JP2003285289A - Handling device, conveyer and handling method - Google Patents

Handling device, conveyer and handling method

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JP2003285289A
JP2003285289A JP2002088813A JP2002088813A JP2003285289A JP 2003285289 A JP2003285289 A JP 2003285289A JP 2002088813 A JP2002088813 A JP 2002088813A JP 2002088813 A JP2002088813 A JP 2002088813A JP 2003285289 A JP2003285289 A JP 2003285289A
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JP
Japan
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handling
chuck body
voltage
handling device
electrode
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Japanese (ja)
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Hourai Fu
寶▲莱▼ 傅
Tamaya Ubukata
玉也 生方
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Tsukuba Seiko Ltd
Original Assignee
Tsukuba Seiko Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To quickly handle an object to be handled, and improve positioning accuracy when unloading. <P>SOLUTION: The handling device includes a planer insulating member 11, electrodes 12A and 12B provided inside the insulating member 11 and a voltage controller 13 for applying a voltage to the electrodes 12A and 12B, for using static electric force caused when the voltage is applied to the electrodes 12A and 12B by the voltage controller 13 to attract the object 17 to be handled placed below the insulating member 11. The insulating member 11 is flexible and has both ends supported by supporting devices 14A and 14B with its center part bending. The member 11 is also formed with uneven portions 15 on its bottom to have a rough surface on the bottom. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、薄状のハンドリン
グ対象物を静電気力を利用してチャックに吸着するハン
ドリング装置、及びそのハンドリング装置を搭載した搬
送装置、並びにハンドリング方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a handling device for attracting a thin handling object to a chuck by using electrostatic force, a carrying device equipped with the handling device, and a handling method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、薄板フィルムの吸着装置として、
図7に示すようなハンドリング装置が知られている。こ
のハンドリング装置は、平板状の構造体1に複数本の真
空チャック2が取り付けられ、ハンドリング対象物3を
真空チャック2で吸着して把持する。構造体1は図示し
ていないアクチュエータに連結されており、このアクチ
ュエータによって構造体1全体を図の左右上下方向に移
動させることにより、ハンドリング対象物3を搬送する
ことができる。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a thin film adsorption device,
A handling device as shown in FIG. 7 is known. In this handling apparatus, a plurality of vacuum chucks 2 are attached to a flat plate-shaped structure 1, and a handling object 3 is sucked and gripped by the vacuum chuck 2. The structure 1 is connected to an actuator (not shown), and the handling target 3 can be conveyed by moving the entire structure 1 in the left-right and up-down directions in the drawing by this actuator.

【0003】また、図8に示すようなハンドリング装置
も知られている。このハンドリング装置は、平板状の構
造体4と、構造体4の底面に固定された絶縁部材5と、
絶縁部材5内部に設けられたプラスとマイナスの電極部
6A,6Bとを備えた静電チャック7を備えている。電
極部6A,6Bは電圧制御器8に接続され、電圧制御器
8によって電極部6A,6Bに電圧を印加して、そのと
き発生する静電気力を用いてハンドリング対象物9を静
電チャック7の底面(絶縁部材5の底面)に吸着して把
持する。構造体4は図示していないアクチュエータに連
結されており、このアクチュエータによって静電チャッ
ク7全体を図の左右上下方向に移動させることにより、
ハンドリング対象物9を搬送することができる。
A handling device as shown in FIG. 8 is also known. This handling device comprises a flat plate-shaped structure 4, an insulating member 5 fixed to the bottom surface of the structure 4,
An electrostatic chuck 7 having plus and minus electrode portions 6A and 6B provided inside the insulating member 5 is provided. The electrode units 6A and 6B are connected to the voltage controller 8, and a voltage is applied to the electrode units 6A and 6B by the voltage controller 8 and the handling target 9 is moved to the electrostatic chuck 7 by using the electrostatic force generated at that time. The bottom surface (bottom surface of the insulating member 5) is adsorbed and gripped. The structure 4 is connected to an actuator (not shown), and by moving the entire electrostatic chuck 7 in the left-right and up-down directions in the figure by this actuator,
The handling object 9 can be transported.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術のうち図7に示したハンドリング装置では、ハ
ンドリング対象物がフィルム状で薄いために、隣り合っ
た真空チャックの間でハンドリング対象物が自重で撓ん
でしまい、塑性変形を起す恐れがある。しかも、ハンド
リング対象物が撓んでいると、そのハンドリング対象物
をアンロードする際に、撓みの分だけ位置決め精度が悪
くなる。
However, in the handling apparatus shown in FIG. 7 among the above-mentioned conventional techniques, since the handling object is a film and is thin, the handling object is self-weighted between the adjacent vacuum chucks. There is a risk that it will bend due to, causing plastic deformation. Moreover, when the handling object is bent, the positioning accuracy is deteriorated by the amount of the bending when the handling object is unloaded.

【0005】一方、図8に示したハンドリング装置で
は、ハンドリング対象物が撓むということはないが、ハ
ンドリング対象物が薄くて軽いものであると、アンロー
ド時において、電極部への印加電圧を遮断して静電気力
を無くしても、ハンドリング対象物が静電チャックの底
面からなかなか離れない。すなわち、静電チャックの底
面は平坦状に形成されており、ハンドリング対象物も通
常は平坦状であるから、薄くて軽いハンドリング対象物
が静電チャックに吸着されると、ハンドリング対象物と
静電チャック底面との密着度が非常に高くなり、両者の
間が略真空状態となるために、静電気力を無くしても、
ハンドリング対象物は静電チャック底面からなかなか離
れなくなる。そして、この場合、ハンドリング対象物が
静電チャック底面から自然に離れるのを待っていなけれ
ばならないので、時間の無駄が生じ実用的ではない。
On the other hand, in the handling device shown in FIG. 8, the handling object does not bend, but if the handling object is thin and light, the applied voltage to the electrode portion during unloading will be small. Even if the electrostatic force is removed by shutting off, the object to be handled does not easily separate from the bottom surface of the electrostatic chuck. That is, since the bottom surface of the electrostatic chuck is formed in a flat shape, and the handling object is also normally flat, when a thin and light handling object is adsorbed by the electrostatic chuck, it is The adhesion to the bottom of the chuck is extremely high, and a vacuum is created between the two, so even if the electrostatic force is removed,
The object to be handled does not easily separate from the bottom surface of the electrostatic chuck. In this case, it is necessary to wait for the object to be handled to naturally separate from the bottom surface of the electrostatic chuck, which wastes time and is not practical.

【0006】また、従来の静電チャックでは、ロード時
におけるハンドリング対象物とチャック面との間の相対
位置関係を確実に維持するために、チャック面の撓みが
許されず、チャック自体の剛性は高いものが要求されて
いる。しかし、この場合、ハンドリング対象物の表面積
が広くなると、チャック面もその分だけ広くなるので、
剛性を高く維持するにはチャック本体の厚さを増やさな
ければならず、その結果、静電チャック全体の重量さが
増大する。例えば、チャック面の表面積1m2で重量1
Kg以下のハンドリング対象物をハンドリングするよう
設計された静電チャックにおいては、静電チャックの自
重は約40Kgもあり、これ以上に重い静電チャックを
高速に動かすには、アクチュエータが大きくなるととも
に、アクチュエータ周辺部材も大きくなってしまい、実
用上問題がある。
Further, in the conventional electrostatic chuck, in order to reliably maintain the relative positional relationship between the object to be handled and the chuck surface at the time of loading, the chuck surface is not allowed to bend and the chuck itself has a high rigidity. Things are required. However, in this case, when the surface area of the object to be handled becomes large, the chuck surface also becomes large accordingly.
In order to maintain high rigidity, the thickness of the chuck body must be increased, and as a result, the weight of the electrostatic chuck as a whole is increased. For example, the surface area of the chuck surface is 1 m 2 and the weight is 1
In an electrostatic chuck designed to handle an object to be handled that weighs less than Kg, the electrostatic chuck has a self-weight of about 40 Kg. To move a heavier electrostatic chuck at a higher speed, the actuator becomes larger, The member around the actuator also becomes large, which poses a practical problem.

【0007】本発明の課題は、ハンドリング対象物を迅
速にハンドリングし、さらにアンロード時においての位
置決め精度の向上を図ることである。
An object of the present invention is to quickly handle an object to be handled and to improve the positioning accuracy during unloading.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、面状のチャック本体と、チャック本体内
部に設けられた電極部と、電極部に電圧を印加する電圧
制御部とを備え、電圧制御部によって電極部に電圧を印
加したときに生じる静電気力を利用して、チャック本体
の下方に置かれたハンドリング対象物を吸着するハンド
リング装置であって、チャック本体は可撓性を有し中央
部が撓んだ状態で両端部が支持され、かつ底面の面粗さ
が粗く形成されていることを特徴としている。
In order to solve the above problems, the present invention provides a planar chuck body, an electrode portion provided inside the chuck body, and a voltage controller for applying a voltage to the electrode portion. A handling device for attracting a handling object placed below the chuck body by using an electrostatic force generated when a voltage is applied to the electrode part by the voltage control part, wherein the chuck body is flexible. It is characterized in that both ends are supported in a state where the central part is bent and the bottom surface is roughened.

【0009】上記構成によれば、底面の面粗さが粗く形
成されているので、チャック本体がハンドリング対象物
を吸着したときに、チャック本体底面とハンドリング対
象物間が真空状態とはならず、アンロード時にはハンド
リング対象物はチャック本体底面から容易に離れるの
で、ハンドリング作業を迅速に行うことができる。ま
た、チャック本体は可撓性を有し中央部が撓んだ状態で
両端部が支持されているので、ハンドリング対象物全体
をチャック本体底面に密着させることができ、アンロー
ド時においての位置決め精度も向上する。
According to the above construction, since the bottom surface has a rough surface roughness, when the chuck body adsorbs the object to be handled, a vacuum state is not created between the bottom surface of the chuck body and the object to be handled. Since the object to be handled is easily separated from the bottom surface of the chuck body during unloading, the handling work can be performed quickly. Also, since the chuck body is flexible and both ends are supported with the center part flexed, the entire handling object can be brought into close contact with the bottom surface of the chuck body, and positioning accuracy during unloading Also improves.

【0010】チャック本体は電極部を含めてフィルム状
に形成されている。このように構成すれば、チャック本
体の重量が軽くなり、アクチュエータによってチャック
本体を迅速に移動させることができる。
The chuck body is formed in a film shape including the electrode portion. According to this structure, the weight of the chuck body is reduced, and the chuck body can be moved quickly by the actuator.

【0011】また、本発明は、平板状のチャック本体
と、チャック本体内部に設けられた電極部と、電極部に
電圧を印加する電圧制御部とを備え、電圧制御部によっ
て電極部に電圧を印加したときに生じる静電気力を利用
して、チャック本体の下方に置かれたハンドリング対象
物を吸着するハンドリング装置であって、チャック本体
は底面の面粗さが粗く形成されていることを特徴として
いる。
The present invention further comprises a flat plate-shaped chuck body, an electrode portion provided inside the chuck body, and a voltage control portion for applying a voltage to the electrode portion. The voltage control portion applies a voltage to the electrode portion. A handling device for attracting a handling object placed below the chuck body by using electrostatic force generated when applied, characterized in that the chuck body has a rough bottom surface. There is.

【0012】上記構成によれば、チャック本体底面の面
粗さが粗く形成されているので、上記と同様に、アンロ
ード時にはハンドリング対象物はチャック本体底面から
容易に離れるので、ハンドリング作業を迅速に行うこと
ができる。
According to the above construction, since the surface of the bottom surface of the chuck body is formed to have a rough surface, the object to be handled is easily separated from the bottom surface of the chuck body during unloading, so that the handling work can be performed quickly. It can be carried out.

【0013】チャック本体には、その底面から上面に貫
通した多数の貫通穴が形成されている。チャック本体に
ハンドリング対象物を吸着する際に、チャック本体底面
とハンドリング対象物との間の空気があるために、この
空気のダンピング力によって吸着速度が遅くなる。上記
のような多数の貫通孔が形成されていれば、チャック本
体底面とハンドリング対象物との間の空気を多数の貫通
穴を介してチャック本体上面に容易に抜くことができ、
吸着速度が速くなる。
The chuck body has a large number of through holes extending from the bottom surface to the upper surface. When the object to be handled is adsorbed to the chuck body, there is air between the bottom surface of the chuck body and the object to be handled, and the damping force of this air slows the adsorption speed. If a large number of through holes as described above are formed, the air between the bottom surface of the chuck body and the object to be handled can be easily discharged to the upper surface of the chuck body through the large number of through holes,
The adsorption speed becomes faster.

【0014】また、チャック本体の底面にハンドリング
対象物が密着したか否かを検出するセンサが設けられ、
電圧制御部は、センサからの検出信号を取り込んで、チ
ャック本体の底面にハンドリング対象物が密着したと判
断したときは、電極部への印加電圧を低くする。このよ
うに構成すれば、チャック本体底面にハンドリング対象
物を密着しているときに、過大な静電気力によってハン
ドリング対象物が変形したり傷付いたりするのを防止で
きる。
Further, a sensor is provided on the bottom surface of the chuck body for detecting whether or not the object to be handled is in close contact,
The voltage control unit takes in the detection signal from the sensor and lowers the voltage applied to the electrode unit when it is determined that the object to be handled is in close contact with the bottom surface of the chuck body. According to this structure, it is possible to prevent the handling object from being deformed or damaged by an excessive electrostatic force when the handling object is in close contact with the bottom surface of the chuck body.

【0015】また、本発明は、平板状のチャック本体
と、チャック本体の底面に設けられた電極部と、電極部
に電圧を印加する電圧制御部とを備え、電圧制御部によ
って電極部に電圧を印加したときに生じる静電気力を利
用して、電極部の下方に置かれたハンドリング対象物を
吸着するハンドリング装置であって、電極部は底面の面
粗さが粗く形成されていることを特徴としている。
Further, the present invention comprises a flat plate-shaped chuck body, an electrode portion provided on the bottom surface of the chuck body, and a voltage control portion for applying a voltage to the electrode portion, and the voltage control portion applies voltage to the electrode portion. A handling device for adsorbing a handling object placed below the electrode part by using an electrostatic force generated when a voltage is applied, characterized in that the electrode part has a rough bottom surface. I am trying.

【0016】上記構成によれば、電極部底面の面粗さが
粗く形成されているので、上記と同様に、アンロード時
にはハンドリング対象物は電極部底面から容易に離れる
ので、ハンドリング作業を迅速に行うことができる。ま
た、この場合も、チャック本体に、その底面から上面に
貫通した多数の貫通穴を形成することができる。さら
に、チャック本体の底面にハンドリング対象物が密着し
たか否かを検出するセンサを設け、電圧制御部が、セン
サからの検出信号を取り込んで、チャック本体の底面に
ハンドリング対象物が密着したと判断したときは、電極
部への印加電圧を低く制御するように構成することもで
きる。
According to the above structure, since the bottom surface of the electrode portion is formed to have a rough surface, the object to be handled is easily separated from the bottom surface of the electrode portion during unloading, so that the handling work can be performed quickly. It can be carried out. Also in this case, a large number of through holes penetrating from the bottom surface to the top surface can be formed in the chuck body. Furthermore, a sensor is installed on the bottom surface of the chuck body to detect whether or not the handling object is in close contact, and the voltage control unit captures the detection signal from the sensor and determines that the handling object is in close contact with the bottom surface of the chuck body. In this case, the voltage applied to the electrode portion may be controlled to be low.

【0017】また、本発明は、静電気力を利用してハン
ドリング対象物を吸着するハンドリング装置と、ハンド
リング装置を移動させる移動機構とを備えた搬送装置に
おいて、ハンドリング装置として上記ハンドリング装置
のいずれかを搭載したことを特徴としている。
Further, according to the present invention, in a carrying device provided with a handling device for attracting a handling object by utilizing electrostatic force and a moving mechanism for moving the handling device, any one of the above handling devices is used as the handling device. It is equipped with a feature.

【0018】さらに、本発明は、可撓性を有し中央部が
撓んだ状態で両端部が支持され、かつ底面の面粗さが粗
く形成されたチャック本体と、チャック本体内部に設け
られた電極部とを備えたハンドリング装置を用いてハン
ドリング対象物を吸着する際に、チャック本体をハンド
リング対象物に載置してハンドリング対象物に密着さ
せ、この状態で電極部に電圧を印加して、静電気力によ
ってハンドリング対象物をチャック本体底面に吸着する
ことである。
Further, according to the present invention, there is provided a chuck body which is flexible and has both end portions supported in a state where the central portion is bent and whose bottom surface has a rough surface, and a chuck body. When adsorbing a handling object using a handling device equipped with an electrode part, the chuck body is placed on the handling object and brought into close contact with the handling object, and voltage is applied to the electrode part in this state. That is, the handling object is attracted to the bottom surface of the chuck body by electrostatic force.

【0019】また、本発明は、可撓性を有し中央部が撓
んだ状態で両端部が支持され、かつ底面の面粗さが粗く
形成されたチャック本体と、チャック本体内部に設けら
れた電極部とを備えたハンドリング装置を用いてハンド
リング対象物を吸着する際に、チャック本体の中央部を
ハンドリング対象物に接触させ、この状態で電極部に電
圧を印加して、静電気力によってハンドリング対象物を
チャック本体底面に吸引し吸着することである。
Further, according to the present invention, the chuck main body is flexible and has both ends supported in a state where the central portion is bent, and the bottom surface has a rough surface roughness. When the object to be handled is adsorbed by using a handling device equipped with an electrode part, the central part of the chuck body is brought into contact with the object to be handled, and in this state a voltage is applied to the electrode part to handle it by electrostatic force. That is, the object is sucked and adsorbed on the bottom surface of the chuck body.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。 (実施の形態1)図1は実施の形態1によるハンドリン
グ装置を示している。本ハンドリング装置は、チャック
本体としての面状の絶縁部材11と、絶縁部材11内部
に設けられたプラス側の電極部12A及びマイナス側の
電極部12Bと、電極部12A,12Bに電圧を印加す
る電圧制御部としての電圧制御器13とを備えている。
絶縁部材11は可撓性を有し中央部が撓んだ状態で両端
部が支持装置14A,14Bにクランプ支持されてい
る。また、絶縁部材11には、図1の下部円内に拡大し
て示すように底部表面に細かい凹凸15が設けられ、底
部の表面形状は面粗さが粗くなっている。さらに、電極
部12A,12Bを含めて絶縁部材11には、底面から
上面に貫通する多数の貫通孔16が形成されている。な
お、絶縁部材11の底部表面形状については、図1の下
部円内のような細かい凹凸15に限らず、断面形状で細
かい鋸歯状でも良いし、また鋸歯状の先端が丸くなって
いても良い。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below. (First Embodiment) FIG. 1 shows a handling apparatus according to the first embodiment. The handling device applies a voltage to the planar insulating member 11 as the chuck body, the plus side electrode portion 12A and the minus side electrode portion 12B provided inside the insulating member 11, and the electrode portions 12A and 12B. And a voltage controller 13 as a voltage controller.
The insulating member 11 is flexible and both ends thereof are clamped and supported by the supporting devices 14A and 14B in a state where the central portion is bent. Further, the insulating member 11 is provided with fine irregularities 15 on the bottom surface as shown in an enlarged view in the lower circle of FIG. 1, and the surface shape of the bottom is rough. Further, a large number of through holes 16 penetrating from the bottom surface to the upper surface are formed in the insulating member 11 including the electrode portions 12A and 12B. The shape of the bottom surface of the insulating member 11 is not limited to the fine irregularities 15 as shown in the lower circle in FIG. 1, and may have a fine saw-tooth shape in cross section or a rounded saw-toothed tip. .

【0021】上記構成において、絶縁部材11をハンド
リング対象物17に近づけてから、電圧制御器13によ
って電極部12A,12Bに電圧を印加すると、ハンド
リング対象物17との間に静電気力が誘起され、ハンド
リング対象物17は絶縁部材11底面に吸着される。こ
のとき、電極部12A,12Bには互いに逆極性で同じ
絶対値の電圧がそれぞれ印加される。電極部12Aと電
極部12Bは同じ表面積を有しており、互いに逆極性で
同じ絶対値の電圧が印加されると、ハンドリング対象物
17の裏面(絶縁部材11の反対側の面)電圧を0Vに
保持できる。そして、支持装置14A,14Bを図示し
ていないアクチュエータにより上下左右方向に移動させ
ることにより、ハンドリング対象物17を搬送させるこ
とができる。
In the above configuration, when the voltage controller 13 applies a voltage to the electrode parts 12A and 12B after the insulating member 11 is brought close to the handling object 17, an electrostatic force is induced between it and the handling object 17, The handling object 17 is adsorbed on the bottom surface of the insulating member 11. At this time, voltages having opposite polarities and the same absolute value are applied to the electrode portions 12A and 12B, respectively. The electrode portion 12A and the electrode portion 12B have the same surface area, and when voltages of opposite polarities and of the same absolute value are applied, the voltage of the back surface of the handling object 17 (the surface on the opposite side of the insulating member 11) becomes 0V. Can be held at The handling target 17 can be transported by moving the supporting devices 14A and 14B in the vertical and horizontal directions by an actuator (not shown).

【0022】ここで、絶縁部材11の底面にハンドリン
グ対象物17にロードさせる際のハンドリング方法とし
ては、以下の2通りの方法がある。
Here, there are the following two methods as a handling method for loading the handling object 17 on the bottom surface of the insulating member 11.

【0023】まず一つ目のハンドリング方法は、図2に
示すような方法である。この方法は、絶縁部材11を下
方に移動し、試料台18上に置かれたハンドリング対象
物17の全面に絶縁部材11を載置して、絶縁部材11
底面をハンドリング対象物17に密着させる。そして、
この状態で電極部12A,12Bに電圧を印加すれば、
静電気力によってハンドリング対象物17は絶縁部材1
1底面に吸着され、絶縁部材11を上方へ移動させれ
ば、図1のような状態となる。
First, the first handling method is as shown in FIG. In this method, the insulating member 11 is moved downward, and the insulating member 11 is placed on the entire surface of the handling object 17 placed on the sample table 18,
The bottom surface is brought into close contact with the handling object 17. And
If voltage is applied to the electrode portions 12A and 12B in this state,
The handling object 17 is an insulating member 1 due to electrostatic force.
When the insulating member 11 is attracted to the bottom surface of the No. 1 and the insulating member 11 is moved upward, the state shown in FIG. 1 is obtained.

【0024】二つ目のハンドリング方法は、図3に示す
ような方法である。この方法は、絶縁部材11を下方に
移動し、絶縁部材11の撓んだ中央部分を、試料台18
上に置かれたハンドリング対象物17の中央部に接触さ
せて、電極部12A,12Bに電圧を印加する。図3の
状態では、絶縁部材11とハンドリング対象物17との
間の間隔は、ハンドリング対象物17の中央部から両端
部に行くにつれて徐々に大きくなっており、この状態で
電極部12A,12Bに電圧を印加すると、絶縁部材1
1とハンドリング対象物17間の静電気力もそれに伴っ
て弱くなる。したがって、この方法では、中心部に近い
所から先に、ハンドリング対象物17が絶縁部材11底
面に順次吸着されて行き、最後は図1のような状態とな
る。
The second handling method is as shown in FIG. In this method, the insulating member 11 is moved downward, and the bent central portion of the insulating member 11 is moved to the sample stage 18
The voltage is applied to the electrode portions 12A and 12B by bringing the handling object 17 placed on the top into contact with the central portion thereof. In the state of FIG. 3, the distance between the insulating member 11 and the handling object 17 gradually increases from the central portion of the handling object 17 to both ends. When voltage is applied, insulation member 1
The electrostatic force between 1 and the handling object 17 also weakens accordingly. Therefore, in this method, the object 17 to be handled is sequentially adsorbed to the bottom surface of the insulating member 11 from a location near the center, and finally the state shown in FIG.

【0025】次に、アンロードについて説明する。電極
部12A,12Bへの印加電圧を遮断すると、電極部1
2A,12Bとハンドリング対象物17間に働く静電気
力は瞬時的に消失し、ハンドリング対象物17は自重で
落下する。このとき、軽いハンドリング対象物17でも
自重で迅速に落下するように、以下の二つの点が重要と
なる。
Next, unloading will be described. When the voltage applied to the electrode portions 12A and 12B is cut off, the electrode portion 1
The electrostatic force acting between 2A and 12B and the handling object 17 disappears instantaneously, and the handling object 17 falls by its own weight. At this time, the following two points are important so that the light handling target 17 can be quickly dropped by its own weight.

【0026】ハンドリング対象物17が絶縁部材11
底面に密着していると、印加電圧を遮断しても、ハンド
リング対象物17と絶縁部材11底面との間が真空状態
なため、大気圧によって、ハンドリング対象物17が絶
縁部材11底面に押付けられて、ハンドリング対象物1
7の軽い自重のみではハンドリング対象物17は落ちな
い。そこで本実施の形態では、上述したように、ハンド
リング対象物17に接する絶縁部材11底部の表面の面
粗さを粗くし、ハンドリング対象物17と絶縁部材11
底面との間に多数の微小空間105を形成して、吸着ハ
ンドリング時における前記真空状態の生成を防ぐ。
The handling object 17 is the insulating member 11.
When it is in close contact with the bottom surface, the handling object 17 is pressed against the bottom surface of the insulating member 11 by the atmospheric pressure because the vacuum state exists between the handling object 17 and the insulating member 11 bottom surface even if the applied voltage is cut off. And handling object 1
The object 17 to be handled does not fall only by the light weight of 7. Therefore, in the present embodiment, as described above, the surface roughness of the surface of the bottom of the insulating member 11 that is in contact with the handling target 17 is made rough, and the handling target 17 and the insulating member 11 are made rough.
A large number of minute spaces 105 are formed between the bottom surface and the bottom surface to prevent generation of the vacuum state at the time of suction handling.

【0027】ハンドリング対象物17の表面積が大き
いと、絶縁部材11底面とハンドリング対象物17との
間のギャップの変動に伴って、その間に存在する空気の
出入りにより大きなダンピング力を誘起する。このダン
ピング力は、薄く軽いハンドリング対象物17が絶縁部
材11底面に迅速に付着するのを妨げるとともに、アン
ロード時のハンドリング対象物17が迅速に落下するの
も妨害する。そこで本実施の形態では、このダンピング
力を無くすために、電極部12A,12Bを含めて絶縁
部材11に、底面から上面に貫通する多数の貫通孔16
を形成し、ロード及びアンロードにおける絶縁部材11
底面とハンドリング対象物17間の空気の出入りをスム
ーズにしている。
When the surface area of the handling object 17 is large, a large damping force is induced by the air flowing in and out of the gap between the bottom surface of the insulating member 11 and the handling object 17 as the gap fluctuates. This damping force prevents the thin and light handling object 17 from quickly adhering to the bottom surface of the insulating member 11, and also prevents the handling object 17 from rapidly dropping during unloading. Therefore, in the present embodiment, in order to eliminate this damping force, a large number of through holes 16 penetrating from the bottom surface to the upper surface of the insulating member 11 including the electrode portions 12A and 12B.
Forming an insulating member 11 for loading and unloading
Air in and out between the bottom surface and the handling object 17 is made smooth.

【0028】(実施の形態2)図4は実施の形態2によ
るハンドリング装置を示している。本実施の形態では、
ロード時に絶縁部材11底面にハンドリング対象物17
が密着したか否かを検出する位置センサ21が設けられ
ている。そして、位置センサ21からの検出信号は電圧
制御器13に入力される。他の構成は、実施の形態1の
場合と同様である。
(Second Embodiment) FIG. 4 shows a handling device according to a second embodiment. In this embodiment,
The object 17 to be handled on the bottom surface of the insulating member 11 during loading
A position sensor 21 is provided to detect whether or not the two are in close contact with each other. Then, the detection signal from the position sensor 21 is input to the voltage controller 13. Other configurations are similar to those in the first embodiment.

【0029】絶縁部材11底面が、ハンドリング対象物
17とある初期ギャップを有する状態から、ハンドリン
グ対象物17を吸引して吸着保持するには、当該ギャッ
プの2乗に反比例した電圧を電極部12A,12Bに印
加する必要があるが、一旦、ハンドリング対象物17が
絶縁部材11底面に吸着されると、その吸着状態を保持
するのに必要な印加電圧は低くても十分である。
From the state where the bottom surface of the insulating member 11 has a certain initial gap with the handling object 17, in order to attract and hold the handling object 17 by suction, a voltage inversely proportional to the square of the gap is applied to the electrode portion 12A, It is necessary to apply the voltage to 12B, but once the handling object 17 is adsorbed on the bottom surface of the insulating member 11, the applied voltage required to maintain the adsorbed state may be low.

【0030】そこで、本実施の形態では、絶縁部材11
底面にハンドリング対象物17が密着したことを位置セ
ンサ21で検出したときは、電圧制御器13は、電極部
12A,12Bへの印加電圧を低く制御する。これによ
って、吸着保持時において過大な静電気力の作用でハン
ドリング対象物17に皺を発生させたり傷付けたりする
のを防ぐことができる。
Therefore, in the present embodiment, the insulating member 11
When the position sensor 21 detects that the handling object 17 is in close contact with the bottom surface, the voltage controller 13 controls the voltage applied to the electrode units 12A and 12B to be low. As a result, it is possible to prevent the handling target 17 from wrinkling or being scratched by the action of an excessive electrostatic force during suction and holding.

【0031】(実施の形態3)図5は実施の形態3によ
るハンドリング装置を示している。実施の形態1や実施
の形態2では絶縁部材11つまりチャックが可撓性を有
するものであったが、本実施の形態ではチャック自体は
高剛性に形成されている。すなわち、本実施の形態のハ
ンドリング装置は、面状の絶縁部材31と、絶縁部材3
1内部に設けられたプラス側の電極部32A及びマイナ
ス側の電極部32Bと、電極部32A,32Bに電圧を
印加する電圧制御部13とを備えている。絶縁部材31
は高剛性な平板状の支持部材33の下面に固定されてい
る。ここでは、絶縁部材31と支持部材33はチャック
本体を構成している。
(Third Embodiment) FIG. 5 shows a handling device according to a third embodiment. In the first and second embodiments, the insulating member 11, that is, the chuck has flexibility, but in the present embodiment, the chuck itself is formed with high rigidity. That is, the handling device according to the present embodiment includes the planar insulating member 31 and the insulating member 3.
1 includes a positive side electrode portion 32A and a negative side electrode portion 32B, and a voltage controller 13 that applies a voltage to the electrode portions 32A and 32B. Insulation member 31
Is fixed to the lower surface of a highly rigid flat plate-shaped support member 33. Here, the insulating member 31 and the support member 33 form a chuck body.

【0032】また、絶縁部材31には、図5の下部円内
に拡大して示すように底部表面に細かい凹凸34が設け
られ、底部の表面形状は面粗さが粗くなっている。さら
に、電極部32A,32Bを含めて絶縁部材31及び支
持部材33には、絶縁部材31底面から支持部材33上
面に貫通する多数の貫通孔35が形成されている。な
お、絶縁部材31の底部表面形状については、図5の下
部円内のような細かい凹凸34に限らず、断面形状で細
かい鋸歯状でも良いし、また鋸歯状の先端が丸くなって
いても良い。
Further, the insulating member 31 is provided with fine irregularities 34 on the bottom surface as shown enlarged in the lower circle of FIG. 5, and the surface shape of the bottom portion is rough. Further, in the insulating member 31 and the supporting member 33 including the electrode portions 32A and 32B, a large number of through holes 35 penetrating from the bottom surface of the insulating member 31 to the upper surface of the supporting member 33 are formed. The shape of the bottom surface of the insulating member 31 is not limited to the fine irregularities 34 in the lower circle in FIG. 5, and may have a fine saw-tooth shape in cross section or a rounded sawtooth-shaped tip. .

【0033】上記構成において、絶縁部材31底面の面
粗さが粗く形成されているので、アンロード時にハンド
リング対象物36は絶縁部材31底面から容易に離れ、
ハンドリング作業を迅速に行うことができる。また、多
数の貫通孔35が形成されているので、絶縁部材31底
面とハンドリング対象物36間の空気の出入りが容易と
なり、ハンドリング作業をより一層迅速に行うことが可
能となる。
In the above structure, since the bottom surface of the insulating member 31 is formed to have a rough surface, the handling object 36 is easily separated from the bottom surface of the insulating member 31 during unloading.
The handling work can be done quickly. Further, since a large number of through holes 35 are formed, it becomes easy for air to come in and out between the bottom surface of the insulating member 31 and the handling target object 36, and the handling work can be performed more quickly.

【0034】本実施の形態では高剛性な支持部材33が
存在するので、チャックの自重が重くなる欠点がある。
このため、本実施の形態によるハンドリング装置の適用
範囲としては、ハンドリング対象物36は直径300m
m程度以下である。
In the present embodiment, since the highly rigid support member 33 exists, there is a drawback that the weight of the chuck becomes heavy.
For this reason, the handling object 36 has a diameter of 300 m as an applicable range of the handling device according to the present embodiment.
It is about m or less.

【0035】なお、本実施の形態のハンドリング装置に
も、実施の形態2の場合と同様、ロード時に絶縁部材3
1底面にハンドリング対象物36が密着したか否かを検
出する位置センサを設けることができる。そして、その
位置センサからの検出信号に基づいて、電圧制御器13
が電極部32A,32Bへの印加電圧を制御するように
構成することもできる。
In the handling device of this embodiment as well, as in the case of the second embodiment, the insulating member 3 at the time of loading is used.
A position sensor that detects whether or not the handling target object 36 is in close contact with the bottom surface of the first unit can be provided. Then, based on the detection signal from the position sensor, the voltage controller 13
May be configured to control the voltage applied to the electrode portions 32A and 32B.

【0036】(実施の形態4)図6は実施の形態4によ
るハンドリング装置を示している。実施の形態1〜3で
は絶縁部材内部に電極部が設けられていたが、本実施の
形態では絶縁部材底面に電極部が固定されている。すな
わち、本実施の形態のハンドリング装置は、面状の絶縁
部材41と、絶縁部材41の底面に設けられた電極部4
2A,42Bと、電極部42A,42Bに電圧を印加す
る電圧制御部13とを備えている。絶縁部材41は高剛
性な平板状の支持部材43の下面に固定されている。こ
こでは、絶縁部材41と支持部材43はチャック本体を
構成している。
(Fourth Embodiment) FIG. 6 shows a handling device according to a fourth embodiment. Although the electrode portion is provided inside the insulating member in the first to third embodiments, the electrode portion is fixed to the bottom surface of the insulating member in the present embodiment. That is, the handling device according to the present embodiment includes the planar insulating member 41 and the electrode section 4 provided on the bottom surface of the insulating member 41.
2A and 42B, and a voltage control unit 13 that applies a voltage to the electrode units 42A and 42B. The insulating member 41 is fixed to the lower surface of a highly rigid flat plate-shaped support member 43. Here, the insulating member 41 and the support member 43 form a chuck body.

【0037】電極部42A,42Bには、図6の下部円
内に拡大して示すように底部表面に細かい凹凸44が設
けられ、底部の表面形状は面粗さが粗くなっている。ま
た、電極部42A,42Bを含めて絶縁部材41及び支
持部材43には、電極部42A,42B底面から支持部
材43上面に貫通する多数の貫通孔45が形成されてい
る。なお、電極部42A,42Bの底部表面形状につい
ては、図6の下部円内のような細かい凹凸44に限ら
ず、断面形状で細かい鋸歯状でも良いし、また鋸歯状の
先端が丸くなっていても良い。
The electrode portions 42A and 42B are provided with fine irregularities 44 on the bottom surface as shown in an enlarged scale in the lower circle of FIG. 6, and the surface shape of the bottom portion is rough. Further, the insulating member 41 and the support member 43 including the electrode portions 42A and 42B are provided with a large number of through holes 45 penetrating from the bottom surfaces of the electrode portions 42A and 42B to the upper surface of the support member 43. The shape of the bottom surface of the electrodes 42A and 42B is not limited to the fine irregularities 44 in the lower circle of FIG. 6, but may be a fine sawtooth shape in cross section, or the tip of the sawtooth is rounded. Is also good.

【0038】上記構成において、電極部42A,42B
底面の面粗さが粗く形成されているので、アンロード時
にハンドリング対象物46は電極部42A,42B底面
から容易に離れ、ハンドリング作業を迅速に行うことが
できる。また、多数の貫通孔45が形成されているの
で、電極部42A,42B底面とハンドリング対象物4
6間の空気の出入りが容易となり、ハンドリング作業を
より一層迅速に行うことが可能となる。
In the above structure, the electrode portions 42A, 42B
Since the bottom surface is formed to have a rough surface, the handling object 46 can be easily separated from the bottom surfaces of the electrode portions 42A and 42B at the time of unloading, and the handling work can be performed quickly. Further, since a large number of through holes 45 are formed, the bottom surfaces of the electrode portions 42A and 42B and the handling object 4
Air can easily enter and leave between 6 and the handling work can be performed more quickly.

【0039】本実施の形態のハンドリング装置にも、実
施の形態2の場合と同様、ロード時に電極部42A,4
2B底面にハンドリング対象物46が密着したか否かを
検出する位置センサを設けることができる。そして、そ
の位置センサからの検出信号に基づいて、電圧制御器1
3が電極部42A,42Bへの印加電圧を制御するよう
に構成することもできる。
As in the case of the second embodiment, the handling device of the present embodiment also has the electrode portions 42A, 4A at the time of loading.
A position sensor that detects whether or not the handling object 46 is in close contact with the bottom surface of 2B can be provided. Then, based on the detection signal from the position sensor, the voltage controller 1
3 can be configured to control the voltage applied to the electrode portions 42A and 42B.

【0040】また、本実施の形態は、電極部42A,4
2Bとハンドリング対象物46とが直接接触するので、
ハンドリング対象物46が高抵抗体、または少なくても
片面は高抵抗体からなる場合のみハンドリング作業を行
うことができる。
Further, in this embodiment, the electrode parts 42A, 4A
2B and the handling object 46 are in direct contact,
The handling work can be performed only when the handling object 46 is a high resistance body, or at least one surface is a high resistance body.

【0041】なお、実施の形態1及び実施の形態2のハ
ンドリング装置も、実施の形態4のように構成すること
ができる。すなわち、実施の形態1及び実施の形態2に
おいて、絶縁部材11の内部に電極部12A,12Bを
設けないで、絶縁部材11底面に電極部12A,12B
を固定する。そして、電極部12A,12Bの底部に細
かい凹凸44を設けて、電極部12A,12B底面の面
粗さを粗くしておけば、同様の作用効果を得ることがで
きる。
The handling devices of the first and second embodiments can also be configured as in the fourth embodiment. That is, in the first and second embodiments, the electrode portions 12A and 12B are not provided inside the insulating member 11, and the electrode portions 12A and 12B are provided on the bottom surface of the insulating member 11.
To fix. Then, by providing fine irregularities 44 on the bottoms of the electrode portions 12A and 12B and roughening the surface roughness of the bottom surfaces of the electrode portions 12A and 12B, the same operational effect can be obtained.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
チャック本体底面の面粗さが粗く形成されているので、
チャック本体底面とハンドリング対象物との間には真空
状態が発生せず、ハンドリング作業を迅速に行うことが
できる。
As described above, according to the present invention,
Since the bottom surface of the chuck body is rough,
A vacuum state does not occur between the bottom surface of the chuck body and the object to be handled, and the handling work can be performed quickly.

【0043】また、チャック本体が可撓性を有するもの
である場合は、ハンドリング時にハンドリング対象物の
位置がずれたりすることがなく、アンロード時における
位置決め精度が向上する。
If the chuck body is flexible, the position of the object to be handled will not be displaced during handling, and the positioning accuracy during unloading will be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態1によるハンドリング装置
の構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of a handling device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1のハンドリング装置によるハンドリング方
法の一例を示した図である。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a handling method by the handling device of FIG.

【図3】図1のハンドリング装置によるハンドリング方
法の他の例を示した図である。
FIG. 3 is a diagram showing another example of a handling method by the handling device of FIG.

【図4】本発明の実施の形態2によるハンドリング装置
の構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram of a handling device according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態3によるハンドリング装置
の構成図である。
FIG. 5 is a configuration diagram of a handling device according to a third embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施の形態4によるハンドリング装置
の構成図である。
FIG. 6 is a configuration diagram of a handling device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図7】従来技術によるハンドリング装置の構成図であ
る。
FIG. 7 is a configuration diagram of a handling device according to the related art.

【図8】従来技術による他のハンドリング装置の構成図
である。
FIG. 8 is a configuration diagram of another handling device according to the related art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 絶縁部材 12A,12B 電極部 13 電圧制御器 14A,14B 支持装置 15 凹凸 16 貫通穴 17 ハンドリング対象物 21 位置センサ 31 絶縁部材 32A,32B 電極部 33 支持部材 34 凹凸 35 貫通穴 36 ハンドリング対象物 41 絶縁部材 42A,42B 電極部 43 支持部材 44 凹凸 45 貫通穴 46 ハンドリング対象物 11 Insulation member 12A, 12B electrode part 13 Voltage controller 14A, 14B support device 15 unevenness 16 through holes 17 Handling object 21 Position sensor 31 Insulation member 32A, 32B electrode part 33 Support member 34 unevenness 35 through hole 36 Handling object 41 Insulation member 42A, 42B electrode part 43 Support member 44 unevenness 45 through hole 46 Handling object

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 面状のチャック本体と、該チャック本体
内部に設けられた電極部と、前記電極部に電圧を印加す
る電圧制御部とを備え、前記電圧制御部によって前記電
極部に電圧を印加したときに生じる静電気力を利用し
て、前記チャック本体の下方に置かれたハンドリング対
象物を吸着するハンドリング装置であって、 前記チャック本体は可撓性を有し中央部が撓んだ状態で
両端部が支持され、かつ底面の面粗さが粗く形成されて
いることを特徴とするハンドリング装置。
1. A planar chuck body, an electrode section provided inside the chuck body, and a voltage control section for applying a voltage to the electrode section, wherein a voltage is applied to the electrode section by the voltage control section. A handling device for attracting a handling object placed below the chuck body by using electrostatic force generated when applied, wherein the chuck body has flexibility and a central portion is bent. The handling device is characterized in that both ends are supported by and the bottom surface is roughened.
【請求項2】 請求項1に記載のハンドリング装置にお
いて、 前記チャック本体は、前記電極部を含めてフィルム状に
形成されていることを特徴とするハンドリング装置。
2. The handling device according to claim 1, wherein the chuck body, including the electrode portion, is formed in a film shape.
【請求項3】 平板状のチャック本体と、該チャック本
体内部に設けられた電極部と、前記電極部に電圧を印加
する電圧制御部とを備え、前記電圧制御部によって前記
電極部に電圧を印加したときに生じる静電気力を利用し
て、前記チャック本体の下方に置かれたハンドリング対
象物を吸着するハンドリング装置であって、 前記チャック本体は底面の面粗さが粗く形成されている
ことを特徴とするハンドリング装置。
3. A flat plate-shaped chuck body, an electrode section provided inside the chuck body, and a voltage control section for applying a voltage to the electrode section, wherein a voltage is applied to the electrode section by the voltage control section. A handling device for attracting a handling object placed below the chuck body by using an electrostatic force generated when applied, wherein the chuck body has a rough bottom surface. A characteristic handling device.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれか1項に記載のハ
ンドリング装置において、 前記チャック本体には、その底面から上面に貫通した多
数の貫通穴が形成されていることを特徴とするハンドリ
ング装置。
4. The handling device according to claim 1, wherein the chuck body has a large number of through holes penetrating from a bottom surface to an upper surface thereof. apparatus.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項に記載のハ
ンドリング装置において、 前記チャック本体の底面に前記ハンドリング対象物が密
着したか否かを検出する位置センサが設けられ、前記電
圧制御部は、前記位置センサからの検出信号を取り込ん
で、前記チャック本体の底面に前記ハンドリング対象物
が密着したと判断したときは、前記電極部への印加電圧
を低くすることを特徴とするハンドリング装置。
5. The handling device according to claim 1, further comprising a position sensor that detects whether or not the handling object is in close contact with the bottom surface of the chuck body, and the voltage control. The unit captures a detection signal from the position sensor, and when it determines that the handling object is in close contact with the bottom surface of the chuck body, lowers the voltage applied to the electrode unit. .
【請求項6】 平板状のチャック本体と、該チャック本
体の底面に設けられた電極部と、前記電極部に電圧を印
加する電圧制御部とを備え、前記電圧制御部によって前
記電極部に電圧を印加したときに生じる静電気力を利用
して、前記電極部の下方に置かれたハンドリング対象物
を吸着するハンドリング装置であって、 前記電極部は底面の面粗さが粗く形成されていることを
特徴とするハンドリング装置。
6. A flat plate-shaped chuck body, an electrode portion provided on the bottom surface of the chuck body, and a voltage controller for applying a voltage to the electrode portion, wherein the voltage controller applies a voltage to the electrode portion. A handling device for adsorbing a handling object placed below the electrode part by using an electrostatic force generated when a voltage is applied, wherein the electrode part is formed to have a rough surface at the bottom surface. A handling device characterized by.
【請求項7】 請求項6に記載のハンドリング装置にお
いて、 前記チャック本体には、前記電極部の底面に前記ハンド
リング対象物を吸着する際に、前記底面と前記ハンドリ
ング対象物との間の空気をチャック本体の上方へ抜くた
めの多数の貫通穴が形成されていることを特徴とするハ
ンドリング装置。
7. The handling device according to claim 6, wherein the chuck body holds air between the bottom surface and the handling object when adsorbing the handling object on the bottom surface of the electrode portion. A handling device characterized in that a large number of through holes are formed for pulling the chuck body upward.
【請求項8】 請求項6又は7に記載のハンドリング装
置において、 前記電極部の底面に前記ハンドリング対象物が密着した
か否かを検出する位置センサが設けられ、前記電圧制御
部は、前記位置センサからの検出信号を取り込んで、前
記電極部の底面に前記ハンドリング対象物が密着したと
判断したときは、前記電極部への印加電圧を低くするこ
とを特徴とするハンドリング装置。
8. The handling device according to claim 6, wherein a position sensor is provided on a bottom surface of the electrode unit to detect whether or not the handling object is in close contact, and the voltage control unit is configured to detect the position. A handling device, wherein when a detection signal from a sensor is taken in and it is determined that the object to be handled is in close contact with the bottom surface of the electrode portion, the voltage applied to the electrode portion is lowered.
【請求項9】 静電気力を利用してハンドリング対象物
を吸着するハンドリング装置と、該ハンドリング装置を
移動させる移動機構とを備えた搬送装置において、 前記ハンドリング装置として請求項1〜8のいずれか1
項に記載のハンドリング装置を搭載したことを特徴とす
る搬送装置。
9. A carrying device comprising a handling device for attracting a handling object by using electrostatic force and a moving mechanism for moving the handling device, wherein the handling device is any one of claims 1 to 8.
A handling device, which is equipped with the handling device according to the item.
【請求項10】 可撓性を有し中央部が撓んだ状態で両
端部が支持され、かつ底面の面粗さが粗く形成されたチ
ャック本体と、該チャック本体内部に設けられた電極部
とを備えたハンドリング装置を用いてハンドリング対象
物を吸着する際に、 前記チャック本体を前記ハンドリング対象物に載置して
ハンドリング対象物に密着させ、この状態で前記電極部
に電圧を印加して、静電気力によって前記ハンドリング
対象物を前記チャック本体底面に吸着するハンドリング
方法。
10. A chuck body which is flexible and whose both ends are supported in a state where the central portion is bent and whose bottom surface has a rough surface, and an electrode portion provided inside the chuck body. When adsorbing a handling target using a handling device equipped with, the chuck body is placed on the handling target and brought into close contact with the handling target, and a voltage is applied to the electrode section in this state. A handling method for attracting the handling object to the bottom surface of the chuck body by electrostatic force.
【請求項11】 可撓性を有し中央部が撓んだ状態で両
端部が支持され、かつ底面の面粗さが粗く形成されたチ
ャック本体と、該チャック本体内部に設けられた電極部
とを備えたハンドリング装置を用いてハンドリング対象
物を吸着する際に、 前記チャック本体の中央部を前記ハンドリング対象物に
接触させ、この状態で前記電極部に電圧を印加して、静
電気力によって前記ハンドリング対象物を前記チャック
本体底面に吸引し吸着するハンドリング方法。
11. A chuck main body which is flexible and has both ends supported in a state where a central portion is bent and whose bottom surface has a rough surface, and an electrode portion provided inside the chuck main body. When adsorbing a handling target using a handling device equipped with, the central portion of the chuck body is brought into contact with the handling target, a voltage is applied to the electrode portion in this state, and the electrostatic force causes A handling method for sucking and adsorbing a handling object on the bottom surface of the chuck body.
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