JP2003322841A - Method for manufacturing liquid crystal device - Google Patents
Method for manufacturing liquid crystal deviceInfo
- Publication number
- JP2003322841A JP2003322841A JP2002128774A JP2002128774A JP2003322841A JP 2003322841 A JP2003322841 A JP 2003322841A JP 2002128774 A JP2002128774 A JP 2002128774A JP 2002128774 A JP2002128774 A JP 2002128774A JP 2003322841 A JP2003322841 A JP 2003322841A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- substrate
- substrates
- manufacturing
- assembled
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置の製造方
法に係り、特に、薄型の基板を備えた液晶装置を、低コ
ストで歩留まり良く製造する技術に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal device, and more particularly to a technique for manufacturing a liquid crystal device having a thin substrate at a low cost and a high yield.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、液晶装置の高画質化、軽量化のた
めに、液晶装置を構成する基板を薄型化することが成さ
れている。このような基板の薄型化を実現するために
は、液晶装置の製造を薄型の基板を用いて行う方法と、
比較的に厚い基板を用いて液晶装置の組み立てを行い、
組み立て後に基板を薄板化する方法とが挙げられる。と
ころで、従来から液晶装置の製造には、複数の液晶装置
を一括して製造するために、複数の基板形成領域を有す
る大型のガラス組基板を用い、各々の基板形成領域に液
晶装置の部材を形成する製造方法が採用されている。こ
のようなガラス組基板を用いた製造方法において、薄型
の基板を用いた製造を行う場合には、基板が割れ易いた
めに工程中での取り扱いが困難になり、特に基板同士を
貼り合わせる工程での割れが発生し易くなり、安定的な
製造は望めない。従って、ガラス組基板を用いた液晶装
置の製造においては、比較的厚い(1mm以上)の厚さ
のガラス組基板を用いて液晶装置の組み立てを行い、そ
の後にガラス組基板の薄板化を行うことになる。2. Description of the Related Art In recent years, in order to improve the image quality of a liquid crystal device and reduce its weight, it has been attempted to reduce the thickness of a substrate constituting the liquid crystal device. In order to realize such a thin substrate, a method of manufacturing a liquid crystal device using a thin substrate, and
Assemble the liquid crystal device using a relatively thick substrate,
And a method of thinning the substrate after assembling. By the way, conventionally, in manufacturing a liquid crystal device, in order to collectively manufacture a plurality of liquid crystal devices, a large glass assembly substrate having a plurality of substrate formation regions is used, and a member of the liquid crystal device is provided in each substrate formation region. The manufacturing method of forming is adopted. In a manufacturing method using such a glass-assembled substrate, when manufacturing using a thin substrate, it is difficult to handle during the process because the substrate is easily cracked, especially in the process of bonding the substrates to each other. Since cracks are likely to occur, stable production cannot be expected. Therefore, in manufacturing a liquid crystal device using a glass assembled substrate, the liquid crystal device is assembled using a glass assembled substrate having a relatively large thickness (1 mm or more), and then the glass assembled substrate is thinned. become.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、液晶装
置の組み立て後に基板の薄型化を行う製造方法を採用し
たとしても、一体に製造された複数の液晶装置を単体の
液晶装置に分離した後、基板の薄型化を行う方法では、
複数の液晶装置間で基板厚さを均一化するのが困難であ
るのに加え、単体の液晶装置に対してそれぞれ薄型化の
処理を行うために工数が著しく増加し、製造コストの点
で問題がある。また、単体の液晶装置に分割する前にガ
ラス組基板の薄型化を行うと、製造は容易になるもの
の、単体に分離された液晶装置へ液晶を注入する工程
や、注入された液晶を封止する工程において薄板化され
た基板が割れてしまうおそれがあり、製造が困難である
ことに変わりはない。However, even if the manufacturing method is adopted in which the substrate is thinned after the liquid crystal device is assembled, after the plurality of liquid crystal devices manufactured integrally are separated into a single liquid crystal device, the substrate is separated. In the method of thinning,
It is difficult to make the substrate thickness uniform among multiple liquid crystal devices, and the number of man-hours increases significantly for each liquid crystal device to be thinned, resulting in a problem in terms of manufacturing cost. There is. Also, if the glass-assembled substrate is thinned before dividing it into a single liquid crystal device, manufacturing will be easier, but the process of injecting liquid crystal into a single liquid crystal device and sealing the injected liquid crystal The thinned substrate may be cracked in the step of performing, and manufacturing is still difficult.
【0004】本発明は、上記事情に鑑みて成されたもの
であって、薄型の液晶装置を、容易かつ安定に、歩留ま
り良く製造する方法を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a thin liquid crystal device easily and stably with a high yield.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、対向して配置された一対の基板間に液晶
が挟持された液晶装置の製造方法であって、前記一対の
基板が各々形成される基板形成領域を複数含む一対の組
基板を用い、前記一対の組基板のうち、一方の組基板上
の複数の基板形成領域にシール材を設ける工程と、前記
一対の組基板のうち、いずれかの組基板の複数の基板形
成領域に液晶を配置する工程と、前記一対の組基板同士
を減圧下で接合する工程と、接合後の一対の組基板のい
ずれか又は両方を薄板化する工程と、を含むことを特徴
とする液晶装置の製造方法を提供する。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention is a method of manufacturing a liquid crystal device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates which are arranged to face each other. Using a pair of assembled substrates each including a plurality of substrate forming regions, wherein a sealing material is provided in a plurality of substrate forming regions on one of the assembled substrates, and the pair of assembled substrates. Among them, a step of disposing liquid crystals in a plurality of substrate formation regions of any of the assembled substrates, a step of joining the pair of assembled substrates under reduced pressure, and either or both of the pair of assembled substrates after joining. A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising: a step of thinning a plate.
【0006】上記の製造方法は、組基板の基板形成領域
にそれぞれ形成されたシール材に囲まれる領域に液晶を
滴下し、一対の組基板を接合することで、シール材の内
側に液晶を封止するようになっている。従って、上記シ
ール材は、液晶を注入するための注入口を備えない閉じ
た環状(典型的には額縁状)に形成される。そして、上
記構成の製造方法によれば、組基板の薄板化工程より前
に、基板形成領域内への液晶の封止が行われるので、薄
板化された後の組基板は、単品の液晶装置への分割工程
に供されるのみである。従って、割れ易くプロセス耐久
性の低い薄型の基板を取り扱う工程が少なくなるので、
基板の割れや反りに起因する不良率を低くすることがで
き、歩留まり良く薄型の液晶装置を製造することができ
る。また、2枚の組基板を接合する工程で液晶がシール
材の内側に封止されるため、工程を合理化することがで
きる。更に、シールを環状に形成し、その内側の領域に
液晶を滴下するため、パネル周辺部への液晶の回り込み
がなくなり、付着液晶の洗浄工程を省略することがで
き、製造コストの低減を図ることができる。In the above manufacturing method, the liquid crystal is dropped inside the seal material by dropping the liquid crystal into a region surrounded by the sealing material formed in each of the substrate forming regions of the assembly substrate and joining the pair of assembled substrates. It is supposed to stop. Therefore, the sealing material is formed in a closed ring shape (typically a frame shape) without an injection port for injecting liquid crystal. Further, according to the manufacturing method of the above configuration, since the liquid crystal is sealed in the substrate formation region before the step of thinning the assembled substrate, the assembled substrate after thinning is a single liquid crystal device. It is only subjected to the dividing step into. Therefore, the number of steps for handling thin substrates that are easily cracked and have low process durability is reduced.
It is possible to reduce the defect rate due to the cracking and warping of the substrate, and it is possible to manufacture a thin liquid crystal device with a high yield. Further, since the liquid crystal is sealed inside the sealing material in the process of joining the two assembled substrates, the process can be rationalized. Further, since the seal is formed in an annular shape and the liquid crystal is dropped in the area inside the seal, the liquid crystal does not wrap around the panel periphery, and the step of cleaning the attached liquid crystal can be omitted, and the manufacturing cost can be reduced. You can
【0007】また、本発明に係る液晶装置の製造方法と
しては、対向して配置された一対の基板間に液晶が挟持
された液晶装置の製造方法であって、前記一対の基板の
いずれか又は両方の基板上にシール材を設ける工程と、
前記一対の基板のうち、いずれかの基板上に液晶を配置
する工程と、前記一対の基板同士を減圧下で接合する工
程と、接合後の一対の基板のいずれか又は両方を薄板化
する工程と、を含むことを特徴とする製造方法も適用す
ることができる。Further, a method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is a method of manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates which are arranged to face each other. A step of providing a sealing material on both substrates,
A step of disposing a liquid crystal on any one of the pair of substrates, a step of joining the pair of substrates under reduced pressure, and a step of thinning one or both of the pair of substrates after the joining. The manufacturing method characterized by including and can also be applied.
【0008】上記の製造方法は、複数の基板形成領域を
含む組基板に代えて、単体の液晶装置の基板を用いて製
造を行う方法である。係る製造方法によっても、上記組
基板を用いた製造方法と同様の効果を得ることができ
る。The above manufacturing method is a method of manufacturing by using a substrate of a single liquid crystal device, instead of the assembled substrate including a plurality of substrate forming regions. With this manufacturing method as well, the same effects as those of the manufacturing method using the above-described assembled substrate can be obtained.
【0009】次に、本発明に係る液晶装置の製造方法に
おいては、前記接合後の組基板又は基板を薄板化する工
程において、前記組基板又は基板をエッチング処理によ
り薄板化することが好ましい。あるいは、本発明に係る
液晶装置の製造方法においては、前記接合後の組基板又
は基板を薄板化する工程において、前記組基板又は基板
を研磨処理により薄板化することが好ましい。Next, in the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, it is preferable that the assembled substrate or the substrate is thinned by etching in the step of thinning the assembled substrate or the substrate after the bonding. Alternatively, in the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, it is preferable that in the step of thinning the assembled substrate or substrate after the bonding, the assembled substrate or substrate is thinned by a polishing process.
【0010】上記いずれの方法によっても、本発明に係
る製造方法においては、基板の薄型化を容易かつ均一に
行うことができる。特に、複数の基板形成領域を有する
組基板を用いる場合に、均一に基板を薄くすることがで
きるので、好適である。By any of the above methods, the manufacturing method according to the present invention can easily and uniformly thin the substrate. In particular, when an assembled substrate having a plurality of substrate forming regions is used, the substrates can be thinned uniformly, which is preferable.
【0011】次に、本発明に係る液晶装置の製造方法に
おいては、前記組基板又は基板の周縁部にモールド材を
設ける工程を含むことが好ましい。Next, the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention preferably includes a step of providing a molding material on the assembled substrate or the peripheral portion of the substrate.
【0012】上記製造方法によれば、シール材の外周側
に設けられたモールド材により、薄板化工程において用
いられる研磨剤がシール材に付着するのを防止すること
ができ、この研磨剤を除去するための洗浄工程を省略す
ることができるので、工数を削減することによるコスト
低減効果が得られる。According to the above manufacturing method, the mold material provided on the outer peripheral side of the sealing material can prevent the abrasive used in the thinning step from adhering to the sealing material, and remove the abrasive. Since the cleaning step for doing so can be omitted, the cost reduction effect can be obtained by reducing the number of steps.
【0013】次に、本発明に係る液晶装置の製造方法に
おいては、前記シール材とモールド材を、同一の接着材
を用い、前記シール材を設ける工程において同時に形成
することが好ましい。Next, in the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, it is preferable that the sealing material and the molding material are formed at the same time in the step of providing the sealing material using the same adhesive material.
【0014】上記製造方法によれば、モールド材を設け
るための工程も省略することができるので、より製造工
程を簡素化することができる。According to the above manufacturing method, the step of providing the molding material can be omitted, so that the manufacturing step can be further simplified.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して詳細に説明する。図1は、本実施形態の製造
方法により製造される液晶装置の集合体の構成を説明す
るための説明図であり、図2は、本実施形態に係る製造
工程を示す工程図である。図1は、液晶装置を複数個
(図示では9個)作製することができる組基板1,2が
対向して配置され、両者が接合される前の状態を示して
いる。それぞれの組基板1,2は、それぞれ複数(図示
では9個)の基板形成領域12a,12bを有してお
り、各々の基板形成領域12の内面側(基板1,2の対
向面側)に設けられた素子形成領域14a,14bに液
晶装置を構成する各種素子や、配向膜などが形成されて
いる。そして、これらの組基板1,2が、互いの素子形
成領域14a、14bを対向させた状態で接合されるこ
とにより、液晶装置の集合体が得られるようになってい
る。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining a configuration of an assembly of liquid crystal devices manufactured by the manufacturing method of the present embodiment, and FIG. 2 is a process diagram showing a manufacturing process according to the present embodiment. FIG. 1 shows a state in which assembled substrates 1 and 2 capable of producing a plurality of liquid crystal devices (nine in the figure) are arranged so as to face each other and before they are joined. Each of the assembled substrates 1 and 2 has a plurality (nine in the drawing) of substrate forming regions 12a and 12b, and is provided on the inner surface side (opposing surface of the substrates 1 and 2) of each substrate forming region 12. Various elements constituting the liquid crystal device, an alignment film, and the like are formed in the provided element formation regions 14a and 14b. Then, the assembled substrates 1 and 2 are joined in a state where the element forming regions 14a and 14b face each other, so that an assembly of liquid crystal devices can be obtained.
【0016】図1に示す液晶装置の集合体の製造方法
を、図1及び図2を参照して以下に説明する。図1に示
す液晶装置の集合体を製造するには、まず、図1に示す
複数の基板形成領域12a、12bを有する組基板1,
2を用意し、これらの基板形成領域12a、12bの素
子形成領域14a、14bに、液晶装置を構成する各種
素子や配向膜などを形成する(素子形成工程20)。こ
の図2に示す素子形成工程20において形成される各種
素子とは、液晶を駆動するための電極や、電極を駆動す
るためのスイッチング素子、及び基板上に形成される各
種配線を含んでおり、この工程には、配向膜へのラビン
グ等の工程も含まれている。A method of manufacturing the assembly of the liquid crystal device shown in FIG. 1 will be described below with reference to FIGS. In order to manufacture the liquid crystal device assembly shown in FIG. 1, first, an assembled substrate 1 having a plurality of substrate forming regions 12a and 12b shown in FIG.
2 is prepared, and various elements and alignment films constituting the liquid crystal device are formed in the element forming areas 14a and 14b of the substrate forming areas 12a and 12b (element forming step 20). Various elements formed in the element forming step 20 shown in FIG. 2 include electrodes for driving the liquid crystal, switching elements for driving the electrodes, and various wirings formed on the substrate. This step includes a step of rubbing the alignment film.
【0017】次に、素子形成工程20が終了した組基板
1,2は、洗浄工程21を経て、スペーサ散布工程23
及びシール材印刷工程24に供される。これらの工程2
3,24は、図2では並列して示されているが、一方の
工程の後に、他方の工程を行うようになっている。すな
わち、シール材印刷工程24を行った後にスペーサ散布
工程23を行ってもよく、逆順に工程を行っても良い。
また、これらの工程は、上記のように同一の組基板に対
して行っても良く、別の組基板それぞれに対して行って
も良い。以下では、組基板2に対してこれらの工程を行
ったとして説明する。そして、これらの工程を通過した
組基板2には、図1に示す各素子形成領域14bを取り
囲む額縁状に未硬化のシール材3が設けられており、こ
れらのシール材3,…の全体を取り囲む額縁状に未硬化
のモールド材6が設けられた状態となっている。また、
少なくとも素子形成領域14にスペーサ(図示せず)が
散布されている。上記シール材3及びモールド材6は、
シール材印刷工程24において、同時に形成することが
でき、その材質も同一のものを用いることができる。こ
のようにシール材3とモールド材6の形成を、同一の材
料を用いて同時に行うことで、製造工程を合理化するこ
とができる。また、本実施形態において素子形成領域1
4bに散布されるスペーサは、貝柱状のフォトスペーサ
ー若しくは、固着型のスペーサを用いることが好まし
い。これは、後述する基板貼り合わせ工程において、シ
ール材3の内側に滴下された液晶が素子形成領域14b
内に広がるように移動するので、この液晶によりスペー
サが移動されてスペーサ密度が不均一になるのを防ぐた
めである。Next, the assembled substrates 1 and 2 for which the element forming step 20 has been completed are subjected to a cleaning step 21 and then a spacer dispersion step 23.
And the sealing material printing step 24. These steps 2
2, 3 and 24 are shown in parallel, but one process is performed after the other process. That is, the spacer spraying step 23 may be performed after the sealing material printing step 24, or the steps may be performed in reverse order.
Further, these steps may be performed on the same assembled substrate as described above or may be performed on different assembled substrates respectively. Below, it demonstrates that these processes were performed with respect to the assembly substrate 2. The uncured seal material 3 is provided in the frame shape surrounding each element formation region 14b shown in FIG. 1 on the assembled substrate 2 that has passed through these steps, and these seal materials 3, ... The uncured molding material 6 is provided in the surrounding frame shape. Also,
Spacers (not shown) are scattered at least in the element forming region 14. The sealing material 3 and the molding material 6 are
In the sealing material printing step 24, they can be formed at the same time, and the same material can be used. By simultaneously forming the sealing material 3 and the molding material 6 using the same material, the manufacturing process can be rationalized. In addition, in the present embodiment, the element formation region 1
As the spacers scattered on 4b, it is preferable to use a scallop-shaped photo spacer or a fixed type spacer. This is because the liquid crystal dropped inside the sealing material 3 is used in the element forming region 14b in the substrate bonding step described later.
This is to prevent the spacers from being moved by this liquid crystal to become non-uniform in spacer density because the spacers move so as to spread inward.
【0018】次に、上記工程にて設けられたそれぞれの
シール材3の内側の素子形成領域14bに液晶5を滴下
する(液晶滴下工程25)。この液晶滴下工程25にお
ける液晶5の配置には、例えば、液滴吐出装置などを用
い、所定位置に液晶5を配置することができる。次い
で、液晶5を滴下された組基板2、及び組基板1を真空
の環境に配置し、素子形成領域14a、14bが対向す
る向きに貼り合わせ、その後、接合後の組基板1,2を
大気環境に取り出す。(基板貼り合わせ工程26)。こ
のように真空中で組基板1,2の貼り合わせを行うこと
で、シール材3の内側に液晶5が封止される。また、こ
の貼り合わせ工程26によりモールド材6も組基板1の
内面側に接合されるため、大気解放後にモールド材6の
内側は真空状態に保持され、大気圧とシール材3内側の
圧力差により組み基板1,2の間隔が不均一になるのを
防止できるようになっている。尚、上記基板貼り合わせ
工程26において利用される真空環境は、13.3Pa
(0.1Torr)以下の真空であれば問題ない。(好
ましくは、0.13Pa程度)Next, the liquid crystal 5 is dropped onto the element forming regions 14b inside the respective sealing materials 3 provided in the above steps (liquid crystal dropping step 25). For the arrangement of the liquid crystal 5 in the liquid crystal dropping step 25, for example, a droplet discharge device or the like can be used to arrange the liquid crystal 5 at a predetermined position. Next, the assembled substrate 2 on which the liquid crystal 5 has been dropped and the assembled substrate 1 are placed in a vacuum environment and bonded in a direction in which the element forming regions 14a and 14b face each other, and then, the assembled substrates 1 and 2 are bonded to the atmosphere. Take it out to the environment. (Substrate bonding step 26). By thus bonding the assembled substrates 1 and 2 together in a vacuum, the liquid crystal 5 is sealed inside the sealing material 3. Further, since the molding material 6 is also bonded to the inner surface side of the assembled substrate 1 by this bonding step 26, the inside of the molding material 6 is kept in a vacuum state after the atmosphere is released, and due to the difference in pressure between the atmospheric pressure and the inside of the sealing material 3. It is possible to prevent the distance between the assembled substrates 1 and 2 from becoming uneven. The vacuum environment used in the substrate bonding step 26 is 13.3 Pa.
There is no problem if the vacuum is (0.1 Torr) or less. (Preferably about 0.13 Pa)
【0019】次に、上記にて接合された組基板1,2の
シール材3、モールド材6を硬化させる(シール材硬化
工程27)。この工程におけるシール材及びモールド材
の硬化方法は、シール材3及びモールド材6の材質によ
り異なるが、一般的には、加熱又は紫外線照射による樹
脂硬化処理を行う。Next, the sealing material 3 and the molding material 6 of the assembled substrates 1 and 2 joined as described above are cured (sealing material curing step 27). The method of curing the sealing material and the molding material in this step differs depending on the materials of the sealing material 3 and the molding material 6, but generally, resin curing treatment by heating or ultraviolet irradiation is performed.
【0020】次に、シール材3及びモールド材6が硬化
された組基板1,2を薄板化する(基板薄板化工程)。
この薄板化は、組基板1,2の両方に対して行っても良
く、一方のみに対して行うこともできる。薄板化の方法
としては、フッ酸などのエッチャントを用いたエッチン
グや、CMP(Chemical Mechanical Polishing)など
の機械的な研磨法を用いることができる。本実施形態に
係る製造方法においては、組基板の状態で基板の薄板化
が行われるため、液晶装置ごとの基板厚さの不均一が生
じ難く、品質を安定させることができる。また、これら
の薄板化工程において使用されるエッチャントは、組基
板1,2の周縁部に環状に設けられたモールド材6によ
り遮断され、モールド材6内側のシール材3等には付着
しないようになっているので、単体の液晶装置に分割後
に、シール材3の外周側を洗浄する必要が無く、この点
においても、製造工程の合理化を達成することができ
る。Next, the assembled substrates 1 and 2 in which the sealing material 3 and the molding material 6 have been cured are thinned (substrate thinning step).
This thinning may be performed on both the assembled substrates 1 and 2, or may be performed on only one of them. As a thinning method, etching using an etchant such as hydrofluoric acid or mechanical polishing such as CMP (Chemical Mechanical Polishing) can be used. In the manufacturing method according to the present embodiment, since the substrates are thinned in the assembled substrate state, unevenness in the substrate thickness between liquid crystal devices is unlikely to occur, and the quality can be stabilized. Further, the etchant used in these thinning steps is blocked by the molding material 6 provided in the peripheral portion of the assembled substrates 1 and 2 in an annular shape, and is prevented from adhering to the sealing material 3 or the like inside the molding material 6. Therefore, it is not necessary to wash the outer peripheral side of the sealing material 3 after dividing it into a single liquid crystal device, and also in this respect, rationalization of the manufacturing process can be achieved.
【0021】次に、以上の工程により得られた液晶装置
の集合体を、基板形成領域12a、12bの境界に沿っ
て切断することにより単品の液晶装置が得られる(基板
分離工程29)。また、上記基板分離工程29において
は、モールド材6も、このモールド材6が接合された基
板部分とともに除去される。そして、基板分離工程29
により単品に分離された液晶装置は適宜検査工程に移動
され、液晶装置が製品として完成する。このように本実
施形態の製造方法では、基板が薄板化された後の製造工
程は、基板分離工程29のみであるので、薄型化された
基板に割れや反りが生じる可能性が低く、安定的に液晶
装置の製造を行うことができるようになっている。この
ように、本発明に係る製造方法では、従来よりも薄型化
された基板の取り扱いが容易なものとされていることか
ら、従来よりも組基板1,2を薄くすることができ、具
体的には、0.1〜0.2mm程度の極めて薄い板厚に
まで組基板1,2を薄くしても安定的に製造を行うこと
ができる。Next, the liquid crystal device assembly obtained through the above steps is cut along the boundary between the substrate forming regions 12a and 12b to obtain a single liquid crystal device (substrate separating step 29). In the substrate separating step 29, the molding material 6 is also removed together with the substrate portion to which the molding material 6 is joined. Then, the substrate separating step 29
The liquid crystal device separated as a single product is appropriately moved to the inspection process, and the liquid crystal device is completed as a product. As described above, in the manufacturing method of the present embodiment, since the manufacturing process after the substrate is thinned is only the substrate separating process 29, the thinned substrate is less likely to be cracked or warped, and is stable. In addition, it is possible to manufacture liquid crystal devices. As described above, in the manufacturing method according to the present invention, since it is easier to handle the substrate which is thinner than the conventional one, it is possible to make the assembled substrates 1 and 2 thinner than the conventional one. Moreover, even if the assembled substrates 1 and 2 are thinned to an extremely thin plate thickness of about 0.1 to 0.2 mm, stable manufacturing can be performed.
【0022】尚、上記実施の形態では、複数個の液晶装
置を一括して作製できる組基板を用いた場合について説
明したが、単品の液晶装置を上記製造方法により製造し
ても何ら問題は生じない。In the above embodiment, the case where the assembled substrate capable of collectively manufacturing a plurality of liquid crystal devices is used has been described. However, even if a single liquid crystal device is manufactured by the above manufacturing method, no problem occurs. Absent.
【0023】[0023]
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
係る液晶装置の製造方法は、対向して配置された一対の
基板間に液晶が挟持された液晶装置の製造方法であっ
て、前記一対の基板が各々形成される基板形成領域を複
数含む一対の組基板を用い、前記一対の組基板のうち、
一方の組基板上の複数の基板形成領域にシール材を設け
る工程と、前記複数の基板形成領域のシール材に囲まれ
た領域内に液晶を配置する工程と、前記一対の組基板同
士を減圧下で接合する工程と、接合後の一対の組基板の
いずれか又は両方を薄板化する工程と、を含む構成とさ
れたことで、基板が薄型化された後の製造工程を、基板
分離工程のみとすることができるので、薄型化された基
板が損傷され難く、安定的に歩留まり良く液晶装置の製
造を行うことができる。As described above in detail, the method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is a method of manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates arranged to face each other. Using a pair of assembled substrates including a plurality of substrate forming regions in which the pair of substrates are respectively formed, of the pair of assembled substrates,
A step of providing a sealing material in a plurality of substrate forming areas on one of the assembled substrates, a step of arranging liquid crystal in an area surrounded by the sealing material of the plurality of substrate forming areas, and depressurizing the pair of assembled substrates The step of joining below, and the step of thinning one or both of the pair of assembled substrates after joining, the manufacturing process after the substrate is thinned by the configuration including the step of separating the substrate. Therefore, the thinned substrate is less likely to be damaged, and the liquid crystal device can be stably manufactured with high yield.
【図1】 図1は、本発明に係る製造方法による液晶装
置の製造工程を示す工程図である。FIG. 1 is a process drawing showing a manufacturing process of a liquid crystal device by a manufacturing method according to the present invention.
【図2】 図2は、本発明に係る製造方法により製造さ
れる液晶装置の構成を説明するための説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining a configuration of a liquid crystal device manufactured by a manufacturing method according to the present invention.
1,2 組基板(一対の組基板) 3 シール材 5 液晶 6 モールド材 12a、12b 基板形成領域 14a、14b 素子形成領域 1, 2 assembled boards (a pair of assembled boards) 3 sealant 5 liquid crystal 6 Mold material 12a, 12b Substrate forming area 14a, 14b Element formation region
Claims (6)
が挟持された液晶装置の製造方法であって、 前記一対の基板が各々形成される基板形成領域を複数含
む一対の組基板を用い、 前記一対の組基板のうち、一方の組基板上の複数の基板
形成領域にシール材を設ける工程と、 前記一対の組基板のうち、いずれかの組基板の複数の基
板形成領域に液晶を配置する工程と、 前記一対の組基板同士を減圧下で接合する工程と、 接合後の一対の組基板のいずれか又は両方を薄板化する
工程と、 を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。1. A method of manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates arranged opposite to each other, wherein a pair of assembled substrates including a plurality of substrate formation regions in which the pair of substrates are formed are provided. Using a step of providing a sealing material in a plurality of substrate forming regions on one of the pair of assembled substrates, and a liquid crystal in a plurality of substrate forming regions of any one of the pair of assembled substrates. And a step of joining the pair of assembled substrates to each other under reduced pressure, and a step of thinning one or both of the pair of assembled substrates after joining. Production method.
が挟持された液晶装置の製造方法であって、 前記一対の基板のいずれか又は両方の基板上にシール材
を設ける工程と、 前記一対の基板のうち、いずれかの基板上に液晶を配置
する工程と、 前記一対の基板同士を減圧下で接合する工程と、 接合後の一対の基板のいずれか又は両方を薄板化する工
程と、 を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。2. A method of manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates arranged to face each other, and a step of providing a sealing material on one or both of the pair of substrates, A step of disposing a liquid crystal on one of the pair of substrates, a step of joining the pair of substrates under reduced pressure, and a step of thinning one or both of the pair of substrates after the joining. And a method for manufacturing a liquid crystal device, comprising:
る工程において、前記組基板又は基板をエッチング処理
により薄板化することを特徴とする請求項1又は2に記
載の液晶装置の製造方法。3. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein in the step of thinning the assembled substrate or the substrate after the bonding, the assembled substrate or the substrate is thinned by an etching process. .
る工程において、前記組基板又は基板を研磨処理により
薄板化することを特徴とする請求項1又は2に記載の液
晶装置の製造方法。4. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein, in the step of thinning the assembled substrate or the substrate after the bonding, the assembled substrate or the substrate is thinned by a polishing process. .
材を設ける工程を含むことを特徴とする請求項1ないし
4のいずれか1項に記載の液晶装置の製造方法。5. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, further comprising a step of providing a molding material on the peripheral portion of the assembled substrate or the substrates.
着材を用い、前記シール材を設ける工程において同時に
形成することを特徴とする請求項5に記載の液晶装置の
製造方法。6. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 5, wherein the sealing material and the molding material are formed at the same time by using the same adhesive material in the step of providing the sealing material.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002128774A JP2003322841A (en) | 2002-04-30 | 2002-04-30 | Method for manufacturing liquid crystal device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002128774A JP2003322841A (en) | 2002-04-30 | 2002-04-30 | Method for manufacturing liquid crystal device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003322841A true JP2003322841A (en) | 2003-11-14 |
Family
ID=29542418
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002128774A Pending JP2003322841A (en) | 2002-04-30 | 2002-04-30 | Method for manufacturing liquid crystal device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003322841A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007128004A (en) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Ulvac Japan Ltd | Panel manufacturing equipment and panel manufacturing method |
JP2008039866A (en) * | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Hitachi Displays Ltd | Liquid crystal display and method of manufacturing the liquid crystal display |
JP2009122268A (en) * | 2007-11-13 | 2009-06-04 | Nishiyama Stainless Chemical Kk | Manufacturing method of flat panel display |
JPWO2009087706A1 (en) * | 2008-01-09 | 2011-05-19 | シャープ株式会社 | Display device |
-
2002
- 2002-04-30 JP JP2002128774A patent/JP2003322841A/en active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007128004A (en) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Ulvac Japan Ltd | Panel manufacturing equipment and panel manufacturing method |
JP2008039866A (en) * | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Hitachi Displays Ltd | Liquid crystal display and method of manufacturing the liquid crystal display |
JP4682346B2 (en) * | 2006-08-02 | 2011-05-11 | 株式会社 日立ディスプレイズ | Liquid crystal display device and method of manufacturing liquid crystal display device |
JP2009122268A (en) * | 2007-11-13 | 2009-06-04 | Nishiyama Stainless Chemical Kk | Manufacturing method of flat panel display |
JPWO2009087706A1 (en) * | 2008-01-09 | 2011-05-19 | シャープ株式会社 | Display device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH09138392A (en) | Manufacture of composite substrate | |
JPH04116619A (en) | Production of thin-type liquid crystal display element | |
JP2006201276A (en) | Manufacturing method of liquid crystal display panel | |
US7193678B2 (en) | Liquid crystal display device and method for manufacturing the same | |
JP2008286996A (en) | Liquid crystal display device and method for manufacturing the same | |
KR100580339B1 (en) | A producing method of the liquid crystal display panel | |
JP2000172189A (en) | Production of display device | |
JP2008130689A (en) | Manufacturing method of thin film lamination device, and manufacturing method of liquid display device | |
JP2003322841A (en) | Method for manufacturing liquid crystal device | |
JP2004170521A (en) | Method for manufacturing liquid crystal display element, and liquid crystal display element | |
JP2001033795A (en) | Liquid crystal display element and its production | |
KR100491020B1 (en) | Method of manufacturing flat display element | |
JP4737881B2 (en) | Method for manufacturing flat display element | |
JP2009069336A (en) | Method for manufacturing liquid crystal display | |
JP2008216780A (en) | Manufacturing method of display element | |
JP2008275651A (en) | Display device and method of producing the same | |
JP2001100165A (en) | Producing method of display device, etching device and etching method | |
JPH11119229A (en) | Liquid crystal display device and its production | |
JP2001318387A (en) | Liquid crystal display panel and its manufacturing method | |
JP2000029051A (en) | Manufacture of liquid crystal display device | |
JP2004317983A (en) | Glass substrate body for multiple formation of display element, and manufacturing method of glass substrate body for multiple formation of display element | |
JP2009053626A (en) | Manufacturing method of display panel | |
JP2008158237A (en) | Manufacturing method of liquid crystal display device | |
JP2013029768A (en) | Manufacturing method of liquid crystal display device and mother substrate | |
JP4648521B2 (en) | Manufacturing method of liquid crystal device |