properties
Cause a drop in.

【0016】これらの問題は、プラスチックフィルム
(A)についての貯蔵弾性率比のみに依存するものでは
なく、勿論、被覆層(B)の貯蔵弾性率比に関連して生
じるものである。本発明者らは、本願発明における被覆
層(B)構成材料などを考慮した結果、プラスチックフ
ィルム(A)の貯蔵弾性率比が1.0〜5.0である
と、優れた熱安定性を有するガスバリア用フィルムを得
ることができることを見出した。従って、本願発明の第
一のガスバリア用フィルムは、プラスチックフィルム
(A)の貯蔵弾性率比が1.0〜5.0であることを特
徴とする。貯蔵弾性率比が1.0未満であると、プラス
チックフィルム(A)の柔軟性が相対的に劣るため、被
覆層にクラックが生じ、ガスバリア性が低下する恐れが
ある。一方、貯蔵弾性率比が5.0より大きいと、被覆
層(B)の柔軟性が相対的に劣るため、プラスチックフ
ィルム(A)と被覆層(B)との剥離やクラックが生
じ、ガスバリア用フィルムのガスバリア性が低下する恐
れがある。
These problems do not depend only on the storage elastic modulus ratio of the plastic film (A), but of course occur with respect to the storage elastic modulus ratio of the coating layer (B). As a result of considering the coating layer (B) constituent material and the like in the present invention, the inventors of the present invention show excellent thermal stability when the storage elastic modulus ratio of the plastic film (A) is 1.0 to 5.0. It has been found that a gas barrier film having the same can be obtained. Therefore, the first gas barrier film of the present invention is characterized in that the storage elastic modulus ratio of the plastic film (A) is 1.0 to 5.0. When the storage elastic modulus ratio is less than 1.0, the flexibility of the plastic film (A) is relatively inferior, so that the coating layer may be cracked and the gas barrier property may be deteriorated. On the other hand, when the storage elastic modulus ratio is more than 5.0, the flexibility of the coating layer (B) is relatively poor, so that peeling or cracking occurs between the plastic film (A) and the coating layer (B), and for a gas barrier. The gas barrier property of the film may decrease.

【0017】プラスチックフィルム(A)は、貯蔵弾性
率比が1.0〜5.0となるように選択することが好ま
しいが、好適な材料としては、ポリプロピレンフィル
ム、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルムなどが
挙げられる。熱安定性の観点からは、ポリエステルフィ
ルムまたはポリアミドフィルムがより好ましい。フィル
ム強度も考慮すると、ポリエステルフィルムが特に好ま
しい。
The plastic film (A) is preferably selected so as to have a storage elastic modulus ratio of 1.0 to 5.0. Suitable materials include polypropylene film, polyester film and polyamide film. To be From the viewpoint of thermal stability, a polyester film or a polyamide film is more preferable. Considering the film strength, the polyester film is particularly preferable.

【0018】ポリエステルとしては、ポリエチレンテレ
フタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート
(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)など
のポリエステルが挙げられる。ポリアミドとしては、ポ
リε−カプロラクタム、ポリヘキサメチレンアジポアミ
ド、ポリメタキシリレンアジポアミドなどが挙げられ
る。プラスチックフィルム(A)は無延伸のものであっ
ても良いし、一軸あるいは二軸に延伸あるいは圧延され
ているものであっても構わない。また、これらのプラス
チックフィルム(A)は重合により合成してもよいし、
市販されているフィルムを用いてもよい。
Examples of the polyester include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT) and polyethylene naphthalate (PEN). Examples of the polyamide include poly ε-caprolactam, polyhexamethylene adipamide, and polymetaxylylene adipamide. The plastic film (A) may be unstretched, or may be uniaxially or biaxially stretched or rolled. Further, these plastic films (A) may be synthesized by polymerization,
A commercially available film may be used.

【0019】プラスチックフィルム(A)の形状は、特
に限定されるものではなく、使用用途や作業性などを考
慮して決定すればよい。厚さに関しても特に限定される
ものではないが、薄すぎるとフィルム強度が不充分なも
のとなる恐れがあり、厚すぎるとクラック発生の恐れが
高まる。このため、プラスチックフィルム(A)一般的
には5〜500μm、好ましくは7〜50μm、より好
ましくは10〜30μmである。
The shape of the plastic film (A) is not particularly limited and may be determined in consideration of the intended use and workability. The thickness is also not particularly limited, but if it is too thin, the film strength may be insufficient, and if it is too thick, the risk of cracking increases. Therefore, the plastic film (A) generally has a thickness of 5 to 500 μm, preferably 7 to 50 μm, and more preferably 10 to 30 μm.

【0020】被覆層(B)は、被覆層(B)を形成する
ために用いられる組成物(以下、「被覆層用組成物」と
も記載)を予め調製し、これを塗布することによって形
成される。被覆層用組成物の調製方法については、特開
平8−295848号公報などに記載されている手法を
適宜参照することができる。
The coating layer (B) is formed by preparing in advance a composition used for forming the coating layer (B) (hereinafter, also referred to as "coating layer composition") and applying the composition. It Regarding the method for preparing the composition for the coating layer, the method described in JP-A-8-295848 can be appropriately referred to.

【0021】被覆層用組成物の一実施形態は、前記式
(1)で表される有機ケイ素化合物および/またはその
加水分解縮合物を含む。
One embodiment of the coating layer composition contains the organosilicon compound represented by the above formula (1) and / or its hydrolytic condensate.

【0022】式(1)において、R1は水素原子または
官能基を有していてもよいアルキル基である。アルキル
基は、炭素数1〜4のアルキル基であることが好まし
く、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基といった直鎖アルキル基、イソプロピル基、イソブ
チル基、tert−ブチル基、sec−ブチル基といっ
た分岐アルキル基、シクロプロピル基、シクロブチル基
といった環状(脂環式)アルキル基が挙げられる。この
なかでは、緻密な被覆層(B)を形成する上での反応容
易性の観点から、メチル基またはエチル基が好ましい。
アルキル基に有され得る官能基としては、特に限定され
るものではないが、アミノ基、エポキシ基、(メタ)ア
クリル基、チオール基、水酸基、ビニル基が挙げられ
る。特に、ビニル基を有する場合には、耐熱性が向上す
る効果がある。なお、R1は、xが2以上の場合には、
同一であってもよいし、異なっていてもよい。
In the formula (1), R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group which may have a functional group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, specifically, a linear alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, Examples thereof include branched alkyl groups such as sec-butyl group, and cyclic (alicyclic) alkyl groups such as cyclopropyl group and cyclobutyl group. Among these, a methyl group or an ethyl group is preferable from the viewpoint of easiness of reaction in forming the dense coating layer (B).
The functional group that can be contained in the alkyl group is not particularly limited, and examples thereof include an amino group, an epoxy group, a (meth) acryl group, a thiol group, a hydroxyl group, and a vinyl group. In particular, when it has a vinyl group, it has an effect of improving heat resistance. In addition, R 1 is, when x is 2 or more,
It may be the same or different.

【0023】前記式(1)において、R2は水素原子ま
たはアルキル基である。アルキル基は、炭素数1〜4の
アルキル基であることが好ましく、具体的にはメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基といった直鎖アル
キル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert−ブ
チル基、sec−ブチル基といった分岐アルキル基、シ
クロプロピル基、シクロブチル基といった環状(脂環
式)アルキル基が挙げられる。このなかでは、緻密な被
覆層(B)を形成する上での反応容易性の観点から、メ
チル基またはエチル基が好ましい。なお、R2は、yが
2以上の場合には、同一であってもよいし、異なってい
てもよい。
In the above formula (1), R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, specifically, a linear alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, Examples thereof include branched alkyl groups such as sec-butyl group, and cyclic (alicyclic) alkyl groups such as cyclopropyl group and cyclobutyl group. Among these, a methyl group or an ethyl group is preferable from the viewpoint of easiness of reaction in forming the dense coating layer (B). When y is 2 or more, R 2 s may be the same or different.

【0024】前記式(1)において、xは0以上の整数
であり、yは1以上の整数であり、x+y=4である。
特に限定されるものではないが、形成される被覆層
(B)の耐熱性、耐煮沸性、耐水性を考慮すると、x=
0であり、y=4であることが好ましい。
In the above formula (1), x is an integer of 0 or more, y is an integer of 1 or more, and x + y = 4.
Although not particularly limited, in consideration of heat resistance, boiling resistance, and water resistance of the coating layer (B) formed, x =
It is preferred that 0 and y = 4.

【0025】有機ケイ素化合物の具体例としては、テト
ラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソ
プロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリ
メトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルト
リイソプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、
エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラ
ン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリブト
キシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエ
トキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジメ
チルジブトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジ
エチルジエトキシシラン、ジエチルジイソプロポキシシ
ラン、ジエチルジブトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプ
ロポキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルト
リエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリエトキシシラン、γ−ヒドロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−ヒドロキシプロピルトリ
エトキシシラン等のアルコキシシラン類およびこれらの
錯体化合物、メチルトリアセトキシシラン、トリメチル
シラノール、並びにこれらの化合物を含む高分子有機ケ
イ素化合物類が挙げられる。この中では、被覆層(B)
の耐湿性、耐水性などを考慮すると、テトラメトキシシ
ラン、テトラエトキシシランが好ましい。なお、これら
は、1種単独で用いてもよいし、または2種以上を併用
して用いてもよい。
Specific examples of the organosilicon compound include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltributoxysilane,
Ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldiisopropoxysilane, dimethyldibutoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, Diethyldiisopropoxysilane, diethyldibutoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltributoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ- Methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyi Alkoxysilanes such as triethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-hydroxypropyltrimethoxysilane, γ-hydroxypropyltriethoxysilane and complex compounds thereof, Methyltriacetoxysilane, trimethylsilanol, and polymeric organosilicon compounds containing these compounds are mentioned. Among these, the coating layer (B)
Considering the moisture resistance and water resistance of the above, tetramethoxysilane and tetraethoxysilane are preferable. In addition, these may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more type.

【0026】有機ケイ素化合物の加水分解縮合物は、上
記式(1)で表される有機ケイ素化合物の加水分解縮合
によって得られる化合物である。有機ケイ素化合物の代
わりに、または有機ケイ素化合物に加えて、有機ケイ素
化合物の加水分解縮合物を含んでもよいとしたのは、被
覆層(B)を形成する際における有機化合物および有機
ケイ素化合物の不本意な乾燥を防止するためには、これ
らを予め加水分解縮合させておくことが好ましいからで
ある。つまり、本発明の被覆層用組成物は、有機ケイ素
化合物を含むものであってもよく、有機ケイ素化合物の
加水分解縮合物を含むものであってもよい。両者を含む
ものであってもよいことは勿論である。これらの加水分
解縮合反応は、空気中に存在する水分によっても進行す
るが、酸または塩基等の公知の触媒を用いて反応効率を
向上させてもよい。また、作業性を考慮すると、加水分
解反応は溶媒中で行うことが好ましい。
The hydrolytic condensate of the organosilicon compound is a compound obtained by hydrolytic condensation of the organosilicon compound represented by the above formula (1). Instead of the organic silicon compound or in addition to the organic silicon compound, the hydrolysis-condensation product of the organic silicon compound may be contained because the organic compound and the organic silicon compound in the coating layer (B) are not formed. This is because it is preferable to hydrolyze and condense these in advance in order to prevent intentional drying. That is, the coating layer composition of the present invention may contain an organosilicon compound, or may contain a hydrolyzed condensate of the organosilicon compound. Of course, both may be included. These hydrolysis-condensation reactions also proceed with water present in the air, but the reaction efficiency may be improved by using a known catalyst such as acid or base. Further, in consideration of workability, it is preferable to carry out the hydrolysis reaction in a solvent.

【0027】上記式(1)で表される有機ケイ素化合物
および/またはその加水分解縮合物を含む被覆層用組成
物には、他の成分が含まれていてもよい。例えば、後述
する有機化合物(b−i)、有機化合物(b−ii)など
が含まれていてもよい。
The composition for the coating layer containing the organosilicon compound represented by the above formula (1) and / or its hydrolysis-condensation product may contain other components. For example, the organic compound (b-i), the organic compound (b-ii), and the like described later may be contained.

【0028】被覆層用組成物の他の実施形態は、活性水
素が結合した窒素原子を分子内に有する有機化合物(b
−i)、前記活性水素と反応して前記窒素原子と化学結
合を形成しうる官能基を分子内に有する有機化合物(b
−ii)とを反応させることにより得られる。被覆層用組
成物を調製するにあたっては、下記式(2):
Another embodiment of the coating layer composition is an organic compound (b) having a nitrogen atom to which active hydrogen is bonded in the molecule.
-I), an organic compound having in the molecule thereof a functional group capable of reacting with the active hydrogen to form a chemical bond with the nitrogen atom (b)
-Ii) is obtained by reacting with. In preparing the coating layer composition, the following formula (2):

【0029】[0029]

【化4】 [Chemical 4]

【0030】で表される有機ケイ素化合物(b−iii)
および/またはその加水分解縮合物(b−iv)をさら
に反応させてもよい。
Organosilicon compound (b-iii) represented by
And / or the hydrolysis condensate (b-iv) thereof may be further reacted.

【0031】有機化合物(b−i)は、活性水素が結合
した窒素原子を分子内に有するものであれば特に限定さ
れるものではない。本願において活性水素とは、反応性
が強く各種の試薬と反応する水素原子をいい、具体的に
は、−NH−(式中、Nには他に水素原子が結合してい
ない)または−NH2として分子中に存在する。有機化
合物(b−i)からなる成分が被覆層用組成物に含まれ
る場合、形成される被覆層(B)の可撓性を高める上で
特に効果がある。
The organic compound (b-i) is not particularly limited as long as it has a nitrogen atom to which active hydrogen is bonded in the molecule. In the present application, active hydrogen refers to a hydrogen atom which is highly reactive and reacts with various reagents, and specifically, -NH- (wherein, N is not bonded to any other hydrogen atom) or -NH. It exists as 2 in the molecule. When the composition comprising the organic compound (b-i) is contained in the coating layer composition, it is particularly effective in increasing the flexibility of the coating layer (B) formed.

【0032】有機化合物(b−i)の分子量は特に限定
されるものではないが、形成される被覆層(B)の製膜
性や可撓性を考慮すると、高分子化合物であることが好
ましい。有機化合物(b−i)としての高分子化合物
は、数平均分子量が小さすぎると形成された被覆層
(B)の可撓性が劣る恐れや、プラスチックフィルム
(A)や他の被覆層(B)上にコーティングして積層す
る際の製膜性が劣る恐れがある。このため、有機化合物
(b−i)としての高分子化合物の数平均分子量は25
0以上であることが好ましく、300以上であることが
より好ましい。一方、数平均分子量が大きすぎると形成
される被覆層(B)の透明性が劣る恐れがあり、また、
被覆層(B)の可撓性が劣る恐れがある。このため、有
機化合物(b−i)としての高分子化合物の数平均分子
量は200000以下であることが好ましく、1000
00以下であることがより好ましく、10000以下で
あることが特に好ましい。ただし、数平均分子量では計
測できない複雑な構造を持つものも有機化合物(b−
i)として使用可能であり、本発明においてはこれらの
ものを排除するものではない。
The molecular weight of the organic compound (b-i) is not particularly limited, but a polymer compound is preferable in view of the film-forming property and flexibility of the coating layer (B) to be formed. . If the number average molecular weight of the polymer compound as the organic compound (b-i) is too small, the coating layer (B) formed may be inferior in flexibility, or the plastic film (A) or another coating layer (B) may be formed. ) There is a possibility that the film-forming property when coating and laminating on top may be poor. Therefore, the number average molecular weight of the polymer compound as the organic compound (b-i) is 25
It is preferably 0 or more, more preferably 300 or more. On the other hand, if the number average molecular weight is too large, the transparency of the coating layer (B) formed may be inferior.
The flexibility of the coating layer (B) may be poor. Therefore, the number average molecular weight of the polymer compound as the organic compound (b-i) is preferably 200,000 or less, and 1000
It is more preferably 00 or less, and particularly preferably 10,000 or less. However, organic compounds with a complex structure that cannot be measured by the number average molecular weight (b-
It can be used as i), and these are not excluded in the present invention.

【0033】有機化合物(b−i)の具体例としては、
エタノールアミンなどの低分子化合物や、ポリアルキレ
ンイミン、ポリアリルアミンなどの高分子化合物が挙げ
られる。
Specific examples of the organic compound (b-i) include:
Examples thereof include low molecular weight compounds such as ethanolamine, and high molecular weight compounds such as polyalkyleneimine and polyallylamine.

【0034】ポリアルキレンイミンとしては、ポリメチ
レンイミン、ポリエチレンイミン、ポリプロピレンイミ
ン、ポリイソプロピレンイミン、ポリブチレンイミン、
ポリイソブチレンイミンなどが挙げられる。ポリアルキ
レンイミンは各種公知の合成方法を用いて調製すること
ができ、また、市販品を用いてもよい。例えば、株式会
社日本触媒製のエポミンシリーズ;エポミンSP−00
3、エポミンSP−006、エポミンSP−012、エ
ポミンSP−018、エポミンSP−103、エポミン
SP−110、エポミンSP−200、エポミンSP−
300、エポミンSP−1000、エポミンSP−10
20(いずれも商品名)等のポリエチレンイミンを用い
ることができる。ポリアリルアミンとしては、各種公知
の方法で合成したものを用いることができるほか、日東
紡績株式会社製のPAA−L、PAA−H(いずれも商
品名)などを用いることができる。これらは1種単独で
用いてもよいし、2種以上を併用して用いてもよい。上
記列挙した有機化合物(b−i)のなかでは、被覆層
(B)の透明性、耐熱性、可撓性、密着性を考慮する
と、ポリアルキレンイミンが好ましく、ポリエチレンイ
ミンが特に好ましい。
As the polyalkyleneimine, polymethyleneimine, polyethyleneimine, polypropyleneimine, polyisopropyleneimine, polybutyleneimine,
Examples thereof include polyisobutylene imine. The polyalkyleneimine can be prepared by using various known synthesis methods, or a commercially available product may be used. For example, Epomin series manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd .; Epomin SP-00
3, Epomin SP-006, Epomin SP-012, Epomin SP-018, Epomin SP-103, Epomin SP-110, Epomin SP-200, Epomin SP-
300, Epomin SP-1000, Epomin SP-10
Polyethyleneimine such as 20 (both are trade names) can be used. As the polyallylamine, those synthesized by various known methods can be used, and PAA-L and PAA-H (both are trade names) manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd. can be used. These may be used alone or in combination of two or more. Among the above-listed organic compounds (bi), polyalkyleneimine is preferable, and polyethyleneimine is particularly preferable, in consideration of transparency, heat resistance, flexibility and adhesiveness of the coating layer (B).

【0035】有機化合物(b−ii)は、有機化合物(b
−i)に含まれる窒素原子に結合した活性水素と反応し
てこの窒素原子と化学結合を形成しうる官能基を分子内
に有するものであれば特に限定されるものではない。こ
のような官能基としては、特に制限されるものではない
が、エポキシ基、カルボキシル基、イソシアネート基、
チオイソシアネート基、オキサゾリニル基、(メタ)ア
クリル基、アルデヒド基、ケトン基、アルキルハライド
基などが挙げられる。窒素原子に結合した活性水素との
反応容易性、耐熱水性を考慮すると、エポキシ基を有す
るエポキシ化合物が好ましい。なお、有機化合物(b−
ii)からなる成分を被覆層用組成物に含ませた場合、被
覆層用組成物の製膜性を向上させる上で特に効果があ
る。
The organic compound (b-ii) is the organic compound (b
There is no particular limitation as long as it has a functional group in the molecule capable of reacting with active hydrogen bonded to the nitrogen atom contained in -i) to form a chemical bond with this nitrogen atom. Such a functional group is not particularly limited, but an epoxy group, a carboxyl group, an isocyanate group,
Examples thereof include thioisocyanate group, oxazolinyl group, (meth) acryl group, aldehyde group, ketone group and alkyl halide group. An epoxy compound having an epoxy group is preferable in view of easiness of reaction with active hydrogen bonded to nitrogen atom and hot water resistance. The organic compound (b-
Including the component (ii) in the coating layer composition is particularly effective in improving the film-forming property of the coating layer composition.

【0036】有機化合物(b−ii)は、特に制限される
べきものではないが、2−エチルヘキシルグリシジルエ
ーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジ
エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレ
ングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレング
リコールジグリシジルエーテル、ノナエチレングリコー
ルジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリ
シジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジル
エーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエー
テル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテ
ル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グ
リセロールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロ
パンジグリシジルエーテル等の脂肪族モノ−,ジグリシ
ジルエーテル類;グリセロールトリグリシジルエーテ
ル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリ
シジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレー
ト、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、
ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等のポ
リグリシジルエーテル類;アジピン酸ジグリシジルエス
テル、o−フタル酸ジグリシジルエステル、フェニルグ
リシジルエーテル等の脂肪族および芳香族モノ−,ジグ
リシジルエステル類;ビスフェノールAジグリシジルエ
ーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ヒドロ
キノンジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリ
シジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテ
ルなどの芳香環またはその水素添加環(核置換誘導体も
含む)を有するグリシジル類;グリシジル基を官能基と
して有するオリゴマー類;ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、トリレンジイソシアネート、1,4−ジフェニル
メタンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシ
アネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、ト
リジンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネー
ト、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等のイソ
シアネート類;酒石酸、アジピン酸等のジカルボン酸
類;ポリアクリル酸等のカルボキシル基含有重合体;オ
キサゾリニル基含有重合体などが挙げられる。
The organic compound (b-ii) is not particularly limited, but may be 2-ethylhexyl glycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, triethylene glycol diglycidyl ether, tetraethylene glycol diglycidyl ether. Glycidyl ether, nonaethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, dipropylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, glycerol diglycidyl Aliphatic mono- and diglycidyl ethers such as ether and trimethylolpropane diglycidyl ether; Se roll triglycidyl ether, diglycerol triglycidyl ether, triglycidyl tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, trimethylolpropane triglycidyl ether,
Polyglycidyl ethers such as pentaerythritol tetraglycidyl ether; Aliphatic and aromatic mono- and diglycidyl esters such as adipic acid diglycidyl ester, o-phthalic acid diglycidyl ester and phenylglycidyl ether; Bisphenol A diglycidyl ether, Glycidyls having an aromatic ring such as resorcinol diglycidyl ether, hydroquinone diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, and bisphenol F diglycidyl ether or its hydrogenated ring (including nuclear substituted derivatives); oligomer having a glycidyl group as a functional group Kinds; hexamethylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, 1,4-diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, trif Methane triisocyanate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate, diisocyanate such as dicyclohexylmethane diisocyanate; tartrate, dicarboxylic acids such as adipic acid; a carboxyl group-containing polymers such as polyacrylic acid; oxazolinyl group-containing polymer and the like.

【0037】これらは1種単独で用いてもよいし、2種
以上を併用して用いてもよい。なお、上記例示した有機
化合物(b−ii)の中では、芳香環または脂肪族環を有
する有機化合物が好ましい。芳香環または脂肪族環を有
する有機化合物を使用することにより、被覆層(B)の
耐水性を向上させ得る。
These may be used alone or in combination of two or more. In addition, among the organic compounds (b-ii) exemplified above, an organic compound having an aromatic ring or an aliphatic ring is preferable. By using an organic compound having an aromatic ring or an aliphatic ring, the water resistance of the coating layer (B) can be improved.

【0038】有機化合物(b−ii)は、下記式(3):The organic compound (b-ii) has the following formula (3):

【0039】[0039]

【化5】 [Chemical 5]

【0040】で表される官能基(以下、「SiOR
5基」とも記載)を分子内に有していてもよい。式中、
5は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基であ
る。炭素数1〜4のアルキル基は、直鎖状アルキル基、
分岐状アルキル基、環状(脂環式)アルキル基のいずれ
であってもよい。アルキル基の中では、被覆層(B)を
緻密にする観点からは、メチル基またはエチル基が好ま
しい。
A functional group represented by (hereinafter referred to as "SiOR
5 group ”) is also included in the molecule. In the formula,
R 5 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is a linear alkyl group,
It may be either a branched alkyl group or a cyclic (alicyclic) alkyl group. Among the alkyl groups, a methyl group or an ethyl group is preferable from the viewpoint of making the coating layer (B) dense.

【0041】有機化合物(b−ii)中にSiOR5基を
有している場合には、有機化合物(b−i)と反応前ま
たは反応後にSiOR5基において加水分解縮合が進行
する。また、後述の有機ケイ素化合物に含まれる加水分
解性縮合基との間で共加水分解縮合が進行する。これら
の縮重合の作用により、ハードコート性に優れ、緻密な
被覆層(B)の速やかな形成が可能となる。また、被覆
層(B)の密着性を高める効果も有する。なお、有機化
合物(b−i)が低分子化合物である場合には、有機化
合物(b−ii)との反応前に加水分解縮合しておくとよ
い。
[0041] When the in organic compound (b-ii) has a SiOR 5 group proceeds hydrolysis condensation in 5 groups SiOR before the reaction with the organic compound (b-i) or after the reaction. In addition, cohydrolytic condensation proceeds with the hydrolyzable condensing group contained in the organic silicon compound described later. Due to the action of these polycondensation, it is possible to quickly form a dense coating layer (B) having excellent hard coat properties. It also has the effect of increasing the adhesion of the coating layer (B). When the organic compound (b-i) is a low molecular weight compound, it may be hydrolyzed and condensed before the reaction with the organic compound (b-ii).

【0042】SiOR5基を有する有機化合物(b−i
i)の具体例としては、γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリイソプロポキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシ
ラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル
トリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリエトキシシラン、β−(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)エチルトリイソプロポキシシラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルメ
チルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロ
ヘキシル)エチルメチルジエトキシシラン等のエポキシ
基とSiOR5基を有するシランカップリング剤(以
下、単にエポキシ基含有シランカップリング剤と省略す
ることがある);γ−イソシアノプロピルトリメトキシ
シラン、γ−イソシアノプロピルトリエトキシシラン、
γ−イソシアノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
イソシアノプロピルメチルジエトキシシラン等のイソシ
アネート基およびSiOR5基含有シランカップリング
剤(以下、単にイソシアネート基含有シランカップリン
グ剤と省略することがある)などが挙げられる。これら
は、1種単独で用いてもよいし、または2種以上を併用
して用いてもよい。
Organic compounds having a SiOR 5 group (b-i
Specific examples of i) include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and γ. -Glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) Silane coupling agent having an epoxy group such as ethyltriisopropoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldiethoxysilane and a SiOR 5 group (Hereafter, simply epoxy resin-containing sila Coupling agent is be omitted); .gamma. isocyanoacetate trimethoxysilane, .gamma. isocyanoacetate triethoxysilane,
γ-isocyanopropylmethyldimethoxysilane, γ-
Examples thereof include a silane coupling agent containing an isocyanate group such as isocyanopropylmethyldiethoxysilane and a SiOR 5 group (hereinafter, simply referred to as a silane coupling agent containing an isocyanate group). These may be used alone or in combination of two or more.

【0043】有機ケイ素化合物(b−iii)は前記式
(2)で表される化合物である。R3は、水素原子また
はアルキル基である。アルキル基は、炭素数1〜4のア
ルキル基であることが好ましく、具体的にはメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基といった直鎖アルキル
基、イソプロピル基、イソブチル基、tert−ブチル
基、sec−ブチル基といった分岐アルキル基、シクロ
プロピル基、シクロブチル基といった環状(脂環式)ア
ルキル基が挙げられる。このなかでは、緻密な被覆層
(B)を形成する上での反応容易性の観点から、メチル
基またはエチル基が好ましい。また、有機化合物(b−
i)を被覆層用組成物中に含ませる場合には、有機化合
物(b−i)に含まれる窒素原子に結合した活性水素と
反応しない官能基を有していてもよい。有機化合物(b
−i)に含まれる前記活性水素と反応しない官能基とし
ては、特に限定されるものではないが、ビニル基が挙げ
られる。ビニル基を有する場合、耐熱性が向上する効果
がある。なお、R3は、aが2以上の場合には、同一で
あってもよいし、異なっていてもよい。R4、a、およ
びbは、前記式(1)に関して説明したものと同様であ
るためここでは説明を省略する。具体的には、R2
4、xとa、yとbがそれぞれ対応する。また、有機
ケイ素化合物の加水分解縮合物(b−iv)は、上記式
(2)で表される有機ケイ素化合物(b−iii)の加水
分解縮合によって得られる化合物である。有機ケイ素化
合物の加水分解縮合物(b−iv)に関しても前記式
(1)に関して説明したものと同様であるため、説明を
省略する。
The organosilicon compound (b-iii) is a compound represented by the above formula (2). R 3 is a hydrogen atom or an alkyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, specifically, a methyl group,
Linear alkyl groups such as ethyl group, propyl group, butyl group, branched alkyl groups such as isopropyl group, isobutyl group, tert-butyl group, sec-butyl group, and cyclic (alicyclic) alkyl groups such as cyclopropyl group and cyclobutyl group. Can be mentioned. Among these, a methyl group or an ethyl group is preferable from the viewpoint of easiness of reaction in forming the dense coating layer (B). In addition, an organic compound (b-
When i) is included in the composition for the coating layer, it may have a functional group that does not react with the active hydrogen bonded to the nitrogen atom contained in the organic compound (b-i). Organic compound (b
The functional group which does not react with the active hydrogen contained in -i) is not particularly limited, but includes a vinyl group. When it has a vinyl group, it has the effect of improving heat resistance. When a is 2 or more, R 3 may be the same or different. Since R 4 , a, and b are the same as those described in relation to the above formula (1), description thereof will be omitted here. Specifically, R 2 corresponds to R 4 , x corresponds to a, and y corresponds to b. The hydrolytic condensation product (b-iv) of the organosilicon compound is a compound obtained by hydrolytic condensation of the organosilicon compound (b-iii) represented by the above formula (2). Since the hydrolysis-condensation product (b-iv) of the organosilicon compound is the same as that described in the above formula (1), the description thereof will be omitted.

【0044】なお、この有機ケイ素化合物(b−iii)
およびその加水分解縮合物(b−iv)は、有機化合物
(b−i)が有する窒素原子に結合した活性水素と反応
し得る官能基を有さない点で、有機化合物(b−ii)と
は明確に異なるものである。
The organosilicon compound (b-iii)
And the hydrolysis-condensation product (b-iv) thereof are the same as the organic compound (b-ii) in that they do not have a functional group capable of reacting with the active hydrogen bonded to the nitrogen atom of the organic compound (b-i). Is clearly different.

【0045】被覆層用組成物を調製する上で使用する化
合物は、得られる特性を考慮して選択すればよい。前記
(b−i)〜(b−iv)から選択すれば場合には、
(b−i)としてポリエチレンイミン、(b−ii)とし
てエポキシ基含有シランカップリング剤、(b−iii)
としてテトラメトキシシランまたはテトラエトキシシラ
ンを用いる、または、(b−i)としてアミノ基含有シ
ランカップリング剤、(b−ii)として芳香環もしくは
脂肪族環を有するエポキシ化合物、(b−iii)として
テトラメトキシシランまたはテトラエトキシシランを用
いる。以下、前記(b−i)〜(b−iv)を用いて被
覆層用組成物を製造する場合について説明するが、本願
発明は下記の実施形態に限定されるものではない。
The compound used in preparing the composition for the coating layer may be selected in consideration of the obtained properties. In the case of selecting from the above (b-i) to (b-iv),
Polyethyleneimine as (b-i), epoxy group-containing silane coupling agent as (b-ii), (b-iii)
Tetramethoxysilane or tetraethoxysilane as, or (b-i) an amino group-containing silane coupling agent, (b-ii) an epoxy compound having an aromatic ring or an aliphatic ring, (b-iii) Tetramethoxysilane or tetraethoxysilane is used. Hereinafter, the case of producing a coating layer composition using the above (b-i) to (b-iv) will be described, but the present invention is not limited to the following embodiments.

【0046】前記(b−i)〜(b−iv)から被覆層
用組成物を製造するためには、まず、上述の(b−i)
および(b−ii)、必要に応じて(b−iii)および/
または(b−iv)を反応させて、これらが反応した組
成物を調製する。反応の媒体は、後述する溶媒(b−
v)と同一の化合物を用いることができる。上述の(b
−i)〜(b−iv)を反応させて組成物を得る際の配
合量は、他の添加剤の使用の有無などに応じて決定され
るべきものであり、一義的に規定することはできない
が、通常の量を以下に規定する。
In order to produce a coating layer composition from the above (b-i) to (b-iv), first, the above-mentioned (b-i)
And (b-ii), and (b-iii) and / or as required.
Alternatively, (b-iv) is reacted to prepare a composition in which these are reacted. The reaction medium is a solvent (b-
The same compounds as v) can be used. Above (b
-I) to (b-iv) are reacted with each other to obtain a composition, and the amount to be added should be determined depending on the presence or absence of other additives, and should not be uniquely defined. No, but normal amounts are specified below.

【0047】有機化合物(b−i)の配合量は、被覆層
用組成物の構成成分(ただし、溶媒(b−v)を除く)
の合計配合量に対して、通常5〜70質量%、好ましく
は10〜60質量%、より好ましくは15〜40質量%
の範囲である。
The compounding amount of the organic compound (b-i) is such that the constituents of the composition for the coating layer (excluding the solvent (b-v)).
5 to 70% by mass, preferably 10 to 60% by mass, and more preferably 15 to 40% by mass with respect to the total compounding amount of
Is the range.

【0048】有機化合物(b−ii)の配合量は、被覆層
用組成物の構成成分(ただし、溶媒(b−v)を除く)
の合計配合量に対して、通常5〜50質量%、好ましく
は7〜35質量%、より好ましくは10〜20質量%の
範囲である。
The compounding amount of the organic compound (b-ii) is such that the constituents of the composition for the coating layer (excluding the solvent (b-v)).
It is usually in the range of 5 to 50% by mass, preferably 7 to 35% by mass, and more preferably 10 to 20% by mass with respect to the total blending amount.

【0049】有機ケイ素化合物(b−iii)および/ま
たはその加水分解縮合物(b−iv)を配合する場合に
は、その配合量は、被覆層用組成物の構成成分(ただ
し、溶媒(b−v)を除く)の合計配合量に対して、通
常10〜80質量%、好ましくは20〜70質量%、よ
り好ましくは30〜60質量%の範囲である。なお、
「有機ケイ素化合物(b−iii)および/またはその加
水分解縮合物(b−iv)の配合量」とは、両者の合計
の配合量を意味するものであり、いずれか一方のみが被
覆層用組成物中に含まれる場合には、一方の配合量を意
味するものである。
When the organosilicon compound (b-iii) and / or its hydrolyzed condensate (b-iv) is blended, the blending amount is such that the constituents of the coating layer composition (provided that the solvent (b It is usually 10 to 80% by mass, preferably 20 to 70% by mass, and more preferably 30 to 60% by mass with respect to the total blended amount of (excluding -v). In addition,
The "blending amount of the organosilicon compound (b-iii) and / or its hydrolysis-condensation product (b-iv)" means the total blending amount of both, and only one of them is for the coating layer. When it is contained in the composition, it means the blending amount of one of them.

【0050】(b−i)〜(b−iv)が配合される溶
媒(b−v)は、有機化合物(b−i)、有機化合物
(b−ii)、有機ケイ素化合物(b−iii)および/ま
たは有機ケイ素化合物の加水分解縮合物(b−iv)、
ならびにこれらの反応反応物を溶解しうるものであれば
特に限定されるものではなく、具体的には、メタノー
ル、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、エチ
レングリコール等のアルコール類;アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン類;トルエン、ベンゼン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン等の炭化水素類;メチルアセテート、エチルアセテー
ト等のアセテート類;その他、エチルフェノールエーテ
ル、プロピルエーテル、テトラヒドロフラン、水などが
挙げられる。この中では、加水分解反応時の安定性や保
存安定性に優れている点で、メタノール、エタノールな
どのアルコール類が好ましい。溶媒は、使用する成分
(b−i)〜(b−iv)との相性を考慮して選択する
とよい。
The solvent (bv) in which (b-i) to (b-iv) are mixed is an organic compound (b-i), an organic compound (b-ii), an organic silicon compound (b-iii). And / or a hydrolyzed condensate of an organosilicon compound (b-iv),
Also, it is not particularly limited as long as it can dissolve these reaction products, and specifically, alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, butanol and ethylene glycol; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone. Aromatic hydrocarbons such as toluene, benzene and xylene; Hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; Acetates such as methyl acetate and ethyl acetate; Others, such as ethylphenol ether, propyl ether, tetrahydrofuran and water Can be mentioned. Of these, alcohols such as methanol and ethanol are preferable because they are excellent in stability during hydrolysis reaction and storage stability. The solvent may be selected in consideration of compatibility with the components (b-i) to (b-iv) used.

【0051】溶媒(b−v)の配合量は、特に限定され
ないが、被覆層用組成物(ここでは、溶媒(b−v)を
含む)の全質量を100質量%としたときに、通常20
〜97質量%、好ましくは50〜95質量%、より好ま
しくは70〜95質量%、特に好ましくは75〜90質
量%の範囲である。溶媒(b−v)の配合量が20質量
%未満の場合には、被覆層用組成物の反応安定性に劣る
ことがあり、また塗工中に、被覆層用組成物の粘度が上
昇して均一塗工ができなくなる可能性がある。一方、9
7質量%を超える場合には、被覆層(B)を形成する際
の生産性が劣ることがあるほか、有効成分が低濃度とな
り過ぎるため、必要な被覆層(B)の厚さを確保できな
い場合がある。
The compounding amount of the solvent (bv) is not particularly limited, but it is usually when the total mass of the coating layer composition (including the solvent (bv) here is 100% by mass). 20
To 97 mass%, preferably 50 to 95 mass%, more preferably 70 to 95 mass%, and particularly preferably 75 to 90 mass%. When the compounding amount of the solvent (b-v) is less than 20% by mass, the reaction stability of the coating layer composition may be poor, and the viscosity of the coating layer composition may increase during coating. Therefore, uniform coating may not be possible. On the other hand, 9
If it exceeds 7% by mass, the productivity when forming the coating layer (B) may be poor, and the concentration of the active ingredient may be too low, so that the required thickness of the coating layer (B) cannot be secured. There are cases.

【0052】また、硬化触媒、濡れ性改良剤、可塑剤、
消泡剤、増粘剤などの各種添加剤を、被覆層用組成物の
特性を損なわない範囲でさらに適量配合してもよい。
Further, a curing catalyst, a wettability improver, a plasticizer,
Various additives such as a defoaming agent and a thickening agent may be further added in an appropriate amount as long as the characteristics of the coating layer composition are not impaired.

【0053】被覆層用組成物の製造方法は、特に限定さ
れるものではなく、例えば、以下の方法を用いることが
できる。
The method for producing the coating layer composition is not particularly limited, and the following method can be used, for example.

【0054】(1) 有機化合物(b−i)と、有機化
合物(b−ii)と、有機ケイ素化合物(b−iii)およ
び/またはその加水分解縮合物(b−iv)と、溶媒
(b−v)とを含む配合成分(他の任意成分を含んでい
ても良い)を反応させる方法、(2) 予め溶媒(b−
v)中で、有機化合物(b−i)と有機化合物(b−i
i)とを反応させて、その後、有機ケイ素化合物(b−i
ii)および/またはその加水分解縮合物(b−iv)を
加える方法、(3) 有機化合物(b−i)を含む溶媒
(b−v)中で、有機化合物(b−ii)と有機ケイ素化
合物(b−iii)とを加水分解縮合する方法、などが挙
げられるが、これらに何ら制限されるべきものではな
い。なお、溶媒(b−v)は、その調製段階や方法に応
じて適当なものを適時、補充ないし追加することが望ま
しい。
(1) Organic compound (b-i), organic compound (b-ii), organic silicon compound (b-iii) and / or its hydrolyzed condensate (b-iv), solvent (b) -V) and a method of reacting a compounding component containing (optionally other components), (2) a solvent (b-
v), the organic compound (b-i) and the organic compound (b-i)
i) and then reacting with an organosilicon compound (b-i
ii) and / or a method of adding a hydrolyzed condensate (b-iv) thereof, (3) in a solvent (bv) containing the organic compound (b-i), the organic compound (b-ii) and the organosilicon The method of hydrolyzing and condensing the compound (b-iii) and the like can be mentioned, but the method is not limited thereto. The solvent (bv) is preferably supplemented or added in an appropriate manner depending on the preparation stage and method.

【0055】反応条件は、組成物中に有機化合物(b−
i)の未反応物が実質的に残存しない条件とすることが
好ましい。未反応の有機化合物(b−i)が残存してい
ると、得られる被覆層(B)の安定性が低下する恐れが
あるからである。例えば、30〜80℃程度で、0.5
〜5時間程度反応させればよい。
The reaction condition is that the organic compound (b-
It is preferable that the unreacted substance i) is not substantially left. This is because if the unreacted organic compound (b-i) remains, the stability of the obtained coating layer (B) may decrease. For example, at 30 to 80 ° C., 0.5
The reaction may be performed for about 5 hours.

【0056】このようにして調製した被覆層用組成物を
用いて、被覆層(B)を形成する。被覆層用組成物を塗
布するには、各種コーティング法や印刷法などを用いる
ことができる。例えば、ロールコーティング法、ディッ
プコーティング法、バーコーティング法、ノズルコーテ
ィング法、ダイコーティング法、スプレーコーティング
法、スピンコーティング法、カーテンコーティング法、
フローコーティング法、スクリーン印刷、グラビア印
刷、曲面印刷などの各種印刷法などが挙げられる。これ
らを組み合わせてもよい。通常は、被覆層用組成物は、
乾燥後の被覆層(B)の厚さが0.1〜3.0μm、好
ましくは0.3〜1.5μmになるように供給される。
被覆層(B)の乾燥後の厚さが0.1μm未満である
と、充分なガスバリア性が発現しない恐れがある。一
方、被覆層(B)の乾燥後の厚さが3.0μmを超える
と、クラックの発生や不充分な密着強度によって、ガス
バリア性が低下する恐れがある。
The coating layer (B) is formed using the composition for coating layer thus prepared. Various coating methods and printing methods can be used to apply the composition for the coating layer. For example, roll coating method, dip coating method, bar coating method, nozzle coating method, die coating method, spray coating method, spin coating method, curtain coating method,
Various printing methods such as flow coating method, screen printing, gravure printing, curved surface printing and the like can be mentioned. You may combine these. Usually, the coating layer composition,
The coating layer (B) is dried so that the thickness thereof is 0.1 to 3.0 μm, preferably 0.3 to 1.5 μm.
When the thickness of the coating layer (B) after drying is less than 0.1 μm, sufficient gas barrier properties may not be exhibited. On the other hand, when the thickness of the coating layer (B) after drying exceeds 3.0 μm, the gas barrier property may be deteriorated due to the generation of cracks and insufficient adhesion strength.

【0057】コーティング後は、被覆層用組成物の硬化
および乾燥を行う。加熱を行う場合には、プラスチック
フィルム(A)の耐熱温度以下で加熱することが好まし
い。ここで、プラスチックフィルムの耐熱温度とは、実
質上プラスチックフィルムの特性が保持できる上限の温
度のことを意味し、ガラス転移点、結晶化温度または分
解点を意味する。硬化および乾燥の条件は、特に限定さ
れないが、迅速に被覆層(B)を形成するためには60
〜120℃で1〜300秒間処理するとよい。水蒸気や
ミスト存在下で乾燥してもよい。
After coating, the composition for the coating layer is cured and dried. In the case of heating, it is preferable to heat the plastic film (A) at a temperature not higher than the heat resistant temperature. Here, the heat resistant temperature of the plastic film means an upper limit temperature at which the properties of the plastic film can be substantially maintained, and means a glass transition point, a crystallization temperature or a decomposition point. The curing and drying conditions are not particularly limited, but in order to quickly form the coating layer (B), it is 60
It is recommended to perform the treatment at ˜120 ° C. for 1 to 300 seconds. It may be dried in the presence of steam or mist.

【0058】高温多湿の環境下においても被覆層(B)
に高いガスバリア性を発現させるためには、硬化・乾燥
を行った後に、熟成処理を行うことが好ましい。熟成処
理は、加熱処理(例えば、40〜60℃で1〜7日間熱
処理)やコロナ処理を行う方法などある。
Coating layer (B) even in a hot and humid environment
In order to exhibit a very high gas barrier property, it is preferable to carry out aging treatment after curing and drying. Examples of the aging treatment include a heat treatment (for example, heat treatment at 40 to 60 ° C. for 1 to 7 days) and a corona treatment.

【0059】なお、被覆層用組成物をコーティングして
被覆層(B)を形成するにあたっては、同一組成の被覆
層用組成物を数回に渡ってコーティングしてもよいし、
異なる組成の被覆層用組成物を数回に渡ってコーティン
グして被覆層(B)を多層構造にしてもよい。
When the coating layer composition is coated to form the coating layer (B), the coating layer composition having the same composition may be coated several times.
The coating layer composition having different compositions may be coated several times to form the coating layer (B) into a multi-layer structure.

【0060】本発明は、プラスチックフィルム(A)と
被覆層(B)との剥離を防止することによって、充分な
ガスバリア性を確保することが目的の一つであるが、剥
離を防止するためには、プラスチックフィルム(A)と
被覆層(B)との密着強度が高いことが好ましい。高い
密着強度を有していると、高温の過酷な条件下におかれ
た場合であっても、充分なガスバリア性を確保できる。
即ち、本願発明の第二は、プラスチックフィルム(A)
および被覆層(B)が積層されてなるガスバリア性フィ
ルムであって、プラスチックフィルム(A)と被覆層
(B)との密着強度が250gf/15mm以上である
ガスバリア性フィルムである。このような密着強度を有
していると、プラスチックフィルム(A)と被覆層
(B)との剥離によって、ガスバリア用フィルムのガス
バリア性が低下することを効果的に防止しうる。ただ
し、プラスチックフィルム(A)と被覆層(B)との好
適な密着強度は、プラスチックフィルム(A)の種類に
も依存するところがある。プラスチックフィルム(A)
がポリプロピレンフィルムである場合には、350gf
/15mm以上であることがより好ましい。プラスチッ
クフィルム(A)がポリエステルフィルムまたはポリア
ミドフィルムである場合には、500gf/15mm以
上であることがより好ましく、600gf/15mm以
上であることがさらにより好ましい。密着強度は高いほ
ど一般には好ましく、上限は特に限定されるものではな
い。
One of the purposes of the present invention is to ensure sufficient gas barrier properties by preventing peeling between the plastic film (A) and the coating layer (B), but to prevent peeling. Preferably has a high adhesion strength between the plastic film (A) and the coating layer (B). Having a high adhesion strength makes it possible to secure sufficient gas barrier properties even under high temperature and severe conditions.
That is, the second aspect of the present invention is the plastic film (A)
And a coating layer (B), which is a gas barrier film in which the adhesion strength between the plastic film (A) and the coating layer (B) is 250 gf / 15 mm or more. With such adhesion strength, it is possible to effectively prevent deterioration of the gas barrier property of the gas barrier film due to peeling of the plastic film (A) and the coating layer (B). However, suitable adhesion strength between the plastic film (A) and the coating layer (B) may depend on the type of the plastic film (A). Plastic film (A)
If is a polypropylene film, 350 gf
/ 15 mm or more is more preferable. When the plastic film (A) is a polyester film or a polyamide film, it is more preferably 500 gf / 15 mm or more, still more preferably 600 gf / 15 mm or more. Generally, the higher the adhesion strength, the more preferable, and the upper limit is not particularly limited.

【0061】また、高温でガスバリア性を有する具体的
指標としても密着強度を用いることができる。本願にお
いては、95℃の水中で20分間ボイルした後のプラス
チックフィルム(A)と被覆層(B)との密着強度が2
50gf/15mm以上であることが好ましい。このよ
うな密着強度を有していると、煮沸殺菌のような処理が
施された後であっても、なお充分なガスバリア性を確保
できる。ただし、この場合にも、プラスチックフィルム
(A)と被覆層(B)との好適な密着強度は、プラスチ
ックフィルム(A)の種類にも依存する。プラスチック
フィルム(A)がポリプロピレンフィルムである場合に
は、250gf/15mm以上であることが好ましい。
プラスチックフィルム(A)がポリエステルフィルムま
たはポリアミドフィルムである場合には、500gf/
15mm以上であることがより好ましく、600gf/
15mm以上であることがさらにより好ましい。
The adhesion strength can also be used as a specific index having a gas barrier property at high temperatures. In the present application, the adhesion strength between the plastic film (A) and the coating layer (B) after boiling for 20 minutes in water at 95 ° C. is 2
It is preferably 50 gf / 15 mm or more. With such adhesion strength, sufficient gas barrier properties can be ensured even after treatment such as boiling sterilization. However, also in this case, the suitable adhesion strength between the plastic film (A) and the coating layer (B) depends on the type of the plastic film (A). When the plastic film (A) is a polypropylene film, it is preferably 250 gf / 15 mm or more.
When the plastic film (A) is a polyester film or a polyamide film, 500 gf /
More preferably 15 mm or more, 600 gf /
It is even more preferably 15 mm or more.

【0062】密着強度は、実施例において説明する剥離
法などによって測定することができる。
The adhesion strength can be measured by the peeling method described in the examples.

【0063】また、高温でガスバリア性を有する具体的
指標としては、直接的に酸素透過度を測定してもよい。
本願においては、95℃の水中で20分間ボイルした後
のガスバリア用フィルムの酸素透過度が、20℃90%
Rhにおいて20cm3/(m2・24hrs・atm)
以下であることが好ましい。このような酸素透過度であ
ると、酸素ガスバリア用フィルムとしては充分な性能を
有し得しているといえる。なお、ガスバリア用フィルム
の酸素透過度は、市販されている装置を用いて測定する
ことができる。
As a specific index having a gas barrier property at high temperature, the oxygen permeability may be directly measured.
In the present application, the oxygen permeability of the gas barrier film after boiling in 95 ° C. water for 20 minutes is 20 ° C. 90%.
20 cm 3 / (m 2 · 24 hrs · atm) at Rh
The following is preferable. It can be said that such an oxygen permeability has sufficient performance as a film for an oxygen gas barrier. The oxygen permeability of the gas barrier film can be measured using a commercially available device.

【0064】また、ガスバリア用フィルムには、さらに
シーラント層(C)を積層させてもよい。シーラント層
(C)を含めたガスバリア用フィルムの積層順序は、プ
ラスチックフィルム(A)/被覆層(B)/シーラント
層(C)が一般的であるが、必ずしもこの順序に積層さ
せなければならないものではなく、場合によっては、順
序を変えてもよい。また、シーラント層(C)を積層さ
せるための接着層など、公知の層を追加してもよい。シ
ーラント層(C)としては、ポリオレフィンフィルム、
エチレンビニルアルコール共重合体フィルムなど各種ヒ
ートシール性を有するフィルムを用いることができる。
より好ましい例としては、低密度ポリエチレンフィル
ム、無延伸ポリプロピレンフィルム、エチレン酢酸ビニ
ル共重合体フィルムが挙げられる。シーラント層(C)
の厚さは、10〜200μmが好ましく、20〜100
μmがより好ましく、30〜70μmが特に好ましい。
A sealant layer (C) may be further laminated on the gas barrier film. The gas barrier film including the sealant layer (C) is generally laminated in the order of plastic film (A) / coating layer (B) / sealant layer (C), but these must be laminated in this order. Instead, the order may be changed in some cases. Further, a known layer such as an adhesive layer for laminating the sealant layer (C) may be added. As the sealant layer (C), a polyolefin film,
A film having various heat-sealing properties such as an ethylene vinyl alcohol copolymer film can be used.
More preferable examples include a low density polyethylene film, an unstretched polypropylene film, and an ethylene vinyl acetate copolymer film. Sealant layer (C)
The thickness is preferably 10 to 200 μm, and 20 to 100 μm.
μm is more preferable, and 30 to 70 μm is particularly preferable.

【0065】[0065]

【実施例】続いて、実施例および比較例を用いて、本発
明の有用性について具体的に説明する。なお、各物性の
測定に用いた装置および条件は以下の通りである。
EXAMPLES Next, the usefulness of the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The apparatus and conditions used for measuring each physical property are as follows.

【0066】<貯蔵弾性率測定>レオメトリックサイエ
ンティフィック社製固体粘弾性アナライザーRSAIIを
用いた。測定モードは引っ張りモードとし、周波数は1
0Hzとした。温度範囲は25℃から140℃までと
し、3℃/分のレートで昇温させた。測定雰囲気は空気
とした。
<Measurement of Storage Elastic Modulus> A solid viscoelasticity analyzer RSAII manufactured by Rheometric Scientific was used. Measurement mode is pull mode, frequency is 1
It was set to 0 Hz. The temperature range was from 25 ° C to 140 ° C, and the temperature was raised at a rate of 3 ° C / min. The measurement atmosphere was air.

【0067】<密着強度測定>シーラント層を有するガ
スバリア用フィルムを用いて、剥離法により密着強度を
測定した。まず、200℃で1秒間、2kg/cm2
圧力で加圧してシーラント層同士を接着させて、プラス
チックフィルム(A)/被覆層(B)/シーラント層
(C)/シーラント層(C)/被覆層(B)/プラスチ
ックフィルム(A)の順に、ガスバリア用フィルムを二
枚積層させた。その後、一のガスバリア用フィルムと他
のガスバリア用フィルムとを正反対の方向に引っ張っ
た。その際の引っ張りスピードは100mm/分とし
た。積層されている層の中で、プラスチックフィルム
(A)と被覆層(B)との密着強度が一番弱いため、ま
ずプラスチックフィルム(A)と被覆層(B)とが剥離
した。この際の強度を密着強度(gf/15mm)とし
た。
<Adhesion strength measurement> The adhesion strength was measured by a peeling method using a gas barrier film having a sealant layer. First, the sealant layers are adhered to each other by applying a pressure of 2 kg / cm 2 at 200 ° C. for 1 second to form a plastic film (A) / covering layer (B) / sealant layer (C) / sealant layer (C) / Two gas barrier films were laminated in the order of coating layer (B) / plastic film (A). After that, the one gas barrier film and the other gas barrier film were pulled in opposite directions. The pulling speed at that time was 100 mm / min. Among the laminated layers, the adhesive strength between the plastic film (A) and the coating layer (B) was the weakest, so the plastic film (A) and the coating layer (B) were first peeled off. The strength at this time was defined as the adhesion strength (gf / 15 mm).

【0068】<酸素透過度測定>モダンコントロールズ
社製酸素透過度測定装置MHを用いた。測定は、20℃
30%Rhおよび20℃90%Rhで測定した。
<Measurement of Oxygen Permeability> An oxygen permeability measuring device MH manufactured by Modern Controls was used. 20 ℃
It was measured at 30% Rh and 20 ° C. 90% Rh.

【0069】<合成例1:被覆層用組成物1の調製>有
機化合物(b−i)としてポリエチレンイミン(18
g:株式会社日本触媒製エポミンSP−018)、有機
化合物(b−ii)としてγ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン(17g)、および溶媒(b−v)とし
てメタノール(520g)を含む混合液を、60℃で3
時間反応させ、室温まで冷却した。次に、この反応液に
水(13g)とメタノール(50g)との混合液を加え
て、室温で24時間反応させて、被覆層用組成物1とし
た。
<Synthesis Example 1: Preparation of coating layer composition 1> Polyethyleneimine (18) was used as the organic compound (bi).
g: A mixed solution containing Epomin SP-018 manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (17 g) as the organic compound (b-ii), and methanol (520 g) as the solvent (b-v). At 60 ° C for 3
The reaction was carried out for a period of time and cooled to room temperature. Next, a mixed liquid of water (13 g) and methanol (50 g) was added to this reaction liquid, and the mixture was reacted at room temperature for 24 hours to obtain coating layer composition 1.

【0070】<合成例2:被覆層用組成物2の調製>有
機化合物(b−i)としてポリエチレンイミン(18
g:株式会社日本触媒製エポミンSP−018)、有機
化合物(b−ii)としてγ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン(17g)、および溶媒(b−v)とし
てメタノール(520g)を含む混合液を、60℃で3
時間反応させ、室温まで冷却した。次に、この反応液に
水(13g)とメタノール(50g)との混合液を加え
て30分間反応させ、さらに有機ケイ素化合物の加水分
解縮合物(b−iv)としてテトラメトキシシランの加
水分解縮合物(135g:多摩化学工業株式会社製、M
シリケート51)とメタノール(250g)との混合液
を加えた。これを室温で24時間反応させて、被覆層用
組成物2とした。
<Synthesis Example 2: Preparation of coating layer composition 2> Polyethyleneimine (18) as the organic compound (b-i)
g: A mixed solution containing Epomin SP-018 manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (17 g) as the organic compound (b-ii), and methanol (520 g) as the solvent (b-v). At 60 ° C for 3
The reaction was carried out for a period of time and cooled to room temperature. Next, a mixed solution of water (13 g) and methanol (50 g) was added to this reaction solution and reacted for 30 minutes, and further hydrolytic condensation of tetramethoxysilane as a hydrolytic condensate (b-iv) of an organosilicon compound. Thing (135 g: Tama Chemical Industry Co., Ltd., M
A mixture of silicate 51) and methanol (250 g) was added. This was reacted at room temperature for 24 hours to obtain a coating layer composition 2.

【0071】<実施例1>プラスチックフィルム(A)
として、50℃での貯蔵弾性率E’50が1.3×105
N/cm2、100℃での貯蔵弾性率E’100が0.9×
105N/cm2である厚さ15μmのナイロンフィルム
〔(E’50/E’100)=1.4〕を準備した。このフ
ィルム上に、合成例1で得られた被覆層用組成物1を乾
燥後の厚みが1μmなるようにバーコーターで塗布し、
90℃10%Rhで10秒間乾燥し、さらに100℃で
10秒間乾燥させた。その後、50℃で7日間熟成し
て、プラスチックフィルム(A)と被覆層(B)とが積
層されたガスバリア用フィルム1を得た。
<Example 1> Plastic film (A)
As a storage elastic modulus E '50 at 50 ° C. is 1.3 × 10 5
N / cm 2, the storage modulus at 100 ° C. E '100 is 0.9 ×
A nylon film having a thickness of 10 5 N / cm 2 and a thickness of 15 μm [(E ′ 50 / E ′ 100 ) = 1.4] was prepared. On this film, the coating layer composition 1 obtained in Synthesis Example 1 was applied by a bar coater so that the thickness after drying was 1 μm,
It was dried at 90 ° C. and 10% Rh for 10 seconds, and further dried at 100 ° C. for 10 seconds. Then, it was aged at 50 ° C. for 7 days to obtain a gas barrier film 1 in which the plastic film (A) and the coating layer (B) were laminated.

【0072】このガスバリア用フィルム1の酸素透過度
は、20℃30%Rhで2.5cm 3/(m2・24hr
s・atm)、20℃90%Rhで10.1cm3
(m2・24hrs・atm)であった。結果は、まと
めて下記表1に示す。
Oxygen permeability of this gas barrier film 1
Is 2.5 cm at 20 ° C and 30% Rh 3/ (M2・ 24 hours
s ・ atm), 10.1 ° C at 20 ° C 90% Rh3/
(M2・ 24 hrs ・ atm). The result is
The results are shown in Table 1 below.

【0073】<実施例2>実施例1で得られたガスバリ
ア用フィルム1上に、シーラント層(C)として厚さ6
0μmの無延伸ポリプロピレンフィルム(CPP)をウ
レタン接着剤を使用して張り合わせ、ガスバリア用フィ
ルム2とした。
Example 2 On the gas barrier film 1 obtained in Example 1, a sealant layer (C) having a thickness of 6 was formed.
A 0 μm unstretched polypropylene film (CPP) was laminated using a urethane adhesive to obtain a gas barrier film 2.

【0074】このガスバリア用フィルム2の酸素透過度
は、20℃30%Rhで2.5cm 3/(m2・24hr
s・atm)、20℃90%Rhで7.1cm3/(m2
・24hrs・atm)であった。密着強度は550g
f/15mmであった。
Oxygen permeability of this gas barrier film 2
Is 2.5 cm at 20 ° C and 30% Rh 3/ (M2・ 24 hours
s ・ atm), 7.1 cm at 20 ° C and 90% Rh3/ (M2
・ 24 hrs ・ atm). Adhesion strength is 550g
It was f / 15 mm.

【0075】また、このガスバリア用フィルム2を95
℃の水中において、20分間煮沸した。煮沸後の酸素透
過度を測定したところ、20℃30%Rhで7.8cm
3/(m2・24hrs・atm)、20℃90%Rhで
15.9cm3/(m2・24hrs・atm)であっ
た。また、密着強度は530gf/15mmであった。
Further, this gas barrier film 2
It was boiled for 20 minutes in water at 0 ° C. When the oxygen permeability after boiling was measured, it was 7.8 cm at 20 ° C. and 30% Rh.
3 / (m 2 · 24hrs · atm), was 15.9 cm 3 / at 20 ℃ 90% Rh (m 2 · 24hrs · atm). The adhesion strength was 530 gf / 15 mm.

【0076】<実施例3>プラスチックフィルム(A)
として、50℃での貯蔵弾性率E’50が1.3×105
N/cm2、100℃での貯蔵弾性率E’100が0.9×
105N/cm2である厚さ15μmのナイロンフィルム
〔(E’50/E’100)=1.4〕を準備した。このフ
ィルム上に、合成例2で得られた被覆層用組成物2を乾
燥後の厚みが1μmなるようにバーコーターで塗布し、
90℃10%Rhで10秒間乾燥し、さらに100℃で
10秒間乾燥させた。その後、50℃で7日間熟成し
て、プラスチックフィルム(A)と被覆層(B)とが積
層されたガスバリア用フィルム3を得た。
<Example 3> Plastic film (A)
As a storage elastic modulus E '50 at 50 ° C. is 1.3 × 10 5
N / cm 2, the storage modulus at 100 ° C. E '100 is 0.9 ×
A nylon film having a thickness of 10 5 N / cm 2 and a thickness of 15 μm [(E ′ 50 / E ′ 100 ) = 1.4] was prepared. On this film, the coating layer composition 2 obtained in Synthesis Example 2 was applied by a bar coater so that the thickness after drying was 1 μm,
It was dried at 90 ° C. and 10% Rh for 10 seconds, and further dried at 100 ° C. for 10 seconds. Then, it was aged at 50 ° C. for 7 days to obtain a gas barrier film 3 in which the plastic film (A) and the coating layer (B) were laminated.

【0077】このガスバリア用フィルム3の酸素透過度
は、20℃30%Rhで2.3cm 3/(m2・24hr
s・atm)、20℃90%Rhで0.6cm3/(m2
・24hrs・atm)であった。 <実施例4>実施例3で得られたガスバリア用フィルム
3上に、シーラント層(C)として厚さ60μmの無延
伸ポリプロピレンフィルム(CPP)をウレタン接着剤
を使用して張り合わせ、ガスバリア用フィルム4とし
た。
Oxygen permeability of this gas barrier film 3
Is 2.3 cm at 20 ° C. and 30% Rh 3/ (M2・ 24 hours
s-atm), 0.6 cm at 20 ° C 90% Rh3/ (M2
・ 24 hrs ・ atm). <Example 4> Gas barrier film obtained in Example 3
On the top of No. 3 as a sealant layer (C) with a thickness of 60 μm
Expanded polypropylene film (CPP) with urethane adhesive
And use them to form the gas barrier film 4.
It was

【0078】このガスバリア用フィルム4の酸素透過度
は、20℃30%Rhで1.2cm 3/(m2・24hr
s・atm)、20℃90%Rhで0.3cm3/(m2
・24hrs・atm)であった。密着強度は570g
f/15mmであった。
Oxygen permeability of this gas barrier film 4
Is 1.2 cm at 20 ° C and 30% Rh 3/ (M2・ 24 hours
s ・ atm), 0.3 cm at 20 ° C, 90% Rh3/ (M2
・ 24 hrs ・ atm). Adhesion strength is 570g
It was f / 15 mm.

【0079】また、このガスバリア用フィルム4を95
℃の水中において、20分間煮沸した。煮沸後の酸素透
過度を測定したところ、20℃30%Rhで1.5cm
3/(m2・24hrs・atm)、20℃90%Rhで
0.9cm3/(m2・24hrs・atm)であった。
また、密着強度は560gf/15mmであった。
Further, this gas barrier film 4
It was boiled for 20 minutes in water at 0 ° C. When the oxygen permeability after boiling was measured, it was 1.5 cm at 20 ° C and 30% Rh.
It was 3 / (m 2 · 24 hrs · atm) and 0.9 cm 3 / (m 2 · 24 hrs · atm) at 20 ° C. and 90% Rh.
The adhesion strength was 560 gf / 15 mm.

【0080】<実施例5>プラスチックフィルム(A)
として、50℃での貯蔵弾性率E’50が1.2×105
N/cm2、100℃での貯蔵弾性率E’100が1.1×
105N/cm2である厚さ15μmのPETフィルム
〔(E’50/E’100)=1.1〕を準備した。その他
は、実施例3と同様にしてガスバリア用フィルム5を得
た。
<Example 5> Plastic film (A)
Has a storage elastic modulus E ′ 50 at 50 ° C. of 1.2 × 10 5
N / cm 2, the storage modulus at 100 ° C. E '100 is 1.1 ×
A PET film [(E ′ 50 / E ′ 100 ) = 1.1] having a thickness of 10 5 N / cm 2 and a thickness of 15 μm was prepared. Otherwise in the same manner as in Example 3, a gas barrier film 5 was obtained.

【0081】このガスバリア用フィルム5の酸素透過度
は、20℃30%Rhで1.7cm 3/(m2・24hr
s・atm)、20℃90%Rhで0.5cm3/(m2
・24hrs・atm)であった。
Oxygen permeability of this gas barrier film 5
Is 1.7 cm at 20 ° C. and 30% Rh 3/ (M2・ 24 hours
s · atm), 0.5 cm at 20 ° C, 90% Rh3/ (M2
・ 24 hrs ・ atm).

【0082】<実施例6>実施例5で得られたガスバリ
ア用フィルム5上に、シーラント層(C)として厚さ5
0μmの直鎖状低密度ポリエチレンフィルム(LLDP
E)をウレタン接着剤を使用して張り合わせ、ガスバリ
ア用フィルム6とした。
<Example 6> On the gas barrier film 5 obtained in Example 5, a sealant layer (C) having a thickness of 5 was formed.
0 μm linear low density polyethylene film (LLDP
E) was laminated using a urethane adhesive to obtain a gas barrier film 6.

【0083】このガスバリア用フィルム6の酸素透過度
は、20℃30%Rhで1.6cm 3/(m2・24hr
s・atm)、20℃90%Rhで0.3cm3/(m2
・24hrs・atm)であった。密着強度は630g
f/15mmであった。
Oxygen permeability of this gas barrier film 6
Is 1.6 cm at 20 ° C and 30% Rh 3/ (M2・ 24 hours
s ・ atm), 0.3 cm at 20 ° C, 90% Rh3/ (M2
・ 24 hrs ・ atm). Adhesion strength is 630g
It was f / 15 mm.

【0084】また、このガスバリア用フィルム6を95
℃の水中において、20分間煮沸した。煮沸後の酸素透
過度を測定したところ、20℃30%Rhで2.3cm
3/(m2・24hrs・atm)、20℃90%Rhで
0.8cm3/(m2・24hrs・atm)であった。
また、密着強度は620gf/15mmであった。
The gas barrier film 6 is made
It was boiled for 20 minutes in water at 0 ° C. When the oxygen permeability after boiling was measured, it was 2.3 cm at 20 ° C. and 30% Rh.
It was 3 / (m 2 · 24 hrs · atm) and 0.8 cm 3 / (m 2 · 24 hrs · atm) at 20 ° C. and 90% Rh.
The adhesion strength was 620 gf / 15 mm.

【0085】<比較例1>プラスチックフィルム(A)
として、50℃での貯蔵弾性率E’50が1.0×105
N/cm2、100℃での貯蔵弾性率E’100が0.08
×105N/cm2である厚さ30μmのポリエチレンフ
ィルム(PE)〔(E’50/E’100)=12.5〕を
準備した。このフィルム上に、合成例1で得られた被覆
層用組成物1を乾燥後の厚みが1μmなるようにバーコ
ーターで塗布し、90℃10%Rhで10秒間乾燥し、
さらに100℃で10秒間乾燥させた。その後、50℃
で7日間熟成して、プラスチックフィルム(A)と被覆
層(B)とが積層された比較ガスバリア用フィルム1を
得た。
<Comparative Example 1> Plastic film (A)
Has a storage elastic modulus E ′ 50 at 50 ° C. of 1.0 × 10 5
N / cm 2, the storage modulus at 100 ° C. E '100 0.08
A polyethylene film (PE) [(E ′ 50 / E ′ 100 ) = 12.5] having a thickness of 30 μm and a density of × 10 5 N / cm 2 was prepared. On this film, the coating layer composition 1 obtained in Synthesis Example 1 was applied by a bar coater so that the thickness after drying was 1 μm, and dried at 90 ° C. and 10% Rh for 10 seconds,
Further, it was dried at 100 ° C. for 10 seconds. After that, 50 ℃
After aging for 7 days, a comparative gas barrier film 1 in which the plastic film (A) and the coating layer (B) were laminated was obtained.

【0086】比較ガスバリア用フィルム1の酸素透過度
は、20℃30%Rhで145cm 3/(m2・24hr
s・atm)、20℃90%Rhで127cm3/(m2
・24hrs・atm)であった。
Oxygen permeability of comparative gas barrier film 1
Is 145 cm at 20 ° C and 30% Rh 3/ (M2・ 24 hours
s ・ atm), 127 cm at 20 ° C and 90% Rh3/ (M2
・ 24 hrs ・ atm).

【0087】<比較例2>比較例1で得られた比較ガス
バリア用フィルム1上に、シーラント層(C)として厚
さ60μmの無延伸ポリプロピレンフィルム(CPP)
をウレタン接着剤を使用して張り合わせ、比較ガスバリ
ア用フィルム2とした。
Comparative Example 2 On the comparative gas barrier film 1 obtained in Comparative Example 1, a non-stretched polypropylene film (CPP) having a thickness of 60 μm was used as a sealant layer (C).
Were laminated using a urethane adhesive to obtain a comparative gas barrier film 2.

【0088】この比較ガスバリア用フィルム2の酸素透
過度は、20℃30%Rhで134cm3/(m2・24
hrs・atm)、20℃90%Rhで121cm3
(m2・24hrs・atm)であった。密着強度は1
5gf/15mmであった。
The oxygen permeability of this comparative gas barrier film 2 was 134 cm 3 / (m 2 · 24 at 20 ° C. and 30% Rh.
hrs / atm), 121 cm 3 / at 20 ° C and 90% Rh
(M 2 · 24 hrs · atm). Adhesion strength is 1
It was 5 gf / 15 mm.

【0089】また、この比較ガスバリア用フィルム2を
95℃の水中において、20分間煮沸した。煮沸後の酸
素透過度を測定したところ、20℃30%Rh、20℃
90%Rhともに1000cm3/(m2・24hrs・
atm)を超えていた。また、密着強度は10gf/1
5mm未満であった。
The comparative gas barrier film 2 was boiled in water at 95 ° C. for 20 minutes. When the oxygen permeability after boiling was measured, it was 20 ° C 30% Rh, 20 ° C
Both 90% Rh is 1000 cm 3 / (m 2 · 24 hrs ·
atm) was exceeded. Also, the adhesion strength is 10 gf / 1
It was less than 5 mm.

【0090】[0090]

【表1】 [Table 1]

【0091】表1に示すように、本発明のガスバリア用
フィルムは、熱安定性に関して優れていることが確認で
きる。
As shown in Table 1, it can be confirmed that the gas barrier film of the present invention is excellent in thermal stability.

【0092】[0092]

【発明の効果】プラスチックフィルムの貯蔵弾性率やプ
ラスチックフィルムと被覆層との密着強度が本発明で定
める規定値を満たすガスバリア用フィルムは、非常に優
れた熱安定性を有する。このため、本発明のガスバリア
用フィルムは、非常に過酷な温度条件下においても優れ
たガスバリア性を維持できる。
The gas barrier film having the storage elastic modulus of the plastic film and the adhesion strength between the plastic film and the coating layer satisfying the specified values defined in the present invention has very excellent thermal stability. Therefore, the gas barrier film of the present invention can maintain excellent gas barrier properties even under extremely severe temperature conditions.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C08L 23:12 C08L 23:12 67:00 67:00 77:00 77:00 Fターム(参考) 4F006 AA35 AA38 AB32 BA05 CA07 CA09 DA04 4F100 AH06B AK01A AK07 AK31B AK48 AK51G AK52B AR00C AT00A BA02 BA03 BA07 BA10A BA10C BA15 EH46 GB15 JD02 JD03 JJ03 JK06 JK06A JK06B JK07A JL12C YY00A YY00B ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) // C08L 23:12 C08L 23:12 67:00 67:00 77:00 77:00 F-term (reference) 4F006 AA35 AA38 AB32 BA05 CA07 CA09 DA04 4F100 AH06B AK01A AK07 AK31B AK48 AK51G AK52B AR00C AT00A BA02 BA03 BA07 BA10A BA10C BA15 EH46 GB15 JD02 JD03 JJ03 JK06 JK06A JK06BJC07A00

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プラスチックフィルム(A)と、 下記式(1): 【化1】 (式中、R1は水素原子または官能基を有していてもよ
いアルキル基であり、R2は水素原子またはアルキル基
であり、xは0以上の整数であり、yは1以上の整数で
あり、x+y=4であり、xまたはyが2以上の場合に
はR1またはR2は異なっていてもよい)で表される有機
ケイ素化合物および/またはその加水分解縮合物を含む
組成物を用いて形成されてなる被覆層(B)と、が積層
されてなるガスバリア用フィルムであって、前記プラス
チックフィルム(A)は、引っ張りモードによって周波
数10Hzで粘弾性を測定したときに、50℃での貯蔵
弾性率E’50と100℃での貯蔵弾性率E’100との比
(E’50/E’100)が、1.0〜5.0であることを
特徴とするガスバリア用フィルム。
1. A plastic film (A) and the following formula (1): (In the formula, R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group which may have a functional group, R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group, x is an integer of 0 or more, and y is an integer of 1 or more. And x + y = 4, and when x or y is 2 or more, R 1 or R 2 may be different) and / or a composition containing a hydrolyzed condensate thereof. A coating film (B) formed by using a gas barrier film, wherein the plastic film (A) is 50 ° C. when viscoelasticity is measured in a tensile mode at a frequency of 10 Hz. gas barrier film ratio of 100 'the storage modulus E at 50 to 100 ° C.' storage modulus E (E '50 / E' 100), characterized in that 1.0 to 5.0 in .
【請求項2】 プラスチックフィルム(A)と、 活性水素が結合した窒素原子を分子内に有する有機化合
物(b−i)、および前記活性水素と反応して前記窒素
原子と化学結合を形成しうる官能基を分子内に有する有
機化合物(b−ii)を反応して得られた組成物を用いて
形成されてなる被覆層(B)と、が積層されてなるガス
バリア用フィルムであって、前記プラスチックフィルム
(A)は、引っ張りモードによって周波数10Hzで粘
弾性を測定したときに、50℃での貯蔵弾性率E’50
100℃での貯蔵弾性率E’100との比(E’50/E’
100)が、1.0〜5.0であることを特徴とするガス
バリア用フィルム。
2. A plastic film (A), an organic compound (b-i) having a nitrogen atom to which active hydrogen is bonded in its molecule, and a compound capable of reacting with the active hydrogen to form a chemical bond with the nitrogen atom. A gas barrier film, comprising: a coating layer (B) formed by using a composition obtained by reacting an organic compound (b-ii) having a functional group in the molecule; The plastic film (A) has a ratio (E ′ 50 / E ′ 50 / storage modulus E ′ 50 at 50 ° C. to storage modulus E ′ 100 of 50 ° C. when viscoelasticity is measured at a frequency of 10 Hz in a tensile mode. E '
100 ) is 1.0-5.0, The film for gas barriers characterized by the above-mentioned.
【請求項3】 プラスチックフィルム(A)と、 活性水素が結合した窒素原子を分子内に有する有機化合
物(b−i)、および前記活性水素と反応して前記窒素
原子と化学結合を形成しうる官能基を分子内に有する有
機化合物(b−ii)を反応して得られた組成物を用いて
形成されてなる被覆層(B)と、が積層されてなるガス
バリア用フィルムであって、 前記プラスチックフィルム(A)と前記被覆層(B)と
の密着強度が、250gf/15mm以上であることを
特徴とするガスバリア用フィルム。
3. A plastic film (A), an organic compound (b-i) having a nitrogen atom to which active hydrogen is bonded in the molecule, and a compound capable of reacting with the active hydrogen to form a chemical bond with the nitrogen atom. A gas barrier film, comprising: a coating layer (B) formed by using a composition obtained by reacting an organic compound (b-ii) having a functional group in the molecule; A film for gas barrier, wherein the adhesion strength between the plastic film (A) and the coating layer (B) is 250 gf / 15 mm or more.
【請求項4】 前記被覆層(B)は、前記有機化合物
(b−i)および前記有機化合物(b−ii)に加えて、
さらに、下記式(2): 【化2】 (式中、R3は水素原子または前記活性水素と反応しな
い官能基を有していてもよいアルキル基であり、R4
水素原子またはアルキル基であり、aは0以上の整数で
あり、bは1以上の整数であり、a+b=4であり、a
またはbが2以上の場合にはR3またはR4は異なってい
てもよい)で表される有機ケイ素化合物(b−iii)お
よび/またはその加水分解縮合物(b−iv)を反応し
て得られた組成物を用いて形成されてなることを特徴と
する請求項2または3に記載のガスバリア用フィルム。
4. The coating layer (B) contains, in addition to the organic compound (b-i) and the organic compound (b-ii),
Furthermore, the following formula (2): (In the formula, R 3 is a hydrogen atom or an alkyl group which may have a functional group that does not react with the active hydrogen, R 4 is a hydrogen atom or an alkyl group, and a is an integer of 0 or more, b is an integer of 1 or more, a + b = 4, and a
Or when b is 2 or more, R 3 or R 4 may be different) by reacting with an organosilicon compound (b-iii) and / or its hydrolyzed condensate (b-iv) The gas barrier film according to claim 2, which is formed by using the obtained composition.
【請求項5】 さらにシーラント層(C)が積層されて
なる請求項1〜4のいずれかに記載のガスバリア用フィ
ルム。
5. The gas barrier film according to claim 1, further comprising a sealant layer (C).
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