JP2003279699A - Electron beam irradiation processing device - Google Patents

Electron beam irradiation processing device

Info

Publication number
JP2003279699A
JP2003279699A JP2002080436A JP2002080436A JP2003279699A JP 2003279699 A JP2003279699 A JP 2003279699A JP 2002080436 A JP2002080436 A JP 2002080436A JP 2002080436 A JP2002080436 A JP 2002080436A JP 2003279699 A JP2003279699 A JP 2003279699A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
irradiated
beam irradiation
rotating drum
rotary drum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2002080436A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Susumu Urano
晋 浦野
Ikuo Wakamoto
郁夫 若元
Kenji Hara
謙治 原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP2002080436A priority Critical patent/JP2003279699A/en
Publication of JP2003279699A publication Critical patent/JP2003279699A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an irradiation device for performing a sterilizing processing by irradiating matters to be irradiated such as powdered, granular, chipped and leaf food (for example, sesame seeds, green powdered tea, cereals, brown seaweed, laver and the like), chemicals, cosmetics, sanitary goods and the like by electron beam. <P>SOLUTION: This electron beam irradiation processing device for irradiating the matters to be irradiated with electron beam 11, comprises a polygonal rotary drum 13 in which a matter to be irradiated 11 is charged, and which is rotatable by a rotation driving means 12, and an electron beam irradiating means 16 for irradiating, with the electron beam 15, the inside of the rotary drum 13 from the external thereof through a transmitting window 14 formed on the rotary drum 13. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、粉末状,粒状,チ
ップ状及び葉状の食品(例えば胡椒,抹茶,穀物,茶
葉,ワカメ,海苔 等)や薬品、化粧品及び衛生用品等
の被照射物に電子線を照射して殺菌等の処理を施すため
の電子線照射処理装置及び方法に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to powdered, granular, chip-shaped and leaf-shaped foods (eg pepper, matcha, cereals, tea leaves, seaweed, seaweed, etc.) and irradiation objects such as medicines, cosmetics and hygiene products. The present invention relates to an electron beam irradiation processing apparatus and method for irradiating an electron beam to perform processing such as sterilization.

【0002】[0002]

【背景技術】通常、食品には害益を問わず微生物が付着
しており、温度、湿度、PH、栄養分等諸条件が整った
場合には当該微生物が繁殖する。本増殖に伴い食品の品
質劣化及び当該食品摂取に伴う発病を招来することか
ら、古くから食品取り扱いに際しては各種殺菌処理が施
されてきた。なお、菌を“全て”死滅させる滅菌処理は
菌を死滅させる殺菌処理の一部であるため、ここでは本
処理を代表して殺菌処理として記載をする。
BACKGROUND ART Generally, microorganisms are attached to foods regardless of their harmful effects, and the microorganisms propagate when various conditions such as temperature, humidity, PH and nutrients are established. Since the quality of foods is deteriorated along with the main proliferation and the diseases are caused by ingestion of the foods, various sterilization treatments have been performed for handling foods since ancient times. Since the sterilization treatment for killing all the bacteria is a part of the sterilization treatment for killing the bacteria, the sterilization treatment will be described here as a representative of this treatment.

【0003】本処理方法としては加熱法、化学物質殺菌
法等が従来から広く用いられているが、前者は風味・色
彩という食材品質が大きく変化すること、後者は近年の
温暖化防止に伴う規制(臭化メチル:2005年完全撤廃予
定)があること及び物質によっては残留成分が人体に有
害であること、という問題を各々有している。このため
代替法として、加熱蒸気やマイクロ波を用いる方法が提
案実用化されているが、処理速度及び対象物への制限を
有するという問題を有している。
Conventionally, a heating method, a chemical substance sterilization method and the like have been widely used as the present treatment method. The former method causes a great change in the food quality such as flavor and color, and the latter method is a regulation for preventing global warming in recent years. (Methyl bromide: Scheduled to be completely removed in 2005) and some substances have the problem that residual components are harmful to the human body. Therefore, as an alternative method, a method using heated steam or microwaves has been proposed and put to practical use, but it has a problem that it has a limitation on a processing speed and an object.

【0004】本方法を解決する手段として電子線、X
線、γ線による殺菌処理が挙げられる。但し本処理では
被照射物に対する照射損傷を生じてしまい、例えば米穀
類への電子線照射時にはでんぷん類等の変質に伴い食味
劣化に至れる。食品の素材の多くにおいて菌類は一般に
被照射物表面への付着が支配的である。このため、本殺
菌処理を行うためには比較的飛程の短い低エネルギ電子
線により被照射物表面にのみ照射処理を施すことが広く
提案されており、例えば本例として被照射物(照射対
象)を振動コンベヤにより搬送しながら電子線を照射す
るもの(特開2000-304900号公報等参照)、薄膜状に落
下させながら電子線を照射するもの(特開平11-052100
号公報等参照)等がある。
As a means for solving this method, an electron beam, X
Rays and γ rays may be used. However, this treatment causes irradiation damage to the object to be irradiated, and, for example, when the rice grains are irradiated with an electron beam, the taste is deteriorated due to the deterioration of starch and the like. Fungi generally predominantly adhere to the surface of the irradiated object in many food materials. Therefore, in order to perform the main sterilization treatment, it has been widely proposed to perform the irradiation treatment only on the surface of the irradiation target with a low energy electron beam having a relatively short range. ) Is irradiated with an electron beam while being conveyed by a vibrating conveyor (see JP 2000-304900 A, etc.), and is irradiated with an electron beam while being dropped into a thin film (JP-A-11-052100).
No.

【0005】被照射物表面に殺菌等を目的とした電子線
照射処理を行う場合、電子線の照射部で当該被照射物に
反転・回転等を施す必要がある。ところが、前記振動コ
ンベヤ、気流搬送装置等を用いたものは、例えば粒子同
士が重なり合った場合などには直接的に全ての粒子等に
回転力が加わらないために、各被照射物表面に対して有
効に照射処理を行い得ない可能性が高く、ひいては殺菌
性能等照射効果が不均一であるという問題点があった。
また、電子線照射部は通過処理となるため前記未照射分
を再処理するためには再度当該照射済品に対して照射処
理を施す必要があり、照射効率が低くなる。
When the surface of the object to be irradiated is subjected to electron beam irradiation for the purpose of sterilization or the like, it is necessary to invert or rotate the object to be irradiated at the electron beam irradiation section. However, in the case of using the vibration conveyor, the air flow transport device, etc., for example, when particles are overlapped with each other, the rotational force is not directly applied to all the particles, so that the surface of each irradiated object is There is a high possibility that the irradiation treatment cannot be effectively carried out, and thus the irradiation effects such as sterilization performance are non-uniform.
Further, since the electron beam irradiation unit is a passing process, it is necessary to perform the irradiation process again on the irradiated product in order to reprocess the unirradiated portion, and the irradiation efficiency becomes low.

【0006】本発明は、上記従来技術に鑑み提案された
もので、設備費や処理工数及び時間を増大させることな
く、多数の被照射物の全体に、しかも各被照射物の表面
に概ね均一に電子線を照射することができる電子線照射
処理装置及び方法を提供することをすることを課題とす
る。
The present invention has been proposed in view of the above-mentioned prior art, and is substantially uniform over a large number of objects to be irradiated, and on the surface of each object to be irradiated, without increasing equipment costs and processing man-hours and time. It is an object of the present invention to provide an electron beam irradiation processing apparatus and method capable of irradiating an electron beam on a substrate.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前述した課題を解決する
第1の発明は、被照射物に電子線を照射して処理する電
子線照射処理装置において、被照射物を内部に投入して
なると共に、回転駆動手段により回転自在な断面が多角
形な回転ドラムと、上記回転ドラムに設けた透過窓を介
して回転手段の外部から回転手段の内部に電子線を照射
する電子線照射手段と、を具備してなることを特徴とす
る電子線照射処理装置にある。
A first invention for solving the above-mentioned problems is an electron beam irradiation processing apparatus for irradiating an irradiation target with an electron beam to process the irradiation target. At the same time, a rotating drum having a polygonal cross section which is rotatable by a rotation driving means, and an electron beam irradiating means for irradiating an electron beam from the outside of the rotating means to the inside of the rotating means through a transmission window provided in the rotating drum. The electron beam irradiation processing apparatus is characterized by comprising:

【0008】第6の発明は、被照射物に電子線を照射し
て処理する電子線照射処理方法であって、被照射物を内
部に投入してなる断面が多角形な回転ドラムを用い、上
記回転ドラムを回転させながら、該回転ドラムの外部か
ら該回転ドラムの内部に電子線を照射しつつ被照射物の
電子線照射処理を行うことを特徴とする電子線照射処理
方法にある。
A sixth aspect of the present invention is an electron beam irradiation processing method for irradiating an object to be irradiated with an electron beam for processing, using a rotary drum having a polygonal cross section in which the object to be irradiated is introduced. An electron beam irradiation processing method is characterized in that an electron beam irradiation processing of an irradiation object is performed while irradiating an electron beam from the outside of the rotating drum to the inside of the rotating drum while rotating the rotating drum.

【0009】第1又は第6の発明によれば、断面が多角
形であり当該壁面は電子線透過性を有する透過窓を設け
た回転ドラムを用いて、当該内部に被照射物を入れて電
子線照射を行うことにより、高効率で被照射物への照射
処理を行えることができる。
According to the first or sixth aspect of the invention, a rotating drum provided with a transmissive window having a polygonal cross section and electron-beam transmissive walls is used, and an object to be irradiated is put inside the rotary drum. By performing the line irradiation, it is possible to perform the irradiation process on the object to be irradiated with high efficiency.

【0010】第2の発明は、被照射物に電子線を照射し
て処理する電子線照射処理装置であって、被照射物を内
部に投入してなると共に、回転駆動手段により回転自在
な回転ドラムと、上記回転ドラムに設けた透過窓を介し
て回転ドラムの外部から該回転ドラムの内部に電子線を
照射する電子線照射手段とを具備してなると共に、上記
回転ドラム内に仕切板を設けてなることを特徴とする電
子線照射処理装置にある。
A second aspect of the present invention is an electron beam irradiation processing apparatus for irradiating an irradiation target with an electron beam to process the irradiation target, wherein the irradiation target is placed inside and rotatable by a rotation drive means. A drum and electron beam irradiation means for irradiating an electron beam from the outside of the rotary drum to the inside of the rotary drum through a transmission window provided in the rotary drum, and a partition plate inside the rotary drum. The electron beam irradiation processing device is characterized by being provided.

【0011】第7の発明は、被照射物に電子線を照射し
て処理する電子線照射処理方法であって、被照射物を内
部に投入してなる回転ドラムを用い、上記回転ドラムを
回転させながら、該回転ドラムの外部から該回転ドラム
の内部に電子線を照射しつつ被照射物の電子線照射処理
を行うに際し、回転ドラム内に設けた仕切板で攪拌しつ
つ処理することを特徴とする電子線照射処理方法にあ
る。
A seventh aspect of the present invention is an electron beam irradiation processing method for irradiating an object to be irradiated with an electron beam for processing, wherein a rotating drum having the object to be irradiated therein is used to rotate the rotating drum. While irradiating the inside of the rotary drum with the electron beam while performing the electron beam irradiation processing of the irradiation object, the processing is performed while stirring with a partition plate provided inside the rotary drum. The electron beam irradiation treatment method is as follows.

【0012】第6又は第7の発明によれば、内部に仕切
板を設けてなるので、被照射物の回転ドラム内での攪拌
が促進され、電子線照射の照射回数が増大することで高
効率での高効率で被照射物への照射処理を行えることが
できる。
According to the sixth or seventh aspect of the invention, since the partition plate is provided inside, the stirring of the object to be irradiated in the rotating drum is promoted, and the number of times of electron beam irradiation is increased to increase the number of irradiations. It is possible to perform irradiation processing on an irradiation target with high efficiency.

【0013】第3の発明、第1又は2の発明において、
回転ドラムの回転方向及び回転速度を可変自在な制御手
段を設けてなることを特徴とする電子線照射処理装置に
ある。
In the third invention, the first or second invention,
An electron beam irradiation processing apparatus is characterized in that it is provided with a control means capable of changing the rotating direction and the rotating speed of a rotating drum.

【0014】第8の発明は、第6又は7の発明におい
て、回転ドラムの回転方向及び回転速度を可変自在とす
ることを特徴とする電子線照射処理方法にある。
An eighth invention is the electron beam irradiation processing method according to the sixth or seventh invention, wherein the rotating direction and the rotating speed of the rotating drum are made variable.

【0015】第3又は第8の発明によれば、回転ドラム
の制御を任意に設定することにより、より有効に回転ド
ラム内での電子線照射を行いえるようにすることができ
る。
According to the third or eighth aspect of the invention, the electron beam irradiation in the rotary drum can be more effectively performed by arbitrarily setting the control of the rotary drum.

【0016】第4の発明は、第1乃至3のいずれか一に
おいて、上記回転ドラムに揺動手段を設けてなることを
特徴とする電子線照射処理装置にある。
A fourth aspect of the present invention is the electron beam irradiation processing apparatus according to any one of the first to third aspects, characterized in that the rotating drum is provided with a swinging means.

【0017】第9の発明は、第6乃至8のいずれか一の
発明において、上記回転ドラムを揺動させつつ電子線を
照射することを特徴とする電子線照射処理方法にある。
A ninth invention is the electron beam irradiation processing method according to any one of the sixth to eighth inventions, characterized in that the rotating drum is oscillated to irradiate the electron beam.

【0018】第4又は第9の発明によれば、回転ドラム
自体に揺動手段を設けてなるので、回転ドラム内におい
て軸方向への被照射物の交互の移動がなされ、回転運動
との相乗効果により、回転ドラム内での攪拌がさらに促
進され、電子線照射の照射回数が増大することで高効率
での高効率で被照射物への照射処理を行えることができ
る。
According to the fourth or ninth aspect of the invention, since the rotating drum itself is provided with the swinging means, the irradiation object is alternately moved in the axial direction in the rotating drum, which is synergistic with the rotational movement. Due to the effect, the stirring in the rotating drum is further promoted, and the number of irradiations of the electron beam irradiation is increased, so that it is possible to perform the irradiation processing on the irradiation target with high efficiency.

【0019】第5の発明は、第1乃至4のいずれか一の
発明において、上記回転ドラム内を不活性ガス雰囲気と
する不活性ガス導入する手段を設けてなることを特徴と
する電子線照射処理装置にある。
A fifth invention is the electron beam irradiation according to any one of the first to fourth inventions, characterized in that it is provided with a means for introducing an inert gas to make the inside of the rotary drum an inert gas atmosphere. It is in the processing unit.

【0020】第10の発明は、第6乃至9のいずれか一
の発明において、上記回転ドラム内を不活性ガス雰囲気
としつつ電子線を照射することを特徴とする電子線照射
処理方法にある。
A tenth invention is the electron beam irradiation treatment method according to any one of the sixth to ninth inventions, characterized in that the rotating drum is irradiated with an electron beam while keeping an inert gas atmosphere.

【0021】第5又は第10の発明によれば、上記回転
ドラム内を不活性ガス雰囲気とする不活性ガス導入する
手段を設けてなるので、照射処理を当該雰囲気内で行い
得ることで、酸化等が防止され、例えば食品等において
は、香味劣化を抑制できる。
According to the fifth or tenth aspect of the invention, since means for introducing an inert gas is provided which makes the inside of the rotary drum an inert gas atmosphere, the irradiation treatment can be carried out in the atmosphere, so that the oxidation can be performed. Etc. are prevented, and flavor deterioration can be suppressed in, for example, foods.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】本発明による電子線照射方法及び
照射システムの実施の形態を以下に説明するが、本発明
はこれらの実施の形態に限定されるものではない。
Embodiments of the electron beam irradiation method and the irradiation system according to the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these embodiments.

【0023】[第1の実施の形態]図1は第1の実施の
形態にかかる電子線照射システムの電子線照射部におけ
る側面図であり、図2はその断面概略図である。
[First Embodiment] FIG. 1 is a side view of an electron beam irradiation unit of an electron beam irradiation system according to the first embodiment, and FIG. 2 is a schematic sectional view thereof.

【0024】これらの図面に示すように、本実施の形態
にかかる電子線照射処理装置10は、被照射物11に電
子線を照射して処理する電子線照射処理装置であって、
被照射物11を内部に投入してなると共に、回転駆動手
段12により回転自在な断面が多角形な回転ドラム13
と、上記回転ドラム13に設けた透過窓14を介して回
転ドラム13の外部から回転ドラム13の内部に電子線
15を照射する電子線照射手段16とを具備してなるも
のである。
As shown in these drawings, the electron beam irradiation processing apparatus 10 according to the present embodiment is an electron beam irradiation processing apparatus for irradiating an object 11 with an electron beam for processing.
A rotating drum 13 having a polygonal cross section, which is formed by inserting an object 11 to be irradiated therein and is rotatable by a rotation driving means 12.
And an electron beam irradiation means 16 for irradiating the inside of the rotary drum 13 with the electron beam 15 through the transmission window 14 provided in the rotary drum 13.

【0025】ここで、上記被照射物11とは、例えば粉
末状,粒状,チップ状及び葉状の食品(例えば胡椒,抹
茶,穀物,茶葉,ワカメ,海苔 等)や薬品、化粧品及
び衛生用品等の電子線を照射して殺菌等の処理を施すも
のをいうが、電子線を照射して殺菌等の処理を施すもの
であれば本発明では特に限定されるものではない。
Here, the irradiation object 11 means, for example, powdery, granular, chip-shaped and leaf-shaped foods (eg pepper, matcha, cereals, tea leaves, wakame, seaweed, etc.), medicines, cosmetics and hygiene products. The term refers to those that are irradiated with an electron beam to be subjected to a treatment such as sterilization, but the present invention is not particularly limited as long as they are subjected to a treatment such as sterilization such as being irradiated with an electron beam.

【0026】上記被照射物11は回転ドラム13内に別
途投入されている。当該回転ドラム13はその断面が6
角形、8角形等の多角形をしている。本実施の形態にお
いては、一例として6角形の場合について示している。
多角形の回転ドラムとすることで、該回転ドラムを回転
させる際、内部の被照射物11が壁面からの抗力・重力
・被照射物間における摩擦力の兼ね合いにより、ある程
度の高さまで持ち上げられ、その後自由落下させること
ができ、この結果内部に照射される電子線15の照射が
一様となる。
The object to be irradiated 11 is separately placed in the rotary drum 13. The rotating drum 13 has a cross section of 6
It has a polygonal shape such as a prism or octagon. In the present embodiment, a hexagonal case is shown as an example.
By using a polygonal rotary drum, when the rotary drum is rotated, the irradiation object 11 inside is lifted to a certain height by the balance of the drag force from the wall surface, gravity, and the frictional force between the irradiation objects. After that, it can be made to fall freely, and as a result, the irradiation of the electron beam 15 irradiated inside becomes uniform.

【0027】回転ドラム13の多角形頂点部は梁に相当
する構造物13aから構成されており、前記構造物13
a間の各面には電子線照射手段16から出射した電子線
15が透過して回転ドラム13内への照射処理を行い得
る材質及び厚さからなる電子線入射窓14が密に取り付
けてある。
The polygonal vertex of the rotary drum 13 is composed of a structure 13a corresponding to a beam.
An electron beam entrance window 14 made of a material and having a thickness capable of transmitting the electron beam 15 emitted from the electron beam irradiating means 16 and performing irradiation processing into the rotating drum 13 is densely attached to each surface between a. .

【0028】上記電子線照射手段16からは電子線照射
窓16aを介して電子線発生源から電子線15を照射
し、回転ドラム13の構造物13aに設けられた電子線
透過窓14から内部の被照射物11へ電子線15を照射
している。ここで、電子線照射窓14の材質としては、
例えばTi薄膜を用いている。また、電子線透過窓14
の材質としては、例えばチタン(Ti),アルミニウム
(Al),シリコン(Si),有機物質(例えばポリイ
ミド等)を例示することができるが、これらに限定され
るものではない。
The electron beam irradiating means 16 irradiates the electron beam 15 from the electron beam generating source through the electron beam irradiating window 16a, and the electron beam transmitting window 14 provided inside the structure 13a of the rotary drum 13 serves to The irradiation object 11 is irradiated with the electron beam 15. Here, as the material of the electron beam irradiation window 14,
For example, a Ti thin film is used. In addition, the electron beam transmission window 14
Examples of the material include, but are not limited to, titanium (Ti), aluminum (Al), silicon (Si), and organic substances (such as polyimide).

【0029】なお、前記構造物13aはドラム内におい
て有意なる凹凸部を設けていないものとする。また当該
回転ドラム13の軸方向の片端面部17は、チェーンベ
ルト18を介して回転ドラム13を回転駆動する回転駆
動手段12に接続されている。
It should be noted that the structure 13a does not have any significant unevenness in the drum. In addition, one end surface portion 17 of the rotary drum 13 in the axial direction is connected to a rotation drive means 12 that rotationally drives the rotary drum 13 via a chain belt 18.

【0030】また、回転ドラム13の軸方向の反対側の
片端面部19は、前記回転ドラム本体13に対して密に
着脱可能であり、例えばハッチ式や回転式としており、
当該回転ドラム13内に被照射物11の搬出入時には着
脱又は開閉を行うようにしている。
Further, the one end surface portion 19 of the rotary drum 13 on the opposite side in the axial direction is densely attachable to and detachable from the rotary drum main body 13, and is of a hatch type or a rotary type, for example.
When the object 11 to be irradiated is carried in and out of the rotary drum 13, it is attached or detached or opened or closed.

【0031】また、回転ドラム13の上方側には、電子
線照射装置16が設置されており、前記回転ドラム13
内部に向けて電子線15の照射を行うようにしている。
An electron beam irradiation device 16 is installed above the rotary drum 13, and the electron beam irradiation device 16 is provided.
The electron beam 15 is irradiated toward the inside.

【0032】この際、回転ドラム13は中心軸が鉛直方
向に対して直交する方向になるように設置されている。
At this time, the rotary drum 13 is installed so that its central axis is in a direction orthogonal to the vertical direction.

【0033】ここで、当該電子線照射装置16から照射
される電子線15の加速エネルギは、前記電子線入射窓
14を透過し且つ被照射物11の表層を主体的に照射し
得る程度であるものとする。
Here, the acceleration energy of the electron beam 15 emitted from the electron beam irradiation device 16 is such that it can pass through the electron beam incident window 14 and mainly irradiate the surface layer of the object 11 to be irradiated. I shall.

【0034】上記回転ドラム13は内部に被照射物11
を保持した状態で回転駆動手段12により一定方向に一
定速度で回転を行う。一定時間当該照射処理を行った後
に、前記片端面部19を開放して電子線照射済の被照射
物11を取り出すことで、被照射物への電子線照射処理
を行い得ることになる。
The rotary drum 13 is internally provided with an object 11 to be irradiated.
In the state of holding, the rotation driving means 12 rotates in a certain direction at a constant speed. After performing the irradiation processing for a certain period of time, the one end face portion 19 is opened and the irradiation object 11 that has been irradiated with the electron beam is taken out, so that the irradiation object can be irradiated with the electron beam.

【0035】なお、回転ドラム13の断面形状の角数、
各辺長、各辺間角の各要素は、被照射物の性状及び単一
の回転ドラム13内への設置量に応じて適宜設定を行う
ようにすればよい。
The number of corners of the sectional shape of the rotary drum 13,
Each element of each side length and each side angle may be appropriately set according to the property of the object to be irradiated and the installation amount in the single rotary drum 13.

【0036】例えば、被照射物11の安息角が大きい場
合には当該角数は大きくことが望ましい。
For example, when the angle of repose of the irradiated object 11 is large, it is desirable that the angle is large.

【0037】詳細に記載を行わないが、本電子線の照射
を被対象物11へ連続的に行うためには、例えば回転ド
ラム13本体は中心軸上の一点を基点として姿勢位置を
任意に変更することを可能としている。そして、電子線
の照射済後は前記片端面部19を開状態にて姿勢を当該
中心軸方向が重力方向に対する成分を有するように傾斜
させることにより、図示しない照射済品回収装置内に搬
送を行うこと等が効率的な処理を行うには有効である。
Although not described in detail, in order to continuously irradiate the object 11 with the main electron beam, for example, the main body of the rotary drum 13 can be arbitrarily changed in posture position from one point on the central axis as a base point. It is possible to do. After the irradiation of the electron beam, the one end face portion 19 is opened and the posture is inclined so that the central axis direction has a component with respect to the direction of gravity, so that the one end face portion 19 is conveyed into the irradiated product collecting device (not shown). Things are effective for efficient processing.

【0038】更に当該搬送環境は殺菌処理済であり且つ
外部からの菌類の混入を阻止しえる図示しない機構を備
えた図示しない一定区画領域内にて行うことが有効であ
る。
Further, it is effective that the transportation environment is sterilized and is carried out in a fixed section area (not shown) equipped with a mechanism (not shown) capable of preventing the mixture of fungi from the outside.

【0039】また、電子線照射に伴い特に梁部などは発
熱を生じるため、本発熱除去を図るために回転ドラム側
面の電子線照射装置とは干渉しない位置に空冷装置を設
置して当該回転ドラムに対して冷却風吹き付け等を行う
ことが有効になる。
Further, since the beams and the like generate heat particularly when the electron beam is irradiated, an air cooling device is installed at a position on the side surface of the rotary drum where it does not interfere with the electron beam irradiation device in order to eliminate the main heat generation. For this reason, it is effective to blow cooling air.

【0040】ここでは回転ドラム13の回転手段は回転
駆動手段として、例えばチェーンベルトを用いた例につ
いて記載しているが、回転手段は例えば回転ドラムに直
接接続されている歯車と該歯車を駆動するための回転制
御装置が機械的に嵌め合い当該回転力を伝導する場合
や、回転制御装置により回転する台座の上にドラムが機
械的に接触して摩擦力により当該回転力を伝導する場合
等、特に回転手段を限定することなく成立する。
Here, an example in which the rotating means of the rotating drum 13 uses a chain belt as the rotation driving means is described, but the rotating means drives, for example, a gear directly connected to the rotating drum and the gear. For example, when the rotation control device for mechanically fits and transmits the rotational force, or when the drum mechanically contacts the pedestal rotated by the rotation control device and transmits the rotational force by frictional force, In particular, it is established without limiting the rotating means.

【0041】本実施の形態の装置では、回転ドラム13
内において、当該回転ドラムが停止時には被照射物には
重力・電子線透過窓及び梁構造物からの抗力及び被照射
物間力(摩擦力等)がつりあった状態にある。
In the apparatus of this embodiment, the rotary drum 13
In the inside, when the rotary drum is stopped, the object to be irradiated is in balance with the drag force from the gravity / electron beam transmitting window and the beam structure and the force (frictional force) between the objects to be irradiated.

【0042】本回転ドラム13が回転を行った場合、前
記電子線透過窓14及び梁構造物13aの空間内におけ
る位置が回転に伴って順に変化すること及び慣性により
被照射物11の設置位置にずれを生じるため、結果とし
て被照射物11の一部に働く抗力はその方向が変化す
る。
When the rotary drum 13 is rotated, the positions of the electron beam transmitting window 14 and the beam structure 13a in the space are sequentially changed with the rotation, and the position of the irradiation target 11 is set due to inertia. Since a shift occurs, as a result, the direction of the drag force acting on part of the irradiation target object 11 changes.

【0043】この際、被照射物間力とのつりあいがずれ
た場合には、一部被照射物は回転ドラム13内で回転等
を行いながら当該設置位置からの変位を生じる。このた
め回転ドラム13の回転操作を行いながら当該回転ドラ
ム13の内部に電子線15の照射を行った場合、回転ド
ラム13内部の被照射物11の全表面が回転回数に応じ
て有効に電子線照射側に向くことから、表面への一様照
射を図り得ることになる。
At this time, when the balance with the force between the objects to be irradiated is deviated, a part of the objects to be irradiated is displaced from the installation position while rotating in the rotary drum 13. Therefore, when the electron beam 15 is applied to the inside of the rotating drum 13 while the rotating drum 13 is being rotated, the entire surface of the object to be irradiated 11 inside the rotating drum 13 is effectively irradiated by the electron beam. Since it is directed to the irradiation side, it is possible to achieve uniform irradiation on the surface.

【0044】なお、回転ドラム13の回転運動に伴い被
照射物には遠心力も作用するため、本遠心力の影響が前
記各作用力と比較して無視し得る程度に回転ドラム13
の回転速度を適宜設定する必要がある。
Since the centrifugal force acts on the object to be irradiated with the rotary motion of the rotary drum 13, the effect of the main centrifugal force is negligible as compared with the acting forces.
It is necessary to appropriately set the rotation speed of.

【0045】また、被照射物11は回転ドラム13内に
おける回転運動時に軸方向に対して若干の移動運動も行
うため、被照射物11への一様照射を確実に図り得るた
めには前記電子線入射窓14に対して軸方向には同時に
電子線照射を行うことが望ましい。このためには、電子
線照射手段16からの電子線15の照射長は電子線入射
窓14の軸方向長さと同程度の長さのものとすることが
有効である。
Since the object 11 to be irradiated also makes a slight moving motion in the axial direction during the rotational motion in the rotary drum 13, in order to ensure uniform irradiation of the object 11 to be irradiated, the above-mentioned electron It is desirable to simultaneously perform electron beam irradiation on the line incident window 14 in the axial direction. For this purpose, it is effective that the irradiation length of the electron beam 15 from the electron beam irradiation means 16 is as long as the axial length of the electron beam entrance window 14.

【0046】また、本回転ドラムは、別途図示しない搬
送システムを設けることにより、回転速度とは独立して
任意に電子線照射部に対する搬送速度を設定し得るよう
にしている。
The rotary drum is provided with a transport system (not shown) so that the transport speed for the electron beam irradiation unit can be set independently of the rotation speed.

【0047】そして、図2に示すように、例えば搬送方
向Xとする場合に、その搬送時に例えば電子線照射領域
内では、低速走行または一定時間停止を行うことで、回
転ドラム13内の被照射物11表面に一様に電子線照射
処理を行い得る有効なる回転移動を被照射物11に付与
させることができる。これにより、電子線照射雰囲気を
単に通過するのみであった従来照射方法と比較して1回
の照射処理にて殺菌性能を高くすることができる。この
ことはシステム効率の向上及び被照射物の照射損傷の低
減を図ることができる。
Then, as shown in FIG. 2, when the direction of conveyance is X, for example, during the conveyance, for example, in the electron beam irradiation area, low speed traveling or stopping for a certain period of time is performed to irradiate the rotating drum 13. It is possible to impart to the object to be irradiated 11 an effective rotational movement capable of uniformly performing the electron beam irradiation treatment on the surface of the object 11. As a result, the sterilization performance can be improved by a single irradiation process as compared with the conventional irradiation method that simply passes through the electron beam irradiation atmosphere. This can improve the system efficiency and reduce the irradiation damage of the irradiation object.

【0048】[第2の実施の形態]図3は第2の実施の
形態にかかる回転ドラム部の断面図である。
[Second Embodiment] FIG. 3 is a sectional view of a rotary drum portion according to a second embodiment.

【0049】本実施の形態の基本構成は第1の実施の形
態と同一であるので、重複した構造については同一符号
を付してその説明は省略する。
Since the basic structure of this embodiment is the same as that of the first embodiment, the same reference numerals are given to the overlapping structures and the description thereof will be omitted.

【0050】なお、本実施の形態においては、回転ドラ
ム形状は多角形に拘らない。断面内数箇所には梁に相当
する構造物3が、各面における前記構造物13a、13
a間には電子線が透過しえる材質及び厚さからなる電子
線入射窓14が密に取り付けてある。なお、前記構造物
には回転ドラム内において仕切板21が設置してある。
In the present embodiment, the shape of the rotating drum is not limited to the polygon. At several points in the cross section, structures 3 corresponding to beams are provided on the respective surfaces of the structures 13a and 13a.
An electron beam entrance window 14 made of a material and a thickness through which an electron beam can pass is densely attached between a. A partition plate 21 is installed in the structure in the rotary drum.

【0051】当該仕切板21の形状(角数、各辺長、各
辺間角)は被照射物11の性状、単一の回転ドラム13
内への設置量、回転ドラム断面形状及び対向する電子線
透過窓から入射する電子線が当該仕切板間にある被照射
物に入射することを遮蔽効果に応じて適宜設定を行う必
要がある。
The shape of the partition plate 21 (number of corners, length of each side, angle between each side) is the shape of the object 11 to be irradiated, and the single rotary drum 13.
It is necessary to appropriately set the installation amount inside, the cross-sectional shape of the rotating drum, and the incidence of the electron beam incident from the opposing electron beam transmission window on the irradiation object between the partition plates according to the shielding effect.

【0052】本回転ドラム13の端面構造及びその周辺
構成要素は実施例1と同様であり、実施例1と同様なる
手法にて当該回転ドラム内に設置した被照射物に対して
電子線照射処理を行い得る。
The end face structure of the rotary drum 13 and its peripheral components are the same as those in the first embodiment, and the irradiation object installed in the rotary drum is subjected to the electron beam irradiation treatment in the same manner as in the first embodiment. Can be done.

【0053】なお、本発明は仕切板形状は図3(a)に
示すように各梁部から回転ドラム中心に向かう形状のみ
が対象となるのではなく、図3(b)に示すように螺旋
形状を示すもの等でも構わない。
In the present invention, the shape of the partition plate is not limited to the shape from each beam portion toward the center of the rotating drum as shown in FIG. 3 (a), but as shown in FIG. It may be a shape or the like.

【0054】但し仕切板の設置に伴い、図3(b)に示
すように上方にある電子線透過窓からの電子線照射に対
して遮蔽効果により照射処理に影響を及ぼさない体系
(図3のD部に相当)を構築することが必要である。
However, with the installation of the partition plate, as shown in FIG. 3B, a system that does not affect the irradiation process due to the shielding effect against the electron beam irradiation from the electron beam transmission window located above (see FIG. 3). It is necessary to construct (corresponding to D part).

【0055】本実施の形態では、仕切板21の存在が実
施例1における隣接電子線透過窓14と同様なる抗力方
向成分を作り出すため実施例1と同様なる効果を生じ
る。
In the present embodiment, the presence of the partition plate 21 produces a drag force direction component similar to that of the adjacent electron beam transmission window 14 in the first embodiment, so that the same effect as in the first embodiment is produced.

【0056】隣接する仕切板21と電子線透過窓14間
にある被照射物11は回転ドラムの回転過程において相
対的に下方向にある仕切板により支持をされることか
ら、当該位置内にある被照射物の一部は実施例1の場合
よりも上方にまで持ち上げられた後に下方に落下する作
用も加わるため、被照射物に対してより回転成分を持た
し得ることになる。これにより、被照射物11の攪拌効
率の向上を図ることができる。
The object to be irradiated 11 between the adjacent partition plate 21 and the electron beam transmitting window 14 is supported by the partition plate which is relatively downward in the rotating process of the rotary drum, so that it is in that position. Since a part of the object to be irradiated is lifted to a higher level than in the case of the first embodiment and then dropped, the object to be irradiated can have a more rotational component. As a result, it is possible to improve the stirring efficiency of the irradiation target 11.

【0057】[第3の実施の形態]図4に実施例3にお
ける回転ドラム部の断面図を示す。
[Third Embodiment] FIG. 4 shows a sectional view of a rotary drum portion in a third embodiment.

【0058】本実施の形態の基本構成は第1の実施の形
態と同一であるので、重複した構造については同一符号
を付してその説明は省略する。
Since the basic structure of this embodiment is the same as that of the first embodiment, the same reference numerals are given to the overlapping structures and the description thereof will be omitted.

【0059】本実施の形態では、回転ドラム13の回転
方向は正・逆転を任意に設定可能な図示しない制御装置
を設けている。また、該制御装置での制御は当該回転速
度も任意に周期的または非周期的に設定可能としてい
る。
In the present embodiment, a control device (not shown) is provided which can arbitrarily set the rotation direction of the rotary drum 13 to forward or reverse. In addition, the control by the control device can also set the rotation speed arbitrarily periodically or aperiodically.

【0060】被照射物の表面状態及び設置容量により、
被照射物同士が付着にある場合には同一方向に一定速度
回転を行うと、各被照射物の一部は回転ドラム底部に同
一状態で残ったままになり、当該設置被照射物の上部の
みが回転運動を行う可能性もある。
Depending on the surface condition of the object to be irradiated and the installed capacity,
When objects to be irradiated are attached to each other, if they are rotated at a constant speed in the same direction, a part of each object to be irradiated remains in the same state on the bottom of the rotating drum, and only the upper part of the installed object to be irradiated. May make a rotational movement.

【0061】しかし、回転ドラムの回転速度及び回転方
向を変更した場合、回転に伴い被照射物に働く回転方向
に対する慣性力と回転ドラム内部下方において被照射物
と接触している面における摩擦力には差異を生じること
により、前記付着を有効に分離させ得ることになる。
However, when the rotating speed and the rotating direction of the rotating drum are changed, the inertial force acting on the object to be irradiated along with the rotation and the frictional force on the surface in contact with the object below the inside of the rotating drum are changed. Makes a difference so that the attachment can be effectively separated.

【0062】このことは、前記不具合を生じた場合に
も、本発明を有効に成立させて、前述の効果を得ること
ができる。
This allows the present invention to be effectively established and the above-mentioned effects to be obtained even when the above-mentioned trouble occurs.

【0063】[第4の実施の形態][Fourth Embodiment]

【0064】本実施の形態の基本構成は第1の実施の形
態と同一であるので、重複した構造については同一符号
を付してその説明は省略する。
Since the basic structure of this embodiment is the same as that of the first embodiment, the same reference numerals are given to the overlapping structures and the description thereof will be omitted.

【0065】図5に実施例4における回転ドラム部の側
面図を示す。
FIG. 5 shows a side view of the rotary drum portion in the fourth embodiment.

【0066】本実施の形態においては、回転ドラム本体
13において当該本体中心軸が直線または曲線を描くよ
うにゆりかご運動を行い得るためのθ運動機構を具備し
た揺動手段31を設けている。そして、該揺動手段31
により、電子線照射時、非照射時に必要に応じてゆりか
ご運動を行うことを可能としている。
In the present embodiment, the rotating drum main body 13 is provided with the swinging means 31 provided with the θ movement mechanism for performing the cradle movement so that the main body central axis draws a straight line or a curved line. Then, the swinging means 31
This makes it possible to perform a cradle exercise as needed during electron beam irradiation and non-irradiation.

【0067】なお、本ゆりかご運動は一定角度及び一定
速度にのみ限定されるものではない。このため、例えば
電子線照射前の原料供給時にはふれ角θが大きくなり且
つ片端が外れることにより回転ドラム開口が上方に開い
た状態になるため本対応を容易に行い得る。
The cradle movement is not limited to a fixed angle and a fixed speed. Therefore, for example, at the time of supplying the raw material before the electron beam irradiation, the deflection angle θ becomes large and one end is disengaged, so that the rotary drum opening is opened upward, so that this measure can be easily performed.

【0068】更に照射後には逆の過程を行うことにより
照射済被照射物を回転ドラムから取り出すことが可能に
なる。
Further, by performing the reverse process after irradiation, it becomes possible to take out the irradiated object to be irradiated from the rotary drum.

【0069】本実施の形態に示した被照射物11同士の
付着及び梁と電子線透過窓14の接合部等に被照射物の
干渉を生じた場合には、軸中心に対する回転運動のみで
は当該状況を回避し得ない。しかし、ゆりかご運動によ
り被照射物の回転ドラム内軸方向移動に関する積極的手
段を付与することにより、回転運動時とは別方向の力を
被照射物に対して発生させることが可能になり、前記不
具合を回避し得る。
In the case where the objects 11 to be irradiated are adhered to each other and the objects to be irradiated interfere with each other at the joint between the beam and the electron beam transmitting window 14 shown in the present embodiment, only the rotational movement with respect to the axis center causes a problem. The situation cannot be avoided. However, it is possible to generate a force in a direction different from that during the rotational movement to the irradiated object by giving a positive means for the axial movement of the irradiated object in the rotating drum by the cradle movement, The trouble can be avoided.

【0070】回転ドラム内に被照射物を当該回転ドラム
端部から供給した場合には回転ドラム軸方向に対して被
照射物は均一に配置されていない。本状態で照射処理を
行うと、本軸方向配置分布に起因して被照射物への回転
力に不均一を生じることになる。しかし、本ゆりかご運
動を回転ドラムに対して付与することにより、回転ドラ
ム軸方向に対して被照射物の移送を行いえることから本
対応が可能になる。
When the object to be irradiated is supplied into the rotary drum from the end of the rotary drum, the object to be irradiated is not evenly arranged in the axial direction of the rotary drum. When the irradiation process is performed in this state, the rotational force applied to the irradiation object becomes non-uniform due to the main axial distribution. However, since the object to be irradiated can be transferred in the axial direction of the rotary drum by applying the main cradle movement to the rotary drum, it is possible to deal with the main problem.

【0071】[第5の実施の形態][Fifth Embodiment]

【0072】本実施の形態の基本構成は第1の実施の形
態と同一であるので、重複した構造については同一符号
を付してその説明は省略する。
Since the basic structure of this embodiment is the same as that of the first embodiment, the same reference numerals are given to the overlapping structures and the description thereof will be omitted.

【0073】図5に実施例5における回転ドラム部の側
面図を示す。
FIG. 5 shows a side view of the rotary drum portion in the fifth embodiment.

【0074】本実施の形態では、回転ドラム13の両端
面に回転端子41が取り付けてあり、本回転導入端子4
1を介して回転ドラム13内に不活性ガス42(窒素、
希ガス)を導入しながら電子線照射処理を行うようにし
ている。
In this embodiment, the rotary terminals 41 are attached to both end surfaces of the rotary drum 13, and the main rotation introducing terminal 4 is provided.
1 into the rotary drum 13 through the inert gas 42 (nitrogen,
An electron beam irradiation process is performed while introducing a rare gas.

【0075】電子線照射時における照射損傷には酸素に
よる酸化等の影響が大きい場合がある。本実施の形態の
ように、電子線照射を不活性ガス雰囲気において行うよ
うにする場合には、当該不具合を回避した相対的に照射
損傷の少ない照射処理を行い得ることになる。
Radiation damage during electron beam irradiation may be greatly affected by oxidation by oxygen. When electron beam irradiation is performed in an inert gas atmosphere as in the present embodiment, it is possible to perform irradiation processing with relatively less irradiation damage while avoiding the problem.

【0076】このため、例えば食品を対象とした照射処
理を行った場合には香味劣化を抑制し得ることになる。
Therefore, for example, when the irradiation treatment for food is performed, the flavor deterioration can be suppressed.

【0077】[0077]

【発明の効果】以上の説明したように、本発明によれ
ば、被照射物に電子線を照射して処理する電子線照射処
理装置であって、被照射物を内部に投入してなると共
に、回転駆動手段により回転自在な断面が多角形な回転
ドラムと、上記回転ドラムに設けた透過窓を介して回転
ドラムの外部から該回転ドラムの内部に電子線を照射す
る電子線照射手段と、を具備してなるので、回転ドラム
の回転操作を行いながら当該回転ドラムの内部に電子線
の照射を行うことで、内部の被照射物の全表面が回転回
数に応じて有効に電子線照射側に向き、表面へ電子線を
一様に照射することができる。
As described above, according to the present invention, there is provided an electron beam irradiation processing apparatus for irradiating an object to be irradiated with an electron beam and processing the object. A rotary drum having a polygonal cross section which is rotatable by a rotary driving means, and an electron beam irradiating means for irradiating an electron beam from the outside of the rotary drum to the inside of the rotary drum through a transmission window provided in the rotary drum, By irradiating the inside of the rotating drum with an electron beam while rotating the rotating drum, the entire surface of the object to be irradiated can be effectively irradiated by the electron beam irradiation side according to the number of rotations. It is possible to irradiate the surface with an electron beam uniformly.

【0078】また、上記回転ドラム内に仕切板を設けて
なるので、被照射物の一部は上方にまで持ち上げられた
後に下方に落下する作用も加わるため、被照射物に対し
てより回転成分を持たし得ることになる。
Further, since the partition plate is provided in the rotary drum, a part of the object to be irradiated is lifted up and then dropped downward. Can have.

【0079】また、上記回転ドラムの回転方向及び回転
速度を可変自在な制御手段を設けてなるので、回転に伴
い被照射物に働く回転方向に対する慣性力と回転ドラム
内部下方において被照射物と接触している面における摩
擦力には差異を生じることにより、被照射物の付着を有
効に解離させ得ることになる。
Further, since the control means for changing the rotating direction and the rotating speed of the rotating drum is provided, the inertial force acting on the object to be irradiated in accordance with the rotation and the contact with the object to be irradiated below the inside of the rotating drum. By causing a difference in the frictional force on the running surface, it is possible to effectively dissociate the adherence of the irradiated object.

【0080】また、上記回転ドラムに揺動手段を設けて
なるので、ゆりかご運動により被照射物の回転ドラム内
軸方向移動が可能となり、被照射物同士の付着及び梁と
電子線透過窓の接合部等に被照射物の干渉を生じた場合
でも、効率よく電子線を照射できる。
Further, since the rotating drum is provided with the swinging means, it is possible to move the irradiated objects in the axial direction of the rotating drum due to the cradle movement, thereby adhering the irradiated objects to each other and joining the beam and the electron beam transmitting window. Even when interference occurs on the irradiated object in the area or the like, the electron beam can be efficiently irradiated.

【0081】さらに、上記回転ドラム内を不活性ガス雰
囲気とする不活性ガス導入する手段を設けてなるので、
電子線照射時における照射損傷には酸素による酸化等を
抑制することができる。
Further, since a means for introducing an inert gas to make the inside of the rotary drum an inert gas atmosphere is provided,
Oxidation due to oxygen can be suppressed for irradiation damage during electron beam irradiation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1の実施の形態にかかる電子線照射処理装置
の概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram of an electron beam irradiation processing apparatus according to a first embodiment.

【図2】第1の実施の形態にかかる電子線照射処理装置
の概略図である。
FIG. 2 is a schematic diagram of an electron beam irradiation processing apparatus according to the first embodiment.

【図3】第2の実施の形態にかかる電子線照射処理装置
の概略図である。
FIG. 3 is a schematic diagram of an electron beam irradiation processing apparatus according to a second embodiment.

【図4】第3の実施の形態にかかる電子線照射処理装置
の概略図である。
FIG. 4 is a schematic diagram of an electron beam irradiation processing apparatus according to a third embodiment.

【図5】第4の実施の形態にかかる電子線照射処理装置
の概略図である。
FIG. 5 is a schematic diagram of an electron beam irradiation processing apparatus according to a fourth embodiment.

【図6】第5の実施の形態にかかる電子線照射処理装置
の概略図である。
FIG. 6 is a schematic diagram of an electron beam irradiation processing apparatus according to a fifth embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 電子線照射処理装置 11 被照射物 12 回転駆動手段 13 回転ドラム 14 透過窓 15 電子線 16 電子線照射手段 10 Electron beam irradiation processing device 11 Irradiation object 12 Rotation drive means 13 rotating drum 14 transparent window 15 electron beam 16 Electron beam irradiation means

フロントページの続き (72)発明者 原 謙治 広島県広島市西区観音新町四丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島製作所内 Fターム(参考) 4B021 LA44 LP10 LT03 LW03 LW07 LW09 MC01 MK13 4C058 AA07 AA12 AA22 BB06 CC01 CC02 DD03 DD11 EE22 EE23 KK03 KK22 KK23 KK32 KK33Continued front page    (72) Inventor Kenji Hara             4-6-22 Kannon Shinmachi, Nishi-ku, Hiroshima City, Hiroshima Prefecture               Inside Mitsubishi Heavy Industries Hiroshima Works F-term (reference) 4B021 LA44 LP10 LT03 LW03 LW07                       LW09 MC01 MK13                 4C058 AA07 AA12 AA22 BB06 CC01                       CC02 DD03 DD11 EE22 EE23                       KK03 KK22 KK23 KK32 KK33

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被照射物に電子線を照射して処理する電
子線照射処理装置であって、 被照射物を内部に投入してなると共に、回転駆動手段に
より回転自在な断面が多角形な回転ドラムと、 上記回転ドラムに設けた透過窓を介して回転ドラムの外
部から該回転ドラムの内部に電子線を照射する電子線照
射手段と、 を具備してなることを特徴とする電子線照射処理装置。
1. An electron beam irradiation processing apparatus for irradiating an object to be irradiated with an electron beam for processing, wherein the object to be irradiated is placed inside, and the section which is rotatable by a rotation driving means has a polygonal shape. Electron beam irradiation comprising: a rotating drum; and an electron beam irradiating means for irradiating an electron beam from the outside of the rotating drum to the inside of the rotating drum through a transmission window provided in the rotating drum. Processing equipment.
【請求項2】 被照射物に電子線を照射して処理する電
子線照射処理装置であって、 被照射物を内部に投入してなると共に、回転駆動手段に
より回転自在な回転ドラムと、 上記回転ドラムに設けた透過窓を介して回転ドラムの外
部から該回転ドラムの内部に電子線を照射する電子線照
射手段とを具備してなると共に、 上記回転ドラム内に仕切板を設けてなることを特徴とす
る電子線照射処理装置。
2. An electron beam irradiation processing apparatus for irradiating an object to be irradiated with an electron beam for processing, wherein the object to be irradiated is placed inside, and a rotating drum rotatable by a rotation driving means is provided. The rotating drum is provided with an electron beam irradiating means for irradiating the inside of the rotating drum with an electron beam through a transmission window provided in the rotating drum, and a partition plate is provided in the rotating drum. An electron beam irradiation processing device characterized by:
【請求項3】 請求項1又は2において、 回転ドラムの回転方向及び回転速度を可変自在な制御手
段を設けてなることを特徴とする電子線照射処理装置。
3. The electron beam irradiation processing apparatus according to claim 1 or 2, further comprising control means capable of changing the rotation direction and rotation speed of the rotary drum.
【請求項4】 請求項1又は2において、 上記回転ドラムに揺動手段を設けてなることを特徴とす
る電子線照射処理装置。
4. The electron beam irradiation processing apparatus according to claim 1, wherein the rotating drum is provided with a swinging unit.
【請求項5】 請求項1乃至4のいずれか一において、 上記回転ドラム内を不活性ガス雰囲気とする不活性ガス
導入する手段を設けてなることを特徴とする電子線照射
処理装置。
5. The electron beam irradiation processing apparatus according to claim 1, further comprising a means for introducing an inert gas having an inert gas atmosphere in the rotary drum.
【請求項6】 被照射物に電子線を照射して処理する電
子線照射処理方法であって、 被照射物を内部に投入してなる断面が多角形な回転ドラ
ムを用い、 上記回転ドラムを回転させながら、該回転ドラムの外部
から該回転ドラムの内部に電子線を照射しつつ被照射物
の電子線照射処理を行うことを特徴とする電子線照射処
理方法。
6. An electron beam irradiation processing method for irradiating an object to be irradiated with an electron beam for processing, wherein a rotating drum having a polygonal cross section in which the object to be irradiated is introduced is used. An electron beam irradiation treatment method, wherein an electron beam irradiation treatment of an irradiation object is performed while irradiating an electron beam from the outside of the rotating drum to the inside of the rotating drum while rotating.
【請求項7】 被照射物に電子線を照射して処理する電
子線照射処理方法であって、 被照射物を内部に投入してなる回転ドラムを用い、 上記回転ドラムを回転させながら、該回転ドラムの外部
から該回転ドラムの内部に電子線を照射しつつ被照射物
の電子線照射処理を行うに際し、回転ドラム内に設けた
仕切板で攪拌しつつ処理することを特徴とする電子線照
射処理方法。
7. An electron beam irradiation treatment method for irradiating an object to be irradiated with an electron beam, comprising: using a rotating drum having an object to be irradiated therein, wherein the rotating drum is rotated. An electron beam, characterized in that, when performing an electron beam irradiation process on an object to be irradiated while irradiating an electron beam from the outside of the rotary drum to the inside of the rotary drum, the process is performed while stirring with a partition plate provided inside the rotary drum. Irradiation treatment method.
【請求項8】 請求項6又は7において、 回転ドラムの回転方向及び回転速度を可変自在とするこ
とを特徴とする電子線照射処理方法。
8. The electron beam irradiation processing method according to claim 6 or 7, wherein the rotating direction and the rotating speed of the rotating drum are variable.
【請求項9】 請求項6乃至8のいずれか一において、 上記回転ドラムを揺動させつつ電子線を照射することを
特徴とする電子線照射処理方法。
9. The electron beam irradiation processing method according to claim 6, wherein the electron beam irradiation is performed while rocking the rotary drum.
【請求項10】 請求項6乃至9のいずれか一におい
て、 上記回転ドラム内を不活性ガス雰囲気としつつ電子線を
照射することを特徴とする電子線照射処理方法。
10. The electron beam irradiation processing method according to claim 6, wherein the inside of the rotary drum is irradiated with an electron beam while the atmosphere is an inert gas atmosphere.
JP2002080436A 2002-03-22 2002-03-22 Electron beam irradiation processing device Withdrawn JP2003279699A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002080436A JP2003279699A (en) 2002-03-22 2002-03-22 Electron beam irradiation processing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002080436A JP2003279699A (en) 2002-03-22 2002-03-22 Electron beam irradiation processing device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003279699A true JP2003279699A (en) 2003-10-02

Family

ID=29229475

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002080436A Withdrawn JP2003279699A (en) 2002-03-22 2002-03-22 Electron beam irradiation processing device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003279699A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010012046A (en) * 2008-07-03 2010-01-21 Mitsubishi Materials Techno Corp Sterilizer and sterilizing method
JP2012011382A (en) * 2006-10-26 2012-01-19 Xyleco Inc Method of processing biomass
CN105416713A (en) * 2015-12-10 2016-03-23 重庆蜂糖妹农业开发有限公司 Honey-pot sterilizing device
CN108320833A (en) * 2018-04-04 2018-07-24 湖南省核农学与航天育种研究所 A kind of irradiation devices improving the irradiation dose uniformity
CN113194597A (en) * 2021-05-10 2021-07-30 山东蓝孚高能物理技术股份有限公司 Electron accelerator under-beam device for powder material irradiation

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9023628B2 (en) 2006-10-26 2015-05-05 Xyleco, Inc. Processing biomass
US9347661B2 (en) 2006-10-26 2016-05-24 Xyleco, Inc. Processing biomass
US8709768B2 (en) 2006-10-26 2014-04-29 Xyleco, Inc. Processing biomass
US8846356B2 (en) 2006-10-26 2014-09-30 Xyleco, Inc. Processing biomass
US8852905B2 (en) 2006-10-26 2014-10-07 Xyleco, Inc. Processing biomass
US8900839B2 (en) 2006-10-26 2014-12-02 Xyleco, Inc. Processing biomass
JP2012011382A (en) * 2006-10-26 2012-01-19 Xyleco Inc Method of processing biomass
US10704196B2 (en) 2006-10-26 2020-07-07 Xyleco, Inc. Processing biomass
US10287730B2 (en) 2006-10-26 2019-05-14 Xyleco, Inc. Processing biomass
JP2010012046A (en) * 2008-07-03 2010-01-21 Mitsubishi Materials Techno Corp Sterilizer and sterilizing method
CN105416713A (en) * 2015-12-10 2016-03-23 重庆蜂糖妹农业开发有限公司 Honey-pot sterilizing device
CN108320833A (en) * 2018-04-04 2018-07-24 湖南省核农学与航天育种研究所 A kind of irradiation devices improving the irradiation dose uniformity
CN108320833B (en) * 2018-04-04 2020-04-24 湖南省核农学与航天育种研究所 Irradiation device for improving irradiation dose uniformity
CN108320833B8 (en) * 2018-04-04 2020-06-16 湖南省核农学与航天育种研究所 Irradiation device for improving irradiation dose uniformity
CN113194597A (en) * 2021-05-10 2021-07-30 山东蓝孚高能物理技术股份有限公司 Electron accelerator under-beam device for powder material irradiation

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6730923B1 (en) Transmissive conveyor for use in pulsed light sterilization
US8575525B2 (en) Tunnel for conditioning of products, especially for sterilization of food in prepackaged containers
US4776267A (en) Apparatus for irradiating foodstuffs with ultraviolet rays
CH654741A5 (en) APPARATUS FOR APPLYING A COATING ON TABLETS.
JP2003279699A (en) Electron beam irradiation processing device
CN113347887A (en) Sterilization apparatus and sterilization method
RU2728184C1 (en) Device for ultraviolet treatment of grain before sprouting
EP1129727A1 (en) Irradiation apparatus
JP2005318816A (en) Sterilizer for powdery material
JPH11384A (en) Sterlizing method of powder and grain
JPH0557001A (en) Germicidal device for material transfer
JP2592396B2 (en) Thin film forming equipment
JP2004267973A (en) Electron beam irradiation treatment system
JPH02177811A (en) Treating apparatus for seed
WO2001023007A1 (en) Electron beam sterilization of contained liquids
KR20170047872A (en) Sterilization unit of pepper powder and sterilier comprising the same
JP2001352955A (en) Method for sterilizing powder with microwave and apparatus therefor
JPH10215836A (en) Ultraviolet ray sterilization method for powder and device therefor
JP2002085031A (en) Granule conveyance mechanism for electron beam irradiator
RU2087107C1 (en) Micronizer
JPH07289613A (en) Sand sterilizer for each sandbox
JP2000102370A (en) Method for continuous sterilization of food material and continuous rotating device to be used therefor
JP2001321139A (en) Device and method for sterilizing grain
JPS6235640B2 (en)
JPH1045116A (en) Equipment for sterilization/disinfection

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20050607