JP2003302746A - Method and system for repairing emulsion mask pattern defect - Google Patents

Method and system for repairing emulsion mask pattern defect

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JP2003302746A
JP2003302746A JP2002106472A JP2002106472A JP2003302746A JP 2003302746 A JP2003302746 A JP 2003302746A JP 2002106472 A JP2002106472 A JP 2002106472A JP 2002106472 A JP2002106472 A JP 2002106472A JP 2003302746 A JP2003302746 A JP 2003302746A
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Japan
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coating
defect
emulsion mask
emulsion
correction
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Japanese (ja)
Inventor
Noboru Uehara
昇 上原
Kensaku Suzuki
謙作 鈴木
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To enable rapid repair of a defect by decreasing the number of times of coating application operations of a correcting fluid even when the translucent defect of a large size exists. <P>SOLUTION: The system is provided with a table to be placed on with the emulsion mask obtained by forming periodic patterns repetitively arrayed with the light shieldable patterns of prescribed shapes on a translucent emulsion film applied by coating on a transparent plate material, two coating application mechanism 30 for applying the light shieldable correcting fluid including a curing resin to the film segment of the defect portion in the system for correcting the emulsion mask pattern repairing the translucent defect produced in the light shielding patterns of the emulsion mask placed on the table, and a laser oscillator 20 for curing the correcting fluid applied thereto. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明が属する技術分野】本発明は、エマルジョンマス
クパターン欠陥修正方法、例えばカラーテレビのブラウ
ン管に用いられるシャドウマスクやアパーチャグリルを
製造する際のエッチング用のマスクであるレジストパタ
ーンの作成に使用されるエマルジョンマスクについて、
周期性パターンを構成する遮光性パターンに生じている
透光性の欠陥部を修正する際に適用して好適なエマルジ
ョンマスクパターン欠陥修正方法及び装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is used for a method of correcting an emulsion mask pattern defect, for example, for forming a resist pattern which is a mask for etching when manufacturing a shadow mask used for a cathode ray tube of a color television or an aperture grill. About emulsion mask,
The present invention relates to an emulsion mask pattern defect repairing method and device suitable for repairing a light-transmissive defect that occurs in a light-shielding pattern that forms a periodic pattern.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、カラーテレビのブラウン管に用
いられるシャドウマスクやアパーチャグリルは、金属板
にコーティングされたレジスト膜を、所定の周期性パタ
ーンが形成されているエマルジョンマスクを用いて露
光、現像して作成されるレジストパターンをマスクに、
該金属板をエッチングして製造される。
2. Description of the Related Art Generally, a shadow mask and an aperture grill used for a cathode ray tube of a color television set are formed by exposing and developing a resist film coated on a metal plate using an emulsion mask having a predetermined periodic pattern. Using the resist pattern created by
It is manufactured by etching the metal plate.

【0003】このようなレジストパターンの作成に使用
されるエマルジョンマスクMは、図7(A)に2枚分の
全体を、同図(B)に一部を拡大してそれぞれ示すよう
に、設計値に基づく所定の形状と大きさからなる遮光性
パターンPを繰り返し配列してなる周期性パターンが、
透明なガラス板Gの表面に形成されているものである。
そして、このような周期性パターンを構成する遮光性パ
ターンPは、ガラス板G上に高解像力写真乳化剤をコー
ティングして形成された感光剤含有の透明エマルジョン
膜Eを、予め作成してある対応するパターンを基に露光
し、感光して形成することができる。
The emulsion mask M used to form such a resist pattern is designed as shown in FIG. 7 (A) for the entire two sheets and in FIG. 7 (B) for the enlarged portion. A periodic pattern formed by repeatedly arranging light-shielding patterns P having a predetermined shape and size based on the value is
It is formed on the surface of the transparent glass plate G.
The light-shielding pattern P forming such a periodic pattern has a transparent emulsion film E containing a photosensitizer formed by coating a glass plate G with a high-resolution photographic emulsifier in advance. It can be formed by exposing and exposing based on a pattern.

【0004】上記のような所定形状(ここでは矩形)の
パターンPを露光して形成する場合、例えば露光前のエ
マルジョン膜Eに微小異物が付着する等の何らかの理由
により、図8(A)に示すような白欠けや、同図(B)
に示すような白抜けという部分的なパターン欠陥(透光
性の欠陥部)が生じることがある。
When the pattern P having a predetermined shape (rectangle in this case) as described above is formed by exposure, as shown in FIG. 8A, for some reason, for example, fine foreign matter adheres to the emulsion film E before exposure. White defects as shown in the figure (B)
A partial pattern defect (translucent defect part) called white spot may occur.

【0005】このようなエマルジョンマスクMにパター
ン欠陥が生じた場合には、それを修正する必要がある
が、従来は、熱硬化性樹脂を含む遮光性のある修正液
を、例えば白抜けの欠陥部に塗布した後、それを図9に
模式的に示す液硬化用レーザ発振器(LDレーザ)2と
加工用レーザ発振器(YAG第2高調波)4とを切り換
えて対物レンズ6を通して照射することができる修正装
置を用いて修正していた。
When a pattern defect occurs in such an emulsion mask M, it is necessary to correct it. Conventionally, a correction liquid having a light shielding property containing a thermosetting resin is used, for example, a defect of a blank area. After being applied to the portion, the liquid curing laser oscillator (LD laser) 2 and the processing laser oscillator (YAG second harmonic) 4 schematically shown in FIG. It was corrected using a correction device that can.

【0006】図10には、白抜け(欠陥部)Kが生じて
いる1つのパターンと、その白抜け位置を通る対応する
部分断面図とを用いて、上記装置による従来の修正方法
のイメージを示す。まず、同図(A)に示すようにガラ
ス板上にコーティングされている透明なエマルジョン膜
Eに形成されている遮光性のパターン(網かけ部分)P
の白抜けKの部分に、塗布用針8の先端に付着させた修
正液(図中、塗布液)を塗布する。このように塗布され
た修正液の全体を、同図(B)に示すようにLDレーザ
を照射して熱硬化させ、塗布膜を形成した後、パターン
Pからはみ出した塗布膜部分(以下、はみ出し部分とも
いう)は、発振器を切り換えて同図(C)に示すように
YAG第2高調波からなる加工用レーザを照射して熱分
解して除去することにより修正している。
FIG. 10 shows an image of a conventional correction method by the above-mentioned device using one pattern in which a blank portion (defective portion) K is generated and a corresponding partial sectional view passing through the blank portion. Show. First, as shown in FIG. 1A, a light-shielding pattern (shaded portion) P formed on a transparent emulsion film E coated on a glass plate.
The correction liquid (the coating liquid in the figure) attached to the tip of the coating needle 8 is applied to the blank portion K of FIG. The entire correction fluid thus applied is irradiated with an LD laser to be thermally cured as shown in FIG. 3B to form a coating film, and then the coating film portion protruding from the pattern P (hereinafter referred to as a protrusion). (Also referred to as a portion) is corrected by switching the oscillator and irradiating a processing laser composed of a YAG second harmonic as shown in FIG.

【0007】このような修正の際に塗布される修正液の
塗布サイズ(塗布膜の径)は、図11に塗布(用)針に
対応させてイメージを示すように、使用する塗布針の先
端径により異なり、塗布サイズ(径)は先端径より若干
大きくなる(針への修正液の付着工程と、該修正液の塗
布工程からなる塗布操作を適正条件下で繰り返すことに
より、塗布サイズは先端径に応じてほぼ一定になる)。
The coating size (diameter of the coating film) of the correction liquid applied during such a correction is the tip of the coating needle to be used, as shown in the image corresponding to the coating (use) needle in FIG. Depending on the diameter, the coating size (diameter) is slightly larger than the tip diameter (the coating size can be adjusted by repeating the process of applying the correction fluid to the needle and the coating operation consisting of the correction fluid coating process under appropriate conditions). It becomes almost constant according to the diameter).

【0008】従来の修正装置では、塗布針を交換して先
端径を変更することにより、塗布サイズを変更すること
は可能であるが、塗布手段(機構)は1つしかないた
め、通常操作では塗布サイズは1種類に限定されること
になる。
In the conventional correction device, it is possible to change the application size by exchanging the application needle and changing the tip diameter, but since there is only one application means (mechanism), normal operation is not possible. The coating size will be limited to one type.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、透光性
欠陥のサイズは大小様々であり、いずれの大きさの欠陥
であっても、それを完全に覆うように修正液を塗布する
必要があるため、塗布針の先端サイズ(径)に比べて欠
陥サイズが大きい場合には、1回の塗布操作では対応で
きないことがある。このような場合には、図12に白抜
けKの場合についてイメージを示すように、複数回の塗
布操作が必要となるが、各操作毎に塗布針の位置決めを
正確に行なわなければならないことから、操作が煩雑に
なるという問題がある。
However, since the size of the translucent defect varies in size, it is necessary to apply the correction liquid so as to completely cover the defect of any size. If the defect size is larger than the tip size (diameter) of the coating needle, one coating operation may not be enough. In such a case, a plurality of coating operations are required as shown in the image of the blank area K in FIG. 12, but since the coating needle must be accurately positioned for each operation. However, there is a problem that the operation becomes complicated.

【0010】なお、この問題を避けるために、欠陥サイ
ズに合わせて適切な先端サイズの塗布針を選択使用する
ことも考えられるが、前述した如く従来の修正装置は1
種類の塗布針しか搭載できないため、人が手作業で欠陥
サイズに合う塗布針に交換するとともに、その都度塗布
条件の調整を行なう必要があることから、欠陥修正に多
大な時間を要することになるという別の問題がある。
In order to avoid this problem, it is conceivable to select and use a coating needle having an appropriate tip size according to the defect size.
Since only one type of coating needle can be installed, it is necessary for a person to manually replace the coating needle with one that matches the defect size and adjust the coating conditions each time, which requires a lot of time for defect correction. There is another problem.

【0011】本発明は、前記従来の問題点を解決するべ
くなされたもので、サイズが大きい透光性欠陥が存在す
る場合でも、修正液の塗布操作の回数を極力少なくした
上で、短時間で欠陥を修正することができるエマルジョ
ンマスクパターン欠陥修正方法及び装置を提供すること
を課題とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems. Even when a large-sized light-transmitting defect is present, the number of correction liquid application operations is minimized, and the correction liquid is applied for a short time. An object of the present invention is to provide an emulsion mask pattern defect repairing method and device capable of repairing defects by using the above method.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は、透明板材にコ
ーティングされた透光性のエマルジョン膜に、所定形状
の遮光性パターンを繰り返し配列してなる周期性パター
ンが形成されているエマルジョンマスクについて、前記
遮光性パターンに生じている透光性の欠陥部を修正する
エマルジョンマスクパターン欠陥修正方法において、前
記欠陥部の膜部分に、併設されている複数の塗布手段の
いずれかにより硬化性樹脂を含む遮光性の修正液を塗布
し、塗布された修正液を硬化させることにより、前記課
題を解決したものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to an emulsion mask in which a light-transmitting emulsion film coated on a transparent plate material has a periodic pattern formed by repeatedly arranging light-shielding patterns of a predetermined shape. In an emulsion mask pattern defect repairing method for repairing a translucent defect part occurring in the light-shielding pattern, a curable resin is applied to the film part of the defect part by any of a plurality of coating means provided side by side. The above problem is solved by applying a light-shielding correction liquid containing the composition and curing the applied correction liquid.

【0013】本発明は、又、透明板材にコーティングさ
れた透光性のエマルジョン膜に、所定形状の遮光性パタ
ーンを繰り返し配列してなる周期性パターンが形成され
ているエマルジョンマスクを戴置するテーブルと、該テ
ーブル上に戴置されたエマルジョンマスクについて、前
記遮光性パターンに生じている透光性の欠陥部を修正す
るエマルジョンマスクパターン欠陥修正装置において、
前記欠陥部の膜部分に硬化性樹脂を含む遮光性の修正液
を塗布する複数の塗布手段と、塗布された修正液を硬化
させる硬化手段とを備えたことにより、同様に前記課題
を解決したものである。
According to the present invention, a table for placing an emulsion mask in which a transparent pattern is formed on a transparent emulsion film coated on a transparent plate material and a periodic pattern is formed by repeatedly arranging light-shielding patterns of a predetermined shape. And an emulsion mask pattern defect repairing device for repairing a translucent defect portion occurring in the light-shielding pattern for the emulsion mask placed on the table,
The problem is similarly solved by providing a plurality of coating means for coating a light-shielding correction liquid containing a curable resin on the film portion of the defective portion and a curing means for curing the applied correction liquid. It is a thing.

【0014】即ち、本発明においては、1つの修正装置
に複数の塗布手段を併設するようにしたので、先端径の
異なる複数種類の針等の塗布具を、交換作業を行なうこ
となく併用することが可能となることから、欠陥サイズ
に応じた適切な塗布具を簡単に選択することが可能とな
る。その結果、塗布操作の回数を低減することが可能と
なり、修正作業を短時間で終了することが可能となる。
That is, in the present invention, since a plurality of coating means are provided side by side with one correction device, a plurality of types of coating tools such as needles having different tip diameters can be used together without replacement work. Therefore, it is possible to easily select an appropriate applicator according to the defect size. As a result, the number of coating operations can be reduced, and the correction work can be completed in a short time.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態について詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0016】図1は、本発明に係る一実施形態のエマル
ジョンマスクパターン欠陥修正装置の全体を示す概略斜
視図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing an entire emulsion mask pattern defect repairing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【0017】この修正装置は、架台10上に前記図7に
示したようなガラス板(透明板材)Gからなるエマルジ
ョンマスクMを載置するテーブル12が取付けられてい
ると共に、該エマルジョンマスクMに形成されている任
意の遮光性パターンに存在するパターン欠陥を修正する
ために、テーブル12に対して修正ヘッド14をX方向
及びY方向にそれぞれ移動させるX駆動ステージ16及
びY駆動ステージ18が設置されている。
In this correction apparatus, a table 12 for mounting an emulsion mask M made of a glass plate (transparent plate material) G as shown in FIG. An X drive stage 16 and a Y drive stage 18 for moving the correction head 14 in the X direction and the Y direction with respect to the table 12 are installed in order to correct a pattern defect existing in any formed light-shielding pattern. ing.

【0018】上記修正ヘッド14の内部には、図2に拡
大して示すように、レーザ発振器20が対物レンズ22
と共に固定され、該レーザ発振器20は、前記図9に示
したような遮光性の塗布液を熱硬化可能な液硬化用のL
Dレーザ発振器2と、加工用レーザ発振器4とを切り換
えて使用することが可能になっており、該加工用レーザ
発振器4からはYAGレーザの第2、第3、第4の各高
調波をそれぞれ切替え発振することが可能になってい
る。
Inside the correction head 14, a laser oscillator 20 is provided with an objective lens 22 as shown in an enlarged view in FIG.
The laser oscillator 20 is fixed together with the L oscillator for liquid curing capable of thermally curing the light-shielding coating liquid as shown in FIG.
The D laser oscillator 2 and the processing laser oscillator 4 can be switched and used, and the second, third, and fourth harmonics of the YAG laser are respectively emitted from the processing laser oscillator 4. Switching oscillation is possible.

【0019】同様に、上記修正ヘッド14の内部には、
上記レーザ発振器20に対して左右対称の位置に、それ
ぞれX方向に所定のオフセット量(距離)を隔てて針昇
降用アクチュエータ24が固定され、その下端に保持さ
れている塗布用針26、26Aを昇降動可能になってお
り、又、該塗布用針26、26Aの下端に修正液を付着
させるための塗布液壺28が旋回可能に取付けられてい
る。なお、上記塗布用針26、26Aは、先端から修正
液を吐出するディスペンサであってもよい。
Similarly, inside the correction head 14,
Needle elevating actuators 24 are fixed at positions symmetrical with respect to the laser oscillator 20 at predetermined offset amounts (distances) in the X direction, and application needles 26, 26A held at the lower ends thereof are attached. It can be moved up and down, and a coating liquid pot 28 for attaching the correction liquid to the lower ends of the coating needles 26, 26A is rotatably attached. The application needles 26 and 26A may be dispensers that discharge the correction fluid from the tips.

【0020】本実施形態の修正装置は、2つの塗布機構
(塗布手段)30を備えているが、これら各機構30は
前記レーザ発振器20に対して対称に配設されているい
ずれか一方の前記針昇降用アクチュエータ24、塗布用
針26(26A)及び塗布液壺28を含んだ構成になっ
ている。そして、図中右側の塗布機構には後述する先端
径が大きい大径針26が、左側には小径針26Aが、そ
れぞれ搭載されている。
The repairing apparatus of this embodiment comprises two coating mechanisms (coating means) 30. Each of these mechanisms 30 is arranged symmetrically with respect to the laser oscillator 20. The needle lifting actuator 24, the coating needle 26 (26A), and the coating liquid pot 28 are included. A large-diameter needle 26 having a large tip diameter, which will be described later, is mounted on the coating mechanism on the right side of the drawing, and a small-diameter needle 26A is mounted on the left side.

【0021】本実施形態においては、上述した修正装置
を用いて、前記図7等に示したような、ガラス板(透明
板材)Gにコーティングされた透光性のエマルジョン膜
Eに、所定形状の遮光性パターンPを繰り返し配列して
なる周期性パターンが形成されているエマルジョンマス
クMについて、前記遮光性パターンPのいずれかに生じ
ている、前記図8、図10に示したような光を透過する
透光性の白抜け(欠陥部)Kを、熱硬化性樹脂を含む遮
光性の修正液により以下のように修正する。上記修正液
としては、従来と同様に、例えば印刷用フェノール樹脂
系インクを挙げることができる。
In the present embodiment, by using the above-mentioned correction device, a transparent emulsion film E coated on a glass plate (transparent plate material) G as shown in FIG. Regarding the emulsion mask M having a periodic pattern formed by repeatedly arranging the light-shielding patterns P, the light generated in any of the light-shielding patterns P as shown in FIGS. 8 and 10 is transmitted. The transparent white voids (defects) K are corrected with a light-shielding correction liquid containing a thermosetting resin as follows. As the correction liquid, for example, a phenol resin ink for printing can be used as in the conventional case.

【0022】まず、前記図1に示したテーブル12上に
エマルジョンマスクMを載置すると共に、前記レーザ発
振器20に付設されている対物レンズ22により上記欠
陥部Kを捉える。次いで、いずれの先端径の針26又は
針26Aを採用するかを決定する。ここでは便宜上右側
の大径針26の採用が決定されたとし、該当する塗布機
構30に向かって前記図2に示したように修正ヘッド1
4をX方向にオフセット量だけ移動し、塗布用針26を
欠陥部(白抜け)真上へ合わせる。次いで、前記塗布液
壺28を旋回させ、上記塗布用針26の真下に移動さ
せ、前記昇降用アクチュエータ24により塗布用針26
を下降させ、針先端を壺28に挿入し、適量の修正液を
付着させた後、昇降用アクチュエータ24により塗布用
針26を上昇させ、壺28を旋回し、元の位置に戻す。
First, the emulsion mask M is placed on the table 12 shown in FIG. 1, and the defective portion K is captured by the objective lens 22 attached to the laser oscillator 20. Next, it is determined which tip diameter of the needle 26 or the needle 26A is used. Here, it is assumed that the adoption of the large diameter needle 26 on the right side is decided for the sake of convenience, and the correction head 1 is moved toward the corresponding coating mechanism 30 as shown in FIG.
4 is moved in the X direction by an offset amount, and the coating needle 26 is aligned right above the defective portion (white spot). Next, the coating liquid vase 28 is swirled and moved directly below the coating needle 26, and the coating needle 26 is moved by the elevating actuator 24.
Is lowered, the tip of the needle is inserted into the jar 28, an appropriate amount of the correction liquid is adhered thereto, then the coating needle 26 is raised by the elevating actuator 24, and the jar 28 is swung to return to the original position.

【0023】その後、再び前記昇降用アクチュエータ2
4により修正液が付着された針26の先端を、前記図1
0(A)示したようにエマルジョン膜に発生している白
抜けKの表面に接触するまで下降させ、その表面に修正
液(塗布液)を塗布した後、該アクチュエータ24によ
り塗布用針26を上昇させる。次いで、修正ヘッド14
をX方向にオフセット量だけ移動させて元の位置に戻
し、対物レンズ22が前記白抜けKの表面に塗布された
修正液を捉えた後、同図(B)に示した従来と同様に前
記発振器20によりLDレーザを照射し、塗布された修
正液を熱硬化させる。以上、右側の塗布機構について詳
述したが、左側の塗布機構の場合も、方向は逆になるが
実質上同一の動作により塗布が実行されるようになって
いる。
Then, the lifting actuator 2 is again used.
4, the tip of the needle 26 to which the correction fluid is attached is
As shown in FIG. 0 (A), it is lowered until it comes into contact with the surface of the void K generated in the emulsion film, and the correction liquid (coating liquid) is applied to the surface, and then the coating needle 26 is moved by the actuator 24. To raise. Then, the correction head 14
Is moved to the original position by moving in the X direction by an offset amount, and after the objective lens 22 catches the correction liquid applied to the surface of the void K, the same as in the conventional case shown in FIG. The oscillator 20 irradiates an LD laser to thermally cure the applied correction fluid. Although the right side coating mechanism has been described in detail above, the left side coating mechanism is also configured such that the coating is executed by substantially the same operation although the directions are reversed.

【0024】本実施形態においては、前述したように、
レーザ発振器20に対して左右対称な位置に設置されて
いる2つの塗布機構30がそれぞれ有するアクチュエー
タ24に、それぞれ図3(A)に塗布膜のサイズのイメ
ージを示すように、先端径の大きい、例えばφ100μ
mの針26と、先端径の小さい、例えばφ30μmの針
26Aとが搭載されているので、これらを欠陥サイズに
合わせて使い分けることが可能である。従って、同図
(B)に示すような大きいサイズの白抜けKに対しては
大径針26により1回の塗布操作により全体を覆うよう
に塗布することができると共に、同図(C)に示すよう
にコーナー部にある小さいサイズの白抜けKには、大径
針26を使用する場合には破線で示す範囲まで修正液が
はみ出すことが懸念されるが、小径針26Aを使うこと
により同様に1回の塗布操作で適正な塗布を行なうこと
が可能となる。但し、仮にはみ出したとしても、修正液
を硬化した後そのはみ出し部分に加工用レーザを照射す
ることにより整形することができることは言うまでもな
い。
In this embodiment, as described above,
As shown in the image of the size of the coating film in the actuators 24 respectively provided in the two coating mechanisms 30 installed at positions symmetrical with respect to the laser oscillator 20, the tip diameter is large, as shown in FIG. For example φ100μ
Since the needle 26 having a diameter of m and the needle 26A having a small tip diameter of, for example, φ30 μm are mounted, it is possible to selectively use them according to the defect size. Therefore, with respect to a large size blank portion K as shown in FIG. 7B, it is possible to apply the large-diameter needle 26 so as to cover the whole with one application operation, and as shown in FIG. As shown in the figure, when using the large-diameter needle 26, there is a concern that the correction fluid may squeeze out into the small size blank K in the corner portion, but by using the small-diameter needle 26A, Appropriate coating can be performed with one coating operation. However, it is needless to say that even if it protrudes, it can be shaped by curing the correction liquid and then irradiating the protruding portion with a processing laser.

【0025】以上詳述した本実施形態によれば、1台の
修正装置に先端径が大小異なる2つの塗布針を搭載した
ことにより、1回の塗布サイズよりも大きな欠陥に対応
する場合に、複数回の塗布の回数を低減できる。その結
果、図4に一点塗布と二点塗布の場合を例にイメージを
示すように、複数回塗布では、塗布点の重なった部分の
膜が厚くなる(一点塗布時の2倍以上になる場合もあ
る)ことから、膜厚が大きい場合に見られる、以下に説
明する密着露光時の製品形状崩れの発生を極力抑制する
ことができる。
According to the present embodiment described in detail above, by mounting two coating needles having different tip diameters on one repairing device, when a defect larger than one coating size is dealt with, The number of times of application can be reduced. As a result, as shown in the image of the case of one-point coating and two-point coating in FIG. 4, the film in the portion where the coating points overlap becomes thicker in the case of multiple coatings (in the case of more than double the one-point coating). Therefore, it is possible to suppress the occurrence of the deformation of the product shape during contact exposure as described below, which is observed when the film thickness is large, as much as possible.

【0026】即ち、便宜上方向を縦にして図5(A)に
断面形状のイメージを示すように、パターン修正後のエ
マルジョンマスクMを使って、製品材料である基材(明
示せず)にコーティングされているレジスト膜(被露光
材)Rを露光するために、これら両者を同図(B)に示
すように密着させると、塗布膜Cの厚みが大きいと、こ
れが潰れてパターンPの形状を越える位置まで広がって
しまい、その状態で露光すると図6に平面方向のレジス
ト膜Rのイメージを示すように、修正したパターン部分
だけレジスト膜が本来のパターン形状(ここでは矩形)
より広い範囲まで遮光されてしまうためにレジストパタ
ーンの変形(製品形状崩れ)が発生するが、本実施形態
によれば、このような問題の発生を有効に防止できる。
That is, as shown in the image of the cross-sectional shape in FIG. 5 (A) with the direction being vertical for convenience, the emulsion mask M after pattern correction is used to coat the base material (not shown) which is the product material. In order to expose the resist film (exposed material) R which has been formed, when these two are brought into close contact with each other as shown in FIG. When the resist film R spreads to a position beyond the exposed position and is exposed in that state, as shown in the image of the resist film R in the plane direction in FIG. 6, the resist film has the original pattern shape (rectangle here) only in the corrected pattern portion.
Deformation of the resist pattern (deformation of the product shape) occurs because the light is shielded to a wider range, but according to the present embodiment, such a problem can be effectively prevented.

【0027】又、本実施形態では、2つの塗布機構30
をレーザ発振器20に対して対称に配設したので、塗布
操作時における修正ヘッドの移動距離を短くできる上
に、位置決めを容易にできることから、作業能率の向上
を図ることができる。
Further, in this embodiment, two coating mechanisms 30 are provided.
Are symmetrically arranged with respect to the laser oscillator 20, the moving distance of the correction head during the coating operation can be shortened and the positioning can be facilitated, so that the work efficiency can be improved.

【0028】以上、本発明について具体的に説明した
が、本発明は、前記実施形態に示したものに限られるも
のでなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能で
ある。
Although the present invention has been specifically described above, the present invention is not limited to the one shown in the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the invention.

【0029】例えば、本発明に適用される修正装置の具
体的構成は、前記実施形態に示したものに限定されな
い。又、塗布手段の数も2つに限定されず、又、その設
置位置も、必ずしも前記レーザ発振器に対して対称でな
くともよい。又、修正液として熱硬化性樹脂を含むもの
を取り上げたが、これに限定されず、紫外線硬化性樹脂
を含むものであってもよい。
For example, the specific configuration of the correction device applied to the present invention is not limited to that shown in the above embodiment. Also, the number of coating means is not limited to two, and the installation position thereof does not necessarily have to be symmetrical with respect to the laser oscillator. Further, although the one containing a thermosetting resin has been taken as the correction liquid, the correction liquid is not limited to this and may include one containing an ultraviolet curable resin.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
サイズが大きい透光性欠陥が存在する場合でも、修正液
の塗布操作の回数を極力少なくした上で、短時間で欠陥
を修正することができる。
As described above, according to the present invention,
Even if a large-sized light-transmitting defect is present, the defect can be repaired in a short time after minimizing the number of times of applying the correction liquid.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る一実施形態に適用される修正装置
の全体を示す概略斜視図
FIG. 1 is a schematic perspective view showing an entire correction device applied to an embodiment according to the present invention.

【図2】修正装置が有する修正ヘッドの詳細を拡大して
示す概略斜視図
FIG. 2 is a schematic perspective view showing an enlarged detail of a correction head included in the correction device.

【図3】実施形態によるパターン修正の特徴をイメージ
で示す説明図
FIG. 3 is an explanatory diagram showing an image of characteristics of pattern correction according to the embodiment.

【図4】実施形態によるパターン修正の特徴をイメージ
で示す平面図及び正面図
4A and 4B are a plan view and a front view showing an image of characteristics of pattern correction according to the embodiment.

【図5】修正液を厚く塗布する場合の問題点のイメージ
を示す拡大部分断面図
FIG. 5 is an enlarged partial cross-sectional view showing an image of a problem when a correction fluid is applied thickly.

【図6】上記問題点のイメージを示す平面図FIG. 6 is a plan view showing an image of the above problems.

【図7】エマルジョンマスクの全体のイメージとその一
部を拡大したイメージとを示す概略平面図
FIG. 7 is a schematic plan view showing an entire image of an emulsion mask and an enlarged image of a part thereof.

【図8】エマルジョンマスクのパターン欠陥のイメージ
を示す説明図
FIG. 8 is an explanatory diagram showing an image of a pattern defect of an emulsion mask.

【図9】従来の修正装置とエマルジョンマスクとの関係
のイメージを示す説明図
FIG. 9 is an explanatory diagram showing an image of the relationship between a conventional correction device and an emulsion mask.

【図10】従来の修正方法の特徴のイメージを示す説明
FIG. 10 is an explanatory diagram showing an image of characteristics of a conventional correction method.

【図11】従来の修正方法の特徴のイメージを示す他の
説明図
FIG. 11 is another explanatory diagram showing an image of characteristics of a conventional correction method.

【図12】従来の修正方法の問題点を示す説明図FIG. 12 is an explanatory diagram showing problems of the conventional correction method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

M…エマルジョンマスク G…ガラス板 E…エマルジョン膜 P…遮光性パターン K…欠陥部 R…レジスト膜 2…液硬化用レーザ発振器 4…加工用レーザ発振器 10…架台 12…テーブル 14…修正ヘッド 16…X駆動ステージ 18…Y駆動ステージ 20…レーザ発振器 22…対物レンズ 24…アクチュエータ 26…塗布用針 28…塗布液壺 30…塗布機構(手段) M ... Emulsion mask G ... Glass plate E ... Emulsion film P ... Shading pattern K ... defective part R ... Resist film 2. Liquid curing laser oscillator 4 ... Laser oscillator for processing 10 ... Stand 12 ... table 14 ... Correction head 16 ... X drive stage 18 ... Y drive stage 20 ... Laser oscillator 22 ... Objective lens 24 ... Actuator 26 ... Coating needle 28 ... Coating liquid pot 30 ... Coating mechanism (means)

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】透明板材にコーティングされた透光性のエ
マルジョン膜に、所定形状の遮光性パターンを繰り返し
配列してなる周期性パターンが形成されているエマルジ
ョンマスクについて、前記遮光性パターンに生じている
透光性の欠陥部を修正するエマルジョンマスクパターン
欠陥修正方法において、 前記欠陥部の膜部分に、併設されている複数の塗布手段
のいずれかにより硬化性樹脂を含む遮光性の修正液を塗
布し、塗布された修正液を硬化させることを特徴とする
エマルジョンマスクパターン欠陥修正方法。
1. An emulsion mask in which a light-transmitting emulsion film coated on a transparent plate is provided with a periodic pattern formed by repeatedly arranging light-shielding patterns having a predetermined shape. An emulsion mask pattern defect repairing method for repairing a translucent defective portion, in which a light-shielding correction liquid containing a curable resin is applied to the film portion of the defective portion by any of a plurality of coating means provided side by side. Then, a method for correcting a defect in an emulsion mask pattern, which comprises curing the applied correction liquid.
【請求項2】透明板材にコーティングされた透光性のエ
マルジョン膜に、所定形状の遮光性パターンを繰り返し
配列してなる周期性パターンが形成されているエマルジ
ョンマスクを戴置するテーブルと、該テーブル上に戴置
されたエマルジョンマスクについて、前記遮光性パター
ンに生じている透光性の欠陥部を修正するエマルジョン
マスクパターン欠陥修正装置において、 前記欠陥部の膜部分に硬化性樹脂を含む遮光性の修正液
を塗布する複数の塗布手段と、塗布された修正液を硬化
させる硬化手段とを備えたことを特徴とするエマルジョ
ンマスクパターン欠陥修正装置。
2. A table on which an emulsion mask having a periodic pattern formed by repeatedly arranging light-shielding patterns of a predetermined shape is placed on a transparent emulsion film coated on a transparent plate, and the table. In an emulsion mask pattern defect repairing device for repairing a translucent defect portion occurring in the light-shielding pattern of the emulsion mask placed on the emulsion mask, a film having a light-shielding property containing a curable resin in a film portion of the defect portion An emulsion mask pattern defect correction device comprising: a plurality of coating means for coating a correction fluid; and a curing means for curing the coated correction fluid.
【請求項3】前記塗布手段が2つの場合、前記硬化手段
を中心に左右対称の位置に配設されていることを特徴と
する請求項2に記載のエマルジョンマスクパターン欠陥
修正装置。
3. The emulsion mask pattern defect repairing apparatus according to claim 2, wherein when the number of the coating means is two, the coating means are arranged at symmetrical positions with respect to the curing means.
【請求項4】前記複数の塗布手段と前記硬化手段が、エ
マルジョンマスクを載置する前記テーブルに対して移動
可能な同一の修正ヘッドに設置されていることを特徴と
する請求項2に記載のエマルジョンマスクパターン欠陥
修正装置。
4. The plurality of coating means and the curing means are installed in the same correction head that is movable with respect to the table on which an emulsion mask is mounted. Emulsion mask pattern defect repair device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006113127A (en) * 2004-10-12 2006-04-27 Sharp Corp Correcting device

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