JP2003277370A - Method for producing heterocyclic compound - Google Patents

Method for producing heterocyclic compound

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JP2003277370A
JP2003277370A JP2002083289A JP2002083289A JP2003277370A JP 2003277370 A JP2003277370 A JP 2003277370A JP 2002083289 A JP2002083289 A JP 2002083289A JP 2002083289 A JP2002083289 A JP 2002083289A JP 2003277370 A JP2003277370 A JP 2003277370A
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JP
Japan
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general formula
group
compound represented
atom
substituent
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Application number
JP2002083289A
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Japanese (ja)
Inventor
Akira Suzuki
亮 鈴木
Shigeaki Tanaka
成明 田中
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing benzothiazoles or the like by which the objective product in high purity is obtained with good suitability to the production. <P>SOLUTION: (1) The method for producing the heterocyclic compound represented by general formula (II) comprises chlorosulfonylating a heterocyclic compound represented by general formula (I). (2) The method for producing the heterocyclic compound represented by general formula (II) comprises sulfonating the compound represented by general formula (I), and chlorinating the sulfo group of the sulfonated product. (In the formulas, A is N-R<SP>2</SP>, an oxygen atom or a sulfur atom; X is a halogen atom; R<SP>1</SP>is a hydrogen atom or a substituent; R<SP>2</SP>is a hydrogen atom or an alkyl group which may has a substituent; and n is an integer of 0-3). <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、写真用添加剤、増
感色素、染料、電子材料、医薬品等の合成中間体として
有用なベンズイミダゾール類、ベンゾオキサゾール類お
よびベンゾチアゾール類の製造法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a process for producing benzimidazoles, benzoxazoles and benzothiazoles which are useful as synthetic intermediates for photographic additives, sensitizing dyes, dyes, electronic materials, pharmaceuticals and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】2−ハロ−6−クロロスルホニルベンズ
イミダゾール類、2−ハロ−6−クロロスルホニルベン
ゾオキサゾール類、2−ハロ−6−クロロスルホニルベ
ンゾチアゾール類は2位と6位に反応点をもち、種々の
機能性化合物の合成に有用な中間体であるが、工業的に
有利な方法で高純度品を製造する方法は知られておら
ず、例えば、Ukr.Khim.Zh.(Russ.E
d.),43(5),518(1977)記載のように
アミノ基をジアゾ化した後クロロスルホニル基に変換す
るといった煩雑な方法で合成されていた。
BACKGROUND OF THE INVENTION 2-Halo-6-chlorosulfonylbenzimidazoles, 2-halo-6-chlorosulfonylbenzoxazoles and 2-halo-6-chlorosulfonylbenzothiazoles have reactive sites at the 2- and 6-positions. Although it is an intermediate useful for synthesizing various functional compounds, a method for producing a highly pure product by an industrially advantageous method is not known, and for example, Ukr. Khim. Zh. (Russ.E
d. ), 43 (5), 518 (1977), the amino group was diazotized and then converted to a chlorosulfonyl group.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、製造
適性が高く、高純度で目的物を得られるベンズイミダゾ
ール類、ベンゾオキサゾール類およびベンゾチアゾール
類の工業的製造法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an industrial production method of benzimidazoles, benzoxazoles and benzothiazoles, which has high production suitability and can obtain the desired product with high purity. .

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記の
手段によって達成された。 (1)下記一般式(I)で表される複素環化合物を、ク
ロロ硫酸を用いてクロロスルホニル化することを特徴と
する下記一般式(II)で表される複素環化合物の製造方
法。 一般式(I)
The objects of the present invention have been achieved by the following means. (1) A method for producing a heterocyclic compound represented by the following general formula (II), which comprises chlorosulfonylating a heterocyclic compound represented by the following general formula (I) with chlorosulfuric acid. General formula (I)

【0005】[0005]

【化5】 [Chemical 5]

【0006】(一般式(I)中、AはN−R2、酸素原
子または硫黄原子を表す。Xはハロゲン原子を表す。R
1は水素原子または置換基を表す。R2は水素原子、また
は置換基を有しても良いアルキル基を表す。nは0から
3の整数を表す。) 一般式(II)
(In the general formula (I), A represents NR 2 , an oxygen atom or a sulfur atom, and X represents a halogen atom.
1 represents a hydrogen atom or a substituent. R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. n represents an integer of 0 to 3. ) General formula (II)

【0007】[0007]

【化6】 [Chemical 6]

【0008】(一般式(II)中、AはN−R2、酸素原
子または硫黄原子を表す。Xはハロゲン原子を表す。R
1は水素原子または置換基を表す。R2は水素原子、また
は置換基を有しても良いアルキル基を表す。nは0から
3の整数を表す。)
(In the general formula (II), A represents N—R 2 , an oxygen atom or a sulfur atom, and X represents a halogen atom.
1 represents a hydrogen atom or a substituent. R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. n represents an integer of 0 to 3. )

【0009】(2)下記一般式(I)で表される複素環
化合物を、スルホ化した後、クロロ化することを特徴と
する下記一般式(II)で表される複素環化合物の製造方
法。 一般式(I)
(2) A method for producing a heterocyclic compound represented by the following general formula (II), characterized in that the heterocyclic compound represented by the following general formula (I) is sulfonated and then chlorinated. . General formula (I)

【0010】[0010]

【化7】 [Chemical 7]

【0011】(一般式(I)中、AはN−R2、酸素原
子または硫黄原子を表す。Xはハロゲン原子を表す。R
1は水素原子または置換基を表す。R2は水素原子、また
は置換基を有しても良いアルキル基を表す。nは0から
3の整数を表す。) 一般式(II)
(In the general formula (I), A represents NR 2 , an oxygen atom or a sulfur atom, and X represents a halogen atom.
1 represents a hydrogen atom or a substituent. R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. n represents an integer of 0 to 3. ) General formula (II)

【0012】[0012]

【化8】 [Chemical 8]

【0013】(一般式(II)中、AはN−R2、酸素原
子または硫黄原子を表す。Xはハロゲン原子を表す。R
1は水素原子または置換基を表す。R2は水素原子、また
は置換基を有しても良いアルキル基を表す。nは0から
3の整数を表す。)
(In the general formula (II), A represents NR 2 , an oxygen atom or a sulfur atom, and X represents a halogen atom.
1 represents a hydrogen atom or a substituent. R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. n represents an integer of 0 to 3. )

【0014】(3)該Aが硫黄原子であることを特徴と
する(1)または(2)に記載の一般式(II)で表され
る複素環化合物の製造方法。 (4)一般式(II)記載の化合物の単離精製工程に、ア
ルコール系溶媒を含む溶媒による結晶化、一般式(II)
記載の化合物を含む固体のアルコール系溶媒を含む溶媒
での再結晶化、一般式(II)記載の化合物を含む固体の
アルコール系溶媒を含む溶媒での洗浄のいずれかの工程
を少なくとも一つ含むことを特徴とする(1)、(2)
または(3)に記載の一般式(II)で表される複素環化
合物の製造方法。
(3) A method for producing a heterocyclic compound represented by the general formula (II) according to (1) or (2), wherein A is a sulfur atom. (4) In the isolation and purification step of the compound represented by the general formula (II), crystallization with a solvent containing an alcoholic solvent, the general formula (II)
At least one step of recrystallization in a solvent containing a solid alcoholic solvent containing the compound described, and washing with a solvent containing a solid alcoholic solvent containing the compound of the general formula (II) (1), (2) characterized in that
Alternatively, the method for producing the heterocyclic compound represented by the general formula (II) according to (3).

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下に本発明の製造方法について
詳しく説明する。本発明において用いられる一般式
(I)で表される複素環化合物、および本発明の方法に
おいて製造される一般式(II)で表される複素環化合物
について説明する。一般式(I)および一般式(II)に
おいて、AはN−R2、酸素原子、または硫黄原子を表
し、好ましくは硫黄原子である。Xはハロゲン原子を表
し、好ましくは塩素原子、臭素原子であり、より好まし
くは塩素原子である。R1は水素原子、または置換基を
表す。置換基の例としては、ハロゲン原子(例えばフッ
素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、アルキル
基(例えばメチル、エチル)、アリール基(例えばフェ
ニル、ナフチル)、シアノ基、カルボキシル基、アルコ
キシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル)、アリ
ールオキシカルボニル基(例えばフェノキシカルボニ
ル)、置換又は無置換のカルバモイル基(例えばカルバ
モイル、N−フェニルカルバモイル、N,N−ジメチル
カルバモイル)、アルキルカルボニル基(例えばアセチ
ル)、アリールカルボニル基(例えばベンゾイル)、ニ
トロ基、置換または無置換のアミノ基(例えばアミノ、
ジメチルアミノ、アニリノ)、アシルアミノ基(例えば
アセトアミド、エトキシカルボニルアミノ)、スルホン
アミド基(例えばメタンスルホンアミド)、イミド基
(例えばスクシンイミド、フタルイミド)、イミノ基
(例えばベンジリデンアミノ)、ヒドロキシ基、アルコ
キシ基(例えばメトキシ)、アリールオキシ基(例えば
フェノキシ)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ)、
アルキルスルホニルオキシ基(例えばメタンスルホニル
オキシ)、アリールスルホニルオキシ基(例えばベンゼ
ンスルホニルオキシ)、スルホ基、置換または無置換の
スルファモイル基(例えばスルファモイル、N−フェニ
ルスルファモイル)、アルキルチオ基(例えばメチルチ
オ)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ)アルキル
スルホニル基(例えばメタンスルホニル)、アリールス
ルホニル基(例えばベンゼンスルホニル)、ヘテロ環類
などを挙げる事ができる。また、置換基は更に置換され
ていても良く、置換基が複数ある場合は、同じでも異な
っても良い。また隣り合った置換基は環を形成しても良
い。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The manufacturing method of the present invention will be described in detail below. The heterocyclic compound represented by the general formula (I) used in the present invention and the heterocyclic compound represented by the general formula (II) produced by the method of the present invention will be described. In the general formulas (I) and (II), A represents NR 2 , an oxygen atom, or a sulfur atom, and preferably a sulfur atom. X represents a halogen atom, preferably a chlorine atom or a bromine atom, and more preferably a chlorine atom. R 1 represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), alkyl group (eg, methyl, ethyl), aryl group (eg, phenyl, naphthyl), cyano group, carboxyl group, alkoxycarbonyl. Group (eg methoxycarbonyl), aryloxycarbonyl group (eg phenoxycarbonyl), substituted or unsubstituted carbamoyl group (eg carbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl), alkylcarbonyl group (eg acetyl), aryl Carbonyl group (eg benzoyl), nitro group, substituted or unsubstituted amino group (eg amino,
Dimethylamino, anilino), acylamino group (eg acetamide, ethoxycarbonylamino), sulfonamide group (eg methanesulfonamide), imide group (eg succinimide, phthalimide), imino group (eg benzylideneamino), hydroxy group, alkoxy group ( For example, methoxy), aryloxy group (for example, phenoxy), acyloxy group (for example, acetoxy),
Alkylsulfonyloxy group (eg methanesulfonyloxy), arylsulfonyloxy group (eg benzenesulfonyloxy), sulfo group, substituted or unsubstituted sulfamoyl group (eg sulfamoyl, N-phenylsulfamoyl), alkylthio group (eg methylthio) , Arylthio groups (eg phenylthio) alkylsulfonyl groups (eg methanesulfonyl), arylsulfonyl groups (eg benzenesulfonyl), heterocycles and the like. Further, the substituents may be further substituted, and when there are a plurality of substituents, they may be the same or different. Further, adjacent substituents may form a ring.

【0016】R1として好ましくは、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アルキルチオ基、またはアリールチオ基
である。
R 1 is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group or an arylthio group.

【0017】R1としてより好ましくは、水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、またはアルコキシ基である。
R 1 is more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an alkoxy group.

【0018】R1としてさらに好ましくは、水素原子、
またはアルキル基であり、水素原子が特に好ましい。
More preferably, R 1 is a hydrogen atom,
Alternatively, it is an alkyl group, and a hydrogen atom is particularly preferable.

【0019】R2は水素原子または置換基を有しても良
いアルキル基であり、好ましくは水素原子、または炭素
数1〜20のアルキル基であり、より好ましく水素原子
または炭素数1〜12のアルキル基であり、さらに好ま
しくは水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であ
り、分岐や環構造を含んでも良い。R2の置換基として
はR1の置換基として挙げたものが適用でき、好ましく
はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、
アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アシル
アミノ基、スルホンアミド基、イミド基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスル
ホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、スルホ
基、置換または無置換のスルファモイル基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基、またはヘテロ環類である。また、置換
基は更に置換されていても良く、置換基が複数ある場合
は、同じでも異なっても良い。また隣り合った置換基は
環を形成しても良い。
R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. It is an alkyl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and may include a branch or ring structure. As the substituent of R 2 , those mentioned as the substituent of R 1 can be applied, and preferably a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a cyano group,
A carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a substituted or unsubstituted carbamoyl group,
Alkylcarbonyl group, arylcarbonyl group, acylamino group, sulfonamide group, imide group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, alkylsulfonyloxy group, arylsulfonyloxy group, sulfo group, substituted or unsubstituted sulfamoyl group, alkylthio A group, an arylthio group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, or a heterocycle. Further, the substituents may be further substituted, and when there are a plurality of substituents, they may be the same or different. Further, adjacent substituents may form a ring.

【0020】R2の置換基としてより好ましくは、アリ
ール基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は無置換
のカルバモイル基、アルキルカルボニル基、アリールカ
ルボニル基、アシルアミノ基、またはスルホ基である。
The substituent of R 2 is more preferably an aryl group, a cyano group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a substituted or unsubstituted carbamoyl group, an alkylcarbonyl group, an arylcarbonyl group, an acylamino group, Alternatively, it is a sulfo group.

【0021】R2の置換基としてさらに好ましくは、ア
リール基、アルコキシカルボニル基、またはアリールオ
キシカルボニル基である。
The substituent for R 2 is more preferably an aryl group, an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group.

【0022】nは0から3の整数を表し、好ましくは0
から2の整数であり、より好ましくは0である。
N represents an integer of 0 to 3, preferably 0
To an integer of 2 and more preferably 0.

【0023】次に本発明の一般式(I)で表される化合
物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定され
るものではない。
Next, specific examples of the compound represented by formula (I) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0024】[0024]

【化9】 [Chemical 9]

【0025】[0025]

【化10】 [Chemical 10]

【0026】[0026]

【化11】 [Chemical 11]

【0027】次に一般式(II)で表される化合物の製造
方法について詳細に説明する。原料である一般式(I)
で表されるベンズイミダゾール類、ベンゾオキサゾール
類、およびベンゾチアゾ―ル類は入手容易なものの他、
種々の合成法が知られており、例えば、2位無置換アゾ
―ル類の2位ハロゲン化(例えば、J.Organom
et.Chem.,588(2),155(1999)
に記載の方法)、2位がアミノ基で置換されたアゾ―ル
類の2位ハロゲン化(例えば、Tetrahedro
n,52(1),23(1996)に記載の方法)、2
位がメルカプト基で置換されたアゾ―ル類の2位ハロゲ
ン化(例えば、Bull.Chem.Soc.Jp
n.,65(11),3163(1992);J.Me
d.Chem.,35(4),705(1992)に記
載の方法)、2位がヒドロキシ基で置換されたアゾ―ル
類の2位ハロゲン化(例えば、Synth.Commu
n.,26(17),3323(1996)に記載の方
法)等で入手容易な原料から合成することができる。
Next, the method for producing the compound represented by the general formula (II) will be described in detail. General formula (I) as a raw material
Benzimidazoles, benzoxazoles, and benzothiazoles represented by are easily available,
Various synthetic methods are known, for example, 2-position halogenation of 2-position unsubstituted azols (for example, J. Organom).
et. Chem. , 588 (2), 155 (1999)
2) halogenation of an azo group substituted at the 2-position with an amino group (for example, Tetrahedro).
n, 52 (1), 23 (1996)), 2
2-Halogenation of Azols Substituted with a Mercapto Group at the Position (eg, Bull. Chem. Soc. Jp.
n. , 65 (11), 3163 (1992); Me
d. Chem. , 35 (4), 705 (1992)) and 2-position halogenation of an azo group substituted at the 2-position with a hydroxy group (for example, Synth. Commu.
n. , 26 (17), 3323 (1996)) and the like, which are easily available.

【0028】クロロ硫酸による一般式(I)記載の化合
物のクロロスルホニル化について説明する。本反応は溶
媒を用いても無溶媒でもよく、無溶媒が好ましい。溶媒
は反応に関与しない限り特に制限はないが、ハロゲン系
溶媒(例えば四塩化炭素、クロロホルム1,2−ジクロ
ロエタン、ジクロロメタン)、アルカン系溶媒(例えば
ヘキサン、シクロヘキサン)を挙げることができ、2種
類以上を併用しても良い。使用するクロロ硫酸の量は一
般式(I)の化合物1モルに対して1〜20モルが好ま
しく、より好ましくは2〜15モルであり、さらに好ま
しくは2〜10モルである。本反応は20〜200℃で
行うことが好ましく、より好ましくは60〜180℃、
さらに好ましくは80〜150℃である。反応時間は反
応温度等によって違ってくるが、好ましくは1〜20時
間、より好ましくは2〜15時間である。
The chlorosulfonylation of the compound represented by the general formula (I) with chlorosulfuric acid will be described. This reaction may be carried out with or without a solvent, preferably without a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, but examples thereof include a halogen-based solvent (for example, carbon tetrachloride, chloroform 1,2-dichloroethane, dichloromethane) and an alkane-based solvent (for example, hexane, cyclohexane), and two or more kinds. You may use together. The amount of chlorosulfuric acid used is preferably 1 to 20 mol, more preferably 2 to 15 mol, and still more preferably 2 to 10 mol, per 1 mol of the compound of the general formula (I). This reaction is preferably carried out at 20 to 200 ° C, more preferably 60 to 180 ° C,
More preferably, it is 80 to 150 ° C. The reaction time varies depending on the reaction temperature and the like, but it is preferably 1 to 20 hours, more preferably 2 to 15 hours.

【0029】一般式(I)記載の化合物のスルホ化につ
いて説明する。スルホ化剤には、硫酸、発煙硫酸、三酸
化硫黄、クロロ硫酸、フルオロ硫酸、アミド硫酸等を用
いることができ、硫酸、発煙硫酸、三酸化硫黄、クロロ
硫酸が好ましく、発煙硫酸がより好ましい。発煙硫酸の
濃度は10〜80%が好ましく、より好ましくは15〜
60%である。使用するスルホ化剤の量は、一般式
(I)記載の化合物1モルに対して1〜20モルが好ま
しく、より好ましくは1〜15モルであり、さらに好ま
しくは2〜10モルである。本反応は溶媒を用いても無
溶媒でもよく、無溶媒が好ましい。溶媒は反応に関与し
ない限り特に制限はないが、ハロゲン系溶媒(例えば、
四塩化炭素、クロロホルム1,2−ジクロロエタン、ジ
クロロメタン、テトラクロロエタン)、カルボン酸系溶
媒(例えば、酢酸プロピオン酸)、酸無水物(例えば無
水酢酸)、エステル系溶媒(例えば酢酸エチル、酢酸ブ
チル)、エーテル系溶媒(例えばジエチルエーテル、ジ
ブチルエーテル)、二トリル系溶媒(例えばアセトニト
リル)、二酸化硫黄等が挙げられ、2種類以上を併用し
ても良い。本反応は−20〜200℃で行うことが好ま
しく、より好ましくは0〜150℃、さらに好ましくは
0〜100℃である。反応時間は反応温度等によって違
ってくるが、好ましくは0.5〜8時間、より好ましく
は0.5〜4時間である。
The sulfonation of the compound represented by the general formula (I) will be described. As the sulfonating agent, sulfuric acid, fuming sulfuric acid, sulfur trioxide, chlorosulfuric acid, fluorosulfuric acid, amidosulfuric acid and the like can be used, and sulfuric acid, fuming sulfuric acid, sulfur trioxide and chlorosulfuric acid are preferable, and fuming sulfuric acid is more preferable. The concentration of fuming sulfuric acid is preferably 10 to 80%, more preferably 15 to
60%. The amount of the sulfonating agent used is preferably 1 to 20 mol, more preferably 1 to 15 mol, and further preferably 2 to 10 mol, relative to 1 mol of the compound represented by the general formula (I). This reaction may be carried out with or without a solvent, preferably without a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, but a halogen-based solvent (for example,
Carbon tetrachloride, chloroform 1,2-dichloroethane, dichloromethane, tetrachloroethane), carboxylic acid type solvent (for example, propionic acid acetate), acid anhydride (for example, acetic anhydride), ester type solvent (for example, ethyl acetate, butyl acetate), Examples include ether solvents (eg, diethyl ether, dibutyl ether), nitryl solvents (eg, acetonitrile), sulfur dioxide and the like, and two or more kinds may be used in combination. This reaction is preferably carried out at −20 to 200 ° C., more preferably 0 to 150 ° C., further preferably 0 to 100 ° C. The reaction time varies depending on the reaction temperature and the like, but it is preferably 0.5 to 8 hours, more preferably 0.5 to 4 hours.

【0030】また本反応は硫酸バナジル、BF3、硫酸
ナトリウム、硝酸アンモニウム、ホウ酸等の添加物存在
下行ってもよい。
Further, this reaction may be carried out in the presence of additives such as vanadyl sulfate, BF 3 , sodium sulfate, ammonium nitrate and boric acid.

【0031】本反応は一般式(I)記載の化合物1モル
に対して、15〜60%発煙硫酸を2〜10モル用い、
無溶媒で0〜100℃で行うのが好ましい。
In this reaction, 15 to 60% fuming sulfuric acid is used in an amount of 2 to 10 mol per mol of the compound represented by the general formula (I).
It is preferably carried out at 0 to 100 ° C. without a solvent.

【0032】次工程のスルホ基のクロロ化について説明
する。一般式(I)記載の化合物をスルホ化したのち、
スルホン酸、またはその塩として単離してからクロロ化
に供してもよいし、スルホ化後単離せずにそのままクロ
ロ化を行ってもよく、後者が好ましい。スルホ基のクロ
ロ化剤には、塩化チオニル、五塩化リン、三塩化リン、
オキシ塩化リン、クロロ硫酸、ベンゾトリクロリド等を
挙げることができ、塩化チオニルが好ましい。2種類以
上を併用しても良い。使用するクロロ化剤の量は、一般
式(I)記載の化合物1モルに対して1〜20モルが好
ましく、より好ましくは1〜15モルであり、さらに好
ましくは2〜10モルである。本反応は溶媒を用いても
無溶媒でもよく、無溶媒が好ましい。溶媒に特に制限は
ないが、ハロゲン系溶媒(例えば、四塩化炭素、クロロ
ホルム1,2−ジクロロエタン、ジクロロメタン、テト
ラクロロエタン)、硫酸、エステル系溶媒(例えば酢酸
エチル、酢酸ブチル)、エーテル系溶媒(例えばジエチ
ルエーテル、ジブチルエーテル)、二トリル系溶媒(例
えばアセトニトリル)が挙げられ、2種類以上を併用し
ても良い。本反応は−20〜200℃で行うことが好ま
しく、より好ましくは0〜150℃、さらに好ましくは
20〜120℃である。反応時間は反応温度等によって
違ってくるが、好ましくは0.5〜8時間、より好まし
くは0.5〜4時間である。
The chlorination of the sulfo group in the next step will be described. After sulfonation of the compound represented by the general formula (I),
The sulfonic acid or its salt may be isolated before being subjected to chlorination, or the sulfonation may be carried out as it is without isolation, and the latter is preferred. Chlorinating agents for sulfo groups include thionyl chloride, phosphorus pentachloride, phosphorus trichloride,
Examples thereof include phosphorus oxychloride, chlorosulfuric acid and benzotrichloride, with thionyl chloride being preferred. You may use 2 or more types together. The amount of the chlorinating agent used is preferably 1 to 20 mol, more preferably 1 to 15 mol, and further preferably 2 to 10 mol, relative to 1 mol of the compound represented by the general formula (I). This reaction may be carried out with or without a solvent, preferably without a solvent. The solvent is not particularly limited, but halogen type solvents (for example, carbon tetrachloride, chloroform 1,2-dichloroethane, dichloromethane, tetrachloroethane), sulfuric acid, ester type solvents (for example, ethyl acetate, butyl acetate), ether type solvents (for example, Diethyl ether, dibutyl ether) and nitrile solvent (for example, acetonitrile) are mentioned, and two or more kinds may be used in combination. This reaction is preferably carried out at −20 to 200 ° C., more preferably 0 to 150 ° C., further preferably 20 to 120 ° C. The reaction time varies depending on the reaction temperature and the like, but it is preferably 0.5 to 8 hours, more preferably 0.5 to 4 hours.

【0033】本反応は一般式(I)記載の化合物を単離
せずに、一般式(I)記載の化合物1モルに対して2〜
10モルの塩化チオニルを加え、20〜120℃で行う
のが好ましい。
In this reaction, 2 to 1 mol of the compound represented by the general formula (I) is used without isolation of the compound represented by the general formula (I).
It is preferable to add 10 mol of thionyl chloride and carry out at 20 to 120 ° C.

【0034】一般式(II)記載の化合物の単離方法につ
いて説明する。反応終了後、アルコール系溶媒を含む溶
媒に反応液を添加し、結晶化させることが好ましい。こ
こで用いるアルコール系溶媒としては、60℃以下で液
体であり、好ましくは炭素数1〜12のアルコールであ
り、より好ましくは炭素数1〜8のアルコールである。
さらに好ましくはメタノール、エタノール、1−プロパ
ノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタ
ノール、2−メチル−2−プロパノール、2−メチル−
2−ブタノール、2−エチル−1−ヘキサノールであ
り、2−プロパノールが特に好ましい。アルコール系溶
媒と他の溶媒を併用することができる。併用する溶媒に
特に制限はないが、水、あるいは有機溶媒を使用でき
る。有機溶媒としては、例えば、ケトン類(例えばアセ
トン、メチルエチルケトン等)、エステル類(例えば酢
酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル等)、脂肪族炭化水
素類(例えばn−ペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキ
サン等)、芳香族炭化水素類(例えばトルエン、キシレ
ン、クロロベンゼン等)、エーテル類(例えばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等)、アミ
ド類(N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチ
ルアセトアミド、1−メチル−2−ピロリドン等)、ジ
メチルスルホキシド、スルホラン、アセトニトリル、酢
酸等を挙げる事ができる。併用する溶媒として好ましく
は、水、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、
n−ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、
テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルアセトアミド、
アセトニトリル、酢酸であり、より好ましくは、水、ア
セトンである。また、2種以上の溶媒を併用しても良
い。結晶化工程で十分な純度が得られなかった場合は一
般式(II)記載の化合物を含む固体をアルコール系溶媒
を含む溶媒で再結晶化および/または洗浄することで高
純度品を得ることができる。ここで用いるアルコール系
溶媒を含む溶媒は結晶化工程で用いたものと同様のもの
を適応できる。また。例えば抽出、洗浄、濃縮の一連の
操作や、貧溶媒への添加による結晶化等の一般的な方法
で一般式(II)記載の化合物の粗生成物を得た後、上記
の再結晶および/または洗浄操作により十分な純度の一
般式(II)記載の化合物を得てもよい。
A method for isolating the compound represented by the general formula (II) will be described. After completion of the reaction, it is preferable to add the reaction solution to a solvent containing an alcoholic solvent for crystallization. The alcohol solvent used here is a liquid at 60 ° C. or lower, preferably an alcohol having 1 to 12 carbon atoms, and more preferably an alcohol having 1 to 8 carbon atoms.
More preferably, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-2-propanol, 2-methyl-
2-Butanol and 2-ethyl-1-hexanol, with 2-propanol being particularly preferred. An alcohol solvent and another solvent can be used in combination. The solvent used in combination is not particularly limited, but water or an organic solvent can be used. As the organic solvent, for example, ketones (eg acetone, methyl ethyl ketone etc.), esters (eg ethyl acetate, methyl acetate, butyl acetate etc.), aliphatic hydrocarbons (eg n-pentane, n-hexane, cyclohexane etc.) , Aromatic hydrocarbons (eg toluene, xylene, chlorobenzene etc.), ethers (eg diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane etc.), amides (N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1-methyl- 2-pyrrolidone, etc.), dimethyl sulfoxide, sulfolane, acetonitrile, acetic acid and the like. As the solvent used in combination, preferably water, acetone, methyl ethyl ketone, ethyl acetate,
n-hexane, cyclohexane, toluene, xylene,
Tetrahydrofuran, N, N-dimethylacetamide,
Acetonitrile and acetic acid are preferred, and water and acetone are more preferred. Moreover, you may use together 2 or more types of solvents. When sufficient purity cannot be obtained in the crystallization step, a high purity product can be obtained by recrystallizing and / or washing a solid containing the compound of the general formula (II) with a solvent containing an alcohol solvent. it can. The solvent including the alcohol solvent used here may be the same as that used in the crystallization step. Also. For example, after a crude product of the compound represented by the general formula (II) is obtained by a general method such as a series of operations of extraction, washing, and concentration, or crystallization by addition to a poor solvent, recrystallization and / or Alternatively, the compound of the general formula (II) having a sufficient purity may be obtained by a washing operation.

【0035】[0035]

【実施例】次に実施例にて本発明を更に詳細に説明す
る。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

【0036】<実施例1>2−クロロ−6−クロロスル
ホニルベンゾチアゾールの合成。 クロロ硫酸351g(3.0モル)に氷冷下攪拌しなが
ら、2−クロロベンゾチアゾール128g(0.75モ
ル)を内温が20℃以下になるように滴下した。滴下終
了後、内温130℃で8時間攪拌した。反応の完結はH
PLCで確認した。2−プロパノール1.5L,水1.
5kgの混合物を攪拌しながら、反応液を内温が20℃
以下になるように2時間かけ滴下した。生成した沈殿を
減圧濾過により濾取し、沈殿を2−プロパノール/水=
1/1:150mlで洗浄した。これを1時間風乾した
のち、アセトン150mlを加え、30℃で0.5時間
攪拌した。これに攪拌しながら2−プロパノールを50
0ml加え室温で0.5時間、4〜10℃で0.5時間
攪拌した後、減圧濾過により結晶を濾取した。この結晶
を2−プロパノール/n−ヘキサン=1/1:50ml
で洗浄した後乾燥して、2−クロロ−6−クロロスルホ
ニルベンゾチアゾールの結晶を40g得た。HPLC面
積純度98.7%、収率20%。目的物の構造は1H−N
MRで確認した。 1H−NMR(300MHz:溶媒CDCl3 内部標準:TMS) δ ppm 8.16(s,2H) 8.55(s,1H)
<Example 1> Synthesis of 2-chloro-6-chlorosulfonylbenzothiazole. 128 g (0.75 mol) of 2-chlorobenzothiazole was added dropwise to 351 g (3.0 mol) of chlorosulfuric acid while stirring under ice cooling so that the internal temperature was 20 ° C or lower. After the completion of dropping, the mixture was stirred at an internal temperature of 130 ° C for 8 hours. The completion of the reaction is H
It was confirmed by PLC. 2-L propanol 1.5L, water 1.
While stirring 5 kg of the mixture, the reaction solution was heated to an internal temperature of 20 ° C.
It dripped over 2 hours so that it might become the following. The generated precipitate was collected by filtration under reduced pressure, and the precipitate was mixed with 2-propanol / water =
Washed with 1/1: 150 ml. This was air-dried for 1 hour, 150 ml of acetone was added, and the mixture was stirred at 30 ° C. for 0.5 hour. While stirring, add 50 parts of 2-propanol.
0 ml was added and the mixture was stirred at room temperature for 0.5 hours and at 4 to 10 ° C. for 0.5 hours, and then crystals were collected by filtration under reduced pressure. This crystal was mixed with 2-propanol / n-hexane = 1/1: 50 ml.
After that, it was washed with water and dried to obtain 40 g of crystals of 2-chloro-6-chlorosulfonylbenzothiazole. HPLC area purity 98.7%, yield 20%. The target structure is 1 H-N
Confirmed by MR. 1 H-NMR (300 MHz: solvent CDCl 3 internal standard: TMS) δ ppm 8.16 (s, 2H) 8.55 (s, 1H)

【0037】<実施例2>2−クロロ−6−クロロスル
ホニルベンゾチアゾールの合成。 60%発煙硫酸444g(SO3換算:3.3モル)に
氷冷下、攪拌しながら、2−クロロベンゾチアゾール1
15g(0.68モル)を内温が20〜40℃の範囲
で、35分かけて滴下した。滴下終了後、内温40〜4
5℃で2時間攪拌した。反応の完結はHPLCで確認し
た。反応液を55℃に昇温し、内温が50〜60℃の範
囲で塩化チオニルを45分かけて滴下した。滴下終了
後、65℃で1時間攪拌した。反応の完結はHPLCで
確認した。2−プロパノール0.8Lと氷0.8kgの
混合物を攪拌しながら、反応液を内温が20℃以下にな
るように2時間かけて滴下した。生成した沈殿を減圧濾
過により濾取し、沈殿を2−プロパノール/水=1/
1:150mlで洗浄した。これを1時間風乾したの
ち、アセトン250mlを加え、30℃で0.5時間攪
拌した。これに攪拌しながら2−プロパノールを750
ml加え室温で0.5時間、4〜10℃で0.5時間攪
拌した後、減圧濾過により結晶を濾取した。この結晶を
2−プロパノール/n−ヘキサン=1/1:100ml
で洗浄した後乾燥して、2−クロロ−6−クロロスルホ
ニルベンゾチアゾールの結晶を82g得た。HPLC面
積純度98.1%、収率45%。目的物の構造は1H−N
MRで確認した(同上)。
Example 2 Synthesis of 2-chloro-6-chlorosulfonylbenzothiazole. 2-chlorobenzothiazole 1 was added to 444 g of 60% fuming sulfuric acid (SO 3 conversion: 3.3 mol) while stirring under ice cooling.
15 g (0.68 mol) was added dropwise over 35 minutes at an internal temperature of 20 to 40 ° C. After dropping, the internal temperature is 40-4
The mixture was stirred at 5 ° C for 2 hours. The completion of the reaction was confirmed by HPLC. The temperature of the reaction solution was raised to 55 ° C, and thionyl chloride was added dropwise over an interval of 45 minutes at an internal temperature of 50 to 60 ° C. After the completion of dropping, the mixture was stirred at 65 ° C for 1 hour. The completion of the reaction was confirmed by HPLC. While stirring a mixture of 0.8 L of 2-propanol and 0.8 kg of ice, the reaction solution was added dropwise over 2 hours so that the internal temperature was 20 ° C or lower. The generated precipitate was collected by filtration under reduced pressure, and the precipitate was 2-propanol / water = 1 /
1: Washed with 150 ml. This was air dried for 1 hour, 250 ml of acetone was added, and the mixture was stirred at 30 ° C. for 0.5 hour. While stirring, add 750 of 2-propanol.
After adding ml, the mixture was stirred at room temperature for 0.5 hours and at 4 to 10 ° C for 0.5 hours, and then the crystals were collected by filtration under reduced pressure. This crystal was mixed with 2-propanol / n-hexane = 1/1: 100 ml.
After that, it was washed with water and dried to obtain 82 g of 2-chloro-6-chlorosulfonylbenzothiazole crystals. HPLC area purity 98.1%, yield 45%. The target structure is 1 H-N
Confirmed by MR (same as above).

【0038】[0038]

【発明の効果】写真用添加剤、増感色素、染料、電子材
料、医薬品等の合成中間体として有用なベンズイミダゾ
ール類、ベンゾオキサゾール類およびベンゾチアゾール
類のクロロスルホニル体を、工業的に有利な方法で高純
度に製造する事が可能になった。
Industrial Applicability The chlorosulfonyl compounds of benzimidazoles, benzoxazoles and benzothiazoles, which are useful as synthetic intermediates for photographic additives, sensitizing dyes, dyes, electronic materials, pharmaceuticals, etc., are industrially advantageous. It became possible to manufacture it with high purity by the method.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記一般式(I)で表される複素環化合物
を、クロロ硫酸を用いてクロロスルホニル化することを
特徴とする下記一般式(II)で表される複素環化合物の
製造方法。 一般式(I) 【化1】 (一般式(I)中、AはN−R2、酸素原子または硫黄
原子を表す。Xはハロゲン原子を表す。R1は水素原子
または置換基を表す。R2は水素原子、または置換基を
有しても良いアルキル基を表す。nは0から3の整数を
表す。) 一般式(II) 【化2】 (一般式(II)中、AはN−R2、酸素原子または硫黄
原子を表す。Xはハロゲン原子を表す。R1は水素原子
または置換基を表す。R2は水素原子、または置換基を
有しても良いアルキル基を表す。nは0から3の整数を
表す。)
1. A process for producing a heterocyclic compound represented by the following general formula (II), which comprises chlorosulfonylating a heterocyclic compound represented by the following general formula (I) with chlorosulfuric acid. . General formula (I) (In the general formula (I), A is N-R 2, .R 2 .X representing an oxygen atom or a sulfur atom .R 1 represents a halogen atom represents a hydrogen atom or a substituent is a hydrogen atom or a substituent, Represents an alkyl group optionally having n. N represents an integer of 0 to 3.) General formula (II) (In the general Formula (II), A is N-R 2, .R 2 .X representing an oxygen atom or a sulfur atom .R 1 represents a halogen atom represents a hydrogen atom or a substituent is a hydrogen atom or a substituent, Represents an alkyl group which may have n, and n represents an integer of 0 to 3.)
【請求項2】下記一般式(I)で表される複素環化合物
を、スルホ化した後、スルホ基をクロロ化することを特
徴とする下記一般式(II)で表される複素環化合物の製
造方法。 一般式(I) 【化3】 (一般式(I)中、AはN−R2、酸素原子または硫黄
原子を表す。Xはハロゲン原子を表す。R1は水素原子
または置換基を表す。R2は水素原子、または置換基を
有しても良いアルキル基を表す。nは0から3の整数を
表す。) 一般式(II) 【化4】 (一般式(II)中、AはN−R2、酸素原子または硫黄
原子を表す。Xはハロゲン原子を表す。R1は水素原子
または置換基を表す。R2は水素原子、または置換基を
有しても良いアルキル基を表す。nは0から3の整数を
表す。)
2. A heterocyclic compound represented by the following general formula (II), characterized in that the heterocyclic compound represented by the following general formula (I) is sulfonated and then the sulfo group is chlorinated. Production method. General formula (I): (In the general formula (I), A is N-R 2, .R 2 .X representing an oxygen atom or a sulfur atom .R 1 represents a halogen atom represents a hydrogen atom or a substituent is a hydrogen atom or a substituent, Represents an alkyl group which may have n. N represents an integer of 0 to 3.) General formula (II) (In the general Formula (II), A is N-R 2, .R 2 .X representing an oxygen atom or a sulfur atom .R 1 represents a halogen atom represents a hydrogen atom or a substituent is a hydrogen atom or a substituent, Represents an alkyl group which may have n, and n represents an integer of 0 to 3.)
【請求項3】一般式(II)記載の化合物の単離精製工程
に、アルコール系溶媒を含む溶媒による結晶化、一般式
(II)記載の化合物を含む固体のアルコール系溶媒を含
む溶媒での再結晶化、一般式(II)記載の化合物を含む
固体のアルコール系溶媒を含む溶媒での洗浄のいずれか
の工程を少なくとも一つ含むことを特徴とする請求項1
または2に記載の一般式(II)で表される複素環化合物
の製造方法。
3. In the step of isolating and purifying the compound represented by the general formula (II), crystallization with a solvent containing an alcoholic solvent, a solid alcoholic solvent containing a compound containing the compound represented by the general formula (II) is used. 2. At least one step of recrystallization and washing with a solvent containing a solid alcoholic solvent containing a compound represented by the general formula (II) is included.
Alternatively, a method for producing the heterocyclic compound represented by the general formula (II) described in 2 above.
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