JP2003317216A - Substrate and slider bar for thin-film magnetic head - Google Patents

Substrate and slider bar for thin-film magnetic head

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JP2003317216A
JP2003317216A JP2002124453A JP2002124453A JP2003317216A JP 2003317216 A JP2003317216 A JP 2003317216A JP 2002124453 A JP2002124453 A JP 2002124453A JP 2002124453 A JP2002124453 A JP 2002124453A JP 2003317216 A JP2003317216 A JP 2003317216A
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magnetic head
film magnetic
thin film
alumina
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JP2002124453A
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Japanese (ja)
Inventor
Tatsutoshi Suenaga
辰敏 末永
Yoshinori Yoshiji
慶記 吉次
Sadayoshi Ito
貞芳 伊藤
Ryuichi Nakagami
竜一 仲神
Kozo Tagashira
幸造 田頭
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a slider bar for a thin-film magnetic head capable of suppressing the occurrence of warping, and performing highly accurate patterning. <P>SOLUTION: This substrate 10 for thin-film magnetic head is provided with a plate-like nonmagnetic subtrate 1, alumina films 2 and 3 disposed on both surfaces of the substrate, and an element formation section 4 including a plurality of thin-film magnetic head elements formed on one alumina film of the substrate. The slider bar 20 for the thin-film magnetic head is provided with a strip-like nonmagnetic substrate 21, alumina films 22 and 23 disposed on two opposing surfaces of the substrate, and an element formation section 24 including a plurality of thin-film magnetic head elements 25 formed on one alumina film of the substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスクド
ライブなどに搭載する薄膜磁気ヘッド、該薄膜磁気ヘッ
ド用基板及びスライダバーに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film magnetic head mounted on a hard disk drive or the like, a substrate for the thin film magnetic head, and a slider bar.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、磁気記録装置においては、情報量
の増大と共に、高記録密度化の要求が急速に高まり、こ
の傾向は将来的にはさらに高まっていくことは確実であ
る。これに伴い、薄膜磁気ヘッドを構成する短冊状のブ
ロック(以下、「スライダバー」と記す)には、記録媒
体上において非常に低い浮上量や、記録媒体の周速によ
って変化することのない安定した浮上特性を有すること
が求められている。その要求を満足するには、薄膜磁気
ヘッド用スライダバーにおいて、エアーベアリング面を
高精度で形成する技術が不可欠となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, in magnetic recording devices, the demand for higher recording density has increased rapidly with the increase in the amount of information, and it is certain that this tendency will further increase in the future. Accordingly, the strip-shaped block (hereinafter referred to as “slider bar”) that constitutes the thin-film magnetic head has a very low flying height on the recording medium and is stable without changing due to the peripheral speed of the recording medium. It is required to have the above floating characteristics. In order to satisfy the demand, a technique for forming an air bearing surface with high precision in a slider bar for a thin film magnetic head is indispensable.

【0003】上記エアーベアリング面形成技術に関し、
従来の機械加工では、直線的な加工は可能であっても、
浮上特性を向上させるため設計された幾何学的なエアー
ベアリング面形状には対応できなかった。そこで現在、
機械加工に替わる方法として、フォトリソグラフィ技術
を用いる方法が提案されている。このフォトリソグラフ
ィ法では、エアーベアリング形成面に対応したマスク材
を作成し、イオンビームエッチングなどのドライエッチ
ングプロセスによってエアーベアリング形状を形成す
る。また、加工精度の点でも機械加工では達成し得ない
エアーベアリング面形状と精度が確保できることから、
マスク形成方法および関連技術はドライエッチングプロ
セスでの必須技術となっている。この場合、1本のスラ
イダバー中の薄膜磁気ヘッド素子は40〜60個が限界
であり、一本のスライダバー毎に処理するのでは生産性
が著しく低くなるので、複数本のスライダバーを同時に
処理している。
Regarding the above air bearing surface forming technology,
In conventional machining, even if linear machining is possible,
It was not possible to deal with the geometrical air bearing surface shape designed to improve the levitation characteristics. So now,
A method using a photolithography technique has been proposed as an alternative method to the machining. In this photolithography method, a mask material corresponding to the air bearing forming surface is formed, and the air bearing shape is formed by a dry etching process such as ion beam etching. Also, in terms of processing accuracy, since the air bearing surface shape and accuracy that cannot be achieved by machining can be secured,
The mask forming method and related techniques are essential techniques in the dry etching process. In this case, the number of thin-film magnetic head elements in one slider bar is limited to 40 to 60, and if processing is performed for each slider bar, the productivity will be significantly reduced. Processing.

【0004】さらに、ドライエッチング加工のマスク材
には、半導体プロセスや薄膜磁気ヘッド素子形成プロセ
スで一般的な液状フォトレジストと、プリント基板の配
線形成プロセスなどに利用されるドライフィルムレジス
トがある。一般的には、パターンニングされたドライフ
ィルムレジストをマスク材として用いたドライエッチン
グが主として用いられている。
Further, as a mask material for dry etching, there are a liquid photoresist generally used in a semiconductor process or a thin film magnetic head element forming process, and a dry film resist used in a wiring forming process of a printed board. Generally, dry etching using a patterned dry film resist as a mask material is mainly used.

【0005】次に、従来例の片面アルミナ膜ウエハを用
いて薄膜磁気ヘッド用スライダバーを製造する工程につ
いて、図5から図7を用いて説明する。この製造工程は
次の各工程からなる。 (a)円盤状のAlTiC基板51を用意する。 (b)上記AlTiC基板51の片面に膜厚約数十μm
のアルミナ膜52を成膜する。 (c)アルミナ膜52の上に多数の薄膜磁気ヘッド素子
を含む素子形成部54を形成する(図5)。なお、用い
るウエハサイズによって素子を形成する数は異なる。 (d)上述したウエハを、鎖線61、62に沿って切断
し、所定寸法のスタック55(数本のスライダバー60
の集合体)とする(図6(a)、(b))。 (e)その後、切断面の研削・研磨の工程を経てそれぞ
れの1本ごとの薄膜磁気ヘッド用スライダバー60を得
る(図6(b)、(c))。 (f)上述したスライダバー60の媒体との対向面66
にマスク膜をパターニングした後、図6の(c)に示す
ように、ドライエッチングなどの手法で所定形状に基づ
くエアーベアリング面を形成する。
Next, a process of manufacturing a slider bar for a thin film magnetic head using a conventional single-sided alumina film wafer will be described with reference to FIGS. This manufacturing process includes the following steps. (A) A disk-shaped AlTiC substrate 51 is prepared. (B) Film thickness of several tens of μm on one surface of the AlTiC substrate 51
The alumina film 52 is formed. (C) An element forming portion 54 including many thin film magnetic head elements is formed on the alumina film 52 (FIG. 5). The number of elements to be formed differs depending on the wafer size used. (D) The above-mentioned wafer is cut along the chain lines 61 and 62, and the stack 55 (several slider bars 60) having a predetermined size is cut.
Of the above) (FIGS. 6A and 6B). (E) After that, the slider bars 60 for thin film magnetic heads are obtained for each of them through the steps of grinding and polishing the cut surface (FIGS. 6B and 6C). (F) Surface 66 of the slider bar 60 facing the medium described above
After patterning the mask film, an air bearing surface based on a predetermined shape is formed by a method such as dry etching, as shown in FIG.

【0006】以上の工程によって従来の薄膜磁気ヘッド
用スライダバー60が作製される。このスライダバー6
0は、図6の(c)に示すように、AlTiC基板71
の片面上にアルミナ膜72が形成され、そのアルミナ膜
72の上に複数の薄膜磁気ヘッド素子65が形成されて
いる。この1本のスライダバー60には、通常、薄膜磁
気ヘッド素子65が長手方向に沿って40〜60個形成
されている。
The conventional thin film magnetic head slider bar 60 is manufactured through the above steps. This slider bar 6
0 indicates an AlTiC substrate 71 as shown in FIG.
An alumina film 72 is formed on one surface of the above, and a plurality of thin film magnetic head elements 65 are formed on the alumina film 72. Usually, 40 to 60 thin film magnetic head elements 65 are formed on one slider bar 60 along the longitudinal direction.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】この薄膜磁気ヘッド用
スライダバーの製造では、生産性を向上させるため、図
7の(a)に示すように、上述の通り複数本のスライダ
バーを並べてマスク膜をパターニングする。しかし、半
導体プロセスや薄膜磁気ヘッド素子形成プロセスなど平
坦なウエハ表面が加工対象となる場合と異なり、それぞ
れのスライダバーの処理面は面一ではない場合が多い。
即ち、この複数個の薄膜磁気ヘッド素子を有する短冊状
の薄膜磁気ヘッド用スライダバーは、機械加工(切断、
研削、研磨)によって作製されるため、公差分の形状誤
差(特に厚さバラツキ)や反りが発生する。そこで、こ
の形状誤差が複数本のスライダバーに同時に数μm厚の
均一なマスク層を形成する際の障害となっている。
In the manufacture of this slider bar for a thin film magnetic head, in order to improve productivity, as shown in FIG. 7A, a plurality of slider bars are arranged side by side to form a mask film as described above. Pattern. However, unlike a case where a flat wafer surface is a processing target such as a semiconductor process or a thin film magnetic head element forming process, the processing surface of each slider bar is often not flush.
That is, a strip-shaped thin-film magnetic head slider bar having a plurality of thin-film magnetic head elements is machined (cut, cut,
Since it is produced by grinding and polishing, shape error of tolerance (especially thickness variation) and warpage occur. Therefore, this shape error is an obstacle to simultaneously forming a uniform mask layer having a thickness of several μm on a plurality of slider bars.

【0008】また、フォトマスクはフォトレジスト形成
・露光・現像などのプロセスを経るため、スライダバー
60の湾曲があるとパターニングの精度に影響する。例
えば、図7の(a)及び(b)に示すように、スライダ
バー60には膜内の内部応力や機械加工による歪みが蓄
積され、反りdを生じる場合がある。フォトリソグラフ
ィにおいてステッパーなどで露光する場合には、若干の
微調整は出来たとしてもほぼ直線的に数ヘッドから数十
ヘッドを一度に露光していくので、個々の薄膜磁気ヘッ
ド素子65に対してパターニングにおいて、反りdに依
存する誤差を生じる。
Since the photomask undergoes processes such as photoresist formation, exposure and development, the curvature of the slider bar 60 affects the patterning accuracy. For example, as shown in FIGS. 7A and 7B, internal stress in the film or strain due to mechanical processing may be accumulated in the slider bar 60 to cause warpage d. In the case of exposure with a stepper or the like in photolithography, even if some fine adjustment can be performed, several heads to several tens of heads are exposed in a substantially linear manner at a time, so that each thin film magnetic head element 65 is exposed. In patterning, an error that depends on the warpage d occurs.

【0009】上述の方法で、エアーベアリング形状の更
なる高精度化を考えた場合、薄膜磁気ヘッド素子を基準
に最適な位置にパターニングを行うにあたっては、特
に、スライダバーの反り度合いによって誤差となるパタ
ーンずれを解消しなくてはならない。しかし、1本のス
ライダバー中の薄膜磁気ヘッド素子が多くなる程、ミク
ロンオーダの精度を有するパターニングは非常に困難と
なる。また、現行のウエハ構成では、反らないスライダ
バーを実現するのは非常に困難である。さらに、パター
ニング形成プロセスにおいて治具で強制的に反りを矯正
しようとしても内部応力差によって生じる反りは完全に
矯正出来ない。
In the case of further improving the accuracy of the shape of the air bearing by the above-mentioned method, when patterning at the optimum position with the thin film magnetic head element as a reference, an error occurs depending on the degree of warp of the slider bar. The pattern shift must be eliminated. However, as the number of thin film magnetic head elements in one slider bar increases, patterning with accuracy on the order of microns becomes very difficult. Further, it is very difficult to realize a slider bar that does not warp with the existing wafer structure. Further, even if the jig is forced to correct the warp in the patterning formation process, the warp caused by the internal stress difference cannot be completely corrected.

【0010】さらに、1つのスライダバーにより多くの
薄膜磁気ヘッド素子を形成して生産性を高めるために、
スライダバーの長さを長くする必要がある。その一方、
スライダバーに発生する反りの大きさは、スライダバー
の長さに依存する傾向がある。このため、スライダバー
を長くすると、発生する反りが大きくなるという関係が
ある。
Further, in order to increase the productivity by forming many thin film magnetic head elements with one slider bar,
It is necessary to lengthen the slider bar. On the other hand,
The amount of warp that occurs in the slider bar tends to depend on the length of the slider bar. Therefore, when the slider bar is lengthened, there is a relation that the generated warp increases.

【0011】そこで、本発明の目的は、反りの発生を抑
制し、高精度でパターニングできる薄膜磁気ヘッド用ス
ライダバーを提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a slider bar for a thin film magnetic head which can suppress warpage and can be patterned with high accuracy.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明に係る薄膜磁気ヘ
ッド用基板は、板状の非磁性基板と、前記基板の両面に
設けられた10〜100μmの範囲の膜厚を有するアル
ミナ膜とを備えることを特徴とする。
A thin-film magnetic head substrate according to the present invention comprises a plate-shaped non-magnetic substrate and an alumina film provided on both surfaces of the substrate and having a thickness in the range of 10 to 100 μm. It is characterized by being provided.

【0013】本発明に係る薄膜磁気ヘッド用基板は、板
状の非磁性基板と、前記基板の両面に設けられたアルミ
ナ膜と、前記基板の一方のアルミナ膜の上に形成されて
いる複数個の薄膜磁気ヘッド素子を含む素子形成部とを
備えることを特徴とする。
A substrate for a thin film magnetic head according to the present invention comprises a plate-shaped non-magnetic substrate, alumina films provided on both surfaces of the substrate, and a plurality of substrates formed on one alumina film of the substrate. And an element forming portion including the thin film magnetic head element.

【0014】この薄膜磁気ヘッド用基板を構成する非磁
性基板には、例えば、AlTiC基板を使用することが
できる。なお、他の非磁性基板を用いてもよい。また、
非磁性基板の両面に設けられるアルミナ膜は、ほぼ同じ
膜厚とするのが好ましい。この両面のアルミナ膜のう
ち、複数の薄膜磁気ヘッド素子を形成する面のアルミナ
膜はシールド層としての効果を有する。一方、基板の相
対する面のアルミナ膜は、該基板を機械加工で短冊状の
スライダバーに仕上げる製造工程において、基板の厚さ
方向の反りを抑制する効果を有する。また、アルミナ膜
の厚さは、シールド層の効果が十分に得られ、その一方
で厚くなりすぎない程度の10〜100μmの範囲の膜
厚が好ましい。さらに、薄膜磁気ヘッド素子としては、
例えば、磁気抵抗素子を用いることができる。
An AlTiC substrate, for example, can be used as the non-magnetic substrate constituting this thin film magnetic head substrate. Other non-magnetic substrates may be used. Also,
It is preferable that the alumina films provided on both surfaces of the non-magnetic substrate have almost the same film thickness. Of the alumina films on both surfaces, the alumina film on the surface on which the plurality of thin film magnetic head elements are formed has an effect as a shield layer. On the other hand, the alumina films on the opposite surfaces of the substrate have the effect of suppressing the warp in the thickness direction of the substrate in the manufacturing process of finishing the substrate into strip-shaped slider bars by machining. Further, the thickness of the alumina film is preferably in the range of 10 to 100 μm so that the effect of the shield layer is sufficiently obtained, while the thickness is not too thick. Furthermore, as a thin film magnetic head element,
For example, a magnetoresistive element can be used.

【0015】本発明に係る薄膜磁気ヘッド用スライダバ
ーは、短冊形状の非磁性基板と、前記基板の互いに対向
する2つの面に設けられたアルミナ膜と、前記基板の一
方のアルミナ膜の上に形成されている複数個の薄膜磁気
ヘッド素子を含む素子形成部とを備えることを特徴とす
る。
A slider bar for a thin film magnetic head according to the present invention comprises a strip-shaped non-magnetic substrate, an alumina film provided on two surfaces of the substrate facing each other, and an alumina film on one of the substrates. And an element forming portion including a plurality of thin film magnetic head elements formed.

【0016】本発明に係る薄膜磁気ヘッド用スライダバ
ーの製造方法は、非磁性基板を用意する工程と、前記基
板の両面にアルミナ膜を成膜する工程と、前記基板の一
方のアルミナ膜の上に複数個の薄膜磁気ヘッド素子を形
成する工程と、前記基板を短冊形状に切断し、該切断面
を研削・研磨加工を行って所定粗さの鏡面に加工する工
程とを含むことを特徴とする。
A method of manufacturing a slider bar for a thin film magnetic head according to the present invention comprises a step of preparing a non-magnetic substrate, a step of forming an alumina film on both surfaces of the substrate, and an alumina film on one of the substrates. A step of forming a plurality of thin film magnetic head elements on the substrate, a step of cutting the substrate into a strip shape, and grinding / polishing the cut surface to form a mirror surface having a predetermined roughness. To do.

【0017】本発明に係る薄膜磁気ヘッドは、非磁性基
板と、前記基板の互いに対向する2つの面に設けられた
アルミナ膜と、前記基板の一方のアルミナ膜の上に形成
されている複数個の薄膜磁気ヘッド素子を含む素子形成
部とを備えることを特徴とする。
A thin film magnetic head according to the present invention comprises a non-magnetic substrate, an alumina film provided on two surfaces of the substrate facing each other, and a plurality of thin films formed on one alumina film of the substrate. And an element forming portion including the thin film magnetic head element.

【0018】[0018]

【本発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態に係
る薄膜磁気ヘッド用基板と、該基板から得られる薄膜磁
気ヘッド用スライダバー及びその製造方法について添付
図面を用いて説明する。なお、実質的に同一の部材には
同一の符号を付している。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A substrate for a thin film magnetic head according to an embodiment of the present invention, a slider bar for a thin film magnetic head obtained from the substrate, and a method for manufacturing the same will be described below with reference to the accompanying drawings. The substantially same members are designated by the same reference numerals.

【0019】(実施の形態1)本発明の実施の形態1に
係る薄膜磁気ヘッド用基板について説明する。まず、こ
の薄膜磁気ヘッド用基板(ウエハ)は、図1に示すよう
に、両面にほぼ同厚の約30μmのアルミナ膜2、3を
成膜した円盤状のAlTiC基板1からなる。この母材
となる円盤状のAlTiC基板1は、直径15.24c
m(φ6インチ)サイズである。なお、このAlTiC
基板1の形状は円盤状に限られない。また、両面にアル
ミナ膜2、3を有する基板1は、両面にほぼ同じ膜厚の
アルミナ膜を有するので、その後、薄膜磁気ヘッド素子
を含む素子形成部4を設けた後、機械加工で短冊状のス
ライダバー20に仕上げる製造工程において、基板1の
厚さ方向の反りを抑制することができる。
(First Embodiment) A thin film magnetic head substrate according to a first embodiment of the present invention will be described. First, as shown in FIG. 1, this thin film magnetic head substrate (wafer) is composed of a disk-shaped AlTiC substrate 1 on both surfaces of which alumina films 2 and 3 of about 30 μm having approximately the same thickness are formed. The disk-shaped AlTiC substrate 1 which is the base material has a diameter of 15.24c.
The size is m (φ6 inch). In addition, this AlTiC
The shape of the substrate 1 is not limited to the disc shape. Further, since the substrate 1 having the alumina films 2 and 3 on both surfaces has the alumina films having substantially the same film thickness on both surfaces, after the element forming portion 4 including the thin film magnetic head element is provided thereafter, it is machined into a strip shape. In the manufacturing process of finishing the slider bar 20, the warp of the substrate 1 in the thickness direction can be suppressed.

【0020】(実施の形態2)本発明の実施の形態2に
係る薄膜磁気ヘッド用基板10について説明する。ま
ず、この薄膜磁気ヘッド用基板(ウエハ)10は、図2
に示すように、両面にほぼ同厚の約30μmのアルミナ
膜2、3を成膜した円盤状のAlTiC基板1と、該基
板1の一方のアルミナ膜2の上に形成されている複数個
の薄膜磁気ヘッド素子を含む素子形成部4とからなる。
なお、この両面にアルミナ膜2、3を設けたAlTiC
基板1は、上記実施の形態1に係る基板である。また、
両面にアルミナ膜2、3を有する基板1は、両面にほぼ
同じ膜厚のアルミナ膜を有するので、その後、機械加工
で短冊状のスライダバー20に仕上げる製造工程におい
て、基板1の厚さ方向の反りを抑制することができる。
なお、基板1の両面に成膜するアルミナ膜2、3のう
ち、薄膜磁気ヘッド素子を形成する面のアルミナ膜2は
母材のAlTiC基板1とのシールド膜となり、相対す
る面のアルミナ膜3は内部応力によって生じる反りを矯
正する役割を担う。
(Second Embodiment) A substrate 10 for a thin film magnetic head according to a second embodiment of the present invention will be described. First, the thin film magnetic head substrate (wafer) 10 is shown in FIG.
As shown in FIG. 1, a disk-shaped AlTiC substrate 1 having alumina films 2 and 3 of approximately 30 μm having substantially the same thickness formed on both sides, and a plurality of alumina films 2 formed on one alumina film 2 of the substrate 1. And an element forming portion 4 including a thin film magnetic head element.
AlTiC having alumina films 2 and 3 on both sides
The board 1 is the board according to the first embodiment. Also,
Since the substrate 1 having the alumina films 2 and 3 on both sides has the alumina films of substantially the same thickness on both sides, in the manufacturing process of finishing the strip-shaped slider bar 20 by machining thereafter, the substrate 1 in the thickness direction is formed. The warp can be suppressed.
It should be noted that, of the alumina films 2 and 3 formed on both sides of the substrate 1, the alumina film 2 on the surface on which the thin film magnetic head element is formed serves as a shield film for the base material AlTiC substrate 1, and the alumina film 3 on the opposite surface. Plays a role in correcting warpage caused by internal stress.

【0021】次に、この薄膜磁気ヘッド用基板10の製
造方法について、説明する。この製造方法は、次の工程
からなる。 (a)円盤状のAlTiC基板1を用意する。 (b)上記AlTiC基板1の両面に膜厚約数十μmの
アルミナ膜2、3をそれぞれ成膜する(図1(b))。
この場合、片面づつ、あるいは両面同時に成膜してもよ
い。また、両面のアルミナ膜2、3の膜厚はほぼ同じに
する。 (c)上記基板1の一方のアルミナ膜2の上に多数の薄
膜磁気ヘッド素子を含む素子形成部4を形成する(図2
(b))。なお、用いるウエハサイズによって素子を形
成する数は異なる。 以上の工程により、上記の両面にアルミナ膜を有するA
lTiC基板と、複数個の薄膜磁気ヘッド素子を含む素
子形成部とを備えた薄膜磁気ヘッド用基板10を作製す
ることができる。
Next, a method of manufacturing the thin film magnetic head substrate 10 will be described. This manufacturing method includes the following steps. (A) A disk-shaped AlTiC substrate 1 is prepared. (B) Alumina films 2 and 3 each having a film thickness of about several tens of μm are formed on both surfaces of the AlTiC substrate 1 (FIG. 1B).
In this case, the film may be formed on one side or simultaneously on both sides. Further, the thicknesses of the alumina films 2 and 3 on both surfaces are made substantially the same. (C) An element forming portion 4 including a large number of thin film magnetic head elements is formed on one alumina film 2 of the substrate 1 (FIG. 2).
(B)). The number of elements to be formed differs depending on the wafer size used. Through the above steps, A having an alumina film on both sides
It is possible to fabricate a substrate 10 for a thin film magnetic head, which includes an lTiC substrate and an element forming portion including a plurality of thin film magnetic head elements.

【0022】(実施の形態3)本発明の実施の形態3に
係る薄膜磁気ヘッド用スライダバー及びその製造方法に
ついて説明する。この薄膜磁気ヘッド用スライダバー2
0は、図3の(b)及び(c)に示すように、短冊形状
であって、両面にアルミナ膜22、23を有するAlT
iC基板21と、該基板21の一方のアルミナ膜2の上
に形成された複数個の薄膜磁気ヘッド素子25を含む素
子形成部24とを備える。このアルミナ膜22、23は
実質的に同じ膜厚であり、その膜厚は、好ましくは10
〜100μmの範囲である。このように両面に実質的に
同じ膜厚のアルミナ膜22、23を有するので、基板2
1が湾曲して反りを生じることを防止することができ
る。また、スライダバーの長さを長くしても反りの発生
を抑制できる。
(Third Embodiment) A slider bar for a thin film magnetic head according to a third embodiment of the present invention and a method of manufacturing the slider bar will be described. This thin film magnetic head slider bar 2
As shown in FIGS. 3B and 3C, 0 is an AlT having a strip shape and having alumina films 22 and 23 on both surfaces.
An iC substrate 21 and an element forming portion 24 including a plurality of thin film magnetic head elements 25 formed on one alumina film 2 of the substrate 21 are provided. The alumina films 22 and 23 have substantially the same film thickness, and the film thickness is preferably 10
˜100 μm. Thus, since the alumina films 22 and 23 having substantially the same thickness are formed on both surfaces, the substrate 2
It is possible to prevent 1 from curving and warping. Further, even if the length of the slider bar is lengthened, the occurrence of warpage can be suppressed.

【0023】次に、この薄膜磁気ヘッド用スライダバー
20の製造方法について説明する。この製造方法は、図
1から図4に示すように、次の各手順からなる。 (a)円盤状のAlTiC基板1を用意する。なお、基
板1の形状は円盤状に限られない。 (b)上記AlTiC基板1の両面に膜厚約数十μmの
アルミナ膜2、3をそれぞれ成膜する(図1(b))。
この場合、片面づつ、あるいは両面同時に成膜してもよ
い。また、両面のアルミナ膜2、3の膜厚はほぼ同じに
する。 (c)一方のアルミナ膜2の上に多数の薄膜磁気ヘッド
素子25を含む素子形成部4を形成する(図2
(b))。なお、用いるウエハサイズによって素子25
を形成する数は異なる。なお、この工程までは上記実施
の形態2に係る薄膜磁気ヘッド用基板の製造方法と同じ
である。 (d)上述した薄膜磁気ヘッド用基板10を、鎖線1
1、12に沿って切断し(図3(a))、該切断面の研
削・研磨の工程を経てそれぞれの1本ごとの薄膜磁気ヘ
ッドスライダバー20を得る(図3(b))。ここで
は、例えば、所定寸法の200本のスライダバー20に
切断するとともに、両切断面を研削し、さらに、研磨で
鏡面加工する。 (e)得られたスライダバー20の断面構造は、例え
ば、図3の(c)に示すように、AlTiC基板21の
両面にほぼ同じ膜厚のアルミナ膜22、23が設けら
れ、一方のアルミナ膜22の上に複数の薄膜磁気ヘッド
素子25を含む素子形成部24が形成されている。ま
た、この素子形成部24の上にエアーベアリング面26
を形成する。 (f)次いで、所定本数のスライダバー20を一定方向
に並べて、フォトリソグラフィ技術を用いて、媒体との
対向面に所定形状のエアーベアリング面26を、パター
ニングして、例えば、ドライエッチングなどの手法で形
成する(図4)。以上の工程によって、薄膜磁気ヘッド
用スライダバー20を作製することができる。作製した
薄膜磁気ヘッド用スライダバー20の湾曲による反りの
大きさは0.5μm以下と良好なものであった。これに
より、上記工程のうち、フォトリソグラフフィによるパ
ターニングを高精度で行うことができる。
Next, a method of manufacturing the slider bar 20 for the thin film magnetic head will be described. As shown in FIGS. 1 to 4, this manufacturing method includes the following steps. (A) A disk-shaped AlTiC substrate 1 is prepared. The shape of the substrate 1 is not limited to the disc shape. (B) Alumina films 2 and 3 each having a film thickness of about several tens of μm are formed on both surfaces of the AlTiC substrate 1 (FIG. 1B).
In this case, the film may be formed on one side or simultaneously on both sides. Further, the thicknesses of the alumina films 2 and 3 on both surfaces are made substantially the same. (C) An element forming portion 4 including a large number of thin film magnetic head elements 25 is formed on one alumina film 2 (FIG. 2).
(B)). Depending on the size of the wafer used, the device 25
The number of forming is different. The process up to this step is the same as the method for manufacturing the substrate for a thin film magnetic head according to the second embodiment. (D) The thin film magnetic head substrate 10 described above is replaced with a chain line 1
The thin film magnetic head slider bar 20 is obtained by cutting along the lines 1 and 12 (FIG. 3A) and grinding and polishing the cut surface (FIG. 3B). Here, for example, 200 slider bars 20 having a predetermined size are cut, both cut surfaces are ground, and further mirror-finished by polishing. (E) The obtained slider bar 20 has a sectional structure, for example, as shown in (c) of FIG. 3, in which alumina films 22 and 23 having substantially the same thickness are provided on both surfaces of an AlTiC substrate 21, and one of the alumina bars is formed. An element forming portion 24 including a plurality of thin film magnetic head elements 25 is formed on the film 22. Further, an air bearing surface 26 is formed on the element forming portion 24.
To form. (F) Next, a predetermined number of slider bars 20 are arranged in a certain direction, and a photolithography technique is used to pattern an air bearing surface 26 of a predetermined shape on the surface facing the medium, for example, a method such as dry etching. To form (FIG. 4). Through the above steps, the slider bar 20 for a thin film magnetic head can be manufactured. The amount of warpage due to the bending of the manufactured thin film magnetic head slider bar 20 was 0.5 μm or less, which was a good value. Accordingly, in the above steps, patterning by photolithography can be performed with high accuracy.

【0024】なお、この薄膜磁気ヘッド用スライダバー
を用いて薄膜磁気ヘッドを作製することができる。得ら
れる薄膜磁気ヘッドは、非磁性基板のAlTiC基板
と、該基板の互いに対向する2つの面に設けられたアル
ミナ膜と、基板の一方のアルミナ膜の上に形成されてい
る複数個の薄膜磁気ヘッド素子を含む素子形成部とを備
える。このように非磁性基板の両面に実質的に同じ膜厚
のアルミナ膜を有するので、基板が湾曲して反りを生じ
ることを防止することができる。
A thin film magnetic head can be manufactured using this slider bar for a thin film magnetic head. The obtained thin-film magnetic head comprises an AlTiC substrate which is a non-magnetic substrate, an alumina film provided on two surfaces of the substrate facing each other, and a plurality of thin-film magnetic heads formed on one alumina film of the substrate. And an element forming portion including a head element. As described above, since the nonmagnetic substrate has the alumina films of substantially the same thickness on both sides, it is possible to prevent the substrate from being curved and warped.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明に係る薄膜磁
気ヘッド用基板によれば、非磁性基板の両面にアルミナ
膜を有するので、切断・研削・研磨など機械加工で該基
板から短冊状のスライダバーとする際に、アルミナ膜の
内部応力によって発生する反りを矯正できる。これによ
って、フォトリソグラフィ法において位置ずれなく高精
度でエアーベアリング面を形成できる。
As described above in detail, according to the thin-film magnetic head substrate of the present invention, since the non-magnetic substrate has the alumina film on both sides thereof, the strip-shaped substrate is machined by cutting, grinding, polishing or the like. When it is used as the slider bar, the warp generated by the internal stress of the alumina film can be corrected. As a result, the air bearing surface can be formed with high accuracy without misalignment in the photolithography method.

【0026】また、本発明に係る薄膜磁気ヘッド用スラ
イダバーによれば、短冊形状の非磁性基板の両面にアル
ミナ膜を有し、その一方のアルミナ膜の上に複数個の薄
膜磁気ヘッド素子を形成した素子形成部を備える。この
ため、生産性を高めるために1つのスライダバーを長く
して、より多くの薄膜磁気ヘッド素子を形成した場合で
も反りの発生を抑制することができる。そこで、生産性
を高めると同時に、フォトリソグラフィによって高精度
でパターニングすることができる。さらに、スライダバ
ー長が短い場合にも、さらなる効果を発揮する。
Further, according to the slider bar for a thin film magnetic head of the present invention, the strip-shaped non-magnetic substrate has alumina films on both sides thereof, and a plurality of thin film magnetic head elements are provided on one of the alumina films. The formed element forming portion is provided. Therefore, in order to improve the productivity, one slider bar can be lengthened to suppress the occurrence of warpage even when more thin film magnetic head elements are formed. Therefore, it is possible to enhance productivity and at the same time, patterning with high precision by photolithography. Further, even when the slider bar length is short, a further effect is exhibited.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 (a)は、本発明の実施の形態1に係る薄膜
磁気ヘッド用基板の平面図であり、(b)は、(a)の
正面図である。
1A is a plan view of a thin film magnetic head substrate according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a front view of FIG.

【図2】 (a)は、本発明の実施の形態2に係る薄膜
磁気ヘッド用基板の平面図であり、(b)は、(a)の
正面図である。
2A is a plan view of a thin-film magnetic head substrate according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 2B is a front view of FIG.

【図3】 (a)は、本発明の実施の形態3に係る薄膜
磁気ヘッド用スライダバーの製造方法における切断工程
を示す平面図であり、(b)は、(a)の切断工程で切
断された複数本のスライダバーを示す斜視図であり、
(c)は、(b)の一本のスライダバーのA部分の拡大
断面図である。
3A is a plan view showing a cutting step in a method of manufacturing a slider bar for a thin film magnetic head according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 3B is a cutting step performed in the cutting step of FIG. It is a perspective view showing a plurality of slider bars are
(C) is an enlarged sectional view of a portion A of one slider bar in (b).

【図4】 本発明の実施の形態3に係る薄膜磁気ヘッド
用スライダバーの製造方法において、エアーベアリング
面の形成を示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing formation of an air bearing surface in a method of manufacturing a slider bar for a thin film magnetic head according to a third embodiment of the present invention.

【図5】 (a)は、従来例の薄膜磁気ヘッド用基板の
平面図であり、(b)は、(a)の正面図である。
5A is a plan view of a conventional thin film magnetic head substrate, and FIG. 5B is a front view of FIG.

【図6】 (a)は、従来例の薄膜磁気ヘッド用スライ
ダバーの切断工程を示す平面図であり、(b)は、切断
されたスタックが複数本のスライダバーからなることを
示す概略図であり、(c)は、(b)のB部分の拡大断
面図である。
FIG. 6A is a plan view showing a cutting process of a slider bar for a thin film magnetic head of a conventional example, and FIG. 6B is a schematic view showing that the cut stack is composed of a plurality of slider bars. And (c) is an enlarged cross-sectional view of portion B of (b).

【図7】 (a)は、薄膜磁気ヘッド用スライダバーの
製造工程において、複数本のスライダバーを厚さ方向で
接するように並べてパターニング及びドライエッチング
する工程を示す平面図であり、(b)は、(a)の一本
のスライダバーの湾曲状態を示す斜視図である。
FIG. 7A is a plan view showing a step of patterning and dry-etching a plurality of slider bars so as to be in contact with each other in the thickness direction in a manufacturing process of a slider bar for a thin film magnetic head; FIG. 7A is a perspective view showing a curved state of one slider bar in (a).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 AlTiC基板 2、3 アルミナ膜 4 素子形成部 10 薄膜磁気ヘッド用基板(ウエハ) 11、12 切断線 20 スライダバー 21 AlTiC基板 22、23 アルミナ膜 24 素子形成部 25 薄膜磁気ヘッド素子 26 エアーベアリング面 51 AlTiC基板 52 アルミナ膜 54 薄膜磁気ヘッド素子 55 スタック 60 スライダバー 61、62 切断線 64 素子形成部 65 薄膜磁気ヘッド素子 66 媒体対向面(エアーベアリング面) 71 AlTiC基板 72 アルミナ膜 d 反り 1 AlTiC substrate 2,3 alumina film 4 Element formation part 10 Substrate (wafer) for thin film magnetic head 11, 12 cutting line 20 slider bar 21 AlTiC substrate 22, 23 Alumina film 24 Element formation part 25 Thin film magnetic head element 26 Air bearing surface 51 AlTiC substrate 52 Alumina film 54 Thin film magnetic head element 55 stack 60 slider bar 61, 62 cutting line 64 element formation part 65 Thin film magnetic head element 66 Medium facing surface (air bearing surface) 71 AlTiC substrate 72 Alumina film d Warp

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 貞芳 香川県高松市古新町8番地の1 松下寿電 子工業株式会社内 (72)発明者 仲神 竜一 香川県高松市古新町8番地の1 松下寿電 子工業株式会社内 (72)発明者 田頭 幸造 香川県高松市古新町8番地の1 松下寿電 子工業株式会社内 Fターム(参考) 5D033 BA51 DA02 DA31 5D042 NA02 PA08 RA04    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Sadayoshi Ito             1 Juden Matsushita, 1-8 Koshinmachi, Takamatsu City, Kagawa Prefecture             Child Industry Co., Ltd. (72) Inventor Ryuichi Nakagami             1 Juden Matsushita, 1-8 Koshinmachi, Takamatsu City, Kagawa Prefecture             Child Industry Co., Ltd. (72) Inventor Kozo Tagashi             1 Juden Matsushita, 1-8 Koshinmachi, Takamatsu City, Kagawa Prefecture             Child Industry Co., Ltd. F-term (reference) 5D033 BA51 DA02 DA31                 5D042 NA02 PA08 RA04

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 板状の非磁性基板と、 前記基板の両面に設けられた10〜100μmの範囲の
膜厚を有するアルミナ膜とを備えることを特徴とする薄
膜磁気ヘッド用基板。
1. A substrate for a thin film magnetic head, comprising a plate-shaped non-magnetic substrate, and an alumina film provided on both surfaces of the substrate and having a film thickness in the range of 10 to 100 μm.
【請求項2】 板状の非磁性基板と、 前記基板の両面に設けられたアルミナ膜と、 前記基板の一方のアルミナ膜の上に形成されている複数
個の薄膜磁気ヘッド素子を含む素子形成部とを備えるこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッド用基板。
2. An element formation including a plate-shaped non-magnetic substrate, alumina films provided on both surfaces of the substrate, and a plurality of thin film magnetic head elements formed on one alumina film of the substrate. And a substrate for a thin-film magnetic head.
【請求項3】 前記アルミナ膜は、10〜100μmの
範囲の膜厚を有することを特徴とする請求項2に記載の
薄膜磁気ヘッド用基板。
3. The thin-film magnetic head substrate according to claim 2, wherein the alumina film has a film thickness in the range of 10 to 100 μm.
【請求項4】 短冊形状の非磁性基板と、 前記基板の互いに対向する2つの面に設けられたアルミ
ナ膜と、 前記基板の一方のアルミナ膜の上に形成されている複数
個の薄膜磁気ヘッド素子を含む素子形成部とを備えるこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッド用スライダバー。
4. A strip-shaped non-magnetic substrate, an alumina film provided on two surfaces of the substrate facing each other, and a plurality of thin film magnetic heads formed on one alumina film of the substrate. A slider bar for a thin film magnetic head, comprising: an element forming portion including an element.
【請求項5】 非磁性基板を用意する工程と、 前記基板の両面にアルミナ膜を成膜する工程と、 前記基板の一方のアルミナ膜の上に複数個の薄膜磁気ヘ
ッド素子を形成する工程と、 前記基板を短冊形状に切断し、該切断面を研削・研磨加
工を行って所定粗さの鏡面に加工する工程とを含むこと
を特徴とする薄膜磁気ヘッド用スライダバーの製造方
法。
5. A step of preparing a non-magnetic substrate, a step of forming an alumina film on both surfaces of the substrate, and a step of forming a plurality of thin film magnetic head elements on one alumina film of the substrate. A step of cutting the substrate into a strip shape, grinding and polishing the cut surface to form a mirror surface having a predetermined roughness, and manufacturing a slider bar for a thin film magnetic head.
【請求項6】 非磁性基板と、 前記基板の互いに対向する2つの面に設けられたアルミ
ナ膜と、 前記基板の一方のアルミナ膜の上に形成されている複数
個の薄膜磁気ヘッド素子を含む素子形成部とを備えるこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
6. A non-magnetic substrate, an alumina film provided on two surfaces of the substrate facing each other, and a plurality of thin film magnetic head elements formed on one alumina film of the substrate. A thin-film magnetic head comprising an element forming portion.
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