JP2003324145A - Wafer storage container and manufacturing method of semiconductor device - Google Patents

Wafer storage container and manufacturing method of semiconductor device

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JP2003324145A
JP2003324145A JP2002129634A JP2002129634A JP2003324145A JP 2003324145 A JP2003324145 A JP 2003324145A JP 2002129634 A JP2002129634 A JP 2002129634A JP 2002129634 A JP2002129634 A JP 2002129634A JP 2003324145 A JP2003324145 A JP 2003324145A
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JP
Japan
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wafer
storage container
positioning
holding
holder
Prior art date
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Application number
JP2002129634A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuichi Kuroda
雄一 黒田
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To enable cost reduction by reducing a storing space for a storage container by reducing the frequency of container replacement by using one wafer storage container in two kinds of ways in the wafer storage container used for the storage/carrying of a wafer. <P>SOLUTION: A wafer holder 3 constituting a storage container body 5 of the wafer storage container is provided with a first wafer holding part 2 and a second wafer holding part 10. The wafer holding container is used properly in two kinds of ways by selecting the first or the second wafer holding part. Furthermore, the wafer holding part is used properly by a process by providing a depth adjusting part of a positioning part. Thus, the frequency of replacement of the wafer storage container is reduced, and both the number of storage containers and a storage container storing space can be reduced. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイスを
製造中の工程において、半導体ウエハ(以下、ウエハと
いう)を保管・搬送する際に使用されるウエハ収納容器
及びウエハ収納方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer storage container and a wafer storage method used for storing and transferring semiconductor wafers (hereinafter referred to as "wafers") in the process of manufacturing semiconductor devices.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来半導体デバイスは、複数の工程を経
て製造される。半導体デバイスを構成する半導体チップ
(以下、チップという)が作り込まれるウエハは、各工
程がそれぞれ離隔された所定の場所で行われるので、ウ
エハ収納容器に収納されてそれぞれの場所に搬送され
る。図11は、従来の半導体デバイスの製造工程で使用
されているウエハ収納容器の側面図、平面図及び斜視図
である。図11(a)は、載置台に搭載された収納容器
本体の側面図、図11(b)は、収納容器本体を密閉す
る収納容器蓋の平面図、図11(c)は、収納容器本体
に内蔵されているウエハ保持体の斜視図である。図に示
すように、ウエハ収納容器は、収納容器本体105と収
納容器蓋107(図11(b))から構成されている。
収納容器本体105は、ウエハ収納時にウエハ101を
保持するウエハ保持部102を備えたウエハ保持体10
3と、ウエハ保持体103とウエハ101全体を覆う形
状の容器104と、収納容器の載置位置を決定する位置
決め部106とから構成されている(図11(a))。
複数のウエハ保持部102は、ウエハ保持体103内に
所定のピッチで配列されており(図11(c))、各ウ
エハ保持部にはそれぞれ1枚のシリコンウエハ101が
収納されるようになっている。
2. Description of the Related Art Conventional semiconductor devices are manufactured through a plurality of steps. A wafer in which semiconductor chips (hereinafter, referred to as chips) that form a semiconductor device are manufactured is stored in a wafer storage container and transported to each location because each process is performed at a predetermined location separated from each other. FIG. 11 is a side view, a plan view and a perspective view of a wafer storage container used in a conventional semiconductor device manufacturing process. 11A is a side view of the storage container main body mounted on the mounting table, FIG. 11B is a plan view of the storage container lid for sealing the storage container main body, and FIG. 11C is a storage container main body. FIG. 3 is a perspective view of a wafer holder incorporated in the. As shown in the figure, the wafer container comprises a container body 105 and a container lid 107 (FIG. 11B).
The storage container body 105 includes a wafer holder 10 having a wafer holder 102 that holds the wafer 101 when the wafer is stored.
3, a wafer holder 103, a container 104 having a shape that covers the entire wafer 101, and a positioning unit 106 that determines the mounting position of the storage container (FIG. 11A).
The plurality of wafer holders 102 are arranged at a predetermined pitch in the wafer holder 103 (FIG. 11C), and one silicon wafer 101 is housed in each wafer holder. ing.

【0003】容器104は、側面(図の正面)に開口部
110が形成されており、ここからウエハ101が出し
入れされるようになっている。そして、この開口部11
0を収納容器蓋107で塞いで容器104を密閉するよ
うになっている。ウエハ収納容器は、所定の工程を実施
する所定の位置に搬送され、載置台109の所定の位置
に配置される。載置台109には位置決めピン108が
取り付けられている。また、収納容器本体105の下
部、つまり、容器104の底部には位置決め部106が
形成された底板116が取り付けられている。位置決め
部106は、底板116に形成された溝から構成されて
いる。位置決め部106を構成する溝に位置決めピン1
08を挿入することによりウエハ収納容器を載置台10
9に位置決めする。そして、ウエハ収納容器が所定の位
置に配置されると、収納されているウエハ101がロボ
ットアームなどにより取り出されて次々とその場所の処
理装置内で処理される。その際ウエハ収納容器は、載置
台に搭載されているので、工程処理中は常に一定の高さ
を維持している。
An opening 110 is formed on the side surface (front surface of the drawing) of the container 104, and the wafer 101 can be taken in and out through the opening 110. And this opening 11
0 is closed by the storage container lid 107 to seal the container 104. The wafer storage container is transported to a predetermined position where a predetermined process is performed, and is placed at a predetermined position on the mounting table 109. Positioning pins 108 are attached to the mounting table 109. A bottom plate 116 having a positioning portion 106 is attached to the lower portion of the storage container body 105, that is, the bottom of the container 104. The positioning portion 106 is composed of a groove formed in the bottom plate 116. Positioning pin 1 is provided in the groove forming the positioning portion 106.
The wafer storage container is placed on the mounting table 10 by inserting 08.
Position at 9. Then, when the wafer storage container is arranged at a predetermined position, the stored wafer 101 is taken out by a robot arm or the like and processed one after another in the processing device at that location. At this time, since the wafer storage container is mounted on the mounting table, the wafer storage container always maintains a constant height during process processing.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このように、半導体デ
バイスを製造する場所では、様々な工程でウエハを処理
し、処理が終了したウエハをウエハ収納容器に入れウエ
ハを保管し、搬送する。工程によってはウエハ保持部を
含め常にクリーンな状態での搬送・保管を要求するもの
もあり、このような場合、現状では工程によってウエハ
収納容器を交換していた。ウエハ収納容器の交換にはウ
エハを交換するウエハ交換装置まで搬送(運搬)する必
要があるため、収納容器交換によるウエハ交換装置まで
の搬送(運搬)時間の増加、作業者の作業負荷の増加が
問題となっている。また近年、ウエハの大口径化が進
み、収納容器の大きさも増加している。ウエハ収納容器
交換に伴う交換用の収納容器もしくは交換後の収納容器
を保管するスペースも莫大なものとなるため、限られた
大きさのクリーンルーム(CR)の中では収納容器の保
管スペースも解決する必要のある問題の1つとなってい
る。本発明は、このような事情によりなされたものであ
り、ウエハを保管・搬送する際に使用されるウエハ収納
容器において、1つのウエハ収納容器を2種類の態様に
使用することにより容器交換を少なくして収納容器の保
管スペースを減らし、コスト削減を行うことができるウ
エハ収納容器及びこの収納容器を利用した半導体デバイ
スの製造方法を提供する。
As described above, at a place where a semiconductor device is manufactured, wafers are processed in various steps, and the processed wafers are put into a wafer container and stored and transferred. Some processes require transfer and storage in a clean state at all times, including the wafer holder. In such a case, the wafer storage container is currently replaced by the process. In order to exchange the wafer storage container, it is necessary to transfer (transport) the wafer to the wafer exchange device that replaces the wafer. Therefore, the transfer (transportation) time to the wafer exchange device due to the storage container exchange is increased, and the workload of the worker is increased. It's a problem. Further, in recent years, the diameter of wafers has been increasing, and the size of storage containers has also increased. Since the space for storing the replacement storage container or the storage container after the replacement becomes enormous due to the wafer storage container replacement, the storage space for the storage container is also solved in a clean room (CR) of a limited size. It is one of the problems that need to be addressed. The present invention has been made in view of the above circumstances, and in a wafer storage container used when storing and transporting wafers, by using one wafer storage container in two types of modes, it is possible to reduce container replacement. The present invention provides a wafer container capable of reducing the storage space of the container and reducing the cost, and a method of manufacturing a semiconductor device using the container.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、ウエハ保持体
に第1のウエハ保持部と第2のウエハ保持部とを備える
様にし、第1又は第2のウエハ保持部の選択によってウ
エハ収納容器を2種類に使い分けることを特徴としてい
る。また、位置決め深さ調整部を設けて工程別にウエハ
保持部を使い分けるようにする。また、2つの開口部を
有するウエハ収納容器に2つの収納容器蓋を用いてウエ
ハ保持部を使い分けるようにする。また、第1及び第2
のウエハ保持部は、互いに干渉することなく箱型形状容
器内を駆動するように構成してウエハ保持部を使い分け
るようにする。このようにして、ウエハ収納容器の交換
回数が低減し、収納容器数の低減と収納容器保管スペー
スの低減が可能となるようにする。
According to the present invention, a wafer holder is provided with a first wafer holder and a second wafer holder, and a wafer is accommodated by selecting the first or second wafer holder. It is characterized by using two types of containers. Further, a positioning depth adjusting section is provided so that the wafer holding section can be selectively used for each process. In addition, the wafer holder is properly used by using the two container lids for the wafer container having the two openings. Also, the first and second
The wafer holders are configured to be driven in the box-shaped container without interfering with each other, and the wafer holders are selectively used. In this way, the number of times the wafer storage container is replaced can be reduced, and the number of storage containers and the storage space for the storage containers can be reduced.

【0006】すなわち、本発明のウエハ収納容器は、半
導体ウエハを保持する複数の第1のウエハ保持部及び半
導体ウエハを保持する複数の第2のウエハ保持部を備え
たウエハ保持体、前記ウエハ保持体の全体を覆う箱型形
状容器及び収納容器の載置位置を決定する位置決め部か
ら構成され、且つ前記半導体ウエハを出し入れする開口
部を有する収納容器本体と、前記収納容器本体の開口部
に装着することにより密閉空間を形成する収納容器蓋と
を具備し、前記第1のウエハ保持部の配列ピッチ間に前
記第2のウエハ保持部を介在させることを特徴としてい
る。前記位置決め部は、2段階の深さに調整する位置決
め深さ調整部を有し、この位置決め深さ調整部により位
置決め部の深さが前記第1のウエハ保持部と前記第2の
ウエハ保持部との間隔だけ増減するようにしても良い。
That is, the wafer container of the present invention is a wafer holder provided with a plurality of first wafer holders for holding semiconductor wafers and a plurality of second wafer holders for holding semiconductor wafers, and the wafer holder. A box-shaped container that covers the entire body and a positioning part that determines the mounting position of the storage container, and a storage container body having an opening through which the semiconductor wafer is loaded and unloaded, and a storage container body mounted on the opening part of the storage container body. It is characterized by including a storage container lid which forms a sealed space by interposing the second wafer holding portion between the arrangement pitches of the first wafer holding portions. The positioning section has a positioning depth adjusting section for adjusting the depth to two levels, and the positioning depth adjusting section adjusts the depth of the positioning section to the first wafer holding section and the second wafer holding section. The interval may be increased or decreased.

【0007】また、本発明のウエハ収納容器は、半導体
ウエハを保持する複数の第1のウエハ保持部及び半導体
ウエハを保持し、この第1のウエハ保持部の配列ピッチ
間に各々介在された複数の第2のウエハ保持部を備えた
ウエハ保持体、前記ウエハ保持体の全体を覆う箱型形状
容器及び収納容器の載置位置を決定する位置決め部から
構成され、且つ前記半導体ウエハを出し入れする開口部
を有する収納容器本体と、前記収納容器本体の開口部に
装着することにより密閉空間を形成する収納容器蓋とを
具備し、前記収納容器本体は、位置決めピンを備えた載
置台に載置され、前記位置決め部は、前記箱型形状容器
の底部に取り付けられ、且つ位置決め孔を有する底板
と、この底板内部を水平方向に移動しこの位置決め孔と
断面形状が同じかそれより大きい貫通孔を有する仕切り
板とから構成され、前記第1のウエハ保持部にウエハを
収納する場合、前記収納容器本体は、前記仕切り板の前
記貫通孔を前記位置決め孔に合わせ、前記位置決めピン
が前記位置決め孔に深く挿入されるように前記載置台に
位置決めされ、前記第2のウエハ保持部にウエハを収納
する場合、前記収納容器本体は、前記仕切り板の前記貫
通孔を前記位置決め孔から外すように移動させて、前記
位置決めピンが前記位置決め孔に前記仕切り板まで浅く
挿入されるように前記載置台に位置決めされることを特
徴とするウエハ収納容器。
Further, the wafer storage container of the present invention holds a plurality of first wafer holding portions for holding semiconductor wafers and a plurality of semiconductor wafers, and a plurality of wafers are interposed between the arrangement pitches of the first wafer holding portions. And an opening through which the semiconductor wafer is taken in and out, which comprises a wafer holder having a second wafer holder, a box-shaped container that covers the entire wafer holder, and a positioning portion that determines the placement position of the storage container. A storage container body having a portion, and a storage container lid that forms a closed space by being installed in an opening of the storage container body, and the storage container body is mounted on a mounting table having positioning pins. The positioning part is attached to the bottom of the box-shaped container and has a positioning hole, and the positioning part moves horizontally in the bottom plate and has the same sectional shape as the positioning hole. When a wafer is stored in the first wafer holding part, the storage container main body aligns the through hole of the partition plate with the positioning hole, and the positioning pin. When the wafer is positioned in the mounting table so as to be deeply inserted into the positioning hole and the wafer is stored in the second wafer holding part, the storage container body is configured such that the through hole of the partition plate is moved from the positioning hole. A wafer storage container characterized by being moved so as to be removed and being positioned on the mounting table so that the positioning pin is shallowly inserted into the positioning hole up to the partition plate.

【0008】また、本発明のウエハ収納容器は、半導体
ウエハを保持する複数の第1のウエハ保持部及び半導体
ウエハを保持する複数の第2のウエハ保持部を備えたウ
エハ保持体、前記ウエハ保持体の全体を覆う箱型形状容
器及び収納容器の載置位置を決定する位置決め部から構
成され、且つ前記半導体ウエハを出し入れする開口部を
有する収納容器本体と、前記収納容器本体の開口部に装
着することにより密閉空間を形成する収納容器蓋とを具
備し、前記開口部は、第1の開口部と第2の開口部とか
らなり、前記収納容器蓋は、前記第1の開口部に装着さ
れる第1の収納容器蓋と前記第2の開口部に装着される
第2の収納容器蓋とからなり、前記位置決め部は前記第
1の開口部から半導体ウエハを出し入れする場合に使用
する第1の位置決め部と前記第2の開口部から半導体ウ
エハを出し入れする場合に使用する第2の位置決め部か
らなり、前記第1の位置決め部の位置決め深さと前記第
2の位置決め部の位置決め深さは、前記第1のウエハ保
持部と第2のウエハ保持部との配列間隔だけ異なってい
ることを特徴としている。
Further, the wafer container of the present invention is a wafer holder provided with a plurality of first wafer holders for holding semiconductor wafers and a plurality of second wafer holders for holding semiconductor wafers, and the wafer holder. A box-shaped container that covers the entire body and a positioning part that determines the mounting position of the storage container, and a storage container body having an opening through which the semiconductor wafer is loaded and unloaded, and a storage container body mounted on the opening part of the storage container body. A storage container lid that forms a closed space by means of the above, the opening comprises a first opening and a second opening, and the storage container lid is attached to the first opening. A first storage container lid and a second storage container lid attached to the second opening, and the positioning unit is used when loading and unloading a semiconductor wafer from the first opening. Positioning 1 Part and a second positioning part used when the semiconductor wafer is taken in and out from the second opening part. The positioning depth of the first positioning part and the positioning depth of the second positioning part are the same as those of the first positioning part. It is characterized in that the first wafer holding part and the second wafer holding part are different from each other only in the arrangement interval.

【0009】また、本発明のウエハ収納容器は、半導体
ウエハを保持する複数の第1のウエハ保持部を有する第
1のウエハ保持体、半導体ウエハを保持する複数の第2
のウエハ保持部を有する第2のウエハ保持体、前記第1
及び第2のウエハ保持体の全体を覆う箱型形状容器、前
記第1のウエハ保持体を上下に駆動する第1の駆動手段
及び前記第2のウエハ保持体を上下に駆動する第2の駆
動手段から構成され、前記半導体ウエハを出し入れする
少なくとも1つの開口部を有する収納容器本体と、前記
収納容器本体の開口部に装着することにより密閉空間を
形成する収納容器蓋とを具備し、前記第1のウエハ保持
部の配列ピッチ間に前記第2のウエハ保持部が介在する
ように構成されていることを特徴としている。前記第1
のウエハ保持体及び前記第2のウエハ保持体は、互いに
干渉することなく前記箱型形状容器を駆動するようにし
ても良い。前記第1の駆動手段及び前記第2の駆動手段
は、板状体のウエハ保持体接続部により接続され、前記
第1のウエハ保持体及び前記第2のウエハ保持体は、い
ずれも板状体であり、これら板状体は前記ウエハ保持体
接続部を挟むようにして接続され、前記ウエハ保持体接
続部の一端が一方向に移動すると、前記第1のウエハ保
持体は同じ方向に駆動され、且つ前記第2のウエハ保持
体は反対方向に駆動され、前記ウエハ保持体接続部の他
端が一方向に移動すると、前記第1のウエハ保持体は同
じ方向に駆動され、且つ前記第2のウエハ保持体は反対
方向に駆動されるようにしても良い。
Further, the wafer container of the present invention includes a first wafer holder having a plurality of first wafer holders for holding a semiconductor wafer and a plurality of second wafer holders for holding a semiconductor wafer.
A second wafer holder having the wafer holder of
And a box-shaped container that entirely covers the second wafer holder, first driving means for vertically driving the first wafer holder, and second driving for vertically driving the second wafer holder. A storage container body having at least one opening through which the semiconductor wafer is loaded and unloaded; and a storage container lid that is attached to the opening of the storage container body to form a closed space. It is characterized in that the second wafer holder is interposed between the arrangement pitches of one wafer holder. The first
The wafer holder and the second wafer holder may drive the box-shaped container without interfering with each other. The first drive means and the second drive means are connected by a wafer holder connection part of a plate-like body, and the first wafer holder and the second wafer holder are both plate-like bodies. The plate-shaped members are connected so as to sandwich the wafer holder connecting portion, and when one end of the wafer holder connecting portion moves in one direction, the first wafer holder is driven in the same direction, and The second wafer holder is driven in the opposite direction, and when the other end of the wafer holder connecting portion moves in one direction, the first wafer holder is driven in the same direction, and the second wafer is moved. The holder may be driven in the opposite direction.

【0010】本発明の半導体デバイスの製造方法は、複
数の半導体ウエハに第1の処理を行うステップと、前記
第1の処理が行われた上記のいずれかに記載されたウエ
ハ収納容器の前記第1のウエハ保持部に保持させ、その
後次の処理を行う場所に搬送するステップと、前記第1
の処理が行われた各半導体ウエハを前記ウエハ収納容器
から取り出し、それらの上にフォトレジストを塗布し、
これをパターニングする第2の処理を行うステップと、
前記第2の処理が行われた各半導体ウエハを前記ウエハ
収納容器の前記第2のウエハ保持部に保持させ、その後
次の処理を行う場所に搬送するステップと、前記第2の
処理が行われた各半導体ウエハを前記ウエハ収納容器か
ら取り出し、第3の処理を行うステップと、前記第3の
処理が行われた各半導体ウエハを前記ウエハ収納容器の
前記第2のウエハ保持部に保持させ、その後に、次の処
理を行う場所に搬送させるステップと、前記第3の処理
が行われた各半導体ウエハを前記ウエハ収納容器から取
り出し、前記フォトレジストを除去する第4の処理を行
うステップと、前記第4の処理が行われた半導体ウエハ
を前記ウエハ収納容器の前記第1のウエハ保持部に保持
させ、その後に、次の処理を行う場所に搬送するステッ
プとを具備したことを特徴としている。
A semiconductor device manufacturing method according to the present invention comprises a step of performing a first process on a plurality of semiconductor wafers, and a step of performing the first process on the wafer storage container according to any one of the above. Holding the wafer by one wafer holding unit and then carrying it to a place where the next processing is performed;
The respective semiconductor wafers that have been subjected to the treatment of are taken out from the wafer storage container, and a photoresist is applied on them.
Performing a second process of patterning this,
A step of holding each of the semiconductor wafers subjected to the second processing in the second wafer holding part of the wafer storage container and then carrying the semiconductor wafer to a place for performing the next processing; and performing the second processing. Removing each semiconductor wafer from the wafer storage container and performing a third process; holding each semiconductor wafer that has been subjected to the third process in the second wafer holding part of the wafer storage container; Thereafter, a step of transporting the semiconductor wafer to a place where the next processing is performed, a step of taking out each of the semiconductor wafers subjected to the third processing from the wafer storage container, and performing a fourth processing of removing the photoresist, A step of holding the semiconductor wafer that has been subjected to the fourth processing in the first wafer holding portion of the wafer storage container, and then transporting the semiconductor wafer to a place where the next processing is to be performed. It is characterized in.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して発明の実施
の形態を説明する。まず、図1乃至図4を参照して第1
の実施例を説明する。図1は、半導体デバイスの製造工
程で使用されるウエハ収納容器の収納容器本体の斜視
図、ウエハ保持体の斜視図及び収納容器本体を密閉する
収納容器蓋の平面図、図2は、位置決め部が形成された
底板の断面図及びウエハ保持体を覆う箱型形状容器の断
面図、図3は、位置決め部が形成された底板の平面図、
図4は、載置台に搭載された収納容器本体の側面図であ
る。図に示すように、ウエハ収納容器は、収納容器本体
5と収納容器蓋7から構成されている。収納容器本体5
は、ウエハ収納時にウエハ1を保持する第1のウエハ保
持部2及び第2のウエハ保持部10を備えたウエハ保持
体3と、ウエハ保持体3とウエハ1の全体を覆う箱型形
状の容器4と、収納容器の載置位置を決定する位置決め
部6とから構成されている。複数の第1のウエハ保持部
2及び第2のウエハ保持部10は、ウエハ保持体3内に
所定のピッチで交互に配列されている。各ウエハ保持部
にはそれぞれ1つのシリコンなどのウエハ1が収納され
るように構成されている。箱型形状容器4は、側面(図
4の正面)に開口部18が形成されており、ここからウ
エハ1が出し入れされるようになっている。そして、こ
の開口部18を収納容器蓋7で塞いで箱型形状容器4を
密閉するようになっている。ウエハ収納容器は、所定の
工程を実施する所定の位置に搬送され、載置台9の所定
の位置に配置される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, referring to FIG. 1 to FIG.
An example will be described. 1 is a perspective view of a storage container main body of a wafer storage container used in a semiconductor device manufacturing process, a perspective view of a wafer holder, and a plan view of a storage container lid for sealing the storage container main body. FIG. 3 is a cross-sectional view of the bottom plate on which the wafer holder is formed and a cross-sectional view of a box-shaped container that covers the wafer holder. FIG.
FIG. 4 is a side view of the storage container body mounted on the mounting table. As shown in the figure, the wafer container comprises a container body 5 and a container lid 7. Storage container body 5
Is a wafer holder 3 having a first wafer holder 2 and a second wafer holder 10 for holding the wafer 1 when the wafer is stored, and a box-shaped container covering the entire wafer holder 3 and the wafer 1. 4 and a positioning unit 6 that determines the mounting position of the storage container. The plurality of first wafer holders 2 and the plurality of second wafer holders 10 are alternately arranged in the wafer holder 3 at a predetermined pitch. Each wafer holder is configured to accommodate one wafer 1 such as silicon. The box-shaped container 4 has an opening 18 formed on the side surface (front surface of FIG. 4), through which the wafer 1 can be loaded and unloaded. The opening 18 is closed by the storage container lid 7 to hermetically close the box-shaped container 4. The wafer storage container is transported to a predetermined position where a predetermined process is performed, and is placed at a predetermined position on the mounting table 9.

【0012】載置台9には位置決めピン8が取り付けら
れている。また、収納容器本体5の下部、すなわち、箱
型形状容器4の底部には位置決め部6が形成された底板
16が取り付けられている。位置決め部6は、底板16
に形成された溝から構成されている。位置決め部6を構
成する溝に位置決めピン8を挿入することによりウエハ
収納容器を載置台9に位置決めする。そして、ウエハ収
納容器が所定の位置に配置されると、収納されているウ
エハ1がロボットアームなどにより取り出されて次々と
その場所の処理装置内で処理される。その際ウエハ収納
容器は、載置台に搭載されているので、工程処理中は常
に一定の高さを維持している。この位置決め部6には、
位置決め部の深さを調整する位置決め深さ調整部12が
取り付けられている。なお位置決め部6を構成する底板
16に形成された溝は、その形状は問わず、丸、四角、
楕円などで良く、位置が決定できれば良い。
Positioning pins 8 are attached to the mounting table 9. A bottom plate 16 having a positioning portion 6 is attached to the lower portion of the storage container body 5, that is, the bottom of the box-shaped container 4. The positioning part 6 includes a bottom plate 16
It is composed of a groove formed in. The wafer storage container is positioned on the mounting table 9 by inserting the positioning pin 8 into the groove that constitutes the positioning portion 6. Then, when the wafer storage container is placed at a predetermined position, the stored wafers 1 are taken out by the robot arm or the like and processed one after another in the processing device at that location. At this time, since the wafer storage container is mounted on the mounting table, the wafer storage container always maintains a constant height during process processing. In this positioning section 6,
A positioning depth adjusting unit 12 for adjusting the depth of the positioning unit is attached. The shape of the groove formed in the bottom plate 16 forming the positioning portion 6 is not limited to a circle, a square,
It may be an ellipse, etc., as long as the position can be determined.

【0013】図2及び図3は、位置決め深さ調整部12
を説明する図である。位置決め深さ調整部12は、位置
決め部深さを2段階に調整することが可能であり、その
際の深さは、「第1の深さ」と「第2の深さ(第1の深
さ−(第1のウエハ保持部2と第2のウエハ保持部10
との間隔(ピッチ)=D))」の2段階である。位置決
め深さ調整部12は、例えば、底板6の中を左右に移動
する仕切り板であり、移動させることで調整できるよう
に構成されているが、本発明では、深さを調整できる機
構であればどのようなものでもよい。また、仕切り板が
移動する底板の空間は、中をくりぬいて形成しても良い
し、空間ができるように2枚の板を張り合わせて底板を
形成しても良い。位置決め深さ調整部12(仕切り板)
は、位置決め部6、すなわち、溝と同じ形状・配置の貫
通孔17を有している(図3(b)参照)。
2 and 3 show the positioning depth adjusting unit 12
It is a figure explaining. The positioning depth adjusting unit 12 can adjust the positioning unit depth in two stages. The depths at that time are the "first depth" and the "second depth (first depth)". Sa- (first wafer holder 2 and second wafer holder 10
Interval (pitch) = D)) ”. The positioning depth adjustment unit 12 is, for example, a partition plate that moves left and right in the bottom plate 6, and is configured to be adjustable by moving it. However, in the present invention, any mechanism that can adjust the depth may be used. Anything will do. Moreover, the space of the bottom plate in which the partition plate moves may be formed by hollowing out the inside, or the bottom plate may be formed by laminating two plates so as to form a space. Positioning depth adjuster 12 (partition plate)
Has a positioning portion 6, that is, a through hole 17 having the same shape and arrangement as the groove (see FIG. 3B).

【0014】次に、図4を参照して、半導体デバイスの
製造中におけるウエハ収納容器の使用方法を説明する。
第1のウエハ保持部2を用いてウエハ1を収納する場
合、位置決め深さ調整部12の貫通孔17を位置決め部
6に合わせて、位置決め深さを「第1の深さ」に調整す
る(図2(a)、図3(a))。位置決め深さを調整
後、ウエハ収納容器を載置台9にセット(図4(a)参
照)し、ウエハ収納容器の収納容器蓋7(図1(c))
を開いて、開口部18を露出させ、開口部18からウエ
ハ1を第1のウエハ保持部2に収納する。ウエハ1を収
納したら収納容器蓋7を収納容器本体5に取り付けてウ
エハ収納容器を密閉する。ウエハ1を取り出すときは逆
の動作で行う。また、第2のウエハ保持部10を用いて
ウエハ1を収納する場合、位置決め深さ調整部12を左
側に移動させる(図2(a)、図3(b))と、位置決
め部6と位置決め深さ調整部12の貫通孔17は互いに
ずれるので、位置決め調整部12が位置決め部6である
溝に挿入されることになって深さを間隔Dだけ浅く調整
するようになる(図2(a))。位置決め深さを調整
後、ウエハ収納容器を載置台9にセット(図4参照)
し、収納容器の収納容器蓋7(図1(c))を開いて、
開口部18を露出させ、開口部18からウエハ1を第2
のウエハ保持部10に収納する。ウエハ1を収納したら
収納容器蓋7を収納容器本体5に取り付けてウエハ収納
容器を密閉する。ウエハ1を取り出すときは逆の動作で
行う。
Next, with reference to FIG. 4, a method of using the wafer container during the manufacture of the semiconductor device will be described.
When the wafer 1 is stored using the first wafer holding unit 2, the through hole 17 of the positioning depth adjusting unit 12 is adjusted to the positioning unit 6 and the positioning depth is adjusted to the “first depth” ( 2 (a) and 3 (a)). After adjusting the positioning depth, the wafer storage container is set on the mounting table 9 (see FIG. 4A), and the storage container lid 7 of the wafer storage container (FIG. 1C) is set.
Is opened to expose the opening 18, and the wafer 1 is accommodated in the first wafer holder 2 through the opening 18. After the wafer 1 is stored, the storage container lid 7 is attached to the storage container main body 5 to seal the wafer storage container. When taking out the wafer 1, the reverse operation is performed. When the wafer 1 is stored using the second wafer holding unit 10, the positioning depth adjusting unit 12 is moved to the left side (FIGS. 2A and 3B), and the positioning unit 6 and the positioning unit 6 are positioned. Since the through holes 17 of the depth adjusting unit 12 are displaced from each other, the positioning adjusting unit 12 is inserted into the groove serving as the positioning unit 6 so that the depth is adjusted to be shallower by the distance D (see FIG. )). After adjusting the positioning depth, set the wafer storage container on the mounting table 9 (see FIG. 4).
Then, open the storage container lid 7 (FIG. 1C) of the storage container,
The opening 18 is exposed, and the wafer 1 is exposed through the opening 18 to the second
The wafer holding unit 10 of FIG. After the wafer 1 is stored, the storage container lid 7 is attached to the storage container main body 5 to seal the wafer storage container. When taking out the wafer 1, the reverse operation is performed.

【0015】位置決め部6の深さをDだけ変化させてい
るため、ウエハ移載機の位置を調整することなくウエハ
の出し入れを行うことができる。収納容器蓋7の開閉は
手動の場合は問題ないが、自動で行う場合は、収納容器
蓋開閉機もしくは載置台9を間隔Dだけ上下させた後、
収納容器蓋の開閉を行う。蓋開閉機もしくは載置台の上
下機構は図示しないが、エアシリンダー、油圧など上下
すればどのような機構でもよい。また、蓋開閉機もしく
は載置台の上下は次工程に対する収納容器の使い分けに
基づいたホストコンピュータからの指令にしたがって行
うことができる。このウエハ収納容器を用いることによ
り、第1のウエハ保持部と第2のウエハ保持部とを区別
してウエハ収納することができるので、これまで工程に
より交換していた2つの収納容器を1つの収納容器で対
応することが可能となる。したがって、ウエハ収納容器
の交換が低減され、必要収納容器数を低減でき、ウエハ
収納容器の必要コスト削減が可能になる。また、ウエハ
収納容器の保管スペースが低減することもでき、半導体
デバイスの製造工程におけるスペースを有効活用するこ
とが可能になる。
Since the depth of the positioning portion 6 is changed by D, the wafer can be taken in and out without adjusting the position of the wafer transfer machine. There is no problem in opening and closing the storage container lid 7 in the case of manual operation, but in the case of automatic operation, after raising or lowering the storage container lid opening / closing device or the mounting table 9 by a distance D,
Open and close the storage container lid. Although the lid opening / closing mechanism or the raising / lowering mechanism of the mounting table is not shown, any mechanism may be used as long as it moves up and down, such as an air cylinder and hydraulic pressure. Further, the lid opening / closing device or the mounting table can be moved up and down according to a command from the host computer based on the proper use of the storage container for the next process. By using this wafer storage container, the first wafer holding part and the second wafer holding part can be separately stored, and thus the two storage containers that have been replaced by the process up to now can be stored in one. It is possible to deal with it with a container. Therefore, replacement of the wafer storage container is reduced, the number of required storage containers can be reduced, and the required cost of the wafer storage container can be reduced. Further, the storage space of the wafer storage container can be reduced, and the space in the manufacturing process of the semiconductor device can be effectively used.

【0016】次に、図5及び図6を参照して第2の実施
例を説明する。図5は、半導体デバイスの製造工程で使
用されるウエハ収納容器の収納容器本体及び収納容器蓋
の断面図及び底部平面図、図6は、載置台に搭載された
ウエハ収納容器の断面図である。図に示すように、ウエ
ハ収納容器は、収納容器本体25と第1及び第2の収納
容器蓋26、27から構成されている。収納容器本体2
5は、ウエハ収納時にウエハ1を保持する第1のウエハ
保持部2及び第2のウエハ保持部10を備えたウエハ保
持体3と、ウエハ保持体3とウエハ1の全体を覆う箱型
形状容器29と、収納容器の載置位置を決定する位置決
め部とから構成されている。位置決め部は、第1の位置
決め部22及び第2の位置決め部23から構成されてい
る。複数の第1のウエハ保持部2及び複数の第2のウエ
ハ保持部10は、ウエハ保持体3内に所定のピッチで交
互に配列されている。各ウエハ保持部にはそれぞれ1つ
のシリコンなどのウエハ1が収納されるように構成され
ている。箱型形状容器29は、側面に対向する第1の開
口部24及び第2の開口部28が形成されており、この
2つの開口部からウエハ1が出し入れされるようになっ
ている。そして、この開口部24、28を収納容器蓋2
6、27で塞いで箱型形状容器29を密閉するようにな
っている。
Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a sectional view and a bottom plan view of a storage container body and a storage container lid of a wafer storage container used in a semiconductor device manufacturing process, and FIG. 6 is a sectional view of a wafer storage container mounted on a mounting table. . As shown in the figure, the wafer storage container is composed of a storage container body 25 and first and second storage container lids 26 and 27. Storage container body 2
Reference numeral 5 denotes a wafer holder 3 having a first wafer holder 2 and a second wafer holder 10 for holding the wafer 1 when the wafer is stored, and a box-shaped container that covers the entire wafer holder 3 and the wafer 1. 29, and a positioning unit that determines the mounting position of the storage container. The positioning section is composed of a first positioning section 22 and a second positioning section 23. The plurality of first wafer holders 2 and the plurality of second wafer holders 10 are alternately arranged in the wafer holder 3 at a predetermined pitch. Each wafer holder is configured to accommodate one wafer 1 such as silicon. The box-shaped container 29 is formed with a first opening 24 and a second opening 28 facing the side surface, and the wafer 1 is taken in and out through these two openings. Then, the openings 24 and 28 are inserted into the storage container lid 2
The box-shaped container 29 is hermetically sealed by closing the container 6 and 27.

【0017】ウエハ収納容器は、所定の工程を実施する
所定の位置に搬送され、載置台9の所定の位置に配置さ
れる。載置台9には位置決めピン8が取り付けられてい
る。また、収納容器本体25の下部、すなわち、箱型形
状容器29の底部には第1及び第2の位置決め部22、
23が形成された底板21が取り付けられている。第1
及び第2の位置決め部22、23は、底板21に形成さ
れた溝から構成されている。位置決め部を構成する溝に
位置決めピン8を挿入することによりウエハ収納容器を
載置台9に位置決めする。そして、ウエハ収納容器が所
定の位置に配置されると、収納されているウエハ1がロ
ボットアームなどにより取り出されて次々とその場所の
処理装置内で処理される。その際ウエハ収納容器は、載
置台に搭載されているので、工程処理中は常に一定の高
さを維持している。
The wafer container is conveyed to a predetermined position where a predetermined process is carried out, and is placed at a predetermined position on the mounting table 9. Positioning pins 8 are attached to the mounting table 9. In addition, the first and second positioning portions 22, at the bottom of the storage container body 25, that is, at the bottom of the box-shaped container 29,
A bottom plate 21 having 23 formed therein is attached. First
The second positioning portions 22 and 23 are each formed of a groove formed in the bottom plate 21. The wafer storage container is positioned on the mounting table 9 by inserting the positioning pin 8 into the groove that constitutes the positioning portion. Then, when the wafer storage container is placed at a predetermined position, the stored wafers 1 are taken out by the robot arm or the like and processed one after another in the processing device at that location. At this time, since the wafer storage container is mounted on the mounting table, the wafer storage container always maintains a constant height during process processing.

【0018】この位置決め部は、第1の実施例では位置
決め部の深さを調整する位置決め深さ調整部が取り付け
られていたが、この実施例では、第1の位置決め部22
は、第1の深さの溝からなり、第2の位置決め部23
は、それより浅い第2の深さの溝から構成されている。
なお位置決め部を構成する底板21に形成された溝は、
その形状は問わず、丸、四角、楕円などで良く、位置が
決定できれば良い。このように、第1の位置決め部22
と第2の位置決め部23の深さは異なり、第1の位置決
め部22の深さは、「第1の深さ」であり、第2の位置
決め部23の深さは、「第2の深さ(第1の深さ−(第
1のウエハ保持部2と隣接する第2のウエハ保持部10
の間隔))」となっている。第1の収納容器蓋26と第
2の収納容器蓋27は、互いに対向する方向に設けられ
ている。
In this embodiment, the positioning depth adjusting portion for adjusting the depth of the positioning portion is attached in the first embodiment, but in this embodiment, the first positioning portion 22 is provided.
Is a groove of the first depth, and the second positioning portion 23
Is composed of a shallower second depth groove.
The groove formed on the bottom plate 21 that constitutes the positioning portion is
The shape may be a circle, a square, an ellipse, or the like as long as the position can be determined. In this way, the first positioning portion 22
And the depth of the second positioning portion 23 are different, the depth of the first positioning portion 22 is the "first depth", and the depth of the second positioning portion 23 is the "second depth". (First depth- (second wafer holder 10 adjacent to first wafer holder 2)
Interval)) ". The first storage container lid 26 and the second storage container lid 27 are provided in directions facing each other.

【0019】次に、図6を参照してウエハ収納容器の使
用方法を説明する。第1のウエハ保持部2を用いウエハ
1を収納する場合、第1の収納容器蓋26が移載方向と
なるようにウエハ収納容器を載置台9にセットし、第1
の収納容器蓋26を開いて、第1の開口部24を露出さ
せ、この第1の開口部24からウエハ1を第1のウエハ
保持部2に収納する。この場合、載置台9の位置決めピ
ン8は、第1の位置決め部22を構成する溝に挿入され
る。ウエハ収納後、第1の収納容器蓋26を収納容器本
体25に取り付けてウエハ収納容器を密閉する。ウエハ
1を取り出すときは逆の動作で行う。また、第2のウエ
ハ保持部10を用いウエハ1を収納する場合、第2の収
納容器蓋27が移載方向となるようにウエハ収納容器を
載置台9にセットし、第2の収納容器蓋27を開いて、
第2の開口部28を露出させ、この開口部28からウエ
ハ1を第2のウエハ保持部10に収納する。この場合、
載置台9の位置決めピン8は、第2の位置決め部23を
構成する溝に挿入される。ウエハ収納後第2の収納容器
蓋27を収納容器本体25に取り付けてウエハ収納容器
を密閉する。ウエハ1を取り出すときは逆の動作で行
う。第2のウエハ保持部10を用いウエハ1を収納する
場合、第2の収納容器蓋27が移載方向となるように収
納容器を第1のウエハ保持部2使用時とは180度回転
させる。
Next, a method of using the wafer storage container will be described with reference to FIG. When the wafer 1 is stored using the first wafer holder 2, the wafer storage container is set on the mounting table 9 so that the first storage container lid 26 is in the transfer direction.
The storage container lid 26 is opened to expose the first opening 24, and the wafer 1 is stored in the first wafer holder 2 through the first opening 24. In this case, the positioning pin 8 of the mounting table 9 is inserted into the groove forming the first positioning portion 22. After the wafer is stored, the first storage container lid 26 is attached to the storage container body 25 to seal the wafer storage container. When taking out the wafer 1, the reverse operation is performed. Further, when the wafer 1 is stored using the second wafer holding unit 10, the wafer storage container is set on the mounting table 9 so that the second storage container lid 27 is in the transfer direction, and the second storage container lid is set. Open 27,
The second opening 28 is exposed, and the wafer 1 is accommodated in the second wafer holder 10 through the opening 28. in this case,
The positioning pin 8 of the mounting table 9 is inserted into the groove forming the second positioning portion 23. After the wafer is stored, the second storage container lid 27 is attached to the storage container main body 25 to seal the wafer storage container. When taking out the wafer 1, the reverse operation is performed. When the wafer 1 is stored using the second wafer holding unit 10, the storage container is rotated 180 degrees so that the second storage container lid 27 is in the transfer direction when the first wafer holding unit 2 is used.

【0020】このように、この実施例では、位置決め部
の深さが「第1のウエハ保持部2と隣接する第2のウエ
ハ保持部10」の間隔だけ変化させているため、ウエハ
移載機の位置を調整することなくウエハ1 の出し入れを
行うことができる。第1及び第2の収納容器蓋の開閉は
手動の場合は問題ないが、自動で収納容器蓋の開閉を行
う場合は、収納容器蓋開閉機もしくは載置台を「第1の
ウエハ保持部2と隣接する第2のウエハ保持部10」の
間隔だけ上下させた後、これらの蓋の開閉を行う。蓋開
閉機もしくは載置台の上下機構は図示しないが、エアシ
リンダー、油圧など上下すればどのような機構でもよ
い。また蓋開閉機もしくは載置台の上下は次工程に対す
る収納容器の使い分けに基づいたホストコンピュータか
らの指令にしたがって行うことができる。以上、この実
施例では、ウエハ収納容器の向きを変えることで使用す
るウエハ保持部の使い分けが可能となり、また、必要収
納容器数の低減と収納容器保管スペース低減が可能にな
る。
As described above, in this embodiment, since the depth of the positioning portion is changed by the distance between the "first wafer holding portion 2 and the adjacent second wafer holding portion 10", the wafer transfer machine The wafer 1 can be taken in and out without adjusting the position of. There is no problem in opening and closing the first and second storage container lids manually, but in the case of automatically opening and closing the storage container lids, the storage container lid opening / closing machine or the mounting table is referred to as “first wafer holding unit 2”. These lids are opened and closed after being moved up and down by the distance between the adjacent second wafer holders 10 ″. Although the lid opening / closing mechanism or the raising / lowering mechanism of the mounting table is not shown, any mechanism may be used as long as it moves up and down, such as an air cylinder and hydraulic pressure. Further, the lid opening / closing device or the mounting table can be moved up and down according to a command from the host computer based on the proper use of the storage container for the next process. As described above, in this embodiment, by changing the orientation of the wafer storage container, it is possible to properly use the wafer holding portion to be used, and it is possible to reduce the number of required storage containers and the storage space of the storage container.

【0021】次に、図7乃至図9を参照して第3の実施
例を説明する。図7は、半導体デバイスの製造工程で使
用されるウエハ収納容器の収納容器本体断面図、図8
は、ウエハの搭載位置を示したウエハ保持体の平面図、
図9は、ウエハ保持体の斜視図及び側面図である。図に
示すように、ウエハ収納容器は、収納容器本体35と収
納容器蓋から構成されている。収納容器本体35は、ウ
エハ収納時にウエハ1を保持する第1のウエハ保持部3
1を備えた第1のウエハ保持体33と、第2のウエハ保
持部32を備えた第2のウエハ保持体34と、第1及び
第2のウエハ保持体33、34とウエハ1の全体を覆う
箱型形状の容器4と、収納容器の載置位置を決定する位
置決め部6とから構成されている。
Next, a third embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 7 is a sectional view of a storage container main body of a wafer storage container used in a semiconductor device manufacturing process, and FIG.
Is a plan view of the wafer holder showing the mounting position of the wafer,
FIG. 9 is a perspective view and a side view of the wafer holder. As shown in the figure, the wafer container comprises a container body 35 and a container lid. The storage container body 35 includes a first wafer holder 3 that holds the wafer 1 when the wafer is stored.
The first wafer holder 33 including the first wafer holder 33, the second wafer holder 34 including the second wafer holder 32, the first and second wafer holders 33 and 34, and the entire wafer 1. It is composed of a box-shaped container 4 that covers and a positioning unit 6 that determines the mounting position of the storage container.

【0022】第1及び第2の実施例では1つのウエハ保
持体に2つのウエハ保持部を備えているが、この実施例
では1つのウエハ保持体に1つのウエハ保持部が備えら
れている。そして、第1及び第2のウエハ保持体33、
34は、前後に重ねられて配置されている。このとき、
複数の第1のウエハ保持部31及び第2のウエハ保持部
32は、所定のピッチで交互に配列されている(図9参
照)。各ウエハ保持部31、32にはそれぞれ1つのシ
リコンなどのウエハ1が収納されるように構成されてい
る(図8参照)。箱型形状容器4は、側面(図7の正
面)に開口部が形成されており、ここからウエハ1が出
し入れされるようになっている。そして、この開口部を
収納容器蓋で塞いで箱型形状容器4を密閉するようにな
っている。ウエハ収納容器は、所定の工程を実施する所
定の位置に搬送され、載置台(図示しない)の所定の位
置に配置される。また、第1及び第2の保持体33、3
4は、保持体接続部36により接続されている。したが
って、これら保持体は、箱型形状容器4の内部におい
て、一方が上昇すれば他方が下降するという関係を維持
している。
In the first and second embodiments, one wafer holder is provided with two wafer holders, but in this embodiment, one wafer holder is provided with one wafer holder. Then, the first and second wafer holders 33,
The elements 34 are arranged so as to be overlapped with each other. At this time,
The plurality of first wafer holders 31 and second wafer holders 32 are arranged alternately at a predetermined pitch (see FIG. 9). Each of the wafer holders 31 and 32 is configured to accommodate one wafer 1 such as silicon (see FIG. 8). The box-shaped container 4 has an opening formed on the side surface (the front surface of FIG. 7) from which the wafer 1 can be taken in and out. Then, the opening is closed with a container lid to hermetically close the box-shaped container 4. The wafer storage container is transported to a predetermined position where a predetermined process is performed, and is placed at a predetermined position on a mounting table (not shown). In addition, the first and second holding bodies 33, 3
4 are connected by a holder connecting portion 36. Therefore, these holders maintain the relationship that when one of the holders rises, the other falls inside the box-shaped container 4.

【0023】しかし、本発明は、この両保持体が必ずし
も連動する必要はなく、両者が別体でそれぞれ移動する
様に構成されていても良い。載置台には位置決めピン
(図示しない)が取り付けられている。また、収納容器
本体35の下部、すなわち、箱型形状容器4の底部には
位置決め部6が形成された底板16が取り付けられてい
る。この実施例では位置決め部6は、底板16に形成さ
れた溝から構成されている。位置決め部6を構成する溝
に位置決めピンを挿入することによりウエハ収納容器を
載置台に位置決めする。そして、ウエハ収納容器が所定
の位置に配置されると、収納されているウエハ1がロボ
ットアームなどにより取り出されて次々とその場所の処
理装置内で処理される。その際ウエハ収納容器は、載置
台に搭載されているので、工程処理中は常に一定の高さ
を維持している。この位置決め部6には、位置決め部の
深さを調整する位置決め深さ調整部12が取り付けられ
ている。なお位置決め部6を構成する底板16に形成さ
れた溝は、その形状は問わず、丸、四角、楕円などで良
く、位置が決定できれば良い。
However, according to the present invention, the two holding bodies do not necessarily need to be interlocked with each other, and the two holding bodies may be configured to move separately. Positioning pins (not shown) are attached to the mounting table. A bottom plate 16 having a positioning portion 6 is attached to the lower portion of the storage container body 35, that is, the bottom of the box-shaped container 4. In this embodiment, the positioning portion 6 is composed of a groove formed in the bottom plate 16. The wafer storage container is positioned on the mounting table by inserting the positioning pin into the groove forming the positioning portion 6. Then, when the wafer storage container is placed at a predetermined position, the stored wafers 1 are taken out by the robot arm or the like and processed one after another in the processing device at that location. At this time, since the wafer storage container is mounted on the mounting table, the wafer storage container always maintains a constant height during process processing. A positioning depth adjusting unit 12 for adjusting the depth of the positioning unit is attached to the positioning unit 6. The groove formed on the bottom plate 16 that constitutes the positioning portion 6 may have any shape, such as a circle, a square, or an ellipse, as long as the position can be determined.

【0024】次に、図9及びその他の図を参照して、半
導体デバイスの製造中におけるウエハ収納容器の使用方
法を説明する。第1のウエハ保持部31を用いてウエハ
1を収納する場合、第1のウエハ保持体33を上昇させ
る。このとき、第2の保持体34は、これに連動して下
降する。そして、ウエハ収納容器を載置台にセットし、
ウエハ収納容器の収納容器蓋を開いて、開口部を露出さ
せ、開口部からウエハ1を第1のウエハ保持部31に収
納する。ウエハ1を収納したら収納容器蓋を収納容器本
体35に取り付けてウエハ収納容器を密閉する。ウエハ
1を取り出すときは逆の動作で行う。また、第2のウエ
ハ保持部32を用いてウエハ1を収納する場合、第2の
ウエハ保持体34を上昇させる。このとき、第1の保持
体33は、これに連動して下降する。そして、ウエハ収
納容器を載置台にセットし、ウエハ収納容器の収納容器
蓋を開いて、開口部を露出させ、開口部からウエハ1を
第2のウエハ保持部32に収納する。ウエハ1を収納し
たら収納容器蓋を収納容器本体35に取り付けてウエハ
収納容器を密閉する。ウエハ1を取り出すときは逆の動
作で行う。
Next, with reference to FIG. 9 and other drawings, a method of using the wafer container during the manufacture of the semiconductor device will be described. When the wafer 1 is stored using the first wafer holder 31, the first wafer holder 33 is raised. At this time, the second holding body 34 descends in conjunction with this. Then, set the wafer storage container on the mounting table,
The container lid of the wafer container is opened to expose the opening, and the wafer 1 is housed in the first wafer holder 31 through the opening. After the wafer 1 is stored, the storage container lid is attached to the storage container main body 35 to seal the wafer storage container. When taking out the wafer 1, the reverse operation is performed. Further, when the wafer 1 is stored using the second wafer holder 32, the second wafer holder 34 is raised. At this time, the 1st holding | maintenance body 33 descend | falls in conjunction with this. Then, the wafer storage container is set on the mounting table, the storage container lid of the wafer storage container is opened, the opening is exposed, and the wafer 1 is stored in the second wafer holder 32 through the opening. After the wafer 1 is stored, the storage container lid is attached to the storage container main body 35 to seal the wafer storage container. When taking out the wafer 1, the reverse operation is performed.

【0025】このウエハ収納容器を用いることにより、
第1のウエハ保持部と第2のウエハ保持部とを区別して
ウエハ収納することができるので、これまで工程により
交換していた2つの収納容器を1つの収納容器で対応す
ることが可能となる。したがって、ウエハ収納容器の交
換が低減され、必要収納容器数を低減でき、ウエハ収納
容器の必要コスト削減が可能になる。また、ウエハ収納
容器の保管スペースが低減することもでき、半導体デバ
イスの製造工程におけるスペースを有効活用することが
可能になる。
By using this wafer container,
Since the first wafer holding unit and the second wafer holding unit can be separately stored in the wafers, it is possible to deal with the two storage containers that have been replaced by the process up to now with one storage container. . Therefore, replacement of the wafer storage container is reduced, the number of required storage containers can be reduced, and the required cost of the wafer storage container can be reduced. Further, the storage space of the wafer storage container can be reduced, and the space in the manufacturing process of the semiconductor device can be effectively used.

【0026】以上の様に、第1のウエハ保持部31を用
いウエハ1を収納する場合は、ウエハ保持体33を収納
容器底面方向から押す。これにより「第1のウエハ保持
部31→第2のウエハ保持部32→第1のウエハ保持部
31→32→31→・・・」の順序にウエハ保持部が並
んでおり、上部の第1のウエハ保持部31にウエハ1を
収納する。逆に第2のウエハ保持部32を用いウエハ1
を収納する場合は、第2のウエハ保持体34を収納容器
底面方向から押す。これにより「第2のウエハ保持部3
2→第1のウエハ保持部31→第2のウエハ保持部32
→31→32→・・・」の順序にウエハ保持部が並んで
おり、上部の第2のウエハ保持部32にウエハ1を収納
する。ウエハ保持体が連動することによるウエハ保持面
の高さ方向の変動はなく、収納容器の載置高さも変化し
ないため、蓋の開閉及びウエハ移載機は同じ位置で実施
することが可能である。また、この実施例ではウエハ保
持体の切替は、収納容器底面方向から切り替える例を示
したが、本発明では、収納容器の側面方向、上面方向な
どいずれの方向から行ってもよい。またウエハ保持体の
切り替えは手動もしくは載置台または蓋開閉機などから
行う。
As described above, when the wafer 1 is stored using the first wafer holder 31, the wafer holder 33 is pushed from the bottom of the container. As a result, the wafer holding units are arranged in the order of “first wafer holding unit 31 → second wafer holding unit 32 → first wafer holding unit 31 → 32 → 31 → ... The wafer 1 is stored in the wafer holder 31. Conversely, using the second wafer holder 32, the wafer 1
In order to store the wafer, the second wafer holder 34 is pushed from the bottom of the housing container. As a result, the “second wafer holder 3
2 → first wafer holder 31 → second wafer holder 32
The wafer holders are arranged in the order of → 31 → 32 → ..., and the wafer 1 is stored in the second wafer holder 32 at the upper portion. Since there is no change in the height direction of the wafer holding surface due to the interlocking of the wafer holder and the mounting height of the storage container does not change, the lid opening / closing and the wafer transfer machine can be performed at the same position. . Further, in this embodiment, the wafer holders are switched from the bottom direction of the storage container, but in the present invention, they may be switched from any direction such as the side direction or the top direction of the storage container. Further, the wafer holder is switched manually or by using a mounting table or a lid opening / closing machine.

【0027】以上、実施例を用いて本発明を説明した
が、本発明は、この実施例に限らず、様々な態様が含ま
れる。例えば、箱型形状容器の開口部の対向する反対の
面にファンを取り付けて搬送中のウエハの反応を抑える
構造のウエハ収納容器を用いる場合があるが、本発明
は、このような構造にも適用することができる。また、
第1乃至第3の実施例では保持部を2つに分けて、1つ
のウエハ収納容器を2個分に用いているが、本発明で
は、箱型形状容器に余裕があるなら、第1、第2及び第
3のウエハ保持部を用いて、1つのウエハ収納容器を3
個分に用いることができる。さらにそれ以上の個数に用
いることができる。次に、図10を参照して以上の実施
例で説明したウエハ収納容器を用いて実施される半導体
デバイスの製造方法を説明する。この製造方法では、例
えば、シリコンなどのウエハにアルミニウムなどの導電
膜を形成し、これをパターニングするまでの工程を説明
する。
Although the present invention has been described with reference to the embodiment, the present invention is not limited to this embodiment and includes various modes. For example, there is a case where a wafer storage container having a structure in which a fan is attached to the opposite surfaces of the opening of the box-shaped container to suppress the reaction of wafers being transferred is used. Can be applied. Also,
In the first to third embodiments, the holding portion is divided into two and one wafer storage container is used for two, but in the present invention, if the box-shaped container has room, the first, Using the second and third wafer holders, one wafer storage container
It can be used for individual pieces. Further, it can be used for a larger number. Next, with reference to FIG. 10, a method of manufacturing a semiconductor device, which is carried out using the wafer container described in the above embodiment, will be described. In this manufacturing method, a process of forming a conductive film of aluminum or the like on a wafer of silicon or the like and patterning the conductive film will be described.

【0028】複数の半導体ウエハに第1の処理(工程
A)を行う。工程Aは、例えば、ウエハに導電膜を堆積
させる工程である。次に、前記第1の処理が行われた各
半導体ウエハを前記実施例で説明したウエハ収納容器の
前記第1のウエハ保持部に保持させ、その後次の処理を
行う場所に搬送する。前記第1の処理が行われた各半導
体ウエハを前記ウエハ収納容器から取り出し、それらの
上にフォトレジストを塗布し、これをパターニングする
第2の処理(工程B)を行う。次に、前記第2の処理が
行われた各半導体ウエハを前記ウエハ収納容器の前記第
2のウエハ保持部に保持させ、その後次の処理を行う場
所に搬送する。前記第2の処理が行われた各半導体ウエ
ハを前記ウエハ収納容器から取り出し、第3の処理(工
程C)を行う。この工程は、例えば、導電膜を配線など
の所定のパターンにパターニングする工程である。
A first process (process A) is performed on a plurality of semiconductor wafers. Step A is, for example, a step of depositing a conductive film on a wafer. Next, each semiconductor wafer that has been subjected to the first processing is held by the first wafer holding portion of the wafer storage container described in the above embodiment, and then transported to a place where the next processing is performed. The respective semiconductor wafers subjected to the first treatment are taken out from the wafer storage container, a photoresist is applied onto them, and a second treatment (step B) is performed to pattern the photoresist. Next, each semiconductor wafer that has been subjected to the second processing is held by the second wafer holding portion of the wafer storage container, and then transported to a place where the next processing is performed. Each semiconductor wafer that has been subjected to the second processing is taken out from the wafer storage container, and the third processing (step C) is performed. This step is, for example, a step of patterning the conductive film into a predetermined pattern such as wiring.

【0029】次に、前記第3の処理が行われた各半導体
ウエハを前記ウエハ収納容器の前記第2のウエハ保持部
に保持させ、その後に、次の処理を行う場所に搬送させ
る。前記第3の処理が行われた各半導体ウエハを前記ウ
エハ収納容器から取り出し、前記フォトレジストを除去
する第4の処理(工程D)を行う。次に、前記第4の処
理が行われた半導体ウエハを前記ウエハ収納容器の前記
第1のウエハ保持部に保持させ、その後に、次の処理
(工程E)を行う場所に搬送する。以上、説明したよう
に、本発明のウエハ収納容器は、フォトレジストの着脱
工程のみに用いるのではなく、例えば、綺麗なウエハの
収納と、汚染物の付着したウエハの収納の使い分けに使
用することができる。レジストは、汚染物の一例を示す
に過ぎない。以上、本発明は、実施例に示されたものに
限るものではなく、本発明の技術思想の範囲内において
いかなる例を含むことができる。
Next, each semiconductor wafer that has been subjected to the third processing is held in the second wafer holding portion of the wafer storage container, and then transferred to a place where the next processing is performed. The respective semiconductor wafers subjected to the third treatment are taken out from the wafer storage container, and a fourth treatment (step D) for removing the photoresist is performed. Next, the semiconductor wafer that has been subjected to the fourth treatment is held by the first wafer holding portion of the wafer storage container, and then transported to a place where the next treatment (step E) is performed. As described above, the wafer storage container of the present invention is not used only for the photoresist attaching / detaching process, but may be used, for example, for storing a clean wafer and storing a wafer with contaminants. You can Resist is just one example of a contaminant. As described above, the present invention is not limited to those shown in the embodiments, but may include any examples within the scope of the technical idea of the present invention.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、ウエハ
を従来と比較して2倍収納することが可能となる。ま
た、本発明によれば、位置決め部の深さを正確に調整す
ることが可能となる。さらに、位置決め部の深さを二段
階に切り替えることによりウエハ収納時に第1のウエハ
保持部と第2のウエハ保持部のどちらかを使用するかを
選択することが容易になり、使用工程で収納容器の使い
分けが可能となる。以上により、ウエハ収納容器の交換
が低減され、必要収納容器数を低減でき、収納容器の必
要コスト削減が可能になる。また、収納容器保管スペー
スが低減することもでき、製造工場内のスペースを有効
活用できる。
As described above, according to the present invention, it is possible to store a wafer twice as large as the conventional one. Further, according to the present invention, it is possible to accurately adjust the depth of the positioning portion. Further, by switching the depth of the positioning portion in two steps, it becomes easy to select which of the first wafer holding portion and the second wafer holding portion to use when the wafer is stored, and the wafer can be stored in the use process. It is possible to use different containers. As described above, replacement of the wafer storage container is reduced, the number of required storage containers can be reduced, and the required cost of the storage container can be reduced. In addition, the storage space of the storage container can be reduced, and the space in the manufacturing plant can be effectively utilized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例の半導体デバイスの製造
工程で使用されるウエハ収納容器の収納容器本体の側面
図、ウエハ保持体の斜視図及び収納容器本体を密閉する
収納容器蓋の平面図。
FIG. 1 is a side view of a storage container body of a wafer storage container used in a semiconductor device manufacturing process according to a first embodiment of the present invention, a perspective view of a wafer holder, and a storage container lid for sealing the storage container body. Plan view.

【図2】本発明の第1の実施例の位置決め部が形成され
た底板の断面図及びウエハ保持体を覆う箱型形状容器の
断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a bottom plate having a positioning portion according to the first embodiment of the present invention and a cross-sectional view of a box-shaped container that covers a wafer holder.

【図3】本発明の第1の実施例の位置決め部が形成され
た底板の平面図。
FIG. 3 is a plan view of a bottom plate having a positioning portion according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施例の載置台に搭載された収
納容器本体の側面図。
FIG. 4 is a side view of the storage container body mounted on the mounting table according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施例の半導体デバイスの製造
工程で使用されるウエハ収納容器の収納容器本体及び収
納容器蓋の断面図及び底部平面図。
5A and 5B are a sectional view and a bottom plan view of a storage container main body and a storage container lid of a wafer storage container used in a semiconductor device manufacturing process according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2の実施例の半導体デバイスの製造
工程で使用されるウエハ収納容器の収納容器本体及び収
納容器蓋の断面図及び底部平面図。
6A and 6B are a sectional view and a bottom plan view of a storage container main body and a storage container lid of a wafer storage container used in a semiconductor device manufacturing process according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第3の実施例の半導体デバイスの製造
工程で使用されるウエハ収納容器の収納容器本体断面
図。
FIG. 7 is a sectional view of a container body of a wafer container used in a semiconductor device manufacturing process according to a third embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第3の実施例のウエハの搭載位置を示
したウエハ保持体の平面図。
FIG. 8 is a plan view of a wafer holder showing a wafer mounting position according to a third embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第3の実施例のウエハ保持体の斜視図
及び側面図。
FIG. 9 is a perspective view and a side view of a wafer holder according to a third embodiment of the present invention.

【図10】本発明の半導体デバイスの製造方法を説明す
る工程フロー図。
FIG. 10 is a process flow chart illustrating a method for manufacturing a semiconductor device of the present invention.

【図11】従来の載置台に搭載された収納容器本体の側
面図、ウエハ収納容器の収納容器蓋の平面図、ウエハ保
持体の斜視図。
FIG. 11 is a side view of a storage container body mounted on a conventional mounting table, a plan view of a storage container lid of a wafer storage container, and a perspective view of a wafer holder.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、101・・・ウエハ、 2、31・・・第1のウ
エハ保持部、3・・・ウエハ保持体、 4、29、1
04・・・箱型形状容器、5、35、105・・・収納
容器本体、 6、106・・・位置決め部、7、10
7・・・収納容器蓋、 8、108・・・位置決めピ
ン、9、109・・・載置台、 10、32・・・第
2のウエハ保持部、12・・・位置決め深さ調整部、
16、21、116・・・底板、17・・・貫通孔、
18、110・・・開口部、22・・・第1の位置
決め部、 23・・・第2の位置決め部、24・・・
第1の開口部、 26・・・第1の収納容器蓋、27
・・・第2の収納容器蓋、 28・・・第2の開口
部、33・・・第1のウエハ保持体、 34・・・第
2のウエハ保持体、36・・・ウエハ保持体接続部、
102・・・ウエハ保持部、103・・・ウエハ保持
体。
1, 101 ... Wafer, 2, 31 ... First wafer holder, 3 ... Wafer holder, 4, 29, 1
04 ... Box-shaped container, 5, 35, 105 ... Storage container main body, 6, 106 ... Positioning part, 7, 10
7 ... Storage container lid, 8, 108 ... Positioning pin, 9, 109 ... Mounting table, 10, 32 ... Second wafer holding part, 12 ... Positioning depth adjusting part,
16, 21, 116 ... Bottom plate, 17 ... Through hole,
18, 110 ... Opening part, 22 ... First positioning part, 23 ... Second positioning part, 24 ...
1st opening part, 26 ... 1st storage container lid, 27
... second storage container lid, 28 ... second opening, 33 ... first wafer holder, 34 ... second wafer holder, 36 ... wafer holder connection Department,
102 ... Wafer holder, 103 ... Wafer holder.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3E096 AA06 BA16 BB05 CA02 CA08 CB03 DA05 DA30 DB01 FA15 GA04 GA05 5F031 CA02 DA08 EA11 EA14 EA19 EA20 KA20 LA15 NA02 NA10 5F046 AA21    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 3E096 AA06 BA16 BB05 CA02 CA08                       CB03 DA05 DA30 DB01 FA15                       GA04 GA05                 5F031 CA02 DA08 EA11 EA14 EA19                       EA20 KA20 LA15 NA02 NA10                 5F046 AA21

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体ウエハを保持する複数の第1のウ
エハ保持部及び半導体ウエハを保持する複数の第2のウ
エハ保持部を備えたウエハ保持体、前記ウエハ保持体の
全体を覆う箱型形状容器及び収納容器の載置位置を決定
する位置決め部から構成され、且つ前記半導体ウエハを
出し入れする開口部を有する収納容器本体と、 前記収納容器本体の開口部に装着することにより密閉空
間を形成する収納容器蓋とを具備し、 前記第1のウエハ保持部の配列ピッチ間に前記第2のウ
エハ保持部を介在させることを特徴とするウエハ収納容
器。
1. A wafer holder having a plurality of first wafer holders for holding a semiconductor wafer and a plurality of second wafer holders for holding a semiconductor wafer, and a box-like shape covering the entire wafer holder. A storage container body including a container and a positioning portion that determines a mounting position of the storage container, and a storage container body having an opening portion for loading and unloading the semiconductor wafer; and a sealed space is formed by mounting the storage container body in the opening portion of the storage container body. A wafer container comprising: a container lid, wherein the second wafer holder is interposed between the arrangement pitches of the first wafer holders.
【請求項2】 前記位置決め部は、2段階の深さに調整
する位置決め深さ調整部を有し、この位置決め深さ調整
部により位置決め部の深さが前記第1のウエハ保持部と
前記第2のウエハ保持部との間隔だけ増減するように構
成されていることを特徴とする請求項1に記載のウエハ
収納容器。
2. The positioning unit has a positioning depth adjusting unit for adjusting the depth to two levels, and the positioning depth adjusting unit adjusts the depth of the positioning unit to the first wafer holding unit and the first wafer holding unit. The wafer storage container according to claim 1, wherein the wafer storage container is configured to be increased or decreased by a distance between the two wafer holding portions.
【請求項3】 半導体ウエハを保持する複数の第1のウ
エハ保持部及び半導体ウエハを保持し、この第1のウエ
ハ保持部の配列ピッチ間に各々介在された複数の第2の
ウエハ保持部を備えたウエハ保持体、前記ウエハ保持体
の全体を覆う箱型形状容器及び収納容器の載置位置を決
定する位置決め部から構成され、且つ前記半導体ウエハ
を出し入れする開口部を有する収納容器本体と、 前記収納容器本体の開口部に装着することにより密閉空
間を形成する収納容器蓋とを具備し、 前記収納容器本体は、位置決めピンを備えた載置台に載
置され、前記位置決め部は、前記箱型形状容器の底部に
取り付けられ、且つ位置決め孔を有する底板と、この底
板内部を水平方向に移動しこの位置決め孔と断面形状が
同じかそれより大きい貫通孔を有する仕切り板とから構
成され、前記第1のウエハ保持部にウエハを収納する場
合、前記収納容器本体は、前記仕切り板の前記貫通孔を
前記位置決め孔に合わせ、前記位置決めピンが前記位置
決め孔に深く挿入されるように前記載置台に位置決めさ
れ、前記第2のウエハ保持部にウエハを収納する場合、
前記収納容器本体は、前記仕切り板の前記貫通孔を前記
位置決め孔から外すように移動させて、前記位置決めピ
ンが前記位置決め孔に前記仕切り板まで浅く挿入される
ように前記載置台に位置決めされることを特徴とするウ
エハ収納容器。
3. A plurality of first wafer holders for holding a semiconductor wafer and a plurality of second wafer holders for holding a semiconductor wafer and interposed between arrangement pitches of the first wafer holders. A wafer holder provided, a box-shaped container that covers the entire wafer holder, and a storage container body that includes a positioning portion that determines the mounting position of the storage container, and that has an opening for loading and unloading the semiconductor wafer; A storage container lid that forms a closed space by mounting the storage container body in an opening of the storage container body, the storage container body is mounted on a mounting table having positioning pins, and the positioning portion is the box. A bottom plate attached to the bottom of the mold-shaped container and having a positioning hole, and a partition having a through hole that moves horizontally inside the bottom plate and has a cross-sectional shape that is the same as or larger than the positioning hole. When a wafer is stored in the first wafer holding part, the storage container body aligns the through hole of the partition plate with the positioning hole, and the positioning pin is deeply inserted into the positioning hole. As described above, when the wafer is positioned on the mounting table and the wafer is stored in the second wafer holder,
The storage container main body is positioned on the mounting table so that the through hole of the partition plate is moved so as to be removed from the positioning hole, and the positioning pin is shallowly inserted into the positioning hole to the partition plate. A wafer storage container characterized by the above.
【請求項4】 半導体ウエハを保持する複数の第1のウ
エハ保持部及び半導体ウエハを保持する複数の第2のウ
エハ保持部を備えたウエハ保持体、前記ウエハ保持体の
全体を覆う箱型形状容器及び収納容器の載置位置を決定
する位置決め部から構成され、且つ前記半導体ウエハを
出し入れする開口部を有する収納容器本体と、 前記収納容器本体の開口部に装着することにより密閉空
間を形成する収納容器蓋とを具備し、 前記開口部は、第1の開口部と第2の開口部とからな
り、前記収納容器蓋は、前記第1の開口部に装着される
第1の収納容器蓋と前記第2の開口部に装着される第2
の収納容器蓋とからなり、前記位置決め部は前記第1の
開口部から半導体ウエハを出し入れする場合に使用する
第1の位置決め部と前記第2の開口部から半導体ウエハ
を出し入れする場合に使用する第2の位置決め部からな
り、前記第1の位置決め部の位置決め深さと前記第2の
位置決め部の位置決め深さは、前記第1のウエハ保持部
と第2のウエハ保持部との配列間隔だけ異なっているこ
とを特徴とするウエハ収納容器。
4. A wafer holder provided with a plurality of first wafer holders for holding semiconductor wafers and a plurality of second wafer holders for holding semiconductor wafers, and a box shape covering the entire wafer holders. A storage container body including a container and a positioning portion that determines a mounting position of the storage container, and a storage container body having an opening portion for loading and unloading the semiconductor wafer; and a sealed space is formed by mounting the storage container body in the opening portion of the storage container body. A storage container lid, wherein the opening comprises a first opening and a second opening, and the storage container lid is a first storage container lid attached to the first opening. And a second attached to the second opening
And a positioning container which is used when the semiconductor wafer is taken in and out from the first opening and a semiconductor wafer is taken in and out through the second opening. The second positioning unit includes a second positioning unit, and the positioning depth of the first positioning unit and the positioning depth of the second positioning unit are different from each other by an arrangement interval between the first wafer holding unit and the second wafer holding unit. A wafer storage container characterized in that.
【請求項5】 半導体ウエハを保持する複数の第1のウ
エハ保持部を有する第1のウエハ保持体、半導体ウエハ
を保持する複数の第2のウエハ保持部を有する第2のウ
エハ保持体、前記第1及び第2のウエハ保持体の全体を
覆う箱型形状容器、前記第1のウエハ保持体を上下に駆
動する第1の駆動手段及び前記第2のウエハ保持体を上
下に駆動する第2の駆動手段から構成され、前記半導体
ウエハを出し入れする少なくとも1つの開口部を有する
収納容器本体と、 前記収納容器本体の開口部に装着することにより密閉空
間を形成する収納容器蓋とを具備し、 前記第1のウエハ保持部の配列ピッチ間に前記第2のウ
エハ保持部が介在するように構成されていることを特徴
とするウエハ収納容器。
5. A first wafer holder having a plurality of first wafer holders for holding semiconductor wafers, a second wafer holder having a plurality of second wafer holders for holding semiconductor wafers, A box-shaped container that entirely covers the first and second wafer holders, a first drive unit that drives the first wafer holder up and down, and a second drive unit that vertically drives the second wafer holder. And a storage container main body having at least one opening for loading and unloading the semiconductor wafer, and a storage container lid forming a closed space by mounting the storage container main body in the opening of the storage container main body. A wafer storage container, characterized in that the second wafer holders are arranged between the array pitches of the first wafer holders.
【請求項6】 前記第1のウエハ保持体及び前記第2の
ウエハ保持体は、互いに干渉することなく前記箱型形状
容器を駆動することを特徴とする請求項4に記載のウエ
ハ収納容器。
6. The wafer container according to claim 4, wherein the first wafer holder and the second wafer holder drive the box-shaped container without interfering with each other.
【請求項7】 前記第1の駆動手段及び前記第2の駆動
手段は、板状体のウエハ保持体接続部により接続され、
前記第1のウエハ保持体及び前記第2のウエハ保持体
は、いずれも板状体であり、これら板状体は前記ウエハ
保持体接続部を挟むようにして接続され、前記ウエハ保
持体接続部の一端が一方向に移動すると、前記第1のウ
エハ保持体は同じ方向に駆動され、且つ前記第2のウエ
ハ保持体は反対方向に駆動され、前記ウエハ保持体接続
部の他端が一方向に移動すると、前記第1のウエハ保持
体は同じ方向に駆動され、且つ前記第2のウエハ保持体
は反対方向に駆動されることを特徴とする請求項5又は
請求項6に記載のウエハ収納容器。
7. The first drive means and the second drive means are connected by a wafer holder connection portion of a plate-like body,
Each of the first wafer holder and the second wafer holder is a plate-like body, and these plate-like bodies are connected so as to sandwich the wafer holder connecting portion, and one end of the wafer holder connecting portion is connected. Move in one direction, the first wafer holder is driven in the same direction and the second wafer holder is driven in the opposite direction, and the other end of the wafer holder connecting portion moves in one direction. 7. The wafer container according to claim 5, wherein the first wafer holder is driven in the same direction, and the second wafer holder is driven in the opposite direction.
【請求項8】 複数の半導体ウエハに第1の処理を行う
ステップと、 前記第1の処理が行われた各半導体ウエハを請求項1乃
至請求項7のいずれかに記載されたウエハ収納容器の前
記第1のウエハ保持部に保持させ、その後次の処理を行
う場所に搬送するステップと、 前記第1の処理が行われた各半導体ウエハを前記ウエハ
収納容器から取り出し、それらの上にフォトレジストを
塗布し、これをパターニングする第2の処理を行うステ
ップと、 前記第2の処理が行われた各半導体ウエハを前記ウエハ
収納容器の前記第2のウエハ保持部に保持させ、その後
次の処理を行う場所に搬送するステップと、 前記第2の処理が行われた各半導体ウエハを前記ウエハ
収納容器から取り出し、第3の処理を行うステップと、 前記第3の処理が行われた各半導体ウエハを前記ウエハ
収納容器の前記第2のウエハ保持部に保持させ、その後
に、次の処理を行う場所に搬送させるステップと、 前記第3の処理が行われた各半導体ウエハを前記ウエハ
収納容器から取り出し、前記フォトレジストを除去する
第4の処理を行うステップと、 前記第4の処理が行われた半導体ウエハを前記ウエハ収
納容器の前記第1のウエハ保持部に保持させ、その後
に、次の処理を行う場所に搬送するステップとを具備し
たことを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
8. The step of performing a first process on a plurality of semiconductor wafers, and each of the semiconductor wafers subjected to the first process of the wafer storage container according to claim 1. A step of holding the wafer by the first wafer holding part and then carrying it to a place where the next processing is performed; and taking out each semiconductor wafer having undergone the first processing from the wafer storage container and applying a photoresist on them. And applying a second process for patterning the semiconductor wafer, holding each of the semiconductor wafers subjected to the second process in the second wafer holding part of the wafer storage container, and then performing the next process. The step of transporting the semiconductor wafer having been subjected to the second processing from the wafer storage container to perform the third processing, and the step of performing the third processing. A step of holding the conductor wafer in the second wafer holding part of the wafer storage container and then carrying it to a place where the next process is performed; and each semiconductor wafer having been subjected to the third process is stored in the wafer storage part. Performing a fourth process of removing the photoresist from the container and removing the photoresist; holding the semiconductor wafer having been subjected to the fourth process in the first wafer holding part of the wafer storage container, and thereafter, And a step of transporting the semiconductor device to a place where the next processing is performed.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010135387A (en) * 2008-12-02 2010-06-17 Miraial Kk Wafer storage container

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