JP2003312719A - Cover film for electronic component carrier tape - Google Patents

Cover film for electronic component carrier tape

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JP2003312719A
JP2003312719A JP2002119567A JP2002119567A JP2003312719A JP 2003312719 A JP2003312719 A JP 2003312719A JP 2002119567 A JP2002119567 A JP 2002119567A JP 2002119567 A JP2002119567 A JP 2002119567A JP 2003312719 A JP2003312719 A JP 2003312719A
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JP
Japan
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ethylene
polymer
cover film
carrier tape
electronic component
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Application number
JP2002119567A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Kasahara
洋 笠原
Tokinori Imayama
時憲 今山
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Japan Polyolefins Co Ltd
Original Assignee
Japan Polyolefins Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cover film for an electronic component carrier tape in which the adhesive property between layers composing the cover film is excellent without such an adhesive as an anchor coat agent or the like. <P>SOLUTION: The cover film for the electronic part carrier tape 10 comprises a basic material layer (I) 11 composed of a basic material and a composition layer (II) 12 which is in contact with the basic material layer (I) 11 and is composed of a polyolefinic resin and an olefinic resin composition containing 0.01 to 10 mass part of an epoxy compound having two or more epoxy groups within the molecular and having a molecular weight of 3000 or less to 100 mass part of the resin component including the polyolefinic resin. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品等を収納
したキャリアテープにおいて、その蓋材として用いられ
る電子部品キャリアーテープ用カバーフィルムに関し、
詳しくは、アンカーコート剤等の接着剤を用いることな
く、カバーフィルムを構成する各層間の接着性が優れた
電子部品キャリアーテープ用カバーフィルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cover film for an electronic component carrier tape, which is used as a cover material for a carrier tape containing electronic components and the like,
More specifically, the present invention relates to a cover film for an electronic component carrier tape, which has excellent adhesiveness between layers constituting the cover film without using an adhesive such as an anchor coating agent.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器の小型化に伴い、使用される電
子部品についても小型高性能化が進んでいる。このよう
な電子機器の組立工程においては、プリント基板上に電
子部品を自動的に実装することが行われている。このよ
うな自動実装に供される電子部品は、自動的に順次供給
されるように、テーピング包装されている。
2. Description of the Related Art With the miniaturization of electronic equipment, electronic components used are also becoming smaller and higher in performance. In the assembly process of such electronic devices, electronic components are automatically mounted on a printed circuit board. Electronic components used for such automatic mounting are packaged in taping so that they are automatically and sequentially supplied.

【0003】このようなテーピング包装としては、例え
ば、図6に示すような、電子部品キャリアーテープが使
用されている。この電子部品キャリアーテープ20は、
一定間隔で電子部品30を収納するくぼみ21が形成さ
れたキャリアテープ本体22と、該キャリアテープ本体
22の上面に、両端が長さ方向にヒートシールされたカ
バーフィルム23とから構成されるものである。
As such a taping package, for example, an electronic component carrier tape as shown in FIG. 6 is used. This electronic component carrier tape 20 is
A carrier tape main body 22 having recesses 21 for accommodating electronic components 30 at regular intervals, and a cover film 23 having both ends heat-sealed in the longitudinal direction on the upper surface of the carrier tape main body 22. is there.

【0004】このカバーフィルム23としては、ポリエ
チレンテレフタレート(PET)等の二軸延伸フィルム
からなる基材層24と、該基材層24にアンカーコート
剤からなるアンカーコート層25を介して接着された、
オレフィン系樹脂またはその組成物(以下ポリオレフィ
ン系樹脂ともいう)からなる中間層26と、該中間層2
6に接し、スチレン系樹脂からなるヒートシール層27
とからなるものが、一般的に用いられている。
As the cover film 23, a base material layer 24 made of a biaxially stretched film such as polyethylene terephthalate (PET) is adhered to the base material layer 24 via an anchor coat layer 25 made of an anchor coating agent. ,
An intermediate layer 26 made of an olefin resin or a composition thereof (hereinafter also referred to as a polyolefin resin), and the intermediate layer 2
6 in contact with the heat-sealing layer 27 made of styrene resin
The one consisting of and is commonly used.

【0005】このようなカバーフィルム23およびキャ
リアテープ本体22とからなる電子部品キャリアテープ
20に収納された電子部品30は、カバーフィルム23
を自動剥離装置により剥離した後、自動取出機によりキ
ャリアテープ本体22のくぼみ21から取り出され、プ
リント基板等に実装される。
The electronic component 30 housed in the electronic component carrier tape 20 composed of the cover film 23 and the carrier tape main body 22 as described above is the cover film 23.
After being peeled off by the automatic peeling device, it is taken out from the recess 21 of the carrier tape body 22 by an automatic take-out machine and mounted on a printed circuit board or the like.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このカバーフィルム2
3において、基材層24に使用されるポリエチレンテレ
フタレート(PET)等の二軸延伸フィルムと、中間層
26に使用されるオレフィン系樹脂とは接着性に乏しい
ため、これらはアンカーコート剤を介して積層する必要
がある。しかしながら、このアンカーコート剤には溶剤
が含まれているため、カバーフィルム23の製造の際に
は、揮発した溶剤によって作業環境が悪化するという問
題があった。また、溶剤を取り扱うため、火災予防に細
心の注意を払う必要があった。また、換気設備を整える
必要があり、このような設備に対する負担によって製造
コストが高くなるという問題があった。
This cover film 2
In 3, the biaxially stretched film such as polyethylene terephthalate (PET) used for the base material layer 24 and the olefin resin used for the intermediate layer 26 are poor in adhesiveness, and therefore these are intercalated with an anchor coating agent. Must be stacked. However, since this anchor coating agent contains a solvent, there is a problem that the working environment is deteriorated by the volatilized solvent when the cover film 23 is manufactured. Moreover, since the solvent is used, it is necessary to pay close attention to fire prevention. Further, it is necessary to prepare ventilation equipment, and there is a problem that the manufacturing cost becomes high due to the burden on such equipment.

【0007】よって、本発明の目的は、アンカーコート
剤等の接着剤を用いることなく、カバーフィルムを構成
する各層間の接着性が優れた電子部品キャリアーテープ
用カバーフィルムを提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a cover film for an electronic component carrier tape, which is excellent in the adhesiveness between the respective layers constituting the cover film without using an adhesive such as an anchor coating agent.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の電子
部品キャリアテープ用カバーフィルムは、基材からなる
基材層(I)と、該基材層(I)に接し、ポリオレフィ
ン系樹脂と、該ポリオレフィン系樹脂を含む樹脂成分1
00質量部に対して、分子内にエポキシ基を2個以上有
し、分子量が3000以下であるエポキシ化合物0.0
1〜10質量部とを含有するオレフィン系樹脂組成物か
らなる組成物層(II)とを有することを特徴とする
That is, a cover film for an electronic component carrier tape according to the present invention comprises a base material layer (I) made of a base material, a base material layer (I) being in contact with the base material layer (I), and a polyolefin resin. Resin component 1 containing the polyolefin resin
Epoxy compound 0.0 having 2 or more epoxy groups in the molecule and having a molecular weight of 3000 or less with respect to 00 parts by mass
1 to 10 parts by mass of a composition layer (II) composed of an olefin-based resin composition.

【0009】また、前記組成物層(II)のオレフィン系
樹脂組成物は、樹脂成分としてさらに分子内にエポキシ
基と反応する官能基を有するオレフィン系樹脂を含有す
ることが望ましい。また、本発明の電子部品キャリアテ
ープ用カバーフィルムは、さらに、組成物層(II)に接
するシーラント層(III)を有することが望ましい。
Further, the olefin resin composition of the composition layer (II) preferably further contains, as a resin component, an olefin resin having a functional group which reacts with an epoxy group in the molecule. Further, it is desirable that the cover film for an electronic component carrier tape of the present invention further has a sealant layer (III) in contact with the composition layer (II).

【0010】また、前記ポリオレフィン系樹脂は、エチ
レン(共)重合体(A)100〜10質量%および他の
ポリオレフィン系樹脂(B)0〜90質量%からなり、
前記エチレン(共)重合体(A)が、シングルサイト系
触媒の存在下に製造されたものであり、該エチレン
(共)重合体(A)の(a)密度が0.86〜0.97
g/cm3 、(b)メルトフローレートが0.01〜2
00g/10分であるものであることが望ましい。
The polyolefin resin comprises 100 to 10% by mass of ethylene (co) polymer (A) and 0 to 90% by mass of another polyolefin resin (B).
The ethylene (co) polymer (A) is produced in the presence of a single site catalyst, and the ethylene (co) polymer (A) has a (a) density of 0.86 to 0.97.
g / cm 3 , (b) melt flow rate of 0.01 to 2
It is preferably 00 g / 10 minutes.

【0011】また、前記エチレン(共)重合体(A)
は、下記(a)から(d)の要件を満足することが望ま
しい。 (a)密度が0.86〜0.97g/cm3 、 (b)メルトフローレートが0.01〜200g/10
分、 (c)分子量分布(Mw/Mn)が1.5〜4.5、 (d)連続昇温溶出分別法(TREF)による溶出温度
−溶出量曲線の積分溶出曲線から求めた全体の25%が
溶出する温度T25と全体の75%が溶出する温度T75
の差T75−T25および密度dが、下記(式1)の関係を
満足すること (式1) T75−T25≦−670×d+644
Further, the ethylene (co) polymer (A)
Preferably satisfies the following requirements (a) to (d). (A) Density of 0.86 to 0.97 g / cm 3 , (b) Melt flow rate of 0.01 to 200 g / 10
Min, (c) molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.5 to 4.5, (d) total 25 determined from the integrated elution curve of elution temperature-elution amount curve by continuous temperature rising elution fractionation method (TREF) The difference T 75 -T 25 between the temperature T 25 at which 100% elutes and the temperature T 75 at which 75% of the whole elutes, and the density d satisfy the following equation (equation 1) (equation 1) T 75 -T 25 ≤ -670 x d + 644

【0012】また、前記エチレン(共)重合体(A)
は、さらに下記(e)の要件を満足することが望まし
い。 (e)連続昇温溶出分別法(TREF)による溶出温度
−溶出量曲線の積分溶出曲線から求めた全体の25%が
溶出する温度T25と全体の75%が溶出する温度T75
の差T75−T25および密度dが、下記(式2)の関係を
満足すること (式2) d<0.950g/cm3 のとき T75−T25≧−300×d+285 d≧0.950g/cm3 のとき T75−T25≧0
Further, the ethylene (co) polymer (A)
Preferably further satisfies the following requirement (e). (E) The difference between the temperature T 25 at which 25% of the whole is eluted and the temperature T 75 at which 75% of the whole is obtained, which is obtained from the integral elution curve of the elution temperature-elution amount curve by the continuous temperature rising elution fractionation method (TREF) T 75 -T 25 and density d satisfy the following to satisfy the relation of (formula 2) (formula 2) d <when 0.950g / cm 3 T 75 -T 25 ≧ -300 × d + 285 d ≧ 0.950g / Cm 3 T 75 −T 25 ≧ 0

【0013】エチレン(共)重合体(A)は、さらに下
記(f)および(g)の要件を満足するエチレン(共)
重合体(A1)、または、下記(h)および(i)の要
件を満足するエチレン(共)重合体(A2)であること
が望ましい。(f)25℃におけるオルソジクロロベン
ゼン(ODCB)可溶分量X(質量%)、密度dおよび
メルトフローレート(MFR)が下記(式3)および
(式4)の関係を満足すること (式3)d−0.008logMFR≧0.93の場合 X<2.0 (式4)d−0.008logMFR<0.93の場合 X<9.8×103×(0.9300−d+0.008
logMFR)2+2.0 (g)連続昇温溶出分別法(TREF)による溶出温度
−溶出量曲線のピークが複数個存在すること (h)連続昇温溶出分別法(TREF)による溶出温度
−溶出量曲線のピークが一つであること (i)融点ピークを1ないし2個有し、かつそのうち最
も高い融点Tmlと密度dが、下記(式5)の関係を満足
すること (式5) Tml≧150×d−19
The ethylene (co) polymer (A) is an ethylene (co) polymer which further satisfies the following requirements (f) and (g):
The polymer (A1) or the ethylene (co) polymer (A2) satisfying the following requirements (h) and (i) is preferable. (F) The ortho-dichlorobenzene (ODCB) -soluble content X (mass%), density d and melt flow rate (MFR) at 25 ° C. satisfy the following relationships (formula 3) and (formula 4) (formula 3). When d-0.008logMFR ≧ 0.93, X <2.0 (Equation 4) When d-0.008logMFR <0.93, X <9.8 × 10 3 × (0.9300-d + 0.008)
logMFR) 2 +2.0 (g) Elution temperature by continuous temperature-rising elution fractionation method (TREF) There are multiple peaks on the curve (h) Elution temperature by continuous temperature-rising elution fractionation method (TREF) -elution The quantity curve has only one peak (i) has one or two melting point peaks, and the highest melting point T ml and the density d satisfy the following expression (expression 5) (expression 5). T ml ≧ 150 × d-19

【0014】また、前記エチレン(共)重合体(A2)
は、さらに下記(j)の要件を満足することが望まし
い。 (j)メルトテンション(MT)とメルトフローレート
(MFR)が、下記(式6)を満足すること (式6) logMT≦−0.572×logMFR+
0.3 また、前記オレフィン系樹脂組成物中のハロゲン含有量
が10ppm以下であることが望ましい。
Further, the ethylene (co) polymer (A2)
Preferably further satisfies the following requirement (j). (J) Melt tension (MT) and melt flow rate (MFR) satisfy the following (formula 6) (formula 6) logMT ≦ −0.572 × logMFR +
0.3 Further, the halogen content in the olefin resin composition is preferably 10 ppm or less.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
図1は、本発明の電子部品キャリアテープ用カバーフィ
ルムの一例を示す断面図である。この電子部品キャリア
テープ用カバーフィルム10は、基材からなる基材層
(I)11と、該基材層(I)11に接する、ポリオレ
フィン系樹脂を含む樹脂成分およびエポキシ化合物
(C)を含有するオレフィン系樹脂組成物からなる組成
物層(II)12とで概略構成されるものである。ここ
で、ポリオレフィン系樹脂を含む樹脂成分とは、後述す
るポリオレフィン系樹脂単独、もしくは該ポリオレフィ
ン系樹脂および後述するオレフィン系樹脂(D)を含有
する組成物のことである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below.
FIG. 1 is a sectional view showing an example of a cover film for an electronic component carrier tape of the present invention. This electronic component carrier tape cover film 10 contains a base material layer (I) 11 made of a base material, and a resin component containing a polyolefin resin and an epoxy compound (C) which are in contact with the base material layer (I) 11. And a composition layer (II) 12 made of an olefin resin composition. Here, the resin component containing a polyolefin-based resin refers to a polyolefin-based resin described below alone or a composition containing the polyolefin-based resin and an olefin-based resin (D) described below.

【0016】本発明における基材層(I)に用いられる
基材とは、フィルムまたはシート、板状体等を包含する
ものである。このような基材としては、例えば、ポリプ
ロピレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹
脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体鹸化物、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリカーボネート等のプラスチックフイルム
またはシート(これらの延伸物、印刷物、金属等の蒸着
物等の二次加工したフイルム、シートを包含する)、ア
ルミニウム、鉄、銅、これらを主成分とする合金等の金
属箔または金属板、セロファン、紙、織布、不織布等が
用いられる。
The base material used for the base material layer (I) in the present invention includes a film or sheet, a plate-like body and the like. Examples of such a substrate include polypropylene-based resins, polyamide-based resins, polyester-based resins, saponified ethylene-vinyl acetate copolymers, polyvinylidene chloride, plastic films or sheets such as polycarbonate (these stretched products and printed materials). , Secondary processed films such as metal evaporated materials, and sheets), aluminum, iron, copper, metal foils or plates such as alloys containing these as the main components, cellophane, paper, woven cloth, non-woven cloth, etc. Is used.

【0017】中でも、電子部品キャリアテープ用カバー
フィルム10用の基材としては、耐熱性、耐水性に優れ
ることから、ポリエチレンテレフタレート(PET)等
のポリエステル系樹脂、ナイロン6等のポリアミド系樹
脂およびポリプロピレン系樹脂の二軸延伸フィルムが好
適に用いられる。
Among them, as the base material for the cover film 10 for the electronic component carrier tape, polyester resin such as polyethylene terephthalate (PET), polyamide resin such as nylon 6 and polypropylene are excellent in heat resistance and water resistance. A biaxially stretched film of a system resin is preferably used.

【0018】本発明における組成物層(II)は、ヒート
シールによって電子部品キャリアーテープの本体にカバ
ーフィルムを接着するための層であるとともに、ヒート
シール時に組成物層(II)とキャリアテープ本体との界
面にかかる熱と圧力を均一にし、組成物層(II)とキャ
リアテープ本体との間のヒートシール強度が均一になる
ようにするための層である。
The composition layer (II) in the present invention is a layer for adhering the cover film to the body of the electronic component carrier tape by heat sealing, and at the time of heat sealing the composition layer (II) and the carrier tape body. Is a layer for making the heat and pressure applied to the interface of (1) uniform and for making the heat seal strength between the composition layer (II) and the carrier tape body uniform.

【0019】組成物層(II)のポリオレフィン系樹脂と
しては、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、線
状低密度ポリエチレン、高圧ラジカル法によって得られ
るエチレン(共)重合体(以下エチレン系重合体とい
う)、プロピレン系重合体、またはこれらの2種以上か
らなる混合物などが挙げられる。プロピレン系重合体と
しては、プロピレン単独重合体、プロピレンとエチレン
等の他のα−オレフィンとのランダム共重合体、ブロッ
ク共重合体等が挙げられる。
As the polyolefin resin of the composition layer (II), high density polyethylene, medium density polyethylene, linear low density polyethylene, ethylene (co) polymer obtained by the high pressure radical method (hereinafter referred to as ethylene polymer) , A propylene-based polymer, or a mixture of two or more thereof. Examples of the propylene polymer include a propylene homopolymer, a random copolymer of propylene and another α-olefin such as ethylene, and a block copolymer.

【0020】エチレン系重合体としては、後述のエチレ
ン(共)重合体(A)とは異なる(重複しない)、従来
公知のチーグラー系触媒あるいはフィリップス触媒(以
下、両者を含めてチーグラー型触媒と記す)あるいはメ
タロセン触媒を用いて重合される高密度ポリエチレン、
中密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレンおよび超
低密度ポリエチレン;高圧ラジカル法によって得られる
エチレン系樹脂などが挙げられる。これらは、後述のエ
チレン(共)重合体(A)より一般的には分子量分布あ
るいは組成分布が広いものである。
The ethylene polymer is different from (but does not overlap with) the ethylene (co) polymer (A) described later, and is a conventionally known Ziegler-type catalyst or Phillips catalyst (hereinafter, both are referred to as Ziegler-type catalyst). ) Or high density polyethylene polymerized using a metallocene catalyst,
Examples thereof include medium density polyethylene, linear low density polyethylene and ultra low density polyethylene; and ethylene resins obtained by the high pressure radical method. These generally have a broader molecular weight distribution or composition distribution than the ethylene (co) polymer (A) described below.

【0021】上記チーグラー型触媒による高密度ポリエ
チレン(HDPE)、中密度ポリエチレン(MDP
E)、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)とは、密
度が0.91〜0.97g/cm3 、好ましくは0.9
1〜0.96g/cm3 、より好ましくは0.91〜
0.94g/cm3 の範囲のものであり、MFRは0.
01〜200g/10分、好ましくは0.05〜100
g/10分、さらに好ましくは0.1〜80g/10分
の範囲で選択される。
High-density polyethylene (HDPE), medium-density polyethylene (MDP) using the above Ziegler type catalyst
E) and linear low density polyethylene (LLDPE) have a density of 0.91 to 0.97 g / cm 3 , preferably 0.9.
1 to 0.96 g / cm 3 , more preferably 0.91 to
It is in the range of 0.94 g / cm 3 and has an MFR of 0.
01-200 g / 10 minutes, preferably 0.05-100
g / 10 minutes, more preferably 0.1-80 g / 10 minutes.

【0022】上記チーグラー型触媒による超低密度ポリ
エチレン(VLDPE)とは、密度が0.86〜0.9
1g/cm3 未満、好ましくは0.88〜0.905g
/cm3 、MFRが0.01〜200g/10分、好ま
しくは0.1〜100g/10分、さらに好ましくは
0.1〜80g/10分の範囲で選択されるものであ
る。該超低密度ポリエチレン(VLDPE)は、線状低
密度ポリエチレン(LLDPE)とエチレン(共)重合
体ゴム(EPR、EPDM)との中間の性状を有してお
り、示差走査熱量測定法(DSC)による最大ピーク温
度(Tm)が60℃以上、好ましくは100℃以上、か
つ沸騰n−ヘキサン不溶分10質量%以上の性状を有す
る特定のエチレン(共)重合体である。
The ultra-low density polyethylene (VLDPE) using the above Ziegler type catalyst has a density of 0.86 to 0.9.
Less than 1 g / cm 3 , preferably 0.88 to 0.905 g
/ Cm 3, MFR is 0.01 to 200 g / 10 min, preferably 0.1 to 100 g / 10 min, more preferably selected in the range of 0.1~80g / 10 min. The ultra-low density polyethylene (VLDPE) has an intermediate property between linear low-density polyethylene (LLDPE) and ethylene (co) polymer rubber (EPR, EPDM), and has a differential scanning calorimetry (DSC). Is a specific ethylene (co) polymer having a maximum peak temperature (Tm) of 60 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or higher, and a boiling n-hexane insoluble content of 10% by mass or more.

【0023】超低密度ポリエチレン(VLDPE)は、
少なくともチタンおよび/またはバナジウムを含有する
固体触媒成分と有機アルミニウム化合物、あるいはメタ
ロセン系触媒を用いて重合される。このような超低密度
ポリエチレン(VLDPE)は、線状低密度ポリエチレ
ン(LLDPE)が示す高結晶部分とエチレン(共)重
合体ゴムが示す非晶部分とを合わせ持つ樹脂であって、
前者の特徴である機械的強度、耐熱性等と、後者の特徴
であるゴム状弾性、耐低温衝撃性などがバランスよく共
存しているものである。
Ultra low density polyethylene (VLDPE) is
Polymerization is performed using a solid catalyst component containing at least titanium and / or vanadium and an organoaluminum compound or a metallocene catalyst. Such ultra-low density polyethylene (VLDPE) is a resin having both a high crystalline portion represented by linear low density polyethylene (LLDPE) and an amorphous portion represented by an ethylene (co) polymer rubber,
The former features such as mechanical strength and heat resistance, and the latter features such as rubber-like elasticity and low-temperature impact resistance coexist in a well-balanced manner.

【0024】上記エチレン系重合体におけるα−オレフ
ィンとしては、炭素数が3〜12、好ましくは3〜10
のものであり、具体的には、プロピレン、1−ブテン、
4−メチル−1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテ
ン、1−デセン、1−ドデセンなどが挙げられる。ま
た、これらのα−オレフィンの含有量は、合計で通常3
〜40モル%の範囲で選択されることが好ましい。
The α-olefin in the above ethylene polymer has 3 to 12 carbon atoms, preferably 3 to 10 carbon atoms.
Specifically, propylene, 1-butene,
4-methyl-1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene and the like can be mentioned. The total content of these α-olefins is usually 3
It is preferably selected in the range of ˜40 mol%.

【0025】また、組成物層(II)において好ましいポ
リオレフィン系樹脂としては、エチレン(共)重合体
(A)100〜10質量%および他のポリオレフィン系
樹脂(B)0〜90質量%からなるものが挙げられる。
ここで、組成物層(II)に使用されるエチレン(共)重
合体(A)は、シングルサイト系触媒の存在下に製造さ
れたものであり、該エチレン(共)重合体(A)の
(a)密度は0.86〜0.97g/cm3 、(b)メ
ルトフローレートは0.01〜200g/10分であ
る。
The preferred polyolefin resin in the composition layer (II) comprises 100 to 10% by mass of the ethylene (co) polymer (A) and 0 to 90% by mass of another polyolefin resin (B). Is mentioned.
Here, the ethylene (co) polymer (A) used in the composition layer (II) is produced in the presence of a single-site catalyst, and the ethylene (co) polymer (A) (A) The density is 0.86 to 0.97 g / cm 3 , and (b) the melt flow rate is 0.01 to 200 g / 10 minutes.

【0026】エチレン(共)重合体(A)は、エチレン
を単独重合またはエチレンと炭素数3〜20、好ましく
は炭素数3〜12のα−オレフィンとを共重合させるこ
とにより得られるものである。上記エチレン(共)重合
体(A)における炭素数3〜12のα−オレフィンとし
ては、プロピレン、1−ペンテン、4−メチル−1−ペ
ンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1
−ドデセンなどが挙げられる。また、これらα−オレフ
ィンの含有量は、合計で通常30モル%以下、好ましく
は3〜20モル%以下の範囲で選択されることが望まし
い。
The ethylene (co) polymer (A) is obtained by homopolymerizing ethylene or copolymerizing ethylene with an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms, preferably 3 to 12 carbon atoms. . Examples of the α-olefin having 3 to 12 carbon atoms in the ethylene (co) polymer (A) include propylene, 1-pentene, 4-methyl-1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1
-Examples include dodecene. Further, it is desirable that the total content of these α-olefins is selected in the range of usually 30 mol% or less, preferably 3 to 20 mol% or less.

【0027】エチレン(共)重合体(A)の(a)密度
は、0.86〜0.97g/cm3の範囲であり、好ま
しくは0.91〜0.95g/cm3 、さらに好ましく
は0.91〜0.94g/cm3 の範囲である。密度が
0.86g/cm3 未満では、剛性(腰の強さ)、耐熱
性が劣るものとなる。また、密度が0.97g/cm 3
を超えると、引裂強度、耐衝撃性等が不十分となる。
(A) Density of ethylene (co) polymer (A)
Is 0.86 to 0.97 g / cm3Range and preferred
Specifically 0.91 to 0.95 g / cm3 , More preferably
Is 0.91 to 0.94 g / cm3 Is the range. Density is
0.86 g / cm3 Less than, stiffness (waist strength), heat resistance
It becomes inferior in sex. Also, the density is 0.97 g / cm 3 
If it exceeds, the tear strength and impact resistance will be insufficient.

【0028】エチレン(共)重合体(A)の(b)メル
トフローレート(以下、MFRと記す)は、0.01〜
200g/10分の範囲であり、好ましくは0.1〜1
00g/10分、さらに好ましくは1.0〜80g/分
の範囲である。MFRが0.01g/10分未満では、
成形加工性が劣るものとなる。また、MFRが200g
/10分を超えると、引裂強度、耐衝撃性等が劣るもの
となる。
The (b) melt flow rate (hereinafter referred to as MFR) of the ethylene (co) polymer (A) is 0.01 to.
The range is 200 g / 10 minutes, preferably 0.1 to 1
00 g / 10 minutes, more preferably 1.0 to 80 g / minute. If the MFR is less than 0.01 g / 10 minutes,
Molding workability is poor. Also, MFR is 200g
If it exceeds / 10 minutes, the tear strength and impact resistance will be poor.

【0029】また、エチレン(共)重合体(A)は、下
記(c)および(d)の要件をさらに満足するものであ
ることが好ましい。エチレン(共)重合体(A)の
(c)分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは1.5
〜4.5、より好ましくは2.0〜4.0、さらに好ま
しくは2.5〜3.0の範囲である。Mw/Mnが1.
5未満では、成形加工性が劣るものとなる。Mw/Mn
が4.5を超えると、引裂強度、耐衝撃性等が不十分と
なるおそれがある。ここで、エチレン(共)重合体の分
子量分布(Mw/Mn)は、ゲルパーミエイションクロ
マトグラフィー(GPC)により重量平均分子量(M
w)と数平均分子量(Mn)を求め、それらの比(Mw
/Mn)を算出することにより求めることができる。
The ethylene (co) polymer (A) preferably further satisfies the requirements (c) and (d) below. The (c) molecular weight distribution (Mw / Mn) of the ethylene (co) polymer (A) is preferably 1.5.
To 4.5, more preferably 2.0 to 4.0, and still more preferably 2.5 to 3.0. Mw / Mn is 1.
When it is less than 5, the moldability becomes poor. Mw / Mn
If it exceeds 4.5, the tear strength, impact resistance, etc. may be insufficient. Here, the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the ethylene (co) polymer is determined by gel permeation chromatography (GPC) to determine the weight average molecular weight (Mw).
w) and the number average molecular weight (Mn), and their ratio (Mw
It can be obtained by calculating / Mn).

【0030】エチレン(共)重合体(A)は、例えば、
図2に示すように、(d)連続昇温溶出分別法(TRE
F)による溶出温度−溶出量曲線の積分溶出曲線から求
めた全体の25%が溶出する温度T25と全体の75%が
溶出する温度T75との差T75−T25および密度dが、下
記(式1)の関係を満足するものが好ましい。 (式1) T75−T25≦−670×d+644 T75−T25と密度dが上記(式1)の関係を満足しない
場合には、低温ヒートシール性が劣るものとなるおそれ
がある。
The ethylene (co) polymer (A) is, for example,
As shown in FIG. 2, (d) continuous temperature rising elution fractionation method (TRE
The difference T 75 -T 25 and the density d between the temperature T 25 at which 25% of the whole is eluted and the temperature T 75 at which 75% of the whole is obtained, which is obtained from the integrated elution curve of the elution temperature-elution amount curve by F), are Those satisfying the relationship of the following (formula 1) are preferable. (Equation 1) When T 75 −T 25 ≦ −670 × d + 644 T 75 −T 25 and the density d do not satisfy the relation of the above (Equation 1), the low temperature heat sealability may be deteriorated.

【0031】このTREFの測定方法は下記の通りであ
る。まず、試料を酸化防止剤(例えば、ブチルヒドロキ
シトルエン)を加えたODCBに試料濃度が0.05質
量%となるように加え、140℃で加熱溶解する。この
試料溶液5mlを、ガラスビーズを充填したカラムに注
入し、0.1℃/分の冷却速度で25℃まで冷却し、試
料をガラスビーズ表面に沈着する。次に、このカラムに
ODCBを一定流量で流しながら、カラム温度を50℃
/hrの一定速度で昇温しながら、試料を順次溶出させ
る。この際、溶剤中に溶出する試料の濃度は、メチレン
の非対称伸縮振動の波数2925cm-1に対する吸収を
赤外検出機で測定することにより連続的に検出される。
この値から、溶液中のエチレン(共)重合体の濃度を定
量分析し、溶出温度と溶出速度の関係を求める。TRE
F分析によれば、極少量の試料で、温度変化に対する溶
出速度の変化を連続的に分析出来るため、分別法では検
出できない比較的細かいピークの検出が可能である。
The method of measuring TREF is as follows. First, a sample is added to ODCB to which an antioxidant (for example, butylhydroxytoluene) is added so that the sample concentration becomes 0.05% by mass, and heated and dissolved at 140 ° C. 5 ml of this sample solution is injected into a column filled with glass beads and cooled to 25 ° C. at a cooling rate of 0.1 ° C./min to deposit the sample on the surface of the glass beads. Next, while flowing ODCB at a constant flow rate through this column, the column temperature was raised to 50 ° C.
The sample is sequentially eluted while the temperature is raised at a constant rate of / hr. At this time, the concentration of the sample eluted in the solvent is continuously detected by measuring the absorption of the asymmetric stretching vibration of methylene at a wave number of 2925 cm −1 with an infrared detector.
From this value, the concentration of the ethylene (co) polymer in the solution is quantitatively analyzed to determine the relationship between the elution temperature and the elution rate. TRE
According to the F analysis, the change in the elution rate with respect to the temperature change can be continuously analyzed with an extremely small amount of sample, and thus relatively fine peaks that cannot be detected by the fractionation method can be detected.

【0032】また、エチレン(共)重合体(A)は、さ
らに、(e)連続昇温溶出分別法(TREF)による溶
出温度−溶出量曲線の積分溶出曲線から求めた全体の2
5%が溶出する温度T25と全体の75%が溶出する温度
75との差T75−T25および密度dが、下記(式2)の
関係を満足することが好ましい。 (式2) d<0.950g/cm3 のとき T75−T25≧−300×d+285 d≧0.950g/cm3 のとき T75−T25≧0 T75−T25と密度dが上記(式2)の関係を満足するこ
とにより、さらにヒートシール強度と耐熱性がより向上
する。
Further, the ethylene (co) polymer (A) was further subjected to (e) the total eluate 2 obtained from the integral elution curve of the elution temperature-elution amount curve by the continuous temperature rising elution fractionation method (TREF).
The difference T 75 -T 25 and the density d of the temperature T 75 5% 75% of the total temperature T 25 eluting elutes preferably satisfy the following relationship (Equation 2). (Equation 2) When d <0.950 g / cm 3 , T 75 −T 25 ≧ −300 × d + 285 When d ≧ 0.950 g / cm 3 T 75 −T 25 ≧ 0 T 75 −T 25 and the density d is By satisfying the relationship of the above (formula 2), the heat sealing strength and heat resistance are further improved.

【0033】エチレン(共)重合体(A)は、さらに後
述の(f)および(g)の要件を満足するエチレン
(共)重合体(A1)、または、さらに後述の(h)お
よび(i)の要件を満足するエチレン(共)重合体(A
2)のいずれかであることが好ましい。
The ethylene (co) polymer (A) is an ethylene (co) polymer (A1) which further satisfies the requirements (f) and (g) described later, or (h) and (i) described further below. Ethylene (co) polymer (A
It is preferable that it is either of 2).

【0034】エチレン(共)重合体(A1)の(f)2
5℃におけるODCB可溶分の量X(質量%)と密度d
およびMFRは、下記(式3)および(式4)の関係を
満足しており、 (式3)d−0.008logMFR≧0.93の場
合、 X<2.0 (式4)d−0.008logMFR<0.93の場
合、 X<9.8×103×(0.9300−d+0.008
logMFR)2+2.0 の関係を満足しており、好ましくは、d−0.008l
ogMFR≧0.93の場合、 X<1.0 d−0.008logMFR<0.93の場合、 X<7.4×103×(0.9300−d+0.008
logMFR)2+2.0 の関係を満足しており、さらに好ましくは、 d−0.008logMFR≧0.93の場合、 X<0.5 d−0.008logMFR<0.93の場合、 X<5.6×103×(0.9300−d+0.008
logMFR)2+2.0 の関係を満足している。
(F) 2 of ethylene (co) polymer (A1)
ODCB soluble content X (mass%) and density d at 5 ° C
And MFR satisfy the relationship of the following (formula 3) and (formula 4), and when (formula 3) d-0.008logMFR ≧ 0.93, X <2.0 (formula 4) d-0 When 0.008 log MFR <0.93, X <9.8 × 10 3 × (0.9300−d + 0.008)
logMFR) 2 +2.0, preferably d-0.008l
In the case of ogMFR ≧ 0.93, X <1.0 d−0.008 In the case of log MFR <0.93, X <7.4 × 10 3 × (0.9300−d + 0.008
logMFR) 2 +2.0, more preferably, if d-0.008logMFR ≧ 0.93, X <0.5 If d-0.008logMFR <0.93, X <5 .6 × 10 3 × (0.9300-d + 0.008
The relationship of logMFR) 2 +2.0 is satisfied.

【0035】ここで、上記25℃におけるODCB可溶
分の量Xは、下記の方法により測定される。試料0.5
gを20mlのODCBにて135℃で2時間加熱し、
試料を完全に溶解した後、25℃まで冷却する。この溶
液を25℃で一晩放置後、テフロン(登録商標)製フィ
ルターでろ過してろ液を採取する。試料溶液であるこの
ろ液を赤外分光器によりメチレンの非対称伸縮振動の波
数2925cm-1付近の吸収ピーク強度を測定し、予め
作成した検量線により試料濃度を算出する。この値よ
り、25℃におけるODCB可溶分量が求まる。
Here, the amount X of the ODCB soluble component at 25 ° C. is measured by the following method. Sample 0.5
g in 20 ml ODCB at 135 ° C. for 2 hours,
After the sample is completely dissolved, it is cooled to 25 ° C. After leaving this solution at 25 ° C. overnight, it is filtered with a Teflon (registered trademark) filter to collect a filtrate. The absorption peak intensity of this filtrate, which is a sample solution, near the wave number 2925 cm −1 of the asymmetric stretching vibration of methylene is measured by an infrared spectroscope, and the sample concentration is calculated from a calibration curve prepared in advance. From this value, the ODCB soluble content at 25 ° C. can be obtained.

【0036】25℃におけるODCB可溶分は、エチレ
ン(共)重合体に含まれる高分岐度成分および低分子量
成分であり、耐熱性の低下や成形体表面のべたつきの原
因となり、衛生性の問題や成形体内面のブロッキングの
原因となる為、この含有量は少ないことが望ましい。O
DCB可溶分の量は、共重合体全体のα−オレフィンの
含有量および分子量、即ち、密度とMFRに影響され
る。従ってこれらの指標である密度およびMFRとOD
CB可溶分の量が上記の関係を満たすことは、共重合体
全体に含まれるα−オレフィンの偏在が少ないことを示
す。
The ODCB-soluble component at 25 ° C. is a highly branched component and a low molecular weight component contained in the ethylene (co) polymer, which causes deterioration of heat resistance and stickiness of the surface of the molded product, which is a hygienic problem. It is desirable that the content is small, because it causes the blocking of the inner surface of the molded body. O
The amount of DCB-soluble matter is influenced by the content and molecular weight of α-olefin in the entire copolymer, that is, the density and MFR. Therefore, these indices are density and MFR and OD
When the amount of the CB-soluble component satisfies the above relationship, it means that the uneven distribution of α-olefin contained in the entire copolymer is small.

【0037】また、エチレン(共)重合体(A1)は、
(g)連続昇温溶出分別法(TREF)により求めた溶
出温度−溶出量曲線において、ピークが複数個存在する
ものである。この複数のピーク温度の高温側のピーク温
度が85℃から100℃の間に存在することが特に好ま
しい。このピークが存在することにより、融点が高くな
り、また結晶化度が上昇し、成形体の耐熱性および剛性
が向上する。
The ethylene (co) polymer (A1) is
(G) A plurality of peaks are present in the elution temperature-elution amount curve obtained by the continuous temperature rising elution fractionation method (TREF). It is particularly preferable that the peak temperature on the high temperature side of the plurality of peak temperatures exists between 85 ° C and 100 ° C. The presence of this peak raises the melting point, raises the crystallinity, and improves the heat resistance and rigidity of the molded body.

【0038】ここで、エチレン(共)重合体(A1)
は、図3に示されるように、連続昇温溶出分別法(TR
EF)により求めた溶出温度−溶出量曲線において実質
的にピークが複数個の特殊なエチレン(共)重合体であ
る。一方、図4のエチレン(共)重合体は、連続昇温溶
出分別法(TREF)により求めた溶出温度−溶出量曲
線において実質的にピークを1個有するエチレン(共)
重合体であり、従来の典型的なメタロセン系触媒による
エチレン(共)重合体がこれに該当する。
Here, the ethylene (co) polymer (A1)
Is a continuous temperature rising elution fractionation method (TR
It is a special ethylene (co) polymer having a plurality of peaks substantially in the elution temperature-elution amount curve determined by EF). On the other hand, the ethylene (co) polymer in FIG. 4 has substantially one peak in the elution temperature-elution amount curve obtained by the continuous temperature rising elution fractionation method (TREF).
This is a polymer, and an ethylene (co) polymer with a typical conventional metallocene catalyst corresponds to this.

【0039】本発明におけるエチレン(共)重合体(A
2)は、図5に示すように、(h)連続昇温溶出分別法
(TREF)による溶出温度−溶出量曲線のピークが一
つである。
In the present invention, the ethylene (co) polymer (A
In 2), as shown in FIG. 5, (h) the elution temperature-elution amount curve by the continuous temperature rising elution fractionation method (TREF) has one peak.

【0040】また、本発明におけるエチレン(共)重合
体(A2)は、(i)融点ピークを1ないし2個以上有
し、かつそのうち最も高い融点Tmlと密度dが、下記
(式5)の関係を満足するものである。 (式5) Tml≧150×d−19 融点Tm1と密度dが上記(式5)の関係を満足しない
と、耐熱性が劣るものとなる虞がある。
Further, the ethylene (co) polymer (A2) in the present invention has (i) one or more melting point peaks, and the highest melting point T ml and density d among them are as follows (formula 5). Satisfy the relationship. (Equation 5) T ml ≧ 150 × d−19 If the melting point T m1 and the density d do not satisfy the relationship of the above (Equation 5), the heat resistance may deteriorate.

【0041】また、エチレン(共)重合体(A2)の中
でも、さらに下記(j)の要件を満足するエチレン
(共)重合体が好適である。(j)メルトテンション
(MT)とメルトフローレート(MFR)が、下記(式
6)の関係を満足すること (式6) logMT≦−0.572×logMFR+
0.3 MTとMFRが上記(式6)の関係を満足することによ
り、フィルム成形等の成形加工性が良好なものとなる。
Among the ethylene (co) polymers (A2), ethylene (co) polymers further satisfying the requirement (j) below are preferable. (J) Melt tension (MT) and melt flow rate (MFR) satisfy the relationship of (Equation 6) below (Equation 6) logMT ≦ −0.572 × logMFR +
When 0.3 MT and MFR satisfy the relationship of the above (formula 6), moldability such as film molding becomes good.

【0042】ここで、エチレン(共)重合体(A2)
は、図5に示されるように、TREFピークが1つであ
るものの、従来の典型的なメタロセン系触媒によるエチ
レン(共)重合体は上記(式2)を満足せず、従来の典
型的なメタロセン系触媒によるエチレン(共)重合体と
は区別されるものである。
Here, the ethylene (co) polymer (A2)
As shown in FIG. 5, although the number of TREF peaks is one, the ethylene (co) polymer with the conventional typical metallocene-based catalyst does not satisfy the above (formula 2), and It is distinguished from an ethylene (co) polymer using a metallocene catalyst.

【0043】エチレン(共)重合体(A)は、シングル
サイト系触媒の存在下に、エチレンを単独重合またはエ
チレンとα−オレフィンとを共重合させて得られる直鎖
状のエチレン(共)重合体である。このような直鎖状の
エチレン(共)重合体は、基材等に対する接着性に優れ
ている。また、分子量分布および組成分布が狭いため、
機械的特性に優れ、ヒートシール性、耐熱ブロッキング
性等に優れ、しかも耐熱性の良い重合体である。
The ethylene (co) polymer (A) is a linear ethylene (co) polymer obtained by homopolymerizing ethylene or copolymerizing ethylene and α-olefin in the presence of a single site catalyst. It is united. Such a linear ethylene (co) polymer has excellent adhesiveness to a substrate or the like. In addition, since the molecular weight distribution and composition distribution are narrow,
It is a polymer with excellent mechanical properties, heat sealing properties, heat blocking properties, and heat resistance.

【0044】本発明におけるシングルサイト系触媒とし
ては、従来の典型的なメタロセン触媒、CGC触媒等の
公知の触媒によって得られるものでも差し支えないが、
特に、エチレン(共)重合体(A)は、特に以下のa1
〜a4の化合物を混合して得られる触媒で製造すること
が望ましい。 a1:一般式Me11 p2 q(OR3r1 4-p-q-r で表
される化合物(式中Me1 はジルコニウム、チタン、ハ
フニウムを示し、R1 およびR3 はそれぞれ炭素数1〜
24の炭化水素基、R2 は、2,4−ペンタンジオナト
配位子またはその誘導体、ベンゾイルメタナト配位子、
ベンゾイルアセトナト配位子またはその誘導体、X1
ハロゲン原子を示し、p、qおよびrはそれぞれ0≦p
≦4、0≦q≦4、0≦r≦4、0≦p+q+r≦4の
範囲を満たす整数である) a2:一般式Me24 m(OR5n2 z-m-n で表される
化合物(式中Me2 は周期律表第I〜III 族元素、R4
およびR5 はそれぞれ炭素数1〜24の炭化水素基、X
2 はハロゲン原子または水素原子(ただし、X2 が水素
原子の場合はMe2 は周期律表第III 族元素の場合に限
る)を示し、zはMe2 の価数を示し、mおよびnはそ
れぞれ0≦m≦z、0≦n≦zの範囲を満たす整数であ
り、かつ、0≦m+n≦zである) a3:共役二重結合を持つ有機環状化合物 a4:Al−O−Al結合を含む変性有機アルミニウム
オキシ化合物および/またはホウ素化合物
The single-site catalyst in the present invention may be one obtained by a known catalyst such as a typical conventional metallocene catalyst or CGC catalyst,
In particular, the ethylene (co) polymer (A) has the following a1
It is desirable to produce with a catalyst obtained by mixing the compounds of a4. a1: a compound represented by the general formula Me 1 R 1 p R 2 q (OR 3 ) r X 1 4-pqr (wherein Me 1 represents zirconium, titanium, and hafnium, and R 1 and R 3 are each a carbon number). 1 to
24 hydrocarbon groups, R 2 is 2,4-pentanedionato ligand or a derivative thereof, benzoylmethanato ligand,
A benzoylacetonato ligand or a derivative thereof, X 1 represents a halogen atom, and p, q, and r are each 0 ≦ p
≤4, 0 ≤ q ≤ 4, 0 ≤ r ≤ 4, 0 ≤ p + q + r ≤ 4) a2: a compound represented by the general formula Me 2 R 4 m (OR 5 ) n X 2 zmn . (In the formula, Me 2 is a group I to III element of the periodic table, R 4
And R 5 are each a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, X
2 is a halogen atom or a hydrogen atom (however, when X 2 is a hydrogen atom, Me 2 is limited to the group III element of the periodic table), z is the valence of Me 2 , and m and n are Each is an integer satisfying the ranges of 0 ≦ m ≦ z and 0 ≦ n ≦ z, and 0 ≦ m + n ≦ z) a3: an organic cyclic compound having a conjugated double bond a4: an Al—O—Al bond Modified organoaluminum oxy compound and / or boron compound containing

【0045】以下、さらに詳説する。上記触媒成分a1
の一般式Me11 p2 q(OR3r1 4-p-q-r で表され
る化合物の式中、Me1 はジルコニウム、チタン、ハフ
ニウムを示し、これらの遷移金属の種類は限定されるも
のではなく、複数を用いることもできるが、共重合体の
耐候性の優れるジルコニウムが含まれることが特に好ま
しい。R1 およびR3はそれぞれ炭素数1〜24の炭化
水素基で、好ましくは炭素数1〜12、さらに好ましく
は1〜8である。具体的にはメチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基などのアルキル基;
ビニル基、アリル基などのアルケニル基;フェニル基、
トリル基、キシリル基、メシチル基、インデニル基、ナ
フチル基などのアリール基;ベンジル基、トリチル基、
フェネチル基、スチリル基、ベンズヒドリル基、フェニ
ルブチル基、ネオフイル基などのアラルキル基などが挙
げられる。これらは分岐があってもよい。R2 は、2,
4−ペンタンジオナト配位子またはその誘導体、ベンゾ
イルメタナト配位子、ベンゾイルアセトナト配位子また
はその誘導体を示す。X1 はフッ素、ヨウ素、塩素およ
び臭素などのハロゲン原子を示す。pおよびqはそれぞ
れ、0≦p≦4、0≦q≦4、0≦r≦4、0≦p+q
+r≦4の範囲を満たすを整数である。
Further details will be described below. The catalyst component a1
In the formula of the compound represented by the general formula Me 1 R 1 p R 2 q (OR 3 ) r X 1 4-pqr , Me 1 represents zirconium, titanium or hafnium, and the kinds of these transition metals are limited. A plurality of zirconium compounds can be used, but zirconium, which has excellent weather resistance of the copolymer, is particularly preferably contained. R 1 and R 3 are each a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, preferably 1 to 12 carbon atoms, and more preferably 1 to 8 carbon atoms. Specifically, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group;
Alkenyl groups such as vinyl and allyl; phenyl,
Aryl groups such as tolyl group, xylyl group, mesityl group, indenyl group and naphthyl group; benzyl group, trityl group,
Examples thereof include an aralkyl group such as a phenethyl group, a styryl group, a benzhydryl group, a phenylbutyl group and a neophyl group. These may have branches. R 2 is 2,
A 4-pentanedionate ligand or a derivative thereof, a benzoylmethanato ligand, a benzoylacetonato ligand or a derivative thereof is shown. X 1 represents a halogen atom such as fluorine, iodine, chlorine and bromine. p and q are 0 ≦ p ≦ 4, 0 ≦ q ≦ 4, 0 ≦ r ≦ 4, and 0 ≦ p + q, respectively.
It is an integer that satisfies the range of + r ≦ 4.

【0046】上記触媒成分a1の一般式で示される化合
物の例としては、テトラメチルジルコニウム、テトラエ
チルジルコニウム、テトラベンジルジルコニウム、テト
ラプロポキシジルコニウム、トリプロポキシモノクロロ
ジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラブ
トキシジルコニウム、テトラブトキシチタン、テトラブ
トキシハフニウムなどが挙げられ、特にテトラプロポキ
シジルコニウム、テトラブトキシジルコニウムなどのZ
r(OR)4 化合物が好ましく、これらを2種以上混合
して用いても差し支えない。また、前記2,4−ペンタ
ンジオナト配位子またはその誘導体、ベンゾイルメタナ
ト配位子、ベンゾイルアセトナト配位子またはその誘導
体の具体例としては、テトラ(2,4−ペンタンジオナ
ト)ジルコニウム、トリ(2,4−ペンタンジオナト)
クロライドジルコニウム、ジ(2,4−ペンタンジオナ
ト)ジクロライドジルコニウム、(2,4−ペンタンジ
オナト)トリクロライドジルコニウム、ジ(2,4−ペ
ンタンジオナト)ジエトキサイドジルコニウム、ジ
(2,4−ペンタンジオナト)ジ−n−プロポキサイド
ジルコニウム、ジ(2,4−ペンタンジオナト)ジ−n
−ブトキサイドジルコニウム、ジ(2,4−ペンタンジ
オナト)ジベンジルジルコニウム、ジ(2,4−ペンタ
ンジオナト)ジネオフイルジルコニウム、テトラ(ジベ
ンゾイルメタナト)ジルコニウム、ジ(ジベンゾイルメ
タナト)ジエトキサイドジルコニウム、ジ(ジベンゾイ
ルメタナト)ジ−n−プロポキサイドジルコニウム、ジ
(ジベンゾイルメタナト)ジ−n−ブトキサイドジルコ
ニウム、ジ(ベンゾイルアセトナト)ジエトキサイドジ
ルコニウム、ジ(ベンゾイルアセトナト)ジ−n−プロ
ポキサイドジルコニウム、ジ(ベンゾイルアセトナト)
ジ−n−ブトキサイドジルコニウム等があげられる。
Examples of the compound represented by the general formula of the catalyst component a1 include tetramethylzirconium, tetraethylzirconium, tetrabenzylzirconium, tetrapropoxyzirconium, tripropoxymonochlorozirconium, tetraethoxyzirconium, tetrabutoxyzirconium, tetrabutoxytitanium. , Tetrabutoxyhafnium and the like, and particularly Z such as tetrapropoxyzirconium and tetrabutoxyzirconium.
The r (OR) 4 compound is preferable, and two or more kinds thereof may be mixed and used. Further, specific examples of the 2,4-pentanedionato ligand or its derivative, benzoylmethanato ligand, benzoylacetonato ligand or its derivative include tetra (2,4-pentanedionato) zirconium. , Tri (2,4-pentanedionato)
Chloride zirconium, di (2,4-pentanedionato) dichloride zirconium, (2,4-pentanedionato) trichloride zirconium, di (2,4-pentanedionato) dietoxide zirconium, di (2,4-) Pentandionato) di-n-propoxide zirconium, di (2,4-pentanedionato) di-n
-Butoxide zirconium, di (2,4-pentanedionato) dibenzylzirconium, di (2,4-pentanedionato) dineofoylzirconium, tetra (dibenzoylmethanato) zirconium, di (dibenzoylmethanato) die Toxide zirconium, di (dibenzoylmethanato) di-n-propoxide zirconium, di (dibenzoylmethanato) di-n-butoxide zirconium, di (benzoylacetonato) dietoxide zirconium, di (benzoylacetonato) ) Di-n-propoxide zirconium, di (benzoylacetonato)
Examples thereof include di-n-butoxide zirconium.

【0047】上記触媒成分a2の一般式Me24 m(O
5n2 z-m-n で表される化合物の式中Me2 は周期
律表第I〜III 族元素を示し、リチウム、ナトリウム、
カリウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、ホウ素、
アルミニウムなどである。R4およびR5 はそれぞれ炭
素数1〜24の炭化水素基、好ましくは炭素数1〜1
2、さらに 好ましくは1〜8であり、具体的にはメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基などのアルキル基;ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル
基、インデニル基、ナフチル基などのアリール基;ベン
ジル基、トリチル基、フェネチル基、スチリル基、ベン
ズヒドリル基、フェニルブチル基、ネオフイル基などの
アラルキル基などが挙げられる。これらは分岐があって
もよい。X2 はフッ素、ヨウ素、塩素および臭素などの
ハロゲン原子または水素原子を示すものである。ただ
し、X2が水素原子の場合はMe2 はホウ素、アルミニ
ウムなどに例示される周期律表第III 族元素の場合に限
るものである。また、zはMe2 の価数を示し、mおよ
びnはそれぞれ、0≦m≦z、0≦n≦zの範囲を満た
す整数であり、かつ、0≦m+n≦zである。
The catalyst component a2 has the general formula Me 2 R 4 m (O
R 5) wherein Me 2 in n X 2 compound represented by zmn represents the periodic table I~III group element, lithium, sodium,
Potassium, magnesium, calcium, zinc, boron,
Such as aluminum. R 4 and R 5 are each a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, preferably 1 to 1 carbon atoms
2, more preferably 1 to 8, specifically, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group and a butyl group; an alkenyl group such as a vinyl group and an allyl group; a phenyl group, a tolyl group, Examples thereof include aryl groups such as xylyl group, mesityl group, indenyl group and naphthyl group; aralkyl groups such as benzyl group, trityl group, phenethyl group, styryl group, benzhydryl group, phenylbutyl group and neophyl group. These may have branches. X 2 represents a halogen atom such as fluorine, iodine, chlorine and bromine, or a hydrogen atom. However, when X 2 is a hydrogen atom, Me 2 is limited to a group III element of the periodic table exemplified by boron, aluminum and the like. Further, z represents the valence of Me 2 , m and n are integers satisfying the ranges of 0 ≦ m ≦ z and 0 ≦ n ≦ z, and 0 ≦ m + n ≦ z.

【0048】上記触媒成分a2の一般式で示される化合
物の例としては、メチルリチウム、エチルリチウムなど
の有機リチウム化合物;ジメチルマグネシウム、ジエチ
ルマグネシウム、メチルマグネシウムクロライド、エチ
ルマグネシウムクロライドなどの有機マグネシウム化合
物;ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛などの有機亜鉛化合
物;トリメチルボロン、トリエチルボロンなどの有機ボ
ロン化合物;トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチル
アルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリデシル
アルミニウム、ジエチルアルミニウムクロライド、エチ
ルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムセス
キクロライド、ジエチルアルミニウムエトキサイド、ジ
エチルアルミニウムハイドライドなどの有機アルミニウ
ム化合物等の誘導体が挙げられる。
Examples of the compound represented by the above general formula of the catalyst component a2 include organolithium compounds such as methyllithium and ethyllithium; organomagnesium compounds such as dimethylmagnesium, diethylmagnesium, methylmagnesium chloride and ethylmagnesium chloride; dimethyl. Organozinc compounds such as zinc and diethylzinc; Organoboron compounds such as trimethylboron and triethylboron; Trimethylaluminum, triethylaluminum, tripropylaluminum, triisobutylaluminum, trihexylaluminum, tridecylaluminum, diethylaluminum chloride, ethylaluminum dichloride , Ethyl aluminum sesquichloride, diethyl aluminum ethoxide, diethyl aluminum Derivatives of organoaluminum compounds such as Idoraido the like.

【0049】上記触媒成分a3の共役二重結合を持つ有
機環状化合物は、環状で共役二重結合を2個以上、好ま
しくは2〜4個、さらに好ましくは2〜3個有する環を
1個または2個以上もち、全炭素数が4〜24、好まし
くは4〜12である環状炭化水素化合物;前記環状炭化
水素化合物が部分的に1〜6個の炭化水素残基(典型的
には、炭素数1〜12のアルキル基またはアラルキル
基)で置換された環状炭化水素化合物;共役二重結合を
2個以上、好ましくは2〜4個、さらに好ましくは2〜
3個有する環を1個または2個以上もち、全炭素数が4
〜24、好ましくは4〜12である環状炭化水素基を有
する有機ケイ素化合物;前記環状炭化水素基が部分的に
1〜6個の炭化水素残基またはアルカリ金属塩(ナトリ
ウムまたはリチウム塩)で置換された有機ケイ素化合物
が含まれる。特に好ましくは分子中のいずれかにシクロ
ペンタジエン構造をもつものが望ましい。
The above-mentioned organic cyclic compound having a conjugated double bond of the catalyst component a3 is cyclic and has one or more conjugated double bonds, preferably 2 to 4 and more preferably 2 to 3 or 1 ring. A cyclic hydrocarbon compound having two or more and having a total carbon number of 4 to 24, preferably 4 to 12; the cyclic hydrocarbon compound partially has 1 to 6 hydrocarbon residues (typically, carbon A cyclic hydrocarbon compound substituted with an alkyl group or an aralkyl group of the formula 1 to 12; 2 or more, preferably 2 to 4, more preferably 2 to 2 conjugated double bonds.
Have 1 or 2 or more rings with 3 and have 4 total carbon atoms
An organosilicon compound having a cyclic hydrocarbon group of -24, preferably 4 to 12; the cyclic hydrocarbon group is partially substituted with 1 to 6 hydrocarbon residues or an alkali metal salt (sodium or lithium salt). Included organosilicon compounds. Particularly preferably, one having a cyclopentadiene structure in any of the molecules is desirable.

【0050】上記の好適な化合物としては、シクロペン
タジエン、インデン、アズレンまたはこれらのアルキ
ル、アリール、アラルキル、アルコキシまたはアリール
オキシ誘導体などが挙げられる。また、これらの化合物
がアルキレン基(その炭素数は通常2〜8、好ましくは
2〜3)を介して結合(架橋)した化合物も好適に用い
られる。
Examples of the above-mentioned suitable compounds include cyclopentadiene, indene, azulene or their alkyl, aryl, aralkyl, alkoxy or aryloxy derivatives. Moreover, the compound which these compounds couple | bonded (bridge | crosslink) through the alkylene group (The carbon number is 2-8 normally, Preferably 2-3) is also used suitably.

【0051】環状炭化水素基を有する有機ケイ素化合物
は、下記一般式で表示することができる。 ALSiR4-L ここで、Aはシクロペンタジエニル基、置換シクロペン
タジエニル基、インデニル基、置換インデニル基で例示
される前記環状水素基を示し、Rはメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などのアル
キル基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基などのアルコキシ基;フェニル基などのアリール
基;フェノキシ基などのアリールオキシ基;ベンジル基
などのアラルキル基で示され、炭素数1〜24、好まし
くは1〜12の炭化水素残基または水素を示し、Lは1
≦L≦4、好ましくは1≦L≦3である。
The organosilicon compound having a cyclic hydrocarbon group can be represented by the following general formula. A L SiR 4-L where A represents a cyclopentadienyl group, a substituted cyclopentadienyl group, an indenyl group, or a cyclic hydrogen group exemplified by the substituted indenyl group, and R represents a methyl group, an ethyl group, or a propyl group. Groups, alkyl groups such as isopropyl group, butyl group; alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group; aryl groups such as phenyl group; aryloxy groups such as phenoxy group; aralkyl groups such as benzyl group Is shown and represents a hydrocarbon residue or hydrogen having 1 to 24 carbon atoms, preferably 1 to 12 and L is 1
≦ L ≦ 4, preferably 1 ≦ L ≦ 3.

【0052】上記成分a3の有機環状炭化水素化合物の
具体例として、シクロペンタジエン、メチルシクロペン
タジエン、エチルシクロペンタジエン、プロピルシクロ
ペンタジエン、ブチルシクロペンタジエン、1,3−ジ
メチルシクロペンタジエン、1−メチル−3−エチルシ
クロペンタジエン、1−メチル−3−プロピルシクロペ
ンタジエン、1−メチル−3−ブチルシクロペンタジエ
ン、1,2,4−トリメチルシクロペンタジエン、ペン
タメチルシクロペンタジエン、インデン、4−メチル−
1−インデン、4,7−ジメチルインデン、シクロヘプ
タトリエン、メチルシクロヘプタトリエン、シクロオク
タテトラエン、アズレン、フルオレン、メチルフルオレ
ンのような炭素数5〜24のシクロポリエンまたは置換
シクロポリエン、モノシクロペンタジエニルシラン、ビ
スシクロペンタジエニルシラン、トリスシクロペンタジ
エニルシラン、モノインデニルシラン、ビスインデニル
シラン、トリスインデニルシランなどが挙げられる。
Specific examples of the organic cyclic hydrocarbon compound of the above component a3 include cyclopentadiene, methylcyclopentadiene, ethylcyclopentadiene, propylcyclopentadiene, butylcyclopentadiene, 1,3-dimethylcyclopentadiene and 1-methyl-3-. Ethylcyclopentadiene, 1-methyl-3-propylcyclopentadiene, 1-methyl-3-butylcyclopentadiene, 1,2,4-trimethylcyclopentadiene, pentamethylcyclopentadiene, indene, 4-methyl-
1-indene, 4,7-dimethylindene, cycloheptatriene, methylcycloheptatriene, cyclooctatetraene, azulene, fluorene, cyclopolyene having 5 to 24 carbon atoms such as methylfluorene or substituted cyclopolyene, monocyclopenta Examples thereof include dienylsilane, biscyclopentadienylsilane, triscyclopentadienylsilane, monoindenylsilane, bisindenylsilane and trisindenylsilane.

【0053】触媒成分a4のAl−O−Al結合を含む
変性有機アルミニウムオキシ化合物とは、アルキルアル
ミニウム化合物と水とを反応させることにより、通常ア
ルミノキサンと称される変性有機アルミニウムオキシ化
合物が得られ、分子中に通常1〜100個、好ましくは
1〜50個のAl−O−Al結合を含有する。また、変
性有機アルミニウムオキシ化合物は線状でも環状でもい
ずれでもよい。
The modified organoaluminum oxy compound containing an Al--O--Al bond of the catalyst component a4 is obtained by reacting an alkylaluminum compound with water to obtain a modified organoaluminum oxy compound usually called aluminoxane. The molecule usually contains 1 to 100, preferably 1 to 50 Al-O-Al bonds. The modified organoaluminum oxy compound may be linear or cyclic.

【0054】有機アルミニウムと水との反応は通常不活
性炭化水素中で行われる。該不活性炭化水素としては、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の脂肪族、脂環族、芳香族
炭化水素が好ましい。水と有機アルミニウム化合物との
反応比(水/Alモル比)は通常0.25/1〜1.2
/1、好ましくは0.5/1〜1/1であることが望ま
しい。
The reaction of organoaluminum with water is usually carried out in an inert hydrocarbon. As the inert hydrocarbon,
Aliphatic, alicyclic and aromatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane, cyclohexane, benzene, toluene and xylene are preferable. The reaction ratio of water and the organoaluminum compound (water / Al molar ratio) is usually 0.25 / 1 to 1.2.
/ 1, preferably 0.5 / 1 to 1/1.

【0055】ホウ素化合物としては、テトラ(ペンタフ
ルオロフェニル)ホウ酸トリエチルアルミニウム、トリ
エチルアンモニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)
ボレート、テトラ(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ジ
メチルアニリニウム、ジメチルアニリニウムテトラ(ペ
ンタフルオロフェニル)ボレート、ブチルアンモニウム
テトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N−
ジメチルアニリニウムテトラ(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート、N,N−ジメチルアニリニウムテトラ
(3,5ージフルオロフェニル)ボレート、トリチルテ
トラキスペンタフルオロボレート、フェロセニウムテト
ラキスペンタフルオロボレート、トリスペンタフルオロ
ボラン等が挙げられる。中でも、N,N−ジメチルアニ
リニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
トリチルテトラキスペンタフルオロボレート、フェロセ
ニウムテトラキスペンタフルオロボレート、トリスペン
タフルオロボランが好適である。
Examples of the boron compound include triethylaluminum tetra (pentafluorophenyl) borate and triethylammonium tetra (pentafluorophenyl).
Borate, dimethylanilinium tetra (pentafluorophenyl) borate, dimethylanilinium tetra (pentafluorophenyl) borate, butylammonium tetra (pentafluorophenyl) borate, N, N-
Examples include dimethylanilinium tetra (pentafluorophenyl) borate, N, N-dimethylanilinium tetra (3,5-difluorophenyl) borate, trityl tetrakispentafluoroborate, ferrocenium tetrakispentafluoroborate, and trispentafluoroborane. To be Among them, N, N-dimethylanilinium tetra (pentafluorophenyl) borate,
Trityl tetrakispentafluoroborate, ferrocenium tetrakispentafluoroborate, and trispentafluoroborane are preferred.

【0056】上記触媒はa1〜a4を混合接触させて使
用しても良いが、好ましくは無機担体および/または粒
子状ポリマー担体(a5)に担持させて使用することが
望ましい。該無機物担体および/または粒子状ポリマー
担体(a5)とは、炭素質物、金属、金属酸化物、金属
塩化物、金属炭酸塩またはこれらの混合物あるいは熱可
塑性樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられる。該無機物担体
に用いることができる好適な金属としては、鉄、アルミ
ニウム、ニッケルなどが挙げられる。具体的には、Si
2、Al23、MgO、ZrO2、TiO2、B23
CaO、ZnO、BaO、ThO2等またはこれらの混
合物が挙げられ、SiO2−Al23、SiO2−V
25、SiO2−TiO2、SiO2−V25、SiO2
MgO、SiO2−Cr23等が挙げられる。これらの
中でもSiO2およびAl23からなる群から選択され
た少なくとも1種の成分を主成分とするものが好まし
い。また、有機化合物としては、熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂のいずれも使用でき、具体的には、粒子状のポリ
オレフィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリスチレン、ポ
リノルボルネン、各種天然高分子およびこれらの混合物
等が挙げられる。
The above catalysts may be used by mixing and contacting a1 to a4, but it is preferable to use them by supporting them on an inorganic carrier and / or a particulate polymer carrier (a5). Examples of the inorganic carrier and / or the particulate polymer carrier (a5) include carbonaceous materials, metals, metal oxides, metal chlorides, metal carbonates or mixtures thereof, or thermoplastic resins, thermosetting resins and the like. Suitable metals that can be used for the inorganic carrier include iron, aluminum, nickel and the like. Specifically, Si
O 2 , Al 2 O 3 , MgO, ZrO 2 , TiO 2 , B 2 O 3 ,
Examples thereof include CaO, ZnO, BaO, ThO 2 and the like, or a mixture thereof. SiO 2 —Al 2 O 3 , SiO 2 —V
2 O 5 , SiO 2 —TiO 2 , SiO 2 —V 2 O 5 , SiO 2
MgO, etc. SiO 2 -Cr 2 O 3 and the like. Of these, those containing, as a main component, at least one component selected from the group consisting of SiO 2 and Al 2 O 3 . Further, as the organic compound, either a thermoplastic resin or a thermosetting resin can be used, and specifically, particulate polyolefin, polyester, polyamide, polyvinyl chloride, poly (meth) acrylate, polystyrene, poly Examples include norbornene, various natural polymers, and mixtures thereof.

【0057】上記無機物担体および/または粒子状ポリ
マー担体は、このまま使用することもできるが、好まし
くは予備処理としてこれらの担体を有機アルミニウム化
合物やAl−O−Al結合を含む変性有機アルミニウム
化合物などに接触処理させた後に成分a5として用いる
こともできる。
The above inorganic carrier and / or particulate polymer carrier can be used as they are, but preferably, as a pretreatment, these carriers are treated with an organoaluminum compound or a modified organoaluminum compound containing an Al--O--Al bond. It can also be used as the component a5 after the contact treatment.

【0058】エチレン(共)重合体(A)の製造方法
は、前記触媒の存在下、実質的に溶媒の存在しない気相
重合法、スラリー重合法、溶液重合法等で製造され、実
質的に酸素、水等を断った状態で、ブタン、ペンタン、
ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン等の脂環族炭化水素等に例示
される不活性炭化水素溶媒の存在下または不存在下で製
造される。重合条件は特に限定されないが、重合温度は
通常15〜350℃、好ましくは20〜200℃、さら
に好ましくは50〜110℃であり、重合圧力は低中圧
法の場合通常常圧〜70kg/cm2 G、好ましくは常
圧〜20kg/cm2 Gであり、高圧法の場合通常15
00kg/cm2 G以下が望ましい。重合時間は低中圧
法の場合通常3分〜10時間、好ましくは5分〜5時間
程度が望ましい。高圧法の場合、通常1分〜30分、好
ましくは2分〜20分程度が望ましい。また、重合は一
段重合法はもちろん、水素濃度、モノマー濃度、重合圧
力、重合温度、触媒等の重合条件が互いに異なる2段階
以上の多段重合法など特に限定されるものではない。特
に好ましい製造方法としては、特開平5−132518
号公報に記載の方法が挙げられる。
The ethylene (co) polymer (A) is produced by a gas phase polymerization method, a slurry polymerization method, a solution polymerization method or the like in the presence of the above catalyst and substantially no solvent. Butane, pentane,
In the presence or absence of an inert hydrocarbon solvent exemplified by aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and methylcyclohexane. Manufactured in. The polymerization conditions are not particularly limited, but the polymerization temperature is usually 15 to 350 ° C., preferably 20 to 200 ° C., more preferably 50 to 110 ° C., and the polymerization pressure is usually atmospheric pressure to 70 kg / cm 2 in the case of the low and medium pressure method. G, preferably normal pressure to 20 kg / cm 2 G, usually 15 in the case of high pressure method
00 kg / cm 2 G or less is desirable. In the case of the low and medium pressure method, the polymerization time is usually 3 minutes to 10 hours, preferably about 5 minutes to 5 hours. In the case of the high pressure method, it is usually 1 minute to 30 minutes, preferably 2 minutes to 20 minutes. The polymerization is not limited to the one-step polymerization method, and is not particularly limited to a two-step or more multi-step polymerization method in which the polymerization conditions such as hydrogen concentration, monomer concentration, polymerization pressure, polymerization temperature and catalyst are different from each other. As a particularly preferable manufacturing method, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-132518
The method described in Japanese Patent Laid-Open Publication is cited.

【0059】エチレン(共)重合体(A)は、上述の触
媒成分の中に塩素等のハロゲンのない触媒を使用するこ
とにより、ハロゲン濃度としては多くとも10ppm以
下、好ましくは5ppm以下、さらに好ましくは実質的
に含まない2ppm以下(ND:Non−Detec
t)のものとすることが可能である。このような塩素等
のハロゲンフリーのエチレン(共)重合体を用いること
により、従来のような酸中和剤(ハロゲン吸収剤)を使
用する必要がなくなり、化学的安定性が優れ、特に電子
部品用キャリアテープに好適に活用されるクリーンなカ
バーフィルムを提供することができる。
The ethylene (co) polymer (A) has a halogen concentration of at most 10 ppm, preferably at most 5 ppm, more preferably at most 5 ppm by using a halogen-free catalyst such as chlorine in the above catalyst components. 2ppm or less (ND: Non-Detec)
t). By using such a halogen-free ethylene (co) polymer such as chlorine, it is not necessary to use an acid neutralizer (halogen absorber) as in the past, and the chemical stability is excellent, especially for electronic parts. It is possible to provide a clean cover film that can be suitably used as a carrier tape for use in automobiles.

【0060】他のポリオレフィン系樹脂(B)の1つで
ある高圧ラジカル法によって得られるエチレン系樹脂と
しては、高圧ラジカル重合法によって得られた低密度ポ
リエチレン(LDPE)、エチレン・ビニルエステル共
重合体、エチレンとα,β−不飽和カルボン酸またはそ
の誘導体との共重合体などが挙げられる。
As the ethylene resin which is one of the other polyolefin resins (B) obtained by the high pressure radical method, low density polyethylene (LDPE) obtained by the high pressure radical polymerization method, an ethylene / vinyl ester copolymer is used. , A copolymer of ethylene and an α, β-unsaturated carboxylic acid or a derivative thereof, and the like.

【0061】前記LDPEのMFRは、0.01〜20
0g/10分、好ましくは0.1〜100g/10分、
さらに好ましくは1.0〜80g/10分の範囲であ
る。この範囲であれば、メルトテンションが適切な範囲
となり、成形加工性が向上する。また、LDPEの密度
は、0.91〜0.94g/cm3 、さらに好ましくは
0.91〜0.935g/cm3 の範囲である。この範
囲であれば、メルトテンションが適切な範囲となり、成
形加工性が向上する。LDPEのメルトテンションは、
1.5〜25g、好ましくは3〜20g、さらに好まし
くは3〜15gである。また、LDPEの分子量分布M
w/Mnは、3.0〜12、好ましくは4.0〜8.0
である。また、LDPEの分子量分布Mw/Mnは、
3.0〜12、好ましくは、4.0〜8.0である。
The MFR of the LDPE is 0.01 to 20.
0 g / 10 minutes, preferably 0.1-100 g / 10 minutes,
More preferably, it is in the range of 1.0 to 80 g / 10 minutes. Within this range, the melt tension will be in an appropriate range, and the moldability will be improved. The density of LDPE is 0.91 to 0.94 g / cm 3 , and more preferably 0.91 to 0.935 g / cm 3 . Within this range, the melt tension will be in an appropriate range, and the moldability will be improved. The melt tension of LDPE is
The amount is 1.5 to 25 g, preferably 3 to 20 g, and more preferably 3 to 15 g. Also, the molecular weight distribution M of LDPE
w / Mn is 3.0 to 12, preferably 4.0 to 8.0.
Is. The molecular weight distribution Mw / Mn of LDPE is
It is 3.0 to 12, preferably 4.0 to 8.0.

【0062】前記エチレン・ビニルエステル共重合体と
は、高圧ラジカル重合法で製造されるエチレンを主成分
とするプロピオン酸ビニル、酢酸ビニル、カプロン酸ビ
ニル、カプリル酸ビニル、ラウリル酸ビニル、ステアリ
ン酸ビニル、トリフルオル酢酸ビニルなどのビニルエス
テル単量体との共重合体である。中でも、特に好ましい
ものとしては、酢酸ビニルを挙げることができる。ま
た、エチレン50〜99.5質量%、ビニルエステル
0.5〜50質量%、他の共重合可能な不飽和単量体0
〜49.5質量%からなる共重合体が好ましい。特に、
ビニルエステルの含有量は3〜30質量%、好ましくは
5〜25質量%の範囲である。エチレン・ビニルエステ
ル共重合体のMFRは、0.01〜200g/10分、
好ましくは0.1〜100g/10分、さらに好ましく
は1.0〜80g/10分の範囲である。
The ethylene / vinyl ester copolymer is a vinyl propionate, vinyl acetate, vinyl caproate, vinyl caprylate, vinyl laurate, vinyl stearate containing ethylene as a main component, which is produced by a high pressure radical polymerization method. , A copolymer with a vinyl ester monomer such as trifluorovinyl acetate. Among them, vinyl acetate is particularly preferable. Further, ethylene 50 to 99.5% by mass, vinyl ester 0.5 to 50% by mass, and other copolymerizable unsaturated monomer 0
A copolymer composed of ˜49.5 mass% is preferred. In particular,
The content of vinyl ester is in the range of 3 to 30% by mass, preferably 5 to 25% by mass. The MFR of the ethylene / vinyl ester copolymer is 0.01 to 200 g / 10 minutes,
The range is preferably 0.1 to 100 g / 10 minutes, and more preferably 1.0 to 80 g / 10 minutes.

【0063】前記エチレンとα,β−不飽和カルボン酸
またはその誘導体との共重合体としては、エチレン・
(メタ)アクリル酸またはそのアルキルエステル共重合
体が挙げられ、これらのコモノマーとしては、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、メタクリル酸プロピル、アクリル酸イソ
プロピル、メタクリル酸イソプロピル、アクリル酸n−
ブチル、メタクリル酸n−ブチル、アクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ラウ
リル、メタクリル酸ラウリル、アクリル酸ステアリル、
メタクリル酸ステアリル、アクリル酸グリシジル、メタ
クリル酸グリシジル等を挙げることができる。この中で
も特に好ましいものとして、(メタ)アクリル酸のメチ
ル、エチル等のアルキルエステルを挙げることができ
る。特に、(メタ)アクリル酸エステルの含有量は3〜
30質量%、好ましくは5〜25質量%の範囲である。
エチレンとα,β−不飽和カルボン酸またはその誘導体
との共重合体のMFRは0.01〜200g/10分、
好ましくは0.05〜100g/10分、さらに好まし
くは0.1〜80g/10分である。
The copolymer of ethylene and α, β-unsaturated carboxylic acid or its derivative is ethylene.
(Meth) acrylic acid or its alkyl ester copolymer may be mentioned, and examples of these comonomers include acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, methacrylic acid. Propyl, isopropyl acrylate, isopropyl methacrylate, acrylic acid n-
Butyl, n-butyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, lauryl acrylate, lauryl methacrylate, stearyl acrylate,
Examples thereof include stearyl methacrylate, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate and the like. Among these, particularly preferred are alkyl esters of (meth) acrylic acid such as methyl and ethyl. In particular, the content of (meth) acrylic acid ester is 3 to
It is in the range of 30% by mass, preferably 5 to 25% by mass.
The MFR of a copolymer of ethylene and an α, β-unsaturated carboxylic acid or its derivative is 0.01 to 200 g / 10 minutes,
It is preferably 0.05 to 100 g / 10 minutes, and more preferably 0.1 to 80 g / 10 minutes.

【0064】組成物層(II)における好ましい態様は、
エチレン(共)重合体(A)100〜10質量%および
他のポリオレフィン系樹脂(B)0〜90質量%からな
るものであることが好ましい。エチレン(共)重合体
(A)が10質量%未満もしくは他のポリオレフィン系
樹脂(B)が90質量%を超える場合では、低温ヒート
シール性、接着強度が向上しない虞が生じる。
A preferred embodiment of the composition layer (II) is
The ethylene (co) polymer (A) is preferably 100 to 10% by mass and the other polyolefin resin (B) is 0 to 90% by mass. When the ethylene (co) polymer (A) is less than 10% by mass or the other polyolefin resin (B) exceeds 90% by mass, the low temperature heat sealability and the adhesive strength may not be improved.

【0065】組成物層(II)に用いられるオレフィン系
樹脂組成物には、さらに、分子内に少なくとも2個以上
のエポキシ基(オキシラン基)を含む、分子量3000
以下のエポキシ化合物(C)が含有される。分子内のエ
ポキシ基が1個のエポキシ化合物では、基材への接着性
の改善効果があまり期待できない。また、このエポキシ
化合物の分子量は、3000以下であり、好ましくは1
500以下、特に1000以下が好ましい。分子量が3
000を超えると、組成物化した際に、十分な接着性の
改善効果が得られない。
The olefin resin composition used for the composition layer (II) further contains at least two epoxy groups (oxirane groups) in the molecule and has a molecular weight of 3000.
The following epoxy compound (C) is contained. With an epoxy compound having one epoxy group in the molecule, the effect of improving the adhesiveness to the substrate cannot be expected so much. The molecular weight of this epoxy compound is 3,000 or less, preferably 1
It is preferably 500 or less, and particularly preferably 1000 or less. Molecular weight is 3
If it exceeds 000, a sufficient effect of improving the adhesiveness cannot be obtained when it is made into a composition.

【0066】このようなエポキシ化合物(C)として
は、例えば、フタル酸ジグリシジルエステル、イソフタ
ル酸ジグリシジルエステル、テレフタル酸ジグリシジル
エステル、アジピン酸ジグリシジルエステル、トリメチ
ロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリグリセロ
ールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポ
リグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエ
ーテル、水素添加ビスフェノールAジグリシジルエーテ
ル、フェノールノボラックポリグリシジルエーテル、エ
ポキシ化植物油などが挙げられる。中でも扱い易さと入
手しやすさや安価な観点からエポキシ化植物油が好適で
ある。
Examples of the epoxy compound (C) include phthalic acid diglycidyl ester, isophthalic acid diglycidyl ester, terephthalic acid diglycidyl ester, adipic acid diglycidyl ester, trimethylolpropane triglycidyl ether, and polyglycerol polyglycol. Examples thereof include glycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, butanediol diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, phenol novolac polyglycidyl ether, and epoxidized vegetable oil. Among them, epoxidized vegetable oil is preferable from the viewpoints of easy handling, availability, and low cost.

【0067】ここで、エポキシ化植物油とは、天然植物
油の不飽和二重結合を過酸などを用いてエポキシ化した
ものであり、例えばエポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻
仁油、エポキシ化オリーブ油、エポキシ化サフラワー
油、エポキシ化コーン油などを挙げることができる。こ
れらのエポキシ化植物油は、例えば旭電化工業(株)
製、O−130P(エポキシ化大豆油)、O−180A
(エポキシ化亜麻仁油)等として市販されている。な
お、植物油をエポキシ化する際に若干副生するエポキシ
化されていない、またはエポキシ化が不十分な油分の存
在は本発明における作用効果を何ら妨げるものではな
い。
Here, the epoxidized vegetable oil is an epoxidized unsaturated double bond of natural vegetable oil using peracid or the like, and examples thereof include epoxidized soybean oil, epoxidized linseed oil, epoxidized olive oil, and epoxy. Safflower oil, epoxidized corn oil and the like can be mentioned. These epoxidized vegetable oils are available, for example, from Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.
Made, O-130P (epoxidized soybean oil), O-180A
(Epoxidized linseed oil) and the like. It should be noted that the presence of an unepoxidized or insufficiently epoxidized oil component, which is a by-product when the vegetable oil is epoxidized, does not hinder the action and effect of the present invention.

【0068】オレフィン系樹脂組成物におけるエポキシ
化合物(C)の含有量は、ポリオレフィン系樹脂、所望
によりエポキシ基と反応する官能基を有するオレフィン
系樹脂(D)を含む樹脂成分100質量部に対して、
0.01〜10質量部であり、より好ましくは0.05
〜8質量部、さらに0.1〜5質量部である。エポキシ
化合物(C)の含有量が0.01質量部未満では、基材
への接着性の改善効果が不十分であり、10質量部を超
えるとベタツキによるブロッキングを起こしたり、臭い
を発する等の問題が発生するおそれがある。
The content of the epoxy compound (C) in the olefin resin composition is 100 parts by mass of the resin component containing the polyolefin resin and, if desired, the olefin resin (D) having a functional group that reacts with an epoxy group. ,
0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.05
-8 parts by mass, and further 0.1-5 parts by mass. If the content of the epoxy compound (C) is less than 0.01 parts by mass, the effect of improving the adhesiveness to the substrate is insufficient, and if it exceeds 10 parts by mass, blocking due to stickiness or generation of odor may occur. Problems may occur.

【0069】また、組成物層(II)に用いられるオレフ
ィン系樹脂組成物に、分子内にエポキシ基と反応する官
能基を有するオレフィン系樹脂(D)をさらに含有させ
てもよい。このオレフィン系樹脂(D)は必須ではない
が、これを添加することによりさらに基材との接着性を
向上させることができる。これは、エポキシ基と反応可
能な官能基とエポキシ化合物との間で反応が起こり、樹
脂成分にグラフトされるエポキシ化合物(C)が増加す
るためである。
The olefin resin composition used in the composition layer (II) may further contain an olefin resin (D) having a functional group which reacts with an epoxy group in the molecule. This olefin resin (D) is not essential, but its addition to the base material can be further improved by adding it. This is because a reaction occurs between the epoxy group and a functional group capable of reacting with the epoxy group, and the epoxy compound (C) grafted to the resin component increases.

【0070】エポキシ基と反応する官能基を有するオレ
フィン系樹脂(D)の使用量は、ポリオレフィンとオレ
フィン系樹脂(D)との合計質量に対して、好ましくは
30質量%未満であり、より好ましくは2〜25質量%
であり、さらに好ましくは5〜20質量%である。オレ
フィン系樹脂(D)を30質量%以上添加すると、接着
向上効果はあるものの、経済的ではない。
The amount of the olefin resin (D) having a functional group which reacts with an epoxy group is preferably less than 30% by mass, more preferably the total amount of the polyolefin and the olefin resin (D). Is 2 to 25% by mass
And more preferably 5 to 20 mass%. Addition of 30% by mass or more of the olefin resin (D) has an effect of improving adhesion, but is not economical.

【0071】エポキシ基と反応する官能基としては、カ
ルボキシル基またはその誘導体、アミノ基、フェノール
基、水酸基、チオール基などが挙げられる。中でも反応
性と安定性のバランスから、酸無水物基、カルボキシル
基、カルボン酸金属塩からなる群から選ばれた少なくと
も1つの基を分子内に有するオレフィン系樹脂(D)が
好ましく用いられる。エポキシ基と反応する官能基の導
入方法としては、主として共重合法と、グラフト法が挙
げられる。
Examples of the functional group which reacts with the epoxy group include a carboxyl group or a derivative thereof, an amino group, a phenol group, a hydroxyl group and a thiol group. Among them, an olefin resin (D) having in the molecule at least one group selected from the group consisting of an acid anhydride group, a carboxyl group and a carboxylic acid metal salt is preferably used in view of the balance between reactivity and stability. The method of introducing the functional group that reacts with the epoxy group mainly includes a copolymerization method and a graft method.

【0072】例えば、共重合法によって製造される、エ
ポキシ基と反応する官能基を有するオレフィン系樹脂
(D)としては、エチレンと反応可能な化合物とエチレ
ンとのランダム多元共重合体が挙げられる。共重合に用
いる化合物としては、(メタ)アクリル酸等のα,β−
不飽和カルボン酸、(メタ)アクリル酸ナトリウム等の
α,β−不飽和カルボン酸金属塩、無水マレイン酸、無
水イタコン酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸
無水物、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メ
タ)アリルアルコール等の水酸基含有化合物、アリルア
ミン等の不飽和アミノ化合物等が例示できるがこの限り
ではない。さらに、これらの不飽和化合物に加えて(メ
タ)アクリル酸エステル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビ
ニル等のビニルアルコールエステル等を共重合させて用
いることもできる。これらの化合物とエチレンとの共重
合体は、2種以上を併用することもできる。
For example, as the olefin resin (D) having a functional group capable of reacting with an epoxy group produced by a copolymerization method, a random multi-component copolymer of ethylene and a compound capable of reacting with ethylene can be mentioned. Examples of the compound used for the copolymerization include (meth) acrylic acid such as α, β-
Unsaturated carboxylic acids, α, β-unsaturated carboxylic acid metal salts such as sodium (meth) acrylate, maleic anhydride, itaconic anhydride, unsaturated carboxylic acid anhydrides such as citraconic anhydride, hydroxyethyl (meth) acrylate Examples thereof include hydroxyl group-containing compounds such as (meth) allyl alcohol and unsaturated amino compounds such as allylamine, but not limited thereto. Further, in addition to these unsaturated compounds, vinyl alcohol esters such as (meth) acrylic acid ester, vinyl acetate, vinyl propionate and the like can be copolymerized and used. Two or more kinds of copolymers of these compounds and ethylene may be used in combination.

【0073】一方、グラフト変性によりエポキシ基と反
応可能な官能基を導入したオレフィン系樹脂(D)は、
ポリオレフィンと過酸化物等の遊離基発生剤と、変性用
の化合物とを溶融もしくは溶液状態で作用させて製造す
るのが一般的である。グラフト変性に用いられるポリオ
レフィンとしては、LDPE、直鎖状低密度ポリエチレ
ン(LLDPE)、高密度ポリエチレン(HDPE)、
ポリプロピレン(PP)のほかに、エチレン−プロピレ
ン共重合体、プロピレン−ブテン−1共重合体、エチレ
ン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン−(メ
タ)アクリル酸共重合体(E(M)A)、エチレン−酢
酸ビニル−(メタ)アクリル酸エステル共重合体などが
挙げられる。これらは単独あるいは2種以上混合して用
いることができる。また、例えば、エチレン−(メタ)
アクリル酸エステル−無水マレイン酸共重合体のよう
に、酸あるいはその誘導体を既に含むような共重合体を
さらにグラフト変性して用いても何ら差し支えない。
On the other hand, the olefin resin (D) having a functional group capable of reacting with an epoxy group introduced by graft modification is
In general, a polyolefin, a free radical generator such as a peroxide, and a modifying compound are allowed to act in a molten or solution state for production. As the polyolefin used for the graft modification, LDPE, linear low density polyethylene (LLDPE), high density polyethylene (HDPE),
In addition to polypropylene (PP), ethylene-propylene copolymer, propylene-butene-1 copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ethylene- (meth) acrylic acid copolymer (E (M) A), ethylene-vinyl acetate- (meth) acrylic acid ester copolymer and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Further, for example, ethylene- (meth)
A copolymer such as an acrylic acid ester-maleic anhydride copolymer which already contains an acid or a derivative thereof may be further graft-modified and used.

【0074】グラフト変性時に用いる遊離基発生剤の種
類については特に限定を受けないが、例えば、遊離基発
生剤としては、一般的な有機過酸化物が用いられ、中で
も反応性の良さと取り扱いの容易さからジクミルパーオ
キサイド、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチ
ルパーオキシ)ヘキサン、1,3−ビス(2−t−ブチ
ルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、ベンゾイルパー
オキサイド等が好ましく用いられる。
The type of the free radical generator used in the graft modification is not particularly limited, but, for example, a general organic peroxide is used as the free radical generator, and among them, good reactivity and easy handling are preferable. From the viewpoint of ease, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexane, 1,3-bis (2-t-butylperoxyisopropyl) benzene, benzoyl peroxide, etc. It is preferably used.

【0075】また、変性用の不飽和化合物としては、上
記共重合法で用いられるエチレンと共重合可能な化合物
と同様の不飽和化合物が用いられ、カルボン酸基あるい
はカルボン酸無水物基とその金属塩、アミノ基、水酸基
等、ラジカル反応可能な不飽和基を有していれば基本的
には使用可能である。このような変性用の不飽和化合物
としては、例えば、(メタ)アクリル酸等の不飽和カル
ボン酸、(メタ)アクリル酸ナトリウム等の不飽和カル
ボン酸金属塩、無水マレイン酸あるいは無水イタコン
酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸無水物、ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アリル
アルコール等の不飽和水酸基含有化合物、アリルアミン
等の不飽和アミノ化合物等が例示できるがこの限りでは
ない。
As the unsaturated compound for modification, the same unsaturated compound as the compound copolymerizable with ethylene used in the above-mentioned copolymerization method is used, and the carboxylic acid group or carboxylic acid anhydride group and its metal are used. Basically, it can be used as long as it has an unsaturated group capable of radical reaction such as salt, amino group, and hydroxyl group. Examples of the unsaturated compound for modification include unsaturated carboxylic acids such as (meth) acrylic acid, unsaturated carboxylic acid metal salts such as sodium (meth) acrylate, maleic anhydride or itaconic anhydride, and anhydrous Examples thereof include, but are not limited to, unsaturated carboxylic acid anhydrides such as citraconic acid, hydroxyethyl (meth) acrylate, unsaturated hydroxyl group-containing compounds such as (meth) allyl alcohol, and unsaturated amino compounds such as allylamine.

【0076】組成物層(II)に用いられるオレフィン系
樹脂組成物には、所望により慣用の添加剤が添加されて
いてもよいが、好ましくは、酸化防止剤、アンチブロッ
キング剤、滑剤、帯電防止剤、防曇剤、紫外線吸収剤、
有機系あるいは無機系顔料、造核剤、架橋剤などの公知
の添加剤が配合されてない、もしくは、前記樹脂組成物
に添加剤が配合されたとしても、配合された添加剤が実
質的に電子部品等の被接触物に悪影響を与えない添加剤
であることが望ましい。
If desired, conventional additives may be added to the olefin resin composition used in the composition layer (II), but antioxidants, antiblocking agents, lubricants and antistatic agents are preferred. Agent, anti-fog agent, ultraviolet absorber,
Known additives such as organic or inorganic pigments, nucleating agents and crosslinking agents are not blended, or even if the resin composition is blended with additives, the blended additives are substantially An additive that does not adversely affect the contacted object such as an electronic component is desirable.

【0077】本発明における、実質的に被接触物に悪影
響を与えない添加剤とは、例えば、ハイドロタルサイト
等であって、被接触物を腐食させず、かつ本発明の電子
部品キャリアテープ用カバーフィルムの特性を本質的に
阻害しない範囲で添加が可能な添加剤である。
In the present invention, the additive which does not substantially affect the object to be contacted is, for example, hydrotalcite or the like, which does not corrode the object to be contacted, and is for the electronic component carrier tape of the present invention. It is an additive that can be added within a range that does not essentially impair the characteristics of the cover film.

【0078】組成物層(II)に用いられるオレフィン系
樹脂組成物は、上記ポリオレフィン系樹脂およびエポキ
シ化合物(C)、必要に応じてオレフィン系樹脂(D)
を、ヘンシェルミキサー、リボンミキサー等により混合
するか、混合したものをさらにオープンロール、バンバ
リーミキサー、ニーダー、押出機等を用いて混練する方
法によって得ることができる。混練の温度は、通常、樹
脂の融点以上〜350℃である。
The olefin resin composition used in the composition layer (II) is the above-mentioned polyolefin resin and epoxy compound (C) and, if necessary, the olefin resin (D).
Can be obtained by mixing with a Henschel mixer, a ribbon mixer, or the like, or by kneading the mixture with an open roll, a Banbury mixer, a kneader, an extruder, or the like. The kneading temperature is usually from the melting point of the resin to 350 ° C.

【0079】本発明の電子部品キャリアテープ用カバー
フィルムは、組成物層(II)がヒートシール層を兼ねて
いるが、場合によっては第3層として他の公知のシーラ
ント層(III)を設けてもよい。シーラント層(III)に用
いられるシーラントフィルムとしてはポリオレフィン系
シーラント、スチレン系シーラントなどが挙げられる。
In the cover film for an electronic component carrier tape of the present invention, the composition layer (II) also serves as a heat seal layer, but in some cases, another known sealant layer (III) is provided as the third layer. Good. Examples of the sealant film used for the sealant layer (III) include polyolefin-based sealants and styrene-based sealants.

【0080】また、ヒートシール層となる組成物層(I
I)またはシーラント層(III)は、帯電防止性能を有し
ていてもよい。ヒートシール層となる組成物層(II)ま
たはシーラント層(III)に帯電防止性能を付与する方法
としては、組成物層(II)またはシーラント層(III)に
帯電防止剤を練り込むか、または、組成物層(II)また
はシーラント層(III)の表面に帯電防止剤を塗工する方
法が挙げられる。練り込む場合の帯電防止剤としては、
アルキルスルホン酸塩、燐酸エステル塩等のアニオン系
帯電防止剤;アミドカチオン等のカチオン系帯電防止
剤;アルキベタイン等の両性系帯電防止剤;脂肪酸モノ
グリセリド、ジ−(2−ヒドロキシエチル)アルキルア
ミン等の非イオン系帯電防止剤;導電性微粉末等が挙げ
られる。
Further, the composition layer (I
I) or the sealant layer (III) may have antistatic properties. As a method of imparting antistatic performance to the composition layer (II) or the sealant layer (III) to be the heat seal layer, kneading an antistatic agent into the composition layer (II) or the sealant layer (III), or , A method of applying an antistatic agent to the surface of the composition layer (II) or the sealant layer (III). As an antistatic agent when kneading,
Anionic antistatic agents such as alkyl sulfonates and phosphate ester salts; cationic antistatic agents such as amide cations; amphoteric antistatic agents such as alkylbetaine; fatty acid monoglycerides, di- (2-hydroxyethyl) alkylamines, etc. Nonionic antistatic agents, such as electroconductive fine powders.

【0081】また、塗工する場合の帯電防止剤として
は、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸エステル塩等
のアニオン系帯電防止剤;アシル塩化コリン、アルキル
トリメチルアンモニウム塩等のカチオン系帯電防止剤;
イミダゾリン型、アラニン型等の両性系帯電防止剤;ポ
リオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル等の非イオン系帯電防止剤;
導電性微粉末分散溶液等が挙げられる。
As the antistatic agent for coating, anionic antistatic agents such as alkylsulfonates and alkylsulfate salts; cationic antistatic agents such as choline acyl chloride and alkyltrimethylammonium salts;
Amphoteric antistatic agents such as imidazoline type and alanine type; Nonionic antistatic agents such as polyoxyethylene alkylamine and polyoxyethylene alkylphenyl ether;
Examples include conductive fine powder dispersion solutions.

【0082】表面に塗工する方法としては、帯電防止剤
を含む塗布液あるいは懸濁液に必要に応じて水または有
機溶剤等を加えてフィルム上に塗布、加熱乾燥する方法
が挙げられる。塗布は、例えば、エアーナイフコート
法、カーテンコート法、グラビアコート法またはスプレ
ーコート法等公知の塗布方法で行うことができる。
Examples of the method for coating the surface include a method in which water or an organic solvent is added to a coating solution or suspension containing an antistatic agent, if necessary, and the resultant is coated on a film and dried by heating. The coating can be performed by a known coating method such as an air knife coating method, a curtain coating method, a gravure coating method or a spray coating method.

【0083】このようにして得られた帯電防止性処理済
みのヒートシール層の表面抵抗率は、101〜1012Ω
/□の範囲が一般的であり、106〜1012Ω/□の範
囲が好ましく、さらに108〜1012Ω/□が好まし
い。帯電防止剤としては、フィルムの透明性を著しく損
なわないことからアニオン系、カチオン系、両性系、非
イオン系等の帯電防止剤が好ましく、また、帯電防止処
理方法としては、表面に塗工する方法が使用量が比較的
少量で済むことから好ましい。
The surface resistivity of the heat-sealing layer thus obtained, which has been subjected to the antistatic treatment, is 10 1 to 10 12 Ω.
The range of / □ is general, the range of 10 6 to 10 12 Ω / □ is preferable, and the range of 10 8 to 10 12 Ω / □ is more preferable. As the antistatic agent, anionic, cationic, amphoteric, nonionic, etc. antistatic agents are preferable because they do not significantly impair the transparency of the film, and as an antistatic treatment method, coating is performed on the surface. The method is preferable because it can be used in a relatively small amount.

【0084】本発明の電子部品キャリアテープ用カバー
フィルムを製造する方法としては、基材上に、オレフィ
ン系樹脂組成物を押出ラミネートし、基材層(I)上に
組成物層(II)を積層する方法;基材層(I)と組成物
層(II)とをドライラミネート成形によって貼り合わる
ことによって基材層(I)上に組成物層(II)を積層す
る方法などが挙げられる。また、シーラント層(III)を
有する場合、本発明の電子部品キャリアテープ用カバー
フィルムを製造する方法としては、基材上に、オレフィ
ン系樹脂組成物およびシーラント層(III)を共押出し、
基材層(I)上に組成物層(II)およびシーラント層(I
II)を積層する方法;基材層(I)と組成物層(II)と
をドライラミネート成形によって貼り合わせ、組成物層
(II)上にシーラント層(III)をドライラミネートある
いは押出ラミネートすることによって積層する方法など
が挙げられる。
As a method for producing the cover film for an electronic component carrier tape of the present invention, an olefin resin composition is extrusion-laminated on a substrate, and the composition layer (II) is formed on the substrate layer (I). A method of laminating; a method of laminating the composition layer (II) on the base material layer (I) by laminating the base material layer (I) and the composition layer (II) by dry lamination molding. . Further, when having a sealant layer (III), as a method for producing a cover film for an electronic component carrier tape of the present invention, a olefin resin composition and a sealant layer (III) are coextruded on a substrate,
On the base material layer (I), the composition layer (II) and the sealant layer (I
II) method of laminating; base material layer (I) and composition layer (II) are laminated by dry lamination molding, and sealant layer (III) is dry laminated or extrusion laminated on the composition layer (II). There may be mentioned a method of stacking the layers.

【0085】基材上へオレフィン系樹脂組成物を押出ラ
ミネートする際の成形温度は、240〜330℃の範
囲、好ましくは260〜320℃、さらに好ましくは2
80〜310℃の範囲である。また、特に300℃程度
以下の比較的低温でのラミネート時には、基材との貼り
合せ面の溶融樹脂を空気、オゾン等で酸化させておくこ
とが望ましい。また、基材においても貼り合せ面をコロ
ナ放電処理等の表面処理することが望ましい。上記成形
温度が240℃未満では接着強度が十分でない場合が生
じ、330℃を超える場合には、樹脂の劣化等が生じ好
ましくない。
The molding temperature for extrusion-laminating the olefin resin composition on the substrate is in the range of 240 to 330 ° C., preferably 260 to 320 ° C., more preferably 2
It is in the range of 80 to 310 ° C. In addition, particularly when laminating at a relatively low temperature of about 300 ° C. or less, it is desirable to oxidize the molten resin on the bonding surface with the base material with air, ozone, or the like. In addition, it is desirable that the bonding surface of the base material is subjected to surface treatment such as corona discharge treatment. If the molding temperature is lower than 240 ° C., the adhesive strength may not be sufficient, and if it exceeds 330 ° C., the resin is deteriorated, which is not preferable.

【0086】上記オゾン処理量は、基材の種類、条件等
により、異なるものの、5g/Nm 3×1Nm3/hr〜
100g/Nm3×20Nm3/hrの範囲、好ましくは
10g/Nm3×1.5Nm3/hr〜70g/Nm3×1
0Nm3/hr、さらに好ましくは15g/Nm3×2N
3/hr〜50g/Nm3×8Nm3/hrの範囲で選
択される。また、コロナ放電処理量は、1〜300w分
/m2 の範囲、好ましくは5〜200w分/m2 、さら
に好ましくは10〜100w分/m2 の範囲で選択され
ることが望ましい。特に、オゾン処理とコロナ放電処理
を併用することにより、接着強度を飛躍的に向上させる
ことができる。
The ozone treatment amount depends on the type of substrate, conditions, etc.
5g / Nm depending on 3× 1 Nm3/ Hr ~
100 g / Nm3× 20 Nm3/ Hr range, preferably
10 g / Nm3× 1.5 Nm3/ Hr ~ 70g / Nm3× 1
0 Nm3/ Hr, more preferably 15 g / Nm3× 2N
m3/ Hr-50g / Nm3× 8 Nm3Select in the range of / hr
Is selected. The corona discharge treatment amount is 1 to 300w
/ M2 Range, preferably 5 to 200 w min / m2 , Further
Preferably 10 to 100 w min / m2 Selected in the range of
Is desirable. Especially ozone treatment and corona discharge treatment
By using together, the adhesive strength is dramatically improved.
be able to.

【0087】このような電子部品キャリアテープ用カバ
ーフィルムにあっては、組成物層(II)に用いられるオ
レフィン系樹脂組成物が、特定のエポキシ化合物(C)
を含有しているので、実用的に十分な接着強度を発揮
し、アンカーコート剤を使用する必要がない。そのた
め、溶剤の使用による作業環境等の汚染がない。また、
アンカーコート剤を使用しないので、電子部品キャリア
テープ用カバーフィルム中の残留溶剤が低減される。ま
た、アンカーコート剤を使用することなく十分な接着強
度が得られるので、高速成形が可能となる。また、アン
カーコート剤を使用する必要がないので、コストが低減
される。
In such a cover film for an electronic component carrier tape, the olefin resin composition used in the composition layer (II) contains a specific epoxy compound (C).
Since it contains, it exhibits practically sufficient adhesive strength, and it is not necessary to use an anchor coating agent. Therefore, the working environment is not polluted by the use of the solvent. Also,
Since no anchor coating agent is used, residual solvent in the cover film for electronic component carrier tape is reduced. Moreover, since sufficient adhesive strength can be obtained without using an anchor coating agent, high-speed molding becomes possible. Further, since it is not necessary to use the anchor coating agent, the cost is reduced.

【0088】[0088]

【実施例】以下、実施例を示して本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるも
のではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0089】本実施例における試験方法は以下の通りで
ある。 [密度]JIS K6760に準拠した。 [MFR]JIS K6760に準拠した。 [Mw/Mn]GPC(ウォータース社製150C型)
を用い、溶媒として135℃のODCBを使用した。カ
ラムとしては東ソー(株)製、GMMHR−H(S)を
使用した。
The test method in this example is as follows. [Density] Based on JIS K6760. [MFR] Based on JIS K6760. [Mw / Mn] GPC (150C type manufactured by Waters)
Was used, and ODCB at 135 ° C. was used as a solvent. GMMHR-H (S) manufactured by Tosoh Corporation was used as a column.

【0090】[TREF]カラムを135℃に保った状
態で、カラムに試料を注入して0.1℃/分で25℃ま
で降温し、ポリマーをガラスビーズ上に沈着させた後、
カラムを下記条件にて昇温して各温度で溶出したポリマ
ー濃度を赤外検出器で検出した。(溶媒:ODCB、流
速:1ml/分、昇温速度:50℃/hr、検出器:赤
外分光器(波長2925cm-1)、カラム:0.8cm
φ×12cmL(ガラスビーズを充填)、試料濃度:
0.05質量%) [DSCによるTmlの測定]厚さ0.2mmのシートを
熱プレスで成形し、シートから約5mgの試料を打ち抜
いた。この試料を230℃で10分保持後、2℃/分に
て0℃まで冷却した。その後、再び10℃/分で170
℃まで昇温し、現れた最高温ピークの頂点の温度を最高
ピーク温度Tmlとした。
With the [TREF] column kept at 135 ° C., a sample was injected into the column and the temperature was lowered to 25 ° C. at 0.1 ° C./min to deposit the polymer on the glass beads,
The column was heated under the following conditions and the concentration of polymer eluted at each temperature was detected with an infrared detector. (Solvent: ODCB, flow rate: 1 ml / min, temperature rising rate: 50 ° C./hr, detector: infrared spectroscope (wavelength 2925 cm −1 ), column: 0.8 cm
φ × 12 cmL (filled with glass beads), sample concentration:
0.05% by mass) [Measurement of T ml by DSC] A sheet having a thickness of 0.2 mm was formed by hot pressing, and a sample of about 5 mg was punched out from the sheet. This sample was kept at 230 ° C. for 10 minutes and then cooled to 0 ° C. at 2 ° C./minute. Then 170 again at 10 ° C / min
The temperature was raised to 0 ° C., and the temperature at the peak of the highest temperature peak that appeared was defined as the highest peak temperature T ml .

【0091】[ODCB可溶分量]試料0.5gを20
mlのODCBに加え、135℃で2時間加熱し、試料
を完全に溶解した後、25℃まで冷却した。この溶液を
25℃で一晩放置後、テフロン(登録商標)製フィルタ
ーでろ過してろ液を採取した。赤外分光器により、試料
溶液であるろ液におけるメチレンの非対称伸縮振動の波
数2925cm-1付近の吸収ピーク強度を測定し、あら
かじめ作成した検量線により、ろ液中の試料濃度を算出
した。この値より、25℃におけるODCB可溶分量を
求めた。
[ODCB soluble content] A sample of 0.5 g was added to 20
After adding to ml ODCB and heating at 135 ° C. for 2 hours to completely dissolve the sample, the sample was cooled to 25 ° C. This solution was left at 25 ° C. overnight and then filtered through a Teflon (registered trademark) filter to collect a filtrate. The absorption peak intensity near the wave number 2925 cm −1 of the asymmetric stretching vibration of methylene in the filtrate, which is the sample solution, was measured by an infrared spectroscope, and the sample concentration in the filtrate was calculated from the calibration curve prepared in advance. From this value, the amount of ODCB-soluble matter at 25 ° C was determined.

【0092】[メルトテンション(MT)]溶融させた
ポリマーを一定速度で延伸したときの応力をストレイン
ゲージにて測定することにより決定した。測定試料は造
粒してペレットにしたものを用い、東洋精機製作所製M
T測定装置を使用して測定した。使用するオリフィスは
穴径2.09mmφ、長さ8mmであり、測定条件は樹
脂温度190℃、シリンダー下降速度20mm/分、巻
取り速度15m/分である。 [ハロゲン濃度]蛍光X線法により測定し、10ppm
以上の塩素が検出された場合はこれをもって分析値とし
た。10ppmを下回った場合は、ダイアインスツルメ
ンツ(株)製TOX−100型塩素・硫黄分析装置にて
測定し、2ppm以下については、実質的に含まないも
のとし、ND(non−detect)とした。
[Melt Tension (MT)] It was determined by measuring the stress when the molten polymer was stretched at a constant rate with a strain gauge. The measurement sample is granulated into pellets, and is manufactured by Toyo Seiki Seisakusho M
It measured using the T measuring device. The orifice used has a hole diameter of 2.09 mmφ and a length of 8 mm, and the measurement conditions are a resin temperature of 190 ° C., a cylinder descending speed of 20 mm / min, and a winding speed of 15 m / min. [Halogen concentration] 10ppm measured by fluorescent X-ray method
When the above chlorine was detected, this was taken as the analytical value. When it was lower than 10 ppm, it was measured by a TOX-100 type chlorine / sulfur analyzer manufactured by Dia Instruments Co., Ltd., and when it was 2 ppm or less, it was regarded as substantially non-containing, and was designated as ND (non-detect).

【0093】実施例に用いた各種成分は以下の通りであ
る。 [エチレン(共)重合体(A)]エチレン(共)重合体
(A11)は次の方法で合成した。 [固体触媒の調製] 〔固体触媒〕電磁誘導攪拌機を備えた触媒調製装置に、
窒素下で精製したトルエン1000ml、テトラプロポ
キシジルコニウム(Zr(OPr)4 )26g、インデ
ン22gおよびメチルブチルシクロペンタジエン88g
を加え、90℃に保持しながらトリプロピルアルミニウ
ム100gを100分かけて滴下し、その後、同温度で
2時間反応させた。40℃に冷却した後、メチルアルモ
キサンのトルエン溶液(濃度3.3mmol/ml)を
2424ml添加し2時間撹拌した。次にあらかじめ4
50℃で5時間焼成処理したシリカ(表面積300m2
/g)2000gを加え、室温で1時間攪拌の後、40
℃で窒素ブローおよび減圧乾燥を行い、流動性のよい固
体触媒(イ)を得た。
The various components used in the examples are as follows. [Ethylene (co) polymer (A)] The ethylene (co) polymer (A11) was synthesized by the following method. [Preparation of solid catalyst] [Solid catalyst] In a catalyst preparation device equipped with an electromagnetic induction stirrer,
1000 ml of toluene purified under nitrogen, 26 g of tetrapropoxyzirconium (Zr (OPr) 4 ), 22 g of indene and 88 g of methylbutylcyclopentadiene
Was added, and 100 g of tripropylaluminum was added dropwise over 100 minutes while maintaining the temperature at 90 ° C., and then the mixture was reacted at the same temperature for 2 hours. After cooling to 40 ° C., 2424 ml of a toluene solution of methylalumoxane (concentration 3.3 mmol / ml) was added and stirred for 2 hours. Next in advance 4
Silica calcined at 50 ° C for 5 hours (surface area 300 m 2
/ G) 2000 g, and after stirring at room temperature for 1 hour, 40
Nitrogen was blown and dried under reduced pressure at 0 ° C. to obtain a solid catalyst (a) having good fluidity.

【0094】[気相重合]連続式の流動床気相重合装置
を用い、重合温度65℃、全圧20kgf/cm 2 Gで
エチレンと1−ヘキセンの共重合を行った。前記固体触
媒(イ)を連続的に供給し、エチレン、1−ヘキセンお
よび水素等を所定のモル比に保つように供給して重合を
行い、エチレン(共)重合体(A11)を得た。その共
重合体の物性の測定結果を表1に示した。
[Gas Phase Polymerization] Continuous fluidized bed gas phase polymerization apparatus
Polymerization temperature 65 ° C, total pressure 20 kgf / cm 2 At G
Copolymerization of ethylene and 1-hexene was performed. The solid touch
The medium (a) is continuously supplied, and ethylene, 1-hexene and
And hydrogen, etc. are supplied so as to maintain a predetermined molar ratio for polymerization.
Then, an ethylene (co) polymer (A11) was obtained. Both
The results of measuring the physical properties of the polymer are shown in Table 1.

【0095】エチレン(共)重合体(A12)は次の方
法で合成した。 [固体触媒の調製] 〔固体触媒〕電磁誘導攪拌機を備えた触媒調製装置に、
窒素下で精製したトルエン1000ml、テトラブトキ
シジルコニウム(Zr(OBu)4 )31gおよびイン
デン74gを加え、90℃に保持しながらトリイソブチ
ルアルミニウム127gを100分かけて滴下し、その
後、同温度で2時間反応させた。40℃に冷却した後、
メチルアルモキサンのトルエン溶液(濃度3.3mmo
l/ml)を2424mlを添加し2時間撹拌した。次
にあらかじめ450℃で5時間焼成処理したシリカ(表
面積300m2 /g)2000gを加え、室温で1時間
攪拌の後、40℃で窒素ブローおよび減圧乾燥を行い、
流動性のよい固体触媒(ロ)を得た。
The ethylene (co) polymer (A12) was synthesized by the following method. [Preparation of solid catalyst] [Solid catalyst] In a catalyst preparation device equipped with an electromagnetic induction stirrer,
1000 g of toluene purified under nitrogen, 31 g of tetrabutoxyzirconium (Zr (OBu) 4 ) and 74 g of indene were added, 127 g of triisobutylaluminum was added dropwise over 100 minutes while maintaining at 90 ° C., and then at the same temperature for 2 hours. It was made to react. After cooling to 40 ° C,
Toluene solution of methylalumoxane (concentration 3.3 mmo
(24 ml) was added and the mixture was stirred for 2 hours. Next, 2000 g of silica (surface area 300 m 2 / g) calcined in advance at 450 ° C. for 5 hours was added, and after stirring at room temperature for 1 hour, nitrogen blowing and vacuum drying were performed at 40 ° C.
A solid catalyst (II) having good fluidity was obtained.

【0096】[気相重合]連続式の流動床気相重合装置
を用い、重合温度70℃、全圧20kgf/cm 2 Gで
エチレンと1−ヘキセンの共重合を行った。前記固体触
媒(ロ)を連続的に供給し、エチレン、1−ヘキセンお
よび水素を所定のモル比に保つように供給しての重合を
行い、エチレン(共)重合体(A12)を得た。その共
重合体の物性の測定結果を表1に示した。
[Gas Phase Polymerization] Continuous fluidized bed gas phase polymerization apparatus
Polymerization temperature 70 ° C, total pressure 20 kgf / cm 2At G
Copolymerization of ethylene and 1-hexene was performed. The solid touch
The medium (b) is continuously supplied to supply ethylene, 1-hexene and
And hydrogen to maintain the specified molar ratio
Then, an ethylene (co) polymer (A12) was obtained. Both
The results of measuring the physical properties of the polymer are shown in Table 1.

【0097】エチレン(共)重合体(A2)は次の方法
で合成した。 [固体触媒の調製] 〔固体触媒〕電磁誘導攪拌機を備えた触媒調製装置に、
窒素下で精製したトルエン1000ml、テトラプロポ
キシジルコニウム(Zr(OPr)4 )26g、インデ
ン74gおよびメチルプロピルシクロペンタジエン78
gを加え、90℃に保持しながらトリプロピルアルミニ
ウム100gを100分かけて滴下し、その後、同温度
で2時間反応させた。40℃に冷却した後、メチルアル
モキサンのトルエン溶液(濃度3.3mmol/ml)
を2133ml添加し2時間撹拌した。次にあらかじめ
450℃で5時間焼成処理したシリカ(表面積300m
2 /g)2000gを加え、室温で1時間攪拌の後、4
0℃で窒素ブローおよび減圧乾燥を行い、流動性のよい
固体触媒(ハ)を得た。
The ethylene (co) polymer (A2) was synthesized by the following method. [Preparation of solid catalyst] [Solid catalyst] In a catalyst preparation device equipped with an electromagnetic induction stirrer,
1000 ml of toluene purified under nitrogen, 26 g of tetrapropoxyzirconium (Zr (OPr) 4 ), 74 g of indene and 78 of methylpropylcyclopentadiene
g was added, and 100 g of tripropylaluminum was added dropwise over 100 minutes while maintaining the temperature at 90 ° C., and then reacted at the same temperature for 2 hours. After cooling to 40 ° C, a toluene solution of methylalumoxane (concentration 3.3 mmol / ml)
2133 ml was added and stirred for 2 hours. Next, silica that had been preliminarily calcined at 450 ° C. for 5 hours (surface area 300 m
2 / g) 2000 g was added and stirred at room temperature for 1 hour, then 4
Nitrogen was blown and dried under reduced pressure at 0 ° C. to obtain a solid catalyst (C) having good fluidity.

【0098】[気相重合]連続式の流動床気相重合装置
を用い、重合温度80℃、全圧20kgf/cm 2 Gで
エチレンと1−ヘキセンの共重合を行った。前記固体触
媒(ハ)を連続的に供給し、エチレン、1−ヘキセンお
よび水素を所定のモル比に保つように供給して重合を行
い、エチレン(共)重合体(A2)を得た。その共重合
体の物性の測定結果を表1に示した。
[Gas phase polymerization] Continuous fluidized bed gas phase polymerization apparatus
Polymerization temperature 80 ° C, total pressure 20 kgf / cm 2At G
Copolymerization of ethylene and 1-hexene was performed. The solid touch
The medium (c) is continuously supplied, and ethylene, 1-hexene and
And hydrogen are supplied to maintain the specified molar ratio for polymerization.
Thus, an ethylene (co) polymer (A2) was obtained. Its copolymerization
The measurement results of physical properties of the body are shown in Table 1.

【0099】[メタロセン触媒によるエチレン・ヘキセ
ン−1共重合体(A3)の製造]窒素で置換した撹拌機
付き加圧反応器に精製トルエンを入れ、次いで、1−ヘ
キセンを添加し、更にビス(n−ブチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、メチルアルモキサ
ン(MAO)の混合液を(Al/Zrモル比=200)
を加えた後、80℃に昇温し、メタロセン触媒を調整し
た。ついでエチレンを張り込み、エチレンを連続的に重
合しつつ全圧を8kg/cm3 に維持して重合を行い、
エチレン・ヘキセン−1共重合体(A3)を製造した。
その共重合体の物性の測定結果を表1に示した。
[Production of ethylene / hexene-1 copolymer (A3) by metallocene catalyst] Purified toluene was put into a pressure reactor equipped with a stirrer and purged with nitrogen, then 1-hexene was added, and bis ( A mixture of n-butylcyclopentadienyl) zirconium dichloride and methylalumoxane (MAO) was added (Al / Zr molar ratio = 200).
After adding, the temperature was raised to 80 ° C. to adjust the metallocene catalyst. Next, ethylene was added, and while continuously polymerizing ethylene, the total pressure was maintained at 8 kg / cm 3 , and the polymerization was performed.
An ethylene / hexene-1 copolymer (A3) was produced.
The measurement results of the physical properties of the copolymer are shown in Table 1.

【0100】[市販のチーグラー系触媒による線状低密
度ポリエチレン(A4)] (LLDPE)密度:0.910g/cm3 、MFR:
10g/10分、コモノマー:4−メチル−ペンテン−
1 上記エチレン(共)重合体の物性を表1に示した。
[Linear low-density polyethylene (A4) with commercially available Ziegler type catalyst] (LLDPE) Density: 0.910 g / cm 3 , MFR:
10 g / 10 min, comonomer: 4-methyl-pentene-
1 The physical properties of the ethylene (co) polymer are shown in Table 1.

【0101】[0101]

【表1】 [Table 1]

【0102】高圧ラジカル法によって得られる他のポリ
エチレン系樹脂(B)としては、以下のものを用いた。 [高圧ラジカル重合法による低密度ポリエチレン(B
1)] 密度:0.917g/cm3、MFR:7.0g/10分
The following were used as other polyethylene resins (B) obtained by the high pressure radical method. [Low-density polyethylene (B
1)] Density: 0.917 g / cm 3 , MFR: 7.0 g / 10 min

【0103】エポキシ化合物(C)としては、以下のも
のを用いた。 [エポキシ化合物(C1)]エポキシ化大豆油(分子
量:約1000、オキシラン酸素6.9%、旭電化工業
(株)製、O−130P) [エポキシ化合物(C2)]エポキシ化亜麻仁油(分子
量:約1000、オキシラン酸素9.1%、旭電化工業
(株)製、O−180A)
The following compounds were used as the epoxy compound (C). [Epoxy compound (C1)] Epoxidized soybean oil (molecular weight: about 1000, oxirane oxygen 6.9%, O-130P manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.) [Epoxy compound (C2)] Epoxidized linseed oil (molecular weight: About 1000, oxirane oxygen 9.1%, Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., O-180A)

【0104】基材としては以下のものを用いた。 S1:2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム
(ユニチカ製、エンブレットPET、厚さ25μm) S2:2軸延伸ポリアミドフィルム(ユニチカ製、ON
U、厚さ15μm)
The following materials were used as the base material. S1: Biaxially stretched polyethylene terephthalate film (Unitika, Emblet PET, thickness 25 μm) S2: Biaxially stretched polyamide film (Unitika, ON)
U, thickness 15 μm)

【0105】[実施例1〜5]低密度ポリエチレン(B
1)とエポキシ化合物(C1、C2)および表2に示す
各成分をヘンシェルミキサーにて混合し、田辺工業
(株)製、φ50mm単軸押出機を用いて、樹脂温度2
00℃、押出量35kg/hrの条件下で、溶融混練
し、ペレット化した。このペレットを、φ90mm径の
押出機を有する押出ラミネート成形機(モダンマシナリ
ー社製)を用いて、Tダイからニップロールまでの距離
120mm、成形時のダイ直下樹脂温度320℃、ラミ
ネート速度100m/分、ラミネート厚さ25μm、コ
ート幅860mmの条件下で、基材に押し出して、押出
ラミネーションを行い、電子部品キャリアテープ用カバ
ーフィルムを製造した。この時、放電出力6kW、電極
幅1mのピラー社製コロナ処理機を用いて、押出ラミネ
ーションの直前の基材に、インラインコロナ放電処理
(6KW)を行った。
[Examples 1 to 5] Low density polyethylene (B
1) and the epoxy compounds (C1, C2) and the components shown in Table 2 were mixed in a Henschel mixer, and a resin temperature of 2 was obtained using a Φ50 mm single screw extruder manufactured by Tanabe Kogyo Co., Ltd.
The mixture was melt-kneaded and pelletized under the conditions of 00 ° C. and an extrusion rate of 35 kg / hr. Using an extrusion laminating machine (manufactured by Modern Machinery Co., Ltd.) having an extruder with a diameter of 90 mm, the pellets were separated from the T-die to the nip roll by 120 mm, the resin temperature was 320 ° C immediately below the die during molding, and the laminating speed was 100 m / min. Under the conditions of a laminate thickness of 25 μm and a coat width of 860 mm, the cover film for an electronic component carrier tape was manufactured by extruding it on a substrate and performing extrusion lamination. At this time, an in-line corona discharge treatment (6 KW) was performed on the substrate immediately before extrusion lamination using a Corona treatment machine manufactured by Pillar Co., which has a discharge output of 6 kW and an electrode width of 1 m.

【0106】得られたカバーフィルムを40℃のギヤオ
ーブン中で2日間エージングした後、23℃の恒温室で
1日間状態調整を行った。M方向を長手方向として、長
さ20cm、幅15mmの短冊状のサンプルをカバーフ
ィルムから切り出し、オリエンテック(株)製、万能引
張試験機にて基材層(I)と組成物層(II)との界面に
おける接着強度を、引張速度300mm/分、初期チャ
ック間距離50mm、T型剥離の条件で測定した。その
結果を表2に示した。
The obtained cover film was aged in a gear oven at 40 ° C. for 2 days and then conditioned in a constant temperature chamber at 23 ° C. for 1 day. A rectangular sample having a length of 20 cm and a width of 15 mm is cut out from the cover film with the M direction as the longitudinal direction, and the base material layer (I) and the composition layer (II) are cut by a universal tensile tester manufactured by Orientec Co., Ltd. The adhesive strength at the interface with and was measured under conditions of a tensile speed of 300 mm / min, an initial chuck distance of 50 mm, and T-type peeling. The results are shown in Table 2.

【0107】[実施例6〜12]エチレン(共)重合体
(A)と低密度ポリエチレン(B1)およびエポキシ化
合物(C1)を表2に示す組成に変更し、表2に示す基
材を用いた以外は、実施例1と同様に電子部品キャリア
テープ用カバーフィルムを製造し、基材層(I)と組成
物層(II)との界面における接着強度を測定した。結果
を表2に示した。
[Examples 6 to 12] The ethylene (co) polymer (A), the low density polyethylene (B1) and the epoxy compound (C1) were changed to the compositions shown in Table 2, and the base materials shown in Table 2 were used. A cover film for an electronic component carrier tape was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the adhesive strength at the interface between the base material layer (I) and the composition layer (II) was measured. The results are shown in Table 2.

【0108】[比較例1〜4]各成分を表2に示す組成に
変更し、表2に示す基材を用いた以外は、実施例1と同
様に電子部品キャリアテープ用カバーフィルムを製造
し、基材層(I)と組成物層(II)との界面における接
着強度を測定した。結果を表2に示した。
[Comparative Examples 1 to 4] A cover film for an electronic component carrier tape was produced in the same manner as in Example 1 except that each component was changed to the composition shown in Table 2 and the base material shown in Table 2 was used. The adhesive strength at the interface between the base material layer (I) and the composition layer (II) was measured. The results are shown in Table 2.

【0109】[0109]

【表2】 [Table 2]

【0110】[0110]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の電子部品
キャリアテープ用カバーフィルムは、基材からなる基材
層(I)と、該基材層(I)に接し、ポリオレフィン系
樹脂および、該ポリオレフィン系樹脂を含む樹脂成分1
00質量部に対して、分子内にエポキシ基を2個以上有
し、分子量が3000以下であるエポキシ化合物0.0
1〜10質量部を含有するオレフィン系樹脂組成物から
なる組成物層(II)とを有するものであるので、アンカ
ーコート剤等の接着剤を用いることなく、基材層(I)
と組成物層(II)との間の接着性が優れている。
As described above, the cover film for an electronic component carrier tape of the present invention comprises a base material layer (I) made of a base material, a polyolefin resin and a base material layer (I) in contact with the base material layer (I). Resin component 1 containing the polyolefin resin
Epoxy compound 0.0 having 2 or more epoxy groups in the molecule and having a molecular weight of 3000 or less with respect to 00 parts by mass
Since it has a composition layer (II) composed of an olefin resin composition containing 1 to 10 parts by mass, the base material layer (I) can be used without using an adhesive such as an anchor coat agent.
The adhesiveness between the composition and the composition layer (II) is excellent.

【0111】また、前記組成物層(II)のオレフィン系
樹脂組成物が、樹脂成分としてさらに分子内にエポキシ
基と反応する官能基を有するオレフィン系樹脂を含有す
るものであれば、基材層(I)と組成物層(II)との間
の接着性がさらに向上する。
If the olefin resin composition of the composition layer (II) further contains, as a resin component, an olefin resin having a functional group capable of reacting with an epoxy group in the molecule, a base material layer The adhesiveness between (I) and the composition layer (II) is further improved.

【0112】前記ポリオレフィン系樹脂が、エチレン
(共)重合体(A)100〜10質量%および他のポリ
オレフィン系樹脂(B)0〜90質量%からなり、前記
エチレン(共)重合体(A)が、シングルサイト系触媒
の存在下に製造されたものであり、該エチレン(共)重
合体(A)の(a)密度が0.86〜0.97g/cm
3 、(b)メルトフローレートが0.01〜200g/
10分であるものであれば、基材層(I)と組成物層
(II)との間の接着性、低温ヒートシール性に優れ、成
形加工性が良好となり、高速成形性がさらに向上する。
The polyolefin resin is ethylene
(Co) polymer (A) 100 to 10% by mass and other poly
The olefin resin (B) is 0 to 90% by mass, and
Ethylene (co) polymer (A) is a single-site catalyst
Is produced in the presence of
(A) density of united (A) is 0.86 to 0.97 g / cm
3 , (B) the melt flow rate is 0.01 to 200 g /
If it is 10 minutes, the base material layer (I) and the composition layer
Excellent adhesion to (II) and low temperature heat sealability
Shape workability is improved, and high-speed formability is further improved.

【0113】また、前記オレフィン系樹脂組成物に、添
加剤を配合せず、もしくは実質的に被接触物に悪影響を
与えない添加剤を配合していれば、または前記エチレン
(共)重合体中のハロゲン含有量が10ppm以下であ
れば、クリーンな電子部品キャリアテープ用カバーフィ
ルムを提供することが可能となる。
If the olefin resin composition contains no additive, or an additive that does not substantially affect the object to be contacted, or the above-mentioned ethylene (co) polymer If the halogen content of 10 ppm or less is 10 ppm or less, it becomes possible to provide a clean cover film for electronic component carrier tape.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の電子部品キャリアテープの一例を示
す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an electronic component carrier tape of the present invention.

【図2】 本発明に係るエチレン(共)重合体(A)の
溶出温度−溶出量曲線を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing an elution temperature-elution amount curve of the ethylene (co) polymer (A) according to the present invention.

【図3】 本発明に係るエチレン(共)重合体(A1)
の溶出温度−溶出量曲線を示すグラフである。
FIG. 3 is an ethylene (co) polymer (A1) according to the present invention.
3 is a graph showing an elution temperature-elution amount curve of.

【図4】 メタロセン系触媒によるエチレン(共)重合
体の溶出温度−溶出量曲線を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing an elution temperature-elution amount curve of an ethylene (co) polymer with a metallocene catalyst.

【図5】 本発明に係るエチレン(共)重合体(A2)
の溶出温度−溶出量曲線を示すグラフである。
FIG. 5: Ethylene (co) polymer (A2) according to the present invention
3 is a graph showing an elution temperature-elution amount curve of.

【図6】 従来の電子部品キャリアテープの一例を示す
断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of a conventional electronic component carrier tape.

【符号の説明】 10 電子部品キャリアテープ用カバーフィルム 11 基材層(I) 12 組成物層(II)[Explanation of symbols] 10 Electronic component carrier tape cover film 11 Base material layer (I) 12 Composition layer (II)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今山 時憲 神奈川県川崎市川崎区夜光二丁目3番2号 日本ポリオレフィン株式会社技術本部研 究開発センター内 Fターム(参考) 3E086 AB02 AC07 AD09 AD24 BA04 BA13 BA14 BA15 BB15 BB20 BB35 BB51 BB74 BB90 CA31 4F100 AH02B AH02H AK03B AK42A AL05B AL06B AT00A BA02 BA10A BA10B BA15 GB16 GB41 GB90 JK06 JL06 YY00B   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Tokinori Imayama             2-3-2 Yokou, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa               Japan Polyolefin Co., Ltd.             Research and Development Center F-term (reference) 3E086 AB02 AC07 AD09 AD24 BA04                       BA13 BA14 BA15 BB15 BB20                       BB35 BB51 BB74 BB90 CA31                 4F100 AH02B AH02H AK03B AK42A                       AL05B AL06B AT00A BA02                       BA10A BA10B BA15 GB16                       GB41 GB90 JK06 JL06 YY00B

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材からなる基材層(I)と、 該基材層(I)に接し、ポリオレフィン系樹脂および、
該ポリオレフィン系樹脂を含む樹脂成分100質量部に
対して、分子内にエポキシ基を2個以上有し、分子量が
3000以下であるエポキシ化合物0.01〜10質量
部を含有するオレフィン系樹脂組成物からなる組成物層
(II)とを有することを特徴とする電子部品キャリアテ
ープ用カバーフィルム。
1. A base material layer (I) composed of a base material, and a polyolefin resin, which is in contact with the base material layer (I),
An olefin resin composition containing 0.01 to 10 parts by mass of an epoxy compound having two or more epoxy groups in a molecule and a molecular weight of 3000 or less with respect to 100 parts by mass of a resin component containing the polyolefin resin. A cover film for an electronic component carrier tape, comprising a composition layer (II) comprising
【請求項2】 前記組成物層(II)のオレフィン系樹脂
組成物が、樹脂成分としてさらに分子内にエポキシ基と
反応する官能基を有するオレフィン系樹脂を含有するこ
とを特徴とする請求項1記載の電子部品キャリアテープ
用カバーフィルム。
2. The olefin resin composition of the composition layer (II) further contains, as a resin component, an olefin resin having a functional group that reacts with an epoxy group in the molecule. A cover film for an electronic component carrier tape as described above.
【請求項3】 さらに、組成物層(II)に接するシーラ
ント層(III)を有することを特徴とする請求項1または
請求項2記載の電子部品キャリアテープ用カバーフィル
ム。
3. The cover film for an electronic component carrier tape according to claim 1, further comprising a sealant layer (III) in contact with the composition layer (II).
【請求項4】 前記ポリオレフィン系樹脂が、エチレン
(共)重合体(A)100〜10質量%および他のポリ
オレフィン系樹脂(B)0〜90質量%からなり、 前記エチレン(共)重合体(A)が、シングルサイト系
触媒の存在下に製造されたものであり、該エチレン
(共)重合体(A)の(a)密度が0.86〜0.97
g/cm3 、(b)メルトフローレートが0.01〜2
00g/10分であることを特徴とする請求項1ないし
3いずれか一項に記載の電子部品キャリアテープ用カバ
ーフィルム。
4. The polyolefin-based resin comprises 100 to 10% by mass of an ethylene (co) polymer (A) and 0 to 90% by mass of another polyolefin-based resin (B), and the ethylene (co) polymer ( A) is produced in the presence of a single-site catalyst, and the ethylene (co) polymer (A) has a (a) density of 0.86 to 0.97.
g / cm 3 , (b) melt flow rate of 0.01 to 2
It is 00 g / 10 minutes, The cover film for electronic component carrier tapes in any one of the Claims 1 thru | or 3 characterized by the above-mentioned.
【請求項5】 前記エチレン(共)重合体(A)が、下
記(a)から(d)の要件を満足することを特徴とする
請求項4記載の電子部品キャリアテープ用カバーフィル
ム。 (a)密度が0.86〜0.97g/cm3 、 (b)メルトフローレートが0.01〜200g/10
分、 (c)分子量分布(Mw/Mn)が1.5〜4.5、 (d)連続昇温溶出分別法(TREF)による溶出温度
−溶出量曲線の積分溶出曲線から求めた全体の25%が
溶出する温度T25と全体の75%が溶出する温度T75
の差T75−T25および密度dが、下記(式1)の関係を
満足すること (式1) T75−T25≦−670×d+644
5. The cover film for an electronic component carrier tape according to claim 4, wherein the ethylene (co) polymer (A) satisfies the following requirements (a) to (d). (A) Density of 0.86 to 0.97 g / cm 3 , (b) Melt flow rate of 0.01 to 200 g / 10
Min, (c) molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.5 to 4.5, (d) total 25 determined from the integrated elution curve of elution temperature-elution amount curve by continuous temperature rising elution fractionation method (TREF) The difference T 75 -T 25 between the temperature T 25 at which 100% elutes and the temperature T 75 at which 75% of the whole elutes, and the density d satisfy the following equation (equation 1) (equation 1) T 75 -T 25 ≤ -670 x d + 644
【請求項6】 前記エチレン(共)重合体(A)が、さ
らに下記(e)の要件を満足することを特徴とする請求
項5記載の電子部品キャリアテープ用カバーフィルム。 (e)連続昇温溶出分別法(TREF)による溶出温度
−溶出量曲線の積分溶出曲線から求めた全体の25%が
溶出する温度T25と全体の75%が溶出する温度T75
の差T75−T25および密度dが、下記(式2)の関係を
満足すること (式2) d<0.950g/cm3 のとき T75−T25≧−300×d+285 d≧0.950g/cm3 のとき T75−T25≧0
6. The cover film for an electronic component carrier tape according to claim 5, wherein the ethylene (co) polymer (A) further satisfies the following requirement (e). (E) The difference between the temperature T 25 at which 25% of the whole is eluted and the temperature T 75 at which 75% of the whole is obtained, which is obtained from the integral elution curve of the elution temperature-elution amount curve by the continuous temperature rising elution fractionation method (TREF) T 75 -T 25 and density d satisfy the following to satisfy the relation of (formula 2) (formula 2) d <when 0.950g / cm 3 T 75 -T 25 ≧ -300 × d + 285 d ≧ 0.950g / Cm 3 T 75 −T 25 ≧ 0
【請求項7】 前記エチレン(共)重合体(A)が、さ
らに下記(f)および(g)の要件を満足するエチレン
(共)重合体(A1)であることを特徴とする請求項6
記載の電子部品キャリアテープ用カバーフィルム。 (f)25℃におけるオルソジクロロベンゼン(ODC
B)可溶分量X(質量%)、密度dおよびメルトフロー
レート(MFR)が下記(式3)および(式4)の関係
を満足すること (式3)d−0.008logMFR≧0.93の場合 X<2.0 (式4)d−0.008logMFR<0.93の場合 X<9.8×103×(0.9300−d+0.008
logMFR)2+2.0 (g)連続昇温溶出分別法(TREF)による溶出温度
−溶出量曲線のピークが複数個存在すること
7. The ethylene (co) polymer (A) is an ethylene (co) polymer (A1) which further satisfies the following requirements (f) and (g):
A cover film for an electronic component carrier tape as described above. (F) Ortho-dichlorobenzene (ODC at 25 ° C)
B) Soluble content X (mass%), density d and melt flow rate (MFR) satisfy the relationships of the following (formula 3) and (formula 4) (formula 3) d-0.008log MFR ≧ 0.93 When X <2.0 (Equation 4) d−0.008 log MFR <0.93 When X <9.8 × 10 3 × (0.9300−d + 0.008
logMFR) 2 +2.0 (g) Multiple peaks on the elution temperature-elution volume curve by continuous temperature rising elution fractionation (TREF)
【請求項8】 前記エチレン(共)重合体(A)が、さ
らに下記(h)および(i)の要件を満足するエチレン
(共)重合体(A2)であることを特徴とする請求項6
記載の電子部品キャリアテープ用カバーフィルム。 (h)連続昇温溶出分別法(TREF)による溶出温度
−溶出量曲線のピークが一つであること (i)融点ピークを1ないし2個以上有し、かつそのう
ち最も高い融点Tmlと密度dが、下記(式5)の関係を
満足すること (式5) Tml≧150×d−19
8. The ethylene (co) polymer (A) is an ethylene (co) polymer (A2) further satisfying the following requirements (h) and (i):
A cover film for an electronic component carrier tape as described above. (H) One peak of the elution temperature-elution amount curve by the continuous temperature rising elution fractionation method (TREF). (I) One or more melting point peaks, and the highest melting point Tml and density d satisfies the following relationship (Equation 5) (Equation 5) T ml ≧ 150 × d−19
【請求項9】 前記エチレン(共)重合体(A2)が、
さらに下記(j)の要件を満足することを特徴とする請
求項8記載の電子部品キャリアテープ用カバーフィル
ム。 (j)メルトテンション(MT)とメルトフローレート
(MFR)が、下記(式6)を満足すること (式6) logMT≦−0.572×logMFR+
0.3
9. The ethylene (co) polymer (A2) comprises:
The cover film for an electronic component carrier tape according to claim 8, which further satisfies the following requirement (j). (J) Melt tension (MT) and melt flow rate (MFR) satisfy the following (formula 6) (formula 6) logMT ≦ −0.572 × logMFR +
0.3
【請求項10】 前記エチレン(共)重合体(A)中のハ
ロゲン含有量が10ppm以下であることを特徴とする
請求項4ないし9いずれか一項に記載の電子部品キャリ
アテープ用カバーフィルム。
10. The cover film for an electronic component carrier tape according to claim 4, wherein the halogen content in the ethylene (co) polymer (A) is 10 ppm or less.
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