JP2003290941A - レーザーマーカ - Google Patents
レーザーマーカInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 比較的低出力のＬＤ（半導体レーザー）を光
源に用いてマーキング対象物にマーキングするに足りる
レーザー光のエネルギー密度を得られるレーザーマーカ
の構成を提供する。 【解決手段】 ＬＤ１ａ，１ｂから出射されたレーザー
光のそれぞれは、コリメータレンズ２ａ，２ｂにより略
平行光にされ、さらにシリンドリカル凸レンズ３ａ，３
ｂによりＬＤ１ａ，１ｂの非点隔差の影響を除去する補
正がなされた後、偏光ビームスプリッタ４の本来の光出
射面４ａ，４ｂから入射し、それぞれのエネルギー密度
が足し合わされるように１本のレーザー光に合成され、
本来の光入射面４ｃから出射される。そのレーザー光が
走査のために回動するガルバノミラー５により反射さ
れ、等距離射影レンズ６により対象物７上に集束されて
照射される。これにより対象物７にマーキングがなされ
る。
源に用いてマーキング対象物にマーキングするに足りる
レーザー光のエネルギー密度を得られるレーザーマーカ
の構成を提供する。 【解決手段】 ＬＤ１ａ，１ｂから出射されたレーザー
光のそれぞれは、コリメータレンズ２ａ，２ｂにより略
平行光にされ、さらにシリンドリカル凸レンズ３ａ，３
ｂによりＬＤ１ａ，１ｂの非点隔差の影響を除去する補
正がなされた後、偏光ビームスプリッタ４の本来の光出
射面４ａ，４ｂから入射し、それぞれのエネルギー密度
が足し合わされるように１本のレーザー光に合成され、
本来の光入射面４ｃから出射される。そのレーザー光が
走査のために回動するガルバノミラー５により反射さ
れ、等距離射影レンズ６により対象物７上に集束されて
照射される。これにより対象物７にマーキングがなされ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体レーザーか
ら出射されたレーザー光を光学系により集束してマーキ
ング対象物に照射することにより印字などのマーキング
を行なうレーザーマーカに関するものである。
ら出射されたレーザー光を光学系により集束してマーキ
ング対象物に照射することにより印字などのマーキング
を行なうレーザーマーカに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体レーザー（以下、ＬＤと略す）
は、一般的に出力強度が他のガスレーザーや固体レーザ
ーに比べて小さいことから、レーザーマーカの光源とし
て用いるためには、高出力ＬＤを用い、さらに微小スポ
ットに集光させることが不可欠である。このため、高出
力ＬＤとして、活性領域面積の大きなブロードエリア型
ＬＤを光源に用い、これから出射されたレーザー光を光
学系により微小スポットに集光させるレーザーマーカの
構成が提案されている。
は、一般的に出力強度が他のガスレーザーや固体レーザ
ーに比べて小さいことから、レーザーマーカの光源とし
て用いるためには、高出力ＬＤを用い、さらに微小スポ
ットに集光させることが不可欠である。このため、高出
力ＬＤとして、活性領域面積の大きなブロードエリア型
ＬＤを光源に用い、これから出射されたレーザー光を光
学系により微小スポットに集光させるレーザーマーカの
構成が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ブロー
ドエリア型ＬＤは、活性領域のストライプ幅が通常のＬ
Ｄに比べて長いことから、出射されるレーザー光がＬＤ
の活性層に対する垂直面方向に長い長楕円となる。ま
た、非点隔差も大きい。このため、一般的な光学系では
微小スポット光が得られず、特殊な光学系を必要とし、
コストがかかってしまうという問題があった。一方、通
常の低出力のＬＤを用いてもマーキング対象物にマーキ
ングするに足りるレーザー光のエネルギー密度を得られ
ないという問題があった。
ドエリア型ＬＤは、活性領域のストライプ幅が通常のＬ
Ｄに比べて長いことから、出射されるレーザー光がＬＤ
の活性層に対する垂直面方向に長い長楕円となる。ま
た、非点隔差も大きい。このため、一般的な光学系では
微小スポット光が得られず、特殊な光学系を必要とし、
コストがかかってしまうという問題があった。一方、通
常の低出力のＬＤを用いてもマーキング対象物にマーキ
ングするに足りるレーザー光のエネルギー密度を得られ
ないという問題があった。
【０００４】そこで本発明の課題は、比較的低出力のＬ
Ｄをレーザー光源に用いる一方、特殊な光学系を用いず
に、マーキング対象物にマーキングするに足りるレーザ
ー光のエネルギー密度を得ることができるレーザーマー
カの構成を提供することにある。
Ｄをレーザー光源に用いる一方、特殊な光学系を用いず
に、マーキング対象物にマーキングするに足りるレーザ
ー光のエネルギー密度を得ることができるレーザーマー
カの構成を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明によれば、２つの半導体レーザーと、該２つ
の半導体レーザーから出射されたレーザー光のそれぞれ
を略平行光にする２つのコリメータレンズと、該２つの
コリメータレンズを通過したレーザー光のそれぞれを本
来の光出射面から入射し、レーザー光のそれぞれのエネ
ルギー密度が足し合わされるように１本のレーザー光に
合成して、本来の光入射面から出射するように配置され
た偏光ビームスプリッタを有し、該偏光ビームスプリッ
タの本来の光入射面から出射されたレーザー光を集束し
てマーキング対象物に照射することによりマーキングを
行なうレーザーマーカの構成を採用した。
め、本発明によれば、２つの半導体レーザーと、該２つ
の半導体レーザーから出射されたレーザー光のそれぞれ
を略平行光にする２つのコリメータレンズと、該２つの
コリメータレンズを通過したレーザー光のそれぞれを本
来の光出射面から入射し、レーザー光のそれぞれのエネ
ルギー密度が足し合わされるように１本のレーザー光に
合成して、本来の光入射面から出射するように配置され
た偏光ビームスプリッタを有し、該偏光ビームスプリッ
タの本来の光入射面から出射されたレーザー光を集束し
てマーキング対象物に照射することによりマーキングを
行なうレーザーマーカの構成を採用した。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、図１を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１は、実施形態のレーザーマー
カの光学系の構成を示している。
施の形態を説明する。図１は、実施形態のレーザーマー
カの光学系の構成を示している。
【０００７】図１に示すレーザーマーカの光学系の構成
では、２つの半導体レーザー（以下もＬＤと略す）１
ａ，１ｂの光軸上に、順に、それぞれ２つのコリメータ
レンズ２ａ，２ｂ及びシリンドリカル凸レンズ３ａ，３
ｂ、偏光ビームスプリッタ４、可動ミラーであるガルバ
ノミラー５、等距離射影レンズ（以下、ｆθレンズと略
す）６が配置されており、さらにその光軸の延長線上に
マーキング対象物（以下、対象物と略す）７が配置され
る。
では、２つの半導体レーザー（以下もＬＤと略す）１
ａ，１ｂの光軸上に、順に、それぞれ２つのコリメータ
レンズ２ａ，２ｂ及びシリンドリカル凸レンズ３ａ，３
ｂ、偏光ビームスプリッタ４、可動ミラーであるガルバ
ノミラー５、等距離射影レンズ（以下、ｆθレンズと略
す）６が配置されており、さらにその光軸の延長線上に
マーキング対象物（以下、対象物と略す）７が配置され
る。
【０００８】ＬＤ１ａ，１ｂは、それぞれの光軸が互い
に直交するように配置されており、さらにそれぞれの光
軸を中心に回転可能に設けられ、それぞれの光軸を中心
とした回転方向の位置を可変に設定できるようにされて
いる。なお、ＬＤ１ａ，１ｂは、ブロードエリア型など
の高出力のものではなく、比較的低出力のものとする。
に直交するように配置されており、さらにそれぞれの光
軸を中心に回転可能に設けられ、それぞれの光軸を中心
とした回転方向の位置を可変に設定できるようにされて
いる。なお、ＬＤ１ａ，１ｂは、ブロードエリア型など
の高出力のものではなく、比較的低出力のものとする。
【０００９】コリメータレンズ２ａ，２ｂは、ＬＤ１
ａ，１ｂから出射されたレーザー光のそれぞれを略平行
光にするように位置決めされている。ここで、ＬＤ１
ａ，１ｂから出射されたレーザー光のそれぞれは、ＬＤ
１ａ，１ｂの非点隔差によって、ＬＤ１ａ，１ｂの活性
層に沿う水平面方向へ出射されたレーザー光（以下、水
平面方向レーザー光という）と、活性層に対する垂直面
方向へ出射されたレーザー光（以下、垂直面方向レーザ
ー光という）の見かけ上の出射位置が光軸方向にずれて
いる。これにより、水平面方向レーザー光と垂直面方向
レーザー光とで光軸に対する角度がずれている。すなわ
ち、光軸から同一距離で同一角度にならない。このた
め、コリメータレンズ２ａ，２ｂを通過したレーザー光
のそれぞれについても、水平面方向レーザー光と垂直面
方向レーザー光で光軸に対する角度がずれている。そし
て、コリメータレンズ２ａ，２ｂの位置の調整により、
例えば垂直面方向レーザー光については光軸に対して平
行な平行光としても、水平面方向レーザー光については
平行光にならず、このままではレーザー光を１点に集光
して微小スポット光を得ることはできない。
ａ，１ｂから出射されたレーザー光のそれぞれを略平行
光にするように位置決めされている。ここで、ＬＤ１
ａ，１ｂから出射されたレーザー光のそれぞれは、ＬＤ
１ａ，１ｂの非点隔差によって、ＬＤ１ａ，１ｂの活性
層に沿う水平面方向へ出射されたレーザー光（以下、水
平面方向レーザー光という）と、活性層に対する垂直面
方向へ出射されたレーザー光（以下、垂直面方向レーザ
ー光という）の見かけ上の出射位置が光軸方向にずれて
いる。これにより、水平面方向レーザー光と垂直面方向
レーザー光とで光軸に対する角度がずれている。すなわ
ち、光軸から同一距離で同一角度にならない。このた
め、コリメータレンズ２ａ，２ｂを通過したレーザー光
のそれぞれについても、水平面方向レーザー光と垂直面
方向レーザー光で光軸に対する角度がずれている。そし
て、コリメータレンズ２ａ，２ｂの位置の調整により、
例えば垂直面方向レーザー光については光軸に対して平
行な平行光としても、水平面方向レーザー光については
平行光にならず、このままではレーザー光を１点に集光
して微小スポット光を得ることはできない。
【００１０】このため、シリンドリカル凸レンズ３ａ，
３ｂが設けられている。シリンドリカル凸レンズ３ａ，
３ｂは、コリメータレンズ２ａ，２ｂを通過したレーザ
ー光のそれぞれに対して、ＬＤ１ａ，１ｂの非点隔差に
よる水平面方向レーザー光と垂直面方向レーザー光の光
軸に対する角度のずれをなくすように補正し、シリンド
リカル凸レンズ３ａ，３ｂを通過して出射される水平面
方向レーザー光と垂直面方向レーザー光の出射角度が光
軸から同一距離で同一角度になるようにし、例えば水平
面方向レーザー光も垂直面方向レーザー光も光軸に平行
な平行光となるようにする。
３ｂが設けられている。シリンドリカル凸レンズ３ａ，
３ｂは、コリメータレンズ２ａ，２ｂを通過したレーザ
ー光のそれぞれに対して、ＬＤ１ａ，１ｂの非点隔差に
よる水平面方向レーザー光と垂直面方向レーザー光の光
軸に対する角度のずれをなくすように補正し、シリンド
リカル凸レンズ３ａ，３ｂを通過して出射される水平面
方向レーザー光と垂直面方向レーザー光の出射角度が光
軸から同一距離で同一角度になるようにし、例えば水平
面方向レーザー光も垂直面方向レーザー光も光軸に平行
な平行光となるようにする。
【００１１】次に、偏光ビームスプリッタ４は、本来の
用途としては、光入射面４ｃから入射された１本のレー
ザー光を互いに直交する２つの偏光方向に分離し、その
分離した２本のレーザー光をそれぞれ光出射面４ａ，４
ｂから出射するものである。しかし、本実施形態では、
偏光ビームスプリッタ４を光入射面と光出射面が本来と
逆になるように配置しており、コリメータレンズ２ａ，
２ｂとシリンドリカル凸レンズ３ａ，３ｂを通過したレ
ーザー光のそれぞれが偏光ビームスプリッタ４の本来の
光出射面４ａ，４ｂのそれぞれから入射され、それぞれ
のエネルギー密度が足し合わされるように１本のレーザ
ー光に合成されて、本来の光入射面４ｃから出射される
ようになっている。
用途としては、光入射面４ｃから入射された１本のレー
ザー光を互いに直交する２つの偏光方向に分離し、その
分離した２本のレーザー光をそれぞれ光出射面４ａ，４
ｂから出射するものである。しかし、本実施形態では、
偏光ビームスプリッタ４を光入射面と光出射面が本来と
逆になるように配置しており、コリメータレンズ２ａ，
２ｂとシリンドリカル凸レンズ３ａ，３ｂを通過したレ
ーザー光のそれぞれが偏光ビームスプリッタ４の本来の
光出射面４ａ，４ｂのそれぞれから入射され、それぞれ
のエネルギー密度が足し合わされるように１本のレーザ
ー光に合成されて、本来の光入射面４ｃから出射される
ようになっている。
【００１２】ここで、一般的にもそうであるように、Ｌ
Ｄ１ａ，１ｂの出射するレーザー光は直線偏光であるの
で、ＬＤ１ａ，１ｂをそれぞれの光軸を中心として回転
させることにより、それぞれのレーザー光の偏光方向を
可変に設定することができ、偏光ビームスプリッタ４の
本来の光出射面４ａ，４ｂのそれぞれの偏光方向に合わ
せるように調節することができる。
Ｄ１ａ，１ｂの出射するレーザー光は直線偏光であるの
で、ＬＤ１ａ，１ｂをそれぞれの光軸を中心として回転
させることにより、それぞれのレーザー光の偏光方向を
可変に設定することができ、偏光ビームスプリッタ４の
本来の光出射面４ａ，４ｂのそれぞれの偏光方向に合わ
せるように調節することができる。
【００１３】なお、本来の光出射面４ａ，４ｂにおける
偏光方向が互いに直交しているため、シリンドリカル凸
レンズ３ａ，３ｂはそれに対応するように配置される。
すなわち、シリンドリカル凸レンズ３ａ，３ｂは、それ
ぞれの母線の方向が本来の光出射面４ａ，４ｂにおける
偏光方向のそれぞれに対して垂直になるように配置され
る。
偏光方向が互いに直交しているため、シリンドリカル凸
レンズ３ａ，３ｂはそれに対応するように配置される。
すなわち、シリンドリカル凸レンズ３ａ，３ｂは、それ
ぞれの母線の方向が本来の光出射面４ａ，４ｂにおける
偏光方向のそれぞれに対して垂直になるように配置され
る。
【００１４】次に、ガルバノミラー５は、レーザー光に
よる走査のために駆動（回動）され、偏光ビームスプリ
ッタ４の本来の光入射面４ｃから出射されたレーザー光
を反射する。これにより前記レーザー光が対象物７上で
一方向に振られて走査する。
よる走査のために駆動（回動）され、偏光ビームスプリ
ッタ４の本来の光入射面４ｃから出射されたレーザー光
を反射する。これにより前記レーザー光が対象物７上で
一方向に振られて走査する。
【００１５】次に、ｆθレンズ６は、ガルバノミラー５
により反射されたレーザー光を対象物７上に集束すると
ともに、ガルバノミラー５の走査角度（回動角度）と、
対象物７上でのレーザー光の走査線、すなわちマーキン
グされる線の長さが比例するようにするものである。
により反射されたレーザー光を対象物７上に集束すると
ともに、ガルバノミラー５の走査角度（回動角度）と、
対象物７上でのレーザー光の走査線、すなわちマーキン
グされる線の長さが比例するようにするものである。
【００１６】次に、上記構成によるマーキング時の動作
について説明する。マーキング時には、ＬＤ１ａ，１ｂ
が駆動され、それぞれからレーザー光が出射される。そ
のレーザー光は、それぞれコリメータレンズ２ａ，２ｂ
により略平行光にされた後、シリンドリカル凸レンズ３
ａ，３ｂにより前述のようにＬＤ１ａ，１ｂの非点隔差
による水平面方向レーザー光と垂直面方向レーザー光の
光軸に対する角度のずれがなくなるように補正され、例
えばいずれも光軸に平行な平行光にされる。
について説明する。マーキング時には、ＬＤ１ａ，１ｂ
が駆動され、それぞれからレーザー光が出射される。そ
のレーザー光は、それぞれコリメータレンズ２ａ，２ｂ
により略平行光にされた後、シリンドリカル凸レンズ３
ａ，３ｂにより前述のようにＬＤ１ａ，１ｂの非点隔差
による水平面方向レーザー光と垂直面方向レーザー光の
光軸に対する角度のずれがなくなるように補正され、例
えばいずれも光軸に平行な平行光にされる。
【００１７】さらに、レーザー光のそれぞれは偏光ビー
ムスプリッタ４の本来の光出射面４ａ，４ｂから入射さ
れ、レーザー光のそれぞれのエネルギー密度が足し合わ
されるように１本のレーザー光に合成されて本来の光入
射面４ｃから出射される。その１本に合成されたレーザ
ー光が駆動（回動）されているガルバノミラー５により
反射されて走査方向に振られ、ｆθレンズ６を通過して
対象物７上に集束され、１方向に走査する。これにより
対象物７に印字などのマーキングがなされる。
ムスプリッタ４の本来の光出射面４ａ，４ｂから入射さ
れ、レーザー光のそれぞれのエネルギー密度が足し合わ
されるように１本のレーザー光に合成されて本来の光入
射面４ｃから出射される。その１本に合成されたレーザ
ー光が駆動（回動）されているガルバノミラー５により
反射されて走査方向に振られ、ｆθレンズ６を通過して
対象物７上に集束され、１方向に走査する。これにより
対象物７に印字などのマーキングがなされる。
【００１８】なお、上述した非点隔差の補正に関わるシ
リンドリカル凸レンズ３ａ，３ｂの作用により、偏光ビ
ームスプリッタ４の本来の光入射面４ｃから出射される
レーザー光において水平面方向レーザー光と垂直面方向
レーザー光の出射角度は光軸から同一距離で同一角度に
なる。したがって、そのレーザー光をｆθレンズ６によ
り１点の微小スポットに集束してマーキングを行なうこ
とができる。
リンドリカル凸レンズ３ａ，３ｂの作用により、偏光ビ
ームスプリッタ４の本来の光入射面４ｃから出射される
レーザー光において水平面方向レーザー光と垂直面方向
レーザー光の出射角度は光軸から同一距離で同一角度に
なる。したがって、そのレーザー光をｆθレンズ６によ
り１点の微小スポットに集束してマーキングを行なうこ
とができる。
【００１９】以上のような本実施形態によれば、ＬＤ１
ａ，１ｂから出射された２本のレーザー光が偏光ビーム
スプリッタ４によりそれぞれのエネルギー密度が足し合
わされるように１本のレーザー光に合成され、その合成
されたレーザー光によりマーキングがなされるので、レ
ーザー光源のＬＤ１ａ，１ｂとして比較的低出力のもの
を用いても、対象物７にマーキングするに足りるレーザ
ー光のエネルギー密度を得ることができ、マーキングを
支障なく行なうことができる。また、ブロードエリア型
ＬＤを用いる場合のように、特殊で高価な光学系を必要
とせず、レーザーマーカを安価に構成することができ
る。
ａ，１ｂから出射された２本のレーザー光が偏光ビーム
スプリッタ４によりそれぞれのエネルギー密度が足し合
わされるように１本のレーザー光に合成され、その合成
されたレーザー光によりマーキングがなされるので、レ
ーザー光源のＬＤ１ａ，１ｂとして比較的低出力のもの
を用いても、対象物７にマーキングするに足りるレーザ
ー光のエネルギー密度を得ることができ、マーキングを
支障なく行なうことができる。また、ブロードエリア型
ＬＤを用いる場合のように、特殊で高価な光学系を必要
とせず、レーザーマーカを安価に構成することができ
る。
【００２０】なお、上述した本実施形態の構成におい
て、ＬＤ１ａ，１ｂの非点隔差が小さく、その影響がレ
ーザー光の微小スポットへの集束のために許容できる程
度に小さいものとすれば、シリンドリカル凸レンズ３
ａ，３ｂを省くことができる。
て、ＬＤ１ａ，１ｂの非点隔差が小さく、その影響がレ
ーザー光の微小スポットへの集束のために許容できる程
度に小さいものとすれば、シリンドリカル凸レンズ３
ａ，３ｂを省くことができる。
【００２１】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、レーザーマーカにおいて、２つの半導体レー
ザーから出射された２本のレーザー光が偏光ビームスプ
リッタによりそれぞれのエネルギー密度が足し合わされ
るように１本のレーザー光に合成され、その合成された
レーザー光によりマーキングがなされるようにしたの
で、レーザー光源として比較的低出力の半導体レーザー
を用いても、マーキング対象物にマーキングするに足り
るレーザー光のエネルギー密度を得ることができ、マー
キングを支障なく行なうことができる。また、高出力の
ブロードエリア型半導体レーザーを用いる場合のよう
に、特殊な光学系を必要とせず、レーザーマーカを安価
に構成することができるというう優れた効果が得られ
る。
によれば、レーザーマーカにおいて、２つの半導体レー
ザーから出射された２本のレーザー光が偏光ビームスプ
リッタによりそれぞれのエネルギー密度が足し合わされ
るように１本のレーザー光に合成され、その合成された
レーザー光によりマーキングがなされるようにしたの
で、レーザー光源として比較的低出力の半導体レーザー
を用いても、マーキング対象物にマーキングするに足り
るレーザー光のエネルギー密度を得ることができ、マー
キングを支障なく行なうことができる。また、高出力の
ブロードエリア型半導体レーザーを用いる場合のよう
に、特殊な光学系を必要とせず、レーザーマーカを安価
に構成することができるというう優れた効果が得られ
る。
【図１】本発明の実施形態におけるレーザーマーカの光
学系の構成を示す構成図である。
学系の構成を示す構成図である。
１ａ，１ｂ 半導体レーザー（ＬＤ）
２ａ，２ｂ コリメータレンズ
３ａ，３ｂ シリンドリカル凸レンズ
４ 偏光ビームスプリッタ
５ ガルバノミラー
６ 等距離射影レンズ（ｆθレンズ）
７ マーキング対象物
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2C362 AA10 AA11 AA26 AA43 AA49
AA52 BA17 BA84 BA86 CB67
DA03
4E068 AB00 CA06 CB05 CB10 CD02
CD05 CD14 CE03
5F073 AB25 AB27 AB29 BA09 FA30
Claims (4)
- 【請求項１】 ２つの半導体レーザーと、 該２つの半導体レーザーから出射されたレーザー光のそ
れぞれを略平行光にする２つのコリメータレンズと、 該２つのコリメータレンズを通過したレーザー光のそれ
ぞれを本来の光出射面から入射し、レーザー光のそれぞ
れのエネルギー密度が足し合わされるように１本のレー
ザー光に合成して、本来の光入射面から出射するように
配置された偏光ビームスプリッタを有し、 該偏光ビームスプリッタの本来の光入射面から出射され
たレーザー光を集束してマーキング対象物に照射するこ
とによりマーキングを行なうことを特徴とするレーザー
マーカ。 - 【請求項２】 前記２つのコリメータレンズのそれぞれ
と前記偏光ビームスプリッタの間に配置され、前記２つ
のコリメータレンズを通過したレーザー光のそれぞれに
対して、前記半導体レーザーの非点隔差による前記半導
体レーザーの活性層に沿う水平面方向へのレーザー光と
前記活性層に対する垂直面方向へのレーザー光の光軸に
対する角度のずれをなくすように補正する２つのシリン
ドリカルレンズを有することを特徴とする請求項１に記
載のレーザーマーカ。 - 【請求項３】 前記偏光ビームスプリッタの本来の光入
射面から出射されたレーザー光による走査のために駆動
されて前記レーザー光を反射する可動ミラーと、 該可動ミラーにより反射されたレーザー光をマーキング
対象物上に集束する等距離射影レンズを有することを特
徴とする請求項１または２に記載のレーザーマーカ。 - 【請求項４】 前記２つの半導体レーザーがそれぞれの
光軸を中心に回転可能に設けられ、その回転により、半
導体レーザーのそれぞれが出射するレーザー光の偏光方
向を可変に設定することができるようにしたことを特徴
とする請求項１から３までのいずれか１項に記載のレー
ザーマーカ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002100689A JP2003290941A (ja) | 2002-04-03 | 2002-04-03 | レーザーマーカ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002100689A JP2003290941A (ja) | 2002-04-03 | 2002-04-03 | レーザーマーカ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003290941A true JP2003290941A (ja) | 2003-10-14 |
Family
ID=29241454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002100689A Pending JP2003290941A (ja) | 2002-04-03 | 2002-04-03 | レーザーマーカ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003290941A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100995392B1 (ko) | 2009-01-29 | 2010-11-19 | (주)하드램 | 디지털 마이크로미러 디바이스를 구비한 마킹 장치 |
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2002
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