JP2003301075A - Styrene butadiene rubber composition for low temperature and its molded body - Google Patents

Styrene butadiene rubber composition for low temperature and its molded body

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JP2003301075A
JP2003301075A JP2002108975A JP2002108975A JP2003301075A JP 2003301075 A JP2003301075 A JP 2003301075A JP 2002108975 A JP2002108975 A JP 2002108975A JP 2002108975 A JP2002108975 A JP 2002108975A JP 2003301075 A JP2003301075 A JP 2003301075A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a styrene butadiene rubber composition capable of giving a molded body having a high cis 1,4-bonding fraction and good in both of wet characteristics and low temperature characteristics and to provide its molded body. <P>SOLUTION: The styrene butadiene rubber composition (SBR) for low temperature uses 10-50 pts.wt. of a styrene butadiene rubber and 50-90 pts.wt. of a rubber having ≤-50°C glass transition temperature as a rubber raw material and contains a filler, additives, a plasticizer and a crosslinking agent, and the styrene butadiene rubber is a high cis-styrene butadiene rubber (high cis-SBR) obtained by copolymerizing styrene and butadiene by adding (A) a transition metal metallocene catalyst, (B) at least one kind of a compound selected from among organic aluminum compounds and aluminoxane and (C) an electron attractive compound. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、低温性能に優れた
加硫ゴムを与えるスチレンブタジエンゴム組成物並びに
該スチレンブタジエンゴム組成物を成形、加硫して得ら
れたスチレンブタジエンゴム成形体に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a styrene-butadiene rubber composition which gives a vulcanized rubber excellent in low-temperature performance, and a styrene-butadiene rubber molded body obtained by molding and vulcanizing the styrene-butadiene rubber composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】スタッドレスタイヤは、当然のことなが
ら寒冷地で使用されるものであり、低温においても所定
の硬度を維持するなどの低温性能が要求される。係る低
温性能を重視する結果、従来はスタッドレスタイヤのト
レッド構成ゴム原料として、ガラス転移温度(Tg)の
低いゴム、具体的には天然ゴムないしブタジエンゴムが
使用されているが、天然ゴムやブタジエンゴムは、いず
れも水で濡れた路面における性能、即ちウェット性能が
よくないという問題を有する。
2. Description of the Related Art Needless to say, studless tires are used in cold regions, and are required to have low temperature performance such as maintaining a predetermined hardness even at low temperatures. As a result of emphasizing such low temperature performance, conventionally, rubber having a low glass transition temperature (Tg), specifically natural rubber or butadiene rubber, has been used as a raw material for a tread of a studless tire. All have a problem that the performance on a road surface wet with water, that is, the wet performance is not good.

【0003】スチレンブタジエンゴム(SBR)は、広
く使用されている合成ゴムであり、特に乗用車用タイヤ
の路面接地部であるトレッド用のゴム材料として広く使
用されている。従来のSBRは、乳化重合法によるか、
溶液アニオン重合法により製造されていた。
Styrene-butadiene rubber (SBR) is a widely used synthetic rubber, and is widely used as a rubber material for a tread which is a road ground contact portion of a tire for passenger cars. Conventional SBR is based on emulsion polymerization,
It was manufactured by a solution anion polymerization method.

【0004】しかるに乳化重合法並びに溶液アニオン重
合法により製造されたSBRは、タイヤのウェット性能
においては良好であるが、いずれもブタジエンのシス
1,4−結合の分率が40%以上にはならないものであ
るため、係る従来のSBRを使用したゴム組成物は、低
温性能が十分ではなかった。
However, the SBR produced by the emulsion polymerization method and the solution anion polymerization method is excellent in the wet performance of tires, but in any case, the fraction of cis-1,4-bond of butadiene does not exceed 40%. Therefore, the rubber composition using such a conventional SBR does not have sufficient low temperature performance.

【0005】SBRの低温性能改善のためには、SBR
におけるブタジエンのシス1,4−結合分率の高いSB
Rとすることが有効と考えられるが、これまでシス1,
4−結合分率の高いSBRは知られていない。ブタジエ
ンの重合においてシス1,4−結合分率を高める重合方
法として、遷移金属メタロセン触媒を使用する製造方法
が公知である(Macromol.Chem.Phy
s.,201,393,2000)。
In order to improve the low temperature performance of SBR, SBR
With high cis-1,4-bond fraction of butadiene in
It is considered that R is effective, but until now, cis1,
No SBR with a high 4-bond fraction is known. As a polymerization method for increasing the cis-1,4-bond fraction in the polymerization of butadiene, a production method using a transition metal metallocene catalyst is known (Macromol. Chem. Phy.
s. , 201, 393, 2000).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の遷移金
属メタロセン触媒を使用した重合方法では、得られるS
BRの分子量が高くならず、ゴム組成物として成形品と
した時の機械的強度が十分ではなく、特にタイヤのよう
な高強度が要求される用途には使用できないものであっ
た。
However, in the polymerization method using the above transition metal metallocene catalyst, the S
The molecular weight of BR was not high, and the mechanical strength of the molded product as a rubber composition was not sufficient, and it could not be used especially for applications requiring high strength such as tires.

【0007】本発明の目的は、シス1,4−結合分率が
高く、ウェット性能と低温性能が共に良好な成形体を与
えるスチレンブタジエンゴム組成物並びにその成形体を
提供することにある。
It is an object of the present invention to provide a styrene-butadiene rubber composition which has a high cis 1,4-bond fraction and gives a molded product having both good wet performance and low temperature performance, and a molded product thereof.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の低温用スチレン
ブタジエンゴム(SBR)組成物は、スチレンブタジエ
ンゴム10〜50重量部とガラス転移温度が−50℃以
下のゴム50〜90重量部とをゴム原料とし、充填剤、
添加剤、可塑剤、架橋剤を含有し、前記スチレンブタジ
エンゴムが、(A)遷移金属メタロセン触媒、(B)有
機アルミニウム化合物及びアルミノキサンから選択され
る少なくとも1種の化合物、及び(C)電子吸引性化合
物を添加してスチレンとブタジエンを共重合して得られ
たハイシススチレンブタジエンゴム(ハイシスSBR)
であることを特徴とする。
The low temperature styrene-butadiene rubber (SBR) composition of the present invention comprises 10 to 50 parts by weight of styrene-butadiene rubber and 50 to 90 parts by weight of rubber having a glass transition temperature of -50 ° C or lower. As rubber raw material, filler,
The styrene-butadiene rubber contains an additive, a plasticizer, and a cross-linking agent, and the styrene-butadiene rubber has at least one compound selected from (A) a transition metal metallocene catalyst, (B) an organoaluminum compound and an aluminoxane, and (C) electron withdrawing. -Cis styrene-butadiene rubber (high-cis SBR) obtained by copolymerizing styrene and butadiene by adding a polymerizable compound
Is characterized in that.

【0009】上述の組成物とすることにより、ウェット
性能と低温性能が共に良好な成形体を与えるスチレンブ
タジエンゴム組成物となる。
By using the above-mentioned composition, a styrene-butadiene rubber composition which gives a molded article having good wet performance and low-temperature performance is obtained.

【0010】ハイシスSBRの使用量がゴム原料100
重量部中10重量部未満の場合にはハイシスSBRの特
性が十分に発揮されず、50重量部を超えると低温性能
や耐摩耗性が低下する等の問題が生じる。
The amount of high cis SBR used is 100
When the amount is less than 10 parts by weight, the properties of high cis SBR are not sufficiently exhibited, and when it exceeds 50 parts by weight, problems such as low temperature performance and abrasion resistance are deteriorated.

【0011】ガラス転移温度(Tg)が−50℃以下の
ゴム原料としては、公知のゴム原料が使用可能である
が、加硫ゴムの機械的強度に優れ、SBRとの相溶性も
良好であることから、天然ゴム、ブタジエンゴムの使用
が好ましい。これらは併用してもよい。
As the rubber raw material having a glass transition temperature (Tg) of −50 ° C. or lower, known rubber raw materials can be used, but the vulcanized rubber has excellent mechanical strength and good compatibility with SBR. Therefore, it is preferable to use natural rubber or butadiene rubber. You may use these together.

【0012】前記ハイシススチレンブタジエンゴムは、
重量平均分子量20万以上かつシス1,4−結合含有率
が60%以上であることが好ましい。
The high cis styrene butadiene rubber is
It is preferable that the weight average molecular weight is 200,000 or more and the cis 1,4-bond content is 60% or more.

【0013】重量平均分子量が20万以上であることに
より、このSBRを使用したゴム組成物は高い機械的強
度を有するSBR含有ゴム成形品となり、シス1,4−
結合分率が60%以上であることにより、このSBRを
特にタイヤとレッド材料として使用した時にウエット性
能と低温性能が共に優れたタイヤが得られる。
Since the weight average molecular weight is 200,000 or more, the rubber composition using this SBR becomes an SBR-containing rubber molded product having high mechanical strength, and cis-1,4-
When the binding fraction is 60% or more, a tire excellent in both wet performance and low temperature performance can be obtained when this SBR is used as a tire and a red material.

【0014】シス1,4−結合分率は、重合体を構成す
るブタジエンのシス1,4−結合、トランス1,4−結
合、1,2−結合の合計を100%としたときの分率
(%)である。本発明のシス1,4−結合分率は、赤外
線吸収スペクトル法により測定する。
The cis 1,4-bond fraction is the fraction when the total of cis 1,4-bond, trans 1,4-bond and 1,2-bond of butadiene constituting the polymer is 100%. (%). The cis 1,4-bond fraction of the present invention is measured by an infrared absorption spectrum method.

【0015】本発明の低温用スチレンブタジエンゴム組
成物に使用するハイシススチレンブタジエンゴムは、有
機溶剤中において重合反応を行う溶液重合により製造さ
れたものであることが好ましい。
The high cis styrene butadiene rubber used in the low temperature styrene butadiene rubber composition of the present invention is preferably produced by solution polymerization in which a polymerization reaction is carried out in an organic solvent.

【0016】溶液重合であることにより、容易に重量平
均分子量が20万以上の高分子量のスチレンブタジエン
ゴムを製造することができる。
By the solution polymerization, a high molecular weight styrene-butadiene rubber having a weight average molecular weight of 200,000 or more can be easily produced.

【0017】本発明のスチレンブタジエンゴム成形体
は、請求項1〜3いずれかに記載の低温用スチレンブタ
ジエンゴム組成物を成形、加硫して得られたものである
ことを特徴とする。
The styrene-butadiene rubber molded product of the present invention is characterized by being obtained by molding and vulcanizing the low-temperature styrene-butadiene rubber composition according to any one of claims 1 to 3.

【0018】係る加硫ゴム成形体は、転動抵抗や耐摩耗
性に優れた成形体であり、特にタイヤの接地部、ベルト
コンベア、ローラー、クローラ等の耐摩耗性を要求され
る用途に適した成形体である。
The vulcanized rubber molded product is a molded product excellent in rolling resistance and wear resistance, and is particularly suitable for applications requiring wear resistance such as a ground contact portion of a tire, a belt conveyor, rollers and crawlers. It is a molded body.

【0019】加硫ゴム成形体の硬度は、ショアA硬度
(−5℃)が45〜65であることが好ましい。
The hardness of the vulcanized rubber molded body is preferably a Shore A hardness (-5 ° C.) of 45 to 65.

【0020】係る硬度のゴム成形体は、特にスタッドレ
スタイヤのトレッド材料として好適である。
The rubber molding having such hardness is particularly suitable as a tread material for studless tires.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】本発明に使用するハイシスSBR
について説明する。本発明のハイシススチレンブタジエ
ンゴムの製造方法は、(A)遷移金属メタロセン触媒、
(B)有機アルミニウム化合物及びアルミノキサンから
選択される少なくとも1種の化合物、及び(C)電子吸
引性化合物を添加してスチレンとブタジエンとを共重合
することを特徴とする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hicis SBR used in the present invention
Will be described. The method for producing a high cis styrene butadiene rubber of the present invention comprises (A) a transition metal metallocene catalyst,
At least one compound selected from (B) an organoaluminum compound and an aluminoxane, and (C) an electron-withdrawing compound are added to copolymerize styrene and butadiene.

【0022】本発明の最も大きな特徴構成は、(C)電
子吸引性化合物を添加してスチレンとブタジエンとを共
重合することにある。
The most characteristic feature of the present invention is that (C) an electron-withdrawing compound is added to copolymerize styrene and butadiene.

【0023】係る構成の製造方法により、高分子量であ
って実用的な機械的強度を有し、同時にブタジエンのシ
ス1,4−結合分率が高い共重合体が得られる。
By the production method having such a constitution, a copolymer having a high molecular weight and a practical mechanical strength and at the same time a high cis 1,4-bond fraction of butadiene can be obtained.

【0024】(A)〜(C)成分の好ましい添加量は、
モノマー(スチレン+ブタジエンなど)に対して(A)
成分は,モノマー/(A)=102 〜105 (モル比)
である。(A)/(B)の比率は、(B)成分として有
機アルミニウム化合物を使用する場合には1/0.1〜
1/1000(モル比)であることが好ましく、(B)
成分としてアルミノキサンを使用する場合には、1/1
0〜1/5000であることが好ましい。また(A)/
(C)の比率は、1/0.1〜1/10であることが好
ましい。
The preferred addition amount of the components (A) to (C) is
For monomer (styrene + butadiene etc.) (A)
Ingredients are monomer / (A) = 10 2 to 10 5 (molar ratio)
Is. The ratio of (A) / (B) is 1 / 0.1 when an organoaluminum compound is used as the component (B).
It is preferably 1/1000 (molar ratio), and (B)
When using aluminoxane as a component, 1/1
It is preferably 0 to 1/5000. Also (A) /
The ratio of (C) is preferably 1 / 0.1 to 1/10.

【0025】(A)遷移金属化合物のメタロセン型錯体
としては、周期表第4〜8族遷移金属化合物の公知のメ
タロセン型錯体を使用できる。具体的には、チタン、ジ
ルコニウムなどの周期表第4族遷移金属のメタロセン型
錯体(例えば、CpTiCl 3 など)、バナジウム、ニ
オブ、タンタルなどの周期表第5族遷移金属のメタロセ
ン型錯体、クロムなどの第6族遷移金属メタロセン型錯
体、コバルト、ニッケルなどの第8族遷移金属のメタロ
セン型錯体が挙げられる。
(A) Metallocene type complex of transition metal compound
Are known compounds of transition metal compounds of Groups 4 to 8 of the periodic table.
Talocene-type complexes can be used. Specifically, titanium, di
Metallocene type of Group 4 transition metals such as ruconium
Complex (eg CpTiCl 3 Etc.), vanadium, ni
Metalloces of transition metals of Group 5 of the periodic table, such as bromine and tantalum
Group-type complexes, Group 6 transition metal metallocene-type complexes such as chromium
Metals of Group 8 transition metals such as body, cobalt and nickel
Examples thereof include sen-type complexes.

【0026】これらの中でも、周期表第5族遷移金属の
メタロセン型錯体の使用が好適である。周期表第5族遷
移金属化合物のメタロセン型錯体としては、下記の一般
式にて表される化合物が挙げられる。 (1)RM・La (2)Rn MX2-n ・La (3)Rn MX3-n ・La (4)RMX3 ・La (5)RM(O)X2 ・La (6)Rn MX3-n (NR' ) (式中、nは1又は2、aは0,1又は2である) 上記の化合物の中でも、(1)RM・La ,(4)RM
3 ・La ,(5)RM(O)X2 ・La の使用がより
好ましい。金属Mは、バナジウム、チタンの少なくとも
一方であることが好ましい。
Of these, the use of a metallocene type complex of a transition metal of Group 5 of the periodic table is preferable. Examples of the metallocene-type complex of a transition metal compound of Group 5 of the periodic table include compounds represented by the following general formula. (1) RM · L a (2) R n MX 2-n · L a (3) R n MX 3-n · L a (4) RMX 3 · L a (5) RM (O) X 2 · L a (6) R n MX 3-n (NR ′) (wherein, n is 1 or 2, and a is 0, 1 or 2) Among the above compounds, (1) RM · L a , (4 ) RM
It is more preferable to use X 3 · L a and (5) RM (O) X 2 · L a . The metal M is preferably at least one of vanadium and titanium.

【0027】一般式(1)〜(6)において、Rとして
はシクロペンタジエニル基、置換シクロペンタジエニル
基、インデニル基、置換インデニル基、フルオレニル基
又は置換フルオレニル基を示す。置換シクロペンタジエ
ニル基、置換インデニル基又は置換フルオレニル基にお
ける置換基としては、メチル、エチル、プロピル、i−
プロピル、n−ブチル、i−ブチル、sec−ブチル、
t−ブチル、ヘキシルなどの直鎖状脂肪族炭化水素基ま
たは分岐状脂肪族炭化水素基、フェニル、トリル、ナフ
チル、ベンジルなど芳香族炭化水素基、トリメチルシリ
ルなどのケイ素原子を含有する炭化水素基などが挙げら
れる。さらに、シクロペンタジエニル環がXの一部と互
いにジメチルシリレン(Me2 Si)、ジメチルメチレ
ン(Me 2 C)、メチルフェニルメチレン(PhMe
C)、ジフェニルメチレン(Ph2C)、エチレン、置
換エチレンなどの架橋基で結合されたものも含まれる。
In the general formulas (1) to (6), R is
Is a cyclopentadienyl group, substituted cyclopentadienyl
Group, indenyl group, substituted indenyl group, fluorenyl group
Alternatively, it represents a substituted fluorenyl group. Substituted cyclopentadiene
Nyl group, substituted indenyl group or substituted fluorenyl group
As the substituent, methyl, ethyl, propyl, i-
Propyl, n-butyl, i-butyl, sec-butyl,
Linear aliphatic hydrocarbon groups such as t-butyl and hexyl
Or branched aliphatic hydrocarbon groups, phenyl, tolyl, naphth
Aromatic hydrocarbon groups such as chill and benzyl, trimethylsilyl
And hydrocarbon groups containing silicon atoms such as
Be done. In addition, the cyclopentadienyl ring is partially linked to X.
Sea urchin dimethyl silylene (Me2 Si), dimethyl methyle
(Me 2 C), methylphenylmethylene (PhMe
C), diphenylmethylene (Ph2C), ethylene,
Also included are those linked by a bridging group such as ethylene.

【0028】置換シクロペンタジエニル基の具体例とし
ては、メチルシクロペンタジエニル基、1,2−ジメチ
ルシクロペンタジエニル基、1,3−ジメチルシクロペ
ンタジエニル基、1,2,3−トリメチルシクロペンタ
ジエニル基、1−ベンジル−2,3,4,5−テトラメ
チルシクロペンタジエニル基、1−トリメチルシリル−
2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル基
などが挙げられる。
Specific examples of the substituted cyclopentadienyl group are methylcyclopentadienyl group, 1,2-dimethylcyclopentadienyl group, 1,3-dimethylcyclopentadienyl group, 1,2,3- Trimethylcyclopentadienyl group, 1-benzyl-2,3,4,5-tetramethylcyclopentadienyl group, 1-trimethylsilyl-
2,3,4,5-tetramethylcyclopentadienyl group and the like can be mentioned.

【0029】置換インデニル基の具体例としては、1,
2,3−トリメチルインデニル基、ヘプタメチルインデ
ニル基、1,2,4,5,6,7−ヘキサメチルインデ
ニル基などが挙げられる。置換フルオレニル基の具体例
としては、メチルフルオレニル基などが挙げられる。
Specific examples of the substituted indenyl group include 1,
2,3-trimethylindenyl group, heptamethylindenyl group, 1,2,4,5,6,7-hexamethylindenyl group and the like can be mentioned. Specific examples of the substituted fluorenyl group include a methylfluorenyl group and the like.

【0030】以上に例示したRの中でも、シクロペンタ
ジエニル基(Cp)、メチルシクロペンタジエニル基、
ペンタメチルシクロペンタジエニル基、インデニル基、
1,2,3−トリメチルインデニル基の使用がより好ま
しい。
Among the R's exemplified above, a cyclopentadienyl group (Cp), a methylcyclopentadienyl group,
Pentamethylcyclopentadienyl group, indenyl group,
The use of 1,2,3-trimethylindenyl group is more preferred.

【0031】一般式(1)〜(6)において、Xは水
素、ハロゲン(F,Cl,Br,I)、炭素数1から2
0の炭化水素基、アルコキシ基、又はアミノ基を示す。
Xはすべて同じであっても、互いに異なっていてもよ
い。炭素数1から20の炭化水素基の具体例としては、
メチル、エチル、プロピル、i−プロピル、n−ブチ
ル、i−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、ヘキシ
ルなどの直鎖状脂肪族炭化水素基または分岐状脂肪族炭
化水素基、フェニル、トリル、ナフチル、ベンジルなど
の芳香族炭化水素基である。これらの中でも、メチル、
ベンジルなどが好ましい。Rは、トリメチルシリルメチ
ル基であってもよい。
In the general formulas (1) to (6), X is hydrogen, halogen (F, Cl, Br, I), and has 1 to 2 carbon atoms.
0 represents a hydrocarbon group, an alkoxy group, or an amino group.
All Xs may be the same or different from each other. Specific examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include:
A linear or branched aliphatic hydrocarbon group such as methyl, ethyl, propyl, i-propyl, n-butyl, i-butyl, sec-butyl, t-butyl, hexyl, phenyl, tolyl, An aromatic hydrocarbon group such as naphthyl and benzyl. Among these, methyl,
Benzyl and the like are preferable. R may be a trimethylsilylmethyl group.

【0032】アルコキシ基としては、メトキシ、エトキ
シ、フェノキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルキル
オキシ基が例示される。アミノ基としては、ジメチルア
ミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノなどが例
示される。
Examples of the alkoxy group include alkyloxy groups such as methoxy, ethoxy, phenoxy, propoxy and butoxy. Examples of the amino group include dimethylamino, diethylamino, diisopropylamino and the like.

【0033】一般式(1)〜(6)において、Lはルイ
ス塩基であり、金属に配位できるルイス塩基性の一般的
な無機、有機化合物である。活性水素を有しない化合物
が特に好ましく、具体例としては、エ−テル、エステ
ル、ケトン、アミン、ホスフィン、シリルオキシ化合
物、オレフィン、ジエン、芳香族化合物、アルキンなど
が例示される。
In the general formulas (1) to (6), L is a Lewis base, which is a general Lewis basic inorganic or organic compound capable of coordinating with a metal. Compounds having no active hydrogen are particularly preferable, and specific examples thereof include ethers, esters, ketones, amines, phosphines, silyloxy compounds, olefins, dienes, aromatic compounds and alkynes.

【0034】一般式(6)Rn MX3-n (NR' )にお
けるNR' はイミド基であり、R'は炭素数1から25
の炭化水素置換基である。R' の具体例としては、メチ
ル、エチル、プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i
−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、ヘキシル、オ
クチル、ネオペンチルなどの直鎖状脂肪族炭化水素基ま
たは分岐状脂肪族炭化水素基、フェニル、ナフチル、ベ
ンジル、1−フェニルエチル、6−ジメチルフェニルな
どの芳香族炭化水素基などが挙げられる。トリメチルシ
リルなどのアルキルシリル基であってもよい。
In the general formula (6) R n MX 3-n (NR ′), NR ′ is an imide group, and R ′ has 1 to 25 carbon atoms.
Is a hydrocarbon substituent. Specific examples of R'include methyl, ethyl, propyl, i-propyl, n-butyl, i.
-Butyl, sec-butyl, t-butyl, hexyl, octyl, neopentyl and other straight-chain aliphatic hydrocarbon groups or branched aliphatic hydrocarbon groups, phenyl, naphthyl, benzyl, 1-phenylethyl, 6-dimethylphenyl And aromatic hydrocarbon groups such as It may be an alkylsilyl group such as trimethylsilyl.

【0035】一般式(1)RM・La 、すなわち、シク
ロアルカジエニル基の配位子を有する酸化数+1の周期
表第5族遷移金属化合物としては、シクロペンタジエニ
ル(ベンゼン)バナジウム、シクロペンタジエニル(ト
ルエン)バナジウム、シクロペンタジエニル(キシレ
ン)バナジウム、シクロペンタジエニル(フェロセン)
バナジウム、テトラメチルシクロペンタジエニル(ベン
ゼン)バナジウム、インデニル(ベンゼン)バナジウ
ム、シクロペンタジエニルテトラカルボニルバナジウム
などを挙げることができる。
The compound of the general formula (1) RM · L a , that is, a transition metal compound of Group 5 of the periodic table having a cycloalkadienyl group ligand and an oxidation number of +1 includes cyclopentadienyl (benzene) vanadium, Cyclopentadienyl (toluene) vanadium, cyclopentadienyl (xylene) vanadium, cyclopentadienyl (ferrocene)
Vanadium, tetramethyl cyclopentadienyl (benzene) vanadium, indenyl (benzene) vanadium, cyclopentadienyl tetracarbonyl vanadium, etc. can be mentioned.

【0036】一般式(2)Rn MX2-n ・La で表わさ
れる化合物のうち、n=1、即ちシクロアルカジエニル
基を配位子として1個有する場合には、他のシグマ結合
性配位子として、水素原子、塩素などのハロゲン原子、
メチル基、フェニル基、ベンジル基、ネオペンチル基、
トリメチルシリル基などの炭化水素基、メトキシ基、エ
トキシ基、イソプロポキシ基などのアルコキシ基、ジメ
チルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基などのジアルキ
ルアミノ基を有することができる。
Among the compounds represented by the general formula (2) R n MX 2-n · L a , when n = 1, that is, when one cycloalkadienyl group is used as a ligand, another sigma bond is used. As a hydrogen atom, a halogen atom such as chlorine,
Methyl group, phenyl group, benzyl group, neopentyl group,
It may have a hydrocarbon group such as a trimethylsilyl group, an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group and an isopropoxy group, and a dialkylamino group such as a dimethylamino group and a diisopropylamino group.

【0037】さらに、他の配位子としては、アミン、ア
ミド、ホスフィン、エーテル、ケトン、エステル、オレ
フィン、ジエン、芳香族炭化水素、アルキンなどの中性
のルイス塩基を有することもできる。活性水素のないル
イス塩基が好ましい。
Further, as another ligand, a neutral Lewis base such as amine, amide, phosphine, ether, ketone, ester, olefin, diene, aromatic hydrocarbon or alkyne can be contained. Lewis bases without active hydrogen are preferred.

【0038】一般式(2)Rn MX2-n ・La で表わさ
れる化合物において、n=2、即ちシクロアルカジエニ
ル基を配位子として2個有する場合には、各々のシクロ
アルカジエニル環が互いにジメチルシリレン、ジメチル
メチレン、メチルフェニルメチレン、ジフェニルメチレ
ン、エチレン、置換エチレンなどの架橋基で結合された
ものであってもよい。
In the compound represented by the general formula (2) R n MX 2-n · L a , when n = 2, that is, when two cycloalkadienyl groups are contained as ligands, each cycloalkadiene The enyl rings may be linked to each other by a cross-linking group such as dimethylsilylene, dimethylmethylene, methylphenylmethylene, diphenylmethylene, ethylene and substituted ethylene.

【0039】本発明の(2)Rn MX2-n ・La で表わ
される化合物のうち、n=1であり、酸化数+2の周期
表第5族遷移金属化合物の具体例としては、クロロシク
ロペンタジエニル(テトラヒドロフラン)バナジウム、
クロロシクロペンタジエニル(トリメチルホスフィン)
バナジウムなどが挙げられる。
Among the compounds represented by R n MX 2-n · L a of (2) of the present invention, n = 1 and the oxidation number +2, a specific example of the periodic table group 5 transition metal compound is chloro. Cyclopentadienyl (tetrahydrofuran) vanadium,
Chlorocyclopentadienyl (trimethylphosphine)
Examples include vanadium.

【0040】本発明の(2)Rn MX2-n ・La で表わ
される化合物のうち、n=2、即ちシクロアルカジエニ
ル基を配位子として2個有する酸化数+2の周期表第5
族遷移金属化合物の具体例としては、ビスシクロペンタ
ジエニルバナジウム、ビス(メチルシクロペンタジエニ
ル)バナジウム、ビス(1,2−ジメチルシクロペンタ
ジエニル)バナジウムなどが挙げられる。
(2) Of the compounds represented by R n MX 2-n · L a of the present invention, n = 2, that is, the periodic table having an oxidation number of +2 having two cycloalkadienyl groups as ligands. 5
Specific examples of the group transition metal compound include biscyclopentadienyl vanadium, bis (methylcyclopentadienyl) vanadium, and bis (1,2-dimethylcyclopentadienyl) vanadium.

【0041】(3)Rn MX3-n ・La で表される具体
的な化合物のうち、n=1の化合物としては、シクロペ
ンタジエニルバナジウムジクロライド、メチルシクロペ
ンタジエニルバナジウムジクロライド,フルオレニルバ
ナジウムジクロライドなどのジクロライド体、あるいは
これらの化合物の塩素原子をメチル基で置換したメチル
体などが挙げられる。
(3) Among the specific compounds represented by R n MX 3-n · L a , the compounds with n = 1 include cyclopentadienyl vanadium dichloride, methylcyclopentadienyl vanadium dichloride, and fullerene. Examples thereof include dichlorides such as oleyl vanadium dichloride, and methyls obtained by substituting the chlorine atom of these compounds with a methyl group.

【0042】(3)Rn MX3-n ・La にて表される化
合物としては、さらにシクロペンタジエニルバナジウム
ジメトキサイド、シクロペンタジエニルバナジウムジi
−プロポキサイド、シクロペンタジエニルバナジウムジ
t−ブトキサイド、シクロペンタジエニルバナジウムジ
フェノキサイド、シクロペンタジエニルバナジウムメト
キシクロライド、シクロペンタジエニルバナジウムi−
プロポキシクロライド、シクロペンタジエニルバナジウ
ムt−ブトキシクロライド、シクロペンタジエニルバナ
ジウムフェノキシクロライドなどのアルコキシド体、あ
るいはこれらの化合物の塩素原子をメチル基で置換した
メチル体等例示される。
(3) Examples of the compound represented by R n MX 3-n · L a include cyclopentadienyl vanadium dimethoxide and cyclopentadienyl vanadium dii.
-Propoxide, cyclopentadienyl vanadium dit-butoxide, cyclopentadienyl vanadium diphenoxide, cyclopentadienyl vanadium methoxy chloride, cyclopentadienyl vanadium i-
Examples thereof include alkoxides such as propoxycyclolide, cyclopentadienyl vanadium t-butoxycyclolide, and cyclopentadienyl vanadium phenoxycyclolide, and methyl compounds in which chlorine atoms of these compounds are substituted with methyl groups.

【0043】(3)Rn MX3-n ・La で表される具体
的な化合物のうち、n=2の化合物としては、ジシクロ
ペンタジエニルバナジウムクロライド、ビス(メチルシ
クロペンタジエニル)バナジウムクロライド、ビス
(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)バナジウム
クロライド、ビス(トリメチルシリルシクロペンタジエ
ニル)バナジウムクロライド、ジインデニルバナジウム
クロライドなどのクロライド体、あるいはこれらの化合
物の塩素原子をメチル基で置換したメチル体が挙げられ
る。
(3) Among the specific compounds represented by R n MX 3-n · L a , as the compound of n = 2, dicyclopentadienyl vanadium chloride and bis (methylcyclopentadienyl) Chloride such as vanadium chloride, bis (1,3-dimethylcyclopentadienyl) vanadium chloride, bis (trimethylsilylcyclopentadienyl) vanadium chloride, diindenyl vanadium chloride, or the chlorine atom of these compounds with a methyl group Examples include substituted methyl compounds.

【0044】一般式(3)Rn MX3-n ・La で表され
る化合物においては、Rが炭化水素基、シリル基によっ
て結合されたものであってもよい。かかる化合物として
は、ジメチルビス(η5 −シクロペンタジエニル)シラ
ンバナジウムクロライド、ジメチルビス(テトラメチル
−η5 −シクロペンタジエニル)シランバナジウムクロ
ライドなどのクロライド体、あるいはこれらの化合物の
塩素原子をメチル基で置換したメチル体などが挙げられ
る。
In the compound represented by the general formula (3) R n MX 3-n · L a , R may be bonded by a hydrocarbon group or a silyl group. Examples of such compounds include chlorides such as dimethylbis (η5-cyclopentadienyl) silanevanadium chloride and dimethylbis (tetramethyl-η5-cyclopentadienyl) silanevanadium chloride, or chlorine atoms of these compounds in which a methyl group is used. And a methyl form substituted with.

【0045】一般式(4)RMX3 ・La で示される具
体的な化合物としては、以下の(i)〜(vii)の化
合物が挙げられる。
[0045] As a general formula (4) Specific compound represented by RMX 3 · L a include compounds of the following (i) ~ (vii).

【0046】(i)シクロペンタジエニルバナジウムト
リクロライド,モノ置換シクロペンタジエニルバナジウ
ムトリクロライド、シクロペンタジエニルチタントリク
ロライド (ii)1,2−又は1,3−ジ置換シクロペンタジエ
ニルバナジウムトリクロライド、1,2−又は1,3−
ジ置換シクロペンタジエニルチタントリクロライド (iii)(1,2,3−トリメチルシクロペンタジエ
ニル)バナジウムトリクロライド、1,2,4−トリメ
チルシクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライド
等のトリ置換シクロペンタジエニルバナジウムトリクロ
ライドが挙げられる。
(I) Cyclopentadienyl vanadium trichloride, mono-substituted cyclopentadienyl vanadium trichloride, cyclopentadienyl titanium trichloride (ii) 1,2- or 1,3-disubstituted cyclopentadienyl vanadium Trichloride, 1,2- or 1,3-
Tri-substituted cyclopenta such as di-substituted cyclopentadienyl titanium trichloride (iii) (1,2,3-trimethylcyclopentadienyl) vanadium trichloride, 1,2,4-trimethylcyclopentadienyl) vanadium trichloride Dienyl vanadium trichloride may be mentioned.

【0047】(iv)テトラ置換ないしペンタ置換シク
ロペンタジエニルバナジウムトリクロライド (v)インデニルバナジウムトリクロライド、(vi)
置換インデニルバナジウムトリクロライド (vii);(i)〜(vi)の化合物の塩素原子をア
ルコキシ基で置換したモノアルコキシド、ジアルコキシ
ド、トリアルコキシド等 一般式(5)RM(O)X2 で表される具体的な化合物
としては、シクロペンタジエニルオキソバナジウムジク
ロライド、メチルシクロペンタジエニルオキソバナジウ
ムジクロライド、ベンジルシクロペンタジエニルオキソ
バナジウムジクロライド、(1,3−ジメチルシクロペ
ンタジエニル)オキソバナジウムジクロライドなどが挙
げられる。上記の各化合物の塩素原子をメチル基で置換
したメチル体も挙げられる。
(Iv) tetra-substituted or penta-substituted cyclopentadienyl vanadium trichloride (v) indenyl vanadium trichloride, (vi)
Substituted indenyl vanadium trichloride (vii); monoalkoxides, dialkoxides, trialkoxides etc. in which the chlorine atom of the compounds of (i) to (vi) are substituted with an alkoxy group are represented by the general formula (5) RM (O) X 2 . Specific examples of the compound include cyclopentadienyloxovanadium dichloride, methylcyclopentadienyloxovanadium dichloride, benzylcyclopentadienyloxovanadium dichloride, (1,3-dimethylcyclopentadienyl) oxovanadium dichloride, etc. Is mentioned. Also included are methyl compounds in which the chlorine atom of each of the above compounds is replaced with a methyl group.

【0048】一般式(5)RM(O)X2 で表される化
合物としては、またシクロペンタジエニルオキソバナジ
ウムジメトキサイド、シクロペンタジエニルオキソバナ
ジウムジi−プロポキサイドなどが挙げられる。上記の
各化合物の塩素原子をメチル基で置換したメチル体、
(シクロペンタジエニル)ビス(ジエチルアミド)オキ
ソバナジウム、(シクロペンタジエニル)ビス(ジi−
プロピルアミド)オキソバナジウムなどが挙げられる。
Examples of the compound represented by the general formula (5) RM (O) X 2 include cyclopentadienyloxovanadium dimethoxide and cyclopentadienyloxovanadium di-propoxide. A methyl form in which the chlorine atom of each of the above compounds is replaced with a methyl group,
(Cyclopentadienyl) bis (diethylamido) oxovanadium, (Cyclopentadienyl) bis (di-
Propylamido) oxovanadium and the like.

【0049】一般式(6)Rn MX3-n (NR' )で表
される具体的な化合物としては、シクロペンタジエニル
(メチルイミド)バナジウムジクロライド、シクロペン
タジエニル(フェニルイミド)バナジウムジクロライ
ド、シクロペンタジエニル(2,6−ジメチルフェニル
イミド)バナジウムジクロライドなどが挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (6) R n MX 3-n (NR ′) include cyclopentadienyl (methylimido) vanadium dichloride, cyclopentadienyl (phenylimido) vanadium dichloride, Examples thereof include cyclopentadienyl (2,6-dimethylphenylimide) vanadium dichloride.

【0050】(6)Rn MX3-n (NR' )で表される
化合物としては、さらにシクロペンタジエニルバナジウ
ム(フェニルイミド)ジメトキサイド、シクロペンタジ
エニルバナジウム(フェニルイミド)ジi−プロポキサ
イド、シクロペンタジエニルバナジウム(フェニルイミ
ド)(i−プロポキシ)クロライド、(シクロペンタジ
エニル)ビス(ジエチルアミド)バナジウム(フェニル
イミド)、(シクロペンタジエニル)ビス(ジi−プロ
ピルアミド)バナジウム(フェニルイミド)などが挙げ
られる。
(6) The compound represented by R n MX 3-n (NR ′) further includes cyclopentadienyl vanadium (phenylimido) dimethoxide, cyclopentadienyl vanadium (phenylimido) di i-propoxide. Cyclopentadienyl vanadium (phenylimide) (i-propoxy) chloride, (cyclopentadienyl) bis (diethylamido) vanadium (phenylimide), (cyclopentadienyl) bis (di-propylamido) vanadium (phenylimide) ) And the like.

【0051】(B)成分として使用する有機アルミニウ
ム化合物としては、公知の有機アルミニウム化合物が使
用可能である。具体的にはトリメチルアルミニウム、ト
リエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等
のトリアルキルアルミニウム、ジエチルアルミニウムク
ロライド等のジアルキルハライド等が例示される。
As the organoaluminum compound used as the component (B), known organoaluminum compounds can be used. Specific examples include trialkylaluminum such as trimethylaluminum, triethylaluminum and triisobutylaluminum, and dialkylhalides such as diethylaluminum chloride.

【0052】また(B)成分として使用可能である鎖状
アルミノキサンとしては、有機アルミニウム化合物と縮
合剤とを接触させることによって得られるものであっ
て、一般式(−Al(R’)O−)nで示される鎖状ア
ルミノキサンが挙げられる。R’は炭素数1〜10の炭
化水素基であり、一部ハロゲン原子及び/又はアルコキ
シ基で置換されたものも含む。nは鎖状アルミノキサン
の重合度であり、5以上、好ましくは10以上である。
R’として、はメチル、エチル、プロピル、イソブチル
基が挙げられる。これらの中でもメチル基及びエチル基
が好ましい。アルミノキサンの原料として用いられる有
機アルミニウム化合物としては、例えば、上述のトリメ
チルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム及
びその混合物などが挙げられる。
The chain aluminoxane which can be used as the component (B) is obtained by contacting an organoaluminum compound with a condensing agent, and has the general formula (-Al (R ') O-). The chain | strand-shaped aluminoxane shown by n is mentioned. R'is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and includes those partially substituted with a halogen atom and / or an alkoxy group. n is the degree of polymerization of the chain aluminoxane, and is 5 or more, preferably 10 or more.
Examples of R'include methyl, ethyl, propyl and isobutyl groups. Of these, a methyl group and an ethyl group are preferable. Examples of the organoaluminum compound used as a raw material for the aluminoxane include the above-mentioned trialkylaluminums such as trimethylaluminum, triethylaluminum and triisobutylaluminum, and mixtures thereof.

【0053】鎖状アルミノキサンの製造に使用する縮合
剤としては、典型的なものとして水が挙げられるが、こ
の他に該トリアルキルアルミニウムが縮合反応する任意
のもの、例えば無機物などの吸着水やジオ−ルなどが挙
げられる。
Typical examples of the condensing agent used in the production of the chain aluminoxane include water, but in addition to this, any condensing agent with which the trialkylaluminum undergoes a condensation reaction, such as adsorbed water such as an inorganic substance, or geo -Ru and the like.

【0054】(C)電子吸引性化合物としては、公知の
電子吸引性化合物が使用可能である。具体的には、トリ
クロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の酢酸誘導体、テトラ
クロロベンゾキノン(クロラニル)、テトラフルオロベ
ンゾキノン等のベンゾキノン誘導体、テトラシアノキノ
ジメタン(TCNQ)等が例示される。これらの電子吸
引性化合物は、単独で使用してもよく、2種以上を併用
してもよい。
As the electron-withdrawing compound (C), a known electron-withdrawing compound can be used. Specific examples thereof include acetic acid derivatives such as trichloroacetic acid and trifluoroacetic acid, tetrachlorobenzoquinone (chloranil), benzoquinone derivatives such as tetrafluorobenzoquinone, and tetracyanoquinodimethane (TCNQ). These electron-withdrawing compounds may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0055】本発明のハイシスSBRは、モノマーとし
てはスチレンとブタジエンとから構成されるが、SBR
の特性を損なわない範囲において他のモノマーの共重合
体とすることは、特性の改善等の観点より好適な態様で
ある。このような共重合可能な他のモノマーとしては、
イソプレン、1,3−ペンタジエン、2,3−ジメチル
ブタジエン、2,4−ヘキサジエン、4−メチルペンタ
ジエン等の共役ジエンモノマー、エチレン、プロピレ
ン、ブテン−1、ブテン−2、イソブテン、ペンテン−
1、ヘキセン−1、オクテン−1等のモノオレフィン、
ノルボルネン等の環状モノオレフィン、α−メチルスチ
レン等の芳香族モノオレフィン等が例示される。
The high cis SBR of the present invention comprises styrene and butadiene as monomers,
The use of a copolymer of another monomer in a range that does not impair the characteristics of (1) is a preferred embodiment from the viewpoint of improving the characteristics. As such other copolymerizable monomer,
Conjugated diene monomers such as isoprene, 1,3-pentadiene, 2,3-dimethylbutadiene, 2,4-hexadiene, 4-methylpentadiene, ethylene, propylene, butene-1, butene-2, isobutene, pentene-
1, mono-olefins such as hexene-1 and octene-1,
Examples thereof include cyclic monoolefins such as norbornene and aromatic monoolefins such as α-methylstyrene.

【0056】本発明のハイシススチレンブタジエンゴム
の製造において使用する溶剤は、スチレンブタジエンゴ
ムの重合において使用する公知の溶剤は限定なく使用可
能である。具体的には、トルエン、キシレン、テトラリ
ン等の芳香族系溶剤、n−ヘキサン、n−ペンタン、n
−ヘプタン、シクロヘキサン、シクロペンタン、シクロ
ヘプタン、デカリン等の脂肪族系ないし脂環族系溶剤等
が好適な溶剤として例示される。
As the solvent used in the production of the high cis styrene butadiene rubber of the present invention, known solvents used in the polymerization of styrene butadiene rubber can be used without limitation. Specifically, aromatic solvents such as toluene, xylene, and tetralin, n-hexane, n-pentane, n
Examples of suitable solvents include aliphatic or alicyclic solvents such as heptane, cyclohexane, cyclopentane, cycloheptane, decalin and the like.

【0057】SBRを製造する重合方法は、公知の方法
が使用可能である。重合は溶液重合、塊状重合のいずれ
であってもよいが、前述のように溶液重合であることが
好ましい。
As a polymerization method for producing SBR, a known method can be used. The polymerization may be either solution polymerization or bulk polymerization, but is preferably solution polymerization as described above.

【0058】溶液重合方法は、例えば反応容器中に有機
溶剤、並びにスチレンモノマーとブタジエンモノマーと
を所定の比率で仕込み、所定温度に調整し、触媒を添加
することにより行う。
The solution polymerization method is carried out by, for example, charging an organic solvent, a styrene monomer and a butadiene monomer in a predetermined ratio into a reaction vessel, adjusting the temperature to a predetermined temperature, and adding a catalyst.

【0059】重合温度は、−10℃〜150℃程度であ
り、0〜120℃であることがより好ましい。重合時間
は、温度と目的とする分子量に応じて適宜設定される
が、3分〜10時間程度である。
The polymerization temperature is about -10 ° C to 150 ° C, more preferably 0 to 120 ° C. The polymerization time is appropriately set depending on the temperature and the target molecular weight, but is about 3 minutes to 10 hours.

【0060】重合反応の停止は、例えばアルコール等の
溶剤や禁止剤を含む溶剤を重合系に添加、撹拌すること
により行う。重合完了後、例えば溶液をSBRの非溶剤
に再沈させ、ろ別した後、乾燥することにより、或いは
重合後の溶液から溶剤を除去することによりSBRを得
ることができる。
The polymerization reaction is stopped by adding a solvent such as alcohol or a solvent containing an inhibitor to the polymerization system and stirring. After the completion of the polymerization, the SBR can be obtained by, for example, reprecipitating the solution in a non-solvent of SBR, filtering and then drying, or removing the solvent from the solution after the polymerization.

【0061】本発明のSBR組成物において、上記のS
BRと併用可能であるゴム材料は、通常SBRとブレン
ドして使用されるゴム材料は限定なく使用可能であり、
例えば天然ゴム、ブタジエンゴム(BR)等が好適なゴ
ム材料として例示される。
In the SBR composition of the present invention, the above S
As the rubber material which can be used in combination with BR, the rubber material which is usually blended with SBR can be used without limitation,
Examples of suitable rubber materials include natural rubber and butadiene rubber (BR).

【0062】本発明のSBR組成物には、必要な充填
剤、添加剤、プロセスオイル、加硫剤、加硫促進剤を使
用する。これらは、ゴムの技術分野における公知の材料
が限定なく使用可能である(日本ゴム協会編「ゴム技術
の基礎」等参照)。
In the SBR composition of the present invention, necessary fillers, additives, process oils, vulcanizing agents and vulcanization accelerators are used. As these materials, known materials in the technical field of rubber can be used without limitation (see “Rubber Technology Fundamentals” edited by Japan Rubber Association).

【0063】[0063]

【実施例】以下、本発明の構成と効果を具体的に示す実
施例等について説明する。 <SBRの製造例> (製造例1)撹拌機付き1.5L容量のオートクレーブ
を窒素置換し、溶剤としてトルエンを300ml、シク
ロペンタジエニルチタントリクロライド(CpTiCl
3 )を2.1mmol,メチルアルミノキサン(MA
O)を210mmol,クロラニルを2.1mmol
(CpTiCl3 /クロラニル=1/1(モル比))投
入し、ブタジエン37.5mlとスチレン37.5ml
を添加して60℃にて30分間重合を行った。重合開始
10分後に、重合禁止剤であるp−t−ブチルカテコー
ルを少量溶解したメタノール溶液を重合溶液に添加し、
重合反応を停止させた。この溶液からトルエンを除去す
ることにより、SBRポリマー(サンプル1)を得た。
EXAMPLES Examples and the like specifically showing the constitution and effects of the present invention will be described below. <Production Example of SBR> (Production Example 1) A 1.5 L capacity autoclave equipped with a stirrer was replaced with nitrogen, 300 ml of toluene was used as a solvent, and cyclopentadienyl titanium trichloride (CpTiCl) was used.
3 ) 2.1 mmol, methylaluminoxane (MA
O) 210 mmol, chloranil 2.1 mmol
(CpTiCl 3 / chloranil = 1/1 (molar ratio)) was charged, and 37.5 ml of butadiene and 37.5 ml of styrene.
Was added and polymerization was carried out at 60 ° C. for 30 minutes. 10 minutes after the start of polymerization, a methanol solution in which a small amount of pt-butylcatechol as a polymerization inhibitor was dissolved was added to the polymerization solution,
The polymerization reaction was stopped. By removing toluene from this solution, an SBR polymer (Sample 1) was obtained.

【0064】(製造例2)重合温度を0℃とし、重合時
間を120分とした以外は製造例1と同様にしてSBR
ポリマー(サンプル2)を得た。
Production Example 2 SBR was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that the polymerization temperature was 0 ° C. and the polymerization time was 120 minutes.
A polymer (Sample 2) was obtained.

【0065】<組成物の製造> (実施例1〜3、比較例1、2)ゴム原料として表1に
示した組成(ゴム原料合計100重量部)を使用し、カ
ーボンブラック(ISAFクラス)40重量部、シリカ
(湿式シリカ)10重量部、ナフテン系プロセスオイル
20重量部をバンバリーミキサーにて混練してマスター
バッチを作製した。バンバリーミキサーから排出したマ
スターバッチを混練ロールでシート化して冷却した後、
混練ロールを使用して加硫剤として硫黄(5%油処理粉
末硫黄)1.5重量部、加硫促進剤N−t−ブチル−2
−ベンゾチアジルスルフェンアミド1.5重量部を混練
してSBR組成物を得た。ゴム原料として使用した他の
ゴム材料は、天然ゴムはRSS#1,ブタジエンゴムは
BR−01(JSR製),SBR1502(JSR社
製)である。
<Production of Compositions> (Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2) The composition shown in Table 1 (total 100 parts by weight of rubber raw material) was used as a rubber raw material, and carbon black (ISAF class) 40 was used. By weight, 10 parts by weight of silica (wet silica) and 20 parts by weight of naphthenic process oil were kneaded with a Banbury mixer to prepare a masterbatch. After the master batch discharged from the Banbury mixer is made into a sheet with a kneading roll and cooled,
1.5 parts by weight of sulfur (5% oil-treated powdered sulfur) as a vulcanizing agent using a kneading roll, vulcanization accelerator Nt-butyl-2
-1.5 parts by weight of benzothiazyl sulfenamide was kneaded to obtain an SBR composition. Other rubber materials used as a rubber raw material are RSS # 1 for natural rubber, BR-01 (manufactured by JSR) and butadiene rubber for SBR1502 (manufactured by JSR).

【0066】[0066]

【表1】 実施例1〜3、比較例1、2において得られた未加硫ゴ
ム組成物は、金型内にて160℃、20分加熱して成形
体とし、低温性能評価及びウエット性能評価を行った。
評価の結果は、表3に記載した。
[Table 1] The unvulcanized rubber compositions obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 were heated in a mold at 160 ° C. for 20 minutes to obtain molded products, and low temperature performance evaluation and wet performance evaluation were performed. .
The evaluation results are shown in Table 3.

【0067】<評価> (分子量)GPC LC−10(島津製作所製)を使用
し、移動相としてテトラヒドロフラン(THF)を使用
し、40℃にて測定を行い、標準ポリスチレン換算の重
量平均分子量(Mn)、数平均分子量(Mw)並びにM
n/Mwを求めた。
<Evaluation> (Molecular weight) GPC LC-10 (manufactured by Shimadzu Corporation) was used, tetrahydrofuran (THF) was used as a mobile phase, and measurement was carried out at 40 ° C. to obtain a weight average molecular weight (Mn in terms of standard polystyrene). ), Number average molecular weight (Mw) and M
n / Mw was calculated.

【0068】(高分子ミクロ構造)シス1,4−結合分
率、1,2−結合分率は、赤外線吸収スペクトル法によ
り測定した。測定にはパラゴン1000(パーキンエル
マー社製)を使用した。測定は、透過法により行った。
結果は、ブタジエン単位のシス1,4−結合に帰属され
る735cm-1の吸収強度、トランス1,4−結合に帰
属される967cm-1の吸収強度、1,2−結合に帰属
される911cm-1の吸収強度をそれぞれ測定し、その
強度比から求めた。表2には、SBR(サンプル1)、
SBR(サンプル2)、及びSBR1502の分子量と
ミクロ構造の測定結果を示した。
(Polymer Microstructure) The cis 1,4-bond fraction and the 1,2-bond fraction were measured by infrared absorption spectroscopy. Paragon 1000 (manufactured by Perkin Elmer) was used for the measurement. The measurement was performed by the transmission method.
The result is absorption intensity of 735cm -1 attributed to cis 1,4 bond of butadiene units, absorption intensity of 967 cm -1 attributed to trans 1,4 bond, attributed to 1,2-linked 911cm The absorption intensity of -1 was measured and calculated from the intensity ratio. In Table 2, SBR (Sample 1),
The measurement results of the molecular weight and microstructure of SBR (Sample 2) and SBR1502 are shown.

【0069】(低温性能)低温性能は、−5℃における
硬度にて評価した。硬度の測定はJIS K 6253
に準拠してショアA硬度を測定した。
(Low temperature performance) The low temperature performance was evaluated by the hardness at -5 ° C. The hardness is measured according to JIS K 6253.
Shore A hardness was measured in accordance with.

【0070】(ウェット性能)ウェット性能はリュプケ
式反発弾性試験機を使用して評価した。測定はJISK
6301に準拠して行った。結果は、天然ゴムとブタ
ジエンゴムを使用した比較例1の結果を100とした指
数にて表示した。この指数は、小さいほどウェット性能
が良好であることを示す。
(Wet Performance) Wet performance was evaluated by using a Lupke type impact resilience tester. Measurement is JISK
It carried out based on 6301. The results are shown as an index with the result of Comparative Example 1 using natural rubber and butadiene rubber as 100. The smaller this index, the better the wet performance.

【表2】 [Table 2]

【表3】 表2の結果から、本発明のSBR組成物を構成するSB
Rはシス1,4−結合が60%を超えるハイシスSBR
であると共に重量平均分子量が365000(サンプル
1)、585000(サンプル2)であり、従来のエマ
ルジョン重合SBRと同等の高分子量である。
[Table 3] From the results of Table 2, SB constituting the SBR composition of the present invention
R is a high cis SBR with more than 60% cis 1,4-bonds
In addition, the weight average molecular weight is 365,000 (Sample 1) and 585,000 (Sample 2), which is a high molecular weight equivalent to that of the conventional emulsion polymerization SBR.

【0071】また表3の結果より、本発明のSBR組成
物を加硫した加硫ゴムは、低温性能とウェット性能の双
方において従来の低温用ゴムよりも優れたものであるこ
とが分かる。
From the results shown in Table 3, it is understood that the vulcanized rubber obtained by vulcanizing the SBR composition of the present invention is superior to the conventional low temperature rubber in both low temperature performance and wet performance.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スチレンブタジエンゴム10〜50重量
部とガラス転移温度が−50℃以下のゴム50〜90重
量部とをゴム原料とし、充填剤、添加剤、可塑剤、架橋
剤を含有し、前記スチレンブタジエンゴムが、(A)遷
移金属メタロセン触媒、(B)有機アルミニウム化合物
及びアルミノキサンから選択される少なくとも1種の化
合物、及び(C)電子吸引性化合物を添加してスチレン
とブタジエンを共重合して得られたハイシススチレンブ
タジエンゴム(ハイシスSBR)であることを特徴とす
る低温用スチレンブタジエンゴム組成物。
1. A rubber raw material comprising 10 to 50 parts by weight of styrene-butadiene rubber and 50 to 90 parts by weight of rubber having a glass transition temperature of -50 ° C. or less, and containing a filler, an additive, a plasticizer and a crosslinking agent, The styrene-butadiene rubber is copolymerized with styrene and butadiene by adding (A) a transition metal metallocene catalyst, (B) at least one compound selected from an organoaluminum compound and an aluminoxane, and (C) an electron-withdrawing compound. A low-temperature styrene-butadiene rubber composition, which is a high-cis styrene-butadiene rubber (high-cis SBR) obtained by the above.
【請求項2】 前記ハイシススチレンブタジエンゴム
が、重量平均分子量20万以上かつシス1,4−結合含
有率が60%以上である請求項1に記載の低温用スチレ
ンブタジエンゴム組成物。
2. The low-temperature styrene-butadiene rubber composition according to claim 1, wherein the high-cis styrene-butadiene rubber has a weight average molecular weight of 200,000 or more and a cis 1,4-bond content of 60% or more.
【請求項3】 前記ハイシススチレンブタジエンゴムは
有機溶剤中において重合反応を行ったものである請求項
1又は2に記載の低温用スチレンブタジエンゴム組成
物。
3. The low-temperature styrene-butadiene rubber composition according to claim 1, wherein the high-cis styrene-butadiene rubber is polymerized in an organic solvent.
【請求項4】 請求項1〜3いずれかに記載の低温用ス
チレンブタジエンゴム組成物を成形、加硫して得られた
スチレンブタジエンゴム成形体。
4. A styrene-butadiene rubber molded body obtained by molding and vulcanizing the styrene-butadiene rubber composition for low temperature according to claim 1.
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