JP2003302641A - Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and electronic equipment - Google Patents

Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and electronic equipment

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JP2003302641A
JP2003302641A JP2002106703A JP2002106703A JP2003302641A JP 2003302641 A JP2003302641 A JP 2003302641A JP 2002106703 A JP2002106703 A JP 2002106703A JP 2002106703 A JP2002106703 A JP 2002106703A JP 2003302641 A JP2003302641 A JP 2003302641A
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JP
Japan
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liquid crystal
layer
crystal device
spacer
substrate
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JP2002106703A
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Japanese (ja)
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Yoichi Momose
洋一 百瀬
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal device wherein ununiformity of the gap between substrates can be prevented or suppressed by using an absolute minimum number of spacers, to provide a method for manufacturing the liquid crystal device, and to provide an electronic equipment provided with the liquid crystal device. <P>SOLUTION: A reflection layers 16 reflecting light are formed partially on a lower substrate 2 and spacers 17 coated with a sticking layer whose sticking force is lowered by UV irradiation are disposed between the lower substrate 2 and an upper substrate 1 selectively above the reflection layers 16. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶装置、液晶装置
の製造方法、及びこの液晶装置を備える電子機器に係
り、特に、基板間にスペーサーを配設する技術に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal device, a method of manufacturing a liquid crystal device, and an electronic apparatus including the liquid crystal device, and more particularly to a technique of disposing a spacer between substrates.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の液晶装置として、下側基板と上側
基板とがそれぞれの基板の周縁部においてシール材を介
して所定間隔で貼着され、これら一対の基板間に液晶層
が封入された構成のものがある。また、例えば下側基板
上に赤、緑、青の着色層及び遮光層(ブラックマトリク
ス)からなるカラーフィルタ層と、カラーフィルタ層を
保護するための保護層とが順次形成され、さらに保護層
上に透明電極が形成される一方、上側基板上にも透明電
極が形成され、各透明電極上に配向膜が形成された構成
の液晶装置が知られている。
2. Description of the Related Art As a conventional liquid crystal device, a lower substrate and an upper substrate are adhered to each other at a predetermined interval on a peripheral portion of each substrate via a sealing material, and a liquid crystal layer is sealed between the pair of substrates. There is a configuration. Further, for example, a color filter layer including a red, green, and blue colored layer and a light-shielding layer (black matrix) and a protective layer for protecting the color filter layer are sequentially formed on the lower substrate, and further on the protective layer. There is known a liquid crystal device having a structure in which a transparent electrode is formed on the transparent substrate, a transparent electrode is also formed on the upper substrate, and an alignment film is formed on each transparent electrode.

【0003】このような液晶装置においては、透明電極
ないし配向膜が形成された各基板間に、これら基板間隔
を基板面内で均一にするべく球状のスペーサーが多数配
置されているものがある。このようなスペーサーを基板
間に配置する方法としては、スペーサーを所定の溶媒に
分散したスペーサー分散溶液を用意し、これを空気や窒
素等のガスの圧力により噴射し、いずれか一方の基板面
に散布する湿式散布法と、スペーサーを空気や窒素等の
キャリアガスにより供給し、供給途中においてスペーサ
ーを自然に又は作為的に帯電させ、その静電気力を利用
していずれか一方の基板上にスペーサーを付着させる乾
式散布法とが知られている。
In such a liquid crystal device, there is a liquid crystal device in which a large number of spherical spacers are arranged between the substrates on which transparent electrodes or alignment films are formed in order to make the intervals between the substrates uniform in the plane of the substrates. As a method of arranging such a spacer between the substrates, a spacer dispersion solution in which the spacer is dispersed in a predetermined solvent is prepared, and this is sprayed by a pressure of a gas such as air or nitrogen, and the spacer is dispersed on one of the substrate surfaces. Wet spraying method of spraying and supplying spacers by carrier gas such as air or nitrogen, charge the spacers naturally or artificially during the supply, and use the electrostatic force to place the spacers on one of the substrates. A dry spraying method of attaching is known.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このような湿式散布法
及び乾式散布法においては、基板上にスペーサーを自由
落下させることにより散布を行うため、スペーサーの散
布位置を制御し難くなり、以下のような不具合が生じる
場合がある。例えば、基板面内において液晶層の層厚が
領域毎に異なる構成の液晶装置において、液晶層全域に
亙ってスペーサーが散布されると、液晶層厚の大きい領
域においてはスペーサーが浮遊し、基板間隔を均一にす
るスペーサーの効果が発現されない場合がある。元々ス
ペーサー周辺においては液晶の配向が乱れやすく、スペ
ーサーの数を低く抑えることが表示特性を向上させる上
で好ましい。したがって、スペーサーの効果が発現され
ない液晶層厚の大きい領域における浮遊スペーサーは、
該スペーサー周辺の液晶配向乱れを生じさせ、それに基
づく光抜け等により画質の低下、ひいては当該液晶装置
の表示特性低下を招く原因となり得る。
In such a wet spraying method and a dry spraying method, since the spacers are freely dropped on the substrate for spraying, it is difficult to control the spraying position of the spacers. There may be some problems. For example, in a liquid crystal device in which the thickness of the liquid crystal layer is different in each area in the substrate surface, if spacers are scattered over the entire liquid crystal layer, the spacers float in the area where the liquid crystal layer thickness is large, and the substrate In some cases, the effect of spacers that make the intervals uniform may not be exhibited. Originally, the alignment of liquid crystal is likely to be disturbed around the spacers, and it is preferable to keep the number of spacers low in order to improve display characteristics. Therefore, the floating spacer in the region where the liquid crystal layer thickness is large in which the effect of the spacer is not exhibited is
Disturbance of liquid crystal alignment around the spacers may occur, which may lead to deterioration of image quality due to light leakage or the like, and eventually to deterioration of display characteristics of the liquid crystal device.

【0005】本発明は上記の問題点に鑑みてなされたも
ので、必要最小限のスペーサーを用いて基板間隔の不均
一化を防止ないし抑制可能な液晶装置と、その液晶装置
の製造方法、さらにはその液晶装置を備える電子機器を
提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and a liquid crystal device capable of preventing or suppressing nonuniformity of a substrate interval by using a minimum necessary spacer, a method of manufacturing the liquid crystal device, and Aims to provide an electronic device including the liquid crystal device.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の液晶装置は、液晶層を挟持する一対の基板
間にスペーサーが配置された液晶装置であって、一対の
基板間には光を反射する反射層が基板面内において部分
的に形成され、スペーサーが、紫外線照射によりその固
着力が低下する固着層により被覆されてなり、且つ反射
層の上方に選択的に配設されていることを特徴とする。
In order to solve the above problems, a liquid crystal device of the present invention is a liquid crystal device in which a spacer is arranged between a pair of substrates sandwiching a liquid crystal layer, and a spacer is provided between the pair of substrates. Is a reflective layer that partially reflects light is formed in the surface of the substrate, and the spacer is covered with a fixing layer whose adhesion is reduced by ultraviolet irradiation, and is selectively disposed above the reflecting layer. It is characterized by

【0007】このように基板面内で部分的に形成された
反射層を備える液晶装置においては、その反射層の形成
領域において、非形成領域よりも反射層の層厚分だけ液
晶層厚が小さくなる。このような相対的に液晶層厚が小
さくなる領域に選択的にスペーサーを配設し、そのスペ
ーサーに固着層を被覆したため、スペーサーの浮遊等の
問題が生じ難くなる。また、スペーサーに被覆した固着
層は紫外線照射によりその固着力が低下する構成である
ために、例えば製造時において基板面にスペーサーを散
布後、反射層の非形成領域に対して選択的に紫外線を照
射することにより、その反射層の非形成領域に散布され
たスペーサーに対し選択的に固着力を低下させることが
でき、したがって、選択的に反射層形成領域にスペーサ
ーを配設することが可能となる。
In the liquid crystal device having the reflective layer partially formed in the plane of the substrate as described above, the liquid crystal layer thickness in the reflective layer forming region is smaller than that in the non-forming region by the layer thickness of the reflective layer. Become. Since the spacers are selectively arranged in the region where the liquid crystal layer thickness is relatively small and the fixing layer is coated on the spacers, problems such as floating of the spacers are less likely to occur. In addition, since the fixing layer coated on the spacer has a structure in which its fixing force is reduced by irradiation with ultraviolet rays, for example, after the spacers are scattered on the substrate surface at the time of manufacturing, ultraviolet rays are selectively applied to the non-formed area of the reflective layer. By irradiating, it is possible to selectively reduce the fixing force with respect to the spacers scattered in the non-formed area of the reflective layer, and thus it is possible to selectively dispose the spacer in the reflective layer formed area. Become.

【0008】すなわち、本発明によると、簡便且つ確実
に反射層形成領域(すなわち液晶層薄層領域)に対し選
択的にスペーサーを配設することが可能となり、必要最
小限のスペーサーにより基板間隔を基板面内で一層均一
に保つことが可能となる。また、スペーサー非形成領域
において余分なスペーサーを配設しないため、スペーサ
ー周りにおける液晶配向不良の発生を抑制することが可
能となる。なお、本発明においては反射層の上方のみに
スペーサーを設けるのみならず、反射層が形成されてい
ない領域よりも相対的に多くのスペーサーを反射層形成
領域において設けることによっても上記効果を発現する
ことが可能である。
That is, according to the present invention, it is possible to simply and surely dispose spacers selectively in the reflection layer forming region (that is, the liquid crystal layer thin layer region), and the substrate spacing is reduced by the minimum necessary spacers. It becomes possible to maintain the uniformity in the plane of the substrate. Further, since no extra spacer is provided in the spacer non-forming region, it is possible to suppress the occurrence of liquid crystal alignment defects around the spacer. In the present invention, not only the spacer is provided only above the reflective layer, but the above effect is exhibited not only by providing a relatively larger number of spacers in the reflective layer forming region than in the region where the reflective layer is not formed. It is possible.

【0009】上記液晶装置において、反射層が形成され
た領域を反射表示領域とし、反射層が形成されていない
領域を透過表示領域とすることができる。この場合、当
該液晶装置は反射表示或いは透過表示のいずれかを行う
ことが可能な半透過反射表示型の液晶装置となる。
In the above liquid crystal device, the area where the reflective layer is formed can be used as the reflective display area, and the area where the reflective layer is not formed can be used as the transmissive display area. In this case, the liquid crystal device is a transflective display type liquid crystal device capable of performing either reflective display or transmissive display.

【0010】このような半透過反射型の液晶装置では、
反射表示と透過表示において、表示に寄与する光が液晶
層を通過する回数が異なり、具体的には透過表示におい
てはバックライトからの光が液晶層を1回通過するのに
対し、反射表示においては前方から入射した光が反射層
への入射時と反射時との2回液晶層を通過する。したが
って、各表示領域においてリタデーションの値が異なる
こととなり、各領域において高コントラストの表示が行
えなくなる場合がある。そこで、反射表示領域にのみ透
光性絶縁層を設け、若しくは反射表示領域に透過表示領
域よりも相対的に層厚の透光性絶縁層を形成することに
より、リタデーション値を各領域でより最適化すること
が可能となる。
In such a transflective liquid crystal device,
In reflective display and transmissive display, the number of times light that contributes to display passes through the liquid crystal layer is different. Specifically, in transmissive display, light from the backlight passes through the liquid crystal layer once, whereas in reflective display, The light incident from the front passes through the liquid crystal layer twice when it enters the reflective layer and when it is reflected. Therefore, the retardation value is different in each display area, and high contrast display may not be performed in each area. Therefore, by providing a translucent insulating layer only in the reflective display region, or by forming a translucent insulating layer having a relatively thicker layer than the transmissive display region in the reflective display region, the retardation value is more optimal in each region. Can be converted.

【0011】このような半透過反射表示型の液晶装置に
おいても、反射層の上方、すなわち透光性絶縁層の上方
に選択的にスペーサーを配設することで、上述したよう
に、必要最小限のスペーサーにより基板間隔を基板面内
で一層均一に保つことが可能となる。また、スペーサー
非形成領域において余分なスペーサーを配設しないた
め、スペーサー周りにおける液晶配向不良の発生を抑制
することが可能となる。
Also in such a semi-transmissive reflective display type liquid crystal device, as described above, by selectively disposing the spacer above the reflective layer, that is, above the translucent insulating layer, the minimum required It becomes possible to keep the substrate spacing more uniform in the plane of the substrate by the spacer. Further, since no extra spacer is provided in the spacer non-forming region, it is possible to suppress the occurrence of liquid crystal alignment defects around the spacer.

【0012】上記スペーサーは、液晶層全体における単
位面積当りの個数を50個/mm2以上とし、且つ反射
層における単位面積当りの個数を400個/mm2以下
とすることができる。基板間隔のバラツキは、液晶層全
体におけるスペーサーの密度に左右され、これが50個
/mm2未満となると基板間隔に0.1μm以上のバラ
ツキが生じ、表示ムラが発生する場合がある。一方、過
剰のスペーサーの配設により、該スペーサー周りでの液
晶配向不良の発生は、反射表示領域におけるスペーサー
の密度に左右され、これが400個/mm2を超えると
スペーサーが過剰となって液晶配向不良の影響によりコ
ントラストが低下する場合がある。なお、上記液晶層全
体における単位面積当りの個数は好ましくは150個/
mm2以上、反射層における単位面積当りの個数は好ま
しくは300個/mm2以下とすることができる。
The number of the spacers per unit area in the entire liquid crystal layer can be 50 / mm 2 or more, and the number per unit area in the reflective layer can be 400 / mm 2 or less. The variation in the substrate spacing depends on the spacer density in the entire liquid crystal layer, and when it is less than 50 spacers / mm 2 , the substrate spacing may vary by 0.1 μm or more and display unevenness may occur. On the other hand, due to the disposition of excess spacers, the occurrence of liquid crystal alignment defects around the spacers depends on the density of the spacers in the reflective display area. If the number of spacers exceeds 400 / mm 2 , the spacers become excessive and liquid crystal alignment occurs. The contrast may decrease due to the influence of defects. The number of liquid crystal layers per unit area is preferably 150 /
The number per unit area of the reflective layer may be preferably not less than 300 mm 2 and not more than 300 mm 2 / mm 2 .

【0013】次に、上記反射層の液晶層側にカラーフィ
ルタを基板面内において部分的に設け、スペーサーを、
反射層の上方のうちカラーフィルタの形成領域に選択的
に配設することができる。反射層の液晶層側にカラーフ
ィルタを設けた場合、反射表示時には光はカラーフィル
タを2回通過する一方、透過表示時には光はカラーフィ
ルタを1回通過して表示に供されるため、各表示領域に
おいて色の濃淡に差が生じてしまう場合がある。そこ
で、上記のようにカラーフィルタを反射層の液晶層側に
基板面内において部分的に形成することで、反射表示時
においてカラーフィルタを通過する光の量が少なくな
り、各表示領域において色の濃淡差が生じ難くなる。ま
た、このようにカラーフィルタを反射層形成領域(反射
表示領域)において部分的に形成したために、該カラー
フィルタの形成領域の液晶層厚が相対的に小さくなるこ
ととなる。したがって、本発明においてはカラーフィル
タの形成領域に選択にスペーサーを配設し、必要最小限
のスペーサーにより基板間隔を基板面内で一層均一に保
つ構成とし、スペーサー周りにおける液晶配向不良の発
生を抑制する構成とした。
Next, a color filter is partially provided on the liquid crystal layer side of the reflection layer within the substrate surface, and a spacer is provided.
It can be selectively disposed in the color filter formation region above the reflective layer. When a color filter is provided on the liquid crystal layer side of the reflective layer, the light passes through the color filter twice during reflective display, while the light passes through the color filter once during transmissive display and is used for display. There may be a difference in shade of color in the area. Therefore, by partially forming the color filter on the liquid crystal layer side of the reflective layer in the substrate surface as described above, the amount of light passing through the color filter during reflective display is reduced and the color of each display area is reduced. Difficulty in light and shade. Further, since the color filter is partially formed in the reflective layer formation region (reflection display region) as described above, the liquid crystal layer thickness in the color filter formation region becomes relatively small. Therefore, in the present invention, spacers are selectively disposed in the color filter formation region, and the minimum required spacers are used to keep the substrate spacing more even within the substrate plane, thereby suppressing the occurrence of liquid crystal alignment defects around the spacers. It was configured to do.

【0014】なお、反射表示領域における液晶層厚を小
さくするための透光性絶縁層は、カラーフィルタの液晶
層側に形成し、そのカラーフィルタの保護層(オーバー
コート)として機能させることができる。この場合、カ
ラーフィルタの保護層(オーバーコート)に、該カラー
フィルタの保護層としての機能と、反射表示領域と透過
表示領域の液晶層厚を制御する機能とを兼備させること
が可能となり、別途、透光性の絶縁層を反射表示領域に
形成する必要がなくなる。なお、カラーフィルタ形成の
有無に基づいてスペーサーを選択的に配設する液晶装置
においても、スペーサーの配設個数は、上記同様、液晶
層における単位面積当りの個数を50個/mm2以上、
且つカラーフィルタの形成領域における単位面積当りの
個数を400個/mm2以下とすることができる。
The transparent insulating layer for reducing the thickness of the liquid crystal layer in the reflective display area can be formed on the liquid crystal layer side of the color filter and can function as a protective layer (overcoat) for the color filter. . In this case, the protective layer (overcoat) of the color filter can have both a function as a protective layer of the color filter and a function of controlling the liquid crystal layer thickness of the reflective display region and the transmissive display region. Therefore, it is not necessary to form a translucent insulating layer in the reflective display area. Even in a liquid crystal device in which spacers are selectively arranged based on the presence or absence of color filter formation, the number of spacers to be arranged is 50 / mm 2 or more per unit area in the liquid crystal layer, as described above.
In addition, the number per unit area in the color filter formation region can be 400 / mm 2 or less.

【0015】次に、本発明の上記液晶装置は、以下の製
造方法により製造することができる。すなわち、本発明
の液晶装置の製造方法は、一対の基板の少なくとも一方
の基板上に反射層を部分的に形成する反射層形成工程
と、少なくとも反射層を形成した基板上にスペーサーを
散布するスペーサー散布工程と、スペーサーが散布され
た基板を加熱する基板加熱工程と、加熱工程の後にスペ
ーサーを除去したい領域に紫外線を照射する紫外線照射
工程と、紫外線照射により固着力が低下したスペーサー
を選択的に除去するスペーサー除去工程とを含むことを
特徴とする。
Next, the liquid crystal device of the present invention can be manufactured by the following manufacturing method. That is, the method for manufacturing a liquid crystal device of the present invention includes a reflective layer forming step of partially forming a reflective layer on at least one substrate of a pair of substrates, and a spacer that disperses spacers on the substrate on which at least the reflective layer is formed. A spraying step, a substrate heating step of heating the substrate on which the spacers have been sprayed, an ultraviolet irradiation step of irradiating the region where the spacer is to be removed with ultraviolet rays after the heating step, and a spacer whose adhesive strength has been reduced by ultraviolet irradiation is selectively And a spacer removing step of removing the spacer.

【0016】この場合、基板に反射層を形成し、スペー
サーを散布した後に、加熱によりスペーサーを固着し、
その後、スペーサーを除去したい領域に対する紫外線照
射により固着力を低下させ、該固着力の低下したスペー
サーを選択的に除去することで、所定領域(反射表示領
域、カラーフィルタ形成領域)にスペーサーを選択的に
配設するものとしている。なお、固着層は加熱により基
板に固着し、且つ紫外線照射により固着力が低下する材
料にて構成することができ、具体的には例えば熱可塑性
のアクリル樹脂を採用することにより実現できる。
In this case, the reflective layer is formed on the substrate, the spacers are dispersed, and then the spacers are fixed by heating,
After that, the fixing force is reduced by irradiating the region where the spacer is desired to be removed with ultraviolet light, and the spacer having the reduced fixing force is selectively removed to selectively select the spacer in a predetermined region (reflection display region, color filter forming region). It is supposed to be installed in. The fixing layer can be made of a material which is fixed to the substrate by heating and whose fixing force is lowered by irradiation with ultraviolet rays, and specifically, for example, it can be realized by adopting a thermoplastic acrylic resin.

【0017】また、スペーサー散布工程は、例えば溶媒
に懸濁させたスペーサーを基板上方から気体に分散させ
た状態で吐出し、非選択的に散布する方法を採用するこ
とができる。さらに、紫外線照射工程は、マスク露光に
よりスペーサーを除去したい領域に選択的に紫外線照射
を行うことができ、紫外線照射後のスペーサー除去工程
は、例えばエアーブロー又は液体洗浄等により行うこと
ができる。
Further, in the spacer spraying step, for example, a method of spraying spacers suspended in a solvent in a state of being dispersed in a gas from above the substrate and non-selectively spraying can be adopted. Further, the ultraviolet irradiation step can selectively perform ultraviolet irradiation on the region where the spacer is desired to be removed by mask exposure, and the spacer removal step after the ultraviolet irradiation can be performed by, for example, air blow or liquid cleaning.

【0018】次に、スペーサーを除去したい領域は反射
層の非形成領域(透過表示領域)とすることができ、そ
の場合、紫外線照射工程においては、上記反射層をマス
クとしてスペーサーが散布された基板の裏面側から紫外
線を照射し、反射層の非形成領域に対して選択的に紫外
線を照射するものとすることができる。このように、反
射表示領域に設けられる反射層をマスクとして透過表示
領域にのみ選択的に紫外線照射を行うことができる。し
たがって、別途マスクを形成する必要がなく、製造方法
が簡略化される。なお、この場合、紫外線照射された透
過表示領域のスペーサーが、後のスペーサー除去工程に
て除去されることとなる。
Next, the region where the spacer is desired to be removed can be a region where the reflective layer is not formed (transmissive display region). In that case, in the step of irradiating the ultraviolet rays, the substrate on which the spacer is scattered using the reflective layer as a mask. It is possible to irradiate ultraviolet rays from the back surface side of the above and selectively irradiate ultraviolet rays to the non-formation area of the reflective layer. In this way, the reflective layer provided in the reflective display area can be used as a mask to selectively irradiate ultraviolet rays only in the transmissive display area. Therefore, it is not necessary to separately form a mask, and the manufacturing method is simplified. In this case, the spacers in the transmissive display area irradiated with ultraviolet rays will be removed in the subsequent spacer removing step.

【0019】また、本発明の電子機器は上記のような液
晶装置を例えば表示装置として備えることを特徴とす
る。このように本発明の液晶装置を備えることにより、
表示品質の優れた電子機器を提供することが可能とな
る。
Further, the electronic equipment of the present invention is characterized by including the above liquid crystal device as a display device, for example. By thus providing the liquid crystal device of the present invention,
It is possible to provide an electronic device with excellent display quality.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る実施形態につ
いて図面を参照しつつ説明する。 [液晶装置]以下に示す本実施形態の液晶装置は、単純
マトリクスタイプの半透過反射型液晶装置である。図1
は本実施形態の液晶装置の構造を模式的に示す断面図で
あって、図示上側が反射表示に利用される自然光や照明
光等の外光が入射される視認側(観察者側)で、図示下
側が透過表示に利用される内部光源からの光が入射され
る光源側である場合について図示している。また、図面
においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の
大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて
ある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. [Liquid Crystal Device] The liquid crystal device of this embodiment described below is a simple matrix type transflective liquid crystal device. Figure 1
Is a cross-sectional view schematically showing the structure of the liquid crystal device of the present embodiment, in which the upper side in the drawing is the viewing side (observer side) on which external light such as natural light or illumination light used for reflective display is incident, The lower side of the drawing is a case where the light source side on which light from an internal light source used for transmissive display enters. Further, in the drawings, in order to make each layer and each member recognizable in the drawing, the scale is different for each layer and each member.

【0021】図1に示すように、本実施形態の液晶装置
100は、上下に対向配置された透明のガラス等からな
る上基板1と下基板2との間に、スーパーツイステッド
型のネマティック液晶(STN)からなる液晶層3が挟
持された基本構造を具備している。なお、図面では省略
されているが、実際には基板1,2の周縁部側にシール
材が介在されていて、液晶層3を基板1,2とシール材
とで取り囲むことにより液晶層3が基板1,2間に封入
された状態で挟持されている。また、下基板2の更に下
方側には光源及び導光板等を備えたバックライト(光
源)4が設けられている。
As shown in FIG. 1, a liquid crystal device 100 of this embodiment has a super-twisted nematic liquid crystal (between a top substrate 1 and a bottom substrate 2 made of transparent glass or the like which are vertically opposed to each other. It has a basic structure in which a liquid crystal layer 3 made of STN) is sandwiched. Although not shown in the drawing, a sealing material is actually interposed on the peripheral side of the substrates 1 and 2, and the liquid crystal layer 3 is surrounded by the substrates 1 and 2 and the sealing material. It is sandwiched between the substrates 1 and 2 in a sealed state. Further, a backlight (light source) 4 including a light source, a light guide plate and the like is provided below the lower substrate 2.

【0022】上基板1の上面側(観測者側)には位相差
板12と偏光板13とが配置されるとともに、下基板2
の下面側(内部光源側)にも位相差板14と偏光板15
とが配置されている。偏光板13,15は、上面側から
入射する外光、及び下面側から入射するバックライト4
の光に対し一方向の直線偏光のみを透過させ、位相差板
12,14は、偏光板13,15を透過した直線偏光を
円偏光(楕円偏光を含む)に変換する。したがって、偏
光板13,15及び位相差板12,14は円偏光入射手
段として機能している。なお、本実施形態においては、
バックライト4を備える側を下側とし、一方の外光が入
射する側を上側としている。
A retardation plate 12 and a polarizing plate 13 are disposed on the upper surface side (observer side) of the upper substrate 1 and the lower substrate 2
Also on the lower surface side (internal light source side) of the retardation plate 14 and the polarizing plate 15.
And are arranged. The polarizing plates 13 and 15 are external light entering from the upper surface side and the backlight 4 entering from the lower surface side.
Only the linearly polarized light in one direction is transmitted with respect to the light of 1, and the phase difference plates 12 and 14 convert the linearly polarized light transmitted through the polarizing plates 13 and 15 into circularly polarized light (including elliptically polarized light). Therefore, the polarizing plates 13 and 15 and the phase difference plates 12 and 14 function as circularly polarized light incident means. In the present embodiment,
The side provided with the backlight 4 is the lower side, and the side on which one external light enters is the upper side.

【0023】下基板2の液晶層3側には、複数の反射層
16が所定間隔を隔ててマトリクス状に設けられてい
る。この反射層16は所定の間隔毎に開口部16aを具
備し、その開口部16aが図1の紙面左右方向及び紙面
垂直方向に相互に離間して透過表示領域に対応するよう
に平面視矩形状に分割された態様で複数形成されてい
る。なお、反射層16はAl、Ag等の光反射性の、す
なわち反射率の高い金属材料により平面視矩形枠状に構
成されている。
On the liquid crystal layer 3 side of the lower substrate 2, a plurality of reflective layers 16 are provided in a matrix at a predetermined interval. The reflective layer 16 is provided with openings 16a at predetermined intervals, and the openings 16a are rectangular in plan view so as to be spaced apart from each other in the lateral direction of the paper of FIG. A plurality of parts are formed in a divided manner. The reflective layer 16 is made of a metal material such as Al and Ag having a light reflectivity, that is, a high reflectance, and is formed in a rectangular frame shape in a plan view.

【0024】反射層16の上層側には、複数の着色層
(R,G,B)と、遮光層(ブラックマトリクス)10
aとを含むカラーフィルタ10が設けれられている。こ
の場合、着色部は、R(赤色),G(緑色),B(青
色)から構成され、各着色部はドットを構成し、これら
各ドットが集合して平面視略正方形状の画素が形成され
ている。なお、図1に示すカラーフィルタ10の構造に
おいては、着色層がR(赤)、G(緑)、B(青)の順
に繰り返し配列されているが、これら着色層の配列順序
は一例であって、ランダム配置、モザイク配置、あるい
は他の順序の配列等、いずれの配列であっても良い。
A plurality of colored layers (R, G, B) and a light shielding layer (black matrix) 10 are provided on the upper side of the reflective layer 16.
A color filter 10 including a and a is provided. In this case, the colored portion is composed of R (red), G (green) and B (blue), each colored portion constitutes a dot, and these dots are aggregated to form a pixel having a substantially square shape in plan view. Has been done. In the structure of the color filter 10 shown in FIG. 1, the colored layers are repeatedly arranged in the order of R (red), G (green), and B (blue), but the arrangement order of these colored layers is an example. Any arrangement such as random arrangement, mosaic arrangement, or arrangement in another order may be used.

【0025】カラーフィルタ10の上層には、上記着色
層(R,G,B)及び遮光層(ブラックマトリクス)に
よってできた段差を解消するためのオーバーコート(透
光性絶縁層)11がカラーフィルタ10の全面に亙って
形成されている。なお、本実施形態の液晶装置100
は、反射層16を基板面内において部分的に設けた半透
過反射型の液晶装置であり、オーバーコート11は、こ
れら反射層16を形成したことによる段差までは解消で
きない程度の膜厚に形成されている。
On the upper layer of the color filter 10, an overcoat (transparent insulating layer) 11 for eliminating a step formed by the colored layers (R, G, B) and the light shielding layer (black matrix) is provided. It is formed over the entire surface of 10. The liquid crystal device 100 of the present embodiment
Is a semi-transmissive reflective liquid crystal device in which the reflective layer 16 is partially provided in the substrate surface, and the overcoat 11 is formed to a thickness that cannot eliminate the step due to the formation of these reflective layers 16. Has been done.

【0026】オーバーコート11の上層にはITO(In
dium-Tin-Oxide)等からなる走査電極5が形成され、さ
らに走査電極5の液晶層3側には、この走査電極5を覆
う態様で配向膜(図示略)が形成されている。走査電極
5は、図1の紙面平行方向(図1の紙面横方向)に伸び
るように、且つ紙面垂直方向に相互に離間してストライ
プ状に形成されている。なお、配向膜はポリイミド等の
高分子材料膜に対して所定のラビング処理を施したもの
を用いている。
The upper layer of the overcoat 11 is made of ITO (In
A scan electrode 5 made of dium-tin-oxide, etc. is formed, and an alignment film (not shown) is formed on the scan electrode 5 on the liquid crystal layer 3 side so as to cover the scan electrode 5. The scanning electrodes 5 are formed in stripes so as to extend in the direction parallel to the paper surface of FIG. 1 (horizontal direction in the paper surface of FIG. 1) and spaced apart from each other in the direction perpendicular to the paper surface. The alignment film is formed by subjecting a polymer material film such as polyimide to a predetermined rubbing treatment.

【0027】ここで、反射層16の層厚は0.1μm〜
0.4μm(例えば0.2μm)、カラーフィルタ10
の層厚は1μm〜4μm(例えば1.5μm)、オーバ
ーコート11の層厚は0.5μm〜6μm(例えば2.
0μm)、液晶層3の層厚は2μm〜8μm(例えば
4.2μm)とされている。
Here, the layer thickness of the reflective layer 16 is 0.1 μm to
0.4 μm (eg 0.2 μm), color filter 10
Is 1 μm to 4 μm (for example, 1.5 μm), and the overcoat 11 is 0.5 μm to 6 μm (for example, 2.
0 μm) and the layer thickness of the liquid crystal layer 3 is 2 μm to 8 μm (for example, 4.2 μm).

【0028】一方、上基板1の液晶層3側にはITO
(Indium-Tin-Oxide)等からなる信号電極6が形成さ
れ、さらに信号電極6の液晶層3側には、この信号電極
6を覆う態様で配向膜(図示略)が形成されている。信
号電極6は、図1の紙面垂直方向に伸びるように、且つ
紙面平行方向に相互に離間してストライプ状に形成され
ている。なお、配向膜はポリイミド等の高分子材料膜に
対して所定のラビング処理を施したものを用いている。
On the other hand, ITO is provided on the liquid crystal layer 3 side of the upper substrate 1.
A signal electrode 6 made of (Indium-Tin-Oxide) or the like is formed, and on the liquid crystal layer 3 side of the signal electrode 6, an alignment film (not shown) is formed so as to cover the signal electrode 6. The signal electrodes 6 are formed in stripes so as to extend in the direction perpendicular to the paper surface of FIG. 1 and at intervals in the direction parallel to the paper surface. The alignment film is formed by subjecting a polymer material film such as polyimide to a predetermined rubbing treatment.

【0029】このように、反射層16、カラーフィルタ
10、オーバーコート11、走査電極等5が積層された
下基板2と、信号電極6等が積層された上基板1との間
に、複数のスペーサー17を介して液晶層3が挟持され
ている。本実施形態の液晶装置100においては、反射
層16の部分的な形成に基づき下側基板の液晶層3側表
面に凹凸が形成され、この凹凸により液晶層3の層厚が
基板面内で部分的に異なる構成とされている。そこで、
スペーサー17は、液晶層厚の小さい領域、すなわち反
射層16が設けられた領域に選択的に配設されている。
As described above, a plurality of substrates are provided between the lower substrate 2 having the reflective layer 16, the color filter 10, the overcoat 11, the scanning electrodes 5 and the like laminated thereon and the upper substrate 1 having the signal electrodes 6 and the like laminated thereon. The liquid crystal layer 3 is sandwiched via the spacer 17. In the liquid crystal device 100 of the present embodiment, unevenness is formed on the surface of the lower substrate on the liquid crystal layer 3 side due to the partial formation of the reflective layer 16. Due to this unevenness, the layer thickness of the liquid crystal layer 3 is partially within the substrate surface. Have different configurations. Therefore,
The spacer 17 is selectively arranged in a region where the liquid crystal layer thickness is small, that is, in a region where the reflective layer 16 is provided.

【0030】ところで、液晶装置100は、表示に利用
される領域が反射表示領域Rと透過表示領域Tとを含
み、これらの表示部がそれぞれ異なる液晶層厚で形成さ
れている。具体的には、反射層16が設けられた領域が
反射表示領域Rであって、反射表示領域Rは、反射層1
6の影響で液晶層厚が相対的に薄く形成され、従ってこ
の反射表示領域Rの液晶層3にはスペーサー17が配設
されている。一方、反射層16が設けられていない領域
が透過表示領域Tであって、透過表示領域Tは、反射層
16が形成されていないため、液晶層厚が相対的に厚く
形成され、従ってこの透過表示領域Tの液晶層3にはス
ペーサー17が配設されていない。
By the way, in the liquid crystal device 100, a region used for display includes a reflective display region R and a transmissive display region T, and these display portions are formed with different liquid crystal layer thicknesses. Specifically, the area in which the reflective layer 16 is provided is the reflective display area R, and the reflective display area R is the reflective layer 1.
The thickness of the liquid crystal layer is relatively thin under the influence of 6, and therefore the spacer 17 is provided in the liquid crystal layer 3 of the reflective display region R. On the other hand, the region where the reflective layer 16 is not provided is the transmissive display region T, and since the reflective layer 16 is not formed in the transmissive display region T, the liquid crystal layer is formed relatively thick, and therefore the transmissive display region T is formed. The spacer 17 is not provided in the liquid crystal layer 3 in the display area T.

【0031】スペーサー17は透光性のガラス又は樹脂
を主体として構成されており、その表層に、例えば加熱
等により基板に対して固着可能な材料であって、紫外線
照射によりその固着力が低下する材料からなる固着層が
被覆されたものを用いている。このような固着層として
は、例えばアクリル系樹脂を用いることができる。
The spacer 17 is mainly composed of translucent glass or resin, and is a material that can be fixed to the substrate by heating or the like on its surface layer, and its fixing force is lowered by irradiation of ultraviolet rays. The one coated with a fixing layer made of a material is used. As such a fixing layer, for example, an acrylic resin can be used.

【0032】また、スペーサー17は、反射表示領域R
及び透過表示領域Tにおける単位面積当りの個数が50
個/mm2以上とされ、且つ反射表示領域Rにおける単
位面積当りの個数が400個/mm2以下とされてい
る。スペーサー17をこのような密度で反射表示領域R
に選択的に配設したため、液晶層厚を基板面内において
均一に保ちつつ、スペーサー17の影響による液晶配向
不良の発生を抑制することが可能な構成とされている。
なお、反射表示領域R及び透過表示領域Tにおける単位
面積当りの個数は好ましくは150個/mm2以上、反
射表示領域Rにおける単位面積当りの個数は好ましくは
300個/mm2以下とすることができる。
Further, the spacer 17 has a reflective display region R.
And the number of transparent display areas T per unit area is 50.
Pieces / mm is 2 or more, have been and are the number per unit area in the reflective display region R and 400 / mm 2 or less. The spacers 17 have such a density that the reflective display area R is formed.
Since the liquid crystal layer is selectively disposed on the substrate, it is possible to suppress the occurrence of liquid crystal alignment failure due to the influence of the spacer 17 while keeping the liquid crystal layer thickness uniform within the substrate surface.
The number per unit area in the reflective display region R and the transmissive display region T is preferably 150 / mm 2 or more, and the number per unit area in the reflective display region R is preferably 300 / mm 2 or less. it can.

【0033】次に、反射表示領域Rには反射層16が形
成され、反射層16の開口部16aの開口縁が反射表示
領域Rと透過表示領域Tの境界部とされている。したが
って、透過表示領域Tは開口部16aに形成され、この
開口部16aを介してバックライト4から光が入射さ
れ、入射光は液晶層3を通過して透過表示に供されるも
のとされている。一方、上基板1の上方(外側)から入
射した太陽光ないし照明光等の外光は、液晶層3を通過
した後、反射層16によって反射され、反射された光は
再び液晶層3を介して上基板1の上方(外側)に出射さ
れ、反射表示に供される。
Next, the reflective layer 16 is formed in the reflective display region R, and the opening edge of the opening 16a of the reflective layer 16 serves as the boundary between the reflective display region R and the transmissive display region T. Therefore, the transmissive display area T is formed in the opening 16a, light is incident from the backlight 4 through the opening 16a, and the incident light passes through the liquid crystal layer 3 and is used for transmissive display. There is. On the other hand, external light such as sunlight or illumination light incident from above (outside) the upper substrate 1 passes through the liquid crystal layer 3 and is then reflected by the reflective layer 16, and the reflected light passes through the liquid crystal layer 3 again. The light is emitted above (outside) the upper substrate 1 and provided for reflective display.

【0034】ここで、半透過反射表示型の液晶装置10
0では、反射表示と透過表示において、表示に寄与する
光が液晶層3を通過する回数が異なり、具体的には上述
のように透過表示においてはバックライト4からの光が
開口部16aから液晶層3を1回通過するのに対し、反
射表示においては前方から入射した光が反射層16への
入射時と反射時とで液晶層3を2回通過する。したがっ
て、反射表示領域Rと透過表示領域Tにおいてリタデー
ションの値が異なることとなり、各領域において高コン
トラストの表示が行えなくなる可能性がある。
Here, the transflective display type liquid crystal device 10 is shown.
At 0, the number of times the light contributing to the display passes through the liquid crystal layer 3 is different between the reflective display and the transmissive display. Specifically, as described above, in the transmissive display, the light from the backlight 4 is emitted from the opening 16a to the liquid crystal. In the reflective display, light incident from the front passes through the liquid crystal layer 3 twice, when the light is incident on the reflective layer 16 and when it is reflected, while the layer 3 is passed once. Therefore, the retardation values in the reflective display region R and the transmissive display region T are different, and there is a possibility that high-contrast display cannot be performed in each region.

【0035】そこで、図2に示す液晶装置200のよう
に、反射表示領域Rに透過表示領域Tよりも相対的に層
厚のオーバーコート211を形成することにより、リタ
デーション値を各領域R,Tでより均一化することが可
能となる。なお、反射表示領域Rのみにオーバーコート
を設け、リタデーション値の均一化を図ることも可能で
ある。
Therefore, as in the liquid crystal device 200 shown in FIG. 2, an overcoat 211 having a layer thickness relatively larger than that of the transmissive display region T is formed in the reflective display region R so that the retardation values are set in the respective regions R and T. Can be made more uniform. It is also possible to provide an overcoat only in the reflective display region R to make the retardation values uniform.

【0036】また、図1に示したように、反射層16の
液晶層3側にカラーフィルタ10を設けた場合、反射表
示時には光はカラーフィルタ10を2回通過する一方、
透過表示時には光はカラーフィルタ10を1回通過して
表示に供されるため、各表示領域R,Tにおいて色の濃
淡に差が生じてしまう場合がある。そこで、図3に示す
液晶装置300のように、カラーフィルタ310を基板
面内において部分的に形成するものとし、特に反射表示
領域Rにおいてカラーフィルタ310の非形成領域を設
けることで、反射表示時においてカラーフィルタ311
に対する1回当りの光の通過量が少なくなり(好ましく
は半分)、各表示領域R,Tにおいて色の濃淡差が生じ
難くなる。
Further, as shown in FIG. 1, when the color filter 10 is provided on the liquid crystal layer 3 side of the reflective layer 16, light passes through the color filter 10 twice during reflective display.
At the time of transmissive display, light passes through the color filter 10 once and is used for display, so that there may be a difference in shades of colors in the display regions R and T. Therefore, as in the liquid crystal device 300 shown in FIG. 3, the color filter 310 is partially formed in the substrate surface, and in particular, by providing a non-formation region of the color filter 310 in the reflective display region R, a reflective display is performed. At color filter 311
The amount of light passing therethrough per one time is reduced (preferably half), and it is difficult for a difference in color shade to occur between the display regions R and T.

【0037】なお、図3では、カラーフィルタ310の
各着色層R,G,Bについて各ドット毎に非形成領域を
設けたが、この非形成領域は必ずしも着色層R,G,B
全てに設ける必要はなく、着色層R,G,Bの少なくと
も1つに設けることも可能である。また、図3の液晶装
置300は、カラーフィルタ310について反射表示領
域Rに非形成領域を形成したが、例えば反射表示領域R
において、透過表示領域Tよりもカラーフィルタ310
の層厚を小さくして、カラーフィルタ310に対する1
回当りの光の通過量を相対的に少なくすることも可能で
ある。
In FIG. 3, a non-formed area is provided for each dot for each colored layer R, G, B of the color filter 310, but this non-formed area is not necessarily the colored layers R, G, B.
It is not necessary to provide it in all, and it is also possible to provide it in at least one of the colored layers R, G, and B. Further, in the liquid crystal device 300 of FIG. 3, a non-formation area is formed in the reflective display area R for the color filter 310.
At the color filter 310,
1 to the color filter 310 by reducing the layer thickness of
It is also possible to relatively reduce the amount of light passing per turn.

【0038】図1〜図3に示した液晶装置100,20
0,300のように、本実施形態では固着層を備えたス
ペーサー17を用いたため、液晶層3の特に反射表示領
域R内で安定して固着され、例えば振動及びパネルに応
力が掛かった場合にも、透過表示領域Tへ移動すること
もなく、基板間隔の面内不均一化を防止ないし抑制する
ことが可能である。
The liquid crystal devices 100 and 20 shown in FIGS.
In this embodiment, since the spacer 17 including the fixing layer is used as in the case of 0, 300, the liquid crystal layer 3 is stably fixed particularly in the reflective display region R, and for example, when vibration or stress is applied to the panel. In addition, it is possible to prevent or suppress the in-plane nonuniformity of the substrate spacing without moving to the transmissive display region T.

【0039】また、スペーサー17は、加熱により基板
に対して固着可能で、且つ紫外線照射によりその固着力
が低下する固着層を表面に具備してなるため、例えばス
ペーサー17の基板に対する配設工程において以下のよ
うな簡便な方法によりスペーサー17を反射表示領域R
のみに選択的に配設することが可能となる。すなわち、
基板上にスペーサー17をランダムに載置させた後、こ
れを加熱してスペーサー17を基板に対して固着させ、
次に透過表示領域Tのみに紫外線を照射することで、透
過表示領域Tに固着されたスペーサー17の固着力を低
下させ、この固着力が低下したスペーサー17を除去す
ることで、反射表示領域Rに選択的にスペーサー17を
配設することが可能となるのである。
Further, since the spacer 17 has a fixing layer on its surface, which can be fixed to the substrate by heating and whose fixing force is lowered by irradiation of ultraviolet rays, for example, in the step of disposing the spacer 17 on the substrate. The spacer 17 is formed on the reflective display region R by the following simple method.
It is possible to selectively dispose of only in. That is,
After the spacers 17 are randomly placed on the substrate, the spacers 17 are heated to fix the spacers 17 to the substrate,
Next, by irradiating only the transmissive display region T with ultraviolet rays, the adhesive force of the spacers 17 adhered to the transmissive display region T is reduced, and the spacers 17 having the reduced adhesive force are removed. It is possible to selectively dispose the spacer 17 in the.

【0040】以上、本実施形態においてはスペーサーの
構成が特徴的なものであるが、本発明は上記実施形態に
限定されるものでもなく、各請求項に記載した範囲を逸
脱しない限り、各請求項の記載文言に限定されず、当業
者がそれらから容易に置き換えられる範囲にも及び、か
つ、当業者が通常有する知識に基づく改良を適宜付加す
ることができる。例えば、本実施形態では単純マトリク
スタイプの液晶装置を例示したが、例えばアクティブマ
トリクスタイプの液晶装置にも本発明に係る構成を採用
することも可能である。また、本実施形態では液晶層3
として、特に基板間隔(液晶層厚)の均一性が要求され
るスーパーツイステッド型のネマティック液晶(ST
N)を用いたが、ネマティック液晶、その他の液晶材料
から構成される液晶層を備える液晶装置にも適用可能で
ある。
As described above, the structure of the spacer is characteristic in the present embodiment, but the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and each claim is not limited to the range described in each claim. It is not limited to the wording of the section, and it can be appropriately added to the range that can be easily replaced by those skilled in the art and based on the knowledge that the person skilled in the art usually has. For example, although a simple matrix type liquid crystal device is illustrated in the present embodiment, for example, an active matrix type liquid crystal device can also adopt the configuration according to the present invention. Further, in the present embodiment, the liquid crystal layer 3
As a super twisted nematic liquid crystal (ST), which requires a uniform substrate spacing (liquid crystal layer thickness).
Although N) is used, it is also applicable to a liquid crystal device having a liquid crystal layer made of a nematic liquid crystal or other liquid crystal material.

【0041】[電子機器]次に、上記実施の形態で示し
た液晶装置のいずれかを備えた電子機器の具体例につい
て説明する。
[Electronic Equipment] Next, specific examples of electronic equipment including any of the liquid crystal devices described in the above embodiments will be described.

【0042】図4(a)は携帯電話の一例を示した斜視
図である。図4(a)において、符号500は携帯電話
本体を示し、符号501は上記実施形態の液晶装置10
0,200,300のいずれかを備えた液晶表示部を示
している。
FIG. 4A is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 4A, reference numeral 500 indicates a mobile phone main body, and reference numeral 501 indicates the liquid crystal device 10 of the above embodiment.
The liquid crystal display part provided with either 0, 200, or 300 is shown.

【0043】図4(b)はワープロ、パソコンなどの携
帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図4
(b)において、符号600は情報処理装置、符号60
1はキーボードなどの入力部、符号603は情報処理本
体、符号602は上記実施形態の液晶装置100,20
0,300のいずれかを備えた液晶表示部を示してい
る。
FIG. 4B is a perspective view showing an example of a portable information processing device such as a word processor and a personal computer. Figure 4
In (b), reference numeral 600 is an information processing device and reference numeral 60.
Reference numeral 1 is an input unit such as a keyboard, reference numeral 603 is an information processing main body, and reference numeral 602 is the liquid crystal devices 100 and 20 of the above embodiment.
The liquid crystal display part provided with either 0 or 300 is shown.

【0044】図4(c)は腕時計型電子機器の一例を示
した斜視図である。図4(c)において、符号700は
時計本体を示し、符号701は上記実施形態の液晶装置
100,200,300のいずれかを備えた液晶表示部
を示している。
FIG. 4C is a perspective view showing an example of a wrist watch type electronic device. In FIG. 4C, reference numeral 700 indicates a watch body, and reference numeral 701 indicates a liquid crystal display unit including any of the liquid crystal devices 100, 200 and 300 of the above-described embodiment.

【0045】このように、図4(a)〜(c)に示すそ
れぞれの電子機器は、上記実施形態の液晶装置100,
200,300のいずれかを備えたものであるので、表
示ムラ等の発生が少なく、高コントラストで表示品質に
優れた電子機器となる。
As described above, each of the electronic devices shown in FIGS. 4A to 4C has the liquid crystal device 100,
Since the electronic device is equipped with either 200 or 300, it is an electronic device with less display unevenness, high contrast and excellent display quality.

【0046】[液晶装置の製造方法]次に、上記実施形
態に示した液晶装置の製造方法について、幾つかの例を
図5ないし図8を参照しつつ説明する。まず、図5、図
6は図1に示した液晶装置100の製造方法について、
各工程の一例について概略を示す断面模式図で、この場
合の製造方法は、図2に示した液晶装置200について
も適用可能である。液晶装置100の製造方法において
は、まず、図5(a)に示すように、下基板2上の反射
表示領域Rに対応する領域に、反射層16を例えばフォ
トリソグラフィ法等にて所定のパターンで形成する。具
体的には、Alを真空蒸着或いはスパッタリング法等に
より下基板2の全面に成膜し、レジスト形成、露光、現
像、エッチング、レジスト剥離等の工程を経て、反射表
示領域Rに対応する領域のみに選択的に反射層16をパ
ターニングする。
[Manufacturing Method of Liquid Crystal Device] Next, several manufacturing methods of the liquid crystal device shown in the above embodiment will be described with reference to FIGS. First, FIGS. 5 and 6 show a method of manufacturing the liquid crystal device 100 shown in FIG.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of each step, and the manufacturing method in this case is also applicable to the liquid crystal device 200 shown in FIG. 2. In the method of manufacturing the liquid crystal device 100, first, as shown in FIG. 5A, a reflective layer 16 is formed in a predetermined pattern in a region corresponding to the reflective display region R on the lower substrate 2 by, for example, a photolithography method. To form. Specifically, only a region corresponding to the reflective display region R is formed by depositing Al on the entire surface of the lower substrate 2 by vacuum deposition or sputtering, and performing steps such as resist formation, exposure, development, etching, and resist stripping. Then, the reflective layer 16 is selectively patterned.

【0047】次に、図5(b)に示すように、反射層1
6を形成した下基板2上に、カラーフィルタ10及び遮
光層10a、オーバーコート11、走査電極5を積層す
る。まず、カラーフィルタ10及び遮光層10a、オー
バーコート11は以下のように成膜することができる。
すなわち、例えば反射層16を形成した下基板2上にフ
ォトリソグラフィ法にてクロムを所定のパターンで成膜
し、その後、着色樹脂を同様のフォトリソグラフィ法に
て、クロム膜(遮光層)の間に介在する態様のパターン
で成膜する。これを各色(R,G,B)について行い、
さらにオーバーコートたる透光性樹脂を、基板全面を覆
う態様で塗布することで、カラーフィルタ10、遮光層
10a、オーバーコート11が形成される。
Next, as shown in FIG. 5B, the reflective layer 1
The color filter 10, the light shielding layer 10 a, the overcoat 11, and the scanning electrode 5 are laminated on the lower substrate 2 on which 6 is formed. First, the color filter 10, the light shielding layer 10a, and the overcoat 11 can be formed as follows.
That is, for example, chromium is formed in a predetermined pattern on the lower substrate 2 on which the reflective layer 16 is formed by a photolithography method, and then a colored resin is formed between the chromium films (light shielding layers) by the same photolithography method. The film is formed in a pattern having an intervening state. Do this for each color (R, G, B),
Further, a transparent resin as an overcoat is applied so as to cover the entire surface of the substrate, whereby the color filter 10, the light shielding layer 10a, and the overcoat 11 are formed.

【0048】次に、走査電極5は、以下のように成膜す
ることができる。すなわち、ITO(Indium-Tin-Oxid
e)を真空蒸着或いはスパッタリング法等によりオーバ
ーコート11上の全面に成膜した後、これをフォトリソ
グラフィ法にて所定のストライプ状にパターニングする
ものとしている。なお、本実施例では図5(b)の紙面
平行方向に延び、紙面垂直方向に相互に離間する対応の
ストライプ状にパターン形成するものとしている。な
お、この走査電極5の表面には、更にポリイミド膜をラ
ビング処理した配向膜を形成するものとしている。
Next, the scan electrode 5 can be formed as follows. That is, ITO (Indium-Tin-Oxid)
After e) is formed on the entire surface of the overcoat 11 by vacuum vapor deposition or sputtering, it is patterned into a predetermined stripe pattern by photolithography. In the present embodiment, the pattern is formed in a corresponding stripe shape extending in the direction parallel to the paper surface of FIG. 5B and spaced from each other in the direction perpendicular to the paper surface. It should be noted that an alignment film obtained by rubbing a polyimide film is formed on the surface of the scanning electrode 5.

【0049】このようにカラーフィルタ10、遮光層1
0a、オーバーコート11、走査電極5を形成した下基
板2の全面に、図5(b)に示すようにスペーサー17
をランダムに散布する。スペーサー散布方法としては、
例えば気体(噴霧媒体)に分散させたスペーサー17
を、基板上方からスプレー法にて噴霧し、基板表面にラ
ンダムに散布する方法を用いることができる。また、そ
の他の方法としては、例えば溶媒(塗布媒体)に懸濁さ
せたスペーサー17を、基板上方から気体とともにスプ
レー法にて噴霧する方法を用いることもできる。
Thus, the color filter 10 and the light shielding layer 1 are
0a, the overcoat 11, and the scanning electrode 5 are formed on the entire surface of the lower substrate 2 as shown in FIG.
Is scattered at random. As a spacer spray method,
For example, spacers 17 dispersed in gas (spray medium)
Can be sprayed from above the substrate by a spraying method, and can be randomly dispersed on the surface of the substrate. As another method, for example, a method of spraying the spacer 17 suspended in a solvent (coating medium) together with a gas from above the substrate by a spray method can be used.

【0050】スペーサー17を散布した後、基板を所定
温度(例えば120℃)に加熱する。この加熱により、
スペーサー17の表面に形成された固着層が可塑化し、
これを除熱することで、スペーサー17を走査電極5上
に固着させることができる。
After spraying the spacers 17, the substrate is heated to a predetermined temperature (for example, 120 ° C.). By this heating,
The fixing layer formed on the surface of the spacer 17 is plasticized,
By removing this heat, the spacer 17 can be fixed on the scanning electrode 5.

【0051】スペーサー17を固着させた後、図5
(c)に示すように、下基板2の裏面側、すなわち下基
板2の反射層16が形成された側とは反対側から紫外線
を照射する。スペーサー17は、紫外線照射により、そ
の固着力が低下するのであるが、本実施例では、反射層
16がマスクとして機能し、反射表示領域Rに対応する
領域に固着されたスペーサー17には紫外線が照射され
ない。したがって、透過表示領域Tに対応する領域に固
着されたスペーサー17のみが、選択的に紫外線照射さ
れ、その固着力が低下するものとされている。
After fixing the spacers 17 as shown in FIG.
As shown in (c), ultraviolet rays are irradiated from the back surface side of the lower substrate 2, that is, the side of the lower substrate 2 opposite to the side on which the reflective layer 16 is formed. The adhesive strength of the spacer 17 is reduced by irradiation of ultraviolet rays. In this embodiment, however, the reflective layer 16 functions as a mask, and the spacer 17 adhered to the area corresponding to the reflective display area R is exposed to ultraviolet light. Not irradiated. Therefore, only the spacers 17 fixed to the area corresponding to the transmissive display area T are selectively irradiated with ultraviolet rays, and the fixing force thereof is reduced.

【0052】このように下基板2の裏面側から紫外線を
照射した後、エアーブロー又は液体による洗浄により、
固着力が低下したスペーサー17を選択的に除去するこ
とで、図6(a)に示すように、透過表示領域Tに対応
する領域のスペーサー17が除去され、反射表示領域R
に対応する領域のみにスペーサー17が固着されたプレ
基板を得ることができる。
After irradiating the back surface of the lower substrate 2 with ultraviolet rays in this way, by air blowing or washing with a liquid,
As shown in FIG. 6A, the spacers 17 having a reduced sticking force are selectively removed, so that the spacers 17 in the region corresponding to the transmissive display region T are removed and the reflective display region R is removed.
It is possible to obtain a pre-substrate in which the spacer 17 is fixed only in the region corresponding to.

【0053】その後、スペーサー17を選択的に配設し
たプレ基板と、上基板1に信号電極6(配向膜付き)を
積層した対向側プレ基板とを、両基板間にSTN型液晶
材料を挟持させつつ貼り合わせを行う。そして、各基板
1,2の液晶層3とは反対側に位相差版12,14、偏
光板13,15を積層して、図6(b)に示した液晶セ
ルを得る。以上のような工程を含む製造方法により、図
1に示した液晶装置100が製造される。なお、図2に
示す液晶装置200を製造する際には、反射表示領域R
のみオーバーコート11の厚さを大きくするものとして
いる。
After that, the pre-substrate having the spacers 17 selectively arranged and the counter-side pre-substrate having the signal electrodes 6 (with the alignment film) laminated on the upper substrate 1 are sandwiched with the STN type liquid crystal material between the two substrates. Bonding is done while making it. Then, the retardation plates 12 and 14 and the polarizing plates 13 and 15 are laminated on the opposite sides of the substrates 1 and 2 from the liquid crystal layer 3 to obtain the liquid crystal cell shown in FIG. 6B. The liquid crystal device 100 shown in FIG. 1 is manufactured by the manufacturing method including the steps described above. Note that when the liquid crystal device 200 shown in FIG. 2 is manufactured, the reflective display region R
Only the thickness of the overcoat 11 is increased.

【0054】次に、上記実施形態の液晶装置の製造方法
について変形例を説明する。すなわち、透過表示領域T
に対応する領域に紫外線照射を行い、スペーサー17の
固着力を選択的に低下させる工程において、図7に示す
ように所定パターンのフォトマスク51をスペーサー1
7の上方に、すなわち下基板2の反射層16が積層され
た側に形成して、選択的に紫外線照射を行うこともでき
る。この場合、フォトマスク51を介して基板上方から
透過表示領域Tに対応する領域に選択的に紫外線が照射
される。図7においては、図1に示す液晶装置100を
製造する際の紫外線照射工程に係る例を示したが、図2
に示す液晶装置200に対する紫外線照射工程も同様
に、フォトマスク51を基板上方に形成して選択的な紫
外線照射を行うことが可能である。
Next, a modified example of the method of manufacturing the liquid crystal device of the above embodiment will be described. That is, the transparent display area T
In the step of irradiating the region corresponding to the area with ultraviolet rays to selectively reduce the fixing force of the spacer 17, as shown in FIG.
It is also possible to form ultraviolet rays above the substrate 7, that is, on the side of the lower substrate 2 where the reflective layer 16 is laminated, and selectively irradiate ultraviolet rays. In this case, the region corresponding to the transmissive display region T is selectively irradiated with ultraviolet rays from above the substrate via the photomask 51. Although FIG. 7 shows an example relating to the ultraviolet irradiation step in manufacturing the liquid crystal device 100 shown in FIG.
Similarly, in the step of irradiating the liquid crystal device 200 with an ultraviolet ray, it is possible to form the photomask 51 above the substrate and perform selective ultraviolet ray irradiation.

【0055】また、図8は、図3に示した液晶装置30
0の製造工程における紫外線照射工程の概略を示す断面
模式図である。液晶装置300においては、反射層16
が形成された反射表示領域Rにおいても、カラーフィル
タ310の非形成領域にはスペーサー17を配設しない
構成としているため、図5,6に示したような下基板2
の裏面側からの露光は採用できない。したがって、この
場合には、図7と同様、所定パターンのフォトマスク5
2をスペーサー17の上方に形成して、反射層16が形
成された反射表示領域Rであって、且つカラーフィルタ
10が形成された領域のみに選択的に紫外線照射を行う
ものとしている。
FIG. 8 shows the liquid crystal device 30 shown in FIG.
It is a cross-sectional schematic diagram which shows the outline of the ultraviolet irradiation process in the manufacturing process of No. 0. In the liquid crystal device 300, the reflective layer 16
Even in the reflective display region R in which the spacers are formed, since the spacers 17 are not arranged in the regions where the color filters 310 are not formed, the lower substrate 2 as shown in FIGS.
The exposure from the back side of can not be adopted. Therefore, in this case, as in FIG. 7, the photomask 5 having a predetermined pattern is formed.
2 is formed above the spacer 17 to selectively irradiate ultraviolet rays only in the reflective display region R in which the reflective layer 16 is formed and in which the color filter 10 is formed.

【0056】いずれの方法にしても、散布したスペーサ
ーを加熱して、カラーフィルタや電極等が積層された基
板に固着させた後、基板下方又は上方からスペーサーを
除去したい領域に選択的に紫外線を照射するものとして
いる。そして、紫外線照射したスペーサーをエアーブロ
ーないし液体洗浄により選択的に除去することで、所定
領域(液晶層厚が相対的に小さくなる領域)にスペーサ
ーを配設することが可能となる。
In either method, the scattered spacers are heated and fixed to the substrate on which the color filters, electrodes, etc. are laminated, and then ultraviolet rays are selectively applied to the region below or above the substrate where the spacers are to be removed. It is supposed to irradiate. Then, the spacers irradiated with ultraviolet rays are selectively removed by air blowing or liquid cleaning, whereby the spacers can be arranged in a predetermined region (a region where the liquid crystal layer thickness is relatively small).

【0057】[0057]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、相
対的に液晶層厚が小さくなる反射層の形成領域に選択的
にスペーサーを配設し、そのスペーサーに固着層を被覆
したため、スペーサーの浮遊等の問題が生じ難くなる。
また、スペーサーに被覆した固着層は紫外線照射により
その固着力が低下する構成であるために、例えば製造時
において基板面にスペーサーを散布後、反射層の非形成
領域に対して選択的に紫外線を照射することにより、そ
の反射層の非形成領域に散布されたスペーサーに対し選
択的に固着力を低下させることができ、したがって、選
択的に反射層形成領域にスペーサーを配設することが可
能となる。
As described above, according to the present invention, the spacers are selectively disposed in the reflective layer forming region where the liquid crystal layer thickness is relatively small, and the spacers are covered with the fixing layer. Problems such as floating of the water are less likely to occur.
In addition, since the fixing layer coated on the spacer has a structure in which its fixing force is reduced by irradiation with ultraviolet rays, for example, after the spacers are scattered on the substrate surface at the time of manufacturing, ultraviolet rays are selectively applied to the non-formed area of the reflective layer. By irradiating, it is possible to selectively reduce the fixing force with respect to the spacers scattered in the non-formed area of the reflective layer, and thus it is possible to selectively dispose the spacer in the reflective layer formed area. Become.

【0058】さらに、本発明のように反射層を備えた液
晶装置であって、その反射層形成領域に選択的にスペー
サーを形成したい場合においては、反射層をマスクとし
てスペーサーが散布された基板の裏面側(反射層が形成
された側と異なる側)から紫外線を照射し、反射層の非
形成領域に対して選択的に紫外線を照射することが可能
となる。このように、反射層をマスクとして反射層非形
成領域に選択的に紫外線照射を行うことができるため、
別途マスクを形成する必要がなく、製造方法が簡略化さ
れる。
Further, in a liquid crystal device having a reflective layer as in the present invention, when it is desired to selectively form spacers in the reflective layer forming region, the reflective layer is used as a mask to form a spacer dispersed substrate. It is possible to irradiate ultraviolet rays from the back surface side (side different from the side on which the reflective layer is formed), and selectively irradiate ultraviolet rays to the region where the reflective layer is not formed. In this way, since it is possible to selectively irradiate ultraviolet rays to the reflection layer non-forming region using the reflection layer as a mask,
There is no need to separately form a mask, and the manufacturing method is simplified.

【0059】したがって本発明によると、簡便且つ確実
に反射層形成領域に対し選択的にスペーサーを配設する
ことが可能となり、必要最小限のスペーサーにより基板
間隔を基板面内で一層均一に保つことが可能となる。ま
た、スペーサー非形成領域において余分なスペーサーを
配設しないため、スペーサー周りにおける液晶配向不良
の発生を抑制することが可能となる。
Therefore, according to the present invention, it is possible to simply and surely dispose the spacers selectively with respect to the reflection layer forming region, and to keep the substrate spacing more uniform in the substrate surface by the minimum necessary spacers. Is possible. Further, since no extra spacer is provided in the spacer non-forming region, it is possible to suppress the occurrence of liquid crystal alignment defects around the spacer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の液晶装置の一実施形態たる半透過反
射型液晶装置の構成を示す部分断面模式図。
FIG. 1 is a partial cross-sectional schematic view showing the configuration of a transflective liquid crystal device which is an embodiment of a liquid crystal device of the present invention.

【図2】 図1の半透過反射型液晶装置の変形例につい
て示す部分断面模式図。
FIG. 2 is a schematic partial cross-sectional view showing a modification of the transflective liquid crystal device of FIG.

【図3】 図1の半透過反射型液晶装置の変形例につい
て示す部分断面模式図。
3 is a schematic partial cross-sectional view showing a modification of the transflective liquid crystal device of FIG.

【図4】 本発明に係る電子機器について幾つかの例を
示す斜視図。
FIG. 4 is a perspective view showing some examples of electronic devices according to the present invention.

【図5】 本実施形態の液晶装置の製造方法についてそ
の一工程例を示す説明図。
FIG. 5 is an explanatory view showing an example of a step of the method of manufacturing the liquid crystal device according to the present embodiment.

【図6】 図5に続く、製造方法の一工程例を示す説明
図。
FIG. 6 is an explanatory view showing an example of one step of the manufacturing method following FIG.

【図7】 本実施形態の液晶装置の製造方法についてそ
の変形例を示す説明図。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a modification of the method for manufacturing the liquid crystal device of the present embodiment.

【図8】 本実施形態の液晶装置の製造方法についてそ
の変形例を示す説明図。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing a modified example of the method for manufacturing the liquid crystal device of the present embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 上基板 2 下基板 3 液晶層 16 反射層 17 スペーサー 100,200,300 液晶装置 R 反射表示領域 T 透過表示領域 1 Upper substrate 2 Lower substrate 3 Liquid crystal layer 16 Reflective layer 17 Spacer 100,200,300 Liquid crystal device R reflective display area T transparent display area

フロントページの続き Fターム(参考) 2H042 DA01 DA12 DA22 DC02 DE00 2H048 BA02 BA45 BB02 BB08 BB42 2H089 LA03 QA16 RA10 TA04 TA12 TA13 TA15 TA17 TA18 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FA14Z FA35Y FA41Z FB04 GA06 GA08 HA10 LA30 Continued front page    F-term (reference) 2H042 DA01 DA12 DA22 DC02 DE00                 2H048 BA02 BA45 BB02 BB08 BB42                 2H089 LA03 QA16 RA10 TA04 TA12                       TA13 TA15 TA17 TA18                 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FA14Z                       FA35Y FA41Z FB04 GA06                       GA08 HA10 LA30

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液晶層を挟持する一対の基板間にスペー
サーが配置された液晶装置であって、前記一対の基板間
には光を反射する反射層が該基板面内において部分的に
形成され、前記スペーサーが、紫外線照射によりその固
着力が低下する固着層により被覆されてなり、且つ前記
反射層の上方に選択的に配設されていることを特徴とす
る液晶装置。
1. A liquid crystal device in which a spacer is arranged between a pair of substrates sandwiching a liquid crystal layer, and a reflective layer for reflecting light is partially formed between the pair of substrates in the plane of the substrate. The liquid crystal device, wherein the spacer is covered with a fixing layer whose fixing force is lowered by irradiation of ultraviolet rays, and is selectively disposed above the reflecting layer.
【請求項2】 前記反射層が形成された領域が反射表示
領域とされ、前記反射層が形成されていない領域が透過
表示領域とされていることを特徴とする請求項1に記載
の液晶装置。
2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the area where the reflective layer is formed is a reflective display area, and the area where the reflective layer is not formed is a transmissive display area. .
【請求項3】 前記反射表示領域には、該反射表示領域
にのみ透光性絶縁層が形成され、若しくは前記透過表示
領域よりも相対的に層厚の透光性絶縁層が形成されてい
ることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶装置。
3. In the reflective display area, a translucent insulating layer is formed only in the reflective display area, or a translucent insulating layer having a relatively thicker thickness than the transmissive display area is formed. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the liquid crystal device is a liquid crystal device.
【請求項4】 前記スペーサーは、前記液晶層全体にお
ける単位面積当りの個数が50個/mm2以上で、且つ
前記反射層における単位面積当りの個数が400個/m
2以下であることを特徴とする請求項1ないし3のい
ずれか1項に記載の液晶装置。
4. The number of the spacers per unit area of the entire liquid crystal layer is 50 / mm 2 or more, and the number of spacers per unit area of the reflective layer is 400 / m 2.
The liquid crystal device according to claim 1, wherein the liquid crystal device has a size of m 2 or less.
【請求項5】 前記反射層の前記液晶層側にはカラーフ
ィルタが基板面内において部分的に設けられ、前記スペ
ーサーが、前記反射層の上方のうち前記カラーフィルタ
の形成領域に選択的に配設されていることを特徴とする
請求項1ないし4のいずれか1項に記載の液晶装置。
5. A color filter is partially provided in the substrate surface on the liquid crystal layer side of the reflection layer, and the spacer is selectively arranged in the color filter formation region above the reflection layer. The liquid crystal device according to any one of claims 1 to 4, wherein the liquid crystal device is provided.
【請求項6】 前記透光性絶縁層が、前記カラーフィル
タの前記液晶層側に形成され、該カラーフィルタの保護
層として機能していることを特徴とする請求項5に記載
の液晶装置。
6. The liquid crystal device according to claim 5, wherein the translucent insulating layer is formed on the liquid crystal layer side of the color filter and functions as a protective layer of the color filter.
【請求項7】 請求項1ないし6のいずれか1項に記載
の液晶装置の製造方法であって、前記一対の基板の少な
くとも一方の基板上に前記反射層を部分的に形成する反
射層形成工程と、少なくとも前記反射層を形成した基板
上に前記スペーサーを散布するスペーサー散布工程と、
前記スペーサーが散布された基板を加熱する基板加熱工
程と、該加熱工程の後に前記スペーサーを除去したい領
域に紫外線を照射する紫外線照射工程と、該紫外線照射
により固着力が低下したスペーサーを選択的に除去する
スペーサー除去工程とを含むことを特徴とする液晶装置
の製造方法。
7. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein the reflective layer is formed by partially forming the reflective layer on at least one substrate of the pair of substrates. A step, and a spacer spraying step of spraying the spacer on the substrate having at least the reflective layer formed thereon,
A substrate heating step of heating the substrate on which the spacers are scattered, an ultraviolet irradiation step of irradiating the region where the spacer is to be removed with ultraviolet rays after the heating step, and a spacer whose adhesive strength is reduced by the ultraviolet irradiation is selectively A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising: a spacer removing step of removing the spacer.
【請求項8】 前記スペーサーを除去したい領域が前記
反射層の非形成領域であって、前記紫外線照射工程にお
いて、前記反射層をマスクとして前記スペーサーが散布
された基板の裏面側から紫外線を照射し、前記反射層の
非形成領域に対して選択的に紫外線を照射することを特
徴とする請求項7に記載の液晶装置の製造方法。
8. The region where the spacer is desired to be removed is a region where the reflective layer is not formed, and in the ultraviolet irradiation step, ultraviolet rays are irradiated from the back surface side of the substrate on which the spacers are scattered using the reflective layer as a mask. 8. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 7, wherein the region where the reflective layer is not formed is selectively irradiated with ultraviolet rays.
【請求項9】 請求項1ないし6のいずれか1項に記載
の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。
9. An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1. Description:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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